KR20240057669A - Functional surface treated SUS316L gasket - Google Patents

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정찬영
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Abstract

본 발명은 가스켓용 기능성 스테인리스 스틸 316L 소재 제조방법에 관한 것으로, 종래의 균일한 다공성 산화막을 형성하기 위한 프리패터닝(Pre-patterning) 공정 없이도 균일한 다공성 산화막을 형성할 수 있어 소수성 및 내식성이 현저히 우수한 효과가 있다.The present invention relates to a method for manufacturing functional stainless steel 316L material for gaskets. It can form a uniform porous oxide film without the conventional pre-patterning process to form a uniform porous oxide film, and has significantly excellent hydrophobicity and corrosion resistance. It works.

Description

기능성 표면처리된 SUS316L 가스켓{Functional surface treated SUS316L gasket}Functional surface treated SUS316L gasket {Functional surface treated SUS316L gasket}

본 발명은 가스켓용 기능성 스테인리스 스틸 316L 소재 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing functional stainless steel 316L material for gaskets.

스테인리스 스틸은 크롬을 첨가하여 녹이 슬지 않는 금속 합금으로 가공성, 경제성 및 우수한 내식성 등의 특성을 가지므로 해양, 기계, 전자 부품, 배관, 발전, 원자력 등 여러 산업분야에서 활용되고 있다. 그러나 스테인리스 스틸은 이와 같은 장점에도 불구하고 가스 배관 및 해양산업 등 혹독한 환경과 같은 환경에서 내식성이 취약하다는 단점을 가지고 있다.Stainless steel is a metal alloy that does not rust due to the addition of chromium and has characteristics such as processability, economic efficiency, and excellent corrosion resistance, so it is used in various industrial fields such as marine, machinery, electronic components, piping, power generation, and nuclear power. However, despite these advantages, stainless steel has the disadvantage of poor corrosion resistance in harsh environments such as gas pipes and marine industries.

이런 단점을 해결하기 위해 내식성을 향상하기 위한 부식 방지 표면처리 기술 연구가 활발히 이루어지고 있다. 최근 젖음성 거동을 이용한 연구를 통해 초발수성 표면을 구현하는 연구가 주목받고 있다.To solve these shortcomings, research on anti-corrosion surface treatment technology to improve corrosion resistance is being actively conducted. Recently, research on implementing superhydrophobic surfaces through research using wettability behavior has been attracting attention.

초발수성 표면은 발수성(Water-repellency), 자기세정(Self-cleaning), 발유성(Oil-repellency), 결빙방지(Anti-icing), 착상방지(Anti-frost)등 여러가지 특성을 활용할 수 있으며, 첨단 디스플레이, 광학필름, 반도체, 박막 코팅 등 다양한 산업에서 이용할 수 있다.Superhydrophobic surfaces can utilize various properties such as water-repellency, self-cleaning, oil-repellency, anti-icing, and anti-frost. It can be used in various industries such as advanced displays, optical films, semiconductors, and thin film coating.

젖음성 거동은 소재의 표면에너지에 의해 결정되며, 표면 에너지를 감소시켜 표면 접촉각이 150° 이상이 되어 초발수성이 구현된다. 이와 같은 초발수성 표면은 연 꽃잎, 매미날개, 벼 잎 등 여러가지 자연 소재를 보고 개발되었으며, 마이크로 및 나노크기의 구조를 제작하여 표면에너지를 감소시켜 제작하는 등 다양한 방법들이 연구되고 있다.Wetability behavior is determined by the surface energy of the material, and by reducing the surface energy, the surface contact angle becomes 150° or more, realizing superhydrophobicity. Such a superhydrophobic surface was developed based on various natural materials such as lotus petals, cicada wings, and rice leaves, and various methods are being studied, such as manufacturing micro- and nano-sized structures to reduce surface energy.

하지만 금속에 마이크로 및 나노 크기의 구조물을 균일하게 구현할 수 있는 방법이 제한적이다. 다양한 표면처리법 중 양극산화 방법은 금속에 인위적으로 균일하고 두꺼운 산화 피막을 형성시킬 수 있다.However, methods for uniformly implementing micro- and nano-sized structures in metal are limited. Among various surface treatment methods, anodizing can artificially form a uniform and thick oxide film on metal.

양극산화법으로 만들어진 산화피막은 장벽형 피막과 기공형 피막으로 나누어지며, 장벽형 피막은 기공과 같은 빈 공간 없이 산화막 내부가 치밀하게 형성된 피막을 말하며, 기공형 피막은 기공구조가 규칙적으로 배열되는 나노 구조를 가지는 다공성 피막과 기공과 기공사이에 빈공간이 존재하는 나노 튜브형 피막으로 나누어진다.Oxide films made by anodizing are divided into barrier-type films and pore-type films. The barrier-type film refers to a film formed densely inside the oxide film without empty spaces such as pores, and the porous film refers to a nano-type film with a regularly arranged pore structure. It is divided into a porous film with a structure and a nanotube-type film with empty spaces between pores.

여기서, 상기 양극산화는 금속의 표면 처리방법 중 가장 널리 알려진 처리방법의 하나로서, 전해액에 침적된 금속 모재를 양극으로 하여 통전하는 경우, 양극에서 발생하는 산소에 의하여 모재의 표면이 산화되면서 산화피막을 형성하여 모재의 물성을 향상하는 처리방법이다.Here, the anodic oxidation is one of the most widely known metal surface treatment methods. When electricity is passed using a metal base material immersed in an electrolyte as an anode, the surface of the base material is oxidized by oxygen generated from the anode, forming an oxide film. It is a treatment method that improves the physical properties of the base material by forming a .

즉, 상기 전해액 중의 산소이온이나 수산이온이 모재의 표면에 형성되어 있던 산화피막으로 침투하여 금속이온과 결합하여 산화층을 형성함으로써, 상기 모재와 상기 산화층의 계면 부근에 기공성의 산화피막과 수산화피막이 성장하여 상기 모재의 물성을 더욱 향상시키게 되는 것이다.That is, oxygen ions or hydroxide ions in the electrolyte penetrate into the oxide film formed on the surface of the base material and combine with metal ions to form an oxide layer, thereby growing a porous oxide film and a hydroxide film near the interface between the base material and the oxide layer. As a result, the physical properties of the base material are further improved.

양극산화에 의해 금속 모재의 물성을 증대함에 있어서, 상기 양극산화의 가장 핵심적인 변수로는 양극산화처리 전압, 시간, 그리고 모재 금속의 순도와 같은 다양한 함수를 적절히 세팅하는 것이 무엇보다도 중요하다.In increasing the physical properties of the base metal by anodizing, it is most important to appropriately set various functions such as the anodizing voltage, time, and purity of the base metal, which are the most important variables of the anodizing.

스테인리스 스틸에도 성분 함량에 따라 다양한 합금 종류가 있고, 성분 함량에 따라서 목적하는 양극산화처리의 조건은 달라질 수 있어, 처리대상 모재의 성분 함량은 매우 중요하다 할 수 있다.There are various types of alloys in stainless steel depending on the ingredient content, and the desired anodizing treatment conditions may vary depending on the ingredient content, so the ingredient content of the base material to be treated is very important.

본 발명자는 스테인리스 스틸 (SUS 316L)을 모재로 하여 양극산화처리 시간 및 전압을 최적화하여 나노구조의 산화막을 형성한 다음, 소수성 SAM(Self-assembled Monolayer) 코팅제로 코팅함에 따라서, 소수성 및 내식성(부식 억제율)이 현저히 향상됨을 확인하고 본 발명을 완성하였다.The present inventor used stainless steel (SUS 316L) as a base material to form a nanostructured oxide film by optimizing the anodizing time and voltage, and then coated it with a hydrophobic SAM (Self-assembled Monolayer) coating to improve hydrophobicity and corrosion resistance (corrosion). The present invention was completed after confirming that the inhibition rate was significantly improved.

등록특허 10-1832059호Registered Patent No. 10-1832059

본 발명의 목적은 가스켓용 스테인리스 스틸 표면에 소수성 및 내식성(Corrosion Resistance) 산화막을 형성하는 방법을 제공하는 것이다.The purpose of the present invention is to provide a method of forming a hydrophobic and corrosion resistant oxide film on the surface of stainless steel for gaskets.

본 발명의 다른 목적은 상기 방법으로 제조된 소수성 양극산화막이 형성된 가스켓용 스테인리스 스틸을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide stainless steel for gaskets with a hydrophobic anodic oxide film produced by the above method.

상기 목적을 달성하기 위하여,In order to achieve the above purpose,

본 발명은 가스켓용 스테인리스 스틸 표면을 세척하고 건조하는 단계(단계 1);The present invention includes the steps of cleaning and drying the stainless steel surface for the gasket (step 1);

80-100 V 인가 전압에서 2.5-3.5 시간 동안 양극산화처리하여, 스테인리스 스틸 표면에 양극산화막을 형성하는 단계(단계 2);Forming an anodizing film on the stainless steel surface by anodizing for 2.5-3.5 hours at an applied voltage of 80-100 V (step 2);

상기 단계 2의 양극산화처리된 스테인리스 스틸을 0.05-1.0 M의 인산 용액에 침지하여 기공확장 처리하는 단계(단계 3);Processing pore expansion by immersing the anodized stainless steel of step 2 in a 0.05-1.0 M phosphoric acid solution (step 3);

플라즈마 처리하여 유기 잔여물을 제거하고 양극산화막 표면을 친수성으로 만드는 단계(단계 4); 및Plasma treatment to remove organic residues and make the surface of the anodized film hydrophilic (step 4); and

SAM(Self-assembled Monolayer) 코팅 가능한 소수성 코팅제로 코팅하는 단계(단계 5);를 포함하는,Comprising: coating with a hydrophobic coating capable of self-assembled monolayer (SAM) coating (step 5);

가스켓용 스테인리스 스틸 표면에 소수성 및 내식성(Corrosion Resistance) 산화막을 형성하는 방법을 제공한다.A method of forming a hydrophobic and corrosion resistant oxide film on the surface of stainless steel for gaskets is provided.

상기 스테인리스 스틸은 다양한 스테인리스 스틸에 모두 적용가능하나, 바람직하게는 SUS 316 또는 SUS 316L일 수 있고, 특히 바람직하게는 SUS 316L일 수 있다.The stainless steel can be applied to various stainless steels, but is preferably SUS 316 or SUS 316L, and is particularly preferably SUS 316L.

상기 단계 2의 양극산화처리에서 전해질(Electrolyte)은 0.05-0.15M의 NH4F, 0.05-0.15M의 물이 포함된 에틸렌글리콜을 사용할 수 있고, 바람직하게는 0.08-0.12M의 NH4F, 0.08-0.12M의 물이 포함된 에틸렌글리콜을 사용할 수 있으며, 더욱 바람직하게는 0.09-0.11M의 NH4F, 0.09-0.11M의 물이 포함된 에틸렌글리콜을 사용할 수 있고, 본 발명에서는 일례로서 0.1M의 NH4F, 0.1M의 물이 포함된 에틸렌글리콜을 전해질로서 사용하였으나 이에 제한하지 않는다.In the anodic oxidation treatment in step 2, the electrolyte may be 0.05-0.15M NH 4 F, ethylene glycol containing 0.05-0.15M water, preferably 0.08-0.12M NH 4 F, Ethylene glycol containing 0.08-0.12M of water can be used, more preferably, ethylene glycol containing 0.09-0.11M of NH 4 F and 0.09-0.11M of water can be used. In the present invention, as an example, Ethylene glycol containing 0.1M NH 4 F and 0.1M water was used as the electrolyte, but is not limited thereto.

상기 단계 2는 세척된 스테인리스 스틸을 80-100 V에서 2.5-3.5시간 동안 양극산화처리할 수 있고, 바람직하게는 85-95 V에서 2.8-3.2시간, 더욱 바람직하게는 88-92 V에서 2.9-3.1시간 실시할 수 있다.Step 2 can anodize the cleaned stainless steel at 80-100 V for 2.5-3.5 hours, preferably at 85-95 V for 2.8-3.2 hours, more preferably at 88-92 V for 2.9-3.2 hours. It can be carried out for 3.1 hours.

소수성 및 부식 억제율 90% 이상을 구현하기 위해서는, 88-92 V에서 2.9-3.1시간 양극산화처리하는 것이 바람직하고, 이 조건을 벗어날 경우 소수성 및 부식 억제율이 저하하는 문제점이 있을 수 있다.In order to achieve a hydrophobicity and corrosion inhibition rate of 90% or more, it is preferable to anodize at 88-92 V for 2.9-3.1 hours. If this condition is exceeded, there may be a problem in that the hydrophobicity and corrosion inhibition rate decreases.

상기 단계 3의 기공확장 처리는 0.05-1.0M의 인산용액에서 1-60분 동안 침지하여 실시할 수 있다.The pore expansion treatment in step 3 can be performed by immersing in a 0.05-1.0M phosphoric acid solution for 1-60 minutes.

상기 단계 5의 SAM 코팅 가능한 소수성 코팅제로는 표면에너지가 6mJ/m2 내지 20mJ/m2인 플루오르카본 체인 수가 1 내지 20개인 퍼플로로알킬실란, 탄소수가 1 내지 20개인 알킬실란 등을 사용할 수 있고, 일례로 1H,1H,2H,2H-퍼플로로데실트리클로로실란(FDTS), 트리클로로옥틸실란(OTS), 옥타데실트리클로로실란(ODTS) 등을 사용할 수 있다.As a hydrophobic coating agent capable of SAM coating in step 5, perfluoroalkyl silanes with 1 to 20 fluorocarbon chains with a surface energy of 6 mJ/m 2 to 20 mJ/m 2 , alkyl silanes with 1 to 20 carbon atoms, etc. can be used. For example, 1 H , 1 H , 2 H , 2 H -perfluorodecyltrichlorosilane (FDTS), trichlorooctylsilane (OTS), octadecyltrichlorosilane (ODTS), etc. can be used.

상기 가스켓은 링조인트(ring joint) 가스켓, 파형(corrugated) 가스켓, 톱니형(serrated) 가스켓, 렌즈링(lens ring) 가스켓, 브리지맨형(pressure seal ring) 가스켓, 델타형 가스켓, 더블콘형 가스켓, 메탈 중공 오링(O-ring) 등일 수 있다.The gasket includes a ring joint gasket, a corrugated gasket, a serrated gasket, a lens ring gasket, a Bridgeman-type gasket, a delta-type gasket, a double cone-type gasket, and a metal gasket. It may be a hollow O-ring, etc.

또한, 본 발명은 상기 방법으로 제조된 소수성 양극산화막이 형성된 가스켓용 스테인리스 스틸을 제공한다.In addition, the present invention provides stainless steel for gaskets with a hydrophobic anodic oxide film produced by the above method.

본 발명에 따른 가스켓용 스테인리스 스틸 표면에 소수성 및 내식성(Corrosion Resistance) 산화막을 형성하는 방법은, 종래의 균일한 다공성 산화막을 형성하기 위한 프리패터닝(Pre-patterning) 공정 없이도 균일한 다공성 산화막을 형성할 수 있어 소수성 및 내식성이 현저히 우수한 효과가 있다.The method of forming a hydrophobic and corrosion-resistant oxide film on the surface of stainless steel for gaskets according to the present invention can form a uniform porous oxide film without the conventional pre-patterning process to form a uniform porous oxide film. This results in significantly superior hydrophobicity and corrosion resistance.

도 1은 실시예 1-4의 단계 1 내지 단계 4까지만 실시한 후 얻은 샘플에 대한 EDS 측정 결과이다.
도 2는 실시예에서 단계 1 내지 4까지만 실시한 후 얻은 4개의 샘플 표면에 형성된 산화막의 표면 형상을 FE-SEM으로 관찰한 이미지이다.
도 3은 실시예에서 단계 1 내지 단계 4까지만 실시한 샘플(SAM 코팅 미실시)의 접촉각을 측정한 결과이다.
도 4는 실시예에서 단계 1 내지 단계 5까지 모두 실시한 샘플(SAM 코팅 실시)의 접촉각을 측정한 결과이다.
도 5는 실시예에서 단계 1 내지 단계 5까지 모두 실시한 샘플의 동전위분극 곡선을 나타낸 도면이다.
Figure 1 shows the EDS measurement results for samples obtained after performing only steps 1 to 4 of Example 1-4.
Figure 2 is an image of the surface shape of the oxide film formed on the surface of four samples obtained after only steps 1 to 4 in the example were observed using FE-SEM.
Figure 3 shows the results of measuring the contact angle of a sample (without SAM coating) subjected to only steps 1 to 4 in the example.
Figure 4 shows the results of measuring the contact angle of the sample (SAM coating) subjected to all steps 1 to 5 in the example.
Figure 5 is a diagram showing the electropotential polarization curve of the sample subjected to all steps 1 to 5 in the example.

이하, 본 발명을 하기의 실시예에 의하여 더욱 상세하게 설명한다. 단, 하기의 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기의 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through the following examples. However, the following examples are merely illustrative of the present invention, and the content of the present invention is not limited by the following examples.

<실시예 1-1 내지 1-4> 스테인리스 스틸(SUS 316L)의 양극산화처리<Examples 1-1 to 1-4> Anodizing treatment of stainless steel (SUS 316L)

단계 1: 스테인리스 스틸(SUS 316L) 기판의 준비Step 1: Preparation of stainless steel (SUS 316L) substrate

3cm × 3cm × 0.05cm 크기의 스테인리스 스틸(SUS 316L)을 사용하였다. 표면 이물질 제거 및 표면 클리닝을 위해 에탄올과 아세톤에 침지시켜 초음파 세척을 실시하였으며, 증류수를 이용하여 한번 더 세척한 후 건조하였다.Stainless steel (SUS 316L) measuring 3 cm × 3 cm × 0.05 cm was used. To remove surface impurities and clean the surface, it was immersed in ethanol and acetone and ultrasonic cleaned. It was washed once more with distilled water and dried.

SUS 316L 등의 스테인리스 스틸의 성분을 하기에 나타내었다. 참조로, 금속의 종류, 그리고 합금의 종류에 따라서 초친수성 산화막을 형성하기 위한 최적의 양극산화 처리조건에는 상당한 차이가 있고, 본 발명에서는 SUS 316L에 초점을 맞추어 초친수성 산화막을 형성하기 위한 최적의 양극산화 처리조건을 찾아내었다.The components of stainless steel such as SUS 316L are shown below. For reference, there are significant differences in the optimal anodizing treatment conditions for forming a superhydrophilic oxide film depending on the type of metal and alloy, and in the present invention, the optimal anodizing treatment conditions for forming a superhydrophilic oxide film are focused on SUS 316L. Anodizing treatment conditions were found.

단계 2: 양극산화 처리Step 2: Anodizing

양극산화 공정은 양극에 스테인리스 스틸, 음극에 백금(2.5cm × 4cm × 0.05cm)을 사용하였으며, 전극간 거리는 5cm 로 유지했다. 에틸렌글리콜 용액을 기반으로 0.1 M NH4F, 0.1 M H2O을 첨가한 전해질 용액에서 이중 자켓 비커와 수냉식 냉각기를 이용하여 0℃의 온도로 유지하였다. 인가전압을 30V(실시예 1-1), 50V(실시예 1-2), 70V(실시예 1-3), 90V(실시예 1-4)로 하여 3시간 동안 진행하였으며, 양극산화 후 시편을 증류수로 세척, 건조하였다.The anodization process used stainless steel for the anode and platinum (2.5 cm × 4 cm × 0.05 cm) for the cathode, and the distance between electrodes was maintained at 5 cm. An electrolyte solution containing 0.1 M NH 4 F and 0.1 MH 2 O was added based on an ethylene glycol solution, and the temperature was maintained at 0°C using a double-jacketed beaker and a water-cooled condenser. The applied voltage was set to 30V (Example 1-1), 50V (Example 1-2), 70V (Example 1-3), and 90V (Example 1-4) for 3 hours, and the specimen after anodization was washed with distilled water and dried.

단계 3: 기공확장 처리Step 3: Pore expansion treatment

상기 단계 2의 양극산화 처리로 제작된 나노 구조물의 기공 확장을 위해 0.1 M의 인산(Phosphoric Acid, Junsei)에 10분간 침지시켜 기공을 확장시키고, 시편을 증류수로 세척, 건조하였다.To expand the pores of the nanostructure produced by the anodic oxidation treatment in step 2, the sample was dipped in 0.1 M phosphoric acid (Junsei) for 10 minutes to expand the pores, and the specimen was washed with distilled water and dried.

단계 4: 플라즈마 처리Step 4: Plasma treatment

플라즈마 장치를 이용하여 표면에 15분 동안 산소 플라즈마로 유기 잔여물 제거하고 친수성으로 만든 후 공기 중에서 가열 교반기를 사용하여 150℃에서 10분 동안 건조하였다. 플라즈마 처리 조건은 200W, 50KHz, O2 50sccm, RIE 모드로 15분 동안 플라즈마 처리하였다.Using a plasma device, organic residues were removed from the surface with oxygen plasma for 15 minutes, made hydrophilic, and then dried in air at 150°C for 10 minutes using a heating stirrer. The plasma treatment conditions were 200W, 50KHz, O 2 50sccm, and RIE mode for 15 minutes.

단계 5: 자기조립 단분자막(Self-assembled Monolayer, SAM) 코팅Step 5: Self-assembled Monolayer (SAM) coating

플라즈마 처리가 완료된 양극산화 샘플에 발수 특성을 부여하기 위해, 자기조립 단분자막(Self-assembled Monolayer, SAM) 코팅을 낮은 표면에너지를 가지는 물질인 FDTS(1H, 1H, 2H, 2H-Perfluorodecyltrichlorosilane) 용액을 사용하여 수행하였다.In order to impart water-repellent properties to the plasma-treated anodized sample, a self-assembled monolayer (SAM) coating was used using FDTS (1H, 1H, 2H, 2H-Perfluorodecyltrichlorosilane) solution, a material with low surface energy. It was carried out.

<실험예 1> EDS(Energy dispersive spectroscopy)를 이용한 산화막 형성 평가<Experimental Example 1> Evaluation of oxide film formation using EDS (Energy dispersive spectroscopy)

실시예 1-4(양극산화 90V, 3시간)에서 단계 1 내지 단계 4까지(SAM 코팅 미실시) 실시한 후 얻은 스테인리스 스틸(SUS 316L) 샘플에 대해서 EDS(모델명: X-MAX, 제조사: OXFORD) 측정을 하여, 산화막 형성 여부를 평가하였고, 그 결과를 도 1에 나타내었다.EDS (model name: The formation of an oxide film was evaluated, and the results are shown in Figure 1.

도 1은 실시예 1-4의 단계 1 내지 단계 4까지 실시한 후 얻은 샘플에 대한 EDS 측정 결과이다.Figure 1 shows the EDS measurement results for samples obtained after performing steps 1 to 4 of Example 1-4.

도 1에 나타난 바와 같이, 양극산화 후에 산소와 철이 주성분으로 나타나 있으며, 그 외에 크롬, 망간, 니켈 등이 검출되었으며 탄소는 샘플을 스테이지에 고정하기 위한 카본테이프에 영향으로 노이즈에 해당한다. 이 결과를 통해 스테인리스 스틸 표면에 산화막이 형성된 것을 확인할 수 있다.As shown in Figure 1, after anodization, oxygen and iron appear as the main components, and in addition, chromium, manganese, and nickel are detected, and carbon corresponds to noise due to the influence of the carbon tape for fixing the sample to the stage. These results confirm that an oxide film was formed on the stainless steel surface.

<실험예 2> FE-SEM(Field Emission Scanning Electron Microscope)을 이용한 표면 형상 관찰<Experimental Example 2> Surface shape observation using FE-SEM (Field Emission Scanning Electron Microscope)

실시예에서 단계 1 내지 단계 4까지(SAM 코팅 미실시) 실시한 스테인리스 스틸(SUS 316L) 표면에 형성된 산화막의 표면 형상을 FE-SEM(모델명: MIRA 3 LMH In-Beam Detector, 제조사: TESCAN)을 이용하여 관찰하였고, 그 결과를 도 2에 나타내었다.In the example, the surface shape of the oxide film formed on the surface of stainless steel (SUS 316L) performed from steps 1 to 4 (without SAM coating) was examined using FE-SEM (model name: MIRA 3 LMH In-Beam Detector, manufacturer: TESCAN). Observation was made, and the results are shown in Figure 2.

구체적으로, 샘플의 표면 형상을 관찰하기 위하여 샘플을 절단하여 카본 테이프로 스테이지에 고정하고, 양극산화로 만들어진 구조물은 비전도성인 산화물이므로 백금 코팅을 40초간 수행한 후 관찰하였다.Specifically, in order to observe the surface shape of the sample, the sample was cut and fixed to the stage with carbon tape, and since the structure made by anodization is a non-conductive oxide, platinum coating was performed for 40 seconds and then observed.

도 2는 실시예에서 단계 1 내지 4까지 실시한 후 얻은 4개의 샘플 표면에 형성된 산화막의 표면 형상을 FE-SEM으로 관찰한 이미지이다.Figure 2 is an image of the surface shape of the oxide film formed on the surface of four samples obtained after performing steps 1 to 4 in the example observed by FE-SEM.

도 2에 나타난 바와 같이, (c), (d)의 표면과 달리 (a)와 (b)에서는 표면에서는 장벽형 산화피막이 형성되었기 때문에 표면에 기공을 형성하지 않는 것을 확인 할 수 있다. 그러나 (c)와 (d)의 경우엔 앞의 두 시편과 달리 다공성 구조가 형성된 것을 확인할 수 있다. 다공성 구조가 형성되는 이유로는 산성을 띄는 용액과 산화피막이 접촉하여 피막 표면에서 일어나는 부분적 용해로 인해 산화피막의 표면 거칠기가 증가하며 거칠어진 산화피막중 피막의 두께가 얇은 곳에서 전기장의 집중이 일어나게 된다. 전기장의 집중은 산화피막의 용해반응을 촉진시키게 되어 더 얇은 산화피막을 형성하게 되고 이러한 반응의 연속적 거동으로 인해 국부적 산화로 기공을 형성하게 된다As shown in Figure 2, unlike the surfaces of (c) and (d), it can be seen that no pores are formed on the surfaces of (a) and (b) because a barrier-type oxide film is formed on the surfaces. However, in cases (c) and (d), unlike the previous two specimens, it can be seen that a porous structure was formed. The reason for the formation of a porous structure is that the surface roughness of the oxide film increases due to partial dissolution that occurs on the surface of the film when the oxide film comes into contact with an acidic solution, and the electric field is concentrated in areas where the film thickness is thin among the roughened oxide films. The concentration of the electric field promotes the dissolution reaction of the oxide film, forming a thinner oxide film, and the continuous behavior of this reaction forms pores due to local oxidation.

표 1에 도 2의 FE-SEM 이미지를 이용하여 양극산화 후 표면에 생성되어진 기공 직경(Pore Diameter, Dp), 기공사이의 간격(Interpore Distance, Dint), 고체분율(Solid Fraction)을 측정한 결과를 나타내었다. 기공의 직경과 기공간 거리는 평균값으로 나타낸 것이며, 고체분율은 하기 수학식 (1)에 의해 산출하였다.Using the FE-SEM image in Figure 2 in Table 1, the pore diameter (Pore Diameter, D p ), the spacing between pores (D int ), and solid fraction created on the surface after anodization were measured. One result was shown. The pore diameter and pore space distance are expressed as average values, and the solid fraction was calculated using the following equation (1).

[수학식 1][Equation 1]

f SL : 고체 분율(Solid Fraction) f SL : Solid Fraction

a: 기공간의 거리a: Distance between pore spaces

r: 기공의 반지름r: radius of pore

Dp(nm)D p (nm) Dint(nm)D int (nm) 고체분율solid fraction 30V30V NoneNone NoneNone NoneNone 50V50V NoneNone NoneNone NoneNone 70V70V 68.62±8.0768.62±8.07 89.78±8.3089.78±8.30 0.45590.4559 90V90V 89.17±8.2589.17±8.25 106.45±7.22106.45±7.22 0.34660.3466

표 1에 나타난 바와 같이, 장벽형 피막으로 이루어진 인가전압 30 V, 50 V시편의 산화피막에서는 기공이 발견되지 않아 DP, Dint, 고체분율값은 구할 수 없으며, 70 V와 90 V의 경우 다공성 기공이 생성됨에 따라 DP, Dint, 고체분율값을 구할 수 있었다. 70 V에서의 DP, Dint, 고체분율값은 각각 68.62±8.07 nm, 89.78±8.30 nm, 0.4559 이며, 90 V에서의 값은 89.17±8.25 nm, 106.45±7.22 nm, 0.3466 으로 산출되었다. 70V 및 90V 전압 조건에서 규칙적인 기공을 가지는 다공성 피막이 형성됨을 관찰하였다. 고체분율은 거칠기율을 의미한다. As shown in Table 1, no pores were found in the oxide film of the 30 V and 50 V specimens composed of barrier films, so D P, D int, and solid fraction values could not be obtained. In the case of 70 V and 90 V, As porous pores were created, D P, D int, and solid fraction values could be obtained. The D P, D int, and solid fraction values at 70 V were calculated to be 68.62±8.07 nm, 89.78±8.30 nm, and 0.4559, respectively, and the values at 90 V were calculated to be 89.17±8.25 nm, 106.45±7.22 nm, and 0.3466. It was observed that a porous film with regular pores was formed under voltage conditions of 70V and 90V. Solid fraction refers to roughness rate.

<실험예 3> 접촉각 평가<Experimental Example 3> Contact angle evaluation

실시예에서 단계 1 내지 단계 4까지만 실시한 샘플과 단계 1 내지 단계 5까지 모두 실시한 샘플의 표면 젖음성을 알아보기 위해 접촉각을 측정하였고, 그 결과를 도 3, 도 4 및 표 2에 나타내었다.In the example, the contact angle was measured to determine the surface wettability of the sample performed only from steps 1 to 4 and the sample performed from all steps 1 to 5, and the results are shown in Figures 3, 4, and Table 2.

구체적으로, 측정 시에 기준 액체로 3.5㎕의 증류수를 사용하였다. 표면 위에 액적을 떨어뜨린 후 5초의 시간후에 접촉각을 측정하였고, 시편 당 10번 측정을 하였다.Specifically, 3.5 μl of distilled water was used as a reference liquid during measurement. The contact angle was measured 5 seconds after dropping the droplet on the surface, and measurements were made 10 times per specimen.

도 3은 실시예에서 단계 1 내지 단계 4까지만 실시한 샘플(SAM 코팅 미실시)의 접촉각을 측정한 결과이다.Figure 3 shows the results of measuring the contact angle of a sample (without SAM coating) subjected to only steps 1 to 4 in the example.

도 4는 실시예에서 단계 1 내지 단계 5까지 모두 실시한 샘플(SAM 코팅 실시)의 접촉각을 측정한 결과이다.Figure 4 shows the results of measuring the contact angle of the sample (SAM coating) subjected to all steps 1 to 5 in the example.

도 3 및 도 4의 결과를 하기 표 2에 정리하여 나타내었다.The results of Figures 3 and 4 are summarized in Table 2 below.

SAM 코팅전 (°)Before SAM coating (°) SAM 코팅후 (°)After SAM coating (°) 30V30V 21.4±0.9121.4±0.91 115.5±2.85115.5±2.85 50V50V 18.5±1.5918.5±1.59 123.4±1.63123.4±1.63 70V70V 16.5±0.9816.5±0.98 130.3±1.82130.3±1.82 90V90V 8.56±0.688.56±0.68 140.3±1.46140.3±1.46

표 2에 나타난 바와 같이, SAM 코팅후 샘플에서 인가전압이 증가할수록 접촉각이 높아지는 것을 볼 수 있다. Cassie-Baxter 이론에 의하여 시편 표면의 다공성 산화막에서의 코팅으로 인해 공기가 기공 또는 고체 표면의 물방울을 밀어내는 형상이 되는 것이므로 다공성 산화피막을 형성하는 표면에 코팅한 시편에서 접촉각이 높게 나온 것으로 판단된다.As shown in Table 2, it can be seen that the contact angle increases as the applied voltage increases in the sample after SAM coating. According to the Cassie-Baxter theory, the coating on the porous oxide film on the surface of the specimen creates a shape in which air pushes out water droplets on the pores or solid surface, so it is judged that the contact angle was high in the specimen coated on the surface forming the porous oxide film. .

<실험예 4> 내식성(Corrosion Resistance) 평가<Experimental Example 4> Corrosion Resistance Evaluation

실시예에서 단계 1 내지 단계 5까지 모두 실시한 샘플의 내식성을 평가하였고, 그 결과를 도 5 및 표 3에 나타내었다.In the examples, the corrosion resistance of the samples subjected to all steps 1 to 5 was evaluated, and the results are shown in Figure 5 and Table 3.

구체적으로, 내식성은 전기화학적 방법인 동전위분극시험(Potentio-Dynamic Polarization Test, PDP)으로 상온의 3.5 wt% NaCl 용액에서 진행하였다. 분석 시험 진행 전 1시간 동안 상온에서 3.5 wt.% NaCl 용액에 샘플을 침지 시킨 후 측정하였다. 분극 시험은 3전극 시스템으로 작업전극으로는 샘플을 사용하였고 상대전극으로는 백금(Pt)을 사용하였으며 기준전극으로는 은/염화은(Ag/AgCl) 전극을 이용하였다. 측정 조건은 -500 mV 내지 +14000 mV(vs. Ag/AgCl) 범위를 1 mV/sec의 주사 속도로 전기화학적 특성 분석을 통해 내식성을 평가하였다.Specifically, corrosion resistance was tested in a 3.5 wt% NaCl solution at room temperature using the electrochemical method Potentio-Dynamic Polarization Test (PDP). Before proceeding with the analysis test, the sample was immersed in a 3.5 wt.% NaCl solution at room temperature for 1 hour and then measured. The polarization test was a three-electrode system in which a sample was used as the working electrode, platinum (Pt) was used as the counter electrode, and a silver/silver chloride (Ag/AgCl) electrode was used as the reference electrode. Measurement conditions were -500 mV to +14000 mV (vs. Ag/AgCl), and corrosion resistance was evaluated through electrochemical characterization at a scanning speed of 1 mV/sec.

도 5는 실시예에서 단계 1 내지 단계 5까지 모두 실시한 샘플의 동전위분극 곡선을 나타낸 도면이다.Figure 5 is a diagram showing the electropotential polarization curve of the sample subjected to all steps 1 to 5 in the example.

도 5의 결과를 정리하여 하기 표 3에 나타내었다.The results of FIG. 5 are summarized and shown in Table 3 below.

Ecorr (mV)E corr (mV) Icorr (A/cm2)I corr (A/cm 2 ) IE (%)IE (%) 무처리 SUS 316LUntreated SUS 316L -404-404 2.36×10-7 2.36×10 -7 00 30V30V -232-232 1.67×10-7 1.67×10 -7 29.2329.23 50V50V -192-192 2.96×10-8 2.96×10 -8 87.4687.46 70V70V -144-144 2.49×10-8 2.49×10 -8 89.4489.44 90V90V -38-38 9.02×10-9 9.02×10 -9 96.1896.18

Ecorr: 부식전위E corr : corrosion potential

Icorr: 질량의 손실을 나타내는 부식전류밀도I corr : Corrosion current density indicating loss of mass

IE: 무처리 SUS 304 대비 실시예 처리 샘플의 부식 억제율(Inhibition Efficiency)IE: Corrosion inhibition efficiency of the example treated sample compared to untreated SUS 304

부식전위란 부식이 일어나는 속도를 보여주는 수치이며 값이 낮을수록 산화경향이 크기 때문에 부식이 빨리 발생하는 경향이 있다Corrosion potential is a number that shows the speed at which corrosion occurs. The lower the value, the greater the oxidation tendency, so corrosion tends to occur faster.

부식전류밀도는 전류밀도 값이 커질수록 전류가 많이 흐르기 때문에 부식이 많이 발생하는 경향이 있다.As the corrosion current density value increases, more current flows, so corrosion tends to occur more often.

부식 억제율은 부식전류밀도값을 이용하여 수치화한 것으로, i는 양극산화처리 및 코팅된 시편의 전류밀도값이며 i0는 무처리 시편의 전류밀도값으로 하기 수학식 2에 의해 산출하였다.The corrosion inhibition rate was quantified using the corrosion current density value, where i is the current density value of the anodized and coated specimen, and i 0 is the current density value of the untreated specimen, calculated using Equation 2 below.

[수학식 2][Equation 2]

i: 실시예에서 단계 1 내지 단계 5까지 모두 실시한 샘플의 부식전류밀도i: Corrosion current density of the sample subjected to all steps 1 to 5 in the example

i0: 무처리 SUS 316L의 부식전류밀도i 0 : Corrosion current density of untreated SUS 316L

IE: 무처리 SUS 316L 대비 실시예 처리 샘플의 부식 억제율IE: Corrosion inhibition rate of the example treated sample compared to untreated SUS 316L

표 3에 나타난 바와 같이, 인가전압이 높아질수록 내식성이 우수해지는 경향을 확인할 수 있으며, 부식억제율 또한 30 V의 경우 29.23 %, 50 V는 87.46 %, 70 V는 89.44 %, 90 V에선 96.18 % 으로 인가전압이 증가함에 따라 상승하는 경향을 확인할 수 있다. 이는 부식성 물질(Cl-)과 접촉하는 물질의 계면 구조의 변화 및 발수처리된 다공성 산화피막의 젖음성과 관련이 있다. 부식성 물질과 접촉하는 물질의 계면구조 변화의 경우 낮은 표면에너지를 가지는 코팅 물질은 극성을 가지지 않기 때문에 물 분자가 표면에 부착되기 어려워지며, 그에 따라 물 분자 속의 부식성 이온들은 코팅된 금속에서 반응을 일으키기 어려워진다. 또한 다공성 산화피막의 발수처리시 Cassie-Baxter의 형상에 따라 구조물과 부식성 물질이 접촉하더라도 기공 내부에 채워진 공기로 인해 부식성 물질이 기공 내부로 침투하기 어려운 상황을 구현함으로써, 부식 방지 효율이 증가한 것으로 판단된다. As shown in Table 3, it can be seen that the corrosion resistance tends to become superior as the applied voltage increases, and the corrosion inhibition rate is 29.23% at 30 V, 87.46% at 50 V, 89.44% at 70 V, and 96.18% at 90 V. A tendency to increase can be seen as the applied voltage increases. This is related to the change in the interface structure of the material in contact with the corrosive substance (Cl - ) and the wettability of the water-repellent treated porous oxide film. In the case of a change in the interface structure of a material in contact with a corrosive material, the coating material with low surface energy is not polar, so it becomes difficult for water molecules to attach to the surface, and as a result, the corrosive ions in the water molecules cause a reaction in the coated metal. It gets difficult. In addition, during the water repellent treatment of the porous oxide film, the corrosion prevention efficiency was determined to have increased by creating a situation in which it is difficult for corrosive substances to penetrate into the pores due to the air filled inside the pores even if the structure and corrosive substances come into contact depending on the shape of Cassie-Baxter. do.

<실험예 5> 내식성을 위한 양극산화 최적 조건(시간 및 전압) 평가<Experimental Example 5> Evaluation of optimal conditions (time and voltage) for anodizing for corrosion resistance

상기 실험예 1 내지 4를 통해 양극산화 처리 조건으로 3시간 및 90V 처리할 경우 내식성이 가장 우수함을 확인하였다. 이에, 본 실험예 5에서는 양극산화 처리 조건 3시간 및 90V를 기준으로 하여 최적 조건을 알아보았고, 그 결과를 표 4 및 표 5에 나타내었다. 양극산화 처리 시간 및 전압을 달리한 것을 제외하고는 실시예와 동일하게 샘플(SAM 코팅 실시)을 제조하였다.Through Experimental Examples 1 to 4, it was confirmed that corrosion resistance was the best when treated under anodizing conditions for 3 hours and 90V. Therefore, in this Experimental Example 5, the optimal conditions were investigated based on anodizing treatment conditions of 3 hours and 90V, and the results are shown in Tables 4 and 5. A sample (SAM coating) was prepared in the same manner as in the example, except that the anodizing treatment time and voltage were different.

시간(h)Time (h) 전압(V)Voltage (V) IE(%)IE(%) 실시예 2-1Example 2-1 2.82.8 9090 82.2382.23 실시예 2-2Example 2-2 2.92.9 95.8795.87 실시예 2-3
(= 실시예 1-4)
Example 2-3
(= Example 1-4)
3.03.0 96.1896.18
실시예 2-4Example 2-4 3.13.1 95.4895.48 실시예 2-5Example 2-5 3.23.2 85.4785.47

시간(h)Time (h) 전압(V)Voltage (V) IE(%)IE(%) 실시예 3-1Example 3-1 3.03.0 8686 89.9989.99 실시예 3-2Example 3-2 8888 95.3195.31 실시예 3-3
(= 실시예 1-4)
Example 3-3
(= Example 1-4)
9090 96.1896.18
실시예 3-4Example 3-4 9292 95.7495.74 실시예 3-5Example 3-5 9494 87.4987.49

표 4 및 표 5에 나타난 바와 같이, 내식성 측면에서 양극산화 처리 시간 2.9-3.1 h 및 인가 전압 88-92 V에서 가장 우수한 결과를 확인할 수 있었다.As shown in Tables 4 and 5, in terms of corrosion resistance, the best results were obtained at an anodizing treatment time of 2.9-3.1 h and an applied voltage of 88-92 V.

이제까지 본 발명에 대하여 그 바람직한 실시예들을 중심으로 살펴보았다. 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 변형된 형태로 구현될 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 개시된 실시예들은 한정적인 관점이 아니라 설명적인 관점에서 고려되어야 한다. 본 발명의 범위는 전술한 설명이 아니라 특허 청구범위에 나타나 있으며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 차이점은 본 발명에 포함된 것으로 해석되어야 할 것이다.So far, the present invention has been examined focusing on its preferred embodiments. A person skilled in the art to which the present invention pertains will understand that the present invention may be implemented in a modified form without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the disclosed embodiments should be considered from an illustrative rather than a restrictive perspective. The scope of the present invention is indicated in the claims rather than the foregoing description, and all differences within the equivalent scope should be construed as being included in the present invention.

Claims (10)

가스켓용 스테인리스 스틸 표면을 세척하고 건조하는 단계(단계 1);
80-100 V 인가 전압에서 2.5-3.5 시간 동안 양극산화처리하여, 스테인리스 스틸 표면에 양극산화막을 형성하는 단계(단계 2);
상기 단계 2의 양극산화처리된 스테인리스 스틸을 0.05-1.0 M의 인산 용액에 침지하여 기공확장 처리하는 단계(단계 3);
플라즈마 처리하여 유기 잔여물을 제거하고 양극산화막 표면을 친수성으로 만드는 단계(단계 4); 및
SAM(Self-assembled Monolayer) 코팅 가능한 소수성 코팅제로 코팅하는 단계(단계 5);를 포함하는,
가스켓용 스테인리스 스틸 표면에 소수성 및 내식성(Corrosion Resistance) 산화막을 형성하는 방법.
Cleaning and drying the stainless steel surface for the gasket (step 1);
Forming an anodizing film on the stainless steel surface by anodizing for 2.5-3.5 hours at an applied voltage of 80-100 V (step 2);
Processing pore expansion by immersing the anodized stainless steel of step 2 in a 0.05-1.0 M phosphoric acid solution (step 3);
Plasma treatment to remove organic residues and make the surface of the anodized film hydrophilic (step 4); and
Comprising: coating with a hydrophobic coating capable of self-assembled monolayer (SAM) coating (step 5);
A method of forming a hydrophobic and corrosion-resistant oxide film on the surface of stainless steel for gaskets.
제1항에 있어서,
상기 스테인리스 스틸은 SUS 316 또는 SUS 316L인 것을 특징으로 하는 방법.
According to paragraph 1,
A method characterized in that the stainless steel is SUS 316 or SUS 316L.
제1항에 있어서,
상기 단계 2의 양극산화처리는 NH4F, 물 및 에틸렌글리콜의 혼합물을 전해질로 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
According to paragraph 1,
The anodizing process in step 2 is characterized in that a mixture of NH 4 F, water, and ethylene glycol is used as an electrolyte.
제1항에 있어서,
상기 단계 2의 양극산화처리는 85-95 V 인가 전압에서 2.8-3.2 시간 동안 처리하는 것을 특징으로 하는 방법.
According to paragraph 1,
The anodizing process in step 2 is characterized in that the treatment is performed for 2.8-3.2 hours at an applied voltage of 85-95 V.
제4항에 있어서,
상기 단계 2의 양극산화처리는 88-92 V 인가 전압에서 2.9-3.1 시간 동안 처리하는 것을 특징으로 하는 방법.
According to paragraph 4,
The anodizing process in step 2 is characterized in that the treatment is performed for 2.9-3.1 hours at an applied voltage of 88-92 V.
제1항에 있어서,
상기 SAM 코팅 가능한 소수성 코팅제는 1H,1H,2H,2H-퍼플로로데실트리클로로실란(FDTS), 트리클로로옥틸실란(OTS) 및 옥타데실트리클로로실란(ODTS) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 방법.
According to paragraph 1,
The hydrophobic coating agent capable of being coated with the SAM is any one of 1 H , 1 H , 2 H , 2 H -perfluorodecyltrichlorosilane (FDTS), trichlorooctylsilane (OTS), and octadecyltrichlorosilane (ODTS). A method characterized by:
제1항에 있어서,
스테인리스 스틸 표면에 접촉각 160° 이상의 양극산화막이 형성되는 것을 특징으로 하는 방법.
According to paragraph 1,
A method characterized in that an anodic oxide film is formed on a stainless steel surface with a contact angle of 160° or more.
제1항에 있어서,
스테인리스 스틸 표면에 부식 억제율 90% 이상의 양극산화막이 형성되는 것을 특징으로 하는 방법.
According to paragraph 1,
A method characterized by the formation of an anodic oxide film with a corrosion inhibition rate of 90% or more on the surface of stainless steel.
제1항에 있어서,
상기 가스켓은 링조인트(ring joint) 가스켓, 파형(corrugated) 가스켓, 톱니형(serrated) 가스켓, 렌즈링(lens ring) 가스켓, 브리지맨형(pressure seal ring) 가스켓, 델타형 가스켓, 더블콘형 가스켓 및 메탈 중공 오링(O-ring) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 방법.
According to paragraph 1,
The gasket includes a ring joint gasket, a corrugated gasket, a serrated gasket, a lens ring gasket, a Bridgeman-type (pressure seal ring) gasket, a delta-type gasket, a double cone-type gasket, and a metal gasket. A method characterized in that it is one of hollow O-rings.
제1항의 방법으로 제조된 소수성 양극산화막이 형성된 가스켓용 스테인리스 스틸.Stainless steel for gaskets with a hydrophobic anodic oxide film produced by the method of claim 1.
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