KR20240056938A - Dehumidification System - Google Patents

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KR20240056938A
KR20240056938A KR1020220137060A KR20220137060A KR20240056938A KR 20240056938 A KR20240056938 A KR 20240056938A KR 1020220137060 A KR1020220137060 A KR 1020220137060A KR 20220137060 A KR20220137060 A KR 20220137060A KR 20240056938 A KR20240056938 A KR 20240056938A
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gas
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KR1020220137060A
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이인섭
이도경
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이인섭
이도경
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/26—Drying gases or vapours

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Abstract

본 발명은 수분 제거 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 습식 스크러버에서 배출된 배기가스 등 수분을 포함하고 있는 가스에 포함된 수분을 제거하는 수분 제거 장치에 관한 것이다. 본 발명은, 수분이 포함된 가스가 유입되는 제1 입구와, 처리된 가스가 유출되는 제1 출구와, 가스에서 제거된 수분이 배출되는 제1 배출구가 형성되며, 상기 제1 입구로 유입된 가스가 상기 제1 출구를 향하여 수평방향으로 흐르도록 상기 제1 입구와 상기 제1 출구가 배치된 수평 케이스와; 상기 수평 케이스의 내부에 흐르는 가스가 충돌하도록, 상기 수평 케이스의 상기 제1 입구와 상기 제1 출구 사이에서 상기 바닥면으로부터 상방으로 연장되어 상기 수평 케이스의 천장과의 사이에 가스가 흐르는 갭을 형성하며, 상기 제1 출구를 가리도록 그 상단부의 높이는 상기 제1 출구에 비해서 높은 수분 제거판을 포함하는 수분 제거 장치를 제공한다.The present invention relates to a moisture removal device, and more specifically, to a moisture removal device that removes moisture contained in gas containing moisture, such as exhaust gas discharged from a wet scrubber. In the present invention, a first inlet through which gas containing moisture flows in, a first outlet through which treated gas flows out, and a first outlet through which moisture removed from the gas is discharged are formed, and the first inlet flows into the first inlet. a horizontal case in which the first inlet and the first outlet are arranged so that gas flows horizontally toward the first outlet; A gap extends upward from the floor between the first inlet and the first outlet of the horizontal case to form a gap through which gas flows between the first inlet and the first outlet of the horizontal case so that the gas flowing inside the horizontal case collides with the ceiling of the horizontal case. In addition, a moisture removal device is provided including a moisture removal plate whose upper end has a height higher than that of the first outlet so as to cover the first outlet.

Description

수분 제거 장치{Dehumidification System}Dehumidification System

본 발명은 수분 제거 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 습식 스크러버에서 배출된 배기가스 등 수분을 포함하고 있는 가스에 포함된 수분을 제거하는 수분 제거 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a moisture removal device, and more specifically, to a moisture removal device that removes moisture contained in gas containing moisture, such as exhaust gas discharged from a wet scrubber.

습식정화장치는 세정액을 이용하여 배기가스 내의 유해성분을 제거하는 장치로서, 크게 가압수식과 유수식으로 구분할 수 있다. 가압수식은 고압의 세정액을 분사하여 유해가스를 세정하는 방식으로서, 벤튜리 스크러버(Venturi Scrubber), 제트 스크러버(Jet Scrubber), 사이클론 스크러버(Cyclone Scrubber), 충전탑 등이 있다.A wet purification device is a device that removes harmful components in exhaust gas using a cleaning liquid, and can be broadly divided into pressurized water type and oil-water type. Pressurized water is a method of cleaning harmful gases by spraying high-pressure cleaning liquid, and includes Venturi scrubbers, jet scrubbers, cyclone scrubbers, and packed towers.

가압수식 습식정화장치에서 정화된 배기가스는 고온 다습한 상태로 습식정화장치에서 배출된다. 습식정화장치 외부의 온도가 배출되는 가스의 이슬점 이하인 경우에는 배출된 가스에 포함된 수증기가 응축되면서 작은 물방울이 되어 빛을 산란시켜 마치 흰 연기처럼 보이며, 이를 백연이라고 한다.The exhaust gas purified in the pressurized water type wet purification device is discharged from the wet purification device in a high temperature and high humidity state. If the temperature outside the wet purification device is below the dew point of the discharged gas, the water vapor contained in the discharged gas condenses and becomes small water droplets, scattering light and appearing like white smoke, which is called white smoke.

백연에 대한 법적 규제는 없으나, 인근 주민들이 화재로 오인하여 화재 신고를 하거나, 오염물질을 배출하는 것으로 오인되어 민원이 발생하는 일도 빈번하기 때문에 제거가 필요하다.There are no legal regulations on white smoke, but it is necessary to remove it because nearby residents frequently report fires because they mistake them for fires, or civil complaints arise because they are mistaken for emissions of pollutants.

종래의 백연 방지 장치는 덕트로 유입되는 수분이 다량 함유된 배기가스를 열교환기를 통과시켜서 수분을 제거한 후에 굴뚝으로 배출시킨다. 열교환기에는 복수의 열교환용 배관이 설치되어 있으며, 열교환용 배관의 내부로는 배기가스가 흐르고, 열교환용 배관의 외측으로는 외부로부터 흡입된 차가운 공기가 흐르도록 되어 있다. 따라서 열교환용 배관의 외부를 흐르는 차가운 공기에 의해서 열교환용 배관이 냉각되고, 열교환용 배관의 내부에 흐르는 고온의 배기가스가 접촉하는 배관의 내 측면에 배기가스에 포함된 수분이 응축하여 결로가 생기고 중력에 의하여 배관을 타고서 열교환기의 하부로 떨어지게 된다.In a conventional white smoke prevention device, exhaust gas containing a large amount of moisture flowing into a duct passes through a heat exchanger to remove moisture and then discharges it through a chimney. A plurality of heat exchange pipes are installed in the heat exchanger, and exhaust gas flows inside the heat exchange pipes, and cold air sucked in from the outside flows outside the heat exchange pipes. Therefore, the heat exchange pipe is cooled by the cold air flowing outside the heat exchange pipe, and moisture contained in the exhaust gas condenses on the inner side of the pipe where the high temperature exhaust gas flowing inside the heat exchange pipe comes in contact, forming condensation. It falls through the pipes and falls to the bottom of the heat exchanger due to gravity.

상기와 같은 열교환기를 이용한 백연 방지 장치는 열교환용 배관의 열전달 효율이 낮아서 충분한 양의 수분이 제거되지 못하고, 복수의 열교환용 배관 중 일부라도 부식되어 막히면 효율이 급격히 떨어지는 문제점이 있으며, 절대습도가 높은 백연을 제거하기 위해서는 열교환기의 용량을 늘려야 하는 문제가 있다. 일반적으로 열교환기형 백연 방지 장치는 절대습도 20% 내외에서 사용하며 절대습도가 40% 정도의 백연을 제거하기 위해서는 두 배의 용량의 열교환기 및 송풍량이 필요하여 시설의 설치비 및 유지관리비가 매우 많이 소요되므로 백연이 발생하는 배기가스를 배출하는 업체에서는 절대습도 40% 이상의 백연은 거의 그대로 배출하고 있고, 이로 인해 인근 주민과의 마찰이 끊이지 않고 있다.The plume prevention device using the heat exchanger as described above has the problem that a sufficient amount of moisture cannot be removed due to the low heat transfer efficiency of the heat exchange pipes, and if any part of the plurality of heat exchange pipes is corroded and clogged, the efficiency drops sharply, and the efficiency is drastically reduced when the absolute humidity is high. In order to remove white smoke, there is a problem that the capacity of the heat exchanger must be increased. In general, heat exchanger-type white smoke prevention devices are used at an absolute humidity of around 20%. To remove white smoke at an absolute humidity of about 40%, a heat exchanger and blower volume of twice the capacity are required, resulting in very high facility installation and maintenance costs. Therefore, companies that emit exhaust gases that produce white smoke are almost always emitting white smoke with an absolute humidity of 40% or more, and this continues to cause friction with nearby residents.

공개특허 10-2007-0080629Public Patent No. 10-2007-0080629 공개특허 10-2010-0042577Public patent 10-2010-0042577

본 발명은 상술한 문제를 개선하기 위한 것으로서, 구조가 간단하면서도 배기가스의 수분을 효과적으로 제거할 수 있는 수분 제거 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention is intended to improve the above-mentioned problems and aims to provide a moisture removal device that has a simple structure and can effectively remove moisture from exhaust gas.

상술한 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은, 수분이 포함된 가스가 유입되는 제1 입구와, 처리된 가스가 유출되는 제1 출구와, 가스에서 제거된 수분이 배출되는 제1 배출구가 형성되며, 상기 제1 입구로 유입된 가스가 상기 제1 출구를 향하여 수평방향으로 흐르도록 상기 제1 입구와 상기 제1 출구가 배치된 수평 케이스와; 상기 수평 케이스의 내부에 흐르는 가스가 충돌하도록, 상기 수평 케이스의 상기 제1 입구와 상기 제1 출구 사이에서 상기 바닥면으로부터 상방으로 연장되어 상기 수평 케이스의 천장과의 사이에 가스가 흐르는 갭을 형성하며, 상기 제1 출구를 가리도록 그 상단부의 높이는 상기 제1 출구에 비해서 높은 수분 제거판을 포함하는 수분 제거 장치를 제공한다.In order to achieve the above-described object, the present invention includes a first inlet through which a gas containing moisture flows in, a first outlet through which the treated gas flows out, and a first outlet through which the moisture removed from the gas is discharged. , a horizontal case in which the first inlet and the first outlet are arranged so that the gas flowing into the first inlet flows horizontally toward the first outlet; A gap extends upward from the floor between the first inlet and the first outlet of the horizontal case to form a gap through which gas flows between the first inlet and the first outlet of the horizontal case so that the gas flowing inside the horizontal case collides with the ceiling of the horizontal case. In addition, a moisture removal device is provided including a moisture removal plate whose upper end has a height higher than that of the first outlet so as to cover the first outlet.

또한, 상기 수평 케이스를 통과한 가스가 유입되는 제2 입구와 처리된 가스가 유출되는 제2 출구를 구비하고, 상기 제2 입구로 유입된 가스가 상기 제2 출구를 향하여 수직방향으로 흐르도록 상기 제2 입구와 상기 제2 출구가 배치되는 수직 챔버와; 상기 수평 케이스의 제1 출구와 상기 수직 챔버의 제2 입구를 연결하는 제1 덕트와; 상기 수직 챔버의 제2 출구와 연결된 제2 덕트와; 가스로부터 제거된 수분이 상기 수직 챔버의 내면을 따라서 상기 제2 덕트로 흐르는 것을 방지하도록, 상기 제2 덕트의 둘레에 배치되는 수직 결로 제거 링으로서, 그 상단부는 상기 제2 덕트와 간격을 두고 상기 수직 챔버의 출구 측 단부와 연결되고, 그 하단부는 상기 제2 덕트와 밀착되도록 구성되며, 그 하단부에 제2 배출구가 형성된 수직 결로 제거 링을 더 포함하는 수분 제거 장치를 제공한다.In addition, it is provided with a second inlet through which gas passing through the horizontal case flows in and a second outlet through which processed gas flows out, and the gas flowing into the second inlet flows in a vertical direction toward the second outlet. a vertical chamber in which a second inlet and the second outlet are disposed; a first duct connecting a first outlet of the horizontal case and a second inlet of the vertical chamber; a second duct connected to a second outlet of the vertical chamber; A vertical condensation removal ring disposed around the second duct to prevent moisture removed from the gas from flowing into the second duct along the inner surface of the vertical chamber, the upper end of which is spaced apart from the second duct. A moisture removal device is provided, which further includes a vertical condensation removal ring connected to the outlet end of the vertical chamber, the lower end of which is configured to be in close contact with the second duct, and a second outlet formed at the lower end.

또한, 가스로부터 제거된 수분이 상기 수평 케이스의 내면을 따라서 상기 제1 덕트로 흐르는 것을 방지하도록, 상기 제1 덕트를 둘러싸는 수평 결로 제거 링으로서, 그 일단은 상기 제1 덕트와 간격을 두고 상기 수평 케이스의 출구 측 단부와 연결되고, 타단은 상기 제1 덕트와 밀착되도록 구성된 수평 결로 제거 링을 더 포함하는 수분 제거 장치를 제공한다.In addition, a horizontal condensation removal ring surrounding the first duct to prevent moisture removed from the gas from flowing into the first duct along the inner surface of the horizontal case, one end of which is spaced apart from the first duct and A moisture removal device is provided that further includes a horizontal condensation removal ring connected to an outlet end of the horizontal case and the other end of which is configured to be in close contact with the first duct.

또한, 상기 수평 결로 제거 링의 하부에는 상기 수평 결로 제거 링의 내면을 따라서 흐르던 수분이 배출되는 제3 배출구가 형성된 수분 제거 장치를 제공한다.In addition, a moisture removal device is provided in which a third outlet is formed at a lower portion of the horizontal condensation removal ring through which moisture flowing along the inner surface of the horizontal condensation removal ring is discharged.

또한, 가스로부터 제거된 수분이 상기 수평 케이스의 내면을 따라서 상기 제1 출구로 흐르는 것을 방지하도록, 상기 수평 케이스의 내면에서 돌출되며, 상기 수평 케이스의 천장에서부터 상기 수평 케이스의 양쪽 측면까지 상기 수평 케이스의 내면을 따라서 연장되는 수분 흐름 방지판을 더 포함하는 수분 제거 장치를 제공한다.In addition, the horizontal case protrudes from the inner surface of the horizontal case to prevent moisture removed from the gas from flowing to the first outlet along the inner surface of the horizontal case, and extends from the ceiling of the horizontal case to both sides of the horizontal case. It provides a moisture removal device further comprising a moisture flow prevention plate extending along the inner surface of the.

또한, 상기 수분 흐름 방지판의 단면은 L자 형태인 수분 제거 장치를 제공한다.In addition, a moisture removal device is provided in which the moisture flow prevention plate has an L-shaped cross section.

또한, 상기 수분 제거판의 상단부는 상기 제1 입구를 향해서 각을 이루거나, 부드럽게 굽어 있는 수분 제거 장치를 제공한다.In addition, the upper end of the moisture removal plate is angled or gently curved toward the first inlet to provide a moisture removal device.

또한, 상기 수직 챔버를 통과한 가스가 유입되는 제3 입구와 처리된 가스가 유출되는 제3 출구를 구비하고, 상기 제3 입구로 유입된 가스가 상기 제3 출구를 향하여 수평방향으로 흐르도록 상기 제3 입구와 상기 제3 출구가 배치되는 보조 수평 챔버를 더 포함하며, 상기 제3 출구에는 제3 덕트가 끼워지며, 상기 보조 수평 챔버의 내면을 따라 흐르는 수분이 상기 제3 덕트로 유입되지 않도록, 상기 제3 덕트의 상기 제3 출구 측 단부는 상기 보조 수평 챔버의 내부로 연장되는 수분 제거 장치를 제공한다.In addition, it is provided with a third inlet through which gas passing through the vertical chamber flows in and a third outlet through which processed gas flows out, and the gas flowing into the third inlet flows in a horizontal direction toward the third outlet. It further includes an auxiliary horizontal chamber in which a third inlet and the third outlet are disposed, wherein a third duct is inserted into the third outlet, and moisture flowing along the inner surface of the auxiliary horizontal chamber is prevented from flowing into the third duct. , the third outlet side end of the third duct provides a moisture removal device extending into the interior of the auxiliary horizontal chamber.

또한, 상기 제1 배출구는 상기 수분 제거판과 상기 제1 출구 사이에 배치되며, 상기 수분 제거판의 하부에는 오버플로우 홀이 형성되는 수분 제거 장치를 제공한다. In addition, the first outlet is disposed between the moisture removal plate and the first outlet, and an overflow hole is formed in a lower portion of the moisture removal plate.

본 발명에 의한 수분 제거 장치는 종래의 장치에 비해서 구조가 간단하여 설치비 및 유지관리비가 매우 저렴하다는 장점이 있다. 또한, 백연이 발생하는 곳 어디든지 쉽게 적용할 수 있다는 장점이 있다.The moisture removal device according to the present invention has an advantage that the installation and maintenance costs are very low due to its simple structure compared to conventional devices. Additionally, it has the advantage of being easily applicable wherever white smoke occurs.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 수분 제거 장치의 개략도이다.
도 2는 도 1의 A-A 선에 따른 단면의 사시도이다.
도 3은 도 1의 B-B 선에 따른 단면의 사시도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 수분 제거 장치의 개략도이다.
도 5는 도 4의 C-C 선에 따른 단면의 사시도이다.1 is a schematic diagram of a moisture removal device according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a perspective view of a cross-section along line AA in Figure 1.
Figure 3 is a perspective view of a cross section along line BB in Figure 1.
Figure 4 is a schematic diagram of a moisture removal device according to another embodiment of the present invention.
Figure 5 is a perspective view of a cross section along line CC in Figure 4.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 대하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명의 실시예들은 여러 가지 다른 형태들로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들로 한정되는 것으로 해석돼서는 안 된다. 본 발명의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소의 형상 등은 더욱 명확한 설명을 위해서 과장된 것이며, 도면상에서 동일한 부호로 표시된 요소는 동일한 요소를 의미한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings. However, the embodiments of the present invention may be modified into various other forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the embodiments described in detail below. Embodiments of the present invention are provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art. Accordingly, the shapes of elements in the drawings are exaggerated for clearer explanation, and elements indicated with the same symbol in the drawings refer to the same elements.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 수분 제거 장치의 개략도이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 수분 제거 장치(100)는 수평 케이스(10), 수분 제거판(20), 수직 챔버(30), 제1 덕트(40), 제2 덕트(42), 수직 결로 제거 링(50), 수평 결로 제거 링(60) 및 보조 수평 챔버(70)를 포함한다.1 is a schematic diagram of a moisture removal device according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the moisture removal device 100 according to an embodiment of the present invention includes a horizontal case 10, a moisture removal plate 20, a vertical chamber 30, a first duct 40, and a first duct 40. 2 It includes a duct 42, a vertical condensation removal ring 50, a horizontal condensation removal ring 60, and an auxiliary horizontal chamber 70.

도시하지 않았으나, 수분 제거 장치(100)의 상류 측에는 벤튜리 스크러버, 제트 스크러버, 사이클론 스크러버, 충전탑 등 수분이 포함된 가스를 배출하는 다양한 장치가 배치될 수 있다. Although not shown, various devices that discharge gas containing moisture, such as a venturi scrubber, jet scrubber, cyclone scrubber, or packed tower, may be placed on the upstream side of the moisture removal device 100.

또한, 수분 제거 장치(100)의 하류 측에는 수분이 제거된 가스를 정화하기 위한 백필터(Bag filter) 등의 가스 정화 장치와, 가스의 흐름을 위한 송풍기 등 다양한 장치가 배치될 수 있다.Additionally, various devices such as a gas purification device such as a bag filter for purifying gas from which moisture has been removed and a blower for gas flow may be disposed on the downstream side of the moisture removal device 100.

수평 케이스(10)는 수분이 포함된 가스가 유입되는 제1 입구(11)와 처리된 가스가 유출되는 제1 출구(13)를 구비한다. 가스는 제1 입구(11)에서 제1 출구(13)를 향해서 대체로 수평 방향으로 이동한다.The horizontal case 10 has a first inlet 11 through which gas containing moisture flows and a first outlet 13 through which treated gas flows out. The gas moves in a generally horizontal direction from the first inlet 11 towards the first outlet 13.

제1 입구(11)로는 습식 스크러버 등 다양한 장치로부터 배출된 배기가스와 같은 수분이 포함된 가스가 유입될 수 있다. 제1 입구(11)와 습식 스크러버의 배기가스 배출구는 덕트로 연결될 수 있다.Gas containing moisture, such as exhaust gas discharged from various devices such as a wet scrubber, may flow into the first inlet 11. The first inlet 11 and the exhaust gas outlet of the wet scrubber may be connected by a duct.

수평 케이스(10)의 바닥면(14) 측에는 제1 배출구(15)가 형성되어 있다. 가스로부터 제거된 수분은 제1 배출구(15)를 통해서 외부로 배출된다. 제1 배출구(15)는 바닥면(14)에 형성될 수도 있으며, 바닥면(14)과 인접한 측면에 낮은 높이로 형성될 수도 있다. 측면에 형성될 경우에는 수평 케이스(10) 내의 물의 수위가 제1 배출구 이상이 되면 물이 배출된다.A first outlet 15 is formed on the bottom surface 14 of the horizontal case 10. Moisture removed from the gas is discharged to the outside through the first outlet (15). The first outlet 15 may be formed on the bottom surface 14, or may be formed at a low height on a side adjacent to the bottom surface 14. When formed on the side, water is discharged when the water level in the horizontal case 10 becomes higher than the first outlet.

수분 제거판(20)은 수평 케이스(10)의 제1 입구(11)와 제1 출구(13) 사이에 설치된다. 본 실시예에서는 제1 배출구(15)와 제1 출구(13) 사이에 배치된다. 수분 제거판(20)은 수평 케이스(10)의 바닥면(14)으로부터 상방으로 연장된다. The moisture removal plate 20 is installed between the first inlet 11 and the first outlet 13 of the horizontal case 10. In this embodiment, it is disposed between the first outlet 15 and the first outlet 13. The moisture removal plate 20 extends upward from the bottom surface 14 of the horizontal case 10.

수분 제거판(20)의 상단부는 제1 입구(11)를 향해서 굽어 있다. 도 1에 도시된 바와 같이, 수분 제거판(20)의 상단부는 각을 이루며 굽을 수 있다. 예를 들어, 45도 각도로 기울어질 수 있다. 또한, 부드럽게 곡선 형태로 굽을 수도 있다.The upper end of the moisture removal plate 20 is bent toward the first inlet 11. As shown in FIG. 1, the upper end of the moisture removal plate 20 may be bent at an angle. For example, it may be tilted at a 45 degree angle. Additionally, it can be gently bent into a curved shape.

수분 제거판(20)의 상단과 수평 케이스(10)의 천장(16) 사이에는 가스가 통과할 수 있는 갭이 형성된다. 나머지 공간은 수분 제거판(20)에 의해서 차단되어, 가스는 갭을 통해서만 제1 출구(13) 측으로 이동한다. 수분 제거판(20)의 상단부는 제1 출구(11)에 비해서 높이가 높다. 수분 제거판(20)에 부딪히면서 가스로부터 제거된 수분은 수분 제거판(20)을 따라서 아래로 흐른 후에 제1 배출구(15)를 통해서 배출된다.A gap through which gas can pass is formed between the top of the moisture removal plate 20 and the ceiling 16 of the horizontal case 10. The remaining space is blocked by the moisture removal plate 20, and the gas moves toward the first outlet 13 only through the gap. The upper end of the moisture removal plate 20 is taller than the first outlet 11. The moisture removed from the gas while hitting the moisture removal plate 20 flows downward along the moisture removal plate 20 and is then discharged through the first outlet 15.

수직 챔버(30)는 수평 케이스(10)를 통과한 가스가 유입되는 제2 입구(31)와 처리된 가스가 유출되는 제2 출구(33)를 구비한다. 제2 입구(31)로 유입된 가스는 제2 출구(33)를 향하여 대체로 수직방향으로 흐른다. 수직 챔버(30)에서는 수평 케이스(10)에서 미처 제거되지 않은 수분이 제거된다. The vertical chamber 30 has a second inlet 31 through which the gas passing through the horizontal case 10 flows in and a second outlet 33 through which the processed gas flows out. The gas flowing into the second inlet 31 flows in a generally vertical direction toward the second outlet 33. In the vertical chamber 30, moisture that has not yet been removed from the horizontal case 10 is removed.

제1 덕트(40)는 수평 케이스(10)의 제1 출구(13)와 수직 챔버(30)의 제2 입구(31)를 연결하여, 수평 케이스(10)에서 배출된 가스를 수직 챔버(30)로 안내한다.The first duct 40 connects the first outlet 13 of the horizontal case 10 and the second inlet 31 of the vertical chamber 30, so that the gas discharged from the horizontal case 10 flows into the vertical chamber 30. ).

제2 덕트(42)는 수직 챔버(30)의 제2 출구(33)와 연결된다. The second duct 42 is connected to the second outlet 33 of the vertical chamber 30 .

수직 결로 제거 링(50)은 가스로부터 제거된 수분이 수직 챔버(30)의 내면을 따라서 제2 덕트(42)로 흐르는 것을 방지하는 역할을 한다.The vertical condensation removal ring 50 serves to prevent moisture removed from the gas from flowing into the second duct 42 along the inner surface of the vertical chamber 30.

도 2는 도 1의 A-A 선에 따른 단면의 사시도이다. 도 1과 2에 도시된 바와 같이, 수직 결로 제거 링(50)은 제2 덕트(42)를 둘러싼다. 수직 결로 제거 링(50)과 제2 덕트(42) 사이에는 물이 흐를 수 있는 공간이 형성된다. 수직 결로 제거 링(50)의 상단부(51)는 수직 챔버(30)의 출구(33) 측 하단부와 연결된다. 수직 결로 제거 링(50)의 상단부(51)는 간격을 두고 제2 덕트(42)를 둘러싼다. 수직 결로 제거 링(50)의 하단부(53)는 제2 덕트(42) 쪽으로 굽어서 제2 덕트(42)에 밀착한다. Figure 2 is a perspective view of a cross section taken along line A-A in Figure 1. 1 and 2, vertical condensation removal ring 50 surrounds second duct 42. A space through which water can flow is formed between the vertical condensation removal ring 50 and the second duct 42. The upper end 51 of the vertical condensation removal ring 50 is connected to the lower end on the outlet 33 side of the vertical chamber 30. The upper end 51 of the vertical condensation removal ring 50 surrounds the second duct 42 at intervals. The lower end 53 of the vertical condensation removal ring 50 is bent toward the second duct 42 and comes into close contact with the second duct 42.

수직 결로 제거 링(50)의 하단부(53)에는 제2 배출구(55)가 형성된다. 수직 챔버(30)의 내면을 따라서 흐르는 수분은 수직 결로 제거 링(50)의 내면을 따라서 아래로 흐른 후에 제2 배출구(55)를 따라서 배출된다.A second outlet 55 is formed at the lower end 53 of the vertical condensation removal ring 50. Moisture flowing along the inner surface of the vertical chamber 30 flows downward along the inner surface of the vertical condensation removal ring 50 and is then discharged through the second outlet 55.

도 3은 도 1의 B-B 선에 따른 단면의 사시도이다. Figure 3 is a perspective view of a cross section taken along line B-B in Figure 1.

수평 결로 제거링(60)은 가스로부터 제거된 수분이 수평 케이스(10)의 내면을 따라서 제1 덕트(40)로 흐르는 것을 방지하는 역할을 한다. The horizontal condensation removal ring 60 serves to prevent moisture removed from the gas from flowing into the first duct 40 along the inner surface of the horizontal case 10.

도 3에 도시된 바와 같이, 수평 결로 제거링(60)은 제1 덕트(40)를 둘러싼다. 수평 결로 제거링(60)의 일단(61)은 수평 케이스(10)의 출구(13) 측 단부와 연결되며, 간격을 두고 제1 덕트(40)를 둘러싼다. 타단(63)은 제1 덕트(40)와 밀착된다. 수평 결로 제거 링(60)의 하부에는 제3 배출구(65)가 형성된다. 수평 케이스(10)의 내면을 따라서 흐르는 수분은 수평 결로 제거 링(60)의 내면을 따라서 아래로 흐른 후에 제3 배출구(65)를 따라서 배출된다.As shown in FIG. 3, the horizontal condensation removal ring 60 surrounds the first duct 40. One end 61 of the horizontal condensation removal ring 60 is connected to the outlet 13 side end of the horizontal case 10 and surrounds the first duct 40 at a distance. The other end 63 is in close contact with the first duct 40. A third outlet 65 is formed in the lower part of the horizontal condensation removal ring 60. Moisture flowing along the inner surface of the horizontal case 10 flows downward along the inner surface of the horizontal condensation removal ring 60 and is then discharged through the third outlet 65.

보조 수평 챔버(70)는 가스에 남아있는 수분을 추가로 제거하는 역할을 한다. 보조 수평 챔버(70)는 수직 챔버(30)를 통과한 가스가 유입되는 제3 입구(71)와 처리된 가스가 유출되는 제3 출구(73)를 구비한다. 보조 수평 챔버(70)는 제3 입구(71)로 유입된 가스가 제3 출구(73)를 향하여 수평방향으로 흐르도록 제3 입구(71)와 상기 제3 출구(73)가 배치된다.The auxiliary horizontal chamber 70 serves to further remove moisture remaining in the gas. The auxiliary horizontal chamber 70 has a third inlet 71 through which the gas passing through the vertical chamber 30 flows in, and a third outlet 73 through which the processed gas flows out. The auxiliary horizontal chamber 70 has a third inlet 71 and a third outlet 73 arranged so that the gas flowing into the third inlet 71 flows horizontally toward the third outlet 73.

제3 출구(73)에는 제3 덕트(44)가 끼워진다. 이때, 제3 덕트(44)의 제3 출구 (73)측 단부는 보조 수평 챔버(70)의 내부로 연장된다. 보조 수평 챔버(70)의 내면을 따라 흐르는 수분이 제3 덕트(44)로 유입되지 않도록 하기 위함이다. 보조 수평 챔버(70)의 내면을 따라 흐르는 수분은 제3 덕트(44)의 외면을 따라서 흐른 후 중력에 의해서 아래로 떨어진다. 떨어진 물은 보조 수평 챔버(70)의 바닥면에 형성된 배출구(75)를 통해서 배출된다.A third duct 44 is inserted into the third outlet 73. At this time, the end of the third duct 44 on the third outlet 73 side extends into the auxiliary horizontal chamber 70. This is to prevent moisture flowing along the inner surface of the auxiliary horizontal chamber 70 from flowing into the third duct 44. Moisture flowing along the inner surface of the auxiliary horizontal chamber 70 flows along the outer surface of the third duct 44 and then falls downward by gravity. The fallen water is discharged through the outlet 75 formed on the bottom of the auxiliary horizontal chamber 70.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 수분 제거 장치의 개략도이며, 도 5는 도 4에 도시된 수분 제거 장치를 C-C 방향에서 바라본 도면이다.FIG. 4 is a schematic diagram of a moisture removal device according to another embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a view of the moisture removal device shown in FIG. 4 viewed from the C-C direction.

본 실시예에 따른 수분 제거 장치(200)는 수직 챔버(130)가 수평 케이스(110)에 비해서 높게 배치된다는 점에서, 도 1에 도시된 실시예와 차이가 있다.The moisture removal device 200 according to this embodiment is different from the embodiment shown in FIG. 1 in that the vertical chamber 130 is disposed higher than the horizontal case 110.

또한, 수분 제거판(120)의 상단부가 굽어있지 않다는 점에서도, 도 1에 도시된 실시예와 차이가 있다.Additionally, there is a difference from the embodiment shown in FIG. 1 in that the upper end of the moisture removal plate 120 is not curved.

또한, 제1 배출구(115)가 수분 제거판(120)과 제1 출구(113) 사이에 배치된다는 점에서도, 도 1에 도시된 실시예와 차이가 있다. 본 실시예에서는 수분 제거판(120)의 하부에 형성된 오버플로우 홀(125)을 통해서 넘쳐흐른 물이 제1 배출구(115)를 통해서 배출된다.In addition, there is a difference from the embodiment shown in FIG. 1 in that the first outlet 115 is disposed between the moisture removal plate 120 and the first outlet 113. In this embodiment, water overflowing through the overflow hole 125 formed in the lower part of the moisture removal plate 120 is discharged through the first outlet 115.

또한, 본 실시예는 수분 흐름 방지판(80)을 더 포함한다.In addition, this embodiment further includes a moisture flow prevention plate 80.

수분 흐름 방지판(80)은 가스로부터 제거된 수분이 수평 케이스(110)의 내면을 따라서 제1 출구(113)를 향해 흐르는 것을 방지하는 역할을 한다. 수분 흐름 방지판(80)은 수평 케이스(110)의 내면에서 돌출된다. 수분 흐름 방지판(80)은 수평 케이스(110)의 천장(116)에서부터 수평 케이스(110)의 양쪽 측면까지 수평 케이스(110)의 내면을 따라서 연장된다. 도 4와 5에 도시된 바와 같이, 수분 흐름 방지판(80)의 단면은 L자 형태일 수 있다.The moisture flow prevention plate 80 serves to prevent moisture removed from the gas from flowing toward the first outlet 113 along the inner surface of the horizontal case 110. The moisture flow prevention plate 80 protrudes from the inner surface of the horizontal case 110. The moisture flow prevention plate 80 extends along the inner surface of the horizontal case 110 from the ceiling 116 of the horizontal case 110 to both sides of the horizontal case 110. As shown in FIGS. 4 and 5, the cross section of the moisture flow prevention plate 80 may be L-shaped.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시 예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어서는 안 될 것이다.In the above, preferred embodiments of the present invention have been shown and described, but the present invention is not limited to the specific embodiments described above, and may be commonly used in the technical field to which the invention pertains without departing from the gist of the present invention as claimed in the claims. Of course, various modifications can be made by those skilled in the art, and these modifications should not be understood individually from the technical idea or perspective of the present invention.

100, 200: 수분 제거 장치
10, 110: 수평 케이스
20, 120: 수분 제거판
30, 130: 수직 챔버
40, 140: 제1 덕트
42: 제2 덕트
44: 제3 덕트
50: 수직 결로 제거 링
60: 수평 결로 제거 링
70: 보조 수평 챔버
80: 수분 흐름 방지판100, 200: Moisture removal device
10, 110: horizontal case
20, 120: moisture removal plate
30, 130: vertical chamber
40, 140: first duct
42: second duct
44: third duct
50: Vertical condensation removal ring
60: Horizontal condensation removal ring
70: Secondary horizontal chamber
80: Moisture flow prevention plate

Claims (9)

수분이 포함된 가스가 유입되는 제1 입구와, 처리된 가스가 유출되는 제1 출구와, 가스에서 제거된 수분이 배출되는 제1 배출구가 형성되며, 상기 제1 입구로 유입된 가스가 상기 제1 출구를 향하여 수평방향으로 흐르도록 상기 제1 입구와 상기 제1 출구가 배치된 수평 케이스와,
상기 수평 케이스의 내부에 흐르는 가스가 충돌하도록, 상기 수평 케이스의 상기 제1 입구와 상기 제1 출구 사이에서 상기 바닥면으로부터 상방으로 연장되어 상기 수평 케이스의 천장과의 사이에 가스가 흐르는 갭을 형성하며, 상기 제1 출구를 가리도록 그 상단부의 높이는 상기 제1 출구에 비해서 높은 수분 제거판을 포함하는 수분 제거 장치.A first inlet through which a gas containing moisture flows in, a first outlet through which the treated gas flows out, and a first outlet through which the moisture removed from the gas is discharged are formed, and the gas flowing into the first inlet is formed in the first outlet. 1 A horizontal case in which the first inlet and the first outlet are arranged to flow in a horizontal direction toward an outlet,
A gap extends upward from the floor between the first inlet and the first outlet of the horizontal case to form a gap through which gas flows between the first inlet and the first outlet of the horizontal case so that the gas flowing inside the horizontal case collides with the ceiling of the horizontal case. and a moisture removal plate whose upper end has a height higher than that of the first outlet so as to cover the first outlet. 제1항에 있어서,
상기 수평 케이스를 통과한 가스가 유입되는 제2 입구와 처리된 가스가 유출되는 제2 출구를 구비하고, 상기 제2 입구로 유입된 가스가 상기 제2 출구를 향하여 수직방향으로 흐르도록 상기 제2 입구와 상기 제2 출구가 배치되는 수직 챔버와,
상기 수평 케이스의 제1 출구와 상기 수직 챔버의 제2 입구를 연결하는 제1 덕트와,
상기 수직 챔버의 제2 출구와 연결된 제2 덕트와,
가스로부터 제거된 수분이 상기 수직 챔버의 내면을 따라서 상기 제2 덕트로 흐르는 것을 방지하도록, 상기 제2 덕트의 둘레에 배치되는 수직 결로 제거 링으로서, 그 상단부는 상기 제2 덕트와 간격을 두고 상기 수직 챔버의 출구 측 단부와 연결되고, 그 하단부는 상기 제2 덕트와 밀착되도록 구성되며, 그 하단부에 제2 배출구가 형성된 수직 결로 제거 링을 더 포함하는 수분 제거 장치.According to paragraph 1,
It is provided with a second inlet through which gas passing through the horizontal case flows in and a second outlet through which processed gas flows out, and the second inlet is configured such that the gas flowing into the second inlet flows in a vertical direction toward the second outlet. a vertical chamber in which an inlet and a second outlet are disposed;
a first duct connecting a first outlet of the horizontal case and a second inlet of the vertical chamber;
a second duct connected to a second outlet of the vertical chamber;
A vertical condensation removal ring disposed around the second duct to prevent moisture removed from the gas from flowing into the second duct along the inner surface of the vertical chamber, the upper end of which is spaced apart from the second duct. A moisture removal device further comprising a vertical condensation removal ring connected to the outlet end of the vertical chamber, the lower end of which is configured to be in close contact with the second duct, and a second outlet formed at the lower end. 제2항에 있어서,
가스로부터 제거된 수분이 상기 수평 케이스의 내면을 따라서 상기 제1 덕트로 흐르는 것을 방지하도록, 상기 제1 덕트를 둘러싸는 수평 결로 제거 링으로서, 그 일단은 상기 제1 덕트와 간격을 두고 상기 수평 케이스의 출구 측 단부와 연결되고, 타단은 상기 제1 덕트와 밀착되도록 구성된 수평 결로 제거 링을 더 포함하는 수분 제거 장치.According to paragraph 2,
A horizontal condensation removal ring surrounding the first duct to prevent moisture removed from the gas from flowing into the first duct along the inner surface of the horizontal case, one end of which is spaced apart from the first duct and is connected to the horizontal case. A moisture removal device further comprising a horizontal condensation removal ring connected to an outlet end of the and the other end of which is configured to be in close contact with the first duct. 제3항에 있어서,
상기 수평 결로 제거 링의 하부에는 상기 수평 결로 제거 링의 내면을 따라서 흐르던 수분이 배출되는 제3 배출구가 형성된 수분 제거 장치.According to paragraph 3,
A moisture removal device in which a third outlet is formed at a lower portion of the horizontal condensation removal ring through which moisture flowing along the inner surface of the horizontal condensation removal ring is discharged. 제1항에 있어서,
가스로부터 제거된 수분이 상기 수평 케이스의 내면을 따라서 상기 제1 출구로 흐르는 것을 방지하도록, 상기 수평 케이스의 내면에서 돌출되며, 상기 수평 케이스의 천장에서부터 상기 수평 케이스의 양쪽 측면까지 상기 수평 케이스의 내면을 따라서 연장되는 수분 흐름 방지판을 더 포함하는 수분 제거 장치.According to paragraph 1,
It protrudes from the inner surface of the horizontal case to prevent moisture removed from the gas from flowing to the first outlet along the inner surface of the horizontal case, and extends from the ceiling of the horizontal case to both sides of the horizontal case. A moisture removal device further comprising a moisture flow prevention plate extending along. 제5항에 있어서,
상기 수분 흐름 방지판의 단면은 L자 형태인 수분 제거 장치.According to clause 5,
A moisture removal device in which the cross-section of the moisture flow prevention plate is L-shaped. 제1항에 있어서,
상기 수분 제거판의 상단부는 상기 제1 입구를 향해서 각을 이루거나, 부드럽게 굽어 있는 수분 제거 장치.According to paragraph 1,
A moisture removal device in which the upper end of the moisture removal plate is angled or gently curved toward the first inlet. 제1항에 있어서,
상기 수직 챔버를 통과한 가스가 유입되는 제3 입구와 처리된 가스가 유출되는 제3 출구를 구비하고, 상기 제3 입구로 유입된 가스가 상기 제3 출구를 향하여 수평방향으로 흐르도록 상기 제3 입구와 상기 제3 출구가 배치되는 보조 수평 챔버를 더 포함하며,
상기 제3 출구에는 제3 덕트가 끼워지며,
상기 보조 수평 챔버의 내면을 따라 흐르는 수분이 상기 제3 덕트로 유입되지 않도록, 상기 제3 덕트의 상기 제3 출구 측 단부는 상기 보조 수평 챔버의 내부로 연장되는 수분 제거 장치.According to paragraph 1,
It is provided with a third inlet through which gas passing through the vertical chamber flows in and a third outlet through which processed gas flows out, and the third inlet is configured so that the gas flowing into the third inlet flows in a horizontal direction toward the third outlet. Further comprising an auxiliary horizontal chamber in which an inlet and the third outlet are disposed,
A third duct is inserted into the third outlet,
A moisture removal device wherein the third outlet side end of the third duct extends into the interior of the auxiliary horizontal chamber to prevent moisture flowing along the inner surface of the auxiliary horizontal chamber from entering the third duct. 제1항에 있어서,
상기 제1 배출구는 상기 수분 제거판과 상기 제1 출구 사이에 배치되며,
상기 수분 제거판의 하부에는 오버플로우 홀이 형성되는 수분 제거 장치.



According to paragraph 1,
The first outlet is disposed between the moisture removal plate and the first outlet,
A moisture removal device in which an overflow hole is formed in a lower portion of the moisture removal plate.
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Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20070080629A (en) 2006-02-08 2007-08-13 (주)대성공영환경 Method and apparatus for treating exhaust gas in order to prevent generation of white smoke
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