KR20240056464A - Posture changing device and film forming apparatus - Google Patents

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KR20240056464A
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카즈토시 마치다
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캐논 톡키 가부시키가이샤
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Abstract

[과제] 기판에 먼지가 부착되는 것을 방지하는 기술을 제공하는 것.
[해결 수단] 기판 캐리어의 자세를 변화시키는 자세 변화 장치로서, 상기 기판 캐리어를 회동시키는 회동 수단을 구비하고, 상기 회동 수단은, 상기 기판 캐리어를 사이에 두도록 하여 배치된 복수의 롤러와, 상기 복수의 롤러 중 적어도 하나에 설치되고, 상기 롤러를 개별적으로 둘러싸는 집진 커버를 포함한다. 상기 집진 커버는, 상기 회동 수단에 의한 상기 기판 캐리어의 회동 시에, 상기 집진 커버의 저부 측으로부터 천정부 측으로 먼지가 이동하는 것을 규제하는 규제 벽부를 포함한다.
[Task] To provide technology to prevent dust from attaching to the substrate.
[Solution] An attitude change device for changing the attitude of a substrate carrier, comprising: a rotation means for rotating the substrate carrier, the rotation means comprising: a plurality of rollers disposed with the substrate carrier interposed therebetween; It is installed on at least one of the rollers and includes a dust collection cover that individually surrounds the rollers. The dust collection cover includes a regulating wall portion that regulates movement of dust from the bottom side of the dust collection cover to the ceiling side when the substrate carrier is rotated by the rotation means.

Description

자세 변화 장치 및 성막 장치{POSTURE CHANGING DEVICE AND FILM FORMING APPARATUS}POSTURE CHANGING DEVICE AND FILM FORMING APPARATUS}

본 발명은 기판 캐리어의 자세 변화 장치 및 성막 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for changing the posture of a substrate carrier and a film forming apparatus.

유기 EL 디스플레이 등의 제조에 있어서는, 기판 상에 유기 재료나 금속 재료 등의 증착 물질이 증착된다. 처리에 따라서는 기판의 상하를 반전시킬 필요가 생기기 때문에, 처리 장치 사이에 기판의 자세를 변화시키는 장치가 설치되어 있다(특허문헌 1 등).In the manufacture of organic EL displays, etc., deposition materials such as organic materials and metal materials are deposited on a substrate. Depending on the processing, it is necessary to invert the top and bottom of the substrate, so a device for changing the posture of the substrate is installed between processing devices (Patent Document 1, etc.).

특허문헌 1: 한국특허공개 제10-2015-0100999호 공보Patent Document 1: Korean Patent Publication No. 10-2015-0100999

기판을 기판 캐리어에 탑재하여 반송하는 시스템에서는, 기판 캐리어와 함께 기판의 상하를 반전시킨다. 기판 캐리어의 자세를 변화시킬 때에, 먼지(파티클)가 비산하여 기판에 부착되는 것은 바람직하지 않다.In a system in which a substrate is transported by mounting it on a substrate carrier, the substrate is turned upside down along with the substrate carrier. When changing the posture of the substrate carrier, it is undesirable for dust (particles) to scatter and adhere to the substrate.

본 발명은, 기판에 먼지가 부착되는 것을 방지하는 기술을 제공하는 것이다.The present invention provides a technology for preventing dust from adhering to a substrate.

본 발명에 의하면,According to the present invention,

기판 캐리어의 자세를 변화시키는 자세 변화 장치로서,An attitude change device that changes the attitude of a substrate carrier,

상기 기판 캐리어를 회동시키는 회동 수단을 구비하고,Provided with a rotation means for rotating the substrate carrier,

상기 회동 수단은,The means of meeting is,

상기 기판 캐리어를 사이에 두도록 하여 배치된 복수의 롤러와,a plurality of rollers disposed with the substrate carrier between them;

상기 복수의 롤러 중 적어도 하나에 설치되고, 상기 롤러를 개별적으로 둘러싸는 집진 커버를 포함하고,A dust collection cover installed on at least one of the plurality of rollers and individually surrounding the rollers,

상기 집진 커버는,The dust collection cover is,

상기 롤러의 둘레면이 노출된 천정부와,A ceiling portion where the peripheral surface of the roller is exposed,

상기 롤러의 둘레면에 대향하도록 형성된 저부와,a bottom formed to face the peripheral surface of the roller;

상기 저부로부터 이격되어 배치되고, 상기 회동 수단이 상기 기판 캐리어를 회동시킬 때, 상기 저부 측의 먼지가 상기 천정부 측으로 이동하는 것을 규제하는 규제 벽부를 포함하는 a regulating wall portion disposed spaced apart from the bottom portion and regulating dust on the bottom side from moving toward the ceiling when the rotation means rotates the substrate carrier;

것을 특징으로 하는 자세 변화 장치가 제공된다.A posture change device characterized in that is provided.

또한, 본 발명에 의하면,Additionally, according to the present invention,

기판 캐리어의 자세를 변화시키는 자세 변화 장치로서,An attitude change device that changes the attitude of a substrate carrier,

상기 기판 캐리어를 회동시키는 회동 수단과,Rotating means for rotating the substrate carrier;

상기 기판 캐리어를 반송하는 복수의 반송 롤러와,a plurality of transport rollers for transporting the substrate carrier;

상기 복수의 반송 롤러를, 반송 위치와, 상기 회동 수단이 회동할 때에 상기 회동 수단 또는 상기 기판 캐리어와의 간섭을 회피하는 퇴피 위치의 사이에서 이동하는 이동 수단을 구비하는 and moving means for moving the plurality of conveyance rollers between a conveyance position and a retracted position that avoids interference with the rotation means or the substrate carrier when the rotation means rotates.

것을 특징으로 하는 자세 변화 장치가 제공된다.A posture change device characterized in that is provided.

또한, 본 발명에 의하면, 상기 자세 변화 장치와,Additionally, according to the present invention, the posture change device,

기판 캐리어에 보유지지되어 있는 기판에, 증착 물질을 증착하는 증착 장치를 구비하는 Equipped with a deposition device for depositing a deposition material on a substrate held on a substrate carrier.

것을 특징으로 하는 성막 장치가 제공된다.A film forming device characterized in that is provided.

본 발명에 의하면, 기판에 먼지가 부착되는 것을 방지하는 기술을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a technology for preventing dust from attaching to a substrate.

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 성막 장치의 레이아웃 도면이다.
도 2는 증착 장치의 설명도이다.
도 3은 자세 변화 장치의 설명도이다.
도 4는 자세 변화 장치의 설명도이다.
도 5의 (A) 및 (B)는 자세 변화 장치의 동작 설명도이다.
도 6의 (A) 및 (B)는 자세 변화 장치의 동작 설명도이다.
도 7의 (A) 및 (B)는 자세 변화 장치의 동작 설명도이다.
도 8의 집진 커버의 분해 사시도이다.
도 9의 (A) ∼ (C)는 보유지지 유닛의 회동시의 집진 커버의 자세 변화 양태를 나타내는 설명도이다.
도 10은 다른 실시형태의 집진 커버의 자세 변화 양태를 나타내는 설명도이다.
도 11의 (A)는 유기 EL 표시 장치의 전체도이고, (B)는 1화소의 단면 구조를 나타내는 도면이다.
1 is a layout diagram of a film deposition apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is an explanatory diagram of the deposition apparatus.
Figure 3 is an explanatory diagram of a posture change device.
4 is an explanatory diagram of a posture change device.
Figures 5 (A) and (B) are diagrams illustrating the operation of the posture change device.
Figures 6 (A) and (B) are diagrams illustrating the operation of the posture change device.
Figures 7 (A) and (B) are diagrams illustrating the operation of the posture change device.
Figure 8 is an exploded perspective view of the dust collection cover.
9(A) to 9(C) are explanatory diagrams showing the state of change in the posture of the dust collection cover when the holding unit is rotated.
Fig. 10 is an explanatory diagram showing a change in posture of a dust collection cover according to another embodiment.
Figure 11 (A) is an overall view of the organic EL display device, and (B) is a diagram showing the cross-sectional structure of one pixel.

이하, 첨부 도면을 참조하여 실시형태를 상세하게 설명한다. 한편, 이하의 실시형태는 청구범위에 따른 발명을 한정하는 것이 아니다. 실시형태에는 복수의 특징이 기재되어 있지만, 이들 복수의 특징 모두가 반드시 발명에 필수적인 것인 것은 아니고, 또한, 복수의 특징은 임의로 조합되어도 된다. 나아가, 첨부 도면에 있어서는, 동일 또는 마찬가지의 구성에 동일한 참조 번호를 붙이고, 중복된 설명은 생략한다.Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Meanwhile, the following embodiments do not limit the invention according to the claims. Although a plurality of features are described in the embodiment, not all of these features are necessarily essential to the invention, and the plurality of features may be arbitrarily combined. Furthermore, in the accompanying drawings, the same or similar components are given the same reference numerals, and duplicate descriptions are omitted.

<제1 실시형태><First embodiment>

<성막 장치의 개요><Overview of the tabernacle equipment>

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 성막 장치(1)의 레이아웃 도면이다. 한편, 각 도면에 있어서 화살표(Z)는 상하 방향(중력방향)을 나타내고, 화살표(X) 및 화살표(Y)는 서로 직교하는 수평 방향을 나타낸다. 성막 장치(1)는, 기판(G)에 증착 물질을 성막하는 장치이며, 마스크(M)를 사용하여 소정의 패턴의 증착 물질의 박막을 형성한다. 특히 본 실시형태의 성막 장치(1)는, 기판(G)을 반송하면서, 증착 장치에 의해 기판(G)에 증착 물질을 증착하는 성막 방법을 실행 가능한, 인라인형의 성막 장치이다.1 is a layout diagram of a film forming apparatus 1 according to an embodiment of the present invention. Meanwhile, in each drawing, the arrow Z represents the up-down direction (gravity direction), and the arrows X and Y represent the horizontal directions orthogonal to each other. The film forming apparatus 1 is an apparatus for depositing a deposition material on a substrate G, and forms a thin film of the deposition material in a predetermined pattern using a mask M. In particular, the film forming apparatus 1 of the present embodiment is an inline type film forming apparatus capable of carrying out a film forming method of depositing a deposition material on the substrate G using a vapor deposition apparatus while transporting the substrate G.

성막 장치(1)에서 성막이 행해지는 기판(G)의 재질은, 글래스, 수지, 금속 등의 재료를 적절히 선택 가능하며, 글래스 상에 폴리이미드 등의 수지층이 형성된 것이 바람직하게 사용된다. 증착 물질로서는, 유기 재료, 무기 재료(금속, 금속 산화물 등) 등의 물질이다. 성막 장치(1)는, 예를 들면 표시 장치(플랫 패널 디스플레이 등)나 박막 태양 전지, 유기 광전 변환 소자(유기 박막 촬상 소자) 등의 전자 디바이스나, 광학 부재 등을 제조하는 제조 장치에 적용 가능하며, 특히, 유기 EL 패널을 제조하는 제조 장치에 적용 가능하다.The material of the substrate G on which film formation is performed in the film formation apparatus 1 can be appropriately selected from materials such as glass, resin, and metal, and one in which a resin layer such as polyimide is formed on glass is preferably used. The deposition material is a material such as an organic material or an inorganic material (metal, metal oxide, etc.). The film forming device 1 can be applied to, for example, a manufacturing device that manufactures electronic devices such as display devices (flat panel displays, etc.), thin film solar cells, organic photoelectric conversion elements (organic thin film imaging elements), and optical members. And, in particular, it is applicable to manufacturing equipment that manufactures organic EL panels.

성막 장치(1)는, 기판 캐리어(100)를 사용하여 기판(G) 및 마스크(M)를 반송하는 장치이다. 기판 캐리어(100)는, 예를 들면, 기판(G)을 보유지지하는 기구 및 마스크(M)를 보유지지하는 기구를 구비한다. 기판(G)을 보유지지하는 기구는, 예를 들면 정전척이며, 마스크(M)를 보유지지하는 기구는, 예를 들면 자기 흡착척이다. 마스크(M)는 기판(G)과 겹치도록 기판 캐리어(100)에 보유지지되며, 기판(G)은 기판 캐리어(100)와 마스크(M)의 사이에 보유지지된다. 기판 캐리어(100), 기판(G) 및 마스크(M)는 판 형상의 형태이며, 수평 자세로 반송된다.The film forming apparatus 1 is an apparatus that transports the substrate G and the mask M using the substrate carrier 100. The substrate carrier 100 includes, for example, a mechanism for holding the substrate G and a mechanism for holding the mask M. The mechanism holding the substrate G is, for example, an electrostatic chuck, and the mechanism holding the mask M is, for example, a magnetic adsorption chuck. The mask M is held by the substrate carrier 100 so as to overlap the substrate G, and the substrate G is held between the substrate carrier 100 and the mask M. The substrate carrier 100, the substrate G, and the mask M are plate-shaped and are transported in a horizontal position.

기판 캐리어(100)는, 성막 경로(1A)와 리턴 경로(1B)를 순환적으로 (도시한 예에서는 반시계 방향으로) 반송된다. 반송 기구는 본 실시형태의 경우, 롤러 컨베이어이다. 성막 경로(1A)에는, 기판 반입실(110)이 설치되어 있다. 성막 장치(1)의 외부로부터 기판 반입실(110)에, 성막 대상의 기판(G)이 반입되고, 리턴 경로(1B)의 방향 전환 장치(125)로부터 기판 반입실(110)로 반입되는 기판 캐리어(100) 위에 겹쳐져, 보유지지된다. 기판(G)을 보유지지하는 기판 캐리어(100)는 자세 변화 장치(111)에 반송되고, 자세 변화 장치(111)에서 그 자세가 변경된다. 본 실시형태에서는, 기판(G)이 기판 캐리어(100) 위에 보유지지된 자세로부터, 기판(G)이 기판 캐리어(100) 아래에 보유지지되는 자세로, 기판 캐리어(100)가 180도 반전된다.The substrate carrier 100 is conveyed circularly (counterclockwise in the example shown) along the film formation path 1A and the return path 1B. The conveyance mechanism is a roller conveyor in this embodiment. A substrate loading room 110 is installed in the film forming path 1A. The substrate G to be film formed is brought into the substrate loading chamber 110 from the outside of the film forming apparatus 1, and the substrate is brought into the substrate loading chamber 110 from the direction change device 125 of the return path 1B. It is overlapped and held on the carrier 100. The substrate carrier 100 holding the substrate G is conveyed to the posture change device 111, and its posture is changed in the posture change device 111. In this embodiment, the substrate carrier 100 is flipped 180 degrees from the posture in which the substrate G is held on the substrate carrier 100 to the posture in which the substrate G is held below the substrate carrier 100. .

자세가 반전된 기판 캐리어(100)는, 얼라인먼트실(112)에 반송된다. 얼라인먼트실(112)에서는, 리턴 경로(1B)로부터 반송되는 마스크(M)와, 기판 캐리어(100)에 보유지지된 기판(G)과의 위치맞춤이 행해지고, 마스크(M)가 기판 캐리어(100)에 보유지지된다. 기판(G) 및 마스크(M)를 보유지지한 기판 캐리어(100)(100GM)는, 가속실(113)에서 소정의 반송 속도로 가속화되어, 증착 장치(114)로 반송된다. 여기서 기판(G)에 증착 물질이 성막된다. 그 후, 성막 완료된 기판(G) 및 마스크(M)를 보유지지한 기판 캐리어(100)(100GM)는, 감속실(115)에서 감속되어, 분리실(116)에서 마스크(M)가 기판 캐리어(100)로부터 분리된다. 분리된 마스크(M)는 리턴 경로(1B)의 마스크 장착실(121)로 반송된다.The substrate carrier 100 whose posture has been reversed is transported to the alignment room 112. In the alignment room 112, the mask M conveyed from the return path 1B is aligned with the substrate G held on the substrate carrier 100, and the mask M is placed on the substrate carrier 100. ) is held and supported. The substrate carrier 100 (100GM) holding the substrate G and the mask M is accelerated at a predetermined transfer speed in the acceleration chamber 113 and transferred to the deposition apparatus 114. Here, a deposition material is deposited on the substrate G. Afterwards, the substrate carrier 100 (100GM) holding the substrate G and the mask M on which film formation has been completed is decelerated in the deceleration chamber 115, and the mask M is transferred to the substrate carrier in the separation chamber 116. It is separated from (100). The separated mask M is conveyed to the mask mounting room 121 on the return path 1B.

마스크(M)가 분리된 기판 캐리어(100)는 자세 변화 장치(117)에 있어서 그 자세가 변경된다. 본 실시형태에서는, 기판(G)이 기판 캐리어(100) 아래에 보유지지된 자세로부터, 기판(G)이 기판 캐리어(100) 위에 보유지지되는 자세로, 기판 캐리어(100)가 180도 반전된다. 그 후, 기판 캐리어(100)는 기판 분리실(118)로 반송되고, 여기서 기판(G)이 기판 캐리어(100)로부터 분리된다. 분리된 기판(G)은 성막 장치(1)로부터 배출된다.The posture of the substrate carrier 100 from which the mask M is separated is changed in the posture change device 117. In this embodiment, the substrate carrier 100 is flipped 180 degrees from the posture in which the substrate G is held below the substrate carrier 100 to the posture in which the substrate G is held above the substrate carrier 100. . Thereafter, the substrate carrier 100 is transported to the substrate separation chamber 118, where the substrate G is separated from the substrate carrier 100. The separated substrate G is discharged from the film forming apparatus 1.

기판(G)이 분리된 기판 캐리어(100)는, 리턴 경로(1B)의 방향 전환 장치(119)로 반송된다. 기판 캐리어(100)는 자세 변화 장치(120)에 있어서 그 자세가 변경된다. 기판 캐리어(100)는 상하가 반전하도록 180도 반전된다. 기판 캐리어(100)는 마스크 장착실(121)에 반송되어, 마스크(M)가 기판 캐리어(100)에 보유지지된다. 마스크(M)를 보유지지한 기판 캐리어(100)(100M)는 반송 장치(122)에 의해 마스크 분리실(123)로 반송되고, 기판 캐리어(100)로부터 마스크(M)가 분리된다. 분리된 마스크(M)는 얼라인먼트실(112)로 반송된다.The substrate carrier 100 from which the substrate G has been separated is conveyed to the direction change device 119 on the return path 1B. The posture of the substrate carrier 100 is changed in the posture changing device 120. The substrate carrier 100 is flipped 180 degrees so that it is upside down. The substrate carrier 100 is transported to the mask mounting room 121, and the mask M is held by the substrate carrier 100. The substrate carrier 100 (100M) holding the mask M is transferred to the mask separation chamber 123 by the transfer device 122, and the mask M is separated from the substrate carrier 100. The separated mask M is returned to the alignment room 112.

마스크(M)가 분리된 기판 캐리어(100)는 자세 변화 장치(120)에 있어서 그 자세가 변경된다. 기판 캐리어(100)는 상하가 반전하도록 180도 반전된다. 그리고, 기판 캐리어(100)는 방향 전환 장치(125)를 경유하여 기판 반입실(110)로 반송된다. 이상의 처리를 반복함으로써 성막 처리가 순차 행해진다.The posture of the substrate carrier 100 from which the mask M is separated is changed in the posture change device 120. The substrate carrier 100 is flipped 180 degrees so that it is upside down. Then, the substrate carrier 100 is transported to the substrate loading room 110 via the direction change device 125. The film forming process is performed sequentially by repeating the above process.

<증착 장치><Deposition device>

도 2는 증착 장치(114)의 설명도이다. 증착 장치(114)는, 기판(G) 및 마스크(M)를 보유지지한 기판 캐리어(100)를 반송하는 반송실(2a)을 형성하는 반송 챔버(2)와, 복수의 소스 챔버(3)를 구비한다. 복수의 소스 챔버(3)는 X 방향으로 나란히 배치되어 있고, 반송실(2a)은 이들 소스 챔버(3)의 상방에 위치하고 있다.FIG. 2 is an explanatory diagram of the deposition apparatus 114. The deposition apparatus 114 includes a transfer chamber 2 forming a transfer chamber 2a for transferring the substrate carrier 100 holding the substrate G and the mask M, and a plurality of source chambers 3. is provided. A plurality of source chambers 3 are arranged side by side in the X direction, and the transfer chamber 2a is located above these source chambers 3.

반송실(2a)은 사용시에 진공으로 유지되고, 그 X 방향의 일단부에는 반입구(2b)가, 타단부에는 반출구(2c)가 설치되어 있다. 기판(G) 및 마스크(M)를 보유지지한 기판 캐리어(100)는, 반입구(2b)로부터 반송실(2a) 내에 반입되고, 처리후에 반출구(2c)로부터 외부로 반출된다. 반입구(2b) 및 반출구(2c)에는 게이트 밸브(도시하지 않음)가 설치된다.The transfer chamber 2a is maintained in a vacuum when in use, and an inlet 2b is provided at one end in the X direction, and an outlet 2c is provided at the other end. The substrate carrier 100 holding the substrate G and the mask M is brought into the transfer chamber 2a through the delivery port 2b, and, after processing, is carried out to the outside through the delivery port 2c. Gate valves (not shown) are installed at the delivery port 2b and the discharge port 2c.

반송실(2a)에는, X 방향으로 배열된 복수의 반송 롤러(2d)가 설치되어 있다. 이 반송 롤러(2d)의 열은, Y 방향으로 이격되어 2열 배치되어 있다. 각 반송 롤러(2d)는 Y 방향의 회전축 주위로 회전한다. 기판 캐리어(100)는, 2열의 반송 롤러(2d)의 열에, 그 Y 방향의 양단부가 재치되고, 반송 롤러(2d)의 회전에 의해 X 방향으로 수평 자세로 반송된다.A plurality of conveyance rollers 2d arranged in the X direction are installed in the conveyance chamber 2a. This row of conveyance rollers 2d is arranged in two rows spaced apart in the Y direction. Each conveyance roller 2d rotates around the rotation axis in the Y direction. The substrate carrier 100 is placed at both ends in the Y direction on two rows of conveyance rollers 2d, and is conveyed in a horizontal position in the X direction by rotation of the conveyance rollers 2d.

각 소스 챔버(3) 내는, 사용시에 진공으로 유지되는 내부 공간을 형성한다. 소스 챔버(3)는, 상부에 개구부가 형성된 상자형을 가지고 있고, 개구부를 통해, 반송실(2a)과 소스 챔버(3)의 내부 공간이 연통하고 있다. 각 소스 챔버(3)에는 상방에 증착 물질을 방출하는 증착원(3a)이 설치되어 있다. 본 실시형태의 증착원(3a)은 소위 라인 소스이며, Y 방향으로 연장 설치되어 있다. 증착원(3a)은 증착 물질의 원재료를 수용하는 도가니나, 도가니를 가열하는 히터 등을 구비하고, 원재료를 가열하여 그 증기인 증착 물질을 반송실(2a)로 방출한다.Within each source chamber 3, an internal space is formed that is maintained as a vacuum when in use. The source chamber 3 has a box shape with an opening formed at the top, and the transfer chamber 2a and the internal space of the source chamber 3 communicate through the opening. In each source chamber 3, an evaporation source 3a is installed above to emit a evaporation material. The deposition source 3a of this embodiment is a so-called line source and is installed extending in the Y direction. The deposition source 3a is provided with a crucible that accommodates the raw material of the deposition material, a heater that heats the crucible, etc., and heats the raw material to release the vapor of the deposition material into the transfer chamber 2a.

증착 장치(114)는, 반송 챔버(2) 내에서 기판(G) 및 마스크(M)를 보유지지한 기판 캐리어(100)를 반송하면서, 증착원(3a)에 의해 기판(G)에 증착 물질을 증착한다. 본 실시형태에서는, 복수의 소스 챔버(3)가 기판 캐리어(100)의 반송 방향으로 배치되어 있다. 3개의 소스 챔버(3)로부터 상이한 종류의 증착 물질을 방출하는 경우, 기판(G)에 상이한 증착 물질을 연속적으로 증착할 수 있다. 한편, 소스 챔버(3)의 수는 3개로 한정되지 않고, 1개 또는 2개이어도 되고, 4개 이상이어도 된다.The deposition device 114 transfers the substrate carrier 100 holding the substrate G and the mask M within the transfer chamber 2, and deposits a deposition material on the substrate G using the deposition source 3a. is deposited. In this embodiment, a plurality of source chambers 3 are arranged in the transport direction of the substrate carrier 100. When different types of deposition materials are discharged from the three source chambers 3, different deposition materials can be continuously deposited on the substrate G. Meanwhile, the number of source chambers 3 is not limited to three, but may be one or two, or may be four or more.

<자세 변화 장치><Attitude change device>

도 3 및 도 4를 참조하여 자세 변화 장치(111)에 대해 설명한다. 도 3은 자세 변화 장치(111)의 내부 구조를 Y 방향에서 본 도면이며, 도 4는 X 방향에서 본 도면이다. 자세 변화 장치(111)는, 사용시에 진공으로 유지되는 내부 공간을 형성하는 챔버(4)와, 챔버(4) 내에 배치된 복수의 반송 유닛(5)과, 챔버(4) 내에 배치된 보유지지 유닛(6)과, 챔버(4)의 외부로부터 보유지지 유닛(6)을 회동시키는 회동 유닛(8)과, 챔버(4)의 외부로부터 각 반송 유닛(5)을 Y 방향으로 이동하는 이동 유닛(9)을 구비한다. 한편, 편의적으로, 보유지지 유닛(6)을 회동 유닛(8)과 구별하여 표현하고 있지만, 보유지지 유닛(6)과 회동 유닛(8)은, 일체로 하여, 기판 캐리어(100)를 회동시키기 위한 수단을 구성해도 된다.The posture change device 111 will be described with reference to FIGS. 3 and 4 . FIG. 3 is a diagram of the internal structure of the posture change device 111 viewed from the Y direction, and FIG. 4 is a diagram viewed from the X direction. The posture change device 111 includes a chamber 4 forming an internal space maintained in a vacuum when used, a plurality of transfer units 5 disposed within the chamber 4, and a holding device disposed within the chamber 4. Unit 6, a rotation unit 8 that rotates the holding unit 6 from the outside of the chamber 4, and a moving unit that moves each transfer unit 5 in the Y direction from the outside of the chamber 4 (9) is provided. Meanwhile, for convenience, the holding unit 6 is expressed separately from the rotation unit 8, but the holding unit 6 and the rotation unit 8 are integrated to rotate the substrate carrier 100. You may construct a means for this.

챔버(4)는, 그 X 방향의 일단부에 반입구(4a)를, 타단부에 반출구(4b)를 구비하고 있고, 기판(G) 및 마스크(M)를 보유지지한 기판 캐리어(100)는, 반입구(4a)로부터 챔버(4) 내에 반입되고, 자세 변화 후에 반출구(4b)로부터 외부로 반출된다. 반입구(4a) 및 반출구(4b)에는 이들을 개폐하는 게이트 밸브(4c, 4d)가 설치되어 있다.The chamber 4 has an inlet 4a at one end in the ) is brought into the chamber 4 from the loading port 4a, and is taken out to the outside from the loading port 4b after the attitude change. Gate valves 4c and 4d are installed at the inlet 4a and outlet 4b to open and close them.

반송 유닛(5)은, X 방향 및 Y 방향으로 이격되어 복수 설치되어 있다. 각 반송 유닛(5)은 X 방향으로 배열된 복수의 반송 롤러(5a)와, 반송 롤러(5a)를 회전하는 모터 등의 구동원을 구비한다. 각 반송 롤러(5a)는 캔틸레버 상태로 지지되며, Y 방향의 회전축 주위로 회전한다. 기판 캐리어(100)는, Y 방향으로 이격된 2열의 반송 롤러(5a)의 열에, 그 Y 방향의 양단부가 재치되고, 반송 롤러(5a)의 회전에 의해 X 방향으로 수평 자세로 반송된다.The transport units 5 are installed in plural numbers spaced apart in the X and Y directions. Each conveyance unit 5 is provided with a plurality of conveyance rollers 5a arranged in the X direction and a drive source such as a motor that rotates the conveyance rollers 5a. Each conveyance roller 5a is supported in a cantilever state and rotates around a rotation axis in the Y direction. The substrate carrier 100 has both ends in the Y direction placed on two rows of conveyance rollers 5a spaced apart in the Y direction, and is conveyed in a horizontal position in the X direction by rotation of the conveyance rollers 5a.

각 반송 유닛(5)은, 이동 유닛(9)에 의해 도 4에 있어서 이점쇄선으로 나타내는 반송 위치와, 실선으로 나타내는 퇴피 위치의 사이를 Y 방향(반송 롤러(5a)의 롤러 축방향)으로 평행 이동한다. 반송 위치는, Y 방향에서 자세 변화 장치(111)의 중앙측의 위치이며, 퇴피 위치는 Y 방향에서 외측의 위치이다. 각 반송 유닛(5)은, 반송 위치에 있어서 기판 캐리어(100)를 반송한다. 퇴피 위치는, 회동 중인 보유지지 유닛(6)이나 회동 유닛(8)과, 반송 유닛(5)과의 간섭을 회피하는 위치이다.Each conveyance unit 5 is parallel in the Y direction (roller axial direction of the conveyance roller 5a) between the conveyance position indicated by the two-dot chain line in FIG. 4 and the retraction position indicated by the solid line by the moving unit 9. move The transfer position is a position near the center of the attitude change device 111 in the Y direction, and the retraction position is a position outside the Y direction. Each transfer unit 5 transfers the substrate carrier 100 at the transfer position. The retreat position is a position that avoids interference between the rotating holding unit 6 or rotating unit 8 and the transfer unit 5.

이동 유닛(9)은 구동 기구(90)와 작동 축(91)을 포함한다. 구동 기구(90)는, 작동 축(91)을 Y 방향으로 진퇴시키는 전동 실린더 등의 액추에이터를 포함하고, 챔버(4)의 외부에 배치되어 있다. 작동 축(91)은 챔버(4)의 측벽에 형성된 개구(도시하지 않음)를 통과하여 챔버(4)의 안팎으로 연장 설치되어 있다. 시일 구조(92)는, 벨로우즈 등의 통형상 구조를 가지며, 챔버(4)의 측벽에 형성된 개구와 작동 축(91)을 시일하여 챔버(4) 내의 기밀성을 유지한다.The moving unit 9 includes a drive mechanism 90 and an actuating shaft 91. The drive mechanism 90 includes an actuator such as an electric cylinder that advances and retreats the operating axis 91 in the Y direction, and is disposed outside the chamber 4. The operating shaft 91 extends in and out of the chamber 4 through an opening (not shown) formed in the side wall of the chamber 4. The seal structure 92 has a cylindrical structure such as a bellows, and seals the opening formed in the side wall of the chamber 4 and the operating shaft 91 to maintain airtightness within the chamber 4.

보유지지 유닛(6)은, Y 방향으로 이격된 한 쌍의 베이스 부재(60)를 갖는다. 각 베이스 부재(60)는 X-Z 평면을 따른 판 형상의 부재이다. 한 쌍의 베이스 부재(60) 사이에는 복수의 보(梁) 부재(60a)에 의해 연결되어 있고, 이들이 일체적으로 회동 중심선(81a) 주위로 회동한다.The holding unit 6 has a pair of base members 60 spaced apart in the Y direction. Each base member 60 is a plate-shaped member along the X-Z plane. The pair of base members 60 are connected by a plurality of beam members 60a, and these rotate integrally around the rotation center line 81a.

보유지지 유닛(6)은, 기판 캐리어(100)를 사이에 두도록 하여 보유지지하는 복수의 보유지지 롤러(63)를 포함한다. 복수의 보유지지 롤러(63)는, X 방향으로 배열된 4열의 롤러 열을 구성하고 있다. 4열의 롤러 열은, Y 방향으로 이격된 2열의 롤러 열로 구분되고, 2열의 롤러 열은 상하로 이격된 롤러 열이다.The holding unit 6 includes a plurality of holding rollers 63 that hold the substrate carrier 100 between them. The plurality of holding rollers 63 constitute four rows of rollers arranged in the X direction. The four rows of roller rows are divided into two rows of rollers spaced apart in the Y direction, and the two rows of roller rows are roller rows spaced up and down.

각 롤러 열은, Y 방향의 회전축 주위로, 롤러 지지 부재(61 또는 62)에 자유 회전 가능하게 지지되어 있다. 롤러 지지 부재(61)는 2개 설치되어 있고, 도 3 및 도 4의 예에서는 상측에 위치하고 있다. 2개의 롤러 지지 부재(61)는 Y 방향으로 이격되어 있고, 롤러 지지 부재(61)에 지지되는 보유지지 롤러(63)는, 롤러 지지 부재(61)의 내측 측면에 캔틸레버 상태로 지지되어 있다. 롤러 지지 부재(62)도 2개 설치되어 있고, 도 3 및 도 4의 예에서는 하측에 위치하고 있다. 2개의 롤러 지지 부재(62)는 Y 방향으로 이격되어 있고, 롤러 지지 부재(62)에 지지되는 보유지지 롤러(63)는, 롤러 지지 부재(62)의 내측 측면에 캔틸레버 상태로 지지되어 있다.Each roller row is freely rotatably supported by a roller support member 61 or 62 around the rotation axis in the Y direction. Two roller support members 61 are provided, and in the examples of Figs. 3 and 4, they are located on the upper side. The two roller support members 61 are spaced apart in the Y direction, and the holding roller 63 supported by the roller support member 61 is supported on the inner side of the roller support member 61 in a cantilever state. Two roller support members 62 are also provided, and are located on the lower side in the examples of Figs. 3 and 4. The two roller support members 62 are spaced apart in the Y direction, and the holding roller 63 supported by the roller support member 62 is supported on the inner side of the roller support member 62 in a cantilever state.

롤러 지지 부재(61 및 62)는, 복수의 가이드 유닛(65)을 통해 Z 방향으로 이동(승강) 가능하게 베이스 부재(60)에 지지되어 있다. 가이드 유닛(65)은, 예를 들면 신축식의 가이드 기구이며, 베이스 부재(60)에 고정되는 통체와, 통체에 Z 방향으로 진퇴 가능하게 지지된 로드를 가지며, 로드에 롤러 지지 부재(61, 62)가 고정된다. 베이스 부재(60)와 롤러 지지 부재(61 및 62)의 사이에는, 각각 승강 유닛(64)이 설치되어 있다. 본 실시형태의 승강 유닛(64)은 Z 방향으로 신축하는 액추에이터이며, 예를 들면 전동 실린더이다. 승강 유닛(64)의 신축에 의해, 롤러 지지 부재(61 및 62)를 베이스 부재(60)에 대해 승강할 수 있다.The roller support members 61 and 62 are supported on the base member 60 so as to be movable (elevated) in the Z direction via a plurality of guide units 65. The guide unit 65 is, for example, a telescoping guide mechanism, and has a cylinder fixed to the base member 60, a rod supported on the cylinder so as to be able to advance and retreat in the Z direction, and a roller support member 61 on the rod. 62) is fixed. A lifting unit 64 is provided between the base member 60 and the roller support members 61 and 62, respectively. The lifting unit 64 of this embodiment is an actuator that expands and contracts in the Z direction, for example, an electric cylinder. By expanding and contracting the lifting unit 64, the roller support members 61 and 62 can be raised and lowered relative to the base member 60.

그리고, 롤러 지지 부재(61)에 지지되는 복수의 보유지지 롤러(63)와, 롤러 지지 부재(62)에 지지되는 복수의 보유지지 롤러(63)에 의해, 기판 캐리어(100)의 Y 방향의 단부를 사이에 두도록 하여 기판 캐리어(100)가 지지된다. 도 3 및 도 4의 예에서는, 롤러 지지 부재(61)에 지지되는 복수의 보유지지 롤러(63)가 기판 캐리어(100)의 일방의 면 측(상측)에 위치하고, 롤러 지지 부재(62)에 지지되는 복수의 보유지지 롤러(63)가 기판 캐리어(100)의 타방의 면 측(하측)에 위치하고, 이들 보유지지 롤러(63)에 의해 기판 캐리어(100)를 상하에 끼워서 지지할 수 있다.And, by the plurality of holding rollers 63 supported by the roller supporting member 61 and the plurality of holding rollers 63 supported by the roller supporting member 62, the Y-direction of the substrate carrier 100 The substrate carrier 100 is supported with the ends sandwiched between the ends. In the example of FIGS. 3 and 4 , a plurality of holding rollers 63 supported by the roller supporting member 61 are located on one surface side (upper side) of the substrate carrier 100, and are attached to the roller supporting member 62. A plurality of supported holding rollers 63 are located on the other side (lower side) of the substrate carrier 100, and the substrate carrier 100 can be supported by being sandwiched between the upper and lower sides by these holding rollers 63.

보유지지 롤러(63)의 회전에 의해, 먼지(파티클)가 날아올라가서 기판(G)에 부착되는 것은 바람직하지 않다. 본 실시형태에서는, 각 보유지지 롤러(63)가 집진 커버(7)에 의해 개별 둘러싸여 있다. 집진 커버(7)의 상세한 것은 후술한다.It is not desirable for dust (particles) to fly up and adhere to the substrate G due to the rotation of the holding roller 63. In this embodiment, each holding roller 63 is individually surrounded by a dust collection cover 7. Details of the dust collection cover 7 will be described later.

각 베이스 부재(60)에는 또한, 스톱퍼(66A 및 66B)가 설치되어 있다. 도 3 및 도 4의 예에서는 스톱퍼(66A)가 반입구(4a) 측에 위치하고, 스톱퍼(66B)가 반출구(4b) 측에 위치하고 있다. 스톱퍼(66A 및 66B)는, 각각, 롤러(69)와, 롤러(69)를 회전 가능하게 지지하는 스윙 암(68)과, 스윙 암(68)을 회동시키는 모터 등의 액추에이터(67)를 포함한다. 액추에이터(67)는 베이스 부재(60)에 고정되어 있고, 롤러(69)는 Y 방향의 회전축 주위로 자유 회전 가능하게 스윙 암(68)에 지지되어 있다. 스윙 암(68)의 회동에 의해, 롤러(69)는 기판 캐리어(100)의 반송 경로 상의 작동 위치와, 도 3 및 도 4에 도시되는 퇴피 위치와의 사이에서 이동된다. 작동 위치에 있어서 롤러(69)의 둘레면에 기판 캐리어(100)의 단부면을 당접함으로써 기판 캐리어(100)가 그 기판면 방향으로 변위하는 것을 규제한다. 또한, 롤러(69)를 퇴피 위치로부터 작동 위치로 이동시킬 때, 롤러(69)의 둘레면에서 기판 캐리어(100)의 단부면을 압압함으로써 기판 캐리어(100)를 보유지지 위치까지 이동시킬 수 있다.Each base member 60 is also provided with stoppers 66A and 66B. In the examples of FIGS. 3 and 4 , the stopper 66A is located on the delivery port 4a side, and the stopper 66B is located on the discharge port 4b side. The stoppers 66A and 66B each include a roller 69, a swing arm 68 that rotatably supports the roller 69, and an actuator 67 such as a motor that rotates the swing arm 68. do. The actuator 67 is fixed to the base member 60, and the roller 69 is supported on the swing arm 68 so as to be freely rotatable around the rotation axis in the Y direction. By rotating the swing arm 68, the roller 69 is moved between the operating position on the conveyance path of the substrate carrier 100 and the retracted position shown in FIGS. 3 and 4. By contacting the end surface of the substrate carrier 100 with the peripheral surface of the roller 69 in the operating position, displacement of the substrate carrier 100 in the direction of the substrate surface is restricted. Additionally, when moving the roller 69 from the retracted position to the operating position, the substrate carrier 100 can be moved to the holding position by pressing the end surface of the substrate carrier 100 on the peripheral surface of the roller 69. .

이와 같이 본 실시형태의 보유지지 유닛(6)은, 2세트의 기구(베이스 부재(60), 롤러 지지 부재(61 및 62), 복수의 롤러(63), 복수의 승강 유닛(64), 복수의 가이드 유닛(65), 스톱퍼(66A 및 66B))가 Y 방향으로 이격되어 배치되어 있다. 그리고, 보유지지 유닛(6)은, 회동 유닛(8)에 의해 Y 방향의 회동 중심선(81a) 주위로 회동 가능하게 구성되어 있다.In this way, the holding unit 6 of this embodiment includes two sets of mechanisms (a base member 60, roller support members 61 and 62, a plurality of rollers 63, a plurality of lifting units 64, a plurality of mechanisms). guide unit 65 and stoppers 66A and 66B) are arranged to be spaced apart in the Y direction. And the holding unit 6 is configured to be rotatable around the rotation center line 81a in the Y direction by the rotation unit 8.

회동 유닛(8)은 구동 유닛(80A)와 종동 유닛(80B)을 포함한다. 각 유닛(80A 및 80B)은, 회동 중심선(81a) 상에서 동축상에 설치된 회전축(81)을 구비한다. 각회전축(81)은 챔버(4)의 측벽에 형성된 개구(도시하지 않음)를 통과하여 챔버(4)의 안팎으로 연장 설치되어 있고, 일방의 회전축(81)은 2개의 베이스 부재(60) 중 일방에, 타방의 회전축(81)은 타방의 베이스 부재(60)에, 각각 고정되어 있다. 시일 구조(82)는, 벨로우즈 등의 통형상 구조를 가지며, 챔버(4)의 측벽에 형성된 개구와 회전축(81)을 시일하여 챔버(4) 내의 기밀성을 유지한다.The rotation unit 8 includes a driving unit 80A and a driven unit 80B. Each unit 80A and 80B has a rotation axis 81 installed coaxially on the rotation center line 81a. Each rotation axis 81 extends in and out of the chamber 4 through an opening (not shown) formed in the side wall of the chamber 4, and one rotation axis 81 is one of the two base members 60. On one side, the other rotation axis 81 is fixed to the other base member 60, respectively. The seal structure 82 has a cylindrical structure such as a bellows, and seals the opening formed in the side wall of the chamber 4 and the rotation axis 81 to maintain airtightness within the chamber 4.

유닛(80A)은, 회전축(81)을 회전시키는 구동원인 모터나, 모터의 회전을 감속하여 회전축(81)에 전달하는 감속기 등을 포함한다. 유닛(80B)은 회전축(81)을 회전 가능하게 지지하는 베어링을 포함한다.The unit 80A includes a motor, which is a driving source that rotates the rotation shaft 81, and a reducer that reduces the rotation of the motor and transmits it to the rotation shaft 81. The unit 80B includes a bearing that rotatably supports the rotating shaft 81.

도 5의 (A)∼도 7의 (B)를 참조하여 자세 변화 장치(111)의 동작을 설명한다. 도 5의 (A)는, 기판(G)을 보유지지한 기판 캐리어(100)가 자세 변화 장치(111)에 반입되어 온 단계를 나타내고 있다. 기판(G)은 기판 캐리어(100)의 상측에 보유지지되어 있다. 각 반송 유닛(5)은 반송 위치에 위치하고 있고, 기판 캐리어(100)는 반송 롤러(5a) 상에서 반송되고 있다. 각 보유지지 롤러(63)는 기판 캐리어(100)로부터 이격되어 있다. 스톱퍼(66B)의 롤러(69)는 작동 위치에 위치하고 있다.The operation of the posture change device 111 will be described with reference to FIGS. 5A to 7B. FIG. 5A shows a step in which the substrate carrier 100 holding the substrate G is brought into the posture change device 111. The substrate G is held on the upper side of the substrate carrier 100 . Each conveyance unit 5 is located at a conveyance position, and the substrate carrier 100 is conveyed on the conveyance roller 5a. Each holding roller 63 is spaced apart from the substrate carrier 100 . The roller 69 of the stopper 66B is located in the operating position.

도 5의 (B)는 기판 캐리어(100)의 반입이 완료된 상태를 나타내고 있다. 게이트 밸브(4c, 4d)가 각각 반입구(4a), 반출구(4b)를 폐쇄한다. 하측의 승강 유닛(64)이 롤러 지지 부재(62)를 상승시킨다. 이에 의해 기판 캐리어(100)가, 롤러 지지 부재(62)에 지지된 복수의 보유지지 롤러(63)와 당접하여, 반송 유닛(5)로부터 상방으로 들어올려진다. 그리고, 기판 캐리어(100)는, 롤러 지지 부재(62)에 지지된 복수의 보유지지 롤러(63)에 의해 하측으로부터, 롤러 지지 부재(61)에 지지된 복수의 보유지지 롤러(63)에 의해 상측으로부터, 끼워진 상태가 된다.FIG. 5B shows a state in which loading of the substrate carrier 100 has been completed. Gate valves 4c and 4d close the inlet 4a and outlet 4b, respectively. The lower lifting unit 64 raises the roller support member 62. As a result, the substrate carrier 100 comes into contact with the plurality of holding rollers 63 supported by the roller support member 62 and is lifted upward from the transfer unit 5. And, the substrate carrier 100 is supported from the lower side by a plurality of holding rollers 63 supported by the roller supporting member 62, and by a plurality of holding rollers 63 supported by the roller supporting member 61. From the upper side, it is in a fitted state.

도 6의 (A)에 나타내는 바와 같이 스톱퍼(66A)가 구동되어, 스톱퍼(66A)의 롤러(69)가 작동 위치로 이동된다. 롤러(69)가 기판 캐리어(100)의 단부면에 당접하여 기판 캐리어(100)를 X 방향으로 압압한다. 기판 캐리어(100)는 X 방향에서 도 6의 (A)의 우측으로, 스톱퍼(66B)의 롤러(69)와 당접하는 위치까지 이동한다. 기판 캐리어(100)의 이동 시에, 보유지지 롤러(63)는 기판 캐리어(100)의 이동에 따라 전동(轉動; 구름운동)한다. 기판 캐리어(100)는, 그 법선 방향(이 단계에서는 Z 방향)에 있어서 복수의 보유지지 롤러(63)에 협지되어 변위가 규제되고, 그 면방향(이 단계에서는 X 방향)에 있어서 스톱퍼(66A 및 66B)의 각 롤러(69)에 의해 변위가 규제된다. 계속해서, 이동 유닛(9)의 구동에 의해, 각 반송 유닛(5)은 퇴피 위치로 이동한다. 이에 의해, 각 반송 유닛(5)은 도 4에 나타낸 바와 같이, 베이스 부재(60)의 외측의, 보유지지 유닛(6)과 간섭하지 않는 위치로 이동하게 된다.As shown in FIG. 6A, the stopper 66A is driven, and the roller 69 of the stopper 66A is moved to the operating position. The roller 69 comes into contact with the end surface of the substrate carrier 100 and presses the substrate carrier 100 in the X direction. The substrate carrier 100 moves to the right side of FIG. 6(A) in the X direction to a position in contact with the roller 69 of the stopper 66B. When the substrate carrier 100 moves, the holding roller 63 rolls according to the movement of the substrate carrier 100. The substrate carrier 100 is clamped by a plurality of holding rollers 63 in its normal direction (Z direction at this stage) so that its displacement is regulated, and its displacement is regulated by a stopper 66A in its surface direction (X direction at this stage). and 66B), the displacement is regulated by each roller 69. Subsequently, by driving the moving unit 9, each conveying unit 5 moves to the retracted position. As a result, each conveyance unit 5 is moved to a position outside the base member 60 that does not interfere with the holding unit 6, as shown in FIG. 4 .

회동 유닛(8)의 구동에 의해, 도 6의 (B)에 나타내는 바와 같이 보유지지 유닛(6)이 회동된다. 보유지지 유닛(6)에 의해 기판 캐리어(100)는 그 법선 방향과 면방향에 있어서 변위가 규제되고 있으므로, 낙하하는 일은 없다. 도 7의 (A)는 회동이 완료된 상태를 나타낸다. 보유지지 유닛(6)은 180도 회동하여, 도 6의 (A)의 상태로부터 Z 방향 및 X 방향으로 반전하고 있다. 롤러 지지 유닛(62)이 상측에, 롤러 지지 유닛(61)이 하측에 각각 위치하고 있기 때문에, 회동의 전후에서, 롤러 지지 유닛(61)에 지지되어 있었던 복수의 보유지지 롤러(63)와, 롤러 지지 유닛(62)에 지지되어 있었던 복수의 보유지지 롤러(63)의, 기판 캐리어(100)에 대한 위치(위인지 아래인지)가 서로 바뀐다. 또한, 스톱퍼(66B)가 반입구(4a) 측에, 스톱퍼(66A)가 반출구(4b) 측에, 각각 위치하고 있고, 회동의 전후에서, 스톱퍼(66A)와 스톱퍼(66B)의 위치도 서로 바뀐다. 기판 캐리어(100)도 Z 방향 및 X 방향으로 반전되어, 기판(G)은 기판 캐리어(100)의 하측에 보유지지되어 있다. 이동 유닛(9)의 구동에 의해, 각 반송 유닛(5)은 퇴피 위치로부터 반송 위치로 이동한다.By driving the rotation unit 8, the holding unit 6 is rotated as shown in FIG. 6B. Since the displacement of the substrate carrier 100 in its normal and surface directions is controlled by the holding unit 6, it does not fall. Figure 7 (A) shows the state in which the meeting is completed. The holding unit 6 rotates 180 degrees and is inverted in the Z direction and the X direction from the state in Fig. 6(A). Since the roller support unit 62 is located at the upper side and the roller support unit 61 is located at the lower side, a plurality of holding rollers 63 supported by the roller support unit 61 before and after rotation, and the roller The positions of the plurality of holding rollers 63 supported on the supporting unit 62 (whether above or below) with respect to the substrate carrier 100 are switched. In addition, the stopper 66B is located on the inlet 4a side, and the stopper 66A is located on the outlet 4b side, and before and after the rotation, the positions of the stopper 66A and the stopper 66B are also different from each other. It changes. The substrate carrier 100 is also reversed in the Z direction and the X direction, and the substrate G is held on the lower side of the substrate carrier 100. By driving the moving unit 9, each conveyance unit 5 moves from the retracted position to the conveyance position.

그 후, 하측의 승강 유닛(64)이 롤러 지지 부재(61)를 강하시킨다. 이에 의해 기판 캐리어(100)가 반송 유닛(5) 상에 재치되고, 각 보유지지 롤러(63)는 기판 캐리어(100)로부터 이격된다. 스톱퍼(66A)의 롤러(69)가 작동 위치로부터 퇴피 위치로 이동된다. 게이트 밸브(4c, 4d)가 반입구(4a)와 반출구(4b)를 개방한다. 도 7의 (B)는, 기판 캐리어(100)를 반출시키는 단계를 나타내고 있다. 반송 유닛(5)의 구동에 의해 기판 캐리어(100)가 X 방향으로 반출된다. 반입시에는, 상측에 기판(G)이 보유지지되어 있었던 기판 캐리어(100)가, 하측에 기판(G)이 보유지지된 자세로 변화(반전)된 상태로 기판 캐리어(100)가 반출된다.Afterwards, the lower lifting unit 64 lowers the roller support member 61. Thereby, the substrate carrier 100 is placed on the transfer unit 5, and each holding roller 63 is spaced apart from the substrate carrier 100. The roller 69 of the stopper 66A is moved from the operating position to the retracted position. Gate valves 4c and 4d open the inlet 4a and the outlet 4b. FIG. 7B shows the step of unloading the substrate carrier 100. The substrate carrier 100 is transported in the X direction by driving the transport unit 5. At the time of loading, the substrate carrier 100, where the substrate G was held on the upper side, is changed (reversed) to an attitude where the substrate G is held on the lower side.

그 후, 스톱퍼(66B)의 롤러(69)를 퇴피 위치로 되돌리고, 스톱퍼(66A)의 롤러(69)를 작동 위치로 이동시키면, 자세 변화 장치(111)의 상태는, 보유지지 유닛(6)의 상하, 전후가 반전되어 있을 뿐 도 5의 (A)의 단계와 실질적으로 동일한 상태로 되어, 다음 기판 캐리어(100)의 반입이 가능해진다. 자세 변화 장치(111)의 그 후의 동작은 도 5의 (A)∼도 7의 (B)를 참조하여 설명한 동작과 실질적으로 동일하며, 순차 반입되어 오는 기판 캐리어(100)의 자세 변화를 반복하여 행할 수 있다.Thereafter, when the roller 69 of the stopper 66B is returned to the retracted position and the roller 69 of the stopper 66A is moved to the operating position, the state of the attitude change device 111 is that of the holding unit 6. The state is substantially the same as the step in (A) of FIG. 5 except that the top and bottom and front and back are reversed, and the next substrate carrier 100 can be loaded. The subsequent operation of the posture change device 111 is substantially the same as the operation described with reference to FIGS. 5 (A) to 7 (B), and the posture change of the sequentially loaded substrate carrier 100 is repeated. It can be done.

<집진 커버><Dust collection cover>

집진 커버(7)의 구조에 대해 도 8을 참조하여 설명한다. 도 8은 집진 커버(7)의 분해 사시도이다. 도 8에 있어서의 집진 커버(7)의 자세는, 도 5의 (A)에 도시한 보유지지 유닛(6)의 자세에 있어서, 롤러 지지 부재(62)에 지지된 각 집진 커버(7)의 자세에 상당하고, 롤러 지지 부재(61)에 지지된 각 집진 커버(7)의 자세는 이것을 반전시킨 자세에 상당한다.The structure of the dust collection cover 7 will be described with reference to FIG. 8. Figure 8 is an exploded perspective view of the dust collection cover 7. The posture of the dust collection cover 7 in FIG. 8 is the posture of the holding unit 6 shown in FIG. 5 (A), and the posture of each dust collection cover 7 supported on the roller support member 62 Corresponding to the posture, the posture of each dust collection cover 7 supported by the roller support member 61 corresponds to the reversed posture.

집진 커버(7)는, 보유지지 롤러(63)의 회전에 의해 생기는 먼지를 포착하여, 외부로 비산하는 것을 억제하는 상자 형상의 부재이다. 본 실시형태의 집진 커버는, 본체부(7A)와, 본체부재(7A)에 착탈 가능한 분리부(7B)를 구비하고 있다. 본체부(7A)가 롤러 지지 부재(61 또는 62)에 고정됨으로써, 집진 커버(7)가 롤러 지지 부재(61 또는 62)에 지지된다.The dust collection cover 7 is a box-shaped member that captures dust generated by rotation of the holding roller 63 and prevents it from scattering to the outside. The dust collection cover of this embodiment has a main body portion 7A and a separation portion 7B that is detachable from the main body member 7A. By fixing the main body portion 7A to the roller support member 61 or 62, the dust collection cover 7 is supported by the roller support member 61 or 62.

집진 커버(7)는, Z 방향에서 상하의 관계에 있는 저부(70) 및 천정부(71)와, X 방향을 좌우 방향으로 하여 좌측 측부(72) 및 우측 측부와, Y 방향을 전후 방향으로 하여 앞쪽의 전방부(前部)(73)를 구비한다. 한편, 본 실시형태의 집진 커버(7)는 전후 방향에서 뒤쪽이 되는 후방부(後部)는, 롤러 지지 부재(61 또는 62)에 의해 형성된다. 그러나, 집진 커버(7)가 고유의 후방부를 가지고 있어도 된다.The dust collection cover 7 has a bottom portion 70 and a ceiling portion 71 that are vertically related in the Z direction, a left side portion and a right side portion with the X direction as the left and right direction, and a front portion with the Y direction as the front and rear direction. It is provided with a front part (73). On the other hand, the rear part of the dust collection cover 7 of the present embodiment, which is the rear part in the front-back direction, is formed by the roller support member 61 or 62. However, the dust collection cover 7 may have its own rear portion.

천정부(71)는 본체부(7A)의 좌우의 천정벽(71a, 71a)으로 형성된다. 좌우의 천정벽(71a, 71a)은 역방향으로 경사진 지붕형을 하고 있고, 좌우의 천정벽(71a)의 사이에는 간극(71b)이 형성되어 있다. 보유지지 롤러(63)의 둘레면(63a)의 일부는 간극(71b)으로부터 외부로 노출되고, 둘레면(63a)의 노출된 부분이 기판 캐리어(100)에 당접한다. 본 실시형태에서는 천정부(71)가 좌우의 천정벽(71a, 71a)을 가지며, 보유지지 롤러(63)의 둘레면(63a)을 부분적으로 덮는 형태로 하였지만, 천정부(71)는 전체적으로 개방된 형태이어도 된다. 그러나, 본 실시형태에 의하면, 먼지의 포착 성능 및 비산 방지 성능을 향상시킬 수 있다. 또한, 본 실시형태에서는, 좌우의 천정벽(71a)이 경사진 형태이지만 수평이어도 된다. 그러나, 본 실시형태에 의하면, 보유지지 롤러(63)의 둘레면(63a)의 노출을 적게 할 수 있어, 먼지의 포착 성능 및 비산 방지 성능을 향상시킬 수 있다.The ceiling portion 71 is formed by the left and right ceiling walls 71a and 71a of the main body portion 7A. The left and right ceiling walls 71a and 71a have a roof shape that slopes in the opposite direction, and a gap 71b is formed between the left and right ceiling walls 71a. A portion of the peripheral surface 63a of the holding roller 63 is exposed to the outside through the gap 71b, and the exposed portion of the peripheral surface 63a is in contact with the substrate carrier 100. In this embodiment, the ceiling portion 71 has left and right ceiling walls 71a and 71a and is shaped to partially cover the peripheral surface 63a of the holding roller 63, but the ceiling portion 71 is entirely open. You can continue. However, according to this embodiment, dust capturing performance and scattering prevention performance can be improved. Additionally, in this embodiment, the left and right ceiling walls 71a are inclined, but may be horizontal. However, according to this embodiment, the exposure of the peripheral surface 63a of the holding roller 63 can be reduced, and the dust capturing performance and scattering prevention performance can be improved.

저부(70) 및 좌우의 측부(72)는, 본체부(7A)에 의해 형성된 벽체이며, 저부(70)는 수평인 판 형상을 하고, 좌우의 측부(72)는 저부(70)로부터 세워 설치된 수직인 판 형상을 하고 있다. 저부(70) 및 좌우의 측부(72)는, 보유지지 롤러(63)의 둘레면(63a)의 주위에 위치하고 있고, 둘레면(63a)에 대향하고 있다. 저부(70) 상에는 영구자석(74)이 배치되어 있고, 철분(鐵粉) 등의 강자성체 먼지를 흡착하여 그 포착 성능을 향상시킨다.The bottom portion 70 and the left and right side portions 72 are walls formed by the main body portion 7A. The bottom portion 70 has a horizontal plate shape, and the left and right side portions 72 are erected from the bottom portion 70. It has a vertical plate shape. The bottom portion 70 and the left and right side portions 72 are located around the peripheral surface 63a of the holding roller 63 and face the peripheral surface 63a. A permanent magnet 74 is disposed on the bottom 70, and adsorbs ferromagnetic dust such as iron powder to improve the capturing performance.

전방부(73)는 분리부(7B)에 의해 형성된 벽체로서, 수직인 판 형상을 하고 있다. 분리부(7B)는, 좌우의 측부(72)와 겹치는 좌우의 귀부(76)를 가지고 있고, 귀부(76)에는 설치 홈(76a)이 설치되어 있다. 좌우의 측부(72)에는, 나사 구조에 의해 측부(72)에 장착되어 있는 고정 노브(77)가 설치되어 있다. 고정 노브(77)의 중간 부위를 설치 홈(76a)에 삽입하도록 하여, 분리부(7B)를 본체부(7A)에 장착하고, 고정 노브(77)를 측부(72)에 체결하면, 귀부(76)가 고정 노브(77)와 측부(72)의 사이에 협지되어, 분리부(7B)가 본체부(7A)에 고정된다. 이와 같이 하여 분리부(7B)가 본체부(7A)에 장착되면, 본체부(7A)의 전방부측의 개구가 전방부(73)에 의해 폐쇄되고, 전방부(73)는 롤러(63)의 단부면(63b)에 대향한다.The front portion 73 is a wall formed by the separation portion 7B and has a vertical plate shape. The separation portion 7B has left and right edges 76 that overlap the left and right side portions 72, and mounting grooves 76a are provided in the edges 76. On the left and right side portions 72, fixing knobs 77 are provided, which are attached to the side portions 72 with a screw structure. By inserting the middle portion of the fixing knob 77 into the installation groove 76a, the separation portion 7B is mounted on the main body 7A, and the fixing knob 77 is fastened to the side portion 72, so that the ear portion ( 76) is sandwiched between the fixing knob 77 and the side portion 72, so that the separation portion 7B is fixed to the main body portion 7A. In this way, when the separation portion 7B is mounted on the main body portion 7A, the opening on the front side of the main body portion 7A is closed by the front portion 73, and the front portion 73 is closed by the roller 63. It faces the end surface 63b.

분리부(7B)는 전방부(73)에 접속된 트레이(75)를 가지고 있다. 트레이(75)에는 먼지가 낙하하여, 적재된다. 트레이(75)는 철 등의 강자성 재료로 이루어지고, 분리부(7B)를 본체부(7A)에 장착한 상태에서는, 트레이(75)가 자석(74) 위에 겹쳐진다. 트레이(75) 상의 철분 등의 강자성체 먼지는, 자석(74)의 자력에 의해 트레이(75)에 보유지지되기 쉬워진다. 분리부(7B)를 본체부(7A)로부터 떼어내면, 동시에 트레이(75)도 저부(70)로부터 떼어내지므로, 트레이(75)의 청소를 용이하게 행할 수 있다.The separation portion 7B has a tray 75 connected to the front portion 73. Dust falls on the tray 75 and is loaded. The tray 75 is made of a ferromagnetic material such as iron, and when the separation portion 7B is mounted on the main body portion 7A, the tray 75 overlaps the magnet 74. Ferromagnetic dust such as iron powder on the tray 75 is easily held in the tray 75 by the magnetic force of the magnet 74. When the separation portion 7B is removed from the main body portion 7A, the tray 75 is simultaneously removed from the bottom portion 70, so the tray 75 can be easily cleaned.

좌우의 측부(72)에는, 저부(70)로부터 Z 방향으로 이격된 중간판(78)이 설치되어 있다. 좌측 측부(72)에 설치된 좌측 중간판(78)은 우측 측부(72)로 돌출하도록 형성되고, 우측 측부(72)에 설치된 우측 중간판(78)은 좌측 측부(72)로 돌출하도록 형성되어 있다. 좌우의 중간판(78)의 X 방향의 사이에는 개구(79)가 형성되고, 보유지지 롤러(63)로부터 먼지가 트레이(75)에 낙하하여 포착된다. 중간판(78)은 측부(72)의 Y 방향의 폭과 마찬가지의 폭을 가지며, 집진 커버(7)의 내부 공간을 저부(70) 측과 천정부(71) 측으로 구획하며, 보유지지 유닛(6)이 회동하여 상하가 반전한 경우에, 저부(70) 측에 축적된 먼지가 천정부(71) 측으로 이동하는 것을 규제하는 규제 벽부로서 기능한다.Intermediate plates 78 spaced apart from the bottom portion 70 in the Z direction are provided on the left and right side portions 72 . The left intermediate plate 78 installed on the left side 72 is formed to protrude toward the right side 72, and the right intermediate plate 78 installed on the right side 72 is formed to protrude toward the left side 72. . An opening 79 is formed between the left and right intermediate plates 78 in the X direction, and dust falls from the holding roller 63 onto the tray 75 and is captured. The middle plate 78 has a width similar to the width of the side portion 72 in the Y direction, divides the inner space of the dust collection cover 7 into the bottom portion 70 side and the ceiling portion 71 side, and holds the holding unit 6. ) is rotated and the top and bottom are reversed, it functions as a regulation wall portion that regulates the dust accumulated on the bottom portion 70 side from moving toward the ceiling portion 71 side.

본 실시형태의 중간판(78)은, 측부(72) 측의 단부인 고정부(78a)와, 반대측의 단부인 경사부(78b)를 갖는다. 고정부(78a)는 측부(72)에 고정되며, 측부(72)로부터 수평으로 연장하는 부분이다. 경사부(78b)는 고정부(78a)로부터 경사져서 연장하는 부분이다. 이와 같이 중간판(78)은, 측부(72) 측과 반대측의 단부가 저부(70)를 향해 만곡한 형상을 가지고 있다. 이 형상은, 보유지지 롤러(63)로부터 트레이(7)로 먼지가 낙하하기 쉬운 한편, 보유지지 유닛(6)이 회동하여 상하가 반전한 경우에, 트레이(7)로부터 천정부(71)로 먼지가 되돌아가기 어려운 효과를 발휘한다.The intermediate plate 78 of this embodiment has a fixed portion 78a, which is an end on the side 72 side, and an inclined portion 78b, which is an end on the opposite side. The fixing part 78a is fixed to the side part 72 and extends horizontally from the side part 72. The inclined portion 78b is a portion extending at an angle from the fixing portion 78a. In this way, the middle plate 78 has a shape in which the end opposite to the side portion 72 is curved toward the bottom portion 70. This shape makes it easy for dust to fall from the holding roller 63 to the tray 7, but when the holding unit 6 rotates and is upside down, dust falls from the tray 7 to the ceiling 71. It has an effect that is difficult to reverse.

한편, 본 실시형태에서는, 중간판(78)을, 평판 형상의 고정부(78a)와, 평판 형상의 경사부(78b)에 의해 만곡시키는 형태로 하였지만, 호 형상으로 만곡한 형태이어도 된다. 또한, 본 실시형태에서는 중간판(78)을 측부(72)에 고정하였지만, 전방부(73)에 고정해도 된다.Meanwhile, in the present embodiment, the intermediate plate 78 is curved by the flat fixing portion 78a and the flat inclined portion 78b, but it may be curved in an arc shape. Additionally, in this embodiment, the middle plate 78 is fixed to the side portion 72, but it may be fixed to the front portion 73.

도 9의 (A)∼도 9의 (C)를 참조하여 보유지지 유닛(6)의 회동 시의 집진 커버(7)의 양태에 대해 설명한다. 도 9의 (A)는 집진 커버(7)가 천정부(71)가 위이고, 저부(70)가 아래인 자세를 취하고 있는 상태를 나타내고 있다. 도 9의 (A)에 있어서의 집진 커버(7)의 자세는, 도 5의 (A)에 도시한 보유지지 유닛(6)의 자세에 있어서, 롤러 지지 부재(62)에 지지된 각 집진 커버(7)의 자세에 상당한다. 기판 캐리어(100)에 대해 롤러(63)는 하면에 당접한다. 롤러(63)의 회전에 의해 먼지가 발생하면, 중력에 의해 개구(79)를 통과하여 트레이(75)에 낙하하여 포착되어, 먼지(200)는 트레이(75) 상에 적재된다.9(A) to 9(C), the state of the dust collection cover 7 when the holding unit 6 is rotated will be described. FIG. 9A shows a state in which the dust collection cover 7 is positioned with the ceiling 71 up and the bottom 70 down. The posture of the dust collection cover 7 in FIG. 9 (A) is the posture of the holding unit 6 shown in FIG. 5 (A), and each dust collection cover supported on the roller support member 62 Equivalent to the posture in (7). The roller 63 is in contact with the lower surface of the substrate carrier 100. When dust is generated by the rotation of the roller 63, it passes through the opening 79 by gravity, falls on the tray 75, and is captured, and the dust 200 is loaded on the tray 75.

도 9의 (B)는, 도 9의 (A)의 상태로부터 보유지지 유닛(6)이 90도 회동하였을 때의 집진 커버(7)의 자세를 나타내고 있다. 보유지지 유닛(6)의 회동에 의해 집진 커버(7)도 회동한다. 트레이(75)에 포착된 먼지(200)의 양이 많은 경우, 도 9의 (B)에 나타내는 바와 같이 먼지는 중력에 의해 트레이(75)의 단부(하측)로 이동하고, 먼지의 일부는 트레이(75)로부터 삐져나와, 하측의 위치가 된 측부(72) 상으로 넘치는 경우도 있다.FIG. 9(B) shows the posture of the dust collection cover 7 when the holding unit 6 is rotated 90 degrees from the state in FIG. 9(A). As the holding unit 6 rotates, the dust collection cover 7 also rotates. When the amount of dust 200 captured in the tray 75 is large, the dust moves to the end (lower side) of the tray 75 by gravity, as shown in FIG. 9(B), and some of the dust moves to the tray 75. There are cases where it protrudes from 75 and overflows onto the lower side portion 72.

도 9의 (C)는, 도 9의 (B)의 상태로부터 보유지지 유닛(6)이 90도 더 회동하였을 때의 집진 커버(7)의 자세를 나타내고 있고, 보유지지 유닛(6)이 Z 방향 및 X 방향으로 반전했을 때의 집진 커버(7)의 자세를 나타내고 있다. 집진 커버(7)는 천정부(71)가 아래이고, 저부(70)가 위인 자세가 된다. 도 9의 (C)에 있어서의 집진 커버(7)의 자세는, 도 7의 (A)에 도시한 보유지지 유닛(6)의 자세에 있어서, 롤러 지지 부재(62)에 지지된 각 집진 커버(7)의 자세에 상당한다. 기판 캐리어(100)에 대해 롤러(63)는 하면에 당접한다. 트레이(75)에 포착되어 있었던 먼지나, 도 9의 (B)의 자세에 있어서, 측부(72) 상으로 넘친 먼지는, 중력에 의해 천정부(71) 측으로 이동하려고 하지만, 중간판(78)에 의해 이것이 저지된다. 따라서, 먼지(200)가 간극(71b)으로부터 집진 커버(7)의 외부로 비산하여, 기판 캐리어(100)에 보유지지되어 있는 기판(G)에 부착되는 것이 방지된다.Figure 9(C) shows the posture of the dust collection cover 7 when the holding unit 6 is rotated further by 90 degrees from the state in Figure 9(B), and the holding unit 6 is Z The posture of the dust collection cover 7 when reversed in direction and X direction is shown. The dust collection cover 7 is positioned so that the ceiling 71 is downward and the bottom 70 is upward. The posture of the dust collection cover 7 in FIG. 9 (C) is the posture of the holding unit 6 shown in FIG. 7 (A), and each dust collection cover supported on the roller support member 62 Equivalent to the posture in (7). The roller 63 is in contact with the lower surface of the substrate carrier 100. Dust captured in the tray 75 or dust that overflows onto the side portion 72 in the position shown in (B) of FIG. 9 tries to move toward the ceiling portion 71 by gravity, but is stuck in the middle plate 78. This is prevented by Accordingly, the dust 200 is prevented from flying out of the gap 71b to the outside of the dust collection cover 7 and adhering to the substrate G held by the substrate carrier 100.

<집진 커버의 다른 형태><Other types of dust collection covers>

도 10의 (A)∼도 10의 (C)는 집진 커버(7)의 다른 구성예를 나타낸다. 도시한 예는, 도 8∼도 9의 (C)에 예시한 집진 커버(7)와, 중간판(78)의 구성만이 다르며, 중간판(78')을 가지고 있다. 중간판(78')은 측부(72)에 고정된 고정부(78a')와, 고정부(78a')에 대해 각도가 가변인 가동부(78b')를 가지고 있다.10(A) to 10(C) show another example of the configuration of the dust collection cover 7. The illustrated example differs from the dust collection cover 7 illustrated in Figures 8 to 9 (C) only in the configuration of the middle plate 78, and has the middle plate 78'. The intermediate plate 78' has a fixed portion 78a' fixed to the side portion 72, and a movable portion 78b' whose angle is variable with respect to the fixed portion 78a'.

고정부(78a')는 도 8의 고정부(78)에 상당하고, 가동부(78b')는 경사부(78b)에 상당하지만, 경사부(78b)는 고정부(78a)와 일체적으로 형성되며, 각도가 불변이었던 것에 대하여, 가동부(78b')는 힌지(78c)를 통해 고정부(78a')에 연결되어 있고, 각도가 가변이다. 힌지(78c)는 Y 방향의 회동 중심 주위로, 고정부(78a')에 대해 가동부(78b')를 회동 가능하게 연결하고 있고, 가동부(78b')의 각도 범위(회동 범위)에는 돌기편에 의해 구조적으로 제한이 가해져 있다. 본 실시형태에서는, 힌지(78c)를 사용하여 가동부(78b')의 각도를 가변으로 하였지만, 탄성체에 의해 각도를 가변으로 하는 구조이어도 된다.The fixed portion 78a' corresponds to the fixed portion 78 in FIG. 8, and the movable portion 78b' corresponds to the inclined portion 78b, but the inclined portion 78b is formed integrally with the fixed portion 78a. While the angle is constant, the movable part 78b' is connected to the fixed part 78a' through a hinge 78c, and the angle is variable. The hinge 78c rotatably connects the movable part 78b' with respect to the fixed part 78a' around the center of rotation in the Y direction, and has a protrusion in the angle range (rotation range) of the movable part 78b'. There are structural restrictions imposed by In this embodiment, the angle of the movable portion 78b' is made variable using the hinge 78c, but a structure in which the angle is made variable by an elastic body may be used.

도 10의 (A)는 도 9의 (A)의 상태에 상당하고, 집진 커버(7)가 천정부(71)가 위이고, 저부(70)가 아래인 자세를 취하고 있는 상태를 나타내고 있다. 가동부(78b')는 수평 방향에 대해 경사부(78b)와 마찬가지의 각도를 가지고 경사져 있다. 롤러(63)의 회전에 의해 먼지가 발생하면, 중력에 의해 트레이(75)에 낙하하여 포착되어, 먼지(200)는 트레이(75) 상으로 적재된다.FIG. 10(A) corresponds to the state in FIG. 9(A) and shows the dust collection cover 7 in an attitude where the ceiling 71 is up and the bottom 70 is down. The movable portion 78b' is inclined at the same angle as the inclined portion 78b with respect to the horizontal direction. When dust is generated by the rotation of the roller 63, it falls on the tray 75 by gravity and is captured, and the dust 200 is loaded onto the tray 75.

도 10의 (B)는 도 9의 (B)의 상태에 상당하고, 도 10의 (A)의 상태로부터 보유지지 유닛(6)이 90도 회동하였을 때의 집진 커버(7)의 자세를 나타내고 있다. 이 때, 상측에 위치하고 있는 중간판(78')의 가동부(78b')는 그 자중에 의해 고정부(78a')에 대해 회동하고, 고정부(78a')와 가동부(78b')가 모두 수직인 자세로 되어 있다. 그 결과, 개구(79)가 절반 폐쇄된다. 하측에 위치하고 있는 중간판(78')에 대해서는 변화는 없다.Figure 10(B) corresponds to the state in Figure 9(B) and shows the posture of the dust collection cover 7 when the holding unit 6 is rotated 90 degrees from the state in Figure 10(A). there is. At this time, the movable part 78b' of the intermediate plate 78' located on the upper side rotates with respect to the fixed part 78a' due to its own weight, and both the fixed part 78a' and the movable part 78b' are vertical. It is in an in posture. As a result, the opening 79 is half closed. There is no change in the middle plate 78' located on the lower side.

도 10의 (C)는 도 9의 (C)의 상태에 상당하고, 도 10의 (B)의 상태로부터 보유지지 유닛(6)이 90도 더 회동하였을 때의 집진 커버(7)의 자세를 나타내고 있다. 집진 커버(7)는 천정부(71)가 아래이고, 저부(70)가 위인 자세가 된다. 이 때, 도 10의 (B)의 단계에서 하측에 위치하고 있었던 중간판(78')의 가동부(78b')도 그 자중에 의해 고정부(78a')에 대해 회동하여, 고정부(78a')와 가동부(78b')가 모두 수평인 자세로 되어 있다. 그 결과, 개구(79)가 대략 전부 폐쇄된다. 트레이(75)에 포착되어 있었던 먼지나, 도 9의 (B)의 자세에 있어서, 측부(72) 상으로 넘친 먼지는, 중력에 의해 천정부(71) 측으로 이동하려고 하지만, 개구(79)가 폐쇄되어 있어, 중간판(78')에 의해 이것을 확실하게 저지할 수 있다. 따라서, 먼지(200)가 간극(71b)으로부터 집진 커버(7)의 외부로 비산하여, 기판 캐리어(100)에 보유지지되어 있는 기판(G)에 부착되는 것이 방지된다.Figure 10(C) corresponds to the state in Figure 9(C), and shows the posture of the dust collection cover 7 when the holding unit 6 is further rotated 90 degrees from the state in Figure 10(B). It is showing. The dust collection cover 7 is positioned so that the ceiling 71 is downward and the bottom 70 is upward. At this time, the movable part 78b' of the intermediate plate 78', which was located on the lower side in the step of Figure 10 (B), also rotates with respect to the fixed part 78a' due to its own weight, and the fixed part 78a' and the movable portion 78b' are all in a horizontal position. As a result, the opening 79 is substantially completely closed. The dust captured in the tray 75 and the dust that overflowed on the side 72 in the position shown in Figure 9 (B) try to move towards the ceiling 71 by gravity, but the opening 79 is closed. This can be reliably prevented by the intermediate plate 78'. Accordingly, the dust 200 is prevented from flying out of the gap 71b to the outside of the dust collection cover 7 and adhering to the substrate G held by the substrate carrier 100.

<롤러의 다른 형태><Other types of rollers>

전술한 형태에서는, 보유지지 유닛(6)이 복수의 보유지지 롤러(63)를 갖는 예를 설명하였다. 보유지지 롤러(63)와는 달리, 회동 유닛(8)은, 기판 캐리어(100)를 사이에 두도록 배치된 복수의 롤러를 구비하고 있어도 된다. 이들 롤러는, 예를 들면, 아이들 롤러이다. 어떤 상태에서, 기판 캐리어(100)의 하방에 있는 아이들 롤러는, 반송 롤러(5a)와 동일한 높이에 있다. 아이들 롤러 자신은 구동되지 않고, 주로 반송 롤러(5a)에의 기판 캐리어(100)의 하중을 분산할 목적으로 배치된다. 아이들 롤러는, 구동 수단과 연결되지 않기 때문에, 회동 유닛(8)과 함께 회동되도록 아이들 롤러를 구성하여도, 장치의 복잡화나 대형화를 회피할 수 있다. 따라서, 아이들 롤러가 기판 캐리어를 사이에 두도록 배치됨으로써, 장치의 간략화를 도모할 수 있다. 한편, 기판 캐리어(100)가 회동될 때에, 아이들 롤러가 기판 캐리어(100)를 보유지지하고 있지 않아도 된다.In the above-described form, an example in which the holding unit 6 has a plurality of holding rollers 63 has been described. Unlike the holding roller 63, the rotation unit 8 may be provided with a plurality of rollers arranged so as to sandwich the substrate carrier 100 therebetween. These rollers are, for example, idle rollers. In some states, the idle roller below the substrate carrier 100 is at the same height as the conveyance roller 5a. The idle roller itself is not driven, and is arranged mainly for the purpose of distributing the load of the substrate carrier 100 to the transport roller 5a. Since the idle roller is not connected to the driving means, even if the idle roller is configured to rotate together with the rotation unit 8, complexity or enlargement of the device can be avoided. Therefore, by arranging the idle roller to sandwich the substrate carrier, the device can be simplified. Meanwhile, when the substrate carrier 100 rotates, the idle roller does not need to hold the substrate carrier 100.

전술한 형태에서 설명한 집진 커버(7)는, 아이들 롤러에도 설치해도 된다. 또한, 아이들 롤러에만 집진 커버(7)를 설치하고, 보유지지 롤러(63)에는, 커버를 설치하지 않는 구성으로 해도 된다. 예를 들면, 보유지지 유닛(6)의 보유지지부의 선단에 롤러를 사용하지 않는 경우 등을 들 수 있다.The dust collection cover 7 explained in the above-described form may also be installed on an idle roller. Additionally, the dust collection cover 7 may be provided only on the idle roller, and the cover may not be provided on the holding roller 63. For example, there is a case where a roller is not used at the tip of the holding portion of the holding unit 6.

<전자 디바이스><Electronic device>

다음으로, 전자 디바이스의 일례를 설명한다. 이하, 전자 디바이스의 예로서 유기 EL 표시 장치의 구성을 예시한다.Next, an example of an electronic device will be described. Hereinafter, the configuration of an organic EL display device will be illustrated as an example of an electronic device.

먼저, 제조하는 유기 EL 표시 장치에 대해 설명한다. 도 11의 (A)는 유기 EL 표시 장치(500)의 전체 도면, 도 11의 (B)는 1화소의 단면 구조를 나타내는 도면이다.First, the organic EL display device to be manufactured will be described. FIG. 11 (A) is an overall view of the organic EL display device 500, and FIG. 11 (B) is a view showing the cross-sectional structure of one pixel.

도 11의 (A)에 나타낸 바와 같이, 유기 EL 표시 장치(500)의 표시 영역(51)에는, 발광 소자를 복수 구비하는 화소(52)가 매트릭스 형상으로 복수 개 배치되어 있다. 상세한 것은 나중에 설명하지만, 발광 소자의 각각은, 한 쌍의 전극 사이에 끼워진 유기층을 구비한 구조를 가지고 있다.As shown in FIG. 11 (A), in the display area 51 of the organic EL display device 500, a plurality of pixels 52 including a plurality of light-emitting elements are arranged in a matrix shape. Details will be explained later, but each light emitting element has a structure including an organic layer sandwiched between a pair of electrodes.

한편, 여기서 말하는 화소란, 표시 영역(51)에 있어서 원하는 색의 표시를 가능하게 하는 최소 단위를 지칭한다. 컬러 유기 EL 표시 장치의 경우, 서로 다른 발광을 나타내는 제1 발광 소자(52R), 제2 발광 소자(52G), 및 제3 발광 소자(52B)의 복수의 부화소의 조합에 의해 화소(52)가 구성되어 있다. 화소(52)는, 적색(R) 발광 소자와 녹색(G) 발광 소자와 청색(B) 발광 소자의 3종류의 부화소의 조합으로 구성되는 경우가 많지만, 이에 한정되지 않는다. 화소(52)는 적어도 1종류의 부화소를 포함하면 되고, 2종류 이상의 부화소를 포함하는 것이 바람직하고, 3종류 이상의 부화소를 포함하는 것이 보다 바람직하다. 화소(52)를 구성하는 부화소로서는, 예를 들면, 적색(R) 발광 소자와 녹색(G) 발광 소자와 청색(B) 발광 소자와 황색(Y) 발광 소자의 4종류의 부화소의 조합이어도 된다.Meanwhile, the pixel referred to here refers to the minimum unit that enables display of a desired color in the display area 51. In the case of a color organic EL display device, the pixel 52 is formed by a combination of a plurality of sub-pixels of the first light-emitting element 52R, the second light-emitting element 52G, and the third light-emitting element 52B that exhibit different light emission. is composed. The pixel 52 is often composed of a combination of three types of subpixels: a red (R) light-emitting element, a green (G) light-emitting element, and a blue (B) light-emitting element, but is not limited to this. The pixel 52 may include at least one type of subpixel, preferably two or more types of subpixels, and more preferably three or more types of subpixels. The sub-pixels constituting the pixel 52 include, for example, a combination of four types of sub-pixels: a red (R) light-emitting element, a green (G) light-emitting element, a blue (B) light-emitting element, and a yellow (Y) light-emitting element. You can continue.

도 11의 (B)는, 도 11의 (A)의 A-B 선에 있어서의 부분 단면 모식도이다. 화소(52)는, 기판(53) 상에 제1 전극(양극)(54)과, 정공 수송층(55)과, 적색층(56R)·녹색층(56G)·청색층(56B) 중 어느 하나와, 전자 수송층(57)과, 제2 전극(음극)(58)을 구비하는 유기 EL 소자로 구성되는 복수의 부화소를 가지고 있다. 이들 중 정공 수송층(55), 적색층(56R), 녹색층(56G), 청색층(56B), 전자 수송층(57)이 유기층에 해당한다. 적색층(56R), 녹색층(56G), 청색층(56B)은, 각각 적색, 녹색, 청색을 발하는 발광 소자(유기 EL 소자라고 기술하는 경우도 있음)에 대응하는 패턴으로 형성되어 있다.FIG. 11(B) is a partial cross-sectional schematic diagram taken along the line A-B in FIG. 11(A). The pixel 52 includes a first electrode (anode) 54 on a substrate 53, a hole transport layer 55, and one of a red layer 56R, a green layer 56G, and a blue layer 56B. and a plurality of subpixels composed of an organic EL element including an electron transport layer 57 and a second electrode (cathode) 58. Among these, the hole transport layer 55, red layer 56R, green layer 56G, blue layer 56B, and electron transport layer 57 correspond to the organic layer. The red layer 56R, green layer 56G, and blue layer 56B are formed in patterns corresponding to light-emitting elements (sometimes referred to as organic EL elements) that emit red, green, and blue colors, respectively.

또한, 제1 전극(54)은, 발광 소자마다 분리해서 형성되어 있다. 정공 수송층(55)과 전자 수송층(57)과 제2 전극(58)은, 복수의 발광 소자(52R, 52G, 52B)에 걸쳐 공통으로 형성되어 있어도 되고, 발광 소자마다 형성되어 있어도 된다. 즉, 도 11의 (B)에 나타내는 바와 같이, 정공 수송층(55)이 복수의 부화소 영역에 걸쳐 공통 층으로서 형성된 후에 적색층(56R), 녹색층(56G), 청색층(56B)이 부화소 영역마다 분리해서 형성되고, 나아가 그 위에 전자 수송층(57)과 제2 전극(58)이 복수의 부화소 영역에 걸쳐 공통 층으로서 형성되어 있어도 된다.Additionally, the first electrode 54 is formed separately for each light-emitting element. The hole transport layer 55, the electron transport layer 57, and the second electrode 58 may be formed in common across the plurality of light-emitting elements 52R, 52G, and 52B, or may be formed for each light-emitting element. That is, as shown in FIG. 11 (B), after the hole transport layer 55 is formed as a common layer over a plurality of subpixel areas, the red layer 56R, green layer 56G, and blue layer 56B are sub-pixel regions. It may be formed separately for each pixel area, and further, the electron transport layer 57 and the second electrode 58 may be formed as a common layer over a plurality of subpixel areas.

한편, 근접한 제1 전극(54) 사이에서의 쇼트를 방지하기 위해, 제1 전극(54) 사이에 절연층(59)이 설치되어 있다. 나아가, 유기 EL 층은 수분이나 산소에 의해 열화되기 때문에, 수분이나 산소로부터 유기 EL 소자를 보호하기 위한 보호층(600)이 설치되어 있다.Meanwhile, in order to prevent short circuit between adjacent first electrodes 54, an insulating layer 59 is provided between the first electrodes 54. Furthermore, since the organic EL layer is deteriorated by moisture and oxygen, a protective layer 600 is provided to protect the organic EL element from moisture and oxygen.

도 11의 (B)에서는 정공 수송층(55)이나 전자 수송층(57)이 하나의 층으로 나타내어져 있지만, 유기 EL 표시 소자의 구조에 따라, 정공 블록층이나 전자 블록층을 갖는 복수의 층으로 형성되어도 된다. 또한, 제1 전극(54)과 정공 수송층(55)의 사이에는 제1 전극(54)으로부터 정공 수송층(55)으로의 정공의 주입이 원활하게 행해지도록 하는 것이 가능한 에너지 밴드 구조를 갖는 정공 주입층을 형성해도 된다. 마찬가지로, 제2 전극(58)과 전자 수송층(57)의 사이에도 전자 주입층을 형성해도 된다.In Figure 11 (B), the hole transport layer 55 and the electron transport layer 57 are shown as one layer, but depending on the structure of the organic EL display element, they are formed as a plurality of layers having a hole blocking layer and an electron blocking layer. It's okay. Additionally, between the first electrode 54 and the hole transport layer 55, there is a hole injection layer having an energy band structure that allows smooth injection of holes from the first electrode 54 into the hole transport layer 55. may be formed. Similarly, an electron injection layer may be formed between the second electrode 58 and the electron transport layer 57.

적색층(56R), 녹색층(56G), 청색층(56B)의 각각은, 단일 발광층으로 형성되어 있어도 되고, 복수의 층을 적층함으로써 형성되어 있어도 된다. 예를 들면, 적색층(56R)을 2층으로 구성하고, 상측의 층을 적색의 발광층으로 형성하고, 하측의 층을 정공 수송층 또는 전자 블록층으로 형성해도 된다. 또는, 하측의 층을 적색의 발광층으로 형성하고, 상측의 층을 전자 수송층 또는 정공 블록층으로 형성해도 된다. 이와 같이 발광층의 하측 또는 상측에 층을 설치함으로써, 발광층에 있어서의 발광 위치를 조정하고, 광로 길이를 조정함으로써, 발광 소자의 색 순도를 향상시키는 효과가 있다.Each of the red layer 56R, green layer 56G, and blue layer 56B may be formed as a single light-emitting layer or may be formed by stacking a plurality of layers. For example, the red layer 56R may be composed of two layers, the upper layer may be formed as a red light-emitting layer, and the lower layer may be formed as a hole transport layer or an electron blocking layer. Alternatively, the lower layer may be formed as a red light-emitting layer, and the upper layer may be formed as an electron transport layer or a hole blocking layer. By providing a layer below or above the light emitting layer in this way, there is an effect of improving the color purity of the light emitting element by adjusting the light emission position in the light emitting layer and adjusting the optical path length.

한편, 여기서는 적색층(56R)의 예를 나타냈지만, 녹색층(56G)이나 청색층(56B)에서도 마찬가지의 구조를 채용해도 된다. 또한, 적층 수는 2층 이상이어도 된다. 나아가, 발광층과 전자 블록층과 같이 상이한 재료의 층이 적층되어도 되고, 예를 들면 발광층을 2층 이상 적층하는 등, 동일한 재료의 층이 적층되어도 된다.Meanwhile, although an example of the red layer 56R is shown here, a similar structure may be adopted for the green layer 56G and the blue layer 56B. Additionally, the number of stacked layers may be two or more. Furthermore, layers of different materials, such as a light-emitting layer and an electron block layer, may be stacked, or layers of the same material may be stacked, for example, by stacking two or more light-emitting layers.

이러한 전자 디바이스의 제조에 있어서, 전술한 성막 장치(1)가 적용 가능하며, 해당 제조 방법은, 기판(G)을 반송하는 반송 공정과, 반송되고 있는 기판(G)에 증착 장치(114)에 의해 각 층의 적어도 어느 하나의 층을 증착하는 증착 공정을 포함할 수 있다.In the manufacture of such electronic devices, the above-described film forming apparatus 1 is applicable, and the manufacturing method includes a transport process for transporting the substrate G, and attaching the deposition apparatus 114 to the substrate G being transported. It may include a deposition process of depositing at least one layer of each layer.

발명은 상기 실시형태에 제한되는 것이 아니고, 발명의 정신 및 범위로부터 이탈하지 않고서, 다양한 변경 및 변형이 가능하다. 따라서, 발명의 범위를 공개하기 위해 청구항을 첨부한다.The invention is not limited to the above embodiments, and various changes and modifications are possible without departing from the spirit and scope of the invention. Therefore, the claims are attached to disclose the scope of the invention.

1: 성막 장치
6: 보유지지 유닛
63: 보유지지 롤러
7: 집진 커버
71: 천정부
70: 저부
78: 중간판
111: 자세 변화 장치
100: 기판 캐리어
1: Tabernacle device
6: Holding unit
63: Retention roller
7: Dust collection cover
71: Ceiling
70: bottom
78: middle plate
111: Posture change device
100: substrate carrier

Claims (9)

기판 캐리어의 자세를 변화시키는 자세 변화 장치로서,
상기 기판 캐리어를 회동시키는 회동 수단을 구비하고,
상기 회동 수단은,
상기 기판 캐리어를 사이에 두도록 하여 배치된 복수의 롤러와,
상기 복수의 롤러 중 적어도 하나에 설치되고, 상기 롤러를 개별적으로 둘러싸는 집진 커버를 포함하고,
상기 집진 커버는,
상기 롤러의 둘레면이 노출된 천정부와,
상기 롤러의 둘레면에 대향하도록 형성된 저부와,
상기 저부로부터 이격되어 배치되고, 상기 회동 수단이 상기 기판 캐리어를 회동시킬 때, 상기 저부 측의 먼지가 상기 천정부 측으로 이동하는 것을 규제하는 규제 벽부를 포함하는 것을 특징으로 하는 자세 변화 장치.
An attitude change device that changes the attitude of a substrate carrier,
Provided with a rotation means for rotating the substrate carrier,
The means of meeting is,
a plurality of rollers disposed with the substrate carrier between them;
A dust collection cover installed on at least one of the plurality of rollers and individually surrounding the rollers,
The dust collection cover is,
A ceiling portion where the circumferential surface of the roller is exposed,
a bottom formed to face the peripheral surface of the roller;
A posture change device comprising a regulating wall portion disposed spaced apart from the bottom portion and regulating dust on the bottom side from moving toward the ceiling portion when the rotation means rotates the substrate carrier.
기판 캐리어의 자세를 변화시키는 자세 변화 장치로서,
상기 기판 캐리어를 회동시키는 회동 수단을 구비하고,
상기 회동 수단은,
상기 기판 캐리어를 사이에 두도록 하여 배치된 복수의 롤러와,
상기 복수의 롤러 중 적어도 하나에 설치되고, 상기 롤러를 개별적으로 둘러싸는 집진 커버를 포함하고,
상기 집진 커버는,
상기 롤러의 둘레면에 대향하도록 형성된 저부와,
상기 롤러의 둘레면에 대향하도록 상기 저부로부터 세워 설치된 좌측 측부 및 우측 측부와,
상기 좌측 측부로부터 상기 우측 측부로 돌출하도록 형성된 좌측 중간판과,
상기 우측 측부로부터 상기 좌측 측부로 돌출하도록 형성된 우측 중간판을 구비하는 것을 특징으로 하는 자세 변화 장치.
An attitude change device that changes the attitude of a substrate carrier,
Provided with a rotation means for rotating the substrate carrier,
The means of meeting is,
a plurality of rollers disposed with the substrate carrier between them;
A dust collection cover installed on at least one of the plurality of rollers and individually surrounding the rollers,
The dust collection cover is,
a bottom formed to face the peripheral surface of the roller;
a left side and a right side portion erected from the bottom so as to face the circumferential surface of the roller;
a left intermediate plate formed to protrude from the left side to the right side;
A posture change device comprising a right middle plate formed to protrude from the right side to the left side.
제2항에 있어서,
상기 좌측 중간판의 우측의 단부가 상기 저부를 향해 만곡하고,
상기 우측 중간판의 좌측의 단부가 상기 저부를 향해 만곡하고 있는 것을 특징으로 하는 자세 변화 장치.
According to paragraph 2,
The right end of the left intermediate plate is curved toward the bottom,
A posture change device, characterized in that the left end of the right middle plate is curved toward the bottom.
제2항에 있어서,
상기 좌측 중간판은, 상기 좌측 측부에 고정된 제1 고정부와, 상기 제1 고정부에 대해 각도가 가변인 제1 가동부를 포함하고,
상기 우측 중간판은, 상기 우측 측부에 고정된 제2 고정부와, 상기 제2 고정부에 대해 각도가 가변인 제2 가동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 자세 변화 장치.
According to paragraph 2,
The left middle plate includes a first fixed part fixed to the left side, and a first movable part whose angle is variable with respect to the first fixed part,
The right middle plate includes a second fixed part fixed to the right side, and a second movable part whose angle is variable with respect to the second fixed part.
제4항에 있어서,
상기 집진 커버의 자세가, 상기 저부가 하측인 자세인 경우, 상기 좌측 중간판과 상기 우측 중간판의 사이에 개구가 형성되도록 상기 제1 가동부와 상기 제2 가동부가 변위하고,
상기 집진 커버의 자세가, 상기 저부가 상측인 자세인 경우, 상기 개구가 폐쇄되도록 상기 제1 가동부와 상기 제2 가동부가 변위하는 것을 특징으로 하는 자세 변화 장치.
According to clause 4,
When the posture of the dust collection cover is such that the bottom is downward, the first movable part and the second movable part are displaced so that an opening is formed between the left middle plate and the right middle plate,
A posture changing device characterized in that, when the dust collection cover is in an posture where the bottom is upper, the first movable part and the second movable part are displaced so that the opening is closed.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 저부에 자석이 배치되는 것을 특징으로 하는 자세 변화 장치.
According to any one of claims 1 to 5,
A posture change device characterized in that a magnet is disposed at the bottom.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 저부 상에, 탈착 가능한 트레이가 배치되는 것을 특징으로 하는 자세 변화 장치.
According to any one of claims 1 to 5,
A posture change device, characterized in that a removable tray is disposed on the bottom.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기판 캐리어를 반송하는 복수의 반송 롤러와,
상기 복수의 반송 롤러를, 반송 위치와, 상기 회동 수단이 회동할 때에 상기 회동 수단 또는 상기 기판 캐리어와의 간섭을 회피하는 퇴피 위치의 사이에서 이동하는 이동 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 자세 변화 장치.
According to any one of claims 1 to 5,
a plurality of transport rollers for transporting the substrate carrier;
A posture change device comprising moving means for moving the plurality of conveyance rollers between a conveyance position and a retracted position that avoids interference with the rotation means or the substrate carrier when the rotation means rotates. .
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 복수의 롤러는,
상기 기판 캐리어의 일방 측에 위치하는 복수의 제1 롤러와,
상기 기판 캐리어의 타방 측에 위치하는 복수의 제2 롤러를 포함하고,
상기 복수의 제1 롤러와 상기 복수의 제2 롤러는, 상기 회동 수단에 의한 회동에 의해 위치가 서로 바뀌는 것을 특징으로 하는 자세 변화 장치.
According to any one of claims 1 to 5,
The plurality of rollers are,
A plurality of first rollers located on one side of the substrate carrier,
It includes a plurality of second rollers located on the other side of the substrate carrier,
A posture change device wherein the positions of the plurality of first rollers and the plurality of second rollers change with each other when rotated by the rotation means.
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