KR20240033162A - 안경 렌즈 및 안경 렌즈의 설계 방법 - Google Patents
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Abstract
물체측의 면으로부터 입사한 광속을 안구측의 면으로부터 출사시키고, 안구를 거쳐 망막 상의 소정의 위치 A에 수속시키는 베이스 영역과' 위치 A보다도 물체측 근처의 위치 B 또는 위치 A에서 보아 위치 B와는 반대측 근처의 위치 C에 광속을 수속시키는 성질을 가지는 복수의 디포커스 영역과, 베이스 영역과 디포커스 영역과의 경계부에 마련되고, 베이스 영역과 디포커스 영역과의 사이의 곡률의 변화를 완만하게 하는 트랜스퍼 영역을 구비하는, 안경 렌즈.
Description
본 발명은, 안경 렌즈 및 안경 렌즈의 설계 방법에 관한 것이다.
근시 등의 굴절 이상의 진행을 억제하는 안경 렌즈로서, 렌즈 상에 처방 굴절력보다 플러스의 굴절력을 가지는 복수의 섬 모양 영역이 형성된 것이 있다(예를 들면, 특허 문헌 1 참조). 특허 문헌 1에 기재된 태양의 안경 렌즈를 DIMS(Defocus Incorporated Multiple Segments) 안경 렌즈, 줄여서 DIMS이라고도 부른다. 이하, 이 섬 모양 영역을 디포커스 영역이라고 부른다.
특허 문헌 1에 개시되어 있는 구성의 안경 렌즈에 의하면, 섬 모양 영역의 부분을 통과한 광속(光束)은 망막 상보다도 직전의 위치에서 초점을 맺히도록 되어 있고, 이것에 의해 근시의 진행이 억제되게 된다.
DIMS 안경 렌즈는, 상기 이점이 있는 한편, 통상의 단초점 렌즈에 비해서, 디포커스 영역의 작용의 정도만큼, 콘트라스트가 저하하는 경향이 있다. 본 발명의 일 실시 형태는, 상기 문제를 저감하고, 공지의 DIMS 안경 렌즈와 비교하여 콘트라스트를 향상시킬 수 있는 안경 렌즈를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 제1 태양은,
물체측의 면으로부터 입사한 광속을 안구측의 면으로부터 출사시켜고, 안구를 거쳐 망막 상의 소정의 위치 A에 수속(收束)시키는 베이스 영역과,
상기 위치 A보다도 물체측 근처의 위치 B 또는 상기 위치 A에서 보아 상기 위치 B와는 반대측 근처의 위치 C에 광속을 수속시키는 성질을 가지는 복수의 디포커스 영역과,
상기 베이스 영역과 상기 디포커스 영역과의 경계부에 마련되고, 상기 베이스 영역과 상기 디포커스 영역과의 사이의 곡률의 변화를 완만하게 하는 트랜스퍼 영역을 구비하는, 안경 렌즈이다.
본 발명의 제2 태양은,
상기 트랜스퍼 영역의 폭은, 상기 디포커스 영역의 직경의 5.0% 이상 8.5% 이하인, 상기 제1 태양에 기재된 안경 렌즈이다.
본 발명의 제3 태양은,
상기 트랜스퍼 영역의 적어도 일부는, 렌즈 기재의 새그량의 변화에 의해서, 상기 베이스 영역과 상기 디포커스 영역과의 사이의 곡률의 변화를 완만하게 하도록 구성되어 있는, 상기 제1 또는 제2 태양에 기재된 안경 렌즈이다.
본 발명의 제4 태양은,
상기 트랜스퍼 영역의 폭방향의 중점의 새그량 Z는, 상기 베이스 영역과 상기 트랜스퍼 영역과의 경계부의 새그량 Z1 및 상기 트랜스퍼 영역과 상기 디포커스 영역과의 경계부의 새그량 Z2의 평균값의 30% 이상 70% 이하인, 상기 제1 태양 내지 제3 태양 중 어느 하나의 태양에 기재된 안경 렌즈이다.
본 발명의 제5 태양은,
안경 렌즈는 근시 진행 억제 렌즈인, 상기 제1 태양 내지 제4 태양 중 어느 하나의 태양에 기재된 안경 렌즈이다.
본 발명의 제6 태양은,
물체측의 면으로부터 입사한 광속을 안구측의 면으로부터 출사시키고, 안구를 거쳐 망막 상의 소정의 위치 A에 수속시키는 베이스 영역을 설계하는 공정과,
상기 위치 A보다도 물체측 근처의 위치 B 또는 상기 위치 A에서 보아 상기 위치 B와는 반대측 근처의 위치 C에 광속을 수속시키는 성질을 가지는 복수의 디포커스 영역을 설계하는 공정과,
상기 베이스 영역과 상기 디포커스 영역과의 경계부에 마련되고, 상기 베이스 영역과 상기 디포커스 영역과의 사이의 곡률의 변화를 완만하게 하는 트랜스퍼 영역을 설계하는 공정을 가지는, 안경 렌즈의 설계 방법이다.
본 발명의 일 실시 형태에 의하면, DIMS를 적용하면서, 콘트라스트를 향상시킬 수 있는 안경 렌즈를 제공하는 것이 가능하게 된다.
도 1은, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 안경 렌즈(100)의 물체측의 면의 평면도이다.
도 2는, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 안경 렌즈(100)에서의, 디포커스 영역(20) 주변의 확대 단면도이다.
도 3은, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 안경 렌즈(100)의 베이스 영역(10) 및 디포커스 영역(20)(트랜스퍼 영역(30)을 포함함) 각각의 집광 위치에서의, MTF와 트랜스퍼 영역(30)의 폭 t의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 4는, 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 안경 렌즈(100)의 디포커스 영역(20) 주변의 확대 단면도이다.
도 5의 (a)는, 본 발명의 실시예에 관한 샘플 1의 디포커스 영역(20) 주변의 새그량의 변화를 나타내는 도면이고, 도 5의 (b)는, 본 발명의 실시예에 관한 샘플 2의 디포커스 영역(20) 주변의 새그량의 변화를 나타내는 도면이다.
도 6은, 참고예에 관한 DIMS에서의, 디포커스 영역(20) 주변의 확대 단면도이다.
도 2는, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 안경 렌즈(100)에서의, 디포커스 영역(20) 주변의 확대 단면도이다.
도 3은, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 안경 렌즈(100)의 베이스 영역(10) 및 디포커스 영역(20)(트랜스퍼 영역(30)을 포함함) 각각의 집광 위치에서의, MTF와 트랜스퍼 영역(30)의 폭 t의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 4는, 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 안경 렌즈(100)의 디포커스 영역(20) 주변의 확대 단면도이다.
도 5의 (a)는, 본 발명의 실시예에 관한 샘플 1의 디포커스 영역(20) 주변의 새그량의 변화를 나타내는 도면이고, 도 5의 (b)는, 본 발명의 실시예에 관한 샘플 2의 디포커스 영역(20) 주변의 새그량의 변화를 나타내는 도면이다.
도 6은, 참고예에 관한 DIMS에서의, 디포커스 영역(20) 주변의 확대 단면도이다.
<발명자가 얻은 지견>
먼저, 발명자가 얻은 지견에 대해서 설명한다. 도 6은, 참고예에 관한 DIMS에서의, 디포커스 영역(20) 주변의 확대 단면도이다. 또한, 도 6에서는, 간편하게 하기 위해 베이스 영역(10)의 곡률을 빼고, 베이스 영역(10)을 평면으로 하여 나타내고 있다.
도 6에 나타내는 것과 같은 DIMS에서는, 베이스 영역(10) 및 디포커스 영역(20)은 기하 광학적인 현상만을 고려하여 설계되어 있기 때문에, 베이스 영역(10)과 디포커스 영역(20)과의 경계부(40)에서, 곡률이 불연속으로 변화하는 설계로 되어 있다. 그 때문에, 경계부(40)에서는, 파동 광학적인 현상(회절 작용 등)이 일어나고, 스폿 품질이 저하된다고 하는 문제가 있다. 또, 경계부(40)의 근방에서는, 렌즈 기재 상에 형성하는 하드 코트막 등의 기능성 막을 도포 등의 수법에 의해 형성하는 경우, 막 재료에 의한 액고임이 발생하여, 가공 상의 형상 오차가 생기기 쉽다고 하는 문제도 있다. 또한, 본 명세서에서, 스폿이란, 임의의 위치(집광 위치)에서의 광속을 의미하고, 스폿 품질이란, 예를 들면, 집광 위치에서의 콘트라스트의 고저를 의미한다.
본 발명자는, 앞서 설명한 것과 같은 문제에 대해서, 파동 광학적인 현상을 고려하여 예의 검토를 행하였다. 그 결과, 경계부(40)에, 베이스 영역(10)과 디포커스 영역(20)과의 사이의 곡률의 변화를 완만하게 하는 영역(이하, 트랜스퍼 영역(30)이라고 함)을 마련함으로써, 가공의 용이성을 향상시키면서, 스폿 품질을 향상시킬 수 있는 것을 찾아내었다.
[본 발명의 실시 형태의 상세]
다음으로, 본 발명의 일 실시 형태를, 이하에 도면을 참조하면서 설명한다. 또한, 본 발명은 이들 예시로 한정되는 것은 아니고, 특허 청구범위에 의해서 개시되고, 특허 청구범위와 균등의 의미 및 범위 내에서의 모든 변경이 포함되는 것이 의도된다.
또한, 본 명세서에 기재가 없는 내용은, 특허 문헌 1의 기재가 모두 기재되어 있는 것으로 한다. 만일 특허 문헌 1에 기재가 없는 내용(특히 제조 방법에 관한 내용)은, WO2020/004551호 공보의 기재가 모두 기재되어 있는 것으로 한다. 특허 문헌 1의 기재 내용과 WO2020/004551호 공보의 기재 내용에 어긋남이 있는 경우는 WO2020/004551호 공보의 기재를 우선한다.
본 명세서에서 설명하는 안경 렌즈는, 물체측의 면과 안구측의 면을 가진다. 「물체측의 면」이란, 안경 렌즈를 구비한 안경이 착용자에게 착용되었을 때에 물체측에 위치하는 표면이고, 「안구측의 면」이란, 그 반대, 즉 안경 렌즈를 구비한 안경이 착용자에게 착용되었을 때에 안구측에 위치하는 표면이다. 이 관계는, 안경 렌즈의 기초가 되는 렌즈 기재에 있어서도 적용된다. 즉, 렌즈 기재도 물체측의 면과 안구측의 면을 가진다.
<본 발명의 제1 실시 형태>
(1) 안경 렌즈
도 1은, 본 실시 형태의 안경 렌즈(100)의 물체측의 면의 평면도이다. 본 실시 형태의 안경 렌즈(100)는, 베이스 영역(10)과, 복수의 디포커스 영역(20)과, 복수의 트랜스퍼 영역(30)을 구비하고 있다. 본 실시 형태에서, 베이스 영역(10)은, 착용자의 처방 굴절력을 반영하여 설계된 굴절 영역이고, 물체측의 면으로부터 입사한 광속을 안구측의 면으로부터 출사시키고, 착용자의 안구를 거쳐 망막 상의 소정의 위치(위치 A)에 수속시키도록 설계되어 있다. 본 실시 형태에서, 디포커스 영역(20)은, 물체측의 면으로부터 입사한 광속을 안구측의 면으로부터 출사시키고, 착용자의 안구를 거쳐 위치 A보다도 물체측 근처의 위치(위치 B), 또는, 위치 A에서 보아 위치 B와는 반대측 근처의 위치(위치 C)에 광속을 수속시키는 성질을 가지도록 구성되어 있다. 본 실시 형태에서, 트랜스퍼 영역(30)은, 베이스 영역(10)과 디포커스 영역(20)과의 경계부에 마련되고, 디포커스 영역(20) 각각의 주위를 둘러싸도록 배치되어 있다.
베이스 영역(10)은, 착용자의 처방 굴절력을 실현할 수 있는 형상의 부분이고, 특허 문헌 1의 제1 굴절 영역에 대응하는 부분이다. 베이스 영역(10)의 표면 형상은, 특별히 한정되지 않는다. 베이스 영역(10)은, 구면 형상, 비구면 형상, 토릭면 형상, 또는 그들이 혼재한 형상이라도 괜찮다. 본 실시 형태에서는, 베이스 영역(10)이 구면 형상인 경우를 예시한다.
디포커스 영역(20)은, 그 영역 중의 적어도 일부가 베이스 영역(10)에 의한 집광 위치에는 집광시키지 않는 영역이다. 디포커스 영역(20)은, 특허 문헌 1의 미소 볼록부에 해당하는 부분이다. 본 실시 형태의 안경 렌즈(100)는, 특허 문헌 1에 기재된 안경 렌즈와 같이, 근시 진행 억제 렌즈이다. 특허 문헌 1의 미소 볼록부와 마찬가지로, 본 실시 형태의 복수의 디포커스 영역(20)은, 안경 렌즈(100)의 물체측의 면 또는 안구측의 면 중 적어도 일방에 형성되어 있으면 된다. 본 실시 형태에서는, 안경 렌즈(100)의 물체측의 면에만 복수의 디포커스 영역(20)을 마련한 경우를 예시한다.
디포커스 영역(20)의 표면 형상은, 특별히 한정되지 않는다. 디포커스 영역(20)은, 구면 형상, 비구면 형상, 토릭면 형상, 또는 그들이 혼재한 형상이라도 괜찮다. 본 실시 형태에서는, 디포커스 영역(20)이 구면 형상인 경우를 예시한다.
안경 렌즈(100)가 구비하는 복수의 디포커스 영역(20)의 개수는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 20개 이상 500개 이하이다.
복수의 디포커스 영역(20)은, 예를 들면, 섬 모양으로(즉, 서로 인접하지 않고 이간된 상태로) 배치되어 있다. 복수의 디포커스 영역(20)의 배치 태양은, 특별히 한정되지 않는다. 본 실시 형태에서는, 도 1에 나타내는 것과 같이, 각 디포커스 영역(20)의 중심이 정삼각형의 정점이 되도록 각각 독립하여 이산 배치되어 있는 경우(이하, 정삼각형 배치라고도 함)를 예시한다. 또한, 복수의 디포커스 영역(20)은, 각각의 일부가 서로 접하도록 배치되어 있어도 괜찮다.
특허 문헌 1의 도 10에 기재된 것과 같이, 안경 렌즈(100)의 중앙부에 디포커스 영역(20)을 형성해도 되고, 특허 문헌 1의 도 1에 기재된 것과 같이, 안경 렌즈(100)의 중앙부에 디포커스 영역(20)을 형성하지 않아도 되다. 본 실시 형태에서는, 도 1에 나타내는 것과 같이, 안경 렌즈(100)의 중앙부에 디포커스 영역(20)을 형성하지 않는 경우를 예시한다. 또한, 본 명세서에서, 안경 렌즈(100)의 중앙부란, 안경 렌즈(100)의 렌즈 중심(기하 중심, 광학 중심, 또는 센터링 중심) 및 그 근방을 의미한다. 본 실시 형태에서는, 안경 렌즈(100)의 착용자가 정면시를 하였을 때의 시선이 렌즈 중심을 통과하는 경우를 예시한다.
도 2는, 본 실시 형태의 안경 렌즈(100)에서의, 디포커스 영역(20) 주변의 확대 단면도이다. 또한, 도 2에서는, 간편하게 하기 위해 베이스 영역(10)의 곡률을 빼고, 베이스 영역(10)을 평면으로 하여 나타내고 있다. 도 2에 나타내는 것과 같이, 트랜스퍼 영역(30)은, 소정의 경사를 가지고 있고, 베이스 영역(10)과 디포커스 영역(20)과의 사이의 곡률(또는 경사)의 변화를 완만하게 하도록 구성되어 있다. 이것에 의해, 트랜스퍼 영역(30)이 마련되어 있지 않은 경우와 비교하여, 곡률의 변화가 완만하게 되기 때문에, 스폿 품질의 향상을 기대할 수 있다. 본 실시 형태에서는, 트랜스퍼 영역(30)이 마련되어 있지 않다고 가정했을 경우의 베이스 영역(10)과 디포커스 영역(20)과의 경계부(40)로부터, 내외 등폭(等幅)으로 트랜스퍼 영역(30)이 마련되어 있는 경우를 예시한다.
도 3은, 본 실시 형태의 안경 렌즈(100)의 베이스 영역(10) 및 디포커스 영역(20)(트랜스퍼 영역(30)을 포함함) 각각의 집광 위치에서의, MTF(Modulation Transfer Function)와, 트랜스퍼 영역(30)의 폭 t의 관계를 나타내는 그래프이다. 도 3의 좌측 상부의 그래프는, 베이스 영역(10)의 집광 위치에서의 저주파(CPD(Cycle Per Degree)=4, 시력 0.15 상당)의 MTF, 도 3의 우측 상부의 그래프는, 디포커스 영역(20)의 집광 위치에서의 저주파(CPD=4, 시력 0.15 상당)의 MTF, 도 3의 좌측 하부의 그래프는, 베이스 영역(10)의 집광 위치에서의 고주파(CPD=15, 시력 0.5 상당)의 MTF, 도 3의 우측 하부의 그래프는, 디포커스 영역(20)의 집광 위치에서의 고주파(CPD=15, 시력 0.5 상당)의 MTF를 나타내고 있다. 이하, MTF의 값에 의해서, 스폿 품질(집광 위치에서의, 콘트라스트의 고저)을 평가하는 것으로 한다.
도 3의 그래프를 산출할 때의 디포커스 영역(20)의 도수(베이스 영역(10)과의 상대 도수)는 3.5D, 직경 d는 1.0mm로 하였다. 또한, 본 명세서에서, 디포커스 영역(20)의 직경 d란, 트랜스퍼 영역(30)이 마련되어 있지 않다고 가정했을 경우의 베이스 영역(10)과 디포커스 영역(20)과의 경계부(40)의 간격으로부터 산출하는 것으로 한다. 안경 렌즈(100)의 제품 자체로부터 디포커스 영역(20)의 직경 d를 구하는 경우, 디포커스 영역(20)의 중심 부근의 곡률(근사 곡률)과 베이스 영역(10)의 곡률과의 교점을 경계부(40)로 하면 된다.
도 3의 좌측 상부, 좌측 하부의 그래프에 나타내는 것과 같이, 베이스 영역(10)의 집광 위치에서의 MTF는, 트랜스퍼 영역(30)의 폭 t가 크게 되면, 한번 향상하고 나서 저하하는 경향을 나타내고 있다. 트랜스퍼 영역(30)의 폭 t가 너무 큰 경우, 베이스 영역(10)의 면적이 축소된 것으로 되기 때문에, MTF는 저하한다. 이것에 대해서, 트랜스퍼 영역(30)의 폭 t를 소정의 범위로 제어함으로써, 곡률의 변화를 완만하게 한 것에 의한 MTF 향상의 효과가, 베이스 영역(10)의 면적 축소에 의한 MTF 저하를 상회하기 때문에, MTF를 향상시킬 수 있다.
도 3의 우측 상부, 우측 하부의 그래프에 나타내는 것과 같이, 디포커스 영역(20)(트랜스퍼 영역(30)을 포함함)의 집광 위치에서의 MTF는, 트랜스퍼 영역(30)의 폭 t가 클수록 향상되고 있다. 이것은, 트랜스퍼 영역(30)의 폭 t가 크게 되면, 디포커스 영역(20)으로 볼 수 있는 영역의 면적이 확대되기 때문이다.
저주파의 MTF를 향상시키는 관점에서는, 트랜스퍼 영역(30)의 폭 t는, 예를 들면, 디포커스 영역(20)의 직경 d의 5.0% 이상 8.5% 이하인 것이 바람직하다. 도 3에 좌측 상부의 그래프에 나타내는 것과 같이, 폭 t가 직경 d의 5.0% 미만(t<0.05mm)에서는, 폭 t가 증가함에 따라서, MTF는 단조롭게 증가하고 있기 때문에, 트랜스퍼 영역(30)의 가공의 용이성을 향상시키는 관점으로부터도, 폭 t를 직경 d의 5.0% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 또, 도 3의 좌측 상부의 그래프에 나타내는 것과 같이, 폭 t가 직경 d의 8.5%를 초과하면(t>0.085mm), 트랜스퍼 영역(30)을 마련하지 않은(t=0mm) 경우와 비교하여, 베이스 영역(10)의 면적 축소의 영향에 의해, MTF가 저하할 가능성이 있다. 이것에 대해서, 폭 t를 직경 d의 8.5% 이하로 함으로써, 트랜스퍼 영역(30)을 마련하지 않는 경우와 비교하여, MTF는 저하하지 않는다. 즉 리스크 없이, 디포커스 영역(20)의 집광 위치에서의 MTF와 가공성을 향상시키는 것이 가능하게 된다.
저주파의 MTF 및 고주파의 MTF 모두를 향상시키는 관점에서는, 트랜스퍼 영역(30)의 폭 t는, 예를 들면, 디포커스 영역(20)의 직경 d의 5.0% 이상 7.0% 이하인 것이 바람직하다. 도 3의 좌측 하부의 그래프에 나타내는 것과 같이, 폭 t가 직경 d의 7.0%를 초과하면(t>0.07mm), 트랜스퍼 영역(30)을 마련하지 않는 경우와 비교하여, 고주파의 MTF가 저하할 가능성이 있기 때문이다.
도 2에서는, 트랜스퍼 영역(30)이 직선적인 경사로 되어 있는(즉, 트랜스퍼 영역(30)의 새그량이 일차 함수적으로 변화하는) 경우를 예시하고 있지만, 트랜스퍼 영역(30)의 경사는 R를 가지고 있어도 괜찮다. 트랜스퍼 영역(30)의 경사에 R를 붙임(곡면 모양으로 함)으로써, 베이스 영역(10)과 디포커스 영역(20)과의 사이의 곡률의 변화를 보다 완만하게 할 수 있을 가능성이 있다. 스폿 품질을 효율적으로 향상시키는 관점에서는, 예를 들면, 트랜스퍼 영역(30)의 폭방향의 중점의 새그량 Z는, 베이스 영역(10)과 트랜스퍼 영역(30)과의 경계부(41)의 새그량 Z1 및 트랜스퍼 영역(30)과 디포커스 영역(20)과의 경계부(42)의 새그량 Z2의 평균값(즉, (Z1＋Z2)/2)의 30% 이상 70% 이하인 것이 바람직하다. 또한, 본 실시 형태에서는, 베이스 영역(10)의 곡률로부터 100% 이상 곡률이 변화한 개소를 경계부(41), 디포커스 영역(20)의 곡률로부터 100% 이상 곡률이 변화한 개소를 경계부(42)로 해도 괜하찮다.
안경 렌즈(100)에서, 반드시 모든 디포커스 영역(20)의 주위에 트랜스퍼 영역(30)을 마련하지 않아도 괜찮다. 스폿 품질을 효율적으로 향상시키는 관점에서는, 예를 들면, 안경 렌즈(100)의 물체측의 면을 평면시 하였을 때, 렌즈 중심으로부터 직경 20mm의 원주 내에 존재하는 디포커스 영역(20) 가운데, 70% 이상(보다 바람직하게는 80% 이상, 보다 더 바람직하게는 90% 이상)의 디포커스 영역(20)의 주위에 트랜스퍼 영역(30)이 마련되어 있는 것이 바람직하다.
안경 렌즈(100)를 구성하는 렌즈 기재로서는, 일반적으로 사용되는 각종 렌즈 기재를 사용할 수 있다. 렌즈 기재는, 예를 들면, 플라스틱 렌즈 기재 또는 글래스 렌즈 기재로 해도 괜찮다. 글래스 렌즈 기재는, 예를 들면 무기 글래스제의 렌즈 기재로 해도 괜찮다. 렌즈 기재로서는, 경량으로 깨지기 어렵다고 하는 관점으로부터, 플라스틱 렌즈 기재가 바람직하다. 플라스틱 렌즈 기재로서는, (메타) 아크릴 수지를 비롯한 스틸렌 수지, 폴리카보네이트 수지, 아릴 수지, 디에틸렌글리콜 비스 아릴 카보네이트 수지(CR-39) 등의 아릴 카보네이트 수지, 비닐 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리에테르 수지, 이소시아네이트 화합물과 디에틸렌 글리콜 등의 히드록시 화합물과의 반응으로 얻어진 우레탄 수지, 이소시아네이트 화합물과 폴리티올l 화합물을 반응시킨 티오 우레탄 수지, 분자 내에 1개 이상의 디술피드 결합을 가지는 (티오) 에폭시 화합물을 함유하는 경화성 조성물을 경화시킨 경화물(일반적으로 투명 수지라고 칭하여짐)을 들 수 있다. 경화성 조성물은, 중합성 조성물이라고 칭해도 상관없다. 렌즈 기재로서는, 염색되어 있지 않은 것(무색 렌즈)를 이용해도 되고, 염색되어 있는 것(염색 렌즈)를 이용해도 된다. 렌즈 기재의 두께 및 직경은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 두께(중심 두께)는 1~30mm 정도로 해도 되고, 직경은 50~100mm 정도로 해도 된다. 렌즈 기재의 굴절률은, 예를 들면, 1.60~1.75 정도로 해도 된다. 다만 렌즈 기재의 굴절률은, 이 범위로 한정되는 것이 아니고, 이 범위 내라도, 이 범위로부터 상하로 떨어져 있어도 괜찮다. 본 명세서에서, 굴절률이란, 파장 500nm의 광에 대한 굴절률을 말하는 것으로 한다.
안경 렌즈(100)를 구성하는 렌즈 기재의 적어도 일방의 주면 상에, 수지를 포함하는 하드 코트막이 형성되어 있어도 괜찮다. 이 때, 트랜스퍼 영역(30)의 경사의 적어도 일부가, 이 하드 코트막에 의해서 형성되어 있어도 괜찮다. 그렇지만, 트랜스퍼 영역(30)의 가공 정밀도를 향상시키는 관점에서는, 트랜스퍼 영역(30)의 적어도 일부는, 렌즈 기재의 새그량의 변화에 의해서, 베이스 영역(10)과 디포커스 영역(20)과의 사이의 곡률의 변화를 완만하게 하도록 구성되어 있는 것이 바람직하다. 하드 코트막만에 의해서, 트랜스퍼 영역(30)의 경사를 형성하려고 한 경우, 경계부(40)에서 액고임 등이 발생하기 쉽고, 트랜스퍼 영역(30)의 폭 t를 소정 범위내로 제어하는 것이 곤란하게 될 가능성이 있다. 이것에 대해, 렌즈 기재에 의해서, 트랜스퍼 영역(30)의 경사의 적어도 일부를 미리 형성해 두면, 그 위에 하드 코트막을 형성하였다고 해도, 액고임 등의 발생을 억제하고, 트랜스퍼 영역(30)의 폭 t를 소정 범위 내로 제어하기 쉬워진다. 즉, 렌즈 기재 및 하드 코트막에 의해서, 트랜스퍼 영역(30)의 경사를 정밀도 좋게 형성할 수 있다.
(2) 안경 렌즈의 설계 방법
본 발명은, 안경 렌즈(100)의 설계 방법에도 적용 가능하다. 본 실시 형태의 안경 렌즈(100)의 설계 방법은, 물체측의 면으로부터 입사한 광속을 안구측의 면으로부터 출사시키고, 안구를 거쳐 망막 상의 소정의 위치(위치 A)에 수속시키는 베이스 영역(10)을 설계하는 공정과, 위치 A보다도 물체측 근처의 위치(위치 B), 또는, 상기 위치 A에서 보아 상기 위치 B와는 반대측 근처의 위치(위치 C)에 광속을 수속시키는 성질을 가지는 복수의 디포커스 영역(20)을 설계하는 공정과, 베이스 영역(10)과 디포커스 영역(20)과의 경계부(40)에 마련되고, 베이스 영역(10)과 디포커스 영역(20)과의 사이의 곡률의 변화를 완만하게 하는 트랜스퍼 영역(30)을 설계하는 공정을 가지는 안경 렌즈(100)의 설계 방법이다. 각 공정에서 설계하는 베이스 영역(10), 디포커스 영역(20), 및 트랜스퍼 영역(30)의 상세한 것은, 앞서 설명한 '(1) 안경 렌즈'와 기재 내용이 중복되기 때문에 생략한다.
<본 발명의 제2 실시 형태>
이어서, 본 발명의 제2 실시 형태에 대해서, 제1 실시 형태와 다른 점을 중심으로 설명한다. 제1 실시 형태에서 설명한 요소와 실질적으로 동일한 요소에는, 동일한 부호를 붙이고 그 설명을 생략한다.
본 발명은, 근시 진행 억제 렌즈 뿐만이 아니라, 원시 진행 억제 렌즈에도 적용 가능하다. 도 4는, 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 안경 렌즈(100)의 디포커스 영역(20) 주변의 확대 단면도이다. 또한, 도 4에서는, 간편하게 하기 위해 베이스 영역(10)의 곡률을 빼고, 베이스 영역(10)을 평면으로 하여 나타내고 있다. 도 4에 나타내는 것과 같이, 본 실시 형태의 디포커스 영역(20)은, 미소 오목부로 되어 있다. 본 실시 형태에서도, 앞서 설명한 제1 실시 형태와 마찬가지로, 디포커스 영역(20)의 주위에는 트랜스퍼 영역(30)이 마련되어 있고, 트랜스퍼 영역(30)은 베이스 영역(10)과 디포커스 영역(20)과의 사이의 곡률의 변화를 완만하게 하도록 구성되어 있다. 이것에 의해, 제1 실시 형태와 마찬가지로, 스폿 품질을 향상시킬 수 있다.
본 실시 형태의 트랜스퍼 영역(30)의 폭 t는, 제1 실시 형태와 마찬가지 이유에 의해, 디포커스 영역(20)의 직경 d의 5.0% 이상 8.5% 이하인 것이 바람직하다. 또, 제1 실시 형태와 마찬가지의 이유에 의해, 본 실시 형태의 트랜스퍼 영역(30)의 폭방향의 중점의 새그량 Z는, 베이스 영역(10)과 트랜스퍼 영역(30)과의 경계부(41)의 새그량 Z1 및 트랜스퍼 영역(30)과 디포커스 영역(20)과의 경계부(42)의 새그량 Z2의 평균값(즉, (Z1＋Z2)/2)의 30% 이상 70% 이하인 것이 바람직하다. 또, 제1 실시 형태와 마찬가지의 이유에 의해, 본 실시 형태의 트랜스퍼 영역(30)의 적어도 일부는, 렌즈 기재의 새그량의 변화에 의해서, 베이스 영역(10)과 디포커스 영역(20)과의 사이의 곡률의 변화를 완만하게 하도록 구성되어 있는 것이 바람직하다.
<본 발명의 다른 실시 형태>
이상, 본 발명의 실시 형태에 대해서 구체적으로 설명했지만, 본 발명은 상술의 실시 형태로 한정되는 것이 아니고, 그 요지를 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지 변경 가능하다.
예를 들면, 앞서 설명한 실시 형태에서는, 트랜스퍼 영역(30)의 적어도 일부는, 렌즈 기재의 새그량의 변화에 의해서, 베이스 영역(10)과 디포커스 영역(20)과의 사이의 곡률의 변화를 완만하게 하도록 구성되어 있는 경우에 대해서 설명했지만, 렌즈 기재의 새그량을 변화시키지 않고, 하드 코트막만에 의해서, 트랜스퍼 영역(30)의 경사를 형성해도 된다. 이 경우, 렌즈 기재를 형성하는 금형을, 참고예에 관한 것으로부터 변경할 필요가 없다. 그렇지만, 트랜스퍼 영역(30)의 가공 정밀도를 향상시키는 관점에서는, 앞서 설명한 실시 형태와 같이, 렌즈 기재에 의해서, 트랜스퍼 영역(30)의 경사의 적어도 일부를 형성하는 것이 바람직하다.
<실시예>
다음으로, 본 발명에 관한 실시예를 설명한다. 이들 실시예는 본 발명의 일례로서, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되지 않는다.
이하의 조건에 의해, 안경 렌즈(100)의 샘플 1을 설계하였다. 베이스 영역(10) 및 디포커스 영역(20)은 구면 형상, 트랜스퍼 영역(30)의 경사는 직선으로 하였다. 도 5의 (a)에, 샘플 1의 디포커스 영역(20) 주변의 새그량의 변화를 나타낸다.
렌즈 기재의 굴절률：1.6D
베이스 영역(10)의 도수：1D
디포커스 영역(20)의 도수(베이스 영역(10)과의 상대 도수)：3.5D
디포커스 영역(20)의 직경 d：1.0mm
트랜스퍼 영역(30)의 폭 t：0.08mm
또, 안경 렌즈(100)의 샘플 2는, 트랜스퍼 영역(30)의 폭 t를 0.065mm로 한 이외는, 샘플 1과 동일하게 설계하였다.
또, 안경 렌즈(100)의 샘플 3은, 트랜스퍼 영역(30)의 폭 t를 0.04mm로 한 이외는, 샘플 1과 동일하게 설계하였다. 도 5의 (b)에, 샘플 3의 디포커스 영역(20) 주변의 새그량의 변화를 나타낸다.
또, 안경 렌즈(100)의 샘플 4는, 트랜스퍼 영역(30)을 마련하지 않은 이외는, 샘플 1과 동일하게 설계하였다.
샘플 1~4에 대해서, 베이스 영역(10) 및 디포커스 영역(20) 각각의 집광 위치에서의 MTF를 산출하였다. 베이스 영역(10)의 집광 위치에서의 저주파(CPD=4, 시력 0.15 상당)의 MTF는, 샘플 1이 73.1%, 샘플 2가 73.2%, 샘플 3이 73.2%, 샘플 4가 73.1%였다. 또, 베이스 영역(10)의 집광 위치에서의 고주파(CPD=15, 시력 0.5 상당)의 MTF는, 샘플 1이 20.2%, 샘플 2가 20.3%, 샘플 3이 20.4%, 샘플 4가 20.3%였다. 디포커스 영역(20)의 집광 위치에서의 저주파(CPD=4, 시력 0.15 상당)의 MTF는, 샘플 1이 50.5%, 샘플 2가 49.6%, 샘플 3이 49.0%, 샘플 4가 48.3%였다. 또, 디포커스 영역(20)의 집광 위치에서의 고주파(CPD=15, 시력 0.5 상당)의 MTF는, 샘플 1이 18.7%, 샘플 2가 18.5%, 샘플 3이 18.3%, 샘플 4가 18.1%였다. 즉, 트랜스퍼 영역(30)의 부여에 의해, 베이스 영역(10)의 집광 위치에서의 MTF의 저하는 (샘플 1에서 고주파가 0.1% 떨어지는 이외에는) 거의 없고, 디포커스 영역(20)의 집광 위치에서의 MTF의 향상어 얻어지고 있는 것을 확인하였다.
이상으로부터, 트랜스퍼 영역(30)을 마련함으로써, 스폿 품질을 향상시킬 수 있는 것을 확인하였다. 또한, 렌즈 기재 상에 하드 코트막을 형성하는 경우, 하드 코트막에 의해서, 트랜스퍼 영역(30)의 폭 t가, 렌즈 기재의 설계값 보다도 커질 가능성이 있기 때문에, 샘플 3과 같이, 트랜스퍼 영역(30)의 폭 t를 작게(예를 들면, 디포커스 영역(20)의 직경 d의 5.0% 미만으로) 설계하는 것이 바람직한 경우도 있다.
10 : 베이스 영역
20 : 디포커스 영역
30 : 트랜스퍼 영역
40 : (베이스 영역(10)과 디포커스 영역(20)과의) 경계부
41 : (베이스 영역(10)과 트랜스퍼 영역(30)과의) 경계부
42 : (트랜스퍼 영역(30)과 디포커스 영역(20)과의) 경계부
100 : 안경 렌즈
20 : 디포커스 영역
30 : 트랜스퍼 영역
40 : (베이스 영역(10)과 디포커스 영역(20)과의) 경계부
41 : (베이스 영역(10)과 트랜스퍼 영역(30)과의) 경계부
42 : (트랜스퍼 영역(30)과 디포커스 영역(20)과의) 경계부
100 : 안경 렌즈
Claims (6)
- 물체측의 면으로부터 입사한 광속을 안구측의 면으로부터 출사시키고, 안구를 거쳐 망막 상의 소정의 위치 A에 수속시키는 베이스 영역과,
상기 위치 A보다도 물체측 근처의 위치 B 또는 상기 위치 A에서 보아 상기 위치 B와는 반대측 근처의 위치 C에 광속을 수속시키는 성질을 가지는 복수의 디포커스 영역과,
상기 베이스 영역과 상기 디포커스 영역과의 경계부에 마련되고, 상기 베이스 영역과 상기 디포커스 영역과의 사이의 곡률의 변화를 완만하게 하는 트랜스퍼 영역을 구비하는, 안경 렌즈. - 청구항 1에 있어서,
상기 트랜스퍼 영역의 폭은, 상기 디포커스 영역의 직경의 5.0% 이상 8.5% 이하인, 안경 렌즈. - 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 트랜스퍼 영역의 적어도 일부는, 렌즈 기재의 새그량의 변화에 의해서, 상기 베이스 영역과 상기 디포커스 영역과의 사이의 곡률의 변화를 완만하게 하도록 구성되어 있는, 안경 렌즈. - 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 트랜스퍼 영역의 폭방향의 중점의 새그량 Z는, 상기 베이스 영역과 상기 트랜스퍼 영역과의 경계부의 새그량 Z1 및 상기 트랜스퍼 영역과 상기 디포커스 영역과의 경계부의 새그량 Z2의 평균값의 30% 이상 70% 이하인, 안경 렌즈. - 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 하나의 항에 있어서,
안경 렌즈는 근시 진행 억제 렌즈인, 안경 렌즈. - 물체측의 면으로부터 입사한 광속을 안구측의 면으로부터 출사시키고, 안구를 거쳐 망막 상의 소정의 위치 A에 수속시키는 베이스 영역을 설계하는 공정과,
상기 위치 A보다도 물체측 근처의 위치 B 또는 상기 위치 A에서 보아 상기 위치 B와는 반대측 근처의 위치 C에 광속을 수속시키는 성질을 가지는 복수의 디포커스 영역을 설계하는 공정과,
상기 베이스 영역과 상기 디포커스 영역과의 경계부에 마련되고, 상기 베이스 영역과 상기 디포커스 영역과의 사이의 곡률의 변화를 완만하게 하는 트랜스퍼 영역을 설계하는 공정을 가지는, 안경 렌즈의 설계 방법.
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