KR20240028944A - 처리 시스템 및 처리 방법 - Google Patents
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Abstract
유기 불소 화합물의 무독화 처리를 원활하게 실시하는 것이다. PFAS 무독화 시스템(1)은, 반도체 제조 장치(100)로부터 배출된, PFAS를 포함하는 폐액을 농축하는 농축기(11)와, 농축기(11)에 의해 농축된 농축액을 농황산을 포함하는 액체로 분해 및 증발시키는 황산 처리조(12)와, 황산 처리조(12)에 의해 증발된 가스를 액화하여 포집하는 냉각 장치(13)를 구비한다.
Description
본 개시는 처리 시스템 및 처리 방법에 관한 것이다.
특허 문헌 1에는, 유기 불소 화합물 등의 함유 비율을 저감시키는 처리 장치와, 아니온 교환체를 포함하는 이온 교환체를 충전한 아니온 교환동과, 아니온 교환동에 유통한 재생액을 분해 처리하는 분해 장치를 포함하는 배수 처리 시스템이 기재되어 있다.
본 개시는, 유기 불소 화합물의 무독화 처리를 원활하게 실시할 수 있는 처리 시스템 및 처리 방법을 제공한다.
본 개시의 일측면에 따른 처리 시스템은, 반도체 제조 장치로부터 배출된, 유기 불소 화합물을 포함하는 폐액을 농축하는 농축부와, 농축부에 의해 농축된 농축액을 농황산을 포함하는 액체로 분해 및 증발시키는 약액 처리부와, 약액 처리부에 의해 증발된 가스를 액화하여 포집하는 포집부를 구비한다.
본 개시에 따르면, 유기 불소 화합물의 무독화 처리를 원활하게 실시할 수 있다.
도 1은 본 실시 형태에 따른 PFAS 무독화 시스템의 구성도이다.
도 2는 황산 처리조 및 냉각 장치의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 3은 황산 처리조 및 냉각 장치의 다른 예를 나타내는 모식도이다.
도 4는 PFAS 무독화 처리를 나타내는 순서도이다.
도 5는 변형예에 따른 PFAS 무독화 시스템의 구성도이다.
도 6은 변형예에 따른 황산 처리조의 모식도이다.
도 7은 황산 처리조에 있어서의 제 1 처리 이미지를 나타내는 도이다.
도 8은 황산 처리조에 있어서의 제 2 처리 이미지를 나타내는 도이다.
도 9는 황산 처리조에 있어서의 제 3 처리 이미지를 나타내는 도이다.
도 2는 황산 처리조 및 냉각 장치의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 3은 황산 처리조 및 냉각 장치의 다른 예를 나타내는 모식도이다.
도 4는 PFAS 무독화 처리를 나타내는 순서도이다.
도 5는 변형예에 따른 PFAS 무독화 시스템의 구성도이다.
도 6은 변형예에 따른 황산 처리조의 모식도이다.
도 7은 황산 처리조에 있어서의 제 1 처리 이미지를 나타내는 도이다.
도 8은 황산 처리조에 있어서의 제 2 처리 이미지를 나타내는 도이다.
도 9는 황산 처리조에 있어서의 제 3 처리 이미지를 나타내는 도이다.
이하, 실시 형태에 있어서, 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 설명에 있어서, 동일 요소 또는 동일 기능을 가지는 요소에는 동일한 부호를 교부하여, 중복되는 설명을 생략한다.
본 실시 형태에 따른 처리 시스템은, 도 1에 나타나는 바와 같이, 반도체 제조 장치(100)로부터 배출된, PFAS를 무독화하는 PFAS 무독화 시스템(1)이다. PFAS란, 유기 불소 화합물인 퍼플루오로 알킬 물질 및 폴리플루오로 알킬 화?d물(PFAS : Per-and PolyFluoroAlkyl Substances)이다.
PFAS란, 적어도 1 개 이상의 -CF2- 또는 -CF3의 지방족 분자를 포함하는 화합물이며, 테플론과 같은 유기 고분자 화합물(폴리머)도 포함한다. 퍼플루오로 옥탄 술폰산(PFOS : Per Fluoro Octane Sulfonic Acid) 및 퍼플루오로 옥탄산(PFOA : Per Fluoro Octanoic Acid)은, PFAS의 일종이다. PFOS는, 예를 들면 폼 소화제, 도금액, 항공기 작동유, 발수제, 플로어 왁스 등에 포함되어 있다. 또한, PFOA는, 예를 들면 섬유, 의료, 전자 기판, 자동차, 식품 포장지, 석재, 플로어링, 피혁 등에 포함되어 있다. 반도체의 제조 공정에 있어서는, 예를 들면 논폴리머의 PFAS가 포토레지스트로 이용되고 있다. 또한, 폴리머의 PFAS가, 반도체 제조 장치의 배관, 밸브, 펌프 등의 접액 부재, 포토레지스트, 반사 방지막 등에 이용되고 있다.
PFAS는 자연계에 있어서 안정되어 있어, 분해되기 어렵다. 이 때문에, PFAS는 잔류성이 높아, 생체 내에 축적되기 쉬운 성질이 있어, 유해성이 높다. 본 실시 형태에 따른 PFAS 무독화 시스템(1)은, 반도체 제조 장치(100)로부터 배출되는 PFAS를 무독화하는 것에 의해, PFAS가 외부로 배출되는 것을 억제하는 시스템이다.
도 1에 나타나는 바와 같이, PFAS 무독화 시스템(1)은 농축기(11)(농축부)와, 황산 처리조(12)(약액 처리부)와, 냉각 장치(13)(포집부)와, 무독화 장치(14)(무독화부)를 포함하여 구성되어 있다. 또한, 본 실시 형태에서는, PFAS 무독화 시스템(1)이 복수의 장치를 포함하는 장치군인 것으로서 설명하지만, PFAS 무독화 시스템(1)은 하나의 장치로 구성되어 있어도 된다. 또한, 반도체 제조 장치(100)는 리소그래피 장치(111)와, 세정 장치(112)와, 에칭 장치(113)와, 성막 장치(114)를 포함하여 구성되어 있다. 반도체 제조 장치(100)의 각 구성은, 실시하는 처리에 수반하여, PFAS를 포함한 물질을 배출한다. 또한, PFAS 무독화 시스템(1)을 구성하는 각 처리부는, 동일한 공간(장소)에 마련되어 있어도 되며, 동일한 공간에 마련되어 있지 않아도 된다. 예를 들면, 각 처리부는, 리소그래피 장치(111), 세정 장치(112), 혹은 에칭 장치(113)가 설치되어 있는 건물 내에 마련되어 있어도 되며, 해당 건물의 밖 또는 인접한 공간에 마련되어 있어도 된다. 각 처리부는, 상기 건물 내와 건물 외에서 서로 나뉘어 설치되어 있어도 된다. 또한, 농축기(11), 황산 처리조(12), 냉각 장치(13) 및 무독화 장치(14) 중 미사용인 것은, 상시 설치되어 있지 않아도 된다.
리소그래피 장치(111)는 도포·현상 장치와, 노광 장치를 포함하여 구성되어 있다. 또한, 리소그래피 장치(111)는, 노광 장치를 포함하고 있지 않아도 되며, 도포·현상 장치 단체(單體)로 구성되어 있어도 된다. 또한, 리소그래피 장치(111)는, 도포 장치 또는 현상 장치 단체로 구성되어 있어도 된다. 노광 장치는, 레지스트막의 노광 처리를 행한다. 구체적으로, 액침 노광 등의 방법에 의해 레지스트막(감광성 피막)의 노광 대상 부분에 에너지선을 조사한다. 도포·현상 장치는, 노광 장치에 의한 노광 처리의 전에, 기판의 표면에 레지스트막을 형성하는 처리를 행하고, 노광 처리 후에 레지스트막의 현상 처리를 행한다. 이러한 리소그래피 장치(111)로부터 배출되는 액체 또는 기체에는, PFAS가 포함되어 있다. 예를 들면, 레지스트 폐액, 현상 처리에 따른 알칼리 폐액, 레지스트 박리에 따른 산 폐액, 유기 배기, 열 배기, 승화물의 고화물 등에는 PFAS가 포함되어 있다. 본 실시 형태에서는, 레지스트 폐액에 포함되는 PFAS에 대하여 주로 설명한다. 레지스트 폐액에 포함되는 PFAS의 예로서, 예를 들면 광산발생재(PAG : Photo Acid Generator)가 있다. 리소그래피 장치(111)로부터 배출되는 레지스트 폐액은, PFAS 무독화 시스템(1)의 농축기(11)로 도입된다.
세정 장치(112)는, 기판에 대한 세정 처리를 행한다. 세정 장치(112)는, 예를 들면 레지스트 등의 유기물의 제거에는 H2O2와 황산을 혼합한 SPM : Sulfuric Acid Hydrogen Peroxide Mixture를 이용한다. 세정 장치(112)는, 금속의 제거에는 H2O2와 염산을 혼합한 혼합 수용액(SC2 : Standard Clean 2)을 이용하고, 파티클의 제거에는 H2O2와 암모니아를 혼합한 혼합 수용액(SC1)을 이용한다. 또한, 농황산만도 폐액 처리 중에 나온다. 세정 장치(112)는, PFAS를 포함한 SPM 폐액을 배출한다. 세정 장치(112)로부터 배출되는 SPM 폐액 및 농황산은, 황산 처리조(12)로 도입된다. 또한, 세정 장치(112)는, PFAS를 포함한 산 폐기를 배출한다. 세정 장치(112)로부터 배출되는 산 폐기는, 무독화 장치(14)로 도입된다.
에칭 장치(113)는, 형성된 레지스트막의 패턴을 따라, 산화막·박막을 깎아내는 에칭 처리를 행한다. 에칭 장치(113)는, PFAS를 포함한 배기 가스를 배출한다. 에칭 장치(113)로부터 배출되는 배기 가스는, 무독화 장치(14)로 도입된다.
성막 장치(114)는, 기판에 배선막 및 절연막을 형성한다. 성막 장치(114)는, 각종 프로세스 가스(PFAS 함유 또는 비함유 가스)를 이용하고 있고, 그 배기 가스를 배출한다. 성막 장치(114)로부터 배출되는 배기 가스는, 무독화 장치(14)로 도입된다.
농축기(11)는, 반도체 제조 장치(100)의 리소그래피 장치(111)로부터 배출된 PFAS를 포함하는 레지스트 폐액을 농축한다. 즉, 농축기(11)는, PFAS를 포함하는 폐액으로서, 리소그래피 장치(111)에 있어서의 기판 처리 폐액을 농축한다. 농축기(11)는, 예를 들면 한외 여과막 또는 역침투막 등을 이용하여, 레지스트 폐액을 농축하고, 또한 레지스트 폐액에 포함되는 용매를 분리시킨다. 레지스트 폐액의 농축액은, 폴리머를 포함하는 농축액이므로, 점도가 높아져 있다. 레지스트 폐액의 농축액은, 황산 처리조(12)로 도입된다. 또한, 리소그래피 장치(111)로부터 배출된 알칼리 폐액이 농축기(11)에 의해 농축되는 경우에는, 알칼리 폐액이 중화 후에 역침투막에 도입되어도 된다.
레지스트 폐액으로부터 분리된 용매는, 리사이클 솔벤트로서 반도체 제조 장치(100)에 있어서의 컵 세정 등에 이용되어도 되고, 솔벤트 회수 업자에게 회수되어도 된다. 종래의 경우, 솔벤트 회수 업자가 레지스트 폐액으로부터 재생 용매를 정제하고자 할 때에 성분 분석을 하면 레지스트 메이커의 기밀 물질을 포함한 폐액도 회수되어 버릴 가능성이 있다. 이 점, 본 실시 형태와 같이 농축기(11)를 통한 레지스트 폐액은, 고형분 성분이 농축액에 포함되기 때문에, 솔벤트 회수 업자에 대한 기밀 누설을 방지할 수 있다.
황산 처리조(12)는, 농축기(11)에 의해 농축된 농축액을, SPM 폐액으로 분해 및 증발시킨다. 즉, 황산 처리조(12)는, 세정 장치(112)의 SPM 폐액을 이용한다. SPM 폐액 중에 있어서는, 용매 및 폴리머는, 산화 반응 또는 탈수 반응의 분해 반응이 생겨, 저분자화된다(저점도화된다). 이 때, SPM 폐액은 발열 반응에 의해 온도가 높아진다(SPM 폐액 중의 농황산의 온도가 높아진다). PFAS는 기본적으로 분해되지 않지만, PAG 등의 성분은 비점이 낮기 때문에 고온의 SPM 폐액에 의해 증발한다(특히 SPM 폐액 중에 포함되는 농황산의 효과로 증발한다). 또한, 그 때에 PFAS도 함께 증발한다. 종래, SPM 폐액은, 발포의 억제를 위하여 카탈레이스를 첨가하여 폐액 처리를 행하고 있는데, 황산 처리조(12)에서 유기물과 반응시켜 H2O2의 성분을 전부 사용하여 탈기하면, 하류의 황산 폐액에서 발포하지 않아 처리가 용이해진다. 또한, 카탈레이스를 줄일 수 있다. 이 반응에 의해 예를 들면 300℃ 정도의 열이 발생하기 때문에, 배열을 이용한 온도차 발전 또는 황산 처리조(12)를 냉각하기 위한 순환수로부터 발생하는 증기로 증기 발전이 행해져도 된다. 또한, 황산 처리조(12)로부터 배출되는 황산 폐액은, 예를 들면 리사이클 업자에게 회수된다. 해당 황산 폐액은, 종래의 폐액보다 황산의 순도를 높게 할 수 있도록 되어 있다. 또한, 황산 처리조(12)는, 예상치 못한 발화를 억제하기 위하여 불활성 가스인 질소 분위기 중에서 실시하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 SPM 폐액은 농황산 폐액이어도 되며, 농황산의 경우는, 용매 및 폴리머로, 탈수 반응의 분해 반응이 생겨, 저분자화된다(저점도화된다). 이 때 농황산은 발열 반응에 의해 농황산의 온도가 높아져 PFAS, PAG 등을 증발시킨다.
황산 처리조(12)에 모은 SPM 폐액에, 레지스트 폐액의 농축액을 더하여 처리해 가면 점차 H2O2가 소비되어, 처리 능력이 저하된다. 레지스트 폐액의 농축액을 적절한 양 공급한 후, 반응이 가라앉아 가스의 발생이 종료될 때까지 황산 처리조(12)는 대기시킨다. 세정 장치(112)로부터의 SPM 폐액이 많기 때문에, 세정 장치(112)로부터의 SPM 폐액도 정체하지 않고 처리할 필요가 있다. 이 때문에, 황산 처리조(12)는, 복수의 처리조로 구성되어 있어도 된다. 이 경우, 1 개의 처리조가 처리하고 있는 동안에, 다른 처리조에서 액의 주입 등의 준비를 행해도 된다. 또한, 1 번째의 처리조, 다음으로 2 번째의 처리조, 다음으로 3 번째의 처리조와 같이, 반응의 진행의 정도를 보면서, 액을 하류로 흘려 가도 된다. 또한, 레지스트 폐액이 메탈 함유 레지스트인 경우에는, 상술한 각 공정과 동일한 공정으로, 메탈 성분만 증발하지 않고 침전하여, 황산 폐액과 함께 처리된다.
SPM 폐액은, 과산화수소수가 포함되어 있기 때문에, 그대로 폐액으로 하면 발포하여 장치에 부담을 주거나, 혹은, 발포 가스로 환경을 악화시키는 경우가 있다. 이 점, 본 실시 형태에 따른 구성에서는, 잔류한 과산화수소수가 유효적으로 활용되고, 발포한 가스도 연료로서 무독화 장치(14)에서 연소되는 점에서, 장치 및 환경에 대한 부담을 작게 할 수 있다.
도 2는 황산 처리조(12) 및 냉각 장치(13)의 일례를 나타내는 모식도이다. 도 2에 나타나는 예에서는, 황산 처리조(12)와 냉각 장치(13)가 연속적으로 구성되어 있다. 황산 처리조(12)는, 세정 장치(112)의 SPM 폐액을 저류하는 황산 저류부(121)(제 1 저류부)와, 황산 저류부(121)에 연속하고 또한 경사 형상으로 연장되는 경사부(122)를 가지고 있다. 그리고, 황산 처리조(12)에서는, 농축기(11)에 의해 농축된 농축액이 경사부(122)로 적하(滴下)된다. 경사부(122)는, 적하되는 농축액을 받고, 이 농축액을 황산 저류부(121)를 향해 가이드한다. 다량의 황산에 농축액을 넣은 경우에는, 격렬한 반응이 생겨 위험하다. 이 점, 경사부(122)에 농축액이 적하되어, 경사부(122)에 있어서의 액의 가장자리에서 황산에 접하는 농축액의 양이 한정적이 되는 것에 의해, 상기 격렬한 반응이 생기는 것을 억제할 수 있다. 황산 처리조(12)에서는, 반응에 의해 생기는 열에 의해 터빈(123)을 돌려, 발전해도 된다. 농황산에 의해 증발한 PFAS를 포함하는 가스는, 냉각 장치(13)를 향해 흐른다. 또한, 농축액을 황산 처리조(12)에 더할 때에는, 격렬한 반응을 억제하기 위하여, 농축액과 질소를 2유체 스프레이 노즐을 거쳐 투입해도 된다. 농황산을 작은 물방울로 하는 것에 의해, SPM 폐액의 액면에 도달하기 전에 증발하기 쉬워지고, 또한, SPM 폐액의 액면에서 반응할 때에도 큰 접촉 계면이 되지 않기 때문에, 비교적 완만한 반응으로 억제할 수 있다. 또한 질소로 공급하는 것에 의해, 예상치 못한 발화를 억제할 수 있다.
도 3은 황산 처리조(12) 및 냉각 장치(13)의 다른 예를 나타내는 모식도이다. 도 3에 나타나는 예에서는, 황산 처리조(12)가, 농축액을 저류하는 농축액 저류부(125)(제 2 저류부)를 더 가지고 있다. 그리고, 농축액 저류부(125)에 있어서, 세정 장치(112)의 SPM 폐액이 정해진 양만큼 더해져 농축액과 혼합되고, 혼합된 액체가 경사부(122)를 거쳐 황산 저류부(121)로 흘러 들어간다. 이와 같이, 농축액 저류부(125)에 있어서, 격렬한 반응이 되지 않을 정도로 SPM 폐액과 농축액과의 혼합이 실시되고, 혼합된 액체가 경사부(122)를 거쳐 황산 저류부(121)로 흘러 들어간다. 이에 의해, SPM 폐액과 농축액과의 반응을 효과적으로 가속시킬 수 있다.
도 1로 돌아와, 냉각 장치(13)는, 황산 처리조(12)에 의해 증발된 PFAS를 포함하는 가스를 액화하여 포집한다. 냉각 장치(13)는, 가스를 기체 성분인 저분자 가스와, 액체 성분인 탄화수소(HC) 추출액으로 분리하여 포집한다. 도 2에 나타나는 바와 같이, 황산 처리조(12)로부터의 가스가, 냉각 장치(13)의 냉각부(131)에 있어서 냉각되는 것에 의해, 액화한 것은 HC 추출액으로서 포집되고, 또한 결로되지 않았던 저분자 가스에 대해서도 포집된다. 황산 처리조(12)로부터 발생한 가스는, 질소 분위기에서 처리하고 있기 때문에, 질소와의 혼합 가스로 되어 있다. 질소를 다량으로 포함한 혼합 가스에 대해서는, 후단의 무독화 장치(14)에 있어서의 처리량이 많아지기 때문에, 예를 들면, 냉각 장치(13)에서 결로되지 않았던 저분자 가스를, 나노 서브 세라믹 필터를 이용하여, 질소와 그 이외로 분리하여 농축해도 된다.
상술한 황산 처리조(12)로부터는, 다종의 유기 가스 및 그 외의 가스가 배출된다. PAG 등의 PFAS도 가스로서 배출되어 있다. 무독화 장치(14)에 이들 가스를 직접 도입하는 것도 고려되지만, 실온에서 액체가 되는 가스에 대해서는 냉각 장치(13)에 있어서 일단 액화하는 것에 의해 운반성을 향상시킬 수 있다. 또한, 액화하지 않고 운반한 경우에는, 배관의 도중에 액 고임이 생겨 제어가 어려워지는 경우가 있다. 액화한 HC 추출액 및 결로되지 않았던 저분자 가스의 쌍방에, PFAS가 포함되어 있다. HC 추출액 및 저분자 가스는, 무독화 장치(14)로 도입된다. 또한, 가스의 운반성을 보다 향상시키기 위하여, 저분자 가스도 포함해 모두 액화하고 나서 무독화 장치로 도입해도 된다.
무독화 장치(14)는, 냉각 장치(13)에 의한 처리 후의 물질을 무독화한다. 무독화 장치(14)는, 냉각 장치(13)에 의한 처리 후의 물질을 연소 제해하는 연소 제해 장치여도 된다. 무독화 장치(14)는, 냉각 장치(13)로부터 도입된 HC 추출액 및 저분자 가스를 소각한다. HC 추출액의 상당수는 탄화수소이므로, 연료로서 연소시킬 수 있다. 또한, 저분자 가스의 상당수는, 탄소수가 10 이하의 탄화수소이므로, 마찬가지로 연료로서 연소시킬 수 있다. 종래, 연소 제해 장치에서는 연료로서 프로판 가스 또는 도시 가스가 이용되고 있는데, 상기와 같이 HC 추출액 등이 연료로서 이용되므로, 프로판 가스 등을 감량할 수 있다.
또한, 무독화 장치(14)는, 에칭 장치(113)로부터 도입된 배기 가스, 성막 장치(114)로부터 도입된 배기 가스, 및, 세정 장치(112)로부터 도입된 산 폐기에 대해서도 동시에 연소 제해해도 된다. 이들 가스는, 각 장치에 있어서 사용된 PFAS를 포함하는 배기 가스이다. 이들 가스가 동시에 연소 제해되는 것에 의해, 프로판 가스 등을 보다 감량할 수 있다. 또한, 연소 제해 시에는, 가스 터빈 등의 내연 기관을 이용하여 연소시키는 것에 의해, 전력 발전을 해도 된다. 이산화탄소 등의 무독화된 가스는, 회수하여 폼산 또는 메탄올 등의 유기물 합성에 이용해도 된다. 또한, 무독화 장치(14)는, 냉각 장치(13)에 의한 처리 후의 물질을 아임계 처리하는 아임계 처리 장치, 초임계 처리하는 초임계 처리 장치여도 된다. 또한, 무독화한 폐가스를 스크러버 장치(배기 가스를 수세, 약액 중화 처리, 또는 흡착하여, 대기 중에 방출하는 장치)를 통하여, F 이온 함유의 스크러버 물과 폐가스로 처리해도 된다.
다음으로, PFAS 무독화 시스템(1)에 있어서 실시되는 PFAS 무독화 처리에 대하여, 도 4를 참조하여 설명한다. 도 4는 PFAS 무독화 처리를 나타내는 순서도이다.
도 4에 나타나는 바와 같이, PFAS 무독화 시스템(1)에서는, 농축기(11)에 있어서, 반도체 제조 장치(100)의 리소그래피 장치(111)로부터 배출된 PFAS를 포함하는 레지스트 폐액이 농축된다(단계(S1), 농축 단계). 농축 단계에서는, 레지스트 폐액을 농축하고 또한 레지스트 폐액에 포함되는 용매가 분리되어도 된다.
이어서, 황산 처리조(12)에 있어서, 농축기(11)에 의해 농축된 농축액이, 세정 장치(112)로부터의 SPM 폐액(또는 농황산 폐액)으로 분해 및 증발된다(단계(S2), 약액 처리 단계). 약액 처리 단계에서는, SPM 폐액을 저류하는 황산 저류부(121)에 연속하고 또한 경사 형상으로 연장되는 경사부(122)에 대하여 농축액이 적하되어도 된다. 또한, 약액 처리 단계에서는, 농축액을 저류하는 농축액 저류부(125)에 있어서, 세정 장치(112)의 SPM 폐액이 정해진 양만큼 더해져 농축액과 혼합되고, 혼합된 액체가 경사부(122)를 거쳐 황산 저류부(121)로 흘러 들어가도 된다.
이어서, 냉각 장치(13)에 있어서, 황산 처리조(12)에 의해 증발된 PFAS를 포함하는 가스가 액화되어 포집된다(단계(S3), 포집 단계). 포집 단계에서는, 가스가 기체 성분(저분자 가스)과 액체 성분(HC 추출액)으로 분리되어 포집된다.
이어서, 무독화 장치(14)에 있어서, 포집 단계에 있어서의 처리 후의 물질(저분자 가스 및 HC 추출액)을 무독화하는 무독화 처리가 실시된다(단계(S4), 무독화 단계). 무독화 단계에서는, 포집 단계에 있어서의 처리 후의 물질이 연소 제해되어도 되고, 아임계 처리되어도 된다. 또한, 무독화 단계에서는, 에칭 장치(113) 및 성막 장치(114)에 있어서 사용된 PFAS를 포함하는 배기 가스를 이용하여 연소 제해 처리가 행해져도 된다.
다음으로, 본 실시 형태에 따른 PFAS 무독화 시스템(1)의 작용 효과에 대하여 설명한다.
본 실시 형태에 따른 PFAS 무독화 시스템(1)은, 반도체 제조 장치(100)로부터 배출된, PFAS를 포함하는 폐액을 농축하는 농축기(11)와, 농축기(11)에 의해 농축된 농축액을 농황산을 포함하는 액체로 분해 및 증발시키는 황산 처리조(12)를 구비한다. 또한, PFAS 무독화 시스템(1)은, 황산 처리조(12)에 의해 증발된 가스를 액화하여 포집하는 냉각 장치(13)를 구비한다.
본 실시 형태에 따른 PFAS 무독화 시스템(1)에서는, PFAS를 포함하는 폐액이 농축된 후에, 농축액이 농황산을 포함하는 액체(SPM 폐액 또는 농황산)로 분해 및 증발되고, 증발한 가스가 액화된다. 이와 같이, 농축액이 농황산을 포함하는 액체에 혼합되는 것에 의해, 폴리머 또는 용매 등에 대해서는 탈수 반응의 분해 반응에 의해 저분자화되고, 또한 유기 불소 화합물에 대해서는 증발한다. 상기 혼합된 액체에 있어서 유기물 반응에 의해 탈기하는 것에 의해, 후단의 처리에 있어서 액체가 발포하기 어려워져, 후단에서 실시되는 처리가 용이해진다. 그리고, 증발한 가스가 액화되는 것에 의해, 상기 무독화 처리가 행해지는 물질의 운반성을 향상시킬 수 있다. 이상과 같이, 본 실시 형태에 따른 PFAS 무독화 시스템(1)에 의하면, PFAS의 무독화 처리를 원활하게 실시할 수 있다.
냉각 장치(13)는, 가스를 기체 성분과 액체 성분으로 분리하여 포집해도 된다. 이와 같이, 액화가 가능한 것은 액화하여 운반성을 높이고, 또한 액화되지 않았던 저분자 가스(기체 성분)에 대해서도 포집하는 것에 의해, PFAS가 포함되는 물질을 적절하게 포집할 수 있다.
본 실시 형태에 따른 PFAS 무독화 시스템(1)은, 냉각 장치(13)에 의한 처리 후의 물질을 무독화하는 무독화 장치(14)를 더 구비하고 있어도 된다. 이에 의해, PFAS 무독화 시스템(1) 내에 있어서 PFAS의 무독화 처리를 적절하게 실시할 수 있다.
무독화 장치(14)는, 냉각 장치(13)에 의한 처리 후의 물질을 연소 제해하는 연소 제해 장치여도 된다. 이러한 구성에 따르면, PFAS의 무독화 처리를 적절하게 실시할 수 있다.
무독화 장치(14)는, 냉각 장치(13)에 의한 처리 후의 물질을 아임계 처리하는 아임계 처리 장치여도 된다. 이러한 구성에 따르면, PFAS의 무독화 처리를 적절하게 실시할 수 있다.
농축기(11)는, 폐액을 농축하고 또한 폐액에 포함되는 용매를 분리시켜도 된다. 이와 같이, 배액에 포함되는 용매가 분리되는 것에 의해, 이 용매를 리사이클 솔벤트로서 재이용하거나 회수 업자에게 판매하는 것 등이 가능해진다.
반도체 제조 장치(100)는, 적어도, 리소그래피 장치(111) 및 세정 장치(112)를 가지고 있다. 농축기(11)는, PFAS를 포함하는 폐액으로서, 리소그래피 장치(111)에 있어서의 기판 처리 폐액을 농축하고, 황산 처리조(12)는, 농황산을 포함하는 액체로서, 세정 장치(112)의 폐기하는 농황산을 포함하는 액체(SPM 폐액 등)를 이용해도 된다. 농축기(11)가 리소그래피 장치(111)에 있어서의 기판 처리 폐액을 농축하는 것에 의해, PFAS를 많이 포함하는 레지스트 폐액 등을 무독화 처리의 대상으로 할 수 있다. 또한, 세정 장치(112)의 SPM 폐액이 이용되는 것에 의해, 본래 폐기되는 세정 장치(112)의 SPM 폐액을 유효하게 이용할 수 있다. 또한, 세정 장치(112)의 SPM 폐액에도 PFAS가 포함되어 있는 바, SPM 폐액에 포함되는 유기 불소 화합물에 대해서도 적절하게 무독화 처리를 행할 수 있다.
반도체 제조 장치(100)는, 적어도, 에칭 장치(113) 및 성막 장치(114)를 가지고 있고, 무독화 장치(14)는, 에칭 장치(113) 및 성막 장치(114)에 있어서 사용된, PFAS를 포함하는 배기 가스를 이용하여 연소 제해 처리를 행해도 된다. 이와 같이 배기 가스가 이용되는 것에 의해, 무독화 장치(14)로 도입되는 연료를 감량할 수 있어, 토탈적으로 CO2 배출량을 억제하여, 소각 시설이 대형화되는 것을 회피할 수 있다. 또한, 배기 가스에 포함되는 PFAS에 대해서도 무독화 처리를 행할 수 있다.
황산 처리조(12)는, SPM 폐액을 저류하는 황산 저류부(121)와, 황산 저류부(121)에 연속하고 또한 경사 형상으로 연장되는 경사부(122)를 가지고, 경사부(122)는, 적하되는 농축액을 받고, 해당 농축액을 황산 저류부(121)를 향해 가이드해도 된다. 이와 같이, 경사부(122)에 농축액이 적하되는 것에 의해, SPM 폐액과 농축액에서 격렬한 반응이 생기는 것을 억제할 수 있다.
황산 처리조(12)는, 농축액을 저류하는 농축액 저류부(125)를 더 가지고, 농축액 저류부(125)에 있어서, SPM 폐액이 정해진 양만큼 더해져 농축액과 혼합되고, 혼합된 액체가 경사부(122)를 거쳐 황산 저류부(121)로 흘러 들어가도 된다. 이에 의해, 농축액 저류부(125)에 있어서 격렬한 반응이 되지 않을 정도로 SPM 폐액과 농축액과의 혼합이 실시된 후에, 혼합된 액체가 경사부(122)를 거쳐 황산 저류부(121)로 흘러 들어간다. 이로써, SPM 폐액과 농축액과의 반응을 효과적으로 가속시킬 수 있다.
이상, 본 실시 형태에 대하여 설명했지만, 본 실시 형태는 상기에 한정되지 않는다. 예를 들면, 도 5에 나타나는 PFAS 무독화 시스템(1A)과 같이, 리소그래피 장치(111)로부터의 배기 가스가 직접, 무독화 장치(14)로 도입되는 구성이어도 된다. 당해 배기 가스는, 예를 들면 성막 / 현상 / 가열 / 광 조사 처리 등에 의해 발생하는 PFAS 함유 가스이다. 또한, 이러한 구성에 있어서도, 리소그래피 장치(111)에 있어서의 일부 처리로부터 PFAS 함유액이 발생하는 경우에는, 당해 PFAS 함유액이 농축기(11)로 도입되어도 된다. 또한, 도 5에 나타나는 바와 같이, 세정 장치(112)가 건식, 즉 가스에 의한 처리를 포함하는 경우에 있어서는, PFAS 함유 가스인 배기 가스가 직접, 무독화 장치(14)로 도입되어도 된다. 그리고, 무독화 장치(14)에 있어서, 이들 배기 가스를 포함해 무독화 처리가 실시되어도 된다.
도 6은 변형예에 따른 황산 처리조(312)의 모식도이다. 황산 처리조(312)는 황산 저류부(421)(제 1 저류부)와, SPM용 노즐(422)과, 교반기(423)와, 농축액용 노즐(424)(농축액 토출부)과, 기체 방출구(425)(배기부)를 구비하고 있다. 황산 처리조(312)는 또한 SPM 배출구(426)(배출구)와, 냉각수 유로(427)와, 가스 방출구(428)를 구비하고 있다.
황산 저류부(421)는, 폐기하는 농황산을 포함하는 액체인 SPM 폐액을 저류하는 저류부이다. 또한, 황산 저류부(421)가 저류하는 액체는, SPM 폐액에 한정되지 않고, 농황산을 포함하는 그 외의 액체여도 된다. SPM용 노즐(422)은, 세정 장치로부터 배출된 SPM 폐액을 황산 저류부(421)로 공급하는 노즐이다. 교반기(423)는, 황산 저류부(421)에 저류된 SPM 폐액의 교반을 행하는 구성이다. 농축액용 노즐(424)은, 상술한 농축액을 미스트 형상으로 하여 황산 저류부(421)에 넣는 구성이다. 농축액용 노즐(424)은, 농축액을 불활성 가스(예를 들면 질소 가스)와 함께 미스트 형상으로 하여 분무한다. 이와 같이, 농축액이 미스트 형상으로 하여 분무되는 것에 의해, 레지스트 농축액을 천천히 간헐적으로 넣을 수 있어, 안전성을 높일 수 있다(상세는 후술). 또한, 농축액이 미스트 형상으로 분무되는 것에 의해, 계면 최소화가 실현되어, 건조를 촉진시킬 수 있다. 또한, 불활성 가스가 질소 가스로 되는 것에 의해, 반응에 있어서의 발화를 방지할 수 있다. 또한, 농축액용 노즐(424)은, 반드시 농축액을 미스트 형상으로 분무하는 것이 아니어도 되며, 통상의 액체로서 황산 저류부(421)로 보내는 구성이어도 된다.
기체 방출구(425)는, 황산 저류부(421)에 모인 가스를 배기하는 배기부이다. SPM 배출구(426)는, 황산 저류부(421)로부터 SPM 폐액을 폐액하는 배출구이다. 냉각수 유로(427)는, 황산 저류부(421) 저면 및 측면을 둘러싸도록 마련된 유로이며, 흐르는 냉각수에 의해 황산 저류부(421)를 냉각하는 구성이다. 가스 방출구(428)는, 냉각수 유로(427)의 상단부측에 마련되어 있으며, 증발한 냉각수의 가스를 배기하는 배기부이다.
이하에서는, 상술한 황산 처리조(312)를 이용한 SPM 폐액에 따른 처리(제 1 ~ 제 3 처리)에 대하여 도 7 ~ 도 9를 참조하여 설명한다. 여기서, 황산 과수에 농축액을 넣으면, 분자 내 및 분자 간 탈수 반응에 의해 유기물은 저분자화된다. 황산 과수는 황산보다 반응성이 높아 위험하다. 또한, 황산 밀도(1.84)는 농축액에 비해 무겁기 때문에, 그 상태 그대로는 섞이지 않는다. 이 때문에, 계면에서는 적극적으로 반응하지만 섞이지 않기 때문에, 돌비가 발생하는 경우가 있다. 그리고, 발생한 가스에는, 자연 발화점이 200℃ 이하인 가스도 포함되어 있는 바, 농황산의 온도는 290℃ 정도로 되기 때문에, 발화의 우려가 있다. 상술한 제 1 ~ 제 3 처리는, SPM 폐액에 농축액을 넣는 처리를 보다 안전하게 행하기 위한 처리이다.
도 7은 황산 처리조(312)에 있어서의 제 1 처리 이미지를 나타내는 도이다. 제 1 처리에서는, 먼저, 도 7의 (a)에 나타나는 바와 같이, 황산 저류부(421)가 빈 상태로 되고, 또한 냉각수 유로(427)에 냉각수가 저류된 상태로 된다. 이어서, 도 7의 (b)에 나타나는 바와 같이, SPM용 노즐(422)을 거쳐 황산 저류부(421)에 SPM 폐액이 저류된다. 이어서, 도 7의 (c)에 나타나는 바와 같이, 농축액용 노즐(424)에 의해, 레지스트의 농축액이 질소 가스와 함께 미스트 형상으로 분무된다. 농축액의 분무는, 천천히 간헐적으로 행해진다. 농축액은 황산보다 비중이 무겁기 때문에, SPM 폐액의 표면에 떠있는 것과 같은 상태로 공급된다. 이 상태에 있어서, 교반기(423)에 의해 천천히 교반이 행해진다. 이에 의해, 농축액이 SPM 폐액의 표면에 머물게 된다. 농축액의 계면과 SPM 폐액의 계면에서는, 산화 반응과 탈수 반응이 격렬하게 행해지지만, SPM 폐액에 접하지 않은 내측의 성분은, 반응열을 받아 반응하지 않고 그대로 증발한다. 증발한 용매는, 다시 SPM 폐액에 접하지 않고 방출되기 때문에, 분해되지 않고, 연소 제해 장치에 있어서의 연료로서 이용할 수 있다.
그리고, 도 7의 (d)에 나타나는 바와 같이, SPM 폐액의 과수의 능력이 약해져 유기물의 탄화가 진행되어, 액이 갈색으로 되어 가면, 농축액용 노즐(424)로부터의 농축액의 분무가 종료된다. 또한, 기체 방출구(425)로부터의 가스 방출이 가속되도록, 진공 배기가 행해져도 된다. 도 7의 (e)에 나타나는 바와 같이, 가스의 방출이 종료되면, SPM 배출구(426)로부터 황산을 포함하는 액체의 폐액이 행해져, 도 7의 (a)의 상태로 돌아온다.
상기 처리에 있어서, 액이 갈색으로 되어 있지 않은 상태에 있어서는, 탄소가 이산화탄소로서 방출된다. 황산 처리조(312)에 있어서의 공정에서 가연 물질을 연소시키면, 연소 제해를 행할 시에 연소시키기 위한 연료로서 활용할 수 없게 된다. 그러나, 아임계 분해 시에 가연 물질이 분해의 방해가 되는 경우가 있으므로, 황산 처리조(312)에 있어서 연소시키는 것이 바람직하다.
상술한 제 1 처리에서는, 미스트 형상의 분무에 의해 천천히 농축액이 넣어지므로, 안전성이 매우 높아져 있다(후술하는 제 2 처리보다 안전성이 높아져 있다). 또한, 증발한 용매 성분이 분해되지 않기 때문에, 이 증발한 용매 성분을, 연소 제해 장치의 연료로서 이용할 수 있다.
도 8은 황산 처리조(312)에 있어서의 제 2 처리 이미지를 나타내는 도이다. 제 2 처리에서는, 먼저, 도 8의 (a)에 나타나는 바와 같이, 황산 저류부(421)가 빈 상태로 되고, 또한 냉각수 유로(427)에 냉각수가 저류된 상태로 된다. 이어서, 도 8의 (b)에 나타나는 바와 같이, 농축액용 노즐(424)로부터, 레지스트의 농축액이 황산 저류부(421)로 공급된다. 이 경우, 농축액용 노즐(424)은, 미스트 형상의 분무가 아닌, 통상의 액체로서 농축액을 공급해도 된다. 이어서, 도 8의 (c)에 나타나는 바와 같이, SPM용 노즐(422)을 거쳐 황산 저류부(421)에 SPM 폐액이 저류된다. 이에 의해, 단번에 농축액과 SPM 폐액과의 처리가 진행된다. 이 상태에 있어서, 교반기(423)에 의해 재빠르게 교반이 행해진다.
그리고, 기체 방출구(425)로부터, 황산 저류부(421)에 모인 가스의 배기가 행해지고, 반응이 가라앉아 가스의 방출이 종료될 때까지 대기된다. 또는, 진공 상태에서 가스의 배기가 행해진다. 이에 의해, 도 8의 (d)에 나타나는 바와 같이, SPM 폐액의 과수의 능력이 약해져 유기물의 탄화가 진행되어, 액이 갈색이 되어 간다. 마지막으로, 도 8의 (e)에 나타나는 바와 같이, SPM 배출구(426)로부터 황산을 포함하는 액체의 폐액이 행해져, 도 8의 (a)의 상태로 돌아온다.
상기 처리에 있어서, 액이 갈색으로 되어 있지 않은 상태에 있어서는, 탄소가 이산화탄소로서 방출된다. 황산 처리조(312)에 있어서의 공정에서 가연 물질을 연소시키면, 연소 제해를 행할 시에 연소시키기 위한 연료로서 활용할 수 없게 된다. 그러나, 아임계 분해 시에 가연 물질이 분해의 방해가 되는 경우가 있으므로, 황산 처리조(312)에 있어서 연소시키는 것이 바람직하다.
상술한 제 2 처리에서는, 먼저 농축액이 담기고 그 후에 SPM 폐액이 담긴다. 이 때문에, 증발한 용매 성분에 대해서도, 주위에 있는 SPM 폐액으로 산화 반응 및 탈수 반응이 진행된다. 이에 의해, 상술한 제 1 처리보다 고속 처리를 기대할 수 있어, 발열량도 많아진다. 그리고, 분자 내 탈수 반응의 비율이 많아지고, 그 결과, 저분자량의 탄화수소 가스가 많이 방출된다.
도 9는 황산 처리조(312)에 있어서의 제 3 처리 이미지를 나타내는 도이다. 제 3 처리에서는, 먼저, 도 9의 (a)에 나타나는 바와 같이, 황산 저류부(421)가 빈 상태로 되고, 또한 냉각수 유로(427)에 냉각수가 저류된 상태로 된다. 이어서, 도 9의 (b)에 나타나는 바와 같이, SPM용 노즐(422)을 거쳐 황산 저류부(421)에 SPM 폐액이 저류된다. 제 3 처리에서는, 이 상태에서, 과수의 성분이 증발할 때까지 황산 저류부(421) 내가 진공 상태로 된다. 이 때, 필요에 따라 물이 넣어져, SPM 온도가 올라간다. 또한, 교반기(423)에 의해 천천히 교반이 행해진다.
이어서, 도 9의 (c)에 나타나는 바와 같이, 농축액용 노즐(424)에 의해, 레지스트의 농축액이 질소 가스와 함께 미스트 형상으로 분무된다. 농축액의 분무는, 천천히 간헐적으로 행해진다. 농축액은 황산보다 비중이 무겁기 때문에, SPM 폐액의 표면에 떠있는 것과 같은 상태로 공급된다. 이 상태에 있어서, 교반기(423)에 의해 천천히 교반이 행해진다. 이에 의해, 농축액이 SPM 폐액의 표면에 머물게 된다. 농축액의 계면과 SPM 폐액의 계면에서는, 산화 반응과 탈수 반응이 격렬하게 행해지지만, SPM 폐액에 접하지 않은 내측의 성분은, 반응열을 받아 반응하지 않고 그대로 증발한다. 증발한 용매는, 다시 SPM 폐액에 접하지 않고 방출되기 때문에, 분해되지 않고, 연소 제해 장치에 있어서의 연료로서 이용할 수 있다.
그리고, 도 9의 (d)에 나타나는 바와 같이, SPM 폐액의 과수의 능력이 약해져 유기물의 탄화가 진행되어, 액이 갈색으로 되어 가면, 농축액용 노즐(424)로부터의 농축액의 분무가 종료된다. 또한, 기체 방출구(425)로부터의 가스 방출이 가속되도록, 진공 배기가 행해져도 된다. 도 9의 (e)에 나타나는 바와 같이, 가스의 방출이 종료되면, SPM 배출구(426)로부터 황산을 포함하는 액체의 폐액이 행해져, 도 9의 (a)의 상태로 돌아온다.
상술한 제 3 처리에서는, 황산 저류부(421)에 SPM 폐액이 저류된 상태에 있어서 과수를 실활(失活)시키는 것에 의해, 가연성 물질의 분해 반응을 최대한 줄일 수 있다. 이 때문에, 제 3 처리는, 각 처리 중에서 가장 안전성이 높게 되어 있다.
마지막으로, 본 개시에 포함되는 각종 예시적 실시 형태를, 이하의 [E1] ~ [E26]에 기재한다.
[E1]
처리 시스템은, 반도체 제조 장치로부터 배출된, 유기 불소 화합물을 포함하는 폐액을 농축하는 농축부와, 농축부에 의해 농축된 농축액을 농황산을 포함하는 액체로 분해 및 증발시키는 약액 처리부를 구비한다. 또한, 처리 시스템은, 약액 처리부에 의해 증발된 가스를 액화하여 포집하는 포집부를 구비한다.
[E2]
포집부는, 가스를 기체 성분과 액체 성분으로 분리하여 포집하는, [E1]에 기재된 처리 시스템.
[E3]
포집부에 의한 처리 후의 물질을 무독화하는 무독화부를 더 구비하는, [E1] 또는 [E2]에 기재된 처리 시스템.
[E4]
무독화부는, 포집부에 의한 처리 후의 물질을 연소 제해하는 연소 제해 장치인, [E3]에 기재된 처리 시스템.
[E5]
무독화부는, 포집부에 의한 처리 후의 물질을 아임계 처리하는 아임계 처리 장치, 또는 초임계 처리를 하는 초임계 처리 장치인, [E3]에 기재된 처리 시스템.
[E6]
농축부는, 폐액을 농축하고 또한 폐액에 포함되는 용매를 분리시키는, [E1] ~ [E5] 중 어느 한 항에 기재된 처리 시스템.
[E7]
반도체 제조 장치는, 적어도, 리소그래피 장치 및 세정 장치를 가지고 있고, 농축부는, 유기 불소 화합물을 포함하는 폐액으로서, 리소그래피 장치에 있어서의 기판 처리 폐액을 농축한다. 그리고, 약액 처리부는, 농황산을 포함하는 액체로서, 세정 장치의 폐기하는 농황산을 포함하는 액체를 이용하는, [E1] ~ [E6] 중 어느 한 항에 기재된 처리 시스템.
[E8]
반도체 제조 장치는, 적어도, 에칭 장치 및 성막 장치를 가지고 있고, 연소 제해 장치는, 에칭 장치 및 성막 장치에 있어서 사용된, 유기 불소 화합물을 포함하는 배기 가스를 이용하여 연소 제해 처리를 행하는, [E4]에 기재된 처리 시스템.
[E9]
약액 처리부는, 폐기하는 농황산을 포함하는 액체를 저류하는 제 1 저류부와, 제 1 저류부에 연속하고 또한 경사 형상으로 연장되는 경사부를 가지고, 경사부는, 적하되는 농축액을 받고, 해당 농축액을 제 1 저류부를 향해 가이드하는, [E7]에 기재된 처리 시스템.
[E10]
약액 처리부는, 농축액을 저류하는 제 2 저류부를 더 가지고, 제 2 저류부에 있어서, 폐기하는 농황산을 포함하는 액체가 정해진 양만큼 더해져 농축액과 혼합되고, 혼합된 액체가 경사부를 거쳐 제 1 저류부로 흘러 들어가는, [E9]에 기재된 처리 시스템.
[E11]
처리 방법은, 반도체 제조 장치로부터 배출된, 유기 불소 화합물을 포함하는 폐액을 농축하는 농축 단계와, 농축 단계에 있어서 농축된 농축액을 농황산을 포함하는 액체로 분해 및 증발시키는 약액 처리 단계를 포함한다. 또한, 본 처리 방법은, 약액 처리 단계에 있어서 증발된 가스를 액화하여 포집하는 포집 단계를 포함한다.
[E12]
포집 단계에서는, 가스를 기체 성분과 액체 성분으로 분리하여 포집하는, [E11]에 기재된 처리 방법.
[E13]
포집 단계에 있어서의 처리 후의 물질을 무독화하는 무독화 단계를 더 포함하는, [E11] 또는 [E12]에 기재된 처리 방법.
[E14]
무독화 단계에서는, 포집 단계에 있어서의 처리 후의 물질을 연소 제해하는, [E13]에 기재된 처리 방법.
[E15]
무독화 단계에서는, 포집 단계에 있어서의 처리 후의 물질을 아임계 처리하는, [E13]에 기재된 처리 방법.
[E16]
농축 단계에서는, 폐액을 농축하고 또한 폐액에 포함되는 용매를 분리시키는, [E11] ~ [E15] 중 어느 한 항에 기재된 처리 방법.
[E17]
농축 단계에서는, 유기 불소 화합물을 포함하는 폐액으로서, 리소그래피 장치에 있어서의 기판 처리 폐액을 농축한다. 약액 처리 단계에서는, 농황산을 포함하는 액체로서, 세정 장치의 폐기하는 농황산을 포함하는 액체를 이용하는, [E11] ~ [E16] 중 어느 한 항에 기재된 처리 방법.
[E18]
무독화 단계에서는, 에칭 장치 및 성막 장치에 있어서 사용된, 유기 불소 화합물을 포함하는 배기 가스를 이용하여 연소 제해 처리를 행하는, [E14]에 기재된 처리 방법.
[E19]
약액 처리 단계에서는, 폐기하는 농황산을 포함하는 액체를 저류하는 제 1 저류부에 연속하고 또한 경사 형상으로 연장되는 경사부에 대하여 농축액을 적하하는, [E17]에 기재된 처리 방법.
[E20]
약액 처리 단계에서는, 농축액을 저류하는 제 2 저류부에 있어서, 폐기하는 농황산을 포함하는 액체를 정해진 양만큼 더해 농축액과 혼합하고, 혼합한 액체를, 경사부를 거쳐 제 1 저류부로 흘러 들어가는, [E19]에 기재된 처리 방법.
[E21]
상기 약액 처리부는, 상기 폐기하는 농황산을 포함하는 액체를 저류하는 제 1 저류부와, 상기 농축액을 미스트 형상으로 하여 상기 제 1 저류부에 넣는 농축액 토출부를 가지는, [E7]에 기재된 처리 시스템.
[E22]
상기 농축액 토출부는, 상기 농축액을 불활성 가스와 함께 미스트 형상으로 하여 분무하는, [E21]에 기재된 처리 시스템.
[E23]
상기 약액 처리부는, 상기 제 1 저류부에 모인 가스를 배기하는 배기부와, 상기 농황산을 포함하는 액체를 폐액하는 배출구를 가지고,
상기 약액 처리부에 있어서의 처리에서는,
상기 제 1 저류부에 상기 농황산을 포함하는 액체를 넣는 것과,
상기 농축액 토출부가, 상기 농축액을 불활성 가스와 함께 미스트 형상으로 하여 상기 제 1 저류부에 분무하는 것과,
상기 배기부가, 상기 제 1 저류부에 모인 가스를 배기하는 것과,
상기 배출구로부터, 상기 농황산을 포함하는 액체를 폐액하는 것이 순차 실행되는, [E22]에 기재된 처리 시스템.
[E24]
상기 약액 처리부는, 상기 폐기하는 농황산을 포함하는 액체를 저류하는 제 1 저류부와, 상기 농축액을 상기 제 1 저류부에 넣는 농축액 토출부와, 상기 제 1 저류부에 모인 가스를 배기하는 배기부와, 상기 농황산을 포함하는 액체를 폐액하는 배출구를 가지고,
상기 약액 처리부에 있어서의 처리에서는,
상기 농축액 토출부가, 상기 농축액을 상기 제 1 저류부에 넣는 것과,
상기 제 1 저류부에 상기 농황산을 포함하는 액체를 넣는 것과,
상기 배기부가, 상기 제 1 저류부에 모인 가스를 배기하는 것과,
상기 배출구로부터, 상기 농황산을 포함하는 액체를 폐액하는 것이 순차 실행되는, [E7]에 기재된 처리 시스템.
[E25]
상기 농황산을 포함하는 액체는, SPM 폐액인, [E23]에 기재된 처리 시스템.
[E26]
상기 약액 처리부에 있어서의 처리에서는,
상기 제 1 저류부에 상기 농황산을 포함하는 액체를 넣은 후, 상기 농축액이 분무되기 전에 있어서, 과수의 성분이 증발할 때까지 상기 제 1 저류부 내를 진공 상태로 하는 것이 실행되는, [E25]에 기재된 처리 시스템.
[E27]
상기 불활성 가스는, 질소 가스인, [E21] 또는 [E22]에 기재된 처리 시스템.
Claims (20)
- 반도체 제조 장치로부터 배출된, 유기 불소 화합물을 포함하는 폐액을 농축하는 농축부와,
상기 농축부에 의해 농축된 농축액을 농황산을 포함하는 액체로 분해 및 증발시키는 약액 처리부와,
상기 약액 처리부에 의해 증발된 가스를 액화하여 포집하는 포집부를 구비하는 처리 시스템. - 제 1 항에 있어서,
상기 포집부는, 상기 가스를 기체 성분과 액체 성분으로 분리하여 포집하는, 처리 시스템. - 제 1 항에 있어서,
상기 포집부에 의한 처리 후의 물질을 무독화하는 무독화부를 더 구비하는, 처리 시스템. - 제 3 항에 있어서,
상기 무독화부는, 상기 포집부에 의한 처리 후의 물질을 연소 제해하는 연소 제해 장치인, 처리 시스템. - 제 3 항에 있어서,
상기 무독화부는, 상기 포집부에 의한 처리 후의 물질을 아임계 처리하는 아임계 처리 장치인, 처리 시스템. - 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 농축부는, 상기 폐액을 농축하고 또한 상기 폐액에 포함되는 용매를 분리시키는, 처리 시스템. - 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 반도체 제조 장치는, 적어도, 리소그래피 장치 및 세정 장치를 가지고 있고,
상기 농축부는, 상기 유기 불소 화합물을 포함하는 상기 폐액으로서, 상기 리소그래피 장치에 있어서의 기판 처리 폐액을 농축하고,
상기 약액 처리부는, 상기 농황산을 포함하는 액체로서, 상기 세정 장치의 폐기하는 농황산을 포함하는 액체를 이용하는, 처리 시스템. - 제 4 항에 있어서,
상기 반도체 제조 장치는, 적어도, 에칭 장치 및 성막 장치를 가지고 있고,
상기 연소 제해 장치는, 상기 에칭 장치 및 상기 성막 장치에 있어서 사용된, 유기 불소 화합물을 포함하는 배기 가스를 이용하여 연소 제해 처리를 행하는, 처리 시스템. - 제 7 항에 있어서,
상기 약액 처리부는, 상기 폐기하는 농황산을 포함하는 액체를 저류하는 제 1 저류부와, 상기 제 1 저류부에 연속하고 또한 경사 형상으로 연장되는 경사부를 가지고,
상기 경사부는, 적하되는 상기 농축액을 받고, 해당 농축액을 상기 제 1 저류부를 향해 가이드하는, 처리 시스템. - 제 9 항에 있어서,
상기 약액 처리부는, 상기 농축액을 저류하는 제 2 저류부를 더 가지고,
상기 제 2 저류부에 있어서, 상기 폐기하는 농황산을 포함하는 액체가 정해진 양만큼 더해져 상기 농축액과 혼합되고, 혼합된 액체가 상기 경사부를 거쳐 상기 제 1 저류부로 흘러 들어가는, 처리 시스템. - 제 7 항에 있어서,
상기 약액 처리부는, 상기 폐기하는 농황산을 포함하는 액체를 저류하는 제 1 저류부와, 상기 농축액을 미스트 형상으로 하여 상기 제 1 저류부에 넣는 농축액 토출부를 가지는, 처리 시스템. - 제 11 항에 있어서,
상기 농축액 토출부는, 상기 농축액을 불활성 가스와 함께 미스트 형상으로 하여 분무하는, 처리 시스템. - 제 12 항에 있어서,
상기 약액 처리부는, 상기 제 1 저류부에 모인 가스를 배기하는 배기부와, 상기 농황산을 포함하는 액체를 폐액하는 배출구를 가지고,
상기 약액 처리부에 있어서의 처리에서는,
상기 제 1 저류부에 상기 농황산을 포함하는 액체를 넣는 것과,
상기 농축액 토출부가, 상기 농축액을 불활성 가스와 함께 미스트 형상으로 하여 상기 제 1 저류부에 분무하는 것과,
상기 배기부가, 상기 제 1 저류부에 모인 가스를 배기하는 것과,
상기 배출구로부터, 상기 농황산을 포함하는 액체를 폐액하는 것이 순차 실행되는, 처리 시스템. - 제 7 항에 있어서,
상기 약액 처리부는, 상기 폐기하는 농황산을 포함하는 액체를 저류하는 제 1 저류부와, 상기 농축액을 상기 제 1 저류부에 넣는 농축액 토출부와, 상기 제 1 저류부에 모인 가스를 배기하는 배기부와, 상기 농황산을 포함하는 액체를 폐액하는 배출구를 가지고,
상기 약액 처리부에 있어서의 처리에서는,
상기 농축액 토출부가, 상기 농축액을 상기 제 1 저류부에 넣는 것과,
상기 제 1 저류부에 상기 농황산을 포함하는 액체를 넣는 것과,
상기 배기부가, 상기 제 1 저류부에 모인 가스를 배기하는 것과,
상기 배출구로부터, 상기 농황산을 포함하는 액체를 폐액하는 것이 순차 실행되는, 처리 시스템. - 제 13 항에 있어서,
상기 농황산을 포함하는 액체는, SPM 폐액인, 처리 시스템. - 제 15 항에 있어서,
상기 약액 처리부에 있어서의 처리에서는,
상기 제 1 저류부에 상기 농황산을 포함하는 액체를 넣은 후, 상기 농축액이 분무되기 전에 있어서, 과수의 성분이 증발할 때까지 상기 제 1 저류부 내를 진공 상태로 하는 것이 실행되는, 처리 시스템. - 제 12 항에 있어서,
상기 불활성 가스는, 질소 가스인, 처리 시스템. - 반도체 제조 장치로부터 배출된, 유기 불소 화합물을 포함하는 폐액을 농축하는 농축 단계와,
상기 농축 단계에 있어서 농축된 농축액을 농황산을 포함하는 액체로 분해 및 증발시키는 약액 처리 단계와,
상기 약액 처리 단계에 있어서 증발된 가스를 액화하여 포집하는 포집 단계를 포함하는 처리 방법. - 제 18 항에 있어서,
상기 포집 단계에서는, 상기 가스를 기체 성분과 액체 성분으로 분리하여 포집하는, 처리 방법. - 제 18 항에 있어서,
상기 포집 단계에 있어서의 처리 후의 물질을 무독화하는 무독화 단계를 더 포함하는, 처리 방법.
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