KR20240028327A - composition - Google Patents

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KR20240028327A
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아츠미 미츠나가
다카시 사토
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에이지씨 가부시키가이샤
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Abstract

테트라플루오로에틸렌계 폴리머의 입자와 중공상인 입자와 소정의 무기 화합물의 입자를 소정의 비율로 포함하는, 분산성이 우수하고, 선팽창 계수, 유전율 및 유전 정접이 낮고, 열전도성 및 접착성이 우수한 성형물을 형성할 수 있는 조성물을 제공하는 것. 테트라플루오로에틸렌계 폴리머의 제 1 입자와, 중공상인 제 2 입자와, 애스펙트비가 1 초과인 무기 화합물의 제 3 입자를 포함하고, 상기 제 2 입자의 체적 농도에 대한 상기 제 1 입자의 체적 농도의 비가 1 초과이고, 또한 상기 제 2 입자의 체적 농도에 대한 상기 제 3 입자의 체적 농도의 비가 0.6 미만인, 조성물.Contains tetrafluoroethylene-based polymer particles, hollow particles, and particles of a predetermined inorganic compound in a predetermined ratio, has excellent dispersibility, low linear expansion coefficient, dielectric constant, and dielectric loss tangent, and excellent thermal conductivity and adhesiveness. Providing a composition capable of forming a molding. It includes first particles of a tetrafluoroethylene-based polymer, hollow second particles, and third particles of an inorganic compound having an aspect ratio greater than 1, and the volume concentration of the first particles relative to the volume concentration of the second particles. is greater than 1, and the ratio of the volume concentration of the third particles to the volume concentration of the second particles is less than 0.6.

Description

조성물composition

본 발명은, 테트라플루오로에틸렌계 폴리머의 제 1 입자와, 중공상인 제 2 입자와, 애스펙트비가 1 초과인 무기 화합물의 제 3 입자를 포함하는, 소정의 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a composition comprising first particles of a tetrafluoroethylene-based polymer, hollow second particles, and third particles of an inorganic compound having an aspect ratio greater than 1.

최근, 휴대 전화 등의 이동체 통신 기기에 있어서의 고속화, 고주파화에 대응하기 위해, 통신 기기의 프린트 기판의 재료에는 고열전도, 저선팽창 계수, 저유전율 또한 저유전 정접인 재료가 요구되고, 저유전율 또한 저유전 정접인 테트라플루오로에틸렌계 폴리머가 주목받고 있다.Recently, in order to cope with the increase in speed and frequency in mobile communication devices such as mobile phones, materials with high thermal conductivity, low linear expansion coefficient, low dielectric constant, and low dielectric loss tangent are required for materials for printed circuit boards of communication devices. Additionally, tetrafluoroethylene-based polymers with low dielectric loss tangent are attracting attention.

보다 물성이 우수한 재료를 얻기 위해, 테트라플루오로에틸렌계 폴리머와 다른 성분의 조성물이 검토되고 있다. 특허문헌 1 에는, 테트라플루오로에틸렌계 폴리머의 입자와 질화붕소의 입자의 분체 조성물이 제안되어 있다.In order to obtain materials with better physical properties, compositions containing components other than tetrafluoroethylene polymers are being investigated. Patent Document 1 proposes a powder composition of tetrafluoroethylene-based polymer particles and boron nitride particles.

일본 공개특허공보 2014-224228호Japanese Patent Publication No. 2014-224228

테트라플루오로에틸렌계 폴리머는 표면 장력이 낮고, 다른 성분과의 친화성이 낮다. 그 때문에, 테트라플루오로에틸렌계 폴리머와 다른 성분을 포함하는 조성물로 형성되는 성형물에 있어서는, 각 성분의 물성이 충분히 발현되지 않는 경우가 있다. 본 발명자들은, 선팽창 계수가 낮고, 전기 특성, 열전도성 및 접착성이 우수한 성형물을 형성할 수 있는 조성물, 특히 구체적으로는, 이들 물성을 구비하고, 유전 정접이 충분히 낮은 성형물을 형성할 수 있는 조성물이 얻어지기 어려운 점을 지견하였다.Tetrafluoroethylene-based polymers have low surface tension and low affinity with other components. Therefore, in molded articles formed from a composition containing a tetrafluoroethylene polymer and other components, the physical properties of each component may not be sufficiently expressed. The present inventors have proposed a composition capable of forming a molded article with a low coefficient of linear expansion and excellent electrical properties, thermal conductivity, and adhesiveness, and specifically, a composition capable of forming a molded article having these physical properties and having a sufficiently low dielectric loss tangent. I found this difficult to obtain.

본 발명자들은, 테트라플루오로에틸렌계 폴리머의 입자와 중공상인 입자와 소정의 무기 화합물의 입자를 소정의 비율로 포함하는 조성물은 분산성이 우수하고, 그 성형물은 선팽창 계수, 유전율 및 유전 정접이 낮고, 열전도성 및 접착성이 우수하고, 특히 유전 정접이 낮은 것을 알아내어, 본 발명에 이르렀다.The present inventors have found that a composition containing particles of a tetrafluoroethylene-based polymer, hollow particles, and particles of a predetermined inorganic compound in a predetermined ratio has excellent dispersibility, and the molded product has a low coefficient of linear expansion, dielectric constant, and dielectric loss tangent. , it was found to have excellent thermal conductivity and adhesiveness, and in particular, a low dielectric loss tangent, leading to the present invention.

본 발명의 목적은 이와 같은 조성물의 제공이다.The object of the present invention is to provide such a composition.

본 발명은, 하기의 양태를 갖는다.The present invention has the following aspects.

[1] 테트라플루오로에틸렌계 폴리머의 제 1 입자와, 중공상인 제 2 입자와, 애스펙트비가 1 초과인 무기 화합물의 제 3 입자를 포함하고, 상기 제 2 입자의 체적 농도에 대한 상기 제 1 입자의 체적 농도의 비가 1 초과이고, 또한 상기 제 2 입자의 체적 농도에 대한 상기 제 3 입자의 체적 농도의 비가 0.6 미만인, 조성물.[1] Comprising first particles of a tetrafluoroethylene-based polymer, hollow second particles, and third particles of an inorganic compound having an aspect ratio greater than 1, the first particles relative to the volume concentration of the second particles is greater than 1, and the ratio of the volume concentration of the third particle to the volume concentration of the second particle is less than 0.6.

[2] 상기 제 1 입자, 상기 제 2 입자 및 상기 제 3 입자의 총 체적에 대한, 상기 제 1 입자의 체적 농도, 상기 제 2 입자의 체적 농도 및 상기 제 3 입자의 체적 농도가, 이 순서대로, 40 ∼ 70 %, 20 ∼ 50 %, 5 % 이상 30 % 미만인, [1] 의 조성물.[2] The volume concentration of the first particles, the volume concentration of the second particles, and the volume concentration of the third particles, relative to the total volume of the first particles, the second particles, and the third particles, are in this order As such, the composition of [1] is 40 to 70%, 20 to 50%, 5% or more and less than 30%.

[3] 상기 제 1 입자가, 열용융성 테트라플루오로에틸렌계 폴리머의 입자이고, 또한 상기 열용융성 테트라플루오로에틸렌계 폴리머가, 용융 온도가 200 ∼ 320 ℃ 인, 산소 함유 극성기를 갖는 열용융성 테트라플루오로에틸렌계 폴리머인, [1] 또는 [2] 의 조성물.[3] The first particles are particles of a heat-meltable tetrafluoroethylene-based polymer, and the heat-meltable tetrafluoroethylene-based polymer has a melting temperature of 200 to 320°C and has an oxygen-containing polar group. The composition of [1] or [2], which is a meltable tetrafluoroethylene-based polymer.

[4] 상기 제 1 입자로서, 열용융성 테트라플루오로에틸렌계 폴리머의 입자와 비열용융성 테트라플루오로에틸렌계 폴리머의 입자를 포함하는, [1] ∼ [3] 중 어느 하나의 조성물.[4] The composition according to any one of [1] to [3], wherein the first particles include particles of a heat-meltable tetrafluoroethylene-based polymer and particles of a non-heat-meltable tetrafluoroethylene-based polymer.

[5] 상기 제 1 입자의 평균 입자경이, 0.01 ㎛ 이상 10 ㎛ 미만인, [1] ∼ [4] 중 어느 하나의 조성물.[5] The composition according to any one of [1] to [4], wherein the average particle diameter of the first particles is 0.01 μm or more and less than 10 μm.

[6] 상기 제 2 입자가, 중공 실리카 입자 또는 중공 유리 입자인, [1] ∼ [5] 중 어느 하나의 조성물.[6] The composition according to any one of [1] to [5], wherein the second particles are hollow silica particles or hollow glass particles.

[7] 상기 제 2 입자의 평균 입자경이, 1 ∼ 100 ㎛ 인, [1] ∼ [6] 중 어느 하나의 조성물.[7] The composition according to any one of [1] to [6], wherein the average particle diameter of the second particles is 1 to 100 μm.

[8] 상기 제 3 입자가, 질화붕소 입자, 질화규소 입자 또는 질화알루미늄 입자인, [1] ∼ [7] 중 어느 하나의 조성물.[8] The composition according to any one of [1] to [7], wherein the third particles are boron nitride particles, silicon nitride particles, or aluminum nitride particles.

[9] 상기 제 3 입자의 평균 입자경이, 1 ∼ 50 ㎛ 인, [1] ∼ [8] 중 어느 하나의 조성물.[9] The composition according to any one of [1] to [8], wherein the third particles have an average particle diameter of 1 to 50 μm.

[10] 상기 제 3 입자가, 실란 커플링제로 표면 처리되어 있는 입자인, [1] ∼ [9] 중 어느 하나의 조성물.[10] The composition according to any one of [1] to [9], wherein the third particles are particles surface-treated with a silane coupling agent.

[11] 상기 제 1 입자의 평균 입자경이, 상기 제 2 입자의 평균 입자경 및 상기 제 3 입자의 평균 입자경 중 어느 것보다 작은, [1] ∼ [10] 중 어느 하나의 조성물.[11] The composition according to any one of [1] to [10], wherein the average particle diameter of the first particles is smaller than either the average particle diameter of the second particles or the average particle diameter of the third particles.

[12] 상기 제 3 입자의 평균 입자경에 대한, 상기 제 2 입자의 평균 입자경의 비가, 0.5 ∼ 3 인, [1] ∼ [11] 중 어느 하나의 조성물.[12] The composition according to any one of [1] to [11], wherein the ratio of the average particle diameter of the second particles to the average particle diameter of the third particles is 0.5 to 3.

[13] 유전율이 2.8 이하이고, 또한 유전 정접이 0.0025 이하인 성형물을 얻기 위해 사용되는, [1] ∼ [12] 중 어느 하나의 조성물.[13] The composition according to any one of [1] to [12], which is used to obtain a molded product having a dielectric constant of 2.8 or less and a dielectric loss tangent of 0.0025 or less.

[14] 상기 [1] ∼ [13] 중 어느 하나의 조성물을 압출하여, 상기 테트라플루오로에틸렌계 폴리머와 상기 제 2 입자와 상기 제 3 입자를 포함하는 시트를 얻는, 시트의 제조 방법.[14] A method for producing a sheet, wherein the composition of any one of [1] to [13] is extruded to obtain a sheet containing the tetrafluoroethylene polymer, the second particles, and the third particles.

[15] 상기 [1] ∼ [13] 중 어느 하나의 조성물을 기재의 표면에 배치하고, 상기 테트라플루오로에틸렌계 폴리머와 상기 제 2 입자와 상기 제 3 입자를 포함하는 폴리머층을 형성하여, 상기 기재로 구성되는 기재층과 상기 폴리머층을 갖는 적층체를 얻는, 적층체의 제조 방법.[15] The composition of any one of [1] to [13] is disposed on the surface of a substrate, and a polymer layer containing the tetrafluoroethylene polymer, the second particles, and the third particles is formed, A method for producing a laminate, comprising obtaining a laminate having a base material layer composed of the above base material and the polymer layer.

본 발명에 의하면, 테트라플루오로에틸렌계 폴리머의 입자와, 중공상인 입자와, 소정의 무기 화합물의 입자를 포함하고, 분산성이 우수한 조성물이 제공된다. 이와 같은 조성물로부터는, 선팽창 계수, 유전율 및 유전 정접이 낮고, 열전도성 및 접착성이 우수한, 유전 정접이 특히 낮은 성형물을 형성할 수 있다.According to the present invention, a composition containing particles of a tetrafluoroethylene-based polymer, hollow particles, and particles of a predetermined inorganic compound, and having excellent dispersibility is provided. From such a composition, it is possible to form a molded article with a low coefficient of linear expansion, dielectric constant, and low dielectric loss tangent, excellent thermal conductivity and adhesiveness, and a particularly low dielectric loss tangent.

이하의 용어는 이하의 의미를 갖는다.The following terms have the following meanings.

「평균 입자경 (D50)」은, 레이저 회절·산란법에 의해 구해지는, 입자의 체적 기준 누적 50 % 직경이다. 즉, 레이저 회절·산란법에 의해 입도 분포를 측정하고, 입자의 집단의 전체 체적을 100 % 로 하여 누적 커브를 구하고, 그 누적 커브 상에서 누적 체적이 50 % 가 되는 점의 입자경이다.“Average particle diameter (D50)” is the cumulative 50% diameter based on the volume of particles determined by laser diffraction/scattering method. That is, the particle size distribution is measured by a laser diffraction/scattering method, a cumulative curve is obtained with the total volume of the particle population being 100%, and the point on the cumulative curve at which the cumulative volume is 50% is the particle size.

입자의 D50 은, 입자를 수중에 분산시켜, 레이저 회절·산란식의 입도 분포 측정 장치 (호리바 제작소사 제조, LA-920 측정기) 를 사용한 레이저 회절·산란법에 의해 분석하여 구해진다.The D50 of the particles is determined by dispersing the particles in water and analyzing them by a laser diffraction/scattering method using a laser diffraction/scattering type particle size distribution measuring device (LA-920 measuring instrument manufactured by Horiba Seisakusho Co., Ltd.).

「D90」은, 입자의 누적 체적 입경이고, 「D50」과 동일하게 하여 구해지는 입자의 체적 기준 누적 90 % 직경이다.“D90” is the cumulative volume particle diameter of the particles, and is the volume-based cumulative 90% diameter of the particles, obtained in the same manner as “D50”.

「용융 온도」는, 시차 주사 열량 측정 (DSC) 법으로 측정한 폴리머의 융해 피크의 최대값에 대응하는 온도이다.“Melting temperature” is the temperature corresponding to the maximum value of the melting peak of the polymer measured by differential scanning calorimetry (DSC).

「유리 전이점 (Tg)」은, 동적 점탄성 측정 (DMA) 법으로 폴리머를 분석하여 측정되는 값이다.“Glass transition point (Tg)” is a value measured by analyzing a polymer using a dynamic viscoelasticity measurement (DMA) method.

「점도」는, B 형 점도계를 사용하여, 25 ℃ 에서 회전수가 30 rpm 인 조건하에서 조성물을 측정하여 구해진다. 측정을 3 회 반복하고, 3 회분의 측정값의 평균값으로 한다.“Viscosity” is determined by measuring the composition at 25°C using a B-type viscometer and with a rotation speed of 30 rpm. The measurement is repeated three times, and the average value of the three measurements is taken.

「틱소비」란, 조성물의, 회전수가 30 rpm 인 조건에서 측정되는 점도 η1 을, 회전수가 60 rpm 인 조건에서 측정되는 점도 η2 로 나누어 산출되는 값이다. 각각의 점도의 측정은, 3 회 반복하고, 3 회분의 측정값의 평균값으로 한다.“Tixo ratio” is a value calculated by dividing the viscosity η 1 of the composition measured under conditions where the rotation speed is 30 rpm by the viscosity η 2 measured under conditions where the rotation speed is 60 rpm. Each viscosity measurement is repeated three times, and the average value of the three measurements is taken.

폴리머에 있어서의「단위」란, 모노머의 중합에 의해 형성된 상기 모노머 1 분자에 기초하는 원자단을 의미한다. 단위는, 중합 반응에 의해 직접 형성된 단위여도 되고, 폴리머를 처리함으로써 상기 단위의 일부가 다른 구조로 변환된 단위여도 된다. 이하, 모노머 a 에 기초하는 단위를, 간단히 「모노머 a 단위」라고도 기재한다.“Unit” in a polymer means an atomic group based on one molecule of the monomer formed by polymerization of the monomer. The unit may be a unit formed directly through a polymerization reaction, or may be a unit in which a part of the unit is converted into a different structure by processing the polymer. Hereinafter, the unit based on monomer a is also simply described as “monomer a unit.”

본 발명의 조성물 (이하, 「본 조성물」이라고도 기재한다) 은, 테트라플루오로에틸렌계 폴리머 (이하, 「F 폴리머」라고도 기재한다) 의 제 1 입자와, 중공상인 제 2 입자와, 애스펙트비가 1 초과인 무기 화합물의 제 3 입자를 포함한다. 제 2 입자의 체적 농도에 대한 제 1 입자의 체적 농도의 비는 1 초과이고, 제 2 입자의 체적 농도에 대한 제 3 입자의 체적 농도의 비는 0.6 미만이다.The composition of the present invention (hereinafter also referred to as “this composition”) contains first particles of a tetrafluoroethylene-based polymer (hereinafter also referred to as “F polymer”), hollow second particles, and an aspect ratio of 1. and third particles of an inorganic compound in excess. The ratio of the volume concentration of the first particles to the volume concentration of the second particles is greater than 1, and the ratio of the volume concentration of the third particles to the volume concentration of the second particles is less than 0.6.

본 조성물은 분산성이 우수하고, 본 조성물로부터는, F 폴리머와 제 2 입자와 제 3 입자의 물성을 고도로 구비하고, 선팽창 계수, 유전율 및 유전 정접이 낮고, 열전도성 및 접착성이 우수한, 유전 정접이 특히 낮은 성형물을 형성하기 쉽다. 그 이유는 반드시 명확한 것은 아니지만, 이하와 같이 생각된다.This composition has excellent dispersibility, has high physical properties of the F polymer, second particles, and third particles, has a low linear expansion coefficient, dielectric constant, and dielectric loss tangent, and has excellent thermal conductivity and adhesiveness. It is easy to form moldings with particularly low loss tangents. The reason is not necessarily clear, but is thought to be as follows.

중공상의 입자는, 내포하는 공기에 의해, 이와 같은 중공상의 입자를 포함하는 성형물의 유전율과 유전 정접을 저하시키는 반면, 파손되기 쉬워, 성형물에 있어서, 그 물성을 충분히 발현하기 어렵다. 그래서, 본 조성물에서는, 저경도이고 또한 저슬라이딩성인 F 폴리머의 입자 (제 1 입자) 의 체적 농도를 중공상의 입자 (제 2 입자) 의 체적 농도보다 높이고, 본 조성물 중에서 제 2 입자에 가해지는 응력을 제 1 입자에 의해 완충시켜, 제 2 입자의 파손을 억제하고 있다. 특히, 본 조성물을 가공하여 성형할 때에, 이와 같은 억제 효과는 현저해지기 쉽다.While hollow particles lower the dielectric constant and dielectric loss tangent of a molded product containing such hollow particles due to the air they contain, they are prone to breakage, making it difficult for the molded product to fully express its physical properties. Therefore, in the present composition, the volume concentration of the low-hardness and low-sliding F polymer particles (first particles) is higher than the volume concentration of the hollow particles (second particles), and the stress applied to the second particles in the present composition is cushioned by the first particles to suppress breakage of the second particles. In particular, when this composition is processed and molded, this inhibitory effect tends to become significant.

또한, 본 조성물은, 애스펙트비가 1 초과인 무기 화합물의 입자 (제 3 입자) 를, 제 2 입자의 체적 농도에 대하여, 소정 미만의 비율로 포함하고 있다. 이와 같은 과소로 포함되는 제 3 입자는, 응집되기 어려워, 제 1 입자 및 제 2 입자와 균일하게 분산되기 쉬운 상태를 형성하고 있다고 생각된다. 또한, 본 조성물을 가공하여 성형할 때에, 과잉으로 포함되는 제 2 입자의 치밀한 충전이 진행되고, 이것이 성형물 중에서의 제 3 입자의 고도의 배향 배치를 촉진하고 있는, 바꾸어 말하면, 성형물 중에서 제 3 입자에 의한 열전도 패스의 형성을 촉진하고 있다고도 생각된다.Additionally, the present composition contains particles (third particles) of an inorganic compound having an aspect ratio greater than 1 in a ratio less than a predetermined amount relative to the volume concentration of the second particles. It is thought that the third particles contained in such an excessive amount are less likely to aggregate and form a state in which they are easily dispersed uniformly with the first particles and the second particles. In addition, when processing and molding the present composition, dense packing of the excessively contained second particles proceeds, which promotes a high degree of orientation of the third particles in the molded article, in other words, the third particles in the molded article. It is also thought that the formation of a heat conduction path is promoted.

그 결과, F 폴리머와 제 2 입자와 제 3 입자의 물성을 고도로 구비하고, 구체적으로는, 선팽창 계수, 유전율 및 유전 정접이 낮고, 열전도성 및 접착성이 우수한 성형물이 본 조성물로부터 얻어진 것으로 생각된다.As a result, it is believed that a molded article having high physical properties of the F polymer, second particles, and third particles, specifically, low linear expansion coefficient, dielectric constant, and dielectric loss tangent, and excellent thermal conductivity and adhesiveness was obtained from this composition. .

본 발명에 있어서의 F 폴리머는, 테트라플루오로에틸렌 (이하, 「TFE」라고도 기재한다) 에 기초하는 단위 (이하, 「TFE 단위」라고도 기재한다) 를 포함하는 폴리머이다. F 폴리머는, 열용융성이어도 되고, 비열용융성이어도 된다.The F polymer in the present invention is a polymer containing a unit (hereinafter also referred to as “TFE unit”) based on tetrafluoroethylene (hereinafter also referred to as “TFE”). The F polymer may be heat-fusible or non-heat-fusible.

열용융성의 폴리머란, 하중 49 N 의 조건하, 용융 흐름 속도가 1 ∼ 1000 g/10 분이 되는 온도가 존재하는 폴리머를 의미한다.A heat-meltable polymer refers to a polymer at which a melt flow rate is 1 to 1000 g/10 min under the condition of a load of 49 N.

비열용융성의 폴리머란, 하중 49 N 의 조건하, 용융 흐름 속도가 1 ∼ 1000 g/10 분이 되는 온도가 존재하지 않는 폴리머를 의미한다.A non-heat meltable polymer means a polymer at which there is no temperature at which the melt flow rate is 1 to 1000 g/10 min under the condition of a load of 49 N.

열용융성인 F 폴리머의 용융 온도는, 200 ℃ 이상이 바람직하고, 260 ℃ 이상이 더욱 바람직하다. 상기 F 폴리머의 용융 온도는, 325 ℃ 이하가 바람직하고, 320 ℃ 이하가 보다 바람직하다. 상기 F 폴리머의 용융 온도는 200 ∼ 320 ℃ 가 바람직하다. 이 경우, 본 조성물이 가공성이 우수하기 쉽고, 또한 본 조성물로 형성되는 성형물이 내열성이 우수하기 쉽다.The melting temperature of the heat-meltable F polymer is preferably 200°C or higher, and more preferably 260°C or higher. The melting temperature of the F polymer is preferably 325°C or lower, and more preferably 320°C or lower. The melting temperature of the F polymer is preferably 200 to 320°C. In this case, the composition tends to have excellent processability, and the molded article formed from the composition tends to have excellent heat resistance.

F 폴리머의 유리 전이점은, 50 ℃ 이상이 바람직하고, 75 ℃ 이상이 보다 바람직하다. F 폴리머의 유리 전이점은, 150 ℃ 이하가 바람직하고, 125 ℃ 이하가 보다 바람직하다.The glass transition point of the F polymer is preferably 50°C or higher, and more preferably 75°C or higher. The glass transition point of the F polymer is preferably 150°C or lower, and more preferably 125°C or lower.

F 폴리머의 불소 함유량은, 70 질량% 이상이 바람직하고, 72 ∼ 76 질량% 가 보다 바람직하다.The fluorine content of the F polymer is preferably 70% by mass or more, and more preferably 72 to 76% by mass.

F 폴리머의 표면 장력은, 16 ∼ 26 mN/m 이 바람직하다. 또한, F 폴리머의 표면 장력은, F 폴리머로 제작된 평판 상에, JIS K 6768 에 규정되어 있는 젖음 장력 시험용 혼합액 (와코 순약사 제조) 의 액적을 재치하여 측정할 수 있다.The surface tension of F polymer is preferably 16 to 26 mN/m. In addition, the surface tension of the F polymer can be measured by placing a droplet of the liquid mixture for the wetting tension test (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) specified in JIS K 6768 on a flat plate made of the F polymer.

F 폴리머로는, 폴리테트라플루오로에틸렌 (PTFE), TFE 단위와 에틸렌에 기초하는 단위를 포함하는 폴리머, TFE 단위와 프로필렌에 기초하는 단위를 포함하는 폴리머, TFE 단위와 퍼플루오로(알킬비닐에테르) (PAVE) 에 기초하는 단위 (PAVE 단위) 를 포함하는 중합체 (PFA), TFE 단위와 헥사플루오로프로필렌에 기초하는 단위를 포함하는 중합체 (FEP) 가 바람직하고, PFA 및 FEP 가 보다 바람직하고, PFA 가 더욱 바람직하다. 이들 폴리머는, 추가로 다른 코모노머에 기초하는 단위를 포함하고 있어도 된다.F polymers include polytetrafluoroethylene (PTFE), polymers containing TFE units and ethylene-based units, polymers containing TFE units and propylene-based units, TFE units and perfluoro(alkyl vinyl ethers) ) (PAVE), polymers containing units based on (PAVE) (PAVE units), polymers containing TFE units and units based on hexafluoropropylene (FEP) are preferred, PFA and FEP are more preferred, PFA is more preferred. These polymers may further contain units based on other comonomers.

PAVE 로는, CF2=CFOCF3, CF2=CFOCF2CF3 및 CF2=CFOCF2CF2CF3 (이하,「PPVE」라고도 기재한다) 가 바람직하고, PPVE 가 보다 바람직하다.As PAVE, CF 2 =CFOCF 3 , CF 2 =CFOCF 2 CF 3 and CF 2 =CFOCF 2 CF 2 CF 3 (hereinafter also referred to as “PPVE”) are preferable, and PPVE is more preferable.

F 폴리머는, 산소 함유 극성기를 갖는 것이 바람직하고, 수산기 함유기 또는 카르보닐기 함유기를 갖는 것이 보다 바람직하고, 카르보닐기 함유기를 갖는 것이 더욱 바람직하다.The F polymer preferably has an oxygen-containing polar group, more preferably has a hydroxyl group-containing group or a carbonyl group-containing group, and even more preferably has a carbonyl group-containing group.

이 경우, 제 1 입자가, 제 2 입자 및 제 3 입자와 상호 작용하기 쉬워, 본 조성물이 분산성이 우수하기 쉽다. 또한, 본 조성물로부터, 선팽창 계수, 유전율 및 유전 정접이 낮고, 열전도성 및 접착성이 우수한 성형물을 얻기 쉽다.In this case, the first particles are likely to interact with the second particles and third particles, and the composition is likely to have excellent dispersibility. In addition, from this composition, it is easy to obtain a molded article with a low coefficient of linear expansion, dielectric constant, and dielectric loss tangent, and excellent thermal conductivity and adhesiveness.

수산기 함유기로는, 알코올성 수산기를 포함하는 기가 바람직하고, -CF2CH2OH 및 -C(CF3)2OH 가 보다 바람직하다.As the hydroxyl group-containing group, a group containing an alcoholic hydroxyl group is preferable, and -CF 2 CH 2 OH and -C(CF 3 ) 2 OH are more preferable.

카르보닐기 함유기로는, 카르복실기, 알콕시카르보닐기, 아미드기, 이소시아네이트기, 카르바메이트기 (-OC(O)NH2), 산 무수물잔기 (-C(O)OC(O)-), 이미드잔기 (-C(O)NHC(O)- 등) 및 카보네이트기 (-OC(O)O-) 가 바람직하고, 산 무수물잔기가 보다 바람직하다.Carbonyl group-containing groups include carboxyl group, alkoxycarbonyl group, amide group, isocyanate group, carbamate group (-OC(O)NH 2 ), acid anhydride residue (-C(O)OC(O)-), and imide residue ( -C(O)NHC(O)-, etc.) and carbonate groups (-OC(O)O-) are preferred, and acid anhydride residues are more preferred.

F 폴리머가 산소 함유 극성기를 갖는 경우, F 폴리머에 있어서의 산소 함유 극성기의 수는, 주사슬의 탄소수 1 × 106 개당, 10 ∼ 5000 개가 바람직하고, 100 ∼ 3000 개가 보다 바람직하다. 또한, F 폴리머에 있어서의 산소 함유 극성기의 수는 폴리머의 조성 또는 국제 공개 제 2020/145133호에 기재된 방법에 의해 정량할 수 있다.When the F polymer has an oxygen-containing polar group, the number of oxygen-containing polar groups in the F polymer is preferably 10 to 5,000, more preferably 100 to 3,000, per 1 × 10 6 carbon atoms in the main chain. In addition, the number of oxygen-containing polar groups in the F polymer can be quantified by the composition of the polymer or the method described in International Publication No. 2020/145133.

산소 함유 극성기는, F 폴리머 중의 모노머에 기초하는 단위에 포함되어 있어도 되고, F 폴리머의 주사슬의 말단기에 포함되어 있어도 되며, 전자가 바람직하다. 후자의 양태로는, 중합 개시제, 연쇄 이동제 등에서 유래하는 말단기로서 산소 함유 극성기를 갖는 F 폴리머, F 폴리머를 플라즈마 처리나 전리선 처리하여 얻어지는 F 폴리머를 들 수 있다.The oxygen-containing polar group may be contained in a unit based on a monomer in the F polymer or may be contained in a terminal group of the main chain of the F polymer, with the former being preferred. Examples of the latter embodiment include F polymers having oxygen-containing polar groups as terminal groups derived from polymerization initiators, chain transfer agents, etc., and F polymers obtained by plasma treatment or ionizing radiation treatment of F polymers.

카르보닐기 함유기를 갖는 모노머로는, 무수 이타콘산, 무수 시트라콘산 및 5-노르보르넨-2,3-디카르복실산 무수물 (이하, 「NAH」라고도 기재한다) 이 바람직하고, NAH 가 보다 바람직하다.As monomers having a carbonyl group-containing group, itaconic anhydride, citraconic anhydride, and 5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride (hereinafter also referred to as “NAH”) are preferable, and NAH is more preferable. do.

F 폴리머는, TFE 단위 및 PAVE 단위를 포함하는, 카르보닐기 함유기를 갖는 폴리머인 것이 바람직하고, TFE 단위, PAVE 단위 및 카르보닐기 함유기를 갖는 모노머에 기초하는 단위를 포함하고, 전체 단위에 대하여, 이들 단위를 이 순서대로 90 ∼ 99 몰%, 0.99 ∼ 9.97 몰%, 0.01 ∼ 3 몰% 포함하는 폴리머인 것이 더욱 바람직하다. 이와 같은 F 폴리머의 구체예로는, 국제공개 제2018/16644호에 기재되는 폴리머를 들 수 있다.The F polymer is preferably a polymer having a carbonyl group-containing group, including a TFE unit and a PAVE unit, and includes a TFE unit, a PAVE unit, and a unit based on a monomer having a carbonyl group-containing group, and these units are included for all units. It is more preferable that it is a polymer containing 90 to 99 mol%, 0.99 to 9.97 mol%, and 0.01 to 3 mol% in this order. Specific examples of such F polymers include the polymer described in International Publication No. 2018/16644.

본 발명에 있어서의 제 1 입자는 F 폴리머의 입자이고, 비중공상의 입자이다. 제 1 입자는 펠릿상이어도 된다.The first particles in the present invention are F polymer particles and are non-hollow particles. The first particles may be in the form of pellets.

제 1 입자의 D50 은, 0.01 ㎛ 이상이 바람직하고, 0.3 ㎛ 이상이 보다 바람직하고, 1 ㎛ 이상이 더욱 바람직하다. 제 1 입자의 D50 은, 10 ㎛ 미만이 바람직하고, 8 ㎛ 미만이 보다 바람직하다. 이 경우, 본 조성물이 분산성과 가공성이 우수하기 쉽다. 또한, 본 조성물로부터, 선팽창 계수, 유전율 및 유전 정접이 낮고, 열전도성 및 접착성이 우수한 성형물을 얻기 쉽다.D50 of the first particle is preferably 0.01 μm or more, more preferably 0.3 μm or more, and still more preferably 1 μm or more. The D50 of the first particles is preferably less than 10 μm, and more preferably less than 8 μm. In this case, the composition tends to have excellent dispersibility and processability. In addition, from this composition, it is easy to obtain a molded article with a low coefficient of linear expansion, dielectric constant, and dielectric loss tangent, and excellent thermal conductivity and adhesiveness.

제 1 입자의 비표면적은, 1 ∼ 25 ㎡/g 이 바람직하다.The specific surface area of the first particles is preferably 1 to 25 m2/g.

제 1 입자는, 열용융성 F 폴리머의 입자인 것이 바람직하고, 용융 온도가 200 ∼ 320 ℃ 인, 산소 함유 극성기를 갖는 열용융성 F 폴리머의 입자인 것이 보다 바람직하다.The first particles are preferably particles of a heat-meltable F polymer, and more preferably are particles of a heat-meltable F polymer having an oxygen-containing polar group and having a melting temperature of 200 to 320°C.

이 경우, 상기 서술한 작용 기구에 있어서의 제 1 입자의 응력의 완충 작용이 높아지기 쉽다. 또한, 이종 입자간의 상호 작용이 높아지고, 각각의 입자의 응집도 억제되기 쉬워져, 본 조성물의 분산성이 향상되기 쉽다.In this case, the buffering action of the stress of the first particle in the above-described action mechanism is likely to increase. Additionally, the interaction between different types of particles increases, agglomeration of individual particles is easily suppressed, and the dispersibility of the present composition is likely to improve.

본 조성물은, 2 종 이상의 제 1 입자를 포함해도 된다. 구체적으로는, 예를 들어, F 폴리머가 상이한 2 종 이상의 제 1 입자를 포함하는 조성물, 후술하는 부성분의 유무나 부성분의 종류가 상이한 제 1 입자의 2 종 이상을 포함하는 조성물, D50 이 상이한 2 종 이상의 제 1 입자 분체에서 유래하는 제 1 입자를 포함하는 조성물 등을 들 수 있다. 본 조성물이 2 종 이상의 제 1 입자를 포함하는 양태로는, F 폴리머가 상이한 제 1 입자의 2 종 이상을 포함하는 조성물이 바람직하다.This composition may contain two or more types of first particles. Specifically, for example, a composition containing two or more types of first particles with different F polymers, a composition containing two or more types of first particles with different presence or absence of subcomponents described later and different types of subcomponents, and 2 with different D50s. and a composition containing first particles derived from more than one type of first particle powder. In an embodiment in which the present composition contains two or more types of first particles, a composition containing two or more types of first particles with different F polymers is preferred.

본 조성물이 F 폴리머가 상이한 2 종 이상의 제 1 입자를 포함하는 조성물인 경우, 2 종 이상의 제 1 입자 중 적어도 1 종은 상기 열용융성 F 폴리머의 입자인 것이 바람직하다.When the present composition is a composition containing two or more types of first particles of different F polymers, it is preferable that at least one type of the two or more types of first particles is a particle of the heat-meltable F polymer.

본 조성물이 2 종의 제 1 입자를 포함하는 경우, 본 조성물은 제 1 입자로서 열용융성 F 폴리머의 입자와 비열용융성 F 폴리머의 입자를 포함하는 것이 바람직하다. 이 경우, 열용융성 F 폴리머의 입자에 의한 제 2 입자의 완충 작용 및 응집 억제 작용과, 비열용융성 F 폴리머의 피브릴화에 의한 제 2 입자 및 제 3 입자의 유지 작용이 균형을 이루어, 본 조성물의 분산성이 향상되기 쉽다. 또한, 그것으로부터 얻어지는 성형물에 있어서, 비열용융성 F 폴리머의 전기 특성이 고도로 발현되고, 특히 유전 정접이 낮은 성형물이 얻어지기 쉽다.When the composition contains two types of first particles, the composition preferably contains particles of heat-meltable F polymer and particles of non-heat-meltable F polymer as the first particles. In this case, the buffering action and aggregation-inhibiting action of the second particles by the particles of the heat-meltable F polymer and the holding action of the second and third particles by fibrillation of the non-heat-meltable F polymer are balanced, The dispersibility of the present composition is likely to be improved. In addition, in the molded product obtained therefrom, the electrical properties of the non-heat-meltable F polymer are highly expressed, and in particular, a molded product with a low dielectric loss tangent is easy to obtain.

전자의 입자로는, 용융 온도가 200 ∼ 320 ℃ 인 열용융성 F 폴리머의 입자가 바람직하고, 용융 온도가 200 ∼ 320 ℃ 이고, 산소 함유 극성기를 갖는 열용융성 F 폴리머의 입자가 보다 바람직하다. 전자의 입자에 있어서의, 산소 함유 극성기를 갖는 열용융성 F 폴리머의 바람직한 양태는, 상기 서술한 산소 함유 극성기를 갖는 F 폴리머에 있어서의 바람직한 양태와 동일하다.As the former particles, particles of heat-meltable F polymer having a melting temperature of 200 to 320°C are preferable, and particles of heat-meltable F polymer having a melting temperature of 200 to 320°C and having an oxygen-containing polar group are more preferable. . The preferred embodiment of the heat-meltable F polymer having an oxygen-containing polar group in the former particle is the same as the preferred embodiment of the F polymer having an oxygen-containing polar group described above.

후자의 입자로는, 비열용융성 PTFE 의 입자가 바람직하다.As the latter particles, particles of non-heat meltable PTFE are preferred.

또한, 2 종의 제 1 입자의 총 체적에 대한 전자의 입자의 체적 농도는, 50 체적% 이하가 바람직하고, 25 체적% 이하가 보다 바람직하다. 또한, 상기 체적 농도는, 0.1 체적% 이상이 바람직하고, 1 체적% 이상이 보다 바람직하다.Additionally, the volume concentration of the former particles relative to the total volume of the two types of first particles is preferably 50 volume% or less, and more preferably 25 volume% or less. Moreover, the volume concentration is preferably 0.1 volume% or more, and more preferably 1 volume% or more.

또한, 전자의 입자의 D50 은 1 ∼ 4 ㎛ 이고, 또한, 후자의 입자의 D50 은 0.1 ∼ 1 ㎛ 인 것이 바람직하다.In addition, the former particles preferably have a D50 of 1 to 4 μm, and the latter particles preferably have a D50 of 0.1 to 1 μm.

제 1 입자는 F 폴리머를 포함하는 입자이고, F 폴리머로 이루어지는 것이 바람직하다.The first particles are particles containing F polymer, and are preferably made of F polymer.

제 1 입자는, F 폴리머 이외의 수지나 무기 화합물을 포함하고 있어도 되고, F 폴리머를 코어로 하고 F 폴리머 이외의 수지 또는 무기 화합물을 쉘로 하는 코어-쉘 구조를 형성하고 있어도 되고, F 폴리머를 쉘로 하고 F 폴리머 이외의 수지 또는 무기 화합물을 코어로 하는 코어-쉘 구조를 형성하고 있어도 된다.The first particle may contain a resin or an inorganic compound other than the F polymer, or may form a core-shell structure with the F polymer as the core and a resin or an inorganic compound other than the F polymer as the shell, or may have the F polymer as the shell. and may form a core-shell structure with a resin other than F polymer or an inorganic compound as the core.

여기서, F 폴리머 이외의 수지로는, 방향족 폴리에스테르, 폴리아미드이미드, 폴리이미드, 말레이미드를 들 수 있고, 무기 화합물로는, 실리카, 질화붕소를 들 수 있다.Here, resins other than F polymer include aromatic polyester, polyamidoimide, polyimide, and maleimide, and examples of inorganic compounds include silica and boron nitride.

본 발명에 있어서의 제 2 입자는, 중공상의 입자이다. 본 조성물은, 2 종 이상의 제 2 입자를 포함하고 있어도 된다. 제 2 입자의 형상은, 구상, 침상 (섬유상), 판상 중 어느 것이어도 되고, 구상인 것이 바람직하다. 이 경우, 본 조성물이 분산성과 가공성이 우수하기 쉽다. 또한, 본 조성물로부터 전기 특성이 우수한 성형물을 얻기 쉽다.The second particles in the present invention are hollow particles. This composition may contain two or more types of second particles. The shape of the second particles may be spherical, needle-shaped (fibrous), or plate-shaped, and is preferably spherical. In this case, the composition tends to have excellent dispersibility and processability. Additionally, it is easy to obtain molded articles with excellent electrical properties from this composition.

구상인 제 2 입자는, 대략 진구상인 것이 바람직하다. 대략 진구상이란, 주사형 전자 현미경 (SEM) 에 의해 입자를 관찰했을 때, 장경에 대한 단경의 비가 0.7 이상인 입자가 차지하는 비율이 95 % 이상인 것을 의미한다.The spherical second particles are preferably substantially spherical. A roughly spherical shape means that when the particles are observed with a scanning electron microscope (SEM), the proportion of particles having a ratio of the minor axis to the major axis of 0.7 or more is 95% or more.

제 2 입자는, 수지의 입자여도 되고, 무기물의 입자여도 되고, 무기물의 입자인 것이 바람직하다. 이 경우, 본 조성물로부터 전기 특성, 열전도율과 저선팽창성이 우수한 성형물을 얻기 쉽다.The second particles may be resin particles or inorganic particles, and are preferably inorganic particles. In this case, it is easy to obtain a molded article excellent in electrical properties, thermal conductivity, and low linear expansion from this composition.

수지의 입자에 있어서의 수지로는, 내열성의 열가소성 수지 및 열경화성 수지 등의 경화성 수지의 경화물을 들 수 있다. 상기 열가소성 수지나 경화성 수지의 구체예로는, 액정성의 방향족 폴리에스테르 등의 폴리에스테르 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아미드이미드 수지, 에폭시 수지, 말레이미드 수지, 우레탄 수지, 폴리페닐렌에테르 수지, 폴리페닐렌옥사이드 수지, 폴리페닐렌술파이드 수지를 들 수 있다.Resins in the resin particles include cured products of curable resins such as heat-resistant thermoplastic resins and thermosetting resins. Specific examples of the thermoplastic resin and curable resin include polyester resins such as liquid crystalline aromatic polyester, polyimide resin, polyamidoimide resin, epoxy resin, maleimide resin, urethane resin, polyphenylene ether resin, and polyphenyl. Examples include lene oxide resin and polyphenylene sulfide resin.

무기물의 입자에 있어서의 무기물로는, 탄소, 무기 질화물 및 무기 산화물을 들 수 있고, 탄소 섬유, 유리, 질화붕소, 질화알루미늄, 베릴리아, 실리카, 월라스토나이트, 탤크, 산화세륨, 산화알루미늄, 산화마그네슘, 산화아연 및 산화티탄이 바람직하다.Inorganic substances in the inorganic particles include carbon, inorganic nitride, and inorganic oxide, including carbon fiber, glass, boron nitride, aluminum nitride, beryllia, silica, wollastonite, talc, cerium oxide, aluminum oxide, Magnesium oxide, zinc oxide and titanium oxide are preferred.

제 2 입자로는, 중공 유리 입자 및 중공 실리카 입자가 바람직하고, 중공 유리 입자가 보다 바람직하다. 이 경우, 본 조성물로부터 전기 특성이 우수한 성형물을 얻기 쉽다.As the second particles, hollow glass particles and hollow silica particles are preferable, and hollow glass particles are more preferable. In this case, it is easy to obtain molded articles with excellent electrical properties from this composition.

중공 유리 입자로는, 중공상의 붕규산 유리 입자 및 중공상의 소다석회 붕규산 유리 입자가 바람직하고, 중공상의 소다석회 붕규산 유리 입자가 보다 바람직하다.As the hollow glass particles, hollow borosilicate glass particles and hollow soda-lime borosilicate glass particles are preferable, and hollow soda-lime borosilicate glass particles are more preferable.

중공 실리카 입자의 구체예로는,「E-SPHERES」시리즈 (타이헤이요 시멘트사 제조),「실리낙스」시리즈 (닛테츠 광업사 제조),「에코코스푸이야」시리즈 (에머슨·앤드·카밍사 제조) 를 들 수 있다.Specific examples of hollow silica particles include the “E-SPHERES” series (manufactured by Taiheiyo Cement Co., Ltd.), the “Silinax” series (manufactured by Nittetsu Mining Co., Ltd.), and the “Ecocosphere” series (Emerson & Kaming) manufactured by the company) can be mentioned.

중공 유리 입자의 구체예로는,「글래스버블즈」시리즈의「S4630」,「S3240-VS」,「S60HS」,「S32HS」,「iM16K」,「iM30K」그레이드 (3M 사 제조) 를 들 수 있다.Specific examples of hollow glass particles include “S4630,” “S3240-VS,” “S60HS,” “S32HS,” “iM16K,” and “iM30K” grades of the “Glass Bubbles” series (manufactured by 3M). there is.

제 2 입자의 D50 은, 1 ㎛ 이상이 바람직하고, 3 ㎛ 이상이 보다 바람직하고, 10 ㎛ 이상이 더욱 바람직하다. 제 2 입자의 D50 은, 100 ㎛ 이하가 바람직하고, 50 ㎛ 이하가 보다 바람직하고, 20 ㎛ 이하가 더욱 바람직하다.The D50 of the second particle is preferably 1 μm or more, more preferably 3 μm or more, and still more preferably 10 μm or more. The D50 of the second particles is preferably 100 μm or less, more preferably 50 μm or less, and still more preferably 20 μm or less.

제 2 입자의 진밀도는, 0.2 ∼ 1 g/㎤ 이 바람직하고, 0.3 ∼ 0.8 g/㎤ 이 보다 바람직하다.The true density of the second particles is preferably 0.2 to 1 g/cm3, and more preferably 0.3 to 0.8 g/cm3.

제 2 입자의 부피 밀도는, 0.1 ∼ 0.5 g/㎤ 이 바람직하고, 0.2 ∼ 0.4 g/㎤ 이 보다 바람직하다.The bulk density of the second particles is preferably 0.1 to 0.5 g/cm3, and more preferably 0.2 to 0.4 g/cm3.

제 2 입자의 내압 강도는, 30 ㎫ 이상이 바람직하고, 100 ㎫ 이상이 보다 바람직하며, 150 ㎫ 이상이 더 바람직하다. 내압 강도의 상한은, 200 ㎫ 가 바람직하다. 또한, 내압 강도는, ASTM D 3102-78 에서 측정되는 내압 강도이고, 구체적으로는, 글리세린 중에 중공 입자를 적당량 넣고 가압하여, 중공 입자가 파쇄되어 체적이 10 % 감소한 압력을 내압 강도로 한다.The pressure strength of the second particles is preferably 30 MPa or more, more preferably 100 MPa or more, and still more preferably 150 MPa or more. The upper limit of the pressure strength is preferably 200 MPa. In addition, the internal pressure strength is the internal pressure strength measured in ASTM D 3102-78, and specifically, an appropriate amount of hollow particles are placed in glycerin and pressurized, and the pressure at which the hollow particles are crushed and the volume is reduced by 10% is considered the internal pressure strength.

제 2 입자의 표면은, 실란 커플링제로 표면 처리되어 있는 것이 바람직하다.The surface of the second particle is preferably surface treated with a silane coupling agent.

실란 커플링제는, 부분적으로 반응하고 있어도 되고, 폴리실록산 골격을 형성하고 있어도 된다.The silane coupling agent may be partially reacting or may form a polysiloxane skeleton.

실란 커플링제에 있어서의 가수분해성 실릴기로는, 모노알콕시실릴기, 디알콕시실릴기, 트리알콕시실릴기가 바람직하고, 트리알콕시실릴기가 보다 바람직하다. 가수분해성 실릴기는 가수분해되어 있어도 된다.As the hydrolyzable silyl group in the silane coupling agent, a monoalkoxysilyl group, dialkoxysilyl group, and trialkoxysilyl group are preferable, and a trialkoxysilyl group is more preferable. The hydrolyzable silyl group may be hydrolyzed.

실란 커플링제에 있어서의 유기기로는, 비닐기, 에폭시기, 스티릴기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 아미노기, 이소시아네이트기, 메르캅토기, 벤조트리아졸기, 산 무수물기 등을 갖는 1 가의 유기기를 들 수 있고, 비닐기, 에폭시기, 벤조트리아졸기, 페닐기 또는 우레이도기를 갖는 1 가의 유기기가 바람직하고, 에폭시기를 갖는 1 가의 유기기가 보다 바람직하다. 실란 커플링제는, 상이한 종류의 유기기를 복수 갖고 있어도 되고, 동일한 종류의 유기기를 복수 갖고 있어도 된다.Organic groups in the silane coupling agent include monovalent groups having vinyl group, epoxy group, styryl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, amino group, isocyanate group, mercapto group, benzotriazole group, acid anhydride group, etc. Examples of the organic group include a vinyl group, an epoxy group, a benzotriazole group, a phenyl group, or a ureido group, with a monovalent organic group being preferable, and a monovalent organic group having an epoxy group being more preferable. The silane coupling agent may have multiple organic groups of different types, or may have multiple organic groups of the same type.

실란 커플링제는, 트리알콕시실릴기와, 벤조트리아졸기 또는 에폭시기를 갖는 화합물인 것이 바람직하고, 트리알콕시실릴기와, 에폭시기를 갖는 화합물인 것이 보다 바람직하다.The silane coupling agent is preferably a compound having a trialkoxysilyl group, a benzotriazole group, or an epoxy group, and more preferably a compound having a trialkoxysilyl group and an epoxy group.

실란 커플링제로는, 벤조트리아졸기와 트리메톡시실릴기를 각각 주사슬의 양 말단에 갖는 화합물, 주사슬에 3 개의 에폭시기를 갖고 측사슬에 복수의 트리에톡시실릴기를 갖는 화합물, 주사슬에 실록산 구조를 갖고 주사슬의 양방 말단에 아미노기를 갖는 화합물, 주사슬에 부타디엔 구조를 갖고 측사슬에 산 무수물기와 트리메톡시실릴기를 1 개씩 갖는 화합물, 주사슬에 알콕시실록산 구조를 갖고 측사슬에 복수의 에폭시기를 갖는 화합물을 들 수 있다.Silane coupling agents include compounds having a benzotriazole group and a trimethoxysilyl group at both ends of the main chain, compounds having three epoxy groups in the main chain and multiple triethoxysilyl groups in the side chain, and siloxane in the main chain. A compound having an amino group structure at both ends of the main chain, a compound having a butadiene structure in the main chain and one acid anhydride group and one trimethoxysilyl group in the side chain, and a compound having an alkoxysiloxane structure in the main chain and multiple side chains. Compounds having an epoxy group can be mentioned.

실란 커플링제로는, 구체적으로는, 비닐트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, p-스티릴트리메톡시실란, 3-트리메톡시실릴프로필숙신산 무수물, N-2-(아미노메틸)-8-아미노옥틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란을 들 수 있다.Silane coupling agents include, specifically, vinyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-isocyanatepropyltriethoxysilane, and N-phenyl- 3-Aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-tri Methoxysilylpropylsuccinic anhydride, N-2-(aminomethyl)-8-aminooctyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane Sidoxypropyltriethoxysilane and 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane can be mentioned.

실란 커플링제의 구체적인 제품으로는,「KBM-573」,「KBM-403」,「KBM-903」,「KBE-903」,「KBM-1403」,「X-12-967C」,「X-12-1214A」,「X-12-984S」,「X-12-1271A」,「KBP-90」,「KBM-6803」,「X-12-1287A」,「KBM-402」,「KBE-402」,「KBE-403」,「KR-516」「KBM-303」,「KBM-4803」,「KBM-3063」,「KBM-13」 (이상, 신에츠 화학 공업 주식회사 제조) 을 들 수 있다.Specific products of silane coupling agent include “KBM-573”, “KBM-403”, “KBM-903”, “KBE-903”, “KBM-1403”, “X-12-967C”, and “X- 12-1214A”, 「 402,” “KBE-403,” “KR-516,” “KBM-303,” “KBM-4803,” “KBM-3063,” and “KBM-13” (all manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). .

제 2 입자를 실란 커플링제로 표면 처리하는 방법으로는, 실란 커플링제를 포함하는 용액과, 제 2 입자를 혼합 처리하고, 건조시키는 방법을 들 수 있다. 혼합 처리에 있어서는, 상기 용액과 상기 제 2 입자의 혼합물을 가열 또는 가수하여, 실란 커플링제의 반응을 촉진시켜도 된다. 또한, 반응 촉매에 의해, 실란 커플링제의 반응을 가속시켜도 된다. 또한, 건조 후, 실란 커플링제로 표면 처리된 제 2 입자를 해쇄해도 되고, 분급해도 된다.A method of surface treating the second particles with a silane coupling agent includes mixing a solution containing a silane coupling agent and the second particles, followed by drying. In the mixing treatment, the mixture of the solution and the second particles may be heated or watered to promote the reaction of the silane coupling agent. Additionally, the reaction of the silane coupling agent may be accelerated using a reaction catalyst. Additionally, after drying, the second particles surface-treated with a silane coupling agent may be pulverized or classified.

중공 실리카 입자 또는 중공 유리 입자인 제 2 입자는, 알칼리성 용액으로 침지하거나, 또는 상기 알칼리성 용액에 의해 세정함으로써, 표면에 있어서의 나트륨 함유량을 저감시키는 것이 바람직하다. 알칼리성 용액으로는 수산화암모늄 수용액을 들 수 있다.It is preferable to reduce the sodium content on the surface of the second particles, which are hollow silica particles or hollow glass particles, by immersing them in an alkaline solution or washing them with the alkaline solution. An alkaline solution may include an aqueous ammonium hydroxide solution.

중공 실리카 입자 또는 중공 유리 입자인 제 2 입자의, 표면에 있어서의 나트륨 산화물 함유량은, 1 ∼ 4 질량% 가 바람직하다. 또한, 상기 함유량은, XPS 표면 분석에 의해 구해진다. 이 경우, 제 2 입자가 제 1 입자나 제 3 입자와 상호 작용하기 쉬워, 본 조성물이 분산성과 가공성이 우수하기 쉽다. 또한, 본 조성물로부터 전기 특성이 우수한, 특히 유전 정접이 낮은 성형물을 얻기 쉽다.The sodium oxide content on the surface of the second particles, which are hollow silica particles or hollow glass particles, is preferably 1 to 4 mass%. In addition, the above content is determined by XPS surface analysis. In this case, the second particles are likely to interact with the first or third particles, and the composition is likely to have excellent dispersibility and processability. In addition, it is easy to obtain molded products with excellent electrical properties, especially low dielectric loss tangent, from this composition.

중공 실리카 입자 또는 중공 유리 입자인 제 2 입자는, 알칼리성 용액으로 침지 또는 세정한 후에 실란 커플링제로 표면 처리하는 것이 바람직하다. 이 경우, 제 2 입자가 제 1 입자나 제 3 입자와 상호 작용하기 쉽다.The second particles, which are hollow silica particles or hollow glass particles, are preferably surface treated with a silane coupling agent after being immersed or washed in an alkaline solution. In this case, the second particle is likely to interact with the first or third particle.

제 2 입자는, 고온 처리하여 물을 제거하는 것이 바람직하다. 이 경우, 본 조성물로 형성되는 성형물의 함수량을 저하시킬 수 있고, 전기 특성이 우수한 성형물을 얻기 쉽다.It is preferable that the second particles are treated at high temperature to remove water. In this case, the water content of the molded product formed from the present composition can be reduced, and it is easy to obtain a molded product with excellent electrical properties.

고온 처리의 온도로는 500 ∼ 1000 ℃ 가 바람직하다.The temperature for high-temperature treatment is preferably 500 to 1000°C.

본 발명에 있어서의 제 3 입자는, 애스펙트비가 1 초과인 무기물의 입자이고, 비중공상의 입자이다. 본 조성물은, 2 종 이상의 제 3 입자를 포함하고 있어도 된다.The third particles in the present invention are inorganic particles with an aspect ratio exceeding 1, and are non-hollow particles. This composition may contain two or more types of third particles.

제 3 입자의 형상은, 구상, 침상 (섬유상), 판상 중 어느 것이어도 되고, 구체적으로는, 구상, 인편상, 층상, 엽편상, 행인상, 주상, 계관상, 등축상, 엽상, 운모상, 블록상, 평판상, 쐐기상, 로제트상, 망목상, 각주상 중 어느 것이어도 되고, 인편상인 것이 바람직하다. 이 경우, 본 조성물로 형성되는 성형물 중에서 제 3 입자가 열전도 패스를 형성하기 쉽고, 성형물이 열전도율과 저선팽창성이 우수하기 쉽다.The shape of the third particle may be any of spherical shape, needle shape (fibrous shape), or plate shape. Specifically, it may be spherical shape, scaly shape, layered shape, lobed shape, row shape, columnar shape, crown shape, equiaxed shape, lobe shape, or mica shape. , a block shape, a flat shape, a wedge shape, a rosette shape, a mesh shape, or a prismatic shape may be used, and a scale shape is preferable. In this case, the third particles in the molded article formed from the present composition are likely to form a heat conduction path, and the molded article is likely to have excellent thermal conductivity and low linear expansion properties.

제 3 입자의 애스펙트비는, 1 초과이고, 2 이상이 바람직하고, 5 이상이 보다 바람직하다. 애스펙트비는, 10000 이하가 바람직하다.The aspect ratio of the third particle is more than 1, preferably 2 or more, and more preferably 5 or more. The aspect ratio is preferably 10000 or less.

제 3 입자에 있어서의 무기물로는, 상기 서술한 제 2 입자에 있어서의 무기물과 동일한 것을 들 수 있다. 구체적으로는, 질화붕소, 질화규소, 질화알루미늄, 실리카, 산화아연, 산화티탄, 탤크, 스테아타이트 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 제 3 입자로는, 질화붕소 입자, 질화규소 입자 및 질화알루미늄 입자가 바람직하고, 질화붕소 입자가 보다 바람직하고, 육방정 질화붕소가 더욱 바람직하다.Examples of the inorganic substance in the third particle include the same inorganic substance as the inorganic substance in the second particle described above. Specifically, boron nitride, silicon nitride, aluminum nitride, silica, zinc oxide, titanium oxide, talc, steatite, etc. are mentioned. Among them, the third particles are preferably boron nitride particles, silicon nitride particles, and aluminum nitride particles, more preferably boron nitride particles, and even more preferably hexagonal boron nitride.

제 3 입자가 인편상의 질화붕소 입자인 경우, 본 조성물 및 본 조성물로 형성되는 성형물 중에서 카드 하우스 구조를 취하기 쉬워져, 열전도 패스를 형성한다고 생각된다. 그 결과, 본 조성물이 분산성이 우수하고, 또한, 성형물이 열전도율과 저선팽창성이 우수하기 쉬워 바람직하다.When the third particles are flaky boron nitride particles, it is believed that the present composition and molded articles formed from the present composition tend to take on a card house structure and form a heat conduction path. As a result, this composition is preferred because it has excellent dispersibility and the molded product is likely to have excellent thermal conductivity and low linear expansion properties.

제 3 입자의 D50 은, 1 ㎛ 이상이 바람직하고, 5 ㎛ 이상이 바람직하다. 제 3 입자의 D50 은, 50 ㎛ 이하가 바람직하고, 20 ㎛ 이하가 보다 바람직하고, 10 ㎛ 이하가 더욱 바람직하다.The D50 of the third particle is preferably 1 μm or more, and is preferably 5 μm or more. The D50 of the third particle is preferably 50 μm or less, more preferably 20 μm or less, and still more preferably 10 μm or less.

본 조성물은, D50 이 상이한 2 종 이상의 제 3 입자 분체에서 유래하는 제 3 입자를 포함하고 있어도 된다. 이 경우, 본 조성물은, D50 이 10 ∼ 50 ㎛ 인 제 3 입자 분체에서 유래하는 조대 입자와, D50 이 0.5 ∼ 4 ㎛ 인 제 3 입자 분체에서 유래하는 미세 입자를 포함하는 것이 바람직하다. 본 조성물이 제 3 입자로서 조대 입자와 미세 입자를 포함함으로써, 조대 입자 사이에 미세 입자를 충전할 수 있고, 이로써 본 조성물로 형성되는 성형물에 있어서의 제 3 입자의 충전율을 올릴 수 있다. 본 조성물이 제 3 입자로서 조대 입자와 미세 입자를 포함하는 경우, 조대 입자의 배합 비율은 제 3 입자 전체량에 대해 70 % 이상이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 75 % 이상이다. 조대 입자 비율이 이 범위이면 성형물에 있어서의 제 3 입자가 치밀하게 충전되는 경향이 있다.This composition may contain third particles derived from two or more types of third particle powders with different D50. In this case, the composition preferably contains coarse particles derived from a third particle powder having a D50 of 10 to 50 μm and fine particles derived from a third particle powder having a D50 of 0.5 to 4 μm. Since the present composition contains coarse particles and fine particles as third particles, fine particles can be filled between the coarse particles, thereby increasing the filling rate of the third particles in the molded article formed from the present composition. When the composition contains coarse particles and fine particles as the third particles, the mixing ratio of the coarse particles is preferably 70% or more, more preferably 75% or more, with respect to the total amount of the third particles. If the coarse particle ratio is within this range, the third particles in the molded product tend to be densely packed.

제 3 입자의 표면은, 실란 커플링제로 표면 처리되어 있는 것이 바람직하다. 실란 커플링제로는, 제 2 입자의 표면 처리에 사용해도 되는 실란 커플링제와 동일한 것을 들 수 있고, 그 바람직한 범위나 처리 방법도 동일하다.The surface of the third particle is preferably surface treated with a silane coupling agent. The silane coupling agent includes the same silane coupling agent that can be used for surface treatment of the second particles, and its preferred range and treatment method are the same.

실리카 입자의 구체예로는,「아드마파인」시리즈 (아드마텍스사 제조),「SFP」시리즈 (덴카사 제조) 를 들 수 있다.Specific examples of silica particles include the “Admapain” series (manufactured by Admatex) and the “SFP” series (manufactured by Denka).

산화아연 입자의 구체예로는,「FINEX」시리즈 (사카이 화학 공업 주식회사 제조) 를 들 수 있다.Specific examples of zinc oxide particles include the “FINEX” series (manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.).

산화티탄 입자의 구체예로는,「타이페이크」시리즈 (이시하라 산업사 제조),「JMT」시리즈 (테이카사 제조) 를 들 수 있다.Specific examples of titanium oxide particles include the “Taifake” series (manufactured by Ishihara Sangyo Corporation) and the “JMT” series (manufactured by Teika Corporation).

탤크 입자의 구체예로는,「SG」시리즈 (닛폰 탤크사 제조) 를 들 수 있다.Specific examples of talc particles include the “SG” series (manufactured by Nippon Talc Co., Ltd.).

스테아타이트 입자의 구체예로는,「BST」시리즈 (닛폰 탤크사 제조) 를 들 수 있다.Specific examples of steatite particles include the “BST” series (manufactured by Nippon Talc Co., Ltd.).

질화붕소 입자의 구체예로는,「UHP」시리즈 (쇼와 전공사 제조),「덴카보론나이트라이드」시리즈의「GP」,「HGP」그레이드 (덴카사 제조) 를 들 수 있다.Specific examples of boron nitride particles include the “UHP” series (manufactured by Showa Denko) and the “GP” and “HGP” grades of the “Dencarboron Nitride” series (manufactured by Denka).

질화규소 필러의 구체예로는,「덴카 질화규소」시리즈 (덴카사 제조),「UBE 질화규소」시리즈 (UBE 사 제조) 를 들 수 있다.Specific examples of silicon nitride fillers include the “Denka Silicon Nitride” series (manufactured by Denka Corporation) and the “UBE Silicon Nitride” series (manufactured by UBE Corporation).

질화알루미늄 필러의 구체예로는,「고순도 질화알루미늄」시리즈 (토쿠야마사),「토얄 텍필러 TFZ」시리즈 (토요 알루미늄사 제조) 를 들 수 있다.Specific examples of aluminum nitride fillers include the “High Purity Aluminum Nitride” series (manufactured by Tokuyama) and the “Toyal Tec Filler TFZ” series (manufactured by Toyo Aluminum).

제 1 입자의 D50 은, 제 2 입자의 D50 및 제 3 입자의 D50 중 어느 것보다 작은 것이 바람직하다. 제 2 입자의 D50 에 대한 제 1 입자의 D50 의 비는, 0.8 이하가 바람직하고, 0.5 이하가 보다 바람직하다. 상기 비는, 0.05 이상이 바람직하고, 0.1 이상이 보다 바람직하다.The D50 of the first particle is preferably smaller than either the D50 of the second particle or the D50 of the third particle. The ratio of D50 of the first particle to D50 of the second particle is preferably 0.8 or less, and more preferably 0.5 or less. The ratio is preferably 0.05 or more, and more preferably 0.1 or more.

제 3 입자의 D50 에 대한 제 1 입자의 D50 의 비는, 0.8 이하가 바람직하고, 0.5 이하가 보다 바람직하다. 상기 비는, 0.1 이상이 바람직하고, 0.2 이상이 보다 바람직하다.The ratio of D50 of the first particle to D50 of the third particle is preferably 0.8 or less, and more preferably 0.5 or less. The ratio is preferably 0.1 or more, and more preferably 0.2 or more.

제 3 입자의 D50 에 대한 제 2 입자의 평균 입자경의 비는, 3 이하가 바람직하고, 2.5 이하가 보다 바람직하다. 상기 비는, 0.5 이상이 바람직하고, 1 이상이 보다 바람직하고, 1.5 이상이 더욱 바람직하다.The ratio of the average particle diameter of the second particles to the D50 of the third particles is preferably 3 or less, and more preferably 2.5 or less. The above ratio is preferably 0.5 or more, more preferably 1 or more, and still more preferably 1.5 or more.

본 조성물에 있어서의 제 1 입자, 제 2 입자, 제 3 입자의 총 체적에 대한, 제 1 입자의 체적 농도는 40 % 이상이 바람직하고, 50 % 이상이 보다 바람직하다. 제 1 입자의 체적 농도는 70 % 이하가 바람직하다.The volume concentration of the first particles relative to the total volume of the first particles, second particles, and third particles in the present composition is preferably 40% or more, and more preferably 50% or more. The volume concentration of the first particles is preferably 70% or less.

본 조성물에 있어서의 제 1 입자, 제 2 입자, 제 3 입자의 총 체적에 대한, 제 2 입자의 체적 농도는 20 % 이상이 바람직하고, 30 % 이상이 보다 바람직하다. 제 2 입자의 체적 농도는 50 % 이하가 바람직하고, 40 % 이하가 보다 바람직하다.The volume concentration of the second particles relative to the total volume of the first particles, second particles, and third particles in the present composition is preferably 20% or more, and more preferably 30% or more. The volume concentration of the second particles is preferably 50% or less, and more preferably 40% or less.

본 조성물에 있어서의 제 1 입자, 제 2 입자, 제 3 입자의 총 체적에 대한, 제 3 입자의 체적 농도는 5 % 이상이 바람직하고, 10 % 이상이 보다 바람직하다. 제 3 입자의 체적 농도는 30 % 미만이 바람직하고, 20 % 이하가 보다 바람직하다.The volume concentration of the third particles relative to the total volume of the first particles, second particles, and third particles in the present composition is preferably 5% or more, and more preferably 10% or more. The volume concentration of the third particles is preferably less than 30%, and more preferably 20% or less.

본 조성물에 있어서의 제 1 입자, 제 2 입자, 제 3 입자의 총 체적에 대한, 제 1 입자의 체적 농도, 제 2 입자의 체적 농도, 및 제 3 입자의 체적 농도는, 이 순서대로, 40 ∼ 70 %, 20 ∼ 50 %, 5 % 이상 30 % 미만인 것이 바람직하다.The volume concentration of the first particles, the volume concentration of the second particles, and the volume concentration of the third particles relative to the total volume of the first particles, second particles, and third particles in the composition are, in this order, 40 It is preferable that it is -70%, 20-50%, 5% or more and less than 30%.

본 조성물에 있어서의 제 2 입자의 체적 농도에 대한 제 1 입자의 체적 농도의 비는, 1 초과이고, 1.2 이상이 바람직하다. 상기 비는, 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다.The ratio of the volume concentration of the first particles to the volume concentration of the second particles in the present composition is greater than 1, and is preferably 1.2 or more. The above ratio is preferably 5 or less, and more preferably 3 or less.

본 조성물에 있어서의 제 1 입자의 체적 농도에 대한 제 3 입자의 체적 농도의 비는, 0.5 이하가 바람직하고, 0.4 이하가 보다 바람직하다. 상기 비는, 0.05 이상이 바람직하고, 0.1 이상이 보다 바람직하다.The ratio of the volume concentration of the third particles to the volume concentration of the first particles in this composition is preferably 0.5 or less, and more preferably 0.4 or less. The ratio is preferably 0.05 or more, and more preferably 0.1 or more.

본 조성물에 있어서의 제 2 입자의 체적 농도에 대한 제 3 입자의 체적 농도의 비는, 0.6 미만이고, 0.5 이하가 바람직하다. 상기 비는, 0.1 이상이 바람직하고, 0.3 이상이 보다 바람직하다.The ratio of the volume concentration of the third particles to the volume concentration of the second particles in this composition is less than 0.6, and is preferably 0.5 or less. The ratio is preferably 0.1 or more, and more preferably 0.3 or more.

체적 농도나, 체적 농도의 비가 이와 같은 범위인 경우, 상기 서술한 작용 기구에 의해 본 조성물이 분산성이 우수하기 쉽다. 또한, 본 조성물로부터 선팽창 계수, 유전율 및 유전 정접이 낮고, 열전도성 및 접착성이 우수한 성형물을 얻기 쉽다.When the volume concentration or volume concentration ratio is in this range, the composition tends to have excellent dispersibility due to the mechanism of action described above. In addition, it is easy to obtain molded articles with low linear expansion coefficient, dielectric constant, and dielectric loss tangent, and excellent thermal conductivity and adhesiveness from this composition.

본 조성물은, 추가로 F 폴리머와는 상이한 수지를 포함해도 된다. 이와 같은 다른 수지는, 본 조성물에 비중공상의 입자로서 포함되어 있어도 되고, 본 조성물이 후술하는 액상 분산매를 포함하는 경우, 액상 분산매에 용해 또는 분산되어 포함되어 있어도 된다.The composition may further contain a resin different from F polymer. Such other resins may be contained in the present composition as non-hollow particles, or, when the present composition contains a liquid dispersion medium described later, may be contained dissolved or dispersed in the liquid dispersion medium.

다른 수지로는, 열가소성 수지 및 열경화성 수지 등의 경화성 수지를 들 수 있다. 상기 열가소성 수지나 경화성 수지의 구체예로는, 액정성의 방향족 폴리에스테르 등의 폴리에스테르 수지, 이미드 수지, 에폭시 수지, 말레이미드 수지, 우레탄 수지, 폴리페닐렌에테르 수지, 폴리페닐렌옥사이드 수지, 폴리페닐렌술파이드 수지를 들 수 있다.Other resins include curable resins such as thermoplastic resins and thermosetting resins. Specific examples of the thermoplastic resin and curable resin include polyester resins such as liquid crystalline aromatic polyester, imide resin, epoxy resin, maleimide resin, urethane resin, polyphenylene ether resin, polyphenylene oxide resin, and polyester resin. and phenylene sulfide resin.

다른 수지로는, 방향족 폴리머가 바람직하고, 방향족 폴리이미드, 방향족 폴리아믹산, 방향족 폴리아미드이미드 및 방향족 폴리아미드이미드의 전구체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 방향족 이미드 폴리머가 보다 바람직하다. 방향족 폴리머는 본 조성물 중에서, 액상 분산매에 용해된 바니시로서 포함되는 것이 바람직하다.As other resins, aromatic polymers are preferable, and at least one type of aromatic imide polymer selected from the group consisting of aromatic polyimide, aromatic polyamic acid, aromatic polyamidoimide, and precursors of aromatic polyamidoimide is more preferable. The aromatic polymer is preferably included in the present composition as a varnish dissolved in a liquid dispersion medium.

방향족 이미드 폴리머의 구체예로는,「유피아 AT」시리즈 (우베 흥산사 제조),「네오프림 (등록상표)」시리즈 (미츠비시 가스 화학사 제조),「스피크세리아 (등록상표)」시리즈 (소말사 제조),「Q-PILON (등록상표)」시리즈 (피아이 기술 연구소 제조),「WINGO」시리즈 (윈고 테크노로지사 제조),「토마이드 (등록상표)」시리즈 (T&K TOKA 사 제조),「KPI-MX」시리즈 (카와무라 산업사 제조),「HPC-1000」,「HPC-2100D」 (모두 쇼와 전공 머티리얼즈사 제조) 을 들 수 있다.Specific examples of aromatic imide polymers include the “Upia AT” series (manufactured by Ube Kosan Corporation), the “Neoprim (registered trademark)” series (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Corporation), and the “Speakeria (registered trademark)” series (manufactured by Somal Corporation) manufactured),「Q-PILON (registered trademark)」series (manufactured by PI Technology Research Institute),「WINGO」series (manufactured by Wingo Technology),「Tomide (registered trademark)」series (manufactured by T&K TOKA),「KPI -MX" series (manufactured by Kawamura Sangyo Co., Ltd.), "HPC-1000", and "HPC-2100D" (all manufactured by Showa Electric Materials Co., Ltd.).

다른 수지를 포함하는 본 조성물에 있어서, 제 1 입자, 제 2 입자 및 제 3 입자의 총 체적에 대한, 다른 수지의 체적 농도는, 0.1 체적% 이상이 바람직하고, 1 체적% 이상이 보다 바람직하다. 상기 체적 농도는, 15 체적% 이하가 바람직하고, 10 체적% 이하가 보다 바람직하다.In the present composition containing other resins, the volume concentration of the other resin relative to the total volume of the first particles, second particles, and third particles is preferably 0.1 volume% or more, and more preferably 1 volume% or more. . The volume concentration is preferably 15 volume% or less, and more preferably 10 volume% or less.

본 조성물은 분상이어도 되고, 추가로 액상 분산매를 포함하여 액상이어도 된다.This composition may be in powder form or may be in liquid form including a liquid dispersion medium.

액상 분산매로는, 대기압하, 25 ℃ 에서 액체인 화합물이고, 비점이 50 ∼ 240 ℃ 인 화합물이 바람직하다. 본 조성물은 2 종 이상의 액상 분산매를 포함하고 있어도 된다. 2 종의 액상 분산매를 포함하고 있는 경우, 2 종의 액상 분산매는, 서로 상용하는 것이 바람직하다.The liquid dispersion medium is preferably a compound that is liquid at 25°C under atmospheric pressure and has a boiling point of 50 to 240°C. This composition may contain two or more types of liquid dispersion medium. When it contains two types of liquid dispersion medium, it is preferable that the two types of liquid dispersion medium are compatible with each other.

액상 분산매는, 물, 아미드, 케톤 및 에스테르로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물이 바람직하다.The liquid dispersion medium is preferably a compound selected from the group consisting of water, amides, ketones, and esters.

아미드로는, N-메틸-2-피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸프로판아미드, 3-메톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 3-부톡시-N,N-디메틸프로판아미드, N,N-디에틸포름아미드, 헥사메틸포스포릭트리아미드, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논을 들 수 있다.Amides include N-methyl-2-pyrrolidone, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N,N-dimethylpropanamide, and 3-methoxy-N,N-dimethylpropanamide. , 3-butoxy-N,N-dimethylpropanamide, N,N-diethylformamide, hexamethylphosphorictriamide, and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone.

케톤으로는, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸이소부틸케톤, 메틸n-펜틸케톤, 메틸이소펜틸케톤, 2-헵타논, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 시클로헵타논을 들 수 있다.Ketones include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl n-pentyl ketone, methyl isopentyl ketone, 2-heptanone, cyclopentanone, cyclohexanone, and cycloheptanone. there is.

에스테르로는, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 락트산메틸, 락트산에틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 메톡시프로피온산메틸, 에톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산에틸, γ-부티로락톤, γ-발레로락톤을 들 수 있다.Esters include methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, 3-ethoxyethyl propionate, γ-butyrolactone, γ- Examples include valerolactone.

본 조성물이 액상 분산매를 포함하는 경우, 액상 분산매의 함유량은, 40 체적% 이상이 바람직하고, 60 체적% 이상이 보다 바람직하다. 액상 분산매의 함유량은, 90 체적% 이하가 바람직하고, 80 체적% 이하가 보다 바람직하다.When this composition contains a liquid dispersion medium, the content of the liquid dispersion medium is preferably 40 volume% or more, and more preferably 60 volume% or more. The content of the liquid dispersion medium is preferably 90 volume% or less, and more preferably 80 volume% or less.

본 조성물이 액상 분산매를 포함하는 경우, 본 조성물에 있어서의 고형분 농도는, 20 체적% 이상이 바람직하고, 40 체적% 이상이 보다 바람직하다. 고형분 농도는, 80 체적% 이하가 바람직하고, 70 체적% 이하가 보다 바람직하다. 또한, 고형분이란 본 조성물로 형성되는 성형물에 있어서 고형분을 형성하는 물질의 총량을 의미한다. 구체적으로는, 제 1 입자, 제 2 입자 및 제 3 입자는 고형분이고, 본 조성물이 다른 수지를 포함하는 경우에는, 다른 수지도 고형분이고, 이들 성분의 총 체적 농도가 본 조성물에 있어서의 고형분 농도가 된다.When this composition contains a liquid dispersion medium, the solid content concentration in this composition is preferably 20 volume% or more, and more preferably 40 volume% or more. The solid content concentration is preferably 80 volume% or less, and more preferably 70 volume% or less. In addition, solid content refers to the total amount of substances that form solid content in a molded article formed from this composition. Specifically, the first particles, second particles, and third particles are solid content, and when this composition contains other resins, the other resins are also solid content, and the total volume concentration of these components is the solid content concentration in the present composition. It becomes.

본 조성물이 액상 분산매를 포함하는 경우, 본 조성물은, 제 1 입자, 제 2 입자 및 제 3 입자의 분산 안정성을 향상시킨다는 관점에서, 추가로 논이온성 계면 활성제를 포함하는 것이 바람직하다.When the composition contains a liquid dispersion medium, it is preferable that the composition further contains a nonionic surfactant from the viewpoint of improving the dispersion stability of the first particles, second particles and third particles.

논이온성 계면 활성제로는, 글리콜계 계면 활성제, 아세틸렌계 계면 활성제, 실리콘계 계면 활성제 및 불소계 계면 활성제가 바람직하고, 실리콘계 계면 활성제가 보다 바람직하다. 논이온성 계면 활성제는, 2 종 이상을 사용해도 된다. 2 종의 논이온성 계면 활성제를 포함하고 있는 경우의 논이온성 계면 활성제는, 실리콘계 계면 활성제와 글리콜계 계면 활성제인 것이 바람직하다.As nonionic surfactants, glycol-based surfactants, acetylene-based surfactants, silicone-based surfactants and fluorine-based surfactants are preferred, and silicone-based surfactants are more preferred. Two or more types of nonionic surfactants may be used. When two types of nonionic surfactants are included, the nonionic surfactants are preferably a silicone-based surfactant and a glycol-based surfactant.

논이온성 계면 활성제의 구체예로는,「프타젠트」시리즈 (네오스사 제조),「서프론」시리즈 (AGC 세이미 케미컬사 제조),「메가팍」시리즈 (DIC 사 제조),「유니다인」시리즈 (다이킨 공업사 제조),「BYK-347」,「BYK-349」,「BYK-378」,「BYK-3450」,「BYK-3451」,「BYK-3455」,「BYK-3456」 (빅케미·재팬사 제조),「KF-6011」,「KF-6043」 (신에츠 화학 공업사 제조),「Tergitol」시리즈 (다우 케미컬사 제조,「Tergitol TMN-100 X」등) 를 들 수 있다.Specific examples of nonionic surfactants include “Ptagent” series (manufactured by Neos), “Supron” series (manufactured by AGC Semichemicals), “Megapac” series (manufactured by DIC), and “Unidyne”. ” series (manufactured by Daikin Industries), “BYK-347”, “BYK-349”, “BYK-378”, “BYK-3450”, “BYK-3451”, “BYK-3455”, “BYK-3456” (manufactured by Big Chemi Japan), “KF-6011”, “KF-6043” (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), “Tergitol” series (manufactured by Dow Chemical Company, “Tergitol TMN-100 .

본 조성물이 논이온성 계면 활성제를 함유하는 경우, 본 조성물 중의 논이온성 계면 활성제의 함유량은, 1 ∼ 15 체적% 가 바람직하다.When this composition contains a nonionic surfactant, the content of the nonionic surfactant in this composition is preferably 1 to 15% by volume.

본 조성물은, 추가로 실란 커플링제를 포함하는 것이 바람직하다. 이 경우, 제 1 입자, 제 2 입자 및 제 3 입자의 결착력이 향상되어, 본 조성물로부터 입자의 가루 떨어짐이 억제된 성형물을 형성하기 쉽다.It is preferable that the composition further contains a silane coupling agent. In this case, the binding force of the first particles, second particles, and third particles is improved, and it is easy to form a molded article in which the falling off of particles is suppressed from the present composition.

실란 커플링제로는, 제 2 입자의 표면 처리에 사용해도 되는 실란 커플링제와 동일한 것을 들 수 있고, 그 바람직한 범위도 동일하다.The silane coupling agent includes the same silane coupling agent that may be used for surface treatment of the second particles, and its preferable range is also the same.

본 조성물이 실란 커플링제를 포함하는 경우, 본 조성물 중의 실란 커플링제의 함유량은, 1 ∼ 10 체적% 가 바람직하다.When this composition contains a silane coupling agent, the content of the silane coupling agent in this composition is preferably 1 to 10% by volume.

본 조성물은, 또한, 틱소성 부여제, 점도 조절제, 소포제, 탈수제, 가소제, 내후제, 산화 방지제, 열안정제, 활제, 대전 방지제, 증백제, 착색제, 도전제, 이형제, 표면 처리제, 난연제, 도전성 필러를 비롯한 각종 필러 등의 첨가제를 함유해도 된다.This composition also contains a thixotropic agent, a viscosity modifier, an antifoaming agent, a dehydrating agent, a plasticizer, a weathering agent, an antioxidant, a heat stabilizer, a lubricant, an antistatic agent, a whitening agent, a colorant, a conductive agent, a mold release agent, a surface treatment agent, a flame retardant, and a conductive agent. It may contain fillers and other additives such as various fillers.

본 조성물이 액상 분산매를 포함하여 액상인 경우, 그 점도는, 10 mPa·s 이상이 바람직하고, 100 mPa·s 이상이 보다 바람직하다. 본 조성물의 점도는, 10000 mPa·s 이하가 바람직하고, 3000 mPa·s 이하가 보다 바람직하다.When the composition is liquid and contains a liquid dispersion medium, the viscosity is preferably 10 mPa·s or more, and more preferably 100 mPa·s or more. The viscosity of this composition is preferably 10000 mPa·s or less, and more preferably 3000 mPa·s or less.

본 조성물이 액상 분산매를 포함하여 액상인 경우, 그 틱소비는 1.0 ∼ 3.0 이 바람직하다.When the composition is liquid and contains a liquid dispersion medium, the thicc ratio is preferably 1.0 to 3.0.

본 조성물이 액상 분산매로서 물을 포함하는 경우, 그 pH 는, 장기 보관성을 향상시키는 관점에서, 8 ∼ 10 이 보다 바람직하다. 이와 같은 본 조성물의 pH는, pH 조정제 (아민, 암모니아, 시트르산 등) 또는 pH 완충제 (트리스(하이드록시메틸)아미노메탄, 에틸렌디아민사아세트산, 탄산수소암모늄, 탄산암모늄, 아세트산암모늄 등) 에 의해 조정할 수 있다.When this composition contains water as a liquid dispersion medium, the pH is more preferably 8 to 10 from the viewpoint of improving long-term storage. The pH of this composition can be adjusted with a pH adjuster (amine, ammonia, citric acid, etc.) or a pH buffer (tris(hydroxymethyl)aminomethane, ethylenediaminetetraacetic acid, ammonium bicarbonate, ammonium carbonate, ammonium acetate, etc.). You can.

본 조성물은, 제 1 입자와 제 2 입자 및 제 3 입자와, 필요에 따라 다른 수지, 액상 분산매, 계면 활성제, 실란 커플링제, 첨가제 등을 혼합함으로써 얻어진다.This composition is obtained by mixing the first particles, second particles, and third particles with other resins, liquid dispersion media, surfactants, silane coupling agents, additives, etc. as necessary.

본 조성물은, 제 1 입자와 제 2 입자 및 제 3 입자를 일괄적으로 혼합하여 얻어도 되고, 따로 따로 순차 혼합해도 되고, 이들 마스터 배치를 미리 작성하고, 그것과 나머지 성분을 혼합해도 된다. 혼합의 순서는 특별히 제한은 없고, 또한 혼합의 방법도 일괄 혼합이어도 되고, 복수 회로 분할하여 혼합해도 된다.This composition may be obtained by mixing the first particles, second particles, and third particles all at once, or may be mixed separately and sequentially, or these master batches may be prepared in advance and mixed with the remaining components. The order of mixing is not particularly limited, and the mixing method may be batch mixing or may be mixed in multiple batches.

본 조성물을 얻기 위한 혼합 장치로는, 헨셸 믹서, 가압 니더, 밴버리 믹서 및 플래너터리 믹서 등의 블레이드를 구비한 교반 장치, 볼 밀, 애트라이터, 바스켓 밀, 샌드 밀, 샌드 그라인더, 다이노 밀, 디스퍼 매트, SC 밀, 스파이크 밀 및 아지테이터 밀 등의 미디어를 구비한 분쇄 장치, 마이크로 플루이다이저, 나노마이저, 알티마이저, 초음파 호모게나이저, 디졸버, 디스퍼, 고속 임펠러, 박막 선회형 고속 믹서, 자전 공전 교반기 및 V 형 믹서 등의 다른 기구를 구비한 분산 장치를 들 수 있다.Mixing devices for obtaining the present composition include stirring devices with blades such as Henschel mixers, pressure kneaders, Banbury mixers, and planetary mixers, ball mills, attritors, basket mills, sand mills, sand grinders, dyno mills, and dispersions. Grinding equipment equipped with media such as fur mat, SC mill, spike mill and agitator mill, microfluidizer, nanomizer, altimer, ultrasonic homogenizer, dissolver, disper, high-speed impeller, thin film gyratory high-speed A dispersing device equipped with other mechanisms such as a mixer, a rotating/revolving stirrer, and a V-type mixer may be included.

액상 분산매를 포함하는 본 조성물의 바람직한 제조 방법으로는, 제 1 입자와 액상 분산매의 일부를 미리 혼련하여 혼련물을 얻고, 또한 상기 혼련물을 잔여의 액상 분산매에 첨가하여 본 조성물을 얻는 제조 방법을 들 수 있다. 혼련과 첨가시에 사용하는 액상 분산매는, 동종의 액상 분산매여도 되고, 이종의 액상 분산매여도 된다. 제 2 입자, 제 3 입자나, 상이한 수지, 계면 활성제, 실란 커플링제, 첨가제는, 혼련시에 혼합해도 되고, 혼련물을 액상 분산매에 첨가할 때에 혼합해도 된다.A preferred method for producing the composition containing a liquid dispersion medium includes pre-kneading the first particles and a part of the liquid dispersion medium to obtain a kneaded product, and then adding the kneaded product to the remaining liquid dispersion medium to obtain the present composition. I can hear it. The liquid dispersion medium used during kneading and addition may be the same type of liquid dispersion medium or may be a different type of liquid dispersion medium. The second particles, third particles, different resins, surfactants, silane coupling agents, and additives may be mixed during kneading, or may be mixed when adding the kneaded product to the liquid dispersion medium.

혼련에 의한 얻어지는 혼련물은, 페이스트상 (점도가 1000 ∼ 100000 mPa·s 인 페이스트 등) 이어도 되고, 웨트 파우더상 (캐필로 그래프에 의해 측정되는 점도가 10000 ∼ 100000 Pa·s 인 웨트 파우더 등) 이어도 된다.The kneaded product obtained by kneading may be in the form of a paste (such as a paste with a viscosity of 1,000 to 100,000 mPa·s) or in the form of a wet powder (such as a wet powder with a viscosity of 10,000 to 100,000 Pa·s as measured by a capillograph). You can continue.

또한, 캐필로 그래프에 의해 측정되는 점도란, 캐필러리 길이가 10 mm, 캐필러리 반경이 1 mm 인 캐필러리를 사용하여, 노체 직경을 9.55 mm, 로드 셀 용량을 2 t 로 하고, 온도를 25 ℃, 전단 속도를 1 s-1 로 하여 측정되는 값이다.In addition, the viscosity measured by the capillary graph uses a capillary with a capillary length of 10 mm and a capillary radius of 1 mm, the furnace body diameter is 9.55 mm, and the load cell capacity is 2 t, This value is measured at a temperature of 25°C and a shear rate of 1 s -1 .

혼련에 있어서의 혼합은, 플래너터리 믹서로 실시하는 것이 바람직하다. 플래니터리 믹서는, 서로 자전과 공전을 실시하는 2 축의 교반 블레이드를 갖는 교반 장치이다.The mixing in kneading is preferably performed using a planetary mixer. A planetary mixer is a stirring device having two axes of stirring blades that rotate and rotate with each other.

첨가에 있어서의 혼합은, 박막 선회형 고속 믹서로 실시하는 것이 바람직하다. 박막 선회형 고속 믹서는, 원통형의 교반조의 내벽면에, 제 1 입자와 액상 분산매를 박막상으로 전개하고 선회시켜, 원심력을 작용시키면서 혼합하는 교반 장치이다.Mixing during addition is preferably performed with a thin-film turning type high-speed mixer. The thin film swirling type high-speed mixer is a stirring device that spreads the first particles and the liquid dispersion medium into a thin film on the inner wall of a cylindrical stirring tank, swirls it, and mixes them while applying centrifugal force.

본 조성물로부터는, 상기 서술한 작용 기구에 의해, 유전율이 2.8 이하이고, 또한 유전 정접이 0.0025 이하인 성형물을 얻기 쉽다. 성형물의 유전율은 2.4 이하인 것이 바람직하고, 2.0 이하인 것이 보다 바람직하다. 또한, 유전율은 1.0 초과인 것이 바람직하다. 성형물의 유전 정접은, 0.0022 이하인 것이 바람직하고, 0.0020 이하인 것이 보다 바람직하다. 또한, 유전 정접은, 0.0010 초과인 것이 바람직하다.From this composition, it is easy to obtain a molded article having a dielectric constant of 2.8 or less and a dielectric loss tangent of 0.0025 or less by the mechanism of action described above. The dielectric constant of the molded product is preferably 2.4 or less, and more preferably 2.0 or less. Additionally, it is preferable that the dielectric constant is greater than 1.0. The dielectric loss tangent of the molded product is preferably 0.0022 or less, and more preferably 0.0020 or less. Additionally, the dielectric loss tangent is preferably greater than 0.0010.

본 조성물을 압출 등의 성형 방법에 제공하면, 시트 등의 성형물이 얻어진다.When this composition is subjected to a molding method such as extrusion, a molded product such as a sheet is obtained.

본 조성물이 액상 분산매를 포함하여 액상인 경우, 본 조성물을 시트상으로 압출하는 것이 바람직하다. 압출하여 얻은 시트는, 추가로 프레스 성형, 캘린더 성형 등을 하여 유연해도 된다. 시트는, 더욱 가열하여, 액상 분산매를 제거하고, F 폴리머를 소성하는 것이 바람직하다.When the composition is liquid and contains a liquid dispersion medium, it is preferable to extrude the composition into a sheet. The sheet obtained by extrusion may be further made flexible by press molding, calendar molding, etc. It is preferable to further heat the sheet to remove the liquid dispersion medium and bake the F polymer.

본 조성물이 분상인 경우, 본 조성물을 용융 압출 성형하는 것이 바람직하다. 압출 성형은 단축 스크루 압출기, 다축 스크루 압출기 등을 사용하여 실시할 수 있다.When the composition is in powder form, it is preferable to melt-extrude the composition. Extrusion molding can be performed using a single screw extruder, multi-screw extruder, etc.

또한, 본 조성물을 사출 성형하여 성형물을 얻어도 된다.Additionally, a molded product may be obtained by injection molding this composition.

성형물의 형성시에는, 본 조성물을 직접, 용융 압출 성형 또는 사출 성형해도 되고, 본 조성물을 용융 혼련하여 펠릿으로 하고, 펠릿을 용융 압출 성형 또는 사출 성형하여 시트 등의 성형물을 얻어도 된다.When forming a molded product, the composition may be melt-extruded or injection-molded directly, or the composition may be melt-kneaded into pellets, and the pellets may be melt-extruded or injection-molded to obtain a molded product such as a sheet.

본 조성물로부터 얻어지는 시트의 두께는, 25 ㎛ 이상이 바람직하고, 30 ㎛ 이상이 보다 바람직하고, 40 ㎛ 이상이 더욱 바람직하다. 시트의 두께는 200 ㎛ 이하가 바람직하다.The thickness of the sheet obtained from this composition is preferably 25 μm or more, more preferably 30 μm or more, and still more preferably 40 μm or more. The thickness of the sheet is preferably 200 μm or less.

시트의 유전율 및 유전 정접의 바람직한 범위는, 각각, 상기 서술한 성형물의 유전율 및 유전 정접의 범위와 동일하다.The preferable ranges of the dielectric constant and dielectric loss tangent of the sheet are the same as the ranges of the dielectric constant and dielectric loss tangent of the molded product described above, respectively.

시트의 선팽창 계수는, 100 ppm/℃ 이하가 바람직하고, 80 ppm/℃ 이하가 보다 바람직하다. 시트의 선팽창 계수의 하한은, 30 ppm/℃ 이다. 또한, 선팽창 계수는, JIS C 6471:1995 에 규정되는 측정 방법에 따라, 25 ℃ 이상 260 ℃ 이하의 범위에 있어서의, 시험편의 선팽창 계수를 측정한 값을 의미한다.The linear expansion coefficient of the sheet is preferably 100 ppm/°C or lower, and more preferably 80 ppm/°C or lower. The lower limit of the linear expansion coefficient of the sheet is 30 ppm/°C. In addition, the linear expansion coefficient means the value obtained by measuring the linear expansion coefficient of the test piece in the range of 25°C or more and 260°C or less according to the measurement method specified in JIS C 6471:1995.

시트의 면내 방향에 있어서의 열전도율은 1.0 W/m·K 이상이 바람직하고, 3.0 W/m·K 이상이 보다 바람직하다. 시트 열전도율의 상한은, 20 W/m·K 이다.The thermal conductivity of the sheet in the in-plane direction is preferably 1.0 W/m·K or more, and more preferably 3.0 W/m·K or more. The upper limit of sheet thermal conductivity is 20 W/m·K.

이와 같은 시트를 기재에 적층하면 적층체를 형성할 수 있다. 적층체의 제조 방법으로는, 상기 압출기로서 공압출기를 사용하여, 기재의 원료와 함께 본 조성물을 압출 성형하는 방법, 상기 기재 상에 본 조성물을 압출 성형하는 방법, 시트와 상기 기재를 열압착하는 방법 등을 들 수 있다.By stacking such sheets on a substrate, a laminate can be formed. Methods for producing a laminate include a method of extruding the present composition together with the raw materials of the base material using a co-extruder as the extruder, a method of extruding the present composition on the base material, and thermal compression bonding of the sheet and the base material. Methods, etc. may be mentioned.

기재로는, 금속 기판 (구리, 니켈, 알루미늄, 티탄, 그들의 합금 등의 금속박 등), 내열성 수지 필름 (폴리이미드, 폴리아미드, 폴리에테르아미드, 폴리페닐렌술파이드, 폴리알릴에테르케톤, 폴리아미드이미드, 액정성 폴리에스테르, 테트라플루오로에틸렌계 폴리머 등의 내열성 수지 필름), 프리프레그 기판 (섬유 강화 수지 기판의 전구체), 세라믹스 기판 (탄화규소, 질화알루미늄, 질화규소 등의 세라믹스 기판), 유리 기판을 들 수 있다.As a base material, a metal substrate (metal foil of copper, nickel, aluminum, titanium, their alloys, etc.), heat-resistant resin film (polyimide, polyamide, polyetheramide, polyphenylene sulfide, polyallyl ether ketone, polyamideimide) , heat-resistant resin films such as liquid crystalline polyester and tetrafluoroethylene polymers), prepreg substrates (precursors of fiber-reinforced resin substrates), ceramic substrates (ceramics substrates such as silicon carbide, aluminum nitride, and silicon nitride), and glass substrates. I can hear it.

기재의 형상으로는, 평면상, 곡면상, 요철상을 들 수 있다. 또한, 기재의 형상은, 박상, 판상, 막상, 섬유상 중 어느 것이어도 된다.The shape of the base material includes planar shape, curved shape, and uneven shape. Additionally, the shape of the base material may be any of thin, plate, film, or fibrous shapes.

기재의 표면의 10 점 평균 조도는 0.01 ∼ 0.05 ㎛ 가 바람직하다.The 10-point average roughness of the surface of the substrate is preferably 0.01 to 0.05 μm.

기재의 표면은, 실란 커플링제에 의해 표면 처리되어 있어도 되고, 플라즈마 처리되어 있어도 된다. 이러한 실란 커플링제로는, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등의 관능기를 갖는 실란 커플링제가 바람직하다.The surface of the substrate may be surface treated with a silane coupling agent or may be plasma treated. Such silane coupling agents include 3-aminopropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and 3-methacryloxypropyltri. A silane coupling agent having a functional group such as ethoxysilane or 3-isocyanate propyltriethoxysilane is preferred.

시트와 기재의 박리 강도는, 10 N/㎝ 이상이 바람직하고, 15 N/㎝ 이상이 보다 바람직하다. 상기 박리 강도는, 100 N/㎝ 이하가 바람직하다.The peel strength between the sheet and the base material is preferably 10 N/cm or more, and more preferably 15 N/cm or more. The peeling strength is preferably 100 N/cm or less.

본 조성물을 기재의 표면에 배치하고, F 폴리머와 제 2 입자와 제 3 입자를 포함하는 폴리머층을 형성하면, 기재로 구성되는 기재층과 폴리머층을 갖는 적층체를 얻을 수 있다.By disposing this composition on the surface of a substrate and forming a polymer layer containing F polymer and second particles and third particles, a laminate having a substrate layer composed of the substrate and a polymer layer can be obtained.

폴리머층은, 액상 분산매를 포함하는 본 조성물을 기재의 표면에 배치하고, 가열하여 분산매를 제거하고, 또한 가열하여 F 폴리머를 소성하여 형성하는 것이 바람직하다.The polymer layer is preferably formed by placing the composition containing the liquid dispersion medium on the surface of the substrate, heating to remove the dispersion medium, and further heating to bake the F polymer.

기재로는, 상기 서술한 시트와 적층할 수 있는 기재와 동일한 것을 들 수 있고, 그 바람직한 양태도 동일하다.The base material includes the same base material that can be laminated with the sheet described above, and its preferred embodiments are also the same.

본 조성물의 배치의 방법으로는, 도포법, 액적 토출법, 침지법을 들 수 있고, 롤 코트법, 나이프 코트법, 바 코트법, 다이 코트법 또는 스프레이법이 바람직하다.Methods for disposing the composition include a coating method, a droplet discharge method, and a dipping method, and roll coating, knife coating, bar coating, die coating, or spraying are preferred.

액상 분산매의 제거시의 가열은, 100 ∼ 200 ℃ 에서, 0.1 ∼ 30 분간으로 실시하는 것이 바람직하다. 이 때의 가열에 있어서 액상 분산매는 완전히 제거할 필요는 없고, 제 1 입자, 제 2 입자 및 제 3 입자의 패킹에 의해 형성되는 층이 자립막을 유지할 수 있을 정도까지 제거하면 된다. 또한, 가열시에는, 공기를 분사하여, 풍건에 의해 액상 분산매의 제거를 촉진해도 된다.Heating when removing the liquid dispersion medium is preferably performed at 100 to 200°C for 0.1 to 30 minutes. In the heating at this time, it is not necessary to completely remove the liquid dispersion medium, but it can be removed to the extent that the layer formed by the packing of the first particles, second particles, and third particles can maintain a self-supporting film. Additionally, during heating, air may be sprayed to promote removal of the liquid dispersion medium by air drying.

F 폴리머의 소성시의 가열은, F 폴리머의 소성 온도 이상의 온도에서 실시하는 것이 바람직하고, 360 ∼ 400 ℃ 에서, 0.1 ∼ 30 분간 실시하는 것이 보다 바람직하다.Heating during firing of the F polymer is preferably performed at a temperature higher than the firing temperature of the F polymer, and is more preferably performed at 360 to 400°C for 0.1 to 30 minutes.

각각의 가열에 있어서의 가열 장치로는, 오븐, 통풍 건조로를 들 수 있다. 장치에 있어서의 열원은, 접촉식의 열원 (열풍, 열판 등) 이어도 되고, 비접촉식의 열원 (적외선 등) 이어도 된다.Heating devices for each heating include an oven and a ventilation drying furnace. The heat source in the device may be a contact heat source (hot air, a hot plate, etc.) or a non-contact heat source (infrared rays, etc.).

또한, 각각의 가열은, 상압하에서 실시해도 되고, 감압하에서 실시해도 된다.In addition, each heating may be performed under normal pressure or under reduced pressure.

또한, 각각의 가열에 있어서의 분위기는, 공기 분위기, 불활성 가스 (헬륨 가스, 네온 가스, 아르곤 가스, 질소 가스 등) 분위기 중 어느 것이어도 된다.Additionally, the atmosphere for each heating may be an air atmosphere or an inert gas (helium gas, neon gas, argon gas, nitrogen gas, etc.) atmosphere.

폴리머층은, 본 조성물의 배치, 가열의 공정을 거쳐 형성된다. 이들 공정은 1 회씩 실시해도 되고, 2 회 이상 반복해도 된다. 예를 들어, 기재의 표면에 본 조성물을 배치하고 가열하여 폴리머층을 형성하고, 또한 상기 폴리머층의 표면에 본 조성물을 배치하고 가열하여 2 층째의 폴리머층을 형성해도 된다. 또한, 기재의 표면에 본 조성물을 배치하고 가열하여 액상 분산매를 제거한 단계에서, 추가로 그 표면에 본 조성물을 배치하고 가열하여 폴리머층을 형성해도 된다.The polymer layer is formed through the process of placing and heating the composition. These steps may be performed once or may be repeated two or more times. For example, the composition may be placed on the surface of a substrate and heated to form a polymer layer, and the composition may be placed on the surface of the polymer layer and heated to form a second polymer layer. Additionally, in the step where the liquid dispersion medium is removed by placing the composition on the surface of the substrate and heating, the composition may be further placed on the surface and heated to form a polymer layer.

본 조성물은 기재의 일방의 표면에만 배치해도 되고, 기재의 양면에 배치해도 된다. 전자의 경우, 기재층과, 이와 같은 기재층의 편방의 표면에 폴리머층을 갖는 적층체가 얻어지고, 후자의 경우, 기재층과, 이와 같은 기재층의 양방의 표면에 폴리머층을 갖는 적층체가 얻어진다.This composition may be disposed on only one surface of the substrate or on both surfaces of the substrate. In the former case, a laminate having a base material layer and a polymer layer on one surface of the base layer is obtained, and in the latter case, a laminate having a base layer and a polymer layer on both surfaces of the base layer is obtained. Lose.

적층체의 바람직한 구체예로는, 금속박과, 그 금속박의 적어도 일방의 표면에 폴리머층을 갖는 금속 피복 적층체, 폴리이미드 필름과, 그 폴리이미드 필름의 양방의 표면에 폴리머층을 갖는 다층 필름을 들 수 있다.Preferred specific examples of the laminate include a metal foil and a metal-clad laminate having a polymer layer on at least one surface of the metal foil, a polyimide film, and a multilayer film having a polymer layer on both surfaces of the polyimide film. I can hear it.

폴리머층의 두께, 유전율, 유전 정접, 선팽창 계수, 면내 방향에 있어서의 열전도율, 폴리머층과 기재층의 박리 강도의 바람직한 범위는, 상기 서술한 본 조성물로부터 얻어지는 시트에 있어서의, 두께, 유전율, 유전 정접, 선팽창 계수, 면내 방향에 있어서의 열전도율, 시트와 기재의 박리 강도의 바람직한 범위와 동일하다.The preferred ranges of the thickness of the polymer layer, dielectric constant, dielectric loss tangent, coefficient of linear expansion, thermal conductivity in the in-plane direction, and peel strength between the polymer layer and the base material layer are the thickness, dielectric constant, and dielectric strength of the sheet obtained from the composition described above. It is the same as the desirable range of loss tangent, coefficient of linear expansion, thermal conductivity in the in-plane direction, and peel strength between the sheet and the base material.

본 조성물은, 절연성, 내열성, 내부식성, 내약품성, 내수성, 내충격성, 열전도성을 부여하기 위한 재료로서 유용하다.This composition is useful as a material for providing insulation, heat resistance, corrosion resistance, chemical resistance, water resistance, impact resistance, and thermal conductivity.

본 조성물은, 구체적으로는, 프린트 배선판, 열인터페이스재, 파워 모듈용 기판, 모터 등의 동력 장치에서 사용되는 코일, 차재 엔진, 열교환기, 바이알병, 주사통 (시린지), 앰플, 의료용 와이어, 리튬 이온 전지 등의 2 차 전지, 리튬 전지 등의 1 차 전지, 라디칼 전지, 태양 전지, 연료 전지, 리튬 이온 커패시터, 하이브리드 커패시터, 커패시터, 콘덴서 (알루미늄 전해 콘덴서, 탄탈 전해 콘덴서 등), 일렉트로크로믹 소자, 전기 화학 스위칭 소자, 전극의 바인더, 전극의 세퍼레이터, 전극 (정극, 부극) 에 사용할 수 있다.Specifically, this composition is used in printed wiring boards, thermal interface materials, power module substrates, coils used in power devices such as motors, vehicle engines, heat exchangers, vials, syringes, ampoules, medical wires, Secondary batteries such as lithium ion batteries, primary batteries such as lithium batteries, radical batteries, solar cells, fuel cells, lithium ion capacitors, hybrid capacitors, capacitors, condensers (aluminum electrolytic capacitors, tantalum electrolytic capacitors, etc.), electrochromic It can be used for elements, electrochemical switching elements, electrode binders, electrode separators, and electrodes (positive electrode, negative electrode).

또한, 본 조성물은 부품을 접착하는 접착제로서도 유용하다. 구체적으로는, 본 조성물은, 세라믹스 부품의 접착, 금속 부품의 접착, 반도체 소자나 모듈 부품의 기판에 있어서의 IC 칩이나 저항, 콘덴서 등의 전자 부품의 접착, 회로 기판과 방열판의 접착, LED 칩의 기판으로의 접착에 사용할 수 있다.Additionally, this composition is also useful as an adhesive for bonding parts. Specifically, this composition is used for adhesion of ceramic parts, adhesion of metal parts, adhesion of electronic components such as IC chips, resistors, and condensers in substrates of semiconductor elements and module parts, adhesion of circuit boards and heat sinks, and LED chips. It can be used for adhesion to a substrate.

또, 추가로 도전성 필러를 포함하는 본 조성물은, 도전성이 요구되는 용도, 예를 들어, 프린티드·일렉트로닉스의 분야에 있어서도 바람직하게 사용할 수 있다. 구체적으로는, 프린트 기판, 센서 전극 등에 있어서의 통전 소자의 제조에 사용할 수 있다.Additionally, the present composition containing a conductive filler can also be suitably used in applications requiring conductivity, for example, in the field of printed electronics. Specifically, it can be used in the manufacture of current-carrying elements in printed circuit boards, sensor electrodes, etc.

본 조성물로 형성되는 성형물, 시트 및 적층체는, 안테나 부품, 프린트 기판, 항공기용 부품, 자동차용 부품, 스포츠 용구, 식품공업 용품, 방열 부품, 도료, 화장품 등으로서 유용하다.Molded articles, sheets, and laminates formed from this composition are useful as antenna parts, printed boards, aircraft parts, automobile parts, sports equipment, food industry products, heat dissipation parts, paints, cosmetics, etc.

구체적으로는, 전선 피복재 (항공기용 전선 등), 전기 자동차 등의 모터 등에 사용되는 에나멜선 피복재, 전기 절연성 테이프, 석유 굴착용 절연 테이프, 석유 수송 호스, 수소 탱크, 프린트 기판용 재료, 분리막 (정밀 여과막, 한외 여과막, 역침투막, 이온 교환막, 투석막, 기체 분리막 등), 전극 바인더 (리튬 이차 전지용, 연료 전지용 등), 카피 롤, 가구, 자동차 대시보드, 가전 제품 등의 커버, 슬라이딩 부재 (하중 베어링, 요 베어링, 미끄럼축, 밸브, 베어링, 부시, 시일, 트러스트 와셔, 웨어 링, 피스톤, 슬라이드 스위치, 기어, 캠, 벨트 컨베이어, 식품 반송용 벨트 등), 텐션 로프, 웨어 패드, 웨어 스트립, 튜브 램프, 시험 소켓, 웨이퍼 가이드, 원심 펌프의 마모 부품, 약품 및 물 공급 펌프, 공구 (셔블, 줄, 송곳, 톱 등), 보일러, 호퍼, 파이프, 오븐, 베이킹 몰드, 슈트, 라켓의 가트, 다이스, 변기, 컨테이너 피복재, 파워 디바이스용 실장 방열 기판, 무선 통신 디바이스의 방열 부재, 트랜지스터, 사이리스터, 정류기, 트랜스, 파워 MOS FET, CPU, 방열 핀, 금속 방열판, 풍차나 풍력 발전 설비나 항공기 등의 블레이드, 퍼스널 컴퓨터나 디스플레이의 케이싱, 전자 디바이스 재료, 자동차의 내외장, 저산소하에서 가열 처리하는 가공기나 진공 오븐, 플라즈마 처리 장치 등의 시일재, 스퍼터나 각종 드라이 에칭 장치 등의 처리 유닛 내의 방열 부품, 전자파 실드로서 유용하다.Specifically, electric wire covering materials (aircraft wires, etc.), enamel wire covering materials used in motors such as electric vehicles, electrical insulating tape, insulating tape for oil drilling, oil transport hoses, hydrogen tanks, materials for printed boards, separators (precision Filtration membranes, ultrafiltration membranes, reverse osmosis membranes, ion exchange membranes, dialysis membranes, gas separation membranes, etc.), electrode binders (for lithium secondary batteries, fuel cells, etc.), copy rolls, covers for furniture, car dashboards, home appliances, etc., sliding members (loads) bearings, yaw bearings, sliding shafts, valves, bearings, bushes, seals, thrust washers, wear rings, pistons, slide switches, gears, cams, belt conveyors, food transport belts, etc.), tension ropes, wear pads, wear strips, Tube lamps, test sockets, wafer guides, wearing parts of centrifugal pumps, chemical and water supply pumps, tools (shovels, files, awls, saws, etc.), gats of boilers, hoppers, pipes, ovens, baking molds, chutes, rackets, Dies, toilets, container coverings, mounting heat dissipation boards for power devices, heat dissipation members for wireless communication devices, transistors, thyristors, rectifiers, transformers, power MOS FETs, CPUs, heat dissipation fins, metal heat sinks, windmills, wind power generation facilities, aircraft, etc. Blades, casings for personal computers and displays, electronic device materials, interior and exterior of automobiles, sealing materials for processing machines, vacuum ovens, and plasma processing devices that perform heat processing under low oxygen, heat dissipation parts within processing units such as sputtering and various dry etching devices, It is useful as an electromagnetic shield.

본 조성물로 형성되는 성형물, 시트 및 적층체는, 플렉시블 프린트 배선 기판, 리지드 프린트 배선 기판 등의 전자 기판 재료, 보호 필름이나 방열 기판, 특히 자동차용 방열 기판으로서 유용하다.Molded articles, sheets, and laminates formed from this composition are useful as electronic board materials such as flexible printed wiring boards and rigid printed wiring boards, protective films, and heat dissipation boards, especially heat dissipation boards for automobiles.

방열 부재로서, 본 조성물로 형성되는 성형물, 시트 및 적층체를 사용할 때에는, 성형물, 시트 또는 적층체를 대상으로 하는 기판에 직접 첩합해도 되고, 실리콘계 점착층 등의 점착층을 개재하여 대상으로 하는 기판에 첩합해도 된다.When using a molded product, sheet, or laminate formed from the present composition as a heat dissipation member, the molded product, sheet, or laminate may be bonded directly to the target substrate, or may be bonded to the target substrate through an adhesive layer such as a silicone-based adhesive layer. You can attach it to .

실시예Example

이하, 실시예에 의해 본 발명을 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples, but the present invention is not limited to these.

1. 각 성분의 준비1. Preparation of each ingredient

[제 1 입자][First particle]

입자 1 : TFE 단위, NAH 단위 및 PPVE 단위를, 이 순서대로 97.9 몰%, 0.1 몰%, 2.0 몰% 포함하고, 카르보닐기 함유기를 주사슬 탄소수 1 × 106 개당 1000 개 갖는 테트라플루오로에틸렌계 폴리머 (용융 온도 : 300 ℃) 의 입자 (D50 : 2.1 ㎛, 비중공상)Particle 1: Tetrafluoroethylene-based polymer containing 97.9 mol%, 0.1 mol%, and 2.0 mol% of TFE units, NAH units, and PPVE units in this order, and having 1000 carbonyl group-containing groups per 1 × 10 6 carbon number in the main chain. (Melting temperature: 300 ℃) particles (D50: 2.1 ㎛, specific gravity)

입자 2 : 비열용융성의 폴리테트라플루오로에틸렌의 입자 (D50 : 0.3 ㎛, 비중공상)Particle 2: Particles of non-heat meltable polytetrafluoroethylene (D50: 0.3 ㎛, non-porous phase)

입자 3 : TFE 단위 및 PPVE 단위를, 이 순서대로 98.7 몰%, 1.3 몰% 포함하고, 산소 함유 극성기를 갖지 않는 테트라플루오로에틸렌계 폴리머 (용융 온도 : 305 ℃) 의 입자 (D50 : 1.8 ㎛, 비중공상).Particle 3: Particles (D50: 1.8 μm) of a tetrafluoroethylene polymer (melting temperature: 305°C) containing 98.7 mol% and 1.3 mol% of TFE units and PPVE units in this order, and having no oxygen-containing polar group. specific gravity).

[제 2 입자][Second particle]

입자 4 : 비닐트리메톡시실란으로 표면 처리되어 있는 소다석회 붕규산 유리 입자 (D50 : 16 ㎛, 내압 강도 : 180 ㎫, 구상이며 대략 진구상 또한 중공상)Particle 4: Soda-lime borosilicate glass particles surface-treated with vinyltrimethoxysilane (D50: 16 ㎛, pressure strength: 180 MPa, spherical, roughly spherical or hollow)

[제 3 입자][Third particle]

입자 5 : 에폭시기 함유 실란 커플링제로 표면 처리되어 있는 질화붕소 입자 (D50 : 7 ㎛, 인편상 또한 비중공상, 애스펙트비 : 5 이상)Particle 5: Boron nitride particles surface-treated with an epoxy group-containing silane coupling agent (D50: 7 ㎛, flaky or non-hollow, aspect ratio: 5 or more)

[액상 분산매][Liquid dispersion medium]

NMP : N-메틸-2-피롤리돈NMP: N-methyl-2-pyrrolidone

[그 밖의 수지][Other resins]

바니시 1 : 열가소성 방향족 폴리이미드 (PI1) 의 NMP 바니시Varnish 1: NMP varnish of thermoplastic aromatic polyimide (PI1)

2. 조성물의 제조예2. Preparation example of composition

[예 1][Example 1]

포트에, 바니시 1 과 NMP 를 투입하여 혼합하였다. 또한 포트에, 입자 1 과 입자 4, 입자 5 의 분체 혼합물을 투입하여 혼합하고, 혼합물을 조제하였다. 이 혼합물을 플래너터리 믹서 중에서 혼련하고 나서 취출하여, 입자 1, 입자 4, 입자 5, PI1 및 NMP 를, 50 : 33 : 17 : 5 : 30 의 체적비로 포함하는 연분 (練粉) 1 을 얻었다. 연분 1 은, 웨트 파우더상이었다.Varnish 1 and NMP were added to the pot and mixed. Additionally, the powder mixture of particle 1, particle 4, and particle 5 was added to the pot and mixed to prepare a mixture. This mixture was kneaded in a planetary mixer and then taken out to obtain soft powder 1 containing particle 1, particle 4, particle 5, PI1 and NMP in a volume ratio of 50:33:17:5:30. Soft powder 1 was in the form of wet powder.

연분 1 에, NMP 를 복수 회로 나누어 첨가하면서, 플래너터리 믹서로 2000 rpm 으로 탈포하면서 교반하였다. 또한 NMP 를, 복수 회로 나누어 첨가하고 교반하여, 액상의 조성물을 조제하고, 입자 1, 입자 4, 입자 5, PI1 및 NMP 를, 50 : 33 : 17 : 5 : 110 의 체적비로 포함하는 조성물 1 을 얻었다. 조성물 1 의 점도는, 400 mPa·s 였다.NMP was added to the mixture 1 in multiple portions and stirred while defoaming at 2000 rpm with a planetary mixer. Additionally, NMP was added in multiple portions and stirred to prepare a liquid composition, and composition 1 containing particle 1, particle 4, particle 5, PI1, and NMP in a volume ratio of 50:33:17:5:110 was prepared. got it The viscosity of Composition 1 was 400 mPa·s.

[예 2][Example 2]

입자 1 을, 입자 1 과 입자 2 로 변경한 것 이외에는, 예 1 과 동일하게 하여, 입자 1, 입자 2, 입자 4, 입자 5, PI1 및 NMP 를, 20 : 30 : 33 : 17 : 5 : 110 의 체적비로 포함하는 조성물 2 를 얻었다. 조성물 1 의 점도는, 500 mPa·s 였다.Except that particle 1 was changed to particle 1 and particle 2, it was the same as example 1, and particle 1, particle 2, particle 4, particle 5, PI1, and NMP were 20:30:33:17:5:110. Composition 2 containing a volume ratio of was obtained. The viscosity of Composition 1 was 500 mPa·s.

[예 3][Example 3]

입자 1 을, 입자 3 으로 변경한 것 이외에는, 예 1 과 동일하게 하여, 입자 3, 입자 4, 입자 5, PI1 및 NMP 를, 이 순서대로, 50 : 33 : 17 : 5 : 110 의 체적비로 포함하는 조성물 3 을 얻었다. 조성물 3 의 점도는, 500 mPa·s 였다.Except that Particle 1 was changed to Particle 3, it was the same as Example 1, and Particle 3, Particle 4, Particle 5, PI1, and NMP were included in this order at a volume ratio of 50:33:17:5:110. Composition 3 was obtained. The viscosity of composition 3 was 500 mPa·s.

[예 4][Example 4]

입자 1 을, 입자 3 으로 변경하고, 추가로 입자 4 의 양을 변경한 것 이외에는, 예 1 과 동일하게 하여, 입자 3, 입자 4, 입자 5, PI1 및 NMP 를, 이 순서대로, 50 : 50 : 17 : 5 : 110 의 체적비로 포함하는 조성물 4 를 얻었다. 조성물 4 의 점도는, 900 mPa·s 였다.Except that Particle 1 was changed to Particle 3 and the amount of Particle 4 was further changed, it was the same as Example 1, and Particle 3, Particle 4, Particle 5, PI1, and NMP were mixed in this order, 50:50. Composition 4 containing a volume ratio of : 17 : 5 : 110 was obtained. The viscosity of Composition 4 was 900 mPa·s.

[예 5][Example 5]

입자 1 을, 입자 3 으로 변경하고, 추가로 입자 4 의 양을 변경한 것 이외에는, 예 1 과 동일하게 하여, 입자 3, 입자 4, 입자 5, PI1 및 NMP 를, 이 순서대로, 50 : 25 : 17 : 5 : 110 의 체적비로 포함하는 조성물 5 를 얻었다. 조성물 5 의 점도는, 300 mPa·s 였다.Except that Particle 1 was changed to Particle 3 and the amount of Particle 4 was further changed, it was the same as Example 1, and Particle 3, Particle 4, Particle 5, PI1, and NMP were mixed in this order, 50:25. Composition 5 containing a volume ratio of : 17 : 5 : 110 was obtained. The viscosity of Composition 5 was 300 mPa·s.

각각의 조성물에 있어서의, 입자간의 각 비, 각 입자의 체적 농도, 및 고형분 농도를, 표 1 에 정리하여 나타낸다.In each composition, the ratio between particles, the volume concentration of each particle, and the solid content concentration are summarized in Table 1.

Figure pct00001
Figure pct00001

3. 적층체의 제조3. Manufacture of laminate

두께가 18 ㎛ 인 장척의 동박의 표면에, 바 코터를 사용하여 조성물 1 을 도포하고, 웨트막을 형성하였다. 이어서, 이 웨트막이 형성된 동박을, 110 ℃ 에서 5 분간, 건조로에 통과시키고 건조시켜 드라이막을 형성하였다. 그 후, 드라이막을 갖는 동박을, 질소 오븐 중에서, 380 ℃ 에서 3 분간, 가열하였다. 이로써, 동박과, 그 표면에, 입자 1 의 용융 소성물, 입자 4, 입자 5 및 PI1 을 포함하는, 두께가 100 ㎛ 인 폴리머층을 갖는 적층체 1 을 제조하였다.Composition 1 was applied to the surface of a long copper foil with a thickness of 18 μm using a bar coater to form a wet film. Next, the copper foil with the wet film formed was passed through a drying furnace at 110°C for 5 minutes and dried to form a dry film. After that, the copper foil with the dry film was heated at 380°C for 3 minutes in a nitrogen oven. As a result, a laminate 1 having a copper foil and a polymer layer with a thickness of 100 μm containing the melt-fired product of particle 1, particle 4, particle 5, and PI1 on its surface was manufactured.

적층체 1 과 동일하게 하여, 조성물 2 ∼ 5 로부터, 적층체 2 ∼ 5 를 제조하였다.In the same manner as for Laminate 1, Laminates 2 to 5 were manufactured from Compositions 2 to 5.

4. 평가4. Evaluation

4-1. 조성물의 분산성 안정성의 평가4-1. Evaluation of the dispersibility stability of the composition

각각의 조성물을 용기 중에 25 ℃ 에서 보관 보존 후, 그 분산성을 육안으로 확인하고, 하기의 기준에 따라서 분산 안정성을 평가하였다.After each composition was stored in a container at 25°C, the dispersibility was visually confirmed, and the dispersion stability was evaluated according to the following standards.

[평가 기준][Evaluation standard]

○ : 응집물이 시인되지 않는다.○: Agglomerates are not recognized.

△ : 용기 바닥부에도 응집물이 침전되어 있는 것이 시인된다. 전단을 가하여 교반하면 균일하게 재분산된다.△: It is recognized that aggregates are also deposited at the bottom of the container. When sheared and stirred, it is uniformly redistributed.

× : 용기 바닥부에도 응집물이 침전되어 있는 것이 시인된다. 전단을 가하여 교반해도 재분산이 곤란하다.×: It is recognized that aggregates are also deposited at the bottom of the container. Even with shear and agitation, redispersion is difficult.

4-2. 적층체의 박리 강도의 평가4-2. Evaluation of peel strength of laminate

각각의 적층체로부터 직사각형상 (길이 100 ㎜, 폭 10 ㎜) 의 시험편을 잘라냈다. 그리고, 시험편의 길이 방향의 일단으로부터 50 ㎜ 의 위치를 고정시키고, 인장 속도 50 ㎜/분, 길이 방향의 편단으로부터 시험편에 대해 90°로, 동박과 폴리머층을 박리시켰다.A rectangular test piece (length 100 mm, width 10 mm) was cut from each laminate. Then, the position 50 mm from one end in the longitudinal direction of the test piece was fixed, and the copper foil and the polymer layer were peeled from one end in the longitudinal direction at 90° with respect to the test piece at a tensile speed of 50 mm/min.

그리고, 이 때에 가해지는 최대 하중을 박리 강도 (N/㎝) 로서 측정하고, 이하의 기준에 따라서 평가하였다.Then, the maximum load applied at this time was measured as peeling strength (N/cm), and evaluated according to the following standards.

[평가 기준][Evaluation standard]

○ : 15 N/㎝ 이상○: 15 N/cm or more

△ : 10 N/㎝ 이상 15 N/㎝ 미만△: 10 N/cm or more but less than 15 N/cm

× : 10 N/㎝ 미만×: less than 10 N/cm

4-3. 적층체의 선팽창 계수의 평가4-3. Evaluation of the linear expansion coefficient of the laminate

각각의 적층체에 대하여, 적층체의 동박을 염화제 2 철 수용액으로 에칭에 의해 제거하여 단독의 폴리머층인 시트를 제작하였다. 제작한 시트로부터 가로세로 180 ㎜ 의 사각 시험편을 잘라내고, JIS C 6471 : 1995 에 규정되는 측정 방법에 따라서, 25 ℃ 이상 260 ℃ 이하의 범위에 있어서의, 시험편의 선팽창 계수 (ppm/℃) 를 측정하고, 이하의 기준에 따라서 평가하였다.For each laminate, the copper foil of the laminate was removed by etching with an aqueous ferric chloride solution to produce a sheet as a single polymer layer. A square test piece measuring 180 mm by 180 mm was cut from the manufactured sheet, and the linear expansion coefficient (ppm/°C) of the test piece in the range of 25°C to 260°C was measured according to the measurement method specified in JIS C 6471:1995. Measurements were made and evaluated according to the following standards.

[평가 기준][Evaluation standard]

○ : 80 ppm/℃ 이하○: 80 ppm/℃ or less

△ : 80 ppm/℃ 초과 100 ppm/℃ 이하△: Above 80 ppm/℃ but below 100 ppm/℃

× : 100 ppm/℃ 초과×: exceeding 100 ppm/℃

4-4. 적층체의 전기 특성의 평가4-4. Evaluation of the electrical properties of the laminate

4-3 과 동일하게 하여 얻은 각각의 시트의 중심부로부터 가로세로 5 ㎝ × 10 ㎝ 의 시험편을 잘라내고, SPDR (스플릿 포스트 유전체 공진) 법으로, 시트의 유전율과 유전 정접 (측정 주파수 : 10 GHz) 을 측정하고, 하기의 기준에 따라서 평가하였다.A test piece measuring 5 cm x 10 cm was cut from the center of each sheet obtained in the same manner as in 4-3, and the dielectric constant and dielectric loss tangent of the sheet were measured using the SPDR (split post dielectric resonance) method (measurement frequency: 10 GHz). was measured and evaluated according to the following standards.

[유전율의 평가 기준][Evaluation criteria for dielectric constant]

○ : 2.4 이하○: 2.4 or less

△ : 2.4 초과 2.8 이하△: More than 2.4 but less than 2.8

× : 2.8 초과×: greater than 2.8

[유전 정접의 평가 기준][Evaluation criteria for dielectric loss tangent]

○ : 0.0020 이하○: 0.0020 or less

△ : 0.0020 초과 0.0025 이하△: More than 0.0020 but less than 0.0025

× : 0.0025 초과×: greater than 0.0025

4-5. 적층체의 열전도율의 평가4-5. Evaluation of thermal conductivity of laminate

4-3 과 동일하게 하여 얻은 각각의 시트의 중심부로부터 가로세로 10 ㎜ × 10 ㎜ 의 시험편을 잘라내고, 그 면내 방향에 있어서의 열전도율 (W/m·K) 을 측정하고, 하기의 기준에 따라서 평가하였다.A test piece measuring 10 mm x 10 mm was cut from the center of each sheet obtained in the same manner as in 4-3, and the thermal conductivity (W/m·K) in the in-plane direction was measured according to the following standards. evaluated.

[평가 기준][Evaluation standard]

○ : 3 W/m·K 이상○: 3 W/m·K or more

△ : 1 W/m·K 이상 13 W/m·K 미만△: 1 W/m·K or more but less than 13 W/m·K

× : 1 W/m·K 미만×: Less than 1 W/m·K

이상의 결과를 정리하여 표 2 에 나타낸다.The above results are summarized and shown in Table 2.

Figure pct00002
Figure pct00002

상기 결과로부터 명확한 바와 같이, 본 조성물은 분산 안정성이 우수하고, 본 조성물로 형성한 적층체는, F 폴리머, 제 2 입자 및 제 3 입자의 물성을 고도로 발현하고 있고, 박리 강도, 저선팽창성, 전기 특성, 열전도성이 우수하였다.As is clear from the above results, this composition has excellent dispersion stability, and the laminate formed from this composition highly expresses the physical properties of the F polymer, the second particle, and the third particle, and has peel strength, low linear expansion, and electrical properties. It had excellent properties and thermal conductivity.

또한, 2021년 06월 30일에 출원된 일본 특허출원 2021-109686호의 명세서, 특허 청구범위 및 요약서의 전내용을 여기에 인용하고, 본 발명의 명세서의 개시로서 도입하는 것이다.In addition, the entire contents of the specification, patent claims, and abstract of Japanese Patent Application No. 2021-109686 filed on June 30, 2021 are cited here and are incorporated as a disclosure of the specification of the present invention.

Claims (15)

테트라플루오로에틸렌계 폴리머의 제 1 입자와, 중공상인 제 2 입자와, 애스펙트비가 1 초과인 무기 화합물의 제 3 입자를 포함하고, 상기 제 2 입자의 체적 농도에 대한 상기 제 1 입자의 체적 농도의 비가 1 초과이고, 또한 상기 제 2 입자의 체적 농도에 대한 상기 제 3 입자의 체적 농도의 비가 0.6 미만인, 조성물.It includes first particles of a tetrafluoroethylene-based polymer, hollow second particles, and third particles of an inorganic compound having an aspect ratio greater than 1, and the volume concentration of the first particles relative to the volume concentration of the second particles. is greater than 1, and the ratio of the volume concentration of the third particles to the volume concentration of the second particles is less than 0.6. 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 입자, 상기 제 2 입자 및 상기 제 3 입자의 총 체적에 대한, 상기 제 1 입자의 체적 농도, 상기 제 2 입자의 체적 농도 및 상기 제 3 입자의 체적 농도가, 이 순서대로, 40 ∼ 70 %, 20 ∼ 50 %, 5 % 이상 30 % 미만인, 조성물.
According to claim 1,
The volume concentration of the first particles, the volume concentration of the second particles and the volume concentration of the third particles, relative to the total volume of the first particles, the second particles and the third particles, in this order, are 40 -70%, 20-50%, 5% or more and less than 30% of the composition.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 제 1 입자가, 열용융성 테트라플루오로에틸렌계 폴리머의 입자이고, 또한 상기 열용융성 테트라플루오로에틸렌계 폴리머가, 용융 온도가 200 ∼ 320 ℃ 인, 산소 함유 극성기를 갖는 열용융성 테트라플루오로에틸렌계 폴리머인, 조성물.
The method of claim 1 or 2,
The first particles are particles of a heat-meltable tetrafluoroethylene-based polymer, and the heat-meltable tetrafluoroethylene-based polymer is a heat-meltable tetrafluoroethylene-based polymer having an oxygen-containing polar group whose melting temperature is 200 to 320°C. A composition that is a fluoroethylene-based polymer.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 입자로서, 열용융성 테트라플루오로에틸렌계 폴리머의 입자와 비열용융성 테트라플루오로에틸렌계 폴리머의 입자를 포함하는, 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 3,
A composition comprising, as the first particles, particles of a heat-meltable tetrafluoroethylene-based polymer and particles of a non-heat-meltable tetrafluoroethylene-based polymer.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 입자의 평균 입자경이, 0.01 ㎛ 이상 10 ㎛ 미만인, 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 4,
A composition wherein the average particle diameter of the first particles is 0.01 μm or more and less than 10 μm.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 2 입자가, 중공 실리카 입자 또는 중공 유리 입자인, 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 5,
The composition, wherein the second particles are hollow silica particles or hollow glass particles.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 2 입자의 평균 입자경이, 1 ∼ 100 ㎛ 인, 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 6,
A composition wherein the average particle diameter of the second particles is 1 to 100 μm.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 3 입자가, 질화붕소 입자, 질화규소 입자 또는 질화알루미늄 입자인, 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 7,
A composition wherein the third particles are boron nitride particles, silicon nitride particles, or aluminum nitride particles.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 3 입자의 평균 입자경이, 1 ∼ 50 ㎛ 인, 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 8,
A composition wherein the third particles have an average particle diameter of 1 to 50 μm.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 3 입자가, 실란 커플링제로 표면 처리되어 있는 입자인, 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 9,
A composition wherein the third particles are particles surface-treated with a silane coupling agent.
제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 입자의 평균 입자경이, 상기 제 2 입자의 평균 입자경 및 상기 제 3 입자의 평균 입자경 중 어느 것보다 작은, 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 10,
A composition wherein the average particle diameter of the first particles is smaller than either the average particle diameter of the second particles or the average particle diameter of the third particles.
제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 3 입자의 평균 입자경에 대한, 상기 제 2 입자의 평균 입자경의 비가, 0.5 ∼ 3 인, 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 11,
A composition wherein the ratio of the average particle diameter of the second particles to the average particle diameter of the third particles is 0.5 to 3.
제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
유전율이 2.8 이하이고, 또한 유전 정접이 0.0025 이하인 성형물을 얻기 위해 사용되는, 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 12,
A composition used to obtain a molded product having a dielectric constant of 2.8 or less and a dielectric loss tangent of 0.0025 or less.
제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 기재된 조성물을 압출하여, 상기 테트라플루오로에틸렌계 폴리머와 상기 제 2 입자와 상기 제 3 입자를 포함하는 시트를 얻는, 시트의 제조 방법.A method for producing a sheet, comprising extruding the composition according to any one of claims 1 to 13 to obtain a sheet containing the tetrafluoroethylene polymer, the second particles, and the third particles. 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 기재된 조성물을, 기재의 표면에 배치하고, 상기 테트라플루오로에틸렌계 폴리머와 상기 제 2 입자와 상기 제 3 입자를 포함하는 폴리머층을 형성하여, 상기 기재로 구성되는 기재층과 상기 폴리머층을 갖는 적층체를 얻는, 적층체의 제조 방법.The composition according to any one of claims 1 to 13 is disposed on the surface of a substrate to form a polymer layer comprising the tetrafluoroethylene-based polymer, the second particles, and the third particles, A method for producing a laminate, comprising obtaining a laminate having a substrate layer composed of a substrate and the polymer layer.
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