KR20240018366A - Laser machining apparatus - Google Patents

Laser machining apparatus Download PDF

Info

Publication number
KR20240018366A
KR20240018366A KR1020230094624A KR20230094624A KR20240018366A KR 20240018366 A KR20240018366 A KR 20240018366A KR 1020230094624 A KR1020230094624 A KR 1020230094624A KR 20230094624 A KR20230094624 A KR 20230094624A KR 20240018366 A KR20240018366 A KR 20240018366A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
laser light
laser
unit
light
processing device
Prior art date
Application number
KR1020230094624A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
구니아기 이와시로
다케히로 후지사와
유우키 다나카
기와 마츠이
Original Assignee
가부시기가이샤 디스코
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시기가이샤 디스코 filed Critical 가부시기가이샤 디스코
Publication of KR20240018366A publication Critical patent/KR20240018366A/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/03Observing, e.g. monitoring, the workpiece
    • B23K26/032Observing, e.g. monitoring, the workpiece using optical means
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/062Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam
    • B23K26/0622Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam by shaping pulses
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/064Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
    • B23K26/0643Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms comprising mirrors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/064Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
    • B23K26/0648Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms comprising lenses
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/067Dividing the beam into multiple beams, e.g. multifocusing
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/50Working by transmitting the laser beam through or within the workpiece
    • B23K26/53Working by transmitting the laser beam through or within the workpiece for modifying or reforming the material inside the workpiece, e.g. for producing break initiation cracks
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/70Auxiliary operations or equipment
    • B23K26/702Auxiliary equipment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67092Apparatus for mechanical treatment

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Dicing (AREA)

Abstract

본 발명은, 생산성을 저하시키지 않고 레이저광의 상태를 파악할 수 있는 레이저 가공 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
레이저 가공 장치는, 레이저광(21)을 생성하는 레이저 발진기(30)와, 레이저 발진기(30)에 의해 생성된 레이저광(21)을 집광하는 집광 렌즈(32)와, 레이저 발진기(30)에 의해 생성된 레이저광(21)을, 검사용 레이저광(22)과, 피가공물(100)에 집광시키기 위한 가공용 레이저광(22)으로 분리하는 분리 부재(33)와, 분리 부재(33)에 의해 분리된 검사용 레이저광(22)을 수광하는 수광부(40)와, 수광부(40)에 의해 수광한 레이저광(22)으로부터, 레이저광(22)의 강도에 관한 정보와, 레이저광(22)의 펄스 파형에 관한 정보를 취득하는 검출 유닛(50)과, 검출 유닛(50)에 의해 취득한 정보를 출력하는 제어부(54)를 구비한다.
The purpose of the present invention is to provide a laser processing device that can determine the state of laser light without reducing productivity.
The laser processing device includes a laser oscillator 30 that generates laser light 21, a condensing lens 32 that focuses the laser light 21 generated by the laser oscillator 30, and the laser oscillator 30. a separation member 33 for separating the laser light 21 generated by the inspection laser light 22 and a processing laser light 22 for concentrating the laser light 22 on the workpiece 100; From the light receiving unit 40 that receives the inspection laser light 22 separated by the light receiving unit 40, information about the intensity of the laser light 22, and the laser light 22 ) and a control unit 54 that outputs the information acquired by the detection unit 50.

Description

레이저 가공 장치{LASER MACHINING APPARATUS}Laser processing device {LASER MACHINING APPARATUS}

본 발명은, 레이저 가공 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a laser processing device.

반도체 웨이퍼 등의 판상물(板狀物)을 분할하여 칩화하기 위해, 판상물에 대하여 투과성을 갖는 파장의 레이저광을 판상물의 내부에 집광 조사하여 개질층을 형성하고, 이 개질층을 기점으로 분할하는 방법이나, 판상물에 대하여 흡수성을 갖는 파장의 레이저광을 조사하여 어블레이션시킴으로써 분할하는 방법 등이 알려져 있다(특허문헌 1, 2 참조). 이러한 가공 방법에 있어서 가공 품질을 안정시키기 위해서는 레이저 가공 장치의 레이저광의 상태를 파악하는 것이 매우 중요하다.In order to divide a plate-shaped material such as a semiconductor wafer into chips, a laser light having a wavelength that is transparent to the plate-shaped material is concentrated and irradiated into the inside of the plate-shaped material to form a modified layer, and the modified layer is divided as a starting point. A method of splitting a plate-shaped material by irradiating a laser beam of an absorptive wavelength to ablate the plate-shaped material is known (see Patent Documents 1 and 2). In this processing method, it is very important to determine the state of the laser light of the laser processing device in order to stabilize processing quality.

[특허문헌 1] 일본 특허 제3408805호 공보[Patent Document 1] Japanese Patent No. 3408805 [특허문헌 2] 일본 특허 공개 평성 제10-305420호 공보[Patent Document 2] Japanese Patent Publication No. 10-305420

그러나, 종래, 레이저광의 강도를 측정하는 파워미터는, 레이저광을 차단하도록 설치할 필요가 있다. 그 때문에, 측정을 위해 가공을 정지할 필요가 있어, 생산성이 저하된다고 하는 문제가 있었다. 또한, 레이저광의 펄스 파형이나 펄스 빠짐 등을 관측하기 위해서는, 산란광을 수광할 수 있는 위치에 포토다이오드를 설치하여 오실로스코프에 접속하고, 육안으로 확인할 필요가 있어, 강도 측정과 마찬가지로 생산성이 저하될 뿐만 아니라, 번거로운 작업이었다.However, conventionally, power meters that measure the intensity of laser light need to be installed to block the laser light. Therefore, there was a problem that processing had to be stopped for measurement and productivity was reduced. In addition, in order to observe the pulse waveform or pulse loss of the laser light, it is necessary to install a photodiode in a position where scattered light can be received, connect it to an oscilloscope, and check it with the naked eye, which not only reduces productivity as in the case of intensity measurement. , it was a cumbersome task.

본 발명은, 이러한 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적은, 생산성을 저하시키지 않고 레이저광의 상태를 파악할 수 있는 레이저 가공 장치를 제공하는 것이다.The present invention was made in view of these problems, and its purpose is to provide a laser processing device that can determine the state of laser light without reducing productivity.

전술한 과제를 해결하고, 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 레이저 가공 장치는, 레이저광을 생성하는 레이저 발진기와, 상기 레이저 발진기에 의해 생성된 레이저광을 집광하는 집광 렌즈와, 상기 레이저 발진기에 의해 생성된 레이저광을, 검사용 레이저광과, 피가공물에 집광시키기 위한 가공용 레이저광으로 분리하는 분리 부재와, 상기 분리 부재에 의해 분리된 검사용 레이저광을 수광하는 수광부와, 상기 수광부에 의해 수광한 레이저광으로부터, 상기 레이저광의 강도에 관한 정보와, 상기 레이저광의 펄스 파형에 관한 정보를 취득하는 검출 유닛과, 상기 검출 유닛에 의해 취득한 정보를 출력하는 제어부를 구비하는 것을 특징으로 한다.In order to solve the above-described problems and achieve the object, the laser processing device of the present invention includes a laser oscillator that generates laser light, a condensing lens that focuses the laser light generated by the laser oscillator, and the laser oscillator. A separation member that separates the laser light generated by the inspection laser light and the processing laser light for concentrating the laser light on the workpiece, a light receiving unit that receives the inspection laser light separated by the separation member, and the light receiving unit. It is characterized by comprising a detection unit that acquires information about the intensity of the laser light and information about the pulse waveform of the laser light from the received laser light, and a control section that outputs the information acquired by the detection unit.

또한, 본 발명의 레이저 가공 장치는, 상기 분리 부재에 의해 분리된 검사용 레이저광을 분기하기 위한 분기 미러를 더 구비하고, 상기 수광부는, 상기 분기 미러에 의해 분기된 한쪽 레이저광을 수광하여 상기 레이저광의 평균 출력을 측정하는 서멀 센서와, 상기 분기 미러에 의해 분기된 다른 쪽 레이저광을 수광하여 상기 레이저광의 펄스 파형에 관한 정보를 취득하는 포토디텍터를 가져도 좋다.In addition, the laser processing device of the present invention further includes a branching mirror for branching the inspection laser beam separated by the separation member, and the light receiving unit receives one laser beam branched by the branching mirror to receive the laser beam for inspection. You may have a thermal sensor that measures the average output of the laser light, and a photodetector that receives the other laser light branched by the branching mirror and acquires information about the pulse waveform of the laser light.

또한, 본 발명의 레이저 가공 장치에 있어서, 상기 서멀 센서는, 상기 분기 미러에 의해 반사된 레이저광을 수광하고, 상기 포토디텍터는, 상기 분기 미러를 투과한 레이저광을 수광하도록 배치되어도 좋다.Furthermore, in the laser processing device of the present invention, the thermal sensor may be arranged to receive the laser light reflected by the branching mirror, and the photodetector may be arranged to receive the laser light that has passed through the branching mirror.

또한, 본 발명의 레이저 가공 장치에 있어서, 상기 분기 미러와, 상기 포토디텍터 사이에 ND 필터를 배치하여도 좋다.Additionally, in the laser processing device of the present invention, an ND filter may be disposed between the branch mirror and the photodetector.

또한, 본 발명의 레이저 가공 장치에 있어서, 상기 검출 유닛에 의해 취득하는 상기 레이저광의 펄스 파형에 관한 정보는, 펄스 빠짐의 유무에 관한 정보를 포함하고, 상기 제어부는, 상기 레이저광의 평균 출력에 기초하여, 펄스 빠짐을 검출하기 위한 임계값을 자동으로 설정하여도 좋다.In addition, in the laser processing device of the present invention, the information about the pulse waveform of the laser light acquired by the detection unit includes information about the presence or absence of pulse omission, and the control unit determines the pulse waveform of the laser light based on the average output of the laser light. Therefore, the threshold for detecting missing pulses may be automatically set.

본 발명은, 생산성을 저하시키지 않고 레이저광의 상태를 파악할 수 있다.The present invention can determine the state of laser light without reducing productivity.

도 1은 실시형태에 따른 레이저 가공 장치의 구성예를 나타낸 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 레이저광 조사 유닛의 개략 구성예를 나타낸 모식도이다.
도 3은 레이저광 조사 유닛의 다른 개략 구성예를 나타낸 모식도이다.
도 4는 수광부의 다른 개략 구성예를 나타낸 모식도이다.
도 5는 도 4에 도시된 서멀 센서가 수광한 레이저광의 평균 출력의 추이의 일례를 나타낸 그래프이다.
도 6은 도 4에 도시된 포토디텍터가 수광한 레이저광의 출력의 추이의 일례를 나타낸 그래프이다.
1 is a perspective view showing a configuration example of a laser processing device according to an embodiment.
FIG. 2 is a schematic diagram showing a schematic configuration example of the laser light irradiation unit shown in FIG. 1.
Figure 3 is a schematic diagram showing another schematic configuration example of a laser light irradiation unit.
Figure 4 is a schematic diagram showing another schematic configuration example of a light receiving unit.
FIG. 5 is a graph showing an example of the trend of the average output of laser light received by the thermal sensor shown in FIG. 4.
FIG. 6 is a graph showing an example of the change in output of laser light received by the photo detector shown in FIG. 4.

본 발명을 실시하기 위한 형태(실시형태)에 대해, 도면을 참조하면서 상세히 설명한다. 이하의 실시형태에 기재한 내용에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하에 기재한 구성 요소에는, 당업자가 용이하게 상정할 수 있는 것, 실질적으로 동일한 것이 포함된다. 또한, 이하에 기재된 구성은 적절하게 조합하는 것이 가능하다. 또한, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에서 구성의 여러 가지 생략, 치환 또는 변경을 행할 수 있다.The form (embodiment) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited to the content described in the following embodiments. In addition, the components described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Additionally, the configurations described below can be combined appropriately. Additionally, various omissions, substitutions, or changes in the structure may be made without departing from the gist of the present invention.

[실시형태][Embodiment]

우선, 본 발명의 실시형태에 따른 레이저 가공 장치(1)의 전체 구성에 대해서 도면에 기초하여 설명한다. 도 1은 실시형태에 따른 레이저 가공 장치(1)의 구성예를 나타낸 사시도이다. 이하의 설명에 있어서, X축 방향은, 수평면에 있어서의 일 방향이다. Y축 방향은, 수평면에 있어서, X축 방향에 직교하는 방향이다. Z축 방향은, X축 방향 및 Y축 방향에 직교하는 방향이다. 실시형태의 레이저 가공 장치(1)는, 가공 이송 방향이 X축 방향이고, 인덱싱 이송 방향이 Y축 방향이며, 집광점 위치 조정 방향이 Z축 방향이다.First, the overall configuration of the laser processing device 1 according to an embodiment of the present invention will be described based on the drawings. Fig. 1 is a perspective view showing a configuration example of a laser processing device 1 according to an embodiment. In the following description, the X-axis direction is one direction in the horizontal plane. The Y-axis direction is a direction perpendicular to the X-axis direction in the horizontal plane. The Z-axis direction is a direction perpendicular to the X-axis direction and the Y-axis direction. In the laser processing apparatus 1 of the embodiment, the processing transfer direction is the X-axis direction, the indexing transfer direction is the Y-axis direction, and the converging point position adjustment direction is the Z-axis direction.

도 1에 도시된 바와 같이, 레이저 가공 장치(1)는, 유지 테이블(10)과, 레이저광 조사 유닛(20)과, 이동 유닛(60)과, 촬상 유닛(70)과, 표시 유닛(80)을 구비한다. 실시형태에 따른 레이저 가공 장치(1)는, 가공 대상인 피가공물(100)에 대하여, 레이저광(21)을 조사함으로써, 피가공물(100)을 가공하는 장치이다. 레이저 가공 장치(1)에 의한 피가공물(100)의 가공은, 예컨대, 스텔스 다이싱에 의해 피가공물(100)의 내부에 개질층을 형성하는 개질층 형성 가공, 피가공물(100)의 표면에 홈을 형성하는 홈 가공, 또는 분할 예정 라인을 따라 피가공물(100)을 절단하는 절단 가공 등이다.As shown in FIG. 1, the laser processing device 1 includes a holding table 10, a laser light irradiation unit 20, a moving unit 60, an imaging unit 70, and a display unit 80. ) is provided. The laser processing device 1 according to the embodiment is an apparatus that processes a workpiece 100 by irradiating a laser beam 21 to the workpiece 100 that is a processing target. Processing of the workpiece 100 by the laser processing device 1 includes, for example, modified layer forming processing to form a modified layer inside the workpiece 100 by stealth dicing, and forming a modified layer on the surface of the workpiece 100. This includes groove machining to form a groove, or cutting machining to cut the workpiece 100 along a line to be divided.

피가공물(100)은, 예컨대, 실리콘(Si), 사파이어(Al2O3), 갈륨비소(GaAs), 탄화규소(SiC), 또는 리튬 탄탈레이트(LiTaO3) 등을 기판으로 하는 원판형의 반도체 디바이스 웨이퍼, 광 디바이스 웨이퍼 등의 웨이퍼이다. 또한, 피가공물(100)은, 실시형태에서는 원판형이지만, 본 발명에서는 원판형이 아니어도 좋다. 피가공물(100)은, 예컨대, 환형의 프레임(110)이 접착되고 또한 피가공물(100)의 외경(外徑)보다 대직경인 테이프(111)가 피가공물(100)의 이면에 접착되어, 프레임(110)의 개구 내에 지지된 상태로 반송 및 가공된다.The workpiece 100 is, for example, a disk-shaped material made of silicon (Si), sapphire (Al 2 O 3 ), gallium arsenide (GaAs), silicon carbide (SiC), or lithium tantalate (LiTaO 3 ) as a substrate. These are wafers such as semiconductor device wafers and optical device wafers. In addition, the workpiece 100 is disk-shaped in the embodiment, but may not be disk-shaped in the present invention. For the workpiece 100, for example, a circular frame 110 is adhered, and a tape 111 with a larger diameter than the outer diameter of the workpiece 100 is bonded to the back side of the workpiece 100, It is transported and processed while supported within the opening of the frame 110.

유지 테이블(10)은, 피가공물(100)을 유지면(11)으로 유지한다. 유지면(11)은, 다공성 세라믹 등으로 형성된 원판 형상이다. 유지면(11)은, 실시형태에 있어서, 수평 방향과 평행한 평면이다. 유지면(11)은, 예컨대, 진공 흡인 경로를 통해 진공 흡인원과 접속되어 있다. 유지 테이블(10)은, 유지면(11) 상에 배치된 피가공물(100)을 흡인 유지한다. 유지 테이블(10) 주위에는, 피가공물(100)을 지지하는 환형의 프레임(110)을 끼우는 클램프부(12)가 복수 배치되어 있다.The holding table 10 holds the workpiece 100 on the holding surface 11 . The holding surface 11 has a disk shape made of porous ceramic or the like. In the embodiment, the holding surface 11 is a plane parallel to the horizontal direction. The holding surface 11 is connected to a vacuum suction source through a vacuum suction path, for example. The holding table 10 suction-holds the workpiece 100 placed on the holding surface 11. Around the holding table 10, a plurality of clamp parts 12 for clamping the annular frame 110 supporting the workpiece 100 are arranged.

유지 테이블(10)은, 회전 유닛(13)에 의해 Z축 방향과 평행한 축심 주위로 회전된다. 회전 유닛(13)은, X축 방향 이동 플레이트(14)에 지지된다. 회전 유닛(13) 및 유지 테이블(10)은, X축 방향 이동 플레이트(14)를 통해, 후술하는 X축 방향 이동 유닛(61)에 의해 X축 방향으로 이동된다. 회전 유닛(13) 및 유지 테이블(10)은, X축 방향 이동 플레이트(14), X축 방향 이동 유닛(61) 및 Y축 방향 이동 플레이트(15)를 통해, 후술하는 Y축 방향 이동 유닛(62)에 의해 Y축 방향으로 이동된다.The holding table 10 is rotated around an axis parallel to the Z-axis direction by the rotation unit 13. The rotation unit 13 is supported on an X-axis direction moving plate 14. The rotation unit 13 and the holding table 10 are moved in the X-axis direction via the X-axis direction movement plate 14 by an X-axis direction movement unit 61, which will be described later. The rotation unit 13 and the holding table 10 are connected to the Y-axis direction movement unit (described later) through the X-axis direction movement plate 14, the 62) is moved in the Y-axis direction.

레이저광 조사 유닛(20)은, 유지 테이블(10)의 유지면(11)에 유지된 피가공물(100)에 대하여 레이저광(21)을 조사하는 유닛이다. 레이저광 조사 유닛(20) 중, 적어도 집광 렌즈(32)(도 2 참조)는, 레이저 가공 장치(1)의 장치 본체(2)로부터 세워진 기둥(3)에 설치되는 후술하는 Z축 방향 이동 유닛(63)에 지지된다. 레이저광 조사 유닛(20)의 구체적인 구성예에 대해서는 후술로써 상세히 설명한다.The laser beam irradiation unit 20 is a unit that irradiates the laser beam 21 to the workpiece 100 held on the holding surface 11 of the holding table 10. Among the laser light irradiation units 20, at least the condenser lens 32 (see FIG. 2) is a Z-axis direction moving unit described later installed on the pillar 3 raised from the device main body 2 of the laser processing device 1. Supported in (63). A specific configuration example of the laser light irradiation unit 20 will be described in detail later.

이동 유닛(60)은, 레이저광(21)의 집광점을 유지 테이블(10)에 유지된 피가공물(100)에 대하여 상대적으로 이동시키는 유닛이다. 이동 유닛(60)은, X축 방향 이동 유닛(61)과, Y축 방향 이동 유닛(62)과, Z축 방향 이동 유닛(63)을 포함한다.The moving unit 60 is a unit that moves the condensing point of the laser light 21 relative to the workpiece 100 held on the holding table 10. The movement unit 60 includes an X-axis direction movement unit 61, a Y-axis direction movement unit 62, and a Z-axis direction movement unit 63.

X축 방향 이동 유닛(61)은, 유지 테이블(10)과, 레이저광 조사 유닛(20)의 집광점을 가공 이송 방향인 X축 방향으로 상대적으로 이동시키는 유닛이다. X축 방향 이동 유닛(61)은, 실시형태에 있어서, 유지 테이블(10)을 X축 방향으로 이동시킨다. X축 방향 이동 유닛(61)은, 실시형태에 있어서, 레이저 가공 장치(1)의 장치 본체(2) 상에 설치되어 있다. X축 방향 이동 유닛(61)은, X축 방향 이동 플레이트(14)를 X축 방향으로 이동 가능하게 지지한다.The X-axis direction movement unit 61 is a unit that relatively moves the holding table 10 and the condensing point of the laser beam irradiation unit 20 in the X-axis direction, which is the processing transfer direction. In the embodiment, the X-axis direction movement unit 61 moves the holding table 10 in the X-axis direction. In the embodiment, the X-axis direction movement unit 61 is installed on the device main body 2 of the laser processing device 1. The X-axis direction movement unit 61 supports the X-axis direction movement plate 14 so that it is movable in the X-axis direction.

Y축 방향 이동 유닛(62)은, 유지 테이블(10)과, 레이저광 조사 유닛(20)의 집광점을 인덱싱 이송 방향인 Y축 방향으로 상대적으로 이동시키는 유닛이다. Y축 방향 이동 유닛(62)은, 실시형태에 있어서, 유지 테이블(10)을 Y축 방향으로 이동시킨다. Y축 방향 이동 유닛(62)은, 실시형태에 있어서, 레이저 가공 장치(1)의 장치 본체(2) 상에 설치되어 있다. Y축 방향 이동 유닛(62)은, Y축 방향 이동 플레이트(15)를 Y축 방향으로 이동 가능하게 지지한다.The Y-axis direction movement unit 62 is a unit that relatively moves the holding table 10 and the condensing point of the laser beam irradiation unit 20 in the Y-axis direction, which is the indexing transfer direction. In the embodiment, the Y-axis direction movement unit 62 moves the holding table 10 in the Y-axis direction. In the embodiment, the Y-axis direction movement unit 62 is installed on the device main body 2 of the laser processing device 1. The Y-axis direction movement unit 62 supports the Y-axis direction movement plate 15 movably in the Y-axis direction.

Z축 방향 이동 유닛(63)은, 유지 테이블(10)과, 레이저광 조사 유닛(20)의 집광점을 집광점 위치 조정 방향인 Z축 방향으로 상대적으로 이동시키는 유닛이다. Z축 방향 이동 유닛(63)은, 실시형태에 있어서, 레이저광 조사 유닛(20)의 적어도 집광 렌즈(32)를 Z축 방향으로 이동시킨다. Z축 방향 이동 유닛(63)은, 실시형태에 있어서, 레이저 가공 장치(1)의 장치 본체(2)로부터 세워진 기둥(3)에 설치되어 있다. Z축 방향 이동 유닛(63)은, 레이저광 조사 유닛(20)의 적어도 집광 렌즈(32)를 Z축 방향으로 이동 가능하게 지지한다.The Z-axis direction movement unit 63 is a unit that relatively moves the holding table 10 and the converging point of the laser beam irradiation unit 20 in the Z-axis direction, which is the condensing point position adjustment direction. In the embodiment, the Z-axis direction movement unit 63 moves at least the converging lens 32 of the laser beam irradiation unit 20 in the Z-axis direction. In the embodiment, the Z-axis direction movement unit 63 is installed on a pillar 3 raised from the device main body 2 of the laser processing device 1. The Z-axis direction movement unit 63 supports at least the converging lens 32 of the laser beam irradiation unit 20 so that it can move in the Z-axis direction.

X축 방향 이동 유닛(61), Y축 방향 이동 유닛(62), 및 Z축 방향 이동 유닛(63)은 각각, 실시형태에 있어서, 주지의 볼나사와, 주지의 펄스 모터와, 주지의 가이드 레일을 포함한다. 볼나사는, 축심 주위로 회전 가능하게 설치된다. 펄스 모터는, 볼나사를 축심 주위로 회전시킨다. X축 방향 이동 유닛(61)의 가이드 레일은, X축 방향 이동 플레이트(14)를 X축 방향으로 이동 가능하게 지지한다. X축 방향 이동 유닛(61)의 가이드 레일은, Y축 방향 이동 플레이트(15)에 고정하여 설치된다. Y축 방향 이동 유닛(62)의 가이드 레일은, Y축 방향 이동 플레이트(15)를 Y축 방향으로 이동 가능하게 지지한다. Y축 방향 이동 유닛(62)의 가이드 레일은, 장치 본체(2)에 고정하여 설치된다. Z축 방향 이동 유닛(63)의 가이드 레일은, 레이저광 조사 유닛(20)의 적어도 집광 렌즈(32)를 Z축 방향으로 이동 가능하게 지지한다. Z축 방향 이동 유닛(63)의 가이드 레일은, 기둥(3)에 고정하여 설치된다.In the embodiment, the Includes rails. The ball screw is installed to be rotatable about the axis. The pulse motor rotates the ball screw around its axis. The guide rail of the X-axis direction movement unit 61 supports the X-axis direction movement plate 14 movably in the X-axis direction. The guide rail of the X-axis direction movement unit 61 is fixed and installed to the Y-axis direction movement plate 15. The guide rail of the Y-axis direction movement unit 62 supports the Y-axis direction movement plate 15 movably in the Y-axis direction. The guide rail of the Y-axis direction movement unit 62 is fixed and installed on the device main body 2. The guide rail of the Z-axis direction movement unit 63 supports at least the converging lens 32 of the laser beam irradiation unit 20 so that it can move in the Z-axis direction. The guide rail of the Z-axis direction movement unit 63 is fixed to the pillar 3 and installed.

촬상 유닛(70)은, 유지 테이블(10)에 유지된 피가공물(100)을 촬상한다. 촬상 유닛(70)은, CCD(Charge Coupled Device) 카메라 또는 적외선 카메라를 포함한다. 촬상 유닛(70)은, 예컨대, 레이저광 조사 유닛(20)의 집광 렌즈(32)(도 2 참조)에 인접하도록 고정되어 있다. 촬상 유닛(70)은, 피가공물(100)을 촬상하여, 피가공물(100)과 레이저광 조사 유닛(20)의 위치 맞춤을 행하는 얼라인먼트를 수행하기 위한 화상을 얻어, 얻은 화상을 출력한다.The imaging unit 70 captures an image of the workpiece 100 held on the holding table 10 . The imaging unit 70 includes a CCD (Charge Coupled Device) camera or an infrared camera. The imaging unit 70 is fixed, for example, adjacent to the converging lens 32 (see FIG. 2) of the laser beam irradiation unit 20. The imaging unit 70 captures an image of the workpiece 100, obtains an image for alignment of the workpiece 100 and the laser beam irradiation unit 20, and outputs the obtained image.

표시 유닛(80)은, 액정 표시 장치 등에 의해 구성되는 표시부이다. 표시 유닛(80)은, 예컨대, 가공 조건의 설정 화면, 촬상 유닛(70)이 촬상한 피가공물(100)의 상태, 가공 동작의 상태 등을, 표시면에 표시시킨다. 표시 유닛(80)의 표시면이 터치 패널을 포함하는 경우, 표시 유닛(80)은, 입력부를 포함하여도 좋다. 입력부는, 오퍼레이터가 가공 내용 정보를 등록하는 등의 각종 조작을 접수 가능하다. 입력부는, 키보드 등의 외부 입력 장치여도 좋다. 표시 유닛(80)은, 표시면에 표시되는 정보나 화상이 입력부 등으로부터의 조작에 의해 전환된다.The display unit 80 is a display unit comprised of a liquid crystal display device or the like. The display unit 80 displays, for example, a setting screen for processing conditions, the state of the workpiece 100 imaged by the imaging unit 70, the state of the processing operation, etc., on the display screen. When the display surface of the display unit 80 includes a touch panel, the display unit 80 may include an input unit. The input unit can accept various operations such as registering processing content information by the operator. The input unit may be an external input device such as a keyboard. In the display unit 80, information and images displayed on the display screen are switched by operations from an input unit or the like.

다음에, 레이저광 조사 유닛(20)의 구체적인 구성에 대해서 설명한다. 도 2는 도 1에 도시된 레이저광 조사 유닛(20)의 개략 구성예를 나타낸 모식도이다. 도 2에 도시된 바와 같이, 레이저광 조사 유닛(20)은, 레이저 발진기(30)와, 집광 렌즈(32)를 포함한다.Next, the specific configuration of the laser light irradiation unit 20 will be described. FIG. 2 is a schematic diagram showing a schematic configuration example of the laser light irradiation unit 20 shown in FIG. 1. As shown in FIG. 2, the laser light irradiation unit 20 includes a laser oscillator 30 and a condensing lens 32.

레이저 발진기(30)는, 피가공물(100)을 가공하기 위한 소정의 파장을 갖는 레이저광(21)을 생성하여 출사한다. 레이저광 조사 유닛(20)이 조사하는 레이저광(21)은, 피가공물(100)에 대하여 투과성 또는 흡수성을 갖는 파장의 레이저광이다. 레이저 발진기(30)는, 레이저광(21)을 발진하여 증폭하는 레이저 매질을 포함하는 레이저 발진부(31)를 갖는다. 또한, 실시형태의 레이저 발진기(30)는, 하우징 내부에, 분리 부재(33)와, 수광부(40)와, 검출 유닛(50)과, 제어부(54)가 설치된다.The laser oscillator 30 generates and emits laser light 21 having a predetermined wavelength for processing the workpiece 100. The laser light 21 irradiated by the laser light irradiation unit 20 is laser light with a wavelength that transmits or absorbs the workpiece 100. The laser oscillator 30 has a laser oscillator 31 containing a laser medium that oscillates and amplifies the laser light 21. In addition, the laser oscillator 30 of the embodiment is provided with a separation member 33, a light receiving unit 40, a detection unit 50, and a control unit 54 inside the housing.

분리 부재(33)는, 레이저 발진부(31)와 집광 렌즈(32) 사이의 레이저광(21)의 광로 상에 설치된다. 분리 부재(33)는, 레이저 발진부(31)에 있어서 생성된 레이저광(21)을, 검사용 레이저광(22)과, 가공용 레이저광(23)으로 분리한다.The separation member 33 is installed on the optical path of the laser beam 21 between the laser oscillation unit 31 and the converging lens 32. The separation member 33 separates the laser light 21 generated in the laser oscillation unit 31 into a laser light 22 for inspection and a laser light 23 for processing.

실시형태의 분리 부재(33)는, 예컨대 유리를 포함하고, 레이저광(21) 중 99% 이상을 투과함과 더불어, 1 퍼센트 미만을 반사한다. 즉, 실시형태의 분리 부재(33)는, 반사된 레이저광(21)을 검사용 레이저광(22)으로서 수광부(40)로 유도하고, 투과시킨 레이저광(21)을 가공용 레이저광(23)으로서 집광 렌즈(32)로 유도한다. 또한, 분리 부재(33)는, 반사 미러를 포함하여도 좋으며, 이 경우, 반사된 레이저광(21)을 가공용 레이저광(23)으로서 집광 렌즈(32)로 유도하고, 투과시킨 레이저광(21)을 검사용 레이저광(22)으로서 수광부(40)로 유도하도록 배치하면 좋다.The separation member 33 of the embodiment includes, for example, glass and transmits more than 99% of the laser light 21 and reflects less than 1 percent. That is, the separation member 33 of the embodiment guides the reflected laser light 21 as the laser light 22 for inspection to the light receiving unit 40, and converts the transmitted laser light 21 into the laser light 23 for processing. It is guided to the condensing lens 32. Additionally, the separation member 33 may include a reflecting mirror. In this case, the reflected laser light 21 is guided to the converging lens 32 as the laser light 23 for processing, and the transmitted laser light 21 is guided to the converging lens 32. ) may be arranged to be guided to the light receiving unit 40 as the inspection laser light 22.

수광부(40)는, 분리 부재(33)에 의해 분리된 검사용 레이저광(22)을 수광한다. 실시형태의 수광부(40)는, 광 신호를 전기 신호로 변환함으로써 광을 검출하는 포토디텍터(광검출기)를 포함한다. 또한, 수광부(40)의 전단에 광량을 감쇠시키는 필터가 배치되어 있어도 좋다. 필터는, 예컨대, 소정의 파장대에 있어서 파장을 선택하지 않고, 광량을 일정량 낮추어 투과하는 ND(Neutral Density) 필터를 포함한다. 수광부(40)는, 수광한 광에 대응하는 전기 신호를 검출 유닛(50)으로 출력한다.The light receiving unit 40 receives the inspection laser light 22 separated by the separation member 33. The light receiving unit 40 of the embodiment includes a photodetector that detects light by converting an optical signal into an electric signal. Additionally, a filter that attenuates the amount of light may be disposed in front of the light receiving unit 40. The filter includes, for example, an ND (Neutral Density) filter that lowers the amount of light by a certain amount and transmits it without selecting the wavelength in a predetermined wavelength range. The light receiving unit 40 outputs an electrical signal corresponding to the received light to the detection unit 50.

검출 유닛(50)은, 수광부(40)에 의해 수광한 검사용 레이저광(22)의 정보를 취득하는 유닛이다. 검출 유닛(50)은, 신호 증폭부(51)와, 펄스 파형 정보 취득부(52)와, 광강도 정보 취득부(53)를 포함한다. 신호 증폭부(51)는, 수광부(40)로부터 취득한 전기 신호를 증폭하여 펄스 파형 정보 취득부(52) 및 광강도 정보 취득부(53)로 출력한다.The detection unit 50 is a unit that acquires information on the inspection laser light 22 received by the light receiving unit 40. The detection unit 50 includes a signal amplification unit 51, a pulse waveform information acquisition unit 52, and a light intensity information acquisition unit 53. The signal amplifier 51 amplifies the electric signal acquired from the light receiving unit 40 and outputs it to the pulse waveform information acquisition unit 52 and the light intensity information acquisition unit 53.

펄스 파형 정보 취득부(52)는, 레이저광(22)의 펄스 파형에 관한 정보에 대응하는 광강도의 전기 신호를 취득한다. 광강도 정보 취득부(53)는, 레이저광(22)의 강도에 관한 정보에 대응하는 광강도의 전기 신호를 취득한다. 또한, 펄스 파형 정보 취득부(52) 및 광강도 정보 취득부(53)는, 각각의 정보를 아날로그 신호로 취득한다. 펄스 파형 정보 취득부(52) 및 광강도 정보 취득부(53)는, 취득한 각 정보에 대응하는 아날로그 신호를, 제어부(54)로 출력한다.The pulse waveform information acquisition unit 52 acquires an electrical signal of light intensity corresponding to information about the pulse waveform of the laser light 22. The light intensity information acquisition unit 53 acquires an electrical signal of light intensity corresponding to information about the intensity of the laser light 22. Additionally, the pulse waveform information acquisition unit 52 and the light intensity information acquisition unit 53 acquire each information as an analog signal. The pulse waveform information acquisition unit 52 and the light intensity information acquisition unit 53 output analog signals corresponding to each acquired information to the control unit 54.

제어부(54)는, 연산 수단으로서의 연산 처리 장치와, 기억 수단으로서의 기억 장치와, 통신 수단으로서의 입출력 인터페이스 장치를 포함하는 컴퓨터이다. 연산 처리 장치는, 예컨대, CPU(Central Processing Unit) 등의 마이크로 프로세서를 포함한다. 기억 장치는, HDD(Hard Disk Drive), ROM(Read Only Memory) 또는 RAM(Random Access Memory) 등의 메모리를 갖는다. 연산 처리 장치는, 기억 장치에 저장된 소정의 프로그램에 기초하여 각종 연산을 행한다. 연산 처리 장치는, 연산결과에 따라, 입출력 인터페이스 장치를 통해 각종 제어 신호를 전술한 각 구성 요소에 출력한다.The control unit 54 is a computer that includes an arithmetic processing device as a calculation means, a memory device as a storage means, and an input/output interface device as a communication means. The arithmetic processing unit includes, for example, a microprocessor such as a CPU (Central Processing Unit). The storage device has memory such as HDD (Hard Disk Drive), ROM (Read Only Memory), or RAM (Random Access Memory). The arithmetic processing unit performs various calculations based on a predetermined program stored in a memory device. The arithmetic processing device outputs various control signals to each of the above-described components through an input/output interface device according to the arithmetic results.

제어부(54)는, 펄스 파형 정보 취득부(52) 및 광강도 정보 취득부(53)로부터 취득한 아날로그 신호를 AD 변환한다. 또한, 제어부(54)는, 광강도의 AD값을, 파워값으로 환산한다. 이에 따라, 제어부(54)는, 펄스 파형 정보 취득부(52)가 취득한 레이저광(22)의 펄스 파형에 관한 정보에 대응하는 광강도의 전기 신호로부터, 피크 출력의 시간 추이 정보를 얻는다. 또한, 제어부(54)는, 광강도 정보 취득부(53)가 취득한 레이저광(22)의 강도에 관한 정보에 대응하는 광강도의 전기 신호로부터, 평균 출력의 시간 추이 정보를 얻는다.The control unit 54 performs AD conversion on the analog signals acquired from the pulse waveform information acquisition unit 52 and the light intensity information acquisition unit 53. Additionally, the control unit 54 converts the AD value of the light intensity into a power value. Accordingly, the control unit 54 obtains time transition information of the peak output from the electrical signal of the light intensity corresponding to the information about the pulse waveform of the laser light 22 acquired by the pulse waveform information acquisition unit 52. Additionally, the control unit 54 obtains time transition information of the average output from the electrical signal of the light intensity corresponding to the information on the intensity of the laser beam 22 acquired by the light intensity information acquisition unit 53.

제어부(54)는, 검출 유닛(50)에 의해 취득한 검사용 레이저광(22)의 강도에 관한 정보에 기초하여, 레이저광(22)의 평균 출력의 시간 추이를 취득한다. 검사용 레이저광(22)과 가공용 레이저광(23)은, 분리 부재(33)에 있어서 소정의 비율로 분리되기 때문에, 레이저광(22)의 평균 출력의 시간 추이에 의해, 가공용 레이저광(23)의 평균 출력의 시간 추이를 추정하는 것이 가능하다. 즉, 가공용 레이저광(23)의 평균 출력의 시간 추이에 기초하여, 예컨대, 레이저광(23)의 강도의 예기치 않은 저하 등의 장치 이상을 검출할 수 있다.The control unit 54 acquires the time transition of the average output of the laser beam 22 based on the information regarding the intensity of the inspection laser beam 22 acquired by the detection unit 50. Since the inspection laser light 22 and the processing laser light 23 are separated at a predetermined ratio in the separation member 33, the processing laser light 23 is determined by the time change of the average output of the laser light 22. ) It is possible to estimate the time trend of the average output. That is, based on the time transition of the average output of the processing laser light 23, device abnormalities such as an unexpected decrease in the intensity of the laser light 23, for example, can be detected.

또한, 제어부(54)는, 검출 유닛(50)에 의해 취득한 검사용 레이저광(22)의 펄스 파형에 관한 정보에 기초하여, 레이저광(22)의 피크 출력의 시간 추이를 취득한다. 검사용 레이저광(22)과 가공용 레이저광(23)은, 분리 부재(33)에 있어서 소정의 비율로 분리되기 때문에, 레이저광(22)의 피크 출력의 시간 추이에 의해, 가공용 레이저광(23)의 피크 출력의 시간 추이를 추정하는 것이 가능하다. 즉, 제어부(54)는, 가공용 레이저광(23)의 피크 출력의 시간 추이에 기초하여, 예컨대, 레이저광(23)의 펄스 빠짐 등의 장치 이상을 검출할 수 있다.Additionally, the control unit 54 acquires the time transition of the peak output of the laser light 22 based on information about the pulse waveform of the inspection laser light 22 acquired by the detection unit 50. Since the inspection laser light 22 and the processing laser light 23 are separated at a predetermined ratio in the separation member 33, the processing laser light 23 is determined by the time transition of the peak output of the laser light 22. ) It is possible to estimate the time trend of the peak output. That is, the control unit 54 can detect device abnormalities such as missing pulses of the laser light 23, for example, based on the time transition of the peak output of the processing laser light 23.

여기서, 검출 유닛(50)의 펄스 파형 정보 취득부(52)가 취득하는 레이저광(22)의 펄스 파형에 관한 정보는, 펄스 빠짐의 유무에 관한 정보를 포함하여도 좋다. 펄스 빠짐의 유무의 검출은, 소정의 임계값에 대하여, 펄스마다의 피크 출력이 하회하는지 여부의 판정에 의해 행한다. 실시형태의 제어부(54)는, 레이저광(22)의 평균 출력의 시간 추이에 기초하여, 펄스 빠짐의 검출을 행하기 위한 임계값을 자동적으로 설정한다. 이에 따라, 레이저광(21)의 조사 중에 가공 조건을 변경하고, 적절한 임계값이 변화하는 경우에도 대응 가능하다.Here, the information about the pulse waveform of the laser light 22 acquired by the pulse waveform information acquisition unit 52 of the detection unit 50 may include information about the presence or absence of pulse omission. Detection of pulse omission is performed by determining whether the peak output for each pulse falls below a predetermined threshold. The control unit 54 of the embodiment automatically sets a threshold for detecting pulse omission based on the time transition of the average output of the laser light 22. Accordingly, it is possible to respond even when the processing conditions are changed during irradiation of the laser light 21 and the appropriate threshold value changes.

집광 렌즈(32)는, 레이저 발진기(30)로부터 출사된 레이저광(21)을, 유지 테이블(10)의 유지면(11)에 유지된 피가공물(100)에 집광하여, 피가공물(100)에 조사시킨다. 집광 렌즈(32)는, 레이저 발진부(31)로부터 출사되어 분리 부재(33)에 입사된 레이저광(21) 중, 분리 부재(33)를 투과한 가공용 레이저광(23)을, 피가공물(100)에 집광한다.The condenser lens 32 condenses the laser light 21 emitted from the laser oscillator 30 onto the workpiece 100 held on the holding surface 11 of the holding table 10, thereby forming the workpiece 100. Investigate it. The condenser lens 32 directs the processing laser light 23, which has passed through the separation member 33, out of the laser light 21 emitted from the laser oscillation unit 31 and incident on the separation member 33, to the workpiece 100. ) is focused on.

도 2에 도시된 실시형태의 레이저광 조사 유닛(20)에서는, 레이저 발진기(30)의 내부에 수광부(40) 및 검출 유닛(50)이 배치되어 있지만, 본 발명에서는 이 형태에 한정되지 않는다. 도 3은 레이저광 조사 유닛(20-1)의 다른 개략 구성예를 나타낸 모식도이다. 도 3에 도시된 바와 같이, 레이저광 조사 유닛(20-1)은, 실시형태의 레이저광 조사 유닛(20)과 비교하여, 레이저 발진기(30) 대신에 레이저 발진기(30-1)를 구비하는 점에서 상이하다.In the laser light irradiation unit 20 of the embodiment shown in FIG. 2, the light receiving unit 40 and the detection unit 50 are disposed inside the laser oscillator 30, but the present invention is not limited to this form. Fig. 3 is a schematic diagram showing another schematic configuration example of the laser light irradiation unit 20-1. As shown in FIG. 3, the laser light irradiation unit 20-1 is provided with a laser oscillator 30-1 instead of the laser oscillator 30, compared to the laser light irradiation unit 20 of the embodiment. It is different in that respect.

레이저 발진기(30-1)는, 내부에, 분리 부재(33), 수광부(40), 검출 유닛(50) 및 제어부(54)를 구비하지 않는다. 즉, 레이저광 조사 유닛(20-1)은, 레이저 발진기(30-1) 외부에, 분리 부재(33), 수광부(40), 검출 유닛(50) 및 제어부(54)를 구비한다. 분리 부재(33)는, 레이저 발진기(30-1)로부터 출사된 후의 레이저광(21)을, 검사용 레이저광(22)과, 가공용 레이저광(23)으로 분리한다. 다른 구성 부품에 대해서는, 도 2에 도시된 레이저광 조사 유닛(20)의 구성 부품과 동일하기 때문에, 설명을 생략한다.The laser oscillator 30-1 does not have a separation member 33, a light receiving unit 40, a detection unit 50, and a control unit 54 inside. That is, the laser light irradiation unit 20-1 includes a separation member 33, a light receiving unit 40, a detection unit 50, and a control unit 54 outside the laser oscillator 30-1. The separation member 33 separates the laser light 21 emitted from the laser oscillator 30-1 into the laser light 22 for inspection and the laser light 23 for processing. As for other structural parts, since they are the same as the structural parts of the laser beam irradiation unit 20 shown in FIG. 2, description is omitted.

실시형태의 수광부(40)는, 포토디텍터를 포함하지만, 본 발명에서는, 서멀 센서를 더 포함하여도 좋다. 도 4는 수광부(40-1)의 다른 개략 구성예를 나타낸 모식도이다. 수광부(40-1)는, 분기 미러(41)에 의해 분기된 레이저광(24, 25)을 각각 수광하는 서멀 센서(42)와, 포토디텍터(43)를 포함한다.The light receiving unit 40 of the embodiment includes a photo detector, but in the present invention, it may further include a thermal sensor. Figure 4 is a schematic diagram showing another schematic configuration example of the light receiving unit 40-1. The light receiving unit 40-1 includes a thermal sensor 42 and a photodetector 43 that respectively receive the laser lights 24 and 25 branched by the branching mirror 41.

분기 미러(41)는, 분리 부재(33)에 의해 분리된 검사용 레이저광(22)을 분기한다. 분기 미러(41)는, 분기된 한쪽 레이저광(22)을 레이저광(24)으로서 서멀 센서(42)로 유도하고, 분기된 다른 쪽 레이저광(22)을 레이저광(25)으로서 포토디텍터(43)로 유도한다. 분기 미러(41)는, 예컨대, 99% 정도의 레이저광(22)을 반사하는 반사 미러이다. 분기 미러(41)는, 레이저광(22)의 99% 정도를 반사하여 레이저광(24)으로서 서멀 센서(42)로 유도하고, 나머지 1 퍼센트 정도를 투과하여 포토디텍터(43)로 유도한다.The branch mirror 41 branches the inspection laser light 22 separated by the separation member 33. The branching mirror 41 guides one branched laser light 22 as the laser light 24 to the thermal sensor 42, and guides the other branched laser light 22 as the laser light 25 to a photo detector ( 43). The branching mirror 41 is a reflective mirror that reflects about 99% of the laser light 22, for example. The branch mirror 41 reflects approximately 99% of the laser light 22 and guides it to the thermal sensor 42 as the laser light 24, and transmits the remaining 1% to guide it to the photo detector 43.

서멀 센서(42)는, 분기 미러(41)에 의해 분기된 한쪽 레이저광(24)을 수광하여 레이저광(24)의 평균 출력을 측정한다. 실시형태의 서멀 센서(42)는, 분기 미러(41)에 의해 반사된 레이저광(24)을 수광한다.The thermal sensor 42 receives one laser beam 24 branched by the branching mirror 41 and measures the average output of the laser beam 24. The thermal sensor 42 of the embodiment receives the laser light 24 reflected by the diverging mirror 41.

포토디텍터(43)는, 분기 미러(41)에 의해 분기된 다른 쪽 레이저광(25)을 수광하여 레이저광(25)의 펄스 파형에 관한 정보를 취득한다. 실시형태의 포토디텍터(43)는, 분기 미러(41)를 투과한 레이저광(25)을 수광한다.The photo detector 43 receives the other laser beam 25 branched by the branching mirror 41 and acquires information about the pulse waveform of the laser beam 25. The photodetector 43 of the embodiment receives the laser light 25 that passed through the branching mirror 41.

도 4에 도시된 바와 같이, 분기 미러(41)의 전단에는, 집광 렌즈(44) 및 파장 선택 필터(45)가 배치된다. 또한, 분기 미러(41)와, 포토디텍터(43) 사이에는 ND 필터(46)가 배치된다.As shown in FIG. 4, a condensing lens 44 and a wavelength selection filter 45 are disposed at the front end of the branching mirror 41. Additionally, an ND filter 46 is disposed between the branch mirror 41 and the photo detector 43.

집광 렌즈(44)는, 분리 부재(33)로 분리된 검사용 레이저광(22)을, 포토디텍터(43)의 수광면을 향해 집광한다. 집광 렌즈(44)를 투과한 레이저광(22)은, 파장 선택 필터(45), 분기 미러(41), 및 ND 필터(46)를 투과하여, 포토디텍터(43)에 입사된다.The condenser lens 44 condenses the inspection laser light 22 separated by the separation member 33 toward the light-receiving surface of the photo detector 43. The laser light 22 that has passed through the converging lens 44 passes through the wavelength selection filter 45, the branching mirror 41, and the ND filter 46, and is incident on the photo detector 43.

파장 선택 필터(45)는, 집광 렌즈(44)와 분기 미러(41) 사이의 검사용 레이저광(22)의 광로 상에 배치된다. 파장 선택 필터(45)는, 검사용 레이저광(22) 중, 소정의 파장만을 투과하는 필터이다. 파장 선택 필터(45)는, 예컨대, 밴드 패스 필터, 다이크로익 필터, 롱 패스 필터 및 숏 패스 필터 중 어느 하나, 또는 이들을 조합한 구성의 필터이다. 밴드 패스 필터는, 특정 파장을 임의로 선택하여 투과시키는 필터이다. 다이크로익 필터는, 특정 파장 영역의 광을 반사하고, 나머지 파장 영역의 광을 투과시키는 필터이다. 롱 패스 필터는, 소정의 파장보다 긴 파장의 광을 투과시키는 필터이다. 숏 패스 필터는, 소정의 파장보다 짧은 파장의 광을 투과시키는 필터이다. 실시형태의 파장 선택 필터(45)는, 서멀 센서(42) 및 포토디텍터(43)에 있어서 측정 가능한 파장만을 투과시킨다.The wavelength selection filter 45 is disposed on the optical path of the inspection laser light 22 between the converging lens 44 and the diverging mirror 41. The wavelength selection filter 45 is a filter that transmits only a predetermined wavelength among the inspection laser light 22. The wavelength selection filter 45 is, for example, one of a band-pass filter, a dichroic filter, a long-pass filter, and a short-pass filter, or a combination of these filters. A band pass filter is a filter that randomly selects and transmits a specific wavelength. A dichroic filter is a filter that reflects light in a specific wavelength range and transmits light in the remaining wavelength range. A long pass filter is a filter that transmits light with a wavelength longer than a predetermined wavelength. A short pass filter is a filter that transmits light with a wavelength shorter than a predetermined wavelength. The wavelength selection filter 45 of the embodiment transmits only the wavelengths that can be measured by the thermal sensor 42 and the photo detector 43.

ND 필터(46)는, 분기 미러(41)에 의해 분기된 레이저광(25)의 광량을 일정량 낮추어 투과시킨다. 이에 따라, 포토디텍터(43)에 입사되는 레이저광(25)의 광량을 낮출 수 있다.The ND filter 46 lowers the amount of light of the laser light 25 branched by the branching mirror 41 by a certain amount and transmits it. Accordingly, the amount of laser light 25 incident on the photo detector 43 can be lowered.

여기서, 서멀 센서(42) 및 포토디텍터(43) 양쪽 모두를 갖는 수광부(40)를 구비하는 레이저 가공 장치(1)에 있어서, 펄스 빠짐을 검출하기 위한 임계값(93)을 자동적으로 설정하는 방법에 대해서 설명한다. 도 5는 도 4에 도시된 서멀 센서(42)가 수광한 레이저광(24)의 평균 출력의 추이의 일례를 나타낸 그래프이다. 도 6은 도 4에 도시된 포토디텍터(43)가 수광한 레이저광(25)의 출력의 추이의 일례를 나타낸 그래프이다. 도 5 및 도 6에 도시된 일례에서는, 레이저 가공 조건을, 제1 가공 조건(91)으로부터 제2 가공 조건(92)으로 중간에 변경하고 있는 것으로 한다.Here, in the laser processing device (1) provided with a light receiving unit (40) having both a thermal sensor (42) and a photo detector (43), a method of automatically setting a threshold value (93) for detecting missing pulses Explain. FIG. 5 is a graph showing an example of the trend of the average output of the laser light 24 received by the thermal sensor 42 shown in FIG. 4. FIG. 6 is a graph showing an example of the output of the laser light 25 received by the photo detector 43 shown in FIG. 4. In the example shown in FIGS. 5 and 6 , the laser processing conditions are changed from the first processing conditions 91 to the second processing conditions 92 in the middle.

제어부(54)는, 서멀 센서(42)가 취득한 레이저광(24)의 평균 출력에 기초하여, 도 5에 도시된 바와 같은 가공용 레이저광(23)의 평균 출력의 추이를 추정한다. 도 5에 도시된 바와 같이, 제1 가공 조건(91)으로 레이저 가공을 실행하고 있는 동안, 레이저광(23)의 평균 출력은, 대략 일정하다. 또한, 제2 가공 조건(92)으로 레이저 가공을 실행하고 있는 동안, 레이저광(23)의 평균 출력은, 대략 일정하다. 또한, 제1 가공 조건(91)으로부터 제2 가공 조건(92)으로 이행함으로써, 레이저광(23)의 평균 출력은, 변화한다(도 5에 도시된 일례에서는 감소한다).The control unit 54 estimates the transition of the average output of the laser light 23 for processing as shown in FIG. 5 based on the average output of the laser light 24 acquired by the thermal sensor 42. As shown in FIG. 5, while laser processing is performed under the first processing conditions 91, the average output of the laser light 23 is approximately constant. Additionally, while laser processing is performed under the second processing condition 92, the average output of the laser light 23 is approximately constant. Additionally, by transitioning from the first processing condition 91 to the second processing condition 92, the average output of the laser light 23 changes (in the example shown in FIG. 5, it decreases).

또한, 제어부(54)는, 도 6에 도시된 바와 같은 포토디텍터(43)가 취득한 레이저광(25)의 피크 출력을 포함하는 파형 데이터에 기초하여, 가공용 레이저광(23)의 피크 출력의 추이를 추정한다. 제1 가공 조건(91)으로 레이저 가공을 실행하고 있는 동안, 레이저광(23)의 펄스 파형은, 대략 일정하다. 또한, 제2 가공 조건(92)으로 레이저 가공을 실행하고 있는 동안, 레이저광(23)의 펄스 파형은, 대략 일정하다. 또한, 제1 가공 조건(91)으로부터 제2 가공 조건(92)으로 이행함으로써, 레이저광(23)의 펄스 파형은, 변화한다(도 6에 도시된 일례에서는 피크값이 감소한다).In addition, the control unit 54 monitors the transition of the peak output of the laser light 23 for processing based on waveform data including the peak output of the laser light 25 acquired by the photodetector 43 as shown in FIG. 6. Estimate . While laser processing is performed under the first processing conditions 91, the pulse waveform of the laser light 23 is approximately constant. Additionally, while laser processing is performed under the second processing condition 92, the pulse waveform of the laser light 23 is approximately constant. Additionally, by transitioning from the first processing condition 91 to the second processing condition 92, the pulse waveform of the laser light 23 changes (in the example shown in FIG. 6, the peak value decreases).

제어부(54)는, 도 5에 도시된 서멀 센서(42)가 취득한 레이저광(24)의 평균 출력에, 소정의 계수를 곱한 값을, 도 6에 도시된 포토디텍터(43)가 취득한 레이저광(25)의 파형 데이터의 펄스 빠짐의 임계값(93)으로서 설정한다. 따라서, 설정되는 임계값(93)은, 레이저광(23)의 평균 출력이 변화하는 타이밍, 즉 제1 가공 조건(91)으로부터 제2 가공 조건(92)으로 이행하는 타이밍으로 변화한다.The control unit 54 multiplies the average output of the laser light 24 acquired by the thermal sensor 42 shown in FIG. 5 by a predetermined coefficient, and calculates the laser light acquired by the photodetector 43 shown in FIG. 6. Set as the threshold value (93) for pulse omission of the waveform data in (25). Therefore, the set threshold 93 changes at the timing when the average output of the laser light 23 changes, that is, at the timing of transition from the first processing condition 91 to the second processing condition 92.

이상 설명한 바와 같이, 실시형태에 따른 레이저 가공 장치(1)에서는, 레이저광(21)의 일부를 검사용 레이저광(22)으로서 분리하고, 이 레이저광(22)을 수광함으로써, 레이저광(22)의 강도 측정과 펄스 관측을 동시에 행하는 것을 가능하게 하고 있다. 이 방법에서는, 레이저광(21)의 일부를 검출용 레이저광(22)으로서 분리하면서, 레이저광(21)의 대부분을 가공용 레이저광(23)으로서 사용하고 있기 때문에, 가공하면서 레이저광(21)의 상태를 파악하는 것이 가능해져, 생산성을 향상시킬 수 있게 된다.As explained above, in the laser processing device 1 according to the embodiment, a part of the laser light 21 is separated as the inspection laser light 22, and this laser light 22 is received, thereby forming the laser light 22. ) It is possible to perform intensity measurement and pulse observation simultaneously. In this method, a part of the laser light 21 is separated as the laser light 22 for detection and most of the laser light 21 is used as the laser light 23 for processing, so the laser light 21 is used during processing. It becomes possible to determine the status of and improve productivity.

예컨대, 검지한 레이저광(22)의 평균 출력의 추이 및 출력의 추이에 기초하여, 이들이 미리 설정한 임계값을 하회함으로써, 가공용 레이저광(23)의 출력 저하 및 펄스 빠짐을 추정할 수 있다. 레이저광(22)의 출력이 저하된 경우나, 펄스 빠짐이 관측된 경우에는, 가공을 정지하여 피가공물(100)의 전손(全損)을 회피하는 것이 가능하다. 또한, 이상이 관측된 순간의 전후의 각종 센서값을 로그로서 보존하여, 이상 해석에 사용하는 것도 가능하다. 여기서, 각종 센서값이란, 레이저 발진기(30) 내부의 광학 소자에 부족한 전압이나 전류, 온도 등의 정보, 광학 박스 내의 온도나 습도 등의 정보를 포함한다. 또한, 이들 데이터를 축적함으로써, 불량 발생의 예지나 방지에 이용할 수 있다.For example, based on the change in the average output of the detected laser light 22 and the change in output, if these fall below a preset threshold, it is possible to estimate a decrease in the output of the laser light for processing 23 and a pulse loss. When the output of the laser light 22 decreases or when pulse loss is observed, it is possible to stop processing to avoid total damage to the workpiece 100. In addition, it is also possible to save various sensor values before and after the moment an abnormality is observed as logs and use them for abnormality analysis. Here, the various sensor values include information such as insufficient voltage, current, and temperature in the optical element inside the laser oscillator 30, and information such as temperature and humidity within the optical box. Additionally, by accumulating these data, they can be used to predict or prevent the occurrence of defects.

또한, 레이저광(23)의 평균 출력 및 출력의 추이를 검지하고, 평균 출력에 기초하여 펄스 빠짐을 검출하기 위한 임계값을 자동 설정함으로써, 가공 중에 가공 조건을 변경하고, 적정한 임계값이 변화하는 경우에도 적용 가능하다.In addition, by detecting the average output of the laser light 23 and the change in output, and automatically setting the threshold for detecting pulse omission based on the average output, the processing conditions can be changed during processing and the appropriate threshold value can be changed. It is also applicable in this case.

또한, 본 발명은, 상기 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 즉, 본 발명의 골자를 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지 변형하여 실시할 수 있다. 예컨대, 제어부(54)는, 검출 유닛(50)에 의해 취득한 정보를 출력하는 것이어도 좋고, 출력된 정보에 기초하여, 장치가 정상으로 가동하고 있는지 여부를 오퍼레이터가 판단하여도 좋다. 예컨대, 제어부(54)는, 서멀 센서(42)가 취득한 평균 출력에 기초하여 설정한 펄스 빠짐을 검출하기 위한 임계값과, 포토디텍터(43)가 취득한 파형 데이터를 출력하기만 하여도 좋고, 출력된 정보에 기초하여, 펄스 빠짐의 유무를 오퍼레이터가 판단하여도 좋다.Additionally, the present invention is not limited to the above embodiments. In other words, the present invention can be implemented with various modifications without departing from the gist of the present invention. For example, the control unit 54 may output information acquired by the detection unit 50, and the operator may determine whether the device is operating normally based on the output information. For example, the control unit 54 may simply output the threshold value for detecting pulse omission set based on the average output acquired by the thermal sensor 42 and the waveform data acquired by the photo detector 43, and the output Based on the information provided, the operator may determine the presence or absence of pulse omission.

1 : 레이저 가공 장치 10 : 유지 테이블
20, 20-1 : 레이저광 조사 유닛 21, 22, 23, 24, 25 : 레이저광
30, 30-1 : 레이저 발진기 31 : 레이저 발진부
32 : 집광 렌즈 33 : 분리 부재
40, 40-1 : 수광부 41 : 분기 미러
42 : 서멀 센서 43 : 포토디텍터
44 : 집광 렌즈 45 : 파장 선택 필터
46 : ND 필터 50 : 검출 유닛
51 : 신호 증폭부 52 : 펄스 파형 정보 취득부
53 : 광강도 정보 취득부 54 : 제어부
91 : 제1 가공 조건 92 : 제2 가공 조건
93 : 임계값 100 : 피가공물
1: Laser processing device 10: Holding table
20, 20-1: Laser light irradiation unit 21, 22, 23, 24, 25: Laser light
30, 30-1: laser oscillator 31: laser oscillator
32: condenser lens 33: separation member
40, 40-1: light receiving unit 41: branch mirror
42: thermal sensor 43: photo detector
44: condenser lens 45: wavelength selection filter
46: ND filter 50: detection unit
51: signal amplification unit 52: pulse waveform information acquisition unit
53: Light intensity information acquisition unit 54: Control unit
91: first processing condition 92: second processing condition
93: Threshold 100: Workpiece

Claims (5)

레이저 가공 장치로서,
레이저광을 생성하는 레이저 발진기와,
상기 레이저 발진기에 의해 생성된 레이저광을 집광하는 집광 렌즈와,
상기 레이저 발진기에 의해 생성된 레이저광을, 검사용 레이저광과, 피가공물에 집광시키기 위한 가공용 레이저광으로 분리하는 분리 부재와,
상기 분리 부재에 의해 분리된 검사용 레이저광을 수광하는 수광부와,
상기 수광부에 의해 수광한 레이저광으로부터, 상기 레이저광의 강도에 관한 정보와, 상기 레이저광의 펄스 파형에 관한 정보를 취득하는 검출 유닛과,
상기 검출 유닛에 의해 취득한 정보를 출력하는 제어부
를 구비하는 것을 특징으로 하는, 레이저 가공 장치.
As a laser processing device,
A laser oscillator that generates laser light,
a condensing lens that focuses the laser light generated by the laser oscillator;
a separation member that separates the laser light generated by the laser oscillator into laser light for inspection and laser light for processing to focus the laser light on a workpiece;
a light receiving unit that receives the inspection laser light separated by the separation member;
a detection unit that acquires information about the intensity of the laser light and information about the pulse waveform of the laser light from the laser light received by the light receiving unit;
A control unit that outputs information acquired by the detection unit
A laser processing device comprising:
제1항에 있어서, 상기 분리 부재에 의해 분리된 검사용 레이저광을 분기하기 위한 분기 미러를 더 구비하고,
상기 수광부는,
상기 분기 미러에 의해 분기된 한쪽 레이저광을 수광하여 상기 레이저광의 평균 출력을 측정하는 서멀 센서와,
상기 분기 미러에 의해 분기된 다른 쪽 레이저광을 수광하여 상기 레이저광의 펄스 파형에 관한 정보를 취득하는 포토디텍터
를 갖는 것을 특징으로 하는, 레이저 가공 장치.
The method of claim 1, further comprising a branch mirror for branching the inspection laser light separated by the separation member,
The light receiving unit,
a thermal sensor that receives one laser beam diverged by the branching mirror and measures an average output of the laser beam;
A photo detector that receives the other laser beam diverged by the branching mirror and acquires information about the pulse waveform of the laser beam.
A laser processing device, characterized in that it has.
제2항에 있어서, 상기 서멀 센서는, 상기 분기 미러에 의해 반사된 레이저광을 수광하고,
상기 포토디텍터는, 상기 분기 미러를 투과한 레이저광을 수광하도록 배치되는 것을 특징으로 하는, 레이저 가공 장치.
The method of claim 2, wherein the thermal sensor receives the laser light reflected by the diverging mirror,
The laser processing device is characterized in that the photodetector is arranged to receive the laser light that has passed through the branch mirror.
제3항에 있어서, 상기 분기 미러와, 상기 포토디텍터 사이에 ND 필터를 배치하는 것을 특징으로 하는, 레이저 가공 장치.The laser processing device according to claim 3, wherein an ND filter is disposed between the branch mirror and the photodetector. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 검출 유닛에 의해 취득하는 상기 레이저광의 펄스 파형에 관한 정보는, 펄스 빠짐의 유무에 관한 정보를 포함하고,
상기 제어부는, 상기 레이저광의 평균 출력에 기초하여, 펄스 빠짐을 검출하기 위한 임계값을 자동으로 설정하는 것을 특징으로 하는, 레이저 가공 장치.
The method according to any one of claims 1 to 4, wherein the information about the pulse waveform of the laser light acquired by the detection unit includes information about the presence or absence of pulse omission,
The laser processing device is characterized in that the control unit automatically sets a threshold value for detecting pulse omission based on the average output of the laser light.
KR1020230094624A 2022-08-02 2023-07-20 Laser machining apparatus KR20240018366A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022123263A JP2024020801A (en) 2022-08-02 2022-08-02 Laser processing device
JPJP-P-2022-123263 2022-08-02

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20240018366A true KR20240018366A (en) 2024-02-13

Family

ID=89666589

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020230094624A KR20240018366A (en) 2022-08-02 2023-07-20 Laser machining apparatus

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2024020801A (en)
KR (1) KR20240018366A (en)
CN (1) CN117483938A (en)
TW (1) TW202406659A (en)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10305420A (en) 1997-03-04 1998-11-17 Ngk Insulators Ltd Method for fabricating matrix made up of oxide single crystal and method for manufacturing functional device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10305420A (en) 1997-03-04 1998-11-17 Ngk Insulators Ltd Method for fabricating matrix made up of oxide single crystal and method for manufacturing functional device

Also Published As

Publication number Publication date
CN117483938A (en) 2024-02-02
JP2024020801A (en) 2024-02-15
TW202406659A (en) 2024-02-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8124909B2 (en) Laser processing apparatus
US7499185B2 (en) Measuring device for workpiece held on chuck table
JP5349742B2 (en) Surface inspection method and surface inspection apparatus
US9285211B2 (en) Height detecting apparatus
JP2011252841A (en) Defect inspection method and device thereof
KR20190027333A (en) Height detection apparatus and laser machining apparatus
KR20160002353A (en) Laser machining apparatus
JP5579574B2 (en) Defect inspection method and apparatus
JPH10312979A (en) Method for detecting cutting state of wafer
US20130306605A1 (en) Modified layer forming method
US20210066101A1 (en) Laser processing apparatus
KR20240018366A (en) Laser machining apparatus
KR20120100770A (en) Laser machining apparatus
JP7475211B2 (en) Inspection method for laser processing equipment
KR20210058657A (en) Image capturing device
JP2023045156A (en) Laser processing device
US20230152241A1 (en) Simultaneous back and/or front and/or bulk defect detection
JP2024071062A (en) Laser irradiation device
US20230364717A1 (en) Laser processing apparatus
TW202410233A (en) Laser processing equipment
JP2022099713A (en) Laser processing device
KR20240002690A (en) Laser machining apparatus
JP2023043342A (en) Laser processing apparatus
KR20230046959A (en) Processing apparatus
JP2024016673A (en) Laser processing device