KR20240011658A - surface protection film - Google Patents

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KR20240011658A
KR20240011658A KR1020237025352A KR20237025352A KR20240011658A KR 20240011658 A KR20240011658 A KR 20240011658A KR 1020237025352 A KR1020237025352 A KR 1020237025352A KR 20237025352 A KR20237025352 A KR 20237025352A KR 20240011658 A KR20240011658 A KR 20240011658A
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styrene
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adhesive layer
less
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KR1020237025352A
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하루 고야노
자모 궈
미사토 하라다
다이조우 야마모토
유키코 남바
나미 나카지마
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세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 점착력 (초기 점착력) 이 높고, 피착체에 첩부한 후, 시간 경과적 또는 고온하에서도 점착력이 앙진되기 어려워 풀 잔존 없이 박리할 수 있는 표면 보호 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은, 기재층과, 점착제층을 갖는 표면 보호 필름으로서, 상기 점착제층은, 펄스 NMR 을 사용하여 60 ℃ 에서 CPMG 법으로 측정하여 얻어진 L 성분의 성분 비율이 10 % 이하, 완화 시간이 25 밀리초 이상, 80 밀리초 이하이고, 펄스 NMR 을 사용하여 25 ℃ 에서 Solid Echo 법으로 측정하여 얻어진 L 성분의 성분 비율이 30 % 이상, 65 % 이하, 완화 시간이 0.2 밀리초 이상, 0.4 밀리초 이하인 표면 보호 필름이다.The purpose of the present invention is to provide a surface protection film that has high adhesive strength (initial adhesive strength), is unlikely to increase in adhesive strength over time or at high temperatures after being attached to an adherend, and can be peeled off without glue remaining. The present invention is a surface protection film having a base material layer and an adhesive layer, wherein the adhesive layer has a component ratio of the L component obtained by measurement by CPMG method at 60°C using pulse NMR and a relaxation time of 25%. Millisecond or more and 80 millisecond or less, the component ratio of the L component obtained by measurement with the Solid Echo method at 25°C using pulse NMR is 30% or more and 65% or less, and the relaxation time is 0.2 millisecond or more and 0.4 millisecond. The following is a surface protection film.

Description

표면 보호 필름surface protection film

본 발명은, 점착력 (초기 점착력) 이 높고, 피착체에 첩부 (貼付) 한 후, 시간 경과적 또는 고온하에서도 점착력이 앙진되기 어려워 풀 잔존 없이 박리할 수 있는 표면 보호 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a surface protection film that has high adhesion (initial adhesion) and, after being attached to an adherend, is unlikely to increase in adhesion over time or at high temperatures, and can be peeled off without glue remaining.

종래부터, 광학 디바이스, 금속판, 도장한 금속판, 수지판, 유리판 등의 부재의 표면을 보호하기 위해서, 기재층과, 그 일방의 면에 적층된 점착제층을 갖는 표면 보호 필름 (일반적으로, 프로텍트 테이프 등이라고 칭해지는 경우도 있다) 이 널리 사용되고 있다 (예를 들어, 특허문헌 1 ∼ 3). 그 중에서도, 액정 디스플레이용의 광학 부재의 표면을 보호하기 위해서, 표면 보호 필름이 사용되고 있다. 광학 부재에는, 프리즘 시트, 확산 필름 등과 같이 편측 또는 양측의 표면에 요철 형상을 갖는 것이 있고, 이 요철 형상에 손상을 입히지 않기 위해, 광학 부재의 사용에 앞서, 그 표면을 표면 보호 필름으로 보호하고 있다.Conventionally, in order to protect the surface of members such as optical devices, metal plates, painted metal plates, resin plates, and glass plates, a surface protection film (generally referred to as a protection tape) has a base material layer and an adhesive layer laminated on one side of the material. etc.) is widely used (for example, Patent Documents 1 to 3). Among them, a surface protection film is used to protect the surface of the optical member for liquid crystal display. There are optical members, such as prism sheets, diffusion films, etc., that have an uneven shape on one or both surfaces. In order to avoid damaging the uneven shape, the surface is protected with a surface protection film before use of the optical member. there is.

표면 보호 필름에는, 용도에 따라 높은 점착력이 요구된다. 예를 들어, 표면에 요철 형상을 갖는 피착체에 첩착 (貼着) 하는 경우, 큰 접촉 면적을 얻을 수 없어 피착체와 표면 보호 필름의 계면에서 박리가 발생하기 쉽다. 이와 같은 용도에서는, 표면 보호 필름에 특히 높은 점착력이 요구된다.Surface protection films are required to have high adhesive strength depending on the application. For example, when adhering to an adherend whose surface has an uneven shape, a large contact area cannot be obtained and peeling is likely to occur at the interface between the adherend and the surface protection film. In such applications, particularly high adhesive strength is required for the surface protection film.

일반적으로, 점착력을 향상시키기 위해서는 점착제층에 사용하는 베이스 수지의 조성 또는 구조를 제어하여 유연한 베이스 수지로 하거나, 점착제층에 있어서의 점착 부여 수지의 배합량을 늘리거나 하는 것이 유효하다. 그러나, 이와 같은 점착제층은, 특히 피착체가 표면에 요철 형상을 갖는 경우에는, 시간 경과적 또는 고온하에서 피착체와 점착제층 사이의 접촉 면적이 증가하는 것에 의한 점착력의 상승, 이른바 점착 앙진의 문제가 발생하여, 박리가 곤란해지거나, 풀 잔존을 발생시키거나 하는 것이 알려져 있다.Generally, in order to improve adhesive strength, it is effective to control the composition or structure of the base resin used in the adhesive layer to make it a flexible base resin, or to increase the compounding amount of the tackifier resin in the adhesive layer. However, such an adhesive layer, especially when the adherend has an uneven shape on the surface, suffers from the problem of an increase in adhesive force due to an increase in the contact area between the adherend and the adhesive layer over time or under high temperature, or so-called adhesion growth. It is known that this occurs, making peeling difficult or causing residual glue.

일본 공개특허공보 평1-129085호Japanese Patent Publication No. 1-129085 일본 공개특허공보 평6-1958호Japanese Patent Publication No. 6-1958 일본 공개특허공보 평8-12952호Japanese Patent Publication No. 8-12952

본 발명은, 점착력 (초기 점착력) 이 높고, 피착체에 첩부한 후, 시간 경과적 또는 고온하에서도 점착력이 앙진되기 어려워 풀 잔존 없이 박리할 수 있는 표면 보호 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.The purpose of the present invention is to provide a surface protection film that has high adhesive strength (initial adhesive strength), is unlikely to increase in adhesive strength over time or at high temperatures after being attached to an adherend, and can be peeled off without glue remaining.

본 개시 1 은, 기재층과 점착제층을 갖는 표면 보호 필름으로서, 상기 점착제층은, 펄스 NMR 을 사용하여 60 ℃ 에서 CPMG 법으로 측정하여 얻어진 L 성분의 성분 비율이 10 % 이하, 완화 시간이 25 밀리초 이상, 80 밀리초 이하이고, 펄스 NMR 을 사용하여 25 ℃ 에서 Solid Echo 법으로 측정하여 얻어진 L 성분의 성분 비율이 30 % 이상, 65 % 이하, 완화 시간이 0.2 밀리초 이상, 0.4 밀리초 이하인 표면 보호 필름이다.This disclosure 1 is a surface protection film having a base material layer and an adhesive layer, wherein the adhesive layer has a component ratio of the L component obtained by measurement by CPMG method at 60°C using pulse NMR and a relaxation time of 25%. Millisecond or more and 80 millisecond or less, the component ratio of the L component obtained by measurement with the Solid Echo method at 25°C using pulse NMR is 30% or more and 65% or less, and the relaxation time is 0.2 millisecond or more and 0.4 millisecond. The following is a surface protection film.

본 개시 2 는, 상기 점착제층의 펄스 NMR 을 사용하여 60 ℃ 에서 CPMG 법으로 측정하여 얻어진 S 성분의 성분 비율이 45 % 이상, 완화 시간이 0.4 밀리초 이상, 0.8 밀리초 이하인 본 개시 1 의 표면 보호 필름이다.In the present disclosure 2, the surface of the present disclosure 1 has a component ratio of the S component of 45% or more and a relaxation time of 0.4 millisecond or more and 0.8 millisecond or less, obtained by measuring the pressure-sensitive adhesive layer by CPMG method at 60°C using pulse NMR. It is a protective film.

본 개시 3 은, 상기 점착제층이, 스티렌계 엘라스토머를 함유하는 본 개시 1 또는 2 의 표면 보호 필름이다.This disclosure 3 is the surface protection film of this disclosure 1 or 2 in which the adhesive layer contains a styrene-based elastomer.

본 개시 4 는, 상기 스티렌계 엘라스토머가, 일반식 A-B 로 나타내는 구조를 갖는 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (1) 과, 일반식 A-B-A 또는 일반식 (A-B)nC 로 나타내는 구조를 갖는 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (2) 를 함유하는 스티렌계 엘라스토머 (I) 이고, 상기 스티렌계 엘라스토머 (I) 100 중량% 에서 차지하는 상기 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (1) 의 함유량이, 15 중량% 이상, 50 중량% 이하이고, 상기 스티렌계 엘라스토머 (I) 100 중량% 에서 차지하는 상기 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (2) 의 함유량이, 50 중량% 이상, 85 중량% 이하인 본 개시 3 의 표면 보호 필름이다.This disclosure 4 provides that the styrene-based elastomer is a styrene block copolymer having a structure represented by the general formula AB or a hydrogenated product thereof (1), and a styrene block having a structure represented by the general formula ABA or general formula (AB) n C A styrene-based elastomer (I) containing a copolymer or its hydrogenated product (2), wherein the content of the styrene block copolymer or its hydrogenated product (1) in 100% by weight of the styrene-based elastomer (I) is 15% by weight. % or more and 50% by weight or less, and the content of the styrene block copolymer or its hydrogenated substance (2) in 100% by weight of the styrene-based elastomer (I) is 50% by weight or more and 85% by weight or less. It is a surface protection film.

A : 방향족 알케닐 중합체 블록A: Aromatic alkenyl polymer block

B : 공액 디엔 중합체 블록B: Conjugated diene polymer block

C : 커플링제에서 유래하는 성분C: Component derived from coupling agent

n : 2 이상의 정수 (整數)n: integer of 2 or more

본 개시 5 는, 상기 점착제층이, 추가로, 점착 부여 수지를 함유하고, 상기 점착 부여 수지의 함유량이, 상기 스티렌계 엘라스토머 100 중량부에 대하여 12 중량부 이상, 45 중량부 이하인 본 개시 3 또는 4 의 표면 보호 필름이다.This disclosure 5 is the present disclosure 3, wherein the adhesive layer further contains a tackifying resin, and the content of the tackifying resin is 12 parts by weight or more and 45 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the styrene-based elastomer. 4 It is a surface protection film.

본 개시 6 은, 상기 스티렌계 엘라스토머 (I) 에 있어서 n 이 4 인 본 개시 4 의 표면 보호 필름이다.This disclosure 6 is the surface protection film of this disclosure 4 in which n is 4 in the styrene-based elastomer (I).

본 개시 7 은, 상기 점착제층이, 펄스 NMR 을 사용하여 60 ℃ 에서 CPMG 법으로 측정하여 얻어진 L 성분의 성분 비율이 6.5 % 이하, 완화 시간이 30 밀리초 이상, 70 밀리초 이하인 본 개시 1, 2, 3, 4, 5 또는 6 의 표면 보호 필름이다.This disclosure 7 is the present disclosure 1, wherein the pressure-sensitive adhesive layer has a component ratio of the L component obtained by measurement by the CPMG method at 60°C using pulse NMR and a relaxation time of 30 milliseconds or more and 70 milliseconds or less. It is a surface protection film of 2, 3, 4, 5 or 6.

이하에 본 발명을 상세히 서술한다.The present invention is described in detail below.

본 발명자들은, 기재층과 점착제층을 갖는 표면 보호 필름의 점착제층에 대해, 1H 핵을 측정하는 펄스 NMR 을 사용하여 분석을 실시하였다. 펄스 NMR 에서는, 얻어진 1H 핵의 스핀-스핀 완화의 자유 유도 감쇠 곡선을 복수의 성분으로 파형 분리하고, 각각의 성분의 「완화 시간」 을 얻음으로써, 그 성분의 분자 운동성을 평가할 수 있다.The present inventors analyzed the adhesive layer of a surface protection film having a base material layer and an adhesive layer using pulse NMR that measures 1 H nuclei. In pulse NMR, the obtained free-induction decay curve of spin-spin relaxation of the 1 H nucleus is separated into a plurality of components, and the “relaxation time” of each component is obtained, thereby evaluating the molecular mobility of the component.

본 발명자들은, 점착제층에 대해, 펄스 NMR 을 사용하여 60 ℃ 에서 CPMG 법으로 측정하여 얻어진 L 성분의 성분 비율 및 완화 시간, 그리고, 펄스 NMR 을 사용하여 25 ℃ 에서 Solid Echo 법으로 측정하여 얻어진 L 성분의 성분 비율 및 완화 시간을 특정 범위로 조정하는 것을 검토하였다. 본 발명자들은, 이와 같은 점착제층을 사용함으로써, 첩부시의 점착력 (초기 점착력) 을 높이는 한편으로, 시간 경과적 또는 고온하에서 점착력이 앙진되는 것을 억제하여, 풀 잔존을 억제할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.The present inventors, for the adhesive layer, measured the component ratio and relaxation time of the L component obtained by measuring by the CPMG method at 60°C using pulse NMR, and the L obtained by measuring by the Solid Echo method at 25°C using pulse NMR. We reviewed adjusting the component ratio and relaxation time to a specific range. The present inventors found that by using such an adhesive layer, the adhesive strength (initial adhesive strength) at the time of sticking can be increased, while the adhesive strength can be suppressed from increasing over time or under high temperatures, and glue residue can be suppressed. The present invention has been completed.

본 발명의 표면 보호 필름은, 기재층과 점착제층을 갖는 표면 보호 필름이다. 상기 점착제층은, 펄스 NMR 을 사용하여 60 ℃ 에서 CPMG 법으로 측정하여 얻어진 L 성분의 성분 비율이 10 % 이하, 완화 시간이 25 밀리초 이상, 80 밀리초 이하이다.The surface protection film of this invention is a surface protection film which has a base material layer and an adhesive layer. The pressure-sensitive adhesive layer has a component ratio of the L component of 10% or less, and a relaxation time of 25 milliseconds or more and 80 milliseconds or less, as measured by CPMG method at 60°C using pulse NMR.

여기서, 펄스 NMR 을 사용하여 측정하여 얻어진 「L 성분」 이란, 펄스 NMR 을 사용하여 측정하여 얻어진 1H 핵의 스핀-스핀 완화의 자유 유도 감쇠 곡선을, 완화 시간이 짧은 순서로 3 개의 성분으로 파형 분리했을 때의, 완화 시간이 가장 긴 성분을 의미한다. 3 개의 성분 (완화 시간이 짧은 순서로 각각 S 성분, M 성분 및 L 성분) 으로의 파형 분리는, 자유 유도 감쇠 곡선을 최소 이승법으로 해석함으로써 실시한다.Here, the “L component” obtained by measurement using pulse NMR refers to the free induction decay curve of spin-spin relaxation of the 1 H nucleus obtained by measurement using pulse NMR, which is a waveform divided into three components in the order of shortest relaxation time. It refers to the component with the longest relaxation time when separated. Separation of the waveform into three components (S component, M component, and L component, respectively, in order of decreasing relaxation time) is performed by analyzing the free induction decay curve using the least squares method.

「완화 시간」 이란, 자장을 가한 후, 전자 스핀이 여기 상태로부터 기저 상태로 되돌아갈 때까지의 시간이고, 「완화 시간」 이 길수록, 분자 운동성이 높은 것을 의미한다. 즉, S 성분은, 완화 시간이 가장 짧고, 자화 강도가 바로 감쇠하는, 분자 운동성이 비교적 낮은 단단한 성분이다. L 성분은, 완화 시간이 가장 길고, 자화 강도의 감쇠에 시간이 걸리는, 분자 운동성이 비교적 높은 부드러운 성분이다. M 성분은, S 성분과 L 성분의 중간의 완화 시간 및 분자 운동성을 갖는 성분이다.“Relaxation time” is the time it takes for the electron spin to return from the excited state to the ground state after applying a magnetic field, and the longer the “relaxation time”, the higher the molecular mobility. In other words, the S component is a hard component with relatively low molecular mobility, with the shortest relaxation time and immediate attenuation of magnetization intensity. The L component has the longest relaxation time, takes time to decay in magnetization intensity, and is a soft component with relatively high molecular mobility. The M component is a component that has a relaxation time and molecular mobility intermediate between the S component and the L component.

상기 60 ℃ 에서의 L 성분의 성분 비율이 10 % 이하이면, 고온하에서의 분자 운동성이 비교적 높은 성분이 적은 것을 의미하고, 상기 점착제층은 시간 경과적 또는 고온하에서도 점착력이 앙진되기 어려워, 풀 잔존 없이 박리할 수 있다. 상기 60 ℃ 에서의 L 성분의 성분 비율의 바람직한 상한은 8 %, 보다 바람직한 상한은 6.5 % 이다.If the component ratio of the L component at 60°C is 10% or less, it means that there are few components with relatively high molecular mobility at high temperatures, and the adhesive strength of the adhesive layer is difficult to increase over time or even at high temperatures, so that there is no glue remaining. It can be peeled off. The preferable upper limit of the component ratio of the L component at 60°C is 8%, and the more preferable upper limit is 6.5%.

상기 60 ℃ 에서의 L 성분의 성분 비율의 하한은 특별히 한정되지 않지만, 바람직한 하한은 0.1 %, 보다 바람직한 하한은 0.3 % 이다.The lower limit of the component ratio of the L component at 60°C is not particularly limited, but a preferable lower limit is 0.1% and a more preferable lower limit is 0.3%.

상기 60 ℃ 에서의 L 성분의 완화 시간이 25 밀리초 이상이면, 60 ℃ 에 있어서 분자 운동성이 비교적 높은 L 성분의 분자 운동성이 일정 이상인 것을 의미하고, 상기 점착제층의 고온에서의 저장 탄성률이 지나치게 높아져 박리로 연결되는 것을 방지할 수 있다. 상기 60 ℃ 에서의 L 성분의 완화 시간이 80 밀리초 이하이면, 60 ℃ 에 있어서 분자 운동성이 비교적 높은 L 성분의 분자 운동성이 일정 이하로 억제되어 있는 것을 의미하고, 상기 점착제층이 필요 이상으로 피착체 표면에 도포 확산되는 것을 방지할 수 있기 때문에, 상기 점착제층은 시간 경과적 또는 고온하에서도 점착력이 앙진되기 어려워, 풀 잔존 없이 박리할 수 있다. 상기 60 ℃ 에서의 L 성분의 완화 시간의 바람직한 하한은 26 밀리초, 보다 바람직한 하한은 28 밀리초, 더욱 바람직한 하한은 30 밀리초이고, 바람직한 상한은 75 밀리초, 보다 바람직한 상한은 70 밀리초이다.If the relaxation time of the L component at 60°C is 25 milliseconds or more, it means that the molecular mobility of the L component, which has relatively high molecular mobility at 60°C, is above a certain level, and the storage modulus of the adhesive layer at high temperature becomes too high. This can prevent it from leading to peeling. If the relaxation time of the L component at 60°C is 80 milliseconds or less, it means that the molecular mobility of the L component, which has relatively high molecular mobility at 60°C, is suppressed below a certain level, and the pressure-sensitive adhesive layer is not exposed to excessive blood pressure. Since application and diffusion to the complex surface can be prevented, the adhesive layer is unlikely to increase in adhesive strength over time or at high temperatures, and can be peeled off without glue remaining. The preferable lower limit of the relaxation time of the L component at 60°C is 26 milliseconds, the more preferable lower limit is 28 milliseconds, the more preferable lower limit is 30 milliseconds, the preferable upper limit is 75 milliseconds, and the more preferable upper limit is 70 milliseconds. .

상기 점착제층은, 펄스 NMR 을 사용하여 60 ℃ 에서 CPMG 법으로 측정하여 얻어진 S 성분의 성분 비율이 45 % 이상, 완화 시간이 0.4 밀리초 이상, 0.8 밀리초 이하인 것이 바람직하다.The pressure-sensitive adhesive layer preferably has a component ratio of the S component obtained by measuring by CPMG method at 60°C using pulse NMR and has a relaxation time of 0.4 millisecond or more and 0.8 millisecond or less.

상기 60 ℃ 에서의 S 성분의 성분 비율이 45 % 이상이면, 상기 점착제층은 시간 경과적 또는 고온하에서도 점착력이 보다 앙진되기 어려워, 보다 풀 잔존 없이 박리할 수 있다. 상기 60 ℃ 에서의 S 성분의 성분 비율의 보다 바람직한 하한은 48 % 이다.If the component ratio of the S component at 60°C is 45% or more, the adhesive strength of the adhesive layer is less likely to increase over time or even at high temperatures, and can be peeled off without glue remaining. A more preferable lower limit of the component ratio of the S component at 60°C is 48%.

상기 60 ℃ 에서의 S 성분의 성분 비율의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 바람직한 상한은 65 %, 보다 바람직한 상한은 60 % 이다.The upper limit of the component ratio of the S component at 60°C is not particularly limited, but the preferable upper limit is 65% and the more preferable upper limit is 60%.

상기 60 ℃ 에서의 S 성분의 완화 시간이 상기 범위 내이면, 상기 점착제층은 시간 경과적 또는 고온하에서도 점착력이 보다 앙진되기 어려워, 보다 풀 잔존 없이 박리할 수 있다. 상기 60 ℃ 에서의 S 성분의 완화 시간의 보다 바람직한 하한은 0.45 밀리초, 보다 바람직한 상한은 0.75 밀리초이고, 더욱 바람직한 하한은 0.50 밀리초, 더욱 바람직한 상한은 0.70 밀리초이다.If the relaxation time of the S component at 60°C is within the above range, the adhesive strength of the adhesive layer is less likely to increase over time or even at high temperatures, and can be peeled off without glue remaining. The more preferable lower limit of the relaxation time of the S component at 60°C is 0.45 milliseconds, the more preferable upper limit is 0.75 milliseconds, the more preferable lower limit is 0.50 milliseconds, and the more preferable upper limit is 0.70 milliseconds.

상기 점착제층은, 펄스 NMR 을 사용하여 25 ℃ 에서 Solid Echo 법으로 측정하여 얻어진 L 성분의 성분 비율이 30 % 이상, 65 % 이하, 완화 시간이 0.2 밀리초 이상, 0.4 밀리초 이하이다.The pressure-sensitive adhesive layer has a component ratio of the L component of 30% or more and 65% or less, and a relaxation time of 0.2 millisecond or more and 0.4 millisecond or less, as measured by the Solid Echo method at 25°C using pulse NMR.

상기 25 ℃ 에서의 L 성분의 성분 비율이 상기 범위 내이면, 상기 점착제층은, 표면에 요철 형상을 갖는 피착체에도 첩부할 수 있는 충분한 점착력을 발현할 수 있다. 상기 25 ℃ 에서의 L 성분의 성분 비율의 바람직한 하한은 35 %, 바람직한 상한은 63 % 이고, 보다 바람직한 하한은 40 %, 보다 바람직한 상한은 60 % 이고, 더욱 바람직한 하한은 45 % 이다.If the component ratio of the L component at 25°C is within the above range, the adhesive layer can develop sufficient adhesive strength to adhere even to an adherend having an uneven shape on the surface. The preferable lower limit of the component ratio of the L component at 25°C is 35%, the preferable upper limit is 63%, the more preferable lower limit is 40%, the more preferable upper limit is 60%, and the more preferable lower limit is 45%.

상기 25 ℃ 에서의 L 성분의 완화 시간이 0.2 밀리초 이상이면, 25 ℃ 에 있어서 분자 운동성이 비교적 높은 L 성분의 분자 운동성이 일정 이상인 것을 의미하고, 상기 점착제층은, 표면에 요철 형상을 갖는 피착체의 표면에도 충분히 추종하여, 피착체에 대해 충분한 밀착성을 가질 수 있다. 상기 25 ℃ 에서의 L 성분의 완화 시간이 0.4 밀리초 이하이면, 25 ℃ 에 있어서 분자 운동성이 비교적 높은 L 성분의 분자 운동성이 일정 이하로 억제되어 있는 것을 의미하고, 상기 점착제층의 상온에서의 저장 탄성률이 지나치게 저하되는 것을 방지하여, 필요 이상으로 피착체에 추종하여 지나치게 높은 점착력이 발현되는 것을 방지할 수 있다. 상기 25 ℃ 에서의 L 성분의 완화 시간의 바람직한 하한은 0.21 밀리초, 바람직한 상한은 0.38 밀리초이고, 보다 바람직한 하한은 0.22 밀리초, 보다 바람직한 상한은 0.35 밀리초이고, 더욱 바람직한 하한은 0.24 밀리초이다.If the relaxation time of the L component at 25°C is 0.2 milliseconds or more, it means that the molecular mobility of the L component, which has relatively high molecular mobility at 25°C, is above a certain level, and the pressure-sensitive adhesive layer has a surface having an uneven shape. It can sufficiently follow the surface of the complex and have sufficient adhesion to the adherend. If the relaxation time of the L component at 25°C is 0.4 milliseconds or less, it means that the molecular mobility of the L component, which has relatively high molecular mobility at 25°C, is suppressed below a certain level, and the storage at room temperature of the pressure-sensitive adhesive layer By preventing the elastic modulus from being excessively lowered, it is possible to prevent excessively high adhesive force from being developed by following the adherend more than necessary. The preferable lower limit of the relaxation time of the L component at 25°C is 0.21 milliseconds, the preferable upper limit is 0.38 milliseconds, the more preferable lower limit is 0.22 milliseconds, the more preferable upper limit is 0.35 milliseconds, and the more preferable lower limit is 0.24 milliseconds. am.

또한, 펄스 NMR 의 측정은, 펄스 NMR 장치 (예를 들어, the minispec mq20, BRUKER 사 제조 등) 및 해석 소프트웨어 (예를 들어, TD-NMRA, BRUKER 사 제조 등) 를 사용하여, 점착제층으로부터 조제한 측정 샘플에 대해, 소정의 온도에서 실시할 수 있다. 측정 샘플은, 점착제층의 일부를 톨루엔에 녹이고, 자연 건조시킨 후, 30 ℃ 에서 진공 건조시켜 톨루엔을 제거함으로써 조제할 수 있다.In addition, pulse NMR measurement is performed using a pulse NMR device (e.g., the minispec mq20, manufactured by BRUKER, etc.) and analysis software (e.g., TD-NMRA, manufactured by BRUKER, etc.) prepared from the adhesive layer. The measurement can be performed on the sample at a predetermined temperature. The measurement sample can be prepared by dissolving a part of the adhesive layer in toluene, drying it naturally, and then vacuum drying it at 30°C to remove toluene.

상기 60 ℃ 에서의 L 성분의 성분 비율 및 완화 시간, 그리고, 상기 25 ℃ 에서의 L 성분의 성분 비율 및 완화 시간을 상기 범위로 조정하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 상기 점착제층의 베이스 수지로서 스티렌계 엘라스토머를 사용하는 방법, 그 스티렌계 엘라스토머의 구조, 조성, 중량 평균 분자량 (Mw) 등을 조정하는 방법 등을 들 수 있다. 또, 상기 점착제층에 점착 부여 수지를 배합하는 방법, 그 점착 부여 수지의 종류, 물성 (예를 들어, 연화점), 배합량 등을 조정하는 방법 등도 들 수 있다. 또한, 상기 점착제층의 성형 조건을 조정하는 방법 등도 들 수 있다.The method of adjusting the component ratio and relaxation time of the L component at 60°C and the component ratio and relaxation time of the L component at 25°C to the above range is not particularly limited, for example, of the pressure-sensitive adhesive layer. Examples include a method of using a styrene-based elastomer as a base resin, a method of adjusting the structure, composition, weight average molecular weight (Mw), etc. of the styrene-based elastomer. In addition, a method of mixing a tackifying resin into the adhesive layer, a method of adjusting the type, physical properties (for example, softening point), and mixing amount of the tackifying resin can also be mentioned. In addition, a method of adjusting the molding conditions of the adhesive layer can also be mentioned.

상기 점착제층을 구성하는 베이스 수지는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 스티렌계 엘라스토머, 아크릴계 엘라스토머, 우레탄계 엘라스토머, 올레핀계 엘라스토머 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 표면 보호 필름으로서 구해지는 점착력 (초기 점착력) 에 대한 조정이 용이하고, 스티렌 함유량 등의 분자 구조 또는 점착 부여제 등의 첨가제의 선정에 의해 상기 점착제층의 분자 운동성을 비교적 자유롭게 조정하기 쉬운 점에서, 스티렌계 엘라스토머가 바람직하다.The base resin constituting the adhesive layer is not particularly limited, and examples include styrene-based elastomer, acrylic-based elastomer, urethane-based elastomer, and olefin-based elastomer. Among them, it is easy to adjust the adhesive force (initial adhesive force) obtained as a surface protection film, and the molecular mobility of the adhesive layer can be relatively freely adjusted by selecting the molecular structure such as styrene content or additives such as tackifier. In this regard, styrene-based elastomer is preferable.

상기 스티렌계 엘라스토머는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 스티렌-에틸렌프로필렌-스티렌 블록 공중합체 (SEPS), 수첨 스티렌 부타디엔 고무 (HSBR), 스티렌-에틸렌부틸렌-스티렌 블록 공중합체 (SEBS), 스티렌-에틸렌프로필렌 블록 공중합체 (SEP), 스티렌-에틸렌부틸렌 블록 공중합체 (SEB), 스티렌-이소프렌 블록 공중합체 (SI), 스티렌-이소프렌-스티렌 블록 공중합체 (SIS), 스티렌-부타디엔 블록 공중합체 (SB), 스티렌-부타디엔-스티렌 블록 공중합체 (SBS) 등을 들 수 있다.The styrene-based elastomer is not particularly limited and includes, for example, styrene-ethylenepropylene-styrene block copolymer (SEPS), hydrogenated styrene butadiene rubber (HSBR), styrene-ethylenebutylene-styrene block copolymer (SEBS), styrene. -Ethylenepropylene block copolymer (SEP), styrene-ethylenebutylene block copolymer (SEB), styrene-isoprene block copolymer (SI), styrene-isoprene-styrene block copolymer (SIS), styrene-butadiene block copolymer (SB), styrene-butadiene-styrene block copolymer (SBS), etc.

상기 스티렌계 엘라스토머의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 특별히 한정되지 않지만, 바람직한 하한은 5 만, 바람직한 상한은 40 만이다. 상기 중량 평균 분자량 (Mw) 이 5 만 이상이면, 상기 점착제층의 고온에서의 저장 탄성률이 보다 높아져, 시간 경과적 또는 고온하에서도 점착력이 보다 앙진되기 어려워, 보다 풀 잔존 없이 박리할 수 있다. 상기 중량 평균 분자량 (Mw) 이 40 만 이하이면, 상기 점착제층의 상온에서의 저장 탄성률이 지나치게 높아지는 일이 없고, 피착체에 첩부할 때의 밀착성이 보다 높아져, 점착력 (초기 점착력) 이 보다 높아진다. 상기 중량 평균 분자량 (Mw) 의 보다 바람직한 하한은 8 만, 보다 바람직한 상한은 35 만이다.The weight average molecular weight (Mw) of the styrene-based elastomer is not particularly limited, but the preferred lower limit is 50,000 and the preferred upper limit is 400,000. If the weight average molecular weight (Mw) is 50,000 or more, the storage modulus of the adhesive layer at high temperature becomes higher, the adhesive strength is less likely to increase over time or even at high temperature, and peeling can be performed without glue remaining. If the weight average molecular weight (Mw) is 400,000 or less, the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer at room temperature does not become too high, the adhesion when sticking to an adherend becomes higher, and the adhesive force (initial adhesive force) becomes higher. The more preferable lower limit of the weight average molecular weight (Mw) is 80,000, and the more preferable upper limit is 350,000.

또한, 중량 평균 분자량 (Mw) 은, 이하의 방법에 의해 측정할 수 있다.In addition, the weight average molecular weight (Mw) can be measured by the following method.

시료의 용액을 필터 (재질 : 폴리테트라플루오로에틸렌, 포어 직경 : 0.2 ㎛) 로 여과한다. 얻어진 여과액을 겔 침투 크로마토그래프 (예를 들어, Waters 사 제조, 2690 Separations Model) 에 공급하고, 샘플 유량 1 밀리리터/분, 칼럼 온도 40 ℃ 의 조건에서 GPC 측정을 실시하고, 시료의 폴리스티렌 환산 분자량을 측정하여, 중량 평균 분자량 (Mw) 을 구한다. 칼럼으로는, 예를 들어, GPC KF-806L (쇼와 전공사 제조) 을 사용하고, 검출기로는, 시차 굴절계를 사용한다.The sample solution is filtered through a filter (material: polytetrafluoroethylene, pore diameter: 0.2 ㎛). The obtained filtrate was supplied to a gel permeation chromatograph (e.g., 2690 Separations Model, manufactured by Waters), GPC measurement was performed under the conditions of a sample flow rate of 1 milliliter/min and a column temperature of 40°C, and the polystyrene equivalent molecular weight of the sample was determined. is measured to obtain the weight average molecular weight (Mw). As a column, for example, GPC KF-806L (manufactured by Showa Denko) is used, and as a detector, a differential refractometer is used.

또, 상기 스티렌계 엘라스토머로는, 일반식 A-B 로 나타내는 구조를 갖는 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (1) 과, 일반식 A-B-A 또는 일반식 (A-B)nC 로 나타내는 구조를 갖는 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (2) 를 함유하는 스티렌계 엘라스토머 (I) 도 바람직하다. 상기 스티렌계 엘라스토머 (I) 를 사용함으로써, 상기 60 ℃ 에서의 L 성분의 성분 비율 및 완화 시간, 그리고, 상기 25 ℃ 에서의 L 성분의 성분 비율 및 완화 시간을 상기 범위로 조정하기 쉬워진다.In addition, the styrene-based elastomer includes a styrene block copolymer having a structure represented by the general formula AB or a hydrogenated product thereof (1), and a styrene block copolymer having a structure represented by the general formula ABA or general formula (AB) n C. Alternatively, styrene-based elastomer (I) containing the hydrogenated substance (2) is also preferable. By using the styrene-based elastomer (I), it becomes easy to adjust the component ratio and relaxation time of the L component at 60°C and the component ratio and relaxation time of the L component at 25°C to the above range.

A : 방향족 알케닐 중합체 블록A: Aromatic alkenyl polymer block

B : 공액 디엔 중합체 블록B: Conjugated diene polymer block

C : 커플링제에서 유래하는 성분C: Component derived from coupling agent

n : 2 이상의 정수n: integer greater than or equal to 2

상기 일반식 A-B 로 나타내는 구조를 갖는 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (1) 은, 상기 A 로 나타내는 방향족 알케닐 중합체 블록과, 상기 B 로 나타내는 공액 디엔 중합체 블록을 갖는 리니어상 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물이다.The styrene block copolymer having the structure represented by the general formula A-B or its hydrogenated product (1) is a linear styrene block copolymer having an aromatic alkenyl polymer block represented by the above A and a conjugated diene polymer block represented by the above B, or It's the hydrogen additive.

상기 일반식 A-B-A 로 나타내는 구조를 갖는 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (2) 는 상기 A 로 나타내는 방향족 알케닐 중합체 블록과, 상기 B 로 나타내는 공액 디엔 중합체 블록을 갖는 리니어상 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물이다. 상기 일반식 (A-B)nC 로 나타내는 구조를 갖는 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (2) 는, 커플링제를 중심으로 하여, 상기 일반식 A-B 로 나타내는 구조를 갖는 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (1) 이 복수 방사상으로 돌출된 구조를 갖는 분기상 (레이디얼형) 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물이다. 단, n = 2 인 경우에는 리니어형이 된다.The styrene block copolymer having a structure represented by the general formula ABA or its hydrogenated product (2) is a linear styrene block copolymer having an aromatic alkenyl polymer block represented by A and a conjugated diene polymer block represented by B. It is a hydrogen additive. The styrene block copolymer having a structure represented by the general formula (AB) n C or a hydrogenated product thereof (2) is a styrene block copolymer having a structure represented by the general formula AB or a hydrogenated product thereof centered on a coupling agent. (1) This is a branched (radial) styrene block copolymer having multiple radially protruding structures or a hydrogenated product thereof. However, when n = 2, it becomes linear.

상기 A 로 나타내는 방향족 알케닐 중합체 블록은, 방향족 알케닐 화합물에서 유래하는 반복 단위를 갖는다.The aromatic alkenyl polymer block represented by A has a repeating unit derived from an aromatic alkenyl compound.

상기 방향족 알케닐 화합물로는, 예를 들어, 스티렌, tert-부틸스티렌, α-메틸스티렌, p-메틸스티렌, p-에틸스티렌, 디비닐벤젠, 1,1-디페닐에틸렌, 비닐나프탈렌, 비닐안트라센, N,N-디에틸-p-아미노에틸스티렌, 비닐피리딘 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 공업적으로 입수하기 쉬운 점에서, 스티렌이 바람직하다.Examples of the aromatic alkenyl compounds include styrene, tert-butylstyrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, p-ethylstyrene, divinylbenzene, 1,1-diphenylethylene, vinylnaphthalene, and vinyl. Anthracene, N,N-diethyl-p-aminoethylstyrene, vinylpyridine, etc. can be mentioned. Among them, styrene is preferable because it is easy to obtain industrially.

상기 A 로 나타내는 방향족 알케닐 중합체 블록에 있어서의 상기 방향족 알케닐 화합물에서 유래하는 반복 단위의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 바람직한 하한은 50 중량%, 바람직한 상한은 100 중량% 이고, 보다 바람직한 하한은 70 중량% 이다.The content of the repeating unit derived from the aromatic alkenyl compound in the aromatic alkenyl polymer block represented by A is not particularly limited, but the preferable lower limit is 50% by weight, the preferable upper limit is 100% by weight, and the more preferable lower limit is 70% by weight. It is weight%.

상기 A 로 나타내는 방향족 알케닐 중합체 블록이, 상기 방향족 알케닐 화합물에서 유래하는 반복 단위 이외의 다른 화합물에서 유래하는 반복 단위를 함유하는 경우, 이와 같은 다른 화합물에서 유래하는 반복 단위를 갖는 블록은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 공액 디엔 중합체, 에틸렌 중합체, 프로필렌 중합체 등을 들 수 있다.When the aromatic alkenyl polymer block represented by A contains repeating units derived from compounds other than the repeating units derived from the aromatic alkenyl compound, blocks containing repeating units derived from such other compounds are specifically limited. Examples include conjugated diene polymer, ethylene polymer, and propylene polymer.

상기 B 로 나타내는 공액 디엔 중합체 블록은, 공액 디엔 화합물에서 유래하는 반복 단위를 갖는다.The conjugated diene polymer block represented by B has a repeating unit derived from a conjugated diene compound.

상기 공액 디엔 화합물로는, 예를 들어, 1,3-부타디엔, 이소프렌, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔, 1,3-펜타디엔, 2-메틸-1,3-옥타디엔, 1,3-헥사디엔, 1,3-시클로헥사디엔, 4,5-디에틸-1,3-옥타디엔, 3-부틸-1,3-옥타디엔, 미르센, 클로로프렌 등을 들 수 있다. 이들 공액 디엔 화합물은, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다. 그 중에서도, 중합 반응성이 높고, 공업적으로 입수하기 쉬운 점에서, 1,3-부타디엔, 이소프렌이 바람직하다.Examples of the conjugated diene compounds include 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, 2-methyl-1,3-octadiene, 1 , 3-hexadiene, 1,3-cyclohexadiene, 4,5-diethyl-1,3-octadiene, 3-butyl-1,3-octadiene, myrcene, chloroprene, etc. These conjugated diene compounds may be used individually, or may use 2 or more types together. Among them, 1,3-butadiene and isoprene are preferable because they have high polymerization reactivity and are easy to obtain industrially.

상기 B 로 나타내는 공액 디엔 중합체 블록에 있어서의 상기 공액 디엔 화합물에서 유래하는 반복 단위의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 바람직한 하한은 50 중량%, 바람직한 상한은 100 중량% 이고, 보다 바람직한 하한은 70 중량% 이다.The content of the repeating unit derived from the conjugated diene compound in the conjugated diene polymer block represented by B is not particularly limited, but the preferable lower limit is 50% by weight, the preferable upper limit is 100% by weight, and the more preferable lower limit is 70% by weight. am.

상기 B 로 나타내는 공액 디엔 중합체 블록이, 상기 공액 디엔 화합물에서 유래하는 반복 단위 이외의 다른 화합물에서 유래하는 반복 단위를 함유하는 경우, 이와 같은 다른 화합물에서 유래하는 반복 단위를 갖는 블록은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 방향족 알케닐 중합체, 에틸렌 중합체, 프로필렌 중합체 등을 들 수 있다.When the conjugated diene polymer block represented by B contains repeating units derived from compounds other than the repeating units derived from the conjugated diene compound, the block having repeating units derived from such other compounds is not particularly limited. , for example, aromatic alkenyl polymer, ethylene polymer, propylene polymer, etc.

상기 C 로 나타내는 커플링제에서 유래하는 성분의 원료가 되는 커플링제는, 상기 리니어상 스티렌 블록 공중합체, 즉, 상기 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (1) 을 방사상으로 결합시키는 다관능성 화합물이다.The coupling agent that serves as the raw material for the component derived from the coupling agent represented by C is a polyfunctional compound that radially bonds the linear styrene block copolymer, that is, the styrene block copolymer or its hydrogenated product (1).

상기 커플링제로는, 할로겐화실란, 알콕시실란 등의 실란 화합물이나, 할로겐화주석 등의 주석 화합물이나, 폴리카르복실산에스테르, 에폭시화 대두유 등의 에폭시 화합물이나, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 등의 아크릴에스테르나, 에폭시실란, 디비닐벤젠 등의 디비닐 화합물 등을 들 수 있다. 보다 구체예에는, 예를 들어, 트리클로로실란, 트리브로모실란, 테트라클로로실란, 테트라브로모실란, 메틸트리메톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라클로로주석, 디에틸아디페이트 등을 들 수 있다.Examples of the coupling agent include silane compounds such as halogenated silanes and alkoxysilanes, tin compounds such as tin halides, epoxy compounds such as polycarboxylic acid esters and epoxidized soybean oil, and acrylic esters such as pentaerythritol tetraacrylate. and divinyl compounds such as epoxysilane and divinylbenzene. More specific examples include, for example, trichlorosilane, tribromosilane, tetrachlorosilane, tetrabromosilane, methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, tetrabromosilane, Examples include methoxysilane, tetraethoxysilane, tetrachlorotin, and diethyl adipate.

n 은 2 이상의 정수이면 특별히 한정되지 않지만, 3 이상이 바람직하다. n 이 3 이상이면, 상기 60 ℃ 에서의 L 성분의 완화 시간을 상기 범위로 조정하기 위해서 상기 스티렌계 엘라스토머 (I) 의 분자량을 크게 했을 경우에도, 상기 점착제층의 성형성을 유지하기 쉽다. 상기 60 ℃ 에서의 L 성분의 성분 비율 및 완화 시간, 그리고, 상기 25 ℃ 에서의 L 성분의 성분 비율 및 완화 시간을 상기 범위로 조정하기 쉬운 점에서, n 이 4 인 것이 특히 바람직하다. 또한, n 이 3 인 경우에는 3 분기형이라고도 불리고, n 이 4 인 경우에는 4 분기형이라고도 불린다.n is not particularly limited as long as it is an integer of 2 or more, but is preferably 3 or more. When n is 3 or more, the moldability of the adhesive layer is easy to maintain even when the molecular weight of the styrene-based elastomer (I) is increased to adjust the relaxation time of the L component at 60°C to the above range. It is particularly preferable that n is 4 because it is easy to adjust the component ratio and relaxation time of the L component at 60°C and the component ratio and relaxation time of the L component at 25°C to the above range. Additionally, when n is 3, it is also called a three-branch type, and when n is 4, it is also called a four-branch type.

상기 스티렌계 엘라스토머 (I) 는, 상기 60 ℃ 에서의 L 성분의 성분 비율 및 완화 시간, 그리고, 상기 25 ℃ 에서의 L 성분의 성분 비율 및 완화 시간을 상기 범위로 조정하기 쉬운 점에서, 이하에 서술하는 바와 같은 범위의 수소 첨가율, 중량 평균 분자량, 디블록 비율, 스티렌 함유량, 부틸렌 함유율, 커플링률 등을 갖는 것이 바람직하다.The styrene-based elastomer (I) is easy to adjust the component ratio and relaxation time of the L component at 60°C and the component ratio and relaxation time of the L component at 25°C to the above range, as follows. It is preferable to have the hydrogenation rate, weight average molecular weight, diblock ratio, styrene content, butylene content, coupling rate, etc. in the ranges described.

상기 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (1), 혹은 상기 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (2) 가 수소 첨가물인 경우, 그 수소 첨가물은, 부분 수소 첨가물이어도 되고, 완전 수소 첨가물이어도 된다. 그 중에서도, 상기 공액 디엔 화합물에서 유래하는 반복 단위의 이중 결합 (불포화 결합) 의 바람직하게는 80 % 이상, 보다 바람직하게는 90 % 이상, 더욱 바람직하게는 95 % 이상이 수소 첨가에 의해 포화 결합으로 변환되어 있는 수소 첨가물이 바람직하다.When the styrene block copolymer or its hydrogenated product (1) or the styrene block copolymer or its hydrogenated product (2) is a hydrogenated product, the hydrogenated product may be a partially hydrogenated product or a fully hydrogenated product. Among them, preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and still more preferably 95% or more of the double bonds (unsaturated bonds) of the repeating unit derived from the conjugated diene compound are converted to saturated bonds by hydrogenation. A converted hydrogenated product is preferred.

또한, 수소 첨가의 비율 (수소 첨가율) 은, 사염화탄소를 용매로서 사용하고, 270 ㎒ 에서의 1H-NMR 스펙트럼으로부터 산출한 수소 첨가율을 의미한다.In addition, the rate of hydrogen addition (hydrogen addition rate) means the hydrogen addition rate calculated from the 1 H-NMR spectrum at 270 MHz using carbon tetrachloride as a solvent.

상기 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (1) 의 중량 평균 분자량 (Mw1) 은 특별히 한정되지 않지만, 바람직한 하한이 4 만, 바람직한 상한이 15 만이다. 상기 중량 평균 분자량 (Mw1) 이 4 만 이상이면, 상기 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (2) 의 중량 평균 분자량 (Mw2) 도 높아지고, 상기 점착제층의 고온에서의 저장 탄성률이 보다 높아지기 때문에, 시간 경과적 또는 고온하에서도 점착력이 보다 앙진되기 어려워, 보다 풀 잔존 없이 박리할 수 있다. 상기 중량 평균 분자량 (Mw1) 이 15 만 이하이면, 상기 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (2) 의 중량 평균 분자량 (Mw2) 이 지나치게 높아지지 않고, 상기 점착제층의 상온에서의 저장 탄성률이 지나치게 높아지는 일이 없기 때문에, 피착체에 첩부할 때의 밀착성이 보다 높아져, 점착력 (초기 점착력) 이 보다 높아진다. 상기 중량 평균 분자량 (Mw1) 의 보다 바람직한 하한은 5 만, 보다 바람직한 상한은 14 만이고, 더욱 바람직한 하한은 6 만, 더욱 바람직한 상한은 12 만이다.The weight average molecular weight (Mw1) of the styrene block copolymer or its hydrogenated product (1) is not particularly limited, but the preferred lower limit is 40,000 and the preferred upper limit is 150,000. When the weight average molecular weight (Mw1) is 40,000 or more, the weight average molecular weight (Mw2) of the styrene block copolymer or its hydrogenated product (2) also increases, and the storage modulus of the adhesive layer at high temperature becomes higher, so the time The adhesive strength is less likely to increase over time or at high temperatures, and can be peeled off without glue remaining. When the weight average molecular weight (Mw1) is 150,000 or less, the weight average molecular weight (Mw2) of the styrene block copolymer or its hydrogenated product (2) does not become too high, and the storage modulus of the adhesive layer at room temperature does not become too high. Since there is no movement, the adhesion when sticking to the adherend becomes higher, and the adhesive force (initial adhesive force) becomes higher. The more preferable lower limit of the weight average molecular weight (Mw1) is 50,000, the more preferable upper limit is 140,000, the more preferable lower limit is 60,000, and the more preferable upper limit is 120,000.

상기 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (2) 의 중량 평균 분자량 (Mw2) 은, 상기 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (1) 의 중량 평균 분자량 (Mw1) 의 2.5 배 이상인 것이 바람직하다. 상기 중량 평균 분자량 (Mw2) 이 상기 중량 평균 분자량 (Mw1) 의 2.5 배 이상이면, 상기 점착제층의 고온에서의 저장 탄성률이 보다 높아져, 시간 경과적 또는 고온하에서도 점착력이 보다 앙진되기 어려워, 보다 풀 잔존 없이 박리할 수 있다. 또한, 본 명세서 중, 상기 중량 평균 분자량 (Mw2) 이 상기 중량 평균 분자량 (Mw1) 의 2.5 배 이상인 경우, 스티렌계 엘라스토머 (I) 는 레이디얼형이라고 한다. 상기 중량 평균 분자량 (Mw2) 이 상기 중량 평균 분자량 (Mw1) 의 2.5 배 미만인 경우, 스티렌계 엘라스토머 (I) 는 리니어형이라고 한다. 상기 중량 평균 분자량 (Mw2) 은 상기 중량 평균 분자량 (Mw1) 의 2.7 배 이상인 것이 보다 바람직하고, 3.0 배 이상인 것이 더욱 바람직하다.The weight average molecular weight (Mw2) of the styrene block copolymer or its hydrogenated product (2) is preferably 2.5 times or more than the weight average molecular weight (Mw1) of the styrene block copolymer or its hydrogenated product (1). If the weight average molecular weight (Mw2) is 2.5 times or more than the weight average molecular weight (Mw1), the storage modulus of the pressure-sensitive adhesive layer at high temperature becomes higher, the adhesive strength is less likely to increase over time or even at high temperature, and the adhesive layer becomes more adhesive. It can be peeled off without residue. In addition, in this specification, when the weight average molecular weight (Mw2) is 2.5 times or more than the weight average molecular weight (Mw1), the styrene-based elastomer (I) is said to be radial type. When the weight average molecular weight (Mw2) is less than 2.5 times the weight average molecular weight (Mw1), the styrene-based elastomer (I) is said to be linear. The weight average molecular weight (Mw2) is more preferably 2.7 times or more, and even more preferably 3.0 times or more, than the weight average molecular weight (Mw1).

상기 스티렌계 엘라스토머 (I) 전체적인 중량 평균 분자량은 특별히 한정되지 않지만, 바람직한 하한은 5 만, 바람직한 상한은 40 만이다. 상기 중량 평균 분자량이 5 만 이상이면, 상기 점착제층의 고온에서의 저장 탄성률이 보다 높아져, 시간 경과적 또는 고온하에서도 점착력이 보다 앙진되기 어려워, 보다 풀 잔존 없이 박리할 수 있다. 상기 중량 평균 분자량이 40 만 이하이면, 상기 점착제층의 상온에서의 저장 탄성률이 지나치게 높아지는 일이 없고, 피착체에 첩부할 때의 밀착성이 보다 높아져, 점착력 (초기 점착력) 이 보다 높아진다. 상기 중량 평균 분자량의 보다 바람직한 하한은 8 만, 보다 바람직한 상한은 35 만이고, 더욱 바람직한 하한은 10 만, 더욱 바람직한 상한은 32 만이다.The overall weight average molecular weight of the styrene-based elastomer (I) is not particularly limited, but the preferred lower limit is 50,000 and the preferred upper limit is 400,000. If the weight average molecular weight is 50,000 or more, the storage modulus of the adhesive layer at high temperature becomes higher, the adhesive strength is less likely to increase over time or even at high temperature, and peeling can be performed without glue remaining. If the weight average molecular weight is 400,000 or less, the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer at room temperature does not become too high, the adhesion when affixed to an adherend becomes higher, and the adhesive force (initial adhesive force) becomes higher. The more preferable lower limit of the weight average molecular weight is 80,000, the more preferable upper limit is 350,000, the more preferable lower limit is 100,000, and the more preferable upper limit is 320,000.

상기 스티렌계 엘라스토머 (I) 100 중량% 에서 차지하는 상기 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (1) 의 함유량 (디블록 비율) 은, 바람직한 하한이 15 중량%, 바람직한 상한이 50 중량% 이다. 상기 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (1) 의 함유량이 15 중량% 이상이면, 상기 점착제층의 상온에서의 저장 탄성률이 지나치게 높아지는 일이 없고, 피착체에 첩부할 때의 밀착성이 보다 높아져, 점착력 (초기 점착력) 이 보다 높아진다. 상기 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (1) 의 함유량이 50 중량% 이하이면, 상기 점착제층의 고온에서의 저장 탄성률이 보다 높아져, 시간 경과적 또는 고온하에서도 점착력이 보다 앙진되기 어려워, 보다 풀 잔존 없이 박리할 수 있다. 상기 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (1) 의 함유량의 보다 바람직한 하한은 18 중량%, 보다 바람직한 상한은 47 중량% 이고, 더욱 바람직한 하한은 20 중량%, 더욱 바람직한 상한은 45 중량% 이다.The content (diblock ratio) of the styrene block copolymer or its hydrogenated product (1) in 100% by weight of the styrene-based elastomer (I) has a preferable lower limit of 15% by weight and a preferable upper limit of 50% by weight. If the content of the styrene block copolymer or its hydrogenated product (1) is 15% by weight or more, the storage modulus of the pressure-sensitive adhesive layer at room temperature does not become excessively high, and the adhesion when sticking to the adherend becomes higher, resulting in higher adhesive strength. (Initial adhesion) becomes higher. If the content of the styrene block copolymer or its hydrogenated product (1) is 50% by weight or less, the storage modulus of the adhesive layer at high temperature becomes higher, the adhesive strength is less likely to increase over time or even at high temperature, and the adhesive layer becomes more adhesive. It can be peeled off without residue. The more preferable lower limit of the content of the styrene block copolymer or its hydrogenated product (1) is 18 wt%, the more preferable upper limit is 47 wt%, the more preferable lower limit is 20 wt%, and the more preferable upper limit is 45 wt%.

한편으로, 상기 스티렌계 엘라스토머 (I) 100 중량% 에서 차지하는 상기 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (2) 의 함유량은, 바람직한 하한이 50 중량%, 바람직한 상한이 85 중량% 이고, 보다 바람직한 하한이 53 중량%, 보다 바람직한 상한이 72 중량% 이다.On the other hand, the content of the styrene block copolymer or its hydrogenated product (2) in 100 weight% of the styrene-based elastomer (I) has a preferable lower limit of 50 weight%, a preferable upper limit of 85 weight%, and a more preferable lower limit. 53% by weight, and a more preferable upper limit is 72% by weight.

또한, 상기 스티렌계 엘라스토머 (I) 100 중량% 중에는, 상기 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (1) 과, 상기 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (2) 에 더하여, 추가로 다른 성분이 포함되어 있어도 된다.In addition, 100% by weight of the styrene-based elastomer (I) contains, in addition to the styrene block copolymer or its hydrogenated product (1) and the styrene block copolymer or its hydrogenated product (2), other components. You can stay.

또한, 디블록 비율은, 겔 침투 크로마토그래프 (GPC) 법에 의해 측정되는 각 공중합체의 피크 면적비로부터 산출할 수 있다.Additionally, the diblock ratio can be calculated from the peak area ratio of each copolymer measured by gel permeation chromatography (GPC) method.

상기 스티렌계 엘라스토머 (I) 전체에 있어서의, 상기 A 로 나타내는 방향족 알케닐 중합체 블록과, 상기 B 로 나타내는 공액 디엔 중합체 블록의 중량비는 특별히 한정되지 않는다. 상기 스티렌계 엘라스토머 (I) 전체에 있어서의, 상기 A 로 나타내는 방향족 알케닐 중합체 블록과, 상기 B 로 나타내는 공액 디엔 중합체 블록의 합계에서 차지하는 상기 B 로 나타내는 공액 디엔 중합체 블록의 함유량은, 바람직한 하한이 35 중량%, 바람직한 상한이 95 중량% 이다. 상기 B 로 나타내는 공액 디엔 중합체 블록의 함유량이 상기 범위 내이면, 상기 점착제층은, 성형성이 보다 향상되고, 또, 피착체에 첩부할 때의 밀착성이 더욱 높아져 점착력 (초기 점착력) 이 높아지는 한편으로, 시간 경과적 또는 고온하에서도 점착력이 앙진되기 어려워, 풀 잔존 없이 박리할 수 있고, 또한, 피착체에 대한 추종성도 보다 향상된다. 상기 B 로 나타내는 공액 디엔 중합체 블록의 함유량의 보다 바람직한 하한은 45 중량%, 보다 바람직한 상한은 87 중량% 이다.The weight ratio of the aromatic alkenyl polymer block represented by A and the conjugated diene polymer block represented by B in the entire styrene-based elastomer (I) is not particularly limited. The content of the conjugated diene polymer block represented by B in the total of the aromatic alkenyl polymer block represented by A and the conjugated diene polymer block represented by B in the entire styrene-based elastomer (I) has a preferable lower limit. 35% by weight, and the preferred upper limit is 95% by weight. When the content of the conjugated diene polymer block represented by B is within the above range, the moldability of the adhesive layer is further improved, and the adhesiveness when sticking to an adherend is further improved, and the adhesive strength (initial adhesive strength) is increased. , the adhesive strength is less likely to increase over time or at high temperatures, and can be peeled off without glue remaining, and the followability to the adherend is also further improved. The more preferable lower limit of the content of the conjugated diene polymer block represented by B is 45% by weight, and the more preferable upper limit is 87% by weight.

상기 스티렌계 엘라스토머 (I) 의 종류로는, 스티렌-에틸렌부틸렌-스티렌 블록 공중합체 (SEBS) 형, 스티렌-에틸렌프로필렌-스티렌 블록 공중합체 (SEPS) 형, 스티렌-이소부틸렌-스티렌 블록 공중합체 (SIBS) 형 등을 들 수 있다.Types of the styrene-based elastomer (I) include styrene-ethylenebutylene-styrene block copolymer (SEBS) type, styrene-ethylenepropylene-styrene block copolymer (SEPS) type, and styrene-isobutylene-styrene block copolymer type. A composite (SIBS) type etc. are mentioned.

또한, 예를 들어, 상기 스티렌계 엘라스토머 (I) 의 종류가 SEBS 형이라는 것은, 상기 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (1), 및 상기 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (2) 가, 스티렌 유래의 반복 단위와, 에틸렌 유래의 반복 단위와, 부틸렌 유래의 반복 단위를 갖는 것을 의미한다. 즉, 상기 A 로 나타내는 방향족 알케닐 중합체 블록이, 스티렌 유래의 반복 단위를 갖는 블록이고, 상기 B 로 나타내는 공액 디엔 중합체 블록 (그 수소 첨가물) 이, 에틸렌 유래의 반복 단위와, 부틸렌 유래의 반복 단위를 갖는 블록인 것을 의미한다.In addition, for example, the type of the styrene-based elastomer (I) being SEBS type means that the styrene block copolymer or its hydrogenated product (1) and the styrene block copolymer or its hydrogenated product (2) are styrene. It means having a repeating unit derived from ethylene, a repeating unit derived from ethylene, and a repeating unit derived from butylene. That is, the aromatic alkenyl polymer block represented by A is a block having a repeating unit derived from styrene, and the conjugated diene polymer block represented by B (its hydrogenated product) has a repeating unit derived from ethylene and a repeat derived from butylene. This means that it is a block with a unit.

상기 스티렌계 엘라스토머 (I) 가 스티렌 유래의 반복 단위를 갖는 경우, 상기 스티렌계 엘라스토머 (I) 전체에 있어서의 스티렌 유래의 반복 단위의 함유량 (스티렌 함유량) 은 특별히 한정되지 않지만, 바람직한 하한은 5 중량%, 바람직한 상한은 30 중량% 이다. 상기 스티렌 함유량이 상기 범위 내이면, 상기 점착제층은, 성형성이 보다 향상되고, 또, 피착체에 첩부할 때의 밀착성이 더욱 높아져 점착력 (초기 점착력) 이 높아지는 한편으로, 시간 경과적 또는 고온하에서도 점착력이 앙진되기 어려워, 풀 잔존 없이 박리할 수 있고, 또한, 피착체에 대한 추종성도 보다 향상된다. 상기 스티렌 함유량의 보다 바람직한 하한은 7 중량%, 보다 바람직한 상한은 20 중량% 이다.When the styrene-based elastomer (I) has a repeating unit derived from styrene, the content of the repeating unit derived from styrene (styrene content) in the entire styrene-based elastomer (I) is not particularly limited, but the preferable lower limit is 5 weight. %, the preferable upper limit is 30% by weight. When the styrene content is within the above range, the moldability of the adhesive layer is further improved, adhesion when attached to an adherend is further improved, and adhesive strength (initial adhesive strength) is increased, while also increasing over time or at high temperature. It is difficult for the adhesive strength to increase, so it can be peeled off without glue remaining, and the followability to the adherend is also improved. The more preferable lower limit of the styrene content is 7% by weight, and the more preferable upper limit is 20% by weight.

상기 스티렌계 엘라스토머 (I) 가 부틸렌 유래의 반복 단위를 갖는 경우, 상기 스티렌계 엘라스토머 (I) 전체에 있어서의 부틸렌 유래의 반복 단위의 함유량 (부틸렌 함유율) 은 특별히 한정되지 않지만, 바람직한 하한은 30 중량%, 바람직한 상한은 90 중량% 이다. 상기 부틸렌 함유율이 상기 범위 내이면, 상기 점착제층은, 성형성이 보다 향상되고, 또, 피착체에 첩부할 때의 밀착성이 더욱 높아져 점착력 (초기 점착력) 이 높아지는 한편으로, 시간 경과적 또는 고온하에서도 점착력이 앙진되기 어려워, 풀 잔존 없이 박리할 수 있고, 또한, 피착체에 대한 추종성도 보다 향상된다. 상기 부틸렌 함유율의 보다 바람직한 하한은 35 중량%, 보다 바람직한 상한은 80 중량% 이다.When the styrene-based elastomer (I) has a butylene-derived repeating unit, the content (butylene content) of the butylene-derived repeating unit in the entire styrene-based elastomer (I) is not particularly limited, but is preferably a lower limit. Silver is 30% by weight, and the preferred upper limit is 90% by weight. When the butylene content is within the above range, the moldability of the pressure-sensitive adhesive layer is further improved, adhesion when affixed to an adherend is further improved, and adhesive strength (initial adhesive strength) is increased, while also increasing over time or at high temperatures. It is difficult for the adhesive strength to increase under pressure, so it can be peeled off without glue remaining, and the followability to the adherend is also improved. The more preferable lower limit of the butylene content is 35% by weight, and the more preferable upper limit is 80% by weight.

상기 스티렌계 엘라스토머 (I) 를 제조하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 이하의 방법을 들 수 있다.The method for producing the styrene-based elastomer (I) is not particularly limited, and examples include the following methods.

먼저, 상기 A 로 나타내는 방향족 알케닐 중합체 블록을 합성하는 공정 (a) 를 실시한다. 이어서, 상기 A 로 나타내는 방향족 알케닐 중합체 블록에 대해, 공액 디엔 화합물을 중합함으로써, 일반식 A-B 로 나타내는 구조를 갖는 스티렌 블록 공중합체 (1) 을 합성하는 공정 (b) 를 실시한다. 이어서, 얻어진 일반식 A-B 로 나타내는 구조를 갖는 스티렌 블록 공중합체 (1) 을, 커플링제를 사용하여 커플링 반응시킴으로써, 일반식 A-B-A 또는 일반식 (A-B)nC 로 나타내는 구조를 갖는 스티렌 블록 공중합체 (2) 를 얻는 공정 (c) 를 실시한다. 이 때의 커플링률은 특별히 한정되지 않지만, 상기 디블록 비율 (상기 스티렌계 엘라스토머 (I) 100 중량% 에서 차지하는 상기 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (1) 의 함유량) 을 상기 서술한 범위로 조정하는 관점에서, 바람직한 하한은 50 %, 바람직한 상한은 97 % 이다. 커플링률의 보다 바람직한 하한은 55 %, 보다 바람직한 상한은 95 % 이고, 더욱 바람직한 하한은 58 %, 더욱 바람직한 상한은 90 % 이고, 더욱 더 바람직한 하한은 60 %, 더욱 더 바람직한 상한은 85 % 이다. 필요에 따라, 스티렌 블록 공중합체 (1) 및 스티렌 블록 공중합체 (2) 에 대해 수소 첨가를 실시하는 공정 (d) 를 실시한다.First, step (a) of synthesizing the aromatic alkenyl polymer block represented by A is performed. Next, step (b) of synthesizing styrene block copolymer (1) having a structure represented by general formula AB is performed by polymerizing a conjugated diene compound to the aromatic alkenyl polymer block represented by A. Next, the obtained styrene block copolymer (1) having a structure represented by the general formula AB is subjected to a coupling reaction using a coupling agent to obtain a styrene block copolymer having a structure represented by the general formula ABA or general formula (AB) n C. (2) Carry out step (c) to obtain. The coupling rate at this time is not particularly limited, but the diblock ratio (content of the styrene block copolymer or its hydrogenated product (1) in 100% by weight of the styrene-based elastomer (I)) is adjusted to the range described above. From this point of view, the preferable lower limit is 50% and the preferable upper limit is 97%. The more preferable lower limit of the coupling ratio is 55%, the more preferable upper limit is 95%, the more preferable lower limit is 58%, the more preferable upper limit is 90%, the still more preferable lower limit is 60%, and the still more preferable upper limit is 85%. If necessary, step (d) of adding hydrogen to the styrene block copolymer (1) and styrene block copolymer (2) is performed.

상기 점착제층은, 추가로, 점착 부여 수지를 함유하는 것이 바람직하다. 상기 점착 부여 수지의 종류, 물성 (예를 들어, 연화점), 배합량 등을 조정함으로써, 상기 60 ℃ 에서의 L 성분의 성분 비율 및 완화 시간, 그리고, 상기 25 ℃ 에서의 L 성분의 성분 비율 및 완화 시간을 상기 범위로 조정하기 쉬워진다.It is preferable that the adhesive layer further contains a tackifying resin. By adjusting the type, physical properties (e.g., softening point), blending amount, etc. of the tackifying resin, the component ratio and relaxation time of the L component at 60°C, and the component ratio and relaxation time of the L component at 25°C. It becomes easy to adjust the time to the above range.

상기 점착 부여 수지는 특별히 한정되지 않지만, 연화점이 80 ℃ 이상인 것이 바람직하고, 90 ℃ 이상, 140 ℃ 이하인 것이 보다 바람직하다.The tackifying resin is not particularly limited, but the softening point is preferably 80°C or higher, and more preferably 90°C or higher and 140°C or lower.

상기 점착 부여 수지로서 예를 들어, 지방족 공중합체, 방향족 공중합체, 지방족 방향족 공중합체, 지환식 공중합체 등의 석유계 수지, 쿠마론-인덴계 수지, 테르펜계 수지, 테르펜페놀계 수지, 중합 로진 등의 로진계 수지, (알킬)페놀계 수지, 자일렌계 수지, 및 이들의 수소 첨가물 등을 들 수 있다. 또, 폴리올레핀 수지와의 혼합물로서 시판되고 있는 점착 부여 수지를 사용해도 된다. 이들의 점착 부여 수지는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다. 그 중에서도, 시간 경과적 또는 고온하에서도 상기 점착제층의 점착력이 앙진되기 어려워, 보다 풀 잔존 없이 박리할 수 있는 점에서, 상기 점착 부여 수지는, 수소 첨가물인 것이 바람직하다.Examples of the tackifying resin include petroleum resins such as aliphatic copolymers, aromatic copolymers, aliphatic aromatic copolymers, and alicyclic copolymers, coumarone-indene resins, terpene resins, terpene phenol resins, and polymerized rosin. rosin-based resins, (alkyl)phenol-based resins, xylene-based resins, and hydrogenated products thereof. Moreover, you may use a commercially available tackifying resin as a mixture with polyolefin resin. These tackifying resins may be used individually, or two or more types may be used together. Among these, it is preferable that the tackifying resin is a hydrogenated substance because the adhesive strength of the adhesive layer is unlikely to increase over time or even under high temperatures, and can be peeled off without glue remaining.

상기 점착 부여 수지의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 상기 스티렌계 엘라스토머 등의 베이스 수지 100 중량부에 대한 바람직한 하한은 12 중량부, 바람직한 상한은 45 중량부이다. 상기 점착 부여 수지의 함유량이 12 중량부 이상이면, 상기 점착제층의 저장 탄성률을 저하시킴으로써 피착체에 대한 추종성을 향상시키고, 또한, 상기 25 ℃ 에서의 S 성분의 성분 비율이 커짐으로써 상기 점착제층의 분자 운동성이 억제되어 필요 이상으로 피착체에 추종하여 점착력이 증대되는 것을 방지할 수 있다. 상기 점착 부여 수지의 함유량이 45 중량부 이하이면, 상기 60 ℃ 에서의 L 성분의 완화 시간이 지나치게 커지지 않고, 시간 경과적 또는 고온하에서도 상기 점착제층의 점착력이 앙진되기 어려워, 보다 풀 잔존 없이 박리할 수 있다. 상기 점착 부여 수지의 함유량의 보다 바람직한 하한은 15 중량부, 보다 바람직한 상한은 40 중량부이고, 더욱 바람직한 하한은 18 중량부, 더욱 바람직한 상한은 35 중량부이다.The content of the tackifying resin is not particularly limited, but the preferable lower limit is 12 parts by weight and the preferable upper limit is 45 parts by weight relative to 100 parts by weight of the base resin such as the styrene-based elastomer. When the content of the tackifying resin is 12 parts by weight or more, the storage modulus of the pressure-sensitive adhesive layer is lowered, thereby improving followability to the adherend, and the component ratio of the S component at 25° C. is increased, thereby improving the elasticity of the pressure-sensitive adhesive layer. Molecular mobility is suppressed, preventing the adhesion from following the adherend more than necessary and increasing the adhesion. If the content of the tackifying resin is 45 parts by weight or less, the relaxation time of the L component at 60°C does not become excessively large, the adhesive strength of the adhesive layer is unlikely to increase over time or even at high temperatures, and peeling occurs without glue remaining. can do. The more preferable lower limit of the content of the tackifying resin is 15 parts by weight, the more preferable upper limit is 40 parts by weight, the more preferable lower limit is 18 parts by weight, and the more preferable upper limit is 35 parts by weight.

상기 점착제층은, 추가로 필요에 따라, 접착력 조정제, 가소제, 유화제, 연화제, 미립자, 충전제, 안료, 염료, 실란 커플링제, 산화 방지제, 계면 활성제, 왁스 등의 공지된 첨가제를 함유해도 된다.The adhesive layer may further contain known additives such as adhesion regulators, plasticizers, emulsifiers, softeners, fine particles, fillers, pigments, dyes, silane coupling agents, antioxidants, surfactants, and waxes, if necessary.

상기 점착제층의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 바람직한 하한은 1.5 ㎛, 바람직한 상한은 30 ㎛ 이다. 상기 점착제층의 두께가 1.5 ㎛ 이상이면, 점착력이 충분히 높아진다. 상기 점착제층의 두께가 30 ㎛ 이하이면, 보다 용이하게 박리할 수 있다. 상기 점착제층의 두께의 보다 바람직한 하한은 2.0 ㎛, 보다 바람직한 상한은 20 ㎛ 이다.The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but the preferred lower limit is 1.5 μm and the preferred upper limit is 30 μm. If the thickness of the adhesive layer is 1.5 μm or more, the adhesive strength is sufficiently high. If the thickness of the adhesive layer is 30 μm or less, it can be peeled off more easily. A more preferable lower limit of the thickness of the adhesive layer is 2.0 μm, and a more preferable upper limit is 20 μm.

상기 기재층은 특별히 한정되지 않지만, 폴리올레핀 수지를 함유하는 것이 바람직하다. 상기 폴리올레핀 수지는 특별히 한정되지 않고, 종래 공지된 폴리올레핀 수지를 사용할 수 있고, 예를 들어, 폴리프로필렌 (PP) 수지, 폴리에틸렌 (PE) 수지 등을 들 수 있다.The base material layer is not particularly limited, but preferably contains polyolefin resin. The polyolefin resin is not particularly limited, and conventionally known polyolefin resins can be used, for example, polypropylene (PP) resin, polyethylene (PE) resin, etc.

상기 폴리프로필렌 수지로서 예를 들어, 호모폴리프로필렌, 랜덤 폴리프로필렌, 블록 폴리프로필렌 등을 들 수 있다. 상기 폴리에틸렌 수지로서 예를 들어, 고압법 저밀도 폴리에틸렌, 직사슬형 저밀도 폴리에틸렌, 고밀도 폴리에틸렌 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 투명성, 강성, 내열성의 관점에서 폴리프로필렌 수지가 바람직하고, 호모폴리프로필렌이 바람직하다. 또, 폴리프로필렌과 폴리에틸렌의 혼합물도 바람직하다.Examples of the polypropylene resin include homopolypropylene, random polypropylene, and block polypropylene. Examples of the polyethylene resin include high-pressure low-density polyethylene, linear low-density polyethylene, and high-density polyethylene. Among them, polypropylene resin is preferable from the viewpoint of transparency, rigidity, and heat resistance, and homopolypropylene is preferable. Additionally, a mixture of polypropylene and polyethylene is also preferred.

상기 기재층은, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위 내에서, 대전 방지제, 이형제, 산화 방지제, 내후제, 결정핵제 등의 첨가제, 폴리올레핀, 폴리에스테르, 폴리아미드, 엘라스토머 등의 수지 개질제를 함유해도 된다.The base material layer may contain additives such as antistatic agents, mold release agents, antioxidants, weathering agents, and crystal nucleating agents, and resin modifiers such as polyolefins, polyesters, polyamides, and elastomers, within the range that does not impair the effect of the present invention. do.

상기 기재층의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 바람직한 하한은 20 ㎛, 바람직한 상한은 200 ㎛ 이다. 상기 기재층의 두께가 상기 범위 내이면, 표면 보호 필름의 취급성이 향상된다. 상기 기재층의 두께의 보다 바람직한 하한은 25 ㎛, 보다 바람직한 상한은 188 ㎛ 이다.The thickness of the base layer is not particularly limited, but the preferred lower limit is 20 μm and the preferred upper limit is 200 μm. When the thickness of the base layer is within the above range, the handleability of the surface protection film improves. A more preferable lower limit of the thickness of the base layer is 25 μm, and a more preferable upper limit is 188 μm.

본 발명의 표면 보호 필름을 제조하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 미리 T 다이 성형 또는 인플레이션 성형으로 얻어진 기재층 상에, 압출 라미네이션, 압출 코팅 등의 공지된 적층법에 의해 점착제층을 적층하는 방법을 들 수 있다. 또, 기재층과 점착제층을 독립적으로 필름으로 한 후, 얻어진 각각의 필름을 드라이 라미네이션에 의해 적층하는 방법, 기재층을 구성하는 수지와 점착제층을 구성하는 수지를 T 다이법에 의해 공압출 성형하는 방법 등도 들 수 있다. 그 중에서도, 공압출 성형하는 방법이 바람직하다.The method for producing the surface protection film of the present invention is not particularly limited. For example, an adhesive layer is formed by a known laminating method such as extrusion lamination or extrusion coating on a base layer previously obtained by T-die molding or inflation molding. A laminating method may be mentioned. In addition, the base material layer and the adhesive layer are independently formed into films, and then each obtained film is laminated by dry lamination, and the resin constituting the base layer and the resin constituting the adhesive layer are co-extruded using the T-die method. Methods for doing so can also be mentioned. Among them, the method of co-extrusion molding is preferable.

상기 점착제층 (표면 보호 필름) 의 성형 조건을 조정함으로써, 상기 60 ℃ 에서의 L 성분의 성분 비율 및 완화 시간, 그리고, 상기 25 ℃ 에서의 L 성분의 성분 비율 및 완화 시간을 상기 범위로 조정하기 쉬워진다. 구체적으로는, 공압출 성형하는 방법의 경우, 미리 2 축 압출기를 사용하여, 상기 점착제층의 원료를 혼련하여 콤파운드 펠릿 (점착제 조성물) 을 제조해 두는 것이 바람직하다. 그리고, 제조한 점착제 조성물을, 실린더의 근본 온도 100 ∼ 150 ℃ 에서 선단 온도 200 ∼ 230 ℃ 까지 단계적으로 온도가 높아지도록 설정한 1 축 압출기에 투입하여, 상기 점착제층을 성형하는 것이 바람직하다. 또, 금형, 피드 블록 등의 유로는 200 ∼ 230 ℃ 가 되도록 조정되는 것이 바람직하다. 필요 이상으로 열이력을 늘리는 공정을 더하거나, 반대로 원료가 충분히 혼련되지 않는 공정 (예를 들어, 저온에서 원료를 드라이 블렌드 상태로 압출하는 공정 등) 을 실시하거나 하면, 상기 60 ℃ 에서의 L 성분의 성분 비율 및 완화 시간, 그리고, 상기 25 ℃ 에서의 L 성분의 성분 비율 및 완화 시간을 상기 범위로 조정할 수 없는 경우가 있다.By adjusting the molding conditions of the adhesive layer (surface protection film), the component ratio and relaxation time of the L component at 60°C and the component ratio and relaxation time of the L component at 25°C are adjusted to the above range. It gets easier. Specifically, in the case of co-extrusion molding, it is preferable to prepare compound pellets (adhesive composition) by mixing the raw materials for the adhesive layer in advance using a twin screw extruder. Then, it is preferable to feed the prepared adhesive composition into a single-screw extruder set to gradually increase the temperature from the cylinder's base temperature of 100 to 150°C to the tip temperature of 200 to 230°C to mold the adhesive layer. Moreover, it is preferable that the flow paths of the mold, feed block, etc. are adjusted to 200 to 230°C. If a process that increases the heat history more than necessary is added or, conversely, a process in which the raw materials are not sufficiently kneaded (for example, a process of extruding the raw materials in a dry blend state at low temperature, etc.) is performed, the L component at 60 ° C. The component ratio and relaxation time, and the component ratio and relaxation time of the L component at 25°C may not be adjusted to the above range.

본 발명의 표면 보호 필름은, 점착력 (초기 점착력) 이 높고, 시간 경과적 또는 고온하에서도 점착력이 앙진되기 어려워 풀 잔존 없이 박리할 수 있다. 본 발명의 표면 보호 필름은, 표면이 평활한 피착체의 표면을 보호하기 위해서 사용되어도 되지만, 표면에 요철 형상을 갖는 피착체의 표면을 보호하기 위해서 사용할 때에 특히 높은 효과를 발휘한다.The surface protection film of the present invention has high adhesive strength (initial adhesive strength), and the adhesive strength is unlikely to increase over time or at high temperatures, and can be peeled off without glue remaining. The surface protection film of the present invention may be used to protect the surface of an adherend with a smooth surface, but it is particularly effective when used to protect the surface of an adherend having an uneven surface.

본 발명의 표면 보호 필름은, 광학 디바이스, 금속판, 도장한 금속판, 수지판, 유리판 등의 부재의 표면을 보호하기 위해서 바람직하게 사용된다. 그 중에서도, 프리즘 시트, 확산 필름 등과 같이 편측 또는 양측의 표면에 요철 형상을 갖는 광학 부재의 보호에 특히 바람직하다.The surface protection film of the present invention is preferably used to protect the surfaces of members such as optical devices, metal plates, painted metal plates, resin plates, and glass plates. Among them, it is particularly suitable for protecting optical members having uneven shapes on one or both surfaces, such as prism sheets, diffusion films, etc.

본 발명에 의하면, 점착력 (초기 점착력) 이 높고, 피착체에 첩부한 후, 시간 경과적 또는 고온하에서도 점착력이 앙진되기 어려워 풀 잔존 없이 박리할 수 있는 표면 보호 필름을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a surface protection film that has high adhesive strength (initial adhesive strength), is unlikely to increase in adhesive strength over time or at high temperatures after being attached to an adherend, and can be peeled off without glue remaining.

이하에 실시예를 들어 본 발명의 양태를 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에만 한정되는 것은 아니다.The embodiments of the present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

<스티렌계 엘라스토머><Styrene-based elastomer>

실시예, 비교예에 있어서는, 표 1 에 나타낸 수지 1 ∼ 4 를 스티렌계 엘라스토머로서 사용하였다.In the examples and comparative examples, resins 1 to 4 shown in Table 1 were used as styrene-based elastomers.

또한, 수지 1 ∼ 3 의 합성법은 이하와 같다.In addition, the synthesis method of Resins 1 to 3 is as follows.

(수지 1 의 합성)(Synthesis of Resin 1)

(합성예 1)(Synthesis Example 1)

질소 치환된 반응 용기에, 탈기, 탈수된 시클로헥산 500 중량부, 스티렌 10 중량부 및 테트라하이드로푸란 5 중량부를 주입하고, 중합 개시 온도의 40 ℃ 에서 n-부틸리튬 0.13 중량부를 첨가하고, 승온 중합을 실시하여, 방향족 알케닐 중합체 블록 (블록 A) 을 얻었다.Into a nitrogen-substituted reaction vessel, 500 parts by weight of degassed and dehydrated cyclohexane, 10 parts by weight of styrene, and 5 parts by weight of tetrahydrofuran were charged, 0.13 parts by weight of n-butyllithium was added at 40° C., the polymerization start temperature, and polymerization was carried out at elevated temperature. was performed to obtain an aromatic alkenyl polymer block (block A).

방향족 알케닐 중합체 블록의 중합 전화율이 대략 100 % 에 도달한 후, 반응액을 15 ℃ 로 냉각시키고, 이어서, 1,3-부타디엔 85 중량부를 첨가하고, 추가로 승온 중합을 실시하여, 공액 디엔 중합체 블록 (블록 B) 을 얻었다. 이로써, 일반식 A-B 로 나타내는 구조를 갖는 스티렌 블록 공중합체 (1) 을 얻었다.After the polymerization conversion rate of the aromatic alkenyl polymer block reaches approximately 100%, the reaction liquid is cooled to 15°C, then 85 parts by weight of 1,3-butadiene is added, and polymerization is further performed at elevated temperature to obtain a conjugated diene polymer. A block (block B) was obtained. As a result, styrene block copolymer (1) having a structure represented by general formula A-B was obtained.

중합 전화율이 거의 100 % 에 도달한 후, 커플링제로서 테트라클로로실란을 첨가하여, 커플링 반응을 실시하였다. 이 때의 커플링률은 70 % 였다. 반응이 완결된 후, 수소 가스를 0.4 ㎫-Gauge 의 압력으로 공급하면서 10 분간 방치하였다. 이로써, 일반식 (A-B)4C 로 나타내는 구조를 갖는 스티렌 블록 공중합체 (2) 를 얻었다.After the polymerization conversion ratio reached nearly 100%, tetrachlorosilane was added as a coupling agent, and a coupling reaction was performed. The coupling rate at this time was 70%. After the reaction was completed, hydrogen gas was supplied at a pressure of 0.4 MPa-Gauge and left for 10 minutes. As a result, styrene block copolymer (2) having a structure represented by the general formula (AB) 4 C was obtained.

그 후, 반응 용기 내에, 디에틸알루미늄클로라이드 0.03 중량부 및 비스(시클로펜타디에닐)티타늄푸르푸릴옥시클로라이드 0.06 중량부를 첨가하고, 교반하였다. 수소 가스 공급압 0.7 ㎫-Gauge, 반응 온도 80 ℃ 에서 수소 첨가 반응을 개시하고, 수소의 흡수가 종료된 시점에서, 반응 용액을 상온, 상압으로 되돌리고, 반응 용기로부터 발출하였다. 이로써, 표 1 에 나타내는 스티렌 함유량 및 디블록 비율을 갖는, 일반식 A-B 로 나타내는 구조를 갖는 스티렌 블록 공중합체의 수소 첨가물 (1) 과, 일반식 (A-B)4C 로 나타내는 구조를 갖는 스티렌 블록 공중합체의 수소 첨가물 (2) 를 함유하는 스티렌계 엘라스토머를 얻었다.Then, 0.03 parts by weight of diethylaluminum chloride and 0.06 parts by weight of bis(cyclopentadienyl)titanium furfuryloxychloride were added into the reaction vessel and stirred. The hydrogenation reaction was started at a hydrogen gas supply pressure of 0.7 MPa-Gauge and a reaction temperature of 80°C, and when hydrogen absorption was completed, the reaction solution was returned to room temperature and pressure and extracted from the reaction container. As a result, the hydrogenated product (1) of the styrene block copolymer having a structure represented by the general formula AB and the styrene content and diblock ratio shown in Table 1, and the styrene block copolymer having the structure represented by the general formula (AB) 4C A styrene-based elastomer containing the polymerized hydrogenated substance (2) was obtained.

일부 취출한 폴리머에 대해 GPC 분석을 실시하여, 중량 평균 분자량 (Mw) 을 구하였다.GPC analysis was performed on some of the taken out polymers, and the weight average molecular weight (Mw) was determined.

(수지 2 ∼ 6 의 합성)(Synthesis of Resins 2 to 6)

(합성예 2 ∼ 6)(Synthesis Examples 2 to 6)

스티렌 함유량, 커플링 반응에 있어서의 커플링률, 디블록 비율 등을 표 1 에 나타낸 바와 같이 변경한 것 이외에는 수지 1 의 합성 (합성예 1) 과 동일하게 하여, 스티렌계 엘라스토머를 얻었다.A styrene-based elastomer was obtained in the same manner as the synthesis of Resin 1 (Synthesis Example 1) except that the styrene content, coupling rate in the coupling reaction, diblock ratio, etc. were changed as shown in Table 1.

또한, 커플링률은, 커플링제의 종류, 첨가량 등에 의해 조정할 수 있다. 이로써, 수지 2 ∼ 6 에 있어서는 레이디얼형의 스티렌계 엘라스토머를 얻었다.Additionally, the coupling rate can be adjusted depending on the type of coupling agent, addition amount, etc. As a result, in Resins 2 to 6, radial-type styrene-based elastomers were obtained.

또, 수지 7 로서 이하의 시판품을 사용하였다. 수지 7 은 리니어형의 스티렌계 엘라스토머였다.In addition, the following commercial product was used as Resin 7. Resin 7 was a linear styrene-based elastomer.

DYNARON8300P(DR8300P) (스티렌-에틸렌부틸렌-스티렌 블록 공중합체 (SEBS), JSR 사 제조)DYNARON8300P (DR8300P) (styrene-ethylenebutylene-styrene block copolymer (SEBS), manufactured by JSR)

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Figure pct00001

(실시예 1)(Example 1)

(1) 표면 보호 필름의 제조(1) Manufacturing of surface protection film

기재층의 원료로서, 블록 폴리프로필렌 수지 (J715M, 프라임 폴리머사 제조)를 100 중량부 배합하여, 수지 조성물을 얻었다.As a raw material for the base layer, 100 parts by weight of block polypropylene resin (J715M, manufactured by Prime Polymer) was blended to obtain a resin composition.

점착제층의 원료로서, 스티렌계 엘라스토머로서 수지 1 을 100 중량부, 점착 부여 수지로서 지환족 포화 탄화수소 수지 (P125, 아라카와 화학 공업사 제조, 연화점 125 ℃, 수첨률은 95 % 를 초과한다) 를 15 중량부 배합하여, 혼합물을 얻었다. 얻어진 혼합물을 2 축 압출기를 사용하여 압출하고, 압출된 스트랜드를 수랭하고, 컷함으로써 Φ3 ㎜ 정도의 콤파운드 점착제 조성물을 얻었다.As raw materials for the adhesive layer, 100 parts by weight of Resin 1 as a styrene-based elastomer, and 15 parts by weight of an alicyclic saturated hydrocarbon resin (P125, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., softening point of 125°C, hydrogenation rate exceeding 95%) as a tackifying resin. By submixing, a mixture was obtained. The obtained mixture was extruded using a twin screw extruder, and the extruded strand was cooled in water and cut to obtain a compound adhesive composition of about Φ3 mm.

기재층의 원료로서 상기에서 얻어진 수지 조성물을, 점착제층의 원료로서 상기에서 얻어진 점착제 조성물을 사용하여, T 다이법에 의해 공압출 성형을 실시하였다. 근본 온도 150 ℃, 선단 온도 230 ℃ 로 조정된 Φ65 ㎜ 의 압출기에 상기 점착제 조성물을, 근본 온도 200 ℃, 선단 온도 230 ℃ 로 조정된 Φ115 ㎜ 및 Φ75 ㎜ 의 압출기에 상기 수지 조성물을 투입하고, 폴리머 필터 및 피드 블록을 통하여 멀티 매니폴드형의 금형으로부터 3 층으로 공압출을 하였다. 압출된 수지는 30 ℃ 로 조정된 캐스트 롤에 의해 냉각되고, 기재층 35 ㎛ (Φ75 ㎜ 의 압출기 유래의 층의 두께 8 ㎛, Φ115 ㎜ 의 압출기 유래의 층의 두께 27 ㎛ 정도로 압출량을 조정), 점착제층 3 ㎛ 의 필름으로서 성형되었다. 필름은 권취되어, 롤상의 표면 보호 필름을 얻었다.The resin composition obtained above was used as a raw material for the base material layer, and the adhesive composition obtained above was used as a raw material for the adhesive layer, and co-extrusion molding was performed by the T-die method. The adhesive composition was put into an extruder of Φ65 mm adjusted to a root temperature of 150°C and a tip temperature of 230°C, and the resin composition was put into an extruder of Φ115 mm and Φ75 mm adjusted to a root temperature of 200°C and a tip temperature of 230°C, and polymer Co-extrusion was performed in three layers from a multi-manifold type mold through a filter and feed block. The extruded resin is cooled by a cast roll adjusted to 30°C, and the base material layer is 35 ㎛ (the extrusion amount is adjusted to about 8 ㎛ thickness of the layer derived from the Φ75 mm extruder and 27 ㎛ thickness of the layer derived from the Φ115 mm extruder). , it was molded as a film with an adhesive layer of 3 μm. The film was wound to obtain a roll-shaped surface protection film.

(2) 펄스 NMR 의 측정(2) Pulse NMR measurement

표면 보호 필름의 점착제층의 일부를 톨루엔에 녹이고, 자연 건조시킨 후, 30 ℃ 에서 진공 건조시켜 톨루엔을 제거함으로써 200 mg 정도의 측정 샘플을 조제하였다.A portion of the adhesive layer of the surface protection film was dissolved in toluene, dried naturally, and vacuum dried at 30°C to remove toluene to prepare a measurement sample of about 200 mg.

측정 샘플을 직경 10 ㎜ 의 유리제의 샘플관 (BRUKER 사 제조, 품번 1824511, 길이 180 ㎜, 플랫 보텀) 에 도입하였다. 샘플을 펄스 NMR 장치 (the minispec mq20, BRUKER 사 제조) 에 설치하고, 25 ℃ 에서 10 분 유지한 후, Solid Echo 법을 실시하였다. 또, 25 ℃ 에서 측정한 후, 승온시키고, 이어서, 60 ℃ 에서 10 분 유지한 후, 60 ℃ 에서 CPMG 법을 실시하였다.The measurement sample was introduced into a glass sample tube with a diameter of 10 mm (manufactured by BRUKER, product number 1824511, length 180 mm, flat bottom). The sample was installed in a pulse NMR device (the minispec mq20, manufactured by BRUKER) and held at 25°C for 10 minutes, and then subjected to the Solid Echo method. Additionally, after measuring at 25°C, the temperature was raised, and then held at 60°C for 10 minutes, and then the CPMG method was performed at 60°C.

얻어진 1H 핵의 스핀-스핀 완화의 자유 유도 감쇠 곡선을, S 성분, M 성분 및 L 성분의 3 성분에서 유래하는 3 개의 곡선으로 파형 분리하고, S 성분 및 L 성분의 성분 비율 및 완화 시간을 구하였다. 파형 분리는, 가우시안형과 엑스포넨셜형의 양방을 사용하여, 피팅시킴으로써 실시하였다.The obtained free-induction decay curve of spin-spin relaxation of the 1H nucleus was separated into three curves originating from the three components of S component, M component, and L component, and the component ratio and relaxation time of S component and L component were calculated as Saved. Waveform separation was performed by fitting using both the Gaussian type and the exponential type.

또한, BRUKER 사 제조의 해석 소프트웨어 「TD-NMRA (Version 4.3 Rev 0.8)」 를 사용하여, 제품 매뉴얼에 따라서, 25 ℃ 에서의 Solid Echo 법에서는 S 성분은 가우시안형, M 성분 및 L 성분은 엑스포넨셜형을 사용하여 피팅을 실시하였다. 60 ℃ 에서의 CPMG 법에서는 S 성분, M 성분 및 L 성분 모두에 대해 엑스포넨셜형을 사용하여 피팅을 실시하였다. 또, Solid Echo 법에서는 얻어진 완화 곡선의 0.6 밀리초까지의 포인트를 사용하여 피팅을 실시하고, CPMG 법에서는 모든 포인트를 사용하여 피팅을 실시하였다. 피팅에는 이하의 식을 사용하였다.In addition, using the analysis software "TD-NMRA (Version 4.3 Rev 0.8)" manufactured by BRUKER and following the product manual, in the Solid Echo method at 25°C, the S component is Gaussian type, and the M and L components are exponene type. Fitting was performed using a spherical type. In the CPMG method at 60°C, fitting was performed using the exponential type for all of the S, M, and L components. In addition, in the Solid Echo method, fitting was performed using points up to 0.6 milliseconds of the obtained relaxation curve, and in the CPMG method, fitting was performed using all points. The following equation was used for fitting.

여기서, w1 ∼ w3 은 와이블 계수이다. Solid Echo 법의 w1 은 2, w2 및 w3 은 1 의 값을 취하고, CPMG 법의 w1 ∼ w3 은 1 의 값을 취한다. A1 은 S 성분의, B1 은 M 성분의, C1 은 L 성분의 각각 성분비이고, T2A 는 S 성분의, T2B 는 M 성분의, T2C 는 L 성분의 각각 완화 시간을 나타낸다. t 는 시간이다.Here, w1 to w3 are Weibull coefficients. In the Solid Echo method, w1 takes the value of 2, w2 and w3 take the value of 1, and in the CPMG method, w1 to w3 take the value of 1. A1 is the component ratio of the S component, B1 is the M component, and C1 is the L component, T2A is the S component, T2B is the M component, and T2C is the relaxation time of the L component. t is time.

[측정 조건][Measuring conditions]

[CPMG 법][CPMG Act]

Scans : 256 timesScans: 256 times

Recycle Delay : 0.5 sec 또는 T1 의 5 배의 값Recycle Delay: 0.5 sec or 5 times the value of T1

90 - 180 plus searation : 0.490 - 180 plus searation: 0.4

Total number of acquired echoes : 1000Total number of acquired echoes: 1000

[Solid Echo 법][Solid Echo Method]

Scans : 128 timesScans : 128 times

Recycle Delay : 0.5 sec 또는 T1 의 5 배의 값Recycle Delay: 0.5 sec or 5 times the value of T1

Acquisition scale : 1 msAcquisition scale: 1 ms

(실시예 2 ∼ 8, 비교예 1 ∼ 6)(Examples 2 to 8, Comparative Examples 1 to 6)

표 2 에 나타내는 바와 같이 스티렌계 엘라스토머 또는 점착 부여 수지를 변경한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 표면 보호 필름을 얻었다. 실시예 7 에서는 스티렌계 엘라스토머 및 점착 부여 수지는 실시예 2 와 동일했지만, 점착제 조성물을 투입하는 압출기를 Φ45 ㎜ 의 압출기로 변경하고, 압출기의 근본 온도를 190 ℃, 선단 온도를 230 ℃, 캐스트 롤의 온도를 40 ℃ 로 변경하였다.As shown in Table 2, a surface protection film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the styrene-based elastomer or tackifying resin was changed. In Example 7, the styrene-based elastomer and tackifier resin were the same as in Example 2, but the extruder for feeding the adhesive composition was changed to an extruder with a diameter of Φ45 mm, the root temperature of the extruder was set to 190°C, the tip temperature was set to 230°C, and the cast roll was used. The temperature was changed to 40°C.

<평가><Evaluation>

실시예 1 ∼ 8, 비교예 1 ∼ 6 에서 얻어진 표면 보호 필름에 대해, 이하의 평가를 실시하였다. 결과를 표 2 에 나타냈다.The following evaluation was performed about the surface protection films obtained in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 6. The results are shown in Table 2.

(1) 초기 점착력의 측정(1) Measurement of initial adhesion

피착체 (산의 정점간 거리가 24 ㎛ 인 프리즘 시트) 상을 덮도록 25 ㎜ 폭의 표면 보호 필름을 첩부하여, 시험편을 제조하였다. 첩부는, 23 ℃ 및 상대습도 50 %RH 의 환경하에서, 2 ㎏ 의 압착 고무 롤러를 사용하여, 300 ㎜/분의 속도로 압체함으로써 실시하였다.A 25 mm wide surface protection film was affixed to cover the adherend (a prism sheet with a peak-to-peak distance of 24 μm) to prepare a test piece. The sticking was performed by pressing at a speed of 300 mm/min using a 2 kg compression rubber roller in an environment of 23°C and 50% RH relative humidity.

얻어진 시험편을 23 ℃ 및 상대습도 50 % RH 의 환경하에서 30 분 방치하였다. 방치 후, 피착체로부터 인장 속도 300 ㎜/분으로 180°방향으로 표면 보호 필름을 박리하고, 초기 점착력을 측정하였다.The obtained test piece was left in an environment of 23°C and a relative humidity of 50% RH for 30 minutes. After leaving, the surface protection film was peeled from the adherend in a 180° direction at a tensile speed of 300 mm/min, and the initial adhesive force was measured.

단, 비교예 3 에서는 표면 보호 필름이 피착체로부터 들뜬 상태가 되어, 초기 점착력을 측정할 수 없었다.However, in Comparative Example 3, the surface protection film was lifted from the adherend, and the initial adhesive force could not be measured.

(2) 50 ℃ 1 주일 (1 W) 후 점착력의 측정(2) Measurement of adhesion after 1 week (1 W) at 50℃

상기 (1) 과 동일하게 하여 얻어진 시험편을 50 ℃ 의 온도 환경하에서 1 주간 (1 W) 방치하였다. 방치 후, 시험편을 실온으로 취출하고, 또한 60 분간 방치한 후, 피착체로부터 인장 속도 300 ㎜/분으로 180°방향으로 표면 보호 필름을 박리하고, 50 ℃ 1 주일 (1 W) 후 점착력을 측정하였다.The test piece obtained in the same manner as in (1) above was left in a temperature environment of 50°C for 1 week (1 W). After leaving, the test piece was taken out at room temperature and left for 60 minutes. Then, the surface protection film was peeled from the adherend in a 180° direction at a tensile speed of 300 mm/min, and the adhesive force was measured after 1 week (1 W) at 50°C. did.

단, 비교예 1 및 3 에서는 표면 보호 필름이 피착체로부터 들뜬 상태가 되어, 50 ℃ 1 주일 (1 W) 후 점착력을 측정할 수 없었다.However, in Comparative Examples 1 and 3, the surface protection film was lifted from the adherend, and the adhesive force could not be measured after 1 week (1 W) at 50°C.

(3) 점착력의 판정(3) Determination of adhesion

초기 점착력 측정 결과로부터, 이하의 기준에 의해 판정을 실시하였다.From the initial adhesion measurement results, judgment was made based on the following criteria.

◎ : 6 gf/25 ㎜ 이상 8 gf/25 ㎜ 이하◎: 6 gf/25 ㎜ or more and 8 gf/25 ㎜ or less

○ : 5 gf/25 ㎜ 이상 6 gf/25 ㎜ 미만, 또는 8 gf/25 ㎜ 보다 크고 12.5 gf/25 ㎜ 이하○: 5 gf/25 ㎜ or more and less than 6 gf/25 ㎜, or greater than 8 gf/25 ㎜ and 12.5 gf/25 ㎜ or less.

△ : 4 gf/25 ㎜ 이상 5 gf/25 ㎜ 미만, 또는 12.5 gf/25 ㎜ 보다 크고 15 gf/25 ㎜ 이하△: 4 gf/25 ㎜ or more and less than 5 gf/25 ㎜, or greater than 12.5 gf/25 ㎜ and less than 15 gf/25 ㎜

× : 4 gf/25 ㎜ 미만, 또는 15 gf/25 ㎜ 보다 크다×: less than 4 gf/25 mm, or greater than 15 gf/25 mm

또, 50 ℃ 1 주일 (1 W) 후 점착력의 측정 결과로부터, 이하의 기준에 의해 판정을 실시하였다.In addition, from the measurement results of adhesive force after 1 week (1 W) at 50°C, judgment was made based on the following criteria.

◎ : 6 gf/25 ㎜ 이상 10 gf/25 ㎜ 이하◎ : 6 gf/25 ㎜ or more and 10 gf/25 ㎜ or less

○ : 5 gf/25 ㎜ 이상 6 gf/25 ㎜ 미만, 또는 10 gf/25 ㎜ 보다 크고 15 gf/25 ㎜ 이하○: 5 gf/25 ㎜ or more and less than 6 gf/25 ㎜, or greater than 10 gf/25 ㎜ and less than 15 gf/25 ㎜

△ : 4 gf/25 ㎜ 이상 5 gf/25 ㎜ 미만, 또는 15 gf/25 ㎜ 보다 크고 20 gf/25 ㎜ 이하△: 4 gf/25 ㎜ or more and less than 5 gf/25 ㎜, or greater than 15 gf/25 ㎜ and less than 20 gf/25 ㎜

× : 4 gf/25 ㎜ 미만, 또는 20 gf/25 ㎜ 보다 크다×: less than 4 gf/25 mm, or greater than 20 gf/25 mm

(4) 풀 잔존의 평가(4) Evaluation of pool remaining

상기 (2) 에 있어서 피착체로부터 표면 보호 필름을 박리한 후, 피착체를 확인하고, 레이저 현미경 (키엔스사 제조, VK-X100) 으로 풀 잔존의 유무를 평가하였다. 이하의 기준에 의해 평가하였다.In (2) above, after peeling the surface protection film from the adherend, the adherend was confirmed and the presence or absence of glue residue was evaluated using a laser microscope (VK-X100, manufactured by Keyence). Evaluation was made according to the following criteria.

○ : 풀 잔존이 보이지 않았다○: No remaining grass was seen.

× : 풀 잔존이 보였다×: Remains of grass was seen

Figure pct00003
Figure pct00003

본 발명에 의하면, 점착력 (초기 점착력) 이 높고, 피착체에 첩부한 후, 시간 경과적 또는 고온하에서도 점착력이 앙진되기 어려워 풀 잔존 없이 박리할 수 있는 표면 보호 필름을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a surface protection film that has high adhesive strength (initial adhesive strength), is unlikely to increase in adhesive strength over time or at high temperatures after being attached to an adherend, and can be peeled off without glue remaining.

Claims (7)

기재층과 점착제층을 갖는 표면 보호 필름으로서,
상기 점착제층은, 펄스 NMR 을 사용하여 60 ℃ 에서 CPMG 법으로 측정하여 얻어진 L 성분의 성분 비율이 10 % 이하, 완화 시간이 25 밀리초 이상, 80 밀리초 이하이고, 펄스 NMR 을 사용하여 25 ℃ 에서 Solid Echo 법으로 측정하여 얻어진 L 성분의 성분 비율이 30 % 이상, 65 % 이하, 완화 시간이 0.2 밀리초 이상, 0.4 밀리초 이하인 것을 특징으로 하는 표면 보호 필름.
A surface protective film having a base layer and an adhesive layer,
The pressure-sensitive adhesive layer has a component ratio of the L component of 10% or less, a relaxation time of 25 milliseconds or more and 80 milliseconds or less, and was measured by CPMG method at 60°C using pulse NMR, and was measured at 25°C using pulse NMR. A surface protection film characterized in that the component ratio of the L component obtained by measuring by the Solid Echo method is 30% or more and 65% or less, and the relaxation time is 0.2 milliseconds or more and 0.4 milliseconds or less.
제 1 항에 있어서,
상기 점착제층은, 펄스 NMR 을 사용하여 60 ℃ 에서 CPMG 법으로 측정하여 얻어진 S 성분의 성분 비율이 45 % 이상, 완화 시간이 0.4 밀리초 이상, 0.8 밀리초 이하인 것을 특징으로 하는 표면 보호 필름.
According to claim 1,
The pressure-sensitive adhesive layer has a component ratio of the S component of 45% or more, and a relaxation time of 0.4 millisecond or more and 0.8 millisecond or less, as measured by CPMG method at 60°C using pulse NMR. A surface protection film characterized by the above-mentioned.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 점착제층은, 스티렌계 엘라스토머를 함유하는 것을 특징으로 하는 표면 보호 필름.
The method of claim 1 or 2,
A surface protection film characterized in that the adhesive layer contains a styrene-based elastomer.
제 3 항에 있어서,
상기 스티렌계 엘라스토머는, 일반식 A-B 로 나타내는 구조를 갖는 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (1) 과, 일반식 A-B-A 또는 일반식 (A-B)nC 로 나타내는 구조를 갖는 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (2) 를 함유하는 스티렌계 엘라스토머 (I) 이고,
상기 스티렌계 엘라스토머 (I) 100 중량% 에서 차지하는 상기 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (1) 의 함유량은, 15 중량% 이상, 50 중량% 이하이고,
상기 스티렌계 엘라스토머 (I) 100 중량% 에서 차지하는 상기 스티렌 블록 공중합체 또는 그 수소 첨가물 (2) 의 함유량은, 50 중량% 이상, 85 중량% 이하인 것을 특징으로 하는 표면 보호 필름.
A : 방향족 알케닐 중합체 블록
B : 공액 디엔 중합체 블록
C : 커플링제에서 유래하는 성분
n : 2 이상의 정수
According to claim 3,
The styrene-based elastomer includes a styrene block copolymer having a structure represented by the general formula AB or a hydrogenated product thereof (1), and a styrene block copolymer having a structure represented by the general formula ABA or general formula (AB) n C or a hydrogenated product thereof. It is a styrene-based elastomer (I) containing additive (2),
The content of the styrene block copolymer or its hydrogenated product (1) in 100% by weight of the styrene-based elastomer (I) is 15% by weight or more and 50% by weight or less,
A surface protection film, wherein the content of the styrene block copolymer or its hydrogenated product (2) relative to 100 weight% of the styrene-based elastomer (I) is 50% by weight or more and 85% by weight or less.
A: Aromatic alkenyl polymer block
B: Conjugated diene polymer block
C: Component derived from coupling agent
n: integer greater than or equal to 2
제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,
상기 점착제층은, 추가로, 점착 부여 수지를 함유하고, 상기 점착 부여 수지의 함유량은, 상기 스티렌계 엘라스토머 100 중량부에 대하여 12 중량부 이상, 45 중량부 이하인 것을 특징으로 하는 표면 보호 필름.
According to claim 3 or 4,
The adhesive layer further contains a tackifying resin, and the content of the tackifying resin is 12 parts by weight or more and 45 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the styrene-based elastomer.
제 4 항에 있어서,
상기 스티렌계 엘라스토머 (I) 에 있어서 n 이 4 인 것을 특징으로 하는 표면 보호 필름.
According to claim 4,
A surface protection film characterized in that n is 4 in the styrene-based elastomer (I).
제 1 항, 제 2 항, 제 3 항, 제 4 항, 제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,
상기 점착제층은, 펄스 NMR 을 사용하여 60 ℃ 에서 CPMG 법으로 측정하여 얻어진 L 성분의 성분 비율이 6.5 % 이하, 완화 시간이 30 밀리초 이상, 70 밀리초 이하인 것을 특징으로 하는 표면 보호 필름.
The method of claim 1, 2, 3, 4, 5 or 6,
The pressure-sensitive adhesive layer is measured by CPMG method at 60°C using pulse NMR, and the component ratio of the L component is 6.5% or less, and the relaxation time is 30 milliseconds or more and 70 milliseconds or less. A surface protection film.
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