KR20240007086A - Light irradiation device, light irradiation method, and component manufacturing method - Google Patents

Light irradiation device, light irradiation method, and component manufacturing method Download PDF

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KR20240007086A KR1020230087656A KR20230087656A KR20240007086A KR 20240007086 A KR20240007086 A KR 20240007086A KR 1020230087656 A KR1020230087656 A KR 1020230087656A KR 20230087656 A KR20230087656 A KR 20230087656A KR 20240007086 A KR20240007086 A KR 20240007086A
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가즈마사 이시이
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우시오덴키 가부시키가이샤
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Abstract

[과제] 대형의 대상물에 대해, 조사광의 적산 광량의 균일성을 향상시키는 것이 가능한 광 조사 장치, 광 조사 방법, 및 부품의 제조 방법을 제공하는 것이다.
[해결 수단] 본 광 조사 장치는, 제1의 방향을 따라 반송되는 대상물의 조사 대상 영역에 대해, 복수의 조사 영역으로 나누어, 각각의 조도가 같아지도록 조사한다. 복수의 조사 영역은, 조사 대상 영역의 제1의 방향에 직교하는 제2의 방향을 따른 각 위치에서, 복수의 조사 영역을 통과하는 거리의 합계가 같아지도록 설정된다. 또, 복수의 조사 영역 각각은, 적어도 1개의 다른 조사 영역과, 제1의 방향에 있어서의 상이한 위치에서, 제2의 방향에 있어서 서로 오버랩하는 오버랩 영역이 발생하도록 설정된다. 또한, 복수의 조사 영역은, 오버랩 영역들이, 제2의 방향에 있어서 같은 방향으로 진행된 경우에, 제1의 방향에 있어서의 사이즈의 증감이 반대의 관계가 되도록 설정된다.
[Problem] To provide a light irradiation device, a light irradiation method, and a component manufacturing method that can improve the uniformity of the accumulated amount of irradiated light for a large object.
[Solution] The present light irradiation device divides the irradiation target area of an object conveyed along the first direction into a plurality of irradiation areas and irradiates each so that the illuminance intensity is the same. The plurality of irradiation areas are set so that the sum of the distances passing through the plurality of irradiation areas is equal at each position along the second direction orthogonal to the first direction of the irradiation target area. Additionally, each of the plurality of irradiation areas is set so that at least one other irradiation area and an overlap area that overlap each other in the second direction are generated at different positions in the first direction. Additionally, the plurality of irradiation areas are set so that when the overlap areas progress in the same direction in the second direction, the increase or decrease in size in the first direction has an inverse relationship.

Description

광 조사 장치, 광 조사 방법, 및 부품의 제조 방법{LIGHT IRRADIATION DEVICE, LIGHT IRRADIATION METHOD, AND COMPONENT MANUFACTURING METHOD}Light irradiation device, light irradiation method, and manufacturing method of parts {LIGHT IRRADIATION DEVICE, LIGHT IRRADIATION METHOD, AND COMPONENT MANUFACTURING METHOD}

본 발명은, 광 조사 장치, 광 조사 방법, 및 부품의 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a light irradiation device, a light irradiation method, and a manufacturing method of a part.

최근, 액정 패널의 배향막이나, 시야각 보상 필름의 배향층 등의 배향 처리에 관하여, 배향막에 소정의 파장의 편광 광을 조사함으로써 배향을 행하는, 광배향으로 불리는 기술이 채용되고 있다. 이하, 광에 의해 배향을 행하는 배향막이나 배향층을 형성한 필름인 것을 총칭하여 광 배향막이라고 부른다. Recently, regarding the alignment treatment of the alignment layer of a liquid crystal panel, the alignment layer of a viewing angle compensation film, etc., a technique called photo-alignment has been adopted in which alignment is performed by irradiating polarized light of a predetermined wavelength to the alignment layer. Hereinafter, an alignment film that performs alignment by light or a film on which an alignment layer is formed is collectively referred to as a photo-alignment film.

광 배향막은, 액정 패널의 대형화와 함께 대형화하고 있으며, 그와 함께 광 배향막에 편광 광을 조사하는 편광 광 조사 장치도 대형화하고 있다. The photo-alignment film is becoming larger along with the size of the liquid crystal panel, and along with it, the polarization light irradiation device that irradiates the photo-alignment film with polarized light is also becoming larger.

광 배향막에 있어서, 예를 들면 시야각 보상 필름은, 띠 형상이며 장척인 워크이며, 배향 처리 후, 원하는 길이로 절단하여 사용한다. 최근에는, 패널의 크기에 맞추어 커져, 폭 1500mm 이상인 것도 있다. In the photo-alignment film, for example, the viewing angle compensation film is a strip-shaped, long workpiece, and is used by cutting it to a desired length after alignment treatment. Recently, it has grown to match the size of the panel, and some have a width of 1500 mm or more.

이와 같은 대형의 광 배향막에 대해 광배향을 행하기 위해, 배향막의 폭에 맞춘 선 형상의 광원(봉형 램프)을 사용한 장치나, 배향막의 폭에 맞춰 조사 헤드를 다연화(多連化)한 장치가 제안되고 있다. To perform photo-alignment on such a large photo-alignment film, a device using a linear light source (rod-shaped lamp) tailored to the width of the alignment film, or a device using multiple irradiation heads to match the width of the alignment film. is being proposed.

특허 문헌 1에는, 대형의 광 배향막에 대해 균일한 에너지 분포로 편광 광을 조사하는 것이 가능한 광배향용 편광 광 조사 장치에 대해서 개시되어 있다. Patent Document 1 discloses a polarized light irradiation device for photo-alignment that can irradiate polarized light with uniform energy distribution to a large photo-alignment film.

일본 특허공개 2011-215639호 공보Japanese Patent Publication No. 2011-215639

이와 같은 대형의 광 배향막에 대한 편광 광의 조사나, 대형의 기판으로의 노광 등에 있어서, 조사광의 적산 광량의 균일성을 향상시키는 것이 가능한 기술이 요구되고 있다. In such irradiation of polarized light to a large photo-alignment film or exposure to a large substrate, there is a need for a technology that can improve the uniformity of the integrated amount of irradiation light.

이상과 같은 사정을 감안하여, 본 발명의 목적은, 대형의 대상물에 대해, 조사광의 적산 광량의 균일성을 향상시키는 것이 가능한 광 조사 장치, 광 조사 방법, 및 부품의 제조 방법을 제공하는 것에 있다. In view of the above circumstances, the purpose of the present invention is to provide a light irradiation device, a light irradiation method, and a component manufacturing method capable of improving the uniformity of the integrated amount of irradiated light for a large object. .

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 일 형태에 따른 광 조사 장치는, 제1의 방향을 따라 반송되는 대상물에 광을 조사하는 광 조사 장치로서, 광원부와, 조사부를 구비한다. In order to achieve the above object, a light irradiation device according to one embodiment of the present invention is a light irradiation device that irradiates light to an object conveyed along a first direction, and includes a light source unit and an irradiation unit.

상기 조사부는, 상기 광원부로부터 출사되는 광을, 상기 대상물의 조사 대상 영역에 대해, 복수의 조사 영역으로 나누어, 상기 복수의 조사 영역 각각의 조도가 같아지도록 조사한다. The irradiation unit divides the light emitted from the light source unit into a plurality of irradiation areas with respect to the irradiation target area of the object and irradiates the light so that the illuminance of each of the plurality of irradiation areas is the same.

상기 복수의 조사 영역은, 상기 조사 대상 영역의 상기 제1의 방향에 직교하는 제2의 방향을 따른 각 위치에서, 상기 복수의 조사 영역을 통과하는 거리의 합계가 같아지도록 설정된다. The plurality of irradiation areas are set so that the sum of the distances passing through the plurality of irradiation areas is equal at each position along the second direction orthogonal to the first direction of the irradiation target area.

또, 상기 복수의 조사 영역 중 임의의 조사 영역을 제1의 조사 영역으로 하면, 상기 제1의 조사 영역은, 상기 복수의 조사 영역 중 적어도 1개의 다른 조사 영역과의 사이에서, 상기 제1의 방향에 있어서의 상이한 위치에서, 상기 제2의 방향에 있어서 서로 오버랩하는 오버랩 영역이 발생하도록 설정된다. In addition, if any radiation area among the plurality of radiation areas is taken as a first radiation area, the first radiation area is between at least one other radiation area among the plurality of radiation areas, and the first radiation area is the first radiation area. It is set so that at different positions in the direction, overlap areas that overlap each other in the second direction are generated.

또, 상기 제1의 조사 영역에 대해 상기 오버랩 영역이 발생하는 상기 다른 조사 영역을 제2의 조사 영역으로 하면, 상기 제1의 조사 영역의 상기 오버랩 영역인 제1의 오버랩 영역은, 상기 제2의 방향에 있어서 어느 한쪽의 방향으로 진행됨에 따라, 상기 제1의 방향에 있어서의 사이즈가 증가하도록 구성되고, 상기 제2의 조사 영역의 상기 오버랩 영역인 제2의 오버랩 영역은, 상기 제2의 방향에 있어서 같은 방향으로 진행됨에 따라, 상기 제1의 방향에 있어서의 사이즈가 감소하도록 구성된다. In addition, if the other irradiation area where the overlap area occurs with respect to the first irradiation area is taken as a second irradiation area, the first overlap area, which is the overlap area of the first irradiation area, is the second irradiation area. is configured to increase in size in the first direction as it progresses in either direction, and the second overlap area, which is the overlap area of the second irradiation area, is the second overlap area. As the direction progresses in the same direction, the size in the first direction decreases.

이 광 조사 장치에서는, 조사 대상 영역의 제2의 방향을 따른 각 위치에서, 복수의 조사 영역을 통과하는 거리의 합계가 같아지도록 구성된다. 이에 따라, 조사 대상 영역의 제2의 방향을 따른 각 위치에서, 적산 광량을 균일하게 하는 것이 가능해진다. This light irradiation device is configured so that the total distance passing through the plurality of irradiation areas is equal at each position along the second direction of the irradiation target area. Accordingly, it becomes possible to make the accumulated light amount uniform at each position along the second direction of the irradiation target area.

또, 각 조사 영역은, 다른 조사 영역과의 사이에서 오버랩 영역이 발생하도록 설정된다. 서로의 오버랩 영역은, 제2의 방향에 있어서 같은 방향으로 진행된 경우에, 제1의 방향에 있어서의 사이즈의 증감이 반대의 관계가 되도록 설정된다. 이에 따라, 조사 영역의 위치가 제2의 방향에 있어서 어긋난 경우에도, 제2의 방향을 따른 각 위치에 있어서의 적산 광량에 대한 영향을 충분히 억제하는 것이 가능해진다. Additionally, each irradiation area is set so that an overlap area occurs between other irradiation areas. The overlap areas are set so that when the areas progress in the same direction in the second direction, the increase or decrease in size in the first direction has an opposite relationship. Accordingly, even when the position of the irradiation area is shifted in the second direction, it is possible to sufficiently suppress the influence on the accumulated light quantity at each position along the second direction.

이와 같이 본 광 조사 장치에서는, 대형의 대상물에 대해, 조사광의 적산 광량의 균일성을 향상시키는 것이 가능해진다. In this way, in this light irradiation device, it is possible to improve the uniformity of the accumulated amount of irradiated light for a large object.

상기 복수의 조사 영역은, 상기 제2의 방향을 따라 늘어선 2 이상의 조사 영역으로 이루어지는 조사 영역군이, 상기 제1의 방향을 따라 다단으로 배치되도록 설정되어도 된다. The plurality of irradiation areas may be set so that a irradiation area group consisting of two or more irradiation areas lined up along the second direction is arranged in multiple stages along the first direction.

상기 복수의 조사 영역은, 상기 조사 영역군이 2단으로 배치되도록 설정되어도 된다. The plurality of irradiation areas may be set so that the irradiation area group is arranged in two tiers.

상기 복수의 조사 영역은, 서로 같은 형상을 가져도 된다. The plurality of irradiation areas may have the same shape.

상기 복수의 조사 영역 각각의 형상은, 2개의 대각선 방향이 상기 제1의 방향 및 상기 제2의 방향을 따르도록 설정된 마름모꼴이어도 된다. The shape of each of the plurality of irradiation areas may be a diamond shape in which two diagonal directions are set along the first direction and the second direction.

상기 복수의 조사 영역 각각을, 상기 제1의 방향에 평행한 대각선에 의해, 상기 제2의 방향에 있어서의 제1 방향측의 제1의 분할 영역과, 상기 제2의 방향에 있어서의 상기 제1 방향과는 반대의 제2 방향측의 제2의 분할 영역으로 분할한 경우, 상기 복수의 조사 영역 각각은, 상기 제1의 분할 영역 또는 상기 제2의 분할 영역 중 적어도 한쪽이, 상기 오버랩 영역이 되도록 설정되어도 된다. Each of the plurality of irradiation areas is divided into a first divided area on the first direction side in the second direction by a diagonal line parallel to the first direction, and the first divided area in the second direction. When divided into second divided areas in the second direction opposite to the first direction, each of the plurality of radiation areas has at least one of the first divided area and the second divided area being the overlap area. It may be set to this.

상기 복수의 조사 영역 각각의 형상은, 상기 제1의 방향을 따라 서로 대향하며, 상기 제2의 방향에 평행이 되는 1쌍의 대변을 포함하는 육각형이어도 된다. The shape of each of the plurality of irradiated areas may be a hexagon including a pair of opposite sides that face each other along the first direction and are parallel to the second direction.

상기 복수의 조사 영역 각각을, 상기 1쌍의 대변 사이의 중앙 영역과, 상기 중앙 영역에 대해 상기 제2의 방향에 있어서의 제1 방향측에 인접하는 제1의 분할 영역과, 상기 중앙 영역에 대해 상기 제2의 방향에 있어서의 상기 제1 방향과는 반대의 제2 방향측에 인접하는 제2의 분할 영역으로 분할한 경우, 상기 복수의 조사 영역 각각은, 상기 제1의 분할 영역 또는 상기 제2의 분할 영역 중 적어도 한쪽이, 상기 오버랩 영역이 되도록 설정되어도 된다. Each of the plurality of irradiated areas is divided into a central area between the pair of opposite sides, a first divided area adjacent to the first direction in the second direction with respect to the central area, and the central area. In the case where the second direction is divided into second divided areas adjacent to the second direction opposite to the first direction, each of the plurality of irradiated areas is the first divided area or the At least one of the second divided areas may be set to be the overlap area.

상기 복수의 조사 영역은, 상기 제1의 조사 영역의 상기 제1의 오버랩 영역이 상기 제1의 분할 영역인 경우는, 상기 제2의 조사 영역의 상기 제2의 오버랩 영역은 상기 제2의 분할 영역이 되도록 설정되고, 상기 제1의 조사 영역의 상기 제1의 오버랩 영역이 상기 제2의 분할 영역인 경우는, 상기 제2의 조사 영역의 상기 제2의 오버랩 영역은 상기 제1의 분할 영역이 되도록 설정되어도 된다. The plurality of irradiation areas may be, when the first overlap area of the first irradiation area is the first division area, the second overlap area of the second irradiation area is the second division area. area, and when the first overlap area of the first irradiation area is the second divided area, the second overlap area of the second irradiation area is the first divided area. It may be set to this.

상기 조사부는, 상기 복수의 조사 영역에 대응하여 배치되고, 상기 복수의 조사 영역 각각의 조도 분포를 균일화하는 복수의 인터그레이터 렌즈를 가져도 된다. 이 경우, 상기 복수의 인터그레이터 렌즈 각각은, 출사면의 형상이 상기 조사 영역과 같은 형상이 되는 복수의 렌즈를 포함해도 된다. The irradiation unit may have a plurality of integrator lenses arranged corresponding to the plurality of irradiation areas and uniformizing the illuminance distribution in each of the plurality of irradiation areas. In this case, each of the plurality of integrator lenses may include a plurality of lenses whose emission surfaces have the same shape as the irradiation area.

상기 조사부는, 상기 복수의 조사 영역에 대응하여 배치되고, 상기 복수의 조사 영역 각각의 조도 분포를 균일화하는 복수의 로드 렌즈를 가져도 된다. 이 경우, 상기 복수의 로드 렌즈 각각은, 단면의 형상이 상기 조사 영역과 같은 형상이어도 된다. The irradiation unit may have a plurality of rod lenses that are arranged corresponding to the plurality of irradiation areas and uniformize the illuminance distribution in each of the plurality of irradiation areas. In this case, each of the plurality of rod lenses may have a cross-sectional shape identical to that of the irradiation area.

상기 조사부는, 상기 복수의 조사 영역에 대응하여 배치되고, 상기 조사 영역과 같은 형상의 광 투과 영역을 갖는 1 이상의 차광판을 포함해도 된다. The irradiation unit may include one or more light-shielding plates disposed corresponding to the plurality of irradiation areas and having a light-transmitting area of the same shape as the irradiation areas.

상기 광 조사 장치는, 추가로, 상기 복수의 조사 영역 각각에 대응하여 배치되는 복수의 광 조사 유닛을 구비해도 된다. 이 경우, 상기 광원부는, 상기 복수의 광 조사 유닛에 탑재되는 복수의 광원을 가져도 된다. 또, 상기 조사부는, 상기 복수의 광 조사 유닛에 탑재되며, 상기 광원으로부터 출사된 광을, 대응하는 조사 영역에 조사하는 복수의 광학 부품을 가져도 된다. The light irradiation device may further include a plurality of light irradiation units arranged corresponding to each of the plurality of irradiation areas. In this case, the light source unit may have a plurality of light sources mounted on the plurality of light irradiation units. Additionally, the irradiation unit may have a plurality of optical components that are mounted on the plurality of light irradiation units and irradiate the light emitted from the light source to a corresponding irradiation area.

상기 광학 부품은, 출사면의 형상이 상기 조사 영역과 같은 형상이 되는 복수의 렌즈를 포함하는 인터그레이터 렌즈, 단면의 형상이 상기 조사 영역과 같은 형상인 로드 렌즈, 또는 상기 조사 영역과 같은 형상의 광 투과 영역을 갖는 차광판 중 적어도 1개를 포함해도 된다. The optical component may include an integrator lens including a plurality of lenses whose emission surface has the same shape as the irradiation area, a rod lens whose cross-sectional shape has the same shape as the irradiation area, or an integrator lens whose shape is the same as the irradiation area. At least one light blocking plate having a light transmission area may be included.

본 발명의 일 형태에 따른 광 조사 방법은, 제1의 방향을 따라 반송되는 대상물에 광을 조사하는 광 조사 방법으로서, 광원부로부터 광을 출사시키는 공정과, 상기 광원부로부터 출사되는 광을, 상기 대상물의 조사 대상 영역에 대해, 복수의 조사 영역으로 나누어, 상기 복수의 조사 영역 각각의 조도가 같아지도록 조사하는 공정을 포함한다. A light irradiation method according to one embodiment of the present invention is a light irradiation method of irradiating light to an object transported along a first direction, comprising a step of emitting light from a light source unit, and directing the light emitted from the light source unit to the object. A step of dividing the irradiation target area into a plurality of irradiation areas and irradiating the plurality of irradiation areas so that each of the irradiation areas has the same illuminance.

상기 복수의 조사 영역은, 상기 조사 대상 영역의 상기 제1의 방향에 직교하는 제2의 방향을 따른 각 위치에서, 상기 복수의 조사 영역을 통과하는 거리의 합계가 같아지도록 설정된다. The plurality of irradiation areas are set so that the sum of the distances passing through the plurality of irradiation areas is equal at each position along the second direction orthogonal to the first direction of the irradiation target area.

또, 상기 복수의 조사 영역 중 임의의 조사 영역을 제1의 조사 영역으로 하면, 상기 제1의 조사 영역은, 상기 복수의 조사 영역 중 적어도 1개의 다른 조사 영역과의 사이에서, 상기 제1의 방향에 있어서의 상이한 위치에서, 상기 제2의 방향에 있어서 서로 오버랩하는 오버랩 영역이 발생하도록 설정된다. In addition, if any radiation area among the plurality of radiation areas is taken as a first radiation area, the first radiation area is between at least one other radiation area among the plurality of radiation areas, and the first radiation area is the first radiation area. It is set so that overlap areas that overlap each other in the second direction are generated at different positions in the direction.

또, 상기 제1의 조사 영역에 대해 상기 오버랩 영역이 발생하는 상기 다른 조사 영역을 제2의 조사 영역으로 하면, 상기 제1의 조사 영역의 상기 오버랩 영역인 제1의 오버랩 영역은, 상기 제2의 방향에 있어서 어느 한쪽의 방향으로 진행됨에 따라, 상기 제1의 방향에 있어서의 사이즈가 증가하도록 구성되고, 상기 제2의 조사 영역의 상기 오버랩 영역인 제2의 오버랩 영역은, 상기 제2의 방향에 있어서 같은 방향으로 진행됨에 따라, 상기 제1의 방향에 있어서의 사이즈가 감소하도록 구성된다. Additionally, if the other irradiation area in which the overlap area occurs with respect to the first irradiation area is taken as a second irradiation area, the first overlap area, which is the overlap area of the first irradiation area, is the second irradiation area. is configured to increase in size in the first direction as it progresses in either direction, and the second overlap area, which is the overlap area of the second irradiation area, is the second overlap area. As the direction progresses in the same direction, the size in the first direction decreases.

본 발명의 일 형태에 따른 부품의 제조 방법은, 상기 광 조사 장치를 이용하여 부품에 광을 조사하는 공정을 포함한다. A method of manufacturing a part according to one embodiment of the present invention includes a step of irradiating light to the part using the light irradiation device.

이상과 같이, 본 발명에 의하면, 대형의 대상물에 대해, 조사광의 적산 광량의 균일성을 향상시키는 것이 가능해진다. 또한, 여기에 기재된 효과는 반드시 한정되는 것이 아니라, 본 개시 중에 기재된 어느 하나의 효과여도 된다. As described above, according to the present invention, it becomes possible to improve the uniformity of the accumulated amount of irradiated light for a large object. Additionally, the effects described here are not necessarily limited, and may be any of the effects described in the present disclosure.

도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 광 조사 장치의 개요를 설명하기 위한 모식도이다
도 2는 워크의 상방측으로부터 복수의 조사 영역을 본 경우의 모식도이다.
도 3은 도 2에 나타내는 복수의 조사 영역의 확대도이다.
도 4는 적산 광량 균일 구성을 실현하는 복수의 조사 영역의 다른 예를 나타내는 모식도이다.
도 5는 도 4에 나타내는 복수의 조사 영역의 확대도이다.
도 6은 비교예로서 드는 복수의 조사 영역의 구성을 나타내는 모식도이다.
도 7은 도 6에 나타내는 비교예에 있어서, 조사 영역의 어긋남이 발생한 경우를 나타내는 모식도이다.
도 8은 도 2에 나타내는 적산 광량 균일 구성에 있어서, 조사 영역의 어긋남이 발생한 경우를 나타내는 모식도이다.
도 9는 도 4에 나타내는 적산 광량 균일 구성에 있어서, 조사 영역의 어긋남이 발생한 경우를 나타내는 모식도이다.
도 10a는 적산 광량 균일 구성의 다른 예를 나타내는 모식도이다.
도 10b는 적산 광량 균일 구성의 다른 예를 나타내는 모식도이다.
도 10c는 적산 광량 균일 구성의 다른 예를 나타내는 모식도이다.
도 11a는 적산 광량 균일 구성의 다른 예를 나타내는 모식도이다.
도 11b는 적산 광량 균일 구성의 다른 예를 나타내는 모식도이다.
도 11c는 적산 광량 균일 구성의 다른 예를 나타내는 모식도이다.
도 12는 복수의 광 조사 유닛을 이용한 경우의 구성예를 나타내는 모식도이다.
도 13a는 광 조사 유닛의 내부의 구성예를 나타내는 모식도이다.
도 13b는 광 조사 유닛의 내부의 구성예를 나타내는 모식도이다.
도 14는 광 조사 유닛의 다른 구성예를 나타내는 모식도이다.
도 15a는 도 13a 및 도 13b에 나타내는 인터그레이터 렌즈의 출사면의 구성예를 나타내는 모식도이다.
도 15b는 도 13a 및 도 13b에 나타내는 인터그레이터 렌즈의 출사면의 구성예를 나타내는 모식도이다.
도 16a는 광 조사 유닛의 다른 구성예를 나타내는 모식도이다.
도 16b는 광 조사 유닛의 다른 구성예를 나타내는 모식도이다.
도 17a는 차광판의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 17b는 차광판의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 18a는 차광판의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 18b는 차광판의 일례를 나타내는 모식도이다.
1 is a schematic diagram for explaining the outline of a light irradiation device according to an embodiment of the present invention.
Fig. 2 is a schematic diagram of a plurality of irradiation areas viewed from above the workpiece.
FIG. 3 is an enlarged view of a plurality of irradiation areas shown in FIG. 2.
Figure 4 is a schematic diagram showing another example of a plurality of irradiation areas that realize a uniform integrated light amount configuration.
FIG. 5 is an enlarged view of a plurality of irradiation areas shown in FIG. 4.
Figure 6 is a schematic diagram showing the configuration of a plurality of irradiation areas used as a comparative example.
FIG. 7 is a schematic diagram showing a case where deviation of the irradiation area occurs in the comparative example shown in FIG. 6.
FIG. 8 is a schematic diagram showing a case where deviation of the irradiation area occurs in the uniform integrated light amount configuration shown in FIG. 2.
FIG. 9 is a schematic diagram showing a case where deviation of the irradiation area occurs in the uniform integrated light amount configuration shown in FIG. 4.
Figure 10A is a schematic diagram showing another example of a uniform integrated light amount configuration.
Figure 10b is a schematic diagram showing another example of a uniform integrated light quantity configuration.
Figure 10C is a schematic diagram showing another example of a uniform integrated light amount configuration.
Figure 11A is a schematic diagram showing another example of a uniform integrated light quantity configuration.
Figure 11b is a schematic diagram showing another example of a uniform integrated light amount configuration.
Figure 11C is a schematic diagram showing another example of a uniform integrated light quantity configuration.
Fig. 12 is a schematic diagram showing a configuration example when a plurality of light irradiation units are used.
Fig. 13A is a schematic diagram showing an example of the internal configuration of a light irradiation unit.
Fig. 13B is a schematic diagram showing an example of the internal configuration of the light irradiation unit.
Figure 14 is a schematic diagram showing another configuration example of a light irradiation unit.
Fig. 15A is a schematic diagram showing a configuration example of the emission surface of the integrator lens shown in Figs. 13A and 13B.
FIG. 15B is a schematic diagram showing a configuration example of the emission surface of the integrator lens shown in FIGS. 13A and 13B.
Figure 16A is a schematic diagram showing another configuration example of a light irradiation unit.
Figure 16b is a schematic diagram showing another example of the configuration of a light irradiation unit.
Figure 17A is a schematic diagram showing an example of a light blocking plate.
Figure 17b is a schematic diagram showing an example of a light blocking plate.
Figure 18A is a schematic diagram showing an example of a light blocking plate.
Figure 18b is a schematic diagram showing an example of a light blocking plate.

이하, 본 발명에 따른 실시 형태를, 도면을 참조하면서 설명한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment according to this invention will be described with reference to the drawings.

[광 조사 장치의 개요][Overview of light irradiation device]

도 1은, 본 발명의 일 실시 형태에 따른 광 조사 장치의 개요를 설명하기 위한 모식도이다. 1 is a schematic diagram for explaining the outline of a light irradiation device according to an embodiment of the present invention.

광 조사 장치(1)는, 소정의 방향을 따라 반송되는 워크(W)에 광(L)을 조사하도록 구성된다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 본 실시 형태에서는, 장척이며 띠 형상인 워크(W)가, 송출 롤러(2)로부터 인출되어, 권취 롤러(3)에 권취된다. The light irradiation device 1 is configured to irradiate light L to the work W transported along a predetermined direction. As shown in FIG. 1, in this embodiment, the long, strip-shaped work W is pulled out from the delivery roller 2 and wound around the take-up roller 3.

광 조사 장치(1)는, 송출 롤러(2)로부터 권취 롤러(3)를 향하여 반송되는 워크(W)에 대해, 광(L)을 조사한다. 도면 중의 화살표(T)로 나타내는 바와 같이, 워크(W)의 반송 방향은, 송출 롤러(2)로부터 권취 롤러(3)를 향하는 방향이 된다. The light irradiation device 1 irradiates light L to the work W conveyed from the delivery roller 2 toward the take-up roller 3. As indicated by the arrow T in the drawing, the conveyance direction of the work W is from the delivery roller 2 to the take-up roller 3.

여기서, 편의적으로, 도면에 대해 이하의 XYZ 좌표를 규정한다. Here, for convenience, the following XYZ coordinates are defined for the drawing.

X 방향: 워크(W)의 반송 방향(워크(W)가 진행하는 방향을 양의 방향으로 한다) X direction: Transport direction of the work (W) (the direction in which the work (W) moves is the positive direction)

Y 방향: 띠 형상의 워크(W)의 폭 방향 Y direction: Width direction of the strip-shaped workpiece (W)

Z 방향: 워크(W)의 법선 방향 Z direction: Normal direction of work (W)

또, 본 기술의 설명에 있어서, X 방향의 양의 측을 하류측, 음의 측을 상류측으로 한다. 또 Y 방향의 양의 측을 우측, 음의 측을 좌측으로 한다. 또 Z 방향의 양의 측을 상방측, 음의 측을 하방측으로 한다. In addition, in the description of the present technology, the positive side of the X direction is referred to as the downstream side, and the negative side is referred to as the upstream side. Also, the positive side of the Y direction is set to the right, and the negative side is set to the left. Additionally, the positive side of the Z direction is referred to as the upper side, and the negative side is referred to as the downward side.

물론, 본 기술의 적용에 관해서, 광 조사 장치(1)가 사용되는 방향이나, 워크(W)가 반송되는 반송 방향 등이 한정되는 것은 아니다. Of course, with regard to application of the present technology, the direction in which the light irradiation device 1 is used, the conveyance direction in which the work W is conveyed, etc. are not limited.

도 1에 나타내는 바와 같이, 띠 형상의 워크(W)는, 서로 대향하는 좌측 변부(4)와, 우측 변부(5)를 갖는다. As shown in Fig. 1, the strip-shaped work W has a left edge 4 and a right edge 5 that face each other.

본 실시 형태에서는, 광 조사 장치(1)에 의해, 좌측 변부(4)부터 우측 변부(5)에까지의 전체 폭에 걸쳐, 광(L)이 조사된다. 즉, 본 실시 형태에서는, 워크(W)의 전체 폭이, 조사 대상 영역(R)이 된다. 조사 대상 영역(R)은, 유효 조사 영역이라고도 불린다. In this embodiment, light L is irradiated by the light irradiation device 1 over the entire width from the left edge 4 to the right edge 5. That is, in this embodiment, the entire width of the work W becomes the irradiation target area R. The irradiation target area R is also called an effective irradiation area.

예를 들면, 워크(W) 상에 광 배향막이 형성되며, 광 조사 장치(1)에 의해, 소정의 파장의 편광 광이 조사된다. 이와 같은 배향 처리에, 본 기술을 적용하는 것이 가능해진다. For example, a photo-alignment film is formed on the work W, and polarized light of a predetermined wavelength is irradiated by the light irradiation device 1. It becomes possible to apply the present technology to such orientation processing.

광 배향막의 Y 방향의 사이즈(폭)는, 워크(W)와 같아도 되고, 워크(W)보다 작아도 된다. 광 배향막의 폭이 워크(W)의 폭보다 작은 경우에는, 배향막의 전체 폭을 조사 대상 영역(R)(유효 조사 영역)으로 하여, 편광 광이 조사된다. The size (width) of the photo-alignment film in the Y direction may be the same as the work W or may be smaller than the work W. When the width of the photo-alignment film is smaller than the width of the work W, polarized light is irradiated using the entire width of the alignment film as the irradiation target area R (effective irradiation area).

물론, 본 기술의 적용이, 광 배향막에 대해 편광 광을 조사하는 배향 처리에 한정되는 것은 아니다. Of course, application of the present technology is not limited to alignment treatment by irradiating polarized light to a photo-alignment film.

도 1에 나타내는 바와 같이, 광 조사 장치(1)는, 워크(W)의 조사 대상 영역(R)에 대해, 복수의 조사 영역(6)으로 나누어, 광(L)을 조사한다. 또 광 조사 장치(1)는, 복수의 조사 영역(6) 각각의 조도가 같아지도록, 광(L)을 조사한다. As shown in FIG. 1 , the light irradiation device 1 divides the irradiation target area R of the work W into a plurality of irradiation areas 6 and irradiates light L thereon. Additionally, the light irradiation device 1 irradiates light L so that the illuminance intensity of each of the plurality of irradiation areas 6 is the same.

도 1에 모식적으로 도시되어 있는 바와 같이, 광 조사 장치(1)는, 광원부(7)와, 조사부(8)를 갖는다. As schematically shown in FIG. 1, the light irradiation device 1 has a light source unit 7 and an irradiation unit 8.

조사부(8)에 의해, 광원부(7)로부터 출사되는 광(L)이, 워크(W)의 조사 대상 영역(R)에 대해, 복수의 조사 영역(6)으로 나누어, 복수의 조사 영역(6) 각각의 조도가 같아지도록 조사된다. By the irradiation unit 8, the light L emitted from the light source unit 7 is divided into a plurality of irradiation areas 6 with respect to the irradiation target area R of the work W, thereby forming a plurality of irradiation areas 6. ) Each illuminance is irradiated to be the same.

본 개시에서는, 우선 복수의 조사 영역(6)의 상세에 대해서 설명한다. 그리고, 그 후에, 복수의 조사 영역(6)에 광(L)을 조사하기 위한, 광원부(7) 및 조사부(8)의 구체적인 구성예에 대해서 설명한다. In this disclosure, details of the plurality of irradiation areas 6 will first be described. Then, a specific configuration example of the light source unit 7 and the irradiation unit 8 for irradiating the light L to the plurality of irradiation areas 6 will be described.

또한, 도 1에 나타내는 예에 있어서, 반송 방향이 되는 X 방향이, 제1의 방향의 일 실시 형태가 된다. 또, Y 방향이, 제1의 방향에 직교하는 제2의 방향의 일 실시 형태가 된다. In addition, in the example shown in FIG. 1, the X direction serving as the conveyance direction is one embodiment of the first direction. Additionally, the Y direction is an embodiment of the second direction orthogonal to the first direction.

또, 워크(W)가, 대상물의 일 실시 형태가 된다. 또한, 워크(W)에 광 배향막이 형성되어 배향 처리가 실행되는 경우에는, 광 배향막이 대상물의 일 실시 형태가 될 수 있다. Additionally, the work W serves as an embodiment of the object. Additionally, when a photo-alignment film is formed on the work W and alignment processing is performed, the photo-alignment film may serve as an embodiment of the object.

워크(W)는 한정되지 않고, 프린트 기판, 액정 패널용의 유리 기판 등, 임의의 디바이스를 워크(W)로 하여, 본 기술을 적용하는 것이 가능하다. The work W is not limited, and the present technology can be applied to any device, such as a printed circuit board or a glass substrate for a liquid crystal panel, as the work W.

[복수의 조사 영역에 관한 적산 광량 균일 구성][Configuration of uniform integrated light intensity for multiple irradiation areas]

도 2는, 워크(W)의 상방측으로부터 복수의 조사 영역(6)을 본 경우의 모식도이다. FIG. 2 is a schematic diagram when the plurality of irradiation areas 6 are viewed from the upper side of the work W.

또한 도 2에서는, 도 1과 비교해, 워크(W)의 전체 폭이 되는 조사 대상 영역(R)의 사이즈가 작게 도시되어 있다. 또, 복수의 조사 영역(6)의 수도 적게 도시되어 있다. Additionally, in FIG. 2, compared to FIG. 1, the size of the irradiation target area R, which is the entire width of the work W, is shown to be small. Additionally, the number of plural irradiation areas 6 is shown to be small.

이하에 설명하는 복수의 조사 영역(6)의 구성을, 좌우 방향(Y 방향)으로 확장함으로써, 조사 대상 영역(R)의 폭이 보다 큰 형태에 대응하는 것이 가능하다. By expanding the configuration of the plurality of irradiation areas 6 described below in the left and right direction (Y direction), it is possible to correspond to a form in which the width of the irradiation target area R is larger.

본 발명자는, 복수의 조사 영역(6)의 구성에 관해서, X 방향을 따라 반송되는 워크(W)의 조사 대상 영역(R)에 대해, 조사되는 광(L)의 적산 광량(에너지 분포)을 균일하게 하기 위한 새로운 구성을 찾아냈다. Regarding the configuration of the plurality of irradiation areas 6, the present inventor has calculated the accumulated light amount (energy distribution) of the irradiated light L for the irradiation target area R of the work W transported along the X direction. A new configuration was found to achieve uniformity.

이하, 발명자에 의해 새롭게 고안된 구성을 적산 광량 균일 구성이라고 기재하고, 상세하게 설명한다. Hereinafter, the newly devised configuration by the inventor will be described as the integrated light quantity uniform configuration and explained in detail.

(특징 A: 통과 거리의 합계 균일) (Feature A: Uniform sum of passing distance)

도 2에 나타내는 바와 같이, 복수의 조사 영역(6)은, 조사 대상 영역(R)의 Y 방향(폭 방향)을 따른 각 위치에서, 복수의 조사 영역(6)을 통과하는 거리의 합계가 같아지도록 설정된다. As shown in FIG. 2, the plurality of irradiation areas 6 have the same total distance passing through the plurality of irradiation areas 6 at each position along the Y direction (width direction) of the irradiation target area R. It is set to be

즉, 워크(W)가 반송 방향(X 방향)을 따라 반송될 때에, 복수의 조사 영역(6)을 통과하는 거리의 합계가, 조사 대상 영역(R)의 폭 방향에 있어서의 어느 위치에 있어서도 같아지도록, 복수의 조사 영역(6)이 설정된다. That is, when the work W is conveyed along the conveyance direction (X direction), the total distance passing through the plurality of irradiation areas 6 is the same at any position in the width direction of the irradiation target area R. A plurality of irradiation areas 6 are set so that they are equal.

본 실시 형태에서는, 복수의 조사 영역(6) 각각의 조도가 같아지도록, 광(L)이 조사된다. 따라서, 조사 대상 영역(R)의 각 위치에 있어서의 조사 영역(6)을 통과하는 거리는, 당해 위치에 있어서의 적산 광량에 대응하는 파라미터가 된다. In this embodiment, light L is irradiated so that the illuminance of each of the plurality of irradiation areas 6 is the same. Therefore, the distance passing through the irradiation area 6 at each position of the irradiation target area R becomes a parameter corresponding to the accumulated light amount at that position.

조사 영역(6)을 통과하는 거리가 커질수록, 당해 위치에 조사되는 광(L)의 적산 광량은 커진다. 조사 영역(6)을 통과하는 거리가 작아질수록, 당해 위치에 조사되는 광(L)의 적산 광량은 작아진다. As the distance passing through the irradiation area 6 increases, the accumulated amount of light L irradiated to the position increases. As the distance passing through the irradiation area 6 decreases, the accumulated amount of light L irradiated to the position decreases.

도 2에는, 워크(W)의 폭 방향을 따른 각 위치의 적산 광량을 나타내는 그래프가 도시되어 있다. FIG. 2 shows a graph showing the accumulated amount of light at each position along the width direction of the work W.

워크(W)의 폭 방향을 따른 각 위치에서, 복수의 조사 영역(6)을 통과하는 거리의 합계가 동일해진다. 따라서, 도 2에 나타내는 바와 같이, 워크(W)의 폭 방향을 따른 각 위치에서, 조사되는 광(L)의 적산 광량은 균일하게 되어 있다. At each position along the width direction of the work W, the total distance passing through the plurality of irradiation areas 6 becomes the same. Therefore, as shown in FIG. 2, the accumulated amount of light L irradiated at each position along the width direction of the work W is uniform.

도 2에 나타내는 예에서는, 복수의 조사 영역(6)은, 서로 같은 형상이 되도록 설정된다. 구체적으로는, 복수의 조사 영역(6) 각각의 형상은, 2개의 대각선 방향이 반송 방향(X 방향) 및 폭 방향(Y 방향)을 따르도록 설정된 정사각형이다. In the example shown in FIG. 2, the plurality of irradiation areas 6 are set to have the same shape. Specifically, the shape of each of the plurality of irradiation areas 6 is a square with two diagonal directions set along the conveyance direction (X direction) and the width direction (Y direction).

도 2에 나타내는 바와 같이, 복수의 조사 영역(6)은, 폭 방향(Y 방향)을 따라 늘어선 2 이상의 조사 영역(6)으로 이루어지는 조사 영역군(9)이, 반송 방향(X 방향)을 따라 다단으로 배치되도록 설정된다. As shown in FIG. 2, the plurality of irradiation areas 6 is a irradiation area group 9 consisting of two or more irradiation areas 6 lined up along the width direction (Y direction) along the conveyance direction (X direction). It is set to be arranged in multiple stages.

본 실시 형태에서는, 폭 방향을 따라 6개의 조사 영역(6)이 늘어서도록 배치되며, 제1의 조사 영역군(9a)이 구성되어 있다. 또, 그 하류측에, 폭 방향을 따라 5개의 조사 영역(6)이 늘어서도록 배치되며, 제2의 조사 영역군(9b)이 구성되어 있다. In this embodiment, six irradiation areas 6 are arranged in a row along the width direction, forming a first irradiation area group 9a. Moreover, on the downstream side, five irradiation areas 6 are arranged in a row along the width direction, forming a second irradiation area group 9b.

즉 본 실시 형태에서는, 제1의 조사 영역군(9a) 및 제2의 조사 영역군(9b)이 반송 방향(X 방향)을 따라 2단으로 배치된다. That is, in this embodiment, the first irradiation area group 9a and the second irradiation area group 9b are arranged in two stages along the conveyance direction (X direction).

제1의 조사 영역군(9a) 및 제2의 조사 영역군(9b)은, 적산 광량 균일 구성의 특징 A를 실현하기 위해, 서로 위치 관계가 설정되어 있다. The first irradiation area group 9a and the second irradiation area group 9b are set in a positional relationship with each other in order to realize characteristic A of the integrated light quantity uniform configuration.

도 2에 나타내는 바와 같이, 제1의 조사 영역군(9a)은, 최좌단의 조사 영역(6)의 반송 방향(X 방향)으로 연장되는 대각선이, 워크(W)의 좌측 변부(4) 상에 배치되도록 설정된다. 또 제1의 조사 영역군(9a)은, 최우단의 조사 영역(6)의 반송 방향으로 연장되는 대각선이, 워크(W)의 우측 변부(5) 상에 배치되도록 설정된다. As shown in FIG. 2, the first irradiation area group 9a has a diagonal line extending in the conveyance direction (X direction) of the leftmost irradiation area 6 on the left edge 4 of the work W. It is set to be placed in . Additionally, the first irradiation area group 9a is set so that a diagonal line extending in the conveyance direction of the rightmost irradiation area 6 is disposed on the right edge 5 of the work W.

또 도 2에 나타내는 바와 같이, 제1의 조사 영역군(9a)으로서 늘어선 조사 영역(6) 간의 인접 위치에, 제2의 조사 영역군(9b)으로서 늘어선 조사 영역(6)의 반송 방향(X 방향)으로 연장되는 대각선이 맞춰진다. Also, as shown in FIG. 2, the conveyance direction ( diagonal lines extending in the same direction are aligned.

즉, 폭 방향(Y 방향)에 있어서, 제1의 조사 영역군(9a)에 대해, 정사각형의 대각선의 절반의 크기분만큼 좌우로 시프트하도록, 제2의 조사 영역군(9b)이 배치된다. That is, in the width direction (Y direction), the second irradiation area group 9b is arranged to shift left and right by an amount equal to half the diagonal of the square with respect to the first irradiation area group 9a.

이것은, 제2의 조사 영역군(9b)으로서 늘어선 조사 영역(6) 간의 인접 위치에, 제1의 조사 영역군(9a)으로서 늘어선 조사 영역(6)의 반송 방향(X 방향)으로 연장되는 대각선이 맞춰진다고 할 수 있다. This is a diagonal line extending in the conveyance direction (X direction) of the irradiation areas 6 arranged as the first irradiation area group 9a at adjacent positions between the irradiation areas 6 arranged as the second irradiation area group 9b. It can be said that this matches.

도 2에 나타내는 위치 P1은, 제1의 조사 영역군(9a)의 좌측에서 2번째의 조사 영역(6)의, 반송 방향(X 방향)으로 연장되는 대각선의 위치이다. 제2의 조사 영역군(9b)은, 이 위치 P1이, 서로 인접하는 조사 영역(6)의 인접 위치가 되도록 설정된다. The position P1 shown in FIG. 2 is a diagonal position extending in the conveyance direction (X direction) of the second irradiation area 6 from the left of the first irradiation area group 9a. The second irradiation area group 9b is set so that this position P1 is an adjacent position of the irradiation areas 6 that are adjacent to each other.

도 2에 나타내는 위치 P2는, 제2의 조사 영역군(9b)의 좌측에서 2번째의 조사 영역(6)의, 반송 방향(X 방향)으로 연장되는 대각선의 위치이다. 제1의 조사 영역군(9a)은, 이 위치 P2가, 서로 인접하는 조사 영역(6)의 인접 위치가 되도록 설정된다. The position P2 shown in FIG. 2 is a diagonal position extending in the conveyance direction (X direction) of the second irradiation area 6 from the left of the second irradiation area group 9b. The first irradiation area group 9a is set so that this position P2 is an adjacent position of the irradiation areas 6 that are adjacent to each other.

도 2에 나타내는 위치 P3 및 P4는, 조사 영역(6)의 반송 방향(X 방향)으로 연장되는 대각선의 위치, 및 서로 인접하는 조사 영역(6)의 인접 위치 중 어느 쪽에서도 벗어난 위치이다. The positions P3 and P4 shown in FIG. 2 are positions that deviate from either the diagonal positions extending in the conveyance direction (X direction) of the irradiation area 6 and the adjacent positions of the irradiation areas 6 adjacent to each other.

도 2에 나타내는 위치 P1~P4, 및 그 외의 임의의 위치에 있어서, 반송에 의해 조사 영역(6)을 통과하는 거리의 합계는, 정사각형의 대각선의 길이 D1이 된다. 따라서, 조사 대상 영역(R)의 폭 방향(Y 방향)을 따른 각 위치에서, 조사되는 광(L)의 적산 광량은 균일해진다. At positions P1 to P4 shown in FIG. 2 and other arbitrary positions, the total distance passing through the irradiation area 6 by conveyance is the length D1 of the diagonal line of the square. Therefore, the accumulated amount of light L to be irradiated becomes uniform at each position along the width direction (Y direction) of the irradiation target area R.

(특징 B: 오버랩 영역의 구성) (Feature B: Configuration of overlap area)

도 3은, 복수의 조사 영역(6)의 확대도이다. Figure 3 is an enlarged view of a plurality of irradiation areas 6.

도 3을 참조하면서, 본 기술에 따른 적산 광량 균일 구성의 특징 B에 대해서 설명한다. Referring to FIG. 3, feature B of the integrated light amount uniformity configuration according to the present technology will be described.

복수의 조사 영역(6) 각각은, 적어도 1개의 다른 조사 영역(6)과의 사이에서, 오버랩 영역(10)이 발생하도록 설정된다. Each of the plurality of irradiation areas 6 is set so that an overlap area 10 is generated between at least one other irradiation area 6.

즉, 복수의 조사 영역(6) 중 임의의 조사 영역(6)을, 제1의 조사 영역(11)으로 한다. 제1의 조사 영역(11)은, 적어도 1개의 다른 조사 영역(6)과의 사이에서, 오버랩 영역(10)이 발생하도록 설정된다. That is, an arbitrary irradiation area 6 among the plurality of irradiation areas 6 is set as the first irradiation area 11 . The first irradiation area 11 is set so that an overlap area 10 is generated between at least one other irradiation area 6.

또한, 오버랩 영역(10)은, 반송 방향(X 방향)에 있어서의 상이한 위치에서, 폭 방향(Y 방향)에 있어서 서로 오버랩하는 영역이다. 또한, 적산 광량 균일 구성에 있어서, 상이한 조사 영역(6)들이 인접하는 일은 있을 수 있지만, 조사 영역(6)들이 겹치는(중복되는) 일은 없다. Additionally, the overlap areas 10 are areas that overlap each other in the width direction (Y direction) at different positions in the conveyance direction (X direction). Additionally, in the integrated light quantity uniform configuration, different irradiation areas 6 may be adjacent, but the irradiation areas 6 do not overlap (overlap).

복수의 조사 영역(6) 각각에 대해서, 최좌단의 꼭짓점 및 최우단의 꼭짓점 각각으로부터, X 방향으로 연장되는 직선을 상정한다. 이 2개의 직선 사이의 영역 내에, 적어도 1개의 다른 조사 영역(6)의 일부가 포함되도록 배치된다. 그리고 Y 방향에 있어서 서로 오버랩하는 영역이, 오버랩 영역(10)이 된다. For each of the plurality of irradiation areas 6, a straight line extending in the X direction is assumed from each of the leftmost vertex and the rightmost vertex. It is arranged so that a part of at least one other irradiation area 6 is included within the area between these two straight lines. And the areas that overlap each other in the Y direction become the overlap area 10.

복수의 조사 영역(6)으로부터 임의로 선택된 제1의 조사 영역(11)에 대해, 오버랩 영역(10)이 발생하는 다른 조사 영역(6)을 제2의 조사 영역(12)으로 한다. With respect to the first irradiation area 11 arbitrarily selected from the plurality of irradiation areas 6, the other irradiation area 6 in which the overlap area 10 occurs is set as the second irradiation area 12.

도 3에 나타내는 예에 있어서, 제1의 조사 영역군(9)에 포함되는 중앙의 조사 영역(6)이, 제1의 조사 영역(11)으로서 선택된 것으로 한다. In the example shown in FIG. 3 , it is assumed that the central irradiation area 6 included in the first irradiation area group 9 is selected as the first irradiation area 11.

제1의 조사 영역(11)은, 하류측이며 좌측으로 절반 시프트되어 배치되는 조사 영역(6)과의 사이에서, 오버랩 영역(10)이 발생하도록 설정되어 있다. 또, 제1의 조사 영역(11)은, 하류측이며 우측으로 절반 시프트되어 배치되는 조사 영역(6)과의 사이에서도, 오버랩 영역(10)이 발생하도록 설정되어 있다. The first irradiation area 11 is located downstream and is set so that an overlap area 10 is formed between the irradiation area 6, which is arranged half-shifted to the left. In addition, the first irradiation area 11 is set so that an overlap area 10 is generated even between the irradiation area 6 located on the downstream side and shifted halfway to the right.

따라서, 제1의 조사 영역(11)에 대해, 하류측이며 좌측으로 절반 시프트되어 배치되는 조사 영역(6)은, 제2의 조사 영역(12a)이 된다. 또, 제1의 조사 영역(11)에 대해, 하류측이며 우측으로 절반 시프트되어 배치되는 조사 영역(6)도, 제2의 조사 영역(12b)이 된다. Accordingly, the irradiation area 6 located downstream and half shifted to the left with respect to the first irradiation area 11 becomes the second irradiation area 12a. In addition, the irradiation area 6 located downstream and half shifted to the right with respect to the first irradiation area 11 also becomes the second irradiation area 12b.

즉, 제1의 조사 영역(11)은, 2개의 조사 영역(6)과의 사이에서 오버랩 영역(10)이 발생하고 있다. That is, the first irradiation area 11 has an overlap area 10 between the two irradiation areas 6 .

적산 광량 균일 구성에서는, 제1의 조사 영역(11)의 오버랩 영역(10)인 제1의 오버랩 영역은, 폭 방향(Y 방향)에 있어서 어느 한쪽의 방향으로 진행됨에 따라, 반송 방향(X 방향)에 있어서의 사이즈가 증가하도록 구성된다. In the integrated light quantity uniform configuration, the first overlap area, which is the overlap area 10 of the first irradiation area 11, advances in either direction in the width direction (Y direction), and the conveyance direction (X direction) ) is configured to increase the size.

그리고, 제2의 조사 영역(12)의 오버랩 영역(10)인 제2의 오버랩 영역은, 폭 방향(Y 방향)에 있어서 같은 방향으로 진행됨에 따라, 반송 방향(X 방향)에 있어서의 사이즈가 감소하도록 구성된다. And, as the second overlap area, which is the overlap area 10 of the second irradiation area 12, progresses in the same direction in the width direction (Y direction), the size in the conveyance direction (X direction) increases. It is designed to decrease.

도 3에 나타내는 제1의 조사 영역(11)과, 제2의 조사 영역(12a)의 관계를 참조한다. Refer to the relationship between the first irradiation area 11 and the second irradiation area 12a shown in FIG. 3.

도 3에 나타내는 바와 같이, 정사각형으로 이루어지는 조사 영역(6)을, 반송 방향(X 방향)에 평행한 대각선에 의해, 좌측 절반 영역(14a)과, 우측 절반 영역(14b)으로 분할한다. As shown in FIG. 3, the square irradiation area 6 is divided into a left half area 14a and a right half area 14b by a diagonal line parallel to the conveyance direction (X direction).

이 경우, 제1의 조사 영역(11)의 좌측 절반 영역(14a)이, 제1의 오버랩 영역(10a1)이 된다. 제2의 조사 영역(12a)의 우측 절반 영역(14b)이, 제2의 오버랩 영역(10a2)이 된다. In this case, the left half area 14a of the first irradiation area 11 becomes the first overlap area 10a1. The right half area 14b of the second irradiation area 12a becomes the second overlap area 10a2.

제1의 조사 영역(11)의 제1의 오버랩 영역(10a1)은, 폭 방향(Y 방향)에 있어서, 오른쪽 방향으로 진행됨에 따라, 반송 방향(X 방향)에 있어서의 사이즈가 증가하도록 구성된다. The first overlap area 10a1 of the first irradiated area 11 is configured to increase in size in the conveyance direction (X direction) as it progresses to the right in the width direction (Y direction). .

제2의 조사 영역(12a)의 제2의 오버랩 영역(10a2)은, 폭 방향(Y 방향)에 있어서, 같은 방향(오른쪽 방향)으로 진행됨에 따라, 반송 방향(X 방향)에 있어서의 사이즈가 감소하도록 구성된다. As the second overlap area 10a2 of the second irradiated area 12a advances in the same direction (right direction) in the width direction (Y direction), its size in the conveyance direction (X direction) increases. It is designed to decrease.

도 3에 나타내는 제1의 조사 영역(11)과, 제2의 조사 영역(12b)의 관계를 참조한다. Refer to the relationship between the first irradiation area 11 and the second irradiation area 12b shown in FIG. 3.

제1의 조사 영역(11)의 우측 절반 영역(14b)이, 제1의 오버랩 영역(10b1)이 된다. 제2의 조사 영역(12b)의 좌측 절반 영역(14a)이, 제2의 오버랩 영역(10b2)이 된다. The right half area 14b of the first irradiation area 11 becomes the first overlap area 10b1. The left half area 14a of the second irradiation area 12b becomes the second overlap area 10b2.

제1의 조사 영역(11)의 제1의 오버랩 영역(10b1)은, 폭 방향(Y 방향)에 있어서, 왼쪽 방향으로 진행됨에 따라, 반송 방향(X 방향)에 있어서의 사이즈가 증가하도록 구성된다. The first overlap area 10b1 of the first irradiated area 11 is configured to increase in size in the conveyance direction (X direction) as it progresses to the left in the width direction (Y direction). .

제2의 조사 영역(12b)의 제2의 오버랩 영역(10b2)은, 폭 방향(Y 방향)에 있어서, 같은 방향(왼쪽 방향)으로 진행됨에 따라, 반송 방향(X 방향)에 있어서의 사이즈가 감소하도록 구성된다. As the second overlap area 10b2 of the second irradiated area 12b progresses in the same direction (left direction) in the width direction (Y direction), its size in the conveyance direction (X direction) increases. It is designed to decrease.

이와 같이 적산 광량 균일 구성에서는, 각 조사 영역(6)은, 다른 조사 영역(6)과의 사이에서 오버랩 영역(10)이 발생하도록 설정된다. 그리고, 서로의 오버랩 영역(10)은, 폭 방향(Y 방향)에 있어서 같은 방향으로 진행된 경우에, 반송 방향(X 방향)에 있어서의 사이즈의 증감이 반대의 관계가 되도록 설정된다. In this integrated light quantity uniform configuration, each irradiation area 6 is set so that an overlap area 10 is generated between the other irradiation areas 6. And, when the overlap areas 10 advance in the same direction in the width direction (Y direction), the increase or decrease in size in the conveyance direction (X direction) is set to have an opposite relationship.

본 실시 형태에서는, 상기한 적산 광량 균일 구성의 (특징 A: 통과 거리의 합계 균일)을 실현하기 위해, 제1의 오버랩 영역(10a1(10b1))의 반송 방향(X 방향)에 있어서의 사이즈의 증가의 비율과, 제2의 오버랩 영역(10a2(10b2))의 반송 방향(X 방향)에 있어서의 사이즈의 감소의 비율이 서로 같아진다. In this embodiment, in order to realize the above-described integrated light quantity uniformity configuration (Feature A: uniform sum of passing distances), the size of the first overlap area 10a1 (10b1) in the conveyance direction (X direction) The rate of increase and the rate of decrease in size of the second overlap area 10a2 (10b2) in the conveyance direction (X direction) become equal to each other.

도 2 및 도 3에 나타내는 바와 같이, 복수의 조사 영역(6) 각각은, 우측 절반 영역(14b), 또는 좌측 절반 영역(14a) 중 적어도 한쪽이, 오버랩 영역(10)이 되도록 설정된다. As shown in FIGS. 2 and 3 , each of the plurality of irradiated areas 6 is set so that at least one of the right half area 14b or the left half area 14a becomes the overlap area 10.

또, 임의로 선택된 제1의 조사 영역(11)의 제1의 오버랩 영역이 좌측 절반 영역(14a)인 경우는, 서로 오버랩하는 제2의 조사 영역(12)의 제2의 오버랩 영역은, 우측 절반 영역(14b)이 된다. Moreover, when the first overlap area of the arbitrarily selected first irradiation area 11 is the left half area 14a, the second overlap area of the second irradiation areas 12 that overlap each other is the right half area. This becomes area 14b.

임의로 선택된 제1의 조사 영역(11)의 제1의 오버랩 영역이 우측 절반 영역(14b)인 경우는, 서로 오버랩하는 제2의 조사 영역(12)의 제2의 오버랩 영역은, 좌측 절반 영역(14a)이 된다. When the first overlap area of the arbitrarily selected first irradiation area 11 is the right half area 14b, the second overlap area of the second irradiation areas 12 that overlap each other is the left half area ( 14a).

즉, 각 조사 영역(6)은, 좌측 절반 영역(14a)이 다른 조사 영역(6)의 우측 절반 영역(14b)과 오버랩하거나, 또는 우측 절반 영역(14b)이 다른 조사 영역(6)의 좌측 절반 영역(14a)과 오버랩하는, 것 중 적어도 한쪽이 성립되도록 설정된다. That is, the left half area 14a of each irradiation area 6 overlaps the right half area 14b of another irradiation area 6, or the right half area 14b overlaps the left half area 14b of the other irradiation area 6. It is set so that at least one of those overlapping with the half area 14a is established.

도 2에 나타내는 예에서는, 11개의 조사 영역(6) 중, 제1의 조사 영역군(9a)의 최좌단 및 최우단의 2개의 조사 영역(6) 이외에는, 좌측 절반 영역(14a) 및 우측 절반 영역(14b)의 양쪽이 오버랩 영역(10)이 된다. In the example shown in FIG. 2, among the 11 irradiation areas 6, other than the two irradiation areas 6 at the leftmost and rightmost ends of the first irradiation area group 9a, the left half area 14a and the right half Both sides of the area 14b become the overlap area 10.

제1의 조사 영역군(9a)의 최좌단의 조사 영역(6)은, 우측 절반 영역(14b)이, 오버랩 영역(10)이 된다. 제1의 조사 영역군(9a)의 최우단의 조사 영역(6)은, 좌측 절반 영역(14a)이, 오버랩 영역(10)이 된다. As for the leftmost irradiation area 6 of the first irradiation area group 9a, the right half area 14b becomes the overlap area 10. The left half area 14a of the rightmost irradiation area 6 of the first irradiation area group 9a becomes the overlap area 10.

또한, 조사 영역(6)의 좌측 절반 영역(14a) 및 우측 절반 영역(14b)은, 본 기술에 따른 제1의 분할 영역 및 제2의 분할 영역의 일 실시 형태에 상당한다. In addition, the left half area 14a and the right half area 14b of the radiation area 6 correspond to one embodiment of the first divided area and the second divided area according to the present technology.

제1의 분할 영역은, 반송 방향(X 방향)에 평행한 대각선에 의해 분할된 2개의 영역 중의, 폭 방향(Y 방향)에 있어서의 제1 방향측의 영역이다. The first divided area is an area on the first direction side in the width direction (Y direction) among two areas divided by a diagonal line parallel to the conveyance direction (X direction).

제2의 분할 영역은, 반송 방향(X 방향)에 평행한 대각선에 의해 분할된 2개의 영역 중의, 폭 방향(Y 방향)에 있어서의 제2 방향측의 영역이다. The second divided area is an area on the second direction side in the width direction (Y direction) among two areas divided by a diagonal line parallel to the conveyance direction (X direction).

따라서, 제1 방향을 왼쪽 방향, 제2 방향을 오른쪽 방향으로 하면, 좌측 절반 영역(14a)이 제1의 분할 영역에 상당하고, 우측 절반 영역(14b)이 제2의 분할 영역에 상당한다. Therefore, if the first direction is left and the second direction is right, the left half area 14a corresponds to the first divided area, and the right half area 14b corresponds to the second divided area.

한편, 제1 방향을 오른쪽 방향, 제2 방향을 왼쪽 방향으로 하면, 우측 절반 영역(14b)이 제1의 분할 영역에 상당하고, 좌측 절반 영역(14a)이 제2의 분할 영역에 상당한다. On the other hand, if the first direction is to the right and the second direction is to the left, the right half area 14b corresponds to the first divided area, and the left half area 14a corresponds to the second divided area.

어느 쪽에 있어서도, 본 기술을 적용하는 것이 가능하다. In either case, it is possible to apply the present technology.

이와 같이, 적산 광량 균일 구성은, (특징 A: 통과 거리의 합계 균일) 및 (특징 B: 오버랩 영역의 구성)을 갖는다. 이들 특징은, 적산 광량 균일 구성을 실현하기 위한 조건이라고도 할 수 있다. In this way, the integrated light quantity uniform configuration has (Feature A: Total uniformity of passing distance) and (Feature B: Configuration of overlap area). These features can also be said to be conditions for realizing a uniform integrated light quantity configuration.

도 4는, 적산 광량 균일 구성을 실현하는 복수의 조사 영역(6)의 다른 예를 나타내는 모식도이다. FIG. 4 is a schematic diagram showing another example of a plurality of irradiation areas 6 that realize a uniform integrated light amount configuration.

도 5는, 도 4에 나타내는 복수의 조사 영역(6)의 확대도이다. FIG. 5 is an enlarged view of the plurality of irradiation areas 6 shown in FIG. 4.

도 4에 나타내는 예에서는, 복수의 조사 영역(6) 각각의 형상은, 반송 방향(X 방향)을 따라 서로 대향하며, 폭 방향(Y 방향)에 평행이 되는 1쌍의 대변(15a 및 15b)을 포함하는 정육각형이다. In the example shown in FIG. 4, the shape of each of the plurality of irradiated areas 6 has a pair of opposite sides 15a and 15b that face each other along the conveyance direction (X direction) and are parallel to the width direction (Y direction). It is a regular hexagon containing.

도 4에 나타내는 바와 같이, 폭 방향(Y 방향)을 따라 5개의 조사 영역(6)이 늘어서도록 배치되며, 제1의 조사 영역군(9a)이 구성되어 있다. 또, 그 하류측에, 폭 방향(Y 방향)을 따라 4개의 조사 영역(6)이 늘어서도록 배치되며, 제2의 조사 영역군(9b)이 구성되어 있다. As shown in Fig. 4, five irradiation areas 6 are arranged in a row along the width direction (Y direction), forming a first irradiation area group 9a. Moreover, on the downstream side, four irradiation areas 6 are arranged in a row along the width direction (Y direction), forming a second irradiation area group 9b.

도 4에 나타내는 바와 같이, 제1의 조사 영역군(9a)은, 최좌단의 조사 영역(6)의 1쌍의 대변(15a 및 15b)의 좌단이, 워크(W)의 좌측 변부(4) 상에 배치되도록 설정된다. 또 제1의 조사 영역군(9a)은, 최우단의 조사 영역(6)의 1쌍의 대변(15a 및 15b)의 우단이, 워크(W)의 우측 변부(5) 상에 배치되도록 설정된다. As shown in Fig. 4, in the first irradiation area group 9a, the left end of the pair of opposite sides 15a and 15b of the leftmost irradiation area 6 is the left edge 4 of the work W. It is set to be placed on the top. In addition, the first irradiation area group 9a is set so that the right ends of the pair of opposite sides 15a and 15b of the rightmost irradiation area 6 are disposed on the right edge 5 of the work W. .

또 제1의 조사 영역군(9a)은, 정육각형의 1변의 길이 분만큼 간격을 두고, 폭 방향(Y 방향)을 따라 배치된다. 즉, 1변의 길이를 피치로 하여, 폭 방향(Y 방향)을 따라 늘어서도록, 조사 영역(6)이 설정된다. Additionally, the first irradiation area group 9a is arranged along the width direction (Y direction) at intervals equal to the length of one side of a regular hexagon. That is, the irradiation areas 6 are set to line up along the width direction (Y direction) with the length of one side being the pitch.

도 4에 나타내는 바와 같이, 제2의 조사 영역군(9b)은, 제1의 조사 영역군(9a)의 서로 인접하는 조사 영역(6) 간의 간극의 위치와, 1쌍의 대변(15a 및 15b)의 위치가 맞도록 설정된다. As shown in Fig. 4, the second irradiation area group 9b has the position of the gap between adjacent irradiation areas 6 of the first irradiation area group 9a and a pair of opposite sides 15a and 15b. ) is set so that its position is correct.

따라서, 제2의 조사 영역군(9b)도, 1변의 길이를 피치로 하여, 폭 방향(Y 방향)을 따라 늘어서도록, 조사 영역(6)이 설정된다. Accordingly, the irradiation areas 6 of the second irradiation area group 9b are also set so that they are lined up along the width direction (Y direction) with the length of one side being the pitch.

또한, 제1의 조사 영역군(9a)의 조사 영역(6)의 1쌍의 대변(15a 및 15b)의 위치는, 제2의 조사 영역군(9b)의 서로 인접하는 조사 영역(6) 간의 간극의 위치에 맞춰진다. In addition, the position of the pair of opposite sides 15a and 15b of the irradiation area 6 of the first irradiation area group 9a is between the adjacent irradiation areas 6 of the second irradiation area group 9b. It is adjusted to the position of the gap.

도 4에 나타내는 위치 P1은, 제1의 조사 영역군(9a)의 좌측에서 2번째의 조사 영역(6)의, 최우단의 꼭짓점의 위치이다. 위치 P2는, 제1의 조사 영역군(9a)의 좌측에서 3번째의 조사 영역(6)의, 최좌단의 꼭짓점의 위치이다. 위치 P1과 위치 P2의 사이가, 서로 인접하는 조사 영역(6) 간의 간극의 위치이 된다. The position P1 shown in FIG. 4 is the position of the rightmost vertex of the second irradiation area 6 from the left of the first irradiation area group 9a. Position P2 is the position of the leftmost vertex of the third irradiation area 6 from the left of the first irradiation area group 9a. The position between the position P1 and the position P2 becomes the position of the gap between the adjacent irradiation areas 6.

제2의 조사 영역군(9b)은, 위치 P1과 위치 P2 사이의 위치에, 조사 영역(6)의 1쌍의 대변(15a 및 15b)의 위치가 맞춰진다. 즉, 위치 P1 상에 1쌍의 대변(15a 및 15b)의 좌단이 위치하고, 위치 P2 상에 1쌍의 대변(15a 및 15b)의 우단이 위치하도록, 제2의 조사 영역군(9b)이 설정된다. In the second irradiation area group 9b, a pair of opposite sides 15a and 15b of the irradiation area 6 are positioned at a position between the position P1 and the position P2. That is, the second irradiation area group 9b is set so that the left end of the pair of opposite sides 15a and 15b is located on the position P1, and the right end of the pair of opposite sides 15a and 15b is located on the position P2. do.

도 4에 나타내는 위치 P3은, 조사 영역(6)의 중심의 위치이다. Position P3 shown in FIG. 4 is the position of the center of the irradiation area 6.

위치 P4는, 제1의 조사 영역군(9a)의 오른쪽에서 2번째의 조사 영역(6)의, 최좌단의 꼭짓점부터 1쌍의 대변(15a 및 15b)의 좌단까지 사이의 위치이다. The position P4 is a position between the vertex of the leftmost end of the second irradiation area 6 from the right of the first irradiation area group 9a to the left end of the pair of opposite sides 15a and 15b.

위치 P5는, 제1의 조사 영역군(9a)의 오른쪽에서 2번째의 조사 영역(6)의, 1쌍의 대변(15a 및 15b)의 우단으로부터 최우단의 꼭짓점까지 사이의 위치이다. The position P5 is a position between the right end of the pair of opposite sides 15a and 15b of the second irradiation area 6 from the right of the first irradiation area group 9a to the vertex of the rightmost end.

도 4에 나타내는 위치 P1~P5, 및 그 외의 임의의 위치에 있어서, 반송에 의해 조사 영역(6)을 통과하는 거리의 합계는, 정육각형의 1쌍의 대변(15a 및 15b) 사이의 길이 D2가 된다. At positions P1 to P5 shown in FIG. 4 and other arbitrary positions, the total distance passing through the irradiation area 6 by conveyance is the length D2 between a pair of opposite sides 15a and 15b of a regular hexagon. do.

따라서, 조사 대상 영역(R)의 폭 방향(Y 방향)을 따른 각 위치에서, 조사되는 광(L)의 적산 광량은 균일해진다. 즉, 적산 광량 균일 구성에 관한 (특징 A: 통과 거리의 합계 균일)이 실현되어 있다. Therefore, the accumulated amount of light L to be irradiated becomes uniform at each position along the width direction (Y direction) of the irradiation target area R. In other words, (Feature A: Total uniformity of passing distance) regarding the integrated light amount uniformity configuration is realized.

도 5에 나타내는 예에 있어서, 제1의 조사 영역군(9)에 포함되는 중앙의 조사 영역(6)이, 제1의 조사 영역(11)으로서 선택된 것으로 한다. In the example shown in FIG. 5 , it is assumed that the central irradiation area 6 included in the first irradiation area group 9 is selected as the first irradiation area 11.

제1의 조사 영역(11)은, 하류측이며 좌측으로 시프트되어 배치되는 조사 영역(6)과의 사이에서, 오버랩 영역(10)이 발생하도록 설정되어 있다. 또, 제1의 조사 영역(11)은, 하류측이며 우측으로 시프트되어 배치되는 조사 영역(6)과의 사이에서도, 오버랩 영역(10)이 발생하도록 설정되어 있다. The first irradiation area 11 is set so that an overlap area 10 is generated between the irradiation area 6, which is located downstream and shifted to the left. In addition, the first irradiation area 11 is set so that an overlap area 10 is generated even between the irradiation area 6 located downstream and shifted to the right.

따라서, 제1의 조사 영역(11)에 대해, 하류측이며 좌측으로 시프트되어 배치되는 조사 영역(6)은, 제2의 조사 영역(12a)이 된다. 또, 제1의 조사 영역(11)에 대해, 하류측이며 우측으로 시프트되어 배치되는 조사 영역(6)도, 제2의 조사 영역(12b)이 된다. Accordingly, the irradiation area 6 located downstream and shifted to the left with respect to the first irradiation area 11 becomes the second irradiation area 12a. Additionally, the irradiation area 6 located downstream and shifted to the right with respect to the first irradiation area 11 also becomes the second irradiation area 12b.

도 5에 나타내는 제1의 조사 영역(11)과, 제2의 조사 영역(12a)의 관계를 참조한다. Refer to the relationship between the first irradiation area 11 and the second irradiation area 12a shown in FIG. 5.

도 5에 나타내는 바와 같이, 복수의 조사 영역(6) 각각을, 정육각형으로 이루어지는 조사 영역(6)의 1쌍의 대변(15a 및 15b) 사이의 중앙 영역(17a)과, 중앙 영역(17a)에 대해 좌측으로 인접하는 좌측 영역(17b)과, 중앙 영역(17a)에 대해 우측으로 인접하는 우측 영역(17c)으로 분할한다. As shown in FIG. 5, each of the plurality of irradiation areas 6 is divided into a central area 17a between a pair of opposite sides 15a and 15b of the regular hexagonal irradiation area 6, and a central area 17a. It is divided into a left area 17b adjacent to the left and a right area 17c adjacent to the right of the center area 17a.

이 경우, 제1의 조사 영역(11)의 좌측 영역(17b)이, 제1의 오버랩 영역(10a1)이 된다. 제2의 조사 영역(12a)의 우측 영역(17c)이, 제2의 오버랩 영역(10a2)이 된다. In this case, the left area 17b of the first irradiation area 11 becomes the first overlap area 10a1. The area 17c to the right of the second irradiation area 12a becomes the second overlap area 10a2.

제1의 조사 영역(11)의 제1의 오버랩 영역(10a1)은, 폭 방향(Y 방향)에 있어서, 오른쪽 방향으로 진행됨에 따라, 반송 방향(X 방향)에 있어서의 사이즈가 증가하도록 구성된다. The first overlap area 10a1 of the first irradiated area 11 is configured to increase in size in the conveyance direction (X direction) as it progresses to the right in the width direction (Y direction). .

제2의 조사 영역(12a)의 제2의 오버랩 영역(10a2)은, 폭 방향(Y 방향)에 있어서, 같은 방향(오른쪽 방향)으로 진행됨에 따라, 반송 방향(X 방향)에 있어서의 사이즈가 감소하도록 구성된다. As the second overlap area 10a2 of the second irradiated area 12a advances in the same direction (right direction) in the width direction (Y direction), its size in the conveyance direction (X direction) increases. It is designed to decrease.

도 5에 나타내는 제1의 조사 영역(11)과, 제2의 조사 영역(12b)의 관계를 참조한다. Refer to the relationship between the first irradiation area 11 and the second irradiation area 12b shown in FIG. 5.

제1의 조사 영역(11)의 우측 영역(17c)이, 제1의 오버랩 영역(10b1)이 된다. 제2의 조사 영역(12b)의 좌측 영역(17b)이, 제2의 오버랩 영역(10b2)이 된다. The area 17c on the right side of the first irradiation area 11 becomes the first overlap area 10b1. The left area 17b of the second irradiation area 12b becomes the second overlap area 10b2.

제1의 조사 영역(11)의 제1의 오버랩 영역(10b1)은, 폭 방향(Y 방향)에 있어서, 왼쪽 방향으로 진행됨에 따라, 반송 방향(X 방향)에 있어서의 사이즈가 증가하도록 구성된다. The first overlap area 10b1 of the first irradiated area 11 is configured to increase in size in the conveyance direction (X direction) as it progresses to the left in the width direction (Y direction). .

제2의 조사 영역(12b)의 제2의 오버랩 영역(10b2)은, 폭 방향(Y 방향)에 있어서, 같은 방향(왼쪽 방향)으로 진행됨에 따라, 반송 방향(X 방향)에 있어서의 사이즈가 감소하도록 구성된다. As the second overlap area 10b2 of the second irradiated area 12b progresses in the same direction (left direction) in the width direction (Y direction), its size in the conveyance direction (X direction) increases. It is designed to decrease.

제1의 오버랩 영역(10a1(10b1))의 반송 방향(X 방향)에 있어서의 사이즈의 증가의 비율과, 제2의 오버랩 영역(10a2(10b2))의 반송 방향(X 방향)에 있어서의 사이즈의 감소의 비율은, 서로 같아진다. The ratio of the increase in size of the first overlap area 10a1 (10b1) in the conveyance direction (X direction) and the size of the second overlap area 10a2 (10b2) in the conveyance direction (X direction) The rate of decrease becomes equal to each other.

이와 같이, 적산 광량 균일 구성에 관한 (특징 B: 오버랩 영역의 구성)도 실현되어 있다. In this way, the integrated light quantity uniform configuration (feature B: configuration of the overlap area) is also realized.

도 4 및 도 5에 나타내는 바와 같이, 복수의 조사 영역(6) 각각은, 좌측 영역(17b) 또는 우측 영역(17c) 중 적어도 한쪽이, 오버랩 영역(10)이 되도록 설정된다. As shown in FIGS. 4 and 5 , each of the plurality of irradiated areas 6 is set so that at least one of the left area 17b or the right area 17c becomes the overlap area 10.

또, 임의로 선택된 제1의 조사 영역(11)의 제1의 오버랩 영역이 좌측 영역(17b)인 경우는, 서로 오버랩하는 제2의 조사 영역(12)의 제2의 오버랩 영역은, 우측 영역(17c)이 된다. In addition, when the first overlap area of the arbitrarily selected first irradiation area 11 is the left area 17b, the second overlap area of the second irradiation areas 12 that overlap each other is the right area ( 17c).

임의로 선택된 제1의 조사 영역(11)의 제1의 오버랩 영역이 우측 영역(17c)인 경우는, 서로 오버랩하는 제2의 조사 영역(12)의 제2의 오버랩 영역은, 좌측 영역(17b)이 된다. When the first overlap area of the arbitrarily selected first irradiation area 11 is the right area 17c, the second overlap area of the second irradiation areas 12 that overlap each other is the left area 17b. This happens.

즉, 각 조사 영역(6)은, 좌측 영역(17b)이 다른 조사 영역(6)의 우측 영역(17c)과 오버랩하거나, 또는 우측 영역(17c)이 다른 조사 영역(6)의 좌측 영역(17b)과 오버랩하는, 것 중 적어도 한쪽이 성립되도록 설정된다. That is, in each irradiation area 6, the left area 17b overlaps the right area 17c of another irradiation area 6, or the right area 17c overlaps the left area 17b of another irradiation area 6. ) is set so that at least one of the overlaps is established.

도 4에 나타내는 예에서는, 9개의 조사 영역(6) 중, 제1의 조사 영역군(9a)의 최좌단 및 최우단의 2개의 조사 영역(6) 이외에는, 좌측 영역(17b) 및 우측 영역(17c)의 양쪽이 오버랩 영역(10)이 된다. In the example shown in FIG. 4, among the nine irradiation areas 6, other than the two irradiation areas 6 at the leftmost and rightmost ends of the first irradiation area group 9a, the left area 17b and the right area ( Both sides of 17c) become the overlap area 10.

제1의 조사 영역군(9a)의 최좌단의 조사 영역(6)은, 우측 영역(17c)이, 오버랩 영역(10)이 된다. 제1의 조사 영역군(9a)의 최우단의 조사 영역(6)은, 좌측 영역(17b)이, 오버랩 영역(10)이 된다. As for the irradiation area 6 at the leftmost end of the first irradiation area group 9a, the right area 17c becomes the overlap area 10. As for the rightmost irradiation area 6 of the first irradiation area group 9a, the left area 17b becomes the overlap area 10.

또한, 조사 영역(6)의 중앙 영역(17a), 좌측 영역(17b), 및 우측 영역(17c)은, 본 기술에 따른 중앙 영역, 제1의 분할 영역, 및 제2의 분할 영역의 일 실시 형태에 상당한다. In addition, the central area 17a, left area 17b, and right area 17c of the irradiated area 6 are one embodiment of the central area, first divided area, and second divided area according to the present technology. It corresponds to the shape.

이 중, 제1의 분할 영역은, 중앙 영역(17a)에 대해 폭 방향(Y 방향)에 있어서의 제1 방향측에 인접하는 영역이다. Among these, the first divided area is an area adjacent to the central area 17a on the first direction side in the width direction (Y direction).

제2의 분할 영역은, 중앙 영역(17a)에 대해 폭 방향(Y 방향)에 있어서의 제2 방향측에 인접하는 영역이다. The second divided area is an area adjacent to the central area 17a on the second direction side in the width direction (Y direction).

따라서, 제1 방향을 왼쪽 방향, 제2 방향을 오른쪽 방향으로 하면, 좌측 영역(17b)이 제1의 분할 영역에 상당하고, 우측 영역(17c)이 제2의 분할 영역에 상당한다. Therefore, if the first direction is left and the second direction is right, the left area 17b corresponds to the first divided area, and the right area 17c corresponds to the second divided area.

한편, 제1 방향을 오른쪽 방향, 제2 방향을 왼쪽 방향으로 하면, 우측 영역(17c)이 제1의 분할 영역에 상당하고, 좌측 영역(17b)이 제1의 분할 영역에 상당한다. On the other hand, if the first direction is to the right and the second direction is to the left, the right area 17c corresponds to the first divided area, and the left area 17b corresponds to the first divided area.

어느 쪽에 있어서도, 본 기술을 적용하는 것이 가능하다. In either case, it is possible to apply the present technology.

[적산 광량 균일 구성의 효과][Effect of uniform integrated light amount configuration]

도 6및 도 7은, 비교예로서 드는 복수의 조사 영역(96)의 구성을 나타내는 모식도이다. Figures 6 and 7 are schematic diagrams showing the configuration of a plurality of irradiation areas 96 used as comparative examples.

도 6에 나타내는 비교예에서는, 복수의 조사 영역(96) 각각의 형상은, 2개의 변 방향이 반송 방향(X 방향) 및 폭 방향(Y 방향)을 따르도록 설정된 정사각형이다. In the comparative example shown in FIG. 6, the shape of each of the plurality of irradiation areas 96 is a square with two side directions set along the conveyance direction (X direction) and the width direction (Y direction).

도 6에 나타내는 바와 같이, 폭 방향을 따라 5개의 조사 영역(96)이 늘어서도록 배치되며, 제1의 조사 영역군(98a)이 구성되어 있다. 또, 그 하류측에, 폭 방향을 따라 4개의 조사 영역(96)이 늘어서도록 배치되며, 제2의 조사 영역군(98b)이 구성되어 있다. As shown in Fig. 6, five irradiation areas 96 are arranged in a row along the width direction, forming a first irradiation area group 98a. Additionally, on the downstream side, four irradiation areas 96 are arranged in a row along the width direction, forming a second irradiation area group 98b.

도 6에 나타내는 바와 같이, 제1의 조사 영역군(98a)은, 정사각형의 1변의 길이 분만큼 간격을 두고, 폭 방향(Y 방향)을 따라 배치된다. 즉, 1변의 길이를 피치로 하여, 폭 방향(Y 방향)을 따라 늘어서도록, 조사 영역(96)이 설정된다. As shown in FIG. 6, the first irradiation area group 98a is arranged along the width direction (Y direction) at intervals equal to the length of one side of a square. That is, the irradiation areas 96 are set to line up along the width direction (Y direction), with the length of one side being the pitch.

제2의 조사 영역군(98b)은, 제1의 조사 영역군(98a)의 서로 인접하는 조사 영역(96) 간의 간극을 메우도록 하여, 하류측에 설정된다. The second irradiation area group 98b is set on the downstream side to fill the gap between the adjacent irradiation areas 96 of the first irradiation area group 98a.

따라서, 제2의 조사 영역군(98b)도, 1변의 길이를 피치로 하여, 폭 방향(Y 방향)을 따라 늘어서도록, 조사 영역(96)이 설정된다. Accordingly, the irradiation areas 96 of the second irradiation area group 98b are also set so that they are lined up along the width direction (Y direction) with the length of one side being the pitch.

도 6에 나타내는 위치 P1은, 제1의 조사 영역군(98a)의 좌측에서 2번째의 조사 영역(96)의, 우변의 위치이다. 위치 P2는, 제1의 조사 영역군(98a)의 좌측에서 3번째의 조사 영역(96)의, 좌변의 위치이다. The position P1 shown in FIG. 6 is a position on the right side of the second irradiation area 96 from the left of the first irradiation area group 98a. Position P2 is the position of the left side of the third irradiation area 96 from the left of the first irradiation area group 98a.

제2의 조사 영역군(98b)의 조사 영역(96)은, 위치 P1과 위치 P2의 사이를 메우도록 배치된다. 또한, 제2의 조사 영역군(98b)의 조사 영역(96)은, 제1의 조사 영역군(98a)의 조사 영역(96)의 우변 및 좌변의 위치(위치 P1 및 P2) 상에는, 위치하지 않도록 배치된다. The irradiation area 96 of the second irradiation area group 98b is arranged to fill the space between the position P1 and the position P2. In addition, the irradiation area 96 of the second irradiation area group 98b is not located on the positions (positions P1 and P2) of the right and left sides of the irradiation area 96 of the first irradiation area group 98a. arranged so as not to

따라서, 폭 방향(Y 방향)에 있어서, 제1의 조사 영역군(98a)의 조사 영역(96)의 좌우의 변과, 제2의 조사 영역군(98b)의 조사 영역(96)의 좌우의 변이 같은 위치가 되는 일은 없다. Therefore, in the width direction (Y direction), the left and right sides of the irradiation area 96 of the first irradiation area group 98a and the left and right sides of the irradiation area 96 of the second irradiation area group 98b Mutations never end up in the same position.

도 6에 나타내는 위치 P3 및 P4는, 조사 영역(96)의 중심의 위치이다. The positions P3 and P4 shown in FIG. 6 are the positions of the center of the radiation area 96.

도 6에 나타내는 위치 P1~P4, 및 그 외의 임의의 위치에 있어서, 반송에 의해 조사 영역(96)을 통과하는 거리의 합계는, 정사각형의 1변의 길이 D3이 된다. At positions P1 to P4 shown in FIG. 6 and other arbitrary positions, the total distance passing through the irradiation area 96 by conveyance is the length D3 of one side of the square.

따라서, 조사 대상 영역(R)의 폭 방향(Y 방향)을 따른 각 위치에서, 조사되는 광(L)의 적산 광량은 균일해진다. 즉, 도 6에 나타내는 비교예는, 적산 광량 균일 구성에 관한 (특징 A: 통과 거리의 합계 균일)이 실현되어 있다. Therefore, the accumulated amount of light L to be irradiated becomes uniform at each position along the width direction (Y direction) of the irradiation target area R. That is, in the comparative example shown in FIG. 6, (Feature A: Total uniformity of passing distance) regarding the integrated light amount uniformity configuration is realized.

한편, 도 6에 나타내는 예에서는, 적산 광량 균일 구성에 관한 (특징 B: 오버랩 영역의 구성)은 실현되어 있지 않다. On the other hand, in the example shown in FIG. 6, (feature B: configuration of overlap area) regarding the uniform integrated light amount configuration is not realized.

여기서, 도 7에 나타내는 바와 같이, 폭 방향(Y 방향)에 있어서, 조사 영역(96)의 위치가 어긋난 경우를 고찰한다. Here, as shown in FIG. 7, a case where the position of the irradiated area 96 is shifted in the width direction (Y direction) will be considered.

도 7에 나타내는 예에서는, 제2의 조사 영역군(98b)의 오른쪽에서 2번째의 조사 영역(96a)이, 우측으로 어긋나 있다. 그 결과, 상류측이며 좌측으로 시프트되어 있는 조사 영역(96b)의 우변의 위치 P5와, 조사 영역(96a)의 좌변의 위치 P6의 사이에 간극이 발생한다. In the example shown in Fig. 7, the second irradiation area 96a from the right of the second irradiation area group 98b is shifted to the right. As a result, a gap occurs between the position P5 on the right side of the irradiation area 96b, which is upstream and shifted to the left, and the position P6 on the left side of the irradiation area 96a.

또, 상류측이며 우측으로 시프트되어 있는 조사 영역(96c)의 좌변의 위치 P7과, 조사 영역(96a)의 우변의 위치 P8의 사이에서, 오버랩 영역이 발생하고 있다. Additionally, an overlap area is generated between the position P7 on the left side of the irradiation area 96c, which is upstream and shifted to the right, and the position P8 on the right side of the irradiation area 96a.

이 결과, 도 7에 나타내는 바와 같이, 위치 P5와 위치 P6 사이의 적산 광량은 제로가 되어 버린다. 또, 위치 P7와 위치 P8의 사이에서는, 오버랩 영역분만큼 적산 광량이 증가해 버린다. As a result, as shown in FIG. 7, the accumulated light amount between the positions P5 and P6 becomes zero. Additionally, between the positions P7 and P8, the integrated light amount increases by the amount of the overlap area.

즉, 비교예에 있어서의 조사 영역(96)의 구성에서는, 조사 영역(96)이 폭 방향에 있어서 조금 어긋난 것만으로도, 조사 대상 영역(R)에 있어서의 적산 광량의 균일성이 큰 폭으로 저하되어 버린다. That is, in the configuration of the irradiation area 96 in the comparative example, even if the irradiation area 96 is slightly shifted in the width direction, the uniformity of the accumulated light amount in the irradiation target area R is significantly increased. It deteriorates.

도 8은, 도 2에 나타내는 적산 광량 균일 구성에 있어서, 조사 영역(6)의 어긋남이 발생한 경우를 나타내는 모식도이다. FIG. 8 is a schematic diagram showing a case where deviation of the irradiation area 6 occurs in the uniform integrated light amount configuration shown in FIG. 2.

도 8에 나타내는 예에서는, 제2의 조사 영역군(9b)의 오른쪽에서 2번째의 조사 영역(6a)이, 폭 방향(Y 방향)에 있어서, 우측으로 어긋나 있다. 따라서, 상류측이며 좌측 및 우측으로 시프트되어 있는 조사 영역(6b 및 6c)에 대해, 위치가 어긋나 있다. 또, 우측 옆의 조사 영역(6d)에 대해, 일부의 영역이 겹쳐져 있다. In the example shown in FIG. 8, the second irradiation area 6a from the right of the second irradiation area group 9b is shifted to the right in the width direction (Y direction). Therefore, the positions are shifted with respect to the irradiation areas 6b and 6c, which are upstream and shifted to the left and right. Additionally, some areas overlap with the irradiation area 6d on the right side.

조사 영역(6a)의 우측으로의 어긋남에 따른 적산 광량의 변화는 이하와 같이 된다. The change in the integrated light amount due to deviation of the irradiation area 6a to the right is as follows.

조사 영역(6b)의 중심 위치 P5부터 조사 영역(6a)의 최좌단의 꼭짓점의 위치 P6까지의 범위에서 적산 광량이 저하 The integrated light amount decreases in the range from the center position P5 of the irradiation area 6b to the position P6 of the leftmost vertex of the irradiation area 6a.

조사 영역(6a)의 최좌단의 꼭짓점의 위치 P6부터 조사 영역(6b)의 최우단의 꼭짓점의 위치 P7까지의 범위에서, 적산 광량은 낮은 상태로 유지 In the range from the position P6 of the leftmost vertex of the irradiation area 6a to the position P7 of the rightmost vertex of the irradiation area 6b, the integrated light amount is maintained in a low state.

조사 영역(6b)의 최우단의 꼭짓점의 위치 P7부터 조사 영역(6a)의 중심 위치 P8까지의 범위에서, 적산 광량이 증가(도중의 위치에서 목표로 하는 적산 광량을 초과한다) In the range from the position P7 of the rightmost vertex of the irradiation area 6b to the center position P8 of the irradiation area 6a, the integrated light amount increases (exceeding the target integrated light amount at the halfway point).

조사 영역(6a)의 중심 위치 P8부터 조사 영역(6c)의 중심 위치 P9까지의 범위에서, 적산 광량은 높은 상태로 유지 In the range from the center position P8 of the irradiation area 6a to the center position P9 of the irradiation area 6c, the accumulated light amount remains high.

조사 영역(6c)의 중심 위치 P9부터 조사 영역(6a)의 최우단의 꼭짓점의 위치 P10까지의 범위에서, 적산 광량이 저하(위치 P10에서 목표로 하는 적산 광량으로 되돌아온다) In the range from the center position P9 of the irradiation area 6c to the position P10 of the rightmost vertex of the irradiation area 6a, the integrated light amount decreases (returns to the target integrated light amount at the position P10).

도 9는, 도 4에 나타내는 적산 광량 균일 구성에 있어서, 조사 영역(6)의 어긋남이 발생한 경우를 나타내는 모식도이다. FIG. 9 is a schematic diagram showing a case where deviation of the irradiation area 6 occurs in the uniform integrated light amount configuration shown in FIG. 4.

도 9에 나타내는 예에서는, 제2의 조사 영역군(9b)의 오른쪽에서 2번째의 조사 영역(6a)이, 폭 방향(Y 방향)에 있어서, 우측으로 어긋나 있다. 따라서, 상류측이며 좌측 및 우측으로 시프트되어 있는 조사 영역(6b 및 6c)에 대해, 위치가 어긋나 있다. In the example shown in Fig. 9, the second irradiation area 6a from the right of the second irradiation area group 9b is shifted to the right in the width direction (Y direction). Therefore, the positions are shifted with respect to the irradiation areas 6b and 6c, which are upstream and shifted to the left and right.

조사 영역(6a)의 우측으로의 어긋남에 따른 적산 광량의 변화는 이하와 같이 된다. The change in the integrated light amount due to deviation of the irradiation area 6a to the right is as follows.

조사 영역(6b)의 1쌍의 대변(15a 및 15b)의 우단의 위치 P6부터 조사 영역(6a)의 최좌단의 꼭짓점의 위치 P7까지의 범위에서 적산 광량이 저하 The integrated light amount decreases in the range from the position P6 of the right end of the pair of opposite sides 15a and 15b of the irradiation area 6b to the position P7 of the vertex of the leftmost end of the irradiation area 6a.

조사 영역(6a)의 최좌단의 꼭짓점의 위치 P7부터 조사 영역(6b)의 최우단의 꼭짓점의 위치 P8의 범위에서, 적산 광량은 낮은 상태로 유지 In the range from position P7 of the leftmost vertex of the irradiation area 6a to position P8 of the rightmost vertex of the irradiation area 6b, the integrated light amount is maintained in a low state.

조사 영역(6b)의 최우단의 꼭짓점의 위치 P8부터 조사 영역(6a)의 1쌍의 대변(15a 및 15b)의 좌단의 위치 P9까지의 범위에서, 적산 광량이 증가(위치 P9에서 목표로 하는 적산 광량으로 되돌아온다) In the range from the position P8 of the rightmost vertex of the irradiation area 6b to the position P9 of the left end of the pair of opposite sides 15a and 15b of the irradiation area 6a, the integrated light amount increases (targeted at position P9). (Returns to accumulated light amount)

조사 영역(6a)의 1쌍의 대변(15a 및 15b)의 좌단의 위치 P9부터 조사 영역(6c)의 최좌단의 꼭짓점의 위치 P10까지의 범위에서, 목표로 하는 적산 광량을 유지 The target integrated light amount is maintained in the range from the position P9 of the left end of the pair of opposite sides 15a and 15b of the irradiation area 6a to the position P10 of the vertex of the leftmost end of the irradiation area 6c.

조사 영역(6c)의 최좌단의 위치 P10부터 조사 영역(6a)의 1쌍의 대변(15a 및 15b)의 우단의 위치 P11까지의 범위에서, 적산 광량이 증가 In the range from position P10 at the leftmost end of the irradiation area 6c to position P11 at the right end of the pair of opposite sides 15a and 15b of the irradiation area 6a, the integrated light amount increases.

조사 영역(6a)의 1쌍의 대변(15a 및 15b)의 우단의 위치 P11부터, 조사 영역(6c)의 1쌍의 대변(15a 및 15b)의 좌단의 위치 P12까지의 범위에서, 적산 광량은 높은 상태로 유지 In the range from the position P11 of the right end of the pair of opposite sides 15a and 15b of the irradiation area 6a to the position P12 of the left end of the pair of opposite sides 15a and 15b of the irradiation area 6c, the integrated light amount is keep it high

조사 영역(6c)의 1쌍의 대변(15a 및 15b)의 좌단의 위치 P12부터, 조사 영역(6a)의 최우단의 꼭짓점의 위치 P13까지의 범위에서, 적산 광량이 저하(위치 P13에서 목표로 하는 적산 광량으로 되돌아온다) In the range from the position P12 of the left end of the pair of opposite sides 15a and 15b of the irradiation area 6c to the position P13 of the vertex of the rightmost end of the irradiation area 6a, the integrated light amount decreases (target at position P13). (returns to the accumulated light amount)

도 8 및 도 9에 나타내는 바와 같이, 적산 광량 균일 구성에서는, (특징 B: 오버랩 영역의 구성)에 의해, 도 7에 나타내는 비교예와 비교해, 조사 영역(6)의 위치가 어긋난 경우에도, 폭 방향(Y 방향)을 따른 각 위치에 있어서의 적산 광량에 대한 영향을 억제하는 것이 가능해진다. As shown in FIGS. 8 and 9, in the integrated light amount uniform configuration, even when the position of the irradiation area 6 is shifted compared to the comparative example shown in FIG. 7 due to (feature B: configuration of the overlap area), the width It becomes possible to suppress the influence on the accumulated light amount at each position along the direction (Y direction).

또한, 도 8 및 도 9에서는, 조사 영역(6)의 어긋남의 영향을 알기 쉽게 설명하기 위해, 조사 영역(6)의 어긋남이 매우 커지도록 도시되어 있다. 그 결과, 도 8 및 도 9에 나타내는 적산 광량 균일 구성에서도, 적산 광량의 변화가 크게 발생하고 있는 것처럼 보인다. Additionally, in FIGS. 8 and 9 , in order to easily explain the influence of the misalignment of the irradiated area 6, the misalignment of the irradiated area 6 is shown to be very large. As a result, even in the uniform integrated light quantity configuration shown in FIGS. 8 and 9, it appears that a large change in the accumulated light quantity occurs.

실제로는, 조사 영역(6)의 어긋남은, 더 작은 범위로 억제하는 것이 가능하다. In reality, it is possible to suppress the deviation of the irradiation area 6 to a smaller range.

예를 들면 폭이 3000mm 정도인 조사 영역(R)에 대해, 폭이 100~400mm 정도가 되는 조사 영역(6)이, 적산 광량 균일 구성이 실현되도록 설정된다. 그 때에, 조사 영역(6)을 1mm의 단위로 위치 결정하는 것이 가능하다. 즉, 조사 영역(6)의 폭 방향에 있어서의 어긋남은 1mm 이내로 억제하는 것이 가능하다. For example, for the irradiation area R with a width of about 3000 mm, the irradiation area 6 with a width of about 100 to 400 mm is set to realize a uniform integrated light amount configuration. At that time, it is possible to position the irradiation area 6 in units of 1 mm. That is, it is possible to suppress the deviation in the width direction of the irradiated area 6 to within 1 mm.

예를 들면, 도 8 및 도 9의 예에서 본 경우, 조사 영역(6)의 폭에 대해, 1/100~1/400 정도의 어긋남량으로 억제하는 것이 가능하다. 이 결과, 조사 영역(6)의 위치가 어긋난 경우에 있어서의, 폭 방향(Y 방향)을 따른 각 위치에 있어서의 적산 광량에 대한 영향은, 충분히 억제된다. For example, when looking at the examples of FIGS. 8 and 9, it is possible to suppress the amount of deviation to about 1/100 to 1/400 of the width of the irradiation area 6. As a result, when the position of the irradiation area 6 is shifted, the influence on the accumulated light amount at each position along the width direction (Y direction) is sufficiently suppressed.

[적산 광량 균일 구성의 바리에이션][Variations of uniform integrated light intensity configuration]

도 10a~도 10c 및 도 11a~도 11c는, 적산 광량 균일 구성의 다른 예를 나타내는 모식도이다. FIGS. 10A to 10C and FIGS. 11A to 11C are schematic diagrams showing another example of a uniform integrated light quantity configuration.

도 10a에 나타내는 예에서는, 복수의 조사 영역(6) 각각의 형상이, 2개의 대각선 방향이 반송 방향(X 방향) 및 폭 방향(Y 방향)을 따르도록 설정된 마름모꼴로 되어 있다. In the example shown in FIG. 10A, the shape of each of the plurality of irradiation areas 6 is a diamond shape with two diagonal directions set along the conveyance direction (X direction) and the width direction (Y direction).

제1의 조사 영역군(9a)에 대해, 좌측 절반 영역(14a)과 우측 절반 영역(14b)이 서로 오버랩 영역이 되도록, 제2의 조사 영역군(9b)이 설정된다. With respect to the first irradiation area group 9a, the second irradiation area group 9b is set so that the left half area 14a and the right half area 14b overlap each other.

이에 따라, 적산 광량 균일 구성을 실현하는 것이 가능하다. Accordingly, it is possible to realize a uniform integrated light amount configuration.

또한, 도 10a에 나타내는 예는, 도 2에 나타내는 정사각형으로 이루어지는 조사 영역(6)의 반송 방향(X 방향)을 따른 대각선의 길이 D1을 짧게 한 형상에 상당한다. In addition, the example shown in FIG. 10A corresponds to a shape in which the diagonal length D1 along the conveyance direction (X direction) of the square irradiated area 6 shown in FIG. 2 is shortened.

반송 방향(X 방향)을 따른 대각선의 길이, 및 폭 방향(Y 방향)을 따른 대각선의 길이는, 각각 임의로 설계 가능하다. 즉, 다양한 형상의 마름모꼴을 이용하여, 적산 광량 균일 구성을 실현하는 것이 가능하다. 또한, 정사각형은, 마름모꼴에 포함된다. The length of the diagonal along the conveyance direction (X direction) and the length of the diagonal along the width direction (Y direction) can each be designed arbitrarily. In other words, it is possible to realize a uniform integrated light amount configuration using diamonds of various shapes. Additionally, squares are included in diamonds.

도 10b에 나타내는 예에서는, 복수의 조사 영역(6) 각각의 형상이, 반송 방향(X 방향)을 따라 서로 대향하며, 폭 방향(Y 방향)에 평행이 되는 1쌍의 대변(15a 및 15b)을 포함하는 육각형으로 되어 있다. In the example shown in FIG. 10B, the shapes of each of the plurality of irradiated areas 6 are a pair of opposite sides 15a and 15b that face each other along the conveyance direction (X direction) and are parallel to the width direction (Y direction). It is made of a hexagon containing .

제1의 조사 영역군(9a)에 대해, 좌측 영역(17b)과 우측 영역(17c)이 서로 오버랩 영역이 되도록, 제2의 조사 영역군(9b)이 설정된다. With respect to the first irradiation area group 9a, the second irradiation area group 9b is set so that the left area 17b and the right area 17c overlap each other.

이에 따라, 적산 광량 균일 구성을 실현하는 것이 가능하다. Accordingly, it is possible to realize a uniform integrated light amount configuration.

또한, 도 10b에 나타내는 예는, 도 4에 나타내는 정육각형으로 이루어지는 조사 영역(6)의 반송 방향(X 방향)에 있어서의 사이즈를 작게 한 형상에 상당한다. 즉, 1쌍의 대변(15a 및 15b) 사이의 길이 D2를 짧게 한 형상에 상당한다. In addition, the example shown in FIG. 10B corresponds to a shape in which the size of the regular hexagonal irradiation area 6 shown in FIG. 4 in the conveyance direction (X direction) is reduced. That is, it corresponds to a shape in which the length D2 between a pair of opposite sides 15a and 15b is shortened.

육각형의 반송 방향(X 방향)을 따른 사이즈, 폭 방향(Y 방향)을 따른 사이즈는, 각각 임의로 설계 가능하다. 즉, 다양한 형상의 육각형을 이용하여, 적산 광량 균일 구성을 실현하는 것이 가능하다. The size along the hexagonal conveyance direction (X direction) and the size along the width direction (Y direction) can each be designed arbitrarily. In other words, it is possible to realize a uniform integrated light amount configuration using hexagons of various shapes.

도 10c에 나타내는 예에서는, 복수의 조사 영역(6) 각각의 형상이, 1변의 변 방향이 폭 방향(Y 방향)을 따르도록 설정된 정삼각형으로 되어 있다. In the example shown in FIG. 10C, the shape of each of the plurality of irradiation areas 6 is an equilateral triangle with one side direction along the width direction (Y direction).

폭 방향에 평행하게 설정되는 측을 저변(19)로 하고, 저변에 대향하는 꼭짓점을 꼭짓점(20)으로 한다. 제1의 조사 영역군(9a)은, 저변(19)에 대해 꼭짓점(20)이 하류측에 위치하는 방향이 되도록, 폭 방향(Y 방향)을 따라 늘어놓아진다. The side set parallel to the width direction is referred to as the base 19, and the vertex opposite to the base is referred to as the vertex 20. The first irradiation area group 9a is arranged along the width direction (Y direction) so that the vertex 20 is located downstream of the base 19.

제1의 조사 영역군(9a)에 대해, 저변(19)에 대해 꼭짓점(20)이 상류측에 위치하는 방향이 되도록, 제2의 조사 영역군(9b)이 폭 방향(Y 방향)을 따라 늘어놓아진다. 또, 제2의 조사 영역군(9b)은, 제1의 조사 영역군(9a)의 좌측 절반 영역(21a)과 제2의 조사 영역군(9b)의 우측 절반 영역(22b)이 서로 오버랩 영역이 되도록, 또한, 제1의 조사 영역군(9a)의 우측 절반 영역(21b)과 제2의 조사 영역군(9b)의 좌측 절반 영역(22a)이 서로 오버랩 영역이 되도록 설정된다. With respect to the first irradiation area group 9a, the second irradiation area group 9b is oriented along the width direction (Y direction) so that the vertex 20 is located upstream with respect to the base 19. It is laid out. In addition, the second irradiation area group 9b is an area where the left half area 21a of the first irradiation area group 9a and the right half area 22b of the second irradiation area group 9b overlap each other. To achieve this, the right half area 21b of the first irradiation area group 9a and the left half area 22a of the second irradiation area group 9b are set to overlap each other.

조사 대상 영역(R)의 폭 방향(Y 방향)을 따른 각 위치에 있어서, 조사 영역(6)을 통과하는 거리의 합계는, 꼭짓점(20)부터 저변(19)까지의 수선의 길이 D4가 된다. At each position along the width direction (Y direction) of the irradiation target area R, the sum of the distances passing through the irradiation area 6 is the length D4 of the perpendicular line from the vertex 20 to the base 19. .

또한, 저변(19)에 대해 꼭짓점(20)의 위치가 변경되어, 이등변 삼각형의 형상으로 조사 영역(6)이 구성되어도 된다. 그 외에, 다양한 형상의 삼각형을 이용하여, 적산 광량 균일 구성을 실현하는 것이 가능하다. Additionally, the position of the vertex 20 with respect to the base 19 may be changed to form the irradiation area 6 in the shape of an isosceles triangle. In addition, it is possible to realize a uniform integrated light amount configuration by using triangles of various shapes.

도 11a에 나타내는 예에서는, 복수의 조사 영역(6)은, 조사 영역군(23a~23d)의 4단의 조사 영역군(23)으로 구성되어 있다. In the example shown in FIG. 11A , the plurality of irradiation areas 6 are composed of a four-stage irradiation area group 23 of irradiation area groups 23a to 23d.

이와 같이, 폭 방향(Y 방향)을 따라 늘어선 2 이상의 조사 영역(6)으로 이루어지는 조사 영역군이, 반송 방향(X 방향)을 따라, 임의의 수의 단수로 배치되어도 된다. In this way, the irradiation area group consisting of two or more irradiation areas 6 lined up along the width direction (Y direction) may be arranged in any number of stages along the conveyance direction (X direction).

또한, 도 11a에 나타내는 예는, 도 2에 나타내는 적산 광량 균일 구성의 제1의 조사 영역군(9a)의 좌측에서 세어 짝수번째의 조사 영역(6)을, 상류측으로 시프트시켜 제1의 조사 영역군(23a)으로 하고 있다. 그리고, 홀수번째의 조사 영역(6)을, 제2의 조사 영역군(23b)으로 하고 있다. In addition, in the example shown in FIG. 11A, the even-numbered irradiation area 6 counted from the left of the first irradiation area group 9a in the integrated light quantity uniform configuration shown in FIG. 2 is shifted to the upstream side to form the first irradiation area. It is grouped as (23a). And the odd-numbered irradiation area 6 is set as the second irradiation area group 23b.

또 도 2에 나타내는 제2의 조사 영역군(9b)의 좌측에서 세어 짝수번째의 조사 영역(6)을, 하류측으로 시프트시켜, 제4의 조사 영역군(23d)으로 하고 있다. 그리고, 홀수번째의 조사 영역(6)을, 제3의 조사 영역군(23c)으로 하고 있다. In addition, the even-numbered irradiation area 6 counting from the left of the second irradiation area group 9b shown in FIG. 2 is shifted downstream to become the fourth irradiation area group 23d. And the odd-numbered irradiation area 6 is set as the third irradiation area group 23c.

물론, 이와 같은 구성에 한정되지 않고, 다단의 조사 영역군으로 이루어지는 임의의 구성이 채용되어도 된다. Of course, it is not limited to this configuration, and any configuration consisting of a multi-stage irradiation area group may be adopted.

도 11b에 나타내는 예에서는, 복수의 조사 영역(6)이, 반송 방향(X 방향)에 대해, 비스듬하게 교차하는 직선(S) 상을 따라 늘어서도록 설정된다. 또, 직선(S)을 따라 늘어놓아지는 조사 영역군(24a 및 24b)이, 반송 방향(X 방향)을 따라 다단으로 배치된다. In the example shown in FIG. 11B, the plurality of irradiation areas 6 are set to line up along a straight line S that intersects diagonally with respect to the conveyance direction (X direction). Additionally, the irradiation area groups 24a and 24b arranged along the straight line S are arranged in multiple stages along the conveyance direction (X direction).

또한, 도 11b에 나타내는 예는, 도 2에 나타내는 적산 광량 균일 구성의 조사 영역(6) 각각을, 중심이 직선(S) 상에 배치되도록, 반송 방향(X 방향)을 따라 시프트시킨 것이다. In addition, in the example shown in FIG. 11B, each of the irradiation areas 6 of the uniform integrated light amount configuration shown in FIG. 2 is shifted along the conveyance direction (X direction) so that the center is disposed on the straight line S.

물론, 이와 같은 구성에 한정으로 되지 않고, 반송 방향(X 방향)에 대해 비스듬하게 교차하는 직선(S)을 따른 임의의 구성이 채용되어도 된다. Of course, it is not limited to this configuration, and any configuration along a straight line S that intersects diagonally with respect to the conveyance direction (X direction) may be adopted.

도 11c에 나타내는 예는, 도 2에 나타내는 적산 광량 균일 구성의 조사 영역(6) 각각을, 반송 방향(X 방향)을 따라 랜덤으로 시프트시킨 것이다. In the example shown in FIG. 11C, each of the irradiation areas 6 of the uniform integrated light quantity configuration shown in FIG. 2 is randomly shifted along the conveyance direction (X direction).

이와 같은 구성에서도, 적산 광량 균일 구성을 실현하는 것이 가능하다. Even with this configuration, it is possible to realize a configuration with uniform integrated light amount.

도 10a~도 10c 및 도 11a~도 11c에 예시하는 바와 같이, 적산 광량 균일 구성으로서, 다양한 구성을 생각할 수 있다. 상기한, (특징 A: 통과 거리의 합계 균일) 및 (특징 B: 오버랩 영역의 구성)을 만족하는 것이면, 임의의 구성이 채용되어도 된다. As illustrated in FIGS. 10A to 10C and FIGS. 11A to 11C, various configurations can be considered as the integrated light quantity uniform configuration. Any configuration may be adopted as long as it satisfies the above-mentioned (Feature A: Uniform sum of passing distances) and (Feature B: Configuration of overlap area).

예를 들면, 특징 A 및 특징 B를 만족하는 것이면, 복수의 조사 영역(6) 각각이, 상이한 형상이나 상이한 사이즈를 포함하도록 설정되어도 된다. For example, as long as feature A and feature B are satisfied, each of the plurality of irradiation areas 6 may be set to include different shapes or sizes.

예를 들면, 도 1에 나타내는 광원부(7) 및 조사부(8)의 구체적인 구성을 검토하는데 있어서 유리해지도록, 조사 영역(6)의 형상이나 위치 등이 설정되어도 된다. For example, the shape or position of the irradiation area 6 may be set so as to be advantageous in examining the specific configuration of the light source unit 7 and the irradiation unit 8 shown in FIG. 1.

또한, 도 2에 나타내는 적산 광량 균일 구성은, 히가키(Higaki) 모양에 준한 구성이라고도 할 수 있다. 또 도 4에 나타내는 적산 광량 균일 구성은, 거북등 모양에 준한 구성이라고도 할 수 있다. 이와 같이, 규칙적으로 전개되는 모양 등에 준하여, 적산 광량 균일 구성을 실현하는 것도 가능하다. Additionally, the integrated light amount uniformity configuration shown in FIG. 2 can also be said to be a configuration based on the Higaki shape. Additionally, the integrated light quantity uniform configuration shown in FIG. 4 can also be said to be a configuration based on the turtleback shape. In this way, it is also possible to realize a uniform integrated light amount configuration according to a pattern that develops regularly.

[광원부(7) 및 조사부(8)의 구체적인 구성][Specific configuration of the light source unit (7) and the irradiation unit (8)]

광원부(7) 및 조사부(8)의 구체적인 구성으로는, 상기에서 설명한 적산 광량 균일 구성을 실현하는 것이 가능하면, 임의의 구성이 채용되어도 된다. As a specific configuration of the light source unit 7 and the irradiation unit 8, any configuration may be adopted as long as it is possible to realize the uniform integrated light amount configuration described above.

이하, 광원부(7) 및 조사부(8)의 구체적인 구성예를 설명한다. Hereinafter, a specific configuration example of the light source unit 7 and the irradiation unit 8 will be described.

[복수의 광 조사 유닛][Multiple light irradiation units]

도 12는, 복수의 광 조사 유닛을 이용한 경우의 구성예를 나타내는 모식도이다. Figure 12 is a schematic diagram showing a configuration example when a plurality of light irradiation units are used.

도 12에 나타내는 바와 같이, 복수의 광 조사 유닛(25)은, 복수의 조사 영역(6)에 대응하여 배치된다. 도 12에 나타내는 광 조사 장치(1)에서는, 복수의 조사 영역(6) 각각에 대해, 1개씩 광 조사 유닛(25)이 배치된다. As shown in FIG. 12 , a plurality of light irradiation units 25 are arranged corresponding to a plurality of irradiation areas 6 . In the light irradiation device 1 shown in FIG. 12, one light irradiation unit 25 is disposed for each of the plurality of irradiation areas 6.

본 실시 형태에서는, 제1의 조사 영역군(9a)의 5개의 조사 영역(6)에 대응하여, 5개의 광 조사 유닛(25)이, 폭 방향(Y 방향)으로 늘어놓아져, 제1의 광 조사 유닛군(26a)으로서 구성된다. In this embodiment, five light irradiation units 25 are arranged in the width direction (Y direction) corresponding to the five irradiation areas 6 of the first irradiation area group 9a, and It is configured as a light irradiation unit group 26a.

또, 제2의 조사 영역군(9b)의 4개의 조사 영역(6)에 대응하여, 4개의 광 조사 유닛(25)이, 폭 방향(Y 방향)으로 늘어놓아져, 제2의 광 조사 유닛군(26a)으로서 구성된다. Additionally, four light irradiation units 25 are arranged in the width direction (Y direction) corresponding to the four irradiation areas 6 of the second irradiation area group 9b, It is composed of group 26a.

즉, 도 12에 나타내는 예에서는, 2단의 조사 영역군(9)에 대응하여, 광 조사 유닛군(26)이, 2단 배치되어 있다. That is, in the example shown in FIG. 12, the light irradiation unit group 26 is arranged in two stages corresponding to the two-stage irradiation area group 9.

본 실시 형태에서는, 워크(W)의 좌우의 양 측면에 지주(27)가 설치된다. 그리고, 지주의 사이에 유지 부재를 통하여, 복수의 광 조사 유닛(25)이 유지된다. 복수의 광 조사 유닛(25)을 유지하기 위한 구체적인 구성은 한정되지 않고, 임의로 설계되어도 된다. In this embodiment, supports 27 are installed on both left and right sides of the work W. Then, the plurality of light irradiation units 25 are held between the supports through holding members. The specific configuration for holding the plurality of light irradiation units 25 is not limited and may be designed arbitrarily.

도 13a 및 도 13b는, 광 조사 유닛(25)의 내부의 구성예를 나타내는 모식도이다. 13A and 13B are schematic diagrams showing an example of the internal configuration of the light irradiation unit 25.

도 13a는, 광 조사 유닛(25)을 폭 방향(Y 방향)의 좌측에서 본 경우의 내부의 구성을 나타내는 모식도이다. FIG. 13A is a schematic diagram showing the internal configuration of the light irradiation unit 25 when viewed from the left side in the width direction (Y direction).

도 13b는, 광 조사 유닛(25)을 반송 방향(X 방향)의 하류측에서 본 경우의 내부의 구성을 나타내는 모식도이다. FIG. 13B is a schematic diagram showing the internal configuration of the light irradiation unit 25 when viewed from the downstream side in the conveyance direction (X direction).

또한 도 12에서는, 광 조사 유닛(25)이, 단순한 직육면체의 형상으로, 모식적으로 도시되어 있다. 12, the light irradiation unit 25 is schematically shown in the shape of a simple rectangular parallelepiped.

도 13a 및 도 13b에 나타내는 바와 같이, 광 조사 유닛(25)은, 램프(29)와, 집광 미러(30)와, 평면 미러(31)와, 인터그레이터 렌즈(32)와, 콜리메이터 미러(33)와, 편광 소자(편광판)(34)을 갖는다. As shown in FIGS. 13A and 13B, the light irradiation unit 25 includes a lamp 29, a condensing mirror 30, a plane mirror 31, an integrator lens 32, and a collimator mirror 33. ) and a polarizing element (polarizing plate) 34.

본 실시 형태에서는, 램프(29)로서, 쇼트 아크형의 수은 램프가 이용된다. 램프(29)로부터는, 예를 들면, 파장 254nm, 313nm, 365nm 등을 포함하는 자외광이 출사된다. In this embodiment, a short arc-type mercury lamp is used as the lamp 29. For example, ultraviolet light containing wavelengths of 254 nm, 313 nm, and 365 nm is emitted from the lamp 29.

집광 미러(30)는, 램프(29)로부터 출사된 광(L)을 집광하여, 광축(O)을 따라 평면 미러(31)를 향하여 출사한다. 평면 미러(31)는, 집광 미러(30)로부터 출사된 광(L)을, 인터그레이터 렌즈(32)를 향하여 반사한다. The converging mirror 30 collects the light L emitted from the lamp 29 and emits it along the optical axis O toward the plane mirror 31. The plane mirror 31 reflects the light L emitted from the converging mirror 30 toward the integrator lens 32.

인터그레이터 렌즈(32)는, 평면 미러(31)에 의해 반사되는 광(L)의 광로 상에 배치되며, 조사 영역(6)에 조사되는 광(L)의 조도 분포를 균일화한다. 인터그레이터 렌즈(32)는, 복수의 렌즈 세그먼트(복수의 미소한 렌즈)를 늘어놓아 구성되어 있으며, 플라이 아이 렌즈(파리 눈 렌즈)라고도 불린다. 각 렌즈 세그먼트로부터 출사되는 광(L)이, 조사 영역(6) 상에서 중첩됨으로써, 조도가 균일화된다. The integrator lens 32 is disposed on the optical path of the light L reflected by the plane mirror 31 and equalizes the illuminance distribution of the light L irradiated to the irradiation area 6. The integrator lens 32 is constructed by arranging a plurality of lens segments (a plurality of minute lenses), and is also called a fly's eye lens. The light L emitted from each lens segment overlaps on the irradiation area 6, thereby uniformizing the illuminance.

콜리메이터 미러(33)는, 인터그레이터 렌즈(32)로부터 출사된 광(L)을, 하방 측으로 꺾어, 평행광으로서 출사한다. 콜리메이터 미러(33)에 의해 평행광으로서 반사된 광(L)은, 편광판(34)을 통하여, 조사 영역(6)에 조사된다. The collimator mirror 33 bends the light L emitted from the integrator lens 32 downward and emits it as parallel light. The light L reflected as parallel light by the collimator mirror 33 is irradiated to the irradiation area 6 through the polarizing plate 34.

조사 영역(6)의 형상은, 인터그레이터 렌즈(32)를 구성하는 렌즈 세그먼트의 형상과 상사형을 이룬다. The shape of the irradiation area 6 is similar to the shape of the lens segment constituting the integrator lens 32.

광 조사 유닛(25)의 구체적인 구성은 한정되지 않고, 임의의 구성이 채용되어도 된다. The specific configuration of the light irradiation unit 25 is not limited, and any configuration may be adopted.

예를 들면, 콜리메이터 미러(33) 대신에, 반사경(평면경)과 콜리메이터 렌즈를 배치하고, 반사경(평면경)에 의해 광로를 꺾어, 콜리메이터 렌즈에 입사시켜, 콜리메이터 렌즈로부터 평행광을 출사하는 구성으로 해도 된다. 또한, 평행광은 워크(W)의 표면에 수직인 방향에 대해, 약 0~70도의 범위에서 조사한다. For example, instead of the collimator mirror 33, a reflector (plane mirror) and a collimator lens are placed, the light path is bent by the reflector (plane mirror), the light path is made to enter the collimator lens, and parallel light is emitted from the collimator lens. do. Additionally, parallel light is irradiated in a range of approximately 0 to 70 degrees in a direction perpendicular to the surface of the work W.

또, 광 조사 장치(1)가, 액정 소자의 배향막이나 시야각 보상 필름의 배향층들 등 광 배향막에 대한 배향 처리와는 상이한 용도로 이용되는 경우 등에 있어서, 편광판(34)이 배치되지 않는 구성도 있을 수 있다. In addition, in the case where the light irradiation device 1 is used for a purpose different from the alignment treatment for a photo alignment film, such as an alignment layer of a liquid crystal element or an alignment layer of a viewing angle compensation film, there is also a configuration in which the polarizing plate 34 is not disposed. There may be.

도 12에 나타내는 바와 같이, 복수의 광 조사 유닛(25)을 늘어놓아 배치함으로써, 폭 방향(Y 방향)의 사이즈가 큰 대형의 워크(W)에 대해, 적산 구성 균일 구성을 용이하게 실현하는 것이 가능하다. 이 결과, 대형의 워크(W)에 대해, 조사광(L)의 적산 광량의 균일성을 향상시키는 것이 가능해진다. As shown in FIG. 12, by arranging a plurality of light irradiation units 25 in a row, it is possible to easily realize a uniform integrated configuration for a large workpiece W having a large size in the width direction (Y direction). possible. As a result, it becomes possible to improve the uniformity of the accumulated amount of irradiated light L for the large workpiece W.

도 14는, 광 조사 유닛의 다른 구성예를 나타내는 모식도이다. Figure 14 is a schematic diagram showing another configuration example of a light irradiation unit.

도 14에 나타내는 예에서는, 제1의 조사 영역군(9a)에 대해, 폭 방향(Y 방향)으로 연장되는 1개의 광 조사 유닛(36a)이 배치된다. 또 제2의 조사 영역군(9b)에 대해, 폭 방향(Y 방향)으로 연장되는 1개의 광 조사 유닛(36b)이 배치된다. In the example shown in FIG. 14 , one light irradiation unit 36a extending in the width direction (Y direction) is disposed in the first irradiation area group 9a. Additionally, one light irradiation unit 36b extending in the width direction (Y direction) is disposed in the second irradiation area group 9b.

이와 같이, 다단으로 배치되는 복수의 조사 영역군(9) 각각에 대응하여, 1개씩 광 조사 유닛(36)이 구성되어도 된다. In this way, one light irradiation unit 36 may be configured to correspond to each of the plurality of irradiation area groups 9 arranged in multiple stages.

예를 들면, 도 2에 예시하는 바와 같은 적산 광량 균일 구성 등에 있어서, 조사 영역(6)이 서로 인접하는 경우에는, 조사 영역군(9)을 합하여 조사하는 광 조사 유닛(36)이 유리해지는 경우도 많다. For example, in the uniform integrated light amount configuration as illustrated in FIG. 2, when the irradiation areas 6 are adjacent to each other, the light irradiation unit 36 that irradiates the irradiation area group 9 in combination is advantageous. There are also many.

광 조사 유닛(36)의 내부의 구성예로는, 예를 들면, 도 13a 및 도 13b에 예시하는 내부의 구성을 채용하는 것이 가능하다. 예를 들면, 광 조사 유닛(36)의 내부에, 도 13a 및 도 13b에 예시하는 내부의 구성을, 조사 영역(6)에 대응하여 복수 늘어서도록 배치한다. As an example of the internal configuration of the light irradiation unit 36, for example, it is possible to adopt the internal configuration illustrated in FIGS. 13A and 13B. For example, inside the light irradiation unit 36, a plurality of the internal structures illustrated in FIGS. 13A and 13B are arranged in a row corresponding to the irradiation area 6.

이에 따라, 조사 영역군(9)을 합하여 조사 가능한 광 조사 유닛(36)을 실현하는 것이 가능해진다. Accordingly, it becomes possible to realize a light irradiation unit 36 that can be irradiated by combining the irradiation area group 9.

혹은, 각 조사 영역군(9)에 있어서, 인접하는 복수의 조사 영역(6)에 대해, 램프 등을 공통으로 배치하는 구성이 채용되어도 된다. Alternatively, in each irradiation area group 9, a configuration in which lamps etc. are commonly arranged for a plurality of adjacent irradiation areas 6 may be adopted.

예를 들면, 서로 인접하는 2개의 조사 영역(6)에 대해, 인터그레이터 렌즈(32)는 1개씩 배치한다. 한편, 램프는, 폭 방향(Y 방향)으로 연장되는 봉형의 램프를, 2개의 조사 영역(6)에 대해 공통으로 이용한다는 구성도 가능하다. For example, one integrator lens 32 is disposed in two irradiation areas 6 adjacent to each other. On the other hand, it is also possible to use a rod-shaped lamp extending in the width direction (Y direction) in common for the two irradiation areas 6.

물론, 3개 이상의 조사 영역(6)에 대해, 1개의 램프 등을 이용하는 것도 가능하다. 그 외에, 임의의 구성이 채용되어도 된다. Of course, it is also possible to use one lamp or the like for three or more irradiation areas 6. In addition, any configuration may be adopted.

도 12에 예시하는 광 조사 유닛(25)에서는, 복수의 광 조사 유닛(25) 각각에 탑재되는 램프(29) 및 집광 미러(30)의 세트가, 도 1에 나타내는 광원부(7)로서 기능한다. 또 복수의 광 조사 유닛(25)의 수만큼 배치되는, 램프(29) 및 집광 미러(30)의 복수의 세트가, 복수의 광원의 일 실시 형태가 된다. In the light irradiation unit 25 illustrated in FIG. 12, a set of lamps 29 and condensing mirrors 30 mounted on each of the plurality of light irradiation units 25 functions as the light source unit 7 shown in FIG. 1. . Additionally, a plurality of sets of lamps 29 and condensing mirrors 30 arranged as many as the plurality of light irradiation units 25 constitute an embodiment of a plurality of light sources.

또, 복수의 광 조사 유닛(25) 각각에 탑재되는, 평면 미러(31), 인터그레이터 렌즈(32), 콜리메이터 미러(33), 및 편광판(34)이, 도 1에 나타내는 조사부(8)로서 기능한다. 또, 평면 미러(31), 인터그레이터 렌즈(32), 콜리메이터 미러(33), 및 편광판(34)은, 광원으로부터 출사된 광을, 대응하는 조사 영역에 조사하는 복수의 광학 부품의 일 실시 형태가 된다. In addition, the flat mirror 31, the integrator lens 32, the collimator mirror 33, and the polarizing plate 34 mounted on each of the plurality of light irradiation units 25 serve as the irradiation unit 8 shown in FIG. 1. It functions. In addition, the flat mirror 31, the integrator lens 32, the collimator mirror 33, and the polarizer 34 are one embodiment of a plurality of optical components that irradiate the light emitted from the light source to the corresponding irradiation area. It becomes.

도 14에 예시하는 광 조사 유닛(36)도 마찬가지로, 각 광 조사 유닛(36)에 탑재되는 램프 등이, 도 1에 나타내는 광원부(7)로서 기능한다. 또, 복수의 조사 영역(6)에 대응하여 배치되는 인터그레이터 렌즈(32) 등이, 도 1에 나타내는 조사부(8)로서 기능한다. The light irradiation unit 36 illustrated in FIG. 14 is also similar, and the lamp mounted on each light irradiation unit 36 functions as the light source unit 7 shown in FIG. 1 . Additionally, the integrator lens 32 and the like arranged corresponding to the plurality of irradiation areas 6 function as the irradiation portion 8 shown in FIG. 1 .

광원부(7)로서, 수은 램프 이외의 광원이 이용되어도 된다. 예를 들면, 자외광과는 상이한 파장 대역의 광을 출사하는 램프가 이용되어도 된다. As the light source unit 7, a light source other than a mercury lamp may be used. For example, a lamp that emits light in a different wavelength band from ultraviolet light may be used.

그 외에, LED(Light Emitting Diode)나 LD(Laser Diode) 등의 고체 광원이 이용되어도 된다. In addition, a solid light source such as LED (Light Emitting Diode) or LD (Laser Diode) may be used.

예를 들면, 도 13a 및 도 13b에 나타내는 광 조사 유닛(25)에 대해, 램프(29) 및 집광 미러(30)의 세트 대신에, LED나 LD의 어레이 광원을 배치하는 것도 가능하다. For example, in the light irradiation unit 25 shown in FIGS. 13A and 13B, it is possible to arrange an array light source of LED or LD instead of the set of lamp 29 and condensing mirror 30.

[인터그레이터 렌즈의 구성][Configuration of the integrator lens]

도 15a 및 도 15b는, 도 13a 및 도 13b에 나타내는 인터그레이터 렌즈(32)의 출사면(38)의 구성예를 나타내는 모식도이다. 출사면(38)은, 광축(O)을 따라 출사측으로부터 인터그레이터 렌즈(32)를 본 경우의, 광(L)이 출사되는 면이다. FIGS. 15A and 15B are schematic diagrams showing an example of the configuration of the exit surface 38 of the integrator lens 32 shown in FIGS. 13A and 13B. The emission surface 38 is a surface from which light L is emitted when the integrator lens 32 is viewed from the emission side along the optical axis O.

인터그레이터 렌즈(32)는, 복수의 렌즈 세그먼트(39)를 포함한다. 도 15a 및 도 15b에 나타내는 바와 같이, 인터그레이터 렌즈(32)의 출사면(38)을 광축(O)을 따라 본 경우, 복수의 렌즈 세그먼트(39) 각각의 출사면(40)이 밀집해서 배치된다. The integrator lens 32 includes a plurality of lens segments 39. 15A and 15B, when the emission surface 38 of the integrator lens 32 is viewed along the optical axis O, the emission surfaces 40 of each of the plurality of lens segments 39 are arranged densely. do.

인터그레이터 렌즈(32)로부터 출사되는 광이 조사되는 영역의 형상은, 광축(O)을 따라 본 경우의, 각 렌즈 세그먼트(39)의 출사면(40)의 형상과 같아진다. The shape of the area where the light emitted from the integrator lens 32 is irradiated becomes the same as the shape of the emission surface 40 of each lens segment 39 when viewed along the optical axis O.

렌즈 세그먼트(39)는, 본 기술에 따른 복수의 렌즈의 일 실시 형태에 상당한다. The lens segment 39 corresponds to one embodiment of a plurality of lenses according to the present technology.

적산 광량 균일 구성을 실현하는데 있어서, 조사 영역(6)의 형상은 매우 중요하다. In realizing a uniform integrated light amount configuration, the shape of the irradiation area 6 is very important.

도 12에 나타내는 바와 같이, 복수의 조사 영역(6)에 대응하여, 복수의 조사 영역(6) 각각의 조도 분포를 균일화하는 복수의 인터그레이터 렌즈(32)를 배치한다. 즉, 복수의 조사 영역(6) 각각에 대해, 1개씩 인터그레이터 렌즈(32)를 배치한다. As shown in FIG. 12, a plurality of integrator lenses 32 are disposed to equalize the illuminance distribution of each of the plurality of irradiation areas 6, corresponding to the plurality of irradiation areas 6. That is, one integrator lens 32 is disposed for each of the plurality of irradiation areas 6.

그리고, 인터그레이터 렌즈(32)에 포함되는 렌즈 세그먼트(39)의 출사면(40)의 형상을, 조사 영역(6)의 형상과 같아지도록 설계한다. 즉, 복수의 조사 영역(6)에 대응하여 배치되는 복수의 인터그레이터 렌즈(32)로서, 출사면(40)의 형상이 조사 영역(6)과 같은 형상이 되는 복수의 렌즈 세그먼트(39)를 포함하는 인터그레이터 렌즈를 배치한다. Then, the shape of the emission surface 40 of the lens segment 39 included in the integrator lens 32 is designed to be the same as the shape of the irradiation area 6. That is, a plurality of integrator lenses 32 arranged corresponding to the plurality of irradiation areas 6, and a plurality of lens segments 39 whose shape of the emission surface 40 is the same as that of the irradiation area 6. Place the integrator lens containing.

이에 따라, 조사 영역(6)의 형상을, 용이하게, 적산 광량 균일 구성을 실현하기 위해 필요한 형상으로 하는 것이 가능하다. Accordingly, it is possible to easily shape the irradiation area 6 into the shape necessary to realize a uniform integrated light quantity configuration.

도 15a에 나타내는 예에서는, 각 렌즈 세그먼트(39)의 출사면(40)의 형상이, 정사각형이 되도록 설계되어 있다. 그리고, 조사 영역(6)의 2개의 대각선 방향이 반송 방향(X 방향) 및 폭 방향(Y 방향)을 따르도록, 각 렌즈 세그먼트(39)의 출사면(40)의 방향도 설정되어 있다. In the example shown in FIG. 15A, the shape of the emission surface 40 of each lens segment 39 is designed to be square. In addition, the direction of the emission surface 40 of each lens segment 39 is also set so that the two diagonal directions of the irradiation area 6 follow the conveyance direction (X direction) and the width direction (Y direction).

도 15a에 나타내는 예에서는, 정사각형으로 이루어지는 출사면(40)의 2개의 대각선이 Z 방향 및 Y 방향을 따르도록, 인터그레이터 렌즈(32)의 방향이 설정된다. 이에 따라, 도 13a 및 도 13b에 나타내는 콜리메이터 미러(33)에 의해 하방으로 반사된 광(L)은, 2개의 대각선 방향이 반송 방향(X 방향) 및 폭 방향(Y 방향)을 따르도록 설정된 조사 영역(6)에 조사된다. In the example shown in FIG. 15A, the direction of the integrator lens 32 is set so that the two diagonals of the square exit surface 40 follow the Z direction and the Y direction. Accordingly, the light L reflected downward by the collimator mirror 33 shown in FIGS. 13A and 13B is irradiated with the two diagonal directions set to follow the conveyance direction (X direction) and the width direction (Y direction). Area (6) is investigated.

도 15a에 나타내는 인터그레이터 렌즈(32)를 이용함으로써, 도 2나 도 14에 나타내는 적산 광량 균일 구성을 용이하게 실현하는 것이 가능해진다. By using the integrator lens 32 shown in Fig. 15A, it becomes possible to easily realize the uniform integrated light quantity configuration shown in Figs. 2 and 14.

도 15b에 나타내는 예에서는, 각 렌즈 세그먼트(39)의 출사면(40)의 형상이, 정육각형이 되도록 설계되어 있다. 그리고, 조사 영역(6)의 1쌍의 대변(15a 및 15b)이, 반송 방향(X 방향)을 따라 서로 대향하며, 폭 방향(Y 방향)에 평행이 되도록, 각 렌즈 세그먼트(39)의 출사면(40)의 방향도 설정되어 있다. In the example shown in FIG. 15B, the shape of the emission surface 40 of each lens segment 39 is designed to be a regular hexagon. Then, the emission of each lens segment 39 is performed so that the pair of opposite sides 15a and 15b of the irradiation area 6 face each other along the conveyance direction (X direction) and are parallel to the width direction (Y direction). The direction of the face 40 is also set.

도 15b에 나타내는 예에서는, 정육각형으로 이루어지는 출사면(40)의 1쌍의 대변(41a 및 41b)이, Z 방향을 따라 서로 대향하며, Y 방향에 평행이 되도록, 인터그레이터 렌즈(32)의 방향이 설정된다. 이에 따라, 도 13a 및 도 13b에 나타내는 콜리메이터 미러(33)에 의해 하방으로 반사된 광(L)은, 1쌍의 대변(15a 및 15b)이, 반송 방향(X 방향)을 따라 서로 대향하며, 폭 방향(Y 방향)에 평행이 되도록 설정된 조사 영역(6)에 조사된다. In the example shown in FIG. 15B, the direction of the integrator lens 32 is such that a pair of opposite sides 41a and 41b of the regular hexagonal emission surface 40 face each other along the Z direction and are parallel to the Y direction. This is set. Accordingly, the light L reflected downward by the collimator mirror 33 shown in FIGS. 13A and 13B has a pair of opposite sides 15a and 15b opposing each other along the conveyance direction (X direction), It is irradiated to an irradiation area 6 set to be parallel to the width direction (Y direction).

도 15b에 나타내는 인터그레이터 렌즈(32)를 이용함으로써, 도 4나 도 12에 나타내는 적산 광량 균일 구성을 용이하게 실현하는 것이 가능해진다. By using the integrator lens 32 shown in FIG. 15B, it becomes possible to easily realize the uniform integrated light quantity configuration shown in FIG. 4 or FIG. 12.

물론 도 12나 도 14에 예시하는 적산 광량 균일 구성에만 한정되는 것은 아니다. Of course, this is not limited to the uniform integrated light quantity configuration illustrated in Figures 12 and 14.

도 15a 및 도 15b에 나타내는 바와 같은 인터그레이터 렌즈(32)를 구성할 때에, 각 렌즈 세그먼트(39)의 출사면(40)을 조밀하게 배치함으로써, 광을 유효 이용하는 것이 가능해진다. 렌즈 세그먼트(39)의 출사면(40)의 사이에 간극이 존재하면, 광의 손실의 원인이 되어 버린다. When constructing the integrator lens 32 as shown in FIGS. 15A and 15B, it becomes possible to effectively utilize light by densely arranging the exit surface 40 of each lens segment 39. If a gap exists between the emission surfaces 40 of the lens segments 39, it will cause loss of light.

따라서, 렌즈 세그먼트(39)의 출사면(40)의 형상을 제어함으로써, 조사 영역(6)의 형상을 제어하는 방법을 채용할 때에는, 같은 형상으로 이루어지는 렌즈 세그먼트(39)의 출사면(40)을, 같은 방향이 되도록 밀집해서 배치하는 것이 가능한 형상이 유리해진다. Therefore, when adopting a method of controlling the shape of the irradiation area 6 by controlling the shape of the emission surface 40 of the lens segment 39, the emission surface 40 of the lens segment 39 has the same shape. It is advantageous to have a shape that allows them to be arranged densely in the same direction.

그와 같은 형상으로는, 도 2나 도 10a에 예시하는 마름모꼴(정사각형을 포함한다), 및 도 4나 도 10b에 예시하는 육각형이 유리해진다. As such shapes, the diamonds (including squares) shown in Figures 2 and 10A and the hexagons shown in Figures 4 and 10B are advantageous.

물론, 이와 같은 형상에 한정되지 않고, 다른 같은 형상이며 또한 같은 방향으로 조밀하게 배치 가능한 다른 형상이 채용되어도 된다. Of course, it is not limited to this shape, and other shapes that have the same shape and can be densely arranged in the same direction may be adopted.

도 10c에 예시하는 바와 같은 삼각형에서는, 방향을 반대로 하면, 조밀하게 배치하여 인터그레이터 렌즈(32)를 구성하는 것이 가능해진다. 그러나, 도 10c에 나타내는 예에서는, 제1의 조사 영역군(9a)이나 제2의 조사 영역군(9b)은, 방향이 규정된 삼각형으로 조사 영역(6)이 설정되어 있다. In a triangle as illustrated in FIG. 10C, if the direction is reversed, it becomes possible to configure the integrator lens 32 by densely arranging it. However, in the example shown in FIG. 10C, the irradiation area 6 of the first irradiation area group 9a or the second irradiation area group 9b is set as a triangle with a defined direction.

이 경우, 같은 방향의 삼각형으로 이루어지는 출사면(40)에서는, 조밀하게 배치하는 것이 어렵기 때문에, 광의 손실이 발생해 버릴 가능성이 높다. In this case, since it is difficult to densely arrange the emission surfaces 40 made of triangles in the same direction, there is a high possibility that light loss will occur.

물론, 도 10c에 예시하는 적산 광량 균일 구성을 실현하기 위해, 렌즈 세그먼트(39)의 출사면(40)의 형상을 삼각형으로 설계하는 방법이 채용되어도 된다. Of course, in order to realize the uniform integrated light amount configuration illustrated in FIG. 10C, a method of designing the shape of the exit surface 40 of the lens segment 39 into a triangle may be adopted.

또한, 도 10a~도 10c 및 도 11a~도 11c를 참조하여, 폭 방향(Y 방향)을 따라 구성되는 조사 영역군(9)을, 반송 방향(X 방향)을 따라 적은 단수로 배치한다. 이에 따라, 반송 방향(X 방향)에 있어서, 광(L)을 조사하는데 필요한 스페이스를 작게 하는 것이 가능해져, 장치의 소형화에 유리해진다. Additionally, with reference to FIGS. 10A to 10C and FIGS. 11A to 11C, the irradiation area group 9 configured along the width direction (Y direction) is arranged in a small number of stages along the conveyance direction (X direction). Accordingly, it becomes possible to reduce the space required to irradiate the light L in the conveyance direction (X direction), which is advantageous for miniaturization of the device.

광 조사 유닛(25) 등의 구성에 따라서는, 도 10a에 나타내는 바와 같은 서로 인접하는 조사 영역(6)을 폭 방향(Y 방향)을 따라 연속적으로 설정하는 것이 어려운 경우도 있을 수 있다. 그와 같은 경우에는, 예를 들면 도 11a에 나타내는 바와 같은 4단의 구성, 도 11b에 나타내는 바와 같은 경사 방향을 따른 구성, 도 11c에 나타내는 바와 같은 반송 방향(X 방향)을 따라 랜덤으로 시프트하는 구성 등을 채용함으로써, 용이하게 적산 광량 균일 구성을 실현하는 것이 가능해진다. Depending on the configuration of the light irradiation unit 25 or the like, it may be difficult to continuously set adjacent irradiation areas 6 as shown in FIG. 10A along the width direction (Y direction). In such a case, for example, a four-stage configuration as shown in FIG. 11A, a configuration along the oblique direction as shown in FIG. 11B, and a random shift along the conveyance direction (X direction) as shown in FIG. 11C. By adopting a configuration, etc., it becomes possible to easily realize a configuration with uniform integrated light amount.

[광 조사 방법][Light irradiation method]

광 조사 장치(1)에 의한 광 조사 방법에 대해서 설명한다. The light irradiation method using the light irradiation device 1 will be described.

본 광 조사 방법은, 반송 방향(X 방향)을 따라 반송되는 워크(W)에 광(L)을 조사하는 광 조사 방법이며, 적산 광량 균일 구성을 실현하는 복수의 조사 영역(6)에, 광(L)을 조사하는 방법이다. This light irradiation method is a light irradiation method in which light L is irradiated to a work W conveyed along the conveyance direction (X direction), and light is applied to a plurality of irradiation areas 6 that realize a uniform integrated light amount configuration. This is a method of investigating (L).

구체적으로는, 도 1에 나타내는 광원부(7)로부터 광을 출사시키는 단계와, 광원부(7)로부터 출사되는 광(L)을, 워크(W)의 조사 대상 영역(R)에 대해, 복수의 조사 영역(6)으로 나누어, 복수의 조사 영역(6) 각각의 조도가 같아지도록 조사하는 단계를 구비한다. Specifically, a step of emitting light from the light source unit 7 shown in FIG. 1 and a plurality of irradiation of the light L emitted from the light source unit 7 to the irradiation target area R of the work W A step of dividing into areas 6 and irradiating each of the plurality of irradiation areas 6 so that the illuminance is the same is provided.

적산 광량 균일 구성을 실현하는 복수의 조사 영역(6), 광원부(7), 및 조사부(8)로는, 상기에서 설명한 다양한 구성을 채용하는 것이 가능하다. It is possible to adopt the various configurations described above as the plurality of irradiation areas 6, light source section 7, and irradiation section 8 that realize a configuration of uniform integrated light amount.

이상, 본 실시 형태에 따른 광 조사 장치(1)에서는, 조사 대상 영역(R)의 폭 방향(Y 방향)을 따른 각 위치에서, 복수의 조사 영역(6)을 통과하는 거리의 합계가 같아지도록 구성된다. 이에 따라, 조사 대상 영역(R)의 폭 방향(Y 방향)을 따른 각 위치에서, 적산 광량을 균일하게 하는 것이 가능해진다. As mentioned above, in the light irradiation device 1 according to the present embodiment, the total distance passing through the plurality of irradiation areas 6 is the same at each position along the width direction (Y direction) of the irradiation target area R. It is composed. Accordingly, it becomes possible to make the accumulated light amount uniform at each position along the width direction (Y direction) of the irradiation target area R.

또, 각 조사 영역(6)은, 다른 조사 영역(6)과의 사이에서 오버랩 영역(10)이 발생하도록 설정된다. 서로의 오버랩 영역(10)은, 폭 방향(Y 방향)에 있어서 같은 방향으로 진행된 경우에, 반송 방향(X 방향)에 있어서의 사이즈의 증감이 반대의 관계가 되도록 설정된다. 이에 따라, 조사 영역의 위치가 폭 방향(Y 방향)에 있어서 어긋난 경우에도, 폭 방향(Y 방향)을 따른 각 위치에 있어서의 적산 광량에 대한 영향을 충분히 억제하는 것이 가능해진다. Additionally, each irradiation area 6 is set so that an overlap area 10 is generated between the other irradiation areas 6. The overlap areas 10 are set so that when they advance in the same direction in the width direction (Y direction), the increase or decrease in size in the conveyance direction (X direction) has an opposite relationship. Accordingly, even when the position of the irradiated area is shifted in the width direction (Y direction), it becomes possible to sufficiently suppress the influence on the accumulated light amount at each position along the width direction (Y direction).

본 광 조사 장치(1)를 이용함으로써, 대형의 워크(W)에 대해, 조사광(L)의 적산 광량의 균일성을 향상시키는 것이 가능해진다. By using this light irradiation device 1, it becomes possible to improve the uniformity of the accumulated amount of irradiation light L for the large workpiece W.

광 조사 장치(1)를 적용 가능한 분야는 한정되지 않고, 임의의 용도로 광 조사 장치(1)를 이용하는 것이 가능한다. The fields to which the light irradiation device 1 can be applied are not limited, and the light irradiation device 1 can be used for any purpose.

예를 들면, 상기한 바와 같이, 액정 소자의 배향막이나 시야각 보상 필름의 배향층들 등 광 배향막에 대한 배향 처리에, 본 기술을 적용하는 것이 가능하다. For example, as described above, it is possible to apply the present technology to alignment processing for photo-alignment films, such as the alignment film of a liquid crystal device or the alignment layers of a viewing angle compensation film.

또, 워크(W)에 광을 조사하여, 광화학 반응에 의해 워크(W)의 표면 개질 등을 행하는 용도에, 본 기술을 적용하는 것도 가능하다. In addition, the present technology can also be applied to applications where light is irradiated to the work W and the surface of the work W is modified through a photochemical reaction.

또, 프린트 기판 또는 액정 패널용의 유리 기판 등의 대형의 기판에 대해, 광 조사 장치(1)에 의해 노광을 행하여, 소정의 패턴을 형성하는 것도 가능하다. In addition, it is also possible to form a predetermined pattern by exposing a large substrate such as a printed circuit board or a glass substrate for a liquid crystal panel to light using the light irradiation device 1.

그 외에, 균일한 적산 광량으로 광을 조사하는 것이 요구되는 임의의 분야나 시스템에, 본 광 조사 장치(1)를 사용하는 것이 가능하다. In addition, the present light irradiation device 1 can be used in any field or system that requires irradiation of light with a uniform integrated light amount.

[부품의 제조 방법][Part manufacturing method]

본 기술에 따른 부품의 제조 방법으로서, 광 조사 장치(1)를 이용하여 부품에 광을 조사하는 공정을 포함하는 임의의 방법을 실시하는 것이 가능하다. As a method of manufacturing a part according to the present technology, it is possible to implement any method including a step of irradiating light to the part using the light irradiation device 1.

예를 들면, 광 조사 장치(1)를 이용하여 배향 처리를 행함으로써, 광 배향막을 포함하는 다양한 부품을 제조하는 것이 가능하다. For example, by performing alignment treatment using the light irradiation device 1, it is possible to manufacture various parts containing a photo-alignment film.

또, 광 조사 장치(1)를 이용하여 표면 개질 등을 행함으로써, 다양한 부품을 제조하는 것이 가능하다. In addition, it is possible to manufacture various parts by performing surface modification, etc. using the light irradiation device 1.

또, 광 조사 장치(1)를 이용하여 노광을 행함으로써, 소정의 패턴이 형성된 다양한 기판을, 부품으로서 제조하는 것이 가능해진다. 예를 들면, 부품으로서, 전기 회로 소자, 광학 소자, MEMS, 기록 소자, 센서, 혹은, 형태 등을 제조하는 것이 가능하다. Additionally, by performing exposure using the light irradiation device 1, it becomes possible to manufacture various substrates on which a predetermined pattern is formed as parts. For example, it is possible to manufacture electric circuit elements, optical elements, MEMS, recording elements, sensors, or forms as parts.

전기 회로 소자로는, DRAM, SRAM, 플래쉬 메모리, MRAM와 같은, 휘발성 혹은 불휘발성의 반도체 메모리나, LSI, CCD, 이미지 센서, FPGA와 같은 반도체 소자 등을 들 수 있다. 형(型)으로는, 임프린트용의 몰드 등을 들 수 있다. Electric circuit elements include volatile or non-volatile semiconductor memories such as DRAM, SRAM, flash memory, and MRAM, and semiconductor elements such as LSI, CCD, image sensors, and FPGA. Examples of the mold include a mold for imprinting.

<그 외의 실시 형태><Other embodiments>

본 발명은, 이상 설명한 실시 형태에 한정되지 않고, 다른 다양한 실시 형태를 실현할 수 있다. The present invention is not limited to the embodiments described above and can realize various other embodiments.

[로드 렌즈의 단면 형상의 설계][Design of cross-sectional shape of rod lens]

복수의 조사 영역(6) 각각의 조도 분포를 균일화하기 위해, 도 13a 및 도 13b에 나타내는 인터그레이터 렌즈(32) 대신에, 로드 렌즈를 이용하는 것도 가능하다. 로드 렌즈는 예를 들면, 도 13a 및 도 13b에 나타내는 인터그레이터 렌즈(32)와 거의 같은 위치에 배치하는 것이 가능하며, 그 도면은 생략한다. In order to equalize the illuminance distribution in each of the plurality of irradiation areas 6, it is also possible to use a rod lens instead of the integrator lens 32 shown in FIGS. 13A and 13B. For example, the rod lens can be placed at almost the same position as the integrator lens 32 shown in FIGS. 13A and 13B, and the drawings are omitted.

로드 렌즈는 일 방향으로 연장되는 기둥 형상을 갖고, 한쪽의 단면을 광 입사면으로 하고, 다른쪽의 단면이 광 출사면이 된다. 광 입사면에 입사한 광은 로드 렌즈 내에서 반사를 반복하여, 인터그레이터 렌즈(32)와 마찬가지로, 조사 영역(6)에 조사되는 광의 조도 분포를 균일하게 하는 것이 가능하다. The rod lens has a pillar shape extending in one direction, with one cross section serving as a light incident surface and the other cross section serving as a light exit surface. The light incident on the light incident surface is repeatedly reflected within the rod lens, making it possible to make the illuminance distribution of the light irradiated to the irradiation area 6 uniform, similar to the integrator lens 32.

예를 들면, 복수의 조사 영역(6)에 대응하여, 복수의 조사 영역(6) 각각의 조도 분포를 균일화하는 복수의 로드 렌즈를 배치한다. 즉, 복수의 조사 영역(6) 각각에 대해, 1개씩 로드 렌즈를 배치한다. For example, in correspondence with the plurality of irradiation areas 6, a plurality of rod lenses are arranged to equalize the illuminance distribution of each of the plurality of irradiation areas 6. That is, one rod lens is disposed in each of the plurality of irradiation areas 6.

그리고, 로드 렌즈의 광축 방향(광의 출사 방향)에 직교하는 단면의 형상을, 조사 영역(6)의 형상과 같아지도록 설계한다. 즉, 복수의 조사 영역(6)에 대응하여 배치되는 복수의 로드 렌즈로서, 광축 방향에 직교하는 단면의 형상이, 조사 영역(6)과 같은 형상이 되는 로드 렌즈를 배치한다. Then, the shape of the cross section perpendicular to the optical axis direction (light emission direction) of the rod lens is designed to be the same as the shape of the irradiation area 6. That is, a plurality of rod lenses are arranged to correspond to the plurality of irradiation areas 6, and a cross-sectional shape perpendicular to the optical axis direction is the same as that of the irradiation areas 6.

이에 따라, 조사 영역(6)의 형상을, 용이하게, 적산 광량 균일 구성을 실현하기 위해 필요한 형상으로 하는 것이 가능하다. Accordingly, it is possible to easily shape the irradiation area 6 into the shape necessary to realize a uniform integrated light quantity configuration.

예를 들면, 광축 방향에 직교하는 단면의 형상을 마름모꼴로 설계하여, 로드 렌즈를 배치하는 방향을 적절히 설정한다. 이에 따라, 도 2나 도 14에 나타내는 적산 광량 균일 구성을 용이하게 실현하는 것이 가능해진다. For example, the cross-sectional shape perpendicular to the optical axis direction is designed to be diamond-shaped, and the direction in which the rod lens is placed is appropriately set. Accordingly, it becomes possible to easily realize the uniform integrated light amount configuration shown in Fig. 2 or Fig. 14.

또, 광축 방향에 직교하는 단면의 형상을 육각형으로 설계하여, 로드 렌즈를 배치하는 방향을 적절히 설정한다. 도 4나 도 12에 나타내는 적산 광량 균일 구성을 용이하게 실현하는 것이 가능해진다. Additionally, the cross-sectional shape perpendicular to the optical axis direction is designed to be hexagonal, and the direction in which the rod lens is placed is appropriately set. It becomes possible to easily realize the uniform integrated light amount configuration shown in Figures 4 and 12.

예를 들면, 광축 방향에 직교하는 단면의 형상을 삼각형으로 설계하여, 로드 렌즈를 배치하는 방향을 적절히 설정한다. 이에 따라, 도 10c에 예시하는 적산 광량 균일 구성을 용이하게 실현하는 것도 가능해진다. For example, the cross-sectional shape perpendicular to the optical axis direction is designed to be a triangle, and the direction in which the rod lens is placed is appropriately set. Accordingly, it becomes possible to easily realize the uniform integrated light amount configuration illustrated in FIG. 10C.

그 외에, 임의의 형상의 조사 영역(6)에 적용하는 것이 가능하다. In addition, it is possible to apply it to the irradiation area 6 of any shape.

[차광판의 광 투과 영역의 형상의 설계][Design of the shape of the light transmission area of the light blocking plate]

도 16a 및 도 16b는, 광 조사 유닛의 다른 구성예를 나타내는 모식도이다. 16A and 16B are schematic diagrams showing another example of the configuration of the light irradiation unit.

도 16a 및 도 16b에 나타내는 광 조사 유닛(43)에서는, 광(L)의 출사구에, 조사 영역(6)과 같은 형상의 광 투과 영역을 갖는 차광판(44)이 배치된다. In the light irradiation unit 43 shown in FIGS. 16A and 16B, a light blocking plate 44 having a light transmission area of the same shape as the irradiation area 6 is disposed at the exit port of the light L.

광 투과 영역의 전체를 포함하는 사이즈의 광속을 출사하는 것이 가능하면, 광 조사 유닛(43)의 내부의 구성은 임의로 설계되어 되고, 종래의 구성을 채용하는 것도 가능하다. As long as it is possible to emit a light flux of a size that includes the entire light transmission area, the internal configuration of the light irradiation unit 43 may be designed arbitrarily, and it is also possible to adopt a conventional configuration.

즉, 본 실시 형태에서는, 종래의 광 조사 유닛에, 본 기술에 따른 차광판(44)을 배치함으로써, 적산 광량 균일 구성을 용이하게 실현하는 것이 가능해진다. That is, in this embodiment, by disposing the light blocking plate 44 according to the present technology in a conventional light irradiation unit, it becomes possible to easily realize a uniform integrated light amount configuration.

예를 들면, 각 렌즈 세그먼트(39)의 출사면이 원형인 인터그레이터 렌즈나, 원기둥 혹은 각기둥의 로드 렌즈에 의해 구성된 광 조사 유닛을 이용하는 것도 가능하다. For example, it is also possible to use a light irradiation unit comprised of an integrator lens whose emission surface of each lens segment 39 is circular, or a cylindrical or prismatic rod lens.

도 17a, 도 17b, 도 18a 및 도 18b는, 차광판(44)의 일례를 나타내는 모식도이다. 17A, 17B, 18A, and 18B are schematic diagrams showing an example of the light blocking plate 44.

도 17a에 나타내는 차광판(44a)에서는, 정사각형으로 이루어지는 광 투과 영역(45)이 1개 형성되어 있다. 또한, 광 투과 영역(45)으로는, 관통 구멍이 구성되어도 되고, 유리 등의 광 투과 재료로 이루어지는 창부가 구성되어도 된다. In the light blocking plate 44a shown in FIG. 17A, one light transmission area 45 is formed in a square shape. Additionally, the light-transmitting area 45 may be formed of a through hole or a window portion made of a light-transmitting material such as glass.

예를 들면, 도 17a에 나타내는 차광판(44a)이 방향을 적절히 설정하여 광 조사 유닛(43)에 장착된다. 그리고, 복수의 조사 영역(6)에 대응하여, 광 조사 유닛(43)이 배치된다. 이에 따라, 예를 들면 도 11a~도 11c 등에 나타내는 적산 광량 균일 구성을 용이하게 실현하는 것이 가능해진다. For example, the light blocking plate 44a shown in FIG. 17A is mounted on the light irradiation unit 43 with its direction appropriately set. Then, light irradiation units 43 are arranged corresponding to the plurality of irradiation areas 6. Accordingly, it becomes possible to easily realize the uniform integrated light quantity configuration shown in, for example, FIGS. 11A to 11C.

도 17b에 나타내는 차광판(44b)에서는, 정육각형으로 이루어지는 광 투과 영역(45)이 1개 형성되어 있다. 본 차광판(44b)이 방향을 적절히 설정하여 광 조사 유닛(43)에 장착된다. 그리고, 복수의 조사 영역(6)에 대응하여, 광 조사 유닛(43)이 배치된다. 이에 따라, 예를 들면 도 12 등에 나타내는 적산 광량 균일 구성을 용이하게 실현하는 것이 가능해진다. In the light blocking plate 44b shown in FIG. 17B, one light transmission area 45 made of a regular hexagon is formed. This light blocking plate 44b is mounted on the light irradiation unit 43 with the direction appropriately set. Then, light irradiation units 43 are arranged corresponding to the plurality of irradiation areas 6. Accordingly, it becomes possible to easily realize, for example, the uniform integrated light amount configuration shown in Figure 12 and the like.

도 18a 및 도 18b에 나타내는 차광판(44c 및 44d)에서는, 조사 대상 영역(R)의 폭 방향(Y 방향)을 따라 늘어선 복수의 조사 영역(6)에 대응하는 복수의 광 투과 영역(45)이 형성되어 있다. 즉, 차광판(44c 및 44d)은, 조사 영역군(9) 각각에 대응하여 구성되어 있다. In the light blocking plates 44c and 44d shown in FIGS. 18A and 18B, a plurality of light transmission areas 45 corresponding to a plurality of irradiation areas 6 lined up along the width direction (Y direction) of the irradiation target area R are provided. It is formed. That is, the light blocking plates 44c and 44d are configured to correspond to each of the irradiation area groups 9.

도 18a에 나타내는 차광판(44c)에서는, 정사각형으로 이루어지는 복수의 광 투과 영역(45)이, 일 방향을 따라 늘어서도록 형성되어 있다. In the light blocking plate 44c shown in FIG. 18A, a plurality of square light transmission areas 45 are formed to line up in one direction.

예를 들면, 도 14에 예시한, 조사 영역군(9) 각각에 대응하여 1개씩 구성되는 광 조사 유닛(36)의 출사구에, 차광판(44c)을 배치한다. 이에 따라, 예를 들면 도 14 등에 나타내는 적산 광량 균일 구성을 용이하게 실현하는 것이 가능해진다. For example, the light blocking plate 44c is disposed at the exit port of the light irradiation unit 36, one of which is configured to correspond to each of the irradiation area groups 9 illustrated in FIG. 14 . Accordingly, it becomes possible to easily realize, for example, the uniform integrated light quantity configuration shown in Figure 14 and the like.

도 18b에 나타내는 차광판(44d)에서는, 육각형으로 이루어지는 복수의 광 투과 영역(45)이, 소정의 피치로 일 방향을 따라 늘어서도록 형성되어 있다. In the light blocking plate 44d shown in FIG. 18B, a plurality of hexagonal light transmission areas 45 are formed to line one direction at a predetermined pitch.

예를 들면, 도 14에 예시한, 조사 영역군(9) 각각에 대응하여 1개씩 구성되는 광 조사 유닛(36)의 출사구에, 차광판(44d)을 배치한다. 이에 따라, 예를 들면 도 4 등에 나타내는 적산 광량 균일 구성을 용이하게 실현하는 것이 가능해진다. For example, as illustrated in FIG. 14 , a light blocking plate 44d is disposed at the exit port of the light irradiation unit 36, one of which is configured to correspond to each of the irradiation area groups 9. Accordingly, it becomes possible to easily realize, for example, the uniform integrated light amount configuration shown in FIG. 4 and the like.

그 외에, 복수의 조사 영역(6)에 대해, 1개의 차광판(44)에 형성되는 광 투과 영역(45)의 수는 한정되지 않고, 임의로 설계되어도 된다. In addition, for the plurality of irradiation areas 6, the number of light transmission areas 45 formed on one light blocking plate 44 is not limited and may be designed arbitrarily.

도 17a, 도 17b, 도 18a 및 도 18b에 나타내는 차광판(44)은, 복수의 조사 영역(6)에 대응하여 배치되며, 조사 영역(6)과 같은 형상의 광 투과 영역을 갖는 1 이상의 차광판의 일 실시 형태에 상당한다. The light blocking plate 44 shown in FIGS. 17A, 17B, 18A and 18B is disposed corresponding to a plurality of irradiation areas 6 and is composed of one or more light blocking plates having a light transmission area of the same shape as the irradiation areas 6. It corresponds to one embodiment.

복수의 조사 영역(6)에 대응하여 배치되는 복수의 광 조사 유닛(25)에 포함되는 광학 부품으로서, 출사면(40)의 형상이 조사 영역(6)과 같은 형상이 되는 복수의 렌즈 세그먼트(39)를 포함하는 인터그레이터 렌즈(32), 단면의 형상이 조사 영역(6)과 같은 형상인 로드 렌즈, 또는 조사 영역(6)과 같은 형상의 광 투과 영역(45)을 갖는 차광판(44) 중 적어도 1개를 탑재한다. An optical component included in a plurality of light irradiation units 25 arranged corresponding to a plurality of irradiation areas 6, a plurality of lens segments ( an integrator lens 32 including 39), a rod lens whose cross-sectional shape is the same as that of the irradiation area 6, or a light blocking plate 44 having a light transmission area 45 of the same shape as the irradiation area 6. At least one of them is installed.

이에 따라, 조사 영역(6)의 형상을 용이하게, 적산 광량 균일 구성을 실현하기 위해 필요한 형상으로 하는 것이 가능하다. Accordingly, it is possible to easily shape the irradiation area 6 into the shape necessary to realize a uniform integrated light quantity configuration.

각 도면을 참조하여 설명한 광 조사 장치, 복수의 조사 영역, 적산 광량 균일 구성, 광 조사 유닛, 인터그레이터 렌즈, 차광판 등의 각 구성은 어디까지나 일 실시 형태이며, 본 기술의 취지를 일탈하지 않는 범위에서, 임의로 변형 가능하다. 즉 본 기술을 실시하기 위한 다른 임의의 구성이 채용되어도 된다. Each configuration such as light irradiation device, plural irradiation areas, integrated light quantity uniform configuration, light irradiation unit, integrator lens, light shielding plate, etc. described with reference to each drawing is an embodiment only and does not deviate from the spirit of the present technology. It can be modified arbitrarily. That is, any other configuration for implementing the present technology may be adopted.

본 개시에 있어서, 설명의 이해를 용이하게 하기 위해, 「대략」 「거의」 「대체로」 등의 문언이 적절히 사용되어 있다. 한편, 이들 「대략」 「거의」 「대체로」 등의 문언을 사용하는 경우와 사용하지 않는 경우에서, 명확한 차이가 규정되는 것은 아니다. In this disclosure, in order to facilitate understanding of the explanation, words such as “approximately,” “almost,” and “generally” are used appropriately. On the other hand, there is no clear difference between using and not using phrases such as “approximately,” “almost,” and “generally.”

즉, 본 개시에 있어서, 「중심」 「중앙」 「균일」 「동일하다」 「같다」 「직교」 「평행」 「대칭」 「연장」 「축 방향」 「원 기둥 형상」 「원통 형상」 「링 형상」 「원환 형상」 등의, 형상, 사이즈, 위치 관계, 상태 등을 규정하는 개념은, 「실질적으로 중심」 「실질적으로 중앙」 「실질적으로 균일」 「실질적으로 동일하다」 「실질적으로 같다」 「실질적으로 직교」 「실질적으로 평행」 「실질적으로 대칭」 「실질적으로 연장」 「실질적으로 축 방향」 「실질적으로 원기둥 형상」 「실질적으로 원통 형상」 「실질적으로 링 형상」 「실질적으로 원환 형상」 등을 포함하는 개념으로 한다. That is, in the present disclosure, "center", "center", "uniform", "identical", "equal", "orthogonal", "parallel", "symmetrical", "extended", "axial direction", "cylindrical shape", "cylindrical shape", and "ring". Concepts that define shape, size, positional relationship, state, etc., such as “shape” or “ring shape,” include “substantially centered,” “substantially central,” “substantially uniform,” “substantially the same,” and “substantially the same.” “Substantially perpendicular,” “Substantially parallel,” “Substantially symmetrical,” “Substantially extended,” “Substantially axial,” “Substantially cylindrical,” “Substantially cylindrical,” “Substantially ring-shaped,” “Substantially toroidal.” It is a concept that includes etc.

예를 들면 「완전하게 중심」 「완전하게 중앙」 「완전하게 균일」 「완전하게 동일하다」 「완전하게 같다」 「완전하게 직교」 「완전하게 평행」 「완전에 대칭」 「완전하게 연장」 「완전하게 축 방향」 「완전하게 원기둥 형상」 「완전하게 원통 형상」 「완전하게 링 형상」 「완전하게 원환 형상」 등을 기준으로 한 소정의 범위(예를 들면 ±10%의 범위)에 포함되는 상태도 포함된다. For example, “completely centered,” “completely centered,” “completely uniform,” “completely identical,” “completely equal,” “completely perpendicular,” “completely parallel,” “completely symmetrical,” “completely extended,” Included within a certain range (for example, ±10% range) based on “completely axial”, “completely cylindrical shape”, “completely cylindrical shape”, “completely ring shape”, “completely toroidal shape”, etc. Status is also included.

따라서, 「대략」 「거의」 「대체로」 등의 문언이 부가되어 있지 않은 경우에도, 이른바 「대략」 「거의」 「대체로」 등을 부가하여 표현될 수 있는 개념이 포함될 수 있다. 반대로, 「대략」 「거의」 「대체로」 등을 부가하여 표현된 상태에 대해서, 완전한 상태가 반드시 배제된다는 것은 아니다. Therefore, even when words such as “approximately,” “almost,” “generally,” etc. are not added, concepts that can be expressed by adding so-called “approximately,” “almost,” “generally,” etc. can be included. Conversely, states expressed by adding “approximately,” “almost,” “generally,” etc. do not necessarily exclude a complete state.

따라서 본 개시에 있어서, 「복수의 조사 영역 각각의 조도가 같아지도록 조사한다」라는 기술 사항은, 복수의 조사 영역 각각의 조도가 실질적으로 같아지도록 조사하는 것을 포함한다. 예를 들면, 복수의 조사 영역 각각의 조도가 다소 상이해도, 본 발명자에 의해 새롭게 고안된 적산 광량 균일 구성을 실현시킴으로써, 적산 광량의 균일성을 향상시키는 것이 가능하다. Therefore, in the present disclosure, the technical matter of “irradiating so that the illuminance of each of the plurality of irradiation areas is the same” includes irradiating so that the illuminance of each of the plurality of irradiation areas is substantially the same. For example, even if the illuminance of each of the plurality of irradiation areas is somewhat different, it is possible to improve the uniformity of the accumulated light amount by realizing the integrated light amount uniformity configuration newly designed by the present inventor.

본 개시에 있어서, 「A보다 크다」 「A보다 작다」와 같은 「보다」를 사용한 표현은, A와 동등한 경우를 포함하는 개념과, A와 동등한 경우를 포함하지 않는 개념의 양쪽을 포괄적으로 포함하는 표현이다. 예를 들면 「A보다 크다」는, A와 동등은 포함하지 않는 경우에 한정되지 않고, 「A 이상」도 포함한다. 또 「A보다 작다」는, 「A 미만」에 한정되지 않고, 「A 이하」도 포함한다. In the present disclosure, expressions using “than” such as “larger than A” or “smaller than A” comprehensively include both concepts that include cases that are equivalent to A and concepts that do not include cases that are equivalent to A. It is an expression. For example, “greater than A” is not limited to the case where it does not include equal to A, but also includes “greater than A.” Additionally, “less than A” is not limited to “less than A” and also includes “less than A.”

본 기술을 실시할 때에는, 상기에서 설명한 효과가 발휘되도록, 「A보다 크다」 및 「A보다 작다」에 포함되는 개념에서, 구체적인 설정 등을 적절히 채용하면 된다. When implementing the present technology, specific settings, etc. may be appropriately adopted in the concepts included in "larger than A" and "smaller than A" so that the effects described above are exhibited.

이상 설명한 본 기술에 따른 특징 부분 중, 적어도 2개의 특징 부분을 조합하는 것도 가능하다. 즉 각 실시 형태에서 설명한 다양한 특징 부분은, 각 실시 형태의 구별 없이, 임의로 조합되어도 된다. 또 상기로 기재한 다양한 효과는, 어디까지나 예시이며 한정되는 것이 아니라, 또 다른 효과가 발휘되어도 된다. Among the feature parts according to the present technology described above, it is also possible to combine at least two feature parts. That is, the various features described in each embodiment may be arbitrarily combined without distinction between each embodiment. Additionally, the various effects described above are only examples and are not limited, and other effects may be exerted.

L: 광(조사광) O: 광축
P: 폭 방향을 따른 각 위치 R: 조사 대상 영역
W: 워크 1: 광 조사 장치
6: 조사 영역 7: 광원부
8: 조사부 9, 23, 24, 98: 조사 영역군
10: 오버랩 영역 11: 제1의 조사 영역
12: 제2의 조사 영역 14b: 우측 절반 영역
14a: 좌측 절반 영역 15a, 15b: 1쌍의 대변
17a: 중앙 영역 17b: 좌측 영역
17c: 우측 영역 25, 36, 43: 광 조사 유닛
29: 램프 32: 인터그레이터 렌즈
39: 렌즈 세그먼트 40: 렌즈 세그먼트의 출사면
44: 차광판 45: 광 투과 영역
L: Light (irradiated light) O: Optical axis
P: Angular position along the width direction R: Survey target area
W: Work 1: Light irradiation device
6: Irradiation area 7: Light source section
8: Survey division 9, 23, 24, 98: Survey area group
10: Overlap area 11: First irradiation area
12: Second irradiation area 14b: Right half area
14a: left half area 15a, 15b: 1 pair of stools
17a: central area 17b: left area
17c: Right area 25, 36, 43: Light irradiation unit
29: Lamp 32: Integrator Lens
39: Lens segment 40: Exit surface of lens segment
44: light blocking plate 45: light transmission area

Claims (16)

제1의 방향을 따라 반송되는 대상물에 광을 조사하는 광 조사 장치로서,
광원부와,
상기 광원부로부터 출사되는 광을, 상기 대상물의 조사 대상 영역에 대해, 복수의 조사 영역으로 나누어, 상기 복수의 조사 영역 각각의 조도가 같아지도록 조사하는 조사부
를 구비하고,
상기 복수의 조사 영역은, 상기 조사 대상 영역의 상기 제1의 방향에 직교하는 제2의 방향을 따른 각 위치에서, 상기 복수의 조사 영역을 통과하는 거리의 합계가 같아지도록 설정되고,
상기 복수의 조사 영역 중 임의의 조사 영역을 제1의 조사 영역으로 하면,
상기 제1의 조사 영역은, 상기 복수의 조사 영역 중 적어도 1개의 다른 조사 영역과의 사이에서, 상기 제1의 방향에 있어서의 상이한 위치에서, 상기 제2의 방향에 있어서 서로 오버랩하는 오버랩 영역이 발생하도록 설정되고,
상기 제1의 조사 영역에 대해 상기 오버랩 영역이 발생하는 상기 다른 조사 영역을 제2의 조사 영역으로 하면,
상기 제1의 조사 영역의 상기 오버랩 영역인 제1의 오버랩 영역은, 상기 제2의 방향에 있어서 어느 한쪽의 방향으로 진행됨에 따라, 상기 제1의 방향에 있어서의 사이즈가 증가하도록 구성되고,
상기 제2의 조사 영역의 상기 오버랩 영역인 제2의 오버랩 영역은, 상기 제2의 방향에 있어서 같은 방향으로 진행됨에 따라, 상기 제1의 방향에 있어서의 사이즈가 감소하도록 구성되는,
광 조사 장치.
A light irradiation device that irradiates light to an object transported along a first direction, comprising:
Light source unit,
An irradiation unit that divides the light emitted from the light source unit into a plurality of irradiation areas on the irradiation target area of the object and irradiates the light so that the illuminance of each of the plurality of irradiation areas is the same.
Equipped with
The plurality of irradiation areas are set so that the sum of distances passing through the plurality of irradiation areas is equal at each position along a second direction orthogonal to the first direction of the irradiation target area,
If any irradiation area among the plurality of irradiation areas is set as the first irradiation area,
The first irradiation area has an overlap area that overlaps with at least one other irradiation area among the plurality of irradiation areas at different positions in the first direction and overlaps each other in the second direction. is set to occur,
If the other irradiation area where the overlap area occurs with respect to the first irradiation area is considered a second irradiation area,
The first overlap area, which is the overlap area of the first irradiation area, is configured to increase in size in the first direction as it progresses in either direction in the second direction,
The second overlap area, which is the overlap area of the second irradiation area, is configured to decrease in size in the first direction as it progresses in the same direction in the second direction.
Light irradiation device.
청구항 1에 있어서,
상기 복수의 조사 영역은, 상기 제2의 방향을 따라 늘어선 2 이상의 조사 영역으로 이루어지는 조사 영역군이, 상기 제1의 방향을 따라 다단으로 배치되도록 설정되는,
광 조사 장치.
In claim 1,
The plurality of irradiation areas is set so that a irradiation area group consisting of two or more irradiation areas lined up along the second direction is arranged in multiple stages along the first direction,
Light irradiation device.
청구항 2에 있어서,
상기 복수의 조사 영역은, 상기 조사 영역군이 2단으로 배치되도록 설정되는,
광 조사 장치.
In claim 2,
The plurality of irradiation areas are set so that the irradiation area group is arranged in two tiers,
Light irradiation device.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 복수의 조사 영역은, 서로 같은 형상을 갖는,
광 조사 장치.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The plurality of irradiation areas have the same shape,
Light irradiation device.
청구항 4에 있어서,
상기 복수의 조사 영역 각각의 형상은, 2개의 대각선 방향이 상기 제1의 방향 및 상기 제2의 방향을 따르도록 설정된 마름모꼴인,
광 조사 장치.
In claim 4,
The shape of each of the plurality of irradiation areas is a diamond shape with two diagonal directions set to follow the first direction and the second direction,
Light irradiation device.
청구항 5에 있어서,
상기 복수의 조사 영역 각각을, 상기 제1의 방향에 평행한 대각선에 의해, 상기 제2의 방향에 있어서의 제1 방향측의 제1의 분할 영역과, 상기 제2의 방향에 있어서의 상기 제1 방향과는 반대의 제2 방향측의 제2의 분할 영역으로 분할한 경우,
상기 복수의 조사 영역 각각은, 상기 제1의 분할 영역 또는 상기 제2의 분할 영역 중 적어도 한쪽이, 상기 오버랩 영역이 되도록 설정되는,
광 조사 장치.
In claim 5,
Each of the plurality of irradiation areas is divided into a first divided area on the first direction side in the second direction by a diagonal line parallel to the first direction, and the first divided area in the second direction. When divided into a second division area in the second direction opposite to the first direction,
Each of the plurality of radiation areas is set so that at least one of the first divided area or the second divided area is the overlap area,
Light irradiation device.
청구항 4에 있어서,
상기 복수의 조사 영역 각각의 형상은, 상기 제1의 방향을 따라 서로 대향하고, 상기 제2의 방향에 평행이 되는 1쌍의 대변을 포함하는 육각형인,
광 조사 장치.
In claim 4,
The shape of each of the plurality of irradiated areas is a hexagon including a pair of opposite sides facing each other along the first direction and being parallel to the second direction.
Light irradiation device.
청구항 7에 있어서,
상기 복수의 조사 영역 각각을, 상기 1쌍의 대변 사이의 중앙 영역과, 상기 중앙 영역에 대해 상기 제2의 방향에 있어서의 제1 방향측에 인접하는 제1의 분할 영역과, 상기 중앙 영역에 대해 상기 제2의 방향에 있어서의 상기 제1 방향과는 반대의 제2 방향측에 인접하는 제2의 분할 영역으로 분할한 경우,
상기 복수의 조사 영역 각각은, 상기 제1의 분할 영역 또는 상기 제2의 분할 영역 중 적어도 한쪽이, 상기 오버랩 영역이 되도록 설정되는,
광 조사 장치.
In claim 7,
Each of the plurality of irradiated areas is divided into a central area between the pair of opposite sides, a first divided area adjacent to the first direction in the second direction with respect to the central area, and the central area. In the case where the second direction is divided into a second division area adjacent to the second direction opposite to the first direction,
Each of the plurality of radiation areas is set so that at least one of the first divided area or the second divided area is the overlap area,
Light irradiation device.
청구항 6에 있어서,
상기 복수의 조사 영역은,
상기 제1의 조사 영역의 상기 제1의 오버랩 영역이 상기 제1의 분할 영역인 경우는, 상기 제2의 조사 영역의 상기 제2의 오버랩 영역은 상기 제2의 분할 영역이 되도록 설정되고,
상기 제1의 조사 영역의 상기 제1의 오버랩 영역이 상기 제2의 분할 영역인 경우는, 상기 제2의 조사 영역의 상기 제2의 오버랩 영역은 상기 제1의 분할 영역이 되도록 설정되는,
광 조사 장치.
In claim 6,
The plurality of irradiation areas are,
When the first overlap area of the first irradiation area is the first divided area, the second overlap area of the second irradiation area is set to be the second divided area,
When the first overlap area of the first radiation area is the second division area, the second overlap area of the second radiation area is set to be the first division area,
Light irradiation device.
청구항 4에 있어서,
상기 조사부는, 상기 복수의 조사 영역에 대응하여 배치되고, 상기 복수의 조사 영역 각각의 조도 분포를 균일화하는 복수의 인터그레이터 렌즈를 갖고,
상기 복수의 인터그레이터 렌즈 각각은, 출사면의 형상이 상기 조사 영역과 같은 형상이 되는 복수의 렌즈를 포함하는,
광 조사 장치.
In claim 4,
The irradiation unit has a plurality of integrator lenses arranged corresponding to the plurality of irradiation areas and uniformizing the illuminance distribution of each of the plurality of irradiation areas,
Each of the plurality of integrator lenses includes a plurality of lenses whose emission surfaces have the same shape as the irradiation area,
Light irradiation device.
청구항 4에 있어서,
상기 조사부는, 상기 복수의 조사 영역에 대응하여 배치되고, 상기 복수의 조사 영역 각각의 조도 분포를 균일화하는 복수의 로드 렌즈를 갖고,
상기 복수의 로드 렌즈 각각은, 단면의 형상이 상기 조사 영역과 같은 형상인,
광 조사 장치.
In claim 4,
The irradiation unit has a plurality of rod lenses arranged corresponding to the plurality of irradiation areas and uniformizing the illuminance distribution of each of the plurality of irradiation areas,
Each of the plurality of rod lenses has a cross-sectional shape similar to that of the irradiation area,
Light irradiation device.
청구항 4에 있어서,
상기 조사부는, 상기 복수의 조사 영역에 대응하여 배치되고, 상기 조사 영역과 같은 형상의 광 투과 영역을 갖는 1 이상의 차광판을 포함하는,
광 조사 장치.
In claim 4,
The irradiation unit includes one or more light blocking plates disposed corresponding to the plurality of irradiation areas and having a light transmission area of the same shape as the irradiation area.
Light irradiation device.
청구항 1에 있어서, 추가로,
상기 복수의 조사 영역 각각에 대응하여 배치되는 복수의 광 조사 유닛을 구비하고,
상기 광원부는, 상기 복수의 광 조사 유닛에 탑재되는 복수의 광원을 갖고,
상기 조사부는, 상기 복수의 광 조사 유닛에 탑재되며, 상기 광원으로부터 출사된 광을, 대응하는 조사 영역에 조사하는 복수의 광학 부품을 갖는,
광 조사 장치.
The method of claim 1, further:
Provided with a plurality of light irradiation units disposed corresponding to each of the plurality of irradiation areas,
The light source unit has a plurality of light sources mounted on the plurality of light irradiation units,
The irradiation unit is mounted on the plurality of light irradiation units and has a plurality of optical components that irradiate the light emitted from the light source to a corresponding irradiation area,
Light irradiation device.
청구항 13에 있어서,
상기 광학 부품은, 출사면의 형상이 상기 조사 영역과 같은 형상이 되는 복수의 렌즈를 포함하는 인터그레이터 렌즈, 단면의 형상이 상기 조사 영역과 같은 형상인 로드 렌즈, 또는 상기 조사 영역과 같은 형상의 광 투과 영역을 갖는 차광판 중 적어도 1개를 포함하는,
광 조사 장치.
In claim 13,
The optical component may include an integrator lens including a plurality of lenses whose emission surface has the same shape as the irradiation area, a rod lens whose cross-sectional shape has the same shape as the irradiation area, or an integrator lens whose shape is the same as the irradiation area. Comprising at least one light blocking plate having a light transmission area,
Light irradiation device.
제1의 방향을 따라 반송되는 대상물에 광을 조사하는 광 조사 방법으로서,
광원부로부터 광을 출사시키는 공정과,
상기 광원부로부터 출사되는 광을, 상기 대상물의 조사 대상 영역에 대해, 복수의 조사 영역으로 나누어, 상기 복수의 조사 영역 각각의 조도가 같아지도록 조사하는 공정
을 포함하고,
상기 복수의 조사 영역은, 상기 조사 대상 영역의 상기 제1의 방향에 직교하는 제2의 방향을 따른 각 위치에서, 상기 복수의 조사 영역을 통과하는 거리의 합계가 같아지도록 설정되고,
상기 복수의 조사 영역 중 임의의 조사 영역을 제1의 조사 영역으로 하면,
상기 제1의 조사 영역은, 상기 복수의 조사 영역 중 적어도 1개의 다른 조사 영역과의 사이에서, 상기 제1의 방향에 있어서의 상이한 위치에서, 상기 제2의 방향에 있어서 서로 오버랩하는 오버랩 영역이 발생하도록 설정되고,
상기 제1의 조사 영역에 대해 상기 오버랩 영역이 발생하는 상기 다른 조사 영역을 제2의 조사 영역으로 하면,
상기 제1의 조사 영역의 상기 오버랩 영역인 제1의 오버랩 영역은, 상기 제2의 방향에 있어서 어느 한쪽의 방향으로 진행됨에 따라, 상기 제1의 방향에 있어서의 사이즈가 증가하도록 구성되고,
상기 제2의 조사 영역의 상기 오버랩 영역인 제2의 오버랩 영역은, 상기 제2의 방향에 있어서 같은 방향으로 진행됨에 따라, 상기 제1의 방향에 있어서의 사이즈가 감소하도록 구성되는,
광 조사 방법.
A light irradiation method of irradiating light to an object transported along a first direction, comprising:
A process of emitting light from a light source unit,
A process of dividing the light emitted from the light source into a plurality of irradiation areas on the irradiation target area of the object so that the illuminance of each of the plurality of irradiation areas is the same.
Including,
The plurality of irradiation areas are set so that the sum of distances passing through the plurality of irradiation areas is equal at each position along a second direction orthogonal to the first direction of the irradiation target area,
If any irradiation area among the plurality of irradiation areas is set as the first irradiation area,
The first irradiation area has an overlap area that overlaps with at least one other irradiation area among the plurality of irradiation areas at different positions in the first direction and overlaps each other in the second direction. is set to occur,
If the other irradiation area where the overlap area occurs with respect to the first irradiation area is considered a second irradiation area,
The first overlap area, which is the overlap area of the first irradiation area, is configured to increase in size in the first direction as it progresses in either direction in the second direction,
The second overlap area, which is the overlap area of the second irradiation area, is configured to decrease in size in the first direction as it progresses in the same direction in the second direction.
Light irradiation method.
청구항 1에 기재된 광 조사 장치를 이용하여 부품에 광을 조사하는 공정을 포함하는,
부품의 제조 방법.
Comprising a process of irradiating light to a part using the light irradiation device according to claim 1,
Method of manufacturing the part.
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