KR20240004773A - 광개시 화학 기상 증착을 사용한 코팅된 텍스타일의 제조 - Google Patents

광개시 화학 기상 증착을 사용한 코팅된 텍스타일의 제조 Download PDF

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KR20240004773A
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트리샤 리오넬 앤드류
아드리안 제이. 비치
사얀타니 난디
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솔리얀, 아이엔씨.
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Abstract

광개시 화학 기상 증착을 사용하여 코팅된 텍스타일을 제조하기 위한 시스템이 제시된다. 상기 시스템은 공정 챔버 및 자외선 광원을 포함한다. 상기 공정 챔버는 투명 창, 상기 투명 창 아래에 배치된 기재 스테이지 및 복수의 포트를 포함한다. 상기 포트는 제1 입구 포트 및 제2 입구 포트를 포함한다. 상기 제1 입구 포트는 증기상 모노머를 상기 공정 챔버 내로 수송하고, 상기 제2 입구 포트는 증기상 개시제를 상기 공정 챔버 내로 수송한다. 상기 공정 챔버는 상기 모노머 및 상기 개시제를 텍스타일 기재 상에 증착하도록 제어된다. 상기 자외선 광원은 상기 투명 창을 통해 상기 공정 챔버 내로 자외선을 도입하도록 위치된다. 상기 자외선은 상기 모노머 및 상기 개시제를 중합하여 상기 텍스타일 기재를 폴리머로 코팅한다.

Description

광개시 화학 기상 증착을 사용한 코팅된 텍스타일의 제조
관련 출원에 대한 상호 참조
본원은 2021년 4월 29일에 출원된 미국 가출원 번호 63/181,466의 이익을 주장하며, 상기 가출원의 전문은 본원에 참조로 통합된다.
기술분야
본원은 일반적으로, 사(yarn), 섬유 및 직물을 포함하는 코팅된 텍스타일 분야, 보다 특히 광개시 화학 기상 증착을 사용한 코팅된 텍스타일의 제조에 관한 것이다.
섬유, 사 및 직물과 같은 텍스타일을 제조하기 위한 종래 공정은 용제 기반이다. 이러한 공정에서, 원료 또는 부분적으로 완성된 섬유 및 사는 염료로 착색되고, 색상 견뢰도(color fastness), 촉감 등을 위해 처리될 수 있다. 종래 공정에서, 가공되는 품목은 용매 중에 처리 화학물질, 계면활성제, 유화제 및 윤활제를 함유하는 배트(vat) 내로 도입된다. 가공 후, 과량의 화학물질이 폐기되어, 오염된 강 및 지하수를 초래한다. 이러한 공정의 환경적 영향은 상당하지만, 이러한 종래 기술은 종래 섬유 및 직물의 고처리량 제조를 제공하기 때문에 널리 사용된다.
종래 공정의 환경적 영향에 더하여, 이러한 공정은 필연적으로 계면활성제, 유화제 또는 윤활제 중 일부가 완제품에 남아있기 때문에 저자극성 텍스타일의 제조에 또한 부적합하다.
따라서, 무용제이며 무알레르겐(allergen-free) 제품을 제공하는 것을 포함하는, 사, 섬유 및 직물과 같은 텍스타일을 제조하기 위한 개선된 공정에 대한 필요성이 당업계에 존재한다.
따라서, 일 구현예에서, 광개시 화학 기상 증착을 사용하여 코팅된 텍스타일을 제조하기 위한 시스템이 제시된다. 상기 시스템은 공정 챔버 및 자외선 (UV) 광원을 포함한다. 공정 챔버는 투명 창, 투명 창 아래에 배치된 기재 스테이지 및 복수의 포트(port)를 포함한다. 포트는 제1 입구 포트 및 제2 입구 포트를 포함한다. 제1 입구 포트는 증기상(phase) 모노머를 공정 챔버 내로 수송하고, 제2 입구 포트는 증기상 개시제를 공정 챔버 내로 수송한다. 공정 챔버는 모노머 및 개시제를 텍스타일 기재 상에 증착하도록 제어된다. 자외선 광원은 투명 창을 통해 공정 챔버 내로 자외선을 도입하도록 위치된다. 자외선은 개시제를 광여기시키며, 이는 이의 여기 상태 에너지를 모노머에 전달하고 이를 중합하여, 기재를 폴리머로 코팅한다.
또 다른 구현예에서, 광개시 화학 기상 증착을 사용하여 코팅된 텍스타일을 제조하기 위한 시스템이 제시된다. 상기 시스템은 공정 챔버, 자외선 광원 및 제어기를 포함한다. 공정 챔버는 투명 창, 투명 창 아래에 배치된 기재 스테이지, 기재 스테이지 아래에 배치된 스테이지 냉각기(stage chiller), 및 복수의 포트를 포함한다. 포트는 제1 입구 포트, 제2 입구 포트 및 진공 포트를 포함하며, 여기서 제1 입구 포트는 증기상 모노머를 공정 챔버 내로 수송하고, 제2 입구 포트는 증기상 개시제를 공정 챔버 내로 수송한다. 최대 5종의 다른 증기상 코모노머를 위한 추가 입구 포트가 또한 존재할 수 있다. 자외선 광원은 투명 창을 통해 공정 챔버 내로 자외선을 도입하도록 위치된다. 자외선은 개시제를 광여기시키며, 이는 이의 여기 상태 에너지를 모노머에 전달하고 이를 중합하여, 기재를 폴리머로 코팅한다. 제어기는, 자외선 광원으로부터의 자외선에 의한 모노머 및 개시제의 중합과 동시에 기재 상에 모노머 및 개시제를 증착하도록 구성된다.
상기 구현예는 단지 예시적이다. 본원에 기술된 바와 같은 다른 구현예는 개시된 청구대상의 범위 내에 있다.
본 개시의 특징이 이해될 수 있는 방식으로, 특정 구현예를 참조하여 상세한 설명이 이루어질 수 있으며, 이 중 일부는 첨부 도면에 예시되어 있다. 그러나, 도면은 특정 구현예만을 예시하고, 따라서 이의 범위를 제한하는 것으로 간주되어서는 안 되며, 개시된 청구대상의 범위는 다른 구현예도 포함하기 때문이라는 점에 유의해야 한다. 도면은 반드시 축척으로 구성될 필요는 없으며, 일반적으로 특정 구현예의 특징을 예시하는 데 중점을 두고 있다. 도면에서, 유사한 숫자는 다양한 뷰(view) 전체에 걸쳐 유사한 부분을 나타내는 데 사용되며, 도면에서:
도 1a는 본원에 제시된 하나 이상의 측면에 따른 코팅 챔버의 일 구현예를 도시하고;
도 1b 내지 1e는 본원에 제시된 하나 이상의 측면에 따른 증기 전달 시스템의 일 구현예를 도시하고;
도 1f 및 1g는 본원에 제시된 하나 이상의 측면에 따른 증기 전달 시스템의 일 구현예를 도시하고;
도 2a 및 2b는 텍스타일의 선행기술 코팅을 도시하고;
도 3a 및 3b는 본원에 제시된 하나 이상의 측면에 따른 텍스타일의 컨포멀 코팅(conformal coating)을 도시하고;
도 4a 내지 4d는 본원에 제시된 하나 이상의 측면에 따른 광개시 화학 기상 증착 반응을 도시한다.
해당 참조 문자는 여러 뷰 전체에 걸쳐 해당 부분을 나타낸다. 본원에 제시된 예는 여러 구현예를 예시하지만, 어떠한 방식으로도 범위를 제한하는 것으로서 해석되어서는 안 된다.
본 개시는, 텍스타일 및 플라스틱을 포함하는 편평하고 패턴화된 기재 상에 폴리머 필름을 제조하는 단일 단계의 고처리량 (1 내지 100ft/min) 광개시 화학 기상 증착 (PI-CVD) 공정에 관한 것이다. 이 2성분 공정은 폴리(아크릴레이트), 폴리(스티렌) 및 폴리(비닐 에테르) 폴리머를 형성하도록 UV-C 광에 의해 개시되는 낮은 진공 압력 (0.001 내지 10 Torr) 하의 화학 증기의 도입 직후에 진행된다. 이러한 코팅은 계면 그래프팅, 내마모성 및 세척 안정성의 증가를 통해 기계적 견고성을 향상시켰다. 제조 동안 폐수가 발생하지 않으며, 유해 폐기물이 거의 발생하지 않는다. 본 기술은 방수 코팅, 항바이러스 코팅, 전기 전도성 코팅 또는 요구되는 임의의 다른 코팅으로 텍스타일을 코팅하는 데 사용될 수 있다.
유리하게는, 본 기술은 유화제 또는 계면활성제, 또는 임의의 용매를 요구하지 않으며, 폐수 발생이 없다. 구체적으로, 공액 폴리머 제조를 포함하는 이러한 기술은 용매화 쉘(shell), 비혼화성, 용매-기재 상호작용 또는 성장하는 폴리머 사슬의 가용성에 대한 우려를 제거한다. 성장하는 필름의 필름 두께 및 나노구조에 대한 실시간 제어는 모노머 및 개시제의 유량을 제어함으로써 용이하게 달성될 수 있다.
본 개시의 이점은 또한 단순성을 포함한다. 본 발명의 공정은 종래 공정에 비해 계면활성제 및 유화제를 사용하지 않는다. 또한, 운반 가스(carrier gas)가 필요하지 않다. 일례로, 광의 도입은 필라멘트 히터 (필라멘트 배선, 하니스(harness) 및 전원 공급장치를 요구함)보다 작동, 고정 및 설계가 더 간단하다.
다수의 반응기 기하학적 구조가 본 기술에 이용될 수 있다. 예를 들어, 반응기의 형상은 정사각형, 원형 등일 수 있다. 전체 치수는, 예를 들어 10x10x10인치 내지 250x250x250인치를 포함하여 필요한 임의의 크기일 수 있다.
도 1a는 코팅 공정 챔버(100) 및 광원(150)을 포함하는 시스템의 일 구현예를 도시한다. 공정 챔버(100)는 투명 창(110), 투명 창(110) 아래에 배치된 기재 스테이지(120), 기재 스테이지(120) 아래에 배치된 스테이지 냉각기(130), 및 복수의 포트(142 내지 146)를 포함한다. 포트(142 내지 146)는 제1 입구 포트(142), 제2 입구 포트(144) 및 진공 포트(146)를 포함한다. 제1 입구 포트(142)는 증기상 모노머를 공정 챔버 내로 수송한다. 제2 입구 포트(144)는 증기상 개시제를 공정 챔버 내로 수송한다. 최대 5종의 증기상 코모노머를 공정 챔버 내로 수송하기 위한 5개의 추가 입구 포트가 또한 존재할 수 있다.
광원(150)은 자외선 (파장 <390 nm) 광원이다. 도 1a에 도시된 바와 같이, 광원(150)은 투명 창(110)을 통해 공정 챔버(100) 내로 자외선을 도입하도록 위치된다. UV 광의 도입 후, UV 광은 모노머 및 개시제를 중합하여 기재(125)를 폴리머로 코팅한다. 상기 반응은 도 4a 내지 4d에 도시되어 있다. 반응 속도로 인하여, 1 내지 100 ft/min의 처리량 속도가 달성되었다.
또한, 기재(125) 상에의 모노머 및 개시제의 증착이 광원(150)으로부터의 자외선에 의한 모노머 및 개시제의 중합과 동시에 일어나도록 제어하기 위해 제어기 (미도시)가 사용될 수 있다.
일 구현예에서, 스테이지 냉각기(130)는 기재를 -50℃ 및 25℃ 사이의 선택된 온도에서 유지하도록 구성된다. 또 다른 구현예에서, 진공 포트(146)는 0.001 내지 10 Torr의 진공을 유지하도록 구성된다. 추가의 일 구현예에서, 제1 입구 포트(142) 및 제2 입구 포트(144)는 각각 초당 0.1 내지 10 cm3의 유량을 갖도록 구성된다. 일 구현예에서, 제1 입구 포트(142)는 제2 입구 포트(144)에 직교한다. 선택적으로(optionally), 추가 입구 포트, 예를 들어 2 내지 8개의 추가 입구 포트는 서로 0도 내지 360도의 각도로 위치할 수 있다.
일 구현예에서, 모노머 및 개시제를 포함하는 시약은 증기 전달 시스템(160)을 통해 전달된다. 증기 전달 시스템(160)은 도 1b 내지 1d에 도시된 바와 같이 복수의 파이프(166)를 포함한다. 일 구현예에서, 모노머, 개시제 및/또는 다른 시약은 입구(161 및 162)를 통해 증기 전달 시스템(160)으로 들어간다. 또 다른 구현예에서, 파이프(166)는 L-커넥터(163), T-커넥터(164) 및 X-커넥터(165)와 같은 커넥터를 사용하여 결합된다. 선택적으로, 입구(161 및/또는 162)는, 예를 들어 도 1c에 도시된 바와 같이 캡(cap; 167)을 사용하여 밀봉될 수 있다.
도 1d는 증기가 공정 챔버(100) 내로 빠져나가는 파이프(166) 내의 구멍(168)을 도시하는 증기 전달 시스템(160)의 확대도이다. 구멍(168)은 도 1e의 증기 전달 시스템(160)의 확대도에도 도시되어 있다. 추가 구현예에서, 증기 전달 시스템(160)은 가열 요소(169), 예를 들어 하나 이상의 파이프(166) 둘레를 감싸는 저항 가열 테이프를 포함한다.
추가의 일 구현예에서, 증기 전달 시스템(170)은 도 1f에 예시된 바와 같이 입구 구멍(171) 및 출구 구멍(178)을 포함하는 기재 플랫폼을 포함한다. 도 1g는 입구 구멍(171)으로부터 채널(176)을 거쳐 출구 구멍(178) (도 1f)에 도달하는 경로를 나타내는 증기 전달 시스템(170)의 단면도이다.
유리하게는, 상기 시스템은 신규한 광개시 중합 공정으로 인하여, 텍스타일 기재를 코팅하기 위해 과산화물의 분해를 포함하거나 또는 요구하지 않는다. 일 구현예에서, 텍스타일 기재(125)를 코팅하는 폴리머는 폴리(아크릴레이트), 폴리(스티렌) 또는 폴리(비닐 에테르) 폴리머 중 하나를 포함한다. 또 다른 구현예에서, 광원(150)으로부터의 자외선은 390 나노미터 이하의 파장을 포함한다. 또 다른 구현예에서, 텍스타일 기재(125)를 코팅하는 폴리머는 p-도핑된 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)을 포함한다.
본 기술의 하기 적용은 본 개시의 범위 내에 있다.
내수성(water-resistant) 코팅 - 텍스타일을 습윤 및 물 흡수로부터 보호하는 코팅.
PFC-무함유 내수성 코팅: 과불화 화합물을 함유하지 않는 방수 코팅.
내오염성(soil-resistant) 코팅: 먼지, 혈액, 오일 및 기타 보호하기 어려운 물질로 인한 오염(soiling)으로부터 텍스타일을 보호하는 코팅.
SFM (공간 유체 관리): 소수성 및 친수성 채널의 조합을 사용하여 텍스타일 전체에 걸쳐 유체의 방향을 바꾸는 코팅.
항균 코팅: 기재의 표면 상의 미생물을 활성 사멸시키는(actively kill) 코팅.
방식 필름: 염에 대한 노출 시 기재를 산화 또는 부식으로부터 보호하는 코팅.
도 2a 및 2b로 넘어가서, 종래 코팅이 기재 둘레에 비가요성 쉘을 생성하며 (도 2a), 이는 웨어러블 의류(wearable garment)에 요구되는 가요성에 도움이 되지 않는다는 점에서 선행기술의 한계가 분명하다. 도 2b는 도 2a에 도시된 비가요성 쉘 내에 매립된 기재 섬유를 예시한다.
대조적으로, 도 3a 및 3b에 도시되어 있는 바와 같이, 텍스타일 기재(125)는 직물을 포함하고, 코팅은 직물의 적어도 일부 섬유 둘레에 등각으로(conformally) 증착된다. 이제, 신규한 코팅의 일부 특성이 설명될 것이다. 도 3a 및 3b, 및 도 2a 및 2b 사이의 차이점을 주목한다. 일 구현예에서, 코팅은 도 3a에 도시된 개략도에 도시된 것과 같은 폴리머를 포함한다. 도 3b는 섬유 표면에 대한 도 3a의 폴리머의 화학적 그래프팅을 도시한다. 도 3b에 예시된 코팅은 도 2a 및 도 2b에 도시된 바와 같이 부피가 큰 형태로 표면 상에 놓인 코팅된 층에 비해 탁월한 특성을 나타낸다.
도 4a 및 4b로 넘어가서, 광개시제 및 공개시제의 일반적인 구조뿐만 아니라 일반적인 중합 공정이 바로 아래에 도시되어 있다. 폴리(비닐 에테르), 폴리(아크릴레이트) 및 폴리(스티렌)에 대한 3종의 구조가 도시되어 있고, 이어서 R2 및 R3에 대한 허용되는 기가 도시되어 있다.
또 다른 구현예에서는, 도 4c 및 4d에 도시된 바와 같이 중합 공정에 공개시제가 포함되지 않는다. 광개시제의 일반적인 구조뿐만 아니라 일반적인 중합 공정이 바로 아래에 도시되어 있다. 폴리(비닐 에테르), 폴리(아크릴레이트) 및 폴리(스티렌)에 대한 3종의 구조가 도시되어 있고, 이어서 R2 및 R3에 대한 허용되는 기가 도시되어 있다.
증착 공정 동안, 코팅은 성장하는 필름 및 기재 사이에 다량의 계면 그래프팅-공유 결합을 포함하여 큰 효능을 갖는다. 또한, 적어도 부분적으로는 코팅의 등각성(conformality)으로 인하여 높은 내마모성 및 증가된 세척 안정성이 있다.
첫째, 코팅을 형성하는 데 용매가 필요하지 않기 때문에 방수 또는 방유 적용을 위한 완전 플루오린-무함유 코팅이 얻어질 수 있다. 출원인은 본 기술을 사용하여 형성된 코팅이 높은 접촉각을 갖는다는 것을 관찰하였다. 접촉각은 코팅의 혐성(phobicity)을 정량화하는 데 사용되는 측정항목(metric)이다. 예를 들어, 오일 또는 물의 액적을 표면 상에 놓고, 측면으로부터 상기 액적을 바라봄으로써 표면 법선에 대한 상기 액적의 각도를 계산하는 시험이 수행된다. 이 접촉각의 값이 높을수록, 표면이 액적에 대해 더 강한 혐성을 갖게 된다. 오일 액적에 대한 높은 접촉각은 방유 표면을 나타내고, 물 액적에 대한 높은 접촉각은 방수 재료를 나타낸다. 종래 기술은 방유/방수 표면에 대한 불소화 또는 과불소화 재료의 사용 (분무, 전기증착(electrodepo), 용융 등)을 요구한다. 대조적으로, 본 발명의 PFC-무함유 배합물은, 고도의 질감을 갖는 표면 상에서 텍스타일의 원래 다공도를 유지하면서 발수성 (130°내지 180°의 물 접촉각), 발유성 (80°내지 150°의 오일 접촉각)을 유발하고 수분 흡수를 감소시키는 (비코팅된 경우에 비해 200x 더 적음) 그래프팅된 탄화수소 폴리머 코팅이다. 상기 코팅은 상업적으로 입수가능한 화학물질로 제조된 2성분 모노머 및 개시제 배합물로 구성되면서 PFC를 완전히 함유하지 않는다. 이 배합물은, 폐수를 발생시키지 않고 용매가 없어 낮은 환경적 영향을 갖는다.
다음으로, 일 구현예의 특정 작업 실시예가 논의될 것이다.
단계 1: 샘플 스테이지에 직물을 로딩하여, 직물이 스테이지와 밀접하고 균일한 물리적 접촉을 이루는 것을 보장한다.
단계 2: 모든 밸브를 폐쇄하고, 펌프를 켜고, 펌프 밸브를 완전히 개방한다.
단계 3: 5 중량%의 열 중합 억제제로 안정화된 모노머 3 mL를 Swagelok 스테인리스강 앰플(ampule)에 첨가한다.
단계 4: Swagelok 스테인리스강 앰플에 광개시제 2.7 mL 및 알파-할로에스테르 0.3 mL를 첨가한다.
단계 5: 앰플이 회전하지 않을 때까지 조정가능한 렌치(wrench)를 사용하여 Swagelok 앰플을 챔버 포트 상에 나사로 고정한다.
단계 6: < 100 mTorr의 기저 압력에 도달했을 때, 스테이지 냉각기를 켜고, 이를 < 0℃에 도달하도록 한다.
단계 7: 니들 밸브 다이얼(needle valve dial)을 1/8 바퀴만 돌려 개시제 앰플을 배출시킨다. 압력이 튜브당 약 20 내지 30 mTorr만큼 증가한 다음 다시 기저 압력으로 감소할 때, 배출이 이루어진다.
단계 8: 누출 (있는 경우)의 검출: 압력이 계속 증가하는 경우, 튜브 어딘가에 누출이 있다. 진공 밸브가 폐쇄되어 있고 니들 밸브가 개방되어 있는 동안 압력을 관찰함으로써 누출이 확인될 수 있다.
단계 9: 배출 후, 열 랩(heat wrap)으로 튜브를 감싼다. 열전대 및 입구 랩핑(wrapping)을 재확인한다.
단계 10: 니들 밸브를 폐쇄하고, 열 테이프의 플러그를 꽂고, 적절한 온도로 가열한다. 모노머: 120℃; 개시제: 120℃.
단계 11: 개시제 가열을 시작한다. 가열되면, 모노머 가열을 시작한다. 모노머 및 개시제가 해당 온도에 도달하면, 10분 동안 타이머를 설정하여, 열 평형을 허용한다. 스테이지 온도는 < 0℃이어야 한다.
단계 12: 진공 밸브를 폐쇄한다.
단계 13: 증착: UV 램프 박스를 챔버의 상단 상에 배치하고, UV 램프를 켠다.
단계 14: 먼저 개시제 밸브를 1/8 바퀴 돌려 천천히 개방할(crack open)뿐만 아니라, 30초 후에 모노머 밸브를 1/8 바퀴만큼 개방한다. QCM 속도는 각각의 밸브가 개방된 후 초당 적어도 5 옹스트롬까지 급증해야 한다.
단계 15: 30분 동안 타이머를 설정하고, 이 후에 증착이 완료될 것이다.
단계 16: 후증착(Post Deposition): 증착 시간에 도달하면, 펌프 개방을 0%로 설정하고, 열 랩(heat wrap)의 플러그를 뽑고, 열전대를 제거한다.
단계 17: 모노머 및 개시제 밸브를 폐쇄한다.
단계 18: UV 램프를 끈다.
단계 19: 열 랩의 전원을 끄고, 이들을 Swagelok SS 바이알에서 푼다(untie).
단계 20: 남아있는 모노머 및 개시제를 측정하기 전에 모노머 및 개시제를 30℃까지 냉각되도록 한다.
단계 21: 최종 압력 및 필름 두께를 기록한다. 빈 밸브를 개방하여, 챔버를 다시 대기(atmosphere)로 가져온다.
추가의 상세사항은, 발명의 명칭이 "Electrically-heated fiber, fabric, or textile for heated apparel"이며 2019년 7월 25일에 공개된 미국 특허 공보 번호 2019/0230745 A1 (Andrew, Zhang and Baima), 및 발명의 명칭이 "Polymeric capacitors for energy storage devices, method of manufacture thereof and articles comprising the same"이며 2018년 9월 20일에 공개된 미국 특허 공보 번호 2018/0269006 A1 (Andrew and Zhang)에서 확인할 수 있으며, 상기 미국 특허 공보 각각은 그 전문이 본원에 통합된다.

Claims (19)

  1. 광개시 화학 기상 증착을 사용하여 코팅된 텍스타일을 제조하기 위한 시스템으로서, 상기 시스템은
    공정 챔버로서,
    투명 창;
    상기 투명 창 아래에 배치된 기재 스테이지; 및
    제1 입구 포트 및 제2 입구 포트를 포함하는 복수의 포트;를 포함하며, 상기 제1 입구 포트는 증기상(phase) 모노머를 상기 공정 챔버 내로 수송하고, 상기 제2 입구 포트는 증기상 개시제를 상기 공정 챔버 내로 수송하며, 상기 공정 챔버는 상기 모노머 및 상기 개시제를 텍스타일 기재 상에 증착하도록 제어되는, 공정 챔버; 및
    자외선 광원으로서, 상기 자외선 광원은 상기 투명 창을 통해 상기 공정 챔버 내로 자외선을 도입하도록 위치되며, 상기 자외선은 상기 모노머 및 상기 개시제를 중합하여 상기 텍스타일 기재를 폴리머로 코팅하는, 자외선 광원;을 포함하는 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 상기 공정 챔버가 상기 기재 스테이지 아래에 배치된 스테이지 냉각기(stage chiller)를 추가로 포함하며, 상기 스테이지 냉각기는 상기 텍스타일 기재를 -50℃ 및 25℃ 사이의 선택된 온도에서 유지하도록 구성되는, 시스템.
  3. 제1항에 있어서, 상기 복수의 포트가 진공 포트를 추가로 포함하며, 상기 진공 포트는 0.001 내지 10 Torr의 진공을 유지하도록 구성되는, 시스템.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 입구 포트가 각각 초당 0.1 내지 10 cm3의 유량을 갖도록 구성되는, 시스템.
  5. 제1항에 있어서, 상기 시스템이 상기 텍스타일 기재를 코팅하기 위해 과산화물의 분해를 포함하지 않는, 시스템.
  6. 제1항에 있어서, 상기 공정 챔버가 상기 자외선 광원으로부터의 자외선에 의한 상기 모노머 및 상기 개시제의 중합과 동시에 상기 모노머 및 상기 개시제를 상기 텍스타일 기재 상에 증착하도록 제어되는, 시스템.
  7. 제1항에 있어서, 상기 텍스타일 기재가 직물을 포함하고, 코팅이 상기 직물의 적어도 일부 섬유 둘레에 등각으로(conformally) 증착되는, 시스템.
  8. 제1항에 있어서, 상기 텍스타일 기재를 코팅하는 상기 폴리머가 아크릴레이트, 폴리스티렌 또는 폴리(비닐) 폴리머 중 하나를 포함하는, 시스템.
  9. 제1항에 있어서, 상기 자외선 광원으로부터의 자외선이 390 나노미터 이하의 파장을 포함하는, 시스템.
  10. 제1항에 있어서, 상기 텍스타일 기재를 코팅하는 상기 폴리머가 p-도핑된 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)을 포함하는, 시스템.
  11. 광개시 화학 기상 증착을 사용하여 코팅된 텍스타일을 제조하기 위한 시스템으로서, 상기 시스템은
    공정 챔버로서,
    투명 창;
    상기 투명 창 아래에 배치된 기재 스테이지;
    상기 기재 스테이지 아래에 배치된 스테이지 냉각기; 및
    제1 입구 포트, 제2 입구 포트 및 진공 포트를 포함하는 복수의 포트;를 포함하며, 상기 제1 입구 포트는 증기상 모노머를 상기 공정 챔버 내로 수송하고, 상기 제2 입구 포트는 증기상 개시제를 상기 공정 챔버 내로 수송하는, 공정 챔버;
    자외선 광원으로서, 상기 자외선 광원은 상기 투명 창을 통해 상기 공정 챔버 내로 자외선을 도입하도록 위치되며, 상기 자외선이 상기 모노머 및 상기 개시제를 중합하여 기재를 폴리머로 코팅하는, 자외선 광원; 및
    제어기로서, 상기 제어기는 상기 자외선 광원으로부터의 자외선에 의한 상기 모노머 및 상기 개시제의 중합과 동시에 상기 모노머 및 상기 개시제를 상기 기재 상에 증착하도록 구성된, 제어기;를 포함하는 시스템.
  12. 제11항에 있어서, 상기 스테이지 냉각기가 상기 기재를 -50℃ 및 25℃ 사이의 선택된 온도에서 유지하도록 구성되는, 시스템.
  13. 제11항에 있어서, 상기 진공 포트가 0.001 내지 10 Torr의 진공을 유지하도록 구성되는, 시스템.
  14. 제11항에 있어서, 상기 제1 및 제2 입구 포트가 각각 초당 0.1 내지 10 cm3의 유량을 갖도록 구성되는, 시스템.
  15. 제11항에 있어서, 상기 시스템이 상기 텍스타일 기재를 코팅하기 위해 과산화물의 분해를 포함하지 않는, 시스템.
  16. 제11항에 있어서, 상기 텍스타일 기재가 직물을 포함하고, 코팅이 상기 직물의 적어도 일부 섬유 둘레에 등각으로 증착되는, 시스템.
  17. 제11항에 있어서, 상기 텍스타일 기재를 코팅하는 상기 폴리머가 아크릴레이트, 폴리스티렌 또는 폴리(비닐) 폴리머 중 하나를 포함하는, 시스템.
  18. 제11항에 있어서, 상기 자외선 광원으로부터의 자외선이 390 나노미터 이하의 파장을 포함하는, 시스템.
  19. 제11항에 있어서, 상기 텍스타일 기재를 코팅하는 상기 폴리머가 p-도핑된 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)을 포함하는, 시스템.
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