KR20240001459A - Decoration film for mobile phones with antenna and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
본 발명은 휴대폰 데코레이션 필름에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 백커버의 배면에 안테나 패턴을 형성함으로써, 디바이스의 소형화, 경량화, 공정 비용 절감 등의 장점을 발휘할 수 있는, 안테나가 적용된 휴대폰 데코레이션 필름 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a mobile phone decoration film, and more specifically, to a mobile phone decoration film to which an antenna is applied, which can exhibit advantages such as miniaturization, weight reduction, and process cost reduction by forming an antenna pattern on the back of the back cover, and the same. It is about manufacturing method.
Description
본 발명은 휴대폰 데코레이션 필름에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 백커버의 배면에 안테나 패턴을 형성함으로써, 디바이스의 소형화, 경량화, 공정 비용 절감 등의 장점을 발휘할 수 있는, 안테나가 적용된 휴대폰 데코레이션 필름 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a mobile phone decoration film, and more specifically, to a mobile phone decoration film to which an antenna is applied, which can exhibit advantages such as miniaturization, weight reduction, and process cost reduction by forming an antenna pattern on the back of the back cover, and the same. It is about manufacturing method.
최근 휴대폰, 타블렛 PC 등을 비롯한 휴대 단말기에 무선 태그(RFID, Radio Frequency Identification), 근거리 무선통신(NFC), 마그네틱 보안 전송(MST), 무선충전(WPT), 대화형 펜 타블렛 등 다양한 기능이 추가되고 있다. 이중 NFC (Near Field Communication) 및 MST (Magnetic Secure Transmission) 등은 교통, 티켓, 결제 등과 같은 여러 가지 서비스에 사용되고 있다.Recently, various functions such as wireless tag (RFID, Radio Frequency Identification), Near Field Communication (NFC), Magnetic Secure Transmission (MST), wireless charging (WPT), and interactive pen tablet have been added to mobile terminals including mobile phones and tablet PCs. It is becoming. Among these, NFC (Near Field Communication) and MST (Magnetic Secure Transmission) are used in various services such as transportation, tickets, and payments.
이러한 기능들은 일반적으로 코일 형태의 안테나 배선을 통해 수행되며, 이에 휴대 단말기에는 안테나 배선이 형성된 안테나 장치가 탑재되고 있다. 최근의 스마트폰은 다양한 종류의 안테나를 포함하되, 공간의 축소를 위해서 그에 따라 스마트폰 케이스와 일체화한 안테나가 사용되고 있다.These functions are generally performed through coil-shaped antenna wiring, and mobile terminals are equipped with antenna devices with antenna wiring. Recent smartphones include various types of antennas, but in order to reduce space, antennas integrated with the smartphone case are being used.
이를 위한 종래의 제조방법으로는, 먼저 외부의 전자기파를 수신하기 위한 안테나 패턴을 금형에 넣고, 수지를 주입하여 성형 수지체를 형성한 다음, 그 이후, 안테나 패턴을 갖는 형성 수지체를 케이스 백커버 금형에 넣고 수지를 주입하여 휴대폰 케이스 커버를 제조하는 방법을 일반적으로 사용해왔다. In the conventional manufacturing method for this, first, an antenna pattern for receiving external electromagnetic waves is placed in a mold, resin is injected to form a molded resin body, and then the formed resin body with the antenna pattern is placed on the case back cover. The method of manufacturing mobile phone case covers by placing them in a mold and injecting resin has been commonly used.
그러나, 안테나 패턴을 갖는 성형 수지체와 휴대폰 백커버를 케이스 백커버 금형에 배치하는 경우, 시간이 지체되어 생산성이 저하될 뿐만 아니라 금형의 온도가 하강하게 되고 그에 따라서 불량이 증가하게 된다는 문제점이 있었다. However, when placing the molded resin body with the antenna pattern and the mobile phone back cover in the case back cover mold, there was a problem in that not only was the time delayed and productivity decreased, but the temperature of the mold decreased and defects increased accordingly. .
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 백커버 제조 후공정으로 백커버의 배면에 패턴 도금을 수행하여 일체화된 안테나 패턴을 제조함으로써, 소형화, 경량화, 공정 비용 절감 등의 장점을 발휘할 수 있도록 하는, 안테나가 적용된 휴대폰 데코레이션 필름 및 이의 제조방법을 제공하고자 한다. The present invention is intended to solve the problems described above. By performing pattern plating on the back of the back cover as a post-production process to manufacture an integrated antenna pattern, advantages such as miniaturization, weight reduction, and process cost reduction can be demonstrated. The aim is to provide a mobile phone decoration film to which an antenna is applied and a method of manufacturing the same.
본 발명의 상기 및 다른 목적과 이점은 바람직한 실시예를 설명한 하기의 설명으로부터 분명해질 것이다.The above and other objects and advantages of the present invention will become apparent from the following description of preferred embodiments.
상기 목적은, 베이스 필름층을 준비하는 단계; 상기 베이스 필름층의 배면에 UV 패턴층을 형성하는 단계; 를 포함하여 제조된 데코레이션 필름 제조용 기재부를 준비하는 단계; 및 상기 기재부를 성형하는 단계; 를 포함하여 제조된 데코레이션 필름을 제조하는 단계; 및, 상기 데코레이션 필름의 배면에 안테나 패턴층을 형성하는 단계;를 더 포함하는, 안테나가 적용된 휴대폰 데코레이션 필름 제조방법에 의해 달성될 수 있다. The purpose is to prepare a base film layer; Forming a UV pattern layer on the back of the base film layer; Preparing a base portion for manufacturing a decoration film manufactured including; And forming the base portion; Producing a decoration film prepared including; And, forming an antenna pattern layer on the back of the decoration film; it can be achieved by a method of manufacturing a mobile phone decoration film to which an antenna is applied, which further includes.
상기 안테나 패턴층을 형성하는 단계는, 상기 데코레이션 필름의 배면 상에 레이저를 조사하여 패터닝하는 단계; 패터닝된 부위에 구리(Cu) 잉크를 사용하여 무전해 도금하는 단계; 및 무전해 도금 후에 니켈 도금을 수행하여 전도성 패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다. Forming the antenna pattern layer includes patterning the back surface of the decoration film by irradiating a laser; Electroless plating using copper (Cu) ink on the patterned area; And performing nickel plating after electroless plating to form a conductive pattern.
상기 무전해 도금하는 단계는, 상기 패터닝된 부위에 친수성 표면 처리를 수행하는 단계; 표면 처리 후에 상기 구리(Cu) 잉크로 잉크젯 프린팅하는 단계; 및The electroless plating step includes performing hydrophilic surface treatment on the patterned area; Inkjet printing with the copper (Cu) ink after surface treatment; and
프린팅 후에 건조를 수행하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.Characterized in that it includes; performing drying after printing.
상기 친수성 표면 처리는, 헬륨(He) 가스를 48 내지 52 mm/s 속도로 3회 내지 4회 반복하여 플라즈마 처리하는 것일 수 있다. 상기 건조는, 78 내지 82 ℃에서 30초 내지 1.5분 동안 1차 건조한 다음, 상온(18 내지 26 ℃)에서 완전 건조시키는 것일 수 있다. The hydrophilic surface treatment may be plasma treatment using helium (He) gas three to four times at a speed of 48 to 52 mm/s. The drying may be performed by first drying at 78 to 82°C for 30 seconds to 1.5 minutes and then completely drying at room temperature (18 to 26°C).
상기 기재부를 준비하는 단계에서, 상기 베이스 필름층의 전면에는, 무광 효과를 나타내는 UV 패턴층을 형성하고, 상기 베이스 필름층의 배면에 형성된 UV 패턴층의 하부에는 순차적으로 적층시킨 증착층 및 차폐 인쇄층을 형성하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다. In the step of preparing the base film, a UV pattern layer exhibiting a matte effect is formed on the front surface of the base film layer, and a deposition layer and shielding print are sequentially laminated on the lower part of the UV pattern layer formed on the back surface of the base film layer. It is characterized in that it further includes a step of forming a layer.
상기 목적은, 베이스 필름층; 상기 베이스 필름층의 배면에 형성된 UV 패턴층; 을 포함하는 데코레이션 필름; 및 상기 데코레이션 필름의 배면에 형성된 안테나 패턴층; 을 포함하는, 안테나가 적용된 휴대폰 데코레이션 필름에 의해 달성될 수 있다. The above object is, base film layer; A UV pattern layer formed on the back of the base film layer; Decoration film containing; And an antenna pattern layer formed on the back of the decoration film; It can be achieved by a mobile phone decoration film to which an antenna is applied, including.
상기 베이스 필름층은 PC(Polycarbonate) 시트, PMMA (Polymethyl methacrylate) 시트, PCPMMA(Polycarbonate Polymethyl methacrylate) 시트 또는 이들의 조합인 것을 특징으로 한다. The base film layer is characterized in that it is a polycarbonate (PC) sheet, a polymethyl methacrylate (PMMA) sheet, a polycarbonate polymethyl methacrylate (PCPMMA) sheet, or a combination thereof.
상기 베이스 필름층은, 40 내지 50㎛ 의 두께인 PMMA 층 및 상기 PMMA층의 배면에 위치하고, 585 내지 595 ㎛ 의 두께인 PC 층의 조합으로 형성된 것을 특징으로 한다. The base film layer is characterized in that it is formed by a combination of a PMMA layer with a thickness of 40 to 50 μm and a PC layer with a thickness of 585 to 595 μm and located on the back of the PMMA layer.
상기 안테나 패턴층은, 하부 커버층; 상기 하부 커버층 상에 위치하는 하부 구리층; 상기 하부 구리층 상에 위치하는 베이스 필름층; 상기 베이스 필름층 상에 위치하는 상부 구리층; 및 상기 상부 구리층 상에 위치하고, 상기 데코레이션 필름의 배면 상에 위치하는 상부 커버층;을 포함하는 것을 특징으로 한다. The antenna pattern layer includes a lower cover layer; a lower copper layer located on the lower cover layer; a base film layer located on the lower copper layer; an upper copper layer located on the base film layer; and an upper cover layer located on the upper copper layer and on the back of the decoration film.
본 발명에 따르면, 백커버 완제품 제조 후공정으로, 백커버의 배면에 패턴 도금을 수행하여 일체화된 안테나 패턴을 제조함으로써, 디바이스의 소형화, 경량화, 공정 비용 절감 등의 장점을 발휘할 수 있도록 한다. According to the present invention, as a post-manufacturing process for the finished back cover product, pattern plating is performed on the back of the back cover to manufacture an integrated antenna pattern, thereby enabling advantages such as miniaturization and weight reduction of the device and reduction of process costs.
또한, 본 발명에 따르면, 데코레이션 필름의 전면에 무광효과에 따른 내지문 효과, 슬립성이 우수한 질감 효과, 디자인 헤이즈 효과 등을 나타낼 수 있으며, 상기 패턴은 다양한 모양을 사용함으로써 무광효과 뿐만 아니라 다양한 디자인을 구현할 수 있다.In addition, according to the present invention, the front surface of the decoration film can exhibit an anti-fingerprint effect due to a matte effect, a texture effect with excellent slipperiness, a design haze effect, etc., and the pattern can be used in various shapes to provide not only a matte effect but also various designs. can be implemented.
다만, 본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the effects of the present invention are not limited to the effects mentioned above, and other effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description below.
도 1은, 본 발명의 일 실시예에 따른 안테나 패턴을 적용한 휴대폰 데코레이션 필름의 구조를 나타낸 모식도이다.
도 2는, 도 1의 안테나의 적층 구조를 모식적으로 나타낸 것이다.
도 3은, 본 발명의 일 실시예에 따른 안테나 패턴의 제조공정을 순서대로 나타낸 모식도이다.
도 4는, 본 발명의 일 실시예에 따른 안테나 패턴을 구현한 실제 사진이다.
도 5 및 도 6은 실험예의 결과를 나타낸 것이다. Figure 1 is a schematic diagram showing the structure of a mobile phone decoration film to which an antenna pattern is applied according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 schematically shows the stacked structure of the antenna of FIG. 1.
Figure 3 is a schematic diagram sequentially showing the manufacturing process of an antenna pattern according to an embodiment of the present invention.
Figure 4 is an actual photograph implementing an antenna pattern according to an embodiment of the present invention.
Figures 5 and 6 show the results of an experimental example.
이하, 본 발명의 실시예와 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 예시적으로 제시한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가지는 자에 있어서 자명할 것이다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments of the present invention and drawings. These examples are merely presented as examples to explain the present invention in more detail, and it will be apparent to those skilled in the art that the scope of the present invention is not limited by these examples. .
또한, 달리 정의하지 않는 한, 본 명세서에서 사용되는 모든 기술적 및 과학적 용어는 본 발명이 속하는 기술 분야의 숙련자에 의해 통상적으로 이해되는 바와 동일한 의미를 가지며, 상충되는 경우에는, 정의를 포함하는 본 명세서의 기재가 우선할 것이다.Additionally, unless otherwise defined, all technical and scientific terms used in this specification have the same meaning as commonly understood by a person skilled in the art to which the present invention pertains, and in case of conflict, this specification including definitions The description will take precedence.
도면에서 제안된 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다. 그리고, 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 또한, 명세서에서 기술한 "부"란, 특정 기능을 수행하는 하나의 단위 또는 블록을 의미한다.In order to clearly explain the proposed invention in the drawings, parts unrelated to the description have been omitted, and similar reference numerals have been assigned to similar parts throughout the specification. And, when it is said that a part "includes" a certain component, this means that it does not exclude other components, but may further include other components, unless specifically stated to the contrary. Additionally, “unit” as used in the specification refers to a unit or block that performs a specific function.
각 단계들에 있어 식별부호(제1, 제2, 등)는 설명의 편의를 위하여 사용되는 것으로 식별부호는 각 단계들의 순서를 설명하는 것이 아니며, 각 단계들은 문맥상 명백하게 특정 순서를 기재하지 않는 이상 명기된 순서와 다르게 실시될 수 있다. 즉, 각 단계들은 명기된 순서와 동일하게 실시될 수도 있고 실질적으로 동시에 실시될 수도 있으며 반대의 순서대로 실시될 수도 있다.Identification codes (first, second, etc.) for each step are used for convenience of explanation. The identification codes do not describe the order of each step, and each step does not clearly state a specific order in context. It may be carried out differently from the order specified above. That is, each step may be performed in the same order as specified, may be performed substantially simultaneously, or may be performed in the opposite order.
본원의 일 측면은, 베이스 필름층; 상기 베이스 필름층의 배면에 형성된 UV 패턴층; 을 포함하는 데코레이션 필름; 및 상기 데코레이션 필름의 배면에 형성된 안테나 패턴층; 을 포함하는, 안테나가 적용된 휴대폰 데코레이션 필름을 제공한다. One aspect of the present application is a base film layer; A UV pattern layer formed on the back of the base film layer; Decoration film containing; And an antenna pattern layer formed on the back of the decoration film; Provides a mobile phone decoration film to which an antenna is applied, including.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본원의 구현예 및 실시예를 상세히 설명한다. 그러나, 본원의 이러한 구현예 및 실시예와 도면에 제한되지 않을 수 있다.Hereinafter, implementation examples and examples of the present application will be described in detail with reference to the attached drawings. However, the present disclosure may not be limited to these implementations, examples, and drawings.
도 1은, 본 발명의 일 실시예에 따른 안테나 패턴을 적용한 휴대폰 데코레이션 필름의 구조를 나타낸 모식도이다.Figure 1 is a schematic diagram showing the structure of a mobile phone decoration film to which an antenna pattern is applied according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 안테나 패턴층(10)은 상기 데코레이션 필름(1)의 배면에 형성될 수 있다. 즉, 상기 안테나 패턴층(10)은 상기 데코레이션 필름(1)의 완제품 형태를 제조한 다음에 수행되는 후공정에 의해 형성되는 것일 수 있다. 상기 안테나 패턴층(10)에 대하여는 추후 다시 구체적으로 서술하기로 한다. Referring to FIG. 1, the antenna pattern layer 10 according to an embodiment of the present invention may be formed on the back of the decoration film 1. That is, the antenna pattern layer 10 may be formed through a post-process performed after manufacturing the finished product form of the decoration film 1. The antenna pattern layer 10 will be described in detail later.
상기 데코레이션 필름(1)은, 베이스 필름층(100)의 배면에 형성된 UV 패턴층(200)을 포함하고, 상기 베이스 필름층(100)의 전면에 형성되는, 무광효과를 나타내는 UV 패턴층(300)을 포함할 수 있다. The decoration film 1 includes a UV pattern layer 200 formed on the back of the base film layer 100, and a UV pattern layer 300 that exhibits a matte effect and is formed on the front of the base film layer 100. ) may include.
상기 베이스 필름층(100)의 배면에 형성된 UV 패턴층(200)의 하부에는 순차적으로 적층시킨 증착층(미도시) 및 차폐 인쇄층(200)을 더 포함할 수 있다. The lower part of the UV pattern layer 200 formed on the back of the base film layer 100 may further include a sequentially laminated deposition layer (not shown) and a shielding printed layer 200.
상기 데코레이션 필름(1)의 구조는 이에 한정되지는 않으며, 당해 분야에서 통상적으로 포함되는 층, 구조 등의 구성 요소를 제한없이 더 포함할 수 있다. The structure of the decoration film 1 is not limited to this, and may further include components commonly included in the field, such as layers and structures, without limitation.
상기 베이스 필름층(100)은 PC(Polycarbonate) 시트, PMMA (Polymethyl methacrylate) 시트, PCPMMA(Polycarbonate Polymethyl methacrylate) 시트 또는 이들의 조합에서 선택되는 어느 하나일 수 있다. The base film layer 100 may be any one selected from a polycarbonate (PC) sheet, a polymethyl methacrylate (PMMA) sheet, a polycarbonate polymethyl methacrylate (PCPMMA) sheet, or a combination thereof.
일 실시예에서, 상기 베이스 필름층(100)은, 40 내지 50㎛, 구체적으로, 45 ㎛의 두께를 갖는 PMMA 층(102) 및 상기 PMMA층(102)의 배면에 위치하되, 585 내지 595 ㎛, 구체적으로, 590 ㎛의 두께인 PC 층(101)의 조합으로 형성된 것일 수 있다. In one embodiment, the base film layer 100 is located on the rear surface of the PMMA layer 102 and the PMMA layer 102 having a thickness of 40 to 50 ㎛, specifically 45 ㎛, but 585 to 595 ㎛. , Specifically, it may be formed by a combination of PC layers 101 with a thickness of 590 ㎛.
도 2는, 도 1의 안테나 패턴층(10)의 적층 구조를 모식적으로 나타낸 것이다.FIG. 2 schematically shows the stacked structure of the antenna pattern layer 10 of FIG. 1.
도 2를 함께 참조하면, 상기 안테나 패턴층(10)은 안테나이자 외부로 노출되는 하부 커버층(11); 상기 하부 커버층(11) 상에 위치하는 하부 구리층(12); 상기 하부 구리층(12) 상에 위치하는, 안테나용 베이스 필름층(13); 상기 베이스 필름층(13) 상에 위치하는 상부 구리층(14); 상기 상부 구리층(14) 상에 위치하고, 상기 휴대폰 데코레이션 필름(1)의 배면 상에 위치하는 상부 커버층(15);을 포함하는 적층 구조를 형성할 수 있다. Referring to FIG. 2 together, the antenna pattern layer 10 includes a lower cover layer 11 that serves as an antenna and is exposed to the outside; a lower copper layer 12 located on the lower cover layer 11; a base film layer for an antenna (13) located on the lower copper layer (12); an upper copper layer 14 located on the base film layer 13; It is possible to form a laminated structure including an upper cover layer 15 located on the upper copper layer 14 and on the back of the mobile phone decoration film 1.
상기 안테나 패턴층(10)은 상기 데코레이션 필름(1)의 배면에 전도성 패턴이 매립된 구조를 형성할 수 있다. 상기 각 층의 두께는, 서로 독립적으로, 10 내지 15 ㎛, 구체적으로, 12.5 ㎛ 로 형성되는 것이 바람직하다. The antenna pattern layer 10 may form a structure in which a conductive pattern is embedded in the rear surface of the decoration film 1. The thickness of each layer is preferably independently 10 to 15 ㎛, specifically, 12.5 ㎛.
도 3을 참조하면, 상기 안테나 패턴층(10)의 제조 공정은 다음과 같다. Referring to FIG. 3, the manufacturing process of the antenna pattern layer 10 is as follows.
먼저, 데코레이션 필름(1)이 제조될 수 있다. 상기 데코레이션 필름(1)은 전술된 구조로 형성될 수 있으며, 당해 분야의 통상적인 제조방법에 의해 제조될 수 있다. First, the decoration film 1 can be manufactured. The decoration film 1 may be formed in the structure described above and may be manufactured by a conventional manufacturing method in the field.
일 실시예에 있어서, 상기 베이스 필름층(100)을 준비하는 단계; 상기 베이스 필름층(100)의 배면에 UV 패턴층(200)을 형성하는 단계; 를 포함하여 제조된 데코레이션 필름 제조용 기재부를 준비할 수 있다. In one embodiment, preparing the base film layer 100; Forming a UV pattern layer 200 on the back of the base film layer 100; It is possible to prepare a base material for manufacturing a decoration film manufactured including.
상기 기재부는, 상기 베이스 필름층(100)의 전면에는, 무광 효과를 나타내는 UV 패턴층(300)을 형성하고, 상기 베이스 필름층(100)의 배면에 UV 패턴층(200)을 형성하고, UV 패턴층(200)의 하부에는 순차적으로 적층시킨 증착층(미도시) 및 차폐 인쇄층(미도시)을 형성하는 단계를 더 포함하여 제조될 수 있다.The base unit forms a UV pattern layer 300 exhibiting a matte effect on the front surface of the base film layer 100, forms a UV pattern layer 200 on the back surface of the base film layer 100, and forms a UV pattern layer 200 on the back surface of the base film layer 100. The pattern layer 200 may be manufactured by further including forming a sequentially laminated deposition layer (not shown) and a shielding printed layer (not shown) on the lower part of the pattern layer 200.
상기 기재부의 총 두께는 예컨대, 1.0mm 이하, 구체적으로, 0.01mm 내지 1.0mm, 더 구체적으로, 0.01 내지 1mm일 수 있으며, 이에 제한되지는 않는다. The total thickness of the base portion may be, for example, 1.0 mm or less, specifically, 0.01 mm to 1.0 mm, more specifically, 0.01 to 1 mm, but is not limited thereto.
이어서, 상기 기재부를 성형기에 공급하여 성형을 수행할 수 있다. 상기 성형기란, 예를 들어, 사출 열성형, 진공성형, 가압성형 등, 당해 분야에서 사용되는 일반적인 성형 공법을 수행할 수 있는 것이라면 크게 제한되지는 않는다. Next, molding can be performed by supplying the base material to a molding machine. The molding machine is not particularly limited as long as it can perform general molding methods used in the field, such as injection thermoforming, vacuum molding, and pressure molding.
일례로서, 상기 성형기는 가압 성형기, 구체적으로, 고압의 에어를 분사하여 가압 시키는 성형기일 수 있다. 에어를 분사하여 가압을 수행하면, 기재의 변형이나 손상을 막고 보다 정교하게 성형(forming)이 이루어질 수 있다. 상기 가압은 일정 조건의 열과 압력 하에 수행될 수 있으며, 이러한 조건은 기재의 종류와 원하는 형상에 따라 적합하게 조절할 수 있다. As an example, the molding machine may be a pressure molding machine, specifically, a molding machine that sprays high-pressure air to pressurize the molding machine. By applying pressure by spraying air, deformation or damage to the substrate can be prevented and more precise forming can be achieved. The pressing may be performed under certain conditions of heat and pressure, and these conditions may be appropriately adjusted depending on the type of substrate and desired shape.
예컨대, 상기 성형은 130 내지 140℃의 온도 범위로 열이 가해지는 조건에서 55 내지 80 kg/cm2의 에어를 분사하여 5 분 내지 10 분 동안 가압시켜 성형을 수행하는 것일 수 있다.For example, the molding may be performed by spraying air at 55 to 80 kg/cm 2 and pressurizing for 5 to 10 minutes under conditions where heat is applied in a temperature range of 130 to 140°C.
상기 성형 단계 후에는, 당해 분야에서 통상적으로 필수 또는 선택적으로 행해지는 공정, 예컨대, 절삭, 광학 코팅, 외각 가공 등에 대하여는 크게 제한없이 수행되어, 데코레이션 필름을 제조할 수 있다. After the forming step, processes commonly performed as essential or optional in the field, such as cutting, optical coating, and outer shell processing, can be performed without major restrictions to produce a decoration film.
다음으로, 상기 데코레이션 필름(1)이 제조된 후에 후공정으로 안테나 패턴층(10)을 형성할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에서는, 상기 안테나 패턴층(10)을 형성하기 위하여, 레이저 패터닝 후 도금을 수행하는 방법인 LMA(Laser manufacturing) 공법을 사용할 수 있다. Next, after the decoration film 1 is manufactured, the antenna pattern layer 10 can be formed in a post-process. In one embodiment of the present invention, to form the antenna pattern layer 10, a laser manufacturing (LMA) method, which is a method of performing plating after laser patterning, may be used.
종래에는, 레진 상에 도금이 가능한 물질을 넣어 레이저로 반응시켜 도금하는 것인 LDS(Laser direct structuring) 공법을 사용하여 안테나 패턴을 제작하였으나, 이는 특정한 전용 레진을 사용해야만 하는 공정 상의 번거로움이 있었다. 반면, 본 발명에서는, 상기 LMA(Laser manufacturing) 공법을 사용함으로써, PC, PMMA 등의 모든 플라스틱에 적용이 가능하고, 백커버 완제품에 직접 도금하여 안테나 패턴을 일체화하여 형성할 수 있도록 하여 공정 상의 간편성과 생산성 향상에 기여할 수 있다. In the past, antenna patterns were produced using the LDS (Laser Direct Structuring) method, which involves putting a material that can be plated on a resin and plating it by reacting it with a laser, but this was inconvenient in the process as it required the use of a specific dedicated resin. . On the other hand, in the present invention, by using the LMA (Laser manufacturing) method, it can be applied to all plastics such as PC and PMMA, and the antenna pattern can be formed by plating directly on the finished back cover product, thereby simplifying the process. and can contribute to improving productivity.
상기 LMA(Laser manufacturing) 공법에 의한 안테나 패턴층(10)의 제조방법은, 먼저, 상기 데코레이션 필름(1)의 배면 상에 레이저를 조사하여 패터닝을 수행할 수 있다. 상기 레이저 조사는, 당해 분야에서 공지된 기술에 따라 수행될 수 있다. 패턴의 형상에 대하여는 크게 제한되지 않으며, 당해 분야에서 통상적으로 형성되는 안테나 패턴의 형상에 따를 수 있다. In the method of manufacturing the antenna pattern layer 10 using the LMA (Laser manufacturing) method, patterning may first be performed by irradiating a laser onto the back of the decoration film 1. The laser irradiation may be performed according to techniques known in the art. The shape of the pattern is not particularly limited and may follow the shape of an antenna pattern commonly formed in the field.
이어서, 패터닝된 부위에 구리(Cu) 잉크를 사용하여 무전해 도금을 수행할 수 있다. 상기 무전해 도금은, 공지된 기술에 따른 구리(Cu) 잉크를 사용하여 잉크젯 프린팅을 수행하여 안테나 패턴을 형성하는 것일 수 있다. Next, electroless plating can be performed on the patterned area using copper (Cu) ink. The electroless plating may be performed by inkjet printing using copper (Cu) ink according to a known technology to form an antenna pattern.
상기 패턴의 물성, 구체적으로, 소수성을 띄는 구리(Cu) 잉크로 인해 건조 후의 잉크가 번지는 현상을 줄이고, 형성된 패턴의 균일도 등의 물성을 향상시키기 위하여, 상기 무전해 도금을 수행하기 전에 상기 패터닝된 부위에 친수성 표면 처리를 수행할 수 있다. In order to reduce the physical properties of the pattern, specifically, the phenomenon of ink spreading after drying due to the hydrophobic copper (Cu) ink, and to improve the physical properties such as uniformity of the formed pattern, the patterning is performed before performing the electroless plating. Hydrophilic surface treatment can be performed on the affected area.
상기 친수성 표면 처리는, 구체적으로, 헬륨(He) 가스를 사용한 플라즈마 처리일 수 있다. 상기 플라즈마 처리를 위한 구체적인 방법은 공지된 기술에 따를 수 있다. 일례로, 상기 친수성 표면 처리는 헬륨(He) 가스를 48 내지 52 mm/s, 구체적으로, 50 mm/s 속도로, 3회 내지 4회, 구체적으로, 4회 반복하여 플라즈마 처리하되, 기판과 노즐의 사이 간격(gap)은 2.8 내지 3.2mm, 구체적으로, 3mm 가 되도록 함이 바람직하다. Specifically, the hydrophilic surface treatment may be plasma treatment using helium (He) gas. A specific method for the plasma treatment may follow known techniques. For example, the hydrophilic surface treatment is performed by repeating plasma treatment with helium (He) gas at a speed of 48 to 52 mm/s, specifically 50 mm/s, 3 to 4 times, specifically 4 times, and The gap between nozzles is preferably 2.8 to 3.2 mm, specifically 3 mm.
상기 친수성 표면 처리 후에 상기 구리(Cu) 잉크로 잉크젯 프린팅한 후에는, 건조를 수행할 수 있다. 상기 건조는, 예를 들어, 78 내지 82 ℃, 구체적으로, 80 ℃에서, 30초 내지 1.5분, 일례로, 1분 동안 1차 건조한 다음에, 상온(18 내지 26 ℃), 일례로, 25℃에서 완전 건조시키는 것일 수 있다.After the hydrophilic surface treatment and inkjet printing with the copper (Cu) ink, drying may be performed. The drying may be performed by first drying at, for example, 78 to 82° C., specifically, 80° C., for 30 seconds to 1.5 minutes, for example, 1 minute, and then at room temperature (18 to 26° C.), for example, 25° C. It may be completely dried at ℃.
전술된 조건으로 건조를 수행하면, 형성되는 패턴의 표면 특성 및 물성을 더욱 향상시킬 수 있으며, 앞서 서술된 상기 친수성 표면 처리에 의한 효과와 함께 시너지를 발휘할 수 있다. If drying is performed under the above-described conditions, the surface characteristics and physical properties of the formed pattern can be further improved, and synergy can be achieved with the effect of the hydrophilic surface treatment described above.
상기 무전해 도금이 완료된 후에는 공지된 방법에 따라 니켈 도금을 수행하여 전도성 패턴, 즉, 안테나 패턴층(10)을 형성할 수 있다. After the electroless plating is completed, nickel plating can be performed according to a known method to form a conductive pattern, that is, the antenna pattern layer 10.
상기 안테나 패턴층(10)의 두께는, 50 내지 70 ㎛, 일례로, 62.5㎛ 일 수 있다. The thickness of the antenna pattern layer 10 may be 50 to 70 ㎛, for example, 62.5 ㎛.
한편, 상기 베이스 필름(100) 배면에 형성된 UV 패턴층(200)은 입체적인 디자인 패턴을 나타내기 위한 것으로, 투명한 UV 패턴 성형용 도료를 이용하여 추후, 소정의 패턴 형상을 갖도록 UV 몰딩으로 형성될 수 있다.Meanwhile, the UV pattern layer 200 formed on the back of the base film 100 is intended to represent a three-dimensional design pattern, and can be formed by UV molding to have a predetermined pattern shape later using a transparent UV pattern molding paint. there is.
이때, 소정의 패턴 형상에는 초정밀기계가공(super precision machine) 패턴, 홀로그램 패턴을 포함한 다양한 패턴 형상을 들 수 있으며, 이외에도 통상의 기술자에게 자명한 UV 패턴 형상이라면 적용될 수 있다. 이때, 제조방법은 마이크로 광학 금형을 이용한 UV 몰딩 방식으로 형성될 수 있다.At this time, the predetermined pattern shape may include a variety of pattern shapes, including super precision machine patterns and hologram patterns. In addition, any UV pattern shape that is obvious to a person skilled in the art can be applied. At this time, the manufacturing method may be a UV molding method using a micro optical mold.
상기 UV 몰딩 방식으로 UV 패턴 층이 형성될 경우, 빛의 각도에 따른 다양한 디자인 표현을 가능하게 하여 심미성을 향상시킬 수 있다.When a UV pattern layer is formed using the UV molding method, aesthetics can be improved by enabling various design expressions depending on the angle of light.
UV 패턴 성형용 도료는 바인더 물질을 포함할 수 있다. 상기 바인더 물질은 에폭시계 수지, 아크릴계 수지, 폴리올레핀계 수지, 폴리 아미드계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리초산비닐계 수지, 석유계 수지, 페놀계 수지, 폴리스티렌계 수지, 및 우레탄계 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The paint for UV pattern forming may contain a binder material. The binder material includes epoxy resin, acrylic resin, polyolefin resin, polyamide resin, polyester resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, petroleum resin, phenolic resin, polystyrene resin, and It may contain at least one of urethane-based resins.
상기 UV 패턴층(200)의 하부에 증착층 및 차폐 인쇄층이 형성될 수 있다.A deposition layer and a shielding printed layer may be formed below the UV pattern layer 200.
상기 증착층은 상기 UV 패턴층(200)을 보호하고, 상기 UV 패턴층(200)에 의한 입체 효과가 선명하게 나타나게 하기 위하여 수행된다. 상기 증착층은 당 업계에서 통상적으로 사용하는 증착 방법, 예컨대 물리적 또는 화학적 증착 방법을 포함하는 비전도 증착(Non Conductive Vacuum Metallization; NCVM) 방법을 이용하여 UV 패턴층에 무기 박막 형태로 형성할 수 있다.The deposition layer is performed to protect the UV pattern layer 200 and to clearly display the three-dimensional effect caused by the UV pattern layer 200. The deposition layer can be formed in the form of an inorganic thin film on the UV pattern layer using a deposition method commonly used in the industry, such as a Non Conductive Vacuum Metallization (NCVM) method including physical or chemical vapor deposition. .
물리적 증착 방법은 산화물 반도체나 GaAs 등을 기판에 증착시킬 때 화합물들을 녹여서 고체 상태의 타겟으로 제조해 열이나 전자빔으로 휘발시켜서 기판에 증착시킨다. 이때 원료물질은 열, 레이저, 전자빔 등을 통해 기체상태로 날려서 보내고 날아간 기체 상태의 원료 물질이 기판에 닿았을 때 고체 상태로 변화된다.When depositing an oxide semiconductor or GaAs on a substrate, the physical vapor deposition method melts the compounds, prepares them as a solid target, volatizes them with heat or an electron beam, and deposits them on the substrate. At this time, the raw material is blown into a gaseous state through heat, laser, electron beam, etc., and when the blown gaseous raw material touches the substrate, it changes into a solid state.
화학적 증착 방법은 IC 등의 제조공정에서 화학반응을 이용하여 기판 위에 실리콘 등의 박막을 만드는 공업적 방법이다. 실리콘 산화막, 실리콘 질소막, 아모퍼스 실리콘(Amorphous Silicon) 박막 등을 만드는 데 쓰인다. 화학물질을 포함하는 가스에 열이나 빛으로 에너지를 가하거나, 고주파로 플라스마화시키면 원료 물질이 라디칼화되어 반응성이 크게 높아져서 기판 위에 흡착되어 퇴적한다.The chemical vapor deposition method is an industrial method of creating a thin film of silicon, etc., on a substrate using a chemical reaction in the manufacturing process of ICs. It is used to make silicon oxide films, silicon nitrogen films, and amorphous silicon thin films. When energy is applied to a gas containing a chemical substance through heat or light, or when it is turned into a plasma using high frequency, the raw material is radicalized, greatly increasing its reactivity, and adsorbed and deposited on the substrate.
또한, 상기 증착층은 투톤 색상, 멀티 색상, 깊이감이 다양한 색상 등 다양한 색상으로 심미성을 향상시키기 위해 컬러 증착 층, 예를 들면 그라데이션 증착층으로 형성할 수 있다. 상기 그라데이션 증착층은, 일례로, 통상의 전자빔 증착 장비를 사용하여 형성될 수 있다. Additionally, the deposition layer can be formed as a color deposition layer, for example, a gradient deposition layer, to improve aesthetics in various colors such as two-tone colors, multi-colors, and colors with various depths. For example, the gradient deposition layer may be formed using conventional electron beam deposition equipment.
상기 차폐 인쇄층(미도시)은 빛의 투과를 차단하는 기능을 수행하는 것으로서, 어두운 색상을 인쇄하여 구현 가능하며, 본 발명에 따른 데코레이션 필름의 상측에서 내려다 보았을때 차폐 인쇄층 하측이 투시되지 않도록 한다. 상기 차폐 인쇄층은 일례로서 실크 스크린 인쇄방식으로 형성된 실크 인쇄층일 수 있다. 상기 차폐 인쇄층은 15 내지 25 ㎛의 두께로 형성될 수 있다.The shielding printed layer (not shown) functions to block the transmission of light, and can be implemented by printing a dark color, so that the lower side of the shielding printed layer is not transparent when viewed from the top of the decoration film according to the present invention. do. As an example, the shielding printed layer may be a silk printed layer formed by silk screen printing. The shielding printed layer may be formed to have a thickness of 15 to 25 ㎛.
상기 베이스 필름층(100)의 전면에 무광효과를 나타내는 UV 패턴층(300)을 형성할 수 있다. 상기 UV 패턴층(300)은 투명한 UV 패턴 성형용 도료를 이용하여 슬롯 다이 코팅 방법을 사용하여 형성될 수 있다. 그러나, 이에 제한되는 것은 아니며, 당 업계에서 통상적으로 사용되는 코팅 방법을 이용하여 형성할 수 있다.A UV pattern layer 300 that exhibits a matte effect may be formed on the entire surface of the base film layer 100. The UV pattern layer 300 may be formed using a slot die coating method using a transparent UV pattern forming paint. However, it is not limited to this, and can be formed using a coating method commonly used in the art.
상기 UV 패턴 성형용 도료는 바인더 물질을 포함할 수 있다. 상기 바인더 물질은 에폭시계 수지, 아크릴계 수지, 폴리올레핀계 수지, 폴리 아미드계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리초산비닐계 수지, 석유계 수지, 페놀계 수지, 폴리스티렌계 수지, 및 우레탄계 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The paint for UV pattern forming may include a binder material. The binder material includes epoxy resin, acrylic resin, polyolefin resin, polyamide resin, polyester resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, petroleum resin, phenolic resin, polystyrene resin, and It may contain at least one of urethane-based resins.
상기 코팅을 수행한 다음에는, 탁본 공법을 통하여 무광 효과를 나타내는 패턴을 형성할 수 있다. 상기 탁본 공법은 패턴 슬레이브를 사용하는 것일 수 있으며, 구체적인 제조방법은 공지된 기술에 따를 수 있다. 상기 탁본을 수행한 후에는, LED등, 수은등 등을 통한 경화 단계를 수행할 수 있다. After performing the coating, a pattern showing a matte effect can be formed through a rubbing method. The rubbing method may use a pattern slave, and the specific manufacturing method may follow known techniques. After performing the rubbing, a curing step can be performed using an LED lamp, a mercury lamp, etc.
이 외에도, 상기 데코레이션 필름(1)을 형성하기 위한 구조, 층 등의 구성 요소를 제한없이 더 포함할 수 있으며, 본 발명의 안테나 패턴층에 의한 특성을 저해하지 않는 선에서, 공지된 제조방법을 제한없이 따를 수 있다. In addition to this, components such as structures and layers for forming the decoration film 1 may be further included without limitation, and a known manufacturing method may be used as long as it does not impair the characteristics of the antenna pattern layer of the present invention. You can follow without restrictions.
도 4는, 본 발명의 일 실시예에 따른 안테나 패턴을 구현한 실제 사진이다.Figure 4 is an actual photograph implementing an antenna pattern according to an embodiment of the present invention.
도 4를 참조하면, 구리(Cu) 잉크를 이용한 무전해 도금을 수행하여 안테나 패턴을 형성한 것을 확인할 수 있다. Referring to Figure 4, it can be seen that the antenna pattern was formed by performing electroless plating using copper (Cu) ink.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 백커버 완제품 제조 후공정으로, 백커버의 배면에 패턴 도금을 수행하여 일체화된 안테나 패턴을 제조함으로써, 디바이스의 소형화, 경량화, 공정 비용 절감 등의 장점을 발휘할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, as a post-manufacturing process for the finished back cover product, pattern plating is performed on the back of the back cover to manufacture an integrated antenna pattern, thereby demonstrating advantages such as miniaturization and weight reduction of the device and reduction of process costs. there is.
이하, 구체적인 실시예와 비교예를 통하여 본 발명의 구성 및 그에 따른 효과를 보다 상세히 설명하고자 한다. 그러나, 본 실시예는 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것이며, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the configuration of the present invention and its effects will be described in more detail through specific examples and comparative examples. However, these examples are for illustrating the present invention in more detail, and the scope of the present invention is not limited to these examples.
<실험예 : 패턴 물성 평가><Experimental example: Evaluation of pattern properties>
플라즈마 표면 처리 유무에 따른 패턴의 표면 특성Surface characteristics of patterns with and without plasma surface treatment
데코레이션 필름 제조 후 플라즈마 표면 처리(사용 가스(Gas) : He 단독 (친수), 처리 속도 : 50mm/s, 4회 반복, 기판과 노즐 갭(Gap) : 3mm )를 한 실시예와 표면 처리를 하지 않은 비교예에 대하여, 각각 구리 잉크를 사용하여 잉크젯 프린팅 (사용 Head : KM1024i-LHE (토출 용량 : 30pl, 해상도 : 360DPI), 사용 Ink : Dimatix XL-30(RED), Waveform : Head reference Voltage, T2 : 9㎲ )을 수행한 다음, 건조(80℃ 3분, 완전건조)를 수행한 다음, 패턴의 표면 특성을 육안으로 관찰하여 비교하였다. 그 결과는 도 5에 나타내었다. An example in which plasma surface treatment (gas used: He alone (hydrophilic), processing speed: 50 mm/s, repeated 4 times, gap between substrate and nozzle: 3 mm) was performed after manufacturing the decoration film, and an example in which surface treatment was not performed For comparative examples, inkjet printing using copper ink (Head used: KM1024i-LHE (discharge capacity: 30pl, resolution: 360DPI), Ink used: Dimatix XL-30(RED), Waveform: Head reference Voltage, T2 : 9㎲), followed by drying (80°C for 3 minutes, complete drying), and then the surface properties of the patterns were observed with the naked eye and compared. The results are shown in Figure 5.
도 5를 참조하면, 비교예는 표면이 소수성이 그대로 유지되어 잉크가 퍼지고, 건조 후에도 잉크가 퍼지는 현상을 보였다. 실시예의 경우, 프린팅 직후 패턴은 정상적으로 형성되었으나, 건조 후에는, 잉크가 코팅에 흡수되어 퍼지는 현상이 관찰되었다. Referring to Figure 5, in the comparative example, the surface remained hydrophobic and the ink spread, and the ink spread even after drying. In the example, the pattern was formed normally immediately after printing, but after drying, it was observed that the ink was absorbed into the coating and spread.
건조 조건에 따른 패턴의 표면 특성Surface characteristics of patterns according to drying conditions
후술되는 내용을 제외하고는, 전술된 방법에 따라 패턴의 표면 특성을 관찰하였다. Except as described below, the surface properties of the patterns were observed according to the method described above.
비교예는 제외하였으며, 실시예에 대하여 각각 건조 전/후를 함께 비교하였다.Comparative examples were excluded, and the examples were compared before and after drying, respectively.
또한, 건조는, 3가지의 실험 조건(80℃ 완전 건조, 상온(25℃)으로 완전 건조, 80℃ 로 1분간 건조한 후 상온(25℃)으로 완전 건조)로 나누어 수행하여 각 조건에 따라 패턴의 표면 특성을 비교하였고, 그 결과는 도 6에 나타내었다. In addition, drying was carried out under three experimental conditions (complete drying at 80°C, complete drying at room temperature (25°C), drying at 80°C for 1 minute and then complete drying at room temperature (25°C)) to create patterns according to each condition. The surface properties were compared, and the results are shown in Figure 6.
도 6을 참조하면, 조건 1의 경우 건조 전에 패턴 유지되었고 잉크 뭉침은 없었으나, 건조 후에는 패턴 무너지는 현상이 관찰되었다. 조건 2의 경우 역시, 건조 후에 패턴의 무너짐(번짐)이 관찰되었다. 반면, 조건 3의 경우, 건조 전과 건조 후 모두, 패턴이 균일하게 유지되는 것을 확인할 수 있었다. Referring to Figure 6, in the case of condition 1, the pattern was maintained before drying and there was no ink clumping, but after drying, the phenomenon of pattern collapse was observed. In the case of condition 2, collapse (smearing) of the pattern was also observed after drying. On the other hand, in the case of condition 3, it was confirmed that the pattern was maintained uniformly both before and after drying.
즉, 도 5 및 도 6에 따른 결과에서 알 수 있듯이, 친수성 표면 처리와 80℃ 로 1분간 건조한 후 상온(25℃)으로 완전 건조를 함께 수행할 경우, 패턴의 표면 특성이 가장 우수하게 구현되는 것을 확인할 수 있었다. That is, as can be seen from the results according to Figures 5 and 6, when hydrophilic surface treatment and drying at 80°C for 1 minute followed by complete drying at room temperature (25°C) are performed together, the surface characteristics of the pattern are best realized. could be confirmed.
도면과 명세서에서 최적 실시예들이 개시되었다. 여기서 특정한 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.Optimal embodiments are disclosed in the drawings and specification. Although specific terms are used here, they are used only for the purpose of explaining the present invention and are not used to limit the meaning or scope of the present invention described in the claims. Therefore, those skilled in the art will understand that various modifications and other equivalent embodiments are possible therefrom. Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the technical spirit of the attached patent claims.
1 : 휴대폰 데코레이션 필름
100: 베이스 필름층
101: PC층
102: PMMA 층
200: UV 패턴층
200: 무광효과를 나타내는 UV 패턴층
10: 안테나 패턴층
11: 하부 커버층
12: 하부 구리층
13: 베이스 필름층
14: 상부 구리층
15: 상부 커버층1: Mobile phone decoration film
100: base film layer 101: PC layer
102: PMMA layer 200: UV pattern layer
200: UV pattern layer showing a matte effect
10: Antenna pattern layer 11: Lower cover layer
12: lower copper layer 13: base film layer
14: upper copper layer 15: upper cover layer
Claims (10)
상기 베이스 필름층의 배면에 UV 패턴층을 형성하는 단계; 를 포함하여 제조된 데코레이션 필름 제조용 기재부를 준비하는 단계; 및
상기 기재부를 성형하는 단계; 를 포함하여 제조된 데코레이션 필름을 제조하는 단계; 및,
상기 데코레이션 필름의 배면에 안테나 패턴층을 형성하는 단계;를 더 포함하는, 안테나가 적용된 휴대폰 데코레이션 필름 제조방법. Preparing a base film layer;
Forming a UV pattern layer on the back of the base film layer; Preparing a base portion for manufacturing a decoration film manufactured including; and
Molding the base portion; Producing a decoration film prepared including; and,
A method of manufacturing a mobile phone decoration film to which an antenna is applied, further comprising forming an antenna pattern layer on the back of the decoration film.
상기 안테나 패턴층을 형성하는 단계는,
상기 데코레이션 필름의 배면 상에 레이저를 조사하여 패터닝하는 단계;
패터닝된 부위에 구리(Cu) 잉크를 사용하여 무전해 도금하는 단계; 및
무전해 도금 후에 니켈 도금을 수행하여 전도성 패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는, 안테나가 적용된 휴대폰 데코레이션 필름 제조방법.According to paragraph 1,
The step of forming the antenna pattern layer is,
Patterning the back surface of the decoration film by irradiating a laser;
Electroless plating using copper (Cu) ink on the patterned area; and
A method of manufacturing a mobile phone decoration film to which an antenna is applied, comprising the step of performing nickel plating after electroless plating to form a conductive pattern.
상기 무전해 도금하는 단계는,
상기 패터닝된 부위에 친수성 표면 처리를 수행하는 단계;
표면 처리 후에 상기 구리(Cu) 잉크로 잉크젯 프린팅하는 단계; 및
프린팅 후에 건조를 수행하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는, 안테나가 적용된 휴대폰 데코레이션 필름 제조방법.According to paragraph 2,
The electroless plating step is,
performing hydrophilic surface treatment on the patterned area;
Inkjet printing with the copper (Cu) ink after surface treatment; and
A method of manufacturing a mobile phone decoration film to which an antenna is applied, comprising: performing drying after printing.
상기 친수성 표면 처리는, 헬륨(He) 가스를 48 내지 52 mm/s 속도로 3회 내지 4회 반복하여 플라즈마 처리하는 것인, 안테나가 적용된 휴대폰 데코레이션 필름 제조방법.According to paragraph 3,
The hydrophilic surface treatment is a method of manufacturing a mobile phone decoration film with an antenna, wherein the helium (He) gas is repeatedly plasma treated 3 to 4 times at a speed of 48 to 52 mm/s.
상기 건조는, 78 내지 82 ℃에서 30초 내지 1.5분 동안 1차 건조한 다음, 상온(18 내지 26 ℃)에서 완전 건조시키는 것인, 안테나가 적용된 휴대폰 데코레이션 필름 제조방법.According to paragraph 3,
The drying is performed by first drying at 78 to 82° C. for 30 seconds to 1.5 minutes and then completely drying at room temperature (18 to 26° C.).
상기 기재부를 준비하는 단계에서,
상기 베이스 필름층의 전면에는, 무광 효과를 나타내는 UV 패턴층을 형성하고, 상기 베이스 필름층의 배면에 형성된 UV 패턴층의 하부에는 순차적으로 적층시킨 증착층 및 차폐 인쇄층을 형성하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 안테나가 적용된 휴대폰 데코레이션 필름 제조방법.According to paragraph 1,
In the step of preparing the base material,
Forming a UV pattern layer showing a matte effect on the front surface of the base film layer, and forming a sequentially laminated deposition layer and a shielding printed layer below the UV pattern layer formed on the back surface of the base film layer; A method of manufacturing a mobile phone decoration film to which an antenna is applied, comprising:
상기 베이스 필름층의 배면에 형성된 UV 패턴층; 을 포함하는 데코레이션 필름; 및
상기 데코레이션 필름의 배면에 형성된 안테나 패턴층; 을 포함하는, 안테나가 적용된 휴대폰 데코레이션 필름. base film layer;
A UV pattern layer formed on the back of the base film layer; Decoration film containing; and
An antenna pattern layer formed on the back of the decoration film; Including, a mobile phone decoration film to which an antenna is applied.
상기 베이스 필름층은 PC(Polycarbonate) 시트, PMMA (Polymethyl methacrylate) 시트, PCPMMA(Polycarbonate Polymethyl methacrylate) 시트 또는 이들의 조합인 것을 특징으로 하는, 안테나가 적용된 휴대폰 데코레이션 필름.In clause 7,
A mobile phone decoration film to which an antenna is applied, wherein the base film layer is a PC (Polycarbonate) sheet, a PMMA (Polymethyl methacrylate) sheet, a PCPMMA (Polycarbonate Polymethyl methacrylate) sheet, or a combination thereof.
상기 베이스 필름층은, 40 내지 50㎛ 의 두께인 PMMA 층 및 상기 PMMA층의 배면에 위치하고, 585 내지 595 ㎛ 의 두께인 PC 층의 조합으로 형성된 것을 특징으로 하는, 안테나가 적용된 휴대폰 데코레이션 필름.According to clause 8,
The base film layer is formed by a combination of a PMMA layer with a thickness of 40 to 50 ㎛ and a PC layer with a thickness of 585 to 595 ㎛ located on the back of the PMMA layer. A mobile phone decoration film to which an antenna is applied.
상기 안테나 패턴층은,
하부 커버층;
상기 하부 커버층 상에 위치하는 하부 구리층;
상기 하부 구리층 상에 위치하는 베이스 필름층;
상기 베이스 필름층 상에 위치하는 상부 구리층; 및
상기 상부 구리층 상에 위치하고, 상기 데코레이션 필름의 배면 상에 위치하는 상부 커버층;을 포함하는 것을 특징으로 하는, 안테나가 적용된 휴대폰 데코레이션 필름.In clause 7,
The antenna pattern layer is,
lower cover layer;
a lower copper layer located on the lower cover layer;
a base film layer located on the lower copper layer;
an upper copper layer located on the base film layer; and
A mobile phone decoration film to which an antenna is applied, comprising: an upper cover layer located on the upper copper layer and located on the back of the decoration film.
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