KR20230173509A - 자동 필터 클리닝이 가능한 잉곳성장장치 - Google Patents

자동 필터 클리닝이 가능한 잉곳성장장치 Download PDF

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KR20230173509A
KR20230173509A KR1020220074357A KR20220074357A KR20230173509A KR 20230173509 A KR20230173509 A KR 20230173509A KR 1020220074357 A KR1020220074357 A KR 1020220074357A KR 20220074357 A KR20220074357 A KR 20220074357A KR 20230173509 A KR20230173509 A KR 20230173509A
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Abstract

본 발명은 잉곳 성장이 이루어지는 메인챔버에 복수개의 가스처리 모듈이 결합되어, 클리닝 공정이 이루어질 때에도 잉곳 성장 공정이 쉬지 않고 연속적으로 진행될 수 있는 자동 필터 클리닝이 가능한 잉곳성장장치에 관한 것이다.
본 발명은 가스 처리부가 복수개의 가스처리 모듈이 결합된 형태로 구성되어, 어느 하나의 가스처리 모듈에서 클리닝 공정이 진행될 시 다른 가스처리 모듈을 사용 가능하므로, 클리닝 공정을 진행하기 위해 잉곳성장공정을 멈추지 않아도 되는 장점이 있으며, 기존의 잉곳생성장치와 비교하여 잉곳생성효율을 극대화할 수 있다.

Description

자동 필터 클리닝이 가능한 잉곳성장장치{Apparatus for ingot growing with automatic filter cleaning}
본 발명은 잉곳 성장이 이루어지는 메인챔버에 복수개의 가스처리 모듈이 결합되어, 클리닝 공정이 이루어질 때에도 잉곳 성장 공정이 쉬지 않고 연속적으로 진행될 수 있는 자동 필터 클리닝이 가능한 잉곳성장장치에 관한 것이다.
전자 제품들에 사용되는 반도체 칩이나 태양전지 등을 대량으로 생산하기 위해서 일반적으로 웨이퍼를 기판으로 사용한다.
이러한 웨이퍼는 시드(seed)로부터 단결정 잉곳(single crystal ingot)을 성장시킨 후, 이를 얇은 두께로 잘라서(slicing) 만들며, 단결정 잉곳은 쵸크랄스키(CZ) 방법으로 제조될 수 있다.
쵸크랄스키법이란, 챔버 안에서 석영도가니에 실리콘을 넣고 석영도가니를 가열하여 실리콘을 용융시킨 후, 종자 결정(seed crystal)을 실리콘 융액에 접촉시킨 상태에서 회전하면서 서서히 끌어올리면서 종자 단결정 표면에서 융액을 고체로 응고시킴에 따라 소정의 직경을 갖는 잉곳을 성장시키는 방법이다.
이러한 공정이 수행되는 챔버는 가스배출관을 통해 진공펌프와 연결되어, 펌핑 공정을 통해 낮은 기압상태를 유지한다.
또한 챔버의 일측에 설치된 가스공급부는 아르곤(Ar)이나 헬륨(He) 등과 같은 불활성 가스를 챔버 내로 공급함으로써, 챔버를 진공상태로 유지함과 동시에 잉곳 성장 시 발생되는 산화물(SixOy) 등과 같은 이물질을 가스배출관을 통해 외부로 배출된다.
아울러 잉곳에 도펀트(dopant)를 주입하는 도핑공정 중에 잉곳으로 유입되지 못하고 기화되는 도펀트 등의 이물질은 가스배출관을 통해 외부로 배출된다.
이때 배출되는 이물질 중 일부는 배기 과정에서 관에 흡착되고, 필터를 막는 문제가 있어, 이물질 제거를 위한 클리닝 공정이 일정한 주기로 진행되고 있다.
종래에는 단일 여과시스템을 사용하는데, 이러한 경우 클리닝 공정이 진행될 때마다 잉곳 성장공정을 정지시켜야 하므로 생산성이 저하되고, 공정준비 및 조작에 많은 시간과 비용이 소요된다.
따라서 클리닝 공정이 이루어질 때에도 잉곳 성장공정이 쉬지 않고 연속적으로 진행될 수 있어, 잉곳 생성효율을 향상시킬 수 있는 잉곳성장장치의 개발이 필요하다.
특허문헌 1) 한국등록특허 제10-1658284호(명칭: 잉곳성장장치, 등록일: 2016. 09. 09) 특허문헌 2) 한국등록특허 제10-1623641호(명칭: 잉곳성장장치, 등록일: 20116. 05. 17)
본 발명은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 복수의 여과시스템을 구비하여 클리닝 공정이 이루어질 때에도 잉곳 성장 공정이 쉬지 않고 연속적으로 진행될 수 있는 자동 필터 클리닝이 가능한 잉곳성장장치를 제공하는데 있다.
또한 본 발명은 어느 하나의 가스처리 모듈에서 클리닝 공정이 진행될 시 다른 가스처리 모듈을 사용 가능하므로, 클리닝 공정을 진행하더라도 잉곳성장공정의 중단 없이 연속생산이 가능한 잉곳성장장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 자동 필터 클리닝이 가능한 잉곳성장장치는,
잉곳 성장이 이루어지는 메인챔버(100);
상기 메인챔버(100)로 잉곳 성장에 사용되는 가스가 주입되는 통로를 형성하는 가스 주입부(200); 및
상기 메인챔버(100)에서 배출되는 가스에 혼합된 이물질을 필터링한 후 배출시키는 가스 처리부(300);를 포함하고,
상기 가스 처리부(300)는 이물질 필터링 및 가스 배출 능력을 가지는 복수개의 가스처리 모듈로 구성되는 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명은 상기 메인챔버(100)와 복수개의 상기 가스처리 모듈을 연결하여 메인챔버(100)에서 배출되는 가스가 상기 가스처리 모듈로 공급되는 통로를 형성하는 제1 분기관(400); 및
상기 제1 분기관(400)을 개폐하여 선택되는 가스처리 모듈로 가스를 배출시키는 제1 분기관 개폐수단(500);을 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한 상기 가스처리 모듈은 통과하는 가스 상의 이물질을 필터링하는 제1 필터(310A)와, 상기 제1 필터(310A)와 연결되고 가스를 흡입 배출하는 제1 진공펌프(320A)를 포함하는 제1 가스처리 모듈(300A); 및
통과하는 가스 상의 이물질을 필터링하는 제2 필터(310B)와, 상기 제2 필터(310B)와 연결되고 가스를 흡입 배출하는 제2 진공펌프(320B)를 포함하는 제2 가스처리 모듈(300B);을 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한 상기 제1 분기관 개폐수단(500)은 상기 메인챔버(100)에서의 가스 배출을 조절하는 제1 밸브(510);
상기 제1 가스처리 모듈(300A)로의 가스 공급을 조절하는 제2 밸브(520); 및
상기 제2 가스처리 모듈(300B)로의 가스 공급을 조절하는 제3 밸브(530);를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명은 길이방향 일측이 상기 가스 주입부(200)와 연결되고, 길이방향 타측이 상기 제1 분기관(400)과 연결되어 상기 가스 주입부(200)로 주입되는 가스가 상기 제1 분기관(400)을 통해 가스처리 모듈로 공급되는 통로를 형성하는 제2 분기관(600); 및
상기 제2 분기관(600)을 개폐하여 선택되는 가스처리 모듈로 가스를 공급하는 제2 분기관 개폐수단(700);을 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한 상기 제2 분기관 개폐수단(700)은 상기 가스 주입부(200)에서의 가스 유입을 조절하는 제4 밸브(710);
상기 제1 가스처리 모듈(300A)로의 가스 공급을 조절하는 제5 밸브(720); 및
상기 제2 가스처리 모듈(300B)로의 가스 공급을 조절하는 제6 밸브(730);를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한 상기 제2 분기관(600)은 길이방향 타측이 상기 제1 분기관 개폐수단(500)이 형성된 제1 분기관(400)의 중앙부 이후에 결합된 것을 특징으로 한다.
본 발명은 클리닝 공정이 이루어질 때에도 잉곳 성장 공정이 쉬지 않고 연속적으로 진행될 수 있는 자동 필터 클리닝이 가능한 잉곳성장장치를 제공할 수 있다.
본 발명은 가스 처리부가 복수개의 가스처리 모듈이 결합된 형태로 이루어지므로, 선택되는 가스처리 모듈을 선택 사용 가능한 장점이 있다.
상세히 설명하면, 어느 하나의 가스처리 모듈에서 클리닝 공정이 진행될 시 다른 가스처리 모듈을 사용 가능하므로, 클리닝 공정을 진행하기 위해 잉곳성장공정을 멈추지 않아도 되는 장점이 있는 것이다.
따라서 본 발명은 기존의 잉곳생성장치와 비교하여 잉곳생성효율을 극대화 가능한 장점이 있다.
도 1은 본 발명의 자동 필터 클리닝이 가능한 잉곳성장장치를 나타낸 사시도.
도 2는 본 발명의 자동 필터 클리닝이 가능한 잉곳성장장치를 나타낸 개념도.
도 3은 본 발명의 자동 필터 클리닝이 가능한 잉곳성장장치의 제1 분기관 활용을 설명하기 위한 개념도.
도 4는 본 발명의 자동 필터 클리닝이 가능한 잉곳성장장치의 제2 분기관 활용을 설명하기 위한 개념도.
본 발명의 실시예들에 대한 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭한다.
본 발명의 실시예들을 설명함에 있어서 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다. 그리고 후술되는 용어들은 본 발명의 실시예에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 그 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 자동 필터 클리닝이 가능한 잉곳성장장치(1000)에 관하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 자동 필터 클리닝이 가능한 잉곳성장장치를 나타낸 사시도이고, 도 2는 본 발명의 자동 필터 클리닝이 가능한 잉곳성장장치를 나타낸 개념도이고, 도 3은 본 발명의 자동 필터 클리닝이 가능한 잉곳성장장치의 제1 분기관 활용을 설명하기 위한 개념도이고, 도 4는 본 발명의 자동 필터 클리닝이 가능한 잉곳성장장치의 제2 분기관 활용을 설명하기 위한 개념도이다.
도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 자동 필터 클리닝이 가능한 잉곳성장장치는,
잉곳 성장이 이루어지는 메인챔버(100);
상기 메인챔버(100)로 잉곳 성장에 사용되는 가스가 주입되는 통로를 형성하는 가스 주입부(200); 및
상기 메인챔버(100)에서 배출되는 가스에 혼합된 이물질을 필터링한 후 배출시키는 가스 처리부(300);를 포함할 수 있다.
상기 가스 처리부(300)는 이물질 필터링 및 가스 배출 능력을 가지는 복수개의 가스처리 모듈이 결합된 형태로 이루어져, 배관 및 필터의 클리닝 공정이 진행될 때에도 잉곳 성장 공정이 멈추지 않고 연속적으로 진행될 수 있는 장점이 있다.
상세히 설명하면, 잉곳을 성장시킨 후 배출되는 가스에 함유된 이물질 중 일부는 배기 과정에서 관에 흡착되고, 필터를 막는 문제가 있어, 주기적으로 이물질을 제거하는 클리닝 공정이 진행되어야 한다.
종래에는 클리닝 공정 진행을 위해 잉곳 성장공정을 일정시간 동안 멈춰야 하므로 공정 효율이 저하되는데 반해, 본 발명에서는 잉곳 성장에 사용된 가스가 배출되는 가스처리 모듈을 복수개 형성하여, 어느 하나의 가스처리 모듈에서 클리닝 공정이 진행될 경우 다른 가스처리 모듈을 통해 가스 배출이 이루어질 수 있도록 한 것이다.
따라서 잉곳성장공정이 진행되는 중에도 관과 필터를 막는 이물질을 제거하는 클리닝 공정을 진행할 수 있으므로, 연속적인 공정을 통해 잉곳 제작 효율을 극대화할 수 있다.
이하에서는 상기 가스 처리부(300)가 두개의 가스처리 모듈로 이루어질 경우를 예로 들어 설명하지만, 가스처리 모듈은 두개 이상일 수 있으므로 가스 처리부(300)를 구성하는 가스처리 모듈의 개수는 한정하지 않는다.
도 1 내지 도 2를 참조하면, 상기 가스처리 모듈은 통과하는 가스 상의 이물질을 필터링하는 제1 필터(310A)와, 상기 제1 필터(310A)와 연결되고 가스를 흡입 배출하는 제1 진공펌프(320A)로 구성되는 제1 가스처리 모듈(300A); 및
통과하는 가스 상의 이물질을 필터링하는 제2 필터(310B)와, 상기 제2 필터(310B)와 연결되고 가스를 흡입 배출하는 제2 진공펌프(320B)를 포함하는 제2 가스처리 모듈(300B)을 포함할 수 있다.
상세히 설명하면, 각각의 가스처리 모듈은 가스 상의 이물질을 필터링 하는 필터(310A, 310B)와, 압력차를 이용해 가스 및 이물질을 빨아들인 후 배출시키는 진공펌프(320A, 320B)를 포함하도록 하여, 각각의 가스처리 모듈이 개별적인 가스처리 능력을 가질 수 있게 한 것이다.
이때 각각의 가스처리 모듈(300A, 300B)로의 가스 공급은 메인챔버(100)와 가스처리 모듈을 연결하여, 메인챔버(100)에서 배출되는 가스가 가스처리 모듈로 공급되는 통로를 형성하는 제1 분기관(400)과,
상기 제1 분기관(400)을 개폐하여 선택되는 가스처리 모듈로 가스를 배출시키는 제1 분기관 개폐수단(500)을 통해 이루어질 수 있다.
상기 제1 분기관(400)은 상기 메인챔버(100)와 연결되는 제1관(410)과, 일측이 상기 제1관(410)과 연결되고 타측이 상기 제1 가스처리 모듈(300A)과 연결되는 제2관(420)과, 일측이 상기 제1관(410)과 연결되고 타측이 상기 제2 가스처리 모듈(300B)과 연결되는 제3관(430)을 포함할 수 있다.
또한 상기 제1 분기관 개폐수단(500)은 상기 메인챔버(100)에서의 가스 배출을 조절하는 제1 밸브(510);
상기 제1 가스처리 모듈(300A)로의 가스 공급을 조절하는 제2 밸브(520); 및
상기 제2 가스처리 모듈(300B)로의 가스 공급을 조절하는 제3 밸브(530);를 포함할 수 있다.
상기 제1 분기관 개폐수단(500)을 구성하는 제1 밸브(510), 제2 밸브(520) 및 제3 밸브(530)는 각각 제1관(410), 제2관(420) 및 제3관(430)에 결합되어, 메인챔버(100)에서의 가스배출 및 제1 가스처리 모듈(300A)과 제2 가스처리 모듈(300B)로의 가스공급을 조절할 수 있게 한 것이다.
도 3을 참조하여 다시 한번 설명하면, 제2 가스처리 모듈(300B)과 제3관(430)에서 클리닝 공정이 진행되어야 할 때에는, 도 3의 (a)에 도시된 바와 같이 제3 밸브(530)를 통해 제3관(430)을 폐쇄하여 가스 배출이 제1관(410), 제2관(420) 및 제1 가스처리 모듈(300A)을 순차 통과하는 형태로 이루어지는 것이다.
또한 제1 가스처리 모듈(300A)과 제2관(420)에서 클리닝 공정이 진행되어야 할 때에는, 도 3의 (b)에 도시된 바와 같이 제2 밸브(520)를 통해 제2관(420)을 폐쇄하여 가스 배출이 제1관(410), 제3관(430) 및 제2 가스처리 모듈(300B)을 순차 통과하는 형태로 이루어지게 한 것이다.
이때 위에서 설명하는 클리닝 공정은 배관에 부착된 이물질과, 필터에 부착된 이물질을 제거하는 공정을 포함할 수 있고, 이러한 클리닝 공정은 다양한 물리/화학적 방법으로 자동 또는 수동으로 이루어질 수 있으므로 한정하지 않는다.
또한 도 1 내지 도 2를 참조하면 본 발명의 잉곳성장장치(1000)는 길이방향 일측이 상기 가스 주입부(200)와 연결되고, 길이방향 타측이 상기 제1 분기관(400)과 연결되어 상기 가스 주입부(200)로 주입되는 가스가 상기 제1 분기관(400)을 통해 가스처리 모듈로 공급되는 통로를 형성하는 제2 분기관(600)과,
상기 제2 분기관(600)을 개폐하여 선택되는 가스처리 모듈로 가스를 공급하는 제2 분기관 개폐수단(700)을 더 포함할 수 있다.
상기 제2 분기관(600)은 상기 가스 주입부(200)와 연결되는 제4관(610)과, 일측이 상기 제4관(610)과 연결되고 타측이 제2관(420)과 연결되는 제5관(620)과, 일측이 상기 제4관(610)과 연결되고 타측이 제3관(430)과 연결되는 제6관(630)을 포함할 수 있다.
또한 상기 제2 분기관 개폐수단(700)은 상기 가스 주입부(200)에서의 가스 유입을 조절하는 제4 밸브(710);
상기 제1 가스처리 모듈(300A)로의 가스 공급을 조절하는 제5 밸브(720); 및
상기 제2 가스처리 모듈(300B)로의 가스 공급을 조절하는 제6 밸브(730);를 포함할 수 있다.
상기 제2 분기관 개폐수단(700)을 구성하는 제4 밸브(710), 제5 밸브(720) 및 제6밸브(730)는 각각 제4관(610), 제5관(620) 및 제6관(630)에 결합될 수 있다.
상세히 설명하면, 필요에 따라 메인챔버(100)를 거치지 않고 제1 가스처리 모듈(300A)과 제2 가스처리 모듈(300B)로 가스를 제공하여야 하는 상황이 발생하므로, 본 발명에서는 제2 분기관(600)을 통해 메인챔버(100)를 거치지 않고 제1 가스처리모듈(300A)과 제2 가스처리 모듈(300B)로 가스를 직접 제공할 수 있게 한 것이다.
또한 메인챔버(100)에 도펀트(dopant)를 주입하는 도핑공정 중에 잉곳으로 유입되지 못하고 기화되는 도펀트, 메인챔버(100)의 상부로 배출되는 가스 등은 제2 분기관(600)을 통해 제1 가스처리모듈(300A)과 제2 가스처리 모듈(300B)로 배출될 수 있다.
이때 상기 제2 분기관(600)을 통해 이루어지는 가스 주입은 도 4의 (a)에 도시된 바와 같이 제4 밸브(710)와 제5 밸브(720)가 개방되고 제6 밸브(730)가 폐쇄되어 제1 가스처리 모듈(300A)로 가스가 공급되는 형태와, 도 4의 (b)에 도시된 바와 같이 제4 밸브(710)와 제6 밸브(730)가 개방되고 제5 밸브(720)가 폐쇄되어 제2 가스처리 모듈(300B)로 가스가 공급되는 형태일 수 있으나, 이 외에도 모든 밸브가 개방되어 동시에 제1 가스처리 모듈(300A)과 제2 가스처리 모듈(300B)로 공급되는 형태일 수도 있다.
아울러, 도면상에는 도시되지 않았지만 상기 가스 주입부(200) 상에 상기 메인챔버(100)로 가스가 공급되는 것을 조절하기 위한 제7 밸브가 형성될 수 있다.
또한 상기 제2 분기관(600)은 길이방향 타측이 제1 분기관 개폐수단(500)이 형성된 제1 분기관(400)의 중앙부 이후에 결합되어, 제2 분기관(600)을 통해 가스처리 모듈(300A, 300B)로 가스를 직접 주입 시 이루어지는 밸브 제어가 보다 단순화된 형태로 이루어지도록 하는 것을 권장한다.
100 : 메인챔버
200 : 가스 주입부
300 : 가스 처리부 300A : 제1 가스처리 모듈
310A : 제1 필터 320A : 제1 진공펌프
300B : 제2 가스처리 모듈 310B : 제2 필터
320B :제2 진공펌프
400 : 제1 분기관 410 : 제1관
420 : 제2관 430 : 제3관
500 : 제1 분기관 개폐수단 510 : 제1 밸브
520 : 제2 밸브 530 : 제3 밸브
600 : 제2 분기관 610 : 제4관
620 : 제5관 630 : 제6관
700 : 제2 분기관 개폐수단 710 : 제4 밸브
720 : 제5 밸브 730 : 제6 밸브

Claims (5)

  1. 잉곳 성장이 이루어지는 메인챔버(100);
    상기 메인챔버(100)로 잉곳 성장에 사용되는 가스가 주입되는 통로를 형성하는 가스 주입부(200); 및
    상기 메인챔버(100)에서 배출되는 가스에 혼합된 이물질을 필터링한 후 배출시키는 가스 처리부(300);를 포함하고,
    상기 가스 처리부(300)는 이물질 필터링 및 가스 배출 능력을 가지는 복수개의 가스처리 모듈로 구성되는 것을 특징으로 하는 자동 필터 클리닝이 가능한 잉곳성장장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 메인챔버(100)와 복수개의 상기 가스처리 모듈을 연결하여 메인챔버(100)에서 배출되는 가스가 가스처리 모듈로 공급되는 통로를 형성하는 제1 분기관(400); 및
    상기 제1 분기관(400)을 개폐하여 선택되는 가스처리 모듈로 가스를 배출시키는 제1 분기관 개폐수단(500);을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 자동 필터 클리닝이 가능한 잉곳성장장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 가스처리 모듈은
    통과하는 가스 상의 이물질을 필터링하는 제1 필터(310A)와, 상기 제1 필터(310A)와 연결되고 가스를 흡입 배출하는 제1 진공펌프(320A)를 포함하는 제1 가스처리 모듈(300A); 및
    통과하는 가스 상의 이물질을 필터링하는 제2 필터(310B)와, 상기 제2 필터(310B)와 연결되고 가스를 흡입 배출하는 제2 진공펌프(320B)를 포함하는 제2 가스처리 모듈(300B);을 포함하는 것을 특징으로 하는 자동 필터 클리닝이 가능한 잉곳성장장치.
  4. 제3항에 있어서,
    길이방향 일측이 상기 가스 주입부(200)와 연결되고, 길이방향 타측이 상기 제1 분기관(400)과 연결되어 상기 가스 주입부(200)로 주입되는 가스가 상기 제1 분기관(400)을 통해 가스처리 모듈로 공급되는 통로를 형성하는 제2 분기관(600); 및
    상기 제2 분기관(600)을 개폐하여 선택되는 가스처리 모듈로 가스를 공급하는 제2 분기관 개폐수단(700);을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 자동 필터 클리닝이 가능한 잉곳성장장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 제2 분기관 개폐수단(700)은
    상기 가스 주입부(200)에서의 가스 유입을 조절하는 제4 밸브(710);
    상기 제1 가스처리 모듈(300A)로의 가스 공급을 조절하는 제5 밸브(720); 및
    상기 제2 가스처리 모듈(300B)로의 가스 공급을 조절하는 제6 밸브(730);를 포함하는 것을 특징으로 하는 자동 필터 클리닝이 가능한 잉곳성장장치.
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KR101658284B1 (ko) 2014-08-05 2016-09-20 주식회사 엘지실트론 잉곳성장장치

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