KR20230165514A - 기판 처리 장치 - Google Patents

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KR20230165514A
KR20230165514A KR1020220065349A KR20220065349A KR20230165514A KR 20230165514 A KR20230165514 A KR 20230165514A KR 1020220065349 A KR1020220065349 A KR 1020220065349A KR 20220065349 A KR20220065349 A KR 20220065349A KR 20230165514 A KR20230165514 A KR 20230165514A
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최승대
김수웅
김상보
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주식회사 한화
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Abstract

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 이송 챔버의 리드와 공정 챔버의 리드 간의 간섭을 방지하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판에 대한 공정 처리 공간을 제공하는 공정 챔버, 및 상기 공정 챔버로 기판을 반입하거나 상기 공정 챔버에서 기판을 반출하기 위한 이송 공간을 제공 이송 챔버를 포함하되, 상기 공정 챔버는 상기 이송 챔버의 가장자리를 따라 복수 개가 구비되고, 상기 공정 챔버 및 이송 챔버는 각각의 상부 개구를 밀폐시키는 공정 리드 및 이송 리드를 각각 포함하고, 상기 공정 챔버 및 이송 챔버가 개방되는 경우 상기 이송 리드는 상기 공정 리드에 간섭되지 않는 자세로 자세 전환 가능하다.

Description

기판 처리 장치{Apparatus for processing substrate}
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 이송 챔버의 리드와 공정 챔버의 리드 간의 간섭을 방지하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
반도체 장치 또는 디스플레이 장치를 제조할 때에는, 사진, 식각, 애싱, 이온주입, 박막증착, 세정 등 다양한 공정이 실시된다. 여기서, 사진공정은 도포, 노광, 그리고 현상 공정을 포함한다. 기판 상에 감광액을 도포하고(즉, 도포 공정), 감광막이 형성된 기판 상에 회로 패턴을 노광하며(즉, 노광 공정), 기판의 노광 처리된 영역을 선택적으로 현상한다(즉, 현상 공정).
다양한 공정이 하나의 공정 설비에서 수행될 수 있다. 이를 위하여, 해당 설비는 서로 다른 공정을 수행하는 복수의 공정 모듈을 구비할 수 있다. 공정 대상인 기판은 캐리어에 수용된 상태로 설비로 반입되고, 공정이 완료된 기판은 설비에서 반출되어 캐리어에 수용된 상태로 다른 공정 설비로 이송될 수 있다.
공정 설비는 이송 모듈 및 공정 모듈을 포함할 수 있다. 이송 모듈 및 공정 모듈은 각각 상부 개구를 포함할 수 있으며, 상부 개구는 리드(lid)에 의해 밀폐될 수 있다. 공정이 수행되는 도중에는 리드에 의해 이송 모듈 및 공정 모듈의 상부 개구가 밀폐될 수 있다. 이송 모듈 및 공정 모듈의 유지 보수를 위하여 리드가 개방될 수 있다.
이송 모듈의 주변에 복수의 공정 모듈이 인접하여 배치될 수 있는데, 이송 모듈의 리드가 개방되는 경우 이에 간섭되어 공정 모듈의 리드가 개방되지 못할 수 있다.
이에, 이송 모듈의 리드와 공정 모듈의 리드가 간섭되지 않도록 하는 발명의 등장이 요구된다.
대한민국 공개특허공보 제10-2017-0064352호 (2017.06.09)
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 이송 챔버의 리드와 공정 챔버의 리드 간의 간섭을 방지하는 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판에 대한 공정 처리 공간을 제공하는 공정 챔버, 및 상기 공정 챔버로 기판을 반입하거나 상기 공정 챔버에서 기판을 반출하기 위한 이송 공간을 제공 이송 챔버를 포함하되, 상기 공정 챔버는 상기 이송 챔버의 가장자리를 따라 복수 개가 구비되고, 상기 공정 챔버 및 이송 챔버는 각각의 상부 개구를 밀폐시키는 공정 리드 및 이송 리드를 각각 포함하고, 상기 공정 챔버 및 이송 챔버가 개방되는 경우 상기 이송 리드는 상기 공정 리드에 간섭되지 않는 자세로 자세 전환 가능하다.
상기 이송 리드는, 상기 이송 챔버의 상부 개구가 밀폐 또는 개방되도록 회전하는 제1 회전 동작, 및 상기 공정 리드와의 간섭이 방지되도록 회전하는 제2 회전 동작을 수행한다.
상기 이송 리드는, 상기 이송 챔버에 고정된 고정부와, 제1 회전축을 기준으로 상기 고정부에 대하여 회전 가능한 회전부, 및 상기 이송 챔버의 상부 개구를 밀폐 가능하고, 제2 회전축을 기준으로 상기 회전부에 대하여 회전 가능한 리드 플레이트를 포함한다.
상기 제1 회전축 및 제2 회전축은 직교한다.
상기 고정부는 상기 회전부의 회전 범위를 제한하는 제1 스토퍼를 포함한다.
상기 제1 스토퍼는 밀폐 시의 리드 플레이트와 개방 시의 리드 플레이트 간의 각도가 예각이 형성되도록 상기 회전부의 회전 범위를 제한한다.
상기 회전부는 상기 리드 플레이트의 회전 범위를 제한하는 제2 스토퍼를 포함한다.
상기 기판 처리 장치는 구동력을 발생시켜 상기 회전부에 대하여 상기 리드 플레이트를 회전시키는 구동부를 더 포함한다.
상기 공정 챔버는 상기 공정 리드가 상기 이송 챔버를 향하는 방향으로 회전하여 개방된다.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
상기한 바와 같은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치에 따르면 이송 챔버의 리드와 공정 챔버의 리드 간의 간섭이 방지되기 때문에 이송 챔버의 리드와 공정 챔버의 리드를 모두 개방한 상태에서 이송 챔버 및 공정 챔버에 대한 유지 보수 작업을 가능하게 하는 장점이 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치에 따르면 이송 챔버 및 공정 챔버 내부에 배치된 내부 구성의 유지 보수 작업 진행 시, 이송 리드 및 공정 리드를 효과적으로 개방할 수 있어, 내부 구성을 각각의 챔버 외측으로 꺼낼 경우 이송 리드 및 공정 리드 상에 배치된 구성과 접촉하는 것을 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타낸 도면이다.
도 2는 이송 리드의 분해도이다.
도 3은 이송 챔버가 이송 리드에 의해 밀폐된 것을 나타낸 도면이다.
도 4는 이송 리드의 제1 회전 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 이송 챔버가 개방된 것을 나타낸 도면이다.
도 6은 이송 리드의 제2 회전 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 공정 리드와의 간섭이 방지되도록 리드 플레이트가 회전한 것을 나타낸 도면이다.
도 8은 공정 챔버가 개방되도록 공정 리드가 회전한 것을 나타낸 도면이다.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 이송 리드의 분해도이다.
도 10은 회전부에 대하여 제1 자세를 갖는 리드 플레이트를 나타낸 도면이다.
도 11은 회전부에 대하여 제2 자세를 갖는 리드 플레이트를 나타낸 도면이다.
도 12는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 이송 리드의 분해도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 게시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 게시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타낸 도면이다.
도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(10)는 로딩 모듈(11) 및 공정 모듈(12)을 포함하여 구성된다.
로딩 모듈(11)은 진공 분위기 또는 상압 분위기로 분위기 전환하여 진공 분위기의 공정 모듈(12)과 상압 분위기의 외부 간에 기판을 중계하는 역할을 수행한다. 공정 모듈(12)의 내부는 진공 분위기이고, 외부는 상압 분위기일 수 있다. 공정 모듈(12)의 진공 분위기를 그대로 유지하면서 공정 모듈(12)과 외부 간의 기판 교환을 위하여 로딩 모듈(11)이 구비될 수 있다.
로딩 모듈(11)은 공정 모듈(12)의 이송 챔버(200)에 인접하여 배치될 수 있다. 로딩 모듈(11)은 이송 챔버(200)와 외부 간에 기판이 이송되기 전에 기판이 머무르는 공간을 제공할 수 있다. 로딩 모듈(11)은 로드락 챔버(110) 및 언로드락 챔버(120)를 포함할 수 있다. 로드락 챔버(110) 및 언로드락 챔버(120)는 그 내부 공간의 분위기가 진공 분위기 또는 상압 분위기로 전환 가능하도록 제공될 수 있다.
로드락 챔버(110)는 외부에서 공정 모듈(12)로 이송되는 기판을 임시로 수용하는 역할을 수행한다. 로드락 챔버(110)의 양측에는 도어(111, 211)가 구비될 수 있다. 이하, 로드락 챔버(110)의 양측에 구비된 도어(111, 211) 중 외부와의 경계에 구비된 도어(111)를 제1 로딩 도어라 하고, 공정 모듈(12)과의 경계에 구비된 도어(211)를 제1 이송 도어라 한다.
로드락 챔버(110)에 기판이 반입되면 제1 로딩 도어(111) 및 제1 이송 도어(211)가 닫히고 로드락 챔버(110)의 내부 공간은 외부 및 공정 모듈(12)에 대해 밀폐될 수 있다. 밀폐된 이후에 로드락 챔버(110)의 내부 공간은 상압 분위기에서 진공 분위기로 전환될 수 있다. 그리고, 제1 로딩 도어(111)가 닫힌 상태에서 제1 이송 도어(211)가 열리면서 로드락 챔버(110)의 기판은 반출되어 이송 챔버(200)로 이송될 수 있다.
언로드락 챔버(120)는 공정 모듈(12)에서 외부로 이송되는 기판을 임시로 수용하는 역할을 수행한다. 언로드락 챔버(120)의 양측에는 도어(121, 212)가 구비될 수 있다. 이하, 언로드락 챔버(120)의 양측에 구비된 도어(121, 212) 중 외부와의 경계에 구비된 도어(121)를 제2 로딩 도어라 하고, 공정 모듈(12)과의 경계에 구비된 도어(212)를 제2 이송 도어라 한다.
언로드락 챔버(120)에 기판이 반입되면 제2 로딩 도어(121) 및 제2 이송 도어(212)가 닫히고 언로드락 챔버(120)의 내부 공간은 외부 및 공정 모듈(12)에 대해 밀폐될 수 있다. 밀폐된 이후에 언로드락 챔버(120)의 내부 공간은 진공 분위기에서 상압 분위기로 전환될 수 있다. 그리고, 제2 이송 도어(212)가 닫힌 상태에서 제2 로딩 도어(121)가 열리면서 언로드락 챔버(120)의 기판은 반출되어 외부로 이송될 수 있다.
공정 모듈(12)은 기판에 대한 공정 처리를 수행할 수 있다. 공정 모듈(12)은 이송 챔버(200) 및 공정 챔버(300)를 포함할 수 있다. 공정 챔버(300)는 복수 개가 구비될 수 있다.
이송 챔버(200)는 로드락 챔버(110), 언로드락 챔버(120) 및 공정 챔버(300) 간의 기판 중계를 위한 공간을 제공할 수 있다. 특히, 이송 챔버(200)는 복수의 공정 챔버(300)에 연결되어 공정 챔버(300)로 기판을 반입하거나 공정 챔버(300)에서 기판을 반출하기 위한 이송 공간을 제공할 수 있다. 이를 위하여, 로드락 챔버(110), 언로드락 챔버(120) 및 복수의 공정 챔버(300)는 이송 챔버(200)의 가장자리를 따라 배치될 수 있다.
도 1은 사각형의 형상을 갖는 이송 챔버(200)의 가장자리를 따라 로드락 챔버(110), 언로드락 챔버(120) 및 공정 챔버(300)가 배치된 것을 도시하고 있다. 본 발명의 이송 챔버(200)의 형상이 사각형에 한정되는 것은 아니며, 이송 챔버(200)의 형상은 공정 챔버(300)의 수에 따라 달라질 수 있다.
각 공정 챔버(300)와 이송 챔버(200)의 경계에 공정 도어(220)가 구비될 수 있다. 공정 도어(220)가 개방된 상태에서 이송 챔버(200)와 공정 챔버(300) 간의 기판 반입 또는 기판 반출이 수행되고, 공정 도어(220)가 폐쇄된 상태에서 기판에 대한 공정 처리가 수행될 수 있다.
이송 챔버(200)의 내부에는 이송 로봇(미도시)이 구비될 수 있다. 이송 로봇은 로드락 챔버(110), 언로드락 챔버(120) 및 공정 챔버(300) 간에 기판을 이송시키는 역할을 수행한다. 예를 들어, 이송 로봇은 로드락 챔버(110)에서 반출된 기판을 이동시켜 공정 챔버(300)에 반입시키고, 공정 챔버(300)에서 반출된 기판을 이동시켜 언로드락 챔버(120)에 반입시킬 수 있다.
공정 챔버(300)는 기판에 대한 공정 처리 공간을 제공할 수 있다. 공정 챔버(300)에서 기판에 대한 특정 작업이 수행될 수 있다. 예를 들어, 공정 챔버(300)는 기판에 대한 식각 또는 증착 처리를 수행할 수 있다. 공정 모듈(12)은 복수의 공정 챔버(300)를 포함할 수 있으며, 각 공정 챔버(300)별로 동일하거나 서로 다른 작업을 수행할 수 있다.
공정 챔버(300) 및 이송 챔버(200)는 각각의 상부 개구(240, 320)(도 8 참조)를 포함할 수 있다. 상부 개구(240, 320)는 공정 챔버(300) 및 이송 챔버(200)의 유지 보수를 위하여 이용될 수 있다. 기판에 대한 공정이 수행되는 경우 상부 개구(240, 320)는 밀폐되고, 공정 챔버(300) 및 이송 챔버(200)에 대한 유지 보수가 수행되는 경우 상부 개구(240, 320)는 개방될 수 있다.
공정 챔버(300) 및 이송 챔버(200)는 각각의 상부 개구(240, 320)를 밀폐시키는 공정 리드(lid)(310) 및 이송 리드(230)를 각각 포함할 수 있다. 공정 리드(310)는 공정 챔버(300)에 대하여 회전하여 공정 챔버(300)의 상부 개구(320)를 밀폐시키거나 개방시킬 수 있다. 이와 마찬가지로, 이송 리드(230)는 이송 챔버(200)에 대하여 회전하여 이송 챔버(200)의 상부 개구(240)를 밀폐시키거나 개방시킬 수 있다.
공정 챔버(300) 및 이송 챔버(200)에 대한 유지 보수 작업을 수행하고자 하는 경우 공정 챔버(300) 및 이송 챔버(200)가 모두 개방되는 것이 바람직할 수 있다. 예를 들어, 공정 챔버(300) 및 이송 챔버(200)의 개방 작업, 유지 보수 작업 및 폐쇄 작업 각각이 일괄적으로 수행되는 경우 작업 효율이 향상될 수 있는 것이다.
한편, 이송 리드(230)의 개방 자세에 따라 공정 리드(310) 중 적어도 일부를 개방하는 것이 용이하지 않을 수 있다. 도 1을 참조하여 설명하면, 공정 리드(310)는 이송 챔버(200)의 중심 방향으로 개방될 수 있다. 예를 들어, 공정 리드(310)는 이송 리드(230) 방향으로 개방될 수 있다. 이송 리드(230)가 개방된 경우 이송 챔버(200)의 좌측 및 우측에 배치된 공정 챔버(300)의 공정 리드(310)가 이송 리드(230)에 간섭되어 원활하게 개방될 수 없는 것이다.
본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치(10)에 따르면 공정 챔버(300) 및 이송 챔버(200)가 개방되는 경우 이송 리드(230)는 공정 리드(310)에 간섭되지 않는 자세로 자세 전환될 수 있다. 이송 리드(230)가 공정 리드(310)에 간섭되지 않는 자세로 자세 전환된 경우 이송 리드(230) 및 공정 리드(310)가 동시에 모두 개방 자세를 가질 수 있으며, 사용자는 이송 챔버(200) 및 공정 챔버(300)에 대한 유지 보수 작업을 간편하게 수행할 수 있다. 예를 들어, 사용자는 이송 리드(230) 및 공정 리드(310)를 모두 개방하여 이송 챔버(200) 및 공정 챔버(300) 내에 각각 배치된 구성을 효과적으로 유지 보수 작업을 진행할 수 있다. 일례로, 사용자는 유지 보수 작업을 위해 공정 챔버(300) 내에 배치된 히터 플레이트(미도시) 및 웨이퍼 지지부(미도시) 등을 외부로 꺼낼 수 있다. 이 경우, 사용자는 효과적으로 개방된 공정 리드(310)를 통하여 외부로 꺼내고자 하는 구성이 공정 리드(310) 상에 배치된 구성, 예컨대 샤워헤드(미도시) 등과 접촉되지 않도록 할 수 있다. 이에 따라, 이송 챔버(200)에 대한 유지 보수 작업 및 복수의 공정 챔버(300)에 대한 유지 보수 작업이 간편하고 효율적으로 수행될 수 있고, 유지 보수 작업 중에 구성들 간의 충돌 등이 방지될 수 있다.
도 2는 이송 리드의 분해도이다.
도 2를 참조하면, 이송 리드(230)는 고정부(231), 회전부(232) 및 리드 플레이트(233)를 포함하여 구성된다.
고정부(231)는 이송 챔버(200)에 고정될 수 있다. 고정부(231)는 기준핀(231a) 및 제1 스토퍼(231b)를 포함할 수 있다. 기준핀(231a)은 회전부(232)의 회전 기준을 제공할 수 있다. 제1 스토퍼(231b)는 회전부(232)의 회전 범위를 제한할 수 있다. 예를 들어, 제1 스토퍼(231b)는 고정부(231)의 표면이 일정 높이만큼 융기됨으로써 형성될 수 있다.
회전부(232)는 고정부(231)에 대하여 회전할 수 있다. 회전부(232)는 기준홈(232a) 및 관통홀(232b)을 포함할 수 있다. 기준홈(232a)은 회전부(232)의 회전 기준을 제공할 수 있다. 고정부(231)의 기준핀(231a)이 기준홈(232a)에 삽입된 상태에서 회전부(232)는 고정부(231)에 대하여 회전할 수 있다. 이하, 고정부(231)에 대한 회전부(232)의 회전축(Ax)을 제1 회전축이라 한다. 회전부(232)는 제1 회전축(Ax)을 기준으로 고정부(231)에 대하여 회전할 수 있는 것이다. 관통홀(232b)은 리드 플레이트(233)의 회전 기준을 제공할 수 있다.
이상은 고정부(231)에 기준핀(231a)이 구비되고, 회전부(232)에 기준홈(232a)이 구비된 것을 설명하였으나, 이는 예시적인 것으로서 고정부(231)에 기준홈(232a)이 구비되고, 회전부(232)에 기준핀(231a)이 구비될 수도 있다. 또는, 고정부(231)에 대한 회전부(232)의 회전을 구현하기 위하여 기준핀(231a) 및 기준홈(232a)이 아닌 다른 방식의 회전 수단이 고정부(231) 및 회전부(232)에 구비될 수도 있다. 이하, 고정부(231) 및 회전부(232)에 기준핀(231a) 및 기준홈(232a)이 각각 구비된 것을 위주로 설명하기로 한다.
리드 플레이트(233)는 이송 챔버(200)의 상부 개구(240)를 밀폐할 수 있다. 리드 플레이트(233)가 이송 챔버(200)를 밀폐시키는 경우 이송 챔버(200)와 그 외부 간에 가스의 이동이 차단될 수 있다.
리드 플레이트(233)는 지지 로드(233a)를 포함할 수 있다. 지지 로드(233a)는 회전부(232)의 관통홀(232b)을 관통할 수 있다. 지지 로드(233a)가 관통홀(232b)을 관통함에 따라 리드 플레이트(233)는 회전부(232)에 지지될 수 있다. 지지 로드(233a) 및 관통홀(232b)은 회전부(232)에 대한 리드 플레이트(233)의 회전 기준을 제공할 수 있다.
리드 플레이트(233)는 회전부(232)에 대하여 회전할 수 있다. 지지 로드(233a) 및 관통홀(232b)이 제공하는 회전축을 기준으로 리드 플레이트(233)가 회전할 수 있는 것이다. 이하, 회전부(232)에 대한 리드 플레이트(233)의 회전축(Bx)을 제2 회전축이라 한다. 리드 플레이트(233)는 제2 회전축(Bx)을 기준으로 회전부(232)에 대하여 회전할 수 있는 것이다.
고정부(231)에 대한 회전부(232)의 회전축인 제1 회전축(Ax)과 회전부(232)에 대한 리드 플레이트(233)의 회전축인 제2 회전축(Bx)은 상이할 수 있다. 다시 말해, 제1 회전축(Ax)과 제2 회전축(Bx)은 평행하지 않을 수 있는 것이다. 예를 들어, 제1 회전축(Ax) 및 제2 회전축(Bx)은 직교할 수 있다. 이에, 제1 회전축(Ax)을 기준으로 하는 리드 플레이트(233)의 회전 및 제2 회전축(Bx)을 기준으로 하는 리드 플레이트(233)의 회전이 개별적으로 수행될 수 있다.
도 3은 이송 챔버가 이송 리드에 의해 밀폐된 것을 나타낸 도면이고, 도 4는 이송 리드의 제1 회전 동작을 설명하기 위한 도면이고, 도 5는 이송 챔버가 개방된 것을 나타낸 도면이고, 도 6은 이송 리드의 제2 회전 동작을 설명하기 위한 도면이고, 도 7은 공정 리드와의 간섭이 방지되도록 리드 플레이트가 회전한 것을 나타낸 도면이며, 도 8은 공정 챔버가 개방되도록 공정 리드가 회전한 것을 나타낸 도면이다.
도 3을 참조하면, 이송 리드(230)는 이송 챔버(200)에 설치되어 이송 챔버(200)의 상부 개구(240)를 밀폐시킬 수 있다.
이송 챔버(200)의 밀폐 효율을 향상시키기 위하여 리드 플레이트(233)와 이송 챔버(200)의 사이에 개스킷(gasket)(미도시)이 구비될 수 있으며, 리드 플레이를 이송 챔버(200)에 고정시키기 위한 잠금 수단(미도시)이 구비될 수도 있다.
고정부(231)는 이송 챔버(200)에 고정 결합될 수 있다. 리드 플레이트(233)는 회전부(232)를 통하여 고정부(231)에 결합될 수 있다. 결국, 리드 플레이트(233)는 고정부(231)에 대한 회전 및 회전부(232)에 대한 회전을 수행할 수 있게 된다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 이송 리드(230)는 이송 챔버(200)의 상부 개구(240)가 밀폐 또는 개방되도록 회전하는 제1 회전 동작을 수행할 수 있다.
제1 회전 동작이 수행되는 경우 기준핀(231a) 및 기준홈(232a)에 의한 제1 회전축(Ax)을 기준으로 고정부(231)에 대하여 회전부(232)가 회전할 수 있다. 고정부(231)에 대하여 회전부(232)가 회전하는 경우 회전부(232)에 결합된 리드 플레이트(233)가 이동하여 이송 챔버(200)의 상부 개구(240)를 밀폐시키거나 개방시킬 수 있다. 도 4는 리드 플레이트(233)가 이송 챔버(200)의 상부 개구(240)에서 이탈하여 상부 개구(240)가 개방된 것을 도시하고 있다.
고정부(231)의 제1 스토퍼(231b)에 의해 회전부(232)의 회전 범위가 제한될 수 있다. 구체적으로, 제1 스토퍼(231b)는 밀폐 시의 리드 플레이트(233)와 개방 시의 리드 플레이트(233) 간의 각도가 예각이 형성되도록 회전부(232)의 회전 범위를 제한할 수 있다.
회전부(232)의 회전 범위가 제한됨에 따라 개방 시의 리드 플레이트(233)의 가장자리는 공정 챔버(300)를 향할 수 있다. 도 5를 참조하여 설명하면, 리드 플레이트(233)의 좌우 가장자리는 이송 챔버(200)의 좌측 및 우측에 배치된 공정 챔버(300)를 향할 수 있다. 이러한 경우 이송 챔버(200)의 좌측 및 우측에 배치된 공정 챔버(300)가 개방되는 경우 해당 공정 챔버(300)의 공정 리드(310)가 리드 플레이트(233)에 간섭될 수 있다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 이송 리드(230)는 공정 리드(310)와의 간섭이 방지되도록 하는 제2 회전 동작을 수행할 수 있다.
제2 회전 동작이 수행되는 경우 지지 로드(233a)와 관통홀(232b)에 의한 제2 회전축(Bx)을 기준으로 회전부(232)에 대하여 리드 플레이트(233)가 회전할 수 있다. 회전부(232)에 대하여 리드 플레이트(233)가 회전하는 경우 리드 플레이트(233)의 가장자리가 향하는 방향이 전환될 수 있다. 도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 제2 회전 동작에 의해 리드 플레이트(233)의 가장자리가 상측 및 하측을 향할 수 있게 된다.
도 8을 참조하면, 공정 챔버(300)가 개방되도록 공정 리드(310)가 회전할 수 있다.
본 발명에서 공정 챔버(300)는 공정 리드(310)가 이송 챔버(200)를 향하는 방향으로 회전하여 개방될 수 있다. 이러한 경우 이송 챔버(200)의 가장자리에 배치된 공정 챔버(300)의 상부 개구(320)가 공정 챔버(300)의 외측으로 노출되기 때문에 공정 챔버(300)에 대한 유지 보수 작업이 용이하게 수행될 수 있다.
공정 리드(310)가 이송 챔버(200)를 향하여 회전하더라도 리드 플레이트(233)의 가장자리가 상하 방향을 향하도록 이송 리드(230)가 제2 회전 동작을 수행함에 따라 공정 리드(310)와 리드 플레이트(233) 간의 간섭이 방지될 수 있다.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 이송 리드의 분해도이고, 도 10은 회전부에 대하여 제1 자세를 갖는 리드 플레이트를 나타낸 도면이며, 도 11은 회전부에 대하여 제2 자세를 갖는 리드 플레이트를 나타낸 도면이다.
도 9를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 이송 리드(400)는 고정부(410), 회전부(420) 및 리드 플레이트(430)를 포함하여 구성된다.
고정부(410), 회전부(420) 및 리드 플레이트(430)의 형태 및 기능은 전술한 이송 리드(230)의 고정부(231), 회전부(232) 및 리드 플레이트(233)의 형태 및 기능과 동일하거나 유사하므로 이하, 차이점을 위주로 설명하기로 한다.
회전부(420)는 리드 플레이트(430)의 회전 범위를 제한하는 제2 스토퍼를 포함할 수 있다. 제2 스토퍼에 의해 리드 플레이트(430)의 회전 범위가 제한되며, 리드 플레이트(430)가 특정 자세를 유지할 수 있다. 예를 들어, 후술하는 가이드 홈(422)이 제2 스토퍼의 역할을 수행할 수 있다.
회전부(420)는 관통홀(421) 및 가이드 홈(422)을 포함할 수 있다. 관통홀(421)은 리드 플레이트(430)의 회전 기준을 제공할 수 있다. 가이드 홈(422)은 리드 플레이트(430)의 회전 범위를 제한할 수 있다.
리드 플레이트(430)는 지지 로드(431)를 포함할 수 있다. 지지 로드(431)는 회전부(420)의 관통홀(421)을 관통할 수 있다. 지지 로드(431)가 관통홀(421)을 관통함에 따라 리드 플레이트(430)는 회전부(420)에 지지될 수 있다. 지지 로드(431) 및 관통홀(421)은 회전부(420)에 대한 리드 플레이트(430)의 회전 기준을 제공할 수 있다.
리드 플레이트(430)는 회전부(420)에 대하여 회전할 수 있다. 지지 로드(431) 및 관통홀(421)이 제공하는 회전축을 기준으로 리드 플레이트(430)가 회전할 수 있는 것이다.
지지 로드(431)에는 가이드 돌기(432)가 형성될 수 있다. 가이드 돌기(432)는 가이드 홈(422)에 삽입되어 리드 플레이트(430)의 회전 범위를 제한할 수 있다.
도 10을 참조하면, 리드 플레이트(430)는 회전부(420)에 대하여 제1 자세로 배치될 수 있다.
제1 자세는 리드 플레이트(430)가 이송 챔버(200)의 상부 개구(240)를 밀폐시킬 때의 리드 플레이트(430)의 자세를 의미할 수 있다. 예를 들어, 도 3 내지 도 5는 리드 플레이트(233)가 제1 자세로 배치된 것을 도시하고 있다.
도 11을 참조하면, 리드 플레이트(430)는 회전부(420)에 대하여 제2 자세로 배치될 수 있다.
회전부(420)에 대하여 리드 플레이트(430)가 회전함에 따라 리드 플레이트(430)의 자세가 제1 자세에서 제2 자세로 전환될 수 있다. 제2 자세는 리드 플레이트(430)와 공정 리드(310) 간의 간섭을 방지하도록 하는 리드 플레이트(430)의 자세를 의미할 수 있다. 예를 들어, 도 6 및 도 7은 리드 플레이트(233)가 제2 자세로 배치된 것을 도시하고 있다.
제1 자세에서 제2 자세로 자세 전환되는 경우 또는 제2 자세에서 제1 자세로 자세 전환되는 경우 리드 플레이트(430)는 제1 자세 또는 제2 자세를 유지할 수 있다. 가이드 홈(422)의 일측 말단에 도달한 가이드 돌기(432)는 더 이상의 진행이 차단되기 때문에 리드 플레이트(430)는 제1 자세 또는 제2 자세를 유지할 수 있는 것이다. 이에, 사용자는 큰 노력을 기울이지 않고도 리드 플레이트(430)의 자세를 제1 자세 또는 제2 자세로 전환할 수 있다.
도 12는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 이송 리드의 분해도이다.
도 12를 참조하면, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 이송 리드(500)는 고정부(510), 회전부(520), 리드 플레이트(530) 및 구동부(540)를 포함하여 구성된다.
고정부(510), 회전부(520) 및 리드 플레이트(530)의 형태 및 기능은 전술한 이송 리드(230)의 고정부(231), 회전부(232) 및 리드 플레이트(233)의 형태 및 기능과 동일하거나 유사하므로 이하, 차이점을 위주로 설명하기로 한다.
구동부(540)는 구동력을 발생시켜 회전부(520)에 대하여 리드 플레이트(530)를 회전시킬 수 있다. 예를 들어, 구동부(540)는 모터의 형태로 구현될 수 있다. 구동부(540)는 관통홀(521)을 관통할 지지 로드(531)에 결합되어 리드 플레이트(530)를 회전시킬 수 있다.
구동부(540)는 특정 각도로 리드 플레이트(530)를 회전시킬 수 있다. 예를 들어, 구동부(540)는 제1 자세로 리드 플레이트(530)를 회전시키거나 제2 자세로 리드 플레이트(530)를 회전시킬 수 있다. 이에, 전술한 제2 스토퍼가 구비되지 않더라도 리드 플레이트(530)를 제1 자세 또는 제2 자세로 정확하게 자세 전환시키는 것이 가능하게 된다.
한편, 도 12는 회전부(520)에 대하여 리드 플레이트(530)를 회전시키는 구동부(540)만을 도시하고 있으나, 본 발명의 몇몇 실시예에 따르면 고정부(510)에 대하여 회전부(520)를 회전시키는 별도의 보조 구동부(미도시)가 더 구비될 수도 있다. 보조 구동부의 구동력에 의해 리드 플레이트(530)가 회전함에 따라 사용자는 간편하게 이송 챔버(200)를 개방하거나 밀폐시킬 수 있다.
이상과 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
10: 기판 처리 장치 11: 로딩 모듈
12: 공정 모듈 110: 로드락 챔버
120: 언로드락 챔버 200: 이송 챔버
230, 400, 500: 이송 리드 231, 410, 510: 고정부
232, 420, 520: 회전부 233, 430, 530: 리드 플레이트
300: 공정 챔버 310: 공정 리드
540: 구동부

Claims (9)

  1. 기판에 대한 공정 처리 공간을 제공하는 공정 챔버; 및
    상기 공정 챔버로 기판을 반입하거나 상기 공정 챔버에서 기판을 반출하기 위한 이송 공간을 제공 이송 챔버를 포함하되,
    상기 공정 챔버는 상기 이송 챔버의 가장자리를 따라 복수 개가 구비되고,
    상기 공정 챔버 및 이송 챔버는 각각의 상부 개구를 밀폐시키는 공정 리드 및 이송 리드를 각각 포함하고,
    상기 공정 챔버 및 이송 챔버가 개방되는 경우 상기 이송 리드는 상기 공정 리드에 간섭되지 않는 자세로 자세 전환 가능한 기판 처리 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 이송 리드는,
    상기 이송 챔버의 상부 개구가 밀폐 또는 개방되도록 회전하는 제1 회전 동작; 및
    상기 공정 리드와의 간섭이 방지되도록 회전하는 제2 회전 동작을 수행하는 기판 처리 장치.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 이송 리드는,
    상기 이송 챔버에 고정된 고정부;
    제1 회전축을 기준으로 상기 고정부에 대하여 회전 가능한 회전부; 및
    상기 이송 챔버의 상부 개구를 밀폐 가능하고, 제2 회전축을 기준으로 상기 회전부에 대하여 회전 가능한 리드 플레이트를 포함하는 기판 처리 장치.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 제1 회전축 및 제2 회전축은 직교하는 기판 처리 장치.
  5. 제3 항에 있어서,
    상기 고정부는 상기 회전부의 회전 범위를 제한하는 제1 스토퍼를 포함하는 기판 처리 장치.
  6. 제5 항에 있어서,
    상기 제1 스토퍼는 밀폐 시의 리드 플레이트와 개방 시의 리드 플레이트 간의 각도가 예각이 형성되도록 상기 회전부의 회전 범위를 제한하는 기판 처리 장치.
  7. 제3 항에 있어서,
    상기 회전부는 상기 리드 플레이트의 회전 범위를 제한하는 제2 스토퍼를 포함하는 기판 처리 장치.
  8. 제3 항에 있어서,
    구동력을 발생시켜 상기 회전부에 대하여 상기 리드 플레이트를 회전시키는 구동부를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  9. 제1 항에 있어서,
    상기 공정 챔버는 상기 공정 리드가 상기 이송 챔버를 향하는 방향으로 회전하여 개방되는 기판 처리 장치.
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