KR20230165351A - silver-containing paste - Google Patents

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나오키 와타나베
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스미또모 베이크라이트 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 은 함유 페이스트는, 은 함유 입자와, 사이안아마이드 유도체와, 용제와, (A) 분자 내에 2 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물, 및 (B) 분자 내에 2 이상의 중합성 이중 결합을 포함하는 (메트)아크릴 화합물 중, 적어도 일방 또는 양방으로 이루어지는 다관능 화합물을 포함한다.The silver-containing paste of the present invention contains silver-containing particles, a cyanamide derivative, a solvent, (A) an epoxy compound having two or more epoxy groups in the molecule, and (B) two or more polymerizable double bonds in the molecule. Among (meth)acrylic compounds, at least one or both polyfunctional compounds are included.

Description

은 함유 페이스트silver-containing paste

본 발명은, 은 함유 페이스트에 관한 것이다.The present invention relates to a silver-containing paste.

반도체 장치의 방열성을 높이는 것을 의도하여, 금속 입자를 포함하는 열경화성 수지 조성물을 이용하여 반도체 장치를 제조하는 기술이 알려져 있다. 수지보다 큰 열전도율을 갖는 금속 입자를 열경화성 수지 조성물에 포함시킴으로써, 그 경화물의 열전도성을 크게 할 수 있다.A technique for manufacturing a semiconductor device using a thermosetting resin composition containing metal particles is known, with the intention of improving the heat dissipation of the semiconductor device. By including metal particles having a higher thermal conductivity than the resin in the thermosetting resin composition, the thermal conductivity of the cured product can be increased.

특허문헌 1에는, 표면 피복된 소정의 소결성 은 함유 입자와, 휘발성 분산매와, 특정한 2종의 수지 분말로 이루어지는 페이스트상 은 함유 입자 조성물이 개시되어 있다. 당해 문헌에는, 페이스트상 은 함유 입자 조성물을, 소정의 분위기하에서 100℃ 이상 250℃ 이하의 온도에서 소결시키는 것이 기재되어 있다. 또한, 당해 페이스트상 은 함유 입자 조성물은, 보존 안정성이 양호하고, 금속제 부재에 대한 접착 강도가 우수한 접합체가 얻어진다고 기재되어 있다.Patent Document 1 discloses a paste-like silver-containing particle composition consisting of surface-coated predetermined sinterable silver-containing particles, a volatile dispersion medium, and two specific types of resin powder. This document describes sintering a paste-like silver-containing particle composition at a temperature of 100°C or more and 250°C or less in a predetermined atmosphere. In addition, it is described that the paste-like silver-containing particle composition has good storage stability and provides a joined body with excellent adhesive strength to a metal member.

특허문헌 2에는, 열처리에 의하여 신터링을 일으켜 입자 연결 구조를 형성하는 금속 입자와, 40℃ 이상 250℃ 이하의 분해 개시 온도를 갖는 수지를 포함하는, 페이스트상 접착제 조성물이 개시되어 있다. 당해 문헌에는, 페이스트상 접착제 조성물의 소결체는 금속 밀착성이 우수하다고 기재되어 있다.Patent Document 2 discloses a paste-like adhesive composition containing metal particles that cause sintering through heat treatment to form a particle-connected structure, and a resin having a decomposition start temperature of 40°C or more and 250°C or less. In this document, it is described that the sintered body of the paste-like adhesive composition has excellent metal adhesion.

특허문헌 1: 일본 공개특허공보 2019-189936호Patent Document 1: Japanese Patent Publication No. 2019-189936 특허문헌 2: 일본 공개특허공보 2018-98272호Patent Document 2: Japanese Patent Publication No. 2018-98272

그러나, 발명자가 검토한 결과, 상기 문헌에 기재된 은 함유 페이스트는, 반도체 칩과, 예를 들면 리드 프레임 등의 금속 표면을 접합하는 경우, 리드 프레임 및 칩 사이의 밀착력 측면에서 개선의 여지를 갖고 있었다.However, as a result of examination by the inventor, the silver-containing paste described in the above document had room for improvement in terms of adhesion between the lead frame and the chip when bonding a semiconductor chip to a metal surface such as a lead frame, for example. .

본 발명자들은 이와 같은 발견에 근거하여 더 예의 연구한 결과, 금속 입자끼리의 소결을 보조하는 특성을 갖는 수지를 적절히 선택하고, 또한 밀착 조제(助劑)를 첨가함으로써, 리드 프레임 및 칩 사이의 밀착성이 개선되는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.The present inventors conducted further studies based on these findings and found that by appropriately selecting a resin with properties that assist sintering of metal particles and adding an adhesion aid, the adhesion between the lead frame and the chip was improved. This improvement was discovered and the present invention was completed.

본 발명에 의하면,According to the present invention,

은 함유 입자와,silver-containing particles,

사이안아마이드 유도체와,cyanamide derivatives,

용제와,Solvent,

(A) 분자 내에 2 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물, 및 (B) 분자 내에 2 이상의 중합성 이중 결합을 포함하는 (메트)아크릴 화합물 중, 적어도 일방 또는 양방으로 이루어지는 다관능 화합물을 포함하는, 은 함유 페이스트가 제공된다.Among (A) epoxy compounds having two or more epoxy groups in the molecule, and (B) (meth)acrylic compounds containing two or more polymerizable double bonds in the molecule, silver-containing compounds including polyfunctional compounds consisting of at least one or both sides. Paste is provided.

본 발명에 의하면, 리드 프레임 및 칩 사이의 밀착력이 우수한 은 함유 페이스트가 제공된다.According to the present invention, a silver-containing paste having excellent adhesion between a lead frame and a chip is provided.

<은 함유 페이스트><Silver-containing paste>

본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트의 개요에 대하여 설명한다.An outline of the silver-containing paste according to the present embodiment will be described.

본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트는, 은 함유 입자와, 사이안아마이드 유도체와, 용제와, (A) 분자 내에 2 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물, 및 (B) 분자 내에 2 이상의 중합성 이중 결합을 포함하는 (메트)아크릴 화합물 중, 적어도 일방 또는 양방으로 이루어지는 다관능 화합물을 포함한다.The silver-containing paste according to the present embodiment contains silver-containing particles, a cyanamide derivative, a solvent, (A) an epoxy compound having two or more epoxy groups in the molecule, and (B) two or more polymerizable double bonds in the molecule. Among the (meth)acrylic compounds included, at least one or both polyfunctional compounds are included.

본 실시형태에 있어서는, 사이안아마이드 유도체를 포함함으로써, 리드 프레임 및 칩 사이의 밀착력을 향상시키고 있다. 상세한 메커니즘은 명확하지 않지만, 이것은 사이안아마이드 유도체의 극성에 의한 것이라고 생각된다.In this embodiment, the adhesion between the lead frame and the chip is improved by including a cyanamide derivative. Although the detailed mechanism is not clear, this is thought to be due to the polarity of the cyanamide derivative.

사이안아마이드 유도체는 분자 내에 질소 원자의 고립 전자쌍을 2개 이상 갖고, 또한 사이아노기에 있어서도 질소 원자를 갖는다. 이 질소 원자를 가짐으로써 사이안아마이드 유도체는 강한 극성을 갖기 때문에, 리드 프레임이나 칩과의 밀착 조제로서 작용한다. 이와 같은 사이안아마이드 유도체가 은 함유 입자의 표면에 부착됨으로써, 은 함유 입자와 리드 프레임 및 칩의 친화성이 향상되고, 결과적으로 소결 시의 리드 프레임 및 칩의 밀착력이 향상된 것이라고 생각된다.The cyanamide derivative has two or more lone pairs of nitrogen atoms in the molecule, and also has a nitrogen atom in the cyano group. By having this nitrogen atom, the cyanamide derivative has strong polarity, so it acts as an adhesion aid to the lead frame or chip. It is thought that by attaching such a cyanamide derivative to the surface of the silver-containing particles, the affinity between the silver-containing particles and the lead frame and chip is improved, and as a result, the adhesion between the lead frame and chip during sintering is improved.

이때, 본 실시형태에 있어서의 은 함유 페이스트에 사용하는 다관능 화합물을 (A) 분자 내에 2 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물, 및 (B) 분자 내에 2 이상의 중합성 이중 결합을 포함하는 (메트)아크릴 화합물 중, 적어도 일방 또는 양방으로 이루어지는 다관능 화합물로 함으로써, 사이안아마이드 유도체가 다관능 화합물에 도입되기 쉬워져, 사이안아마이드 유도체에 의한 은 함유 입자와 리드 프레임 및 칩의 밀착력이 향상되는 효과를 적합한 것으로 할 수 있다.At this time, the multifunctional compound used in the silver-containing paste in this embodiment is (A) an epoxy compound having two or more epoxy groups in the molecule, and (B) (meth)acrylic containing two or more polymerizable double bonds in the molecule. By using a polyfunctional compound consisting of at least one or both of the compounds, the cyanamide derivative becomes easy to be introduced into the polyfunctional compound, and the adhesion between the silver-containing particles and the lead frame and chip by the cyanamide derivative is improved. You can do whatever suits you.

이하, 본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트의 각 성분에 대하여 설명한다.Hereinafter, each component of the silver-containing paste according to the present embodiment will be described.

[은 함유 입자][Silver-containing particles]

본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트는, 은 함유 입자를 포함한다.The silver-containing paste according to this embodiment contains silver-containing particles.

본 실시형태에 관한 은 함유 입자는, 열처리에 의하여 소결(신터링)을 일으켜 입자 연결 구조(신터링 구조)를 형성하는 신터링 은 함유 입자이다.The silver-containing particles according to the present embodiment are sintered silver-containing particles that cause sintering (sintering) by heat treatment to form a particle connecting structure (sintering structure).

특히, 은 함유 페이스트 중에 은 함유 입자가 포함, 특히, 입경이 비교적 작고 비표면적이 비교적 큰 은 함유 입자가 포함됨으로써, 비교적 저온(180℃ 정도)에서의 열처리에서도 신터링 구조가 형성되기 쉽다. 바람직한 입경에 대해서는 후술한다.In particular, since the silver-containing paste contains silver-containing particles, especially silver-containing particles with a relatively small particle size and relatively large specific surface area, a sintering structure is likely to be formed even during heat treatment at a relatively low temperature (about 180°C). The preferred particle size will be described later.

본 실시형태에 관한 은 함유 입자가 열처리에 의하여 소결을 일으키는 온도의 상한값으로서는 260℃ 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 250℃ 이하이며, 더 바람직하게는 240℃ 이하이다. 소결을 일으키는 온도의 상한값이 상기 상한값 이하임으로써, 본 실시형태에 있어서의 은 함유 페이스트를 사용한 전자 장치에 있어서, 리드 프레임 및 칩 사이의 밀착성이 보다 적합한 것이 된다.The upper limit of the temperature at which the silver-containing particles according to the present embodiment cause sintering by heat treatment is preferably 260°C or lower, more preferably 250°C or lower, and still more preferably 240°C or lower. When the upper limit of the temperature that causes sintering is below the above upper limit, the adhesion between the lead frame and the chip becomes more suitable in the electronic device using the silver-containing paste of this embodiment.

또, 소결을 일으키는 온도의 하한값으로서는 160℃ 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 165℃ 이상이며, 더 바람직하게는 170℃ 이상이다. 소결을 일으키는 온도의 하한값이 상기 하한값 이상임으로써, 본 실시형태에 있어서의 은 함유 페이스트를 사용한 전자 장치에 있어서, 고온 신뢰성이 보다 적합한 것이 된다.Moreover, the lower limit of the temperature that causes sintering is preferably 160°C or higher, more preferably 165°C or higher, and still more preferably 170°C or higher. When the lower limit of the temperature that causes sintering is equal to or higher than the above lower limit, high-temperature reliability becomes more suitable in the electronic device using the silver-containing paste of this embodiment.

은 함유 입자의 형상은 특별히 한정되지 않는다. 바람직한 형상은 구상이지만, 구상이 아닌 형상, 예를 들면 타원체상, 편평상, 판상, 플레이크상, 침상, 인편상(鱗片狀), 응집상, 및 다면체 형상 등이어도 된다. 은 함유 입자는, 이들 형상의 은 함유 입자를 적어도 1종 포함할 수 있다.The shape of the silver-containing particles is not particularly limited. The preferred shape is spherical, but non-spherical shapes, such as ellipsoidal shapes, flat shapes, plates, flakes, needles, scales, agglomerates, and polyhedral shapes, may be used. The silver-containing particles may contain at least one type of silver-containing particle of these shapes.

본 실시형태에 있어서는, 구상, 플레이크상, 인편상, 응집상, 및 다면체 형상의 은 함유 입자로부터 선택되는 2종 이상을 포함하는 것이 바람직하다. 이로써, 은 함유 입자끼리의 접촉률이 더 향상되는 점에서, 당해 은 함유 페이스트의 소결 후에 있어서 네트워크가 용이하게 형성되어 본 실시형태에 있어서의 은 함유 페이스트를 사용한 전자 장치에 있어서, 방열성이 보다 적합한 것이 된다.In this embodiment, it is preferable to contain two or more types selected from spherical, flake, scale, aggregate, and polyhedral-shaped silver-containing particles. As a result, since the contact rate between silver-containing particles is further improved, a network is easily formed after sintering of the silver-containing paste, and heat dissipation is more suitable in an electronic device using the silver-containing paste of the present embodiment. do.

또한, 본 실시형태에 있어서, "구상"이란, 완전한 진구(眞球)에 한정되지 않고, 표면에 약간의 요철이 있는 형상 등도 포함한다.In addition, in this embodiment, “spherical shape” is not limited to a perfect sphere, but also includes a shape with slight irregularities on the surface, etc.

은 함유 입자는, 그 표면이 카복실산, 탄소수 4~30의 포화 지방산, 또는 1가의 탄소수 4~30의 불포화 지방산, 장쇄 알킬나이트릴 등 처리되어 있어도 된다.The surface of the silver-containing particles may be treated with carboxylic acid, a saturated fatty acid with 4 to 30 carbon atoms, a monovalent unsaturated fatty acid with 4 to 30 carbon atoms, or a long-chain alkylnitrile.

은 함유 입자는, (i) 실질적으로 은만으로 이루어지는 은 입자(은 분말)여도 되고, (ii) 은과 은 이외의 성분으로 이루어지는 입자여도 된다. 또, 금속 함유 입자로서 (i) 및 (ii)가 병용되어도 된다.The silver-containing particles may be (i) silver particles (silver powder) substantially composed only of silver, or (ii) particles composed of silver and components other than silver. Additionally, (i) and (ii) may be used together as metal-containing particles.

본 실시형태에 있어서, 은과 은 이외의 성분으로 이루어지는 입자로서는 수지 입자의 표면이 은으로 코팅된 은 피복 수지 입자를 포함할 수도 있다. 은 피복 수지 입자에 있어서는, 수지 입자의 표면의 적어도 일부의 영역을 은층이 덮고 있으면 된다. 물론, 수지 입자의 표면의 전체면을 은이 덮고 있어도 된다. 이와 같은 은 피복 수지 입자로서는, 예를 들면, 은 도금 실리콘 수지 등을 들 수 있다.In this embodiment, the particles composed of silver and components other than silver may include silver-coated resin particles whose surfaces are coated with silver. In silver-coated resin particles, the silver layer may cover at least a portion of the surface of the resin particles. Of course, silver may cover the entire surface of the resin particle. Examples of such silver-coated resin particles include silver-plated silicone resin.

은 피복 수지 입자에 있어서의 "수지"로서는, 예를 들면, 실리콘 수지, (메트)아크릴 수지, 페놀 수지, 폴리스타이렌 수지, 멜라민 수지, 폴리아마이드 수지, 폴리테트라플루오로에틸렌 수지 등을 들 수 있다. 물론, 이들 이외의 수지여도 된다. 또, 수지는 1종만이어도 되고, 2종 이상의 수지가 병용되어도 된다.Examples of the “resin” in the silver-coated resin particles include silicone resin, (meth)acrylic resin, phenol resin, polystyrene resin, melamine resin, polyamide resin, and polytetrafluoroethylene resin. Of course, resins other than these may be used. Moreover, only one type of resin may be used, and two or more types of resin may be used together.

실리콘 수지는, 메틸클로로실레인, 트라이메틸트라이클로로실레인, 다이메틸다이클로로실레인 등의 오가노클로로실레인을 중합시킴으로써 얻어지는 오가노폴리실록세인에 의하여 구성되는 입자여도 된다. 또, 오가노폴리실록세인을 추가로 3차원 가교한 구조를 기본 골격으로 한 실리콘 수지여도 된다.The silicone resin may be particles composed of organopolysiloxane obtained by polymerizing organochlorosilane such as methylchlorosilane, trimethyltrichlorosilane, and dimethyldichlorosilane. Moreover, a silicone resin whose basic skeleton has a structure obtained by additionally three-dimensionally crosslinking organopolysiloxane may be used.

(메트)아크릴 수지는, 주성분(50중량% 이상, 바람직하게는 70중량% 이상, 보다 바람직하게는 90중량% 이상)으로서 (메트)아크릴산 에스터를 포함하는 모노머를 중합시켜 얻어진 수지여도 된다. (메트)아크릴산 에스터로서는, 예를 들면, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 뷰틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 사이클로헥실(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-프로필(메트)아크릴레이트, 클로로-2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 다이에틸렌글라이콜모노(메트)아크릴레이트, 메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 다이사이클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 다이사이클로펜텐일(메트)아크릴레이트 및 아이소보닐(메트)아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 들 수 있다. 또, 아크릴계 수지의 모노머 성분에는, 소량의 다른 모노머가 포함되어 있어도 된다.The (meth)acrylic resin may be a resin obtained by polymerizing a monomer containing (meth)acrylic acid ester as a main component (50% by weight or more, preferably 70% by weight or more, more preferably 90% by weight or more). Examples of (meth)acrylic acid ester include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, and Uryl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-propyl (meth)acrylate, chloro-2-hydroxyethyl (meth)acrylate, diethylene glycol mono(meth)acrylate, methoxyethyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, dicyclofentanyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl ( At least one compound selected from the group consisting of meth)acrylate and isobornyl (meth)acrylate can be mentioned. Additionally, the monomer component of the acrylic resin may contain a small amount of other monomers.

실리콘 수지나 (메트)아크릴 수지 중에 각종 관능기를 도입해도 된다. 도입할 수 있는 관능기는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 에폭시기, 아미노기, 메톡시기, 페닐기, 카복실기, 수산기, 알킬기, 바이닐기, 머캅토기 등을 들 수 있다.Various functional groups may be introduced into silicone resin or (meth)acrylic resin. The functional group that can be introduced is not particularly limited. For example, epoxy group, amino group, methoxy group, phenyl group, carboxyl group, hydroxyl group, alkyl group, vinyl group, mercapto group, etc.

은 피복 수지 입자에 있어서의 수지 입자의 부분은, 각종 첨가 성분, 예를 들면 저응력 개질제 등을 포함해도 된다. 저응력 개질제로서는, 뷰타다이엔스타이렌 고무, 뷰타다이엔아크릴로나이트릴 고무, 폴리유레테인 고무, 폴리아이소프렌 고무, 아크릴 고무, 불소 고무, 액상 오가노폴리실록세인, 액상 폴리뷰타다이엔 등의 액상 합성 고무 등을 들 수 있다.The portion of the resin particle in the silver-coated resin particle may contain various additive components, such as a low stress modifier. As low-stress modifiers, butadiene styrene rubber, butadiene acrylonitrile rubber, polyurethane rubber, polyisoprene rubber, acrylic rubber, fluorine rubber, liquid organopolysiloxane, liquid polybutadiene, etc. Liquid synthetic rubber, etc. can be mentioned.

은 함유 입자의 메디안 직경 D50은, 예를 들면 0.001~1000μm, 바람직하게는 0.01~100μm, 보다 바람직하게는 0.1~20μm 이다. D50을 적절한 값으로 함으로써, 열전도성, 소결성, 히트 사이클에 대한 내성 등의 밸런스를 취하기 쉽다. 또, D50을 적절한 값으로 함으로써, 도포/접착의 작업성의 향상 등을 도모할 수도 있다.The median diameter D 50 of the silver-containing particles is, for example, 0.001 to 1000 μm, preferably 0.01 to 100 μm, and more preferably 0.1 to 20 μm. By setting D 50 to an appropriate value, it is easy to achieve a balance between thermal conductivity, sinterability, resistance to heat cycles, etc. Additionally, by setting D 50 to an appropriate value, the workability of coating/adhering can be improved.

은 함유 입자의 입도 분포(가로축: 입자경, 세로축: 빈도)는, 단봉성(單峰性)이어도 되고 다봉성(多峰性)이어도 된다.The particle size distribution (horizontal axis: particle diameter, vertical axis: frequency) of the silver-containing particles may be unimodal or multimodal.

(i) 실질적으로 은만으로 이루어지는 입자의 메디안 직경 D50은, 예를 들면 0.8μm 이상, 바람직하게는 1.0μm 이상, 보다 바람직하게는 1.2μm 이상이다. 이로써, 신터링 구조를 강고한 것으로 할 수 있고, 본 실시형태에 있어서의 은 함유 페이스트를 사용한 전자 장치에 있어서, 리드 프레임 및 칩 사이의 밀착성이 보다 적합한 것으로 할 수 있다.(i) The median diameter D 50 of particles made substantially only of silver is, for example, 0.8 μm or more, preferably 1.0 μm or more, and more preferably 1.2 μm or more. As a result, the sintering structure can be made strong, and the adhesion between the lead frame and the chip can be made more suitable in the electronic device using the silver-containing paste in this embodiment.

또, (i) 실질적으로 은만으로 이루어지는 입자의 메디안 직경 D50은, 예를 들면 10.0μm 이하, 바람직하게는 8.0μm 이하, 보다 바람직하게는 6.0μm 이하이다. 이로써, 신터링의 용이성의 가일층의 향상, 신터링의 균일성의 향상 등을 도모할 수 있다.Additionally, (i) the median diameter D 50 of the particles substantially consisting only of silver is, for example, 10.0 μm or less, preferably 8.0 μm or less, and more preferably 6.0 μm or less. As a result, it is possible to further improve the ease of sintering, improve the uniformity of sintering, etc.

(ii) 은과 은 이외의 성분으로 이루어지는 입자의 메디안 직경 D50은, 예를 들면 0.5μm 이상, 바람직하게는 1.5μm 이상, 보다 바람직하게는 2.0μm 이상이다. 이로써, 저장 탄성률을 적절한 값으로 하기 쉽다.(ii) The median diameter D 50 of the particles made of silver and components other than silver is, for example, 0.5 μm or more, preferably 1.5 μm or more, and more preferably 2.0 μm or more. Thereby, it is easy to set the storage modulus to an appropriate value.

또, (ii) 은과 은 이외의 성분으로 이루어지는 입자의 메디안 직경 D50은, 예를 들면 20μm 이하, 바람직하게는 15μm 이하, 보다 바람직하게는 10μm 이하이다. 이로써, 신터링의 용이성의 가일층의 향상, 신터링의 균일성의 향상 등을 도모할 수 있다.Moreover, (ii) the median diameter D 50 of the particles made of silver and components other than silver is, for example, 20 μm or less, preferably 15 μm or less, and more preferably 10 μm or less. As a result, it is possible to further improve the ease of sintering, improve the uniformity of sintering, etc.

은 함유 입자의 메디안 직경 D50은, 예를 들면, 시스멕스 주식회사제 플로식 입자 이미지 분석 장치 FPIA(등록 상표)-3000을 이용하여, 입자 화상 계측을 행함으로써 구할 수 있다. 보다 구체적으로는, 이 장치를 이용하여, 습식으로 체적 기준의 메디안 직경을 계측함으로써, 은 함유 입자의 입자경을 결정할 수 있다.The median diameter D 50 of the silver-containing particles can be determined, for example, by performing particle image measurement using a flow-type particle image analysis device FPIA (registered trademark)-3000 manufactured by Sysmex Corporation. More specifically, the particle size of the silver-containing particles can be determined by measuring the median diameter on a volume basis using this device in a wet manner.

은 함유 페이스트 중의 은 함유 입자의 함유량은, 후술하는 용제를 제외한 고형분 100질량%에 대하여, 바람직하게는 80.0질량% 이상 99.0질량% 이하, 보다 바람직하게는 82.5질량% 이상 97.5질량% 이하, 더 바람직하게는 85.0질량% 이상 95질량% 이하이다.The content of silver-containing particles in the silver-containing paste is preferably 80.0 mass% or more and 99.0 mass% or less, more preferably 82.5 mass% or more and 97.5 mass% or less, more preferably 80.0 mass% or more and 99.0 mass% or less, based on 100 mass% of solid content excluding the solvent described later. In other words, it is 85.0 mass% or more and 95 mass% or less.

본 실시형태의 은 함유 페이스트에 있어서의 은 함유 입자의 함유량이 당해 범위임으로써, 신터링 구조를 강고한 것으로 할 수 있고, 본 실시형태에 있어서의 은 함유 페이스트를 사용한 전자 장치에 있어서, 리드 프레임 및 칩 사이의 밀착성이 보다 적합한 것으로 할 수 있다.When the content of silver-containing particles in the silver-containing paste of this embodiment is within the range, the sintering structure can be made strong, and in the electronic device using the silver-containing paste of this embodiment, a lead frame And the adhesion between chips can be made more suitable.

은 함유 입자 중, 실질적으로 은만으로 이루어지는 입자는, 예를 들면, DOWA 하이테크사, 후쿠다 긴조쿠 하쿠훈 고교사 등으로부터 입수할 수 있다. 또, 은 피복 수지 입자는, 예를 들면, 미쓰비시 머티리얼사, 세키스이 가가쿠 고교사, 주식회사 산노 등으로부터 입수할 수 있다.Among the silver-containing particles, particles substantially consisting only of silver can be obtained from, for example, DOWA High Tech, Fukuda Kinzoku Hakuhun Kogyo, etc. In addition, silver-coated resin particles can be obtained from, for example, Mitsubishi Materials, Sekisui Chemicals, Sanno Co., Ltd., etc.

본 실시형태에 있어서, 은 함유 입자의 비표면적은 0.10m2/g 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.15m2/g 이상, 더 바람직하게는 0.20m2/g 이상으로 할 수 있다. 상한값은 특별히 한정되지 않지만, 입수의 관점에서 2.0m2/g 이하로 할 수 있다. 은 함유 입자의 비표면적은, 은 함유 입자를 2종류 이상 포함하는 경우, 그 평균값이다. 은 함유 입자의 비표면적은, 자동 비표면적 측정 장치를 이용하여 측정된 BET 비표면적으로 한다.In this embodiment, the specific surface area of the silver-containing particles is preferably 0.10 m 2 /g or more, more preferably 0.15 m 2 /g or more, and still more preferably 0.20 m 2 /g or more. The upper limit is not particularly limited, but may be 2.0 m 2 /g or less from the viewpoint of availability. The specific surface area of silver-containing particles is the average value when two or more types of silver-containing particles are included. The specific surface area of the silver-containing particles is the BET specific surface area measured using an automatic specific surface area measuring device.

본 실시형태의 은 함유 입자의 비표면적이 당해 범위임으로써, 신터링 구조를 강고한 것으로 할 수 있고, 본 실시형태에 있어서의 은 함유 페이스트를 사용한 전자 장치에 있어서, 리드 프레임 및 칩 사이의 밀착성이 보다 적합한 것으로 할 수 있다.When the specific surface area of the silver-containing particles of the present embodiment is within the range, the sintering structure can be made strong, and in the electronic device using the silver-containing paste of the present embodiment, the adhesion between the lead frame and the chip is improved. This can be done with something more suitable.

본 실시형태에 있어서는, 본 발명의 효과의 관점에서, 비표면적이 상이한 은 함유 입자를 2종 이상 이용하는 것이 보다 바람직하다.In this embodiment, from the viewpoint of the effect of the present invention, it is more preferable to use two or more types of silver-containing particles with different specific surface areas.

또한, 은 함유 입자의 탭 밀도는, 바람직하게는 4.0g/cm3 이상, 보다 바람직하게는 4.5g/cm3 이상, 더 바람직하게는 5.0g/cm3 이상, 특히 바람직하게는 5.5g/cm3 이상으로 할 수 있다. 상한값은 특별히 한정되지 않지만 8.0g/cm3 이하로 할 수 있다.In addition, the tap density of the silver-containing particles is preferably 4.0 g/cm 3 or more, more preferably 4.5 g/cm 3 or more, further preferably 5.0 g/cm 3 or more, particularly preferably 5.5 g/cm 3 or more. It can be done with 3 or more. The upper limit is not particularly limited, but can be set to 8.0 g/cm 3 or less.

탭 밀도는, ISO 3953-1985(E)의 "금속 분말-탭 밀도의 측정 방법"에 따라 측정된다.Tap density is measured according to ISO 3953-1985(E) “Method for measuring metal powder-tap density.”

당해 탭 밀도임으로써, 페이스트 점도를 적절한 값으로 하기 쉽다.With this tap density, it is easy to set the paste viscosity to an appropriate value.

[사이안아마이드 유도체][Cyanamide derivative]

본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트는, 사이안아마이드 유도체를 더 포함한다.The silver-containing paste according to the present embodiment further contains a cyanamide derivative.

사이안아마이드 유도체에 의하여, 상술한 바와 같이 은 함유 입자와 리드 프레임 및 칩의 친화성이 향상되고, 결과적으로 소결 시의 리드 프레임 및 칩의 밀착력이 향상된다.As described above, the cyanamide derivative improves the affinity between the silver-containing particles and the lead frame and chip, and consequently improves the adhesion between the lead frame and chip during sintering.

통상, 사이안아마이드 유도체는 후술하는 다관능 화합물에 첨가한 경우, 경화 촉진제로서 작용한다. 한편, 본 실시형태에 있어서의 사이안아마이드 유도체는 리드 프레임과 칩 사이의 밀착성을 향상시키는 밀착 조제로서의 기능을 갖고 있고, 사이안아마이드 유도체 이외의 경화 촉진제를 더 더함으로써, 본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트의 기계적 특성 및 리드 프레임과 칩 사이의 밀착성의 양립을 도모할 수 있다.Usually, cyanamide derivatives act as a curing accelerator when added to the multifunctional compound described later. On the other hand, the cyanamide derivative in the present embodiment has a function as an adhesion aid to improve the adhesion between the lead frame and the chip, and by further adding a curing accelerator other than the cyanamide derivative, the silver according to the present embodiment It is possible to achieve both the mechanical properties of the containing paste and the adhesion between the lead frame and the chip.

사이안아마이드 유도체로서는, 예를 들면 다이사이안다이아마이드; 구아니딘; 술팜산 구아니딘, 인산 구아니딘 등의 구아니딘염; 멜라민; 다이사이안다이아미딘 및 바이구아니드 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 이용해도 되고 복수 조합하여 이용해도 된다. 또 이들 중, 소결 시의 리드 프레임 및 칩의 밀착력의 관점에서, 다이사이안다이아마이드, 구아니딘, 구아니딘염, 멜라민 및 다이사이안다이아미딘으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 포함하는 것이 바람직하고, 다이사이안다이아마이드가 보다 바람직하다.Examples of cyanamide derivatives include dicyandiamide; guanidine; Guanidine salts such as guanidine sulfamate and guanidine phosphate; melamine; Dicyandiamidine, biguanide, etc. can be mentioned. These may be used individually or in combination of two or more. Among these, from the viewpoint of adhesion between the lead frame and chip during sintering, it is preferable to include one or two or more types selected from dicyandiamide, guanidine, guanidine salt, melamine, and dicyandiamidine, Dicyanediamide is more preferred.

상기 사이안아마이드 유도체의 함유량의 상한값으로서는, 후술하는 본 실시형태에 관한 다관능 화합물의 함유량을 100질량부로 했을 때에, 바람직하게는 3질량부 이하이며, 보다 바람직하게는 2.7질량부 이하, 더 바람직하게는 2.5질량부 이하이다. 사이안아마이드 유도체의 함유량을 상기 상한값 이하로 함으로써, 은 함유 페이스트의 방열성을 보다 적합한 것으로 할 수 있다.The upper limit of the content of the cyanamide derivative is preferably 3 parts by mass or less, more preferably 2.7 parts by mass or less, when the content of the polyfunctional compound according to the present embodiment described later is 100 parts by mass. Typically, it is 2.5 parts by mass or less. By setting the content of the cyanamide derivative below the above upper limit, the heat dissipation properties of the silver-containing paste can be made more suitable.

상기 사이안아마이드 유도체의 함유량의 하한값으로서는, 후술하는 본 실시형태에 관한 다관능 화합물의 함유량을 100질량부로 했을 때에, 바람직하게는 0.01질량부 이상이며, 보다 바람직하게는 0.05질량부 이상, 더 바람직하게는 0.1질량부 이상이다. 사이안아마이드 유도체의 함유량을 상기 하한값 이상으로 함으로써, 소결 시의 리드 프레임 및 칩의 밀착력을 보다 적합한 것으로 할 수 있다.The lower limit of the content of the cyanamide derivative is preferably 0.01 parts by mass or more, more preferably 0.05 parts by mass or more, when the content of the polyfunctional compound according to the present embodiment described later is 100 parts by mass. Typically, it is 0.1 part by mass or more. By setting the content of the cyanamide derivative to the above lower limit or more, the adhesion between the lead frame and the chip during sintering can be made more suitable.

[용제][solvent]

본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트는, 용제를 더 포함한다.The silver-containing paste according to this embodiment further contains a solvent.

용제에 의하여, 예를 들면, 은 함유 페이스트의 유동성의 조정, 기재 상에 접착층을 형성할 때의 작업성의 향상 등을 도모할 수 있다.By using a solvent, for example, the fluidity of the silver-containing paste can be adjusted and the workability when forming an adhesive layer on a substrate can be improved.

용제로서는, 예를 들면 에틸알코올, 프로필알코올, 뷰틸알코올, 펜틸알코올, 헥실알코올, 헵틸알코올, 옥틸알코올, 노닐알코올, 데실알코올, 에틸렌글라이콜모노메틸에터, 에틸렌글라이콜모노에틸에터, 에틸렌글라이콜모노프로필에터, 에틸렌글라이콜모노뷰틸에터, 프로필렌글라이콜모노메틸에터, 프로필렌글라이콜모노에틸에터, 프로필렌글라이콜모노프로필에터, 프로필렌글라이콜모노뷰틸에터, 메틸메톡시뷰탄올, α-터피네올, β-터피네올, 헥실렌글라이콜, 벤질알코올, 2-페닐에틸알코올, 아이소팔미틸알코올, 아이소스테아릴알코올, 라우릴알코올, 에틸렌글라이콜, 프로필렌글라이콜, 에틸헥실글라이콜, 뷰틸프로필렌트라이글라이콜 혹은 글리세린 등의 알코올류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸아이소뷰틸케톤, 사이클로헥산온, 다이아세톤알코올(4-하이드록시-4-메틸-2-펜탄온), 2-옥탄온, 아이소포론(3,5,5-트라이메틸-2-사이클로헥센-1-온) 혹은 다이아이소뷰틸케톤(2,6-다이메틸-4-헵탄온) 등의 케톤류; 아세트산 에틸, 아세트산 뷰틸, 다이에틸프탈레이트, 다이뷰틸프탈레이트, 아세톡시에테인, 뷰티르산 메틸, 헥산산 메틸, 옥탄산 메틸, 데칸산 메틸, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸렌글라이콜모노뷰틸에터아세테이트, 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트, 1,2-다이아세톡시에테인, 인산 트라이뷰틸, 인산 트라이크레실 혹은 인산 트라이펜틸 등의 에스터류; 테트라하이드로퓨란, 다이프로필에터, 에틸렌글라이콜다이메틸에터, 에틸렌글라이콜다이에틸에터, 에틸렌글라이콜다이뷰틸에터, 프로필렌글라이콜다이메틸에터, 에톡시에틸에터, 1,2-비스(2-다이에톡시)에테인 혹은 1,2-비스(2-메톡시에톡시)에테인 등의 에터류; 아세트산 2-(2 뷰톡시에톡시)에테인 등의 에스터에터류; 2-(2-메톡시에톡시)에탄올 등의 에터알코올류; 톨루엔, 자일렌, n-파라핀, 아이소파라핀, 도데실벤젠, 테레빈유, 케로신 혹은 경유 등의 탄화 수소류; 아세토나이트릴 혹은 프로피오나이트릴 등의 나이트릴류; 아세트아마이드 혹은 N,N-다이메틸폼아마이드 등의 아마이드류; 저분자량의 휘발성 실리콘 오일, 또는 휘발성 유기 변성 실리콘 오일을 들 수 있다.Solvents include, for example, ethyl alcohol, propyl alcohol, butyl alcohol, pentyl alcohol, hexyl alcohol, heptyl alcohol, octyl alcohol, nonyl alcohol, decyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, and ethylene glycol monoethyl ether. , ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol Monobutyl ether, methyl methoxybutanol, α-terpineol, β-terpineol, hexylene glycol, benzyl alcohol, 2-phenylethyl alcohol, isopalmityl alcohol, isostearyl alcohol, lauryl Alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, ethylhexyl glycol, butylpropylene triglycol, or glycerin; Acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol (4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone), 2-octanone, isophorone (3,5,5-trimethyl Ketones such as -2-cyclohexen-1-one) or diisobutyl ketone (2,6-dimethyl-4-heptanone); Ethyl acetate, butyl acetate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, acetoxyethane, methyl butyrate, methyl hexanoate, methyl octanoate, methyl decanoate, methyl cellosolve acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, Esters such as propylene glycol monomethyl ether acetate, 1,2-diacetoxyethane, tributyl phosphate, tricresyl phosphate, or tripentyl phosphate; Tetrahydrofuran, dipropyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, propylene glycol dimethyl ether, ethoxyethyl ether , ethers such as 1,2-bis(2-diethoxy)ethane or 1,2-bis(2-methoxyethoxy)ethane; Ester ethers such as acetic acid 2-(2-butoxyethoxy)ethane; ether alcohols such as 2-(2-methoxyethoxy)ethanol; Hydrocarbons such as toluene, xylene, n-paraffin, isoparaffin, dodecylbenzene, turpentine, kerosene, or light oil; Nitriles such as acetonitrile or propionitrile; Amides such as acetamide or N,N-dimethylformamide; Examples include low molecular weight volatile silicone oil or volatile organic modified silicone oil.

이들은 1종만의 용제를 이용해도 되고, 2종 이상의 용제를 병용해도 된다.These may use only one type of solvent, or may use two or more types of solvents together.

상기 용제의 비점은 바람직하게는 150℃ 이상이며, 보다 바람직하게는 170℃ 이상, 더 바람직하게는 200℃ 이상이다. 비점의 상한값은 소결에 의하여 소실되면 특별히 한정되지 않고, 본 실시형태에 있어서는 300℃ 이하로 할 수 있다.The boiling point of the solvent is preferably 150°C or higher, more preferably 170°C or higher, and even more preferably 200°C or higher. The upper limit of the boiling point is not particularly limited as long as it disappears through sintering, and in this embodiment, it can be 300°C or lower.

용제의 비점을 상기 범위 내로 함으로써, 기재 상에 은 함유 페이스트를 접착할 때의 작업성을 보다 적합한 것으로 할 수 있다.By keeping the boiling point of the solvent within the above range, workability when adhering a silver-containing paste to a substrate can be made more suitable.

상기 용제는, 본 실시형태의 은 함유 페이스트 100질량% 중에, 바람직하게는 1질량% 이상 10질량% 이하, 더 바람직하게는 2질량% 이상 8질량% 이하 포함할 수 있다. 용제의 함유량을 상기 범위 내로 함으로써, 기재 상에 은 함유 페이스트를 접착할 때의 작업성을 보다 적합한 것으로 할 수 있다.The solvent may be included in 100 mass% of the silver-containing paste of the present embodiment, preferably 1 mass% or more and 10 mass% or less, more preferably 2 mass% or more and 8 mass% or less. By keeping the solvent content within the above range, workability when adhering a silver-containing paste to a substrate can be made more suitable.

[다관능 화합물][Multifunctional compounds]

본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트는, 다관능 화합물을 포함한다.The silver-containing paste according to this embodiment contains a polyfunctional compound.

본 실시형태에 관한 다관능 화합물로서는, (A) 분자 내에 2 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물, 및 (B) 분자 내에 2 이상의 중합성 이중 결합을 포함하는 (메트)아크릴 화합물 중, 적어도 일방 또는 양방으로 이루어지는 다관능 화합물이다. 다관능 화합물을 이용함으로써, 수지의 응집 효과에 의하여 은 함유 입자끼리의 신터링 구조가 형성되기 쉬워진다.The polyfunctional compound according to the present embodiment is at least one or both of (A) an epoxy compound having two or more epoxy groups in the molecule, and (B) a (meth)acrylic compound containing two or more polymerizable double bonds in the molecule. It is a multifunctional compound made up of By using a multifunctional compound, it becomes easy to form a sintering structure between silver-containing particles due to the aggregation effect of the resin.

본 실시형태에 관한 에폭시 화합물로서는, 예를 들면, 페놀 노볼락형 에폭시 화합물, 크레졸 노볼락형 에폭시 화합물, 크레졸나프톨형 에폭시 화합물, 바이페닐형 에폭시 화합물, 바이페닐아랄킬형 에폭시 화합물, 페녹시 화합물, 나프탈렌 골격형 에폭시 화합물, 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 비스페놀 F형 에폭시 화합물, 다이알릴 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 비스페놀 A형 다이글리시딜에터형 에폭시 화합물, 비스페놀 F형 다이글리시딜에터형 에폭시 화합물, 비스페놀 S형 다이글리시딜에터형 에폭시 화합물, o-알릴 비스페놀 A형 다이글리시딜에터, 3,3',5,5'-테트라메틸 4,4'-다이하이드록시바이페닐다이글리시딜에터형 에폭시 화합물, 1,1,2,2-테트라키스(하이드록시페닐)에테인형 에폭시 화합물, 4,4'-다이하이드록시바이페닐다이글리시딜에터형 에폭시 화합물, 브로민형 크레졸 노볼락형 에폭시 화합물, 비스페놀 D형 다이글리시딜에터형 에폭시 화합물, 1,6-나프탈렌다이올의 글리시딜에터, 아미노페놀류의 트라이글리시딜에터 등의 에폭시 화합물을 들 수 있다. 이들은 단독으로 이용해도 되고 복수 조합하여 이용해도 된다. 또, 이들 중에서도, 비스페놀 A형 에폭시 화합물 및 비스페놀 F형 에폭시 화합물로부터 선택되는 1종 또는 그 양방을 포함하는 것이 바람직하고, 비스페놀 F형 에폭시 화합물을 포함하는 것이 보다 바람직하다. 에폭시 화합물을 상기의 종류로부터 선택함으로써, 신터링의 용이성의 가일층의 향상, 신터링의 균일성의 향상 등을 도모할 수 있다.The epoxy compounds according to the present embodiment include, for example, phenol novolak-type epoxy compounds, cresol novolac-type epoxy compounds, cresolnaphthol-type epoxy compounds, biphenyl-type epoxy compounds, biphenyl aralkyl-type epoxy compounds, phenoxy compounds, Naphthalene skeletal epoxy compound, bisphenol A type epoxy compound, bisphenol F type epoxy compound, diallyl bisphenol A type epoxy compound, bisphenol A type diglycidyl ether type epoxy compound, bisphenol F type diglycidyl ether type epoxy compound, Bisphenol S type diglycidyl ether type epoxy compound, o-allyl bisphenol A type diglycidyl ether, 3,3',5,5'-tetramethyl 4,4'-dihydroxybiphenyl diglycy Diel ether type epoxy compound, 1,1,2,2-tetrakis(hydroxyphenyl)ethane type epoxy compound, 4,4'-dihydroxybiphenyl diglycidyl ether type epoxy compound, bromine type cresol novolak Epoxy compounds such as bisphenol D diglycidyl ether type epoxy compounds, glycidyl ether of 1,6-naphthalenediol, and triglycidyl ether of aminophenols can be mentioned. These may be used individually or in combination of two or more. Moreover, among these, it is preferable to contain one type or both selected from a bisphenol A-type epoxy compound and a bisphenol F-type epoxy compound, and it is more preferable to contain a bisphenol F-type epoxy compound. By selecting the epoxy compound from the above types, the ease of sintering can be further improved, the sintering uniformity can be improved, etc.

또, 에폭시 화합물은 25℃에서 고체 형상인 것, 액상인 것 중 어느 것도 사용할 수 있다.Additionally, the epoxy compound can be either solid or liquid at 25°C.

본 실시형태에 관한 (메트)아크릴 화합물로서는, 예를 들면, 에틸렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 다이에틸렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 트라이에틸렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트 등의 2관능 (메트)아크릴레이트; 트라이메틸올프로페인트라이(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트라이(메트)아크릴레이트 등의 3관능 이상의 다관능 (메트)아크릴레이트; 2관능 이상의 에폭시(메트)아크릴레이트; 2관능 이상의 유레테인(메트)아크릴레이트; 2관능 이상의 폴리에스터(메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 이들은 단독으로 이용해도 되고 복수 조합하여 이용해도 된다. 또, 이들 중에서도, 2관능 (메트)아크릴레이트 및 3관능 이상의 다관능 (메트)아크릴레이트로부터 선택되는 일방 또는 그 양방을 포함하는 것이 바람직하고, 에틸렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 다이에틸렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 트라이에틸렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트 등의 2관능 (메트)아크릴레이트를 포함하는 것이 보다 바람직하며, 에틸렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트를 포함하는 것이 더 바람직하다. (메트)아크릴 화합물을 상기의 종류로부터 선택함으로써, 신터링의 용이성의 가일층의 향상, 신터링의 균일성의 향상 등을 도모할 수 있다.Examples of the (meth)acrylic compound according to the present embodiment include ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, and triethylene glycol di(meth)acrylate. , bifunctional (meth)acrylates such as tetraethylene glycol di(meth)acrylate and polyethylene glycol di(meth)acrylate; tri- or more-functional polyfunctional (meth)acrylates such as trimethylolpropane tri(meth)acrylate and pentaerythritol tri(meth)acrylate; Bifunctional or higher epoxy (meth)acrylate; Bifunctional or higher urethane (meth)acrylate; Bifunctional or higher polyester (meth)acrylate can be mentioned. These may be used individually or in combination of two or more. Moreover, among these, it is preferable to include one or both of them selected from difunctional (meth)acrylate and trifunctional or more polyfunctional (meth)acrylate, such as ethylene glycol di(meth)acrylate and diethylene. Bifunctional (meth)acrylate such as glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, tetraethylene glycol di(meth)acrylate, and polyethylene glycol di(meth)acrylate. ) It is more preferable that it contains acrylate, and it is more preferable that it contains ethylene glycol di(meth)acrylate. By selecting a (meth)acrylic compound from the above types, the ease of sintering can be further improved, the sintering uniformity can be improved, etc.

본 실시형태에 있어서, 다관능 화합물의 함유량의 하한값은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 은 함유 페이스트의 고형분 전량에 대하여 1질량% 이상 포함시켜도 되고, 3질량% 이상 포함시켜도 되며, 5질량% 이상 포함시켜도 된다. 이로써, 경화물로서의 적당한 기계적 특성을 발휘할 수 있다.In the present embodiment, the lower limit of the content of the polyfunctional compound is not particularly limited, but for example, it may be contained in 1% by mass or more, 3% by mass or more, or 5% by mass, based on the total solid content of the silver-containing paste. You may include more than %. As a result, appropriate mechanical properties as a cured product can be exhibited.

또, 다관능 화합물의 함유량의 상한값은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 은 함유 페이스트의 고형분 전량에 대하여 20질량% 이하 포함시켜도 되고, 15질량% 이하 포함시켜도 되며, 10질량% 이하 포함시켜도 된다.In addition, the upper limit of the content of the polyfunctional compound is not particularly limited, but for example, it may be contained in 20% by mass or less, 15% by mass or less, and 10% by mass or less with respect to the total solid content of the silver-containing paste. do.

본 실시형태에 있어서, 다관능 화합물의 경화물의 유리 전이 온도(Tg)의 하한값은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 60℃ 이상으로 해도 되고, 65℃ 이상으로 해도 되며, 70℃ 이상으로 해도 된다. 이러한 유리 전이 온도(Tg)의 상한값은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 300℃ 이하로 해도 되고, 290℃ 이하로 해도 되며, 280℃ 이하로 해도 된다. 이로써, 내열성이 얻어진다.In this embodiment, the lower limit of the glass transition temperature (Tg) of the cured product of the polyfunctional compound is not particularly limited, but may be, for example, 60°C or higher, 65°C or higher, or 70°C or higher. do. The upper limit of this glass transition temperature (Tg) is not particularly limited, but may be, for example, 300°C or lower, 290°C or lower, or 280°C or lower. Thereby, heat resistance is obtained.

본 실시형태에 있어서, 유리 전이 온도를 측정하는 방법으로서는, 예를 들면, 열기계 분석 장치(TMA SS7100, SII 나노테크놀로지(Nanotechnology)사제) 등이 이용된다.In this embodiment, as a method for measuring the glass transition temperature, for example, a thermomechanical analysis device (TMA SS7100, manufactured by SII Nanotechnology) is used.

[그 외의 성분][Other ingredients]

본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트에는, 필요에 따라 경화제, 경화 촉진제, 가소제, 개시제, 산화 방지제, 분산제, 실리카, 알루미나 등의 무기 충전재, 실리콘 수지나 뷰타다이엔 고무 등의 다른 엘라스토머, 커플링제, 개시제, 소포제, 레벨링제, 미세 실리카(틱소 조정제) 등의 성분을 첨가할 수도 있다. 이들 성분의 함유량은, 은 함유 페이스트를 적용하는 용도에 따라 적절히 설정할 수 있다.The silver-containing paste according to the present embodiment may optionally contain a curing agent, a curing accelerator, a plasticizer, an initiator, an antioxidant, a dispersant, an inorganic filler such as silica or alumina, another elastomer such as a silicone resin or butadiene rubber, a coupling agent, Components such as an initiator, antifoaming agent, leveling agent, and fine silica (thixoadjuster) may be added. The content of these components can be appropriately set depending on the purpose for which the silver-containing paste is applied.

(경화제)(hardener)

본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트에 있어서, 예를 들면 경화제를 포함할 수 있다. 경화제로서는, 다관능 화합물(예를 들면, 에폭시 화합물)의 중합 반응을 촉진시키는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 이로써, 상기 다관능 화합물의 중합 반응을 촉진시켜, 은 함유 페이스트를 이용하여 얻어지는 기계적 특성의 향상에 기여할 수 있다.The silver-containing paste according to the present embodiment may contain, for example, a curing agent. The curing agent is not particularly limited as long as it promotes the polymerization reaction of a polyfunctional compound (for example, an epoxy compound). As a result, the polymerization reaction of the multifunctional compound can be promoted, contributing to the improvement of mechanical properties obtained by using the silver-containing paste.

본 실시형태의 경화제는, 다관능 화합물의 경화제로서 공지의 것 중에서 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면, 페놀 수지계 경화제, 아민계 경화제, 산무수물계 경화제, 머캅탄계 경화제 등을 들 수 있다. 이들을 단독으로 사용해도 되고 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.The curing agent of the present embodiment can be appropriately selected and used among known curing agents for polyfunctional compounds. Specifically, examples include phenol resin-based curing agents, amine-based curing agents, acid anhydride-based curing agents, and mercaptan-based curing agents. These may be used individually or two or more types may be used in combination.

상기 페놀 수지계 경화제로서는, 예를 들면 페놀 노볼락 수지, 크레졸 노볼락 수지, 나프톨 노볼락 수지, 아미노트라이아진 노볼락 수지, 노볼락 수지, 트리스페닐메테인형의 페놀 노볼락 수지 등의 노볼락형 페놀 수지; 터펜 변성 페놀 수지, 다이사이클로펜타다이엔 변성 페놀 수지 등의 변성 페놀 수지; 페닐렌 골격 및/또는 바이페닐렌 골격을 갖는 페놀아랄킬 수지, 페닐렌 골격 및/또는 바이페닐렌 골격을 갖는 나프톨아랄킬 수지 등의 아랄킬형 수지; 비스페놀 A, 비스페놀 F 등의 비스페놀 골격을 갖는 비스페놀 수지; 레졸형 페놀 수지 등을 이용할 수 있다. 이들은 단독으로 이용해도 되고 복수 조합하여 이용해도 된다. 또, 이 중에서도 비스페놀 A, 비스페놀 F 등의 비스페놀 골격을 갖는 비스페놀 수지를 포함하는 것이 바람직하고, 비스페놀 F 골격을 갖는 비스페놀 수지가 보다 바람직하다. 경화제를 상기의 종류로부터 선택함으로써, 은 함유 페이스트를 이용하여 얻어지는 기계적 특성을 향상시켜, 리드 프레임 및 칩 사이의 밀착성을 개선할 수 있다.Examples of the phenol resin-based curing agent include novolak-type phenols such as phenol novolak resin, cresol novolak resin, naphthol novolak resin, aminotriazine novolak resin, novolak resin, and trisphenylmethane-type phenol novolak resin. profit; Modified phenol resins such as terpene-modified phenol resins and dicyclopentadiene-modified phenol resins; Aralkyl type resins such as phenol aralkyl resin having a phenylene skeleton and/or biphenylene skeleton, and naphthol aralkyl resin having a phenylene skeleton and/or biphenylene skeleton; Bisphenol resins having a bisphenol skeleton such as bisphenol A and bisphenol F; A resol-type phenol resin or the like can be used. These may be used individually or in combination of two or more. Moreover, among these, those containing bisphenol resins having a bisphenol skeleton such as bisphenol A and bisphenol F are preferable, and bisphenol resins having a bisphenol F skeleton are more preferable. By selecting the curing agent from the above types, the mechanical properties obtained using the silver-containing paste can be improved, and the adhesion between the lead frame and the chip can be improved.

상기 아민계 경화제로서는, 예를 들면 3급 아미노기를 갖는 화합물을 포함할 수 있다. 3급 아미노기를 갖는 화합물은, 예를 들면, 벤질다이메틸아민(BDMA) 등의 3급 아민류, 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸(EMI24) 등의 이미다졸류, 피라졸, 3,5-다이메틸피라졸, 피라졸린 등의 피라졸류, 트라이아졸, 1,2,3-트라이아졸, 1,2,4-트라이아졸, 1,2,3-벤조트라이아졸 등의 트라이아졸류, 이미다졸린, 2-메틸-2-이미다졸린, 2-페닐이미다졸린 등의 이미다졸린류를 들 수 있고, 이들로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 포함할 수 있다.The amine-based curing agent may include, for example, a compound having a tertiary amino group. Compounds having a tertiary amino group include, for example, tertiary amines such as benzyldimethylamine (BDMA), and imidazoles such as 2-methylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole (EMI24). , pyrazoles such as pyrazole, 3,5-dimethylpyrazole, pyrazoline, triazole, 1,2,3-triazole, 1,2,4-triazole, 1,2,3-benzotriazole Imidazolines such as triazoles, imidazoline, 2-methyl-2-imidazoline, and 2-phenylimidazoline may be included, and may include one or two or more types selected from these. You can.

본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트 중에 포함되는 경화제의 함유량의 상한값은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 다관능 화합물 100중량부에 대하여, 25중량부 이하가 바람직하고, 5중량부 이하가 보다 바람직하며, 3중량부 이하가 더 바람직하고, 1중량부 이하가 특히 바람직하다. 이러한 경화제의 함유량의 하한값은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 0중량부 이상이 바람직하고, 은 함유 페이스트의 기계적 특성을 향상시키는 관점에서는, 0.1중량부 이상이 보다 바람직하다.The upper limit of the content of the curing agent contained in the silver-containing paste according to the present embodiment is not particularly limited, but, for example, is preferably 25 parts by weight or less, and is preferably 5 parts by weight or less per 100 parts by weight of the polyfunctional compound. Preferred, 3 parts by weight or less is more preferable, and 1 weight part or less is particularly preferable. The lower limit of the content of this curing agent is not particularly limited, but for example, 0 part by weight or more is preferable, and from the viewpoint of improving the mechanical properties of the silver-containing paste, 0.1 part by weight or more is more preferable.

(경화 촉진제)(curing accelerator)

본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트에 있어서, 경화 촉진제를 포함할 수 있다. 여기에서, 경화 촉진제로서는, 상술한 사이안아마이드 유도체 이외의 경화 촉진제를 포함해도 된다. 본 실시형태에 관한 경화 촉진제로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 폴리아민계 경화 촉진제, 이미다졸계 경화 촉진제, 트라이페닐포스핀 또는 테트라페닐포스핀의 염류 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 본 실시형태에 관한 경화 촉진제로서는, 폴리아민계 경화 촉진제 및 이미다졸계 경화 촉진제로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하고, 이미다졸계 경화 촉진제를 포함하는 것이 보다 바람직하다.The silver-containing paste according to the present embodiment may contain a curing accelerator. Here, the curing accelerator may include a curing accelerator other than the cyanamide derivative described above. The curing accelerator according to the present embodiment is not particularly limited, and examples include polyamine-based curing accelerators, imidazole-based curing accelerators, and salts of triphenylphosphine or tetraphenylphosphine. Among these, the curing accelerator according to the present embodiment preferably contains at least one selected from polyamine-based curing accelerators and imidazole-based curing accelerators, and more preferably contains an imidazole-based curing accelerator.

본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트 중에 포함되는 경화 촉진제의 함유량의 상한값은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 다관능 화합물 100중량부에 대하여, 5중량부 이하가 바람직하고, 4중량부 이하가 보다 바람직하며, 3중량부 이하가 더 바람직하고, 2중량부 이하가 더 바람직하다. 또, 경화 촉진제의 함유량의 하한값은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 0중량부 이상이 바람직하고, 은 함유 페이스트의 기계적 특성을 향상시키는 관점에서는, 0.1중량부 이상이 바람직하며, 0.3중량부 이상이 보다 바람직하고, 0.5질량부 이상이 더 바람직하다.The upper limit of the content of the curing accelerator contained in the silver-containing paste according to the present embodiment is not particularly limited, but for example, it is preferably 5 parts by weight or less, and 4 parts by weight or less per 100 parts by weight of the polyfunctional compound. It is more preferable, 3 parts by weight or less is more preferable, and 2 parts by weight or less is still more preferable. In addition, the lower limit of the content of the curing accelerator is not particularly limited, but for example, 0 parts by weight or more is preferable, and from the viewpoint of improving the mechanical properties of the silver-containing paste, 0.1 parts by weight or more is preferable, and 0.3 parts by weight or more is preferable. More is more preferable, and 0.5 parts by mass or more is more preferable.

(가소제)(plasticizer)

본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트에 있어서, 가소제를 포함할 수 있다. 본 실시형태에 관한 가소제로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 방향족 카복실산 에스터, 지방족 모노카복실산 에스터, 지방족 다이카복실산 에스터, 지방족 트라이카복실산 에스터, 인산 트라이에스터 및 석유 수지 등, 폴리알킬렌글라이콜계 가소제, 에폭시계 가소제, 피마자유계 가소제, 네오펜틸글라이콜다이벤조에이트, 다이에틸렌글라이콜다이벤조에이트, 트라이에틸렌글라이콜다이-2-에틸뷰틸레이트, 폴리옥시에틸렌다이아세테이트, 폴리옥시에틸렌다이(2-에틸헥사노에이트), 폴리옥시프로필렌모노라우레이트, 폴리옥시프로필렌모노스테아레이트, 폴리옥시에틸렌다이벤조에이트, 폴리옥시프로필렌다이벤조에이트 등의 폴리올 에스터, 올레산 뷰틸 등의 지방족 카복실산 에스터, 아세틸시트르산 트라이에틸, 아세틸시트르산 트라이뷰틸, 시트르산 에톡시카보닐메틸다이뷰틸, 시트르산 다이-2-에틸헥실, 아세틸리시놀레산 메틸 또는 아세틸리시놀레산 뷰틸 등의 옥시산 에스터, 대두유, 대두유 지방산, 대두유 지방산 에스터, 에폭시화 대두유, 유채유, 유채유 지방산, 유채유 지방산 에스터, 에폭시화 유채유, 아마인유, 아마인유 지방산, 아마인유 지방산 에스터, 에폭시화 아마인유, 야자유 또는 야자유 지방산 등의 식물유계 화합물, 펜타에리트리톨, 소비톨, 폴리아크릴산 에스터, 실리콘 오일 또는 파라핀류, 올레핀옥사이드, 뷰틸글리시딜에터, 헥실글리시딜에터, 2-에틸헥실글리시딜에터, 알킬글리시딜에터, 알킬페놀모노글리시딜에터, 크레실글리시딜에터, p-n-뷰틸-페닐글리시딜에터, p-tert-뷰틸-페닐글리시딜에터, 노닐페닐글리시딜에터, 야자 지방산 글리시딜에터, 알릴글리시딜에터, 글리시딜, 네오펜틸글라이콜다이글리시딜에터, 1,6-헥세인다이올다이글리시딜에터, 알케인산 글리시딜에스터, 에틸렌글라이콜다이글리시딜에터, 및 프로필렌글라이콜다이글리시딜에터 등을 들 수 있다.The silver-containing paste according to the present embodiment may contain a plasticizer. The plasticizer according to the present embodiment is not particularly limited, but includes, for example, polyalkylene glycol plasticizers such as aromatic carboxylic acid esters, aliphatic monocarboxylic acid esters, aliphatic dicarboxylic acid esters, aliphatic tricarboxylic acid esters, phosphoric acid triesters, and petroleum resins. , epoxy plasticizer, castor oil-based plasticizer, neopentyl glycol dibenzoate, diethylene glycol dibenzoate, triethylene glycol di-2-ethylbutyrate, polyoxyethylene diacetate, polyoxyethylene diacetate. (2-ethylhexanoate), polyol esters such as polyoxypropylene monolaurate, polyoxypropylene monostearate, polyoxyethylene dibenzoate, and polyoxypropylene dibenzoate, aliphatic carboxylic acid esters such as butyl oleate, and acetyl Oxy acid esters such as triethyl citrate, tributyl acetylcitrate, ethoxycarbonylmethyl dibutyl citrate, di-2-ethylhexyl citrate, methyl acetylricinoleate or butyl acetylricinoleate, soybean oil, soybean oil fatty acid, soybean oil fatty acid Ester, epoxidized soybean oil, rapeseed oil, rapeseed oil fatty acid, rapeseed oil fatty acid ester, epoxidized rapeseed oil, linseed oil, linseed oil fatty acid, linseed oil fatty acid ester, epoxidized linseed oil, plant oil-based compounds such as palm oil or palm oil fatty acid, pentaerythritol, Soritol, polyacrylic acid ester, silicone oil or paraffin, olefin oxide, butyl glycidyl ether, hexyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, alkyl glycidyl ether, alkyl phenol mono. Glycidyl ether, cresyl glycidyl ether, p-n-butyl-phenyl glycidyl ether, p-tert-butyl-phenyl glycidyl ether, nonylphenyl glycidyl ether, palm fatty acid glycidyl ether Dyl ether, allyl glycidyl ether, glycidyl, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, alkane acid glycidyl ester, Ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, etc. are mentioned.

가소제의 함유량은, 당해 은 함유 페이스트의 총질량 중, 5질량% 이하가 바람직하고, 2질량% 이하가 보다 바람직하다. 가소제의 함유량이 상기 상한값 이하이면, 은 함유 페이스트의 접착성을 보다 적합한 것으로 할 수 있다. 또, 가소제의 함유량의 하한값은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 0질량% 이상이다.The content of the plasticizer is preferably 5% by mass or less, and more preferably 2% by mass or less, based on the total mass of the silver-containing paste. If the content of the plasticizer is below the above upper limit, the adhesiveness of the silver-containing paste can be made more suitable. Moreover, the lower limit of the content of the plasticizer is not particularly limited, but is, for example, 0% by mass or more.

(커플링제)(Coupling agent)

본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트에 있어서, 커플링제를 포함할 수 있다. 본 실시형태에 관한 커플링제로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 메틸트라이메톡시실레인, 다이메틸다이메톡시실레인, 페닐트라이메톡시실레인, 메틸트라이에톡시실레인, 다이메틸다이에톡시실레인, 페닐트라이에톡시실레인, n-프로필트라이메톡시실레인, n-프로필트라이에톡시실레인, 헥실트라이메톡시실레인, 헥실트라이에톡시실레인, 데실트라이메톡시실레인과 같은 알콕시실레인; 메틸트라이클로로실레인, 다이메틸다이클로로실레인, 트라이메틸클로로실레인, 페닐트라이클로로실레인과 같은 클로로실레인; 헥사메틸다이실라제인; 메타크릴옥시프로필트라이에톡시실레인, 메타크릴옥시프로필트라이메톡시실레인, 메타크릴옥시프로필메틸다이에톡시실레인, 메타크릴옥시프로필메틸다이메톡시실레인, 바이닐트라이에톡시실레인, 바이닐트라이메톡시실레인, 바이닐메틸다이메톡시실레인, 글리시독시프로필트라이메톡시실레인과 같은 알콕시실레인; 바이닐트라이클로로실레인, 바이닐메틸다이클로로실레인과 같은 클로로실레인; 다이바이닐테트라메틸다이실라제인을 들 수 있다.The silver-containing paste according to the present embodiment may contain a coupling agent. The coupling agent according to the present embodiment is not particularly limited, and examples include methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, and dimethyldimethoxysilane. Ethoxysilane, phenyltriethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane alkoxysilanes such as; chlorosilanes such as methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane, trimethylchlorosilane, and phenyltrichlorosilane; hexamethyldisilazane; Methacryloxypropyltriethoxysilane, Methacryloxypropyltrimethoxysilane, Methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, Methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, Vinyltriethoxysilane, Vinyl Alkoxysilanes such as trimethoxysilane, vinylmethyldimethoxysilane, and glycidoxypropyltrimethoxysilane; chlorosilanes such as vinyltrichlorosilane and vinylmethyldichlorosilane; Divinyltetramethyldisilazane can be mentioned.

본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트 중에 포함되는 커플링제의 함유량은, 당해 은 함유 페이스트에 있어서의 다관능 화합물의 질량을 100질량부로 했을 때, 5질량부 이하가 바람직하고, 4질량부 이하가 보다 바람직하며, 3질량부 이하가 더 바람직하다. 커플링제의 함유량이 상기 상한값 이하이면, 은 함유 페이스트의 접착성을 보다 적합한 것으로 할 수 있다.The content of the coupling agent contained in the silver-containing paste according to the present embodiment is preferably 5 parts by mass or less, and is more preferably 4 parts by mass or less, when the mass of the polyfunctional compound in the silver-containing paste is 100 parts by mass. It is preferable, and 3 parts by mass or less is more preferable. If the content of the coupling agent is below the above upper limit, the adhesiveness of the silver-containing paste can be made more suitable.

(개시제)(initiator)

본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트에 있어서, 개시제를 포함할 수 있다. 개시제로서는, 예를 들면 라디칼 중합 개시제 등을 들 수 있다. 이로써, 예를 들면 가열에 의하여 중합하는 화합물이 라디칼 중합성 이중 결합을 분자 내에 갖는 화합물을 포함하는 경우에 있어서, 당해 화합물이 중합하는 것을 촉진시킬 수 있다. 라디칼 중합 개시제는, 예를 들면 옥타노일퍼옥사이드, 라우로일퍼옥사이드, 스테아로일퍼옥사이드, 1,1,3,3-테트라메틸뷰틸퍼옥시 2-에틸헥사노에이트, 옥살산 퍼옥사이드, 2,5-다이메틸-2,5-다이(2-에틸헥사노일퍼옥시)헥세인, 1-사이클로헥실-1-메틸에틸퍼옥시 2-에틸헥사노에이트, tert-헥실퍼옥시 2-에틸헥사노에이트, tert-뷰틸퍼옥시 2-에틸헥사노에이트, m-톨루일퍼옥사이드, 벤조일퍼옥사이드, 메틸에틸케톤퍼옥사이드, 아세틸퍼옥사이드, tert-뷰틸하이드로퍼옥사이드, 다이-tert-뷰틸퍼옥사이드, 큐멘하이드로퍼옥사이드, 다이쿠밀퍼옥사이드, tert-뷰틸퍼벤조에이트, 파라클로로벤조일퍼옥사이드, 및 사이클로헥사논퍼옥사이드로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 포함할 수 있다.The silver-containing paste according to the present embodiment may contain an initiator. Examples of the initiator include a radical polymerization initiator. As a result, for example, when the compound to be polymerized by heating includes a compound having a radically polymerizable double bond in the molecule, polymerization of the compound can be promoted. Radical polymerization initiators include, for example, octanoyl peroxide, lauroyl peroxide, stearoyl peroxide, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy 2-ethylhexanoate, oxalic acid peroxide, 2,5 -Dimethyl-2,5-di(2-ethylhexanoylperoxy)hexane, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy 2-ethylhexanoate, tert-hexylperoxy 2-ethylhexanoate , tert-butyl peroxy 2-ethylhexanoate, m-toluyl peroxide, benzoyl peroxide, methyl ethyl ketone peroxide, acetyl peroxide, tert-butyl hydroperoxide, di-tert-butyl peroxide, cumenhyde. It may include one or two or more types selected from roperoxide, dicumyl peroxide, tert-butyl perbenzoate, parachlorobenzoyl peroxide, and cyclohexanone peroxide.

본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트 중에 포함되는 개시제의 함유량은, 그 은 함유 페이스트에 있어서의 다관능 화합물의 질량을 100질량부로 했을 때, 10질량부 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 7질량부 이하, 더 바람직하게는 5질량부 이하이다. 개시제의 함유량이 상기 상한값 이하이면, 은 함유 페이스트의 기계적 특성을 보다 적합한 것으로 할 수 있다. 또, 본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트 중에 포함되는 개시제의 함유량의 하한값은 특별히 한정되지 않지만, 그 은 함유 페이스트에 있어서의 다관능 화합물의 질량을 100질량부로 했을 때, 바람직하게는 0.5질량부 이상, 보다 바람직하게는 1질량부 이상, 더 바람직하게는 2질량부 이상이다.The content of the initiator contained in the silver-containing paste according to the present embodiment is preferably 10 parts by mass or less, more preferably 7 parts by mass, when the mass of the polyfunctional compound in the silver-containing paste is 100 parts by mass. or less, more preferably 5 parts by mass or less. If the content of the initiator is below the above upper limit, the mechanical properties of the silver-containing paste can be made more suitable. Moreover, the lower limit of the content of the initiator contained in the silver-containing paste according to the present embodiment is not particularly limited, but when the mass of the polyfunctional compound in the silver-containing paste is 100 parts by mass, it is preferably 0.5 parts by mass or more. , more preferably 1 part by mass or more, further preferably 2 parts by mass or more.

<은 함유 페이스트의 성상 및 물성><Properties and properties of silver-containing paste>

다음으로, 본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트의 성상 및 물성에 대하여 설명한다.Next, the properties and physical properties of the silver-containing paste according to the present embodiment will be described.

본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트는, 바람직하게는, 20℃에서 페이스트상이다. 즉, 본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트는, 바람직하게는, 20℃에서, 풀과 같이 하여 기판 등에 접착할 수 있다. 이것에 의하여, 본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트를, 반도체 소자의 접착제 등으로서 바람직하게 이용할 수 있다.The silver-containing paste according to the present embodiment is preferably in a paste form at 20°C. That is, the silver-containing paste according to the present embodiment can adhere to a substrate or the like like glue, preferably at 20°C. As a result, the silver-containing paste according to the present embodiment can be suitably used as an adhesive for semiconductor elements, etc.

물론, 적용되는 프로세스 등에 따라서는, 본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트는, 비교적 저점도의 바니시상 등이어도 된다.Of course, depending on the applied process, etc., the silver-containing paste according to the present embodiment may be in the form of a relatively low viscosity varnish or the like.

본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트를 이용하여, 이하 <측정 방법>에 따라 측정한 다이 시어 강도의 하한값이, 260℃에 있어서 바람직하게는 1.5N/mm2 이상이며, 보다 바람직하게는 1.9N/mm2 이상, 더 바람직하게는 2.2N/mm2 이상이다. 이것에 의하여, 본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트를 이용했을 때의 리드 프레임과의 고착 강도가 증가하여, 리드 프레임 및 칩 사이의 밀착성을 개선할 수 있다.Using the silver-containing paste according to the present embodiment, the lower limit of the die shear strength measured according to the following <Measurement Method> is preferably 1.5 N/mm 2 or more at 260°C, and more preferably 1.9 N/mm 2 or more. mm 2 or more, more preferably 2.2N/mm 2 or more. As a result, the adhesion strength to the lead frame when using the silver-containing paste according to the present embodiment increases, and the adhesion between the lead frame and the chip can be improved.

<측정 방법><Measurement method>

은 함유 페이스트를 구리 기판 상에 도포하여 도막을 형성하고, 그 도막 상에 표면 금 도금된 7×7mm의 실리콘 칩을 올린다. 그 후, 30℃에서 200℃까지 60분에 걸쳐 승온하고, 계속해서 200℃에서 120분간 열처리한다. 이상에 의하여 은 함유 페이스트를 경화시키고, 또, 실리콘 칩을 기판에 접합한다.A silver-containing paste is applied on a copper substrate to form a coating film, and a 7×7 mm silicon chip with a gold-plated surface is placed on the coating film. After that, the temperature is raised from 30°C to 200°C over 60 minutes, and then heat treatment is performed at 200°C for 120 minutes. As described above, the silver-containing paste is cured, and the silicon chip is bonded to the substrate.

그 후, 상기 측정 샘플을 60℃·습도 60%의 항온 항습조(槽)에서 48시간 처리하고, 다이 시어 테스터를 이용하여, 260℃에서 다이 시어 강도(N/mm2)를 측정한다.Thereafter, the measurement sample is treated in a constant temperature and humidity bath at 60°C and 60% humidity for 48 hours, and the die shear strength (N/mm 2 ) is measured at 260°C using a die shear tester.

또, 상기 다이 시어 강도의 상한값은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 260℃에 있어서 100N/mm2 이하이다.In addition, the upper limit of the die shear strength is not particularly limited, but is, for example, 100 N/mm 2 or less at 260°C.

본 실시형태에 있어서, 다이 시어 강도를 측정하는 방법으로서는, 예를 들면 다이 시어 테스터(DAGE-4000형, 노드슨·어드밴스트·테크놀로지 주식회사제) 등을 이용할 수 있다.In this embodiment, as a method for measuring die shear strength, for example, a die shear tester (DAGE-4000 type, manufactured by Nordson Advanced Technology Co., Ltd.) can be used.

본 실시형태의 바람직한 양태에 있어서, 본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트는, BF형 점도계를 이용하여, 온도: 25℃, 전단 속도: 0.5rpm으로 측정했을 때의 0.5rpm 점도 η0.5의 하한값이, 20Pa·s 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 25Pa·s 이상이며, 더 바람직하게는 30Pa·s 이상이다. 이것에 의하여, 은 함유 페이스트를 접착했을 때에 기판 상으로 확장되는 것을 방지하여, 다른 계통의 칩과의 단락을 방지할 수 있다.In a preferred aspect of the present embodiment, the silver-containing paste according to the present embodiment has a lower limit value of 0.5 rpm viscosity η 0.5 when measured using a BF type viscometer at a temperature of 25° C. and a shear rate of 0.5 rpm, It is preferably 20 Pa·s or more, more preferably 25 Pa·s or more, and even more preferably 30 Pa·s or more. This prevents the silver-containing paste from expanding onto the substrate when affixed, thereby preventing short circuits with chips of other systems.

또, 상기 η0.5의 상한값은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 300Pa·s 이하이다.In addition, the upper limit of η 0.5 is not particularly limited, but is, for example, 300 Pa·s or less.

본 실시형태의 바람직한 양태에 있어서, 본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트는, BF형 점도계를 이용하여, 온도: 25℃, 전단 속도: 5rpm으로 측정했을 때의 5rpm 점도 η5의 하한값이, 5Pa·s 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5.5Pa·s 이상이며, 더 바람직하게는 6Pa·s 이상이다. 이것에 의하여, 은 함유 페이스트를 접착했을 때에 기판 상으로 확장되는 것을 방지하여, 다른 계통의 칩과의 단락을 방지할 수 있다.In a preferred aspect of the present embodiment, the lower limit of the 5 rpm viscosity η 5 when measured using a BF type viscometer at a temperature of 25°C and a shear rate of 5 rpm using a BF type viscometer is 5 Pa. It is preferably s or more, more preferably 5.5 Pa·s or more, and even more preferably 6 Pa·s or more. This prevents the silver-containing paste from expanding onto the substrate when affixed, thereby preventing short circuits with chips of other systems.

또, 상기 η5의 상한값은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 40Pa·s 이하이며, 35Pa·s 이하여도 되고, 30Pa·s 이하여도 된다.In addition, the upper limit of η 5 is not particularly limited, but for example, it is 40 Pa·s or less, may be 35 Pa·s or less, and may be 30 Pa·s or less.

본 실시형태의 바람직한 양태에 있어서, 본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트는, 이하 식 (1)로 나타나는 상기 η5 및 상기 η0.5의 점도비의 하한값이, 바람직하게는 2 이상이고, 보다 바람직하게는 2.5 이상이며, 더 바람직하게는 3 이상이다.In a preferred aspect of the present embodiment, the lower limit of the viscosity ratio of the η 5 and the η 0.5 expressed by the following formula (1) in the silver-containing paste according to the present embodiment is preferably 2 or more, and more preferably is 2.5 or more, and more preferably 3 or more.

점도비=η0.55 (1)Viscosity ratio = η 0.55 (1)

점도비가 상기 하한값 이상임으로써, 기재 상에 은 함유 페이스트를 접착할 때의 작업성을 보다 적합한 것으로 할 수 있다.When the viscosity ratio is more than the above lower limit, workability when adhering a silver-containing paste to a substrate can be made more suitable.

또, 상기 점도비의 상한값은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 10 이하이다.In addition, the upper limit of the viscosity ratio is not particularly limited, but is, for example, 10 or less.

본 실시형태의 바람직한 양태에 있어서, 본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트는, 동적 점탄성 측정 장치를 이용하여, 주파수: 1Hz, 온도: 25℃에서 측정한 저장 탄성률의 하한값이, 바람직하게는 2000MPa 이상이고, 보다 바람직하게는 2500MPa 이상이며, 더 바람직하게는 3000MPa 이상이고, 더 바람직하게는 4000MPa 이상이다. 저장 탄성률이 상기 하한값 이상임으로써, 은 함유 페이스트에 의한 리드 프레임과 칩의 접속의 안정성을 보다 적합한 것으로 할 수 있다.In a preferred aspect of the present embodiment, the lower limit of the storage elastic modulus of the silver-containing paste according to the present embodiment is preferably 2000 MPa or more as measured at a frequency of 1 Hz and a temperature of 25°C using a dynamic viscoelasticity measuring device. , more preferably 2500 MPa or more, more preferably 3000 MPa or more, and still more preferably 4000 MPa or more. When the storage elastic modulus is more than the above lower limit, the stability of the connection between the lead frame and the chip using the silver-containing paste can be made more suitable.

또, 상기 저장 탄성률의 상한값은, 바람직하게는 20000MPa 이하이고, 보다 바람직하게는 17500MPa 이하이며, 더 바람직하게는 15000MPa 이하, 더 바람직하게는 10000MPa 이하, 더 바람직하게는 8000MPa 이하이다. 저장 탄성률이 상기 상한값 이하임으로써, 본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트를 이용했을 때의 리드 프레임과의 고착 강도가 증가하여, 리드 프레임 및 칩 사이의 밀착성을 개선할 수 있다.Moreover, the upper limit of the storage modulus is preferably 20,000 MPa or less, more preferably 17,500 MPa or less, further preferably 15,000 MPa or less, further preferably 10,000 MPa or less, and even more preferably 8,000 MPa or less. When the storage elastic modulus is below the upper limit, the adhesion strength to the lead frame when using the silver-containing paste according to this embodiment increases, and the adhesion between the lead frame and the chip can be improved.

또한, 저장 탄성률의 측정에 이용하는 동적 점탄성 측정 장치로서는, 공지의 장치를 이용할 수 있다. 공지의 장치로서는, 예를 들면, SII 나노테크놀로지사제 동적 점탄성 측정 장치 DMS6100, 써모 사이언티픽(THERMO SCIENTIFIC)사제 동적 점탄성 측정 장치 HAAKE MARS 등을 들 수 있다.Additionally, as a dynamic viscoelasticity measuring device used to measure the storage elastic modulus, a known device can be used. Known devices include, for example, the dynamic viscoelasticity measuring device DMS6100 manufactured by SII Nanotechnology, Inc., and the dynamic viscoelasticity measuring device HAAKE MARS manufactured by THERMO SCIENTIFIC.

본 실시형태의 바람직한 양태에 있어서, 본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트는, 레이저 플래시법에 의하여 측정한 열전도율의 하한값이, 바람직하게는 10W/mK 이상이고, 보다 바람직하게는 12W/mK 이상이며, 더 바람직하게는 14W/mK 이상이다. 열전도율이 상기 하한값 이상임으로써, 본 실시형태에 있어서의 은 함유 페이스트를 사용한 전자 장치에 있어서, 고온 신뢰성이 보다 적합한 것이 된다.In a preferred aspect of the present embodiment, the lower limit of the thermal conductivity of the silver-containing paste according to the present embodiment as measured by the laser flash method is preferably 10 W/mK or more, and more preferably 12 W/mK or more, More preferably, it is 14W/mK or more. When the thermal conductivity is more than the above lower limit, high-temperature reliability becomes more suitable in the electronic device using the silver-containing paste in this embodiment.

또, 상기 열전도율의 상한값은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 200W/mK 이하이다.Additionally, the upper limit of the thermal conductivity is not particularly limited, but is, for example, 200 W/mK or less.

또한, 열전도율의 측정에 이용하는 레이저 플래시법 열상수 측정 장치로서는, 공지의 장치를 이용할 수 있다. 공지의 장치로서는, 예를 들면, NETZSCH사제 레이저 플래시법 열상수 측정 장치 LFA447 등을 들 수 있다.Additionally, a known device can be used as a laser flash method thermal constant measurement device used to measure thermal conductivity. Known devices include, for example, the laser flash method thermal constant measurement device LFA447 manufactured by NETZSCH.

<은 함유 페이스트의 용도><Use of silver-containing paste>

본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트는, 다양한 용도에 이용할 수 있다. 예를 들면, 다이 어태치재나 도전 페이스트 등을 들 수 있다. 다이 어태치재로서는, 예를 들면, 전자 장치에 이용되어도 되고, 보다 바람직하게는 반도체 장치에 이용되어도 된다. 도전 페이스트로서는, 대표적인 용도예로서는, 프린트 회로 기판의 점퍼 회로나 스루홀 도체, 애디티브 회로, 터치 패널의 도체 회로, 저항 단자, 태양 전지의 전극, 탄탈럼 콘덴서의 전극, 필름 콘덴서의 전극, 칩형 세라믹 전자 부품의 외부 전극이나 내부 전극 등의 형성, 전자파 실드로서의 사용 등을 들 수 있다. 또, 땜납의 대체로서, 반도체 소자나 전자 부품을 기판에 실장하기 위한 도전성 접착제로서의 사용 이외에, 태양 전지의 고온 소성한 은 전극의 표면을 땜납으로 피복하는 타입의 그리드 전극의, 땜납 부분의 대체로서 사용할 수도 있다.The silver-containing paste according to this embodiment can be used for various uses. Examples include die attach materials and conductive pastes. As a die attach material, for example, it may be used in electronic devices, and more preferably, it may be used in semiconductor devices. Typical examples of conductive pastes include jumper circuits and through-hole conductors of printed circuit boards, additive circuits, conductor circuits of touch panels, resistor terminals, solar cell electrodes, tantalum capacitor electrodes, film capacitor electrodes, and chip-type ceramics. Examples include formation of external electrodes or internal electrodes of electronic components, use as an electromagnetic wave shield, etc. In addition, as a replacement for solder, in addition to use as a conductive adhesive for mounting semiconductor elements and electronic components on a board, it is also used as a replacement for the solder portion of a grid electrode of a type that covers the surface of the high-temperature fired silver electrode of a solar cell with solder. You can also use it.

본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트는, 경화시킴으로써 경화물로 할 수 있다. 본 실시형태의 경화물은, 다양한 용도에 이용할 수 있다. 예를 들면, 전자 장치에 사용된다. 즉, 본 실시형태에 관한 전자 장치는, 본 실시형태의 은 함유 페이스트의 경화체와, 당해 경화체가 접착된 전자 부품을 구비하고 있다.The silver-containing paste according to the present embodiment can be cured into a cured product. The cured product of this embodiment can be used for various purposes. For example, it is used in electronic devices. That is, the electronic device according to the present embodiment includes a cured body of the silver-containing paste of the present embodiment and an electronic component to which the cured body is bonded.

본 실시형태의 경화물은, 경화물 중에 은 입자가 포함되기 때문에, 전극이나 배선이 형성되어 있는 다양한 전자 기기의 부품에 적용할 수 있다. 또, 프린트 배선 기판의 스루홀이나 비아 홀에 충전하는 용도로서도 바람직하게 이용할 수 있다.Since the cured product of this embodiment contains silver particles, it can be applied to parts of various electronic devices in which electrodes and wiring are formed. Additionally, it can be suitably used for filling through holes and via holes of printed wiring boards.

물론, 여기에서 든 용도는, 실시형태의 일례이며, 이들 이외의 용도여도, 은 함유 페이스트의 조성을 조정하면서, 적용을 행할 수 있는 것은 말할 필요도 없다.Of course, the uses mentioned here are examples of embodiments, and it goes without saying that applications other than these can be applied while adjusting the composition of the silver-containing paste.

<은 함유 페이스트의 제조 방법><Method for producing silver-containing paste>

다음으로, 본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트의 제조 방법에 대하여 설명한다.Next, the manufacturing method of the silver-containing paste according to this embodiment will be described.

본 실시형태의 은 함유 페이스트는, 상술한 각 성분을 혼련 혼합함으로써 제조할 수 있다. 이 혼합은, 예를 들면 니더, 3롤밀, 뇌궤기 등의 혼련 장치나, 각종 교반 장치 등을 이용하여 행하면 된다.The silver-containing paste of this embodiment can be manufactured by kneading and mixing each of the components described above. This mixing may be performed using, for example, a kneading device such as a kneader, a three-roll mill, or a nozzle, or various stirring devices.

또, 본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트의 경화체의 제조 방법은, 은 입자와 수지를 혼합함으로써, 본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트를 준비하는 공정과, 당해 은 함유 페이스트를 열처리함으로써, 은 입자의 소결을 일으켜 입자 연결 구조를 형성하는 공정을 갖고 있다.In addition, the method for producing a cured body of the silver-containing paste according to the present embodiment includes a step of preparing the silver-containing paste according to the present embodiment by mixing silver particles and a resin, and heat-treating the silver-containing paste to prepare the silver particle. It has a process that causes sintering to form a particle-connected structure.

본 실시형태에 있어서, 수지로서 소결을 보조하는 특성을 갖는 것이 선택되어 있으므로, 경화 공정에 있어서, 소결 온도를 낮게 할 수 있거나, 소결 시간을 짧게 할 수 있는 등, 제조 프로세스 특성을 높이는 것이 가능해진다. 즉, 경화 공정에 있어서, 저온 또는 단시간의 소결 조건을 채용했다고 해도, 은 함유 페이스트에 대하여 저저항과 밀착성의 양립을 실현하는 것이 가능해진다.In this embodiment, since a resin having characteristics that assist sintering is selected, it becomes possible to improve manufacturing process characteristics, such as lowering the sintering temperature or shortening the sintering time in the curing process. . That is, even if low temperature or short-time sintering conditions are adopted in the curing process, it becomes possible to achieve both low resistance and adhesion to the silver-containing paste.

본 실시형태에 관한 은 함유 페이스트는, 260℃ 이하, 160℃ 이상의 열처리에 의하여 소결을 일으키는 것이 바람직하다. 본 실시형태에 있어서, 소결 온도의 상한값은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 260℃ 이하가 바람직하고, 250℃ 이하가 더 바람직하며, 240℃ 이하가 특히 바람직하다. 또, 당해 소결 온도의 하한값은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 160℃ 이상이 바람직하고, 165℃ 이상이 더 바람직하며, 170℃ 이상이 특히 바람직하다.The silver-containing paste according to the present embodiment is preferably sintered by heat treatment at 260°C or lower and 160°C or higher. In this embodiment, the upper limit of the sintering temperature is not particularly limited, but for example, 260°C or lower is preferable, 250°C or lower is more preferable, and 240°C or lower is particularly preferable. In addition, the lower limit of the sintering temperature is not particularly limited, but for example, 160°C or higher is preferable, 165°C or higher is more preferable, and 170°C or higher is particularly preferable.

또, 본 실시형태에 있어서, 소결 시간의 하한값은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 15분 이상이 바람직하고, 18분 이상이 보다 바람직하며, 20분 이상이 더 바람직하다. 당해 소결 시간의 상한값으로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 60분 이하가 바람직하고, 55분 이하가 보다 바람직하며, 50분 이하가 특히 바람직하다.Moreover, in this embodiment, the lower limit of the sintering time is not particularly limited, but for example, 15 minutes or more is preferable, 18 minutes or more is more preferable, and 20 minutes or more is still more preferable. The upper limit of the sintering time is not particularly limited, but for example, 60 minutes or less is preferable, 55 minutes or less is more preferable, and 50 minutes or less is particularly preferable.

이상, 본 발명의 실시형태에 대하여 설명했지만, 이들은 본 발명의 예시이며, 상기 이외의 다양한 구성을 채용할 수 있다. 또, 본 발명은 상술한 실시형태에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 목적을 달성할 수 있는 범위에서의 변형, 개량 등은 본 발명에 포함된다.Although embodiments of the present invention have been described above, these are examples of the present invention, and various configurations other than the above can be adopted. In addition, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and modifications, improvements, etc. within the range that can achieve the purpose of the present invention are included in the present invention.

실시예Example

[바니시의 조제][Preparation of varnish]

각 실시예 1~4 및 비교예 1~3에 대하여, 바니시를 조제했다. 이 조제는, 표 1에 나타내는 배합에 따라 각 성분을 균일하게 혼합함으로써 행했다. 또한, 표 1에 나타내는 성분의 상세는 이하와 같다. 또, 표 1 중에 있어서의 각 성분은, 배합 부수로 나타나 있다. 표 중의 "-"은 측정 불능을 나타낸다.For each Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3, varnishes were prepared. This preparation was performed by uniformly mixing each component according to the formulation shown in Table 1. In addition, the details of the components shown in Table 1 are as follows. In addition, each component in Table 1 is indicated by the number of blended ingredients. “-” in the table indicates measurement is not possible.

(에폭시 화합물)(Epoxy compound)

에폭시 화합물 1: 비스페놀 F형 액상 에폭시 화합물, RE-303S, 닛폰 가야쿠 주식회사제Epoxy compound 1: Bisphenol F type liquid epoxy compound, RE-303S, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.

(아크릴 화합물)(acrylic compound)

아크릴 화합물 1: 에틸렌글라이콜다이메타크릴레이트, 라이트 에스터 EG, 교에이사 가가쿠 주식회사제Acrylic compound 1: ethylene glycol dimethacrylate, light ester EG, manufactured by Kyoei Chemical Co., Ltd.

(경화제)(hardener)

경화제 1: 비스페놀 F 골격을 갖는 비스페놀 수지, DIC-BPF(실온 25℃에서 고체), DIC 주식회사제Curing agent 1: Bisphenol resin with bisphenol F skeleton, DIC-BPF (solid at room temperature 25°C), manufactured by DIC Corporation

(사이안아마이드 유도체)(Cyanamide derivative)

사이안아마이드 유도체 1: 다이사이안다이아마이드, EH-3636AS, 아데카(ADEKA) 주식회사제Cyanamide derivative 1: Dicyandiamide, EH-3636AS, manufactured by ADEKA Co., Ltd.

(경화 촉진제)(curing accelerator)

경화 촉진제 1: 폴리아민계 경화 촉진제, EH-5057P, 아데카 주식회사제Curing accelerator 1: Polyamine-based curing accelerator, EH-5057P, manufactured by Adeka Co., Ltd.

경화 촉진제 2: 이미다졸계 경화 촉진제, 2PHZ-PW, 시코쿠 가세이 주식회사제Curing accelerator 2: Imidazole-based curing accelerator, 2PHZ-PW, manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.

(개시제)(initiator)

개시제 1: 다이쿠밀퍼옥사이드, 파카독스 BC, 가야쿠 누리온 주식회사제Initiator 1: Dicumyl Peroxide, Pacadox BC, Kayaku Nurion Co., Ltd.

[은 함유 페이스트의 조제][Preparation of silver-containing paste]

다음으로, 각 실시예 1~4 및 비교예 1~3에 있어서 조정한 바니시를 이용하여, 은 함유 페이스트를 조제했다. 각 실시예 1~4 및 비교예 1~3에 있어서 조정한 바니시 13.0질량부, 은 함유 입자로서 은 분말(인편 형상 은, D50: 6.0μm, 후쿠다 긴조쿠 하쿠훈 고교사제, 소결 온도: 200℃, 탭 밀도: 5.5g/cm3, 비표면적: 0.2m2/g) 65질량부, 은 도금 실리콘 수지 입자(미쓰비시 머티리얼사제, 내열·표면 처리 10μm 제품, 구 형상, D50: 10μm, 소결 온도: 210℃, 탭 밀도: 5.5g/cm3) 20질량부, 용제로서 뷰틸프로필렌트라이글라이콜(BFTG, 니폰 뉴카자이 주식회사제, 비점: 274℃) 2.0질량부의 합계 100질량부를 혼합하여, 각 실시예 1~4 및 비교예 1~3에 있어서의 은 함유 페이스트로 했다.Next, a silver-containing paste was prepared using the varnishes prepared in each of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3. 13.0 parts by mass of the varnish prepared in each of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3, silver powder as silver-containing particles (scale-shaped silver, D 50 : 6.0 μm, manufactured by Fukuda Kinzoku Hakuhun Kogyo Co., Ltd., sintering temperature: 200 ℃, tap density: 5.5 g/cm 3 , specific surface area: 0.2 m 2 /g) 65 parts by mass, silver-plated silicone resin particles (manufactured by Mitsubishi Materials, heat-resistant/surface-treated 10 μm product, spherical shape, D 50 : 10 μm, sintered) Temperature: 210°C, tap density: 5.5g/cm 3 ) A total of 100 parts by mass of 20 parts by mass and 2.0 parts by mass of butylpropylene triglycol (BFTG, manufactured by Nippon New Kazai Co., Ltd., boiling point: 274°C) as a solvent were mixed, The silver-containing pastes in each of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 were used.

[평가][evaluation]

각 실시예 및 각 비교예에 대하여, 이하의 수법을 이용하여 평가를 행했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Each Example and each Comparative Example was evaluated using the following method. The results are shown in Table 1.

(열전도율)(thermal conductivity)

두께 약 1mm, 변의 길이 10mm인 사각형의 몰드에 각 실시예 1~4 및 비교예 1~3에 있어서의 은 함유 페이스트를 도포하고, 30℃에서 200℃까지 60분에 걸쳐 승온하며, 계속해서 200℃에서 120분간 가열함으로써 경화물 시험편을 작성했다. 경화물 시험편을 작성한 후, NETZSCH사제 레이저 플래시법 열상수 측정 장치 LFA447을 이용하여 열확산율을 측정하여 비열과 비중으로부터 열전도율을 산출했다.The silver-containing pastes in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 were applied to a square mold with a thickness of about 1 mm and a side length of 10 mm, the temperature was raised from 30°C to 200°C over 60 minutes, and then the temperature was increased to 200°C. A test piece of the cured product was prepared by heating at ℃ for 120 minutes. After preparing the cured product test piece, the thermal diffusivity was measured using a laser flash method thermal constant measuring device LFA447 manufactured by NETZSCH, and the thermal conductivity was calculated from the specific heat and specific gravity.

(체적 저항률)(Volume resistivity)

각 실시예 1~4 및 비교예 1~3에 있어서의 은 함유 페이스트를, 기판 상에, 두께 0.1mm×폭 4mm×길이 50mm로 도포하고, 30℃에서 200℃까지 60분에 걸쳐 승온하며, 계속해서 200℃에서 120분간 가열했다. 이어서, 측정 단자를 기판 상하단에 대고 저항값을 측정했다. 측정 길이는 40mm로 했다. 그 후, 측정된 저항값을 체적 저항율로 환산했다.The silver-containing paste in each of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 was applied on a substrate to a thickness of 0.1 mm × width 4 mm × length 50 mm, and the temperature was raised from 30°C to 200°C over 60 minutes. It was then heated at 200°C for 120 minutes. Next, the resistance value was measured by placing the measurement terminals on the top and bottom of the board. The measured length was 40 mm. Afterwards, the measured resistance value was converted into volume resistivity.

(저장 탄성률)(storage modulus)

각 실시예 1~4 및 비교예 1~3에 있어서의 은 함유 페이스트를 약 0.1mm×약 10mm×약 4mm의 몰드에 도포하고, 30℃에서 200℃까지 60분에 걸쳐 승온하며, 계속해서 200℃에서 120분간 가열함으로써 평가용의 스트립 형상 샘플을 얻었다. 이 샘플을 이용하여 25℃에 있어서의 저장 탄성률(E')을, DMA(동적 점탄성 측정, SII 나노테크놀로지사제 DMS6100, 인장 모드)에 의하여 승온 속도 5℃/min, 주파수 1Hz의 조건에서 측정했다.The silver-containing paste in each of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 was applied to a mold measuring about 0.1 mm A strip-shaped sample for evaluation was obtained by heating at ℃ for 120 minutes. Using this sample, the storage elastic modulus (E') at 25°C was measured by DMA (dynamic viscoelasticity measurement, DMS6100 manufactured by SII Nanotechnology, tensile mode) under the conditions of a temperature increase rate of 5°C/min and a frequency of 1Hz.

(점도)(viscosity)

각 실시예 1~4 및 비교예 1~3에 있어서의 은 함유 페이스트에 대하여, BF형 점도계(브룩필드 엔지니어링(BROOKFIELD ENGINEERING)사제, 형식 DV3T)를 이용하여, 실온 25℃에 있어서의 점도를, 은 함유 페이스트의 제작 직후에 측정했다. 이때의 측정 순서로서는, 전단 속도 0.5rpm, 이어서 전단 속도 5rpm의 순서로 측정을 행했다. 점도의 단위는 Pa·s이다.For the silver-containing pastes in each of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3, the viscosity at room temperature 25°C was measured using a BF type viscometer (manufactured by Brookfield Engineering, model DV3T), Measurements were made immediately after production of the silver-containing paste. As for the measurement order at this time, measurement was performed in the order of shear rate of 0.5 rpm, followed by shear rate of 5 rpm. The unit of viscosity is Pa·s.

(밀착성)(adhesion)

밀착성의 지표로서, 이하의 방법으로 다이 시어 강도를 측정했다.As an indicator of adhesion, die shear strength was measured by the following method.

각 실시예 1~4 및 비교예 1~3에 있어서의 은 함유 페이스트를 구리 기판 상에 도포하고 그 위에 표면 금 도금된 7mm×7mm×0.35mm의 실리콘 칩을 페이스트 두께가 15μm가 되도록 탑재했다. 그 후, 30℃에서 200℃까지 60분에 걸쳐 승온하고, 계속해서 200℃에서 120분간 열처리했다. 이상에 의하여 은 함유 페이스트를 경화시키고, 또, 실리콘 칩을 기판에 접합했다.The silver-containing pastes in each of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 were applied onto a copper substrate, and a 7 mm x 7 mm x 0.35 mm silicon chip with surface gold plating was mounted on it so that the paste thickness was 15 μm. After that, the temperature was raised from 30°C to 200°C over 60 minutes, and then heat treatment was performed at 200°C for 120 minutes. As described above, the silver-containing paste was cured, and the silicon chip was bonded to the substrate.

그 후, 상기 측정 샘플을 60℃·습도 60%의 항온 항습조에서 48시간 처리하고, 다이 시어 테스터(노드슨·어드밴스트·테크놀로지 주식회사제, DAGE-4000형)를 이용하여, 시험 속도: 500μm/초의 조건에서, 260℃에서 다이 시어 강도(N/mm2)를 측정했다.Thereafter, the measurement sample was treated in a constant temperature and humidity chamber at 60°C and 60% humidity for 48 hours, and using a die shear tester (model DAGE-4000, manufactured by Nordson Advanced Technology Co., Ltd.), test speed: 500 μm. The die shear strength (N/mm 2 ) was measured at 260°C under conditions of /sec.

실시예 1~4에서는 구리판과의 다이 시어 강도가 비교예 1~3과 비교하여 특이적으로 높아져 있는 점에서, 실시예 1~4의 은 함유 페이스트는 리드 프레임 및 칩 사이의 밀착력이 우수한 은 함유 페이스트였다.In Examples 1 to 4, the die shear strength with the copper plate was unusually high compared to Comparative Examples 1 to 3, and the silver-containing paste of Examples 1 to 4 contained silver with excellent adhesion between the lead frame and the chip. It was paste.

이 출원은, 2021년 5월 14일에 출원된 일본 특허출원 2021-082513호를 기초로 하는 우선권을 주장하고, 그 개시의 모두를 여기에 원용한다.This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2021-082513 filed on May 14, 2021, and the entire disclosure thereof is incorporated herein by reference.

Claims (12)

은 함유 입자와,
사이안아마이드 유도체와,
용제와,
(A) 분자 내에 2 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물, 및 (B) 분자 내에 2 이상의 중합성 이중 결합을 포함하는 (메트)아크릴 화합물 중, 적어도 일방 또는 양방으로 이루어지는 다관능 화합물을 포함하는, 은 함유 페이스트.
silver-containing particles,
cyanamide derivatives,
Solvent,
Among (A) epoxy compounds having two or more epoxy groups in the molecule, and (B) (meth)acrylic compounds containing two or more polymerizable double bonds in the molecule, silver-containing compounds including polyfunctional compounds consisting of at least one or both sides. paste.
청구항 1에 기재된 은 함유 페이스트로서,
상기 사이안아마이드 유도체는, 다이사이안다이아마이드, 구아니딘, 구아니딘염, 멜라민 및 다이사이안다이아미딘으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 포함하는, 은 함유 페이스트.
The silver-containing paste according to claim 1, comprising:
A silver-containing paste wherein the cyanamide derivative includes one or two or more types selected from dicyandiamide, guanidine, guanidine salt, melamine, and dicyandiamidine.
청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 은 함유 페이스트로서,
상기 사이안아마이드 유도체의 함유량이 상기 다관능 화합물의 함유량을 100질량부로 했을 때에 0.01질량부 이상 3질량부 이하인, 은 함유 페이스트.
The silver-containing paste according to claim 1 or claim 2, comprising:
A silver-containing paste wherein the content of the cyanamide derivative is 0.01 parts by mass or more and 3 parts by mass or less when the content of the polyfunctional compound is 100 parts by mass.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 기재된 은 함유 페이스트로서,
상기 (A) 분자 내에 2 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물이 비스페놀 A형 에폭시 화합물 및 비스페놀 F형 에폭시 화합물로부터 선택되는 1종 또는 그 양방을 포함하는, 은 함유 페이스트.
The silver-containing paste according to any one of claims 1 to 3,
A silver-containing paste in which the (A) epoxy compound having two or more epoxy groups in the molecule contains one or both of a bisphenol A-type epoxy compound and a bisphenol F-type epoxy compound.
청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 기재된 은 함유 페이스트로서,
경화제를 더 포함하고,
상기 경화제가, 비스페놀 수지를 포함하는, 은 함유 페이스트.
The silver-containing paste according to any one of claims 1 to 4, comprising:
further comprising a hardener,
A silver-containing paste in which the curing agent contains a bisphenol resin.
청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 기재된 은 함유 페이스트로서,
상기 은 함유 입자가, 160℃ 이상 260℃ 이하의 온도에서 소결을 일으키는 은 함유 입자인, 은 함유 페이스트.
The silver-containing paste according to any one of claims 1 to 5, comprising:
A silver-containing paste wherein the silver-containing particles are silver-containing particles that cause sintering at a temperature of 160°C or higher and 260°C or lower.
청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 기재된 은 함유 페이스트로서,
이하 <측정 방법>에 따라 측정한 다이 시어 강도가 1.5N/mm2 이상 100N/mm2 이하인, 은 함유 페이스트.
<측정 방법>
은 함유 페이스트를 구리 기판 상에 도포하여 도막을 형성하고, 그 도막 상에 표면 금 도금된 7×7mm의 실리콘 칩을 올린다. 그 후, 30℃에서 200℃까지 60분에 걸쳐 승온하고, 계속해서 200℃에서 120분간 열처리한다. 이상에 의하여 은 함유 페이스트를 경화시키고, 또, 실리콘 칩을 기판에 접합하여, 이것을 측정 샘플로 한다.
그 후, 상기 측정 샘플을 60℃·습도 60%의 항온 항습조에서 48시간 처리하고, 다이 시어 테스터(노드슨·어드밴스트·테크놀로지 주식회사제, DAGE-4000형)를 이용하여, 260℃에서 다이 시어 강도(N/mm2)를 측정한다.
The silver-containing paste according to any one of claims 1 to 6,
A silver-containing paste having a die shear strength of 1.5 N/mm 2 or more and 100 N/mm 2 or less, as measured according to the <Measurement Method> below.
<Measurement method>
A silver-containing paste is applied on a copper substrate to form a coating film, and a 7×7 mm silicon chip with a gold-plated surface is placed on the coating film. After that, the temperature is raised from 30°C to 200°C over 60 minutes, and then heat treatment is performed at 200°C for 120 minutes. The silver-containing paste was cured as described above, and a silicon chip was bonded to the substrate, which was used as a measurement sample.
Thereafter, the measurement sample was treated in a constant temperature and humidity chamber at 60°C and 60% humidity for 48 hours, and then die sheared at 260°C using a die shear tester (model DAGE-4000, manufactured by Nordson Advanced Technology Co., Ltd.). Shear strength (N/mm 2 ) is measured.
청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 기재된 은 함유 페이스트로서,
당해 은 함유 페이스트를, BF형 점도계를 이용하여, 온도: 25℃, 전단 속도: 0.5rpm으로 교반하면서 측정했을 때의 0.5rpm 점도 η0.5가 20Pa·s 이상 300Pa·s 이하인, 은 함유 페이스트.
The silver-containing paste according to any one of claims 1 to 7,
A silver-containing paste whose viscosity η 0.5 at 0.5 rpm is 20 Pa·s or more and 300 Pa·s or less when the silver-containing paste is measured using a BF type viscometer while stirring at a temperature of 25°C and a shear rate of 0.5 rpm.
청구항 1 내지 청구항 8 중 어느 한 항에 기재된 은 함유 페이스트로서,
당해 은 함유 페이스트를, BF형 점도계를 이용하여, 온도: 25℃, 전단 속도: 5rpm으로 교반하면서 측정했을 때의 5rpm 점도 η5가 5Pa·s 이상 40Pa·s 이하인, 은 함유 페이스트.
The silver-containing paste according to any one of claims 1 to 8,
The silver-containing paste has a 5-rpm viscosity η 5 of 5 Pa·s or more and 40 Pa·s or less, when the silver-containing paste is measured using a BF type viscometer while stirring at a temperature of 25° C. and a shear rate of 5 rpm.
청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 기재된 은 함유 페이스트로서,
당해 은 함유 페이스트에 있어서, 이하 식 (1)로 나타나는, BF형 점도계를 이용하여, 온도: 25℃, 전단 속도: 0.5rpm으로 교반하면서 측정했을 때의 0.5rpm 점도 η0.5와, BF형 점도계를 이용하여, 온도: 25℃, 전단 속도: 5rpm으로 교반하면서 측정했을 때의 5rpm 점도 η5의 점도비가 2 이상 10 이하인, 은 함유 페이스트.
점도비=η0.55 (1)
The silver-containing paste according to any one of claims 1 to 9,
In the silver-containing paste, the 0.5 rpm viscosity η 0.5 when measured using a BF type viscometer and stirring at a temperature of 25°C and a shear rate of 0.5 rpm, expressed by the formula (1) below, and a BF type viscometer. A silver-containing paste having a viscosity ratio of η 5 of 2 to 10 as measured while stirring at a temperature of 25° C. and a shear rate of 5 rpm.
Viscosity ratio = η 0.55 (1)
청구항 1 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 기재된 은 함유 페이스트로서,
동적 점탄성 측정 장치를 이용하여, 주파수: 1Hz, 온도: 25℃에서 측정한 저장 탄성률이 2000MPa 이상 20000MPa 이하인, 은 함유 페이스트.
The silver-containing paste according to any one of claims 1 to 10,
A silver-containing paste having a storage modulus of 2000 MPa or more and 20000 MPa or less, measured at a frequency of 1 Hz and a temperature of 25°C using a dynamic viscoelasticity measuring device.
청구항 1 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 기재된 은 함유 페이스트로서,
레이저 플래시법에 의하여 측정한 열전도율이 10W/mK 이상 200W/mK 이하인, 은 함유 페이스트.
The silver-containing paste according to any one of claims 1 to 11, comprising:
A silver-containing paste with a thermal conductivity of 10 W/mK or more and 200 W/mK or less, as measured by the laser flash method.
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