KR20230132699A - Glass cloth - Google Patents

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KR20230132699A
KR20230132699A KR1020230026775A KR20230026775A KR20230132699A KR 20230132699 A KR20230132699 A KR 20230132699A KR 1020230026775 A KR1020230026775 A KR 1020230026775A KR 20230026775 A KR20230026775 A KR 20230026775A KR 20230132699 A KR20230132699 A KR 20230132699A
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glass
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유스케 타구치
하지메 이토카와
류노스케 노무라
카즈아키 우라나카
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신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
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Abstract

[과제] 10∼40GHz에서의 유전탄젠트가 낮고, 전송 손실이 작은, 가공성도 용이한 글라스 클로스를 제공한다.
[해결 수단] 연화점이 1,000∼1,600℃이며, Si-OH기의 양이 1,000ppm 미만의 유리 섬유로 이루어지는 글라스 클로스에, 실란 커플링제를 글라스 클로스에 대하여 0.001질량% 이상 1.0질량% 미만으로 부착시킨 글라스 클로스.
[Project] Provide a glass cloth with low dielectric tangent at 10 to 40 GHz, low transmission loss, and easy processing.
[Solution] A silane coupling agent is attached to a glass cloth made of glass fiber with a softening point of 1,000 to 1,600°C and an amount of Si-OH group of less than 1,000 ppm, in an amount of 0.001% by mass or more and less than 1.0% by mass with respect to the glass cloth. Glass cloth.

Description

글라스 클로스{GLASS CLOTH}Glass cloth{GLASS CLOTH}

본 발명은 유전 특성 및 가공성이 우수한 글라스 클로스에 관한 것이다. The present invention relates to glass cloth with excellent dielectric properties and processability.

현재, 스마트폰 등의 정보 단말의 고성능화, 고속 통신화에 따라, 사용되는 프린트 배선판에 있어서, 고밀화, 극박화와 함께, 저유전율화 특히 저유전탄젠트화가 현저하게 진행되고 있다. Currently, with the increased performance and high-speed communication of information terminals such as smartphones, the printed wiring boards used are becoming denser and thinner, and low dielectric constants, especially low dielectric tangents, are progressing significantly.

프린트 배선판의 절연 재료로서는 글라스 클로스를 에폭시 수지 등의 열경화성 수지(이하, 「매트릭스 수지」라고 한다.)에 함침시켜 얻어지는 프리프레그를 적층하여 가열 가압 경화시킨 적층판이 널리 사용되고 있다. 고속 통신 기판에 사용되는 상기 매트릭스 수지의 유전율은 3 정도인 것에 반해, 일반적인 E 글라스 클로스의 유전율은 6.7 정도로, 적층판 시의 높은 유전율의 문제가 현재화되어 가고 있다. As an insulating material for printed wiring boards, a laminated board obtained by impregnating glass cloth with a thermosetting resin such as an epoxy resin (hereinafter referred to as “matrix resin”), laminating prepregs and curing them under heat and pressure is widely used. The dielectric constant of the matrix resin used in high-speed communication boards is about 3, while the dielectric constant of general E glass cloth is about 6.7, and the problem of high dielectric constant in laminates is becoming more and more evident.

또한, 신호의 전송 로스는 Edward A. Wolff식: 전송 손실∝√ε×tanδ가 보여주는 바와 같이, 유전율(ε) 및 유전탄젠트(tanδ)가 작은 재료일수록 개선되는 것이 알려져 있고, 특히, 상기의 식으로부터 전송 손실에 대해서는 유전탄젠트(tanδ)의 기여가 큰 것이 알려져 있다. In addition, it is known that the signal transmission loss is improved as the material with smaller dielectric constant (ε) and dielectric tangent (tanδ) is shown by the Edward A. Wolff equation: transmission loss ∝√ε×tanδ. In particular, the equation above It is known that the contribution of dielectric tangent (tanδ) to transmission loss is large.

그 때문에 E 글라스와는 상이한 글라스 조성의 D 글라스, NE 글라스, L 글라스 등의 유전 특성이 향상된 글라스 클로스가 제안되었다(특허문헌 1∼3). For this reason, glass cloths with improved dielectric properties such as D glass, NE glass, and L glass with glass compositions different from E glass have been proposed (Patent Documents 1 to 3).

그렇지만, 향후의 5G 통신용 용도 등에서 충분한 전송속도 성능을 달성하는 관점에서, 이들 저유전율·저유전탄젠트가 우수한 저유전 특성 글라스 클로스에서도, 또한 개선의 필요성이 있다. 그래서, 글라스 조성 중의 SiO2 배합량을 거의 100질량%로 함으로써, 더한층의 저유전율화 및 저유전탄젠트화를 도모하는 것이 검토되어, SiO2 배합량을 거의 100질량%로 한 글라스 클로스의 개발이 행해졌다(특허문헌 4). 그렇지만, 특허문헌 4에서는, 저유전율에 관한 언급은 있지만, 보다 전송 손실에 기여하는 유전탄젠트에 대해서는 언급되어 있지 않아, 저유전탄젠트화는 어려운 과제가 되었다. However, from the viewpoint of achieving sufficient transmission speed performance in future 5G communication applications, etc., there is a need for improvement even in these low-dielectric characteristic glass cloths with excellent low dielectric constant and low dielectric tangent. Therefore, by setting the amount of SiO 2 in the glass composition to approximately 100% by mass, achieving further low dielectric constant and low dielectric tangent was considered, and the development of a glass cloth with the amount of SiO 2 included at approximately 100% by mass was conducted. (Patent Document 4). However, in Patent Document 4, although there is mention of low dielectric constant, there is no mention of dielectric tangent, which contributes to transmission loss, making low dielectric tangent a difficult task.

전송 손실은 Si-OH기가 존재하면 Si-OH의 진동의 배음의 흡수가 1.4㎛에 있기 때문에, 전송 효율이 현저하게 저하하는 것이 알려져 있어, Si-OH기의 감소가 전송 손실의 저감에 유효한 기술이다. As for transmission loss, it is known that the presence of Si-OH groups significantly reduces transmission efficiency because the absorption of Si-OH vibration overtones is at 1.4㎛, and reduction of Si-OH groups is an effective technique for reducing transmission loss. am.

유전탄젠트를 낮게 하는 수법으로서, 합성 석영 유리를 사용한 개발이 행해졌다(특허문헌 5). 그러나, 특허문헌 5에서는, 10GHz까지의 기재는 있지만, 최근 요구되고 있는 30GHz∼300GHz의 밀리파 영역에서의 유전탄젠트는 기재되어 있지 않다. 또, 합성 석영 유리는 고가이며, 향후 보급이 예상되는 5G 통신용 용도에 사용하는 경우, 비용의 문제가 생긴다. As a method of lowering the dielectric tangent, the use of synthetic quartz glass was developed (Patent Document 5). However, in Patent Document 5, although there is a description of up to 10 GHz, the dielectric tangent in the millimeter wave range of 30 GHz to 300 GHz, which is recently required, is not described. In addition, synthetic quartz glass is expensive, and when used for 5G communication purposes, which are expected to spread in the future, cost issues arise.

또, 특허문헌 5에서는, 합성 석영 유리를 사용하는 이점으로서, 다층 기판으로 한 경우의 가공성의 용이함을 기술하고 있고, 천연 석영 유리 재료에서는 가공성이 나쁘다는 결점이 지적되어 있다. Additionally, Patent Document 5 describes ease of processability when used as a multilayer substrate as an advantage of using synthetic quartz glass, but points out a drawback of poor processability with natural quartz glass materials.

일본 특개 평 5-170483호 공보Japanese Patent Application Publication No. 5-170483 일본 특개 2009-263569호 공보Japanese Patent Application Publication No. 2009-263569 일본 특개 2009-19150호 공보Japanese Patent Application Publication No. 2009-19150 일본 특개 2018-197411호 공보Japanese Patent Application Publication No. 2018-197411 일본 특허 4336086호 공보Japanese Patent No. 4336086 Publication

본 발명은 상기 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 10∼40GHz에서의 유전탄젠트가 낮고, 전송 손실이 작은, 가공이 용이한 글라스 클로스를 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention was made in consideration of the above problems, and its purpose is to provide a glass cloth that has a low dielectric tangent at 10 to 40 GHz, a small transmission loss, and is easy to process.

본 발명자들은, 상기 목적을 달성하기 위해 예의 연구한 결과, 연화점이 1,000∼1,600℃이며, Si-OH기의 양이 1,000ppm 미만의 유리 섬유를 사용한 글라스 클로스에, 특정량의 실란 커플링제를 부착시킨 글라스 클로스가 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명을 이루게 된 것이다. 보다 구체적으로는, 향후 증가해 갈 5G 등의 고속 통신 등에서의 전송 손실을 억제하기 위한 방법으로서, 기판에 사용되는 글라스 클로스의 유전탄젠트 특성의 더한층의 향상이 구해져, 예를 들면, 10GHz부터 40GHz까지의 유전탄젠트가 0.002 이하, 40GHz/10GHz의 비가 2.0 이하로 할 수 있어, 유전탄젠트 특성에 기인하는 전송 손실을 억제할 수 있다고 하는 현저하게 큰 효과를 얻을 수 있다. As a result of intensive research to achieve the above object, the present inventors have found that a specific amount of a silane coupling agent was attached to a glass cloth using glass fibers with a softening point of 1,000 to 1,600°C and an amount of Si-OH groups of less than 1,000 ppm. It was discovered that Shikin Glass Cloth could solve the above problem, and the present invention was achieved. More specifically, as a method to suppress transmission loss in high-speed communications such as 5G, which will increase in the future, further improvement in the dielectric tangent characteristics of the glass cloth used in the substrate is sought, for example, from 10 GHz to 40 GHz. The dielectric tangent can be set to 0.002 or less, and the ratio of 40 GHz/10 GHz can be set to 2.0 or less, thereby achieving a significantly greater effect of suppressing transmission loss due to the dielectric tangent characteristic.

따라서, 본 발명은 글라스 클로스를 제공한다. Accordingly, the present invention provides a glass cloth.

1. 연화점이 1,000∼1,600℃이며, Si-OH기의 양이 1,000ppm 미만의 유리 섬유로 이루어지는 글라스 클로스에, 실란 커플링제를 글라스 클로스에 대하여 0.001질량% 이상 1.0질량% 미만으로 부착시킨 글라스 클로스. 1. A glass cloth made of glass fiber with a softening point of 1,000 to 1,600°C and an amount of Si-OH group of less than 1,000 ppm, with a silane coupling agent attached in an amount of 0.001% by mass or more but less than 1.0% by mass with respect to the glass cloth. .

2. 10GHz부터 40GHz까지의 유전탄젠트가 0.002 이하이며, 40GHz/10GHz의 유전탄젠트비가 2.0 이하인, 1 기재의 글라스 클로스. 2. Glass cloth based on 1, which has a dielectric tangent of 0.002 or less from 10 GHz to 40 GHz and a dielectric tangent ratio of 2.0 or less from 40 GHz/10 GHz.

3. 유리 섬유 중의 SiO2량이 99.9질량% 이상인 1 또는 2 기재의 글라스 클로스.3. Glass cloth based on 1 or 2, wherein the amount of SiO 2 in the glass fiber is 99.9% by mass or more.

4. 두께가 200㎛ 이하인, 1∼3 중 어느 하나에 기재된 글라스 클로스. 4. The glass cloth according to any one of 1 to 3, wherein the glass cloth has a thickness of 200 μm or less.

5. 단위 면적당의 질량이 4∼300g/m2인, 1∼4 중 어느 하나에 기재된 글라스 클로스.5. The glass cloth according to any one of 1 to 4, wherein the mass per unit area is 4 to 300 g/m 2 .

본 발명에 의하면, 유전탄젠트 특성과 가공성이 우수한, 글라스 클로스를 얻을 수 있다. According to the present invention, a glass cloth with excellent dielectric tangent properties and processability can be obtained.

(발명을 실시하기 위한 형태)(Form for carrying out the invention)

이하, 본 발명에 대해 상세하게 설명하지만, 이들 실시형태는 예외적으로 제시되는 것으로, 본 발명의 기술사상으로부터 일탈하지 않는 한은 다양한 변형이 가능한 것은 말할 필요도 없다. 본 발명의 글라스 클로스는 연화점이 1,000∼1,600℃이고, Si-OH기의 양이 1,000ppm 미만의 유리 섬유로 이루어지는 글라스 클로스에, 실란 커플링제를 부착률 0.001질량% 이상 1.0질량% 미만으로 부착시킨 글라스 클로스이다(이하, 본 발명의 부착 글라스 클로스라고 기재하는 경우가 있다.). Hereinafter, the present invention will be described in detail, but these embodiments are presented as exceptions, and it goes without saying that various modifications are possible as long as they do not deviate from the technical idea of the present invention. The glass cloth of the present invention is a glass cloth made of glass fiber with a softening point of 1,000 to 1,600°C and an amount of Si-OH group of less than 1,000 ppm, and a silane coupling agent is attached at an adhesion rate of 0.001 mass% or more and less than 1.0 mass%. It is a glass cloth (hereinafter, it may be described as an attached glass cloth of the present invention).

[유리 섬유][glass fiber]

본 발명의 유리 섬유는 연화점이 1,000∼1,600℃이며, Si-OH기의 양이 1,000ppm 미만의 유리 섬유이다. The glass fiber of the present invention has a softening point of 1,000 to 1,600°C and an amount of Si-OH groups of less than 1,000 ppm.

글라스는 동일 조성의 것이어도, 열처리나 그 처리 시의 냉각 속도에 따라, 구조나 물리적 성질이 다르다. 이것은 글라스가 완전한 용융 상태로부터 냉각해 가는 과정의 영향을 받지만, 냉각 속도가 다르면 가상 온도가 다르다. 냉각 속도가 느리면 구조 완화하는 시간이 충분히 있어, 실제 온도에 추종하여 가상 온도는 내려간다. 한편, 냉각 속도가 빠른 경우에는, 글라스의 실제 온도로부터 멀어짐으로써 가상 온도는 올라간다. 또, 가상 온도가 올라감으로써 생기는 변화로서, 연화점이 저하한다. 본 발명의 유리 섬유의 연화점은 1,000∼1,600℃이며, 1,000∼1,400℃가 바람직하고, 1,050∼1,200℃가 보다 바람직하다. 또한, 연화점은 열기계 분석 장치(TMA)를 사용하여 유리 섬유를 직경 방향으로 잡아당겨, 연화점을 측정한 값이다. Even if glass has the same composition, its structure and physical properties are different depending on the heat treatment or cooling rate during the treatment. This is influenced by the process by which the glass cools from a completely molten state, but the virtual temperature is different if the cooling rate is different. If the cooling rate is slow, there is sufficient time for structural relaxation, and the virtual temperature follows the actual temperature and falls. On the other hand, when the cooling rate is fast, the virtual temperature increases as it moves away from the actual temperature of the glass. Additionally, as a change that occurs as the virtual temperature increases, the softening point decreases. The softening point of the glass fiber of the present invention is 1,000 to 1,600°C, preferably 1,000 to 1,400°C, and more preferably 1,050 to 1,200°C. In addition, the softening point is a value measured by pulling the glass fiber in the radial direction using a thermomechanical analysis device (TMA).

본 발명의 유리 섬유의 Si-OH기의 함유량은 1,000ppm(질량) 미만이다. 또한, Si-OH기의 함유량의 측정 방법은 실시예에 기재한 방법이다. 글라스의 점도(Pa·s)와 OH량에는 상관이 확인되어, OH 함유량이 증대함에 따라 점도가 저하하는 것이 알려져 있다. 점도가 저하함으로써, 연화점도 저하하게 되지만, OH 함유량은 산수소염에서의 열처리 연신을 늘릴 수 있지만, 지나치게 증대시키면 유전탄젠트가 나빠진다고 하는 문제가 생긴다. 연화점 및 Si-OH기의 양은 유리 섬유의 제조 방법으로 조정하는 것이 가능하다. The Si-OH group content of the glass fiber of the present invention is less than 1,000 ppm (mass). In addition, the method for measuring the content of Si-OH groups is the method described in the Examples. A correlation has been confirmed between the viscosity (Pa·s) of the glass and the OH content, and it is known that the viscosity decreases as the OH content increases. As the viscosity decreases, the softening point also decreases. Although the OH content can increase the elongation of heat treatment in acid hydrogen salt, if it is excessively increased, a problem occurs in that the dielectric tangent deteriorates. The softening point and the amount of Si-OH groups can be adjusted by the glass fiber manufacturing method.

유리 섬유의 SiO2 함유량은 99.9질량% 이상이 바람직하고, 100질량%이어도 된다. 석영 유리의 원료 잉곳의 제조 방법으로서는, 수정을 원료로 한 전기용융법, 화염용융법 또는 사산화규소를 원료로 한 직접 합성법, 플라스마 합성법, 수트법, 또는 알킬실리케이트를 원료로 한 졸겔법 등을 들 수 있지만, SiO2 배합량이 99.9질량%이면 이들 제조 방법에 한정되는 것은 아니다. 특히, 수정을 원료로 한 전기용융법, 사산화규소를 원료로 한 플라스마 합성법, 수트법이 불순물로서 실라놀기(Si-OH)를 포함하기 어렵기 때문에 바람직하다. The SiO 2 content of the glass fiber is preferably 99.9% by mass or more, and may be 100% by mass. Methods for producing quartz glass raw material ingots include electric melting method using quartz as a raw material, flame melting method, direct synthesis method using silicon tetroxide as a raw material, plasma synthesis method, soot method, or sol-gel method using alkyl silicate as a raw material. However, it is not limited to these manufacturing methods as long as the SiO 2 compounding amount is 99.9 mass%. In particular, the electric melting method using quartz as a raw material, the plasma synthesis method using silicon tetroxide as a raw material, and the soot method are preferable because they rarely contain silanol groups (Si-OH) as impurities.

유리 섬유의 섬유 직경 φ는 3∼10㎛가 바람직하고, 3.5∼10㎛가 보다 바람직하다. 유리 섬유의 10GHz로부터 40GHz까지의 유전탄젠트는 0.002 이하가 바람직하고, 0.0015 이하가 보다 바람직하다. 또, 유전탄젠트의 변화량이 적은 것이 요구되어, 40GHz/10GHz의 비가 2.0 이하의 것이 바람직하다. The fiber diameter ϕ of the glass fiber is preferably 3 to 10 μm, and more preferably 3.5 to 10 μm. The dielectric tangent of the glass fiber from 10 GHz to 40 GHz is preferably 0.002 or less, and more preferably 0.0015 or less. Additionally, it is required that the amount of change in dielectric tangent is small, so it is preferable that the ratio of 40 GHz/10 GHz is 2.0 or less.

가공성 및 유전탄젠트의 특성을 양립시키기 위해서는, 목적의 섬유 직경보다도 10배 이상, 보다 바람직하게는 20배 이상 크고, 글라스 재료를 300m/min 이상, 보다 바람직하게는 400m/min 이상의 속도로 연신함으로써, 저유전탄젠트이며, 가공성이 용이한 유리 섬유를 얻을 수 있다. In order to achieve both processability and dielectric tangent properties, the glass material is stretched at a speed of 300 m/min or more, more preferably 400 m/min or more, with the fiber diameter being 10 times or more, more preferably 20 times or more, than the target fiber diameter. Glass fiber with low dielectric tangent and easy processing can be obtained.

연신되는 글라스 재료의 조제 방법으로서, 예를 들면, 직경 200±100㎛이며 SiO2 배합량이 99.0질량% 이상의 석영 유리실의 조제 방법으로서는, 전기 용융으로 실시된다. 구체적으로는, 직경 50∼200mm의 유리를 1,700∼2,300℃에서 용융시켜, 실 형상으로 된 것을 감아냄으로써, 직경 200±100㎛의 유리실을 얻을 수 있다. 용융 온도가 1,700℃ 미만의 경우는 석영 유리를 녹일 수 없을 우려가 있고, 2,300℃를 초과하면 점도가 지나치게 저하되어 안정적인 연신을 할 수 없을 우려가 있다. As a method of preparing the stretched glass material, for example, a quartz glass thread with a diameter of 200 ± 100 μm and a SiO 2 blending amount of 99.0% by mass or more is carried out by electric melting. Specifically, by melting glass with a diameter of 50 to 200 mm at 1,700 to 2,300°C and winding it into a thread shape, a glass thread with a diameter of 200 ± 100 μm can be obtained. If the melting temperature is less than 1,700°C, there is a risk that the quartz glass may not be melted, and if it exceeds 2,300°C, the viscosity may decrease too much and stable stretching may not be possible.

유리실은 강도가 대단히 약하기 때문에, 감아내기 위해 필요한 강도를 얻기 위해 코팅을 행하는 것이 바람직하다. 코팅제로서는 경화성이 우수한 아크릴레이트계의 작용기를 갖는 UV 경화 수지가 바람직하고, 코팅 두께로서는 5㎛ 이상이 바람직하다. 5㎛ 미만이면, 코팅 두께가 불충분하여 보강 효과가 얻어지지 않을 우려가 있다. Since the strength of glass thread is very weak, it is desirable to apply coating to obtain the strength necessary for winding. As a coating agent, a UV curable resin having an acrylate-based functional group with excellent curability is preferable, and the coating thickness is preferably 5 μm or more. If it is less than 5 μm, there is a risk that the reinforcing effect may not be obtained due to insufficient coating thickness.

생산성을 높이기 위해, 석영 유리의 용융으로부터 코팅까지의 사이에 냉각을 행하는 것이 바람직하다. 냉각은 수냉이나 공냉 등이 있고, 양쪽 모두 행하는 편이 효과적이다. 직경 50∼200mm의 석영 유리를 1,700∼2,300℃로 가열하고, 냉각함으로써 이 공정에서도 연화점을 저하시킬 수 있다. In order to increase productivity, it is desirable to cool the quartz glass from melting to coating. Cooling includes water cooling or air cooling, and it is more effective to use both. The softening point can be lowered in this process as well by heating quartz glass with a diameter of 50 to 200 mm to 1,700 to 2,300°C and cooling it.

[글라스 스트랜드][Glass Strand]

상기 유리 섬유를 묶어 글라스 스트랜드를 얻을 수 있다. 예를 들면, 스트랜드는 20∼400개의 석영 유리 섬유를, 산소와 수소의 혼합 화염으로 용융시킴으로써 얻을 수 있다. 글라스 스트랜드의 제조 시에, 글라스 스트랜드를 집속시키기 위해, 집속제를 사용한다. 집속제는 전분을 주원료로 한 조성물로 사용되고, 기능성 부여를 위해, 유연제나 윤활제를 배합시킬 수 있다. Glass strands can be obtained by bundling the glass fibers. For example, strands can be obtained by melting 20 to 400 quartz glass fibers in a mixed flame of oxygen and hydrogen. When manufacturing glass strands, a bundling agent is used to focus the glass strands. The binder is used in a composition based on starch, and a softener or lubricant can be added to provide functionality.

[글라스 얀][Glass Yarn]

상기 글라스 스트랜드에 꼬임을 줌으로써 글라스 얀을 얻을 수 있다. 꼬임의 빈도로서는 25mm당 0.1∼5.0회가 바람직하고, 0.1∼4.0회가 보다 바람직하다. Glass yarn can be obtained by twisting the glass strand. The frequency of twisting is preferably 0.1 to 5.0 times per 25 mm, and more preferably 0.1 to 4.0 times.

[글라스 클로스(부착 전)][Glass cloth (before attachment)]

상기 글라스 얀을 제직하고, 글라스 클로스를 얻을 수 있다. 글라스 클로스의 직조직, 직밀도 등은 특별히 한정은 되지 않지만, 직조직으로서는, 예를 들면, 평직, 주자직, 사문직, 능직 등을 들 수 있다. 또, 직밀도로서는, 예를 들면, 10∼150개/25mm를 들 수 있다. The glass yarn can be woven and a glass cloth can be obtained. The weave structure, weave density, etc. of the glass cloth are not particularly limited, but examples of the weave structure include plain weave, satin weave, serpentine weave, and twill weave. Moreover, as a straight density, for example, 10-150 pieces/25mm are mentioned.

글라스 클로스의 두께는 200㎛ 이하가 바람직하고, 180㎛ 이하가 보다 바람직하다. 글라스 클로스의 단위면적당의 질량은 4∼300g/m2가 바람직하고, 10∼200g/m2가 보다 바람직하다. The thickness of the glass cloth is preferably 200 μm or less, and more preferably 180 μm or less. The mass per unit area of the glass cloth is preferably 4 to 300 g/m 2 , and more preferably 10 to 200 g/m 2 .

글라스 클로스의 제직 방법으로서는, 특별히 한정은 되지 않지만, 예를 들면, 에어 제트 직기, 워터 제트 직기, 레피아 직기, 셔틀 직기 등을 들 수 있다. The weaving method of the glass cloth is not particularly limited, but examples include an air jet loom, a water jet loom, a Repia loom, and a shuttle loom.

글라스 클로스의 제직 시에 제직의 안정성이나 보풀 발생을 억제하기 위해 사이징제를 사용할 수 있다. 사이징제로서는 폴리비닐알코올, 폴리에틸렌옥사이드, 전분, 폴리에스테르, 및 폴리아미드 등으로부터 선택되는 1종류 이상을 포함하는 것이 바람직하다. 글라스 클로스는 필요에 따라, 개섬 처리를 행해도 된다. When weaving glass cloth, a sizing agent can be used to stabilize the weaving or suppress the generation of fluff. The sizing agent preferably contains one or more types selected from polyvinyl alcohol, polyethylene oxide, starch, polyester, and polyamide. The glass cloth may be subjected to an opening process as needed.

글라스 클로스로서는, 예를 들면, SiO2 99.9질량% 이상의 필라멘트로 이루어지는 석영 유리 클로스(1078: IPC-4412B Appendix II) 등을 사용할 수 있다. As the glass cloth, for example, a quartz glass cloth (1078: IPC-4412B Appendix II) made of a filament containing 99.9% by mass or more of SiO 2 can be used.

[글라스 클로스(부착 후)][Glass cloth (after attachment)]

본 발명의 부착 글라스 클로스는 실란 커플링제를 부착률 0.001질량% 이상 1.0질량% 미만으로 부착시킨 글라스 클로스이며, 상기, 글라스 스트랜드, 글라스 얀, 글라스 클로스를 실란 커플링제로 표면처리함으로써 얻을 수 있다. The attached glass cloth of the present invention is a glass cloth to which a silane coupling agent has been attached at an adhesion rate of 0.001 mass% or more and less than 1.0 mass%, and can be obtained by surface treating the above glass strand, glass yarn, and glass cloth with a silane coupling agent.

본 발명의 부착 글라스 클로스는 수지의 함침성이나 수지와 글라스 클로스와의 계면의 접착성을 발현하기 위해, 실란 화합물, 실란 커플링제(처리제)로 처리한다. 실란 커플링제는 사용하는 글라스 클로스에 따라 선택하면 되고, 1종 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 실란 커플링제로서는, 예를 들면, 비닐기, 스티릴기, 메타크릴기, 아크릴기 등의 작용기를 가지는 실란 커플링제가 바람직하다. 실란 커플링제의 구체적인 예로서는 γ-메타크릴록시프로필디메톡시실란, γ-메타크릴록시프로필트리메톡시실란, γ-메타크릴록시프로필트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(β-메톡시에톡시)실란, p-스티릴트리메톡시실란 등을 들 수 있다. 종래 사용되고 있는 에폭시 수지용의 실란 커플링 처리제로서는 에폭시계 실란 커플링제나 양이온계 실란 커플링제를 들 수 있다. 또, 땜납 내열성, 내흡습성, 구리부착 내열성, 절연 신뢰성이 우수한 페닐아미노실란 처리제를 사용할 수도 있다. 그중에서도, 처리 표면이 안정하며 유기 수지와 화학적으로 결합 가능한 작용기를 가지는 불포화기 함유 작용기가 바람직하고, 예를 들면, 비닐계나 (메타)아크릴계, 스티릴계의 실란 커플링제가 바람직하다. 실란 커플링제로서는, 예를 들면, 메타크릴기를 가지는 실란 커플링제(신에츠카가쿠코교(주식)제: KBM-503: 메타크릴록시프로필트리메톡시실란) 등을 사용해도 된다. The adhesive glass cloth of the present invention is treated with a silane compound and a silane coupling agent (treatment agent) in order to develop the impregnability of the resin and the adhesiveness of the interface between the resin and the glass cloth. The silane coupling agent can be selected depending on the glass cloth used, and can be used alone or in combination of two or more types. As a silane coupling agent, for example, a silane coupling agent having a functional group such as a vinyl group, styryl group, methacryl group, or acrylic group is preferable. Specific examples of silane coupling agents include γ-methacryloxypropyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, Vinyltris(β-methoxyethoxy)silane, p-styryltrimethoxysilane, etc. are mentioned. Silane coupling treatment agents for epoxy resins conventionally used include epoxy-based silane coupling agents and cationic silane coupling agents. Additionally, a phenylaminosilane treatment agent that is excellent in solder heat resistance, moisture absorption resistance, copper adhesion heat resistance, and insulation reliability can also be used. Among them, a functional group containing an unsaturated group that has a stable surface to be treated and has a functional group that can chemically bond with an organic resin is preferred, for example, a vinyl-based, (meth)acrylic-based, or styryl-based silane coupling agent. As a silane coupling agent, for example, a silane coupling agent having a methacryl group (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. product: KBM-503: methacryloxypropyltrimethoxysilane) may be used.

실란 커플링 처리 방법은 특정한 부착량이 되도록, 실란 커플링과 글라스 클로스가 접촉하면 되고, 온도 등은 특별히 한정되지 않는다. 처리제의 부착량은 글라스 클로스에 대하여 0.001질량% 이상 1.0질량% 미만(부착률)이며, 0.01질량% 이상 0.3질량% 이하가 바람직하다. 부착량이 1.0질량% 이상이 되면, 유전탄젠트를 악화시키는 원인이 되고, 0.001질량% 미만에서는 수지와의 젖음성이 나빠진다. The silane coupling treatment method is as long as the silane coupling and the glass cloth are brought into contact so as to achieve a specific adhesion amount, and the temperature, etc., is not particularly limited. The adhesion amount of the treatment agent is 0.001 mass% or more and less than 1.0 mass% (adhesion rate) with respect to the glass cloth, and is preferably 0.01 mass% or more and 0.3 mass% or less. If the adhesion amount is 1.0 mass% or more, it will cause the dielectric tangent to worsen, and if it is less than 0.001 mass%, wettability with the resin will worsen.

본 발명의 부착 글라스 클로스의 10GHz∼40GHz에서의 유전탄젠트는 0.002 이하가 바람직하고, 0.0015 이하가 보다 바람직하다. 또, 유전탄젠트의 변화량이 적은 것이 요구되며, 40GHz/10GHz의 비가 2.0 이하의 것이 바람직하고, 1.6 이하가 보다 바람직하다. 특히, 5G 등의 고속통신 등에서 사용되는 기판에 사용되는 글라스 클로스로서는 유전탄젠트가 낮은 것이 요구된다. The dielectric tangent of the adhesive glass cloth of the present invention at 10 GHz to 40 GHz is preferably 0.002 or less, and more preferably 0.0015 or less. Additionally, it is required that the amount of change in dielectric tangent is small, and the ratio of 40 GHz/10 GHz is preferably 2.0 or less, and more preferably 1.6 or less. In particular, glass cloth used in substrates used in high-speed communications such as 5G is required to have a low dielectric tangent.

본 발명의 부착 글라스 클로스의 단위면적당의 질량은 4∼300g/m2가 바람직하고, 4∼260g/m2가 보다 바람직하다. The mass per unit area of the adhesive glass cloth of the present invention is preferably 4 to 300 g/m 2 , and more preferably 4 to 260 g/m 2 .

본 발명의 부착 글라스 클로스는 저유전탄젠트가 요구되는 프린트 기판용 프리프레그나 프린트 배선 기판에 적합하게 사용할 수 있고, 10GHz 이상의 고주파용 다층 프린트 기판용으로서 특히 적합하다. The adhesive glass cloth of the present invention can be suitably used for printed circuit board prepregs or printed wiring boards that require a low dielectric tangent, and is particularly suitable for multilayer printed boards for high frequencies of 10 GHz or higher.

(실시예)(Example)

이하, 실시예 및 비교예를 제시하여, 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 하기의 실시예에 제한되는 것은 아니다. Hereinafter, the present invention will be described in detail by providing examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.

실시예에 있어서의 유전탄젠트의 측정 및 유전탄젠트, 실라놀기(Si-OH) 함유량, 실란 커플링제의 부착량의 산출, 연화점 및 가공성의 평가는 이하의 방법으로 행했다. In the examples, measurement of dielectric tangent, calculation of dielectric tangent, silanol group (Si-OH) content, adhesion amount of silane coupling agent, evaluation of softening point and processability were performed by the following methods.

[유전탄젠트의 측정][Measurement of dielectric tangent]

유전율 측정용 SPDR(Split post dielectric resonators) 유전체 공진기 주파수 10GHz, 40GHz를 사용하여 측정했다. Measurements were made using SPDR (Split post dielectric resonators) dielectric resonator frequencies for dielectric constant measurement of 10 GHz and 40 GHz.

또한, 실시예, 비교예의 유전탄젠트는 부착 글라스 클로스의 유전탄젠트를 나타낸다. In addition, the dielectric tangent of the examples and comparative examples represents the dielectric tangent of the attached glass cloth.

[실라놀기(Si-OH) 함유량의 측정][Measurement of silanol group (Si-OH) content]

유리 섬유 및 글라스 클로스의 실라놀 함유량이란 이하의 방법에 의해 측정·계산한 값을 가리키는 것으로 한다. The silanol content of glass fiber and glass cloth refers to the value measured and calculated by the following method.

유리 섬유 및 글라스 클로스의 적외 흡수 스펙트럼을 푸리에 변환 적외 분광광도계(IRAffinity-1S), 확산반사 측정 장치(DRS-8000A)를 사용하여, 확산반사법에 의해 실라놀기인인 3680cm-1 부근의 피크의 투과율 T를 측정했다. 얻어진 투과율의 값을 기초로, 하기에 나타내는 Lambert-Beer의 법칙을 적용하여, 흡광도 A를 구했다. Using the Fourier transform infrared absorption spectrum of glass fiber and glass cloth, an infrared spectrophotometer (IRAffinity-1S) and a diffuse reflectance measurement device (DRS-8000A), the transmittance of the peak around 3680 cm -1 , which is a silanol group, was determined by the diffuse reflection method. T was measured. Based on the obtained transmittance value, the absorbance A was obtained by applying Lambert-Beer's law shown below.

흡광도 A = -Log10T (T=3, 680cm-1 부근의 투과율)Absorbance A = -Log10T (T=3, transmittance around 680cm -1 )

이어서, 상기 식에 의해 구한 흡광도로부터, 하기 식에 의해 실라놀의 몰 농도 C(mol/L)를 구했다. Next, from the absorbance determined by the above formula, the molar concentration C (mol/L) of silanol was determined by the following formula.

C=A/εLC=A/εL

ε: 몰 흡광계수(실라놀의 몰 흡광계수 ε=77.5dm3/mol·cm)ε: molar extinction coefficient (molar extinction coefficient of silanol ε=77.5dm 3 /mol·cm)

C: 몰 농도(mol/L)C: molar concentration (mol/L)

L: 샘플의 두께(광로길이)L: Thickness of sample (optical path length)

얻어진 흡광도 A로부터 상기 식을 사용하여 몰 농도 C를 구했다. From the obtained absorbance A, the molar concentration C was calculated using the above formula.

얻어진 몰 농도 C를 사용하여 하기 식에 의해 유리 섬유 중의 실라놀의 함유량(ppm)을 구했다. Using the obtained molar concentration C, the content (ppm) of silanol in the glass fiber was determined by the following formula.

실라놀의 함유량(ppm) = {(C×M(Si-OH))/(d×1000)}×106Silanol content (ppm) = {(C×M(Si-OH))/(d×1000)}×106

유리 섬유의 비중 d = 2.2g/cm3 Specific gravity of glass fiber d = 2.2g/cm 3

실라놀의 분자량 M(Si-OH) = 45g/molMolecular weight of silanol M(Si-OH) = 45 g/mol

[실란 커플링제의 부착률 측정][Measurement of adhesion rate of silane coupling agent]

부착 글라스 클로스를, 전기로를 사용하여 625℃·4시간의 조건으로 가열하고, 가열 전후의 질량 변화를 측정했다. 하기 식에 기초하여, 부착률(질량%)을 산출했다. The attached glass cloth was heated under the conditions of 625°C for 4 hours using an electric furnace, and the change in mass before and after heating was measured. Based on the formula below, the adhesion rate (mass %) was calculated.

부착률(질량%) = (가열 전의 부착 글라스 클로스의 질량 - 가열 후의 부착 글라스 클로스의 질량)/가열 전의 부착 글라스 클로스의 질량×100Adhesion rate (mass%) = (mass of attached glass cloth before heating - mass of attached glass cloth after heating) / mass of attached glass cloth before heating × 100

[연화점의 측정][Measurement of softening point]

열기계 분석 장치(TMA)를 사용하여 유리 섬유를 직경 방향으로 잡아당겨, 연화점을 측정했다. Using a thermomechanical analysis device (TMA), the glass fiber was pulled in the diametric direction and the softening point was measured.

[가공성의 평가][Evaluation of processability]

부착 글라스 클로스를 에폭시 수지에 함침함으로써 프리프레그를 제작하고, 젖음성(얼룩 등)이나 드릴 수명의 평가를 행했다. A prepreg was produced by impregnating the adhesive glass cloth with an epoxy resin, and wettability (staining, etc.) and drill life were evaluated.

젖음성(얼룩 등)에 문제없고, 드릴 수명이 100회 이상: ○No problems with wettability (staining, etc.), drill life over 100 times: ○

젖음성(얼룩 등)이 문제 또는 드릴 수명이 100회 미만: ×Wetting problems (staining, etc.) or drill life less than 100 times: ×

[실시예 1∼3][Examples 1 to 3]

표 1에 나타내는 SiO2질량%, 연화점의 석영 유리 섬유를, 고온에서 연신하면서 집속제를 도포하고, 직경 5.0㎛의 석영 유리 필라멘트 200개로 이루어지는 석영 유리 스트랜드를 조제했다. 다음에 얻어진 석영 유리 스트랜드에 25mm당 0.4회의 꼬임을 주어 석영 유리 얀을 조제했다. A quartz glass fiber with 2 % by mass of SiO and a softening point shown in Table 1 was stretched at a high temperature and a bundling agent was applied to prepare a quartz glass strand composed of 200 quartz glass filaments with a diameter of 5.0 μm. Next, the obtained quartz glass strand was twisted 0.4 times per 25 mm to prepare quartz glass yarn.

얻어진 석영 유리 얀을 에어 제트 직기에 세팅하고, 경사 밀도가 54개/25mm, 위사 밀도가 54개/25mm의 평직의 석영 유리 클로스를 제직했다. 그 후, 히트 클리닝에 의해, 집속제를 제거한 후에 0.1질량%의 부착량이 되도록 실란 커플링제(KBM-503: 메타크릴록시프로필트리메톡시실란)로 처리했다. 얻어진 처리 석영 유리 클로스는 두께 45㎛, 클로스 질량이 42.5g/m2이었다. 평가 결과를 하기 표에 나타낸다. The obtained quartz glass yarn was set in an air jet loom, and a plain weave quartz glass cloth with a warp density of 54/25 mm and a weft density of 54/25 mm was woven. Thereafter, the bundling agent was removed by heat cleaning and then treated with a silane coupling agent (KBM-503: methacryloxypropyltrimethoxysilane) so that the adhesion amount was 0.1% by mass. The obtained treated quartz glass cloth had a thickness of 45 μm and a cloth mass of 42.5 g/m 2 . The evaluation results are shown in the table below.

[실시예 4][Example 4]

실시예 1과 마찬가지로 글라스 클로스를 조제하고, 0.2질량%의 부착량이 되도록 실란 커플링제(KBM-503)로 처리하여, 처리 석영 유리 클로스를 얻었다. A glass cloth was prepared in the same manner as in Example 1, and treated with a silane coupling agent (KBM-503) to obtain an adhesion amount of 0.2% by mass, thereby obtaining a treated quartz glass cloth.

[실시예 5][Example 5]

실시예 1과 마찬가지로 글라스 클로스를 조제하고, 0.05질량%의 부착량이 되도록 실란 커플링제(KBM-503)로 처리하여, 처리 석영 유리 클로스를 얻었다A glass cloth was prepared in the same manner as in Example 1, and treated with a silane coupling agent (KBM-503) to obtain an adhesion amount of 0.05% by mass, thereby obtaining a treated quartz glass cloth.

[비교예 1][Comparative Example 1]

연화점이 800℃이며, SiO2 함유량이 53질량%의 E 유리 섬유를 사용하는 이외는, 실시예 1과 마찬가지로, 글라스 클로스를 조제하고, 0.1질량%의 부착량이 되도록 실란 커플링제(KBM-503)로 처리하여, 처리 석영 유리 클로스를 얻었다A glass cloth was prepared in the same manner as in Example 1, except that E glass fiber with a softening point of 800°C and a SiO 2 content of 53% by mass was used, and a silane coupling agent (KBM-503) was added to provide an adhesion amount of 0.1% by mass. By treating with, a treated quartz glass cloth was obtained.

[비교예 2][Comparative Example 2]

SiO2 함유량이 99.9질량%이며, Si-OH의 양이 1,000ppm보다 큰 석영 유리 섬유를 사용하는 이외는, 실시예 1과 마찬가지로, 글라스 클로스를 조제하고, 0.1질량%의 부착량이 되도록 실란 커플링제(KBM-503)로 처리하여, 처리 석영 유리 클로스를 얻었다. A glass cloth was prepared in the same manner as in Example 1, except that quartz glass fibers with a SiO 2 content of 99.9% by mass and a Si-OH amount of more than 1,000ppm were used, and a silane coupling agent was added so that the adhesion amount was 0.1% by mass. (KBM-503) to obtain a treated quartz glass cloth.

[비교예 3][Comparative Example 3]

SiO2 함유량이 99.9질량%이며, Si-OH의 양이 1,000ppm 미만의 석영 유리 섬유를 사용하는 이외는, 실시예 1과 마찬가지로, 글라스 클로스를 조제하고, 1.0질량%의 부착량이 되도록 실란 커플링제(KBM-503)로 처리하여, 처리 석영 유리 클로스를 얻었다. A glass cloth was prepared in the same manner as in Example 1, except that quartz glass fibers with a SiO 2 content of 99.9% by mass and a Si-OH amount of less than 1,000ppm were used, and a silane coupling agent was added so that the adhesion amount was 1.0% by mass. (KBM-503) to obtain a treated quartz glass cloth.

[비교예 4][Comparative Example 4]

실시예 1과 동일한 SiO2 함유량이 99.9질량%이며, Si-OH의 양이 1,000ppm 미만의 석영 유리를 사용하여 글라스 클로스를 조제했다(실란 커플링제 미처리). A glass cloth was prepared using the same quartz glass as in Example 1 with a SiO 2 content of 99.9% by mass and a Si-OH amount of less than 1,000 ppm (untreated with a silane coupling agent).

실시예 1∼5에 나타낸 바와 같이, 본원발명의 유리 섬유로 이루어지는 글라스 클로스는 10GHz∼40GHz의 유전탄젠트가 0.002 미만이며, 40GHz와 10GHz의 비가 2.0 미만이었다. As shown in Examples 1 to 5, the dielectric tangent of the glass cloth made of glass fiber of the present invention was less than 0.002 from 10 GHz to 40 GHz, and the ratio between 40 GHz and 10 GHz was less than 2.0.

비교예 1에 나타내는 바와 같이, 연화점이 800℃의 유리 섬유를 사용한 경우는, 10GHz∼40GHz의 유전탄젠트가 0.002보다 컸다. As shown in Comparative Example 1, when glass fiber with a softening point of 800°C was used, the dielectric tangent at 10 GHz to 40 GHz was greater than 0.002.

비교예 2에 나타내는 바와 같이, 연화점이 990℃, 실라놀량이 1,000ppm보다 큰 유리 섬유를 사용한 경우는, 10GHz의 유전탄젠트는 0.002 미만이었지만, 40GHz의 유전탄젠트는 0.002보다 컸다. As shown in Comparative Example 2, when glass fibers with a softening point of 990°C and a silanol content of more than 1,000 ppm were used, the dielectric tangent at 10 GHz was less than 0.002, but the dielectric tangent at 40 GHz was greater than 0.002.

비교예 3에 나타내는 바와 같이, 연화점이 1,200℃, 실라놀량이 1,000ppm 미만의 유리 섬유를 사용하고, 실란 처리제의 부착량이 1.0질량%인 것은 10GHz의 유전탄젠트는 0.002 미만이었지만, 40GHz의 유전탄젠트는 0.002보다 컸다. As shown in Comparative Example 3, when glass fibers with a softening point of 1,200°C and a silanol content of less than 1,000 ppm were used and the adhesion amount of the silane treatment agent was 1.0 mass%, the dielectric tangent at 10 GHz was less than 0.002, but the dielectric tangent at 40 GHz was It was greater than 0.002.

비교예 4에 나타내는 바와 같이, 연화점이 1,200℃, 실라놀량이 1,000ppm 미만의 유리 섬유를 사용하고, 실란 처리제의 부착량이 0%인 것은 가공성이 나빴다. As shown in Comparative Example 4, the processability was poor when glass fibers with a softening point of 1,200°C and a silanol content of less than 1,000 ppm were used and the adhesion amount of the silane treatment agent was 0%.

Claims (5)

연화점이 1,000∼1,600℃이며, Si-OH기의 양이 1,000ppm 미만의 유리 섬유로 이루어지는 글라스 클로스에, 실란 커플링제를 글라스 클로스에 대하여 0.001질량% 이상 1.0질량% 미만으로 부착시킨 글라스 클로스.A glass cloth made of glass fiber with a softening point of 1,000 to 1,600°C and an amount of Si-OH groups of less than 1,000 ppm, with a silane coupling agent attached to the glass cloth in an amount of 0.001% by mass or more and less than 1.0% by mass. 제1항에 있어서, 10GHz부터 40GHz까지의 유전탄젠트가 0.002 이하이며, 40GHz/10GHz의 유전탄젠트비가 2.0 이하인 글라스 클로스.The glass cloth according to claim 1, wherein the dielectric tangent from 10 GHz to 40 GHz is 0.002 or less, and the dielectric tangent ratio of 40 GHz/10 GHz is 2.0 or less. 제1항 또는 제2항에 있어서, 유리 섬유 중의 SiO2량이 99.9질량% 이상인 글라스 클로스.The glass cloth according to claim 1 or 2, wherein the amount of SiO 2 in the glass fibers is 99.9% by mass or more. 제1항 또는 제2항에 있어서, 두께가 200㎛ 이하인 글라스 클로스.The glass cloth according to claim 1 or 2, wherein the glass cloth has a thickness of 200 μm or less. 제1항 또는 제2항에 있어서, 단위면적당의 질량이 4∼300g/m2인 글라스 클로스.The glass cloth according to claim 1 or 2, wherein the mass per unit area is 4 to 300 g/m 2 .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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