JP7480802B2 - Glass fiber and its manufacturing method, as well as glass cloth, prepreg for circuit boards, and printed wiring board - Google Patents

Glass fiber and its manufacturing method, as well as glass cloth, prepreg for circuit boards, and printed wiring board Download PDF

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Description

本発明は、誘電正接に優れるガラス繊維及びその製造方法、このガラス繊維を用いたガラスクロス、基板用プリプレグ及びプリント配線基板に関するものである。 The present invention relates to glass fibers with excellent dielectric tangents and their manufacturing method, as well as glass cloth, substrate prepregs, and printed wiring boards that use the glass fibers.

現在、スマートフォン等の情報端末の高性能化、高速通信化に伴い、使用されるプリント配線板において、高密度化、極薄化とともに、低誘電化、低誘電正接化が著しく進行している。このプリント配線板の絶縁材料としては、ガラスクロスをエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂(以下、「マトリックス樹脂」という。)に含浸させて得られるプリプレグを積層して加熱加圧硬化させた積層板が広く使用されている。基板における信号の伝送ロスは、Ed wardA.Wolff式:伝送損失∝√ε×tanδ、が示すように、誘電率(ε)及び誘電正接(tanδ)が小さい材料ほど改善されることが知られており、特に上記の式より、伝送損失に対しては誘電正接の寄与が大きいことが知られている。そのため、ガラスクロスにおいては低い誘電正接が求められ、Dガラス、NEガラス、Lガラス、Qガラス等の誘電特性が向上されたガラスクロスが提案されている(特許文献1~4)。しかしながら、今後の5G通信用用途等において十分な伝送速度性能を達成する観点から、これら低誘電率・低誘電正接に優れる低誘電特性ガラスクロスでもなお改善の必要性がある。 Currently, with the high performance and high-speed communication of information terminals such as smartphones, the printed wiring boards used are becoming increasingly dense and extremely thin, as well as becoming lower in dielectric constant and dielectric loss tangent. As an insulating material for these printed wiring boards, laminates are widely used in which prepregs obtained by impregnating glass cloth with thermosetting resins such as epoxy resins (hereinafter referred to as "matrix resins") are laminated and heated and pressurized to harden. It is known that the transmission loss of signals in a board is improved as the dielectric constant (ε) and dielectric loss tangent (tanδ) of the material are smaller, as shown by the Edward A. Wolff formula: transmission loss ∝√ε×tanδ, and it is known that the dielectric loss tangent contributes more to the transmission loss, particularly from the above formula. For this reason, a low dielectric loss tangent is required for glass cloth, and glass cloths with improved dielectric properties such as D glass, NE glass, L glass, and Q glass have been proposed (Patent Documents 1 to 4). However, in order to achieve sufficient transmission speed performance in future applications such as 5G communications, there is still a need to improve on these low dielectric glass cloths, which have excellent low dielectric constants and low dielectric tangents.

通常、ガラスクロスは巻取時や製織時等の機械的な磨耗による毛羽や糸切れの発生を防止するため、ガラス繊維束の紡糸時や整経時にサイズ剤で被覆処理が施される。ところが、ガラスクロス製造の最終工程では積層板に使用されるマトリックス樹脂との接着性を高める目的でシラン処理が施されるため、サイズ剤がガラスクロス上に残っていると、シランカップリング剤とガラスクロスとの接着性が悪化する。そのため、通常、シラン処理前に加熱分解処理、いわゆるヒートクリーニング処理によってサイズ剤を完全に除去することが行われている。 Normally, glass cloth is coated with a sizing agent when spinning or warping the glass fiber bundles to prevent fuzzing or thread breakage caused by mechanical wear during winding or weaving. However, in the final process of glass cloth production, a silane treatment is performed to improve adhesion with the matrix resin used in the laminate. If the sizing agent remains on the glass cloth, the adhesion between the silane coupling agent and the glass cloth will deteriorate. For this reason, the sizing agent is usually completely removed by a thermal decomposition treatment, known as a heat cleaning treatment, before the silane treatment.

ヒートクリーニング後にサイズ剤がガラスクロスに残存する場合、ガラスクロスへのシランカップリング剤処理が不十分になり、樹脂との接着不良や、残存したサイズ剤によって誘電特性が悪化するため、ヒートクリーニング処理は重要であるものの、ヒートクリーニング工程のガラスクロスの誘電正接への影響についての検討はなされていない。 If sizing agent remains on the glass cloth after heat cleaning, the silane coupling agent treatment on the glass cloth will be insufficient, resulting in poor adhesion with the resin and deterioration of the dielectric properties due to the remaining sizing agent. Therefore, although heat cleaning processing is important, no study has been conducted on the effect of the heat cleaning process on the dielectric tangent of the glass cloth.

特開平5-170483号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-170483 特開2009-263569号公報JP 2009-263569 A 特開2009-19150号公報JP 2009-19150 A 特開2006-282401号公報JP 2006-282401 A

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、ガラス本来の低誘電正接を有するヒートクリーニングされたガラス繊維を提供することを目的とする。 The present invention was made in consideration of the above problems, and aims to provide heat-cleaned glass fibers that have the inherent low dielectric tangent of glass.

既存のヒートクリーニング工程ではガス炉が用いられており、都市ガス等の燃焼を熱源としていることから、生成物として大量の二酸化炭素と水が生じる。ガラスクロスは50%以上がSiO2でありガラスは表面のSi-OH基は活性が強い。特に高温雰囲気では水分を水素結合で取り込み、Si-O-Si結合を開裂させることでSi-OH基が生じると考えられる(SiO2+H2O→Si-OH)。 Existing heat cleaning processes use gas furnaces, which use the combustion of city gas as a heat source, resulting in large amounts of carbon dioxide and water. Glass cloth is more than 50% SiO2 , and the Si-OH groups on the surface of glass are highly active. It is believed that moisture is absorbed through hydrogen bonds, particularly in high-temperature atmospheres, and Si-OH groups are generated by cleaving Si-O-Si bonds ( SiO2 + H2O → Si-OH).

本発明者らは、Si-OH基を減少させることでガラス繊維の誘電正接が減少しており、Si-OH基と誘電正接は相関があるとの知見を見出した。ガラス組成中のSiO2の割合が55質量%以上だと、ヒートクリーニング工程での水分によるSi-O-Si結合の開裂によって誘電正接が上昇していると考えられる。特にSiO2の割合が95質量%以上のガラス繊維ではこの傾向が顕著になることを見出した。本発明者らはこのような事情を見出し、鋭意検討を重ねた結果、ヒートクリーニング工程において水分を発生させない発熱機構を持った加熱炉を用いることで、誘電正接の悪化を抑制しつつ、サイズ剤を除去することで、低誘電正接を有するガラス本来の誘電正接を有したガラス繊維を提供できることを見出した。これをシラン処理したシラン処理ガラス繊維も、低誘電正接を有するシラン処理ガラス繊維であった。 The present inventors have found that the dielectric tangent of glass fiber is reduced by reducing the number of Si-OH groups, and that there is a correlation between the Si-OH groups and the dielectric tangent. It is considered that when the proportion of SiO 2 in the glass composition is 55% by mass or more, the dielectric tangent increases due to the cleavage of Si-O-Si bonds by moisture in the heat cleaning process. It has been found that this tendency is particularly prominent in glass fibers with a proportion of SiO 2 of 95% by mass or more. The present inventors have found this situation and, as a result of repeated intensive studies, have found that by using a heating furnace having a heat generating mechanism that does not generate moisture in the heat cleaning process, it is possible to provide glass fibers having the dielectric tangent inherent to glass having a low dielectric tangent by removing the sizing agent while suppressing the deterioration of the dielectric tangent. The silane-treated glass fibers obtained by silane-treating this are also silane-treated glass fibers having a low dielectric tangent.

従って、本発明は下記発明を提供する。
1.サイズ剤をヒートクリーニングした、SiO2組成量が55質量%以上であるガラス繊維であって、10GHzでの誘電正接が0.0016以下、サイズ剤由来の残存炭素含有量が0.1質量%以下であるガラス繊維。
2.前記ガラス繊維の40GHzにおける誘電正接が、0.0020以下である1記載のガラス繊維。
3.前記ガラス繊維がSiO2組成量95質量%以上のQガラスである1記載のガラス繊維。
4.前記ガラス繊維のSi-OH含有量が10,000ppm以下である1記載のガラス繊維。
5.1記載のガラス繊維をシラン処理した、シラン処理ガラス繊維。
6.揮発分が0.5質量%以下である5記載のシラン処理ガラス繊維。
7.ガラス繊維に対するシランカップリング剤の付着量が0.02~0.5質量%である、6記載のシラン処理ガラス繊維。
8.シラン処理前に対するシラン処理後の10GHzでの誘電正接が2倍以下である、5記載のシラン処理ガラス繊維。
9.シラン処理前に対するシラン処理後の40GHzでの誘電正接が2倍以下である、5記載のシラン処理ガラス繊維。
10.1~9のいずれかに記載のガラス繊維を含有するプリント基板用プリプレグ。
11.1~9のいずれかに記載のガラス繊維を用いたプリント配線基板。
12.サイズ剤処理された、SiO2組成量が55質量%以上のガラス繊維を、単位発熱量(1,000kcal)当たりに生じる水の量が0.12L以下であり、300~600℃に加熱された気体により、ヒートクリーニングする工程を含む、1~9のいずれかに記載のガラス繊維を製造する製造方法。
13.ヒートクリーニングする工程前後において、10GHzの誘電正接の変化比が0.7~1.3である12記載の製造方法。
14.ヒートクリーニングする工程前後において、40GHzの誘電正接の変化比が0.7~1.3である12記載の製造方法。
Therefore, the present invention provides the following inventions.
1. A glass fiber having a SiO2 composition of 55% by mass or more, in which the sizing agent has been heat-cleaned, a dielectric tangent at 10 GHz of 0.0016 or less, and a residual carbon content derived from the sizing agent of 0.1% by mass or less.
2. The glass fiber according to 1, wherein the glass fiber has a dielectric loss tangent of 0.0020 or less at 40 GHz.
3. The glass fiber according to 1, wherein the glass fiber is Q glass having an SiO2 composition of 95 mass % or more.
4. The glass fiber according to 1, wherein the Si—OH content of the glass fiber is 10,000 ppm or less.
5. Silane-treated glass fiber obtained by treating the glass fiber according to 1 with silane.
6. The silane-treated glass fiber according to 5, having a volatile content of 0.5 mass% or less.
7. The silane-treated glass fiber according to 6, wherein the amount of the silane coupling agent attached to the glass fiber is 0.02 to 0.5% by mass.
8. The silane-treated glass fiber according to 5, wherein the dielectric loss tangent at 10 GHz after the silane treatment is at most twice that before the silane treatment.
9. The silane-treated glass fiber according to 5, wherein the dielectric loss tangent at 40 GHz after the silane treatment is not more than twice that before the silane treatment.
10. A prepreg for printed circuit boards containing the glass fiber according to any one of 1 to 9.
11. A printed wiring board using the glass fiber according to any one of 1 to 9.
12. A method for producing the glass fiber according to any one of 1 to 9, comprising a step of heat cleaning the sizing-treated glass fiber having an SiO2 composition of 55 mass% or more with a gas heated to 300 to 600°C, in which the amount of water generated per unit heat value (1,000 kcal) is 0.12 L or less.
13. The method according to 12, wherein the change ratio of the dielectric tangent at 10 GHz before and after the heat cleaning step is 0.7 to 1.3.
14. The method according to 12, wherein the change ratio of the dielectric tangent at 40 GHz before and after the heat cleaning step is 0.7 to 1.3.

本発明によれば、低誘電正接を有するサイズ剤をヒートクリーニングしたガラス繊維を得ることができ、今後増えていく5G等の高速通信等に用いられる基板の伝送損失を抑えることができるという著大な効果を有する。 The present invention makes it possible to obtain glass fibers by heat cleaning a sizing agent with a low dielectric tangent, which has the remarkable effect of suppressing transmission loss in substrates used in high-speed communications such as 5G, which will become more common in the future.

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明のガラス繊維は、サイズ剤をヒートクリーニングした、SiO2組成量が55質量%以上であるガラス繊維であって、10GHzでの誘電正接が0.0016以下、サイズ剤由来の残存炭素含有量が0.1質量%以下であるガラス繊維である。なお、ガラス繊維とは、フィラメント、ストランド、チョップドストランド、ヤーン、平織りクロス、朱子織クロス、扁平クロス、不織布等のガラスクロスも含むものをいう。
The present invention will be described in detail below.
The glass fiber of the present invention is a glass fiber in which the sizing agent has been heat-cleaned, the SiO2 composition amount is 55 mass% or more, the dielectric tangent at 10 GHz is 0.0016 or less, and the residual carbon content derived from the sizing agent is 0.1 mass% or less. Note that the glass fiber also includes glass cloth such as filament, strand, chopped strand, yarn, plain weave cloth, satin weave cloth, flat cloth, and nonwoven fabric.

本発明の本発明のガラス繊維は、ガラスをサイズ剤で被覆処理した後、ヒートクリーニングによりサイズ剤を除去したものである。サイズ剤で被覆処理前のガラス及びヒートクリーニング処理されたガラス繊維は、SiO2が55質量%以上のものであり、95質量%以上のQガラスが好ましく、99.9質量%以上のQガラスがより好ましい。 The glass fiber of the present invention is obtained by coating glass with a sizing agent and then removing the sizing agent by heat cleaning. The glass before coating with a sizing agent and the glass fiber after heat cleaning have SiO2 of 55 mass% or more, preferably 95 mass% or more of Q glass, and more preferably 99.9 mass% or more of Q glass.

本発明のヒートクリーニング処理されたガラス繊維中の10GHzでの誘電正接、後述するシラン処理する場合、シラン処理する前の10GHzでの誘電正接は、0.0016以下であり、0.0010以下が好ましく、0.0008以下がより好ましい。また、40GHzでの誘電正接は0.0020以下が好ましく、0.0018以下がより好ましく、0.0015以下がさらに好ましい。誘電正接の測定方法は後述する実施例の記載に基づくものである。 The dielectric loss tangent at 10 GHz in the heat-cleaned glass fiber of the present invention, or the dielectric loss tangent at 10 GHz before the silane treatment described below, is 0.0016 or less, preferably 0.0010 or less, and more preferably 0.0008 or less. The dielectric loss tangent at 40 GHz is preferably 0.0020 or less, more preferably 0.0018 or less, and even more preferably 0.0015 or less. The method for measuring the dielectric loss tangent is based on the description of the examples described below.

本発明のヒートクリーニング処理されたガラス繊維中の、サイズ剤由来の残存炭素含有量の炭素含有量、後述するシラン処理する場合、シラン処理する前の炭素含有量は、0.1質量%以下であり、0.06質量%以下が好ましく、0.03質量%以下がより好ましく、0質量%でもよい。なお、サイズ剤由来残存炭素量の測定方法は、炭素分析装置を用いた後述する実施例の記載に基づくものである。サイズ剤由来の残存炭素含有量を0.1%にする方法としては水洗によるサイズ剤の除去やヒートクリーニングによる除去が挙げられるが、毛羽の発生を抑え均一にサイズ剤を除去する観点から、ヒートクリーニングによる方法が好ましい。 In the heat-cleaned glass fiber of the present invention, the carbon content of the residual carbon derived from the sizing agent, that is, the carbon content before the silane treatment described below, is 0.1% by mass or less, preferably 0.06% by mass or less, more preferably 0.03% by mass or less, and may be 0% by mass. The method for measuring the amount of residual carbon derived from the sizing agent is based on the description of the examples described below using a carbon analyzer. Methods for reducing the residual carbon content derived from the sizing agent to 0.1% include removing the sizing agent by washing with water and removing it by heat cleaning, but from the viewpoint of suppressing the generation of fluff and removing the sizing agent uniformly, the method using heat cleaning is preferred.

本発明のヒートクリーニング処理されたガラス繊維中のSi-OH含有量は、10,000ppm(質量)以下が好ましく、8,500ppm以下がより好ましく、7,500ppm以下がさらに好ましく、0ppmでもよい。なお、ガラス繊維中のSi-OH含有量の測定方法は、後述する実施例の記載に基づくものである。 The Si-OH content in the heat-cleaned glass fiber of the present invention is preferably 10,000 ppm (by mass) or less, more preferably 8,500 ppm or less, even more preferably 7,500 ppm or less, and may be 0 ppm. The method for measuring the Si-OH content in the glass fiber is based on the description in the examples described below.

[ガラス繊維の製造方法]
ガラスフィラメントの製造方法としては特に限定はされないが、規定のガラス組成インゴットを加熱延伸する方法や熔融して熔融ガラスとした後、ブッシングによって糸状に成形する方法が挙げられる。特にSiO2の割合が95質量%以上になると溶融する温度が高くなり、ブッシングによる延伸が難しくなるので酸水素バーナーによる加熱延伸が好まれる。
[Method of manufacturing glass fibers]
The method for producing the glass filament is not particularly limited, but includes a method of heating and drawing an ingot of a specified glass composition, and a method of melting the ingot to obtain molten glass and then forming the glass into a filament shape using a bushing. In particular, when the proportion of SiO2 is 95 mass% or more, the melting temperature becomes high and drawing using a bushing becomes difficult, so heating and drawing using an oxyhydrogen burner is preferred.

延伸されたガラスフィラメントの表面に集束剤を塗布し、束ねることによりガラスストランドを形成できる。集束剤は澱粉を主原料とし、機能性付与のため、柔軟剤や潤滑剤を配合することができ、集束剤組成物は一般にサイズ剤と呼称される。サイズ剤処理は公知の方法を用いることができ、サイズ剤の種類、サイズ剤処理の方法は特に限定されず、毛羽、糸切れが生じにくい方法を適宜選定する。サイズ剤処理により、毛羽、糸切れが軽減される。処理方法としては、浸漬法、ローラー式又はベルト式のアプリケーター、噴霧法等が挙げられる。得られたガラスストランドに撚りをかけることでガラスヤーンが得られる。撚りの頻度としては、25mmあたり0.1~5.0回が好ましい。 Glass strands can be formed by applying a bundling agent to the surface of the drawn glass filaments and bundling them. The bundling agent is made mainly from starch, and softeners and lubricants can be added to impart functionality. The bundling agent composition is generally called a sizing agent. Sizing can be performed using known methods. There are no particular restrictions on the type of sizing agent or the method of sizing, and a method that is less likely to cause fluff or thread breakage is appropriately selected. Sizing reduces fluff and thread breakage. Examples of processing methods include immersion, roller or belt applicators, and spraying. Glass yarn is obtained by twisting the obtained glass strands. The twisting frequency is preferably 0.1 to 5.0 times per 25 mm.

ガラスクロスはガラスヤーンを製織することで得られる。ガラスクロスは、特に限定されないが、目付量が10~100g/m3のものが好適に用いられる。製織方法は、特に限定はされないが、例えば、エアージェット織機、ウォータージェット織機、レピア織機、シャトル織機等による製織方法が挙げられる。エアージェット織機等で製織を行う場合は、さらに潤滑性を得るために、PVA(ポリビニルアルコール)や澱粉を二次サイズ剤として付着させることができる。 Glass cloth is obtained by weaving glass yarn. The glass cloth is not particularly limited, but one having a basis weight of 10 to 100 g/ m3 is preferably used. The weaving method is not particularly limited, but examples thereof include weaving methods using an air jet loom, a water jet loom, a rapier loom, a shuttle loom, etc. When weaving is performed using an air jet loom, etc., PVA (polyvinyl alcohol) or starch can be attached as a secondary sizing agent to further obtain lubricity.

[ガラス繊維のヒートクリーニング方法]
上記のようなヒートクリーニング処理されたガラス繊維を得る製造方法としては、サイズ剤処理されたガラス繊維を、単位発熱量(1,000kcal)当たりに生じる水の量が0.12L以下であり、300~600℃に加熱された気体により、ヒートクリーニングする工程を含むものが挙げられる。
[Heat cleaning method for glass fiber]
A manufacturing method for obtaining the above-mentioned heat-cleaned glass fiber includes a process for heat-cleaning the sizing-treated glass fiber with a gas heated to 300 to 600° C., in which the amount of water generated per unit heat value (1,000 kcal) is 0.12 L or less.

単位発熱量(1,000kcal)当たりに生じる水の量が0.12L以下であり、300~600℃に加熱された気体により、ヒートクリーニングする具体的方法は特に限定されない。単位発熱量(1,000kcal)当たりに生じる水の量は0.12L以下であり、0.10L未満が好ましい。温度は300~600℃が好ましく、400~600℃がより好ましい。このような範囲であれば長時間加熱する必要がなく、十分にサイズ剤を除去できる。温度が600℃を超えると強度に影響を及ぼすおそれがある。つまり、温度の調整により、ガラス本来の低誘電正接を有すると共に、強度に優れたガラス繊維が得られる。ヒートクリーニング時間に関して時間は加熱温度によって異なり、5~100時間が好ましく、12~72時間がより好ましく、30~72時間がさらに好ましい。また加熱炉の酸素が不足し、サイズ剤が炭化して黒変する場合は必要に応じてダンパの開閉等によって酸素を取り込んでもよい。 The amount of water generated per unit calorific value (1,000 kcal) is 0.12 L or less, and the specific method of heat cleaning using gas heated to 300 to 600 °C is not particularly limited. The amount of water generated per unit calorific value (1,000 kcal) is 0.12 L or less, and preferably less than 0.10 L. The temperature is preferably 300 to 600 °C, and more preferably 400 to 600 °C. If the temperature is within this range, there is no need to heat for a long time, and the sizing agent can be sufficiently removed. If the temperature exceeds 600 °C, there is a risk of affecting the strength. In other words, by adjusting the temperature, it is possible to obtain glass fibers that have the inherent low dielectric tangent of glass and have excellent strength. The time for heat cleaning varies depending on the heating temperature, and is preferably 5 to 100 hours, more preferably 12 to 72 hours, and even more preferably 30 to 72 hours. In addition, if there is a shortage of oxygen in the heating furnace and the sizing agent carbonizes and turns black, oxygen may be taken in by opening and closing a damper, etc. as necessary.

単位発熱量(1,000kcal)当たりに生じる水の量が0.12L以下となるような発熱機構を有する装置としては、このような発熱機構を有していれば、特に限定されず、電気炉、マッフル炉、レーザー加熱等で、上記が可能な発熱機構を有する加熱炉を含む装置が挙げられる。特に、電気炉は燃焼を伴わないため、気体中の水の量を0.12L以下、0.1L未満、0.10L未満、0Lとすることができる。例えば、都市ガスを燃焼源としたガス炉を用いた場合、単位発熱量(1,000kcal)当たりに生じる水の量が0.16Lとなる。 As long as the device has such a heat generating mechanism, the amount of water generated per unit heat value (1,000 kcal) is 0.12 L or less, and is not particularly limited, so long as it has such a heat generating mechanism, and examples of such devices include electric furnaces, muffle furnaces, laser heating, and other devices that include heating furnaces with heat generating mechanisms that are capable of the above. In particular, since electric furnaces do not involve combustion, the amount of water in the gas can be 0.12 L or less, less than 0.1 L, less than 0.10 L, or 0 L. For example, when using a gas furnace that uses city gas as the combustion source, the amount of water generated per unit heat value (1,000 kcal) is 0.16 L.

ヒートクリーニングする工程前後において、10GHz及び40GHzでの誘電正接の変化比は、0.7~1.3が好ましく、0.9~1.1がより好ましい。なお、10GHz及び40GHzでの誘電正接の変化比は後述する実施例の記載に基づくものである。 The change ratio of the dielectric tangent at 10 GHz and 40 GHz before and after the heat cleaning process is preferably 0.7 to 1.3, and more preferably 0.9 to 1.1. The change ratio of the dielectric tangent at 10 GHz and 40 GHz is based on the description of the examples described later.

ヒートクリーニングする工程後、シラン処理する前のガラス繊維の引張強度は、JISR 3420の引張強さの測定方法において、0.05GPa以上が好ましく、0.1GPa以上がより好ましい。上限は特に限定されないが、0.5GPa以下とすることもできる。 The tensile strength of the glass fiber after the heat cleaning process and before the silane treatment is preferably 0.05 GPa or more, more preferably 0.1 GPa or more, as measured by the tensile strength measurement method of JIS R 3420. There is no particular upper limit, but it can be 0.5 GPa or less.

[シラン処理ガラス繊維]
本発明のヒートクリーニング処理されたガラス繊維は、シラン処理をしたシラン処理ガラス繊維とすることができる。シラン処理液に関しては特に限定はされないが、生産性や環境負荷の観点から、シランカップリング剤を0.05~1質量%に分散させた水溶液が好適である。シランカップリング剤の種類に応じて、pHを調整して分散させることができる。pHの調整方法としては特に限定されないが使用するシランカップリング剤に合わせて酢酸やアンモニアによる調整が好ましい。
[Silane-treated glass fiber]
The glass fiber subjected to the heat cleaning treatment of the present invention can be a silane-treated glass fiber. The silane treatment liquid is not particularly limited, but from the viewpoint of productivity and environmental burden, an aqueous solution in which a silane coupling agent is dispersed at 0.05 to 1 mass % is preferable. The pH can be adjusted according to the type of silane coupling agent to be dispersed. The method of adjusting the pH is not particularly limited, but adjustment with acetic acid or ammonia is preferable according to the silane coupling agent used.

シランカップリング剤としては、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルメチルビニルエトキシシラン、ナフチルトリメトキシシラン、ナフチルトリエトキシシラン、1,4-ビス(メトキシジメチルシリル)ベンゼン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、1,6-ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、p-スチリルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルジエトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(ビニルベンジル)-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン及びその塩酸塩、N-(ビニルベンジル)-2-アミノエチル-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン及びその塩酸塩、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、トリス-(トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレート、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、3-クロロプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、ビス(トリスエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド等のアルコキシシラン化合物が挙げられ、1種あるいは2種以上混合して使用してもよい。その中でも、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン等が好ましい。シランカップリング剤はこれらに限定されるものではなく、1種単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。 Silane coupling agents include trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane, methylphenyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, trimethoxysilane, triethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenylmethylvinylethoxysilane, naphthyltrimethoxysilane, naphthyltriethoxysilane, 1,4-bis(methoxydimethylsilyl)benzene, tetramethoxysilane, tetramethyl ... p-ethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, 1,6-bis(trimethoxysilyl)hexane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, Cyclohexyl)ethylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyldiethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltriethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldiethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(vinylbenzyl)-2 -aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane and its hydrochloride, N-(vinylbenzyl)-2-aminoethyl-3-aminopropylmethyldimethoxysilane and its hydrochloride, 3-isocyanatepropyltriethoxysilane, tris-(trimethoxysilylpropyl)isocyanurate, 3-ureidopropyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, bis(trisethoxysilylpropyl)tetrasulfide and other alkoxysilane compounds may be used alone or in combination of two or more. Among these, 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(2-(aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, etc. are preferred. The silane coupling agent is not limited to these, and one type may be used alone or two or more types may be used in combination.

シラン処理液の塗布方法に関して特に限定はされないが、シラン処理液中にガラス繊維を浸透させる方法、ロールコートによる処理等が挙げられる。シラン処理液の乾燥方法としては、特に制限されないが、熱風乾燥、赤外線、ホットロールによる乾燥方法が挙げられる。乾燥温度に関しては、例えば80~180℃から適宜選定され、より水分を蒸発させ、シランカップリング剤とガラス繊維表面のSi-OH基を反応させる点から、90~150℃が好ましい。このような範囲であれば、ガラス繊維の表面にシランカップリング剤が分散し、シランカップリング剤とガラス繊維表面のSi-OH基が好ましく反応する。80℃未満だと、シラン処理液の水が蒸発しないだけでなく、シランカップリング剤とガラス繊維表面のSi-OH基が反応せず誘電正接の悪化に加え、プリント配線板とした際にアウトガスとして水やアルコールが生じて膨れとなって信頼性に悪影響を与えるおそれがある。ここでいうアルコールとは、シランカップリング剤由来のものであり主にメタノールやエタノールである。180℃を超えると、急速にシランカップリング剤とガラス繊維表面のSi-OH基とが反応することによってガラス繊維に均一にシラン処理が行えないだけではなく、シランカップリング剤の炭化水素が急速に酸化されて誘電正接に悪影響を及ぼすおそれがある。 The method of applying the silane treatment liquid is not particularly limited, but examples include a method of permeating glass fibers into the silane treatment liquid and treatment by roll coating. The method of drying the silane treatment liquid is not particularly limited, but examples include hot air drying, infrared rays, and drying by hot rolls. The drying temperature is appropriately selected from, for example, 80 to 180°C, and 90 to 150°C is preferable in terms of evaporating more water and reacting the silane coupling agent with the Si-OH group on the surface of the glass fiber. In this range, the silane coupling agent is dispersed on the surface of the glass fiber, and the silane coupling agent and the Si-OH group on the surface of the glass fiber react favorably. If the temperature is less than 80°C, not only will the water in the silane treatment liquid not evaporate, but the silane coupling agent will not react with the Si-OH group on the surface of the glass fiber, and in addition to worsening the dielectric tangent, water and alcohol will be generated as outgassing when the printed wiring board is made, causing swelling and adversely affecting reliability. The alcohol referred to here is derived from the silane coupling agent and is mainly methanol or ethanol. If the temperature exceeds 180°C, not only will the silane coupling agent react rapidly with the Si-OH groups on the surface of the glass fiber, preventing uniform silane treatment of the glass fiber, but the hydrocarbons in the silane coupling agent will be rapidly oxidized, which may adversely affect the dielectric tangent.

乾燥時間に関してはシラン処理液の濃度によって適宜変更できるが30秒~30分が好ましく、1~10分がより好まし。このような範囲であればシラン処理液の水分を除去し、シランカップリング剤とガラス繊維表面のSi-OH基が好ましく反応する。 The drying time can be appropriately changed depending on the concentration of the silane treatment solution, but is preferably 30 seconds to 30 minutes, more preferably 1 to 10 minutes. Within such a range, the moisture in the silane treatment solution is removed, and the silane coupling agent and the Si-OH group on the glass fiber surface react favorably.

シラン処理ガラス繊維の水やアルコールの揮発分は0.5質量以下が好ましく、0.3質量%以下がより好ましく、0.2質量%以下がさらに好ましく、0.1質量%が特に好ましい。このような揮発分にするためには、シラン処理後の乾燥工程を調整すればよい。なお、揮発分の測定方法は、実施例に記載の方法である。特に、SiO2の割合が95質量%以上のガラス本来の誘電正接はガラスに含まれるSi-OH量にもよるが、10GHzで1.0×10-4オーダーであり、合成石英等よりSi-OH量の少ないものは1.0×10-5オーダーのものも存在する。また、SiO2の割合が高いガラス繊維に関しては、誘電正接がSi-OH基の量によって顕著に影響を受け、後工程のシラン処理での適切量のシランカップリング剤での処理を行わなければ、過剰量のカップリング剤によるSi-OH基、SiOMe基やSiOEt基自体が誘電正接に悪影響を与えるだけでなく、それらの官能基が生じる水やアルコールが、ガラス繊維の誘電正接及び信頼性に大きな影響を与えることを見出した。すなわち、シラン処理後のガラス繊維を乾燥させた際に生じる水やアルコールの揮発分の発生量を、ガラス繊維に対して0.5質量%以下にすることで、ガラス本来の誘電正接をより有したまま、シラン処理ガラス繊維を提供できることを見出した。 The volatile content of water or alcohol in the silane-treated glass fiber is preferably 0.5 mass% or less, more preferably 0.3 mass% or less, even more preferably 0.2 mass% or less, and particularly preferably 0.1 mass%. In order to obtain such a volatile content, the drying process after the silane treatment may be adjusted. The method for measuring the volatile content is the method described in the Examples. In particular, the inherent dielectric tangent of glass having a proportion of SiO 2 of 95 mass% or more depends on the amount of Si-OH contained in the glass, but is on the order of 1.0×10 −4 at 10 GHz, and there are some with a smaller amount of Si-OH than synthetic quartz, etc., on the order of 1.0×10 −5 . In addition, it was found that the dielectric tangent of glass fibers with a high proportion of SiO 2 is significantly affected by the amount of Si-OH groups, and that unless treatment is performed with an appropriate amount of silane coupling agent in the subsequent silane treatment, not only will the Si-OH groups, SiOMe groups, and SiOEt groups themselves due to an excessive amount of coupling agent have a negative effect on the dielectric tangent, but the water and alcohol from which these functional groups are generated will have a significant effect on the dielectric tangent and reliability of the glass fiber. That is, the inventors have found that by controlling the amount of volatile water and alcohol generated when drying glass fibers after silane treatment to 0.5 mass % or less relative to the glass fibers, it is possible to provide silane-treated glass fibers while maintaining the dielectric tangent inherent to glass.

シラン処理後のシランカップリング剤の付着量は、ガラス繊維に対して0.01~0.5質量%が好ましく、0.02~0.4質量%がより好ましい。このような範囲であれば、プリント配線板とした際に樹脂との密着性がより良好で、信頼性もより向上する。0.5質量%以上付着させるとガラス繊維表面のSi-OHに対してシランカップリング剤が過剰になり、誘電正接が悪化するだけではなくガラスクロスから柔軟性が失われてしまう。また過剰量のシランカップリング剤には未反応のものも含まれ、アルコールをアウトガスとして発生させるため好ましくない。シランカップリング剤の付着量に関してはJISR3420に記載の強熱減量によって測定ができる。 The amount of silane coupling agent attached after silane treatment is preferably 0.01 to 0.5% by mass relative to the glass fiber, and more preferably 0.02 to 0.4% by mass. Within this range, the adhesion to the resin when made into a printed wiring board is better and the reliability is improved. If more than 0.5% by mass is attached, the silane coupling agent becomes excessive relative to the Si-OH on the glass fiber surface, which not only deteriorates the dielectric tangent but also causes the glass cloth to lose flexibility. In addition, excessive amounts of silane coupling agent also contain unreacted silane, which is not preferable because it generates alcohol as an outgas. The amount of silane coupling agent attached can be measured by the loss on ignition as described in JIS R3420.

上記のようにして得られたシラン処理ガラス繊維の誘電正接(10GHz,40GHz)はシラン処理前と比較して2倍以下が好ましく、1.5倍以下がより好ましく、1.3倍以下がさらに好ましい。特に単位発熱量(1,000kcal)当たりに生じる水の量が0.12L以下となるような発熱機構を有する装置でヒートクリーニングして得られた95質量%以上のQガラス繊維は誘電正接が非常に低いため、シラン処理での影響を受けやすく、上記の範囲であれば本来のガラスの誘電正接を持ったガラス繊維の誘電正接を悪化させずにシラン処理が行える。 The dielectric loss tangent (10 GHz, 40 GHz) of the silane-treated glass fiber obtained as described above is preferably 2 times or less, more preferably 1.5 times or less, and even more preferably 1.3 times or less, compared to before silane treatment. In particular, Q glass fiber of 95% by mass or more obtained by heat cleaning in a device having a heating mechanism that generates 0.12 L or less of water per unit heat output (1,000 kcal) has a very low dielectric loss tangent and is easily affected by silane treatment. If the dielectric loss tangent is within the above range, silane treatment can be performed without deteriorating the dielectric loss tangent of the glass fiber, which has the original dielectric loss tangent of glass.

[プリント基板用プリプレグ]
本発明のガラス繊維は低誘電正接であるため、これを用いることにより、より誘電特性が向上したプリント基板用プリプレグが得られる。プリプレグの製造方法としては、特に限定されず、一般的なガラスクロス含有基板やフィルム、プリプレグ等の製造方法を適用することができる。
[Prepreg for printed circuit boards]
Since the glass fiber of the present invention has a low dielectric tangent, the use of the glass fiber makes it possible to obtain a prepreg for a printed circuit board having improved dielectric properties. The method for producing the prepreg is not particularly limited, and a method for producing a general glass cloth-containing substrate, film, prepreg, etc. can be applied.

[プリント基板]
本発明のガラス繊維は低誘電正接であるため、これを用いることにより、より誘電特性が向上したプリント基板が得られる。10GHz以上の電気信号を伝送する回路を有する電子部品に好適に用いることができるものである。プリント基板の製造方法としては特に限定されず、一般的なプリント基板の製造方法を適用することができる。
[Printed board]
Since the glass fiber of the present invention has a low dielectric tangent, by using the glass fiber, a printed circuit board with improved dielectric properties can be obtained. The printed circuit board can be suitably used for electronic components having a circuit that transmits an electric signal of 10 GHz or more. The method for manufacturing the printed circuit board is not particularly limited, and a general method for manufacturing a printed circuit board can be applied.

以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。 The present invention will be specifically explained below with examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.

[実施例1]
[工程1-1]
澱粉3.0質量%、牛脂0.5質量%、乳化剤0.1質量%、残りが水からなるガラス繊維用集束剤を調製し、SiO2の含有量が60質量%のガラスインゴットを加熱延伸して、直径5.3μmの石英ガラスフィラメントからなるガラス繊維を作製し、ガラス繊維集束剤をアプリケーターにて塗布した後に集束機により集束し、巻き取ってガラスフィラメント本数200本のガラスストランドを作製した。巻き取ったガラスストランドに24T/mの撚りを掛け、ガラスヤーンを作製した。
[Example 1]
[Step 1-1]
A glass fiber sizing agent was prepared, consisting of 3.0% by mass of starch, 0.5% by mass of beef tallow, 0.1% by mass of emulsifier, and the remainder water. A glass ingot containing 60% by mass of SiO2 was heated and stretched to produce glass fibers consisting of quartz glass filaments with a diameter of 5.3 μm. The glass fiber sizing agent was applied with an applicator, and the fibers were bundled with a bundler and wound up to produce a glass strand with 200 glass filaments. The wound glass strand was twisted at 24 T/m to produce a glass yarn.

得られたガラスヤーンに二次集束剤としてPVA(ポリビニルアルコール)1.5質量%、澱粉1.5質量%からなる水溶液を塗布した後に、エアージェット織機を用いて、IPC規格1078ガラスクロスを製造した。サイズ剤が付着したSiO2の含有量が60質量%であるガラスクロスを、単位発熱量(1,000kcal)当たりに生じる水の量が0.1L未満、実質的に0Lであるヤマト科学社製電気炉FO-610を用いて400℃・72時間加熱してヒートクリーニング処理し、ヒートクリーニング処理ガラス繊維を得た。 An aqueous solution of 1.5% by mass of PVA (polyvinyl alcohol) and 1.5% by mass of starch was applied to the obtained glass yarn as a secondary sizing agent, and then an air jet loom was used to produce a glass cloth conforming to IPC standard 1078. The glass cloth with a sizing agent and a SiO2 content of 60% by mass was subjected to a heat cleaning treatment at 400°C for 72 hours using an electric furnace FO-610 manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd., in which the amount of water generated per unit heat value (1,000 kcal) is less than 0.1 L, essentially 0 L, to obtain a heat-cleaned glass fiber.

[工程1-2]
工程1-1で得られたヒートクリーニング処理ガラス繊維を、KBM-503(信越化学工業製 商品名:3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン)の付着量が0.1質量%となるように、KBM-503が0.2質量%含まれたシラン処理水溶液を調製し、得られたヒートクリーニング後のガラスクロスを含侵し、ヤマト社製送風定温恒温器DKN602で110℃・10分乾燥させ、シラン処理ガラス繊維を得た。
[Step 1-2]
The heat-cleaned glass fiber obtained in step 1-1 was impregnated with an aqueous silane treatment solution containing 0.2% by mass of KBM-503 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name: 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane) so that the amount of KBM-503 attached was 0.1% by mass. The glass cloth obtained after heat cleaning was then impregnated with the aqueous silane treatment solution, and dried at 110°C for 10 minutes in a constant temperature incubator DKN602 manufactured by Yamato Co., Ltd., to obtain a silane-treated glass fiber.

[実施例2]
[工程2-1]
SiO2が99.9質量%以上の石英ガラスインゴット原料として用いて工程1-1と同様にガラスクロスを製織し、ヤマト科学社製電気炉FO-610を用いて400℃・72時間加熱してヒートクリーニング処理してヒートクリーニング処理ガラスクロスを得た。
[Example 2]
[Step 2-1]
A glass cloth was woven in the same manner as in step 1-1 using a quartz glass ingot having a SiO2 content of 99.9% by mass or more as a raw material, and the glass cloth was subjected to a heat cleaning treatment by heating at 400°C for 72 hours using an electric furnace FO-610 manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd., to obtain a heat-cleaned glass cloth.

[工程2-2]
工程-1で得られたヒートクリーニング処理ガラス繊維を、工程1-2と同様の方法で処理し、シラン処理ガラス繊維を得た。
[Step 2-2]
The heat-cleaned glass fiber obtained in step-1 was treated in the same manner as in step 1-2 to obtain a silane-treated glass fiber.

[実施例3-2]
工程3-1で得られたヒートクリーニング処理ガラス繊維を、工程1-2と同様の方法で処理し、シラン処理ガラス繊維を得た。
[Example 3-2]
The heat-cleaned glass fiber obtained in step 3-1 was treated in the same manner as in step 1-2 to obtain a silane-treated glass fiber.

[実施例4]
[工程4-1]
ヒートクリーニング処理を、300℃・72時間にする以外は、工程2-1と同様の方法で、ヒートクリーニング処理ガラス繊維を得た。
[Example 4]
[Step 4-1]
A heat-cleaning treated glass fiber was obtained in the same manner as in step 2-1, except that the heat-cleaning treatment was performed at 300° C. for 72 hours.

[工程4-2]
実施例4-1で得られたヒートクリーニング処理ガラス繊維を、工程1-2と同様の方法で処理し、シラン処理ガラス繊維を得た。
[Step 4-2]
The heat-cleaned glass fiber obtained in Example 4-1 was treated in the same manner as in step 1-2 to obtain a silane-treated glass fiber.

[実施例5]
[工程5-1]
ヒートクリーニング処理を、450℃・72時間にする以外は、工程2-1と同様の方法で、ヒートクリーニング処理ガラス繊維を得た。
[Example 5]
[Step 5-1]
A heat-cleaning treated glass fiber was obtained in the same manner as in step 2-1, except that the heat-cleaning treatment was performed at 450° C. for 72 hours.

[実施例5-2]
工程5-1で得られたヒートクリーニング処理ガラス繊維を、工程1-2と同様の方法で処理し、シラン処理ガラス繊維を得た。
[Example 5-2]
The heat-cleaned glass fiber obtained in step 5-1 was treated in the same manner as in step 1-2 to obtain a silane-treated glass fiber.

[実施例6]
[工程6-1]
ヒートクリーニング処理を、600℃・72時間にする以外は、工程2-1と同様の方法で、ヒートクリーニング処理ガラス繊維を得た。
[Example 6]
[Step 6-1]
A heat-cleaning treated glass fiber was obtained in the same manner as in step 2-1, except that the heat-cleaning treatment was performed at 600° C. for 72 hours.

[実施例6-2]
工程6-1で得られたヒートクリーニング処理ガラス繊維を、工程1-2と同様の方法で処理し、シラン処理ガラス繊維を得た。
[Example 6-2]
The heat-cleaned glass fiber obtained in step 6-1 was treated in the same manner as in step 1-2 to obtain a silane-treated glass fiber.

[実施例7]
工程2-1で得られたヒートクリーニング処理ガラスクロスを、KBM-503の付着量が0.1質量%となるように、KBM-503が0.2質量%含まれたシラン処理水溶液を調整し、得られたヒートクリーニング後のガラスクロスを含侵し、ヤマト社製送風定温恒温器DKN602で110℃・30秒乾燥させ、シラン処理ガラス繊維を得た。
[Example 7]
The heat-cleaned glass cloth obtained in step 2-1 was impregnated with an aqueous silane treatment solution containing 0.2% by mass of KBM-503 so that the amount of KBM-503 attached was 0.1% by mass, and the obtained heat-cleaned glass cloth was dried at 110° C. for 30 seconds in a constant temperature incubator DKN602 manufactured by Yamato Co., Ltd., to obtain a silane-treated glass fiber.

[実施例8]
工程2-1で得られたヒートクリーニング処理ガラスクロスをKBM-503の付着量が0.02質量%となるように、KBM-503が0.05質量%含まれたシラン処理水溶液を調整し、得られたヒートクリーニング後のガラスクロスを含侵し、ヤマト社製送風定温恒温器DKN602で110℃・10分乾燥させ、シラン処理ガラス繊維を得た。
[Example 8]
The heat-cleaned glass cloth obtained in step 2-1 was impregnated with an aqueous silane treatment solution containing 0.05% by mass of KBM-503 so that the amount of KBM-503 attached was 0.02% by mass, and the resulting heat-cleaned glass cloth was dried at 110°C for 10 minutes in a constant temperature incubator DKN602 manufactured by Yamato Co., Ltd., to obtain a silane-treated glass fiber.

[実施例9]
工程2-1で得られたヒートクリーニング処理ガラスクロスをKBM-503の付着量が0.4質量%となるように、KBM-503が1質量%含まれたシラン処理水溶液を調整し、得られたヒートクリーニング後のガラスクロスを含侵し、ヤマト社製送風定温恒温器DKN602で110℃・10分乾燥させ、シラン処理ガラス繊維を得た。
[Example 9]
The heat-cleaned glass cloth obtained in step 2-1 was impregnated with an aqueous silane treatment solution containing 1% by mass of KBM-503 so that the amount of KBM-503 attached was 0.4% by mass, and the obtained heat-cleaned glass cloth was dried at 110°C for 10 minutes in a constant temperature incubator DKN602 manufactured by Yamato Co., Ltd., to obtain a silane-treated glass fiber.

[比較例1]
澱粉を3.0質量%、牛脂を0.5質量%、乳化剤を0.1質量%、残りが水からなるガラス繊維用集束剤を調整し、SiO2の含有量が53質量%のガラスインゴットを加熱延伸して、直径5.3μmの石英ガラスフィラメントからなるガラス繊維を作製し、ガラス繊維集束剤をアプリケーターにて塗布した後に集束機により集束し、巻き取ってガラスフィラメント本数200本のガラスストランドを作製した。巻き取ったガラスストランドに24T/mの撚りを掛け、ガラスヤーンを作製した。得られたガラスヤーンに二次集束剤としてPVA1.5質量%、澱粉1.5質量%からなる水溶液を塗布した後に、エアージェット織機を用いて、IPC規格1078ガラスクロスを製造した。サイズ剤が付着したSiO2の含有量が53質量%であるガラスクロスを、単位発熱量(1,000kcal)当たりに生じる水の量が0.1L未満、実質的に0Lであるヤマト科学社製電気炉FO-610を用いて400℃・72時間加熱して、ヒートクリーニング処理し、ヒートクリーニング処理ガラス繊維を得た。
[Comparative Example 1]
A glass fiber sizing agent consisting of 3.0% by mass of starch, 0.5% by mass of beef tallow, 0.1% by mass of emulsifier, and the remainder water was prepared, and a glass ingot with a SiO2 content of 53% by mass was heated and stretched to produce glass fibers consisting of quartz glass filaments with a diameter of 5.3 μm. The glass fiber sizing agent was applied with an applicator, and then the fibers were bundled with a bundler and wound up to produce a glass strand with 200 glass filaments. The wound glass strand was twisted at 24 T/m to produce a glass yarn. An aqueous solution consisting of 1.5% by mass of PVA and 1.5% by mass of starch was applied to the obtained glass yarn as a secondary bundling agent, and then an IPC standard 1078 glass cloth was produced using an air jet loom. The glass cloth having a sizing agent attached thereto and a SiO content of 53 % by mass was subjected to a heat cleaning treatment by heating at 400°C for 72 hours using an electric furnace FO-610 manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd., in which the amount of water generated per unit heat value (1,000 kcal) is less than 0.1 L, essentially 0 L, to obtain a heat-cleaned glass fiber.

[比較例2]
ヒートクリーニング処理を、200℃・72時間にする以外は、工程2-1と同様の方法で、ヒートクリーニング処理ガラス繊維を得た。
上記で得られたヒートクリーニング処理ガラス繊維を、工程1-2と同様の方法で処理し、シラン処理ガラス繊維を得た。
[Comparative Example 2]
A heat-cleaning treated glass fiber was obtained in the same manner as in step 2-1, except that the heat-cleaning treatment was performed at 200° C. for 72 hours.
The heat-cleaned glass fiber obtained above was treated in the same manner as in step 1-2 to obtain a silane-treated glass fiber.

[比較例3]
SiO2が99.9質量%以上の石英ガラスインゴット原料として用いて工程2-1と同様にガラスクロスを製織し、加熱炉を単位発熱量(1,000kcal)当たりに生じる水の量が12L以上である加熱炉(美濃窯業株式会社製ガス炉 7m3ファイバースーペリオキルン)に変更し、400℃・72時間でヒートクリーニング処理し、ヒートクリーニング処理ガラス繊維を得た。
上記で得られたヒートクリーニング処理ガラス繊維を、工程1-2と同様の方法で処理し、シラン処理ガラス繊維を得た。
[Comparative Example 3]
A glass cloth was woven in the same manner as in step 2-1 using a quartz glass ingot raw material containing 99.9% or more by mass of SiO2 . The heating furnace was changed to a heating furnace (7 m3 fiber superior kiln, gas furnace manufactured by Mino Ceramics Co., Ltd.) that generates 12 L or more of water per unit heat value (1,000 kcal), and the glass cloth was subjected to a heat cleaning treatment at 400°C for 72 hours to obtain a heat-cleaned glass fiber.
The heat-cleaned glass fiber obtained above was treated in the same manner as in step 1-2 to obtain a silane-treated glass fiber.

[洗浄クロス(参考例1対応)]
実施例1で用いたヒートクリーニング前のサイズ剤が付着しているガラスクロスを鈴木油脂工業社製 アルカリ電解水 S-2665で60℃・2時間洗浄し、付着したサイズ剤を除去した後にガラスクロスを100℃・30分乾燥させてサイズ剤洗浄ガラスクロスを得た。
[Cleaning cloth (corresponding to Reference Example 1)]
The glass cloth having the sizing agent attached thereto before heat cleaning used in Example 1 was washed with alkaline electrolytic water S-2665 manufactured by Suzuki Oil Industries Co., Ltd. at 60°C for 2 hours, and after removing the attached sizing agent, the glass cloth was dried at 100°C for 30 minutes to obtain a sizing-cleaned glass cloth.

[洗浄クロス(参考例2対応)]
実施例2で用いたヒートクリーニング前のサイズ剤が付着しているガラスクロスを鈴木油脂工業社製 アルカリ電解水 S-2665で60℃・2時間洗浄し、付着したサイズ剤を除去した後にガラスクロスを100℃・30分乾燥させてサイズ剤洗浄ガラスクロスを得た。
[Cleaning cloth (corresponding to Reference Example 2)]
The glass cloth having the sizing agent attached thereto before heat cleaning used in Example 2 was washed with alkaline electrolytic water S-2665 manufactured by Suzuki Oil Industries Co., Ltd. at 60°C for 2 hours, and after removing the attached sizing agent, the glass cloth was dried at 100°C for 30 minutes to obtain a sizing-cleaned glass cloth.

上記参考例1,2によるアルカリ電解水によるサイズ剤の除去は、加熱によるSi-O-Si結合の開裂が起こらないため、ヒートクリーニング前のガラスクロスの誘電正接を測定することができ、本発明でのヒートクリーニングによる誘電正接の変化量を評価できる。 The removal of sizing agents using alkaline electrolyzed water in Reference Examples 1 and 2 above does not result in cleavage of Si-O-Si bonds due to heating, so the dielectric tangent of the glass cloth before heat cleaning can be measured, and the amount of change in the dielectric tangent due to heat cleaning in this invention can be evaluated.

上記で得られたヒートクリーニング処理前後のガラスクロス、シラン処理前後、及び洗浄クロスについて、下記方法で評価を行った。結果を下記表に記載する。 The glass cloth obtained above before and after the heat cleaning treatment, the glass cloth before and after the silane treatment, and the cleaning cloth were evaluated using the following methods. The results are shown in the table below.

1.誘電正接の測定
ガラスクロスの誘電正接を、誘電率測定用SPDR(Split post dielectric resonators)誘電体共振器周波数10GHz(キーサイト・テクノロジー株式会社製)を用いて測定した。なお、ガラスクロスの厚みは理論膜厚を用いて測定しており、ガラスクロスの理論膜厚は
理論膜厚t(m)=目付量(g/m2)/比重(g/cm3
から算出した。
1. Measurement of dielectric tangent The dielectric tangent of the glass cloth was measured using a dielectric constant measurement SPDR (split post dielectric resonator) with a dielectric resonator frequency of 10 GHz (manufactured by Keysight Technologies, Inc.). The thickness of the glass cloth was measured using the theoretical film thickness, which is expressed as follows: Theoretical film thickness t (m) = basis weight (g/ m2 ) / specific gravity (g/ cm3 )
Calculated from.

2.誘電正接比
以下の式に基づき、サイズ剤除去前後の誘電正接変化を計算した。
誘電正接比=実施例及び比較例の誘電正接/(SiO2量が同じ洗浄クロスの誘電正接)
2. Dielectric loss tangent ratio The change in dielectric loss tangent before and after removal of the sizing agent was calculated based on the following formula.
Dielectric loss tangent ratio = dielectric loss tangent of the examples and comparative examples / (dielectric loss tangent of cleaning cloths with the same SiO2 content)

3.サイズ剤由来残存炭素量の測定
1,000℃、2時間空焼きした磁製るつぼに、ヒートクリーニング後のガラス繊維を100mg秤量し、助燃剤としてタングステン1.0gとスズコートされた銅1.5gを添加し、LECO社製炭素硫黄分析装置CS774を用いて2.2kWで燃焼した際のガス量から残存炭素量を測定した。この測定方法の結果を「サイズ剤由来残存炭素量」とする。
3. Measurement of the amount of carbon remaining from the sizing agent 100 mg of glass fiber after heat cleaning was weighed out into a porcelain crucible that had been baked empty at 1,000°C for 2 hours, and 1.0 g of tungsten and 1.5 g of tin-coated copper were added as combustion improvers. The amount of carbon remaining was measured from the amount of gas when the material was burned at 2.2 kW using a carbon and sulfur analyzer CS774 manufactured by LECO. The result of this measurement method is referred to as the "amount of carbon remaining from the sizing agent."

4.シラノール基(Si-OH)含有量の測定
Qガラス繊維のシラノール含有量は、以下の方法によって測定・計算した値をいう。
あらかじめシラノール量が既知の板状Qガラスの誘電正接をガラスクロスと同様に測定して、以下のシラノール量と誘電正接の関係式を求めた。
誘電正接(10GHz)=9.04×10-8×シラノール量(ppm)+5.26×10-5
得られた関係式を用いてガラスクロスの誘電正接からシラノール量を算出した。なお残存炭素量が0.1質量%より多い場合、アルカリ電解水によって残存炭素を0.1質量%以下にした後の誘電正接からシラノール量を算出した。
4. Measurement of silanol group (Si-OH) content The silanol content of Q glass fiber is a value measured and calculated by the following method.
The dielectric loss tangent of plate-shaped Q glass having a known silanol content was measured in the same manner as for the glass cloth, and the following relational expression between the silanol content and the dielectric loss tangent was obtained.
Dielectric tangent (10 GHz) = 9.04 x 10 -8 x silanol content (ppm) + 5.26 x 10 -5
The amount of silanol was calculated from the dielectric loss tangent of the glass cloth using the obtained relational expression. When the amount of residual carbon was more than 0.1 mass%, the amount of silanol was calculated from the dielectric loss tangent after reducing the amount of residual carbon to 0.1 mass% or less using alkaline electrolyzed water.

5.シラン処理ガラスクロスの揮発分測定方法
シラン処理されたガラスクロスを150℃・1時間乾燥させ質量変化を測定した。
揮発分(%)=((加熱前のシラン処理ガラスクロス-加熱後のシラン処理ガラスクロス)/加熱前のシラン処理ガラスクロス)×100
5. Method for measuring volatile content of silane-treated glass cloth The silane-treated glass cloth was dried at 150° C. for 1 hour, and the change in mass was measured.
Volatile content (%)=((silane-treated glass cloth before heating−silane-treated glass cloth after heating)/silane-treated glass cloth before heating)×100

6.シランカップリング剤の付着量
JISR3420に記載の強熱減量の方法に従って測定を行った。
6. Amount of silane coupling agent attached: This was measured according to the ignition loss method described in JIS R3420.

7.引張強度
シラン処理前と処理後のガラスクロスについて、島津製作所社製オートグラフ、AGS-Xを用いて、JISR 3420の引張強さの測定方法にしたがって測定した。結果を、強度(GPa)=(強度(N/25mm)/25)/理論膜厚(μm)で記載する。
7. Tensile strength The glass cloth before and after the silane treatment was measured using an autograph AGS-X manufactured by Shimadzu Corporation in accordance with the tensile strength measurement method of JIS R 3420. The results are reported as strength (GPa) = (strength (N/25 mm)/25)/theoretical film thickness (μm).

8.信頼性評価
SLK-3000(商品名;信越化学工業(株)製)を100質量部、ジクミルパーオキシド(商品名:パークミルD、日油製)を2質量部加え、溶剤としてトルエンに入れ、攪拌機で予備混合して樹脂ワニスを調製した。
作製した樹脂ワニスに実施例及び比較例で得られたシラン処理ガラスクロスを含侵させ、110℃で10分間乾燥させることでプリプレグを作製した。その際、付着量は55質量%になるように調整した。その後、作製したプリプレグを3枚積層して真空減圧プレス機を用い150℃で1時間、さらに180℃で2時間のステップキュアを行うことで硬化させた。得られた基板を1時間イオン交換水にて1時間煮沸後に、260℃のはんだ浴に30秒浸漬させて、膨れの生じなかったものを「〇」、膨れの生じたものを「×」として判断した。
8. Reliability Evaluation 100 parts by mass of SLK-3000 (product name: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 2 parts by mass of dicumyl peroxide (product name: Percumyl D, manufactured by NOF Corp.) were added to toluene as a solvent and premixed with a stirrer to prepare a resin varnish.
The silane-treated glass cloth obtained in the Examples and Comparative Examples was impregnated with the prepared resin varnish and dried at 110°C for 10 minutes to prepare a prepreg. At that time, the adhesion amount was adjusted to 55 mass%. Then, three prepared prepregs were laminated and cured by step curing at 150°C for 1 hour and then at 180°C for 2 hours using a vacuum pressure reduction press. The obtained board was boiled in ion-exchanged water for 1 hour, and then immersed in a solder bath at 260°C for 30 seconds. Those that did not blister were judged as "◯", and those that blistered were judged as "×".

Figure 0007480802000001
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Figure 0007480802000002
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Figure 0007480802000003
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表1に示したように、本発明のヒートクリーニング方法では、SiO2の含有量が55質量%以上のヒートクリーニング処理ガラスクロスは、誘電正接は10GHzで0.0016以下であり、40GHzで0.0020以下であり、洗浄クロスと比較して0.7~1.3倍である。一方、SiO2の含有量が55質量%以上のガラスクロスであっても比較例2,3では誘電正接比は10GHzで4.6、2.4であり、高速通信用基板材料としては不十分である。比較例2ではサイズ剤が燃焼せずに酸化してしまったため大幅に誘電正接が悪化した。 As shown in Table 1, in the heat cleaning method of the present invention, the heat-cleaned glass cloth with a SiO2 content of 55% by mass or more has a dielectric loss tangent of 0.0016 or less at 10 GHz and 0.0020 or less at 40 GHz, which is 0.7 to 1.3 times that of the cleaning cloth. On the other hand, even in the glass cloth with a SiO2 content of 55% by mass or more, the dielectric loss tangent ratios of Comparative Examples 2 and 3 are 4.6 and 2.4 at 10 GHz, respectively, which are insufficient as a substrate material for high-speed communication. In Comparative Example 2, the sizing agent was oxidized without burning, so the dielectric loss tangent was significantly deteriorated.

また実施例2で得られたヒートクリーニング処理ガラスクロスに対してシラン処理を行った結果、得られたシラン処理ガラスクロスの誘電正接を悪化させずに基板とした際に信頼性のあるシラン処理ガラスクロスとすることができた。 In addition, by subjecting the heat-cleaned glass cloth obtained in Example 2 to a silane treatment, it was possible to obtain a silane-treated glass cloth that was reliable when used as a substrate without deteriorating the dielectric tangent of the resulting silane-treated glass cloth.

Claims (7)

SiO2組成量が55質量%以上であるガラス繊維をシラン処理した、シラン処理ガラス繊維であって、揮発分が0.2質量%以下、シランカップリング剤の付着量が0.02~0.1質量%、10GHzでの誘電正接が0.0017以下であるシラン処理ガラス繊維。 The silane-treated glass fiber is obtained by silane-treating a glass fiber having a SiO2 composition amount of 55 mass% or more, the silane-treated glass fiber having a volatile content of 0.2 mass% or less, an adhesion amount of a silane coupling agent of 0.02 to 0.1 mass%, and a dielectric loss tangent at 10 GHz of 0.0017 or less. 前記シラン処理ガラス繊維の40GHzにおける誘電正接が、0.0021以下である請求項1記載のシラン処理ガラス繊維。 The silane-treated glass fiber according to claim 1, wherein the dielectric tangent of the silane-treated glass fiber at 40 GHz is 0.0021 or less. 前記ガラス繊維がSiO2組成量95質量%以上のQガラスである請求項1記載のシラン処理ガラス繊維。 2. The silane-treated glass fiber according to claim 1, wherein the glass fiber is Q-glass having an SiO2 composition of 95 mass % or more. 引張強度が、0.07~0.24GPaである、請求項1記載のシラン処理ガラス繊維。 The silane-treated glass fiber according to claim 1, having a tensile strength of 0.07 to 0.24 GPa. 揮発分が0.02~0.05質量%である、請求項1記載のシラン処理ガラス繊維。 The silane-treated glass fiber according to claim 1, having a volatile content of 0.02 to 0.05 mass%. 請求項1~5のいずれか1項記載のガラス繊維を含有するプリント基板用プリプレグ。 A prepreg for printed circuit boards containing the glass fiber according to any one of claims 1 to 5. 請求項1~5のいずれか1項記載のガラス繊維を用いたプリント配線基板。 A printed wiring board using the glass fiber according to any one of claims 1 to 5.
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