KR20230128406A - 레이저 방사를 성형하기 위한 디바이스 - Google Patents

Abstract

레이저 방사(7)를 성형하기 위한 디바이스는, 레이저 방사(7)가 교대로 통과하는, 렌즈(3)의 제1 어레이(2)를 갖는 제1 균질화기(1) 및 렌즈(6)의 제2 어레이(5)를 갖는 제2 균질화기(4), 작업 평면에서 렌즈(6)의 제2 어레이(5)를 통과한 레이저 방사(7)를 겹쳐놓는 렌즈 디바이스(8), 및 제2 균질화기(4)와 렌즈 디바이스(8) 사이에 배열된 제1 프리즘(9) 및 제2 프리즘(10)을 포함하고, 여기서, 렌즈(6)의 제2 어레이(5)를 통과한 레이저 방사(7)는 렌즈 수단(8)에 충돌하기 전에, 제1 및 제2 프리즘(9, 10)을 연속적으로 통과한다.

Description

레이저 방사를 성형하기 위한 디바이스

본 발명은 청구항 제1항의 전제부에 따른, 레이저 방사(laser radiation)를 성형하기 위한, 특히, 레이저 방사의 선형 세기 분포(linear intensity distribution)를 성형하기 위한 디바이스, 및 청구항 제13항의 전제부에 따른, 작업 평면에서 레이저 방사의 세기 분포를 생성하기 위한, 특히, 작업 평면에서 레이저 방사의 선형 세기 분포를 생성하기 위한 레이저 디바이스에 관한 것이다.

렌즈의 어레이(array)를 갖는 2개의 균질화기(homogenizer) 및 푸리에 렌즈(Fourier lens)를 포함하는, 레이저 빔의 선-형상(line-shaped) 세기 분포를 형성하기 위한 공지된 디바이스에서, 선-형상 세기 분포의 길이 L은 다음의 관계로부터 기인한다: , 여기서, p는 나란하게 배열된 어레이의 렌즈의 피치(pitch)이고, 는 제2 어레이의 렌즈의 초점 길이이고, 는 제2 균질화기 후방의 푸리에 렌즈의 유효 초점 길이이다. 이 크기는 생산 동안에 자유롭게 선택될 수 있지만, 그 다음에는 고정된다. 생산 후에는, 그러므로, 작업 평면에서 레이저 방사의 선 길이 또는 필드 크기에 영향을 주는 것은 통상적으로 더 이상 가능하지 않다.

언급된 유형의 디바이스 및 레이저 디바이스는 DE 10 2007 026 730 A1로부터 공지된다. 이 문헌에서 설명된 디바이스는 렌즈의 어레이를 갖는 제1 균질화기 스테이지, 및 2개의 기판을 갖는 제2 균질화기 스테이지를 포함하고, 2개의 기판의 각각 상에는 렌즈의 어레이가 배열된다. 작업 평면에서 제2 균질화기 스테이지로부터 방출된 부분적인 방사를 겹쳐놓는 렌즈가 또한 제공되어, 이로써 레이저 방사의 선형 세기 분포가 거기에서 생성된다. 선형 세기 분포의 선 길이를 조절할 수 있기 위하여, 제2 균질화기 스테이지의 2개의 기판은 서로에 대해 이동될 수 있어서, 이로써 상이한 거리가 광 전파의 방향에서 실현될 수 있다.

디바이스의 광학적 유효성 및 작업 평면에서의 세기 분포의 균질성(homogeneity)은 제2 균질화기 스테이지의 2개의 상호 이동가능한 기판에 의해 손상된다.

이것으로부터 진행하면, 본 발명은 시작부에서 언급된 유형의 디바이스를 생성하는 문제에 기초하고, 본 발명에 의해, 디바이스의 더 큰 광학적 유효성 및/또는 작업 평면에서의 세기 분포의 더 양호한 균질성이 달성될 수 있다. 또한, 이러한 디바이스를 갖는 레이저 디바이스가 특정되어야 한다.

발명에 따르면, 청구항 제1항의 특징적인 특징을 가지는 서두에서 언급된 유형의 디바이스에 의해, 그리고 청구항 제13항의 특징적인 특징을 가지는 서두에서 언급된 유형의 레이저 디바이스에 의해 달성된다. 종속 청구항은 발명의 바람직한 실시예에 관한 것이다.

청구항 제1항에 따르면, 디바이스가 제2 균질화기와 렌즈 디바이스 사이에 배열되는 제1 프리즘(prism) 및 제2 프리즘을 포함하는 것으로 제공되고, 여기서, 디바이스는 렌즈의 제2 어레이를 통과한 레이저 방사가 렌즈 디바이스에 충돌하기 전에 제1 및 제2 프리즘을 연속적으로 통과하도록 셋업(set up)된다. 제2 균질화기와 렌즈 디바이스 사이에 2개의 프리즘을 삽입하는 것은 디바이스의 광학적 유효성 및 작업 평면에서 생성된 세기 분포의 균질성에 거의 효과가 없거나 전혀 효과가 없다.

특히, 프리즘은 제1 방향에서 프리즘을 통과하는 레이저 방사의 단면 및/또는 발산(divergence)을 적어도 부분적으로 감소시키거나 증가시키도록 셋업되는 것으로 제공될 수 있고, 특히, 발산에서의 증가는 선형 세기 분포의 길이를 증가시키고, 발산을 감소시킴으로써, 선형 세기 분포의 길이에서의 감소가 달성된다. 특히, 선형 세기 분포는 제1 방향에서 연장된다.

바람직하게는, 프리즘은 0.5 내지 2.0의 사이의 계수만큼, 제1 방향에서 자신을 통과하는 레이저 방사의 발산을 변경하도록, 특히, 이에 의해, 0.5 내지 2.0 사이의 계수만큼 선형 세기 분포의 길이를 증가시키는 것이 변경된다. 그러므로, 프리즘은 비교적 큰 영역 상에서의 세기 분포의 형상, 특히, 작업 평면에서 생성된 레이저 선(laser line)의 길이에 영향을 줄 수 있다.

제1 어레이 및 제2 어레이의 렌즈가 서로의 옆에 배열되는 것이 가능하고, 특히, 제1 어레이 및 제2 어레이의 렌즈가 서로의 옆에 배열되는 방향은 제1 방향에 대응한다. 이 경우에, 제1 어레이 및 제2 어레이의 렌즈는 원통 축이 서로에 평행하게 정렬되는 원통형 렌즈일 수 있고, 특히, 원통 축은 제1 방향에 수직인 제2 방향에서 연장된다. 이러한 방식으로, 렌즈는 선의 길이 방향에서의 균질화에 기여할 수 있다. 자신에 수직인 선 횡단 방향에 대한 균질화기 내에 추가의 원통형 렌즈를 제공하도록 행해질 수 있고, 원통형 렌즈의 원통형 축은 제1 방향에서 연장된다.

서로의 옆에 배열된 제2 어레이의 렌즈를 통과한 레이저 방사의 부분적인 방사가 제1 프리즘에 진입할 때에 적어도 제1 방향에서 아직 중첩하지 않는 방식으로, 제1 프리즘이 디바이스 내에 배열되는 것이 가능하다. 이러한 방식으로, 개별적인 렌즈를 통과한 부분적인 빔은 프리즘에 의해 서로와는 별도로 형성될 수 있다.

프리즘 중의 적어도 하나, 바람직하게는, 둘 모두의 프리즘이 이동가능하도록, 바람직하게는, 축 주위로 피봇가능하도록 제공이 행해질 수 있다. 적어도 하나의 프리즘의 이동, 특히, 피봇(pivot)은 프리즘을 통과하는 레이저 방사의 단면이 변경되는 계수를 변경할 수 있다. 특히, 프리즘 중의 적어도 하나, 바람직하게는, 둘 모두의 프리즘이 그 주위로 피봇될 수 있는 축은 제2 방향에서 연장된다. 이러한 설계는 작업 평면에서의 레이저 방사의 필드 크기(field size) 또는 선 길이에 영향을 주는 것을 매우 용이하게 한다.

2개의 프리즘은 동일한 설계를 가지는 것, 특히, 동일한 크기 및/또는 동일한 형상을 가지는 것이 가능하다. 이러한 설계는 디바이스의 제조 비용이 감소되는 것을 허용한다. 제1 어레이의 렌즈와 제2 어레이의 렌즈 사이의 거리는 제2 어레이의 적어도 일부 렌즈, 바람직하게는, 모든 렌즈의 초점 길이에 대응하는 것으로 제공될 수 있다. 또한, 렌즈 디바이스는 푸리에 배열(Fourier arrangement)로 디바이스 내에 위치결정되어, 이로써 제2 어레이와 렌즈 디바이스 사이의 각도 공간 내의 레이저 방사의 분포는 렌즈 디바이스에 의해 공간적 공간 내의 세기 분포로 변환된다.

청구항 제13항에 따르면, 레이저 방사를 성형하기 위한 디바이스는 발명에 따른 디바이스인 것으로 제공된다.

레이저 디바이스는, 서로 상이한 속성을 갖는, 예를 들어, 서로 상이한 발산 또는 빔 프로파일을 갖는 레이저 방사를 생성하도록 셋업되는 2개의 레이저 광원을 포함하는 것이 가능하고, 레이저 디바이스는 레이저 방사가 레이저 빔을 서로에 인접한 디바이스를 타격하여 충돌하도록 셋업되고, 렌즈 디바이스는 작업 평면에서 두 레이저 빔을 겹쳐놓고, 특히, 세기 분포 선형 강도에서 겹쳐놓는다. 푸리에 배열인 단일 렌즈 디바이스는 작업 평면에서, 특히, 작업 평면에서 선-형상 세기 분포로 2개의 아마도 매우 상이한 레이저 빔을 겹쳐놓는 한편, 동시에, 선의 길이가 프리즘의 대응하는 위치에 의해 특정될 수 있다는 것은 매우 유리한 것으로 입증되었다.

이러한 목적을 위하여, 레이저 빔을 성형하기 위한 디바이스는 4개의 프리즘을 포함하고, 4개의 프리즘 중의 2개는 상이한 레이저 빔 중의 하나에 대하여 제공되는 것으로 제공될 수 있다. 대안적으로, 레이저 방사를 형성하기 위한 디바이스는 상이한 레이저 방사의 둘 모두에 대하여 제공되는 2개의 프리즘을 포함하는 것으로 제공될 수 있다.

본 발명의 추가의 특징 및 장점은 첨부된 도면을 참조한 바람직한 예시적인 실시예의 다음의 설명으로부터 명확해진다. 도면은 다음과 같다:
도 1은 성형 대상 레이저 방사의 인입된 빔(drawn-in beam)을 갖는, 발명에 따른 디바이스의 제1 실시예의 개략적인 측면도를 도시한다.
도 2a는 공간적 공간 및 각도 공간 내의 제2 균질화기의 후방의 레이저 방사의 분포를 개략적으로 예시하는 2개의 도면을 도시한다.
도 2b는 2개의 프리즘의 제1 위치에서 공간적 공간 및 각도 공간 내의 제2 프리즘의 후방의 레이저 방사의 분포를 개략적으로 예시하는 2개의 도면을 도시한다.
도 2c는 2개의 프리즘의 제2 위치에서 공간적 공간 및 각도 공간 내의 제2 프리즘의 후방의 레이저 방사의 분포를 개략적으로 예시하는 2개의 도면을 도시한다.
도 3a는 2개의 프리즘의 제1 위치에서 도 1에 따른 실시예의 개략적인 측면도를 도시한다.
도 3b는 작업 평면에서의 레이저 방사의 세기가 mm인 선형 세기 분포의 선의 길이 방향에서의 공간적 좌표에 대하여 임의적인 단위로 도표화되는 도면을 도시하고, 2개의 프리즘은 도 3a에서 도시된 제1 위치에 있고; 도 4a는 2개의 프리즘의 제2 위치에서 도 1에 따른 실시예의 개략적인 측면도를 도시한다.
도 4b는 작업 평면에서의 레이저 방사의 세기가 mm인 선형 세기 분포의 선의 길이 방향에서의 공간적 좌표에 대하여 임의적인 단위로 도표화되는 도면을 도시하고, 2개의 프리즘은 도 4a에서 도시된 제2 위치에 있다.
도 5는 성형 대상 레이저 방사의 인입된 빔을 갖는, 발명에 따른 디바이스의 제2 실시예의 개략적인 측면도를 도시한다.

동일한 그리고 기능적으로 동일한 부분에는 도면에서 동일한 참조 부호가 제공된다. 더 양호한 방위를 위하여 데카르트 좌표계가 도면의 일부 내로 작도된다.

도 1에서 도시된 레이저 방사를 성형하기 위한 디바이스의 실시예는 그 자체로 공지된 방식으로, 렌즈(3)의 제1 어레이(2)를 갖는 제1 균질화기(1), 및 렌즈(6)의 제2 어레이(5)를 갖는 제2 균질화기(4)를 포함한다. 디바이스는 성형 대상 레이저 방사(7)가 연속적으로 렌즈(3)의 제1 어레이(2) 및 렌즈(6)의 제2 어레이(5)를 연속적으로 통과하도록 셋업된다.

렌즈(3, 6)는 제1 방향 x에서 나란하게 배열된다. 렌즈(3, 6)는 원통형 렌즈이고, 이러한 원통형 렌즈의 원통 축은 제1 방향 x에 수직인 방향 y에서 연장되고, 제2 방향 y는 도면의 평면의 외부로 연장된다.그러므로, 렌즈(3, 6)는 제1 방향 x에서 작동한다. 레이저 방사(7)는 필수적으로 제3 방향 z에서 이동하고, 제3 방향 z은 제1 및 제2 방향 x, y에 수직이다.

제1 방향 x 및 제2 방향 y의 둘 모두에서 작동하는 구형 렌즈 또는 상이하게 설계된 렌즈를 원통형 렌즈 대신에 제공하는 것이 완전히 가능하다.

도면에서, 제1 어레이(2)는 제1 균질화기(1)의 진출 표면 상에서 배열되고, 제2 어레이(5)는 제2 균질화기(4)의 진입 표면 상에 배열된다. 두 어레이(2, 5)를 진입 표면 또는 진출 표면 상에 배열하거나, 제1 어레이(2)를 제1 균질화기(1)의 진입 표면 상에, 그리고 제2 어레이(5)를 제2 균질화기(4)의 진출 표면 상에서 배열하는 것이 확실히 가능하다. 또한, 제1 어레이(2)가 배열되는 진입 표면 상에, 그리고 제2 어레이(5)가 배열되는 진출 표면 상에는, 오직 단일의 투명한 기판이 제공되는 것으로 또한 제공될 수 있다.

예를 들어, 제2 방향 y에서 작동하는 렌즈의 어레이는 제1 균질화기(1)의 진입 표면 및/또는 제2 균질화기(4)의 진출 표면 상에 배열될 가능성이 또한 있다. 예를 들어, 이는 원통 축들이 제1 방향 x에서 연장되는 원통 렌즈일 수 있다.

제2 어레이(5)의 모든 렌즈(6)는 동일한 초점 길이를 가진다. 서로로부터의 2개의 어레이(2, 5) 사이의 거리는 제2 어레이(5)의 렌즈(6)의 초점 길이이다.

도 1에서 도시된 디바이스는 또한, 그 자체로 공지된 방식으로, 도시된 예시적인 실시예에서, 푸리에 배열인 평면-오목 렌즈(plano-convex lens)(8)의 형태인 렌즈 디바이스(8)를 포함한다. 렌즈 디바이스(8)는 그 자체로 공지된 방식으로, 제1 방향 x에서의 작업 평면(도시되지 않음)에서 제2 어레이(5)의 렌즈(6)로부터 나오는 레이저 방사(7)의 부분적인 방사를 겹쳐놓는다. 이 경우에, 각도 공간 내의 레이저 방사의 분포는 작업 평면에서 국소적 공간 내의 분포로 변환된다.

양면볼록 렌즈(biconvex lens)와 같은 다른 형태의 렌즈를 제공하는 것이 완전히 가능하다. 또한, 렌즈 시스템은 또한, 단일 렌즈 대신에 제공될 수 있다.

도 1에서 도시된 디바이스는 또한, 제2 균질화기(4)와 렌즈 배열(8) 사이의 2개의 프리즘(9, 10)을 포함하고, 이 2개의 프리즘(9, 10)을 통해, 레이저 방사(7)가 연속으로 통과한다. 도시된 실시예에서, 프리즘(9, 10)은 동일한 크기 및 동일한 형상을 가지고, 도 1에서 보이는 단면은 도면에서의 그림의 평면으로 계속된다.

도 1에서의 좌측의 제1 프리즘(9)은, 레이저 방사(7)가 제1 프리즘(9)의 진입 표면(11)에 충돌할 때, 제1 방향 x에서 서로의 옆에 배열된 제2 어레이(5)의 렌즈(6)를 통과한 레이저 방사(7)의 부분적인 방사가 서로 아직 중복되지 않는 방식으로 배열된다.

프리즘(9, 10)을 적당하게 정렬함으로써, 렌즈(6)의 각각으로부터 나오는 부분적인 방사의 단면 및/또는 발산을 변경하는 것, 특히, 부분적인 방사의 각각에 대한 동일한 사항을 변경하는 것이 가능하다. 이것은 변경에 적용되고,

, 여기서,

은 공간적 공간 내의 제1 방향 x에서 프리즘(9, 10)에 진입하는 부분적인 방사의 크기이고,

은 각도 공간 내의 제1 방향 x에서 프리즘(9, 10)에 진입하는 부분적인 방사의 크기이고,

은 공간적 공간 내의 제1 방향 x에서 프리즘(9, 10)으로부터 진출하는 부분적인 방사의 크기이고,

은 각도 공간 내의 제1 방향 x에서 프리즘(9, 10)으로부터 진출하는 부분적인 방사의 크기이다.

도 2a는 공간적 도메인 내의 제1 방향 x에서 프리즘(9, 10)에 진입하는 부분적인 방사의 단면(12a) 또는 크기 를 도시한다. 도 2a는 각도 공간 내의 제1 방향 x에서 프리즘(9, 10)에 진입하는 부분적인 방사에서의 발산(13a) 또는 확장을 도시한다.

도 2b 및 도 2b는 프리즘으로부터 나오는 부분적인 방사에 대한 프리즘(9, 10)의 2개의 상이한 위치의 효과를 예시한다.

도 2b는 공간적 도메인 내의 제1 방향 x에서 프리즘(9, 10)으로부터 나오는 부분적인 방사의 단면(12a) 또는 크기 를 도시한다. 도 2b는 각도 공간 내의 제1 방향 x에서 프리즘(9, 10)으로부터 나오는 부분적인 방사로부터의 발산(13b) 또는 확장을 도시한다. 발산(13b)은 발산(13a)보다 작은 것으로 판명된다. 각도 공간 내의 더 작은 발산(13b) 또는 더 작은 크기는 렌즈 디바이스(8)에 의해 작업 평면에서 공간적 공간 내의 분포로 변환되어, 이로써 제1 방향 x에서의 작업 평면 내의 필드의 더 작은 크기, 특히, 선형 세기 분포의 더 작은 길이가 발생한다.

도 2c는 공간적 도메인 내의 제1 방향 x에서 프리즘(9, 10)으로부터 나오는 부분적인 방사의 단면(12c) 또는 크기 를 도시한다. 도 2c는 각도 공간 내의 제1 방향 x에서 프리즘(9, 10)으로부터 나오는 부분적인 방사로부터의 발산(13c) 또는 확장을 도시한다. 발산(13c)은 발산(13a)보다 큰 것으로 판명된다. 각도 공간 내의 더 큰 발산(13c) 또는 더 큰 크기는 렌즈 디바이스(8)에 의해 작업 평면에서 공간적 공간 내의 분포로 변환되어, 이로써 제1 방향 x에서의 작업 평면 내의 필드의 더 큰 크기, 특히, 선형 세기 분포의 더 큰 길이가 발생한다.

이것은 작업 평면에서 레이저 방사의 선-형상 세기 분포(14)를 형성하기 위한 디바이스의 특정 예시적인 실시예를 이용하여 도 3a 내지 도 4b에서 예시된다.

도 3a는 프리즘(9, 10)이 제1 위치에 있는 디바이스를 도시한다. 이 제1 위치에서, 선형 세기 분포(14)의 길이는 도 3b로부터 볼 수 있는 바와 같이, 700 mm보다 다소 크다.

도 4a는 도 3a와 동일한 디바이스를 도시한다. 그러나, 도 4a에서의 프리즘(9, 10)은 제2 위치에 있고, 이 제2 위치는 제1 위치와는 상이하다. 이 제2 위치에서, 선형 세기 분포(14)의 길이는 도 4b로부터 볼 수 있는 바와 같이, 대략 500 mm이다.

프리즘(9, 10)의 상이한 위치는 제2 방향 y에서 연장되는 축 주위로 개별적인 프리즘(9, 10)을 피봇함으로써 달성될 수 있다. 도 3a 및 도 4에서 도시된 위치에서는, 예를 들어, 도 4a에서의 제1 프리즘(9)이 제2 방향 y에서 연장되는 대응하는 축 주위로 도 3a에서의 프리즘(9)에 대하여 시계 방향으로 피봇된다. 또한, 도 3a 및 도 4에서 도시된 위치에서는, 도 4a에서의 제2 프리즘(10)이 제2 방향 y에서 연장되는 대응하는 축 주위로 도 3a에서의 프리즘(9)에 대하여 시계반대 방향으로 피봇된다.

도 5는 발명에 따른 디바이스의 실시예를 도시하고, 이 실시예는, 2개의 프리즘(9, 10) 대신에, 4개의 프리즘(9a, 9b, 10a, 10b)이 제공된다는 점에서, 도 1에서의 실시예와는 상이하다. 이 경우에, 2개의 제1 프리즘(9a, 9b)은 제1 방향 x에서 서로의 옆에 배열된다. 또한, 2개의 제2 프리즘(10a, 10b)은 제1 방향 x에서 나란하게 배열된다.

2개의 레이저 빔(7a, 7b)은 디바이스에 충돌하고, 이 2개의 레이저 빔(7a, 7b)은 예를 들어, 그 발산 또는 그 빔 프로파일의 측면에서 서로 상이하다. 제1 레이저 방사(7a)는 도 5에서의 제1 균질화기(1)의 상부 영역을 타격하는 반면, 제2 레이저 방사(7b)는 도면에서의 제1 균질화기(1)의 하부 영역을 타격한다.

디바이스는, 도 5에서의 상부 제1 프리즘(9a)을 통과한 레이저 방사(7a)가 그 다음으로, 도 5에서의 상부 제2 프리즘(10a)을 통과하고, 도면에서의 하부 제1 프리즘(9b)을 통과한 레이저 방사(7b)가 도면에서의 하부 제2 프리즘(10b)을 통과하도록 셋업된다.또한, 디바이스는, 제2 프리즘(10a, 10b)을 통과한 2개의 레이저 빔(7a, 7b)이 렌즈 디바이스(8)를 함께 통과하고, 작업 평면에서, 특히, 선형 세기 분포로 렌즈 디바이스(8)에 의해 겹쳐놓이도록 셋업된다.

푸리에 배열인 단일 렌즈 디바이스는 작업 평면에서, 특히, 작업 평면에서 선형 세기 분포로 2개의 아마도 매우 상이한 레이저 빔(7a, 7b)을 겹쳐놓는 한편, 동시에, 프리즘(9a, 9b, 10a, 10b)의 대응하는 위치에서, 선의 길이가 특정될 수 있다는 것이 매우 유리한 것으로 입증되었다.

균질화기(1, 4)는 제1 방향 x에서 서로의 옆에 또는 서로로부터 거리를 두고 있는 상이한 레이저 빔(7a, 7b)에 대하여 상이하게 설계된 영역을 가지도록 제공이 행해질 수 있다.

2개의 상이한 레이저 빔(7a, 7b)을 형성하기 위한 디바이스는 4개의 프리즘을 포함하는 것이 아니라, 상호 상이한 두 레이저 빔(7a, 7b)에 대하여 이 경우에 제공되는, 도시되지 않은 2개의 프리즘을 포함하는 것으로 또한 제공될 수 있다.

도 1, 도 3a, 도 4a, 및 도 5에서 도시된 실시예에서, 작업 평면에서 레이저 방사 또는 레이저 방사들을 포커싱하기 위한, 및/또는 제2 방향 y에 관한 레이저 방사 또는 레이저 방사들을 성형하기 위한 추가의 렌즈가 제공될 가능성이 또한 있다. 이는 명확함의 이유로 도시되지 않을 수 있다.

Claims (16)

1. 레이저 방사(7, 7a, 7b)를 성형하기 위한, 특히, 레이저 방사(7, 7a, 7b)의 선형 세기 분포(14)를 성형하기 위한 디바이스로서,
   렌즈(3)의 제1 어레이(2)를 갖는 제1 균질화기(homogenizer)(1) - 상기 디바이스는 성형 대상 레이저 방사(7, 7a, 7b)가 상기 렌즈(3)의 제1 어레이(2)를 통과하도록 셋업(set up)됨 -
   렌즈(6)의 제2 어레이(5)를 갖는 제2 균질화기(4) - 상기 디바이스는 상기 렌즈(3)의 제1 어레이(2)를 통과한 상기 레이저 방사(7, 7a, 7b)가 상기 렌즈(6)의 제2 어레이(5)를 통과하도록 셋업됨 -,
   렌즈 디바이스(8) - 상기 디바이스는 상기 렌즈(6)의 제2 어레이(5)를 통과한 상기 레이저 방사(7, 7a, 7b)가 상기 렌즈 디바이스(8)를 통과하도록 셋업되어, 상기 제2 어레이(5)의 상기 렌즈(6)의 일부를 통과한 상기 레이저 방사(7, 7a, 7b)의 적어도 부분적인 방사가 작업 평면에서 겹쳐놓임 -
   를 포함하고,
   상기 디바이스는 상기 제2 균질화기(4)와 상기 디바이스(8) 사이에 배열된 제1 프리즘(9, 9a, 9b) 및 제2 프리즘(10, 10a, 10b)을 가지고, 상기 디바이스는 상기 렌즈(6)가 상기 제2 어레이(5)를 통과하게 되는 것을 허용하도록 배열되고, 레이저 방사(7, 7a, 7b)는 상기 렌즈 디바이스(8)에 충돌하기 전에, 상기 제1 및 상기 제2 프리즘(9, 9a, 9b, 10, 10a, 10b)을 연속적으로 통과하는, 디바이스.
2. 제1항에 있어서,
   상기 프리즘(9, 9a, 9b, 10, 10a, 10b)은 감소시키거나 증가시키기 위하여 적어도 부분적으로 제1 방향(x)에서 레이저 방사(7, 7a, 7b)의 단면(12a) 및/또는 발산(13a)을 감소시키도록 셋업되고, 특히, 상기 발산(13a)을 증가시키는 것은 상기 선형 세기 분포(14)의 길이를 증가시키고, 상기 발산(13a)을 감소시키면, 상기 선형 세기 분포(14)의 길이에서의 감소가 달성되는, 디바이스.
3. 제2항에 있어서,
   상기 프리즘(9, 10)은 0.5 내지 2.0 사이의 계수를 변경하기 위하여 하나에 의해 적어도 부분적으로 제1 방향(x)에서 상기 프리즘(9, 10)을 통과하는 레이저 방사의 상기 발산(13a)에 적응되고, 특히, 세기 분포 선-형상 강도(14)의 길이를 0.5 내지 2.0 사이의 계수만큼 변경하는, 디바이스.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 제1 어레이(2) 및 상기 제2 어레이(5)의 상기 렌즈(3, 6)는 나란하게 각각 배열되고, 특히, 상기 제1 어레이 및 상기 제2 어레이(5)의 상기 렌즈(3, 6)는 서로의 옆에 배열되는 방향(x)은 상기 제1 방향(x)에 대응하는, 디바이스.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 제1 어레이(2) 및 상기 제2 어레이(5)의 상기 렌즈(3, 6)는 원통형 렌즈이고, 상기 원통형 렌즈의 원통 축은 서로에 평행하게 정렬되고, 특히, 상기 원통 축은 상기 제1 방향(x)에 수직인 제2 방향(y)에서 연장되는, 디바이스.
6. 제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 제1 프리즘(9, 9a, 9b)은, 상기 레이저 방사(7, 7a, 7b)의 옆에 배열된 상기 제2 어레이(5)의 렌즈(6)를 통과한 상기 레이저 방사의 부분적인 방사는 상기 제1 프리즘(9, 9a, 9b)에 진입할 때에 적어도 상기 제1 방향(x)에서 서로 아직 중첩되지 않는 방식으로 상기 디바이스 내에 배열되는, 디바이스.
7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 프리즘(9, 9a, 9b, 10, 10a, 10b) 중의 적어도 하나, 바람직하게는 모든 프리즘(9, 9a, 9b, 10, 10a, 10b)은 축 주위에서 이동가능하고, 바람직하게는 축 주위에서 피봇가능한, 디바이스.
8. 제7항에 있어서,
   상기 적어도 하나의 프리즘(9, 9a, 9b, 10, 10a, 10b)의 이동, 특히, 피봇에 의해, 상기 프리즘(9, 9a, 9b, 10, 10a, 10b)의 단면이 상기 프리즘(9, 9a, 9b, 10, 10a, 10b)을 통과하는 상기 레이저 방사(7, 7a, 7b)에 의해 계수만큼 변경되는, 디바이스.
9. 제7항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 프리즘(9, 9a, 9b, 10, 10a, 10b) 중의 적어도 하나, 바람직하게는 모든 프리즘(9, 9a, 9b, 10, 10a, 10b)이 피봇가능한 상기 축은 상기 제2 방향(y)에서 연장되는, 디바이스.
10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 2개의 프리즘(9, 9a, 9b, 10, 10a, 10b)은 동일한 설계이고, 특히, 동일한 크기 및/또는 동일한 형상을 가지는, 디바이스.
11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 어레이(2)의 상기 렌즈(3) 내지 상기 제2 어레이(5)의 상기 렌즈(6) 사이의 거리는 상기 제2 어레이(5)의 적어도 일부 렌즈(6), 바람직하게는 모든 렌즈(6)에 대한 초점 길이에 대응하는, 디바이스.
12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 렌즈 디바이스(8)는 푸리에 배열(Fourier arrangement)로 상기 디바이스 내에 위치결정되어, 각도 공간 내의 상기 레이저 방사(7, 7a, 7b)의 분포는 상기 렌즈 디바이스(8)에 의해 공간적 공간 내의 세기 분포로 변환되는, 디바이스.
13. 작업 평면에서 레이저 방사(7, 7a, 7b)의 세기 분포를 생성하기 위한, 특히, 작업 평면에서 레이저 방사(7, 7a, 7b)의 선형 세기 분포(14)를 생성하기 위한 레이저 디바이스로서,
    적어도 하나의 레이저 광원, 및
    레이저 방사(7, 7a, 7b)를 성형하기 위한 하나의 디바이스
    를 포함하고,
    상기 레이저 방사(7, 7a, 7b)를 성형하기 위한 디바이스는 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 디바이스인, 레이저 디바이스.
14. 제13항에 있어서,
    상기 레이저 디바이스는, 서로 상이한 속성을 갖는, 예를 들어, 서로 상이한 발산 또는 빔 프로파일을 갖는 레이저 방사(7a, 7b)를 생성하도록 셋업되는 2개의 레이저 광원을 포함하고, 상기 레이저 디바이스는, 레이저 빔(7a, 7b)이 서로에 인접한 상기 디바이스에 충돌하고 상기 렌즈 디바이스(8)가 상기 작업 평면에서 두 레이저 빔(7a, 7b)을 겹쳐놓고, 특히, 상기 선형 세기 분포(14)에서 상기 두 레이저 빔(7a, 7b)을 겹쳐놓도록 셋업되는, 레이저 디바이스.
15. 제13항에 있어서,
    레이저 빔(7, 7a, 7b)을 성형하기 위한 상기 디바이스는 4개의 프리즘(9a, 9b, 10a, 10b)을 포함하고, 상이한 레이저 빔(7a, 7b) 중의 하나를 위하여 이용되는 상기 4개의 프리즘(9a, 9b, 10a, 10b) 중의 2개가 제공되는, 레이저 디바이스.
16. 제13항에 있어서,
    레이저 빔(7, 7a, 7b)을 성형하기 위한 상기 디바이스는 상호 상이한 레이저 방사(7a, 7b)의 모두를 위하여 제공되는 2개의 프리즘을 포함하는, 레이저 디바이스.