KR20230112136A - Uv-c 광에 대한 노출의 유해한 영향으로부터 유기 중합체성 물질을 보호하기 위한 조성물 및 방법 - Google Patents

Uv-c 광에 대한 노출의 유해한 영향으로부터 유기 중합체성 물질을 보호하기 위한 조성물 및 방법 Download PDF

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Abstract

본원에서는 UV-C(190 ㎚ 내지 280 ㎚) 광에 대한 노출 시에 변색, 크래킹 또는 크레이징 중 적어도 하나의 유해한 영향에 내성이 있는 안정화된 중합체성 물품을 제조하기 위한 중합체 조성물이 제공되며, 이때 중합체 조성물은 (i) 유기 중합체성 물질; 및 (ii) 안정화제 조성물을 포함하며, 이때 안정화제 조성물은, 바륨 화합물(예를 들어, 바륨 염)이 안정화제 조성물에 없는 경우에도, 그리고 HALS가 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 세바케이트(TINUVINTM 770) 단독이 아니라는 조건 하에 힌더드 페놀, 포스파이트 및 포스포나이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 산화 방지제; 및 힌더드 아민 광 안정화제(HALS), UV 흡수제(UVA), 힌더드 벤조에이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 광 안정화제를 포함한다. UV-C 광에 대한 노출 시의 변색 감소, 크래킹 감소 또는 크레이징 감소 중 적어도 하나는 광 안정화제의 부재 하의 산화 방지제와 비교하여 광 안정화제와 산화 방지제를 조합하여 사용하는 것과 연관이 있다. 유기 중합체성 물질에 산화 방지제 및 광 안정화제를 첨가함으로써 UV-C 광의 유해한 영향에 대항하여 유기 중합체성 물질을 안정화시키는 방법이 또한 제공된다.

Description

UV-C 광에 대한 노출의 유해한 영향으로부터 유기 중합체성 물질을 보호하기 위한 조성물 및 방법
관련 출원
본 출원은 2020년 11월 27일자로 출원된 미국 가출원 제63/118,809호(일람 번호: CYT 2020-006-US-PSP) 및 2021년 5월 19일자로 출원된 미국 가출원 제63/190,443호(일람 번호: 2020-006-US-PSP2)에 대한 우선권을 주장하며, 이의 전문 각각은 그 전체가 본원에서 참고로 포함된다. 또한, 본 출원은 청구주제 및 소유권에 있어서 2020년 11월 27일자로 출원된 미국 가출원 제63/118,807호(일람 번호: CYT 2020-005-US-PSP) 및 2021년 5월 19일자로 출원된 미국 가출원 제63/190,431호(일람 번호: CYT 2020-005-US-PSP2)와 관련이 있다.
기술 배경 및 관련 분야
기술분야
본 개시내용은 일반적으로 UV-C(190 ㎚ 내지 280 ㎚) 광에 대한 노출의 유해한 영향으로부터 유기 중합체성 물질 및 이로부터 제조된 안정화된 중합체성 물품을 보호하는 것에 관한 것이다. 유해한 영향은 변색(discoloration), 크래킹(cracking) 및/또는 크레이징(crazing)을 포함한다. 보다 구체적으로, 본 개시내용은 산화 방지제 및 광 안정화제를 갖는 안정화제 조성물에 관한 것으로, 이때 안정화제 조성물은 살균용 UV-C 광에 대한 반복적 또는 장기간 노출 시에 유기 중합체성 물질의 변색, 크래킹 또는 크레이징을 감소시키는 데 효과적이다.
대부분의 중합체성 유기 물질은 자외선에 노출되는 경우에 광열화를 겪으며, 이는 비가역적인 화학적 변화를 초래한다. 이들 변화는 중합체성 유기 물질의 물리적 특성에 악영향을 미친다. 또한, 자외선에 대한 노출은 인간의 피부에 유해하며, 일광 화상 및 피부암을 초래한다. 자외선의 범위는 100 ㎚ 내지 400 ㎚이며, 3개의 하위 영역, 즉 100 ㎚ 내지 280 ㎚(UV-C), 280 ㎚ 내지 320 ㎚(UV-B) 및 320 ㎚ 내지 400 ㎚(UV-A)으로 분류된다. 자외선의 주요 공급원은 태양광이다. UV-C 범위 내의 태양 복사는 성층권의 오존층에 의해, 그리고 그 상부의 층 내 산소에 의해 흡수되므로 지구의 표면에 도달하지 못한다. 따라서, 지난 60년 이상 동안 안정화제를 개발하여 UV-B선 및 UV-A선의 유해한 영향으로부터 유기 중합체성 물질 및 인간의 피부를 보호하기 위해 엄청난 노력이 이루어져 왔다. UV-C 광에 대한 안정화는 주로 간과되어 왔으나 쟁점화된 바가 없었다는 점에서 놀라운 일은 아니다. 그러나, 신규한 코로나바이러스 COVID-19가 전 세계적으로 확산함에 따라, 과학자들은 살균용인 UV-C선을 이용하여 다양한 물체 또는 휴대품을 살균하는 등 다양한 방식으로 전염을 감소시키려고 노력해 왔다. 짧은 기간 동안, 주로 실내 응용을 위한 살균제 도구로서의 UV-C 광 조사의 이용에서 급격한 성장이 있었다. 다양한 UV-C 장치가 제조되고 있으며, 실내 응용, 예를 들어 의료 건물/병원에서의 살균; 비행기, 열차, 자동차, 버스(정류장 및 공항을 포함함)와 같은 다양한 교통 수단; 소매점, 레스토랑, 술집을 비롯한 상업용 및 거주용 인테리어; 가구, 페인트, 개인 보호 장비(PPE), 카펫 및 직물, 및 전기 및 전자 장치 등을 비롯한 실내 장비에 사용되고 있다.
살균을 위한 바람직한 UV-C 파장 범위는 200 ㎚ 내지 280 ㎚인 것으로 간주되며, 특히 바람직한 범위는 222 ㎚ 내지 254 ㎚이다. UV-C 노출이 COVID-19 바이러스를 포함한 미생물을 효과적이고 효율적으로 불활성화시키는 것으로 증명되었다. 그러나, UV-C 노출이 이들 물질을 이용하여 제조된 유기 중합체성 물질 또는 물품에 대해 어떠한 악영향을 미치는지에 대한 보다 깊은 이해가 부족한 것으로 보인다. 실내 응용을 위해 사용되는 중합체성 유기 물질, 및 제조된 물품은 실내 태양광에서 유래하는 UV-A 및 UV-B에 대한 제한된 노출로 인해 UV-A선 및 UV-B선에 대항하여 보호하기 위해 안정화제가 정상적으로는 요구되지 않는다. 대신, 실내 물품에 사용되는 중합체성 유기 물질은 일상적으로 가공 첨가제, 특히 산화 방지제, 예를 들어 유기 포스파이트 및 힌더드 페놀(hindered phenol)을 사용하여 제조된 중합체성 물품의 가공 및 형성을 위해 요구되는 고온에 대한 노출 동안 열화 및 색상 생성(color generation)을 방지한다. 그러나, 살균용 UV-C 광의 실내 사용으로 인해, 가공용으로 사용된 산화 방지제 및 유기 중합체성 물질로부터 만들어진 중합체성 물품이 UV-C 노출로부터 임의의 유해한 영향을 미칠 것인지의 여부를 다루는 것은 중요하다. 특히 우려되는 사실은, UV-C선이 UV-A 및 UV-B보다 높은 에너지를 갖고, 유기 중합체성 물질에 보다 유독할 수 있다는 것이다. 또한, UV-C 노출 안정성에 대한 이해가 부족하며, UV-C 노출이 UV-A 및 UV-B 광에 대항하여 중합체성 유기 물질 자체를 보호하기 위해 사용되는 산화 방지제에 어떤 영향을 미치는지에 대한 이해도 부족하다.
CN 111 286 116에 UV-C 조사-내성의 폴리프로필렌/폴리에틸렌 내후성 복합 물질이 개시되어 있지만, 이는 문제 해결 비용에 불필요하게 부가되는 다수의 원료로 구성되며, 따라서 이는 다양한 응용 중 광범위한 산업용으로는 실용적이지 않다.
CN 112 778 730은 기타 가공 보조제 중 폴리카르보네이트, SAN, ASA 고무 분말, 트리아진 UV 흡수제, 벤조트리아졸, 힌더드 아민 광 안정화제(hindered amine light stabilizer; HALS), 포스파이트 및 티오디프로피오네이트 및 금속 불활성화제를 포함하는 UV-C선-내성 폴리카르보네이트 조성물에 관한 것이다.
따라서, 중합체성 유기 물질뿐만 아니라, 이로부터 만들어진 제조 물품을 UV-C선에 대한 노출로부터 보호하기 위해 안정화제 조성물이 절실히 요구되고 있다. 특히, UV-C 광에 대한 노출 시에 유기 중합체성 물질의 변색, 크래킹 및/또는 크레이징을 감소시키는 안정화제 조성물이 요구되고 있다. 이 같은 안정화제 조성물은 당해 기술분야에서 유용한 발전일 수 있으며, 산업별로 빠르게 받아들여질 수 있다.
본 개시내용은 UV-C(190 ㎚ 내지 280 ㎚) 광에 대한 반복적 또는 장기간 노출 시에 변색, 크래킹 및/또는 크레이징 중 적어도 하나에 내성이 있는 안정화된 중합체성 물품을 제조하기 위한 중합체 조성물을 제공하며, 이때 중합체 조성물은 (i) 유기 중합체성 물질; 및 (ii) 안정화제 조성물을 포함하지만, 이에 제한되지 않으며, 이때 안정화제 조성물은, 바륨 화합물(예를 들어, 바륨 염)이 안정화제 조성물에 없는 경우에도, 그리고 힌더드 아민 광 안정화제(HALS)가 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 세바케이트(TINUVINTM 770) 단독이 아니라는 조건 하에, 힌더드 페놀, 포스파이트 및 포스포나이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 산화 방지제; 및 힌더드 아민 광 안정화제(HALS), UV 흡수제(UVA), 힌더드 벤조에이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 광 안정화제를 갖는다. UV-C 광에 대한 노출 시의 변색 감소, 크래킹 감소 및/또는 크레이징 감소 중 적어도 하나는 광 안정화제의 부재 하의 산화 방지제와 비교하여 광 안정화제와 산화 방지제를 조합하여 사용하는 것과 연관이 있다.
또한, 본 개시내용은 UV-C(190 ㎚ 내지 280 ㎚) 광에 대한 노출 시에 변색, 크래킹 또는 크레이징에 내성이 있는 안정화된 중합체성 물품을 제공하며, 이때 중합체성 물품은 본원에 기재된 바와 같은 중합체 조성물을 포함한다. UV-C 광에 대한 반복적 또는 장기간 노출 시의 변색 감소, 크래킹 감소 및/또는 크레이징 감소 중 적어도 하나는 광 안정화제의 부재 하의 산화 방지제와 비교하여, 바륨 화합물(예를 들어, 바륨 염)이 안정화제 조성물에 없는 경우에도 광 안정화제와 산화 방지제를 조합하여 사용하는 것과 연관이 있다.
UV-C(190 ㎚ 내지 280 ㎚) 광의 유해한 영향에 대항하여 유기 중합체성 물질을 안정화시키는 방법이 추가로 제공되며, 이때 이 방법은 본원에 기재된 바와 같은 안정화제 조성물을 유기 중합체성 물질에 첨가하는 단계를 포함한다. UV-C 광에 대한 노출 시의 변색 감소, 크래킹 감소 및/또는 크레이징 감소 중 적어도 하나는 광 안정화제의 부재 하의 산화 방지제와 비교하여, 바륨 화합물(예를 들어, 바륨 염)이 안정화제 조성물에 없는 경우에도 광 안정화제와 산화 방지제를 조합하여 사용하는 것과 연관이 있다.
안정화된 중합체성 물품을 제조하는 방법이 또한 제공되며, 이때 이 같은 방법은, 바륨 화합물(예를 들어, 바륨 염)이 안정화제 조성물에 없는 경우에도, 산화 방지제 및 광 안정화제를 갖는 안정화제 조성물을 유기 중합체성 물질에 첨가하는 단계, 및 안정화제 조성물을 함유하는 유기 중합체성 물질을 안정화된 중합체성 물품으로 성형하는 단계를 포함한다.
본 요약에는 모든 특징 또는 요소가 나열되지 않을 수 있으며, 요소의 하의 조합이 또한 발명을 구성할 수 있다. 본 발명의 이들 및 기타 목적, 특징 및 이점은 첨부된 실시예 및 도면과 함께 나타낸 하기의 상세한 설명으로부터 명백하게 될 것이다.
도 1a는 상당한 표면 크래킹 및/또는 크레이징을 나타내는, 250시간 동안 UV-C 조사에 노출된 이후의 실시예 5의 샘플 6-1의 불안정한 폴리프로필렌 플라크에 대한 현미경 사진이다.
도 1b는 250시간 동안 UV-C 조사에 노출된 이후의 0.08% CYANOXTM 2777을 함유하는 실시예 5의 샘플 6-2의 불안정한 폴리프로필렌 플라크에 대한 현미경 사진이다. 이는 일부 표면 크래킹 및/또는 크레이징을 나타내지만, 샘플 6-1보다 적다.
도 1c는 250시간 동안 UV-C 조사에 노출된 이후의 0.08% IRGANOXTM 1076을 함유하는 실시예 5의 샘플 6-4의 불안정한 폴리프로필렌 플라크에 대한 현미경 사진이다. 이는 매우 적은 표면 크래킹 및/또는 크레이징을 나타낸다.
본 발명자들은 산화 방지제 및 광 안정화제 둘 모두를 포함하지만, 이에 제한되지 않는 안정화제 조성물이 UV-C 광에 대한 반복적 또는 장기간 노출의 유해한 영향에 내성이 있는 중합체성 물품을 제조하는 데 특히 유용하다는 것을 발견하였다. 산화 방지제는 힌더드 페놀, 포스파이트 및 포스포나이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되고; 광 안정화제는, 바륨 화합물(예를 들어, 바륨 염)이 안정화제 조성물에 없는 경우에도, 그리고 HALS가 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 세바케이트(TINUVINTM 770) 단독이 아니라는 조건 하에, 힌더드 아민 광 안정화제(HALS), UV 흡수제(UVA), 힌더드 벤조에이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다. 유리하게는, UV-C 광에 대한 노출 시의 변색 감소, 크래킹 감소 및/또는 크레이징 감소 중 적어도 하나는 광 안정화제의 부재 하의 산화 방지제와 비교하여 광 안정화제와 산화 방지제를 조합하여 사용하는 것과 연관이 있다.
정의
본원에 사용된 바와 같이, 하기 용어들은 독자를 돕기 위해 제공된다. 달리 정의하지 않는 한, 본원에서 사용된 기술분야의 용어, 개념, 및 기타 과학 용어 모두는 화학 분야의 숙련자가 흔히 이해하는 의미를 갖는 것으로 의도된다.
본 명세서 전반에 걸쳐, 용어 및 치환기는 이들의 정의를 보유한다. 유기 화학자(즉, 당업자)에 의해 이용되는 종합적인 약어 목록은 문헌[Journal of Organic Chemistry]의 각각의 권(volume)의 창간호에 나타나 있다. 일반적으로 "표준 약어 목록(Standard List of Abbreviations)"이란 표제의 표로 제시되는 목록이 본원에서 참고로 포함된다.
"하이드로카르빌"이란 용어는 달리 언급한 것을 제외하고, 모두가 탄소인 백본(backbone)을 갖고, 탄소 및 수소 원자로 이루어진 지방족, 지환족 및 방향족 기를 포함하는 일반 용어이다. 특정 경우, 본원에 정의된 바와 같이 탄소 백본을 구성하는 탄소 원자 중 하나 이상은 특정 원자 또는 원자의 기로 교체될 수 있다. 하이드로카르빌기의 예로는 알킬기, 사이클로알킬기, 사이클로알케닐기, 카르보환형 아릴기, 알케닐기, 알키닐기, 알킬사이클로알킬기, 사이클로알킬알킬기, 사이클로알케닐알킬기 및 카르보환형 아르알킬기, 알크아릴기, 아르알케닐기 및 아르알키닐기를 들 수 있다. 이 같은 기는 본원에 정의된 바와 같은 하나 이상의 치환기로 선택적으로 치환될 수 있다. 따라서, 본 명세서 및 청구범위에 토의된 화학적 기 또는 모이어티는 치환 또는 비치환된 형태를 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 문맥 상 달리 나타내지 않는 한, 하기에 표시된 실시예 및 선호도는 본원에 기재된 바와 같은 화학식의 화합물에 대한 치환기의 다양한 정의에서 언급된 하이드로카르빌 치환기 또는 하이드로카르빌-함유 치환기 각각에 적용된다.
바람직한 비방향족 하이드로카르빌기는 알킬기 및 사이클로알킬기와 같은 포화 기이다. 일반적으로, 그리고 일례로서, 하이드로카르빌기는 문맥 상 달리 요구하지 않는 한 최대 50개의 탄소 원자를 가질 수 있다. 1개 내지 30개의 탄소 원자를 갖는 하이드로카르빌기가 바람직하다. 1개 내지 30개의 탄소 원자를 갖는 하이드로카르빌기의 하위 세트 내에서, 특정 예는 C1-12 하이드로카르빌기(예를 들어, C1-6 하이드로카르빌기 또는 C1-4 하이드로카르빌기)와 같은 C1-20 하이드로카르빌기이며, 구체적인 예는 C1 내지 C30 하이드로카르빌기로부터 선택되는 임의의 개별 값 또는 값들의 조합이다.
알킬은 선형, 분지형 또는 환형 탄화수소 구조 및 이들의 조합을 포함하는 것을 의도된다. 저급 알킬은 1개 내지 6개의 탄소 원자, 바람직하게는 1개 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 알킬기를 지칭한다. 저급 알킬기의 예로는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, s- 및 t-부틸, 펜틸, 헥실 또는 사이클로헥실 등을 들 수 있다. 바람직한 알킬기는 C30 이하의 알킬기이다.
알콕시 또는 알콕시알킬은 산소를 통해 모 구조에 부착된 직쇄, 분지형, 환형 구성 및 이들의 조합을 갖는 1개 내지 20개 탄소 원자의 기를 지칭한다. 예로는 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시, 사이클로프로필옥시, 사이클로헥실옥시 등을 들 수 있다.
아실은 포르밀을 지칭하며, 카르보닐 작용기를 통해 모 구조에 부착된 직쇄, 분지형, 환형 구성(포화, 불포화 및 방향족) 및 이들의 조합을 갖는 1개, 2개, 3개, 4개, 5개, 6개, 7개, 8개, 9개, 10개, 11개 및 12개 탄소 원자의 기를 지칭한다. 예로는 아세틸, 벤조일, 프로피오닐, 이소부티릴, tert-부톡시카르보닐, 벤질옥시카르보닐 등을 들 수 있다. 저급 아실은 1개 내지 6개의 탄소를 함유하는 아실기를 지칭한다.
본원에 사용된 바와 같이, 문맥 상 달리 나타내지 않는 한, "카르보환형" 기 또는 "사이클로알킬"기에 대한 언급은 방향족 및 비방향족 고리 시스템 둘 모두를 포함해야 한다. 따라서, 예를 들어 이 용어는 이의 범위 내에 방향족, 비방향족, 불포화, 부분 포화 및 완전 포화 카르보환형 고리 시스템을 포함한다. 일반적으로, 이 같은 기는 단일 환형 또는 2환형일 수 있으며, 예를 들어 3개 내지 12개의 고리원, 보다 일반적으로는 5개 내지 10개의 고리원을 함유할 수 있다. 단일 환형 기의 예로는 3개, 4개, 5개, 6개, 7개 및 8개의 고리원, 보다 일반적으로는 3개 내지 7개 및 바람직하게는 5개 또는 6개의 고리원을 함유하는 기가 있다. 2환형 기의 예로는 8개, 9개, 10개, 11개 및 12개의 고리원 및 보다 일반적으로는 9개 또는 10개의 고리원을 함유하는 기가 있다. 비방향족 카르보사이클/사이클로알킬기의 예로는 c-프로필, c-부틸, c-펜틸, c-헥실 등을 들 수 있다. C7 내지 C10 다중 환형 탄화수소의 예로는 노르보닐 및 아다만틸과 같은 고리 시스템을 들 수 있다.
아릴(카르보환형 아릴)은 2환형 9원 또는 10원 방향족 고리 시스템; 또는 3환형 13- 또는 14원 방향족 고리 시스템을 함유하는 5원 또는 6원 방향족 카르보사이클 고리를 지칭한다. 방향족 6원 내지 14원 카르보환형 고리는, 예를 들어 치환 또는 비치환된 페닐기, 벤젠, 나프탈렌, 인단, 테트랄린 및 플루오렌을 포함한다.
치환된 하이드로카르빌, 알킬, 아릴, 사이클로알킬, 알콕시 등은 각각의 잔기 내의 최대 3개의 H 원자가 알킬, 할로겐, 할로알킬, 하이드록시, 알콕시, 카르복시, 카르보알콕시(알콕시카르보닐로도 지칭됨), 카르복스아미도(알킬아미노카르보닐로도 지칭됨), 시아노, 카르보닐, 니트로, 아미노, 알킬아미노, 디알킬아미노, 메르캅토, 알킬티오, 설록사이드, 설폰, 아실아미노, 아미디노, 페닐, 벤질, 할로벤질, 헤테로아릴, 페녹시, 벤질옥시, 헤테로아릴옥시, 벤조일, 할로벤조일 또는 저급 알킬하이드록시로 교체되는 특정 치환기를 지칭한다.
"할로겐"이란 용어는 불소, 염소, 브롬 또는 요오드를 의미한다.
본 출원의 설명 및 청구범위 전반에 걸쳐 사용된 "중합체", "중합체성 물질" 또는 "중합체성 조성물"이란 용어는 단량체 단위의 임의의 조합을 지칭하지만, 명시적으로 폴리카르보네이트 및 폴리클로로프렌 라텍스 조성물을 배제한다.
본 명세서 및 청구범위에서 사용된 성분의 양, 반응 조건 등을 표시하는 모든 숫자는 모든 경우에 "약"이란 용어로 수식되는 것으로 이해되어야 한다. 따라서, 달리 반대로 나타내지 않는 한, 본 명세서 및 청구범위에 개시된 수치 파라미터는 본 발명에 의해 수득되는 것으로 간주되는 목적하는 특성에 따라 달라질 수 있는 근사치이다. 청구범위의 범주에 대한 균등론의 적용을 제한하기 위한 시도가 아니라 최소한의 시도로, 각각의 수치 파라미터는 유효 숫자의 개수 및 통상의 반올림 접근법을 고려하여 이해되어야 한다.
본원 및 첨부된 청구범위에 사용된 바와 같이, 단수 형태는 문맥 상 달리 명백하게 나타내지 않는 한 복수의 대상을 포함한다. 예를 들어, 본원에 사용된 바와 같이 "일" 및 "하나" 및 "그"란 용어는 수량의 제한을 의미하지 않으며, 본원에서 달리 나타내지 않거나 문맥 상 명백하게 모순되지 않는 한, 단수 및 복수 둘 모두를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
요소, 구성성분 또는 특징부가 인용된 요소, 구성성분 또는 특징부의 목록에 포함되고/되거나 이로부터 선택되는 것으로 여겨지는 본 발명을 설명할 목적으로, 당업자는 본원에 기재된 본 발명의 관련 실시형태에서 요소, 구성성분 또는 특징부가 또한 개별 인용된 요소, 구성성분 또는 특징부 중 임의의 하나일 수 있거나, 또한 명시적으로 나열된 요소, 구성성분 또는 특징부 중 임의의 2개 이상을 포함하는 그룹으로부터 선택될 수 있다는 것을 인지할 것이다. 또한, 이 같은 목록에 나열된 임의의 요소, 구성성분 또는 특징부는 또한 이 같은 목록에서 생략될 수 있다. 중합체 조성물, 안정화된 중합체성 물품, 또는 변색을 감소시키는 방법의 임의의 선택적인 구성성분이 분명히 배제될 수 있다.
목록과 관련하여 본원에 사용된 바와 같이, "~ 중 적어도 하나"는 목록에 각각의 요소를 개별적으로 포함할 뿐만 아니라, 목록의 2개 이상의 요소의 조합 및 명명되지 않은 유사한 요소와 같은 목록의 적어도 하나의 요소의 조합을 포함한다는 것을 의미한다.
당업자라면 종료점에 의한 수치 범위에 대한 본원의 임의의 인용이 명시적으로 인용되든 인용되지 않든 인용된 범위(분율을 포함함)뿐만 아니라, 범위 및 등가물의 종료점 내에 포함된 모든 숫자를 포함한다는 것을 추가로 이해할 것이다. 따라서, 1 내지 5의 기재는, 예를 들어 다수의 요소를 지칭하는 경우에 예를 들어 1, 2, 3, 4 및 5를 포함하고, 예를 들어 측정치를 지칭하는 경우에 1.5, 2, 2.75 및 3.8를 또한 포함할 수 있다. 보다 넓은 범위 또는 보다 큰 군 이외에 보다 좁은 범위 또는 보다 구체적인 군이 개시되는 것이 보다 넓은 범위 또는 보다 큰 군을 부인하는 것은 아니다.
본 발명은 다수의 상이한 형태로 구현될 수 있고, 본원에 개시된 실시형태에 제한되는 것으로 이해되어서는 안 된다. 오히려, 이들 실시형태는 본 개시내용이 적용 가능한 법적 요건을 만족하도록 제공된다.
당업자라면 바람직한 실시형태가 하기에 보다 상세하게 토의되어 있지만 중합체 조성물, 안정화된 중합체성 물품, 및 UV-C 광의 유해한 영향에 대항하여 중합체를 안정화시키는 방법의 다수의 실시형태가 본 발명의 범주 내에 있는 것으로 고려된다는 것을 인식할 것이다. 따라서, 본 발명의 하나의 양태 또는 하나의 실시형태에 대하여 기재된 임의의 특징부가 달리 명시하지 않는 한 본 발명의 다른 양태 또는 실시형태와 상호 교환 가능한 것으로 주지되어야 한다. 당업자라면 본 발명의 임의의 설명이 특정 실시형태 또는 도면과 관련하여 기재될지라도 본 발명의 실시형태에 적용 가능하고 이와 상호 교환 가능한 것으로 이해되어야 한다.
따라서, 하나의 양태에서 본 발명은 UV-C(190 ㎚ 내지 280 ㎚) 광에 대한 반복적 또는 장기간 노출 시에 변색, 크래킹 및/또는 크레이징에 내성이 있는 안정화된 중합체성 물품을 제조하기 위한 중합체 조성물을 제공한다. 임의의 또는 모든 실시형태에서, 중합체 조성물은 (i) 유기 중합체성 물질; 및 (ii) 안정화제 조성물을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않으며, 이때 안정화제 조성물은, 바륨 화합물(예를 들어, 바륨 염)이 안정화제 조성물에 없는 경우에도, 그리고 HALS가 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 세바케이트(TINUVINTM 770) 단독이 아니라는 조건 하에, 힌더드 페놀, 포스파이트 및 포스포나이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 산화 방지제; 및 힌더드 아민 광 안정화제(HALS), UV 흡수제(UVA), 힌더드 벤조에이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 광 안정화제를 갖는다. 중합체 조성물의 임의의 또는 모든 실시형태에서, UV-C 광에 대한 노출 시의 변색 감소, 크래킹 감소 및/또는 크레이징 감소 중 적어도 하나는, 광 안정화제의 부재 하의 산화 방지제와 비교하여, 바륨 화합물(예를 들어, 바륨 염)이 안정화제 조성물에 없는 경우에도 광 안정화제와 산화 방지제를 조합하여 사용하는 것과 연관이 있다.
변색 감소는 본 실시예에 나타나 있는 바와 같이 254 ㎚에서 1,200 ㎼/㎠의 평균 방사조도(irradiance)를 갖는 UV-C 광에 대한 노출 24시간 후의 델타 E 및/또는 델타 황색 지수(YI)를 비교함으로써 측정된다. 델타 E는 ASTM D2244-16에 따라 측정되고, 델타 YI는 ASTM E313-20에 따라 측정된다. 변색 감소의 측정을 위해, 광 안정화제와 산화 방지제의 조합과 연관된 색상 변화를 광 안정화제의 부재 하의 동일한 양의 동일한 산화 방지제와 비교한다.
크레이징은 중합체성 유기 물질의 표면 상에 현미경적 크랙(크레이즈)의 네트워크를 형성하는 것이다. 크레이즈는 표면 상에서 촉각에 의해 느낄 수 없고, 크레이징된 물품이 계속해서 하중을 지지할 수 있다는 점에서 크랙과는 상이하다. 크래킹 또는 크레이징 감소의 측정을 위해, 광 안정화제와 산화 방지제의 조합과 연관된 크래킹 또는 크레이징을 광 안정화제의 부재 하의 동일한 양의 동일한 산화 방지제와 연관된 크래킹 또는 크레이징과 비교한다. 특히, 크래킹 또는 크레이징은 본 실시예 5 내지 실시예 10 및 도 1a 내지 도 1c에 나타나 있는 바와 같이 254 ㎚에서 1,200 ㎼/㎠의 평균 방사조도를 갖는 UV-C 광에 대한 노출 24시간 이후에 육안 검사에 의해, 또는 20× 배율의 디지털 입체 현미경을 사용한 검사에 의해 측정된다.
본 실시예에서, 산화 방지제(예를 들어, 힌더드 페놀 및 포스파이트 또는 포스포나이트)의 총량은 중합체 조성물의 총 중량을 기준으로 0.08 중량%, 0.10 중량% 또는 0.15 중량%이다. 그러나, 산화 방지제의 유형, 중합체성 유기 물질 및 요구되는 안정화도에 따라 산화 방지제는 중합체 조성물의 총 중량을 기준으로 0.001 중량% 내지 5.0 중량%, 바람직하게는 0.005 중량% 내지 3.0 중량% 및 보다 바람직하게는 0.01 중량% 내지 1.0 중량%로 존재할 수 있다.
본 실시예에서, 광 안정화제(예를 들어, HALS, UVA, 힌더드 벤조에이트)의 총량은 중합체 조성물의 총 중량을 기준으로 0.40 중량%, 0.60 중량%, 0.80 중량% 또는 1.6 중량%일 수 있다. 그러나, 광 안정화제의 유형, 중합체성 유기 물질 및 요구되는 안정화도에 따라 광 안정화제는 중합체 조성물의 총 중량을 기준으로 0.005 중량% 내지 5.0 중량%, 바람직하게는 0.01 중량% 내지 2.0 중량%로 존재할 수 있다.
임의의 또는 모든 실시형태에서, 안정화제 조성물의 양(예를 들어, 특정 실시형태에서의 산화 방지제 및 광 안정화제의 총량)은 중합체 조성물의 총 중량을 기준으로 0.001 중량% 내지 10.0 중량%, 바람직하게는 0.005 중량% 내지 5.0 중량% 및 보다 바람직하게는 0.01 중량% 내지 3.0 중량%이다.
유기 중합체성 물질은 UV-C(190 ㎚ 내지 280 ㎚) 광에 대한 노출 시에 변색되는 임의의 중합체성 유기 물질일 수 있다. 예를 들어, 중합체성 유기 중합체성 물질은 폴리올레핀, 열가소성 올레핀(TPO), 폴리(에틸렌-비닐 아세테이트)(EVA), 폴리에스테르, 폴리에테르, 폴리케톤, 폴리아미드, 천연 및 합성 고무, 폴리우레탄, 폴리스티렌, 폴리아크릴레이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리부틸 아크릴레이트, 폴리아세탈, 폴리아크릴로니트릴, 폴리부타디엔, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌(ABS), 스티렌-아크릴로니트릴(SAN), 아크릴로니트릴-스티렌-아크릴레이트(ASA), 셀룰로오스계 아세테이트 부티레이트, 셀룰로오스계 중합체, 폴리이미드, 폴리아미드이미드, 폴리에테르이미드, 폴리페닐렌 설파이드, 폴리페닐렌 옥사이드, 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 폴리비닐 클로라이드, 아미노 수지-가교된 폴리아크릴레이트 및 폴리에스테르, 폴리이소시아네이트-가교된 폴리에스테르 및 폴리아크릴레이트, 페놀/포름알데하이드, 우레아/포름알데하이드 및 멜라민/포름알데하이드 수지, 알키드 수지, 폴리에스테르 수지, 멜라민 수지로 가교된 아크릴레이트 수지, 우레아 수지, 이소시아네이트, 이소시아누레이트, 카르바메이트 또는 에폭시 수지, 무수물 또는 아민으로 가교된 지방족, 지환족, 헤테로환형 및 방향족 글리시딜 에테르에서 유래하는 가교된 에폭시 수지, 폴리실록산, 마이클 부가 중합체(Michael addition polymer), 활성화된 불포화 및 활성화된 메틸렌 화합물과 아민 또는 차단된 아민의 부가 중합체, 활성화된 불포화 및 활성화된 메틸렌 화합물과 케티민의 부가 중합체, 불포화 아크릴산 폴리아세토아세테이트 수지가 조합된 폴리케티민, 코팅 조성물, 방사선 경화성 조성물, 에폭시 멜라민 수지, 유기 염료, 화장품, 셀룰로오스계 종이, 사진 필름 종이, 섬유, 왁스 또는 잉크 중 적어도 하나일 수 있다.
임의의 또는 모든 실시형태에서, 유기 중합체성 물질은 폴리올레핀이다. 폴리올레핀은 (i) 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리이소부틸렌, 폴리부트-1-엔 또는 폴리-4-메틸펜트-1-엔; (ii) 폴리이소프렌 또는 폴리부타디엔; (iii) 사이클로펜텐 또는 노르보넨; (iv) 선택적으로 가교된 폴리에틸렌, 고밀도 폴리에틸렌(HDPE), 고밀도 및 고분자량 폴리에틸렌(HDPE-HMW), 고밀도 및 초고분자량 폴리에틸렌(HDPE-UHMW), 중간 밀도 폴리에틸렌(MDPE), 저밀도 폴리에틸렌(LDPE), 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE), 극저밀도 폴리에틸렌(VLDPE) 또는 초저밀도 폴리에틸렌(ULDPE); (v) 열가소성 올레핀(TPO); 또는 (vi) 모노-, 디- 또는 사이클로-올레핀 중 적어도 하나의 공중합체 중 적어도 하나일 수 있다.
산화 방지제는 힌더드 페놀, 포스파이트 및 포스포나이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다. 임의의 또는 모든 실시형태에서, 산화 방지제는 힌더드 페놀을 포함한다. 힌더드 페놀은 화학식 IVa, 화학식 IVb 또는 화학식 IVc에 따른 적어도 하나의 기를 가질 수 있다:
[화학식 IVa]
[화학식 IVb]
[화학식 IVc]
(상기 식에서, ""는 모 화합물에 대한 분자 단편의 (탄소-탄소 단일 결합을 통한) 부착점을 나타내고; 화학식 IVa, 화학식 IVb 또는 화학식 IVc 각각의 R18은 수소 또는 C1-12 하이드로카르빌이고; 화학식 IVa, 화학식 IVb 또는 화학식 IVc의 R19 및 R20 각각은 독립적으로 수소 또는 C1-C20 하이드로카르빌이고; 화학식 IVa, 화학식 IVb 또는 화학식 IVc 각각의 R37은 C1-C12 하이드로카르빌임). 임의의 또는 모든 실시형태에서, 화학식 IVa, 화학식 IVb 또는 화학식 IVc의 R18 및 R37 각각은 메틸 또는 tert-부틸로부터 독립적으로 선택된다.
본원에 개시된 본 발명에 사용하기에 적합한 힌더드 페놀의 예는 화학종(chemical genus)별로 정리되어 하기에 제공된다:
a) 예를 들어, 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀, 2-tert-부틸-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-에틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-n-부틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-이소부틸페놀, 2,6-디-사이클로펜틸-4-메틸페놀, 2-α-메틸사이클로헥실)-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-옥타데실-4-메틸페놀, 2,4,6-트리-사이클로헥실페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-메톡시메틸페놀 또는 2,6-디노닐-4-메틸페놀을 포함하는 알킬화된 모노페놀.
b) 예를 들어, 2,4-디옥틸티오메틸-6-tert-부틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-메틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-에틸페놀 또는 2,6-디-도데실티오메틸-4-노닐페놀을 포함하는 알킬티오메틸페놀.
c) 예를 들어, 2,6-디-tert-부틸-4-메톡시페놀, 2,5-디-tert-부틸하이드로퀴논, 2,5-디-tert-아밀하이드로퀴논, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 2,6-디-tert-부틸하이드로퀴논, 2,5-디-tert-부틸-4-하이드록시아니솔, 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시아니솔, 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐 스테아레이트 또는 비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐) 아디페이트를 포함하는 하이드로퀴논 및 알킬화된 하이드로퀴논.
d) 예를 들어, 2,2'-티오비스(6-tert-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-티오비스(4-옥틸페놀), 4,4'-티오비스(6-tert-부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스(6-tert-부틸-2-메틸페놀), 4,4'-티오비스(3,6-디-sec-아밀페놀) 또는 4,4'-비스(2,6-디메틸-4-하이드록시페닐)디설파이드를 포함하는 하이드록실화된 티오디페닐 에테르.
e) 예를 들어, 2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-에틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-메틸-6-(α-메틸사이클로헥실)페놀], 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-사이클로헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-노닐-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-tert-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-tert-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(6-tert-부틸-4-이소부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페놀], 2,2'-메틸렌비스[6-(α,α-디메틸벤질)-4-노닐페놀], 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-tert-부틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(6-tert-부틸-2-메틸페놀), 1,1-비스(5-tert-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)부탄, 2,6-비스(3-tert-부틸-5-메틸-2-하이드록시벤질)-4-메틸페놀, 1,1,3-트리스(5-tert-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1-비스(5-tert-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)-3-n-도데실메르캅토부탄, 에틸렌 글리콜 비스[3,3-비스(3'-tert-부틸-4'-하이드록시페닐)부티레이트], 비스(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸-페닐)디사이클로펜타디엔, 비스[2-(3'-tert-부틸-2'-하이드록시-5'-메틸벤질)-6-tert-부틸-4-메틸페닐]테레프탈레이트, 1,1-비스(3,5-디메틸-2-하이드록시페닐)부탄, 2,2-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로판, 2,2-비스(5-tert-부틸-4-하이드록시2-메틸페닐)-4-n-도데실메르캅토부탄 또는 1,1,5,5-테트라-(5-tert-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)펜탄을 포함하는 알킬리덴비스페놀.
f) 예를 들어, 3,5,3',5'-테트라-tert-부틸-4,4'-디하이드록시디벤질 에테르, 옥타데실-4-하이드록시-3,5-디메틸벤질메르캅토아세테이트, 트리데실-4-하이드록시-3,5-디-tert-부틸벤질메르캅토아세테이트, 트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)아민, 비스(4-tert-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질)디티오테레프탈레이트, 비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)설파이드 또는 이소옥틸-3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질메르캅토아세테이트를 포함하는 O-, N- 및 S-벤질 화합물.
g) 예를 들어, 디옥타데실-2,2-비스(3,5-디-tert-부틸-2-하이드록시벤질)말로네이트, 디옥타데실-2-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸벤질)말로네이트, 디도데실메르캅토에틸-2,2-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)말로네이트 또는 비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]-2,2-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)말로네이트를 포함하는 하이드록시벤질화된 말로네이트.
h) 예를 들어, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,4-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)-2,3,5,6-테트라메틸벤젠 또는 2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)페놀을 포함하는 방향족 하이드록시벤질 화합물.
i) 예를 들어, 2,4-비스(옥틸메르캅토)-6-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸메르캅토-4,6-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸메르캅토-4,6-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페녹시)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페녹시)-1,2,3-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(4-tert-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질)이소시아누레이트, 2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐에틸)-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)헥사하이드로-1,3,5-트리아진 또는 1,3,5-트리스(3,5-디사이클로헥실-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트를 포함하는 트리아진 화합물.
j) 예를 들어, 디메틸-2,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질포스포네이트, 디에틸-3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실-3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실-5-tert-부틸-4-하이드록시-3-메틸벤질포스포네이트, 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질포스폰산의 모노에틸 에스테르의 칼슘 염을 포함하는 벤질포스포네이트.
k) 예를 들어, 4-하이드록시라우르아닐라이드, 4-하이드록시스테아르아닐라이드, 옥틸 N-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)카르바메이트를 포함하는 아실아미노페놀.
l) 1가 또는 다가 알코올, 예를 들어 메탄올, 에탄올, n-옥탄올, 이소옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥사마이드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 2,2,4-트리메틸-1,6-헥산디올, 트리메틸올프로판 또는 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄을 갖는 [5-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산의 에스테르.
m) 1가 또는 다가 알코올, 예를 들어 메탄올, 에탄올, n-옥탄올, 이소옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥사마이드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 2,2,4-트리메틸-1,6-헥산디올, 트리메틸올프로판 또는 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄을 갖는 β-(5-tert-부틸-4-하이드록시-3-메틸페닐)프로피온산의 에스테르; 또는 3,9-비스[2-{3-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시}-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸.
n) 1가 또는 다가 알코올, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥사마이드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 2,2,4-트리메틸-1,6-헥산디올, 트리메틸올프로판 또는 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄을 갖는 β-(3,5-디사이클로헥실-4-하이드록시페닐)프로피온산의 에스테르.
o) 1가 또는 다가 알코올, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥사마이드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 2,2,4-트리메틸-1,6-헥산디올, 트리메틸올프로판 또는 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄을 갖는 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐 아세트산의 에스테르.
p) [3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산의 아미드, 예를 들어 N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)헥사메틸렌디아미드, N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)트리메틸렌디아미드, N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)하이드라지드 또는 N,N'-비스[2-(3-[3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐]프로피오닐옥시)에틸]옥사마이드.
본원에 기재된 중합체 조성물의 임의의 또는 모든 실시형태에서, 힌더드 페놀은,
1,3,5-트리스(4-tert-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질)-1,3,5-트리아진-2,4,6-(1H,3H,5H)-트리온(CYANOXTM 1790),
1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)-1,3,5-트리아진-2,4,6-(1H,3H,5H)-트리온(IRGANOXTM 3114),
1,1,3-트리스(2'-메틸-4'-하이드록시-5'-tert-부틸페닐)부탄,
트리에틸렌 글리콜 비스[3-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오네이트],
4,4'-티오비스(2-tert-부틸-5-메틸페놀),
2,2'-티오디에틸렌 비스[3-(3-tert-부틸-4-하이드록실-5-메틸페닐)프로피오네이트],
옥타데실 3-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오네이트,
펜타에리트리톨 (3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오네이트,
N,N'-헥사메틸렌 비스[3-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피온아미드],
디(4-tert-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질)티오디프로피오네이트,
펜타에리트리톨 테트라키스(3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트)(IRGANOXTM 1010),
옥타데실 3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트(IRGANOXTM 1076), 또는
N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록실페닐 프로피오닐)하이드라진(IRGANOXTM 1024) 중 적어도 하나이다.
중합체 조성물의 임의의 또는 모든 실시형태에서, 힌더드 페놀은 펜타에리트리톨 테트라키스(3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트)(IRGANOXTM 1010), 옥타데실 3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트(IRGANOXTM 1076), 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)-1,3,5-트리아진-2,4,6-(1H,3H,5H)-트리온(IRGANOXTM 3114) 또는 N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록실페닐 프로피오닐)하이드라진(IRGANOXTM 1024) 중 적어도 하나일 수 있다.
동일한 또는 기타 실시형태에서, 산화 방지제는 힌더드 페놀, 포스파이트 및 포스포나이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다. 임의의 또는 모든 실시형태에서, 산화 방지제는 포스파이트 또는 포스포나이트를 포함한다. 포스파이트 또는 포스포나이트는,
i) 화학식 1 내지 화학식 7 중 임의의 것에 따른 화합물:
[화학식 1]
[화학식 2]
[화학식 3]
[화학식 4]
[화학식 5]
[화학식 6]
[화학식 7]
(상기 식에서,
지수는 정수이고, n은 2, 3 또는 4이고; p는 1 또는 2이고; q는 2 또는 3이고; y는 1, 2 또는 3이고; z는 1 내지 6이고;
A1은 n 또는 q가 2이면 C2-C18 알킬렌; 산소, 황 또는 -NR4-로 중단된 C2-C12 알킬렌, 화학식 , 의 라디칼, 또는 페닐렌이고;
A1은 n 또는 q가 3이면 화학식 -CrH2r-1-(여기서, r은 4 내지 12의 정수임)의 2가 라디칼이고;
A1은 n이 4이면 이고;
B는 직접 결합, -CH2-, -CHR4-, -CR1R4-, 황, C5-C7 사이클로알킬리덴, 또는 3번, 4번 및/또는 5번 위치에서 1개 내지 4개의 C1-C4 알킬 라디칼로 치환된 사이클로헥실리덴이고;
D1은 p가 1이면 C1-C4 알킬이고, p가 2이면 -CH2OCH2-이고;
D2는 C1-C4 알킬이고;
E는 y가 1이면 C1-C18 알킬, -OR1 또는 할로겐이고;
E는 y가 2이면 -O-A2-O-(여기서, A2는 n이 2인 경우에 A1에 대해 정의된 바와 같음)이고;
E는 y가 3이면 화학식 R4C(CH2O)3 또는 N(CH2CH2O-)3의 라디칼이고;
Q는 적어도 z가의 모노- 또는 폴리-알코올 또는 페놀의 라디칼이며, 이때 이러한 라디칼은 모노- 또는 폴리-알코올 또는 페놀의 OH 기의 산소 원자를 통해 인 원자에 부착되고;
R1, R2 및 R3은 각각 독립적으로 할로겐, -COOR4, -CN 또는 -CONR4R4로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C18 알킬; 산소, 황 또는 -NR4-로 중단된 C2-C18 알킬; C7-C9 페닐알킬; C5-C12-사이클로알킬, 페닐 또는 나프틸; 할로겐, 1개 내지 3개의 알킬 라디칼 또는 총 1개 내지 18개의 탄소 원자를 갖는 알콕시 라디칼로 치환되거나 C7-C9 페닐알킬로 치환된 나프틸 또는 페닐; 또는 하기 화학식의 라디칼이고:
(상기 식에서, m은 3 내지 6 범위의 정수임);
R4는 수소, C1-C8 알킬, C5-C12-사이클로알킬 또는 C7-C9 페닐알킬이고;
R5 및 R6은 각각 독립적으로 수소, C1-C8 알킬 또는 C5-C6 사이클로알킬이고;
R7 및 R8은 q가 2이면 각각 독립적으로 C1-C4 알킬이거나, 모두 2,3-데하이드로펜타메틸렌 라디칼이고; R7 및 R8은 q가 3이면 각각 메틸이고;
R14는 각각의 경우 수소, C1-C9 알킬 또는 사이클로헥실로부터 독립적으로 선택되고;
R15는 각각의 경우 독립적으로 수소 또는 메틸이고;
X 및 Y는 각각 직접 결합 또는 산소이고;
Z는 직접 결합, 메틸렌, -C(R16)2- 또는 황이고;
R16은 C1-C8 알킬임); 또는
ii) 화학식 8에 따른 트리스아릴포스파이트 화합물 중 적어도 하나일 수 있다:
[화학식 8]
(상기 식에서,
R17은 화학식 8의 방향족 고리의 0개 내지 5개의 사례에 존재하는 치환기이며, 각각의 경우에 독립적으로 C1-C20 알킬, C3-C20 사이클로알킬, C4-C20 알킬 사이클로알킬, C6-C10 아릴 또는 C7-C20 알킬아릴임).
임의의 또는 모든 실시형태에서, 포스파이트 또는 포스포나이트는, 예를 들어,
트리페닐 포스파이트,
디페닐 알킬 포스파이트,
페닐 디알킬 포스파이트,
트리라우릴 포스파이트,
트리옥타데실 포스파이트,
디스테아릴 펜타에리트리톨 포스파이트,
트리스(2,4-디-tert-부틸페닐) 포스파이트(IRGAFOSTM 168),
트리스(4-노닐페닐) 포스파이트,
화학식 A, 화학식 B, 화학식 C, 화학식 D, 화학식 E, 화학식 F, 화학식 G, 화학식 H, 화학식 J, 화학식 K 또는 화학식 L의 화합물:
[화학식 A]
[화학식 B]
[화학식 C]
[화학식 D]
[화학식 E]
[화학식 F]
[화학식 G]
[화학식 H]
[화학식 J]
[화학식 K]
[화학식 L]
,
2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올 2,4,6-트리-tert-부틸페놀 포스파이트,
비스(2,6-디-tert-부틸-4-메틸페닐) 펜타에리트리톨 디포스파이트,
2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올 2,4-디-쿠밀페놀 포스파이트,
2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올 4-메틸-2,6-디-tert-부틸페놀 포스파이트, 또는
비스(2,4,6-트리-tert-부틸-페닐) 펜타에리트리톨 디포스페이트 중 적어도 하나일 수 있다.
임의의 또는 모든 실시형태에서, 포스파이트 또는 포스포나이트는 트리스(2,4-디-tert-부틸페닐)포스파이트(IRGAFOSTM 168), 트리페닐 포스파이트, 트리스(4-노닐페닐) 포스파이트, 비스(2,4-디쿠밀페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트(DOVERPHOSTM S9228) 또는 테트라키스(2,4-디-tert-부틸페닐)-4,4'-비페닐렌-디포스포나이트(IRGAFOSTM P-EPQ) 중 적어도 하나이다.
또한, 본 발명에 따른 중합체 조성물은 힌더드 아민 광 안정화제(HALS), UV 흡수제(UVA), 힌더드 벤조에이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 광 안정화제를 포함한다. 임의의 또는 모든 실시형태에서, 광 안정화제는, HALS가 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 세바케이트(TINUVINTM 770) 단독이 아니라는 조건 하에, UV 흡수제 또는 기타 광 안정화제의 부재 하에서도 힌더드 아민 광 안정화제를 포함한다. 힌더드 아민 광 안정화제는,
화학식 II에 따른 적어도 하나의 작용기:
[화학식 II]
(상기 식에서,
R31은 수소, OH, C1-C20 하이드로카르빌, -CH2CN, C1-C12 아실 또는 C1-C18 알콕시이고;
R38은 수소 또는 C1-C8 하이드로카르빌이고;
R29, R30, R32 및 R33은 각각 독립적으로 C1-C20 하이드로카르빌이거나, R29 및 R30 및/또는 R32 및 R33은 이들이 부착된 탄소와 함께 결합되어 C5-C10 사이클로알킬을 형성함); 또는
화학식 IIa에 따른 적어도 하나의 작용기를 포함할 수 있다:
[화학식 IIa]
(상기 식에서,
m은 1 내지 2의 정수이고;
R39는 수소, OH, C1-C20 하이드로카르빌, -CH2CN, C1-C12 아실 또는 C1-C18 알콕시이고;
G1 내지 G4는 각각 독립적으로 C1-C20 하이드로카르빌임).
임의의 또는 모든 실시형태에서, 힌더드 아민 광 안정화제(HALS), 예를 들어,
비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 숙시네이트;
비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일) 세바케이트;
비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜) 숙시네이트;
비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 세바케이트(TINUVINTM 123);
비스(1,2,2,6,6 펜타메틸피페리딘-4-일) n-부틸 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질말로네이트;
1-(2-하이드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리딘과 숙신산의 축합물(TINUVINTM 622);
2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일 스테아레이트;
2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일 도데카네이트;
1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일 스테아레이트;
1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일 도데카네이트;
N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민과 4-tert-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물(CHIMASSORBTM 944);
트리스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 니트릴로트리아세테이트;
4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘;
N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민과 4-모르폴리노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물(CYASORBTM UV-3346);
N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민과 4-모르폴리노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물(메틸화됨)(CYASORBTM UV-3529);
2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합물(CHIMASSORBTM 119);
2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스-(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합물;
N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민, N-부틸-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘아민, 디-n-부틸 아민 및 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진의 축합물(CHIMASSORBTM 2020);
4-헥사데실옥시- 및 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 혼합물(CYASORBTM UV-3853);
4-헥사데실옥시- 및 4-스테아릴옥시-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘의 혼합물;
N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민과 4-사이클로헥실아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물;
1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄, 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진 및 4-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 축합물;
N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민과 4-사이클로헥실아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물;
테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트;
테트라키스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트;
1,2,3,4-부탄테트라카르복실산, 2,2,6,6-테트라메틸피페리디닐-4-일 트리데실 에스테르;
1,2,3,4-부탄테트라카르복실산, 1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일 트리데실 에스테르;
포름아미드, N,N'-1,6-헥산디일비스[N-(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)(UVINULTM 4050);
N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민과 4-tert-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물(CHIMASSORBTM 944);
N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-1-(프로필옥시)-피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민, N-부틸-1-프로필옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘아민, 디-n-부틸 아민 및 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진의 축합물(TINUVINTM NOR HALS 371);
N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘-4-일)헥사메틸렌 디아민, 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진을 이용한 중합체, 3-브로모-1-프로펜, 디-n-부틸아민 및 N-부틸-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘아민을 이용한 반응 생성물(산화되고 수소화됨)(TINUVINTM XT 200);
TINUVINTM XT-850/XT-855; 또는
N1,N1'-1,2-에탄디일비스(1,3-프로판디아민), 사이클로헥산 및 과산화된 N-부틸-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘아민-2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진을 이용한 반응 생성물(FLAMESTABTM NOR 116) 중 적어도 하나일 수 있다.
본 발명에 따른 중합체 조성물은 힌더드 아민 광 안정화제(HALS), UV 흡수제(UVA), 힌더드 벤조에이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 광 안정화제를 포함하도록 기재되어 있다. 임의의 또는 모든 실시형태에서, 광 안정화제는 (HALS 또는 기타 광 안정화제의 부제 하에서도) UV 흡수제, 즉 적어도 하나의 2-(2'-하이드록시페닐)-s-트리아진, 2-하이드록시벤조페논, 2-(2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸 또는 벤즈옥사지논을 포함한다.
임의의 또는 모든 실시형태에서, 광 안정화제는 적어도 하나의 2-(2'-하이드록시페닐)-s-트리아진을 포함한다. 2-(2'-하이드록시페닐)-s-트리아진은 화학식 I에 따른 화합물일 수 있다:
[화학식 I]
(상기 식에서, R34 및 R35 각각은 C6-C10 아릴기, 모노- 또는 디-C1-C12 하이드로카르빌-치환된 아미노, C2-C12 알카노일, C1-C12 알킬, C1-C10 아실 또는 C1-C10 알콕실로부터 독립적으로 선택되고,
이때 C6-C10 아릴기는 1개 내지 3개의 치환 가능한 위치에서 OH, 할로겐, C1-C12 알킬, C1-C12 알콕시, C1-12 알콕시에스테르, C2-12 알카노일 또는 페닐 중 적어도 하나로 선택적으로 치환되고, 페닐은 1개 내지 3개의 치환 가능한 위치에서 OH, 할로겐, C1-12 알킬, C1-12 알콕시, C1-12 알콕시에스테르 또는 C2-12 알카노일 중 적어도 하나로 선택적으로 치환되고;
각각의 R36은 OH, 할로겐, C1-C12 알킬, C1-C12 알콕시, C1-C12 알콕시에스테르, C2-C12 알카노일, 페닐 또는 C1-C12 아실로부터 독립적으로 선택됨).
임의의 또는 모든 실시형태에서, 2-(2'-하이드록시페닐)-s-트리아진은,
4,6-디페닐-2-(4-헥실옥시-2-하이드록시페닐)-s-트리아진(TINUVINTM 1577),
4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-s-트리아진(CYASORBTM 1164),
2,4-비스[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-4-(2-하이드록시에톡시)페닐]-6-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진,
4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-2-(2-하이드록시-4-(3-도데실옥시-2-하이드록시프로폭시)페닐)-s-트리아진과 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-(2-하이드록시-4-(3-트리데실옥시-2-하이드록시프로폭시)페닐)-s-트리아진의 혼합물(TINUVINTM 400),
4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-2-(2-하이드록시-4(3-(2-에틸헥실옥시)-2-하이드록시프로폭시)-페닐)-s-트리아진(TINUVINTM 405),
4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-2-(2-하이드록시-4(3-(2-에틸헥실옥시)-2-하이드록시프로폭시)-페닐)-s-트리아진,
2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-하이드록시-4-[(옥틸옥시카르보닐)에틸리덴옥시]페닐]-s-트리아진(TINUVINTM 479),
2,4-비스(4-비페닐일)-6-[2-하이드록시-4-[(옥틸옥시카르보닐)에틸리덴옥시]페닐]-s-트리아진,
2,4-비스(4-비페닐일)-6-[2-하이드록시-4-(2-에틸헥실옥시)페닐]-s-트리아진(TINUVINTM 1600),
2,4-비스(2-하이드록시-4-부틸옥시페닐)-6-(2,4-비스-부틸옥시페닐)-s-트리아진(트리아진TM 460),
2,4,6-트리스[2-하이드록시-4-(3-sec-부틸옥시-2-하이드록시프로필옥시)-페닐]-s-트리아진, 또는
2,4,6-트리스[2-하이드록시-4-[(옥틸옥시카르보닐)에틸리덴옥시]페닐]-s-트리아진(TINUVINTM 477) 중 적어도 하나일 수 있다.
본 발명에 따른 중합체 조성물의 동일한 또는 기타 실시형태에서, 광 안정화제는 2-하이드록시벤조페논을 포함한다. 2-하이드록시벤조페논은 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논(CYASORBTM UV-9), 2,2'-디하이드록시-4-메톡시벤조페논(CYASORBTM UV-24), 2-하이드록시-4-옥틸옥시벤조페논(CYASORBTM UV-531), 2,2'-디하이드록시-4,4'-디-메톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시벤조페논, 2,2',4,4'-테트라하이드록시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디에톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디프로폭시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디부톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시-4'-에톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시-4'-프로폭시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시-4'-부톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-에톡시-4'-프로폭시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-에톡시-4'-부톡시벤조페논, 2,3'-디하이드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2,3'-디하이드록시-4-메톡시-4'-부톡시벤조페논, 2-하이드록시-4,4',5'-트리메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4,4',6'-트리부톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-부톡시-4',5'-디메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-2',4'-디부틸벤조페논, 2-하이드록시-4-프로폭시-4',6'-디클로로벤조페논, 2-하이드록시-4-프로폭시-4',6'-디브로모벤조페논, 2,4-디하이드록시벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-프로폭시벤조페논, 2-하이드록시-4-부톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-4'-메틸벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-4'-에틸벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-4'-프로필벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-4'-부틸벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-4'-tert-부틸벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-4'-클로로벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-2'-클로로벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-4'-브로모벤조페논, 2-하이드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4,4'-디메톡시-3-메틸벤조페논, 2-하이드록시-4,4'-디메톡시-2'-에틸벤조페논, 2-하이드록시-4,4',5'-트리메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-메틸벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-에틸벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-프로필벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-부틸벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4,4'-디에톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-프로폭시벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-부톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-클로로벤조페논 또는 2-하이드록시-4-에톡시-4'-브로모벤조페논 중 적어도 하나일 수 있다.
본 발명에 따른 중합체 조성물의 동일한 또는 기타 실시형태에서, 광 안정화제는 2-(2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸을 포함한다. 2-(2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸은 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸(TINUVINTM P), 2-(2'-하이드록시-5'-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-메틸-5'-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-사이클로헥실페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-tert-부틸페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-tert-옥틸페닐)벤조트리아졸(CYASORBTM UV-5411), 2-(3',5'-디-tert-부틸-2'-하이드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-아밀-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸(CYASORBTM UV-2337), 2-(3',5'-비스(α,α-디메틸벤질)-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸(TINUVINTM 900), 2-(3'-tert-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트리아졸-2-일페놀], 2-[3'-tert-부틸-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)-2'-하이드록시페닐]-2H-벤조트리아졸의 폴리에틸렌 글리콜 300과의 에스테르 교환 생성물(TINUVINTM 1130), 2-[2'-하이드록시-3'-(α,α-디메틸벤질)-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]벤조트리아졸, 5-트리플루오로메틸-2-(2-하이드록시-3-α-쿠밀-5-tert-옥틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-(2-하이드록시에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-(2-메타크릴로일옥시에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-tert-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸(TINUVINTM 326), 2-(3'-sec-부틸-5'-tert-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-도데실-5'-메틸-2'-하이드록시페닐)-벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)-2'-하이드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(5'-메틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸 또는 2-(5'-tert-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸 중 적어도 하나일 수 있다.
본 발명에 따른 중합체 조성물의 동일한 또는 기타 실시형태에서, 광 안정화제는 벤즈옥사지논을 포함한다. 벤즈옥사지논은 2-메틸-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-부틸-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-페닐-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-(1- 또는 2-나프틸)-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-(4-비페닐)-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-p-니트로페닐-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-m-니트로페닐-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-p-벤조일페닐-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-p-메톡시페닐-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-O-메톡시페닐-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-사이클로헥실-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-p-(또는 m-)프탈이미드페닐-3,1-벤즈옥사진-4-온, N-페닐-4-(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)프탈이미드, N-벤조일-4-(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)아닐린, N-벤조일-N-메틸-4-(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)-아닐린, 2-[p-(N-페닐카르바모일)페닐]-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-[p-(N-페닐 N-메틸카르바모일)페닐]-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2,2'-비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-에틸렌비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-테트라메틸렌비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-헥사메틸렌비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-데카메틸렌비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-p-페닐렌비스(3,1-벤즈옥사진-4-온)(CYASORBTM UV-3638), 2,2'-m-페닐렌비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-(4,4'-디페닐렌)비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-(2,6- 또는 1,5-나프탈렌)비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-(2-메틸-p-페닐렌)비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-(2-니트로-p-페닐렌)비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-(2-클로로-p-페닐렌)비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-(1,4-사이클로헥실렌)비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), N-p-(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)페닐, 4-(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)프탈이미드, N-p-(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)벤조일, 4-(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)아닐린, 1,3,5-트리(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)벤젠, 1,3,5-트리(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)나프탈렌 또는 2,4,6-트리(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)나프탈렌 중 적어도 하나일 수 있다.
본 발명에 따른 중합체 조성물의 동일한 또는 기타 실시형태에서, 광 안정화제는 힌더드 벤조에이트를 포함한다. 힌더드 벤조에이트는 특정 실시형태에서 HALS 또는 UV 흡수제의 부재하에서도 존재할 수 있다. 힌더드 벤조에이트는 화학식 VI에 따른 화합물일 수 있다:
[화학식 VI]
(상기 식에서,
R21 및 R22 각각은 독립적으로 C1-C12 알킬이고;
T는 O 또는 NR24(여기서, R24는 H 또는 C1-C30 하이드로카르빌임)이고;
R23은 H 또는 C1-C30 하이드로카르빌임).
힌더드 벤조에이트는 2,4-디-tert-부틸페닐 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트(TINUVINTM 120), 헥사데실 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트(CYASORBTM UV-2908), 옥타데실 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 옥틸 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 데실 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 도데실 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 테트라데실 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 베헤닐일 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 2-메틸-4,6-디-tert-부틸페닐 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트 또는 부틸 3-[3-tert-부틸-4-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조일옥시)페닐]프로피오네이트 중 적어도 하나일 수 있다.
본원에 기재된 중합체 조성물은 티오시너지스트(thiosynergist)를 추가로 포함할 수 있다. 티오시너지스트는 디라우릴 3,3'-티오디프로피오네이트, 디미리스틸 3,3'-티오디프로피오네이트, 디트리데실 3,3'-티오디프로피오네이트, 디스테아릴 3,3'-티오디프로피오네이트, 펜타에리트리톨 테트라키스-(3-도데실티오프로피오네이트), 테트라알킬 티오에틸 티오디숙시네이트, 2,12-디하이드록시-4,10-디티아-7-옥사트리데카메틸렌 비스[3-(도데실티오)프로피오네이트], 2-메르캅토벤즈이미다졸, 2-메르캅토벤즈이미다졸, 아연 염, 아연 디부틸디티오카르바메이트 또는 디옥타데실 디설파이드 중 적어도 하나일 수 있다.
본 발명에 따른 중합체 조성물은 무기 화합물을 추가로 포함할 수 있다. 임의의 또는 모든 실시형태에서, 무기 화합물은 이산화티타늄, 황산바륨, 산화아연 또는 산화세륨(IV) 중 적어도 하나일 수 있다. 또한, 중합체 조성물에는 바륨 화합물이 없을 수 있다. 바륨 화합물, 예를 들어 황산바륨과 같은 바륨 염을 포함한다. "~이 없는"은 본원에 기재된 중합체 조성물이 중합체 조성물의 총 중량을 기준으로 1 중량% 미만, 0.1 중량% 미만, 0.01 중량% 미만 또는 0.001 중량% 미만의 바륨 화합물을 갖는다는 것을 의미한다.
제2 양태에서, 본 발명은 본원에 기재된 중합체 조성물을 포함하는 안정화된 중합체성 물품을 제공하며, 이때 이 물품은 UV-C(190 ㎚ 내지 280 ㎚) 광에 대한 노출 시에 변색, 크래킹 및/또는 크레이징에 내성이 있다. UV-C 광에 대한 노출 시의 변색 감소, 크래킹 감소 또는 크레이징 감소 중 적어도 하나는 광 안정화제의 부재 하의 산화 방지제와 비교하여, 바륨 화합물(예를 들어, 바륨 염)이 안정화제 조성물에 없는 경우에도 광 안정화제와 산화 방지제를 조합하여 사용하는 것과 연관이 있다.
본 실시예로부터 알 수 있는 바와 같이, UV-C 광에 대한 노출 시의 변색 감소 또는 크래킹 및/또는 크레이징 감소 중 적어도 하나는 광 안정화제의 부재 하의 산화 방지제와 비교하여, 바륨 화합물(예를 들어, 바륨 염)이 안정화제 조성물에 없는 경우에도 광 안정화제와 산화 방지제를 조합하여 사용하는 것과 연관이 있다. 따라서, 본원에 기재된 안정화제 조성물은 유리하게는 산화 방지제를 단독으로 포함하는 중합체 조성물과 비교하여, UV-C(190 ㎚ 내지 280 ㎚) 광에 대한 노출 시에 유기 중합체 물질의 변색을 감소시키고/시키거나, 크래킹 또는 크레이징을 감소시키기 위해 사용된다. 따라서, UV-C(190 ㎚ 내지 280 ㎚) 광의 영향에 대항하여 유기 중합체성 물질을 안정화시키는 방법은 안정화제 조성물을 유기 중합체성 물질에 첨가하는 단계를 포함하며, 이때 안정화제 조성물은, 바륨 화합물(예를 들어, 바륨 염)이 안정화제 조성물에 없는 경우에도, 그리고 HALS가 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 세바케이트(TINUVINTM 770) 단독이 아니라는 조건 하에 힌더드 페놀, 포스파이트 및 포스포나이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 산화 방지제; 및 힌더드 아민 광 안정화제(HALS), UV 흡수제(UVA), 힌더드 벤조에이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 광 안정화제를 갖는다. UV-C 광에 대한 노출 시의 변색 감소, 크래킹 감소 또는 크레이징 감소 중 적어도 하나는 광 안정화제의 부재 하의 산화 방지제와 비교하여 광 안정화제와 산화 방지제를 조합하여 사용하는 것과 연관이 있다.
상기에서 토의된 바와 같이, 변색 감소의 측정을 위해, 광 안정화제와 산화 방지제의 조합과 연관된 색상 변화를 광 안정화제의 부재 하의 동일한 양의 동일한 산화 방지제와 비교한다. 특히, 변색 감소는 본 실시예에 나타나 있는 바와 같이 254 ㎚에서 1,200 ㎼/㎠의 평균 방사조도를 갖는 UV-C 광에 대한 노출 24시간 후의 델타 E 및/또는 델타 황색 지수(YI)를 비교함으로써 측정된다. 델타 E는 ASTM D2244-16에 따라 측정되고, 델타 YI는 ASTM E313-20에 따라 측정된다.
마찬가지로, 크래킹 또는 크레이징 감소의 측정을 위해, 광 안정화제와 산화 방지제의 조합과 연관된 크래킹 또는 크레이징의 양을 광 안정화제의 부재 하의 동일한 양의 동일한 산화 방지제와 비교한다. 특히, 크래킹 또는 크레이징은 본 실시예 5 내지 실시예 10 및 도 1a 내지 도 1c에 나타나 있는 바와 같이 254 ㎚에서 1,200 ㎼/㎠의 평균 방사조도를 갖는 UV-C 광에 대한 노출 24시간 후에 육안 검사에 의해, 또는 20× 배율의 디지털 입체 현미경을 사용한 검사에 의해 측정된다.
본원에 기재된 중합체 조성물의 모든 실시형태는 유기 중합체성 물질을 안정화시키는 방법에 마찬가지로 적용된다. 따라서, 중합체성 유기 물질을 안정화시키는 방법에서, 산화 방지제와 광 안정화제 모두 중합체 조성물의 총 중량을 기준으로, 산화 방지제의 총량은 0.001 중량% 내지 5.0 중량%이고, 광 안정화제의 총량은 0.01 중량% 내지 2.0 중량%이다.
산화 방지제, 광 안정화제 및 선택적으로 기타 첨가제는 당업자에게 알려진 임의의 적합한 방법에 의해, 예를 들어 직접 혼합, 건식 혼합, 용융에 의해, 또는 압출, 펠릿화, 연마 및 몰딩에 의해 중합체성 유기 물질에 첨가될 수 있다. 첨가제는 순수하게(neat), 즉 용매 또는 중합체성 담체의 부재 하에 첨가될 수 있다. 첨가제는 또한 용매 중의 용액 또는 분산액으로 첨가될 수 있으며, 그 이후에 선택적으로 용매를 증발시킨다. 또한, 첨가제는 마스터배치로서, 즉 중합체성 유기 물질 내의 농축액으로서 첨가될 수 있다. 미립자 형태의 첨가제는 또한 중합체성 유기 물질에 대한 첨가를 위해 왁스, 오일 또는 중합체에 의해 캡슐화될 수 있다.
본원에 기재된 중합체 조성물은 키트에 포함될 수 있다. 키트는 단일 또는 다수의 구성성분을 가질 수 있으며, 이때 각각의 구성성분은 본원에 기재된 유기 중합체성 물질, 산화 방지제, 광 안정화제 및 기타 첨가제, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된다. 따라서, 중합체 조성물의 하나 이상의 구성성분은 제1 용기 내에 있을 수 있고, 중합체 조성물의 하나 이상의 기타 구성성분은 선택적으로는 제2 또는 그 이상의 용기 내에 있을 수 있다. 용기는 함께 포장될 수 있으며, 키트는 라벨, 또는 키트와 함께 포함된 삽입물 상의 투여 또는 혼합 설명서를 포함하며, 선택적으로는 추가의 정보를 위한 웹 주소 또는 바코드와 함께 포함할 수 있다. 중합체 조성물의 구성성분 이외에, 키트는 용매를 비롯한 구성성분을 투여 또는 혼합하기 위한 추가적인 기능성 부품 또는 수단을 포함할 수 있다.
산화 방지제, 광 안정화제 및 선택적으로 기타 첨가제는 중합에 의해 단량체로부터 유기 중합체성 물질을 형성하기 이전 또는 이를 형성하는 동안, 또는 중합체성 유기 물질을 가교하기 이전에 첨가될 수 있다. 첨가제는 중합체성 유기 물질에 첨가하기 이전에 미리 혼합되거나 미리 블렌딩될 수 있다. 용융물, 또는 용매 중의 용액 또는 분산액의 형태인 첨가제는 또한 중합체성 유기 물질 상에 분무될 수 있다.
본원에 정의된 바와 같은 중합체 조성물은 안정화된 중합체성 물품을 생산하기 위해 산업용 제조 공정에서 이용될 수 있다. 따라서, 안정화된 중합체성 물품을 제조하는 방법은 안정화제 조성물을 유기 중합체성 물질에 첨가하는 단계로서, 이때 안정화제 조성물은 힌더드 페놀, 포스파이트 및 포스포나이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 산화 방지제; 및 힌더드 아민 광 안정화제(HALS), UV 흡수제(UVA), 힌더드 벤조에이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 광 안정화제를 갖는 단계; 및 안정화제 조성물을 함유하는 유기 중합체성 물질을 안정화된 중합체성 물품으로 성형하는 단계를 포함한다. 성형은, 예를 들어 몰딩, 압출, 취입, 주조, 열성형, 압축, 또는 이들의 변형 또는 조합에 의해 이루어질 수 있다. 몰딩은, 예를 들어 사출 몰딩, 로토몰딩(rotomolding), 블로우 몰딩, 릴 투 릴 몰딩(reel-to-reel molding), 금속 사출 몰딩, 압축 몰딩, 이송 몰딩, 딥 몰딩, 가스 보조 몰딩, 인서트 사출 몰딩, 마이크로 몰딩, 반응 사출 몰딩, 투샷 사출 몰딩, 또는 이들의 변형 또는 조합일 수 있다.
본원에 기재된 중합체 조성물은 유리하게는, 예를 들어 기타 힌더드 페놀 및 유기 포스파이트를 포함하는 중합체 조성물과 비교하여, 살균제 (살균용) 광원에서 유래한 UV-C(190 ㎚ 내지 280 ㎚) 광에 대한 노출 시에 변색, 크래킹 또는 크레이징에 보다 내성이 높은 안정화된 중합체성 물품을 제조하기 위해 사용된다. 따라서, UV-C(190 ㎚ 내지 280 ㎚) 광에 대한 노출 시에 변색, 크래킹 또는 크레이징에 내성이 있는 안정화된 중합체성 물품은, 바륨 화합물(예를 들어, 바륨 염)이 안정화제 조성물에 없는 경우에도, 그리고 HALS가 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 세바케이트(TINUVINTM 770) 단독이 아니라는 조건 하에, 힌더드 페놀, 포스파이트 및 포스포나이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 산화 방지제; 및 힌더드 아민 광 안정화제(HALS), UV 흡수제(UVA), 힌더드 벤조에이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 광 안정화제를 갖는 중합체 조성물을 포함한다. UV-C 광에 대한 노출 시의 변색 감소, 크래킹 감소 또는 크레이징 감소 중 적어도 하나는 광 안정화제의 부재 하의 산화 방지제와 비교하여, 바륨 화합물(예를 들어, 바륨 염)이 안정화제 조성물에 없는 경우에도 광 안정화제와 산화 방지제를 조합하여 사용하는 것과 연관이 있다. 본원에 기재된 중합체 조성물의 모든 실시형태는 이 같은 조성물을 함유하는 안정화된 중합체성 물품에 마찬가지로 적용된다. 따라서, 변색, 크래킹 또는 크레이징에 내성이 있는 안정화된 중합체 물품에서, 산화 방지제와 광 안정화제 모두 중합체 조성물의 총 중량을 기준으로, 산화 방지제의 총량은 0.001 중량% 내지 5.0 중량%일 수 있고, 광 안정화제의 총량은 0.01 중량% 내지 2.0 중량%일 수 있다.
본원에 기재된 바와 같이, 본 개시내용은 적어도 하기 실시형태를 포함한다:
UV-C(190 ㎚ 내지 280 ㎚) 광에 대한 노출 시에 변색, 크래킹 및/또는 크레이징 중 적어도 하나의 유해한 영향에 내성이 있는 안정화된 중합체성 물품을 제조하기 위한 중합체 조성물로서, 상기 중합체 조성물은,
i) 유기 중합체성 물질; 및
ii) 안정화제 조성물을 포함하며, 이때 안정화제 조성물은,
바륨 화합물(예를 들어, 바륨 염)이 안정화제 조성물에 없는 경우에도, 그리고 HALS가 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 세바케이트(TINUVINTM 770) 단독이 아니라는 조건 하에,
힌더드 페놀, 포스파이트 및 포스포나이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 산화 방지제; 및
힌더드 아민 광 안정화제(HALS), UV 흡수제(UVA), 힌더드 벤조에이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 광 안정화제를 포함한다.
중합체 조성물의 동일한(즉, 상술한) 또는 기타 실시형태에서, UV-C 광에 대한 노출 시의 변색 감소, 크래킹 감소 및/또는 크레이징 감소 중 적어도 하나의 유해한 영향은, 광 안정화제의 부재 하의 산화 방지제와 비교하여, 바륨 화합물(예를 들어, 바륨 염)이 안정화제 조성물에 없는 경우에도 광 안정화제와 산화 방지제를 조합하여 사용하는 것과 연관이 있다.
중합체 조성물의 상기 또는 기타 실시형태 중 임의의 하나에서, 유기 중합체성 물질은 폴리올레핀, 열가소성 올레핀(TPO), 폴리(에틸렌-비닐 아세테이트)(EVA), 폴리에스테르, 폴리에테르, 폴리케톤, 폴리아미드, 천연 및 합성 고무, 폴리우레탄, 폴리스티렌, 폴리아크릴레이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리부틸 아크릴레이트, 폴리아세탈, 폴리아크릴로니트릴, 폴리부타디엔, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌(ABS), 스티렌-아크릴로니트릴(SAN), 아크릴로니트릴-스티렌-아크릴레이트(ASA), 셀룰로오스계 아세테이트 부티레이트, 셀룰로오스계 중합체, 폴리이미드, 폴리아미드이미드, 폴리에테르이미드, 폴리페닐렌 설파이드, 폴리페닐렌 옥사이드, 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 폴리비닐 클로라이드, 아미노 수지-가교된 폴리아크릴레이트 및 폴리에스테르, 폴리이소시아네이트-가교된 폴리에스테르 및 폴리아크릴레이트, 페놀/포름알데하이드, 우레아/포름알데하이드 및 멜라민/포름알데하이드 수지, 알키드 수지, 폴리에스테르 수지, 멜라민 수지로 가교된 아크릴레이트 수지, 우레아 수지, 이소시아네이트, 이소시아누레이트, 카르바메이트 또는 에폭시 수지, 무수물 또는 아민으로 가교된 지방족, 지환족, 헤테로환형 및 방향족 글리시딜 에테르에서 유래하는 가교된 에폭시 수지, 폴리실록산, 마이클 부가 중합체, 활성화된 불포화 및 활성화된 메틸렌 화합물과 아민 또는 차단된 아민의 부가 중합체, 활성화된 불포화 및 활성화된 메틸렌 화합물과 케티민의 부가 중합체, 불포화 아크릴산 폴리아세토아세테이트 수지가 조합된 폴리케티민, 코팅 조성물, 방사선 경화성 조성물, 에폭시 멜라민 수지, 유기 염료, 화장품, 셀룰로오스계 종이, 사진 필름 종이, 섬유, 왁스 또는 잉크 중 적어도 하나를 포함한다.
중합체 조성물의 상기 또는 기타 실시형태 중 임의의 하나에서, 유기 중합체성 물질은 (i) 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리이소부틸렌, 폴리부트-1-엔 또는 폴리-4-메틸펜트-1-엔; (ii) 폴리이소프렌 또는 폴리부타디엔; (iii) 사이클로펜텐 또는 노르보넨; (iv) 선택적으로 가교된 폴리에틸렌, 고밀도 폴리에틸렌(HDPE), 고밀도 및 고분자량 폴리에틸렌(HDPE-HMW), 고밀도 및 초고분자량 폴리에틸렌(HDPE-UHMW), 중간 밀도 폴리에틸렌(MDPE), 저밀도 폴리에틸렌(LDPE), 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE), 극저밀도 폴리에틸렌(VLDPE) 또는 초저밀도 폴리에틸렌(ULDPE); (v) 열가소성 올레핀(TPO); 또는 (vi) 모노-, 디- 또는 사이클로-올레핀 중 적어도 하나의 공중합체 중 적어도 하나를 포함한다.
중합체 조성물의 상기 또는 기타 실시형태 중 임의의 하나에서, 산화 방지제는 중합체 조성물의 총 중량을 기준으로 0.001 중량% 내지 5.0 중량%, 바람직하게는 0.005 중량% 내지 3.0 중량% 및 보다 바람직하게는 0.01 중량% 내지 1.0 중량%로 존재한다.
중합체 조성물의 상기 또는 기타 실시형태 중 임의의 하나에서, 광 안정화제는 중합체 조성물의 총 중량을 기준으로 0.005 중량% 내지 5.0 중량%, 바람직하게는 0.01 중량% 내지 2.0 중량%로 존재한다.
중합체 조성물의 상기 또는 기타 실시형태 중 임의의 하나에서, 산화 방지제는 화학식 IVa, 화학식 IVb 또는 화학식 IVc에 따른 적어도 하나의 기를 갖는 힌더드 페놀을 포함한다:
[화학식 IVa]
[화학식 IVb]
[화학식 IVc]
(상기 식에서,
""는 모 화합물에 대한 분자 단편의 (탄소-탄소 단일 결합을 통한) 부착점을 나타내고;
화학식 IVa, 화학식 IVb 또는 화학식 IVc의 R18은 수소 또는 C1-12 하이드로카르빌이고;
화학식 IVa, 화학식 IVb 또는 화학식 IVc의 R19 및 R20 각각은 독립적으로 수소 또는 C1-C20 하이드로카르빌이고;
화학식 IVa, 화학식 IVb 또는 화학식 IVc의 R37은 C1-C12 하이드로카르빌임).
동일한 또는 기타 실시형태에서, 화학식 IVa, 화학식 IVb 또는 화학식 IVc의 R18 및 R37은 각각 독립적으로 메틸 또는 tert-부틸이다.
중합체 조성물의 동일한 또는 기타 실시형태 중 임의의 것에서, 힌더드 페놀은,
1,3,5-트리스(4-tert-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질)-1,3,5-트리아진-2,4,6-(1H,3H,5H)-트리온(CYANOXTM 1790),
1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)-1,3,5-트리아진-2,4,6-(1H,3H,5H)-트리온(IRGANOXTM 3114),
1,1,3-트리스(2'-메틸-4'-하이드록시-5'-tert-부틸페닐)부탄,
트리에틸렌 글리콜 비스[3-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오네이트],
4,4'-티오비스(2-tert-부틸-5-메틸페놀),
2,2'-티오디에틸렌 비스[3-(3-tert-부틸-4-하이드록실-5-메틸페닐)프로피오네이트],
옥타데실 3-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오네이트,
펜타에리트리톨 (3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오네이트,
N,N'-헥사메틸렌 비스[3-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피온아미드],
디(4-tert-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질)티오디프로피오네이트,
펜타에리트리톨 테트라키스(3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트)(IRGANOXTM 1010),
옥타데실 3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트(IRGANOXTM 1076), 또는
N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록실페닐 프로피오닐)하이드라진(IRGANOXTM 1024) 중 적어도 하나를 포함한다.
중합체 조성물의 동일한 또는 기타 실시형태 중 임의의 것에서, 힌더드 페놀은 펜타에리트리톨 테트라키스(3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트)(IRGANOXTM 1010), 옥타데실 3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트(IRGANOXTM 1076), 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)-1,3,5-트리아진-2,4,6-(1H,3H,5H)-트리온(IRGANOXTM 3114) 또는 N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록실페닐 프로피오닐)하이드라진(IRGANOXTM 1024) 중 적어도 하나를 포함한다.
중합체 조성물의 동일한 또는 기타 실시형태 중 임의의 것에서, 산화 방지제는 포스파이트 또는 포스포나이트를 포함하고, 포스파이트 또는 포스포나이트는,
i) 화학식 1 내지 화학식 7 중 임의의 것에 따른 화합물:
[화학식 1]
[화학식 2]
[화학식 3]
[화학식 4]
[화학식 5]
[화학식 6]
[화학식 7]
(상기 식에서,
지수는 정수이고, n은 2, 3 또는 4이고; p는 1 또는 2이고; q는 2 또는 3이고; y는 1, 2 또는 3이고; z는 1 내지 6이고;
A1은 n 또는 q가 2이면 C2-C18 알킬렌; 산소, 황 또는 -NR4-로 중단된 C2-C12 알킬렌, 화학식 , 의 라디칼, 또는 페닐렌이고;
A1은 n 또는 q가 3이면 화학식 -CrH2r-1-(여기서, r은 4 내지 12의 정수임)의 2가 라디칼이고;
A1은 n이 4이면 이고;
B는 직접 결합, -CH2-, -CHR4-, -CR1R4-, 황, C5-C7 사이클로알킬리덴, 또는 3번, 4번 및/또는 5번 위치에서 1개 내지 4개의 C1-C4 알킬 라디칼로 치환된 사이클로헥실리덴이고;
D1은 p가 1이면 C1-C4 알킬이고, p가 2이면 -CH2OCH2-이고;
D2는 C1-C4 알킬이고;
E는 y가 1이면 C1-C18 알킬, -OR1 또는 할로겐이고;
E는 y가 2이면 -O-A2-O-(여기서, A2는 n이 2인 경우에 A1에 대해 정의된 바와 같음)이고;
E는 y가 3이면 화학식 R4C(CH2O)3 또는 N(CH2CH2O-)3의 라디칼이고;
Q는 적어도 z가의 모노- 또는 폴리-알코올 또는 페놀의 라디칼이며, 이때 이러한 라디칼은 모노- 또는 폴리-알코올 또는 페놀의 OH 기의 산소 원자를 통해 인 원자에 부착되고;
R1, R2 및 R3은 각각 독립적으로 할로겐, -COOR4, -CN 또는 -CONR4R4로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C18 알킬; 산소, 황 또는 -NR4-로 중단된 C2-C18 알킬; C7-C9 페닐알킬; C5-C12-사이클로알킬, 페닐 또는 나프틸; 할로겐, 1개 내지 3개의 알킬 라디칼 또는 총 1개 내지 18개의 탄소 원자를 갖는 알콕시 라디칼로 치환되거나 C7-C9 페닐알킬로 치환된 나프틸 또는 페닐; 또는 하기 화학식의 라디칼이고:
(상기 식에서, m은 3 내지 6 범위의 정수임);
R4는 수소, C1-C8 알킬, C5-C12-사이클로알킬 또는 C7-C9 페닐알킬이고;
R5 및 R6은 각각 독립적으로 수소, C1-C8 알킬 또는 C5-C6 사이클로알킬이고;
R7 및 R8은 q가 2이면 각각 독립적으로 C1-C4 알킬이거나, 모두 2,3-데하이드로펜타메틸렌 라디칼이고; R7 및 R8은 q가 3이면 각각 메틸이고;
R14는 각각의 경우 수소, C1-C9 알킬 또는 사이클로헥실로부터 독립적으로 선택되고;
R15는 각각의 경우 독립적으로 수소 또는 메틸이고;
X 및 Y는 각각 직접 결합 또는 산소이고;
Z는 직접 결합, 메틸렌, -C(R16)2- 또는 황이고;
R16은 C1-C8 알킬임); 또는
ii) 화학식 8에 따른 트리스아릴포스파이트 중 적어도 하나를 포함한다:
[화학식 8]
(상기 식에서,
R17은 화학식 8의 방향족 고리의 0개 내지 5개의 사례에 존재하는 치환기이며, 각각의 경우에 독립적으로 C1-C20 알킬, C3-C20 사이클로알킬, C4-C20 알킬 사이클로알킬, C6-C10 아릴 또는 C7-C20 알킬아릴임).
중합체 조성물의 동일한 또는 기타 실시형태에서, 포스파이트 또는 포스포나이트는,
트리페닐 포스파이트,
디페닐 알킬 포스파이트,
페닐 디알킬 포스파이트,
트리라우릴 포스파이트,
트리옥타데실 포스파이트,
디스테아릴 펜타에리트리톨 포스파이트,
트리스(2,4-디-tert-부틸페닐) 포스파이트(IRGAFOSTM 168),
트리스(4-노닐페닐) 포스파이트,
화학식 A, 화학식 B, 화학식 C, 화학식 D, 화학식 E, 화학식 F, 화학식 G, 화학식 H, 화학식 J, 화학식 K 또는 화학식 L의 화합물:
[화학식 A]
[화학식 B]
[화학식 C]
[화학식 D]
[화학식 E]
[화학식 F]
[화학식 G]
[화학식 H]
[화학식 J]
[화학식 K]
[화학식 L]
,
2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올 2,4,6-트리-tert-부틸페놀 포스파이트,
비스(2,6-디-tert-부틸-4-메틸페닐) 펜타에리트리톨 디포스파이트,
2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올 2,4-디-쿠밀페놀 포스파이트,
2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올 4-메틸-2,6-디-tert-부틸페놀 포스파이트, 또는
비스(2,4,6-트리-tert-부틸-페닐) 펜타에리트리톨 디포스페이트 중 적어도 하나를 포함한다.
중합체 조성물의 동일한 또는 기타 실시형태에서, 포스파이트 또는 포스포나이트는 트리스(2,4-디-tert-부틸페닐)포스파이트(IRGAFOSTM 168), 트리페닐 포스파이트, 트리스(4-노닐페닐) 포스파이트, 비스(2,4-디쿠밀페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트(DOVERPHOSTM S9228) 또는 테트라키스(2,4-디-tert-부틸페닐)-4,4'-비페닐렌-디포스포나이트(IRGAFOSTM P-EPQ) 중 적어도 하나를 포함한다.
중합체 조성물의 동일한 또는 기타 실시형태 중 임의의 것에서, 광 안정화제는,
화학식 II에 따른 적어도 하나의 작용기:
[화학식 II]
(상기 식에서,
R31은 수소, OH, C1-C20 하이드로카르빌, -CH2CN, C1-C12 아실 또는 C1-C18 알콕시이고;
R38은 수소 또는 C1-C8 하이드로카르빌이고;
R29, R30, R32 및 R33은 각각 독립적으로 C1-C20 하이드로카르빌이거나, R29 및 R30 및/또는 R32 및 R33은 이들이 부착된 탄소와 함께 결합되어 C5-C10 사이클로알킬을 형성함); 또는
화학식 IIa에 따른 적어도 하나의 작용기를 포함하는 힌더드 아민 광 안정화제(HALS)를 포함한다:
[화학식 IIa]
(상기 식에서,
m은 1 내지 2의 정수이고;
R39는 수소, OH, C1-C20 하이드로카르빌, -CH2CN, C1-C12 아실 또는 C1-C18 알콕시이고;
G1 내지 G4는 각각 독립적으로 C1-C20 하이드로카르빌임).
중합체 조성물의 동일한 또는 기타 실시형태에서, 힌더드 아민 광 안정화제(HALS)는,
비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 숙시네이트;
비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일) 세바케이트;
비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜) 숙시네이트;
비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 세바케이트(TINUVINTM 123);
비스(1,2,2,6,6 펜타메틸피페리딘-4-일) n-부틸 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질말로네이트;
1-(2-하이드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리딘과 숙신산의 축합물(TINUVINTM 622);
2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일 스테아레이트;
2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일 도데카네이트;
1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일 스테아레이트;
1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일 도데카네이트;
N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민과 4-tert-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물(CHIMASSORBTM 944);
트리스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 니트릴로트리아세테이트;
4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘;
N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민과 4-모르폴리노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물(CYASORBTM UV-3346);
N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민과 4-모르폴리노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물(메틸화됨)(CYASORBTM UV-3529);
2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합물(CHIMASSORBTM 119);
2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스-(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합물;
N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민, N-부틸-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘아민, 디-n-부틸 아민 및 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진의 축합물(CHIMASSORBTM 2020);
4-헥사데실옥시- 및 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 혼합물(CYASORBTM UV-3853);
4-헥사데실옥시- 및 4-스테아릴옥시-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘의 혼합물;
N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민과 4-사이클로헥실아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물;
1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄, 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진 및 4-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 축합물;
N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민과 4-사이클로헥실아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물;
테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트;
테트라키스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트;
1,2,3,4-부탄테트라카르복실산, 2,2,6,6-테트라메틸피페리디닐-4-일 트리데실 에스테르;
1,2,3,4-부탄테트라카르복실산, 1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일 트리데실 에스테르;
포름아미드, N,N'-1,6-헥산디일비스[N-(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)(UVINULTM 4050);
N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민과 4-tert-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물(CHIMASSORBTM 944);
N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-1-(프로필옥시)-피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민, N-부틸-1-프로필옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘아민, 디-n-부틸 아민 및 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진의 축합물(TINUVINTM NOR HALS 371);
N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘-4-일)헥사메틸렌 디아민, 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진을 이용한 중합체, 3-브로모-1-프로펜, 디-n-부틸아민 및 N-부틸-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘아민을 이용한 반응 생성물(산화되고 수소화됨)(TINUVINTM XT 200);
TINUVINTM XT-850/XT-855; 또는
N1,N1'-1,2-에탄디일비스(1,3-프로판디아민), 사이클로헥산 및 과산화된 N-부틸-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘아민-2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진을 이용한 반응 생성물(FLAMESTABTM NOR 116) 중 적어도 하나이다.
중합체 조성물의 동일한 또는 기타 실시형태 중 임의의 것에서, 광 안정화제는 적어도 하나의 2-(2'-하이드록시페닐-s-트리아진, 2-하이드록시벤조페논, 2-(2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸 또는 벤즈옥사지논인 UV 흡수제를 포함한다.
중합체 조성물의 동일한 또는 기타 실시형태에서, 광 안정화제는 화학식 I에 따른 적어도 하나의 2-(2'-하이드록시페닐)-s-트리아진을 포함한다:
[화학식 I]
(상기 식에서, R34 및 R35 각각은 독립적으로 C6-C10 아릴기, 모노- 또는 디-C1-C12 하이드로카르빌-치환된 아미노, C2-C12 알카노일, C1-C12 알킬, C1-C10 아실 또는 C1-C10 알콕실이며,
이때 C6-C10 아릴기는 1개 내지 3개의 치환 가능한 위치에서 OH, 할로겐, C1-C12 알킬, C1-C12 알콕시, C1-12 알콕시에스테르, C2-12 알카노일 또는 페닐 중 적어도 하나로 선택적으로 치환되고, 페닐은 1개 내지 3개의 치환 가능한 위치에서 OH, 할로겐, C1-12 알킬, C1-12 알콕시, C1-12 알콕시에스테르 또는 C2-12 알카노일 중 적어도 하나로 선택적으로 치환되고;
각각의 R36은 독립적으로 OH, 할로겐, C1-C12 알킬, C1-C12 알콕시, C1-C12 알콕시에스테르, C2-C12 알카노일, 페닐 또는 C1-C12 아실임).
중합체 조성물의 동일한 또는 기타 실시형태에서, 2-(2'-하이드록시페닐)-s-트리아진은,
4,6-디페닐-2-(4-헥실옥시-2-하이드록시페닐)-s-트리아진(TINUVINTM 1577),
4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-s-트리아진(CYASORBTM 1164),
2,4-비스[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-4-(2-하이드록시에톡시)페닐]-6-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진,
4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-2-(2-하이드록시-4-(3-도데실옥시-2-하이드록시프로폭시)페닐)-s-트리아진과 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-(2-하이드록시-4-(3-트리데실옥시-2-하이드록시프로폭시)페닐)-s-트리아진의 혼합물(TINUVINTM 400),
4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-2-(2-하이드록시-4(3-(2-에틸헥실옥시)-2-하이드록시프로폭시)-페닐)-s-트리아진(TINUVINTM 405),
4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-2-(2-하이드록시-4(3-(2-에틸헥실옥시)-2-하이드록시프로폭시)-페닐)-s-트리아진,
2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-하이드록시-4-[(옥틸옥시카르보닐)에틸리덴옥시]페닐]-s-트리아진(TINUVINTM 479),
2,4-비스(4-비페닐일)-6-[2-하이드록시-4-[(옥틸옥시카르보닐)에틸리덴옥시]페닐]-s-트리아진,
2,4-비스(4-비페닐일)-6-[2-하이드록시-4-(2-에틸헥실옥시)페닐]-s-트리아진(TINUVINTM 1600),
2,4-비스(2-하이드록시-4-부틸옥시페닐)-6-(2,4-비스-부틸옥시페닐)-s-트리아진(트리아진TM 460),
2,4,6-트리스[2-하이드록시-4-(3-sec-부틸옥시-2-하이드록시프로필옥시)-페닐]-s-트리아진, 또는
2,4,6-트리스[2-하이드록시-4-[(옥틸옥시카르보닐)에틸리덴옥시]페닐]-s-트리아진(TINUVINTM 477) 중 적어도 하나를 포함한다.
중합체 조성물의 동일한 또는 기타 실시형태 중 임의의 것에서, 광 안정화제는 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논(CYASORBTM UV-9), 2,2'-디하이드록시-4-메톡시벤조페논(CYASORBTM UV-24), 2-하이드록시-4-옥틸옥시벤조페논(CYASORBTM UV-531), 2,2'-디하이드록시-4,4'-디-메톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시벤조페논, 2,2',4,4'-테트라하이드록시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디에톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디프로폭시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디부톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시-4'-에톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시-4'-프로폭시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시-4'-부톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-에톡시-4'-프로폭시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-에톡시-4'-부톡시벤조페논, 2,3'-디하이드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2,3'-디하이드록시-4-메톡시-4'-부톡시벤조페논, 2-하이드록시-4,4',5'-트리메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4,4',6'-트리부톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-부톡시-4',5'-디메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-2',4'-디부틸벤조페논, 2-하이드록시-4-프로폭시-4',6'-디클로로벤조페논, 2-하이드록시-4-프로폭시-4',6'-디브로모벤조페논, 2,4-디하이드록시벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-프로폭시벤조페논, 2-하이드록시-4-부톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-4'-메틸벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-4'-에틸벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-4'-프로필벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-4'-부틸벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-4'-tert-부틸벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-4'-클로로벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-2'-클로로벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-4'-브로모벤조페논, 2-하이드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4,4'-디메톡시-3-메틸벤조페논, 2-하이드록시-4,4'-디메톡시-2'-에틸벤조페논, 2-하이드록시-4,4',5'-트리메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-메틸벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-에틸벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-프로필벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-부틸벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4,4'-디에톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-프로폭시벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-부톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-클로로벤조페논 또는 2-하이드록시-4-에톡시-4'-브로모벤조페논 중 적어도 하나를 포함하는 2-하이드록시벤조페논을 포함한다.
중합체 조성물의 동일한 또는 기타 실시형태 중 임의의 것에서, 광 안정화제는 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸(TINUVINTM P), 2-(2'-하이드록시-5'-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-메틸-5'-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-사이클로헥실페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-tert-부틸페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-tert-옥틸페닐)벤조트리아졸(CYASORBTM UV-5411), 2-(3',5'-디-tert-부틸-2'-하이드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-아밀-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸(CYASORBTM UV-2337), 2-(3',5'-비스(α,α-디메틸벤질)-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸(TINUVINTM 900), 2-(3'-tert-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트리아졸-2-일페놀], 2-[3'-tert-부틸-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)-2'-하이드록시페닐]-2H-벤조트리아졸의 폴리에틸렌 글리콜 300과의 에스테르 교환 생성물(TINUVINTM 1130), 2-[2'-하이드록시-3'-(α,α-디메틸벤질)-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]벤조트리아졸, 5-트리플루오로메틸-2-(2-하이드록시-3-α-쿠밀-5-tert-옥틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-(2-하이드록시에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-(2-메타크릴로일옥시에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-tert-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸(TINUVINTM 326), 2-(3'-sec-부틸-5'-tert-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-도데실-5'-메틸-2'-하이드록시페닐)-벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)-2'-하이드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(5'-메틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸 또는 2-(5'-tert-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸 중 적어도 하나를 포함하는 2-(2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸을 포함한다.
중합체 조성물의 동일한 또는 기타 실시형태 중 임의의 것에서, 광 안정화제는 2-메틸-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-부틸-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-페닐-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-(1- 또는 2-나프틸)-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-(4-비페닐)-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-p-니트로페닐-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-m-니트로페닐-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-p-벤조일페닐-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-p-메톡시페닐-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-O-메톡시페닐-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-사이클로헥실-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-p-(또는 m-)프탈이미드페닐-3,1-벤즈옥사진-4-온, N-페닐-4-(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)프탈이미드, N-벤조일-4-(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)아닐린, N-벤조일-N-메틸-4-(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)-아닐린, 2-[p-(N-페닐카르바모일)페닐]-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-[p-(N-페닐 N-메틸카르바모일)페닐]-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2,2'-비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-에틸렌비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-테트라메틸렌비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-헥사메틸렌비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-데카메틸렌비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-p-페닐렌비스(3,1-벤즈옥사진-4-온)(CYASORBTM UV-3638), 2,2'-m-페닐렌비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-(4,4'-디페닐렌)비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-(2,6- 또는 1,5-나프탈렌)비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-(2-메틸-p-페닐렌)비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-(2-니트로-p-페닐렌)비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-(2-클로로-p-페닐렌)비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-(1,4-사이클로헥실렌)비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), N-p-(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)페닐, 4-(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)프탈이미드, N-p-(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)벤조일, 4-(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)아닐린, 1,3,5-트리(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)벤젠, 1,3,5-트리(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)나프탈렌 또는 2,4,6-트리(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)나프탈렌 중 적어도 하나를 포함하는 벤즈옥사지논을 포함한다.
중합체 조성물의 동일한 또는 기타 실시형태 중 임의의 것에서, 광 안정화제는 화학식 VI에 따른 힌더드 벤조에이트를 포함한다:
[화학식 VI]
(상기 식에서,
R21 및 R22 각각은 독립적으로 C1-C12 알킬이고;
T는 O 또는 NR24(여기서, R24는 H 또는 C1-C30 하이드로카르빌임)이고;
R23은 H 또는 C1-C30 하이드로카르빌임).
중합체 조성물의 동일한 또는 기타 실시형태에서, 힌더드 벤조에이트는 2,4-디-tert-부틸페닐 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트(TINUVINTM 120), 헥사데실 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트(CYASORBTM UV-2908), 옥타데실 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 옥틸 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 데실 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 도데실 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 테트라데실 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 베헤닐일 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 2-메틸-4,6-디-tert-부틸페닐 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트 또는 부틸 3-[3-tert-부틸-4-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조일옥시)페닐]프로피오네이트 중 적어도 하나를 포함한다.
동일한 또는 기타 실시형태 중 임의의 것에서, 중합체 조성물은 디라우릴 3,3'-티오디프로피오네이트, 디미리스틸 3,3'-티오디프로피오네이트, 디트리데실 3,3'-티오디프로피오네이트, 디스테아릴 3,3'-티오디프로피오네이트, 펜타에리트리톨 테트라키스-(3-도데실티오프로피오네이트), 테트라알킬 티오에틸 티오디숙시네이트, 2,12-디하이드록시-4,10-디티아-7-옥사트리데카메틸렌 비스[3-(도데실티오)프로피오네이트], 2-메르캅토벤즈이미다졸, 2-메르캅토벤즈이미다졸, 아연 염, 아연 디부틸디티오카르바메이트 또는 디옥타데실 디설파이드 중 적어도 하나를 포함하는 티오시너지스트를 추가로 포함한다.
동일한 또는 기타 실시형태 중 임의의 것에서, 중합체 조성물은 이산화티타늄, 황산바륨, 산화아연 또는 산화세륨(IV) 중 적어도 하나를 포함하는 무기 화합물을 추가로 포함한다.
중합체 조성물의 동일한 또는 기타 실시형태 중 임의의 것에서, 중합체 조성물에는 바륨 화합물이 없다.
또한, 본 발명은 UV-C(190 ㎚ 내지 280 ㎚) 광에 대한 반복적 또는 장기간 노출 시에 변색, 크래킹 및/또는 크레이징 중 적어도 하나의 유해한 영향에 내성이 있는 안정화된 중합체성 물품을 제공하며, 이때 안정화된 중합체성 물품은 본원에 기재된 상기 실시형태 중 임의의 하나의 중합체 조성물을 포함한다.
안정화된 중합체성 물품의 동일한 또는 기타 실시형태에서, UV-C 광에 대한 노출 시의 변색 감소, 크래킹 감소 또는 크레이징 감소 중 적어도 하나의 유해한 영향은, 광 안정화제의 부재 하의 산화 방지제와 비교하여, 바륨 화합물(예를 들어, 바륨 염)이 안정화제 조성물에 없는 경우에도 광 안정화제와 산화 방지제를 조합하여 사용하는 것과 연관이 있다.
본원의 실시형태 중 임의의 하나에서 기재된 바와 같은 안정화된 중합체성 물품을 제조하는 방법이 본 발명에 의해 또한 제공되며, 이때 이 같은 방법은,
안정화제 조성물을 유기 중합체성 물질에 첨가하는 단계로서, 이때 안정화제 조성물은,
바륨 화합물(예를 들어, 바륨 염)이 안정화제 조성물에 없는 경우에도, 그리고 HALS가 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 세바케이트(TINUVINTM 770) 단독이 아니라는 조건 하에,
힌더드 페놀, 포스파이트 및 포스포나이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 산화 방지제; 및
힌더드 아민 광 안정화제(HALS), UV 흡수제(UVA), 힌더드 벤조에이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 광 안정화제를 포함하는 단계; 및
안정화제 조성물을 함유하는 유기 중합체성 물질을 안정화된 중합체성 물품으로 성형하는 단계를 포함한다.
유사하게, UV-C(190 ㎚ 내지 280 ㎚) 광에 대한 반복적 또는 장기간 노출의 유해한 영향에 대항하여 유기 중합체성 물질을 안정화시키는 방법이 또한 제공되며, 이때 이 같은 방법은 안정화제 조성물을 유기 중합체성 물질에 첨가하는 단계를 포함하며, 이때 안정화제 조성물은,
바륨 화합물(예를 들어, 바륨 염)이 안정화제 조성물에 없는 경우에도, 그리고 HALS가 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 세바케이트(TINUVINTM 770) 단독이 아니라는 조건 하에,
힌더드 페놀, 포스파이트 및 포스포나이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 산화 방지제; 및
힌더드 아민 광 안정화제(HALS), UV 흡수제(UVA), 힌더드 벤조에이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 광 안정화제를 포함하며,
이때 UV-C 광에 대한 반복적 또는 장기간 노출 시의 변색 감소 또는 크래킹 또는 크레이징 감소의 적어도 하나의 유해한 영향은 광 안정화제의 부재 하의 산화 방지제와 비교하여 광 안정화제와 산화 방지제를 조합하여 사용하는 것과 연관이 있다.
UV-C 광의 유해한 영향에 대항하여 유기 중합체성 물질을 안정화시키기 위한 동일한 또는 기타 실시형태에서, 산화 방지제와 광 안정화제 모두 중합체 조성물의 총 중량을 기준으로, 산화 방지제의 총량은 0.001 중량% 내지 5.0 중량%를 포함하고, 광 안정화제의 총량은 0.01 중량% 내지 2.0 중량%를 포함한다.
실시예
하기 실시예는 본원에 정의된 특정 실시형태를 더 깊이 이해하도록 당업자를 돕기 위해 제공된다. 이들 실시예는 예시를 목적으로 의도된 것이며, 청구범위에 의해 정의된 바와 같은 다양한 실시형태의 범주를 제한하는 것으로 이해되어서는 안 된다.
UV-C-유도 변색 및 광열화로부터 중합체를 보호하는 것과 관련하여 다양한 개별 첨가제 물질뿐만 아니라, 이들의 특정 조합의 성능을 평가한다. LyondellBasell사의 폴리프로필렌 단독 중합체(PRO-FAXTM 6301 NT)를 본 실시예에서 내후성 연구를 위한 중합체 매트릭스로서 선택한다. 실시예를 제형화할 때의 다양한 첨가제 물질의 공급사, 상호 및 화학명에 관한 정보는 표 1에 나열되어 있다. 일부 경우, 이들 동일한 화학물질이 상이한 상표명 하에 다른 공급사로부터 구입 가능할 수 있다. 모든 첨가제 물질은 받은 그대로 사용된다.
첨가제를 함유하는 플라크를 제조하기 위한 일반 절차는 하기와 같다. 첨가제를 폴리프로필렌 수지와 건식 블렌딩함으로써 각각의 제형의 분말 혼합물 1,000 그램을 제조한다. 이어서, Werner & Pfleiderer 2축 압출기를 사용하여 혼합물을 230℃에서 혼합한다. 압출 이후, Auburg 사출 몰딩 기계를 사용하여 표준 직사각형 플라크(2 × 2.5 × 0.125 인치)를 200℃에서 직사각형 플라크로 사출 몰딩한다.
UV-C 내후성 연구를 위해, 자체적으로 UV-C 내후성 장치를 개발하고 조립하였다. 시험 온도를 40℃ 미만으로 유지하기 위해 장치는 자동 팬 제어기뿐만 아니라 플라크 표면에 (254 ㎚에서) 약 1,200 ㎼/㎠의 평균 방사조도를 갖는 저압의 협대역 UV-C 램프(254 ㎚) 2개를 포함한다. UV-C 내후성 시험 동안, 플라크를 장치 내부에 놓고, 모든 샘플이 동일한 양의 방사 노출을 받도록 자주 재위치시켰다.
UV-C 노출 이후 플라크 표면의 색상 변화(델타 E) 및 황변 지수 변화(델타 YI)는 표면 변색을 평가하기 위해 사용된다. (색상용) Hunter L, a, b 색척도를 이용하는 X-Rite Color i7 분광 광도계를 이용하여 색상 및 YI 측정 둘 모두를 수행한다. ASTM D2244-16에 따라 델타 E를 측정하고, ASTM E313-20에 따라 델타 YI를 측정한다. 명시된 UV-C 노출 시간 이후에 색상 판독으로부터 초기 색상 판독(시간 = 0시간)을 뺌으로써 델타 E를 계산한다. 명시된 UV-C 노출 시간 이후에 YI 판독으로부터 초기 YI 판독(시간 = 0시간)을 뺌으로써 델타 YI를 계산한다. 예를 들어, 시간은 24, 42 또는 250일 수 있다. 24시간은 편리한 시간 척도이다.
UV-C 노출 이후 중합체성 물품 표면 상에서의 크랙 및/또는 크레이징의 발달은 광열화를 평가하기 위해 사용된다. 폴리프로필렌 플라크를 시각적으로, 그리고 크랙 또는 크레이징용 Leica S9i 디지털 입체 현미경(20× 배율)을 사용하여 각각의 시험 간격으로 검사한다. 현미경에 통합된 카메라를 사용하여 사진을 촬영한다.
실시예 1: 포스파이트 및 기타 첨가제를 함유하는 폴리프로필렌의 UV-C 내후성 성능(델타 E 및 델타 YI)
표 2의 데이터는 통상의 포스파이트 산화 방지제를 이용하여 제형화된 폴리프로필렌이 순수형의 불안정한 폴리프로필렌과 비교하여 UV-C 노출 시에 상당한 변색을 겪는다는 것을 보여준다. (샘플 2-2를 샘플 2-1과 비교.) 그러나, 표 2에 나타나 있는 보다 낮은 델타 YI 및 델타 E 값에 의해 증명된 바와 같이, 포스파이트가 조합된 특정 광 안정화제는 UV-C 노출 시의 변색을 완화시킨다(샘플 2-2 내지 샘플 2-8).
실시예 2: 힌더드 페놀 및 기타 첨가제를 함유하는 폴리프로필렌의 UV-C 내후성 성능(델타 E 및 델타 YI)
표 3의 데이터는 통상의 힌더드 페놀을 이용하여 제형화된 폴리프로필렌이 UV-C 노출 시에 상당한 변색을 겪는다는 것을 보여준다. (샘플 3-2를 샘플 3-1과 비교.) 그러나, 표 3에 나타나 있는 보다 낮은 델타 YI 및 델타 E 값에 의해 증명된 바와 같이, 힌더드 페놀이 조합된 특정 광 안정화제는 UV-C 노출 시의 변색을 완화시킨다(샘플 3-3 내지 샘플 3-7).
실시예 3: 포스파이트 및 기타 첨가제를 함유하는 폴리프로필렌의 UV-C 내후성 성능(델타 E 및 델타 YI)
표 4의 데이터는 통상의 포스파이트 산화 방지제를 이용하여 제형화된 폴리프로필렌이 UV-C 노출 시에 상당한 변색을 겪는다는 것을 보여준다. (샘플 4-2를 샘플 4-1과 비교.) 그러나, 표 4에 나타나 있는 보다 낮은 델타 YI 및 델타 E 값에 의해 증명된 바와 같이, 포스파이트와 조합하여 사용된 UV 흡수제, 힌더드 아민 광 안정화제 및 힌더드 벤조에이트의 특정 조합은 UV-C 노출 시의 변색을 완화시킨다(샘플 4-3 내지 샘플 4-6).
실시예 4: 힌더드 페놀 및 기타 첨가제를 함유하는 폴리프로필렌의 UV-C 내후성 성능(델타 E 및 델타 YI)
표 5의 데이터는 통상의 힌더드 페놀 산화 방지제를 이용하여 제형화된 폴리프로필렌이 UV-C 노출 시에 상당한 변색을 겪는다는 것을 보여준다. (샘플 5-2를 샘플 5-1과 비교.) 그러나, 표 5에 나타나 있는 보다 낮은 델타 YI 및 델타 E 값에 의해 증명된 바와 같이, 힌더드 페놀과 조합하여 사용된 UV 흡수제, 힌더드 아민 광 안정화제 및 힌더드 벤조에이트의 특정 조합은 UV-C 노출 시의 변색을 완화시킨다(샘플 5-3 내지 샘플 5-6).
실시예 5: 산화 방지제만을 함유하는 폴리프로필렌의 UV-C 내후성 성능(델타 E, 델타 YI 및 크래킹/크레이징)
표 6의 샘플 6-1에 대한 데이터는, 도 1a에 나타나 있는 바와 같이 상당한 표면 크랙 및/또는 크레이징의 발달에 의해 증명된 바와 같이, 불안정한 폴리프로필렌이 UV-C 조사 시에 심각한 광열화를 겪는다는 것을 보여준다. 샘플 6-2 내지 샘플 6-4는 산화 방지제(힌더드 페놀 단독 또는 힌더드 페놀과 포스파이트의 조합)만을 함유하는 폴리프로필렌이 심각한 표면 변색(델타 E 및 델타 YI 결과에 의해 증명된 바와 같음), 광열화(표 6 및 도 1b 및 도 1c에 나타나 있는 바와 같이 표면 크랙/크레이징에 의해 증명된 바와 같음) 또는 변색 및 광열화 둘 모두의 조합을 겪는다는 것을 보여준다.
실시예 6: 산화 방지제와 힌더드 아민 광 안정화제의 조합을 함유하는 폴리프로필렌의 UV-C 내후성 성능(델타 E, 델타 YI 및 크래킹/크레이징)
샘플 7-3 및 샘플 7-4는, 표 7에 나타나 있는 델타 E 및 델타 YI 결과에 의해 증명된 바와 같이, 산화 방지제 및 힌더드 아민 광 안정화제 둘 모두를 함유하는 폴리프로필렌이 산화 방지제만을 함유하는 샘플 7-2보다 낮은 UV-C 조사 시의 변색을 나타낸다는 것을 보여준다. 샘플 7-5, 샘플 7-6 및 샘플 7-7은, 표 7의 표면 크랙/크레이징 관찰에 의해 증명된 바와 같이, 산화 방지제 및 힌더드 아민 광 안정화제 둘 모두를 함유하는 폴리프로필렌이 불안정한 폴리프로필렌(샘플 7-1) 및 산화 방지제만을 함유하는 폴리프로필렌(샘플 7-2) 둘 모두보다 낮은 UV-C 조사 이후의 표면 광열화를 나타낸다는 것을 보여준다.
실시예 7: 산화 방지제와 UV 흡수제의 조합을 함유하는 폴리프로필렌의 UV-C 내후성 성능(델타 E, 델타 YI 및 크래킹/크레이징)
샘플 8-3 내지 샘플 8-9는, 표 8에 나타나 있는 델타 E 및 델타 YI 결과에 의해 증명된 바와 같이, 산화 방지제 및 UV 흡수제(벤조페논, 벤조트리아졸 또는 트리아진) 둘 모두를 함유하는 폴리프로필렌이 불안정한 폴리프로필렌(샘플 8-1) 및 산화 방지제만을 함유하는 폴리프로필렌(샘플 8-2) 둘 모두보다 낮은 UV-C 조사 시의 변색을 나타낸다는 것을 보여준다. 또한, 제형 8-3 내지 제형 8-9는, 표면 크랙/크레이징 관찰에 의해 증명된 바와 같이, 불안정한 폴리프로필렌(샘플 8-1) 및 산화 방지제만을 함유하는 폴리프로필렌(샘플 8-2) 둘 모두보다 낮은 광열화를 나타낸다는 것을 보여준다.
실시예 8: 산화 방지제와 힌더드 벤조에이트의 조합을 함유하는 폴리프로필렌의 UV-C 내후성 성능(델타 E, 델타 YI 및 크래킹/크레이징)
샘플 9-3 및 샘플 9-4는, 표 9의 델타 E 및 델타 YI 결과에 의해 증명된 바와 같이, 산화 방지제 및 힌더드 벤조에이트 둘 모두를 함유하는 폴리프로필렌이 산화 방지제만을 함유하는 폴리프로필렌(샘플 9-2)보다 낮은 UV-C 조사 시의 변색을 나타낸다는 것을 보여준다. 샘플 9-4는, 표 9의 표면 크랙/크레이징 관찰에 의해 증명된 바와 같이, 산화 방지제 및 힌더드 벤조에이트 둘 모두를 함유하는 폴리프로필렌이 불안정한 폴리프로필렌(샘플 9-1) 및 산화 방지제만을 함유하는 폴리프로필렌(샘플 9-2)보다 낮은 UV-C 조사 시의 표면 광열화를 나타낸다는 것을 보여준다.
실시예 9: 산화 방지제, UV 흡수제 및 힌더드 아민 광 안정화제의 조합을 함유하는 폴리프로필렌의 UV-C 내후성 성능(델타 E, 델타 YI 및 크래킹/크레이징)
샘플 10-3 내지 샘플 10-8은, 표 10의 델타 E 및 델타 YI 결과 및 표면 크랙/크레이징 발달에 대한 관찰에 의해 증명된 바와 같이, UV 흡수제 및 힌더드 아민 광 안정화제와 조합하여 산화 방지제를 함유하는 폴리프로필렌이 불안정한 폴리프로필렌(샘플 10-1) 및 산화 방지제만을 함유하는 폴리프로필렌(샘플 10-2) 둘 모두보다 낮은 UV-C 조사 시의 변색 및 표면 광열화를 나타낸다는 것을 보여준다.
실시예 10: 산화 방지제, UV 흡수제, 힌더드 벤조에이트 및 힌더드 아민 광 안정화제의 조합을 함유하는 폴리프로필렌의 UV-C 내후성 성능(델타 E, 델타 YI 및 크래킹/크레이징)
샘플 11-3 내지 샘플 11-10은, 표 11의 델타 E 및 델타 YI 결과 및 표면 크랙/크레이징 발달에 대한 관찰에 의해 증명된 바와 같이, UV 흡수제, 힌더드 벤조에이트 및 힌더드 아민 광 안정화제와 조합하여 산화 방지제를 함유하는 폴리프로필렌이 불안정한 폴리프로필렌(샘플 11-1) 및 산화 방지제만을 함유하는 폴리프로필렌(샘플 11-2)보다 낮은 변색 및 광열화를 나타낸다는 것을 보여준다.
실시예 11: 산화 방지제 및 기타 첨가제를 함유하는 폴리프로필렌의 UV-C 내후성 성능(델타 E 및 델타 YI)
결과는 하기 표 12에 나타나 있다.
표 12는 WESTONTM 618가 UV-C 노출 이후에 폴리프로필렌에서 최소 변색을 나타낸다는 것을 보여준다(샘플 12-2(WESTONTM 618)를 샘플 2-2(IRGAFOSTM 168)와 비교.). 샘플 12-3 및 샘플 12-4에 의해 증명된 바와 같이, 다양한 UV 안정화제를 첨가하면 UV-C 노출 전반에 걸쳐 초기 YI는 증가되지만, 색상 변화(델타 E)는 유지/감소된다. IRGANOXTM 1010을 제형에 첨가하면 플라크가 UV-C 노출로 인해 변색에 보다 민감하게 된다(샘플 12-5 및 샘플 12-6 참조).
실시예 12: 힌더드 페놀 및 기타 첨가제를 함유하는 폴리프로필렌의 UV-C 내후성 성능(델타 E 및 델타 YI)
본 연구는 UV 부하량(중량%)이 더 높은 것 외에는 일반적으로 상기 실시예 2에 기초하였다. 결과는 하기 표 13에 나타나 있다.
표 3의 데이터와 유사하게, 표 13의 데이터는 통상의 힌더드 페놀을 이용하여 제형화된 폴리프로필렌이 UV-C 노출 시에 변색을 겪는다는 것을 보여준다. (샘플 13-2 및 샘플 3-2를 샘플 13-1 및 샘플 3-1과 비교.) 그러나, 표 13에 나타나 있는 보다 낮은 델타 YI 및 델타 E 값에 의해 증명된 바와 같이, 힌더드 페놀이 조합된 특정 광 안정화제는 UV-C 노출 시의 변색을 완화시킨다(샘플 13-3 내지 샘플 13-6 참조). UV 부하량이 높을수록 델타 YI와 관련하여 경미한 이익을 갖는 것으로 보인다(샘플 13-2 내지 샘플 13-6을 샘플 3-2 내지 샘플 3-6과 비교).
실시예 13: 포스파이트 및 기타 첨가제를 함유하는 폴리에틸렌의 UV-C 내후성 성능(델타 E 및 델타 YI)
UV-C-유도 변색 및 광열화로부터 중합체를 보호하는 것과 관련하여 다양한 개별 첨가제 물질뿐만 아니라, 이들의 특정 조합의 성능을 평가한다. NOVA Chemicals사의 고밀도 폴리에틸렌(SCLAIR® 2909)을 본 실시예에서 내후성 연구를 위한 중합체 매트릭스로서 선택한다. 실시예를 제형화할 때의 다양한 첨가제 물질의 공급사, 상호 및 화학명에 관한 정보는 상기 표 1에 나열되어 있다. 모든 첨가제 물질은 받은 그대로 사용된다.
첨가제를 함유하는 플라크를 제조하기 위한 일반 절차는 하기와 같다. 첨가제를 폴리에틸렌 수지와 건식 블렌딩함으로써 각각의 제형의 분말 혼합물 1,000 그램을 제조한다. 이어서, Werner & Pfleiderer 2축 압출기를 사용하여 혼합물을 190℃에서 혼합한다. 압출 이후, Engel 사출 몰딩 기계를 사용하여 표준 직사각형 플라크(2 × 2.5 × 0.125 인치)를 190℃에서 직사각형 플라크로 사출 몰딩한다.
기재된 바와 같은 UV-C 내후성 장치를 사용하여 UV-C 내후성 연구를 이전 실시예에서 설명된 바와 같이 수행한다. UV-C 노출 이후의 플라크 표면의 색상 변화(델타 E) 및 황변 지수 변화(델타 YI)를 동일한 방식으로 또한 측정한다. 포스파이트 및 기타 첨가제를 갖는 폴리에틸렌의 UV-C 내후성 성능의 결과는 하기 표 12에 나타나 있다.
표 14의 데이터는 통상의 포스파이트 산화 방지제를 이용하여 제형화된 폴리에틸렌이 순수형의 불안정한 폴리프로필렌과 비교하여 UV-C 노출 시에 상당한 변색을 겪는다는 것을 보여준다. (예를 들어, 샘플 14-2를 샘플 14-1과 비교.) 그러나, 표 14에 나타나 있는 보다 낮은 델타 YI 및 델타 E 값에 의해 증명된 바와 같이, 포스파이트가 조합된 특정 광 안정화제는 UV-C 노출 시의 변색을 완화시킨다(샘플 14-2 내지 샘플 14-6 참조).
실시예 14: 힌더드 페놀 및 기타 첨가제를 함유하는 폴리에틸렌의 UV-C 내후성 성능(델타 E 및 델타 YI)
결과는 하기 표 15에 나타나 있다.
표 15의 데이터는 통상의 힌더드 페놀을 이용하여 제형화된 폴리에틸렌이 UV-C 노출 시에 상당한 변색을 겪는다는 것을 보여준다. (샘플 15-2를 샘플 15-1과 비교.) 그러나, 표 15에 나타나 있는 보다 낮은 델타 YI 및 델타 E 값에 의해 증명된 바와 같이, 힌더드 페놀이 조합된 특정 광 안정화제는 UV-C 노출 시의 변색을 완화시킨다(샘플 15-3 내지 샘플 15-5).
실시예 15: 포스파이트 및 기타 첨가제를 함유하는 폴리에틸렌의 222 ㎚ UV-C 내후성 성능(델타 E 및 델타 YI)
실시예 13에 대해 수행된 연구를 반복하지만, 254 ㎚에서 UV-C 내후성을 실시하는 대신에 시험 온도를 40℃ 미만으로 유지하기 위해 장치는 자동 팬 제어기뿐만 아니라 플라크 표면에 (222 ㎚에서) 약 190 ㎼/㎠의 평균 방사조도를 갖는 3개의 KrCl Excimer UV-C 램프(222 ㎚)를 포함하도록 내후성 장치를 조정한다. UV-C 내후성 시험 동안, 플라크를 장치 내부에 놓고, 모든 샘플이 동일한 양의 방사 노출을 받도록 자주 재위치시켰다.
UV-C 노출 이후 플라크 표면의 색상 변화(델타 E) 및 황변 지수 변화(델타 YI)를 이전 실시예와 동일한 방식으로 측정한다. 포스파이트 및 기타 첨가제를 갖는 폴리에틸렌의 UV-C 내후성 성능의 결과는 하기 표 16에 나타나 있다.
표 16의 데이터는 통상의 포스파이트를 이용하여 제형화된 폴리에틸렌이 UV-C 노출 시에 상당한 변색을 겪는다는 것을 보여준다. (샘플 16-2를 샘플 16-1과 비교.) 그러나, 표 16에 나타나 있는 보다 낮은 델타 YI 및 델타 E 값에 의해 증명된 바와 같이, 포스파이트가 조합된 특정 광 안정화제는 UV-C 노출 시의 변색을 완화시킨다(샘플 16-3 내지 샘플 16-6).
상술한 실시예에 나타나 있는 이들 결과는, 일반적으로 중합체성 물품이 UV-C(190 ㎚ 내지 280 ㎚) 살균제 (살균용) 광원에 반복적으로 또는 장기간 노출되는 경우에 본원에 개시된 중합체성 물품을 제조하기 위한 안정화제 조성물이 변색, 크래킹 및/또는 크레이징의 유해한 영향에 대한 내성을 제공하는 데 효과적임을 보여준다. HALS 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 세바케이트(TINUVINTM 770)의 사용과 관련된 데이터는 UV-C 조사에 대한 노출 시에 중합체 조성물의 유해한 영향에 내성을 나타내도록 하는 첨가제로서의 이의 사용을 전적으로 뒷받침하지는 못했기 때문에 출원인은 본 발명에서 이를 배제하였다. 그럼에도 불구하고, UV-A 및/또는 UV-B에 대한 노출 시에 중합체 조성물의 유해한 영향을 방지하는 데 이롭거나 유용한 안정화제 첨가제가 UV-C 노출로부터 중합체 조성물에 대한 이 같은 유해한 영향을 방지하는 데 이롭거나 유용할 것으로 단순히 추론될 수 없다는 것을 증명하기 위해 이 데이터를 제공한다. UV-A/UV-B용 안정화제 첨가제의 사용이 UV-C용으로 유용한 것으로서 추론될 수 없다는 개념을 추가로 뒷받침하는 것으로서, UV-C 노출 시의 폴리카르보네이트에 대한 다양한 UV 안정화제 및 산화 방지제의 영향 연구는 하기에 나타나 있다.
실시예 16: 254 ㎚ UV-C 노출 이후 폴리카르보네이트 물질에 대한 표준 UV 안정화제/산화 방지제의 영향
폴리카르보네이트는 콤팩트 디스크, 안전모, 방탄 유리, 보안경 및 자동차 전조등 렌즈를 포함하지만 이에 제한되지 않는 다양한 응용에 사용되는 고성능 공학용 열가소성 물질인 것으로 알려져 있다. 카르보네이트기(-O-(C=O)-O-)에 의해 함께 연결된 임의의 중합체가 폴리카르보네이트인 것으로 간주될 수 있지만, 사용된 대부분의 아주 흔한 중합체는 비스페놀 A(BPA)에 기반을 두고 있다. 폴리카르보네이트는 높은 충격 강도, 높은 인성, 광학 선명도, 내화학성, 내열성, 높은 치수 안정성, 양호한 전기 특성 및 낮은 중량을 비롯한 다수의 이로운 특성을 갖는다. 폴리카르보네이트는 당업자에게 잘 알려져 있는 다양한 안정화제 조성물에 의해 UV-A 및/또는 UV-B 조사의 유해한 영향으로부터 보호받는 것으로 알려져 있다. 따라서, 폴리카르보네이트 물질이 300 ㎚ 미만의 파장에서의 UV 조사로 인한 변색에 내성이 있다면 바람직하다.
이러한 실험의 의도는 상기에 예시된 폴리프로필렌 연구로부터 유사한 경향이 관찰되는지를 확인하는 것이다. LUPOYTM 1201 10P 천연 폴리카르보네이트(LG Chemical)(PC)를 베이스 수지로서 사용하여 본 실시예의 연구를 실시하였다. PC에 사용된 첨가제의 양은 중량 백분율(중량%)의 측면에서 기재되며, 전체에 걸쳐 이러한 방식으로 기재된다. 압출을 Killion 단축 상에서 550℉(약 290℃)의 용융 온도에서 실시한다. 온도 영역(temperature zone)은 노즐에서 480℉, 525℉, 550℉ 및 550℉이었다. 사출 몰딩을 Engel 기계 상에서 295℃에서 실시한다. 온도 영역은 노즐에서 275℃, 285℃, 295℃ 및 295℃이었다. 모든 샘플을 진공 오븐에서 최소 4시간 동안 건조하고, 밀봉된 유리병에서 1시간 동안 냉각시킨 후, 첨가제와 혼합하고, 압출기 내에 첨가한다. 샘플을 준비하고, 2 × 2 × 0.125 인치의 플라크로서 노출시킨다.
시간의 경과에 따른 방사조도를 측정하기 위해 2개의 저압 수은 광원 및 보정 방사계(calibrated radiometer)가 구비된 사내 챔버를 이용하여 254 ㎚에서의 UVC 노출을 실시한다. 노출된 샘플에 대한 평균 방사조도는 약 1.5 mW/㎠이다. 평균 온도는 약 30℃이다. 10°의 뷰어 각도(viewer angle)에서 D65 발광체를 사용하여 색상을 Hunter LAB 척도로 보정된 Ci7800 분광 광도계 상에서 측정하였다. 10°의 뷰어 각도에서 D65 발광체를 사용하여 색상을 Hunter LAB 척도로 보정된 Ci7800 분광 광도계 상에서 측정한다.
표 17에는 연구에서 고려되는 다양한 제형이 나열되어 있다.
다양한 종류의 샘플이 시험용으로 조합되어 있지만, 그 결과에 따르면 평가된 모든 안정화제가 254 ㎚ UV-C 노출 이후에는 폴리카르보네이트에서 변색을 완화시키는 영향이 비교적 작은 것으로 나타나 있다. 흥미롭게도, UV-1164를 포함하는 제형은 AO-618과 조합되는 경우, 특히 제형 17-6에서의 추가적인 색상을 PC 샘플에 기여하는 것으로 보였다. UV-1164가 AO-168(제형 17-23)과 조합되는 경우, 초기 변색이 보다 낮았다. 이러한 변색은 UV-1577에서 또한 두드러졌지만, 일반적으로 보다 낮은 정도였다. 보다 높은 초기 황변은 AO-618가 조합된 UV-3346에 의해 관찰되었다. 폴리카르보네이트는 염기성 종에 민감하여 UV-3346이 UV-C 노출 이전에 PC에 대한 초기 열화를 초래하는 것이 가능할 수도 있다.
전체 색상 변화와 관련하여, 제형 17-6(UV-1164 + AO-618)은 실질적으로 가장 낮은 변화를 나타냈다. 단, 이러한 제형에서 초기 색상이 가장 강하여 UV-C 노출로 인한 변색이 강한 초기 색상에 의해 마스킹되는 것이 가능하였다. 시험된 나머지 제형은 12시간 이후에 4 유닛(± 0.5 유닛)에 가까운 색상 변화를 나타냈으며, 12시간부터 30시간까지는 최소 색상 증가만을 나타냈다.

Claims (32)

  1. UV-C(190 ㎚ 내지 280 ㎚) 광에 대한 노출 시에 변색(discoloration), 크래킹(cracking) 또는 크레이징(crazing) 중 적어도 하나의 유해한 영향에 내성이 있는 안정화된 중합체성 물품을 제조하기 위한 중합체 조성물로서,
    상기 중합체 조성물은,
    i) 유기 중합체성 물질; 및
    ii) 안정화제 조성물을 포함하며,
    이때 상기 안정화제 조성물은, 바륨 화합물(예를 들어, 바륨 염)이 상기 안정화제 조성물에 없는 경우에도, 그리고 힌더드 아민 광 안정화제(hindered amine light stabilizer; HALS)가 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 세바케이트(TINUVINTM 770) 단독이 아니라는 조건 하에,
    힌더드 페놀, 포스파이트 및 포스포나이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 산화 방지제; 및
    HALS, UV 흡수제(UVA), 힌더드 벤조에이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 광 안정화제를 포함하는 것인, 안정화된 중합체성 물품을 제조하기 위한 중합체 조성물.
  2. 제1항에 있어서, UV-C 광에 대한 노출 시의 변색 감소, 크래킹 감소 또는 크레이징 감소 중 적어도 하나는 상기 광 안정화제의 부재 하의 상기 산화 방지제와 비교하여, 상기 광 안정화제와 상기 산화 방지제를 조합하여 사용하는 것과 연관이 있는 것인 중합체 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 유기 중합체성 물질은 폴리올레핀, 열가소성 올레핀(TPO), 폴리(에틸렌-비닐 아세테이트)(EVA), 폴리에스테르, 폴리에테르, 폴리케톤, 폴리아미드, 천연 및 합성 고무, 폴리우레탄, 폴리스티렌, 폴리아크릴레이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리부틸 아크릴레이트, 폴리아세탈, 폴리아크릴로니트릴, 폴리부타디엔, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌(ABS), 스티렌-아크릴로니트릴(SAN), 아크릴로니트릴-스티렌-아크릴레이트(ASA), 셀룰로오스계 아세테이트 부티레이트, 셀룰로오스계 중합체, 폴리이미드, 폴리아미드이미드, 폴리에테르이미드, 폴리페닐렌 설파이드, 폴리페닐렌 옥사이드, 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 폴리비닐 클로라이드, 아미노 수지-가교된 폴리아크릴레이트 및 폴리에스테르, 폴리이소시아네이트-가교된 폴리에스테르 및 폴리아크릴레이트, 페놀/포름알데하이드, 우레아/포름알데하이드 및 멜라민/포름알데하이드 수지, 알키드 수지, 폴리에스테르 수지, 멜라민 수지로 가교된 아크릴레이트 수지, 우레아 수지, 이소시아네이트, 이소시아누레이트, 카르바메이트 또는 에폭시 수지, 무수물 또는 아민으로 가교된 지방족, 지환족, 헤테로환형 및 방향족 글리시딜 에테르에서 유래하는 가교된 에폭시 수지, 폴리실록산, 마이클 부가 중합체(Michael addition polymer), 활성화된 불포화 및 활성화된 메틸렌 화합물과 아민 또는 차단된 아민의 부가 중합체, 활성화된 불포화 및 활성화된 메틸렌 화합물과 케티민의 부가 중합체, 불포화 아크릴산 폴리아세토아세테이트 수지가 조합된 폴리케티민, 코팅 조성물, 방사선 경화성 조성물, 에폭시 멜라민 수지, 유기 염료, 화장품, 셀룰로오스계 종이, 사진 필름 종이, 섬유, 왁스 또는 잉크 중 적어도 하나를 포함하는 것인 중합체 조성물.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 유기 중합체성 물질은 (i) 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리이소부틸렌, 폴리부트-1-엔 또는 폴리-4-메틸펜트-1-엔; (ii) 폴리이소프렌 또는 폴리부타디엔; (iii) 사이클로펜텐 또는 노르보넨; (iv) 선택적으로 가교된 폴리에틸렌, 고밀도 폴리에틸렌(HDPE), 고밀도 및 고분자량 폴리에틸렌(HDPE-HMW), 고밀도 및 초고분자량 폴리에틸렌(HDPE-UHMW), 중간 밀도 폴리에틸렌(MDPE), 저밀도 폴리에틸렌(LDPE), 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE), 극저밀도 폴리에틸렌(VLDPE) 또는 초저밀도 폴리에틸렌(ULDPE); (v) 열가소성 올레핀(TPO); 또는 (vi) 모노-, 디- 또는 사이클로-올레핀 중 적어도 하나의 공중합체 중 적어도 하나를 포함하는 것인 중합체 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 상기 유기 중합체성 물질은 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 또는 열가소성 올레핀인 것인 중합체 조성물.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 산화 방지제는 상기 중합체 조성물의 총 중량을 기준으로 0.001 중량% 내지 5.0 중량%, 바람직하게는 0.005 중량% 내지 3.0 중량% 및 보다 바람직하게는 0.01 중량% 내지 1.0 중량%로 존재하는 것인 중합체 조성물.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광 안정화제는 상기 중합체 조성물의 총 중량을 기준으로 0.005 중량% 내지 5.0 중량%, 바람직하게는 0.01 중량% 내지 2.0 중량%로 존재하는 것인 중합체 조성물.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 산화 방지제는 화학식 IVa, 화학식 IVb 또는 화학식 IVc에 따른 적어도 하나의 기를 갖는 힌더드 페놀을 포함하는 것인 중합체 조성물:
    [화학식 IVa]

    [화학식 IVb]

    [화학식 IVc]

    (상기 식에서,
    ""는 모 화합물에 대한 분자 단편의 (탄소-탄소 단일 결합을 통한) 부착점을 나타내고;
    화학식 IVa, 화학식 IVb 또는 화학식 IVc의 R18은 수소 또는 C1-12 하이드로카르빌이고;
    화학식 IVa, 화학식 IVb 또는 화학식 IVc의 R19 및 R20은 각각 독립적으로 수소 또는 C1-C20 하이드로카르빌이고;
    화학식 IVa, 화학식 IVb 또는 화학식 IVc의 R37은 C1-C12 하이드로카르빌임).
  9. 제8항에 있어서, 화학식 IVa, 화학식 IVb 또는 화학식 IVc의 R18 및 R37은 각각 독립적으로 메틸 또는 tert-부틸인 것인 중합체 조성물.
  10. 제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 힌더드 페놀은,
    1,3,5-트리스(4-tert-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질)-1,3,5-트리아진-2,4,6-(1H,3H,5H)-트리온(CYANOXTM 1790),
    1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)-1,3,5-트리아진-2,4,6-(1H,3H,5H)-트리온(IRGANOXTM 3114),
    1,1,3-트리스(2'-메틸-4'-하이드록시-5'-tert-부틸페닐)부탄,
    트리에틸렌 글리콜 비스[3-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오네이트],
    4,4'-티오비스(2-tert-부틸-5-메틸페놀),
    2,2'-티오디에틸렌 비스[3-(3-tert-부틸-4-하이드록실-5-메틸페닐)프로피오네이트],
    옥타데실 3-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오네이트,
    펜타에리트리톨 (3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오네이트,
    N,N'-헥사메틸렌 비스[3-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피온아미드],
    디(4-tert-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질)티오디프로피오네이트,
    펜타에리트리톨 테트라키스(3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트)(IRGANOXTM 1010),
    옥타데실 3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트(IRGANOXTM 1076), 또는
    N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록실페닐 프로피오닐)하이드라진(IRGANOXTM 1024) 중 적어도 하나를 포함하는 것인 중합체 조성물.
  11. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 힌더드 페놀은 펜타에리트리톨 테트라키스(3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트)(IRGANOXTM 1010), 옥타데실 3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트(IRGANOXTM 1076), 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)-1,3,5-트리아진-2,4,6-(1H,3H,5H)-트리온(IRGANOXTM 3114) 또는 N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록실페닐 프로피오닐)하이드라진(IRGANOXTM 1024) 중 적어도 하나를 포함하는 것인 중합체 조성물.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 산화 방지제는 상기 포스파이트 또는 포스포나이트를 포함하고, 상기 포스파이트 또는 포스포나이트는,
    i) 화학식 1 내지 화학식 7 중 임의의 것에 따른 화합물:
    [화학식 1]

    [화학식 2]

    [화학식 3]

    [화학식 4]

    [화학식 5]

    [화학식 6]

    [화학식 7]

    (상기 식에서,
    지수는 정수이고, n은 2, 3 또는 4이고; p는 1 또는 2이고; q는 2 또는 3이고; y는 1, 2 또는 3이고; z는 1 내지 6이고;
    A1은 n 또는 q가 2이면 C2-C18 알킬렌; 산소, 황 또는 -NR4-로 중단된 C2-C12 알킬렌, 화학식 , 의 라디칼, 또는 페닐렌이고;
    A1은 n 또는 q가 3이면 화학식 -CrH2r-1-(여기서, r은 4 내지 12의 정수임)의 2가 라디칼이고;
    A1은 n이 4이면 이고;
    B는 직접 결합, -CH2-, -CHR4-, -CR1R4-, 황, C5-C7 사이클로알킬리덴, 또는 3번, 4번 및/또는 5번 위치에서 1개 내지 4개의 C1-C4 알킬 라디칼로 치환된 사이클로헥실리덴이고;
    D1은 p가 1이면 C1-C4 알킬이고, p가 2이면 -CH2OCH2-이고;
    D2는 C1-C4 알킬이고;
    E는 y가 1이면 C1-C18 알킬, -OR1 또는 할로겐이고;
    E는 y가 2이면 -O-A2-O-(여기서, A2는 n이 2인 경우에 A1에 대해 정의된 바와 같음)이고;
    E는 y가 3이면 화학식 R4C(CH2O)3 또는 N(CH2CH2O-)3의 라디칼이고;
    Q는 적어도 z가의 모노- 또는 폴리-알코올 또는 페놀의 라디칼이며, 이때 이러한 라디칼은 상기 모노- 또는 폴리-알코올 또는 페놀의 OH 기의 산소 원자를 통해 인 원자에 부착되고;
    R1, R2 및 R3은 각각 독립적으로 할로겐, -COOR4, -CN 또는 -CONR4R4로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C18 알킬; 산소, 황 또는 -NR4-로 중단된 C2-C18 알킬; C7-C9 페닐알킬; C5-C12-사이클로알킬, 페닐 또는 나프틸; 할로겐, 1개 내지 3개의 알킬 라디칼 또는 총 1개 내지 18개의 탄소 원자를 갖는 알콕시 라디칼로 치환되거나 C7-C9 페닐알킬로 치환된 나프틸 또는 페닐; 또는 하기 화학식의 라디칼이고:

    (상기 식에서, m은 3 내지 6 범위의 정수임);
    R4는 수소, C1-C8 알킬, C5-C12-사이클로알킬 또는 C7-C9 페닐알킬이고;
    R5 및 R6은 각각 독립적으로 수소, C1-C8 알킬 또는 C5-C6 사이클로알킬이고;
    R7 및 R8은 q가 2이면 각각 독립적으로 C1-C4 알킬이거나, 모두 2,3-데하이드로펜타메틸렌 라디칼이고; R7 및 R8은 q가 3이면 각각 메틸이고;
    R14는 각각의 경우 수소, C1-C9 알킬 또는 사이클로헥실로부터 독립적으로 선택되고;
    R15는 각각의 경우 독립적으로 수소 또는 메틸이고;
    X 및 Y는 각각 직접 결합 또는 산소이고;
    Z는 직접 결합, 메틸렌, -C(R16)2- 또는 황이고;
    R16은 C1-C8 알킬임); 또는
    ii) 화학식 8에 따른 트리스아릴포스파이트 중 적어도 하나인 것인 중합체 조성물:
    [화학식 8]

    (상기 식에서,
    R17은 화학식 8의 방향족 고리의 0개 내지 5개의 사례에 존재하는 치환기이며, 각각의 경우에 C1-C20 알킬, C3-C20 사이클로알킬, C4-C20 알킬 사이클로알킬, C6-C10 아릴 또는 C7-C20 알킬아릴로부터 독립적으로 선택됨).
  13. 제12항에 있어서, 상기 포스파이트 또는 포스포나이트는,
    트리페닐 포스파이트,
    디페닐 알킬 포스파이트,
    페닐 디알킬 포스파이트,
    트리라우릴 포스파이트,
    트리옥타데실 포스파이트,
    디스테아릴 펜타에리트리톨 포스파이트,
    트리스(2,4-디-tert-부틸페닐) 포스파이트(IRGAFOSTM 168),
    트리스(4-노닐페닐) 포스파이트,
    화학식 A, 화학식 B, 화학식 C, 화학식 D, 화학식 E, 화학식 F, 화학식 G, 화학식 H, 화학식 J, 화학식 K 또는 화학식 L의 화합물:
    [화학식 A]

    [화학식 B]

    [화학식 C]

    [화학식 D]

    [화학식 E]

    [화학식 F]

    [화학식 G]

    [화학식 H]

    [화학식 J]

    [화학식 K]

    [화학식 L]
    ,
    2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올 2,4,6-트리-tert-부틸페놀 포스파이트,
    비스(2,6-디-tert-부틸-4-메틸페닐) 펜타에리트리톨 디포스파이트,
    2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올 2,4-디-쿠밀페놀 포스파이트,
    2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올 4-메틸-2,6-디-tert-부틸페놀 포스파이트, 또는
    비스(2,4,6-트리-tert-부틸-페닐) 펜타에리트리톨 디포스페이트 중 적어도 하나를 포함하는 것인 중합체 조성물.
  14. 제12항 또는 제13항에 있어서, 상기 포스파이트 또는 포스포나이트는 트리스(2,4-디-tert-부틸페닐)포스파이트(IRGAFOSTM 168), 트리페닐 포스파이트, 트리스(4-노닐페닐) 포스파이트, 비스(2,4-디쿠밀페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트(DOVERPHOSTM S9228) 또는 테트라키스(2,4-디-tert-부틸페닐)-4,4'-비페닐렌-디포스포나이트(IRGAFOSTM P-EPQ) 중 적어도 하나를 포함하는 것인 중합체 조성물.
  15. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광 안정화제는,
    화학식 II에 따른 적어도 하나의 작용기:
    [화학식 II]

    (상기 식에서,
    R31은 수소, OH, C1-C20 하이드로카르빌, -CH2CN, C1-C12 아실 또는 C1-C18 알콕시이고;
    R38은 수소 또는 C1-C8 하이드로카르빌이고;
    R29, R30, R32 및 R33은 각각 독립적으로 C1-C20 하이드로카르빌이거나, R29 및 R30 및/또는 R32 및 R33은 이들이 부착된 탄소와 함께 결합되어 C5-C10 사이클로알킬을 형성함); 또는
    화학식 IIa에 따른 적어도 하나의 작용기를 포함하는 힌더드 아민 광 안정화제(HALS)를 포함하는 것인 중합체 조성물:
    [화학식 IIa]

    (상기 식에서,
    m은 1 내지 2의 정수이고;
    R39는 수소, OH, C1-C20 하이드로카르빌, -CH2CN, C1-C12 아실 또는 C1-C18 알콕시이고;
    G1 내지 G4는 각각 독립적으로 C1-C20 하이드로카르빌임).
  16. 제15항에 있어서, 상기 힌더드 아민 광 안정화제(HALS)는,
    비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 숙시네이트;
    비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일) 세바케이트;
    비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜) 숙시네이트;
    비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 세바케이트(TINUVINTM 123);
    비스(1,2,2,6,6 펜타메틸피페리딘-4-일) n-부틸 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질말로네이트;
    1-(2-하이드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리딘과 숙신산의 축합물(TINUVINTM 622);
    2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일 스테아레이트;
    2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일 도데카네이트;
    1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일 스테아레이트;
    1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일 도데카네이트;
    N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민과 4-tert-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물(CHIMASSORBTM 944);
    트리스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 니트릴로트리아세테이트;
    4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘;
    N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민과 4-모르폴리노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물(CYASORBTM UV-3346);
    N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민과 4-모르폴리노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물(메틸화됨)(CYASORBTM UV-3529);
    2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합물(CHIMASSORBTM 119);
    2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스-(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합물;
    N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민, N-부틸-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘아민, 디-n-부틸 아민 및 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진의 축합물(CHIMASSORBTM 2020);
    4-헥사데실옥시- 및 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 혼합물(CYASORBTM UV-3853);
    4-헥사데실옥시- 및 4-스테아릴옥시-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘의 혼합물;
    N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민과 4-사이클로헥실아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물;
    1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄, 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진 및 4-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 축합물;
    N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민과 4-사이클로헥실아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물;
    테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트;
    테트라키스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트;
    1,2,3,4-부탄테트라카르복실산, 2,2,6,6-테트라메틸피페리디닐-4-일 트리데실 에스테르;
    1,2,3,4-부탄테트라카르복실산, 1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일 트리데실 에스테르;
    포름아미드, N,N'-1,6-헥산디일비스[N-(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)(UVINULTM 4050);
    N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민과 4-tert-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물(CHIMASSORBTM 944);
    N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-1-(프로필옥시)-피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민, N-부틸-1-프로필옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘아민, 디-n-부틸 아민 및 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진의 축합물(TINUVINTM NOR HALS 371);
    N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘-4-일)헥사메틸렌 디아민, 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진을 이용한 중합체, 3-브로모-1-프로펜, 디-n-부틸아민 및 N-부틸-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘아민을 이용한 반응 생성물(산화되고 수소화됨)(TINUVINTM XT 200);
    TINUVINTM XT-850/XT-855; 또는
    N1,N1'-1,2-에탄디일비스(1,3-프로판디아민), 사이클로헥산 및 과산화된 N-부틸-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘아민-2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진을 이용한 반응 생성물(FLAMESTABTM NOR 116) 중 적어도 하나를 포함하는 것인 중합체 조성물.
  17. 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광 안정화제는 적어도 하나의 2-(2'-하이드록시페닐-s-트리아진, 2-하이드록시벤조페논, 2-(2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸 또는 벤즈옥사지논을 포함하는 UV 흡수제를 포함하는 것인 중합체 조성물.
  18. 제17항에 있어서, 상기 광 안정화제는 화학식 I에 따른 적어도 하나의 2-(2'-하이드록시페닐)-s-트리아진을 포함하는 것인 중합체 조성물:
    [화학식 I]

    (상기 식에서, R34 및 R35 각각은 독립적으로 C6-C10 아릴기, 모노- 또는 디-C1-C12 하이드로카르빌-치환된 아미노, C2-C12 알카노일, C1-C12 알킬, C1-C10 아실 또는 C1-C10 알콕실이며,
    이때 상기 C6-C10 아릴기는 1개 내지 3개의 치환 가능한 위치에서 OH, 할로겐, C1-C12 알킬, C1-C12 알콕시, C1-12 알콕시에스테르, C2-12 알카노일 또는 페닐 중 적어도 하나로 선택적으로 치환되고, 상기 페닐은 1개 내지 3개의 치환 가능한 위치에서 OH, 할로겐, C1-12 알킬, C1-12 알콕시, C1-12 알콕시에스테르 또는 C2-12 알카노일 중 적어도 하나로 선택적으로 치환되고;
    각각의 R36은 독립적으로 OH, 할로겐, C1-C12 알킬, C1-C12 알콕시, C1-C12 알콕시에스테르, C2-C12 알카노일, 페닐 또는 C1-C12 아실임).
  19. 제18항에 있어서, 상기 2-(2'-하이드록시페닐)-s-트리아진은,
    4,6-디페닐-2-(4-헥실옥시-2-하이드록시페닐)-s-트리아진(TINUVINTM 1577),
    4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-s-트리아진(CYASORBTM 1164),
    2,4-비스[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-4-(2-하이드록시에톡시)페닐]-6-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진,
    4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-2-(2-하이드록시-4-(3-도데실옥시-2-하이드록시프로폭시)페닐)-s-트리아진과 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-(2-하이드록시-4-(3-트리데실옥시-2-하이드록시프로폭시)페닐)-s-트리아진의 혼합물(TINUVINTM 400),
    4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-2-(2-하이드록시-4(3-(2-에틸헥실옥시)-2-하이드록시프로폭시)-페닐)-s-트리아진(TINUVINTM 405),
    4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-2-(2-하이드록시-4(3-(2-에틸헥실옥시)-2-하이드록시프로폭시)-페닐)-s-트리아진,
    2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-하이드록시-4-[(옥틸옥시카르보닐)에틸리덴옥시]페닐]-s-트리아진(TINUVINTM 479),
    2,4-비스(4-비페닐일)-6-[2-하이드록시-4-[(옥틸옥시카르보닐)에틸리덴옥시]페닐]-s-트리아진,
    2,4-비스(4-비페닐일)-6-[2-하이드록시-4-(2-에틸헥실옥시)페닐]-s-트리아진(TINUVINTM 1600),
    2,4-비스(2-하이드록시-4-부틸옥시페닐)-6-(2,4-비스-부틸옥시페닐)-s-트리아진(트리아진TM 460),
    2,4,6-트리스[2-하이드록시-4-(3-sec-부틸옥시-2-하이드록시프로필옥시)-페닐]-s-트리아진, 또는
    2,4,6-트리스[2-하이드록시-4-[(옥틸옥시카르보닐)에틸리덴옥시]페닐]-s-트리아진(TINUVINTM 477) 중 적어도 하나를 포함하는 것인 중합체 조성물.
  20. 제17항에 있어서, 상기 광 안정화제는 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논(CYASORBTM UV-9), 2,2'-디하이드록시-4-메톡시벤조페논(CYASORBTM UV-24), 2-하이드록시-4-옥틸옥시벤조페논(CYASORBTM UV-531), 2,2'-디하이드록시-4,4'-디-메톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시벤조페논, 2,2',4,4'-테트라하이드록시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디에톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디프로폭시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디부톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시-4'-에톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시-4'-프로폭시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시-4'-부톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-에톡시-4'-프로폭시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-에톡시-4'-부톡시벤조페논, 2,3'-디하이드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2,3'-디하이드록시-4-메톡시-4'-부톡시벤조페논, 2-하이드록시-4,4',5'-트리메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4,4',6'-트리부톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-부톡시-4',5'-디메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-2',4'-디부틸벤조페논, 2-하이드록시-4-프로폭시-4',6'-디클로로벤조페논, 2-하이드록시-4-프로폭시-4',6'-디브로모벤조페논, 2,4-디하이드록시벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-프로폭시벤조페논, 2-하이드록시-4-부톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-4'-메틸벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-4'-에틸벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-4'-프로필벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-4'-부틸벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-4'-tert-부틸벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-4'-클로로벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-2'-클로로벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-4'-브로모벤조페논, 2-하이드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4,4'-디메톡시-3-메틸벤조페논, 2-하이드록시-4,4'-디메톡시-2'-에틸벤조페논, 2-하이드록시-4,4',5'-트리메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-메틸벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-에틸벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-프로필벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-부틸벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4,4'-디에톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-프로폭시벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-부톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-에톡시-4'-클로로벤조페논 또는 2-하이드록시-4-에톡시-4'-브로모벤조페논 중 적어도 하나를 포함하는 2-하이드록시벤조페논을 포함하는 것인 중합체 조성물.
  21. 제17항에 있어서, 상기 광 안정화제는 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸(TINUVINTM P), 2-(2'-하이드록시-5'-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-메틸-5'-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-사이클로헥실페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-tert-부틸페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-tert-옥틸페닐)벤조트리아졸(CYASORBTM UV-5411), 2-(3',5'-디-tert-부틸-2'-하이드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-아밀-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸(CYASORBTM UV-2337), 2-(3',5'-비스(α,α-디메틸벤질)-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸(TINUVINTM 900), 2-(3'-tert-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트리아졸-2-일페놀], 2-[3'-tert-부틸-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)-2'-하이드록시페닐]-2H-벤조트리아졸의 폴리에틸렌 글리콜 300과의 에스테르 교환 생성물(TINUVINTM 1130), 2-[2'-하이드록시-3'-(α,α-디메틸벤질)-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]벤조트리아졸, 5-트리플루오로메틸-2-(2-하이드록시-3-α-쿠밀-5-tert-옥틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-(2-하이드록시에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-(2-메타크릴로일옥시에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-tert-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸(TINUVINTM 326), 2-(3'-sec-부틸-5'-tert-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-도데실-5'-메틸-2'-하이드록시페닐)-벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)-2'-하이드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(5'-메틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸 또는 2-(5'-tert-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸 중 적어도 하나를 포함하는 2-(2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸을 포함하는 것인 중합체 조성물.
  22. 제17항에 있어서, 상기 광 안정화제는 2-메틸-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-부틸-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-페닐-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-(1- 또는 2-나프틸)-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-(4-비페닐)-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-p-니트로페닐-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-m-니트로페닐-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-p-벤조일페닐-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-p-메톡시페닐-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-O-메톡시페닐-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-사이클로헥실-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-p-(또는 m-)프탈이미드페닐-3,1-벤즈옥사진-4-온, N-페닐-4-(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)프탈이미드, N-벤조일-4-(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)아닐린, N-벤조일-N-메틸-4-(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)-아닐린, 2-[p-(N-페닐카르바모일)페닐]-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2-[p-(N-페닐 N-메틸카르바모일)페닐]-3,1-벤즈옥사진-4-온, 2,2'-비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-에틸렌비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-테트라메틸렌비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-헥사메틸렌비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-데카메틸렌비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-p-페닐렌비스(3,1-벤즈옥사진-4-온)(CYASORBTM UV-3638), 2,2'-m-페닐렌비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-(4,4'-디페닐렌)비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-(2,6- 또는 1,5-나프탈렌)비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-(2-메틸-p-페닐렌)비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-(2-니트로-p-페닐렌)비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-(2-클로로-p-페닐렌)비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), 2,2'-(1,4-사이클로헥실렌)비스(3,1-벤즈옥사진-4-온), N-p-(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)페닐, 4-(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)프탈이미드, N-p-(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)벤조일, 4-(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)아닐린, 1,3,5-트리(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)벤젠, 1,3,5-트리(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)나프탈렌 또는 2,4,6-트리(3,1-벤즈옥사진-4-온-2-일)나프탈렌 중 적어도 하나를 포함하는 벤즈옥사지논을 포함하는 것인 중합체 조성물.
  23. 제1항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광 안정화제는 화학식 VI에 따른 힌더드 벤조에이트를 포함하는 것인 중합체 조성물:
    [화학식 VI]

    (상기 식에서,
    R21 및 R22 각각은 독립적으로 C1-C12 알킬이고;
    T는 O 또는 NR24(여기서, R24는 H 또는 C1-C30 하이드로카르빌임)이고;
    R23은 H 또는 C1-C30 하이드로카르빌임).
  24. 제23항에 있어서, 상기 힌더드 벤조에이트는 2,4-디-tert-부틸페닐 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트(TINUVINTM 120), 헥사데실 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트(CYASORBTM UV-2908), 옥타데실 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 옥틸 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 데실 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 도데실 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 테트라데실 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 베헤닐일 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 2-메틸-4,6-디-tert-부틸페닐 3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트 또는 부틸 3-[3-tert-부틸-4-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조일옥시)페닐]프로피오네이트 중 적어도 하나를 포함하는 것인 중합체 조성물.
  25. 제1항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서, 디라우릴 3,3'-티오디프로피오네이트, 디미리스틸 3,3'-티오디프로피오네이트, 디트리데실 3,3'-티오디프로피오네이트, 디스테아릴 3,3'-티오디프로피오네이트, 펜타에리트리톨 테트라키스-(3-도데실티오프로피오네이트), 테트라알킬 티오에틸 티오디숙시네이트, 2,12-디하이드록시-4,10-디티아-7-옥사트리데카메틸렌 비스[3-(도데실티오)프로피오네이트], 2-메르캅토벤즈이미다졸, 2-메르캅토벤즈이미다졸, 아연 염, 아연 디부틸디티오카르바메이트 또는 디옥타데실 디설파이드 중 적어도 하나를 포함하는 티오시너지스트(thiosynergist)를 추가로 포함하는 것인 중합체 조성물.
  26. 제1항 내지 제25항 중 어느 한 항에 있어서, 이산화티타늄, 황산바륨, 산화아연 또는 산화세륨(IV) 중 적어도 하나를 포함하는 무기 화합물을 추가로 포함하는 것인 중합체 조성물.
  27. 제1항 내지 제25항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중합체 조성물에는 바륨 화합물이 없는 것인 중합체 조성물.
  28. UV-C(190 ㎚ 내지 280 ㎚) 광에 대한 노출 시에 변색, 크래킹 및/또는 크레이징에 내성이 있는 안정화된 중합체성 물품으로서, 제1항 내지 제27항 중 어느 한 항의 중합체 조성물을 포함하는 안정화된 중합체성 물품.
  29. 제28항에 있어서, UV-C 광에 대한 노출 시의 변색 감소, 크래킹 감소 또는 크레이징 감소 중 적어도 하나는 상기 광 안정화제의 부재 하의 상기 산화 방지제와 비교하여, 상기 광 안정화제와 산화 방지제를 조합하여 사용하는 것과 연관이 있는 것인 안정화된 중합체성 물품.
  30. 제28항의 안정화된 중합체성 물품을 제조하는 방법으로서,
    힌더드 페놀, 포스파이트 및 포스포나이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 산화 방지제; 및
    힌더드 아민 광 안정화제(HALS), UV 흡수제(UVA), 힌더드 벤조에이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 광 안정화제를 포함하는 안정화제 조성물을 유기 중합체성 물질에 첨가하는 단계; 및
    상기 안정화제 조성물을 함유하는 상기 유기 중합체성 물질을 상기 안정화된 중합체성 물품으로 성형하는 단계를 포함하는, 안정화된 중합체성 물품을 제조하는 방법.
  31. UV-C(190 ㎚ 내지 280 ㎚) 광의 유해한 영향에 대항하여 유기 중합체성 물질을 안정화시키는 방법으로서, 상기 방법은,
    힌더드 페놀, 포스파이트 및 포스포나이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 산화 방지제; 및
    힌더드 아민 광 안정화제(HALS), UV 흡수제(UVA), 힌더드 벤조에이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 광 안정화제를 포함하는 안정화제 조성물을 상기 유기 중합체성 물질에 첨가하는 단계를 포함하며,
    이때 UV-C 광에 대한 노출 시의 변색 감소 또는 크래킹 또는 크레이징 감소 중 적어도 하나는 상기 광 안정화제의 부재 하의 상기 산화 방지제와 비교하여, 상기 광 안정화제와 산화 방지제를 조합하여 사용하는 것과 연관이 있는 것인 방법.
  32. 제31항에 있어서, 상기 산화 방지제와 상기 광 안정화제 모두 상기 중합체 조성물의 총 중량을 기준으로, 산화 방지제의 총량은 0.001 중량% 내지 5.0 중량%이고, 광 안정화제의 총량은 0.01 중량% 내지 2.0 중량%인 것인 방법.
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