KR20230095259A - 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 티타늄 박판 - Google Patents

미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 티타늄 박판 Download PDF

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Abstract

본 발명에 따른 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법은, 티타늄 슬라브를 850 내지 900℃의 온도에서 가열하는 단계; 및 상기 가열된 티타늄 슬라브를 열간 압연하여 티타늄 박판을 제조하는 단계;를 포함하고, 상기 티타늄 박판은 알파상 분율이 90% 이상이고, 알파상 결정립 크기가 25㎛ 이하일 수 있다.

Description

미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 티타늄 박판{METHOD FOR MANUFACTURING THIN TITANIUM PLATES WITH FINE AND EQUIAXED GRAINS AND THIN TITANIUM PLATES MANUFACTURED BY USING THE SAME}
본 발명은 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 티타늄 박판에 관한 것이다.
티타늄 합금은 낮은 밀도와 높은 강도, 우수한 비강도 및 생체 적합성을 가지므로 많은 산업문야에 이용되고 있다. 현재 많이 사용되는 티타늄 합금은 순수한(또는 상업적으로 순수한) 상태의 CP(commercially pure) 티타늄, 고온 베타(beta)상과 저온 알파(alpha) 상이 공존하는 알파-베타 티타늄 합금, 그리고 베타 안정화 원소를 다량 포함한 베타 티타늄 합금 등으로 구분된다.
특히, 알파상 안정화 원소 Al 6wt%와 베타상 안정화 원소 V 4wt%가 함유된, 알파-베타 티타늄 합금으로 분류되는 Ti-6Al-4V 합금은 높은 비강도로 인해 상업적으로 매우 널리 사용되고 있다.
이러한 티타늄 합금은 티타늄 합금의 결정입자 크기가 감소 되어야만 기계적 성능이 향상되어 산업분야에 응용이 용이하다. 그러나 티타늄 합금에서 결정입자의 크기를 줄이기 위한 공정은 반복적인 수 개의 공정을 필요로 하며, 비용 및 시간적인 면에서 불이익이 된다.
구체적으로, 이러한 종래의 티타늄 합금에 있어서, 중간 제품 또는 완제품의 제조를 위해서는 잉곳의 단조와 열간압연 공정을 통하여 애즈-캐스트(as-cast) 미세구조를 파괴하여 정련된 사전(prior) 베타 입자 크기를 갖는 라멜라 구조를 얻은 후, 등축의 입자들로 파괴하는 단계로 이루어진다. 이때, 변형 양은 매우 적기 때문에, 알파-베타 상의 영역에서는 이러한 기계적 작업 공정의 많은 반복이 요구된다. 마무리 단계는 적절한 열처리 공정과 함께, 요구되는 최종 미세구조를 얻기 위한 알파-베타 또는 베타 공정을 포함한다.
따라서, 결정입자 크기를 용이하게 감소시킬 수 있는 제조 공정의 개발이 요구되고 있는 실정이다.
본 발명은 공정 비용 및 공정 시간을 절감할 수 있는 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 티타늄 박판을 제공하고자 한다.
일 실시예에 따른 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법은, 티타늄 슬라브를 850 내지 900℃의 온도에서 가열하는 단계; 및 상기 가열된 티타늄 슬라브를 열간 압연하여 티타늄 박판을 제조하는 단계;를 포함하고, 상기 티타늄 박판은 알파상 분율이 90% 이상이고, 알파상 결정립 크기가 25㎛ 이하일 수 있다.
다른 실시예에 따른 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판은, 일 실시예에 따라 제조된 것으로, 알파상 분율이 90% 이상이고, 알파상 결정립 크기가 25㎛ 이하일 수 있다.
본 발명에 따른 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법은, 미세한 결정립을 갖는 티타늄 박판을 제조할 수 있고, 공정 비용 및 공정 시간을 절감할 수 있는 이점이 있다.
또한, 본 발명에 따른 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법으로 제조된 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판은, 미세한 알파상 결정립 크기를 가지므로 기계적 특성이 우수한 장점이 있다.
도 1은 본 발명의 몇몇 실시형태에 따른 압연의 패스당 압하율과 종래의 패스당 압하율을 비교한 도이다.
도 2는 본 발명의 일부 실시형태에 따른 티타늄 합금 박판의 미세조직을 나타낸 도이다.
제1, 제2 및 제3 등의 용어들은 다양한 부분, 성분, 영역, 층 및/또는 섹션들을 설명하기 위해 사용되나 이들에 한정되지 않는다. 이들 용어들은 어느 부분, 성분, 영역, 층 또는 섹션을 다른 부분, 성분, 영역, 층 또는 섹션과 구별하기 위해서만 사용된다. 따라서, 이하에서 서술하는 제1 부분, 성분, 영역, 층 또는 섹션은 본 발명의 범위를 벗어나지 않는 범위 내에서 제2 부분, 성분, 영역, 층 또는 섹션으로 언급될 수 있다.
여기서 사용되는 전문 용어는 단지 특정 실시예를 언급하기 위한 것이며, 본 발명을 한정하는 것을 의도하지 않는다. 여기서 사용되는 단수 형태들은 문구들이 이와 명백히 반대의 의미를 나타내지 않는 한 복수 형태들도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함하는"의 의미는 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 성분을 구체화하며, 다른 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 성분의 존재나 부가를 제외시키는 것은 아니다.
어느 부분이 다른 부분의 "위에" 또는 "상에" 있다고 언급하는 경우, 이는 바로 다른 부분의 위에 또는 상에 있을 수 있거나 그 사이에 다른 부분이 수반될 수 있다. 대조적으로 어느 부분이 다른 부분의 "바로 위에" 있다고 언급하는 경우, 그 사이에 다른 부분이 개재되지 않는다.
다르게 정의하지는 않았지만, 여기에 사용되는 기술용어 및 과학용어를 포함하는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 일반적으로 이해하는 의미와 동일한 의미를 가진다. 보통 사용되는 사전에 정의된 용어들은 관련기술문헌과 현재 개시된 내용에 부합하는 의미를 가지는 것으로 추가 해석되고, 정의되지 않는 한 이상적이거나 매우 공식적인 의미로 해석되지 않는다.
<미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법>
본 발명의 한 양태는, 티타늄 슬라브를 850 내지 900℃의 온도에서 재가열하는 단계; 및 재가열된 상기 티타늄 슬라브를 열간 압연하는 단계;를 포함하는 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법에 있어서, 상기 티타늄 박판은 알파상 분율이 90% 이상이고, 알파상 결정립 크기가 25㎛ 이하인 것인 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 있어서, 상기 “티타늄 박판”은 “티타늄 합금 박판”을 포함할 수 있다.
요컨대, 본 발명에 따른 티타늄 박판은 순 티타늄 박판 및 티타늄 합금 박판을 일컬을 수 있다.
본 발명에 있어서 “미세 결정립”이란 결정립 크기가 25㎛ 이하인 결정립을 의미한다.
본 발명의 일 실시형태에 있어서, 상기 티타늄 슬라브는 중량%로, Al: 4.0~6.0%, V: 3.0~4.0%, N: 0.02% 이하, 잔부 Ti 및 0.5% 미만의 다른 원소 또는 기타 불가피한 불순물을 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 티타늄 슬라브는 티타늄 슬라브 팩일 수 있다. 구체적으로 본 발명에 따른 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법은, 티타늄 슬라브 팩을 이용한 것일 수 있다.
본 발명에 따른 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조 방법은 철강 후판 제조 설비를 활용할 수 있으며, 본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 티타늄 슬라브는 두께가 80mm 이상일 수 있으나 이에 한정되지는 않고, 당업계에서 통상적으로 사용되는 슬라브 팩을 사용할 수 있다.
구체적으로 본 발명은 철강 제조용 연속 후판 압연 설비를 이용하여 변형저항의 온도 의존성이 높은 티타늄 또는 티타늄 합금의 박판을 제조하는 것으로, 슬라브 팩을 재가열 및 압연하여 알파상 분율이 90% 이상이고, 알파상 결정립 크기가 25㎛ 이하인 미세 및 등축의 결정립을 갖는 압연 판재를 제조할 수 있는 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법을 제공한다.
본 발명에 따른 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법은, 티타늄 슬라브를 850 내지 900℃의 온도에서 재가열하는 단계를 포함한다.
바람직하게는 본 발명에 따른 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법은 850 내지 890℃의 온도, 더욱 바람직하게는 850 내지 870℃의 온도에서 재가열하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 재가열 온도가 상기 범위 내인 경우 후술할 열간압연하는 단계에서 상기 티타늄 슬라브에 균열이 발생하는 것을 억제할 수 있고, 등축 미세 구조를 갖는티타늄 박판을 얻을 수 있는 이점이 있다.
상기 재가열은 가열로에서 이루어질 수 있으나 이에 한정되지는 않는다.
본 발명에 따른 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법은, 재가열된 상기 티타늄 슬라브를 열간 압연하는 단계를 포함한다.
본 발명에 따른 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법은, 사전 베타 입자 크기를 갖는 라멜라 구조를 열간압연하여 등축의 입자들로 파괴함으로써 등축 미세 구조를 갖는 티타늄 박판을 제조한다.
이론에 의해 제한되는 것을 바라지는 않으나, 라멜라 미세구조는 높은 강도 및 파멸 강도(fracture toughness)를 나타내는 반면, 등축 미세구조는 우수한 연성 및 로우-사이클(low-cycle) 피로 하중(fitigue loading) 하의 균열 개시(crack initiation)에 대한 우수한 저항성을 갖는다. 따라서 본 발명에 따른 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법으로 제조된 티타늄 박판은 우수한 연성을 가지고 균열 개시에 대한 우수한 저항성을 갖는 이점이 있다.
본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 열간 압연하는 단계에서 압연 개시 온도는, 온도는 940℃ 이하, 보다 구체적으로 850 내지 940℃일 수 있다.
상기 압연 개시온도가 상기 범위 내인 경우 알파상 분율이 90% 이상이고, 결정립 크기가 25㎛ 이하인 미세한 등축의 알파상 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조가 용이하기 때문에 바람직하다.
본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 열간 압연하는 단계에서 압연 속도는 4.0m/s 이하, 보다 구체적으로 1.0m/s 내지 4.0m/s 범위일 수 있다.
압연 속도가 상기 범위를 만족하는 경우, 공정 비용을 절감할 수 있으면서도 미세한 등축 알파상 결정립이 전체적으로 형성된 티타늄 박판을 제조할 수 있기 때문에 바람직하다.
본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 열간 압연하는 단계에서 패스당 압하율은 9% 내지 20%일 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 1 내지 3 패스의 패스당 압하율이 13% 이상일 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 1 내지 3 패스의 압하율의 합이 40% 이상일 수 있다.
일반적인 티타늄 후판 생산 공정에서는 압연기를 이용하여 티타늄 후판 압연재를 생산하고, 생산된 티타늄 후판 압연재는 강도 향상을 위하여 냉각장치를 거치게 되며, 열간교정기를 통과하여 최종 제품인 티타늄 후판으로 제조된다.
구체적으로 가열로에서 일정 온도로 가열된 티타늄 후판은 폭내기 압연기를 통과하면서 수요자가 요구하는 폭으로 압연되며, 이러한 폭내기 압연기와 연속적으로 배치된 길이내기 압연기를 통과하면서 일정한 두께 및 길이로 가공된다. 이때 통상적인 패스당 압하율은 10% 내외이다.
반면, 본 발명에 따른 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조 방법은, 상기의 압하율, 특히 초기의 3 패스, 요컨대 상기 1 내지 3 패스의 압하율의 총합이 40% 이상인 것을 특징으로 하여 종래의 티타늄 박판의 제조방법에 비하여 결정립 크기가 더욱 미세한 티타늄 박판을 제조할 수 있는 이점이 있다.
본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 1 내지 3 패스의 압하율의 합이 40% 이상 및 48% 이하일 수 있다.
구체적으로 본 발명에 따른 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법은, 티타늄 슬라브 팩을 850 내지 900℃에서 재가열하고, 압연속도 1.0m/s 내지 4.0m/s, 패스당 압하율 9% 내지 20%의 조건으로 열간압연하되, 특히 초기 3패스의 압하율의 합이 40% 이상일 수 있으며, 이를 이용하여 미세한 알파상 등축 결정립이 전체적으로 발생되는 티타늄 박판을 제조할 수 있는 이점이 있다.
본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 열간 압연하는 단계에서 압연 종료 온도는 900℃ 이상, 보다 구체적으로 900℃ 내지 980℃ 범위일 수 있다.
압연 종료 온도가 상기 범위를 만족하는 경우, 미세한 등축 알파상 결정립이 전체적으로 형성될 수 있어 바람직하다.
본 발명에 따른 티타늄 박판의 미세 결정립은 열간압연 공정 후에 수득될 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 열간 압연된 상기 티타늄 슬라브를 냉각하는 단계;를 더 포함할 수 있다. 상기 열간 압연된 상기 티타늄 슬라브를 냉각하는 단계를 본 발명에서 한정하지는 않는다. 요컨대, 상기 티타늄 슬라브는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 통상적으로 수행되는 방법을 이용하여 냉각될 수 있다. 예컨대 상기 티타늄 슬라브는 실온의 정체 공기 내에서 냉각될 수 있으나 이에 한정되지는 않는다.
본 발명에 따른 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법은 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 추가의 열처리 공정 등을 더 포함할 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 예컨대 미세 및 등축의 입자 구조를 갖는 티타늄 박판을 얻은 후, 상기 티타늄 박판이 원하는 형상을 갖도록 추가의 열처리 공정 등이 가해질 수 있다.
<미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판>
본 발명의 다른 양태는, 알파상 분율이 90% 이상이고, 알파상 결정립 크기가 25㎛ 이하인 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판에 관한 것이다.
구체적으로 본 발명의 다른 양태는, 티타늄 슬라브를 850 내지 900℃의 온도에서 재가열하는 단계; 및 재가열된 상기 티타늄 슬라브를 열간 압연하는 단계;를 포함하는 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법에 있어서, 상기 티타늄 박판은 알파상 분율이 90% 이상이고, 알파상 결정립 크기가 25㎛ 이하인, 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법으로 제조된 티타늄 박판에 관한 것이다.
본 발명에 따른 티타늄 박판은, 철강 제조용 연속 후판압연 설비를 이용하여, 티타늄 슬라브 팩을 850 내지 900℃에서 재가열하고, 압연속도 1.0m/s 내지 4.0m/s, 패스당 압하율 9% 내지 20%의 조건으로 열간압연함으로써 알파상 결정립 크기가 25㎛ 이하인 미세 및 등축 결정립을 갖는 이점이 있다.
보다 구체적으로, 본 실시예에서, 상ㄱ 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 알파상 분율은 90% 내지 93%이고, 알파상 결정립 크기는 20㎛ 내지 23.5㎛ 범위일 수 있다. 본 발명에 따른 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판은 알파상이 90% 이상이기 때문에 인장강도 및 고주기피로 저항성이 향상되는 이점이 있다. 또한, 알파상 결정립의 크기가 25㎛ 이하이기 때문에 동일 연신율에서 고강도 특성 향상시킬 수 있으므로 매우 유리하다.
이하, 본 명세서를 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세히 설명한다. 그러나, 본 명세서에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 명세서의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되지는 않는다. 본 명세서의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 명세서를 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 또한, 이하에서 함유량을 나타내는 “%” 및 “부”는 특별히 언급하지 않는 한 중량 기준이다.
실시예 및 비교예
표 1에 본 발명에서 실시한 실시예 및 비교예를 나타내었다. 구체적으로 티타늄 박판을 제조하는 과정 중, 재가열 온도, 1 내지 3 패스의 압하율의 합의 조건(단, 압연속도 4m/s이하, 압연개시온도 900도 이하, 압연종료온도 700도 이상으로 동일함)을 나타내었고, 최종 제조된 티타늅 막판의 알파상 분율 및 알파상 결정립 크기를 나타내었다.
구분 재가열
온도(℃)		 pass 당 압하율 3pass
압하율의 합 (%)		 알파상 분율(%) 알파상
결정립 크기(㎛)
1(%) 2(%) 3(%)
비교예1 900 9 10 11 30 90.1 28.6
비교예2 940 12 13 15 40 91.0 34.7
비교예 3 940 16 16 18 50 91.2 34.2
실시예1 900 17 13 10 40 90.2 23.5
실시예2 890 17 15 10 42 90.0 22.7
실시예3 870 16 15 14 45 90.4 20.4
도 1은 실시예 1 및 비교예 1의 압연 조건을 예시적으로 나타낸 것이다. 구체적으로 원 모양의 패스당 압하율은 통상적으로 후판 압연에서 실시되는 조건이며, 사각형 모양의 패스당 압하율은 초기의 패스당 압하율이 13% 이상이면서, 1-3 패스의 압하율의 합이 40% 이상인 일 예를 나타내었다.
상기 표 1을 살펴보면, 비교예 1은 재가열 온도가 본원 발명의 조건을 만족하는 경우의 알파상 분율과 알파상 결정립 크기를 나타낸 것이다. 비교예 2는 초기 3 패스 압하율의 합이 본원 발명의 조건을 만족할 때의 알파상 분율과 알파상 결정립 크기를 나타낸 것이다. 비교예 1과 2 모두 알파상 분율은 90% 이상이지만 조대 알파상 결정립 크기를 형성한 것을 알 수 있다.
반면, 실시예 1 내지 3은 재가열 온도가 900℃ 이하, 초기 3패스 압하율의 합이 40% 이상으로서, 알파상 분율이 모두 90% 이상이고, 알파상 결정립 크기가 25㎛ 이하인 것을 알 수 있다. 슬라브 팩의 재가열 온도가 낮고 초기 3패스 압하율의 합이 클수록 알파상 결정립 크기가 작아진 것을 알 수 있다.
도 2는 실시예 3의 조건에 따라 제조된 티타늄 합금 박판의 미세조직을 나타낸 도이다.
본 발명에 따른 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법은, 철강 제조용 설비를 이용하여 티타늄 또는 티타늄 합금 박판의 제조 시, 슬라브 팩을 이용하고, 슬라브 팩의 재가열 온도와 패스당 압하율을 조절함에 따라 미세 및 등축 결정립을 용이하게 구현할 수 있는 이점이 있다.
또한, 본 발명에 따른 티타늄 박판의 제조방법으로 제조된 티타늄 박판은 미세 및 등축 결정립을 가져 우수한 연성을 가지고 균열 개시에 대한 우수한 저항성을 가지는 이점이 있다.

Claims (13)

  1. 티타늄 슬라브를 850 내지 900℃의 온도에서 가열하는 단계; 및
    상기 가열된 티타늄 슬라브를 열간 압연하는 단계;를 포함하고,
    상기 열간 압연하는 단계에서,
    압연 공정은 1 패스 내지 3패스로 수행되고,
    상기 1 패스 내지 3 패스의 압하율의 합이 40% 이상인 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 열간 압연하는 단계에서 압연 개시 온도는 940℃ 이하인 것인 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 열간 압연하는 단계에서 압연 속도는 4.0m/s 이하인 것인 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 열간 압연하는 단계에서 각 패스당 압하율은 9% 내지 20%인 것인 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 열간 압연하는 단계에서 각 패스당 압하율이 13% 이상인 것인 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 1 패스 내지 3 패스의 압하율의 합이 40% 이상 및 48% 이하인 것인 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법.
  7. 제2항에 있어서,
    상기 열간 압연하는 단계에서 압연 종료 온도는 900℃ 이상인 것인 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 티타늄 슬라브는 중량%로, Al: 4.0~6.0%, V: 3.0~4.0%, N: 0.02%, 잔부 Ti 및 0.5% 미만의 다른 원소 또는 기타 불가피한 불순물을 포함하는 것인 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 티타늄 슬라브는 티타늄 슬라브 팩인 것인 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 티타늄 슬라브는 두께가 80mm 이상인 것인 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법.
  11. 제1항에 있어서,
    열간 압연된 상기 티타늄 슬라브를 냉각하는 단계;를 더 포함하는 것인 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판의 제조방법.
  12. 제1항에 따라 제조된 것으로,
    알파상 분율이 90% 이상이고, 알파상 결정립 크기가 25㎛ 이하인 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 알파상 분율은 90% 내지 93%이고,
    알파상 결정립 크기는 20㎛ 내지 23.5㎛ 범위인 미세 및 등축 결정립을 갖는 티타늄 박판.
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