KR20230058663A - 화합물 - Google Patents

화합물 Download PDF

Info

Publication number
KR20230058663A
KR20230058663A KR1020237010260A KR20237010260A KR20230058663A KR 20230058663 A KR20230058663 A KR 20230058663A KR 1020237010260 A KR1020237010260 A KR 1020237010260A KR 20237010260 A KR20237010260 A KR 20237010260A KR 20230058663 A KR20230058663 A KR 20230058663A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
formula
substituent
meth
carbon atoms
Prior art date
Application number
KR1020237010260A
Other languages
English (en)
Inventor
다쿠마 아오키
도모히로 나카야마
데츠오 아카사카
다카히로 구로기
Original Assignee
스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 filed Critical 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
Publication of KR20230058663A publication Critical patent/KR20230058663A/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/547Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
    • C07F9/6596Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having atoms other than oxygen, sulfur, selenium, tellurium, nitrogen or phosphorus as ring hetero atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/46Phosphinous acids [R2POH], [R2P(= O)H]: Thiophosphinous acids including[R2PSH]; [R2P(=S)H]; Aminophosphines [R2PNH2]; Derivatives thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/30Phosphinic acids [R2P(=O)(OH)]; Thiophosphinic acids ; [R2P(=X1)(X2H) (X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F19/00Metal compounds according to more than one of main groups C07F1/00 - C07F17/00
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/06Phosphorus compounds without P—C bonds
    • C07F9/16Esters of thiophosphoric acids or thiophosphorous acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/49Phosphorus-containing compounds
    • C08K5/5398Phosphorus bound to sulfur
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B47/00Porphines; Azaporphines
    • C09B47/04Phthalocyanines abbreviation: Pc
    • C09B47/08Preparation from other phthalocyanine compounds, e.g. cobaltphthalocyanineamine complex
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B67/00Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
    • C09B67/006Preparation of organic pigments
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/41Organic pigments; Organic dyes
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/22Absorbing filters
    • G02B5/223Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

본 발명은, 포스트 베이크 전후에서의 색차를 작게 할 수 있는 신규 화합물을 제공한다. 식 (I)또는 식 (Ⅱ)로 나타내어지는 화합물. [식 (I)중, Y1 및 Z1은, 각각 독립적으로, 산소 원자 또는 유황 원자를 나타낸다. Z2 및 Z3은, 각각 독립적으로, 단결합, 산소 원자 또는 유황 원자를 나타낸다. 단, Y1, Z1, Z2 및 Z3 중 적어도 1개는 유황 원자를 나타낸다. 식 (II)중, Y2 및 Z4는, 각각 독립적으로, 산소 원자 또는 유황 원자를 나타낸다. Z5는, 단결합, 산소 원자 또는 유황 원자를 나타낸다. 단, Y2, Z4 및 Z5 중 적어도 1개는 유황 원자를 나타낸다.]

Description

화합물
본 발명은, 화합물, 착색 수지 조성물, 컬러 필터 및 표시 장치에 관한 것이다.
액정 표시 장치, 일렉트로 루미네선스 표시 장치 및 플라즈마 디스플레이 등의 표시 장치나 CCD나 CMOS 센서 등의 고체 촬상 소자에 사용되는 광학 필터는, 착색 수지 조성물로부터 제조된다. 이러한 착색 수지 조성물용의 착색제로서, 알루미늄 프탈로시아닌 안료가 알려져 있다. 특허문헌 1에는, 착색제로서 특정의 구조를 가지는 알루미늄 프탈로시아닌 안료에 의해, 컬러 필터에 사용하였을 때에 고명도이면서, NMP(N-메틸피롤리돈) 내성 뿐만 아니라, 현상성, 도막의 평탄성에도 우수한 컬러 필터용 착색 조성물 등이 제공되는 것이 기재되어 있다.
일본국 공개특허 특개2016-75837호 공보
그런데 특허문헌 1에 기재되는 알루미늄 프탈로시아닌 안료는 포스트 베이크 전후에서의 색차가 커지는 경우가 있었다. 그래서 본 발명은, 포스트 베이크 전후에서의 색차를 작게 할 수 있는 신규 화합물을 제공한다.
본 발명은, 이하의 발명을 포함한다.
[1] 식 (I)또는 식 (Ⅱ)로 나타내어지는 화합물.
[화학식 1]
Figure pct00001
[화학식 2]
Figure pct00002
[식 (I)중,
R1은, 수소 원자 또는 치환기를 가져도 되는 탄소수 1~20의 탄화수소기를 나타낸다.
R2는, 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1~20의 탄화수소기 또는 Z3과 R1을 연결하는 단결합을 나타낸다.
Y1 및 Z1은, 각각 독립적으로, 산소 원자 또는 유황 원자를 나타낸다.
Z2 및 Z3은, 각각 독립적으로, 단결합, 산소 원자 또는 유황 원자를 나타낸다.
단, Y1, Z1, Z2 및 Z3 중 적어도 1개는 유황 원자를 나타낸다.
X1~X4는, 각각 독립적으로, -R4, -OR4, -SR4, 할로겐 원자, 니트로기 또는 치환기를 가져도 되는 술파모일기를 나타낸다.
R4는, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~20의 탄화수소기를 나타낸다.
n1~n4는, 각각 독립적으로, 0~4의 정수를 나타낸다.
식 (II)중,
R3은, 수소 원자 또는 치환기를 가져도 되는 탄소수 1~20의 탄화수소기를 나타낸다.
Y2 및 Z4는, 각각 독립적으로, 산소 원자 또는 유황 원자를 나타낸다.
Z5는, 단결합, 산소 원자 또는 유황 원자를 나타낸다.
단, Y2, Z4 및 Z5 중 적어도 1개는 유황 원자를 나타낸다.
X5~X12는, 각각 독립적으로, -R5, -OR5, -SR5, 할로겐 원자, 니트로기 또는 치환기를 가져도 되는 술파모일기를 나타낸다.
R5는, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~20의 탄화수소기를 나타낸다.
n5~n12는, 각각 독립적으로, 0~4의 정수를 나타낸다.]
[2] [1]에 기재된 화합물과 수지를 포함하는 착색 수지 조성물.
[3] 중합성 화합물과 중합 개시제를 포함하는 [2]에 기재된 착색 수지 조성물.
[4] [2] 또는 [3]에 기재된 착색 수지 조성물로부터 형성되는 컬러 필터.
[5] [4]에 기재된 컬러 필터를 포함하는 표시 장치.
본 발명에 관련되는 신규 화합물에 의하면, 당해 신규 화합물을 포함하는 착색 수지 조성물로부터 형성되는 컬러 필터에 있어서, 포스트 베이크 전후에서의 색차를 작게 할 수 있다.
<<화합물>>
이하, 식 (I)또는 식 (Ⅱ)로 나타내어지는 화합물의 부분 구조를 들어서 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다. 본 발명에 관련되는 식 (I)또는 식 (Ⅱ)로 나타내어지는 신규 화합물에 의하면, 당해 신규 화합물을 포함하는 착색 수지 조성물로부터 형성되는 컬러 필터에 있어서, 포스트 베이크 전후에서의 색차를 작게 할 수 있다. 추가로, 본 발명의 일 양태에서는, 당해 신규 화합물을 포함하는 착색 수지 조성물로부터 형성되는 컬러 필터에 있어서, 포스트 베이크 전후에서의 500㎚~650㎚에 있어서의 투과율의 변화를 작게 할 수 있다. 또한, 식 (Ⅰ)로 나타내어지는 화합물에는, 식 (Ia)로 나타내어지는 공명 구조를 가지는 화합물, 또는 식 (Ib)로 나타내어지는 평형 관계에 있는 화합물이 포함되고, 식 (Ⅱ)로 나타내어지는 화합물에는, 식 (IIa)로 나타내어지는 공명 구조를 가지는 화합물, 또는 식 (IIb)로 나타내어지는 평형 관계에 있는 화합물이 포함된다.
[화학식 3]
Figure pct00003
[화학식 4]
Figure pct00004
[식 (Ⅰ), 식 (Ia) 및 식 (Ib) 중,
R1은, 수소 원자 또는 치환기를 가져도 되는 탄소수 1~20의 탄화수소기를 나타낸다.
R2는, 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1~20의 탄화수소기 또는 Z3과 R1을 연결하는 단결합을 나타낸다.
Y1 및 Z1은, 각각 독립적으로, 산소 원자 또는 유황 원자를 나타낸다.
Z2 및 Z3은, 각각 독립적으로, 단결합, 산소 원자 또는 유황 원자를 나타낸다.
단, Y1, Z1, Z2 및 Z3 중 적어도 1개는 유황 원자를 나타낸다.
X1~X4는, 각각 독립적으로, -R4, -OR4, -SR4, 할로겐 원자, 니트로기 또는 치환기를 가져도 되는 술파모일기를 나타낸다.
R4는, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~20의 탄화수소기를 나타낸다.
n1~n4는, 각각 독립적으로, 0~4의 정수를 나타낸다.
식 (Ⅱ), 식 (IIa) 및 식 (IIb) 중,
R3은, 수소 원자 또는 치환기를 가져도 되는 탄소수 1~20의 탄화수소기를 나타낸다.
Y2 및 Z4는, 각각 독립적으로, 산소 원자 또는 유황 원자를 나타낸다.
Z5는, 단결합, 산소 원자 또는 유황 원자를 나타낸다.
단, Y2, Z4 및 Z5 중 적어도 1개는 유황 원자를 나타낸다.
X5~X12는, 각각 독립적으로, -R5, -OR5, -SR5, 할로겐 원자, 니트로기 또는 치환기를 가져도 되는 술파모일기를 나타낸다.
R5는, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~20의 탄화수소기를 나타낸다.
n5~n12는, 각각 독립적으로, 0~4의 정수를 나타낸다.]
R1~R5로 나타내어지는 탄소수 1~20의 탄화수소기는, 지방족 탄화수소기 및 방향족 탄화수소기여도 되고, 당해 지방족 탄화수소기는, 포화 또는 불포화여도 되고, 쇄상(鎖狀) 또는 환상(環狀)(지환식 탄화수소기)이어도 된다.
R1~R5로 나타내어지는 포화 또는 불포화 쇄상 탄화수소기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 트리데실기, 테트라데실기, 펜타데실기, 헥사데실기, 헵타데실기, 옥타데실기, 노나데실기, 및 이코실기 등의 직쇄상(直鎖狀) 알킬기;
이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 2-에틸부틸기, 3,3-디메틸부틸기, 1,1,3,3-테트라메틸부틸기, 1-메틸부틸기, 1-에틸프로필기, 3-메틸부틸기, 네오펜틸기, 1,1-디메틸프로필기, 2-메틸펜틸기, 3-에틸펜틸기, 1,3-디메틸부틸기, 2-프로필펜틸기, 1-에틸-1,2-디메틸프로필기, 1-메틸펜틸기, 4-메틸펜틸기, 4-메틸헥실기, 5-메틸헥실기, 2-에틸헥실기, 1-메틸헥실기, 1-에틸펜틸기, 1-프로필부틸기, 3-에틸헵틸기, 2,2-디메틸헵틸기, 1-메틸헵틸기, 1-에틸헥실기, 1-프로필펜틸기, 1-메틸옥틸기, 1-에틸헵틸기, 1-프로필헥실기, 1-부틸펜틸기, 1-메틸노닐기, 1-에틸옥틸기, 1-프로필헵틸기 및 1-부틸헥실기 등의 분지쇄상(分枝鎖狀) 알킬기;
에테닐기(비닐기), 프로페닐기(예를 들면, 1-프로페닐기, 2-프로페닐기(알릴기)), 1-메틸에테닐기, 부테닐기(예를 들면, 1-부테닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기), 3-메틸-1-부테닐기, 1-메틸-1-부테닐기, 3-메틸-2-부테닐기, 1,3-부타디에닐기, 3-메틸-1,2-부타디에닐기, 1-(2-프로페닐)에테닐기, 1-(1-메틸에테닐)에테닐기, 1,1-디메틸-2-프로페닐기, 1,2-디메틸-1-프로페닐기, 1-에틸-2-프로페닐기, 펜테닐기(예를 들면, 1-펜테닐기, 2-펜테닐기, 3-펜테닐기, 4-펜테닐기), 1-(1,1-디메틸에틸)에테닐기, 1,3-디메틸-1-부테닐기, 헥세닐기(예를 들면, 1-헥세닐기, 5-헥세닐기), 헵테닐기(예를 들면, 1-헵테닐기, 6-헵테닐기), 옥테닐기(예를 들면, 1-옥테닐기, 7-옥테닐기), 노네닐기(예를 들면, 1-노네닐기, 8-노네닐기), 데세닐기(예를 들면, 1-데세닐기, 9-데세닐기), 운데세닐기, 도데세닐기, 트리데세닐기, 테트라데세닐기, 펜타데세닐기, 헥사데세닐기, 헵타데세닐기, 옥타데세닐기, 노나데세닐기, 이코세닐기 등의 알케닐기;
에티닐기, 프로피닐기(예를 들면, 1-프로피닐기, 2-프로피닐기), 부티닐기(예를 들면, 1-부티닐기, 2-부티닐기, 3-부티닐기), 펜티닐기, 헥시닐기, 헵티닐기, 옥티닐기(예를 들면, 1-옥티닐기, 7-옥티닐기), 노니닐기, 데시닐기, 운데시닐기, 도데시닐기, 트리데시닐기, 테트라데시닐기, 펜타데시닐기, 헥사데시닐기, 헵타데시닐기, 옥타데시닐기, 노나데시닐기 및 이코시닐기 등의 알키닐기;
등을 들 수 있다.
R1~R5로 나타내어지는 포화 쇄상 탄화수소기(즉, 직쇄상 알킬기, 분지쇄상 알킬기)의 탄소수는, 바람직하게는 1~10이며, 보다 바람직하게는 1~7이며, 더 바람직하게는 1~5이다.
R1~R5로 나타내어지는 불포화 쇄상 탄화수소기(즉, 알케닐기, 알키닐기)의 탄소수는, 바람직하게는 2~10이며, 보다 바람직하게는 2~7이며, 더 바람직하게는 2~5이다.
R1~R5로 나타내어지는 포화 또는 불포화 지환식 탄화수소기로서는, 시클로프로필기, 1-메틸시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 1-메틸시클로헥실기, 2-메틸시클로헥실기, 3-메틸시클로헥실기, 4-메틸시클로헥실기, 1,2-디메틸시클로헥실기, 1,3-디메틸시클로헥실기, 1,4-디메틸시클로헥실기, 2,3-디메틸시클로헥실기, 2,4-디메틸시클로헥실기, 2,5-디메틸시클로헥실기, 2,6-디메틸시클로헥실기, 3,4-디메틸시클로헥실기, 3,5-디메틸시클로헥실기, 2,2-디메틸시클로헥실기, 3,3-디메틸시클로헥실기, 4,4-디메틸시클로헥실기, 시클로옥틸기, 2,4,6-트리메틸시클로헥실기, 2,2,6,6-테트라메틸시클로헥실기, 3,3,5,5-테트라메틸시클로헥실기, 4-펜틸시클로헥실기, 4-옥틸시클로헥실기 및 4-시클로헥실시클로헥실기 등의 시클로알킬기;
시클로헥세닐기(예를 들면, 시클로헥사-1-엔-1-일기, 시클로헥사-2-엔-1-일기, 시클로헥사-3-엔-1-일기), 시클로헵테닐기 및 시클로옥테닐기 등의 시클로알케닐기;
노르보르닐기, 노르보르네닐기, 아다만틸기 및 비시클로[2.2.2]옥틸기 등의 포화 또는 불포화 다환식(多環式) 탄화수소기;
등을 들 수 있다.
R1~R5로 나타내어지는 포화 또는 불포화 지환식 탄화수소기의 탄소수는, 바람직하게는 3~10이다.
R1~R5로 나타내어지는 방향족 탄화수소기로서는, 페닐기, o-톨릴기, m-톨릴기, p-톨릴기, 2-에틸페닐기, 3-에틸페닐기, 4-에틸페닐기, 2,3-디메틸페닐기, 2,4-디메틸페닐기, 2,5-디메틸페닐기, 2,6-디메틸페닐기, 3,4-디메틸페닐기, 3,5-디메틸페닐기, 4-비닐페닐기, o-이소프로필페닐기, m-이소프로필페닐기, p-이소프로필페닐기, o-tert-부틸페닐기, m-tert-부틸페닐기, p-tert-부틸페닐기, 3,5-디(tert-부틸)페닐기, 3,5-디(tert-부틸)-4-메틸페닐기, 4-부틸페닐기, 4-펜틸페닐기, 2,6-비스(1-메틸에틸)페닐기, 2,4,6-트리스(1-메틸에틸)페닐기, 4-시클로헥실페닐기, 2,4,6-트리메틸페닐기, 4-옥틸페닐기, 4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기, 6-메틸-2-나프틸기, 5,6,7,8-테트라히드로-1-나프틸기, 5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸기, 플루오레닐기, 페난트릴기, 안트릴기, 2-도데실페닐기, 3-도데실페닐기, 4-도데실페닐기, 페릴레닐기, 크리세닐기 및 피레닐기 등의 방향족 탄화수소기; 등을 들 수 있다.
R1~R5로 나타내어지는 방향족 탄화수소기의 탄소수는, 바람직하게는 6~20이며, 보다 바람직하게는 6~10이며, 더 바람직하게는 6~8이다.
R1~R5로 나타내어지는 탄화수소기는, 상기에 든 탄화수소기(예를 들면, 방향족 탄화수소기와, 쇄상 탄화수소기 및 지환식 탄화수소기의 적어도 1개)를 조합시킨 기여도 되고,
벤질기, (2-메틸페닐)메틸기, (3-메틸페닐)메틸기, (4-메틸페닐)메틸기, (2-에틸페닐)메틸기, (3-에틸페닐)메틸기, (4-에틸페닐)메틸기, (2-(tert-부틸)페닐)메틸기, (3-(tert-부틸)페닐)메틸기, (4-(tert-부틸)페닐)메틸기, (3,5-디메틸페닐)메틸기, 1-페닐에틸기, 1-메틸-1-페닐에틸기, 1,1-디페닐에틸기, (1-나프틸)메틸기 및 (2-나프틸)메틸기 등의 아랄킬기;
1-페닐에테닐기, 2-페닐에테닐기(페닐비닐기), 2,2-디페닐에테닐기, 2-페닐-2-(1-나프틸)에테닐기 등의 아릴알케닐기;
페닐에티닐기 등의 아릴알키닐기;
비페닐릴기, 터페닐릴기 등의 1개 이상의 페닐기가 결합한 페닐기;
시클로헥실메틸페닐기, 벤질페닐기, (디메틸(페닐)메틸)페닐기 등을 들 수 있다.
이들의 탄소수는, 바람직하게는 7~18이며, 보다 바람직하게는 7~15이다.
R1~R5로 나타내어지는 기는, 상기에 든 탄화수소기(예를 들면 쇄상 탄화수소기와 지환식 탄화수소기)를 조합시킨 기로서, 예를 들면, 시클로프로필메틸기, 시클로프로필에틸기, 시클로부틸메틸기, 시클로부틸에틸기, 시클로펜틸메틸기, 시클로펜틸에틸기, 시클로헥실메틸기, (2-메틸시클로헥실)메틸기, 시클로헥실에틸기, 아다만틸메틸기 등의 1개 이상의 지환식 탄화수소기가 결합한 알킬기여도 된다.
이들의 탄소수는, 바람직하게는 4~15이며, 보다 바람직하게는 4~10이다.
R1~R5로 나타내어지는 탄소수 1~20의 탄화수소기는 치환기를 가지고 있어도 된다.
R1~R5로 나타내어지는 탄소수 1~20의 탄화수소기의 치환기로서는, 치환기를 가지고 있어도 되는 복소환기, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, -ORa1, -CO2Ra1, -SRa1, -SO2Ra1, -SO3Ra1, -SO2NRa1Ra2 및 -NRa1Ra2 등을 들 수 있다.
여기서, Ra1 및 Ra2는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 탄화수소기를 나타낸다. Ra1 및 Ra2로 나타내어지는 탄소수 1~20의 탄화수소기는, 상기 서술의 R1~R5로 나타내어지는 탄소수 1~20의 탄화수소기와 같다.
R1~R5로 나타내어지는 탄소수 1~20의 탄화수소기의 치환기로서 이용되는 복소환기는, 단환(單環)이어도 되고 다환이어도 되고, 바람직하게는 고리의 구성 요소로서 헤테로 원자를 포함하는 복소환이다. 헤테로 원자로서는, 질소 원자, 산소 원자 및 유황 원자 등을 들 수 있다.
질소 원자만을 헤테로 원자로서 포함하는 복소환으로서는, 아지리딘, 아제티딘, 피롤리딘, 피페리딘, 피페라진 등의 단환계 포화 복소환; 피롤, 피라졸, 이미다졸, 1,2,3-트리아졸, 1,2,4-트리아졸 등의 5원환계 불포화 복소환; 피리딘, 피리다진, 피리미딘, 피라진, 1,3,5-트리아진 등의 6원환계 불포화 복소환; 인다졸, 인돌린, 이소인돌린, 이소인돌린-1,3-디온, 인돌, 인돌리진, 벤조이미다졸, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴녹살린, 퀴나졸린, 신놀린, 프탈라진, 나프티리딘, 푸린, 프테리딘, 벤조피라졸, 벤조피페리딘 등의 축합 2환계 복소환; 카르바졸, 아크리딘, 페나진 등의 축합 3환계 복소환; 등을 들 수 있다.
산소 원자만을 헤테로 원자로서 포함하는 복소환으로서는, 옥시란, 옥세탄, 테트라히드로푸란, 테트라히드로피란, 1,3-디옥산, 1,4-디옥산 등의 단환계 포화 복소환; 1,4-디옥사스피로[4.5]데칸, 1,4-디옥사스피로[4.5]노난 등의 2환계 포화 복소환; α-아세토락톤, β-프로피오락톤, γ-부티로락톤, δ-발레로락톤 등의 락톤계 복소환; 푸란 등의 5원환계 불포화 복소환; 2H-피란, 4H-피란 등의 6원환계 불포화 복소환; 1-벤조푸란, 벤조피란, 벤조디옥솔, 크로만, 이소크로만 등의 축합 2환계 복소환; 크산텐, 디벤조푸란 등의 축합 3환계 복소환; 등을 들 수 있다.
유황 원자만을 헤테로 원자로서 포함하는 복소환으로서는, 디티올란 등의 5원환계 포화 복소환; 티안, 1,3-디티안 등의 6원환계 포화 복소환; 티오펜 등의 5원환계 불포화 복소환; 4H-티오피란 등의 6원환계 불포화 복소환; 벤조테트라히드로티오피란 등의 벤조티오피란, 벤조티오펜 등의 축합 2환계 복소환 등; 티안트렌, 디벤조티오펜 등의 축합 3환계 복소환; 등을 들 수 있다.
질소 원자 및 산소 원자를 헤테로 원자로서 포함하는 복소환으로서는, 모르폴린, 2-피롤리돈, 2-피페리돈 등의 단환계 포화 복소환; 옥사졸, 이소옥사졸 등의 단환계 불포화 복소환; 벤조옥사졸, 벤조이소옥사졸, 벤조옥사진, 벤조디옥산, 벤조이미다졸린 등의 축합 2환계 복소환; 페녹사진 등의 축합 3환계 복소환; 등을 들 수 있다.
질소 원자 및 유황 원자를 헤테로 원자로서 포함하는 복소환으로서는, 티아졸 등의 단환계 복소환; 벤조티아졸 등의 축합 2환계 복소환; 페노티아진 등의 축합 3환계 복소환; 등을 들 수 있다.
당해 복소환기의 탄소수는, 바람직하게는 2~30이며, 보다 바람직하게는 3~22이며, 더 바람직하게는 3~20이다.
당해 복소환기는 치환기를 가지고 있어도 되고, 치환기로서는, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, -ORa1, -CO2Ra1, -SRa1, -SO2Ra1, -SO3Ra1, -SO2NRa1Ra2 및 -NRa1Ra2 등을 들 수 있다(단, Ra1 및 Ra2는 상기와 같다).
또한, 당해 복소환의 결합 위치는, 각 고리에 포함되는 임의의 수소 원자가 탈리(脫離)한 부분이다.
R1~R5로 나타내어지는 탄소수 1~20의 탄화수소기의 치환기로서 이용되는 할로겐 원자는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자 등이 예시된다.
R2가 Z3과 R1을 연결하는 단결합일 때, R1은 치환기를 가져도 되는 탄소수 1~20의 탄화수소기이며, R1의 일부 또는 전부가 *-Z3-P(= Z1)-Z2-*(*는 결합손을 나타낸다)와 일체로 되어서 고리가 형성된다. 즉, R2가 Z3과 R1을 연결하는 단결합일 때, R1로 나타내어지는 치환기를 가져도 되는 탄소수 1~20의 탄화수소기 중의 임의의 탄소 원자와 Z3의 사이에서, 한 쌍의 전자가 공유되어서 이루어지는 결합이 R2로 나타내어지는 단결합에 상당한다.
X1~X12로 나타내어지는 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자 등을 들 수 있고, 불소 원자가 바람직하다.
X1~X12로 나타내어지는 술파모일기는, *-SO2-NH2(*는 결합손을 의미한다)로 나타내어진다.
X1~X12로 나타내어지는 술파모일기는 치환기를 가지고 있어도 된다. X1~X12로 나타내어지는 술파모일기의 치환기로서는, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 복소환기, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, -ORa1, -CO2Ra1, -SRa1, -SO2Ra1, -SO3Ra1, -SO2NRa1Ra2 및 -NRa1Ra2 등을 들 수 있다(단, Ra1 및 Ra2는 상기와 같다). 또한, X1~X12로 나타내어지는 술파모일기의 치환기로서 이용되는, 치환기를 가지고 있어도 되는 복소환기 및 할로겐 원자로서는, R1~R5로 나타내어지는 탄소수 1~20의 탄화수소기의 치환기로서 이용되는, 치환기를 가지고 있어도 되는 복소환기 및 할로겐 원자로 마찬가지의 것을 들 수 있고, 그 바람직한 양태도 마찬가지이다.
X1~X12로 나타내어지는 술파모일기의 치환기로서 이용되는 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소기로서는,
페닐기, o-톨릴기, m-톨릴기, p-톨릴기, 2-에틸페닐기, 3-에틸페닐기, 4-에틸페닐기, 2,3-디메틸페닐기, 2,4-디메틸페닐기, 2,5-디메틸페닐기, 2,6-디메틸페닐기, 3,4-디메틸페닐기, 3,5-디메틸페닐기, 4-비닐페닐기, o-이소프로필페닐기, m-이소프로필페닐기, p-이소프로필페닐기, o-tert-부틸페닐기, m-tert-부틸페닐기, p-tert-부틸페닐기, 3,5-디(tert-부틸)페닐기, 3,5-디(tert-부틸)-4-메틸페닐기, 4-부틸페닐기, 4-펜틸페닐기, 2,6-비스(1-메틸에틸)페닐기, 2,4,6-트리스(1-메틸에틸)페닐기, 4-시클로헥실페닐기, 2,4,6-트리메틸페닐기, 4-옥틸페닐기, 4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기, 6-메틸-2-나프틸기, 5,6,7,8-테트라히드로-1-나프틸기, 5,6,7,8-테트라히드로-2-나프틸기, 플루오레닐기, 페난트릴기, 안트릴기, 2-도데실페닐기, 3-도데실페닐기, 4-도데실페닐기, 페릴레닐기, 크리세닐기 및 피레닐기 등의 방향족 탄화수소기; 등을 들 수 있다.
당해 방향족 탄화수소기의 탄소수는, 바람직하게는 6~10이며, 보다 바람직하게는 6~8이다.
당해 방향족 탄화수소기는 치환기를 가지고 있어도 되고, 치환기로서는, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, -ORa1, -CO2Ra1, -SRa1, -SO2Ra1, -SO3Ra1, -SO2NRa1Ra2 및 -NRa1Ra2 등을 들 수 있다(단, Ra1 및 Ra2는 상기와 같다).
X1~X4로 나타내어지는 -R4 및 X5~X12로 나타내어지는 -R5는, 탄소수 1~20의 지방족 탄화수소기가 바람직하고, 탄소수 1~20의 포화 쇄상 탄화수소기가 보다 바람직하고, 탄소수 1~10의 포화 쇄상 탄화수소기가 더 바람직하고, 탄소수 1~5의 분지쇄상 알킬기가 보다 더 바람직하고, tert-부틸기가 특히 바람직하다.
식 (Ⅰ)에 있어서,
R1은,
치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소기가 바람직하고,
치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~10의 방향족 탄화수소기가 보다 바람직하고,
치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~8의 방향족 탄화수소기가 더 바람직하고,
치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기가 특히 바람직하다.
R2는,
치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 2~20의 불포화 탄화수소기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소기가 바람직하고,
치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 2~10의 불포화 쇄상 탄화수소기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~10의 방향족 탄화수소기가 보다 바람직하고,
치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 2~7의 불포화 쇄상 탄화수소기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~8의 방향족 탄화수소기가 더 바람직하고,
치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 2~7의 알케닐기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~8의 방향족 탄화수소기가 보다 더 바람직하고,
치환기를 가지고 있어도 되는 에테닐기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기가 특히 바람직하다.
n1~n4는, 각각 독립적으로, 바람직하게는 0~2, 보다 바람직하게는 0~1, 더 바람직하게는 0이다.
X1~X4는, 각각 독립적으로, -R4 또는 할로겐 원자가 바람직하다.
Y1, Z1, Z2 및 Z3 중 적어도 1개는 유황 원자를 나타내고, Y1이 유황 원자이며 Z1이 산소 원자인 양태, Y1이 산소 원자이며 Z1이 유황 원자인 양태 및 Z2와 Z3이 유황 원자인 양태 중 적어도 1개의 양태를 만족하는 것이 바람직하다. 단, R2가 불포화 탄화수소기인 경우에는, Z2 및 Z3은 단결합인 것이 바람직하다.
Y1이 유황 원자이고 Z1이 산소 원자인 경우, 및 Y1이 산소 원자이고 Z1이 유황 원자인 경우에는, Z2가 단결합, 산소 원자 또는 유황 원자이며, Z3이 단결합, 산소 원자 또는 유황 원자이며, R1이 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소기이며, R2가 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소기이거나, Z2가 단결합이며, Z3이 단결합이며, R1이 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소기이며, R2가 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 2~20의 불포화 탄화수소기인 것이 바람직하고, Z2가 단결합이며, Z3이 단결합이며, R1이 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~8의 방향족 탄화수소기이며, R2가 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~8의 방향족 탄화수소기이거나, Z2가 단결합이며, Z3이 단결합이며, R1이 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~8의 방향족 탄화수소기이며, R2가 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 2~7의 불포화 탄화수소기인 것이 보다 바람직하다.
Z2 및 Z3이 유황 원자인 경우, Y1이 산소 원자 또는 유황 원자이며, Z1이 산소 원자 또는 유황 원자이며, R1이 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소기이며, R2가 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소기인 것이 바람직하고, Y1이 산소 원자이며, Z1이 산소 원자이며, R1이 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~8의 방향족 탄화수소기이며, R2가 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~8의 방향족 탄화수소기인 것이 보다 바람직하다.
식 (Ⅱ)에 있어서,
R3은,
치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 2~20의 불포화 탄화수소기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소기가 바람직하고,
치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 2~10의 불포화 쇄상 탄화수소기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~10의 방향족 탄화수소기가 보다 바람직하고,
치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 2~7의 불포화 쇄상 탄화수소기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~8의 방향족 탄화수소기가 더 바람직하고,
치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 2~7의 알케닐기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~8의 방향족 탄화수소기가 보다 더 바람직하고,
치환기를 가지고 있어도 되는 에테닐기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기가 특히 바람직하다.
n5~n12는, 각각 독립적으로, 바람직하게는 0~2, 보다 바람직하게는 0~1, 더 바람직하게는 0이다.
X5~X12는, 각각 독립적으로, -R5 또는 할로겐 원자가 바람직하다.
Y2, Z4 및 Z5 중 적어도 1개는 유황 원자를 나타낸다. 단, R3이 불포화 탄화수소기인 경우에는, Z5는 단결합인 것이 바람직하다.
Y2가 유황 원자이고 Z4가 산소 원자인 경우, 및 Y2가 산소 원자이고 Z4가 유황 원자인 경우에는, Z5가 단결합 또는 산소 원자이며, R3이 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소기이거나, Z5가 단결합이며, R3이 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 2~20의 불포화 탄화수소기인 것이 바람직하고, Z5가 단결합이며, R3이 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~8의 방향족 탄화수소기이거나, Z5가 단결합이며, R3이 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 2~7의 불포화 탄화수소기인 것이 보다 바람직하다.
Y2가 산소 원자이고 Z4가 유황 원자인 경우, 및 Y2 및 Z4가 유황 원자인 경우에는, Z5가 단결합 또는 산소 원자이며, R3이 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소기이거나, Z5가 단결합이며, R3이 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 2~20의 불포화 탄화수소기인 것이 바람직하고, Z5가 단결합이며, R3이 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~8의 방향족 탄화수소기이거나, Z5가 단결합이며, R3이 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 2~7의 불포화 탄화수소기인 것이 보다 바람직하고, Z5가 단결합이며, R3이 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 2~7의 불포화 탄화수소기인 것이 더 바람직하다.
식 (Ⅰ)로 나타내어지는 화합물로서는, 식 (IA)~식 (IE)로 나타내어지는 화합물을 들 수 있다.
[화학식 5]
Figure pct00005
[화학식 6]
Figure pct00006
[화학식 7]
Figure pct00007
[화학식 8]
Figure pct00008
[화학식 9]
Figure pct00009
[식 (IA)~식 (IE) 중, R1, R2, Y1, Z1, Z2 및 Z3은, 상기와 같다.]
식 (IA)로 나타내어지는 화합물로서는, 예를 들면, 표 1에 나타내는 식 (IA-1)~식 (IA-24)로 나타내어지는 화합물을 들 수 있다.
식 (IB)로 나타내어지는 화합물로서는, 예를 들면, 표 2에 나타내는 식 (IB-1)~식 (IB-24)로 나타내어지는 화합물을 들 수 있다.
식 (IC)로 나타내어지는 화합물로서는, 예를 들면, 표 3에 나타내는 식 (IC-1)~식 (IC-24)로 나타내어지는 화합물을 들 수 있다.
식 (ID)로 나타내어지는 화합물로서는, 예를 들면, 표 4에 나타내는 식 (ID-1)~식 (ID-24)로 나타내어지는 화합물을 들 수 있다.
식 (IE)로 나타내어지는 화합물로서는, 예를 들면, 표 5에 나타내는 식 (IE-1)~식 (IE-24)로 나타내어지는 화합물을 들 수 있다.
또한, 표 1~표 5의 「i-1」은 페닐기를, 「i-2」는 에테닐기를 나타낸다.
Figure pct00010
식 (IA)로 나타내어지는 화합물로서는,
식 (IA-1)~식 (IA-6), 식 (IA-13)~식 (IA-18), 식 (IA-21), 식 (IA-22)~식 (IA-24)로 나타내어지는 화합물이 바람직하고,
식 (IA-1), 식 (IA-13), 식 (IA-21), 식 (IA-23), 식 (IA-24)로 나타내어지는 화합물이 보다 바람직하다.
Figure pct00011
식 (IB)로 나타내어지는 화합물로서는,
식 (IB-1)~식 (IB-6), 식 (IB-13)~식 (IB-18), 식 (IB-21), 식 (IB-22)~식 (IB-24)로 나타내어지는 화합물이 바람직하고,
식 (IB-1), 식 (IB-13), 식 (IB-21), 식 (IB-23), 식 (IB-24)로 나타내어지는 화합물이 보다 바람직하다.
Figure pct00012
식 (IC)로 나타내어지는 화합물로서는,
식 (IC-1)~식 (IC-6), 식 (IC-13)~식 (IC-18), 식 (IC-21), 식 (IC-22)~식 (IC-24)로 나타내어지는 화합물이 바람직하고,
식 (IC-1), 식 (IC-13), 식 (IC-21), 식 (IC-23), 식 (IC-24)로 나타내어지는 화합물이 보다 바람직하다.
Figure pct00013
식 (ID)로 나타내어지는 화합물로서는,
식 (ID-1)~식 (ID-6), 식 (ID-13)~식 (ID-18), 식 (ID-21), 식 (ID-22)~식 (ID-24)로 나타내어지는 화합물이 바람직하고,
식 (ID-1), 식 (ID-13), 식 (ID-21), 식 (ID-23), 식 (ID-24)로 나타내어지는 화합물이 보다 바람직하다.
Figure pct00014
식 (IE)로 나타내어지는 화합물로서는,
식 (IE-1)~식 (IE-6), 식 (IE-13)~식 (IE-18), 식 (IE-21), 식 (IE-22)~식 (IE-24)로 나타내어지는 화합물이 바람직하고,
식 (IE-1), 식 (IE-13), 식 (IE-21), 식 (IE-23), 식 (IE-24)로 나타내어지는 화합물이 보다 바람직하다.
식 (Ⅱ)로 나타내어지는 화합물로서는, 식 (IIA)~식 (IIE)로 나타내어지는 화합물을 들 수 있다.
[화학식 10]
Figure pct00015
[화학식 11]
Figure pct00016
[화학식 12]
Figure pct00017
[화학식 13]
Figure pct00018
[화학식 14]
Figure pct00019
[식 (IIA)~식 (IIE) 중, R3, Y2, Z4 및 Z5는, 상기와 같다.]
식 (IIA)로 나타내어지는 화합물로서는, 예를 들면, 표 6에 나타내는 식 (IIA-1)~식 (IIA-13)으로 나타내어지는 화합물을 들 수 있다.
식 (IIB)로 나타내어지는 화합물로서는, 예를 들면, 표 7에 나타내는 식 (IIB-1)~식 (IIB-13)으로 나타내어지는 화합물을 들 수 있다.
식 (IIC)로 나타내어지는 화합물로서는, 예를 들면, 표 8에 나타내는 식 (IIC-1)~식 (IIC-13)으로 나타내어지는 화합물을 들 수 있다.
식 (IID)로 나타내어지는 화합물로서는, 예를 들면, 표 9에 나타내는 식 (IID-1)~식 (IID-13)으로 나타내어지는 화합물을 들 수 있다.
식 (IIE)로 나타내어지는 화합물로서는, 예를 들면, 표 10에 나타내는 식 (IIE-1)~식 (IIE-13)으로 나타내어지는 화합물을 들 수 있다.
또한, 표 6~표 10 중의 「i-1」은 페닐기를, 「i-2」는 에테닐기를 나타낸다.
Figure pct00020
식 (IIA)로 나타내어지는 화합물로서는,
식 (IIA-1), 식 (IIA-2), 식 (IIA-8), 식 (IIA-9), 식 (IIA-12), 식 (IIA-13)으로 나타내어지는 화합물이 바람직하고,
식 (IIA-1), 식 (IIA-8), 식 (IIA-12), 식 (IIA-13)으로 나타내어지는 화합물이 보다 바람직하다.
Figure pct00021
식 (IIB)로 나타내어지는 화합물로서는,
식 (IIB-1), 식 (IIB-2), 식 (IIB-8), 식 (IIB-9), 식 (IIB-12), 식 (IIB-13)으로 나타내어지는 화합물이 바람직하고,
식 (IIB-1), 식 (IIB-8), 식 (IIB-12), 식 (IIB-13)으로 나타내어지는 화합물이 보다 바람직하다.
Figure pct00022
식 (IIC)로 나타내어지는 화합물로서는,
식 (IIC-1), 식 (IIC-2), 식 (IIC-8), 식 (IIC-9), 식 (IIC-12), 식 (IIC-13)으로 나타내어지는 화합물이 바람직하고,
식 (IIC-1), 식 (IIC-8), 식 (IIC-12), 식 (IIC-13)으로 나타내어지는 화합물이 보다 바람직하다.
Figure pct00023
식 (IID)로 나타내어지는 화합물로서는,
식 (IID-1), 식 (IID-2), 식 (IID-8), 식 (IID-9), 식 (IID-12), 식 (IID-13)으로 나타내어지는 화합물이 바람직하고,
식 (IID-1), 식 (IID-8), 식 (IID-12), 식 (IID-13)으로 나타내어지는 화합물이 보다 바람직하다.
Figure pct00024
식 (IIE)로 나타내어지는 화합물로서는,
식 (IIE-1), 식 (IIE-2), 식 (IIE-8), 식 (IIE-9), 식 (IIE-12), 식 (IIE-13)으로 나타내어지는 화합물이 바람직하고,
식 (IIE-1), 식 (IIE-8), 식 (IIE-12), 식 (IIE-13)으로 나타내어지는 화합물이 보다 바람직하다.
식 (Ⅰ)로 나타내어지는 화합물은, 예를 들면, 식 (Ⅲ)으로 나타내어지는 화합물과, 식 (Ⅳ)로 나타내어지는 화합물을 적절히 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
또한 식 (Ⅱ)로 나타내어지는 화합물은, 예를 들면, 식 (IIIa) 및 식 (IIIb)로 나타내어지는 화합물과, 식 (V)로 나타내어지는 화합물을 적절히 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
[화학식 15]
Figure pct00025
[식 (Ⅰ), 식 (III)및 식 (IV)중, R1, R2, Y1, Z1, Z2, Z3, X1~X4 및 n1~n4는, 상기와 같다.]
[화학식 16]
Figure pct00026
[식 (Ⅱ), 식 (IIIa), 식 (IIIb) 및 식 (V) 중, R3, Y2, Z4, Z5, X5~X12, 및 n5~n12는, 상기와 같다.]
<<착색 수지 조성물>>
본 발명은, 상기 서술한 식 (I)또는 식 (Ⅱ)로 나타내어지는 화합물과, 수지(이하, 수지(B)라고 하는 경우가 있다)를 포함하는 착색 수지 조성물을 포함한다.
또한 본 발명은, 중합성 화합물(이하, 중합성 화합물(C)라고 하는 경우가 있다)과, 중합 개시제(이하, 중합 개시제(D)라고 하는 경우가 있다)를 포함하는 착색 수지 조성물을 포함한다.
본 발명의 착색 수지 조성물은, 상기 서술한 식 (I)및/또는 식 (Ⅱ)로 나타내어지는 화합물(이하, 착색제(A1)이라고 하는 경우가 있다)을 착색제(이하, 착색제(A)라고 하는 경우가 있다)로서 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명의 착색 수지 조성물은, 추가로 용제(이하, 용제(E)라고 하는 경우가 있다)를 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명의 착색 수지 조성물은, 레벨링제(이하, 레벨링제(F)라고 하는 경우가 있다)를 포함하고 있어도 된다.
본 명세서에 있어서, 각 성분으로서 예시하는 화합물은, 특별히 언급하지 않는 한, 단독으로 또는 복수종을 조합시켜서 사용할 수 있다.
<착색제(A)>
착색제(A1)의 함유율은, 착색 수지 조성물의 고형분의 총량 중, 바람직하게는 0.5~70질량%, 보다 바람직하게는 1~55질량%, 더 바람직하게는 2~50질량%, 보다 더 바람직하게는 5~40질량%이다.
또한, 본 명세서에 있어서 「고형분의 총량」이란, 본 발명의 착색 수지 조성물로부터 용제를 제외한 성분의 합계량을 말한다. 고형분의 총량 및 이에 대한 각 성분의 함유량은, 예를 들면, 액체 크로마토그래피, 가스 크로마토그래피 등의 공지의 분석 수단에 의해 측정할 수 있다.
또한 착색제(A1)의 함유율은, 착색제(A)의 총량 중, 바람직하게는 20~100질량%이며, 보다 바람직하게는 30~100질량%이며, 더 바람직하게는 40~100질량%이다.
착색제(A)는, 착색제(A1)과는 다른 착색제(이하, 착색제(A2)라고 하는 경우가 있다)를 추가로 포함하고 있어도 된다.
착색제(A2)는, 염료 또는 안료의 어느 것이어도 된다.
염료로서는, 예를 들면, 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판)에 있어서 안료 이외에서 색상을 가지는 것으로 분류되어 있는 화합물이나, 염색 노트(시키센사)에 기재되어 있는 공지의 염료를 들 수 있다. 특히 크산텐 염료가 바람직하다.
크산텐 염료는, 분자 내에 크산텐 골격을 가지는 화합물을 포함하는 염료이다. 크산텐 염료로서는, 예를 들면, C.I. 애시드 레드 51(이하, C.I. 애시드 레드의 기재를 생략하고, 번호만의 기재로 한다. 다른 것도 마찬가지다), 52, 87, 92, 94, 289, 388, C.I. 애시드 바이올렛 9, 30, 102, C.I. 베이직 레드 1(로다민 6G), 2, 3, 4, 8, 10, 11, C.I. 베이직 바이올렛 10(로다민 B), 11, C.I. 솔벤트 레드 218, C.I. 모던트 레드 27, C.I. 리액티브 레드 36(로즈 벵갈 B), 술포로다민 G, 일본국 공개특허 특개2010-32999호 공보에 기재된 크산텐 염료 및 일본국 특허 제 4492760호 공보에 기재된 크산텐 염료 등을 들 수 있다. 유기 용제에 용해하는 것이 바람직하다.
크산텐 염료는, 시판되고 있는 크산텐 염료(예를 들면, 중외화성(주)제의 「Chugai Aminol Fast Pink R-H/C」, 다오카화학공업(주)제의 「Rhodamin 6G」)를 이용할 수 있다. 또한, 시판되고 있는 크산텐 염료를 출발 원료로 하여, 일본국 공개특허 특개2010-32999호 공보를 참고에 합성할 수도 있다.
이 외의 염료로서, 아조 염료, 시아닌 염료, 트리페닐메탄 염료, 티아졸 염료, 옥사진 염료, 프탈로시아닌 염료, 퀴노프탈론 염료, 안트라퀴논 염료, 나프토퀴논 염료, 퀴논이민 염료, 메틴 염료, 아조메틴 염료, 스쿠아릴리움 염료, 아크리딘 염료, 스티릴 염료, 쿠마린 염료, 퀴놀린 염료 및 니트로 염료 등을 사용하여도 되고 각각 공지의 염료가 사용된다.
이러한 염료로서는, 구체적으로는, C.I. 솔벤트 옐로우 4(이하, C.I. 솔벤트 옐로우의 기재를 생략하고 번호만의 기재로 한다. 다른 것도 마찬가지다), 14, 15, 23, 24, 38, 62, 63, 68, 82, 94, 98, 99, 117, 162, 163, 167, 189;
C.I. 솔벤트 레드 45, 49, 111, 125, 130, 143, 145, 146, 150, 151, 155, 168, 169, 172, 175, 181, 207, 222, 227, 230, 245, 247;
C.I. 솔벤트 오렌지 2, 7, 11, 15, 26, 56, 77, 86;
C.I. 솔벤트 바이올렛 11, 13, 14, 26, 31, 36, 37, 38, 45, 47, 48, 51, 59, 60;
C.I. 솔벤트 블루 4, 5, 14, 18, 35, 36, 37, 45, 58, 59, 59:1, 63, 67, 68, 69, 70, 78, 79, 83, 90, 94, 97, 98, 100, 101, 102, 104, 105, 111, 112, 122, 128, 132, 136, 139;
C.I. 솔벤트 그린 1, 3, 4, 5, 7, 28, 29, 32, 33, 34, 35; 등의 C.I. 솔벤트 염료,
C.I. 애시드 옐로우 1, 3, 7, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 38, 40, 42, 54, 65, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112, 113, 114, 116, 119, 123, 128, 134, 135, 138, 139, 140, 144, 150, 155, 157, 160, 161, 163, 168, 169, 172, 177, 178, 179, 184, 190, 193, 196, 197, 199, 202, 203, 204, 205, 207, 212, 214, 220, 221, 228, 230, 232, 235, 238, 240, 242, 243, 251;
C.I. 애시드 레드 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 33, 34, 35, 37, 40, 42, 44, 50, 57, 66, 73, 76, 80, 88, 91, 95, 97, 98, 103, 106, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 155, 158, 160, 172, 176, 182, 183, 195, 198, 206, 211, 215, 216, 217, 227, 228, 249, 252, 257, 258, 260, 261, 266, 268, 270, 274, 277, 280, 281, 308, 312, 315, 316, 339, 341, 345, 346, 349, 382, 383, 394, 401, 412, 417, 418, 422, 426;
C.I. 애시드 오렌지 6, 7, 8, 10, 12, 26, 50, 51, 52, 56, 62, 63, 64, 74, 75, 94, 95, 107, 108, 169, 173;
C.I. 애시드 바이올렛 6B, 7, 15, 16, 17, 19, 21, 23, 24, 25, 34, 38, 49, 72;
C.I. 애시드 블루 1, 3, 5, 7, 9, 11, 13, 15, 17, 18, 22, 23, 24, 25, 26, 27, 29, 34, 38, 40, 41, 42, 43, 45, 48, 51, 54, 59, 60, 62, 70, 72, 74, 75, 78, 80, 82, 83, 86, 87, 88, 90, 90:1, 91, 92, 93, 93:1, 96, 99, 100, 102, 103, 104, 108, 109, 110, 112, 113, 117, 119, 120, 123, 126, 127, 129, 130, 131, 138, 140, 142, 143, 147, 150, 151, 154, 158, 161, 166, 167, 168, 170, 171, 175, 182, 183, 184, 187, 192, 199, 203, 204, 205, 210, 213, 229, 234, 236, 242, 243, 256, 259, 267, 269, 278, 280, 285, 290, 296, 315, 324:1, 335, 340;
C.I. 애시드 그린 1, 3, 5, 6, 7, 8, 9, 11, 13, 14, 15, 16, 22, 25, 27, 28, 41, 50, 50:1, 58, 63, 65, 80, 104, 105, 106, 109; 등의 C.I. 애시드 염료,
C.I. 다이렉트 옐로우 2, 33, 34, 35, 38, 39, 43, 47, 50, 54, 58, 68, 69, 70, 71, 86, 93, 94, 95, 98, 102, 108, 109, 129, 136, 138, 141;
C.I. 다이렉트 레드 79, 82, 83, 84, 91, 92, 96, 97, 98, 99, 105, 106, 107, 172, 173, 176, 177, 179, 181, 182, 184, 204, 207, 211, 213, 218, 220, 221, 222, 232, 233, 234, 241, 243, 246, 250;
C.I. 다이렉트 오렌지 26, 34, 39, 41, 46, 50, 52, 56, 57, 61, 64, 65, 68, 70, 96, 97, 106, 107;
C.I. 다이렉트 바이올렛 47, 52, 54, 59, 60, 65, 66, 79, 80, 81, 82, 84, 89, 90, 93, 95, 96, 103, 104;
C.I. 다이렉트 블루 1, 2, 3, 6, 8, 15, 22, 25, 28, 29, 40, 41, 42, 47, 52, 55, 57, 71, 76, 77, 78, 80, 81, 84, 85, 86, 90, 93, 94, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 106, 107, 108, 109, 113, 114, 115, 117, 119, 120, 137, 149, 150, 153, 155, 156, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 165, 166, 167, 168, 170, 171, 172, 173, 188, 189, 190, 192, 193, 194, 195, 196, 198, 199, 200, 201, 202, 203, 207, 209, 210, 212, 213, 214, 222, 225, 226, 228, 229, 236, 237, 238, 242, 243, 244, 245, 246, 247, 248, 249, 250, 251, 252, 256, 257, 259, 260, 268, 274, 275, 293;
C.I. 다이렉트 그린 25, 27, 31, 32, 34, 37, 63, 65, 66, 67, 68, 69, 72, 77, 79, 82; 등의 C.I. 다이렉트 염료,
C.I. 디스퍼스 옐로우 51, 54,76;
C.I. 디스퍼스 바이올렛 26, 27;
C.I. 디스퍼스 블루 1, 14, 56, 60; 등의 C.I. 디스퍼스 염료,
C.I. 베이직 블루 1, 3, 5, 7, 9, 19, 21, 22, 24, 25, 26, 28, 29, 40, 41, 45, 47, 54, 58, 59, 60, 64, 65, 66, 67, 68, 81, 83, 88, 89;
C.I. 베이직 바이올렛 2;
C.I. 베이직 레드 9;
C.I. 베이직 그린 1; 등의 C.I. 베이직 염료,
C.I. 리액티브 옐로우 2, 76, 116;
C.I. 리액티브 오렌지 16;
C.I. 리액티브 레드 36; 등의 C.I. 리액티브 염료,
C.I. 모던트 옐로우 5, 8, 10, 16, 20, 26, 30, 31, 33, 42, 43, 45, 56, 61, 62, 65;
C.I. 모던트 레드 1, 2, 3, 4, 9, 11, 12, 14, 17, 18, 19, 22, 23, 24, 25, 26, 29, 30, 32, 33, 36, 37, 38, 39, 41, 42, 43, 45, 46, 48, 52, 53, 56, 62, 63, 71, 74, 76, 78, 85, 86, 88, 90, 94, 95;
C.I. 모던트 오렌지 3, 4, 5, 8, 12, 13, 14, 20, 21, 23, 24, 28, 29, 32, 34, 35, 36, 37, 42, 43, 47, 48;
C.I. 모던트 바이올렛 1, 1:1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 10, 11, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 21, 22, 23, 24, 27, 28, 30, 31, 32, 33, 36, 37, 39, 40, 41, 44, 45, 47, 48, 49, 53, 58;
C.I. 모던트 블루 1, 2, 3, 7, 8, 9, 12, 13, 15, 16, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 26, 30, 31, 32, 39, 40, 41, 43, 44, 48, 49, 53, 61, 74, 77, 83, 84;
C.I. 모던트 그린 1, 3, 4, 5, 10, 13, 15, 19, 21, 23, 26, 29, 31, 33, 34, 35, 41, 43, 53; 등의 C.I. 모던트 염료,
C.I. 배트(vat) 그린 1 등의 C.I. 배트 염료 등을 들 수 있다.
이들의 염료는, 각 색에 대하여 1종의 염료 또는 복수의 염료를 사용하여도 되고, 각 색의 염료를 조합시켜도 된다.
안료로서는, 예를 들면, 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판)에서 피그먼트로 분류되어 있는 안료를 들 수 있고, 이하의 안료를 예시할 수 있다.
녹색 안료 : C.I. 피그먼트 그린 7, 36, 58 등
황색 안료 : C.I. 피그먼트 옐로우 1, 3, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 185, 194, 214 등
오렌지색 안료 : C.I. 피그먼트 오렌지 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 71, 73 등
적색 안료 : C.I. 피그먼트 레드 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 209, 215, 216, 224, 242, 254, 255, 264, 265 등
청색 안료 : C.I. 피그먼트 블루 15, 15:3, 15:4, 15:6, 60 등
자색 안료 : C.I. 피그먼트 바이올렛 1, 19, 23, 29, 32, 36, 38 등
이들의 안료는, 각색에 대하여 1종의 안료 또는 복수의 안료를 사용하여도 되고, 각 색의 안료를 조합시켜도 된다.
안료는, 필요에 따라, 로진 처리, 산성기 또는 염기성기가 도입된 안료 유도체 등을 이용한 표면 처리, 고분자 화합물 등에 의한 안료 표면에 대한 그래프트 처리, 황산 미립화법 등에 의한 미립화 처리, 불순물을 제거하기 위한 유기 용제나 물 등에 의한 세정 처리, 이온성 불순물의 이온 교환법 등에 의한 제거 처리 등이 실시되어 있어도 된다. 안료의 입경은, 대략 균일한 것이 바람직하다. 안료는, 안료 분산제를 함유시켜서 분산 처리를 행함으로써, 안료 분산제 용액 중에서 균일하게 분산된 상태의 안료 분산액으로 할 수 있다. 안료는, 각각 단독으로 분산 처리하여도 되고, 복수종을 혼합하여 분산 처리하여도 된다.
안료 분산제로서는, 계면 활성제 등을 들 수 있고, 카티온계, 아니온계, 논이온계 및 양성(兩性)의 어느 것의 계면 활성제여도 된다. 구체적으로는 폴리에스테르계, 폴리아민계 및 아크릴계 등의 계면 활성제 등을 들 수 있다. 이들의 안료 분산제는, 단독으로 또는 2종 이상을 조합시켜서 이용하여도 된다. 안료 분산제로서는, 상품명으로 나타내면, KP(신에츠화학공업(주)제), 플로렌(교에이샤화학(주)제), 솔스퍼스(등록상표)(제네카(주)제), EFKA(등록상표)(BASF사제), 아지스파(등록상표)(아지노모토파인테크노(주)제), Disperbyk(등록상표), BYK(등록상표)(빅케미사제) 등을 들 수 있다.
안료 분산제를 이용하는 경우, 그 사용량은, 안료 100질량부에 대하여, 바람직하게는 10질량부 이상 200질량부 이하며, 보다 바람직하게는 15질량부 이상 180질량부 이하, 더 바람직하게는 20질량부 이상 160질량부 이하이다. 안료 분산제의 사용량이 상기 범위에 있으면, 2종 이상의 안료를 사용하는 경우에 보다 균일한 분산 상태의 안료 분산액이 얻어지는 경향이 있다.
착색제(A)가 착색제(A2)를 포함하는 경우, 착색제(A2)의 함유율은, 착색제(A)의 총량 중, 바람직하게는 1~80질량%, 보다 바람직하게는 1~70질량%, 더 바람직하게는 1~60질량%이다.
착색 수지 조성물 중의 착색제(A)의 함유율은, 고형분의 총량에 대하여, 바람직하게는 0.5~80질량%, 보다 바람직하게는 1~70질량%, 더 바람직하게는 2~55질량%이다. 상기 화합물의 함유율이 상기 범위 내이면, 소망하는 분광이나 색농도를 보다 얻기 쉬워진다.
<수지(B)>
수지(B)는, 특별하게 한정되는 것은 아니지만, 알칼리 가용성 수지인 것이 바람직하다. 수지(B)로서는, 이하의 수지[K1]~[K6] 등을 들 수 있다.
수지[K1]; 불포화 카르본산 및 불포화 카르본산 무수물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종(a)(이하 「(a)」라고 하는 경우가 있다)에 유래하는 구조 단위와, 탄소수 2~4의 환상 에테르 구조 및 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체(b)(이하 「(b)」라고 하는 경우가 있다)에 유래하는 구조 단위를 가지는 공중합체;
수지[K2]; (a)에 유래하는 구조 단위와 (b)에 유래하는 구조 단위와, (a)와 공중합 가능한 단량체(c)(단, (a) 및 (b)와는 다르다)(이하 「(c)」라고 하는 경우가 있다)에 유래하는 구조 단위를 가지는 공중합체;
수지[K3]; (a)에 유래하는 구조 단위와 (c)에 유래하는 구조 단위를 가지는 공중합체;
수지[K4]; (a)에 유래하는 구조 단위에 (b)를 부가시킨 구조 단위와 (c)에 유래하는 구조 단위를 가지는 공중합체;
수지[K5]; (b)에 유래하는 구조 단위에 (a)를 부가시킨 구조 단위와 (c)에 유래하는 구조 단위를 가지는 공중합체;
수지[K6]; (b)에 유래하는 구조 단위에 (a)를 부가시키고, 카르본산 무수물을 추가로 부가시킨 구조 단위와 (c)에 유래하는 구조 단위를 가지는 공중합체.
(a)로서는, 구체적으로는, 예를 들면, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, o-, m-, p-비닐벤조산 등의 불포화 모노카르본산류;
말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 메사콘산, 이타콘산, 3-비닐프탈산, 4-비닐프탈산, 3,4,5,6-테트라히드로프탈산, 1,2,3,6-테트라히드로프탈산, 디메틸테트라히드로프탈산, 1,4-시클로헥센디카르본산 등의 불포화 디카르본산류;
메틸-5-노르보르넨-2,3-디카르본산, 5-카르복시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디카르복시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-카르복시-5-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-카르복시-5-에틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-카르복시-6-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-카르복시-6-에틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔 등의 카르복시기를 함유하는 비시클로 불포화 화합물류;
무수 말레산, 시트라콘산 무수물, 이타콘산 무수물, 3-비닐프탈산 무수물, 4-비닐프탈산 무수물, 3,4,5,6-테트라히드로프탈산 무수물, 1,2,3,6-테트라히드로프탈산 무수물, 디메틸테트라히드로프탈산 무수물, 5,6-디카르복시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔 무수물 등의 불포화 디카르본산류 무수물;
숙신산 모노[2-(메타)아크릴로일옥시에틸], 프탈산 모노[2-(메타)아크릴로일옥시에틸] 등의 2가 이상의 다가 카르본산의 불포화 모노[(메타)아크릴로일옥시알킬]에스테르류;
α-(히드록시메틸)아크릴산과 같은, 동일 분자 중에 히드록시기 및 카르복시기를 함유하는 불포화 아크릴레이트류; 등을 들 수 있다.
이들 중, 공중합 반응성의 점이나 얻어지는 수지의 알칼리 수용액으로의 용해성의 점에서, 아크릴산, 메타크릴산, 무수 말레산 등이 바람직하다.
(b)는, 예를 들면, 탄소수 2~4의 환상 에테르 구조(예를 들면, 옥시란환, 옥세탄환 및 테트라히드로푸란환으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종)와 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물을 말한다. (b)는, 탄소수 2~4의 환상 에테르와 (메타)아크릴로일옥시기를 가지는 단량체가 바람직하다.
또한, 본 명세서에 있어서, 「(메타)아크릴산」이란, 아크릴산 및 메타크릴산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 나타낸다. 「(메타)아크릴로일」 및 「(메타)아크릴레이트」 등의 표기도, 마찬가지의 의미를 가진다.
(b)로서는, 예를 들면, 옥시라닐기와 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체(b1)(이하 「(b1)」이라고 하는 경우가 있다), 옥세타닐기와 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체(b2)(이하 「(b2)」라고 하는 경우가 있다), 테트라히드로푸릴기와 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체(b3)(이하 「(b3)」이라고 하는 경우가 있다) 등을 들 수 있다.
(b1)로서는, 예를 들면, 직쇄상 또는 분지쇄상의 지방족 불포화 탄화수소가 에폭시화된 구조를 가지는 단량체(b1-1)(이하 「(b1-1)」이라고 하는 경우가 있다), 지환식 불포화 탄화수소가 에폭시화된 구조를 가지는 단량체(b1-2)(이하 「(b1-2)」라고 하는 경우가 있다)를 들 수 있다.
(b1-1)로서는, 글리시딜(메타)아크릴레이트, β-메틸글리시딜(메타)아크릴레이트, β-에틸글리시딜(메타)아크릴레이트, 글리시딜비닐에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르, α-메틸-o-비닐벤질글리시딜에테르, α-메틸-m-비닐벤질글리시딜에테르, α-메틸-p-비닐벤질글리시딜에테르, 2,3-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,4-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,5-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,6-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,3,4-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,3,5-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,3,6-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 3,4,5-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,4,6-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌 등을 들 수 있다.
(b1-2)로서는, 비닐시클로헥센모노옥사이드, 1,2-에폭시-4-비닐시클로헥산(예를 들면, 셀록사이드 2000; (주)다이셀제), 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트(예를 들면, 사이클로머 A400; (주)다이셀제), 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트(예를 들면, 사이클로머 M100; (주)다이셀제), 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02,6]데실(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02,6]데실옥시에틸(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
(b2)로서는, 옥세타닐기와 (메타)아크릴로일옥시기를 가지는 단량체가 보다 바람직하다. (b2)로서는, 3-메틸-3-메타크릴로일옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-아크릴로일옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-메타크릴로일옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-아크릴로일옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-메타크릴로일옥시에틸옥세탄, 3-메틸-3-아크릴로일옥시에틸옥세탄, 3-에틸-3-메타크릴로일옥시에틸옥세탄, 3-에틸-3-아크릴로일옥시에틸옥세탄 등을 들 수 있다.
(b3)으로서는, 테트라히드로푸릴기와 (메타)아크릴로일옥시기를 가지는 단량체가 보다 바람직하다. (b3)으로서는, 구체적으로는, 테트라히드로푸르푸릴아크릴레이트(예를 들면, 비스코트 V#150, 오사카유기화학공업(주)제), 테트라히드로푸르푸릴메타크릴레이트 등을 들 수 있다.
(b)로서는, 얻어지는 광학 필터의 내열성, 내(耐)약품성 등의 신뢰성을 보다 높게 할 수 있는 점에서, (b1)인 것이 바람직하다. 추가로, 착색 수지 조성물의 보존 안정성이 우수하다고 하는 점에서, (b1-2)가 보다 바람직하다.
(c)로서는, 예를 들면, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, sec-부틸(메타)아크릴레이트, tert-부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 도데실(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 2-메틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일(메타)아크릴레이트(당해 기술 분야에서는, 관용명으로서 「디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트」라고 불리고 있다. 또한, 「트리시클로데실(메타)아크릴레이트」라고 하는 경우가 있다), 트리시클로[5.2.1.02,6]데센-8-일(메타)아크릴레이트(당해 기술 분야에서는, 관용명으로서 「디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트」라고 불리고 있다.), 디시클로펜타닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 아다만틸(메타)아크릴레이트, 알릴(메타)아크릴레이트, 프로파르길(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트, 나프틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트 등의(메타)아크릴산 에스테르류;
2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트 등의 히드록시기 함유(메타)아크릴산 에스테르류;
말레산 디에틸, 푸마르산 디에틸, 이타콘산 디에틸 등의 디카르본산 디에스테르;
비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-에틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-히드록시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-히드록시메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-(2'-히드록시에틸)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-메톡시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-에톡시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디히드록시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디(히드록시메틸)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디(2'-히드록시에틸)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디메톡시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디에톡시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-히드록시-5-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-히드록시-5-에틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-히드록시메틸-5-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-tert-부톡시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-시클로헥실옥시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-페녹시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-비스(tert-부톡시카르보닐)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-비스(시클로헥실옥시카르보닐)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔 등의 비시클로 불포화 화합물류;
N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, N-숙신이미딜-3-말레이미드벤조에이트, N-숙신이미딜-4-말레이미드부틸레이트, N-숙신이미딜-6-말레이미드카프로에이트, N-숙신이미딜-3-말레이미드프로피오네이트, N-(9-아크리디닐)말레이미드 등의 디카르보닐이미드 유도체류;
스티렌, α-메틸스티렌, m-메틸스티렌, p-메틸스티렌, 비닐톨루엔, p-메톡시스티렌, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 염화비닐, 염화비닐리덴, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 아세트산 비닐, 1,3-부타디엔, 이소프렌, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔 등을 들 수 있다.
이들 중, 공중합 반응성 및 내열성의 점에서, 스티렌, 비닐톨루엔, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, 비시클로[2.2.1]헵트-2-엔 등이 바람직하다.
수지[K1]에 있어서, 각각 유래하는 구조 단위의 비율은, 수지[K1]을 구성하는 전체 구조 단위 중,
(a)에 유래하는 구조 단위; 2~60몰%
(b)에 유래하는 구조 단위; 40~98몰%
인 것이 바람직하고,
(a)에 유래하는 구조 단위; 10~50몰%
(b)에 유래하는 구조 단위; 50~90몰%
인 것이 보다 바람직하다.
수지[K1]의 구조 단위의 비율이, 상기의 범위에 있으면, 착색 수지 조성물의 보존 안정성, 착색 패턴을 형성할 때의 현상성, 및 얻어지는 광학 필터의 내용제성이 우수한 경향이 있다.
수지[K1]은, 예를 들면, 문헌 「고분자 합성의 실험법」(오츠 타카유키저 발행소 (주)화학동인 제1판 제1쇄 1972년 3월 1일 발행)에 기재된 방법 및 당해 문헌에 기재된 인용문헌을 참고로 하여 제조할 수 있다.
구체적으로는, (a) 및 (b)의 소정량, 중합 개시제 및 용제 등을 반응 용기 중에 넣고, 예를 들면, 질소에 의해 산소를 치환함으로써, 탈산소 분위기로 하고, 교반하면서, 가열 및 보온하는 방법을 들 수 있다. 또한, 여기에서 이용되는 중합 개시제 및 용제 등은, 특별하게 한정되는 것은 아니며, 당해 분야에서 통상 사용되고 있는 것을 사용할 수 있다. 예를 들면, 중합 개시제로서는, 아조 화합물(2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 등)이나 유기 과산화물(벤조일퍼옥사이드 등)을 들 수 있고, 용제로서는, 각 모노머를 용해하는 것이면 되고, 용제(E)로서 후술하는 용제 등을 들 수 있다.
또한, 얻어진 공중합체는, 반응 후의 용액을 그대로 사용하여도 되고, 농축 혹은 희석한 용액을 사용하여도 되고, 재침전 등의 방법으로 고체(분체)로 하여 취출한 것을 사용하여도 된다. 특히, 이 중합 시에 용제로서, 착색 수지 조성물에 포함되는 용제를 사용함으로써, 반응 후의 용액을 그대로 착색 수지 조성물의 조제에 사용할 수 있기 때문에, 착색 수지 조성물의 제조 공정을 간략화할 수 있다.
수지[K2]에 있어서, 각각 유래하는 구조 단위의 비율은, 수지[K2]를 구성하는 전체 구조 단위 중,
(a)에 유래하는 구조 단위; 2~45몰%
(b)에 유래하는 구조 단위; 2~95몰%
(c)에 유래하는 구조 단위; 1~65몰%
인 것이 바람직하고,
(a)에 유래하는 구조 단위; 5~40몰%
(b)에 유래하는 구조 단위; 5~80몰%
(c)에 유래하는 구조 단위; 5~60몰%
인 것이 보다 바람직하다.
수지[K2]의 구조 단위의 비율이, 상기의 범위에 있으면, 착색 수지 조성물의 보존 안정성, 착색 패턴을 형성할 때의 현상성, 및 얻어지는 광학 필터의 내용제성, 내열성 및 기계 강도가 우수한 경향이 있다.
수지[K2]는, 예를 들면, 수지[K1]의 제조 방법으로서 기재한 방법과 마찬가지로 제조할 수 있다.
수지[K3]에 있어서, 각각 유래하는 구조 단위의 비율은, 수지[K3]을 구성하는 전체 구조 단위 중,
(a)에 유래하는 구조 단위; 2~60몰%
(c)에 유래하는 구조 단위; 40~98몰%
인 것이 바람직하고,
(a)에 유래하는 구조 단위; 10~50몰%
(c)에 유래하는 구조 단위; 50~90몰%
인 것이 보다 바람직하다.
수지[K3]은, 예를 들면, 수지[K1]의 제조 방법으로서 기재한 방법과 마찬가지로 제조할 수 있다.
수지[K4]는, (a)와 (c)의 공중합체를 얻고, (b)가 가지는 탄소수 2~4의 환상 에테르를 (a)가 가지는 카르본산 및/또는 카르본산 무수물에 부가시킴으로써 제조할 수 있다.
우선 (a)와 (c)의 공중합체를, 수지[K1]의 제조 방법으로서 기재한 방법과 마찬가지로 제조한다. 이 경우, 각각 유래하는 구조 단위의 비율은, 수지[K3]에서 든 것 동일한 비율인 것이 바람직하다.
다음으로, 상기 공중합체 중의 (a)에 유래하는 카르본산 및/또는 카르본산 무수물의 일부에, (b)가 가지는 탄소수 2~4의 환상 에테르를 반응시킨다.
(a)와 (c)의 공중합체의 제조에 이어, 플라스크 내 분위기를 질소에서 공기로 치환하고, (b), 카르본산 또는 카르본산 무수물과 환상 에테르의 반응 촉매(예를 들면 트리스(디메틸아미노메틸)페놀 등) 및 중합 금지제(예를 들면 하이드로퀴논 등) 등을 플라스크 내에 넣고, 예를 들면, 60~130℃에서, 1~10시간 반응함으로써, 수지[K4]를 제조할 수 있다.
(b)의 사용량은, (a) 100몰에 대하여, 5~80몰이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10~75몰이다. 이 범위로 함으로써, 착색 수지 조성물의 보존 안정성, 패턴을 형성할 때의 현상성, 및 얻어지는 패턴의 내용제성, 내열성, 기계 강도 및 감도의 밸런스가 양호해지는 경향이 있다. 환상 에테르의 반응성이 높으며, 미반응의 (b)가 잔존하기 어려우므로, 수지[K4]에 이용하는 (b)로서는 (b1)이 바람직하고, (b1-1)이 더욱 바람직하다.
상기 반응 촉매의 사용량은, (a), (b) 및 (c)의 합계량 100질량부에 대하여 0.001~5질량부가 바람직하다. 상기 중합 금지제의 사용량은, (a), (b) 및 (c)의 합계량 100질량부에 대하여 0.001~5질량부가 바람직하다.
투입 방법, 반응 온도 및 시간 등의 반응 조건은, 제조 설비나 중합에 의한 발열량 등을 고려하여 적절히 조정할 수 있다. 또한, 중합 조건과 마찬가지로, 제조 설비나 중합에 의한 발열량 등을 고려하여, 투입 방법이나 반응 온도를 적절히 조정할 수 있다.
수지[K5]는, 제 1 단계로서, 상기 서술한 수지[K1]의 제조 방법과 마찬가지로 하여, (b)와 (c)의 공중합체를 얻는다. 상기와 마찬가지로, 얻어진 공중합체는, 반응 후의 용액을 그대로 사용하여도 되고, 농축 혹은 희석한 용액을 사용하여도 되고, 재침전 등의 방법으로 고체(분체)로 하여 취출한 것을 사용하여도 된다.
(b) 및 (c)에 유래하는 구조 단위의 비율은, 상기 공중합체를 구성하는 전체 구조 단위의 합계 몰수에 대하여, 각각,
(b)에 유래하는 구조 단위; 5~95몰%
(c)에 유래하는 구조 단위; 5~95몰%
인 것이 바람직하고,
(b)에 유래하는 구조 단위; 10~90몰%
(c)에 유래하는 구조 단위; 10~90몰%
인 것이 보다 바람직하다.
추가로, 수지[K4]의 제조 방법과 마찬가지의 조건으로, (b)와 (c)의 공중합체가 가지는 (b)에 유래하는 환상 에테르에, (a)가 가지는 카르본산 또는 카르본산 무수물을 반응시킴으로써, 수지[K5]를 얻을 수 있다.
상기 공중합체에 반응시키는 (a)의 사용량은, (b) 100몰에 대하여, 5~80몰이 바람직하다. 환상 에테르의 반응성이 높으며, 미반응의 (b)가 잔존하기 어려우므로, 수지[K5]에 이용하는 (b)로서는 (b1)이 바람직하고, (b1-1)이 더욱 바람직하다.
수지[K6]은, 수지[K5]에, 추가로 카르본산 무수물을 반응시킨 수지이다. 환상 에테르와 카르본산 또는 카르본산 무수물과의 반응에 의해 발생하는 히드록시기에, 카르본산 무수물을 반응시킨다.
카르본산 무수물로서는, 무수 말레산, 시트라콘산 무수물, 이타콘산 무수물, 3-비닐프탈산 무수물, 4-비닐프탈산 무수물, 3,4,5,6-테트라히드로프탈산 무수물, 1,2,3,6-테트라히드로프탈산 무수물, 디메틸테트라히드로프탈산 무수물, 5,6-디카르복시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔 무수물 등을 들 수 있다. 카르본산 무수물의 사용량은, (a)의 사용량 1몰에 대하여, 0.5~1몰이 바람직하다.
구체적인 수지(B)로서는, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02,6]데실아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체 등의 수지[K1]; 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02,6]데실아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체, 글리시딜(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체, 글리시딜(메타)아크릴레이트/스티렌/(메타)아크릴산 공중합체, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02,6]데실아크릴레이트/(메타)아크릴산/N-시클로헥실말레이미드 공중합체, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02,6]데실아크릴레이트/(메타)아크릴산/N-시클로헥실말레이미드/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트 공중합체, 3-메틸-3-(메타)아크릴로일옥시메틸옥세탄/(메타)아크릴산/스티렌 공중합체 등의 수지[K2]; 벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체, 스티렌/(메타)아크릴산 공중합체 등의 수지[K3]; 벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체에 글리시딜(메타)아크릴레이트를 부가시킨 수지, 트리시클로데실(메타)아크릴레이트/스티렌/(메타)아크릴산 공중합체에 글리시딜(메타)아크릴레이트를 부가시킨 수지, 트리시클로데실(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체에 글리시딜(메타)아크릴레이트를 부가시킨 수지 등의 수지[K4]; 트리시클로데실(메타)아크릴레이트/글리시딜(메타)아크릴레이트의 공중합체에 (메타)아크릴산을 반응시킨 수지, 트리시클로데실(메타)아크릴레이트/스티렌/글리시딜(메타)아크릴레이트의 공중합체에 (메타)아크릴산을 반응시킨 수지 등의 수지[K5]; 트리시클로데실(메타)아크릴레이트/글리시딜(메타)아크릴레이트의 공중합체에 (메타)아크릴산을 반응시킨 수지에 추가로 테트라히드로프탈산 무수물을 반응시킨 수지 등의 수지[K6]; 등을 들 수 있다.
수지(B)는, 불포화 카르본산 및 불포화 카르본산 무수물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종에 유래하는 구조 단위와, 탄소수 2~4의 환상 에테르 구조 및 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 구조 단위를 포함하는 공중합체(수지[K1] 또는 수지[K2])인 것이 바람직하고, 수지[K2]인 것이 보다 바람직하다.
수지(B)의 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 500~100,000이며, 보다 바람직하게는 700~50,000이며, 더 바람직하게는 900~30,000이다. 분자량이 상기 범위 내에 있으면, 광학 필터의 경도가 향상하고, 잔막률이 높고, 미(未)노광부의 현상액에 대한 용해성이 양호하여, 착색 패턴의 해상도가 향상하는 경향이 있다.
수지(B)의 분산도 [중량 평균 분자량(Mw)/수평균 분자량(Mn)]은, 바람직하게는 1.1~6이며, 보다 바람직하게는 1.2~4이다.
수지(B)의 산가는, 고형분 환산으로, 바람직하게는 50~170㎎-KOH/g이며, 보다 바람직하게는 60~150㎎-KOH/g, 더 바람직하게는 70~135㎎-KOH/g이다. 여기에서 산가는 수지(B) 1g을 중화하기 위하여 필요한 수산화칼륨의 양(㎎)으로서 측정되는 값이며, 예를 들면 수산화칼륨 수용액을 이용하여 적정(滴定)하는 것에 의해 구할 수 있다.
수지(B)의 함유율은, 고형분의 총량에 대하여, 바람직하게는 7~80질량%이며, 보다 바람직하게는 13~75질량%이며, 더 바람직하게는 17~70질량%이다. 수지(B)의 함유율이, 상기 범위 내에 있으면, 착색 패턴을 형성할 수 있으며, 또한 착색 패턴의 해상도 및 잔막률이 향상하는 경향이 있다.
<중합성 화합물(C)>
중합성 화합물(C)는, 중합 개시제(D)로부터 발생한 활성 라디칼 및/또는 산에 의해 중합할 수 있는 화합물이며, 예를 들면, 중합성의 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 화합물 등을 들 수 있고, 바람직하게는 (메타)아크릴산 에스테르 화합물이다.
그중에서도, 중합성 화합물(C)는, 에틸렌성 불포화 결합을 3개 이상 가지는 중합성 화합물인 것이 바람직하다. 이러한 중합성 화합물로서는, 예를 들면, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리스리톨옥타(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리스리톨헵타(메타)아크릴레이트, 테트라펜타에리스리톨데카(메타)아크릴레이트, 테트라펜타에리스리톨노나(메타)아크릴레이트, 트리스(2-(메타)아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트, 에틸렌글리콜 변성 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜 변성 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜 변성 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜 변성 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
그중에서도, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트 및 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트가 바람직하다.
중합성 화합물(C)의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 150 이상 2,900 이하, 보다 바람직하게는 250 이상 1,500 이하이다.
중합성 화합물(C)의 함유율은, 고형분의 총량에 대하여, 7~65질량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 13~60질량%이며, 더 바람직하게는 17~55질량%이다. 중합성 화합물(C)의 함유율이, 상기 범위 내에 있으면, 착색 패턴 형성 시의 잔막률 및 광학 필터의 내약품성이 향상하는 경향이 있다.
<중합 개시제(D)>
중합 개시제(D)는, 광이나 열의 작용에 의해 활성 라디칼, 산 등을 발생하여, 중합을 개시할 수 있는 화합물이면 특별하게 한정되지 않으며, 공지의 중합 개시제를 이용할 수 있다. 활성 라디칼을 발생하는 중합 개시제로서는, 예를 들면, 알킬페논 화합물, 트리아진 화합물, 아실포스핀옥사이드 화합물, O-아실옥심 화합물 및 비이미다졸 화합물을 들 수 있다.
상기 O-아실옥심 화합물은, 식 (d1)로 나타내어지는 부분 구조를 가지는 화합물이다. 이하, *는 결합손을 나타낸다.
[화학식 17]
Figure pct00027
상기 O-아실옥심 화합물로서는, 예를 들면, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)부탄-1-온-2-이민, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)-3-시클로펜틸프로판-1-온-2-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄-1-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-{2-메틸-4-(3,3-디메틸-2,4-디옥사시클로펜타닐메틸옥시)벤조일}-9H-카르바졸-3-일]에탄-1-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-3-시클로펜틸프로판-1-이민, N-벤조일옥시-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-3-시클로펜틸프로판-1-온-2-이민, N-아세틸옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)-3-시클로헥실프로판-1-온-2-이민 등을 들 수 있다. 이르가큐어 OXE01, OXE02(이상, BASF제), N-1919(ADEKA제) 등의 시판품을 이용하여도 된다. 그중에서도, O-아실옥심 화합물은, N-아세틸옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)-3-시클로헥실프로판-1-온-2-이민, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)부탄-1-온-2-이민, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민 및 N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)-3-시클로펜틸프로판-1-온-2-이민으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종이 바람직하고, N-아세틸옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)-3-시클로헥실프로판-1-온-2-이민, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민이 보다 바람직하다. 이들의 O-아실옥심 화합물이면, 고명도의 광학 필터가 얻어지는 경향이 있다.
상기 알킬페논 화합물은, 식 (d2)로 나타내어지는 부분 구조 또는 식 (d3)으로 나타내어지는 부분 구조를 가지는 화합물이다. 이들의 부분 구조 중, 벤젠환은 치환기를 가지고 있어도 된다.
[화학식 18]
Figure pct00028
식 (d2)로 나타내어지는 부분 구조를 가지는 화합물로서는, 예를 들면, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온, 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온, 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]부탄-1-온 등을 들 수 있다. 이르가큐어 369, 907, 379(이상, BASF제) 등의 시판품을 이용하여도 된다.
식 (d3)으로 나타내어지는 부분 구조를 가지는 화합물로서는, 예를 들면, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-(4-이소프로펜일페닐)프로판-1-온의 올리고머, α,α-디에톡시아세토페논, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.
감도의 점에서, 알킬페논 화합물로서는, 식 (d2)로 나타내어지는 부분 구조를 가지는 화합물이 바람직하다.
상기 트리아진 화합물로서는, 예를 들면, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.
상기 아실포스핀옥사이드 화합물로서는, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 등을 들 수 있다. 이르가큐어(등록상표) 819(BASF제) 등의 시판품을 이용하여도 된다.
상기 비이미다졸 화합물로서는, 예를 들면, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸(예를 들면, 일본국 공개특허 특개평6-75372호 공보, 일본국 공개특허 특개평6-75373호 공보 등 참조), 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(디알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸(예를 들면, 일본국 공보특허 특공소48-38403호 공보, 일본국 공개특허 특개소62-174204호 공보 등 참조), 4,4',5,5'-위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 비이미다졸 화합물(예를 들면, 일본국 공개특허 특개평7-10913호 공보 등 참조) 등을 들 수 있다.
추가로 중합 개시제(D)로서는, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인 화합물; 벤조페논, o-벤조일벤조산 메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등의 벤조페논 화합물; 9,10-페난트렌퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 캄퍼퀴논 등의 퀴논 화합물; 10-부틸-2-클로로아크리돈, 벤질, 페닐글리옥실산 메틸, 티타노센 화합물 등을 들 수 있다. 이들은, 후술의 중합 개시 조제(D1)(특히 아민류)과 조합시켜서 이용하는 것이 바람직하다.
산을 발생하는 중합 개시제로서는, 예를 들면, 4-히드록시페닐디메틸술포늄 p-톨루엔술포네이트, 4-히드록시페닐디메틸술포늄헥사플루오로안티모네이트, 4-아세톡시페닐디메틸술포늄 p-톨루엔술포네이트, 4-아세톡시페닐메틸벤질술포늄헥사플루오로안티모네이트, 트리페닐술포늄 p-톨루엔술포네이트, 트리페닐술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디페닐요오도늄 p-톨루엔술포네이트, 디페닐요오도늄헥사플루오로안티모네이트 등의 오늄염류나, 니트로벤질토실레이트류, 벤조인토실레이트류 등을 들 수 있다.
중합 개시제(D)로서는, 알킬페논 화합물, 트리아진 화합물, 아실포스핀옥사이드 화합물, O-아실옥심 화합물 및 비이미다졸 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 중합 개시제가 바람직하고, O-아실옥심 화합물을 포함하는 중합 개시제가 보다 바람직하다.
중합 개시제(D)의 함유량은, 수지(B) 및 중합성 화합물(C)의 합계량 100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1~30질량부이며, 보다 바람직하게는 1~20질량부이다. 중합 개시제(D)의 함유량이, 상기 범위 내에 있으면, 고감도화하여 노광 시간이 단축되는 경향이 있기 때문에, 광학 필터의 생산성이 향상된다.
<중합 개시 조제(D1)>
중합 개시 조제(D1)은, 중합 개시제에 의해 중합이 개시된 중합성 화합물의 중합을 촉진하기 위하여 이용되는 화합물, 혹은 증감제이다. 중합 개시 조제(D1)을 포함하는 경우, 통상, 중합 개시제(D)와 조합시켜서 이용된다.
중합 개시 조제(D1)로서는, 아민 화합물, 알콕시안트라센 화합물, 티오크산톤 화합물 및 카르본산 화합물 등을 들 수 있다.
상기 아민 화합물로서는, 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민, 4-디메틸아미노벤조산 메틸, 4-디메틸아미노벤조산 에틸, 4-디메틸아미노벤조산 이소아밀, 벤조산 2-디메틸아미노에틸, 4-디메틸아미노벤조산 2-에틸헥실, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭 미힐러케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(에틸메틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있으며, 그중에서도 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 바람직하다. EAB-F(호도가야화학공업(주)제) 등의 시판품을 이용하여도 된다.
상기 알콕시안트라센 화합물로서는, 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센, 9,10-디부톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디부톡시안트라센 등을 들 수 있다.
상기 티오크산톤 화합물로서는, 2-이소프로필티오크산톤, 4-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다.
상기 카르본산 화합물로서는, 페닐술파닐아세트산, 메틸페닐술파닐아세트산, 에틸페닐술파닐아세트산, 메틸에틸페닐술파닐아세트산, 디메틸페닐술파닐아세트산, 메톡시페닐술파닐아세트산, 디메톡시페닐술파닐아세트산, 클로로페닐술파닐아세트산, 디클로로페닐술파닐아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등을 들 수 있다.
이들의 중합 개시 조제(D1)을 이용하는 경우, 그 함유량은, 수지(B) 및 중합성 화합물(C)의 합계량 100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1~30질량부, 보다 바람직하게는 1~20질량부이다. 중합 개시 조제(D1)의 양이 이 범위 내에 있으면, 더 고감도로 착색 패턴을 형성할 수 있어, 광학 필터의 생산성이 향상하는 경향이 있다.
<용제(E)>
용제(E)는, 특별하게 한정되는 것은 아니며, 당해 분야에서 통상 사용되는 용제를 이용할 수 있다. 예를 들면, 에스테르 용제(분자 내에 -COO-를 포함하며, -O-를 포함하지 않는 용제), 에테르 용제(분자 내에 -O-를 포함하며, -COO-를 포함하지 않는 용제), 에테르에스테르 용제(분자 내에 -COO-와 -O-를 포함하는 용제), 케톤 용제(분자 내에 -CO-를 포함하며, -COO-를 포함하지 않는 용제), 알코올 용제(분자 내에 OH를 포함하며, -O-, -CO- 및 -COO-를 포함하지 않는 용제), 방향족 탄화수소 용제, 아미드 용제, 디메틸술폭시드 등을 들 수 있다.
에스테르 용제로서는, 젖산 메틸, 젖산 에틸, 젖산 부틸, 2-히드록시이소부탄산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 n-부틸, 아세트산 이소부틸, 포름산 펜틸, 아세트산 이소펜틸, 프로피온산 부틸, 부티르산 이소프로필, 부티르산 에틸, 부티르산 부틸, 피루브산 메틸, 피루브산 에틸, 피루브산 프로필, 아세토아세트산 메틸, 아세토아세트산 에틸, 시클로헥산올아세테이트 및 γ-부티로락톤 등을 들 수 있다.
에테르 용제로서는, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 3-메톡시-1-부탄올, 3-메톡시-3-메틸부탄올, 테트라히드로푸란, 테트라히드로피란, 1,4-디옥산, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 아니솔, 페네톨 및 메틸아니솔 등을 들 수 있다.
에테르에스테르 용제로서는, 메톡시아세트산 메틸, 메톡시아세트산 에틸, 메톡시아세트산 부틸, 에톡시아세트산 메틸, 에톡시아세트산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸, 3-메톡시프로피온산 에틸, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 2-메톡시프로피온산 메틸, 2-메톡시프로피온산 에틸, 2-메톡시프로피온산 프로필, 2-에톡시프로피온산 메틸, 2-에톡시프로피온산 에틸, 2-메톡시-2-메틸프로피온산 메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산 에틸, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 및 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 등을 들 수 있다.
케톤 용제로서는, 4-히드록시-4-메틸-2-펜탄온, 아세톤, 2-부탄온, 2-헵탄온, 3-헵탄온, 4-헵탄온, 4-메틸-2-펜탄온, 시클로펜탄온, 시클로헥산온 및 이소포론 등을 들 수 있다.
알코올 용제로서는, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 및 글리세린 등을 들 수 있다.
방향족 탄화수소 용제로서는, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 및 메시틸렌 등을 들 수 있다.
아미드 용제로서는, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 및 N-메틸피롤리돈 등을 들 수 있다.
용제는, 에테르 용제, 에테르에스테르 용제 및 아미드 용제로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상인 것이 바람직하고, 에테르 용제, 에테르에스테르 용제 및 아미드 용제를 포함하는 것이 보다 바람직하고, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 및 N-메틸피롤리돈을 포함하는 것이 더 바람직하다.
용제(E)의 함유율은, 착색 수지 조성물의 총량에 대하여, 바람직하게는 70~95질량%이며, 보다 바람직하게는 75~92질량%이다. 바꿔 말하면, 착색 수지 조성물의 고형분은, 바람직하게는 5~30질량%, 보다 바람직하게는 8~25질량%이다. 용제(E)의 함유율이 상기 범위 내에 있으면, 도포 시의 평탄성이 양호해지고, 또한 광학 필터를 형성하였을 때에 색농도가 부족하게 되지 않기 때문에 표시 특성이 양호해지는 경향이 있다.
<레벨링제(F)>
레벨링제(F)로서는, 실리콘계 계면 활성제, 불소계 계면 활성제 및 불소 원자를 가지는 실리콘계 계면 활성제 등을 들 수 있다. 이들은, 측쇄에 중합성기를 가지고 있어도 된다.
실리콘계 계면 활성제로서는, 분자 내에 실록산 결합을 가지는 계면 활성제 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 도레이실리콘 DC3PA, 동(同)SH7PA, 동DC11PA, 동SH21PA, 동SH28PA, 동SH29PA, 동SH30PA, 동SH8400(상품명:도레이·다우코닝(주)제), KP321, KP322, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341(신에츠화학공업(주)제), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF4446, TSF4452 및 TSF4460(모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈·재팬합동회사제) 등을 들 수 있다.
상기 불소계 계면 활성제로서는, 분자 내에 플루오로카본쇄를 가지는 계면 활성제 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 플로라드(등록상표) FC430, 동FC431(스미또모쓰리엠(주)제), 메가팩(등록상표) F142D, 동F171, 동F172, 동F173, 동F177, 동F183, 동F554, 동R30, 동RS-718-K(DIC(주)제), 에프톱(등록상표) EF301, 동EF303, 동EF351, 동EF352(미쓰비시머티리얼전자화성(주)제), 사프론(등록상표) S381, 동S382, 동SC101, 동SC105(AGC(주)(구(舊)아사히글라스(주))제) 및 E5844((주)다이킨파인케미컬연구소제) 등을 들 수 있다.
상기 불소 원자를 가지는 실리콘계 계면 활성제로서는, 분자 내에 실록산 결합 및 플루오로카본쇄를 가지는 계면 활성제 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 메가팩(등록상표) R08, 동BL20, 동F475, 동F477 및 동F443(DIC(주)제) 등을 들 수 있다.
레벨링제(F)의 함유율은, 착색 수지 조성물의 총량에 대하여, 바람직하게는 0.001~0.2질량%이며, 보다 바람직하게는 0.002~0.1질량%, 더 바람직하게는 0.005~0.05질량%이다. 또한, 이 함유율에, 상기 안료 분산제의 함유율은 포함되지 않는다. 레벨링제(F)의 함유율이 상기 범위 내에 있으면, 광학 필터의 평탄성을 양호하게 할 수 있다.
<그 외의 성분>
착색 수지 조성물은, 필요에 따라, 충전제, 다른 고분자 화합물, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 광안정제, 연쇄 이동제 등, 당해 기술 분야에서 공지의 첨가제를 포함하여도 된다.
<착색 수지 조성물의 제조 방법>
착색 수지 조성물은, 예를 들면, 식 (I)및/또는 식 (Ⅱ)로 나타내어지는 화합물, 수지(B), 및 필요에 따라 이용되는 중합성 화합물(C), 중합 개시제(D), 용제(E), 레벨링제(F), 중합 개시 조제(D1) 및 그 외의 성분을 혼합함으로써 조제할 수 있다.
식 (I)또는 식 (Ⅱ)로 나타내어지는 화합물은, 미리 안료 분산액에 포함시켜도 된다. 안료 분산액에, 나머지의 성분을, 소정의 농도가 되도록 혼합함으로써, 목적의 착색 수지 조성물을 조제할 수 있다.
염료를 포함하는 경우의 염료는, 미리 용제(E)의 일부 또는 전부에 용해시켜서 용액을 조제하여도 된다. 당해 용액을, 공경(孔徑) 0.01~1㎛ 정도의 필터로 여과하는 것이 바람직하다.
혼합 후의 착색 수지 조성물을, 공경 0.01~10㎛ 정도의 필터로 여과하는 것이 바람직하다.
[컬러 필터]
본 발명의 착색 수지 조성물로부터 컬러 필터의 착색 패턴을 제조하는 방법으로서는, 포토리소그래프법, 잉크젯법, 인쇄법 등을 들 수 있다. 그중에서도, 포토리소그래프법이 바람직하다. 포토리소그래프법은, 상기 착색 수지 조성물을 기판에 도포하고, 건조시켜서 조성물층을 형성하고, 포토마스크를 개재하여 당해 조성물층을 노광하여, 현상하는 방법이다. 포토리소그래프법에 있어서, 노광 시에 포토마스크를 이용하지 않는 것, 및/또는 현상하지 않는 것에 의해, 상기 조성물층의 경화물인 착색 도막을 형성할 수 있다.
컬러 필터(경화막)의 막두께는, 예를 들면, 30㎛ 이하, 바람직하게는 20㎛ 이하, 보다 바람직하게는 6㎛ 이하, 더 바람직하게는 3㎛ 이하, 보다 더 바람직하게는 1.5㎛ 이하, 특히 바람직하게는 0.5㎛ 이하며, 바람직하게는 0.1㎛ 이상, 보다 바람직하게는 0.2㎛ 이상, 더 바람직하게는 0.3㎛ 이상이다.
기판으로서는, 석영 글라스, 붕규산 글라스, 알루미나규산염 글라스, 표면을 실리카 코팅한 소다라임글라스 등의 글라스판이나, 폴리카보네이트, 폴리메타크릴산 메틸, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 수지판, 실리콘, 상기 기판 상에 알루미늄, 은, 은/구리/팔라듐 합금 박막 등을 형성한 것이 이용된다. 이들의 기판 상에는, 별도의 컬러 필터층, 수지층, 트랜지스터, 회로 등이 형성되어 있어도 된다. 또한 실리콘 기판 상에 HMDS 처리를 실시한 기판을 사용하여도 된다.
포토리소그래프 법에 의한 각 색화소의 형성은, 공지 또는 관용의 장치나 조건으로 행할 수 있다. 예를 들면, 하기와 같이 하여 제조할 수 있다. 우선, 착색 수지 조성물을 기판 상에 도포하고, 가열 건조(프리베이크) 및/또는 감압 건조함으로써 용제 등의 휘발 성분을 제거하여 건조시켜, 평활한 조성물층을 얻는다. 도포 방법으로서는, 스핀 코팅법, 슬릿 코팅법, 슬릿 앤드 스핀 코팅법 등을 들 수 있다. 가열 건조를 행하는 경우의 온도는, 30~120℃가 바람직하고, 50~110℃가 보다 바람직하다. 또한 가열 시간으로서는, 10초간~60분간인 것이 바람직하고, 30초간~30분간인 것이 보다 바람직하다. 감압 건조를 행하는 경우에는, 50~150Pa의 압력 하, 20~25℃의 온도 범위에서 행하는 것이 바람직하다. 조성물층의 막두께는, 특별하게 한정되는 것은 아니며, 목적으로 하는 컬러 필터의 막두께에 따라 적절히 선택하면 된다.
다음으로, 조성물층은, 목적의 착색 패턴을 형성하기 위한 포토마스크를 개재하여 노광된다. 당해 포토마스크상의 패턴은 특별하게 한정되는 것은 아니며, 목적으로 하는 용도에 따른 패턴이 이용된다. 노광에 이용되는 광원으로서는, 250~450㎚의 파장의 광을 발생하는 광원이 바람직하다. 예를 들면, 350㎚ 미만의 광을, 이 파장역(波長域)을 컷트하는 필터를 이용하여 컷트하거나, 436㎚ 부근, 408㎚ 부근, 365㎚ 부근의 광을, 이들의 파장역을 취출하는 밴드패스 필터를 이용하여 선택적으로 취출하거나 하여도 된다. 구체적으로는, 수은등, 발광 다이오드, 메탈할라이드 램프, 할로겐 램프 등을 들 수 있다. 노광면 전체에 균일하게 평행광선을 조사하거나, 포토마스크와 기판의 정확한 위치 맞춤을 행할 수 있기 때문에, 마스크 얼라이너 및 스테퍼 등의 축소 투영 노광 장치 또는 프록시미티 노광 장치를 사용하는 것이 바람직하다.
노광 후의 조성물층을 현상액에 접촉시켜서 현상함으로써, 기판 상에 착색 패턴이 형성된다. 현상에 의해, 조성물층의 미노광부가 현상액에 용해되어 제거된다. 현상액으로서는, 예를 들면, 수산화칼륨, 탄산 수소나트륨, 탄산 나트륨, 수산화테트라메틸암모늄 등의 알칼리성 화합물의 수용액이 바람직하다. 이들의 알칼리성 화합물의 수용액 중의 농도는, 바람직하게는 0.01~10질량%이며, 보다 바람직하게는 0.03~5질량%이다. 추가로, 현상액은, 계면 활성제를 포함하고 있어도 된다. 현상 방법은, 패들법, 디핑법 및 스프레이법 등의 어느 것이어도 된다. 추가로 현상 시에 기판을 임의의 각도로 기울여도 된다.
현상 후에는, 수세(水洗)하는 것이 바람직하다.
추가로, 얻어진 착색 패턴에, 포스트 베이크를 행하는 것이 바람직하다. 포스트 베이크 온도는, 80~250℃가 바람직하고, 100~245℃가 보다 바람직하다. 포스트 베이크 시간은, 1~120분간이 바람직하고, 2~30분간이 보다 바람직하다.
이처럼 하여 얻어진 착색 패턴 및 착색 도막은, 컬러 필터로서 유용하며, 당해 컬러 필터는, 표시 장치(예를 들면, 액정 표시 장치, 유기 EL 장치 등), 전자 페이퍼, 고체 촬상 소자 등에 이용되는 컬러 필터로서 유용하다.
본원은, 2020년 9월 1일에 출원된 일본국 특허출원 제2020-147098호에 의거하는 우선권의 이익을 주장하는 것이다. 2020년 9월 1일에 출원된 일본국 특허출원 제2020-147098호의 명세서의 전 내용이, 본원에 참고를 위하여, 원용된다.
[실시예]
이하, 실시예를 들어서 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 물론 하기 실시예에 의해 제한을 받는 것은 아니며, 전·후기의 취지에 적합할 수 있는 범위에서 적당히 변경을 추가하여 실시하는 것도 물론 가능하고, 그들은 모두 본 발명의 기술적 범위에 포함된다. 예 중, 함유량 내지 사용량을 나타내는 % 및 부는, 특별히 언급하지 않는 한 질량 기준이다.
화합물의 구조는 질량 분석(LC; Agilent제 1200형, MASS; Agilent제 LC/MSD형)으로 확인하였다.
[실시예 1]
식 (1)로 나타내어지는 화합물(도쿄화성공업(주)제) 1.0부, 식 (2)로 나타내어지는 화합물(후지 필름와코준야쿠공업(주)제) 0.41부, 트리에틸아민(도쿄화성공업(주)제) 0.18부, N-메틸피롤리돈(NMP)(후지 필름와코준야쿠공업(주)제) 5.0부를 실온에서 혼합하고, 120℃로 승온하여 6시간 교반하였다. 반응액을 실온까지 냉각 후, 이온 교환수 50부를 투입하였다. 얻어진 석출물을 흡인 여과의 잔사로서 취득하고, 이온 교환수 50부에서 세정 후, 60℃의 가열 하 감압 건조하고, 식 (3)으로 나타내어지는 화합물 1.23부를 얻었다. 수율은 92%였다.
[화학식 19]
Figure pct00029
식 (3)으로 나타내어지는 화합물의 동정
(질량 분석) 이온화 모드=ESI+: m/z=[M+H]+ 773.2
Exact Mass: 772.2
[비교예 1]
일본국 공개특허 특개2016-75837호 공보에 기재된 합성법으로 식 (4)로 나타내어지는 화합물을 얻었다.
[화학식 20]
Figure pct00030
[수지 합성예 1]
환류 냉각기, 적하 깔때기 및 교반기를 구비한 플라스크 내에 질소를 적당량 흘려서 질소 분위기로 치환하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 340부를 넣고, 교반하면서 80℃까지 가열하였다. 이어서, 아크릴산 57부, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일아크릴레이트 및 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-9-일아크릴레이트의 혼합물(함유비는 몰비로 1:1) 54부, 벤질메타크릴레이트 239부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 73부의 혼합 용액을 5시간 걸쳐서 적하하였다. 한편, 중합 개시제 2,2-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 40부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 197부에 용해한 용액을 6시간 걸쳐서 적하하였다. 중합 개시제 함유 용액의 적하 종료 후, 80℃로 3시간 보지한 후, 실온까지 냉각하고, B형 점도계(23℃)로 측정한 점도 137mPa·s, 고형분 36.8중량%의 공중합체(수지(B-1)) 용액을 얻었다. 생성한 공중합체의 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은 1.0×103, 분산도는 1.97, 고형분 환산의 산가는 111㎎-KOH/g이었다. 수지(B-1)은, 이하의 구조 단위를 가진다.
[화학식 21]
Figure pct00031
[분산액 제조예 1]
실시예 1에서 얻어진 식 (3)으로 나타내어지는 화합물을 5부, 분산제(BYK사제 BYKLPN-6919)(고형분 환산)를 4부, 수지(B-1)(고형분 환산)을 4부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 87부를 혼합하고, 0.2㎛의 지르코니아 비드 300부를 추가하여, 페인트 컨디셔너(LAU사제)를 사용하여 1시간 진탕하였다. 그 후, 지르코니아 비드를 여과에 의해 제거하여 분산액(A-1)을 얻었다.
[분산액 제조예 2]
비교예 1에서 얻어진 식 (4)로 나타내어지는 화합물을 5부, 분산제(BYK사제 BYKLPN-6919)(고형분 환산)를 8부, 수지(B-1)(고형분 환산)을 8부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 79부를 혼합하고, 0.2㎛의 지르코니아 비드 300부를 추가하여, 페인트 컨디셔너(LAU사제)를 사용하여 1시간 진탕하였다. 그 후, 지르코니아 비드를 여과에 의해 제거하여 분산액(A-2)를 얻었다.
[착색 수지 조성물 1의 조제]
하기의 성분을 혼합함으로써, 착색 수지 조성물 1을 얻었다.
분산액(A-1) 432부
수지(B-1) 43부(고형 환산)
중합성 화합물(C-1) : 디펜타에리스리톨폴리아크릴레이트 : 상품명 A-9550 : 신나카무라화학공업(주)제 20부
중합성 화합물(C-2) : 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 : 상품명 A-TMPT : 신나카무라화학공업(주)제 20부
중합 개시제(D) : N-아세틸옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)-3-시클로헥실프로판-1-온-2-이민 : 상품명 PBG-327 : O-아실옥심 화합물; 상주강력전자신재료(주)제 5.0부
용제(E) : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 680부
레벨링제(F) : 폴리에테르 변성 실리콘 오일 : 상품명 도레이실리콘 SH8400 : 도레이다우코닝(주)제 0.1부
[비교 착색 수지 조성물 1의 조제]
하기의 성분을 혼합함으로써, 비교 착색 수지 조성물 1을 얻었다.
분산액(A-2) 517부
수지(B-1) 19부(고형 환산)
중합성 화합물(C-1) : 디펜타에리스리톨폴리아크릴레이트 : 상품명 A-9550 : 신나카무라화학공업(주)제 20부
중합성 화합물(C-2) : 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 : 상품명 A-TMPT : 신나카무라화학공업(주)제 20부
중합 개시제(D) : N-아세틸옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)-3-시클로헥실프로판-1-온-2-이민 : 상품명 PBG-327 : O-아실옥심 화합물 : 상주강력전자신재료(주)제 5.0부
용제(E) : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 855부
레벨링제(F) : 폴리에테르 변성 실리콘 오일 : 상품명 도레이실리콘 SH8400 : 도레이다우코닝(주)제 0.1부
[착색 도막의 형성]
가로세로 5㎝의 글라스 기판(이글 2000; 코닝사제) 상에, 착색 수지 조성물 1 및 비교 착색 수지 조성물 1에서 조제한 착색 수지 조성물을 스핀 코팅법으로 도포한 후, 100℃에서 3분간 프리베이크하여 착색 도막을 얻었다.
[착색 도막의 포스트 베이크 전후의 색변화]
프리베이크 후의 착색 도막에 대하여, 측색기(OSP-SP-200; 올림푸스(주)제)를 이용하여 분광을 측정하고, C광원의 특성 함수를 이용하여 CIE의 XYZ표색계에 있어서의 xy색도 좌표(x, y)와 자극값 Y를 측정하였다. 또한 프리베이크 후의 착색 도막에 대하여 투과율을 측정하였다.
그 후, 프리베이크 후의 착색 도막을 230℃에서 10분간 포스트 베이크하였다.
포스트 베이크 후의 착색 도막에 대하여, 상기와 마찬가지의 방법으로, xy색도 좌표(x, y)와 자극값 Y를 측정하였다. 포스트 베이크 전후의 측정값으로부터 색차 △Eab를 계산하였다. △Eab는 작을수록 색변화가 작은 것을 의미한다. 결과를 표 11에 나타낸다.
또한 포스트 베이크 후의 착색 도막에 대하여, 투과율을 측정하였다. 어느 파장 λ에 있어서의 포스트 베이크 전의 투과율을 Xλ, 포스트 베이크 후의 투과율을 Yλ로 하였을 때에, 투과율의 변화의 크기|(1-Yλ/Xλ)×100|(%)를 500㎚~650㎚까지 5㎚간격으로 계산하여, 얻어진 값의 평균값을 「500㎚~650㎚의 투과율의 변화율」로 하였다. 결과를 표 11에 나타낸다.
Figure pct00032

Claims (5)

  1. 식 (I) 또는 식 (Ⅱ)로 나타내어지는 화합물.
    [화학식 1]
    Figure pct00033

    [화학식 2]
    Figure pct00034

    [식 (I)중,
    R1은, 수소 원자 또는 치환기를 가져도 되는 탄소수 1~20의 탄화수소기를 나타낸다.
    R2는, 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1~20의 탄화수소기 또는 Z3과 R1을 연결하는 단결합을 나타낸다.
    Y1 및 Z1은, 각각 독립적으로, 산소 원자 또는 유황 원자를 나타낸다.
    Z2 및 Z3은, 각각 독립적으로, 단결합, 산소 원자 또는 유황 원자를 나타낸다.
    단, Y1, Z1, Z2 및 Z3 중 적어도 1개는 유황 원자를 나타낸다.
    X1~X4는, 각각 독립적으로, -R4, -OR4, -SR4, 할로겐 원자, 니트로기 또는 치환기를 가져도 되는 술파모일기를 나타낸다.
    R4는, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~20의 탄화수소기를 나타낸다.
    n1~n4는, 각각 독립적으로, 0~4의 정수를 나타낸다.
    식 (II)중,
    R3은, 수소 원자 또는 치환기를 가져도 되는 탄소수 1~20의 탄화수소기를 나타낸다.
    Y2 및 Z4는, 각각 독립적으로, 산소 원자 또는 유황 원자를 나타낸다.
    Z5는, 단결합, 산소 원자 또는 유황 원자를 나타낸다.
    단, Y2, Z4 및 Z5 중 적어도 1개는 유황 원자를 나타낸다.
    X5~X12는, 각각 독립적으로, -R5, -OR5, -SR5, 할로겐 원자, 니트로기 또는 치환기를 가져도 되는 술파모일기를 나타낸다.
    R5는, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~20의 탄화수소기를 나타낸다.
    n5~n12는, 각각 독립적으로, 0~4의 정수를 나타낸다.]
  2. 제 1 항에 기재된 화합물과 수지를 포함하는 착색 수지 조성물.
  3. 제 2 항에 있어서,
    중합성 화합물과 중합 개시제를 포함하는 착색 수지 조성물.
  4. 제 2 항 또는 제 3 항에 기재된 착색 수지 조성물로부터 형성되는 컬러 필터.
  5. 제 4 항에 기재된 컬러 필터를 포함하는 표시 장치.
KR1020237010260A 2020-09-01 2021-08-18 화합물 KR20230058663A (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020147098 2020-09-01
JPJP-P-2020-147098 2020-09-01
PCT/JP2021/030239 WO2022050051A1 (ja) 2020-09-01 2021-08-18 化合物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20230058663A true KR20230058663A (ko) 2023-05-03

Family

ID=80490816

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020237010260A KR20230058663A (ko) 2020-09-01 2021-08-18 화합물

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20230348502A1 (ko)
EP (1) EP4209555A4 (ko)
JP (1) JPWO2022050051A1 (ko)
KR (1) KR20230058663A (ko)
CN (1) CN115989286B (ko)
TW (1) TW202210492A (ko)
WO (1) WO2022050051A1 (ko)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016075837A (ja) 2014-10-08 2016-05-12 東洋インキScホールディングス株式会社 カラーフィルタ用着色組成物及びカラーフィルタ

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT320064B (de) 1971-09-17 1975-01-27 Ludwig Ludin Dipl Ing Stator für Elektroumlaufmaschine
JPH0651737B2 (ja) 1986-01-27 1994-07-06 東洋紡績株式会社 感光性組成物
JPH0790662B2 (ja) * 1990-08-10 1995-10-04 東洋インキ製造株式会社 コンパクトディスク対応またはコンパクトディスク−rom対応の追記型光ディスク
JPH0675373A (ja) 1992-08-28 1994-03-18 Toppan Printing Co Ltd 感光性着色組成物およびカラーフィルターの製造方法およびカラーフィルター
JPH0675372A (ja) 1992-08-28 1994-03-18 Toppan Printing Co Ltd 感光性着色組成物およびカラーフィルターの製造方法およびカラーフィルター
JP3365434B2 (ja) 1993-06-22 2003-01-14 三菱化学株式会社 光重合性組成物及び感光材料
JP5504627B2 (ja) 2008-07-01 2014-05-28 住友化学株式会社 着色感光性樹脂組成物
JP4492760B1 (ja) 2009-12-01 2010-06-30 東洋インキ製造株式会社 カラーフィルタ用青色着色組成物、およびカラーフィルタ
CN102914943B (zh) * 2011-08-04 2018-01-12 住友化学株式会社 着色固化性树脂组合物
JP5783086B2 (ja) * 2012-02-29 2015-09-24 東洋インキScホールディングス株式会社 カラーフィルタ用緑色着色組成物、およびカラーフィルタ
CN103454859A (zh) * 2012-05-29 2013-12-18 住友化学株式会社 着色固化性树脂组合物
JP6518436B2 (ja) * 2014-12-19 2019-05-22 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. 着色硬化性樹脂組成物
WO2019022051A1 (ja) * 2017-07-26 2019-01-31 Dic株式会社 カラーフィルタ用顔料組成物及びカラーフィルタ
JP2020052071A (ja) * 2018-09-21 2020-04-02 東洋インキScホールディングス株式会社 カラーフィルタ用感光性着色組成物及びカラーフィルタ
JP7159925B2 (ja) 2019-03-12 2022-10-25 トヨタ自動車株式会社 エアバッグ装置
CN110092870B (zh) * 2019-04-08 2021-03-16 佛山市晟世纺织科技有限公司 染料粘合剂组合物

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016075837A (ja) 2014-10-08 2016-05-12 東洋インキScホールディングス株式会社 カラーフィルタ用着色組成物及びカラーフィルタ

Also Published As

Publication number Publication date
US20230348502A1 (en) 2023-11-02
JPWO2022050051A1 (ko) 2022-03-10
TW202210492A (zh) 2022-03-16
EP4209555A1 (en) 2023-07-12
CN115989286B (zh) 2023-09-29
EP4209555A4 (en) 2024-10-23
CN115989286A (zh) 2023-04-18
WO2022050051A1 (ja) 2022-03-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN115916907B (zh) 化合物
KR20230063362A (ko) 착색 수지 조성물
CN108693701B (zh) 着色固化性树脂组合物
KR20230058663A (ko) 화합물
WO2024154721A1 (ja) 着色硬化性樹脂組成物
WO2024154720A1 (ja) 着色硬化性樹脂組成物
KR20240135796A (ko) 착색 조성물
WO2023037996A1 (ja) 着色硬化性組成物
WO2024058103A1 (ja) 化合物
WO2023037995A1 (ja) 着色硬化性組成物
KR20240101420A (ko) 착색 경화성 조성물, 컬러 필터, 및 표시 장치
WO2024058102A1 (ja) 着色剤
KR20240135797A (ko) 착색 조성물
KR20240102859A (ko) 착색 경화성 조성물, 컬러 필터, 및 표시 장치
KR20240134956A (ko) 화합물 및 착색 수지 조성물
CN118584748A (zh) 固化性树脂组合物、滤色器和显示装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination