KR20230056282A - 용접 지그 클리닝 장치 - Google Patents

용접 지그 클리닝 장치 Download PDF

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KR20230056282A
KR20230056282A KR1020210140132A KR20210140132A KR20230056282A KR 20230056282 A KR20230056282 A KR 20230056282A KR 1020210140132 A KR1020210140132 A KR 1020210140132A KR 20210140132 A KR20210140132 A KR 20210140132A KR 20230056282 A KR20230056282 A KR 20230056282A
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welding jig
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이원구
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주식회사 엘지에너지솔루션
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Abstract

본 개시는 일 실시예로서 복수의 용접 지그가 배치되는 지그 거치대; 상기 지그 거치대 상에 배치되며, 상기 복수의 용접 지그를 클리닝(cleaning)하는 블라스트(blast) 노즐; 및 상기 블라스트 노즐을 제어하는 컨트롤러; 를 포함하며, 상기 블라스트 노즐은 상기 지그 거치대 상에서 상기 복수의 용접 지그가 서로 이격된 방향인 제1 방향으로 이동하여, 상기 복수의 용접 지그 각각 상에서 상기 복수의 용접 지그 각각을 클리닝하는, 용접 지그 클리닝 장치를 제공한다.

Description

용접 지그 클리닝 장치 {WELDING JIG CLEANING DEVICE}
본 개시는 용접 지그 클리닝 장치에 관한 것이다.
모바일 기기에 대한 기술 개발과 수요가 증가함에 따라, 재충전이 가능한 이차 전지는 다양한 모바일 기기의 에너지원으로서 광범위하게 사용되고 있다. 또한, 이차 전지는 기존의 가솔린 차량이나 디젤 차량의 대기오염 등을 해결하기 위한 방안으로 제시되고 있는 전기 자동차, 하이브리드 자동차 등의 에너지원으로서 또한 주목받고 있다.
이차 전지는 전지 케이스의 형상에 따라 코인형 전지, 원통형 전지, 각형 전지 및 파우치형 전지로 분류된다. 일반적으로, 전지 케이스에 내장되는 전극 조립체는 양극과 음극 사이에 분리막을 개재하여 권취한 젤리-롤형, 양극과 음극 사이에 분리막이 개재된 복수의 단위 셀들을 적층한 스택형, 및 단위 셀들을 분리 필름으로 권취한 스택/폴딩형으로 분류된다.
이차 전지의 전극 조립체로부터 돌출되는 전극 탭은 레이저 용접, 초음파 용접 등을 통해 전극 리드와 연결된다. 이 때, 일반적으로 전극 탭 및 전극 리드를 용접 지그 상에 배치하고 용접을 수행하게 되는데, 용접 시 발생하는 스패터(spatter) 등의 이물질이 용접 지그에 부착되어 용접 품질을 저하시키는 문제가 있다. 따라서, 용접 지그의 이물질을 제거하기 위한 클리닝을 수행할 필요가 있다.
한국 공개특허 제10-2021-0046406호
본 개시의 목적 중 하나는 용접 지그의 이물질을 제거하는 클리닝의 편의성 및 효율성을 향상시킬 수 있는 용접 지그 클리닝 장치를 제공하기 위한 것이다.
본 개시의 목적 중 다른 하나는 용접 지그 별로 상이한 클리닝 시간을 설정할 수 있는 용접 지그 클리닝 장치를 제공하기 위한 것이다.
상기 과제를 해결하기 위하여, 본 개시는 일 실시예로서 복수의 용접 지그가 배치되는 지그 거치대; 상기 지그 거치대 상에 배치되며, 상기 복수의 용접 지그를 클리닝(cleaning)하는 블라스트(blast) 노즐; 및 상기 블라스트 노즐을 제어하는 컨트롤러; 를 포함하며, 상기 블라스트 노즐은 상기 지그 거치대 상에서 상기 복수의 용접 지그가 서로 이격된 방향인 제1 방향으로 이동하여, 상기 복수의 용접 지그 각각 상에서 상기 복수의 용접 지그 각각을 클리닝하는, 용접 지그 클리닝 장치를 제공한다.
본 개시의 효과 중 하나로 용접 지그의 이물질을 제거하는 클리닝의 편의성 및 효율성을 향상시킬 수 있는 용접 지그 클리닝 장치를 제공할 수 있다.
본 개시의 효과 중 다른 하나로 용접 지그 별로 상이한 클리닝 시간을 설정할 수 있는 용접 지그 클리닝 장치를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 사용되는 용접 지그에 의해 전극 탭 및 전극 리드가 고정된 상태를 나타내는 개략적인 단면도다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 사용되는 용접 지그의 개략적인 평면도다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 용접 지그 클리닝 장치의 개략적인 측면도다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 지그 거치대의 개략적인 평면도다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 블라스트 노즐의 개략적인 단면도다.
이하 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 도면에는 설명의 편의를 위해 각 구성 중 전부 또는 일부가 과장되게 표현되어 있을 수 있다. 또한, 본 발명이 첨부된 도면이나 본 명세서에서 설명된 내용으로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명이 다양한 형태로 구현될 수 있음은 당업자에게 명백할 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 사용되는 용접 지그에 의해 전극 탭 및 전극 리드가 고정된 상태를 나타내는 개략적인 단면도다.
전극 조립체(11)의 전극 탭(12) 및 전극 리드(13)는 레이저 용접 등을 통해 결합될 수 있다. 레이저 용접 시, 전극 조립체(11)의 전극 탭(12) 및 전극 리드(13)는 용접 지그(20)에 의해 고정될 수 있으며, 구체적으로 복수의 용접 지그(20)인 제1 용접 지그(21) 및 제2 용접 지그(22) 사이에 배치되어 가압됨으로써 고정될 수 있다. 제1 용접 지그(21) 및 제2 용접 지그(22) 중 하나는 전극 탭(12) 상에 배치되고 다른 하나는 전극 리드(13) 상에 배치되어, 제1 용접 지그(21) 및 제2 용접 지그(22)가 전극 탭(12) 및 전극 리드(13)를 양측에서 가압하여 고정시킬 수 있다. 예컨대, 제1 용접 지그(21)는 전극 리드(13) 상에 배치되고, 제2 용접 지그(22)는 전극 탭(12) 상에 배치될 수 있다.
용접 지그(20)는 레이저 용접 시 레이저가 조사되는 영역에 형성된 홀(h)을 가질 수 있다. 홀(h)은 용접 지그(20)의 일면에서 타면 사이를 관통하는 구조일 수 있다.
한편, 레이저 용접 과정에서는 스패터(spatter) 등의 이물질이 발생할 수 있는데, 이와 같은 이물질이 용접 지그(20)에 부착되는 경우, 전극 탭(12) 및 전극 리드(13)의 용접 품질을 저하시키는 문제가 있을 수 있다. 따라서, 용접 지그(20)의 이물질을 제거하기 위한 클리닝을 수행할 필요가 있다. 특히, 용접 지그(20)의 홀(h) 주위에 다량의 스패터가 부착될 수 있다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 사용되는 용접 지그의 개략적인 평면도다.
도면을 참고하면, 전극 탭(12) 및 전극 리드(13)를 가압하는 제1 용접 지그(21) 및 제2 용접 지그(22)는 서로 다른 형태일 수 있다.
제1 용접 지그(21) 및 제2 용접 지그(22) 중 적어도 하나는 복수의 용접 지그로 구성될 수 있다. 예컨대, 도면에 도시된 바와 같이 제1 용접 지그(21)는 제1-1 용접 지그(21A) 및 제1-2 용접 지그(21B)을 포함할 수 있으며, 이들이 결합되어 제1 용접 지그(21)를 구성하는 것일 수 있다. 제2 용접 지그(22)도 복수의 용접 지그로 구성될 수도 있음은 물론이다. 다만, 제1 용접 지그(21) 및 제2 용접 지그(22)는 단수의 용접 지그로 구성되는 것일 수도 있다.
복수의 용접 지그(20)를 구성하는 복수의 유닛 각각도 서로 다른 형태일 수 있다. 예컨대, 도시된 바와 같이, 제1-1 용접 지그(21A) 및 제1-2 용접 지그(21B)은 서로 다른 형태일 수 있다.
한편, 용접 지그(20)의 형태에 따라 클리닝에 요구되는 시간은 상이할 수 있다. 예컨대, 제1-1 용접 지그(21A), 제1-2 용접 지그(21B) 및 제2 용접 지그(22) 각각의 클리닝에 요구되는 시간은 상이할 수 있다. 후술하는 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따르면 복수의 용접 지그(20) 각각에 대한 클리닝 시간을 독립적으로 설정할 수 있다. 이를 통해 클리닝의 편의성 및 효율성이 향상될 수 있다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 용접 지그 클리닝 장치의 개략적인 측면도다.
도면을 참고하면, 본 발명의 일 실시예에 용접 지그 클리닝 장치는 복수의 용접 지그(20)가 배치되는 지그 거치대(100), 지그 거치대(100) 상에 배치되며, 복수의 용접 지그(20)를 클리닝(cleaning)하는 블라스트(blast) 노즐(200) 및 블라스트 노즐(200)을 제어하는 컨트롤러(300)를 포함한다.
지그 거치대(100)는 클리닝 시 복수의 용접 지그(20)를 고정시킬 수 있다. 후술하는 바와 같이, 지그 거치대(100)는 자성부(130)를 포함할 수 있으며, 지그 거치대(100)는 자성부(130)의 자성에 의해 복수의 용접 지그(20)를 고정시키는 것일 수 있다.
블라스트 노즐(200)은 복수의 용접 지그(20)를 클리닝하는 역할을 수행한다. 블라스트 노즐(200)은 샌드 및 압축 공기를 분사함으로써 복수의 용접 지그(20)를 클리닝하는 것일 수 있다. 이 경우, 용접 지그 클리닝 장치는 샌드 박스 및 압축 공기 공급부를 더 포함할 수 있다.
블라스트 노즐(200)은 복수의 용접 지그(20)가 서로 이격된 방향인 제1 방향(1)으로 이동 가능하다. 여기서 제1 방향(1)은 복수의 용접 지그(20)가 서로 이격된 양 방향을 모두 포함한다. 즉, 도면 상으로 제1 방향(1)은 좌측을 향하는 방향 및 우측을 방하는 방향을 모두 포함하는 의미이다. 이와 같이, 블라스트 노즐(200)은 복수의 용접 지그(20)가 서로 이격된 방향인 제1 방향(1)으로 이동하여, 복수의 용접 지그(20) 각각 상에 위치할 수 있으며, 복수의 용접 지그(20) 각각 상에서 복수의 용접 지그(20) 각각을 클리닝할 수 있다.
또한, 블라스트 노즐(200)은 제1 방향(1)과 평면 상에서 수직한 방향인 제2 방향(2)으로도 이동 가능하다. 여기서 제2 방향(2)은 제1 방향(1)과 평면 상에서 수직한 양 방향을 모두 포함한다. 즉, 도면 상으로 제2 방향(1)은 지면으로 들어가는 방향 및 지면에서 나오는 방향을 모두 포함하는 의미이다. 이와 같이, 블라스트 노즐(200)은 제2 방향(2)으로 이동하며 복수의 용접 지그(20) 중 하나를 클리닝하고, 제1 방향(1)으로 이동하여 복수의 용접 지그(20) 중 다른 하나 상에 위치한 후 다시 제2 방향(2)으로 이동하며 복수의 용접 지그(20) 중 다른 하나를 클리닝할 수 있다. 전술한 바와 같이, 용접 지그(20)의 홀(h) 주위에 다량의 이물질이 부착될 수 있으며, 따라서 블라스트 노즐(200)은 용접 지그(20)의 홀(h)이 형성된 영역 상에서 제2 방향(2)으로 이동하며 복수의 용접 지그(20) 각각을 클리닝하는 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
한편, 용접 지그(20)를 클리닝하는 경우, 지그 거치대(10) 상에 하나의 용접 지그(20)를 배치하고 클리닝을 수행한 다음, 지그 거치대(10) 상에 다른 용접 지그(20)를 배치하고 클리닝을 수행하는 경우가 있을 수 있다. 이와 같이 지그 거치대(10) 상에 용접 지그(20)를 순차적으로 배치하고 클리닝을 수행하는 경우, 클리닝의 대상이 되는 용접 지그(20)의 반복적인 교체가 요구되어 많은 시간이 소요될 수 있으며, 이는 편의성 및 효율성 측면에서 바람직하지 않을 수 있다.
반면, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 블라스트 노즐(200)이 제1 방향(1) 및 제2 방향(2)으로 이동할 수 있으므로, 복수의 용접 지그(20)를 지그 거치대(10) 상에 배치하고 클리닝을 수행할 수 있다. 따라서, 용접 지그(20)의 반복적인 교체가 요구되지 않으므로 클리닝의 편의성 및 효율성이 향상될 수 있다.
컨트롤러(300)는 블라스트 노즐(200)을 제어하며, 용접 지그 클리닝 장치의 다른 구성을 더 제어할 수 있다.
예컨대, 컨트롤러(300)는 블라스트 노즐(200)이 제1 방향(1) 및 제2 방향(2)으로의 이동을 제어할 수 있다. 구체적으로, 컨트롤러(300)는 블라스트 노즐(200)이 제1 방향(1)으로 이동하여 용접 지그(20) 상에 위치하도록 하고, 제2 방향(2)으로 이동하며 용접 지그(20)를 클리닝하도록 제어할 수 있다. 이를 위해, 컨트롤러(300)는 블라스트 노즐(200)이 제1 방향(1) 및 제2 방향(2)으로의 이동 방향 및 이동 거리를 모두 제어할 수 있다.
또한, 컨트롤러(300)는 블라스트 노즐(200)이 용접 지그(20)를 클리닝하는 시간을 제어할 수 있다. 이 때, 컨트롤러(300)는 블라스트 노즐(200)이 복수의 용접 지그(20) 각각을 클리닝하는 시간을 서로 동일하거나 서로 상이하게 제어 가능하다. 복수의 용접 지그(20) 각각이 클리닝 되는 시간은 모두 동일할 수도 있고, 모두 상이할 수도 있으며, 일부는 동일하고 다른 일부는 상이할 수도 있다. 예컨대, 컨트롤러(300)는 블라스트 노즐(200)이 제1-1 용접 지그(21A)은 180초, 제1-2 용접 지그(21B)은 120초, 제2 용접 지그(22)는 90초의 시간동안 클리닝하도록 제어할 수 있다. 또는, 컨트롤러(300)는 블라스트 노즐(200)이 제1-1 용접 지그(21A)은 180초, 제1-2 용접 지그(21B)은 180초, 제2 용접 지그(22)는 90초의 시간동안 클리닝하도록 제어할 수 있다. 다만, 컨트롤러(300)에 의해 제어되는 용접 지그(20) 각각에 대한 클리닝 시간이 전술한 예들로 제한되는 것은 아님은 물론이다.
이 때, 복수의 용접 지그(20) 각각은 지그 거치대(100)의 특정 위치 각각에 배치되고, 컨트롤러(300)는 블라스트 노즐(200)이 지그 거치대(100)의 특정 위치 각각 상에서 용접 지그를(20) 클리닝하는 시간 각각을 설정함으로써 블라스트 노즐(200)이 복수의 용접 지그(20) 각각을 클리닝하는 시간을 서로 동일하거나 서로 상이하게 제어 가능한 것일 수 있다. 달리 말하면, 컨트롤러(300)는 블라스트 노즐(200)이 특정 위치에서 클리닝하는 시간을 설정할 수 있으며, 용접 지그(20)는 상기 특정 위치에서 블라스트 노즐(200)에 의하여 클리닝되도록 배치될 수 있다. 여기서, 블라스트 노즐(200)이 클리닝하는 시간은 상기 특정 위치에 배치되는 용접 지그(20)의 클리닝에 요구되는 시간으로 설정될 수 있음은 물론이다.
또한, 컨트롤러(300)는 블라스트 노즐(200)이 복수의 용접 지그(20) 중 일부 용접 지그를 클리닝하는 것을 건너뛰도록 제어 가능하다. 달리 말하면, 컨트롤러(300)는 블라스트 노즐(200)이 용접 지그(20)를 클리닝하는 시간이 0초가 되도록 제어할 수 있다. 이를 통해, 클리닝이 요구되지 않는 용접 지그(20)에 대해서는 클리닝을 수행하지 않을 수 있다.
한편, 용접 지그(20)를 클리닝하는 경우 용접 지그(20)의 형태(종류), 이물질의 양 등에 따라 상이한 클리닝 시간을 설정할 필요가 있을 수 있다. 전술한 바와 같이 지그 거치대(10) 상에 용접 지그(20)를 순차적으로 배치하고 클리닝을 수행하는 경우, 클리닝의 대상이 되는 용접 지그(20)의 교체 시마다 클리닝 시간의 수정이 요구되며, 이는 편의성 및 효율성 측면에서 바람직하지 않을 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 용접 지그(20)의 형태, 이물질의 양 등에 따라 용접 지그(20)를 지그 거치대(10)의 특정 위치에 배치시키고, 각각의 위치에서 클리닝하는 시간을 각각의 용접 지그(20)의 클리닝에 요구되는 시간만큼 설정하고 클리닝을 수행할 수 있다. 이를 통해 클리닝의 편의성 및 효율성이 더욱 향상될 수 있다.
컨트롤러(300)는 자성부(130)의 온(on) 및 오프(off), 후술하는 압축 공기의 유량 등 용접 지그 클리닝 장치의 다른 요소를 더 제어할 수 있다.
한편, 전술한 바와 같이 블라스트 노즐(200)이 샌드 및 압축 공기를 분사함으로써 복수의 용접 지그(20)를 클리닝하는 것인 경우, 용접 지그 클리닝 장치는 샌드 박스(미도시) 및 압축 공기 공급부(미도시)를 포함할 수 있다.
압축 공기 공급부는 압축 공기를 공급하는데, 압축 공기 공급부로 공급되는 압축 공기 중 적어도 일부는 샌드 박스에 공급되어 샌드와 혼합된다. 압축 공기의 유속, 유량 등은 컨트롤러(300)에 의해 조절될 수 있으며, 분사되는 샌드의 양은 압축 공기의 유속, 유량 등에 의해 조절될 수 있다. 이와 같이 혼합된 압축 공기 및 샌드는 함께 블라스트 노즐(200)로 공급되고, 이로부터 분사되어 용접 지그(20)를 클리닝할 수 있다.
예컨대, 샌드 박스에는 샌드가 배치되며, 공기 배출구(미도시)가 위치하고, 공기 배출구에는 3방 밸브(미도시)가 위치할 수 있다. 3방 밸브의 제1 구멍으로 샌드 박스의 내부에서 혼합된 샌드와 압축 공기의 일부인 제1 압축 공기가 유입되고, 제2 구멍으로는 압축 공기 공급부에서 공급되는 다른 일부 압축 공기인 제2 압축 공기가 유입될 수 있다. 제2 구멍으로 유입되는 압축 공기는 상기 제1 구멍으로 유입되는 혼합된 샌드 및 압축 공기와 함께 3방 밸브의 제3 구멍으로 배출될 수 있다. 제3 구멍을 통해 배출되는 샌드는 압축 공기와 함께 블라스트 노즐(500)로 공급될 수 있다. 블라스트 노즐(500)로 공급되는 샌드의 양과 유속은 제1 압축 공기와 제2 압축 공기로 조절할 수 있고, 1 압축 공기와 제2 압축 공기의 이송 라인에는 조절 밸브(미도시)가 존재하여 압축 공기의 유량을 조절할 수 있다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 지그 거치대의 개략적인 평면도다.
지그 거치대(100)는 바디(110), 다이(120) 및 자성부(130)를 포함할 수 있다.
바디(110)는 바디(110) 상에 배치되는 다이(120)를 지지할 수 있다. 바디(110)의 형상은 특별히 제한되지 않는다.
다이(120)는 다이(120) 상에 배치되는 용접 지그(20)를 지지할 수 있다. 다이(120)는 복수의 다이(120) 각각 상에 배치되는 복수의 용접 지그(20) 각각을 지지하는 복수의 다이(120)일 수 있다. 복수의 다이(120)는 제1 방향(1)으로 서로 이격될 수 있다.
자성부(130)는 다이(120) 상에 배치되는 용접 지그(20)를 자성으로 고정시킬 수 있다. 자성부(130)는 복수의 용접 지그(20) 각각을 고정시키는 복수의 자성부(130)일 수 있으며, 복수의 자성부(130) 각각은 복수의 다이(120) 각각 상에 배치될 수 있다.
자성부(130)는 영구 자석 또는 전자석으로 구성될 수 있다. 자성부(130)가 전자석으로 구성되는 경우 자성부(130)는 전류의 흐름에 따라 자기화 여부 조정할 수 있고, 자력의 제어할 수 있으므로 자성부(130)는 전자석으로 구성되는 것이 바람직하다.
다만, 본 발명의 일 실시예에 따른 지그 거치대(100)의 구조가 도면에 도시된 구조로 제한되는 것은 아니다. 예컨대, 지그 거치대(100)는 바디(110) 상에 자성부(130)가 직접 배치된 구조일 수도 있으며, 따라서 복수의 용접 지그(20)는 별도의 다이(120) 없이 바디(110) 상에 배치될 수도 있을 것이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 블라스트 노즐의 개략적인 단면도다.
블라스트 노즐(200)은 샌드(sand) 및 압축 공기를 분사하는 분사구(210)를 포함한다. 분사구(210)는 용접 지그(20)에 샌드 및 압축 공기를 분사하여 블라스트 노즐(200)에 의한 클리닝이 수행되도록 할 수 있다.
블라스트 노즐(200)은 분사구(210)로부터 분사된 샌드 및 용접 지그(20)로부터 탈리되는 이물질을 흡입하는 흡입구(220)를 더 포함할 수 있다. 이물질은 분사구(210)로부터 분사된 샌드 및 압축 공기에 의해 용접 지그(20)로부터 탈리될 수 있는 것임은 자명하다.
이상으로, 본 발명의 일 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 실시 형태를 전술한 실시예로 제한하고자 하는 것은 아니다. 당업자는 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서, 본 명세서 및 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 전부 또는 일부 구성을 생략, 변경, 치환하거나 다른 구성을 추가하는 등 본 발명의 일 실시예를 적절히 변형하여 실시할 수 있을 것이다.
본 명세서에서, 제1, 제2 등의 순번은 구성요소를 서로 구별하기 위한 것이며, 구성요소 간의 우선순위를 의미하거나 절대적인 순번을 의미하는 것이 아니다. 본 명세서의 일부분에서 제1 구성요소는 본 명세서의 다른 부분에서 제2 구성요소로 지칭될 수도 있다.
본 명세서의 용어 및 표현은 광범위하게 해석되어야 하며 제한적인 의미로 해석되어서는 안 된다. 본 명세서에서, '포함'한다라는 표현은 언급된 구성 이외에 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. 본 명세서에서, 단수형의 표현은 문맥 상 명시적으로 배제되지 않는 한 복수형을 포함한다. 또한, 각 실시예들은 서로 조합이 가능하며, 모순되지 않는 한 특정 실시예에서 설명된 내용은 다른 실시예에도 적용될 수 있다.
11: 전극 조립체
12: 전극 탭
13: 전극 리드
20: 용접 지그
21: 제1 용접 지그
22: 제2 용접 지그
h: 홀
100: 지그 거치대
110: 바디
120: 다이
130: 자성부
200: 블라스트 노즐
210: 분사구
220: 흡입구
300: 제어부

Claims (9)

  1. 복수의 용접 지그가 배치되는 지그 거치대;
    상기 지그 거치대 상에 배치되며, 상기 복수의 용접 지그를 클리닝(cleaning)하는 블라스트(blast) 노즐; 및
    상기 블라스트 노즐을 제어하는 컨트롤러; 를 포함하며,
    상기 블라스트 노즐은 상기 지그 거치대 상에서 상기 복수의 용접 지그가 서로 이격된 방향인 제1 방향으로 이동하여, 상기 복수의 용접 지그 각각 상에서 상기 복수의 용접 지그 각각을 클리닝하는,
    용접 지그 클리닝 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 컨트롤러는 상기 블라스트 노즐이 상기 복수의 용접 지그 각각을 클리닝하는 시간을 서로 동일하거나 서로 상이하게 제어 가능한,
    용접 지그 클리닝 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 복수의 용접 지그 각각은 상기 지그 거치대의 특정 위치 각각에 배치되고,
    상기 컨트롤러는 상기 블라스트 노즐이 상기 지그 거치대의 특정 위치 각각 상에서 용접 지그를 클리닝하는 시간 각각을 설정함으로써, 상기 블라스트 노즐이 상기 복수의 용접 지그 각각을 클리닝하는 시간을 서로 동일하거나 서로 상이하게 제어 가능한,
    용접 지그 클리닝 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 컨트롤러는 상기 블라스트 노즐이 상기 복수의 용접 지그 중 일부 용접 지그를 클리닝하는 것을 건너뛰도록 제어 가능한,
    용접 지그 클리닝 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 블라스트 노즐은 샌드(sand) 및 압축 공기를 분사하는 분사구를 포함하는,
    용접 지그 클리닝 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 분사구로부터 분사된 샌드 및 상기 용접 지그로부터 탈리되는 이물질을 흡입하는 흡입구를 더 포함하는,
    용접 지그 클리닝 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 지그 거치대는 상기 복수의 용접 지그를 고정시키는 자성부를 포함하는,
    용접 지그 클리닝 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 블라스트 노즐은 상기 제1 방향과 평면 상에서 수직한 방향인 제2 방향으로도 이동 가능한,
    용접 지그 클리닝 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 블라스트 노즐은 상기 제2 방향으로 이동하며 상기 복수의 용접 지그 중 하나를 클리닝하고, 상기 제1 방향으로 이동하여 상기 복수의 용접 지그 중 다른 하나 상에 위치한 후 상기 제2 방향으로 이동하며 상기 복수의 용접 지그 중 다른 하나를 클리닝하는,
    용접 지그 클리닝 장치.
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