KR20230042028A - An image display device including a polarizing plate, a polarizing plate with a retardation layer, and the polarizing plate or the polarizing plate with the retardation layer - Google Patents

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KR20230042028A KR1020237003211A KR20237003211A KR20230042028A KR 20230042028 A KR20230042028 A KR 20230042028A KR 1020237003211 A KR1020237003211 A KR 1020237003211A KR 20237003211 A KR20237003211 A KR 20237003211A KR 20230042028 A KR20230042028 A KR 20230042028A
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코스케 타카에
타카시 카미조
히로시 콘노
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

극히 박형이면서, 이형 가공부에서의 크랙 발생이 억제된 편광판이 제공된다. 본 발명의 편광판은, 편광자와, 편광자의 적어도 한쪽 측에 배치된 보호층을 포함하고, 또한, 직사각형 이외의 이형을 갖는다. 보호층은 10㎛ 이하의 두께를 갖는 수지막으로 구성되어 있다. 편광자는 이색성 물질을 포함하는 PVA계 수지 필름으로 구성되어 있다. 하나의 실시형태에서, 편광자는, 단체 투과율을 x%로 하고, PVA계 수지의 복굴절을 y로 한 경우에, 하기 식 (1)을 만족한다. 다른 실시형태에서, 편광자는, 단체 투과율을 x%로 하고, PVA계 수지 필름의 면내 위상차를 znm로 한 경우에, 하기 식 (2)를 만족한다. 또 다른 실시형태에서, 편광자는, 단체 투과율을 x%로 하고, PVA계 수지의 배향 함수를 f로 한 경우에, 하기 식 (3)을 만족한다. 또 다른 실시형태에서, 편광자는 찌르기 강도가 30gf/㎛ 이상이다.
y<-0.011x+0.525 (1)
z<-60x+2875 (2)
f<-0.018x+1.11 (3)
Provided is a polarizing plate that is extremely thin and suppresses cracking in a release processing part. The polarizing plate of the present invention includes a polarizer and a protective layer disposed on at least one side of the polarizer, and has a shape other than rectangular. The protective layer is composed of a resin film having a thickness of 10 µm or less. The polarizer is composed of a PVA-based resin film containing a dichroic material. In one embodiment, the polarizer satisfies the following formula (1) when the single transmittance is x% and the birefringence of the PVA-based resin is y. In another embodiment, the polarizer satisfies the following formula (2) when the single transmittance is x% and the in-plane retardation of the PVA-based resin film is znm. In another embodiment, the polarizer satisfies the following formula (3) when the single transmittance is x% and the orientation function of the PVA-based resin is f. In another embodiment, the polarizer has a puncture strength of 30 gf/μm or more.
y<-0.011x+0.525 (1)
z<-60x+2875 (2)
f<-0.018x+1.11 (3)

Description

편광판, 위상차층 부착 편광판, 및 해당 편광판 또는 해당 위상차층 부착 편광판을 포함하는 화상 표시 장치An image display device including a polarizing plate, a polarizing plate with a retardation layer, and the polarizing plate or the polarizing plate with the retardation layer

본 발명은 편광판, 위상차층 부착 편광판, 및 해당 편광판 또는 해당 위상차층 부착 편광판을 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a polarizing plate, a polarizing plate with a retardation layer, and an image display device including the polarizing plate or the polarizing plate with a retardation layer.

근래, 액정 표시 장치 및 일렉트로루미네센스(EL) 표시 장치(예컨대, 유기 EL 표시 장치, 무기 EL 표시 장치)로 대표되는 화상 표시 장치가 급속히 보급되고 있다. 화상 표시 장치의 화상 형성 방식에 기인하여, 화상 표시 장치의 적어도 한쪽에는 편광판이 배치되어 있다. 근래, 화상 표시 장치의 박형화에 대한 요망이 높아짐에 따라, 편광판에 대해서도 박형화의 요망이 높아지고 있다. 그런데, 근래, 편광판을 직사각형 이외로 가공하는 것(이형(異形) 가공: 예컨대, 노치 및/또는 관통공의 형성)이 요구되는 경우가 있다. 그러나, 박형 편광판의 이형 가공부에서는, 크랙이 발생하기 쉽다는 문제가 있다.In recent years, image display devices typified by liquid crystal display devices and electroluminescence (EL) display devices (eg, organic EL display devices and inorganic EL display devices) are rapidly spreading. Due to the image forming method of the image display device, a polarizing plate is disposed on at least one side of the image display device. In recent years, as the demand for thinning of image display devices has increased, the demand for thinning has also increased for polarizing plates. By the way, in recent years, processing of a polarizing plate into a shape other than a rectangular shape (special shape processing: formation of notches and/or through holes, for example) is sometimes required. However, there is a problem that cracks tend to occur in the release processing part of the thin polarizing plate.

일본 공개특허공보 제2001-343521호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-343521

본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하기 위하여 이루어진 것이며, 그의 주된 목적은, 극히 박형이면서, 이형 가공부에서의 크랙 발생이 억제된 편광판을 제공하는 것에 있다.The present invention has been made in order to solve the above conventional problems, and its main object is to provide a polarizing plate that is extremely thin and suppresses cracking in a release processing part.

본 발명의 하나의 실시형태에 따른 편광판은, 편광자와, 해당 편광자의 적어도 한쪽 측에 배치된 보호층을 포함하고, 또한, 직사각형 이외의 이형을 갖는다. 해당 보호층은 10㎛ 이하의 두께를 갖는 수지막으로 구성되어 있다. 해당 편광자는, 이색성(二色性) 물질을 포함하는 폴리비닐알코올계 수지 필름으로 구성되고, 또한, 단체 투과율을 x%로 하고, 해당 폴리비닐알코올계 수지의 복굴절을 y로 한 경우에, 하기 식 (1)을 만족한다:A polarizing plate according to one embodiment of the present invention includes a polarizer and a protective layer disposed on at least one side of the polarizer, and has a shape other than rectangular. The protective layer is composed of a resin film having a thickness of 10 µm or less. When the polarizer is composed of a polyvinyl alcohol-based resin film containing a dichroic substance, and the single transmittance is x%, and the birefringence of the polyvinyl alcohol-based resin is y, Equation (1) is satisfied:

y<-0.011x+0.525 (1).y<-0.011x+0.525 (1).

본 발명의 다른 실시형태에 따른 편광판은, 편광자와, 해당 편광자의 적어도 한쪽 측에 배치된 보호층을 포함하고, 또한, 직사각형 이외의 이형을 갖는다. 해당 보호층은 10㎛ 이하의 두께를 갖는 수지막으로 구성되어 있다. 해당 편광자는, 이색성 물질을 포함하는 폴리비닐알코올계 수지 필름으로 구성되고, 또한, 단체 투과율을 x%로 하고, 해당 폴리비닐알코올계 수지 필름의 면내 위상차를 znm로 한 경우에, 하기 식 (2)를 만족한다:A polarizing plate according to another embodiment of the present invention includes a polarizer and a protective layer disposed on at least one side of the polarizer, and has a shape other than rectangular. The protective layer is composed of a resin film having a thickness of 10 µm or less. The polarizer is composed of a polyvinyl alcohol-based resin film containing a dichroic substance, and when the single transmittance is x% and the in-plane retardation of the polyvinyl alcohol-based resin film is z nm, the following formula ( 2) satisfies:

z<-60x+2875 (2).z<-60x+2875 (2).

본 발명의 또 다른 실시형태에 따른 편광판은, 편광자와, 해당 편광자의 적어도 한쪽 측에 배치된 보호층을 포함하고, 또한, 직사각형 이외의 이형을 갖는다. 해당 보호층은 10㎛ 이하의 두께를 갖는 수지막으로 구성되어 있다. 해당 편광자는, 이색성 물질을 포함하는 폴리비닐알코올계 수지 필름으로 구성되고, 또한, 단체 투과율을 x%로 하고, 해당 폴리비닐알코올계 수지의 배향 함수를 f로 한 경우에, 하기 식 (3)을 만족한다:A polarizing plate according to another embodiment of the present invention includes a polarizer and a protective layer disposed on at least one side of the polarizer, and has a shape other than rectangular. The protective layer is composed of a resin film having a thickness of 10 µm or less. The polarizer is composed of a polyvinyl alcohol-based resin film containing a dichroic substance, and when the single transmittance is x% and the orientation function of the polyvinyl alcohol-based resin is f, the following formula (3 ) satisfies:

f<-0.018x+1.11 (3).f<-0.018x+1.11 (3).

본 발명의 또 다른 실시형태에 따른 편광판은, 편광자와, 해당 편광자의 적어도 한쪽 측에 배치된 보호층을 포함하고, 또한, 직사각형 이외의 이형을 갖는다. 해당 보호층은 10㎛ 이하의 두께를 갖는 수지막으로 구성되어 있다. 해당 편광자는 이색성 물질을 포함하는 폴리비닐알코올계 수지 필름으로 구성되고, 또한, 편광자의 찌르기 강도가 30gf/㎛ 이상이다.A polarizing plate according to another embodiment of the present invention includes a polarizer and a protective layer disposed on at least one side of the polarizer, and has a shape other than rectangular. The protective layer is composed of a resin film having a thickness of 10 µm or less. The polarizer is composed of a polyvinyl alcohol-based resin film containing a dichroic substance, and has a puncture strength of 30 gf/μm or more.

하나의 실시형태에서, 상기 편광자의 두께는 10㎛ 이하이다.In one embodiment, the thickness of the polarizer is 10 μm or less.

하나의 실시형태에서, 상기 편광자의 단체 투과율은 40.0% 이상이고, 또한, 편광도가 99.0% 이상이다.In one embodiment, the polarizer has a single transmittance of 40.0% or more, and a polarization degree of 99.0% or more.

하나의 실시형태에서는, 상기 이형은 관통공, V자 노치, U자 노치, 평면시한 경우에 선형(船形)에 근사한 형상의 오목부, 평면시한 경우에 직사각형의 오목부, 평면시한 경우에 욕조(bathtub) 형상에 근사한 R 형상의 오목부, 및 이들의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택된다.In one embodiment, the irregular shape is a through hole, a V-shaped notch, a U-shaped notch, a concave portion having a shape approximate to a ship shape when viewed in plan view, a rectangular concave portion when viewed in plan view, and a concave portion having a shape approximated to a ship shape when viewed in plan view. It is selected from the group consisting of an R-shaped concave portion approximate to a bathtub shape, and a combination thereof.

하나의 실시형태에서는, 상기 U자 노치의 곡률 반경은 5mm 이하이다.In one embodiment, the radius of curvature of the U-shaped notch is 5 mm or less.

하나의 실시형태에서는, 상기 수지막은 에폭시 수지 및 (메트)아크릴계 수지로부터 선택되는 적어도 1종의 수지를 포함한다.In one embodiment, the resin film contains at least one type of resin selected from epoxy resins and (meth)acrylic resins.

하나의 실시형태에서는, 상기 수지막은 에폭시 수지의 광 양이온 경화물로 구성되어 있고, 해당 수지막의 연화 온도는 100℃ 이상이다.In one embodiment, the resin film is composed of a photo-cationic cured material of an epoxy resin, and the softening temperature of the resin film is 100°C or higher.

하나의 실시형태에서는, 상기 수지막은 에폭시 수지의 유기 용매 용액의 도포막의 고화물로 구성되어 있고, 해당 수지막의 연화 온도는 100℃ 이상이다.In one embodiment, the resin film is composed of a solidified material of a coating film of an organic solvent solution of an epoxy resin, and the softening temperature of the resin film is 100°C or higher.

하나의 실시형태에서는, 상기 수지막은 열가소성 (메트)아크릴계 수지의 유기 용매 용액의 도포막의 고화물로 구성되어 있고, 해당 수지막의 연화 온도는 100℃ 이상이다. 하나의 실시형태에서는, 상기 열가소성 (메트)아크릴계 수지는, 락톤환 단위, 무수 글루타르산 단위, 글루타르이미드 단위, 무수 말레산 단위 및 말레이미드 단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 갖는다.In one embodiment, the resin film is composed of a solidified material of a coating film of an organic solvent solution of a thermoplastic (meth)acrylic resin, and the softening temperature of the resin film is 100°C or higher. In one embodiment, the thermoplastic (meth)acrylic resin has at least one selected from the group consisting of a lactone ring unit, a glutaric anhydride unit, a glutarimide unit, a maleic anhydride unit, and a maleimide unit.

본 발명의 다른 국면에 따르면, 위상차층 부착 편광판이 제공된다. 당해 위상차층 부착 편광판은, 상기의 편광판과 위상차층을 포함하고, 해당 위상차층은 상기 편광자의 상기 보호층이 배치된 측과 반대 측에 배치되어 있다.According to another situation of this invention, the polarizing plate with a retardation layer is provided. The polarizing plate with the retardation layer includes the polarizing plate and the retardation layer, and the retardation layer is disposed on the opposite side of the polarizer on which the protective layer is disposed.

하나의 실시형태에서는, 상기 위상차층의 Re(550)는 100nm∼190nm이고, Re(450)/Re(550)는 0.8 이상 1 미만이며, 해당 위상차층의 지상축(遲相軸)과 상기 편광자의 흡수축(吸收軸)이 이루는 각도는 40°∼50°이다.In one embodiment, Re (550) of the retardation layer is 100 nm to 190 nm, Re (450) / Re (550) is 0.8 or more and less than 1, and the slow axis of the retardation layer and the polarizer The angle formed by the absorption axis of is 40° to 50°.

하나의 실시형태에서는, 상기 위상차층은 점착제층을 개재하여 상기 편광판에 적층되어 있다.In one embodiment, the retardation layer is laminated on the polarizing plate with an adhesive layer interposed therebetween.

본 발명의 또 다른 국면에 따르면, 화상 표시 장치가 제공된다. 당해 화상 표시 장치는 상기의 편광판 또는 상기의 위상차층 부착 편광판을 포함한다.According to another aspect of the present invention, an image display device is provided. The said image display device contains the said polarizing plate or the said polarizing plate with a retardation layer.

본 발명의 실시형태에 의하면, 이형(이형 가공부)을 갖는 편광판에서, 편광자의 폴리비닐알코올(PVA)계 수지의 배향 상태를 제어함으로써, 극히 박형이면서, 이형 가공부에서의 크랙 발생이 억제된 편광판을 실현할 수 있다. 또한, 이와 같은 편광자(결과로서, 편광판)는 실용상 허용 가능한 광학 특성을 발휘할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, in a polarizing plate having a mold release (release processing part), by controlling the alignment state of the polyvinyl alcohol (PVA)-based resin of the polarizer, while being extremely thin, cracking in the release processing part is suppressed A polarizing plate can be realized. Further, such a polarizer (as a result, a polarizing plate) can exhibit practically acceptable optical properties.

도 1은 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 편광판의 개략 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시형태에 따른 편광판에서의 이형 또는 이형 가공부의 일례를 설명하는 개략 평면도이다.
도 3은 본 발명의 실시형태에 따른 편광판에서의 이형 또는 이형 가공부의 변형예를 설명하는 개략 평면도이다.
도 4는 본 발명의 실시형태에 따른 편광판에서의 이형 또는 이형 가공부의 또 다른 변형예를 설명하는 개략 평면도이다.
도 5는 본 발명의 실시형태에 따른 편광판에서의 이형 또는 이형 가공부의 또 다른 변형예를 설명하는 개략 평면도이다.
도 6은 본 발명의 실시형태에 따른 편광판에 이용될 수 있는 편광자의 제조 방법에서의 가열 롤을 이용한 건조 수축 처리의 일례를 나타내는 개략도이다.
도 7은 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 위상차층 부착 편광판의 개략 단면도이다.
도 8은 실시예 및 비교예에서 제작한 편광자의 단체 투과율과 PVA계 수지의 복굴절의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 9는 실시예 및 비교예에서 제작한 편광자의 단체 투과율과 PVA계 수지 필름의 면내 위상차의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 10은 실시예 및 비교예에서 제작한 편광자의 단체 투과율과 PVA계 수지의 배향 함수의 관계를 나타내는 그래프이다.
1 is a schematic cross-sectional view of a polarizing plate according to one embodiment of the present invention.
2 is a schematic plan view illustrating an example of a release or release processing part in a polarizing plate according to an embodiment of the present invention.
3 is a schematic plan view illustrating a modified example of a release or release processing unit in a polarizing plate according to an embodiment of the present invention.
4 is a schematic plan view illustrating another modified example of a release or release processing unit in a polarizing plate according to an embodiment of the present invention.
5 is a schematic plan view illustrating another modified example of a release or release processing unit in a polarizing plate according to an embodiment of the present invention.
6 is a schematic view showing an example of drying shrinkage treatment using a heating roll in the manufacturing method of a polarizer that can be used for a polarizing plate according to an embodiment of the present invention.
7 is a schematic cross-sectional view of a polarizing plate with a retardation layer according to one embodiment of the present invention.
8 is a graph showing the relationship between the single transmittance of polarizers produced in Examples and Comparative Examples and the birefringence of PVA-based resin.
9 is a graph showing the relationship between the single transmittance of light polarizers produced in Examples and Comparative Examples and the in-plane retardation of the PVA-based resin film.
10 is a graph showing the relationship between the single transmittance of light polarizers produced in Examples and Comparative Examples and the orientation function of PVA-based resin.

이하, 본 발명의 실시형태에 대하여 설명하지만, 본 발명은 이들 실시형태로는 한정되지 않는다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, although embodiment of this invention is described, this invention is not limited to these embodiment.

A. 편광판A. Polarizer

A-1. 편광판의 전체 구성A-1. Overall configuration of polarizer

도 1은, 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 편광판의 개략 단면도이다. 도시예의 편광판(100)은, 편광자(10)와, 편광자(10)의 한쪽 측에 배치된 보호층(20)을 포함한다. 목적에 따라, 편광자(10)의 보호층(20)과 반대 측에 다른 보호층(도시하지 않음)이 마련되어도 된다. 보호층(20)은 10㎛ 이하의 두께를 갖는 수지막으로 구성되어 있다. 편광판은, 화상 표시 장치의 시인 측 편광판으로서 이용되어도 되고, 배면 측 편광판으로서 이용되어도 된다. 편광판은, 대표적으로는 시인 측 편광판으로서 이용된다. 이 경우, 보호층(20)은 시인 측(화상 표시 셀과 반대 측)에 배치될 수 있다.1 is a schematic cross-sectional view of a polarizing plate according to one embodiment of the present invention. The polarizing plate 100 of the illustrated example includes a polarizer 10 and a protective layer 20 disposed on one side of the polarizer 10 . Depending on the purpose, another protective layer (not shown) may be provided on the side opposite to the protective layer 20 of the polarizer 10 . The protective layer 20 is composed of a resin film having a thickness of 10 μm or less. The polarizing plate may be used as a viewing-side polarizing plate of an image display device or as a rear-side polarizing plate. A polarizing plate is typically used as a viewing-side polarizing plate. In this case, the protective layer 20 may be disposed on the viewing side (opposite to the image display cell).

본 발명의 실시형태에 따른 편광판은 직사각형 이외의 이형을 갖는다. 본 명세서에서 '직사각형 이외의 이형을 갖는다'란, 편광판의 평면시 형상이 직사각형 이외의 형상을 갖는 것을 말한다. 이형은 대표적으로는 이형 가공된 이형 가공부이다. 따라서, '직사각형 이외의 이형을 갖는 편광판'(이하, '이형 편광판'이라고 칭하는 경우가 있음)은, 이형 편광판 전체(즉, 편광판의 평면시 형상을 규정하는 외연)가 직사각형 이외인 경우뿐만 아니라, 직사각형의 편광판의 외연으로부터 내방으로 이간된 부분에 이형 가공부가 형성되어 있는 경우도 포함한다. 편광판에서, 이와 같은 이형 가공부에는 크랙이 발생하기 쉬운데, 본 발명의 실시형태에 의하면, 그와 같은 크랙을 현저하게 억제할 수 있다. 보다 상세하게는 이하와 같다. 통상의(즉, 이형이 아닌) 편광판(실질적으로 편광자)에서는, 크랙은 많은 경우 편광자의 흡수축(연신 방향)을 따라 발생한다. 한편, 이형 가공부에서는 L자 크랙(흡수축에 대하여 경사 방향의 크랙)이 발생할 수 있다. 본 발명의 실시형태에 의하면, 후술하는 바와 같이, 편광자의 PVA계 수지의 분자쇄의 흡수축 방향으로의 배향을 종래의 편광자보다도 완만하게 함으로써, 통상의 크랙뿐만 아니라, 이와 같은 L자 크랙도 현저하게 억제할 수 있다.A polarizing plate according to an embodiment of the present invention has a shape other than rectangular. In this specification, 'having a non-rectangular shape' means that the planar view shape of the polarizing plate has a shape other than rectangular. The mold release is typically a mold release processed part. Therefore, 'a polarizing plate having a non-rectangular shape' (hereinafter sometimes referred to as 'a different type polarizing plate') is not only a case where the entire hetero-shaped polarizing plate (ie, the outer edge defining the planar view shape of the polarizing plate) is other than a rectangular shape, The case where a mold release process part is formed in the part separated inward from the outer edge of a rectangular polarizing plate is also included. In a polarizing plate, cracks tend to occur in such a mold release part, but according to the embodiment of the present invention, such cracks can be remarkably suppressed. More specifically, it is as follows. In a normal (ie, non-release) polarizer (substantially a polarizer), cracks occur along the absorption axis (stretching direction) of the polarizer in many cases. On the other hand, L-shaped cracks (cracks in an oblique direction with respect to the absorption axis) may occur in the molded part. According to the embodiment of the present invention, as will be described later, by making the orientation in the direction of the absorption axis of the molecular chain of the PVA-based resin of the polarizer gentler than that of the conventional polarizer, not only ordinary cracks but also such L-shaped cracks are remarkable. can be suppressed.

이형(이형 가공부)으로서는, 예컨대 도 2 및 도 3에 나타내는 바와 같이, 코너부를 R 형상으로 모따기한 것, 관통공, 평면시한 경우에 오목부가 되는 절삭 가공부를 들 수 있다. 오목부의 대표예로서는, 선형에 근사한 형상, 직사각형, 욕조 형상에 근사한 R 형상, V자 노치, U자 노치를 들 수 있다. 이형(이형 가공부)의 다른 예로서는, 도 4 및 도 5에 나타내는 바와 같이, 자동차의 미터 패널에 대응한 형상을 들 수 있다. 당해 형상은 외연이 미터침의 회전 방향을 따른 원호 형상으로 형성되고, 또한, 외연이 면 방향 내방으로 볼록한 V자 형상(R 형상을 포함한다)을 이루는 부위를 포함한다. 말할 것도 없이, 이형(이형 가공부)의 형상은 도시예로 한정되지 않는다. 예컨대, 관통공의 형상은, 도시예의 대략 원형 이외에 목적에 따라서 임의의 적절한 형상(예컨대, 타원형, 삼각형, 사각형, 오각형, 육각형, 팔각형)이 채용될 수 있다. 또한, 관통공은 목적에 따라 임의의 적절한 위치에 마련된다. 관통공은, 도 3에 나타내는 바와 같이, 직사각형의 편광판의 긴 방향 단부의 대략 중앙부에 마련되어도 되고, 긴 방향 단부의 소정의 위치에 마련되어도 되며, 편광판의 코너부에 마련되어도 되고; 도시되어 있지 않지만, 직사각형 형상의 편광판의 짧은 방향 단부에 마련되어도 되며; 도 4 또는 도 5에 나타내는 바와 같이, 이형 편광판의 중앙부 마련되어도 된다. 도 3에 나타내는 바와 같이, 관통공을 복수 마련하여도 된다. 또한, 도시예의 형상을 목적에 따라 적절히 조합하여도 된다. 예컨대, 도 2의 이형 편광판의 임의의 위치에 관통공을 형성하여도 되고, 도 4 또는 도 5의 이형 편광판의 외연의 임의의 적절한 위치에 V자 노치 및/또는 U자 노치를 형성하여도 된다. 이와 같은 이형 편광판은, 자동차의 미터 패널, 스마트폰, 태블릿형 PC 또는 스마트 워치 등의 화상 표시 장치에 적합하게 이용될 수 있다. 또한, 예컨대 이형이 R 형상을 포함하는 경우, 그의 곡률 반경은, 예컨대 0.2mm 이상이고, 또한 예컨대 1mm 이상이며, 또한 예컨대 2mm 이상이다. 한편, 곡률 반경은, 예컨대 10㎜ 이하이고, 또한 예컨대 5㎜ 이하이다. 또한 예컨대, 이형이 U자 노치인 경우, 그의 곡률 반경(U자 부분의 곡률 반경은), 예컨대 5㎜ 이하이고, 또한 예컨대 1㎜∼4㎜이며, 또한 예컨대 2㎜∼3㎜이다.As the release (release processing part), for example, as shown in Figs. 2 and 3, those obtained by chamfering corners into R shapes, through holes, and cutting parts that become concave parts in the case of planar view are exemplified. Representative examples of the concave portion include a shape approximating a linear shape, a rectangle, an R shape approximating a bathtub shape, a V-shaped notch, and a U-shaped notch. As another example of the release (release processing part), as shown in Figs. 4 and 5, a shape corresponding to the meter panel of an automobile can be given. The shape includes a portion where the outer edge is formed in an arc shape along the rotational direction of the meter needle and the outer edge forms a V-shape (including an R shape) convex inward in the plane direction. Needless to say, the shape of the release (release processing part) is not limited to the illustrated example. For example, the shape of the through hole may be any suitable shape (eg, elliptical, triangular, quadrangular, pentagonal, hexagonal, octagonal) depending on the purpose other than the approximate circular shape shown in the illustrated example. Further, the through hole is provided at any suitable position depending on the purpose. As shown in Fig. 3, the through hole may be provided in the substantially central portion of the longitudinal end of the rectangular polarizing plate, may be provided in a predetermined position of the longitudinal end, or may be provided in the corner portion of the polarizing plate; Although not shown, it may be provided at the short end of the rectangular polarizing plate; As shown in Fig. 4 or Fig. 5, the center portion of the release polarizing plate may be provided. As shown in Fig. 3, a plurality of through holes may be provided. Moreover, you may combine the shapes of an illustration suitably according to a purpose. For example, a through hole may be formed at an arbitrary position of the heterogeneous polarizing plate of FIG. 2, or a V-shaped notch and/or a U-shaped notch may be formed at an arbitrary appropriate position on the outer edge of the heteromorphic polarizing plate of FIG. 4 or 5. . Such a release polarizer can be suitably used for image display devices such as meter panels of automobiles, smart phones, tablet PCs, or smart watches. Further, for example, when the irregular shape includes an R shape, the radius of curvature thereof is, for example, 0.2 mm or more, and is, for example, 1 mm or more, and is, for example, 2 mm or more. On the other hand, the radius of curvature is, for example, 10 mm or less, and for example, 5 mm or less. Further, for example, when the irregular shape is a U-shaped notch, its radius of curvature (the radius of curvature of the U-shaped portion) is, for example, 5 mm or less, and is, for example, 1 mm to 4 mm, and, for example, 2 mm to 3 mm.

이형(이형 가공부)은, 임의의 적절한 방법에 의해 형성될 수 있다. 형성 방법의 구체예로서는, 엔드밀에 의한 절삭, 톰슨 날 등의 펀칭 날에 의한 펀칭, 레이저 광 조사에 의한 절단을 들 수 있다. 이들 방법은 조합되어도 된다.The mold release (release processing part) can be formed by any suitable method. Specific examples of the forming method include cutting with an end mill, punching with a punching blade such as a Thomson blade, and cutting with laser light irradiation. These methods may be combined.

A-2. 편광자A-2. polarizer

편광자는 이색성 물질을 포함하는 PVA계 수지 필름으로 구성되어 있다. 하나의 실시형태에서, 편광자는, 단체 투과율을 x%로 하고, 당해 편광자를 구성하는 폴리비닐알코올계 수지의 복굴절을 y로 한 경우에, 하기 식 (1)을 만족한다. 하나의 실시형태에서, 편광자는, 단체 투과율을 x%로 하고, 당해 편광자를 구성하는 폴리비닐알코올계 수지 필름의 면내 위상차를 znm로 한 경우에, 하기 식 (2)를 만족한다. 하나의 실시형태에서, 편광자는, 단체 투과율을 x%로 하고, 당해 편광자를 구성하는 폴리비닐알코올계 수지의 배향 함수를 f로 한 경우에, 하기 식 (3)을 만족한다. 하나의 실시형태에서, 편광자의 찌르기 강도는 30gf/㎛ 이상이다.The polarizer is composed of a PVA-based resin film containing a dichroic material. In one embodiment, the polarizer satisfies the following formula (1) when x% is the single transmittance and birefringence of the polyvinyl alcohol-based resin constituting the polarizer is y. In one embodiment, the polarizer satisfies the following formula (2), when the single transmittance is x% and the in-plane retardation of the polyvinyl alcohol-based resin film constituting the polarizer is znm. In one embodiment, a polarizer satisfies the following formula (3), when x% is the single transmittance and the orientation function of the polyvinyl alcohol-based resin constituting the polarizer is f. In one embodiment, the polarizer has a puncture strength of 30 gf/μm or more.

y<-0.011x+0.525  (1)y<-0.011x+0.525  (1)

z<-60x+2875 (2)z<-60x+2875 (2)

f<-0.018x+1.11 (3)f<-0.018x+1.11 (3)

상기 편광자에서의 PVA계 수지의 복굴절(이하, PVA의 복굴절 또는 PVA의 Δn이라고 표기함), PVA계 수지 필름의 면내 위상차(이하, 'PVA의 면내 위상차'라고 표기함), PVA계 수지의 배향 함수(이하, 'PVA의 배향 함수'라고 표기함) 및 편광자의 찌르기 강도는 어느 것도, 편광자를 구성하는 PVA계 수지의 분자쇄의 배향도와 관련된 값이다. 구체적으로는, PVA의 복굴절, 면내 위상차 및 배향 함수는, 배향도의 상승에 따라 큰 값이 될 수 있고, 찌르기 강도는 배향도의 상승에 따라 저하할 수 있다. 본 발명의 실시형태에 의한 편광자(즉, 상기 식 (1)∼(3) 또는 찌르기 강도를 만족하는 편광자)는, PVA계 수지의 분자쇄의 흡수축 방향으로의 배향이 종래의 편광자보다도 완만한 것에 기인하여, 흡수축 방향의 가열 수축이 억제된다. 그 결과, 이와 같은 편광자(결과로서, 편광판)는 극히 박형이면서, 이형 가공부에서의 크랙 발생을 억제할 수 있다. 또한, 이와 같은 편광자(결과로서, 편광판)는 가요성 및 절곡 내구성도 우수한 점에서, 바람직하게는 만곡한 화상 표시 장치, 보다 바람직하게는 절곡 가능한 화상 표시 장치, 더욱 바람직하게는 절첩 가능한 화상 표시 장치에 적용될 수 있다. 종래, 배향도가 낮은 편광자에서는 허용 가능한 광학 특성(대표적으로는, 단체 투과율 및 편광도)을 얻는 것이 곤란하였는데, 본 발명의 실시형태에 이용되는 편광자는, 종래보다도 낮은 PVA계 수지의 배향도와 허용 가능한 광학 특성을 양립할 수 있다.Birefringence of the PVA-based resin in the polarizer (hereinafter referred to as birefringence of PVA or Δn of PVA), in-plane retardation of the PVA-based resin film (hereinafter referred to as 'in-plane retardation of PVA'), orientation of the PVA-based resin Both the function (hereinafter referred to as 'PVA orientation function') and the piercing strength of the polarizer are values related to the degree of orientation of the molecular chains of the PVA-based resin constituting the polarizer. Specifically, the birefringence, in-plane retardation, and orientation function of PVA may become large values as the degree of orientation increases, and the puncture strength may decrease as the degree of orientation increases. The polarizer according to the embodiment of the present invention (that is, the polarizer satisfying the above equations (1) to (3) or the stabbing strength) has a more gentle orientation of the molecular chain of the PVA-based resin in the direction of the absorption axis than the conventional polarizer. Due to this, heating shrinkage in the direction of the absorption axis is suppressed. As a result, such a polarizer (as a result, a polarizing plate) can be suppressed from cracking in the release processing part while being extremely thin. In addition, such a polarizer (as a result, a polarizing plate) is also excellent in flexibility and bending durability, so it is preferably a curved image display device, more preferably a bendable image display device, and still more preferably a foldable image display device can be applied to Conventionally, it has been difficult to obtain acceptable optical characteristics (typically single transmittance and polarization degree) with a polarizer having a low degree of orientation. Optical properties are compatible.

편광자는 바람직하게는 하기 식 (1a) 및/또는 식 (2a)를 만족하고, 보다 바람직하게는 하기 식 (1b) 및/또는 식 (2b)를 만족한다.The polarizer preferably satisfies the following formula (1a) and/or formula (2a), and more preferably satisfies the following formula (1b) and/or formula (2b).

-0.004x+0.18<y<-0.011x+0.525 (1a)-0.004x+0.18<y<-0.011x+0.525 (1a)

-0.003x+0.145<y<-0.011x+0.520 (1b)-0.003x+0.145<y<-0.011x+0.520 (1b)

-40x+1800<z<-60x+2875 (2a)-40x+1800<z<-60x+2875 (2a)

-30x+1450<z<-60x+2850 (2b)-30x+1450<z<-60x+2850 (2b)

본 명세서에서, 상기 PVA의 면내 위상차는 23℃, 파장 1000nm에서의 PVA계 수지 필름의 면내 위상차값이다. 근적외 영역을 측정 파장으로 함으로써, 편광자 중의 요오드의 흡수의 영향을 배제할 수 있고, 위상차를 측정하는 것이 가능해진다. 또한, 상기 PVA의 복굴절(면내 복굴절)은 PVA의 면내 위상차를 편광자의 두께로 나눈 값이다.In the present specification, the in-plane retardation of the PVA is the in-plane retardation value of the PVA-based resin film at 23° C. and a wavelength of 1000 nm. By setting the near-infrared region as the measurement wavelength, the influence of iodine absorption in the polarizer can be eliminated, and it becomes possible to measure the phase difference. In addition, the birefringence (in-plane birefringence) of the PVA is a value obtained by dividing the in-plane retardation of the PVA by the thickness of the polarizer.

PVA의 면내 위상차는 하기와 같이 평가한다. 우선, 파장 850nm 이상의 복수의 파장에서 위상차값을 측정하고, 측정된 위상차값:R(λ)과 파장:λ의 플롯을 행하여, 이것을 하기의 셀마이어식에 최소 제곱법으로 피팅시킨다. 여기에서, A 및 B는 피팅 파라미터이고, 최소 제곱법에 의해 결정되는 계수이다.The in-plane retardation of PVA was evaluated as follows. First, phase difference values are measured at a plurality of wavelengths with a wavelength of 850 nm or more, and a plot of the measured phase difference values: R(λ) and wavelength: λ is performed, and these are fit to the following Selmeier equation by the least square method. Here, A and B are fitting parameters and are coefficients determined by the least squares method.

R(λ)=A+B/(λ2-6002)R(λ)=A+B/(λ 2 −600 2 )

이때, 이 위상차값 R(λ)은 파장 의존성이 없는 PVA의 면내 위상차(Rpva)와, 파장 의존성이 강한 요오드의 면내 위상차값(Ri)으로 하기와 같이 분리할 수 있다.At this time, this retardation value R(λ) can be separated into an in-plane retardation value (Rpva) of PVA having no wavelength dependence and an in-plane retardation value (Ri) of iodine having a strong wavelength dependence as follows.

Rpva=ARpva=A

Ri=B/(λ2-6002)Ri=B/(λ 2 -600 2 )

이 분리식에 기초하여, 파장 λ=1000nm에서의 PVA의 면내 위상차(즉 Rpva)를 산출할 수 있다. 또한, 당해 PVA의 면내 위상차의 평가 방법에 대해서는, 일본 특허공보 제5932760호에도 기재되어 있고, 필요에 따라 참조할 수 있다.Based on this separation equation, the in-plane retardation of PVA at a wavelength of λ = 1000 nm (ie, Rpva) can be calculated. In addition, the evaluation method of the in-plane retardation of the said PVA is also described in Japanese Patent Publication No. 5932760, and can be referred as needed.

또한, 이 위상차를 두께로 나눔으로써 PVA의 복굴절(Δn)을 산출할 수 있다.In addition, birefringence (Δn) of PVA can be calculated by dividing this retardation by the thickness.

상기 파장 1000nm에서의 PVA의 면내 위상차를 측정하는 시판 장치로서는, 오지계측사 제조의 KOBRA-WR/IR 시리즈, KOBRA-31X/IR 시리즈 등을 들 수 있다.Examples of commercially available devices for measuring the in-plane retardation of PVA at the wavelength of 1000 nm include the KOBRA-WR/IR series and KOBRA-31X/IR series manufactured by Oji Instruments Co., Ltd.

편광자의 배향 함수(f)는, 바람직하게는 하기 식 (3a)를 만족하고, 보다 바람직하게는 하기 식 (3b)를 만족한다. 배향 함수가 지나치게 작으면, 허용 가능한 단체 투과율 및/또는 편광도가 얻어지지 않는 경우가 있다.The orientation function (f) of the polarizer preferably satisfies the following formula (3a), and more preferably satisfies the following formula (3b). When the orientation function is too small, acceptable single transmittance and/or polarization degree may not be obtained.

-0.01x+0.50<f<-0.018x+1.11 (3a)-0.01x+0.50<f<-0.018x+1.11 (3a)

-0.01x+0.57<f<-0.018x+1.1 (3b)-0.01x+0.57<f<-0.018x+1.1 (3b)

배향 함수(f)는, 예컨대, 푸리에 변환 적외 분광광도계(FT-IR)를 이용하고, 편광을 측정광으로 하여, 전반사 감쇠 분광(ATR:attenuated total reflection) 측정에 의해 구할 수 있다. 구체적으로는, 편광자를 밀착시키는 결정자는 게르마늄을 이용하고, 측정광의 입사각은 45°입사로 하며, 입사시키는 편광된 적외광(측정광)은 게르마늄 결정의 샘플을 밀착시키는 면에 평행하게 진동하는 편광(s편광)으로 하고, 측정광의 편광 방향에 대하여, 편광자의 연신 방향을 평행 및 수직으로 배치한 상태에서 측정을 실시하고, 얻어진 흡광도 스펙트럼의 2941㎝-1의 강도를 이용하여 하기 식에 따라 산출된다. 여기에서, 강도 I는 3330㎝-1을 참조 피크로 하여, 2941㎝-1/3330㎝-1의 값이다. 또한, f=1일 때 완전 배향, f=0일 때 랜덤해진다. 또한, 2941㎝-1의 피크는 편광자 중의 PVA의 주쇄(-CH2-)의 진동에 기인하는 흡수라고 생각되고 있다.The orientation function f can be obtained by attenuated total reflection (ATR) measurement using, for example, a Fourier transform infrared spectrophotometer (FT-IR) and using polarized light as measurement light. Specifically, germanium is used as the crystallizer for adhering the polarizer, the incident angle of the measurement light is 45° incident, and the incident polarized infrared light (measurement light) is polarized light that oscillates parallel to the surface of the germanium crystal that adheres the sample. (s-polarization), measurement was performed in a state where the stretching direction of the polarizer was arranged parallel and perpendicular to the polarization direction of the measurement light, and the absorbance spectrum obtained at 2941 cm -1 was used to calculate according to the following formula. do. Here, intensity I is a value of 2941 cm -1 / 3330 cm -1 with 3330 cm -1 as a reference peak. Also, when f = 1, the orientation is perfect, and when f = 0, it becomes random. The peak at 2941 cm -1 is considered to be absorption due to vibration of the PVA main chain (-CH 2 -) in the polarizer.

f=(3<cos2θ>-1)/2f=(3<cos 2 θ>-1)/2

=(1-D)/[c(2D+1)]=(1-D)/[c(2D+1)]

=-2×(1-D)/(2D+1)=-2×(1-D)/(2D+1)

단,step,

c=(3cos2β-1)/2이고, 2941cm-1의 진동인 경우에는 β=90°이다.c=(3cos 2 β-1)/2, and in case of vibration of 2941cm -1, β=90°.

θ: 연신 방향에 대한 분자쇄의 각도θ: angle of the molecular chain with respect to the stretching direction

β: 분자쇄 축에 대한 전이 쌍극자 모멘트의 각도β: angle of the transition dipole moment with respect to the molecular chain axis

D=(I)/(I//)(이 경우, PVA 분자가 배향할수록 D가 커진다)D=(I )/(I // ) (in this case, D increases as the PVA molecules are oriented)

I: 측정광의 편광 방향과 편광자의 연신 방향이 수직인 경우의 흡수 강도I : Absorption intensity when the polarization direction of the measurement light and the stretching direction of the polarizer are perpendicular to each other

I//: 측정광의 편광 방향과 편광자의 연신 방향이 평행인 경우의 흡수 강도I // : Absorption intensity when the polarization direction of the measurement light and the stretching direction of the polarizer are parallel

편광자의 두께는 바람직하게는 10㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 8㎛ 이하이다. 편광자의 두께의 하한은, 예컨대 1㎛일 수 있다. 편광자의 두께는 하나의 실시형태에서는 2㎛∼10㎛, 다른 실시형태에서는 2㎛∼8㎛이어도 된다. 편광자의 두께를 이와 같이 매우 얇게 함으로써, 열수축을 매우 작게 할 수 있다. 이와 같은 구성이 편광판의 이형 가공부에서의 크랙 발생의 억제에도 기여할 수 있다고 추찰된다.The thickness of the polarizer is preferably 10 μm or less, more preferably 8 μm or less. The lower limit of the thickness of the polarizer may be, for example, 1 μm. The thickness of the polarizer may be 2 μm to 10 μm in one embodiment, and 2 μm to 8 μm in another embodiment. By making the thickness of the polarizer very thin in this way, heat shrinkage can be made very small. It is inferred that such a configuration can also contribute to suppression of crack generation in the release processing part of the polarizing plate.

편광자는 바람직하게는 파장 380nm∼780nm의 어느 파장에서 흡수 이색성을 나타낸다. 편광자의 단체 투과율은 바람직하게는 40.0% 이상이고, 보다 바람직하게는 41.0% 이상이다. 단체 투과율의 상한은 예컨대 49.0%일 수 있다. 편광자의 단체 투과율은 하나의 실시형태에서는 40.0%∼45.0%이다. 편광자의 편광도는 바람직하게는 99.0% 이상이고, 보다 바람직하게는 99.4% 이상이다. 편광도의 상한은, 예컨대 99.999%일 수 있다. 편광자의 편광도는 하나의 실시형태에서는 99.0%∼99.9%이다. 본 발명의 실시형태에 따른 편광자는 당해 편광자를 구성하는 PVA계 수지의 배향도가 종래보다도 낮고, 상기와 같은 면내 위상차, 복굴절 및/또는 배향 함수를 가짐에도 불구하고, 이와 같은 실용상 허용 가능한 단체 투과율 및 편광도를 실현할 수 있는 것을 하나의 특징으로 한다. 이것은 후술하는 제조 방법에 기인하는 것으로 추찰된다. 또한, 단체 투과율은 대표적으로는 자외선/가시광선 분광광도계를 이용하여 측정하고 시감도 보정을 행한 Y값이다. 편광도는, 대표적으로는, 자외선/가시광선 분광광도계를 이용하여 측정하여 시감도 보정을 행한 평행 투과율 Tp 및 직교 투과율 Tc에 기초하여, 하기 식에 의해 구할 수 있다.The polarizer preferably exhibits absorption dichroism at any wavelength of 380 nm to 780 nm. The single transmittance of the polarizer is preferably 40.0% or more, more preferably 41.0% or more. The upper limit of single transmittance may be, for example, 49.0%. The single transmittance of the polarizer is 40.0% to 45.0% in one embodiment. The degree of polarization of the polarizer is preferably 99.0% or more, more preferably 99.4% or more. The upper limit of the degree of polarization may be, for example, 99.999%. The degree of polarization of the polarizer is 99.0% to 99.9% in one embodiment. Although the polarizer according to the embodiment of the present invention has a lower degree of orientation of the PVA-based resin constituting the polarizer than before, and has the above in-plane retardation, birefringence and / or orientation function, such a practically acceptable single transmittance and a degree of polarization can be realized. It is guessed that this originates in the manufacturing method mentioned later. Incidentally, the single transmittance is typically a Y value measured using an ultraviolet/visible ray spectrophotometer and corrected for visibility. The degree of polarization can be obtained by the following formula, typically based on the parallel transmittance Tp and the orthogonal transmittance Tc measured using an ultraviolet/visible spectrophotometer and corrected for visibility.

편광도(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2×100Polarization degree (%) = {(Tp-Tc)/(Tp+Tc)} 1/2 × 100

편광자의 찌르기 강도는, 예컨대 30gf/㎛ 이상이고, 바람직하게는 35gf/㎛ 이상이며, 보다 바람직하게는 40gf/㎛ 이상이고, 더욱 바람직하게는 45gf/㎛ 이상이며, 특히 바람직하게는 50gf/㎛ 이상이다. 찌르기 강도의 상한은, 예컨대 80gf/㎛일 수 있다. 편광자의 찌르기 강도를 이와 같은 범위로 함으로써, 이형 가공부에 크랙이 발생하는 것, 및 편광자가 흡수축 방향을 따라 찢어지는 것을 현저하게 억제할 수 있다. 그 결과, 굴곡성이 매우 우수한 편광자(결과로서, 편광판)가 얻어질 수 있다. 찌르기 강도는 소정의 강도로 편광자를 찔렀을 때의 편광자의 균열 내성을 나타낸다. 찌르기 강도는, 예컨대 압축 시험기에 소정의 니들을 장착하고, 당해 니들을 소정 속도로 편광자에 찔렀을 때에 편광자가 균열하는 강도(파단 강도)로서 나타낼 수 있다. 또한, 단위로부터 분명한 바와 같이, 찌르기 강도는 편광자의 단위 두께(1㎛)당 찌르기 강도를 의미한다.The puncture strength of the polarizer is, for example, 30 gf/μm or more, preferably 35 gf/μm or more, more preferably 40 gf/μm or more, still more preferably 45 gf/μm or more, and particularly preferably 50 gf/μm or more. am. The upper limit of the piercing strength may be, for example, 80 gf/μm. By making the puncture strength of a polarizer into such a range, it can suppress remarkably that a crack arises in a mold release process part, and that a polarizer is torn along an absorption axis direction. As a result, a polarizer (as a result, a polarizing plate) having very excellent flexibility can be obtained. The puncture strength represents the crack resistance of the polarizer when the polarizer is pierced with a predetermined strength. The puncture strength can be expressed as, for example, the strength at which the polarizer cracks (breaking strength) when a predetermined needle is attached to a compression tester and the needle is pierced into the polarizer at a predetermined speed. In addition, as is clear from the unit, the piercing strength means the piercing strength per unit thickness (1 μm) of the polarizer.

편광자는, 상기한 바와 같이, 이색성 물질을 포함하는 PVA계 수지 필름으로 구성된다. 바람직하게는, PVA계 수지 필름(실질적으로는 편광자)을 구성하는 PVA계 수지는, 아세토아세틸 변성된 PVA계 수지를 포함한다. 이와 같은 구성이면, 소망하는 찌르기 강도를 갖는 편광자가 얻어질 수 있다. 아세토아세틸 변성된 PVA계 수지의 배합량은, PVA계 수지 전체를 100중량%로 하였을 때에, 바람직하게는 5중량%∼20중량%이고, 보다 바람직하게는 8중량%∼12중량%이다. 배합량이 이와 같은 범위이면, 찌르기 강도를 보다 적합한 범위로 할 수 있다.As described above, the polarizer is composed of a PVA-based resin film containing a dichroic substance. Preferably, the PVA-based resin constituting the PVA-based resin film (substantially the polarizer) contains an acetoacetyl-modified PVA-based resin. With such a structure, a polarizer having a desired piercing strength can be obtained. The blending amount of the acetoacetyl-modified PVA-based resin is preferably from 5% by weight to 20% by weight, more preferably from 8% by weight to 12% by weight, based on 100% by weight of the entire PVA-based resin. If the blending amount is in such a range, the piercing strength can be made into a more suitable range.

편광자는 대표적으로는 2층 이상의 적층체를 이용하여 제작될 수 있다. 적층체를 이용하여 얻어지는 편광자의 구체예로서는, 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층과의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광자를 들 수 있다. 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층과의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광자는, 예컨대, PVA계 수지 용액을 수지 기재에 도포하고, 건조시켜 수지 기재 위에 PVA계 수지층을 형성하여, 수지 기재와 PVA계 수지층과의 적층체를 얻는 것; 당해 적층체를 연신 및 염색하여 PVA계 수지층을 편광자로 하는 것;에 의해 제작될 수 있다. 본 실시형태에서는, 바람직하게는 수지 기재의 편측에 할로겐화물과 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 폴리비닐알코올계 수지층을 형성한다. 연신은 대표적으로는 적층체를 붕산 수용액 중에 침지시켜 연신하는 것을 포함한다. 또한, 연신은 바람직하게는 붕산 수용액 중에서의 연신 전에 적층체를 고온(예컨대, 95℃ 이상)에서 공중 연신하는 것을 추가로 포함한다. 본 발명의 실시형태에서는, 연신의 총 배율은 바람직하게는 3.0배∼4.5배이고, 통상에 비하여 현저하게 작다. 이와 같은 연신의 총 배율이라도, 할로겐화물의 첨가 및 건조 수축 처리의 조합에 의해, 허용 가능한 광학 특성을 갖는 편광자를 얻을 수 있다. 또한, 본 발명의 실시형태에서는, 바람직하게는 공중 보조 연신의 연신 배율이 붕산 수중 연신의 연신 배율보다도 크다. 이와 같은 구성으로 함으로써, 연신의 총 배율이 작아도 허용 가능한 광학 특성을 갖는 편광자를 얻을 수 있다. 또한, 적층체는, 바람직하게는 긴 방향으로 반송하면서 가열함으로써 폭 방향으로 2% 이상 수축시키는 건조 수축 처리에 제공된다. 하나의 실시형태에서는, 편광자의 제조 방법은 적층체에 공중 보조 연신 처리와 염색 처리와 수중 연신 처리와 건조 수축 처리를 이 순서대로 실시하는 것을 포함한다. 보조 연신을 도입함으로써, 열가소성 수지 위에 PVA계 수지를 도포하는 경우에도, PVA계 수지의 결정성을 높이는 것이 가능해져, 높은 광학 특성을 달성하는 것이 가능해진다. 또한, 동시에 PVA계 수지의 배향성을 사전에 높임으로써, 이후의 염색 공정이나 연신 공정에서 물에 침지되었을 때에, PVA계 수지의 배향성의 저하나 용해 등의 문제를 방지할 수 있어, 높은 광학 특성을 달성하는 것이 가능해진다. 또한, PVA계 수지층을 액체에 침지한 경우에서, PVA계 수지층이 할로겐화물을 포함하지 않는 경우에 비하여, 폴리비닐알코올 분자의 배향의 흐트러짐 및 배향성의 저하가 억제될 수 있다. 이에 의해, 염색 처리 및 수중 연신 처리 등, 적층체를 액체에 침지하여 행하는 처리 공정을 거쳐 얻어지는 편광자의 광학 특성을 향상할 수 있다. 또한, 건조 수축 처리에 의해 적층체를 폭 방향으로 수축시킴으로써, 광학 특성을 향상시킬 수 있다. 얻어진 수지 기재/편광자의 적층체는 그대로 이용하여도 되고(즉, 수지 기재를 편광자의 보호층으로 하여도 되고), 수지 기재/편광자의 적층체로부터 수지 기재를 박리하고, 당해 박리면에 목적에 따른 임의의 적절한 보호층을 적층하여 이용하여도 된다. 편광자의 제조 방법의 상세에 대해서는 A-3항에서 설명한다.A polarizer can be typically manufactured using a laminate of two or more layers. As a specific example of the light polarizer obtained using a laminated body, the polarizer obtained using the laminated body of the resin base material and the PVA system resin layer applied and formed on the said resin base material is mentioned. A polarizer obtained by using a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer coated and formed on the resin substrate, for example, by applying a PVA-based resin solution to the resin substrate, drying it, forming a PVA-based resin layer on the resin substrate, Obtaining a laminated body of a resin substrate and a PVA-based resin layer; It can be produced by: stretching and dyeing the layered product to make the PVA-based resin layer a polarizer. In this embodiment, preferably, a polyvinyl alcohol-based resin layer containing a halide and a polyvinyl alcohol-based resin is formed on one side of the resin substrate. Stretching typically involves immersing the layered product in an aqueous solution of boric acid and extending the laminate. Further, the stretching preferably further includes air stretching the laminate at a high temperature (eg, 95° C. or higher) prior to stretching in an aqueous solution of boric acid. In the embodiment of the present invention, the total magnification of stretching is preferably 3.0 to 4.5 times, which is significantly smaller than usual. Even at such a total magnification of stretching, a polarizer having acceptable optical characteristics can be obtained by a combination of halide addition and drying shrinkage treatment. Further, in the embodiment of the present invention, the draw ratio of air assisted stretching is preferably greater than the draw ratio of stretching in boric acid water. By setting it as such a structure, even if the total magnification of extending|stretching is small, the polarizer which has acceptable optical characteristics can be obtained. Further, the laminate is preferably subjected to a drying shrinkage treatment in which it shrinks by 2% or more in the width direction by heating while conveying in the longitudinal direction. In one embodiment, the manufacturing method of a light polarizer includes giving a laminated body an air assisted stretching process, a dyeing process, an underwater stretching process, and a drying shrinkage process in this order. By introducing auxiliary stretching, even when the PVA-based resin is applied on a thermoplastic resin, it becomes possible to increase the crystallinity of the PVA-based resin and achieve high optical properties. In addition, by simultaneously increasing the orientation of the PVA-based resin in advance, problems such as deterioration in orientation and dissolution of the PVA-based resin when immersed in water in a subsequent dyeing step or stretching step can be prevented, and high optical properties can be obtained. it becomes possible to achieve Further, in the case where the PVA-based resin layer is immersed in a liquid, the disorder of the orientation of the polyvinyl alcohol molecules and the decrease in orientation can be suppressed compared to the case where the PVA-based resin layer does not contain a halide. Thereby, the optical characteristics of the polarizer obtained through the processing process performed by immersing a layered product in liquid, such as a dyeing process and an underwater extension process, can be improved. In addition, optical properties can be improved by shrinking the laminate in the width direction by drying shrinkage treatment. The obtained laminate of the resin substrate/polarizer may be used as it is (that is, the resin substrate may be used as a protective layer for the polarizer), and the resin substrate is peeled from the laminate of the resin substrate/polarizer, and the peel surface is used for the purpose. Any suitable protective layer according to the above may be laminated and used. The details of the manufacturing method of the polarizer are described in section A-3.

A-3. 편광자의 제조 방법A-3. Manufacturing method of polarizer

상기 편광자의 제조 방법은, 바람직하게는 장척상의 열가소성 수지 기재의 편측에, 할로겐화물과 폴리비닐알코올계 수지(PVA계 수지)를 포함하는 폴리비닐알코올계 수지층(PVA계 수지층)을 형성하여 적층체로 하는 것, 및 적층체에, 공중 보조 연신 처리와, 염색 처리와, 수중 연신 처리와, 긴 방향으로 반송하면서 가열함으로써 폭 방향으로 2% 이상 수축시키는 건조 수축 처리를 이 순서대로 실시하는 것을 포함한다. PVA계 수지층에서의 할로겐화물의 함유량은, 바람직하게는 PVA계 수지 100중량부에 대하여 5중량부∼20중량부이다. 건조 수축 처리는 가열 롤을 이용하여 처리하는 것이 바람직하고, 가열 롤의 온도는 바람직하게는 60℃∼120℃이다. 건조 수축 처리에 의한 적층체의 폭 방향의 수축률은, 바람직하게는 2% 이상이다. 또한, 공중 보조 연신의 연신 배율은 바람직하게는 수중 연신의 연신 배율보다도 크다. 이와 같은 제조 방법에 의하면, 상기 A-2항에서 설명한 편광자를 얻을 수 있다. 특히, 할로겐화물을 포함하는 PVA계 수지층을 포함하는 적층체를 제작하고, 상기 적층체의 연신을 공중 보조 연신 및 수중 연신을 포함하는 다단계 연신으로 하여, 연신 후의 적층체를 가열 롤로 가열하여 폭 방향으로 2% 이상 수축시킴으로써, 우수한 광학 특성(대표적으로는, 단체 투과율 및 편광도)을 갖는 편광자를 얻을 수 있다.The method for producing the polarizer is preferably to form a polyvinyl alcohol-based resin layer (PVA-based resin layer) containing a halide and a polyvinyl alcohol-based resin (PVA-based resin) on one side of a long thermoplastic resin substrate, Forming a laminate, and subjecting the laminate to an air-assisted stretching treatment, a dyeing treatment, an underwater stretching treatment, and a drying shrinkage treatment for shrinking by 2% or more in the width direction by heating while conveying in the longitudinal direction in this order. include The content of the halide in the PVA-based resin layer is preferably 5 parts by weight to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the PVA-based resin. The drying shrinkage treatment is preferably performed using a heating roll, and the temperature of the heating roll is preferably 60°C to 120°C. The shrinkage rate in the width direction of the layered product by the drying shrinkage treatment is preferably 2% or more. In addition, the draw ratio of air assisted stretching is preferably larger than that of underwater stretching. According to such a manufacturing method, the polarizer described in the above section A-2 can be obtained. In particular, a laminate comprising a PVA-based resin layer containing a halide is produced, and stretching of the laminate is multi-step stretching including air-assisted stretching and underwater stretching, and the laminate after stretching is heated with a heating roll to obtain a width By shrinking by 2% or more in the direction, a polarizer having excellent optical properties (typically single transmittance and polarization degree) can be obtained.

A-3-1. 적층체의 제작A-3-1. Fabrication of the laminate

열가소성 수지 기재와 PVA계 수지층과의 적층체를 제작하는 방법으로서는, 임의의 적절한 방법이 채용될 수 있다. 바람직하게는, 열가소성 수지 기재의 표면에, 할로겐화물과 PVA계 수지를 포함하는 도포액을 도포하고 건조함으로써, 열가소성 수지 기재 위에 PVA계 수지층을 형성한다. 상기한 바와 같이, PVA계 수지층에서의 할로겐화물의 함유량은, 바람직하게는 PVA계 수지 100중량부에 대하여 5중량부∼20중량부이다.Arbitrary suitable methods can be adopted as a method of producing the laminated body of a thermoplastic resin base material and a PVA system resin layer. Preferably, a PVA-based resin layer is formed on the thermoplastic resin substrate by applying a coating liquid containing a halide and a PVA-based resin to the surface of the thermoplastic resin substrate and drying it. As described above, the content of the halide in the PVA-based resin layer is preferably 5 parts by weight to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the PVA-based resin.

도포액의 도포 방법으로서는, 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 예컨대, 롤 코트법, 스핀 코트법, 와이어 바 코트법, 딥 코트법, 다이 코트법, 커튼 코트법, 스프레이 코트법, 나이프 코트법(콤마 코트법 등) 등을 들 수 있다. 상기 도포액의 도포·건조 온도는, 바람직하게는 50℃ 이상이다.As a method of applying the coating liquid, any suitable method can be employed. For example, roll coating method, spin coating method, wire bar coating method, dip coating method, die coating method, curtain coating method, spray coating method, knife coating method (comma coating method etc.), etc. are mentioned. The coating/drying temperature of the coating liquid is preferably 50°C or higher.

PVA계 수지층의 두께는 바람직하게는 2㎛∼30㎛, 더욱 바람직하게는 2㎛∼20㎛이다. 연신 전의 PVA계 수지층의 두께를 이와 같이 매우 얇게 하고, 또한, 후술하는 바와 같이 연신의 총 배율을 작게 함으로써, 종래보다도 PVA계 수지의 배향도가 낮음에도 불구하고 허용 가능한 단체 투과율 및 편광도를 갖는 편광자를 얻을 수 있다.The thickness of the PVA-based resin layer is preferably 2 μm to 30 μm, more preferably 2 μm to 20 μm. A polarizer having allowable single transmittance and polarization degree despite a lower degree of orientation of the PVA-based resin than before by making the thickness of the PVA-based resin layer before stretching extremely thin in this way and reducing the total magnification of the stretching as described below. can be obtained.

PVA계 수지층을 형성하기 전에, 열가소성 수지 기재에 표면 처리(예컨대, 코로나 처리 등)를 실시하여도 되고, 열가소성 수지 기재 위에 이접착층을 형성하여도 된다. 이와 같은 처리를 행함으로써, 열가소성 수지 기재와 PVA계 수지층과의 밀착성을 향상시킬 수 있다.Before forming the PVA-based resin layer, surface treatment (for example, corona treatment, etc.) may be performed on the thermoplastic resin substrate, or an easily bonding layer may be formed on the thermoplastic resin substrate. By performing such a process, the adhesiveness of a thermoplastic resin base material and a PVA system resin layer can be improved.

A-3-1-1. 열가소성 수지 기재A-3-1-1. Thermoplastic resin substrate

열가소성 수지 기재로서는, 임의의 적절한 열가소성 수지 필름이 채용될 수 있다. 열가소성 수지 기재의 상세에 대해서는, 예컨대 일본 공개특허공보 제2012-73580호에 기재되어 있다. 당해 공보는 그 전체의 기재가 본 명세서에 참고로서 원용된다.As the thermoplastic resin substrate, any suitable thermoplastic resin film can be employed. About the detail of a thermoplastic resin base material, it describes, for example in Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-73580. The entire description of the publication is incorporated herein by reference.

A-3-1-2. 도포액A-3-1-2. coating liquid

도포액은, 상기한 바와 같이, 할로겐화물과 PVA계 수지를 포함한다. 상기 도포액은 대표적으로는 상기 할로겐화물 및 상기 PVA계 수지를 용매에 용해시킨 용액이다. 용매로서는, 예컨대 물, 디메틸설폭사이드, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 각종 글리콜류, 트리메틸올프로판 등의 다가 알코올류, 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민 등의 아민류를 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다. 이들 중에서도 바람직하게는 물이다. 용액의 PVA계 수지 농도는 용매 100중량부에 대하여 바람직하게는 3중량부∼20중량부이다. 이와 같은 수지 농도이면, 열가소성 수지 기재에 밀착된 균일한 도포막을 형성할 수 있다. 도포액에서의 할로겐화물의 함유량은, 바람직하게는 PVA계 수지 100중량부에 대하여 5중량부∼20중량부이다.As described above, the coating liquid contains a halide and a PVA-based resin. The coating liquid is typically a solution obtained by dissolving the halide and the PVA-based resin in a solvent. Examples of the solvent include water, dimethylsulfoxide, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, various glycols, polyhydric alcohols such as trimethylolpropane, and amines such as ethylenediamine and diethylenetriamine. can These can be used individually or in combination of 2 or more types. Among these, water is preferable. The concentration of the PVA-based resin in the solution is preferably 3 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the solvent. With such a resin concentration, a uniform coating film adhering to the thermoplastic resin substrate can be formed. The content of the halide in the coating liquid is preferably 5 parts by weight to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the PVA-based resin.

도포액에 첨가제를 배합하여도 된다. 첨가제로서는 예컨대 가소제, 계면활성제 등을 들 수 있다. 가소제로서는, 예컨대 에틸렌글리콜이나 글리세린 등의 다가 알코올을 들 수 있다. 계면활성제로서는, 예컨대 비이온 계면활성제를 들 수 있다. 이들은, 얻어지는 PVA계 수지층의 균일성이나 염색성, 연신성을 보다 한층 향상시킬 목적으로 사용될 수 있다.You may mix|blend additives with a coating liquid. Examples of additives include plasticizers and surfactants. Examples of the plasticizer include polyhydric alcohols such as ethylene glycol and glycerin. As surfactant, a nonionic surfactant is mentioned, for example. These can be used for the purpose of further improving the uniformity, dyeability, and stretchability of the obtained PVA-based resin layer.

상기 PVA계 수지로서는, 임의의 적절한 수지가 채용될 수 있다. 예컨대, 폴리비닐알코올 및 에틸렌-비닐알코올 공중합체를 들 수 있다. 폴리비닐알코올은 폴리초산비닐을 비누화함으로써 얻을 수 있다. 에틸렌-비닐알코올 공중합체는 에틸렌-초산비닐 공중합체를 비누화함으로써 얻을 수 있다. PVA계 수지의 비누화도는 통상적으로 85몰%∼100몰%이고, 바람직하게는 95.0몰%∼99.95몰%, 더욱 바람직하게는 99.0몰%∼99.93몰%이다. 비누화도는 JIS K 6726-1994에 준하여 구할 수 있다. 이와 같은 비누화도의 PVA계 수지를 이용함으로써, 내구성이 우수한 편광자가 얻어질 수 있다. 비누화도가 지나치게 높은 경우에는 비누화되어버릴 우려가 있다. 상기한 바와 같이, PVA계 수지는 바람직하게는 아세토아세틸 변성된 PVA계 수지를 포함한다.As the PVA-based resin, any suitable resin can be employed. Examples include polyvinyl alcohol and ethylene-vinyl alcohol copolymers. Polyvinyl alcohol can be obtained by saponifying polyvinyl acetate. An ethylene-vinyl alcohol copolymer can be obtained by saponifying an ethylene-vinyl acetate copolymer. The degree of saponification of the PVA-based resin is usually 85 mol% to 100 mol%, preferably 95.0 mol% to 99.95 mol%, and more preferably 99.0 mol% to 99.93 mol%. The degree of saponification can be determined according to JIS K 6726-1994. A light polarizer excellent in durability can be obtained by using PVA-type resin of such a degree of saponification. When the saponification degree is too high, there exists a possibility of saponification. As described above, the PVA-based resin preferably includes an acetoacetyl-modified PVA-based resin.

PVA계 수지의 평균 중합도는 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다. 평균 중합도는 통상적으로 1000∼10000이고, 바람직하게는 1200∼4500, 더욱 바람직하게는 1500∼4300이다. 또한, 평균 중합도는 JIS K 6726-1994에 준하여 구할 수 있다.The average degree of polymerization of the PVA-based resin can be appropriately selected depending on the purpose. The average degree of polymerization is usually 1000 to 10000, preferably 1200 to 4500, more preferably 1500 to 4300. In addition, the average degree of polymerization can be obtained according to JIS K 6726-1994.

상기 할로겐화물로서는, 임의의 적절한 할로겐화물이 채용될 수 있다. 예컨대, 요오드화물 및 염화나트륨을 들 수 있다. 요오드화물로서는, 예컨대 요오드화 칼륨, 요오드화 나트륨 및 요오드화 리튬을 들 수 있다. 이들 중에서도 바람직하게는 요오드화 칼륨이다.As the halide, any suitable halide can be employed. Examples include iodide and sodium chloride. As iodide, potassium iodide, sodium iodide, and lithium iodide are mentioned, for example. Among these, potassium iodide is preferable.

도포액에서의 할로겐화물의 양은, 바람직하게는 PVA계 수지 100중량부에 대하여 5중량부∼20중량부이고, 보다 바람직하게는 PVA계 수지 100중량부에 대하여 10중량부∼15중량부이다. PVA계 수지 100중량부에 대한 할로겐화물의 양이 20중량부를 초과하면, 할로겐화물이 블리드 아웃(bleed out)하여, 최종적으로 얻어지는 편광자가 백탁하는 경우가 있다.The amount of the halide in the coating liquid is preferably 5 parts by weight to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the PVA-based resin, and more preferably 10 parts by weight to 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the PVA-based resin. When the amount of the halide with respect to 100 parts by weight of the PVA-based resin exceeds 20 parts by weight, the halide may bleed out and the polarizer finally obtained may become cloudy.

일반적으로 PVA계 수지층이 연신됨으로써, PVA계 수지층 중의 폴리비닐알코올 분자의 배향성이 높아지지만, 연신 후의 PVA계 수지층을, 물을 포함하는 액체에 침지하면, 폴리비닐알코올 분자의 배향이 흐트러져, 배향성이 저하되는 경우가 있다. 특히, 열가소성 수지 기재와 PVA계 수지층과의 적층체를 붕산 수중 연신하는 경우에서, 열가소성 수지 기재의 연신을 안정시키기 위하여 비교적 높은 온도에서 상기 적층체를 붕산 수중에서 연신하는 경우, 상기 배향도 저하의 경향이 현저하다. 예컨대 PVA 필름 단체의 붕산 수중에서의 연신이 60℃에서 행하여지는 것이 일반적인데 비해, A-PET(열가소성 수지 기재)와 PVA계 수지층과의 적층체의 연신은 70℃ 전후의 온도라고 하는 높은 온도에서 행하여지고, 이 경우, 연신 초기의 PVA의 배향성이 수중 연신에 의해 오르기 전의 단계에서 저하될 수 있다. 이에 대하여, 할로겐화물을 포함하는 PVA계 수지층과 열가소성 수지 기재와의 적층체를 제작하고, 적층체를 붕산 수중에서 연신하기 전에 공기 중에서 고온 연신(보조 연신)함으로써, 보조 연신 후의 적층체의 PVA계 수지층 중의 PVA계 수지의 결정화가 촉진될 수 있다. 그 결과, PVA계 수지층을 액체에 침지한 경우에서, PVA계 수지층이 할로겐화물을 포함하지 않는 경우에 비하여, 폴리비닐알코올 분자의 배향의 흐트러짐, 및 배향성의 저하가 억제될 수 있다. 이에 따라, 염색 처리 및 수중 연신 처리 등, 적층체를 액체에 침지하여 행하는 처리 공정을 거쳐 얻어지는 편광자의 광학 특성을 향상할 수 있다.In general, when the PVA-based resin layer is stretched, the orientation of the polyvinyl alcohol molecules in the PVA-based resin layer increases, but when the stretched PVA-based resin layer is immersed in a liquid containing water, the orientation of the polyvinyl alcohol molecules is disturbed. , the orientation may decrease. In particular, in the case of stretching the laminate of the thermoplastic resin substrate and the PVA-based resin layer in boric acid water, in the case of stretching the laminate in boric acid water at a relatively high temperature in order to stabilize the stretching of the thermoplastic resin substrate, the lowering of the orientation The trend is remarkable. For example, while it is common for stretching of a PVA film alone in boric acid to be carried out at 60°C, the stretching of a laminate of A-PET (thermoplastic resin substrate) and a PVA-based resin layer is performed at a high temperature of around 70°C. In this case, the orientation of PVA in the initial stage of stretching may be lowered in the stage before rising by underwater stretching. In contrast, by preparing a laminate of a PVA-based resin layer containing a halide and a thermoplastic resin substrate, and stretching the laminate in air at high temperature (auxiliary stretching) before stretching the laminate in boric acid, the PVA of the laminate after auxiliary stretching Crystallization of the PVA-based resin in the resin-based layer can be promoted. As a result, in the case where the PVA-based resin layer is immersed in the liquid, the disorder of the orientation of the polyvinyl alcohol molecules and the decrease in the orientation can be suppressed compared to the case where the PVA-based resin layer does not contain a halide. Thereby, the optical characteristics of the polarizer obtained through the processing process performed by immersing a layered product in liquid, such as a dyeing process and an underwater extension process, can be improved.

A-3-2. 공중 보조 연신 처리A-3-2. Air Assisted Stretching Treatment

특히, 높은 광학 특성을 얻기 위해서는, 건식 연신(보조 연신)과 붕산 수중 연신을 조합하는, 2단 연신의 방법이 선택된다. 2단 연신과 같이, 보조 연신을 도입함으로써 열가소성 수지 기재의 결정화를 억제하면서 연신할 수 있다. 나아가, 열가소성 수지 기재 위에 PVA계 수지를 도포하는 경우, 열가소성 수지 기재의 유리전이온도의 영향을 억제하기 위하여, 통상의 금속 드럼 위에 PVA계 수지를 도포하는 경우와 비교하여 도포 온도를 낮게 할 필요가 있고, 그 결과, PVA계 수지의 결정화가 상대적으로 낮아져, 충분한 광학 특성을 얻을 수 없다는 문제가 생길 수 있다. 이에 대하여, 보조 연신을 도입함으로써, 열가소성 수지 위에 PVA계 수지를 도포하는 경우에도 PVA계 수지의 결정성을 높이는 것이 가능해져, 높은 광학 특성을 달성하는 것이 가능해진다. 또한, 동시에 PVA계 수지의 배향성을 사전에 높임으로써, 이후의 염색 공정이나 연신 공정에서 물에 침지되었을 때에 PVA계 수지의 배향성의 저하나 용해 등의 문제를 방지할 수 있어, 높은 광학 특성을 달성하는 것이 가능해진다.In particular, in order to obtain high optical properties, a method of two-step stretching is selected in which dry stretching (auxiliary stretching) and stretching in boric acid are combined. Like the two-stage stretching, by introducing auxiliary stretching, the thermoplastic resin substrate can be stretched while suppressing crystallization. Furthermore, in the case of applying the PVA-based resin on a thermoplastic resin substrate, in order to suppress the influence of the glass transition temperature of the thermoplastic resin substrate, it is necessary to lower the application temperature compared to the case of applying the PVA-based resin on a normal metal drum. As a result, the crystallization of the PVA-based resin is relatively low, resulting in a problem that sufficient optical properties cannot be obtained. In contrast, by introducing auxiliary stretching, the crystallinity of the PVA-based resin can be increased even when the PVA-based resin is applied on the thermoplastic resin, and high optical properties can be achieved. In addition, by simultaneously increasing the orientation of the PVA-based resin in advance, it is possible to prevent problems such as deterioration in the orientation of the PVA-based resin and dissolution when immersed in water in a subsequent dyeing step or drawing step, thereby achieving high optical properties. it becomes possible to do

공중 보조 연신의 연신 방법은 고정단 연신(예컨대, 텐터 연신기를 이용하여 연신하는 방법)이어도 되고, 자유단 연신(예컨대, 원주 속도가 상이한 롤 사이에 적층체를 통과시켜 1축 연신하는 방법)이어도 되지만, 높은 광학 특성을 얻기 위해서는 자유단 연신이 적극적으로 채용될 수 있다. 하나의 실시형태에서는, 공중 연신 처리는 상기 적층체를 그의 긴 방향으로 반송하면서, 가열 롤 사이의 원주 속도차에 의해 연신하는 가열 롤 연신 공정을 포함한다. 공중 연신 처리는, 대표적으로는 존(zone) 연신 공정과 가열 롤 연신 공정을 포함한다. 또한, 존 연신 공정과 가열 롤 연신 공정의 순서는 한정되지 않고, 존 연신 공정이 먼저 행하여져도 되고, 가열 롤 연신 공정이 먼저 행하여져도 된다. 존 연신 공정은 생략되어도 된다. 하나의 실시형태에서는, 존 연신 공정 및 가열 롤 연신 공정이 이 순서대로 행하여진다. 또한, 다른 실시형태에서는, 텐터 연신기에서 필름 단부를 파지(把持)하고, 텐터 사이의 거리를 흐름 방향으로 확장함으로써 연신된다(텐터 사이의 거리의 확장이 연신 배율이 된다). 이 때, 폭 방향(흐름 방향에 대하여 수직 방향)의 텐터의 거리는 임의로 가까워지도록 설정된다. 바람직하게는, 흐름 방향의 연신 배율에 대하여, 자유단 연신에 의해 가까워지도록 설정될 수 있다. 자유단 연신의 경우, 폭 방향의 수축률=(1/연신 배율)1/2로 계산된다.The stretching method of air assisted stretching may be fixed end stretching (eg, stretching using a tenter stretching machine) or free end stretching (eg, uniaxial stretching by passing a laminate between rolls having different circumferential speeds). However, in order to obtain high optical properties, free end stretching may be actively employed. In one embodiment, the air stretching treatment includes a heating roll stretching step of stretching the laminate by a circumferential speed difference between heating rolls while conveying the laminate in its longitudinal direction. The aerial stretching treatment typically includes a zone stretching process and a heated roll stretching process. In addition, the order of the zone stretching process and the hot roll stretching process is not limited, and the zone stretching process may be performed first, or the hot roll stretching process may be performed first. The zone stretching step may be omitted. In one embodiment, the zone stretching process and the hot roll stretching process are performed in this order. Further, in another embodiment, the film is stretched by gripping an end portion of the film in a tenter stretching machine and extending the distance between tenters in the flow direction (expansion of the distance between tenters becomes a stretching ratio). At this time, the distance of the tenter in the width direction (direction perpendicular to the flow direction) is set to be arbitrarily close. Preferably, with respect to the stretching ratio in the flow direction, it can be set to be approached by free end stretching. In the case of free end stretching, the shrinkage ratio in the width direction = (1/stretching ratio) is calculated as 1/2 .

공중 보조 연신은 한 단계로 행하여도 되고, 다단계로 행하여도 된다. 다단계로 행하는 경우, 연신 배율은 각 단계의 연신 배율의 곱이다. 공중 보조 연신에서의 연신 방향은 바람직하게는 수중 연신의 연신 방향과 대략 동일하다.Air assisted stretching may be performed in one step or may be performed in multiple steps. When performing in multiple steps, the draw ratio is the product of the draw ratios of each step. The stretching direction in air assisted stretching is preferably approximately the same as that in underwater stretching.

공중 보조 연신에서의 연신 배율은, 바람직하게는 1.0배∼4.0배이고, 보다 바람직하게는 1.5배∼3.5배이며, 더욱 바람직하게는 2.0배∼3.0배이다. 공중 보조 연신의 연신 배율이 이와 같은 범위이면, 수중 연신과 조합한 경우에 연신의 총 배율을 소망하는 범위로 설정할 수 있어, 소망하는 복굴절, 면내 위상차 및/또는 배향 함수를 실현할 수 있다. 그 결과, 이형 가공부에서의 크랙 발생이 억제된 편광자(결과로서, 편광판)를 얻을 수 있다. 또한, 상기한 바와 같이, 공중 보조 연신의 연신 배율은 붕산 수중 연신의 연신 배율보다도 큰 것이 바람직하다. 이와 같은 구성으로 함으로써, 연신의 총 배율이 작아도 허용 가능한 광학 특성을 갖는 편광자를 얻을 수 있다. 보다 상세하게는, 공중 보조 연신의 연신 배율과 수중 연신의 연신 배율과의 비(수중 연신/공중 보조 연신)는, 바람직하게는 0.4∼0.9이고, 보다 바람직하게는 0.5∼0.8이다.The draw ratio in air assisted stretching is preferably 1.0 to 4.0 times, more preferably 1.5 to 3.5 times, still more preferably 2.0 to 3.0 times. If the draw ratio of air-assisted stretching is within this range, when combined with underwater stretching, the total stretching magnification can be set within a desired range, and desired birefringence, in-plane retardation, and/or orientation function can be realized. As a result, it is possible to obtain a polarizer (as a result, a polarizing plate) in which the generation of cracks in the release processing part is suppressed. Moreover, as mentioned above, it is preferable that the draw ratio of air assisted stretching is larger than the draw ratio of stretching in boric acid water. By setting it as such a structure, even if the total magnification of extending|stretching is small, the polarizer which has acceptable optical characteristics can be obtained. More specifically, the ratio of the draw ratio in air-assisted stretching to the draw ratio in underwater stretching (underwater stretching/air-assisted stretching) is preferably 0.4 to 0.9, more preferably 0.5 to 0.8.

공중 보조 연신의 연신 온도는 열가소성 수지 기재의 형성 재료, 연신 방식 등에 따라서 임의의 적절한 값으로 설정할 수 있다. 연신 온도는 바람직하게는 열가소성 수지 기재의 유리전이온도(Tg) 이상이고, 더욱 바람직하게는 열가소성 수지 기재의 유리전이온도(Tg)+10℃ 이상, 특히 바람직하게는 Tg+15℃ 이상이다. 한편, 연신 온도의 상한은 바람직하게는 170℃이다. 이와 같은 온도에서 연신함으로써 PVA계 수지의 결정화가 급속하게 진행하는 것을 억제하여, 당해 결정화에 의한 문제(예컨대, 연신에 의한 PVA계 수지층의 배향을 방해)를 억제할 수 있다.The stretching temperature of the air-assisted stretching can be set to any suitable value depending on the forming material of the thermoplastic resin substrate, the stretching method, and the like. The stretching temperature is preferably equal to or higher than the glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin substrate, more preferably equal to or higher than the glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin substrate (Tg) + 10°C, particularly preferably equal to or higher than Tg + 15°C. On the other hand, the upper limit of the stretching temperature is preferably 170°C. By stretching at such a temperature, rapid crystallization of the PVA-based resin can be suppressed, and problems caused by the crystallization (for example, obstruction of orientation of the PVA-based resin layer by stretching) can be suppressed.

A-3-3. 불용화 처리, 염색 처리 및 가교 처리A-3-3. Insolubilization treatment, dyeing treatment and cross-linking treatment

필요에 따라 공중 보조 연신 처리 후, 수중 연신 처리나 염색 처리 전에 불용화 처리를 실시한다. 상기 불용화 처리는 대표적으로는 붕산 수용액에 PVA계 수지층을 침지함으로써 행한다. 상기 염색 처리는 대표적으로는 PVA계 수지층을 이색성 물질(대표적으로는 요오드)로 염색함으로써 행한다. 필요에 따라, 염색 처리 후, 수중 연신 처리 전에 가교 처리를 실시한다. 상기 가교 처리는 대표적으로는 붕산 수용액에 PVA계 수지층을 침지시킴으로써 행한다. 불용화 처리, 염색 처리 및 가교 처리의 상세에 대해서는, 예컨대 일본 공개특허공보 제2012-73580호에 기재되어 있다.If necessary, insolubilization treatment is performed after the air-assisted stretching treatment and before the underwater stretching treatment or the dyeing treatment. The insolubilization treatment is typically performed by immersing the PVA-based resin layer in an aqueous solution of boric acid. The dyeing treatment is typically performed by dyeing the PVA-based resin layer with a dichroic substance (typically iodine). If necessary, a crosslinking treatment is performed after the dyeing treatment and before the underwater stretching treatment. The crosslinking treatment is typically performed by immersing the PVA-based resin layer in an aqueous solution of boric acid. Details of the insolubilization treatment, dyeing treatment, and crosslinking treatment are described, for example, in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-73580.

A-3-4. 수중 연신 처리A-3-4. Underwater stretching treatment

수중 연신 처리는 적층체를 연신욕에 침지시켜서 행한다. 수중 연신 처리에 따르면, 상기 열가소성 수지 기재나 PVA계 수지층의 유리전이온도(대표적으로는 80℃ 정도)보다도 낮은 온도에서 연신할 수 있고, PVA계 수지층을 그의 결정화를 억제하면서 연신할 수 있다. 그 결과, 우수한 광학 특성을 갖는 편광자를 제조할 수 있다.The underwater stretching treatment is performed by immersing the laminate in a stretching bath. According to the underwater stretching treatment, stretching can be performed at a temperature lower than the glass transition temperature (typically about 80° C.) of the thermoplastic resin substrate or the PVA-based resin layer, and the PVA-based resin layer can be stretched while suppressing its crystallization. . As a result, a polarizer having excellent optical properties can be manufactured.

적층체의 연신 방법은 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 구체적으로는 고정단 연신이어도 되고, 자유단 연신(예컨대, 원주 속도가 상이한 롤 사이에 적층체를 통과시켜 1축 연신하는 방법)이어도 된다. 바람직하게는, 자유단 연신이 선택된다. 적층체의 연신은 한 단계로 행하여도 되고, 다단계로 행하여도 된다. 다단계로 행하는 경우, 연신의 총 배율은 각 단계의 연신 배율의 곱이다.Arbitrary suitable methods can be employed for the stretching method of the laminate. Specifically, fixed-end stretching or free-end stretching (for example, a method of uniaxially stretching a laminate by passing it between rolls having different circumferential speeds) may be used. Preferably, free end stretching is selected. Stretching of the laminate may be performed in one step or in multiple steps. When carried out in multiple stages, the total stretching ratio is the product of the stretching ratios of each stage.

수중 연신은 바람직하게는 붕산 수용액 중에 적층체를 침지시켜서 행한다(붕산 수중 연신). 연신욕으로서 붕산 수용액을 이용함으로써, PVA계 수지층에 연신 시에 가해지는 장력을 견디는 강성과, 물에 용해되지 않는 내수성을 부여할 수 있다. 구체적으로는, 붕산은 수용액 중에서 테트라히드록시붕산 음이온을 생성하여 PVA계 수지와 수소 결합에 의해 가교될 수 있다. 그 결과, PVA계 수지층에 강성과 내수성을 부여하여 양호하게 연신할 수 있어, 우수한 광학 특성을 갖는 편광자를 제조할 수 있다.Stretching in water is preferably performed by immersing the layered product in an aqueous boric acid solution (stretching in boric acid water). By using a boric acid aqueous solution as a stretching bath, rigidity that can withstand the tension applied during stretching and water resistance that does not dissolve in water can be imparted to the PVA-based resin layer. Specifically, boric acid generates tetrahydroxyboric acid anions in an aqueous solution and can be crosslinked with PVA-based resins by hydrogen bonding. As a result, rigidity and water resistance can be imparted to the PVA-based resin layer so that it can be stretched satisfactorily, and a polarizer having excellent optical properties can be manufactured.

상기 붕산 수용액은 바람직하게는 용매인 물에 붕산 및/또는 붕산염을 용해시킴으로써 얻어진다. 붕산 농도는 물 100중량부에 대하여 바람직하게는 1중량부∼10중량부이고, 보다 바람직하게는 2.5중량부∼6중량부이며, 특히 바람직하게는 3중량부∼5중량부이다. 붕산 농도를 1중량부 이상으로 함으로써, PVA계 수지층의 용해를 효과적으로 억제할 수 있어, 보다 고특성의 편광자를 제조할 수 있다. 또한, 붕산 또는 붕산염 이외에 붕사 등의 붕소 화합물, 글리옥살, 글루타르알데히드 등을 용매에 용해하여 얻어진 수용액도 이용할 수 있다.The aqueous solution of boric acid is preferably obtained by dissolving boric acid and/or a borate salt in water as a solvent. The boric acid concentration is preferably 1 part by weight to 10 parts by weight, more preferably 2.5 parts by weight to 6 parts by weight, and particularly preferably 3 parts by weight to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of water. By setting the boric acid concentration to 1 part by weight or more, dissolution of the PVA-based resin layer can be effectively suppressed, and a polarizer with higher characteristics can be manufactured. In addition to boric acid or borate salts, an aqueous solution obtained by dissolving boron compounds such as borax, glyoxal, glutaraldehyde, and the like in a solvent can also be used.

바람직하게는, 상기 연신욕(붕산 수용액)에 요오드화물을 배합한다. 요오드화물을 배합함으로써, PVA계 수지층에 흡착시킨 요오드의 용출을 억제할 수 있다. 요오드화물의 구체예는 상술한 바와 같다. 요오드화물의 농도는 물 100중량부에 대하여 바람직하게는 0.05중량부∼15중량부, 보다 바람직하게는 0.5중량부∼8중량부이다.Preferably, iodide is incorporated into the stretching bath (boric acid aqueous solution). By blending iodide, elution of iodine adsorbed to the PVA-based resin layer can be suppressed. Specific examples of iodide are as described above. The concentration of iodide is preferably from 0.05 parts by weight to 15 parts by weight, more preferably from 0.5 parts by weight to 8 parts by weight, based on 100 parts by weight of water.

연신 온도(연신욕의 액체 온도)는 바람직하게는 40℃∼85℃, 보다 바람직하게는 60℃∼75℃이다. 이와 같은 온도이면, PVA계 수지층의 용해를 억제하면서 고배율로 연신할 수 있다. 구체적으로는, 상술한 바와 같이, 열가소성 수지 기재의 유리전이온도(Tg)는 PVA계 수지층의 형성과의 관계에서 바람직하게는 60℃ 이상이다. 이 경우, 연신 온도가 40℃를 하회하면, 물에 의한 열가소성 수지 기재의 가소화를 고려하여도, 양호하게 연신할 수 없을 우려가 있다. 한편, 연신욕의 온도가 고온이 될수록, PVA계 수지층의 용해성이 높아져서, 우수한 광학 특성이 얻어지지 않을 우려가 있다. 적층체의 연신욕으로의 침지 시간은 바람직하게는 15초∼5분이다.The stretching temperature (liquid temperature of the stretching bath) is preferably 40°C to 85°C, more preferably 60°C to 75°C. At such a temperature, it can be extended at a high magnification while suppressing dissolution of the PVA-based resin layer. Specifically, as described above, the glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin substrate is preferably 60°C or higher in relation to the formation of the PVA-based resin layer. In this case, if the stretching temperature is lower than 40°C, there is a risk that satisfactory stretching may not be possible even if plasticization of the thermoplastic resin substrate by water is taken into consideration. On the other hand, as the temperature of the stretching bath becomes higher, the solubility of the PVA-based resin layer increases, and there is a possibility that excellent optical properties may not be obtained. The immersion time of the laminate in the stretching bath is preferably 15 seconds to 5 minutes.

수중 연신에 의한 연신 배율은, 바람직하게는 1.0배∼2.2배이고, 보다 바람직하게는 1.1배∼2.0배이며, 더욱 바람직하게는 1.1배∼1.8배이고, 더욱 보다 바람직하게는 1.2배∼1.6배이다. 수중 연신에서의 연신 배율이 이와 같은 범위이면, 연신의 총 배율을 소망하는 범위로 설정할 수 있어, 소망하는 복굴절, 면내 위상차 및/또는 배향 함수를 실현할 수 있다. 그 결과, 이형 가공부에서의 크랙 발생이 억제된 편광자(결과로서, 편광판)를 얻을 수 있다. 연신의 총 배율(공중 보조 연신과 수중 연신을 조합한 경우의 연신 배율의 합계)은, 상기한 바와 같이, 적층체의 원래 길이에 대하여, 바람직하게는 3.0배∼4.5배이고, 보다 바람직하게는 3.0배∼4.3배이며, 더욱 바람직하게는 3.0배∼4.0배이다. 도포액으로의 할로겐화물의 첨가, 공중 보조 연신 및 수중 연신의 연신 배율의 조정, 및 건조 수축 처리를 적절히 조합함으로써, 이와 같은 연신의 총 배율이라도 허용 가능한 광학 특성을 갖는 편광자를 얻을 수 있다.The draw ratio by underwater stretching is preferably 1.0 to 2.2 times, more preferably 1.1 to 2.0 times, even more preferably 1.1 to 1.8 times, still more preferably 1.2 to 1.6 times. If the stretching magnification in the underwater stretching is within such a range, the total stretching magnification can be set within a desired range, and desired birefringence, in-plane retardation and/or orientation function can be realized. As a result, it is possible to obtain a polarizer (as a result, a polarizing plate) in which the generation of cracks in the release processing part is suppressed. The total stretching ratio (total stretching ratio when air assisted stretching and underwater stretching are combined) is, as described above, preferably 3.0 to 4.5 times, more preferably 3.0 times the original length of the laminate. times to 4.3 times, more preferably 3.0 times to 4.0 times. By appropriately combining the addition of a halide to the coating liquid, adjustment of the draw ratio of air assisted extension and underwater extension, and drying shrinkage treatment, a polarizer having acceptable optical properties can be obtained even at the total magnification of such extension.

A-3-5. 건조 수축 처리A-3-5. dry shrink treatment

상기 건조 수축 처리는 존 전체를 가열하여 행하는 존 가열에 의해 행하여도 되고, 반송 롤을 가열(이른바 가열 롤을 이용)함으로써 행(가열 롤 건조 방식)할 수도 있다. 바람직하게는 그 양쪽을 이용한다. 가열 롤을 이용하여 건조시킴으로써, 효율적으로 적층체의 가열 컬을 억제하여, 외관이 우수한 편광자를 제조할 수 있다. 구체적으로는, 가열 롤에 적층체를 따르게 한 상태에서 건조함으로써, 상기 열가소성 수지 기재의 결정화를 효율적으로 촉진시켜서 결정화도를 증가시킬 수 있고, 비교적 낮은 건조 온도라도 열가소성 수지 기재의 결정화도를 양호하게 증가시킬 수 있다. 그 결과, 열가소성 수지 기재는 그의 강성이 증가하여, 건조에 의한 PVA계 수지층의 수축에 견딜 수 있는 상태가 되어 컬이 억제된다. 또한, 가열 롤을 이용함으로써, 적층체를 평평한 상태로 유지하면서 건조할 수 있기 때문에, 컬뿐만 아니라 주름의 발생도 억제할 수 있다. 이 때, 적층체는 건조 수축 처리에 의해 폭 방향으로 수축시킴으로써, 광학 특성을 향상시킬 수 있다. PVA 및 PVA/요오드 착체의 배향성을 효과적으로 높일 수 있기 때문이다. 건조 수축 처리에 의한 적층체의 폭 방향의 수축률은 바람직하게는 1%∼10%이고, 보다 바람직하게는 2%∼8%이며, 특히 바람직하게는 2%∼6%이다.The drying shrinkage treatment may be performed by zone heating performed by heating the entire zone, or may be performed by heating the conveying roll (using a so-called heating roll) (heating roll drying method). Preferably, both of them are used. By drying using a heating roll, heating curl of a layered product can be suppressed efficiently and a light polarizer excellent in external appearance can be manufactured. Specifically, by drying in a state where the laminate is attached to a heating roll, the crystallization of the thermoplastic resin substrate can be efficiently promoted to increase the crystallinity, and even at a relatively low drying temperature, the crystallinity of the thermoplastic resin substrate can be increased satisfactorily. can As a result, the rigidity of the thermoplastic resin base material is increased, and curling is suppressed in a state capable of withstanding shrinkage of the PVA-based resin layer due to drying. In addition, since it is possible to dry the layered product while maintaining it in a flat state by using a heating roll, not only curling but also occurrence of wrinkles can be suppressed. At this time, the optical properties can be improved by shrinking the laminate in the width direction by drying shrinkage treatment. This is because the orientation properties of PVA and PVA/iodine complexes can be effectively increased. The shrinkage in the width direction of the laminate by the drying shrinkage treatment is preferably 1% to 10%, more preferably 2% to 8%, and particularly preferably 2% to 6%.

도 6은 건조 수축 처리의 일례를 나타내는 개략도이다. 건조 수축 처리에서는, 소정의 온도로 가열된 반송 롤(R1∼R6)과 가이드 롤(G1∼G4)에 의해 적층체(200)를 반송하면서 건조시킨다. 도시예에서는, PVA 수지층의 면과 열가소성 수지 기재의 면을 교대로 연속 가열하도록 반송 롤(R1∼R6)이 배치되어 있지만, 예컨대 적층체(200)의 한쪽 면(예컨대, 열가소성 수지 기재 면)만을 연속적으로 가열하도록 반송 롤(R1∼R6)을 배치하여도 된다.6 is a schematic diagram showing an example of drying shrinkage treatment. In the drying shrinkage treatment, the laminate 200 is dried while being conveyed by conveyance rolls R1 to R6 and guide rolls G1 to G4 heated to a predetermined temperature. In the illustrated example, the transport rolls R1 to R6 are arranged so that the PVA resin layer surface and the thermoplastic resin substrate surface are alternately and continuously heated. You may arrange conveyance rolls R1-R6 so that only may be heated continuously.

반송 롤의 가열 온도(가열 롤의 온도), 가열 롤의 수, 가열 롤과의 접촉 시간 등을 조정함으로써 건조 조건을 제어할 수 있다. 가열 롤의 온도는 바람직하게는 60℃∼120℃이고, 더욱 바람직하게는 65℃∼100℃이며, 특히 바람직하게는 70℃∼80℃이다. 열가소성 수지의 결정화도를 양호하게 증가시켜, 컬을 양호하게 억제할 수 있음과 함께, 내구성이 극히 우수한 광학 적층체를 제조할 수 있다. 또한, 가열 롤의 온도는 접촉식 온도계에 의해 측정할 수 있다. 도시예에서는 6개의 반송 롤이 마련되어 있지만, 반송 롤은 복수개이면 특별히 제한은 없다. 반송 롤은 통상적으로 2개∼40개, 바람직하게는 4개∼30개 마련된다. 적층체와 가열 롤과의 접촉 시간(총 접촉 시간)은 바람직하게는 1초∼300초이고, 보다 바람직하게는 1∼20초이며, 더욱 바람직하게는 1∼10초이다.Drying conditions can be controlled by adjusting the heating temperature of the conveying rolls (temperature of the heating rolls), the number of heating rolls, and the contact time with the heating rolls. The temperature of the heating roll is preferably 60°C to 120°C, more preferably 65°C to 100°C, and particularly preferably 70°C to 80°C. While the crystallinity of the thermoplastic resin can be increased satisfactorily and curling can be suppressed satisfactorily, an optical laminate having extremely excellent durability can be manufactured. In addition, the temperature of a heating roll can be measured with a contact thermometer. Although six conveyance rolls are provided in the illustrated example, there is no particular restriction as long as there are a plurality of conveyance rolls. The conveyance rolls are usually provided in 2 to 40 pieces, preferably 4 to 30 pieces. The contact time (total contact time) between the laminate and the heating roll is preferably 1 second to 300 seconds, more preferably 1 to 20 seconds, still more preferably 1 to 10 seconds.

가열 롤은 가열로(예컨대, 오븐) 내에 마련하여도 되고, 통상의 제조 라인(실온 환경 하)에 마련하여도 된다. 바람직하게는, 송풍 수단을 구비하는 가열로 내에 마련된다. 가열 롤에 의한 건조와 열풍 건조를 병용함으로써, 가열 롤 사이에서의 급격한 온도 변화를 억제할 수 있고, 폭 방향의 수축을 용이하게 제어할 수 있다. 열풍 건조의 온도는 바람직하게는 30℃∼100℃이다. 또한, 열풍 건조 시간은 바람직하게는 1초∼300초이다. 열풍의 풍속은 바람직하게는 10m/s∼30m/s 정도이다. 또한, 당해 풍속은 가열로 내에서의 풍속이고, 미니베인형 디지털 풍속계에 의해 측정할 수 있다.The heating roll may be provided in a heating furnace (for example, an oven) or may be provided in a normal production line (in a room temperature environment). Preferably, it is provided in a heating furnace equipped with a blowing means. By using both heating roll drying and hot air drying, rapid temperature change between the heating rolls can be suppressed, and shrinkage in the width direction can be easily controlled. The temperature of hot air drying is preferably 30°C to 100°C. In addition, the hot air drying time is preferably 1 second to 300 seconds. The wind speed of the hot air is preferably about 10 m/s to 30 m/s. In addition, the said wind speed is the wind speed in a heating furnace, and can be measured with a mini-vane type digital anemometer.

A-3-6. 그 밖의 처리A-3-6. other processing

바람직하게는, 수중 연신 처리 후, 건조 수축 처리 전에 세정 처리를 실시한다. 상기 세정 처리는, 대표적으로는, 요오드화칼륨 수용액에 PVA계 수지층을 침지시킴으로써 행한다.Preferably, washing treatment is performed after the underwater stretching treatment and before the drying shrinkage treatment. The washing treatment is typically performed by immersing the PVA-based resin layer in an aqueous solution of potassium iodide.

A-4. 보호층A-4. protective layer

보호층의 두께는 10㎛ 이하이다. 보호층의 두께가 10㎛ 이하임으로써, 편광판의 박형화에 기여할 수 있다. 또한, 종래, 편광자의 가열 시의 수축에 추종하여 편광자를 보호하는 관점에서, 20㎛ 이상의 두께를 갖는 보호층이 이용되고 있다. 이에 대하여, 본 발명의 실시형태에서 이용되는 편광자는, 상기한 바와 같이, 종래보다도 PVA계 수지의 배향도가 낮고, 결과로서, 가열에 의한 수축이 작은 점에서, 두께가 10㎛ 이하인 보호층을 이용한 경우라도, 가열 시의 크랙의 발생이 억제된다. 또한, 이와 같은 편광자는 이형 가공부에서의 크랙 억제에도 공헌할 수 있다.The thickness of the protective layer is 10 μm or less. When the thickness of the protective layer is 10 μm or less, it can contribute to reducing the thickness of the polarizing plate. Conventionally, a protective layer having a thickness of 20 μm or more is used from the viewpoint of following the shrinkage of the polarizer during heating and protecting the polarizer. On the other hand, as described above, the polarizer used in the embodiment of the present invention has a lower degree of orientation of the PVA-based resin than before, and as a result, shrinkage due to heating is small, so that a protective layer having a thickness of 10 μm or less is used. Even in this case, generation of cracks during heating is suppressed. Moreover, such a polarizer can also contribute to crack suppression in a mold release processing part.

보호층의 두께는 바람직하게는 7㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 5㎛ 이하이며, 더욱 바람직하게는 3㎛ 이하이다. 보호층의 두께는, 예컨대 1㎛ 이상이다.The thickness of the protective layer is preferably 7 μm or less, more preferably 5 μm or less, still more preferably 3 μm or less. The thickness of the protective layer is, for example, 1 μm or more.

보호층은 수지막으로 구성된다. 수지막을 형성하는 수지로서는, 목적에 따라 임의의 적절한 수지가 이용될 수 있다. 구체예로서는, (메트)아크릴계, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 등의 셀룰로오스계, 폴리에스테르계, 폴리우레탄계, 폴리비닐알코올계, 폴리카보네이트계, 폴리아미드계, 폴리이미드계, 폴리에테르설폰계, 폴리설폰계, 폴리스티렌계, 폴리노보넨계, 폴리올레핀계, 아세테이트계 등의 열가소성 수지; (메트)아크릴계, 우레탄계, (메트)아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화형 수지 또는 활성 에너지선 경화형 수지; 실록산계 폴리머 등의 유리질계 폴리머를 들 수 있다. 하나의 실시형태에서, 수지막을 형성하는 수지로서는, 에폭시 수지, (메트)아크릴계 수지를 들 수 있다. 이들은 단독으로 이용하여도 되고, 조합하여 이용하여도 된다.The protective layer is composed of a resin film. As the resin forming the resin film, any suitable resin may be used depending on the purpose. Specific examples include (meth)acrylic, cellulose-based such as triacetyl cellulose (TAC), polyester-based, polyurethane-based, polyvinyl alcohol-based, polycarbonate-based, polyamide-based, polyimide-based, polyethersulfone-based, and polysulfone-based. thermoplastic resins such as pon-based, polystyrene-based, polynorbornene-based, polyolefin-based, and acetate-based resins; (meth)acrylic, urethane-based, (meth)acrylurethane-based, epoxy-based, silicone-based thermosetting resins or active energy ray-curable resins; Glassy type polymers, such as a siloxane type polymer, are mentioned. In one embodiment, an epoxy resin and (meth)acrylic resin are mentioned as resin which forms a resin film. These may be used independently or may be used in combination.

보호층을 구성하는 수지막은, 예컨대, 용융 수지의 성형물이어도 되고, 수지를 수성 용매 또는 유기 용매에 용해 또는 분산하여 얻어지는 수지 용액의 도포막의 고화물이어도 되며, 경화형 수지의 경화물(예컨대, 광 양이온 경화물)이어도 된다.The resin film constituting the protective layer may be, for example, a molded product of molten resin, a solidified product of a coating film of a resin solution obtained by dissolving or dispersing the resin in an aqueous solvent or an organic solvent, or a cured product of a curable resin (e.g., photocationic cured product).

하나의 실시형태에서, 보호층은 열가소성 (메트)아크릴계 수지(이하, (메트)아크릴계 수지를 단순히 '아크릴계 수지'라고 칭하는 경우가 있음)의 유기 용매 용액의 도포막의 고화물, 에폭시 수지의 광 양이온 경화물, 혹은 에폭시 수지의 유기 용매 용액의 도포막의 고화물일 수 있다. 이하, 구체적으로 설명한다.In one embodiment, the protective layer is a solidified product of a coating film of an organic solvent solution of a thermoplastic (meth)acrylic resin (hereinafter, (meth)acrylic resin is sometimes simply referred to as 'acrylic resin'), photo cations of an epoxy resin It may be a cured product or a solidified product of a coating film of an organic solvent solution of an epoxy resin. Hereinafter, it demonstrates concretely.

A-4-1. 열가소성 아크릴계 수지의 유기 용매 용액의 도포막의 고화물A-4-1. Solidified material of coating film of organic solvent solution of thermoplastic acrylic resin

하나의 실시형태에서는, 보호층은 열가소성 아크릴계 수지의 유기 용매 용액의 도포막의 고화물로 구성되어 있다. 본 실시형태의 보호층의 연화 온도는, 가습 내구성의 관점에서, 바람직하게는 100℃ 이상, 보다 바람직하게는 115℃ 이상, 더욱 바람직하게는 120℃ 이상, 특히 바람직하게는 125℃ 이상이고, 또한, 성형성의 관점에서, 바람직하게는 300℃ 이하, 보다 바람직하게는 250℃ 이하, 더욱 바람직하게는 200℃ 이하, 특히 바람직하게는 160℃ 이하이다.In one embodiment, the protective layer is composed of a solidified material of a coating film of an organic solvent solution of a thermoplastic acrylic resin. The softening temperature of the protective layer of the present embodiment is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 115 ° C. or higher, still more preferably 120 ° C. or higher, particularly preferably 125 ° C. or higher, from the viewpoint of humidification durability. , From the viewpoint of moldability, it is preferably 300°C or less, more preferably 250°C or less, still more preferably 200°C or less, and particularly preferably 160°C or less.

아크릴계 수지는 유리전이온도(Tg)가 바람직하게는 100℃ 이상이다. 그 결과, 보호층의 연화 온도도 거의 100℃ 이상이 된다. 아크릴계 수지의 Tg가 100℃ 이상이면, 이와 같은 수지로부터 얻어진 보호층을 포함하는 편광판은 크랙 내성에 더하여 가습 내구성도 우수한 것이 될 수 있다. 아크릴계 수지의 Tg는 보다 바람직하게는 110℃ 이상, 더욱 바람직하게는 115℃ 이상, 더욱 보다 바람직하게는 120℃ 이상, 특히 바람직하게는 125℃ 이상이다. 한편, 아크릴계 수지의 Tg는, 바람직하게는 300℃ 이하, 보다 바람직하게는 250℃ 이하, 더욱 바람직하게는 200℃ 이하, 특히 바람직하게는 160℃ 이하이다. 아크릴계 수지의 Tg가 이와 같은 범위이면, 성형성이 우수할 수 있다.The acrylic resin has a glass transition temperature (Tg) of preferably 100°C or higher. As a result, the softening temperature of the protective layer also becomes approximately 100°C or higher. When the Tg of the acrylic resin is 100° C. or higher, the polarizing plate including the protective layer obtained from such a resin can have excellent humidification durability in addition to crack resistance. The Tg of the acrylic resin is more preferably 110°C or higher, still more preferably 115°C or higher, still more preferably 120°C or higher, and particularly preferably 125°C or higher. On the other hand, the Tg of the acrylic resin is preferably 300°C or lower, more preferably 250°C or lower, still more preferably 200°C or lower, and particularly preferably 160°C or lower. When the Tg of the acrylic resin is within this range, moldability may be excellent.

아크릴계 수지로서는, 상기한 바와 같은 Tg를 갖는 한에서 임의의 적절한 아크릴계 수지가 채용될 수 있다. 아크릴계 수지는, 대표적으로는, 모노머 단위(반복 단위)로서 알킬(메트)아크릴레이트를 주성분으로서 함유한다. 본 명세서에서 '(메트)아크릴'이란, 아크릴 및/또는 메타크릴을 의미한다. 아크릴계 수지의 주골격을 구성하는 알킬(메트)아크릴레이트로서는, 직쇄상 또는 분지쇄상의 알킬기의 탄소수 1∼18의 것을 예시할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 조합하여 사용할 수 있다. 또한, 아크릴계 수지에는, 임의의 적절한 공중합 모노머를 공중합에 의해 도입하여도 된다. 알킬(메트)아크릴레이트의 종류, 수, 조합 및 배합비, 공중합 모노머의 종류, 수, 조합 및 배합비, 및 중합 조건 등을 적절히 설정함으로써, 소망하는 보호층을 형성할 수 있는 아크릴계 수지가 얻어질 수 있다.As the acrylic resin, any suitable acrylic resin can be employed as long as it has the above Tg. Acrylic resin typically contains an alkyl (meth)acrylate as a main component as a monomer unit (repeating unit). In the present specification, '(meth)acryl' means acryl and/or methacryl. As the alkyl (meth)acrylate constituting the main skeleton of the acrylic resin, those having 1 to 18 carbon atoms in a linear or branched alkyl group can be exemplified. These can be used alone or in combination. In addition, you may introduce|transduce arbitrary appropriate copolymerization monomers into acrylic resin by copolymerization. An acrylic resin capable of forming a desired protective layer can be obtained by appropriately setting the type, number, combination and blending ratio of alkyl (meth)acrylates, the type and number, combination and blending ratio of copolymerized monomers, and polymerization conditions. there is.

아크릴계 수지는 바람직하게는 환 구조를 포함하는 반복 단위를 갖는다. 환 구조를 포함하는 반복 단위로서는, 락톤환 단위, 무수 글루타르산 단위, 글루타르이미드 단위, 무수 말레산 단위, 말레이미드(N-치환 말레이미드) 단위를 들 수 있다. 환 구조를 포함하는 반복 단위는, 1종류만이 아크릴계 수지의 반복 단위에 포함되어 있어도 되고, 2종류 이상이 포함되어 있어도 된다. 락톤환 단위를 갖는 아크릴계 수지는, 예컨대 일본 공개특허공보 제2008-181078호에 기재되어 있다. 글루타르이미드 단위를 갖는 아크릴계 수지는, 예컨대, 일본 공개특허공보 제2006-309033호, 일본 공개특허공보 제2006-317560호, 일본 공개특허공보 제2006-328334호, 일본 공개특허공보 제2006-337491호, 일본 공개특허공보 제2006-337492호, 일본 공개특허공보 제2006-337493호, 일본 공개특허공보 제2006-337569호에 기재되어 있다. 이들 공보의 기재는 본 명세서에 참고로서 원용된다.Acrylic resin preferably has a repeating unit containing a ring structure. As a repeating unit containing a ring structure, a lactone ring unit, a glutaric anhydride unit, a glutarimide unit, a maleic anhydride unit, and a maleimide (N-substituted maleimide) unit are mentioned. As for the repeating unit containing ring structure, only 1 type may be included in the repeating unit of acrylic resin, and 2 or more types may be included. An acrylic resin having a lactone ring unit is described, for example, in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-181078. An acrylic resin having a glutarimide unit is, for example, Japanese Patent Application Laid-open No. 2006-309033, Japanese Patent Laid-Open No. 2006-317560, Japanese Laid-Open Patent No. 2006-328334, Japanese Laid-Open Patent No. 2006-337491 , Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-337492, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-337493, and Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-337569. Descriptions of these publications are incorporated herein by reference.

아크릴계 수지에서의 환 구조를 포함하는 반복 단위의 함유 비율은, 바람직하게는 1몰%∼50몰%, 보다 바람직하게는 10몰%∼40몰%, 더욱 바람직하게는 20몰%∼30몰%이다. 함유 비율이 지나치게 적으면, Tg가 100℃ 미만이 되는 경우가 있고, 얻어지는 보호층의 내열성, 내용제성 및 표면 경도가 불충분해지는 경우가 있다. 함유 비율이 지나치게 많으면, 성형성 및 투명성이 불충분해지는 경우가 있다.The content of the repeating unit containing the ring structure in the acrylic resin is preferably 1 mol% to 50 mol%, more preferably 10 mol% to 40 mol%, still more preferably 20 mol% to 30 mol%. am. When the content is too small, the Tg may be less than 100°C, and the resulting protective layer may have insufficient heat resistance, solvent resistance and surface hardness. When the content ratio is too high, moldability and transparency may become insufficient.

본 발명의 실시형태에서는, 아크릴계 수지와 다른 수지를 병용하여도 된다. 즉, 아크릴계 수지를 구성하는 모노머 성분과 다른 수지를 구성하는 모노머 성분을 공중합하고, 당해 공중합체를 후술하는 보호층의 성형에 제공하여도 되며; 아크릴계 수지와 다른 수지와의 블렌드를 보호층의 성형에 제공하여도 된다. In the embodiment of the present invention, an acrylic resin and another resin may be used in combination. That is, a monomer component constituting an acrylic resin and a monomer component constituting another resin may be copolymerized, and the copolymer may be used for molding of a protective layer described later; A blend of an acrylic resin and another resin may be used for molding the protective layer.

본 실시형태의 보호층은, 예컨대, 편광자 표면에, 아크릴계 수지의 유기 용매 용액을 도포하여 도포막을 형성하고, 당해 도포막을 고화시킴으로써 형성될 수 있다.The protective layer of this embodiment may be formed, for example, by applying an organic solvent solution of acrylic resin to the surface of the polarizer to form a coating film, and solidifying the coating film.

유기 용매로서는, 아크릴계 수지를 용해 또는 균일하게 분산할 수 있는 임의의 적절한 유기 용매를 이용할 수 있다. 유기 용매의 구체예로서는, 초산에틸, 톨루엔, 메틸에틸케톤(MEK), 메틸이소부틸케톤(MIBK), 시클로펜타논, 시클로헥사논을 들 수 있다.As the organic solvent, any appropriate organic solvent capable of dissolving or uniformly dispersing the acrylic resin can be used. Specific examples of the organic solvent include ethyl acetate, toluene, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclopentanone, and cyclohexanone.

용액의 아크릴계 수지 농도는, 용매 100중량부에 대하여, 바람직하게는 3중량부∼20중량부이다. 이와 같은 수지 농도이면, 편광자에 밀착된 균일한 도포막을 형성할 수 있다.The concentration of the acrylic resin in the solution is preferably 3 parts by weight to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solvent. With such a resin concentration, a uniform coating film adhering to the polarizer can be formed.

용액은 임의의 적절한 기재에 도포하여도 되고, 편광자에 도포하여도 된다. 기재에 도포하는 경우에는, 기재 위에 형성된 도포막의 고화물이 편광자에 전사된다. 편광자에 도포하는 경우에는, 도포막을 건조(고화)시킴으로써, 편광자 위에 보호층이 직접 형성된다. 바람직하게는, 용액은 편광자에 도포되고, 편광자 위에 보호층이 직접 형성된다. 이와 같은 구성이면, 전사에 필요로 되는 접착제층 또는 점착제층을 생략할 수 있기 때문에, 편광판을 더 얇게 할 수 있다. 용액의 도포 방법으로서는, 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 구체예로서는, 롤 코트법, 스핀 코트법, 와이어 바 코트법, 딥 코트법, 다이 코트법, 커튼 코트법, 스프레이 코트법, 나이프 코트법(콤마 코트법 등)을 들 수 있다.The solution may be applied to any suitable substrate or may be applied to a polarizer. In the case of application to a substrate, the solidified material of the coating film formed on the substrate is transferred to the polarizer. When applying to a polarizer, a protective layer is formed directly on a polarizer by drying (solidifying) a coating film. Preferably, the solution is applied to the polarizer, and a protective layer is formed directly on the polarizer. With such a structure, since the adhesive layer or pressure-sensitive adhesive layer required for transfer can be omitted, the polarizing plate can be made thinner. As a method of applying the solution, any suitable method can be employed. Specific examples include a roll coating method, a spin coating method, a wire bar coating method, a dip coating method, a die coating method, a curtain coating method, a spray coating method, and a knife coating method (such as a comma coating method).

용액의 도포막을 건조(고화)시킴으로써 보호층이 형성될 수 있다. 건조 온도는 바람직하게는 100℃ 이하이고, 보다 바람직하게는 50℃∼70℃이다. 건조 온도가 이와 같은 범위이면, 편광자에 대한 악영향을 방지할 수 있다. 건조 시간은 건조 온도에 따라 변화할 수 있다. 건조 시간은 예컨대 1분∼10분일 수 있다.A protective layer can be formed by drying (solidifying) the coated film of the solution. The drying temperature is preferably 100°C or less, more preferably 50°C to 70°C. If the drying temperature is within this range, adverse effects on the polarizer can be prevented. The drying time may vary depending on the drying temperature. The drying time may be, for example, 1 minute to 10 minutes.

A-4-2. 에폭시 수지의 광 양이온 경화물A-4-2. Photocationic cured product of epoxy resin

하나의 실시형태에서는, 보호층은 에폭시 수지의 광 양이온 경화물로 구성된다. 이와 같은 보호층을 이용함으로써, 크랙의 발생이 억제되고, 또한 우수한 가습 내구성이 얻어질 수 있다. 상기한 바와 같이, 보호층이 광 양이온 경화물이기 때문에, 보호층 형성용 조성물은 광 양이온 중합 개시제를 포함한다. 광 양이온 중합 개시제는 광산 발생제의 기능을 갖는 감광제이고, 대표적으로는 양이온부와 음이온부를 포함하는 이온성의 오늄염을 들 수 있다. 이 오늄염에서, 양이온부는 광을 흡수하고, 음이온부는 산의 발생원이 된다. 이 광 양이온 중합 개시제로부터 발생한 산에 의해 에폭시기의 개환 중합이 진행된다. 얻어지는 광 양이온 경화물인 보호층은 연화 온도가 높고, 요오드 흡착량이 저감될 수 있다. 따라서, 크랙의 발생이 억제되고, 또한 우수한 가습 내구성을 갖는 편광판을 제공할 수 있다.In one embodiment, the protective layer is composed of a photocationic cured product of an epoxy resin. By using such a protective layer, occurrence of cracks can be suppressed and excellent humidification durability can be obtained. As described above, since the protective layer is a photo-cationic cured product, the composition for forming a protective layer contains a photo-cationic polymerization initiator. The photocationic polymerization initiator is a photosensitizer having a function of a photoacid generator, and examples thereof include ionic onium salts containing a cation portion and an anion portion. In this onium salt, the cation portion absorbs light, and the anion portion becomes a source of acid. The ring-opening polymerization of an epoxy group advances with the acid generated from this photocationic polymerization initiator. The resulting protective layer, which is a photocationically cured product, has a high softening temperature and can reduce the amount of iodine adsorbed. Therefore, it is possible to provide a polarizing plate in which occurrence of cracks is suppressed and which has excellent humidification durability.

본 실시형태의 보호층의 연화 온도는, 가습 내구성의 관점에서, 바람직하게는 100℃ 이상, 보다 바람직하게는 110℃ 이상, 더욱 바람직하게는 120℃ 이상, 특히 바람직하게는 125℃ 이상이고, 또한, 성형성의 관점에서, 바람직하게는 300℃ 이하, 보다 바람직하게는 250℃ 이하, 더욱 바람직하게는 200℃ 이하, 특히 바람직하게는 160℃ 이하이다.The softening temperature of the protective layer of the present embodiment is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 110 ° C. or higher, even more preferably 120 ° C. or higher, particularly preferably 125 ° C. or higher, from the viewpoint of humidification durability. , From the viewpoint of moldability, it is preferably 300°C or less, more preferably 250°C or less, still more preferably 200°C or less, and particularly preferably 160°C or less.

A-4-2-1. 에폭시 수지A-4-2-1. epoxy resin

에폭시 수지로서는, 임의의 적절한 에폭시 수지를 이용할 수 있고, 방향환 또는 지환을 갖는 에폭시 수지가 바람직하게 이용될 수 있다. 본 실시형태에서는, 바람직하게는 방향족 골격 및 수소 첨가된 방향족 골격으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 갖는 에폭시 수지를 이용할 수 있다. 방향족 골격으로서는, 예컨대, 벤젠환, 나프탈렌환, 플루오렌환 등을 들 수 있다. 에폭시 수지는 1종만을 이용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 된다. 바람직하게는 방향족 골격으로서 비페닐 골격 혹은 비스페놀 골격을 갖는 에폭시 수지 또는 그의 첨가물이 이용된다. 이와 같은 에폭시 수지를 이용함으로써, 보다 우수한 내구성을 갖고, 굴곡성도 우수한 편광판이 제공될 수 있다.As the epoxy resin, any suitable epoxy resin can be used, and an epoxy resin having an aromatic ring or an alicyclic ring can be preferably used. In the present embodiment, an epoxy resin having at least one selected from the group consisting of an aromatic skeleton and a hydrogenated aromatic skeleton can be preferably used. As an aromatic skeleton, a benzene ring, a naphthalene ring, a fluorene ring etc. are mentioned, for example. An epoxy resin may be used alone or in combination of two or more. Preferably, an epoxy resin having a biphenyl skeleton or a bisphenol skeleton or an additive thereof is used as the aromatic skeleton. By using such an epoxy resin, a polarizing plate having more excellent durability and excellent flexibility can be provided.

하나의 실시형태에서, 비페닐 골격을 갖는 에폭시 수지는 이하의 구조를 포함하는 에폭시 수지이다. 비페닐 골격을 갖는 에폭시 수지는 1종만을 이용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 된다.In one embodiment, the epoxy resin having a biphenyl backbone is an epoxy resin comprising the following structure. The epoxy resin having a biphenyl skeleton may be used alone or in combination of two or more.

Figure pct00001
Figure pct00001

(식 중, R14∼R21 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1∼12의 직쇄상 또는 분지상의 치환 또는 비치환의 탄화수소기, 또는 할로겐 원소를 나타낸다).(In the formula, R 14 to R 21 are Each independently represents a hydrogen atom, a linear or branched substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or a halogen element).

하나의 실시형태에서는, 비페닐 골격을 갖는 에폭시 수지는 하기 식으로 나타내는 에폭시 수지이다.In one embodiment, the epoxy resin having a biphenyl backbone is an epoxy resin represented by the following formula.

Figure pct00002
Figure pct00002

(식 중, R14∼R21 상기한 바와 같고, n은 0∼6의 정수를 나타낸다).(In the formula, R 14 to R 21 are As described above, n represents an integer of 0 to 6).

하나의 실시형태에서, 비페닐 골격을 갖는 에폭시 수지는 비페닐 골격만을 갖는 에폭시 수지이다. 비페닐 골격만을 갖는 에폭시 수지를 이용함으로써, 얻어지는 보호층의 내구성이 더 향상할 수 있다. 다른 실시형태에서는, 비페닐 골격을 갖는 에폭시 수지는 비페닐 골격 이외의 화학 구조를 포함하고 있어도 된다. 비페닐 골격 이외의 화학 구조로서는, 예컨대 비스페놀 골격, 지환식 구조, 방향족환 구조 등을 들 수 있다. 이 경우, 비페닐 골격 이외의 화학 구조의 비율(몰비)은 비페닐 골격보다도 적은 것이 바람직하다.In one embodiment, the epoxy resin having a biphenyl backbone is an epoxy resin having only a biphenyl backbone. By using an epoxy resin having only a biphenyl skeleton, the durability of the obtained protective layer can be further improved. In another embodiment, the epoxy resin having a biphenyl skeleton may contain chemical structures other than the biphenyl skeleton. As chemical structures other than a biphenyl skeleton, a bisphenol skeleton, an alicyclic structure, an aromatic ring structure, etc. are mentioned, for example. In this case, the ratio (molar ratio) of chemical structures other than the biphenyl skeleton is preferably smaller than that of the biphenyl skeleton.

상기 에폭시 수지(광 양이온 경화 후의 에폭시 수지)는 바람직하게는 유리전이온도(Tg)가 100℃ 이상이다. 그 결과, 보호층의 연화 온도도 거의 100℃ 이상이 된다. 에폭시 수지의 Tg가 100℃ 이상이면, 얻어지는 보호층을 포함하는 편광판은 내구성이 우수한 것이 되기 쉽다. 에폭시 수지의 Tg는 보다 바람직하게는 110℃ 이상, 더욱 바람직하게는 120℃ 이상, 특히 바람직하게는 125℃ 이상이다. 한편, 에폭시 수지의 Tg는 바람직하게는 300℃ 이하, 보다 바람직하게는 250℃ 이하, 더욱 바람직하게는 200℃ 이하, 특히 바람직하게는 160℃ 이하이다. 에폭시 수지의 Tg가 이와 같은 범위이면, 성형성이 우수할 수 있다.The epoxy resin (epoxy resin after photocationic curing) preferably has a glass transition temperature (Tg) of 100°C or higher. As a result, the softening temperature of the protective layer also becomes approximately 100°C or higher. When the Tg of the epoxy resin is 100°C or higher, the resultant polarizing plate including the protective layer tends to have excellent durability. The Tg of the epoxy resin is more preferably 110°C or higher, still more preferably 120°C or higher, and particularly preferably 125°C or higher. On the other hand, the Tg of the epoxy resin is preferably 300°C or less, more preferably 250°C or less, still more preferably 200°C or less, and particularly preferably 160°C or less. When the Tg of the epoxy resin is within this range, moldability may be excellent.

상기 에폭시 수지의 에폭시 당량은, 바람직하게는 100g/당량 이상이고, 보다 바람직하게는 150g/당량 이상, 더욱 바람직하게는 200g/당량 이상이다. 또한, 에폭시 수지의 에폭시 당량은, 바람직하게는 3000g/당량 이하이고, 보다 바람직하게는 2500g/당량 이하, 더욱 바람직하게는 2000g/당량 이하이다. 에폭시 당량이 상기 범위인 것에 의해, 보다 안정된 보호층(잔존 모노머가 적고, 충분히 경화된 보호층)을 얻을 수 있다. 또한, 본 명세서에서 '에폭시 당량'이란, '1당량의 에폭시기를 포함하는 에폭시 수지의 질량'을 말하고, JIS K 7236에 준하여 측정할 수 있다.The epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 100 g/equivalent or more, more preferably 150 g/equivalent or more, still more preferably 200 g/equivalent or more. Further, the epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 3000 g/equivalent or less, more preferably 2500 g/equivalent or less, still more preferably 2000 g/equivalent or less. When the epoxy equivalent is within the above range, a more stable protective layer (a sufficiently cured protective layer with few residual monomers) can be obtained. In addition, in this specification, "epoxy equivalent" refers to "mass of an epoxy resin containing an epoxy group of 1 equivalent", and can be measured according to JIS K 7236.

본 실시형태에서는, 상기 에폭시 수지와 다른 수지를 병용하여도 된다. 즉, 상기 에폭시 수지(예컨대, 방향족 골격 및 수소 첨가된 방향족 골격으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 갖는 에폭시 수지)와 다른 수지의 블렌드를 보호층의 성형에 제공하여도 된다. 다른 수지로서는, 예컨대 아크릴계 수지, 옥세탄계 수지를 들 수 있다.In this embodiment, you may use together the said epoxy resin and another resin. That is, a blend of the above epoxy resin (for example, an epoxy resin having at least one selected from the group consisting of an aromatic backbone and a hydrogenated aromatic backbone) and another resin may be used for molding the protective layer. Examples of other resins include acrylic resins and oxetane resins.

아크릴계 수지로서는, 임의의 적절한 (메트)아크릴계 화합물을 이용할 수 있다. 예컨대, (메트)아크릴계 화합물로서는, 예컨대 분자 내에 1개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 (메트)아크릴계 화합물(이하, '단관능 (메트)아크릴계 화합물'이라고도 함), 분자 내에 2개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 (메트)아크릴계 화합물(이하, '다관능 (메트)아크릴계 화합물'이라고도 함)을 들 수 있다. 이들 (메트)아크릴계 화합물은 단독으로 이용하여도 되고, 2종류 이상 조합하여 이용하여도 된다. 이들 아크릴계 수지에 대해서는, 예컨대 일본 공개특허공보 제2019-168500호에 기재되어 있다. 당해 공보는 그 전체의 기재가 본 명세서에 참고로서 원용된다.As the acrylic resin, any suitable (meth)acrylic compound can be used. For example, as a (meth)acrylic compound, for example, a (meth)acrylic compound having one (meth)acryloyl group in a molecule (hereinafter also referred to as a 'monofunctional (meth)acrylic compound'), or a (meth)acrylic compound having two or more (meth)acrylic compounds in a molecule. ) A (meth)acrylic compound having an acryloyl group (hereinafter, also referred to as a 'multifunctional (meth)acrylic compound'). These (meth)acrylic compounds may be used alone or in combination of two or more. About these acrylic resins, it describes, for example in Unexamined-Japanese-Patent No. 2019-168500. The entire description of the publication is incorporated herein by reference.

옥세탄 수지로서는, 분자 내에 옥세타닐기를 1개 이상 갖는 임의의 적절한 화합물이 이용된다. 예컨대, 3-에틸-3-히드록시메틸옥세탄, 3-에틸-3-(2-에틸헥실옥시메틸)옥세탄, 3-에틸-3-(페녹시메틸)옥세탄, 3-에틸-3-(시클로헥실옥시메틸)옥세탄, 3-에틸-3-(옥시라닐메톡시)옥세탄, (메트)아크릴산(3-에틸옥세탄-3-일)메틸 등의 분자 내에 옥세타닐기를 1개 갖는 옥세탄 화합물; 3-에틸-3{[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]메틸}옥세탄, 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐)메톡시메틸]벤젠, 4,4'-비스[(3-에틸-3-옥세타닐)메톡시메틸]비페닐 등의 분자 내에 옥세타닐기를 2개 이상 갖는 옥세탄 화합물; 등을 들 수 있다. 이들 옥세탄 수지는 1종만을 이용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여도 된다. 옥세탄 수지로서는, 바람직하게는 3-에틸-3-히드록시메틸옥세탄, 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐)메톡시메틸]벤젠, 3-에틸-3-(2-에틸헥실옥시메틸)옥세탄, 3-에틸-3-(옥시라닐메톡시)옥세탄, (메트)아크릴산(3-에틸옥세탄-3-일)메틸, 3-에틸-3{[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]메틸}옥세탄 등이 이용된다. 이들 옥세탄 수지는 용이하게 입수 가능하고, 희석성(저점도), 상용성이 우수할 수 있다.As the oxetane resin, any suitable compound having at least one oxetanyl group in the molecule is used. For example, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 3-ethyl-3-(2-ethylhexyloxymethyl)oxetane, 3-ethyl-3-(phenoxymethyl)oxetane, 3-ethyl-3 -(cyclohexyloxymethyl)oxetane, 3-ethyl-3-(oxiranylmethoxy)oxetane, (meth)acrylic acid (3-ethyloxetan-3-yl)methyl, etc. oxetane compounds with dogs; 3-ethyl-3{[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]methyl}oxetane, 1,4-bis[(3-ethyl-3-oxetanyl)methoxymethyl]benzene, 4 oxetane compounds having two or more oxetanyl groups in the molecule, such as 4'-bis[(3-ethyl-3-oxetanyl)methoxymethyl]biphenyl; etc. can be mentioned. These oxetane resins may use only 1 type, and may combine 2 or more types. As the oxetane resin, preferably 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 1,4-bis[(3-ethyl-3-oxetanyl)methoxymethyl]benzene, 3-ethyl-3-( 2-ethylhexyloxymethyl)oxetane, 3-ethyl-3-(oxiranylmethoxy)oxetane, (meth)acrylic acid (3-ethyloxetan-3-yl)methyl, 3-ethyl-3{[( 3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]methyl}oxetane and the like are used. These oxetane resins are easily available, and can be excellent in dilutability (low viscosity) and compatibility.

하나의 실시형태에서는, 상용성이나 접착성의 점에서, 바람직하게는 분자량 500 이하이고, 실온(25℃)에서 액상의 옥세탄 수지가 이용된다. 하나의 실시형태에서는, 바람직하게는 분자 내에 2개 이상의 옥세타닐기를 함유하는 옥세탄 화합물, 분자 내에 1개의 옥세타닐기와 1개의 (메트)아크릴로일기 또는 1개의 에폭시기를 함유하는 옥세탄 화합물이 이용되고, 보다 바람직하게는 3-에틸-3{[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]메틸}옥세탄, 3-에틸-3-(옥시라닐메톡시)옥세탄, (메트)아크릴산(3-에틸옥세탄-3-일)메틸이 이용된다. 이들 옥세탄 수지를 이용함으로써, 보호층의 경화성 및 내구성이 향상할 수 있다.In one embodiment, from the viewpoint of compatibility and adhesiveness, an oxetane resin preferably having a molecular weight of 500 or less and liquid at room temperature (25°C) is used. In one embodiment, preferably an oxetane compound containing two or more oxetanyl groups in a molecule, an oxetane compound containing one oxetanyl group and one (meth)acryloyl group or one epoxy group in a molecule is used, more preferably 3-ethyl-3{[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]methyl}oxetane, 3-ethyl-3-(oxiranylmethoxy)oxetane, ( Meth)acrylic acid (3-ethyloxetan-3-yl)methyl is used. By using these oxetane resins, the curability and durability of the protective layer can be improved.

A-4-2-2. 광 양이온 중합 개시제A-4-2-2. photo cationic polymerization initiator

광 양이온 중합 개시제는 광산 발생제의 기능을 가진 감광제이고, 대표적으로는 양이온부와 음이온부를 포함하는 이온성의 오늄염을 들 수 있다. 이 오늄염에서, 양이온부는 광을 흡수하고, 음이온부는 산의 발생원이 된다. 이 광 양이온 중합 개시제로부터 발생한 산에 의해 에폭시기의 개환 중합이 진행된다. 광 양이온 중합 개시제로서는, 자외선 등의 광 조사에 의해 방향족 골격 및 수소 첨가된 방향족 골격으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 갖는 에폭시 수지를 경화시킬 수 있는 임의의 적절한 화합물을 이용할 수 있다. 광 양이온 중합 개시제는 1종만을 이용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 된다.The photocationic polymerization initiator is a photosensitizer having a function of a photoacid generator, and examples thereof include ionic onium salts containing a cationic moiety and an anionic moiety. In this onium salt, the cation portion absorbs light, and the anion portion becomes a source of acid. The ring-opening polymerization of an epoxy group advances with the acid generated from this photocationic polymerization initiator. As the photocationic polymerization initiator, any suitable compound capable of curing an epoxy resin having at least one selected from the group consisting of an aromatic skeleton and a hydrogenated aromatic skeleton by irradiation with light such as ultraviolet rays can be used. Photocationic polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

광 양이온 중합 개시제로서는, 예컨대, 트리페닐설포늄헥사플루오로안티모네이트, 트리페닐설포늄헥사플루오로포스페이트, p-(페닐티오)페닐디페닐설포늄헥사플루오로안티모네이트, p-(페닐티오)페닐디페닐설포늄헥사플루오로포스페이트, 4-클로르페닐디페닐설포늄헥사플루오로포스페이트, 4-클로르페닐디페닐설포늄헥사플루오로안티모네이트, 비스[4-(디페닐설포니오)페닐]설파이드비스헥사플루오로포스페이트, 비스[4-(디페닐설포니오)페닐]설파이드비스헥사플루오로안티모네이트, (2,4-시클로펜타디엔-1-일)[(1-메틸에틸)벤젠]-Fe-헥사플루오로포스페이트, 디페닐요오도늄헥사플루오로안티모네이트 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 트리페닐설포늄염계 헥사플루오로안티모네이트 타입의 광 양이온 중합 개시제, 디페닐요오도늄염계 헥사플루오로안티모네이트 타입의 광 양이온 중합 개시제가 이용된다.As a photocationic polymerization initiator, for example, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium hexafluorophosphate, p-(phenylthio)phenyldiphenylsulfonium hexafluoroantimonate, p-(phenyl Thio) phenyldiphenylsulfonium hexafluorophosphate, 4-chlorophenyldiphenylsulfonium hexafluorophosphate, 4-chlorophenyldiphenylsulfonium hexafluoroantimonate, bis[4-(diphenylsulfonio )phenyl]sulfidebishexafluorophosphate, bis[4-(diphenylsulfonio)phenyl]sulfidebishexafluoroantimonate, (2,4-cyclopentadien-1-yl)[(1-methyl Ethyl) benzene] -Fe- hexafluorophosphate, diphenyliodonium hexafluoroantimonate, etc. are mentioned. Preferably, a triphenylsulfonium salt-based hexafluoroantimonate-type photocationic polymerization initiator and a diphenyliodonium salt-based hexafluoroantimonate-type photocationic polymerization initiator are used.

본 실시형태의 보호층은, 예컨대, 상기 에폭시 수지와 광 양이온 중합 개시제를 포함하는 조성물을 도포하여 도막을 형성하고, 해당 도막에 광(예컨대, 자외선)을 조사함으로써 형성될 수 있다.The protective layer of the present embodiment, for example, may be formed by applying a composition containing the epoxy resin and a photocationic polymerization initiator to form a coating film, and irradiating the coating film with light (eg, ultraviolet rays).

상기 조성물에서의 에폭시 수지 농도는, 용매 100중량부에 대하여, 바람직하게는 10중량부∼30중량부이다. 이와 같은 수지 농도이면, 편광자에 밀착된 균일한 도포막을 형성할 수 있다.The epoxy resin concentration in the composition is preferably 10 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the solvent. With such a resin concentration, a uniform coating film adhering to the polarizer can be formed.

상기 조성물은 임의의 적절한 기재에 도포하여도 되고, 편광자에 도포하여도 된다. 기재에 도포하는 경우에는, 기재 위에 형성된 도포막의 경화물이 편광자에 전사된다. 편광자에 도포하는 경우에는, 도포막을 예컨대 광 조사에 의해 경화시킴으로써, 편광자 위에 보호층이 직접 형성된다. 바람직하게는, 상기 조성물은 편광자에 도포되고, 편광자 위에 보호층이 직접 형성된다. 이와 같은 구성이면, 전사에 필요로 되는 접착제층 또는 점착제층을 생략할 수 있기 때문에, 편광판을 더 얇게 할 수 있다. 조성물의 도포 방법으로서는, 상술한 바와 같다.The composition may be applied to any suitable substrate or may be applied to a polarizer. In the case of applying to a substrate, the cured product of the coating film formed on the substrate is transferred to the polarizer. In the case of application to a polarizer, a protective layer is directly formed on the polarizer by curing the coating film by, for example, light irradiation. Preferably, the composition is applied to a polarizer, and a protective layer is directly formed on the polarizer. With such a structure, since the adhesive layer or pressure-sensitive adhesive layer required for transfer can be omitted, the polarizing plate can be made thinner. The coating method of the composition is as described above.

도포막의 경화는, 임의의 적절한 광원을 이용하여 임의의 적절한 조사량이 되도록 광(대표적으로는 자외선)을 조사함으로써 행하여질 수 있다. 광 조사 후, 광반응에 의한 경화를 완결시키기 위하여 가열 처리를 더 실시하여도 된다. 가열 처리는 임의의 적절한 온도 및 시간에서 행하여질 수 있다.Curing of the coating film can be performed by irradiating light (typically ultraviolet rays) using any suitable light source to an arbitrary appropriate irradiation amount. After light irradiation, heat treatment may be further performed to complete curing by photoreaction. Heat treatment can be performed at any suitable temperature and time.

A-4-3. 에폭시 수지의 유기 용매 용액의 도포막의 고화물A-4-3. Solidified material of coating film of organic solvent solution of epoxy resin

하나의 실시형태에서는, 보호층은 에폭시 수지의 유기 용매 용액의 도포막의 고화물로 구성된다. 본 실시형태의 보호층의 연화 온도는, 가습 내구성의 관점에서, 바람직하게는 100℃ 이상, 보다 바람직하게는 110℃ 이상, 더욱 바람직하게는 120℃ 이상, 특히 바람직하게는 125℃ 이상이고, 또한, 성형성의 관점에서, 바람직하게는 300℃ 이하, 보다 바람직하게는 250℃ 이하, 더욱 바람직하게는 200℃ 이하, 특히 바람직하게는 160℃ 이하이다.In one embodiment, the protective layer is composed of a solidified material of a coating film of an organic solvent solution of an epoxy resin. The softening temperature of the protective layer of the present embodiment is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 110 ° C. or higher, even more preferably 120 ° C. or higher, particularly preferably 125 ° C. or higher, from the viewpoint of humidification durability. , From the viewpoint of moldability, it is preferably 300°C or less, more preferably 250°C or less, still more preferably 200°C or less, and particularly preferably 160°C or less.

A-4-3-1. 에폭시 수지A-4-3-1. epoxy resin

본 실시형태에서, 에폭시 수지는 바람직하게는 유리전이온도(Tg)가 100℃ 이상이다. 그 결과, 보호층의 연화 온도도 거의 100℃ 이상이 된다. 에폭시 수지의 Tg가 100℃ 이상이면, 이와 같은 수지로부터 얻어진 보호층을 포함하는 편광판은, 내구성이 우수한 것이 되기 쉽다. 에폭시 수지의 Tg는 보다 바람직하게는 110℃ 이상, 더욱 바람직하게는 120℃ 이상, 특히 바람직하게는 125℃ 이상이다. 한편, 에폭시 수지의 Tg는 바람직하게는 300℃ 이하, 보다 바람직하게는 250℃ 이하, 더욱 바람직하게는 200℃ 이하, 특히 바람직하게는 160℃ 이하이다. 에폭시 수지의 Tg가 이와 같은 범위이면, 성형성이 우수할 수 있다.In this embodiment, the epoxy resin preferably has a glass transition temperature (Tg) of 100°C or higher. As a result, the softening temperature of the protective layer also becomes approximately 100°C or higher. If Tg of an epoxy resin is 100 degreeC or more, the polarizing plate containing the protective layer obtained from such resin tends to be excellent in durability. The Tg of the epoxy resin is more preferably 110°C or higher, still more preferably 120°C or higher, and particularly preferably 125°C or higher. On the other hand, the Tg of the epoxy resin is preferably 300°C or less, more preferably 250°C or less, still more preferably 200°C or less, and particularly preferably 160°C or less. When the Tg of the epoxy resin is within this range, moldability may be excellent.

에폭시 수지로서는, 상기한 바와 같은 Tg를 갖는 한에서 임의의 적절한 에폭시 수지가 채용될 수 있다. 에폭시 수지는 대표적으로 분자 구조 내에 에폭시기를 갖는 수지를 말한다. 에폭시 수지로서는, 바람직하게는 분자 구조 내에 방향족환을 갖는 에폭시 수지가 이용된다. 방향족환을 갖는 에폭시 수지를 이용함으로써, 보다 높은 Tg를 갖는 에폭시 수지가 얻어질 수 있다. 분자 구조 내에 방향족환을 갖는 에폭시 수지에서의 방향족환으로서는, 예컨대 벤젠환, 나프탈렌환, 플루오렌환 등을 들 수 있다. 에폭시 수지는 1종만을 이용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 된다. 2종 이상의 에폭시 수지를 이용하는 경우, 방향족환을 포함하는 에폭시 수지와, 방향족환을 포함하지 않는 에폭시 수지를 조합하여 이용하여도 된다.As the epoxy resin, any suitable epoxy resin can be employed as long as it has the above Tg. An epoxy resin typically refers to a resin having an epoxy group in its molecular structure. As the epoxy resin, an epoxy resin having an aromatic ring in the molecular structure is preferably used. By using an epoxy resin having an aromatic ring, an epoxy resin having a higher Tg can be obtained. As an aromatic ring in the epoxy resin which has an aromatic ring in molecular structure, a benzene ring, a naphthalene ring, a fluorene ring etc. are mentioned, for example. An epoxy resin may be used alone or in combination of two or more. When using 2 or more types of epoxy resins, you may use combining the epoxy resin containing an aromatic ring, and the epoxy resin which does not contain an aromatic ring.

분자 구조 내에 방향족환을 갖는 에폭시 수지로서는, 구체적으로는 비스페놀 A 디글리시딜에테르형 에폭시 수지, 비스페놀 F 디글리시딜에테르형 에폭시 수지, 비스페놀 S 디글리시딜에테르형 에폭시 수지, 레졸신디글리시딜에테르형 에폭시 수지, 히드로퀴논디글리시딜에테르형 에폭시 수지, 테레프탈산디글리시딜에스테르형 에폭시 수지, 비스페녹시에탄올플루오렌디글리시딜에테르형 에폭시 수지, 비스페놀플루오렌디글리시딜에테르형 에폭시 수지, 비스크레졸플루오렌디글리시딜에테르형 에폭시 수지 등의 2개의 에폭시기를 갖는 에폭시 수지; 노볼락형 에폭시 수지, N,N,O-트리글리시딜-P- 또는 -m-아미노페놀형 에폭시 수지, N,N,O-트리글리시딜-4-아미노-m- 또는 -5-아미노-o-크레졸형 에폭시 수지, 1,1,1-(트리글리시딜옥시페닐)메탄형 에폭시 수지 등의 3개의 에폭시기를 갖는 에폭시 수지; 글리시딜아민형 에폭시 수지(예컨대, 디아미노디페닐메탄형, 디아미노디페닐설폰형, 메타크실렌디아민형) 등의 4개의 에폭시기를 갖는 에폭시 수지 등을 들 수 있다. 또한, 헥사히드로 무수 프탈산형 에폭시 수지, 테트라히드로 무수 프탈산형 에폭시 수지, 다이머산형 에폭시 수지, p-옥시안식향산형 등의 글리시딜에스테르형 에폭시 수지를 이용하여도 된다.As the epoxy resin having an aromatic ring in the molecular structure, specifically, bisphenol A diglycidyl ether type epoxy resin, bisphenol F diglycidyl ether type epoxy resin, bisphenol S diglycidyl ether type epoxy resin, resorcindiglyc Cydyl ether type epoxy resin, hydroquinone diglycidyl ether type epoxy resin, terephthalic acid diglycidyl ester type epoxy resin, bisphenoxyethanol fluorene diglycidyl ether type epoxy resin, bisphenol fluorene diglycidyl Epoxy resins having two epoxy groups, such as ether type epoxy resins and biscresol fluorene diglycidyl ether type epoxy resins; Novolac type epoxy resin, N,N,O-triglycidyl-P- or -m-aminophenol type epoxy resin, N,N,O-triglycidyl-4-amino-m- or -5-amino- epoxy resins having three epoxy groups such as o-cresol type epoxy resins and 1,1,1-(triglycidyloxyphenyl)methane type epoxy resins; Epoxy resins having four epoxy groups, such as glycidylamine type epoxy resins (for example, diaminodiphenylmethane type, diaminodiphenylsulfone type, and metaxylenediamine type); and the like. Moreover, you may use glycidyl ester type epoxy resins, such as a hexahydrophthalic anhydride type epoxy resin, a tetrahydrophthalic anhydride type epoxy resin, a dimer acid type epoxy resin, and a p-oxybenzoic acid type.

에폭시 수지의 에폭시 당량은, 바람직하게는 1000g/당량 이상이고, 보다 바람직하게는 3000g/당량 이상, 더욱 바람직하게는 5000g/당량 이상이다. 또한, 에폭시 수지의 에폭시 당량은, 바람직하게는 30000g/당량 이하이고, 보다 바람직하게는 25000g/당량 이하, 더욱 바람직하게는 20000g/당량 이하이다. 에폭시 당량이 상기 범위인 것에 의해, 보다 안정된 보호층을 얻을 수 있다. 또한, 본 명세서에서 '에폭시 당량'이란, '1당량의 에폭시기를 포함하는 에폭시 수지의 질량'을 말하고, JIS K 7236에 준하여 측정할 수 있다.The epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 1000 g/equivalent or more, more preferably 3000 g/equivalent or more, still more preferably 5000 g/equivalent or more. Further, the epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 30000 g/equivalent or less, more preferably 25000 g/equivalent or less, still more preferably 20000 g/equivalent or less. When the epoxy equivalent is within the above range, a more stable protective layer can be obtained. In addition, in this specification, "epoxy equivalent" refers to "mass of an epoxy resin containing an epoxy group of 1 equivalent", and can be measured according to JIS K 7236.

본 실시형태에서는, 에폭시 수지와 다른 수지를 병용하여도 된다. 즉, 에폭시 수지와 다른 수지의 블렌드를 보호층의 성형에 제공하여도 된다. 다른 수지는 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다.In this embodiment, you may use together an epoxy resin and another resin. That is, a blend of an epoxy resin and another resin may be used for molding the protective layer. Other resins may be appropriately selected depending on the purpose.

본 실시형태의 보호층은, 예컨대 상기 에폭시 수지를 포함하는 유기 용매 용액을 도포하여 도막을 형성하고, 해당 도막을 고화시킴으로써 형성될 수 있다. 유기 용매 용액에서의 에폭시 수지 농도는 용매 100중량부에 대하여, 바람직하게는 3중량부∼20중량부이다. 이와 같은 수지 농도이면, 편광자에 밀착된 균일한 도포막을 형성할 수 있다.The protective layer of the present embodiment may be formed, for example, by applying an organic solvent solution containing the epoxy resin to form a coating film and solidifying the coating film. The concentration of the epoxy resin in the organic solvent solution is preferably 3 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the solvent. With such a resin concentration, a uniform coating film adhering to the polarizer can be formed.

상기 유기 용매로서는, 에폭시 수지를 용해 또는 균일하게 분산할 수 있는 임의의 적절한 용매를 이용할 수 있다. 용매의 구체예로서는, 초산에틸, 톨루엔, 메틸에틸케톤(MEK), 메틸이소부틸케톤(MIBK), 시클로펜타논, 시클로헥사논을 들 수 있다.As the organic solvent, any suitable solvent capable of dissolving or uniformly dispersing the epoxy resin can be used. Specific examples of the solvent include ethyl acetate, toluene, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclopentanone, and cyclohexanone.

용액은 임의의 적절한 기재에 도포하여도 되고, 편광자에 도포하여도 된다. 기재에 도포하는 경우에는, 기재 위에 형성된 도포막의 고화물이 편광자에 전사된다. 편광자에 도포하는 경우에는, 도포막을 건조(고화)시킴으로써, 편광자 위에 보호층이 직접 형성된다. 바람직하게는, 용액은 편광자에 도포되고, 편광자 위에 보호층이 직접 형성된다. 이와 같은 구성이면, 전사에 필요로 되는 접착제층 또는 점착제층을 생략할 수 있기 때문에, 편광판을 더 얇게 할 수 있다. 용액의 도포 방법으로서는, 상술한 바와 같다.The solution may be applied to any suitable substrate or may be applied to a polarizer. In the case of application to a substrate, the solidified material of the coating film formed on the substrate is transferred to the polarizer. When applying to a polarizer, a protective layer is formed directly on a polarizer by drying (solidifying) a coating film. Preferably, the solution is applied to the polarizer, and a protective layer is formed directly on the polarizer. With such a structure, since the adhesive layer or pressure-sensitive adhesive layer required for transfer can be omitted, the polarizing plate can be made thinner. The application method of the solution is as described above.

용액의 도포막을 건조(고화)시킴으로써, 도포막의 고화물인 보호층이 형성될 수 있다. 건조 온도는 바람직하게는 100℃ 이하이고, 보다 바람직하게는 50℃∼70℃이다. 건조 온도가 이와 같은 범위이면, 편광자에 대한 악영향을 방지할 수 있다. 건조 시간은 건조 온도에 따라 변화할 수 있다. 건조 시간은 예컨대 1분∼10분일 수 있다.By drying (solidifying) the coating film of the solution, a protective layer, which is a solidified product of the coating film, can be formed. The drying temperature is preferably 100°C or less, more preferably 50°C to 70°C. If the drying temperature is within this range, adverse effects on the polarizer can be prevented. The drying time may vary depending on the drying temperature. The drying time may be, for example, 1 minute to 10 minutes.

B. 위상차층 부착 편광판B. Polarizing plate with retardation layer

B-1. 위상차층 부착 편광판의 전체 구성B-1. Overall configuration of polarizing plate with retardation layer

도 7은 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 위상차층 부착 편광판의 개략 단면도이다. 도시예의 위상차층 부착 편광판(200)은, 상기 A항에 기재된 편광판(100)과 위상차층(120)을 포함한다. 따라서, 위상차층 부착 편광판(200)은 편광판(100)과 마찬가지의 이형을 갖는다. 위상차층 부착 편광판(200)에서는, 위상차층(120)이 편광자(10)의 보호층으로서도 기능할 수 있다. 위상차층(120)은 대표적으로는 접착층(도시하지 않음)을 개재하여, 편광판(100)(도시예에서는 편광자(10))에 적층되어 있다. 접착층은 접착제층 또는 점착제층이고, 리워크성 등의 관점에서는 점착제층(예컨대, 아크릴계 점착제층)인 것이 바람직하다. 도시하지 않지만, 필요에 따라, 위상차층 부착 편광판은, 편광자(10)의 위상차층(120) 측에 다른 보호층(도시하지 않음)을 갖고 있어도 된다. 또한, 필요에 따라, 위상차층 부착 편광판은 위상차층(120)의 편광판(100)과 반대 측에, 다른 위상차층(도시하지 않음)을 갖고 있어도 된다. 다른 위상차층은 대표적으로는 굴절률 특성이 nz>nx=ny의 관계를 나타내는 이른바 포지티브 C 플레이트이다.7 is a schematic cross-sectional view of a polarizing plate with a retardation layer according to one embodiment of the present invention. The polarizing plate 200 with a retardation layer in the illustrated example includes the polarizing plate 100 described in the above item A and the retardation layer 120. Therefore, the polarizing plate 200 with the retardation layer has the same mold release as the polarizing plate 100 . In the polarizing plate 200 with a retardation layer, the retardation layer 120 can also function as a protective layer for the polarizer 10 . The retardation layer 120 is typically laminated on the polarizing plate 100 (the polarizer 10 in the illustrated example) with an adhesive layer (not shown) interposed therebetween. The adhesive layer is an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer, and is preferably a pressure-sensitive adhesive layer (eg, an acrylic pressure-sensitive adhesive layer) from the viewpoint of reworkability and the like. Although not shown, the polarizing plate with a retardation layer may have another protective layer (not shown) on the retardation layer 120 side of the polarizer 10 as needed. In addition, the polarizing plate with a retardation layer may have another retardation layer (not shown) on the side opposite to the polarizing plate 100 of the retardation layer 120 as needed. The other retardation layer is typically a so-called positive C plate whose refractive index characteristic shows the relationship nz > nx = ny.

위상차층(120)의 Re(550)는 바람직하게는 100nm∼190nm이고, Re(450)/Re(550)는 바람직하게는 0.8 이상 1 미만이다. 또한, 위상차층(120)의 지상축과 편광자(10)의 흡수축이 이루는 각도는 바람직하게는 40°∼50°이다.Re(550) of the retardation layer 120 is preferably 100 nm to 190 nm, and Re(450)/Re(550) is preferably 0.8 or more and less than 1. In addition, the angle between the slow axis of the retardation layer 120 and the absorption axis of the polarizer 10 is preferably 40° to 50°.

B-2. 위상차층B-2. phase contrast layer

위상차층(120)은 목적에 따라 임의의 적절한 광학적 특성 및/또는 기계적 특성을 가질 수 있다. 위상차층은 대표적으로는 지상축을 갖는다. 하나의 실시형태에서는, 위상차층의 지상축과 편광자(10)의 흡수축이 이루는 각도 θ는 상기한 바와 같이 바람직하게는 40°∼50°이고, 보다 바람직하게는 42°∼48°이며, 더욱 바람직하게는 약 45°이다. 각도 θ가 이와 같은 범위이면, 후술하는 바와 같이 위상차층을 λ/4판으로 함으로써, 매우 우수한 원편광 특성(결과로서, 매우 우수한 반사 방지 특성)을 갖는 위상차층 부착 편광판이 얻어질 수 있다.The retardation layer 120 may have any suitable optical and/or mechanical properties depending on the purpose. The retardation layer typically has a slow axis. In one embodiment, the angle θ formed by the slow axis of the retardation layer and the absorption axis of the polarizer 10 is, as described above, preferably 40° to 50°, more preferably 42° to 48°, and It is preferably about 45°. When the angle θ is within this range, a polarizing plate with a retardation layer having excellent circular polarization characteristics (as a result, excellent antireflection characteristics) can be obtained by using a λ/4 plate as the retardation layer as described later.

위상차층은 바람직하게는 굴절률 특성이 nx>ny≥nz의 관계를 나타낸다. 위상차층은, 대표적으로는 편광판에 반사 방지 특성을 부여하기 위하여 마련되고, 하나의 실시형태에서는 λ/4판으로서 기능할 수 있다. 이 경우, 위상차층의 면내 위상차 Re(550)는, 바람직하게는 100㎚∼190㎚, 보다 바람직하게는 110㎚∼170㎚, 더욱 바람직하게는 130㎚∼160㎚이다. 또한, 여기에서 'ny=nz'는 ny와 nz가 완전히 동일한 경우뿐만 아니라, 실질적으로 동일한 경우를 포함한다. 따라서, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, ny<nz가 되는 경우가 있을 수 있다.The retardation layer preferably has a refractive index characteristic of nx > ny > nz. The retardation layer is typically provided to impart antireflection properties to the polarizing plate, and in one embodiment, it can function as a λ/4 plate. In this case, the in-plane retardation Re (550) of the retardation layer is preferably 100 nm to 190 nm, more preferably 110 nm to 170 nm, still more preferably 130 nm to 160 nm. In addition, 'ny=nz' here includes not only the case where ny and nz are completely equal, but also the case where they are substantially equal. Therefore, there may be cases where ny<nz is satisfied within a range that does not impair the effects of the present invention.

위상차층의 Nz 계수는, 바람직하게는 0.9∼3, 보다 바람직하게는 0.9∼2.5, 더욱 바람직하게는 0.9∼1.5, 특히 바람직하게는 0.9∼1.3이다. 이와 같은 관계를 만족함으로써, 얻어지는 위상차층 부착 편광판을 화상 표시 장치에 이용한 경우에, 매우 우수한 반사 색상을 달성할 수 있다.The Nz coefficient of the retardation layer is preferably 0.9 to 3, more preferably 0.9 to 2.5, still more preferably 0.9 to 1.5, and particularly preferably 0.9 to 1.3. By satisfying such a relationship, when the obtained polarizing plate with a retardation layer is used for an image display device, an extremely excellent reflected color can be achieved.

위상차층은, 위상차값이 측정광의 파장에 따라 커지는 역분산 파장 특성을 나타내도 되고, 위상차값이 측정광의 파장에 따라 작아지는 양의 파장 분산 특성을 나타내도 되며, 위상차값이 측정광의 파장에 의해서도 거의 변화하지 않는 플랫한 파장 분산 특성을 나타내도 된다. 하나의 실시형태에서는, 위상차층은, 역분산 파장 특성을 나타낸다. 이 경우, 위상차층의 Re(450)/Re(550)는, 바람직하게는 0.8 이상 1 미만이고, 보다 바람직하게는 0.8 이상 0.95 이하이다. 이와 같은 구성이면, 매우 우수한 반사 방지 특성을 실현할 수 있다. The retardation layer may exhibit reverse dispersion wavelength characteristics in which the retardation value increases with the wavelength of the measurement light, or may exhibit a positive wavelength dispersion characteristic in which the retardation value decreases with the wavelength of the measurement light. A flat wavelength dispersion characteristic that hardly changes may be exhibited. In one embodiment, the retardation layer exhibits reverse dispersion wavelength characteristics. In this case, Re(450)/Re(550) of the retardation layer is preferably 0.8 or more and less than 1, more preferably 0.8 or more and 0.95 or less. With such a configuration, very excellent antireflection characteristics can be realized.

위상차층은 광탄성 계수의 절대값이 바람직하게는 2×10-11m2/N 이하, 보다 바람직하게는 2.0×10-13m2/N∼1.5×10-11m2/N, 더욱 바람직하게는 1.0×10-12m2/N∼1.2×10-11m2/N의 수지를 포함한다. 광탄성 계수의 절대값이 이와 같은 범위이면, 가열 시의 수축 응력이 발생한 경우에 위상차 변화가 생기기 어렵다. 그 결과, 얻어지는 화상 표시 장치의 열 불균일이 양호하게 방지될 수 있다.The retardation layer has an absolute value of the photoelastic coefficient of preferably 2×10 -11 m 2 /N or less, more preferably 2.0×10 -13 m 2 /N to 1.5× 10 -11 m 2 /N, still more preferably contains a resin of 1.0×10 −12 m 2 /N to 1.2× 10 −11 m 2 /N. If the absolute value of the photoelastic coefficient is in this range, phase difference change is unlikely to occur when shrinkage stress occurs during heating. As a result, heat unevenness of the resulting image display device can be favorably prevented.

위상차층은, 대표적으로는 수지 필름의 연신 필름으로 구성된다. 하나의 실시형태에서, 위상차층의 두께는 바람직하게는 70㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 45㎛∼60㎛이다. 위상차층의 두께가 이와 같은 범위이면, 가열 시의 컬을 양호하게 억제하면서, 첩합 시의 컬을 양호하게 조정할 수 있다. 또한, 후술하는 바와 같이 위상차층이 폴리카보네이트계 수지 필름으로 구성되는 실시형태에서는, 위상차층의 두께는, 바람직하게는 40㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 10㎛∼40㎛이며, 더욱 바람직하게는 20㎛∼30㎛이다. 위상차층이, 이와 같은 두께를 갖는 폴리카보네이트계 수지 필름으로 구성됨으로써, 컬의 발생을 억제하면서, 절곡 내구성 및 반사 색상의 향상에도 기여할 수 있다.The retardation layer is typically composed of a stretched film of a resin film. In one embodiment, the thickness of the retardation layer is preferably 70 μm or less, more preferably 45 μm to 60 μm. When the thickness of the retardation layer is in such a range, curling at the time of bonding can be favorably adjusted while suppressing curling at the time of heating favorably. As will be described later, in an embodiment in which the retardation layer is composed of a polycarbonate-based resin film, the thickness of the retardation layer is preferably 40 μm or less, more preferably 10 μm to 40 μm, and still more preferably It is 20 μm to 30 μm. When the retardation layer is composed of a polycarbonate-based resin film having such a thickness, it is possible to contribute to improvement of bending durability and reflection color while suppressing curling.

위상차층은 상기의 특성을 만족할 수 있는 임의의 적절한 수지 필름으로 구성될 수 있다. 그와 같은 수지의 대표예로서는, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에스테르카보네이트계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리비닐아세탈계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 환상 올레핀계 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리에테르계 수지, 폴리스티렌계 수지, 아크릴계 수지를 들 수 있다. 이들 수지는 단독으로 이용하여도 되고, 조합하여(예컨대, 블렌드, 공중합) 이용하여도 된다. 위상차층이 역분산 파장 특성을 나타내는 수지 필름으로 구성되는 경우, 폴리카보네이트계 수지 또는 폴리에스테르카보네이트계 수지(이하, 단순히 폴리카보네이트계 수지라고 칭하는 경우가 있음)가 적합하게 이용될 수 있다.The retardation layer may be composed of any appropriate resin film capable of satisfying the above characteristics. Representative examples of such resins include polycarbonate-based resins, polyester carbonate-based resins, polyester-based resins, polyvinyl acetal-based resins, polyarylate-based resins, cyclic olefin-based resins, cellulose-based resins, polyvinyl alcohol-based resins, Polyamide-based resins, polyimide-based resins, polyether-based resins, polystyrene-based resins, and acrylic resins are exemplified. These resins may be used alone or in combination (for example, blend or copolymerization). When the retardation layer is composed of a resin film exhibiting reverse dispersion wavelength characteristics, a polycarbonate-based resin or a polyester carbonate-based resin (hereinafter sometimes simply referred to as a polycarbonate-based resin) can be suitably used.

상기 폴리카보네이트계 수지로서는, 본 발명의 효과가 얻어지는 한에서, 임의의 적절한 폴리카보네이트계 수지를 이용할 수 있다. 예컨대, 폴리카보네이트계 수지는 플루오렌계 디히드록시 화합물에서 유래되는 구조 단위와, 이소소르비드계 디히드록시 화합물에서 유래되는 구조 단위와, 지환식 디올, 지환식 디메탄올, 디, 트리 또는 폴리에틸렌글리콜, 및 알킬렌글리콜 또는 스피로글리콜로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 디히드록시 화합물에서 유래되는 구조 단위를 포함한다. 바람직하게는, 폴리카보네이트계 수지는 플루오렌계 디히드록시 화합물에서 유래되는 구조 단위와, 이소소르비드계 디히드록시 화합물에서 유래되는 구조 단위와, 지환식 디메탄올에서 유래되는 구조 단위 및/또는 디, 트리 또는 폴리에틸렌글리콜에서 유래되는 구조 단위를 포함하고; 더욱 바람직하게는, 플루오렌계 디히드록시 화합물에서 유래되는 구조 단위와, 이소소르비드계 디히드록시 화합물에서 유래되는 구조 단위와, 디, 트리 또는 폴리에틸렌글리콜에서 유래되는 구조 단위를 포함한다. 폴리카보네이트계 수지는 필요에 따라 그 밖의 디히드록시 화합물에서 유래되는 구조 단위를 포함하고 있어도 된다. 또한, 본 발명에 적합하게 이용될 수 있는 폴리카보네이트계 수지의 상세는, 예컨대, 일본 공개특허공보 제2014-10291호, 일본 공개특허공보 제2014-26266호, 일본 공개특허공보 제2015-212816호, 일본 공개특허공보 제2015-212817호, 일본 공개특허공보 제2015-212818호에 기재되어 있고, 당해 기재는 본 명세서에 참고로서 원용된다.As the polycarbonate-based resin, any appropriate polycarbonate-based resin can be used as long as the effects of the present invention are obtained. For example, the polycarbonate-based resin includes a structural unit derived from a fluorene-based dihydroxy compound, a structural unit derived from an isosorbide-based dihydroxy compound, and an alicyclic diol, alicyclic dimethanol, di, tri, or polyethylene. It includes a structural unit derived from glycol, and at least one dihydroxy compound selected from the group consisting of alkylene glycol or spiroglycol. Preferably, the polycarbonate-based resin comprises a structural unit derived from a fluorene-based dihydroxy compound, a structural unit derived from an isosorbide-based dihydroxy compound, a structural unit derived from alicyclic dimethanol, and/or contains structural units derived from di, tri or polyethylene glycol; More preferably, a structural unit derived from a fluorene-based dihydroxy compound, a structural unit derived from an isosorbide-based dihydroxy compound, and a structural unit derived from di, tri, or polyethylene glycol are included. The polycarbonate-based resin may contain structural units derived from other dihydroxy compounds as needed. Further, details of the polycarbonate-based resin that can be suitably used in the present invention are, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2014-10291, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2014-26266, and Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-212816 , Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-212817, and Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-212818, and the description is incorporated herein as a reference.

상기 폴리카보네이트계 수지의 유리전이온도는, 110℃ 이상 150℃ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 120℃ 이상 140℃ 이하이다. 유리전이온도가 과도하게 낮으면 내열성이 나빠지는 경향이 있고, 필름 성형 후에 치수 변화를 일으킬 가능성이 있으며, 또한 얻어지는 유기 EL 패널의 화상 품질을 낮추는 경우가 있다. 유리전이온도가 과도하게 높으면, 필름 성형 시의 성형 안정성이 나빠지는 경우가 있고, 또한 필름의 투명성을 손상시키는 경우가 있다. 또한, 유리전이온도는 JIS K 7121(1987)에 준하여 구할 수 있다.The glass transition temperature of the polycarbonate-based resin is preferably 110°C or higher and 150°C or lower, more preferably 120°C or higher and 140°C or lower. When the glass transition temperature is excessively low, heat resistance tends to deteriorate, dimensional change may occur after film forming, and image quality of the obtained organic EL panel may be lowered in some cases. If the glass transition temperature is excessively high, the molding stability during film molding may be deteriorated, and the transparency of the film may be impaired in some cases. In addition, the glass transition temperature can be obtained according to JIS K 7121 (1987).

상기 폴리카보네이트계 수지의 분자량은 환원 점도로 나타낼 수 있다. 환원 점도는 용매로서 염화메틸렌을 이용하고, 폴리카보네이트 농도를 0.6g/dL로 정밀하게 조제하고, 온도 20.0℃±0.1℃에서 우베로데 점도관을 이용하여 측정된다. 환원 점도의 하한은 통상적으로 0.30dL/g이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.35dL/g 이상이다. 환원 점도의 상한은 통상적으로 1.20dL/g이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.00dL/g, 더욱 바람직하게는 0.80dL/g이다. 환원 점도가 상기 하한값보다 작으면 성형품의 기계적 강도가 작아진다는 문제가 생기는 경우가 있다. 한편, 환원 점도가 상기 상한값보다 크면, 성형할 때의 유동성이 저하되어, 생산성이나 성형성이 저하된다는 문제가 생기는 경우가 있다.The molecular weight of the polycarbonate-based resin can be expressed as a reduced viscosity. The reduced viscosity was measured using an Uberode viscometer at a temperature of 20.0° C.±0.1° C. using methylene chloride as a solvent, accurately preparing a polycarbonate concentration of 0.6 g/dL. The lower limit of the reduced viscosity is usually preferably 0.30 dL/g, more preferably 0.35 dL/g or more. The upper limit of the reduced viscosity is usually preferably 1.20 dL/g, more preferably 1.00 dL/g, still more preferably 0.80 dL/g. When the reduced viscosity is less than the lower limit, there may be a problem that the mechanical strength of the molded article is reduced. On the other hand, when the reduced viscosity is greater than the above upper limit, there may be a problem that the flowability during molding is lowered, and productivity and moldability are lowered.

폴리카보네이트계 수지 필름으로서 시판 필름을 이용하여도 된다. 시판품의 구체예로서는, 테이진사 제조의 상품명 '퓨어에이스 WR-S', '퓨어에이스 WR-W', '퓨어에이스 WR-M', 닛토덴코사 제조의 상품명 'NRF'를 들 수 있다. A commercially available film may be used as the polycarbonate-based resin film. Specific examples of commercially available products include "Pure Ace WR-S", "Pure Ace WR-W" and "Pure Ace WR-M" manufactured by Teijin, and "NRF" manufactured by Nitto Denko.

위상차층은 예컨대 상기 폴리카보네이트계 수지로 형성된 필름을 연신함으로써 얻을 수 있다. 폴리카보네이트계 수지로부터 필름을 형성하는 방법으로서는, 임의의 적절한 성형 가공법이 채용될 수 있다. 구체예로서는, 압축 성형법, 트랜스퍼 성형법, 사출 성형법, 압출 성형법, 블로우 성형법, 분말 성형법, FRP 성형법, 캐스트 도공법(예컨대, 유연법), 캘린더 성형법, 열 프레스 법 등을 들 수 있다. 압출 성형법 또는 캐스트 도공법이 바람직하다. 얻어지는 필름의 평활성을 높여, 양호한 광학적 균일성을 얻을 수 있기 때문이다. 성형 조건은, 사용되는 수지의 조성이나 종류, 위상차층에 소망되는 특성 등에 따라 적절히 설정될 수 있다. 또한, 상기한 바와 같이, 폴리카보네이트계 수지는, 많은 필름 제품이 시판되고 있기 때문에, 당해 시판 필름을 그대로 연신 처리에 제공하여도 된다.The retardation layer can be obtained, for example, by stretching a film formed of the polycarbonate-based resin. As a method for forming a film from a polycarbonate-based resin, any suitable molding processing method can be employed. Specific examples include compression molding method, transfer molding method, injection molding method, extrusion molding method, blow molding method, powder molding method, FRP molding method, cast coating method (eg casting method), calender molding method, hot press method and the like. An extrusion molding method or a cast coating method is preferred. It is because the smoothness of the obtained film can be improved and favorable optical uniformity can be obtained. Molding conditions can be appropriately set according to the composition or type of resin used, desired characteristics of the retardation layer, and the like. In addition, since many film products of polycarbonate-type resin are marketed as mentioned above, you may use the said commercially available film for extending|stretching processing as it is.

수지 필름(미연신 필름)의 두께는, 위상차층의 소망하는 두께, 소망하는 광학 특성, 후술하는 연신 조건 등에 따라, 임의의 적절한 값으로 설정될 수 있다. 바람직하게는 50㎛∼300㎛이다.The thickness of the resin film (unstretched film) can be set to any appropriate value depending on the desired thickness of the retardation layer, desired optical properties, stretching conditions described later, and the like. Preferably they are 50 micrometers - 300 micrometers.

상기 연신은, 임의의 적절한 연신 방법, 연신 조건(예컨대, 연신 온도, 연신 배율, 연신 방향)이 채용될 수 있다. 구체적으로는, 자유단 연신, 고정단 연신, 자유단 수축, 고정단 수축 등의 다양한 연신 방법을, 단독으로 이용할 수도, 동시 혹은 순차로 이용할 수도 있다. 연신 방향에 관해서도, 긴 방향, 폭 방향, 두께 방향, 경사 방향 등, 다양한 방향이나 차원으로 행할 수 있다. 연신의 온도는, 수지 필름의 유리전이온도(Tg)에 대하여, Tg-30℃∼Tg+60℃인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 Tg-10℃∼Tg+50℃이다.For the stretching, any suitable stretching method and stretching conditions (eg, stretching temperature, stretching ratio, stretching direction) may be employed. Specifically, various stretching methods such as free end stretching, fixed end stretching, free end contraction, and fixed end contraction may be used alone or simultaneously or sequentially. As for the stretching direction, it can be performed in various directions or dimensions, such as a longitudinal direction, a width direction, a thickness direction, and an oblique direction. The temperature of the stretching is preferably Tg-30°C to Tg+60°C, more preferably Tg-10°C to Tg+50°C relative to the glass transition temperature (Tg) of the resin film.

상기 연신 방법, 연신 조건을 적절히 선택함으로써, 상기 소망하는 광학 특성(예컨대, 굴절률 특성, 면내 위상차, Nz 계수)을 갖는 위상차 필름을 얻을 수 있다.By appropriately selecting the stretching method and stretching conditions, a retardation film having the desired optical properties (eg, refractive index characteristics, in-plane retardation, and Nz coefficient) can be obtained.

하나의 실시형태에서는, 위상차 필름은 수지 필름을 1축 연신 혹은 고정단 1축 연신함으로써 제작된다. 고정단 1축 연신의 구체예로서는, 수지 필름을 긴 방향으로 주행시키면서, 폭 방향(횡방향)으로 연신하는 방법을 들 수 있다. 연신 배율은 바람직하게는 1.1배∼3.5배이다.In one embodiment, the retardation film is produced by uniaxial stretching or fixed-end uniaxial stretching of a resin film. As a specific example of the fixed-end uniaxial stretching, a method of stretching in the width direction (transverse direction) while running the resin film in the longitudinal direction is exemplified. The draw ratio is preferably 1.1 to 3.5 times.

다른 실시형태에서는, 위상차 필름은 장척상의 수지 필름을 긴 방향에 대하여 상기의 각도 θ의 방향으로 연속적으로 경사 연신함으로써 제작될 수 있다. 경사 연신을 채용함으로써, 필름의 긴 방향에 대하여 각도 θ의 배향각(각도 θ의 방향으로 지상축)을 갖는 장척상의 연신 필름이 얻어지고, 예컨대 편광자와의 적층 시에 롤투롤이 가능해져, 제조 공정을 간략화할 수 있다. 또한, 각도 θ는 위상차층 부착 편광판에서 편광자의 흡수축과 위상차층의 지상축이 이루는 각도일 수 있다. 각도 θ는 상기한 바와 같이, 바람직하게는 40°∼50°이고, 보다 바람직하게는 42°∼48°이며, 더욱 바람직하게는 약 45°이다.In another embodiment, the retardation film can be produced by continuously obliquely stretching a long resin film in the direction of the above angle θ with respect to the longitudinal direction. By adopting oblique stretching, a long stretched film having an orientation angle of angle θ (slow axis in the direction of angle θ) with respect to the longitudinal direction of the film is obtained, and roll-to-roll becomes possible at the time of lamination with, for example, a polarizer, manufacturing The process can be simplified. Further, the angle θ may be an angle formed by an absorption axis of the polarizer and a slow axis of the retardation layer in the polarizing plate with the retardation layer. As described above, the angle θ is preferably 40° to 50°, more preferably 42° to 48°, still more preferably about 45°.

경사 연신에 이용하는 연신기로서는, 예컨대, 횡 및/또는 종방향으로, 좌우 상이한 속도의 이송력 혹은 인장력 또는 인취력을 부가할 수 있는 텐터식 연신기를 들 수 있다. 텐터식 연신기에는, 횡 1축 연신기, 동시 2축 연신기 등이 있지만, 장척상의 수지 필름을 연속적으로 경사 연신할 수 있는 한, 임의의 적절한 연신기가 이용될 수 있다.Examples of the stretching machine used for oblique stretching include a tenter type stretching machine capable of applying feed force, tensile force, or pulling force at different speeds on the left and right sides in the transverse and/or longitudinal directions. Although tenter-type stretching machines include transverse uniaxial stretching machines, simultaneous biaxial stretching machines, and the like, any suitable stretching machine may be used as long as it can continuously obliquely stretch a long resin film.

상기 연신기에서 좌우의 속도를 각각 적절히 제어함으로써, 상기 소망하는 면내 위상차를 갖고, 또한 상기 소망하는 방향으로 지상축을 갖는 위상차층(실질적으로는, 장척상의 위상차 필름)이 얻어질 수 있다.By appropriately controlling the left and right speeds in the stretching machine, a retardation layer (substantially a long retardation film) having the desired in-plane retardation and having a slow axis in the desired direction can be obtained.

상기 필름의 연신 온도는, 위상차층에 소망되는 면내 위상차값 및 두께, 사용되는 수지의 종류, 사용되는 필름의 두께, 연신 배율 등에 따라 변화할 수 있다. 구체적으로는, 연신 온도는 바람직하게는 Tg-30℃∼Tg+30℃, 더욱 바람직하게는 Tg-15℃∼Tg+15℃, 가장 바람직하게는 Tg-10℃∼Tg+10℃이다. 이와 같은 온도에서 연신함으로써, 본 발명에서 적절한 특성을 갖는 위상차층이 얻어질 수 있다. 또한, Tg는 필름의 구성 재료의 유리전이온도이다.The stretching temperature of the film may vary depending on the desired in-plane retardation value and thickness of the retardation layer, the type of resin used, the thickness of the film used, and the stretching ratio. Specifically, the stretching temperature is preferably Tg-30°C to Tg+30°C, more preferably Tg-15°C to Tg+15°C, and most preferably Tg-10°C to Tg+10°C. By stretching at such a temperature, a retardation layer having suitable characteristics in the present invention can be obtained. In addition, Tg is the glass transition temperature of the constituent material of a film.

C. 화상 표시 장치C. Image display device

상기 편광판 또는 위상차층 부착 편광판은 화상 표시 장치에 적용될 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시형태는 그와 같은 편광판 또는 위상차층 부착 편광판을 포함하는 화상 표시 장치를 포함한다. 화상 표시 장치의 대표예로서는, 액정 표시 장치, 일렉트로루미네센스(EL) 표시 장치(예컨대, 유기 EL 표시 장치, 무기 EL 표시 장치)를 들 수 있다. 본 발명의 실시형태에 따른 화상 표시 장치는, 그의 시인 측에 상기 A항에 기재된 편광판 또는 B항에 기재된 위상차층 부착 편광판을 구비한다. 위상차층 부착 편광판은, 위상차층이 화상 표시 셀(예컨대, 액정 셀, 유기 EL 셀, 무기 EL 셀) 측이 되도록(편광자가 시인 측이 되도록) 적층되어 있다. 화상 표시 장치는 바람직하게는 직사각형 이외의 이형을 갖는다. 이와 같은 화상 표시 장치에서, 본 발명의 실시형태에 따른 효과가 현저하다. 이형을 갖는 화상 표시 장치의 구체예로서는, 자동차의 미터 패널, 스마트폰, 태블릿형 PC, 스마트 워치를 들 수 있다.The polarizing plate or polarizing plate with a retardation layer may be applied to an image display device. Accordingly, embodiments of the present invention include an image display device including such a polarizing plate or a polarizing plate with a retardation layer. Representative examples of the image display device include a liquid crystal display device and an electroluminescence (EL) display device (eg, an organic EL display device and an inorganic EL display device). An image display device according to an embodiment of the present invention includes the polarizing plate described in the above item A or the polarizing plate with a retardation layer described in the item B on its viewing side. Polarizing plates with a retardation layer are laminated so that the retardation layer is on the side of an image display cell (for example, a liquid crystal cell, an organic EL cell, or an inorganic EL cell) (so that the polarizer is on the viewing side). The image display device preferably has a shape other than rectangular. In such an image display device, the effect according to the embodiment of the present invention is remarkable. Specific examples of the image display device having a mold release include an automobile meter panel, a smartphone, a tablet PC, and a smart watch.

[실시예][Example]

이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 각 특성의 측정 방법은 이하와 같다. 또한, 특별히 명기하지 않는 한, 실시예 및 비교예에서의 '부' 및 '%'는 중량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be specifically described by examples, but the present invention is not limited by these examples. The measurement method of each characteristic is as follows. In addition, unless otherwise specified, 'parts' and '%' in Examples and Comparative Examples are based on weight.

(1) 두께(1) Thickness

간섭 막 두께 측정계(오츠카덴시사 제조, 제품명 'MCPD-3000')를 이용하여 측정하였다. 두께 산출에 이용한 계산 파장 범위는 400nm∼500nm로, 굴절률은 1.53으로 하였다.It was measured using an interference film thickness meter (manufactured by Otsuka Electronics, product name 'MCPD-3000'). The calculated wavelength range used for thickness calculation was 400 nm to 500 nm, and the refractive index was 1.53.

(2) PVA의 면내 위상차(Re)(2) In-plane retardation of PVA (Re)

실시예 및 비교예에서 얻어진 편광자/열가소성 수지 기재의 적층체로부터 수지 기재를 박리 제거한 편광자(편광자 단체)에 대하여, 위상차 측정 장치(오지계측기기사 제조 제품명 'KOBRA-31X100/IR')를 이용하여, 파장 1000nm에서의 PVA의 면내 위상차(Rpva)를 평가하였다(설명한 원리에 따라, 파장 1000nm에서의 총 면내 위상차로부터, 요오드의 면내 위상차(Ri)를 뺀 수치이다). 흡수단 파장은 600nm로 하였다.With respect to the polarizer (polarizer alone) obtained by peeling and removing the resin substrate from the laminate of the polarizer / thermoplastic resin substrate obtained in Examples and Comparative Examples, using a retardation measuring device (product name 'KOBRA-31X100 / IR' manufactured by Oji Instruments Co., Ltd.), The in-plane retardation (Rpva) of PVA at a wavelength of 1000 nm was evaluated (a value obtained by subtracting the in-plane retardation (Ri) of iodine from the total in-plane retardation at a wavelength of 1000 nm, according to the principle described). The absorption edge wavelength was 600 nm.

(3) PVA의 복굴절(Δn)(3) Birefringence of PVA (Δn)

상기 (2)에서 측정한 PVA의 면내 위상차를 편광자의 두께로 나눔으로써 PVA의 복굴절(Δn)을 산출하였다.Birefringence (Δn) of PVA was calculated by dividing the in-plane retardation of PVA measured in (2) by the thickness of the polarizer.

(4) 단체 투과율 및 편광도(4) single transmittance and degree of polarization

실시예 및 비교예에서 얻어진 편광자/열가소성 수지 기재의 적층체로부터 수지 기재를 박리 제거한 편광자(편광자 단체)에 대하여, 자외선/가시광선 분광광도계(니혼분코사 제조 'V-7100')를 이용하여 단체 투과율 Ts, 평행 투과율 Tp, 직교 투과율 Tc를 측정하였다. 이들 Ts, Tp 및 Tc는, JIS Z 8701의 2도 시야(C광원)에 의해 측정하여 시감도 보정을 행한 Y값이다. 얻어진 Tp 및 Tc로부터, 하기 식에 의해 편광도 P를 구하였다.With respect to the polarizer (polarizer alone) obtained by peeling and removing the resin substrate from the laminate of the polarizer/thermoplastic resin substrate obtained in Examples and Comparative Examples, using an ultraviolet / visible ray spectrophotometer ("V-7100" manufactured by Nippon Bunko Co., Ltd.) Transmittance Ts, parallel transmittance Tp, and orthogonal transmittance Tc were measured. These Ts, Tp, and Tc are Y values measured with a 2-degree field of view (C light source) in accordance with JIS Z 8701 and corrected for visibility. From the obtained Tp and Tc, the polarization degree P was calculated|required by the following formula.

편광도 P(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2×100Degree of polarization P(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)} 1/2 × 100

또한, 분광광도계는, 오츠카덴시사 제조 'LPF-200' 등에서도 동등한 측정을하는 것이 가능하고, 어느 분광광도계를 이용한 경우라도 동등한 측정 결과가 얻어지는 것이 확인되어 있다.In addition, as for the spectrophotometer, "LPF-200" manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. can perform equivalent measurements, and it has been confirmed that equivalent measurement results can be obtained even when any spectrophotometer is used.

(5) 찌르기 강도(단위 두께당 파단 강도)(5) Puncture strength (breaking strength per unit thickness)

실시예 및 비교예에서 이용한 편광자/열가소성 수지 기재의 적층체로부터 편광자를 박리하고, 니들을 장착한 압축 시험기(카토테크사 제조, 제품명 'NDG5' 니들 관통력 측정 사양)에 재치(載置)하여, 실온(23℃±3℃) 환경 하, 찌르기 속도 0.33cm/초로 찌르고, 편광자가 균열되었을 때의 강도를 파단 강도로 하였다. 평가값은 시료편 10개의 파단 강도를 측정하고, 그의 평균값을 이용하였다. 또한, 니들은 선단 직경 1mmφ, 0.5R인 것을 이용하였다. 측정하는 편광자에 대해서는, 직경 약 11mm의 원형의 개구부를 갖는 지그를 편광자의 양면으로부터 끼워 고정하고, 개구부의 중앙에 니들을 찔러서 시험을 행하였다.The polarizer was peeled off from the laminate of the polarizer/thermoplastic resin substrate used in Examples and Comparative Examples, and placed in a compression tester equipped with a needle (manufactured by Katotech, product name 'NDG5' needle penetration measurement specification), In a room temperature (23°C ± 3°C) environment, it was stabbed at a stabbing speed of 0.33 cm/sec, and the strength when the polarizer was cracked was defined as the breaking strength. The evaluation value measured the breaking strength of 10 sample pieces, and used the average value. In addition, a needle having a tip diameter of 1 mmφ and a diameter of 0.5R was used. For the polarizer to be measured, a jig having a circular opening with a diameter of about 11 mm was clamped and fixed from both sides of the polarizer, and a needle was pierced into the center of the opening to conduct a test.

(6) PVA의 배향 함수(6) Orientation function of PVA

실시예 및 비교예에서 얻어진 편광자/열가소성 수지 기재의 척층체로부터 수지 기재를 박리 제거한 편광자(편광자 단체)에 관하여, 수지 기재를 박리한 면과 반대 측의 면에 대하여, 푸리에 변환 적외 분광광도계(FT-IR)(퍼킨 엘머(Perkin Elmer)사 제조, 상품명: 'Frontier')를 이용하고, 편광된 적외광을 측정광으로 하여, 편광자 표면의 전반사 감쇠 분광(ATR: attenuateted total reflection) 측정을 행하였다. 편광자를 밀착시키는 결정자는 게르마늄을 이용하고, 측정광의 입사각은 45° 입사로 하였다. 배향 함수의 산출은 이하의 순서로 행하였다. 입사시키는 편광된 적외광(측정광)은, 게르마늄 결정의 샘플을 밀착시키는 면에 평행으로 진동하는 편광(s편광)으로 하고, 측정광의 편광 방향에 대하여, 편광자의 연신 방향을 수직(⊥) 및 평행(//)으로 배치한 상태에서 각각의 흡광도 스펙트럼을 측정하였다. 얻어진 흡광도 스펙트럼으로부터, (3330cm-1 강도)를 참조로 한 (2941cm-1 강도) I를 산출하였다. I 측정광의 편광 방향에 대하여 편광자의 연신 방향을 수직(⊥)으로 배치한 경우에 얻어지는 흡광도 스펙트럼으로부터 얻어지는 (2941㎝-1 강도)/(3330㎝-1 강도)이다. 또한, I//는 측정광의 편광 방향에 대하여 편광자의 연신 방향을 평행(//)으로 배치한 경우에 얻어지는 흡광도 스펙트럼으로부터 얻어지는 (2941㎝-1 강도)/(3330㎝-1 강도)이다. 여기에서, (2941cm-1 강도)는 흡광도 스펙트럼의 보텀이다. 2770cm-1과 2990cm-1을 베이스 라인으로 하였을 때의 2941cm-1의 흡광도이고, (3330cm-1 강도)는 2990cm-1 3650cm-1을 베이스 라인으로 하였을 때의 3330cm-1의 흡광도이다. 얻어진 I및 I//를 이용하고, 식 1에 따라 배향 함수 f를 산출하였다. 또한, f=1일 때 완전 배향, f=0일 때 랜덤이 된다. 또한, 2941㎝-1의 피크는 편광자 중의 PVA의 주쇄(-CH2-)의 진동 기인의 흡수라고 일컬어지고 있다. 또한, 3330㎝-1의 피크는 PVA의 수산기의 진동 기인의 흡수라고 일컬어지고 있다.Regarding the polarizer (polarizer alone) obtained by peeling and removing the resin substrate from the polarizer / thermoplastic resin substrate laminate obtained in Examples and Comparative Examples, with respect to the surface opposite to the surface from which the resin substrate was peeled, a Fourier transform infrared spectrophotometer (FT -IR) (manufactured by Perkin Elmer, trade name: 'Frontier') was used, and polarized infrared light was used as measurement light to measure attenuated total reflection (ATR) on the surface of the polarizer. . Germanium was used as a crystallite for adhering the polarizer, and the incident angle of the measurement light was 45° incident. The orientation function was calculated in the following procedure. Incident polarized infrared light (measurement light) is polarized light (s-polarized light) that oscillates parallel to the surface of the germanium crystal on which the sample is brought into close contact. Each absorbance spectrum was measured in a state of being arranged in parallel (//). From the obtained absorbance spectrum, (2941 cm -1 intensity) I was calculated with reference to (3330 cm -1 intensity). I is It is (2941 cm -1 intensity) / (3330 cm -1 intensity) obtained from the absorbance spectrum obtained when the polarizer is stretched perpendicularly (⊥) to the polarization direction of the measurement light. In addition, I // is (2941 cm -1 intensity) / (3330 cm -1 intensity) obtained from the absorbance spectrum obtained when the polarizer is arranged parallel to the polarization direction of the measurement light (//). Here, (2941 cm -1 intensity) is the bottom of the absorbance spectrum. Absorbance at 2941 cm -1 when 2770 cm -1 and 2990 cm -1 are used as baselines, (3330 cm -1 intensity) is 2990 cm -1 and It is the absorbance at 3330 cm -1 when 3650 cm -1 is taken as the baseline. An orientation function f was calculated according to Equation 1 using the obtained I and I // . In addition, when f = 1, it becomes perfect orientation, and when f = 0, it becomes random. The peak at 2941 cm -1 is said to be absorption due to vibration of the PVA main chain (-CH 2 -) in the polarizer. In addition, the peak at 3330 cm -1 is said to be absorption due to vibration of the hydroxyl group of PVA.

(식 1) f=(3<cos2θ>-1)/2(Equation 1) f=(3<cos 2 θ>-1)/2

=(1-D)/[c(2D+1)] =(1-D)/[c(2D+1)]

단,step,

c=(3cos2β-1)/2c=(3cos 2 β-1)/2

따라서, 상기와 같이 2941cm-1을 이용한 경우, β=90°⇒ y=-2×(1-D)/(2D+1)이다.Therefore, when 2941 cm -1 is used as described above, β = 90 ° ⇒ y = -2 × (1-D) / (2D + 1).

θ: 연신 방향에 대한 분자쇄의 각도θ: angle of the molecular chain with respect to the stretching direction

β: 분자쇄 축에 대한 전이 쌍극자 모멘트의 각도β: angle of the transition dipole moment with respect to the molecular chain axis

D=(I)/(I//)D=(I )/(I // )

I: 측정광의 편광 방향과 편광자의 연신 방향이 수직인 경우의 흡수 강도I : Absorption intensity when the polarization direction of the measurement light and the stretching direction of the polarizer are perpendicular to each other

I//: 측정광의 편광 방향과 편광자의 연신 방향이 평행인 경우의 흡수 강도I // : Absorption intensity when the polarization direction of the measurement light and the stretching direction of the polarizer are parallel

(7) 크랙 발생률(7) Crack occurrence rate

실시예 및 비교예에서 얻어진 편광판(또는 위상차층 부착 편광판)의 보호층 표면에 표면 보호 필름을 가착하였다. 이어서, 당해 편광판(또는 위상차층 부착 편광판)의 점착제층에 세퍼레이터를 가착하였다. 이 적층체를 약 130mm×약 70mm로 절취하였다. 이 때, 편광자의 흡수축이 짧은 방향이 되도록 절취하였다. 절취한 적층체의 단변의 중앙부에 폭 5㎜, 깊이(오목부의 길이) 6.85㎜, 곡률 반경 2.5㎜의 U자 노치를 형성하였다. U자 노치는 엔드밀 가공에 의해 형성하였다. 엔드밀의 외경은 4mm, 이송 속도는 500mm/분, 회전수는 35000rpm, 절삭량 및 절삭 횟수는 거친 절삭 0.2mm/회, 다듬질 절삭 0.1mm/회의 합계 2회이었다. U자 노치를 형성한 적층체로부터 세퍼레이터를 박리하고, 아크릴계 점착제층을 개재하여 유리판(두께 1.1㎜)에 첩부하였다. 마지막으로, 표면 보호 필름을 박리하고, 보호층/편광자/점착제층/유리판(또는 보호층/편광자/점착제층/위상차층/점착제층/유리판)의 구성을 갖는 시험 샘플을 얻었다. 이 시험 샘플을 -40℃에서 30분간 유지한 후 85℃에서 30분간 유지하는 것을 300사이클 반복하는 히트 쇼크 시험에 제공하고, 시험 후의 L자 크랙 발생의 유무를 육안으로 확인하였다. 이 평가를 3매의 편광판(또는 위상차층 부착 편광판)을 이용하여 행하고, 크랙(실질적으로는 L자 크랙)이 발생한 편광판(또는 위상차층 부착 편광판)의 수를 평가하였다.A surface protection film was temporarily attached to the surface of the protective layer of the polarizing plate (or polarizing plate with a retardation layer) obtained in Examples and Comparative Examples. Next, a separator was temporarily attached to the pressure-sensitive adhesive layer of the polarizing plate (or polarizing plate with a retardation layer). This laminate was cut into about 130 mm x about 70 mm. At this time, the polarizer was cut so that the absorption axis was in the short direction. A U-shaped notch having a width of 5 mm, a depth (length of the concave portion) of 6.85 mm, and a radius of curvature of 2.5 mm was formed in the central portion of the short side of the cut laminate. The U-shaped notch was formed by end milling. The outer diameter of the end mill was 4 mm, the feed speed was 500 mm/min, the rotation speed was 35000 rpm, and the cutting amount and number of cuts were 0.2 mm/time for rough cutting and 0.1 mm/time for finishing cutting, total of 2 times. The separator was peeled off from the laminate in which the U-shaped notch was formed, and it was affixed to a glass plate (thickness: 1.1 mm) through an acrylic pressure-sensitive adhesive layer. Finally, the surface protection film was peeled off, and a test sample having a configuration of protective layer/polarizer/adhesive layer/glass plate (or protective layer/polarizer/adhesive layer/phase contrast layer/adhesive layer/glass plate) was obtained. This test sample was subjected to a heat shock test in which holding at -40°C for 30 minutes and then holding at 85°C for 30 minutes was repeated 300 cycles, and the presence or absence of L-shaped cracks after the test was visually confirmed. This evaluation was performed using three polarizing plates (or polarizing plates with retardation layers), and the number of polarizing plates (or polarizing plates with retardation layers) in which cracks (substantially L-shaped cracks) occurred was evaluated.

[실시예 1][Example 1]

1. 편광자의 제작1. Fabrication of polarizer

열가소성 수지 기재로서 장척상이고 흡수율 0.75%, Tg 약 75℃인 비정질의 이소프탈 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(두께: 100㎛)을 이용하였다. 수지 기재의 편면에 코로나 처리(처리 조건: 55W·min/㎡)를 실시하였다.As the thermoplastic resin substrate, an amorphous isophthalic copolymerized polyethylene terephthalate film (thickness: 100 μm) having a long shape, water absorption of 0.75%, and Tg of about 75° C. was used. Corona treatment (treatment conditions: 55 W·min/m 2 ) was performed on one side of the resin substrate.

폴리비닐알코올(중합도 4200, 비누화도 99.2몰%) 및 아세토아세틸 변성 PVA(니혼합성화학공업사 제조, 상품명 '고세화이머 Z410')를 9:1로 혼합한 PVA계 수지 100중량부에, 요오드화 칼륨 13중량부를 첨가하고, PVA 수용액(도포액)을 조제하였다.Polyvinyl alcohol (degree of polymerization 4200, degree of saponification 99.2 mol%) and acetoacetyl-modified PVA (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name 'Gosefimer Z410') were mixed in a ratio of 9:1 to 100 parts by weight of a PVA-based resin, potassium iodide 13 weight parts were added and the PVA aqueous solution (coating liquid) was prepared.

수지 기재의 코로나 처리면에 상기 PVA 수용액을 도포하여 60℃에서 건조함으로써, 두께 13.5㎛의 PVA계 수지층을 형성하고 적층체를 제작하였다.A PVA-based resin layer having a thickness of 13.5 μm was formed by applying the PVA aqueous solution to the corona-treated surface of the resin substrate and drying at 60° C. to prepare a laminate.

얻어진 적층체를, 130℃의 오븐 내에서 원주 속도가 상이한 롤 사이에서 종방향(긴 방향)으로 2.4배로 자유단 1축 연신하였다(공중 보조 연신 처리).The obtained layered product was uniaxially stretched at the free end by 2.4 times in the machine direction (longitudinal direction) between rolls having different circumferential speeds in a 130°C oven (air assisted stretching treatment).

이어서, 적층체를 액체 온도 40℃의 불용화욕(물 100중량부에 대하여 붕산을 4중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(불용화 처리).Next, the laminate was immersed in an insolubilization bath (boric acid aqueous solution obtained by blending 4 parts by weight of boric acid with respect to 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 40°C for 30 seconds (insolubilization treatment).

이어서, 액체 온도 30℃의 염색욕(물 100중량부에 대하여, 요오드와 요오드화 칼륨을 1:7의 중량비로 배합하여 얻어진 요오드 수용액)에, 최종적으로 얻어지는 편광자의 단체 투과율(Ts)이 40.5% 이상이 되도록 농도를 조정하면서 60초간 침지시켰다(염색 처리).Next, in a dyeing bath (water = 100 parts by weight, iodine and potassium iodide obtained by blending iodine and potassium iodide at a weight ratio of 1:7) at a liquid temperature of 30 ° C., the single transmittance (Ts) of the finally obtained polarizer is 40.5% or more. It was immersed for 60 seconds while adjusting the concentration so as to be (dyeing treatment).

이어서, 액체 온도 40℃의 가교욕(물 100중량부에 대하여, 요오드화 칼륨을 3중량부 배합하고, 붕산을 5중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(가교 처리).Then, it was immersed in a crosslinking bath (a boric acid aqueous solution obtained by blending 3 parts by weight of potassium iodide and 5 parts by weight of boric acid) with respect to 100 parts by weight of water at a liquid temperature of 40 ° C. (crosslinking treatment).

그 후, 적층체를 액체 온도 62℃의 붕산 수용액(붕산 농도 4.0중량%, 요오드화 칼륨 5.0중량%)에 침지시키면서, 원주 속도가 상이한 롤 사이에서 종방향(긴 방향)으로 연신의 총 배율이 3.0배가 되도록 1축 연신을 행하였다(수중 연신 처리: 수중 연신 처리에서의 연신 배율은 1.25배).Thereafter, the laminate was immersed in an aqueous boric acid solution (boric acid concentration = 4.0% by weight, potassium iodide 5.0% by weight) at a liquid temperature of 62°C, while the total stretching ratio in the machine direction (longitudinal direction) was 3.0 between rolls having different circumferential speeds. Uniaxial stretching was performed so as to double (underwater stretching treatment: the stretching ratio in the underwater stretching treatment is 1.25 times).

그 후, 적층체를 액체 온도 20℃의 세정욕(물 100중량부에 대하여 요오드화 칼륨을 4중량부 배합하여 얻어진 수용액)에 침지시켰다(세정 처리).Thereafter, the laminate was immersed in a washing bath (aqueous solution obtained by blending 4 parts by weight of potassium iodide with respect to 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 20°C (washing treatment).

그 후, 90℃로 유지된 오븐 중에서 건조하면서 표면 온도가 75℃로 유지된 SUS제의 가열 롤에 약 2초 접촉시켰다(건조 수축 처리). 건조 수축 처리에 의한 적층체의 폭 방향의 수축률은 2%이었다.Thereafter, while drying in an oven maintained at 90°C, it was brought into contact with a heating roll made of SUS whose surface temperature was maintained at 75°C for about 2 seconds (dry shrinkage treatment). The shrinkage rate in the width direction of the layered product by the drying shrinkage treatment was 2%.

이와 같이 하여, 수지 기재 위에 두께 7.4㎛의 편광자를 형성하였다.In this way, a polarizer having a thickness of 7.4 μm was formed on the resin substrate.

2. 편광판의 제작2. Fabrication of polarizer

비페닐 골격을 갖는 에폭시 수지(미쯔비시케미컬사 제조, 상품명: jER(등록상표) YX4000) 15부와 옥세탄 수지(도아고세이사 제조, 상품명: 아론옥세탄(등록상표) OXT-221) 10중량부를 메틸에틸케톤 73부에 용해하여 에폭시 수지 용액을 얻었다. 얻어진 에폭시 수지 용액에, 광 양이온 중합 개시제(산아프로사 제조, 상품명: CPI(등록상표)-100P) 2부를 첨가하여, 보호층 형성 조성물을 얻었다. 얻어진 보호층 형성 조성물을 상기 1.에서 얻어진 수지 기재/편광자의 적층체의 편광자 표면에 직접(즉, 이접착층을 형성하지 않고) 와이어 바를 이용하여 도포하고, 도포막을 60℃에서 3분간 건조하였다. 이어서, 고압 수은 램프를 이용하여 적산 광량이 600mJ/㎠가 되도록 자외선을 조사하여 보호층을 형성하였다. 보호층의 두께는 3㎛이었다. 이어서, 수지 기재를 박리하고, 박리면에 아크릴계 점착제층(두께 15㎛)을 마련하였다. 이와 같이 하여, 보호층(에폭시 수지의 광 양이온 경화층)/편광자/점착제층의 구성을 갖는 편광판을 얻었다.15 parts of an epoxy resin having a biphenyl skeleton (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trade name: jER (registered trademark) YX4000) and 10 parts by weight of an oxetane resin (manufactured by Toagosei Co., Ltd., trade name: Aronoxetane (registered trademark) OXT-221) It was dissolved in 73 parts of methyl ethyl ketone to obtain an epoxy resin solution. To the obtained epoxy resin solution, 2 parts of photocationic polymerization initiator (trade name: CPI (registered trademark) -100P, manufactured by San-Apro Corporation) was added to obtain a protective layer forming composition. The obtained protective layer forming composition was applied directly to the polarizer surface of the laminate of the resin substrate/polarizer obtained in 1. above (ie, without forming an easily adhesive layer) using a wire bar, and the coating film was dried at 60 ° C. for 3 minutes. Subsequently, the cumulative light intensity is 600 mJ/cm 2 using a high-pressure mercury lamp. A protective layer was formed by irradiating ultraviolet rays as much as possible. The thickness of the protective layer was 3 μm. Then, the resin substrate was peeled off, and an acrylic pressure-sensitive adhesive layer (thickness: 15 µm) was provided on the peeled surface. In this way, a polarizing plate having a configuration of a protective layer (photo-cationic cured layer of epoxy resin)/polarizer/adhesive layer was obtained.

[실시예 2∼4][Examples 2 to 4]

요오드 농도가 상이한 염색욕(요오드와 요오드화칼륨의 중량비=1:7)을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 수지 기재 위에 편광자(두께: 7.4㎛)를 형성하였다. 이하의 순서는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 보호층(에폭시 수지의 광 양이온 경화층)/편광자/점착제층의 구성을 갖는 편광판을 얻었다.A polarizer (thickness: 7.4 μm) was formed on a resin substrate in the same manner as in Example 1 except that dye baths having different iodine concentrations (weight ratio of iodine and potassium iodide = 1:7) were used. The following procedure was carried out similarly to Example 1, and the polarizing plate which has the structure of protective layer (photocationic curing layer of epoxy resin)/polarizer/adhesive layer was obtained.

[실시예 5][Example 5]

수중 연신의 연신 배율을 1.46배로 한 것(결과로서, 연신의 총 배율을 3.5배로 한 것) 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 수지 기재 위에 편광자(두께: 6.7㎛)를 형성하였다. 이하의 순서는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 보호층(에폭시 수지의 광 양이온 경화층)/편광자/점착제층의 구성을 갖는 편광판을 얻었다.A polarizer (thickness: 6.7 μm) was formed on the resin substrate in the same manner as in Example 1 except that the draw ratio of the underwater extension was increased to 1.46 times (as a result, the total stretch magnification was increased to 3.5 times). The following procedure was carried out similarly to Example 1, and the polarizing plate which has the structure of protective layer (photocationic curing layer of epoxy resin)/polarizer/adhesive layer was obtained.

[실시예 6-1][Example 6-1]

요오드 농도가 상이한 염색욕(요오드와 요오드화칼륨의 중량비=1:7)을 이용한 것 이외에는 실시예 5와 마찬가지로 하여, 수지 기재 위에 편광자(두께: 6.7㎛)를 형성하였다. 이하의 순서는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 보호층(에폭시 수지의 광 양이온 경화층)/편광자/점착제층의 구성을 갖는 편광판을 얻었다.A polarizer (thickness: 6.7 μm) was formed on a resin substrate in the same manner as in Example 5 except that dye baths having different iodine concentrations (weight ratio of iodine and potassium iodide = 1:7) were used. The following procedure was carried out similarly to Example 1, and the polarizing plate which has the structure of protective layer (photocationic curing layer of epoxy resin)/polarizer/adhesive layer was obtained.

[실시예 6-2][Example 6-2]

실시예 6-1과 마찬가지로 하여 수지 기재/편광자(두께: 6.7㎛)의 적층체를 얻었다. 한편, 에폭시 수지(미쯔비시케미컬주식회사 제조, 상품명: jER(등록상표) YX6954BH30, 중량 평균 분자량: 36000, 에폭시 당량: 13000) 20부를 메틸에틸케톤 80부에 용해하고, 에폭시 수지 용액(20%)을 얻었다. 이 에폭시 수지 용액을, 상기 적층체의 편광자 표면에 와이어 바를 이용하여 도포하고, 도포막을 60℃에서 3분간 건조하여, 도포막의 고화물로서 구성되는 보호층을 형성하였다. 보호층의 두께는 3㎛이었다. 이어서, 수지 기재를 박리하고, 박리면에 실시예 1과 마찬가지의 아크릴계 점착제층을 마련하였다. 이와 같이 하여, 보호층(에폭시 수지의 도포막의 고화층)/편광자/점착제층의 구성을 갖는 편광판을 얻었다.It carried out similarly to Example 6-1, and obtained the laminated body of resin base material/polarizer (thickness: 6.7 micrometer). On the other hand, 20 parts of an epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trade name: jER (registered trademark) YX6954BH30, weight average molecular weight: 36000, epoxy equivalent: 13000) was dissolved in 80 parts of methyl ethyl ketone to obtain an epoxy resin solution (20%). . This epoxy resin solution was applied to the polarizer surface of the layered product using a wire bar, and the coating film was dried at 60°C for 3 minutes to form a protective layer constituted as a solidified product of the coating film. The thickness of the protective layer was 3 μm. Next, the resin substrate was peeled off, and an acrylic pressure-sensitive adhesive layer similar to Example 1 was provided on the peeled surface. In this way, a polarizing plate having a configuration of a protective layer (solidified layer of an epoxy resin coating film)/polarizer/adhesive layer was obtained.

[실시예 6-3][Example 6-3]

실시예 6-1과 마찬가지로 하여 수지 기재/편광자(두께: 6.7㎛)의 적층체를 얻었다. 얻어진 적층체의 편광자 면에, 이접착층으로서 폴리우레탄계의 수계 분산 수지(다이이치공업제약사 제조, 제품명: 슈퍼플렉스 SF210)를 두께가 0.1㎛가 되도록 도포하고, 이접착층을 형성하였다. 한편, 100% 폴리메틸메타크릴레이트인 아크릴계 수지(쿠스모토카세이사 제조, 제품명: B-728) 20중량부를 메틸에틸케톤 80중량부에 용해하여, 아크릴계 수지 용액(20%)을 얻었다. 이 아크릴계 수지 용액을, 이접착층 표면에 와이어 바를 이용하여 도포하고, 도포막을 60℃에서 5분간 건조하여, 도포막의 고화물로서 구성되는 보호층을 형성하였다. 보호층의 두께는 2㎛이었다. 또한, 보호층의 이접착층과 반대 측의 면에 추가로 하드 코트층(두께 3㎛)을 형성하였다. 하드 코트(HC)층은 디메틸올-트리시클로데칸디아크릴레이트(쿄에이샤카가쿠 제조, 상품명: 라이트아크릴레이트 DCP-A) 70중량부, 이소보닐아크릴레이트(교에이샤카가쿠 제조, 상품명: 라이트아크릴레이트 IB-XA) 20중량부, 1,9-노난디올디아크릴레이트(쿄에이샤카가쿠 제조, 상품명: 라이트아크릴레이트 1.9NA-A) 10중량부, 또한, 광중합 개시제(바스프(BASF)사 제조, 상품명: 이르가큐어 907) 3중량부를, 적당한 용매를 이용하여 혼합하고, 얻어진 도공액을, 경화 후에 3㎛가 되도록 보호층면 위에 도포하고, 이어서, 용매를 건조시켜, 고압 수은 램프를 이용하여 적산 광량 300mJ/㎠가 되도록 자외선을 질소 분위기 하에서 조사함으로써 형성하였다. 마지막으로, 수지 기재를 박리하고, 박리면에 실시예 1과 마찬가지의 아크릴계 점착제층을 마련하였다. 이와 같이 하여, HC층/보호층(아크릴 수지의 도포막의 고화층)/이접착층/편광자/점착제층의 구성을 갖는 편광판을 얻었다.It carried out similarly to Example 6-1, and obtained the laminated body of resin base material/polarizer (thickness: 6.7 micrometer). On the polarizer surface of the obtained laminate, as an easily adhesive layer, a polyurethane-based aqueous dispersion resin (manufactured by Daiichi Kogyo Pharmaceutical Co., Ltd., product name: Superflex SF210) was applied to a thickness of 0.1 μm to form an easily adhesive layer. On the other hand, 20 parts by weight of 100% polymethyl methacrylate acrylic resin (manufactured by Kusumoto Chemical Co., Ltd., product name: B-728) was dissolved in 80 parts by weight of methyl ethyl ketone to obtain an acrylic resin solution (20%). This acrylic resin solution was applied to the surface of the easily bonding layer using a wire bar, and the coated film was dried at 60°C for 5 minutes to form a protective layer constituted as a solidified material of the coated film. The thickness of the protective layer was 2 μm. In addition, a hard coat layer (thickness: 3 μm) was further formed on the side opposite to the easily bonding layer of the protective layer. The hard coat (HC) layer is 70 parts by weight of dimethylol-tricyclodecane diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical, trade name: Light Acrylate DCP-A), isobornyl acrylate (manufactured by Kyoei Shagaku, trade name: Light Acrylate IB-XA) 20 parts by weight, 1,9-nonanediol diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical, trade name: Light Acrylate 1.9NA-A) 10 parts by weight, and a photopolymerization initiator (BASF) Manufacture, brand name: Irgacure 907) 3 parts by weight were mixed using an appropriate solvent, and the obtained coating solution was applied on the surface of the protective layer so as to have a thickness of 3 μm after curing, and then the solvent was dried and a high-pressure mercury lamp was used. 300mJ/㎠ of integrated light It was formed by irradiating ultraviolet rays as much as possible under a nitrogen atmosphere. Finally, the resin substrate was peeled off, and an acrylic pressure-sensitive adhesive layer similar to Example 1 was provided on the peeled surface. In this way, a polarizing plate having a configuration of HC layer/protective layer (solidified layer of acrylic resin coating film)/easy adhesion layer/polarizer/adhesive layer was obtained.

[실시예 7∼8][Examples 7 to 8]

요오드 농도가 상이한 염색욕(요오드와 요오드화칼륨의 중량비=1:7)을 이용한 것 이외에는 실시예 5와 마찬가지로 하여, 수지 기재 위에 편광자(두께: 6.7㎛)를 형성하였다. 이하의 순서는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 보호층(에폭시 수지의 광 양이온 경화층)/편광자/점착제층의 구성을 갖는 편광판을 얻었다.A polarizer (thickness: 6.7 μm) was formed on a resin substrate in the same manner as in Example 5 except that dye baths having different iodine concentrations (weight ratio of iodine and potassium iodide = 1:7) were used. The following procedure was carried out similarly to Example 1, and the polarizing plate which has the structure of protective layer (photocationic curing layer of epoxy resin)/polarizer/adhesive layer was obtained.

[실시예 9∼12][Examples 9 to 12]

수중 연신의 연신 배율을 1.67배로 한 것(결과로서, 연신의 총 배율을 4.0배로 한 것), 및 요오드 농도가 상이한 염색욕(요오드와 요오드화칼륨의 중량비=1:7)을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 수지 기재 위에 편광자(두께: 6.2㎛)를 형성하였다. 이하의 순서는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 보호층(에폭시 수지의 광 양이온 경화층)/편광자/점착제층의 구성을 갖는 편광판을 얻었다.EXAMPLES EXCEPT EXAMPLES Except for using a dyeing bath having a different iodine concentration (weight ratio of iodine and potassium iodide = 1:7), the draw ratio of the underwater drawing was increased to 1.67 times (as a result, the total stretching ratio was increased to 4.0 times). It carried out similarly to 1, and formed the polarizer (thickness: 6.2 micrometer) on the resin substrate. The following procedure was carried out similarly to Example 1, and the polarizing plate which has the structure of protective layer (photocationic curing layer of epoxy resin)/polarizer/adhesive layer was obtained.

[실시예 13∼16][Examples 13 to 16]

수중 연신의 연신 배율을 1.88배로 한 것(결과로서, 연신의 총 배율을 4.5배로 한 것), 및 요오드 농도가 상이한 염색욕(요오드와 요오드화칼륨의 중량비=1:7)을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 수지 기재 위에 편광자(두께: 6.0㎛)를 형성하였다. 이하의 순서는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 보호층(에폭시 수지의 광 양이온 경화층)/편광자/점착제층의 구성을 갖는 편광판을 얻었다.Example except that the draw ratio of the underwater drawing was increased to 1.88 times (as a result, the total extension ratio of the drawing was increased to 4.5 times), and dyeing baths having different iodine concentrations (weight ratio of iodine and potassium iodide = 1:7) were used. It carried out similarly to 1, and formed the polarizer (thickness: 6.0 micrometer) on the resin substrate. The following procedure was carried out similarly to Example 1, and the polarizing plate which has the structure of protective layer (photocationic curing layer of epoxy resin)/polarizer/adhesive layer was obtained.

[비교예 1][Comparative Example 1]

수중 연신의 연신 배율을 2.29배로 한 것(결과로서, 연신의 총 배율을 5.5 배로 한 것) 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 수지 기재 위에 편광자(두께: 5.5㎛)를 형성하였다. 이하의 순서는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 보호층(에폭시 수지의 광 양이온 경화층)/편광자/점착제층의 구성을 갖는 편광판을 얻었다.A polarizer (thickness: 5.5 μm) was formed on a resin substrate in the same manner as in Example 1 except that the draw ratio of the underwater extension was increased to 2.29 times (as a result, the total stretch magnification was increased to 5.5 times). The following procedure was carried out similarly to Example 1, and the polarizing plate which has the structure of protective layer (photocationic curing layer of epoxy resin)/polarizer/adhesive layer was obtained.

[비교예 2-1][Comparative Example 2-1]

요오드 농도가 상이한 염색욕(요오드와 요오드화칼륨의 중량비=1:7)을 이용한 것 이외에는 비교예 1과 마찬가지로 하여, 수지 기재 위에 편광자(두께: 5.5㎛)를 형성하였다. 이하의 순서는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 보호층(에폭시 수지의 광 양이온 경화층)/편광자/점착제층의 구성을 갖는 편광판을 얻었다.A polarizer (thickness: 5.5 μm) was formed on a resin substrate in the same manner as in Comparative Example 1 except that dye baths having different iodine concentrations (weight ratio of iodine and potassium iodide = 1:7) were used. The following procedure was carried out similarly to Example 1, and the polarizing plate which has the structure of protective layer (photocationic curing layer of epoxy resin)/polarizer/adhesive layer was obtained.

[비교예 2-2][Comparative Example 2-2]

실시예 6-2와 마찬가지의 에폭시 수지 용액을 이용하여 보호층을 형성한 것 이외에는 비교예 2-1과 마찬가지로 하여, 보호층(에폭시 수지의 도포막의 고화층)/편광자/점착제층의 구성을 갖는 편광판을 얻었다.Except for forming a protective layer using the same epoxy resin solution as in Example 6-2, in the same manner as in Comparative Example 2-1, having a protective layer (solidified layer of epoxy resin coating film) / polarizer / pressure-sensitive adhesive layer configuration A polarizer was obtained.

[비교예 2∼3][Comparative Examples 2 to 3]

실시예 6-3과 마찬가지의 아크릴 수지 용액을 이용하여 보호층을 형성한 것 이외에는 비교예 2-1과 마찬가지로 하여, 보호층(아크릴 수지의 도포막의 고화층)/편광자/점착제층의 구성을 갖는 편광판을 얻었다.Except for forming a protective layer using the same acrylic resin solution as in Example 6-3, in the same manner as in Comparative Example 2-1, having a protective layer (solidified layer of acrylic resin coating film) / polarizer / adhesive layer configuration A polarizer was obtained.

[비교예 3∼4][Comparative Examples 3 to 4]

요오드 농도가 상이한 염색욕(요오드와 요오드화칼륨의 중량비=1:7)을 이용한 것 이외에는 비교예 1과 마찬가지로 하여, 수지 기재 위에 편광자(두께: 5.5㎛)를 형성하였다. 이하의 순서는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 보호층(에폭시 수지의 광 양이온 경화층)/편광자/점착제층의 구성을 갖는 편광판을 얻었다.A polarizer (thickness: 5.5 μm) was formed on a resin substrate in the same manner as in Comparative Example 1 except that dye baths having different iodine concentrations (weight ratio of iodine and potassium iodide = 1:7) were used. The following procedure was carried out similarly to Example 1, and the polarizing plate which has the structure of protective layer (photocationic curing layer of epoxy resin)/polarizer/adhesive layer was obtained.

[실시예 17][Example 17]

1. 위상차층을 구성하는 위상차 필름의 제작1. Production of retardation film constituting the retardation layer

교반날개 및 100℃로 제어된 환류 냉각기를 구비한 종형 반응기 2기로 이루어지는 배치 중합 장치를 이용하여 중합을 행하였다. 비스[9-(2-페녹시카보닐에틸)플루오렌-9-일]메탄 29.60질량부(0.046mol), 이소소르비드(ISB) 29.21질량부(0.200mol), 스피로글리콜(SPG) 42.28질량부(0.139mol), 디페닐카보네이트(DPC) 63.77질량부(0.298mol) 및 촉매로서 초산칼슘 1수화물 1.19×10-2질량부(6.78×10-5mol)를 투입하였다. 반응기 내를 감압 질소 치환한 후, 열매(熱媒)로 가온을 행하고, 내부 온도가 100℃가 된 시점에서 교반을 개시하였다. 승온 개시 40분 후에 내부 온도를 220℃에 도달시키고, 이 온도를 유지하도록 제어함과 동시에 감압을 개시하고, 220℃에 도달하고 나서 90분에서 13.3kPa로 하였다. 중합 반응과 함께 부생(副生)하는 페놀 증기를 100℃의 환류 냉각기로 이끌고, 페놀 증기 중에 약간량 포함되는 모노머 성분을 반응기로 되돌려, 응축되지 않은 페놀 증기는 45℃의 응축기로 이끌어 회수하였다. 제1 반응기에 질소를 도입하여 일단 대기압까지 복압시킨 후, 제1 반응기 내의 올리고머화된 반응액을 제2 반응기로 옮겼다. 이어서, 제2 반응기 내의 승온 및 감압을 개시하여 50분에서 내부 온도 240℃, 압력 0.2kPa로 하였다. 그 후, 소정의 교반 동력이 될 때까지 중합을 진행시켰다. 소정 동력에 도달한 시점에서 반응기에 질소를 도입하여 복압하고, 생성된 폴리에스테르카보네이트계 수지를 수중에 압출하고, 스트랜드를 컷팅하여 펠릿을 얻었다.Polymerization was carried out using a batch polymerization apparatus composed of two vertical reactors equipped with stirring blades and a reflux condenser controlled at 100°C. Bis [9- (2-phenoxycarbonylethyl) fluoren-9-yl] methane 29.60 parts by mass (0.046 mol), isosorbide (ISB) 29.21 parts by mass (0.200 mol), spiroglycol (SPG) 42.28 mass part (0.139 mol), 63.77 parts by mass (0.298 mol) of diphenyl carbonate (DPC), and 1.19 × 10 -2 parts by mass (6.78 × 10 -5 mol) of calcium acetate monohydrate as a catalyst were added. After replacing the inside of the reactor with reduced pressure nitrogen, heating was performed with a heating medium, and stirring was started when the internal temperature reached 100°C. 40 minutes after the start of temperature increase, the internal temperature reached 220°C, and while controlling to maintain this temperature, pressure reduction was started, and after reaching 220°C, it was set to 13.3 kPa in 90 minutes. Phenol vapor produced by-product along with the polymerization reaction was led to a reflux condenser at 100°C, a small amount of monomer components contained in the phenol vapor was returned to the reactor, and uncondensed phenol vapor was led to a condenser at 45°C for recovery. After nitrogen was introduced into the first reactor to once restore the pressure to atmospheric pressure, the oligomerized reaction solution in the first reactor was transferred to the second reactor. Subsequently, the temperature increase and pressure reduction in the second reactor were started, and the internal temperature was 240°C and the pressure was 0.2 kPa in 50 minutes. Thereafter, polymerization was allowed to proceed until a predetermined agitation power was reached. When the predetermined power was reached, nitrogen was introduced into the reactor to restore pressure, the resulting polyester carbonate-based resin was extruded into water, and the strands were cut to obtain pellets.

얻어진 폴리에스테르카보네이트계 수지(펠릿)를 80℃에서 5시간 진공 건조를 한 후, 단축 압출기(도시바기계사 제조, 실린더 설정 온도: 250℃), T 다이(폭 200mm, 설정 온도: 250℃), 냉각 롤(설정 온도: 120∼130℃) 및 권취기를 구비한 필름 제막 장치를 이용하여, 두께 130㎛의 장척상의 수지 필름을 제작하였다. 얻어진 장척상의 수지 필름을, 소정의 위상차가 얻어지도록 조정하면서 연신하고, 두께 48㎛의 위상차 필름을 얻었다. 연신 조건은 폭 방향으로 연신 온도 143℃, 연신 배율 2.8배이었다. 얻어진 위상차 필름의 Re(550)는 141nm이고, Re(450)/Re(550)는 0.86이며, Nz 계수는 1.12이었다.After vacuum drying the obtained polyester carbonate-based resin (pellet) at 80 ° C. for 5 hours, a single screw extruder (manufactured by Toshiba Machinery Co., Ltd., cylinder set temperature: 250 ° C.), T die (width 200 mm, set temperature: 250 ° C.), A long resin film with a thickness of 130 μm was produced using a film forming apparatus equipped with a cooling roll (set temperature: 120 to 130° C.) and a winder. The obtained elongated resin film was stretched while adjusting so as to obtain a predetermined phase difference, and a phase difference film having a thickness of 48 µm was obtained. The stretching conditions were a stretching temperature of 143°C and a stretching ratio of 2.8 times in the width direction. Re(550) of the obtained retardation film was 141 nm, Re(450)/Re(550) was 0.86, and the Nz coefficient was 1.12.

2. 위상차층 부착 편광판의 제작2. Production of Polarizing Plate with Retardation Layer

실시예 6-1과 마찬가지로 하여 수지 기재/편광자(두께: 6.7㎛)의 적층체를 얻었다. 적층체의 편광자 표면에 실시예 1과 마찬가지로 하여 보호층(에폭시 수지의 광 양이온 경화층)을 형성하였다. 이어서, 수지 기재를 박리하고, 박리면에 상기에서 얻어진 위상차 필름(위상차층)을, 두께 5㎛의 아크릴계 점착제층을 개재하여 첩합하였다. 그 때, 위상차층의 지상축과 편광자의 흡수축이 45°의 각도를 이루도록 하여 첩합하였다. 마지막으로, 위상차층 표면에 실시예 1과 마찬가지의 아크릴계 점착제층을 마련하였다. 이와 같이 하여, 보호층(에폭시 수지의 광 양이온 경화층)/편광자/점착제층/위상차층/점착제층의 구성을 갖는 위상차층 부착 편광판을 얻었다.It carried out similarly to Example 6-1, and obtained the laminated body of resin base material/polarizer (thickness: 6.7 micrometer). It carried out similarly to Example 1 on the surface of the polarizer of a laminated body, and formed the protective layer (photocationic hardening layer of epoxy resin). Next, the resin substrate was peeled off, and the retardation film (retardation layer) obtained above was bonded to the peeled surface via an acrylic pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 5 µm. At that time, the slow axis of the retardation layer and the absorption axis of the polarizer formed an angle of 45° and bonded together. Finally, an acrylic pressure-sensitive adhesive layer similar to Example 1 was provided on the surface of the retardation layer. In this way, a polarizing plate with a retardation layer having a configuration of protective layer (photocationic cured layer of epoxy resin) / polarizer / adhesive layer / retardation layer / adhesive layer was obtained.

[비교예 5][Comparative Example 5]

비교예 2-1과 마찬가지로 하여 수지 기재/편광자(두께: 5.5㎛)의 적층체를 얻었다. 이 적층체를 이용한 것 이외에는 실시예 17과 마찬가지로 하여, 보호층(에폭시 수지의 광 양이온 경화층)/편광자/점착제층/위상차층/점착제층의 구성을 갖는 위상차층 부착 편광판을 얻었다.In the same manner as in Comparative Example 2-1, a laminate of resin substrate/polarizer (thickness: 5.5 µm) was obtained. A polarizing plate with a retardation layer having a configuration of protective layer (photocationic cured layer of epoxy resin) / polarizer / adhesive layer / retardation layer / adhesive layer was obtained in the same manner as in Example 17 except that this laminate was used.

실시예 및 비교예에서 얻어진 편광판 또는 위상차층 부착 편광판을 상기 (2)∼(7)의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.The polarizing plates or polarizing plates with a retardation layer obtained in Examples and Comparative Examples were used for evaluation of the above (2) to (7). The results are shown in Table 1.

[표 1][Table 1]

Figure pct00003
Figure pct00003

표 1로부터 분명한 바와 같이, 실시예의 편광판 및 위상차층 부착 편광판은 이형 가공부(U자 노치 부분)의 크랙 발생이 억제되어 있다.As is clear from Table 1, in the polarizing plate and the polarizing plate with a retardation layer of the examples, cracking of the mold release portion (U-shaped notch portion) is suppressed.

또한, 도 8∼도 10에 각각, 실시예 및 비교예에서 얻어진 편광자의 단체 투과율과 PVA의 Δn, 면내 위상차 또는 배향 함수와의 관계를 나타낸다. 도 8∼도 10에 나타내는 바와 같이, 복굴절, 면내 위상차 또는 배향 함수가 같은 정도(결과로서, 배향도가 같은 정도)이더라도, 단체 투과율이 높은 경우에는, 이형 가공부에서 크랙이 발생하기 쉬운 것을 알 수 있다. 예컨대, 도 8에서 Δn이 35(×10-3) 부근을 보면, 단체 투과율이 약 44.2%보다 커지면 식 (1)을 만족하지 않게 되어, 결과로서 비교예 4와 같이 크랙이 발생한다. 따라서, 이형 가공부에서의 크랙의 발생을 효과적으로 억제하기 위해서는, PVA계 수지의 배향도에 더하여 단체 투과율(결과로서, 이색성 물질의 흡착량)의 조정도 중요하다는 점을 알 수 있다. 또한, 식 (1), 식 (2) 및/또는 식 (3)을 만족하는 편광자는, 이들 조정이 적합하게 행하여진 것이며, 이형 가공부에서의 크랙의 발생이 적합하게 억제될 수 있는 것을 알 수 있다.8 to 10, respectively, the relationship between the single transmittance of the polarizer obtained in Examples and Comparative Examples and Δn of PVA, in-plane retardation or orientation function is shown. As shown in FIGS. 8 to 10, even if the birefringence, in-plane retardation, or orientation function is about the same (as a result, the degree of orientation is about the same), when the single transmittance is high, it can be seen that cracks tend to occur in the release processing part. there is. For example, when Δn is around 35 (×10 -3 ) in FIG. 8 , when the single transmittance is greater than about 44.2%, equation (1) is not satisfied, and cracks occur as in Comparative Example 4 as a result. Therefore, it can be seen that, in addition to the degree of orientation of the PVA-based resin, it is also important to adjust the single transmittance (resulting in the adsorption amount of the dichroic substance) in order to effectively suppress the occurrence of cracks in the mold release processing part. In addition, it can be seen that the polarizer satisfying Expression (1), Expression (2) and/or Expression (3) is one in which these adjustments have been suitably performed, and generation of cracks in the release processing part can be suitably suppressed. can

본 발명의 편광판은 화상 표시 장치에 이용되고, 특히 자동차의 미터 패널, 스마트폰, 태블릿형 PC, 스마트 워치 등의 이형을 갖는 화상 표시 장치에 적합하게 이용된다.The polarizing plate of the present invention is used in an image display device, and is particularly suitably used in an image display device having a different shape such as a meter panel of an automobile, a smartphone, a tablet type PC, and a smart watch.

Claims (17)

편광자와, 상기 편광자의 적어도 한쪽 측에 배치된 보호층을 포함하는 편광판으로서,
상기 편광판은 직사각형 이외의 이형(異形)을 갖고,
상기 보호층은 10㎛ 이하의 두께를 갖는 수지막으로 구성되어 있으며,
상기 편광자는, 이색성(二色性) 물질을 포함하는 폴리비닐알코올계 수지 필름으로 구성되고, 또한, 단체 투과율을 x%로 하고, 상기 폴리비닐알코올계 수지의 복굴절을 y로 한 경우에, 하기 식 (1)을 만족하는, 편광판:
y<-0.011x+0.525 (1).
A polarizing plate comprising a polarizer and a protective layer disposed on at least one side of the polarizer,
The polarizing plate has a shape other than a rectangle,
The protective layer is composed of a resin film having a thickness of 10 μm or less,
When the polarizer is composed of a polyvinyl alcohol-based resin film containing a dichroic substance, and the single transmittance is x%, and the birefringence of the polyvinyl alcohol-based resin is y, A polarizing plate that satisfies the following formula (1):
y<-0.011x+0.525 (1).
편광자와, 상기 편광자의 적어도 한쪽 측에 배치된 보호층을 포함하는 편광판으로서,
상기 편광판은 직사각형 이외의 이형을 갖고,
상기 보호층은 10㎛ 이하의 두께를 갖는 수지막으로 구성되어 있으며,
상기 편광자는, 이색성 물질을 포함하는 폴리비닐알코올계 수지 필름으로 구성되고, 또한, 단체 투과율을 x%로 하고, 상기 폴리비닐알코올계 수지 필름의 면내 위상차를 znm로 한 경우에, 하기 식 (2)를 만족하는, 편광판:
z<-60x+2875 (2).
A polarizing plate comprising a polarizer and a protective layer disposed on at least one side of the polarizer,
The polarizing plate has a release shape other than rectangular,
The protective layer is composed of a resin film having a thickness of 10 μm or less,
The polarizer is composed of a polyvinyl alcohol-based resin film containing a dichroic substance, and when the single transmittance is x% and the in-plane retardation of the polyvinyl alcohol-based resin film is z nm, the following formula ( 2), a polarizer that satisfies:
z<-60x+2875 (2).
편광자와, 상기 편광자의 적어도 한쪽 측에 배치된 보호층을 포함하는 편광판으로서,
상기 편광판은 직사각형 이외의 이형을 갖고,
상기 보호층은 10㎛ 이하의 두께를 갖는 수지막으로 구성되어 있으며,
상기 편광자는, 이색성 물질을 포함하는 폴리비닐알코올계 수지 필름으로 구성되고, 또한, 단체 투과율을 x%로 하고, 상기 폴리비닐알코올계 수지의 배향 함수를 f로 한 경우에, 하기 식 (3)을 만족하는, 편광판:
f<-0.018x+1.11 (3).
A polarizing plate comprising a polarizer and a protective layer disposed on at least one side of the polarizer,
The polarizing plate has a release shape other than rectangular,
The protective layer is composed of a resin film having a thickness of 10 μm or less,
The polarizer is composed of a polyvinyl alcohol-based resin film containing a dichroic substance, and when the single transmittance is x% and the orientation function of the polyvinyl alcohol-based resin is f, the following formula (3 ), a polarizer that satisfies:
f<-0.018x+1.11 (3).
편광자와, 상기 편광자의 적어도 한쪽 측에 배치된 보호층을 포함하는 편광판으로서,
상기 편광판은 직사각형 이외의 이형을 갖고,
상기 보호층은 10㎛ 이하의 두께를 갖는 수지막으로 구성되어 있으며,
상기 편광자는, 이색성 물질을 포함하는 폴리비닐알코올계 수지 필름으로 구성되고, 또한, 찌르기 강도가 30gf/㎛ 이상인, 편광판.
A polarizing plate comprising a polarizer and a protective layer disposed on at least one side of the polarizer,
The polarizing plate has a release shape other than rectangular,
The protective layer is composed of a resin film having a thickness of 10 μm or less,
The polarizer is composed of a polyvinyl alcohol-based resin film containing a dichroic substance, and has a puncture strength of 30 gf/μm or more.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 편광자의 두께가 10㎛ 이하인, 편광판.
According to any one of claims 1 to 4,
A polarizing plate having a thickness of the polarizer of 10 μm or less.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 편광자의 단체 투과율이 40.0% 이상이고, 또한, 편광도가 99.0% 이상인, 편광판.
According to any one of claims 1 to 5,
A polarizing plate having a single transmittance of the polarizer of 40.0% or more and a polarization degree of 99.0% or more.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 이형이 관통공, V자 노치, U자 노치, 평면시한 경우에 선형에 근사한 형상의 오목부, 평면시한 경우에 직사각형의 오목부, 평면시한 경우에 욕조(bathtub) 형상에 근사한 R 형상의 오목부, 및 이들의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는, 편광판.
According to any one of claims 1 to 6,
The deformation is a through hole, a V-shaped notch, a U-shaped notch, a concave portion having a shape approximate to a linear shape when viewed in plan view, a rectangular concave portion when viewed in plan view, and an R approximated to a bathtub shape when viewed in plan view. A polarizing plate selected from the group consisting of concave portions of a shape, and combinations thereof.
제7항에 있어서,
상기 U자 노치의 곡률 반경이 5mm 이하인, 편광판.
According to claim 7,
A polarizing plate in which the radius of curvature of the U-shaped notch is 5 mm or less.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수지막이 에폭시 수지 및 (메트)아크릴계 수지로부터 선택되는 적어도 1종의 수지를 포함하는, 편광판.
According to any one of claims 1 to 8,
The polarizing plate in which the said resin film contains at least 1 type of resin chosen from an epoxy resin and (meth)acrylic-type resin.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수지막이 에폭시 수지의 광 양이온 경화물로 구성되어 있고, 상기 수지막의 연화 온도가 100℃ 이상인, 편광판.
According to any one of claims 1 to 9,
The polarizing plate, wherein the resin film is composed of a photocationic cured material of an epoxy resin, and the resin film has a softening temperature of 100° C. or higher.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수지막이 에폭시 수지의 유기 용매 용액의 도포막의 고화물로 구성되어 있고, 상기 수지막의 연화 온도가 100℃ 이상인, 편광판.
According to any one of claims 1 to 9,
The polarizing plate, wherein the resin film is composed of a solidified material of a coating film of an organic solvent solution of an epoxy resin, and the softening temperature of the resin film is 100°C or higher.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수지막이 열가소성 (메트)아크릴계 수지의 유기 용매 용액의 도포막의 고화물로 구성되어 있고, 상기 수지막의 연화 온도가 100℃ 이상인, 편광판.
According to any one of claims 1 to 9,
The polarizing plate, wherein the resin film is composed of a solidified material of a coating film of an organic solvent solution of a thermoplastic (meth)acrylic resin, and the softening temperature of the resin film is 100°C or higher.
제12항에 있어서,
상기 열가소성 (메트)아크릴계 수지가, 락톤환 단위, 무수 글루타르산 단위, 글루타르이미드 단위, 무수 말레산 단위 및 말레이미드 단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 갖는, 편광판.
According to claim 12,
The polarizing plate which has at least one selected from the group which the said thermoplastic (meth)acrylic-type resin consists of a lactone ring unit, a glutaric acid anhydride unit, a glutarimide unit, a maleic anhydride unit, and a maleimide unit.
제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 기재된 편광판과, 위상차층을 포함하고,
상기 위상차층이, 상기 편광자의 상기 보호층이 배치된 측과 반대 측에 배치되어있는, 위상차층 부착 편광판.
Comprising the polarizing plate according to any one of claims 1 to 13 and a retardation layer;
The polarizing plate with a retardation layer, wherein the retardation layer is disposed on a side of the polarizer opposite to the side on which the protective layer is disposed.
제14항에 있어서,
상기 위상차층의 Re(550)가 100nm∼190nm이고, Re(450)/Re(550)가 0.8 이상 1 미만이며,
상기 위상차층의 지상축(遲相軸)과 상기 편광자의 흡수축(吸收軸)이 이루는 각도가 40°∼50°인, 위상차층 부착 편광판.
According to claim 14,
Re (550) of the retardation layer is 100 nm to 190 nm, Re (450) / Re (550) is 0.8 or more and less than 1,
A polarizing plate with a retardation layer, wherein an angle between a slow axis of the retardation layer and an absorption axis of the polarizer is 40° to 50°.
제14항 또는 제15항에 있어서,
상기 위상차층이 점착제층을 개재하여 상기 편광판에 적층되어 있는, 위상차층 부착 편광판.
The method of claim 14 or 15,
The polarizing plate with the retardation layer in which the retardation layer is laminated on the polarizing plate with an adhesive layer interposed therebetween.
제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 기재된 편광판 또는 제14항 내지 제16항 중 어느 한 항에 기재된 위상차층 부착 편광판을 구비하는, 화상 표시 장치.An image display device provided with the polarizing plate according to any one of claims 1 to 13 or the polarizing plate with a retardation layer according to any one of claims 14 to 16.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001343521A (en) 2000-05-31 2001-12-14 Sumitomo Chem Co Ltd Polarizing plate and method for manufacturing the same

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5036191B2 (en) * 2005-03-16 2012-09-26 日本合成化学工業株式会社 Polyvinyl alcohol film and method for producing the same
JP6202062B2 (en) * 2014-09-30 2017-09-27 住友化学株式会社 Method for measuring strength of polarizing film and polarizing plate
KR102645969B1 (en) * 2014-12-12 2024-03-08 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Method for producing polarizing film, and polarizing film
JP2017003954A (en) * 2015-06-12 2017-01-05 住友化学株式会社 Polarizing film and polarizing plate including the same
JP6833687B2 (en) * 2015-07-16 2021-02-24 東海精密工業株式会社 Manufacturing method of polarized molded article
JP2017187731A (en) * 2016-03-30 2017-10-12 住友化学株式会社 Manufacturing methods for stretched film and polarizing film
JP6684630B2 (en) * 2016-03-31 2020-04-22 住友化学株式会社 Polarizing plate and method of manufacturing polarizing plate
JP2017062517A (en) * 2017-01-12 2017-03-30 日東電工株式会社 Polarizing film with retardation layer, and image display device
JP6784839B2 (en) * 2017-06-22 2020-11-11 日東電工株式会社 Laminated body and manufacturing method of laminated body
JP2019219528A (en) * 2018-06-20 2019-12-26 日東電工株式会社 Polarizing film, polarizing film with adhesive layer, and image display device
JP2020101574A (en) * 2018-12-11 2020-07-02 住友化学株式会社 Polarizing plate

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001343521A (en) 2000-05-31 2001-12-14 Sumitomo Chem Co Ltd Polarizing plate and method for manufacturing the same

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