KR20240092589A - Optical laminate and image display device - Google Patents

Optical laminate and image display device Download PDF

Info

Publication number
KR20240092589A
KR20240092589A KR1020230175777A KR20230175777A KR20240092589A KR 20240092589 A KR20240092589 A KR 20240092589A KR 1020230175777 A KR1020230175777 A KR 1020230175777A KR 20230175777 A KR20230175777 A KR 20230175777A KR 20240092589 A KR20240092589 A KR 20240092589A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
polarizer
resin
optical laminate
resin layer
Prior art date
Application number
KR1020230175777A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
요 미요시
요시노리 미나미카와
Original Assignee
닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 닛토덴코 가부시키가이샤 filed Critical 닛토덴코 가부시키가이샤
Publication of KR20240092589A publication Critical patent/KR20240092589A/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3083Birefringent or phase retarding elements
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/023Optical properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • B32B7/12Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3025Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G02B5/3041Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80Constructional details
    • H10K59/875Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K59/879Arrangements for extracting light from the devices comprising refractive means, e.g. lenses
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80Constructional details
    • H10K59/8793Arrangements for polarized light emission
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2309/00Parameters for the laminating or treatment process; Apparatus details
    • B32B2309/08Dimensions, e.g. volume
    • B32B2309/10Dimensions, e.g. volume linear, e.g. length, distance, width
    • B32B2309/105Thickness

Abstract

본 발명은, 특정의 수지층이 편광자에 인접하여 배치되어 있고, 또한, 고온 환경하에서 편광자의 크랙이 억제되어 있는 광학 적층체를 제공하는 것이다.
본 발명의 실시형태에 따른 광학 적층체는, 편광자와 편광자의 한쪽 측에 배치된 보호층을 포함하는 편광판과, 편광자에 인접하여 배치된 수지층과, 수지층 측의 최외층으로서 배치된 제1 점착제층을 포함한다. 편광자의 흡수축 방향의 수축률은 2.5% 이하이고, 제1 점착제층의 두께는 17㎛ 이하이며, 또한, 23℃에서의 저장 탄성률은 0.10MPa 이상이다.
The present invention provides an optical laminate in which a specific resin layer is disposed adjacent to a polarizer and cracking of the polarizer is suppressed in a high temperature environment.
An optical laminate according to an embodiment of the present invention includes a polarizing plate including a polarizer and a protective layer disposed on one side of the polarizer, a resin layer disposed adjacent to the polarizer, and a first layer disposed as the outermost layer on the resin layer side. Includes an adhesive layer. The shrinkage rate of the polarizer in the absorption axis direction is 2.5% or less, the thickness of the first adhesive layer is 17 μm or less, and the storage modulus at 23°C is 0.10 MPa or more.

Description

광학 적층체 및 화상 표시 장치{OPTICAL LAMINATE AND IMAGE DISPLAY DEVICE}Optical laminate and image display device {OPTICAL LAMINATE AND IMAGE DISPLAY DEVICE}

본 발명은, 광학 적층체 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an optical laminated body and an image display device.

화상 표시 장치(예컨대, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치, 양자 도트 표시 장치)에는, 그의 화상 형성 방식에 기인하여, 많은 경우, 표시 패널의 적어도 한쪽 측에 편광판이 배치되어 있다. 또한, 박형화 및 고기능화를 목적으로 하여, 편광판에서 편광자의 한쪽 측에만 보호층을 마련하고, 보호층이 마련되어 있지 않은 측에 특정의 수지층을 마련하는 경우가 있다. 이와 같은 보호층/편광자/수지층의 구성을 갖는 편광판에서는, 고온 환경하에서 편광자에 크랙이 발생하는 경우가 많다. 또한, 편광판은 위상차층(위상차 필름)과 일체화되어 이용되는 경우가 많은바, 상기와 같은 편광판에 위상차층을 마련하면, 고온 환경하에서 편광자의 크랙이 더욱 현저한 것이 되는 경우가 많다.In image display devices (e.g., liquid crystal display devices, organic EL display devices, quantum dot display devices), in many cases, a polarizing plate is disposed on at least one side of the display panel due to the image forming method thereof. Additionally, for the purpose of thinning and improving functionality, there are cases where a protective layer is provided on only one side of the polarizer in a polarizing plate, and a specific resin layer is provided on the side where the protective layer is not provided. In a polarizing plate having such a protective layer/polarizer/resin layer structure, cracks often occur in the polarizer in a high-temperature environment. In addition, the polarizing plate is often used integrated with a retardation layer (retardation film), and when a retardation layer is provided on the above-described polarizing plate, cracks in the polarizer often become more noticeable in a high temperature environment.

일본 공개특허공보 제2013-072951호Japanese Patent Publication No. 2013-072951

본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하기 위하여 이루어진 것이며, 그의 주된 목적은, 특정의 수지층이 편광자에 인접하여 배치되어 있고, 또한, 고온 환경하에서 편광자의 크랙이 억제되어 있는 광학 적층체를 제공하는 것에 있다.The present invention was made to solve the above-described conventional problems, and its main purpose is to provide an optical laminate in which a specific resin layer is disposed adjacent to a polarizer and cracking of the polarizer is suppressed in a high temperature environment. It's in the thing.

[1] 본 발명의 실시형태에 따른 광학 적층체는, 편광자와 해당 편광자의 한쪽 측에 배치된 보호층을 포함하는 편광판과, 해당 편광자에 인접하여 배치된 수지층과, 수지층 측의 최외층으로서 배치된 제1 점착제층을 포함한다. 해당 편광자의 흡수축 방향의 수축률은 2.5% 이하이고, 해당 제1 점착제층의 두께는 17㎛ 이하이며, 또한, 23℃에서의 저장 탄성률은 0.10MPa 이상이다.[1] An optical laminate according to an embodiment of the present invention includes a polarizer and a protective layer disposed on one side of the polarizer, a resin layer disposed adjacent to the polarizer, and an outermost layer on the resin layer side. It includes a first adhesive layer disposed as. The shrinkage rate of the polarizer in the absorption axis direction is 2.5% or less, the thickness of the first adhesive layer is 17 μm or less, and the storage modulus at 23°C is 0.10 MPa or more.

[2] 상기 [1]에서, 상기 광학 적층체는, 상기 수지층의 편광자와 반대 측에, 제2 점착제층을 개재하여 적층된 위상차층을 더욱 포함한다. 해당 위상차층은 원편광 기능 또는 타원편광 기능을 갖는다. 해당 제2 점착제층의 두께는 7㎛ 이하이고, 또한, 23℃에서의 저장 탄성률은 0.12MPa 이상이다.[2] In [1] above, the optical laminate further includes a retardation layer laminated on a side opposite to the polarizer of the resin layer through a second adhesive layer. The phase contrast layer has a circular polarization function or an elliptical polarization function. The thickness of the second adhesive layer is 7 μm or less, and the storage modulus at 23°C is 0.12 MPa or more.

[3] 상기 [1] 또는 [2]에서, 상기 광학 적층체는, 상기 편광자 및 상기 보호층의 합계 두께를 A(㎛)로 하고, 상기 수지층, 상기 제2 점착제층, 상기 위상차층 및 상기 제1 점착제층의 합계 두께를 B(㎛)로 하였을 때, A<B의 관계를 만족한다.[3] In [1] or [2], the optical laminate has a total thickness of the polarizer and the protective layer set to A (μm), the resin layer, the second adhesive layer, the retardation layer, and When the total thickness of the first adhesive layer is B (μm), the relationship A<B is satisfied.

[4] 상기 [2] 또는 [3]에서, 상기 위상차층은 수지 필름의 연신 필름으로 구성되어 있고, 그의 Re(550)는 100nm~200nm이며, Re(450)<Re(550)의 관계를 만족하고, 해당 위상차층의 지상축과 상기 편광자의 흡수축이 이루는 각도는 40°~50°이다.[4] In [2] or [3] above, the retardation layer is composed of a stretched resin film, its Re (550) is 100 nm to 200 nm, and the relationship of Re (450) < Re (550) is satisfied, and the angle formed between the slow axis of the retardation layer and the absorption axis of the polarizer is 40° to 50°.

[5] 상기 [2] 내지 [4] 중 어느 하나에서, 상기 광학 적층체는, 상기 위상차층의 수지층과 반대 측에, 굴절률 특성이 nz>nx=ny의 관계를 나타내는 다른 위상차층을 더욱 포함한다.[5] In any one of the above [2] to [4], the optical laminate further comprises another retardation layer on the side opposite to the resin layer of the retardation layer, the refractive index characteristic showing the relationship nz>nx=ny. Includes.

[6] 상기 [1] 내지 [5] 중 어느 하나에서, 상기 수지층은, 유리전이온도가 85℃ 이상이고 중량평균 분자량(Mw)이 25000 이상인 수지를 포함한다.[6] In any one of [1] to [5] above, the resin layer includes a resin having a glass transition temperature of 85°C or higher and a weight average molecular weight (Mw) of 25,000 or higher.

[7] 상기 [1] 내지 [6] 중 어느 하나에서, 상기 수지층의 압입 탄성률은 8GPa 이상이다.[7] In any one of [1] to [6] above, the indentation elastic modulus of the resin layer is 8 GPa or more.

[8] 상기 [1] 내지 [7] 중 어느 하나에서, 상기 수지층의 두께는 1㎛ 이하이다.[8] In any one of [1] to [7] above, the thickness of the resin layer is 1 μm or less.

[9] 상기 [1] 내지 [8] 중 어느 하나에서, 상기 편광자의 두께는 8㎛ 이하이고, 압입 탄성률은 9.5GPa 이하이며, 또한, 압입 경도는 0.65GPa 이상이다.[9] In any one of [1] to [8] above, the thickness of the polarizer is 8 μm or less, the indentation elastic modulus is 9.5 GPa or less, and the indentation hardness is 0.65 GPa or more.

[10] 상기 [1] 내지 [9] 중 어느 하나에서, 상기 편광자의 배향 함수는 0.30 이상이다.[10] In any one of [1] to [9] above, the orientation function of the polarizer is 0.30 or more.

[11] 상기 [1] 내지 [10] 중 어느 하나에서, 상기 편광자의 흡수축 방향의 수축률은 2.0% 이하이다.[11] In any one of [1] to [10] above, the shrinkage rate of the polarizer in the absorption axis direction is 2.0% or less.

[12] 본 발명의 다른 국면에 따르면, 화상 표시 장치가 제공된다. 이 화상 표시 장치는, 화상 표시 패널과, 해당 화상 표시 패널에 상기 제1 점착제층을 개재하여 첩합된 상기 [1] 내지 [11] 중 어느 하나의 광학 적층체를 구비한다.[12] According to another aspect of the present invention, an image display device is provided. This image display device includes an image display panel and the optical laminate of any one of [1] to [11] above, which is bonded to the image display panel through the first adhesive layer.

본 발명의 실시형태에 따르면, 특정의 수지층이 편광자에 인접하여 배치되어 있고, 또한, 고온 환경하에서 편광자의 크랙이 억제되어 있는 광학 적층체를 실현할 수 있다.According to the embodiment of the present invention, an optical laminate in which a specific resin layer is disposed adjacent to the polarizer and cracking of the polarizer is suppressed in a high temperature environment can be realized.

도 1은 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 광학 적층체의 개략 단면도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시형태에 따른 광학 적층체의 개략 단면도이다.
1 is a schematic cross-sectional view of an optical laminate according to one embodiment of the present invention.
Figure 2 is a schematic cross-sectional view of an optical laminate according to another embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 대표적인 실시형태에 대하여 설명하지만, 본 발명은 이들 실시형태로는 한정되지 않는다.Hereinafter, representative embodiments of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these embodiments.

(용어 및 기호의 정의)(Definition of terms and symbols)

본 명세서에서의 용어 및 기호의 정의는 하기와 같다.The definitions of terms and symbols in this specification are as follows.

(1) 굴절률(nx, ny, nz)(1) Refractive index (nx, ny, nz)

'nx'는 면내의 굴절률이 최대가 되는 방향(즉, 지상축 방향)의 굴절률이고, 'ny'는 면내에서 지상축과 직교하는 방향(즉, 진상축 방향)의 굴절률이며, 'nz'는 두께 방향의 굴절률이다.'nx' is the refractive index in the direction where the in-plane refractive index is maximum (i.e., slow axis direction), 'ny' is the refractive index in the direction orthogonal to the slow axis in the plane (i.e., fast axis direction), and 'nz' is It is the refractive index in the thickness direction.

(2) 면내 위상차(Re)(2) In-plane phase difference (Re)

'Re(λ)'는, 23℃에서의 파장 λ㎚의 광으로 측정한 필름의 면내 위상차이다. 예컨대, 'Re(550)'는, 23℃에서의 파장 550㎚의 광으로 측정한 필름의 면내 위상차이다. Re(λ)는, 필름의 두께를 d(㎚)로 하였을 때, 식: Re=(nx-ny)×d에 의해 구할 수 있다.'Re(λ)' is the in-plane retardation of the film measured with light with a wavelength of λ nm at 23°C. For example, 'Re(550)' is the in-plane retardation of the film measured with light with a wavelength of 550 nm at 23°C. Re(λ) can be obtained by the formula: Re=(nx-ny)×d, when the thickness of the film is d (nm).

(3) 두께 방향의 위상차(Rth)(3) Phase difference in the thickness direction (Rth)

'Rth(λ)'는, 23℃에서의 파장 λ㎚의 광으로 측정한 필름의 두께 방향의 위상차이다. 예컨대, 'Rth(550)'는, 23℃에서의 파장 550㎚의 광으로 측정한 필름의 두께 방향의 위상차이다. Rth(λ)는, 필름의 두께를 d(㎚)로 하였을 때, 식: Rth=(nx-nz)×d에 의해 구할 수 있다.'Rth(λ)' is the phase difference in the thickness direction of the film measured with light with a wavelength of λ nm at 23°C. For example, 'Rth(550)' is the phase difference in the thickness direction of the film measured with light with a wavelength of 550 nm at 23°C. Rth (λ) can be obtained by the formula: Rth = (nx-nz) × d, when the thickness of the film is d (nm).

(4) Nz 계수(4) Nz coefficient

Nz 계수는, Nz=Rth/Re에 의해 구할 수 있다.The Nz coefficient can be obtained by Nz=Rth/Re.

(5) 각도(5) angle

본 명세서에서 각도를 언급할 때는 특별히 명기하지 않는 한, 당해 각도는 시계 방향 및 반시계 방향의 양쪽 방향의 각도를 포함한다.When referring to an angle in this specification, unless otherwise specified, the angle includes angles in both clockwise and counterclockwise directions.

A. 광학 적층체A. Optical laminate

도 1은 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 광학 적층체의 개략 단면도이다. 도시예의 광학 적층체(100)는, 편광판(10)과 수지층(20)과 제1 점착제층(50)을 도면의 상측으로부터 이 순서대로 포함한다. 도면의 상측은, 광학 적층체를 화상 표시 장치에 적용한 경우의 시인 측에 대응할 수 있고; 도면의 하측은, 화상 표시 패널 측에 대응할 수 있다. 편광판(10)은, 편광자(11)와 편광자(11)의 한쪽 측(시인 측)에 배치된 보호층(12)을 포함한다. 즉, 본 발명의 실시형태에서는, 편광판은 이른바 편보호 편광판이다. 필요에 따라서, 보호층(12)은 편광자(11)와 반대 측에 하드 코트층(도시하지 않음)을 포함하고 있어도 된다. 수지층(20)은 편광자(11)에 인접하여 배치되어 있다. 또한, 본 명세서에서 '편광자에 인접하여 배치되어 있다'란, 수지층이 편광자에 직접 형성되어 있는 것, 또는, 수지층이 접착층(대표적으로는, 접착제층, 점착제층)을 개재하여 편광자에 적층되어 있는 것을 의미한다. 바꾸어 말하면, 편광자와 수지층의 사이에 광학 기능층이 개재하지 않는 것을 의미한다. 제1 점착제층(50)은, 수지층(20) 측의 최외층으로서 배치되어 있다. 제1 점착제층(50)에 의해, 광학 적층체는 화상 표시 패널에 첩부 가능하게 되어 있다.1 is a schematic cross-sectional view of an optical laminate according to one embodiment of the present invention. The optical laminate 100 of the illustrated example includes a polarizing plate 10, a resin layer 20, and a first adhesive layer 50 in this order from the top of the figure. The upper side of the drawing may correspond to the viewing side when the optical laminate is applied to an image display device; The lower side of the drawing may correspond to the image display panel side. The polarizing plate 10 includes a polarizer 11 and a protective layer 12 disposed on one side (viewer's side) of the polarizer 11. That is, in the embodiment of the present invention, the polarizing plate is a so-called polarizing polarizing plate. If necessary, the protective layer 12 may include a hard coat layer (not shown) on the side opposite to the polarizer 11. The resin layer 20 is disposed adjacent to the polarizer 11. In addition, in this specification, 'disposed adjacent to the polarizer' means that the resin layer is formed directly on the polarizer, or that the resin layer is laminated on the polarizer through an adhesive layer (typically an adhesive layer or adhesive layer). It means that it has been done. In other words, it means that the optical function layer is not interposed between the polarizer and the resin layer. The first adhesive layer 50 is arranged as the outermost layer on the resin layer 20 side. The first adhesive layer 50 enables the optical laminate to be attached to an image display panel.

수지층(20)은, 대표적으로는, 수지의 유기 용매 용액의 도포막의 고화물 또는 경화물이다. 수지층(20)에 포함되는 수지는, 대표적으로는 유리전이온도가 85℃ 이상이고, 또한, 중량평균 분자량(Mw)은 25000 이상이다. 수지층(20)은, 배리어 기능을 가질 수 있다. 수지층(20)은, 고온 고습 환경하에서의 수분의 이동을 억제할 수 있고, 편광자의 단부 탈색을 억제할 수 있다. 또한, 수지층(20)은, 편광자에 포함될 수 있는 요오드의 이동을 억제할 수 있고, 편광자가 다른 부재에 줄 수 있는 영향을 저감할 수 있다. 예컨대, 광학 적층체를 화상 표시 장치(예컨대, 유기 EL 표시 장치)에 탑재한 경우에, 화상 표시 장치의 금속 부재의 부식을 억제할 수 있다. 이와 같은 수지층을 본 발명의 실시형태에 따른 편광자에 인접하여 마련함으로써, 고온 고습 환경하에서의 단부 탈색을 더욱 양호하게 억제할 수 있다. 또한, 이와 같은 수지층을 편광자에 인접하여 마련함으로써, 보호층을 생략할 수 있다. 수지층은 보호층에 비하여 현격히 얇기 때문에, 편광자를 양호하게 보호하는 기능을 유지하면서, 광학 적층체의 박형화에 공헌할 수 있다. 수지층의 상세에 대해서는, 후술하는 C항에서 설명한다. 이와 같은 특정의 수지층이 편광자에 인접하여 배치되어 있는 광학 적층체에서, 본 발명의 실시형태에 따른 효과가 현저한 것이 된다.The resin layer 20 is typically a solidified or cured product of a coating film of an organic solvent solution of a resin. The resin contained in the resin layer 20 typically has a glass transition temperature of 85°C or higher and a weight average molecular weight (Mw) of 25,000 or higher. The resin layer 20 may have a barrier function. The resin layer 20 can suppress the movement of moisture in a high-temperature, high-humidity environment and can suppress discoloration of the ends of the polarizer. Additionally, the resin layer 20 can suppress the movement of iodine that may be included in the polarizer and can reduce the influence that the polarizer may have on other members. For example, when the optical laminate is mounted on an image display device (eg, an organic EL display device), corrosion of metal members of the image display device can be suppressed. By providing such a resin layer adjacent to the polarizer according to the embodiment of the present invention, discoloration of the ends in a high-temperature, high-humidity environment can be further suppressed. Additionally, by providing such a resin layer adjacent to the polarizer, the protective layer can be omitted. Since the resin layer is significantly thinner than the protective layer, it can contribute to thinning of the optical laminated body while maintaining the function of favorably protecting the polarizer. Details of the resin layer will be explained in Section C, which will be described later. In an optical laminate in which such a specific resin layer is disposed adjacent to the polarizer, the effect according to the embodiment of the present invention becomes significant.

본 발명의 실시형태에서는, 편광자(11)의 흡수축 방향의 수축률은 2.5% 이하이고, 제1 점착제층(50)의 두께는 17㎛ 이하이며, 또한, 23℃에서의 저장 탄성률은 0.10MPa 이상이다. 이와 같은 구성이면, 상기와 같은 특정의 수지층이 편광자에 인접하여 배치되어 있는 광학 적층체에서, 고온 환경하에서의 편광자의 크랙을 현저하게 억제할 수 있다. 상세에 대해서는 이하와 같다. 상기와 같은 수지층은, 그의 특성에 관련하여 매우 단단하고(후술하는 바와 같이, 압입 탄성률이 예컨대 8GPa 이상이고), 그 결과, 매우 균열되기 쉬워져 있다. 편광자도 또한, 광학 특성을 높이고, 또한, 단부 탈색을 억제하도록 구성한 결과, 매우 단단하고(후술하는 바와 같이, 압입 경도가 예컨대 0.65GPa 이상이고), 균열되기 쉬워져 있다. 본 발명자들은, 이와 같은 광학 적층체에서는, 외력 등에 기인하여 수지층이 균열되고, 당해 수지층의 균열에 추종하여 편광자에 크랙이 발생하며, 고온 환경하에서 크랙이 발전하는 것을 발견하였다. 본 발명자들은 해결책에 대하여 면밀히 검토한 결과, 먼저, 수지층의 균열의 원인이 되는 변형을 억제하는 것이 유용하고, 수지층에 인접하는 제1 점착제층의 두께와 저장 탄성률을 조합하여 최적화함으로써 수지층의 변형을 양호하게 억제할 수 있는 것을 발견하였다. 구체적으로는, 제1 점착제층의 두께를 17㎛ 이하로 함으로써, 외력 등에 기인하는 수지층의 변형을 억제할 수 있다. 또한, 제1 점착제층의 저장 탄성률을 0.10MPa 이상으로 함으로써(어느 정도 단단하게 함으로써), 수지층의 변형을 억제할 수 있는 것을 알 수 있었다. 외력 등의 충격에 대한 대책으로서는, 점착제층을 부드럽게 함으로써 외력 등을 흡수하여 충격을 완화한다는 것이 기술 상식인 바, 본 발명의 실시형태에 따르면, 상기와 같은 특정의 구성의 광학 적층체에서, 점착제층의 두께와 저장 탄성률을 조합하여 최적화하고, 또한, 저장 탄성률을 어느 정도 단단하게 함으로써, 수지층의 변형을 억제하여, 결과로서, 편광자의 크랙을 억제할 수 있다. 이와 같이, 본 발명의 실시형태에 따른 효과는, 기술 상식과는 역방향의 수단에 의해 달성되는 것이며, 예기치 못한 우수한 효과이다. 더하여, 본 발명의 실시형태에 따르면, 편광자의 흡수축 방향의 수축률을 2.5% 이하로 함으로써, 만일 수지층이 변형 또는 균열되었다고 하여도, 그와 같은 변형 또는 균열에 추종하기 어렵게 할 수 있어, 결과로서, 크랙을 억제할 수 있다. 또한, 상기와 같은 메커니즘은 어디까지나 추정이며, 본 발명을 한정적으로 해석하는 것은 아니고, 본 발명을 당해 메커니즘에 의해 구속하는 것도 아니다.In the embodiment of the present invention, the shrinkage rate in the absorption axis direction of the polarizer 11 is 2.5% or less, the thickness of the first adhesive layer 50 is 17 μm or less, and the storage modulus at 23° C. is 0.10 MPa or more. am. With such a structure, cracking of the polarizer in a high-temperature environment can be significantly suppressed in an optical laminate in which the specific resin layer described above is disposed adjacent to the polarizer. Details are as follows. The resin layer as described above is very hard in relation to its characteristics (as described later, the indentation elastic modulus is, for example, 8 GPa or more), and as a result, it is very prone to cracking. As a result of the polarizer also being configured to improve optical properties and suppress discoloration at the ends, it is very hard (as will be described later, the indentation hardness is, for example, 0.65 GPa or more) and is prone to cracking. The present inventors discovered that, in such an optical laminate, the resin layer cracks due to external force or the like, cracks occur in the polarizer following the cracks in the resin layer, and the cracks develop in a high-temperature environment. As a result of a thorough examination of the solution, the present inventors found that it is useful to first suppress the deformation that causes cracking of the resin layer, and optimize the resin layer by combining the thickness and storage modulus of the first adhesive layer adjacent to the resin layer. It was found that deformation could be suppressed well. Specifically, by setting the thickness of the first adhesive layer to 17 μm or less, deformation of the resin layer due to external force or the like can be suppressed. In addition, it was found that by setting the storage modulus of the first adhesive layer to 0.10 MPa or more (by making it hard to some extent), deformation of the resin layer could be suppressed. As a countermeasure against impacts such as external forces, it is common knowledge that the impact is alleviated by absorbing external forces by softening the adhesive layer. According to an embodiment of the present invention, in an optical laminate having the above specific configuration, the adhesive By optimizing the combination of the thickness of the layer and the storage elastic modulus and making the storage elastic modulus hard to some extent, deformation of the resin layer can be suppressed, and as a result, cracking of the polarizer can be suppressed. In this way, the effect according to the embodiment of the present invention is achieved by means contrary to common technical knowledge, and is an unexpected and excellent effect. In addition, according to an embodiment of the present invention, by setting the shrinkage rate in the absorption axis direction of the polarizer to 2.5% or less, even if the resin layer is deformed or cracked, it can be difficult to follow such deformation or cracking, resulting in As a result, cracks can be suppressed. In addition, the above-mentioned mechanism is only a guess, and does not limit the present invention, nor does it limit the present invention to the mechanism.

하나의 실시형태에서는, 도 2에 나타내는 광학 적층체(10)와 같이, 수지층(10)의 편광자(11)와 반대 측에, 제2 점착제층(60)을 개재하여 적층된 위상차층(30)이 더욱 마련되어 있어도 된다. 위상차층(30)은, 대표적으로는 원편광 기능 또는 타원편광 기능을 갖는다. 이와 같은 구성이면, 우수한 반사 방지 특성을 갖는 광학 적층체를 얻을 수 있다. 이 경우, 광학 적층체(101)는, 도시예와 같이, 위상차층(30)의 수지층(20)과 반대 측(예컨대, 위상차층(30)과 제1 점착제층(50)의 사이)에, 굴절률 특성이 nz>nx=ny의 관계를 나타내는 다른 위상차층(40)을 더욱 포함하고 있어도 된다. 이와 같은 다른 위상차층을 마련함으로써, 경사 방향의 반사를 양호하게 방지할 수 있어, 반사 방지 기능의 광시야각화가 가능하게 된다. 이 경우, 해당 제2 점착제층의 두께는 7㎛ 이하이고, 또한, 23℃에서의 저장 탄성률은 0.12MPa 이상이다. 위상차층을 마련함으로써, 외력 등에 기인하는 수지층의 균열이 촉진될 수 있는 것을 알았다. 이에 대하여, 상기와 마찬가지로, 수지층에 인접하는 제2 점착제층의 두께와 저장 탄성률을 조합하여 최적화함으로써, 수지층의 변형(결과로서, 균열)을 양호하게 억제할 수 있다. 여기에서, 제2 점착제층의 두께는 7㎛ 이하이고, 상기의 제1 점착제층의 두께보다 얇으며, 또한, 저장 탄성률은 0.12MPa 이상이고, 상기의 제1 점착제층의 저장 탄성률보다 크다. 이로써, 위상차층에 기인하여 수지층의 변형(결과로서, 균열)이 촉진될 수 있는 경우여도, 그와 같은 변형 및 균열을 양호하게 억제할 수 있다. 더하여, 제1 점착제층의 두께 및 저장 탄성률을 상기와 같이 함으로써, 제2 점착제층의 두께와 저장 탄성률을 조합하여 최적화하는 것의 효과와의 상승적인 효과가 얻어질 수 있다.In one embodiment, like the optical laminate 10 shown in FIG. 2, the retardation layer 30 is laminated on the side opposite to the polarizer 11 of the resin layer 10 via the second adhesive layer 60. ) may be further provided. The phase contrast layer 30 typically has a circular polarization function or an elliptical polarization function. With this configuration, an optical laminate having excellent anti-reflection properties can be obtained. In this case, the optical laminate 101 is located on the side opposite to the resin layer 20 of the retardation layer 30 (for example, between the retardation layer 30 and the first adhesive layer 50), as shown in the example. , it may further include another retardation layer 40 whose refractive index characteristic shows the relationship nz>nx=ny. By providing such a different phase contrast layer, reflection in the oblique direction can be prevented satisfactorily, and wide viewing angle of the anti-reflection function becomes possible. In this case, the thickness of the second adhesive layer is 7 μm or less, and the storage modulus at 23°C is 0.12 MPa or more. It was found that by providing a phase contrast layer, cracking of the resin layer due to external force or the like can be promoted. In contrast, similar to the above, by optimizing the combination of the thickness of the second adhesive layer adjacent to the resin layer and the storage elastic modulus, deformation (as a result, cracking) of the resin layer can be well suppressed. Here, the thickness of the second adhesive layer is 7 μm or less and is thinner than the thickness of the first adhesive layer, and the storage modulus is 0.12 MPa or more and is larger than the storage modulus of the first adhesive layer. Accordingly, even in cases where deformation (as a result, cracking) of the resin layer may be accelerated due to the phase difference layer, such deformation and cracking can be well suppressed. In addition, by setting the thickness and storage modulus of the first adhesive layer as described above, a synergistic effect with the effect of optimizing the thickness and storage modulus of the second adhesive layer in combination can be obtained.

하나의 실시형태에서는, 광학 적층체는, 상기 편광자 및 상기 보호층의 합계 두께를 A(㎛)로 하고, 상기 수지층, 상기 제2 점착제층, 상기 위상차층 및 상기 제1 점착제층의 합계 두께를 B(㎛)로 하였을 때, A<B의 관계를 만족한다. 광학 적층체에서 수지층의 시인 측과 반대 측의 두께가 큰 경우에 수지층의 균열이 촉진되는 것을 알았다. 본 발명의 실시형태에 따르면, 이와 같은 경우여도, 수지층의 변형(결과로서, 균열)을 억제하여, 편광자의 크랙을 억제할 수 있다. 두께 A와 두께 B의 차의 절댓값은, 바람직하게는 10㎛~50㎛이고, 보다 바람직하게는 20㎛~40㎛이다. 또한, 두께 A와 두께 B와의 비(B/A)는, 바람직하게는 1.1~3.0이고, 보다 바람직하게는 1.2~2.5이다. 또한, 다른 위상차층이 마련되는 경우에는, 합계 두께 B는 다른 위상차층의 두께를 포함한다.In one embodiment, the optical laminate has a total thickness of the polarizer and the protective layer set to A (μm), and a total thickness of the resin layer, the second adhesive layer, the retardation layer, and the first adhesive layer. When set to B (㎛), the relationship A<B is satisfied. It was found that cracking of the resin layer is promoted in an optical laminate when the thickness of the resin layer on the visible side and the opposite side is large. According to the embodiment of the present invention, even in such a case, deformation (as a result, cracking) of the resin layer can be suppressed, and cracking of the polarizer can be suppressed. The absolute value of the difference between thickness A and thickness B is preferably 10 μm to 50 μm, and more preferably 20 μm to 40 μm. Moreover, the ratio (B/A) of thickness A to thickness B is preferably 1.1 to 3.0, and more preferably 1.2 to 2.5. In addition, when another retardation layer is provided, the total thickness B includes the thickness of the other retardation layer.

실용적으로는, 제1 점착제층(50)의 표면에는, 광학 적층체가 사용에 제공될 때까지, 박리 라이너(도시하지 않음)가 가착되어 있는 것이 바람직하다. 박리 라이너를 가착함으로써, 제1 점착제층을 보호함과 함께, 광학 적층체의 롤 형성이 가능하게 된다.In practical terms, it is preferable that a release liner (not shown) is temporarily attached to the surface of the first adhesive layer 50 until the optical laminate is ready for use. By temporarily attaching the release liner, the first adhesive layer is protected and roll formation of the optical laminated body becomes possible.

이하, 광학 적층체의 구성 요소에 대하여 설명한다. 또한, 제1 점착제층 및 제2 점착제층에 대해서는, 합하여 점착제층으로서 설명한다. 제1 점착제층과 제2 점착제층을 구별할 필요가 있는 경우에는, '제1' 또는 '제2'를 명기한다.Hereinafter, the components of the optical laminate will be described. In addition, the first adhesive layer and the second adhesive layer are collectively described as an adhesive layer. If it is necessary to distinguish between the first adhesive layer and the second adhesive layer, 'first' or 'second' is specified.

B. 편광판B. Polarizer

B-1. 편광자B-1. polarizer

편광자는, 대표적으로는 이색성 물질(예컨대, 요오드)을 포함하는 폴리비닐알코올(PVA)계 수지 필름으로 구성되어 있다. PVA계 수지로서는, 예컨대, 폴리비닐알코올, 부분 포르말화 폴리비닐알코올, 에틸렌-비닐알코올 공중합체, 에틸렌-초산비닐 공중합체계 부분 비누화물을 들 수 있다.The polarizer is typically comprised of a polyvinyl alcohol (PVA)-based resin film containing a dichroic substance (for example, iodine). Examples of PVA-based resins include polyvinyl alcohol, partially formalized polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymer, and partially saponified products of ethylene-vinyl acetate copolymer.

PVA계 수지는, 바람직하게는 아세토아세틸 변성된 PVA계 수지를 포함한다. 이와 같은 구성이면, 소망하는 기계적 강도를 갖는 편광자가 얻어질 수 있다. 아세토아세틸 변성된 PVA계 수지의 배합량은, PVA계 수지 전체를 100중량%로 하였을 때에, 바람직하게는 5중량%~20중량%이고, 보다 바람직하게는 8중량%~12중량%이다. 배합량이 이와 같은 범위이면, 보다 우수한 기계적 강도를 갖는 편광자가 얻어질 수 있다.The PVA-based resin preferably includes acetoacetyl-modified PVA-based resin. With such a structure, a polarizer with desired mechanical strength can be obtained. The blending amount of the acetoacetyl-modified PVA-based resin is preferably 5% by weight to 20% by weight, more preferably 8% by weight to 12% by weight, based on 100% by weight of the total PVA-based resin. If the mixing amount is within this range, a polarizer with better mechanical strength can be obtained.

편광자는, 바람직하게는, 요오드화물 또는 염화 나트륨(합하여, 할로겐화물이라고 칭하는 경우가 있음)을 포함한다. 요오드화물로서는, 예컨대, 요오드화 칼륨, 요오드화 나트륨, 요오드화 리튬을 들 수 있다. 편광자에서의 할로겐화물의 함유량은, PVA계 수지 100중량부에 대하여, 바람직하게는 5중량부~20중량부이고, 보다 바람직하게는 10중량부~15중량부이다. 할로겐화물은, 후술하는 제조 방법에서, 편광자의 전구체인 PVA계 수지층을 형성하는 도포액에 배합되고, 최종적으로 편광자에 도입될 수 있다. 편광자에 할로겐화물을 도입함으로써, 편광자에서의 PVA 분자의 배향성을 높일 수 있기 때문에, 우수한 광학 특성(대표적으로는, 높은 편광도와 높은 단체 투과율의 양립)을 갖는 편광자를 실현할 수 있다.The polarizer preferably contains iodide or sodium chloride (together, they may be called halides). Examples of iodide include potassium iodide, sodium iodide, and lithium iodide. The content of the halide in the polarizer is preferably 5 parts by weight to 20 parts by weight, and more preferably 10 parts by weight to 15 parts by weight, based on 100 parts by weight of the PVA-based resin. In the manufacturing method described later, the halide is mixed into the coating liquid that forms the PVA-based resin layer, which is a precursor of the polarizer, and can be finally introduced into the polarizer. By introducing a halide into the polarizer, the orientation of the PVA molecules in the polarizer can be improved, making it possible to realize a polarizer with excellent optical properties (typically, both high polarization degree and high single transmittance).

편광자의 두께는, 바람직하게는 1㎛~8㎛이고, 보다 바람직하게는 2㎛~7㎛이며, 더욱 바람직하게는 3㎛~6㎛이다. 이와 같이 매우 얇고 또한 배향성이 높은 편광자에서 흡수축 방향의 수축률을 제어함으로써, 본 발명의 실시형태에 따른 효과가 현저한 것이 된다. 또한, 편광자의 두께가 이와 같은 범위이면, 가열 시의 컬을 양호하게 억제할 수 있고, 양호한 가열 시의 외관 내구성이 얻어진다.The thickness of the polarizer is preferably 1 μm to 8 μm, more preferably 2 μm to 7 μm, and even more preferably 3 μm to 6 μm. By controlling the shrinkage rate in the absorption axis direction in such a very thin and highly oriented polarizer, the effect according to the embodiment of the present invention becomes significant. Moreover, if the thickness of the polarizer is within this range, curling during heating can be suppressed well, and good external appearance durability during heating is obtained.

편광자의 흡수축 방향의 수축률은, 상기와 같이 2.5% 이하이고, 바람직하게는 2.2% 이하이며, 보다 바람직하게는 2.0% 이하이고, 더욱 바람직하게는 1.8% 이하이다. 수축률은 작으면 작을수록 바람직하고, 예컨대 0.5% 이상일 수 있으며, 또한 예컨대 0.8% 이상일 수 있다. 수축률은, 예컨대 열기계 분석(TMA)에 의해 측정될 수 있다. 보다 상세하게는, 수축률은, 하기의 조건으로 TMA에 의해 측정하였을 때의 95℃에서의 수축률을 의미한다.As mentioned above, the shrinkage rate of the polarizer in the absorption axis direction is 2.5% or less, preferably 2.2% or less, more preferably 2.0% or less, and even more preferably 1.8% or less. The smaller the shrinkage rate, the more desirable it is, for example, it can be 0.5% or more, and for example, it can be 0.8% or more. Shrinkage can be measured, for example, by thermomechanical analysis (TMA). More specifically, the shrinkage rate means the shrinkage rate at 95°C when measured by TMA under the following conditions.

 온도 범위: -50℃~120℃ Temperature range: -50℃~120℃

 승온 속도: 2℃/분 Temperature increase rate: 2℃/min

 변조: ±5℃를 300초/사이클 Modulation: ±5°C at 300 seconds/cycle

 인장 하중: 0.0196N Tensile load: 0.0196N

편광자의 압입 탄성률은, 바람직하게는 7.5GPa~9.4GPa이고, 보다 바람직하게는 8.0GPa~9.3GPa이며, 더욱 바람직하게는 8.2GPa~9.2GPa이고, 특히 바람직하게는 8.5GPa~9.2GPa이다. 편광자의 압입 경도는, 바람직하게는 0.65GPa~0.80GPa이고, 보다 바람직하게는 0.66GPa~0.76GPa이며, 더욱 바람직하게는 0.67GPa~0.74GPa이고, 특히 바람직하게는 0.68GPa~0.72GPa이다. 본 발명의 실시형태에 이용되는 편광자는, 압입 탄성률이 비교적 낮음에도 불구하고, 압입 경도가 매우 크다는 특징을 갖는다. 그 결과, 본 발명의 실시형태에 따른 편광자는, 매우 박형이면서, 단부 탈색(특히, 고온 고습 환경하에서의 단부 탈색)을 현저히 억제할 수 있다. 이와 같은 편광자는 크랙이 발생하기 쉬운 경향이 있는 바, 본 발명의 실시형태에 따르면, 크랙의 발생을 억제할 수 있다. 또한, 압입 경도 및 압입 탄성률은, 대표적으로는, 압입 시험기(대표적으로는, 나노 인덴터)를 이용한 나노 인덴테이션법에 의해 측정될 수 있다. 보다 구체적으로는, 압입 경도는, 측정 대상이 되는 편광자의 표면에 탐침(압자)을 꽉 눌러 얻어지는 변위-하중 히스테리시스 곡선으로부터 얻어지는 최대 하중(Pmax), 및, 압자와 편광자의 사이의 접촉 투영 면적(A)으로부터, 이하의 식에 의해 산출된다.The indentation elastic modulus of the polarizer is preferably 7.5 GPa to 9.4 GPa, more preferably 8.0 GPa to 9.3 GPa, further preferably 8.2 GPa to 9.2 GPa, and particularly preferably 8.5 GPa to 9.2 GPa. The indentation hardness of the polarizer is preferably 0.65 GPa to 0.80 GPa, more preferably 0.66 GPa to 0.76 GPa, further preferably 0.67 GPa to 0.74 GPa, and particularly preferably 0.68 GPa to 0.72 GPa. The polarizer used in the embodiment of the present invention has the characteristic of having very high indentation hardness, although the indentation elastic modulus is relatively low. As a result, the polarizer according to the embodiment of the present invention is extremely thin and can significantly suppress discoloration of the ends (particularly, discoloration of the ends in a high-temperature, high-humidity environment). Such a polarizer tends to be prone to cracks, and according to an embodiment of the present invention, the occurrence of cracks can be suppressed. Additionally, the indentation hardness and indentation elastic modulus can be typically measured by a nano-indentation method using an indentation tester (typically a nano indenter). More specifically, the indentation hardness is the maximum load (Pmax) obtained from the displacement-load hysteresis curve obtained by firmly pressing the probe (indenter) on the surface of the polarizer to be measured, and the projected contact area between the indenter and the polarizer ( From A), it is calculated by the following formula.

   압입 경도(GPa)=Pmax/A   Indentation hardness (GPa)=Pmax/A

또한, 압입 탄성률은, 상기 접촉 투영 면적(A), 변위-하중 히스테리시스 곡선의 제하 곡선의 접선의 기울기(접촉 강성)(S), 및 원주율(π)로부터, 이하의 식에 의해 산출된다.In addition, the indentation elastic modulus is calculated from the contact projection area (A), the slope of the tangent of the unloading curve of the displacement-load hysteresis curve (contact stiffness) (S), and the pi (π) using the following equation.

   압입 탄성률(GPa)=(√π/2)×(S/√A)   Indentation elastic modulus (GPa)=(√π/2)×(S/√A)

편광자의 배향 함수는, 바람직하게는 0.30 이상이고, 보다 바람직하게는 0.35 이상이며, 더욱 바람직하게는 0.37 이상이고, 특히 바람직하게는 0.40 이상이다. 편광자의 배향 함수가 이와 같은 범위이면, 압입 탄성률 및 압입 경도를 상기 소망하는 범위로 하는 것이 용이하다. 편광자의 배향 함수의 상한은 예컨대 0.70일 수 있다. 배향 함수(y)는, 예컨대, 푸리에 변환 적외선 분광 광도계(FT-IR)를 이용하고, 편광을 측정광으로 하여, 전반사 감쇠 분광(ATR: attenuated total reflection) 측정에 의해 구할 수 있다. 구체적으로는, 측정광의 편광 방향에 대하여, 편광자의 연신 방향을 평행 및 수직으로 한 상태에서 측정을 실시하고, 얻어진 흡광도 스펙트럼의 2941cm-1의 강도를 이용하여, 하기 식에 따라 산출된다. 여기에서, 강도(I)는, 3330cm-1을 참조 피크로 하고, 2941cm-1/3330cm-1의 값이다. 또한, y=1일 때 완전 배향, y=0일 때 랜덤이 된다. 또한, 2941cm-1의 피크는, 편광자 중의 PVA의 주쇄(-CH2-)의 진동에서 기인하는 흡수라고 생각되고 있다.The orientation function of the polarizer is preferably 0.30 or more, more preferably 0.35 or more, further preferably 0.37 or more, and especially preferably 0.40 or more. If the orientation function of the polarizer is in such a range, it is easy to set the indentation elastic modulus and indentation hardness within the above desired ranges. The upper limit of the orientation function of the polarizer may be, for example, 0.70. The orientation function (y) can be obtained, for example, by measuring attenuated total reflection (ATR) using a Fourier transform infrared spectrophotometer (FT-IR) and using polarized light as the measurement light. Specifically, the measurement is performed with the stretching direction of the polarizer being parallel and perpendicular to the polarization direction of the measurement light, and the intensity of the obtained absorbance spectrum of 2941 cm -1 is used to calculate it according to the following formula. Here, the intensity (I) is a value of 2941 cm -1 /3330 cm -1 with 3330 cm -1 as the reference peak. Additionally, when y=1, it is perfectly oriented, and when y=0, it is random. In addition, the peak at 2941 cm -1 is thought to be absorption resulting from the vibration of the main chain (-CH 2 -) of PVA in the polarizer.

y=(3<cos2θ>-1)/2 y=(3<cos 2 θ>-1)/2

=(1-D)/[c(2D+1)] =(1-D)/[c(2D+1)]

=-2×(1-D)/(2D+1) =-2×(1-D)/(2D+1)

단,step,

c=(3cos2β-1)/2이고, 2941cm-1의 진동인 경우는, β=90°이다.c=(3cos 2 β-1)/2, and in the case of vibration of 2941 cm -1 , β=90°.

θ: 연신 방향에 대한 분자쇄의 각도θ: angle of the molecular chain with respect to the stretching direction

β: 분자쇄축에 대한 전이 쌍극자 모멘트의 각도β: Angle of transition dipole moment with respect to the molecular chain axis

D=(I)/(I//) (이 경우, PVA 분자가 배향할수록 D가 커진다)D=(I )/(I // ) (In this case, the more oriented the PVA molecules are, the larger D becomes)

I: 측정광의 편광 방향과 편광자의 연신 방향이 수직인 경우의 흡수 강도I : Absorption intensity when the polarization direction of the measurement light and the stretching direction of the polarizer are perpendicular

I//: 측정광의 편광 방향과 편광자의 연신 방향이 평행인 경우의 흡수 강도I // : Absorption intensity when the polarization direction of the measurement light and the stretching direction of the polarizer are parallel

편광자는, 바람직하게는, 파장 380nm~780nm의 어느 파장에서 흡수 이색성을 나타낸다. 편광자의 단체 투과율은, 예컨대 41.0%~45.0%이고, 바람직하게는 41.5%~43.5%이며, 보다 바람직하게는 42.0%~43.0%이다. 편광자의 편광도는, 바람직하게는 97.0% 이상이고, 보다 바람직하게는 99.0% 이상이며, 더욱 바람직하게는 99.9% 이상이다. 본 발명의 실시형태에 따르면, 단체 투과율이 상기와 같은 범위이더라도, 편광도를 이와 같은 범위로 유지할 수 있다.The polarizer preferably exhibits absorption dichroism at any wavelength between 380 nm and 780 nm. The single transmittance of the polarizer is, for example, 41.0% to 45.0%, preferably 41.5% to 43.5%, and more preferably 42.0% to 43.0%. The polarization degree of the polarizer is preferably 97.0% or more, more preferably 99.0% or more, and even more preferably 99.9% or more. According to an embodiment of the present invention, even if the single transmittance is in the above range, the degree of polarization can be maintained in the above range.

편광자는, 대표적으로는, 수지 기재와 PVA계 수지층과의 적층체를 이용하여 얻어질 수 있다. 적층체를 이용하여 얻어지는 편광자의 구체예로서는, 수지 기재와 당해 수지 기재에 적층된 PVA계 수지층(PVA계 수지 필름)과의 적층체, 혹은, 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층과의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광자를 들 수 있다. 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층과의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광자는, 예컨대, PVA계 수지 용액을 수지 기재에 도포하고, 건조시켜 수지 기재 위에 PVA계 수지층을 형성하여, 수지 기재와 PVA계 수지층과의 적층체를 얻는 것; 당해 적층체를 연신 및 염색하여 PVA계 수지층을 편광자로 하는 것에 의해 제작될 수 있다. 본 실시형태에서는, 바람직하게는 수지 기재의 편측에, 할로겐화물과 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 폴리비닐알코올계 수지층을 형성한다. 연신은, 대표적으로는 적층체를 붕산 수용액 중에 침지시켜 연신하는 것을 포함한다. 또한, 연신은, 필요에 따라서, 붕산 수용액 중에서의 연신의 전에 적층체를 고온(예컨대, 95℃ 이상)에서 공중 연신하는 것을 더욱 포함할 수 있다. 추가로, 본 실시형태에서는, 바람직하게는, 적층체는, 긴 방향으로 반송하면서 가열함으로써 폭 방향으로 2% 이상 수축시키는 건조 수축 처리에 제공된다. 대표적으로는, 본 실시형태의 제조 방법은, 적층체에, 공중 보조 연신 처리와 염색 처리와 수중 연신 처리와 건조 수축 처리를 이 순서대로 실시하는 것을 포함한다. 보조 연신을 도입함으로써, 열가소성 수지 위에 PVA를 도포하는 경우에도, PVA의 결정성을 높이는 것이 가능해져, 높은 광학 특성을 달성하는 것이 가능하게 된다. 또한, 동시에 PVA의 배향성을 사전에 높임으로써, 후의 염색 공정이나 연신 공정에서 물에 침지되었을 때에, PVA의 배향성의 저하나 용해 등의 문제를 방지할 수 있어, 높은 광학 특성을 달성하는 것이 가능하게 된다. 또한, PVA계 수지층을 액체에 침지한 경우에서, PVA계 수지층이 할로겐화물을 포함하지 않는 경우에 비해, 폴리비닐알코올 분자의 배향의 흐트러짐, 및 배향성의 저하가 억제될 수 있다. 이로써, 염색 처리 및 수중 연신 처리 등, 적층체를 액체에 침지하여 행하는 처리 공정을 거쳐 얻어지는 편광자의 광학 특성은 향상될 수 있다. 또한, 건조 수축 처리에 의해 적층체를 폭 방향으로 수축시킴으로써, 광학 특성을 향상시킬 수 있다. 얻어진 수지 기재/편광자의 적층체는 그대로 이용하여도 되고(즉, 수지 기재를 편광자의 보호층으로 하여도 되고), 수지 기재/편광자의 적층체로부터 수지 기재를 박리한 박리면에, 혹은 박리면과는 반대 측의 면에 목적에 따른 임의의 적절한 보호층을 적층하여 이용하여도 된다. 이와 같은 편광자의 제조 방법의 상세는, 예컨대 일본 공개특허공보 2012-73580호, 일본 특허공보 제6470455호에 기재되어 있다. 이들 공보는, 그 전체의 기재가 본 명세서에 참고로서 원용된다.A polarizer can typically be obtained using a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer. Specific examples of a polarizer obtained using a laminate include a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer (PVA-based resin film) laminated on the resin substrate, or a resin substrate and a PVA-based resin layer applied to the resin substrate. A polarizer obtained using a laminated body of the following can be mentioned. A polarizer obtained using a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer formed by applying to the resin substrate is, for example, applied by applying a PVA-based resin solution to a resin substrate, drying it, and forming a PVA-based resin layer on the resin substrate, Obtaining a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer; It can be produced by stretching and dyeing the laminate and using the PVA-based resin layer as a polarizer. In this embodiment, a polyvinyl alcohol-based resin layer containing a halide and a polyvinyl alcohol-based resin is preferably formed on one side of the resin substrate. Stretching typically involves immersing the laminate in an aqueous boric acid solution and stretching it. Additionally, stretching, if necessary, may further include air stretching the laminate at a high temperature (for example, 95°C or higher) before stretching in an aqueous boric acid solution. Additionally, in this embodiment, the laminate is preferably subjected to dry shrinkage treatment to shrink the laminate by 2% or more in the width direction by heating while conveying in the longitudinal direction. Typically, the manufacturing method of this embodiment includes performing aerial auxiliary stretching treatment, dyeing treatment, underwater stretching treatment, and dry shrink treatment on the laminate in this order. By introducing auxiliary stretching, even when applying PVA on a thermoplastic resin, it becomes possible to increase the crystallinity of PVA and achieve high optical properties. Moreover, by simultaneously increasing the orientation of PVA in advance, problems such as a decrease in orientation or dissolution of PVA when immersed in water in the subsequent dyeing or stretching process can be prevented, making it possible to achieve high optical properties. do. Additionally, when the PVA-based resin layer is immersed in a liquid, the disruption of the orientation of polyvinyl alcohol molecules and the decrease in orientation can be suppressed compared to the case where the PVA-based resin layer does not contain a halide. As a result, the optical properties of the polarizer obtained through a treatment process performed by immersing the laminate in a liquid, such as dyeing treatment and underwater stretching treatment, can be improved. Additionally, optical properties can be improved by shrinking the laminate in the width direction through dry shrinkage treatment. The obtained resin substrate/polarizer laminate may be used as is (i.e., the resin substrate may be used as a protective layer of the polarizer), or on the peeling surface where the resin substrate is peeled from the resin substrate/polarizer laminate, or on the peeling surface. It may be used by laminating any appropriate protective layer depending on the purpose on the side opposite to the above. Details of the manufacturing method of such a polarizer are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-73580 and Japanese Patent Application Publication No. 6470455. The entire description of these publications is incorporated herein by reference.

본 발명의 실시형태에서는, 공중 보조 연신 처리에서의 연신 온도는 140℃ 이상이고, 또한, 연신 배율은 2.5배 이상이다. 연신 온도는, 바람직하게는 145℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 150℃ 이상이며, 더욱 바람직하게는 155℃ 이상이다. 연신 온도의 상한은 예컨대 170℃일 수 있다. 연신 배율은, 바람직하게는 2.5배~3.2배이고, 보다 바람직하게는 2.6배~3.1배이며, 더욱 바람직하게는 2.7배~3.0배이다. 종래의 박형 편광자의 제조 방법에서는, 대표적으로는, 열가소성 수지 기재(대표적으로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET))의 유리전이온도(Tg)+15℃ 이상이고, 또한, PVA계 수지의 급속한 결정화를 억제할 수 있는 온도에서 공중 보조 연신 처리가 행하여지고 있다. 이와 같은 연신 온도는, 구체적으로는 130℃ 근방이다. 또한, 종래의 박형 편광자의 제조 방법에서의 공중 보조 연신 처리의 연신 배율은, 통상적으로 2.0배~2.4배로 설정되어 있다. 공중 보조 연신 처리와 수중 연신 처리의 연신 총 배율은 일정(예컨대, 5.5배~6.0배)한 것이 바람직한 점에서, 130℃ 근방에서 연신하는 경우, 2.5배를 초과하는 연신 배율에서는, 수중 연신 처리의 연신 배율을 내릴 필요가 있고, 요오드의 배향이 저하함으로써 광학 특성이 저하하는 경우가 있기 때문이다. 또한, 130℃를 초과하는 온도에서는, 상기와 같이 PVA계 수지의 급속한 결정화의 억제가 곤란하며, 또한, 연신성의 제어가 곤란하다. 본 발명자들은, 종래 실시되고 있지 않았던 고온, 또한 고연신 배율로 공중 보조 연신 처리를 행함으로써, 소망하는 광학 특성(높은 단체 투과율과 높은 편광도의 양립)을 유지하면서, 단단한 박형 편광자를 실현할 수 있는 것을 발견하였다.In the embodiment of the present invention, the stretching temperature in the air-assisted stretching process is 140°C or higher, and the stretching ratio is 2.5 times or higher. The stretching temperature is preferably 145°C or higher, more preferably 150°C or higher, and even more preferably 155°C or higher. The upper limit of the stretching temperature may be, for example, 170°C. The draw ratio is preferably 2.5 times to 3.2 times, more preferably 2.6 times to 3.1 times, and still more preferably 2.7 times to 3.0 times. In the conventional method of producing a thin polarizer, the glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin substrate (typically polyethylene terephthalate (PET)) is +15°C or higher, and rapid crystallization of the PVA-based resin is achieved. Aerial assisted stretching treatment is performed at a temperature that can be suppressed. This stretching temperature is specifically around 130°C. In addition, the draw ratio of the aerial auxiliary stretching process in the conventional method for producing a thin polarizer is usually set to 2.0 times to 2.4 times. Since it is desirable that the total stretching ratio of the air-assisted stretching treatment and the underwater stretching treatment is constant (e.g., 5.5 to 6.0 times), when stretching around 130°C, at a stretching ratio exceeding 2.5 times, the underwater stretching treatment This is because the draw ratio needs to be lowered, and the optical properties may deteriorate due to a decrease in the orientation of iodine. Additionally, at temperatures exceeding 130°C, it is difficult to suppress the rapid crystallization of the PVA-based resin as described above, and control of stretchability is also difficult. The present inventors have found that a rigid thin polarizer can be realized while maintaining the desired optical properties (both high single transmittance and high polarization degree) by performing an aerial auxiliary stretching process at a high temperature and high stretching ratio, which has not been performed before. Found it.

건조 수축 처리는, 대표적으로는, 존 전체를 가열하여 행하는 존 가열과 반송 롤을 가열함(이른바 가열 롤을 이용함)으로써 행하면 가열 롤 건조 방식을 조합하여 행하여진다. 본 발명의 실시형태에서는, 가열 존의 온도, 가열 롤의 온도, 존 가열을 개시하고 나서 가열 롤에 접촉할 때까지의 시간, 및 적층체의 반송 장력을 제어함으로써, 편광자의 수축률을 2.5% 이하로 할 수 있다. 가열 존의 온도는, 바람직하게는 80℃~110℃이다. 가열 롤의 온도는, 바람직하게는 60℃~90℃이다. 적층체의 반송 장력은, 바람직하게는 4N/cm~6N/cm이다. 존 가열을 개시하고 나서 가열 롤에 접촉할 때까지의 시간은, 바람직하게는 1초~10초이다.The drying shrink treatment is typically performed by combining zone heating, which is performed by heating the entire zone, and heating roll drying, which is performed by heating the conveyance roll (using a so-called heating roll). In an embodiment of the present invention, the shrinkage rate of the polarizer is reduced to 2.5% or less by controlling the temperature of the heating zone, the temperature of the heating roll, the time from starting zone heating until contact with the heating roll, and the conveyance tension of the laminate. You can do this. The temperature of the heating zone is preferably 80°C to 110°C. The temperature of the heating roll is preferably 60°C to 90°C. The conveyance tension of the laminate is preferably 4 N/cm to 6 N/cm. The time from starting zone heating to contacting the heating roll is preferably 1 second to 10 seconds.

B-2. 보호층B-2. protective layer

보호층(12)은, 편광자의 보호 필름으로서 이용될 수 있는 임의의 적절한 수지 필름으로 구성된다. 수지 필름을 구성하는 재료로서는, 대표적으로는, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 등의 셀룰로오스계 수지, 폴리노보넨 등의 시클로올레핀계 수지, (메트)아크릴계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 등의 폴리에스테르계 수지, 폴리에틸렌 등의 폴리올레핀계 수지, 폴리카보네이트계 수지를 들 수 있다. (메트)아크릴계 수지의 대표예로서는, 락톤환 구조를 갖는 (메트)아크릴계 수지를 들 수 있다. 락톤환 구조를 갖는 (메트)아크릴계 수지는, 예컨대, 일본 공개특허공보 2000-230016호, 일본 공개특허공보 2001-151814호, 일본 공개특허공보 2002-120326호, 일본 공개특허공보 2002-254544호, 일본 공개특허공보 2005-146084호에 기재되어 있다. 이들 공보는 본 명세서에 참고로서 원용되고 있다. 이형(異形) 가공의 용이성 등의 관점에서, 셀룰로오스계 수지가 바람직하고, TAC가 보다 바람직하다. 투습도가 낮고, 내구성이 우수한 편광판이 얻어진다는 관점에서는, 시클로올레핀계 수지 및 (메트)아크릴계 수지가 바람직하다.The protective layer 12 is made of any suitable resin film that can be used as a protective film for a polarizer. Representative materials constituting the resin film include cellulose resins such as triacetylcellulose (TAC), cycloolefin resins such as polynorbornene, (meth)acrylic resins, polyethylene terephthalate (PET), and polyethylene naphthalate. Examples include polyester-based resins such as (PEN), polyolefin-based resins such as polyethylene, and polycarbonate-based resins. Representative examples of (meth)acrylic resin include (meth)acrylic resin having a lactone ring structure. (meth)acrylic resins having a lactone ring structure, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-230016, Japanese Patent Application Publication No. 2001-151814, Japanese Patent Application Publication No. 2002-120326, Japanese Patent Application Publication No. 2002-254544, It is described in Japanese Patent Publication No. 2005-146084. These publications are incorporated herein by reference. From the viewpoint of ease of shape release processing, etc., cellulose resin is preferable, and TAC is more preferable. From the viewpoint of obtaining a polarizing plate with low moisture permeability and excellent durability, cycloolefin-based resin and (meth)acrylic-based resin are preferable.

광학 적층체는, 대표적으로는 화상 표시 장치의 시인 측에 배치되고, 보호층(12)은, 대표적으로는 그의 시인 측에 배치된다. 따라서, 보호층(12)에는, 필요에 따라서, 표면 처리가 실시되어 있어도 된다. 표면 처리로서는, 예컨대, 하드 코트 처리, 반사 방지 처리, 스티킹 방지 처리, 안티 글레어 처리를 들 수 있다. 본 발명의 실시형태에서는, 하드 코트 처리(하드 코트층의 형성)이 바람직하다. 하드 코트층에 대해서는 후술한다. 하드 코트 처리와 다른 표면 처리가 조합되어 실시되어 있어도 된다. 또한/혹은, 보호층(12)에는, 필요에 따라서, 편광 선글라스를 통하여 시인하는 경우의 시인성을 개선하는 처리(대표적으로는, (타)원편광 기능을 부여하는 것, 초고위상차를 부여하는 것)가 실시되어 있어도 된다. 이와 같은 처리를 실시함으로써, 편광 선글라스 등의 편광 렌즈를 통하여 표시 화면을 시인한 경우에도, 우수한 시인성을 실현할 수 있다. 따라서, 광학 적층체는, 옥외에서 이용될 수 있는 화상 표시 장치에도 적합하게 적용될 수 있다.The optical laminate is typically placed on the viewer side of the image display device, and the protective layer 12 is typically placed on the viewer side. Therefore, the protective layer 12 may be subjected to surface treatment as needed. Examples of surface treatment include hard coat treatment, anti-reflection treatment, anti-sticking treatment, and anti-glare treatment. In embodiments of the present invention, hard coat treatment (formation of a hard coat layer) is preferred. The hard coat layer will be described later. A combination of hard coat treatment and other surface treatments may be performed. Additionally, the protective layer 12 may be treated, as necessary, to improve visibility when viewed through polarized sunglasses (typically, imparting an (other) circular polarization function or imparting an ultra-high phase difference. ) may be implemented. By performing such processing, excellent visibility can be achieved even when the display screen is viewed through polarized lenses such as polarized sunglasses. Therefore, the optical laminate can also be suitably applied to an image display device that can be used outdoors.

보호층(12)의 두께는, 바람직하게는 10㎛~80㎛이고, 보다 바람직하게는 12㎛~40㎛이며, 더욱 바람직하게는 15㎛~35㎛이다. 또한, 표면 처리가 실시되어 있는 경우, 보호층의 두께는, 표면 처리층의 두께를 포함한 두께이다.The thickness of the protective layer 12 is preferably 10 μm to 80 μm, more preferably 12 μm to 40 μm, and still more preferably 15 μm to 35 μm. In addition, when surface treatment is performed, the thickness of the protective layer is a thickness including the thickness of the surface treatment layer.

하드 코트층은, 대표적으로는, 임의의 적절한 활성 에너지선(예컨대, 자외선, 가시광선, 전자선) 경화형 수지의 경화층이다. 활성 에너지선 경화형 수지로서는, 예컨대, 아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 폴리에스테르계 수지, 우레탄계 수지, 아미드계 수지, 에폭시계 수지 등을 들 수 있다. 하드 코트층은, 필요에 따라서 임의의 적절한 첨가제를 포함하고 있어도 된다. 당해 첨가제의 대표예로서는, 무기계 미립자 및/또는 유기계 미립자를 들 수 있다. 하드 코트층의 두께는, 예컨대, 1㎛~10㎛일 수 있고, 또한 예컨대 3㎛~7㎛일 수 있다. 하드 코트층은, 바람직하게는 H 이상, 보다 바람직하게는 2H 이상, 더욱 바람직하게는 3H 이상의 연필 경도를 갖는다. 한편, 하드 코트층의 연필 경도는, 바람직하게는 6H 이하이고, 보다 바람직하게는 5H 이하이다.The hard coat layer is typically a cured layer of any appropriate active energy ray (eg, ultraviolet ray, visible ray, electron beam) curable resin. Examples of the active energy ray-curable resin include acrylic resin, silicone resin, polyester resin, urethane resin, amide resin, and epoxy resin. The hard coat layer may contain any appropriate additives as needed. Representative examples of the additive include inorganic fine particles and/or organic fine particles. The thickness of the hard coat layer may be, for example, 1 μm to 10 μm, and may be, for example, 3 μm to 7 μm. The hard coat layer preferably has a pencil hardness of H or higher, more preferably 2H or higher, and even more preferably 3H or higher. On the other hand, the pencil hardness of the hard coat layer is preferably 6H or less, and more preferably 5H or less.

C. 수지층C. Resin layer

수지층(20)은, 상기와 같이 배리어 기능을 가질 수 있다. 이에 관련하여, 수지층은 대표적으로는 단단하다. 구체적으로는, 수지층의 압입 탄성률은, 바람직하게는 8GPa 이상이고, 보다 바람직하게는 10GPa~20GPa이며, 더욱 바람직하게는 11GPa~15GPa이다. 본 발명의 실시형태에 따르면, 수지층이 이와 같이 단단하고 균열되기 쉬움에도 불구하고, 수지층에 인접하는 편광자의 크랙을 억제할 수 있다.The resin layer 20 may have a barrier function as described above. In this regard, the resin layer is typically hard. Specifically, the indentation elastic modulus of the resin layer is preferably 8 GPa or more, more preferably 10 GPa to 20 GPa, and still more preferably 11 GPa to 15 GPa. According to the embodiment of the present invention, cracking of the polarizer adjacent to the resin layer can be suppressed even though the resin layer is hard and prone to cracking.

수지층은, 대표적으로는, 수지의 유기 용매 용액의 도포막의 고화물 또는 경화물이다. 이와 같은 구성에 의하면, 편광자와의 밀착성이 우수할 수 있다. 구체적으로는, 수지층은, 접착층을 개재하는 일 없이, 편광자에 직접 형성될 수 있다. 또한, 수지층의 두께를 매우 얇게 할 수 있다. 수지층의 두께는 예컨대 10㎛ 이하이고, 바람직하게는 5㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 1㎛ 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.7㎛ 이하이다. 수지층의 두께는, 바람직하게는 0.05㎛ 이상이고, 보다 바람직하게는 0.08㎛ 이상이며, 더욱 바람직하게는 0.1㎛ 이상이고, 특히 바람직하게는 0.2㎛ 이상이다.The resin layer is typically a solidified or cured product of a coating film of an organic solvent solution of a resin. According to this configuration, adhesion to the polarizer can be excellent. Specifically, the resin layer can be formed directly on the polarizer without an adhesive layer interposing it. Additionally, the thickness of the resin layer can be made very thin. The thickness of the resin layer is, for example, 10 μm or less, preferably 5 μm or less, more preferably 1 μm or less, and even more preferably 0.7 μm or less. The thickness of the resin layer is preferably 0.05 μm or more, more preferably 0.08 μm or more, further preferably 0.1 μm or more, and particularly preferably 0.2 μm or more.

하나의 실시형태에서는, 수지층을 구성하는 수지의 유리전이온도(Tg)는 85℃ 이상이고, 또한, 중량평균 분자량(Mw)은 25000 이상이다. 수지층을 구성하는 수지의 Tg는, 바람직하게는 90℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 100℃ 이상이며, 더욱 바람직하게는 110℃ 이상이고, 특히 바람직하게는 120℃ 이상이다. Tg는, 예컨대 200℃ 이하일 수 있다. 또한, 수지층을 구성하는 수지의 Mw는, 바람직하게는 30000 이상이고, 보다 바람직하게는 35000 이상이며, 더욱 바람직하게는 40000 이상이다. 수지층을 구성하는 수지의 Tg 및 Mw가 이와 같은 범위임으로써, 두께가 매우 얇음에도 불구하고, 우수한 배리어 기능을 실현할 수 있다.In one embodiment, the glass transition temperature (Tg) of the resin constituting the resin layer is 85°C or higher, and the weight average molecular weight (Mw) is 25,000 or higher. The Tg of the resin constituting the resin layer is preferably 90°C or higher, more preferably 100°C or higher, further preferably 110°C or higher, and particularly preferably 120°C or higher. Tg may be, for example, 200°C or lower. Moreover, the Mw of the resin constituting the resin layer is preferably 30,000 or more, more preferably 35,000 or more, and still more preferably 40,000 or more. When the Tg and Mw of the resin constituting the resin layer are within this range, an excellent barrier function can be realized despite the thickness being very thin.

수지층을 구성하는 수지로서는, 유기 용매 용액의 도포막의 고화물 또는 경화물(예컨대, 열경화물)을 형성할 수 있는, 임의의 적절한 수지를 이용할 수 있다. 수지층을 구성하는 수지로서, 바람직하게는, 상기와 같은 Tg 및 Mw를 갖는 열가소성 수지 또는 열경화성 수지가 이용되고, 보다 바람직하게는, 열가소성 수지가 이용된다. 수지는 1종만을 이용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 된다.As the resin constituting the resin layer, any suitable resin that can form a solidified product or a cured product (for example, a thermoset) of a coating film of an organic solvent solution can be used. As the resin constituting the resin layer, a thermoplastic resin or thermosetting resin having the above Tg and Mw is preferably used, and more preferably a thermoplastic resin is used. Only one type of resin may be used, or two or more types may be used in combination.

상기 열가소성 수지로서는, 예컨대, 아크릴계 수지, 에폭시계 수지를 들 수 있다. 아크릴계 수지와 에폭시계 수지를 조합하여 이용하여도 된다.Examples of the thermoplastic resin include acrylic resin and epoxy resin. You may use a combination of acrylic resin and epoxy resin.

아크릴계 수지는, 대표적으로는, 직쇄 또는 분기 구조를 갖는 (메트)아크릴산 에스테르계 단량체 유래의 반복 단위를 주성분으로서 함유한다. 아크릴계 수지는, 목적에 따른 임의의 적절한 공중합 단량체 유래의 반복 단위를 함유할 수 있다. 공중합 단량체(공중합 모노머)로서는, 예컨대, 카복실기 함유 모노머, 히드록실기 함유 모노머, 아미드기 함유 모노머, 방향환 함유 (메트)아크릴레이트, 복소환 함유 비닐계 모노머를 들 수 있다. 모노머 단위의 종류, 수, 조합 및 공중합비 등을 적절하게 설정함으로써, 상기 소정의 Mw를 갖는 아크릴계 수지가 얻어질 수 있다. 아크릴계 수지의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2021-117484호의 [0034]~[0056]에 기재된 붕소 함유 아크릴계 수지, 락톤환 등 함유 아크릴계 수지를 들 수 있다.Acrylic resin typically contains a repeating unit derived from a (meth)acrylic acid ester monomer having a linear or branched structure as a main component. The acrylic resin may contain repeating units derived from any appropriate copolymerization monomer depending on the purpose. Examples of copolymerization monomers include carboxyl group-containing monomers, hydroxyl group-containing monomers, amide group-containing monomers, aromatic ring-containing (meth)acrylates, and heterocycle-containing vinyl monomers. By appropriately setting the type, number, combination, copolymerization ratio, etc. of monomer units, an acrylic resin having the above-mentioned predetermined Mw can be obtained. Specific examples of the acrylic resin include boron-containing acrylic resins described in [0034] to [0056] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2021-117484, acrylic resins containing lactone rings, etc.

에폭시 수지로서는, 바람직하게는 방향족환을 포함하는 에폭시 수지가 이용된다. 방향족환을 포함하는 에폭시 수지를 에폭시 수지로서 이용함으로써, 수지층과 편광자의 밀착성이 향상될 수 있다. 또한, 수지층에 인접하여 점착제층을 배치한 경우에, 점착제층의 투묘력이 향상될 수 있다. 방향족환을 포함하는 에폭시 수지로서는, 예컨대, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지 등의 비스페놀형 에폭시 수지; 페놀노볼락에폭시 수지, 크레졸노볼락에폭시 수지, 히드록시벤즈알데히드페놀노볼락에폭시 수지 등의 노볼락형의 에폭시 수지; 테트라히드록시페닐메탄의 글리시딜에테르, 테트라히드록시벤조페논의 글리시딜에테르, 에폭시화 폴리비닐페놀 등의 다관능형의 에폭시 수지, 나프톨형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지가 이용된다. 에폭시 수지는 1종만을 이용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 된다.As the epoxy resin, an epoxy resin containing an aromatic ring is preferably used. By using an epoxy resin containing an aromatic ring as the epoxy resin, the adhesion between the resin layer and the polarizer can be improved. Additionally, when the adhesive layer is disposed adjacent to the resin layer, the anchoring power of the adhesive layer can be improved. Examples of the epoxy resin containing an aromatic ring include bisphenol-type epoxy resins such as bisphenol A-type epoxy resin, bisphenol F-type epoxy resin, and bisphenol S-type epoxy resin; Novolak-type epoxy resins such as phenol novolak epoxy resin, cresol novolak epoxy resin, and hydroxybenzaldehyde phenol novolac epoxy resin; Polyfunctional epoxy resins such as glycidyl ether of tetrahydroxyphenylmethane, glycidyl ether of tetrahydroxybenzophenone, and epoxidized polyvinyl phenol, naphthol type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, and biphenyl type epoxy resin. etc. can be mentioned. Preferably, bisphenol A-type epoxy resin, biphenyl-type epoxy resin, and bisphenol F-type epoxy resin are used. Only one type of epoxy resin may be used, or two or more types may be used in combination.

수지층은, 대표적으로는, 상기 수지의 유기 용매 용액을 도포하여 도포막을 형성하고, 얻어진 도포막을 고화 또는 열경화시킴으로써 형성될 수 있다. 유기 용매로서는, 상기 수지를 용해 또는 균일하게 분산할 수 있는 임의의 적절한 유기 용매를 이용할 수 있다. 유기 용매의 구체예로서는, 초산에틸, 톨루엔, 메틸에틸케톤(MEK), 메틸이소부틸케톤(MIBK), 시클로펜타논, 시클로헥사논을 들 수 있다. 용액의 수지 농도는, 용매 100중량부에 대하여, 바람직하게는 3중량부~20중량부이다. 이와 같은 수지 농도이면, 균일한 도포막을 형성할 수 있다.The resin layer can typically be formed by applying an organic solvent solution of the resin to form a coating film and solidifying or heat-curing the resulting coating film. As the organic solvent, any suitable organic solvent capable of dissolving or uniformly dispersing the resin can be used. Specific examples of organic solvents include ethyl acetate, toluene, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclopentanone, and cyclohexanone. The resin concentration of the solution is preferably 3 parts by weight to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the solvent. With such a resin concentration, a uniform coating film can be formed.

용액은, 별도 준비한 기재에 도포하여도 되지만, 편광판(편광자)에 도포하는 것이 바람직하다. 용액을 기재에 도포하는 경우에는, 기재 위에 형성된 도포막의 고화 또는 경화물(수지층)을, 편광판(편광자)에 전사한다. 전사는, 대표적으로는, 접착층을 개재하여 행하여지는 점에서, 용액을 편광판(편광자)에 도포함으로써, 수지층을 직접 형성하고, 접착층을 생략할 수 있다. 용액의 도포 방법으로서는, 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 구체예로서는, 롤 코트법, 스핀 코트법, 와이어 바 코트법, 딥 코트법, 다이 코트법, 커튼 코트법, 스프레이 코트법, 나이프 코트법(콤마 코트법 등)을 들 수 있다.The solution may be applied to a separately prepared substrate, but is preferably applied to a polarizing plate (polarizer). When applying a solution to a substrate, the solidified or cured product (resin layer) of the coating film formed on the substrate is transferred to a polarizing plate (polarizer). Since transfer is typically performed through an adhesive layer, the resin layer can be formed directly by applying the solution to a polarizing plate (polarizer) and the adhesive layer can be omitted. As a method of applying the solution, any suitable method can be adopted. Specific examples include roll coat method, spin coat method, wire bar coat method, dip coat method, die coat method, curtain coat method, spray coat method, and knife coat method (comma coat method, etc.).

상기 도포막의 고화 또는 열경화의 가열 온도는, 바람직하게는 100℃ 이하이고, 보다 바람직하게는 50℃~70℃이다. 가열 온도가 이와 같은 범위이면, 편광자에 대한 악영향을 방지할 수 있다. 가열 시간은, 예컨대, 1분~10분일 수 있다.The heating temperature for solidification or heat curing of the coating film is preferably 100°C or lower, and more preferably 50°C to 70°C. If the heating temperature is in this range, adverse effects on the polarizer can be prevented. The heating time may be, for example, 1 minute to 10 minutes.

수지층(실질적으로는, 상기 수지의 유기 용매 용액)은, 목적에 따라서 임의의 적절한 첨가제를 포함하고 있어도 된다. 첨가제의 구체예로서는, 자외선 흡수제; 레벨링제; 힌더드 페놀계, 인계, 유황계 등의 산화방지제; 내광 안정제, 내후 안정제, 열안정제 등의 안정제; 유리 섬유, 탄소섬유 등의 보강재; 근적외선 흡수제; 트리스(디브로모프로필)포스페이트, 트리알릴포스페이트, 산화 안티몬 등의 난연제; 음이온계, 양이온계, 비이온계의 계면활성제 등의 대전 방지제; 무기 안료, 유기 안료, 염료 등의 착색제; 유기 필러 또는 무기 필러; 수지 개질제; 유기 충전제나 무기 충전제; 가소제; 활제; 난연제 등을 들 수 있다. 첨가제의 종류, 수, 조합, 첨가량 등은, 목적에 따라 적절히 설정될 수 있다.The resin layer (substantially an organic solvent solution of the resin) may contain any appropriate additives depending on the purpose. Specific examples of additives include ultraviolet absorbers; leveling agent; Antioxidants such as hindered phenol-based, phosphorus-based, and sulfur-based antioxidants; Stabilizers such as light stabilizers, weather stabilizers, and heat stabilizers; Reinforcing materials such as glass fiber and carbon fiber; Near-infrared absorber; Flame retardants such as tris(dibromopropyl)phosphate, triallyl phosphate, and antimony oxide; Antistatic agents such as anionic, cationic, and nonionic surfactants; Colorants such as inorganic pigments, organic pigments, and dyes; Organic or inorganic filler; Resin modifier; Organic or inorganic fillers; plasticizer; lubricant; Flame retardants, etc. can be mentioned. The type, number, combination, addition amount, etc. of additives can be appropriately set depending on the purpose.

D. 위상차층D. Phase contrast layer

위상차층(40)은, 상기와 같이, 대표적으로는 원편광 기능 또는 타원편광 기능을 갖는다. 위상차층은, 단일층이어도 되고, 2층 이상의 적층 구조를 갖고 있어도 된다. 위상차층이 단일층으로 구성되는 경우, 당해 위상차층은 λ/4판일 수 있다. 위상차층이 적층 구조를 갖는 경우, 당해 위상차층은 λ/2판과 λ/4판의 적층체일 수 있다. 위상차층은, 임의의 적절한 재료로 구성될 수 있다. 구체적으로는, 위상차층은, 액정 화합물의 배향 고화층이어도 되고, 수지 필름(대표적으로는, 연신 필름)이어도 되며, 이들의 조합이어도 된다. 본 발명의 실시형태에서는, 위상차층은, 대표적으로는 수지 필름의 연신 필름으로 구성될 수 있다. 이 경우, 위상차층은, 대표적으로는 단일층(λ/4판)일 수 있다. 이하, 단일층인 수지 필름의 연신 필름에 대하여 간단하게 설명한다.As described above, the retardation layer 40 typically has a circular polarization function or an elliptical polarization function. The phase contrast layer may be a single layer or may have a laminated structure of two or more layers. When the retardation layer is composed of a single layer, the retardation layer may be a λ/4 plate. When the retardation layer has a laminated structure, the retardation layer may be a laminate of a λ/2 plate and a λ/4 plate. The retardation layer may be composed of any suitable material. Specifically, the retardation layer may be an alignment-fixed layer of a liquid crystal compound, a resin film (typically a stretched film), or a combination thereof. In an embodiment of the present invention, the retardation layer may typically be composed of a stretched resin film. In this case, the phase difference layer may typically be a single layer (λ/4 plate). Hereinafter, a stretched film of a single-layer resin film will be briefly described.

위상차층은, 상기와 같이, λ/4판으로서 기능할 수 있다. 이 경우, 위상차층의 면내 위상차 Re(550)는, 예컨대 100nm~190nm이고, 바람직하게는 110nm~170nm이며, 보다 바람직하게는 130nm~160nm이다. 이 경우, 위상차층은, 바람직하게는 굴절률 특성이 nx>ny≥nz의 관계를 나타낸다. 또한, 여기에서 'ny=nz'는 ny와 nz가 완전하게 동일한 경우뿐만 아니라, 실질적으로 동일한 경우를 포함한다. 따라서, 본 발명의 실시형태에 따른 효과를 해치지 않는 범위에서, ny<nz가 되는 경우가 있을 수 있다.The phase difference layer can function as a λ/4 plate as described above. In this case, the in-plane phase difference Re(550) of the retardation layer is, for example, 100 nm to 190 nm, preferably 110 nm to 170 nm, and more preferably 130 nm to 160 nm. In this case, the retardation layer preferably exhibits a relationship of nx>ny≥nz in refractive index characteristics. Additionally, here, 'ny=nz' includes not only the case where ny and nz are completely the same, but also the case where they are substantially the same. Therefore, there may be cases where ny < nz, within a range that does not impair the effect according to the embodiment of the present invention.

위상차층의 Nz 계수는, 바람직하게는 0.9~3이고, 보다 바람직하게는 0.9~2.5이며, 더욱 바람직하게는 0.9~1.5이고, 특히 바람직하게는 0.9~1.3이다. 이와 같은 관계를 충족시킴으로써, 얻어지는 광학 적층체를 화상 표시 장치에 이용한 경우에, 매우 우수한 반사 색상을 달성할 수 있다.The Nz coefficient of the retardation layer is preferably 0.9 to 3, more preferably 0.9 to 2.5, further preferably 0.9 to 1.5, and particularly preferably 0.9 to 1.3. By satisfying this relationship, when the obtained optical laminated body is used in an image display device, very excellent reflected color can be achieved.

위상차층은, 대표적으로는 상기와 같이 nx>ny의 관계를 나타내기 때문에, 지상축을 갖는다. 하나의 실시형태에서는, 위상차층의 지상축과 편광자의 흡수축이 이루는 각도(θ)는, 예컨대 40°~50°이고, 바람직하게는 42°~48°이며, 보다 바람직하게는 약 45°이다. 각도(θ)가 이와 같은 범위이면, 위상차층을 λ/4판으로 함으로써, 매우 우수한 원편광 특성(결과로서, 매우 우수한 반사 방지 특성)을 갖는 광학 적층체가 얻어질 수 있다.The phase difference layer has a slow axis because it typically exhibits the relationship nx>ny as described above. In one embodiment, the angle (θ) formed between the slow axis of the retardation layer and the absorption axis of the polarizer is, for example, 40° to 50°, preferably 42° to 48°, and more preferably about 45°. . If the angle θ is in this range, an optical laminate having very excellent circular polarization properties (as a result, very excellent anti-reflection properties) can be obtained by making the retardation layer a λ/4 plate.

위상차층의 두께는, 대표적으로는 λ/4판으로서 적절히 기능할 수 있는 두께로 설정될 수 있다. 위상차층의 두께는 예컨대 10㎛~60㎛일 수 있다. 위상차층의 두께가 이와 같은 범위이면, 수지층, 제2 점착제층, 위상차층 및 제1 점착제층의 합계 두께 B가 커진다. 즉, 광학 적층체에서 수지층의 시인 측과 반대 측의 두께가 커져, 외력 등에 기인하는 수지층의 균열이 촉진될 수 있다. 본 발명의 실시형태에 따르면, 이와 같은 두께를 갖는 위상차층을 마련한 경우여도, 수지층의 변형(결과로서, 균열)을 억제하여, 편광자의 크랙을 억제할 수 있다.The thickness of the retardation layer can typically be set to a thickness that can properly function as a λ/4 plate. The thickness of the retardation layer may be, for example, 10 μm to 60 μm. If the thickness of the retardation layer is in this range, the total thickness B of the resin layer, the second adhesive layer, the retardation layer, and the first adhesive layer becomes large. That is, in the optical laminate, the thickness of the resin layer on the visible side and the opposite side increases, which may promote cracking of the resin layer due to external force or the like. According to an embodiment of the present invention, even when a retardation layer having such a thickness is provided, deformation (as a result, cracking) of the resin layer can be suppressed, and cracking of the polarizer can be suppressed.

위상차층은, 위상차값이 측정광의 파장에 따라 커지는 역분산 파장 특성을 나타내도 되고, 위상차값이 측정광의 파장에 따라 작아지는 양(正)의 파장 분산 특성을 나타내도 되며, 위상차값이 측정광의 파장에 의해서도 거의 변화하지 않는 플랫한 파장 분산 특성을 나타내도 된다. 하나의 실시형태에서는, 위상차층은, 역분산 파장 특성을 나타낸다. 이 경우, 위상차층의 Re(450)/Re(550)는 예컨대 0.8 이상 1 미만이고, 바람직하게는 0.8 이상 0.95 이하이다. 이와 같은 구성이면, 매우 우수한 반사 방지 특성을 실현할 수 있다.The phase difference layer may exhibit inverse dispersion wavelength characteristics in which the phase difference value increases depending on the wavelength of the measurement light, or may exhibit positive wavelength dispersion characteristics in which the phase difference value decreases depending on the wavelength of the measurement light. It may exhibit flat wavelength dispersion characteristics that hardly change depending on the wavelength. In one embodiment, the phase difference layer exhibits inverse dispersion wavelength characteristics. In this case, Re(450)/Re(550) of the retardation layer is, for example, 0.8 or more and less than 1, and is preferably 0.8 or more and 0.95 or less. With this configuration, very excellent anti-reflection properties can be achieved.

위상차층(수지 필름)을 구성하는 수지의 대표예로서는, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에스테르카보네이트계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리비닐아세탈계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 환상 올레핀계 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리에테르계 수지, 폴리스티렌계 수지, 아크릴계 수지를 들 수 있다. 이들 수지는 단독으로 이용하여도 되고, 조합하여(예컨대, 블렌드, 공중합) 이용하여도 된다. 위상차층이 역분산 파장 특성을 나타내는 수지 필름으로 구성되는 경우, 폴리카보네이트계 수지 또는 폴리에스테르카보네이트계 수지(이하, 단순히 폴리카보네이트계 수지라고 칭하는 경우가 있음)가 적합하게 이용될 수 있다.Representative examples of the resin constituting the retardation layer (resin film) include polycarbonate-based resin, polyestercarbonate-based resin, polyester-based resin, polyvinyl acetal-based resin, polyarylate-based resin, cyclic olefin-based resin, cellulose-based resin, Examples include polyvinyl alcohol-based resin, polyamide-based resin, polyimide-based resin, polyether-based resin, polystyrene-based resin, and acrylic resin. These resins may be used individually or in combination (e.g., blend, copolymerization). When the retardation layer is composed of a resin film exhibiting inverse dispersion wavelength characteristics, polycarbonate-based resin or polyestercarbonate-based resin (hereinafter sometimes simply referred to as polycarbonate-based resin) can be suitably used.

폴리카보네이트계 수지는, 하기 일반식 (1)로 나타내는 구조 단위 및/또는 하기 일반식 (2)로 나타내는 구조 단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 구조 단위를 포함한다. 이들 구조 단위는, 2가의 올리고플루오렌에서 유래되는 구조 단위이며, 이하, 올리고플루오렌 구조 단위라 칭하는 경우가 있다. 이와 같은 폴리카보네이트계 수지는, 양의 굴절률 이방성을 갖는다.The polycarbonate-based resin contains at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the following general formula (1) and/or a structural unit represented by the following general formula (2). These structural units are structural units derived from divalent oligofluorene, and may hereinafter be referred to as oligofluorene structural units. Such polycarbonate-based resin has positive refractive index anisotropy.

위상차층은, 대표적으로는, 아크릴계 수지를 더욱 함유한다. 아크릴계 수지의 함유량은 0.5질량%~1.5질량%이다.The retardation layer typically further contains acrylic resin. The content of acrylic resin is 0.5% by mass to 1.5% by mass.

위상차층에 적합하게 이용될 수 있는 폴리카보네이트계 수지 및 위상차층의 형성 방법의 상세는, 예컨대, 일본 공개특허공보 2014-10291호, 일본 공개특허공보 2014-26266호, 일본 공개특허공보 2015-212816호, 일본 공개특허공보 2015-212817호, 일본 공개특허공보 2015-212818호, 국제공개공보 제2015/159928호, 일본 공개특허공보 2021-67762호에 기재되어 있으며, 이들 공보의 기재는 본 명세서에 참고로서 원용된다.Details of the polycarbonate-based resin that can be suitably used in the retardation layer and the method of forming the retardation layer are, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2014-10291, Japanese Patent Laid-Open No. 2014-26266, and Japanese Patent Laid-Open No. 2015-212816. It is described in Japanese Patent Publication No. 2015-212817, Japanese Patent Publication No. 2015-212818, International Publication No. 2015/159928, and Japanese Patent Publication No. 2021-67762, and the descriptions of these publications are included in this specification. It is used as a reference.

E. 다른 위상차층E. Different phase contrast layers

다른 위상차층(40)은, 상기와 같이, 굴절률 특성이 nz>nx=ny의 관계를 나타내는, 이른바 포지티브 C 플레이트일 수 있다. 다른 위상차층으로서 포지티브 C 플레이트를 이용함으로써, 경사 방향의 반사를 양호하게 방지할 수 있어, 반사 방지 기능의 광시야각화가 가능하게 된다. 이 경우, 다른 위상차층의 두께 방향의 위상차 Rth(550)는, 바람직하게는 -50nm~-300nm이고, 보다 바람직하게는 -70nm~-250nm이며, 더욱 바람직하게는 -90nm~-200nm이고, 특히 바람직하게는 -100nm~-180nm이다. 여기에서 'nx=ny'는 nx와 ny가 엄밀하게 동일한 경우뿐만 아니라, nx와 ny가 실질적으로 동일한 경우도 포함한다. 즉, 다른 위상차층의 면내 위상차 Re(550)는 10nm 미만일 수 있다.The other retardation layer 40 may be a so-called positive C plate whose refractive index characteristics exhibit the relationship nz>nx=ny, as described above. By using a positive C plate as another phase contrast layer, reflection in the oblique direction can be prevented well, and wide viewing angle of the anti-reflection function becomes possible. In this case, the phase difference Rth (550) in the thickness direction of the other retardation layer is preferably -50 nm to -300 nm, more preferably -70 nm to -250 nm, even more preferably -90 nm to -200 nm, especially Preferably -100nm to -180nm. Here, 'nx=ny' includes not only the case where nx and ny are strictly the same, but also the case where nx and ny are substantially the same. That is, the in-plane phase difference Re(550) of the other phase difference layer may be less than 10 nm.

다른 위상차층은, 임의의 적절한 재료로 형성될 수 있다. 다른 위상차층은, 바람직하게는, 호메오트로픽 배향으로 고정된 액정 재료를 포함하는 필름으로 이루어진다. 호메오트로픽 배향시킬 수 있는 액정 재료(액정 화합물)는, 액정 모노머이어도 되고 액정 폴리머이어도 된다. 당해 액정 화합물 및 당해 위상차층의 형성 방법의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2002-333642호의 [0020]~[0028]에 기재된 액정 화합물 및 당해 위상차층의 형성 방법을 들 수 있다. 이 경우, 다른 위상차층의 두께는, 바람직하게는 0.5㎛~10㎛이고, 보다 바람직하게는 0.5㎛~8㎛이며, 더욱 바람직하게는 0.5㎛~5㎛이다.The other retardation layer may be formed from any suitable material. The other retardation layer preferably consists of a film comprising a liquid crystal material fixed in homeotropic orientation. The liquid crystal material (liquid crystal compound) capable of homeotropic alignment may be a liquid crystal monomer or a liquid crystal polymer. Specific examples of the liquid crystal compound and the method for forming the retardation layer include the liquid crystal compound and the method for forming the retardation layer described in [0020] to [0028] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-333642. In this case, the thickness of the other retardation layer is preferably 0.5 μm to 10 μm, more preferably 0.5 μm to 8 μm, and still more preferably 0.5 μm to 5 μm.

F. 점착제층F. Adhesive layer

제1 점착제층(50)은, 23℃에서의 저장 탄성률이 상기와 같이 0.10MPa 이상이고, 바람직하게는 0.10MPa~0.20MPa이며, 보다 바람직하게는 0.11MPa~0.17MPa이고, 더욱 바람직하게는 0.11MPa~0.15MPa이다. 제2 점착제층(60)은, 23℃에서의 저장 탄성률이 상기와 같이 0.12MPa 이상이고, 바람직하게는 0.12MPa~0.25MPa이며, 보다 바람직하게는 0.13MPa~0.20MPa이고, 더욱 바람직하게는 0.13MPa~0.18MPa이다. 제1 점착제층 및 제2 점착제층의 저장 탄성률이 이와 같은 범위이면, 상기의 본 발명의 실시형태에 따른 효과가 더욱 현저한 것이 될 수 있다. 또한, 저장 탄성률은, 동적 점탄성 측정에 의해 얻어질 수 있다.The first adhesive layer 50 has a storage elastic modulus at 23°C of 0.10 MPa or more as described above, preferably 0.10 MPa to 0.20 MPa, more preferably 0.11 MPa to 0.17 MPa, and even more preferably 0.11 MPa. It is MPa~0.15MPa. The second adhesive layer 60 has a storage elastic modulus at 23°C of 0.12 MPa or more as described above, preferably 0.12 MPa to 0.25 MPa, more preferably 0.13 MPa to 0.20 MPa, and still more preferably 0.13 MPa. It is MPa~0.18MPa. If the storage elastic moduli of the first adhesive layer and the second adhesive layer are in this range, the effect according to the above-described embodiment of the present invention can be more remarkable. Additionally, the storage modulus can be obtained by dynamic viscoelasticity measurement.

제1 점착제층(50)은, 두께가 상기와 같이 17㎛ 이하이고, 바람직하게는 5㎛~17㎛이며, 보다 바람직하게는 8㎛~16㎛이고, 더욱 바람직하게는 10㎛~15㎛이다. 제2 점착제층(60)은, 두께가 상기와 같이 7㎛ 이하이고, 바람직하게는 2㎛~7㎛이며, 보다 바람직하게는 3㎛~6㎛이고, 더욱 바람직하게는 4㎛~5㎛이다. 제1 점착제층 및 제2 점착제층의 두께가 이와 같은 범위이면, 상기의 본 발명의 실시형태에 따른 효과가 더욱 현저한 것이 될 수 있다.The first adhesive layer 50 has a thickness of 17 μm or less as described above, preferably 5 μm to 17 μm, more preferably 8 μm to 16 μm, and still more preferably 10 μm to 15 μm. . The second adhesive layer 60 has a thickness of 7 μm or less as described above, preferably 2 μm to 7 μm, more preferably 3 μm to 6 μm, and still more preferably 4 μm to 5 μm. . If the thickness of the first adhesive layer and the second adhesive layer is in this range, the effect according to the above-described embodiment of the present invention can be more remarkable.

점착제층을 구성하는 점착제로서는, 임의의 적절한 구성이 채용될 수 있다. 점착제층을 구성하는 점착제의 구체예로서는, 아크릴계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제, 폴리에스테르계 점착제, 우레탄계 점착제, 에폭시계 점착제, 및 폴리에테르계 점착제를 들 수 있다. 점착제의 베이스 수지를 형성하는 모노머의 종류, 수, 조합 및 배합비와, 가교제의 배합량, 반응 온도, 반응 시간 등을 조정함으로써, 목적에 따른 소망하는 특성을 갖는 점착제를 조제할 수 있다. 점착제의 베이스 수지는, 단독으로 이용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 된다. 투명성, 가공성 및 내구성 등의 관점에서, 아크릴계 점착제(아크릴계 점착제 조성물)가 바람직하다. 아크릴계 점착제 조성물은, 대표적으로는, (메트)아크릴계 폴리머를 주성분으로서 포함한다. (메트)아크릴계 폴리머는, 점착제 조성물의 고형분 중, 예컨대 50중량% 이상, 바람직하게는 70중량% 이상, 보다 바람직하게는 90중량% 이상의 비율로 점착제 조성물에 함유될 수 있다. (메트)아크릴계 폴리머는, 모노머 단위로서 알킬(메트)아크릴레이트를 주성분으로서 함유한다. 또한, (메트)아크릴레이트는 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트를 말한다. 알킬(메트)아크릴레이트는, (메트)아크릴계 폴리머를 형성하는 모노머 성분 중, 바람직하게는 80중량% 이상, 보다 바람직하게는 90중량% 이상의 비율로 함유될 수 있다. 알킬(메트)아크릴레이트의 알킬기로서는, 예컨대, 1개~18개의 탄소 원자를 갖는 직쇄상 또는 분기쇄상의 알킬기를 들 수 있다. 당해 알킬기의 평균 탄소수는, 바람직하게는 3개~9개이고, 보다 바람직하게는 3개~6개이다. 바람직한 알킬(메트)아크릴레이트는, 부틸아크릴레이트이다. (메트)아크릴계 폴리머를 구성하는 모노머(공중합 모노머)로서는, 알킬(메트)아크릴레이트 이외에, 카복실기 함유 모노머, 히드록실기 함유 모노머, 아미드기 함유 모노머, 방향환 함유 (메트)아크릴레이트, 복소환 함유 비닐계 모노머 등을 들 수 있다. 공중합 모노머의 대표예로서는, 아크릴산, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, N-비닐-2-피롤리돈을 들 수 있다. 아크릴계 점착제 조성물은, 바람직하게는, 실란 커플링제 및/또는 가교제를 함유할 수 있다. 실란 커플링제로서는, 예컨대 에폭시기 함유 실란 커플링제를 들 수 있다. 가교제로서는, 예컨대, 이소시아네이트계 가교제, 과산화물계 가교제를 들 수 있다. 또한, 아크릴계 점착제 조성물은, 산화 방지제 및/또는 도전제를 함유하여도 된다. 점착제층 또는 아크릴계 점착제 조성물의 상세는, 예컨대, 일본 공개특허공보 2006-183022호, 일본 공개특허공보 2015-199942호, 일본 공개특허공보 2018-053114호, 일본 공개특허공보 2016-190996호, 국제공개공보 제2018/008712호에 기재되어 있으며, 이들 공보의 기재는 본 명세서에 참고로서 원용된다.As the adhesive constituting the adhesive layer, any suitable structure may be adopted. Specific examples of the adhesive constituting the adhesive layer include acrylic adhesives, rubber adhesives, silicone adhesives, polyester adhesives, urethane adhesives, epoxy adhesives, and polyether adhesives. By adjusting the type, number, combination, and mixing ratio of the monomers forming the base resin of the adhesive, the amount of crosslinking agent, reaction temperature, reaction time, etc., an adhesive having desired properties according to the purpose can be prepared. The base resin of the adhesive may be used individually, or may be used in combination of two or more types. From the viewpoints of transparency, processability, durability, etc., an acrylic adhesive (acrylic adhesive composition) is preferable. Acrylic adhesive compositions typically contain a (meth)acrylic polymer as a main component. The (meth)acrylic polymer may be contained in the adhesive composition at a rate of, for example, 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more, and more preferably 90% by weight or more, based on the solid content of the adhesive composition. The (meth)acrylic polymer contains alkyl (meth)acrylate as a main component as a monomer unit. Additionally, (meth)acrylate refers to acrylate and/or methacrylate. Alkyl (meth)acrylate may be contained in a proportion of preferably 80% by weight or more, more preferably 90% by weight or more, among the monomer components forming the (meth)acrylic polymer. Examples of the alkyl group of the alkyl (meth)acrylate include a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms. The average number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 3 to 9, and more preferably 3 to 6. A preferable alkyl (meth)acrylate is butyl acrylate. Monomers (copolymerized monomers) constituting the (meth)acrylic polymer include, in addition to alkyl (meth)acrylates, monomers containing carboxyl groups, monomers containing hydroxyl groups, monomers containing amide groups, (meth)acrylates containing aromatic rings, and heterocyclic rings. Containing vinyl monomers, etc. can be mentioned. Representative examples of copolymerized monomers include acrylic acid, 4-hydroxybutylacrylate, phenoxyethyl acrylate, and N-vinyl-2-pyrrolidone. The acrylic adhesive composition may preferably contain a silane coupling agent and/or a crosslinking agent. Examples of the silane coupling agent include epoxy group-containing silane coupling agents. Examples of crosslinking agents include isocyanate-based crosslinking agents and peroxide-based crosslinking agents. Additionally, the acrylic adhesive composition may contain an antioxidant and/or a conductive agent. Details of the adhesive layer or acrylic adhesive composition are, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-183022, Japanese Patent Application Publication No. 2015-199942, Japanese Patent Application Publication No. 2018-053114, Japanese Patent Application Publication No. 2016-190996, International Publication No. It is described in Publication No. 2018/008712, and the descriptions of these publications are incorporated herein by reference.

G. 화상 표시 장치G. Image display device

상기 A항~F항에 기재된 광학 적층체는, 화상 표시 장치에 적용될 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시형태는, 그와 같은 광학 적층체를 이용한 화상 표시 장치도 포함한다. 화상 표시 장치의 대표예로서는, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치를 들 수 있다. 본 발명의 실시형태에 따른 화상 표시 장치는, 화상 표시 패널과, 해당 화상 표시 패널에 제1 점착제층을 개재하여 첩합된 상기 A항~F항에 기재된 광학 적층체를 구비한다. 광학 적층체는, 대표적으로는 편광판이 시인 측이 되도록 하여 화상 표시 패널의 시인 측에 배치된다.The optical laminated body described in items A to F above can be applied to an image display device. Accordingly, embodiments of the present invention also include an image display device using such an optical laminated body. Representative examples of image display devices include liquid crystal display devices and organic EL display devices. An image display device according to an embodiment of the present invention includes an image display panel and the optical laminate described in paragraphs A to F, which is bonded to the image display panel through a first adhesive layer. The optical laminate is typically placed on the viewer's side of the image display panel with the polarizing plate on the viewer's side.

[실시예][Example]

이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 실시예에서의 각 특성의 측정 방법 및 평가 방법은 이하와 같다.Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples, but the present invention is not limited to these examples. The measurement and evaluation methods of each characteristic in the examples are as follows.

(1) 편광자의 수축률(1) Shrinkage rate of polarizer

실시예 및 비교예에서 이용한 편광자와 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름과의 적층체를 제작하였다. 이 적층체를 4mm×16mm 사이즈로 절출하고, 시험 샘플로 하였다. 시험 샘플은, 장변 방향이 편광자의 흡수축 방향이 되도록 하였다. 이 시험 샘플을 TMA 장치(TA 인스트루먼트사 제조, 제품명 'Discovery TMA450EM')에 장착하고, 하기의 조건으로 측정하였을 때의 95℃에서의 수축률을 편광자의 수축률로 하였다.A laminate of the polarizer used in Examples and Comparative Examples and a triacetylcellulose (TAC) film was produced. This laminate was cut out to a size of 4 mm x 16 mm and used as a test sample. The test sample was made so that the long side direction was in the direction of the absorption axis of the polarizer. This test sample was mounted on a TMA device (manufactured by TA Instruments, product name 'Discovery TMA450EM'), and the shrinkage rate at 95°C when measured under the following conditions was taken as the shrinkage rate of the polarizer.

 온도 범위: -50℃~120℃ Temperature range: -50℃~120℃

 승온 속도: 2℃/분 Temperature increase rate: 2℃/min

 변조: ±5℃를 300초/사이클 Modulation: ±5°C at 300 seconds/cycle

 인장 하중: 0.0196N Tensile load: 0.0196N

(2) 압입 탄성률 및 압입 경도(2) Indentation elastic modulus and indentation hardness

나노인덴터(하이시트론 인크(Hysitron Inc)사 제조, 'Triboindenter')를 이용하여, 이하의 측정 조건하, 나노인덴테이션법에 의해 측정하였다. 구체적으로는, 편광판의 편광자의 면에 나노인덴터의 탐침(압자)을 압입하고, 변위-하중 히스테리시스 곡선으로부터 이하의 식에 의해 산출하였다.Measurement was performed by the nanoindentation method using a nanoindenter ('Triboindenter' manufactured by Hysitron Inc.) under the following measurement conditions. Specifically, the probe (indenter) of the nanoindenter was pressed into the surface of the polarizer of the polarizing plate, and the displacement-load hysteresis curve was calculated using the following equation.

   압입 경도(GPa)=Pmax/A   Indentation hardness (GPa)=Pmax/A

   압입 탄성률(GPa)=(√π/2)×(S/√A)   Indentation elastic modulus (GPa)=(√π/2)×(S/√A)

여기에서, Pmax는 변위-하중 히스테리시스 곡선으로부터 얻어지는 최대 하중이고, A는 압자와 편광자의 사이의 접촉 투영 면적이며, S는 변위-하중 히스테리시스 곡선의 제하 곡선의 접선의 기울기(접촉 강성)이고, π는 원주율이다.Here, Pmax is the maximum load obtained from the displacement-load hysteresis curve, A is the projected area of contact between the indenter and polarizer, S is the slope of the tangent of the unloading curve of the displacement-load hysteresis curve (contact stiffness), π is the circumference ratio.

(측정 조건)(Measuring conditions)

·측정 방법: 단일 압입법·Measurement method: single press method

·측정 온도: 25℃·Measurement temperature: 25℃

·압입 속도: 약 2nm/sec·Indentation speed: approximately 2nm/sec

·압입 깊이: 약 300nm·Indentation depth: approximately 300 nm

·사용 압자: 다이아몬드제, Berkovich형(삼각뿔형)·Indenter used: Diamond, Berkovich type (triangular pyramid type)

또한, 수지층의 압입 탄성률에 대해서도 마찬가지로 측정하였다.Additionally, the indentation elastic modulus of the resin layer was similarly measured.

(3) 크랙(3) crack

실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 적층체를 80mm×150mm로 절출하였다. 이때, 편광자의 흡수축 방향이 단변 방향이 되도록 하여 절출하였다. 절출편을, 제1 점착제층을 개재하여 유리판에 첩합하고, 장변 방향을 따라 등간격의 10개소에, 단변 방향(편광자의 흡수축 방향)으로 연장되고 유리판까지 관통하는 절개선(길이 2mm)을 넣었다. 이것을 시험 샘플로 하였다. 이 시험 샘플을 95℃의 오븐에 8시간 둔 후, 절개선으로부터 연장되는 크랙의 길이를 측정하였다. 10개소의 크랙의 길이의 평균을 크랙 진전도로 하고, 이하의 기준으로 평가하였다.The optical laminated bodies obtained in Examples and Comparative Examples were cut into 80 mm x 150 mm. At this time, the polarizer was cut out so that the absorption axis direction was in the short side direction. The cut pieces are bonded to a glass plate through a first adhesive layer, and cut lines (2 mm in length) are formed at 10 equally spaced locations along the long side, extending in the short side direction (direction of the absorption axis of the polarizer) and penetrating through the glass plate. I put it in. This was used as a test sample. After placing this test sample in an oven at 95°C for 8 hours, the length of the crack extending from the incision line was measured. The average of the lengths of 10 cracks was taken as the crack progress, and was evaluated based on the following criteria.

 A(우량): 크랙 진전도가 20mm 미만 A (Excellent): Crack progress is less than 20 mm.

 B(양호): 크랙 진전도가 20mm 이상 40mm 미만 B (Good): Crack progress is 20 mm or more but less than 40 mm.

 C(중간 정도): 크랙 진전도가 40mm 이상 60mm 미만 C (Medium): Crack progress is between 40mm and 60mm.

 D(불량): 크랙 진전도가 60mm 이상 D (defect): Crack progress is more than 60mm

또한, 상기의 'A'~'D'는 상대적인 평가 기준이며, 실용적으로는, 크랙의 진전도가 30mm 이하이면 양호하고, 크랙의 진전도가 45mm 이하이면 허용 가능하다.In addition, the above 'A' to 'D' are relative evaluation standards, and in practical terms, it is good if the crack progress is 30 mm or less, and it is acceptable if the crack progress is 45 mm or less.

[제조예 1: 편광자의 제작][Manufacturing Example 1: Production of polarizer]

열가소성 수지 기재로서, 장척상이며, Tg 약 75℃인, 비정질의 이소프탈 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(두께: 100㎛)을 이용하고, 수지 기재의 편면에, 코로나 처리를 실시하였다.As a thermoplastic resin substrate, an amorphous isophthalic copolymerization polyethylene terephthalate film (thickness: 100 μm) with a long shape and a Tg of approximately 75°C was used, and corona treatment was performed on one side of the resin substrate.

폴리비닐알코올(중합도 4200, 비누화도 99.2몰%) 및 아세토아세틸 변성 PVA(일본 합성화학공업사 제조, 상품명 '고세파이머')를 9:1로 혼합한 PVA계 수지 100중량부에, 요오드화 칼륨 13중량부를 첨가한 것을 물에 녹여, PVA 수용액(도포액)을 조제하였다.100 parts by weight of PVA-based resin, which is a 9:1 mixture of polyvinyl alcohol (degree of polymerization 4200, degree of saponification 99.2 mol%) and acetoacetyl-modified PVA (manufactured by Japan Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., brand name 'Gosephimer'), potassium iodide 13 The added weight was dissolved in water to prepare a PVA aqueous solution (coating solution).

수지 기재의 코로나 처리면에, 상기 PVA 수용액을 도포하고 60℃에서 건조함으로써, 두께 13㎛의 PVA계 수지층을 형성하여, 적층체를 제작하였다.The PVA aqueous solution was applied to the corona-treated surface of the resin substrate and dried at 60°C to form a PVA-based resin layer with a thickness of 13 μm, thereby producing a laminate.

얻어진 적층체를, 140℃의 오븐 내에서 종방향(긴 방향)으로 3.0배로 1축 연신하였다(공중 보조 연신 처리).The obtained laminate was uniaxially stretched 3.0 times in the longitudinal direction (longitudinal direction) in an oven at 140°C (air auxiliary stretching treatment).

이어서, 적층체를, 액체 온도 40℃의 불용화욕(물 100중량부에 대하여, 붕산을 4중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(불용화 처리).Next, the laminate was immersed in an insolubilization bath (boric acid aqueous solution obtained by mixing 4 parts by weight of boric acid with 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 40°C for 30 seconds (insolubilization treatment).

이어서, 액체 온도 30℃의 염색욕(물 100중량부에 대하여, 요오드와 요오드화 칼륨을 1:7의 중량비로 배합하여 얻어진 요오드 수용액)에, 최종적으로 얻어지는 편광자의 단체 투과율(Ts)이 소망하는 값이 되도록 농도를 조정하면서 60초간 침지시켰다(염색 처리).Next, in a dyeing bath (iodine aqueous solution obtained by mixing iodine and potassium iodide at a weight ratio of 1:7 with respect to 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 30°C, the single transmittance (Ts) of the polarizer finally obtained is the desired value. It was immersed for 60 seconds while adjusting the concentration to achieve this (dyeing treatment).

이어서, 액체 온도 40℃의 가교욕(물 100중량부에 대하여, 요오드화 칼륨을 3중량부 배합하고, 붕산을 5중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(가교 처리).Next, it was immersed in a crosslinking bath (a boric acid aqueous solution obtained by mixing 3 parts by weight of potassium iodide and 5 parts by weight of boric acid with respect to 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 40°C for 30 seconds (crosslinking treatment).

그 후, 적층체를, 액체 온도 64℃의 붕산 수용액(붕산 농도 4중량%, 요오드화 칼륨 농도 5중량%)에 침지시키면서, 원주 속도가 상이한 롤 사이에서 종방향(긴 방향)으로 총 연신 배율이 5.5배가 되도록 1축 연신을 행하였다(수중 연신 처리).Thereafter, the laminate was immersed in an aqueous solution of boric acid (boric acid concentration: 4% by weight, potassium iodide concentration: 5% by weight) at a liquid temperature of 64°C, while the total stretch ratio was stretched in the longitudinal direction (longitudinal direction) between rolls with different circumferential speeds. Uniaxial stretching was performed to increase the size by 5.5 times (underwater stretching treatment).

그 후, 적층체를 액체 온도 20℃의 세정욕(물 100중량부에 대하여, 요오드화 칼륨을 3중량부 배합하여 얻어진 수용액)에 침지시켰다(세정 처리).Thereafter, the laminate was immersed in a washing bath (aqueous solution obtained by mixing 3 parts by weight of potassium iodide with respect to 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 20°C (washing treatment).

그 후, 약 90℃로 유지된 오븐 중에서 건조하면서, 표면 온도가 약 75℃로 유지된 SUS제의 가열 롤에 접촉시켰다(건조 수축 처리). 여기에서, 적층체의 반송 장력은 6N/cm로 설정하고, 오븐 입구로부터 적층체가 가열 롤에 접촉할 때까지의 시간을 5초로 설정하였다.Afterwards, it was dried in an oven maintained at about 90°C and brought into contact with a heating roll made of SUS whose surface temperature was maintained at about 75°C (dry shrink treatment). Here, the transport tension of the laminate was set to 6 N/cm, and the time from the oven entrance until the laminate came into contact with the heating roll was set to 5 seconds.

이와 같이 하여, 수지 기재 위에 두께 5.5㎛의 편광자 P1을 형성하고, 수지 기재/편광자 P1의 구성을 갖는 편광판을 얻었다. 편광자 P1의 흡수축 방향의 수축률은 2.5%이었다. 또한 편광자 P1의 단체 투과율(Ts)은 43.0%이고, 압입 탄성률은 8.77GPa이며, 압입 경도는 0.688GPa이었다.In this way, polarizer P1 with a thickness of 5.5 μm was formed on the resin substrate, and a polarizing plate having the structure of resin substrate/polarizer P1 was obtained. The shrinkage rate in the absorption axis direction of polarizer P1 was 2.5%. Additionally, the single transmittance (Ts) of polarizer P1 was 43.0%, the indentation elastic modulus was 8.77 GPa, and the indentation hardness was 0.688 GPa.

[제조예 2: 편광자의 제작][Manufacturing Example 2: Production of polarizer]

가열 수축 처리에서 적층체의 반송 장력을 5N/cm로 설정한 것, 및, 오븐 입구로부터 적층체가 가열 롤에 접촉할 때까지의 시간을 3.5초로 설정한 것 이외에는 제조예 1과 마찬가지로 하여, 수지 기재/편광자 P2의 구성을 갖는 편광판을 얻었다. 편광자 P2의 흡수축 방향의 수축률은 1.5%이었다. 편광자 P2의 단체 투과율, 압입 탄성률 및 압입 경도는, 제조예 1의 편광자 P1과 마찬가지였다.In the heat shrink treatment, the transport tension of the laminate was set to 5 N/cm, and the time from the oven entrance until the laminate came into contact with the heating roll was set to 3.5 seconds, and the resin substrate was prepared in the same manner as in Production Example 1. /A polarizing plate having the structure of polarizer P2 was obtained. The shrinkage rate in the absorption axis direction of polarizer P2 was 1.5%. The single transmittance, indentation elastic modulus, and indentation hardness of polarizer P2 were the same as those of polarizer P1 in Production Example 1.

[제조예 3: 편광자의 제작][Manufacture Example 3: Production of polarizer]

가열 수축 처리에서 적층체의 반송 장력을 7N/cm로 설정한 것 이외에는 제조예 1과 마찬가지로 하여, 수지 기재/편광자 P3의 구성을 갖는 편광판을 얻었다. 편광자 P3의 흡수축 방향의 수축률은 3.0%이었다. 편광자 P3의 단체 투과율, 압입 탄성률 및 압입 경도는, 제조예 1의 편광자 P1과 마찬가지였다.In the heat shrink treatment, a polarizing plate having the structure of resin base material/polarizer P3 was obtained in the same manner as in Production Example 1 except that the conveyance tension of the laminated body was set to 7 N/cm. The shrinkage rate in the absorption axis direction of polarizer P3 was 3.0%. The single transmittance, indentation elastic modulus, and indentation hardness of polarizer P3 were the same as those of polarizer P1 in Production Example 1.

[제조예 4: 수지층 형성용 도포액의 조제][Preparation Example 4: Preparation of coating liquid for forming resin layer]

메타크릴산 메틸(MMA, 후지필름 와코준야쿠사 제조, 상품명 '메타크릴산 메틸 모노머') 97.0부, 하기 식 (1e)로 나타내는 공중합 단량체 3.0부, 중합 개시제(후지필름 와코준야쿠사 제조, 상품명 '2,2'-아조비스(이소부티로니트릴)') 0.2부를 톨루엔 200부에 용해시켰다. 이어서, 질소 분위기하에서 70℃로 가열하면서 5.5시간 중합 반응을 행하여, 붕소 함유 아크릴계 수지 용액(고형분 농도: 33%)을 얻었다. 얻어진 붕소 함유 아크릴계 중합체(수지)의 Tg는 110℃, Mw는 80000이었다. 얻어진 붕소 함유 아크릴계 수지 20부를 메틸에틸케톤 80부에 용해하여, 수지층 형성용 도포액(20%의 수지 용액)을 얻었다.97.0 parts of methyl methacrylate (MMA, manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, brand name 'Methyl Methacrylate Monomer'), 3.0 parts of copolymerization monomer represented by the following formula (1e), polymerization initiator (manufactured by Fujifilm Wako Purely Chemical Industries, brand name ' 0.2 part of 2,2'-azobis(isobutyronitrile)') was dissolved in 200 parts of toluene. Next, a polymerization reaction was performed for 5.5 hours while heating at 70°C in a nitrogen atmosphere to obtain a boron-containing acrylic resin solution (solid content concentration: 33%). The Tg of the obtained boron-containing acrylic polymer (resin) was 110°C and Mw was 80,000. 20 parts of the obtained boron-containing acrylic resin was dissolved in 80 parts of methyl ethyl ketone to obtain a coating liquid for forming a resin layer (20% resin solution).

[제조예 5: 위상차층/다른 위상차층의 적층체의 제작][Manufacturing Example 5: Production of a laminate of phase contrast layer/other phase contrast layer]

1. 위상차층을 구성하는 위상차 필름의 제작1. Production of retardation film constituting the retardation layer

교반 날개 및 100℃로 제어된 환류 냉각기를 구비한 종형 반응기 2기를 포함하는 배치 중합 장치에, 비스[9-(2-페녹시카보닐에틸)플루오렌-9-일]메탄 29.60중량부(0.046mol), 이소소르비드(ISB) 29.21중량부(0.200mol), 스피로글리콜(SPG) 42.28중량부(0.139mol), 디페닐카보네이트(DPC) 63.77중량부(0.298mol), 및, 촉매로서 초산칼슘 1수화물 1.19×10-2중량부(6.78×10-5mol)를 도입하였다. 반응기 내를 감압 질소 치환한 후, 열매로 가온을 행하여, 내부 온도가 100℃가 된 시점에서 교반을 개시하였다. 승온 개시 40분 후에 내부 온도를 220℃로 도달시켜, 이 온도를 유지하도록 제어하는 것과 동시에 감압을 개시하고, 220℃에 도달하고 나서 90분에 13.3kPa로 하였다. 중합 반응과 함께 부생하는 페놀 증기를 100℃의 환류 냉각기로 유도하고, 페놀 증기 중에 약간량 포함되는 모노머 성분을 반응기에 되돌려, 응축하지 않는 페놀 증기는 45℃의 응축기로 유도하여 회수하였다. 제1 반응기에 질소를 도입하여 일단 대기압까지 복압시킨 후, 제1 반응기 내의 올리고머화된 반응액을 제2 반응기로 옮겼다. 이어서, 제2 반응기 내의 승온 및 감압을 개시하고, 50분에 내부 온도 240℃, 압력 0.2kPa로 하였다. 그 후, 소정의 교반 동력이 될 때까지 중합을 진행시켰다. 소정 동력에 도달한 시점에서 반응기에 질소를 도입하고 복압하여, 생성한 폴리에스테르카보네이트계 수지 100중량부에 대하여 PMMA를 0.7질량부 용융 혼련한 후, 수중으로 압출하고, 스트랜드를 컷팅하여 펠릿을 얻었다.In a batch polymerization apparatus comprising two vertical reactors equipped with stirring blades and a reflux condenser controlled at 100°C, 29.60 parts by weight (0.046 parts by weight) of bis[9-(2-phenoxycarbonylethyl)fluoren-9-yl]methane was added. mol), isosorbide (ISB) 29.21 parts by weight (0.200 mol), spiroglycol (SPG) 42.28 parts by weight (0.139 mol), diphenyl carbonate (DPC) 63.77 parts by weight (0.298 mol), and calcium acetate as a catalyst. 1.19×10 -2 parts by weight (6.78×10 -5 mol) of monohydrate were introduced. After purging the reactor with reduced pressure nitrogen, heating was performed using a heat medium, and stirring was started when the internal temperature reached 100°C. 40 minutes after the start of the temperature increase, the internal temperature reached 220°C, and while controlling to maintain this temperature, pressure reduction was started, and 90 minutes after reaching 220°C, the temperature was set to 13.3 kPa. The phenol vapor produced by-product with the polymerization reaction was guided to a reflux condenser at 100°C, the monomer component contained in a small amount in the phenol vapor was returned to the reactor, and the phenol vapor that did not condense was guided to a condenser at 45°C for recovery. After nitrogen was introduced into the first reactor and the pressure was restored to atmospheric pressure, the oligomerized reaction solution in the first reactor was transferred to the second reactor. Next, the temperature increase and pressure reduction in the second reactor were started, and in 50 minutes, the internal temperature was 240°C and the pressure was 0.2 kPa. Thereafter, polymerization was allowed to proceed until the predetermined stirring power was reached. When the predetermined power was reached, nitrogen was introduced into the reactor, the pressure was restored, and 0.7 parts by mass of PMMA was melt-kneaded with respect to 100 parts by weight of the resulting polyester carbonate-based resin, and then extruded into water and the strands were cut to obtain pellets. .

얻어진 폴리에스테르카보네이트계 수지(펠릿)를 80℃에서 5시간 진공 건조한 후, 단축 압출기(토시바 기계사 제조, 실린더 설정 온도: 250℃), T다이(폭 200mm, 설정 온도: 250℃), 냉각 롤(설정 온도: 120~130℃) 및 권취기를 구비한 필름 제막 장치를 이용하여, 두께 105㎛의 장척상의 수지 필름을 제작하였다. 얻어진 장척상의 수지 필름을, 소정의 위상차가 얻어지도록 조정하면서 138℃에서, 폭방향으로 2.8배 연신하여, 두께 38㎛인 위상차 필름(λ/4판)을 얻었다. 얻어진 위상차 필름의 Re(550)는 144nm이고, Re(450)/Re(550)는 0.86이었다.After vacuum drying the obtained polyester carbonate resin (pellet) at 80°C for 5 hours, a single screw extruder (manufactured by Toshiba Machinery Co., Ltd., cylinder set temperature: 250°C), T die (width 200 mm, set temperature: 250°C), cooling roll (Set temperature: 120 to 130°C) and a film forming device equipped with a winder were used to produce a long resin film with a thickness of 105 μm. The obtained long resin film was stretched 2.8 times in the width direction at 138°C while adjusting to obtain a predetermined retardation, and a retardation film (λ/4 plate) with a thickness of 38 μm was obtained. Re(550) of the obtained retardation film was 144 nm, and Re(450)/Re(550) was 0.86.

2. 위상차층/다른 위상차층의 적층체의 제작2. Fabrication of a laminate of phase contrast layer/other phase contrast layer

하기 화학식 (3)(식 중의 숫자 65 및 35는 모노머 유닛의 몰%를 나타내고, 편의적으로 블록 폴리머체로 나타내고 있음: 중량평균 분자량 5000)으로 나타내는 측쇄형 액정 폴리머 20중량부, 네마틱 액정상을 나타내는 중합성 액정(바스프(BASF)사 제조: 상품명 PaliocolorLC242) 80중량부 및 광중합 개시제(치바 스페셜티 케미컬즈사 제조: 상품명 이르가큐어 907) 5중량부를 시클로펜타논 200중량부에 용해하여 액정 도공액을 조제하였다. 그리고, 수직 배향 처리를 실시한 PET 기재에 당해 도공액을 바 코터에 의해 도공한 후, 80℃에서 4분간 가열 건조함으로써 액정을 배향시켰다. 이 액정층에 자외선을 조사하여, 액정층을 경화시킴으로써, nz>nx=ny의 굴절률 특성을 나타내는 포지티브 C 플레이트(두께 3㎛)를 기재 위에 형성하였다. 얻어진 포지티브 C 플레이트를, 접착제층을 개재하여 상기 위상차 필름에 전사하고, λ/4판과 포지티브 C 플레이트와의 적층체를 얻었다.20 parts by weight of a side-chain liquid crystal polymer represented by the following formula (3) (the numbers 65 and 35 in the formula represent the mole percent of the monomer unit, and are conveniently expressed as a block polymer: weight average molecular weight 5000), representing a nematic liquid crystalline phase. Prepare a liquid crystal coating solution by dissolving 80 parts by weight of polymerizable liquid crystal (manufactured by BASF, brand name: PaliocolorLC242) and 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by Chiba Specialty Chemicals, brand name: Irgacure 907) in 200 parts by weight of cyclopentanone. did. Then, the coating liquid was applied to the PET base material that had been vertically aligned using a bar coater, and then heated and dried at 80°C for 4 minutes to orient the liquid crystal. By irradiating ultraviolet rays to this liquid crystal layer and curing it, a positive C plate (thickness 3 μm) exhibiting refractive index characteristics of nz>nx=ny was formed on the substrate. The obtained positive C plate was transferred to the above-mentioned retardation film through an adhesive layer, and a laminate of the λ/4 plate and the positive C plate was obtained.

[제조예 6: 제1 점착제층의 제작][Preparation Example 6: Preparation of the first adhesive layer]

(아크릴계 폴리머 A1의 조제)(Preparation of acrylic polymer A1)

교반 날개, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기를 구비한 4구 플라스크에, 부틸아크릴레이트 94.9부, 히드록시에틸아크릴레이트 0.1부 및 아크릴산 5부를 함유하는 모노머 혼합물을 도입하였다. 또한, 이 모노머 혼합물 100부에 대하여, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.1부를 초산에틸 100부와 함께 도입하고, 부드럽게 교반하면서 질소 가스를 도입하여 질소 치환한 후, 플라스크 내의 액체 온도를 55℃ 부근으로 유지하며 8시간 중합 반응을 행하고, 중량평균 분자량(Mw) 220만, Mw/Mn=3.9의 아크릴계 폴리머 A1의 용액을 조제하였다.A monomer mixture containing 94.9 parts of butylacrylate, 0.1 part of hydroxyethyl acrylate, and 5 parts of acrylic acid was introduced into a four-necked flask equipped with a stirring blade, thermometer, nitrogen gas introduction tube, and condenser. Additionally, with respect to 100 parts of this monomer mixture, 0.1 part of 2,2'-azobisisobutyronitrile was introduced together with 100 parts of ethyl acetate as a polymerization initiator, and nitrogen gas was introduced while gently stirring to replace nitrogen, and then the mixture was purged with nitrogen in the flask. The polymerization reaction was performed for 8 hours while maintaining the liquid temperature at around 55°C to prepare a solution of acrylic polymer A1 with a weight average molecular weight (Mw) of 2.2 million and Mw/Mn = 3.9.

(점착제 PSA1의 조제)(Preparation of adhesive PSA1)

아크릴계 폴리머 A1 용액의 고형분 100부에 대하여, 트리메틸올프로판/톨릴렌디이소시아네이트 부가물(도소사 제조, 상품명 '콜로네이트 L') 0.6부, 과산화물 가교제(일본 유지사 제조, 상품명 '나이퍼 BMT') 0.3부 및 에폭시기 함유 실란 커플링제(신에쓰 가가쿠 고교사 제조, 상품명 'KBM-403') 0.2부를 배합하여, 점착제 PSA1을 얻었다.Based on 100 parts of solid content of the acrylic polymer A1 solution, 0.6 parts of trimethylolpropane/tolylene diisocyanate adduct (manufactured by Tosoh Corporation, brand name 'Colonate L'), 0.3 parts of peroxide crosslinking agent (manufactured by Nippon Yuji Corporation, brand name 'Niper BMT') and 0.2 parts of an epoxy group-containing silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., brand name 'KBM-403') were mixed to obtain adhesive PSA1.

[제조예 7: 제1 점착제층의 제작][Preparation Example 7: Preparation of the first adhesive layer]

(아크릴계 폴리머 A2의 조제)(Preparation of acrylic polymer A2)

교반 날개, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기를 구비한 4구 플라스크에, 부틸아크릴레이트 87.9부, 2-에틸헥실아크릴레이트 10부, 히드록시에틸아크릴레이트 0.1부 및 아크릴산 2부를 함유하는 모노머 혼합물을 도입하였다. 또한, 이 모노머 혼합물 100부에 대하여, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.1부를 초산에틸 90부와 함께 도입하고, 부드럽게 교반하면서 질소 가스를 도입하여 질소 치환한 후, 플라스크 내의 액체 온도를 55℃ 부근으로 유지하며 8시간 중합 반응을 행하고, 중량평균 분자량(Mw) 220만, Mw/Mn=4.0의 아크릴계 폴리머 A2의 용액을 조제하였다.A monomer mixture containing 87.9 parts of butylacrylate, 10 parts of 2-ethylhexyl acrylate, 0.1 part of hydroxyethyl acrylate, and 2 parts of acrylic acid was placed in a four-necked flask equipped with a stirring blade, thermometer, nitrogen gas introduction tube, and condenser. introduced. Additionally, with respect to 100 parts of this monomer mixture, 0.1 part of 2,2'-azobisisobutyronitrile was introduced along with 90 parts of ethyl acetate as a polymerization initiator, and nitrogen gas was introduced while gently stirring to purge the mixture into the flask. The polymerization reaction was performed for 8 hours while maintaining the liquid temperature at around 55°C to prepare a solution of acrylic polymer A2 with a weight average molecular weight (Mw) of 2.2 million and Mw/Mn = 4.0.

(점착제 PSA2의 조제)(Preparation of adhesive PSA2)

아크릴계 폴리머 A2 용액의 고형분 100부에 대하여, 트리메틸올프로판/톨릴렌디이소시아네이트 부가물(도소사 제조, 상품명 '콜로네이트 L') 0.6부, 과산화물 가교제(일본 유지사 제조, 상품명 '나이퍼 BMT') 0.3부 및 에폭시기 함유 실란 커플링제(신에쓰 가가쿠 고교사 제조, 상품명 'KBM-403') 0.2부를 배합하여, 점착제 PSA2를 얻었다.Based on 100 parts of solid content of the acrylic polymer A2 solution, 0.6 parts of trimethylolpropane/tolylene diisocyanate adduct (manufactured by Tosoh Corporation, brand name 'Colonate L'), 0.3 parts of peroxide crosslinker (manufactured by Nippon Yuji Corporation, brand name 'Niper BMT') and 0.2 parts of an epoxy group-containing silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., brand name 'KBM-403') were mixed to obtain adhesive PSA2.

[제조예 8: 제2 점착제층의 제작][Preparation Example 8: Production of second adhesive layer]

(아크릴계 폴리머 A3의 조제)(Preparation of acrylic polymer A3)

교반 날개, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기를 구비한 4구 플라스크에, 부틸아크릴레이트 91부, 아크릴로일모르폴린 6부, 아크릴산 2.7부 및 4-히드록시부틸아크릴레이트 0.3부를 함유하는 모노머 혼합물을 도입하였다. 또한, 이 모노머 혼합물 100부에 대하여, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.1부를 초산에틸 100부와 함께 도입하고, 부드럽게 교반하면서 질소 가스를 도입하여 질소 치환한 후, 플라스크 내의 액체 온도를 55℃ 부근으로 유지하며 8시간 중합 반응을 행하고, 중량평균 분자량(Mw) 270만, Mw/Mn=3.8의 아크릴계 폴리머 A3의 용액을 조제하였다.A monomer mixture containing 91 parts of butylacrylate, 6 parts of acryloylmorpholine, 2.7 parts of acrylic acid, and 0.3 parts of 4-hydroxybutylacrylate in a four-necked flask equipped with a stirring blade, thermometer, nitrogen gas introduction tube, and condenser. was introduced. Additionally, with respect to 100 parts of this monomer mixture, 0.1 part of 2,2'-azobisisobutyronitrile was introduced together with 100 parts of ethyl acetate as a polymerization initiator, and nitrogen gas was introduced while gently stirring to replace nitrogen, and then the mixture was purged with nitrogen in the flask. The polymerization reaction was performed for 8 hours while maintaining the liquid temperature at around 55°C to prepare a solution of acrylic polymer A3 with a weight average molecular weight (Mw) of 2.7 million and Mw/Mn = 3.8.

(점착제 PSA3의 조제)(Preparation of adhesive PSA3)

아크릴계 폴리머 A3 용액의 고형분 100부에 대하여, 트리메틸올프로판/톨릴렌디이소시아네이트 부가물(도소사 제조, 상품명 '콜로네이트 L') 0.1부, 과산화물 가교제(일본 유지사 제조, 상품명 '나이퍼 BMT') 0.3부 및 에폭시기 함유 실란 커플링제(신에쓰 가가쿠 고교사 제조, 상품명 'KBM-403') 0.2부를 배합하여, 점착제 PSA3을 얻었다.Based on 100 parts of solid content of the acrylic polymer A3 solution, 0.1 part of trimethylolpropane/tolylene diisocyanate adduct (manufactured by Tosoh Corporation, brand name 'Colonate L'), 0.3 part of peroxide crosslinker (manufactured by Nippon Yuji Corporation, brand name 'Niper BMT') and 0.2 parts of an epoxy group-containing silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., brand name 'KBM-403') were mixed to obtain adhesive PSA3.

[제조예 9: 제2 점착제층의 제작][Preparation Example 9: Production of second adhesive layer]

(아크릴계 폴리머 A4의 조제)(Preparation of acrylic polymer A4)

교반 날개, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기를 구비한 4구 플라스크에, 부틸아크릴레이트 82.7부, 2-에틸헥실아크릴레이트 10부, 아크릴로일모르폴린 6부, 아크릴산 1부 및 4-히드록시부틸아크릴레이트 0.3부를 함유하는 모노머 혼합물을 도입하였다. 또한, 이 모노머 혼합물 100부에 대하여, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.1부를 초산에틸 90부와 함께 도입하고, 부드럽게 교반하면서 질소 가스를 도입하여 질소 치환한 후, 플라스크 내의 액체 온도를 55℃ 부근으로 유지하며 8시간 중합 반응을 행하고, 중량평균 분자량(Mw) 260만, Mw/Mn=3.9의 아크릴계 폴리머 A4의 용액을 조제하였다.In a four-neck flask equipped with a stirring blade, thermometer, nitrogen gas introduction tube, and condenser, 82.7 parts of butylacrylate, 10 parts of 2-ethylhexyl acrylate, 6 parts of acryloylmorpholine, 1 part of acrylic acid, and 4-hydroxyl A monomer mixture containing 0.3 parts of butylacrylate was introduced. Additionally, with respect to 100 parts of this monomer mixture, 0.1 part of 2,2'-azobisisobutyronitrile was introduced along with 90 parts of ethyl acetate as a polymerization initiator, and nitrogen gas was introduced while gently stirring to purge the mixture into the flask. The polymerization reaction was performed for 8 hours while maintaining the liquid temperature at around 55°C to prepare a solution of acrylic polymer A4 with a weight average molecular weight (Mw) of 2.6 million and Mw/Mn = 3.9.

(점착제 PSA4의 조제)(Preparation of adhesive PSA4)

아크릴계 폴리머 A4 용액의 고형분 100부에 대하여, 트리메틸올프로판/톨릴렌디이소시아네이트 부가물(도소사 제조, 상품명 '콜로네이트 L') 0.1부, 과산화물 가교제(일본 유지사 제조, 상품명 '나이퍼 BMT') 0.3부 및 에폭시기 함유 실란 커플링제(신에쓰 가가쿠 고교사 제조, 상품명 'KBM-403') 0.2부를 배합하여, 점착제 PSA4를 얻었다.Based on 100 parts of solid content of the acrylic polymer A4 solution, 0.1 part of trimethylolpropane/tolylene diisocyanate adduct (manufactured by Tosoh Corporation, brand name 'Colonate L'), 0.3 part of peroxide crosslinking agent (manufactured by Nippon Yuji Corporation, brand name 'Niper BMT') and 0.2 parts of an epoxy group-containing silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., brand name 'KBM-403') were mixed to obtain adhesive PSA4.

[실시예 1][Example 1]

제조예 1에서 얻어진 편광판의 편광자 P1의 표면(수지 기재와는 반대 측의 면)에, 자외선 경화형 접착제를 개재하여, HC-TAC 필름을 첩합하였다. 또한, HC-TAC 필름은, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름(두께 25㎛)에 HC층(두께 7㎛)이 형성된 필름이고, TAC 필름이 편광자 측이 되도록 하여 첩합하였다. 이어서, 수지 기재를 박리하여 HC층/TAC 필름(보호층)/편광자 P1의 구성을 갖는 편광판을 얻었다. 이어서, 편광자 P1의 표면에, 와이어 바를 이용하여 제조예 4의 수지층 형성용 도포액을 도포한 후, 도포막을 60℃에서 5분간 건조하여, 수지의 유기 용매 용액의 도포막의 고화물로서 구성되는 수지층(두께 400nm)을 형성하였다. 이어서, 수지층의 표면에, 제조예 6에서 얻어진 제1 점착제층 PSA1(두께 15㎛)을 배치하고, HC층/TAC 필름(보호층)/편광자 P1/수지층/제1 점착제층 PSA1의 구성을 갖는 광학 적층체를 얻었다. 얻어진 광학 적층체를 상기의 '(3) 크랙'의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.The HC-TAC film was bonded to the surface of the polarizer P1 of the polarizing plate obtained in Production Example 1 (the surface on the opposite side to the resin substrate) through an ultraviolet curing adhesive. In addition, the HC-TAC film is a film in which an HC layer (7 μm thick) was formed on a triacetylcellulose (TAC) film (25 μm thick), and the TAC film was bonded to the polarizer side. Next, the resin substrate was peeled to obtain a polarizing plate having the structure of HC layer/TAC film (protective layer)/polarizer P1. Next, the coating liquid for forming the resin layer of Production Example 4 was applied to the surface of the polarizer P1 using a wire bar, and then the coating film was dried at 60° C. for 5 minutes to form a solidified product of the coating film of the organic solvent solution of the resin. A resin layer (thickness 400 nm) was formed. Next, the first adhesive layer PSA1 (thickness 15 μm) obtained in Production Example 6 was placed on the surface of the resin layer, and the structure of HC layer/TAC film (protective layer)/polarizer P1/resin layer/first adhesive layer PSA1 was formed. An optical laminate having was obtained. The obtained optical laminate was subjected to the evaluation of '(3) crack' above. The results are shown in Table 1.

[실시예 2~7, 비교예 1~7 및 참고예 1~2][Examples 2 to 7, Comparative Examples 1 to 7 and Reference Examples 1 to 2]

편광자, 수지층, 위상차층, 제1 점착제층 및 제2 점착제층을 표 1에 나타내는 바와 같이 조합한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 적층체를 얻었다. 얻어진 광학 적층체를 실시예 1과 마찬가지의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. 또한, 표의 '수지층'란에서의 참고예 1 및 2의 '보호층'은, 수지층이 아니라 TAC 필름을 이용한 것을 나타낸다.An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the polarizer, resin layer, retardation layer, first adhesive layer, and second adhesive layer were combined as shown in Table 1. The obtained optical laminated body was subjected to the same evaluation as Example 1. The results are shown in Table 1. In addition, the 'protective layer' of Reference Examples 1 and 2 in the 'Resin Layer' column of the table indicates that a TAC film was used, not a resin layer.

[표 1][Table 1]

[평가][evaluation]

표 1로부터 명확한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따르면, 특정의 수지층이 편광자에 인접하여 배치되어 있는 광학 적층체에서, 동일 구성(위상차층을 포함하지 않는 구성끼리, 또는, 위상차층을 포함하는 구성끼리)에서 비교하면, 고온 환경하에서의 편광자의 크랙을 억제할 수 있다. 또한, 위상차층을 마련함으로써, 크랙이 현저해지는 것을 알 수 있다. 더하여, 참고예 1 및 2로부터 명확한 바와 같이, 특정의 수지층이 편광자에 인접하여 배치되어 있는 광학 적층체에서 크랙이 현저해지는 것을 알 수 있다.As is clear from Table 1, according to the embodiment of the present invention, in the optical laminate in which a specific resin layer is disposed adjacent to the polarizer, the same configuration (components that do not include a retardation layer, or include a retardation layer) When compared with each other, cracking of the polarizer in a high temperature environment can be suppressed. Additionally, it can be seen that cracks become more noticeable by providing a phase difference layer. In addition, as is clear from Reference Examples 1 and 2, it can be seen that cracks become noticeable in the optical laminate in which a specific resin layer is disposed adjacent to the polarizer.

본 발명의 실시형태에 따른 광학 적층체는, 화상 표시 장치(대표적으로는, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치)에 적합하게 이용될 수 있다.The optical laminate according to the embodiment of the present invention can be suitably used in an image display device (typically a liquid crystal display device or an organic EL display device).

10: 편광판
11: 편광자
12: 보호층
20: 수지층
30: 위상차층
40: 다른 위상차층
50: 제1 점착제층
60: 제2 점착제층
100: 광학 적층체
101: 광학 적층체
10: Polarizer
11: Polarizer
12: protective layer
20: Resin layer
30: Phase contrast layer
40: Other phase contrast layer
50: first adhesive layer
60: Second adhesive layer
100: Optical laminate
101: Optical laminate

Claims (12)

편광자와 상기 편광자의 한쪽 측에 배치된 보호층을 포함하는 편광판과, 상기 편광자에 인접하여 배치된 수지층과, 수지층 측의 최외층으로서 배치된 제1 점착제층을 포함하고,
상기 편광자의 흡수축 방향의 수축률이 2.5% 이하이며,
상기 제1 점착제층의 두께가 17㎛ 이하이고, 또한 23℃에서의 저장 탄성률이 0.10MPa 이상인,
광학 적층체.
A polarizing plate including a polarizer and a protective layer disposed on one side of the polarizer, a resin layer disposed adjacent to the polarizer, and a first adhesive layer disposed as an outermost layer on the resin layer side,
The shrinkage rate of the polarizer in the absorption axis direction is 2.5% or less,
The thickness of the first adhesive layer is 17㎛ or less, and the storage modulus at 23°C is 0.10MPa or more,
Optical laminate.
제1항에 있어서,
상기 수지층의 편광자와 반대 측에, 제2 점착제층을 개재하여 적층된 위상차층을 더욱 포함하고,
상기 위상차층이 원편광 기능 또는 타원편광 기능을 가지며,
상기 제2 점착제층의 두께가 7㎛ 이하이고, 또한, 23℃에서의 저장 탄성률이 0.12MPa 이상인,
광학 적층체.
According to paragraph 1,
On the side opposite to the polarizer of the resin layer, it further includes a retardation layer laminated through a second adhesive layer,
The retardation layer has a circular polarization function or an elliptical polarization function,
The thickness of the second adhesive layer is 7 μm or less, and the storage modulus at 23° C. is 0.12 MPa or more,
Optical laminate.
제2항에 있어서,
상기 편광자 및 상기 보호층의 합계 두께를 A(㎛)로 하고, 상기 수지층, 상기 제2 점착제층, 상기 위상차층 및 상기 제1 점착제층의 합계 두께를 B(㎛)로 하였을 때, A<B의 관계를 만족하는, 광학 적층체.
According to paragraph 2,
When the total thickness of the polarizer and the protective layer is set to A (㎛), and the total thickness of the resin layer, the second adhesive layer, the retardation layer, and the first adhesive layer is set to B (㎛), A < An optical laminate that satisfies the relationship B.
제3항에 있어서,
상기 위상차층이 수지 필름의 연신 필름으로 구성되어 있고, 그의 Re(550)가 100nm~200nm이며, Re(450)<Re(550)의 관계를 만족하고, 상기 위상차층의 지상축과 상기 편광자의 흡수축이 이루는 각도가 40°~50°인, 광학 적층체:
(여기에서, Re(450) 및 Re(550)는, 각각, 23℃에서의 파장 450nm 및 550nm의 광으로 측정한 면내 위상차임).
According to paragraph 3,
The retardation layer is composed of a stretched resin film, its Re (550) is 100 nm to 200 nm, satisfies the relationship of Re (450) < Re (550), and the slow axis of the retardation layer and the polarizer are Optical laminates where the absorption axis angle is between 40° and 50°:
(Here, Re(450) and Re(550) are the in-plane retardation measured with light with a wavelength of 450 nm and 550 nm at 23°C, respectively.)
제4항에 있어서,
상기 위상차층의 수지층과 반대 측에, 굴절률 특성이 nz>nx=ny의 관계를 나타내는 다른 위상차층을 더욱 포함하는, 광학 적층체.
According to paragraph 4,
An optical laminate further comprising another retardation layer on the side opposite to the resin layer of the retardation layer, the refractive index characteristic exhibiting the relationship nz>nx=ny.
제1항에 있어서,
상기 수지층이, 유리전이온도가 85℃ 이상이고 중량평균 분자량(Mw)이 25000 이상인 수지를 포함하는, 광학 적층체.
According to paragraph 1,
An optical laminate wherein the resin layer includes a resin having a glass transition temperature of 85° C. or higher and a weight average molecular weight (Mw) of 25,000 or higher.
제6항에 있어서,
상기 수지층의 압입 탄성률이 8GPa 이상인, 광학 적층체.
According to clause 6,
An optical laminate wherein the resin layer has an indentation elastic modulus of 8 GPa or more.
제7항에 있어서,
상기 수지층의 두께가 1㎛ 이하인, 광학 적층체.
In clause 7,
An optical laminate wherein the resin layer has a thickness of 1 μm or less.
제8항에 있어서,
상기 편광자의 두께가 8㎛ 이하이고, 압입 탄성률이 9.5GPa 이하이며, 또한, 압입 경도가 0.65GPa 이상인, 광학 적층체.
According to clause 8,
An optical laminate in which the thickness of the polarizer is 8 μm or less, the indentation elastic modulus is 9.5 GPa or less, and the indentation hardness is 0.65 GPa or more.
제9항에 있어서,
상기 편광자의 배향 함수가 0.30 이상인, 광학 적층체.
According to clause 9,
An optical laminate wherein the polarizer has an orientation function of 0.30 or more.
제1항에 있어서,
상기 편광자의 흡수축 방향의 수축률이 2.0% 이하인, 광학 적층체.
According to paragraph 1,
An optical laminate wherein the shrinkage rate of the polarizer in the absorption axis direction is 2.0% or less.
화상 표시 패널과, 상기 화상 표시 패널에 상기 제1 점착제층을 개재하여 첩합된 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 기재된 광학 적층체를 구비하는, 화상 표시 장치.An image display device comprising an image display panel and the optical laminated body according to any one of claims 1 to 11 bonded to the image display panel via the first adhesive layer.
KR1020230175777A 2022-12-14 2023-12-06 Optical laminate and image display device KR20240092589A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2022-199741 2022-12-14

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20240092589A true KR20240092589A (en) 2024-06-24

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN112840254A (en) Polarizing plate with phase difference layer and image display device using same
CN112840252B (en) Polarizing plate with phase difference layer and image display device using same
KR20170027303A (en) Optical laminate
CN112840245B (en) Polarizing plate with phase difference layer and image display device using same
KR20200007789A (en) Circular polarizer and organic EL panel
CN112840248A (en) Polarizing plate with phase difference layer and image display device using same
WO2022097630A1 (en) Polarizing plate subjected to curved surface processing and method for producing same
KR20240092589A (en) Optical laminate and image display device
CN112840251B (en) Polarizing plate with phase difference layer and image display device using same
CN112840250B (en) Polarizing plate with retardation layer and image display device using the same
TW202146224A (en) Antireflection layer-equipped circular polarizing plate and image display device using antireflection layer-equipped circular polarizing plate
KR20220076468A (en) Polarizing plate with retardation layer and organic electroluminescent display device using same
KR20220019102A (en) Method for producing a polarizing plate with a retardation layer and a hard coat layer
JP2024085287A (en) Optical laminate and image display device
CN118191990A (en) Optical laminate and image display device
KR20240092588A (en) Polarizer and manufacturing method thereof, and optical laminate comprising the polarizer and image display device
CN112840249B (en) Polarizing plate with retardation layer and image display device using the same
WO2023013275A1 (en) Retardation layer-equipped polarizing plate and image display device using same
KR20240081356A (en) Optical laminate and image display apparatus
CN115236785B (en) Polarizing plate with phase difference layer and image display device using same
KR20240047313A (en) Laminate and image display device
JP2023073124A (en) Polarizer with phase difference layer and image display device with the same
KR20230106612A (en) Polarizing plate with retardation layer and organic electroluminescent display device using the same
KR20230032913A (en) Polarizing plate and polarizing plate with retardation layer
KR20230152587A (en) Phase difference layer-equipped polarizing plate and image display device