KR20240095215A - Polarizer and image display device with phase contrast layer - Google Patents

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KR20240095215A
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소헤이 아루가
히로노리 야기누마
타이스케 사사가와
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 가혹한 고온 고습 환경하에서도 우수한 내구성을 갖는 위상차층 부착 편광판을 제공한다. 본 발명의 실시형태에 따른 위상차층 부착 편광판은, 서로 대향하는 제1 주면 및 제2 주면을 갖는 제1 위상차층과, 상기 제1 위상차층의 상기 제1 주면 측에 배치되는 편광자와, 상기 제1 위상차층의 상기 제2 주면 측에 배치되는 제1 층을 포함하고, 상기 제1 위상차층은 수지 필름의 연신 필름으로 구성되며, Re(450)<Re(550)의 관계를 만족하고, 상기 제1 층은 수지층이며, 전단 파괴 강도가 85MPa 이상이다. 여기서 Re(450) 및 Re(550)는, 각각 23℃에서의 파장 450nm 및 파장 550nm의 광으로 측정한 면내 위상차이다.The present invention provides a polarizing plate with a retardation layer having excellent durability even under harsh high-temperature and high-humidity environments. A polarizing plate with a retardation layer according to an embodiment of the present invention includes a first retardation layer having a first main surface and a second main surface opposing each other, a polarizer disposed on the first main surface side of the first retardation layer, and the second main surface. 1 Comprising a first layer disposed on the second main surface side of the retardation layer, wherein the first retardation layer is composed of a stretched resin film, and satisfies the relationship of Re (450) < Re (550), The first layer is a resin layer and has a shear fracture strength of 85 MPa or more. Here, Re(450) and Re(550) are the in-plane retardation measured with light with a wavelength of 450 nm and 550 nm at 23°C, respectively.

Description

위상차층 부착 편광판 및 화상 표시 장치Polarizer and image display device with phase contrast layer

본 발명은, 위상차층 부착 편광판 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a polarizing plate with a retardation layer and an image display device.

근래, 액정 표시 장치 및 일렉트로루미네센스(EL) 표시 장치(예컨대, 유기 EL 표시 장치, 무기 EL 표시 장치)로 대표되는 화상 표시 장치가 급속히 보급되고 있다. 화상 표시 장치에는, 대표적으로는 편광판 및 위상차판이 이용되고 있다. 실용적으로는, 편광판과 위상차판을 일체화한 위상차층 부착 편광판이 널리 이용되고 있다(예컨대, 특허문헌 1). 근래, 화상 표시 장치의 용도의 확산에 수반하여, 위상차층 부착 편광판에 대해서도 각종 성능의 향상이 요망되고 있다. 예컨대, 위상차층 부착 편광판에 대하여, 종래에는 요구되지 않았던 가혹한 고온 고습 환경하에서의 내구성이 요구되는 경우가 있다.In recent years, image display devices represented by liquid crystal displays and electroluminescence (EL) display devices (e.g., organic EL display devices and inorganic EL display devices) are rapidly becoming popular. Polarizing plates and retardation plates are typically used in image display devices. In practical terms, a polarizing plate with a retardation layer that integrates a polarizing plate and a retardation plate is widely used (for example, patent document 1). In recent years, with the spread of the use of image display devices, there has been a demand for improvement in various performances also for polarizing plates with a retardation layer. For example, a polarizing plate with a retardation layer may be required to have durability under harsh high-temperature, high-humidity environments that was not required in the past.

일본 특허공보 제3325560호Japanese Patent Publication No. 3325560

본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하기 위해서 이루어진 것이며, 그의 주된 목적은, 가혹한 고온 고습 환경하에서도 우수한 내구성을 갖는 위상차층 부착 편광판을 제공하는 것에 있다.The present invention was made to solve the above-described conventional problems, and its main purpose is to provide a polarizing plate with a retardation layer having excellent durability even in a harsh high-temperature, high-humidity environment.

본 발명의 실시형태에 따른 위상차층 부착 편광판은, 서로 대향하는 제1 주면 및 제2 주면을 갖는 제1 위상차층과, 상기 제1 위상차층의 상기 제1 주면 측에 배치되는 편광자와, 상기 제1 위상차층의 상기 제2 주면 측에 배치되는 제1 층을 포함하고, 상기 제1 위상차층은 수지 필름의 연신 필름으로 구성되며 Re(450)<Re(550)의 관계를 만족하고, 상기 제1 층은 수지층이며, 전단 파괴 강도가 85MPa 이상이다.A polarizing plate with a retardation layer according to an embodiment of the present invention includes a first retardation layer having a first main surface and a second main surface opposing each other, a polarizer disposed on the first main surface side of the first retardation layer, and the second main surface. 1 comprising a first layer disposed on the second main surface side of the retardation layer, wherein the first retardation layer is composed of a stretched resin film and satisfies the relationship of Re (450) < Re (550), The first layer is a resin layer, and the shear fracture strength is more than 85MPa.

본 발명의 다른 실시형태에 따른 위상차층 부착 편광판은, 서로 대향하는 제1 주면 및 제2 주면을 갖는 제1 위상차층과, 상기 제1 위상차층의 상기 제1 주면 측에 배치되는 편광자와, 상기 제1 위상차층의 상기 제2 주면 측에 배치되는 제1 층과, 상기 제1 위상차층의 상기 제1 주면 측에 배치되는 제2 층을 포함하고, 상기 제1 위상차층은 수지 필름의 연신 필름으로 구성되며 Re(450)<Re(550)의 관계를 만족하고, 상기 제1 층은 수지층이며 전단 파괴 강도가 60MPa 이상이고, 상기 제2 층은 수지층이며 전단 파괴 강도가 60MPa 이상이다.A polarizing plate with a retardation layer according to another embodiment of the present invention includes a first retardation layer having a first main surface and a second main surface opposing each other, a polarizer disposed on the first main surface side of the first retardation layer, and It includes a first layer disposed on the second main surface side of the first retardation layer, and a second layer disposed on the first main surface side of the first retardation layer, wherein the first retardation layer is a stretched film of a resin film. It satisfies the relationship of Re (450) < Re (550), the first layer is a resin layer and has a shear fracture strength of 60 MPa or more, and the second layer is a resin layer and has a shear fracture strength of 60 MPa or more.

여기서, Re(450) 및 Re(550)는, 각각 23℃에서의 파장 450nm 및 파장 550nm의 광으로 측정한 면내 위상차이다.Here, Re(450) and Re(550) are the in-plane retardation measured with light with a wavelength of 450 nm and 550 nm at 23°C, respectively.

하나의 실시형태에서는, 상기 제1 위상차층의 Re(550)는 100nm~200nm이고, 상기 제1 위상차층의 지상축과 상기 편광자의 흡수축이 이루는 각도는 40°~50° 또는 130°~140°이다.In one embodiment, Re (550) of the first retardation layer is 100 nm to 200 nm, and the angle formed between the slow axis of the first retardation layer and the absorption axis of the polarizer is 40 ° to 50 ° or 130 ° to 140 °. It is °.

하나의 실시형태에서는, 상기 위상차층 부착 편광판은, 상기 제1 위상차층의 상기 제2 주면 측에 배치되며, 굴절률 특성이 nz>nx=ny의 관계를 나타내는 제2 위상차층을 포함하고, 상기 제1 층은 상기 제1 위상차층과 상기 제2 위상차층의 사이에 배치된다.In one embodiment, the polarizing plate with a retardation layer includes a second retardation layer disposed on the second main surface side of the first retardation layer and having a refractive index characteristic showing the relationship nz>nx=ny, and The first layer is disposed between the first phase difference layer and the second phase difference layer.

하나의 실시형태에서는, 상기 제1 층은 접착층으로서 기능한다. In one embodiment, the first layer functions as an adhesive layer.

하나의 실시형태에서는, 상기 제1 위상차층은, 카보네이트 결합 및 에스테르 결합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 결합기와, 하기 일반식 (1)로 나타내는 구조 단위 및 하기 일반식 (2)로 나타내는 구조 단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 구조 단위를 포함하고, 양(正)의 굴절률 이방성을 갖는 수지를 함유한다:In one embodiment, the first phase difference layer includes at least one bonding group selected from the group consisting of a carbonate bond and an ester bond, a structural unit represented by the following general formula (1), and a structure represented by the following general formula (2) It contains a resin that contains at least one structural unit selected from the group consisting of the unit and has positive refractive index anisotropy:

일반식 (1) 및 (2) 중, R1~R3은, 각각 독립적으로, 직접 결합, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~4의 알킬렌기이고, R4~R9는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 4~10의 아릴기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 아실기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 알콕시기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 아릴옥시기, 치환 또는 비치환의 아미노기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 비닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 에티닐기, 치환기를 갖는 황 원자, 치환기를 갖는 규소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 또는 시아노기이며; 단, R4~R9은, 서로 동일하여도, 상이하여도 되고, R4~R9 중 이웃하는 적어도 2개의 기가 서로 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다.In general formulas (1) and (2), R 1 to R 3 are each independently a directly bonded, substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and R 4 to R 9 are each independently hydrogen. Atom, substituted or unsubstituted alkyl group with 1 to 10 carbon atoms, substituted or unsubstituted aryl group with 4 to 10 carbon atoms, substituted or unsubstituted acyl group with 1 to 10 carbon atoms, substituted or unsubstituted alkoxy group with 1 to 10 carbon atoms, substituted or an unsubstituted aryloxy group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted amino group, a substituted or unsubstituted vinyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted ethynyl group having 1 to 10 carbon atoms, a sulfur atom having a substituent, or a substituent. It has a silicon atom, a halogen atom, a nitro group, or a cyano group; However, R 4 to R 9 may be the same or different from each other, and at least two neighboring groups among R 4 to R 9 may be bonded to each other to form a ring.

하나의 실시형태에서는, 상기 위상차층 부착 편광판은, 상기 편광자의 상기 제1 위상차층과 반대 측에 배치되는 보호층을 포함하고, 상기 보호층을 85℃의 환경하에 240시간 둔 후의 수축률은 0.05% 미만이다.In one embodiment, the polarizing plate with a retardation layer includes a protective layer disposed on a side opposite to the first retardation layer of the polarizer, and the shrinkage rate of the protective layer after being placed in an environment at 85° C. for 240 hours is 0.05%. It is less than.

하나의 실시형태에서는, 상기 보호층은 트리아세틸셀룰로오스 필름 또는 환상 올레핀계 수지 필름으로 구성된다.In one embodiment, the protective layer is composed of a triacetylcellulose film or a cyclic olefin-based resin film.

본 발명의 다른 국면에 따르면, 화상 표시 장치가 제공된다. 이 화상 표시 장치는, 상기의 위상차층 부착 편광판을 구비한다.According to another aspect of the present invention, an image display device is provided. This image display device is provided with the above-described polarizing plate with a retardation layer.

본 발명의 실시형태에 따르면, 가혹한 고온 고습 환경하에서도 우수한 내구성을 갖는 위상차층 부착 편광판을 실현할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, a polarizing plate with a retardation layer having excellent durability even under a harsh high-temperature and high-humidity environment can be realized.

도 1은, 본 발명의 제1 실시형태에 따른 위상차층 부착 편광판의 개략적인 구성을 나타내는 모식적인 단면도이다.
도 2는, 본 발명의 제2 실시형태에 따른 위상차층 부착 편광판의 개략적인 구성을 나타내는 모식적인 단면도이다.
1 is a schematic cross-sectional view showing the schematic configuration of a polarizing plate with a retardation layer according to a first embodiment of the present invention.
Fig. 2 is a schematic cross-sectional view showing the schematic structure of a polarizing plate with a retardation layer according to a second embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 실시형태에 대하여 도면을 참조하면서 설명하지만, 본 발명은 이들 실시형태로는 한정되지 않는다. 도면은 설명을 보다 명확하게 하기 위하여, 실시형태에 비하여, 각 부의 폭, 두께, 형상 등에 대하여 모식적으로 나타내는 경우가 있지만, 어디까지나 일례이며, 본 발명의 해석을 한정하는 것은 아니다. 또한, 도면에 대해서는, 동일 또는 동등한 요소에는 동일한 부호를 붙이고, 중복되는 설명은 생략하는 경우가 있다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited to these embodiments. In order to make the explanation clearer, the drawings may schematically show the width, thickness, shape, etc. of each part compared to the embodiment, but are only examples and do not limit the interpretation of the present invention. In addition, in the drawings, identical or equivalent elements are given the same reference numerals, and overlapping descriptions may be omitted.

(용어 및 기호의 정의)(Definition of terms and symbols)

본 명세서에서의 용어 및 기호의 정의는 하기와 같다.The definitions of terms and symbols in this specification are as follows.

(1) 굴절률(nx, ny, nz)(1) Refractive index (nx, ny, nz)

'nx'는 면내의 굴절률이 최대가 되는 방향(즉, 지상축 방향)의 굴절률이고, 'ny'는 면내에서 지상축과 직교하는 방향(즉, 진상축 방향)의 굴절률이며, 'nz'는 두께 방향의 굴절률이다.'nx' is the refractive index in the direction where the in-plane refractive index is maximum (i.e., slow axis direction), 'ny' is the refractive index in the direction orthogonal to the slow axis in the plane (i.e., fast axis direction), and 'nz' is It is the refractive index in the thickness direction.

(2) 면내 위상차(Re)(2) In-plane phase difference (Re)

'Re(λ)'는, 23℃에서의 파장 λnm의 광으로 측정한 필름의 면내 위상차이다. 예컨대, 'Re(450)'는, 23℃에서의 파장 450nm의 광으로 측정한 필름의 면내 위상차이다. Re(λ)는, 필름의 두께를 d(nm)로 하였을 때, 식: Re=(nx-ny)×d에 의해 구할 수 있다.'Re(λ)' is the in-plane retardation of the film measured with light with a wavelength of λnm at 23°C. For example, 'Re(450)' is the in-plane retardation of the film measured with light with a wavelength of 450 nm at 23°C. Re(λ) can be obtained by the formula: Re=(nx-ny)×d, when the thickness of the film is d(nm).

(3) 두께 방향의 위상차(Rth)(3) Phase difference in the thickness direction (Rth)

'Rth(λ)'는, 23℃에서의 파장 λnm의 광으로 측정한 필름의 두께 방향의 위상차이다. 예컨대, 'Rth(450)'는, 23℃에서의 파장 450nm의 광으로 측정한 필름의 두께 방향의 위상차이다. Rth(λ)는, 필름의 두께를 d(nm)로 하였을 때, 식: Rth=(nx-nz)×d에 의해 구할 수 있다.'Rth(λ)' is the phase difference in the thickness direction of the film measured with light with a wavelength of λnm at 23°C. For example, 'Rth(450)' is the phase difference in the thickness direction of the film measured with light with a wavelength of 450 nm at 23°C. Rth (λ) can be obtained by the formula: Rth = (nx-nz) × d, when the thickness of the film is d (nm).

(4) Nz 계수(4) Nz coefficient

Nz 계수는, Nz=Rth/Re에 의해 구할 수 있다.The Nz coefficient can be obtained by Nz=Rth/Re.

(5) 각도(5) angle

본 명세서에서 각도를 언급할 때는, 특별히 명기하지 않는 한, 당해 각도는 시계 방향 및 반시계 방향의 양쪽의 방향의 각도를 포함한다.When referring to an angle in this specification, unless otherwise specified, the angle includes angles in both clockwise and counterclockwise directions.

A. 위상차층 부착 편광판A. Polarizer with phase contrast layer

도 1은, 본 발명의 제1 실시형태에 따른 위상차층 부착 편광판의 개략적인 구성을 나타내는 모식적인 단면도이다. 위상차층 부착 편광판(100)은, 서로 대향하는 제1 주면(21a) 및 제2 주면(21b)을 갖는 제1 위상차층(21)과, 제1 위상차층(21)의 제1 주면(21a) 측에 배치된 편광판(10)과, 제1 위상차층(21)의 제2 주면(21b) 측에 배치된 제1 층(31), 제2 위상차층(22) 및 점착제층(40)을 포함한다. 편광판(10)은, 제1 위상차층(21) 측으로부터 편광자(11) 및 보호층(12)을 이 순서대로 포함하고 있다. 편광자(11)와 제1 위상차층(21)의 사이에는 보호층은 배치되어 있지 않고, 제1 위상차층(21)은 편광자(11)에 인접하여 배치되어, 편광자(11)의 보호재로서 기능할 수 있다. 위상차층 부착 편광판(100)은, 대표적으로는, 화상 표시 장치에서 제1 위상차층(21)보다도 편광자(11)가 시인(視認) 측이 되도록 배치된다. 위상차층 부착 편광판(100)은, 예컨대 편광자(11)와 보호층(12)을 적층하여 얻어지는 편광판(10)과, 그 밖의 층을 적층함으로써 얻을 수 있다.1 is a schematic cross-sectional view showing the schematic configuration of a polarizing plate with a retardation layer according to a first embodiment of the present invention. The polarizing plate 100 with a retardation layer includes a first retardation layer 21 having a first main surface 21a and a second main surface 21b facing each other, and a first main surface 21a of the first retardation layer 21. It includes a polarizing plate 10 disposed on the side, a first layer 31, a second retardation layer 22, and an adhesive layer 40 disposed on the second main surface 21b side of the first retardation layer 21. do. The polarizing plate 10 includes a polarizer 11 and a protective layer 12 in this order from the first retardation layer 21 side. No protective layer is disposed between the polarizer 11 and the first retardation layer 21, and the first retardation layer 21 is disposed adjacent to the polarizer 11 to function as a protective material for the polarizer 11. You can. The polarizing plate 100 with a retardation layer is typically arranged so that the polarizer 11 is on the viewing side rather than the first retardation layer 21 in an image display device. The polarizing plate 100 with a retardation layer can be obtained, for example, by laminating the polarizing plate 10 obtained by laminating the polarizer 11 and the protective layer 12, and other layers.

도 2는, 본 발명의 제2 실시형태에 따른 위상차층 부착 편광판의 개략적인 구성을 나타내는 모식적인 단면도이다. 제2 실시형태에서는, 제1 위상차층(21)의 제1 주면(21a) 측에 제2 층(32)이 마련되어 있는 점이, 상기 제1 실시형태와 상이하다. 구체적으로는, 위상차층 부착 편광판(100)은, 추가로 편광판(10)(편광자(11))과 제1 위상차층(21) 사이에 배치되는 제2 층(32)을 포함한다.Fig. 2 is a schematic cross-sectional view showing the schematic structure of a polarizing plate with a retardation layer according to a second embodiment of the present invention. The second embodiment differs from the first embodiment in that the second layer 32 is provided on the first main surface 21a of the first phase difference layer 21. Specifically, the polarizing plate 100 with a retardation layer further includes the second layer 32 disposed between the polarizing plate 10 (polarizer 11) and the first retardation layer 21.

도시예에서는, 편광판(10)은, 편광자(11)와 편광자(11)의 편측에 배치되는 보호층(12)을 포함하고 있지만, 추가로, 편광자(11)의 다른 편측에 배치되는 제2 보호층을 포함하고 있어도 된다. 또한, 편광판(10)은, 편광자(11)와 보호층(12)을 포함하고 있지만, 보호층(12)은 생략되어도 된다.In the illustrated example, the polarizer 10 includes a polarizer 11 and a protective layer 12 disposed on one side of the polarizer 11, but in addition, a second protection layer is disposed on the other side of the polarizer 11. It may contain layers. Additionally, the polarizing plate 10 includes a polarizer 11 and a protective layer 12, but the protective layer 12 may be omitted.

제1 위상차층(21)은, 수지 필름의 연신 필름으로 구성되며, Re(450)<Re(550)의 관계를 만족한다. 제1 위상차층(21)의 Re(550)는, 대표적으로는 100nm~200nm이다. 제1 위상차층(21)의 지상축과 편광자(11)의 흡수축이 이루는 각도는, 바람직하게는 40°~50°이고, 보다 바람직하게는 42°~48°이며, 더욱 바람직하게는 44°~46°이고, 특히 바람직하게는 약 45°이며; 혹은, 바람직하게는 130°~140°이고, 보다 바람직하게는 132°~138°이며, 더욱 바람직하게는 134°~136°이고, 특히 바람직하게는 약 135°이다.The first retardation layer 21 is composed of a stretched resin film and satisfies the relationship Re(450)<Re(550). Re(550) of the first phase difference layer 21 is typically 100 nm to 200 nm. The angle formed by the slow axis of the first retardation layer 21 and the absorption axis of the polarizer 11 is preferably 40° to 50°, more preferably 42° to 48°, and even more preferably 44°. -46°, particularly preferably about 45°; Alternatively, it is preferably 130° to 140°, more preferably 132° to 138°, further preferably 134° to 136°, and particularly preferably about 135°.

위상차층 부착 편광판을 구성하는 각 부재는, 임의의 적절한 접착층(도시하지 않음)을 개재하여 적층될 수 있다. 접착층의 구체예로서는 접착제층, 점착제층을 들 수 있다. 예컨대 보호층(12)은, 접착제층을 개재하여(바람직하게는, 활성 에너지선 경화형 접착제를 이용하여) 편광자(11)에 첩합된다. 접착제층의 두께는, 바람직하게는 0.4㎛ 이상이고, 보다 바람직하게는 0.4㎛~3.0㎛이며, 더욱 바람직하게는 0.6㎛~2.2㎛이다. 예컨대, 제1 위상차층(20)은, 점착제층(예컨대, 아크릴계 점착제)을 개재하여 편광판(10)(편광자(11))에 첩합된다. 점착제층의 두께는, 바람직하게는 1㎛~10㎛이다.Each member constituting the polarizing plate with a retardation layer can be laminated through any suitable adhesive layer (not shown). Specific examples of the adhesive layer include an adhesive layer and an adhesive layer. For example, the protective layer 12 is bonded to the polarizer 11 through an adhesive layer (preferably using an active energy ray-curable adhesive). The thickness of the adhesive layer is preferably 0.4 μm or more, more preferably 0.4 μm to 3.0 μm, and still more preferably 0.6 μm to 2.2 μm. For example, the first retardation layer 20 is bonded to the polarizing plate 10 (polarizer 11) via an adhesive layer (for example, an acrylic adhesive). The thickness of the adhesive layer is preferably 1 μm to 10 μm.

제1 위상차층(21)의 제2 주면(21b) 측에 배치되는 점착제층(40)에 의해, 예컨대, 위상차층 부착 편광판(100)은 화상 표시 장치에 포함되는 화상 표시 패널에 첩부 가능하게 된다. 점착제층(40)의 두께는, 바람직하게는 10㎛~20㎛이다. 점착제층(40)은, 예컨대, 아크릴계 점착제로 구성된다. 도시하지 않지만, 점착제층(40)의 표면에는, 실용적으로는, 박리 라이너가 첩합된다. 박리 라이너는, 위상차층 부착 편광판이 사용에 제공될 때까지 가착될 수 있다. 박리 라이너를 이용함으로써, 예컨대, 점착제층(40)을 보호함과 함께, 위상차층 부착 편광판의 롤 형성이 가능하게 된다.By the adhesive layer 40 disposed on the second main surface 21b side of the first retardation layer 21, for example, the polarizer 100 with a retardation layer can be attached to an image display panel included in the image display device. . The thickness of the adhesive layer 40 is preferably 10 μm to 20 μm. The adhesive layer 40 is made of, for example, an acrylic adhesive. Although not shown, a release liner is practically bonded to the surface of the adhesive layer 40. The release liner can be temporarily applied until the polarizer with a retardation layer is ready for use. By using a release liner, for example, the adhesive layer 40 is protected and roll formation of a polarizing plate with a retardation layer becomes possible.

제1 층(31) 및 제2 층(32)은, 수지층이다. 구체적으로는, 제1 층(31) 및 제2 층(32)은, 각각, 수지의 경화층이어도 되고, 수지의 고화층이어도 되며, 이들의 조합을 포함하는 층이어도 된다. 제1 층(31) 및 제2 층(32)은, 각각, 제1 위상차층(21)에 직접 접하여 배치되는(제1 위상차층(21)에 직접 형성됨) 것이 바람직하다. 하나의 실시형태에서는, 제1 층(31)은, 제1 위상차층(21)과 제1 위상차층(21)에 인접하여 배치되는 층(예컨대, 제2 위상차층(22))을 고착시키는 접착층으로서 기능할 수 있다. 또한, 인접이란, 직접 이웃하고 있을 뿐만 아니라, 접착층을 개재하여 이웃하고 있는 것도 포함한다.The first layer 31 and the second layer 32 are resin layers. Specifically, the first layer 31 and the second layer 32 may each be a hardened resin layer, a solidified resin layer, or a layer containing a combination of these. It is preferable that the first layer 31 and the second layer 32 are each disposed in direct contact with the first phase difference layer 21 (formed directly on the first phase difference layer 21). In one embodiment, the first layer 31 is an adhesive layer that adheres the first retardation layer 21 and a layer disposed adjacent to the first retardation layer 21 (e.g., the second retardation layer 22). It can function as In addition, adjacent includes not only directly neighboring but also adjacent through an adhesive layer.

제2 층(32)의 전단 파괴 강도는, 바람직하게는 60MPa 이상 200MPa 이하이고, 더욱 바람직하게는 80MPa 이상 120MPa 이하이다.The shear fracture strength of the second layer 32 is preferably 60 MPa or more and 200 MPa or less, and more preferably 80 MPa or more and 120 MPa or less.

도 1에 나타내는 바와 같이, 위상차층 부착 편광판(100)이 제2 층(32)을 포함하지 않는 형태(편광판(10)과 제1 위상차층(21)이 인접하여 배치되는 형태)에서는, 제1 층(31)의 전단 파괴 강도는, 80MPa를 초과하고, 바람직하게는 85MPa 이상이며, 더욱 바람직하게는 90MPa 이상이다. 한편, 제1 층(31)의 전단 파괴 강도는, 200MPa 이하인 것이 바람직하다.As shown in FIG. 1, in a form in which the polarizing plate 100 with a retardation layer does not include the second layer 32 (a form in which the polarizing plate 10 and the first retardation layer 21 are disposed adjacent to each other), the first The shear fracture strength of the layer 31 exceeds 80 MPa, preferably 85 MPa or more, and more preferably 90 MPa or more. On the other hand, the shear fracture strength of the first layer 31 is preferably 200 MPa or less.

도 2에 나타내는 바와 같이, 위상차층 부착 편광판(100)이 제2 층(32)을 포함하는 형태에서는, 제1 층(31)의 전단 파괴 강도는, 40MPa 이상이고, 바람직하게는 50MPa 이상이며, 보다 바람직하게는 60MPa 이상이다. 한편, 제1 층(31)의 전단 파괴 강도는 200MPa 이하인 것이 바람직하고, 85MPa 미만이어도 되며, 80MPa 이하여도 된다.As shown in FIG. 2, in the form where the polarizing plate 100 with a retardation layer includes the second layer 32, the shear breaking strength of the first layer 31 is 40 MPa or more, preferably 50 MPa or more, More preferably, it is 60 MPa or more. On the other hand, the shear fracture strength of the first layer 31 is preferably 200 MPa or less, may be less than 85 MPa, or may be 80 MPa or less.

제 1층, 혹은 제 1층 및 제 2층을 마련함으로써, 가혹한 고온 고습 환경하에서도 우수한 내구성을 갖는 위상차층 부착 편광판을 실현할 수 있다. 구체적으로는, 가혹한 고온 고습 환경하에서도 크랙 및 박리가 억제된 위상차층 부착 편광판을 실현할 수 있다. 상세는 이하와 같다. 본 발명의 실시형태에 이용되는 제1 위상차층은, 매우 우수한 원편광 특성을 발현하므로, 매우 우수한 반사 방지 기능을 갖는 위상차층 부착 편광판(원편광판)을 실현할 수 있다. 또한, 이와 같은 제1 위상차층은, 후술하는 굴절률 특성이 nz>nx=ny의 관계를 나타내는 제2 위상차층과 조합하여 이용함으로써, 반사 방지 기능의 광시야각화가 가능하게 된다. 한편으로, 제1 위상차층을 구성하는 수지 필름의 연신 필름은, 열수축이 크고, 흡수(吸水)율이 높기 때문에, 고온 고습 환경하에서의 신뢰성이 불충분하게 되는 경우가 있고, 또한, 특성에 관한 근래의 새로운 기준이 되고 있는 가혹한 고온 고습 환경하에서는 크랙 및/또는 박리가 발생하는 경우가 있다. 본 발명의 실시형태에 따르면, 제1 층, 혹은 제1 층 및 제2 층을 마련함으로써, 제1 위상차층의 우수한 특성을 유지하면서, 위상차층 부착 편광판 전체로서, 가혹한 고온 고습 환경하에서의 내구성 및 신뢰성을 현저하게 개선할 수 있다. 그 결과, 가혹한 고온 고습 환경하에서도 크랙 및 박리가 억제된 위상차층 부착 편광판을 실현할 수 있다. 또한, 상기의 메커니즘은 추정이며, 당해 메커니즘은 본 발명의 실시형태를 한정 또는 구속하는 것은 아니다.By providing the first layer, or the first layer and the second layer, a polarizing plate with a retardation layer having excellent durability even in a harsh high-temperature, high-humidity environment can be realized. Specifically, it is possible to realize a polarizing plate with a retardation layer in which cracking and peeling are suppressed even in a harsh high-temperature, high-humidity environment. Details are as follows. Since the first retardation layer used in the embodiment of the present invention exhibits extremely excellent circular polarization characteristics, a polarizing plate with a retardation layer (circularly polarizing plate) having an extremely excellent anti-reflection function can be realized. In addition, by using such a first phase difference layer in combination with a second phase difference layer whose refractive index characteristic, which will be described later, shows the relationship nz>nx=ny, wide viewing angle with anti-reflection function becomes possible. On the other hand, since the stretched film of the resin film constituting the first retardation layer has large heat shrinkage and a high water absorption rate, reliability in a high temperature and high humidity environment may be insufficient, and in addition, recent studies on characteristics In harsh high-temperature, high-humidity environments that are becoming new standards, cracks and/or peeling may occur. According to an embodiment of the present invention, by providing the first layer, or the first layer and the second layer, the excellent characteristics of the first retardation layer are maintained, and the polarizer with a retardation layer as a whole has durability and reliability under a harsh high temperature and high humidity environment. can be significantly improved. As a result, it is possible to realize a polarizing plate with a retardation layer in which cracking and peeling are suppressed even in a harsh high-temperature and high-humidity environment. In addition, the above mechanism is a guess, and the mechanism does not limit or constrain the embodiments of the present invention.

위상차층 부착 편광판에 포함되어도 되는 제2 위상차층(22)의 굴절률 특성은, 대표적으로는, nz>nx=ny의 관계를 나타낸다. 이와 같은 위상차층을 마련함으로써, 경사 방향의 반사를 양호하게 방지할 수 있어, 반사 방지 기능의 광시야각화가 가능하게 된다.The refractive index characteristic of the second retardation layer 22, which may be included in the polarizing plate with a retardation layer, typically shows the relationship of nz>nx=ny. By providing such a phase difference layer, reflection in the oblique direction can be prevented satisfactorily, and wide viewing angle of the anti-reflection function becomes possible.

위상차층 부착 편광판은, 추가적인 위상차층(도시하지 않음)을 포함하고 있어도 된다. 추가적인 위상차층의 광학적 특성(예컨대, 굴절률 특성, 면내 위상차, Nz 계수, 광탄성 계수), 두께, 배치 위치 등은, 목적에 따라 적절히 설정될 수 있다.The polarizing plate with a retardation layer may include an additional retardation layer (not shown). The optical properties (eg, refractive index properties, in-plane retardation, Nz coefficient, photoelastic coefficient), thickness, arrangement position, etc. of the additional retardation layer may be appropriately set depending on the purpose.

위상차층 부착 편광판은, 매엽상(枚葉狀)이어도 되고 장척상이어도 된다. 본 명세서에서 '장척상'이란, 폭에 대하여 길이가 충분히 긴 세장(細長) 형상을 의미하고, 예컨대, 폭에 대하여 길이가 10배 이상, 바람직하게는 20배 이상인 세장 형상을 포함한다. 장척상의 위상차층 부착 편광판은, 롤상으로 권회 가능하다.The polarizing plate with a retardation layer may be sheet-shaped or elongated. In this specification, 'elongated shape' means an elongated shape with a sufficiently long length relative to the width, and includes, for example, an elongated shape whose length is 10 or more times the width, preferably 20 times or more. A long polarizing plate with a retardation layer can be wound into a roll.

B. 편광자B. Polarizer

편광자(11)로서는, 임의의 적절한 편광자가 채용될 수 있다. 예컨대 편광자를 형성하는 수지 필름은, 단층의 수지 필름이어도 되고, 2층 이상의 적층체이어도 된다.As the polarizer 11, any suitable polarizer can be employed. For example, the resin film forming the polarizer may be a single-layer resin film or a laminate of two or more layers.

단층의 수지 필름으로부터 구성되는 편광자의 구체예로서는, 폴리비닐알코올(PVA)계 필름, 부분 포르말화 PVA계 필름, 에틸렌·초산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 이색성(二色性) 염료 등의 이색성 물질에 의한 염색 처리 및 연신 처리가 실시된 것, PVA의 탈수 처리물이나 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 광학 특성이 우수한 점에서, PVA계 필름을 요오드로 염색하고 1축 연신하여 얻어진 편광자가 이용된다.Specific examples of polarizers composed of a single-layer resin film include hydrophilic polymer films such as polyvinyl alcohol (PVA)-based films, partially formalized PVA-based films, and ethylene-vinyl acetate copolymer-based partially saponified films, with iodine or dichroic (II) Examples include those that have been dyed and stretched with dichroic substances such as dyes, and polyene-based oriented films such as dehydrated PVA products and dehydrochloric acid-treated polyvinyl chloride products. Preferably, a polarizer obtained by dyeing a PVA-based film with iodine and uniaxially stretching is used because it has excellent optical properties.

상기 요오드에 의한 염색은, 예컨대, PVA계 필름을 요오드 수용액에 침지함으로써 행하여진다. 상기 1축 연신의 연신 배율은, 바람직하게는 3~7배이다. 연신은 염색 처리 후에 행하여도 되고, 염색하면서 행하여도 된다. 또한, 연신하고 나서 염색하여도 된다. 필요에 따라서, PVA계 필름에, 팽윤 처리, 가교 처리, 세정 처리, 건조 처리 등이 실시된다. 예컨대, 염색 전에 PVA계 필름을 물에 침지하여 수세함으로써, PVA계 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정하는 것이 가능할 뿐만 아니라, PVA계 필름을 팽윤시켜 염색 얼룩 등을 방지할 수 있다.The dyeing with iodine is performed, for example, by immersing the PVA-based film in an aqueous iodine solution. The draw ratio of the uniaxial stretching is preferably 3 to 7 times. Stretching may be performed after dyeing treatment or may be performed while dyeing. Additionally, it may be dyed after stretching. If necessary, swelling treatment, crosslinking treatment, washing treatment, drying treatment, etc. are performed on the PVA-based film. For example, by immersing the PVA-based film in water and washing it before dyeing, it is possible to clean the surface of the PVA-based film from contamination and anti-blocking agents, as well as swelling the PVA-based film to prevent staining, etc.

상기 2층 이상의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광자의 구체예로서는, 수지 기재와 당해 수지 기재에 적층된 PVA계 수지층(PVA계 수지 필름)과의 적층체, 혹은 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층과의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광자를 들 수 있다. 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층과의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광자는, 예컨대, PVA계 수지 용액을 수지 기재에 도포하고, 건조시켜 수지 기재 위에 PVA계 수지층을 형성하여, 수지 기재와 PVA계 수지층과의 적층체를 얻는 것; 당해 적층체를 연신 및 염색하여 PVA계 수지층을 편광자로 하는 것에 의해 제작될 수 있다. 본 실시형태에서는, 바람직하게는, 수지 기재의 편측에, 할로겐화물과 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 폴리비닐알코올계 수지층을 형성한다. 연신은, 대표적으로는 적층체를 붕산 수용액 중에 침지시켜 연신하는 것을 포함한다. 또한 연신은, 필요에 따라서, 붕산 수용액 중에서의 연신 전에 적층체를 고온(예컨대, 95℃ 이상)에서 공중 연신하는 것을 더 포함할 수 있다. 더하여, 본 실시형태에서는, 바람직하게는, 적층체는, 긴 방향으로 반송하면서 가열함으로써 폭 방향으로 2% 이상 수축시키는 건조 수축 처리에 제공된다. 대표적으로는, 본 실시형태의 제조 방법은, 적층체에, 공중 보조 연신 처리와 염색 처리와 수중 연신 처리와 건조 수축 처리를 이 순서대로 실시하는 것을 포함한다. 보조 연신을 도입함으로써, 열가소성 수지 위에 PVA를 도포하는 경우에도, PVA의 결정성을 높이는 것이 가능해져, 높은 광학 특성을 달성하는 것이 가능하게 된다. 또한, 동시에 PVA의 배향성을 사전에 높임으로써, 이후의 염색 공정이나 연신 공정에서 물에 침지되었을 때에, PVA의 배향성의 저하나 용해 등의 문제를 방지할 수 있어, 높은 광학 특성을 달성하는 것이 가능하게 된다. 또한, PVA계 수지층을 액체에 침지한 경우에서, PVA계 수지층이 할로겐화물을 포함하지 않는 경우에 비하여, 폴리비닐알코올 분자 배향의 흐트러짐, 및 배향성의 저하가 억제될 수 있다. 이로써, 염색 처리 및 수중 연신 처리 등, 적층체를 액체에 침지하여 행하는 처리 공정을 거쳐 얻어지는 편광자의 광학 특성은 향상할 수 있다. 또한, 건조 수축 처리에 의해 적층체를 폭 방향으로 수축시킴으로써, 광학 특성을 향상시킬 수 있다. 얻어진 수지 기재/편광자의 적층체는 그대로 이용하여도 되고(즉, 수지 기재를 편광자의 보호층으로 하여도 되고), 수지 기재/편광자의 적층체로부터 수지 기재를 박리한 박리면에, 혹은 박리면과는 반대 측의 면에 목적에 따른 임의의 적절한 보호층을 적층하여 이용하여도 된다. 이와 같은 편광자의 제조 방법의 상세는, 예컨대 일본 공개특허공보 제2012-73580호, 일본 특허공보 제647055호에 기재되어 있다. 이들 공보는, 그 전체의 기재가 본 명세서에 참고로서 원용된다.Specific examples of the polarizer obtained by using the above-mentioned two or more layered laminate include a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer (PVA-based resin film) laminated on the resin substrate, or a resin substrate and PVA coated on the resin substrate. A polarizer obtained by using a laminated body with a resin layer can be mentioned. A polarizer obtained using a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer formed by applying to the resin substrate is, for example, applied by applying a PVA-based resin solution to a resin substrate, drying it, and forming a PVA-based resin layer on the resin substrate, Obtaining a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer; It can be produced by stretching and dyeing the laminate and using the PVA-based resin layer as a polarizer. In this embodiment, a polyvinyl alcohol-based resin layer containing a halide and a polyvinyl alcohol-based resin is preferably formed on one side of the resin substrate. Stretching typically includes stretching the laminate by immersing it in an aqueous boric acid solution. Additionally, stretching, if necessary, may further include air stretching the laminate at a high temperature (eg, 95°C or higher) before stretching in an aqueous boric acid solution. In addition, in this embodiment, the laminate is preferably subjected to dry shrinkage treatment to shrink the laminate by 2% or more in the width direction by heating while conveying in the longitudinal direction. Typically, the manufacturing method of this embodiment includes performing aerial auxiliary stretching treatment, dyeing treatment, underwater stretching treatment, and dry shrink treatment on the laminate in this order. By introducing auxiliary stretching, even when applying PVA on a thermoplastic resin, it becomes possible to increase the crystallinity of PVA and achieve high optical properties. Moreover, by simultaneously increasing the orientation of PVA in advance, problems such as a decrease in orientation or dissolution of PVA when immersed in water in the subsequent dyeing process or stretching process can be prevented, making it possible to achieve high optical properties. I do it. In addition, when the PVA-based resin layer is immersed in a liquid, the disruption of the polyvinyl alcohol molecule orientation and the decrease in orientation can be suppressed compared to the case where the PVA-based resin layer does not contain a halide. Thereby, the optical properties of the polarizer obtained through a treatment process performed by immersing the laminate in a liquid, such as dyeing treatment and underwater stretching treatment, can be improved. Additionally, optical properties can be improved by shrinking the laminate in the width direction through dry shrinkage treatment. The obtained resin substrate/polarizer laminate may be used as is (i.e., the resin substrate may be used as a protective layer of the polarizer), or may be applied to the peeling surface where the resin substrate is peeled from the resin substrate/polarizer laminate, or to the peeling surface. It may be used by laminating any appropriate protective layer depending on the purpose on the side opposite to the above. Details of the manufacturing method of such a polarizer are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-73580 and Japanese Patent Application Publication No. 647055. The entire descriptions of these publications are incorporated herein by reference.

편광자의 두께는, 바람직하게는 15㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 12㎛ 이하이며, 더욱 바람직하게는 10㎛ 이하이고, 특히 바람직하게는 8㎛ 이하이며, 그중에서도 바람직하게는 5㎛ 이하이다. 편광자의 두께의 하한은, 예컨대 1㎛일 수 있다. 편광자의 두께가 이와 같은 범위이면, 가열 시의 컬을 양호하게 억제할 수 있고, 양호한 가열 시의 외관 내구성을 얻을 수 있다.The thickness of the polarizer is preferably 15 μm or less, more preferably 12 μm or less, further preferably 10 μm or less, particularly preferably 8 μm or less, and especially preferably 5 μm or less. The lower limit of the thickness of the polarizer may be, for example, 1 μm. If the thickness of the polarizer is within this range, curling during heating can be well suppressed, and good external appearance durability during heating can be obtained.

편광자는, 바람직하게는, 파장 380nm~780nm의 어느 파장에서 흡수 이색성을 나타낸다. 편광자의 단체 투과율은, 예컨대 41.5%~46.0%이고, 바람직하게는 43.0%~46.0%이며, 보다 바람직하게는 44.5%~46.0%이다. 편광자의 편광도는, 바람직하게는 97.0% 이상이고, 보다 바람직하게는 99.0% 이상이며, 더욱 바람직하게는 99.9% 이상이다.The polarizer preferably exhibits absorption dichroism at any wavelength between 380 nm and 780 nm. The single transmittance of the polarizer is, for example, 41.5% to 46.0%, preferably 43.0% to 46.0%, and more preferably 44.5% to 46.0%. The polarization degree of the polarizer is preferably 97.0% or more, more preferably 99.0% or more, and even more preferably 99.9% or more.

C. 보호층C. Protective layer

보호층(12) 및 도시하지 않은 제2 보호층은, 각각, 편광자의 보호층으로서 사용할 수 있는 임의의 적절한 필름으로 형성된다. 당해 필름의 주성분이 되는 재료의 구체예로서는 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 등의 셀룰로오스계 수지나, 폴리에스테르계, 폴리비닐알코올계, 폴리카보네이트계, 폴리아미드계, 폴리이미드계, 폴리에테르설폰계, 폴리설폰계, 폴리스티렌계, 환상 올레핀계(예컨대, 폴리노보넨계), 폴리올레핀계, (메트)아크릴계, 아세테이트계 등의 투명 수지 등을 들 수 있다. 또한 (메트)아크릴계, 우레탄계, (메트)아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화형 수지 또는 자외선 경화형 수지 등도 들 수 있다. 이 외에도 예컨대 실록산계 폴리머 등의 유리질계 폴리머도 들 수 있다. 또한, 일본 공개특허공보 제2001-343529호(WO01/37007)에 기재된 폴리머 필름도 사용할 수 있다. 이 필름의 재료로서는, 예컨대 측쇄에 치환 또는 비치환의 이미드기를 갖는 열가소성 수지와, 측쇄에 치환 또는 비치환의 페닐기 및 니트릴기를 갖는 열가소성 수지를 함유하는 수지 조성물을 사용할 수 있고, 예컨대 이소부텐과 N-메틸말레이미드를 포함하는 교호 공중합체와, 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체를 포함하는 수지 조성물을 들 수 있다. 당해 폴리머 필름은, 예컨대 상기 수지 조성물의 압출 성형물일 수 있다.The protective layer 12 and the second protective layer (not shown) are each formed of any suitable film that can be used as a protective layer for a polarizer. Specific examples of materials that become the main component of the film include cellulose-based resins such as triacetylcellulose (TAC), polyester-based, polyvinyl alcohol-based, polycarbonate-based, polyamide-based, polyimide-based, polyethersulfone-based, and polyester. Transparent resins such as sulfone-based, polystyrene-based, cyclic olefin-based (eg, polynorbornene-based), polyolefin-based, (meth)acrylic-based, and acetate-based resins can be mentioned. Additionally, thermosetting resins or ultraviolet curing resins such as (meth)acrylic, urethane, (meth)acrylic urethane, epoxy, silicone, etc. may also be included. In addition to these, for example, glassy polymers such as siloxane polymers can also be mentioned. Additionally, the polymer film described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-343529 (WO01/37007) can also be used. As a material for this film, for example, a resin composition containing a thermoplastic resin having a substituted or unsubstituted imide group in the side chain and a thermoplastic resin having a substituted or unsubstituted phenyl group and a nitrile group in the side chain can be used, for example, isobutene and N- A resin composition containing an alternating copolymer containing methylmaleimide and an acrylonitrile-styrene copolymer can be mentioned. The polymer film may be, for example, an extrusion molded product of the resin composition.

보호층(12)은, 85℃의 환경하에 240시간 둔 후의 수축율이, 바람직하게는 0.05% 미만이고, 보다 바람직하게는 0.04% 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.03% 이하이다. 수축율은 작을수록 바람직하고, 그의 하한은 예컨대 0.01%일 수 있다. 수축율이 이와 같은 범위이면, 가혹한 고온 고습 환경하에서의 편광자의 크랙 및 편광자와 위상차층의 박리를 보다 양호하게 억제할 수 있다. 보호층(12)은, 바람직하게는, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름 또는 환상 올레핀계 수지 필름으로 구성되어 있다. TAC 필름 및 환상 올레핀계 수지 필름은, 바람직하게는 압출 또는 캐스트에 의해 제막되고, 성막 시에 연신을 포함하지 않는다. 그 결과, 잔류 응력이 작기 때문에, 상기 소망하는 수축율을 실현할 수 있다.The shrinkage rate of the protective layer 12 after being left in an environment at 85°C for 240 hours is preferably less than 0.05%, more preferably 0.04% or less, and still more preferably 0.03% or less. The smaller the shrinkage rate, the more desirable it is, and its lower limit may be, for example, 0.01%. If the shrinkage rate is within this range, cracking of the polarizer and peeling of the polarizer and the retardation layer in a harsh high-temperature, high-humidity environment can be better suppressed. The protective layer 12 is preferably comprised of a triacetylcellulose (TAC) film or a cyclic olefin resin film. The TAC film and the cyclic olefin resin film are preferably formed by extrusion or casting, and do not include stretching during film formation. As a result, since the residual stress is small, the desired shrinkage rate can be achieved.

본 발명의 실시형태에 따른 위상차층 부착 편광판은, 대표적으로는, 화상 표시 장치의 시인 측에 배치되고, 보호층(12)은, 시인 측에 배치된다. 따라서, 보호층(12)에는, 필요에 따라서, 하드 코트(HC) 처리, 반사 방지 처리, 스티킹 방지 처리, 안티 글레어 처리 등의 표면 처리가 실시되어 있어도 된다. 또한/혹은, 보호층(12)에는, 필요에 따라서, 편광 선글라스를 통하여 시인하는 경우의 시인성을 개선하는 처리(대표적으로는, (타)원편광 기능을 부여하는 것, 초고위상차를 부여하는 것)가 실시되어 있어도 된다. 이와 같은 처리를 실시함으로써, 편광 선글라스 등의 편광 렌즈를 통하여 표시 화면을 시인한 경우에도, 우수한 시인성을 실현할 수 있다. 따라서, 위상차층 부착 편광판은, 옥외에서 이용될 수 있는 화상 표시 장치에도 적합하게 적용될 수 있다.The polarizing plate with a retardation layer according to the embodiment of the present invention is typically placed on the viewer's side of the image display device, and the protective layer 12 is placed on the viewer's side. Therefore, the protective layer 12 may be subjected to surface treatment such as hard coat (HC) treatment, anti-reflection treatment, anti-sticking treatment, or anti-glare treatment as needed. Additionally, the protective layer 12 may be treated, as necessary, to improve visibility when viewed through polarized sunglasses (typically, imparting an (other) circular polarization function or imparting an ultra-high phase difference. ) may be implemented. By performing such processing, excellent visibility can be achieved even when the display screen is viewed through polarized lenses such as polarized sunglasses. Therefore, the polarizing plate with a retardation layer can also be suitably applied to an image display device that can be used outdoors.

보호층의 두께는, 대표적으로는 300㎛ 이하이고, 바람직하게는 100㎛ 이하, 보다 바람직하게는 5㎛~80㎛, 더욱 바람직하게는 10㎛~60㎛이다. 또한, 표면 처리가 실시되어 있는 경우, 보호층의 두께는, 표면 처리층의 두께를 포함한 두께이다.The thickness of the protective layer is typically 300 μm or less, preferably 100 μm or less, more preferably 5 μm to 80 μm, and still more preferably 10 μm to 60 μm. In addition, when surface treatment is performed, the thickness of the protective layer is a thickness including the thickness of the surface treatment layer.

제2 보호층은, 하나의 실시형태에서는, 광학적으로 등방성인 것이 바람직하다. 본 명세서에서 '광학적으로 등방성이다'란, 면내 위상차 Re(550)가 0nm~10nm이고, 두께 방향의 위상차 Rth(550)가 -10nm~+10nm인 것을 말한다.In one embodiment, the second protective layer is preferably optically isotropic. In this specification, 'optically isotropic' means that the in-plane retardation Re(550) is 0 nm to 10 nm and the thickness direction retardation Rth(550) is -10 nm to +10 nm.

D. 제1 위상차층D. First phase contrast layer

D-1. 제1 위상차층의 특성D-1. Characteristics of the first phase difference layer

제1 위상차층(21)의 면내 위상차 Re(550)는, 상기와 같이 100nm~200nm이고, 바람직하게는 110nm~180nm이며, 보다 바람직하게는 120nm~160nm이고, 더욱 바람직하게는 130nm~150nm이다. 즉, 제1 위상차층은, 이른바 λ/4판으로서 기능할 수 있다.The in-plane phase difference Re (550) of the first phase difference layer 21 is 100 nm to 200 nm, preferably 110 nm to 180 nm, more preferably 120 nm to 160 nm, and even more preferably 130 nm to 150 nm, as described above. That is, the first phase difference layer can function as a so-called λ/4 plate.

제1 위상차층은, 상기와 같이 Re(450)<Re(550)의 관계를 만족하고, 바람직하게는 Re(550)<Re(650)의 관계를 추가로 만족한다. 즉, 제1 위상차층은, 위상차값이 측정광의 파장에 따라 커지는 역분산의 파장 의존성을 나타낸다. 제1 위상차층의 Re(450)/Re(550)는, 예컨대 0.5를 초과하며 1.0 미만이고, 바람직하게는 0.7~0.95이며, 보다 바람직하게는 0.75~0.92이고, 더욱 바람직하게는 0.8~0.9이다. Re(650)/Re(550)는, 바람직하게는 1.0 이상 1.15 미만이고, 보다 바람직하게는 1.03~1.1이다.The first phase difference layer satisfies the relationship of Re (450) < Re (550) as described above, and preferably further satisfies the relationship of Re (550) < Re (650). That is, the first phase difference layer exhibits wavelength dependence of inverse dispersion in which the phase difference value increases depending on the wavelength of the measurement light. Re(450)/Re(550) of the first phase difference layer is, for example, greater than 0.5 and less than 1.0, preferably 0.7 to 0.95, more preferably 0.75 to 0.92, and still more preferably 0.8 to 0.9. . Re(650)/Re(550) is preferably 1.0 or more and less than 1.15, and more preferably 1.03 to 1.1.

제1 위상차층은, 상기와 같이 면내 위상차를 가지므로, nx>ny의 관계를 갖는다. 제1 위상차층은, nx>ny의 관계를 갖는 한, 임의의 적절한 굴절률 특성을 나타낸다. 제1 위상차층의 굴절률 특성은, 대표적으로는 nx>ny≥nz의 관계를 나타낸다. 또한, 여기서 'ny=nz'는 ny와 nz가 완전하게 동일한 경우뿐만 아니라, 실질적으로 동일한 경우를 포함한다. 따라서, 본 발명의 효과를 해치지 않는 범위에서, ny<nz가 되는 경우가 있을 수 있다. 제1 위상차층의 Nz 계수는, 바람직하게는 0.9~2.0이고, 보다 바람직하게는 0.9~1.5이며, 더욱 바람직하게는 0.9~1.2이다. 이와 같은 관계를 만족함으로써, 위상차층 부착 편광판을 화상 표시 장치에 이용한 경우에, 매우 우수한 반사 색상을 달성할 수 있다.Since the first phase difference layer has an in-plane phase difference as described above, it has the relationship nx>ny. The first retardation layer exhibits any suitable refractive index characteristic as long as it has the relationship nx>ny. The refractive index characteristics of the first phase contrast layer typically exhibit the relationship of nx>ny≥nz. Additionally, here, 'ny=nz' includes not only the case where ny and nz are completely the same, but also the case where they are substantially the same. Therefore, there may be cases where ny < nz, within a range that does not impair the effect of the present invention. The Nz coefficient of the first phase difference layer is preferably 0.9 to 2.0, more preferably 0.9 to 1.5, and still more preferably 0.9 to 1.2. By satisfying this relationship, when a polarizing plate with a retardation layer is used in an image display device, very excellent reflected color can be achieved.

제1 위상차층의 두께는, λ/4판으로서 가장 적절히 기능할 수 있도록 설정될 수 있다. 바꾸어 말하면, 두께는, 소망하는 면내 위상차가 얻어지도록 설정될 수 있다. 구체적으로는, 두께는, 바람직하게는 15㎛~70㎛이고, 더욱 바람직하게는 20㎛~60㎛이며, 가장 바람직하게는 20㎛~50㎛이다.The thickness of the first phase difference layer can be set to function most appropriately as a λ/4 plate. In other words, the thickness can be set so that a desired in-plane retardation is obtained. Specifically, the thickness is preferably 15 μm to 70 μm, more preferably 20 μm to 60 μm, and most preferably 20 μm to 50 μm.

제1 위상차층은, 80℃~125℃에서 180분까지의 시간 가열하였을 때의 지상축 방향의 수축율이, 예컨대 4% 이하이고, 바람직하게는 3.5% 이하이며, 보다 바람직하게는 3% 이하이다. 수축율은 작을수록 바람직하고, 그의 하한은, 예컨대 0.5%일 수 있다. 제1 위상차층의 수축율이 이와 같은 범위이면, 가혹한 고온 고습 환경하에서의 크랙을 보다 양호하게 억제할 수 있다.The first retardation layer has a shrinkage rate in the slow axis direction when heated at 80°C to 125°C for up to 180 minutes, for example, 4% or less, preferably 3.5% or less, and more preferably 3% or less. . The smaller the shrinkage rate, the more desirable it is, and its lower limit may be, for example, 0.5%. If the shrinkage rate of the first phase difference layer is within this range, cracks under severe high-temperature, high-humidity environments can be better suppressed.

제1 위상차층을 구성하는 연신 필름의 파단 신도는, 바람직하게는 200% 이상이고, 보다 바람직하게는 210% 이상이며, 더욱 바람직하게는 220% 이상이고, 특히 바람직하게는 245% 이상이다. 파단 신도의 상한은, 예컨대 500%일 수 있다. 제1 위상차층을 구성하는 연신 필름의 파단 신도가 이와 같은 범위이면, 상기 수축율에 의한 효과와의 상승적인 효과에 의해, 가혹한 고온 고습 환경하에서의 크랙을 보다 양호하게 억제할 수 있다. 또한, 본 명세서에서 '파단 신도'란, 소정의 연신 온도(예컨대, Tg-2℃)에서의 고정단 1축 연신에서 필름이 파단하였을 때의 신장율을 의미한다.The breaking elongation of the stretched film constituting the first retardation layer is preferably 200% or more, more preferably 210% or more, further preferably 220% or more, and especially preferably 245% or more. The upper limit of the elongation at break may be, for example, 500%. If the breaking elongation of the stretched film constituting the first retardation layer is in this range, cracks can be better suppressed under a harsh high-temperature, high-humidity environment due to a synergistic effect with the effect of the shrinkage rate. In addition, in this specification, 'elongation at break' refers to the elongation rate when the film breaks during fixed-end uniaxial stretching at a predetermined stretching temperature (eg, Tg-2°C).

제1 위상차층은, 그의 광탄성 계수의 절댓값이 바람직하게는 20×10-12(m2/N) 이하이고, 보다 바람직하게는 1.0×10-12(m2/N)~15×10-12(m2/N)이며, 더욱 바람직하게는 2.0×10-12(m2/N)~12×10-12(m2/N)이다. 광탄성 계수의 절댓값이 이와 같은 범위이면, 위상차층 부착 편광판을 화상 표시 장치에 적용한 경우에 표시 불균일을 억제할 수 있다.The absolute value of the photoelastic coefficient of the first phase difference layer is preferably 20 × 10 -12 (m 2 /N) or less, more preferably 1.0 × 10 -12 (m 2 /N) to 15 × 10 -12. (m 2 /N), more preferably 2.0 × 10 -12 (m 2 /N) to 12 × 10 -12 (m 2 /N). If the absolute value of the photoelastic coefficient is in this range, display unevenness can be suppressed when a polarizing plate with a retardation layer is applied to an image display device.

D-2. 제1 위상차층의 구성 재료D-2. Constituent materials of the first phase contrast layer

제1 위상차층은, 대표적으로는, 카보네이트 결합 및 에스테르 결합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 결합기를 포함하는 수지를 함유한다. 바꾸어 말하면, 제1 위상차층은, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에스테르계 수지 또는 폴리에스테르카보네이트계 수지(이하, 이들을 합하여 단순히 폴리카보네이트계 수지라고 칭하는 경우가 있음)를 함유한다.The first retardation layer typically contains a resin containing at least one bonding group selected from the group consisting of a carbonate bond and an ester bond. In other words, the first phase difference layer contains polycarbonate-based resin, polyester-based resin, or polyestercarbonate-based resin (hereinafter, these may simply be referred to together as polycarbonate-based resin).

폴리카보네이트계 수지는, 하나의 실시형태에서는, 플루오렌계 디히드록시 화합물에서 유래되는 구조 단위와, 이소소르비드계 디히드록시 화합물에서 유래되는 구조 단위와, 지환식 디올, 지환식 디메탄올, 디, 트리 또는 폴리에틸렌글리콜, 및 알킬렌글리콜 또는 스피로글리콜로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 디히드록시 화합물에서 유래되는 구조 단위를 포함한다. 바람직하게는, 폴리카보네이트계 수지는, 플루오렌계 디히드록시 화합물에서 유래되는 구조 단위와, 이소소르비드계 디히드록시 화합물에서 유래되는 구조 단위와, 지환식 디메탄올에서 유래되는 구조 단위 및/혹은 디, 트리 또는 폴리에틸렌글리콜에서 유래되는 구조 단위를 포함하고; 더욱 바람직하게는, 플루오렌계 디히드록시 화합물에서 유래되는 구조 단위와, 이소소르비드계 디히드록시 화합물에서 유래되는 구조 단위와, 디, 트리 또는 폴리에틸렌글리콜에서 유래되는 구조 단위를 포함한다. 폴리카보네이트계 수지는, 필요에 따라서 그 밖의 디히드록시 화합물에서 유래되는 구조 단위를 포함하고 있어도 된다. 또한, 본 발명에 적합하게 이용될 수 있는 폴리카보네이트계 수지의 상세는, 예컨대 일본 공개특허공보 제2014-10291호, 일본 공개특허공보 제2014-26266호, 일본 공개특허공보 제2015-212816호, 일본 공개특허공보 제2015-212817호, 일본 공개특허공보 제2015-212818호에 기재되어 있고, 당해 기재는 본 명세서에 참고로서 원용된다.In one embodiment, the polycarbonate-based resin includes a structural unit derived from a fluorene-based dihydroxy compound, a structural unit derived from an isosorbide-based dihydroxy compound, an alicyclic diol, an alicyclic dimethanol, It contains structural units derived from at least one dihydroxy compound selected from the group consisting of di, tri or polyethylene glycol, and alkylene glycol or spiroglycol. Preferably, the polycarbonate-based resin includes a structural unit derived from a fluorene-based dihydroxy compound, a structural unit derived from an isosorbide-based dihydroxy compound, and a structural unit derived from alicyclic dimethanol and/ or contains structural units derived from di, tri or polyethylene glycol; More preferably, it contains a structural unit derived from a fluorene-based dihydroxy compound, a structural unit derived from an isosorbide-based dihydroxy compound, and a structural unit derived from di, tri, or polyethylene glycol. The polycarbonate-based resin may, if necessary, contain structural units derived from other dihydroxy compounds. In addition, details of the polycarbonate-based resin that can be suitably used in the present invention are, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-10291, Japanese Patent Application Publication No. 2014-26266, Japanese Patent Application Publication No. 2015-212816, It is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-212817 and Japanese Patent Application Publication No. 2015-212818, and the description is incorporated herein by reference.

폴리카보네이트계 수지는, 하나의 실시형태에서는, 상기 일반식 (1)로 나타내는 구조 단위 및/또는 상기 일반식 (2)로 나타내는 구조 단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 구조 단위를 포함한다. 이들 구조 단위는, 2가의 올리고플루오렌에서 유래되는 구조 단위이며, 이하, 올리고플루오렌 구조 단위로 칭하는 경우가 있다. 이와 같은 폴리카보네이트계 수지는, 양의 굴절률 이방성을 갖는다.In one embodiment, the polycarbonate-based resin contains at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the general formula (1) and/or a structural unit represented by the general formula (2). These structural units are structural units derived from divalent oligofluorene, and may hereinafter be referred to as oligofluorene structural units. Such polycarbonate-based resin has positive refractive index anisotropy.

제1 위상차층은, 하나의 실시형태에서는, 아크릴계 수지를 더 함유하여도 된다. 아크릴계 수지의 함유량은, 대표적으로는 0.5질량%~1.5질량%이다. 또한, 본 명세서에서 '질량' 단위의 백분율 또는 부는, '중량' 단위의 백분율 또는 부와 동의이다.In one embodiment, the first phase difference layer may further contain an acrylic resin. The content of acrylic resin is typically 0.5 mass% to 1.5 mass%. Additionally, in this specification, the percentage or part of the 'mass' unit is the same as the percentage or part of the 'weight' unit.

제1 위상차층은, 하나의 실시형태에서는, 산화 방지제를 더 함유하여도 된다. 산화방지제로서는, 임의의 적절한 화합물을 이용할 수 있다. 구체예로서는, 펜타에리트리톨-테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트]: 상품명 'Irganox1010'(바스프(BASF)사 제조), 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)벤젠: 상품명 'Irganox1330'(바스프사 제조), 트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트: 상품명 'Irganox3114'(바스프사 제조), 3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피온산 스테아릴: 상품명 'Irganox1076'(바스프사 제조), 2,2'-티오디에틸비스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트]: 상품명 'Irganox1035'(바스프사 제조), N,N'-헥사메틸렌비스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로판아미드]: 상품명 'Irganox1098'(바스프사 제조), 비스[3-(3-tert-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로피온산][에틸렌비스(옥시에틸렌)]: 상품명 'Irganox245'(바스프사 제조), 1,6-헥산디올비스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트] 상품명 'Irganox259'(바스프사 제조), 4-[[4,6-비스(옥틸티오)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]-2,6-디-tert-부틸페놀: 상품명 'Irganox565'(바스프사 제조), 2,2'-메틸렌비스[6-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-(1,1,3,3,-테트라메틸부틸)페놀: 상품명 '아데카스타브 LA-31'(아데카(ADEKA)사 제조) 등을 들 수 있다. 산화 방지제의 함유량은, 대표적으로는 1.5질량%~3.5질량%이다.In one embodiment, the first phase difference layer may further contain an antioxidant. As an antioxidant, any suitable compound can be used. As a specific example, pentaerythritol-tetrakis[3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate]: brand name 'Irganox1010' (manufactured by BASF), 1,3 ,5-trimethyl-2,4,6-tris(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl)benzene: Product name 'Irganox1330' (manufactured by BASF), tris(3,5-di-tert) -Butyl-4-hydroxybenzyl)isocyanurate: Product name 'Irganox3114' (manufactured by BASF), 3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)stearyl propionate: Product name 'Irganox1076' '(manufactured by BASF), 2,2'-thiodiethylbis[3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate]: Product name 'Irganox1035' (manufactured by BASF) , N,N'-hexamethylenebis[3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanamide]: Product name 'Irganox1098' (manufactured by BASF), bis[3-(3- tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propionic acid] [ethylenebis(oxyethylene)]: brand name 'Irganox245' (manufactured by BASF), 1,6-hexanediolbis[3-(3,5-di) -tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate] Product name 'Irganox259' (manufactured by BASF), 4-[[4,6-bis(octylthio)-1,3,5-triazine-2- Il]amino]-2,6-di-tert-butylphenol: Product name 'Irganox565' (manufactured by BASF), 2,2'-methylenebis[6-(2H-benzotriazol-2-yl)-4- (1,1,3,3,-tetramethylbutyl)phenol: Product name 'Adekastave LA-31' (manufactured by ADEKA), etc. The content of antioxidant is typically 1.5 mass% to 3.5 mass%.

D-2-1. 폴리카보네이트계 수지D-2-1. Polycarbonate-based resin

<올리고플루오렌 구조 단위><Oligofluorene structural unit>

올리고플루오렌 구조 단위는, 상기 일반식 (1) 또는 (2)로 나타낸다. 일반식 (1) 및 (2) 중, R1~R3은, 각각 독립적으로, 직접 결합, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~4의 알킬렌기이고, R4~R9은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 4~10의 아릴기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 아실기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 알콕시기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 아릴옥시기, 치환 또는 비치환의 아미노기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 비닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 에티닐기, 치환기를 갖는 황 원자, 치환기를 갖는 규소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 또는 시아노기이다. 단, R4~R9은, 서로 동일하여도, 상이하여도 되고, R4~R9 중 이웃하는 적어도 2개의 기가 서로 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다.The oligofluorene structural unit is represented by the above general formula (1) or (2). In general formulas (1) and (2), R 1 to R 3 are each independently a directly bonded, substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and R 4 to R 9 are each independently hydrogen. Atom, substituted or unsubstituted alkyl group with 1 to 10 carbon atoms, substituted or unsubstituted aryl group with 4 to 10 carbon atoms, substituted or unsubstituted acyl group with 1 to 10 carbon atoms, substituted or unsubstituted alkoxy group with 1 to 10 carbon atoms, substituted or an unsubstituted aryloxy group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted amino group, a substituted or unsubstituted vinyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted ethynyl group having 1 to 10 carbon atoms, a sulfur atom having a substituent, or a substituent. It has a silicon atom, a halogen atom, a nitro group, or a cyano group. However, R 4 to R 9 may be the same or different from each other, and at least two neighboring groups among R 4 to R 9 may be bonded to each other to form a ring.

폴리카보네이트계 수지에서의 올리고플루오렌 구조 단위의 함유량은, 수지 전체에 대하여, 바람직하게는 1질량%~40질량%이고, 보다 바람직하게는 10질량%~35질량%이며, 더욱 바람직하게는 15질량%~30질량%이고, 특히 바람직하게는 18질량%~25질량%이다. 올리고플루오렌 구조 단위의 함유량이 지나치게 많은 경우, 광탄성 계수가 지나치게 커지거나, 신뢰성이 불충분하게 되거나, 위상차 발현성이 불충분하게 되는 문제가 생길 우려가 있다. 또한, 올리고플루오렌 구조 단위가 수지 중에 차지하는 비율이 높아지기 때문에, 분자 설계의 폭이 좁아져, 수지의 개질이 요구되었을 때에 개량이 곤란해지는 경우가 있다. 한편, 만일, 매우 소량의 올리고플루오렌 구조 단위에 의해 소망하는 역분산 파장 의존성이 얻어졌다고 하여도, 이 경우에는, 올리고플루오렌 구조 단위의 함유량의 약간의 편차에 따라 광학 특성이 민감하게 변화하므로, 여러 특성이 일정한 범위에 들어가도록 제조하는 것이 곤란해지는 경우가 있다.The content of the oligofluorene structural unit in the polycarbonate-based resin is preferably 1% by mass to 40% by mass, more preferably 10% by mass to 35% by mass, and even more preferably 15% by mass, relative to the entire resin. It is from 18 mass% to 30 mass%, and is particularly preferably from 18 mass% to 25 mass%. If the content of the oligofluorene structural unit is too high, problems such as excessively large photoelastic coefficient, insufficient reliability, or insufficient retardation generation may occur. Additionally, because the proportion of the oligofluorene structural unit in the resin increases, the range of molecular design narrows, making modification difficult in some cases when modification of the resin is required. On the other hand, even if the desired inverse dispersion wavelength dependence is obtained with a very small amount of oligofluorene structural units, in this case, the optical properties change sensitively depending on slight deviations in the content of oligofluorene structural units. , there are cases where it becomes difficult to manufacture so that various characteristics fall within a certain range.

올리고플루오렌 구조 단위의 상세는, 예컨대, 국제공개공보 제2015/159928호 팜플렛에 기재되어 있다. 당해 공보는, 본 명세서에 참고로서 원용된다.Details of the oligofluorene structural unit are described, for example, in the pamphlet of International Publication No. 2015/159928. The publication is incorporated herein by reference.

<다른 구조 단위><Other structural units>

폴리카보네이트계 수지는, 대표적으로는, 올리고플루오렌 구조 단위에 더하여 다른 구조 단위를 포함할 수 있다. 하나의 실시형태에서는, 다른 구조 단위는, 바람직하게는 디히드록시 화합물 또는 디에스테르 화합물 유래일 수 있다. 목적으로 하는 역분산 파장성을 발현시키기 위해서는, 음(負)의 고유 복굴절을 갖는 올리고플루오렌 구조 단위와 함께, 양의 고유 복굴절을 갖는 구조 단위를 폴리머 구조에 도입할 필요가 있기 때문에, 공중합하는 다른 모노머로서는, 양의 복굴절을 갖는 구조 단위의 원료가 되는 디히드록시 화합물 또는 디에스테르 화합물이 더욱 바람직하다.Polycarbonate-based resins may typically contain other structural units in addition to oligofluorene structural units. In one embodiment, the other structural units may preferably be derived from dihydroxy compounds or diester compounds. In order to develop the desired inverse dispersion wavelength property, it is necessary to introduce a structural unit with a positive intrinsic birefringence into the polymer structure along with an oligofluorene structural unit with a negative intrinsic birefringence. As other monomers, dihydroxy compounds or diester compounds that serve as raw materials for structural units with positive birefringence are more preferable.

공중합 모노머로서는, 방향족환을 포함하는 구조 단위를 도입 가능한 화합물과, 방향족환을 포함하는 구조 단위를 도입하지 않는, 즉 지방족 구조로 구성되는 화합물을 들 수 있다.Examples of the copolymerizable monomer include compounds capable of introducing a structural unit containing an aromatic ring, and compounds that do not introduce a structural unit containing an aromatic ring, that is, have an aliphatic structure.

상기 지방족 구조로 구성되는 화합물의 구체예를 이하에 든다. 에틸렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,2-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,2-부탄디올, 1,5-헵탄디올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 1,10-데칸디올, 1,12-도데칸디올 등의 직쇄 지방족 탄화수소의 디히드록시 화합물; 네오펜틸글리콜, 헥실렌글리콜 등의 분기 지방족 탄화수소의 디히드록시 화합물; 1,2-시클로헥산디올, 1,4-시클로헥산디올, 1,3-아다만탄디올, 수첨(水添) 비스페놀 A, 2,2,4,4-테트라메틸-1,3-시클로 부탄디올 등으로 예시되는, 지환식 탄화수소의 2급 알코올, 및 3급 알코올인 디히드록시 화합물; 1,2-시클로헥산디메탄올, 1,3-시클로헥산디메탄올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 트리시클로데칸디메탄올, 펜타시클로펜타데칸디메탄올, 2,6-데칼린디메탄올, 1,5-데칼린디메탄올, 2,3-데칼린디메탄올, 2,3-노보난디메탄올, 2,5-노보난디메탄올, 1,3-아다만탄디메탄올, 리모넨 등의, 테르펜 화합물로부터 유도되는 디히드록시 화합물 등으로 예시되는, 지환식 탄화수소의 1급 알코올인 디히드록시 화합물; 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 등의 옥시알킬렌글리콜류; 이소소르비드 등의 환상 에테르 구조를 갖는 디히드록시 화합물; 스피로글리콜, 디옥산글리콜 등의 환상 아세탈 구조를 갖는 디히드록시 화합물; 1,2-시클로헥산디카복실산, 1,3-시클로헥산디카복실산, 1,4-시클로헥산디카복실산 등의 지환식 디카복실산; 말론산, 석신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 아젤라산, 세박산 등의 지방족 디카복실산.Specific examples of compounds composed of the above aliphatic structure are given below. Ethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,2-propanediol, 1,4-butanediol, 1,3-butanediol, 1,2-butanediol, 1,5-heptanediol, 1,6-hexanediol, 1 , dihydroxy compounds of straight-chain aliphatic hydrocarbons such as 9-nonanediol, 1,10-decanediol, and 1,12-dodecanediol; Dihydroxy compounds of branched aliphatic hydrocarbons such as neopentyl glycol and hexylene glycol; 1,2-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanediol, 1,3-adamantanediol, hydrogenated bisphenol A, 2,2,4,4-tetramethyl-1,3-cyclobutanediol Dihydroxy compounds that are secondary alcohols and tertiary alcohols of alicyclic hydrocarbons, such as those exemplified by the like; 1,2-cyclohexanedimethanol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, tricyclodecanedimethanol, pentacyclopentadecanedimethanol, 2,6-decalindimethanol, 1, Dihydes derived from terpene compounds, such as 5-decalin dimethanol, 2,3-decalin dimethanol, 2,3-norbonane dimethanol, 2,5-norbonane dimethanol, 1,3-adamantane dimethanol, limonene, etc. Dihydroxy compounds, which are primary alcohols of alicyclic hydrocarbons, such as hydroxy compounds; Oxyalkylene glycols such as diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, and polypropylene glycol; Dihydroxy compounds having a cyclic ether structure such as isosorbide; Dihydroxy compounds having a cyclic acetal structure such as spiroglycol and dioxane glycol; Alicyclic dicarboxylic acids such as 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid; Aliphatic dicarboxylic acids such as malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, and sebacic acid.

상기 방향족환을 포함하는 구조 단위를 도입 가능한 화합물의 구체예를 이하에 든다. 2,2-비스(4-히드록시페닐)프로판, 2,2-비스(3-메틸-4-히드록시페닐)프로판, 2,2-비스(4-히드록시-3,5-디메틸페닐)프로판, 2,2-비스(4-히드록시-3,5-디에틸페닐)프로판, 2,2-비스(4-히드록시-(3-페닐)페닐)프로판, 2,2-비스(4-히드록시-(3,5-디페닐)페닐)프로판, 2,2-비스(4-히드록시-3,5-디브로모페닐)프로판, 비스(4-히드록시페닐)메탄, 1,1-비스(4-히드록시페닐)에탄, 2,2-비스(4-히드록시페닐)부탄, 2,2-비스(4-히드록시페닐)펜탄, 1,1-비스(4-히드록시페닐)-1-페닐에탄, 비스(4-히드록시페닐)디페닐메탄, 1,1-비스(4-히드록시페닐)-2-에틸헥산, 1,1-비스(4-히드록시페닐)데칸, 비스(4-히드록시-3-니트로페닐)메탄, 3,3-비스(4-히드록시페닐)펜탄, 1,3-비스(2-(4-히드록시페닐)-2-프로필)벤젠, 1,3-비스(2-(4-히드록시페닐)-2-프로필)벤젠, 2,2-비스(4-히드록시페닐)헥사플루오로프로판, 1,1-비스(4-히드록시페닐)시클로헥산, 비스(4-히드록시페닐)설폰, 2,4'-디히드록시디페닐설폰, 비스(4-히드록시페닐)설파이드, 비스(4-히드록시-3-메틸페닐)설파이드, 비스(4-히드록시페닐)디설파이드, 4,4'-디히드록시디페닐에테르, 4,4'-디히드록시-3, 3'-디클로로디페닐에테르 등의 방향족 비스페놀 화합물; 2,2-비스(4-(2-히드록시에톡시)페닐)프로판, 2,2-비스(4-(2-히드록시프로폭시)페닐)프로판, 1,3-비스(2-히드록시에톡시)벤젠, 4,4'-비스(2-히드록시에톡시)비페닐, 비스(4-(2-히드록시에톡시)페닐)설폰 등의 방향족기에 결합한 에테르기를 갖는 디히드록시 화합물; 테레프탈산, 프탈산, 이소프탈산, 4,4'-디페닐디카복실산, 4,4'-디페닐에테르디카복실산, 4,4'-벤조페논디카복실산, 4,4'-디페녹시에탄디카복실산, 4,4'-디페닐설폰디카복실산, 2,6-나프탈렌디카복실산 등의 방향족 디카복실산.Specific examples of compounds into which a structural unit containing the aromatic ring can be introduced are given below. 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)propane, 2,2-bis(3-methyl-4-hydroxyphenyl)propane, 2,2-bis(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) Propane, 2,2-bis(4-hydroxy-3,5-diethylphenyl)propane, 2,2-bis(4-hydroxy-(3-phenyl)phenyl)propane, 2,2-bis(4 -Hydroxy-(3,5-diphenyl)phenyl)propane, 2,2-bis(4-hydroxy-3,5-dibromophenyl)propane, bis(4-hydroxyphenyl)methane, 1, 1-bis(4-hydroxyphenyl)ethane, 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)butane, 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)pentane, 1,1-bis(4-hydroxy) Phenyl)-1-phenylethane, bis(4-hydroxyphenyl)diphenylmethane, 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)-2-ethylhexane, 1,1-bis(4-hydroxyphenyl) Decane, bis(4-hydroxy-3-nitrophenyl)methane, 3,3-bis(4-hydroxyphenyl)pentane, 1,3-bis(2-(4-hydroxyphenyl)-2-propyl) Benzene, 1,3-bis(2-(4-hydroxyphenyl)-2-propyl)benzene, 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)hexafluoropropane, 1,1-bis(4-hyde Roxyphenyl)cyclohexane, bis(4-hydroxyphenyl)sulfone, 2,4'-dihydroxydiphenylsulfone, bis(4-hydroxyphenyl)sulfide, bis(4-hydroxy-3-methylphenyl)sulfide , aromatic bisphenol compounds such as bis(4-hydroxyphenyl)disulfide, 4,4'-dihydroxydiphenyl ether, 4,4'-dihydroxy-3, 3'-dichlorodiphenyl ether; 2,2-bis(4-(2-hydroxyethoxy)phenyl)propane, 2,2-bis(4-(2-hydroxypropoxy)phenyl)propane, 1,3-bis(2-hydroxy dihydroxy compounds having an ether group bonded to an aromatic group such as ethoxy)benzene, 4,4'-bis(2-hydroxyethoxy)biphenyl, and bis(4-(2-hydroxyethoxy)phenyl)sulfone; Terephthalic acid, phthalic acid, isophthalic acid, 4,4'-diphenyldicarboxylic acid, 4,4'-diphenyletherdicarboxylic acid, 4,4'-benzophenonedicarboxylic acid, 4,4'-diphenoxyethanedicarboxylic acid, Aromatic dicarboxylic acids such as 4,4'-diphenylsulfonedicarboxylic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid.

또한, 상기에서 든 지방족 디카복실산 및 방향족 디카복실산 성분은 디카복실산 그 자체로서 상기 폴리에스테르카보네이트의 원료로 할 수 있지만, 제조법에 따라 메틸에스테르체, 페닐에스테르체 등의 디카복실산 에스테르나, 디카복실산 할라이드 등의 디카복실산 유도체를 원료로 할 수도 있다.In addition, the aliphatic dicarboxylic acid and aromatic dicarboxylic acid components mentioned above can be used as dicarboxylic acid itself as a raw material for the polyester carbonate, but depending on the manufacturing method, dicarboxylic acid esters such as methyl ester, phenyl ester, or dicarboxylic acid halide. Dicarboxylic acid derivatives such as these can also be used as raw materials.

공중합 모노머로서, 음의 복굴절을 갖는 구조 단위를 갖는 화합물로서 종래부터 알려져 있는, 9,9-비스(4-(2-히드록시에톡시)페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-히드록시페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-히드록시-3-메틸페닐)플루오렌 등의 플루오렌환을 갖는 디히드록시 화합물이나, 플루오렌환을 갖는 디카복실산 화합물도 올리고플루오렌 화합물과 조합하여 이용할 수 있다.As copolymerized monomers, 9,9-bis(4-(2-hydroxyethoxy)phenyl)fluorene and 9,9-bis(4-hyde), which are conventionally known as compounds having a structural unit with negative birefringence. Dihydroxy compounds having a fluorene ring such as oxyphenyl)fluorene and 9,9-bis(4-hydroxy-3-methylphenyl)fluorene, and dicarboxylic acid compounds having a fluorene ring are also used as oligofluorene compounds. Can be used in combination.

본 발명의 실시형태에 이용되는 수지는, 상기 지환식 구조를 포함하는 화합물에 의해 도입 가능한 구조 단위 중에서도, 공중합 성분으로서, 하기 식 (3)으로 나타내는 구조 단위를 함유하는 것이 바람직하다.The resin used in the embodiment of the present invention preferably contains a structural unit represented by the following formula (3) as a copolymerization component among the structural units that can be introduced by the compound containing the alicyclic structure.

상기 식 (3)의 구조 단위를 도입 가능한 디히드록시 화합물로서는, 스피로글리콜을 이용할 수 있다.As a dihydroxy compound into which the structural unit of the formula (3) can be introduced, spiroglycol can be used.

본 발명의 실시형태에 이용되는 수지에서, 상기 식 (3)으로 나타내는 구조 단위는 5질량% 이상, 90질량% 이하 함유되어 있는 것이 바람직하다. 상한은 70질량% 이하가 더욱 바람직하고, 50질량% 이하가 특히 바람직하다. 하한은 10질량% 이상이 더욱 바람직하고, 20질량% 이상이 보다 바람직하며, 25질량% 이상이 특히 바람직하다. 상기 식 (3)으로 나타내는 구조 단위의 함유량이 상기 하한 이상이면, 충분한 기계 물성이나 내열성, 낮은 광탄성 계수를 얻을 수 있다. 또한, 아크릴계 수지와의 상용성(相溶性)이 향상하여, 얻어지는 수지 조성물의 투명성을 더욱 향상할 수 있다. 또한, 스피로글리콜은 중합 반응의 속도가 비교적 늦기 때문에, 함유량을 상기 상한 이하로 억제함으로써, 중합 반응을 제어하기 쉬워진다.In the resin used in the embodiment of the present invention, it is preferable that the structural unit represented by the above formula (3) is contained in an amount of 5% by mass or more and 90% by mass or less. As for the upper limit, 70 mass% or less is more preferable, and 50 mass% or less is especially preferable. As for the lower limit, 10 mass% or more is more preferable, 20 mass% or more is more preferable, and 25 mass% or more is especially preferable. If the content of the structural unit represented by the above formula (3) is more than the above lower limit, sufficient mechanical properties, heat resistance, and a low photoelastic coefficient can be obtained. Additionally, compatibility with acrylic resin is improved, and the transparency of the resulting resin composition can be further improved. Additionally, since the polymerization reaction rate of spiroglycol is relatively slow, the polymerization reaction becomes easy to control by suppressing the content below the above upper limit.

본 발명의 실시형태에 이용되는 수지는, 공중합 성분으로서, 추가로 하기 식 (4)로 나타내는 구조 단위를 함유하는 것이 바람직하다.The resin used in the embodiment of the present invention preferably contains a structural unit represented by the following formula (4) as a copolymerization component.

상기 식 (4)로 나타내는 구조 단위를 도입 가능한 디히드록시 화합물로서는, 입체 이성체의 관계에 있는, 이소소르비드(ISB), 이소만니드, 이소이디드를 들 수 있다. 이들은 1종을 단독으로 이용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 된다.Examples of dihydroxy compounds into which the structural unit represented by the formula (4) can be introduced include isosorbide (ISB), isomannide, and isoidide, which are stereoisomers. These may be used individually, or two or more types may be used in combination.

본 발명의 실시형태에 이용되는 수지에서, 상기 식 (4)로 나타내는 구조 단위는 5질량% 이상, 90질량% 이하 함유되어 있는 것이 바람직하다. 상한은 70질량% 이하가 더욱 바람직하고, 50질량% 이하가 특히 바람직하다. 하한은 10질량% 이상이 더욱 바람직하고, 15질량% 이상이 특히 바람직하다. 상기 식 (4)로 나타내는 구조 단위의 함유량이 상기 하한 이상이면, 충분한 기계 물성이나 내열성, 낮은 광탄성 계수를 얻을 수 있다. 또한, 상기 식 (4)로 나타내는 구조 단위는 흡수(吸水)성이 높은 특성이 있기 때문에, 상기 식 (4)로 나타내는 구조 단위의 함유량이 상기 상한 이하이면, 흡수(吸水)에 의한 성형체의 치수 변화를 허용 범위로 억제할 수 있다.In the resin used in the embodiment of the present invention, it is preferable that the structural unit represented by the above formula (4) is contained in an amount of 5% by mass or more and 90% by mass or less. As for the upper limit, 70 mass% or less is more preferable, and 50 mass% or less is especially preferable. As for the lower limit, 10 mass% or more is more preferable, and 15 mass% or more is especially preferable. If the content of the structural unit represented by the above formula (4) is more than the above lower limit, sufficient mechanical properties, heat resistance, and a low photoelastic coefficient can be obtained. In addition, since the structural unit represented by the formula (4) has a high water absorption property, if the content of the structural unit represented by the formula (4) is below the upper limit, the size of the molded article due to water absorption Changes can be suppressed to an acceptable range.

본 발명의 실시형태에 이용되는 수지는, 추가로 다른 구조 단위를 포함하고 있어도 된다. 또한 이러한 구조 단위를 '그 밖의 구조 단위'라고 칭하는 경우가 있다. 그 밖의 구조 단위를 갖는 모노머로서는, 1,4-시클로헥산디메탄올, 트리시클로데칸디메탄올, 1,4-시클로헥산디카복실산(및 그의 유도체)을 채용하는 것이 보다 바람직하고, 1,4-시클로헥산디메탄올과 트리시클로데칸디메탄올이 특히 바람직하다. 이들 모노머에서 유래되는 구조 단위를 포함하는 수지는, 광학 특성이나 내열성, 기계 특성 등의 밸런스가 우수하다. 또한, 디에스테르 화합물의 중합 반응성은 비교적 낮기 때문에, 반응 효율을 높이는 관점에서, 올리고플루오렌 구조 단위를 함유하는 디에스테르 화합물 이외의 디에스테르 화합물은 이용하지 않는 것이 바람직하다.The resin used in the embodiment of the present invention may further contain other structural units. Additionally, these structural units are sometimes referred to as 'other structural units'. As monomers having other structural units, it is more preferable to employ 1,4-cyclohexanedimethanol, tricyclodecanedimethanol, and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid (and derivatives thereof), and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid (and its derivatives) is more preferably used. Hexanedimethanol and tricyclodecanedimethanol are particularly preferred. Resins containing structural units derived from these monomers have excellent balance in optical properties, heat resistance, mechanical properties, etc. Additionally, since the polymerization reactivity of diester compounds is relatively low, from the viewpoint of increasing reaction efficiency, it is preferable not to use diester compounds other than diester compounds containing oligofluorene structural units.

본 발명의 실시형태에 이용되는 수지의 유리 전이 온도(Tg)는, 110℃ 이상 160℃ 이하인 것이 바람직하다. 상한은 155℃ 이하가 더욱 바람직하고, 150℃ 이하가 보다 바람직하며, 145℃ 이하가 특히 바람직하다. 하한은 120℃ 이상이 더욱 바람직하고, 130℃ 이상이 특히 바람직하다. 유리 전이 온도가 상기 범위 밖이면 내열성이 나빠지는 경향이 있어, 필름 성형 후에 치수 변화를 일으키거나, 제1 위상차층의 사용 조건하에서의 품질의 신뢰성이 악화될 가능성이 있다. 한편, 유리 전이 온도가 과도하게 높으면, 필름 성형 시에 필름 두께의 불균일이 생기거나 필름이 물러져, 연신성이 악화되는 경우가 있고, 또한 필름의 투명성을 해치는 경우가 있다.The glass transition temperature (Tg) of the resin used in the embodiment of the present invention is preferably 110°C or higher and 160°C or lower. The upper limit is more preferably 155°C or lower, more preferably 150°C or lower, and particularly preferably 145°C or lower. The lower limit is more preferably 120°C or higher, and particularly preferably 130°C or higher. If the glass transition temperature is outside the above range, heat resistance tends to deteriorate, and dimensional changes may occur after film forming, or quality reliability under the use conditions of the first retardation layer may deteriorate. On the other hand, if the glass transition temperature is excessively high, unevenness in the film thickness may occur during film forming, the film may become brittle, the stretchability may deteriorate, and the transparency of the film may be impaired.

D-2-2. 아크릴계 수지D-2-2. Acrylic resin

아크릴계 수지로서는, 열가소성 수지로서의 아크릴계 수지가 사용된다. 아크릴계 수지의 구조 단위가 되는 단량체로서는, 예컨대 이하의 화합물을 들 수 있다: 메타크릴산메틸, 메타크릴산, 아크릴산메틸, 아크릴산, 벤질(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, i-부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 트리데실(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-에톡시에틸(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 이소보닐(메트)아크릴레이트, 노보닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 아크릴(메트)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 석신산 2-(메트)아크릴로일옥시에틸, 말레산 2-(메트)아크릴로일옥시에틸, 프탈산 2-(메트)아크릴로일옥시에틸, 헥사히드로프탈산 2-(메트)아크릴로일옥시에틸, 펜타메틸피페리딜(메트)아크릴레이트, 테트라메틸피페리딜(메트)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 디에틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 시클로펜틸메타크릴레이트, 시클로펜틸아크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 시클로헵틸메타크릴레이트, 시클로헵틸아크릴레이트, 시클로옥틸메타크릴레이트, 시클로옥틸아크릴레이트, 시클로도데실메타크릴레이트, 시클로도데실아크릴레이트. 이들은 단독으로 이용하여도 되고, 2종류 이상을 조합하여 이용하여도 된다. 2종 이상의 단량체를 조합하여 이용하는 형태는, 2종 이상의 단량체의 공중합, 1종의 단량체의 단독 중합체의 2개 이상의 블렌드, 및 이들의 조합을 들 수 있다. 또한, 이들 아크릴계 단량체와 공중합 가능한 다른 단량체(예컨대, 올레핀계 단량체, 비닐계 단량체)를 병용하여도 된다.As the acrylic resin, an acrylic resin as a thermoplastic resin is used. Monomers that become structural units of acrylic resin include, for example, the following compounds: methyl methacrylate, methacrylic acid, methyl acrylate, acrylic acid, benzyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, i -Butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, tridecyl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate , glycidyl (meth)acrylate, hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-methoxyethyl (meth)acrylate, 2-ethoxyethyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, iso Bornyl (meth)acrylate, norbornyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, acrylic (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-(meth)acryloyloxyethyl succinic acid, 2-(meth)acryloyloxyethyl maleic acid, 2-(meth)acryloyloxyethyl phthalic acid, 2-(meth)acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, pentamethylpiperidyl(meth)acrylate, tetramethylpiperidyl(meth)acrylate, dimethylamino Ethyl (meth)acrylate, diethylaminoethyl (meth)acrylate, cyclopentyl methacrylate, cyclopentyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cycloheptyl methacrylate, cycloheptyl acrylate, Cyclooctyl methacrylate, cyclooctyl acrylate, cyclododecyl methacrylate, cyclododecyl acrylate. These may be used individually, or two or more types may be used in combination. Forms in which two or more types of monomers are used in combination include copolymerization of two or more types of monomers, blends of two or more homopolymers of one type of monomer, and combinations thereof. Additionally, other monomers (e.g., olefin-based monomers, vinyl-based monomers) that can be copolymerized with these acrylic monomers may be used in combination.

아크릴계 수지는, 메타크릴산메틸 유래의 구조 단위를 포함한다. 아크릴계 수지에서의 메타크릴산메틸 유래의 구조 단위의 함유량은 70질량% 이상, 100질량% 이하가 바람직하다. 하한은 80질량% 이상이 보다 바람직하고, 90질량% 이상이 더욱 바람직하며, 95질량% 이상이 특히 바람직하다. 이 범위이면, 본 발명의 폴리카보네이트계 수지와 우수한 상용성을 얻을 수 있다. 메타크릴산메틸 이외의 구조 단위로서는, 아크릴산메틸, 페닐(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 스티렌을 이용하는 것이 바람직하다. 아크릴산메틸을 공중합함으로써 열안정성을 향상시킬 수 있다. 페닐(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 스티렌을 이용함으로써, 아크릴계 수지의 굴절률을 조정할 수 있기 때문에, 조합하는 수지의 굴절률에 맞춤으로써, 얻어지는 수지 조성물의 투명성을 향상시킬 수 있다. 이와 같은 아크릴계 수지를 이용함으로써, 신장성 및 위상차 발현성이 우수하고, 또한, 헤이즈가 작은 역분산 위상차 필름이 얻어질 수 있다.Acrylic resin contains structural units derived from methyl methacrylate. The content of the structural unit derived from methyl methacrylate in the acrylic resin is preferably 70% by mass or more and 100% by mass or less. As for the lower limit, 80 mass% or more is more preferable, 90 mass% or more is still more preferable, and 95 mass% or more is especially preferable. Within this range, excellent compatibility with the polycarbonate-based resin of the present invention can be obtained. As structural units other than methyl methacrylate, it is preferable to use methyl acrylate, phenyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, and styrene. Thermal stability can be improved by copolymerizing methyl acrylate. Since the refractive index of the acrylic resin can be adjusted by using phenyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, and styrene, transparency of the resulting resin composition can be improved by matching the refractive index of the resin to be combined. By using such an acrylic resin, a reverse-dispersion retardation film with excellent extensibility and retardation development properties and small haze can be obtained.

아크릴계 수지의 중량평균 분자량 Mw는, 10,000 이상, 200,000 이하이다. 하한은 30,000 이상이 바람직하고, 50,000 이상이 특히 바람직하다. 상한은 180,000 이하가 바람직하고, 150,000 이하가 특히 바람직하다. 분자량이 이와 같은 범위이면, 폴리카보네이트계 수지와의 상용성이 얻어짐으로써, 최종적인 위상차 필름(위상차층)의 투명성을 향상시킬 수 있고, 또한 연신 시의 신장성을 충분히 향상시키는 효과가 얻어진다. 다만, 상기의 중량평균 분자량은 GPC에 의해 측정되는, 폴리스티렌 환산의 분자량이다. 또한, 아크릴계 수지는 실질적으로 분기 구조를 함유하지 않는 것이 상용성의 관점에서 바람직하다. 분기 구조를 함유하지 않는 것은, 아크릴계 수지의 GPC 커브가 단봉성인 것 등으로 확인할 수 있다.The weight average molecular weight Mw of the acrylic resin is 10,000 or more and 200,000 or less. The lower limit is preferably 30,000 or more, and particularly preferably 50,000 or more. The upper limit is preferably 180,000 or less, and particularly preferably 150,000 or less. If the molecular weight is within this range, compatibility with the polycarbonate-based resin is obtained, thereby improving the transparency of the final retardation film (retardation layer), and also achieving the effect of sufficiently improving extensibility during stretching. . However, the above weight average molecular weight is the molecular weight in terms of polystyrene, measured by GPC. Additionally, it is preferable from the viewpoint of compatibility that the acrylic resin does not contain substantially a branched structure. That it does not contain a branched structure can be confirmed by the fact that the GPC curve of the acrylic resin is unimodal.

D-2-3. 폴리카보네이트계 수지와 아크릴계 수지의 블렌드D-2-3. Blend of polycarbonate-based resin and acrylic-based resin

폴리카보네이트계 수지와 아크릴계 수지를 병용하는 경우, 폴리카보네이트계 수지와 아크릴계 수지는 블렌드되어, 수지 조성물로서 위상차 필름(제1 위상차층)의 제조 방법에 제공된다(제조 방법은 D-3항에서 후술한다). 폴리카보네이트계 수지와 아크릴계 수지는, 바람직하게는 용융 상태로 블렌드될 수 있다. 용융 상태로 블렌드하는 방법으로서는, 대표적으로는, 압출기를 이용한 용융 혼련을 들 수 있다. 혼련 온도(용융 수지 온도)는, 바람직하게는 200℃~280℃이고, 보다 바람직하게는 220℃~270℃이며, 더욱 바람직하게는 230℃~260℃이다. 혼련 온도가 이와 같은 범위이면, 열분해를 억제하면서, 양 수지가 균일하게 블렌드된 수지 조성물의 펠릿이 얻어질 수 있다. 압출기 중의 용융 수지 온도가 280℃를 초과하면, 수지의 착색 및/또는 열분해가 발생하는 경우가 있다. 한편, 압출기 중의 용융 수지 온도가 200℃를 하회하면, 수지 점도가 지나치게 높아져 압출기에 과대한 부하가 걸리거나, 수지의 용융이 불충분하게 되는 경우가 있다. 또한 압출기의 구성, 스크류의 구성 등으로서는, 임의의 적절한 구성이 채용될 수 있다. 광학 필름 용도에 견딜 수 있는 수지의 투명성을 얻기 위해서는 2축 압출기를 이용하는 것이 바람직하다. 또한 수지 중의 잔존 저분자 성분이나, 압출 혼련 중의 저분자량의 열분해 성분은, 제막 공정이나 연신 공정에서, 냉각 롤이나 반송 롤을 오염할 염려가 있기 때문에, 이것을 제거하기 위하여, 진공 벤트를 구비하는 압출기를 이용하는 것이 바람직하다.When polycarbonate-based resin and acrylic resin are used together, the polycarbonate-based resin and acrylic resin are blended and provided as a resin composition to the manufacturing method of the retardation film (first retardation layer) (the manufacturing method is described later in Section D-3) do). Polycarbonate-based resin and acrylic-based resin can be blended, preferably in a molten state. A typical method of blending in a molten state includes melt kneading using an extruder. The kneading temperature (molten resin temperature) is preferably 200°C to 280°C, more preferably 220°C to 270°C, and even more preferably 230°C to 260°C. If the kneading temperature is within this range, pellets of a resin composition in which both resins are uniformly blended can be obtained while suppressing thermal decomposition. If the temperature of the molten resin in the extruder exceeds 280°C, coloring and/or thermal decomposition of the resin may occur. On the other hand, if the temperature of the molten resin in the extruder is lower than 200°C, the resin viscosity may become too high, which may place an excessive load on the extruder or result in insufficient melting of the resin. Additionally, any appropriate configuration may be adopted as the extruder configuration, screw configuration, etc. In order to obtain resin transparency that can withstand optical film applications, it is preferable to use a twin-screw extruder. In addition, the remaining low molecular components in the resin and the low molecular weight thermally decomposed components during extrusion and kneading may contaminate the cooling rolls and conveyance rolls during the film forming process and stretching process. In order to remove these, an extruder equipped with a vacuum vent is used. It is desirable to use

수지 조성물(결과로서, 제1 위상차층)에서의 아크릴계 수지의 함유량은, 상기와 같이 0.5질량% 이상, 2.0질량% 이하이다. 하한은 0.6질량% 이상이 보다 바람직하다. 상한은 1.5질량% 이하가 바람직하고, 1.0중량% 이하가 보다 바람직하며, 0.9중량% 이하가 더욱 바람직하고, 0.8질량% 이하가 특히 바람직하다. 이와 같이, 폴리카보네이트계 수지에 아크릴계 수지를 매우 한정적인 비율로 배합함으로써, 신장성 및 위상차 발현성을 현저하게 증대시킬 수 있다. 또한, 헤이즈를 억제할 수 있다. 이와 같은 효과는 이론적으로는 분명하지 않고, 시행 착오에 의해 얻어진 예기치 못한 우수한 효과이다. 또한, 아크릴계 수지의 함유량이 지나치게 적으면, 상기의 효과가 얻어지지 않는 경우가 있다. 한편, 아크릴계 수지의 함유량이 지나치게 많으면, 헤이즈가 높아져 버리는 경우가 있다. 또한, 신장성 및 위상차 발현성도 상기 범위 내의 경우에 비하여 불충분하게 되거나, 오히려 저하해 버리는 경우가 많다.The content of the acrylic resin in the resin composition (as a result, the first phase difference layer) is 0.5% by mass or more and 2.0% by mass or less as described above. As for the lower limit, 0.6 mass% or more is more preferable. The upper limit is preferably 1.5% by mass or less, more preferably 1.0% by weight or less, more preferably 0.9% by weight or less, and especially preferably 0.8% by weight or less. In this way, by mixing acrylic resin with polycarbonate resin in a very limited ratio, extensibility and retardation development can be significantly increased. Additionally, haze can be suppressed. This effect is not theoretically clear, but is an unexpected and excellent effect obtained through trial and error. Additionally, if the content of acrylic resin is too small, the above-mentioned effects may not be obtained. On the other hand, if the content of acrylic resin is too high, the haze may become high. In addition, the extensibility and phase difference generation properties are often insufficient or rather deteriorated compared to those within the above range.

수지 조성물은, 기계 특성 및/또는 내용제성 등의 특성을 개질하는 목적으로, 방향족 폴리카보네이트, 지방족 폴리카보네이트, 방향족 폴리에스테르, 지방족 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리스티렌, 폴리올레핀, 아크릴, 어모퍼스 폴리올레핀, ABS, AS, 폴리락트산, 폴리부틸렌석시네이트 등의 합성 수지, 고무, 및 이들의 조합이 더 블렌드되어도 된다.For the purpose of modifying properties such as mechanical properties and/or solvent resistance, the resin composition includes aromatic polycarbonate, aliphatic polycarbonate, aromatic polyester, aliphatic polyester, polyamide, polystyrene, polyolefin, acrylic, amorphous polyolefin, ABS, Synthetic resins such as AS, polylactic acid, polybutylene succinate, rubber, and combinations thereof may be further blended.

수지 조성물은 첨가제를 더 포함하고 있어도 된다. 첨가제의 구체예로서는 열 안정제, 산화 방지제, 촉매 실활제, 자외선 흡수제, 광 안정제, 이형제, 염안료, 충격 개량제, 대전 방지제, 활제, 윤활제, 가소제, 상용화제, 핵제, 난연제, 무기 충전제, 발포제를 들 수 있다. 수지 조성물에 포함되는 첨가제의 종류, 수, 조합, 함유량 등은, 목적에 따라 적절히 설정될 수 있다.The resin composition may further contain additives. Specific examples of additives include heat stabilizers, antioxidants, catalyst deactivators, ultraviolet absorbers, light stabilizers, mold release agents, dye pigments, impact modifiers, antistatic agents, lubricants, lubricants, plasticizers, compatibilizers, nucleating agents, flame retardants, inorganic fillers, and foaming agents. You can. The type, number, combination, content, etc. of additives contained in the resin composition can be appropriately set depending on the purpose.

D-3. 제1 위상차층의 형성 방법D-3. Method of forming first phase contrast layer

제1 위상차층은, 상기 D-2항에 기재된 폴리카보네이트계 수지(아크릴계 수지를 병용하는 경우에는 수지 조성물)로부터 필름을 형성하고, 또한 그 필름을 연신함으로써 얻어진다. 필름을 형성하는 방법으로서는, 임의의 적절한 성형 가공법이 채용될 수 있다. 구체예로서는 압축 성형법, 트랜스퍼 성형법, 사출 성형법, 압출 성형법, 블로우 성형법, 분말 성형법, FRP 성형법, 캐스트 도공법(예컨대, 유연법), 캘린더 성형법, 열프레스법 등을 들 수 있다. 그 중에서도 얻어지는 필름의 평활성을 높이고, 양호한 광학적 균일성을 얻을 수 있는 압출 성형법, 또는 캐스트 도공법이 바람직하다. 캐스트 도공법에서는 잔존 용매에 의한 문제가 생길 우려가 있기 때문에, 특히 바람직하게는 압출 성형법, 그 중에서도 T다이를 이용한 용융 압출 성형법이 필름의 생산성이나, 이후의 연신 처리의 용이함의 관점에서 바람직하다. 성형 조건은, 사용되는 수지의 조성이나 종류, 제1 위상차층에 소망되는 특성 등에 따라 적절히 설정될 수 있다. 이와 같이 하여, 폴리카보네이트계 수지와 필요에 따라서 아크릴계 수지를 포함하는 수지 필름이 얻어질 수 있다.The first retardation layer is obtained by forming a film from the polycarbonate-based resin (resin composition when using an acrylic resin together) described in D-2 above, and further stretching the film. As a method of forming the film, any suitable molding processing method can be employed. Specific examples include compression molding, transfer molding, injection molding, extrusion molding, blow molding, powder molding, FRP molding, cast coating (eg, casting method), calendar molding, and heat press. Among them, the extrusion molding method or the cast coating method is preferable because it can increase the smoothness of the resulting film and obtain good optical uniformity. Since there is a risk of problems due to residual solvent in the cast coating method, extrusion molding method is particularly preferred, especially melt extrusion molding method using T die, from the viewpoint of productivity of the film and ease of subsequent stretching treatment. Molding conditions can be appropriately set depending on the composition and type of the resin used, the characteristics desired for the first phase difference layer, etc. In this way, a resin film containing polycarbonate-based resin and, if necessary, acrylic-based resin can be obtained.

수지 필름(미연신 필름)의 두께는, 얻어지는 제1 위상차층의 소망하는 두께, 소망하는 광학 특성, 후술하는 연신 조건 등에 따라, 임의의 적절한 값으로 설정될 수 있다. 바람직하게는 50㎛~300㎛이다.The thickness of the resin film (unstretched film) can be set to any appropriate value depending on the desired thickness of the obtained first retardation layer, desired optical properties, stretching conditions described later, etc. Preferably it is 50㎛~300㎛.

상기 연신은, 임의의 적절한 연신 방법, 연신 조건(예컨대 연신 온도, 연신 배율, 연신 방향)이 채용될 수 있다. 구체적으로는 자유단 연신, 고정단 연신, 자유단 수축, 고정단 수축 등의 여러 연신 방법을, 단독으로 이용하는 것도, 동시 혹은 순차로 이용할 수도 있다. 연신 방향에 관해서도, 길이 방향, 폭 방향, 두께 방향, 경사 방향 등, 여러가지 방향이나 차원으로 행할 수 있다.For the stretching, any appropriate stretching method and stretching conditions (eg, stretching temperature, stretching ratio, stretching direction) may be employed. Specifically, various stretching methods such as free end stretching, fixed end stretching, free end shrinking, and fixed end shrinking may be used singly or simultaneously or sequentially. Regarding the stretching direction, it can be carried out in various directions or dimensions, such as the longitudinal direction, the width direction, the thickness direction, and the oblique direction.

상기 연신 방법, 연신 조건을 적절히 선택함으로써, 상기 소망하는 광학 특성(예컨대 굴절률 특성, 면내 위상차, Nz 계수)을 갖는 위상차층을 얻을 수 있다.By appropriately selecting the stretching method and stretching conditions, a retardation layer having the desired optical properties (eg, refractive index properties, in-plane retardation, Nz coefficient) can be obtained.

상기 필름의 연신 온도는, 하나의 실시형태에서는, 바람직하게는 폴리카보네이트계 수지의 유리 전이 온도(Tg)~Tg+30℃, 더욱 바람직하게는 Tg~Tg+15℃, 가장 바람직하게는 Tg~Tg+10℃이다. 아크릴계 수지를 병용하는 경우, 연신 온도는 Tg 이하의 온도이다. 통상적으로, 폴리카보네이트계 수지의 필름을 연신하는 경우, Tg 이하의 온도에서는 필름이 유리 상태이므로, 연신은 실질적으로는 불가능하다. 한편, 아크릴계 수지(대표적으로는, 폴리메틸메타크릴레이트)를 소량 배합함으로써, 폴리카보네이트계 수지의 Tg를 실질적으로 변화시키는 일 없이, Tg 이하에서의 연신이 가능하게 된다. 또한, 이론적으로는 분명하지 않지만, Tg 이하에서 연신을 행함으로써, 신장성 및 위상차 발현성이 우수하고, 또한 헤이즈가 작은 역분산 위상차 필름(제1 위상차층)을 실현할 수 있다. 구체적으로는, 연신 온도는, 바람직하게는 Tg~Tg-10℃이고, 보다 바람직하게는 Tg~Tg-8℃이며, 더욱 바람직하게는 Tg~Tg-5℃이다. 또한, 상기 필름은, 예컨대 Tg+5℃ 정도, 또한 예컨대 Tg+2℃ 정도까지이면, Tg보다도 높은 온도이어도 적절히 연신될 수 있다.In one embodiment, the stretching temperature of the film is preferably between the glass transition temperature (Tg) of the polycarbonate resin and Tg+30°C, more preferably between Tg and Tg+15°C, and most preferably between Tg and Tg+10°C. When using an acrylic resin together, the stretching temperature is a temperature below Tg. Normally, when stretching a polycarbonate-based resin film, the film is in a glassy state at a temperature below Tg, so stretching is practically impossible. On the other hand, by mixing a small amount of acrylic resin (typically polymethyl methacrylate), stretching below Tg is possible without substantially changing the Tg of the polycarbonate resin. In addition, although it is not clear in theory, by performing stretching below Tg, an inverse dispersion retardation film (first retardation layer) with excellent stretchability and retardation development properties and small haze can be realized. Specifically, the stretching temperature is preferably Tg to Tg-10°C, more preferably Tg to Tg-8°C, and even more preferably Tg to Tg-5°C. In addition, the film can be appropriately stretched even at a temperature higher than Tg, for example, as long as it is about Tg+5°C, or even up to about Tg+2°C, for example.

상기와 같이 하여 얻어지는 연신 필름은, 필요에 따라서, 105℃ 이상의 온도에서 2분간 이상 가열하는 가열 처리에 제공된다. 가열 처리를 실시함으로써, 상기 소망하는 수축율을 갖는 제1 위상차층을 형성할 수 있다. 가열 온도는, 바람직하게는 105℃~140℃이고, 보다 바람직하게는 110℃~130℃이며, 더욱 바람직하게는 115℃~125℃이다. 가열 시간은, 바람직하게는 2분간~150분간이고, 보다 바람직하게는 3분간~120분간이며, 더욱 바람직하게는 5분간~60분간이다.The stretched film obtained as described above is, if necessary, subjected to a heat treatment of heating at a temperature of 105°C or higher for 2 minutes or more. By performing heat treatment, the first retardation layer having the desired shrinkage rate can be formed. The heating temperature is preferably 105°C to 140°C, more preferably 110°C to 130°C, and still more preferably 115°C to 125°C. The heating time is preferably from 2 minutes to 150 minutes, more preferably from 3 minutes to 120 minutes, and even more preferably from 5 minutes to 60 minutes.

필요에 따라서, 연신 필름은, 완화 처리에 제공되어도 된다. 이로써, 연신에 의해 생기는 응력을 완화할 수 있고, 상기 소망하는 수축율을 갖는 위상차층을 형성할 수 있다. 완화 처리 조건으로서는, 임의의 적절한 조건을 채용할 수 있다. 예컨대, 연신 필름을, 연신 방향을 따라 소정의 완화 온도 및 소정의 완화율(수축율)로 수축시킨다. 완화 온도는, 바람직하게는 60℃~150℃이다. 완화율은, 바람직하게는 3%~6%이다. 완화 처리가 행하여지는 경우, 완화 처리는, 대표적으로는, 상기 가열 처리 전에 행하여질 수 있다.If necessary, the stretched film may be subjected to relaxation treatment. As a result, the stress generated by stretching can be alleviated, and a retardation layer having the desired shrinkage rate can be formed. As the relaxation treatment conditions, any appropriate conditions can be adopted. For example, the stretched film is contracted at a predetermined relaxation temperature and a predetermined relaxation rate (shrinkage rate) along the stretching direction. The relaxation temperature is preferably 60°C to 150°C. The relaxation rate is preferably 3% to 6%. When a relaxation treatment is performed, the relaxation treatment may typically be performed before the heat treatment.

이상과 같이 하여, 제1 위상차층을 구성하는 위상차 필름이 얻어질 수 있다.As described above, the retardation film constituting the first retardation layer can be obtained.

E. 제2 위상차층E. Second phase contrast layer

제2 위상차층은, 상기와 같이, 굴절률 특성이 nz>nx=ny의 관계를 나타내는, 이른바 포지티브 C 플레이트일 수 있다. 제2 위상차층으로서 포지티브 C 플레이트를 이용함으로써, 경사 방향의 반사를 양호하게 방지할 수 있어, 반사 방지 기능의 광시야각화가 가능하게 된다. 이 경우, 제2 위상차층의 두께 방향의 위상차 Rth(550)는, 바람직하게는 -50nm~-300nm, 보다 바람직하게는 -70nm~-250nm, 더욱 바람직하게는 -90nm~-200nm, 특히 바람직하게는 -100nm~-180nm이다. 여기서, 'nx=ny'는, nx와 ny가 엄밀하게 동일한 경우뿐만 아니라, nx와 ny가 실질적으로 동일한 경우도 포함한다. 즉, 제2 위상차층의 면내 위상차 Re(550)는 10nm 미만일 수 있다.The second retardation layer may be a so-called positive C plate whose refractive index characteristics exhibit the relationship of nz>nx=ny, as described above. By using a positive C plate as the second phase contrast layer, reflection in the oblique direction can be prevented satisfactorily, and wide viewing angle of the anti-reflection function becomes possible. In this case, the phase difference Rth (550) in the thickness direction of the second phase difference layer is preferably -50 nm to -300 nm, more preferably -70 nm to -250 nm, further preferably -90 nm to -200 nm, especially preferably is -100nm~-180nm. Here, 'nx=ny' includes not only the case where nx and ny are strictly the same, but also the case where nx and ny are substantially the same. That is, the in-plane phase difference Re(550) of the second phase difference layer may be less than 10 nm.

nz>nx=ny의 굴절률 특성을 갖는 제2 위상차층은, 임의의 적절한 재료로 형성될 수 있다. 제2 위상차층은, 바람직하게는, 호메오트로픽 배향으로 고정된 액정 재료를 포함하는 필름을 포함한다. 호메오트로픽 배향시킬 수 있는 액정 재료(액정 화합물)는, 액정 모노머이어도 되고 액정 폴리머이어도 된다. 당해 액정 화합물 및 당해 위상차층의 형성 방법의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 제2002-333642호의 [0020]~[0028]에 기재된 액정 화합물 및 당해 위상차층의 형성 방법을 들 수 있다. 이 경우, 제2 위상차층의 두께는, 바람직하게는 0.5㎛~10㎛이고, 보다 바람직하게는 0.5㎛~8㎛이며, 더욱 바람직하게는 0.5㎛~5㎛이다.The second retardation layer having a refractive index characteristic of nz>nx=ny may be formed of any suitable material. The second retardation layer preferably comprises a film comprising a liquid crystal material fixed in homeotropic orientation. The liquid crystal material (liquid crystal compound) capable of homeotropic alignment may be a liquid crystal monomer or a liquid crystal polymer. Specific examples of the liquid crystal compound and the method for forming the retardation layer include the liquid crystal compound and the method for forming the retardation layer described in [0020] to [0028] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-333642. In this case, the thickness of the second phase difference layer is preferably 0.5 μm to 10 μm, more preferably 0.5 μm to 8 μm, and still more preferably 0.5 μm to 5 μm.

F. 제1 층 및 제2 층(내열 내습층)F. First layer and second layer (heat-resistant and moisture-resistant layer)

제1 층(31) 및 제2 층(32)은, 각각, 상기 전단 파괴 강도를 만족할 수 있는 한, 임의의 적절한 구성을 채용할 수 있다. 또한, 제1 층(31) 및 제2 층(32)은, 동일한 구성이어도 되고, 상이한 구성이어도 된다. 상기와 같이, 제1 층, 혹은, 제1 층 및 제2 층을 마련함으로써, 가혹한 고온 고습 환경하에서도 우수한 내구성을 갖는 위상차층 부착 편광판을 실현할 수 있다. 이하, 제1 층(31) 및 제2 층(32)을 합하여 내열 내습층으로서 설명한다.The first layer 31 and the second layer 32 can each have any appropriate configuration as long as the shear fracture strength can be satisfied. In addition, the first layer 31 and the second layer 32 may have the same structure or different structures. As described above, by providing the first layer, or the first layer and the second layer, a polarizing plate with a retardation layer having excellent durability even in a harsh high-temperature, high-humidity environment can be realized. Hereinafter, the first layer 31 and the second layer 32 will be collectively described as a heat-resistant and moisture-resistant layer.

내열 내습층은, 바람직하게는, 실질적으로 광학적으로 등방성을 갖는다. 내열 내습층의 면내 위상차 Re(550)는, 바람직하게는 0nm~10nm이고, 보다 바람직하게는 0nm~5nm이며, 더욱 바람직하게는 0nm~3nm이고, 특히 바람직하게는 0nm~2nm이다. 내열 내습층의 두께 방향의 위상차 Rth(550)는, 바람직하게는 -10nm~+10nm이고, 보다 바람직하게는 -5nm~+5nm이며, 더욱 바람직하게는 -3nm~+3nm이고, 특히 바람직하게는 -2nm~+2nm이다. 내열 내습층의 Re(550) 및 Rth(550)가 이와 같은 범위이면, 화상 표시 장치에 적용한 경우에 표시 특성에 대한 악영향을 방지할 수 있다.The heat-resistant and moisture-resistant layer preferably has substantially optical isotropy. The in-plane retardation Re(550) of the heat-resistant and moisture-resistant layer is preferably 0 nm to 10 nm, more preferably 0 nm to 5 nm, further preferably 0 nm to 3 nm, and particularly preferably 0 nm to 2 nm. The phase difference Rth (550) in the thickness direction of the heat-resistant and moisture-resistant layer is preferably -10 nm to +10 nm, more preferably -5 nm to +5 nm, further preferably -3 nm to +3 nm, and especially preferably -2 nm to +10 nm. It is +2nm. If Re(550) and Rth(550) of the heat-resistant and moisture-resistant layer are within this range, adverse effects on display characteristics can be prevented when applied to an image display device.

내열 내습층의 두께 3㎛에서의, 380nm에서의 광선 투과율은, 높으면 높을수록 바람직하다. 구체적으로는, 광선 투과율은, 바람직하게는 85% 이상, 보다 바람직하게는 88% 이상, 더욱 바람직하게는 90% 이상이다. 광선 투과율이 이와 같은 범위이면, 소망하는 투명성을 확보할 수 있다. 광선 투과율은, 예컨대, ASTM-D-1003에 준한 방법으로 측정될 수 있다.The higher the light transmittance at 380 nm when the heat-resistant and moisture-resistant layer has a thickness of 3 μm, the more preferable it is. Specifically, the light transmittance is preferably 85% or more, more preferably 88% or more, and even more preferably 90% or more. If the light transmittance is within this range, desired transparency can be secured. Light transmittance can be measured, for example, by a method according to ASTM-D-1003.

내열 내습층의 헤이즈는, 낮으면 낮을수록 바람직하다. 구체적으로는, 헤이즈는, 바람직하게는 5% 이하, 보다 바람직하게는 3% 이하, 더욱 바람직하게는 1.5% 이하, 특히 바람직하게는 1% 이하이다. 헤이즈가 5% 이하이면, 위상차층 부착 편광판에 양호한 클리어감을 줄 수 있다. 그 결과, 화상 표시 장치의 표시 내용을 양호하게 시인할 수 있다.The lower the haze of the heat-resistant and moisture-resistant layer, the more preferable it is. Specifically, the haze is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, further preferably 1.5% or less, and particularly preferably 1% or less. If the haze is 5% or less, a good sense of clearness can be provided to the polarizing plate with a retardation layer. As a result, the display content of the image display device can be clearly viewed.

하나의 실시형태에서는, 내열 내습층과 제1 위상차층의 밀착성은, 높으면 높을수록 바람직하다. 구체적으로는, 밀착성은, JIS K 5600-5-6에 기재된 기반목(碁盤目) 박리 시험에서, 바람직하게는 2점 이하, 보다 바람직하게는 1점 이하, 특히 바람직하게는 0점인 상태를 나타낸다. 밀착성이 기반목 박리 시험에 의해 2점 이하이면, 가혹한 고온 고습 환경하에서의 위상차층 부착 편광판의 박리를 양호하게 억제할 수 있고, 또한 리워크 시의 박리 등의 외관에 관한 문제를 억제할 수 있다.In one embodiment, the higher the adhesion between the heat-resistant and moisture-resistant layer and the first phase difference layer, the more preferable it is. Specifically, the adhesion indicates a state of preferably 2 points or less, more preferably 1 point or less, and particularly preferably 0 points in the base wood peeling test described in JIS K 5600-5-6. . If the adhesion is 2 points or less according to the base material peeling test, peeling of the polarizer with a retardation layer in a harsh high-temperature, high-humidity environment can be well suppressed, and external appearance problems such as peeling during rework can be suppressed.

상기와 같이 내열 내습층은, 대표적으로는, 수지의 경화층 또는 고화층이다. 경화층은 예컨대 열경화성 수지, 활성 에너지선 경화형 수지 또는 활성 에너지선 경화형 수지의 경화층일 수 있다. 경화층의 구체예로서는, 단순한 경화층에 더하여 하드 코트층, 활성 에너지선 경화형 접착제로 구성된 접착제층, 가교제에 의한 가교층을 들 수 있다. 고화층은, 예컨대, 열가소성 수지의 유기 용매 용액의 도포막의 고화층일 수 있다. 이들은, 단독으로 내열 내습층을 구성하여도 되고, 2종 이상 조합하여 내열 내습층을 구성하여도 된다.As described above, the heat-resistant and moisture-resistant layer is typically a cured layer or solidified layer of a resin. The cured layer may be, for example, a cured layer of a thermosetting resin, an active energy ray-curable resin, or an active energy ray-curable resin. Specific examples of the cured layer include, in addition to a simple cured layer, a hard coat layer, an adhesive layer composed of an active energy ray-curable adhesive, and a crosslinking layer using a crosslinking agent. The solidified layer may be, for example, a solidified layer of a coating film of an organic solvent solution of a thermoplastic resin. These may constitute a heat-resistant and moisture-resistant layer individually, or two or more types may be combined to constitute a heat-resistant and moisture-resistant layer.

(하드 코트층)(hard coat layer)

하드 코트층(실질적으로는, 하드 코트층을 형성하는 조성물)은, 경화 성분과 대표적으로는 광중합 개시제를 포함한다. 경화 성분의 대표예로서는, 활성 에너지선 경화형 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 활성 에너지선 경화형 (메트)아크릴레이트로서는, 예컨대 자외선 경화형 (메트)아크릴레이트, 전자선 경화형 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 바람직하게는 자외선 경화형 (메트)아크릴레이트이다. 간단한 가공 조작으로, 효율적으로 하드 코트층을 형성할 수 있기 때문이다. 자외선 경화형 (메트)아크릴레이트는 자외선 경화형의 모노머, 올리고머, 폴리머 등을 포함한다. 자외선 경화형 (메트)아크릴레이트는, 자외선 중합 관능기를 바람직하게는 2개 이상, 보다 바람직하게는 3~6개 갖는 모노머 성분 및 올리고머 성분을 포함한다. 자외선 경화형 (메트)아크릴레이트의 구체예로서는 우레탄 아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 에톡시화 글리세린트리아크릴레이트, 폴리에테르우레탄디아크릴레이트를 들 수 있다. 이들 이외에, 후술하는 활성 에너지선 경화형 접착제의 경화 성분을 이용하여도 된다. 경화 성분은, 단독으로 이용하여도 되고 2종 이상을 병용하여도 된다. 경화 방식은, 라디칼 중합 방식이어도 되고, 양이온 중합 방식이어도 된다. 하나의 실시형태에서는, (메트)아크릴레이트에 실리카 입자나 폴리실세스퀴옥산 화합물 등을 배합한 유기 무기 하이브리드 재료를 이용하여도 된다. 하드 코트층의 구성 재료 및 형성 방법은, 예컨대 일본 공개특허공보 제2011-237789호, 일본 공개특허공보 제2020-064236호, 일본 공개특허공보 제2010-152331호 등에 기재되어 있다. 이들 공보의 기재는, 본 명세서에 참고로서 원용된다. 또한, 본 명세서에서 '(메트)아크릴'이란, 아크릴 및/또는 메타크릴을 의미한다. 또한, (메트)아크릴을 단순히 아크릴이라고 칭하는 경우가 있다.The hard coat layer (substantially the composition forming the hard coat layer) contains a curing component and typically a photopolymerization initiator. Representative examples of the curing component include active energy ray-curable (meth)acrylate. Examples of active energy ray-curable (meth)acrylate include ultraviolet ray-curable (meth)acrylate and electron beam-curable (meth)acrylate. Preferably it is ultraviolet curable (meth)acrylate. This is because a hard coat layer can be formed efficiently with a simple processing operation. Ultraviolet-curable (meth)acrylate includes ultraviolet-curable monomers, oligomers, polymers, etc. The ultraviolet curable (meth)acrylate contains a monomer component and an oligomer component having preferably 2 or more ultraviolet polymerizable functional groups, more preferably 3 to 6 units. Specific examples of UV-curable (meth)acrylates include urethane acrylate, pentaerythritol triacrylate, ethoxylated glycerin triacrylate, and polyether urethane diacrylate. In addition to these, the curing component of the active energy ray curable adhesive described later may be used. The hardening component may be used individually or two or more types may be used together. The curing method may be a radical polymerization method or a cationic polymerization method. In one embodiment, an organic-inorganic hybrid material obtained by mixing (meth)acrylate with silica particles or a polysilsesquioxane compound may be used. The constituent materials and forming method of the hard coat layer are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-237789, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2020-064236, and Japanese Patent Application Publication No. 2010-152331. The descriptions in these publications are incorporated herein by reference. Additionally, in this specification, ‘(meth)acrylic’ means acrylic and/or methacrylic. Additionally, (meth)acrylic is sometimes simply referred to as acrylic.

(활성 에너지선 경화형 접착제)(Active energy ray curing adhesive)

활성 에너지선 경화형 접착제로서는, 예컨대, 자외선 경화형 접착제, 전자선 경화형 접착제를 들 수 있다. 또한 경화 메커니즘의 관점에서는, 활성 에너지선 경화형 접착제로서는, 예컨대 라디칼 경화형, 양이온 경화형, 음이온 경화형, 라디칼 경화형과 양이온 경화형의 하이브리드를 들 수 있다.Examples of active energy ray-curable adhesives include ultraviolet ray-curable adhesives and electron beam-curable adhesives. Additionally, from the viewpoint of the curing mechanism, examples of active energy ray curable adhesives include radical curing type, cation curing type, anion curing type, and hybrid of radical curing type and cation curing type.

접착제는, 하드 코트층을 형성하는 조성물과 마찬가지로, 경화 성분과 대표적으로는 광중합 개시제를 포함한다. 경화 성분으로서는, 대표적으로는, (메트)아크릴레이트기, (메트)아크릴아미드기 등의 관능기를 갖는 모노머 및/또는 올리고머를 들 수 있다. 경화 성분의 구체예로서는, 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 1,9-노난디올디아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올디아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜아크릴레이트, 환상 트리메틸올프로판포르말아크릴레이트, 디옥산글리콜디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 글리세린트리아크릴레이트, EO 변성 디글리세린테트라아크릴레이트, γ-부티로락톤 아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 히드록시피발산 네오펜틸글리콜아크릴산 부가물, 아크릴로일모폴린, 불포화 지방산 히드록시알킬에스테르 개질(修飾) ε-카프로락톤, N-메틸피롤리돈, 디에틸아크릴아미드, 히드록시에틸아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드, N-메톡시메틸아크릴아미드, N-에톡시메틸아크릴아미드, 3,4-에폭시시클로헥세닐메틸-3',4'-에폭시시클로헥센카복실레이트, 네오펜틸글리콜글리시딜에테르, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지를 들 수 있다. 경화 성분으로서, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 이소시아누르산 EO 변성 트리아크릴레이트 등을 이용하여도 된다. 이들 이외에, 상기의 하드 코트층의 경화 성분을 이용하여도 된다. 경화 성분은, 단독으로 이용하여도 되고 2종 이상을 병용하여도 된다. 접착제는, 상기의 경화 성분에 더하여 올리고머 성분을 더 함유하여도 된다. 올리고머 성분을 이용함으로써, 경화 전의 접착제의 점도를 저감하고, 조작성을 높일 수 있다. 올리고머 성분의 대표예로서는, (메트)아크릴계 올리고머, 폴리우레탄계 (메트)아크릴 올리고머를 들 수 있다.The adhesive, like the composition forming the hard coat layer, contains a curing component and typically a photopolymerization initiator. Typical examples of the curing component include monomers and/or oligomers having functional groups such as (meth)acrylate group and (meth)acrylamide group. Specific examples of curing components include tripropylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, tricyclodecane dimethanol diacrylate, phenoxydiethylene glycol acrylate, cyclic Trimethylolpropane formal acrylate, dioxane glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, glycerin triacrylate, EO modified diglycerol tetraacrylate, γ-butyrolactone acrylate, polyethylene glycol diacrylate, hydrocephalus Roxypivalic acid neopentyl glycol acrylic acid adduct, acryloyl morpholine, unsaturated fatty acid hydroxyalkyl ester modified ε-caprolactone, N-methylpyrrolidone, diethylacrylamide, hydroxyethyl acrylamide, N- Methylol acrylamide, N-methoxymethyl acrylamide, N-ethoxymethyl acrylamide, 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3',4'-epoxycyclohexenecarboxylate, neopentyl glycol glycidyl ether , dicyclopentadiene type epoxy resin. As a curing ingredient, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 4-hydroxybutylacrylate, neopentyl glycol diacrylate, isocyanuric acid EO-modified triacrylate, etc. can be used. do. In addition to these, the hardening components of the hard coat layer described above may be used. The hardening component may be used individually or two or more types may be used together. The adhesive may further contain an oligomer component in addition to the curing component described above. By using an oligomer component, the viscosity of the adhesive before curing can be reduced and operability can be improved. Representative examples of oligomer components include (meth)acrylic oligomers and polyurethane-based (meth)acrylic oligomers.

(가교제에 의한 가교층)(Cross-linked layer by cross-linking agent)

가교층(실질적으로는, 가교층을 형성하는 조성물)은, 경화 성분과 가교제를 포함한다. 경화 성분으로서는, 하드 코트층 및 활성 에너지선 경화형 접착제에 관하여 위에서 설명한 것을 들 수 있다. 가교제는, 열 가교제이어도 되고 광 가교제이어도 된다. 즉, 가교층은 열 가교층이어도 되고 광 가교층이어도 된다. 열 가교제로서는 예컨대 유기계 가교제, 다관능성 금속 킬레이트를 들 수 있다. 유기계 가교제로서는 예컨대 이소시아네이트계 가교제, 과산화물계 가교제, 에폭시계 가교제, 이민계 가교제를 들 수 있다. 다관능성 금속 킬레이트는, 다가 금속이 유기 화합물과 공유 결합 또는 배위 결합하고 있는 것이다. 광 가교제로서는 예컨대 광산 발생제를 들 수 있다. 광산 발생제로서는 예컨대 유기 과산화물을 들 수 있다. 열 가교제 또는 광 가교제는, 각각 단독으로 이용하여도 되고 2종 이상을 병용하여도 된다.The cross-linked layer (substantially the composition that forms the cross-linked layer) contains a curing component and a cross-linking agent. Examples of the curing component include those described above regarding the hard coat layer and the active energy ray curable adhesive. The crosslinking agent may be a thermal crosslinking agent or a photo crosslinking agent. That is, the crosslinking layer may be a thermal crosslinking layer or an optical crosslinking layer. Examples of thermal crosslinking agents include organic crosslinking agents and multifunctional metal chelates. Examples of organic crosslinking agents include isocyanate crosslinking agents, peroxide crosslinking agents, epoxy crosslinking agents, and imine crosslinking agents. A polyfunctional metal chelate is one in which a multivalent metal is covalently bonded or coordinated with an organic compound. Examples of photo-crosslinking agents include photoacid generators. Examples of photo acid generators include organic peroxides. The thermal crosslinking agent or the photo crosslinking agent may be used individually, or two or more types may be used in combination.

(열경화성 수지의 경화층)(Cured layer of thermosetting resin)

열경화성 수지로서는, 경화층이 상기 소망하는 저장 탄성률을 갖는 한에서 임의의 적절한 열경화성 수지를 이용할 수 있다. 열경화성 수지의 대표예로서는, 에폭시 수지, (메트)아크릴계 수지, 불포화 폴리에스테르계 수지, 폴리우레탄계 수지, 알키드 수지, 멜라민 수지, 요소 수지, 페놀 수지를 들 수 있다. 열경화성 수지에는, 예컨대 옥세탄 화합물(모노머, 올리고머, 폴리머)이 배합되어도 된다.As the thermosetting resin, any appropriate thermosetting resin can be used as long as the cured layer has the desired storage modulus. Representative examples of thermosetting resins include epoxy resins, (meth)acrylic resins, unsaturated polyester resins, polyurethane resins, alkyd resins, melamine resins, urea resins, and phenol resins. For example, an oxetane compound (monomer, oligomer, polymer) may be blended with the thermosetting resin.

(고화층)(frozen layer)

고화층은, 상기와 같이, 예컨대, 열가소성 수지의 유기 용매 용액의 도포막의 고화층일 수 있다. 열가소성으로서는, 고화층이 상기 소망하는 저장 탄성률을 갖는 한에서 임의의 적절한 열가소성 수지를 이용할 수 있다. 열가소성 수지의 대표예로서는, (메트)아크릴계 수지, 에폭시 수지를 들 수 있다.As described above, the solidified layer may be, for example, a solidified layer of a coating film of an organic solvent solution of a thermoplastic resin. As the thermoplastic, any appropriate thermoplastic resin can be used as long as the frozen layer has the desired storage modulus. Representative examples of thermoplastic resins include (meth)acrylic resins and epoxy resins.

(메트)아크릴계 수지는, 유리 전이 온도(Tg)가 바람직하게는 100℃~220℃이고, 보다 바람직하게는 110℃~200℃이며, 더욱 바람직하게는 120℃~160℃이다. (메트)아크릴계 수지는, 환 구조를 포함하는 반복 단위를 갖고 있어도 된다. 환 구조를 포함하는 반복 단위로서는 락톤환 단위, 무수 글루타르산 단위, 글루타르이미드 단위, 무수 말레산 단위, 말레이미드(N-치환 말레이미드) 단위를 들 수 있다. 환 구조를 포함하는 반복 단위는, 1종류만이 (메트)아크릴계 수지의 반복 단위에 포함되어 있어도 되고, 2종류 이상이 포함되어 있어도 된다. (메트)아크릴계 수지는, (메트)아크릴계 단량체와 붕소 함유 단량체의 공중합체(붕소 함유 (메트)아크릴계 수지)이어도 된다. 붕소 함유 (메트)아크릴계 수지는, 상기와 같은 환 구조를 포함하는 반복 단위를 갖고 있어도 된다.The (meth)acrylic resin has a glass transition temperature (Tg) of preferably 100°C to 220°C, more preferably 110°C to 200°C, and still more preferably 120°C to 160°C. The (meth)acrylic resin may have a repeating unit containing a ring structure. Examples of repeating units containing a ring structure include lactone ring units, glutaric acid anhydride units, glutarimide units, maleic anhydride units, and maleimide (N-substituted maleimide) units. Only one type of repeating unit containing a ring structure may be contained in the repeating unit of the (meth)acrylic resin, or two or more types may be contained. The (meth)acrylic resin may be a copolymer of a (meth)acrylic monomer and a boron-containing monomer (boron-containing (meth)acrylic resin). The boron-containing (meth)acrylic resin may have a repeating unit containing the above ring structure.

에폭시 수지로서는, 바람직하게는 방향족환을 갖는 에폭시 수지가 이용된다. 방향족환을 갖는 에폭시 수지를 이용함으로써, 고화층과 제1 위상차층의 밀착성이 향상할 수 있다. 방향족환을 갖는 에폭시 수지로서는, 예컨대, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지 등의 비스페놀형 에폭시 수지; 페놀 노볼락 에폭시 수지, 크레졸 노볼락 에폭시 수지, 히드록시벤즈알데히드페놀 노볼락 에폭시 수지 등의 노볼락형의 에폭시 수지; 테트라히드록시페닐메탄의 글리시딜에테르, 테트라히드록시벤조페논의 글리시딜에테르, 에폭시화 폴리비닐페놀 등의 다관능형의 에폭시 수지, 나프톨형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지가 이용된다. 에폭시 수지는 1종만을 이용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 된다.As the epoxy resin, an epoxy resin having an aromatic ring is preferably used. By using an epoxy resin having an aromatic ring, the adhesion between the solidified layer and the first phase difference layer can be improved. Examples of the epoxy resin having an aromatic ring include bisphenol-type epoxy resins such as bisphenol A-type epoxy resin, bisphenol F-type epoxy resin, and bisphenol S-type epoxy resin; Novolak-type epoxy resins such as phenol novolak epoxy resin, cresol novolak epoxy resin, and hydroxybenzaldehyde phenol novolac epoxy resin; Polyfunctional epoxy resins such as glycidyl ether of tetrahydroxyphenylmethane, glycidyl ether of tetrahydroxybenzophenone, and epoxidized polyvinyl phenol, naphthol type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, and biphenyl type epoxy resin. etc. can be mentioned. Preferably, bisphenol A-type epoxy resin, biphenyl-type epoxy resin, and bisphenol F-type epoxy resin are used. Only one type of epoxy resin may be used, or two or more types may be used in combination.

유기 용매로서는, 열가소성 수지를 용해 또는 균일하게 분산할 수 있는 임의의 적절한 유기 용매를 이용할 수 있다. 유기 용매의 구체예로서는, 초산에틸, 톨루엔, 메틸에틸케톤(MEK), 메틸이소부틸케톤(MIBK), 시클로펜타논, 시클로헥사논을 들 수 있다.As the organic solvent, any suitable organic solvent capable of dissolving or uniformly dispersing the thermoplastic resin can be used. Specific examples of organic solvents include ethyl acetate, toluene, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclopentanone, and cyclohexanone.

유기 용매 용액의 수지 농도는, 용매 100중량부에 대하여, 바람직하게는 3중량부~20중량부이다. 이와 같은 수지 농도이면, 제1 위상차층에 밀착한 균일한 도포막을 형성할 수 있다.The resin concentration of the organic solvent solution is preferably 3 parts by weight to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the solvent. With such a resin concentration, a uniform coating film in close contact with the first phase difference layer can be formed.

내열 내습층의 두께는, 바람직하게는 500nm∼5㎛이고, 보다 바람직하게는 800nm∼4㎛이며, 더욱 바람직하게는 1㎛∼3㎛이다. 내열 내습층은, 이와 같은 매우 얇은 두께이어도, 가혹한 고온 고습 환경하에서도 우수한 내구성을 갖는 위상차층 부착 편광판을 실현할 수 있다. 내열 내습층의 두께가 지나치게 얇으면, 내열 내습층 자체의 형성이 곤란해지는 경우가 있고, 만일 형성되어도 효과가 불충분하게 되는 경우가 있다. 내열 내습층의 두께가 지나치게 두꺼워도, 경화 수축에 의한 컬이 발생하여 내열 내습층 자체의 형성이 곤란해지거나, 혹은, 충분히 경화하지 않고 내열 내습층이 역으로 취약층으로서 기능해 버리게 된다는 문제가 생기는 경우가 있다.The thickness of the heat-resistant and moisture-resistant layer is preferably 500 nm to 5 μm, more preferably 800 nm to 4 μm, and still more preferably 1 μm to 3 μm. Even if the heat-resistant and moisture-resistant layer has such a very thin thickness, it is possible to realize a polarizing plate with a retardation layer having excellent durability even in a harsh high-temperature and high-humidity environment. If the thickness of the heat-resistant and moisture-resistant layer is too thin, formation of the heat-resistant and moisture-resistant layer itself may become difficult, and even if it is formed, the effect may be insufficient. Even if the thickness of the heat-resistant and moisture-resistant layer is too thick, curling occurs due to curing shrinkage, making it difficult to form the heat-resistant and moisture-resistant layer itself, or the problem is that the heat-resistant and moisture-resistant layer conversely functions as a weak layer without sufficient curing. There are cases where it happens.

내열 내습층은, 대표적으로는, 내열 내습층을 형성하는 조성물을 제1 위상차층에 도포하고, 도포막을 경화 또는 고화시킴으로써 형성된다. 구체적으로는, 제 1 층은, 층을 형성하는 조성물을 제1 위상차층의 제2 주면에 도포하고, 도포막을 경화 또는 고화시킴으로써 형성되며; 제2 층(존재하는 경우)은, 층을 형성하는 조성물을 제1 위상차층의 제1 주면에 도포하고, 도포막을 경화 또는 고화시킴으로써 형성된다. 내열 내습층이 활성 에너지선 경화층인 경우에는, 도포막에 활성 에너지선(예컨대, 가시광선, 자외선, 전자선)을 조사함으로써 도포막을 경화시킬 수 있다. 내열 내습층이 열경화층인 경우에는, 도포막을 가열함으로써 도포막을 경화시킬 수 있다. 내열 내습층이 고화층인 경우에는, 도포막을 가열함으로써 도포막을 고화시킬 수 있다.The heat-resistant and moisture-resistant layer is typically formed by applying a composition that forms a heat-resistant and moisture-resistant layer to the first phase difference layer and curing or solidifying the coating film. Specifically, the first layer is formed by applying the composition forming the layer to the second main surface of the first retardation layer and curing or solidifying the coating film; The second layer (if present) is formed by applying the composition forming the layer to the first main surface of the first retardation layer and curing or solidifying the coating film. When the heat-resistant and moisture-resistant layer is an active energy ray cured layer, the coating film can be cured by irradiating the coating film with an active energy ray (eg, visible light, ultraviolet ray, or electron beam). When the heat-resistant and moisture-resistant layer is a thermosetting layer, the coating film can be cured by heating the coating film. When the heat-resistant and moisture-resistant layer is a solidified layer, the coating film can be solidified by heating the coating film.

내열 내습층을 형성하는 형성면(예컨대, 제1 위상차층의 표면)은, 미리, 표면 개질되어 있어도 된다. 구체적으로는 표면 개질에 의해, 형성면의 표면 에너지를 상승시켜 두어도 된다. 표면 개질에 의해, 예컨대, 얻어지는 내열 내습층의 전단 파괴 강도를 조정할 수 있다. 또한, 내열 내습층과 제1 위상차층의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 표면 개질은, 예컨대, 코로나 처리, 플라즈마 처리에 의해 행하여진다. 이들은, 단독으로 이용하여도 되고, 조합하여 이용하여도 된다.The formation surface on which the heat-resistant and moisture-resistant layer is formed (for example, the surface of the first phase difference layer) may be surface-modified in advance. Specifically, the surface energy of the forming surface may be increased by surface modification. By surface modification, for example, the shear fracture strength of the resulting heat-resistant and moisture-resistant layer can be adjusted. Additionally, the adhesion between the heat-resistant and moisture-resistant layer and the first phase difference layer can be improved. Surface modification is performed, for example, by corona treatment or plasma treatment. These may be used individually or in combination.

G. 화상 표시 장치G. Image display device

상기 위상차층 부착 편광판은, 화상 표시 장치에 적용될 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시형태는, 그와 같은 위상차층 부착 편광판을 이용한 화상 표시 장치도 포함한다. 화상 표시 장치의 대표예로서는, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치를 들 수 있다. 본 발명의 실시형태에 따른 화상 표시 장치는, 대표적으로는, 그의 시인 측에 상기 A항~F항에 기재된 위상차층 부착 편광판을 구비한다.The polarizing plate with a retardation layer can be applied to an image display device. Accordingly, embodiments of the present invention also include an image display device using such a polarizing plate with a retardation layer. Representative examples of image display devices include liquid crystal display devices and organic EL display devices. The image display device according to the embodiment of the present invention typically includes, on its viewer side, the polarizing plate with a retardation layer described in paragraphs A to F above.

[실시예][Example]

이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한, 두께는 하기의 측정 방법에 의해 측정한 값이다. 또한, 특별히 명기하지 않는 한, 실시예 및 비교예에서의 '부' 및 '%'는 중량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, the thickness is a value measured by the following measurement method. Additionally, unless otherwise specified, 'part' and '%' in Examples and Comparative Examples are based on weight.

<두께><Thickness>

10㎛ 이하의 두께는, 주사형 전자 현미경(니혼덴시사 제조, 제품명 'JSM-7100F')을 이용하여 측정하였다. 10㎛를 초과하는 두께는, 디지털 마이크로미터(안리츠사 제조, 제품명 'KC-351C')를 이용하여 측정하였다.The thickness of 10 μm or less was measured using a scanning electron microscope (manufactured by Nippon Electronics, product name ‘JSM-7100F’). Thickness exceeding 10㎛ was measured using a digital micrometer (manufactured by Anritsu, product name 'KC-351C').

[실시예 1][Example 1]

(편광판의 제작)(Production of polarizer)

열가소성 수지 기재로서, 장척상이고, Tg 약 75℃인, 비정질의 이소프탈 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(두께: 100㎛)을 이용하여, 수지 기재의 편면에, 코로나 처리를 실시하였다.As a thermoplastic resin substrate, an amorphous isophthalic copolymerization polyethylene terephthalate film (thickness: 100 μm), which is long and has a Tg of about 75°C, was used, and corona treatment was performed on one side of the resin substrate.

폴리비닐알코올(중합도 4200, 비누화도 99.2몰%) 및 아세토아세틸 변성 PVA(닛폰 고세이 가가쿠 고교사 제조, 상품명 '고세화이머')를 9:1로 혼합한 PVA계 수지 100중량부에, 요오드화 칼륨 13중량부를 첨가한 것을 물에 녹여, PVA 수용액(도포액)을 조제하였다.100 parts by weight of PVA-based resin mixed at 9:1 with polyvinyl alcohol (degree of polymerization 4200, degree of saponification 99.2 mol%) and acetoacetyl-modified PVA (manufactured by Nippon Kosei Chemical Co., Ltd., brand name “Kosefaimer”) was iodinated. 13 parts by weight of potassium was dissolved in water to prepare an aqueous PVA solution (coating solution).

수지 기재의 코로나 처리면에, 상기 PVA 수용액을 도포하여 60℃에서 건조함으로써, 두께 13㎛의 PVA계 수지층을 형성하여, 적층체를 제작하였다.The PVA aqueous solution was applied to the corona-treated surface of the resin substrate and dried at 60°C to form a PVA-based resin layer with a thickness of 13 μm, thereby producing a laminate.

얻어진 적층체를, 130℃의 오븐 내에서 종방향(긴 방향)으로 2.4배로 1축 연신하였다(공중 보조 연신 처리).The obtained laminate was uniaxially stretched 2.4 times in the machine direction (longitudinal direction) in an oven at 130°C (air auxiliary stretching treatment).

이어서, 적층체를, 액체 온도 40℃의 불용화욕(물 100중량부에 대하여, 붕산을 4중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(불용화 처리).Next, the laminate was immersed in an insolubilization bath (boric acid aqueous solution obtained by mixing 4 parts by weight of boric acid with 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 40°C for 30 seconds (insolubilization treatment).

이어서, 액체 온도 30℃의 염색욕(물 100중량부에 대하여, 요오드와 요오드화 칼륨을 1:7의 중량비로 배합하여 얻어진 요오드 수용액)에, 최종적으로 얻어지는 편광자의 단체 투과율(Ts)이 소망하는 값이 되도록 농도를 조정하면서 60초간 침지시켰다(염색 처리).Next, in a dyeing bath (iodine aqueous solution obtained by mixing iodine and potassium iodide at a weight ratio of 1:7 with respect to 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 30°C, the final single transmittance (Ts) of the polarizer obtained is the desired value. It was immersed for 60 seconds while adjusting the concentration to achieve this (dyeing treatment).

이어서, 액체 온도 40℃의 가교욕(물 100중량부에 대하여, 요오드화 칼륨을 3중량부 배합하고, 붕산을 5중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(가교 처리).Next, it was immersed in a crosslinking bath (a boric acid aqueous solution obtained by mixing 3 parts by weight of potassium iodide and 5 parts by weight of boric acid with respect to 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 40°C for 30 seconds (crosslinking treatment).

그 후, 적층체를, 액체 온도 70℃의 붕산 수용액(붕산 농도 4중량%, 요오드화 칼륨 농도 5중량%)에 침지시키면서, 원주 속도가 상이한 롤 사이에서 종방향(긴 방향)으로 총 연신 배율이 5.5배가 되도록 1축 연신을 행하였다(수중 연신 처리).Thereafter, the laminate was immersed in an aqueous solution of boric acid (boric acid concentration: 4% by weight, potassium iodide concentration: 5% by weight) at a liquid temperature of 70°C, while the total stretch ratio was stretched in the longitudinal direction (longitudinal direction) between rolls with different circumferential speeds. Uniaxial stretching was performed to increase the size by 5.5 times (underwater stretching treatment).

그 후, 적층체를 액체 온도 20℃의 세정욕(물 100중량부에 대하여, 요오드화 칼륨을 4중량부 배합하여 얻어진 수용액)에 침지시켰다(세정 처리).Thereafter, the laminate was immersed in a washing bath (aqueous solution obtained by mixing 4 parts by weight of potassium iodide with respect to 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 20°C (washing treatment).

그 후, 약 90℃로 유지된 오븐 중에서 건조하면서, 표면 온도가 약 75℃로 유지된 SUS제의 가열 롤에 접촉시켰다(건조 수축 처리).Afterwards, it was dried in an oven maintained at about 90°C and brought into contact with a heating roll made of SUS whose surface temperature was maintained at about 75°C (dry shrink treatment).

이와 같이 하여, 수지 기재 위에 두께 약 5㎛인 편광자를 형성하였다.In this way, a polarizer with a thickness of about 5 μm was formed on the resin substrate.

얻어진 편광자의 표면(수지 기재와는 반대 측의 면)에, 자외선 경화형 접착제를 개재하여, HC-TAC 필름을 시인 측 보호층으로서 첩합하였다. 또한, HC-TAC 필름은, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름(두께 25㎛)에 하드 코트층(두께 7㎛)이 형성된 필름이며, TAC 필름이 편광자 측이 되도록 하여 첩합하였다. 이어서, 수지 기재를 박리하여 HC-TAC 필름/편광자의 구성을 갖는 편광판을 얻었다. HC-TAC 필름은, 85℃의 환경하에 240시간 둔 후의 수축율이 0.03%이었다.The HC-TAC film was bonded to the surface of the obtained polarizer (the side opposite to the resin substrate) as a visual side protective layer through an ultraviolet curing adhesive. In addition, the HC-TAC film is a film in which a hard coat layer (7 μm thick) was formed on a triacetylcellulose (TAC) film (25 μm thick), and the TAC film was bonded to the polarizer side. Next, the resin substrate was peeled to obtain a polarizing plate having the structure of HC-TAC film/polarizer. The HC-TAC film had a shrinkage rate of 0.03% after being placed in an environment at 85°C for 240 hours.

(제1 위상차층을 구성하는 위상차 필름의 제작)(Production of retardation film constituting the first retardation layer)

교반 날개 및 100℃로 제어된 환류 냉각기를 구비한 종형 반응기 2기를 포함하는 배치 중합 장치를 이용하여 중합을 행하였다. 비스[9-(2-페녹시카보닐에틸)플루오렌-9-일]메탄 29.60질량부(0.046mol), 이소소르비드(ISB) 29.21질량부(0.200mol), 스피로글리콜(SPG) 42.28질량부(0.139mol), 디페닐카보네이트(DPC) 63.77질량부(0.298mol) 및 촉매로서 초산칼슘 1수화물 1.19×10-2질량부(6.78×10-5mol)를 도입하였다. 반응기 내를 감압 질소 치환한 후, 열매(熱媒)로 가온을 행하여, 내부 온도가 100℃가 된 시점에서 교반을 개시하였다. 승온 개시 40분 후에 내부 온도를 220℃에 도달시켜, 이 온도를 보지(保持)하도록 제어함과 동시에 감압을 개시하고, 220℃에 도달하고 나서 90분에 13.3kPa로 하였다. 중합 반응과 함께 부생하는 페놀 증기를 100℃의 환류 냉각기로 유도하고, 페놀 증기 중에 약간량 포함되는 모노머 성분을 반응기에 되돌려, 응축하지 않는 페놀 증기는 45℃의 응축기로 유도하여 회수하였다. 제1 반응기에 질소를 도입하여 일단 대기압까지 복압시킨 후, 제1 반응기 내의 올리고머화된 반응액을 제2 반응기로 옮겼다. 이어서, 제2 반응기 내의 승온 및 감압을 개시하고, 50분에 내부 온도 240℃, 압력 0.2kPa로 하였다. 그 후, 소정의 교반 동력이 될 때까지 중합을 진행시켰다. 소정 동력에 도달한 시점에서 반응기에 질소를 도입하고 복압하여, 생성한 폴리에스테르카보네이트계 수지를 수중으로 압출하고, 스트랜드를 컷팅하여 펠릿을 얻었다.Polymerization was carried out using a batch polymerization apparatus comprising two vertical reactors equipped with stirring blades and a reflux condenser controlled at 100°C. 29.60 parts by mass (0.046 mol) of bis[9-(2-phenoxycarbonylethyl)fluoren-9-yl]methane, 29.21 parts by mass (0.200 mol) of isosorbide (ISB), 42.28 parts by mass of spiroglycol (SPG) parts (0.139 mol), 63.77 parts by mass (0.298 mol) of diphenyl carbonate (DPC), and 1.19 × 10 -2 parts by mass (6.78 × 10 -5 mol) of calcium acetate monohydrate as a catalyst were introduced. After purging the inside of the reactor with reduced pressure nitrogen, heating was performed using a heat exchanger, and stirring was started when the internal temperature reached 100°C. 40 minutes after the start of the temperature increase, the internal temperature reached 220°C, and while controlling to maintain this temperature, pressure reduction was started, and 90 minutes after reaching 220°C, the temperature was set to 13.3 kPa. The phenol vapor produced by-product with the polymerization reaction was guided to a reflux condenser at 100°C, the monomer component contained in a small amount in the phenol vapor was returned to the reactor, and the phenol vapor that did not condense was guided to a condenser at 45°C for recovery. After nitrogen was introduced into the first reactor and the pressure was restored to atmospheric pressure, the oligomerized reaction solution in the first reactor was transferred to the second reactor. Next, temperature increase and pressure reduction in the second reactor were started, and in 50 minutes, the internal temperature was 240°C and the pressure was 0.2 kPa. Thereafter, polymerization was allowed to proceed until the predetermined stirring power was reached. When the predetermined power was reached, nitrogen was introduced into the reactor, the pressure was restored, the resulting polyester carbonate-based resin was extruded into water, and the strands were cut to obtain pellets.

얻어진 폴리에스테르카보네이트계 수지(펠릿)를 80℃에서 5시간 진공 건조를 한 후, 단축 압출기(토시바 기계사 제조, 실린더 설정 온도: 250℃), T다이(폭 200mm, 설정 온도: 250℃), 칠 롤(설정 온도: 120~130℃) 및 권취기를 구비한 필름 제막 장치를 이용하여, 두께 135㎛의 장척상의 수지 필름을 제작하였다. 얻어진 장척상의 수지 필름을, 폭 방향으로, 연신 온도 133℃, 연신 배율 2.8배로 연신하여, 두께 48㎛의 위상차 필름을 얻었다. 얻어진 위상차 필름의 Re(550)는 141nm이고, Re(450)/Re(550)는 0.82이며, Nz 계수는 1.12이었다.After vacuum drying the obtained polyester carbonate resin (pellets) at 80°C for 5 hours, a single screw extruder (manufactured by Toshiba Machinery Co., Ltd., cylinder set temperature: 250°C), T die (width 200 mm, set temperature: 250°C), A long resin film with a thickness of 135 μm was produced using a film forming device equipped with a chill roll (set temperature: 120 to 130°C) and a winder. The obtained long resin film was stretched in the width direction at a stretching temperature of 133°C and a stretching ratio of 2.8 to obtain a retardation film with a thickness of 48 μm. Re(550) of the obtained retardation film was 141 nm, Re(450)/Re(550) was 0.82, and Nz coefficient was 1.12.

(제2 위상차층을 구성하는 액정 배향 고화층의 제작)(Production of liquid crystal alignment solidification layer constituting the second phase difference layer)

하기 화학식 (I)(식 중의 숫자 65 및 35는 모노머 유닛의 몰%를 나타내고, 편의적으로 블록 폴리머체로 나타내고 있다: 중량평균 분자량 5000)로 나타내는 측쇄형 액정 폴리머 20중량부, 네마틱 액정상을 나타내는 중합성 액정(바스프사 제조: 상품명 'Paliocolor LC242') 80중량부 및 광중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈사(Ciba Specialty Chemicals)사 제조: 상품명 '이르가큐어 907') 5중량부를 시클로펜타논 200중량부에 용해하여 액정 도공액을 조제하였다. 그리고, 수직 배향 처리를 실시한 PET 기재에 당해 도공액을 바 코터에 의해 도공한 후, 80℃에서 4분간 가열 건조함으로써 액정을 배향시켰다. 이 액정층에 자외선을 조사하고, 액정층을 경화시킴으로써, nz>nx=ny의 굴절률 특성을 나타내는 액정 배향 고화층(두께 3㎛)을 기재 위에 형성하였다.20 parts by weight of a side-chain liquid crystal polymer represented by the following formula (I) (the numbers 65 and 35 in the formula represent the mole percent of the monomer unit, and are expressed as a block polymer for convenience: weight average molecular weight 5000), showing a nematic liquid crystal phase 80 parts by weight of polymerizable liquid crystal (manufactured by BASF, product name 'Paliocolor LC242') and 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (product name 'Irgacure 907', manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and 200 parts by weight of cyclopentanone. was dissolved in to prepare a liquid crystal coating solution. Then, the coating liquid was applied to the PET base material that had been vertically aligned using a bar coater, and then heated and dried at 80°C for 4 minutes to orient the liquid crystal. By irradiating ultraviolet rays to this liquid crystal layer and hardening the liquid crystal layer, a liquid crystal alignment solidification layer (thickness 3 μm) exhibiting a refractive index characteristic of nz>nx=ny was formed on the substrate.

(자외선 경화형 접착제 1의 조제)(Preparation of UV curing adhesive 1)

2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란(신에쓰 가가쿠 고교사 제조, 제품명 'KBM-303') 5부, 4-히드록시부틸아크릴레이트(오사카 유우키 가가쿠 고교사 제조) 35부, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트(교에이샤 가가쿠사 제조, 제품명 '라이트 아크릴레이트 NP-A') 24부, 이소시아누르산 EO 변성 트리아크릴레이트(도아 고세이사 제조, 제품명 '아로닉스 M-315') 10부, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트(신나카무라 가가쿠사 제조, 제품명 'A-TMM-3LM-N') 5부, 폴리우레탄계 아크릴 올리고머(미쓰비시 케미컬사 제조, 제품명 'UV3000B') 15부, 광중합 개시제(아이지엠 레진스(IGM Resins)사 제조, 제품명 'Omnirad 184') 3부, 광중합 개시제(산아프로사 제조, 제품명 'CPI-100P') 2부, 및 붕산(후지필름 와코준야쿠사 제조) 1부를 배합하여, 자외선 경화형 접착제 1을 조제하였다.2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name ‘KBM-303’) 5 parts, 4-hydroxybutylacrylate (manufactured by Osaka Yuuki Chemical Co., Ltd.) ) 35 parts, neopentyl glycol diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., product name 'Light Acrylate NP-A'), 24 parts, isocyanuric acid EO-modified triacrylate (manufactured by Toa Gosei Co., product name 'Aronics') M-315') 10 parts, pentaerythritol triacrylate (manufactured by Shinnakamura Chemical, product name 'A-TMM-3LM-N') 5 parts, polyurethane-based acrylic oligomer (manufactured by Mitsubishi Chemical Company, product name 'UV3000B') 15 parts, photopolymerization initiator (manufactured by IGM Resins, product name 'Omnirad 184'), 3 parts, photopolymerization initiator (manufactured by San-Apro, product name 'CPI-100P'), 2 parts, and boric acid (Fujifilm Wako) 1 part (manufactured by Junyaku Corporation) was mixed to prepare ultraviolet curing adhesive 1.

(위상차층 부착 편광판의 제작)(Production of polarizer with phase contrast layer)

상기 위상차 필름의 편측에, 상기 자외선 경화형 접착제 1을 이용하여 상기 액정 배향 고화층을 첩합하였다. 구체적으로는, 자외선 경화형 접착제를, 경화 후의 두께가 1㎛가 되도록 위상차 필름에 도포하고, 질소 분위기하에서 적산광량이 900mJ/cm2가 되도록 자외선을 조사하여 경화시키고, 위상차 필름의 편측에 접착제층을 개재하여 액정 배향 고화층을 첩합하였다.The liquid crystal alignment solidification layer was bonded to one side of the retardation film using the UV curing adhesive 1. Specifically, an ultraviolet curing adhesive is applied to the retardation film so that the thickness after curing is 1㎛, cured by irradiating ultraviolet rays under a nitrogen atmosphere so that the accumulated light amount is 900mJ/cm 2 , and an adhesive layer is formed on one side of the retardation film. A liquid crystal alignment solidification layer was bonded therebetween.

이어서, 위상차 필름의 다른 편측에, 두께 5㎛의 아크릴계 점착제층을 개재하여, 상기 편광판을 첩합하고, 위상차층 부착 편광판을 얻었다.Next, the polarizing plate was bonded to the other side of the retardation film through an acrylic adhesive layer with a thickness of 5 μm, and a polarizing plate with a retardation layer was obtained.

[실시예 2][Example 2]

위상차 필름에 자외선 경화형 접착제를 도포할 때, 미리, 위상차 필름의 도포면에, 코로나 처리를 실시한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 위상차층 부착 편광판을 얻었다.When applying the ultraviolet curing adhesive to the retardation film, a polarizing plate with a retardation layer was obtained in the same manner as in Example 1 except that corona treatment was performed on the application surface of the retardation film in advance.

[실시예 3][Example 3]

위상차 필름에 편광판을 첩합하기 전에, 위상차 필름에 하기에 나타내는 하드 코트층을 마련한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 위상차층 부착 편광판을 얻었다.Before bonding the polarizing plate to the retardation film, a polarizing plate with a retardation layer was obtained in the same manner as in Example 1 except that a hard coat layer shown below was provided on the retardation film.

(하드 코트층의 제작)(Production of hard coat layer)

우레탄 아크릴레이트(신나카무라 가가쿠사 제조, 제품명 'NK 올리고 UA-53H') 13부, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트(오사카 유기 화학 공업사 제조, 제품명 '비스코트 #300') 17부, 에톡시화 글리세린트리아크릴레이트(신나카무라 가가쿠사 제조, 제품명 'A-GLY-9E') 70부, 및 광중합 개시제(아이지엠 레진스사 제조, 제품명 'Omnirad 907') 3부를 시클로펜타논/톨루엔의 혼합 용매로 희석하고, 하드 코트층 형성용 조성물을 조제하였다. 이 하드 코트층 형성용 조성물을, 위상차 필름에, 경화 후의 두께가 2㎛가 되도록 와이어 바로 도포하고, 60℃에서 1분간 가열한 후, 질소 분위기하에서 적산광량이 250mJ/㎠ 가 되도록 자외선을 조사하여, 두께 2㎛의 하드 코트층(HC층)을 형성하였다.13 parts of urethane acrylate (manufactured by Shinnakamura Chemical, product name 'NK Oligo UA-53H'), 17 parts of pentaerythritol triacrylate (manufactured by Osaka Organic Chemicals, product name 'Viscott #300'), ethoxylated glycerin triacrylate 70 parts of acrylate (manufactured by Shinnakamura Chemical, product name 'A-GLY-9E') and 3 parts of photopolymerization initiator (manufactured by IGM Resins, product name 'Omnirad 907') are diluted with a mixed solvent of cyclopentanone/toluene. , a composition for forming a hard coat layer was prepared. This composition for forming a hard coat layer was applied to the retardation film with a wire bar so that the thickness after curing was 2㎛, heated at 60°C for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet rays so that the accumulated light amount was 250mJ/cm2 in a nitrogen atmosphere. , a hard coat layer (HC layer) with a thickness of 2 μm was formed.

[실시예 4][Example 4]

위상차 필름에 편광판을 첩합하기 전에 위상차 필름에 상기 HC층을 마련한 것 이외에는 실시예 2와 마찬가지로 하여, 위상차층 부착 편광판을 얻었다.A polarizing plate with a retardation layer was obtained in the same manner as in Example 2, except that the HC layer was provided on the retardation film before bonding the polarizing plate to the retardation film.

[실시예 5][Example 5]

위상차 필름에 액정 배향 고화층을 첩합하기 전에 위상차 필름에 상기 HC층을 마련한 것, 자외선 경화형 접착제 1 대신에 하기에 나타내는 자외선 경화형 접착제 2를 이용하여 액정 배향 고화층을 첩합한 것, 및 위상차 필름에 편광판을 첩합하기 전에 위상차 필름에 상기 HC층을 마련한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 위상차층 부착 편광판을 얻었다.The above-mentioned HC layer was provided on the retardation film before bonding the liquid crystal alignment solidification layer to the retardation film, the liquid crystal alignment solidification layer was bonded using the ultraviolet curing adhesive 2 shown below instead of the ultraviolet curing adhesive 1, and the retardation film was bonded to the retardation film. A polarizing plate with a retardation layer was obtained in the same manner as in Example 1, except that the HC layer was provided on the retardation film before bonding the polarizing plate.

(자외선 경화형 접착제 2의 조제)(Preparation of UV curing adhesive 2)

불포화 지방산 히드록시알킬에스테르 개질 ε-카프로락톤(다이셀(Daicel)사 제조, 제품명 '프락셀 FA-1DDM') 53.3부, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트(교에이사 가가쿠사 제조, 제품명 '라이트 아크릴레이트 9EG-A') 6.7부, 아크릴로일모폴린 26.7부, 아크릴계 폴리머(도아 고세이사 제조, 제품명 'ARUFON UP-1190') 13.3부, 광중합 개시제(아이지엠 레진스사 제조, 제품명 'Omnirad 907') 3부, 및 광중합 개시제(닛폿 카야쿠사 제조, 제품명 'KAYACURE-DETX-S') 3부를 배합하여, 자외선 경화형 접착제 2를 조제하였다.53.3 parts of unsaturated fatty acid hydroxyalkyl ester modified ε-caprolactone (manufactured by Daicel, product name 'Fraxel FA-1DDM'), polyethylene glycol diacrylate (manufactured by Kyoei Chemical Company, product name 'Light Acrylate 9EG') -A') 6.7 parts, acryloylmorpholine 26.7 parts, acrylic polymer (manufactured by Toa Gosei, product name 'ARUFON UP-1190') 13.3 parts, photopolymerization initiator (manufactured by IGM Resins, product name 'Omnirad 907') 3 parts , and 3 parts of a photopolymerization initiator (manufactured by Nippon Kayaku, product name 'KAYACURE-DETX-S') to prepare ultraviolet curing adhesive 2.

[비교예 1][Comparative Example 1]

자외선 경화형 접착제 1 대신에 상기 자외선 경화형 접착제 2를 이용하여 액정 배향 고화층을 첩합한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 위상차층 부착 편광판을 얻었다.A polarizing plate with a retardation layer was obtained in the same manner as in Example 1 except that the liquid crystal alignment solidification layer was bonded using the UV curing adhesive 2 instead of the ultraviolet curing adhesive 1.

[비교예 2][Comparative Example 2]

위상차 필름에 액정 배향 고화층을 첩합하기 전에, 위상차 필름에 상기 HC층을 마련한 것, 및 자외선 경화형 접착제 1 대신에 하기에 나타내는 자외선 경화형 접착제 2를 이용하여 액정 배향 고화층을 첩합한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 위상차층 부착 편광판을 얻었다.Before bonding the liquid crystal alignment solidification layer to the retardation film, the above-described HC layer was provided on the retardation film, and the liquid crystal alignment solidification layer was bonded using ultraviolet curing adhesive 2 shown below instead of ultraviolet curing adhesive 1. Examples In the same manner as in 1, a polarizing plate with a retardation layer was obtained.

[비교예 3][Comparative Example 3]

자외선 경화형 접착제 1 대신에 상기 자외선 경화형 접착제 2를 이용하여 액정 배향 고화층을 첩합한 것, 및, 위상차 필름에 편광판을 첩합하기 전에 위상차 필름에 상기 HC층을 마련한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 위상차층 부착 편광판을 얻었다.In the same manner as in Example 1, except that the liquid crystal alignment solidification layer was bonded using the UV curing adhesive 2 instead of the UV curing adhesive 1, and the HC layer was provided on the retardation film before bonding the polarizer to the retardation film. , a polarizing plate with a phase contrast layer was obtained.

각 실시예 및 비교예에 대하여, 하기의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 1에 정리한다.The following evaluation was performed for each Example and Comparative Example. The evaluation results are summarized in Table 1.

<평가><Evaluation>

1. 전단 파괴 강도1. Shear breaking strength

각 실시예 및 비교예에 대하여, 위상차 필름 표면에 형성되는 층(제1 층, 제2 층)의 전단 파괴 강도를, 다이프라 윈테스(DAIPLA WINTES) 주식회사 제조의 경사 절삭 장치 'SAICAS EN'을 이용하여 측정하였다. 측정에 이용한 경사 절삭을 위한 w절삭 날의 날폭은 1mm이며, 경사각 20°, 여유각 10°로 하였다. 측정은, 23℃하, 정속도 모드(절삭 날의 수평 속도 10㎛/초, 수직 속도는 0.1㎛/초)로 행하였다.For each Example and Comparative Example, the shear fracture strength of the layers (first layer, second layer) formed on the surface of the retardation film was measured using an inclined cutting device 'SAICAS EN' manufactured by DAIPLA WINTES Co., Ltd. It was measured using The width of the w cutting edge for inclined cutting used in the measurement was 1 mm, the rake angle was 20°, and the clearance angle was 10°. The measurement was performed at 23°C in constant speed mode (horizontal speed of the cutting edge was 10 μm/sec, vertical speed was 0.1 μm/sec).

측정 대상이 되는 층에 대한 경사 절삭에서 절삭 날에 작용하는 수평력 FH와, 전단면의 면적 D와, 전단각 θ로부터, 하기 식에 의해 전단 파괴 강도 FS(MPa)를 산출할 수 있다. 측정 대상이 되는 층에 대한 경사 절삭 과정에서, 날을 넣는 측의 표면(위상차 필름과는 반대 측의 표면)으로부터 깊이 30%~70%의 영역 내로 나타내는 FS의 최대값을 각 층의 전단 파괴 강도로 하였다.From the horizontal force FH acting on the cutting edge in oblique cutting of the layer to be measured, the area D of the shear surface, and the shear angle θ, the shear fracture strength FS (MPa) can be calculated by the following equation. During the oblique cutting process for the layer being measured, the maximum value of FS expressed within the area of 30% to 70% of the depth from the surface on the side where the blade is inserted (the surface on the side opposite to the retardation film) is defined as the shear fracture strength of each layer. It was done.

FS=(FH/2D) cotθFS=(FH/2D)cotθ

2. HAST 시험2. HAST test

얻어진 위상차층 부착 편광판을, 고온 고습 환경하의 내구성에 관한 가속 시험인 HAST 시험에 제공하였다. HAST 시험은, JIS C60068에 준하여 행하였다. 구체적으로는, 위상차층 부착 편광판을, 110℃ 및 85% RH로 제어된 오븐 내에 36시간 두어 가열 가습하고, 가열 가습 후의 위상차층 부착 편광판의 상태를 육안으로 관찰하여, 이하의 기준으로 평가하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.The obtained polarizing plate with a retardation layer was subjected to the HAST test, which is an accelerated test for durability in a high-temperature, high-humidity environment. The HAST test was conducted in accordance with JIS C60068. Specifically, the polarizing plate with a retardation layer was placed in an oven controlled at 110°C and 85% RH for 36 hours to heat and humidify, and the state of the polarizing plate with a retardation layer after heating and humidifying was observed with the naked eye and evaluated based on the following criteria. The results are shown in Table 1.

양호: 크랙 및 박리는 확인되지 않았다Good: No cracks or peeling was observed.

허용 가능: 경미한 크랙 또는 박리가 확인되었다Acceptable: Minor cracking or delamination noted

불량: 크랙이 현저하거나, 박리가 확인되었다Defective: Significant cracks or peeling confirmed

[표 1][Table 1]

표 1로부터 명백한 바와 같이, 실시예의 위상차층 부착 편광판은, 가혹한 고온 고습 환경하에서도 크랙 및 박리가 억제되어 있다. 또한, 각 실시예 및 비교예에서, 액정 배향 고화층을 생략하여 HAST 시험을 행하였으나, 액정 배향 고화층의 유무에 관계없이, 결과는 상기와 마찬가지였다.As is clear from Table 1, cracking and peeling of the polarizing plate with a retardation layer in the examples were suppressed even in a harsh high-temperature, high-humidity environment. In addition, in each Example and Comparative Example, the HAST test was performed omitting the liquid crystal alignment solidification layer, but the results were the same as above regardless of the presence or absence of the liquid crystal alignment solidification layer.

본 발명의 위상차층 부착 편광판은 화상 표시 장치(대표적으로는, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치)에 적합하게 이용될 수 있다.The polarizing plate with a retardation layer of the present invention can be suitably used in an image display device (typically a liquid crystal display device or an organic EL display device).

10: 편광판
11: 편광자
12: 보호층
21: 제1 위상차층
22: 제2 위상차층
31: 제1 층
32: 제2 층
100: 위상차층 부착 편광판
10: Polarizer
11: Polarizer
12: protective layer
21: first phase contrast layer
22: second phase contrast layer
31: first layer
32: second layer
100: Polarizer with phase contrast layer

Claims (9)

서로 대향하는 제1 주면 및 제2 주면을 갖는 제1 위상차층과,
상기 제1 위상차층의 상기 제1 주면 측에 배치되는 편광자와,
상기 제1 위상차층의 상기 제2 주면 측에 배치되는 제1 층을 포함하고,
상기 제1 위상차층은, 수지 필름의 연신 필름으로 구성되며, Re(450)<Re(550)의 관계를 만족하고,
상기 제1 층은, 수지층이며, 전단 파괴 강도가 85MPa 이상인,
위상차층 부착 편광판
(여기서, Re(450) 및 Re(550)는, 각각, 23℃에서의 파장 450nm 및 파장 550nm의 광으로 측정한 면내 위상차이다).
A first phase difference layer having first and second main surfaces facing each other,
A polarizer disposed on the first main surface side of the first retardation layer,
It includes a first layer disposed on the second main surface side of the first phase difference layer,
The first retardation layer is composed of a stretched resin film and satisfies the relationship Re (450) < Re (550),
The first layer is a resin layer and has a shear fracture strength of 85 MPa or more,
Polarizer with phase contrast layer
(Here, Re(450) and Re(550) are the in-plane retardation measured with light with a wavelength of 450 nm and 550 nm at 23°C, respectively.)
서로 대향하는 제1 주면 및 제2 주면을 갖는 제1 위상차층과,
상기 제1 위상차층의 상기 제1 주면 측에 배치되는 편광자와,
상기 제1 위상차층의 상기 제2 주면 측에 배치되는 제1 층과,
상기 제1 위상차층의 상기 제1 주면 측에 배치되는 제2 층을 포함하고,
상기 제1 위상차층은, 수지 필름의 연신 필름으로 구성되며, Re(450)<Re(550)의 관계를 만족하고,
상기 제1 층은, 수지층이며, 전단 파괴 강도가 60MPa 이상이고,
상기 제2 층은, 수지층이며, 전단 파괴 강도가 60MPa 이상인,
위상차층 부착 편광판
(여기서, Re(450) 및 Re(550)는, 각각 23℃에서의 파장 450nm 및 파장 550nm의 광으로 측정한 면내 위상차이다).
A first phase difference layer having first and second main surfaces facing each other,
A polarizer disposed on the first main surface side of the first retardation layer,
A first layer disposed on the second main surface side of the first phase difference layer,
It includes a second layer disposed on the first main surface side of the first phase difference layer,
The first retardation layer is composed of a stretched resin film and satisfies the relationship Re (450) < Re (550),
The first layer is a resin layer and has a shear fracture strength of 60 MPa or more,
The second layer is a resin layer and has a shear fracture strength of 60 MPa or more,
Polarizer with phase contrast layer
(Here, Re(450) and Re(550) are the in-plane retardation measured with light with a wavelength of 450 nm and 550 nm at 23°C, respectively.)
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 제1 위상차층의 Re(550)는, 100nm~200nm이고, 상기 제1 위상차층의 지상축과 상기 편광자의 흡수축이 이루는 각도는 40°~50° 또는 130°~140°인, 위상차층 부착 편광판.
According to claim 1 or 2,
Re (550) of the first retardation layer is 100 nm to 200 nm, and the angle between the slow axis of the first retardation layer and the absorption axis of the polarizer is 40 ° to 50 ° or 130 ° to 140 °. Attached polarizer.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 위상차층의 상기 제2 주면 측에 배치되며, 굴절률 특성이 nz>nx=ny의 관계를 나타내는 제2 위상차층을 포함하고,
상기 제1 층은 상기 제1 위상차층과 상기 제2 위상차층의 사이에 배치되는, 위상차층 부착 편광판.
According to any one of claims 1 to 3,
A second retardation layer disposed on the second main surface of the first retardation layer and having a refractive index characteristic of nz>nx=ny,
A polarizing plate with a retardation layer, wherein the first layer is disposed between the first retardation layer and the second retardation layer.
제4항에 있어서,
상기 제1 층은 접착층으로서 기능하는, 위상차층 부착 편광판.
According to clause 4,
A polarizing plate with a retardation layer, wherein the first layer functions as an adhesive layer.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 위상차층은, 카보네이트 결합 및 에스테르 결합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 결합기와, 하기 일반식 (1)로 나타내는 구조 단위 및 하기 일반식 (2)로 나타내는 구조 단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 구조 단위를 포함하고, 양(正)의 굴절률 이방성을 갖는 수지를 함유하는, 위상차층 부착 편광판:


일반식 (1) 및 (2) 중, R1~R3은, 각각 독립적으로, 직접 결합, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~4의 알킬렌기이고, R4~R9은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 4~10의 아릴기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 아실기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 알콕시기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 아릴옥시기, 치환 또는 비치환의 아미노기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 비닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1~10의 에티닐기, 치환기를 갖는 황 원자, 치환기를 갖는 규소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 또는 시아노기이며; 단, R4~R9은, 서로 동일하여도, 상이하여도 되고, R4~R9 중 이웃하는 적어도 2개의 기가 서로 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다.
According to any one of claims 1 to 5,
The first phase difference layer is selected from the group consisting of at least one bonding group selected from the group consisting of a carbonate bond and an ester bond, a structural unit represented by the following general formula (1), and a structural unit represented by the following general formula (2) A polarizing plate with a retardation layer comprising at least one structural unit and containing a resin having positive refractive index anisotropy:


In general formulas (1) and (2), R 1 to R 3 are each independently a directly bonded, substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and R 4 to R 9 are each independently hydrogen. Atom, substituted or unsubstituted alkyl group with 1 to 10 carbon atoms, substituted or unsubstituted aryl group with 4 to 10 carbon atoms, substituted or unsubstituted acyl group with 1 to 10 carbon atoms, substituted or unsubstituted alkoxy group with 1 to 10 carbon atoms, substituted or an unsubstituted aryloxy group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted amino group, a substituted or unsubstituted vinyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted ethynyl group having 1 to 10 carbon atoms, a sulfur atom having a substituent, or a substituent. It has a silicon atom, a halogen atom, a nitro group, or a cyano group; However, R 4 to R 9 may be the same or different from each other, and at least two neighboring groups among R 4 to R 9 may be bonded to each other to form a ring.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 편광자의 상기 제1 위상차층과 반대 측에 배치되는 보호층을 포함하고,
상기 보호층을 85℃의 환경하에 240시간 둔 후의 수축률은 0.05% 미만인,
위상차층 부착 편광판.
According to any one of claims 1 to 6,
It includes a protective layer disposed on a side opposite to the first retardation layer of the polarizer,
The shrinkage rate after placing the protective layer in an environment of 85°C for 240 hours is less than 0.05%,
Polarizer with phase contrast layer.
제7항에 있어서,
상기 보호층은 트리아세틸셀룰로오스 필름 또는 환상 올레핀계 수지 필름으로 구성되는, 위상차층 부착 편광판.
In clause 7,
A polarizing plate with a retardation layer, wherein the protective layer is composed of a triacetylcellulose film or a cyclic olefin-based resin film.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된, 위상차층 부착 편광판을 구비하는, 화상 표시 장치.
An image display device comprising the polarizing plate with a retardation layer according to any one of claims 1 to 8.
KR1020247013910A 2021-10-26 2022-10-13 Polarizer and image display device with phase contrast layer KR20240095215A (en)

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