KR20230039948A - 라텍스 중합용 조성물, 딥 성형용 라텍스 및 그로부터 제조된 딥 성형품 - Google Patents
라텍스 중합용 조성물, 딥 성형용 라텍스 및 그로부터 제조된 딥 성형품 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20230039948A KR20230039948A KR1020210122925A KR20210122925A KR20230039948A KR 20230039948 A KR20230039948 A KR 20230039948A KR 1020210122925 A KR1020210122925 A KR 1020210122925A KR 20210122925 A KR20210122925 A KR 20210122925A KR 20230039948 A KR20230039948 A KR 20230039948A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- weight
- latex
- parts
- acid
- polymerization
- Prior art date
Links
- 229920000126 latex Polymers 0.000 title claims abstract description 93
- 239000004816 latex Substances 0.000 title claims abstract description 93
- 238000000465 moulding Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 42
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 78
- 150000008040 ionic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 21
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 claims abstract description 21
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 claims abstract description 20
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 18
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 claims description 14
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 13
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 claims description 11
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 7
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 7
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 claims description 7
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbuta-1,3-diene Chemical compound CC(=C)C(C)=C SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 claims description 6
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- ZCCIPPOKBCJFDN-UHFFFAOYSA-N calcium nitrate Chemical compound [Ca+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ZCCIPPOKBCJFDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N magnesium nitrate Chemical compound [Mg+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Chemical compound [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 6
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- DEFVIWRASFVYLL-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol bis(2-aminoethyl)tetraacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCOCCOCCN(CC(O)=O)CC(O)=O DEFVIWRASFVYLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N iminodiacetic acid Chemical compound OC(=O)CNCC(O)=O NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 claims description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 claims description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 claims description 4
- GJAWHXHKYYXBSV-UHFFFAOYSA-N quinolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CN=C1C(O)=O GJAWHXHKYYXBSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims description 4
- BOGRNZQRTNVZCZ-AATRIKPKSA-N (3e)-3-methylpenta-1,3-diene Chemical compound C\C=C(/C)C=C BOGRNZQRTNVZCZ-AATRIKPKSA-N 0.000 claims description 3
- AHAREKHAZNPPMI-AATRIKPKSA-N (3e)-hexa-1,3-diene Chemical compound CC\C=C\C=C AHAREKHAZNPPMI-AATRIKPKSA-N 0.000 claims description 3
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 claims description 3
- UTOVMEACOLCUCK-SNAWJCMRSA-N (e)-4-butoxy-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C\C(O)=O UTOVMEACOLCUCK-SNAWJCMRSA-N 0.000 claims description 3
- KYPOHTVBFVELTG-OWOJBTEDSA-N (e)-but-2-enedinitrile Chemical compound N#C\C=C\C#N KYPOHTVBFVELTG-OWOJBTEDSA-N 0.000 claims description 3
- BOGRNZQRTNVZCZ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethyl-butadiene Natural products CC=C(C)C=C BOGRNZQRTNVZCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QTYUSOHYEPOHLV-FNORWQNLSA-N 1,3-Octadiene Chemical compound CCCC\C=C\C=C QTYUSOHYEPOHLV-FNORWQNLSA-N 0.000 claims description 3
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ICKPUFPXUBGDLV-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-3-methylidenebutanedinitrile Chemical compound N#CC(C)C(=C)C#N ICKPUFPXUBGDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 3-methylfuran-2,5-dione Chemical compound CC1=CC(=O)OC1=O AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UGWOAPBVIGCNOV-UHFFFAOYSA-N 5-ethenyldec-5-ene Chemical compound CCCCC=C(C=C)CCCC UGWOAPBVIGCNOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- UTOVMEACOLCUCK-PLNGDYQASA-N butyl maleate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C/C(O)=O UTOVMEACOLCUCK-PLNGDYQASA-N 0.000 claims description 3
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 235000019797 dipotassium phosphate Nutrition 0.000 claims description 3
- 229910000396 dipotassium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 claims description 3
- 230000036541 health Effects 0.000 claims description 3
- 244000144972 livestock Species 0.000 claims description 3
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 claims description 3
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000012254 magnesium hydroxide Nutrition 0.000 claims description 3
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 claims description 3
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N piperylene Natural products CC=CC=C PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 claims description 3
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 claims description 3
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- DJEHXEMURTVAOE-UHFFFAOYSA-M potassium bisulfite Chemical compound [K+].OS([O-])=O DJEHXEMURTVAOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 229940099427 potassium bisulfite Drugs 0.000 claims description 3
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 claims description 3
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 claims description 3
- 235000010259 potassium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 claims description 3
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 229940086066 potassium hydrogencarbonate Drugs 0.000 claims description 3
- OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L potassium sulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910052939 potassium sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000011151 potassium sulphates Nutrition 0.000 claims description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 3
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 claims description 3
- FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J sodium diphosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 3
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000004317 sodium nitrate Substances 0.000 claims description 3
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 claims description 3
- 229940048086 sodium pyrophosphate Drugs 0.000 claims description 3
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 claims description 3
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 3
- 235000019818 tetrasodium diphosphate Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000001577 tetrasodium phosphonato phosphate Substances 0.000 claims description 3
- 229910000404 tripotassium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000019798 tripotassium phosphate Nutrition 0.000 claims description 3
- ZKXXLNRGNAUYHP-IHWYPQMZSA-N (z)-4-(2-hydroxypropoxy)-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound CC(O)COC(=O)\C=C/C(O)=O ZKXXLNRGNAUYHP-IHWYPQMZSA-N 0.000 claims description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IMJGQTCMUZMLRZ-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-dien-2-ylbenzene Chemical compound C=CC(=C)C1=CC=CC=C1 IMJGQTCMUZMLRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 claims description 2
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000011148 calcium chloride Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 claims description 2
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000011116 calcium hydroxide Nutrition 0.000 claims description 2
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000011147 magnesium chloride Nutrition 0.000 claims description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229940093956 potassium carbonate Drugs 0.000 claims description 2
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 claims description 2
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 claims description 2
- 229940098424 potassium pyrophosphate Drugs 0.000 claims description 2
- 229940001593 sodium carbonate Drugs 0.000 claims description 2
- 229940079827 sodium hydrogen sulfite Drugs 0.000 claims description 2
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 claims description 2
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 2
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 claims description 2
- NWJKPSLXLQLUTC-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;sodium Chemical compound [Na].OCCO NWJKPSLXLQLUTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 19
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 9
- -1 α-chloronitrile Chemical compound 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 description 3
- YAJYJWXEWKRTPO-UHFFFAOYSA-N 2,3,3,4,4,5-hexamethylhexane-2-thiol Chemical compound CC(C)C(C)(C)C(C)(C)C(C)(C)S YAJYJWXEWKRTPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010020751 Hypersensitivity Diseases 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 208000030961 allergic reaction Diseases 0.000 description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 210000001124 body fluid Anatomy 0.000 description 2
- 239000010839 body fluid Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N diacetyl peroxide Chemical compound CC(=O)OOC(C)=O ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AUZONCFQVSMFAP-UHFFFAOYSA-N disulfiram Chemical compound CCN(CC)C(=S)SSC(=S)N(CC)CC AUZONCFQVSMFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N hydroxylamine group Chemical group NO AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- 229920006173 natural rubber latex Polymers 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 2
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004260 weight control Methods 0.000 description 2
- BOXSVZNGTQTENJ-UHFFFAOYSA-L zinc dibutyldithiocarbamate Chemical compound [Zn+2].CCCCN(C([S-])=S)CCCC.CCCCN(C([S-])=S)CCCC BOXSVZNGTQTENJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- AYMDJPGTQFHDSA-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethenoxyethoxy)-2-ethoxyethane Chemical compound CCOCCOCCOC=C AYMDJPGTQFHDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVXNNFJCCZDKGU-UHFFFAOYSA-N 2,3-dibutylphenol;methanedithioic acid Chemical class SC=S.CCCCC1=CC=CC(O)=C1CCCC XVXNNFJCCZDKGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAYQJQYEJMZJEF-UHFFFAOYSA-N 2,3-diethylphenol;methanedithioic acid Chemical compound SC=S.CCC1=CC=CC(O)=C1CC KAYQJQYEJMZJEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSFSVEDCYBDIGW-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-6-chlorophenol Chemical compound OC1=C(Cl)C=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2S1 GSFSVEDCYBDIGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCPVQAHEFVXVKT-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-difluorophenoxy)pyridin-3-amine Chemical compound NC1=CC=CN=C1OC1=CC=C(F)C=C1F LCPVQAHEFVXVKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVWBTVJBDFTVOW-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(2-methylpropylperoxy)propane Chemical compound CC(C)COOCC(C)C TVWBTVJBDFTVOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylperoxypropan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000010201 Exanthema Diseases 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910019440 Mg(OH) Inorganic materials 0.000 description 1
- QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N N,N-bis{2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl}glycine Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(=O)O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940123973 Oxygen scavenger Drugs 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000003251 Pruritus Diseases 0.000 description 1
- RFRIWRLHYDZFRS-UHFFFAOYSA-N [Na].[Na].[Na].P(O)(O)(O)=O Chemical compound [Na].[Na].[Na].P(O)(O)(O)=O RFRIWRLHYDZFRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N abcn Chemical compound C1CCCCC1(C#N)N=NC1(C#N)CCCCC1 KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium peroxydisulfate Substances [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)OOS([O-])=O VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 235000011132 calcium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- YYRMJZQKEFZXMX-UHFFFAOYSA-N calcium;phosphoric acid Chemical compound [Ca+2].OP(O)(O)=O.OP(O)(O)=O YYRMJZQKEFZXMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004332 deodorization Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- FJBFPHVGVWTDIP-UHFFFAOYSA-N dibromomethane Chemical compound BrCBr FJBFPHVGVWTDIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940096818 dipentamethylenethiuram disulfide Drugs 0.000 description 1
- 229910000397 disodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019800 disodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 201000005884 exanthem Diseases 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000000687 hydroquinonyl group Chemical class C1(O)=C(C=C(O)C=C1)* 0.000 description 1
- NXPHCVPFHOVZBC-UHFFFAOYSA-N hydroxylamine;sulfuric acid Chemical compound ON.OS(O)(=O)=O NXPHCVPFHOVZBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000007803 itching Effects 0.000 description 1
- 238000002356 laser light scattering Methods 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N octane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCS KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRSFOMHQIATOFV-UHFFFAOYSA-N octanoyl octaneperoxoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCC SRSFOMHQIATOFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- KNBRWWCHBRQLNY-UHFFFAOYSA-N piperidine-1-carbothioylsulfanyl piperidine-1-carbodithioate Chemical compound C1CCCCN1C(=S)SSC(=S)N1CCCCC1 KNBRWWCHBRQLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003975 potassium Drugs 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1.CC(=C)C1=CC=CC=C1 FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 1
- 206010037844 rash Diseases 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L sodium persulfate Substances [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012086 standard solution Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002426 superphosphate Substances 0.000 description 1
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 description 1
- 229920006174 synthetic rubber latex Polymers 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/12—Polymerisation in non-solvents
- C08F2/16—Aqueous medium
- C08F2/22—Emulsion polymerisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/44—Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F236/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds
- C08F236/02—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds
- C08F236/04—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds conjugated
- C08F236/12—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds conjugated with nitriles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/02—Direct processing of dispersions, e.g. latex, to articles
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Moulding By Coating Moulds (AREA)
Abstract
공액 디엔계 단량체; 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체; 에틸렌성 불포화산 단량체; 및 이온성 화합물을 포함하고, 이온전도도가 275 ㎲/cm 이상인, 라텍스 중합용 조성물, 이로부터 중합된 딥 성형용 라텍스와 이를 이용한 딥 성형품이 개시된다.
Description
라텍스 중합용 조성물, 이를 중합한 딥 성형용 라텍스와 그로부터 제조된 딥 성형품에 관한 것이다.
종래 의료용, 식품용, 검사용, 실험용으로 사용되는 장갑이나 콘돔 등의 딥 성형품은 천연고무 라텍스(natural rubber latex)를 주원료로 하여 제조되었다. 그러나, 이러한 천연고무 라텍스 성형품은 내부에 단백질을 포함하여 사용자에게 접촉성 알러지 반응을 일으켜 발진, 가려움, 감기 등을 유발하는 문제가 있었다. 그 결과, 단백질을 전혀 포함하지 않는 합성고무 라텍스를 주원료로 제조된 딥 성형품의 사용량이 증가하는 추세이다.
딥 성형용 라텍스의 사용량 증가에 따라 품질향상의 필요성이 있으며, 최근 딥 성형용 라텍스로부터 제조된 딥 성형품의 인장강도, 신율 등의 내구성을 개선하려는 시도가 수행되고 있다. 그러나 이러한 기계적 물성의 개선 시도에도 불구하고, 딥 성형품의 파손으로 인하여 인명사고가 발생하거나 원하는 목적을 달성하지 못하는 사례가 지속해서 나타나고 있다.
이는 성형품의 실사용 시 약산성인 인체의 피부 또는 땀 등의 체액과 접촉하여 물성이 열화되기 때문으로, 종래의 기계적 물성인 인장강도와 신율은 상온의 공기 하에서 측정되어 이들 특성이 우수하면 딥 성형품의 사용 전 내구성은 담보할 수 있으나, 실사용 조건에서의 내구성이 불량한 경우가 발생하였다. 따라서, 실사용 조건에서의 내구성이 우수한 딥 성형품의 제조를 위한 기술 개발이 요구되고 있는 실정이다.
이에 따라 적은 양으로도 우수한 품질을 가지는 고고형분의 딥 성형용 라텍스에 대한 수요 또한 증가하고 있다. 그러나 종래의 딥 성형용 라텍스는 농축 등으로 고형분 함량을 증가시키는 경우 입자 안정성의 저하로 인하여 일정 함량 이상에서 점도가 급격히 상승하는 문제가 있다.
또한 딥 성형용 라텍스는 일반적으로 800 Å 내외의 평균 입경을 가지는 입자상 중합체를 포함한다. 이를 농축시키거나, 화학적 처리 등으로 비대화시켜 품질이 우수한 대입경의 중합체 입자를 포함하는 라텍스의 제조 기술이 제안되었으나 그 과정에서 라텍스의 안정성이 급격히 저하되는 문제가 있다.
안정성이 우수하여 대입경, 고고형분 및 저점도 특성을 갖는 딥 성형용 라텍스를 제조하기 위한 중합용 조성물을 제공하고, 상기 딥 성형용 라텍스를 이용하여 품질이 우수한 딥 성형품을 제공하는 것이다.
일 측면에 따르면, 공액 디엔계 단량체; 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체; 에틸렌성 불포화산 단량체; 및 이온성 화합물을 포함하고, 이온전도도가 275 ㎲/cm 이상인, 라텍스 중합용 조성물이 제공된다.
일 실시예에 있어서, 상기 공액 디엔계 단량체는 1,3-부타디엔, 이소프렌, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔, 1,3-펜타디엔, 1,3-헥사디엔, 2-페닐-1,3-부타디엔, 3-메틸-1,3-펜타디엔, 2-클로로-1,3-부타디엔, 3-부틸-1,3-옥타디엔 및 옥타디엔으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상일 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체는 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 후마로니트릴, α-클로로니트릴 및 α-시아노에틸아크릴로니트릴로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상일 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 에틸렌성 불포화산 단량체는 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레인산, 푸마르산, 무수말레산, 무수시트라콘산, 스티렌술폰산, 푸마르산모노부틸, 말레인산모노부틸 및 말레인산모노-2-히드록시프로필로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상일 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 이온성 화합물은 염화나트륨, 염화칼륨, 염화칼슘, 염화마그네슘, 질산나트륨, 질산칼륨, 질산칼슘, 질산마그네슘, 황산나트륨, 황산칼륨, 황산칼슘, 황산마그네슘, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘, 수산화마그네슘, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 아황산수소나트륨, 중아황산칼륨, 피로인산나트륨, 피로인산칼륨, 인산삼나트륨, 인산삼칼륨, 인산일수소나트륨, 인산일수소칼륨, 에틸렌디아민테트라아세트산 또는 이의 나트륨염, 에틸렌글리콜테트라아세트산 또는 이의 나트륨염, 니트릴로트리아세트산 또는 이의 나트륨염, 이미노디아세트산 또는 이의 나트륨염 및 퀴놀린산 또는 이의 나트륨염으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상일 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 조성물은 공액 디엔계 단량체 30~90중량부, 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체 1~55중량부, 에틸렌성 불포화산 단량체 0.001~20중량부를 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 물, 유화제, 중합개시제 및 분자량조절제를 더 포함할 수 있다.
다른 일 측면에 따르면, 전술한 라텍스 중합용 조성물 유래의 공중합체를 포함하는 딥 성형용 라텍스로서, 상기 공중합체의 평균 입경이 1,000~3,000Å인, 딥 성형용 라텍스가 제공된다.
일 실시예에 있어서, 상기 라텍스의 25℃ 점도가 50~2,500 cps일 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 라텍스의 고형분 함량이 50~65중량%일 수 있다.
다른 일 측면에 따르면, 전술한 딥 성형용 라텍스로 제조된, 딥 성형품이 제공된다.
일 실시예에 있어서, 상기 딥 성형품은 수술용 장갑, 의료용 장갑, 농축산물 가공용 장갑, 산업용 장갑, 콘돔, 화장용 소재, 카테터 또는 건강관리용 성형품일 수 있다.
일 측면에 따르면, 라텍스의 중합 시 중합체의 안정성이 현저히 개선되어 트레이드오프 관계인 고고형분, 대입경 및 저점도를 동시에 만족할 수 있다.
본 명세서의 일 측면의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 명세서의 상세한 설명 또는 청구범위에 기재된 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
이하에서는 구체적인 예시를 바탕으로 본 명세서의 일 측면을 설명하기로 한다. 그러나 본 명세서의 기재사항은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.
본 명세서에서 수치적 값의 범위가 기재되었을 때, 이의 구체적인 범위가 달리 기술되지 않는 한 그 값은 유효 숫자에 대한 화학에서의 표준규칙에 따라 제공된 유효 숫자의 정밀도를 갖는다. 예를 들어, 10은 5.0 내지 14.9의 범위를 포함하며, 숫자 10.0은 9.50 내지 10.49의 범위를 포함한다.
라텍스 중합용 조성물
일 측면에 따른 라텍스 중합용 조성물은, 공액 디엔계 단량체; 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체; 에틸렌성 불포화산 단량체; 및 이온성 화합물을 포함하고, 이온전도도가 275 ㎲/cm 이상일 수 있다.
상기 라텍스 중합용 조성물은 목적하는 이온전도도를 달성하기 위해 이온성 화합물의 함량을 조절한 것일 수 있다. 예를 들어, 상기 조성물의 이온전도도는 275 ㎲/cm 이상, 예를 들어, 275 ㎲/cm, 277.5 ㎲/cm, 280 ㎲/cm, 282.5 ㎲/cm, 285 ㎲/cm, 287.5 ㎲/cm, 290 ㎲/cm, 292.5 ㎲/cm, 295 ㎲/cm, 297.5 ㎲/cm, 300 ㎲/cm, 302.5 ㎲/cm, 305 ㎲/cm, 307.5 ㎲/cm, 310 ㎲/cm, 312.5 ㎲/cm, 315 ㎲/cm, 317.5 ㎲/cm, 320 ㎲/cm, 322.5 ㎲/cm, 325 ㎲/cm, 327.5 ㎲/cm, 330 ㎲/cm, 332.5 ㎲/cm, 335 ㎲/cm, 337.5 ㎲/cm, 340 ㎲/cm, 342.5 ㎲/cm, 345 ㎲/cm, 347.5 ㎲/cm, 350 ㎲/cm, 352.5 ㎲/cm, 355 ㎲/cm, 357.5 ㎲/cm, 360 ㎲/cm, 362.5 ㎲/cm, 365 ㎲/cm, 367.5 ㎲/cm, 370 ㎲/cm, 372.5 ㎲/cm, 375 ㎲/cm, 377.5 ㎲/cm, 380 ㎲/cm, 382.5 ㎲/cm, 385 ㎲/cm, 387.5 ㎲/cm, 390 ㎲/cm, 392.5 ㎲/cm, 395 ㎲/cm, 397.5 ㎲/cm, 400 ㎲/cm, 이들 중 두 값의 사이 범위 또는 이들 중 하나의 값 이상일 수 있다. 상기 라텍스 중합용 조성물의 이온전도도가 상기 범위 미만이면 중합된 라텍스의 안정성이 저하되고, 특히 고형분을 절반 이상 농축 시 점도가 급격하게 상승하는 문제가 발생할 수 있다.
또한 상기 조성물의 이온전도도는 10 ms/cm 이하, 5 ms/cm 이하 또는 1 ms/cm 이하일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 조성물의 이온전도도가 과도하게 높으면 중합에 불필요한 성분이 증가하여 라텍스의 안정성이 저하될 수 있다.
공액 디엔계 단량체, 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체 및 에틸렌성 불포화산 단량체 유래의 공중합체를 포함하는 라텍스의 중합 시의 이온전도도를 조절하여 라텍스의 안정성을 개선할 수 있다. 이를 이용하여 50중량% 이상의 높은 고형분 함량에서도 낮은 점도를 유지할 수 있다. 또한 안정성을 유지하며 1,000 Å 이상의 대입경 공중합체를 형성할 수 있다.
상기 공액 디엔계 단량체는 1,3-부타디엔, 이소프렌, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔, 1,3-펜타디엔, 1,3-헥사디엔, 2-페닐-1,3-부타디엔, 3-메틸-1,3-펜타디엔, 2-클로로-1,3-부타디엔, 3-부틸-1,3-옥타디엔 및 옥타디엔으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상일 수 있다. 딥 성형용 라텍스의 공중합체에서 상기 공액 디엔계 단량체 유래의 구조는 딥 성형품에 유연성을 부여할 수 있다.
상기 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체는 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 후마로니트릴, α-클로로니트릴 및 α-시아노에틸아크릴로니트릴로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상일 수 있다. 딥 성형용 라텍스의 공중합체에서 상기 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체 유래의 구조는 딥 성형품의 강도와 내약품성을 개선할 수 있다.
상기 에틸렌성 불포화산 단량체는 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레인산, 푸마르산, 무수말레산, 무수시트라콘산, 스티렌술폰산, 푸마르산모노부틸, 말레인산모노부틸 및 말레인산모노-2-히드록시프로필로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상일 수 있다. 딥 성형용 라텍스의 공중합체에서 상기 에틸렌성 불포화산 단량체로부터 유래한 구조는 가교 구조를 형성하여 딥 성형품의 기계적 물성을 개선할 수 있다.
상기 이온성 화합물은 염화나트륨(NaCl), 염화칼륨(KCl), 염화칼슘(CaCl2), 염화마그네슘(MgCl2), 질산나트륨(NaNO3), 질산칼륨(KNO3), 질산칼슘(Ca(NO3)2), 질산마그네슘(Mg(NO3)2), 황산나트륨(Na2SO4), 황산칼륨(K2SO4), 황산칼슘(CaSO4), 황산마그네슘(MgSO4), 수산화나트륨(NaOH), 수산화칼륨(KOH), 수산화칼슘(Ca(OH)2), 수산화마그네슘(Mg(OH)2), 탄산수소나트륨(NaHCO3), 탄산수소칼륨(KHCO3), 탄산나트륨(Na2CO3), 탄산칼륨(K2CO3), 아황산수소나트륨(NaHSO4), 중아황산칼륨(KHSO4), 피로인산나트륨(Na4P2O7), 피로인산칼륨(K4P2O7), 인산삼나트륨(Na3PO4), 인산삼칼륨(K3PO4), 인산일수소나트륨(Na2HPO4), 인산일수소칼륨(K2HPO4), 에틸렌디아민테트라아세트산(EDTA) 또는 이의 나트륨염, 에틸렌글리콜테트라아세트산(EGTA) 또는 이의 나트륨염, 니트릴로트리아세트산(NTA) 또는 이의 나트륨염, 이미노디아세트산(IDA) 또는 이의 나트륨염 및 퀴놀린산(QNA) 또는 이의 나트륨염으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상일 수 있다. 상기 이온성 화합물은 딥 성형용 라텍스의 공중합체 중합 시 반응이 진행 중인 공중합체의 안정성을 개선하고, 중합 이후에도 라텍스의 응집을 억제할 수 있다.
상기 조성물은 공액 디엔계 단량체 30~90중량부, 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체 1~55중량부, 에틸렌성 불포화산 단량체 0.001~20중량부를 포함할 수 있다.
에를 들어, 상기 조성물의 공액 디엔계 단량체 함량은 30중량부, 32.5중량부, 35중량부, 37.5중량부, 40중량부, 42.5중량부, 45중량부, 47.5중량부, 50중량부, 52.5중량부, 55중량부, 57.5중량부, 60중량부, 62.5중량부, 65중량부, 67.5중량부, 70중량부, 72.5중량부, 75중량부, 77.5중량부, 80중량부, 82.5중량부, 85중량부, 87.5중량부, 90중량부 또는 이들 중 두 값의 사이 범위일 수 있다. 상기 공액 디엔계 단량체 함량이 30중량부 미만이면 딥 성형품이 과도하게 경화되어 착용감이 불량할 수 있고, 90중량부 초과이면 딥 성형품의 내구성 또는 내화학성이 저하될 수 있다.
상기 조성물의 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체 함량은 1중량부, 2.5중량부, 5중량부, 7.5중량부, 10중량부, 12.5중량부, 15중량부, 17.5중량부, 20중량부, 22.5중량부, 25중량부, 27.5중량부, 30중량부, 32.5중량부, 35중량부, 37.5중량부, 40중량부, 42.5중량부, 45중량부, 47.5중량부, 50중량부 52.5중량부, 55중량부 또는 이들 중 두 값의 사이 범위일 수 있다. 상기 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체가 1중량부 미만이면 딥 성형품의 내약품성 또는 기계적 강도가 저하될 수 있고, 55중량부를 초과하면 딥 성형품의 신율이 저하되어 사용성이 저하될 수 있다.
상기 조성물의 에틸렌성 불포화산 단량체 함량은 0.001중량부, 0.5중량부, 1중량부, 1.5중량부, 2중량부, 2.5중량부, 3중량부, 3.5중량부, 4중량부, 4.5중량부, 5중량부, 5.5중량부, 6중량부, 6.5중량부, 7중량부, 7.5중량부, 8중량부, 8.5중량부, 9중량부, 9.5중량부, 10중량부, 10.5중량부, 11중량부, 11.5중량부, 12중량부, 12.5중량부, 13중량부, 13.5중량부, 14중량부, 14.5중량부, 15중량부, 15.5중량부, 16중량부, 16.5중량부, 17중량부, 17.5중량부, 18중량부, 18.5중량부, 19중량부, 19.5중량부, 20중량부 또는 이들 중 두 값의 사이 범위일 수 있다. 상기 에틸렌성 불포화산 단량체가 0.001중량부 미만이면 딥 성형품의 인장강도가 저하될 수 있고, 20중량부를 초과하면 딥 성형품이 과도하게 경화하여 착용감이 나빠질 수 있다.
본 명세서에서 "단량체 총합"이란, 상기 공액 디엔계 단량체, 상기 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체 및 상기 에틸렌성 불포화산 단량체를 합한 것을 의미하나, 상기 라텍스 중합용 조성물은 내구성 시험 결과가 상기 범위를 벗어나지 않는 한도에서 전술한 공액 디엔계 단량체, 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체 및 에틸렌성 불포화산 단량체 외의 중합성 단량체를 더 포함할 수 있고, 이 때 "단량체 총합"은 상기 중합성 단량체를 더 포함한다.
비제한적인 일 예시에서 상기 조성물에 포함된 단량체는 전술한 공액 디엔계 단량체, 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체 및 에틸렌성 불포화산 단량체로 구성된 것일 수 있다. 상기 3종의 단량체를 공중합 시 전술한 이온성 화합물을 통해 이온전도도를 제어함으로써 라텍스의 안정성을 개선하며 평균 입경을 증대시킬 수 있으나, 별도의 단량체를 추가 시 이러한 작용효과의 구현이 어려울 수 있다.
상기 이온성 화합물의 함량은 단량체 조성비, 이온성 화합물의 종류에 따라 달라질 수 있다. 상기 이온성 화합물의 함량은 전술한 이온전도도를 만족하는 조건 하에서 단량체 총합 100중량부를 기준으로 0.1~5중량부, 예를 들어, 0.1중량부, 0.5중량부, 1중량부, 1.5중량부, 2중량부, 2.5중량부, 3중량부, 3.5중량부, 4중량부, 4.5중량부, 5중량부 또는 이들 중 두 값의 사이 범위일 수 있다. 상기 범위를 벗어나면 이온전도도 조건을 만족시키기 어렵거나, 이온전도도를 만족시키더라도 안정성 개선 효과가 구현되지 않을 수 있다.
상기 라텍스 중합용 조성물은 물, 유화제, 중합개시제 및 분자량조절제를 더 포함할 수 있다.
상기 물은 상기 단량체 총합 100중량부를 기준으로 75~150중량부, 예를 들어, 75중량부, 77.5중량부, 80중량부, 82.5중량부, 85중량부, 87.5중량부, 90중량부, 92.5중량부, 95중량부, 97.5중량부, 100중량부, 102.5중량부, 105중량부, 107.5중량부, 110중량부, 112.5중량부, 115중량부, 117.5중량부, 120중량부, 122.5중량부, 125중량부, 127.5중량부, 130중량부, 132.5중량부, 135중량부, 137.5중량부, 140중량부, 142.5중량부, 145중량부, 147.5중량부, 150중량부 또는 이들 중 두 값의 사이 범위일 수 있다. 상기 물의 함량이 75중량부 미만이면 중합 시 점도가 과도하게 상승하여 성형품의 제조가 어려울 수 있고, 150중량부 초과이면 고형분 함량이 과도하게 낮아질 수 있다. 상기 물은 이온전도도가 5 ㎲/cm 이하, 2.5 ㎲/cm 이하 또는 1 ㎲/cm 이하인 것일 수 있다. 예를 들어, 상기 물은 이온교환수, 초순수 또는 정제수일 수 있다. 이온전도도가 높은 물을 사용하면 중합안정성 내지 라텍스의 안정성에 악영향을 주는 불순물이 포함될 수 있다.
상기 유화제는 음이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제 또는 양성 계면활성제일 수 있다. 예를 들어, 음이온성 계면활성제로 알킬벤젠술폰산염, 지방족술폰산염, 고급 알코올의 황산에스테르염, α-올레핀술폰산염 및 알킬에테르황산에스테르염으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 유화제는 상기 단량체 총합 100 중량부를 기준으로 0.8~8중량부가 사용될 수 있다. 상기 유화제의 함량에 따라 전술한 이온전도도 달성을 위해 이온성 화합물의 함량이 달라질 수 있다.
상기 중합개시제는 라디칼 개시제일 수 있다. 상기 라디칼 개시제는, 예를 들어, 과황산나트륨, 과황산칼륨, 과황산암모늄, 과인산칼륨, 및 과산화수소로 이루어진 군으로부터 선택된 무기과산화물; t-부틸퍼옥사이드, 큐멘하이드로퍼옥사이드, p-멘탄하이드로퍼옥사이드, 디-t-부틸 퍼옥사이드, t-부틸쿠밀퍼옥사이드, 아세틸퍼옥사이드, 이소부틸퍼옥사이드, 옥타노일퍼옥사이드, 디벤조일퍼옥사이드, 3,5,5-트리메틸헥산올퍼옥사이드, 및 t-부틸퍼옥시이소부틸레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 유기과산화물; 아조비스이소부티로니트릴, 아조비스-2,4-디메틸발레로니트릴, 아조비스시클로헥산카르보니트릴 및 아조비스이소낙산(부틸산)메틸로이루어진 군으로부터 선택된 아조계 개시제 중 하나 이상일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 중합개시제는 상기 단량체 총합 100 중량부를 기준으로 0.01~1.5중량부가 사용될 수 있다.
상기 분자량조절제는 α-메틸스티렌다이머(dimer), t-도데실머캅탄, n-도데실머캅탄, 옥틸머캅탄 등의 머캅탄류; 사염화탄소, 염화메틸렌, 브롬화메틸렌 등의 할로겐화 탄화수소; 테트라에틸티우람디설파이드, 디펜타메틸렌티우람디설파이드, 디이소프로필키산토겐디설파이드 등의 함유황 화합물일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 분자량조절제의 함량은 상기 공중합체 라텍스의 단량체 총합 100중량부를 기준으로 0.1~1중량부일 수 있다. 예를 들어, 상기 분자량조절제는 0.1중량부, 0.15중량부, 0.2중량부, 0.25중량부, 0.3중량부, 0.35중량부, 0.4중량부, 0.45중량부, 0.5중량부, 0.55중량부, 0.6중량부, 0.65중량부, 0.7중량부, 0.75중량부, 0.8중량부, 0.85중량부, 0.9중량부, 0.95중량부, 1중량부 또는 이들 중 두 값의 사이 범위일 수 있다. 상기 분자량조절제가 0.1중량부 미만이면 겔이 생성되어 라텍스 안정성이 저하될 수 있고, 1중량부 초과이면 인장강도가 불량하거나, 응력유지율이 저하되는 것 외에도 실사용 내구성이 저하될 수 있다.
딥 성형용 라텍스
다른 일 측면에 따른 딥 성형용 라텍스는, 전술한 라텍스 중합용 조성물 유래의 공중합체를 포함하는 딥 성형용 라텍스로서, 상기 공중합체의 평균 입경이 1,000~3,000Å, 예를 들어, 1,000 Å, 1,050 Å, 1,100 Å, 1,150 Å, 1,200 Å, 1,250 Å, 1,300 Å, 1,350 Å, 1,400 Å, 1,450 Å, 1,500 Å, 1,550 Å, 1,600 Å, 1,650 Å, 1,700 Å, 1,750 Å, 1,800 Å, 1,850 Å, 1,900 Å, 1,950 Å, 2,000 Å, 2,050 Å, 2,100 Å, 2,150 Å, 2,200 Å, 2,250 Å, 2,300 Å, 2,350 Å, 2,400 Å, 2,450 Å, 2,500 Å, 2,550 Å, 2,600 Å, 2,650 Å, 2,700 Å, 2,750 Å, 2,800 Å, 2,850 Å, 2,900 Å, 2,950 Å, 3,000 Å 또는 이들 중 두 값의 사이 범위일 수 있다. 상기 딥 성형용 라텍스는 이온전도도를 제어하며 중합함으로써 안정성 저하를 최소화하며 공중합체 입경을 비대화시킬 수 있다. 또한 상기 라텍스는 올리고머 함량이 적어 안정성이 보다 우수할 수 있다.
상기 딥 성형용 라텍스는 제타전위의 크기(절댓값)가 60 mV 이상, 62.5 mV 이상, 65 mV 이상, 67.5 mV 이상 또는 70 mV 이상일 수 있다. 이러한 조건을 만족하는 라텍스는 안정성이 우수하여 50중량% 이상의 높은 고형분으로 농축 시에도 점도 상승을 억제할 수 있다.
상기 딥 성형용 라텍스의 25℃ 점도는 50~2,500 cps, 예를 들어, 50 cps, 75 cps, 100 cps, 125 cps, 150 cps, 175 cps, 200 cps, 225 cps, 250 cps, 275 cps, 300 cps, 325 cps, 350 cps, 375 cps, 400 cps, 425 cps, 450 cps, 475 cps, 500 cps, 525 cps, 550 cps, 575 cps, 600 cps, 625 cps, 650 cps, 675 cps, 700 cps, 725 cps, 750 cps, 775 cps, 800 cps, 825 cps, 850 cps, 875 cps, 900 cps, 925 cps, 950 cps, 975 cps, 1,000 cps, 1,100 cps, 1,200 cps, 1,300 cps, 1,400 cps, 1,500 cps, 1,600 cps, 1,700 cps, 1,800 cps, 1,900 cps, 2,000 cps, 2,100 cps, 2,200 cps, 2,300 cps, 2,400 cps, 2,500 cps 또는 이들 중 두 값의 사이 범위일 수 있다. 점도가 상기 범위를 벗어나는 라텍스는 실질적으로 제조가 불가능하거나, 딥 성형이 어려울 수 있다.
상기 딥 성형용 라텍스의 고형분 함량이 50~65중량%, 예를 들어, 50중량%, 52.5중량%, 55중량%, 57.5중량%, 60중량%, 62.5중량%, 65중량% 또는 이들 중 두 값의 사이 범위일 수 있다. 고형분 함량이 상기 범위를 벗어나면 전술한 안정성 개선으로 인한 효과가 불필요하거나, 라텍스의 응집이 발생할 수 있다.
상기 딥 성형용 라텍스의 특징은 pH 8.0~10.0, 예를 들어, pH 8.0, 8.1, 8.2, 8.3, 8.4, 8.5, 8.6, 8.7, 8.8, 8.9, 9.0, 9.1, 9.2, 9.3, 9.4, 9.5, 9.6, 9.7, 9.8, 9.9, 10.0에서 측정된 것일 수 있다. 첨가제를 통해 라텍스의 pH 조절 시 고형분 함량과 평균 입경이 변화할 수 있으나, 상기 딥 성형용 라텍스는 상기 pH 범위에서 전술한 평균 입경, 고형분 함량 및 점도 요건을 동시에 충족시킬 수 있다.
상기 딥 성형용 라텍스는 킬레이트제, 분산제, pH조절제, 탈산소제, 입경조절제, 노화방지제 및 산소포착제로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 첨가제를 더 포함할 수 있다. 이들 첨가제로는 당 업계의 공지구성을 사용할 수 있고, 전술한 이온전도도 범위를 만족시키는 것이라면 종류, 기능 및 첨가량에 대한 설명은 생략하도록 한다. 이러한 첨가제는 상기 공중합체의 중합 이전 또는 중합 이후 첨가될 수 있다.
상기 딥 성형용 라텍스는 저점도, 고고형분 및 대입경을 동시에 만족시켜 라텍스 자체의 안정성이 우수할 수 있다. 따라서 외부에서 충격이 가해지거나 장기간 보관 시에도 딥 성형품의 품질 저하를 방지할 수 있다.
딥 성형용 라텍스의 제조방법
상기 딥 성형용 라텍스의 제조방법은 (a) 공액 디엔계 단량체, 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체 및 에틸렌성 불포화산 단량체를 포함하는 단량체 혼합물에 유화제 및 물을 투입하는 단계; (b) 이온성 화합물을 투입하여 이온전도도를 조절하는 단계; 및 (c) 중합 개시제를 투입하여 딥 성형용 라텍스를 제조하는 단계를 포함하고, 상기 (b) 단계에서 이온성 화합물은 이온전도도가 275 ㎲/cm 이상이 되도록 투입할 수 있다.
상기 (a) 단계는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체를 구성하는 단량체인 공액 디엔계 단량체, 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체 및 에틸렌성 불포화산 단량체를 포함하는 단량체 혼합물을 준비하여 유화수에 투입하는 단계로, 질소 분위기 하에서 수행될 수 있다.
상기 (a) 단계 또는 (b) 단계에서 분자량조절제, 유화제를 더 투입할 수 있다. 이들에 대해서는 전술한 바와 같다.
상기 (b) 단계는 이온성 화합물을 투입하여 전술한 라텍스 중합용 조성물을 제조하는 단계로, 중합에 필요한 성분을 모두 투입한 후 이온전도도를 제어함으로써 전술한 안정성 개선 효과를 구현할 수 있다.
상기 (c) 단계의 중합은 10~90 ℃에서 수행될 수 있으며, 예를 들어, 10 ℃, 15 ℃, 20 ℃, 25 ℃, 30 ℃, 35 ℃, 40 ℃, 45 ℃, 50 ℃, 55 ℃, 60 ℃, 65 ℃, 70 ℃, 75 ℃, 80 ℃, 85 ℃, 90 ℃ 또는 이들 중 두 온도의 사이 온도에서 수행될 수 있다.
상기 중합 반응의 전환율이 90% 이상일 때 중합 정지제를 투입하여 중합을 정지할 수 있다. 예를 들어, 상기 중합 정지제는 상기 중합 반응의 전환율이 90%, 91%, 92%, 93%, 94%, 95%, 96%, 97%, 98%, 99%, 99.9% 또는 이들 중 두 값의 사이 값일 때 투입하는 것일 수 있다.
상기 중합 정지제는 히드록실 아민, 히드록시 아민 황산염, 디에틸 히드록시 아민, 히드록시 아민 술폰산 및 그 알칼리 금속 이온, 소듐 디메틸디티오카바메이트, 하이드로퀴논 유도체, 히드록시 디에틸 벤젠 디티오 카르본산, 히드록시 디부틸 벤젠 디티오 카르본산 등의 방향족 히드록시 디티오 카르본산 및 이들 중 2 이상의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나일 수 있다. 상기 중합 정지제 함량은 상기 단량체 혼합물 100 중량부에 대하여 0.02~1.5 중량부일 수 있다.
그 외 상기 제조방법에 사용된 원료, 함량 등에 대해서는 전술한 바와 같다.
딥 성형품
다른 일 측면에 따른 딥 성형품은, 전술한 딥 성형용 라텍스로 제조될 수 있다.
전술한 딥 성형용 라텍스에 상기 공중합체 100중량부를 기준으로 산화아연 0.1~1중량부, 황 1~2중량부 및 가황촉진제 0.3~1.5중량부를 첨가시킨 후 딥 성형하여 딥 성형품을 제조할 수 있다.
상기 산화아연은 상기 에틸렌성 불포화산으로부터 유래한 구조와 이온결합을 형성하여 가교구조를 형성할 수 있다. 또한 이온성 화합물을 이용하여 전술한 이온전도도 범위를 만족하면 상기 이온결합 강도를 개선하여 내구성을 향상시킬 수 있다. 상기 산화아연은, 예를 들어, 0.1중량부, 0.2중량부, 0.3중량부, 0.4중량부, 0.5중량부, 0.6중량부, 0.7중량부, 0.8중량부, 0.9중량부 또는 1중량부일 수 있다. 상기 산화아연이 과도하게 적으면 실사용 내구성이 저하될 수 있고, 과도하게 많으면 인장강도가 저하될 수 있다.
상기 황은 상기 공액 디엔계 단량체로부터 유래한 구조와 반응하여 가교구조를 형성할 수 있다. 이온성 화합물을 이용하여 전술한 이온전도도 범위를 만족하면 가황 시 이장현상(syneresis)으로 인한 성형품의 수축을 억제할 수 있다. 상기 황은, 예를 들어, 1중량부, 1.1중량부, 1.2중량부, 1.3중량부, 1.4중량부, 1.5중량부, 1.6중량부, 1.7중량부, 1.8중량부, 1.9중량부 또는 2.0중량부일 수 있다. 상기 황이 1중량부 미만이면 인장강도 등의 기계적 물성과 실사용 내구성이 저하될 수 있고, 2중량부 초과이면 사용자의 알러지 반응을 유발할 수 있다.
상기 딥 성형품은 상기 딥 성형용 라텍스에 수산화칼륨 수용액을 첨가하여 고형분을 조절한 후 딥 성형한 것일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 딥 성형품의 인장강도가 3 MPa 이상, 5 MPa 이상, 7 MPa 이상, 9 MPa 이상, 11 MPa 이상, 13 MPa 이상, 15 MPa 이상, 20 MPa 이상, 25 MPa 이상, 30 MPa 이상 또는 35 MPa 이상일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 인장강도가 높을수록 보관 시 내구성은 향상되나, 신율 등의 기타 기계적 물성이 감소할 수 있다.
상기 딥 성형품의 신율은 600% 이상, 650% 이상, 700% 이상, 750% 이상, 800% 이상, 850% 이상 또는 900% 이상일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 신율이 높을수록 착용감 등이 향상되나, 기타 기계적 물성과 트레이드오프 관계일 수 있다.
상기 딥 성형품은 내구성 시험 결과가 60분 이상이고, 인장강도가 10 MPa 이상이며, 신율이 600% 이상일 수 있다. 중합 시 이온전도도를 제어함으로써 최소한의 인장강도 및 신율을 유지함과 동시에 내구성 시험으로 확인되는 실사용 내구성이 우수하여 고품질의 딥 성형품을 제조할 수 있다.
[내구성 시험 방법]
폭 30 mm, 길이 135 mm, 두께 0.06~0.08 mm의 딥 성형품을 길이 방향으로 20% 신장하여 35℃의 pH 4.0~4.3 용액에 침지하고, 상기 성형품을 10초간 길이 방향 신율이 50%가 되도록 신장시키고 2초간 고정한 후 10초간 길이 방향 신율이 20%가 되도록 이완시키는 공정을 반복하여 상기 성형품이 파손되는 시간을 측정하였다.
상기 내구성 시험 방법은 딥 성형품의 실사용 시 접촉 가능성이 높은 피부, 체액과 유사한 조건인 35℃, pH 4.0~4.3의 용액 중에서 신장 및 이완을 반복하여 시편의 파손여부를 확인하는 것으로, 예를 들어 상기 성형품이 장갑이면 손가락의 움직임에 따라 성형품이 신장과 이완을 반복하는 상황을 모사하여, 실사용 조건에서의 딥 성형품 내구성을 측정할 수 있다.
상기 딥 성형품은 수술용 장갑, 의료용 장갑, 농축산물 가공용 장갑, 산업용 장갑, 콘돔, 화장용 소재, 카테터 또는 건강관리용 성형품일 수 있다.
예를 들어, 상기 딥 성형품은 수술용 장갑, 또는 그 외 의료용 장갑이거나, 화학약품 취급용 장갑 등의 산업용 장갑이거나, 퍼프 등의 화장용 소재일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
이하, 본 명세서의 실시예에 관하여 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이하의 실험 결과는 상기 실시예 중 대표적인 실험 결과만을 기재한 것이며, 실시예 등에 의해 본 명세서의 범위와 내용이 축소되거나 제한되어 해석될 수 없다. 아래에서 명시적으로 제시하지 않은 본 명세서의 여러 구현예의 각각의 효과는 해당 부분에서 구체적으로 기재하도록 한다. 별도의 언급이 없다면 각 시험은 20℃, 1 atm의 조건에서 수행될 수 있다.
실시예 및 비교예
교반기, 온도계, 냉각기, 및 질소 가스의 인입구가 구비되어 있고, 단량체, 유화제, 중합 개시제 등의 각 구성요소를 연속적으로 투입할 수 있도록 장치된 1 L 고압 반응기를 준비하였다. 이온교환수로는 전도도가 1 ㎲/cm 이하인 것을 준비하였다. 상기 반응기를 질소로 치환한 후 이소프렌(IPM) 74중량부, 아크릴로니트릴(AN) 24중량부, 메타크릴산(MAA) 2중량부의 단량체 혼합물을 투입하였다. 그 후, 상기 단량체 혼합물 100 중량부에 대하여 이온성 화합물(IC), 분자량조절제로 t-도데실머캅탄 0.5중량부, 유화제로 알킬벤젠술폰산나트륨 2중량부 및 이온교환수 120 중량부를 상기 반응기에 투입하였다. 반응물의 이온전도도를 측정하고, 목적하는 이온전도도에 도달할 때까지 이온성 화합물을 투입하여 라텍스 중합용 조성물을 제조하였다. 상기 반응기의 온도를 약 25℃까지 승온시킨 후, 과황산칼륨을 0.3 중량부 투입하였다. 각각의 실시예 및 비교예에서 사용된 이온성 화합물의 종류 및 라텍스 중합용 조성물의 이온전도도를 아래 표 1에 나타내었다.
전환율이 약 95%에 이르렀을 때, 소듐하이드록사이드를 0.9중량부 투입하여 중합 반응을 정지시켰다. 이후, 탈취 공정을 통하여 미반응 단량체 등을 제거하고, 암모니아수, 산화방지제, 소포제 등을 첨가하여 pH 8.5(단, 실시예 6, 비교예 6은 pH 9.6)의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 얻었다. 상기 라텍스의 제타전위, 평균 입경, 고형분 함량 및 점도를 측정하여 하기 표 1에 나타내었다.
비교예 7은 목적하는 이온전도도 달성을 위해 이온성 화합물을 투입하지 않고, 분자량조절제 및 유화제를 각각 0.05중량부, 0.1중량부를 투입하였으나 중합이 불가능하였다.
구분 | IC | 이온전도도 (㎲/cm) |
제타전위 (mV) |
평균 입경 (Å) |
고형분 함량 (중량%) |
25℃ 점도 (cps) |
실시예 1 | K2CO3 | 297.3 | -74.7 | 1,160 | 53.2 | 230 |
실시예 2 | Na2CO3 | 332.5 | -81.2 | 1,200 | 54.5 | 420 |
실시예 3 | K2SO4 | 298.5 | -75.2 | 1,010 | 50.3 | 110 |
실시예 4 | Na2SO4 | 292.5 | -72 | 1,330 | 50.1 | 150 |
실시예 5 | Na2HPO4 | 293 | -71.3 | 1,520 | 54.9 | 250 |
실시예 6 | EGTA | 292.8 | -73.1 | 1,950 | 57.7 | 150 |
실시예 7 | EDTA | 311.2 | -78.4 | 1,130 | 52.5 | 170 |
실시예 8 | NTA | 296.5 | -75.3 | 1,160 | 53.3 | 220 |
실시예 9 | DTPA | 325.7 | -79.3 | 1,080 | 50.4 | 95 |
실시예 10 | IDA | 293.2 | -75.9 | 1,210 | 54.7 | 480 |
비교예 1 | K2CO3 | 274 | -59.8 | 880 | 33.1 | 315 |
비교예 2 | K2CO3 | 269 | -59.3 | 880 | 54.9 | 5,300 |
비교예 3 | EDTA | 262 | -59.7 | 1,180 | 55.5 | 8,800 |
비교예 4 | - | 243 | -54 | 920 | 49.2 | 105 |
비교예 5 | - | 232.6 | -53.9 | 970 | 55.6 | >10,000 |
비교예 6 | - | 239.8 | -54.1 | 990 | 57.3 | >10,000 |
비교예 7 | - | 184.2 | - | - | - | - |
-이온전도도(㎲/cm): 이온전도도는 2전극 방식을 이용한 전기화학적 임피던스 분광기(EIS)로 저항을 측정한 후 Nyquist 도시법으로 결정하였다. 저항은 진동수 60 Hz~1 kHz, 전류 10.0 mV, 전압범위 ±10 V의 조건에서 측정하였다. 이온전도도는 예상되는 범위의 표준용액으로 보정한 후 측정하였다. 전극으로는 흑연 전극을 사용하였다. 이온전도도는 25℃ 기준으로 보정된 값을 사용하였다.
-제타전위(mV): Malvern Zetasizer 기기를 이용하여 25℃에서의 제타전위를 측정하였다.
-평균 입경(Å): Nanotrac 150을 이용한 동적 광산란법(dynamic laser light scattering)으로 측정하였다.
-25℃ 점도(cps): 브룩필드(Brookfield) 점도계로 스핀들(spindle) 62, 100 rpm 조건으로 측정하였다.
상기 표 1을 참고하면, 라텍스 중합용 조성물의 이온전도도가 상대적으로 높은 실시예의 경우 라텍스 입자의 전기적 안정성을 의미하는 제타전위의 크기가 상대적으로 크게 측정되었다. 그 결과 1,000 Å 이상의 대입경, 50중량% 이상의 고고형분을 달성하면서도 낮은 점도를 가질 수 있는 것으로 판단된다. 반면 낮은 이온전도도의 조건 하에서 중합된 비교예의 라텍스는 제타전위의 크기가 상대적으로 작게 측정되었다. 따라서 안정성이 부족하여 대입경, 고고형분과 저점도를 동시에 달성하는 것이 곤란하였다. 특히 입경이 작은 비교예의 라텍스는 농축을 통해 고형분 함량을 증가시키는 경우 점도가 급상승하는 문제점이 있었다. 또한 이온전도도를 제어하며 중합을 수행하는 경우 저분자량의 올리고머 생성이 감소하여 라텍스의 안정성이 증가하는 것으로 예상된다.
실험예
상기 실시예 및 비교예의 라텍스 100중량부에 유황(S) 1.8중량부, 산화아연(ZnO) 0.7중량부, 가황촉진제로 아연디부틸디티오카바메이트(zinc dibutyldithiocarbamate, ZDBC) 1.2중량부를 첨가하였다. 이후, 4% 수산화칼륨 수용액 및 2차 증류수를 투입하여 고형분 농도 20%, pH 10.0인 딥 성형용 조성물을 제조하였다. 상기 딥 성형용 조성물로 가로 30 mm, 세로 135 mm, 두께 0.06~0.08 mm의 직사각형 시편을 제조하여 각 물성을 측정하여 아래 표 2에 나타내었다.
구분 | 인장강도 (MPa) | 신율 (%) | S/R (%) | 내구성 (분) |
실시예 4 | 26.8 | 729 | 34.1 | >180 |
실시예 5 | 34.2 | 722 | 31.4 | >180 |
실시예 6 | 35.7 | 660 | 38.8 | >180 |
비교예 1 | 28.9 | 575 | 27.0 | 153 |
비교예 4 | 25.7 | 608 | 28.4 | 164 |
-인장강도 및 신율: 만능시험기(universal testing machine, UTM)를 이용하여 덤벨 형상의 시편을 500 mm/의 분의 속도로 신장시키며 시편의 파단이 발생한 때 가해진 인장하중과 신율을 측정하였다.
-응력유지율(stress retention, S/R): 만능시험기를 이용하여 시편을 500 mm/분의 속도로 신율 100%까지 신장시킨 후 초기 인장하중(σ0)을 측정하고, 6분 후의 인장하중(σ6)을 측정하여 하기 식에 따라 응력유지율을 계산하였다.
-내구성(durability): 시트르산을 이용하여 pH 4의 용액을 제조하여 35℃의 조건으로 유지하였다. 직사각형 시편을 세로 방향으로 20% 신장시킨 상태로 상기 용액에 투입하였다. 상기 시편을 10초간 신율 50%까지 신장시키고, 2초간 고정한 후 10초간 신율 20%로 이완시키는 작업을 반복하며 시편이 파손되는 시간을 측정하였다.
상기 표 2를 참고하면, 실시예의 라텍스를 이용하여 제조한 시편은 기계적 강도와 내구성이 모두 비교예 대비 우수하였다. 특히, 고형분 함량이 유사한 실시예 4와 비교예 4를 대비하면 상대적으로 평균 입자가 큰 실시예 4의 시편이 기계적 강도와 내구성이 우수하였다. 이는 딥 성형을 통한 시편 제조 시 평균 입경이 작은 비교예 4에서 필름의 수축 현상이 발생하였기 때문으로 판단된다.
전술한 본 명세서의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 명세서의 일 측면이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 명세서에 기재된 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.
본 명세서의 범위는 후술하는 청구범위에 의하여 나타내어지며, 청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 명세서의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
Claims (12)
- 공액 디엔계 단량체;
에틸렌성 불포화 니트릴 단량체;
에틸렌성 불포화산 단량체; 및
이온성 화합물을 포함하고,
이온전도도가 275 ㎲/cm 이상인, 라텍스 중합용 조성물. - 제1항에 있어서,
상기 공액 디엔계 단량체는 1,3-부타디엔, 이소프렌, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔, 1,3-펜타디엔, 1,3-헥사디엔, 2-페닐-1,3-부타디엔, 3-메틸-1,3-펜타디엔, 2-클로로-1,3-부타디엔, 3-부틸-1,3-옥타디엔 및 옥타디엔으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상인, 라텍스 중합용 조성물. - 제1항에 있어서,
상기 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체는 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 후마로니트릴, α-클로로니트릴 및 α-시아노에틸아크릴로니트릴로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상인, 라텍스 중합용 조성물. - 제1항에 있어서,
상기 에틸렌성 불포화산 단량체는 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레인산, 푸마르산, 무수말레산, 무수시트라콘산, 스티렌술폰산, 푸마르산모노부틸, 말레인산모노부틸 및 말레인산모노-2-히드록시프로필로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상인, 라텍스 중합용 조성물. - 제1항에 있어서,
상기 이온성 화합물은 염화나트륨, 염화칼륨, 염화칼슘, 염화마그네슘, 질산나트륨, 질산칼륨, 질산칼슘, 질산마그네슘, 황산나트륨, 황산칼륨, 황산칼슘, 황산마그네슘, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘, 수산화마그네슘, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 아황산수소나트륨, 중아황산칼륨, 피로인산나트륨, 피로인산칼륨, 인산삼나트륨, 인산삼칼륨, 인산일수소나트륨, 인산일수소칼륨, 에틸렌디아민테트라아세트산 또는 이의 나트륨염, 에틸렌글리콜테트라아세트산 또는 이의 나트륨염, 니트릴로트리아세트산 또는 이의 나트륨염, 이미노디아세트산 또는 이의 나트륨염 및 퀴놀린산 또는 이의 나트륨염으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상인, 라텍스 중합용 조성물. - 제1항에 있어서,
상기 조성물은 공액 디엔계 단량체 30~90중량부, 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체 1~55중량부, 에틸렌성 불포화산 단량체 0.001~20중량부를 포함하는, 라텍스 중합용 조성물. - 제1항에 있어서,
물, 유화제, 중합개시제 및 분자량조절제를 더 포함하는, 라텍스 중합용 조성물. - 제1항에 따른 라텍스 중합용 조성물 유래의 공중합체를 포함하는 딥 성형용 라텍스로서,
상기 공중합체의 평균 입경이 1,000~3,000Å인, 딥 성형용 라텍스. - 제8항에 있어서,
상기 라텍스의 25℃ 점도가 50~2,500 cps인, 딥 성형용 라텍스. - 제8항에 있어서,
상기 라텍스의 고형분 함량이 50~65중량%인, 딥 성형용 라텍스. - 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 따른 딥 성형용 라텍스로 제조된, 딥 성형품.
- 제11항에 있어서,
상기 딥 성형품은 수술용 장갑, 의료용 장갑, 농축산물 가공용 장갑, 산업용 장갑, 콘돔, 화장용 소재, 카테터 또는 건강관리용 성형품인, 딥 성형품.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020210122925A KR102615579B1 (ko) | 2021-09-15 | 2021-09-15 | 라텍스 중합용 조성물, 딥 성형용 라텍스 및 그로부터 제조된 딥 성형품 |
PCT/KR2022/013397 WO2023043115A1 (ko) | 2021-09-15 | 2022-09-06 | 라텍스 중합용 조성물, 딥 성형용 라텍스 및 그로부터 제조된 딥 성형품 |
CN202280057988.8A CN117980361A (zh) | 2021-09-15 | 2022-09-06 | 胶乳聚合用组合物、浸渍成型用胶乳及由其制造的浸渍成型品 |
JP2024513954A JP2024533169A (ja) | 2021-09-15 | 2022-09-06 | ラテックス重合用組成物、ディップ成形用ラテックス及びそれから製造されたディップ成形品 |
TW111134080A TW202317653A (zh) | 2021-09-15 | 2022-09-08 | 乳膠聚合用組合物、浸漬成型用乳膠及由其製造的浸漬成型品 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020210122925A KR102615579B1 (ko) | 2021-09-15 | 2021-09-15 | 라텍스 중합용 조성물, 딥 성형용 라텍스 및 그로부터 제조된 딥 성형품 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20230039948A true KR20230039948A (ko) | 2023-03-22 |
KR102615579B1 KR102615579B1 (ko) | 2023-12-20 |
Family
ID=85603152
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020210122925A KR102615579B1 (ko) | 2021-09-15 | 2021-09-15 | 라텍스 중합용 조성물, 딥 성형용 라텍스 및 그로부터 제조된 딥 성형품 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2024533169A (ko) |
KR (1) | KR102615579B1 (ko) |
CN (1) | CN117980361A (ko) |
TW (1) | TW202317653A (ko) |
WO (1) | WO2023043115A1 (ko) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100214291B1 (ko) * | 1996-04-03 | 1999-08-02 | 성재갑 | 니트릴 고무 라텍스 조성물 |
KR20020039855A (ko) * | 2000-11-22 | 2002-05-30 | 성재갑 | 안정성이 우수한 고무라텍스의 제조방법 |
US6458883B1 (en) * | 1999-01-14 | 2002-10-01 | Jsr Corporation | Conductive rubber composition and manufacturing method and conductive rubber member thereof |
KR20210041478A (ko) * | 2019-10-07 | 2021-04-15 | 주식회사 엘지화학 | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스의 제조방법 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6696433B2 (ja) * | 2014-12-25 | 2020-05-20 | 日本ゼオン株式会社 | ディップ成形用ラテックス組成物及びディップ成形品 |
KR102287668B1 (ko) * | 2020-02-17 | 2021-08-10 | 금호석유화학 주식회사 | 딥 성형용 라텍스 조성물 및 그를 포함하는 딥 성형품 |
-
2021
- 2021-09-15 KR KR1020210122925A patent/KR102615579B1/ko active IP Right Grant
-
2022
- 2022-09-06 WO PCT/KR2022/013397 patent/WO2023043115A1/ko active Application Filing
- 2022-09-06 JP JP2024513954A patent/JP2024533169A/ja active Pending
- 2022-09-06 CN CN202280057988.8A patent/CN117980361A/zh active Pending
- 2022-09-08 TW TW111134080A patent/TW202317653A/zh unknown
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100214291B1 (ko) * | 1996-04-03 | 1999-08-02 | 성재갑 | 니트릴 고무 라텍스 조성물 |
US6458883B1 (en) * | 1999-01-14 | 2002-10-01 | Jsr Corporation | Conductive rubber composition and manufacturing method and conductive rubber member thereof |
KR20020039855A (ko) * | 2000-11-22 | 2002-05-30 | 성재갑 | 안정성이 우수한 고무라텍스의 제조방법 |
KR20210041478A (ko) * | 2019-10-07 | 2021-04-15 | 주식회사 엘지화학 | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스의 제조방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2023043115A1 (ko) | 2023-03-23 |
TW202317653A (zh) | 2023-05-01 |
CN117980361A (zh) | 2024-05-03 |
JP2024533169A (ja) | 2024-09-12 |
KR102615579B1 (ko) | 2023-12-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101811343B1 (ko) | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물 | |
KR101775798B1 (ko) | 딥 성형용 라텍스 조성물 및 이로부터 제조된 딥 성형품 | |
EP3412718B1 (en) | Latex composition for dip molding, and molded product manufactured therefrom | |
EP3763787A1 (en) | Carbonic acid-modified nitrile-based copolymer latex composition, production method therefor, latex composition containing same for dip molding, and molded product molded therefrom | |
KR102601327B1 (ko) | 딥 성형용 라텍스 조성물, 이의 제조방법 및 이로부터 성형된 성형품 | |
KR20180027762A (ko) | 딥 성형용 라텍스 조성물 및 이로부터 제조된 성형품 | |
KR20130085015A (ko) | 딥 성형용 라텍스 조성물 | |
KR20170060254A (ko) | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스, 이의 제조방법, 이를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물, 및 딥 성형품 | |
US11708441B2 (en) | Latex composition for dip molding and dip-molded article including the same | |
US10669406B2 (en) | Latex composition for dip molding and molded article manufactured therefrom | |
EP3936564B1 (en) | Carbonic acid modified nitrile-based copolymer latex, latex composition comprising same for dip molding, and molded article molded therefrom | |
KR101573980B1 (ko) | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물 및 딥 성형용 조성물 | |
KR101779295B1 (ko) | 딥 성형용 라텍스 조성물 및 이로부터 제조된 딥 성형품 | |
CN111788262B (zh) | 羧酸改性的腈类共聚物胶乳组合物、包含它的用于浸渍模塑的胶乳组合物和它的模制品 | |
KR20230039948A (ko) | 라텍스 중합용 조성물, 딥 성형용 라텍스 및 그로부터 제조된 딥 성형품 | |
KR20170062730A (ko) | 딥 성형용 라텍스 조성물 및 이로부터 제조된 성형품 | |
KR20240138858A (ko) | 내구성이 우수한 라텍스 중합용 조성물, 딥 성형용 라텍스 및 그로부터 제조된 딥 성형품 | |
KR101964278B1 (ko) | 딥 성형용 라텍스 조성물 및 이로부터 제조된 딥 성형품 | |
GB2625221A (en) | Composition for latex polymerization, latex for dip molding, and dip molded products manufactured therefrom | |
WO2024191072A1 (ko) | 내구성이 우수한 라텍스 중합용 조성물, 딥 성형용 라텍스 및 그로부터 제조된 딥 성형품 | |
KR102251967B1 (ko) | 딥 성형용 라텍스 조성물, 그 제조방법 및 그로부터 제조된 딥 성형품 | |
KR102400994B1 (ko) | 저장 안정성이 우수한 딥 성형용 라텍스 조성물, 그 제조방법 및 그로부터 제조된 딥 성형품 | |
CN116217840A (zh) | 低克重高强度医疗手套用丁腈胶乳及其制备方法 | |
KR20240093024A (ko) | 딥 성형용 라텍스 조성물, 그 제조방법 및 그로부터 제조된 딥 성형품 | |
KR20240041011A (ko) | 딥 성형용 라텍스 조성물 및 그로부터 제조된 딥 성형품 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right |