KR20230025563A - 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 - Google Patents

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 Download PDF

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KR20230025563A
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safety
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이상민
정우진
김기봉
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세메스 주식회사
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Abstract

본 발명의 실시예는 처리 공간을 제공하는 챔버와; 상기 챔버에 처리 유체를 공급하는 유체 공급 유닛을 포함하고, 상기 유체 공급 유닛은, 상기 처리 유체가 저장되는 공급 탱크와; 상기 공급 탱크와 상기 챔버를 연결하는 공급 라인과; 상기 공급 라인 상에 설치되는 복수의 밸브를 포함하고, 상기 복수의 밸브 중 어느 하나의 밸브는 안전 밸브로 제공되고, 상기 안전 밸브는 상기 탱크에서 상기 챔버로 상기 처리 유체를 공급할 때 상기 챔버가 닫힘 상태로 전환된 것을 확인 후 개방되는 기판 처리 장치에 관한 것이다.

Description

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법{SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND SUBSTRATE TREATING METHOD}
본 발명의 실시예는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것이다.
반도체 소자를 제조하기 위해서, 기판에 사진, 식각, 애싱, 이온주입, 그리고 박막 증착등의 다양한 공정들을 통해 원하는 패턴을 기판에 형성한다. 각각의 공정에는 다양한 처리액들이 사용되며, 공정 진행 중에는 오염물 및 파티클이 생성된다. 이를 제거하기 위해 각각의 공정 전후에는 오염물 및 파티클을 세정 처리하기 위한 세정 공정이 필수적으로 수행된다.
일반적으로 세정 공정은 기판을 케미칼 및 린스액으로 처리한 후에 건조 처리한다. 건조 처리 단계는 기판 상에 잔류된 린스액을 건조하기 위한 공정으로, 이소프로필알코올(IPA)과 같이 표면 장력이 린스액보다 낮은 유기 용제로 기판 상의 린스액을 치환하고, 이후에 유기 용제를 제거한다. 그러나 기판에 형성된 패턴과 패턴과의 거리(CD: Critical Dimension)가 미세화됨에 따라, 그 패턴들의 사이 공간에 잔류하는 유기 용제의 제거가 용이하지 않다.
최근에는 초임계 유체를 이용하여 기판 상에 잔류된 유기 용제를 제거하는 공정을 수행한다. 초임계 처리 공정은 초임계 유체의 특정 조건을 만족하기 위해 고압 장치가 사용된다. 고압 장치는 고압의 유체를 저장하는 탱크와, 탱크의 저장된 고압의 유체를 공정 챔버로 이송하는 경로를 제공하는 고압 배관을 포함한다. 고압 배관에는 복수의 밸브가 설치되며, 하나의 제어기로 고압 배관에 설치된 복수의 밸브를 제어한다. 그러나, 하나의 제어기로 복수의 밸브를 제어할 경우, 공정 챔버가 닫히지 않은 상태에서도 고압의 유체가 공급되는 위험 상황이 발생될 수 있다. 또한, 제어기 오류 또는 장치에 전원 공급 차단 등의 비정상적인 상황에서는 밸브를 제어할 수 없어 고압 탱크로부터 고압 유체가 공정 챔버로 유출되거나, 고압 탱크 내부의 압력이 설계 압력 이상으로 높아져 탱크가 터지는 문제가 발생될 수 있다.
본 발명의 실시예는 고압 분위기에서 기판의 처리가 수행되는 챔버의 안전성을 확보할 수 있는 기판 처리 장치 및 방법을 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 실시예는 기판을 처리하는 장치를 개시한다. 기판 처리 장치는 처리 공간을 제공하는 챔버와; 상기 챔버에 처리 유체를 공급하는 유체 공급 유닛을 포함하고, 상기 유체 공급 유닛은, 상기 처리 유체가 저장되는 공급 탱크와; 상기 공급 탱크와 상기 챔버를 연결하는 공급 라인과; 상기 공급 라인 상에 설치되는 복수의 밸브를 포함하고, 상기 복수의 밸브 중 어느 하나의 밸브는 안전 밸브로 제공되고, 상기 안전 밸브는 상기 탱크에서 상기 챔버로 상기 처리 유체를 공급할 때 상기 챔버가 닫힘 상태로 전환된 것을 확인 후 개방된다.
상기 안전 밸브는 상기 복수의 밸브 중 상기 공급 탱크에 가장 인접한 위치에 제공될 수 있다.
상기 안전 밸브와, 상기 복수의 밸브 중 상기 안전 밸브를 제외한 나머지 밸브는 서로 다른 제어 모듈로 제어될 수 있다.
상기 안전 밸브는 제1제어 모듈로 제어되고, 상기 복수의 밸브 중 상기 안전 밸브를 제외한 나머지 밸브는 제2제어 모듈로 제어되고, 상기 제1제어 모듈은, 상기 안전 밸브의 개폐 여부를 제어하는 제1제어기와; 상기 제1제어기의 작동 여부를 제어하는 안전 제어기를 포함하고, 상기 안전 제어기는 상기 제1제어기에 공급되는 전원을 제어하여 상기 제1제어기를 제어될 수 있다.
상기 제1제어 모듈은, 상기 안전 제어기의 전원 공급 신호를 받아 작동되며, 상기 안전 제어기로부터 공급되는 전원을 상기 제1제어기로 전달하는 릴레이를 더 포함할 수 있다.
상기 유체 공급 유닛은 상기 복수의 밸브를 제어하는 통합 제어기를 더 포함하고, 상기 제1제어기는, 상기 통합 제어기의 개방 신호 및 상기 안전 제어기의 개방 신호를 받아 상기 안전 밸브가 열리도록 상기 안전 밸브를 제어할 수 있다.
상기 안전 밸브는 솔레노이드 밸브(Solenoid Valve)로 제공될 수 있다.
상기 안전 밸브는 N/C 밸브(Normal Close valve)로 제공될 수 있다.
상기 공급 탱크는 고압 탱크로 제공되고, 상기 챔버는 고압 챔버로 제공될 수 있다.
본 발명의 실시예는 기판을 처리하는 장치를 개시한다. 기판 처리 장치는 처리 공간을 제공하는 챔버와; 상기 챔버에 처리 유체를 공급하는 유체 공급 유닛을 포함하고, 상기 유체 공급 유닛은, 상기 처리 유체가 저장되는 공급 탱크와; 상기 공급 탱크와 상기 챔버를 연결하는 공급 라인과; 상기 공급 라인 상에 설치되는 복수의 밸브와; 상기 복수의 밸브를 제어하는 제어 모듈을 포함하고, 상기 복수의 밸브 중 상기 챔버에 가장 인접한 위치에 제공되는 안전 밸브는 다른 밸브와 다른 제어 모듈로 제어된다.
상기 안전 밸브는 상기 탱크에서 상기 챔버로 상기 처리 유체를 공급할 때 상기 챔버가 닫힘 상태로 전환된 것을 확인 후 상기 처리 공급하도록 제어될 수 있다.
상기 안전 밸브는 제1제어 모듈로 제어되고, 상기 복수의 밸브 중 상기 안전 밸브를 제외한 나머지 밸브는 제2제어 모듈로 제어되고, 상기 제1제어 모듈은, 상기 안전 밸브의 개폐 여부를 제어하는 제1제어기와; 상기 제1제어기의 작동 여부를 제어하는 안전 제어기와; 상기 안전 제어기의 상기 신호를 받아 작동되며, 상기 안전 제어기로부터 공급되는 전원을 상기 제1제어기로 전달하는 릴레이를 포함하고, 상기 안전 제어기는 상기 제1제어기에 공급되는 전원을 제어하여 상기 제1제어기를 제어할 수 있다.
상기 안전 밸브는 N/C 밸브(Normal Close valve)로 제공될 수 있다.
본 발명의 실시예는 기판을 처리하는 방법을 개시한다. 기판 처리 방법은 상기 기판이 처리되는 챔버의 처리 공간으로 처리 유체를 공급하여 상기 기판을 처리하되, 상기 처리 유체의 공급은 상기 처리 유체가 저장되는 탱크와 상기 챔버를 연결하는 공급 라인 상의 설치되는 복수의 밸브를 제어하여 이루어지고, 상기 복수의 밸브 중 상기 탱크에 가장 인접하게 제공되는 밸브는 안전 밸브로 제공되되, 상기 안전 밸브는 상기 챔버가 닫힘 상태로 전환된 것을 확인한 후에 개방된다.
상기 안전 밸브는 제1제어기로 제어되고, 상기 복수의 밸브 중 상기 안전 밸브를 제외한 나머지 밸브는 제2제어기로 제어될 수 있다.
상기 제1제어기는 안전 제어기에 의해 제어되며, 상기 안전 제어기는 제1제어기에 공급되는 전원을 제어할 수 있다.
상기 안전 밸브는, 상기 복수의 밸브를 제어하는 통합 제어기의 개방 신호 및 상기 제1제어기의 개방 신호를 모두 수신한 경우에 개방될 수 있다.
상기 안전 밸브는 솔레노이드 밸브(Solenoid Valve)로 제공될 수 있다.
상기 안전 밸브는 N/C 밸브(Normal Close Valve)로 제공될 수 있다.
상기 챔버는 고압 챔버로 제공될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 고압 분위기에서 기판의 처리가 수행되는 챔버의 안전성을 확보할 수 있는 기판 처리 장치 및 방법을 제공할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 고압의 처리 유체가 저장되는 탱크에서 챔버로 처리 유체 공급시 챔버가 닫힘 상태로 전환된 것을 확인 후 처리 유체를 공급하는 것을 통해, 장치의 안정성을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 탱크와 가장 인접한 위치에 제공되는 밸브를 제어하는 제어기를 단독으로 구성함으로써 장치의 안정성을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 탱크와 가장 인접한 위치에 제공되는 밸브를 제어하는 제어기를 전원 공급을 제어 수단으로 제어함으로써 장치의 안정성을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 전원 공급 차단 상태에서도 탱크의 압력이 누출되지 않아 장치의 안정성을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 탱크와 가장 인접한 위치에 제공되는 밸브를 제어하는 제어기를 단독으로 구성함으로써 장치의 안정성을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 효과가 상술한 효과들로 제한되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 2는 도 1의 액 처리 챔버의 단면도이다.
도 3은 도 1의 건조 처리 챔버의 단면도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 건조 처리 장치를 도시한 도면이다.
도 5는 도 4의 건조 처리 장치의 안전 밸브가 개방될 때의 제어 흐름 도시한 도면이다.
도 6은 도 4의 건조 처리 장치의 안전 밸브가 개방되지 않을 때의 제어 흐름을 도시한 도면이다.
아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 한정되지 않는다. 또한, 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 도면 전체에 걸쳐 동일한 부호를 사용한다.
어떤 구성요소를 '포함한다'는 것은, 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다. 구체적으로, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 또한 도면에서 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.
용어 "및/또는"은 해당 열거된 항목 중 어느 하나 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다. 또한, 본 명세서에서 "연결된다"라는 의미는 A 부재와 B 부재가 직접 연결되는 경우뿐만 아니라, A 부재와 B 부재의 사이에 C 부재가 개재되어 A 부재와 B 부재가 간접 연결되는 경우도 의미한다.
본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.
본 실시예의 장치는 원형 기판에 대해 사진 공정을 수행하는 데 사용될 수 있다. 특히 본 실시예의 장치는 노광장치에 연결되어 기판에 대해 도포 공정 및 현상 공정을 수행하는 데 사용될 수 있다. 그러나 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않고, 기판을 회전시키면서 기판에 처리액을 공급하는 다양한 종류의 공정에 사용될 수 있다. 아래에서는 기판으로 웨이퍼가 사용된 경우를 예로 들어 설명한다.
이하에서는, 도 1 내지 도 6을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 평면도이다. 도 1을 참조하면, 기판 처리 시스템은 인덱스 모듈(10), 처리 모듈(20), 그리고 제어기(미도시)를 포함한다. 일 실시예에 의하면, 인덱스 모듈(10)과 처리 모듈(20)은 일방향을 따라 배치된다. 이하, 인덱스 모듈(10)과 처리 모듈(20)이 배치된 방향을 제1방향(92)이라 하고, 상부에서 바라볼 때 제1방향(92)과 수직한 방향을 제2방향(94)이라 하고, 제1방향(92) 및 제2방향(94)에 모두 수직한 방향을 제3방향(96)이라 한다.
인덱스 모듈(10)은 기판(W)이 수납된 용기(80)로부터 기판(W)을 처리 모듈(20)로 반송하고, 처리 모듈(20)에서 처리가 완료된 기판(W)을 용기(80)로 수납한다. 인덱스 모듈(10)의 길이 방향은 제2방향(94)으로 제공된다. 인덱스 모듈(10)은 로드포트(12, loadport)와 인덱스 프레임(14)을 가진다. 인덱스 프레임(14)을 기준으로 로드포트(12)는 처리 모듈(20)의 반대 측에 위치된다. 기판(W)들이 수납된 용기(80)는 로드포트(12)에 놓인다. 로드포트(12)는 복수 개가 제공될 수 있으며, 복수의 로드포트(12)는 제2방향(94)을 따라 배치될 수 있다.
용기(80)로는 전면 개방 일체 식 포드(Front Open Unified Pod:FOUP)와 같은 밀폐용 용기가 사용될 수 있다. 용기(80)는 오버헤드 트랜스퍼(Overhead Transfer), 오버헤드 컨베이어(Overhead Conveyor), 또는 자동 안내 차량(Automatic Guided Vehicle)과 같은 이송 수단(도시되지 않음)이나 작업자에 의해 로드포트(12)에 놓일 수 있다.
인덱스 프레임(14)에는 인덱스 로봇(120)이 제공된다. 인덱스 프레임(14) 내에는 길이 방향이 제2방향(94)으로 제공된 가이드 레일(140)이 제공되고, 인덱스 로봇(120)은 가이드 레일(140) 상에서 이동 가능하게 제공될 수 있다. 인덱스 로봇(120)은 기판(W)이 놓이는 핸드(122)를 포함하며, 핸드(122)는 전진 및 후진 이동, 제3방향(96)을 축으로 한 회전, 그리고 제3방향(96)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다. 핸드(122)는 복수 개가 상하 방향으로 이격되게 제공되고, 핸드(122)들은 서로 독립적으로 전진 및 후진 이동할 수 있다.
처리 모듈(20)은 버퍼 유닛(200), 반송 장치(300), 액 처리 장치(400), 그리고 초임계 장치(500)를 포함한다. 버퍼 유닛(200)은 처리 모듈(20)로 반입되는 기판(W)과 처리 모듈(20)로부터 반출되는 기판(W)이 일시적으로 머무르는 공간을 제공한다. 액 처리 장치(400)는 기판(W) 상에 액을 공급하여 기판(W)을 액 처리하는 액 처리 공정을 수행한다. 초임계 장치(500)는 기판(W) 상에 잔류하는 액을 제거하는 건조 공정을 수행한다. 반송 장치(300)는 버퍼 유닛(200), 액 처리 장치(400), 그리고 초임계 장치(500) 간에 기판(W)을 반송한다.
반송 장치(300)는 그 길이 방향이 제1방향(92)으로 제공될 수 있다. 버퍼 유닛(200)은 인덱스 모듈(10)과 반송 장치(300) 사이에 배치될 수 있다. 액 처리 장치(400)와 초임계 장치(500)는 반송 장치(300)의 측부에 배치될 수 있다. 액 처리 장치(400)와 반송 장치(300)는 제2방향(94)을 따라 배치될 수 있다. 초임계 장치(500)와 반송 장치(300)는 제2방향(94)을 따라 배치될 수 있다. 버퍼 유닛(200)은 반송 장치(300)의 일단에 위치될 수 있다.
일 예에 의하면, 액 처리 장치(400)들은 반송 장치(300)의 양측에 배치되고, 초임계 장치(500)들은 반송 장치(300)의 양측에 배치되며, 액 처리 장치(400)들은 초임계 장치(500)들보다 버퍼 유닛(200)에 더 가까운 위치에 배치될 수 있다. 반송 장치(300)의 일측에서 액 처리 장치(400)들은 제1방향(92) 및 제3방향(96)을 따라 각각 A X B(A, B는 각각 1 또는 1보다 큰 자연수) 배열로 제공될 수 있다. 또한, 반송 장치(300)의 일측에서 초임계 장치(500)들은 제1방향(92) 및 제3방향(96)을 따라 각각 C X D(C, D는 각각 1 또는 1보다 큰 자연수)개가 제공될 수 있다. 상술한 바와 달리, 반송 장치(300)의 일측에는 액 처리 장치(400)들만 제공되고, 그 타측에는 초임계 장치(500)들만 제공될 수 있다.
반송 장치(300)는 반송 로봇(320)을 가진다. 반송 장치(300) 내에는 길이 방향이 제1방향(92)으로 제공된 가이드 레일(340)이 제공되고, 반송 로봇(320)은 가이드 레일(340) 상에서 이동 가능하게 제공될 수 있다. 반송 로봇(320)은 기판(W)이 놓이는 핸드(322)를 포함하며, 핸드(322)는 전진 및 후진 이동, 제3방향(96)을 축으로 한 회전, 그리고 제3방향(96)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다. 핸드(322)는 복수 개가 상하 방향으로 이격되게 제공되고, 핸드(322)들은 서로 독립적으로 전진 및 후진 이동할 수 있다.
버퍼 유닛(200)은 기판(W)이 놓이는 버퍼(220)를 복수 개 구비한다. 버퍼(220)들은 제3방향(96)을 따라 서로 간에 이격되도록 배치될 수 있다. 버퍼 유닛(200)은 전면(front face)과 후면(rear face)이 개방된다. 전면은 인덱스 모듈(10)과 마주보는 면이고, 후면은 반송 장치(300)와 마주보는 면이다. 인덱스 로봇(120)은 전면을 통해 버퍼 유닛(200)에 접근하고, 반송 로봇(320)은 후면을 통해 버퍼 유닛(200)에 접근할 수 있다.
도 2는 도 1의 액 처리 챔버의 단면도이다. 도 2를 참조하면, 액 처리 장치(400)는 하우징(410), 컵(420), 지지 유닛(440), 액 공급 유닛(460), 승강 유닛(480) 및 제어기(40)를 가진다. 제어기(40)는 액 공급 유닛(460), 지지 유닛(440) 및 승강 유닛(480)의 동작을 제어한다. 하우징(410)은 대체로 직육면체 형상으로 제공된다. 컵(420), 지지 유닛(440), 그리고 액 공급 유닛(460)은 하우징(410) 내에 배치된다.
컵(420)은 상부가 개방된 처리공간을 가지고, 기판(W)은 처리공간 내에서 액 처리된다. 지지 유닛(440)은 처리공간 내에서 기판(W)을 지지한다. 액 공급 유닛(460)은 지지 유닛(440)에 지지된 기판(W) 상으로 액을 공급한다. 액은 복수 종류로 제공되고, 기판(W) 상으로 순차적으로 공급될 수 있다. 승강 유닛(480)은 컵(420)과 지지 유닛(440) 간의 상대 높이를 조절한다.
일 예에 의하면, 컵(420)은 복수의 회수통(422, 424, 426)을 가진다. 회수통들(422, 424, 426)은 각각 기판 처리에 사용된 액을 회수하는 회수 공간을 가진다. 각각의 회수통들(422, 424, 426)은 지지 유닛(440)을 감싸는 링 형상으로 제공된다. 액 처리 공정이 진행시 기판(W)의 회전에 의해 비산되는 전 처리액은 각 회수통(422, 424, 426)의 유입구(422a, 424a, 426a)를 통해 회수 공간으로 유입된다. 일 예에 의하면, 컵(420)은 제1회수통(422), 제2회수통(424), 그리고 제3회수통(426)을 가진다. 제1회수통(422)은 지지 유닛(440)을 감싸도록 배치되고, 제2회수통(424)은 제1회수통(422)을 감싸도록 배치되고, 제3회수통(426)은 제2회수통(424)을 감싸도록 배치된다. 제2회수통(424)으로 액을 유입하는 제2유입구(424a)는 제1회수통(422)으로 액을 유입하는 제1유입구(422a)보다 상부에 위치되고, 제3회수통(426)으로 액을 유입하는 제3유입구(426a)는 제2유입구(424a)보다 상부에 위치될 수 있다.
지지 유닛(440)은 지지판(442)과 구동축(444)을 가진다. 지지판(442)의 상면은 대체로 원형으로 제공되고 기판(W)보다 큰 직경을 가질 수 있다. 지지판(442)의 중앙부에는 기판(W)의 후면을 지지하는 지지핀(442a)이 제공되고, 지지핀(442a)은 기판(W)이 지지판(442)으로부터 일정 거리 이격되도록 그 상단이 지지판(442)으로부터 돌출되게 제공된다. 지지판(442)의 가장자리부에는 척핀(442b)이 제공된다.
척핀(442b)은 지지판(442)으로부터 상부로 돌출되게 제공되며, 기판(W)이 회전될 때 기판(W)이 지지 유닛(440)으로부터 이탈되지 않도록 기판(W)의 측부를 지지한다. 구동축(444)은 구동부재(446)에 의해 구동되며, 기판(W)의 저면 중앙과 연결되며, 지지판(442)을 그 중심축을 기준으로 회전시킨다.
일 예에 의하면, 액 공급 유닛(460)은 제1노즐(462), 제2노즐(464), 그리고 제3노즐(466)을 가진다. 제1노즐(462)은 제1액을 기판(W) 상으로 공급한다. 제1액은 기판(W) 상에 잔존하는 막이나 이물을 제거하는 액일 수 있다. 제2노즐(464)은 제2액을 기판(W) 상으로 공급한다. 제2액은 제3액에 잘 용해되는 액일 수 있다. 예컨대, 제2액은 제1액에 비해 제3액에 더 잘 용해되는 액일 수 있다. 제2액은 기판(W) 상에 공급된 제1액을 중화시키는 액일 수 있다. 또한, 제2액은 제1액을 중화시키고 동시에 제1액에 비해 제3액에 잘 용해되는 액일 수 있다.
일 예에 의하면, 제2액은 물일 수 있다. 제3노즐(466)은 제3액을 기판(W) 상으로 공급한다. 제3액은 초임계 장치(500)에서 사용되는 초임계 유체에 잘 용해되는 액일 수 있다. 예컨대, 제3액은 제2액에 비해 초임계 장치(500)에서 사용되는 초임계 유체에 잘 용해되는 액일 수 있다. 일 예에 의하면, 제3액은 유기용제일 수 있다. 유기용제는 이소프로필알코올(IPA)일 수 있다. 일 예에 의하면, 초임계 유체는 이산화탄소일 수 있다.
제1노즐(462), 제2노즐(464), 그리고 제3노즐(466)은 서로 상이한 아암(461)에 지지되고, 이들 아암(461)들은 독립적으로 이동될 수 있다. 선택적으로 제1노즐(462), 제2노즐(464), 그리고 제3노즐(466)은 동일한 아암에 장착되어 동시에 이동될 수 있다.
승강 유닛(480)은 컵(420)을 상하 방향으로 이동시킨다. 컵(420)의 상하 이동에 의해 컵(420)과 기판(W) 간의 상대 높이가 변경된다. 이에 의해 기판(W)에 공급되는 액의 종류에 따라 전 처리액을 회수하는 회수통(422, 424, 426)이 변경되므로, 액들을 분리 회수할 수 있다. 상술한 바와 달리, 컵(420)은 고정 설치되고, 승강 유닛(480)은 지지 유닛(440)을 상하 방향으로 이동시킬 수 있다.
제어기(1800)는 기판 처리 장치(10)의 전체 동작을 제어할 수 있다. 제어기(1800)은 기판 처리 장치(10)의 각 구성을 제어할 수 있다. 제어기(1800)는 CPU(Central Processing Unit), ROM(Read Only Memory) 및 RAM(Random Access Memory)을 포함할 수 있다. CPU는 이들의 기억 영역에 저장된 각종 레시피에 따라 원하는 처리를 실행한다. 레시피에는 프로세스 조건에 대한 장치의 제어 정보인 프로세스 시간, 프로세스 압력, 프로레스 온도, 각종 가스 유량 등이 입력되어 있다. 한편, 이들 프로그램이나 처 조건을 나타내는 레시피는, 하드 디스크나 반도체 메모리에 기억되어도 좋다. 또한, 레시피는 CD-ROM, DVD 등의 가반성(可搬性)의 컴퓨터에 의해 판독 가능한 기억 매체에 수용된 상태로 기억 영역의 소정 위치에 세트하도록 해도 좋다.
도 3은 도 1의 건조 처리 챔버의 단면도이고. 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 건조 처리 장치를 도시한 도면이다. 일 실시예에 의하면, 건조 처리 장치(500)는 초임계 유체를 이용하여 기판(W) 상의 액을 제거한다. 일 실시예에 따르면, 기판(W) 상의 액은 이소프로필 알코올(IPA)이다. 건조 처리 장치(500)는 초임계 유체를 기판 상에 공급하여 기판(W) 상의 IPA를 초임계 유체에 용해시켜 기판(W)으로부터 IPA를 제거한다.
도 4를 참조하면, 건조 처리 장치(500)는 공정 챔버(520), 유체 공급 라인(540), 지지 유닛(580), 구동부재(590) 그리고 배기 유닛(550)을 포함한다.
도 3을 참조하면, 공정 챔버(520)는 초임계 공정이 수행되는 처리 공간(502)을 제공한다. 일 예에서, 공정 챔버(520)는 원통 형상으로 제공될 수 있다. 또는, 이와는 달리 직육면체 형상으로 제공될 수 있다. 공정 챔버(520)는 제1바디(522)와 제2바디(524)를 가진다. 제1바디(522)와 제2바디(524)는 서로 조합되어 상술한 처리 공간(502)을 제공한다. 일 예에서, 제1바디(522)는 상부에서 바라볼 때, 원형의 형상으로 제공된다. 마찬가지로, 제2바디(524)는 상부에서 바라볼 때, 원형의 형상으로 제공된다. 일 예에서, 제1바디(522)는 제2바디(524)의 상부에 제공된다. 선택적으로, 제1바디(522)와 제2바디(524)는 동일한 높이에 제공될 수 있고, 제1바디(522)와 제2바디(524)는 좌우로 개폐될 수 있다.
제1바디(522)가 제2바디(524)으로부터 이격되면 처리 공간(502)이 개방되고, 이 때 기판(W)이 반입 또는 반출된다. 구동부재(590)는 공정 챔버(520)가 개방 위치 또는 닫힘 위치로 이동되도록 제1바디(522) 및 제2바디(524) 중 어느 하나를 승하강시킨다. 공정 진행 시에는 제1바디(522)와 제2바디(524)가 밀착되어 처리 공간(502)이 외부로부터 밀폐된다.
일 예에서, 구동부재(590)는 제1바디(522) 또는 제2바디(524)를 승하강시키는 실린더(미도시)를 구동하도록 제공될 수 있다. 예컨대, 구동부재(590)은 제2바디(524)를 승하강 시키도록 제공될 수 있다. 여기서 개방 위치는 제1바디(522) 및 제2바디(524)가 서로 이격되는 위치이고, 닫힘 위치는 서로 마주하는 제1바디(522) 및 제2바디(524)의 밀착면이 서로 밀착되는 위치이다. 즉 개방 위치에서 처리 공간(502)은 외부로부터 개방되고, 닫힘 위치에서 처리 공간(502)이 닫혀진다.
일 예에서, 제1바디(522)에는 제1 공급 라인(542)이 연결되는 제1 토출홀(525)이 형성될 수 있다. 제1 토출홀(525)을 통해 처리 공간(502)로 유체가 공급될 수 있다. 일 예에서, 제2바디(524)에는 제2 공급 라인(562)이 연결되는 제2 토출홀(526)과, 배기 라인(552)이 연결되는 배기홀(527)이 형성될 수 있다. 선택적으로, 공정 챔버(520)에는 제1 토출홀(525)와 제2 토출홀(526) 중 어느 하나만이 제공될 수 있다. 일 예에서, 공정 챔버(520)의 벽 내부에는 히터(570)가 제공된다. 히터(570)는 공정 챔버(520)의 내부공간 내로 공급된 유체가 초임계 상태를 유지하도록 공정 챔버(520)의 처리 공간(502)을 가열한다. 처리 공간(502)의 내부는 초임계 유체에 의한 분위기가 형성된다.
지지 유닛(580)은 공정 챔버(520)의 처리 공간(502) 내에서 기판(W)을 지지한다. 공정 챔버(520)의 처리 공간(502)으로 반입된 기판(W)은 지지 유닛(580)에 놓인다. 일 예에 의하면, 기판(W)은 패턴면이 상부를 향하도록 지지 유닛(580)에 의해 지지된다. 일 예에서, 지지 유닛(580)은 제2 토출홀(526)보다 상부에서 기판(W)을 지지한다. 일 예에서, 지지 유닛(580)은 제1바디(522)에 결합될 수 있다. 선택적으로, 지지 유닛(580)은 제2바디(524)에 결합될 수 있다.
또한, 제2바디(524)에는 배기 유닛(550)이 결합된다. 공정 챔버(520)의 처리 공간(502) 내의 초임계 유체는 배기 유닛(550)을 통해서 공정 챔버(520)의 외부로 배기된다. 배기 유닛(550)은, 배기 라인(552) 그리고 배기 밸브(5521)를 포함한다. 배기 밸브(5521)는, 배기 라인(552)에 설치되어 처리 공간(502)의 배기 여부와 배기 유량을 조절한다.
다시 도 4를 참조하면, 유체 공급 유닛(600)은 공급 탱크(620), 공급 라인(640), 제어 모듈을 포함한다. 유체 공급 유닛(600)은 챔버(520)의 처리 공간(502)으로 처리 유체를 공급한다.
공급 탱크(620)에는 챔버(520)로 공급할 처리 유체가 저장된다. 처리 유체는 초임계 상태의 유체일 수 있다. 예를 들어, 처리 유체는 압력 100~200 bar, 온도 50~90℃의 상태의 이산화탄소일 수 있다. 공급 탱크(620)에 저장된 처리 유체는 공급 라인(640)을 통해 챔버(520)의 처리 공간(502)로 공급된다.
공급 라인(640)은 공급 탱크(620)과 챔버(520)을 연결한다. 공급 라인(640)은 제1공급 라인(642)과, 제2공급 라인(644)를 포함한다. 제1공급 라인(642)은 공급 탱크(620)과 챔버(520)의 제1바디(522)를 연결한다. 제1공급 라인(642)의 일단은 공급 탱크(620)에 연결되고, 타단은 제1바디(522)의 제1토출홀(525)에 연결된다. 따라서, 제1공급 라인(642)을 흐르는 처리 유체는 제1토출홀(525)을 통해 처리 공간(502)로 공급된다. 제2공급 라인(644)은 제1공급 라인(644)로부터 분기된다. 제2공급 라인(644)의 일단은 제1공급 라인(644)과 연결되고, 타단은 챔버(520)의 제2바디(524)의 제2토출홀(526)에 연결된다. 따라서, 제2공급 라인(644)을 흐르는 처리 유체는 제2토출홀(526)을 통해 처리 공간(502)로 공급된다. 처리 유체는 제1토출홀(525) 및 제2토출홀(526) 각각을 통해 처리 공간(502)으로 공급 가능하다.
유체 공급 유닛(600)은 공급 라인(640) 상에 제공되는 유량 조절 유닛(650)을 포함할 수 있다. 유량 조절 유닛(650)은 챔버(520)로 공급되는 처리 유체의 유량을 조절할 수 있다. 유량 조절 유닛(650)은 제1공급 라인(642) 상에 제공된다. 유량 조절 유닛(650)은 분기 라인(652)과, 복수의 밸브를 포함한다. 분기 라인(652)는 제1공급 라인(642) 상의 제1지점(P1)에서 분기되고, 제1공급 라인(642) 상의 제2지점(P2)에서 합류된다. 복수의 밸브는 제1밸브(6522)와 제2밸브(6524)를 포함할 수 있다. 제1밸브(6522)는 제1공급 라인(642) 상에 설치되며, 제1지점(P1)과 제2지점(P2) 사이에 제공된다. 제2밸브(6524)는 분기 라인(6524)에 제공된다. 제1밸브(6522)와 제2밸브(6524)는 유량 조절 밸브로 제공된다. 제1밸브(6522)와 제2밸브(6524)의 개방도는 서로 상이할 수 있다. 일 예로, 제1밸브(6522)의 개방도가 제2밸브(6524)의 개방도보다 크게 설정될 수 있다. 일 예로, 제1밸브(6522)가 개방되고 제2밸브(6524)가 폐쇄되었을 경우에 처리 공간(502)에 공급되는 처리 유체의 유량은 제1유량으로 호칭하고, 제1밸브(6522)가 폐쇄되고 제2밸브(6524)가 개방되었을 경우에 처리 공간(502)에 공급되는 처리 유체의 유량은 제2유량으로 호칭될 수 있다. 이때, 제1유량은 제2유량보다 클 수 있다. 챔버(520)에 공급되는 처리 유체의 공급량이 증가되어야 할 때에는 제1밸브(6522)만 개방되거나, 제1 및 제2밸브(6522, 6524)가 모두 개방되어 챔버(520)에 공급될 수 있다. 또한, 챔버(520)에 공급되는 처리 유체의 공급량이 감소되어야 할 경우에는 제1밸브(6522) 또는 제2밸브(6524)만 개방될 수 있다. 또한, 챔버(520)에 제1유량의 처리 유체가 공급되어야 할 경우에는 제1밸브(6522)는 개방되고 제2밸브(6524)는 폐쇄될 수 있다. 또한, 챔버(520)에 제2유량의 처리 유체가 공급되어야 할 경우에는 제1밸브(6522)는 폐쇄되고 제2밸브(6524)는 개방될 수 있다.
이상에서는, 유량 조절 유닛(650)인 하나의 분기 라인(6524)을 포함하므로, 제1밸브(6522)와 제2밸브(6524)에 의해 처리 유체의 유량이 조절되는 것으로 도시하고 설명하였으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 일 예로, 분기 라인(6524)는 복수의 분기 라인으로 제공될 수 있으며, 복수의 분기 라인 각각에는 유량 조절 밸브가 제공될 수 있다. 또한, 이상에서는 유량 조절 유닛(650)의 배관에 유량 조절 밸브가 설치되는 것으로 설명하였으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 일 예로, 제1지점(P1)과 제2지점(P2) 사이에는 개폐 밸브와 유량 조절 밸브가 모두 설치되고, 분기 라인(6524)에도 개폐 밸브가 유량 조절 밸브가 모두 설치될 수 있다. 이 경우, 개폐 밸브에 온(On), 오프(Off)에 의해 처리 유체의 흐름 경로가 설정될 수 있다.
제1공급 라인(642)에는 제1공급 밸브(6425)가 설치된다. 제1공급 밸브(6424)는 제1바디(522)의 제1토출홀(525)와 인접한 위치에 제공된다. 제1공급 밸브(6424)는 제1토출홀(525)을 통해 처리 공간(502)으로 처리 유체가 공급되는 것을 조절한다. 즉, 제1공급 밸브(6425)가 개방될 경우 처리 유체는 제1토출홀(525)를 통해 공급되고, 제1공급 밸브(6424)가 폐쇄될 경우 처리 유체는 처리 공간(502)으로 공급되지 못한다.
제2공급 라인(644)에는 제2공급 밸브(6444)가 설치된다. 제2공급 밸브(6444)는 제2바디(524)의 제2토출홀(526)와 인접한 위치에 제공된다. 제2공급 밸브(6444)는 제2토출홀(526)을 통해 처리 공간(502)으로 처리 유체가 공급되는 것을 조절한다. 즉, 제2공급 밸브(6444)가 개방될 경우 처리 유체는 제2토출홀(526)를 통해 공급되고, 제2공급 밸브(6444)가 폐쇄될 경우 처리 유체는 처리 공간(502)으로 공급되지 못한다.
공급 라인(640) 상에는 복수의 밸브가 설치될 수 있다. 일 예로, 복수의 밸브는 앞서 상술한 제1밸브(6522), 제2밸브(6524), 제1공급 밸브(6424), 제2공급 밸브(6444)와, 안전 밸브(6422)를 포함할 수 있다. 안전 밸브(6422)는 솔레노이드 밸브(Solenoid Valve)로 제공될 수 있다. 안전 밸브(6422)는 N/C 밸브(Normal Close valve)로 제공될 수 있다. 안전 밸브(6422)는 평상시에는 닫힘 상태를 유지하고, 제1제어기(662)에 의해 개방되도록 제어될 경우에만 오픈 된다. 이를 통해, 제어 모듈의 오류 또는 전원 공급 차단 등의 비정상적인 상황에서 탱크(620)로부터 고압의 처리 유체가 유출되는 것을 방지할 수 있다.
안전 밸브(6422)는 복수의 밸브 중 탱크(620)와 가장 인접한 위치에 제공된다. 안전 밸브(6422)는 탱크(620)에서 챔버(520)로 처리 유체를 공급할 때 챔버(520)가 닫힘 상태로 전환된 것을 확인 후 개방되도록 제어될 수 있다. 안전 밸브(6422)와, 복수의 밸브 중 안전 밸브(6422)를 제외한 나머지 밸브는 서로 다른 제어 모듈로 제어된다. 일 예로, 안전 밸브(6422)는 제1제어 모듈(660)로 제어되고, 복수의 밸브 중 안전 밸브(6422)를 제외한 나머지 밸브는 제2제어 모듈(670)로 제어된다.
제1제어 모듈(660)은 하드웨어 인터락(Hardware Interlock)으로 제공된다. 제1제어 모듈(660)은 고압의 처리 유체를 공급하는 안전 밸브(6422)를 기계적, 전기적으로 인터락을 구성하여 안정성을 향상시킬 수 있다. 제1제어 모듈(660)은 안전 밸브(6422)의 개폐 여부를 제어하는 제1제어기(662)와, 제1제어기(662)의 작동 여부를 제어하는 안전 제어기(666)와, 안전 제어기(666)의 전원 공급 신호를 받아 작동되며, 안전 제어기(666)로부터 공급되는 전원을 제1제어기(662)로 전달하는 릴레이(664)를 포함한다.
안전 밸브(6422)는 제1제어기(662)를 통해 개방 또는 폐쇄 여부가 결정된다. 제1제어기(662)는 안전 제어기(666)에 의해 제어된다. 안전 제어기(666)는 제1제어기(662)에 공급되는 전원을 제어하여 제1제어기(662)를 제어한다. 안전 제어기(666)는 챔버(520)에 설치되는 센서로부터 신호를 수신한다. 안전 제어기(666)는 챔버(520)에 설치되는 센서로부터 챔버(520)의 닫힘 상태 전환 여부를 확인한다. 안전 제어기(666)는 챔버(520)가 닫힘 여부가 확인되면 제1제어기(662)로 전원을 공급한다. 제1제어기(662)에 전원이 공급되면, 제1제어기(662)는 안전 밸브(6422)가 개방되도록 안전 밸브(6422)를 제어한다. 안전 밸브(6422)가 개방되면, 탱크(620) 내부의 제정된 처리 유체가 공급 라인(640)의 내부로 공급될 수 있다. 일 예로, 안전 밸브(6422)는 에어 밸브로 제공되며, 제1제어기(662)는 안전 제어기(666)로부터 전원이 공급되면 안전 밸브(6422)에 에어를 공급한다. 에어를 공급받은 안전 밸브(6422)는 개방된다. 안전 제어기(666)는 챔버(520)의 닫힘 상태가 확인되지 않은 경우 제1제어기(662)로 전원을 공급하지 않는다. 이 경우, 안전 밸브(6422)는 닫힌 상태를 유지하게 된다. 일 예로, 안전 제어기(666)가 제1제어기(662)에 전원을 공급하지 않을 경우, 제1제어기(662)는 안전 밸브(6422)로 에어를 공급하지 않으므로, 안전 밸브(6422)는 닫힘 상태가 유지된다.
제1제어기(662)와 안전 제어기(666) 사이에는 릴레이(664)가 제공될 수 있다. 릴레이(664)는 전기적 신호를 통해 온(On) 또는 오프(Off)되는 전자 부품일 수 있다. 릴레이(664)는 안전 제어기(666)로부터 전원을 공급받으며, 전원이 공급되는 경우 온(On)되어 제1제어기(662)에 전원을 공급한다. 릴레이(664)는 안전 제어기(666)로부터 전원을 공급받지 못할 경우 오프(Off)되어 제1제어기(662)에 전원을 공급하지 못한다. 릴레이(664)는 제1제어기(662)와 안전 제어기(666) 사이에서 전원 스위치 역할을 수행할 수 있다.
제2제어 모듈(670)은 제2제어기(670)을 포함한다. 제2제어기(670)는 복수의 밸브 중 안전 밸브(6422)를 제외한 나머지 밸브들을 제어한다. 일 예로, 제2제어기(670)는 제1밸브(6522), 제2밸브(6524), 제1공급 밸브(6424), 그리고 제2공급 밸브(6444)의 개폐 여부 및 개폐 정도를 제어한다.
유체 공급 유닛(600)은 통합 제어기(680)를 포함한다. 통합 제어기(680)는 유체 공급 유닛(600)을 제어한다. 일 예로, 통합 제어기(680)는 안전 밸브(6422)를 포함한 복수의 밸브를 제어한다. 통합 제어기(680)는 챔버(520)의 공급되어야 할 처리 유체의 공급량과 공급 경로에 따라 복수의 밸브들이 선택적으로 개방되도록 제어한다. 통합 제어기(680)는 챔버(620) 내부의 처리 유체가 배기되어야 할 경우, 공급 라인(640) 상의 밸브들이 닫히도록 제어하고, 배기 라인(552) 상의 배기 밸브(5521)은 열리도록 제어한다.
제1제어기(662)는 통합 제어기(680)로부터 안전 밸브(6422)의 개방 신호를 수신하고, 안전 제어기(666)로부터 전원을 공급받는다. 제1제어기(662)는 통합 제어기(680)로부터 개방 신호를 수신하더라도, 안전 제어기(666)로부터 전원을 공급받지 못할 경우에는 안전 밸브(6422)가 개방되도록 조절하지 않는다. 제1제어기(662)는 통합 제어기(680)의 개방 신호와 안전 제어기(666)의 전원을 모두 공급받은 경우에만 안전 밸브(6422)가 개방되도록 안전 밸브(6422)를 제어한다. 이를 통해, 통합 제어기(680)가 챔버(520)가 완전히 닫히지 않은 상태에서 안전 밸브(6422)의 오픈 신호를 전달하더라도 안전 밸브(6422)는 닫힌 상태가 유지되므로 탱크(620)로부터 처리 유체가 공급되지 않는 이점이 있다.
도 5는 도 4의 건조 처리 장치의 안전 밸브가 개방될 때의 제어 흐름 도시한 도면이고, 도 6은 도 4의 건조 처리 장치의 안전 밸브가 개방되지 않을 때의 제어 흐름을 도시한 도면이다.
도 5를 참조하면, 제1제어기(662)는 통합 제어기(680)로부터 안전 밸브(6422)의 개방 신호와, 안전 제어기(666)로부터 전원을 공급받은 경우, 안전 밸브(6422)가 열리도록 안전 밸브(6422)를 제어한다. 그러나, 도 6을 참조하면, 제1제어기(662)는 통합 제어기(680)로부터 안전 밸브(6422)의 개방 신호를 수신하였으나, 안전 제어기(666)로부터 전원을 공급받지 못한 경우, 안전 밸브(6422)에 에어를 공급하지 않으므로 안전 밸브(6422)가 닫힘 상태를 유지한다.
일반적으로 하나의 제어기로 복수의 밸브를 제어하여 고압의 유체를 제어하는 방식이 사용된다. 그러나, 이러한 방식은 챔버가 닫히지 않은 상태에서도 고압의 처리 유체가 공급될 수 있어 챔버가 터지는 등의 위험 상황이 발생될 수 있다. 또한, 제어기의 오류, 전원 공급 차단 등의 비정상적인 상황에서 탱크로부터 고압의 유체가 유출 및 챔버로 고압의 처리 유체가 공급되는 등 위험 상황이 발생될 수 있다. 또한, 종래의 방식은, 유체를 공급 또는 차단하는 밸브를 하나의 제어기로 제어함에 따라 제어기에 항상 전원이 공급되어야 하는 문제가 있다.
그러나, 본 발명의 실시예에 따르면, 고압의 처리 유체가 저장되는 탱크와 챔버를 연결하는 공급 라인상에 설치되며, 탱크와 가장 인접한 위치에 설치되는 밸브를 제어하는 제어기를 단독으로 구성하고, 안전 상황이 확인된 상태에서만 작동되도록 제어하여 상술한 위험 상황이 발생될 가능성을 최소화할 수 있다. 또한, 탱크와 가장 인접한 위치에 설치되는 밸브를 제어하는 제어기를 안전 제어기에서 전원의 공급을 제어수단으로 사용함으로써 안정성을 보다 향상시킬 수 있다. 또한, 탱크와 가장 인접한 위치에 설치되는 밸브를 N/C 밸브로 구성하여, 전원 공급 차단 상태에서도 밸브가 닫힘 상태를 유지하므로 탱크의 압력이 누출되지 않아 안전성이 향상될 수 있다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 2내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 전술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
600: 유체 공급 유닛
620: 탱크
640: 공급 라인
660: 제1제어 모듈
670: 제2제어 모듈
680: 통합 제어기

Claims (20)

  1. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
    처리 공간을 제공하는 챔버와;
    상기 챔버에 처리 유체를 공급하는 유체 공급 유닛을 포함하고,
    상기 유체 공급 유닛은,
    상기 처리 유체가 저장되는 공급 탱크와;
    상기 공급 탱크와 상기 챔버를 연결하는 공급 라인과;
    상기 공급 라인 상에 설치되는 복수의 밸브를 포함하고,
    상기 복수의 밸브 중 어느 하나의 밸브는 안전 밸브로 제공되고,
    상기 안전 밸브는 상기 탱크에서 상기 챔버로 상기 처리 유체를 공급할 때 상기 챔버가 닫힘 상태로 전환된 것을 확인 후 개방되는 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 안전 밸브는 상기 복수의 밸브 중 상기 공급 탱크에 가장 인접한 위치에 제공되는 기판 처리 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 안전 밸브와, 상기 복수의 밸브 중 상기 안전 밸브를 제외한 나머지 밸브는 서로 다른 제어 모듈로 제어되는 기판 처리 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 안전 밸브는 제1제어 모듈로 제어되고,
    상기 복수의 밸브 중 상기 안전 밸브를 제외한 나머지 밸브는 제2제어 모듈로 제어되고,
    상기 제1제어 모듈은,
    상기 안전 밸브의 개폐 여부를 제어하는 제1제어기와;
    상기 제1제어기의 작동 여부를 제어하는 안전 제어기를 포함하고,
    상기 안전 제어기는 상기 제1제어기에 공급되는 전원을 제어하여 상기 제1제어기를 제어하는 기판 처리 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 제1제어 모듈은,
    상기 안전 제어기의 전원 공급 신호를 받아 작동되며, 상기 안전 제어기로부터 공급되는 전원을 상기 제1제어기로 전달하는 릴레이를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 유체 공급 유닛은 상기 복수의 밸브를 제어하는 통합 제어기를 더 포함하고,
    상기 제1제어기는,
    상기 통합 제어기의 개방 신호 및 상기 안전 제어기의 개방 신호를 받아 상기 안전 밸브가 열리도록 상기 안전 밸브를 제어하는 기판 처리 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 안전 밸브는 솔레노이드 밸브(Solenoid Valve)로 제공되는 기판 처리 장치.
  8. 제1항 또는 제7항에 있어서,
    상기 안전 밸브는 N/C 밸브(Normal Close valve)로 제공되는 기판 처리 장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 공급 탱크는 고압 탱크로 제공되고,
    상기 챔버는 고압 챔버로 제공되는 기판 처리 장치.
  10. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
    처리 공간을 제공하는 챔버와;
    상기 챔버에 처리 유체를 공급하는 유체 공급 유닛을 포함하고,
    상기 유체 공급 유닛은,
    상기 처리 유체가 저장되는 공급 탱크와;
    상기 공급 탱크와 상기 챔버를 연결하는 공급 라인과;
    상기 공급 라인 상에 설치되는 복수의 밸브와;
    상기 복수의 밸브를 제어하는 제어 모듈을 포함하고,
    상기 복수의 밸브 중 상기 탱크에 가장 인접한 위치에 제공되는 안전 밸브는 다른 밸브와 다른 제어 모듈로 제어되는 기판 처리 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 안전 밸브는 상기 탱크에서 상기 챔버로 상기 처리 유체를 공급할 때 상기 챔버가 닫힘 상태로 전환된 것을 확인 후 상기 처리 공급하도록 제어되는 기판 처리 장치.
  12. 제10항에 있어서,
    상기 안전 밸브는 제1제어 모듈로 제어되고,
    상기 복수의 밸브 중 상기 안전 밸브를 제외한 나머지 밸브는 제2제어 모듈로 제어되고,
    상기 제1제어 모듈은,
    상기 안전 밸브의 개폐 여부를 제어하는 제1제어기와;
    상기 제1제어기의 작동 여부를 제어하는 안전 제어기와;
    상기 안전 제어기의 상기 신호를 받아 작동되며, 상기 안전 제어기로부터 공급되는 전원을 상기 제1제어기로 전달하는 릴레이를 포함하고,
    상기 안전 제어기는 상기 제1제어기에 공급되는 전원을 제어하여 상기 제1제어기를 제어하는 기판 처리 장치.
  13. 제10항에 있어서,
    상기 안전 밸브는 N/C 밸브(Normal Close valve)로 제공되는 기판 처리 장치.
  14. 기판을 처리하는 방법에 있어서,
    상기 기판이 처리되는 챔버의 처리 공간으로 처리 유체를 공급하여 상기 기판을 처리하되,
    상기 처리 유체의 공급은 상기 처리 유체가 저장되는 탱크와 상기 챔버를 연결하는 공급 라인 상의 설치되는 복수의 밸브를 제어하여 이루어지고,
    상기 복수의 밸브 중 상기 탱크에 가장 인접하게 제공되는 밸브는 안전 밸브로 제공되되,
    상기 안전 밸브는 상기 챔버가 닫힘 상태로 전환된 것을 확인한 후에 개방되는 기판 처리 방법.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 안전 밸브는 제1제어기로 제어되고,
    상기 복수의 밸브 중 상기 안전 밸브를 제외한 나머지 밸브는 제2제어기로 제어되는 기판 처리 장법.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 제1제어기는 안전 제어기에 의해 제어되며,
    상기 안전 제어기는 제1제어기에 공급되는 전원을 제어하는 기판 처리 방법.
  17. 제15항에 있어서,
    상기 안전 밸브는,
    상기 복수의 밸브를 제어하는 통합 제어기의 개방 신호 및 상기 제1제어기의 개방 신호를 모두 수신한 경우에 개방되는 기판 처리 방법.
  18. 제14항에 있어서,
    상기 안전 밸브는 솔레노이드 밸브(Solenoid Valve)로 제공되는 기판 처리 방법.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 안전 밸브는 N/C 밸브(Normal Close Valve)로 제공되는 기판 처리 방법.
  20. 제14항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 챔버는 고압 챔버로 제공되는 기판 처리 방법.
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