KR20230011838A - Fine bubble generating device - Google Patents

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KR20230011838A
KR20230011838A KR1020210158628A KR20210158628A KR20230011838A KR 20230011838 A KR20230011838 A KR 20230011838A KR 1020210158628 A KR1020210158628 A KR 1020210158628A KR 20210158628 A KR20210158628 A KR 20210158628A KR 20230011838 A KR20230011838 A KR 20230011838A
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KR1020210158628A
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신야 후루카와
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린나이가부시기가이샤
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Abstract

The present invention provides a technology capable of stably and continuously generating fine bubbles in a liquid contained in a liquid tank. A control device of a fine bubble generating device according to the present invention can perform a fine bubble generation operation for driving a booster pump, pressurizing and supplying liquid from a tank supply passage to a tank, and supplying the liquid with gas dissolved under pressure from the tank to a liquid tank through a tank discharge passage. The control device can perform a tank circulation operation for circulating the liquid in the tank along a tank circulation passage using a tank circulation pump during the performance of the fine bubble generation operation, and generating negative pressure in a decompression part of a gas introduction mechanism. The control device is configured to open a second gas introduction valve first, and then open a first gas introduction valve in the case of opening both the first gas introduction valve and the second gas introduction valve from a closed state when the fine bubble generation operation is performed and the tank circulation operation is also performed.

Description

미세 기포 발생 장치{FINE BUBBLE GENERATING DEVICE} Fine bubble generating device {FINE BUBBLE GENERATING DEVICE}

[0001] 본 명세서에서 개시하는 기술은 미세 기포 발생 장치에 관한 것이다.[0001] The technology disclosed herein relates to a device for generating microbubbles.

[0002] 특허문헌 1에, 액체에 기체를 가압 용해하는 탱크와, 상기 탱크에 상기 액체를 공급하는 탱크 공급로와, 상기 탱크 공급로에 설치된 가압 펌프와, 상기 탱크로부터 액조(液槽)로 상기 기체가 가압 용해된 상기 액체를 배출하는 탱크 배출로와, 상기 탱크 배출로에 설치되어 있으며, 상기 기체가 가압 용해된 상기 액체를 감압(減壓)하여 미세 기포를 발생시키는 미세 기포 발생 노즐과, 상기 탱크에 설치된 기체 도입 기구와, 제어장치를 구비하는 미세 기포 발생 장치가 개시되어 있다. 상기 기체 도입 기구는, 상기 기체를 도입하는 기체 도입구와, 상기 탱크와 상기 기체 도입구를 연통(連通)하는 기체 도입로와, 상기 기체 도입로에 설치되어 있으며, 상기 기체 도입로를 개폐하는 기체 도입 밸브를 구비하고 있다. 상기 제어장치는, 상기 기체 도입 밸브를 연 상태에서, 상기 탱크로부터 상기 액조로 상기 액체를 공급함으로써, 상기 탱크에 상기 기체를 도입하는 기체 도입 운전과, 상기 기체 도입 밸브를 닫은 상태에서, 상기 가압 펌프를 구동하여 상기 탱크 공급로로부터 상기 탱크로 액체를 가압하여 공급하는 동시에, 상기 탱크로부터 상기 탱크 배출로를 통해 상기 액조로 상기 기체가 가압 용해된 상기 액체를 공급하는, 미세 기포 발생 운전을 교대로 수행한다.[0002] In Patent Document 1, a tank for dissolving gas under pressure in a liquid, a tank supply path for supplying the liquid to the tank, a pressurized pump installed in the tank supply path, and a liquid tank from the tank A tank discharge path for discharging the liquid in which the gas is dissolved under pressure, and a micro-bubble generating nozzle installed in the tank discharge path and generating fine bubbles by depressurizing the liquid in which the gas is dissolved under pressure; and Disclosed is a micro-bubble generating device comprising a gas introduction mechanism installed in the tank and a control device. The gas introduction mechanism is provided in a gas introduction port for introducing the gas, a gas introduction passage communicating between the tank and the gas introduction passage, and a gas introduction passage for opening and closing the gas introduction passage. It has an inlet valve. The control device includes a gas introduction operation in which the gas is introduced into the tank by supplying the liquid from the tank to the liquid tank in a state where the gas introduction valve is open, and the pressurization operation in a state where the gas introduction valve is closed. Alternate micro-bubble generation operation in which a pump is driven to pressurize and supply liquid from the tank supply passage to the tank, and at the same time supply the liquid in which the gas is dissolved under pressure from the tank to the liquid tank through the tank discharge passage. do it with

일본 특허 공개 공보 제2009-18118 호Japanese Patent Laid-open Publication No. 2009-18118

[0004] 특허문헌 1의 미세 기포 발생 장치에서는, 기체 도입 운전과 미세 기포 발생 운전을 동시에 수행할 수 없으며, 기체 도입 운전으로 탱크에 기체가 공급되고, 미세 기포 발생 운전으로 탱크로부터 기체가 소비되므로, 기체 도입 운전과 미세 기포 발생 운전을 반드시 교대로 수행해야만 한다. 그러나, 기체 도입 운전의 실행 중에는, 탱크로부터 액조로 공급되는 액체에 미세 기포를 발생시킬 수 없기 때문에, 미세 기포 발생 운전으로 액조의 액체에 발생시킨 미세 기포가, 기체 도입 운전의 실행 중에 소실되어, 액조의 액체에 미세 기포를 계속해서 안정적으로 발생시키기가 어려웠다. 본 명세서에서는 액조의 액체에 미세 기포를 계속해서 안정적으로 발생시킬 수 있는 기술을 제공한다.[0004] In the microbubble generating device of Patent Document 1, the gas introduction operation and the microbubble generation operation cannot be simultaneously performed, the gas is supplied to the tank through the gas introduction operation, and the gas is consumed from the tank through the microbubble generation operation. However, the gas introduction operation and the micro-bubble generation operation must be performed alternately. However, since microbubbles cannot be generated in the liquid supplied from the tank to the liquid tank during the gas introduction operation, the microbubbles generated in the liquid in the liquid tank by the microbubble generating operation disappear during the execution of the gas introduction operation, It was difficult to continuously and stably generate microbubbles in the liquid of the liquid tank. In the present specification, a technique capable of continuously and stably generating microbubbles in the liquid of a liquid tank is provided.

[0005] 본 명세서가 개시하는 미세 기포 발생 장치는, 액체에 기체를 가압 용해하는 탱크와, 상기 탱크에 상기 액체를 공급하는 탱크 공급로와, 상기 탱크 공급로에 설치된 가압 펌프와, 상기 탱크로부터 액조로 상기 기체가 가압 용해된 상기 액체를 배출하는 탱크 배출로와, 상기 탱크 배출로에 설치되어 있으며, 상기 기체가 가압 용해된 상기 액체를 감압하여 미세 기포를 발생시키는 미세 기포 발생 노즐과, 상기 탱크 배출로와는 별개로 설치되어 있으며, 상기 탱크에 접속된 유출구로부터 상기 탱크에 접속된 유입구로 상기 액체를 보내는 탱크 순환로와, 상기 탱크 순환로에 설치된 탱크 순환 펌프와, 상기 탱크 순환로에 설치된 기체 도입 기구와, 제어장치를 구비하고 있다. 상기 기체 도입 기구는, 상기 액체를 감압하여 통과시키는 감압부와, 상기 감압부에서의 상기 액체의 부압(負壓, negative pressure)에 의해 상기 기체를 도입하는 기체 도입구와, 상기 감압부와 상기 기체 도입구를 연통하는 기체 도입로와, 상기 기체 도입로에 설치되어 있으며, 상기 기체 도입로를 개폐하는 제1 기체 도입 밸브와, 상기 기체 도입로에 있어서 상기 제1 기체 도입 밸브와 상기 기체 도입구의 사이에 설치되어 있으며, 상기 기체 도입로를 개폐하는 제2 기체 도입 밸브를 구비하고 있다. 상기 제1 기체 도입 밸브는, 상기 감압부에서의 상기 액체의 부압이 작용했을 때에, 상기 제1 기체 도입 밸브를 여는 방향의 힘을 받도록 구성되어 있다. 상기 제2 기체 도입 밸브는, 상기 감압부에서의 상기 액체의 부압이 작용했을 때에, 상기 제2 기체 도입 밸브를 닫는 방향의 힘을 받도록 구성되어 있다. 상기 제어장치는, 상기 가압 펌프를 구동하여 상기 탱크 공급로로부터 상기 탱크로 상기 액체를 가압하여 공급하는 동시에, 상기 탱크로부터 상기 탱크 배출로를 통해 상기 액조로 상기 기체가 가압 용해된 상기 액체를 공급하는, 미세 기포 발생 운전을 실행할 수가 있다. 상기 제어장치는, 상기 미세 기포 발생 운전의 실행 중에, 상기 탱크 순환 펌프에 의해 상기 탱크의 상기 액체를 상기 탱크 순환로에서 순환시켜, 상기 기체 도입 기구의 상기 감압부에 부압을 발생시키는 탱크 순환 운전을 실행할 수 있다. 상기 제어장치는, 상기 제1 기체 도입 밸브와 상기 제2 기체 도입 밸브 모두를 닫은 상태로부터 연 상태로 하는 경우에, 먼저 상기 제2 기체 도입 밸브를 열고, 그 후에 제1 기체 도입 밸브를 열도록 구성되어 있다.[0005] A microbubble generator disclosed in the present specification includes a tank for dissolving gas under pressure in a liquid, a tank supply path for supplying the liquid to the tank, a pressure pump installed in the tank supply path, and a pressure pump installed in the tank supply path. A tank discharge path for discharging the liquid in which the gas is dissolved under pressure into a liquid tank, and a micro-bubble generating nozzle installed in the tank discharge path and generating fine bubbles by depressurizing the liquid in which the gas is dissolved under pressure; A tank circulation path installed separately from the tank discharge path and sending the liquid from an outlet connected to the tank to an inlet connected to the tank; a tank circulation pump installed in the tank circulation path; and a gas introduction installed in the tank circulation path. It has a mechanism and a control device. The gas introduction mechanism includes: a decompression portion through which the liquid is reduced and passed therethrough, a gas inlet through which the gas is introduced by negative pressure of the liquid in the decompression portion, and the decompression portion and the gas A gas introduction path communicating with the inlet, a first gas introduction valve provided in the gas introduction path and opening and closing the gas introduction path, and a It is provided between them and is provided with a second gas introduction valve that opens and closes the gas introduction path. The first gas introduction valve is configured to receive a force in the direction of opening the first gas introduction valve when the negative pressure of the liquid in the pressure reducing section acts. The second gas introduction valve is configured to receive a force in the direction of closing the second gas introduction valve when the negative pressure of the liquid in the pressure reducing section acts. The control device drives the pressure pump to pressurize and supply the liquid from the tank supply passage to the tank, and at the same time supply the liquid in which the gas is pressurized and dissolved from the tank to the liquid tank through the tank discharge passage. It is possible to execute the operation of generating fine bubbles. The control device performs a tank circulation operation in which, during execution of the micro-bubble generating operation, the liquid in the tank is circulated in the tank circulation path by the tank circulation pump to generate a negative pressure in the pressure reducing portion of the gas introducing mechanism. can run The control device is configured so as to first open the second gas introduction valve and then open the first gas introduction valve when both the first gas introduction valve and the second gas introduction valve are brought from a closed state to an open state. Consists of.

[0006] 상기 미세 기포 발생 장치에서는, 미세 기포 발생 운전을 실행하는 중에도, 제1 기체 도입 밸브와 제2 기체 도입 밸브를 연 상태에서 탱크 순환 운전을 실행함으로써, 기체 도입 기구에서 기체가 도입되어, 탱크에 기체를 공급할 수가 있다. 이 때문에, 탱크에 기체를 공급하기 위해 미세 기포 발생 운전을 중단할 필요가 없이, 미세 기포 발생 운전을 계속해서 실행할 수가 있다. 이러한 구성으로 함으로써, 액조의 액체에 미세 기포를 계속해서 안정적으로 발생시킬 수가 있다.[0006] In the above micro-bubble generating device, gas is introduced from the gas introduction mechanism by executing the tank circulation operation with the first gas introduction valve and the second gas introduction valve open even during the execution of the microbubble generating operation, Gas can be supplied to the tank. For this reason, it is not necessary to interrupt the micro-bubble generating operation to supply gas to the tank, and the micro-bubble generating operation can be continuously executed. With this configuration, fine bubbles can be continuously and stably generated in the liquid in the liquid tank.

[0007] 또한, 상기 미세 기포 발생 장치에서는, 기체 도입로에 제1 기체 도입 밸브와 제2 기체 도입 밸브가 설치되어 있고, 제2 기체 도입 밸브는 제1 기체 도입 밸브와 기체 도입구의 사이에 설치되어 있으며, 제1 기체 도입 밸브에는, 감압부에서의 액체의 부압이 작용했을 때에, 제1 기체 도입 밸브를 여는 방향의 힘이 작용하고, 제2 기체 도입 밸브에는, 감압부에서의 액체의 부압이 작용했을 때에, 제2 기체 도입 밸브를 닫는 방향의 힘이 작용한다. 이 때문에, 예컨대 미세 기포 발생 운전과 탱크 순환 운전을 동시에 실행하고 있을 때에, 제1 기체 도입 밸브와 제2 기체 도입 밸브를 모두 닫은 상태로부터 연 상태로 할 경우에, 먼저 제1 기체 도입 밸브를 열면, 그 후에 제2 기체 도입 밸브를 열 때에, 감압부에서의 액체의 부압이 제2 기체 도입 밸브에 작용하여, 제2 기체 도입 밸브가 원활하게 동작하지 않을 우려가 있다. 상기 구성과 같이, 제1 기체 도입 밸브와 제2 기체 도입 밸브를 모두 닫은 상태로부터 연 상태로 할 경우에는, 먼저 제2 기체 도입 밸브를 엶으로써, 감압부에서의 액체의 부압이 제2 기체 도입 밸브에 작용하는 것을 억제할 수 있어, 제2 기체 도입 밸브를 원활하게 동작시킬 수가 있다.[0007] In addition, in the micro-bubble generator, a first gas introduction valve and a second gas introduction valve are installed in the gas introduction path, and the second gas introduction valve is installed between the first gas introduction valve and the gas introduction port. When the negative pressure of the liquid in the pressure reduction part acts on the first gas introduction valve, the force in the direction of opening the first gas introduction valve acts, and the negative pressure of the liquid in the pressure reduction part acts on the second gas introduction valve. When this acts, a force in the direction of closing the second gas introduction valve acts. For this reason, for example, when both the first gas introduction valve and the second gas introduction valve are opened from the closed state when the micro-bubble generating operation and the tank circulation operation are performed simultaneously, if the first gas introduction valve is opened first , When the second gas introduction valve is opened thereafter, the negative pressure of the liquid in the pressure reducing section acts on the second gas introduction valve, and there is a possibility that the second gas introduction valve does not operate smoothly. As in the above configuration, when both the first gas introduction valve and the second gas introduction valve are opened from the closed state, by first opening the second gas introduction valve, the negative pressure of the liquid in the pressure reducing section is reduced by the second gas introduction. Acting on the valve can be suppressed, and the second gas introduction valve can be operated smoothly.

[0008] 상기 미세 기포 발생 장치에 있어서, 상기 제어장치는, 상기 미세 기포 발생 운전을 실행할 때에, 상기 제1 기체 도입 밸브를 닫은 상태로부터 연 상태로 할 경우에, 먼저 상기 가압 펌프의 유량을 제1 유량으로부터 상기 제1 유량보다 작은 제2 유량으로 저감시키고, 그 후에 상기 제1 기체 도입 밸브를 열도록 구성되어 있어도 된다.[0008] In the micro-bubble generating device, the controller first controls the flow rate of the pressure pump when the first gas introduction valve is opened from a closed state when the micro-bubble generating operation is executed. You may be comprised so that it may reduce from 1 flow rate to the 2nd flow rate smaller than the said 1st flow rate, and then open the said 1st gas introduction valve.

[0009] 미세 기포 발생 운전의 실행 시에는, 가압 펌프의 유량이 크면, 탱크 내의 압력이 높아지며, 기체 도입 기구의 감압부에서의 액체의 압력도 높아진다. 즉, 감압부에서의 액체의 부압이 작아진다. 반대로, 가압 펌프의 유량이 작으면, 탱크 내의 압력이 낮아지며, 기체 도입 기구의 감압부에서의 액체의 압력도 낮아진다. 즉, 감압부에서의 액체의 부압이 커진다. 제1 기체 도입 밸브에는, 감압부에서의 액체의 부압에 의해, 제1 기체 도입 밸브를 여는 방향의 힘이 작용하므로, 제1 기체 도입 밸브를 열 때에는, 감압부에서의 액체의 압력이 낮을수록, 제1 기체 도입 밸브를 원활하게 동작시킬 수가 있다. 상기 구성에 의하면, 제1 기체 도입 밸브를 닫은 상태로부터 연 상태로 할 경우에, 먼저 가압 펌프의 유량을 제1 유량에서 제2 유량으로 저감시킴으로써, 기체 도입 기구의 감압부에서의 액체의 압력을 낮게 하고, 그 후에 제1 기체 도입 밸브를 열기 때문에, 제1 기체 도입 밸브를 원활하게 동작시킬 수가 있다. 또한, 제1 유량과 제2 유량은 각각 임의의 유량으로 설정할 수 있다. 예컨대, 제1 유량은, 제1 기체 도입 밸브를 닫은 상태에서, 미세 기포 발생 운전을 행할 때의, 가압 펌프의 유량이어도 되고, 제2 유량은, 제1 기체 도입 밸브를 연 상태에서, 미세 기포 발생 운전과 탱크 순환 운전 모두를 행할 때의, 가압 펌프의 유량이어도 된다. 또는 제1 유량은, 미세 기포 발생 운전의 실행 중에 탱크의 액위가 상승해 갈 때의, 가압 펌프의 유량이어도 되고, 제2 유량은, 미세 기포 발생 운전과 탱크 순환 운전 모두를 실행하는 중에 탱크의 액위가 하강해 갈 때의, 가압 펌프의 유량이어도 된다.[0009] When the micro-bubble generating operation is executed, when the flow rate of the pressure pump is large, the pressure in the tank increases, and the pressure of the liquid in the decompression part of the gas introducing mechanism also increases. That is, the negative pressure of the liquid in the pressure reducing section is reduced. Conversely, when the flow rate of the pressurization pump is low, the pressure in the tank is low, and the pressure of the liquid at the pressure reducing portion of the gas introduction mechanism is also low. That is, the negative pressure of the liquid in the pressure reducing section increases. Since the negative pressure of the liquid in the pressure reduction part acts on the first gas introduction valve in the direction of opening the first gas introduction valve, when the first gas introduction valve is opened, the lower the pressure of the liquid in the pressure reduction part is. , the first gas introduction valve can be operated smoothly. According to the above configuration, when the first gas introduction valve is opened from a closed state, the pressure of the liquid at the pressure reducing portion of the gas introduction mechanism is reduced by first reducing the flow rate of the pressure pump from the first flow rate to the second flow rate. Since it is set low and the 1st gas introduction valve is opened after that, it is possible to operate the 1st gas introduction valve smoothly. In addition, the 1st flow rate and the 2nd flow rate can each be set to arbitrary flow rates. For example, the first flow rate may be the flow rate of the pressure pump when performing the micro-bubble generation operation with the first gas introduction valve closed, and the second flow rate may be the flow rate of the micro-bubble with the first gas introduction valve open. It may be the flow rate of the pressure pump when performing both the generating operation and the tank circulation operation. Alternatively, the first flow rate may be the flow rate of the pressure pump when the liquid level in the tank rises during execution of the micro-bubble generation operation, and the second flow rate may be the flow rate of the tank during execution of both the micro-bubble generation operation and the tank circulation operation. It may be the flow rate of the pressure pump when the liquid level goes down.

[0010] 상기 미세 기포 발생 장치에 있어서, 상기 제어장치는, 상기 탱크 순환 운전의 실행 시에, 상기 제1 기체 도입 밸브를 닫은 상태로부터 연 상태로 할 경우에, 먼저 상기 탱크 순환 펌프의 유량을 제3 유량으로부터 상기 제3 유량보다 큰 제4 유량으로 증대시키고, 그 후에 상기 제1 기체 도입 밸브를 열도록 구성되어 있어도 된다.[0010] In the micro-bubble generating device, the control device first sets the flow rate of the tank circulation pump when the first gas introduction valve is opened from a closed state in executing the tank circulation operation. It may be configured to increase from a third flow rate to a fourth flow rate larger than the third flow rate, and then open the first gas introduction valve.

[0011] 탱크 순환 운전의 실행 시에는, 탱크 순환 펌프의 유량이 작으면, 기체 도입 기구의 감압부에서의 액체의 압력은 높아진다. 즉, 감압부에서의 액체의 부압이 작아진다. 반대로, 탱크 순환 펌프의 유량이 크면, 기체 도입 기구의 감압부에서의 액체의 압력은 낮아진다. 즉, 감압부에서의 액체의 부압이 커진다. 제1 기체 도입 밸브에는, 감압부에서의 액체의 부압에 의해, 제1 기체 도입 밸브를 여는 방향의 힘이 작용하므로, 제1 기체 도입 밸브를 열 때에는, 감압부에서의 액체의 압력이 낮을수록, 제1 기체 도입 밸브를 원활하게 동작시킬 수가 있다. 상기 구성에 의하면, 제1 기체 도입 밸브를 닫은 상태로부터 연 상태로 할 경우에, 먼저 탱크 순환 펌프의 유량을 제3 유량에서 제4 유량으로 증대시킴으로써, 기체 도입 기구의 감압부에서의 액체의 압력을 낮게 하고, 그 후에 제1 기체 도입 밸브를 열기 때문에, 제1 기체 도입 밸브를 원활하게 동작시킬 수가 있다. 또한, 제3 유량과 제4 유량은, 각각 임의의 유량으로 설정할 수 있다. 예컨대, 제3 유량은, 제1 기체 도입 밸브를 닫은 상태에서, 미세 기포 발생 운전을 행할 때의, 탱크 순환 펌프의 유량(제1 기체 도입 밸브를 닫은 상태에서 탱크 순환 운전이 행해질 경우에는 그 때의 탱크 순환 펌프의 유량이며, 제1 기체 도입 밸브를 닫은 상태에서 탱크 순환 운전이 행해지지 않을 경우에는 제로이다)이어도 되고, 제4 유량은, 제1 기체 도입 밸브를 연 상태에서, 미세 기포 발생 운전과 탱크 순환 운전 모두를 행할 때의, 탱크 순환 펌프의 유량이어도 된다. 또는 제3 유량은, 미세 기포 발생 운전의 실행 중에, 탱크의 액위가 상승해 갈 때의 탱크 순환 펌프의 유량이어도 되고, 제4 유량은, 미세 기포 발생 운전과 탱크 순환 운전 모두를 실행하는 중에, 탱크의 액위가 하강해 갈 때의 탱크 순환 펌프의 유량이어도 된다.[0011] When the tank circulation operation is executed, when the flow rate of the tank circulation pump is low, the pressure of the liquid in the decompression part of the gas introducing mechanism becomes high. That is, the negative pressure of the liquid in the pressure reducing section is reduced. Conversely, when the flow rate of the tank circulating pump is large, the pressure of the liquid at the pressure reducing portion of the gas introduction mechanism is low. That is, the negative pressure of the liquid in the pressure reducing section increases. Since the negative pressure of the liquid in the pressure reduction part acts on the first gas introduction valve in the direction of opening the first gas introduction valve, when the first gas introduction valve is opened, the lower the pressure of the liquid in the pressure reduction part is. , the first gas introduction valve can be operated smoothly. According to the above configuration, when the first gas introduction valve is opened from the closed state, the flow rate of the tank circulation pump is first increased from the third flow rate to the fourth flow rate, thereby increasing the pressure of the liquid in the depressurized portion of the gas introduction mechanism. Since is lowered and the first gas introduction valve is opened thereafter, the first gas introduction valve can be operated smoothly. In addition, the 3rd flow rate and the 4th flow rate can each be set to arbitrary flow rates. For example, the third flow rate is the flow rate of the tank circulation pump when performing the micro-bubble generation operation with the first gas introduction valve closed (when the tank circulation operation is performed with the first gas introduction valve closed, at that time is the flow rate of the tank circulation pump, and may be zero when the tank circulation operation is not performed with the first gas introduction valve closed), and the fourth flow rate is the generation of microbubbles with the first gas introduction valve open. It may be the flow rate of the tank circulation pump when performing both operation and tank circulation operation. Alternatively, the third flow rate may be the flow rate of the tank circulation pump when the liquid level in the tank rises during execution of the microbubble generating operation, and the fourth flow rate may be the flow rate of the tank circulation pump during execution of both the microbubble generating operation and the tank circulation operation, It may be the flow rate of the tank circulation pump when the liquid level in the tank goes down.

[0012] 상기 미세 기포 발생 장치에 있어서, 상기 제어장치는, 상기 제1 기체 도입 밸브와 상기 제2 기체 도입 밸브를 모두 연 상태로부터 닫은 상태로 할 경우에, 먼저 상기 제1 기체 도입 밸브를 닫고, 그 후에 상기 제2 기체 도입 밸브를 닫도록 구성되어 있어도 된다.[0012] In the micro-bubble generating device, the control device first closes the first gas introduction valve when changing both the first gas introduction valve and the second gas introduction valve from an open state to a closed state, , You may be comprised so that the said 2nd gas introduction valve may be closed after that.

[0013] 상기 미세 기포 발생 장치에서는, 기체 도입로에 제1 기체 도입 밸브와 제2 기체 도입 밸브가 설치되어 있고, 제2 기체 도입 밸브는 제1 기체 도입 밸브와 기체 도입구의 사이에 설치되어 있으며, 제1 기체 도입 밸브에는, 감압부에서의 액체의 부압이 작용했을 때에, 제1 기체 도입 밸브를 여는 방향의 힘이 작용하고, 제2 기체 도입 밸브에는, 감압부에서의 액체의 부압이 작용했을 때에, 제2 기체 도입 밸브를 닫는 방향의 힘이 작용한다. 이 때문에, 예컨대 미세 기포 발생 운전과 탱크 순환 운전을 동시에 실행하고 있을 때에, 제1 기체 도입 밸브와 제2 기체 도입 밸브를 모두 연 상태로부터 닫은 상태로 할 경우에, 먼저 제2 기체 도입 밸브를 닫으면, 제2 기체 도입 밸브를 닫을 때에 감압부에서의 액체의 부압이 제2 기체 도입 밸브에 작용하여, 제2 기체 도입 밸브의 밸브체(弁體)가 밸브 시트(valve seat, 弁座)에 강하게 충돌함에 따라, 소음의 발생이나 제2 기체 도입 밸브의 손상을 초래할 우려가 있다. 상기 구성과 같이, 제1 기체 도입 밸브와 제2 기체 도입 밸브를 모두 연 상태로부터 닫은 상태로 할 경우에, 먼저 제1 기체 도입 밸브를 닫음으로써, 그 후에 제2 기체 도입 밸브를 닫을 때에, 감압부에서의 액체의 부압이 제2 기체 도입 밸브에 작용하는 것을 억제할 수 있어, 제2 기체 도입 밸브의 밸브체가 밸브 시트에 강하게 충돌함으로 인한, 소음의 발생이나 제2 기체 도입 밸브의 손상을 억제할 수가 있다.[0013] In the micro-bubble generator, a first gas introduction valve and a second gas introduction valve are installed in the gas introduction path, and the second gas introduction valve is installed between the first gas introduction valve and the gas introduction port. , When the negative pressure of the liquid in the pressure reducing portion acts on the first gas introduction valve, the force in the direction of opening the first gas introduction valve acts, and the negative pressure of the liquid in the pressure reducing portion acts on the second gas introduction valve. When this is done, a force in the direction of closing the second gas introduction valve acts. For this reason, for example, when both the first gas introduction valve and the second gas introduction valve are closed from the open state when the microbubble generation operation and the tank circulation operation are performed simultaneously, if the second gas introduction valve is first closed When the second gas introduction valve is closed, the negative pressure of the liquid in the pressure reducing portion acts on the second gas introduction valve, and the valve body of the second gas introduction valve is strongly pressed against the valve seat. As a result of the collision, there is a risk of generating noise or damaging the second gas introduction valve. As in the above configuration, when both the first gas introduction valve and the second gas introduction valve are changed from the open state to the closed state, by first closing the first gas introduction valve and then closing the second gas introduction valve, the pressure is reduced. It is possible to suppress the negative pressure of the liquid in the section from acting on the second gas introduction valve, suppressing noise generation and damage to the second gas introduction valve due to strong collision of the valve body of the second gas introduction valve with the valve seat. I can.

[0014] 상기 미세 기포 발생 장치에 있어서, 상기 액체는 물이어도 되며, 상기 액조는 사용자가 목욕에 사용하는 욕조여도 된다.[0014] In the microbubble generating device, the liquid may be water, and the liquid tank may be a bathtub used by a user for bathing.

[0015] 상기 구성에 의하면, 사용자가 목욕에 사용하는 욕조의 물에 미세 기포를 계속해서 안정적으로 발생시킬 수가 있다.[0015] According to the above configuration, it is possible to continuously and stably generate microbubbles in the water of the bathtub used by the user for bathing.

[0016] 도 1은 실시예의 온수 장치(2)의 구성을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 2는 실시예의 온수 장치(2)의 기체 도입 기구(96)에 대해, 제1 기체 도입 밸브(106)와 제2 기체 도입 밸브(108)가 모두 닫힌 상태를 나타내는 단면도이다.
도 3은 실시예의 온수 장치(2)의 기체 도입 기구(96)에 대해, 제1 기체 도입 밸브(106)와 제2 기체 도입 밸브(108)가 모두 열린 상태를 나타내는 단면도이다.
도 4는 실시예의 온수 장치(2)의 기체 도입 기구(96)에 대해, 제1 기체 도입 밸브(106)가 열려 있고, 제2 기체 도입 밸브(108)가 닫힌 상태를 나타내는 단면도이다.
도 5는 실시예의 온수 장치(2)의 기체 도입 기구(96)에 대해, 제1 기체 도입 밸브(106)가 닫혀 있고, 제2 기체 도입 밸브(108)가 열린 상태를 나타내는 단면도이다.
도 6은 실시예의 온수 장치(2)의 욕조 어댑터(132)의 단면을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 7은 실시예의 온수 장치(2)의 온수 채우기 운전에 있어서 제어장치(150)가 실행하는 처리의 흐름도(플로우 차트)이다.
도 8은 실시예의 온수 장치(2)에서의 물의 흐름의 예를 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 9는 실시예의 온수 장치(2)에서의 물의 흐름의 다른 예를 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 10은 실시예의 온수 장치(2)의 미세 기포 발생 운전에 있어서 제어장치(150)가 실행하는 처리의 흐름도이다.
도 11은 실시예의 온수 장치(2)의 미세 기포 발생 운전에 있어서 제어장치(150)가 실행하는 공기 도입량 조정 처리의 흐름도이다.
도 12는 실시예의 온수 장치(2)에서의 물의 흐름의 또 다른 예를 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 13은 실시예의 온수 장치(2)에서의 물의 흐름의 또 다른 예를 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 14는 변형예의 온수 장치(2)의 미세 기포 발생 운전에 있어서 제어장치(150)가 실행하는 공기 도입량 조정 처리의 흐름도이다.
도 15는 다른 변형예의 온수 장치(2)의 구성을 모식적으로 나타내는 도면이다.
[0016] Fig. 1 is a diagram schematically showing the configuration of a hot water device 2 of an embodiment.
2 is a cross-sectional view showing a state in which both the first gas introduction valve 106 and the second gas introduction valve 108 are closed with respect to the gas introduction mechanism 96 of the hot water apparatus 2 of the embodiment.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state in which both the first gas introduction valve 106 and the second gas introduction valve 108 are open to the gas introduction mechanism 96 of the hot water apparatus 2 of the embodiment.
4 is a sectional view showing a state in which the first gas introduction valve 106 is open and the second gas introduction valve 108 is closed, with respect to the gas introduction mechanism 96 of the hot water apparatus 2 of the embodiment.
Fig. 5 is a sectional view showing a state in which the first gas introduction valve 106 is closed and the second gas introduction valve 108 is open, with respect to the gas introduction mechanism 96 of the hot water apparatus 2 of the embodiment.
6 is a diagram schematically showing a cross section of the bathtub adapter 132 of the hot water system 2 of the embodiment.
7 is a flow chart (flow chart) of processing executed by the controller 150 in the hot water filling operation of the hot water device 2 of the embodiment.
8 is a diagram schematically showing an example of the flow of water in the hot water device 2 of the embodiment.
Fig. 9 is a diagram schematically showing another example of the flow of water in the hot water device 2 of the embodiment.
Fig. 10 is a flow chart of processing executed by the control device 150 in the fine-bubble generating operation of the hot water device 2 of the embodiment.
Fig. 11 is a flow chart of the air introduction amount adjustment process executed by the control device 150 in the fine-bubble generating operation of the hot water system 2 of the embodiment.
Fig. 12 is a diagram schematically showing another example of the flow of water in the hot water device 2 of the embodiment.
Fig. 13 is a diagram schematically showing another example of the flow of water in the hot water device 2 of the embodiment.
Fig. 14 is a flow chart of the air introduction amount adjustment process executed by the controller 150 in the fine-bubble generating operation of the hot water system 2 of the modified example.
15 is a diagram schematically showing the configuration of a hot water device 2 of another modified example.

[0017] (실시예)[0017] (Example)

도 1에 나타낸 바와 같이, 본 실시예의 온수 장치(2)는, 열원(熱源) 유닛(10)과 공기 가압 용해 유닛(50)과 욕조 어댑터(132)와 제어장치(150)를 포함한다. 온수 장치(2)는, 수도 등의 급수원(給水源, 200)으로부터 공급되는 물을 가열하여 원하는 온도까지 가열된 물을 주방 등에 설치된 수도꼭지(250)나 욕실에 설치된 욕조(130)에 공급할 수 있다. 또한, 온수 장치(2)는, 사용자가 목욕에 사용하는 욕조(130)의 물에 미세 기포를 발생시킬 수 있다.As shown in FIG. 1 , the hot water system 2 of the present embodiment includes a heat source unit 10, an air pressure melting unit 50, a bathtub adapter 132, and a controller 150. The hot water device 2 can heat water supplied from a water supply source 200 such as tap water and supply the heated water to a desired temperature to a faucet 250 installed in a kitchen or the like or a bathtub 130 installed in a bathroom. there is. In addition, the hot water device 2 may generate fine bubbles in the water of the bathtub 130 used by the user for bathing.

[0018] (열원 유닛(10)의 구성)[0018] (Configuration of heat source unit 10)

열원 유닛(10)은 제1 열원기(12), 제2 열원기(14), 급수로(給水路, 16), 출탕로(出湯路, 18), 바이패스(bypass)로(路)(20), 바이패스 서보(22), 주탕로(注湯路, 24), 온수 채우기(bathtub filling) 밸브(26), 수량(水量) 센서(28), 순환 진행로(往路)(30), 순환 복귀로(復路)(32), 욕조 순환 펌프(34), 수류(水流) 스위치(36)를 구비하고 있다.The heat source unit 10 includes a first heat source device 12, a second heat source device 14, a water supply path 16, a hot water path 18, and a bypass path ( 20), bypass servo 22, pouring furnace 24, hot water filling valve 26, water quantity sensor 28, circulation route 30, A circulation return path 32, a bathtub circulation pump 34, and a water flow switch 36 are provided.

[0019] 급수로(16)의 상류단(上流端)은 급수원(200)에 접속되어 있으며, 급수로(16)의 하류단(下流端)은 제1 열원기(12)에 접속되어 있다. 또한, 출탕로(18)의 상류단은 제1 열원기(12)에 접속되어 있으며, 출탕로(18)의 하류단은 수도꼭지(250)에 접속되어 있다. 제1 열원기(12)는 예컨대 가스의 연소에 의해 물을 가열하는 연소 열원기이다. 제1 열원기(12)는 급수로(16)로부터 유입되는 물을 가열하여 가열된 물을 출탕로(18)로 내보낸다.[0019] The upstream end of the water supply passage 16 is connected to the water supply source 200, and the downstream end of the water supply passage 16 is connected to the first heat source device 12 . Further, the upstream end of the hot water path 18 is connected to the first heat source device 12, and the downstream end of the hot water path 18 is connected to the faucet 250. The first heat source device 12 is a combustion heat source device that heats water by burning gas, for example. The first heat source device 12 heats the water introduced from the water supply path 16 and sends the heated water to the tap furnace 18.

[0020] 바이패스로(20)의 상류단은 급수로(16)에 접속되어 있고, 바이패스로(20)의 하류단은 출탕로(18)에 접속되어 있다. 바이패스 서보(22)는 바이패스로(20)가 급수로(16)에 접속되는 부위에 설치되어 있다. 바이패스 서보(22)는, 내장된 밸브체의 개방도를 조정함으로써, 급수로(16)로부터 제1 열원기(12)를 경유하여 출탕로(18)로 흐르는 물의 유량과, 급수로(16)로부터 바이패스로(20)를 경유하여 출탕로(18)로 흐르는 물의 유량의 비율을 조정할 수 있다. 바이패스 서보(22)의 개방도를 조정함으로써, 바이패스로(20)가 접속되는 부위보다 하류 측의 출탕로(18)에는, 제1 열원기(12)로부터 유입되는 고온의 물과, 바이패스로(20)로부터 유입되는 저온의 물이 원하는 비율로 혼합되어 원하는 온도로 조절된 물이 공급된다. 바이패스로(20)가 접속되는 부위보다 하류 측의 출탕로(18)에는, 출탕로(18)의 물의 온도를 검출하는 출탕 온도 서미스터(thermistor)(18a)가 설치되어 있다.[0020] The upstream end of the bypass passage 20 is connected to the water supply passage 16, and the downstream end of the bypass passage 20 is connected to the hot water passage 18. The bypass servo 22 is installed at a site where the bypass passage 20 is connected to the water supply passage 16. The bypass servo 22 controls the flow rate of water flowing from the water supply passage 16 to the tap passage 18 via the first heat source device 12 and the water supply passage 16 by adjusting the opening degree of the built-in valve body. The ratio of the flow rate of water flowing from ) to the tap passage 18 via the bypass passage 20 can be adjusted. By adjusting the degree of opening of the bypass servo 22, the high-temperature water flowing in from the first heat source device 12 and the by- Low-temperature water introduced from the pass furnace 20 is mixed in a desired ratio, and water adjusted to a desired temperature is supplied. A hot water temperature thermistor 18a for detecting the temperature of water in the hot water path 18 is provided in the hot water path 18 downstream of the portion to which the bypass path 20 is connected.

[0021] 주탕로(24)의 상류단은 바이패스로(20)가 접속되는 부위보다 하류 측인 출탕로(18)에 접속되어 있으며, 주탕로(24)의 하류단은 순환 복귀로(32)에 접속되어 있다. 온수 채우기 밸브(26)는, 주탕로(24)에 설치되어 있으며, 주탕로(24)를 개폐한다. 온수 채우기 밸브(26)는 평상시에는 닫힘 상태로 되어 있다. 수량 센서(28)는 주탕로(24)에 설치되어 있으며, 주탕로(24)를 흐르는 물의 수량을 검출한다.[0021] The upstream end of the pouring furnace 24 is connected to the tap furnace 18, which is downstream of the portion to which the bypass furnace 20 is connected, and the downstream end of the pouring furnace 24 is a circulation return path 32 is connected to The hot water filling valve 26 is installed in the pouring furnace 24 and opens and closes the pouring furnace 24 . The hot water filling valve 26 is normally closed. The water quantity sensor 28 is installed in the pouring furnace 24 and detects the quantity of water flowing through the pouring furnace 24.

[0022] 순환 복귀로(32)의 상류단은 공기 가압 용해 유닛(50)의 열원 복귀로(60, 상세한 내용은 후술함)에 접속되어 있으며, 순환 복귀로(32)의 하류단은 제2 열원기(14)에 접속되어 있다. 또한, 순환 진행로(30)의 상류단은 제2 열원기(14)에 접속되어 있으며, 순환 진행로(30)의 하류단은 공기 가압 용해 유닛(50)의 열원 진행로(68, 상세한 내용은 후술함)에 접속되어 있다. 제2 열원기(14)는 예컨대 가스의 연소에 의해 물을 가열하는 연소 열원기이다. 제2 열원기(14)는, 순환 복귀로(32)로부터 유입되는 물을 가열하여 가열된 물을 순환 진행로(30)로 내보낸다. 순환 복귀로(32)의 상류단 근방에는 순환 복귀로(32)의 물의 온도를 검출하는 순환 복귀로 서미스터(32a)가 설치되어 있다. 순환 진행로(30)의 하류단 근방에는 순환 진행로(30)의 물의 온도를 검출하는 순환 진행로 서미스터(30a)가 설치되어 있다.[0022] The upstream end of the circulation return passage 32 is connected to the heat source return passage 60 (details will be described later) of the air pressure melting unit 50, and the downstream end of the circulation return passage 32 is the second It is connected to the heat source device 14. In addition, the upstream end of the circulation passage 30 is connected to the second heat source device 14, and the downstream end of the circulation passage 30 is the heat source passage 68 of the air pressure melting unit 50, details is connected to (described later). The second heat source device 14 is a combustion heat source device that heats water by burning gas, for example. The second heat source device 14 heats water flowing in from the circulation return passage 32 and sends the heated water to the circulation advance passage 30 . Near the upstream end of the return circuit 32, a thermistor 32a for detecting the temperature of water in the return circuit 32 is provided. Near the downstream end of the circulation passage 30, a circulation passage thermistor 30a for detecting the temperature of water in the circulation passage 30 is provided.

[0023] 욕조 순환 펌프(34)는 주탕로(24)의 접속 부위보다 하류 측의 순환 복귀로(32)에 설치되어 있으며, 순환 복귀로(32)의 물을 제2 열원기(14)를 향해 내보낸다. 수류 스위치(36)는 순환 복귀로(32)에서 욕조 순환 펌프(34)와 제2 열원기(14)의 사이에 설치되어 있으며, 순환 복귀로(32)를 물이 흐르고 있는지 여부를 검출한다.[0023] The bathtub circulation pump 34 is installed in the circulation return path 32 on the downstream side of the connection part of the pouring furnace 24, and the water in the circulation return path 32 is supplied to the second heat source device 14. send out towards The water flow switch 36 is installed between the bathtub circulation pump 34 and the second heat source device 14 in the circulation return path 32, and detects whether or not water is flowing through the circulation return path 32.

[0024] (공기 가압 용해 유닛(50)의 구성)[0024] (Configuration of air pressure melting unit 50)

공기 가압 용해 유닛(50)은 탱크(52), 열원 복귀로(60), 열원 진행로(68), 탱크 복귀로(74), 탱크 접속로(76), 탱크 진행로(64), 연통로(連通路, 66), 제1 삼방 밸브(three way valve)(80), 제2 삼방 밸브(82), 체크 밸브(check valve, 84), 탱크 급수 밸브(86), 제1 가압 펌프(88), 제2 가압 펌프(90), 탱크 흡인로(92), 탱크 순환 펌프(94), 기체 도입 기구(96)를 구비하고 있다.The air pressure melting unit 50 includes a tank 52, a heat source return passage 60, a heat source passage passage 68, a tank return passage 74, a tank connection passage 76, a tank passage passage 64, and a communication passage (連通路, 66), a first three-way valve (80), a second three-way valve (82), a check valve (check valve, 84), a tank water supply valve (86), a first pressure pump (88) ), a second pressure pump 90, a tank suction path 92, a tank circulation pump 94, and a gas introduction mechanism 96.

[0025] 탱크(52)는 내부에 물을 저류(貯留)할 수 있다. 탱크(52)의 내부에는, 탱크(52) 내의 수위(水位)를 검출하기 위한 저수위 전극(52a), 고수위 전극(52b) 및 접지(earth) 전극(52c)이 설치되어 있다. 저수위 전극(52a)에 의해 검출되는 수위(이하에서는 하한(下限) 수위라고도 함)는, 고수위 전극(52b)에 의해 검출되는 수위(이하에서는 상한(上限) 수위라고도 함)보다 낮다. 저수위 전극(52a), 고수위 전극(52b)은, 탱크(52) 내에 저류된 물의 수면에 접촉하면, 접지 전극(52c)과의 사이에서 전류가 흘러, 제어장치(150)에 ON 신호를 출력한다. 탱크(52)는 물에 공기를 가압 용해하여 공기 용해수를 생성하기 위해 이용된다.Tank 52 may store water therein. Inside the tank 52, a low water level electrode 52a, a high level electrode 52b and an earth electrode 52c for detecting the water level in the tank 52 are provided. The water level detected by the low water level electrode 52a (hereinafter also referred to as a lower limit water level) is lower than the water level detected by the high level electrode 52b (hereinafter also referred to as an upper limit water level). When the low water level electrode 52a and the high level electrode 52b come into contact with the surface of the water stored in the tank 52, current flows between them and the ground electrode 52c, and an ON signal is output to the controller 150. . The tank 52 is used to pressurize and dissolve air into water to produce air dissolved water.

[0026] 열원 복귀로(60)의 일단(一端)은 연통로(66)에 접속되어 있으며, 열원 복귀로(60)의 타단(他端)은 열원 유닛(10)의 순환 복귀로(32)에 접속되어 있다. 연통로(66)는 제1 삼방 밸브(80)와 제2 삼방 밸브(82)를 접속한다. 제1 삼방 밸브(80)에는 연통로(66), 제1 욕조 수로(62) 및 탱크 진행로(64)가 접속되어 있다. 제1 삼방 밸브(80)는, 탱크 진행로(64)와 제1 욕조 수로(62)가 연통되어 있는 제1 연통 상태(도 12, 도 13 참조)와, 탱크 진행로(64)와 연통로(66)가 연통되어 있는 제2 연통 상태(도 1 참조)와, 제1 욕조 수로(62), 탱크 진행로(64) 및 연통로(66)가 연통되는 제3 연통 상태(도 8, 도 9 참조)를 전환할 수가 있다. 탱크 진행로(64)의 상류단은 탱크(52)의 하부에 접속되어 있으며, 탱크 진행로(64)의 하류단은 제1 삼방 밸브(80)에 접속되어 있다. 탱크 진행로(64)에는, 탱크(52)로부터 제1 삼방 밸브(80)를 향해 물이 흐르는 것을 허용하고, 제1 삼방 밸브(80)로부터 탱크(52)를 향해 물이 흐르는 것을 금지하는 체크 밸브(84)가 설치되어 있다. 제1 욕조 수로(62)의 일단은 제1 삼방 밸브(80)에 접속되어 있으며, 제1 욕조 수로(62)의 타단은 욕조 어댑터(132)에 접속되어 있다.[0026] One end of the heat source return passage 60 is connected to the communication passage 66, and the other end of the heat source return passage 60 is the circulation return passage 32 of the heat source unit 10 is connected to The communication path 66 connects the first three-way valve 80 and the second three-way valve 82 . The first three-way valve 80 is connected to a communication passage 66, a first bathtub water passage 62, and a tank travel passage 64. The first three-way valve 80 is a first communication state in which the tank passage 64 and the first bathtub water passage 62 communicate (see FIGS. 12 and 13 ), and the tank passage 64 and the communication passage. 66 communicates with the second communication state (see FIG. 1), and the first bathtub water passage 62, the tank progress passage 64 and the communication passage 66 communicate with the third communication state (Fig. 8, FIG. 9) can be switched. The upstream end of the tank passage 64 is connected to the lower part of the tank 52, and the downstream end of the tank passage 64 is connected to the first three-way valve 80. In the tank path 64, there is a check that allows water to flow from the tank 52 toward the first three-way valve 80 and prohibits water from flowing from the first three-way valve 80 toward the tank 52. A valve 84 is installed. One end of the first bathtub water line 62 is connected to the first three-way valve 80, and the other end of the first bathtub water line 62 is connected to the bathtub adapter 132.

[0027] 열원 진행로(68)의 일단은 열원 유닛(10)의 순환 진행로(30)에 접속되어 있으며, 열원 진행로(68)의 타단은 제2 삼방 밸브(82)에 접속되어 있다. 제2 삼방 밸브(82)에는 연통로(66), 열원 진행로(68), 제2 욕조 수로(70)가 접속되어 있다. 제2 삼방 밸브(82)는, 제2 욕조 수로(70)와 연통로(66)가 연통되는 제4 연통 상태(도 12, 도 13 참조)와, 열원 진행로(68)와 제2 욕조 수로(70)가 연통되는 제5 연통 상태(도 1, 도 8, 도 9 참조)를 전환할 수가 있다. 제2 욕조 수로(70)의 일단은 제2 삼방 밸브(82)에 접속되어 있고, 제2 욕조 수로(70)의 타단은 욕조 어댑터(132)에 접속되어 있다.[0027] One end of the heat source passage 68 is connected to the circulation passage 30 of the heat source unit 10, and the other end of the heat source passage 68 is connected to the second three-way valve 82. A communication path 66, a heat source travel path 68, and a second bathtub water path 70 are connected to the second three-way valve 82. The second three-way valve 82 is in a fourth communication state (see Figs. 12 and 13) in which the second bathtub water passage 70 and the communication passage 66 communicate, and the heat source travel passage 68 and the second bathtub water passage. The fifth communication state (see Figs. 1, 8, and 9) in which 70 is communicated can be switched. One end of the second bathtub water line 70 is connected to the second three-way valve 82, and the other end of the second bathtub water line 70 is connected to the bathtub adapter 132.

[0028] 탱크 복귀로(74)의 상류단은 열원 진행로(68)에 접속되어 있으며, 탱크 복귀로(74)의 하류단은 탱크 접속로(76)의 상류단에 접속되어 있다. 탱크 접속로(76)의 하류단(이하에서는 유입구(76a)라고도 함)은 탱크(52)의 정상부에 접속되어 있다. 탱크 접속로(76)의 유입구(76a)가 탱크(52)에 접속되어 있는 부위의 수위는, 고수위 전극(52b)에 의해 검출되는 상한 수위보다 높다. 탱크 급수 밸브(86)는 탱크 복귀로(74)에 설치되어 있으며, 탱크 복귀로(74)를 개폐한다. 탱크 급수 밸브(86)는 평상시에는 닫힘 상태로 되어 있다. 제1 가압 펌프(88)와 제2 가압 펌프(90)는, 탱크 복귀로(74)에 있어서 탱크 급수 밸브(86)보다 하류 측에 설치되어 있다. 제1 가압 펌프(88)와 제2 가압 펌프(90)는 탱크 복귀로(74)의 물을 가압하여 탱크 접속로(76)를 향해 내보낸다. 탱크 복귀로(74)에 있어서, 제1 가압 펌프(88)는 제2 가압 펌프(90)보다 상류 측에 배치되어 있다. 탱크 복귀로(74)로부터 탱크 접속로(76)로 보내진 물은, 유입구(76a)를 통해 탱크(52)에 유입된다.[0028] The upstream end of the tank return path 74 is connected to the heat source travel path 68, and the downstream end of the tank return path 74 is connected to the upstream end of the tank connection path 76. The downstream end of the tank connection path 76 (hereinafter also referred to as an inlet 76a) is connected to the top of the tank 52. The water level at the site where the inlet 76a of the tank connection passage 76 is connected to the tank 52 is higher than the upper limit water level detected by the high level electrode 52b. The tank water supply valve 86 is installed in the tank return passage 74 and opens and closes the tank return passage 74. The tank water supply valve 86 is normally closed. The first pressurization pump 88 and the second pressurization pump 90 are provided downstream of the tank water supply valve 86 in the tank return path 74 . The first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 pressurize the water in the tank return passage 74 and send it toward the tank connection passage 76. In the tank return passage 74, the first pressure pump 88 is disposed upstream of the second pressure pump 90. Water sent from the tank return passage 74 to the tank connection passage 76 flows into the tank 52 through the inlet 76a.

[0029] 탱크 흡인로(92)의 상류단(이하에서는 유출구(92a)라고도 함)은, 탱크(52)의 바닥부에 접속되어 있다. 탱크 흡인로(92)의 유출구(92a)가 탱크(52)에 접속되어 있는 부위의 수위는, 저수위 전극(52a)에 의해 검출되는 하한 수위보다 낮다. 탱크 흡인로(92)의 하류단은 탱크 접속로(76)의 상류단에 접속되어 있다. 탱크 순환 펌프(94)는 탱크 흡인로(92)에 설치되어 있다. 탱크 순환 펌프(94)는, 탱크(52) 내의 물을 유출구(92a)를 통해 탱크 흡인로(92)로 흡입하는 동시에, 탱크 흡인로(92)의 물을 탱크 접속로(76)를 향해 내보낸다. 탱크 흡인로(92)로부터 탱크 접속로(76)로 보내진 물은 유입구(76a)를 통해 탱크(52)로 유입된다.[0029] The upstream end of the tank suction path 92 (hereinafter also referred to as an outlet 92a) is connected to the bottom of the tank 52. The water level at the site where the outlet 92a of the tank suction passage 92 is connected to the tank 52 is lower than the lower limit water level detected by the low water level electrode 52a. The downstream end of the tank suction passage 92 is connected to the upstream end of the tank connection passage 76 . A tank circulation pump 94 is installed in the tank suction path 92. The tank circulation pump 94 sucks the water in the tank 52 into the tank suction path 92 through the outlet 92a, and discharges the water in the tank suction path 92 toward the tank connection path 76. send. Water sent from the tank suction path 92 to the tank connection path 76 flows into the tank 52 through the inlet 76a.

[0030] 기체 도입 기구(96)는 탱크 순환 펌프(94)보다 상류 측인 탱크 흡인로(92)에 설치되어 있다. 기체 도입 기구(96)는 입수관(98)과 출수관(100)과 벤투리관(Venturi tube, 102)과 기체 도입로(104)와 제1 기체 도입 밸브(106)와 제2 기체 도입 밸브(108)를 구비하고 있다. 입수관(98)에는 탱크 흡인로(92)의 상류 측으로부터 물이 유입된다. 출수관(100)은 탱크 흡인로(92)의 하류 측으로 물을 유출시킨다. 벤투리관(102)은 입수관(98)과 출수관(100)을 연통하고 있다. 벤투리관(102)의 지름은 입수관(98)과 출수관(100)의 지름보다 작다. 기체 도입 기구(96)를 흐르는 물은, 입수관(98)으로부터 벤투리관(102)으로 흐를 때에 대기압보다 낮은 압력까지 감압(減壓)되고, 벤투리관(102)으로부터 출수관(100)으로 흐를 때에 원래의 압력까지 증가(增壓)된다. 기체 도입로(104)의 상류단(이하에서는 기체 도입구(110)라고도 함)은 대기에 개방되어 있으며, 하류단은 벤투리관(102)에 접속되어 있다. 제1 기체 도입 밸브(106)와 제2 기체 도입 밸브(108)는 기체 도입로(104)에 설치되어 있으며, 각각 기체 도입로(104)를 개폐한다. 기체 도입로(104)에 있어서, 제1 기체 도입 밸브(106)는 제2 기체 도입 밸브(108)보다 하류 측(벤투리관(102)에 가까운 쪽)에 배치되어 있다. 기체 도입 기구(96)를 물이 흐를 때에, 제1 기체 도입 밸브(106)와 제2 기체 도입 밸브(108) 모두 열려 있는 경우에는, 기체 도입구(110)로부터 기체 도입로(104)로 공기가 흡입되며, 벤투리관(102)을 흐르는 물에 공기가 혼합된다. 기체 도입 기구(96)에서 도입된 공기는, 탱크 흡인로(92)를 흐르는 물과 혼합되어, 탱크 접속로(76)를 통해 탱크(52)로 유입된다.[0030] The gas introduction mechanism 96 is installed in the tank suction passage 92 on the upstream side of the tank circulation pump 94. The gas introduction mechanism 96 includes an inlet pipe 98, an outlet pipe 100, a Venturi tube 102, a gas introduction passage 104, a first gas introduction valve 106, and a second gas introduction valve. (108) is provided. Water flows into the inlet pipe 98 from the upstream side of the tank suction path 92 . The water outlet pipe 100 discharges water to the downstream side of the tank suction path 92 . The venturi pipe 102 communicates the inlet pipe 98 and the outlet pipe 100. The diameter of the venturi pipe 102 is smaller than the diameters of the inlet pipe 98 and the outlet pipe 100. Water flowing through the gas introduction mechanism 96 is reduced to a pressure lower than atmospheric pressure when flowing from the inlet pipe 98 to the venturi pipe 102, and flows from the venturi pipe 102 to the water outlet pipe 100. As it flows, it increases to the original pressure. The upstream end of the gas introduction path 104 (hereinafter also referred to as the gas introduction port 110) is open to the atmosphere, and the downstream end is connected to the Venturi tube 102. The first gas introduction valve 106 and the second gas introduction valve 108 are installed in the gas introduction passage 104, and open and close the gas introduction passage 104, respectively. In the gas introduction passage 104, the first gas introduction valve 106 is disposed downstream of the second gas introduction valve 108 (closer to the Venturi tube 102). When water flows through the gas introduction mechanism 96 and both the first gas introduction valve 106 and the second gas introduction valve 108 are open, air flows from the gas introduction port 110 to the gas introduction passage 104. is sucked in, and air is mixed with the water flowing through the venturi tube 102. The air introduced from the gas introduction mechanism 96 is mixed with water flowing through the tank suction passage 92 and flows into the tank 52 through the tank connection passage 76 .

[0031] 설령 위와 같은 기체 도입 기구(96)를 탱크 복귀로(74)에 설치한 경우라 하더라도, 탱크 복귀로(74)로부터 탱크(52)로 물이 공급될 때에 기체 도입 기구(96)에서 공기를 도입할 수가 있다. 그러나 이러한 구성으로 하였을 경우, 탱크 복귀로(74)의 압력 손실이 커져, 제1 가압 펌프(88)와 제2 가압 펌프(90)에 의해 탱크(52)로 보내지는 물의 압력이 저하된다. 또한 이러한 구성으로 하였을 경우, 기체 도입 기구(96)에 있어서 도입되는 공기량을 증가시키면, 탱크(52)로 보내지는 물의 압력이 저감되고, 탱크(52)로 보내지는 물의 압력을 증가시키면, 기체 도입 기구(96)에 있어서 도입되는 공기량이 저감된다. 이에 대하여, 본 실시예에서는 탱크 복귀로(74)와는 별개로 설치된 탱크 흡인로(92)에 기체 도입 기구(96)가 설치되어 있기 때문에, 탱크 복귀로(74)의 압력 손실을 작게 할 수가 있다. 또한, 탱크 복귀로(74)로부터 탱크(52)로 높은 압력으로 물을 보내면서, 기체 도입 기구(96)에서 많은 양의 공기를 도입할 수가 있다.[0031] Even if the above gas introduction mechanism 96 is installed in the tank return path 74, when water is supplied from the tank return path 74 to the tank 52, the gas introduction mechanism 96 Air can be introduced. However, in this configuration, the pressure loss in the tank return path 74 increases, and the pressure of the water sent to the tank 52 by the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 decreases. In addition, in the case of such a configuration, when the amount of air introduced in the gas introduction mechanism 96 is increased, the pressure of the water sent to the tank 52 is reduced, and when the pressure of the water sent to the tank 52 is increased, the gas introduction The amount of air introduced into the mechanism 96 is reduced. In contrast, in this embodiment, since the gas introduction mechanism 96 is provided in the tank suction passage 92 provided separately from the tank return passage 74, the pressure loss in the tank return passage 74 can be reduced. . In addition, a large amount of air can be introduced by the gas introduction mechanism 96 while sending water from the tank return passage 74 to the tank 52 at a high pressure.

[0032] (기체 도입 기구(96)의 구성)[0032] (Configuration of Gas Introduction Mechanism 96)

도 2에 나타낸 바와 같이, 제1 기체 도입 밸브(106)와 제2 기체 도입 밸브(108)는 서로 마주하도록 배치되어 있다. 또한, 이하의 설명에서는 기체 도입로(104) 중, 벤투리관(102)과 제1 기체 도입 밸브(106) 사이의 부분을 제1 기체 도입로(104a)라고도 하고, 제1 기체 도입 밸브(106)와 제2 기체 도입 밸브(108) 사이의 부분을 제2 기체 도입로(104b)라고도 하며, 제2 기체 도입 밸브(108)와 기체 도입구(110) 사이의 부분을 제3 기체 도입로(104c)라고도 한다.As shown in Fig. 2, the first gas introduction valve 106 and the second gas introduction valve 108 are arranged to face each other. In the following description, the portion between the venturi tube 102 and the first gas introduction valve 106 of the gas introduction passage 104 is also referred to as the first gas introduction passage 104a, and the first gas introduction valve ( 106) and the second gas introduction valve 108 is also referred to as the second gas introduction passage 104b, and the portion between the second gas introduction valve 108 and the gas introduction port 110 is referred to as the third gas introduction passage. Also referred to as (104c).

[0033] 제1 기체 도입 밸브(106)는 밸브실(弁室, 106a)과 밸브 시트(106b)와 밸브체(106c)와 플런저(106d)와 코일(106e)과 스프링(106f)을 구비하고 있다. 밸브실(106a)은 제1 기체 도입로(104a)에 연통되어 있는 동시에, 밸브 시트(106b)를 통해 제2 기체 도입로(104b)에 연통되어 있다. 밸브체(106c)는 밸브 시트(106b)에 착좌(着座) 가능하며, 밸브체(106c)가 밸브 시트(106b)에 착좌하면, 밸브실(106a)과 제2 기체 도입로(104b)의 연통이 차단된다. 밸브체(106c)는 플런저(106d)의 선단(先端)에 유지되어 있다. 플런저(106d)는 자성 재료로 이루어지는 코어 (도시 생략)를 내장하고 있다. 코일(106e)은 통전(通電)되었을 때에, 플런저(106d)의 코어에 자기(磁氣) 흡인력을 작용시킨다. 즉, 코일(106e)은, 통전되었을 때에 밸브체(106c)가 밸브 시트(106b)로부터 반발 이격(離反)하는 방향의 자기 흡인력을 플런저(106d)에 작용시킨다. 스프링(106f)은, 밸브체(106c)가 밸브 시트(106b)에 착좌하는 방향의 가세력(付勢力, biasing force)을 플런저(106d)에 작용시킨다. 도 2에 나타낸 바와 같이, 코일(106e)에 통전되어 있지 않은 상태에서는, 스프링(106f)으로부터 플런저(106d)로 가세력이 작용함에 따라, 밸브체(106c)가 밸브 시트(106b)에 착좌하여, 제1 기체 도입 밸브(106)가 닫힌다. 도 3에 나타내는 바와 같이, 코일(106e)에 통전된 상태에서는, 스프링(106f)으로부터 플런저(106d)에 작용하는 가세력을 웃도는(상회(上廻)하는) 자기 흡인력이 코일(106e)로부터 플런저(106d)에 작용함에 따라, 밸브체(106c)가 밸브 시트(106b)로부터 반발 이격하여 제1 기체 도입 밸브(106)가 열린다. 또한, 제1 기체 도입 밸브(106)에서는, 제1 기체 도입로(104a)의 압력이 제2 기체 도입로(104b)의 압력보다 낮은 경우에, 그 차압(差壓)에 의해 밸브체(106c)가 밸브 시트(106b)로부터 반발 이격하는 방향의 힘이 플런저(106d)에 작용한다.[0033] The first gas introduction valve 106 includes a valve chamber 106a, a valve seat 106b, a valve body 106c, a plunger 106d, a coil 106e, and a spring 106f, there is. The valve chamber 106a communicates with the first gas introduction passage 104a and communicates with the second gas introduction passage 104b via the valve seat 106b. The valve body 106c can be seated on the valve seat 106b, and when the valve body 106c is seated on the valve seat 106b, communication between the valve chamber 106a and the second gas introduction passage 104b is established. this is blocked The valve body 106c is held at the tip of the plunger 106d. The plunger 106d contains a core (not shown) made of a magnetic material. When the coil 106e is energized, a magnetic attraction force acts on the core of the plunger 106d. That is, when the coil 106e is energized, the valve element 106c acts on the plunger 106d with a magnetic attraction force in a direction in which the valve element 106c repulses and moves away from the valve seat 106b. The spring 106f applies a biasing force to the plunger 106d in a direction in which the valve body 106c is seated on the valve seat 106b. As shown in Fig. 2, when the coil 106e is not energized, an urging force acts from the spring 106f to the plunger 106d, so that the valve body 106c is seated on the valve seat 106b, , the first gas introduction valve 106 is closed. As shown in FIG. 3 , when the coil 106e is energized, the magnetic attraction force exceeding (exceeding) the urging force acting on the plunger 106d from the spring 106f moves from the coil 106e to the plunger ( As 106d) acts, the valve body 106c moves away from the valve seat 106b to open the first gas introduction valve 106. Further, in the first gas introduction valve 106, when the pressure of the first gas introduction passage 104a is lower than the pressure of the second gas introduction passage 104b, the valve body 106c is caused by the differential pressure. ) acts on the plunger 106d.

[0034] 제2 기체 도입 밸브(108)는 밸브실(108a)과 밸브 시트(108b)와 밸브체(108c)와 플런저(108d)와 코일(108e)과 스프링(108f)을 구비하고 있다. 밸브실(108a)은 제3 기체 도입로(104c)에 연통되어 있는 동시에, 밸브 시트(108b)를 통해 제2 기체 도입로(104b)에 연통되어 있다. 밸브체(108c)는 밸브 시트(108b)에 착좌 가능하며, 밸브체(108c)가 밸브 시트(108b)에 착좌하면, 밸브실(108a)과 제2 기체 도입로(104b)의 연통이 차단된다. 밸브체(108c)는 플런저(108d)의 선단에 유지되어 있다. 플런저(108d)는 자성 재료로 이루어지는 코어(도시 생략)를 내장하고 있다. 코일(108e)은 통전되었을 때에 플런저(108d)의 코어에 자기 흡인력을 작용시킨다. 즉, 코일(108e)은 통전되었을 때에 밸브체(108c)가 밸브 시트(108b)로부터 반발 이격하는 방향의 자기 흡인력을 플런저(108d)에 작용시킨다. 스프링(108f)은, 밸브체(108c)가 밸브 시트(108b)에 착좌하는 방향의 가세력을 플런저(108d)에 작용시킨다. 도 2에 나타낸 바와 같이, 코일(108e)에 통전되어 있지 않은 상태에서는, 스프링(108f)으로부터 플런저(108d)로 가세력이 작용함에 따라, 밸브체(108c)가 밸브 시트(108b)에 착좌하여 제2 기체 도입 밸브(108)가 닫힌다. 도 3에 나타낸 바와 같이, 코일(108e)에 통전된 상태에서는, 스프링(108f)으로부터 플런저(108d)에 작용하는 가세력을 상회하는 자기 흡인력이 코일(108e)로부터 플런저(108d)에 작용함에 따라, 밸브체(108c)가 밸브 시트(108b)로부터 반발 이격하여 제2 기체 도입 밸브(108)가 열린다. 또한, 제2 기체 도입 밸브(108)에서는, 제2 기체 도입로(104b)의 압력이 제3 기체 도입로(104c)의 압력보다 낮은 경우에, 그 차압(差壓)에 의해 밸브체(108c)가 밸브 시트(108b)에 착좌하는 방향의 힘이 플런저(108d)에 작용한다.[0034] The second gas introduction valve 108 includes a valve chamber 108a, a valve seat 108b, a valve body 108c, a plunger 108d, a coil 108e, and a spring 108f. The valve chamber 108a communicates with the third gas introduction passage 104c and communicates with the second gas introduction passage 104b via the valve seat 108b. The valve body 108c can be seated on the valve seat 108b, and when the valve body 108c is seated on the valve seat 108b, communication between the valve chamber 108a and the second gas introduction passage 104b is cut off. . The valve body 108c is held at the tip of the plunger 108d. The plunger 108d incorporates a core (not shown) made of a magnetic material. When the coil 108e is energized, a magnetic attraction force is applied to the core of the plunger 108d. That is, when the coil 108e is energized, the valve element 108c acts on the plunger 108d with a magnetic attraction force in a direction in which the valve body 108c is repulsively separated from the valve seat 108b. The spring 108f applies an urging force to the plunger 108d in a direction in which the valve element 108c is seated on the valve seat 108b. As shown in Fig. 2, when the coil 108e is not energized, an urging force acts from the spring 108f to the plunger 108d, so that the valve body 108c is seated on the valve seat 108b, The second gas introduction valve 108 is closed. As shown in Fig. 3, when the coil 108e is energized, a magnetic attraction force exceeding the urging force acting on the plunger 108d from the spring 108f acts on the plunger 108d from the coil 108e. , the valve element 108c moves away from the valve seat 108b to open the second gas introduction valve 108. Further, in the second gas introduction valve 108, when the pressure of the second gas introduction passage 104b is lower than the pressure of the third gas introduction passage 104c, the valve body 108c is caused by the differential pressure. ) acts on the plunger 108d.

[0035] 제1 기체 도입 밸브(106)와 제2 기체 도입 밸브(108)가 모두 닫힌 상태(도 2 참조)로부터, 제1 기체 도입 밸브(106)와 제2 기체 도입 밸브(108)가 모두 열린 상태(도 3 참조)로 전환하는 경우에 대해 설명한다. 도 4에 나타낸 바와 같이, 먼저 제1 기체 도입 밸브(106)를 열면, 제2 기체 도입 밸브(108)가 닫힌 상태에서, 제1 기체 도입로(104a)와 제2 기체 도입로(104b)가 연통된다. 이 상태에서는 벤투리관(102)을 흐르는 물의 압력이 낮으면(즉 벤투리관(102)에서의 물의 부압이 크면), 제2 기체 도입로(104b)의 압력이 제3 기체 도입로(104c)의 압력보다 낮아지고, 그 차압이 제2 기체 도입 밸브(108)를 닫는 방향으로 작용한다. 이 때문에, 제2 기체 도입 밸브(108)를 원활하게 열기가 어려워진다. 이에 대하여, 도 5에 나타낸 바와 같이 먼저 제2 기체 도입 밸브(108)를 열 경우, 제2 기체 도입로(104b)는 제1 기체 도입로(104a)로부터 차단되어 있기 때문에, 제2 기체 도입로(104b)의 압력과 제3 기체 도입로(104c)의 압력 사이에 큰 차압은 발생하지 않아, 제2 기체 도입 밸브(108)를 원활하게 열 수가 있다. 또한, 도 5에 나타내는 상태에서는, 제2 기체 도입로(104b)는 제3 기체 도입로(104c)와 연통된다. 이 상태에서는 벤투리관(102)을 흐르는 물의 압력이 낮으면(즉, 벤투리관(102)에서의 물의 부압이 크면), 제1 기체 도입로(104a)의 압력이 제2 기체 도입로(104b)의 압력보다 낮아지고, 그 차압이 제1 기체 도입 밸브(106)를 여는 방향으로 작용한다. 이 때문에, 제1 기체 도입 밸브(106)를 원활하게 열 수가 있다.[0035] From the state in which both the first gas introduction valve 106 and the second gas introduction valve 108 are closed (see FIG. 2), both the first gas introduction valve 106 and the second gas introduction valve 108 are closed. A case of switching to an open state (see FIG. 3) will be described. As shown in Fig. 4, when the first gas introduction valve 106 is first opened, the first gas introduction passage 104a and the second gas introduction passage 104b are closed in the state where the second gas introduction valve 108 is closed. communicated In this state, when the pressure of the water flowing through the Venturi pipe 102 is low (ie, when the negative pressure of the water in the Venturi pipe 102 is high), the pressure in the second gas introduction passage 104b is reduced to the third gas introduction passage 104c. ), and the differential pressure acts in the direction of closing the second gas introduction valve 108. For this reason, it becomes difficult to open the 2nd gas introduction valve 108 smoothly. In contrast, as shown in FIG. 5 , when the second gas introduction valve 108 is first opened, the second gas introduction passage 104b is blocked from the first gas introduction passage 104a. A large differential pressure does not occur between the pressure in 104b and the pressure in the third gas introduction passage 104c, and the second gas introduction valve 108 can be opened smoothly. Moreover, in the state shown in FIG. 5, the 2nd gas introduction path 104b communicates with the 3rd gas introduction path 104c. In this state, when the pressure of water flowing through the Venturi tube 102 is low (ie, when the negative pressure of water in the Venturi tube 102 is high), the pressure of the first gas introduction passage 104a is reduced to the second gas introduction passage ( lower than the pressure of 104b), and the differential pressure acts in the direction of opening the first gas introduction valve 106. For this reason, the 1st gas introduction valve 106 can be opened smoothly.

[0036] 제1 기체 도입 밸브(106)와 제2 기체 도입 밸브(108)가 모두 열린 상태(도 3 참조)로부터, 제1 기체 도입 밸브(106)와 제2 기체 도입 밸브(108)가 모두 닫힌 상태(도 2 참조)로 전환하는 경우에 대해 설명한다. 도 4에 나타낸 바와 같이, 먼저 제2 기체 도입 밸브(108)를 닫을 경우, 제1 기체 도입 밸브(106)가 열려 있기 때문에, 제1 기체 도입로(104a)와 제2 기체 도입로(104b)가 연통되어 있다. 이 상태에서는 벤투리관(102)을 흐르는 물의 압력이 낮으면(즉, 벤투리관(102)에서의 물의 부압이 크면), 제2 기체 도입로(104b)의 압력이 제3 기체 도입로(104c)의 압력보다 낮아지고, 그 차압이 제2 기체 도입 밸브(108)를 닫는 방향으로 작용한다. 이 때문에, 제2 기체 도입 밸브(108)를 닫을 때에 밸브체(108c)가 밸브 시트(108b)에 힘차게 충돌하여, 소음의 발생이나 부품의 손상을 초래할 우려가 있다. 이에 대하여, 도 5에 나타낸 바와 같이, 먼저 제1 기체 도입 밸브(106)를 닫으면, 제2 기체 도입로(104b)는 제1 기체 도입로(104a)로부터 차단되므로, 제2 기체 도입로(104b)의 압력과 제3 기체 도입로(104c)의 압력 사이에 큰 차압은 생기지 않는다. 이 때문에, 제2 기체 도입 밸브(108)를 닫을 때에 밸브체(108c)가 밸브 시트(108b)에 힘차게 충돌하는 것을 억제할 수 있어, 소음의 발생이나 부품의 손상을 억제할 수가 있다.[0036] From the state in which both the first gas introduction valve 106 and the second gas introduction valve 108 are open (see FIG. 3), both the first gas introduction valve 106 and the second gas introduction valve 108 are The case of switching to the closed state (see Fig. 2) will be described. As shown in Fig. 4, when the second gas introduction valve 108 is closed first, the first gas introduction valve 106 is open, so the first gas introduction passage 104a and the second gas introduction passage 104b is in communication. In this state, when the pressure of water flowing through the Venturi tube 102 is low (ie, when the negative pressure of water in the Venturi tube 102 is high), the pressure in the second gas introduction passage 104b is reduced to the third gas introduction passage ( lower than the pressure of 104c), and the differential pressure acts in the direction of closing the second gas introduction valve 108. For this reason, when closing the 2nd gas introduction valve 108, the valve body 108c collides forcefully with the valve seat 108b, and there exists a possibility of generating noise and damaging a component. In contrast, as shown in FIG. 5 , when the first gas introduction valve 106 is first closed, the second gas introduction passage 104b is blocked from the first gas introduction passage 104a, so that the second gas introduction passage 104b ) and the pressure of the third gas introduction passage 104c, a large differential pressure does not arise. For this reason, when closing the 2nd gas introduction valve 108, it can suppress that the valve body 108c collides forcefully with the valve seat 108b, and generation of noise and damage to a component can be suppressed.

[0037] (욕조 어댑터(132)의 구성)[0037] (Configuration of bathtub adapter 132)

계속해서, 도 6의 (a), (b)를 참조하여 욕조(130)의 벽부(130a)에 설치된 욕조 어댑터(132)에 대해 설명한다. 도 6의 (a)는 제1 욕조 수로(62)로부터 욕조(130)를 향해 물이 흐르고, 욕조(130)로부터 제2 욕조 수로(70)를 향해 물이 흐르는 상태(예컨대, 도 12의 상태)인 경우의 욕조 어댑터(132)에서의 물의 흐름을 나타내고 있다. 도 6의 (b)는 욕조(130)로부터 제1 욕조 수로(62)를 향해 물이 흐르고, 제2 욕조 수로(70)로부터 욕조(130)를 향해 물이 흐르는 상태(예컨대, 도 9의 상태)인 경우의 욕조 어댑터(132)에서의 물의 흐름을 나타내고 있다.Subsequently, the bathtub adapter 132 installed on the wall portion 130a of the bathtub 130 will be described with reference to FIGS. 6(a) and (b). 6(a) shows a state in which water flows from the first bathtub waterway 62 toward the bathtub 130 and water flows from the bathtub 130 toward the second bathtub waterway 70 (eg, the state of FIG. 12 ). ), the flow of water in the bathtub adapter 132 is shown. 6(b) shows a state in which water flows from the bathtub 130 toward the first bathtub waterway 62 and water flows from the second bathtub waterway 70 toward the bathtub 130 (eg, the state of FIG. 9 ). ), the flow of water in the bathtub adapter 132 is shown.

[0038] 욕조 어댑터(132)는 제1 수로(136)와 제2 수로(138)를 구비한다. 제1 수로(136)는 제1 욕조 수로(62)와 연통되어 있으며, 제2 수로(138)는 제2 욕조 수로(70)와 연통되어 있다. 제1 수로(136)는 제1 토출로(吐出路)(136a)와 제1 흡입로(136b)로 분기되어 있다. 제1 토출로(136a)는 욕조 어댑터(132)의 전면(前面, 132a)에 형성된 제1 토출구(134a)와 연통되어 있다. 제1 토출구(134a)로부터 욕조(130)로 토출되는 물은, 욕조(130)의 벽부(130a)의 전방, 즉 욕조(130)의 벽부(130a)에 수직인 방향으로 토출된다. 제1 토출로(136a)에는, 욕조(130)로부터 제1 욕조 수로(62)로 향하는 물의 흐름을 방지하는 역류방지부(逆止部; 140a)와, 역류방지부(140a)보다 상류 측(제1 욕조 수로(62) 쪽)에 배치된 미세 기포 발생 노즐(142)이 설치되어 있다. 미세 기포 발생 노즐(142)은, 미세 기포 발생 노즐(142)을 통과하는 물을 감압시킨다. 제1 흡입로(136b)는 욕조 어댑터(132)의 전면(132a)에 형성된 제1 흡입구(134b)와 연통되어 있다. 제1 흡입로(136b)에는, 제1 욕조 수로(62)로부터 욕조(130)로 향하는 물의 흐름을 방지하는 역류방지부(140b)가 설치되어 있다.[0038] The bathtub adapter 132 includes a first waterway 136 and a second waterway 138. The first water passage 136 communicates with the first bathtub water passage 62, and the second water passage 138 communicates with the second bathtub water passage 70. The first water passage 136 is branched into a first discharge passage 136a and a first suction passage 136b. The first discharge path 136a communicates with the first discharge port 134a formed on the front surface 132a of the tub adapter 132. Water discharged from the first discharge port 134a into the bathtub 130 is discharged forward of the wall part 130a of the bathtub 130, that is, in a direction perpendicular to the wall part 130a of the bathtub 130. In the first discharge path 136a, a backflow prevention unit 140a for preventing the flow of water from the bathtub 130 toward the first bathtub waterway 62, and a side upstream of the backflow prevention unit 140a ( A micro-bubble generating nozzle 142 disposed on the first bathtub water passage 62 side) is installed. The micro-bubble generating nozzle 142 depressurizes the water passing through the micro-bubble generating nozzle 142 . The first suction path 136b communicates with the first suction port 134b formed on the front surface 132a of the tub adapter 132. A backflow prevention part 140b is installed in the first suction passage 136b to prevent the flow of water from the first bathtub water passage 62 toward the bathtub 130 .

[0039] 제2 수로(138)는, 제2 토출로(138a)와 제2 흡입로(138b)로 분기되어 있다. 제2 흡입로(138b)는 욕조 어댑터(132)의 전면(132a)에 형성된 제2 흡입구(134c)와 연통되어 있다. 제2 흡입로(138b)에는, 제2 욕조 수로(70)로부터 욕조(130)로 향하는 물의 흐름을 방지하는 역류방지부(140c)가 설치되어 있다. 제2 토출로(138a)는 욕조 어댑터(132)의 하면(132b)에 형성된 제2 토출구(134d)와 연통되어 있다. 제2 토출구(134d)로부터 토출되는 물은 하방, 즉 욕조(130)의 벽부(130a)에 평행한 방향으로 토출된다. 제2 토출로(138a)에는, 욕조(130)로부터 제2 욕조 수로(70)로 향하는 물의 흐름을 방지하는 역류방지부(140d)가 설치되어 있다.The second water passage 138 is branched into a second discharge passage 138a and a second suction passage 138b. The second intake passage 138b communicates with the second intake port 134c formed on the front surface 132a of the bathtub adapter 132. A backflow prevention part 140c for preventing the flow of water from the second bathtub waterway 70 toward the bathtub 130 is installed in the second suction passage 138b. The second discharge path 138a communicates with the second discharge port 134d formed on the lower surface 132b of the tub adapter 132. Water discharged from the second discharge port 134d is discharged downward, that is, in a direction parallel to the wall portion 130a of the bathtub 130 . In the second discharge path 138a, a backflow prevention unit 140d is installed to prevent the flow of water from the bathtub 130 toward the second bathtub waterway 70.

[0040] (제어장치(150)의 구성)[0040] (Configuration of control device 150)

도 1에 나타내는 제어장치(150)는 열원 유닛(10), 공기 가압 용해 유닛(50)의 각 구성요소의 동작을 제어한다. 제어장치(150)는 사용자가 조작할 수 있는 리모컨(154)과 통신 가능하게 구성되어 있다. 제어장치(150)는, 메모리(152)를 구비하고 있으며, 사용자가 입력한 온수 채우기 운전에서의 설정 온도나 설정 수량(水量), 데우기 운전에서의 설정 온도 등의 각종 설정을 기억할 수 있다. 사용자는 리모컨(154)을 통해 후술하는 온수 채우기 운전이나 미세 기포 발생 운전, 데우기 운전의 시작과 종료를 지시할 수가 있다.A controller 150 shown in FIG. 1 controls the operation of each component of the heat source unit 10 and the air pressure melting unit 50 . The control device 150 is configured to communicate with a remote control 154 that can be manipulated by a user. The control device 150 has a memory 152, and can store various settings input by the user, such as a set temperature or a set amount of water in the hot water filling operation, and a set temperature in the warming operation. The user may instruct the start and end of hot water filling operation, fine bubble generation operation, and warming operation to be described later through the remote controller 154 .

[0041] (온수 채우기 운전)[0041] (hot water filling operation)

온수 채우기 운전은 사용자가 리모컨(154)에서 온수 채우기 운전의 시작을 지시한 경우에 개시된다. 또는 온수 채우기 운전은 사용자가 리모컨(154)에서 온수 채우기 운전의 개시 시각을 설정해 두고, 제어장치(150)가 온수 채우기 운전의 개시 시각이 도래했다고 판단한 경우에 개시되어도 된다. 제어장치(150)는 온수 채우기 운전을 개시할 때에, 제1 삼방 밸브(80), 제2 삼방 밸브(82)를 각각 제3 연통 상태, 제5 연통 상태로 한다(도 8, 도 9 참조). 이 상태에서 제어장치(150)는 도 7에 나타낸 처리를 실행한다.The hot water filling operation is initiated when the user instructs the start of the hot water filling operation through the remote controller 154 . Alternatively, the hot water filling operation may be started when the user sets the start time of the hot water filling operation in the remote controller 154 and the controller 150 determines that the start time of the hot water filling operation has arrived. When starting the hot water filling operation, the controller 150 puts the first three-way valve 80 and the second three-way valve 82 into the third communication state and the fifth communication state, respectively (see Figs. 8 and 9). . In this state, the controller 150 executes the processing shown in FIG.

[0042] S2에서는, 제어장치(150)는 공기 빼기 처리를 실행한다. 구체적으로는, 제어장치(150)는 온수 채우기 밸브(26)를 여는 동시에, 제1 열원기(12)에 의한 물의 가열을 시작한다. 이로써, 도 4에 나타내는 바와 같이 설정 온도로 조절된 물이, 출탕로(18)로부터 주탕로(24)를 통해 순환 복귀로(32)로 유입된다. 순환 복귀로(32)로 유입된 물은 상류 측(즉 열원 복귀로(60))으로 향하는 흐름과, 하류 측(즉 제2 열원기(14))으로 향하는 흐름으로 분기된다. 순환 복귀로(32)로부터 열원 복귀로(60)로 흐르는 물은 연통로(66), 제1 삼방 밸브(80), 제1 욕조 수로(62), 욕조 어댑터(132)를 경유하여 욕조(130)로 유입된다. 또한, 순환 복귀로(32)로부터 제2 열원기(14)로 흐르는 물은 순환 진행로(30), 열원 진행로(68), 제2 삼방 밸브(82), 제2 욕조 수로(70), 욕조 어댑터(132)를 경유하여 욕조(130)로 유입된다. 이에 따라 제1 욕조 수로(62)와 제2 욕조 수로(70)의 내부가 물로 채워져, 제1 욕조 수로(62)와 제2 욕조수로(70)의 내부에 잔류하고 있는 공기가 욕조(130)로 배출된다. 제어장치(150)는 수량 센서(28)로 검출되는 적산(積算) 수량이 소정 값(예컨대 6L)에 도달하면, 온수 채우기 밸브(26)를 닫는 동시에, 제1 열원기(12)에 의한 가열을 종료하고 공기 빼기 처리를 종료한다.[0042] In S2, the control device 150 executes the air bleeding process. Specifically, the control device 150 opens the hot water filling valve 26 and starts heating the water by the first heat source device 12 . As a result, as shown in FIG. 4 , the water adjusted to the set temperature flows from the tap furnace 18 through the pouring furnace 24 to the circulation return path 32 . The water introduced into the circulation return passage 32 is branched into a flow toward the upstream side (ie, the heat source return passage 60) and a flow toward the downstream side (ie, the second heat source device 14). The water flowing from the circulation return path 32 to the heat source return path 60 passes through the communication path 66, the first three-way valve 80, the first bathtub water line 62, and the bathtub adapter 132 to return the bathtub 130. ) is introduced into In addition, the water flowing from the circulation return passage 32 to the second heat source device 14 is passed through the circulation passage 30, the heat source passage 68, the second three-way valve 82, the second bathtub water passage 70, It is introduced into the bathtub 130 via the bathtub adapter 132 . Accordingly, the insides of the first bathtub waterway 62 and the second bathtub waterway 70 are filled with water, and the air remaining inside the first bathtub waterway 62 and the second bathtub waterway 70 is removed from the bathtub 130. ) is released. When the accumulated water quantity detected by the water quantity sensor 28 reaches a predetermined value (for example, 6L), the controller 150 closes the hot water filling valve 26 and simultaneously heats the water by the first heat source device 12. and end the air bleeding process.

[0043] S4에서는, 제어장치(150)는 욕조(130)의 잔수(殘水) 검지 처리를 실행한다. 구체적으로는, 도 5에 나타낸 바와 같이, 제어장치(150)는 욕조 순환 펌프(34)를 구동하며, 수류 스위치(36)가 수류를 검출하는지 여부에 근거하여 욕조(130)에 잔수가 있는지 여부를 판단한다. 욕조(130)에 잔수가 없어, 욕조 어댑터(132)가 물에 잠겨 있지 않은 경우에는, 욕조 순환 펌프(34)를 구동하여도 수류 스위치(36)가 수류를 검지(檢知)하지 않는다. 이와는 다르게, 욕조(130)에 잔수가 있어, 욕조 어댑터(132)가 물에 잠겨 있는 경우에는, 욕조 순환 펌프(34)를 구동하면, 수류 스위치(36)가 수류를 검지한다. S4에서 욕조(130)에 잔수가 있는 경우(YES 인 경우), 처리는 S6으로 진행된다. S4에서 욕조(130)에 잔수가 없는 경우(NO인 경우), 처리는 S10으로 진행된다.[0043] In S4, the control device 150 executes residual water detection processing of the bathtub 130. Specifically, as shown in FIG. 5 , the control device 150 drives the bathtub circulation pump 34, and whether or not there is residual water in the bathtub 130 based on whether or not the water flow switch 36 detects the water flow. judge When there is no remaining water in the bathtub 130 and the bathtub adapter 132 is not submerged in water, the water flow switch 36 does not detect the water flow even when the bathtub circulation pump 34 is driven. In contrast, when there is still water in the bathtub 130 and the bathtub adapter 132 is submerged in water, when the bathtub circulation pump 34 is driven, the water flow switch 36 detects the water flow. If there is still water in the bathtub 130 at S4 (YES), the process proceeds to S6. If there is no remaining water in the bathtub 130 at S4 (NO), the process proceeds to S10.

[0044] S6에서는, 제어장치(150)는 욕조(130)의 잔수량의 판정 처리를 행한다. 구체적으로는 제어장치(150)는, 욕조 순환 펌프(34)를 구동하여 순환 복귀로 서미스터(32a)에서 검출되는 온도를 가열 전 온도로서 기억한다. 그 후, 제어장치(150)는 제2 열원기(14)에 의한 물의 가열을 시작한다. 이로써, 도 5에 나타내는 바와 같이 욕조(130)의 잔수가, 욕조 어댑터(132), 제1 욕조 수로(62), 제1 삼방 밸브(80), 연통로(66), 열원 복귀로(60), 순환 복귀로(32)를 경유하여 제2 열원기(14)로 보내진다. 제2 열원기(14)에 의해 가열된 잔수는, 순환 진행로(30), 열원 진행로(68), 제2 삼방 밸브(82), 제2 욕조 수로(70), 욕조 어댑터(132)를 경유하여 욕조(130)로 돌아온다. 순환 복귀로 서미스터(32a)에 의해 검출되는 온도가 설정 온도 이상이 되면, 제어장치(150)는, 순환 복귀로 서미스터(32a)에서 검출되는 온도를 가열 후 온도로서 기억한 후, 욕조 순환 펌프(34)를 정지하는 동시에, 제2 열원기(14)에 의한 물의 가열을 종료한다. 그리고 제어장치(150)는, 가열 후 온도에서 가열 전 온도를 뺀 승온(昇溫) 폭과, S6에서의 제2 열원기(14)에서의 적산(積算) 가열량으로부터, 욕조(130)의 잔수량을 산출한다.[0044] In S6, the controller 150 performs a determination process on the amount of remaining water in the bathtub 130. Specifically, the controller 150 drives the bathtub circulation pump 34 to store the temperature detected by the thermistor 32a as the pre-heating temperature during circulation return. After that, the control device 150 starts heating the water by the second heat source device 14 . As a result, as shown in FIG. 5 , remaining water in the bathtub 130 flows through the bathtub adapter 132, the first bathtub water passage 62, the first three-way valve 80, the communication passage 66, and the heat source return passage 60. , is sent to the second heat source device 14 via the circulation return path 32. The remaining water heated by the second heat source device 14 passes through the circulation path 30, the heat source path 68, the second three-way valve 82, the second bathtub water line 70, and the bathtub adapter 132. It returns to the bathtub 130 via. When the temperature detected by the thermistor 32a in the circulation return becomes equal to or higher than the set temperature, the controller 150 stores the temperature detected by the thermistor 32a in the circulation return as the temperature after heating, and then the bathtub circulation pump ( 34) is stopped, and the water heating by the second heat source device 14 is ended. Then, the controller 150 calculates the remaining temperature of the bathtub 130 from the temperature rise range obtained by subtracting the temperature after heating from the temperature before heating and the accumulated heating amount in the second heat source device 14 at S6. Calculate quantity.

[0045] S8에서는, 제어장치(150)는 온수 채우기 운전에서의 설정 수량으로부터, S6에서 판정된 욕조(130)의 잔수량을 감산하여 온수 채우기 운전에서의 설정 수량을 갱신한다.[0045] In S8, the controller 150 updates the set quantity in the hot water filling operation by subtracting the remaining water amount of the bathtub 130 determined in S6 from the set quantity in the hot water filling operation.

[0046] S10에서는 제어장치(150)는 온수 채우기 밸브(26)를 여는 동시에, 제1 열원기(12)에 의한 가열을 시작한다. 이로써, 도 4에 나타내는 바와 같이 설정 온도로 조절된 물이 출탕로(18)로부터 주탕로(24)를 통해 순환 복귀로(32)로 유입된다. 순환 복귀로(32)로 유입된 물은, 상류 측(즉 열원 복귀로(60))으로 향하는 흐름과 하류 측(즉 제2 열원기(14))으로 향하는 흐름으로 분기된다. 순환 복귀로(32)로부터 열원 복귀로(60)로 흐르는 물은, 연통로(66), 제1 삼방 밸브(80), 제1 욕조 수로(62), 욕조 어댑터(132)를 경유하여 욕조(130)로 유입된다. 순환 복귀로(32)로부터 제2 열원기(14)로 흐르는 물은, 순환 진행로(30), 열원 진행로(68), 제2 삼방 밸브(82), 제2 욕조 수로(70), 욕조 어댑터(132)를 경유하여 욕조(130)로 유입된다.[0046] In S10, the controller 150 opens the hot water filling valve 26 and starts heating by the first heat source device 12. As a result, as shown in FIG. 4 , water adjusted to a set temperature flows from the tap furnace 18 through the pouring furnace 24 to the circulation return path 32 . The water introduced into the circulation return passage 32 is branched into a flow toward the upstream side (ie, the heat source return passage 60) and a flow toward the downstream side (ie, the second heat source device 14). The water flowing from the circulation return passage 32 to the heat source return passage 60 passes through the communication passage 66, the first three-way valve 80, the first bathtub water passage 62, and the bathtub adapter 132 to the bathtub ( 130). The water flowing from the circulation return path 32 to the second heat source device 14 flows through the circulation path 30, the heat source path 68, the second three-way valve 82, the second bathtub water line 70, and the bathtub. It flows into the bathtub 130 via the adapter 132 .

[0047] S12에서는 제어장치(150)는 수량 센서(28)가 검출하는 적산 수량이, 온수 채우기 운전에서의 설정 수량에 도달할 때까지 대기한다. 또한, 여기서 말하는 적산 수량은, S2의 공기 빼기 처리에서 수량 센서(28)가 검출한 적산 수량과, S10에서 욕조(130)에 대한 온수 채우기를 시작하고 나서의 적산 수량을 합산한 것이다. 적산 수량이 설정 수량에 도달하면(YES가 되면), 처리는 S14로 진행된다.[0047] In S12, the controller 150 waits until the integrated quantity detected by the quantity sensor 28 reaches the set quantity in the hot water filling operation. Incidentally, the integrated water quantity referred to here is the sum of the integrated water quantity detected by the water quantity sensor 28 in the air bleeding process of S2 and the integrated water quantity after starting to fill the bathtub 130 with hot water in S10. When the accumulated quantity reaches the set quantity (if YES), the process proceeds to S14.

[0048] S14에서는 제어장치(150)는 온수 채우기 밸브(26)를 닫는 동시에, 제1 열원기(12)에 의한 물의 가열을 종료한다.[0048] In S14, the controller 150 closes the hot water filling valve 26 and ends the heating of the water by the first heat source device 12.

[0049] S16에서는 제어장치(150)는 욕조 순환 펌프(34)를 구동하여 순환 복귀로 서미스터(32a)에서 검출되는 온도를 욕조 물 온도로서 취득한다. 그리고 제어장치(150)는 욕조물 온도가 설정 온도 이상인지 여부를 판단한다. 욕조 물 온도가 설정 온도에 미치지 않는 경우(NO인 경우), 처리는 S18로 진행된다. 욕조 물 온도가 설정 온도 이상인 경우(YES인 경우), 처리는 S20으로 진행된다.[0049] In S16, the controller 150 drives the bathtub circulation pump 34 to obtain the temperature detected by the thermistor 32a as the bathtub water temperature by returning the circulation. Then, the control device 150 determines whether the temperature of the bathtub water is equal to or higher than the set temperature. If the bath water temperature does not reach the set temperature (NO), the process proceeds to S18. If the bathtub water temperature is equal to or higher than the set temperature (YES), the process proceeds to S20.

[0050] S18에서는 제어장치(150)는 욕조(130)의 물을 데우는 처리를 실행한다. 구체적으로는, 제어장치(150)는 욕조 순환 펌프(34)를 구동하는 동시에, 제2 열원기(14)에 의한 물의 가열을 시작한다. 이로써, 도 5에 나타내는 바와 같이 욕조(130)의 물이 욕조 어댑터(132), 제1 욕조 수로(62), 제1 삼방 밸브(80), 연통로(66), 열원 복귀로(60), 순환 복귀로(32)를 경유하여 제2 열원기(14)로 보내진다. 제2 열원기(14)에 의해 가열된 물은 순환 진행로(30), 열원 진행로(68), 제2 삼방 밸브(82), 제2 욕조 수로(70), 욕조 어댑터(132)를 경유하여 욕조(130)로 돌아온다. 순환 복귀로 서미스터(32a)에서 검출되는 온도가 설정 온도 이상이 되면, 제어장치(150)는 욕조 순환 펌프(34)를 정지하는 동시에, 제2 열원기(14)에 의한 물의 가열을 종료한다.[0050] In S18, the controller 150 executes a process of heating the water in the bathtub 130. Specifically, the controller 150 starts heating the water by the second heat source device 14 while driving the bathtub circulation pump 34 . As a result, as shown in FIG. 5 , water in the bathtub 130 flows through the bathtub adapter 132, the first bathtub water passage 62, the first three-way valve 80, the communication passage 66, the heat source return passage 60, It is sent to the second heat source device 14 via the circulation return path 32. The water heated by the second heat source unit 14 passes through the circulation path 30, the heat source path 68, the second three-way valve 82, the second bathtub water line 70, and the bathtub adapter 132. and returns to the bathtub 130. When the temperature detected by the thermistor 32a becomes equal to or higher than the set temperature by returning the circulation, the controller 150 stops the bathtub circulation pump 34 and ends the water heating by the second heat source device 14.

[0051] S20에서는 제어장치(150)는 온수 채우기 운전이 완료되었음을 리모컨(154)을 통해 사용자에게 통지한다. S20 후에, 도 3의 처리는 종료된다.In S20, the control device 150 notifies the user through the remote control 154 that the hot water filling operation is completed. After S20, the process of Fig. 3 ends.

[0052] (미세 기포 발생 운전)[0052] (Microbubble generation operation)

미세 기포 발생 운전은, 사용자가 리모컨(154)에 있어서 미세 기포 발생 운전의 시작을 지시한 경우에 개시된다. 또한, 본 실시예의 온수 장치(2)에서는, 상기한 온수 채우기 운전이 완료된 후에 자동으로 미세 기포 발생 운전도 개시된다. 즉, 온수 채우기 운전의 실행에 연동하여 미세 기포 발생 운전이 실행된다. 제어장치(150)는, 미세 기포 발생 운전을 개시할 때에 제1 삼방 밸브(80), 제2 삼방 밸브(82)를 각각 제3 연통 상태, 제5 연통 상태로 한다(도 4, 도 5 참조). 이 상태에서 제어장치(150)는 도 6에 나타낸 처리를 실행한다.The micro-bubble generation operation is initiated when the user instructs the remote controller 154 to start the micro-bubble generation operation. In addition, in the hot water apparatus 2 of this embodiment, after the hot water filling operation described above is completed, the micro-bubble generation operation is automatically started. That is, the micro-bubble generation operation is executed in conjunction with the execution of the hot water filling operation. Controller 150 sets first three-way valve 80 and second three-way valve 82 to a third communication state and a fifth communication state, respectively, when microbubble generating operation is started (see Figs. 4 and 5). ). In this state, the controller 150 executes the processing shown in FIG.

[0053] S32에서는 제어장치(150)는 냉수 완화 처리를 실행한다. 구체적으로는 제어장치(150)는, 순환 진행로 서미스터(30a)나 순환 복귀로 서미스터(32a)에서 검출되는 온도가 소정 온도 이하인 경우에 욕조 순환 펌프(34)를 구동하는 동시에, 제2 열원기(14)에 의한 물의 가열을 시작한다. 이 냉수 완화 처리에 의해, 순환 진행로(30)나 순환 복귀로(32)의 내부에 저온의 물이 잔류하고 있는 경우에, 도 5에 나타낸 바와 같이, 그 저온의 물은 열원 진행로(68), 제2 삼방 밸브(82), 제2 욕조 수로(70)를 경유하여 욕조 어댑터(132)로 유입되며, 욕조 어댑터(132)의 하면(132b)의 제2 토출구(134d)로부터 욕조(130)로 배출된다. 이 때문에, 설령 사용자가 욕조(130)에서 목욕하고 있는 경우라 하더라도, 저온의 물이 직접 사용자의 신체를 향해 토출되는 것을 억제할 수가 있다. 냉수 완화 처리의 시작으로부터 소정 시간이 경과하면, 제어장치(150)는 욕조 순환 펌프(34)를 정지하는 동시에, 제2 열원기(14)에 의한 물의 가열을 종료하고 냉수 완화 처리를 종료한다.[0053] In S32, the control device 150 executes a cold water relief process. Specifically, the controller 150 drives the bathtub circulation pump 34 when the temperature detected by the thermistor 30a in the circulation path or thermistor 32a in the circulation return path is equal to or less than a predetermined temperature, and the second heat source device. Start heating the water by (14). When low-temperature water remains inside the circulation path 30 or the circulation return path 32 by this cold water relaxation treatment, as shown in FIG. 5, the low-temperature water is the heat source path 68 ), the second three-way valve 82, and the second bathtub water line 70, and flows into the bathtub adapter 132, and is introduced into the bathtub 130 from the second discharge port 134d of the lower surface 132b of the bathtub adapter 132. ) is released. For this reason, even if the user is taking a bath in the bathtub 130, it is possible to suppress the discharge of low-temperature water directly toward the user's body. When a predetermined time elapses from the start of the cold water relaxation process, the controller 150 stops the bathtub circulation pump 34, ends the water heating by the second heat source device 14, and ends the cold water relaxation process.

[0054] S34에서는 제어장치(150)는 제2 기체 도입 밸브(106)를 연다. [0054] In S34, the controller 150 opens the second gas introduction valve 106.

[0055] S36에서는 제어장치(150)는 탱크 순환 펌프(94)를 구동한다. 이에 따라, 탱크(52)와, 탱크 흡인로(92) 및 탱크 접속로(76) 사이에서의 물의 순환이 시작된다. 또한, S34에서 탱크 순환 펌프(94)를 구동할 때에는, 제어장치(150)는 탱크 순환 펌프(94)의 회전수가 표준 회전수보다 높은 회전수(예컨대 표준 회전수의 120%인 회전수)가 되도록, 탱크 순환 펌프(94)를 제어한다. [0055] In S36, the controller 150 drives the tank circulation pump 94. Accordingly, circulation of water between the tank 52, the tank suction path 92 and the tank connection path 76 starts. Further, when the tank circulation pump 94 is driven in S34, the controller 150 determines that the rotational speed of the tank circulation pump 94 is higher than the standard rotational speed (for example, the rotational speed that is 120% of the standard rotational speed). The tank circulation pump 94 is controlled as much as possible.

[0056] S38에서는 제어장치(150)는 제1 기체 도입 밸브(106)를 연다. 이에 따라, 탱크 흡인로(92)의 기체 도입 기구(96)를 흐르는 물에 공기가 도입된다.[0056] In S38, the controller 150 opens the first gas introduction valve 106. As a result, air is introduced into the water flowing through the gas introducing mechanism 96 of the tank suction passage 92 .

[0057] S40에서는 제어장치(150)는 탱크 순환 펌프(94)의 회전수가 표준 회전수가 되도록, 탱크 순환 펌프(94)를 제어한다. 이에 따라, 탱크 순환 펌프(94)가 내보내는 물의 유량이 저감된다.[0057] In S40, the controller 150 controls the tank circulation pump 94 so that the rotation speed of the tank circulation pump 94 becomes the standard rotation speed. Accordingly, the flow rate of the water discharged by the tank circulation pump 94 is reduced.

[0058] S42에서는 제어장치(150)는 탱크(52)로부터 욕조(130)로의 공기 용해수의 공급을 시작한다. 구체적으로는, 도 7에 나타낸 바와 같이, 제어장치(150)는 제1 삼방 밸브(80)를 제1 연통 상태로 하고, 제2 삼방 밸브(82)를 제4 연통 상태로 한 다음, 욕조 순환 펌프(34)와 제1 가압 펌프(88)와 제2 가압 펌프(90)를 구동한다. 이에 따라, 욕조(130)의 물이 욕조 어댑터(132), 제2 욕조 수로(70), 제2 삼방 밸브(82), 연통로(66), 열원 복귀로(60), 순환 복귀로(32), 제2 열원기(14), 순환 진행로(30), 열원 진행로(68), 탱크 복귀로(74), 탱크 접속로(76)를 경유하여 탱크(52)에 공급된다. 이 때, 탱크(52)에는 제1 가압 펌프(88)와 제2 가압 펌프(90)에 의해 가압된 물이 공급된다. 이에 따라, 탱크(52)의 내부에서 물에 공기가 가압 용해된다. 그리고 공기가 가압 용해된 물은, 탱크(52)로부터 탱크 진행로(64), 제1 삼방 밸브(80), 제1 욕조 수로(62), 욕조 어댑터(132)를 경유하여 욕조(130)로 공급된다. 이 때 공기가 가압 용해된 물은, 욕조 어댑터(132)의 제1 토출로(136a)의 미세 기포 발생 노즐(142)을 통과할 때에 대기압 이하까지 감압되며, 욕조(130)로 분출될 때에 대기압까지 증가하여, 욕조(130)의 물에 미세 기포가 발생한다.[0058] In S42, the controller 150 starts the supply of air dissolved water from the tank 52 to the bathtub 130. Specifically, as shown in FIG. 7 , the controller 150 sets the first three-way valve 80 to a first communication state and the second three-way valve 82 to a fourth communication state, and then the bathtub circulates. The pump 34, the first pressure pump 88, and the second pressure pump 90 are driven. Accordingly, the water in the bathtub 130 flows through the bathtub adapter 132, the second bathtub water line 70, the second three-way valve 82, the communication passage 66, the heat source return passage 60, and the circulation return passage 32. ), the second heat source machine 14, the circulation path 30, the heat source path 68, the tank return path 74, and the tank connection path 76 via the tank 52 is supplied. At this time, water pressurized by the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 is supplied to the tank 52 . In this way, the air is pressurized and dissolved in the water inside the tank 52 . Then, the water in which the air is pressurized and dissolved is transferred from the tank 52 to the bathtub 130 via the tank path 64, the first three-way valve 80, the first bathtub water line 62, and the bathtub adapter 132. are supplied At this time, the water in which the air is dissolved under pressure is reduced to atmospheric pressure or less when passing through the micro-bubble generating nozzle 142 of the first discharge passage 136a of the bathtub adapter 132, and the atmospheric pressure when ejected into the bathtub 130. increases to , and fine bubbles are generated in the water in the bathtub 130 .

[0059] 도 10에 나타내는 S44에서는 제어장치(150)는, 도 11에 나타내는 공기 도입량 조정 처리를 실행한다.In S44 shown in FIG. 10 , the controller 150 executes the air introduction amount adjustment process shown in FIG. 11 .

[0060] 도 11에 나타내는 S62에서는 제어장치(150)는 저수위 전극(52a)으로부터의 검출 신호에 근거하여, 탱크(52)의 수위가 하한 수위를 밑도는지 여부를 판단한다. 본 실시예에서는 기체 도입 기구(96)에 있어서, 기체 도입 밸브(106)가 열려 있을 때에 도입되는 공기량은, 욕조(130)의 물에서 발생하는 미세 기포의 공기량보다 많다. 이 때문에, 기체 도입 밸브(106)를 연 상태에서는 탱크(52) 내의 공기량이 증대해 가며, 탱크(52)의 수위는 하강해 간다. 탱크(52)의 수위가 하한 수위를 밑도는 경우(YES인 경우), 처리는 S64로 진행된다. 탱크(52)의 수위가 하한 수위 이상인 경우(NO인 경우), 처리는 S68로 진행된다.[0060] In S62 shown in FIG. 11, the controller 150 determines whether or not the water level in the tank 52 is lower than the lower limit water level based on the detection signal from the low water level electrode 52a. In the present embodiment, in the gas introduction mechanism 96, the amount of air introduced when the gas introduction valve 106 is open is greater than the amount of air in fine bubbles generated in the water in the bathtub 130. For this reason, in the state where the gas introduction valve 106 is opened, the amount of air in the tank 52 increases, and the water level in the tank 52 goes down. If the water level in the tank 52 is below the lower limit water level (YES), the process proceeds to S64. If the water level in the tank 52 is equal to or higher than the lower limit water level (NO), the process proceeds to S68.

[0061] S64에서는 제어장치(150)는 제1 기체 도입 밸브(106)를 닫는다. 이에 따라, 탱크 흡인로(92)의 기체 도입 기구(96)를 흐르는 물에 대한 공기의 도입이 정지된다. 또한, 본 실시예에서는 제1 기체 도입 밸브(106)가 닫혀 있는 동안에도 탱크 순환 펌프(94)의 구동은 그대로 계속된다. 이에 따라, 탱크(52) 내에서의 물의 유동이 촉진되며, 탱크(52)에서의 물에 대한 공기의 가압 용해가 촉진된다.[0061] In S64, the controller 150 closes the first gas introduction valve 106. Accordingly, introduction of air to water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank suction path 92 is stopped. Further, in this embodiment, even while the first gas introduction valve 106 is closed, the driving of the tank circulation pump 94 continues as it is. Accordingly, the flow of water in the tank 52 is promoted, and the pressure dissolution of the air into the water in the tank 52 is promoted.

[0062] S66에서는 제어장치(150)는 제2 기체 도입 밸브(108)를 닫는다.[0062] In S66, the controller 150 closes the second gas introduction valve 108.

[0063] S68에서는 제어장치(150)는, 고수위 전극(52b)으로부터의 검출 신호에 근거하여, 탱크(52)의 수위가 상한 수위 이상인지 여부를 판단한다. 제1 기체 도입 밸브(106) 및 제2 기체 도입 밸브(108)를 닫은 상태에서는 탱크(52)에 공기가 공급되지 않기 때문에, 탱크(52) 내의 공기량이 감소해 가며, 탱크(52)의 수위가 상승해 간다. 탱크(52)의 수위가 상한 수위 이상인 경우(YES인 경우), 처리는 S70으로 진행된다. 탱크(52)의 수위가 상한 수위를 밑도는 경우(NO인 경우), 도 11의 처리는 종료되며 처리는 S46(도 10 참조)으로 진행된다.[0063] In S68, the controller 150 determines whether or not the water level in the tank 52 is equal to or higher than the upper limit water level, based on the detection signal from the high level electrode 52b. Since air is not supplied to the tank 52 when the first gas introduction valve 106 and the second gas introduction valve 108 are closed, the amount of air in the tank 52 decreases and the water level in the tank 52 decreases. goes up If the water level in the tank 52 is equal to or higher than the upper limit water level (YES), the process proceeds to S70. If the water level in the tank 52 is below the upper limit water level (NO), the processing in Fig. 11 ends and the processing proceeds to S46 (see Fig. 10).

[0064] S70에서는 제어장치(150)는 제2 기체 도입 밸브(108)를 연다.[0064] In S70, the controller 150 opens the second gas introduction valve 108.

[0065] S72에서는 제어장치(150)는 제2 가압 펌프(90)를 정지한다. 이에 따라 제1 가압 펌프(88), 제2 가압 펌프(90)가 내보내는 물의 유량이 저감된다.[0065] In S72, the controller 150 stops the second pressure pump 90. Thereby, the flow rate of the water discharged by the 1st pressure pump 88 and the 2nd pressure pump 90 is reduced.

[0066] S74에서는 제어장치(150)는 탱크 순환 펌프(94)의 회전수가 표준 회전수보다 높은 회전수(예컨대 표준 회전수의 120%인 회전수)가 되도록, 탱크 순환 펌프(94)를 제어한다. 이에 따라, 탱크 순환 펌프(94)가 내보내는 물의 유량이 증대된다.[0066] In S74, the controller 150 controls the tank circulation pump 94 so that the rotational speed of the tank circulation pump 94 is higher than the standard rotational speed (eg, 120% of the standard rotational speed). do. Accordingly, the flow rate of the water discharged by the tank circulation pump 94 is increased.

[0067] S76에서는 제어장치(150)는 제1 기체 도입 밸브(106)를 연다. 이에 따라, 탱크 흡인로(92)의 기체 도입 기구(96)를 흐르는 물에 대한 공기의 도입이 재개된다.[0067] In S76, the controller 150 opens the first gas introduction valve 106. Thereby, introduction of air to the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank suction path 92 is resumed.

[0068] S78에서는 제어장치(150)는 탱크 순환 펌프(94)의 회전수가 표준 회전수가 되도록, 탱크 순환 펌프(94)를 제어한다. 이에 따라, 탱크 순환 펌프(94)가 내보내는 물의 유량이 저감된다.[0068] In S78, the controller 150 controls the tank circulation pump 94 so that the rotation speed of the tank circulation pump 94 becomes the standard rotation speed. Accordingly, the flow rate of the water discharged by the tank circulation pump 94 is reduced.

[0069] S80에서는 제어장치(150)는 제2 가압 펌프(90)의 구동을 재개한다. 이에 따라 제1 가압 펌프(88), 제2 가압 펌프(90)가 내보내는 물의 유량이 증대된다. S80 후에 도 11의 처리는 종료되며, 처리는 S46(도 10 참조)으로 진행된다.[0069] In S80, the controller 150 resumes driving the second pressure pump 90. Accordingly, the flow rate of water discharged from the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 is increased. After S80, the process of Fig. 11 ends, and the process proceeds to S46 (see Fig. 10).

[0070] 도 10의 S46에서는 제어장치(150)는 미세 기포 발생 운전의 운전 시간이 설정 시간에 도달했는지 여부를 판단한다. 여기서 미세 기포 발생 운전의 운전 시간은, 미세 기포 발생 운전을 시작하고 나서의 경과 시간이다. 본 실시예의 온수 장치(2)에서는, 온수 채우기 운전의 실행과 연동하지 않고, 미세 기포 발생 운전이 단독으로 실행될 경우, 설정 시간은 예컨대 10 분간으로 설정되어 있다. 이와는 다르게, 온수 채우기 운전의 실행과 연동하여 미세 기포 발생 운전이 실행될 경우, 설정 시간은 예컨대 30 분간으로 설정되어 있다. 운전 시간이 설정 시간에 도달하지 않은 경우(NO인 경우), 처리는 S44로 돌아간다. 운전 시간이 설정 시간에 도달하면(YES가 되면), 처리는 S48로 진행된다.[0070] In S46 of FIG. 10 , the control device 150 determines whether or not the operation time of the micro-bubble generating operation reaches the set time. Here, the operating time of the micro-bubble generating operation is the elapsed time from the start of the micro-bubble generating operation. In the hot water apparatus 2 of the present embodiment, when the micro-bubble generating operation is executed alone without interlocking with the execution of the hot water filling operation, the set time is set to, for example, 10 minutes. Contrary to this, when the micro-bubble generation operation is executed in conjunction with the execution of the hot water filling operation, the set time is set to, for example, 30 minutes. If the operation time has not reached the set time (NO), the process returns to S44. When the driving time reaches the set time (if YES), the processing proceeds to S48.

[0071] S48에서는 제어장치(150)는 욕조 순환 펌프(34)와 제1 가압 펌프(88)와 제2 가압 펌프(90)를 정지하여, 탱크(52)로부터 욕조(130)로의 공기 용해수의 공급을 종료한다.[0071] In S48, the controller 150 stops the bathtub circulation pump 34, the first pressurization pump 88, and the second pressurization pump 90, so that the air dissolved water flows from the tank 52 to the bathtub 130. end the supply of

[0072] S50에서는 제어장치(150)는 제1 기체 도입 밸브(106)가 열려 있는 경우에는, 제1 기체 도입 밸브(106)를 닫는다. 이에 따라, 탱크 흡인로(92)의 기체 도입 기구(96)를 흐르는 물에 대한 공기의 도입이 종료된다.[0072] In S50, the controller 150 closes the first gas introduction valve 106 when the first gas introduction valve 106 is open. In this way, introduction of air into the water flowing through the gas introducing mechanism 96 of the tank suction path 92 is completed.

[0073] S52에서는 제어장치(150)는 제2 기체 도입 밸브(108)가 열려 있는 경우에는, 제2 기체 도입 밸브(108)를 닫는다.[0073] In S52, the controller 150 closes the second gas introduction valve 108 when the second gas introduction valve 108 is open.

[0074] S54에서는 제어장치(150)는, 탱크 세정 처리를 실행한다. 구체적으로는, 제어장치(150)는, 온수 채우기 밸브(26)를 여는 동시에, 제1 열원기(12)에 의한 물의 가열을 시작한다. 이로써, 도 13에 나타내는 바와 같이, 설정 온도로 조절된 물이 출탕로(18)로부터 주탕로(24)를 통해 순환 복귀로(32)로 유입된다. 순환 복귀로(32)로 유입된 물은, 상류 측(즉 열원 복귀로(60))으로 향하는 흐름과, 하류 측(즉 제2 열원기(14))으로 향하는 흐름으로 분기된다. 순환 복귀로(32)로부터 열원 복귀로(60)로 흐르는 물은, 연통로(66), 제2 삼방 밸브(82), 제2 욕조 수로(70), 욕조 어댑터(132)를 경유하여 욕조(130)로 유입된다. 또한, 순환 복귀로(32)로부터 제2 열원기(14)로 흐르는 물은, 순환 진행로(30), 열원 진행로(68), 탱크 복귀로(74), 탱크 접속로(76), 탱크(52), 탱크 진행로(64), 제1 삼방 밸브(80), 제1 욕조 수로(62), 욕조 어댑터(132)를 경유하여 욕조(130)로 유입된다. 이로써, 탱크(52)의 내부와, 탱크 흡인로(92), 탱크 접속로(76)가 세정된다.[0074] In S54, the controller 150 executes the tank cleaning process. Specifically, the control device 150 starts heating the water by the first heat source device 12 at the same time as opening the hot water filling valve 26 . As a result, as shown in FIG. 13 , water adjusted to the set temperature flows from the tap furnace 18 through the pouring furnace 24 to the circulation return path 32 . The water flowing into the circulation return passage 32 is branched into a flow toward the upstream side (ie, the heat source return passage 60) and a flow toward the downstream side (ie, the second heat source device 14). Water flowing from the circulation return passage 32 to the heat source return passage 60 passes through the communication passage 66, the second three-way valve 82, the second bathtub water passage 70, and the bathtub adapter 132 to the bathtub ( 130). In addition, the water flowing from the circulation return path 32 to the second heat source device 14 flows through the circulation path 30, the heat source path 68, the tank return path 74, the tank connection path 76, and the tank. 52, the tank progress path 64, the first three-way valve 80, the first bathtub water line 62, and the bathtub adapter 132, and flows into the bathtub 130. In this way, the inside of the tank 52, the tank suction path 92, and the tank connection path 76 are cleaned.

[0075] S56에서는 제어장치(150)는 탱크 순환 펌프(94)를 정지한다. 이에 따라 탱크(52)와, 탱크 흡인로(92) 및 탱크 접속로(76) 사이에서의 물의 순환이 종료된다. S56 후에 도 10의 처리는 종료된다.[0075] In S56, the controller 150 stops the tank circulation pump 94. Thereby, the circulation of water between the tank 52, the tank suction path 92, and the tank connection path 76 is terminated. After S56, the process of Fig. 10 ends.

[0076] (데우기 운전)[0076] (heating operation)

데우기 운전은, 사용자가 리모컨(154)에서 데우기 운전의 시작을 지시한 경우에 개시된다. 제어장치(150)는 데우기 운전을 시작할 때에, 제1 삼방 밸브(80)를 제3 연통 상태로 하고, 또한 제2 삼방 밸브(82)를 제5 연통 상태로 한다(도 8, 도 9 참조). 이 상태에서, 제어장치(150)는 욕조 순환 펌프(34)를 구동하는 동시에, 제2 열원기(14)에 의한 물의 가열을 시작한다. 이에 따라, 도 9에 나타내는 바와 같이 욕조(130)의 물이, 욕조 어뎁터(132), 제1 욕조 수로(62), 제1 삼방 밸브(80), 연통로(66), 열원 복귀로(60), 순환 복귀로(32)를 경유하여 제2 열원기(14)로 보내진다. 제2 열원기(14)에 의해 가열된 물은, 순환 진행로(30), 열원 진행로(68), 제2 삼방 밸브(82), 제2 욕조 수로(70), 욕조 어댑터(132)를 경유하여 욕조(130)로 돌아온다. 순환 복귀로 서미스터(32a)에서 검출되는 온도가 설정 온도 이상이 되면, 제어장치(150)는 욕조 순환 펌프(34)를 정지하는 동시에, 제2 열원기(14)에 의한 물의 가열을 종료한다. 그 후, 제어장치(150)는 데우기 운전이 완료되었음을, 리모컨(154)을 통해 사용자에게 알리고 데우기 운전을 종료한다.The warming operation is started when the user instructs the start of the warming operation with the remote controller 154 . When starting the warming operation, the controller 150 puts the first three-way valve 80 into a third communication state and also puts the second three-way valve 82 into a fifth communication state (see FIGS. 8 and 9). . In this state, the controller 150 drives the bathtub circulation pump 34 and starts heating water by the second heat source device 14. Accordingly, as shown in FIG. 9 , the water in the bathtub 130 flows through the bathtub adapter 132, the first bathtub water passage 62, the first three-way valve 80, the communication passage 66, and the heat source return passage 60. ), and is sent to the second heat source device 14 via the circulation return path 32. The water heated by the second heat source device 14 passes through the circulation path 30, the heat source path 68, the second three-way valve 82, the second bathtub water line 70, and the bathtub adapter 132. It returns to the bathtub 130 via. When the temperature detected by the thermistor 32a becomes equal to or higher than the set temperature by returning the circulation, the controller 150 stops the bathtub circulation pump 34 and ends the water heating by the second heat source device 14. After that, the control device 150 notifies the user through the remote controller 154 that the warming operation is completed, and ends the warming operation.

[0077] (변형예)[0077] (modified example)

상기 온수 장치(2)에 있어서, 미세 기포 발생 운전을 실행할 때에, 제어장치(150)가 도 10의 S44의 공기 도입량 조정 처리에 있어서, 도 11에 나타내는 처리를 실행하는 대신에 도 14에 나타내는 처리를 실행할 수도 있다. 이하에서는, 도 14 나타내는 처리에 관하여, 도 11에 나타내는 처리와 상이한 점을 설명하도록 한다.In the hot water device 2, when executing the fine-bubble generating operation, the control device 150 performs the process shown in FIG. 14 instead of executing the process shown in FIG. 11 in the air introduction amount adjustment process in S44 of FIG. can also be run. In the following, the processing shown in FIG. 14 will be described in terms of differences from the processing shown in FIG. 11 .

[0078] 도 14에 나타내는 처리에서는 우선 S82에 있어서, 제어장치(150)는, S38(도 10 참조) 또는 S76에서 제1 기체 도입 밸브(106)를 열고 나서의 경과 시간이, 제1 소정 시간에 도달할 때까지 대기한다. 제1 소정 시간은, 제1 기체 도입 밸브(106) 및 제2 기체 도입 밸브(108)를 연 상태에 있어서, 탱크(52)의 수위가 상한 수위로부터 하한 수위까지 하강할 때까지의 상정(想定)되는 시간이며, S46(도 10 참조)의 설정 시간보다 짧은 시간이다. 제1 기체 도입 밸브(106)를 열고 나서의 경과 시간이 제1 소정 시간에 도달하면(YES가 되면), 처리는 S64로 진행된다.[0078] In the process shown in Fig. 14, first, in S82, the controller 150 determines that the elapsed time from opening the first gas introduction valve 106 in S38 (see Fig. 10) or S76 is the first predetermined time. wait until it reaches The first predetermined time period is assumed until the water level in the tank 52 drops from the upper limit water level to the lower limit water level in the state where the first gas introduction valve 106 and the second gas introduction valve 108 are opened. ), and is shorter than the set time of S46 (see FIG. 10). If the elapsed time from opening the first gas introduction valve 106 reaches the first predetermined time (if YES), the process proceeds to S64.

[0079] 또한, 도 14에 나타내는 처리에서는, S66 후에, 처리는 S84로 진행된다. S84에서는 제어장치(150)는, S64에서 제1 기체 도입 밸브(106)를 닫고 나서의 경과 시간이 제2 소정 시간에 도달할 때까지 대기한다. 제2 소정 시간은, 제1 기체 도입 밸브(106) 및/또는 제2 기체 도입 밸브(108)를 닫은 상태에 있어서, 탱크(52)의 수위가 하한 수위로부터 상한 수위까지 상승할 때까지의 상정되는 시간이며, S46(도 10 참조)의 설정 시간보다 짧은 시간이다. 제1 기체 도입 밸브(106)를 닫고 나서의 경과 시간이 제2 소정 시간에 도달하면(YES가 되면), 처리는 S70으로 진행된다.[0079] In the process shown in Fig. 14, after S66, the process proceeds to S84. In S84, the controller 150 waits until the elapsed time after closing the first gas introduction valve 106 in S64 reaches the second predetermined time. The second predetermined time is assumed until the water level in the tank 52 rises from the lower limit water level to the upper limit water level in a state where the first gas introduction valve 106 and/or the second gas introduction valve 108 is closed. It is a time that is shorter than the set time of S46 (see FIG. 10). If the elapsed time from closing the first gas introduction valve 106 reaches the second predetermined time (if YES), the process proceeds to S70.

[0080] 도 14에 나타낸 처리에 의하면, 저수위 전극(52a)이나 고수위 전극(52b)으로부터의 검출 신호를 이용하지 않고, 제1 기체 도입 밸브(106)나 제2 기체 도입 밸브(108)의 개폐를 전환할 수가 있다.[0080] According to the processing shown in FIG. 14, the first gas introduction valve 106 and the second gas introduction valve 108 are opened and closed without using detection signals from the low water level electrode 52a or the high level electrode 52b. can switch

[0081] (기타 변형예)[0081] (other variations)

상기 온수 장치(2)에 있어서, 온수 채우기 운전의 실행에 연동하여 실행되는 미세 기포 발생 운전에서는, 도 10의 S32의 냉수 완화 처리를 생략해도 된다.In the hot water device 2, in the micro-bubble generation operation executed in conjunction with the execution of the hot water filling operation, the cold water relaxation process in S32 of FIG. 10 may be omitted.

[0082] 상기 온수 장치(2)에 있어서, 도 10의 S54의 탱크 세정 처리를 생략해도 된다.[0082] In the hot water device 2, the tank cleaning process in S54 of FIG. 10 may be omitted.

[0083] 상기 온수 장치(2)에 있어서, 도 10의 S46의 운전 시간의 판정 처리에서, 운전 시간이 설정 시간에 도달한 경우라 하더라도, 리모컨(154)을 통해 사용자에 의해 미세 기포 발생 운전의 종료가 지시될 때까지는 S48로 진행하지 않고, S44로 돌아가 미세 기포 발생 운전을 계속하도록 할 수도 있다.[0083] In the hot water apparatus 2, in the operation time determination process of S46 of FIG. 10, even when the operation time reaches the set time, the user via the remote controller 154 generates fine bubbles. It is also possible not to proceed to S48 until the end is instructed, but to return to S44 and continue the microbubble generating operation.

[0084] 상기 온수 장치(2)에 있어서, 도 10의 S34와 S36의 처리 순서를 바꿀 수 있다. 즉, 제어장치(150)는 S32의 냉수 완화 처리 후, S36에서 탱크 순환 펌프(94)를 구동하고, 그 후에 S34에서 제2 기체 도입 밸브(108)를 열어도 된다.[0084] In the hot water device 2, the processing sequence of S34 and S36 in FIG. 10 can be changed. That is, the controller 150 may drive the tank circulation pump 94 in S36 after the cold water relaxation treatment in S32, and then open the second gas introduction valve 108 in S34.

[0085] 상기 온수 장치(2)에 있어서, 도 11 또는 도 14의 S64에서 제1 기체 도입 밸브(106)를 닫은 후, 제어장치(150)가 탱크 순환 펌프(94)를 정지하여도 된다. 이 경우, 그 후의 S74에 있어서, 제어장치(150)는 탱크 순환 펌프(94)를 다시 구동하여, 탱크 순환 펌프(94)의 회전수가 표준 회전수보다 높은 회전수(예컨대 표준 회전수의 120%인 회전수)가 되도록, 탱크 순환 펌프(94)를 제어한다.[0085] In the hot water device 2, after the first gas introduction valve 106 is closed in S64 of FIG. 11 or 14, the controller 150 may stop the tank circulation pump 94. In this case, in a subsequent S74, the controller 150 drives the tank circulation pump 94 again so that the rotational speed of the tank circulation pump 94 is higher than the standard rotational speed (e.g., 120% of the standard rotational speed). rotation speed), the tank circulation pump 94 is controlled.

[0086] 상기 온수 장치(2)에 있어서, 도 11 또는 도 14의 S70, S72, S74의 처리 순서를 바꾸어도 된다. 예컨대, 제어장치(150)는 도 11의 S68 또는 도 14의 S84에서 YES 인 경우에, 먼저 S72에서 제2 가압 펌프(90)를 정지하고, 및/또는 S74에서 탱크 순환 펌프(94)의 회전수를 표준 회전수보다 높은 회전수로 하며, 그 후에 S70에서 제2 기체 도입 밸브(108)를 열어도 된다.[0086] In the hot water device 2, the processing order of S70, S72, and S74 in FIG. 11 or FIG. 14 may be changed. For example, in the case of YES in S68 of FIG. 11 or S84 of FIG. 14, the controller 150 first stops the second pressure pump 90 in S72 and/or rotates the tank circulation pump 94 in S74. The number may be set to a higher rotational speed than the standard rotational speed, and then the second gas introduction valve 108 may be opened in S70.

[0087] 상기 온수 장치(2)에 있어서, 제어장치(150)는 도 11 또는 도 14의 S72에서 제2 가압 펌프(90)를 정지하는 대신에, 제1 가압 펌프(88) 및/또는 제2 가압 펌프(90)의 회전수가 표준 회전수보다 낮은 회전수(예컨대 표준 회전수의 80%의 회전수)가 되도록, 제1 가압 펌프(88) 및/또는 제2 가압 펌프(90)의 회전수를 제어할 수도 있다. 이와 같은 구성으로 한 경우에도, S72의 처리에 의해, 제1 가압 펌프(88), 제2 가압 펌프(90)가 내보내는 물의 유량을 저감시킬 수가 있다. 또한, 이 경우에는, 제어장치(150)는 도 11 또는 도 14의 S80에서 제2 가압 펌프(90)의 구동을 재개하는 대신에, 제1 가압 펌프(88) 및/또는 제2 가압 펌프(90)의 회전수가 표준 회전수가 되도록, 제1 가압 펌프(88) 및/또는 제2 가압 펌프(90)의 회전수를 제어하여도 된다.[0087] In the hot water device 2, the control device 150 instead of stopping the second pressure pump 90 in S72 of FIG. 11 or 14, operates the first pressure pump 88 and/or 2 Rotation of the first pressure pump 88 and/or the second pressure pump 90 such that the rotation speed of the pressure pump 90 is lower than the standard rotation speed (eg, 80% of the standard rotation speed). You can also control the number. Even when it is set as such a structure, the flow rate of the water discharged by the 1st pressure pump 88 and the 2nd pressure pump 90 can be reduced by the process of S72. In addition, in this case, the control device 150 instead of restarting the driving of the second pressure pump 90 in S80 of FIG. 11 or FIG. 14, the first pressure pump 88 and / or the second pressure pump ( The rotation speed of the 1st pressure pump 88 and/or the 2nd pressure pump 90 may be controlled so that the rotation speed of 90 may become a standard rotation speed.

[0088] 상기 온수 장치(2)에 있어서, 온수 채우기 운전의 실행에 연동하여 미세 기포 발생 운전을 실행할 경우에는, 도 7의 S20의 온수 채우기 종료의 알림(통지)을, 온수 채우기 운전의 종료시에는 하지 않고, 미세 기포 발생 운전의 실행 중에 행해도 된다. 보다 자세하게는, 미세 기포 발생 운전의 운전 시간이 욕조(130)의 물에 충분히 미세 기포를 발생시킬 수 있는 소정의 알림 시간(예컨대 2 분)에 도달한 후에, 온수 채우기 종료의 알림을 실행해도 된다. 이러한 구성으로 함으로써, 사용자가 욕실에 들어가는 타이밍을 늦출 수 있어, 욕조(130)의 물에 미세 기포를 충분히 발생시키기 전에 사용자가 욕실에 들어가는 것을 억제할 수가 있다.[0088] In the hot water device 2, when the micro-bubble generation operation is executed in conjunction with the execution of the hot water filling operation, a notification (notice) of the completion of the hot water filling operation is given in S20 of FIG. 7, and at the end of the hot water filling operation Alternatively, it may be performed during execution of the fine-bubble generating operation. More specifically, after the operating time of the microbubble generation operation reaches a predetermined notification time (for example, 2 minutes) sufficient to generate microbubbles in the water in the bathtub 130, the hot water filling end notification may be executed. . With this configuration, the timing for the user to enter the bathroom can be delayed, and it is possible to suppress the user from entering the bathroom before sufficiently generating fine bubbles in the water in the bathtub 130.

[0089] 상기 온수 장치(2)에 있어서, 온수 채우기 운전의 실행에 연동하여 미세 기포 발생 운전을 실행할지 여부를 사용자가 리모컨(154)을 통해 전환할 수 있도록 하여도 된다.[0089] In the hot water device 2, the user may be able to switch through the remote controller 154 whether to execute the micro-bubble generation operation in conjunction with the execution of the hot water filling operation.

[0090] 상기 온수 장치(2)에서는 탱크(52)에 공기가 도입되고 있지만, 공기 대신에 탄산 가스, 수소, 산소 등의 기체가 탱크(52)에 도입되어도 된다. 이 경우, 기체가 충전되어 있는 기체 충전 탱크(도시생략)를 기체 도입로(104)의 기체 도입구(110)에 접속하는 구성으로 하면 된다.[0090] In the hot water device 2, air is introduced into the tank 52, but instead of air, gases such as carbon dioxide, hydrogen, and oxygen may be introduced into the tank 52. In this case, a gas filling tank (not shown) filled with gas may be configured to be connected to the gas introduction port 110 of the gas introduction path 104 .

[0091] 상기 온수 장치(2)에서는, 온수 채우기 운전에 있어서, 수량 센서(28)에 의해 검출되는 적산 수량에 근거하여, 욕조(130)에 설정 수량의 물을 채운다. 이와는 다르게, 온수 장치(2)는 예컨대 욕조(130)의 수위를 검출할 수 있는 수위 센서를 설치해 두고, 온수 채우기 운전에 있어서 수위 센서에 의해 검출되는 욕조(130)의 수위에 근거하여, 욕조(130)에 설정 수위의 물을 채우는 구성으로 할 수도 있다.[0091] In the hot water device 2, in the hot water filling operation, the tub 130 is filled with a set amount of water based on the accumulated amount of water detected by the water quantity sensor 28. Unlike this, the hot water device 2 has, for example, installed a water level sensor capable of detecting the water level of the bathtub 130, and based on the water level of the bathtub 130 detected by the water level sensor in the hot water filling operation, the bathtub ( 130) may be configured to fill the set level of water.

[0092] 상기 온수 장치(2)에서는, 열원 유닛(10)이 수도꼭지(250)에 접속되고, 공기 가압 용해 유닛(50)이 욕조(130)에 접속되어 있다. 이와는 다르게, 열원 유닛(10)이 다른 온열(溫熱) 이용 장소(箇所)에 접속되어 있어도 되고, 공기 가압 용해 유닛(50)이 다른 액조(液槽)에 접속되어 있어도 된다.[0092] In the hot water device 2, the heat source unit 10 is connected to the faucet 250, and the air pressure dissolution unit 50 is connected to the bathtub 130. Alternatively, the heat source unit 10 may be connected to another heat utilization location, or the air pressure melting unit 50 may be connected to another liquid tank.

[0093] 상기 온수 장치(2)에 있어서, 탱크 흡인로(92)의 탱크 순환 펌프(94)보다 하류 측에, 탱크 흡인로(92)의 상류 측으로부터 하류 측으로의 물의 흐름을 허용하고, 탱크 흡인로(92)의 하류 측으로부터 상류 측으로의 물의 흐름을 금지하는 체크 밸브(도시 생략)를 설치해도 된다. 탱크 흡인로(92)에 체크 밸브를 설치함으로써, 제1 가압 펌프(88), 제2 가압 펌프(90)의 구동 중에 탱크 순환 펌프(94)를 정지시킨 경우라 하더라도, 제1 가압 펌프(88), 제2 가압 펌프(90)에 의해 탱크 복귀로(74)로부터 내보내지는 물이 탱크 흡인로(92)를 역류하는 것을 억제할 수가 있다.[0093] In the hot water device 2, the flow of water from the upstream side of the tank suction path 92 to the downstream side of the tank suction path 92 downstream of the tank circulation pump 94 is allowed, and the tank You may provide a check valve (not shown) which prohibits the flow of water from the downstream side of the suction path 92 to the upstream side. Even if the tank circulation pump 94 is stopped while the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 are driven by installing a check valve in the tank suction path 92, the first pressure pump 88 ), it is possible to suppress the reverse flow of the water discharged from the tank return path 74 by the second pressure pump 90 through the tank suction path 92.

[0094] 상기 온수 장치(2)에서는, 탱크 흡인로(92)에 있어서 기체 도입 기구(96)가 탱크 순환 펌프(94)보다 상류 측에 배치되어 있다. 이와는 다르게, 탱크 흡인로(92)에 있어서, 기체 도입 기구(96)가 탱크 순환 펌프(94)보다 하류 측에 배치되어 있어도 된다.[0094] In the hot water device 2, the gas introduction mechanism 96 is disposed upstream of the tank circulation pump 94 in the tank suction path 92. Alternatively, in the tank suction passage 92 , the gas introduction mechanism 96 may be disposed downstream of the tank circulation pump 94 .

[0095] 상기 온수 장치(2)에서는, 탱크 복귀로(74)의 하류단과 탱크 흡인로(92)의 하류단이, 공통의 탱크 접속로(76)를 통해 탱크(52)에 접속되어 있다. 이와는 다르게, 도 15에 나타내는 바와 같이, 공기 가압 용해 유닛(50)이 탱크 접속로(76)를 구비하고 있지 않으며, 탱크 복귀로(74)의 하류단(이하에서는 유입구(74a)라고도 함)과, 탱크 흡인로(92)의 하류단(이하에서는 유입구(92b)라고도 함)이 각각 별개로 탱크(52)에 접속되는 구성으로 해도 된다. 이 경우, 탱크 복귀로(74)를 흐르는 물은 유입구(74a)를 통해 탱크(52)에 유입되고, 탱크 흡인로(92)를 흐르는 물은 유입구(92b)를 통해 탱크(52)에 유입된다.[0095] In the hot water device 2, the downstream end of the tank return passage 74 and the downstream end of the tank suction passage 92 are connected to the tank 52 via a common tank connection passage 76. 15, the air pressure melting unit 50 does not have a tank connection passage 76, and the downstream end of the tank return passage 74 (hereinafter also referred to as an inlet 74a) and , The downstream end of the tank suction path 92 (hereinafter, also referred to as an inlet 92b) may be configured to be connected to the tank 52 separately. In this case, water flowing through the tank return path 74 flows into the tank 52 through the inlet 74a, and water flowing through the tank suction path 92 flows into the tank 52 through the inlet 92b. .

[0096] 이상과 같이, 하나 또는 그 이상의 실시형태에 있어서, 온수 장치(2; 미세 기포 발생 장치의 예)는, 물(액체의 예)에 공기(기체의 예)를 가압 용해하는 탱크(52)와, 탱크(52)에 물을 공급하는 탱크 복귀로(74), 탱크 접속로(76)(탱크 공급로의 예)와, 탱크 복귀로(74)에 설치된 제1 가압 펌프(88), 제2 가압 펌프(90) (가압 펌프의 예)와, 탱크(52)로부터 욕조(130; 액조의 예)로 공기가 가압 용해된 물을 배출하는 탱크 진행로(64), 제1 욕조 수로(62), 욕조 어댑터(132)(탱크 배출로의 예)와, 욕조 어댑터(132)에 설치되어 있고, 공기가 가압 용해된 물을 감압하여 미세 기포를 발생시키는 미세 기포 발생 노즐(142)과, 탱크 진행로(64), 제1 욕조 수로(62), 욕조 어댑터(132)와는 별개로 설치되어 있고, 탱크(52)에 접속된 유출구(92a)로부터 탱크(52)에 접속된 유입구(76a)로 물을 보내는 탱크 흡인로(92), 탱크 접속로(76)(탱크 순환로의 예)와, 탱크 흡인로(92)에 설치된 탱크 순환 펌프(94)와, 탱크 흡인로(92)에 설치된 기체 도입 기구(96)와, 제어장치(150)를 구비하고 있다. 기체 도입 기구(96)는 물을 감압하여 통과시키는 벤투리관(102; 감압부의 예)과, 벤투리관(102)에서의 물의 부압에 의해 공기를 도입하는 기체 도입구(110)와, 벤투리관(102)과 기체 도입구(110)를 연통하는 기체 도입로(104)와, 기체 도입로(104)에 설치되어 있으며, 기체 도입로(104)를 개폐하는 제1 기체 도입 밸브(106)와, 기체 도입로(104)에 있어서 제1 기체 도입 밸브(106)와 기체 도입구(110)의 사이에 설치되어 있으며, 기체 도입로(104)를 개폐하는 제2 기체 도입 밸브(106)를 구비하고 있다. 제1 기체 도입 밸브(106)는, 벤투리관(102)에서의 물의 부압이 작용했을 때에, 제1 기체 도입 밸브(106)를 여는 방향의 힘을 받도록 구성되어 있다. 제2 기체 도입 밸브(108)는, 벤투리관(102)에서의 물의 부압이 작용했을 때에, 제2 기체 도입 밸브(108)를 닫는 방향의 힘을 받도록 구성되어 있다. 제어장치(150)는, 제1 가압 펌프(88), 제2 가압 펌프(90)를 구동하여 탱크 복귀로(74), 탱크 접속로(76)로부터 탱크(52)로 물을 가압하여 공급하는 동시에, 탱크(52)로부터 탱크 진행로(64), 제1 욕조 수로(62), 욕조 어댑터(132)를 통해 욕조(130)로 공기가 가압 용해된 물을 공급하는, 미세 기포 발생 운전을 실행할 수 있다. 제어장치(150)는 미세 기포 발생 운전의 실행 중에, 탱크 순환 펌프(94)에 의해 탱크(52)의 물을 탱크 흡인로(92), 탱크 접속로(76)에서 순환시켜, 기체 도입 기구(96)의 벤투리관(102)에 부압을 발생시키는 탱크 순환 운전을 실행할 수 있다. 제어장치(150)는, 제1 기체 도입 밸브(106)와 제2 기체 도입 밸브(108) 모두를 닫은 상태로부터 연 상태로 할 경우에, 먼저 제2 기체 도입 밸브(108)를 열고, 그 후에 제1 기체 도입 밸브(106)를 열도록 구성되어 있다.[0096] As described above, in one or more embodiments, the hot water device 2 (example of a micro-bubble generating device) includes a tank 52 for pressurizing and dissolving air (example of gas) in water (example of liquid). ), a tank return path 74 for supplying water to the tank 52, a tank connection path 76 (example of a tank supply path), a first pressure pump 88 installed in the tank return path 74, The second pressure pump 90 (example of pressure pump), the tank path 64 for discharging water in which air is pressurized and dissolved from the tank 52 to the bathtub 130 (example of liquid tank), the first bathtub waterway ( 62), a bathtub adapter 132 (an example of a tank discharge path), and a micro-bubble generating nozzle 142 installed in the bathtub adapter 132 and generating micro-bubbles by decompressing the water in which air is pressurized and dissolved; An inlet 76a connected to the tank 52 from an outlet 92a connected to the tank 52 and provided separately from the tank progress path 64, the first bathtub waterway 62, and the bathtub adapter 132 The tank suction path 92 for sending water to the tank, the tank connection path 76 (example of tank circulation path), the tank circulation pump 94 installed in the tank suction path 92, and the gas installed in the tank suction path 92 An introduction mechanism 96 and a control device 150 are provided. The gas introduction mechanism 96 includes a venturi tube 102 (example of a pressure reducing unit) through which water is reduced and passed therethrough, a gas inlet 110 through which air is introduced by the negative pressure of water in the venturi tube 102, and a vent A gas introduction passage 104 communicating between the gas introduction passage 104 and the gas introduction passage 104, and a first gas introduction valve 106 provided in the gas introduction passage 104 and opening and closing the gas introduction passage 104. ) and a second gas introduction valve 106 provided between the first gas introduction valve 106 and the gas introduction port 110 in the gas introduction passage 104 and opening and closing the gas introduction passage 104 is provided. The first gas introduction valve 106 is configured to receive a force in the direction of opening the first gas introduction valve 106 when negative pressure of water in the venturi tube 102 acts. The second gas introduction valve 108 is configured to receive a force in the direction of closing the second gas introduction valve 108 when negative pressure of water in the venturi tube 102 acts. The control device 150 drives the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 to pressurize and supply water from the tank return path 74 and the tank connection path 76 to the tank 52. At the same time, a micro-bubble generation operation is executed in which water in which air is dissolved under pressure is supplied from the tank 52 to the bathtub 130 through the tank passage 64, the first bathtub water passage 62, and the bathtub adapter 132. can The controller 150 circulates the water in the tank 52 through the tank suction passage 92 and the tank connection passage 76 by the tank circulation pump 94 during execution of the microbubble generation operation, and the gas introduction mechanism ( 96), a tank circulation operation in which negative pressure is generated in the venturi tube 102 can be performed. The controller 150 first opens the second gas introduction valve 108 when opening both the first gas introduction valve 106 and the second gas introduction valve 108 from the closed state, and then It is comprised so that the 1st gas introduction valve 106 may be opened.

[0097] 상기 온수 장치(2)에서는, 미세 기포 발생 운전을 실행하는 중이라 하더라도, 제1 기체 도입 밸브(106)와 제2 기체 도입 밸브(108)를 연 상태에서 탱크 순환 운전을 실행함으로써, 기체 도입 기구(96)에서 공기가 도입되어, 탱크(52)에 공기를 공급할 수가 있다. 이 때문에, 탱크(52)에 공기를 공급하기 위해 미세 기포 발생 운전을 중단할 필요가 없이, 미세 기포 발생 운전을 계속해서 실행할 수가 있다. 이러한 구성으로 함으로써, 욕조(130)의 물에 미세 기포를 계속해서 안정적으로 발생시킬 수가 있다.[0097] In the hot water device 2, even during execution of the micro-bubble generation operation, by executing the tank circulation operation with the first gas introduction valve 106 and the second gas introduction valve 108 open, Air is introduced by the gas introduction mechanism 96, and air can be supplied to the tank 52. For this reason, it is not necessary to interrupt the micro-bubble generating operation to supply air to the tank 52, and the micro-bubble generating operation can be continuously executed. With this configuration, fine bubbles can be continuously and stably generated in the water in the bathtub 130 .

[0098] 또한, 상기 온수 장치(2)에서는, 기체 도입로(104)에 제1 기체 도입 밸브(106)와 제2 기체 도입 밸브(108)가 설치되어 있고, 제2 기체 도입 밸브(108)는 제1 기체 도입 밸브(106)와 기체 도입구(110)의 사이에 설치되어 있으며, 제1 기체 도입 밸브(106)에는, 벤투리관(102)에서의 물의 부압이 작용했을 때에, 제1 기체 도입 밸브(106)를 여는 방향의 힘이 작용하고, 제2 기체 도입 밸브(108)에는, 벤투리관(102)에서의 물의 부압이 작용했을 때에, 제2 기체 도입 밸브(108)를 닫는 방향의 힘이 작용한다. 이 때문에, 예컨대 미세 기포 발생 운전과 탱크 순환 운전을 동시에 실행하고 있을 때에, 제1 기체 도입 밸브(106)와 제2 기체 도입 밸브(108) 모두를 닫은 상태로부터 연 상태로 할 경우, 먼저 제1 기체 도입 밸브(106)를 열면, 그 후에 제2 기체 도입 밸브(108)를 열 때에 벤투리관(102)에서의 물의 부압이 제2 기체 도입 밸브(108)에 작용하여, 제2 기체 도입 밸브(108)가 원활하게 동작하지 않을 우려가 있다. 상기 구성과 같이, 미세 기포 발생 운전과 탱크 순환 운전을 동시에 실행하고 있을 때에, 제1 기체 도입 밸브(106)와 제2 기체 도입 밸브(108) 모두를 닫은 상태로부터 연 상태로 할 경우, 먼저 제2 기체 도입 밸브(108)를 엶으로써, 벤투리관(102)에서의 물의 부압이 제2 기체 도입 밸브(108)에 작용하는 것을 억제할 수 있어, 제2 기체 도입 밸브(108)를 원활히 동작시킬 수가 있다.[0098] Further, in the above-described hot water device 2, a first gas introduction valve 106 and a second gas introduction valve 108 are provided in the gas introduction path 104, and the second gas introduction valve 108 is installed between the first gas inlet valve 106 and the gas inlet 110, and when the negative pressure of water in the venturi pipe 102 acts on the first gas inlet valve 106, the first When the force in the direction of opening the gas introduction valve 106 acts and the negative pressure of water in the venturi tube 102 acts on the second gas introduction valve 108, the second gas introduction valve 108 is closed. directional force acts. For this reason, for example, when both the first gas introduction valve 106 and the second gas introduction valve 108 are opened from the closed state when the micro-bubble generating operation and the tank circulation operation are performed simultaneously, the first gas introduction valve 106 and the second gas introduction valve 108 are opened. When the gas introduction valve 106 is opened, when the second gas introduction valve 108 is subsequently opened, the negative pressure of water in the venturi tube 102 acts on the second gas introduction valve 108, and the second gas introduction valve (108) may not operate smoothly. As in the above configuration, when both the first gas introduction valve 106 and the second gas introduction valve 108 are opened from the closed state when the micro-bubble generating operation and the tank circulation operation are performed simultaneously, the first gas introduction valve 106 is removed. By opening the two-gas introduction valve 108, the negative pressure of the water in the venturi tube 102 can be suppressed from acting on the second gas introduction valve 108, and the second gas introduction valve 108 operates smoothly. I can do it.

[0099] 온수 장치(2)에 있어서, 제어장치(150)는 미세 기포 발생 운전의 실행 시에, 제1 기체 도입 밸브(106)를 닫은 상태로부터 연 상태로 할 경우, 먼저 제1 가압 펌프(88), 제2 가압 펌프(90)의 유량을 제1 유량(예컨대 제1 가압 펌프(88)와 제2 가압 펌프(90) 모두를 구동했을 때의 유량)으로부터 제1 유량보다 작은 제2 유량(예컨대 제1 가압 펌프(88)를 구동하고, 제2 가압 펌프(90)를 정지했을 때의 유량)으로 저감시키고, 그 후에 제1 기체 도입 밸브(106)를 열도록 구성되어 있다. 또한, 제1 유량은, 제1 기체 도입 밸브(106)를 닫은 상태에서, 미세 기포 발생 운전을 할 때의, 제1 가압 펌프(88), 제2 가압 펌프(90)의 유량이라 할 수도 있으며, 제2 유량은, 제1 기체 도입 밸브(106)를 연 상태에서, 미세 기포 발생 운전과 탱크 순환 운전 모두를 행할 때의, 제1 가압 펌프(88), 제2 가압 펌프(90)의 유량이라 할 수도 있다. 또는, 제1 유량은, 미세 기포 발생 운전의 실행 중에, 탱크(52)의 수위가 상승해 갈 때의, 제1 가압 펌프(88), 제2 가압 펌프(90)의 유량이라 할 수도 있으며, 제2 유량은, 미세 기포 발생 운전과 탱크 순환 운전 모두의 실행 중에, 탱크(52)의 수위가 하강해 갈 때의, 제1 가압 펌프(88), 제2 가압 펌프(90)의 유량이라 할 수도 있다.[0099] In the hot water device 2, the control device 150, when opening the first gas introduction valve 106 from the closed state during execution of the micro-bubble generating operation, first presses the first pressure pump ( 88), the second flow rate smaller than the first flow rate from the first flow rate (for example, the flow rate when both the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 are driven) of the second pressure pump 90 (For example, the flow rate when the first pressure pump 88 is driven and the second pressure pump 90 is stopped), and then the first gas introduction valve 106 is opened. In addition, the first flow rate may also be referred to as the flow rate of the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 when the microbubble generation operation is performed with the first gas introduction valve 106 closed, , the second flow rate is the flow rate of the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 when both the micro-bubble generating operation and the tank circulation operation are performed with the first gas introduction valve 106 open. can also be said Alternatively, the first flow rate can also be referred to as the flow rate of the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 when the water level in the tank 52 rises during execution of the micro-bubble generating operation, The second flow rate is the flow rate of the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 when the water level in the tank 52 decreases during both the micro-bubble generating operation and the tank circulation operation. may be

[0100] 미세 기포 발생 운전의 실행시에는, 제1 가압 펌프(88), 제2 가압 펌프(90)의 유량이 크면, 탱크(52) 내의 압력이 높아지며, 기체 도입 기구(96)의 벤투리관(102)에서의 물의 압력도 높아진다. 즉, 벤투리관(102)에서의 물의 부압이 작아진다. 반대로, 제1 가압 펌프(88), 제2 가압 펌프(90)의 유량이 작으면, 탱크(52) 내의 압력이 낮아지며, 기체 도입 기구(96)의 벤투리관(102)에서의 물의 압력도 낮아진다. 즉, 벤투리관(102)에서의 물의 부압이 커진다. 제1 기체 도입 밸브(106)에는, 벤투리관(102)에서의 물의 부압에 의해, 제1 기체 도입 밸브(106)를 여는 방향의 힘이 작용하기 때문에, 제1 기체 도입 밸브(106)를 열 때에는, 벤투리관(102)에서의 물의 압력이 낮을수록, 제1 기체 도입 밸브(106)를 원활하게 동작시킬 수가 있다. 상기의 구성에 의하면, 제1 기체 도입 밸브(106)를 닫은 상태로부터 연 상태로 할 경우, 먼저 제1 가압 펌프(88), 제2 가압 펌프(90)의 유량을 제1 유량에서 제2 유량으로 저감시킴으로써, 기체 도입 기구(96)의 벤투리관(102)에서의 물의 압력을 낮게 하고, 그 후에 제1 기체 도입 밸브(106)를 열기 때문에, 제1 기체 도입 밸브(106)를 원활하게 동작시킬 수가 있다.[0100] When the micro-bubble generation operation is executed, when the flow rates of the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 are large, the pressure in the tank 52 increases, and the venturi of the gas introducing mechanism 96 The water pressure in tube 102 also increases. That is, the negative pressure of water in the venturi tube 102 is reduced. Conversely, when the flow rates of the first pressurization pump 88 and the second pressurization pump 90 are small, the pressure in the tank 52 is low, and the pressure of water in the venturi tube 102 of the gas introduction mechanism 96 is also reduced. It gets lower. That is, the negative pressure of water in the venturi tube 102 increases. Since the negative pressure of the water in the venturi pipe 102 acts on the first gas introduction valve 106 in the direction of opening the first gas introduction valve 106, the first gas introduction valve 106 is closed. When opening, the lower the water pressure in the venturi tube 102 is, the smoother the first gas introduction valve 106 can be operated. According to the above configuration, when the first gas introduction valve 106 is opened from the closed state, first, the flow rate of the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 is changed from the first flow rate to the second flow rate. By reducing to , the water pressure in the venturi pipe 102 of the gas introduction mechanism 96 is lowered, and then the first gas introduction valve 106 is opened, so that the first gas introduction valve 106 can be smoothly operated. can make it work.

[0101] 온수 장치(2)에 있어서, 제어장치(150)는, 탱크 순환 운전을 실행할 때에, 제1 기체 도입 밸브(106)를 닫은 상태로부터 연 상태로 할 경우, 먼저 탱크 순환 펌프(94)의 유량을 제3 유량(예컨대, 탱크 순환 펌프(94)를 표준 회전수로 구동했을 때의 유량)으로부터 제3 유량보다 큰 제4 유량(예컨대, 탱크 순환 펌프(94)를 높은 회전수로 구동했을 때의 유량)으로 증대시키고, 그 후에 제1 기체 도입 밸브(106)를 열도록 구성되어 있다. 또한, 제3 유량은, 제1 기체 도입 밸브(106)를 닫은 상태에서, 미세 기포 발생 운전을 행할 때의, 탱크 순환 펌프(94)의 유량(제1 기체 도입 밸브(106)를 닫은 상태에서 탱크 순환 운전이 행해질 경우에는, 그 때의 탱크 순환 펌프(94)의 유량이며, 제1 기체 도입 밸브(106)를 닫은 상태에서 탱크 순환 운전이 행해지지 않을 경우에는 제로이다)이라 할 수도 있고, 제4 유량은, 제1 기체 도입 밸브(106)를 연 상태에서, 미세 기포 발생 운전과 탱크 순환 운전 모두를 행할 때의, 탱크 순환 펌프(94)의 유량이라 할 수도 있다. 또는, 제3 유량은, 미세 기포 발생 운전의 실행 중에, 탱크(52)의 수위가 상승해 갈 때의, 탱크 순환 펌프(94)의 유량이라 할 수도 있고, 제4 유량은, 미세 기포 발생 운전과 탱크 순환 운전 모두를 실행하는 중에, 탱크(52)의 수위가 하강해 갈 때의, 탱크 순환 펌프(94)의 유량이라 할 수도 있다.[0101] In the hot water system 2, the controller 150, when executing the tank circulation operation, opens the first gas introduction valve 106 from the closed state, firstly, the tank circulation pump 94 from the third flow rate (eg, the flow rate when the tank circulation pump 94 is driven at a standard rotational speed) to a fourth flow rate greater than the third flow rate (eg, driving the tank circulation pump 94 at a high rotational speed) flow rate), and then the first gas introduction valve 106 is opened. In addition, the third flow rate is the flow rate of the tank circulation pump 94 (with the first gas introduction valve 106 closed) when the micro-bubble generating operation is performed with the first gas introduction valve 106 closed. It is the flow rate of the tank circulation pump 94 at that time when the tank circulation operation is performed, and is zero when the tank circulation operation is not performed with the first gas introduction valve 106 closed). The fourth flow rate can also be referred to as the flow rate of the tank circulation pump 94 when both the microbubble generation operation and the tank circulation operation are performed with the first gas introduction valve 106 open. Alternatively, the third flow rate can be referred to as the flow rate of the tank circulation pump 94 when the water level in the tank 52 rises during execution of the micro-bubble generating operation, and the fourth flow rate is the micro-bubble generating operation It can also be referred to as the flow rate of the tank circulation pump 94 when the water level in the tank 52 goes down during both the tank circulation operation and the tank circulation operation.

[0102] 탱크 순환 운전의 실행시에는, 탱크 순환 펌프(94)의 유량이 작으면, 기체 도입 기구(96)의 벤투리관(102)에서의 물의 압력은 높아진다. 즉, 벤투리관(102)에서의 물의 부압이 작아진다. 반대로, 탱크 순환 펌프(94)의 유량이 크면, 기체 도입 기구(96)의 벤투리관(102)에서의 물의 압력은 낮아진다. 즉, 벤투리관(102)에서의 물의 부압이 커진다. 제1 기체 도입 밸브(106)에는, 벤투리관(102)에서의 물의 부압에 의해, 제1 기체 도입 밸브(106)를 여는 방향의 힘이 작용하므로, 제1 기체 도입 밸브(106)를 열 때에는, 벤투리관(102)에서의 물의 압력이 낮을수록, 제1 기체 도입 밸브(106)를 원활하게 동작시킬 수가 있다. 상기 구성에 의하면, 제1 기체 도입 밸브(106)를 닫은 상태로부터 연 상태로 할 경우에, 먼저 탱크 순환 펌프(94)의 유량을 제3 유량에서 제4 유량으로 증대시킴으로써, 기체 도입 기구(96)의 벤투리관(102)에서의 물의 압력을 낮게 하고, 그 후에 제1 기체 도입 밸브(106)를 열기 때문에, 제1 기체 도입 밸브(106)를 원활하게 동작시킬 수가 있다.[0102] When the tank circulation operation is executed, when the flow rate of the tank circulation pump 94 is low, the water pressure in the venturi tube 102 of the gas introducing mechanism 96 increases. That is, the negative pressure of water in the venturi tube 102 is reduced. Conversely, when the flow rate of the tank circulation pump 94 is high, the water pressure in the venturi tube 102 of the gas introduction mechanism 96 is low. That is, the negative pressure of water in the venturi tube 102 increases. Since the negative pressure of the water in the venturi pipe 102 acts on the first gas introduction valve 106 in the direction of opening the first gas introduction valve 106, the first gas introduction valve 106 is opened. At this time, the lower the water pressure in the venturi tube 102 is, the smoother the first gas introduction valve 106 can be operated. According to the above configuration, when the first gas introduction valve 106 is opened from a closed state, the flow rate of the tank circulation pump 94 is first increased from the third flow rate to the fourth flow rate, so that the gas introduction mechanism 96 Since the water pressure in the venturi tube 102 of ) is lowered and the first gas introduction valve 106 is opened thereafter, the first gas introduction valve 106 can be operated smoothly.

[0103] 온수 장치(2)에 있어서, 제어장치(150)는, 제1 기체 도입 밸브(106)와 제2 기체 도입 밸브(108) 모두를 연 상태로부터 닫은 상태로 할 경우에, 먼저 제1 기체 도입 밸브(106)를 닫고, 그 후에 제2 기체 도입 밸브(108)를 닫도록 구성되어 있다.[0103] In the hot water device 2, the control device 150 first sets the first gas introduction valve 106 and the second gas introduction valve 108 to a closed state from the open state. It is comprised so that the gas introduction valve 106 is closed, and the 2nd gas introduction valve 108 is closed after that.

[0104] 상기 온수 장치(2)에서는, 기체 도입로(104)에 제1 기체 도입 밸브(106)와 제2 기체 도입 밸브(108)가 설치되어 있고, 제2 기체 도입 밸브(108)는 제1 기체 도입 밸브(106)와 기체 도입구(110)의 사이에 설치되어 있으며, 제1 기체 도입 밸브(106)에는, 벤투리관(102)에서의 물의 부압이 작용했을 때에, 제1 기체 도입 밸브(106)를 여는 방향의 힘이 작용하고, 제2 기체 도입 밸브(108)에는, 벤투리관(102)에서의 물의 부압이 작용했을 때에, 제2 기체 도입 밸브(108)를 닫는 방향의 힘이 작용한다. 이 때문에, 예컨대 미세 기포 발생 운전과 탱크 순환 운전을 동시에 실행하고 있을 때에, 제1 기체 도입 밸브(106)와 제2 기체 도입 밸브(108) 모두를 연 상태로부터 닫은 상태로 할 경우, 먼저 제2 기체 도입 밸브(108)를 닫으면, 제2 기체 도입 밸브(108)를 닫을 때에, 벤투리관(102)에서의 물의 부압이 제2 기체 도입 밸브(108)에 작용하여, 제2 기체 도입 밸브(108)의 밸브체(108c)가 밸브 시트(108b)에 강하게 충돌함에 따라, 소음의 발생이나 제2 기체 도입 밸브(108)의 손상을 초래할 우려가 있다. 상기 구성과 같이, 제1 기체 도입 밸브(106)와 제2 기체 도입 밸브(108) 모두를 연 상태로부터 닫은 상태로 할 경우에, 먼저 제1 기체 도입 밸브(106)를 닫음으로써, 그 후에 제2 기체 도입 밸브(108)를 닫을 때에, 벤투리관(102)에서의 물의 부압이 제2 기체 도입 밸브(108)에 작용하는 것을 억제할 수 있어, 제2 기체 도입 밸브(108)의 밸브체(108c)가 밸브 시트(108b)에 강하게 충돌함으로 인한, 소음의 발생이나 제2 기체 도입 밸브(108)의 손상을 억제할 수가 있다.[0104] In the hot water device 2, a first gas introduction valve 106 and a second gas introduction valve 108 are installed in the gas introduction passage 104, and the second gas introduction valve 108 is 1. It is installed between the gas inlet valve 106 and the gas inlet 110, and when the negative pressure of water in the venturi tube 102 acts on the first gas inlet valve 106, the first gas is introduced. When the force in the direction of opening the valve 106 acts and the negative pressure of water in the venturi tube 102 acts on the second gas introduction valve 108, the direction in which the second gas introduction valve 108 is closed force works For this reason, for example, when both the first gas introduction valve 106 and the second gas introduction valve 108 are changed from the open state to the closed state when the micro-bubble generation operation and the tank circulation operation are performed simultaneously, first the second gas introduction valve 106 is closed. When the gas introduction valve 108 is closed, when the second gas introduction valve 108 is closed, the negative pressure of water in the venturi tube 102 acts on the second gas introduction valve 108, and the second gas introduction valve ( As the valve element 108c of 108 strongly collides with the valve seat 108b, there is a possibility of generating noise or damaging the second gas introduction valve 108. As in the above configuration, when both the first gas introduction valve 106 and the second gas introduction valve 108 are changed from the open state to the closed state, first, the first gas introduction valve 106 is closed, and then the first gas introduction valve 106 is closed. When the two-gas introduction valve 108 is closed, the negative pressure of water in the venturi tube 102 can be suppressed from acting on the second gas introduction valve 108, and the valve element of the second gas introduction valve 108 is suppressed. It is possible to suppress generation of noise and damage to the second gas introduction valve 108 due to strong collision of the valve seat 108b with the valve seat 108b.

[0105] 이상의 각 실시예에 대하여 상세하게 설명하였으나, 이들은 예시에 불과하며, 특허청구의 범위를 한정하는 것은 아니다. 특허청구의 범위에 기재된 기술에는, 이상으로 예시한 구체예를 다양하게 변형, 변경한 것이 포함된다. 본 명세서 또는 도면에 설명한 기술 요소는, 단독으로 혹은 각종의 조합에 의해 기술적 유용성을 발휘하는 것이며, 출원 시 청구항에 기재된 조합으로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 명세서 또는 도면에 예시한 기술은 복수의 목적을 동시에 달성할 수 있는 것이며, 그 중 하나의 목적을 달성하는 것 자체로 기술적 유용성을 갖는 것이다.Although each embodiment has been described in detail above, these are only examples and are not intended to limit the scope of the claims. The technology described in the claims includes various modifications and changes of the specific examples exemplified above. The technical elements described in this specification or drawings exhibit technical usefulness alone or in various combinations, and are not limited to the combinations described in the claims at the time of application. In addition, the technology exemplified in this specification or drawings can simultaneously achieve a plurality of objects, and has technical usefulness in itself by achieving one of the objects.

2: 온수 장치
10: 열원 유닛
12: 제1 열원기
14: 제2 열원기
16: 급수로
18: 출탕로
18a: 출탕 온도 서미스터
20: 바이패스(bypass)로(路)
22: 바이패스 서보
24: 주탕로(注湯路)
26: 온수 채우기 밸브
28: 수량 센서
30: 순환 진행로
30a: 순환 진행로 서미스터
32: 순환 복귀로
32a: 순환 복귀로 서미스터
34: 욕조 순환 펌프
36: 수류 스위치
50: 공기 가압 용해 유닛
52: 탱크
52a: 저수위 전극
52b: 고수위 전극
52c: 접지 전극
60: 열원 복귀로
62: 제1 욕조 수로
64: 탱크 진행로
66: 연통로
68: 열원 진행로
70: 제2 욕조 수로
74: 탱크 복귀로
74a: 유입구
76: 탱크 접속로
76a: 유입구
80: 제1 삼방 밸브
82: 제2 삼방 밸브
84: 체크 밸브
86: 탱크 급수 밸브
88: 제1 가압 펌프
90: 제2 가압 펌프
92: 탱크 흡인로
92a: 유출구
92b: 유입구
94: 탱크 순환 펌프
96: 기체 도입 기구
98: 입수관
100: 출수관
102: 벤투리관
104: 기체 도입로
104a: 제1 기체 도입로
104b: 제2 기체 도입로
104c: 제3 기체 도입로
106: 제1 기체 도입 밸브
106a: 밸브실
106b: 밸브 시트
106c: 밸브체
106d: 플런저
106e: 코일
106f: 스프링
108: 제2 기체 도입 밸브
108a: 밸브실
108b: 밸브 시트
108c: 밸브체
108d: 플런저
108e: 코일
108f: 스프링
110: 기체 도입구
130: 욕조
130a: 벽부
132: 욕조 어댑터
132a: 전면(前面)
132b: 하면
134a: 제1 토출구
134b: 제1 흡입구
134c: 제2 흡입구
134d: 제2 토출구
136: 제1 수로
136a: 제1 토출로
136b: 제1 흡입로
138: 제2 수로
138a: 제2 토출로
138b: 제2 흡입로
140a: 역류방지부
140b: 역류방지부
140c: 역류방지부
140d: 역류방지부
142: 미세 기포 발생 노즐
150: 제어장치
152: 메모리
154: 리모컨
200: 급수원
250: 수도꼭지
2: hot water device
10: heat source unit
12: first heat source
14: second heat source
16: Waterway
18: tapping road
18a: tapping temperature thermistor
20: Bypass Road
22: bypass servo
24: Jutang Road
26: hot water fill valve
28: quantity sensor
30: circular path
30a: thermistor with circular progression
32: return to circulation
32a: thermistor with return to circulation
34: bathtub circulation pump
36: water flow switch
50: air pressure melting unit
52: tank
52a: low level electrode
52b: high level electrode
52c: ground electrode
60: to heat source return
62: first bathtub waterway
64: tank progress
66: communication path
68: heat source path
70: second bathtub waterway
74: tank return
74a: inlet
76: tank junction
76a: inlet
80: first three-way valve
82: second three-way valve
84: check valve
86: tank water supply valve
88: first pressure pump
90: second pressure pump
92: tank suction path
92a: outlet
92b: inlet
94: tank circulation pump
96 gas introduction mechanism
98: inlet pipe
100: outlet pipe
102 Venturi tube
104: gas introduction path
104a: first gas introduction path
104b: second gas introduction path
104c: third gas introduction path
106: first gas introduction valve
106a: valve chamber
106b: valve seat
106c: valve body
106d: plunger
106e: coil
106f: spring
108: second gas introduction valve
108a: valve chamber
108b: valve seat
108c: valve body
108d: plunger
108e: coil
108f: spring
110: gas inlet
130: bathtub
130a: wall part
132: bathtub adapter
132a: front
132b: lower surface
134a: first discharge port
134b: first inlet
134c: second inlet
134d: second discharge port
136: first waterway
136a: first discharge path
136b: first suction path
138: second waterway
138a: second discharge path
138b: second suction path
140a: backflow prevention unit
140b: backflow prevention unit
140c: backflow prevention unit
140d: backflow prevention unit
142: fine bubble generating nozzle
150: control device
152: memory
154: remote control
200: water source
250: faucet

Claims (5)

액체에 기체를 가압 용해하는 탱크와,
상기 탱크에 상기 액체를 공급하는 탱크 공급로와,
상기 탱크 공급로에 설치된 가압 펌프와,
상기 탱크로부터 액조(液槽)로 상기 기체가 가압 용해된 상기 액체를 배출하는 탱크 배출로와,
상기 탱크 배출로에 설치되어 있고, 상기 기체가 가압 용해된 상기 액체를 감압(減壓)하여 미세 기포를 발생시키는 미세 기포 발생 노즐과,
상기 탱크 배출로와는 별개로 설치되어 있고, 상기 탱크에 접속된 유출구로부터 상기 탱크에 접속된 유입구로 상기 액체를 보내는 탱크 순환로와,
상기 탱크 순환로에 설치된 탱크 순환 펌프와,
상기 탱크 순환로에 설치된 기체 도입 기구와,
제어장치를 구비하고 있으며,
상기 기체 도입 기구는,
상기 액체를 감압하여 통과시키는 감압부와,
상기 감압부에서의 상기 액체의 부압(負壓, negative pressure)에 의해 상기 기체를 도입하는 기체 도입구와,
상기 감압부와 상기 기체 도입구를 연통(連通)하는 기체 도입로와,
상기 기체 도입로에 설치되어 있으며, 상기 기체 도입로를 개폐하는 제1 기체 도입 밸브와,
상기 기체 도입로에 있어서 상기 제1 기체 도입 밸브와 상기 기체 도입구의 사이에 형성되어 있으며, 상기 기체 도입로를 개폐하는 제2 기체 도입 밸브를 구비하고 있고,
상기 제1 기체 도입 밸브는, 상기 감압부에서의 상기 액체의 부압이 작용했을 때에, 상기 제1 기체 도입 밸브를 여는 방향의 힘을 받도록 구성되어 있으며,
상기 제2 기체 도입 밸브는, 상기 감압부에서의 상기 액체의 부압이 작용했을 때에, 상기 제2 기체 도입 밸브를 닫는 방향의 힘을 받도록 구성되어 있고,
상기 제어장치는, 상기 가압 펌프를 구동하여 상기 탱크 공급로로부터 상기 탱크로 상기 액체를 가압하여 공급하는 동시에, 상기 탱크로부터 상기 탱크 배출로를 통해 상기 액조로 상기 기체가 가압 용해된 상기 액체를 공급하는, 미세 기포 발생 운전을 실행할 수 있으며,
상기 제어장치는, 상기 미세 기포 발생 운전의 실행 중에, 상기 탱크 순환 펌프에 의해 상기 탱크의 상기 액체를 상기 탱크 순환로에서 순환시켜, 상기 기체 도입 기구의 상기 감압부에 부압을 발생시키는 탱크 순환 운전을 실행할 수 있고,
상기 제어장치는, 상기 제1 기체 도입 밸브와 상기 제2 기체 도입 밸브 모두를 닫은 상태로부터 연 상태로 할 경우에, 먼저 상기 제2 기체 도입 밸브를 열고, 그 후에 상기 제1 기체 도입 밸브를 열도록 구성되어 있는,
미세 기포 발생 장치.
A tank for dissolving a gas in a liquid under pressure;
a tank supply passage for supplying the liquid to the tank;
A pressure pump installed in the tank supply passage;
a tank discharge path for discharging the liquid in which the gas is dissolved under pressure from the tank to a liquid tank;
a micro-bubble generating nozzle installed in the tank discharge passage and generating micro-bubbles by depressurizing the liquid in which the gas is dissolved under pressure;
a tank circulation path provided separately from the tank discharge path and sending the liquid from an outlet connected to the tank to an inlet connected to the tank;
a tank circulation pump installed in the tank circulation passage;
a gas introduction mechanism installed in the tank circulation path;
It is equipped with a control device,
The gas introduction mechanism,
A decompression unit for depressurizing and passing the liquid;
a gas inlet for introducing the gas by negative pressure of the liquid in the pressure reducing unit;
a gas introduction path communicating the pressure reducing portion and the gas introduction port;
a first gas introduction valve installed in the gas introduction passage and opening and closing the gas introduction passage;
a second gas introduction valve formed between the first gas introduction valve and the gas introduction port in the gas introduction passage and opening and closing the gas introduction passage;
The first gas introduction valve is configured to receive a force in the direction of opening the first gas introduction valve when negative pressure of the liquid in the pressure reducing section acts,
The second gas introduction valve is configured to receive a force in the direction of closing the second gas introduction valve when the negative pressure of the liquid in the pressure reducing section acts,
The control device drives the pressure pump to pressurize and supply the liquid from the tank supply passage to the tank, and at the same time supply the liquid in which the gas is pressurized and dissolved from the tank to the liquid tank through the tank discharge passage. It is possible to perform a fine bubble generating operation,
The controller performs a tank circulation operation in which, during execution of the micro-bubble generating operation, the liquid in the tank is circulated in the tank circulation path by the tank circulation pump to generate a negative pressure in the pressure reducing portion of the gas introduction mechanism. can run,
The controller is configured to first open the second gas introduction valve and then open the first gas introduction valve when both the first gas introduction valve and the second gas introduction valve are brought from a closed state to an open state. composed of
Microbubble generator.
제1항에 있어서,
상기 제어장치는, 상기 미세 기포 발생 운전을 실행할 때에, 상기 제1 기체 도입 밸브를 닫은 상태로부터 연 상태로 할 경우, 먼저 상기 가압 펌프의 유량을 제1 유량으로부터 상기 제1 유량보다 작은 제2 유량으로 저감시키고, 그 후에 상기 제1 기체 도입 밸브를 열도록 구성되어 있는,
미세 기포 발생 장치.
According to claim 1,
When the micro-bubble generation operation is executed, the control device first sets the flow rate of the pressure pump from a first flow rate to a second flow rate smaller than the first flow rate when the first gas introduction valve is opened from a closed state to an open state. And configured to open the first gas introduction valve thereafter,
Microbubble generator.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 제어장치는, 상기 탱크 순환 운전을 실행할 때에, 상기 제1 기체 도입 밸브를 닫은 상태로부터 연 상태로 할 경우, 먼저 상기 탱크 순환 펌프의 유량을 제3 유량으로부터 상기 제3 유량보다 큰 제4 유량으로 증대시키고, 그 후에 상기 제1 기체 도입 밸브를 열도록 구성되어 있는,
미세 기포 발생 장치.
According to claim 1 or 2,
When executing the tank circulation operation, when the first gas introduction valve is opened from a closed state, the controller first sets the flow rate of the tank circulation pump from a third flow rate to a fourth flow rate greater than the third flow rate. and configured to open the first gas introduction valve thereafter,
Microbubble generator.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제어장치는, 상기 제1 기체 도입 밸브와 상기 제2 기체 도입 밸브 모두를 연 상태로부터 닫은 상태로 할 경우, 먼저 상기 제1 기체 도입 밸브를 닫고, 그 후에 상기 제2 기체 도입 밸브를 닫도록 구성되어 있는,
미세 기포 발생 장치.
According to any one of claims 1 to 3,
The controller is configured to close the first gas introduction valve first and then the second gas introduction valve when both the first gas introduction valve and the second gas introduction valve are changed from an open state to a closed state. be composed of,
Microbubble generator.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 액체가 물이고,
상기 액조가, 사용자가 목욕에 사용하는 욕조인,
미세 기포 발생 장치.
According to any one of claims 1 to 4,
the liquid is water,
The liquid tank is a bathtub used by the user for bathing,
Microbubble generator.
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