KR20220170728A - Fine bubble generating device - Google Patents

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KR20220170728A
KR20220170728A KR1020210158627A KR20210158627A KR20220170728A KR 20220170728 A KR20220170728 A KR 20220170728A KR 1020210158627 A KR1020210158627 A KR 1020210158627A KR 20210158627 A KR20210158627 A KR 20210158627A KR 20220170728 A KR20220170728 A KR 20220170728A
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tank circulation
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KR1020210158627A
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신야 후루카와
유지로 나카지마
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린나이가부시기가이샤
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Abstract

The present invention provides a technology that can generate fine bubbles in a consecutive and stable manner in a liquid in a bath. A control apparatus of a fine bubble generation apparatus of the present invention may execute fine bubble generation driving, which pressurizes and supplies a liquid from a tank supply route to a tank by driving a pressurization pump and supplies a liquid from which gas is pressurized and dissolved to a bath from the tank through a tank emission route. During execution of the fine bubble generation driving, the control apparatus may execute first tank circulation driving that circulates the liquid of the tank by a tank circulation pump in a tank circulation route in a state of opening a gas inlet valve and second tank circulation driving that circulates the liquid of the tank by the tank circulation pump in the tank circulation route in a state of closing the gas inlet valve. The control apparatus is configured to drive the tank circulation pump with a first rotation number for the first tank circulation driving and drive the tank circulation pump with a second rotation number lower than the first rotation number for the second tank circulation driving.

Description

미세 기포 발생 장치{FINE BUBBLE GENERATING DEVICE} Fine bubble generating device {FINE BUBBLE GENERATING DEVICE}

[0001] 본 명세서에서 개시하는 기술은 미세 기포 발생 장치에 관한 것이다.[0001] The technology disclosed herein relates to a device for generating microbubbles.

[0002] 특허문헌 1에, 액체에 기체를 가압 용해하는 탱크와, 상기 탱크에 상기 액체를 공급하는 탱크 공급로와, 상기 탱크 공급로에 설치된 가압 펌프와, 상기 탱크로부터 액조(液槽)로 상기 기체가 가압 용해된 상기 액체를 배출하는 탱크 배출로와, 상기 탱크 배출로에 설치되어 있으며, 상기 기체가 가압 용해된 상기 액체를 감압하여 미세 기포를 발생시키는 미세 기포 발생 노즐과, 상기 탱크에 설치된 기체 도입 기구와, 제어장치를 구비하는 미세 기포 발생 장치가 개시되어 있다. 상기 기체 도입 기구는, 상기 기체를 도입하는 기체 도입구와, 상기 기체 도입구를 개폐하는 기체 도입 밸브를 구비하고 있다. 상기 제어장치는, 상기 기체 도입 밸브를 연 상태에서, 상기 탱크로부터 상기 액조로 상기 액체를 공급함으로써, 상기 탱크에 상기 기체를 도입하는 기체 도입 운전과, 상기 기체 도입 밸브를 닫은 상태에서, 상기 가압 펌프를 구동하여 상기 탱크 공급로로부터 상기 탱크로 액체를 가압하여 공급하는 동시에, 상기 탱크로부터 상기 탱크 배출로를 통해 상기 액조로 상기 기체가 가압 용해된 상기 액체를 공급하는, 미세 기포 발생 운전을 교대로 수행한다.[0002] In Patent Document 1, a tank for dissolving gas under pressure in a liquid, a tank supply path for supplying the liquid to the tank, a pressurized pump installed in the tank supply path, and a liquid tank from the tank A tank discharge path for discharging the liquid in which the gas is dissolved under pressure, and a micro-bubble generating nozzle installed in the tank discharge path and generating fine bubbles by decompressing the liquid in which the gas is dissolved under pressure, and Disclosed is a micro-bubble generating device comprising an installed gas introduction mechanism and a control device. The gas introduction mechanism includes a gas introduction port for introducing the gas and a gas introduction valve for opening and closing the gas introduction port. The control device includes a gas introduction operation in which the gas is introduced into the tank by supplying the liquid from the tank to the liquid tank in a state where the gas introduction valve is open, and the pressurization operation in a state where the gas introduction valve is closed. Alternate micro-bubble generation operation in which a pump is driven to pressurize and supply liquid from the tank supply passage to the tank, and at the same time supply the liquid in which the gas is dissolved under pressure from the tank to the liquid tank through the tank discharge passage. do it with

일본 특허 공개 공보 제2009-18118호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-18118

[0004] 특허문헌 1의 미세 기포 발생 장치에서는, 기체 도입 운전과 미세 기포 발생 운전을 동시에 수행할 수 없으며, 기체 도입 운전으로 탱크에 기체가 공급되고, 미세 기포 발생 운전으로 탱크로부터 기체가 소비되므로, 기체 도입 운전과 미세 기포 발생 운전을 반드시 교대로 수행해야만 한다. 그러나, 기체 도입 운전의 실행 중에는 탱크로부터 액조로 공급되는 액체에 미세 기포를 발생시킬 수 없기 때문에, 미세 기포 발생 운전으로 액조의 액체에 발생시킨 미세 기포가, 기체 도입 운전의 실행 중에 소실되어, 액조의 액체에 미세 기포를 계속해서 안정적으로 발생시키기 어려웠다. 본 명세서에서는 액조의 액체에 미세 기포를 계속해서 안정적으로 발생시킬 수 있는 기술을 제공한다.[0004] In the microbubble generating device of Patent Document 1, the gas introduction operation and the microbubble generation operation cannot be simultaneously performed, the gas is supplied to the tank through the gas introduction operation, and the gas is consumed from the tank through the microbubble generation operation. However, the gas introduction operation and the micro-bubble generation operation must be performed alternately. However, since microbubbles cannot be generated in the liquid supplied from the tank to the liquid tank during execution of the gas introduction operation, the microbubbles generated in the liquid in the liquid tank by the microbubble generating operation disappear during execution of the gas introduction operation. It was difficult to continuously and reliably generate microbubbles in the bath liquid. In the present specification, a technique capable of continuously and stably generating microbubbles in the liquid of a liquid tank is provided.

[0005] 본 명세서가 개시하는 미세 기포 발생 장치는, 액체에 기체를 가압 용해하는 탱크와, 상기 탱크에 상기 액체를 공급하는 탱크 공급로와, 상기 탱크 공급로에 설치된 가압 펌프와, 상기 탱크로부터 액조로 상기 기체가 가압 용해된 상기 액체를 배출하는 탱크 배출로와, 상기 탱크 배출로에 설치되어 있으며, 상기 기체가 가압 용해된 상기 액체를 감압하여 미세 기포를 발생시키는 미세 기포 발생 노즐과, 상기 탱크 배출로와는 별개로 설치되어 있으며, 상기 탱크에 접속된 유출구로부터 상기 탱크에 접속된 유입구로 상기 액체를 보내는 탱크 순환로와, 상기 탱크 순환로에 설치된 탱크 순환 펌프와, 상기 탱크 순환로에 설치된 기체 도입 기구와, 제어장치를 구비하고 있다. 상기 기체 도입 기구는, 상기 액체를 감압(減壓)하여 통과시키는 감압부와, 상기 감압부에서의 상기 액체의 부압(負壓, negative pressure)에 의해 상기 기체를 도입하는 기체 도입구와, 상기 기체 도입구를 개폐하는 기체 도입 밸브를 구비하고 있다. 상기 제어장치는, 상기 가압 펌프를 구동하여 상기 탱크 공급로로부터 상기 탱크로 상기 액체를 가압하여 공급하는 동시에, 상기 탱크로부터 상기 탱크 배출로를 통해 상기 액조로 상기 기체가 가압 용해된 상기 액체를 공급하는, 미세 기포 발생 운전을 실행할 수가 있다. 상기 제어장치는, 상기 미세 기포 발생 운전의 실행 중에, 상기 기체 도입 밸브를 연 상태에서, 상기 탱크 순환 펌프에 의해 상기 탱크의 상기 액체를 상기 탱크 순환로에서 순환시키는 제1 탱크 순환 운전과, 상기 기체 도입 밸브를 닫은 상태에서, 상기 탱크 순환 펌프에 의해 상기 탱크의 상기 액체를 상기 탱크 순환로에서 순환시키는 제2 탱크 순환 운전을 실행할 수 있다. 상기 제어장치는, 상기 제1 탱크 순환 운전에 있어서, 상기 탱크 순환 펌프를 제1 회전수로 구동하고, 상기 제2 탱크 순환 운전에 있어서, 상기 탱크 순환 펌프를 상기 제1 회전수보다 낮은 제2 회전수로 구동하도록 구성되어 있다.[0005] A microbubble generator disclosed in the present specification includes a tank for dissolving gas under pressure in a liquid, a tank supply path for supplying the liquid to the tank, a pressure pump installed in the tank supply path, and a pressure pump installed in the tank supply path. A tank discharge path for discharging the liquid in which the gas is dissolved under pressure into a liquid tank, and a micro-bubble generating nozzle installed in the tank discharge path and generating fine bubbles by depressurizing the liquid in which the gas is dissolved under pressure; A tank circulation path installed separately from the tank discharge path and sending the liquid from an outlet connected to the tank to an inlet connected to the tank; a tank circulation pump installed in the tank circulation path; and a gas introduction installed in the tank circulation path. It has a mechanism and a control device. The gas introducing mechanism includes: a pressure reducing portion through which the liquid is reduced and passed therethrough, a gas inlet through which the gas is introduced by negative pressure of the liquid in the reduced pressure portion, and the gas A gas introduction valve for opening and closing the inlet is provided. The control device drives the pressure pump to pressurize and supply the liquid from the tank supply passage to the tank, and at the same time supply the liquid in which the gas is pressurized and dissolved from the tank to the liquid tank through the tank discharge passage. It is possible to execute the operation of generating fine bubbles. The control device may include: a first tank circulation operation in which the liquid in the tank is circulated in the tank circulation path by the tank circulation pump in a state where the gas introduction valve is opened during execution of the micro-bubble generating operation; With the introduction valve closed, a second tank circulation operation in which the liquid in the tank is circulated in the tank circulation path by the tank circulation pump can be executed. The controller drives the tank circulation pump at a first rotational speed in the first tank circulation operation, and drives the tank circulation pump at a second rotational speed lower than the first rotational speed in the second tank circulation operation. It is configured to be driven by rotational speed.

[0006] 상기 미세 기포 발생 장치에서는, 미세 기포 발생 운전을 실행하는 중에도 제1 탱크 순환 운전을 수행함으로써, 기체 도입 기구에서 기체가 도입되어, 탱크에 기체를 공급할 수가 있다. 이에 따라, 탱크에 기체를 공급하기 위해 미세 기포 발생 운전을 중단할 필요가 없으며, 미세 기포 발생 운전을 계속해서 수행할 수가 있다. 이러한 구성으로 함으로써, 액조의 액체에 미세 기포를 계속해서 안정적으로 발생시킬 수가 있다.[0006] In the above micro-bubble generating device, by performing the first tank circulation operation even during the micro-bubble generating operation, gas can be introduced from the gas introduction mechanism and supplied to the tank. Accordingly, there is no need to interrupt the micro-bubble generating operation to supply gas to the tank, and the micro-bubble generating operation can be continuously performed. With this configuration, fine bubbles can be continuously and stably generated in the liquid in the liquid tank.

[0007] 또한, 상기 미세 기포 발생 장치에서는, 미세 기포 발생 운전의 실행 중에, 제1 탱크 순환 운전과 제2 탱크 순환 운전을 실행하면, 탱크 내의 액체의 유동이 심해진다. 가압 용해식 탱크에서는, 탱크 내의 액체의 유동이 심할수록, 탱크에서의 액체에 대한 기체의 가압 용해가 촉진된다. 상기 구성에 의하면, 미세 기포 발생 운전의 실행 중에, 제1 탱크 순환 운전과 제2 탱크 순환 운전을 실행함으로써, 탱크 내의 액체를 격렬히 유동시켜, 탱크에서의 액체에 대한 기체의 가압 용해를 보다 촉진할 수가 있다.[0007] Further, in the above micro-bubble generator, when the first tank circulation operation and the second tank circulation operation are performed during execution of the micro-bubble generating operation, the flow of the liquid in the tank increases. In a pressurized dissolution type tank, as the flow of the liquid in the tank increases, pressurized dissolution of the gas to the liquid in the tank is promoted. According to the configuration described above, by executing the first tank circulation operation and the second tank circulation operation during execution of the microbubble generation operation, the liquid in the tank is made to flow vigorously and the pressure dissolution of the gas to the liquid in the tank is further promoted. there is a number

[0008] 또한, 제1 탱크 순환 운전에서는, 기체 도입 기구의 감압부에 기체가 도입되므로, 액체에 기체가 혼합됨에 따라 감압부에서의 액체의 부압이 완화되지만, 제2 탱크 순환 운전에서는, 기체 도입 기구의 감압부에 기체가 도입되지 않기 때문에, 감압부에서의 액체의 부압이 완화되지 않는다. 이 때문에, 만일 제1 탱크 순환 운전과 제2 탱크 순환 운전에서 탱크 순환 펌프의 회전수를 동일하게 하면, 제2 탱크 순환 운전에서는, 제1 탱크 순환 운전에 비해 기체 도입 기구의 감압부에서의 액체의 압력이 보다 낮아진다. 기체 도입 기구의 감압부에서의 액체의 압력이 과도하게 낮아지면, 감압부에서 캐비테이션(cavitation)이 발생하여 소음이 발생할 우려가 있다. 상기 구성에 의하면, 제2 탱크 순환 운전에서의 탱크 순환 펌프의 회전수를, 제1 탱크 순환 운전에서의 탱크 순환 펌프의 회전수보다 낮게 함으로써, 제2 탱크 순환 운전에 있어서, 기체 도입 기구의 감압부에서의 액체의 압력이 과도하게 낮아지는 것을 억제할 수가 있다. 이로써, 제2 탱크 순환 운전에 있어서, 기체 도입 기구의 감압부에서 캐비테이션 발생하는 것을 억제하여, 소음이 생기는 것을 억제할 수가 있다.[0008] Further, in the first tank circulation operation, since gas is introduced into the decompression part of the gas introduction mechanism, the negative pressure of the liquid in the decompression part is relieved as the gas is mixed with the liquid, but in the second tank circulation operation, the gas is mixed with the liquid. Since no gas is introduced into the decompression portion of the introduction mechanism, the negative pressure of the liquid in the decompression portion is not relieved. For this reason, if the rotation speed of the tank circulation pump is made the same in the first tank circulation operation and the second tank circulation operation, in the second tank circulation operation, the liquid at the decompression part of the gas introduction mechanism is higher than in the first tank circulation operation. pressure is lower. If the pressure of the liquid in the decompression part of the gas introducing mechanism is excessively lowered, cavitation may occur in the decompression part to generate noise. According to the above configuration, the rotational speed of the tank circulation pump in the second tank circulation operation is lower than the rotational speed of the tank circulation pump in the first tank circulation operation, thereby reducing the pressure of the gas introduction mechanism in the second tank circulation operation. The pressure of the liquid in the section can be suppressed from being excessively lowered. Thus, in the second tank circulation operation, it is possible to suppress the occurrence of cavitation in the depressurized portion of the gas introduction mechanism and suppress the occurrence of noise.

[0009] 또한, 미세 기포 발생 운전의 실행 중에, 제1 탱크 순환 운전을 실행할 경우, 기체 도입 기구의 감압부를 흐르는 유체의 유량이 커지면, 그만큼 감압부에서의 액체의 압력이 보다 낮아져, 기체 도입 기구에서 더 많은 기체를 도입할 수가 있다. 상기 구성에 따르면, 제1 탱크 순환 운전에서의 탱크 순환 펌프의 회전수를, 제2 탱크 순환 운전에서의 탱크 순환 펌프의 회전수보다 높게 함으로써, 제1 탱크 순환 운전에 있어서, 기체 도입 기구에서 더 많은 기체를 도입할 수가 있다.[0009] Further, when performing the first tank circulation operation during execution of the micro-bubble generation operation, if the flow rate of the fluid flowing through the decompression section of the gas introduction mechanism increases, the pressure of the liquid in the decompression section becomes lower by that amount, and the gas introduction mechanism More gas can be introduced from According to the above configuration, by setting the rotational speed of the tank circulation pump in the first tank circulation operation higher than the rotational speed of the tank circulation pump in the second tank circulation operation, in the first tank circulation operation, the gas introducing mechanism further Many gases can be introduced.

[0010] 상기 미세 기포 발생 장치에서는, 상기 기체 도입 기구가 상기 탱크 순환로에 있어서, 상기 탱크 순환 펌프보다 상류 측에 배치되어 있어도 된다.[0010] In the micro-bubble generating device, the gas introduction mechanism may be disposed upstream of the tank circulation pump in the tank circulation path.

[0011] 제1 탱크 순환 운전에 있어서는, 기체 도입 기구가 탱크 순환로에서 탱크 순환 펌프보다 상류 측에 배치되어 있는 경우, 기체 도입 기구에서 도입된 기체가 액체에 혼합되어, 탱크 순환 펌프에 유입된다. 이 때문에, 기체 도입 기구가 탱크 순환로에서 탱크 순환 펌프보다 하류 측에 배치되어 있는 경우에 비해, 탱크 순환 펌프의 효율이 저하되어, 기체 도입 기구의 감압부를 흐르는 유체의 유량이 작아진다. 이에 대하여, 제2 탱크 순환 운전에 있어서는, 기체 도입 기구가 탱크 순환로에서 탱크 순환 펌프보다 상류 측에 배치되어 있는 경우에도, 기체 도입 기구에서 기체가 도입되지 않기 때문에, 기체 도입 기구가 탱크 순환로에서 탱크 순환 펌프보다 하류 측에 배치되는 경우에 비해, 탱크 순환 펌프의 효율은 저하되지 않아 기체 도입 기구의 감압부를 흐르는 유체의 유량이 작아지는 일이 없다. 따라서 만일 제1 탱크 순환 운전과 제2 탱크 순환 운전에서 탱크 순환 펌프의 회전수를 동일하게 하면, 제2 탱크 순환 운전에서는 제1 탱크 순환 운전에 비해 기체 도입 기구의 감압부를 흐르는 유체의 유량이 보다 커지고, 기체 도입 기구의 감압부에서의 액체의 압력이 보다 낮아진다. 이에 따라, 기체 도입 기구의 감압부에서 캐비테이션이 더 발생하기 쉬워져, 보다 소음이 발생하기 쉬워진다. 상기 구성에 의하면, 제2 탱크 순환 운전에서의 탱크 순환 펌프의 회전수를, 제1 탱크 순환 운전에서의 탱크 순환 펌프의 회전수보다 낮게 함으로써, 제2 탱크 순환 운전에 있어서, 감압부에서의 캐비테이션의 발생을 억제하여 소음이 발생하는 것을 억제할 수가 있다.[0011] In the first tank circulation operation, when the gas introduction mechanism is disposed upstream of the tank circulation pump in the tank circulation path, the gas introduced by the gas introduction mechanism is mixed with the liquid and flows into the tank circulation pump. For this reason, compared to the case where the gas introduction mechanism is disposed on the downstream side of the tank circulation pump in the tank circulation path, the efficiency of the tank circulation pump is lowered and the flow rate of the fluid flowing through the pressure reducing portion of the gas introduction mechanism is reduced. In contrast, in the second tank circulation operation, even when the gas introduction mechanism is arranged upstream of the tank circulation pump in the tank circulation path, since gas is not introduced by the gas introduction mechanism, the gas introduction mechanism moves from the tank circulation path to the tank. Compared to a case disposed downstream of the circulation pump, the efficiency of the tank circulation pump does not decrease, and the flow rate of the fluid flowing through the pressure reducing section of the gas introducing mechanism does not decrease. Therefore, if the number of revolutions of the tank circulation pump is the same in the first tank circulation operation and the second tank circulation operation, the flow rate of the fluid flowing through the pressure reducing part of the gas introducing mechanism is higher in the second tank circulation operation than in the first tank circulation operation. increases, and the pressure of the liquid in the pressure reducing portion of the gas introducing mechanism becomes lower. Accordingly, cavitation is more likely to occur in the decompression portion of the gas introduction mechanism, and noise is more likely to occur. According to the above configuration, by making the rotation speed of the tank circulation pump in the second tank circulation operation lower than the rotation speed of the tank circulation pump in the first tank circulation operation, in the second tank circulation operation, the cavitation in the decompression section is reduced. By suppressing the generation of noise, it is possible to suppress the occurrence of noise.

[0012] 또한, 기체 도입 기구가 탱크 순환로에서 탱크 순환 펌프보다 상류 측에 배치되어 있는 경우, 탱크 순환 펌프의 흡입 압력이 기체 도입 기구의 감압부에 작용하기 때문에, 기체 도입 기구가 탱크 순환로에 있어서 탱크 순환 펌프보다 하류 측에 배치되어 있는 경우에 비해, 감압부에서의 액체의 압력이 보다 낮아진다. 이 때문에, 제1 탱크 순환 운전에 있어서, 기체 도입 기구에서 도입되는 기체의 양을 더 많게 할 수가 있다. 또한, 상기 구성에 의하면, 제1 탱크 순환 운전에 있어서, 기체 도입 기구에서 도입된 기체와 탱크 순환로를 흐르는 액체가 탱크 순환 펌프를 통과할 때, 탱크 순환 펌프의 임펠러(impeller)에 의해 교반(攪拌)되므로, 액체에 대한 기체의 용해를 더 촉진할 수가 있다.[0012] Further, when the gas introduction mechanism is disposed upstream of the tank circulation pump in the tank circulation path, the suction pressure of the tank circulation pump acts on the decompression portion of the gas introduction mechanism, so that the gas introduction mechanism is in the tank circulation path. The pressure of the liquid in the decompression section becomes lower than in the case of being disposed on the downstream side of the tank circulation pump. For this reason, in the first tank circulation operation, the amount of gas introduced from the gas introducing mechanism can be increased. Further, according to the above configuration, in the first tank circulation operation, when the gas introduced from the gas introduction mechanism and the liquid flowing through the tank circulation path pass through the tank circulation pump, the impeller of the tank circulation pump stirs them. ), it is possible to further accelerate the dissolution of the gas into the liquid.

[0013] 상기 미세 기포 발생 장치는, 상기 탱크의 액위(液位)가 제1 액위 이상인지 여부를 검출할 수 있는 제1 액위 전극과, 상기 탱크의 액위가 상기 제1 액위보다 높은 제2 액위 이상인지 여부를 검출할 수 있는 제2 액위 전극을 더 구비하고 있어도 된다. 상기 탱크 순환로로의 상기 유출구가 상기 탱크에 접속되어 있는 부위(箇所)의 액위는, 상기 제1 액위보다 낮아도 된다. 상기 제어장치는, 상기 미세 기포 발생 운전을 실행하고 있으며, 또한 상기 제1 탱크 순환 운전을 실행하는 중에, 상기 탱크의 액위가 상기 제1 액위보다 낮은 것이 검출되었을 경우에, 상기 제1 탱크 순환 운전을 종료하고 상기 제2 탱크 순환 운전을 개시하며, 상기 미세 기포 발생 운전을 실행하고 있으며, 또한 상기 제2 탱크 순환 운전을 실행하는 중에, 상기 탱크의 액위가 상기 제2 액위보다 높은 것이 검출되었을 경우에, 상기 제2 탱크 순환 운전을 종료하고 상기 제1 탱크 순환 운전을 개시하도록 구성되어 있어도 된다.[0013] The microbubble generating device includes a first liquid level electrode capable of detecting whether the liquid level in the tank is equal to or higher than the first liquid level, and a second liquid level in which the liquid level in the tank is higher than the first liquid level. A second liquid level electrode capable of detecting abnormality may be further provided. A liquid level at a portion where the outlet to the tank circulation path is connected to the tank may be lower than the first liquid level. The first tank circulation operation, when the controller detects that the liquid level in the tank is lower than the first liquid level while the micro-bubble generation operation is being executed and the first tank circulation operation is being executed. is finished, the second tank circulation operation is started, the micro-bubble generation operation is being executed, and it is detected that the liquid level in the tank is higher than the second liquid level while the second tank circulation operation is being executed. In addition, it may be configured so that the second tank circulation operation is ended and the first tank circulation operation is started.

[0014] 미세 기포 발생 운전의 실행 중에, 탱크에서 소비되는 기체의 양이 기체 도입 기구에서 도입되는 기체의 양보다 적은 경우에는, 탱크의 액위는 하강해가며, 탱크에서 소비되는 기체의 양이 기체 도입 기구에서 도입되는 기체의 양보다 많은 경우에는, 탱크의 액위는 상승해간다. 한편, 탱크 순환 펌프를 구동하고 있을 때에, 제1 탱크 순환 운전을 실행하면, 기체 도입 기구에서 기체가 도입되고, 제2 탱크 순환 운전을 실행하면, 기체 도입 기구에서 기체가 도입되지 않게 된다. 상기 구성에 의하면, 제어장치가 탱크의 액위에 따라 제1 탱크 순환 운전과 제2 탱크 순환 운전 중 어느 하나를 선택적으로 실행함으로써, 탱크에서 소비되는 기체의 양과 기체 도입 기구에서 도입되는 기체의 양의 균형을 맞출 수가 있다.[0014] During execution of the fine bubble generation operation, when the amount of gas consumed in the tank is smaller than the amount of gas introduced from the gas introducing mechanism, the liquid level in the tank goes down, and the amount of gas consumed in the tank is reduced to gas. When more than the amount of gas introduced by the introduction mechanism, the liquid level in the tank rises. On the other hand, when the first tank circulation operation is performed while the tank circulation pump is being driven, gas is introduced from the gas introduction mechanism, and when the second tank circulation operation is performed, gas is not introduced from the gas introduction mechanism. According to the above configuration, the control device selectively executes either the first tank circulation operation or the second tank circulation operation according to the liquid level of the tank, so that the amount of gas consumed in the tank and the amount of gas introduced from the gas introducing mechanism are reduced. You can strike a balance.

[0015] 상기 기체 도입 밸브는, 상기 감압부에서의 상기 액체의 부압에 의해, 상기 기체 도입 밸브를 닫는 방향의 힘을 받도록 구성되어 있어도 된다. 상기 제어장치는, 상기 제1 탱크 순환 운전을 종료하고 상기 제2 탱크 순환 운전을 개시할 때에는, 상기 탱크 순환 펌프의 구동을 계속하면서, 상기 탱크 순환 펌프의 회전수를 상기 제1 회전수로부터 상기 제2 회전수까지 저감시키며, 그 후에 상기 기체 도입 밸브를 닫도록 구성되어 있어도 된다.[0015] The gas introduction valve may be configured to receive a force in a direction to close the gas introduction valve by negative pressure of the liquid in the pressure reducing section. When the first tank circulation operation is ended and the second tank circulation operation is started, the control device sets the rotation speed of the tank circulation pump from the first rotation speed to the above while continuing to drive the tank circulation pump. It is reduced to the 2nd rotational speed, and it may be comprised so that the said gas introduction valve may be closed after that.

[0016] 상기 구성에서는 기체 도입 밸브에는, 감압부에서의 액체의 부압이 기체 도입 밸브를 닫는 방향으로 작용한다. 이 때문에, 감압부에서의 액체의 압력이 작은 상태에서, 기체 도입 밸브를 연 상태로부터 닫은 상태로 전환하면, 기체 도입 밸브의 밸브체(弁體)가 밸브 시트(valve seat, 弁座)에 강하게 충돌하여, 소음의 발생이나 기체 도입 밸브의 손상을 초래할 우려가 있다. 상기 구성에서 제어장치는, 제1 탱크 순환 운전을 종료하고 제2 탱크 순환 운전을 개시할 때에, 탱크 순환 펌프의 회전수를 저감시켜, 감압부에서의 액체의 압력을 증가시키고 나서, 기체 도입 밸브를 연 상태로부터 닫은 상태로 전환한다. 이에 따라, 기체 도입 밸브의 밸브체가 밸브 시트에 강하게 충돌함으로 인한, 소음의 발생이나 기체 도입 밸브의 손상을 억제할 수가 있다.[0016] In the above configuration, the negative pressure of the liquid in the pressure reducing section acts on the gas introduction valve in the direction of closing the gas introduction valve. For this reason, when the gas introduction valve is switched from an open state to a closed state in a state where the liquid pressure in the pressure reduction section is low, the valve body of the gas introduction valve is strongly pressed against the valve seat. Collisions may cause noise generation or damage to the gas introduction valve. In the configuration described above, when the first tank circulation operation is terminated and the second tank circulation operation is started, the controller reduces the rotational speed of the tank circulation pump to increase the pressure of the liquid in the pressure reducing section, and then controls the gas introduction valve. switch from an open state to a closed state. Accordingly, it is possible to suppress generation of noise and damage to the gas introduction valve due to strong collision of the valve body of the gas introduction valve with the valve seat.

[0017] 상기 기체 도입 밸브는, 상기 감압부에서의 상기 액체의 부압에 의해, 상기 기체 도입 밸브를 닫는 방향의 힘을 받도록 구성되어 있어도 된다. 상기 제어장치는, 상기 제2 탱크 순환 운전을 종료하고 상기 제1 탱크 순환 운전을 개시할 때에는, 상기 탱크 순환 펌프의 구동을 계속하면서, 상기 기체 도입 밸브를 열고, 그 후에 상기 탱크 순환 펌프의 회전수를 상기 제2 회전수로부터 상기 제1 회전수까지 증가시키도록 구성되어 있어도 된다.[0017] The gas introduction valve may be configured to receive a force in a direction to close the gas introduction valve by negative pressure of the liquid in the pressure reducing section. When the second tank circulation operation ends and the first tank circulation operation starts, the controller opens the gas introduction valve while continuing to drive the tank circulation pump, and then rotates the tank circulation pump. You may be comprised so that a number may be increased from the said 2nd rotational speed to the said 1st rotational speed.

[0018] 상기 구성에서는 기체 도입 밸브에는, 감압부에서의 액체의 부압이, 기체 도입 밸브를 닫는 방향으로 작용한다. 이 때문에, 감압부에서의 액체의 압력이 작은 상태에서, 기체 도입 밸브를 닫은 상태로부터 연 상태로 전환하려고 하면, 기체 도입 밸브가 원활하게 동작하지 않을 우려가 있다. 상기 구성에서 제어장치는, 제2 탱크 순환 운전을 종료하고 제1 탱크 순환 운전을 개시할 때에, 기체 도입 밸브를 닫은 상태로부터 연 상태로 전환하고 나서, 탱크 순환 펌프의 회전수를 증가시켜, 감압부에서의 액체의 압력을 저감시킨다. 이로써, 기체 도입 밸브를 원활하게 동작시킬 수가 있다.[0018] In the above configuration, the negative pressure of the liquid in the pressure reducing section acts on the gas introduction valve in the direction of closing the gas introduction valve. For this reason, if the gas introduction valve is switched from a closed state to an open state in a state where the pressure of the liquid in the pressure reducing section is low, there is a risk that the gas introduction valve does not operate smoothly. In the configuration described above, when the second tank circulation operation is ended and the first tank circulation operation is started, the control device switches the gas introduction valve from a closed state to an open state, and then increases the rotational speed of the tank circulation pump to decompress the pressure. Reduce the pressure of the liquid in the section. In this way, the gas introduction valve can be operated smoothly.

[0019] 상기 미세 기포 발생 장치에 있어서, 상기 액체는 물이어도 되고, 상기 액조는 사용자가 목욕에 사용하는 욕조여도 된다.[0019] In the microbubble generating device, the liquid may be water, and the liquid tank may be a bathtub used by a user for bathing.

[0020] 상기 구성에 의하면, 사용자가 목욕에 사용하는 욕조의 물에 미세 기포를 계속해서 안정적으로 발생시킬 수가 있다.[0020] According to the above configuration, it is possible to continuously and stably generate microbubbles in the water of the bathtub used by the user for bathing.

[0021] 도 1은 실시예의 온수 장치(2)의 구성을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 2는 실시예의 온수 장치(2)의 욕조 어댑터(132)의 단면(斷面)을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 3은 실시예의 온수 장치(2)의 온수 채우기 운전(bathtub-filling)에 있어서 제어장치(150)가 실행하는 처리의 흐름도(플로우 차트)이다.
도 4는 실시예의 온수 장치(2)에서의 물의 흐름의 예를 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 5는 실시예의 온수 장치(2)에서의 물의 흐름의 다른 예를 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 6은 실시예의 온수 장치(2)의 미세 기포 발생 운전에 있어서 제어장치(150)가 실행하는 처리의 흐름도이다.
도 7은 실시예의 온수 장치(2)에서의 물의 흐름의 또 다른 예를 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 8은 실시예의 온수 장치(2)에서의 물의 흐름의 또 다른 예를 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 9는 변형예의 온수 장치(2)의 미세 기포 발생 운전에 있어서 제어장치(150)가 실행하는 처리의 흐름도이다.
도 10은 다른 변형예의 온수 장치(2)의 구성을 모식적으로 나타내는 도면이다.
[0021] Fig. 1 is a diagram schematically showing the configuration of a hot water device 2 of an embodiment.
Fig. 2 is a diagram schematically showing a cross section of a bathtub adapter 132 of the hot water system 2 of the embodiment.
Fig. 3 is a flow chart (flow chart) of processing executed by the controller 150 in bath-filling operation of the hot water apparatus 2 of the embodiment.
4 is a diagram schematically showing an example of the flow of water in the hot water device 2 of the embodiment.
5 is a diagram schematically showing another example of the flow of water in the hot water device 2 of the embodiment.
Fig. 6 is a flow chart of processing executed by the control device 150 in the fine-bubble generating operation of the hot water device 2 of the embodiment.
Fig. 7 is a diagram schematically showing another example of the flow of water in the hot water device 2 of the embodiment.
8 is a diagram schematically showing another example of the flow of water in the hot water device 2 of the embodiment.
Fig. 9 is a flow chart of processing executed by the control device 150 in the fine-bubble generation operation of the hot water device 2 of the modified example.
Fig. 10 is a diagram schematically showing the configuration of a hot water device 2 of another modified example.

[0022] (실시예)[0022] (Example)

도 1에 나타낸 바와 같이, 본 실시예의 온수 장치(2)는, 열원(熱源) 유닛(10)과 공기 가압 용해 유닛(50)과 욕조 어댑터(132)와 제어장치(150)를 포함한다. 온수 장치(2)는, 수도 등의 급수원(給水源, 200)으로부터 공급되는 물을 가열하여 원하는 온도까지 가열된 물을, 주방 등에 설치된 수도꼭지(250)나 욕실에 설치된 욕조(130)에 공급할 수 있다. 또한 온수 장치(2)는, 사용자가 목욕에 사용하는 욕조(130)의 물에 미세 기포를 발생시킬 수 있다.As shown in FIG. 1 , the hot water system 2 of the present embodiment includes a heat source unit 10, an air pressure melting unit 50, a bathtub adapter 132, and a controller 150. The hot water device 2 heats water supplied from a water supply source 200 such as tap water and supplies the heated water to a desired temperature to a faucet 250 installed in a kitchen or the like or a bathtub 130 installed in a bathroom. can In addition, the hot water device 2 may generate fine bubbles in the water of the bathtub 130 used by the user for bathing.

[0023] (열원 유닛(10)의 구성)[0023] (Configuration of heat source unit 10)

열원 유닛(10)은, 제1 열원기(12), 제2 열원기(14), 급수로(給水路, 16), 출탕로(出湯路, 18), 바이패스(bypass)로(20), 바이패스 서보(bypass servo, 22), 주탕로(注湯路, 24), 온수 채우기(bathtub-filling) 밸브(26), 수량(水量) 센서(28), 순환 진행로(往路)(30), 순환 복귀로(復路)(32), 욕조 순환 펌프(34), 수류(水流) 스위치(36)를 구비하고 있다.The heat source unit 10 includes a first heat source device 12, a second heat source device 14, a water supply path 16, a hot water path 18, and a bypass path 20. , bypass servo, 22, pouring furnace, 24, bath-filling valve 26, water quantity sensor 28, circulation path 30 ), a circulation return path 32, a bathtub circulation pump 34, and a water flow switch 36.

[0024] 급수로(16)의 상류단(上流端)은 급수원(200)에 접속되어 있으며, 급수로(16)의 하류단은 제1 열원기(12)에 접속되어 있다. 또한, 출탕로(18)의 상류단은 제1 열원기(12)에 접속되어 있으며, 출탕로(18)의 하류단은 수도꼭지(250)에 접속되어 있다. 제1 열원기(12)는 예컨대 가스의 연소에 의해 물을 가열하는 연소 열원기이다. 제1 열원기(12)는 급수로(16)로부터 유입되는 물을 가열하여, 가열된 물을 출탕로(18)로 내보낸다.[0024] The upstream end of the water supply passage 16 is connected to the water supply source 200, and the downstream end of the water supply passage 16 is connected to the first heat source device 12. Further, the upstream end of the hot water path 18 is connected to the first heat source device 12, and the downstream end of the hot water path 18 is connected to the faucet 250. The first heat source device 12 is a combustion heat source device that heats water by burning gas, for example. The first heat source unit 12 heats the water introduced from the water supply path 16 and sends the heated water to the tap path 18.

[0025] 바이패스로(20)의 상류단은 급수로(16)에 접속되어 있고, 바이패스로(20)의 하류단은 출탕로(18)에 접속되어 있다. 바이패스 서보(22)는 바이패스로(20)가 급수로(16)에 접속되는 부위에 설치되어 있다. 바이패스 서보(22)는, 내장된 밸브체의 개방도를 조정함으로써, 급수로(16)로부터 제1 열원기(12)를 경유하여 출탕로(18)로 흐르는 물의 유량과, 급수로(16)로부터 바이패스로(20)를 경유하여 출탕로(18)로 흐르는 물의 유량의 비율을 조정할 수가 있다. 바이패스 서보(22)의 개방도를 조정함으로써, 바이패스로(20)가 접속되는 부위보다 하류 측의 출탕로(18)에는, 제1 열원기(12)로부터 유입되는 고온의 물과, 바이패스로(20)로부터 유입되는 저온의 물이 원하는 비율로 혼합되어, 원하는 온도로 조절된 물이 공급된다. 바이패스로(20)가 접속되는 부위보다 하류 측의 출탕로(18)에는, 출탕로(18)의 물의 온도를 검출하는 출탕 온도 서미스터(thermistor)(18a)가 설치되어 있다.[0025] The upstream end of the bypass passage 20 is connected to the water supply passage 16, and the downstream end of the bypass passage 20 is connected to the hot water passage 18. The bypass servo 22 is installed at a site where the bypass passage 20 is connected to the water supply passage 16. The bypass servo 22 controls the flow rate of water flowing from the water supply passage 16 to the tap passage 18 via the first heat source device 12 and the water supply passage 16 by adjusting the opening degree of the built-in valve body. It is possible to adjust the ratio of the flow rate of water flowing from ) to the tap passage 18 via the bypass passage 20. By adjusting the degree of opening of the bypass servo 22, the high-temperature water flowing in from the first heat source device 12 and the by- Low-temperature water introduced from the pass furnace 20 is mixed in a desired ratio, and water adjusted to a desired temperature is supplied. A hot water temperature thermistor 18a for detecting the temperature of water in the hot water path 18 is provided in the hot water path 18 downstream of the portion to which the bypass path 20 is connected.

[0026] 주탕로(24)의 상류단은 바이패스로(20)가 접속되는 부위보다 하류 측인 출탕로(18)에 접속되어 있으며, 주탕로(24)의 하류단은 순환 복귀로(32)에 접속되어 있다. 온수 채우기 밸브(26)는 주탕로(24)에 설치되어 있으며, 주탕로(24)를 개폐한다. 온수 채우기 밸브(26)는 평상시에는 닫힘 상태로 되어 있다. 수량 센서(28)는 주탕로(24)에 설치되어 있으며, 주탕로(24)를 흐르는 물의 수량을 검출한다.[0026] The upstream end of the pouring furnace 24 is connected to the tapping furnace 18, which is downstream of the portion to which the bypass furnace 20 is connected, and the downstream end of the pouring furnace 24 is a circulation return path 32 is connected to The hot water filling valve 26 is installed in the pouring furnace 24 and opens and closes the pouring furnace 24. The hot water filling valve 26 is normally closed. The water quantity sensor 28 is installed in the pouring furnace 24 and detects the quantity of water flowing through the pouring furnace 24.

[0027] 순환 복귀로(32)의 상류단은 공기 가압 용해 유닛(50)의 열원 복귀로(60, 상세한 내용은 후술함)에 접속되어 있으며, 순환 복귀로(32)의 하류단은 제2 열원기(14)에 접속되어 있다. 또한, 순환 진행로(30)의 상류단은 제2 열원기(14)에 접속되어 있으며, 순환 진행로(30)의 하류단은 공기 가압 용해 유닛(50)의 열원 진행로(68, 상세한 내용은 후술함)에 접속되어 있다. 제2 열원기(14)는 예컨대 가스의 연소에 의해 물을 가열하는 연소 열원기이다. 제2 열원기(14)는, 순환 복귀로(32)로부터 유입되는 물을 가열하여, 가열된 물을 순환 진행로(30)로 내보낸다. 순환 복귀로(32)의 상류단 근방에는 순환 복귀로(32)의 물의 온도를 검출하는 순환 복귀로 서미스터(32a)가 설치되어 있다. 순환 진행로(30)의 하류단 근방에는 순환 진행로(30)의 물의 온도를 검출하는 순환 진행로 서미스터(30a)가 설치되어 있다.[0027] The upstream end of the circulation return passage 32 is connected to the heat source return passage 60 (details will be described later) of the air pressure melting unit 50, and the downstream end of the circulation return passage 32 is the second It is connected to the heat source device 14. In addition, the upstream end of the circulation passage 30 is connected to the second heat source device 14, and the downstream end of the circulation passage 30 is the heat source passage 68 of the air pressure melting unit 50, details is connected to (described later). The second heat source device 14 is a combustion heat source device that heats water by burning gas, for example. The second heat source device 14 heats the water flowing in from the circulation return passage 32 and sends the heated water to the circulation advance passage 30 . Near the upstream end of the return circuit 32, a thermistor 32a for detecting the temperature of water in the return circuit 32 is provided. Near the downstream end of the circulation passage 30, a circulation passage thermistor 30a for detecting the temperature of water in the circulation passage 30 is provided.

[0028] 욕조 순환 펌프(34)는 주탕로(24)의 접속 부위보다 하류 측의 순환 복귀로(32)에 설치되어 있으며, 순환 복귀로(32)의 물을 제2 열원기(14)를 향해 내보낸다. 수류 스위치(36)는 순환 복귀로(32)에서 욕조 순환 펌프(34)와 제2 열원기(14)의 사이에 설치되어 있으며, 순환 복귀로(32)를 물이 흐르고 있는지 여부를 검출한다.[0028] The bathtub circulation pump 34 is installed in the circulation return path 32 on the downstream side of the connection part of the pouring furnace 24, and the water in the circulation return path 32 is supplied to the second heat source device 14. send out towards The water flow switch 36 is installed between the bathtub circulation pump 34 and the second heat source device 14 in the circulation return path 32, and detects whether or not water is flowing through the circulation return path 32.

[0029] (공기 가압 용해 유닛(50)의 구성)[0029] (Configuration of air pressure melting unit 50)

공기 가압 용해 유닛(50)은 탱크(52), 열원 복귀로(60), 열원 진행로(68), 탱크 복귀로(74), 탱크 접속로(76), 탱크 진행로(64), 연통로(連通路, 66), 제1 삼방 밸브(three way valve)(80), 제2 삼방 밸브(82), 체크 밸브(check valve, 84), 탱크 급수 밸브(86), 제1 가압 펌프(88), 제2 가압 펌프(90), 탱크 흡인로(92), 탱크 순환 펌프(94), 기체 도입 기구(96)를 구비하고 있다.The air pressure melting unit 50 includes a tank 52, a heat source return passage 60, a heat source passage passage 68, a tank return passage 74, a tank connection passage 76, a tank passage passage 64, and a communication passage (連通路, 66), a first three-way valve (80), a second three-way valve (82), a check valve (check valve, 84), a tank water supply valve (86), a first pressure pump (88) ), a second pressure pump 90, a tank suction path 92, a tank circulation pump 94, and a gas introduction mechanism 96.

[0030] 탱크(52)는 내부에 물을 저류(貯留)할 수 있다. 탱크(52)의 내부에는, 탱크(52) 내의 수위(水位)를 검출하기 위한 저수위 전극(52a), 고수위 전극(52b) 및 접지(earth) 전극(52c)이 설치되어 있다. 저수위 전극(52a)에 의해 검출되는 수위(이하에서는 하한(下限) 수위라고도 함)는, 고수위 전극(52b)에 의해 검출되는 수위(이하에서는 상한(上限) 수위라고도 함)보다 낮다. 저수위 전극(52a), 고수위 전극(52b)은 탱크(52) 내에 저류된 물의 수면에 접촉하면, 접지 전극(52c)과의 사이에서 전류가 흘러, 제어장치(150)에 ON 신호를 출력한다. 탱크(52)는 물에 공기를 가압 용해하여 공기 용해수를 생성하기 위해 이용된다.Tank 52 may store water therein. Inside the tank 52, a low water level electrode 52a, a high level electrode 52b and an earth electrode 52c for detecting the water level in the tank 52 are provided. The water level detected by the low water level electrode 52a (hereinafter also referred to as a lower limit water level) is lower than the water level detected by the high level electrode 52b (hereinafter also referred to as an upper limit water level). When the low water level electrode 52a and the high level electrode 52b come into contact with the surface of the water stored in the tank 52, current flows between them and the ground electrode 52c, and an ON signal is output to the controller 150. The tank 52 is used to pressurize and dissolve air into water to produce air dissolved water.

[0031] 열원 복귀로(60)의 일단(一端)은 연통로(66)에 접속되어 있으며, 열원 복귀로(60)의 타단(他端)은 열원 유닛(10)의 순환 복귀로(32)에 접속되어 있다. 연통로(66)는, 제1 삼방 밸브(80)와 제2 삼방 밸브(82)를 접속한다. 제1 삼방 밸브(80)에는 연통로(66), 제1 욕조 수로(62) 및 탱크 진행로(64)가 접속되어 있다. 제1 삼방 밸브(80)는, 탱크 진행로(64)와 제1 욕조 수로(62)가 연통되어 있는 제1 연통 상태(도 7, 도 8 참조)와, 탱크 진행로(64)와 연통로(66)가 연통되어 있는 제2 연통 상태(도 1 참조)와, 제1 욕조 수로(62)와 탱크 진행로(64) 및 연통로(66)가 연통되어 있는 제3 연통 상태(도 4, 도 5 참조)를 전환할 수가 있다. 탱크 진행로(64)의 상류단은 탱크(52)의 하부에 접속되어 있으며, 탱크 진행로(64)의 하류단은 제1 삼방 밸브(80)에 접속되어 있다. 탱크 진행로(64)에는, 탱크(52)로부터 제1 삼방 밸브(80)를 향해 물이 흐르는 것을 허용하고, 제1 삼방 밸브(80)로부터 탱크(52)를 향해 물이 흐르는 것을 금지하는 체크 밸브(84)가 설치되어 있다. 제1 욕조 수로(62)의 일단은 제1 삼방 밸브(80)에 접속되어 있으며, 제1 욕조 수로(62)의 타단은 욕조 어댑터(132)에 접속되어 있다.[0031] One end of the heat source return passage 60 is connected to the communication passage 66, and the other end of the heat source return passage 60 is the circulation return passage 32 of the heat source unit 10 is connected to The communication path 66 connects the first three-way valve 80 and the second three-way valve 82 . The first three-way valve 80 is connected to a communication passage 66, a first bathtub water passage 62, and a tank travel passage 64. The first three-way valve 80 is a first communication state in which the tank passage 64 and the first bathtub water passage 62 communicate (see FIGS. 7 and 8 ), and the tank passage 64 and the communication passage. 66 is in communication with the second communication state (see Fig. 1), and the first bathtub water passage 62 and the tank progress passage 64 and the communication passage 66 are in communication with the third communication state (Fig. 4, 5) can be switched. The upstream end of the tank passage 64 is connected to the lower part of the tank 52, and the downstream end of the tank passage 64 is connected to the first three-way valve 80. In the tank path 64, there is a check that allows water to flow from the tank 52 toward the first three-way valve 80 and prohibits water from flowing from the first three-way valve 80 toward the tank 52. A valve 84 is installed. One end of the first bathtub water line 62 is connected to the first three-way valve 80, and the other end of the first bathtub water line 62 is connected to the bathtub adapter 132.

[0032] 열원 진행로(68)의 일단은 열원 유닛(10)의 순환 진행로(30)에 접속되어 있으며, 열원 진행로(68)의 타단은 제2 삼방 밸브(82)에 접속되어 있다. 제2 삼방 밸브(82)에는 연통로(66), 열원 진행로(68), 제2 욕조 수로(70)가 접속되어 있다. 제2 삼방 밸브(82)는, 제2 욕조 수로(70)와 연통로(66)가 연통되는 제4 연통 상태(도 7, 도 8 참조)와, 열원 진행로(68)와 제2 욕조 수로(70)가 연통되는 제5 연통 상태(도 1, 도 4, 도 5 참조)를 전환할 수가 있다. 제2 욕조 수로(70)의 일단은 제2 삼방 밸브(82)에 접속되어 있고, 제2 욕조 수로(70)의 타단은 욕조 어댑터(132)에 접속되어 있다.[0032] One end of the heat source passage 68 is connected to the circulation passage 30 of the heat source unit 10, and the other end of the heat source passage 68 is connected to the second three-way valve 82. A communication path 66, a heat source travel path 68, and a second bathtub water path 70 are connected to the second three-way valve 82. The second three-way valve 82 is in a fourth communication state in which the second bathtub water passage 70 and the communication passage 66 communicate (see FIGS. 7 and 8 ), and the heat source travel passage 68 and the second bathtub water passage. The fifth communication state (see Figs. 1, 4 and 5) in which 70 is communicated can be switched. One end of the second bathtub water line 70 is connected to the second three-way valve 82, and the other end of the second bathtub water line 70 is connected to the bathtub adapter 132.

[0033] 탱크 복귀로(74)의 상류단은 열원 진행로(68)에 접속되어 있으며, 탱크 복귀로(74)의 하류단은 탱크 접속로(76)의 상류단에 접속되어 있다. 탱크 접속로(76)의 하류단(이하에서는 유입구(76a)라고도 함)은 탱크(52)의 정상부에 접속되어 있다. 탱크 접속로(76)의 유입구(76a)가 탱크(52)에 접속되어 있는 부위(箇所)의 수위는, 고수위 전극(52b)에 의해 검출되는 상한 수위보다 높다. 탱크 급수 밸브(86)는 탱크 복귀로(74)에 설치되어 있으며, 탱크 복귀로(74)를 개폐한다. 탱크 급수 밸브(86)는 평상시에는 닫힘 상태로 되어 있다. 제1 가압 펌프(88)와 제2 가압 펌프(90)는, 탱크 복귀로(74)에 있어서 탱크 급수 밸브(86)보다 하류 측에 설치되어 있다. 제1 가압 펌프(88)와 제2 가압 펌프(90)는 탱크 복귀로(74)의 물을 가압하여 탱크 접속로(76)를 향해 내보낸다. 탱크 복귀로(74)에 있어서, 제1 가압 펌프(88)는 제2 가압 펌프(90)보다 상류 측에 배치되어 있다. 탱크 복귀로(74)로부터 탱크 접속로(76)로 보내진 물은, 유입구(76a)를 통해 탱크(52)에 유입된다.[0033] The upstream end of the tank return path 74 is connected to the heat source travel path 68, and the downstream end of the tank return path 74 is connected to the upstream end of the tank connection path 76. The downstream end of the tank connection path 76 (hereinafter also referred to as an inlet 76a) is connected to the top of the tank 52. The water level at the site where the inlet 76a of the tank connection passage 76 is connected to the tank 52 is higher than the upper limit water level detected by the high level electrode 52b. The tank water supply valve 86 is installed in the tank return passage 74 and opens and closes the tank return passage 74. The tank water supply valve 86 is normally closed. The first pressurization pump 88 and the second pressurization pump 90 are provided downstream of the tank water supply valve 86 in the tank return path 74 . The first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 pressurize the water in the tank return passage 74 and send it toward the tank connection passage 76. In the tank return passage 74, the first pressure pump 88 is disposed upstream of the second pressure pump 90. Water sent from the tank return passage 74 to the tank connection passage 76 flows into the tank 52 through the inlet 76a.

[0034] 탱크 흡인로(92)의 상류단(이하에서는 유출구(92a)라고도 함)은, 탱크(52)의 바닥부에 접속되어 있다. 탱크 흡인로(92)의 유출구(92a)가 탱크(52)에 접속되어 있는 부위의 수위는, 저수위 전극(52a)에 의해 검출되는 하한 수위보다 낮다. 탱크 흡인로(92)의 하류단은 탱크 접속로(76)의 상류단에 접속되어 있다. 탱크 순환 펌프(94)는 탱크 흡인로(92)에 설치되어 있다. 탱크 순환 펌프(94)는, 탱크(52) 내의 물을 유출구(92a)를 통해 탱크 흡인로(92)로 흡입하는 동시에, 탱크 흡인로(92)의 물을 탱크 접속로(76)를 향해 내보낸다. 탱크 흡인로(92)로부터 탱크 접속로(76)로 보내진 물은, 유입구(76a)를 통해 탱크(52)로 유입된다.[0034] The upstream end of the tank suction path 92 (hereinafter also referred to as an outlet 92a) is connected to the bottom of the tank 52. The water level at the site where the outlet 92a of the tank suction passage 92 is connected to the tank 52 is lower than the lower limit water level detected by the low water level electrode 52a. The downstream end of the tank suction passage 92 is connected to the upstream end of the tank connection passage 76 . A tank circulation pump 94 is installed in the tank suction path 92. The tank circulation pump 94 sucks the water in the tank 52 into the tank suction path 92 through the outlet 92a, and discharges the water in the tank suction path 92 toward the tank connection path 76. send. Water sent from the tank suction path 92 to the tank connection path 76 flows into the tank 52 through the inlet 76a.

[0035] 기체 도입 기구(96)는 탱크 순환 펌프(94)보다 상류 측인 탱크 흡인로(92)에 설치되어 있다. 기체 도입 기구(96)는 입수관(98), 출수관(100), 벤투리관(Venturi tube, 102), 기체 도입로(104), 기체 도입 밸브(106)를 구비하고 있다. 입수관(98)에는 탱크 흡인로(92)의 상류 측으로부터 물이 유입된다. 출수관(100)은 탱크 흡인로(92)의 하류 측으로 물을 유출시킨다. 벤투리관(102)은 입수관(98)과 출수관(100)을 연통하고 있다. 벤투리관(102)의 지름은 입수관(98) 및 출수관(100)의 지름보다 작다. 기체 도입 기구(96)를 흐르는 물은, 입수관(98)으로부터 벤투리관(102)으로 흐를 때에 대기압보다 낮은 압력까지 감압되고, 벤투리관(102)으로부터 출수관(100)으로 흐를 때에 원래의 압력까지 증가(增壓)된다. 기체 도입로(104)의 상류단(이하에서는 기체 도입구(導入口)(104a)라고도 함)은 대기에 개방되어 있으며, 하류단은 벤투리관(102)에 접속되어 있다. 기체 도입 밸브(106)는 기체 도입로(104)에 설치되어 있으며, 기체 도입로(104)를 개폐한다. 기체 도입 밸브(106)는, 밸브체(도시 생략)와, 밸브 시트(도시 생략)와, 밸브체를 밸브 시트에 착좌(着座)하는 방향으로 가압(付勢)하는 스프링(도시 생략)과, 밸브체를 밸브 시트로부터 반발 이격(離反)되는 방향으로 이동시키는 솔레노이드(도시 생략)를 구비하고 있다. 스프링의 가세력(付勢力, biasing force)에 의해 밸브체가 밸브 시트에 착좌되어 있는 상태에서는, 기체 도입 밸브(106)는 닫힌다. 솔레노이드의 구동에 의해 밸브체가 밸브 시트로부터 반발 이격되면, 기체 도입 밸브(106)는 열린다. 물이 기체 도입 기구(96)를 흐를 때에, 기체 도입 밸브(106)가 열려 있는 경우에는, 기체 도입구(104a)로부터 기체 도입로(104)로 공기가 흡입되어, 벤투리관(102)을 흐르는 물에 공기가 혼합된다. 기체 도입로(104)에서 도입된 공기는 탱크 흡인로(92)를 흐르는 물과 혼합되어, 탱크 접속로(76)를 통해 탱크(52)로 유입된다. 기체 도입 밸브(106)는, 평상시에는 닫힘 상태로 되어 있으며, 후술하는 제어장치(150)에 의해 솔레노이드가 구동되면 열림 상태가 된다. 기체 도입 밸브(106)에는, 벤투리관(102)에서의 물의 부압이 기체 도입 밸브(106)를 닫는 방향으로 작용한다.[0035] The gas introduction mechanism 96 is installed in the tank suction passage 92 on the upstream side of the tank circulation pump 94. The gas introduction mechanism 96 includes an inlet pipe 98, a water outlet pipe 100, a Venturi tube 102, a gas introduction passage 104, and a gas introduction valve 106. Water flows into the inlet pipe 98 from the upstream side of the tank suction path 92 . The water outlet pipe 100 discharges water to the downstream side of the tank suction path 92 . The venturi pipe 102 communicates the inlet pipe 98 and the outlet pipe 100. The diameter of the venturi pipe 102 is smaller than the diameters of the inlet pipe 98 and the outlet pipe 100. Water flowing through the gas introduction mechanism 96 is reduced to a pressure lower than atmospheric pressure when flowing from the inlet pipe 98 to the venturi pipe 102, and when flowing from the venturi pipe 102 to the water outlet pipe 100, it is originally increases to a pressure of The upstream end of the gas introduction path 104 (hereinafter also referred to as a gas introduction port 104a) is open to the atmosphere, and the downstream end is connected to the Venturi tube 102. The gas introduction valve 106 is installed in the gas introduction passage 104 and opens and closes the gas introduction passage 104 . The gas introduction valve 106 includes a valve body (not shown), a valve seat (not shown), a spring (not shown) that urges the valve body in a direction in which the valve body is seated on the valve seat, A solenoid (not shown) for moving the valve body in a direction away from the valve seat is provided. In a state where the valve body is seated on the valve seat by the biasing force of the spring, the gas introduction valve 106 is closed. When the valve body is pushed away from the valve seat by the actuation of the solenoid, the gas introduction valve 106 is opened. When the gas introduction valve 106 is open when water flows through the gas introduction mechanism 96, air is sucked into the gas introduction path 104 from the gas introduction port 104a, and the venturi tube 102 is blown. Air is mixed with flowing water. Air introduced from the gas introduction passage 104 is mixed with water flowing through the tank suction passage 92 and flows into the tank 52 through the tank connection passage 76 . The gas introduction valve 106 is normally closed, and is opened when the solenoid is driven by the control device 150 described later. The negative pressure of water in the venturi tube 102 acts on the gas introduction valve 106 in the direction of closing the gas introduction valve 106 .

[0036] 설령 위와 같은 기체 도입 기구(96)를 탱크 복귀로(74)에 설치한 경우라 하더라도, 탱크 복귀로(74)로부터 탱크(52)로 물이 공급될 때에 기체 도입 기구(96)에서 공기를 도입할 수가 있다. 그러나 이러한 구성으로 한 경우, 탱크 복귀로(74)의 압력 손실이 커져, 제1 가압 펌프(88)와 제2 가압 펌프(90)에 의해 탱크(52)로 보내지는 물의 압력이 저하된다. 또한 이러한 구성으로 한 경우, 기체 도입 기구(96)에 있어서 도입되는 공기량을 증가시키면, 탱크(52)로 보내지는 물의 압력이 저감되며, 탱크(2)로 보내지는 물의 압력을 증가시키면, 기체 도입 기구(96)에 있어서 도입되는 공기량이 저감된다. 이에 대하여, 본 실시예에서는, 탱크 복귀로(74)와는 별개로 설치된 탱크 흡인로(92)에 기체 도입 기구(96)가 설치되어 있기 때문에, 탱크 복귀로(74)의 압력 손실을 작게 할 수가 있다. 또한, 탱크 복귀로(74)로부터 탱크(52)로 높은 압력으로 물을 보내면서, 기체 도입 기구(96)에서 많은 양의 공기를 도입할 수가 있다.[0036] Even if the above gas introduction mechanism 96 is installed in the tank return path 74, when water is supplied from the tank return path 74 to the tank 52, the gas introduction mechanism 96 Air can be introduced. However, in the case of such a configuration, the pressure loss in the tank return path 74 increases, and the pressure of the water sent to the tank 52 by the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 decreases. In addition, in the case of such a configuration, when the amount of air introduced in the gas introduction mechanism 96 is increased, the pressure of the water sent to the tank 52 is reduced, and when the pressure of the water sent to the tank 2 is increased, the gas is introduced. The amount of air introduced into the mechanism 96 is reduced. In contrast, in this embodiment, since the gas introduction mechanism 96 is provided in the tank suction path 92 provided separately from the tank return path 74, the pressure loss in the tank return path 74 can be reduced. there is. In addition, a large amount of air can be introduced by the gas introduction mechanism 96 while sending water from the tank return passage 74 to the tank 52 at a high pressure.

[0037] (욕조 어댑터(132)의 구성)[0037] (Configuration of bathtub adapter 132)

계속해서, 도 2의 (a), (b)를 참조하여 욕조(130)의 벽부(130a)에 설치된 욕조 어댑터(132)에 대해 설명한다. 도 2의 (a)는 제1 욕조 수로(62)로부터 욕조(130)를 향해 물이 흐르고, 욕조(130)로부터 제2 욕조 수로(70)를 향해 물이 흐르는 상태(예컨대, 도 7의 상태)인 경우의 욕조 어댑터(132)에서의 물의 흐름을 나타내고 있다. 도 2의 (b)는 욕조(130)로부터 제1 욕조 수로(62)를 향해 물이 흐르고, 제2 욕조 수로(70)로부터 욕조(130)를 향해 물이 흐르는 상태(예컨대, 도 5의 상태)인 경우의 욕조 어댑터(132)에서의 물의 흐름을 나타내고 있다.Subsequently, the bathtub adapter 132 installed on the wall portion 130a of the bathtub 130 will be described with reference to (a) and (b) of FIG. 2 . 2(a) shows a state in which water flows from the first bathtub waterway 62 toward the bathtub 130 and water flows from the bathtub 130 toward the second bathtub waterway 70 (eg, the state of FIG. 7 ). ), the flow of water in the bathtub adapter 132 is shown. 2(b) shows a state in which water flows from the bathtub 130 toward the first bathtub waterway 62 and water flows from the second bathtub waterway 70 toward the bathtub 130 (eg, the state of FIG. 5 ). ), the flow of water in the bathtub adapter 132 is shown.

[0038] 욕조 어댑터(132)는 제1 수로(136)와 제2 수로(138)를 구비한다. 제1 수로(136)는 제1 욕조 수로(62)와 연통되어 있으며, 제2 수로(138)는 제2 욕조 수로(70)와 연통되어 있다. 제1 수로(136)는 제1 토출로(吐出路)(136a)와 제1 흡입로(136b)로 분기되어 있다. 제1 토출로(136a)는 욕조 어댑터(132)의 전면(前面, 132a)에 형성된 제1 토출구(134a)와 연통되어 있다. 제1 토출구(134a)로부터 욕조(130)로 토출되는 물은, 욕조(130)의 벽부(130a)의 전방, 즉 욕조(130)의 벽부(130a)에 수직인 방향으로 토출된다. 제1 토출로(136a)에는, 욕조(130)로부터 제1 욕조 수로(62)로 향하는 물의 흐름을 방지하는 역류방지부(逆止部, 140a)와, 역류방지부(140a)보다 상류 측(제1 욕조 수로(62) 쪽)에 배치된 미세 기포 발생 노즐(142)이 설치되어 있다. 미세 기포 발생 노즐(142)은 미세 기포 발생 노즐(142)을 통과하는 물을 감압시킨다. 제1 흡입로(136b)는 욕조 어댑터(132)의 전면(132a)에 형성된 제1 흡입구(134b)와 연통되어 있다. 제1 흡입로(136b)에는, 제1 욕조 수로(62)로부터 욕조(130)로 향하는 물의 흐름을 방지하는 역류방지부(140b)가 설치되어 있다.[0038] The bathtub adapter 132 includes a first waterway 136 and a second waterway 138. The first water passage 136 communicates with the first bathtub water passage 62, and the second water passage 138 communicates with the second bathtub water passage 70. The first water passage 136 is branched into a first discharge passage 136a and a first suction passage 136b. The first discharge path 136a communicates with the first discharge port 134a formed on the front surface 132a of the tub adapter 132. Water discharged from the first discharge port 134a into the bathtub 130 is discharged forward of the wall part 130a of the bathtub 130, that is, in a direction perpendicular to the wall part 130a of the bathtub 130. In the first discharge passage 136a, a backflow prevention part 140a for preventing the flow of water from the bathtub 130 toward the first bathtub waterway 62, and an upstream side from the backflow prevention part 140a ( A micro-bubble generating nozzle 142 disposed on the first bathtub water passage 62 side) is installed. The micro-bubble generating nozzle 142 reduces the water passing through the micro-bubble generating nozzle 142 . The first suction path 136b communicates with the first suction port 134b formed on the front surface 132a of the tub adapter 132. A backflow prevention part 140b is installed in the first suction passage 136b to prevent the flow of water from the first bathtub water passage 62 toward the bathtub 130 .

[0039] 제2 수로(138)는 제2 토출로(138a)와 제2 흡입로(138b)로 분기되어 있다. 제2 흡입로(138b)는 욕조 어댑터(132)의 전면(132a)에 형성된 제2 흡입구(134c)와 연통되어 있다. 제2 흡입로(138b)에는, 제2 욕조 수로(70)로부터 욕조(130)로 향하는 물의 흐름을 방지하는 역류방지부(140c)가 설치되어 있다. 제2 토출로(138a)는 욕조 어댑터(132)의 하면(132b)에 형성된 제2 토출구(134d)와 연통되어 있다. 제2 토출구(134d)로부터 토출되는 물은 하방, 즉 욕조(130)의 벽부(130a)에 평행한 방향으로 토출된다. 제2 토출로(138a)에는, 욕조(130)로부터 제2 욕조 수로(70)로 향하는 물의 흐름을 방지하는 역류방지부(140d)가 설치되어 있다.The second water passage 138 is branched into a second discharge passage 138a and a second suction passage 138b. The second intake passage 138b communicates with the second intake port 134c formed on the front surface 132a of the bathtub adapter 132. A backflow prevention part 140c for preventing the flow of water from the second bathtub waterway 70 toward the bathtub 130 is installed in the second suction passage 138b. The second discharge path 138a communicates with the second discharge port 134d formed on the lower surface 132b of the tub adapter 132. Water discharged from the second discharge port 134d is discharged downward, that is, in a direction parallel to the wall portion 130a of the bathtub 130 . In the second discharge path 138a, a backflow prevention unit 140d is installed to prevent the flow of water from the bathtub 130 toward the second bathtub waterway 70.

[0040] (제어장치(150)의 구성)[0040] (Configuration of control device 150)

도 1에 나타내는 제어장치(150)는 열원 유닛(10), 공기 가압 용해 유닛(50)의 각 구성요소의 동작을 제어한다. 제어장치(150)는 사용자가 조작할 수 있는 리모컨(154)과 통신 가능하도록 구성되어 있다. 제어장치(150)는, 메모리(152)를 구비하고 있으며, 사용자가 입력한 온수 채우기 운전에서의 설정 온도나 설정 수량, 데우기(reheating) 운전에서의 설정 온도 등의 각종 설정을 기억할 수 있다. 사용자는 리모컨(154)을 통해 후술하는 온수 채우기 운전이나 미세 기포 발생 운전, 데우기 운전의 시작과 종료를 지시할 수가 있다.A controller 150 shown in FIG. 1 controls the operation of each component of the heat source unit 10 and the air pressure melting unit 50 . The control device 150 is configured to communicate with a remote control 154 that can be manipulated by a user. The control device 150 has a memory 152 and can store various settings input by a user, such as a set temperature or a set quantity in a hot water filling operation, a set temperature in a reheating operation, and the like. The user may instruct the start and end of hot water filling operation, fine bubble generation operation, and warming operation to be described later through the remote controller 154 .

[0041] (온수 채우기 운전)[0041] (hot water filling operation)

온수 채우기 운전은, 사용자가 리모컨(154)에서 온수 채우기 운전의 시작을 지시한 경우에 개시된다. 또는 온수 채우기 운전은, 사용자가 리모컨(154)에서 온수 채우기 운전의 개시 시각을 설정해 두고, 제어장치(150)가 온수 채우기 운전의 개시 시각이 도래하였다고 판단한 경우에 개시되어도 된다. 제어장치(150)는 온수 채우기 운전을 개시할 때에, 제1 삼방 밸브(80), 제2 삼방 밸브(82)를 각각 제3 연통 상태, 제5 연통 상태로 한다(도 4, 도 5 참조). 이 상태에서 제어장치(150)는 도 3에 나타낸 처리를 실행한다.The hot water filling operation is initiated when the user instructs the start of the hot water filling operation using the remote controller 154 . Alternatively, the hot water filling operation may be started when the user sets the start time of the hot water filling operation with the remote controller 154 and the controller 150 determines that the start time of the hot water filling operation has arrived. When starting the hot water filling operation, the controller 150 puts the first three-way valve 80 and the second three-way valve 82 into the third communication state and the fifth communication state, respectively (see Figs. 4 and 5). . In this state, the controller 150 executes the processing shown in FIG.

[0042] S2에서는, 제어장치(150)는 공기 빼기 처리를 실행한다. 구체적으로는, 제어장치(150)는 온수 채우기 밸브(26)를 여는 동시에, 제1 열원기(12)에 의한 물의 가열을 시작한다. 이로써, 도 4에 나타내는 바와 같이 설정 온도로 조절된 물이, 출탕로(18)로부터 주탕로(24)를 통해 순환 복귀로(32)로 유입된다. 순환 복귀로(32)로 유입된 물은, 상류 측(즉 열원 복귀로(60))으로 향하는 흐름과, 하류 측(즉 제2 열원기(14))으로 향하는 흐름으로 분기된다. 순환 복귀로(32)로부터 열원 복귀로(60)로 흐르는 물은 연통로(66), 제1 삼방 밸브(80), 제1 욕조 수로(62), 욕조 어댑터(132)를 경유하여 욕조(130)로 유입된다. 또한, 순환 복귀로(32)로부터 제2 열원기(14)로 흐르는 물은 순환 진행로(30), 열원 진행로(68), 제2 삼방 밸브(82), 제2 욕조 수로(70), 욕조 어댑터(132)를 경유하여 욕조(130)로 유입된다. 이에 따라, 제1 욕조 수로(62)와 제2 욕조 수로(70)의 내부가 물로 채워져, 제1 욕조 수로(62)와 제2 욕조수로(70)의 내부에 잔류하고 있는 공기가 욕조(130)로 배출된다. 제어장치(150)는, 수량 센서(28)로 검출되는 적산(積算) 수량이 소정 값(예컨대 6L)에 도달하면, 온수 채우기 밸브(26)를 닫는 동시에, 제1 열원기(12)에 의한 가열을 종료하고 공기 빼기 처리를 종료한다.[0042] In S2, the control device 150 executes the air bleeding process. Specifically, the control device 150 opens the hot water filling valve 26 and starts heating the water by the first heat source device 12 . As a result, as shown in FIG. 4 , the water adjusted to the set temperature flows from the tap furnace 18 through the pouring furnace 24 to the circulation return path 32 . The water flowing into the circulation return passage 32 is branched into a flow toward the upstream side (ie, the heat source return passage 60) and a flow toward the downstream side (ie, the second heat source device 14). The water flowing from the circulation return path 32 to the heat source return path 60 passes through the communication path 66, the first three-way valve 80, the first bathtub water line 62, and the bathtub adapter 132 to return the bathtub 130. ) is introduced into In addition, the water flowing from the circulation return passage 32 to the second heat source device 14 is passed through the circulation passage 30, the heat source passage 68, the second three-way valve 82, the second bathtub water passage 70, It is introduced into the bathtub 130 via the bathtub adapter 132 . Accordingly, the insides of the first bathtub waterway 62 and the second bathtub waterway 70 are filled with water, and the air remaining inside the first bathtub waterway 62 and the second bathtub waterway 70 is removed from the bathtub ( 130) is discharged. The controller 150 closes the hot water filling valve 26 when the accumulated water quantity detected by the water quantity sensor 28 reaches a predetermined value (for example, 6L), and the first heat source device 12 Heating is finished and the air-bleeding process is finished.

[0043] S4에서는, 제어장치(150)는 욕조(130)의 잔수(殘水) 검지 처리를 실행한다. 구체적으로는, 도 5에 나타낸 바와 같이, 제어장치(150)는 욕조 순환 펌프(34)를 구동하며, 수류 스위치(36)가 수류를 검출하는지 여부에 근거하여 욕조(130)에 잔수가 있는지 여부를 판단한다. 욕조(130)에 잔수가 없어, 욕조 어댑터(132)가 물에 잠겨 있지 않은 경우에는, 욕조 순환 펌프(34)를 구동하여도 수류 스위치(36)가 수류를 검지(檢知)하지 않는다. 이와는 다르게, 욕조(130)에 잔수가 있어, 욕조 어댑터(132)가 물에 잠겨 있는 경우에는, 욕조 순환 펌프(34)를 구동하면, 수류 스위치(36)가 수류를 검지한다. S4에서 욕조(130)에 잔수가 있는 경우(YES 인 경우), 처리는 S6으로 진행된다. S4에서 욕조(130)에 잔수가 없는 경우(NO인 경우), 처리는 S10으로 진행된다.[0043] In S4, the control device 150 executes residual water detection processing of the bathtub 130. Specifically, as shown in FIG. 5 , the control device 150 drives the bathtub circulation pump 34, and whether or not there is residual water in the bathtub 130 based on whether or not the water flow switch 36 detects the water flow. judge When there is no remaining water in the bathtub 130 and the bathtub adapter 132 is not submerged in water, the water flow switch 36 does not detect the water flow even when the bathtub circulation pump 34 is driven. In contrast, when there is still water in the bathtub 130 and the bathtub adapter 132 is submerged in water, when the bathtub circulation pump 34 is driven, the water flow switch 36 detects the water flow. If there is still water in the bathtub 130 at S4 (YES), the process proceeds to S6. If there is no remaining water in the bathtub 130 at S4 (NO), the process proceeds to S10.

[0044] S6에서는, 제어장치(150)는 욕조(130)의 잔수량의 판정 처리를 행한다. 구체적으로는 제어장치(150)는, 욕조 순환 펌프(34)를 구동하여 순환 복귀로 서미스터(32a)에 의해 검출되는 온도를 가열 전 온도로서 기억한다. 그 후, 제어장치(150)는 제2 열원기(14)에 의한 물의 가열을 시작한다. 이로써, 도 5에 나타낸 바와 같이 욕조(130)의 잔수가, 욕조 어댑터(132), 제1 욕조 수로(62), 제1 삼방 밸브(80), 연통로(66), 열원 복귀로(60), 순환 복귀로(32)를 경유하여 제2 열원기(14)로 보내진다. 제2 열원기(14)에 의해 가열된 잔수는, 순환 진행로(30), 열원 진행로(68), 제2 삼방 밸브(82), 제2 욕조 수로(70), 욕조 어댑터(132)를 경유하여 욕조(130)로 돌아온다. 순환 복귀로 서미스터(32a)에 의해 검출되는 온도가 설정 온도 이상이 되면, 제어장치(150)는, 순환 복귀로 서미스터(32a)에 의해 검출되는 온도를 가열 후 온도로서 기억한 후, 욕조 순환 펌프(34)를 정지하는 동시에, 제2 열원기(14)에 의한 물의 가열을 종료한다. 그리고 제어장치(150)는, 가열 후 온도에서 가열 전 온도를 뺀 승온(昇溫) 폭과, S6에서의 제2 열원기(14)에서의 적산(積算) 가열량으로부터 욕조(130)의 잔수량을 산출한다.[0044] In S6, the controller 150 performs a determination process on the amount of remaining water in the bathtub 130. Specifically, the control device 150 drives the bathtub circulation pump 34 and stores the temperature detected by the thermistor 32a as the pre-heating temperature during circulation return. After that, the control device 150 starts heating the water by the second heat source device 14 . As a result, as shown in FIG. 5 , the remaining water in the bathtub 130 flows through the bathtub adapter 132, the first bathtub water passage 62, the first three-way valve 80, the communication passage 66, and the heat source return passage 60. , is sent to the second heat source device 14 via the circulation return path 32. The remaining water heated by the second heat source device 14 passes through the circulation path 30, the heat source path 68, the second three-way valve 82, the second bathtub water line 70, and the bathtub adapter 132. It returns to the bathtub 130 via. When the temperature detected by the thermistor 32a in the circulation return becomes equal to or higher than the set temperature, the controller 150 stores the temperature detected by the thermistor 32a in the circulation return as the temperature after heating, and then the bathtub circulation pump 34 is stopped, and the heating of water by the second heat source device 14 is finished. Then, the control device 150 calculates the residual water amount of the bathtub 130 from the temperature rise range obtained by subtracting the pre-heating temperature from the temperature after heating and the accumulated heating amount in the second heat source device 14 at S6. yields

[0045] S8에서는, 제어장치(150)는 온수 채우기 운전에서의 설정 수량으로부터, S6에서 판정된 욕조(130)의 잔수량을 감산하여 온수 채우기 운전에서의 설정 수량을 갱신한다.[0045] In S8, the controller 150 updates the set quantity in the hot water filling operation by subtracting the remaining water amount of the bathtub 130 determined in S6 from the set quantity in the hot water filling operation.

[0046] S10에서는, 제어장치(150)는 온수 채우기 밸브(26)를 여는 동시에, 제1 열원기(12)에 의한 가열을 시작한다. 이로써, 도 4에 나타낸 바와 같이, 설정 온도로 조절된 물이 출탕로(18)로부터 주탕로(24)를 통해 순환 복귀로(32)로 유입된다. 순환 복귀로(32)로 유입된 물은, 상류 측(즉 열원 복귀로(60))으로 향하는 흐름과 하류 측(즉 제2 열원기(14))으로 향하는 흐름으로 분기된다. 순환 복귀로(32)로부터 열원 복귀로(60)로 흐르는 물은, 연통로(66), 제1 삼방 밸브(80), 제1 욕조 수로(62), 욕조 어댑터(132)를 경유하여 욕조(130)로 유입된다. 순환 복귀로(32)로부터 제2 열원기(14)로 흐르는 물은, 순환 진행로(30), 열원 진행로(68), 제2 삼방 밸브(82), 제2 욕조 수로(70), 욕조 어댑터(132)를 경유하여 욕조(130)로 유입된다.[0046] In S10, the control device 150 opens the hot water filling valve 26 and starts heating by the first heat source device 12. As a result, as shown in FIG. 4 , the water adjusted to the set temperature flows from the tap furnace 18 through the pouring furnace 24 to the circulation return path 32 . The water introduced into the circulation return passage 32 is branched into a flow toward the upstream side (ie, the heat source return passage 60) and a flow toward the downstream side (ie, the second heat source device 14). The water flowing from the circulation return passage 32 to the heat source return passage 60 passes through the communication passage 66, the first three-way valve 80, the first bathtub water passage 62, and the bathtub adapter 132 to the bathtub ( 130). The water flowing from the circulation return path 32 to the second heat source device 14 flows through the circulation path 30, the heat source path 68, the second three-way valve 82, the second bathtub water line 70, and the bathtub. It flows into the bathtub 130 via the adapter 132 .

[0047] S12에서는, 제어장치(150)는 수량 센서(28)가 검출하는 적산 수량이, 온수 채우기 운전에서의 설정 수량에 도달할 때까지 대기한다. 또한, 여기서 말하는 적산 수량은, S2의 공기 빼기 처리에서 수량 센서(28)가 검출한 적산 수량과, S10에서 욕조(130)에 대한 온수 채우기를 시작하고 나서의 적산 수량을 합산한 것이다. 적산 수량이 설정 수량에 도달하면(YES가 되면), 처리는 S14로 진행된다.[0047] In S12, the controller 150 waits until the integrated quantity detected by the quantity sensor 28 reaches the set quantity in the hot water filling operation. Incidentally, the integrated water quantity referred to here is the sum of the integrated water quantity detected by the water quantity sensor 28 in the air bleeding process of S2 and the integrated water quantity after starting to fill the bathtub 130 with hot water in S10. When the accumulated quantity reaches the set quantity (if YES), the process proceeds to S14.

[0048] S14에서는, 제어장치(150)는 온수 채우기 밸브(26)를 닫는 동시에, 제1 열원기(12)에 의한 물의 가열을 종료한다.[0048] In S14, the control device 150 closes the hot water filling valve 26 and ends the heating of water by the first heat source device 12.

[0049] S16에서는, 제어장치(150)는 욕조 순환 펌프(34)를 구동하여 순환 복귀로 서미스터(32a)에서 검출되는 온도를 욕조 물 온도로서 취득한다. 그리고 제어장치(150)는 욕조 물 온도가 설정 온도 이상인지 여부를 판단한다. 욕조 물 온도가 설정 온도에 미치지 않는 경우(NO인 경우), 처리는 S18로 진행된다. 욕조 물 온도가 설정 온도 이상인 경우(YES인 경우), 처리는 S20으로 진행된다.[0049] In S16, the controller 150 drives the bathtub circulation pump 34 to obtain the temperature detected by the thermistor 32a as the bathtub water temperature by returning the circulation. Then, the control device 150 determines whether or not the temperature of the water in the bathtub is equal to or higher than the set temperature. If the bath water temperature does not reach the set temperature (NO), the process proceeds to S18. If the bathtub water temperature is equal to or higher than the set temperature (YES), the process proceeds to S20.

[0050] S18에서는, 제어장치(150)는 욕조(130)의 물을 데우는 처리를 실행한다. 구체적으로는, 제어장치(150)는 욕조 순환 펌프(34)를 구동하는 동시에, 제2 열원기(14)에 의한 물의 가열을 시작한다. 이로써, 도 5에 나타낸 바와 같이 욕조(130)의 물이, 욕조 어댑터(132), 제1 욕조 수로(62), 제1 삼방 밸브(80), 연통로(66), 열원 복귀로(60), 순환 복귀로(32)를 경유하여 제2 열원기(14)로 보내진다. 제2 열원기(14)에 의해 가열된 물은, 순환 진행로(30), 열원 진행로(68), 제2 삼방 밸브(82), 제2 욕조 수로(70), 욕조 어댑터(132)를 경유하여 욕조(130)로 돌아온다. 순환 복귀로 서미스터(32a)에서 검출되는 온도가 설정 온도 이상이 되면, 제어장치(150)는 욕조 순환 펌프(34)를 정지하는 동시에, 제2 열원기(14)에 의한 물의 가열을 종료한다.[0050] In S18, the controller 150 executes a process of heating the water in the bathtub 130. Specifically, the controller 150 starts heating the water by the second heat source device 14 while driving the bathtub circulation pump 34 . As a result, as shown in FIG. 5 , water in the bathtub 130 flows through the bathtub adapter 132, the first bathtub water passage 62, the first three-way valve 80, the communication passage 66, and the heat source return passage 60. , is sent to the second heat source device 14 via the circulation return path 32. The water heated by the second heat source device 14 passes through the circulation path 30, the heat source path 68, the second three-way valve 82, the second bathtub water line 70, and the bathtub adapter 132. It returns to the bathtub 130 via. When the temperature detected by the thermistor 32a becomes equal to or higher than the set temperature by returning the circulation, the controller 150 stops the bathtub circulation pump 34 and ends the water heating by the second heat source device 14.

[0051] S20에서는, 제어장치(150)는 온수 채우기 운전이 완료되었음을 리모컨(154)을 통해 사용자에게 통지한다. S20 후에, 도 3의 처리는 종료된다.[0051] In S20, the control device 150 notifies the user through the remote control 154 that the hot water filling operation is completed. After S20, the process of Fig. 3 ends.

[0052] (미세 기포 발생 운전)[0052] (Microbubble generation operation)

미세 기포 발생 운전은, 사용자가 리모컨(154)에 있어서 미세 기포 발생 운전의 시작을 지시한 경우에 개시된다. 또한, 본 실시예의 온수 장치(2)에서는, 상기한 온수 채우기 운전이 완료된 후에 자동으로 미세 기포 발생 운전도 개시된다. 즉, 온수 채우기 운전의 실행에 연동하여 미세 기포 발생 운전이 실행된다. 제어장치(150)는, 미세 기포 발생 운전을 개시할 때에, 제1 삼방 밸브(80), 제2 삼방 밸브(82)를 각각 제3 연통 상태, 제5 연통 상태로 한다(도 4, 도 5 참조). 이 상태에서 제어장치(150)는 도 6에 나타낸 처리를 실행한다.The micro-bubble generation operation is initiated when the user instructs the remote controller 154 to start the micro-bubble generation operation. In addition, in the hot water apparatus 2 of this embodiment, after the hot water filling operation described above is completed, the micro-bubble generation operation is automatically started. That is, the micro-bubble generation operation is executed in conjunction with the execution of the hot water filling operation. When the micro-bubble generation operation is started, the controller 150 puts the first three-way valve 80 and the second three-way valve 82 into a third communication state and a fifth communication state, respectively (FIGS. 4 and 5). Reference). In this state, the controller 150 executes the processing shown in FIG.

[0053] S32에서는, 제어장치(150)는 냉수 완화 처리를 실행한다. 구체적으로는, 제어장치(150)는 순환 진행로 서미스터(30a)나 순환 복귀로 서미스터(32a)에서 검출되는 온도가 소정 온도 이하인 경우에 욕조 순환 펌프(34)를 구동하는 동시에, 제2 열원기(14)에 의한 물의 가열을 시작한다. 이 냉수 완화 처리에 의해, 순환 진행로(30)나 순환 복귀로(32)의 내부에 저온의 물이 잔류하고 있는 경우에, 도 5에 나타낸 바와 같이, 그 저온의 물은 열원 진행로(68), 제2 삼방 밸브(82), 제2 욕조 수로(70)를 경유하여 욕조 어댑터(132)로 유입되며, 욕조 어댑터(132)의 하면(132b)의 제2 토출구(134d)로부터 욕조(130)로 배출된다. 이 때문에, 설령 사용자가 욕조(130)에서 목욕하고 있는 경우라 하더라도, 저온의 물이 직접 사용자의 신체를 향해 토출되는 것을 억제할 수가 있다. 냉수 완화 처리의 시작으로부터 소정 시간이 경과하면, 제어장치(150)는 욕조 순환 펌프(34)를 정지하는 동시에, 제2 열원기(14)에 의한 물의 가열을 종료하고 냉수 완화 처리를 종료한다.[0053] In S32, the control device 150 executes the cold water relaxation process. Specifically, the controller 150 drives the bathtub circulation pump 34 when the temperature detected by the thermistor 30a in the circulation path or thermistor 32a in the circulation return path is equal to or less than a predetermined temperature, and the second heat source device. Start heating the water by (14). When low-temperature water remains inside the circulation path 30 or the circulation return path 32 by this cold water relaxation treatment, as shown in FIG. 5, the low-temperature water is the heat source path 68 ), the second three-way valve 82, and the second bathtub water line 70, and flows into the bathtub adapter 132, and is introduced into the bathtub 130 from the second discharge port 134d of the lower surface 132b of the bathtub adapter 132. ) is released. For this reason, even if the user is taking a bath in the bathtub 130, it is possible to suppress the discharge of low-temperature water directly toward the user's body. When a predetermined time elapses from the start of the cold water relaxation process, the controller 150 stops the bathtub circulation pump 34, ends the water heating by the second heat source device 14, and ends the cold water relaxation process.

[0054] S34에서는, 제어장치(150)는 탱크 순환 펌프(94)를 구동한다. 이에 따라 탱크(52), 탱크 흡인로(92) 및 탱크 접속로(76) 사이에서의 물의 순환이 시작된다. 또한, S34에서 탱크 순환 펌프(94)를 구동할 때에는, 제어장치(150)는 탱크 순환 펌프(94)의 회전수가 소정의 제2 회전수가 되도록, 탱크 순환 펌프(94)를 제어한다. 제2 회전수는 후술하는 제1 회전수보다 낮은 회전수이며, 예컨대 제1 회전수의 80%인 회전수이다.[0054] In S34, the controller 150 drives the tank circulation pump 94. Accordingly, circulation of water between the tank 52, the tank suction path 92 and the tank connection path 76 starts. Further, when the tank circulation pump 94 is driven in S34, the controller 150 controls the tank circulation pump 94 so that the rotation speed of the tank circulation pump 94 becomes a predetermined second rotation speed. The second rotational speed is a rotational speed lower than the first rotational speed described later, and is, for example, 80% of the first rotational speed.

[0055] S36에서는, 제어장치(150)는 기체 도입 밸브(106)를 연다. 이에 따라 탱크 흡인로(92)의 기체 도입 기구(96)를 흐르는 물에 공기가 도입된다.[0055] In S36, the controller 150 opens the gas introduction valve 106. In this way, air is introduced into the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank suction passage 92 .

[0056] S38에서는, 제어장치(150)는 탱크 순환 펌프(94)의 회전수가 소정의 제1 회전수가 되도록 탱크 순환 펌프(94)를 제어한다.[0056] In S38, the control device 150 controls the tank circulation pump 94 so that the rotational speed of the tank circulation pump 94 becomes a predetermined first rotational speed.

[0057] S40에서는, 제어장치(150)는 탱크(52)로부터 욕조(130)로의 공기 용해수의 공급을 시작한다. 구체적으로는 도 7에 나타낸 바와 같이, 제어장치(150)는, 제1 삼방 밸브(80)를 제1 연통 상태로 하고, 제2 삼방 밸브(82)를 제4 연통 상태로 한 다음, 욕조 순환 펌프(34)와 제1 가압 펌프(88)와 제2 가압 펌프(90)를 구동한다. 이에 따라, 욕조(130)의 물이 욕조 어댑터(132), 제2 욕조 수로(70), 제2 삼방 밸브(82), 연통로(66), 열원 복귀로(60), 순환 복귀로(32), 제2 열원기(14), 순환 진행로(30), 열원 진행로(68), 탱크 복귀로(74), 탱크 접속로(76)를 경유하여 탱크(52)에 공급된다. 이 때, 탱크(52)에는 제1 가압 펌프(88)와 제2 가압 펌프(90)에 의해 가압된 물이 공급된다. 이에 따라, 탱크(52)의 내부에서 물에 공기가 가압 용해된다. 그리고 공기가 가압 용해된 물은, 탱크(52)로부터 탱크 진행로(64), 제1 삼방 밸브(80), 제1 욕조 수로(62), 욕조 어댑터(132)를 통해 욕조(130)로 공급된다. 이 때 공기가 가압 용해된 물은, 욕조 어댑터(132)의 제1 토출로(136a)의 미세 기포 발생 노즐(142)을 통과할 때에, 대기압 이하까지 감압되며, 욕조(130)로 분출될 때에 대기압까지 증가하여, 욕조(130)의 물에 미세 기포가 발생한다.[0057] In S40, the control device 150 starts the supply of air dissolved water from the tank 52 to the bathtub 130. Specifically, as shown in FIG. 7 , the control device 150 sets the first three-way valve 80 to a first communication state and the second three-way valve 82 to a fourth communication state, and then the bathtub circulates. The pump 34, the first pressure pump 88, and the second pressure pump 90 are driven. Accordingly, the water in the bathtub 130 flows through the bathtub adapter 132, the second bathtub water line 70, the second three-way valve 82, the communication passage 66, the heat source return passage 60, and the circulation return passage 32. ), the second heat source machine 14, the circulation path 30, the heat source path 68, the tank return path 74, and the tank connection path 76 via the tank 52 is supplied. At this time, water pressurized by the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 is supplied to the tank 52 . In this way, the air is pressurized and dissolved in the water inside the tank 52 . Then, the water in which the air is dissolved under pressure is supplied from the tank 52 to the bathtub 130 through the tank passage 64, the first three-way valve 80, the first bathtub water line 62, and the bathtub adapter 132. do. At this time, when the water in which the air is dissolved under pressure passes through the fine bubble generating nozzle 142 of the first discharge passage 136a of the bathtub adapter 132, the pressure is reduced to below atmospheric pressure, and when it is ejected into the bathtub 130 As the atmospheric pressure increases, microbubbles are generated in the water in the bathtub 130.

[0058] S42에서는, 제어장치(150)는 저수위 전극(52a)으로부터의 검출 신호에 근거하여, 탱크(52)의 수위가 하한 수위를 밑도는지 여부를 판단한다. 본 실시예에서는 기체 도입 기구(96)에 있어서, 기체 도입 밸브(106)가 열려 있을 때에 도입되는 공기량은, 욕조(130)의 물에서 발생하는 미세 기포의 공기량보다 많다. 이 때문에, 기체 도입 밸브(106)를 연 상태에서는 탱크(52) 내의 공기량이 증대해가며, 탱크(52)의 수위는 하강해간다. 탱크(52)의 수위가 하한 수위를 밑도는 경우(YES인 경우), 처리는 S44로 진행된다. 탱크(52)의 수위가 하한 수위 이상인 경우(NO인 경우), 처리는 S48로 진행된다.[0058] In S42, the controller 150 determines whether the water level in the tank 52 is below the lower limit water level based on the detection signal from the low water level electrode 52a. In the present embodiment, in the gas introduction mechanism 96, the amount of air introduced when the gas introduction valve 106 is open is greater than the amount of air in fine bubbles generated in the water in the bathtub 130. For this reason, in the state where the gas introduction valve 106 is opened, the amount of air in the tank 52 increases, and the water level in the tank 52 goes down. If the water level in the tank 52 is below the lower limit water level (YES), the process proceeds to S44. If the water level in the tank 52 is equal to or higher than the lower limit water level (NO), the process proceeds to S48.

[0059] S44에서는, 제어장치(150)는 탱크 순환 펌프(94)의 회전수가 제2 회전수가 되도록 탱크 순환 펌프(94)를 제어한다.[0059] In S44, the controller 150 controls the tank circulation pump 94 so that the rotation speed of the tank circulation pump 94 becomes the second rotation speed.

[0060] S46에서는, 제어장치(150)는 기체 도입 밸브(106)를 닫는다. 이에 따라, 탱크 흡인로(92)의 기체 도입 기구(96)를 흐르는 물에 대한 공기의 도입이 정지된다. 또한, 본 실시예에서는 기체 도입 밸브(106)가 닫혀 있는 동안에도 탱크 순환 펌프(94)의 구동은 그대로 계속된다. 이에 따라, 탱크(52) 내에서의 물의 유동이 촉진되며, 탱크(52)에서의 물에 대한 공기의 가압 용해가 촉진된다.[0060] In S46, the controller 150 closes the gas introduction valve 106. Accordingly, introduction of air to water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank suction path 92 is stopped. Further, in this embodiment, even while the gas introduction valve 106 is closed, the driving of the tank circulation pump 94 continues as it is. Accordingly, the flow of water in the tank 52 is promoted, and the pressure dissolution of the air into the water in the tank 52 is promoted.

[0061] S48에서는, 제어장치(150)는 고수위 전극(52b)으로부터의 검출 신호에 근거하여, 탱크(52)의 수위가 상한 수위 이상인지 여부를 판단한다. 기체 도입 밸브(106)를 닫은 상태에서는 탱크(52)에 공기가 공급되지 않기 때문에, 탱크(52) 내의 공기량이 감소해 가며, 탱크(52)의 수위는 상승해 간다. 탱크(52)의 수위가 상한 수위 이상인 경우(YES인 경우), 처리는 S50으로 진행된다. 탱크(52)의 수위가 상한 수위를 밑도는 경우(NO인 경우), 처리는 S54로 진행된다.[0061] In S48, the controller 150 determines whether or not the water level in the tank 52 is equal to or higher than the upper limit water level based on the detection signal from the high level electrode 52b. Since air is not supplied to the tank 52 when the gas introduction valve 106 is closed, the amount of air in the tank 52 decreases and the water level in the tank 52 rises. If the water level in the tank 52 is equal to or higher than the upper limit water level (YES), the process proceeds to S50. If the water level in the tank 52 is below the upper limit water level (NO), the process proceeds to S54.

[0062] S50에서는, 제어장치(150)는 기체 도입 밸브(106)를 연다. 이에 따라, 탱크 흡인로(92)의 기체 도입 기구(96)를 흐르는 물에 대한 공기의 도입이 재개된다.[0062] In S50, the controller 150 opens the gas introduction valve 106. Thereby, introduction of air to the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank suction path 92 is resumed.

[0063] S52에서는, 제어장치(150)는 탱크 순환 펌프(94)의 회전수가 제1 회전수가 되도록 탱크 순환 펌프(94)를 제어한다. [0063] In S52, the controller 150 controls the tank circulation pump 94 so that the rotation speed of the tank circulation pump 94 becomes the first rotation speed.

[0064] S54에서는 제어장치(150)는 미세 기포 발생 운전의 운전 시간이 설정 시간에 도달했는지 여부를 판단한다. 여기서 미세 기포 발생 운전의 운전 시간은, 미세 기포 발생 운전을 시작하고 나서의 경과 시간이다. 본 실시예의 온수 장치(2)에서는, 온수 채우기 운전의 실행과 연동하지 않고, 미세 기포 발생 운전이 단독으로 실행될 경우, 설정 시간은 예컨대 10 분간으로 설정되어 있다. 이와는 다르게, 온수 채우기 운전의 실행과 연동하여 미세 기포 발생 운전이 실행될 경우, 설정 시간은 예컨대 30 분간으로 설정되어 있다. 운전 시간이 설정 시간에 도달하지 않은 경우(NO인 경우), 처리는 S42로 돌아간다. 운전 시간이 설정 시간에 도달하면(YES가 되면), 처리는 S56으로 진행된다.[0064] In S54, the control device 150 determines whether the operation time of the micro-bubble generation operation has reached a set time. Here, the operating time of the micro-bubble generating operation is the elapsed time from the start of the micro-bubble generating operation. In the hot water apparatus 2 of the present embodiment, when the micro-bubble generating operation is executed alone without interlocking with the execution of the hot water filling operation, the set time is set to, for example, 10 minutes. Contrary to this, when the micro-bubble generation operation is executed in conjunction with the execution of the hot water filling operation, the set time is set to, for example, 30 minutes. If the operation time has not reached the set time (NO), the processing returns to S42. When the driving time reaches the set time (if YES), the processing proceeds to S56.

[0065] S56에서는, 제어장치(150)는 욕조 순환 펌프(34)와 제1 가압 펌프(88)와 제2 가압 펌프(90)를 정지하여, 탱크(52)로부터 욕조(130)에 대한 공기 용해수의 공급을 종료한다.[0065] In S56, the controller 150 stops the bathtub circulation pump 34, the first pressurization pump 88, and the second pressurization pump 90, so that air from the tank 52 to the bathtub 130 The supply of dissolved water is terminated.

[0066] S58에서는, 제어장치(150)는 기체 도입 밸브(106)가 열려 있는 경우에는, 기체 도입 밸브(106)를 닫는다. 이에 따라, 탱크 흡인로(92)의 기체 도입 기구(96)를 흐르는 물에 대한 공기의 도입이 종료된다.[0066] In S58, the controller 150 closes the gas introduction valve 106 when the gas introduction valve 106 is open. In this way, introduction of air into the water flowing through the gas introducing mechanism 96 of the tank suction path 92 is completed.

[0067] S60에서는, 제어장치(150)는 탱크 세정 처리를 실행한다. 구체적으로는 제어장치(150)는, 온수 채우기 밸브(26)를 여는 동시에, 제1 열원기(12)에 의한 물의 가열을 시작한다. 이로써, 도 8에 나타내는 바와 같이, 설정 온도로 조절된 물이 출탕로(18)로부터 주탕로(24)를 통해 순환 복귀로(32)로 유입된다. 순환 복귀로(32)로 유입된 물은, 상류 측(즉 열원 복귀로(60))으로 향하는 흐름과, 하류 측(즉 제2 열원기(14))으로 향하는 흐름으로 분기된다. 순환 복귀로(32)로부터 열원 복귀로(60)로 흐르는 물은, 연통로(66), 제2 삼방 밸브(82), 제2 욕조 수로(70), 욕조 어댑터(132)를 경유하여 욕조(130)로 유입된다. 또한, 순환 복귀로(32)로부터 제2 열원기(14)로 흐르는 물은, 순환 진행로(30), 열원 진행로(68), 탱크 복귀로(74), 탱크 접속로(76), 탱크(52), 탱크 진행로(64), 제1 삼방 밸브(80), 제1 욕조 수로(62), 욕조 어댑터(132)를 경유하여 욕조(130)로 유입된다. 이로써, 탱크(52)의 내부와, 탱크 흡인로(92), 탱크 접속로(76)가 세정된다.[0067] In S60, the controller 150 executes the tank cleaning process. Specifically, the control device 150 opens the hot water filling valve 26 and starts heating the water by the first heat source device 12 . As a result, as shown in FIG. 8 , the water adjusted to the set temperature flows from the tap furnace 18 through the pour furnace 24 to the circulation return path 32 . The water flowing into the circulation return passage 32 is branched into a flow toward the upstream side (ie, the heat source return passage 60) and a flow toward the downstream side (ie, the second heat source device 14). Water flowing from the circulation return passage 32 to the heat source return passage 60 passes through the communication passage 66, the second three-way valve 82, the second bathtub water passage 70, and the bathtub adapter 132 to the bathtub ( 130). In addition, the water flowing from the circulation return path 32 to the second heat source device 14 flows through the circulation path 30, the heat source path 68, the tank return path 74, the tank connection path 76, and the tank. 52, the tank progress path 64, the first three-way valve 80, the first bathtub water line 62, and the bathtub adapter 132, and flows into the bathtub 130. In this way, the inside of the tank 52, the tank suction path 92, and the tank connection path 76 are cleaned.

[0068] S62에서는, 제어장치(150)는 탱크 순환 펌프(94)를 정지한다. 이에 따라, 탱크(52)와, 탱크 흡인로(92) 및 탱크 접속로(76) 사이에서의 물의 순환이 종료된다. S62 후에 도 6의 처리는 종료된다.[0068] In S62, the controller 150 stops the tank circulation pump 94. Thus, the circulation of water between the tank 52, the tank suction path 92 and the tank connection path 76 is terminated. After S62, the process of Fig. 6 ends.

[0069] (데우기 운전)[0069] (heating operation)

데우기 운전은, 사용자가 리모컨(154)에서 데우기 운전의 시작을 지시한 경우에 개시된다. 제어장치(150)는, 데우기 운전을 시작할 때에, 제1 삼방 밸브(80)를 제3 연통 상태로 하고, 또한 제2 삼방 밸브(82)를 제5 연통 상태로 한다(도 4, 도 5 참조). 이 상태에서, 제어장치(150)는 욕조 순환 펌프(34)를 구동하는 동시에, 제2 열원기(14)에 의한 물의 가열을 시작한다. 이에 따라, 도 5에 나타내는 바와 같이 욕조(130)의 물이, 욕조 어뎁터(132), 제1 욕조 수로(62), 제1 삼방 밸브(80), 연통로(66), 열원 복귀로(60), 순환 복귀로(32)를 경유하여 제2 열원기(14)로 보내진다. 제2 열원기(14)에 의해 가열된 물은, 순환 진행로(30), 열원 진행로(68) 제2 삼방 밸브(82), 제2 욕조 수로(70), 욕조 어댑터(132)를 경유하여 욕조(130)로 돌아온다. 순환 복귀로 서미스터(32a)에서 검출되는 온도가 설정 온도 이상이 되면, 제어장치(150)는 욕조 순환 펌프(34)를 정지하는 동시에, 제2 열원기(14)에 의한 물의 가열을 종료한다. 그 후, 제어장치(150)는 데우기 운전이 완료되었음을, 리모컨(154)을 통해 사용자에게 알리고 데우기 운전을 종료한다.The warming operation is started when the user instructs the start of the warming operation with the remote controller 154 . When the warming operation starts, the control device 150 puts the first three-way valve 80 into a third communication state and also puts the second three-way valve 82 into a fifth communication state (see Figs. 4 and 5). ). In this state, the controller 150 drives the bathtub circulation pump 34 and starts heating water by the second heat source device 14. Accordingly, as shown in FIG. 5 , the water in the bathtub 130 flows through the bathtub adapter 132, the first bathtub water passage 62, the first three-way valve 80, the communication passage 66, and the heat source return passage 60. ), and is sent to the second heat source device 14 via the circulation return path 32. The water heated by the second heat source device 14 passes through the circulation path 30, the heat source path 68, the second three-way valve 82, the second bathtub water line 70, and the bathtub adapter 132. and returns to the bathtub 130. When the temperature detected by the thermistor 32a becomes equal to or higher than the set temperature by returning the circulation, the controller 150 stops the bathtub circulation pump 34 and ends the water heating by the second heat source device 14. After that, the control device 150 notifies the user through the remote controller 154 that the warming operation is completed, and ends the warming operation.

[0070] (변형예)[0070] (modified example)

상기 온수 장치(2)에 있어서, 미세 기포 발생 운전을 실행할 때에, 제어장치(150)가 도 6에 나타내는 처리를 실행하는 대신에 도 9에 나타내는 처리를 실행할 수도 있다. 이하에서는, 도 9에 나타내는 처리에 관하여, 도 6에 나타낸 처리와 상이한 점을 설명하도록 한다.In the hot water apparatus 2, when executing the fine-bubble generation operation, the controller 150 may execute the process shown in FIG. 9 instead of the process shown in FIG. 6. In the following, the processing shown in FIG. 9 will be described in terms of differences from the processing shown in FIG. 6 .

[0071] 도 9에 나타낸 처리에서는, S40 후 및 S54에서 NO인 경우에, 처리는 S64로 진행된다. S64에서는, 제어장치(150)는 S36 또는 S50에서 기체 도입 밸브(106)를 열고 나서의 경과 시간이 제1 소정 시간에 도달할 때까지 대기한다. 제1 소정 시간은, 기체 도입 밸브(106)를 연 상태에 있어서, 탱크(52)의 수위가 상한 수위로부터 하한 수위까지 하강할 때까지의 상정(想定)되는 시간이며, S54의 설정 시간보다 짧은 시간이다. 기체 도입 밸브(106)를 열고 나서의 경과 시간이 제1 소정 시간에 도달하면(YES가 되면), 처리는 S44로 진행된다.[0071] In the process shown in Fig. 9, if NO after S40 and at S54, the process proceeds to S64. In S64, the controller 150 waits until the elapsed time from opening the gas introduction valve 106 in S36 or S50 reaches the first predetermined time. The first predetermined time is an assumed time from when the gas introduction valve 106 is opened until the water level in the tank 52 drops from the upper limit water level to the lower limit water level, and is shorter than the set time in S54. It's time. If the elapsed time from opening the gas introduction valve 106 reaches the first predetermined time (if YES), the process proceeds to S44.

[0072] 또한, 도 9에 나타내는 처리에서는, S46의 후에 처리는 S66으로 진행된다. S66에서는, 제어장치(150)는 S46에서 기체 도입 밸브(106)를 닫고 나서의 경과 시간이 제2 소정 시간에 도달할 때까지 대기한다. 제2 소정 시간은, 기체 도입 밸브(106)를 닫은 상태에 있어서, 탱크(52)의 수위가 하한 수위로부터 상한 수위까지 상승할 때까지의 상정되는 시간이며, S54의 설정 시간보다 짧은 시간이다. 기체 도입 밸브(106)를 닫고 나서의 경과 시간이 제2 소정 시간에 도달하면(YES가 되면), 처리는 S50으로 진행된다.[0072] In the process shown in Fig. 9, the process after S46 proceeds to S66. In S66, the controller 150 waits until the elapsed time after closing the gas introduction valve 106 in S46 reaches the second predetermined time. The second predetermined time is an assumed time until the water level in the tank 52 rises from the lower limit water level to the upper limit water level in the state where the gas introduction valve 106 is closed, and is shorter than the set time in S54. When the elapsed time from closing the gas introduction valve 106 reaches the second predetermined time (if YES), the process proceeds to S50.

[0073] 도 9에 나타낸 처리에 의하면, 저수위 전극(52a)이나 고수위 전극(52b)으로부터의 검출 신호를 이용하지 않고, 기체 도입 밸브(106)의 개폐를 전환할 수가 있다.[0073] According to the processing shown in FIG. 9, opening and closing of the gas introduction valve 106 can be switched without using a detection signal from the low water level electrode 52a or the high water level electrode 52b.

[0074] (기타 변형예)[0074] (other modifications)

상기 온수 장치(2)에 있어서, 온수 채우기 운전의 실행에 연동하여 실행되는 미세 기포 발생 운전에서는 도 6과 도 9의 S32 냉수 완화 처리를 생략해도 된다.In the hot water device 2, in the micro-bubble generation operation executed in conjunction with the execution of the hot water filling operation, the cold water relaxation process S32 in FIGS. 6 and 9 may be omitted.

[0075] 상기 온수 장치(2)에 있어서, 도 6과 도 9의 S60의 탱크 세정 처리를 생략해도 된다.[0075] In the hot water device 2, the tank cleaning process of S60 in FIGS. 6 and 9 may be omitted.

[0076] 상기 온수 장치(2)에 있어서, 도 6과 도 9의 S54의 운전 시간의 판정 처리에서, 운전 시간이 설정 시간에 도달한 경우에도, 리모컨(154)을 통해 사용자에 의해 미세 기포 발생 운전의 종료가 지시될 때까지는, S56으로 진행하지 않고, S42 또는 S64로 돌아가 미세 기포 발생 운전을 계속하도록 할 수도 있다.[0076] In the hot water device 2, in the operation time determination process of S54 of FIGS. 6 and 9, even when the operation time reaches the set time, fine bubbles are generated by the user through the remote controller 154. Until the end of the operation is instructed, it is possible to return to S42 or S64 without proceeding to S56 and continue the fine bubble generation operation.

[0077] 상기 온수 장치(2)에 있어서, 온수 채우기 운전의 실행에 연동하여 미세 기포 발생 운전을 실행하는 경우에는, 도 3의 S20의 온수 채우기 종료의 알림(통지)을, 온수 채우기 운전의 종료시에는 하지 않고, 미세 기포 발생 운전의 실행 중에 실시해도 된다. 더 자세하게는, 미세 기포 발생 운전의 운전 시간이 욕조(130)의 물에 충분한 미세 기포를 발생시킬 수 있는 소정의 알림 시간(예컨대 2 분)에 도달한 후에, 온수 채우기 종료의 알림을 실시해도 된다. 이러한 구성으로 함으로써, 사용자가 욕실에 들어가는 타이밍을 늦출 수 있어, 욕조(130)의 물에 미세 기포를 충분히 발생시키기 전에 사용자가 욕실에 들어가는 것을 억제할 수가 있다.[0077] In the hot water device 2, when the micro-bubble generating operation is executed in conjunction with the execution of the hot water filling operation, the notification (notice) of the completion of the hot water filling operation in S20 of FIG. 3 is given at the end of the hot water filling operation. It may be carried out during execution of the fine-bubble generation operation without doing this. More specifically, after the operating time of the micro-bubble generating operation reaches a predetermined notification time (for example, 2 minutes) capable of generating enough micro-bubbles in the water in the bathtub 130, the hot water filling end notification may be performed. . With this configuration, the timing for the user to enter the bathroom can be delayed, and it is possible to suppress the user from entering the bathroom before sufficiently generating fine bubbles in the water in the bathtub 130.

[0078] 상기 온수 장치(2)에 있어서, 온수 채우기 운전의 실행에 연동하여 미세 기포 발생 운전을 실행할지 여부를 사용자가 리모컨(154)을 통해 전환할 수 있도록 해도 된다.[0078] In the hot water device 2, the user may be able to switch through the remote controller 154 whether to execute the fine bubble generation operation in conjunction with the execution of the hot water filling operation.

[0079] 상기 온수 장치(2)에서는 탱크(52)에 공기가 도입되고 있지만, 공기 대신에 탄산 가스, 수소, 산소 등의 기체가 탱크(52)에 도입되어도 된다. 이 경우, 기체가 충전되어 있는 기체 충전 탱크(도시 생략)를 기체 도입로(104)의 기체 도입구(104a)에 접속하는 구성으로 하면 된다.[0079] In the hot water device 2, air is introduced into the tank 52, but instead of air, gases such as carbon dioxide, hydrogen, and oxygen may be introduced into the tank 52. In this case, what is necessary is just to have a structure which connects the gas filling tank (not shown) filled with gas to the gas introduction port 104a of the gas introduction path 104.

[0080] 상기 온수 장치(2)에서는, 온수 채우기 운전에 있어서, 수량 센서(28)에 의해 검출되는 적산 수량에 근거하여, 욕조(130)에 설정 수량의 물을 채운다. 이와는 다르게, 온수 장치(2)는 예컨대 욕조(130)의 수위를 검출할 수 있는 수위 센서를 설치해 두고, 온수 채우기 운전에 있어서 수위 센서에 의해 검출되는 욕조(130)의 수위에 근거하여, 욕조(130)에 설정 수위의 물을 채우는 구성으로 할 수도 있다.[0080] In the hot water device 2, in the hot water filling operation, the tub 130 is filled with a set amount of water based on the accumulated amount of water detected by the water quantity sensor 28. Unlike this, the hot water device 2 has, for example, installed a water level sensor capable of detecting the water level of the bathtub 130, and based on the water level of the bathtub 130 detected by the water level sensor in the hot water filling operation, the bathtub ( 130) may be configured to fill the set level of water.

[0081] 상기 온수 장치(2)에서는, 열원 유닛(10)이 수도꼭지(250)에 접속되고, 공기 가압 용해 유닛(50)이 욕조(130)에 접속되어 있다. 이와는 다르게, 열원 유닛(10)이 다른 온열(溫熱) 이용 장소(箇所)에 접속되어 있어도 되고, 공기 가압 용해 유닛(50)이 다른 액조(液槽)에 접속되어 있어도 된다.[0081] In the hot water device 2, the heat source unit 10 is connected to the faucet 250, and the air pressure melting unit 50 is connected to the bathtub 130. Alternatively, the heat source unit 10 may be connected to another heat utilization location, or the air pressure melting unit 50 may be connected to another liquid tank.

[0082] 상기 온수 장치(2)에 있어서, 탱크 흡인로(92)의 탱크 순환 펌프(94)보다 하류 측에, 탱크 흡인로(92)의 상류 측으로부터 하류 측으로의 물의 흐름을 허용하고, 탱크 흡인로(92)의 하류 측으로부터 상류 측으로의 물의 흐름을 금지하는 체크 밸브(도시 생략)를 설치해도 된다. 탱크 흡인로(92)에 체크 밸브를 설치함으로써, 제1 가압 펌프(88), 제2 가압 펌프(90)의 구동 중에 탱크 순환 펌프(94)를 정지시킨 경우라 하더라도, 제1 가압 펌프(88), 제2 가압 펌프(90)에 의해 탱크 복귀로(74)로부터 내보내지는 물이 탱크 흡인로(92)를 역류하는 것을 억제할 수가 있다.[0082] In the hot water device 2, the flow of water from the upstream side of the tank suction path 92 to the downstream side of the tank suction path 92 downstream of the tank circulation pump 94 is allowed, and the tank You may provide a check valve (not shown) which prohibits the flow of water from the downstream side of the suction path 92 to the upstream side. Even if the tank circulation pump 94 is stopped while the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 are driven by installing a check valve in the tank suction path 92, the first pressure pump 88 ), it is possible to suppress the reverse flow of the water discharged from the tank return path 74 by the second pressure pump 90 through the tank suction path 92.

[0083] 상기 온수 장치(2)에서는, 탱크 흡인로(92)에 있어서 기체 도입 기구(96)가 탱크 순환 펌프(94)보다 상류 측에 배치되어 있다. 이와는 다르게, 탱크 흡인로(92)에 있어서, 기체 도입 기구(96)가 탱크 순환 펌프(94)보다 하류 측에 배치되어 있어도 된다.[0083] In the hot water device 2, the gas introduction mechanism 96 is disposed upstream of the tank circulation pump 94 in the tank suction path 92. Alternatively, in the tank suction passage 92 , the gas introduction mechanism 96 may be disposed downstream of the tank circulation pump 94 .

[0084] 상기 온수 장치(2)에서는, 탱크 복귀로(74)의 하류단과 탱크 흡인로(92)의 하류단이, 공통의 탱크 접속로(76)를 통해 탱크(52)에 접속되어 있다. 이와는 다르게, 도 10에 나타내는 바와 같이, 공기 가압 용해 유닛(50)이 탱크 접속로(76)를 구비하고 있지 않으며, 탱크 복귀로(74)의 하류단(이하에서는 유입구(74a)라고도 함)과, 탱크 흡인로(92)의 하류단(이하에서는 유입구(92b)라고도 함)이 각각 별개로 탱크(52)에 접속되는 구성으로 해도 된다. 이 경우, 탱크 복귀로(74)를 흐르는 물은 유입구(74a)를 통해 탱크(52)에 유입되고, 탱크 흡인로(92)를 흐르는 물은 유입구(92b)를 통해 탱크(52)에 유입된다.[0084] In the hot water device 2, the downstream end of the tank return passage 74 and the downstream end of the tank suction passage 92 are connected to the tank 52 via a common tank connection passage 76. Unlike this, as shown in FIG. 10, the air pressure melting unit 50 does not have a tank connection path 76, and the downstream end of the tank return path 74 (hereinafter also referred to as an inlet 74a) and , The downstream end of the tank suction path 92 (hereinafter, also referred to as an inlet 92b) may be configured to be connected to the tank 52 separately. In this case, water flowing through the tank return path 74 flows into the tank 52 through the inlet 74a, and water flowing through the tank suction path 92 flows into the tank 52 through the inlet 92b. .

[0085] 이상과 같이, 하나 또는 그 이상의 실시형태에 있어서, 온수 장치(2; 미세 기포 발생 장치의 예)는, 물(액체의 예)에 공기(기체의 예)를 가압 용해하는 탱크(52)와, 탱크(52)에 물을 공급하는 탱크 복귀로(74), 탱크 접속로(76)(탱크 공급로의 예)와, 탱크 복귀로(74)에 설치된 제1 가압 펌프(88), 제2 가압 펌프(90)(가압 펌프의 예)와, 탱크(52)로부터 욕조(130; 액조의 예)로 공기가 가압 용해된 물을 배출하는 탱크 진행로(64), 제1 욕조 수로(62), 욕조 어댑터(132)(탱크 배출로의 예)와, 욕조 어댑터(132)에 설치되어 있고, 공기가 가압 용해된 물을 감압하여 미세 기포를 발생시키는 미세 기포 발생 노즐(142)과, 탱크 진행로(64), 제1 욕조 수로(62), 욕조 어댑터(132)와는 별개로 설치되어 있고, 탱크(52)에 접속된 유출구(92a)로부터 탱크(52)에 접속된 유입구(76a)로 물을 보내는 탱크 흡인로(92), 탱크 접속로(76)(탱크 순환로의 예)와, 탱크 흡인로(92)에 설치된 탱크 순환 펌프(94)와, 탱크 흡인로(92)에 설치된 기체 도입 기구(96)와, 제어장치(150)를 구비하고 있다. 기체 도입 기구(96)는, 물을 감압하여 통과시키는 벤투리관(102; 감압부의 예)과, 벤투리관(102)에서의 물의 부압에 의해 공기를 도입하는 기체 도입구(104a)와, 기체 도입구(104a)를 개폐하는 기체 도입 밸브(106)를 구비하고 있다. 제어장치(150)는, 제1 가압 펌프(88), 제2 가압 펌프(90)를 구동하여 탱크 복귀로(74), 탱크 접속로(76)로부터 탱크(52)로 물을 가압하여 공급하는 동시에, 탱크(52)로부터 탱크 진행로(64), 제1 욕조 수로(62), 욕조 어댑터(132)를 통해 욕조(130)로 공기가 가압 용해된 물을 공급하는, 미세 기포 발생 운전을 실행할 수 있다. 제어장치(150)는 미세 기포 발생 운전의 실행 중에 기체 도입 밸브(106)를 연 상태에서, 탱크 순환 펌프(94)에 의해 탱크(52)의 물을 탱크 흡인로(92), 탱크 접속로(76)에서 순환시키는 제1 탱크 순환 운전과, 기체 도입 밸브(106)를 닫은 상태에서, 탱크 순환 펌프(94)에 의해 탱크(52)의 물을 탱크 흡인로(92), 탱크 접속로(76)에서 순환시키는 제2 탱크 순환 운전을 실행할 수 있다. 제어장치(150)는, 제1 탱크 순환 운전에 있어서, 탱크 순환 펌프(94)를 제1 회전수로 구동하고, 제2 탱크 순환 운전에 있어서, 탱크 순환 펌프(94)를 제1 회전수보다 낮은 제2 회전수로 구동하도록 구성되어 있다.[0085] As described above, in one or more embodiments, the hot water device 2 (example of a micro-bubble generating device) includes a tank 52 for pressurizing and dissolving air (example of gas) in water (example of liquid). ), a tank return path 74 for supplying water to the tank 52, a tank connection path 76 (example of a tank supply path), a first pressure pump 88 installed in the tank return path 74, The second pressure pump 90 (example of pressure pump), the tank path 64 for discharging water in which air is pressurized and dissolved from the tank 52 to the bathtub 130 (example of liquid tank), the first bathtub waterway ( 62), a bathtub adapter 132 (an example of a tank discharge path), and a micro-bubble generating nozzle 142 installed in the bathtub adapter 132 and generating micro-bubbles by decompressing the water in which air is pressurized and dissolved; An inlet 76a connected to the tank 52 from an outlet 92a connected to the tank 52 and provided separately from the tank progress path 64, the first bathtub waterway 62, and the bathtub adapter 132 The tank suction path 92 for sending water to the tank, the tank connection path 76 (example of tank circulation path), the tank circulation pump 94 installed in the tank suction path 92, and the gas installed in the tank suction path 92 An introduction mechanism 96 and a control device 150 are provided. The gas introduction mechanism 96 includes a venturi tube 102 (example of a pressure reducing unit) through which water is reduced and passed therethrough, a gas inlet 104a through which air is introduced by the negative pressure of water in the venturi tube 102, and A gas introduction valve 106 is provided to open and close the gas introduction port 104a. The control device 150 drives the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 to pressurize and supply water from the tank return path 74 and the tank connection path 76 to the tank 52. At the same time, a micro-bubble generation operation is executed in which water in which air is dissolved under pressure is supplied from the tank 52 to the bathtub 130 through the tank passage 64, the first bathtub water passage 62, and the bathtub adapter 132. can The controller 150 pumps water from the tank 52 through the tank suction passage 92 and the tank connection passage ( 76), and in a state where the gas introduction valve 106 is closed, water in the tank 52 is pumped through the tank suction passage 92 and the tank connection passage 76 by the tank circulation pump 94. ), the second tank circulation operation can be performed. The controller 150 drives the tank circulation pump 94 at a first rotational speed in the first tank circulation operation, and drives the tank circulation pump 94 at a rotational speed higher than the first rotational speed in the second tank circulation operation. It is configured to drive at a low second rotational speed.

[0086] 상기 온수 장치(2)에서는, 미세 기포 발생 운전을 실행하는 동안에도 제1 탱크 순환 운전을 실행함으로써, 기체 도입 기구(96)에서 공기가 도입되어, 탱크(52)에 공기를 공급할 수가 있다. 이 때문에, 탱크(52)에 공기를 공급하기 위해 미세 기포 발생 운전을 중단할 필요가 없이, 미세 기포 발생 운전을 계속해서 실행할 수가 있다. 이러한 구성으로 함으로써, 욕조(130)의 물에 미세 기포를 계속해서 안정적으로 발생시킬 수가 있다.[0086] In the hot water device 2, by performing the first tank circulation operation even during the execution of the micro-bubble generation operation, air is introduced from the gas introducing mechanism 96 and air can be supplied to the tank 52. there is. For this reason, it is not necessary to interrupt the micro-bubble generating operation to supply air to the tank 52, and the micro-bubble generating operation can be continuously executed. With this configuration, fine bubbles can be continuously and stably generated in the water in the bathtub 130 .

[0087] 또한, 상기 온수 장치(2)에서는, 미세 기포 발생 운전의 실행 중에, 제1 탱크 순환 운전이나 제2 탱크 순환 운전을 실행하면, 탱크(52) 내의 물의 유동이 심해진다. 가압 용해식의 탱크(52)에서는 탱크(52) 내의 물의 유동이 심할수록, 탱크(52)에서의 물에 대한 공기의 가압 용해가 촉진된다. 상기 구성에 의하면, 미세 기포 발생 운전의 실행 중에, 제1 탱크 순환 운전이나 제2 탱크 순환 운전을 실행함으로써, 탱크(52) 내의 물을 심하게 유동시켜 탱크(52)에서의 물에 대한 공기의 가압 용해를 더욱 촉진할 수가 있다.[0087] Further, in the hot water device 2, when the first tank circulation operation or the second tank circulation operation is executed during execution of the microbubble generation operation, the flow of water in the tank 52 increases. In the pressurized dissolving type tank 52, as the flow of water in the tank 52 increases, pressurized dissolution of air into the water in the tank 52 is promoted. According to the configuration described above, by executing the first tank circulation operation or the second tank circulation operation during execution of the microbubble generation operation, the water in the tank 52 is caused to flow vigorously and air is pressurized against the water in the tank 52. Dissolution can be further accelerated.

[0088] 또한, 제1 탱크 순환 운전에서는, 기체 도입 기구(96)의 벤투리관(102)에 공기가 도입되므로, 물에 대한 공기의 혼합에 의해 벤투리관(102)에서의 물의 부압이 완화되지만, 제2 탱크 순환 운전에서는, 기체 도입 기구(96)의 벤투리관(102)에 공기가 도입되지 않기 때문에, 벤투리관(102)에서의 물의 부압이 완화되지 않는다. 이 때문에, 만일 제1 탱크 순환 운전과 제2 탱크 순환 운전에서 탱크 순환 펌프(94)의 회전수를 동일하게 하면, 제2 탱크 순환 운전에서는 제1 탱크 순환 운전에 비해 기체 도입 기구(96)의 벤투리관(102)에서의 물의 압력이 보다 낮아진다. 기체 도입 기구(96)의 벤투리관(102)에서의 물의 압력이 지나치게 낮아지면, 벤투리관(102)에서 캐비테이션이 발생하여 소음이 발생할 우려가 있다. 상기 구성에 의하면, 제2 탱크 순환 운전에서의 탱크 순환 펌프(94)의 회전수를, 제1 탱크 순환 운전에서의 탱크 순환 펌프(94)의 회전수보다 낮게 함으로써, 제2 탱크 순환 운전에 있어서, 기체 도입 기구(96)의 벤투리관(102)에서의 물의 압력이 지나치게 낮아지는 것을 억제할 수가 있다. 이에 따라, 제2 탱크 순환 운전에 있어서, 기체 도입 기구(96)의 벤투리관(102)에서의 캐비테이션의 발생을 억제하여 소음이 생기는 것을 억제할 수가 있다.[0088] In the first tank circulation operation, since air is introduced into the venturi tube 102 of the gas introduction mechanism 96, the negative pressure of the water in the venturi tube 102 is reduced by mixing air with the water. However, since air is not introduced into the venturi tube 102 of the gas introducing mechanism 96 in the second tank circulation operation, the negative pressure of water in the venturi tube 102 is not relieved. For this reason, if the rotation speed of the tank circulation pump 94 is made the same in the first tank circulation operation and the second tank circulation operation, the speed of the gas introduction mechanism 96 in the second tank circulation operation is higher than in the first tank circulation operation. The water pressure in the venturi tube 102 is lowered. If the water pressure in the venturi tube 102 of the gas introducing mechanism 96 is too low, cavitation may occur in the venturi tube 102 and noise may occur. According to the above configuration, the rotation speed of the tank circulation pump 94 in the second tank circulation operation is lower than the rotation speed of the tank circulation pump 94 in the first tank circulation operation, so that in the second tank circulation operation , it is possible to prevent the water pressure in the venturi tube 102 of the gas introducing mechanism 96 from being too low. Accordingly, in the second tank circulation operation, the occurrence of cavitation in the Venturi tube 102 of the gas introduction mechanism 96 can be suppressed, and the occurrence of noise can be suppressed.

[0089] 또한, 미세 기포 발생 운전의 실행 중에 제1 탱크 순환 운전을 실행하는 경우, 기체 도입 기구(96)의 벤투리관(102)을 흐르는 물의 유량이 커지면, 그만큼 벤투리관(102)에서의 물의 압력이 더 낮아지며, 기체 도입 기구(96)에서 보다 많은 공기를 도입할 수가 있다. 상기 구성에 의하면, 제1 탱크 순환 운전에서의 탱크 순환 펌프(94)의 회전수를, 제2 탱크 순환 운전에서의 탱크 순환 펌프(94)의 회전수보다 높게 함으로써, 제1 탱크 순환 운전에 있어서 기체 도입 기구(96)에서 보다 많은 공기를 도입할 수가 있다.[0089] In addition, when the first tank circulation operation is executed during execution of the micro-bubble generating operation, when the flow rate of water flowing through the venturi tube 102 of the gas introduction mechanism 96 increases, the venturi tube 102 The pressure of the water in is lowered, and more air can be introduced from the gas introducing mechanism 96. According to the above configuration, the rotation speed of the tank circulation pump 94 in the first tank circulation operation is higher than the rotation speed of the tank circulation pump 94 in the second tank circulation operation, in the first tank circulation operation. More air can be introduced by the gas introduction mechanism 96.

[0090] 하나 또는 그 이상의 실시형태에 있어서, 기체 도입 기구(96)는 탱크 흡인로(92)에 있어서 탱크 순환 펌프(94)보다 상류 측에 배치되어 있다.[0090] In one or more embodiments, the gas introduction mechanism 96 is disposed upstream of the tank circulation pump 94 in the tank suction path 92.

[0091] 제1 탱크 순환 운전에서는, 기체 도입 기구(96)가 탱크 흡인로(92)에 있어서 탱크 순환 펌프(94)보다 상류 측에 배치되어 있는 경우, 기체 도입 기구(96)에서 도입된 공기가 물에 혼합되어 탱크 순환 펌프(94)로 유입된다. 이 때문에, 기체 도입 기구(96)가 탱크 흡인로(92)에 있어서 탱크 순환 펌프(94)보다 하류 측에 배치되어 있는 경우에 비해 탱크 순환 펌프(94)의 효율이 저하되며, 기체 도입 기구(96)의 벤투리관(102)을 흐르는 물의 유량이 작아진다. 이에 대하여, 제2 탱크 순환 운전에서는, 기체 도입 기구(96)가 탱크 흡인로(92)에 있어서 탱크 순환 펌프(94)보다 상류 측에 배치되어 있는 경우에도, 기체 도입 기구(96)에서 공기가 도입되지 않기 때문에, 기체 도입 기구(96)가 탱크 흡인로(92)에 있어서 탱크 순환 펌프(94)보다 하류 측에 배치되어 있는 경우에 비해, 탱크 순환 펌프(94)의 효율은 저하되지 않으며, 기체 도입 기구(96)의 벤투리관(102)을 흐르는 물의 유량이 작아지는 일은 없다. 이 때문에, 만일 제1 탱크 순환 운전과 제2 탱크 순환 운전에서 탱크 순환 펌프(94)의 회전수를 동일하게 하면, 제2 탱크 순환 운전에서는, 제1 탱크 순환 운전에 비해 기체 도입 기구(96)의 벤투리관(102)을 흐르는 물의 유량이 더 커지며, 기체 도입 기구(96)의 벤투리관(102)에서의 물의 압력이 보다 낮아진다. 이에 따라, 기체 도입 기구(96)의 벤투리관(102)에서 캐비테이션이 보다 발생하기 쉬워져, 소음이 발생하기가 보다 쉬워진다. 상기 구성에 의하면, 제2 탱크 순환 운전에서의 탱크 순환 펌프(94)의 회전수를, 제1 탱크 순환 운전에서의 탱크 순환 펌프(94)의 회전수보다 낮게 함으로써, 제2 탱크 순환 운전에 있어서, 벤투리관(102)에서의 캐비테이션의 발생을 억제하여 소음이 생기는 것을 억제할 수가 있다.[0091] In the first tank circulation operation, when the gas introduction mechanism 96 is disposed upstream of the tank circulation pump 94 in the tank suction path 92, the air introduced by the gas introduction mechanism 96 is mixed with water and flows into the tank circulation pump (94). For this reason, compared to the case where the gas introduction mechanism 96 is arranged on the downstream side of the tank circulation pump 94 in the tank suction path 92, the efficiency of the tank circulation pump 94 is lowered, and the gas introduction mechanism ( The flow rate of water flowing through the venturi tube 102 of 96 is reduced. In contrast, in the second tank circulation operation, even when the gas introduction mechanism 96 is disposed upstream of the tank circulation pump 94 in the tank suction passage 92, air is supplied from the gas introduction mechanism 96. Since it is not introduced, the efficiency of the tank circulation pump 94 does not decrease compared to the case where the gas introduction mechanism 96 is disposed on the downstream side of the tank circulation pump 94 in the tank suction path 92, The flow rate of water flowing through the venturi tube 102 of the gas introduction mechanism 96 does not decrease. For this reason, if the number of revolutions of the tank circulation pump 94 is made the same in the first tank circulation operation and the second tank circulation operation, the gas introduction mechanism 96 is reduced in the second tank circulation operation compared to the first tank circulation operation. The flow rate of water flowing through the venturi tube 102 of the gas introduction mechanism 96 becomes larger, and the pressure of water in the venturi tube 102 of the gas introduction mechanism 96 becomes lower. Accordingly, cavitation is more likely to occur in the venturi tube 102 of the gas introduction mechanism 96, and noise is more likely to occur. According to the above configuration, the rotation speed of the tank circulation pump 94 in the second tank circulation operation is lower than the rotation speed of the tank circulation pump 94 in the first tank circulation operation, so that in the second tank circulation operation , it is possible to suppress the occurrence of noise by suppressing the occurrence of cavitation in the venturi tube 102.

[0092] 또한, 기체 도입 기구(96)가 탱크 흡인로(92)에 있어서 탱크 순환 펌프(94)보다 상류 측에 배치되어 있는 경우, 탱크 순환 펌프(94)의 흡입 압력이 기체 도입 기구(96)의 벤투리관(102)에 작용하기 때문에, 기체 도입 기구(96)가 탱크 흡인로(92)에 있어서 탱크 순환 펌프(94)보다 하류 측에 배치되어 있는 경우에 비해 벤투리관(102)에서의 물의 압력이 더 낮아진다. 이 때문에, 제1 탱크 순환 운전에 있어서, 기체 도입 기구(96)에서 도입되는 공기의 양을 보다 많게 할 수가 있다. 또한, 상기 구성에 의하면, 제1 탱크 순환 운전에 있어서, 기체 도입 기구(96)에서 도입된 공기와 탱크 흡인로(92)를 흐르는 물이 탱크 순환 펌프(94)를 통과할 때에, 탱크 순환 펌프(94)의 임펠러에 의해 교반되기 때문에, 물에 대한 공기의 용해를 보다 촉진할 수가 있다.[0092] Further, when the gas introduction mechanism 96 is disposed upstream of the tank circulation pump 94 in the tank suction passage 92, the suction pressure of the tank circulation pump 94 is increased by the gas introduction mechanism 96 ), compared to the case where the gas introduction mechanism 96 is arranged on the downstream side of the tank circulation pump 94 in the tank suction path 92, the venturi tube 102 The pressure of the water in is lower. For this reason, in the first tank circulation operation, the amount of air introduced from the gas introduction mechanism 96 can be increased. Further, according to the above configuration, in the first tank circulation operation, when the air introduced from the gas introducing mechanism 96 and the water flowing through the tank suction path 92 pass through the tank circulation pump 94, the tank circulation pump Since agitation is performed by the impeller of (94), dissolution of air into water can be further promoted.

[0093] 하나 또는 그 이상의 실시형태에 있어서, 온수 장치(2)는, 탱크(52)의 수위(액위의 예)가 하한 수위(제1 액위의 예) 이상인지 여부를 검출할 수 있는 저수위 전극(52a, 제1 액위 전극의 예)과, 탱크(52)의 수위가 하한 수위보다 높은 상한 수위(제2 액위의 예) 이상인지 여부를 검출할 수 있는 고수위 전극(52b, 제2 액위 전극의 예)을 더 구비하고 있다. 탱크 흡인로(92)로의 유출구(92a)가 탱크(52)에 접속되어 있는 부위의 수위는, 하한 수위보다 낮다. 제어장치(150)는, 미세 기포 발생 운전을 실행하고 있고, 또한 제1 탱크 순환 운전을 실행하는 중에 탱크(52)의 수위가 하한 수위보다 낮은 것이 검출되었을 경우, 제1 탱크 순환 운전을 종료하고 제2 탱크 순환 운전을 개시하며, 미세 기포 발생 운전을 실행하고 있고, 또한 제2 탱크 순환 운전을 실행하는 중에 탱크(52)의 수위가 상한 수위보다 높은 것이 검출되었을 경우, 제2 탱크 순환 운전을 종료하고 제1 탱크 순환 운전을 개시하도록 구성되어 있다.[0093] In one or more embodiments, the hot water device 2 has a low water level electrode capable of detecting whether the water level (example of liquid level) in the tank 52 is equal to or greater than the lower limit water level (example of first liquid level). (52a, example of the first liquid level electrode) and a high level electrode (52b, example of the second liquid level electrode) capable of detecting whether or not the water level in the tank 52 is higher than the upper limit level (example of the second liquid level) than the lower limit level Yes) is provided. The water level at the site where the outlet 92a to the tank suction path 92 is connected to the tank 52 is lower than the lower limit water level. The controller 150 terminates the first tank circulation operation when it is detected that the water level in the tank 52 is lower than the lower limit water level while the microbubble generating operation is being executed and the first tank circulation operation is being executed. When the second tank circulation operation is started, the micro-bubble generating operation is executed, and it is detected that the water level in the tank 52 is higher than the upper limit water level during the execution of the second tank circulation operation, the second tank circulation operation is performed. end and start the first tank circulation operation.

[0094] 미세 기포 발생 운전의 실행 중에, 탱크(52)로부터 소비되는 공기의 양이 기체 도입 기구(96)에서 도입되는 공기의 양보다 적은 경우에는, 탱크(52)의 수위는 하강해가고, 탱크(52)로부터 소비되는 공기의 양이 기체 도입 기구(96)에서 도입되는 공기의 양보다 많은 경우에는, 탱크(52)의 수위는 상승해간다. 한편, 탱크 순환 펌프(94)를 구동하고 있을 때에, 제1 탱크 순환 운전을 실행하면, 기체 도입 기구(96)에서 공기가 도입되고, 제2 탱크 순환 운전을 실행하면, 기체 도입 기구(96)에서 공기가 도입되지 않게 된다. 상기 구성에 의하면, 제어장치(150)가 탱크(52)의 수위에 따라 제1 탱크 순환 운전과 제2 탱크 순환 운전 중 어느 한쪽을 선택적으로 실행함으로써, 탱크(52)로부터 소비되는 공기의 양과 기체 도입 기구(96)에서 도입되는 공기의 양의 균형을 맞출 수가 있다.[0094] When the amount of air consumed from the tank 52 is smaller than the amount of air introduced from the gas introducing mechanism 96 during execution of the microbubble generating operation, the water level in the tank 52 goes down, When the amount of air consumed from the tank 52 is greater than the amount of air introduced from the gas introducing mechanism 96, the water level in the tank 52 rises. On the other hand, when the first tank circulation operation is performed while the tank circulation pump 94 is driven, air is introduced from the gas introduction mechanism 96, and when the second tank circulation operation is performed, the gas introduction mechanism 96 air will not be introduced. According to the above configuration, the control device 150 selectively executes either the first tank circulation operation or the second tank circulation operation according to the water level of the tank 52, so that the amount of air consumed from the tank 52 and the gas The amount of air introduced by the introduction mechanism 96 can be balanced.

[0095] 하나 또는 그 이상의 실시형태에 있어서, 기체 도입 밸브(106)는 벤투리관(102)에서의 물의 부압에 의해, 기체 도입 밸브(106)를 닫는 방향의 힘을 받도록 구성되어 있다. 제어장치(150)는, 제1 탱크 순환 운전을 종료하고 제2 탱크 순환 운전을 개시할 때에는, 탱크 순환 펌프(94)의 구동을 계속하면서, 탱크 순환 펌프(94)의 회전수를 제1 회전수에서 제2 회전수까지 저감시키며, 그 후에 기체 도입 밸브(106)를 닫도록 구성되어 있다.[0095] In one or more embodiments, the gas inlet valve 106 is configured to be forced by negative pressure of water in the venturi tube 102 in the direction of closing the gas inlet valve 106. When the first tank circulation operation is ended and the second tank circulation operation is started, the controller 150 increases the number of revolutions of the tank circulation pump 94 to the first rotation while continuing to drive the tank circulation pump 94. to the second rotational speed, after which the gas introduction valve 106 is closed.

[0096] 상기 구성에서는, 기체 도입 밸브(106)에는 벤투리관(102)에서의 물의 부압이, 기체 도입 밸브(106)를 닫는 방향으로 작용한다. 이 때문에, 벤투리관(102)에서의 물의 압력이 작은 상태에서, 기체 도입 밸브(106)를 연 상태로부터 닫은 상태로 전환하면, 기체 도입 밸브(106)의 밸브체가 밸브 시트에 강하게 충돌하여, 소음의 발생이나 기체 도입 밸브(106)의 손상을 초래할 우려가 있다. 상기 구성에서는, 제어장치(150)는 제1 탱크 순환 운전을 종료하고 제2 탱크 순환 운전을 개시할 때에, 탱크 순환 펌프(94)의 회전수를 저감시켜, 벤투리관(102)에서의 물의 압력을 증가시키고 나서, 기체 도입 밸브(106)를 연 상태로부터 닫은 상태로 전환한다. 이에 따라, 기체 도입 밸브(106)의 밸브체가 밸브 시트에 강하게 충돌함으로 인한, 소음의 발생이나 기체 도입 밸브(106)의 손상을 억제할 수가 있다.[0096] In the above configuration, the negative pressure of water in the venturi tube 102 acts on the gas introduction valve 106 in the direction of closing the gas introduction valve 106. For this reason, when the gas introduction valve 106 is switched from an open state to a closed state in a state where the water pressure in the venturi pipe 102 is low, the valve body of the gas introduction valve 106 strongly collides with the valve seat, There is a possibility of generating noise or damaging the gas introduction valve 106. In the above configuration, the controller 150 reduces the rotational speed of the tank circulation pump 94 when the first tank circulation operation ends and the second tank circulation operation starts, so that the water in the venturi tube 102 is reduced. After increasing the pressure, the gas introduction valve 106 is switched from an open state to a closed state. Accordingly, it is possible to suppress generation of noise and damage to the gas introduction valve 106 due to strong collision of the valve body of the gas introduction valve 106 with the valve seat.

[0097] 하나 또는 그 이상의 실시형태에 있어서, 기체 도입 밸브(106)는 벤투리관(102)에서의 물의 부압에 의해, 기체 도입 밸브(106)를 닫는 방향의 힘을 받도록 구성되어 있다. 제어장치(150)는, 제2 탱크 순환 운전을 종료하고 제1 탱크 순환 운전을 개시할 때에는, 탱크 순환 펌프(94)의 구동을 계속하면서 기체 도입 밸브(106)를 열고, 그 후에 탱크 순환 펌프(94)의 회전수를 제2 회전수에서 제1 회전수까지 증가시키도록 구성되어 있다.[0097] In one or more embodiments, the gas inlet valve 106 is configured to be forced in the direction of closing the gas inlet valve 106 by negative pressure of water in the venturi tube 102. When the second tank circulation operation is ended and the first tank circulation operation is started, the controller 150 opens the gas introduction valve 106 while continuing to drive the tank circulation pump 94, and thereafter opens the tank circulation pump. (94) is configured to increase the rotational speed from the second rotational speed to the first rotational speed.

[0098] 상기 구성에서는, 기체 도입 밸브(106)에는 벤투리관(102)에서의 물의 부압이, 기체 도입 밸브(106)를 닫는 방향으로 작용한다. 이 때문에, 벤투리관(102)에서의 물의 압력이 작은 상태에서, 기체 도입 밸브(106)를 닫은 상태로부터 연 상태로 전환하려고 하면, 기체 도입 밸브(106)가 원활하게 동작하지 않을 우려가 있다. 상기 구성에서는, 제어장치(150)는 제2 탱크 순환 운전을 종료하고 제1 탱크 순환 운전을 개시할 때에, 기체 도입 밸브(106)를 닫은 상태로부터 연 상태로 전환하고 나서, 탱크 순환 펌프(94)의 회전수를 증가시켜, 벤투리관(102)에서의 물의 압력을 저감시킨다. 이에 따라, 기체 도입 밸브(106)를 원활하게 동작시킬 수가 있다.[0098] In the above configuration, the negative pressure of water in the venturi tube 102 acts on the gas introduction valve 106 in the direction of closing the gas introduction valve 106. For this reason, when trying to switch the gas introduction valve 106 from a closed state to an open state in a state where the water pressure in the venturi tube 102 is low, there is a risk that the gas introduction valve 106 may not operate smoothly. . In the above configuration, when the second tank circulation operation ends and the first tank circulation operation starts, the controller 150 switches the gas introduction valve 106 from the closed state to the open state, and then the tank circulation pump 94 ) is increased to reduce the water pressure in the venturi tube (102). Accordingly, the gas introduction valve 106 can be operated smoothly.

[0099] 이상, 각 실시형태에 대해 상세하게 설명하였으나, 이들은 예시에 불과하며, 특허청구의 범위를 한정하는 것은 아니다. 특허청구의 범위에 기재된 기술에는, 이상에서 예시한 구체예를 다양하게 변형, 변경한 것이 포함된다. 본 명세서 또는 도면에 설명한 기술 요소는, 단독으로 혹은 각종의 조합에 의해 기술적 유용성을 발휘하는 것이며, 출원 시 청구항에 기재된 조합으로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 명세서 또는 도면에 예시한 기술은 복수의 목적을 동시에 달성할 수 있는 것이며, 그 중 하나의 목적을 달성하는 것 자체로 기술적 유용성을 갖는 것이다.[0099] In the above, each embodiment has been described in detail, but these are only examples and are not intended to limit the scope of the claims. The technology described in the claims includes various modifications and changes of the specific examples exemplified above. The technical elements described in this specification or drawings exhibit technical usefulness alone or in various combinations, and are not limited to the combinations described in the claims at the time of application. In addition, the technology exemplified in this specification or drawings can simultaneously achieve a plurality of objects, and has technical usefulness in itself by achieving one of the objects.

2: 온수 장치
10: 열원 유닛
12: 제1 열원기
14: 제2 열원기
16: 급수로
18: 출탕로(出湯路)
18a: 출탕 온도 서미스터
20: 바이패스(bypass)로(路)
22: 바이패스 서보
24: 주탕로(注湯路)
26: 온수 채우기 밸브
28: 수량(水量) 센서
30: 순환 진행로
30a: 순환 진행로 서미스터
32: 순환 복귀로
32a: 순환 복귀로 서미스터
34: 욕조 순환 펌프
36: 수류 스위치
50: 공기 가압 용해 유닛
52: 탱크
52a: 저수위 전극
52b: 고수위 전극
52c: 접지 전극
60: 열원 복귀로
62: 제1 욕조 수로
64: 탱크 진행로
66: 연통로
68: 열원 진행로
70: 제2 욕조 수로
74: 탱크 복귀로
74a: 유입구
76: 탱크 접속로
76a: 유입구
80: 제1 삼방 밸브
82: 제2 삼방 밸브
84: 체크 밸브
86: 탱크 급수 밸브
88: 제1 가압 펌프
90: 제2 가압 펌프
92: 탱크 흡인로
92a: 유출구
92b: 유입구
94: 탱크 순환 펌프
96: 기체 도입 기구
98: 입수관
100: 출수관
102: 벤투리관
104: 기체 도입로
104a: 기체 도입구
106: 기체 도입 밸브
130: 욕조
130a: 벽부
132: 욕조 어댑터
132a: 전면
132b: 하면
134a: 제1 토출구
134b: 제1 흡입구
134c: 제2 흡입구
134d: 제2 토출구
136: 제1 수로
136a: 제1 토출로
136b: 제1 흡입로
138: 제2 수로
138a: 제2 토출로
138b: 제2 흡입로
140a: 역류방지부
140b: 역류방지부
140c: 역류방지부
140d: 역류방지부
142: 미세 기포 발생 노즐
150: 제어장치
152: 메모리
154: 리모컨
200: 급수원
250: 수도꼭지
2: hot water device
10: heat source unit
12: first heat source
14: second heat source
16: Waterway
18: Departure route
18a: tapping temperature thermistor
20: Bypass Road
22: bypass servo
24: Jutang Road
26: hot water fill valve
28: water quantity sensor
30: circular path
30a: thermistor with circular progression
32: return to circulation
32a: thermistor with return to circulation
34: bathtub circulation pump
36: water flow switch
50: air pressure melting unit
52: tank
52a: low level electrode
52b: high level electrode
52c: ground electrode
60: to heat source return
62: first bathtub waterway
64: tank progress
66: communication path
68: heat source path
70: second bathtub waterway
74: tank return
74a: inlet
76: tank junction
76a: inlet
80: first three-way valve
82: second three-way valve
84: check valve
86: tank water supply valve
88: first pressure pump
90: second pressure pump
92: tank suction path
92a: outlet
92b: inlet
94: tank circulation pump
96 gas introduction mechanism
98: inlet pipe
100: outlet pipe
102 Venturi tube
104: gas introduction path
104a: gas inlet
106: gas introduction valve
130: bathtub
130a: wall part
132: bathtub adapter
132a: front
132b: lower surface
134a: first discharge port
134b: first inlet
134c: second inlet
134d: second discharge port
136: first waterway
136a: first discharge path
136b: first suction path
138: second waterway
138a: second discharge path
138b: second suction passage
140a: backflow prevention unit
140b: backflow prevention unit
140c: backflow prevention unit
140d: backflow prevention unit
142: fine bubble generating nozzle
150: control device
152: memory
154: remote control
200: water source
250: faucet

Claims (6)

액체에 기체를 가압 용해하는 탱크와,
상기 탱크에 상기 액체를 공급하는 탱크 공급로와,
상기 탱크 공급로에 설치된 가압 펌프와,
상기 탱크로부터 액조(液槽)로 상기 기체가 가압 용해된 상기 액체를 배출하는 탱크 배출로와,
상기 탱크 배출로에 설치되어 있고, 상기 기체가 가압 용해된 상기 액체를 감압(減壓)하여 미세 기포를 발생시키는 미세 기포 발생 노즐과,
상기 탱크 배출로와는 별개로 설치되어 있고, 상기 탱크에 접속된 유출구로부터 상기 탱크에 접속된 유입구로 상기 액체를 보내는 탱크 순환로와,
상기 탱크 순환로에 설치된 탱크 순환 펌프와,
상기 탱크 순환로에 설치된 기체 도입 기구와,
제어장치를 구비하고 있으며,
상기 기체 도입 기구는,
상기 액체를 감압하여 통과시키는 감압부와,
상기 감압부에서의 상기 액체의 부압(負壓, negative pressure)에 의해 상기 기체를 도입하는 기체 도입구와,
상기 기체 도입구를 개폐하는 기체 도입 밸브를 구비하고 있고,
상기 제어장치는, 상기 가압 펌프를 구동하여 상기 탱크 공급로로부터 상기 탱크로 상기 액체를 가압하여 공급하는 동시에, 상기 탱크로부터 상기 탱크 배출로를 통해 상기 액조로 상기 기체가 가압 용해된 상기 액체를 공급하는, 미세 기포 발생 운전을 실행할 수 있으며,
상기 제어장치는, 상기 미세 기포 발생 운전의 실행 중에, 상기 기체 도입 밸브를 연 상태에서, 상기 탱크 순환 펌프에 의해 상기 탱크의 상기 액체를 상기 탱크 순환로에서 순환시키는 제1 탱크 순환 운전과, 상기 기체 도입 밸브를 닫은 상태에서, 상기 탱크 순환 펌프에 의해 상기 탱크의 상기 액체를 상기 탱크 순환로에서 순환시키는 제2 탱크 순환 운전을 실행할 수 있고,
상기 제어장치는, 상기 제1 탱크 순환 운전에 있어서, 상기 탱크 순환 펌프를 제1 회전수로 구동하고, 상기 제2 탱크 순환 운전에 있어서, 상기 탱크 순환 펌프를 상기 제1 회전수보다 낮은 제2 회전수로 구동하도록 구성되어 있는,
미세 기포 발생 장치.
A tank for dissolving a gas in a liquid under pressure;
a tank supply passage for supplying the liquid to the tank;
A pressure pump installed in the tank supply passage;
a tank discharge path for discharging the liquid in which the gas is dissolved under pressure from the tank to a liquid tank;
a micro-bubble generating nozzle installed in the tank discharge passage and generating micro-bubbles by depressurizing the liquid in which the gas is dissolved under pressure;
a tank circulation path provided separately from the tank discharge path and sending the liquid from an outlet connected to the tank to an inlet connected to the tank;
a tank circulation pump installed in the tank circulation passage;
a gas introduction mechanism installed in the tank circulation path;
It is equipped with a control device,
The gas introduction mechanism,
A decompression unit for depressurizing and passing the liquid;
a gas inlet for introducing the gas by negative pressure of the liquid in the pressure reducing unit;
Equipped with a gas introduction valve that opens and closes the gas introduction port,
The control device drives the pressure pump to pressurize and supply the liquid from the tank supply passage to the tank, and at the same time supply the liquid in which the gas is pressurized and dissolved from the tank to the liquid tank through the tank discharge passage. It is possible to perform a fine bubble generating operation,
The control device may include: a first tank circulation operation in which the liquid in the tank is circulated in the tank circulation path by the tank circulation pump in a state where the gas introduction valve is opened during execution of the micro-bubble generating operation; With the introduction valve closed, a second tank circulation operation can be executed in which the liquid in the tank is circulated in the tank circulation path by the tank circulation pump;
The controller drives the tank circulation pump at a first rotational speed in the first tank circulation operation, and drives the tank circulation pump at a second rotational speed lower than the first rotational speed in the second tank circulation operation. It is configured to be driven by rotational speed,
Microbubble generator.
제1항에 있어서,
상기 기체 도입 기구가 상기 탱크 순환로에 있어서, 상기 탱크 순환 펌프보다 상류 측에 배치되어 있는,
미세 기포 발생 장치.
According to claim 1,
The gas introduction mechanism is disposed upstream of the tank circulation pump in the tank circulation path,
Microbubble generator.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 탱크의 액위(液位)가 제1 액위 이상인지 여부를 검출할 수 있는 제1 액위 전극과,
상기 탱크의 액위가 상기 제1 액위보다 높은 제2 액위 이상인지 여부를 검출할 수 있는 제2 액위 전극을 더 구비하고 있고,
상기 탱크 순환로로의 상기 유출구가 상기 탱크에 접속되어 있는 부위의 액위가, 상기 제1 액위보다 낮으며,
상기 제어장치는,
상기 미세 기포 발생 운전을 실행하고 있고, 또한 상기 제1 탱크 순환 운전을 실행하는 중에, 상기 탱크의 액위가 상기 제1 액위보다 낮은 것이 검출되었을 경우, 상기 제1 탱크 순환 운전을 종료하고 상기 제2 탱크 순환 운전을 시작하며,
상기 미세 기포 발생 운전을 실행하고 있고, 또한 상기 제2 탱크 순환 운전을 실행하는 중에, 상기 탱크의 액위가 상기 제2 액위보다 높은 것이 검출되었을 경우, 상기 제2 탱크 순환 운전을 종료하고 상기 제1 탱크 순환 운전을 시작하도록 구성되어 있는,
미세 기포 발생 장치.
According to claim 1 or 2,
a first liquid level electrode capable of detecting whether the liquid level in the tank is equal to or greater than a first liquid level;
Further comprising a second liquid level electrode capable of detecting whether the liquid level in the tank is equal to or higher than a second liquid level higher than the first liquid level,
A liquid level at a portion where the outlet to the tank circulation path is connected to the tank is lower than the first liquid level;
The control device,
When it is detected that the liquid level in the tank is lower than the first liquid level while the micro-bubble generating operation is being executed and the first tank circulation operation is being executed, the first tank circulation operation is terminated and the second tank circulation operation is being executed. Start tank circulation operation,
When it is detected that the liquid level in the tank is higher than the second liquid level while the micro-bubble generation operation is being executed and the second tank circulation operation is being executed, the second tank circulation operation is terminated and the first tank circulation operation is executed. configured to start the tank circulation operation,
Microbubble generator.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기체 도입 밸브는, 상기 감압부에서의 상기 액체의 부압에 의해, 상기 기체 도입 밸브를 닫는 방향의 힘을 받도록 구성되어 있으며,
상기 제어장치는, 상기 제1 탱크 순환 운전을 종료하고 상기 제2 탱크 순환 운전을 시작할 때에는, 상기 탱크 순환 펌프의 구동을 계속하면서, 상기 탱크 순환 펌프의 회전수를 상기 제1 회전수로부터 상기 제2 회전수까지 저감시키고, 그 후에 상기 기체 도입 밸브를 닫도록 구성되어 있는,
미세 기포 발생 장치.
According to any one of claims 1 to 3,
The gas introduction valve is configured to receive a force in the direction of closing the gas introduction valve by the negative pressure of the liquid in the pressure reducing unit,
When the first tank circulation operation ends and the second tank circulation operation starts, the control device sets the rotation speed of the tank circulation pump from the first rotation speed to the first rotation speed while continuing to drive the tank circulation pump. configured to reduce the number of revolutions to 2 and then close the gas introduction valve,
Microbubble generator.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기체 도입 밸브는, 상기 감압부에서의 상기 액체의 부압에 의해, 상기 기체 도입 밸브를 닫는 방향의 힘을 받도록 구성되어 있으며,
상기 제어장치는, 상기 제2 탱크 순환 운전을 종료하고 상기 제1 탱크 순환 운전을 시작할 때에는, 상기 탱크 순환 펌프의 구동을 계속하면서, 상기 기체 도입 밸브를 열고, 그 후에 상기 탱크 순환 펌프의 회전수를 상기 제2 회전수로부터 상기 제1 회전수까지 증가시키도록 구성되어 있는,
미세 기포 발생 장치.
According to any one of claims 1 to 4,
The gas introduction valve is configured to receive a force in the direction of closing the gas introduction valve by the negative pressure of the liquid in the pressure reducing unit,
When the second tank circulation operation ends and the first tank circulation operation starts, the controller opens the gas introduction valve while continuing to drive the tank circulation pump, and thereafter rotates the tank circulation pump at a rotational speed of the tank circulation pump. configured to increase from the second rotational speed to the first rotational speed,
Microbubble generator.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 액체가 물이고,
상기 액조가, 사용자가 목욕에 사용하는 욕조인,
미세 기포 발생 장치.
According to any one of claims 1 to 5,
the liquid is water,
The liquid tank is a bathtub used by the user for bathing,
Microbubble generator.
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