JP2023012783A - Fine bubble generation device - Google Patents
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Abstract
Description
本明細書で開示する技術は、微細気泡発生装置に関する。 The technology disclosed in this specification relates to a microbubble generator.
特許文献1に、液体に気体を加圧溶解するタンクと、前記タンクに前記液体を供給するタンク供給路と、前記タンク供給路に設けられた加圧ポンプと、前記タンクから液槽に前記気体が加圧溶解された前記液体を排出するタンク排出路と、前記タンク排出路に設けられており、前記気体が加圧溶解された前記液体を減圧して微細気泡を発生させる微細気泡発生ノズルと、前記タンクに設けられた気体導入機構と、制御装置を備える微細気泡発生装置が開示されている。前記気体導入機構は、前記気体を導入する気体導入口と、前記タンクと前記気体導入口を連通する気体導入路と、前記気体導入路に設けられており、前記気体導入路を開閉する気体導入弁を備えている。前記制御装置は、前記気体導入弁を開いた状態で、前記タンクから前記液槽に前記液体を供給することで、前記タンクに前記気体を導入する気体導入運転と、前記気体導入弁を閉じた状態で、前記加圧ポンプを駆動して前記タンク供給路から前記タンクへ液体を加圧して供給するとともに、前記タンクから前記タンク排出路を介して前記液槽へ前記気体が加圧溶解された前記液体を供給する、微細気泡発生運転を交互に実行する。
特許文献1の微細気泡発生装置では、気体導入運転と微細気泡発生運転を同時に実行することができず、気体導入運転でタンクに気体が供給され、微細気泡発生運転でタンクから気体が消費されるので、気体導入運転と微細気泡発生運転を必ず交互に実行しなければならない。しかしながら、気体導入運転の実行中は、タンクから液槽に供給される液体に微細気泡を発生させることができないので、微細気泡発生運転で液槽の液体に発生させた微細気泡が、気体導入運転の実行中に消失してしまい、液槽の液体に微細気泡を安定して発生させ続けることが困難であった。本明細書では、液槽の液体に微細気泡を安定して発生させ続けることが可能な技術を提供する。
In the microbubble generator of
本明細書が開示する微細気泡発生装置は、液体に気体を加圧溶解するタンクと、前記タンクに前記液体を供給するタンク供給路と、前記タンク供給路に設けられた加圧ポンプと、前記タンクから液槽に前記気体が加圧溶解された前記液体を排出するタンク排出路と、前記タンク排出路に設けられており、前記気体が加圧溶解された前記液体を減圧して微細気泡を発生させる微細気泡発生ノズルと、前記タンク排出路とは別個に設けられており、前記タンクに接続された流出口から前記タンクに接続された流入口に前記液体を送るタンク循環路と、前記タンク循環路に設けられたタンク循環ポンプと、前記タンク循環路に設けられた気体導入機構と、制御装置を備えている。前記気体導入機構は、前記液体を減圧して通過させる減圧部と、前記減圧部における前記液体の負圧によって前記気体を導入する気体導入口と、前記減圧部と前記気体導入口を連通する気体導入路と、前記気体導入路に設けられており、前記気体導入路を開閉する第1気体導入弁と、前記気体導入路において前記第1気体導入弁と前記気体導入口の間に設けられており、前記気体導入路を開閉する第2気体導入弁を備えている。前記第1気体導入弁は、前記減圧部における前記液体の負圧が作用した時に、前記第1気体導入弁を開く方向の力を受けるように構成されている。前記第2気体導入弁は、前記減圧部における前記液体の負圧が作用した時に、前記第2気体導入弁を閉じる方向の力を受けるように構成されている。前記制御装置は、前記加圧ポンプを駆動して前記タンク供給路から前記タンクへ前記液体を加圧して供給するとともに、前記タンクから前記タンク排出路を介して前記液槽へ前記気体が加圧溶解された前記液体を供給する、微細気泡発生運転を実行可能である。前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中に、前記タンク循環ポンプによって前記タンクの前記液体を前記タンク循環路で循環させて、前記気体導入機構の前記減圧部に負圧を発生させるタンク循環運転を実行可能である。前記制御装置は、前記第1気体導入弁と前記第2気体導入弁の両方を閉じた状態から開いた状態にする場合に、先に前記第2気体導入弁を開き、その後に前記第1気体導入弁を開くように構成されている。 The microbubble generator disclosed in the present specification includes a tank for pressurizing and dissolving gas in a liquid, a tank supply path for supplying the liquid to the tank, a pressure pump provided in the tank supply path, and the a tank discharge path for discharging the liquid in which the gas is pressurized and dissolved from the tank to the liquid tank; A fine bubble generating nozzle to be generated and the tank discharge path are provided separately, and a tank circulation path for sending the liquid from an outlet connected to the tank to an inlet connected to the tank, and the tank A tank circulation pump provided in the circulation path, a gas introduction mechanism provided in the tank circulation path, and a control device are provided. The gas introduction mechanism includes a decompression section that decompresses the liquid to pass through, a gas introduction port that introduces the gas by the negative pressure of the liquid in the decompression section, and a gas that communicates the decompression section and the gas introduction port. an introduction path, a first gas introduction valve provided in the gas introduction path for opening and closing the gas introduction path, and a first gas introduction valve provided in the gas introduction path between the first gas introduction valve and the gas introduction port. and includes a second gas introduction valve for opening and closing the gas introduction path. The first gas introduction valve is configured to receive a force in the direction of opening the first gas introduction valve when negative pressure of the liquid in the decompression section acts. The second gas introduction valve is configured to receive a force in the direction of closing the second gas introduction valve when the negative pressure of the liquid in the decompression section acts. The control device drives the pressure pump to pressurize and supply the liquid from the tank supply passage to the tank, and pressurize the gas from the tank to the liquid tank through the tank discharge passage. A microbubble generation operation can be performed that supplies the dissolved liquid. The control device causes the tank circulation pump to circulate the liquid in the tank through the tank circulation path during execution of the fine bubble generation operation, thereby generating a negative pressure in the decompression unit of the gas introduction mechanism. Circulating operation can be performed. When opening both the first gas introduction valve and the second gas introduction valve from a closed state, the control device first opens the second gas introduction valve, and then opens the first gas introduction valve. It is configured to open the introduction valve.
上記の微細気泡発生装置では、微細気泡発生運転を実行中であっても、第1気体導入弁と第2気体導入弁を開いた状態でタンク循環運転を実行することによって、気体導入機構で気体が導入されて、タンクに気体を供給することができる。このため、タンクに気体を供給するために微細気泡発生運転を中断する必要がなく、微細気泡発生運転を継続して実行することができる。このような構成とすることによって、液槽の液体に微細気泡を安定して発生させ続けることができる。 In the fine bubble generator described above, even during the fine bubble generation operation, the tank circulation operation is performed with the first gas introduction valve and the second gas introduction valve opened, so that the gas introduction mechanism can be introduced to supply gas to the tank. Therefore, it is not necessary to interrupt the microbubble generation operation in order to supply the gas to the tank, and the microbubble generation operation can be continued. With such a configuration, it is possible to stably and continuously generate fine bubbles in the liquid in the liquid tank.
また、上記の微細気泡発生装置では、気体導入路に第1気体導入弁と第2気体導入弁が設けられており、第2気体導入弁は第1気体導入弁と気体導入口の間に設けられており、第1気体導入弁には、減圧部における液体の負圧が作用した時に、第1気体導入弁を開く方向の力が働き、第2気体導入弁には、減圧部における液体の負圧が作用した時に、第2気体導入弁を閉じる方向の力が働く。このため、例えば微細気泡発生運転とタンク循環運転を同時に実行している時に、第1気体導入弁と第2気体導入弁の両方を閉じた状態から開いた状態にする場合に、先に第1気体導入弁を開いてしまうと、その後に第2気体導入弁を開く際に、減圧部における液体の負圧が第2気体導入弁に作用し、第2気体導入弁がスムーズに動作しないおそれがある。上記の構成のように、第1気体導入弁と第2気体導入弁の両方を閉じた状態から開いた状態にする場合に、先に第2気体導入弁を開くことで、減圧部における液体の負圧が第2気体導入弁に作用することを抑制することができ、第2気体導入弁をスムーズに動作させることができる。 Further, in the fine bubble generator described above, the gas introduction path is provided with the first gas introduction valve and the second gas introduction valve, and the second gas introduction valve is provided between the first gas introduction valve and the gas introduction port. When the negative pressure of the liquid in the decompression section acts on the first gas introduction valve, a force in the direction of opening the first gas introduction valve acts on the first gas introduction valve, and the second gas introduction valve acts on the second gas introduction valve. When the negative pressure acts, a force acts to close the second gas introduction valve. For this reason, for example, when both the first gas introduction valve and the second gas introduction valve are to be opened from the closed state when the fine bubble generation operation and the tank circulation operation are being performed at the same time, the first gas introduction valve must be opened first. If the gas introduction valve is opened, the negative pressure of the liquid in the decompression section will act on the second gas introduction valve when the second gas introduction valve is subsequently opened, and the second gas introduction valve may not operate smoothly. be. As in the above configuration, when both the first gas introduction valve and the second gas introduction valve are opened from the closed state, by opening the second gas introduction valve first, the liquid in the decompression section is Negative pressure can be suppressed from acting on the second gas introduction valve, and the second gas introduction valve can be operated smoothly.
前記微細気泡発生装置において、前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行時に、前記第1気体導入弁を閉じた状態から開いた状態にする場合に、先に前記加圧ポンプの流量を第1流量から前記第1流量よりも小さい第2流量に低減させ、その後に前記第1気体導入弁を開くように構成されていてもよい。 In the microbubble generating device, the control device first reduces the flow rate of the pressurizing pump to the first when opening the first gas introduction valve from the closed state during execution of the microbubble generating operation. It may be configured such that the first flow rate is reduced to a second flow rate that is smaller than the first flow rate, and then the first gas introduction valve is opened.
微細気泡発生運転の実行時には、加圧ポンプの流量が大きいと、タンク内の圧力が高くなり、気体導入機構の減圧部における液体の圧力も高くなる。すなわち、減圧部における液体の負圧が小さくなる。逆に、加圧ポンプの流量が小さいと、タンク内の圧力が低くなり、気体導入機構の減圧部における液体の圧力も低くなる。すなわち、減圧部における液体の負圧が大きくなる。第1気体導入弁には、減圧部における液体の負圧によって、第1気体導入弁を開く方向の力が働くので、第1気体導入弁を開く際には、減圧部における液体の圧力が低いほど、第1気体導入弁をスムーズに動作させることができる。上記の構成によれば、第1気体導入弁を閉じた状態から開いた状態にする場合に、先に加圧ポンプの流量を第1流量から第2流量に低減させることで、気体導入機構の減圧部における液体の圧力を低くして、その後に第1気体導入弁を開くので、第1気体導入弁をスムーズに動作させることができる。なお、第1流量と第2流量は、それぞれ、任意の流量に設定することができる。例えば、第1流量は、第1気体導入弁を閉じた状態で、微細気泡発生運転を行う時の、加圧ポンプの流量であってもよく、第2流量は、第1気体導入弁を開いた状態で、微細気泡発生運転とタンク循環運転の両方を行う時の、加圧ポンプの流量であってもよい。あるいは、第1流量は、微細気泡発生運転の実行中に、タンクの液位が上昇していく時の、加圧ポンプの流量であってもよく、第2流量は、微細気泡発生運転とタンク循環運転の両方の実行中に、タンクの液位が下降していく時の、加圧ポンプの流量であってもよい。 When the fine bubble generating operation is executed, if the flow rate of the pressurizing pump is large, the pressure in the tank increases, and the pressure of the liquid in the decompression section of the gas introduction mechanism also increases. That is, the negative pressure of the liquid in the decompression section becomes smaller. Conversely, when the flow rate of the pressurizing pump is small, the pressure in the tank becomes low, and the pressure of the liquid in the decompression section of the gas introduction mechanism also becomes low. That is, the negative pressure of the liquid in the decompression section increases. Since the force in the direction of opening the first gas introduction valve acts on the first gas introduction valve due to the negative pressure of the liquid in the decompression section, the pressure of the liquid in the decompression section is low when the first gas introduction valve is opened. The more smoothly the first gas introduction valve can be operated. According to the above configuration, when the first gas introduction valve is opened from the closed state, the flow rate of the pressurizing pump is first reduced from the first flow rate to the second flow rate. Since the pressure of the liquid in the decompression section is lowered and then the first gas introduction valve is opened, the first gas introduction valve can be operated smoothly. Note that the first flow rate and the second flow rate can be set to arbitrary flow rates, respectively. For example, the first flow rate may be the flow rate of the pressurizing pump when performing the fine bubble generation operation with the first gas introduction valve closed, and the second flow rate may be the flow rate with the first gas introduction valve open. It may be the flow rate of the pressurizing pump when performing both the microbubble generation operation and the tank circulation operation in the state where the pressure is maintained. Alternatively, the first flow rate may be the flow rate of the pressure pump when the liquid level in the tank is rising during the microbubble generation operation, and the second flow rate is the microbubble generation operation and the tank It may be the flow rate of the pressurizing pump when the liquid level in the tank is falling during both circulation operations.
前記微細気泡発生装置において、前記制御装置は、前記タンク循環運転の実行時に、前記第1気体導入弁を閉じた状態から開いた状態にする場合に、先に前記タンク循環ポンプの流量を第3流量から前記第3流量よりも大きい第4流量に増大させ、その後に前記第1気体導入弁を開くように構成されていてもよい。 In the microbubble generator, the control device first reduces the flow rate of the tank circulation pump to a third The flow rate may be increased to a fourth flow rate that is greater than the third flow rate, and then the first gas introduction valve may be opened.
タンク循環運転の実行時には、タンク循環ポンプの流量が小さいと、気体導入機構の減圧部における液体の圧力は高くなる。すなわち、減圧部における液体の負圧が小さくなる。逆に、タンク循環ポンプの流量が大きいと、気体導入機構の減圧部における液体の圧力は低くなる。すなわち、減圧部における液体の負圧が大きくなる。第1気体導入弁には、減圧部における液体の負圧によって、第1気体導入弁を開く方向の力が働くので、第1気体導入弁を開く際には、減圧部における液体の圧力が低いほど、第1気体導入弁をスムーズに動作させることができる。上記の構成によれば、第1気体導入弁を閉じた状態から開いた状態にする場合に、先にタンク循環ポンプの流量を第3流量から第4流量に増大させることで、気体導入機構の減圧部における液体の圧力を低くして、その後に第1気体導入弁を開くので、第1気体導入弁をスムーズに動作させることができる。なお、第3流量と第4流量は、それぞれ、任意の流量に設定することができる。例えば、第3流量は、第1気体導入弁を閉じた状態で、微細気泡発生運転を行う時の、タンク循環ポンプの流量(第1気体導入弁を閉じた状態でタンク循環運転が行われる場合には、その時のタンク循環ポンプの流量であり、第1気体導入弁を閉じた状態でタンク循環運転が行われない場合には、ゼロである)であってもよく、第4流量は、第1気体導入弁を開いた状態で、微細気泡発生運転とタンク循環運転の両方を行う時の、タンク循環ポンプの流量であってもよい。あるいは、第3流量は、微細気泡発生運転の実行中に、タンクの液位が上昇していく時の、タンク循環ポンプの流量であってもよく、第4流量は、微細気泡発生運転とタンク循環運転の両方の実行中に、タンクの液位が下降していく時の、タンク循環ポンプの流量であってもよい。 When the tank circulation operation is executed, if the flow rate of the tank circulation pump is small, the pressure of the liquid in the decompression section of the gas introduction mechanism becomes high. That is, the negative pressure of the liquid in the decompression section becomes smaller. Conversely, when the flow rate of the tank circulation pump is large, the pressure of the liquid in the decompression section of the gas introduction mechanism becomes low. That is, the negative pressure of the liquid in the decompression section increases. Since the force in the direction of opening the first gas introduction valve acts on the first gas introduction valve due to the negative pressure of the liquid in the decompression section, the pressure of the liquid in the decompression section is low when the first gas introduction valve is opened. The more smoothly the first gas introduction valve can be operated. According to the above configuration, when the first gas introduction valve is opened from the closed state, by first increasing the flow rate of the tank circulation pump from the third flow rate to the fourth flow rate, the gas introduction mechanism Since the pressure of the liquid in the decompression section is lowered and then the first gas introduction valve is opened, the first gas introduction valve can be operated smoothly. Note that the third flow rate and the fourth flow rate can be set to arbitrary flow rates, respectively. For example, the third flow rate is the flow rate of the tank circulation pump when the fine bubble generation operation is performed with the first gas introduction valve closed (when the tank circulation operation is performed with the first gas introduction valve closed is the flow rate of the tank circulation pump at that time, which is zero when the tank circulation operation is not performed with the first gas introduction valve closed), and the fourth flow rate is the flow rate of the It may be the flow rate of the tank circulation pump when performing both the fine bubble generation operation and the tank circulation operation with the gas introduction valve open. Alternatively, the third flow rate may be the flow rate of the tank circulation pump when the liquid level in the tank rises during the fine bubble generation operation, and the fourth flow rate is the fine bubble generation operation and the tank It may be the flow rate of the tank circulation pump when the liquid level in the tank is falling during both circulation operations.
前記微細気泡発生装置において、前記制御装置は、前記第1気体導入弁と前記第2気体導入弁の両方を開いた状態から閉じた状態にする場合に、先に前記第1気体導入弁を閉じ、その後に前記第2気体導入弁を閉じるように構成されていてもよい。 In the microbubble generator, the controller closes the first gas introduction valve first when closing both the first gas introduction valve and the second gas introduction valve from an open state. , and then the second gas introduction valve may be closed.
上記の微細気泡発生装置では、気体導入路に第1気体導入弁と第2気体導入弁が設けられており、第2気体導入弁は第1気体導入弁と気体導入口の間に設けられており、第1気体導入弁には、減圧部における液体の負圧が作用した時に、第1気体導入弁を開く方向の力が働き、第2気体導入弁には、減圧部における液体の負圧が作用した時に、第2気体導入弁を閉じる方向の力が働く。このため、例えば微細気泡発生運転とタンク循環運転を同時に実行している時に、第1気体導入弁と第2気体導入弁の両方を開いた状態から閉じた状態にする場合に、先に第2気体導入弁を閉じてしまうと、第2気体導入弁を閉じる際に、減圧部における液体の負圧が第2気体導入弁に作用し、第2気体導入弁の弁体が弁座に強く衝突してしまい、騒音の発生や第2気体導入弁の損傷を招くおそれがある。上記の構成のように、第1気体導入弁と第2気体導入弁の両方を開いた状態から閉じた状態にする場合に、先に第1気体導入弁を閉じることで、その後に第2気体導入弁を閉じる際に、減圧部における液体の負圧が第2気体導入弁に作用することを抑制することができ、第2気体導入弁の弁体が弁座に強く衝突することに起因する、騒音の発生や第2気体導入弁の損傷を抑制することができる。 In the fine bubble generator described above, the gas introduction path is provided with the first gas introduction valve and the second gas introduction valve, and the second gas introduction valve is provided between the first gas introduction valve and the gas introduction port. When the negative pressure of the liquid in the decompression section acts on the first gas introduction valve, a force in the direction of opening the first gas introduction valve acts on the first gas introduction valve, and the negative pressure of the liquid in the decompression section acts on the second gas introduction valve. acts, a force acts in the direction of closing the second gas introduction valve. For this reason, for example, when both the first gas introduction valve and the second gas introduction valve are closed while the fine bubble generation operation and the tank circulation operation are being performed at the same time, the second gas introduction valve must be closed first. If the gas introduction valve is closed, when the second gas introduction valve is closed, the negative pressure of the liquid in the decompression part acts on the second gas introduction valve, and the valve body of the second gas introduction valve strongly collides with the valve seat. This may lead to noise generation and damage to the second gas introduction valve. As in the above configuration, when both the first gas introduction valve and the second gas introduction valve are closed from the open state, the first gas introduction valve is closed first, and then the second gas introduction valve is closed. When the introduction valve is closed, the negative pressure of the liquid in the decompression part can be suppressed from acting on the second gas introduction valve, and the valve body of the second gas introduction valve strongly collides with the valve seat. , the generation of noise and damage to the second gas introduction valve can be suppressed.
前記微細気泡発生装置において、前記液体は、水であってもよく、前記液槽は、ユーザが入浴に使用する浴槽であってもよい。 In the microbubble generator, the liquid may be water, and the liquid bath may be a bathtub used by a user for bathing.
上記の構成によれば、ユーザが入浴に使用する浴槽の水に、微細気泡を安定して発生させ続けることができる。 According to the above configuration, fine air bubbles can be stably and continuously generated in the water of the bathtub used by the user for bathing.
(実施例)
図1に示すように、本実施例の温水装置2は、熱源ユニット10と、空気加圧溶解ユニット50と、浴槽アダプタ132と、制御装置150と、を備える。温水装置2は、水道などの給水源200から供給される水を加熱して、所望の温度まで加熱された水を、台所等に設置されたカラン250や、浴室に設置された浴槽130に供給することができる。また、温水装置2は、ユーザが入浴に使用する浴槽130の水に、微細気泡を発生させることができる。
(Example)
As shown in FIG. 1, the
(熱源ユニット10の構成)
熱源ユニット10は、第1熱源機12と、第2熱源機14と、給水路16と、出湯路18と、バイパス路20と、バイパスサーボ22と、注湯路24と、湯はり弁26と、水量センサ28と、循環往路30と、循環復路32と、浴槽循環ポンプ34と、水流スイッチ36を備えている。
(Configuration of heat source unit 10)
The
給水路16の上流端は、給水源200に接続されており、給水路16の下流端は、第1熱源機12に接続されている。また、出湯路18の上流端は、第1熱源機12に接続されており、出湯路18の下流端は、カラン250に接続されている。第1熱源機12は、例えばガスの燃焼によって水を加熱する燃焼熱源機である。第1熱源機12は、給水路16から流れ込む水を加熱して、加熱された水を出湯路18に送り出す。
The upstream end of the
バイパス路20の上流端は、給水路16に接続されており、バイパス路20の下流端は、出湯路18に接続されている。バイパスサーボ22は、バイパス路20が給水路16に接続する箇所に設けられている。バイパスサーボ22は、内蔵された弁体の開度を調整することによって、給水路16から第1熱源機12を経由して出湯路18に流れる水の流量と、給水路16からバイパス路20を経由して出湯路18に流れる水の流量の割合を調整可能である。バイパスサーボ22の開度を調整することで、バイパス路20が接続する箇所よりも下流側の出湯路18には、第1熱源機12から流れ込む高温の水と、バイパス路20から流れ込む低温の水が所望の割合で混合されて、所望の温度に調温された水が供給される。バイパス路20が接続する箇所よりも下流側の出湯路18には、出湯路18の水の温度を検出する出湯温度サーミスタ18aが設けられている。
The upstream end of the
注湯路24の上流端は、バイパス路20が接続する箇所よりも下流側の出湯路18に接続されており、注湯路24の下流端は、循環復路32に接続されている。湯はり弁26は、注湯路24に設けられており、注湯路24を開閉する。湯はり弁26は、通常時は閉状態とされている。水量センサ28は、注湯路24に設けられており、注湯路24を流れる水の水量を検出する。
The upstream end of the hot
循環復路32の上流端は、空気加圧溶解ユニット50の熱源復路60(詳細は後述する)に接続されており、循環復路32の下流端は、第2熱源機14に接続されている。また、循環往路30の上流端は、第2熱源機14に接続されており、循環往路30の下流端は、空気加圧溶解ユニット50の熱源往路68(詳細は後述する)に接続されている。第2熱源機14は、例えばガスの燃焼によって水を加熱する燃焼熱源機である。第2熱源機14は、循環復路32から流れ込む水を加熱して、加熱された水を循環往路30に送り出す。循環復路32の上流端近傍には、循環復路32の水の温度を検出する循環復路サーミスタ32aが設けられている。循環往路30の下流端近傍には、循環往路30の水の温度を検出する循環往路サーミスタ30aが設けられている。
The upstream end of the
浴槽循環ポンプ34は、注湯路24の接続箇所よりも下流側の循環復路32に設けられており、循環復路32の水を第2熱源機14に向けて送り出す。水流スイッチ36は、循環復路32において浴槽循環ポンプ34と第2熱源機14の間に設けられており、循環復路32を水が流れているか否かを検出する。
The
(空気加圧溶解ユニット50の構成)
空気加圧溶解ユニット50は、タンク52と、熱源復路60と、熱源往路68と、タンク復路74と、タンク接続路76と、タンク往路64と、連通路66と、第1三方弁80と、第2三方弁82と、逆止弁84と、タンク給水弁86と、第1加圧ポンプ88と、第2加圧ポンプ90と、タンク吸引路92と、タンク循環ポンプ94と、気体導入機構96を備えている。
(Configuration of air pressurized dissolving unit 50)
The air pressurized dissolving
タンク52は、内部に水を貯留することができる。タンク52の内部には、タンク52内の水位を検出するための低水位電極52a、高水位電極52bおよびアース電極52cが設置されている。低水位電極52aによって検出される水位(以下では下限水位ともいう)は、高水位電極52bによって検出される水位(以下では上限水位ともいう)よりも低い。低水位電極52a、高水位電極52bは、タンク52内に貯留されている水の水面に接触すると、アース電極52cとの間で電流が流れて、制御装置150にON信号を出力する。タンク52は、水に空気を加圧溶解して空気溶解水を生成するために利用される。
The
熱源復路60の一端は、連通路66に接続されており、熱源復路60の他端は、熱源ユニット10の循環復路32に接続されている。連通路66は、第1三方弁80と第2三方弁82とを接続する。第1三方弁80には、連通路66、第1浴槽水路62、及び、タンク往路64が接続されている。第1三方弁80は、タンク往路64と第1浴槽水路62が連通している第1連通状態(図12、図13参照)と、タンク往路64と連通路66が連通している第2連通状態(図1参照)と、第1浴槽水路62、タンク往路64、及び、連通路66が連通している第3連通状態(図8、図9参照)と、を切替えることができる。タンク往路64の上流端は、タンク52の下部に接続されており、タンク往路64の下流端は、第1三方弁80に接続されている。タンク往路64には、タンク52から第1三方弁80に向かって水が流れることを許容し、第1三方弁80からタンク52に向かって水が流れることを禁止する逆止弁84が設けられている。第1浴槽水路62の一端は、第1三方弁80に接続されており、第1浴槽水路62の他端は、浴槽アダプタ132に接続されている。
One end of the heat source return
熱源往路68の一端は、熱源ユニット10の循環往路30に接続されており、熱源往路68の他端は、第2三方弁82に接続されている。第2三方弁82には、連通路66と、熱源往路68と、第2浴槽水路70と、が接続されている。第2三方弁82は、第2浴槽水路70と連通路66が連通する第4連通状態(図12、図13参照)と、熱源往路68と第2浴槽水路70が連通する第5連通状態(図1、図8、図9参照)と、を切替えることができる。第2浴槽水路70の一端は、第2三方弁82に接続されており、第2浴槽水路70の他端は、浴槽アダプタ132に接続されている。
One end of the heat source
タンク復路74の上流端は、熱源往路68に接続されており、タンク復路74の下流端は、タンク接続路76の上流端に接続されている。タンク接続路76の下流端(以下では、流入口76aともいう)は、タンク52の頂部に接続されている。タンク接続路76の流入口76aがタンク52に接続されている箇所の水位は、高水位電極52bによって検出される上限水位よりも高い。タンク給水弁86は、タンク復路74に設けられており、タンク復路74を開閉する。タンク給水弁86は、通常時は閉状態とされている。第1加圧ポンプ88と第2加圧ポンプ90は、タンク復路74において、タンク給水弁86よりも下流側に設けられている。第1加圧ポンプ88と第2加圧ポンプ90は、タンク復路74の水を加圧してタンク接続路76に向けて送り出す。タンク復路74において、第1加圧ポンプ88は第2加圧ポンプ90よりも上流側に配置されている。タンク復路74からタンク接続路76に送られた水は、流入口76aを介してタンク52に流入する。
The upstream end of the
タンク吸引路92の上流端(以下では、流出口92aともいう)は、タンク52の底部に接続されている。タンク吸引路92の流出口92aがタンク52に接続されている箇所の水位は、低水位電極52aによって検出される下限水位よりも低い。タンク吸引路92の下流端は、タンク接続路76の上流端に接続されている。タンク循環ポンプ94は、タンク吸引路92に設けられている。タンク循環ポンプ94は、タンク52内の水を流出口92aを介してタンク吸引路92に吸入するとともに、タンク吸引路92の水をタンク接続路76に向けて送り出す。タンク吸引路92からタンク接続路76に送られた水は、流入口76aを介してタンク52に流入する。
An upstream end of the tank suction path 92 (hereinafter also referred to as an
気体導入機構96は、タンク循環ポンプ94よりも上流側のタンク吸引路92に設けられている。気体導入機構96は、入水管98と、出水管100と、ベンチュリ管102と、気体導入路104と、第1気体導入弁106と、第2気体導入弁108を備えている。入水管98には、タンク吸引路92の上流側から水が流入する。出水管100は、タンク吸引路92の下流側へ水を流出させる。ベンチュリ管102は、入水管98と出水管100を連通している。ベンチュリ管102の径は、入水管98および出水管100の径よりも小さい。気体導入機構96を流れる水は、入水管98からベンチュリ管102へ流れる際に大気圧よりも低い圧力まで減圧され、ベンチュリ管102から出水管100へ流れる際に元の圧力まで増圧される。気体導入路104の上流端(以下では、気体導入口110ともいう)は、大気に開放されており、下流端はベンチュリ管102に接続されている。第1気体導入弁106と第2気体導入弁108は、気体導入路104に設けられており、それぞれ気体導入路104を開閉する。気体導入路104において、第1気体導入弁106は第2気体導入弁108よりも下流側(ベンチュリ管102に近い側)に配置されている。気体導入機構96を水が流れる際に、第1気体導入弁106と第2気体導入弁108の両方が開いている場合には、気体導入口110から気体導入路104に空気が吸入され、ベンチュリ管102を流れる水に空気が混合される。気体導入機構96で導入された空気は、タンク吸引路92を流れる水と混合されて、タンク接続路76を介してタンク52へ流入する。
The
仮に、上記のような気体導入機構96をタンク復路74に設けた場合でも、タンク復路74からタンク52へ水が供給される際に気体導入機構96で空気を導入することができる。しかしながら、このような構成とした場合、タンク復路74の圧力損失が大きくなってしまい、第1加圧ポンプ88と第2加圧ポンプ90によってタンク52へ送られる水の圧力が低下してしまう。また、このような構成とした場合、気体導入機構96において導入される空気量を増加させると、タンク52へ送られる水の圧力が低減してしまい、タンク52へ送られる水の圧力を増加させると、気体導入機構96において導入される空気量が低減してしまう。これに対して、本実施例では、タンク復路74とは別個に設けられたタンク吸引路92に気体導入機構96が設けられているので、タンク復路74の圧力損失を小さくすることができる。また、タンク復路74からタンク52へ高い圧力で水を送りつつ、気体導入機構96で多くの量の空気を導入することができる。
Even if the
(気体導入機構96の構成)
図2に示すように、第1気体導入弁106と第2気体導入弁108は、互いに向き合うように配置されている。なお、以下の説明では、気体導入路104のうち、ベンチュリ管102と第1気体導入弁106の間の部分を第1気体導入路104aともいい、第1気体導入弁106と第2気体導入弁108の間の部分を第2気体導入路104bともいい、第2気体導入弁108と気体導入口110の間の部分を第3気体導入路104cともいう。
(Configuration of gas introduction mechanism 96)
As shown in FIG. 2, the first
第1気体導入弁106は、弁室106aと、弁座106bと、弁体106cと、プランジャ106dと、コイル106eと、バネ106fを備えている。弁室106aは、第1気体導入路104aに連通しているとともに、弁座106bを介して第2気体導入路104bに連通している。弁体106cは弁座106bに着座可能であり、弁体106cが弁座106bに着座すると、弁室106aと第2気体導入路104bの連通が遮断される。弁体106cは、プランジャ106dの先端に保持されている。プランジャ106dは、磁性材料からなるコア(図示せず)を内蔵している。コイル106eは、通電された時に、プランジャ106dのコアに磁気吸引力を作用させる。すなわち、コイル106eは、通電された時に、弁体106cが弁座106bから離反する方向の磁気吸引力をプランジャ106dに作用させる。バネ106fは、弁体106cが弁座106bに着座する方向の付勢力をプランジャ106dに作用させる。図2に示すように、コイル106eに通電されていない状態では、バネ106fからプランジャ106dに付勢力が作用することで、弁体106cが弁座106bに着座し、第1気体導入弁106が閉じられる。図3に示すように、コイル106eに通電された状態では、バネ106fからプランジャ106dに作用する付勢力を上回る磁気吸引力がコイル106eからプランジャ106dに作用することで、弁体106cが弁座106bから離反し、第1気体導入弁106が開かれる。なお、第1気体導入弁106では、第1気体導入路104aの圧力が第2気体導入路104bの圧力よりも低い場合に、その差圧によって弁体106cが弁座106bから離反する方向の力がプランジャ106dに作用する。
The first
第2気体導入弁108は、弁室108aと、弁座108bと、弁体108cと、プランジャ108dと、コイル108eと、バネ108fを備えている。弁室108aは、第3気体導入路104cに連通しているとともに、弁座108bを介して第2気体導入路104bに連通している。弁体108cは弁座108bに着座可能であり、弁体108cが弁座108bに着座すると、弁室108aと第2気体導入路104bの連通が遮断される。弁体108cは、プランジャ108dの先端に保持されている。プランジャ108dは磁性材料からなるコア(図示せず)を内蔵している。コイル108eは、通電された時に、プランジャ108dのコアに磁気吸引力を作用させる。すなわち、コイル108eは、通電された時に、弁体108cが弁座108bから離反する方向の磁気吸引力をプランジャ108dに作用させる。バネ108fは、弁体108cが弁座108bに着座する方向の付勢力をプランジャ108dに作用させる。図2に示すように、コイル108eに通電されていない状態では、バネ108fからプランジャ108dに付勢力が作用することで、弁体108cが弁座108bに着座し、第2気体導入弁108が閉じられる。図3に示すように、コイル108eに通電された状態では、バネ108fからプランジャ108dに作用する付勢力を上回る磁気吸引力がコイル108eからプランジャ108dに作用することで、弁体108cが弁座108bから離反し、第2気体導入弁108が開かれる。なお、第2気体導入弁108では、第2気体導入路104bの圧力が第3気体導入路104cの圧力よりも低い場合に、その差圧によって弁体108cが弁座108bに着座する方向の力がプランジャ108dに作用する。
The second
第1気体導入弁106と第2気体導入弁108の両方が閉じた状態(図2参照)から、第1気体導入弁106と第2気体導入弁108の両方が開いた状態(図3参照)に切り換える場合について説明する。図4に示すように、先に第1気体導入弁106を開くと、第2気体導入弁108が閉じた状態で、第1気体導入路104aと第2気体導入路104bが連通する。この状態では、ベンチュリ管102を流れる水の圧力が低い(すなわち、ベンチュリ管102における水の負圧が大きい)と、第2気体導入路104bの圧力が第3気体導入路104cの圧力よりも低くなり、その差圧が第2気体導入弁108を閉じる方向に作用する。このため、第2気体導入弁108をスムーズに開くことが困難となる。これに対して、図5に示すように、先に第2気体導入弁108を開く場合、第2気体導入路104bは第1気体導入路104aから遮断されているので、第2気体導入路104bの圧力と第3気体導入路104cの圧力の間に大きな差圧は生じず、第2気体導入弁108をスムーズに開くことができる。また、図5に示す状態では、第2気体導入路104bは第3気体導入路104cと連通する。この状態では、ベンチュリ管102を流れる水の圧力が低い(すなわち、ベンチュリ管102における水の負圧が大きい)と、第1気体導入路104aの圧力が第2気体導入路104bの圧力よりも低くなり、その差圧が第1気体導入弁106を開く方向に作用する。このため、第1気体導入弁106をスムーズに開くことができる。
From a state in which both the first
第1気体導入弁106と第2気体導入弁108の両方が開いた状態(図3参照)から、第1気体導入弁106と第2気体導入弁108の両方が閉じた状態(図2参照)に切り換える場合について説明する。図4に示すように、先に第2気体導入弁108を閉じる場合、第1気体導入弁106が開いているので、第1気体導入路104aと第2気体導入路104bが連通している。この状態では、ベンチュリ管102を流れる水の圧力が低い(すなわち、ベンチュリ管102における水の負圧が大きい)と、第2気体導入路104bの圧力が第3気体導入路104cの圧力よりも低くなり、その差圧が第2気体導入弁108を閉じる方向に作用する。このため、第2気体導入弁108を閉じる際に弁体108cが弁座108bに勢いよく衝突してしまい、騒音の発生や部品の損傷を招いてしまうおそれがある。これに対して、図5に示すように、先に第1気体導入弁106を閉じると、第2気体導入路104bは第1気体導入路104aから遮断されるので、第2気体導入路104bの圧力と第3気体導入路104cの圧力の間に大きな差圧は生じない。このため、第2気体導入弁108を閉じる際に弁体108cが弁座108bに勢いよく衝突することを抑制することができ、騒音の発生や部品の損傷を抑制することができる。
From the state in which both the first
(浴槽アダプタ132の構成)
続いて、図6(a)、(b)を参照して、浴槽130の壁部130aに設けられた浴槽アダプタ132について説明する。図6(a)は、第1浴槽水路62から浴槽130に向けて水が流れ、浴槽130から第2浴槽水路70に向けて水が流れる状態(例えば、図12の状態)である場合の浴槽アダプタ132での水の流れを示している。図6(b)は、浴槽130から第1浴槽水路62に向けて水が流れ、第2浴槽水路70から浴槽130に向けて水が流れる状態(例えば、図9の状態)である場合の浴槽アダプタ132での水の流れを示している。
(Configuration of bathtub adapter 132)
Next, the
浴槽アダプタ132は、第1水路136と、第2水路138と、を備える。第1水路136は、第1浴槽水路62と連通しており、第2水路138は、第2浴槽水路70と連通している。第1水路136は、第1吐出路136aと、第1吸込路136bと、に分岐している。第1吐出路136aは、浴槽アダプタ132の前面132aに設けられた第1吐出口134aと連通している。第1吐出口134aから浴槽130に吐出される水は、浴槽130の壁部130aの前方、即ち、浴槽130の壁部130aに垂直な方向に吐出される。第1吐出路136aには、浴槽130から第1浴槽水路62に向かう水の流れを防止する逆止部140aと、逆止部140aよりも上流側(第1浴槽水路62側)に配置された微細気泡発生ノズル142と、が設けられている。微細気泡発生ノズル142は、微細気泡発生ノズル142を通過する水を減圧させる。第1吸込路136bは、浴槽アダプタ132の前面132aに設けられた第1吸込口134bと連通している。第1吸込路136bには、第1浴槽水路62から浴槽130に向かう水の流れを防止する逆止部140bが設けられている。
第2水路138は、第2吐出路138aと、第2吸込路138bと、に分岐している。第2吸込路138bは、浴槽アダプタ132の前面132aに設けられた第2吸込口134cと連通している。第2吸込路138bには、第2浴槽水路70から浴槽130に向かう水の流れを防止する逆止部140cが設けられている。第2吐出路138aは、浴槽アダプタ132の下面132bに設けられた第2吐出口134dと連通している。第2吐出口134dから吐出される水は、下方、即ち、浴槽130の壁部130aに平行な方向に吐出される。第2吐出路138aには、浴槽130から第2浴槽水路70に向かう水の流れを防止する逆止部140dが設けられている。
The
(制御装置150の構成)
図1に示す制御装置150は、熱源ユニット10、空気加圧溶解ユニット50の各構成要素の動作を制御する。制御装置150は、ユーザによって操作可能なリモコン154と通信可能に構成されている。制御装置150は、メモリ152を備えており、ユーザが入力した湯はり運転における設定温度や設定水量、追い焚き運転における設定温度等の各種の設定を記憶可能である。ユーザは、リモコン154を介して、後述する湯はり運転や微細気泡発生運転、追い焚き運転の開始や終了を指示することができる。
(Configuration of control device 150)
A
(湯はり運転)
湯はり運転は、ユーザがリモコン154において湯はり運転の開始を指示した場合に開始する。あるいは、湯はり運転は、ユーザがリモコン154において湯はり運転の開始時刻を設定しておき、制御装置150が湯はり運転の開始時刻が到来したと判断した場合に開始してもよい。制御装置150は、湯はり運転を開始する際に、第1三方弁80、第2三方弁82を、それぞれ、第3連通状態、第5連通状態とする(図8、図9参照)。この状態から、制御装置150は、図7に示す処理を実行する。
(Hot water filling operation)
The hot water filling operation is started when the user instructs the start of the hot water filling operation with the
S2では、制御装置150は、空気抜き処理を実行する。具体的には、制御装置150は、湯はり弁26を開くとともに、第1熱源機12による水の加熱を開始する。これによって、図8に示すように、設定温度に調温された水が、出湯路18から注湯路24を介して循環復路32に流れ込む。循環復路32に流れ込んだ水は、上流側(すなわち熱源復路60)に向かう流れと、下流側(すなわち第2熱源機14)に向かう流れに分岐する。循環復路32から熱源復路60に流れる水は、連通路66、第1三方弁80、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に流れ込む。また、循環復路32から第2熱源機14に流れる水は、循環往路30、熱源往路68、第2三方弁82、第2浴槽水路70、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に流れ込む。これによって、第1浴槽水路62と第2浴槽水路70の内部が水で満たされて、第1浴槽水路62や第2浴槽水路70の内部に残留している空気が浴槽130へ排出される。制御装置150は、水量センサ28で検出される積算水量が所定値(例えば6L)に達すると、湯はり弁26を閉じるとともに、第1熱源機12による加熱を終了して、空気抜き処理を終了する。
In S2,
S4では、制御装置150は、浴槽130の残水検知処理を実行する。具体的には、図9に示すように、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34を駆動して、水流スイッチ36が水流を検知するか否かに基づいて、浴槽130に残水があるか否かを判断する。浴槽130に残水がなく、浴槽アダプタ132が水に浸かっていない場合には、浴槽循環ポンプ34を駆動しても、水流スイッチ36が水流を検知しない。これとは異なり、浴槽130に残水があり、浴槽アダプタ132が水に浸かっている場合には、浴槽循環ポンプ34を駆動すると、水流スイッチ36が水流を検知する。S4で浴槽130に残水がある場合(YESの場合)、処理はS6へ進む。S4で浴槽130に残水がない場合(NOの場合)、処理はS10へ進む。
In S<b>4 ,
S6では、制御装置150は、浴槽130の残水量の判定処理を行う。具体的には、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34を駆動して、循環復路サーミスタ32aで検出される温度を、加熱前温度として記憶する。その後、制御装置150は、第2熱源機14による水の加熱を開始する。これによって、図9に示すように、浴槽130の残水が、浴槽アダプタ132、第1浴槽水路62、第1三方弁80、連通路66、熱源復路60、循環復路32を経由して第2熱源機14に送られる。第2熱源機14で加熱された残水は、循環往路30、熱源往路68、第2三方弁82、第2浴槽水路70、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に戻される。循環復路サーミスタ32aで検出される温度が設定温度以上となると、制御装置150は、循環復路サーミスタ32aで検出される温度を加熱後温度として記憶した後、浴槽循環ポンプ34を停止するとともに、第2熱源機14による水の加熱を終了する。そして、制御装置150は、加熱後温度から加熱前温度を減算した昇温幅と、S6での第2熱源機14における積算加熱量から、浴槽130の残水量を算出する。
In S<b>6 , the
S8では、制御装置150は、湯はり運転における設定水量から、S6で判定された浴槽130の残水量を減算して、湯はり運転における設定水量を更新する。
In S8,
S10では、制御装置150は、湯はり弁26を開くとともに、第1熱源機12による加熱を開始する。これによって、図8に示すように、設定温度に調温された水が、出湯路18から注湯路24を介して循環復路32に流れ込む。循環復路32に流れ込んだ水は、上流側(すなわち熱源復路60)に向かう流れと下流側(すなわち第2熱源機14)に向かう流れに分岐する。循環復路32から熱源復路60に流れる水は、連通路66、第1三方弁80、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に流れ込む。循環復路32から第2熱源機14に流れる水は、循環往路30、熱源往路68、第2三方弁82、第2浴槽水路70、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に流れ込む。
In S<b>10 , the
S12では、制御装置150は、水量センサ28が検出する積算水量が、湯はり運転における設定水量に達するまで待機する。なお、ここでいう積算水量は、S2の空気抜き処理で水量センサ28が検出した積算水量と、S10で浴槽130への湯はりを開始してからの積算水量を合算したものである。積算水量が設定水量に達すると(YESになると)、処理はS14へ進む。
In S12, the
S14では、制御装置150は、湯はり弁26を閉じるとともに、第1熱源機12による水の加熱を終了する。
In S<b>14 , the
S16では、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34を駆動して、循環復路サーミスタ32aで検出される温度を、浴槽水温度として取得する。そして、制御装置150は、浴槽水温度が設定温度以上であるか否かを判断する。浴槽水温度が設定温度に満たない場合(NOの場合)、処理はS18へ進む。浴槽水温度が設定温度以上の場合(YESの場合)、処理はS20へ進む。
In S16, the
S18では、制御装置150は、浴槽130の水の追い焚き処理を行う。具体的には、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34を駆動するとともに、第2熱源機14による水の加熱を開始する。これによって、図9に示すように、浴槽130の水が、浴槽アダプタ132、第1浴槽水路62、第1三方弁80、連通路66、熱源復路60、循環復路32を経由して第2熱源機14に送られる。第2熱源機14で加熱された水は、循環往路30、熱源往路68、第2三方弁82、第2浴槽水路70、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に戻される。循環復路サーミスタ32aで検出される温度が設定温度以上となると、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34を停止するとともに、第2熱源機14による水の加熱を終了する。
In S<b>18 , the
S20では、制御装置150は、湯はり運転が完了した事を、リモコン154を介してユーザに報知する。S20の後、図7の処理は終了する。
In S20,
(微細気泡発生運転)
微細気泡発生運転は、ユーザがリモコン154において微細気泡発生運転の開始を指示した場合に開始する。また、本実施例の温水装置2では、上記した湯はり運転が完了した後に、自動的に微細気泡発生運転も開始する。すなわち、湯はり運転の実行に連動して微細気泡発生運転が実行される。制御装置150は、微細気泡発生運転を開始する際に、第1三方弁80、第2三方弁82を、それぞれ、第3連通状態、第5連通状態とする(図8、図9参照)。この状態から、制御装置150は、図10に示す処理を実行する。
(Fine bubble generation operation)
The microbubble generation operation is started when the user instructs the start of the microbubble generation operation with the
S32では、制御装置150は、冷水緩和処理を実行する。具体的には、制御装置150は、循環往路サーミスタ30aや循環復路サーミスタ32aで検出される温度が所定温度以下である場合に、浴槽循環ポンプ34を駆動するとともに、第2熱源機14による水の加熱を開始する。この冷水緩和処理によって、循環往路30や循環復路32の内部に低温の水が残留している場合に、図9に示すように、その低温の水は熱源往路68、第2三方弁82、第2浴槽水路70を経由して浴槽アダプタ132に流入し、浴槽アダプタ132の下面132bの第2吐出口134dから浴槽130に排出される。このため、仮にユーザが浴槽130で入浴している場合であっても、低温の水が直接ユーザの身体に向けて吐出されることを抑制することができる。冷水緩和処理の開始から所定時間が経過すると、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34を停止するとともに、第2熱源機14による水の加熱を終了して、冷水緩和処理を終了する。
In S32,
S34では、制御装置150は、第2気体導入弁108を開く。
At S<b>34 , the
S36では、制御装置150は、タンク循環ポンプ94を駆動する。これによって、タンク52と、タンク吸引路92およびタンク接続路76の間での水の循環が開始する。なお、S34でタンク循環ポンプ94を駆動する際には、制御装置150は、タンク循環ポンプ94の回転数が標準回転数よりも高い回転数(例えば標準回転数の120%の回転数)となるように、タンク循環ポンプ94を制御する。
At S<b>36 , the
S38では、制御装置150は、第1気体導入弁106を開く。これによって、タンク吸引路92の気体導入機構96を流れる水に、空気が導入される。
At S<b>38 , the
S40では、制御装置150は、タンク循環ポンプ94の回転数が標準回転数となるように、タンク循環ポンプ94を制御する。これによって、タンク循環ポンプ94が送り出す水の流量が低減する。
In S40, the
S42では、制御装置150は、タンク52から浴槽130への空気溶解水の供給を開始する。具体的には、図12に示すように、制御装置150は、第1三方弁80を第1連通状態とし、第2三方弁82を第4連通状態とした上で、浴槽循環ポンプ34と、第1加圧ポンプ88と、第2加圧ポンプ90を駆動する。これによって、浴槽130の水が、浴槽アダプタ132、第2浴槽水路70、第2三方弁82、連通路66、熱源復路60、循環復路32、第2熱源機14、循環往路30、熱源往路68、タンク復路74、タンク接続路76を経由して、タンク52に供給される。この際に、タンク52には、第1加圧ポンプ88と第2加圧ポンプ90によって加圧された水が供給される。これによって、タンク52の内部において、水に空気が加圧溶解される。そして、空気が加圧溶解された水は、タンク52から、タンク往路64、第1三方弁80、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に供給される。この際に、空気が加圧溶解された水は、浴槽アダプタ132の第1吐出路136aの微細気泡発生ノズル142を通過する際に、大気圧以下まで減圧され、浴槽130に噴出される際に、大気圧まで増圧されて、浴槽130の水に微細気泡が発生する。
In S<b>42 ,
図10に示すS44では、制御装置150は、図11に示す空気導入量調整処理を実行する。
At S44 shown in FIG. 10, the
図11に示すS62では、制御装置150は、低水位電極52aからの検出信号に基づいて、タンク52の水位が下限水位を下回るか否かを判断する。本実施例では、気体導入機構96において、第1気体導入弁106および第2気体導入弁108を開いている時に導入される空気量は、浴槽130の水において発生する微細気泡の空気量よりも多い。このため、第1気体導入弁106および第2気体導入弁108を開いた状態では、タンク52内の空気量が増大していき、タンク52の水位は下降していく。タンク52の水位が下限水位を下回る場合(YESの場合)、処理はS64へ進む。タンク52の水位が下限水位以上の場合(NOの場合)、処理はS68へ進む。
In S62 shown in FIG. 11, the
S64では、制御装置150は、第1気体導入弁106を閉じる。これによって、タンク吸引路92の気体導入機構96を流れる水への、空気の導入が停止される。なお、本実施例では、第1気体導入弁106を閉じている間も、タンク循環ポンプ94の駆動はそのまま継続する。これによって、タンク52内での水の流動が促進されて、タンク52における水への空気の加圧溶解が促進される。
In S<b>64 , the
S66では、制御装置150は、第2気体導入弁108を閉じる。
At S<b>66 , the
S68では、制御装置150は、高水位電極52bからの検出信号に基づいて、タンク52の水位が上限水位以上であるか否かを判断する。第1気体導入弁106および第2気体導入弁108を閉じた状態では、タンク52に空気が供給されないので、タンク52内の空気量が減少していき、タンク52の水位は上昇していく。タンク52の水位が上限水位以上の場合(YESの場合)、処理はS70へ進む。タンク52の水位が上限水位を下回る場合(NOの場合)、図11の処理は終了し、処理はS46(図10参照)へ進む。
In S68, the
S70では、制御装置150は、第2気体導入弁108を開く。
At S<b>70 , the
S72では、制御装置150は、第2加圧ポンプ90を停止する。これによって、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90が送り出す水の流量が低減する。
At S<b>72 , the
S74では、制御装置150は、タンク循環ポンプ94の回転数が標準回転数よりも高い回転数(例えば標準回転数の120%の回転数)となるように、タンク循環ポンプ94を制御する。これによって、タンク循環ポンプ94が送り出す水の流量が増大する。
In S74, the
S76では、制御装置150は、第1気体導入弁106を開く。これによって、タンク吸引路92の気体導入機構96を流れる水への、空気の導入が再開される。
At S<b>76 , the
S78では、制御装置150は、タンク循環ポンプ94の回転数が標準回転数となるように、タンク循環ポンプ94を制御する。これによって、タンク循環ポンプ94が送り出す水の流量が低減する。
In S78, the
S80では、制御装置150は、第2加圧ポンプ90の駆動を再開する。これによって、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90が送り出す水の流量が増大する。S80の後、図11の処理は終了し、処理はS46(図10参照)へ進む。
In S<b>80 ,
図10のS46では、制御装置150は、微細気泡発生運転の運転時間が、設定時間に達したか否かを判断する。ここで、微細気泡発生運転の運転時間は、微細気泡発生運転を開始してからの経過時間である。本実施例の温水装置2では、湯はり運転の実行と連動せずに、微細気泡発生運転が単独で実行される場合、設定時間は例えば10分間に設定されている。これとは異なり、湯はり運転の実行と連動して微細気泡発生運転が実行される場合、設定時間は例えば30分間に設定されている。運転時間が設定時間に達していない場合(NOの場合)、処理はS44に戻る。運転時間が設定時間に達すると(YESとなると)、処理はS48へ進む。
In S46 of FIG. 10, the
S48では、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34と、第1加圧ポンプ88と、第2加圧ポンプ90を停止して、タンク52から浴槽130への空気溶解水の供給を終了する。
At S<b>48 , the
S50では、制御装置150は、第1気体導入弁106が開かれている場合には、第1気体導入弁106を閉じる。これによって、タンク吸引路92の気体導入機構96を流れる水への、空気の導入が終了する。
In S50, the
S52では、制御装置150は、第2気体導入弁108が開かれている場合には、第2気体導入弁108を閉じる。
In S52, the
S54では、制御装置150は、タンク洗浄処理を実行する。具体的には、制御装置150は、湯はり弁26を開くとともに、第1熱源機12による水の加熱を開始する。これによって、図13に示すように、設定温度に調温された水が、出湯路18から注湯路24を介して循環復路32に流れ込む。循環復路32に流れ込んだ水は、上流側(すなわち熱源復路60)に向かう流れと、下流側(すなわち第2熱源機14)に向かう流れに分岐する。循環復路32から熱源復路60に流れる水は、連通路66、第2三方弁82、第2浴槽水路70、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に流れ込む。また、循環復路32から第2熱源機14に流れる水は、循環往路30、熱源往路68、タンク復路74、タンク接続路76、タンク52、タンク往路64、第1三方弁80、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に流れ込む。これによって、タンク52の内部と、タンク吸引路92、タンク接続路76が洗浄される。
In S54,
S56では、制御装置150は、タンク循環ポンプ94を停止する。これによって、タンク52と、タンク吸引路92およびタンク接続路76の間での水の循環が終了する。S62の後、図10の処理は終了する。
At S<b>56 , the
(追い焚き運転)
追い焚き運転は、ユーザがリモコン154において追い焚き運転の開始を指示した場合に開始する。制御装置150は、追い焚き運転を開始する際に、第1三方弁80を第3連通状態とし、かつ、第2三方弁82を第5連通状態とする(図8、図9参照)。この状態から、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34を駆動するとともに、第2熱源機14による水の加熱を開始する。これによって、図9に示すように、浴槽130の水が、浴槽アダプタ132、第1浴槽水路62、第1三方弁80、連通路66、熱源復路60、循環復路32を経由して第2熱源機14に送られる。第2熱源機14で加熱された水は、循環往路30、熱源往路68、第2三方弁82、第2浴槽水路70、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に戻される。循環復路サーミスタ32aで検出される温度が設定温度以上となると、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34を停止するとともに、第2熱源機14による水の加熱を終了する。その後、制御装置150は、追い焚き運転が完了した事を、リモコン154を介してユーザに報知して、追い焚き運転を終了する。
(Reheating operation)
The reheating operation is started when the user instructs the start of the reheating operation with the
(変形例)
上記の温水装置2において、微細気泡発生運転を実行する際に、制御装置150が、図10のS44の空気導入量調整処理において、図11に示す処理を実行する代わりに、図14に示す処理を実行してもよい。以下では、図14に示す処理について、図11に示す処理と相違する点について説明する。
(Modification)
In the
図14に示す処理では、まずS82において、制御装置150は、S38(図10参照)またはS76で第1気体導入弁106を開いてからの経過時間が、第1所定時間に達するまで待機する。第1所定時間は、第1気体導入弁106および第2気体導入弁108を開いた状態において、タンク52の水位が上限水位から下限水位まで下降するまでの想定される時間であり、S46(図10参照)の設定時間よりも短い時間である。第1気体導入弁106を開いてからの経過時間が第1所定時間に達すると(YESとなると)、処理はS64へ進む。
In the process shown in FIG. 14, first, in S82, the
また、図14に示す処理では、S66の後、処理はS84へ進む。S84では、制御装置150は、S64で第1気体導入弁106を閉じてからの経過時間が、第2所定時間に達するまで待機する。第2所定時間は、第1気体導入弁106および/または第2気体導入弁108を閉じた状態において、タンク52の水位が下限水位から上限水位まで上昇するまでの想定される時間であり、S46(図10参照)の設定時間よりも短い時間である。第1気体導入弁106を閉じてからの経過時間が第2所定時間に達すると(YESとなると)、処理はS70へ進む。
Moreover, in the process shown in FIG. 14, after S66, the process proceeds to S84. In S84, the
図14に示す処理によれば、低水位電極52aや高水位電極52bからの検出信号を用いることなく、第1気体導入弁106と第2気体導入弁108の開閉を切り換えることができる。
According to the processing shown in FIG. 14, opening and closing of the first
(その他の変形例)
上記の温水装置2において、湯はり運転の実行に連動して実行される微細気泡発生運転では、図10のS32の冷水緩和処理を省略してもよい。
(Other modifications)
In the above-described
上記の温水装置2において、図10のS54のタンク洗浄処理を省略してもよい。
In the
上記の温水装置2において、図10のS46の運転時間の判定処理で、運転時間が設定時間に達した場合でも、リモコン154を介してユーザによって微細気泡発生運転の終了が指示されるまでは、S48へ進むことなく、S44へ戻って微細気泡発生運転を継続するようにしてもよい。
In the above-described
上記の温水装置2において、図10のS34とS36の処理の順番を入れ替えてもよい。すなわち、制御装置150は、S32の冷水緩和処理の後、S36でタンク循環ポンプ94を駆動し、その後にS34で第2気体導入弁108を開いてもよい。
In the
上記の温水装置2において、図11または図14のS64で第1気体導入弁106を閉じた後、制御装置150が、タンク循環ポンプ94を停止してもよい。この場合、その後のS74において、制御装置150は、タンク循環ポンプ94を再び駆動して、タンク循環ポンプ94の回転数が標準回転数よりも高い回転数(例えば標準回転数の120%の回転数)となるように、タンク循環ポンプ94を制御する。
In the
上記の温水装置2において、図11または図14のS70,S72,S74の処理の順番を入れ替えてもよい。例えば、制御装置150は、図11のS68または図14のS84でYESの場合に、先にS72で第2加圧ポンプ90を停止し、および/または、S74でタンク循環ポンプ94の回転数を標準回転数よりも高い回転数とし、その後に、S70で第2気体導入弁108を開いてもよい。
In the
上記の温水装置2において、制御装置150は、図11または図14のS72で第2加圧ポンプ90を停止する代わりに、第1加圧ポンプ88および/または第2加圧ポンプ90の回転数が標準回転数よりも低い回転数(例えば標準回転数の80%の回転数)となるように、第1加圧ポンプ88および/または第2加圧ポンプ90の回転数を制御してもよい。このような構成とした場合でも、S72の処理によって、第1加圧ポンプ88,第2加圧ポンプ90が送り出す水の流量を低減させることができる。なお、この場合には、制御装置150は、図11または図14のS80で第2加圧ポンプ90の駆動を再開する代わりに、第1加圧ポンプ88および/または第2加圧ポンプ90の回転数が標準回転数となるように、第1加圧ポンプ88および/または第2加圧ポンプ90の回転数を制御してもよい。
In the
上記の温水装置2において、湯はり運転の実行に連動して微細気泡発生運転を実行する場合には、図7のS20の湯はり終了報知を、湯はり運転の終了時には行わず、微細気泡発生運転の実行中に行ってもよい。より詳しくは、微細気泡発生運転の運転時間が浴槽130の水に十分な微細気泡を発生させ得る所定の報知時間(例えば2分)に達した後に、湯はり終了報知を行ってもよい。このような構成とすることで、ユーザが浴室に入るタイミングを遅らせることができ、浴槽130の水に微細気泡を十分に発生させる前にユーザが浴室に入ることを抑制することができる。
In the above-described
上記の温水装置2において、湯はり運転の実行に連動して、微細気泡発生運転を実行するか否かを、ユーザがリモコン154を介して切り替え可能としてもよい。
In the
上記の温水装置2では、タンク52に空気が導入されているが、空気に代えて、炭酸ガス、水素、酸素等の気体がタンク52に導入されてもよい。この場合、気体が充填されている気体充填タンク(図示せず)を気体導入路104の気体導入口110に接続する構成とすればよい。
In the
上記の温水装置2では、湯はり運転において、水量センサ28で検出される積算水量に基づいて、浴槽130に設定水量の水を溜めている。これとは異なり、温水装置2は、例えば浴槽130の水位を検出可能な水位センサを設けておいて、湯はり運転において、水位センサにより検出される浴槽130の水位に基づいて、浴槽130に設定水位の水を溜める構成としてもよい。
In the above-described
上記の温水装置2では、熱源ユニット10がカラン250に接続され、空気加圧溶解ユニット50が浴槽130に接続されている。これとは異なり、熱源ユニット10が他の温熱利用箇所に接続されていてもよいし、空気加圧溶解ユニット50が他の液槽に接続されていてもよい。
In the
上記の温水装置2において、タンク吸引路92のタンク循環ポンプ94よりも下流側に、タンク吸引路92の上流側から下流側への水の流れを許容し、タンク吸引路92の下流側から上流側への水の流れを禁止する逆止弁(図示せず)を設けてもよい。タンク吸引路92に逆止弁を設けることで、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90の駆動中に、タンク循環ポンプ94を停止させた場合であっても、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90によってタンク復路74から送り出される水がタンク吸引路92を逆流してしまうことを抑制することができる。
In the above-described
上記の温水装置2では、タンク吸引路92において、気体導入機構96がタンク循環ポンプ94よりも上流側に配置されている。これとは異なり、タンク吸引路92において、気体導入機構96がタンク循環ポンプ94よりも下流側に配置されていてもよい。
In the
上記の温水装置2では、タンク復路74の下流端と、タンク吸引路92の下流端が、共通のタンク接続路76を介して、タンク52に接続している。これとは異なり、図15に示すように、空気加圧溶解ユニット50がタンク接続路76を備えておらず、タンク復路74の下流端(以下では、流入口74aともいう)と、タンク吸引路92の下流端(以下では、流入口92bともいう)が、それぞれ別個に、タンク52に接続する構成としてもよい。この場合、タンク復路74を流れる水は、流入口74aを介してタンク52に流入し、タンク吸引路92を流れる水は、流入口92bを介してタンク52に流入する。
In the
以上のように、1またはそれ以上の実施形態において、温水装置2(微細気泡発生装置の例)は、水(液体の例)に空気(気体の例)を加圧溶解するタンク52と、タンク52に水を供給するタンク復路74、タンク接続路76(タンク供給路の例)と、タンク復路74に設けられた第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90(加圧ポンプの例)と、タンク52から浴槽130(液槽の例)に空気が加圧溶解された水を排出するタンク往路64、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132(タンク排出路の例)と、浴槽アダプタ132に設けられており、空気が加圧溶解された水を減圧して微細気泡を発生させる微細気泡発生ノズル142と、タンク往路64、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132とは別個に設けられており、タンク52に接続された流出口92aからタンク52に接続された流入口76aに水を送るタンク吸引路92、タンク接続路76(タンク循環路の例)と、タンク吸引路92に設けられたタンク循環ポンプ94と、タンク吸引路92に設けられた気体導入機構96と、制御装置150を備えている。気体導入機構96は、水を減圧して通過させるベンチュリ管102(減圧部の例)と、ベンチュリ管102における水の負圧によって空気を導入する気体導入口110と、ベンチュリ管102と気体導入口110を連通する気体導入路104と、気体導入路104に設けられており、気体導入路104を開閉する第1気体導入弁106と、気体導入路104において第1気体導入弁106と気体導入口110の間に設けられており、気体導入路104を開閉する第2気体導入弁108を備えている。第1気体導入弁106は、ベンチュリ管102における水の負圧が作用した時に、第1気体導入弁106を開く方向の力を受けるように構成されている。第2気体導入弁108は、ベンチュリ管102における水の負圧が作用した時に、第2気体導入弁108を閉じる方向の力を受けるように構成されている。制御装置150は、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90を駆動してタンク復路74、タンク接続路76からタンク52へ水を加圧して供給するとともに、タンク52からタンク往路64、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132を介して浴槽130へ空気が加圧溶解された水を供給する、微細気泡発生運転を実行可能である。制御装置150は、微細気泡発生運転の実行中に、タンク循環ポンプ94によってタンク52の水をタンク吸引路92、タンク接続路76で循環させて、気体導入機構96のベンチュリ管102に負圧を発生させるタンク循環運転を実行可能である。制御装置150は、第1気体導入弁106と第2気体導入弁108の両方を閉じた状態から開いた状態にする場合に、先に第2気体導入弁108を開き、その後に第1気体導入弁106を開くように構成されている。
As described above, in one or more embodiments, the water heater 2 (an example of a microbubble generator) includes a
上記の温水装置2では、微細気泡発生運転を実行中であっても、第1気体導入弁106と第2気体導入弁108を開いた状態でタンク循環運転を実行することによって、気体導入機構96で空気が導入されて、タンク52に空気を供給することができる。このため、タンク52に空気を供給するために微細気泡発生運転を中断する必要がなく、微細気泡発生運転を継続して実行することができる。このような構成とすることによって、浴槽130の水に微細気泡を安定して発生させ続けることができる。
In the
また、上記の温水装置2では、気体導入路104に第1気体導入弁106と第2気体導入弁108が設けられており、第2気体導入弁108は第1気体導入弁106と気体導入口110の間に設けられており、第1気体導入弁106には、ベンチュリ管102における水の負圧が作用した時に、第1気体導入弁106を開く方向の力が働き、第2気体導入弁108には、ベンチュリ管102における水の負圧が作用した時に、第2気体導入弁108を閉じる方向の力が働く。このため、例えば微細気泡発生運転とタンク循環運転を同時に実行している時に、第1気体導入弁106と第2気体導入弁108の両方を閉じた状態から開いた状態にする場合に、先に第1気体導入弁106を開いてしまうと、その後に第2気体導入弁108を開く際に、ベンチュリ管102における水の負圧が第2気体導入弁108に作用し、第2気体導入弁108がスムーズに動作しないおそれがある。上記の構成のように、微細気泡発生運転とタンク循環運転を同時に実行している時に、第1気体導入弁106と第2気体導入弁108の両方を閉じた状態から開いた状態にする場合に、先に第2気体導入弁108を開くことで、ベンチュリ管102における水の負圧が第2気体導入弁108に作用することを抑制することができ、第2気体導入弁108をスムーズに動作させることができる。
Further, in the above-described
温水装置2において、制御装置150は、微細気泡発生運転の実行時に、第1気体導入弁106を閉じた状態から開いた状態にする場合に、先に第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90の流量を第1流量(例えば第1加圧ポンプ88と第2加圧ポンプ90の両方を駆動した時の流量)から第1流量よりも小さい第2流量(例えば第1加圧ポンプ88を駆動し、第2加圧ポンプ90を停止した時の流量)に低減させ、その後に第1気体導入弁106を開くように構成されている。なお、第1流量は、第1気体導入弁106を閉じた状態で、微細気泡発生運転を行う時の、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90の流量ということもでき、第2流量は、第1気体導入弁106を開いた状態で、微細気泡発生運転とタンク循環運転の両方を行う時の、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90の流量ということもできる。あるいは、第1流量は、微細気泡発生運転の実行中に、タンク52の水位が上昇していく時の、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90の流量ということもでき、第2流量は、微細気泡発生運転とタンク循環運転の両方の実行中に、タンク52の水位が下降していく時の、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90の流量ということもできる。
In the
微細気泡発生運転の実行時には、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90の流量が大きいと、タンク52内の圧力が高くなり、気体導入機構96のベンチュリ管102における水の圧力も高くなる。すなわち、ベンチュリ管102における水の負圧が小さくなる。逆に、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90の流量が小さいと、タンク52内の圧力が低くなり、気体導入機構96のベンチュリ管102における水の圧力も低くなる。すなわち、ベンチュリ管102における水の負圧が大きくなる。第1気体導入弁106には、ベンチュリ管102における水の負圧によって、第1気体導入弁106を開く方向の力が働くので、第1気体導入弁106を開く際には、ベンチュリ管102における水の圧力が低いほど、第1気体導入弁106をスムーズに動作させることができる。上記の構成によれば、第1気体導入弁106を閉じた状態から開いた状態にする場合に、先に第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90の流量を第1流量から第2流量に低減させることで、気体導入機構96のベンチュリ管102における水の圧力を低くして、その後に第1気体導入弁106を開くので、第1気体導入弁106をスムーズに動作させることができる。
When the microbubble generating operation is executed, if the flow rates of the
温水装置2において、制御装置150は、タンク循環運転の実行時に、第1気体導入弁106を閉じた状態から開いた状態にする場合に、先にタンク循環ポンプ94の流量を第3流量(例えば、タンク循環ポンプ94を標準回転数で駆動した時の流量)から第3流量よりも大きい第4流量(例えば、タンク循環ポンプ94を高回転数で駆動した時の流量)に増大させ、その後に第1気体導入弁106を開くように構成されている。なお、第3流量は、第1気体導入弁106を閉じた状態で、微細気泡発生運転を行う時の、タンク循環ポンプ94の流量(第1気体導入弁106を閉じた状態でタンク循環運転が行われる場合には、その時のタンク循環ポンプ94の流量であり、第1気体導入弁106を閉じた状態でタンク循環運転が行われない場合には、ゼロである)ということもでき、第4流量は、第1気体導入弁106を開いた状態で、微細気泡発生運転とタンク循環運転の両方を行う時の、タンク循環ポンプ94の流量ということもできる。あるいは、第3流量は、微細気泡発生運転の実行中に、タンク52の水位が上昇していく時の、タンク循環ポンプ94の流量ということもでき、第4流量は、微細気泡発生運転とタンク循環運転の両方の実行中に、タンク52の水位が下降していく時の、タンク循環ポンプ94の流量ということもできる。
In the
タンク循環運転の実行時には、タンク循環ポンプ94の流量が小さいと、気体導入機構96のベンチュリ管102における水の圧力は高くなる。すなわち、ベンチュリ管102における水の負圧が小さくなる。逆に、タンク循環ポンプ94の流量が大きいと、気体導入機構96のベンチュリ管102における水の圧力は低くなる。すなわち、ベンチュリ管102における水の負圧が大きくなる。第1気体導入弁106には、ベンチュリ管102における水の負圧によって、第1気体導入弁106を開く方向の力が働くので、第1気体導入弁106を開く際には、ベンチュリ管102における水の圧力が低いほど、第1気体導入弁106をスムーズに動作させることができる。上記の構成によれば、第1気体導入弁106を閉じた状態から開いた状態にする場合に、先にタンク循環ポンプ94の流量を第3流量から第4流量に増大させることで、気体導入機構96のベンチュリ管102における水の圧力を低くして、その後に第1気体導入弁106を開くので、第1気体導入弁106をスムーズに動作させることができる。
When the tank circulation operation is executed, if the flow rate of the
温水装置2において、制御装置150は、第1気体導入弁106と第2気体導入弁108の両方を開いた状態から閉じた状態にする場合に、先に第1気体導入弁106を閉じ、その後に第2気体導入弁108を閉じるように構成されている。
In the
上記の温水装置2では、気体導入路104に第1気体導入弁106と第2気体導入弁108が設けられており、第2気体導入弁108は第1気体導入弁106と気体導入口110の間に設けられており、第1気体導入弁106には、ベンチュリ管102における水の負圧が作用した時に、第1気体導入弁106を開く方向の力が働き、第2気体導入弁108には、ベンチュリ管102における水の負圧が作用した時に、第2気体導入弁108を閉じる方向の力が働く。このため、例えば微細気泡発生運転とタンク循環運転を同時に実行している時に、第1気体導入弁106と第2気体導入弁108の両方を開いた状態から閉じた状態にする場合に、先に第2気体導入弁108を閉じてしまうと、第2気体導入弁108を閉じる際に、ベンチュリ管102における水の負圧が第2気体導入弁108に作用し、第2気体導入弁108の弁体108cが弁座108bに強く衝突してしまい、騒音の発生や第2気体導入弁108の損傷を招くおそれがある。上記の構成のように、第1気体導入弁106と第2気体導入弁108の両方を開いた状態から閉じた状態にする場合に、先に第1気体導入弁106を閉じることで、その後に第2気体導入弁108を閉じる際に、ベンチュリ管102における水の負圧が第2気体導入弁108に作用することを抑制することができ、第2気体導入弁108の弁体108cが弁座108bに強く衝突することに起因する、騒音の発生や第2気体導入弁108の損傷を抑制することができる。
In the
以上、各実施例について詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成し得るものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。 Although each embodiment has been described in detail above, these are merely examples and do not limit the scope of the claims. The technology described in the claims includes various modifications and changes of the specific examples illustrated above. The technical elements described in this specification or in the drawings exhibit technical usefulness alone or in various combinations, and are not limited to the combinations described in the claims as of the filing. In addition, the techniques exemplified in this specification or drawings can simultaneously achieve a plurality of purposes, and achieving one of them has technical utility in itself.
2 :温水装置
10 :熱源ユニット
12 :第1熱源機
14 :第2熱源機
16 :給水路
18 :出湯路
18a :出湯温度サーミスタ
20 :バイパス路
22 :バイパスサーボ
24 :注湯路
26 :湯はり弁
28 :水量センサ
30 :循環往路
30a :循環往路サーミスタ
32 :循環復路
32a :循環復路サーミスタ
34 :浴槽循環ポンプ
36 :水流スイッチ
50 :空気加圧溶解ユニット
52 :タンク
52a :低水位電極
52b :高水位電極
52c :アース電極
60 :熱源復路
62 :第1浴槽水路
64 :タンク往路
66 :連通路
68 :熱源往路
70 :第2浴槽水路
74 :タンク復路
74a :流入口
76 :タンク接続路
76a :流入口
80 :第1三方弁
82 :第2三方弁
84 :逆止弁
86 :タンク給水弁
88 :第1加圧ポンプ
90 :第2加圧ポンプ
92 :タンク吸引路
92a :流出口
92b :流入口
94 :タンク循環ポンプ
96 :気体導入機構
98 :入水管
100 :出水管
102 :ベンチュリ管
104 :気体導入路
104a :第1気体導入路
104b :第2気体導入路
104c :第3気体導入路
106 :第1気体導入弁
106a :弁室
106b :弁座
106c :弁体
106d :プランジャ
106e :コイル
106f :バネ
108 :第2気体導入弁
108a :弁室
108b :弁座
108c :弁体
108d :プランジャ
108e :コイル
108f :バネ
110 :気体導入口
130 :浴槽
130a :壁部
132 :浴槽アダプタ
132a :前面
132b :下面
134a :第1吐出口
134b :第1吸込口
134c :第2吸込口
134d :第2吐出口
136 :第1水路
136a :第1吐出路
136b :第1吸込路
138 :第2水路
138a :第2吐出路
138b :第2吸込路
140a :逆止部
140b :逆止部
140c :逆止部
140d :逆止部
142 :微細気泡発生ノズル
150 :制御装置
152 :メモリ
154 :リモコン
200 :給水源
250 :カラン
2: Water heater 10: Heat source unit 12: First heat source device 14: Second heat source device 16: Water supply path 18: Hot water outlet path 18a: Hot water outlet temperature thermistor 20: Bypass path 22: Bypass servo 24: Hot water pouring path 26: Hot water filling Valve 28 : Water volume sensor 30 : Outgoing circulation path 30a : Outgoing circulation thermistor 32 : Returning circulation path 32a : Returning circulation thermistor 34 : Bathtub circulation pump 36 : Water flow switch 50 : Air pressurized dissolving unit 52 : Tank 52a : Low water level electrode 52b : High Water level electrode 52c : Earth electrode 60 : Heat source return path 62 : First bathtub water path 64 : Tank outward path 66 : Communication path 68 : Heat source outward path 70 : Second bathtub water path 74 : Tank return path 74a : Inlet 76 : Tank connection path 76a : Flow Inlet 80 : First three-way valve 82 : Second three-way valve 84 : Check valve 86 : Tank water supply valve 88 : First pressurizing pump 90 : Second pressurizing pump 92 : Tank suction passage 92a : Outlet 92b : Inlet 94: Tank circulation pump 96: Gas introduction mechanism 98: Water inlet pipe 100: Water outlet pipe 102: Venturi pipe 104: Gas introduction passage 104a: First gas introduction passage 104b: Second gas introduction passage 104c: Third gas introduction passage 106: First gas introduction valve 106a: valve chamber 106b: valve seat 106c: valve element 106d: plunger 106e: coil 106f: spring 108: second gas introduction valve 108a: valve chamber 108b: valve seat 108c: valve element 108d: plunger 108e: Coil 108f : Spring 110 : Gas inlet 130 : Bathtub 130a : Wall 132 : Bathtub adapter 132a : Front surface 132b : Lower surface 134a : First outlet 134b : First suction port 134c : Second suction port 134d : Second outlet 136: first water channel 136a: first discharge channel 136b: first suction channel 138: second water channel 138a: second discharge channel 138b: second suction channel 140a: non-return portion 140b: non-return portion 140c: non-return portion 140d : Non-return part 142 : Fine bubble generating nozzle 150 : Control device 152 : Memory 154 : Remote controller 200 : Water supply source 250 : Callan
Claims (5)
前記タンクに前記液体を供給するタンク供給路と、
前記タンク供給路に設けられた加圧ポンプと、
前記タンクから液槽に前記気体が加圧溶解された前記液体を排出するタンク排出路と、
前記タンク排出路に設けられており、前記気体が加圧溶解された前記液体を減圧して微細気泡を発生させる微細気泡発生ノズルと、
前記タンク排出路とは別個に設けられており、前記タンクに接続された流出口から前記タンクに接続された流入口に前記液体を送るタンク循環路と、
前記タンク循環路に設けられたタンク循環ポンプと、
前記タンク循環路に設けられた気体導入機構と、
制御装置を備えており、
前記気体導入機構は、
前記液体を減圧して通過させる減圧部と、
前記減圧部における前記液体の負圧によって前記気体を導入する気体導入口と、
前記減圧部と前記気体導入口を連通する気体導入路と、
前記気体導入路に設けられており、前記気体導入路を開閉する第1気体導入弁と、
前記気体導入路において前記第1気体導入弁と前記気体導入口の間に設けられており、前記気体導入路を開閉する第2気体導入弁を備えており、
前記第1気体導入弁は、前記減圧部における前記液体の負圧が作用した時に、前記第1気体導入弁を開く方向の力を受けるように構成されており、
前記第2気体導入弁は、前記減圧部における前記液体の負圧が作用した時に、前記第2気体導入弁を閉じる方向の力を受けるように構成されており、
前記制御装置は、前記加圧ポンプを駆動して前記タンク供給路から前記タンクへ前記液体を加圧して供給するとともに、前記タンクから前記タンク排出路を介して前記液槽へ前記気体が加圧溶解された前記液体を供給する、微細気泡発生運転を実行可能であり、
前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中に、前記タンク循環ポンプによって前記タンクの前記液体を前記タンク循環路で循環させて、前記気体導入機構の前記減圧部に負圧を発生させるタンク循環運転を実行可能であり、
前記制御装置は、前記第1気体導入弁と前記第2気体導入弁の両方を閉じた状態から開いた状態にする場合に、先に前記第2気体導入弁を開き、その後に前記第1気体導入弁を開くように構成されている、微細気泡発生装置。 a tank for pressurizing and dissolving a gas in a liquid;
a tank supply path for supplying the liquid to the tank;
a pressurizing pump provided in the tank supply channel;
a tank discharge path for discharging the liquid in which the gas is pressurized and dissolved from the tank to the liquid tank;
a microbubble generating nozzle provided in the tank discharge passage for generating microbubbles by depressurizing the liquid in which the gas is pressurized and dissolved;
a tank circulation path provided separately from the tank discharge path for sending the liquid from an outlet connected to the tank to an inlet connected to the tank;
a tank circulation pump provided in the tank circulation path;
a gas introduction mechanism provided in the tank circulation path;
Equipped with a control device,
The gas introduction mechanism is
a decompression unit for decompressing and passing the liquid;
a gas introduction port for introducing the gas by the negative pressure of the liquid in the decompression unit;
a gas introduction path communicating between the decompression unit and the gas introduction port;
a first gas introduction valve provided in the gas introduction path for opening and closing the gas introduction path;
a second gas introduction valve provided between the first gas introduction valve and the gas introduction port in the gas introduction path and opening and closing the gas introduction path;
The first gas introduction valve is configured to receive a force in the direction of opening the first gas introduction valve when negative pressure of the liquid in the decompression unit acts,
The second gas introduction valve is configured to receive a force in the direction of closing the second gas introduction valve when the negative pressure of the liquid in the decompression unit acts,
The control device drives the pressure pump to pressurize and supply the liquid from the tank supply passage to the tank, and pressurize the gas from the tank to the liquid tank through the tank discharge passage. It is possible to perform a microbubble generation operation that supplies the dissolved liquid,
The control device causes the tank circulation pump to circulate the liquid in the tank through the tank circulation path during execution of the fine bubble generation operation, thereby generating a negative pressure in the decompression unit of the gas introduction mechanism. Circulating operation can be performed,
When opening both the first gas introduction valve and the second gas introduction valve from a closed state, the control device first opens the second gas introduction valve, and then opens the first gas introduction valve. A microbubble generator configured to open an inlet valve.
前記液槽が、ユーザが入浴に使用する浴槽である、請求項1から4の何れか一項の微細気泡発生装置。 the liquid is water,
5. The microbubble generator according to any one of claims 1 to 4, wherein the liquid tank is a bathtub used by a user for bathing.
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