JP2023105545A - Fine bubble generation device - Google Patents

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Abstract

To provide a technique which can reduce an information amount related to a liquid level of a tank and can secure rapidity of determination processing related to opening/closing of a gas introduction valve.SOLUTION: A fine bubble generation device disclosed by the present invention includes a tank, a tank supply path, a pressure pump, a tank discharge path, a fine bubble generation nozzle, a tank circulation path, a tank circulation pump, a gas introduction mechanism, a liquid level electrode and a control device. The gas introduction mechanism includes a gas introduction port, a decompression part and a gas introduction valve which opens/closes the gas introduction port. The control device can execute the fine bubble generation operation of compressing and supplying liquid to the tank by driving the pressure pump and supplying liquid in which gas is pressurized and dissolved to the liquid tank from the tank. The control device supplies the gas introduced from the gas introduction port to the tank by circulating the liquid in the tank in the tank circulation path by driving the tank circulation pump during the execution of the fine bubble generation operation, and controls the opening/closing operation of the gas introduction valve on the basis of information about whether or not the liquid level of the tank detected by the liquid level electrode is equal to or greater than a prescribed liquid level.SELECTED DRAWING: Figure 7

Description

本明細書は、微細気泡発生装置に関する。 The present specification relates to a microbubble generator.

特許文献1には、液体に気体を加圧溶解するタンクと、前記タンクに前記液体を供給するタンク供給路と、前記タンク供給路に設けられた加圧ポンプと、前記タンクから液槽に前記気体が加圧溶解された前記液体を排出するタンク排出路と、前記タンク排出路に設けられており、前記気体が加圧溶解された前記液体を減圧して微細気泡を発生させる微細気泡発生ノズルと、前記タンク排出路とは別個に設けられており、前記タンクに接続された流出口から前記タンクに接続された流入口に前記液体を送るタンク循環路と、前記タンク循環路に設けられたタンク循環ポンプと、前記タンク循環路に設けられた気体導入機構と、前記タンクの液位が所定液位以上であるか否かを検出可能な2つの液位電極と、制御装置と、を備える微細気泡発生装置が開示されている。前記気体導入機構は、前記液体を減圧して通過させる減圧部と、前記減圧部における前記液体の負圧によって前記気体を導入する気体導入口と、前記気体導入口を開閉する気体導入弁と、を備えている。前記制御装置は、前記加圧ポンプを駆動して前記タンク供給路から前記タンクへ前記液体を加圧して供給するとともに、前記タンクから前記タンク排出路を介して前記液槽へ前記気体が加圧溶解された前記液体を供給する、微細気泡発生運転を実行可能である。前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中、前記タンク循環ポンプを駆動して前記タンクの前記液体を前記タンク循環路で循環させることで、前記気体導入口から導入される前記気体を前記タンクに供給し、前記2つの液位電極の一方によって検出される前記タンクの液位が下側液位以上であるか否かに係る情報と、前記2つの液位電極の他方によって検出される前記タンクの液位が上側液位以上であるか否かに係る情報に基づいて、前記気体導入弁の開閉動作を制御する。 Patent Document 1 discloses a tank for pressurizing and dissolving a gas into a liquid, a tank supply path for supplying the liquid to the tank, a pressurizing pump provided in the tank supply path, and a liquid tank from the tank to the liquid tank. A tank discharge path for discharging the liquid in which the gas is pressurized and dissolved, and a microbubble generating nozzle provided in the tank discharge path for depressurizing the liquid in which the gas is pressurized and dissolved to generate microbubbles. and a tank circulation path provided separately from the tank discharge path for sending the liquid from an outlet connected to the tank to an inlet connected to the tank, and a tank circulation path provided in the tank circulation path A tank circulation pump, a gas introduction mechanism provided in the tank circulation path, two liquid level electrodes capable of detecting whether or not the liquid level in the tank is equal to or higher than a predetermined liquid level, and a controller. A microbubble generator is disclosed. The gas introduction mechanism includes a decompression unit that decompresses the liquid to pass through, a gas introduction port that introduces the gas by the negative pressure of the liquid in the decompression unit, and a gas introduction valve that opens and closes the gas introduction port. It has The control device drives the pressure pump to pressurize and supply the liquid from the tank supply passage to the tank, and pressurize the gas from the tank to the liquid tank through the tank discharge passage. A microbubble generation operation can be performed that supplies the dissolved liquid. The control device drives the tank circulation pump to circulate the liquid in the tank in the tank circulation path during execution of the fine bubble generation operation, thereby reducing the gas introduced from the gas introduction port to the Information on whether the liquid level in the tank is greater than or equal to the lower liquid level supplied to the tank and detected by one of the two liquid level electrodes and detected by the other of the two liquid level electrodes. The opening/closing operation of the gas introduction valve is controlled based on information as to whether the liquid level in the tank is equal to or higher than the upper liquid level.

特開2015-127052号公報JP 2015-127052 A

微細気泡発生装置では、気体導入弁の開閉に係る判断処理の迅速性を確保すべく、タンクの液位に係る情報量を低減したい場合がある。特許文献1の微細気泡発生装置では、制御装置は、タンクの液位が下側液位以上であるか否かに係る情報とタンクの液位が上側液位以上であるか否かに係る情報に基づいて、気体導入弁の開閉動作を制御するように構成されている。このような微細気泡発生装置では、タンクの液位に係る情報量が比較的大きく、気体導入弁の開閉に係る判断処理の迅速性に欠ける可能性がある。本明細書では、タンクの液位に係る情報量を低減し、気体導入弁の開閉に係る判断処理の迅速性を確保することが可能な技術を提供する。なお、本明細書では、2つの液位電極を備える微細気泡発生装置について、2つの液位電極を「下側液位電極」と「上側液位電極」に区別して記載することがある。ここで、「下側液位」は「上側液位」よりも低い液位である。 In the micro-bubble generator, it is sometimes desired to reduce the amount of information regarding the liquid level in the tank in order to ensure quickness of determination processing regarding opening and closing of the gas introduction valve. In the microbubble generator of Patent Document 1, the control device provides information regarding whether the liquid level in the tank is equal to or higher than the lower liquid level and information regarding whether the liquid level in the tank is equal to or higher than the upper liquid level. is configured to control the opening/closing operation of the gas introduction valve. In such a micro-bubble generator, the amount of information regarding the liquid level in the tank is relatively large, and there is a possibility that the determination processing regarding the opening and closing of the gas introduction valve may be lacking in promptness. The present specification provides a technique capable of reducing the amount of information relating to the liquid level in the tank and ensuring the promptness of determination processing relating to the opening and closing of the gas introduction valve. In this specification, the microbubble generator provided with two liquid level electrodes may be described by distinguishing between the two liquid level electrodes as "lower liquid level electrode" and "upper liquid level electrode". Here, the "lower liquid level" is a lower liquid level than the "upper liquid level".

本明細書が開示する微細気泡発生装置は、液体に気体を加圧溶解するタンクと、前記タンクに前記液体を供給するタンク供給路と、前記タンク供給路に設けられた加圧ポンプと、前記タンクから液槽に前記気体が加圧溶解された前記液体を排出するタンク排出路と、前記タンク排出路に設けられており、前記気体が加圧溶解された前記液体を減圧して微細気泡を発生させる微細気泡発生ノズルと、前記タンク排出路とは別個に設けられており、前記タンクに接続された流出口から前記タンクに接続された流入口に前記液体を送るタンク循環路と、前記タンク循環路に設けられたタンク循環ポンプと、前記タンク循環路に設けられた気体導入機構と、前記タンクの液位が所定液位以上であるか否かを検出可能な液位電極と、制御装置と、を備えている。前記気体導入機構は、前記液体を減圧して通過させる減圧部と、前記減圧部における前記液体の負圧によって前記気体を導入する気体導入口と、前記気体導入口を開閉する気体導入弁と、を備えている。前記制御装置は、前記加圧ポンプを駆動して前記タンク供給路から前記タンクへ前記液体を加圧して供給するとともに、前記タンクから前記タンク排出路を介して前記液槽へ前記気体が加圧溶解された前記液体を供給する、微細気泡発生運転を実行可能である。前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中、前記タンク循環ポンプを駆動して前記タンクの前記液体を前記タンク循環路で循環させることで、前記気体導入口から導入される前記気体を前記タンクに供給し、前記液位電極によって検出される前記タンクの液位が所定液位以上であるか否かに係る情報に基づいて、前記気体導入弁の開閉動作を制御する。 The microbubble generator disclosed in the present specification includes a tank for pressurizing and dissolving gas in a liquid, a tank supply path for supplying the liquid to the tank, a pressure pump provided in the tank supply path, and the a tank discharge path for discharging the liquid in which the gas is pressurized and dissolved from the tank to the liquid tank; A fine bubble generating nozzle to be generated and the tank discharge path are provided separately, and a tank circulation path for sending the liquid from an outlet connected to the tank to an inlet connected to the tank, and the tank A tank circulation pump provided in a circulation path, a gas introduction mechanism provided in the tank circulation path, a liquid level electrode capable of detecting whether or not the liquid level in the tank is equal to or higher than a predetermined liquid level, and a control device. and have. The gas introduction mechanism includes a decompression unit that decompresses the liquid to pass through, a gas introduction port that introduces the gas by the negative pressure of the liquid in the decompression unit, and a gas introduction valve that opens and closes the gas introduction port. It has The control device drives the pressure pump to pressurize and supply the liquid from the tank supply passage to the tank, and pressurize the gas from the tank to the liquid tank through the tank discharge passage. A microbubble generation operation can be performed that supplies the dissolved liquid. The control device drives the tank circulation pump to circulate the liquid in the tank in the tank circulation path during execution of the fine bubble generation operation, thereby reducing the gas introduced from the gas introduction port to the The opening/closing operation of the gas introduction valve is controlled based on information indicating whether or not the liquid level in the tank, which is supplied to the tank and detected by the liquid level electrode, is equal to or higher than a predetermined liquid level.

本明細書が開示する別の微細気泡発生装置は、液体に気体を加圧溶解するタンクと、前記タンクに前記液体を供給するタンク供給路と、前記タンク供給路に設けられた加圧ポンプと、前記タンクから液槽に前記気体が加圧溶解された前記液体を排出するタンク排出路と、前記タンク排出路に設けられており、前記気体が加圧溶解された前記液体を減圧して微細気泡を発生させる微細気泡発生ノズルと、前記タンク排出路とは別個に設けられており、前記タンクに接続された流出口から前記タンクに接続された流入口に前記液体を送るタンク循環路と、前記タンク循環路に設けられたタンク循環ポンプと、前記タンク循環路に設けられた気体導入機構と、前記タンクの液位が所定液位以上であるか否かを検出可能な単一の液位電極と、制御装置と、を備えている。前記気体導入機構は、前記液体を減圧して通過させる減圧部と、前記減圧部における前記液体の負圧によって前記気体を導入する気体導入口と、前記気体導入口を開閉する気体導入弁と、を備えている。前記制御装置は、前記加圧ポンプを駆動して前記タンク供給路から前記タンクへ前記液体を加圧して供給するとともに、前記タンクから前記タンク排出路を介して前記液槽へ前記気体が加圧溶解された前記液体を供給する、微細気泡発生運転を実行可能である。前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中、前記タンク循環ポンプを駆動して前記タンクの前記液体を前記タンク循環路で循環させることで、前記気体導入口から導入される前記気体を前記タンクに供給し、前記単一の液位電極によって検出される前記タンクの液位が所定液位以上であるか否かに係る情報に基づいて、前記気体導入弁の開閉動作を制御する。 Another microbubble generator disclosed in the present specification includes a tank for pressurizing and dissolving gas in a liquid, a tank supply path for supplying the liquid to the tank, and a pressure pump provided in the tank supply path. a tank discharge path for discharging the liquid in which the gas is pressurized and dissolved from the tank to the liquid tank; A fine bubble generating nozzle for generating bubbles and a tank circulation path provided separately from the tank discharge path for sending the liquid from an outlet connected to the tank to an inlet connected to the tank; A tank circulation pump provided in the tank circulation path, a gas introduction mechanism provided in the tank circulation path, and a single liquid level capable of detecting whether the liquid level in the tank is equal to or higher than a predetermined liquid level. An electrode and a controller are provided. The gas introduction mechanism includes a decompression unit that decompresses the liquid to pass through, a gas introduction port that introduces the gas by the negative pressure of the liquid in the decompression unit, and a gas introduction valve that opens and closes the gas introduction port. It has The control device drives the pressure pump to pressurize and supply the liquid from the tank supply passage to the tank, and pressurize the gas from the tank to the liquid tank through the tank discharge passage. A microbubble generation operation can be performed that supplies the dissolved liquid. The control device drives the tank circulation pump to circulate the liquid in the tank in the tank circulation path during execution of the fine bubble generation operation, thereby reducing the gas introduced from the gas introduction port to the The opening/closing operation of the gas introduction valve is controlled based on information on whether or not the liquid level in the tank, which is supplied to the tank and detected by the single liquid level electrode, is equal to or higher than a predetermined liquid level.

上記の構成によれば、制御装置は、1つの液位電極によって検出される、タンクの液位が所定液位以上であるか否かに係る情報に基づいて、気体導入弁の開閉動作を制御するように構成されている。このため、タンクの液位に係る情報量を低減し、気体導入弁の開閉に係る判断処理の迅速性を確保することができる。 According to the above configuration, the control device controls the opening/closing operation of the gas introduction valve based on information regarding whether the liquid level in the tank is equal to or higher than the predetermined liquid level, which is detected by one liquid level electrode. is configured to Therefore, it is possible to reduce the amount of information related to the liquid level in the tank and to secure the speed of determination processing related to opening and closing of the gas introduction valve.

1つまたはそれ以上の実施形態において、前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中、前記気体導入弁が開いた状態で、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出した場合に、前記気体導入弁を閉じ、前記気体導入弁を閉じてから第1所定時間が経過するまでの間、前記気体導入弁が閉じた状態を維持し、前記第1所定時間の経過後に、前記気体導入弁を開いてもよい。 In one or more embodiments, the controller detects that the liquid level in the tank is lower than the predetermined liquid level while the gas introduction valve is open during execution of the microbubble generation operation. is detected by the position electrode, the gas introduction valve is closed, the gas introduction valve is kept closed until the first predetermined time elapses after the gas introduction valve is closed, and the first predetermined time is reached. After the passage of time, the gas introduction valve may be opened.

微細気泡発生装置では、タンクの液面から飛散した液滴が液位電極に付着することで、液位電極にヌメリが生じる可能性がある。液位電極にヌメリが生じると、タンクの液位を誤検出するおそれがある。例えば、微細気泡発生装置が下側液位電極と上側液位電極を備えており、制御装置が、タンクの液位が下側液位と上側液位の間で推移するように気体導入弁の開閉動作の制御を実行する場合、上側液位電極は、ほぼ液体に浸されない。このため、上側液位電極においてヌメリの発生を抑制できず、タンクの液位を誤検出するおそれがある。上記の構成によれば、微細気泡発生運転の実行中、頻繁に液位電極を液体に浸すことで、液位電極におけるヌメリの発生を抑制することができる。このため、タンクの液位の誤検出を抑制できる。 In the microbubble generator, droplets scattered from the liquid surface of the tank adhere to the liquid level electrode, which may cause the liquid level electrode to become slimy. If the liquid level electrode becomes slimy, the liquid level in the tank may be erroneously detected. For example, the microbubble generator has a lower liquid level electrode and an upper liquid level electrode, and the controller controls the gas introduction valve so that the liquid level in the tank changes between the lower liquid level and the upper liquid level. When carrying out control of the opening and closing movements, the upper liquid level electrode is substantially not submerged in liquid. For this reason, it is not possible to suppress the occurrence of slime in the upper liquid level electrode, and there is a risk of erroneous detection of the liquid level in the tank. According to the above configuration, by frequently immersing the liquid level electrode in the liquid during execution of the microbubble generating operation, it is possible to suppress the generation of sliminess in the liquid level electrode. Therefore, erroneous detection of the liquid level in the tank can be suppressed.

1つまたはそれ以上の実施形態において、前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中、前記閉じた状態にある前記気体導入弁を開いてから、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出して前記気体導入弁を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、前記吸気時間が上限吸気時間を上回る場合に、その後に前記加圧ポンプを駆動する際の前記加圧ポンプの回転数を低減させてもよい。 In one or more embodiments, during execution of the microbubble generation operation, the control device opens the gas introduction valve that is in the closed state, and then the liquid level in the tank rises below the predetermined liquid level. The time elapsed from when the liquid level electrode is detected to be low to when the gas introduction valve is closed is specified as an inspiratory time, and when the inspiratory time exceeds the upper limit inspiratory time, the pressure pump is driven thereafter. You may reduce the rotation speed of the said pressurization pump of.

吸気時間が長すぎる場合、タンクに供給される液体の量が多すぎるか、または気体導入機構で導入される気体の量が少なすぎることが想定される。また、加圧ポンプの回転数が高いほどタンクに供給される液体の量は増加し、加圧ポンプの回転数が低いほどタンクに供給される液体の量は減少する。上記の構成によれば、吸気時間が上限吸気時間を上回る場合、すなわち、吸気時間が長すぎる場合に、加圧ポンプの回転数を低減させることで、タンクに供給される液体の量を減少させ、吸気時間の短縮を図ることができる。 If the inspiration time is too long, it is assumed that either too much liquid is supplied to the tank or too little gas is introduced by the gas introduction mechanism. Also, the higher the rotation speed of the pressure pump, the greater the amount of liquid supplied to the tank, and the lower the rotation speed of the pressure pump, the less the amount of liquid supplied to the tank. According to the above configuration, when the intake time exceeds the upper limit intake time, that is, when the intake time is too long, the rotation speed of the pressure pump is reduced to reduce the amount of liquid supplied to the tank. , the intake time can be shortened.

1つまたはそれ以上の実施形態において、前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中、前記閉じた状態にある前記気体導入弁を開いてから、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出して前記気体導入弁を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、前記吸気時間が下限吸気時間を下回る場合に、その後に前記加圧ポンプを駆動する際の前記加圧ポンプの前記回転数を増加させてもよい。 In one or more embodiments, during execution of the microbubble generation operation, the control device opens the gas introduction valve that is in the closed state, and then the liquid level in the tank rises below the predetermined liquid level. The time elapsed from when the liquid level electrode is detected to be low to when the gas introduction valve is closed is specified as an inspiratory time, and when the inspiratory time is below the minimum inspiratory time, the pressurization pump is driven thereafter. You may increase the said rotation speed of the said pressurization pump of.

吸気時間が短すぎる場合、タンクに供給される液体の量が少なすぎるか、または気体導入機構で導入される気体の量が多すぎることが想定される。上記の構成によれば、吸気時間が下限吸気時間を下回る場合、すなわち、吸気時間が短すぎる場合に、加圧ポンプの回転数を増加させることで、タンクに供給される液体の量を増加させ、吸気時間の延長を図ることができる。 If the inspiration time is too short, it is assumed that either too little liquid is supplied to the tank or too much gas is introduced by the gas introduction mechanism. According to the above configuration, when the intake time is below the lower limit intake time, that is, when the intake time is too short, the rotation speed of the pressure pump is increased to increase the amount of liquid supplied to the tank. , the inspiratory time can be extended.

1つまたはそれ以上の実施形態において、前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中、前記閉じた状態にある前記気体導入弁を開いてから、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出して前記気体導入弁を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、前記吸気時間が上限吸気時間を上回る場合に、その後に前記気体導入弁が開いた状態で前記タンク循環ポンプを駆動する際の前記タンク循環ポンプの回転数を増加させてもよい。 In one or more embodiments, during execution of the microbubble generation operation, the control device opens the gas introduction valve that is in the closed state, and then the liquid level in the tank rises below the predetermined liquid level. A state in which the gas introduction valve is opened after the time elapsed from when the liquid level electrode is detected to be low to when the gas introduction valve is closed is specified as an inspiratory time, and when the inspiratory time exceeds the upper limit inspiratory time. , the number of revolutions of the tank circulation pump may be increased when driving the tank circulation pump.

吸気時間が長すぎる場合、タンクに供給される液体の量が多すぎるか、または気体導入機構で導入される気体の量が少なすぎることが想定される。また、気体導入弁が開いた状態では、タンク循環ポンプの回転数が高いほど気体導入機構で導入される気体の量は増加し、タンク循環ポンプの回転数が低いほど気体導入機構で導入される気体の量は減少する。上記の構成によれば、吸気時間が上限吸気時間を上回る場合、すなわち、吸気時間が長すぎる場合に、タンク循環ポンプの回転数を増加させることで、気体導入機構で導入される気体の量を増加させ、吸気時間の短縮を図ることができる。 If the inspiration time is too long, it is assumed that either too much liquid is supplied to the tank or too little gas is introduced by the gas introduction mechanism. Further, when the gas introduction valve is open, the higher the rotation speed of the tank circulation pump, the greater the amount of gas introduced by the gas introduction mechanism. The amount of gas is reduced. According to the above configuration, when the intake time exceeds the upper limit intake time, that is, when the intake time is too long, the amount of gas introduced by the gas introduction mechanism is reduced by increasing the rotation speed of the tank circulation pump. It is possible to increase the intake time and shorten the intake time.

1つまたはそれ以上の実施形態において、前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中、前記閉じた状態にある前記気体導入弁を開いてから、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出して前記気体導入弁を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、前記吸気時間が下限吸気時間を下回る場合に、その後に前記気体導入弁が開いた状態で前記タンク循環ポンプを駆動する際の前記タンク循環ポンプの前記回転数を低減させてもよい。 In one or more embodiments, during execution of the microbubble generation operation, the control device opens the gas introduction valve that is in the closed state, and then the liquid level in the tank rises below the predetermined liquid level. A state in which the gas introduction valve is opened after the time elapsed from when the liquid level electrode is detected to be low to when the gas introduction valve is closed is specified as an inspiratory time, and when the inspiratory time is less than the lower limit inspiratory time The number of revolutions of the tank circulation pump may be reduced when driving the tank circulation pump in .

吸気時間が短すぎる場合、タンクに供給される液体の量が少なすぎるか、または気体導入機構で導入される気体の量が多すぎることが想定される。上記の構成によれば、吸気時間が下限吸気時間を下回る場合、すなわち、吸気時間が短すぎる場合に、タンク循環ポンプの回転数を低減させることで、気体導入機構で導入される気体の量を減少させ、吸気時間の延長を図ることができる。 If the inspiration time is too short, it is assumed that either too little liquid is supplied to the tank or too much gas is introduced by the gas introduction mechanism. According to the above configuration, when the intake time is less than the lower limit intake time, that is, when the intake time is too short, the rotation speed of the tank circulation pump is reduced to reduce the amount of gas introduced by the gas introduction mechanism. It is possible to reduce it and extend the inspiratory time.

1つまたはそれ以上の実施形態において、前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中、前記微細気泡発生運転を停止するための停止条件が満たされるか否かを判断可能であり、前記停止条件が満たされる場合に、前記微細気泡発生運転を停止するための停止処理を実行してもよい。前記制御装置は、前記停止処理が実行されると、前記加圧ポンプおよび前記タンク循環ポンプを駆動した状態で前記気体導入弁を開き、前記気体導入弁が開いた状態で、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出した場合に、前記気体導入弁を閉じ、前記気体導入弁を閉じてから、前記第1所定時間よりも長い時間である第2所定時間が経過するまでの間、前記気体導入弁が閉じた状態を維持し、前記第2所定時間の経過後に、前記加圧ポンプおよび前記タンク循環ポンプを停止して前記微細気泡発生運転を停止してもよい。 In one or more embodiments, the controller is operable during execution of the microbubble generation operation to determine whether a stop condition for stopping the microbubble generation operation is met, and A stop process for stopping the fine bubble generation operation may be executed when the conditions are satisfied. When the stop process is executed, the control device opens the gas introduction valve while driving the pressurizing pump and the tank circulation pump, and maintains the liquid level in the tank while the gas introduction valve is open. is lower than the predetermined liquid level, the gas introduction valve is closed, and a second predetermined time that is longer than the first predetermined time after the gas introduction valve is closed until the gas introduction valve is kept closed, and after the second predetermined time has elapsed, the pressurizing pump and the tank circulation pump are stopped to stop the microbubble generating operation. good too.

上記の構成によれば、液位電極を液体に浸した状態で、微細気泡発生運転を停止することができる。これにより、液位電極におけるヌメリの発生を抑制し、タンクの液位の誤検出を抑制できる。また、上記の構成によれば、微細気泡発生運転を停止する際、液位電極は、通常運転時に液体に浸される部分よりも上方の部分まで液体に浸されている。したがって、より適切に液位電極におけるヌメリの発生を抑制することができる。 According to the above configuration, the microbubble generating operation can be stopped while the liquid level electrode is immersed in the liquid. As a result, it is possible to suppress the generation of slime in the liquid level electrode and to suppress erroneous detection of the liquid level in the tank. Further, according to the above configuration, when stopping the microbubble generating operation, the liquid level electrode is immersed in the liquid up to the portion above the portion immersed in the liquid during the normal operation. Therefore, it is possible to more appropriately suppress the occurrence of slime in the liquid level electrode.

1つまたはそれ以上の実施形態において、前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中、前記気体導入弁が閉じた状態で、前記タンクの液位が前記所定液位以上であることを前記液位電極によって検出した場合に、前記気体導入弁を開き、前記気体導入弁を開いてから第3所定時間が経過するまでの間、前記気体導入弁が開いた状態を維持し、前記第3所定時間の経過後に、前記気体導入弁を閉じてもよい。 In one or more embodiments, the controller controls that the liquid level in the tank is equal to or higher than the predetermined liquid level while the gas introduction valve is closed during execution of the microbubble generation operation. When the level is detected by the liquid level electrode, the gas introduction valve is opened, the gas introduction valve is kept open until a third predetermined time elapses after the gas introduction valve is opened, and the third After a predetermined time has passed, the gas introduction valve may be closed.

例えば、微細気泡発生装置が下側液位電極と上側液位電極を備えており、制御装置が、タンクの液位が下側液位と上側液位の間で推移するように気体導入弁の開閉動作の制御を実行する場合、下側液位電極の長さを比較的長くする必要がある。この場合、装置全体の重量化につながる可能性がある。上記の構成によれば、液位電極の長さを比較的短くすることができる。このため、装置全体の軽量化を図ることができる。 For example, the microbubble generator has a lower liquid level electrode and an upper liquid level electrode, and the controller controls the gas introduction valve so that the liquid level in the tank changes between the lower liquid level and the upper liquid level. When carrying out control of the opening and closing movements, the length of the lower liquid level electrode must be relatively long. In this case, the weight of the entire device may be increased. According to the above configuration, the length of the liquid level electrode can be relatively short. Therefore, the weight of the entire device can be reduced.

1つまたはそれ以上の実施形態において、前記液体は、水であってもよい。前記液槽は、ユーザが入浴に使用する浴槽であってもよい。 In one or more embodiments, the liquid may be water. The liquid bath may be a bathtub used for bathing by the user.

上記の構成によれば、ユーザが入浴に使用する浴槽の水に微細気泡を発生させる微細気泡発生装置において、タンクの水位に係る情報量を低減し、気体導入弁の開閉に係る判断処理の迅速性を確保することができる。 According to the above configuration, in the microbubble generator that generates microbubbles in the water of the bathtub used by the user for bathing, the amount of information related to the water level in the tank is reduced, and the determination process related to the opening and closing of the gas introduction valve is performed quickly. can ensure the integrity of the

実施例1から3の温水装置2の構成を模式的に示す図である。1 is a diagram schematically showing the configuration of a water heater 2 of Examples 1 to 3; FIG. 実施例1から3の温水装置2の浴槽アダプタ132における水の流れの例を模式的に示す図である。FIG. 4 is a diagram schematically showing an example of water flow in the bathtub adapter 132 of the water heater 2 of Examples 1 to 3; 実施例1から3の温水装置2の浴槽アダプタ132における水の流れの別の例を模式的に示す図である。FIG. 4 is a diagram schematically showing another example of water flow in the bathtub adapter 132 of the water heater 2 of Examples 1 to 3; 実施例1から3の温水装置2における水の流れの例を模式的に示す図である。4 is a diagram schematically showing an example of water flow in the water heater 2 of Examples 1 to 3. FIG. 実施例1から3の温水装置2における水の流れの別の例を模式的に示す図である。FIG. 4 is a diagram schematically showing another example of water flow in the water heaters 2 of Examples 1 to 3; 実施例1から3の温水装置2における水の流れのさらに別の例を模式的に示す図である。FIG. 5 is a diagram schematically showing still another example of water flow in the water heaters 2 of Examples 1 to 3; 実施例1の温水装置2の微細気泡発生運転において制御装置150が実行する処理のフローチャートである。4 is a flowchart of processing executed by the control device 150 in the microbubble generation operation of the water heater 2 of Embodiment 1. FIG. 実施例1から3の温水装置2の微細気泡発生運転において、制御装置150が、図7に示す処理、図9に示す処理、または図10に示す処理の中で実行する、停止処理のフローチャートである。10 is a flowchart of stop processing executed by the control device 150 during the processing shown in FIG. 7, the processing shown in FIG. 9, or the processing shown in FIG. be. 実施例2の温水装置2の微細気泡発生運転において制御装置150が実行する処理のフローチャートである。10 is a flow chart of processing executed by the control device 150 in microbubble generation operation of the water heater 2 of Embodiment 2. FIG. 実施例3の温水装置2の微細気泡発生運転において制御装置150が実行する処理のフローチャートである。10 is a flow chart of processing executed by the control device 150 in the microbubble generation operation of the water heater 2 of Example 3. FIG.

(実施例1)
図1に示すように、本実施例の温水装置2は、熱源ユニット10と、空気加圧溶解ユニット50と、浴槽アダプタ132と、制御装置150と、を備える。温水装置2は、水道などの給水源200から供給される水を加熱して、所望の温度まで加熱された水を、台所等に設置されたカラン250や、浴室に設置された浴槽130に供給することができる。また、温水装置2は、ユーザが入浴に使用する浴槽130の水に、微細気泡を発生させることができる。
(Example 1)
As shown in FIG. 1, the water heater 2 of this embodiment includes a heat source unit 10, an air pressure dissolving unit 50, a bathtub adapter 132, and a control device 150. As shown in FIG. The water heater 2 heats water supplied from a water supply source 200 such as tap water, and supplies the water heated to a desired temperature to the faucet 250 installed in the kitchen or the like and the bathtub 130 installed in the bathroom. can do. Moreover, the water heater 2 can generate fine air bubbles in the water of the bathtub 130 used by the user for bathing.

(熱源ユニット10の構成)
熱源ユニット10は、第1熱源機12と、第2熱源機14と、給水路16と、出湯路18と、バイパス路20と、バイパスサーボ22と、注湯路24と、湯はり弁26と、水量センサ28と、循環往路30と、循環復路32と、浴槽循環ポンプ34と、水流スイッチ36を備えている。
(Configuration of heat source unit 10)
The heat source unit 10 includes a first heat source device 12, a second heat source device 14, a water supply path 16, a hot water outlet path 18, a bypass path 20, a bypass servo 22, a hot water pouring path 24, and a hot water filling valve 26. , a water quantity sensor 28 , an outward circulation path 30 , a return circulation path 32 , a bathtub circulation pump 34 , and a water flow switch 36 .

給水路16の上流端は、給水源200に接続されており、給水路16の下流端は、第1熱源機12に接続されている。また、出湯路18の上流端は、第1熱源機12に接続されており、出湯路18の下流端は、カラン250に接続されている。第1熱源機12は、例えばガスの燃焼によって水を加熱する燃焼熱源機である。第1熱源機12は、給水路16から流れ込む水を加熱して、加熱された水を出湯路18に送り出す。 The upstream end of the water supply path 16 is connected to the water supply source 200 , and the downstream end of the water supply path 16 is connected to the first heat source machine 12 . The upstream end of the hot water outlet 18 is connected to the first heat source machine 12 , and the downstream end of the hot water outlet 18 is connected to the callan 250 . The first heat source device 12 is, for example, a combustion heat source device that heats water by combustion of gas. The first heat source machine 12 heats the water flowing from the water supply channel 16 and sends the heated water to the hot water outlet channel 18 .

バイパス路20の上流端は、給水路16に接続されており、バイパス路20の下流端は、出湯路18に接続されている。バイパスサーボ22は、バイパス路20が給水路16に接続する箇所に設けられている。バイパスサーボ22は、内蔵された弁体の開度を調整することによって、給水路16から第1熱源機12を経由して出湯路18に流れる水の流量と、給水路16からバイパス路20を経由して出湯路18に流れる水の流量の割合を調整可能である。バイパスサーボ22の開度を調整することで、バイパス路20が接続する箇所よりも下流側の出湯路18には、第1熱源機12から流れ込む高温の水と、バイパス路20から流れ込む低温の水が所望の割合で混合されて、所望の温度に調温された水が供給される。バイパス路20が接続する箇所よりも下流側の出湯路18には、出湯路18の水の温度を検出する出湯温度サーミスタ18aが設けられている。 The upstream end of the bypass 20 is connected to the water supply channel 16 and the downstream end of the bypass 20 is connected to the hot water outlet 18 . A bypass servo 22 is provided at a location where the bypass passage 20 connects to the water supply passage 16 . The bypass servo 22 adjusts the amount of water flowing from the water supply path 16 through the first heat source machine 12 to the hot water supply path 18 and the bypass path 20 from the water supply path 16 by adjusting the opening degree of the built-in valve body. It is possible to adjust the flow rate of the water flowing through to the hot water outlet 18 . By adjusting the degree of opening of the bypass servo 22, high-temperature water flowing from the first heat source machine 12 and low-temperature water flowing from the bypass 20 flow into the hot water outlet passage 18 on the downstream side of the location where the bypass 20 is connected. are mixed in a desired ratio, and water adjusted to a desired temperature is supplied. A hot water outlet temperature thermistor 18a for detecting the temperature of the water in the hot water outlet path 18 is provided in the hot water outlet 18 downstream of the location where the bypass 20 is connected.

注湯路24の上流端は、バイパス路20が接続する箇所よりも下流側の出湯路18に接続されており、注湯路24の下流端は、循環復路32に接続されている。湯はり弁26は、注湯路24に設けられており、注湯路24を開閉する。湯はり弁26は、通常時は閉状態とされている。水量センサ28は、注湯路24に設けられており、注湯路24を流れる水の水量を検出する。 The upstream end of the hot water pouring channel 24 is connected to the hot water outlet channel 18 on the downstream side of the location where the bypass 20 is connected, and the downstream end of the hot water pouring channel 24 is connected to the circulation return channel 32 . The hot water filling valve 26 is provided in the pouring path 24 and opens and closes the pouring path 24 . The hot water filling valve 26 is normally closed. A water quantity sensor 28 is provided in the pouring path 24 and detects the quantity of water flowing through the pouring path 24 .

循環復路32の上流端は、空気加圧溶解ユニット50の熱源復路60(詳細は後述する)に接続されており、循環復路32の下流端は、第2熱源機14に接続されている。また、循環往路30の上流端は、第2熱源機14に接続されており、循環往路30の下流端は、空気加圧溶解ユニット50の熱源往路68(詳細は後述する)に接続されている。第2熱源機14は、例えばガスの燃焼によって水を加熱する燃焼熱源機である。第2熱源機14は、循環復路32から流れ込む水を加熱して、加熱された水を循環往路30に送り出す。循環復路32の上流端近傍には、循環復路32の水の温度を検出する循環復路サーミスタ32aが設けられている。循環往路30の下流端近傍には、循環往路30の水の温度を検出する循環往路サーミスタ30aが設けられている。 The upstream end of the circulation return path 32 is connected to the heat source return path 60 (details will be described later) of the air pressure melting unit 50 , and the downstream end of the circulation return path 32 is connected to the second heat source machine 14 . The upstream end of the outward circulation path 30 is connected to the second heat source device 14, and the downstream end of the outward circulation path 30 is connected to the outward heat source path 68 (details will be described later) of the pressurized air melting unit 50. . The second heat source device 14 is, for example, a combustion heat source device that heats water by combustion of gas. The second heat source machine 14 heats the water flowing from the return circulation path 32 and sends the heated water to the outward circulation path 30 . A return circulation path thermistor 32 a for detecting the temperature of the water in the return circulation path 32 is provided near the upstream end of the return circulation path 32 . An outward circulation path thermistor 30 a that detects the temperature of the water in the outward circulation path 30 is provided near the downstream end of the outward circulation path 30 .

浴槽循環ポンプ34は、注湯路24の接続箇所よりも下流側の循環復路32に設けられており、循環復路32の水を第2熱源機14に向けて送り出す。水流スイッチ36は、循環復路32において浴槽循環ポンプ34と第2熱源機14の間に設けられており、循環復路32を水が流れているか否かを検出する。 The bathtub circulation pump 34 is provided in the return circulation path 32 on the downstream side of the connection point of the hot water supply path 24 , and sends out the water in the return circulation path 32 toward the second heat source machine 14 . The water flow switch 36 is provided between the bathtub circulation pump 34 and the second heat source machine 14 in the return circulation path 32 and detects whether or not water is flowing through the return circulation path 32 .

(空気加圧溶解ユニット50の構成)
空気加圧溶解ユニット50は、タンク52と、熱源復路60と、熱源往路68と、タンク復路74と、タンク往路64と、連通路66と、第1三方弁80と、第2三方弁82と、逆止弁84と、タンク給水弁86と、第1加圧ポンプ88と、第2加圧ポンプ90と、タンク循環路92と、タンク循環ポンプ94と、気体導入機構96を備えている。
(Configuration of air pressurized dissolving unit 50)
The air pressurized dissolving unit 50 includes a tank 52 , a heat source return line 60 , a heat source return line 68 , a tank return line 74 , a tank return line 64 , a communication line 66 , a first three-way valve 80 , and a second three-way valve 82 . , a check valve 84 , a tank water supply valve 86 , a first pressure pump 88 , a second pressure pump 90 , a tank circulation path 92 , a tank circulation pump 94 and a gas introduction mechanism 96 .

タンク52は、水に空気を加圧溶解して空気溶解水を生成するために利用される。タンク52は、内部に水を貯留することができる。タンク52の内部には、タンク52内の水位を検出するための水位電極54と、アース電極(図示せず)が設置されている。水位電極54は、タンク52内に貯留されている水の水面に接触すると、アース電極との間で電流が流れて、制御装置150にON信号を出力する。すなわち、水位電極54は、タンク52内の水位が所定水位以上であるか否かを検出可能に構成されている。以下では、水位電極54によって検出されるタンク52内の水位を「境界水位」と呼ぶことがある。 The tank 52 is used to pressurize and dissolve air in water to produce air-dissolved water. The tank 52 can store water inside. A water level electrode 54 for detecting the water level in the tank 52 and a ground electrode (not shown) are installed inside the tank 52 . When the water level electrode 54 touches the surface of the water stored in the tank 52 , current flows between the water level electrode 54 and the ground electrode, and an ON signal is output to the control device 150 . That is, the water level electrode 54 is configured to detect whether or not the water level in the tank 52 is equal to or higher than a predetermined water level. Below, the water level in the tank 52 detected by the water level electrode 54 may be called "boundary water level."

熱源復路60の一端は、連通路66に接続されており、熱源復路60の他端は、熱源ユニット10の循環復路32に接続されている。連通路66は、第1三方弁80と第2三方弁82とを接続する。第1三方弁80には、連通路66、第1浴槽水路62、及び、タンク往路64が接続されている。第1三方弁80は、タンク往路64と第1浴槽水路62が連通している第1連通状態(図6参照)と、タンク往路64と連通路66が連通している第2連通状態(図1参照)と、第1浴槽水路62、タンク往路64、及び、連通路66が連通している第3連通状態(図4、図5参照)と、を切替えることができる。タンク往路64の上流端は、タンク52の下部に接続されており、タンク往路64の下流端は、第1三方弁80に接続されている。タンク往路64には、タンク52から第1三方弁80に向かって水が流れることを許容し、第1三方弁80からタンク52に向かって水が流れることを禁止する逆止弁84が設けられている。第1浴槽水路62の一端は、第1三方弁80に接続されており、第1浴槽水路62の他端は、浴槽アダプタ132に接続されている。 One end of the heat source return path 60 is connected to the communication path 66 , and the other end of the heat source return path 60 is connected to the circulation return path 32 of the heat source unit 10 . The communication passage 66 connects the first three-way valve 80 and the second three-way valve 82 . A communication passage 66 , a first bathtub water passage 62 , and a tank forward passage 64 are connected to the first three-way valve 80 . The first three-way valve 80 has a first communication state (see FIG. 6) in which the tank outward passage 64 and the first bathtub water passage 62 are in communication, and a second communication state (see FIG. 6) in which the tank outward passage 64 and the communication passage 66 are in communication. 1) and a third communication state (see FIGS. 4 and 5) in which the first bathtub water passage 62, the tank forward passage 64, and the communication passage 66 are in communication. The upstream end of the tank outward passage 64 is connected to the lower portion of the tank 52 , and the downstream end of the tank outward passage 64 is connected to the first three-way valve 80 . The forward tank passage 64 is provided with a check valve 84 that allows water to flow from the tank 52 toward the first three-way valve 80 and prohibits water from flowing from the first three-way valve 80 toward the tank 52. ing. One end of the first bathtub water channel 62 is connected to the first three-way valve 80 and the other end of the first bathtub water channel 62 is connected to the bathtub adapter 132 .

熱源往路68の一端は、熱源ユニット10の循環往路30に接続されており、熱源往路68の他端は、第2三方弁82に接続されている。第2三方弁82には、連通路66と、熱源往路68と、第2浴槽水路70と、が接続されている。第2三方弁82は、第2浴槽水路70と連通路66が連通する第4連通状態(図6参照)と、熱源往路68と第2浴槽水路70が連通する第5連通状態(図1、図4、図5参照)と、を切替えることができる。第2浴槽水路70の一端は、第2三方弁82に接続されており、第2浴槽水路70の他端は、浴槽アダプタ132に接続されている。 One end of the heat source outward path 68 is connected to the circulation outward path 30 of the heat source unit 10 , and the other end of the heat source outward path 68 is connected to the second three-way valve 82 . The second three-way valve 82 is connected with the communication passage 66 , the heat source outward passage 68 , and the second bathtub water passage 70 . The second three-way valve 82 is in a fourth communicating state (see FIG. 6) in which the second bathtub water passage 70 and the communicating passage 66 communicate, and in a fifth communicating state (see FIGS. 4 and 5) can be switched. One end of the second bathtub water channel 70 is connected to the second three-way valve 82 , and the other end of the second bathtub water channel 70 is connected to the bathtub adapter 132 .

タンク復路74の上流端は、熱源往路68に接続されており、タンク復路74の下流端は、給水口74aを介してタンク52に接続されている。タンク給水弁86は、タンク復路74に設けられており、タンク復路74を開閉する。タンク給水弁86は、通常時は閉状態とされている。第1加圧ポンプ88と第2加圧ポンプ90は、タンク復路74において、タンク給水弁86とタンク52の間に設けられている。第1加圧ポンプ88と第2加圧ポンプ90は、タンク復路74の水を加圧してタンク52に向けて送り出す。タンク復路74において、第1加圧ポンプ88は第2加圧ポンプ90よりも上流側に配置されている。 The upstream end of the tank return path 74 is connected to the heat source outward path 68, and the downstream end of the tank return path 74 is connected to the tank 52 via the water supply port 74a. The tank water supply valve 86 is provided in the tank return path 74 and opens and closes the tank return path 74 . The tank water supply valve 86 is normally closed. The first pressurizing pump 88 and the second pressurizing pump 90 are provided between the tank water supply valve 86 and the tank 52 in the tank return path 74 . The first pressurizing pump 88 and the second pressurizing pump 90 pressurize the water in the tank return path 74 and send it toward the tank 52 . In the tank return path 74 , the first pressure pump 88 is arranged upstream of the second pressure pump 90 .

タンク循環路92の上流端(以下では、流出口92aともいう)は、タンク52の底部に接続されており、タンク循環路92の下流端は、第2加圧ポンプ90よりも下流側のタンク復路74に接続されている。タンク循環路92の流出口92aがタンク52に接続されている箇所の水位は、境界水位よりも低い。タンク循環ポンプ94は、タンク循環路92に設けられている。タンク循環ポンプ94は、タンク52内の水を流出口92aを介してタンク循環路92に吸入するとともに、タンク循環路92の水をタンク復路74の下流端の給水口74aを介してタンク52内に吐出する。 The upstream end of the tank circulation path 92 (hereinafter also referred to as an outlet port 92 a ) is connected to the bottom of the tank 52 , and the downstream end of the tank circulation path 92 is connected to the tank downstream of the second pressure pump 90 . It is connected to the return path 74 . The water level at the location where the outflow port 92a of the tank circulation path 92 is connected to the tank 52 is lower than the boundary water level. A tank circulation pump 94 is provided in the tank circulation path 92 . The tank circulation pump 94 sucks the water in the tank 52 into the tank circulation path 92 through the outflow port 92a, and pumps the water in the tank circulation path 92 into the tank 52 through the water supply port 74a at the downstream end of the tank return path 74. to dispense.

気体導入機構96は、タンク循環ポンプ94よりも上流側のタンク循環路92に設けられている。気体導入機構96は、入水管98と、出水管100と、ベンチュリ管102と、気体導入路104と、気体導入弁106を備えている。入水管98には、タンク循環路92の上流側から水が流入する。出水管100は、タンク循環路92の下流側へ水を流出させる。ベンチュリ管102は、入水管98と出水管100を連通している。ベンチュリ管102の径は、入水管98および出水管100の径よりも小さい。気体導入機構96を流れる水は、入水管98からベンチュリ管102へ流れる際に大気圧よりも低い圧力まで減圧され、ベンチュリ管102から出水管100へ流れる際に元の圧力まで増圧される。気体導入路104の上流端(以下では、気体導入口104aともいう)は、大気に開放されており、下流端はベンチュリ管102に接続されている。気体導入弁106は、気体導入路104に設けられており、気体導入路104を開閉する。気体導入機構96を水が流れる際に、気体導入弁106が開いている場合には、気体導入口104aから気体導入路104に空気が吸入され、ベンチュリ管102を流れる水に空気が混合される。気体導入路104で導入された空気は、タンク循環路92を流れる水とともに、タンク52へ流入する。気体導入弁106は、通常時は閉状態とされている。 The gas introduction mechanism 96 is provided in the tank circulation path 92 on the upstream side of the tank circulation pump 94 . The gas introduction mechanism 96 includes a water inlet pipe 98 , a water outlet pipe 100 , a venturi pipe 102 , a gas introduction path 104 and a gas introduction valve 106 . Water flows into the water inlet pipe 98 from the upstream side of the tank circulation path 92 . The water outlet pipe 100 allows water to flow out to the downstream side of the tank circulation path 92 . A venturi tube 102 communicates the water inlet pipe 98 and the water outlet pipe 100 . The diameter of venturi tube 102 is smaller than the diameters of inlet pipe 98 and outlet pipe 100 . The water flowing through the gas introduction mechanism 96 is decompressed to a pressure lower than atmospheric pressure when flowing from the water inlet pipe 98 to the venturi pipe 102 and is increased to the original pressure when flowing from the venturi pipe 102 to the water outlet pipe 100 . The upstream end of gas introduction path 104 (hereinafter also referred to as gas introduction port 104 a ) is open to the atmosphere, and the downstream end is connected to venturi tube 102 . The gas introduction valve 106 is provided in the gas introduction path 104 and opens and closes the gas introduction path 104 . When water flows through the gas introduction mechanism 96, if the gas introduction valve 106 is open, air is sucked into the gas introduction passage 104 from the gas introduction port 104a and mixed with the water flowing through the venturi tube 102. . The air introduced through the gas introduction path 104 flows into the tank 52 together with the water flowing through the tank circulation path 92 . The gas introduction valve 106 is normally closed.

(浴槽アダプタ132の構成)
続いて、図2、図3を参照して、浴槽130の壁部130aに設けられた浴槽アダプタ132について説明する。図2は、第1浴槽水路62から浴槽130に向けて水が流れ、浴槽130から第2浴槽水路70に向けて水が流れる状態(例えば、図6の状態)である場合の浴槽アダプタ132での水の流れを示している。図3は、浴槽130から第1浴槽水路62に向けて水が流れ、第2浴槽水路70から浴槽130に向けて水が流れる状態(例えば、図5の状態)である場合の浴槽アダプタ132での水の流れを示している。
(Configuration of bathtub adapter 132)
Next, the bathtub adapter 132 provided on the wall portion 130a of the bathtub 130 will be described with reference to FIGS. FIG. 2 shows the bathtub adapter 132 in a state where water flows from the first bathtub water channel 62 toward the bathtub 130 and water flows from the bathtub 130 toward the second bathtub water channel 70 (for example, the state of FIG. 6). water flow. FIG. 3 shows the bathtub adapter 132 in a state where water flows from the bathtub 130 toward the first bathtub water channel 62 and water flows from the second bathtub water channel 70 toward the bathtub 130 (for example, the state shown in FIG. 5). water flow.

浴槽アダプタ132は、第1水路136と、第2水路138と、を備える。第1水路136は、第1浴槽水路62と連通しており、第2水路138は、第2浴槽水路70と連通している。第1水路136は、第1吐出路136aと、第1吸込路136bと、に分岐している。第1吐出路136aは、浴槽アダプタ132の前面132aに設けられた第1吐出口134aと連通している。第1吐出口134aから浴槽130に吐出される水は、浴槽130の壁部130aの前方、即ち、浴槽130の壁部130aに垂直な方向に吐出される。第1吐出路136aには、浴槽130から第1浴槽水路62に向かう水の流れを防止する逆止部140aと、逆止部140aよりも上流側(第1浴槽水路62側)に配置された微細気泡発生ノズル142と、が設けられている。微細気泡発生ノズル142は、微細気泡発生ノズル142を通過する水を減圧させる。第1吸込路136bは、浴槽アダプタ132の前面132aに設けられた第1吸込口134bと連通している。第1吸込路136bには、第1浴槽水路62から浴槽130に向かう水の流れを防止する逆止部140bが設けられている。 Bathtub adapter 132 includes a first water channel 136 and a second water channel 138 . The first water channel 136 communicates with the first bathtub water channel 62 , and the second water channel 138 communicates with the second bathtub water channel 70 . The first water channel 136 branches into a first discharge channel 136a and a first suction channel 136b. The first discharge passage 136 a communicates with a first discharge port 134 a provided on the front surface 132 a of the bathtub adapter 132 . Water discharged from the first outlet 134a into the bathtub 130 is discharged in front of the wall portion 130a of the bathtub 130, that is, in a direction perpendicular to the wall portion 130a of the bathtub 130. As shown in FIG. In the first discharge passage 136a, a non-return portion 140a for preventing the flow of water from the bathtub 130 toward the first bathtub water passage 62 and a non-return portion 140a disposed on the upstream side (first bathtub water passage 62 side) of the non-return portion 140a. A fine bubble generating nozzle 142 is provided. The microbubble generating nozzle 142 reduces the pressure of water passing through the microbubble generating nozzle 142 . The first suction path 136b communicates with a first suction port 134b provided on the front surface 132a of the bathtub adapter 132. As shown in FIG. The first suction passage 136b is provided with a non-return portion 140b that prevents water from flowing from the first bathtub water passage 62 toward the bathtub 130. As shown in FIG.

第2水路138は、第2吐出路138aと、第2吸込路138bと、に分岐している。第2吸込路138bは、浴槽アダプタ132の前面132aに設けられた第2吸込口134cと連通している。第2吸込路138bには、第2浴槽水路70から浴槽130に向かう水の流れを防止する逆止部140cが設けられている。第2吐出路138aは、浴槽アダプタ132の下面132bに設けられた第2吐出口134dと連通している。第2吐出口134dから吐出される水は、下方、即ち、浴槽130の壁部130aに平行な方向に吐出される。第2吐出路138aには、浴槽130から第2浴槽水路70に向かう水の流れを防止する逆止部140dが設けられている。 The second water channel 138 branches into a second discharge channel 138a and a second suction channel 138b. The second suction path 138b communicates with a second suction port 134c provided on the front surface 132a of the bathtub adapter 132 . The second suction passage 138b is provided with a non-return portion 140c that prevents water from flowing from the second bathtub water passage 70 toward the bathtub 130. As shown in FIG. The second discharge passage 138 a communicates with a second discharge port 134 d provided on the lower surface 132 b of the bathtub adapter 132 . The water discharged from the second discharge port 134d is discharged downward, that is, in a direction parallel to the wall portion 130a of the bathtub 130. As shown in FIG. A non-return portion 140d that prevents water from flowing from the bathtub 130 toward the second bathtub water passage 70 is provided in the second discharge passage 138a.

(制御装置150の構成)
図1に示す制御装置150は、熱源ユニット10、空気加圧溶解ユニット50の各構成要素の動作を制御する。制御装置150は、ユーザによって操作可能なリモコン154と通信可能に構成されている。制御装置150は、メモリ152を備えており、ユーザが入力した湯はり運転における設定温度や設定水量、追い焚き運転における設定温度等の各種の設定を記憶可能である。ユーザは、リモコン154を介して、後述する湯はり運転や追い焚き運転、微細気泡発生運転の開始や終了を指示することができる。
(Configuration of control device 150)
A control device 150 shown in FIG. 1 controls the operation of each component of the heat source unit 10 and the pressurized air melting unit 50 . Control device 150 is configured to communicate with a user-operable remote control 154 . The control device 150 includes a memory 152, and can store various settings such as the set temperature and the set amount of water for the hot water refilling operation and the set temperature for the reheating operation input by the user. Via the remote control 154, the user can instruct the start and end of the hot water filling operation, the reheating operation, and the microbubble generation operation, which will be described later.

(湯はり運転)
湯はり運転は、ユーザがリモコン154において湯はり運転の開始を指示した場合に開始する。あるいは、湯はり運転は、ユーザがリモコン154において湯はり運転の開始時刻を設定しておき、制御装置150が湯はり運転の開始時刻が到来したと判断した場合に開始してもよい。制御装置150は、湯はり運転を開始する際に、第1三方弁80、第2三方弁82を、それぞれ、第3連通状態、第5連通状態とする(図4、図5参照)。制御装置150は、湯はり運転が開始されると、湯はり弁26を開くとともに、第1熱源機12による加熱を開始する。これによって、図4に示すように、設定温度に調温された水が、出湯路18から注湯路24を介して循環復路32に流れ込む。循環復路32に流れ込んだ水は、上流側(すなわち熱源復路60)に向かう流れと下流側(すなわち第2熱源機14)に向かう流れに分岐する。循環復路32から熱源復路60に流れる水は、連通路66、第1三方弁80、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に流れ込む。循環復路32から第2熱源機14に流れる水は、循環往路30、熱源往路68、第2三方弁82、第2浴槽水路70、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に流れ込む。制御装置150は、水量センサ28が検出する積算水量が、湯はり運転における設定水量に達するまで待機する。なお、ここでいう積算水量とは、湯はり運転が開始されてから水量センサ28が検出した積算水量を意味する。積算水量が設定水量に達すると制御装置150は、湯はり弁26を閉じるとともに、第1熱源機12による水の加熱を終了する。その後、制御装置150は、湯はり運転が完了した事を、リモコン154を介してユーザに報知して、湯はり運転を終了する。
(Hot water filling operation)
The hot water filling operation is started when the user instructs the start of the hot water filling operation with the remote controller 154 . Alternatively, the hot water filling operation may be started when the user sets the start time of the hot water filling operation in the remote controller 154 and the control device 150 determines that the hot water filling operation start time has arrived. When starting the hot water filling operation, the control device 150 puts the first three-way valve 80 and the second three-way valve 82 in the third communication state and the fifth communication state, respectively (see FIGS. 4 and 5). When the hot water filling operation is started, the control device 150 opens the hot water filling valve 26 and starts heating by the first heat source machine 12 . As a result, as shown in FIG. 4, the water whose temperature is adjusted to the set temperature flows from the hot water supply path 18 to the circulation return path 32 via the hot water supply path 24 . The water that has flowed into the circulation return path 32 branches into a flow toward the upstream side (that is, the heat source return path 60) and a flow toward the downstream side (that is, the second heat source machine 14). Water flowing from the circulation return path 32 to the heat source return path 60 flows into the bathtub 130 via the communication path 66 , the first three-way valve 80 , the first bathtub water path 62 and the bathtub adapter 132 . Water flowing from the return circulation path 32 to the second heat source machine 14 flows into the bathtub 130 via the outward circulation path 30 , the outward heat source path 68 , the second three-way valve 82 , the second bathtub water passage 70 , and the bathtub adapter 132 . The control device 150 waits until the integrated amount of water detected by the water amount sensor 28 reaches the set amount of water for the hot water filling operation. The term "integrated water volume" as used herein means the integrated water volume detected by the water volume sensor 28 after the hot water filling operation is started. When the integrated amount of water reaches the set amount of water, the control device 150 closes the hot water filling valve 26 and ends the heating of water by the first heat source device 12 . After that, the control device 150 notifies the user via the remote controller 154 that the hot water filling operation is completed, and ends the hot water filling operation.

(追い焚き運転)
追い焚き運転は、ユーザがリモコン154において追い焚き運転の開始を指示した場合に開始する。あるいは、追い焚き運転は、湯はり運転において第1熱源機12による水の加熱を終了した後に、制御装置150が循環復路サーミスタ32aで検出される温度が設定温度に満たないと判断する場合に開始してもよい。制御装置150は、追い焚き運転を開始する際に、第1三方弁80を第3連通状態とし、かつ、第2三方弁82を第5連通状態とする(図4、図5参照)。この状態から、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34を駆動するとともに、第2熱源機14による水の加熱を開始する。これによって、図5に示すように、浴槽130の水が、浴槽アダプタ132、第1浴槽水路62、第1三方弁80、連通路66、熱源復路60、循環復路32を経由して第2熱源機14に送られる。第2熱源機14で加熱された水は、循環往路30、熱源往路68、第2三方弁82、第2浴槽水路70、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に戻される。循環復路サーミスタ32aで検出される温度が設定温度以上となると、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34を停止するとともに、第2熱源機14による水の加熱を終了する。その後、制御装置150は、追い焚き運転が完了した事を、リモコン154を介してユーザに報知して、追い焚き運転を終了する。
(Reheating operation)
The reheating operation is started when the user instructs the start of the reheating operation with the remote controller 154 . Alternatively, the reheating operation is started when the controller 150 determines that the temperature detected by the return circulation thermistor 32a is less than the set temperature after the first heat source device 12 finishes heating water in the hot water filling operation. You may When starting the reheating operation, the control device 150 brings the first three-way valve 80 into the third communication state and brings the second three-way valve 82 into the fifth communication state (see FIGS. 4 and 5). From this state, the controller 150 drives the bathtub circulation pump 34 and starts heating water by the second heat source machine 14 . As a result, as shown in FIG. 5, the water in the bathtub 130 flows through the bathtub adapter 132, the first bathtub water channel 62, the first three-way valve 80, the communication channel 66, the heat source return channel 60, and the circulation return channel 32 to the second heat source. sent to machine 14. The water heated by the second heat source machine 14 is returned to the bathtub 130 via the outward circulation path 30 , the outward heat source path 68 , the second three-way valve 82 , the second bathtub water passage 70 , and the bathtub adapter 132 . When the temperature detected by the return circulation thermistor 32a reaches or exceeds the set temperature, the control device 150 stops the bathtub circulation pump 34 and ends the water heating by the second heat source device 14 . After that, the control device 150 informs the user that the reheating operation is completed via the remote control 154, and ends the reheating operation.

(微細気泡発生運転)
微細気泡発生運転は、ユーザがリモコン154において微細気泡発生運転の開始を指示した場合に開始する。また、本実施例の温水装置2では、上記した湯はり運転が完了した後に、自動的に微細気泡発生運転も開始する。すなわち、湯はり運転の実行に連動して微細気泡発生運転が実行される。制御装置150は、微細気泡発生運転を開始する際に、第1三方弁80、第2三方弁82を、それぞれ、第3連通状態、第5連通状態とする(図4、図5参照)。また、制御装置150は、タンク給水弁86を開状態とする。この状態から、制御装置150は、図7に示す処理を実行する。
(Fine bubble generation operation)
The microbubble generation operation is started when the user instructs the start of the microbubble generation operation with the remote controller 154 . Further, in the water heater 2 of the present embodiment, after the above-described hot water filling operation is completed, the microbubble generating operation is automatically started. That is, the microbubble generation operation is performed in conjunction with the execution of the hot water filling operation. The control device 150 puts the first three-way valve 80 and the second three-way valve 82 in the third communication state and the fifth communication state, respectively (see FIGS. 4 and 5). In addition, the control device 150 opens the tank water supply valve 86 . From this state, the control device 150 executes the processing shown in FIG.

S2では、制御装置150は、タンク循環ポンプ94を駆動する。これによって、タンク52とタンク循環路92の間で水が循環する。 At S<b>2 , the controller 150 drives the tank circulation pump 94 . This causes water to circulate between the tank 52 and the tank circulation path 92 .

S4では、制御装置150は、気体導入弁106を開く。これによって、タンク循環路92の気体導入機構96を流れる水に、空気が導入される。 At S<b>4 , the controller 150 opens the gas introduction valve 106 . As a result, air is introduced into the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank circulation path 92 .

S6では、制御装置150は、タンク52から浴槽130への空気溶解水の供給を開始する。具体的には、図6に示すように、制御装置150は、第1三方弁80を第1連通状態とし、第2三方弁82を第4連通状態とした上で、浴槽循環ポンプ34と、第1加圧ポンプ88と、第2加圧ポンプ90を駆動する。これによって、浴槽130の水が、浴槽アダプタ132、第2浴槽水路70、第2三方弁82、連通路66、熱源復路60、循環復路32、第2熱源機14、循環往路30、熱源往路68、タンク復路74を経由して、タンク52に供給される。この際に、タンク復路74からタンク52には、第1加圧ポンプ88と第2加圧ポンプ90によって加圧された水が供給される。これによって、タンク52の内部において、水に空気が加圧溶解される。そして、空気が加圧溶解された水は、タンク52から、タンク往路64、第1三方弁80、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に供給される。この際に、空気が加圧溶解された水は、浴槽アダプタ132の第1吐出路136aの微細気泡発生ノズル142を通過する際に、大気圧以下まで減圧され、浴槽130に噴出される際に、大気圧まで増圧されて、浴槽130の水に微細気泡が発生する。 In S<b>6 , the control device 150 starts supplying air-dissolved water from the tank 52 to the bathtub 130 . Specifically, as shown in FIG. 6, the control device 150 puts the first three-way valve 80 in the first communication state and puts the second three-way valve 82 in the fourth communication state, and then the bathtub circulation pump 34, The first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 are driven. As a result, the water in the bathtub 130 flows through the bathtub adapter 132, the second bathtub water passage 70, the second three-way valve 82, the communication passage 66, the heat source return passage 60, the circulation return passage 32, the second heat source machine 14, the circulation outward passage 30, and the heat source outward passage 68. , to the tank 52 via the tank return path 74 . At this time, water pressurized by the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 is supplied from the tank return path 74 to the tank 52 . As a result, the air is pressurized and dissolved in the water inside the tank 52 . The water in which the air is pressurized and dissolved is supplied from the tank 52 to the bathtub 130 via the tank outward passage 64 , the first three-way valve 80 , the first bathtub water passage 62 and the bathtub adapter 132 . At this time, the water in which the air is pressurized and dissolved is depressurized to below atmospheric pressure when passing through the fine bubble generating nozzle 142 of the first discharge passage 136a of the bathtub adapter 132, and is jetted into the bathtub 130. , the pressure is increased to the atmospheric pressure, and microbubbles are generated in the water in the bathtub 130 .

S8では、制御装置150は、水位電極54から出力されるON信号の有無に基づいて、タンク52の水位が境界水位を下回るか否かを判断する。本実施例では、気体導入機構96において、気体導入弁106を開いている時に導入される空気量は、浴槽130の水において発生する微細気泡の空気量よりも多い。このため、気体導入弁106を開いた状態では、タンク52内の空気量が増大していき、タンク52の水位は下降していく。タンク52の水位が境界水位以上の場合(NOの場合)、処理はS8を繰り返す。タンク52の水位が境界水位を下回る場合(YESの場合)、処理はS10へ進む。 In S<b>8 , the controller 150 determines whether the water level in the tank 52 is below the boundary water level based on the presence or absence of the ON signal output from the water level electrode 54 . In this embodiment, the amount of air introduced into the gas introduction mechanism 96 when the gas introduction valve 106 is open is greater than the amount of microbubbles generated in the water in the bathtub 130 . Therefore, when the gas introduction valve 106 is open, the amount of air in the tank 52 increases and the water level in the tank 52 decreases. If the water level in the tank 52 is equal to or higher than the boundary water level (NO), the process repeats S8. If the water level in the tank 52 is below the boundary water level (if YES), the process proceeds to S10.

S10では、制御装置150は、気体導入弁106を閉じる。これによって、タンク循環路92の気体導入機構96を流れる水への、空気の導入が停止される。気体導入弁106を閉じた状態では、タンク52に空気が供給されないので、タンク52内の空気量が減少していき、タンク52の水位は上昇していく。なお、本実施例では、気体導入弁106を閉じている間も、タンク循環ポンプ94の駆動はそのまま継続する。これによって、タンク52内での水の流動が促進されて、タンク52における水への空気の加圧溶解が促進される。 At S<b>10 , the control device 150 closes the gas introduction valve 106 . This stops the introduction of air into the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank circulation path 92 . Since air is not supplied to the tank 52 when the gas introduction valve 106 is closed, the amount of air in the tank 52 decreases and the water level in the tank 52 rises. In this embodiment, even while the gas introduction valve 106 is closed, the tank circulation pump 94 continues to be driven. This promotes water flow within the tank 52 and promotes pressurized dissolution of air into water in the tank 52 .

S12では、制御装置150は、内蔵されたタイマ(図示せず)を用いて、水位上昇時間の計時を開始する。 In S12, the control device 150 uses a built-in timer (not shown) to start measuring the water level rise time.

S14では、制御装置150は、S12で計時を開始した水位上昇時間が、第1所定時間(例えば90秒)を上回るか否かを判断する。水位上昇時間が第1所定時間以下の場合(NOの場合)、処理はS14を繰り返す。水位上昇時間が第1所定時間を上回る場合(YESの場合)、処理はS16へ進む。 In S14, the control device 150 determines whether or not the water level rise time started counting in S12 exceeds a first predetermined time (for example, 90 seconds). If the water level rise time is equal to or less than the first predetermined time (NO), the process repeats S14. If the water level rise time exceeds the first predetermined time (YES), the process proceeds to S16.

S16では、制御装置150は、内蔵されたタイマ(図示せず)による、水位上昇時間の計時を終了する。 In S16, the control device 150 terminates the measurement of the water level rise time by a built-in timer (not shown).

S18では、制御装置150は、気体導入弁106を開く。これによって、タンク循環路92の気体導入機構96を流れる水への、空気の導入が再開される。 At S<b>18 , the controller 150 opens the gas introduction valve 106 . This restarts the introduction of air into the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank circulation path 92 .

S20では、制御装置150は、内蔵されたタイマ(図示せず)を用いて、吸気時間の計時を開始する。 In S20, control device 150 starts measuring the intake time using a built-in timer (not shown).

S22では、制御装置150は、水位電極54から出力されるON信号の有無に基づいて、タンク52の水位が境界水位を下回るか否かを判断する。タンク52の水位が境界水位以上の場合(NOの場合)、処理はS22を繰り返す。タンク52の水位が境界水位を下回る場合(YESの場合)、処理はS24へ進む。 At S<b>22 , the control device 150 determines whether the water level of the tank 52 is below the boundary water level based on the presence or absence of the ON signal output from the water level electrode 54 . If the water level in the tank 52 is equal to or higher than the boundary water level (NO), the process repeats S22. If the water level in the tank 52 is below the boundary water level (YES), the process proceeds to S24.

S24では、制御装置150は、気体導入弁106を閉じる。これによって、タンク循環路92の気体導入機構96を流れる水への、空気の導入が停止される。 At S<b>24 , the control device 150 closes the gas introduction valve 106 . This stops the introduction of air into the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank circulation path 92 .

S26では、制御装置150は、内蔵されたタイマ(図示せず)による、吸気時間の計時を終了する。なお、制御装置150は、計時を終了したときの吸気時間をメモリ152に記憶する。 In S26, the control device 150 terminates timing of the intake time by a built-in timer (not shown). It should be noted that control device 150 stores in memory 152 the inspiratory time when the time measurement is finished.

S28では、制御装置150は、S26でメモリ152に記憶された吸気時間が、所定の上限吸気時間(例えば120秒)を上回るか否かを判断する。吸気時間が上限吸気時間を上回る場合(YESの場合)、処理はS30へ進む。吸気時間が上限吸気時間以下である場合(NOの場合)、処理はS32へ進む。 In S28, control device 150 determines whether or not the intake time stored in memory 152 in S26 exceeds a predetermined upper intake time limit (eg, 120 seconds). If the inspiratory time exceeds the upper limit inspiratory time (if YES), the process proceeds to S30. If the intake time is less than or equal to the upper limit intake time (NO), the process proceeds to S32.

S30では、制御装置150は、第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90の回転数を所定値(例えば10Hz)だけ低減させる。これによって、その後に第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90を駆動した場合に、タンク52に供給される水の量が減少する。S30の後、処理はS32へ進む。 In S30, the control device 150 reduces the rotational speeds of the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 by a predetermined value (for example, 10 Hz). This reduces the amount of water supplied to the tank 52 when the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 are subsequently driven. After S30, the process proceeds to S32.

S32では、制御装置150は、S26でメモリ152に記憶された吸気時間が、所定の下限吸気時間(例えば60秒)を下回るか否かを判断する。吸気時間が下限吸気時間を下回る場合(YESの場合)、処理はS34へ進む。吸気時間が下限吸気時間以上である場合(NOの場合)、処理はS36へ進む。 In S32, control device 150 determines whether or not the intake time stored in memory 152 in S26 is below a predetermined minimum intake time (for example, 60 seconds). If the inspiratory time is less than the lower limit inspiratory time (if YES), the process proceeds to S34. If the intake time is equal to or longer than the lower limit intake time (NO), the process proceeds to S36.

S34では、制御装置150は、第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90の回転数を所定値(例えば10Hz)だけ増加させる。これによって、その後に第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90を駆動した場合に、タンク52に供給される水の量が増加する。S34の後、処理はS36へ進む。 In S34, the controller 150 increases the rotational speeds of the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 by a predetermined value (eg, 10 Hz). This increases the amount of water supplied to the tank 52 when the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 are subsequently driven. After S34, the process proceeds to S36.

S36では、制御装置150は、微細気泡発生運転を停止するための停止条件が満たされるか否かを判断する。本実施例では、停止条件は、微細気泡発生運転の運転時間が設定時間に達していることである。微細気泡発生運転の運転時間とは、微細気泡発生運転を開始してからの経過時間である。本実施例の温水装置2では、湯はり運転の実行と連動せずに、微細気泡発生運転が単独で実行される場合、設定時間は例えば10分間に設定されている。これとは異なり、湯はり運転の実行と連動して微細気泡発生運転が実行される場合、設定時間は例えば30分間に設定されている。停止条件が満たされない場合(NOの場合)、処理はS12に戻る。停止条件が満たされる場合(YESの場合)、処理はS38へ進む。 In S36, the control device 150 determines whether or not a stop condition for stopping the microbubble generation operation is satisfied. In this embodiment, the stop condition is that the operating time of the microbubble generating operation has reached the set time. The operating time of the microbubble generation operation is the elapsed time from the start of the microbubble generation operation. In the water heater 2 of this embodiment, when the microbubble generating operation is executed independently without interlocking with the execution of the hot water filling operation, the set time is set to 10 minutes, for example. Unlike this, when the microbubble generation operation is executed in conjunction with the execution of the hot water filling operation, the set time is set to, for example, 30 minutes. If the stop condition is not satisfied (NO), the process returns to S12. If the stop condition is satisfied (YES), the process proceeds to S38.

S38では、制御装置150は、微細気泡発生運転を停止するための停止処理(図8参照)を実行する。S38の後、図7の処理は終了する。 In S38, the control device 150 executes stop processing (see FIG. 8) for stopping the microbubble generation operation. After S38, the process of FIG. 7 ends.

以上では、制御装置150は、S36の処理において、停止条件が満たされるか否かを判断するように説明した。しかしながら、制御装置150は、S2からS34の処理の実行中であっても、停止条件が満たされるか否かを判断することができる。そして、制御装置150は、S2からS34の処理の実行中であっても、停止条件が満たされると判断する場合には、実行中の処理を中止し、S38の処理(すなわち、停止処理)を実行するように構成されている。 As described above, the control device 150 determines whether or not the stop condition is satisfied in the process of S36. However, the control device 150 can determine whether the stop condition is satisfied even during execution of the processes of S2 to S34. If the control device 150 determines that the stop condition is satisfied even during execution of the processes from S2 to S34, the control device 150 stops the process being executed and starts the process of S38 (that is, the stop process). configured to run.

(停止処理)
図8に示すように、S52では、制御装置150は、気体導入弁106が閉じられている場合には、気体導入弁106を開く。これによって、タンク循環路92の気体導入機構96を流れる水への、空気の導入が再開される。
(Stop processing)
As shown in FIG. 8, in S52, the controller 150 opens the gas introduction valve 106 if the gas introduction valve 106 is closed. This restarts the introduction of air into the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank circulation path 92 .

S54では、制御装置150は、水位電極54から出力されるON信号の有無に基づいて、タンク52の水位が境界水位を下回るか否かを判断する。タンク52の水位が境界水位以上の場合(NOの場合)、処理はS54を繰り返す。タンク52の水位が境界水位を下回る場合(YESの場合)、処理はS56へ進む。 At S<b>54 , the controller 150 determines whether the water level of the tank 52 is below the boundary water level based on the presence or absence of the ON signal output from the water level electrode 54 . If the water level in the tank 52 is equal to or higher than the boundary water level (NO), the process repeats S54. If the water level in the tank 52 is below the boundary water level (if YES), the process proceeds to S56.

S56では、制御装置150は、気体導入弁106を閉じる。これによって、タンク循環路92の気体導入機構96を流れる水への、空気の導入が停止される。 At S<b>56 , the controller 150 closes the gas introduction valve 106 . This stops the introduction of air into the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank circulation path 92 .

S58では、制御装置150は、内蔵されたタイマ(図示せず)を用いて、水位上昇時間の計時を開始する。 In S58, the control device 150 uses a built-in timer (not shown) to start measuring the water level rise time.

S60では、制御装置150は、S58で計時を開始した水位上昇時間が、第1所定時間よりも長い時間である第2所定時間(例えば180秒)を上回るか否かを判断する。水位上昇時間が第2所定時間以下の場合(NOの場合)、処理はS60を繰り返す。水位上昇時間が第2所定時間を上回る場合(YESの場合)、処理はS62へ進む。 In S60, the control device 150 determines whether or not the water level rise time started in S58 exceeds a second predetermined time (for example, 180 seconds) that is longer than the first predetermined time. If the water level rise time is equal to or less than the second predetermined time (NO), the process repeats S60. If the water level rise time exceeds the second predetermined time (YES), the process proceeds to S62.

S62では、制御装置150は、内蔵されたタイマ(図示せず)による、水位上昇時間の計時を終了する。 In S62, the control device 150 terminates the measurement of the water level rise time by a built-in timer (not shown).

S64では、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34と、第1加圧ポンプ88と、第2加圧ポンプ90を停止して、タンク52から浴槽130への空気溶解水の供給を終了する。 In S<b>64 , controller 150 stops bathtub circulation pump 34 , first pressurization pump 88 , and second pressurization pump 90 to terminate the supply of air-dissolved water from tank 52 to bathtub 130 .

S66では、制御装置150は、タンク循環ポンプ94を停止する。これによって、タンク52とタンク循環路92の間での水の循環が終了する。S66の後、図8の処理は終了する。 At S<b>66 , the controller 150 stops the tank circulation pump 94 . This completes the circulation of water between the tank 52 and the tank circulation path 92 . After S66, the process of FIG. 8 ends.

このように、停止処理において、制御装置150は、水位電極54を水に浸した状態で、微細気泡発生運転を停止することができる。この際、図8の処理を終了した時点でのタンク52の水位は、図7のS18で気体導入弁106を開く時点でのタンク52の水位よりも高いので、水位電極54は、通常運転時に水に浸される部分よりも上方の部分まで水に浸されている。これにより、水位電極54におけるヌメリの発生を適切に抑制することができる。 Thus, in the stop process, the controller 150 can stop the microbubble generation operation while the water level electrode 54 is immersed in water. 8 is higher than the water level of the tank 52 when the gas introduction valve 106 is opened in S18 of FIG. The part above the part that is immersed in water is also immersed in water. As a result, it is possible to appropriately suppress the generation of slime in the water level electrode 54 .

(実施例2)
本実施例の温水装置2は、実施例1の温水装置2と略同様の構成を備えている。本実施例の温水装置2では、微細気泡発生運転を実行する際に、制御装置150が、図7に示す処理を実行する代わりに、図9に示す処理を実行する。以下では、図9に示す処理について、図7に示す処理と相違する点について説明する。
(Example 2)
The water heater 2 of this embodiment has substantially the same configuration as the water heater 2 of the first embodiment. In the water heater 2 of this embodiment, when executing the microbubble generating operation, the control device 150 executes the process shown in FIG. 9 instead of executing the process shown in FIG. In the following, differences between the processing shown in FIG. 9 and the processing shown in FIG. 7 will be described.

図9に示す処理では、S26でメモリ152に記憶された吸気時間が上限吸気時間を上回る場合(S28でYESの場合)、処理はS70へ進む。S70では、制御装置150は、タンク循環ポンプ94の回転数を所定値(例えば10Hz)だけ増加させる。これによって、その後に気体導入弁106を開いた状態でタンク循環ポンプ94を駆動した場合に、気体導入機構96で導入される空気の量が増加する。S70の後、処理はS32へ進む。 In the process shown in FIG. 9, when the intake time stored in the memory 152 in S26 exceeds the upper intake time limit (YES in S28), the process proceeds to S70. In S70, the control device 150 increases the rotation speed of the tank circulation pump 94 by a predetermined value (for example, 10 Hz). As a result, when the tank circulation pump 94 is subsequently driven with the gas introduction valve 106 open, the amount of air introduced by the gas introduction mechanism 96 increases. After S70, the process proceeds to S32.

一方、S26でメモリ152に記憶された吸気時間が下限吸気時間を下回る場合(S32でYESの場合)、処理はS72へ進む。S72では、制御装置150は、タンク循環ポンプ94の回転数を所定値(例えば10Hz)だけ低減させる。これによって、その後に気体導入弁106を開いた状態でタンク循環ポンプ94を駆動した場合に、気体導入機構96で導入される空気の量が減少する。S72の後、処理はS36へ進む。 On the other hand, if the intake time stored in the memory 152 is less than the minimum intake time in S26 (YES in S32), the process proceeds to S72. In S72, the control device 150 reduces the rotation speed of the tank circulation pump 94 by a predetermined value (for example, 10 Hz). As a result, when the tank circulation pump 94 is subsequently driven with the gas introduction valve 106 open, the amount of air introduced by the gas introduction mechanism 96 is reduced. After S72, the process proceeds to S36.

なお、図9に示す処理のS70においては、制御装置150は、その後に気体導入弁106を開いた状態でタンク循環ポンプ94を駆動する場合のタンク循環ポンプ94の回転数を増加させるものの、その後に気体導入弁106を閉じた状態でタンク循環ポンプ94を駆動する場合のタンク循環ポンプ94の回転数を増加させない構成としてもよい。同様に、図9に示す処理のS72においては、制御装置150は、その後に気体導入弁106を開いた状態でタンク循環ポンプ94を駆動する場合のタンク循環ポンプ94の回転数を低減させるものの、その後に気体導入弁106を閉じた状態でタンク循環ポンプ94を駆動する場合のタンク循環ポンプ94の回転数を低減させない構成としてもよい。 In S70 of the process shown in FIG. 9, the control device 150 increases the rotation speed of the tank circulation pump 94 when driving the tank circulation pump 94 with the gas introduction valve 106 open thereafter. Alternatively, the tank circulation pump 94 may be configured so as not to increase the rotation speed when the tank circulation pump 94 is driven with the gas introduction valve 106 closed. Similarly, in S72 of the process shown in FIG. 9, the control device 150 reduces the rotation speed of the tank circulation pump 94 when driving the tank circulation pump 94 with the gas introduction valve 106 open after that. After that, the tank circulation pump 94 may be configured not to reduce the rotation speed when the tank circulation pump 94 is driven with the gas introduction valve 106 closed.

(実施例3)
本実施例の温水装置2は、実施例1の温水装置2と略同様の構成を備えている。本実施例の温水装置2では、微細気泡発生運転を実行する際に、制御装置150が、図7に示す処理を実行する代わりに、図10に示す処理を実行する。
(Example 3)
The water heater 2 of this embodiment has substantially the same configuration as the water heater 2 of the first embodiment. In the water heater 2 of the present embodiment, when executing the microbubble generation operation, the control device 150 executes the process shown in FIG. 10 instead of executing the process shown in FIG.

S82では、制御装置150は、タンク循環ポンプ94を駆動する。これによって、タンク52とタンク循環路92の間で水が循環する。 In S<b>82 , controller 150 drives tank circulation pump 94 . This causes water to circulate between the tank 52 and the tank circulation path 92 .

S84では、制御装置150は、タンク52から浴槽130への空気溶解水の供給を開始する。この際、制御装置150は、図7のS8と同様の処理を行う。 In S<b>84 , control device 150 starts supplying air-dissolved water from tank 52 to bathtub 130 . At this time, the control device 150 performs the same processing as S8 in FIG.

S86では、制御装置150は、水位電極54から出力されるON信号の有無に基づいて、タンク52の水位が境界水位以上であるか否かを判断する。タンク52の水位が境界水位を下回る場合(NOの場合)、処理はS86を繰り返す。タンク52の水位が境界水位以上の場合(YESの場合)、処理はS88へ進む。 At S<b>86 , the control device 150 determines whether the water level of the tank 52 is equal to or higher than the boundary water level based on the presence or absence of the ON signal output from the water level electrode 54 . If the water level in the tank 52 is below the boundary water level (NO), the process repeats S86. If the water level in the tank 52 is equal to or higher than the boundary water level (if YES), the process proceeds to S88.

S88では、制御装置150は、気体導入弁106を開く。これによって、タンク循環路92の気体導入機構96を流れる水への、空気の導入が開始される。 At S<b>88 , the controller 150 opens the gas introduction valve 106 . This starts the introduction of air into the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank circulation path 92 .

S90では、制御装置150は、内蔵されたタイマ(図示せず)を用いて、水位下降時間の計時を開始する。 In S90, the control device 150 uses a built-in timer (not shown) to start measuring the water level fall time.

S92では、制御装置150は、S90で計時を開始した水位下降時間が、第3所定時間(例えば90秒)を上回るか否かを判断する。水位下降時間が第3所定時間以下の場合(NOの場合)、処理はS92を繰り返す。水位下降時間が第3所定時間を上回る場合(YESの場合)、処理はS94へ進む。 In S92, the control device 150 determines whether or not the water level fall time that started timing in S90 exceeds a third predetermined time (for example, 90 seconds). If the water level fall time is equal to or less than the third predetermined time (NO), the process repeats S92. If the water level fall time exceeds the third predetermined time (YES), the process proceeds to S94.

S94では、制御装置150は、内蔵されたタイマ(図示せず)による、水位下降時間の計時を終了する。 In S94, the control device 150 terminates the measurement of the water level fall time by a built-in timer (not shown).

S96では、制御装置150は、気体導入弁106を閉じる。これによって、タンク循環路92の気体導入機構96を流れる水への、空気の導入が停止される。 At S<b>96 , the controller 150 closes the gas introduction valve 106 . This stops the introduction of air into the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank circulation path 92 .

S98では、制御装置150は、内蔵されたタイマ(図示せず)を用いて、排気時間の計時を開始する。 In S98, the control device 150 starts measuring the exhaust time using a built-in timer (not shown).

S100では、制御装置150は、水位電極54から出力されるON信号の有無に基づいて、タンク52の水位が境界水位以上であるか否かを判断する。タンク52の水位が境界水位を下回る場合(NOの場合)、処理はS100を繰り返す。タンク52の水位が境界水位以上の場合(YESの場合)、処理はS102へ進む。 In S100, the control device 150 determines whether or not the water level of the tank 52 is equal to or higher than the boundary water level based on the presence or absence of the ON signal output from the water level electrode 54. If the water level in the tank 52 is below the boundary water level (NO), the process repeats S100. If the water level in the tank 52 is equal to or higher than the boundary water level (if YES), the process proceeds to S102.

S102では、制御装置150は、気体導入弁106を開く。これによって、タンク循環路92の気体導入機構96を流れる水への、空気の導入が再開される。 At S<b>102 , the controller 150 opens the gas introduction valve 106 . This restarts the introduction of air into the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank circulation path 92 .

S104では、制御装置150は、内蔵されたタイマ(図示せず)による、排気時間の計時を終了する。なお、制御装置150は、計時を終了したときの排気時間をメモリ152に記憶する。 In S104, the control device 150 terminates counting the exhaust time by a built-in timer (not shown). It should be noted that the control device 150 stores the exhaust time in the memory 152 when the timing is finished.

S106では、制御装置150は、S104でメモリ152に記憶された排気時間が、所定の上限排気時間(例えば120秒)を上回るか否かを判断する。排気時間が上限排気時間を上回る場合(YESの場合)、処理はS108へ進む。排気時間が上限排気時間以下である場合(NOの場合)、処理はS110へ進む。 At S106, the controller 150 determines whether the exhaust time stored in the memory 152 at S104 exceeds a predetermined upper exhaust time limit (eg, 120 seconds). If the exhaust time exceeds the upper limit exhaust time (if YES), the process proceeds to S108. If the exhaust time is less than or equal to the upper limit exhaust time (NO), the process proceeds to S110.

S108では、制御装置150は、第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90の回転数を所定値(例えば10Hz)だけ増加させる。これによって、その後に第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90を駆動した場合に、タンク52に供給される水の量が増加する。S108の後、処理はS110へ進む。 In S108, the controller 150 increases the rotational speeds of the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 by a predetermined value (eg, 10 Hz). This increases the amount of water supplied to the tank 52 when the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 are subsequently driven. After S108, the process proceeds to S110.

S110では、制御装置150は、S104でメモリ152に記憶された排気時間が、所定の下限排気時間(例えば60秒)を下回るか否かを判断する。排気時間が下限排気時間を下回る場合(YESの場合)、処理はS112へ進む。排気時間が下限排気時間以上である場合(NOの場合)、処理はS114へ進む。 In S110, control device 150 determines whether or not the exhaust time stored in memory 152 in S104 is below a predetermined minimum exhaust time (for example, 60 seconds). If the exhaust time is less than the lower limit exhaust time (if YES), the process proceeds to S112. If the exhaust time is equal to or longer than the lower limit exhaust time (NO), the process proceeds to S114.

S112では、制御装置150は、第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90の回転数を所定値(例えば10Hz)だけ低減させる。これによって、その後に第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90を駆動した場合に、タンク52に供給される水の量が減少する。S112の後、処理はS114へ進む。 In S112, control device 150 reduces the rotational speeds of first pressure pump 88 and second pressure pump 90 by a predetermined value (eg, 10 Hz). This reduces the amount of water supplied to the tank 52 when the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 are subsequently driven. After S112, the process proceeds to S114.

S114では、制御装置150は、微細気泡発生運転を停止するための停止条件が満たされるか否かを判断する。停止条件が満たされない場合(NOの場合)、処理はS90に戻る。停止条件が満たされる場合(YESの場合)、処理はS116へ進む。 In S114, the control device 150 determines whether or not a stop condition for stopping the microbubble generation operation is satisfied. If the stop condition is not satisfied (NO), the process returns to S90. If the stop condition is satisfied (YES), the process proceeds to S116.

S116では、制御装置150は、微細気泡発生運転を停止するための停止処理(図8参照)を実行する。S116の後、図10の処理は終了する。 In S116, the control device 150 executes stop processing (see FIG. 8) for stopping the microbubble generation operation. After S116, the process of FIG. 10 ends.

以上では、制御装置150は、S114の処理において、停止条件が満たされるか否かを判断するように説明した。しかしながら、制御装置150は、S82からS112の処理の実行中であっても、停止条件が満たされるか否かを判断することができる。そして、制御装置150は、S82からS112の処理の実行中であっても、停止条件が満たされると判断する場合には、実行中の処理を中止し、S116の処理(すなわち、停止処理)を実行するように構成されている。 As described above, the control device 150 determines whether or not the stop condition is satisfied in the process of S114. However, the control device 150 can determine whether the stop condition is satisfied even during execution of the processing from S82 to S112. If the control device 150 determines that the stop condition is satisfied even during the execution of the processes from S82 to S112, the control device 150 stops the process being executed and restarts the process of S116 (that is, the stop process). configured to run.

なお、図10に示す処理のS108においては、制御装置150は、第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90の回転数を所定値だけ増加させる代わりに、タンク循環ポンプ94の回転数を所定値(例えば10Hz)だけ低減させる構成としてもよい。これによって、その後に気体導入弁106を開いた状態でタンク循環ポンプ94を駆動した場合に、気体導入機構96で導入される空気の量が減少する。同様に、図10に示す処理のS112においては、制御装置150は、第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90の回転数を所定値だけ低減させる代わりに、タンク循環ポンプ94の回転数を所定値(例えば10Hz)だけ増加させる構成としてもよい。これによって、その後に気体導入弁106を開いた状態でタンク循環ポンプ94を駆動した場合に、気体導入機構96で導入される空気の量が増加する。 Note that in S108 of the process shown in FIG. 10, instead of increasing the rotation speeds of the first pressurization pump 88 and the second pressurization pump 90 by a predetermined value, the controller 150 increases the rotation speed of the tank circulation pump 94. It may be configured to reduce by a predetermined value (for example, 10 Hz). As a result, when the tank circulation pump 94 is subsequently driven with the gas introduction valve 106 open, the amount of air introduced by the gas introduction mechanism 96 is reduced. Similarly, in S112 of the process shown in FIG. 10, control device 150 reduces the rotation speed of tank circulation pump 94 instead of reducing the rotation speed of first pressurization pump 88 and second pressurization pump 90 by a predetermined value. may be increased by a predetermined value (for example, 10 Hz). As a result, when the tank circulation pump 94 is subsequently driven with the gas introduction valve 106 open, the amount of air introduced by the gas introduction mechanism 96 increases.

(変形例)
上記の温水装置2では、タンク52に空気が導入されているが、空気に代えて、炭酸ガス、水素、酸素等の気体がタンク52に導入されてもよい。この場合、気体が充填されている気体充填タンク(図示せず)を気体導入路104の気体導入口104aに接続する構成とすればよい。
(Modification)
In the water heater 2 described above, air is introduced into the tank 52 , but gases such as carbon dioxide gas, hydrogen, and oxygen may be introduced into the tank 52 instead of air. In this case, a gas filling tank (not shown) filled with gas may be connected to the gas introduction port 104 a of the gas introduction path 104 .

上記の温水装置2では、湯はり運転において、水量センサ28で検出される積算水量に基づいて、浴槽130に設定水量の水を溜めている。別の実施例では、温水装置2は、例えば浴槽130の水位を検出可能な水位センサを設けておいて、湯はり運転において、水位センサにより検出される浴槽130の水位に基づいて、浴槽130に設定水位の水を溜める構成としてもよい。 In the above-described water heater 2, a set amount of water is stored in the bathtub 130 based on the integrated amount of water detected by the water amount sensor 28 during the hot water filling operation. In another embodiment, the water heater 2 is provided with a water level sensor capable of detecting the water level of the bathtub 130, for example. It is good also as a structure which stores the water of a setting water level.

上記の温水装置2では、熱源ユニット10がカラン250に接続され、空気加圧溶解ユニット50が浴槽130に接続されている。別の実施例では、熱源ユニット10が他の温熱利用箇所に接続されていてもよいし、空気加圧溶解ユニット50が他の液槽に接続されていてもよい。 In the water heater 2 described above, the heat source unit 10 is connected to the faucet 250 , and the pressurized air dissolving unit 50 is connected to the bathtub 130 . In another embodiment, the heat source unit 10 may be connected to other heat utilization points, and the air pressurized melting unit 50 may be connected to other liquid baths.

上記の温水装置2では、タンク循環路92において、気体導入機構96がタンク循環ポンプ94よりも上流側に配置されている。別の実施例では、タンク循環路92において、気体導入機構96がタンク循環ポンプ94よりも下流側に配置されていてもよい。 In the water heater 2 described above, the gas introduction mechanism 96 is arranged upstream of the tank circulation pump 94 in the tank circulation path 92 . In another embodiment, the gas introduction mechanism 96 may be arranged downstream of the tank circulation pump 94 in the tank circulation path 92 .

上記の温水装置2では、タンク循環路92の下流端が、第2加圧ポンプ90よりも下流側のタンク復路74に接続されている。別の実施例では、タンク循環路92の下流端は、タンク復路74に接続されていなくてもよく、タンク52に対してタンク復路74とは別個に設けられていてもよい。 In the water heater 2 described above, the downstream end of the tank circulation path 92 is connected to the tank return path 74 on the downstream side of the second pressure pump 90 . In another embodiment, the downstream end of tank circuit 92 may not be connected to tank return 74 and may be provided separately from tank return 74 to tank 52 .

上記の温水装置2では、タンク52内の水位を検出するための水位電極が、水位電極54の1つのみ設けられている。別の実施例では、タンク52内の水位を検出するための水位電極は、複数設けられていてもよい。 In the water heater 2 described above, only one water level electrode 54 is provided for detecting the water level in the tank 52 . In another embodiment, a plurality of water level electrodes for detecting the water level in tank 52 may be provided.

上記の温水装置2において、湯はり運転の実行に連動して、微細気泡発生運転を実行するか否かを、ユーザがリモコン154を介して切り替え可能としてもよい。 In the water heater 2 described above, the user may be able to switch via the remote control 154 whether or not to perform the microbubble generation operation in conjunction with the execution of the hot water filling operation.

上記の温水装置2では、吸気時間が上限吸気時間を上回る場合(図7や図9のS28でYESの場合)、制御装置150は、第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90の回転数を所定値だけ低減させる(図7のS30)か、またはタンク循環ポンプ94の回転数を所定値だけ増加させる(図9のS70)ように構成されている。別の実施例では、吸気時間が上限吸気時間を上回る場合、制御装置150は、第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90の回転数を所定値だけ低減させるとともに、タンク循環ポンプ94の回転数を所定値だけ増加させるように構成されていてもよい。さらに別の実施例では、吸気時間が上限吸気時間を上回る場合、制御装置150は、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90、およびタンク循環ポンプ94の回転数を補正する代わりに、図7や図9のS14における第1所定時間を短縮するように構成されていてもよい。これによって、その後にタンク52の水位が境界水位を下回ることを検出してタンク52の水位を上昇させる場合(S8でYESの場合)に、タンク52の水位を上昇させる時間(S14を繰り返し実行する時間)が短縮される。 In the water heater 2 described above, when the suction time exceeds the upper limit suction time (YES in S28 of FIG. 7 or FIG. 9), the control device 150 controls the rotation 7) or increase the rotation speed of the tank circulation pump 94 by a predetermined value (S70 in FIG. 9). In another embodiment, when the intake time exceeds the upper intake time limit, the control device 150 reduces the rotation speeds of the first pressurization pump 88 and the second pressurization pump 90 by a predetermined value, and the tank circulation pump 94 It may be configured to increase the number of revolutions by a predetermined value. In yet another embodiment, if the inspiratory time exceeds the upper inspiratory time limit, instead of correcting the rotation speeds of the first pressurization pump 88, the second pressurization pump 90, and the tank circulation pump 94, the controller 150 It may be configured to shorten the first predetermined time in S14 of FIGS. 7 and 9 . As a result, when it is subsequently detected that the water level of the tank 52 falls below the boundary water level and the water level of the tank 52 is raised (if YES in S8), the time for raising the water level of the tank 52 (S14 is repeatedly executed time) is reduced.

上記の温水装置2では、吸気時間が下限吸気時間を下回る場合(図7や図9のS32でYESの場合)、制御装置150は、第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90の回転数を所定値だけ増加させる(図7のS34)か、またはタンク循環ポンプ94の回転数を所定値だけ低減させる(図9のS72)ように構成されている。別の実施例では、吸気時間が下限吸気時間を下回る場合、制御装置150は、第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90の回転数を所定値だけ増加させるとともに、タンク循環ポンプ94の回転数を所定値だけ低減させるように構成されていてもよい。さらに別の実施例では、吸気時間が下限吸気時間を下回る場合、制御装置150は、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90、およびタンク循環ポンプ94の回転数を補正する代わりに、図7や図9のS14における第1所定時間を延長するように構成されていてもよい。これによって、その後にタンク52の水位が境界水位を下回ることを検出してタンク52の水位を上昇させる場合(S8でYESの場合)に、タンク52の水位を上昇させる時間(S14を繰り返し実行する時間)が延長される。 In the water heater 2 described above, when the intake time is less than the lower limit intake time (YES in S32 in FIGS. 7 and 9), the control device 150 controls the rotation of the first pressurization pump 88 and the second pressurization pump 90. number is increased by a predetermined value (S34 in FIG. 7), or the rotation speed of the tank circulation pump 94 is decreased by a predetermined value (S72 in FIG. 9). In another embodiment, when the intake time is below the minimum intake time limit, the control device 150 increases the rotation speeds of the first pressurization pump 88 and the second pressurization pump 90 by a predetermined value, and increases the tank circulation pump 94. It may be configured to reduce the number of revolutions by a predetermined value. In yet another embodiment, if the inspiratory time is below the lower inspiratory time limit, instead of correcting the rotation speeds of the first pressurization pump 88, the second pressurization pump 90, and the tank circulation pump 94, the controller 150 It may be configured to extend the first predetermined time in S14 of FIGS. 7 and 9 . As a result, when it is subsequently detected that the water level of the tank 52 falls below the boundary water level and the water level of the tank 52 is raised (if YES in S8), the time for raising the water level of the tank 52 (S14 is repeatedly executed time) is extended.

上記の温水装置2では、微細気泡発生運転を停止するための停止条件が、微細気泡発生運転の運転時間が設定時間に達していることである。別の実施例では、停止条件は、微細気泡発生運転の運転時間が設定時間に達していることでなくてもよい。例えば、停止条件は、リモコン154を介してユーザによって微細気泡発生運転の終了が指示されることであってもよい。 In the water heater 2 described above, the stop condition for stopping the microbubble generating operation is that the operating time of the microbubble generating operation has reached the set time. In another embodiment, the stopping condition may not be that the operation time of the microbubble generation operation has reached the set time. For example, the stop condition may be an instruction by the user via the remote control 154 to end the microbubble generation operation.

上記の温水装置2における水位電極54の長さは、適宜変更されてもよい。すなわち、上記の温水装置2における境界水位は、適宜変更されてもよい。 The length of the water level electrode 54 in the water heater 2 may be changed as appropriate. That is, the boundary water level in the water heater 2 may be changed as appropriate.

上記の温水装置2における、第1所定時間、第2所定時間、第3所定時間、上限吸気時間、下限吸気時間、第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90の回転数の補正値、タンク循環ポンプ94の回転数の補正値、および微細気泡運転を停止するための設定時間のそれぞれは、適宜変更されてもよい。 First predetermined time, second predetermined time, third predetermined time, upper limit suction time, lower limit suction time, correction values of rotation speeds of first pressurization pump 88 and second pressurization pump 90 in the water heater 2, The correction value for the number of rotations of the tank circulation pump 94 and the set time for stopping the microbubble operation may be changed as appropriate.

(対応関係)
以上のように、1つまたはそれ以上の実施形態において、温水装置2(微細気泡発生装置の例)は、水(液体の例)に空気(気体の例)を加圧溶解するタンク52と、タンク52に水を供給するタンク復路74(タンク供給路の例)と、タンク復路74に設けられた第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90(加圧ポンプの例)と、タンク52から浴槽130(液槽の例)に空気が加圧溶解された水を排出するタンク往路64、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132(タンク排出路の例)と、浴槽アダプタ132に設けられており、空気が加圧溶解された水を減圧して微細気泡を発生させる微細気泡発生ノズル142と、タンク往路64および第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132とは別個に設けられており、タンク52に接続された流出口92aからタンク52に接続された給水口74a(流入口の例)に水を送るタンク循環路92と、タンク循環路92に設けられたタンク循環ポンプ94と、タンク循環路92に設けられた気体導入機構96と、タンク52の水位が境界水位(所定液位の例)以上であるか否かを検出可能な水位電極54(液位電極の例)と、制御装置150と、を備えている。気体導入機構96は、水を減圧して通過させるベンチュリ管102(減圧部の例)と、ベンチュリ管102における水の負圧によって空気を導入する気体導入口104aと、気体導入口104aを開閉する気体導入弁106と、を備えている。制御装置150は、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90を駆動してタンク復路74からタンク52へ水を加圧して供給するとともに、タンク52からタンク往路64、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132を介して浴槽130へ空気が加圧溶解された水を供給する、微細気泡発生運転を実行可能である。制御装置150は、タンク循環ポンプ94を駆動してタンク52の水をタンク循環路92で循環させることで、気体導入口104aから導入される空気をタンク52に供給し、水位電極54から出力されるON信号の有無(液位電極によって検出されるタンクの液位が所定液位以上であるか否かに係る情報の例)に基づいて、気体導入弁106の開閉動作を制御する。
(correspondence relationship)
As described above, in one or more embodiments, the water heater 2 (an example of a microbubble generator) includes a tank 52 that pressurizes and dissolves air (an example of a gas) in water (an example of a liquid), A tank return path 74 (an example of a tank supply path) that supplies water to the tank 52 , a first pressurization pump 88 and a second pressurization pump 90 (an example of pressurization pumps) provided in the tank return path 74 , and the tank 52 A tank forward passage 64 for discharging water in which air is pressurized and dissolved from the bathtub 130 (an example of a liquid tank), a first bathtub water passage 62, a bathtub adapter 132 (an example of a tank discharge passage), and the bathtub adapter 132. A microbubble generating nozzle 142 for generating microbubbles by decompressing water in which air is pressurized and dissolved, a tank forward passage 64, a first bathtub water passage 62, and a bathtub adapter 132 are provided separately. A tank circulation path 92 that sends water from an outflow port 92a connected to the tank 52 to a water supply port 74a (an example of an inflow port) connected to the tank 52, a tank circulation pump 94 provided in the tank circulation path 92, and a tank circulation path 92, a water level electrode 54 (an example of a liquid level electrode) capable of detecting whether the water level in the tank 52 is equal to or higher than a boundary water level (an example of a predetermined liquid level), and a control device 150. and have. The gas introduction mechanism 96 includes a venturi tube 102 (an example of a decompression unit) through which water is decompressed, a gas introduction port 104a through which air is introduced by the negative pressure of the water in the venturi tube 102, and the gas introduction port 104a. and a gas introduction valve 106 . The control device 150 drives the first pressurizing pump 88 and the second pressurizing pump 90 to pressurize and supply water from the tank return path 74 to the tank 52 , and from the tank 52 to the tank outward path 64 and the first bathtub water path 62 . , air-dissolved water is supplied to the bathtub 130 via the bathtub adapter 132 to generate microbubbles. The controller 150 drives the tank circulation pump 94 to circulate the water in the tank 52 through the tank circulation path 92 , thereby supplying the air introduced from the gas inlet 104 a to the tank 52 and outputting it from the water level electrode 54 . The opening/closing operation of the gas introduction valve 106 is controlled based on the presence or absence of an ON signal (an example of information indicating whether or not the liquid level in the tank detected by the liquid level electrode is equal to or higher than a predetermined liquid level).

1つまたはそれ以上の実施形態において、温水装置2(微細気泡発生装置の例)は、水(液体の例)に空気(気体の例)を加圧溶解するタンク52と、タンク52に水を供給するタンク復路74(タンク供給路の例)と、タンク復路74に設けられた第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90(加圧ポンプの例)と、タンク52から浴槽130(液槽の例)に空気が加圧溶解された水を排出するタンク往路64、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132(タンク排出路の例)と、浴槽アダプタ132に設けられており、空気が加圧溶解された水を減圧して微細気泡を発生させる微細気泡発生ノズル142と、タンク往路64および第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132とは別個に設けられており、タンク52に接続された流出口92aからタンク52に接続された給水口74a(流入口の例)に水を送るタンク循環路92と、タンク循環路92に設けられたタンク循環ポンプ94と、タンク循環路92に設けられた気体導入機構96と、タンク52の水位が境界水位(所定液位の例)以上であるか否かを検出可能な単一の水位電極54(液位電極の例)と、制御装置150と、を備えている。気体導入機構96は、水を減圧して通過させるベンチュリ管102(減圧部の例)と、ベンチュリ管102における水の負圧によって空気を導入する気体導入口104aと、気体導入口104aを開閉する気体導入弁106と、を備えている。制御装置150は、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90を駆動してタンク復路74からタンク52へ水を加圧して供給するとともに、タンク52からタンク往路64、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132を介して浴槽130へ空気が加圧溶解された水を供給する、微細気泡発生運転を実行可能である。制御装置150は、タンク循環ポンプ94を駆動してタンク52の水をタンク循環路92で循環させることで、気体導入口104aから導入される空気をタンク52に供給し、単一の水位電極54から出力されるON信号の有無(液位電極によって検出されるタンクの液位が所定液位以上であるか否かに係る情報の例)に基づいて、気体導入弁106の開閉動作を制御する。 In one or more embodiments, the water heater 2 (an example of a microbubble generator) includes a tank 52 that pressurizes and dissolves air (an example of a gas) in water (an example of a liquid), and water in the tank 52. A tank return path 74 (an example of a tank supply path) for supply, a first pressurization pump 88 and a second pressurization pump 90 (an example of pressurization pumps) provided in the tank return path 74, and a tank 52 to a bathtub 130 (liquid (example of a tank) is provided in a tank forward passage 64 for discharging water pressurized and dissolved, a first bathtub water passage 62, a bathtub adapter 132 (an example of a tank discharge passage), and a bathtub adapter 132. The microbubble generating nozzle 142 for depressurizing the pressure-dissolved water to generate microbubbles, the tank forward passage 64, the first bathtub water passage 62, and the bathtub adapter 132 are provided separately, and are connected to the tank 52. A tank circulation path 92 that sends water from an outlet 92a to a water supply port 74a (an example of an inflow port) connected to the tank 52; a tank circulation pump 94 provided in the tank circulation path 92; A gas introduction mechanism 96, a single water level electrode 54 (example of a liquid level electrode) capable of detecting whether the water level in the tank 52 is equal to or higher than a boundary water level (example of a predetermined liquid level), a control device 150, It has The gas introduction mechanism 96 includes a venturi tube 102 (an example of a decompression unit) through which water is decompressed, a gas introduction port 104a through which air is introduced by the negative pressure of the water in the venturi tube 102, and the gas introduction port 104a. and a gas introduction valve 106 . The control device 150 drives the first pressurizing pump 88 and the second pressurizing pump 90 to pressurize and supply water from the tank return path 74 to the tank 52 , and from the tank 52 to the tank outward path 64 and the first bathtub water path 62 . , air-dissolved water is supplied to the bathtub 130 via the bathtub adapter 132 to generate microbubbles. The control device 150 drives the tank circulation pump 94 to circulate the water in the tank 52 through the tank circulation path 92, thereby supplying the tank 52 with the air introduced from the gas inlet 104a. control the opening/closing operation of the gas introduction valve 106 based on the presence or absence of an ON signal output from the .

上記の構成によれば、制御装置150は、1つの水位電極54から出力されるON信号の有無に基づいて、気体導入弁106の開閉動作を制御するように構成されている。このため、タンク52の水位に係る情報量を低減し、気体導入弁106の開閉に係る判断処理の迅速性を確保することができる。 According to the above configuration, the control device 150 is configured to control the opening/closing operation of the gas introduction valve 106 based on the presence or absence of the ON signal output from one water level electrode 54 . Therefore, it is possible to reduce the amount of information regarding the water level of the tank 52 and ensure the speed of determination processing regarding opening and closing of the gas introduction valve 106 .

1つまたはそれ以上の実施形態において、制御装置150は、微細気泡発生運転の実行中、気体導入弁106が開いた状態で、タンク52の水位が境界水位より低いことを水位電極54によって検出した場合に、気体導入弁106を閉じ、気体導入弁106を閉じてから第1所定時間が経過するまでの間、気体導入弁106が閉じた状態を維持し、第1所定時間の経過後に、気体導入弁106を開く。 In one or more embodiments, the controller 150 detected by the water level electrode 54 that the water level in the tank 52 was below the boundary water level with the gas introduction valve 106 open during execution of the microbubble generation operation. In this case, the gas introduction valve 106 is closed, the gas introduction valve 106 is kept closed until the first predetermined time elapses after the gas introduction valve 106 is closed, and the gas is introduced after the first predetermined time elapses. Open inlet valve 106 .

温水装置2では、タンク52の水面から飛散した水滴が水位電極54に付着することで、水位電極54にヌメリが生じる可能性がある。水位電極54にヌメリが生じると、タンク52の水位を誤検出するおそれがある。例えば、温水装置2が下側水位電極と上側水位電極を備えており、制御装置150が、タンク52の水位が下側水位と上側水位の間で推移するように気体導入弁106の開閉動作の制御を実行する場合、上側水位電極は、ほぼ水に浸されない。このため、上側水位電極においてヌメリの発生を抑制できず、タンク52の水位を誤検出するおそれがある。上記の構成によれば、微細気泡発生運転の実行中、頻繁に水位電極54を水に浸すことで、水位電極54におけるヌメリの発生を抑制することができる。このため、タンク52の水位の誤検出を抑制できる。 In the water heater 2 , the water level electrode 54 may become slimy due to water droplets scattered from the water surface of the tank 52 adhering to the water level electrode 54 . If the water level electrode 54 becomes slimy, the water level in the tank 52 may be erroneously detected. For example, the water heater 2 has a lower water level electrode and an upper water level electrode, and the control device 150 controls opening and closing operations of the gas introduction valve 106 so that the water level in the tank 52 changes between the lower water level and the upper water level. When performing control, the upper water level electrode is substantially not submerged in water. For this reason, the generation of slime cannot be suppressed in the upper water level electrode, and the water level in the tank 52 may be erroneously detected. According to the above configuration, by frequently immersing the water level electrode 54 in water during execution of the microbubble generating operation, it is possible to suppress the generation of slime in the water level electrode 54 . Therefore, erroneous detection of the water level of the tank 52 can be suppressed.

1つまたはそれ以上の実施形態において、制御装置150は、微細気泡発生運転の実行中、閉じた状態にある気体導入弁106を開いてから、タンク52の水位が境界水位より低いことを水位電極54によって検出して気体導入弁106を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、吸気時間が上限吸気時間を上回る場合に、その後に第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90を駆動する際の第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90の回転数を低減させる。 In one or more embodiments, the controller 150 opens the closed gas introduction valve 106 during microbubble generation operation, and then detects that the water level in the tank 52 is below the boundary water level. 54 to identify the elapsed time until the gas introduction valve 106 is closed as the intake time. When the intake time exceeds the upper limit intake time, the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 are driven thereafter The rotational speeds of the first pressurization pump 88 and the second pressurization pump 90 are reduced.

吸気時間が長すぎる場合、タンク52に供給される水の量が多すぎるか、または気体導入機構96で導入される空気の量が少なすぎることが想定される。また、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90の回転数が高いほどタンク52に供給される水の量は増加し、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90の回転数が低いほどタンク52に供給される水の量は減少する。上記の構成によれば、吸気時間が上限吸気時間を上回る場合、すなわち、吸気時間が長すぎる場合に、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90の回転数を低減させることで、タンク52に供給される水の量を減少させ、吸気時間の短縮を図ることができる。 If the intake time is too long, it is assumed that too much water is supplied to the tank 52 or too little air is introduced by the gas introduction mechanism 96 . Also, the higher the rotational speeds of the first pressurizing pump 88 and the second pressurizing pump 90, the greater the amount of water supplied to the tank 52. The lower the , the less water is supplied to the tank 52 . According to the above configuration, when the intake time exceeds the upper limit intake time, that is, when the intake time is too long, by reducing the rotation speeds of the first pressurization pump 88 and the second pressurization pump 90, the tank By reducing the amount of water supplied to 52, the intake time can be shortened.

1つまたはそれ以上の実施形態において、制御装置150は、微細気泡発生運転の実行中、閉じた状態にある気体導入弁106を開いてから、タンク52の水位が境界水位より低いことを水位電極54によって検出して気体導入弁106を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、吸気時間が下限吸気時間を下回る場合に、その後に第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90を駆動する際の第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90の回転数を増加させる。 In one or more embodiments, the controller 150 opens the closed gas introduction valve 106 during microbubble generation operation, and then detects that the water level in the tank 52 is below the boundary water level. 54 to identify the elapsed time until the gas introduction valve 106 is closed as the inspiratory time. The rotational speeds of the first pressurizing pump 88 and the second pressurizing pump 90 are increased.

吸気時間が短すぎる場合、タンク52に供給される水の量が少なすぎるか、または気体導入機構96で導入される空気の量が多すぎることが想定される。上記の構成によれば、吸気時間が下限吸気時間を下回る場合、すなわち、吸気時間が短すぎる場合に、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90の回転数を増加させることで、タンク52に供給される水の量を増加させ、吸気時間の延長を図ることができる。 If the intake time is too short, it is assumed that too little water is supplied to the tank 52 or too much air is introduced by the gas introduction mechanism 96 . According to the above configuration, when the intake time is less than the lower limit intake time, that is, when the intake time is too short, by increasing the rotation speeds of the first pressurization pump 88 and the second pressurization pump 90, the tank The amount of water supplied to 52 can be increased to extend the inspiratory time.

1つまたはそれ以上の実施形態において、制御装置150は、微細気泡発生運転の実行中、閉じた状態にある気体導入弁106を開いてから、タンク52の水位が境界水位より低いことを水位電極54によって検出して気体導入弁106を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、吸気時間が上限吸気時間を上回る場合に、その後に気体導入弁106が開いた状態でタンク循環ポンプ94を駆動する際のタンク循環ポンプ94の回転数を増加させる。 In one or more embodiments, the controller 150 opens the closed gas introduction valve 106 during microbubble generation operation, and then detects that the water level in the tank 52 is below the boundary water level. 54 to specify the elapsed time until the gas introduction valve 106 is closed as the intake time, and when the intake time exceeds the upper limit intake time, the tank circulation pump 94 is driven with the gas introduction valve 106 open thereafter. The number of revolutions of the tank circulation pump 94 is increased.

吸気時間が長すぎる場合、タンク52に供給される水の量が多すぎるか、または気体導入機構96で導入される空気の量が少なすぎることが想定される。また、気体導入弁106が開いた状態では、タンク循環ポンプ94の回転数が高いほど気体導入機構96で導入される空気の量は増加し、タンク循環ポンプ94の回転数が低いほど気体導入機構96で導入される空気の量は減少する。上記の構成によれば、吸気時間が上限吸気時間を上回る場合、すなわち、吸気時間が長すぎる場合に、タンク循環ポンプ94の回転数を増加させることで、気体導入機構96で導入される空気の量を増加させ、吸気時間の短縮を図ることができる。 If the intake time is too long, it is assumed that too much water is supplied to the tank 52 or too little air is introduced by the gas introduction mechanism 96 . Further, when the gas introduction valve 106 is open, the higher the rotation speed of the tank circulation pump 94, the greater the amount of air introduced by the gas introduction mechanism 96, and the lower the rotation speed of the tank circulation pump 94, the more the gas introduction mechanism The amount of air introduced at 96 is reduced. According to the above configuration, when the intake time exceeds the upper limit intake time, that is, when the intake time is too long, the number of revolutions of the tank circulation pump 94 is increased to reduce the amount of air introduced by the gas introduction mechanism 96. It is possible to increase the volume and shorten the inspiratory time.

1つまたはそれ以上の実施形態において、制御装置150は、微細気泡発生運転の実行中、閉じた状態にある気体導入弁106を開いてから、タンク52の水位が境界水位より低いことを水位電極54によって検出して気体導入弁106を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、吸気時間が下限吸気時間を下回る場合に、その後に気体導入弁106が開いた状態でタンク循環ポンプ94を駆動する際のタンク循環ポンプ94の回転数を低減させる。 In one or more embodiments, the controller 150 opens the closed gas introduction valve 106 during microbubble generation operation, and then detects that the water level in the tank 52 is below the boundary water level. 54 to specify the elapsed time until the gas introduction valve 106 is closed as the intake time, and when the intake time is less than the lower limit intake time, the tank circulation pump 94 is driven with the gas introduction valve 106 open thereafter. The number of revolutions of the tank circulation pump 94 is reduced when

吸気時間が短すぎる場合、タンク52に供給される水の量が少なすぎるか、または気体導入機構96で導入される空気の量が多すぎることが想定される。上記の構成によれば、吸気時間が下限吸気時間を下回る場合、すなわち、吸気時間が短すぎる場合に、タンク循環ポンプ94の回転数を低減させることで、気体導入機構96で導入される空気の量を減少させ、吸気時間の延長を図ることができる。 If the intake time is too short, it is assumed that too little water is supplied to the tank 52 or too much air is introduced by the gas introduction mechanism 96 . According to the above configuration, when the intake time is less than the lower limit intake time, that is, when the intake time is too short, the number of revolutions of the tank circulation pump 94 is reduced to reduce the amount of air introduced by the gas introduction mechanism 96. It is possible to reduce the amount and extend the inspiratory time.

1つまたはそれ以上の実施形態において、制御装置150は、微細気泡発生運転の実行中、微細気泡発生運転を停止するための停止条件が満たされるか否かを判断可能であり、停止条件が満たされる場合に、微細気泡発生運転を停止するための停止処理を実行する。制御装置150は、停止処理が実行されると、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90およびタンク循環ポンプ94を駆動した状態で気体導入弁106を開き、気体導入弁106が開いた状態で、タンク52の水位が境界水位より低いことを水位電極54によって検出した場合に、気体導入弁106を閉じ、気体導入弁106を閉じてから、第1所定時間よりも長い時間である第2所定時間が経過するまでの間、気体導入弁106が閉じた状態を維持し、第2所定時間の経過後に、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90およびタンク循環ポンプ94を停止して微細気泡発生運転を停止する。 In one or more embodiments, the controller 150 can determine whether a stop condition is met to stop the microbubble generation operation during execution of the microbubble generation operation, and if the stop condition is met. stop processing for stopping the microbubble generation operation. When the stop process is executed, the control device 150 opens the gas introduction valve 106 while driving the first pressure pump 88, the second pressure pump 90, and the tank circulation pump 94, and the gas introduction valve 106 is opened. state, when the water level electrode 54 detects that the water level in the tank 52 is lower than the boundary water level, the gas introduction valve 106 is closed, and the gas introduction valve 106 is closed for a time longer than the first predetermined time. The gas introduction valve 106 is kept closed until the second predetermined time elapses, and the first pressurizing pump 88, the second pressurizing pump 90 and the tank circulation pump 94 are stopped after the elapse of the second predetermined time. to stop the microbubble generation operation.

上記の構成によれば、水位電極54を水に浸した状態で、微細気泡発生運転を停止することができる。これにより、水位電極54におけるヌメリの発生を抑制し、タンク52の水位の誤検出を抑制できる。また、上記の構成によれば、微細気泡発生運転を停止する際、水位電極54は、通常運転時に水に浸される部分よりも上方の部分まで水に浸されている。したがって、より適切に水位電極54におけるヌメリの発生を抑制することができる。 According to the above configuration, the microbubble generating operation can be stopped while the water level electrode 54 is immersed in water. As a result, the water level electrode 54 can be prevented from becoming slimy, and erroneous detection of the water level of the tank 52 can be suppressed. Further, according to the above configuration, when the microbubble generating operation is stopped, the water level electrode 54 is immersed in water up to a portion above the portion immersed in water during normal operation. Therefore, the generation of slime in the water level electrode 54 can be suppressed more appropriately.

1つまたはそれ以上の実施形態において、制御装置150は、微細気泡発生運転の実行中、気体導入弁106が閉じた状態で、タンク52の水位が境界水位以上であることを水位電極54によって検出した場合に、気体導入弁106を開き、気体導入弁106を開いてから第3所定時間が経過するまでの間、気体導入弁106が開いた状態を維持し、第3所定時間の経過後に、気体導入弁106を閉じる。 In one or more embodiments, the controller 150 detects by the water level electrode 54 that the water level in the tank 52 is above the boundary water level with the gas introduction valve 106 closed during microbubble generation operation. In this case, the gas introduction valve 106 is opened, the gas introduction valve 106 is kept open until the third predetermined time elapses after the gas introduction valve 106 is opened, and after the third predetermined time elapses, Close the gas introduction valve 106 .

例えば、温水装置2が下側水位電極と上側水位電極を備えており、制御装置150が、タンク52の水位が下側水位と上側水位の間で推移するように気体導入弁106の開閉動作の制御を実行する場合、下側水位電極の長さを比較的長くする必要がある。この場合、温水装置2全体の重量化につながる可能性がある。上記の構成によれば、水位電極54の長さを比較的短くすることができる。このため、温水装置2全体の軽量化を図ることができる。 For example, the water heater 2 has a lower water level electrode and an upper water level electrode, and the control device 150 controls opening and closing operations of the gas introduction valve 106 so that the water level in the tank 52 changes between the lower water level and the upper water level. When performing control, the length of the lower water level electrode must be relatively long. In this case, the weight of the entire water heater 2 may be increased. According to the above configuration, the length of the water level electrode 54 can be made relatively short. Therefore, the weight of the entire water heater 2 can be reduced.

1つまたはそれ以上の実施形態において、液体は、水である。液槽は、ユーザが入浴に使用する浴槽130である。 In one or more embodiments, the liquid is water. The liquid bath is the bathtub 130 that the user uses for bathing.

上記の構成によれば、ユーザが入浴に使用する浴槽130の水に微細気泡を発生させる温水装置2において、タンク52の水位に係る情報量を低減し、気体導入弁106の開閉に係る判断処理の迅速性を確保することができる。 According to the above configuration, in the water heater 2 that generates microbubbles in the water of the bathtub 130 used by the user for bathing, the amount of information related to the water level of the tank 52 is reduced, and the determination process related to opening and closing of the gas introduction valve 106 is reduced. promptness can be ensured.

以上、実施例について詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成し得るものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。 Although the embodiments have been described in detail above, these are merely examples and are not intended to limit the scope of the claims. The technology described in the claims includes various modifications and changes of the specific examples illustrated above. The technical elements described in this specification or in the drawings exhibit technical usefulness alone or in various combinations, and are not limited to the combinations described in the claims as of the filing. In addition, the techniques exemplified in this specification or drawings can simultaneously achieve a plurality of purposes, and achieving one of them has technical utility in itself.

2 :温水装置
10 :熱源ユニット
12 :第1熱源機
14 :第2熱源機
16 :給水路
18 :出湯路
18a :出湯温度サーミスタ
20 :バイパス路
22 :バイパスサーボ
24 :注湯路
26 :弁
28 :水量センサ
30 :循環往路
30a :循環往路サーミスタ
32 :循環復路
32a :循環復路サーミスタ
34 :浴槽循環ポンプ
36 :水流スイッチ
50 :空気加圧溶解ユニット
52 :タンク
54 :水位電極
60 :熱源復路
62 :第1浴槽水路
64 :タンク往路
66 :連通路
68 :熱源往路
70 :第2浴槽水路
74 :タンク復路
74a :給水口
80 :第1三方弁
82 :第2三方弁
84 :逆止弁
86 :タンク給水弁
88 :第1加圧ポンプ
90 :第2加圧ポンプ
92 :タンク循環路
92a :流出口
94 :タンク循環ポンプ
96 :気体導入機構
98 :入水管
100 :出水管
102 :ベンチュリ管
104 :気体導入路
104a :気体導入口
106 :気体導入弁
130 :浴槽
130a :壁部
132 :浴槽アダプタ
132a :前面
132b :下面
134a :第1吐出口
134b :第1吸込口
134c :第2吸込口
134d :第2吐出口
136 :第1水路
136a :第1吐出路
136b :第1吸込路
138 :第2水路
138a :第2吐出路
138b :第2吸込路
140a、140b、140c、140d :逆止部
142 :微細気泡発生ノズル
150 :制御装置
152 :メモリ
154 :リモコン
200 :給水源
250 :カラン
2: Water heater 10 : Heat source unit 12 : First heat source device 14 : Second heat source device 16 : Water supply path 18 : Hot water outlet path 18 a : Hot water outlet temperature thermistor 20 : Bypass path 22 : Bypass servo 24 : Hot water pour path 26 : Valve 28 : water quantity sensor 30 : outward circulation path 30a : outward circulation path thermistor 32 : return path 32a : return circulation thermistor 34 : bathtub circulation pump 36 : water flow switch 50 : air pressure dissolving unit 52 : tank 54 : water level electrode 60 : heat source return path 62 : 1st bathtub water passage 64 : tank outward passage 66 : communication passage 68 : heat source outward passage 70 : second bathtub passage 74 : tank return passage 74 a : water supply port 80 : first three-way valve 82 : second three-way valve 84 : check valve 86 : tank Water supply valve 88: first pressure pump 90: second pressure pump 92: tank circulation path 92a: outflow port 94: tank circulation pump 96: gas introduction mechanism 98: water inlet pipe 100: water outlet pipe 102: venturi pipe 104: gas Introduction path 104a : Gas introduction port 106 : Gas introduction valve 130 : Bathtub 130a : Wall portion 132 : Bathtub adapter 132a : Front surface 132b : Bottom surface 134a : First discharge port 134b : First suction port 134c : Second suction port 134d : Third 2 discharge port 136: first water channel 136a: first discharge channel 136b: first suction channel 138: second water channel 138a: second discharge channel 138b: second suction channels 140a, 140b, 140c, 140d: non-return portion 142: Microbubble generating nozzle 150 : Control device 152 : Memory 154 : Remote control 200 : Water supply source 250 : Callan

Claims (10)

液体に気体を加圧溶解するタンクと、
前記タンクに前記液体を供給するタンク供給路と、
前記タンク供給路に設けられた加圧ポンプと、
前記タンクから液槽に前記気体が加圧溶解された前記液体を排出するタンク排出路と、
前記タンク排出路に設けられており、前記気体が加圧溶解された前記液体を減圧して微細気泡を発生させる微細気泡発生ノズルと、
前記タンク排出路とは別個に設けられており、前記タンクに接続された流出口から前記タンクに接続された流入口に前記液体を送るタンク循環路と、
前記タンク循環路に設けられたタンク循環ポンプと、
前記タンク循環路に設けられた気体導入機構と、
前記タンクの液位が所定液位以上であるか否かを検出可能な液位電極と、
制御装置と、を備えており、
前記気体導入機構は、
前記液体を減圧して通過させる減圧部と、
前記減圧部における前記液体の負圧によって前記気体を導入する気体導入口と、
前記気体導入口を開閉する気体導入弁と、を備えており、
前記制御装置は、
前記加圧ポンプを駆動して前記タンク供給路から前記タンクへ前記液体を加圧して供給するとともに、前記タンクから前記タンク排出路を介して前記液槽へ前記気体が加圧溶解された前記液体を供給する、微細気泡発生運転を実行可能であり、
前記微細気泡発生運転の実行中、
前記タンク循環ポンプを駆動して前記タンクの前記液体を前記タンク循環路で循環させることで、前記気体導入口から導入される前記気体を前記タンクに供給し、
前記液位電極によって検出される前記タンクの液位が所定液位以上であるか否かに係る情報に基づいて、前記気体導入弁の開閉動作を制御する、微細気泡発生装置。
a tank for pressurizing and dissolving a gas in a liquid;
a tank supply path for supplying the liquid to the tank;
a pressurizing pump provided in the tank supply channel;
a tank discharge path for discharging the liquid in which the gas is pressurized and dissolved from the tank to the liquid tank;
a microbubble generating nozzle provided in the tank discharge passage for generating microbubbles by depressurizing the liquid in which the gas is pressurized and dissolved;
a tank circulation path provided separately from the tank discharge path for sending the liquid from an outlet connected to the tank to an inlet connected to the tank;
a tank circulation pump provided in the tank circulation path;
a gas introduction mechanism provided in the tank circulation path;
a liquid level electrode capable of detecting whether the liquid level in the tank is equal to or higher than a predetermined liquid level;
a control device and
The gas introduction mechanism is
a decompression unit for decompressing and passing the liquid;
a gas introduction port for introducing the gas by the negative pressure of the liquid in the decompression unit;
a gas introduction valve that opens and closes the gas introduction port,
The control device is
The pressure pump is driven to pressurize and supply the liquid from the tank supply passage to the tank, and the liquid in which the gas is pressurized and dissolved from the tank to the liquid tank through the tank discharge passage. can be executed to generate microbubbles,
During execution of the fine bubble generation operation,
By driving the tank circulation pump and circulating the liquid in the tank in the tank circulation path, the gas introduced from the gas inlet is supplied to the tank,
A micro-bubble generator for controlling the opening/closing operation of the gas introduction valve based on information indicating whether or not the liquid level in the tank detected by the liquid level electrode is equal to or higher than a predetermined liquid level.
前記制御装置は、
前記微細気泡発生運転の実行中、
前記気体導入弁が開いた状態で、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出した場合に、前記気体導入弁を閉じ、
前記気体導入弁を閉じてから第1所定時間が経過するまでの間、前記気体導入弁が閉じた状態を維持し、
前記第1所定時間の経過後に、前記気体導入弁を開く、請求項1の微細気泡発生装置。
The control device is
During execution of the fine bubble generation operation,
closing the gas introduction valve when the liquid level electrode detects that the liquid level in the tank is lower than the predetermined liquid level while the gas introduction valve is open;
maintaining the closed state of the gas introduction valve until a first predetermined time elapses after the gas introduction valve is closed;
2. The microbubble generator according to claim 1, wherein said gas introduction valve is opened after said first predetermined time has elapsed.
前記制御装置は、
前記微細気泡発生運転の実行中、
前記閉じた状態にある前記気体導入弁を開いてから、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出して前記気体導入弁を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、
前記吸気時間が上限吸気時間を上回る場合に、その後に前記加圧ポンプを駆動する際の前記加圧ポンプの回転数を低減させる、請求項2の微細気泡発生装置。
The control device is
During execution of the fine bubble generation operation,
Inspiratory time is the elapsed time from opening the gas introduction valve in the closed state to closing the gas introduction valve upon detection by the liquid level electrode that the liquid level in the tank is lower than the predetermined liquid level. identified as
3. The microbubble generator according to claim 2, wherein when said intake time exceeds the upper limit intake time, the number of revolutions of said pressurizing pump when said pressurizing pump is driven after that is reduced.
前記制御装置は、
前記微細気泡発生運転の実行中、
前記閉じた状態にある前記気体導入弁を開いてから、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出して前記気体導入弁を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、
前記吸気時間が下限吸気時間を下回る場合に、その後に前記加圧ポンプを駆動する際の前記加圧ポンプの前記回転数を増加させる、請求項2または3の微細気泡発生装置。
The control device is
During execution of the fine bubble generation operation,
Inspiratory time is the elapsed time from opening the gas introduction valve in the closed state to closing the gas introduction valve upon detection by the liquid level electrode that the liquid level in the tank is lower than the predetermined liquid level. identified as
4. The fine bubble generator according to claim 2 or 3, wherein when said intake time falls below the lower limit intake time, said rotation speed of said pressurizing pump when driving said pressurizing pump is increased thereafter.
前記制御装置は、
前記微細気泡発生運転の実行中、
前記閉じた状態にある前記気体導入弁を開いてから、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出して前記気体導入弁を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、
前記吸気時間が上限吸気時間を上回る場合に、その後に前記気体導入弁が開いた状態で前記タンク循環ポンプを駆動する際の前記タンク循環ポンプの回転数を増加させる、請求項2から4の何れか一項の微細気泡発生装置。
The control device is
During execution of the fine bubble generation operation,
Inspiratory time is the elapsed time from opening the gas introduction valve in the closed state to closing the gas introduction valve upon detection by the liquid level electrode that the liquid level in the tank is lower than the predetermined liquid level. identified as
5. The method according to any one of claims 2 to 4, wherein when the intake time exceeds the upper limit intake time, the rotation speed of the tank circulation pump is increased when the tank circulation pump is driven with the gas introduction valve open. or one item of microbubble generator.
前記制御装置は、
前記微細気泡発生運転の実行中、
前記閉じた状態にある前記気体導入弁を開いてから、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出して前記気体導入弁を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、
前記吸気時間が下限吸気時間を下回る場合に、その後に前記気体導入弁が開いた状態で前記タンク循環ポンプを駆動する際の前記タンク循環ポンプの前記回転数を低減させる、請求項2から5の何れか一項の微細気泡発生装置。
The control device is
During execution of the fine bubble generation operation,
Inspiratory time is the elapsed time from opening the gas introduction valve in the closed state to closing the gas introduction valve upon detection by the liquid level electrode that the liquid level in the tank is lower than the predetermined liquid level. identified as
6. The method according to any one of claims 2 to 5, wherein, when the intake time falls below the lower limit intake time, the rotation speed of the tank circulation pump is reduced when the tank circulation pump is driven with the gas introduction valve open. The microbubble generator according to any one of the items.
前記制御装置は、
前記微細気泡発生運転の実行中、
前記微細気泡発生運転を停止するための停止条件が満たされるか否かを判断可能であり、
前記停止条件が満たされる場合に、前記微細気泡発生運転を停止するための停止処理を実行し、
前記停止処理が実行されると、
前記加圧ポンプおよび前記タンク循環ポンプを駆動した状態で前記気体導入弁を開き、
前記気体導入弁が開いた状態で、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出した場合に、前記気体導入弁を閉じ、
前記気体導入弁を閉じてから、前記第1所定時間よりも長い時間である第2所定時間が経過するまでの間、前記気体導入弁が閉じた状態を維持し、
前記第2所定時間の経過後に、前記加圧ポンプおよび前記タンク循環ポンプを停止して前記微細気泡発生運転を停止する、請求項2から6の何れか一項の微細気泡発生装置。
The control device is
During execution of the fine bubble generation operation,
It is possible to determine whether a stop condition for stopping the fine bubble generation operation is satisfied,
When the stop condition is satisfied, executing stop processing for stopping the microbubble generation operation;
When the stop processing is executed,
opening the gas introduction valve with the pressure pump and the tank circulation pump being driven;
closing the gas introduction valve when the liquid level electrode detects that the liquid level in the tank is lower than the predetermined liquid level while the gas introduction valve is open;
maintaining the closed state of the gas introduction valve until a second predetermined time longer than the first predetermined time elapses after the gas introduction valve is closed;
7. The microbubble generating device according to any one of claims 2 to 6, wherein the pressurizing pump and the tank circulation pump are stopped to stop the microbubble generating operation after the second predetermined time has elapsed.
前記制御装置は、
前記微細気泡発生運転の実行中、
前記気体導入弁が閉じた状態で、前記タンクの液位が前記所定液位以上であることを前記液位電極によって検出した場合に、前記気体導入弁を開き、
前記気体導入弁を開いてから第3所定時間が経過するまでの間、前記気体導入弁が開いた状態を維持し、
前記第3所定時間の経過後に、前記気体導入弁を閉じる、請求項1の微細気泡発生装置。
The control device is
During execution of the fine bubble generation operation,
opening the gas introduction valve when the liquid level electrode detects that the liquid level in the tank is equal to or higher than the predetermined liquid level while the gas introduction valve is closed;
maintaining the open state of the gas introduction valve until a third predetermined time elapses after the gas introduction valve is opened;
2. The microbubble generator according to claim 1, wherein said gas introduction valve is closed after said third predetermined time has elapsed.
液体に気体を加圧溶解するタンクと、
前記タンクに前記液体を供給するタンク供給路と、
前記タンク供給路に設けられた加圧ポンプと、
前記タンクから液槽に前記気体が加圧溶解された前記液体を排出するタンク排出路と、
前記タンク排出路に設けられており、前記気体が加圧溶解された前記液体を減圧して微細気泡を発生させる微細気泡発生ノズルと、
前記タンク排出路とは別個に設けられており、前記タンクに接続された流出口から前記タンクに接続された流入口に前記液体を送るタンク循環路と、
前記タンク循環路に設けられたタンク循環ポンプと、
前記タンク循環路に設けられた気体導入機構と、
前記タンクの液位が所定液位以上であるか否かを検出可能な単一の液位電極と、
制御装置を備えており、
前記気体導入機構は、
前記液体を減圧して通過させる減圧部と、
前記減圧部における前記液体の負圧によって前記気体を導入する気体導入口と、
前記気体導入口を開閉する気体導入弁と、を備えており、
前記制御装置は、
前記加圧ポンプを駆動して前記タンク供給路から前記タンクへ前記液体を加圧して供給するとともに、前記タンクから前記タンク排出路を介して前記液槽へ前記気体が加圧溶解された前記液体を供給する、微細気泡発生運転を実行可能であり、
前記微細気泡発生運転の実行中、
前記タンク循環ポンプを駆動して前記タンクの前記液体を前記タンク循環路で循環させることで、前記気体導入口から導入される前記気体を前記タンクに供給し、
前記単一の液位電極によって検出される前記タンクの液位が所定液位以上であるか否かに係る情報に基づいて、前記気体導入弁の開閉動作を制御する、微細気泡発生装置。
a tank for pressurizing and dissolving a gas in a liquid;
a tank supply path for supplying the liquid to the tank;
a pressurizing pump provided in the tank supply channel;
a tank discharge path for discharging the liquid in which the gas is pressurized and dissolved from the tank to the liquid tank;
a microbubble generating nozzle provided in the tank discharge passage for generating microbubbles by depressurizing the liquid in which the gas is pressurized and dissolved;
a tank circulation path provided separately from the tank discharge path for sending the liquid from an outlet connected to the tank to an inlet connected to the tank;
a tank circulation pump provided in the tank circulation path;
a gas introduction mechanism provided in the tank circulation path;
a single liquid level electrode capable of detecting whether the liquid level in the tank is equal to or higher than a predetermined liquid level;
Equipped with a control device,
The gas introduction mechanism is
a decompression unit for decompressing and passing the liquid;
a gas introduction port for introducing the gas by the negative pressure of the liquid in the decompression unit;
a gas introduction valve that opens and closes the gas introduction port,
The control device is
The pressure pump is driven to pressurize and supply the liquid from the tank supply passage to the tank, and the liquid in which the gas is pressure-dissolved from the tank through the tank discharge passage to the liquid tank. can be executed to generate microbubbles,
During execution of the fine bubble generation operation,
By driving the tank circulation pump and circulating the liquid in the tank in the tank circulation path, the gas introduced from the gas inlet is supplied to the tank,
A micro-bubble generator for controlling the opening/closing operation of the gas introduction valve based on information as to whether or not the liquid level in the tank detected by the single liquid level electrode is equal to or higher than a predetermined liquid level.
前記液体が、水であり、
前記液槽が、ユーザが入浴に使用する浴槽である、請求項1から9の何れか一項の微細気泡発生装置。

the liquid is water,
10. The microbubble generator according to any one of claims 1 to 9, wherein the liquid bath is a bathtub used by a user for bathing.

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