KR20230010558A - Edge exposure aparatus - Google Patents

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KR20230010558A
KR20230010558A KR1020210091254A KR20210091254A KR20230010558A KR 20230010558 A KR20230010558 A KR 20230010558A KR 1020210091254 A KR1020210091254 A KR 1020210091254A KR 20210091254 A KR20210091254 A KR 20210091254A KR 20230010558 A KR20230010558 A KR 20230010558A
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Abstract

According to the present embodiments, provided is a peripheral exposure apparatus in which uniformity of light quantity is increased and threshold line quality is improved by minimizing light loss. The peripheral exposure apparatus comprises: a light source part; a body tube part; and a tubular reflector.

Description

주변 노광 장치{EDGE EXPOSURE APARATUS}Peripheral exposure device {EDGE EXPOSURE APARATUS}

본 실시예들은 주변 노광 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 광 손실을 최소화함으로써 광량의 균일도가 상승하고 임계 선도 품질이 개선되는 주변 노광 장치에 관한 것이다.The present embodiments relate to peripheral exposure apparatuses, and more particularly, to peripheral exposure apparatuses in which light loss uniformity is increased and threshold line quality is improved by minimizing light loss.

본 실시예들은 다음과 같은 과제의 지원을 받았다.The present embodiments were supported by the following challenges.

Figure pat00001
Figure pat00001

반도체 또는 디스플레이 제조이 있어서 핵심공정이라 할 수 있는 노광공정은 웨이퍼 상에 적절한 파장의 빛과 마스크를 이용하여 특정 패턴을 형성하는 공정이다. 즉, 웨이퍼의 표면에 감광액(Photo resist; PR)을 도포하고 감광액층에 마스크를 통하여 노광 및 현상함으로써 웨이퍼 상에 회로 패턴이 형성된다.An exposure process, which can be called a core process in semiconductor or display manufacturing, is a process of forming a specific pattern on a wafer using light of an appropriate wavelength and a mask. That is, a circuit pattern is formed on the wafer by coating a photoresist (PR) on the surface of the wafer, exposing and developing the photoresist layer through a mask.

웨이퍼의 표면에 감광액을 도포하는 방법으로서는 웨이퍼 중심부에 감광액을 공급하고 웨이퍼를 회전시킴으로써 원심력에 의해 표면 전체에 고르게 감광액을 도포하는 코팅법이 흔히 사용된다.As a method of coating the photoresist on the surface of a wafer, a coating method is commonly used in which the photoresist is supplied to the center of the wafer and the photoresist is evenly applied to the entire surface by centrifugal force by rotating the wafer.

일반적으로 웨이퍼는 원형으로 형성되기 때문에 주변부 내지는 가장자리부는 감광액이 도포되더라도 회로 패턴이 형성되지 않는데, 이러한 주변부에 감광액을 남겨두면 이후 웨이퍼의 이송 등의 공정에서 주변부에 도포된 감광액이 벗겨지며 파티클이 발생되어 수율을 저하시키는 문제가 있다.In general, wafers are formed in a circular shape, so circuit patterns are not formed even when photoresist is applied to the periphery or edge. If the photoresist is left on such a periphery, the photoresist applied to the periphery is peeled off and particles are generated during a process such as wafer transfer. There is a problem of lowering the yield.

이러한 문제점을 해결하기 위해 웨이퍼의 주변부에 도포된 감광액을 제거하기 위한 주변 노광 공정이 필수적으로 수행되는데, 종래의 주변 노광 장치는 대부분 간접조사 방식을 채택함에 따라 광 손실이 발생하여 광량이 낮고 광이 균일하게 조사되지 못해 그림자가 발생하며 노광 품질이 불량한 문제가 있었다.In order to solve this problem, a peripheral exposure process for removing the photoresist applied to the periphery of the wafer is essentially performed. As most of the conventional peripheral exposure devices adopt an indirect irradiation method, light loss occurs, resulting in low light intensity and low light intensity. There was a problem that shadows were generated because the irradiation was not uniform, and the exposure quality was poor.

또한, 특히 기존 OLED 디스플레이 공정에서는 UV 램프를 적용한 노광 장치를 주로 사용하였는데, UV 램프는 수명이 짧아 교체주기가 잦고 유지보수가 어려우며, 온오프 작동 시 많은 시간이 소요되어 검사효율이 떨어지고, 사용 시 오존 및 수은을 발생시켜 환경오염을 초래하는 문제가 있었다.In addition, in particular, in the existing OLED display process, UV lamp-applied exposure devices were mainly used. UV lamps have a short life span, so the replacement cycle is frequent and maintenance is difficult. There was a problem of causing environmental pollution by generating ozone and mercury.

본 실시예들은 전술한 배경에서 안출된 것으로서, 광 손실을 최소화함으로써 광량의 균일도가 상승하고 임계 선도 품질이 개선되는 주변 노광 장치에 관한 것이다.The present embodiments have been devised from the foregoing background, and relate to a peripheral exposure apparatus in which the uniformity of light quantity is increased and the quality of a critical line is improved by minimizing light loss.

본 실시예들에 의하면, 복수의 단위 광원 및 복수의 단위 광원의 광을 집속시키는 렌즈를 포함하는 광원부, 광원부에서의 광이 입사되는 입사부 및 입사부로 입사된 광이 출사되는 출사부를 포함하는 경통부, 경통부에 수용되며 양단이 개구되어, 입사부로 입사된 광을 내측에서 반사시키며 출사부로 안내하는 관형 리플렉터를 포함하는 주변 노광 장치가 제공될 수 있다.According to the present embodiments, a barrel unit including a light source unit including a plurality of unit light sources and a lens for concentrating the light of the plurality of unit light sources, an incident unit through which light from the light source unit is incident, and an output unit through which light incident to the incident unit is emitted. , A peripheral exposure apparatus including a tubular reflector accommodated in the barrel and having both ends open to reflect light incident from the incident part from the inside and guide it to the output part.

본 실시예들에 의하면, 광 손실을 최소화함으로써 광량의 균일도가 상승하고 임계 선도 품질이 개선되는 주변 노광 장치가 제공될 수 있다.According to the present embodiments, by minimizing light loss, a peripheral exposure apparatus in which uniformity of light quantity is increased and threshold line quality is improved can be provided.

도 1은 본 실시예들에 의한 주변 노광 장치의 사시도이다.
도 2는 도 1의 단면도이다.
도 3 내지 도 4는 도 1의 일부에 대한 사시도이다.
도 5는 본 실시예들에 의한 주변 노광 장치의 내부에서의 광경로를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 6 내지 도 8은 본 실시예들에 따른 주변 노광 장치의 광 균일도를 설명하기 위한 도면이다.
도 9는 종래의 주변 노광 장치에서의 광경로를 개략적으로 나타낸 도면이다.1 is a perspective view of a peripheral exposure apparatus according to the present embodiments.
Figure 2 is a cross-sectional view of Figure 1;
3 and 4 are perspective views of parts of FIG. 1 .
5 is a diagram schematically showing an optical path inside the peripheral exposure apparatus according to the present embodiments.
6 to 8 are diagrams for explaining light uniformity of the peripheral exposure apparatus according to the present embodiments.
9 is a diagram schematically showing an optical path in a conventional peripheral exposure apparatus.

이하, 본 개시의 일부 실시예들을 예시적인 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성 요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가질 수 있다. 또한, 본 실시예들을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 기술 사상의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략할 수 있다. 본 명세서 상에서 언급된 "포함한다", "갖는다", "이루어진다" 등이 사용되는 경우 "~만"이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별한 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함할 수 있다.DETAILED DESCRIPTION Some embodiments of the present disclosure are described in detail below with reference to exemplary drawings. In adding reference numerals to components of each drawing, the same components may have the same numerals as much as possible even if they are displayed on different drawings. In addition, in describing the present embodiments, if it is determined that a detailed description of a related known configuration or function may obscure the gist of the present technical idea, the detailed description may be omitted. When "comprises", "has", "consists of", etc. mentioned in this specification is used, other parts may be added unless "only" is used. In the case where a component is expressed in the singular, it may include the case of including the plural unless otherwise explicitly stated.

또한, 본 개시의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제1, 제2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질, 차례, 순서 또는 개수 등이 한정되지 않는다. Also, terms such as first, second, A, B, (a), and (b) may be used in describing the components of the present disclosure. These terms are only used to distinguish the component from other components, and the nature, sequence, order, or number of the corresponding component is not limited by the term.

구성 요소들의 위치 관계에 대한 설명에 있어서, 둘 이상의 구성 요소가 "연결", "결합" 또는 "접속" 등이 된다고 기재된 경우, 둘 이상의 구성 요소가 직접적으로 "연결", "결합" 또는 "접속" 될 수 있지만, 둘 이상의 구성 요소와 다른 구성 요소가 더 "개재"되어 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 여기서, 다른 구성 요소는 서로 "연결", "결합" 또는 "접속" 되는 둘 이상의 구성 요소 중 하나 이상에 포함될 수도 있다. In the description of the positional relationship of components, when it is described that two or more components are "connected", "coupled" or "connected", the two or more components are directly "connected", "coupled" or "connected". ", but it will be understood that two or more components and other components may be further "interposed" and "connected", "coupled" or "connected". Here, other components may be included in one or more of two or more components that are “connected”, “coupled” or “connected” to each other.

구성 요소들이나, 동작 방법이나 제작 방법 등과 관련한 시간적 흐름 관계에 대한 설명에 있어서, 예를 들어, "~후에", "~에 이어서", "~다음에", "~전에" 등으로 시간적 선후 관계 또는 흐름적 선후 관계가 설명되는 경우, "바로" 또는 "직접"이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.In the description of the temporal flow relationship related to components, operation methods, production methods, etc., for example, "after", "continued to", "after", "before", etc. Alternatively, when a flow sequence relationship is described, it may also include non-continuous cases unless “immediately” or “directly” is used.

한편, 구성 요소에 대한 수치 또는 그 대응 정보(예: 레벨 등)가 언급된 경우, 별도의 명시적 기재가 없더라도, 수치 또는 그 대응 정보는 각종 요인(예: 공정상의 요인, 내부 또는 외부 충격, 노이즈 등)에 의해 발생할 수 있는 오차 범위를 포함하는 것으로 해석될 수 있다.On the other hand, when a numerical value or corresponding information (eg, level, etc.) for a component is mentioned, even if there is no separate explicit description, the numerical value or its corresponding information is not indicated by various factors (eg, process factors, internal or external shocks, noise, etc.) may be interpreted as including an error range that may occur.

도 1은 본 실시예들에 의한 주변 노광 장치의 사시도, 도 2는 도 1의 단면도, 도 3 내지 도 4는 도 1의 일부에 대한 사시도, 도 5는 본 실시예들에 의한 주변 노광 장치의 내부에서의 광경로를 개략적으로 나타낸 도면, 도 6 내지 도 8은 본 실시예들에 따른 주변 노광 장치의 광 균일도를 설명하기 위한 도면, 도 9는 종래의 주변 노광 장치에서의 광경로를 개략적으로 나타낸 도면이다.1 is a perspective view of a peripheral exposure device according to the present embodiments, FIG. 2 is a cross-sectional view of FIG. 1, FIGS. 3 and 4 are perspective views of a part of FIG. 1, and FIG. 5 is a peripheral exposure device according to the present embodiments. Figures 6 to 8 are diagrams schematically showing light paths in the interior, FIGS. 6 to 8 are views for explaining light uniformity of the peripheral exposure apparatus according to the present embodiments, and FIG. 9 is a schematic diagram of an optical path in a conventional peripheral exposure apparatus. is the drawing shown.

도 1 내지 도 4를 참고하여 살펴보면, 본 실시예들에 의한 주변 노광 장치(100)는, 복수의 단위 광원(221) 및 복수의 단위 광원(221)의 광을 집속시키는 렌즈(222)를 포함하는 광원부(110), 광원부(110)에서의 광이 입사되는 입사부(212) 및 입사부(212)로 입사된 광이 출사되는 출사부(121)를 포함하는 경통부(120), 경통부(120)에 수용되며 양단이 개구되어, 입사부(212)로 입사된 광을 내측에서 반사시키며 출사부(121)로 안내하는 관형 리플렉터(210)를 포함한다.Referring to FIGS. 1 to 4 , the peripheral exposure apparatus 100 according to the present embodiments includes a plurality of unit light sources 221 and a lens 222 concentrating the light of the plurality of unit light sources 221 . The barrel part 120 including the light source unit 110, the incident part 212 into which light from the light source part 110 is incident, and the output part 121 into which the light incident to the incident part 212 is emitted, the barrel part 120 ) and both ends are open, and includes a tubular reflector 210 that reflects light incident to the incident part 212 from the inside and guides it to the emission part 121.

본 실시예들에 의한 주변 노광 장치(100)는 출사부(121)를 통해 광을 조사하며, 조사되는 광이 마스크를 거쳐 웨이퍼로 공급됨으로써 주변 노광 공정이 수행된다. 광원부(110)는 복수의 단위 광원(221), 렌즈(222) 등을 수용하는 하우징 및 하우징의 내부에서 복수의 단위 광원(221), 렌즈(222) 등을 지지하는 프레임을 포함한다. 하우징은 대략 직육면체의 형상을 가질 수 있으며, 복수의 단위 광원(221)에서 방출되는 열을 방열하기 위한 구조 및 재질을 가진다. 예를 들어, 하우징은 알루미늄과 같이 열전도성이 높은 재질로 형성될 수 있다. 또한, 광원부(110)는 복수의 단위 광원(221)에서 발생하는 열을 흡수하고 방출하기 위한 히트싱크(223) 및 송풍팬를 더 포함할 수 있다. 도면에 도시된 바와 같이, 복수의 단위 광원(221)이 히트싱크(223)에 직접 면접촉됨으로써 히트싱크(223)가 보다 효율적으로 복수의 단위 광원(221)에서 발생하는 열을 흡수하고 방출할 수 있다.The peripheral exposure apparatus 100 according to the present exemplary embodiments emits light through the emitting unit 121 and supplies the irradiated light to a wafer through a mask, thereby performing a peripheral exposure process. The light source unit 110 includes a housing accommodating a plurality of unit light sources 221 and lenses 222, and a frame supporting a plurality of unit light sources 221 and lenses 222 inside the housing. The housing may have a substantially rectangular parallelepiped shape, and has a structure and material for dissipating heat emitted from the plurality of unit light sources 221 . For example, the housing may be formed of a material having high thermal conductivity such as aluminum. In addition, the light source unit 110 may further include a heat sink 223 and a blowing fan for absorbing and discharging heat generated from the plurality of unit light sources 221 . As shown in the figure, since the plurality of unit light sources 221 are in direct surface contact with the heat sink 223, the heat sink 223 can absorb and dissipate heat generated from the plurality of unit light sources 221 more efficiently. can

복수의 단위 광원(221)은 열과 행을 이루어 배치된다. 일 실시예에 의하면, 복수의 단위 광원(221)은 동일한 개수의 열과 행으로 배치될 수 있다(도 7의 (A) 참조). 일 실시예에 의하면, 복수의 단위광원은 9×9나 10×10으로 배치될 수 있으며, 또는 16×16으로도 배치될 수 있다. 각각의 단위 광원(221)은 독립적으로 구동될 수 있다. 즉, 복수의 단위 광원(221)의 온오프를 제어하는 제어부는 단위 광원(221) 각각을 온오프시킬 수 있으며, 온 또는 오프되는 단위 광원(221)의 개수에 따라 복수의 단위 광원(221)에서 방출되는 광량을 조절할 수 있다.A plurality of unit light sources 221 are arranged in columns and rows. According to an embodiment, the plurality of unit light sources 221 may be arranged in the same number of columns and rows (see (A) of FIG. 7 ). According to an embodiment, the plurality of unit light sources may be arranged in a 9×9 or 10×10, or 16×16. Each unit light source 221 may be independently driven. That is, the control unit for controlling the on/off of the plurality of unit light sources 221 may turn each unit light source 221 on or off, and the plurality of unit light sources 221 may be turned on or off according to the number of unit light sources 221 being turned on or off. The amount of light emitted can be adjusted.

일 실시예에 의하면, 단위 광원은 UV LED일 수 있다. UV LED는 노광 공정에 필요한 자외선 영역의 광을 방출하며, 예를 들어 365nm, 405nm, 또는 436nm 파장의 광을 방출할 수 있다. UV LED를 사용함으로써 종래 UV 램프 대비 에너지 효율이 향상되고 수명이 증가하며, 오존이나 수은이 발생하지 않아 친환경적이다.According to one embodiment, the unit light source may be a UV LED. The UV LED emits light in the ultraviolet region required for an exposure process, and may emit light having a wavelength of 365 nm, 405 nm, or 436 nm, for example. By using UV LED, energy efficiency is improved and lifespan is increased compared to conventional UV lamps, and it is eco-friendly because ozone or mercury is not generated.

복수의 단위 광원(221)에서 방출되는 광은 렌즈(222)에 의해 집속되며 경통부(120)의 입사부(212)로 입사된다. 일 실시예에 의하면, 렌즈(222)는 플라이 아이 렌즈일 수 있다. 플라이 아이 렌즈는 복수의 단위 광원(221)에 방출되는 광을 집속시켜 균일성을 향상시킨다.Light emitted from the plurality of unit light sources 221 is focused by the lens 222 and is incident to the incident part 212 of the barrel part 120 . According to one embodiment, lens 222 may be a fly eye lens. The fly's eye lens improves uniformity by focusing light emitted from the plurality of unit light sources 221 .

또한, 입사부(212)로 입사된 광은 리플렉터(210)를 통과하며 출사부(121)로 출사되는데, 리플렉터(210)의 내부에서 광이 리플렉터(210)의 내측면에 반사되며 전진함에 따라 보다 균일한 광을 형성할 수 있게 된다.In addition, the light incident to the incident part 212 passes through the reflector 210 and is emitted to the emitting part 121. In the inside of the reflector 210, the light is reflected on the inner surface of the reflector 210 and moves forward. A more uniform light can be formed.

경통부(120)는 광원부(110)에서 방출되는 광이 입사되는 입사부(212)와 입사부(212)로 입사된 광이 출사되는 출사부(121)를 포함한다. 경통부(120)는 대략 직육면체 형상으로 형성되며, 일단과 타단에 각각 입사부(212)와 출사부(121)를 형성하는 프레임(211,214)이 구비된다. 리플렉터(210)는 관형으로 형성되어 경통부(120)의 내부에 수용된다. 리플렉터(210)는 양단이 개구되며, 리플렉터(210)의 일단은 도면에 도시된 바와 같이 입사부(212)에 삽입되어 경통부(120)로부터 돌출될 수 있으며, 리플렉터(210)의 타단은 출사부(121)를 형성하는 프레임(214)의 내측면에 결합될 수 있다. 따라서, 광원부(110)에서 방출되는 광은 리플렉터(210)의 일단을 통해 입사부(212)로 입사되고 리플렉터(210)의 타단을 통해 출사부(121)에서 출사될 수 있다. 또한, 경통부(120)에는 리플렉터(210)의 중단을 지지하는 지지프레임(213)이 구비될 수 있다. 입사부(212)와 출사부(121)는 사각형상으로 형성될 수 있으며, 그에 따라 리플렉터(210)도 사각형의 단면을 가지게 형성될 수 있다.The barrel part 120 includes an incident part 212 through which light emitted from the light source part 110 is incident and an emission part 121 through which light incident into the incident part 212 is emitted. The barrel part 120 is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape, and frames 211 and 214 forming the input part 212 and the output part 121 are provided at one end and the other end, respectively. The reflector 210 is formed in a tubular shape and accommodated inside the barrel part 120 . Both ends of the reflector 210 are open, and one end of the reflector 210 is inserted into the incident part 212 to protrude from the barrel part 120 as shown in the drawing, and the other end of the reflector 210 is an exit part. It may be coupled to the inner surface of the frame 214 forming (121). Accordingly, light emitted from the light source unit 110 may be incident to the incident part 212 through one end of the reflector 210 and emitted from the emission part 121 through the other end of the reflector 210 . In addition, a support frame 213 supporting the stop of the reflector 210 may be provided in the barrel part 120 . The incident part 212 and the emission part 121 may be formed in a rectangular shape, and accordingly, the reflector 210 may also be formed to have a rectangular cross section.

리플렉터(210)는 단면적이 일단에서 타단으로 갈수록 증가하게 형성될 수 있다. 즉, 입사부(212)는 출사부(121)보다 작게 형성되며, 그에 따라 리플렉터(210)는 입사부(212)와 연결되는 일단의 단면적이 출사부(121)와 연결되는 타단의 단면적보다 작게 형성될 수 있다. 리플렉터(210)의 단면적은 일단에서 타단으로 갈수록 선형적으로 증가할 수 있다.The reflector 210 may be formed so that its cross-sectional area increases from one end to the other end. That is, the incident part 212 is formed smaller than the emission part 121, and accordingly, in the reflector 210, the cross-sectional area of one end connected to the incident part 212 is smaller than the cross-sectional area of the other end connected to the emission part 121. can be formed A cross-sectional area of the reflector 210 may increase linearly from one end to the other end.

도 5를 참고하여 살펴보면, 리플렉터(210)의 내부로 입사된 광은 리플렉터(210)의 내측면에서 반사되며 출사부(121)로 안내된다. 리플렉터(210)의 내부에서 광은 내부반사 및 전반사되며 안내된다. 도 6은 본 실시예들에 의한 주변 노광 장치(100)에 의해 조사되는 광의 균일도를 나타내는 도면으로서, x 방향 및 y 방향으로 매우 균일한 광이 조사됨을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 5 , light incident to the inside of the reflector 210 is reflected from the inner surface of the reflector 210 and guided to the emitting unit 121 . Inside the reflector 210, light is guided through internal reflection and total reflection. 6 is a diagram showing the uniformity of light emitted by the peripheral exposure apparatus 100 according to the present embodiments, and it can be seen that very uniform light is emitted in the x-direction and the y-direction.

도 9를 참고하여 살펴보면, 종래의 주변 노광 장치와 같이 플라이 아이 렌즈(901)만을 이용하여 균일한 광을 형성하는 경우 플라이 아이 렌즈(901)를 통과한 광이 퍼지며 광 손실이 발생하고 정밀한 노광을 수행하기 어려운 문제가 있다. 또한, 종래의 주변 노광 장치는 간접조사 방식을 적용하여 노광 시 그림자(그레이 존)가 발생하는 한계가 있는데, 다시 말해 조사되는 광의 강도가 웨이퍼의 중심에 가까워질수록 점진적으로 낮아지며 주변 노광을 수행하는 영역과 회로 패턴을 형성하는 영역의 경계가 불분명한 낮은 임계 선폭 품질을 가지는 한계가 있다.Referring to FIG. 9 , when uniform light is formed using only the fly-eye lens 901 as in the conventional peripheral exposure apparatus, the light passing through the fly-eye lens 901 spreads and light loss occurs, making precise exposure difficult. There are problems that are difficult to carry out. In addition, the conventional peripheral exposure apparatus has a limitation in that a shadow (gray zone) occurs during exposure by applying an indirect irradiation method. In other words, the intensity of the irradiated light gradually decreases as it approaches the center of the wafer, and There is a limit to having a low threshold line width quality in which the boundary between the region and the region forming the circuit pattern is unclear.

그러나, 본 실시예들에 의한 주변 노광 장치(100)는 렌즈(222)에 의해 집속된 광이 리플렉터(210)의 내측에서 반사되며 출사부(121)를 통해 직접 조사되는 구조를 가짐으로써 광의 균일도가 상승하고 높은 임계 선폭 품질을 가지게 된다. 종래의 주변 노광 장치와 비교하여 살펴보면, 종래의 주변 노광 장치는 약 200μm의 임계 선폭으로 노광하는 것이 한계였으나, 본 실시예들에 의한 주변 노광 장치(100)에 의하면 약 100μm의 높은 품질로 노광이 가능하다.However, the peripheral exposure apparatus 100 according to the present embodiments has a structure in which the light focused by the lens 222 is reflected inside the reflector 210 and directly irradiated through the emitter 121, thereby improving light uniformity. rises and has a high critical line width quality. Compared with the conventional peripheral exposure apparatus, the conventional peripheral exposure apparatus has a limitation in exposing with a critical line width of about 200 μm, but according to the peripheral exposure apparatus 100 according to the present embodiments, exposure is possible with a high quality of about 100 μm. It is possible.

또한, 본 실시예들에 의한 주변 노광 장치(100)는 복수의 단위 광원(221) 중 일부에 고장이 발생하는 경우 광량은 감소하더라도 균일도가 저하되지 않는 장점이 있다. 복수의 단위 광원(221)이 10×10로 배치되는 실시예에 있어서 정상상태와 도 7의 (A)에 도시된 바와 같이 복수의 단위 광원(221) 중 어느 한 행의 고장이 발생하는 경우를 비교하여 살펴보면, 도 7의 (B)에 나타난 바와 같이 광량은 2.95 W/cm^2에서 2.66 W/cm^s로 감소하였으나 균일도는 약 84%로 거의 동일함을 확인하였다.In addition, the peripheral exposure apparatus 100 according to the present exemplary embodiments has an advantage in that uniformity is not deteriorated even though the amount of light is reduced when a failure occurs in some of the plurality of unit light sources 221 . In the embodiment in which the plurality of unit light sources 221 are arranged in a 10×10 pattern, the normal state and the case where a failure occurs in any one row among the plurality of unit light sources 221 as shown in (A) of FIG. In comparison, as shown in (B) of FIG. 7, the amount of light decreased from 2.95 W/cm^2 to 2.66 W/cm^s, but the uniformity was approximately 84%, confirming that it was almost the same.

도 8은 1개 이상의 열 또는 행의 단위 광원(221)에 고장이 발생하는 경우의 광량과 균일도를 비교하여 나타낸다. 도면에서와 같이, 광량은 점차적으로 감소하되 균일도는 약 84%로 거의 동일함을 확인하였다. 이는 것은 광원부(110)에서 방출되는 광이 리플렉터(210) 내부에서 반사되며 균일한 광으로 형성되기 때문으로서, 본 실시예들에 의하면 복수의 단위 광원(221) 중 일부에 고장이 발생하더라도 항상 일정한 균일도를 유지할 수 있어 지속적인 생산이 가능하다.8 shows a comparison of the light quantity and uniformity when a failure occurs in one or more column or row unit light sources 221 . As shown in the drawing, it was confirmed that the amount of light gradually decreased, but the uniformity was almost the same at about 84%. This is because the light emitted from the light source unit 110 is reflected inside the reflector 210 and is formed as uniform light. According to the present embodiments, even if a failure occurs in some of the plurality of unit light sources 221, the light is always constant. Uniformity can be maintained, so continuous production is possible.

이와 같은 형상을 가지는 주변 노광 장치에 의하면, 광 손실을 최소화함으로써 광량의 균일도가 상승하고 임계 선도 품질이 개선되는 주변 노광 장치가 제공될 수 있다.According to the peripheral exposure apparatus having such a shape, the uniformity of the amount of light is increased and the quality of the threshold line is improved by minimizing light loss.

이상의 설명은 본 개시의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 개시가 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 기술 사상의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 또한, 본 실시예들은 본 개시의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이므로 이러한 실시예에 의하여 본 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 개시의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 개시의 권리 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The above description is merely illustrative of the technical idea of the present disclosure, and various modifications and variations can be made to those skilled in the art without departing from the essential characteristics of the technical idea. In addition, since the present embodiments are not intended to limit the technical idea of the present disclosure, but to explain, the scope of the present technical idea is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present disclosure should be construed by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be construed as being included in the scope of rights of the present disclosure.

100: 주변 노광 장치 110: 광원부
120: 경통부 121: 출사부
211: 프레임 212: 입사부
213: 지지프레임 214: 프레임
221: 단위 광원 222: 렌즈
223: 히트싱크100: peripheral exposure device 110: light source unit
120: barrel part 121: exit part
211: frame 212: entrance part
213: support frame 214: frame
221: unit light source 222: lens
223: heat sink

Claims (6)

복수의 단위 광원 및 상기 복수의 단위 광원의 광을 집속시키는 렌즈를 포함하는 광원부;
상기 광원부에서의 광이 입사되는 입사부 및 상기 입사부로 입사된 광이 출사되는 출사부를 포함하는 경통부;
상기 경통부에 수용되며 양단이 개구되어, 상기 입사부로 입사된 광을 내측에서 반사시키며 상기 출사부로 안내하는 관형 리플렉터;
를 포함하는 주변 노광 장치.a light source unit including a plurality of unit light sources and a lens concentrating the light of the plurality of unit light sources;
a barrel unit including an incident part through which light from the light source unit is incident and an emission part through which light incident to the incident part is emitted;
a tubular reflector accommodated in the barrel and having both ends open to reflect the light incident to the incident part from the inside and guide it to the output part;
Peripheral exposure device comprising a. 제 1 항에 있어서,
상기 단위 광원은 UV LED인 것을 특징으로 하는 주변 노광 장치.According to claim 1,
Peripheral exposure apparatus, characterized in that the unit light source is a UV LED. 제 1 항에 있어서,
상기 렌즈는 플라이 아이 렌즈인 것을 특징으로 하는 주변 노광 장치.According to claim 1,
The peripheral exposure apparatus according to claim 1, wherein the lens is a fly-eye lens. 제 1 항에 있어서,
상기 리플렉터의 단면적은 상기 일단에서 타단으로 갈수록 증가하는 것을 특징으로 하는 주변 노광 장치.According to claim 1,
The peripheral exposure apparatus, characterized in that the cross-sectional area of the reflector increases from one end to the other end. 제 1 항에 있어서,
상기 리플렉터는 사각형의 단면을 가지는 것을 특징으로 하는 주변 노광 장치.According to claim 1,
The peripheral exposure apparatus, characterized in that the reflector has a rectangular cross section. 제 1 항에 있어서,
상기 경통부에는 상기 리플렉터의 중단을 지지하는 지지프레임이 구비되는 것을 특징으로 하는 주변 노광 장치.According to claim 1,
The peripheral exposure apparatus, characterized in that the barrel part is provided with a support frame for supporting the stop of the reflector.
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