KR20230008785A - 방사능 오염된 폐기물을 감소시키는 방법 - Google Patents

방사능 오염된 폐기물을 감소시키는 방법 Download PDF

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Abstract

방사능 오염된 폐기물을 감소시키기 위한 방법이 본 명세서에 제공된다. 방법은 방사능 오염된 표면을 처리하는 단계로서, 방사능 오염된 표면은 표면 처리제로 처리되는, 단계; 방사능 오염된 표면하를 처리하는 단계로서, 방사능 오염된 표면하는 표면/표면하 처리제로 처리되는, 단계; 토양 폐기물을 압밀화하는 단계; 실시간 스캐닝 기술을 채용하여 폐기물을 분류하는 단계로서, 분류는 적어도 부분적으로 방사능 오염의 임계값에 기초하고, 분류된 폐기물은 분류에 기초하여 선별되는, 단계; 및 분류에 적어도 부분적으로 기초하여 상이한 폐기 경로 중 적어도 하나를 통해 폐기물을 폐기하는 단계를 포함한다.

Description

방사능 오염된 폐기물을 감소시키는 방법
관련 출원에 대한 상호 참조
본 출원은 2021년 5월 11일자로 출원된 미국 가출원 제16/871,703호의 이익을 주장하며, 그 내용은 그 전문이 본 명세서에 참조로 포함된다.
방사능 물질이 사용되고 연구되는 핵 설비(예를 들어, 원자력 발전소, 연구 시설, 국방 시설 등)는 방사능 오염된 폐기물을 생성할 수 있다. 예를 들어, 방사능 오염된 폐기물은 원자로의 작동 또는 유지 보수 중에 또는 핵 설비 및/또는 그 구성요소의 분해 중에 생성될 수 있다. 방사능 오염된 폐기물의 폐기는 핵 설비의 작동 및 정화와 관련된 주요 책임 및 비용이다.
다음 요약은 개시된 실시예에 고유한 혁신적인 특징 중 일부의 이해를 용이하게 하도록 제공되며 완전한 설명이 되도록 의도되지는 않는다. 전체 명세서, 청구범위, 요약 및 도면을 전체적으로 취함으로써 실시예의 다양한 양태에 대한 완전한 이해를 얻을 수 있다.
방사능 오염된 폐기물을 감소시키기 위한 방법이 본 명세서에 제공된다. 방법은 방사능 오염된 표면을 처리하는 단계로서, 방사능 오염된 표면은 표면 처리제로 처리되는, 단계; 방사능 오염된 표면하를 처리하는 단계로서, 방사능 오염된 표면하는 표면/표면하 처리제로 처리되는, 단계; 토양 폐기물을 압밀화하는 단계; 실시간 스캐닝 기술을 채용하여 폐기물을 분류하는 단계로서, 분류는 적어도 부분적으로 방사능 오염의 임계값에 기초하고, 분류된 폐기물은 분류에 기초하여 선별되는, 단계; 및 분류에 적어도 부분적으로 기초하여 상이한 폐기 경로 중 적어도 하나를 통해 폐기물을 폐기하는 단계를 포함한다.
또한, 방사능 오염된 폐기물을 감소시키기 위한 방법이 본 명세서에 제공된다. 방법은 방사능 오염된 표면을 처리하는 단계로서, 방사능 오염된 표면은 표면 처리제로 처리되는, 단계; 방사능 오염된 표면하를 처리하는 단계로서, 방사능 오염된 표면하는 표면/표면하 처리제로 처리되는, 단계; 토양 폐기물을 압밀화하는 단계; 실시간 스캐닝 기술을 채용하여 폐기물을 분류하는 단계로서, 분류는 적어도 부분적으로 방사능 오염의 임계값에 기초하고, 분류된 폐기물은 분류에 기초하여 선별되는, 단계; 및 분류에 적어도 부분적으로 기초하여 상이한 폐기 경로 중 적어도 하나를 통해 폐기물을 폐기하는 단계를 포함한다. 방법은 방사능 오염된 폐기물을 제1 오염 임계값으로부터 제2 낮은 오염 임계값으로 감소시키는 것을 포함하는 폐기물 등급의 감소를 초래하고, 감소된 방사능 오염된 폐기물을 폐기하는 것은 감소된 폐기물 등급에 대응하는 폐기 경로를 통해 폐기하는 것을 포함한다.
본 명세서에 설명된 실시예의 다양한 특징은 첨부된 청구범위에 구체적으로 기재된다. 그러나, 구성 및 작동 방법 모두에 관한 다양한 실시예는, 그 이점과 함께, 다음과 같은 첨부 도면과 함께 취해진 다음의 설명에 따라 이해될 수 있다:
도 1은 본 개시내용의 방법을 나타내는 흐름도이고,
도 2는 본 개시내용의 다수의 예를 보여주는 흐름도이다.
대응 참조 부호는 여러 도면에 걸쳐 대응하는 부분을 나타낸다. 본 명세서에 기재된 예시는 본 개시내용의 다양한 실시예를 일 형태로 예시하고, 이러한 예시는 어떠한 방식으로도 본 개시내용의 범위를 제한하는 것으로 해석되어서는 안된다.
본 개시내용의 다양한 양태를 상세히 설명하기 전에, 예시적인 실시예는 첨부 도면 및 설명에 예시된 부품의 구성 및 배열의 세부 사항에 적용 또는 사용이 제한되지 않음에 유의해야 한다. 예시적인 예는 다른 양태, 변형 및 수정으로 구현되거나 통합될 수 있고, 다양한 방식으로 실행되거나 수행될 수 있다. 또한, 달리 명시되지 않는 한, 본 명세서에 채용된 용어 및 표현은 독자의 편의를 위해 예시적인 예를 설명하기 위해 선택되었으며, 이를 제한하기 위한 것은 아니다. 또한, 아래에 설명된 양태, 양태의 표현, 및/또는 예 중 하나 이상이 다음에 설명되는 다른 양태, 양태의 표현, 및/또는 예 중 어느 하나 이상과 조합될 수 있다는 것이 이해될 것이다.
방사능 물질이 사용되고 연구되는 핵 설비(예를 들어, 원자력 발전소, 연구 시설, 국방 시설 등)는 방사능 오염된 폐기물을 생성할 수 있다. 설비가 사용 중이거나 유지 보수를 받는 동안 생성되는 폐기물에 추가하여, 그러한 설비의 비활성화 및 해체(deactivation and decommissioning)(D&D) 동안에도 폐기물이 축적될 수 있다(예를 들어, 오염된 콘크리트, 오염된 작동 시스템 및 구성요소, 오염된 토양). 본 명세서에서 사용될 때, "D&D"는 핵 설비가 작동을 중단하게 하고 방사능 물질의 존재로 인해 달리 요구되는 현장 통제를 감소시키거나 제거하게 하도록 수행되는 비활성화, 해체, 오염 제거, 및 기타 프로세스를 지칭한다. D&D의 요소와 결과적인 폐기물의 분류는, 예를 들어 국가 레벨에서 미국의 에너지부에 의해 규제되고 국제적으로 국제 원자력 기구(International Atomic Energy Agency)(IAEA)에 의해 규제된다.
본 명세서에 사용될 때, "방사능 오염된 폐기물", "폐기물", "방사능 폐기물", "D&D 관련 폐기물" 등은 상호 교환 가능하게 사용되며 (예를 들어, 중성자 활성화 및/또는 핵연료 또는 그 붕괴 생성물과의 접촉을 통해) 적어도 부분적으로 방사능으로 오염된 물질을 지칭한다. D&D 프로세스는, 예를 들어 오염된 토양의 제거 또는 오염된 구조의 처리 또는 해체를 통해 폐기물을 생성할 수 있다. 대안적으로 또는 추가로, 폐기물은 이미 존재하고 D&D 프로세스 중에 폐기될 수 있다. 폐기물은 D&D 프로세스 중에 처리, 분류 및 폐기 중 적어도 하나가 되는 임의의 물질일 수 있다. 폐기물은 사실상 액체이거나 고체일 수 있다.
폐기물은 폐기물의 방사능 오염에 의해 제기되는 위험을 감소시키거나 제거하기 위해 특정된 방식 및/또는 정부 규제 방식으로 폐기될 수 있다. 폐기물은 폐기물의 물리적 특성(예를 들어, 고체, 액체); 오염의 특성(예를 들어, 장수명 또는 단수명의 방사능 동위원소); 및 오염의 임계값(예를 들어, 정도)(예를 들어, 폐기물 그램당 방사능 단위) 중 적어도 하나에 기초하여 분류될 수 있다.
주어진 폐기물을 안전하고 효과적으로 폐기하는 방법을 결정하는 것을 돕기 위해 폐기물 분류 시스템이 개발되었다. 예를 들어, 미국 에너지부는 Title 10, Chapter 1 of the C.F.R., part 61, subpart D (10 C.F.R. §61.55 [47 FR 57463, Dec. 27, 1982, as amended at 54 FR 22583, May 25, 1989; 66 FR 55792, Nov. 2, 2001])에서 규정을 공포하였다. 10 C.F.R. §61.55 [47 FR 57463, Dec. 27, 1982, as amended at 54 FR 22583, May 25, 1989; 66 FR 55792, Nov. 2, 2001]은 본 명세서에 참조로 포함된다. 이들 규정은 방사능 오염된 폐기물의 방사능 동위원소 존재에 대한 특정 임계값을 설명한다. 존재하는 동위원소의 조합과 양은 폐기물 분류를 결정한다. 예를 들어, 폐기물 분류는 오염 및 등급 C, 등급 B 및 등급 A를 폐기하는 비용을 감소시키는 순서대로 일 수 있다. 일부 예에서, 등급 A 폐기물은 규제 면제 폐기물(exempt waste)로 추가로 감소될 수 있다.
또 다른 예로서, IAEA는 2009년에 "Classification of Radioactive Waste, General Safety Guide No. GSG-1"을 발행했으며, 이는 본 명세서에 참조로 포함된다. 이 문헌은, 특히 증가하는 오염 임계값 및 점점 더 복잡한 필요 폐기 방법의 순서대로, "규제 면제 폐기물", "초저준위 폐기물(Very Low Level Waste)(VLLW)", "저준위 폐기물(Low Level Waste)(LLW)", "중준위 폐기물(Intermediate Level Waste)" 및 "고준위 폐기물(High Level Waste)"을 포함하는 폐기물 분류의 특정 기준을 언급한다. 이 문헌은 폐기물 분류 원칙을 추가로 설명한다.
다양한 양태에서, 주어진 폐기물의 분류(더 오염된 것으로부터 덜 오염된 것으로)의 감소는 폐기물 폐기 동안 효율성 증가 및/또는 폐기 비용 감소를 허용할 수 있다. 추가로, 이러한 감소를 달성하기 위한 프로세스가 발견되었다. 이 프로세스는 지금까지 조정된 방식으로 수행되지 않았던 단계를 포함하며 효과적이고 효율적인 폐기물 감소를 초래한다. 따라서, 방사능 오염된 폐기물을 감소시키는 방법이 본 명세서에 개시된다. 본 명세서에 사용될 때, "방사능 오염된 폐기물을 감소시키는 것", "폐기물을 감소시키는 것" 등은 (예를 들어, 폐기물을 처리함으로써, 폐기물을 파쇄함으로써, 더 구체적으로 폐기물을 분류함으로써, 및/또는 본 명세서에 개시된 다른 방법에 의해) 폐기물의 분류를 감소시키는 것을 의미한다. 예를 들어, 등급 B 폐기물로 구성된 폐기물의 초기 부분은 등급 A 폐기물로 구성된 폐기물 또는 등급 B와 등급 A 폐기물의 혼합물로 구성된 폐기물로 감소될 수 있다. 유사하게, LLW는 적어도 부분적으로 VLLW 및/또는 규제 면제 폐기물로 감소될 수 있다. 따라서, 본 개시내용의 방법은, 사용되는 정확한 분류 방법에 무관하게, 시간 및 위치에 따라 변경될 수 있는 폐기될 폐기물의 등급을 감소시키는 것과 관련이 있다.
방사능 오염된 폐기물을 감소시키는 것은, 폐기물, 특히 더 심하게 오염되어 더 높은 등급으로 분류된 폐기물의 폐기는 비용이 많이 들고, 시간 소모적이며 제한된 위치에서만 이용 가능하기 때문에, 예를 들어 D&D 프로세스 중에 유리하다. 폐기물을 감소시키면 폐기물의 적어도 일부를 덜 비싸고 및/또는 더 접근 가능한 폐기 경로를 통해 폐기하게 할 수 있다.
도 1을 참조하면, 방사능 오염된 폐기물을 감소시키기 위한 방법(100)은 방사능 오염된 표면을 처리하는 단계(102); 방사능 오염된 표면하를 처리하는 단계(104); 토양 폐기물을 압밀화하는 단계(106); 실시간 스캐닝 기술을 채용하여 폐기물을 분류하는 단계(108); 및 분류에 적어도 부분적으로 기초하여 상이한 폐기 경로 중 적어도 하나를 통해 폐기물을 폐기하는 단계(110)를 포함한다.
본 명세서에 개시된 방법(100) 및 다른 예시적인 방법의 수행은 방사능 오염된 폐기물의 감소를 초래할 수 있다. 본 명세서에 개시된 방법의 단계는 임의의 적절한 순서로 수행될 수 있고 달성될 수 있는 폐기물 감소를 증가시키도록 설계될 수 있다. 추가로, 본 명세서에 설명된 방법은, 예를 들어 핵 설비에서 D&D 프로세스에 필요한 다양한 유형 및 단계의 폐기물 폐기 사이에 이전에는 달성할 수 없었던 조정을 가능하게 한다. 이 조정은 폐기물 감소를 더욱 증가시킬 수 있다. 예를 들어, 본 명세서에 설명되는 바와 같은 폐기물의 처리 및/또는 압밀화(102, 104, 106)는 실시간 스캐닝 기술의 사용(108)에 의해 제공되는 폐기물의 분류 및 선별과 함께 실시될 수 있다. 따라서, 예를 들어, 폐기물의 처리(102, 104)는 (예를 들어, 방사능 오염을 제거함으로써) 폐기물의 1차 감소를 달성할 수 있고, 폐기물의 실시간 선별은 오염 임계값을 초과하는 처리된 폐기물로부터의 오염 임계값 미만인 처리된 폐기물을 분리함으로써 폐기물의 2차 감소를 달성할 수 있다. 예를 들어, 시멘트화, 열분해 및/또는 소각의 임의적인 사용은 처리된 등급 B, 등급 C, 및/또는 중준위 폐기물의 감소를 더욱 개선시킬 수 있다. 방법(100)의 기술적 세부 사항 및 예는 아래에서 설명된다.
방사능 오염된 표면의 처리(102)는 핵 설비의 비다공성 및/또는 금속성 표면으로부터 방사능 오염을 (예를 들어, 처리 유체에 용해시킴으로써) 제거하는 것을 포함할 수 있다. 따라서, 크고 무거운 폐기물의 감소를 달성할 수 있다. 처리(102)는 표면 처리제와 화학적으로 양립 가능한 재료를 포함하는 임의의 적절한 발전소 시스템 및/또는 구성요소(예를 들어, 원자로의 구성요소)를 오염 제거하는 데 사용될 수 있다. PWR, BWR 및 CANDU 발전소와 같은 원자력 발전소는 모두 적절한 발전소 시스템 및/또는 구성요소를 포함한다. 예시적인 발전소 시스템은 반응기 재순환(Reactor Recirculation)(RRS), 반응기 물 정화(Reactor Water Cleanup)(RWCU), 잔열 제거(Residual Heat Removal)(RHR), 화학 물질 체적 제어 시스템(Chemical Volume Control System)(CVCS), 및 1차 열 운반 시스템(Primary Heat Transport System)(PHTS)을 포함한다. 방사능 오염된 표면의 처리(102)는 튜브, 파이프, 유체 용기 및 기타 유사한 장비의 내부 표면으로부터 방사능 함유 부식 생성물을 제거하기 위해 표면 처리제를 이용하는 것을 포함할 수 있다.
표면 처리제 및 그 용도는 다중 성분 및/또는 프로세스를 포함할 수 있고 단일 단계 또는 다중 단계로 적용될 수 있다. 처리(102)는 발전소 시스템 및/또는 구성요소를 조립된 상태로 유지되는 동안 및/또는 분해되는 동안 처리하는 것을 포함할 수 있다. 표면 처리제의 예는 산화 및 환원 화학 물질을 포함하는 작용제를 포함한다. 제1 표면 처리(102)는 하기 표면 처리제 중 하나 이상을 이용하는 것을 포함할 수 있고 임의의 적절한 순서로 수행될 수 있다. 예를 들어, 환원 화학 물질은 LOMI 및 LOMI II(저 산화 상태 금속 이온), CITROX(시트르산 및 옥살산을 이용하는 것을 포함하는 표면 처리), NITROX-E(질산, 옥살산 및 과망간산칼륨을 이용하는 것을 포함하는 표면 처리), CANDEREM(EDTA(에틸렌디아민테트라아세트산), 시트르산 및 수산화암모늄을 이용하는 것을 포함하는 표면 처리), 및 REMCON(아스코르브산, 시트르산, 수산화암모늄 및 부식 억제제를 이용하는 것을 포함하는 표면 처리)와 같은 표면 처리제를 포함할 수 있다. 이들 표면 처리는 미국 펜실베니아주 버틀러 카운티 크랜베리 타운십 소재의 Westinghouse Electric Company로부터 직간접적으로 입수 가능하다.
표면 처리제로서 사용될 수 있는 산화 화학 물질은, 해체를 위한 오염 제거(Decontamination for Decommissioning)(DFD) 및 DFDX(옥살산 및 과망간산칼륨과 함께 플루오로붕산을 이용하는 것을 포함함); 질산 과망간산염(Nitric Acid Permanganate)(NP) 알칼리성 과망간산염(Alkaline Permanganate)(AP)(질산 또는 수산화나트륨과 함께 과망간산칼륨을 이용하는 것을 포함함); BiOX-2(부식 억제제 및 과산화수소와 함께 아스코르브산, 시트르산, 및 수산화암모늄을 이용하는 것을 포함함); 및 패시베이션(시트르산암모늄 용액을 이용하는 것을 포함함)을 포함한다. 이들 표면 처리는 미국 펜실베니아주 버틀러 카운티 크랜베리 타운십 소재의 Westinghouse Electric Company로부터 직간접적으로 입수 가능하다. 일반적으로, 산화 화학 물질은 화학 물질 사이의 상호 비양립성으로 인해 환원 화학 물질과 동일한 시간 및 위치에서 사용되지 않는다. 따라서, 양자 모두의 사용이 요구되는 경우, 두 화학 물질은 순차적으로 및/또는 상이한 위치에서 사용될 수 있다.
표면 처리제(및 처리제(102))는 오염 제거 중인 시스템, 구성요소 및/또는 장비의 외부층을 제거 및/또는 오염 제거할 수 있음이 이해된다. 일부 유형의 오염(예를 들어, 중성자 활성화에 의해 유발된 오염 또는 외부층 아래에 위치된 오염)은 완전히 제거되지 않을 수 있다.
처리(102)를 수행하는 데 사용되는 장비는 오염된 장비 및/또는 시스템을 통해 표면 처리 화학 물질 성분의 재순환을 수행하기에 적절한 장비를 포함할 수 있다. 처리(102)는 단일 순환 장비 및/또는 시스템만으로 수행될 수도 있다. 장비 및/또는 시스템을 통한 표면 처리제의 역류도 채용될 수 있다. 표면 처리제의 순환은 발전소 시스템 및 세정 요구 사항에 기초하여 최적화될 수 있다. 표면 처리(102)를 수행하는 데 사용되는 적절한 장비는 펌프 스키드, 인라인 히터를 포함하는 화학 물질 혼합 탱크, 이온 교환 컬럼, 및 처리(102) 동안 재료 침지를 위한 탱크 시스템을 포함할 수 있다.
발전소 시스템 및/또는 구성요소가 조립되어 제자리에 있는 동안 처리하는 것에 추가하여, 표면 처리제를 사용하여 방사능 오염된 표면을 처리(102)하는 것은 또한 발전소 시스템 및/또는 구성요소의 분해를 포함할 수 있다. 분해가 채용되는 경우, 오염된 물품을 파쇄(예를 들어, 피스로 절단) 및/또는 베스에서 처리할 수 있다. 제자리 처리, 분해, 및/또는 발전소 시스템 및/또는 구성요소의 파쇄의 적절한 조합을 사용하여 폐기물의 감소를 증가시킬 수 있다. 베스에서의 처리는, 예를 들어 더 심하게 오염된 표면의 보다 표적화된 처리 및/또는 달리 접근하기 어려운 구성요소의 처리를 가능하게 한다. 예를 들어, 표면 처리제는 구성요소가 분해될 때에만 주어진 표면에 효과적으로 접촉할 수 있다. 유사하게, 구성요소의 파쇄는 또한 표면 처리(102)의 유효성을 증가시킬 수 있다. 파쇄는 또한 폐기물 등급에 기초하여 폐기물을 보다 쉽게 선별 가능하게 할 수 있다. 예를 들어, 파쇄는 구성요소의 일부만 오염되었을 때 대형 구성요소를 더 높은 폐기물 등급으로 폐기하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 폐기물의 파쇄는 처리의 유효성을 증가시키기 위해 처리(102) 전에 채용될 수 있고, 및/또는 폐기물의 파쇄는 분류(108) 단계 동안 폐기물의 분류를 개선시키기 위해 폐기물이 처리(102)된 후에 채용될 수 있다. 본 명세서에 개시된 구성요소의 분해 및/또는 파쇄와 표면 처리(102)의 조합은 폐기물의 감소를 증가시킬 수 있다.
방사능 오염된 표면하의 처리(104)는 물질의 표면에 또는 그 아래에 위치된 오염을 함유할 수 있는 표면하로부터 방사능 오염을 (예를 들어, 처리 유체에 용해시킴으로써) 제거하는 것을 포함할 수 있다. 이러한 물질의 예는 콘크리트(예를 들어, 콘크리트 블록, 벽돌, 및 타일); 유리; 아스팔트; 트랜사이트(transite)(예를 들어, 시멘트 복합재); 및 목재를 포함하지만 또한 표면 아래 처리가 필요한 다른 물질을 포함할 수 있다. 방사능 오염된 표면의 처리(102)는 표면하의 처리(104)와 별개로 또는 동시에 수행될 수 있다. 방사능 오염 표면의 처리(102) 및 방사능 오염된 표면하의 처리(104)는 동일한 폐기물(예를 들어, 연속 처리(102, 104)) 또는 상이한 폐기물에 적용될 수 있다. 방사능 오염된 표면의 처리(102)와 유사하게, 표면하의 처리(104)는 또한 더 복잡하고 비용이 많이 드는 폐기를 달리 필요로 하는 크고 무거운 폐기물의 감소를 달성할 수 있다.
표면하의 처리(104)는 방사능 오염을 용해 및/또는 제거하기 위해 표면/표면하 처리제를 이용하는 것을 포함할 수 있다. 표면 처리제 및 표면/표면하 처리제는 동일한 화학종, 상이한 화학종, 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있다. 표면/표면하 처리제는 다중 성분 및/또는 프로세스를 포함할 수 있고 단일 단계 또는 다중 단계로 함께 적용될 수 있다. 표면/표면하 처리제(및 처리(104))는 폐기물의 외부 표면 및 폐기물의 표면하 위치 중 적어도 하나로부터 방사능 오염을 용해 및/또는 제거할 수 있음이 이해된다. 표면하 위치는, 예를 들어 콘크리트 및 유사 재료의 내부 공극을 포함한다.
표면/표면하 처리제의 예는 분무된 분사 또는 발포체를 통해 오염된 폐기물에 적용될 수 있는 액체 및 겔 모두를 포함한다. 처리(104)는 표면 처리제와 화학적으로 양립 가능한 재료를 포함하는 임의의 적절한 발전소 재료 및/또는 구성요소를 오염 제거하는 데 사용될 수 있다. 방사능 오염된 폐기물을 포함하는 핵 설비는, 모두 처리(104)의 이점이 있고 폐기물의 감소에 기여할 수 있는 벽, 천장, 장비, 구조용 빔, 내부 배관, 및 불규칙한 표면과 같은 재료를 포함할 수 있다. 예시적인 표면/표면하 처리제는, 유기산 및 무기산, 염, 계면 활성제 및 다공성 표면 및 표면하로부터 오염물의 방출 및 격리를 촉진하기 위해 함께 작용할 수 있는 킬레이트제 중 적어도 하나를 포함할 수 있는 Rad-Release I 및 Rad-Release II를 포함한다. 다른 예시적인 표면/표면하 처리제는 나노입자 및 초흡수성 폴리머 겔을 포함하는 EAI SuperGel을 포함한다. 이들 구성요소는 습윤제에 반응하고 다공성 표면의 오염된 공극으로부터 방사능 오염을 흡수 및/또는 격리하도록 작용한다. Rad-Release I 및 II 및 EAI SuperGel은 미국 뉴햄프셔주 스완지 소재의 Environmental Alternatives, Inc.로부터 입수 가능하다. 적용 후, 표면/표면하 처리제는 격리된 방사능 오염물과 함께 헹구고, 탈수하고, 진공 처리하거나, 달리 제거할 수 있다.
표면 처리제 및 표면하 처리제는 자동화 또는 수동 프로세스를 통해 적용될 수 있다. 예를 들어, 핸드헬드 스프레이 완드 또는 유사한 디바이스가 사용될 수 있다. 대안적으로 또는 추가로, 다수의 어플리케이터를 포함하는 더 큰(예를 들어, 원격 제어되는) 분사 디바이스를 사용하여 더 적은 작업자가 더 큰 영역에 처리제를 적용하게 할 수 있다. 더 높은 준위의 오염이 존재하는 경우, 전체 폐기물 감소를 증가시키기 위해 처리 단계(102, 104)가 여러 번 수행될 수 있다.
표면/표면하 처리제를 사용하는 다공성 방사능 오염된 물질의 처리(104)는 또한 물질 및/또는 구성요소의 분해를 포함할 수 있다. 분해를 채용하는 경우, 오염된 물질 및/또는 구성요소를 파쇄하고 및/또는 베스에서 처리할 수 있다. 유사하게, 오염된 물질 및/또는 구성요소가 분쇄될 수 있다. 물질 및/또는 구성요소의 제자리 처리, 분해, 분쇄 및/또는 파쇄의 임의의 적절한 조합을 사용하여 폐기물의 감소를 증가시킬 수 있다. 베스에서의 처리는, 예를 들어 더 심하게 오염된 물질 및/또는 구성요소의 보다 표적화된 처리 및/또는 달리 접근하기 어려운 물질 및/또는 구성요소의 처리를 가능하게 한다. 예를 들어, 표면 처리제는 구성요소가 분해될 때에만 주어진 구성요소에 효과적으로 접촉할 수 있다. 유사하게, 구성요소의 파쇄 및/또는 분쇄는 또한 표면 처리(104)의 유효성을 증가시킬 수 있다. 파쇄 및/또는 분쇄는 또한 폐기물 등급에 기초하여 폐기물을 보다 쉽게 선별 가능하게 할 수 있다. 예를 들어, 파쇄 및/또는 분쇄는 구성요소의 일부만 오염되었을 때 대형 구성요소를 더 높은 폐기물 등급으로 폐기하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 폐기물의 파쇄 및/또는 분쇄는 처리의 유효성을 증가시키기 위해 처리(104) 전에 채용될 수 있고, 및/또는 폐기물의 파쇄는 분류(108) 단계 동안 폐기물의 분류를 개선시키기 위해 폐기물이 처리(104)된 후에 채용될 수 있다. 본 명세서에 개시된 바와 같은 구성요소의 분해, 파쇄, 및/또는 분쇄와 표면 처리의 조합은 폐기물의 감소를 증가시킬 수 있다.
방법(100)은 액체 및 고체 폐기물 중 적어도 하나를 시멘트화하는 단계를 포함할 수 있다. 예를 들어, 등급 B, 등급 C, 및 중준위 폐기물 중 적어도 하나는 시멘트화될 수 있다. 액체 폐기물은, 예를 들어 핵 설비 작동에 의해 생성된 폐기물 또는 처리(102, 104)와 같은 D&D 프로세스에 의해 생성된 폐기물을 포함할 수 있다. 원하는 경우, 고체 폐기물(예를 들어, 처리(102, 104) 동안 처리된 폐기물 또는 이전에 누적된 폐기물)도 시멘트화될 수 있다. 폐기물을 시멘트화하는 것은 폐기물, 물 및 첨가제를 금속 드럼(예를 들어, 200 또는 400 리터)에 추가하고, 폐기물, 물 및 첨가제를 시멘트로 둘러싸고 및/또는 시멘트와 혼합하며 혼합물을 경화시킴으로써, 폐기물을 후속 폐기를 위해 고정시키는 것을 포함할 수 있다. 희석으로 인해, 시멘트화는 폐기 전에 폐기물의 활성(체적 또는 질량당)을 추가로 감소시킬 수 있다.
방법(100)은 임의의 처리(102, 104) 및 압밀화(106) 단계 이전에 폐기물의 방사능 오염 준위를 특성화하는 단계를 포함할 수 있다. 폐기물의 방사능 오염 준위를 특성화하는 것은 핸드헬드 이온 챔버 탐사계, 핸드헬드 가이거 계수기, 및 핸드헬드 섬광 프로브 중 적어도 하나를 이용하는 것을 포함할 수 있다. 처리(102, 104) 및 압밀화(106) 단계 전에 이러한 특성화를 수행하면 후속 단계에서 처리 및 압밀화가 가장 필요한 영역에 집중할 수 있다. 차례로, 이러한 집중은 자원을 가장 효과적으로 사용하게 하여 달리 달성되는 경우보다 폐기물을 훨씬 더 감소시킬 수 있다. 예를 들어, 특성화의 결과에 기초하여, 상대적으로 심하게 오염된 특정 표면 또는 물질은 여러 차례의 처리(102, 104)를 위해 표적화될 수 있다. 또 다른 예에서, 토양 폐기물의 방사능 오염은 압밀화(106) 단계 전에 특성화될 수 있다.
방법(100)은 폐기물 열분해 및 폐기물 소각 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 예를 들어, 등급 B, 등급 C 및 중준위 폐기물 중 적어도 하나는 소각 및/또는 열분해될 수 있다. 폐기물의 소각은 산화 조건 하에서 폐기물을 연소시키는 것을 포함할 수 있다. 폐기물의 일부는 산화되어 비방사능 연소 가스로서 방출될 수 있는 반면, 방사능 재, 그을음 등은 가스로부터 여과되고 및/또는 수집 및 폐기될 수 있다. 폐기물의 열분해는 불활성 분위기에서 화학적 분해를 유도하기 위해 폐기물을 가열하는 것을 포함할 수 있다. 분해 생성물은 선별(예를 들어, 비방사능 가스 또는 기타 분해 생성물의 제거)될 수 있으며 방사능 물질은 수집 및 폐기될 수 있다. 따라서, 폐기물의 열분해 및/또는 폐기물의 소각은 폐기물의 비방사능 부분이 방사능 부분으로부터 화학적으로 분리되게 함으로써 폐기물의 감소에 기여할 수 있다. 처리(102, 104) 및/또는 압밀화(106)된 폐기물은 열분해 및/또는 소각될 수 있다.
방법(100)은 토양 폐기물을 압밀화(106)하는 단계를 포함할 수 있다. 예를 들어, 토양 폐기물은 D&D 프로세스를 받는 핵 설비에 존재할 수 있다. 토양 폐기물은, 예를 들어 설비에 저장 및/또는 생성되었고 시간 경과에 따라 토양과 접촉한 동원된 폐기물에 의해 생성될 수 있다. 토양 폐기물을 압밀화(106)하는 것은 존재하는 방사능 오염의 유형과 존재하는 오염의 양 중 적어도 하나에 기초하여 토양 폐기물을 선별하는 것을 포함할 수 있다. 따라서, 오염되지 않은 토양 및/또는 최소로 오염된 토양(예를 들어, 주어진 임계값 미만으로 오염된 토양)은 최소한의 비용으로 폐기되거나 현장에 보관될 수 있는 반면, 잔여 부분은 감소된 방사능 오염된 폐기물로서 폐기될 수 있다.
오염된 토양을 선별 및/또는 압밀화하는 데 적절한 임의의 선별 기술을 방법(100)에서 사용할 수 있다. 예를 들어, 선별 기술은 실시간 스캐닝 기술을 포함할 수 있다. 실시간 스캐닝 기술은 폐기물의 방사능을 측정하도록 구성된 방사선 검출기 및 측정된 방사능에 기초하여 폐기물을 분리하도록 구성된 컨베이어 벨트 시스템을 포함할 수 있다. 예를 들어, 실시간 스캐닝 기술은 오염된 토양을 크기별로 선별하는 트로멜 및 오염된 토양을 트로멜로부터 방사선 검출기로 가져오도록 구성된 제1 컨베이어 벨트를 포함할 수 있다. 방사선 검출기는 감마선 분광계, 이온 챔버 탐사계, 가이거 계수기, 및 폐기물로부터의 방사선을 검출 및/또는 정량화하기에 적절한 임의의 다른 디바이스 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 채용되는 경우, 감마선 분광계는 적어도 하나의 요오드화나트륨(NaI) 섬광 계수기를 포함할 수 있다. 방사선 검출기는 폐기물에서 검출된 방사능의 양 및/또는 속성에 기초하여 컨베이어 벨트 시스템 상의 폐기물의 경로를 변경하도록 구성된 컴퓨터와 전자 통신할 수 있다. 예를 들어, 오염 임계값 초과의 방사능을 포함하는 폐기물은 제1 경로를 통해 컨베이어 벨트 시스템을 빠져나갈 수 있고 오염 임계값 미만의 방사능을 포함하는 폐기물은 제2 경로를 통해 컨베이어 벨트 시스템을 빠져나갈 수 있어, 폐기물을 선별 및 압밀화할 수 있다. 따라서, 오염 임계값 초과의 토양 폐기물만 폐기하면 되고, 다른 폐기물은 핵 설비에 보관하여 방사능 폐기물을 추가로 감소시킬 수 있다. 이러한 실시간 스캐닝 기술의 예는 영국 스코틀랜드 애버딘 소재의 John Wood Group plc로부터 입수 가능한 Orion ScanSortSM 기술을 포함한다.
실시간 스캐닝 기술은 전술한 바와 같이 오염된 토양을 압밀화 및/또는 선별하는 데 사용될 수 있다. 대안적으로 또는 추가로, 실시간 스캐닝 기술은 방법(100)의 단계(102 및 104)에서 처리된 핵 설비의 물질 및 구성요소와 같은 다른 유형의 폐기물을 분류, 선별 및/또는 압밀화하는 데 사용될 수 있다. 이들 예에서, 폐기물은 실시간 스캐닝 기술에 의해 선별 및/또는 압밀화되기 전에 분쇄, 파쇄, 열분해, 소각 또는 달리 크기 감소될 수 있다. 따라서, 오염 임계값 초과의 폐기물만 대응 등급의 제어된 방사능 폐기물로서 폐기되면 되고, 다른 폐기물은 핵 설비에 보관되거나 대안적인 저렴한 경로를 통해 폐기됨으로써, 방사능 폐기물을 추가로 감소시킬 수 있다.
본 명세서에 개시된 방법을 사용하여 폐기물이 감소되면, 잔여 폐기물은 방사능 오염된 폐기물을 폐기 및/또는 저장하는 것에 대한 관련 안전 가이드라인 및 규정과 일치하는 경로를 통해 폐기될 수 있다. 폐기물의 오염 임계값 및 등급에 기초하여 다양한 위치 및 설비가 방사능 오염된 폐기물의 폐기를 위해 설정되었다. 등급 B 및 C 폐기물(또는 중준위 폐기물)은 텍사스주 앤드류 소재의 Waste Control Specialists(WCS)에 의해 폐기될 수 있다. 등급 A 폐기물(또는 LLW)은 WCS 및 유타주 클라이브 소재의 및 Energy Solutions(ES)에 의해 폐기될 수 있다. 규제 면제 폐기물(또는 VLLW)은 WCS, ES 및 아이다호주 보이시 소재의 US Ecology에 의해 폐기될 수 있다.
따라서, 폐기물은 폐기물의 분류에 적어도 부분적으로 기초하여 상이한 폐기 경로 중 적어도 하나를 통해 폐기될 수 있다. 본 명세서에 개시된 방법이 폐기물 체적 및/또는 등급을 감소시킬 수 있기 때문에, 더 작은 양의 폐기물이 더 비싸고 복잡한 경로를 통해 폐기될 수 있으며 더 많은 양의 폐기물이 달리 달성 가능한 덜 비싸고 복잡한 경로를 통해 폐기될 수 있다.
방법(100)에 의해 감소될 모든 폐기물은 방법(100)의 모든 단계를 거칠 필요는 없다. 예를 들어, 오염된 구조로부터의 모든 폐기물이 처리(102 및 104) 단계를 모두 거칠 필요는 없다. 처리 단계(102 및 104)는 화학적 양립성 및/또는 2개의 처리(102, 104)의 상대적 유효성에 기초하여 폐기물에 대해 단독으로 또는 조합하여 사용될 수 있다. 추가로, 시멘트화, 소각, 열분해 및 본 명세서에 개시된 기타 옵션이 모든 폐기물에 적용될 가능성은 없다. 방법(100)의 모두 상이한 양태에 의한 상이한 유형의 폐기물의 감소의 다수의 예가 도 2에 도시되어 있다. 방법(100)은 이러한 다양한 유형의 폐기물의 통합 처리를 허용하여, 폐기물을 감소시키고 폐기물을 효율적으로 폐기하는 능력을 증가시킨다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 반응기 용기 및/또는 반응기 내부(220a)로부터의 폐기물의 예시적인 감소는 경로(220)에 의해 나타낸다. 경로(220)는 본 명세서에 개시된 바와 같이 폐기물의 방사능 오염 준위를 특성화하는 것(220b)을 포함할 수 있다. 처리(102, 104) 및 압밀화(106) 단계 중 적어도 하나 전에 특성화를 수행하면 후속 단계가 처리 및 압밀화 가장 필요한 영역 또는 폐기물 서브세트에 집중하게 할 수 있다. 나타낸 바와 같이, 오염 준위에 기초하여 폐기물을 특성화하는 것(220b)은, 예를 들어 본 명세서에 개시된 바와 같이 절단, 파쇄, 및/또는 분해에 의한 폐기물의 분리(220b)를 허용할 수 있다.
본 명세서에 개시된 바와 같이, 220a에 도시된 바와 같은 반응기 용기 및/또는 반응기 내부 오염 제거 폐기물은 시멘트화 및/또는 열분해되고 폐기를 위해 포장될 수 있다.
경로(220)로부터 진행하는 화살표에 의해 나타낸 바와 같이, 경로(220)는 등급 A 폐기물과 함께 등급 B 및/또는 등급 C 폐기물을 생성할 것으로 예상될 수 있다. 따라서, 폐기물의 적어도 일부를 등급 B 및/또는 등급 C로부터 등급 A로 감소시킬 수 있다. 폐기물은 등급 B로부터 등급 C로 감소될 수도 있다.
반응기 시스템 및 구성요소(222a)로부터의 폐기물의 예시적인 감소는 경로(222)에 의해 나타낸다. 경로(222)는 반응기 시스템 및 구성요소(222a)의 화학적 오염 제거(222b) 동안 처리(102)와 같은 처리를 포함할 수 있다. 오염 제거(222b) 전 또는 후에, 폐기물의 파쇄(222b)가 또한 채용될 수 있다. 222b의 오염 제거 및 파쇄를 조합하면 본 명세서에 개시된 바와 같이 폐기물의 감소가 가능할 수 있다.
222b 단계 후에, 단계(222c)가 채용될 수 있다. 단계(222c)는 본 명세서에 개시된 바와 같은 실시간 스캐닝 기술의 사용을 포함할 수 있다. 본 명세서에 개시된 바와 같이, 실시간 스캐닝 기술은 방법(100)의 단계(102)에서 처리되는 핵 설비의 물질 및 구성요소와 같은 폐기물을 분류, 선별, 및/또는 압밀화하는 데 사용될 수 있다.
경로(222)로부터 진행하는 화살표에 의해 나타낸 바와 같이, 경로(222)는 주로 등급 A 폐기물을 생성하는 것으로 예상될 수 있다. 따라서, 폐기물의 적어도 일부를 등급 B 및/또는 등급 C로부터 등급 A로 감소시킬 수 있다. 폐기물은 또한 더 낮은 등급(예를 들어, 규제 면제 폐기물)으로 감소될 수 있다(도시되지 않음).
표면하 오염 제거가 필요한 물질(예를 들어, 본 명세서에 개시된 콘크리트 및 기타 물질)(224a)로부터의 폐기물의 예시적인 감소는 경로(224)에 의해 나타낸다. 경로(224)는 표면하 오염 제거가 필요한 물질(224a)의 물리적, 화학적 및 레이저 오염 제거를 포함하는 단계(224b)를 포함할 수 있다. 방법(100)의 단계(102 및/또는 104)는 단계(224b) 동안 폐기물(224a)을 오염 제거하기 위해 수행될 수 있다.
224b 단계 후에, 단계(224c)가 채용될 수 있다. 단계(224c)는 본 명세서에 개시된 바와 같은 실시간 스캐닝 기술의 사용을 포함할 수 있다. 본 명세서에 개시된 바와 같이, 실시간 스캐닝 기술은 방법(100)의 단계(102, 104)에서 처리되는 핵 설비의 물질 및 구성요소와 같은 폐기물을 분류, 선별, 및/또는 압밀화하는 데 사용될 수 있다.
경로(224)로부터 진행하는 화살표에 의해 나타낸 바와 같이, 경로(224)는 다양한 등급의 폐기물을 생성하는 것으로 예상될 수 있다. 일부 물질은 오염이 거의 없거나 전혀 없을 수 있으며 제어되지 않은 폐기를 위해 자유롭게 방출될 수 있다. 224c 동안 실시간 스캐닝 기술을 사용하면 등급 A와 규제 면제 폐기물을 분리하여 폐기물 등급을 추가로 감소시킬 수 있다.
토양 폐기물(226a)의 예시적인 감소는 경로(226)에 의해 나타낸다. 경로(226)는 오염된 토양(226a)의 교정 및 선별을 포함하는 단계(226b)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 이 단계는 본 명세서에 개시된 폐기물의 방사능 오염 준위를 특성화하는 방법을 포함할 수 있다. 추가로, 토양은 특성화 결과에 기초하여 수동으로 선별되어 실시간 스캐닝 기술로 후속 분리를 위한 토양의 초기 수집물을 생성할 수 있다.
226b 단계 후에, 단계(226c)가 채용될 수 있다. 단계(226c)는 본 명세서에 개시된 바와 같은 실시간 스캐닝 기술의 사용을 포함할 수 있다. 본 명세서에 개시된 바와 같이, 실시간 스캐닝 기술은 토양 폐기물을 분류, 선별, 및/또는 압밀화하는 데 사용될 수 있다.
경로(226)로부터 진행하는 화살표에 의해 나타낸 바와 같이, 경로(226)는 다양한 등급의 폐기물을 생성하는 것으로 예상될 수 있다. 실시간 스캐닝 기술(226c) 및 수동 선별 및 교정(226b)의 사용은 등급 A, 규제 면제 폐기물, 및 자유 방출 가능한 폐기물의 분리를 가능하게 할 수 있다.
본 명세서에 설명된 주제의 다양한 양태는 다음의 예에 기재된다.
예 1 - 방사능 오염된 폐기물을 감소시키는 방법이며,
방사능 오염된 표면을 처리하는 단계로서, 방사능 오염된 표면은 표면 처리제로 처리되는, 단계;
방사능 오염된 표면하를 처리하는 단계로서, 방사능 오염된 표면하는 표면/표면하 처리제로 처리되는, 단계;
토양 폐기물을 압밀화하는 단계;
실시간 스캐닝 기술을 채용하여 폐기물을 분류하는 단계로서, 분류는 적어도 부분적으로 방사능 오염의 임계값에 기초하고, 분류된 폐기물은 분류에 기초하여 선별되는, 단계; 및
분류에 적어도 부분적으로 기초하여 상이한 폐기 경로 중 적어도 하나를 통해 폐기물을 폐기하는 단계를 포함하는, 방법.
예 2 - 예 1에 있어서, 방법은 방사능 오염된 폐기물을 제1 오염 임계값으로부터 제2 낮은 오염 임계값으로 감소시키는 것을 포함하는 폐기물 등급의 감소를 초래하는, 방법.
예 3 - 예 2에 있어서, 감소된 방사능 오염된 폐기물을 폐기하는 단계는 감소된 폐기물 등급에 대응하는 폐기 경로를 통해 폐기하는 단계를 포함하는, 방법.
예 4 - 예 1 내지 3 중 어느 하나에 있어서, 폐기물 열분해 및 폐기물 소각 중 적어도 하나를 더 포함하는, 방법.
예 5 - 예 1 내지 4 중 어느 하나에 있어서, 처리 및 압밀화 단계 이전에 폐기물의 방사능 오염 준위를 특성화하는 단계를 더 포함하는, 방법.
예 6 - 예 1 내지 5 중 어느 하나에 있어서, 실시간 스캐닝 기술을 채용하여 압밀화 단계 동안 토양 폐기물을 압밀화하는, 방법.
예 7 - 예 6에 있어서, 실시간 스캐닝 기술은:
폐기물의 방사능을 측정하도록 구성된 방사선 검출기 및
측정된 방사능에 기초하여 폐기물을 분리하도록 구성된 컨베이어 벨트 시스템을 포함하는, 방법.
예 8 - 예 7에 있어서, 처리 단계 중 적어도 하나에서 처리된 비토양 폐기물을 분류하고 압밀화하는 것 중 적어도 하나에 실시간 스캐닝 기술을 채용하는 단계를 더 포함하는, 방법.
예 9 - 예 1 내지 8 중 어느 하나에 있어서, 방사능 오염된 표면을 처리하는 단계는 구성요소를 분해하고 베스에서 구성요소를 처리하는 단계를 포함하는, 방법.
예 10 - 예 1 내지 9 중 어느 하나에 있어서, 폐기물의 파쇄 및 분쇄 중 적어도 하나를 더 포함하는, 방법.
예 11 - 예 1 내지 10 중 어느 하나에 있어서, 표면/표면하 처리제 및 표면 처리제 중 적어도 하나는 자동화 프로세스를 통해 적용되는, 방법.
예 12 - 예 1 내지 11 중 어느 하나에 있어서, 표면/표면하 처리제 및 표면 처리제 중 적어도 하나는 염, 계면 활성제, 산, 킬레이트제, 습윤제, 및 흡수성 겔 중 적어도 하나를 포함하는, 방법.
예 13 - 예 1 내지 12 중 어느 하나에 있어서, 액체 및 고체 폐기물 중 적어도 하나를 시멘트화하는 단계를 더 포함하는, 방법.
예 14 - 방사능 오염된 폐기물을 감소시키는 방법이며,
방사능 오염된 표면을 처리하는 단계로서, 방사능 오염된 표면은 표면 처리제로 처리되는, 단계;
방사능 오염된 표면하를 처리하는 단계로서, 방사능 오염된 표면하는 표면/표면하 처리제로 처리되는, 단계;
토양 폐기물을 압밀화하는 단계;
실시간 스캐닝 기술을 채용하여 폐기물을 분류하는 단계로서, 분류는 적어도 부분적으로 방사능 오염의 임계값에 기초하고, 분류된 폐기물은 분류에 기초하여 선별되는, 단계; 및
분류에 적어도 부분적으로 기초하여 상이한 폐기 경로 중 적어도 하나를 통해 폐기물을 폐기하는 단계를 포함하고,
방법은 방사능 오염된 폐기물을 제1 오염 임계값으로부터 제2 낮은 오염 임계값으로 감소시키는 것을 포함하는 폐기물 등급의 감소를 초래하며,
감소된 방사능 오염된 폐기물을 폐기하는 단계는 감소된 폐기물 등급에 대응하는 폐기 경로를 통해 폐기하는 단계를 포함하는, 방법.
예 15 - 예 14에 있어서, 폐기물 열분해 및 폐기물 소각 중 적어도 하나를 더 포함하는, 방법.
예 16 - 예 14 또는 15에 있어서, 처리 및 압밀화 단계 이전에 폐기물의 방사능 오염 준위를 특성화하는 단계를 더 포함하는, 방법.
예 17 - 예 14 내지 16 중 어느 하나에 있어서, 실시간 스캐닝 기술은:
폐기물의 방사능을 측정하도록 구성된 방사선 검출기 및
측정된 방사능에 기초하여 폐기물을 분리하도록 구성된 컨베이어 벨트 시스템을 포함하는, 방법.
예 18 - 예 14 내지 17 중 어느 하나에 있어서, 방사능 오염된 표면을 처리하는 단계는 구성요소를 분해하고 베스에서 구성요소를 처리하는 단계를 포함하는, 방법.
예 19 - 예 14 내지 18 중 어느 하나에 있어서, 폐기물의 파쇄 및 분쇄 중 적어도 하나를 더 포함하는, 방법.
예 20 - 예 14 내지 19 중 어느 하나에 있어서, 액체 및 고체 폐기물 중 적어도 하나를 시멘트화하는 단계를 더 포함하는, 방법.
전술한 개시로부터 자명한 바와 달리 구체적으로 언급되지 않는 한, 전술한 개시 전반에 걸쳐, "처리", "연산", "계산", "결정", "표시" 등과 같은 용어를 사용하는 설명은, 컴퓨터 시스템의 레지스터 및 메모리 내에 물리적(전자적) 양으로 표현된 데이터를 조작하고 컴퓨터 시스템의 메모리 또는 레지스터 또는 다른 그러한 정보 저장, 전송 또는 디스플레이 디바이스 내에 물리적 양으로 유사하게 표현된 다른 데이터로 변환하는 컴퓨터 시스템 또는 유사한 전자 컴퓨팅 디바이스의 동작 및 프로세스를 지칭하는 것으로 이해되어야 한다.
하나 이상의 구성요소는 본 명세서에서 "~하도록 구성된", "~하도록 구성 가능한", "~하도록 작동 가능한/작동하는", "적응된/적응 가능한", "~할 수 있는", "하도록 순응 가능한/순응된" 등으로 지칭될 수 있다. 본 기술 분야의 숙련자는 문맥에서 달리 요구하지 않는 한 "~하도록 구성된"이 일반적으로 활성 상태 구성요소 및/또는 비활성 상태 구성요소 및/또는 대기 상태 구성요소를 포함할 수 있음을 인식할 것이다.
본 기술 분야의 숙련자는 일반적으로 본 명세서, 특히 첨부된 청구범위(예를 들어, 첨부된 청구범위의 본문)에 사용된 용어가 일반적으로 "개방형" 용어로 의도됨을 인식할 것이다(예를 들어, "포함하는"이라는 용어는 "포함하지만 이에 제한되지 않는"으로 해석되어야 하고, "갖는"이라는 용어는 "적어도 갖는"으로 해석되어야 하며, "포함한다"라는 용어는 "포함하지만 이에 제한되지 않는다"로 해석되어야 함 등). 특정 수의 도입된 청구범위 인용이 의도된 경우, 이러한 의도는 청구범위에 명시적으로 인용될 것이며, 이러한 인용이 없을 경우 이러한 의도가 존재하지 않는다는 것이 본 기술 분야의 숙련자에 의해 추가로 이해될 것이다. 예를 들어, 이해를 돕기 위해, 다음의 첨부된 청구범위에는 청구항 인용을 소개하기 위해 "적어도 하나" 및 "하나 이상"라는 소개 문구의 사용이 포함될 수 있다. 그러나, 이러한 문구의 사용은, 동일한 청구항이 소개 문구 "하나 이상" 또는 "적어도 하나"와 "a" 또는 "an"과 같은 부정 관사를 포함하는 경우라도(예를 들어, "a" 및/또는 "an"은 통상적으로 "적어도 하나" 또는 "하나 이상"을 의미하는 것으로 해석되어야 함), 부정 관사 "a" 또는 "an"에 의한 청구항 인용의 도입은 그러한 도입된 청구항 인용을 포함하는 임의의 특정 청구항을 단하나의 그러한 인용을 포함하는 청구항으로 제한한다는 것을 의미하는 것으로 해석되어서는 안되고; 청구항 인용을 도입하는 데 사용되는 정관사의 사용에 대해서도 마찬가지이다.
또한, 도입된 청구항 인용의 특정 수가 명시적으로 인용되더라도, 본 기술 분야의 숙련자는, 이러한 인용이 통상적으로 적어도 인용된 수를 의미하는 것으로 해석되어야 한다는 것을 인식할 것이다(예를 들어, 다른 수식어 없이 "2개의 인용"의 맨 인용(bare recitation)은 통상적으로 적어도 2개의 인용 또는 2개 이상의 인용을 의미함). 더욱이, "A, B 및 C 중 적어도 하나 등"과 유사한 관습이 사용되는 그러한 경우에서, 일반적으로 그러한 구조는 본 기술 분야의 숙련자가 그 관습을 이해하는 의미로 의도된다(예를 들면, "A, B 및 C 중 적어도 하나를 갖는 시스템"은 A만을, B만을, C만을, A 및 B를 함께, A 및 C를 함께, B 및 C를 함께, 및/또는 A, B 및 C를 함께 갖는 등의 시스템을 포함하지만 이에 제한되지 않음). "A, B 또는 C 중 적어도 하나 등"과 유사한 관습이 사용되는 그러한 경우에서, 일반적으로 그러한 구조는 본 기술 분야의 숙련자가 그 관습을 이해하는 의미로 의도된다(예를 들면, "A, B 또는 C 중 적어도 하나를 갖는 시스템"은 A만을, B만을, C만을, A 및 B를 함께, A 및 C를 함께, B 및 C를 함께, 및/또는 A, B 및 C를 함께 갖는 등의 시스템을 포함하지만 이에 제한되지 않음). 또한, 2 이상의 대안의 용어를 제공하는 통상적으로 이접 단어 및/또는 문구는, 상세한 설명, 청구항 또는 도면에 있든지 간에, 문맥이 달리 지시하지 않는 한 용어들 중 하나, 용어들 중 어느 하나, 또는 양자 모두의 용어를 포함하는 가능성을 고려하는 것으로 이해되야 함이 본 기술 분야의 숙련자에 의해 이해될 것이다. 예를 들어, "A 또는 B"라는 문구는 통상적으로 "A" 또는 "B" 또는 "A 및 B"의 가능성을 포함하는 것으로 이해될 것이다.
첨부된 청구범위와 관련하여, 본 기술 분야의 숙련자는 그 안에 인용된 작업이 일반적으로 임의의 순서로 수행될 수 있음을 이해할 것이다. 또한, 다양한 동작 흐름도가 시퀀스(들)로 제시되지만, 다양한 동작은 예시된 것과 다른 순서로 수행될 수 있거나 동시에 수행될 수 있음을 이해하여야 한다. 이러한 대안 순서의 예는 문맥이 달리 지시하지 않는 한 중첩, 인터리빙, 중단, 재정렬, 증분, 준비, 보충, 동시, 역전 또는 기타 변형 순서를 포함할 수 있다. 더욱이, "~에 응답하는", "~에 관련된" 또는 기타 과거형 형용사와 같은 용어는 문맥에서 달리 지시하지 않는 한 일반적으로 이러한 변형을 배제하도록 의도되지 않는다.
"하나의 양태", "일 양태", "일 예시", "하나의 예시" 등에 대한 임의의 언급은 해당 양태와 관련하여 설명된 특정 피처, 구조 또는 특성이 적어도 하나의 양태에 포함된다는 것을 의미한다. 따라서, 명세서 전체에 걸쳐 다양한 위치에서 "하나의 양태에서", "일 양태에서", "예시에서," 및 "하나의 예시에서"라는 문구의 출현이 모두 동일한 양태를 지칭하는 것은 아니다. 더욱이, 특정 피처, 구조 또는 특성은 하나 이상의 양태에서 임의의 적절한 방식으로 조합될 수 있다.
본 명세서에서 언급되고 및/또는 임의의 출원 데이터 시트에 나열된 임의의 특허 출원, 특허, 비특허 간행물 또는 기타 공개 자료는 통합된 자료가 본 문서와 일치하지 않는 범위에서 참조로 본 명세서에 포함된다. 이와 같이, 그리고 필요한 정도로, 본 명세서에 명시적으로 기재된 바와 같은 본 개시내용은 본 명세서에 참조로 통합된 임의의 상충되는 자료를 대체한다. 본 명세서에 참조로 통합된다고 하지만 본 명세서에 기재된 기존의 정의, 진술, 또는 기타 공개 자료와 상충되는 임의의 자료 또는 그 일부는 통합된 자료와 기존의 공개 자료 간에 상충이 발생하지 않는 정도로만 통합된다.
"구비한다"(및 "구비한다" 및 "구비하는"과 같은 구비한다의 임의의 형태), "갖다"(및 "가지다" 및 "갖는"과 같은 갖다의 임의의 형태), "포함한다"(및 "포함한다" 및 "포함하는"과 같은 포함한다의 임의의 형태) 및 "함유한다"(및 "함유한다" 및 "함유하는"과 같은 함유한다의 임의의 형태)라는 용어는 개방형 연결 동사이다. 결과적으로, 하나 이상의 요소를 "구비하는", "갖는", "포함하는" 또는 "함유하는" 시스템은 하나 이상의 요소를 소유하지만 이러한 하나 이상의 요소만 소유하는 것으로 제한되지 않는다. 마찬가지로, 하나 이상의 피처를 "구비하는", "갖는", "포함하는" 또는 "함유하는" 시스템, 디바이스 또는 장치의 요소는 하나 이상의 피처를 소유하지만, 이러한 하나 이상의 피처만 소유하는 것으로 제한되지 않는다.
요약하면, 본 명세서에서 설명된 개념을 채용함으로써 생기는 수많은 이점이 설명되었다. 하나 이상의 형태에 대한 전술한 설명은 예시 및 설명의 목적으로 제공되었다. 이는 개시된 정확한 형태를 철저하게 하거나 제한하도록 의도되지 않는다. 전술한 교시에 비추어 수정 또는 변형이 가능하다. 원리 및 실제 용례를 예시하기 위해 하나 이상의 형태가 선택되고 설명되며, 이에 의해 본 기술 분야의 숙련자가 고려되는 특정 용도에 적절한 다양한 형태 및 다양한 변형을 이용할 수 있게 한다. 여기에 제출된 청구범위가 전체 범위를 한정하는 것으로 의도된다.

Claims (20)

  1. 방사능 오염된 폐기물을 감소시키는 방법이며,
    방사능 오염된 표면을 처리하는 단계로서, 방사능 오염된 표면은 표면 처리제로 처리되는, 단계;
    방사능 오염된 표면하를 처리하는 단계로서, 방사능 오염된 표면하는 표면/표면하 처리제로 처리되는, 단계;
    토양 폐기물을 압밀화하는 단계;
    실시간 스캐닝 기술을 채용하여 폐기물을 분류하는 단계로서, 분류는 적어도 부분적으로 방사능 오염의 임계값에 기초하고, 분류된 폐기물은 분류에 기초하여 선별되는, 단계; 및
    분류에 적어도 부분적으로 기초하여 상이한 폐기 경로 중 적어도 하나를 통해 폐기물을 폐기하는 단계를 포함하는, 방법.
  2. 제1항에 있어서, 방법은 방사능 오염된 폐기물을 제1 오염 임계값으로부터 제2 낮은 오염 임계값으로 감소시키는 것을 포함하는 폐기물 등급의 감소를 초래하는, 방법.
  3. 제2항에 있어서, 감소된 방사능 오염된 폐기물을 폐기하는 단계는 감소된 폐기물 등급에 대응하는 폐기 경로를 통해 폐기하는 단계를 포함하는, 방법.
  4. 제1항에 있어서, 폐기물 열분해 및 폐기물 소각 중 적어도 하나를 더 포함하는, 방법.
  5. 제1항에 있어서, 처리 및 압밀화 단계 이전에 폐기물의 방사능 오염 준위를 특성화하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  6. 제1항에 있어서, 실시간 스캐닝 기술을 채용하여 압밀화 단계 동안 토양 폐기물을 압밀화하는, 방법.
  7. 제6항에 있어서, 실시간 스캐닝 기술은:
    폐기물의 방사능을 측정하도록 구성된 방사선 검출기 및
    측정된 방사능에 기초하여 폐기물을 분리하도록 구성된 컨베이어 벨트 시스템을 포함하는, 방법.
  8. 제7항에 있어서, 처리 단계 중 적어도 하나에서 처리된 비토양 폐기물을 분류하고 압밀화하는 것 중 적어도 하나에 실시간 스캐닝 기술을 채용하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  9. 제1항에 있어서, 방사능 오염된 표면을 처리하는 단계는 구성요소를 분해하고 베스에서 구성요소를 처리하는 단계를 포함하는, 방법.
  10. 제1항에 있어서, 폐기물 파쇄 및 분쇄 중 적어도 하나를 더 포함하는, 방법.
  11. 제1항에 있어서, 표면/표면하 처리제 및 표면 처리제 중 적어도 하나는 자동화 프로세스를 통해 적용되는, 방법.
  12. 제1항에 있어서, 표면/표면하 처리제 및 표면 처리제 중 적어도 하나는 염, 계면 활성제, 산, 킬레이트제, 습윤제, 및 흡수성 겔 중 적어도 하나를 포함하는, 방법.
  13. 제1항에 있어서, 액체 및 고체 폐기물 중 적어도 하나를 시멘트화하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  14. 방사능 오염된 폐기물을 감소시키는 방법이며,
    방사능 오염된 표면을 처리하는 단계로서, 방사능 오염된 표면은 표면 처리제로 처리되는, 단계;
    방사능 오염된 표면하를 처리하는 단계로서, 방사능 오염된 표면하는 표면/표면하 처리제로 처리되는, 단계;
    토양 폐기물을 압밀화하는 단계;
    실시간 스캐닝 기술을 채용하여 폐기물을 분류하는 단계로서, 분류는 적어도 부분적으로 방사능 오염의 임계값에 기초하고, 분류된 폐기물은 분류에 기초하여 선별되는, 단계; 및
    분류에 적어도 부분적으로 기초하여 상이한 폐기 경로 중 적어도 하나를 통해 폐기물을 폐기하는 단계를 포함하고,
    방법은 방사능 오염된 폐기물을 제1 오염 임계값으로부터 제2 낮은 오염 임계값으로 감소시키는 것을 포함하는 폐기물 등급의 감소를 초래하며,
    감소된 방사능 오염된 폐기물을 폐기하는 단계는 감소된 폐기물 등급에 대응하는 폐기 경로를 통해 폐기하는 단계를 포함하는, 방법.
  15. 제14항에 있어서, 폐기물 열분해 및 폐기물 소각 중 적어도 하나를 더 포함하는, 방법.
  16. 제14항에 있어서, 처리 및 압밀화 단계 이전에 폐기물의 방사능 오염 준위를 특성화하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  17. 제14항에 있어서, 실시간 스캐닝 기술은:
    폐기물의 방사능을 측정하도록 구성된 방사선 검출기 및
    측정된 방사능에 기초하여 폐기물을 분리하도록 구성된 컨베이어 벨트 시스템을 포함하는, 방법.
  18. 제14항에 있어서, 방사능 오염된 표면을 처리하는 단계는 구성요소를 분해하고 베스에서 구성요소를 처리하는 단계를 포함하는, 방법.
  19. 제14항에 있어서, 폐기물 파쇄 및 분쇄 중 적어도 하나를 더 포함하는, 방법.
  20. 제14항에 있어서, 액체 및 고체 폐기물 중 적어도 하나를 시멘트화하는 단계를 더 포함하는, 방법.
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