KR20230004464A - 광 감쇠용 라미네이트 내의 필터를 미세구조화하기 위한 방법 및 장치 - Google Patents

광 감쇠용 라미네이트 내의 필터를 미세구조화하기 위한 방법 및 장치 Download PDF

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에씰로 앙터나시오날
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Abstract

라미네이트가: 제1 층으로서, 제1 층의 제1 재료가 제1 굴절률을 가지고, 제1 층은 제1 표면을 가지는, 제1 층; 제1 미세구조 층으로서, 제1 미세구조 층은 미세구조 층의 제1 표면에 형성된 제1 미세구조 패턴을 포함하고, 제1 미세구조 층의 제1 미세구조 재료는 제1 미세구조 재료 굴절률을 가지며, 제1 미세구조 패턴은 제1의 미리 결정된 주기성을 갖는 제1의 반복 구조를 가지며, 미세구조 층은 제1 층의 제1 표면에 배치되는, 제1 미세구조 층; 제2 층으로서, 제2 층의 제2 재료가 제2 굴절률을 가지고, 제2 층은 제1 미세구조 층의 제1 표면에 인접하여 배치되는, 제2 층; 및 제3 층으로서, 제3 층의 제3 재료가 제3 굴절률을 가지고, 제3 층은 미세구조 층에 대향되는 측면 상에서 제2 층에 인접하여 배치되는, 제3 층을 포함한다.

Description

광 감쇠용 라미네이트 내의 필터를 미세구조화하기 위한 방법 및 장치
본 개시 내용은 반사 방지 표면 및 기타 시각 장애를 다루는 적용 분야에서 미세구조에 적용되는 광학 필름의 광 관리, 그리고 필름의 표면 상에 또는 라미네이트 구조 내에 미세구조를 형성하는 방법에 관한 것이다.
본원에 제공되는 '배경기술'에 관한 설명은 일반적으로 본 개시 내용의 맥락을 나타내기 위한 목적이다. 본원에 기재된 발명자들의 작업(작업이 이러한 '배경기술'에서 설명된 범위까지)뿐만 아니라, 출원 시에 종래 기술로서 달리 규정되지 않을 수 있는 설명의 양태를 명시적으로나 묵시적으로 본 개시 내용에 대한 종래 기술로서 인정하는 것은 아니다.
기능적 광학 필름 및/또는 라미네이트가 광변색, 편광부 또는 기타 기능적 적용예를 위한 렌즈로 성형(형성) 및 오버-몰딩될 수 있다. 이는 라미네이트 구성체를 제조하고, 라미네이트를 곡선형 웨이퍼로 성형하고, 건강 또는 광 관리 적용예를 위한 렌즈를 형성하기 위해서 열가소성체를 사출 몰딩하거나 열경화체를 주조 몰딩(thermoset cast molding) 하기 위한 방법을 포함한다. 이들은 또한 성형될 수 있고, 이미 형성된 렌즈에 접착 또는 본딩될 수 있다.
특히, 다층 라미네이트 구조는, 입사 광을 감쇠시킬 수 있는 미세구조 패턴을 갖는 층을 포함할 수 있다. 또한 추가적으로, 미세구조 패턴은, 비제한적으로, 광과민성 및 광 공포증으로 인한 편두통, 현기증, 및 수면 부족과 같은, 시각 건강 문제를 해결하기 위해 여러 파장 범위의 광을 감쇠하도록 디자인될 수 있다. 미리 결정된 패턴을 갖는 미세구조를 디자인하는 것에 의해서, 목표 파장 범위의 광이 저감 반사 및/또는 전환되어, 유해하고 원하지 않는 파장이 관찰자에게 도달하여 전술한 원치않는 광 유도 건강 문제를 유발하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 이러한 미세구조 패턴을 갖는 라미네이트 구조 및 라미네이트를 형성하는 방법을 안과 렌즈에 통합하는 것이 바람직하다.
청구범위에 따라, 본 개시 내용은 라미네이트에 관한 것으로서, 이러한 라미네이트는, 제1 층으로서, 상기 제1 층의 제1 재료가 제1 굴절률을 가지고, 상기 제1 층은 제1 표면을 가지는, 제1 층; 제1 미세구조 층으로서, 상기 제1 미세구조 층은 상기 미세구조 층의 제1 표면에 형성된 제1 미세구조 패턴을 포함하고, 상기 제1 미세구조 층의 제1 미세구조 재료는 제1 미세구조 재료 굴절률을 가지며, 상기 제1 미세구조 패턴은 제1의 미리 결정된 주기성을 갖는 제1의 반복 구조를 가지며, 상기 미세구조 층은 상기 제1 층의 제1 표면에 배치되는, 제1 미세구조 층; 제2 층으로서, 상기 제2 층의 제2 재료가 제2 굴절률을 가지고, 상기 제2 층은 상기 제1 미세구조 층의 제1 표면에 인접하여 배치되는, 제2 층; 및 제3 층으로서, 상기 제3 층의 제3 재료가 제3 굴절률을 가지고, 상기 제3 층은 상기 미세구조 층에 대향되는 측면 상에서 상기 제2 층에 인접하여 배치되는, 제3 층을 포함한다.
청구범위에 따라, 개시 내용은 또한 라미네이트를 형성하는 방법에 관한 것으로서, 이러한 방법은, 제1 미세구조 패턴을 제1 층의 제1 표면에 형성하는 단계로서, 상기 제1 층은 제1 굴절률의 제1 재료를 가지며, 상기 제1 미세구조 패턴은 제1의 미리 결정된 주기성을 갖는 제1의 반복 구조를 가지는, 단계; 제2 층을 상기 제1 층에 라미네이트시키는 단계로서, 상기 제2 층은 제2 굴절률의 제2 재료를 가지고, 상기 제2 층은 상기 제1 층의 제1 표면에 인접하여 배치되는, 단계; 및 제3 굴절률의 제3 재료를 갖는 제3 층을 상기 제2 층에 라미네이트시키는 단계를 포함한다.
이러한 '발명의 내용' 항목은 본 개시 내용 또는 청구된 발명의 모든 실시형태 및/또는 점진적으로 신규 양태를 특정하지 않는다는 점에 유의해야 한다. 대신에, 이러한 '발명의 내용' 항목은 상이한 실시형태들 및 대응하는 신규 요소에 대한 예비적인 설명만을 제공한다. 본 발명 및 실시형태의 추가적인 상세 내용 및/또는 가능한 관점과 관련하여, 독자는 이하에 추가로 설명되는 바와 같은 본 개시 내용의 '발명을 실시하기 위한 구체적인 내용' 및 해당 도면들을 참조한다.
본 발명의 내용에 포함됨.
예로서 제시된 이러한 개시 내용의 여러 실시형태에 대해 이하의 도면을 참조하여 구체적으로 설명할 것이고, 도면에서 유사한 번호는 유사한 요소를 지칭한다.
도 1a는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 편평형 라미네이트 웨이퍼의 개략도이다.
도 1b는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 열형성된 라미네이트 웨이퍼의 개략도이다.
도 1c는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 오목 몰드 삽입체의 개략도이다.
도 1d는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 몰딩 디바이스의 개략도이다.
도 1e는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 열형성된 라미네이트 웨이퍼를 렌즈에 접착 또는 본딩하는 것의 개략도이다.
도 2a는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 롤-대-롤 제조 프로세스의 개략도이다.
도 2b는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 열-보조형 롤-대-판 제조 프로세스의 개략도이다.
도 2c는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 패턴 전사 제조 프로세스의 개략도이다.
도 2d는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 적층 제조 프로세스의 개략도이다.
도 2e는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, UV-보조형 롤-대-판 제조 프로세스의 개략도이다.
도 2f는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 포토리소그래피-기반의 제조 프로세스의 개략도이다.
도 2g는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 편평형 라미네이트 웨이퍼 내의 이중-패턴 층의 개략도이다.
도 3a는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 제1 미세구조 패턴에 대한 직사각형 횡단면 예이다.
도 3b는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 제1 미세구조 패턴에 대한 삼각형 횡단면 예이다.
도 3c는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 제1 미세구조 패턴에 대한 둥근 횡단면 예이다.
도 3d는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 제1 미세구조 패턴에 대한 비대칭 삼각형 횡단면 예이다.
도 3e는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 제1 미세구조 패턴에 대한 비-반복 패턴을 도시한다.
도 4는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 제1 층의 상단부에 형성된 둥근 동심적 링 미세구조의 횡단면 개략도이다.
도 5는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 제1 미세구조 패턴에 대한 예시적인 경사 형상의 개략도이다.
도 6은 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 제1 미세구조 패턴에 대한 예시적인 사다리꼴 형상의 개략도이다.
도 7은 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 제1 층 위에 배치된 예시적인 미세구조의 개략도이다.
도 8은 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 제1 미세구조 그레이팅을 통한 선택적 감쇠를 예시하는 대표적인 그래프를 도시한다.
도 9는 본 개시 내용의 실시예에 따른, 라미네이트를 제조하는 방법에 대한 흐름도이다.
이하의 개시 내용은, 제공된 청구 대상의 상이한 특징들을 구현하기 위한, 많은 상이한 실시형태 또는 예를 제공한다. 본 개시 내용을 단순화하기 위해서, 구성요소 및 배열에 관한 특정의 예를 이하에서 설명한다. 이들은, 물론, 단지 예시적인 것이고 제한적인 것으로 의도된 것이 아니다. 예를 들어, 이하의 설명에서 제2 특징부 위에 또는 상에 제1 특징부를 형성하는 것은, 제1 및 제2 특징부가 직접 접촉되게 형성되는 실시형태를 포함할 수 있고, 또한 부가적인 특징부가 제1 및 제2 특징부들 사이에 형성될 수 있고, 그에 따라 제1 및 제2 특징부들이 직접 접촉하지 않을 수 있는 실시형태를 포함할 수 있다. 또한, 본 개시 내용이 여러 예에서 참조 번호 및/또는 문자를 반복할 수 있을 것이다. 이러한 반복은 단순성 및 명료함을 위한 것이고, 그 자체는 설명되는 여러 실시예 및/또는 구성 사이의 관계를 나타내지 않는다. 또한, "상단", "하단", "아래", "하부", "위", "상부" 및 기타와 같은 공간적으로 상대적인 용어는 본원에서, 도면에 도시된 바와 같이, 다른 요소(들) 또는 특징부(들)에 대한 하나의 요소 또는 특징부의 관계를 설명하기 위한 용이한 설명을 위해서 본원에서 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는, 도면에 도시된 배향에 더하여, 사용 또는 동작에서의 디바이스의 상이한 배향들을 포함하기 위한 것이다. 장치가 달리 배향될 수 있고(90도 또는 다른 배향으로 회전될 수 있고), 마찬가지로, 본원에서 사용된 공간적으로 상대적인 설명이 그에 따라 해석될 수 있다.
본원에서 설명된 바와 같은 상이한 단계들에 대한 설명의 순서는 명확성을 위해 제시되었다. 일반적으로, 이러한 단계들은 임의의 적합한 순서로 수행될 수 있다. 또한, 본원의 상이한 특징, 기술, 구성 등의 각각이 본 개시 내용의 상이한 곳에서 논의될 수 있지만, 각각의 개념은 서로 독립적으로 또는 서로 조합되어 실행될 수 있는 것으로 의도된다. 따라서, 본 발명은 다수의 상이한 방식들로 구현될 수 있고 보여질 수 있다.
광학적 협폭 노치 필터가 선택된 협폭의 파장 대역폭에 걸쳐 흡수 또는 소거(rejection)를 제공하고, 이러한 소거되는 대역폭의 외부에서 최대의 전체 투과를 가능하게 한다. 이러한 특성을 가지는 광학적 노치 필터는 기본적인 다평면 또는 다층 구성을 갖는다. 이들은, 회절 또는 간섭 현상으로, 파장 대역(또는 주파수 대역(Hz = 1/파장))을 선택적으로 소거한다. 이러한 필터는, 예를 들어, (회절 평면을 갖는) 홀로그래픽, (간섭 평면을 갖는) 유전체 또는 중합체 다층, (결정화 평면을 갖는) 액정, (회절 평면을 갖는) Rugate 등으로 분류될 수 있다. 예를 들어, 홀로그래픽 구조는, 중크롬산 젤라틴(DCG) 필름과 같은 감응형 편평 필름 상에서 둘 이상의 교차 단색 레이저 빔의 보강 간섭 패턴을 생성하는 것에 의해서 만들어 질 수 있다. 이러한 필터는 마이크로-나노 엠보싱 또는 임프린팅(imprinting) 기술을 이용하여 형성될 수 있다.
본원의 기술은 안과 렌즈용 다층 라미네이트 구조 내의 미세구조화된 필터를 위한 방법 및 장치를 제공한다. 라미네이트 구조는 층들 중 하나의 표면에서 중합체의 미세구조화된 패턴을 포함할 수 있다.
도 1a는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 편평형 라미네이트 웨이퍼(100)의 개략도이다. 도 1a는 컷팅, 열형성, 및 몰딩에 관련된 여러 구성요소의 직경 및 기본 곡선을 도시한다. 실시형태에서, 원형 편평형 웨이퍼의 직경(dfw)은 열형성 후의 편평형 라미네이트 웨이퍼(100)의 원호 길이와 동일한 길이이다.
도 1b는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 열형성된 라미네이트 웨이퍼(105)의 개략도이다. 실시형태에서, 열형성된 라미네이트 웨이퍼(105)의 코드 길이(dTF)는 대략적으로 렌즈의 직경과 동일한 직경일 수 있다.
도 1c는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 오목 몰드 삽입체(130)의 개략도이다. 실시형태에서, 렌즈의 직경은, 예를 들어, 오목 몰드 삽입체(130)의 직경(dInsert)에 의해서 결정될 수 있다. 따라서, 코드 길이(dTF) 및 오목 몰드 삽입체(130) 직경(dInsert) 모두는 편평형 라미네이트 웨이퍼(100)의 직경(dfw)보다 더 작은 직경을 가질 수 있다. 편평형 라미네이트 웨이퍼(100) 및 오목 몰드 삽입체(130)의 기본 곡선들의 차이로 인해서, 오목 몰드 삽입체(130)의 원호 길이는 열형성된 라미네이트 웨이퍼(105)의 원호 길이 이상이다.
도 1d는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 몰딩 디바이스의 개략도이다. 실시형태에서, 몰딩 디바이스는 제1 몰드 측면(145a), 제2 몰드 측면(145b), 오목 몰드 삽입체(130), 및 볼록 몰드 삽입체(135)를 포함할 수 있다. 제1 몰드 측면(145a) 및 제2 몰드 측면(145b)의 각각이 중공형 부분을 포함할 수 있고, 오목 몰드 삽입체(130) 및 볼록 몰드 삽입체(135)가 중공형 부분 내에 제거 가능하게 배치될 수 있다. 도 1d에 도시된 바와 같이, 오목 몰드 삽입체(130)를 포함하는 제1 몰드 측면(145a)은 볼록 몰드 삽입체(135)를 포함하는 제2 몰드 측면(145b)과 커플링되도록 구성될 수 있다. 커플링 시에, 오목 몰드 삽입체(130) 및 볼록 몰드 삽입체(135)는, 제1 및 제2 몰드 측면(145a, 145b)의 커플링에 의해서 형성된 중공형 라인에 연결된 공동을 형성할 수 있다. 이러한 라인은, 예를 들어, 스크류 공급기(screw feeder) 또는 유사 디바이스를 통해서 중합체를 수용하도록 구성될 수 있다. 공동은 열형성된 라미네이트 웨이퍼(105)를 수용하도록 구성될 수 있다. 오목 몰드 삽입체(130)의 곡률 및 볼록 몰드 삽입체(135)의 곡률이 최종 렌즈의 렌즈 굴절력을 결정할 수 있다. 반제품 렌즈의 경우에, 렌즈의 볼록 측면을 따른 곡률은 일정하고, 렌즈의 오목 측면은, 예를 들어, 연마 및 폴리싱을 통해서 몰딩 후에 변경될 수 있다. 공급원으로부터의 중합체의 사출이 다수의 몰드 디바이스를 단일 사출로 충진하고 다수의 렌즈의 병렬 제조를 허용하도록, 중합체를 수용하기 위한 다수의 라인들이 연결될 수 있다는 것에 주목하여야 한다. 중합체는 예를 들어 중합체 용융체(140)일 수 있다. 사출된 중합체 용융체(140)는 사출 몰딩 프로세스를 통해서 열 보조 스크류를 이용할 때 열가소성 성질을 가질 수 있거나, 주변 조건보다 약간 더 높은 온도에서 단량체를 주조 몰드 내로 공급하기 위해서 플런저 또는 플러그 보조 디바이스를 이용할 때 열경화성 성질을 가질 수 있고, 이어서 높은 온도에서 경화될 수 있다.
도 1e는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 열형성된 라미네이트 웨이퍼(105)를 렌즈(141)에 접착 또는 본딩하는 것의 개략도이다. 실시형태에서, 본딩 재료(143)가 렌즈의 볼록 측면과 열형성된 라미네이트 웨이퍼(105)의 오목 측면 사이에 도포되어, 열형성된 라미네이트 웨이퍼(105)를 렌즈(141)에 부착할 수 있다. 본딩 재료(143)는 예를 들어 접착제일 수 있다. 비록 전술한 예가 렌즈(141) 상으로의 전방-측면 웨이퍼 라미네이션 프로세스를 위한 가능한 구성을 보여주지만, 다른 구성이 고려될 수 있고, 예를 들어 열형성된 웨이퍼 라미네이트(105)가 또한 본딩 재료(143)를 이용하여 렌즈(141)의 오목 측면(후방-측면)에 접착되어, 착용자의 눈에 가장 가까운 렌즈(141)의 최종 측면 상에서 라미네이트 웨이퍼를 가질 수 있다.
몰딩 디바이스 내의 배치 또는 렌즈(141)에 대한 부착에 앞서서, 편평형 라미네이트 웨이퍼(100)는, 예를 들어 열형성 기계를 통해서, 열형성된 라미네이트 웨이퍼(105)의 곡선형 형상으로 열형성될 수 있다. 알려진 디바이스 및 방법, 예를 들어 열의 인가 하에서 편평형 라미네이트 웨이퍼(100)의 곡률을 점증적으로 증가시키는 Italy machine의 LEMATM을 이용하여 편평형 라미네이트 웨이퍼(100)를 열형성할 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 열형성 중에, 편평형 라미네이트 웨이퍼(100)는 가열된 열형성 삽입체 상으로 배치될 수 있고, 진공 보조력이 인가되어 편평형 라미네이트 웨이퍼(100)를 열형성 삽입체에 고정할 수 있다. 인가되는 열의 온도, 열의 지속시간, 및 인가되는 진공의 힘을 조정하는 것에 의해서, 편평형 라미네이트 웨이퍼(100)는 열형성 삽입체의 곡선형 형상으로 형성될 수 있고 그에 따라 열형성된 라미네이트 웨이퍼(105)를 생산할 수 있다.
실시형태에서, 편평형 라미네이트 웨이퍼(100)는 제1 층(110), 제2 층(120), 제3 층(125), 및 제1 층(110)과 제2 층(120) 사이에 배치된 제1 미세구조 패턴(115)을 포함할 수 있다. 제1 층(110)은 제1 굴절률을 갖는 제1 재료를 포함할 수 있다. 제2 층(120)은 제2 굴절률을 갖는 제2 재료를 포함할 수 있다. 제3 층(125)은 제3 굴절률을 갖는 제3 재료를 포함할 수 있다. 제1 미세구조 패턴(115)은 제1 미세구조 재료 굴절률을 갖는 제1 미세구조 재료를 포함할 수 있다. 편평형 라미네이트 웨이퍼(100)의 열형성은, 오목 측면인 제1 층(110) 및 볼록 측면인 제3 층(125)을 갖는 곡선형 구조물을 생성할 수 있다. 제1 미세구조 패턴(115)은 본원에서 설명된 많은 기술을 통해서 형성될 수 있다. 제1 미세구조 패턴(115)은 예를 들어 (삼각형, 직사각형, 둥근형, 뾰족형 등을 포함하는 횡단면을 갖는) 그레이팅, 기둥, 함몰부(즉, 홀), 융기된 섬(예를 들어, 돔-유사 언덕, 피라미드형 언덕 등), 또는 이들의 임의의 조합일 수 있다. 일 예에서, 그레이팅 위의 구조가 폭(W1)을 가질 수 있다. 구조는 주기성을 가지고 반복될 수 있고, 이러한 주기성은 각각의 반복되는 구조 사이의 거리와 폭(W1)을 기반으로 한다.
도 2a는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 롤-대-롤 제조 프로세스의 개략도이다. 실시형태에서, 제1 미세구조 패턴(115)은 롤-대-롤 제조 프로세스를 통해서 형성될 수 있고, 여기에서 제1 층(110)의 필름이 제1 롤러(205) 및 제2 롤러(210)를 포함하는 롤러의 쌍을 통해서 롤링될 수 있다. 일 예에서, 제1 미세구조 패턴(115)은 직사각형 횡단면을 가지는 그레이팅일 수 있고, 제1 롤러(205)는 제1 롤러(205)의 길이를 따라서(즉, 제1 롤러(205)의 횡방향에 직각으로) 연장되는 직사각형 돌출부를 가지는 텍스처링된 표면(textured surface)을 포함할 수 있다. 제1 층(110)이 제1 롤러(205) 및 제2 롤러(210)를 통해서 롤링될 때, 열이 인가될 수 있다. 예를 들어, 제1 롤러(205) 및 제2 롤러(210) 모두가 가열될 수 있다. 열은 제1 층(110)의 온도를 미리 결정된 온도까지 높일 수 있고, 미리 결정된 온도는 제1 층의 제1 재료의 유리 전이 온도(Tg)보다 높다. 제1 재료의 온도가 제1 재료의 Tg보다 높도록 임프린팅 전에 제1 층(110)의 필름을 선택적으로 예열할 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 제1 재료의 Tg보다 높게 제1 재료를 가열하는 것은 제1 재료가 점성적이 되어 유동하게 할 수 있고, 여기에서 제1 재료는 중합체일 수 있다. 점성적이 됨으로써, 제1 층(110)의 표면은 비정질이 되기 시작할 수 있고 제1 롤러(205)의 텍스처링된 표면의 형상을 가질 수 있다. 제1 층(110)이 제1 재료의 Tg 초과에서 제1 롤러(205) 및 제2 롤러(210)를 통해서 롤링될 때, 제1 롤러(205)의 텍스처링된 표면의 직사각형 또는 다른 형상의 돌출부가 제1 층(110)의 제1 표면 내로 임프린트될 수 있고, 그에 의해서 제1 미세구조 패턴(115)을 형성할 수 있다. 이러한 예에서, 제1 미세구조 패턴이 제1 층(110)의 제1 표면 내로 형성되기 때문에, 제1 재료 및 제1 미세구조 재료는 동일하다. 제1 층(110)이 임프린트된 후에, 임프린트된 제1 층(110)은 제1 재료의 Tg 미만으로 냉각될 수 있고, 그에 따라 제1 미세구조 패턴(115)을 응고시킬 수 있다. 제2 층(120)이 제1 층(110)의 상단부 위에 도포되어 제1 미세구조 패턴(115)의 빈 공극들(in-between voids)을 충진할 수 있다. 예를 들어, 제2 층(120)이 접착제일 수 있다. 그 후에, 제3 층(125)이 제2 층(120)의 상단부에 도포되어, 제1 미세구조 패턴(115)을 제1 층(110)과 제3 층(125) 사이에서 캡슐화(encapsulate)할 수 있다. 제2 층(120)이 접착제인 경우, 예를 들어, 제3 층(125)이 제2 층(120) 위에 라미네이트되어 제3 층(125)을 제1 층(110)에 접착할 수 있다.
다른 예에서, 직사각형 돌출부를 가지는 가요성의 텍스처링된 필름이 제1 롤러(205)의 표면을 따라 롤링되어 제1 미세구조(115)를 임프린트할 수 있다. 이는 더 긴 주기성을 갖는 더 복잡한 패턴이 제1 층(110) 내로 임프린트되게 할 수 있다. 마찬가지로, 더 큰 보어의 제1 롤러(205)가 사용될 수 있다. 그러나, 텍스처링된 필름의 장점이 모듈성을 포함할 수 있고, 희망하는 경우에 전체 텍스처링된 롤러를 교환하는 대신, 새로운 패턴을 가지는 새로운 텍스처링된 필름 슬리브가 제1 롤러(205)의 내외로 교환될(switched in and out) 수 있다.
도 2b는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 열-보조형 롤-대-판 제조 프로세스의 개략도이다. 이는 롤-대-스탬프 제조 프로세스로도 알려져 있다. 실시형태에서, 제1 미세구조는 롤-대-판 제조 프로세스를 통해서 형성될 수 있고, 제1 층(110)의 필름은 생산 라인을 따라서 운송될 수 있고 제1 평면형 몰드(215)가 제1 층(110)의 제1 표면 내로 임프린트할 수 있다. 일 예에서, 제1 평면형 몰드(215)가 제1 미세구조 패턴(115)의 음형(negative impression)을 포함할 수 있고, 그에 따라 제1 평면형 몰드(215)가 제1 층(110)의 제1 표면 내로 임프린트될 때, 제1 미세구조 패턴(115)의 디자인이 형성된다. 제1 미세구조 패턴(115)이 그레이팅인 경우, 제1 미세구조 패턴(115)의 돌출부(또는 "피크")가 제1 평면형 몰드(215) 상의 상응 위치에서 오목부(또는 "계곡부")를 가지는 제1 평면형 몰드(215)를 수반할 수 있다. 마찬가지로, 제1 미세구조 패턴(115)의 오목부는 제1 평면형 몰드(215) 상의 상응 위치에서 돌출부를 가지는 제1 평면형 몰드(215)를 수반할 수 있다. 제1 층(110)의 필름이 정지될 수 있고, 제1 평면형 몰드(215)에 의해서 스탬핑될 수 있고, 그 후에 다시 미리 결정된 거리로 이동될 수 있다. 제1 재료의 온도를 제1 재료의 Tg 초과로 높이기 위해서, 제1 층(110)의 필름이 제1 평면형 몰드(215)에 도달하기 전에 선택적으로 예열될 수 있다. 스탬핑 중에, 제1 층(110)의 필름이 예를 들어 하부 지지 기판을 통해서 가열될 수 있다. 제1 평면형 몰드(215)는 또한 예를 들어 프레싱 디바이스의 기판을 통해서 가열될 수 있다. 프레싱 디바이스가 제1 평면형 몰드(215)에 압력을 인가하여 제1 평면형 몰드(215)를 제1 층(110)의 필름의 표면 내로 강제할 수 있다. 다시, 제1 재료를 제1 재료의 Tg 초과로 가열함으로써, 제1 재료는 점성적 및 비정질이 될 수 있고 제1 평면형 몰드(215)의 피쳐들(features) 내로 유동할 수 있고, 그에 따라 제1 미세구조 패턴(115)의 피크 및 계곡부를 형성할 수 있다. 제1 층(110)이 임프린트된 후에, 임프린트된 제1 층(110)은 제1 재료의 Tg 미만으로 냉각될 수 있고, 그에 따라 제1 미세구조 패턴(115)을 응고시킬 수 있다. 제2 층(120)이 제1 층(110)의 상단부 위에 도포되어 제1 미세구조 패턴(115)의 빈 공극들을 충진할 수 있다. 그 후에, 제3 층(125)이 제2 층(120)의 상단부에 도포되어, 제1 미세구조 패턴(115)을 제1 층(110)과 제3 층(125) 사이에서 캡슐화할 수 있다.
도 2c는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 패턴 전사 제조 프로세스의 개략도이다. 실시형태에서, 제1 미세구조 패턴(115)은 제1 층(110)과 별도로 형성될 수 있다. 따라서, 희망하지 않는 한, 제1 미세구조 재료가 제1 재료와 동일할 필요는 없다. 제1 미세구조 패턴(115)은 임시 기판 상에 형성될 수 있고, 그 후에 제1 층(110)의 표면에 침착되거나 부착될 수 있다. 일 예에서, 제1 미세구조 패턴(115)은 몰딩을 통해서 임시 기판 상에 또는 라미네이팅 코팅 프로세스를 통해서 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)와 같은 규소 이형 필름(siliconized release film) 상에 형성될 수 있다. 제1 미세구조 패턴(115)은 그레이팅일 수 있고, 일련의 직사각형 라인들의 평행 스트립들이 임시 기판 상으로 몰딩될 수 있다. 몰딩된 제1 미세구조 패턴(115)이 임시 기판의 표면으로부터 탈착되도록 구성될 수 있다. 그 후에, 임시 기판의 표면에 대향되는 제1 미세구조 패턴(115)의 제1 측면이 기능화되거나 활성화될 수 있다. 예를 들어, 제1 미세구조 재료는 폴리디메틸 실록산(PDMS)일 수 있고, 제1 측면은 UV-오존 처리를 통해서 기능화될 수 있다. 마찬가지로, 제1 층(110)의 제1 재료가 또한 PDMS인 경우, 제1 층(110)의 표면이 또한 UV-오존 처리를 통해서 기능화될 수 있다. 그 후에, UV-오존 처리에 노광되었던 제1 미세구조 패턴(115) 및 제1 층(110) 모두의 표면들이 접촉되어 영구적인 본드를 형성하도록, 제1 층(110)의 표면 및 제1 미세구조 패턴(115)의 제1 측면이 접촉될 수 있다. 이어서, 제1 미세구조 패턴(115)이 임시 기판으로부터 이형될 수 있고, 제1 미세구조 패턴(115)을 캡슐화하는 것이 전술한 바와 같이 진행될 수 있다. 다른 예에서, 제1 미세구조 패턴(115)이 임시 기판으로부터 탈착될 수 있고 제1 층(110) 상으로 라미네이트 또는 침착될 수 있고 접착제를 통해서 본딩될 수 있다. 이는, 상이한 재료들의 굴절률의 부가적인 미세 조정이 요구되는 경우에, 제1 미세구조 재료를 위한 재료의 유형과 관련하여 유연성을 가지게 할 수 있다.
도 2d는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 적층 제조 프로세스의 개략도이다. 이는 3-차원적(3D) 프린팅 제조 프로세스로도 지칭될 수 있다. 일 예에서, 제1 미세구조 패턴(115)이 제1 층(110)의 표면 상으로 3D 프린트될 수 있다. 많은 상이한 재료들 및 3D 프린팅 방법들이 이용될 수 있다. 하나의 방법에서, 융합 침착 모델링을 이용하여, 통과-압출되는 플라스틱 또는 금속을 용융시키도록 구성된 가열된 노즐(130)을 통해서 플라스틱 또는 금속 와이어 필라멘트를 제1 층(110) 상에 침착시킬 수 있다. 제1 미세구조 패턴(115)이 그레이팅인 경우, 노즐(130)이 제1 층(110)의 표면을 가로지를 수 있고, 직사각형 횡단면을 갖는 상승된 피쳐들의 행을 프린트할 수 있다. 디지털 광 프로세싱과 같은 다른 방법에서, 제1 미세구조 재료가 미리 결정된 광의 파장을 이용하여 경화될 수 있고 제1 층(110)의 표면 상에 침착될 수 있다. 그 후에, 노즐(130)은 제1 미세구조 재료를 경화시키기 위해서 미리 결정된 광의 파장을 방출하도록 구성될 수 있다. 각각의 층에서, 노즐(130)은 경화 가능 제1 미세구조 재료 내의 제1 층 코팅의 표면 상의 부분적인 패턴의 횡단면을 추적한다. 미리 결정된 광의 파장에 대한 노광은 경화 가능 재료 상의 추적된 패턴을 경화 및 응고시키고, 이를 하부 층에 결합시킨다. 패턴이 추적된 후에, 제1 미세구조 패턴(115)을 추가적으로 구축하기 위한 노즐(130)의 다른 통과를 허용하기 위해서, 제1 층(110)을 지지하는 지지부가 하나의 층의 두께와 동일한 거리 만큼 하강되고 제1 미세구조 재료가 새로운 재료로 재-코팅된다. 2개의 예시적인 방법을 설명하였지만, 연속 액체 계면 생성, 재료 젯팅, 결합제 젯팅, 융합 필라멘트 제조, 직접 금속 레이저 소결 등과 같은, 제1 미세구조 패턴(115)을 형성하기 위한 부가적인 3D 프린팅 방법이 고려될 수 있다.
도 2e는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, UV-보조형 롤-대-판 제조 프로세스의 개략도이다. 도 2b의 방법과 마찬가지로, 제1 층(110)의 필름이 생산 라인을 따라서 운송될 수 있고, 제2 평면형 몰드(220)가 제1 층(110)의 제1 표면 내로 임프린트할 수 있다. 일 예에서, 제2 평면형 몰드(220)가 제1 미세구조 패턴(115)의 음형을 포함할 수 있고, 그에 따라 제1 평면형 몰드(215)가 제1 층(110)의 제1 표면 내로 임프린트될 때, 제1 미세구조 패턴(115)의 디자인이 형성된다. 또한, 제2 평면형 몰드(220)는 부분적으로 또는 전체적으로 UV-투명할 수 있고, 그에 따라 UV 파장의 광이 제2 평면형 몰드(220)를 통해서 전달될 수 있다. 제1 층(110)의 제1 재료를 제1 재료의 Tg 초과로 가열하는 대신, 제1 재료가 비정질 및 UV-경화성일 수 있다. 제2 평면형 몰드(220)를 제1 재료 내로 임프린트할 때, 제1 재료는 제2 평면형 몰드(220)의 형상을 가질 수 있고, UV 광이 미리 결정된 경화 시간 동안 제2 평면형 몰드(220)를 통해서 지향되어 제1 미세구조 패턴(115)의 형상을 유지하면서 제1 재료를 경화시킬 수 있다. 제2 평면형 몰드(220)가 제1 층(110)으로부터 이형될 때, 경화된 제1 미세구조 패턴(115)이 남는다.
도 2f는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 포토리소그래피-기반의 제조 프로세스의 개략도이다. 실시형태에서, 제1 미세구조 재료는 감광성 재료이고, 층이 제1 층(110)의 표면 상에 침착된다. 예를 들어, 제1 미세구조 재료가 네거티브 포토레지스트일 수 있다. 그 후에, 섀도 마스크(230)가 침착된 제1 미세구조 재료 위에 배치될 수 있다. 섀도 마스크(230)는 미리 결정된 파장의 광을 차단하도록 구성될 수 있다. 제1 미세구조 재료가 네거티브 포토레지스트인 경우, 섀도 마스크(230)는 UV 광을 차단하도록 구성될 수 있다. 섀도 마스크(230)가, 제1 미세구조 패턴(115)을 윤곽화하는 섀도 패턴을 포함할 수 있다. 제1 미세구조 재료가 침착된 제1 층(110)이 섀도 마스크(230)를 통해서 UV 광에 노광될 때, UV 광은 네거티브 포토레지스트를 용해할 수 있다. 따라서, 노광 후에 네거티브 포토레지스트를 현상할 때, 용해된 네거티브 포토레지스트가 세척될 수 있고, 포토레지스트 내에 제1 미세구조 패턴(115)을 남길 수 있다. 제1 미세구조 패턴(115)이 제1 층(110)의 일부로서 형성되는 것이 요구되는 경우에, 에칭 프로세스를 실행하여 제1 층(110)의 표면 내로 에칭할 수 있다. 예를 들어, 이방성 에칭이 반응성 이온 에칭을 통해서 실행되어, 직사각형 횡단면을 가지는 그레이팅을 제1 층(110)의 표면 내에 형성할 수 있다. 이와 달리, 포토레지스트 자체로부터 형성된 구조가 제1 미세구조 패턴(115)으로서의 역할을 할 수 있다.
도 3a 내지 도 3e는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 상이한 형상들 및 주기성들을 갖는 미세구조 그레이팅의 부가적인 일반적 예를 도시하는 개략도이다. 도 3a는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 제1 미세구조 패턴(115)에 대한 직사각형 횡단면 예이다. 도 3b는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 제1 미세구조 패턴(115)에 대한 삼각형 횡단면 예이다. 도 3c는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 제1 미세구조 패턴(115)에 대한 둥근 횡단면 예이다. 도 3d는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 제1 미세구조 패턴(115)에 대한 비대칭적 삼각형 횡단면 예이다.
도 4는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 제1 층(110)의 상단부에 형성된 둥근 동심적 링 미세구조의 횡단면 개략도이다. 제1 미세구조 패턴(115)의 크기, 형상 및 규모가 많은 형태 및 값을 가질 수 있다. 구조의 높이가 예를 들어 1 ㎛ 내지 10 ㎛일 수 있는 반면, 각각의 구조 사이의 갭이 예를 들어 0 mm 내지 1 mm일 수 있다. 구조의 폭은 예를 들어 20 ㎛ 내지 2,000 ㎛, 또는 바람직하게는 100 ㎛ 내지 1,200 ㎛일 수 있다.
도 5는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 제1 미세구조 패턴(115)에 대한 예시적인 경사 형상의 개략도이다. 도 6은 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 제1 미세구조 패턴(115)에 대한 예시적인 사다리꼴 형상의 개략도이다. 2개의 구조의 형상 및 크기는 그 각각의 도면 내의 규정된 변수 및 각도의 값에 의해서 결정될 수 있다. 예를 들어, 각도(α 및 β)는, 편평한 또는 열형성된 라미네이트 구조(100, 105)의 표면 상에서 광 감쇠가 이루어지는 방식에 상당한 영향을 미친다. 도 5의 경우에 알파(α)는 삼각형 구조의 밑변의 폭을 제어할 수 있는 반면, 도 6에서, 이는 사다리꼴의 높이의 회전 정도를 제어할 수 있다. 도 6의 쎄타(θ)는 사다리꼴 형상의 상단부의 곡률 반경을 변경할 수 있다. 제1 미세구조 패턴(115)의 기능이 상이한 변수들을 기반으로 변화되는 방식을 상세히 설명하는 추가적인 내용이 본원에서 설명된다.
일 예에서, 각도(β 및 θ)는 각각 30°일 수 있는 반면, α는 1.0 미크론의 길이(1,000개 그로브(grove)/mm)일 수 있다 언급된 특정 변수 값들 사이의 관계가 파장의 협폭의 세트에서, 예를 들어 이러한 예에서 청색 스펙트럼의 끝 및 밝은 녹색의 시작 체제를 목표로 하는 495 내지 505 nm 노치에서 차단/감쇠/반사/회절을 생성할 수 있다.
도 7은 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 제1 층(110) 위에 배치된 예시적인 미세구조의 개략도이다.
일 예에서, β 값의 변화는 스펙트럼 노치 거동을 전자기 스펙트럼의 좌측 또는 우측으로 조정하여 다른 파장을 차단할 수 있다. 도 5 및 도 6은 상이한 미세구조 구배의 그룹들을 도시한다. 평면형의 광학적으로 투명한 필름의 상단부 상의 구조화된 구배의 각각의 그룹은 모든 구배에 걸친 광의 등방적인 감쇠(전체 필름에 걸친 동일 파장의 차단), 또는 각각의 세트가 상이한 파장들을 목표로 하는, 인접하는 이웃 구조의 그룹에 대한 고유한 그리고 독립적인 스펙트럼 구배의 세트(도 7, 행 1 및 2 참조)를 갖도록 디자인될 수 있다. 그 두 가지 경우에서, 전술한 변수(알파, 베타, 쎄타)의 값을 변경하여, 하나의 라미네이트 구조의 단일 표면 상에서 임의의 하나의 또는 다수의 목표 노치 파장 범위에서 차단/감쇠/반사/회절을 생성할 수 있다. 보다 더 많은 양의 노치 파장을 목표로 하여, 다수의 미세구조가 서로 상하로 적층될 수 있다. 예를 들어, 제2 미세구조 패턴이 제1 미세구조 패턴(115)의 상단부에 형성될 수 있고, 제2 미세구조 패턴은 제2 미세구조 재료 굴절률의 제2 미세구조 재료를 갖는다. 예를 들어, 그레이팅의 경우, 제2 미세구조 패턴의 그레이팅이 제1 미세구조 패턴(115)의 그레이팅에 직각으로 정렬되도록, 제2 미세구조 패턴이 제1 미세구조 패턴(115)의 상단부-위에 배치될 수 있다. 광 감쇠 효과를 조정하기 위해서, 다른 정렬 각도가 고려될 수 있다.
도 2g는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 편평형 라미네이트 웨이퍼(100) 내의 이중-패턴 층의 개략도이다. 일 예에서, 편평형 라미네이트 웨이퍼(100)는 제1 층(110)과 제2 층(120) 사이에 배치된 미세구조 층(121)을 포함할 수 있다. 특히, 미세구조 층(121)은 미세구조 층(121)의 양 측면이 미세구조를 가지게 할 수 있다. 예를 들어, 미세구조 층(121)의 제1 표면은 제1 미세구조 패턴(115)을 포함할 수 있고, 미세구조 층(121)의 제2 표면은 제2 미세구조 패턴을 포함할 수 있다. β, θ 및 α의 값은 미세구조 층(121)의 제1 표면과 미세구조 층(121)의 제2 표면에서 동일하게 유지될 수 있거나 다를 수 있다. 이는 3-플라이(ply)(또는 더 많은 플라이)의 광학적 기능 재료를 갖는 편평형 라미네이트 구조(100)(또는 열형성된 라미네이트 구조(105))를 생성할 수 있고, 중간 필름은 양 표면에서 (UV/열/E-빔/3D-프린트 등을 통해서) 엠보싱된 패턴을 가지고, 제1 층(110) 및 제3 층(125)은 중간의 미세구조화된 광학적 활성 기능 필름을 사이에 두는 보호 층들이다. 제1 미세구조 패턴(115)은 제2 미세구조 패턴과 동일하거나 상이할 수 있고, 제1 및 제2 미세구조 패턴은 각각 제1 표면 및 제2 표면 내로 엠보싱될 수 있다. 접착제 또는 다른 본딩 재료(120)를 이용하여, 미세구조 층(121)을 제1 층(110)에 본딩할 수 있다. 대안적으로, 예를 들어, 엠보싱된 제1 미세구조 패턴(115)을 가지는 제1 층(110)이, 접착제 또는 본딩 재료(120)에 의해서, 동일하거나 상이한 엠보싱된 패턴을 가지는 제3 층(125)에 본딩될 수 있다.
도 3e는 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 제1 미세구조 패턴(115)에 대한 비-반복 패턴을 도시한다. 전술한 바와 같이, 유사한 그레이팅의 세트가 함께 그룹화되어 노치화된 파장을 생성할 수 있고, 동일한 또는 상이한 그레이팅들의 다수의 세트가 그룹화되어 다수의 노치화된 파장을 생성할 수 있다. 또한, 일 실시형태에서, 일련의 상이한 미세구조화된 분산형 그레이팅이, 희망하는 다수의 파장, 대역폭, 대역 세기에서 협폭 노치 필터를 생성하기 위해 상이한 중첩 주기성, 각도, 크기, 및 규모를 갖는 패턴을 통해서 다수의 협폭 노치 파장을 목표로 할 수 있는 제1 층(110) 또는 미세구조 층(121)의 제1 표면에 형성될 수 있다.
일 예에서, 염료가 또한 제1 미세구조 패턴(115)과 조합되어 더 넓은 필터로서 사용될 수 있다. 예를 들어, 염료는 피로-방지 안경에서 청색광을 또는 선글라스에서 UV 광선을 차단할 수 있고, 노치 필터들을 동일 필터 내에서 동시에 사용하여 선택된 단일 또는 다수의 파장 범위를 선택적으로 감소시켜 광 차단 효과를 더 향상시킬 수 있다.
일 예에서, 유기 염료가, 하나 이상의 협폭 파장 갭 내의 광을 차단하지 않으면서, 넓은 파장에 걸쳐 광을 흡수할 수 있다. 유기 염료를 이용하여 자외선으로부터 청색 파장 영역(예를 들어, 400 내지 500 nm)까지 넓은 광의 파장을 흡수할 수 있으나, 이는 선택된 협폭 파장 대역을 건너뛸 수는 없다(흡수하지 않을 수 없다). 예를 들어, 상이한 유기 염료를 이용하여 자외선 영역(< 254 nm 내지 400 nm 파장) 내에서 광을 흡수할 수 있고, 몇 개의 노치 그레이팅 필터(즉, 제1 미세구조 패턴(115), 제2 미세구조 패턴 등)는 420 내지 440 nm 및 480 내지 520 nm 파장을 제거할 수 있다. 이는 이하의 대역 통과 파장: 400 내지 420 nm, 440 내지 480 nm, 및 520 내지 740 nm에서 가시광선이 투과되게 할 수 있다(필터를 통과하게 할 수 있다). 이러한 협폭 대역 통과 파장은 유기 염료만으로 가능하지 않을 수 있다. 제1 미세구조 패턴(115)의 디자인을 변경하는 것에 의해서, 다른 협폭 노치 필터 파장(대역 파장 및 폭, 반사 효율 등)이 가능하다.
도 8은 본 개시 내용의 실시형태에 따른, 제1 미세구조 그레이팅(115)을 통한 선택적 감쇠를 예시하는 대표적인 그래프를 도시한다. 그래프는, 가시광선 스펙트럼의 끝 및 근적외선(NIR) 스펙트럼의 시작을 향한, 특정의 그리고 극도로 협폭인 광의 파장의 감쇠를 보여준다. 이러한 예에서, 약 750 내지 810 nm 영역에서의 필터링(노칭) 거동을 보여 주는 2개의 스펙트럼 곡선이 도시되어 있다. 표준 필터가, 안경 착용자의 최적의 시력에 영향을 미칠 수 있거나 미치지 않을 수 있는, 스펙트럼 곡선의 ~30 내지 40 nm의 차단을 갖는다는 것이 확인될 수 있다. 본원에서 설명된 라미네이트 구조는 더 넓은 표준 필터 내에서 매우 협폭인 파장 대역(~5 내지 10nm)의 제거 또는 흡수를 가능하게 하여, 희망 기능을 향상하거나 더 억제할 수 있게 한다. 또한, 인간의 눈에 생리학적으로 유해한 것으로 간주되는 가시광선 스펙트럼 내의 일부 파장을 협소적으로 그리고 선택적으로 감쇠함으로써 만연한 광 공포증 문제를 해결하는 데 적용할 수 있다. 극도의 광 과민성이 심각한 편두통을 유발할 수 있으며 현기증의 중증도를 악화시키는 역할을 할 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 라미네이트 구조를 통해 완화되는 주요 문제 중 하나는, 많은 희망하는 또는 중성 파장이 눈에 도달하도록 허용하면서 바람직하지 않은 광 파장을 선택적으로 제거하는 것에 의해서, 렌즈에 적용되는 라미네이트 구조 내의 제1 미세 구조 패턴(115)(또는 부가적인 미세 구조 패턴)의 사용을 통해 전반적인 광 공포증을 감소시키는 것이다.
도 9는 본 개시 내용의 실시예에 따른, 라미네이트를 제조하는 방법에 대한 흐름도이다. 단계(S901)에서, 제1 미세구조 패턴(115)이 제1 층(110)의 제1 표면에 형성된다. 예를 들어, 제1 미세구조 패턴(115)은 롤-대-롤 임프린팅, 열-보조형 롤-대-스탬프 임프린팅, 또는 UV-보조형 롤-대-스탬프 임프린팅 등을 통해서 제1 층(110)의 제1 표면 내에 직접적으로 형성된다. 예를 들어, 제1 미세구조 패턴(115)은 별도로 형성되고 제1 층(110)의 제1 표면에 침착 또는 접착된다. 예를 들어, 제1 미세구조 패턴(115)이 3D-프린팅 또는 포토리소그래피를 통해서 형성된다. 단계(S903)에서, 제2 층(120)이 제1 층(110)에 라미네이트된다. 예를 들어, 제2 층(120)은 접착제 필름이다. 단계(S905)에서, 제3 층(125)이 제2 층(120)에 라미네이트되어 편평형 라미네이트 웨이퍼(100)를 형성한다. 단계(S907)에서, 편평형 라미네이트 웨이퍼(100)가 열형성 디바이스를 통해서 열형성된 라미네이트 웨이퍼(105)로 열형성된다. 예를 들어, 이탈리아 LEMA의 디바이스가 사용된다. 단계(S909)에서, 열형성된 라미네이트 웨이퍼(105)가 렌즈에 부착된다. 예를 들어, 열형성된 라미네이트 웨이퍼(105)가 몰딩 디바이스 내에서 오버-몰딩될 수 있고, 여기에서 중합체 용융체(140)가 오목한 제1 층(110)에 인접하여 사출되고, 열형성된 라미네이트 웨이퍼(105)를 갖는 렌즈로 몰딩된다. 다른 예에서, 접착제를 이용하여 열형성된 라미네이트 웨이퍼(105)(의 오목한 제1 층(110))를 반제품 렌즈의 볼록 표면에 본딩한다. 다른 예에서, 열형성된 라미네이트 웨이퍼(105)는 오버-주조될 수 있거나 몰드 주조 디바이스 내로 삽입될 수 있고, 여기에서 단량체, 가교-결합제, 및 개시제의 조합이 열형성된 라미네이트 웨이퍼(105)에 접착되도록 몰드 주조 공동을 통해서 공급될 수 있고 이어서 경화되어 최종 렌즈를 형성할 수 있다.
열형성된 라미네이트 웨이퍼(105)를 렌즈에 부착하는 방법을 요약하면, i) 열가소성 폴리카보네이트 렌즈의 경우, 열형성된 라미네이트 웨이퍼(105)는 렌즈의 볼록 표면에 오버-몰딩될 수 있고, 즉 중합체 용융체(140)가 열형성된 라미네이트 웨이퍼(105)의 뒤쪽에 사출되고; ii) 열경화성 주조 렌즈의 경우, 열형성된 라미네이트 웨이퍼(105)가 주조 몰드의 표면에 배치될 수 있거나, 열형성된 라미네이트 웨이퍼(105)가 0.1 내지 1.0 mm만큼 주조 몰드의 표면으로부터 오프셋될 수 있다. 이어서, 공극 공간이 열경화성 단량체/수지로 충진되고, 경화된다. 필름 표면을 주조 단량체/수지에 본딩하기 위해서 프라이머 층이 도포될 수 있고; iii) 전방-측면 라미네이션 또는 후방-측면 라미네이션의 경우, 열형성된 라미네이트 웨이퍼(105)는 a) 기존 폴리카보네이트 또는 주조 렌즈의 볼록부(가장 바람직하게는 전방-측면) 또는 오목부(이차적으로 바람직하게는, 후방-측면)에 영구적으로 접착/본딩될 수 있거나, b) 패치 또는 다른 임시 고정구로서 기존 폴리카보네이트 또는 주조 렌즈의 볼록부(가장 바람직하게는 전방-측면) 또는 오목부(이차적으로 바람직하게는, 후방-측면)에 비-영구적으로 체결될 수 있다.
전술한 설명에서, 처리 시스템의 구체적인 구조 그리고 그 구조 내에 사용되는 다양한 구성요소 및 공정에 대한 설명과 같은, 구체적인 상세 사항이 설명되었다. 그러나, 본원에서의 기술은 이러한 구체적인 상세 사항으로부터 벗어나는 다른 실시형태로 실시될 수 있으며, 이러한 상세 사항은 설명을 위한 목적이지 이를 제한하기 위한 것이 아님을 이해해야 한다. 본원에 개시되는 실시형태를 첨부 도면들을 참조하여 설명하였다. 마찬가지로 설명을 위한 목적으로, 완전한 이해를 제공하기 위해 구체적인 수, 재료 및 구성이 제시되었다. 그럼에도 불구하고, 실시형태는 그러한 구체적인 상세 사항 없이 실시될 수 있다. 실질적으로 동일한 기능적 구성을 갖는 구성 요소에는 유사한 참조부호를 부여하였고, 임의의 중복 설명은 생략될 수 있다.
다양한 실시형태의 이해를 돕기 위해 다양한 기술이 복수의 개별 작업으로서 설명되었다. 설명의 순서는, 이들 작업이 반드시 순서에 의존하는 것임을 의미하는 것으로 해석되어서는 안 된다. 실제로, 이들 작업은 제시된 순서로 수행될 필요는 없다. 설명된 작업은 설명된 실시형태와 다른 순서로 실시될 수 있다. 다양한 부가적인 동작이 수행될 수 있고/있거나 설명된 동작이 부가적인 실시형태에서 생략될 수 있다.
본 개시 내용의 실시형태가 또한 이하의 삽입구에 기재된 바와 같을 수 있다.
(1) 라미네이트로서, 제1 층으로서, 상기 제1 층의 제1 재료가 제1 굴절률을 가지고, 상기 제1 층은 제1 표면을 가지는, 제1 층; 제1 미세구조 층으로서, 상기 제1 미세구조 층은 상기 미세구조 층의 제1 표면에 형성된 제1 미세구조 패턴을 포함하고, 상기 제1 미세구조 층의 제1 미세구조 재료는 제1 미세구조 재료 굴절률을 가지며, 상기 제1 미세구조 패턴은 제1의 미리 결정된 주기성을 갖는 제1의 반복 구조를 가지며, 상기 미세구조 층은 상기 제1 층의 제1 표면에 배치되는, 제1 미세구조 층; 제2 층으로서, 상기 제2 층의 제2 재료가 제2 굴절률을 가지고, 상기 제2 층은 상기 제1 미세구조 층의 제1 표면에 인접하여 배치되는, 제2 층; 및 제3 층으로서, 상기 제3 층의 제3 재료가 제3 굴절률을 가지고, 상기 제3 층은 상기 미세구조 층에 대향되는 측면 상에서 상기 제2 층에 인접하여 배치되는, 제3 층을 포함하는, 라미네이트.
(2) (1)에 있어서, 상기 제1 미세구조 층이 상기 제1 층의 제1 표면 내로 형성되는, 라미네이트.
(3) (1) 또는 (2)에 있어서, 상기 라미네이트가 렌즈의 볼록 표면에 형성되고, 상기 제1 층은 상기 렌즈의 볼록 표면에 인접하여 배치되는, 라미네이트.
(4) (3)에 있어서, 상기 라미네이트가 전방-측면 라미네이션, 오버몰딩 중 하나에 의해서 또는 접착제를 이용한 본딩을 통해서 상기 렌즈의 볼록 표면에 형성되는, 라미네이트.
(5) (1) 내지 (4) 중 어느 하나에 있어서, 상기 라미네이트는 후방-측면 라미네이션에 의해서 렌즈의 오목 표면에 형성되고, 상기 제3 층은 상기 렌즈의 오목 표면에 인접하여 배치되는, 라미네이트.
(6) (1) 내지 (5) 중 어느 하나에 있어서, 상기 제1 미세구조 층은 상기 제1 미세구조 패턴을 가지는 상기 제1 표면의 반대편에 있는 상기 미세구조 층의 제2 표면에 형성된 제2 미세구조 패턴을 포함하는, 라미네이트.
(7) (1) 내지 (6) 중 어느 하나에 있어서, 상기 제2 층은 상기 제1 미세구조 패턴을 캡슐화하고, 상기 제2 재료는 상기 제1의 반복 구조의 각각의 사이의 공극을 충진하는, 라미네이트.
(8) (1) 내지 (7) 중 어느 하나에 있어서, 상기 제1 미세구조 패턴은, 열-보조형 임프린팅, UV-보조형 임프린팅, 적층 제조, 패턴 전사, 포토리소그래피, 또는 롤-대-롤 몰드 임프린팅으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 프로세스를 통해서 형성되는, 라미네이트.
(9) (1) 내지 (8) 중 어느 하나에 있어서, 제2 미세구조 층을 추가로 포함하고, 상기 제2 미세구조 층의 제2 미세구조 재료는 제2 미세구조 재료 굴절률을 가지고, 상기 제2 미세구조 층의 제1 표면은 상기 제2 미세구조 층의 제1 표면에 형성된 제2 미세구조 패턴을 포함하고, 상기 제2 미세구조 패턴은 제2의 미리 결정된 주기성을 갖는 제2의 반복 구조를 가지며, 상기 제2 미세구조 층은 상기 제1 미세구조 층과 상기 제2 층 사이에 배치되고, 상기 제2 미세구조 층의 제1 표면은 상기 제2 층에 인접하여 배치되는, 라미네이트.
(10) (1) 내지 (9) 중 어느 하나에 있어서, 상기 제1 굴절률이 상기 제2 굴절률보다 큰, 라미네이트.
(11) 라미네이트를 형성하는 방법으로서, 제1 미세구조 패턴을 제1 층의 제1 표면에 형성하는 단계로서, 상기 제1 층은 제1 굴절률의 제1 재료를 가지며, 상기 제1 미세구조 패턴은 제1의 미리 결정된 주기성을 갖는 제1의 반복 구조를 가지는, 단계; 제2 층을 상기 제1 층에 라미네이트시키는 단계로서, 상기 제2 층은 제2 굴절률의 제2 재료를 가지고, 상기 제2 층은 상기 제1 층의 제1 표면에 인접하여 배치되는, 단계; 및 제3 굴절률의 제3 재료를 갖는 제3 층을 상기 제2 층에 라미네이트시키는 단계를 포함하는, 방법.
(12) (11)에 있어서, 상기 제2 층을 상기 제1 층에 라미네이트시키는 단계에 앞서서, 상기 제1 미세구조 패턴을 상기 제1 층의 제1 표면 내로 임프린팅하는 단계를 추가로 포함하는, 방법.
(13) (12)에 있어서, 상기 제1 미세구조는, 열-보조형 임프린팅, UV-보조형 임프린팅, 3D 적층 제조, 또는 롤-대-스탬프 몰드 임프린팅으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 프로세스를 통해서 임프린팅되는, 방법.
(14) (11)에 있어서, 상기 제1 미세구조 패턴을 상기 제1 층의 제1 표면에 형성하는 단계가, 상기 제1 미세구조 패턴을 제1 미세구조 층의 제1 표면에 형성하는 단계로서, 상기 제1 미세구조 층의 제1 미세구조 재료가 제1 미세구조 재료 굴절률을 가지고, 상기 제1 미세구조 패턴은 제1의 미리 결정된 주기성을 갖는 제1의 반복 구조를 가지는, 단계; 및 상기 제1 미세구조 층의 제2 표면을 상기 제1 층의 제1 표면에 본딩하는 단계를 추가로 포함하는, 방법.
(15) (14)에 있어서, 상기 제1 미세구조 패턴을 상기 제1 층의 제1 표면에 형성하는 단계가, 제2 미세구조 패턴을 상기 제1 미세구조 층의 제2 표면에 형성하는 단계; 및 상기 제2 미세구조 패턴이 형성된 상기 제1 미세구조 층의 제2 표면을 상기 제1 층의 제1 표면에 본딩하는 단계를 추가로 포함하는, 방법.
또한, 당업자라면 본 발명의 동일한 목적을 여전히 달성하면서 위에서 설명된 기술의 작업에 대해 많은 변경이 이루어질 수 있다는 것을 이해할 것이다. 그러한 변경은 본 개시 내용의 범위에 포함되는 것으로 의도된다. 따라서, 본 발명의 실시형태의 전술한 설명은 제한적인 것으로 의도되지 않는다. 오히려, 본 발명의 실시형태에 대한 임의의 제한 사항은 이하의 청구범위에서 제시된다.

Claims (15)

  1. 라미네이트로서,
    제1 층으로서, 상기 제1 층의 제1 재료가 제1 굴절률을 가지고, 상기 제1 층은 제1 표면을 가지는, 제1 층;
    제1 미세구조 층으로서, 상기 제1 미세구조 층은 상기 미세구조 층의 제1 표면에 형성된 제1 미세구조 패턴을 포함하고, 상기 제1 미세구조 층의 제1 미세구조 재료는 제1 미세구조 재료 굴절률을 가지며, 상기 제1 미세구조 패턴은 제1의 미리 결정된 주기성을 갖는 제1의 반복 구조를 가지며, 상기 미세구조 층은 상기 제1 층의 제1 표면에 배치되는, 제1 미세구조 층;
    제2 층으로서, 상기 제2 층의 제2 재료가 제2 굴절률을 가지고, 상기 제2 층은 상기 제1 미세구조 층의 제1 표면에 인접하여 배치되는, 제2 층; 및
    제3 층으로서, 상기 제3 층의 제3 재료가 제3 굴절률을 가지고, 상기 제3 층은 상기 미세구조 층에 대향되는 측면 상에서 상기 제2 층에 인접하여 배치되는, 제3 층
    을 포함하는, 라미네이트.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 미세구조 층이 상기 제1 층의 제1 표면 내로 형성되는, 라미네이트.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 라미네이트가 렌즈의 볼록 표면에 형성되고, 상기 제1 층은 상기 렌즈의 볼록 표면에 인접하여 배치되는, 라미네이트.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 라미네이트가 전방-측면 라미네이션, 오버몰딩 중 하나에 의해서 또는 접착제를 이용한 본딩을 통해서 상기 렌즈의 볼록 표면에 형성되는, 라미네이트.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 라미네이트는 후방-측면 라미네이션에 의해서 렌즈의 오목 표면에 형성되고, 상기 제3 층은 상기 렌즈의 오목 표면에 인접하여 배치되는, 라미네이트.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 제1 미세구조 층은 상기 제1 미세구조 패턴을 가지는 상기 제1 표면의 반대편에 있는 상기 미세구조 층의 제2 표면에 형성된 제2 미세구조 패턴을 포함하는, 라미네이트.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 제2 층은 상기 제1 미세구조 패턴을 캡슐화하고, 상기 제2 재료는 상기 제1의 반복 구조의 각각의 사이의 공극을 충진하는, 라미네이트.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 제1 미세구조 패턴은, 열-보조형 임프린팅, UV-보조형 임프린팅, 적층 제조, 패턴 전사, 포토리소그래피, 또는 롤-대-롤 몰드 임프린팅으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 프로세스를 통해서 형성되는, 라미네이트.
  9. 제1항에 있어서,
    제2 미세구조 층을 추가로 포함하고, 상기 제2 미세구조 층의 제2 미세구조 재료는 제2 미세구조 재료 굴절률을 가지고, 상기 제2 미세구조 층의 제1 표면은 상기 제2 미세구조 층의 제1 표면에 형성된 제2 미세구조 패턴을 포함하고, 상기 제2 미세구조 패턴은 제2의 미리 결정된 주기성을 갖는 제2의 반복 구조를 가지며, 상기 제2 미세구조 층은 상기 제1 미세구조 층과 상기 제2 층 사이에 배치되고, 상기 제2 미세구조 층의 제1 표면은 상기 제2 층에 인접하여 배치되는, 라미네이트.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 제1 굴절률이 상기 제2 굴절률보다 큰, 라미네이트.
  11. 라미네이트 형성 방법으로서,
    제1 미세구조 패턴을 제1 층의 제1 표면에 형성하는 단계로서, 상기 제1 층은 제1 굴절률의 제1 재료를 가지며, 상기 제1 미세구조 패턴은 제1의 미리 결정된 주기성을 갖는 제1의 반복 구조를 가지는, 단계;
    제2 층을 상기 제1 층에 라미네이트시키는 단계로서, 상기 제2 층은 제2 굴절률의 제2 재료를 가지고, 상기 제2 층은 상기 제1 층의 제1 표면에 인접하여 배치되는, 단계; 및
    제3 굴절률의 제3 재료를 갖는 제3 층을 상기 제2 층에 라미네이트시키는 단계
    를 포함하는, 방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 제2 층을 상기 제1 층에 라미네이트시키는 단계에 앞서서, 상기 제1 미세구조 패턴을 상기 제1 층의 제1 표면 내로 임프린팅하는 단계를 추가로 포함하는, 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 제1 미세구조는, 열-보조형 임프린팅, UV-보조형 임프린팅, 3D 적층 제조, 또는 롤-대-스탬프 몰드 임프린팅으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 프로세스를 통해서 임프린팅되는, 방법.
  14. 제11항에 있어서,
    상기 제1 미세구조 패턴을 상기 제1 층의 제1 표면에 형성하는 단계가,
    상기 제1 미세구조 패턴을 제1 미세구조 층의 제1 표면에 형성하는 단계로서, 상기 제1 미세구조 층의 제1 미세구조 재료가 제1 미세구조 재료 굴절률을 가지고, 상기 제1 미세구조 패턴은 제1의 미리 결정된 주기성을 갖는 제1의 반복 구조를 가지는, 단계; 및
    상기 제1 미세구조 층의 제2 표면을 상기 제1 층의 제1 표면에 본딩하는 단계를 추가로 포함하는, 방법.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 제1 미세구조 패턴을 상기 제1 층의 제1 표면에 형성하는 단계가,
    제2 미세구조 패턴을 상기 제1 미세구조 층의 제2 표면에 형성하는 단계; 및
    상기 제2 미세구조 패턴이 형성된 상기 제1 미세구조 층의 제2 표면을 상기 제1 층의 제1 표면에 본딩하는 단계를 추가로 포함하는, 방법.
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US7443608B2 (en) * 2006-08-07 2008-10-28 Dillon Stephen M Uniform diffuse omni-directional reflecting lens
KR100992274B1 (ko) * 2007-12-18 2010-11-05 삼성전기주식회사 적층 렌즈 패키지의 제조방법
US20130011608A1 (en) * 2010-01-13 2013-01-10 Wolk Martin B Optical films with microstructured low refractive index nanovoided layers and methods therefor
DE112011100311T5 (de) * 2011-03-30 2013-04-04 Taiwan Green Point Enterprises Co., Ltd. Formwerkzeug mit einem dreidimensionalen Oberflächenstrukturmuster und Verfahren zur Herstellung desselben
EP3218761A4 (en) * 2014-10-03 2018-08-22 Luxottica S.r.l. Laminated mirror lens
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