KR20230001507A - 기판 처리 방법 - Google Patents

Abstract

(과제) 기판 처리에 필요한 기간을 단축시키는 것.
(해결 수단) 기판에 대해 실행되는 제 1 처리의 내용을 설정하는 제 1 프로세스 레시피와, 기판에 대해 제 1 처리 후에 실행되는 제 2 처리의 내용을 설정하는 제 2 프로세스 레시피와, 제 2 프로세스 레시피에 대한 예비 동작의 내용을 설정하는 프리 레시피를 포함하는 플로 레시피가 미리 설정된다. 제 1 처리는 기판에 대한 제 1 약액의 토출을 포함하고, 제 2 처리는 기판에 대한 제 1 약액의 토출을 포함하고, 예비 동작은 제 1 약액의 배출을 포함한다. 기판 처리 방법은, 제 1 처리를 실행하는 공정과, 제 1 처리의 종료에서 제 2 처리의 개시까지의 기간이 제 1 임계값보다 짧은지의 여부의 판단을 실시하는 공정과, 판단의 결과가 긍정적이면, 예비 동작의 시간을 저감시켜, 제 2 처리를 실행하는 공정을 구비한다.

Description

기판 처리 방법{SUBSTRATE PROCESSING METHOD}

본 개시는 기판을 처리하는 방법에 관한 것이다.

기판을 사용하여 전자 장치 (예를 들어 반도체 장치, 액정 표시 장치) 를 제조하는 공정에 있어서, 기판에 대해 여러 가지 처리 (이하「기판 처리」라고 칭해진다) 가 실시된다. 기판 처리에는, 예를 들어 기판에 대해 1 장씩 실시되는, 이른바 매엽식 처리가 포함된다. 매엽식 처리에는 예를 들어 세정 처리, 에칭 처리가 포함된다.

기판 처리에 사용되는 약액 (이하「처리액」이라고도 칭해진다) 은, 예를 들어 노즐로부터 기판에 공급된다. 처리의 효율을 높이기 위해, 예를 들어 노즐에는, 처리에 적합한 온도로 조절 (예를 들어 가열) 된 처리액이 배관으로부터 공급된다. 기판 처리의 내용은 프로세스 레시피로서 정해진다.

기판 처리가 종료된 후에는, 노즐이나 배관 내에 처리액이 체류하고, 체류한 처리액의 온도는, 처리에 적합한 온도보다 저온이 되는 경우가 있다. 처리액에 포함되는 성분의 석출에 의한 처리액의 비중의 변화도 상정된다. 이와 같은 현상은 처리액의 열화를 초래하기 쉽다. 열화된 처리액을 사용하면 적절한 기판 처리가 실시되기 어렵다.

특허문헌 1 에서는, 기판 처리가 실행되기 전에 실행되는 전동작으로서, 예를 들어 체류한 처리액을 폐기하는 프리디스펜스 동작을 실행하는 것이 제안되어 있다. 전동작의 내용은 프리 레시피로서 정해진다. 특허문헌 2 에서는, 기판의 1 장마다, 기판 처리와 프리디스펜스 동작이 실행되는 기술이 제안되어 있다.

일본 공개특허공보 2009-231733호 일본 공개특허공보 2019-160910호

노즐이나 배관 내에 처리액이 체류하는 기간이 짧으면, 기판 처리를 적절히 실시할 수 없을 정도로까지 처리액은 열화되지 않는 것으로 상정된다. 기판 처리가 불연속으로 복수회 실행되어도, 기판 처리가 실행되지 않는 기간이 짧으면, 프리디스펜스 동작 (이하「프리 처리」라고도 칭해진다) 에 요하는 기간을 저감시켜도 기판 처리는 적절히 실행될 것이다. 프리디스펜스 동작에 요하는 기간을 저감시키는 것은, 기판 처리에 필요한 기간을 단축시킨다. 본 개시는, 간략화된 기판 처리 방법을 제공한다.

본 개시에 관련된 기판 처리 방법은, 기판에 대해 실행되는 제 1 처리의 내용을 설정하는 제 1 프로세스 레시피와, 상기 기판에 대해 상기 제 1 처리 후에 실행되는 제 2 처리의 내용을 설정하는 제 2 프로세스 레시피와, 상기 제 2 프로세스 레시피에 대한 예비 동작의 내용을 설정하는 프리 레시피를 포함하는 플로 레시피가 미리 설정된 기판 처리 방법이다. 이 기판 처리 방법의 제 1 양태에 있어서는, 상기 제 1 처리는 상기 기판에 대한 제 1 약액의 토출을 포함하고, 상기 제 2 처리는 상기 기판에 대한 상기 제 1 약액의 토출을 포함하고, 상기 예비 동작은 상기 제 1 약액의 배출을 포함한다.

이 기판 처리 방법의 제 1 양태는, 상기 제 1 처리를 실행하는 공정과, 상기 제 1 처리의 종료에서 상기 제 2 처리의 개시까지의 기간이 제 1 임계값보다 짧은지의 여부의 판단을 실시하는 공정과, 상기 판단의 결과가 긍정적이면, 상기 예비 동작의 시간을 저감시켜, 상기 제 2 처리를 실행하는 공정을 구비한다.

이 기판 처리 방법의 제 2 양태는, 그 제 1 양태로서, 상기 제 1 처리에 있어서의 상기 제 1 약액의 상기 토출이 종료되고 나서, 상기 제 2 처리에 있어서의 상기 제 1 약액의 상기 토출이 개시될 때까지의 기간이, 상기 제 1 임계값보다 긴 제 2 임계값보다 짧고, 상기 제 1 임계값보다 길면, 상기 예비 동작의 시간이 저감된다.

이 기판 처리 방법의 제 3 양태는, 그 제 2 양태로서, 상기 제 1 처리에 있어서의 상기 제 1 약액의 상기 토출이 종료되고 나서, 상기 제 2 처리에 있어서의 상기 제 1 약액의 상기 토출이 개시될 때까지의 기간이 상기 제 2 임계값보다 긴 제 3 임계값보다 길면, 상기 예비 동작의 시간이 증가된다.

이 기판 처리 방법의 제 4 양태는, 그 제 1 양태, 제 2 양태, 또는 제 3 양태로서, 상기 제 1 약액의 상기 토출이 종료되고 나서 상기 제 1 약액의 상기 토출이 재개되지 않고, 상기 제 1 임계값보다 긴 제 4 임계값보다 긴 시간이 경과하면, 상기 제 1 약액의 상기 배출이 실행된다.

이 기판 처리 방법의 제 5 양태는, 그 제 1 양태, 제 2 양태, 제 3 양태, 또는 제 4 양태로서, 상기 플로 레시피는, N 장 (N 은 2 이상의 정수) 의 상기 기판의 각각에 대응하는 N 개의 상기 제 1 처리를 포함하고, 제 1 내지 제 (N - 1) 상기 기판에 대한 상기 제 1 처리가 종료되고, 제 N 상기 기판에 대한 상기 제 1 처리가 개시되는 시점에서, 상기 제 N 상기 제 1 처리의 종료에서 상기 제 2 처리의 개시까지의 기간이 상기 제 1 임계값보다 짧은지의 여부가 판단된다.

본 개시에 관련된 기판 처리 방법의 제 1 양태에 의하면, 기판 처리에 필요한 기간이 단축된다.

본 개시에 관련된 기판 처리 방법의 제 2 양태에 의하면, 기판 처리에 필요한 기간이 단축된다.

본 개시에 관련된 기판 처리 방법의 제 3 양태에 의하면, 약액의 열화가 제 2 처리에 주는 영향이 저감된다.

본 개시에 관련된 기판 처리 방법의 제 4 양태에 의하면, 약액의 열화가 이후의 처리에 주는 영향이 저감된다.

본 개시에 관련된 기판 처리 방법의 제 5 양태에 의하면, 플로 레시피를 실행 중에 레시피가 변경되는 경우에도, 프리 처리의 필요 여부가 적절히 판단된다.

도 1 은, 기판 처리 장치의 개략 구성의 일례를 나타내는 모식적인 평면도이다.
도 2 는, 하나의 처리 유닛의 구성을 예시하는 개략도이다.
도 3 은, 처리액 공급부의 구성을 모식적으로 예시하는 개략도이다.
도 4 는, 기판 처리 시스템의 개략 구성의 일례를 나타내는 도면이다.
도 5 는, 호스트 컴퓨터의 전기적인 구성의 일례를 나타내는 블록도이다.
도 6 은, 본체 제어 유닛의 전기적인 구성의 일례를 나타내는 블록도이다.
도 7 은, 액 관리 제어 유닛의 전기적인 구성의 일례를 나타내는 블록도이다.
도 8 은, 처리 유닛을 사용한 처리의 일례를 나타내는 도면이다.
도 9 는, 플로 레시피를 개념적으로 예시하는 타이밍 차트이다.
도 10 은, 프로세스 레시피의 내용을 경시적으로 예시하는 타이밍 차트이다.
도 11 은, 프로세스 레시피의 내용을 경시적으로 예시하는 타이밍 차트이다.
도 12 는, 프로세스 레시피의 내용을 경시적으로 예시하는 타이밍 차트이다.
도 13 은, 프리 레시피의 내용을 경시적으로 예시하는 타이밍 차트이다.
도 14 는, 프리 레시피의 내용을 경시적으로 예시하는 타이밍 차트이다.
도 15 는, 플로 레시피의 일부를 나타내는 타이밍 차트이다.
도 16 은, 프리 처리의 필요 여부를 판단하는 루틴을 예시하는 플로 차트이다.
도 17 은, 기판 처리를, 프로세스 레시피와 프리 레시피를 사용하여 나타내는 타이밍 차트이다.
도 18 은, 기판 처리를, 프로세스 레시피와 프리 레시피를 사용하여 나타내는 타이밍 차트이다.
도 19 는, 기판 처리를, 프로세스 레시피와 프리 레시피를 사용하여 나타내는 타이밍 차트이다.

＜설명에 있어서의 유의점＞

이하, 첨부되는 도면을 참조하면서 실시형태에 대해 설명한다. 또한, 도면은 개략적으로 나타내는 것이며, 설명의 편의를 위해, 적절히 구성의 생략 및 구성의 간략화가 이루어지는 것이다. 또, 도면에 나타내는 구성의 크기 및 위치의 상호 관계는, 반드시 정확하게 기재되는 것은 아니고, 적절히 변경될 수 있는 것이다.

또, 이하에 나타내는 설명에서는, 동일한 구성 요소에는 동일한 부호를 부여하여 도시하고, 그들의 명칭과 기능에 대해서도 동일한 것으로 한다. 따라서, 그들에 대한 상세한 설명을, 중복을 피하기 위해 생략하는 경우가 있다.

또, 이하에 기재되는 설명에 있어서,「제 1」또는「제 2」등의 서수가 사용되는 경우가 있어도, 이들 용어는, 실시형태의 내용을 이해하는 것을 용이하게 하기 위해 편의상 사용되는 것이며, 이들 서수에 의해 생성될 수 있는 순서 등에 한정되는 것은 아니다.

상대적 또는 절대적인 위치 관계를 나타내는 표현 (예를 들어「일방향으로」「일방향을 따라」「평행」「직교」「중심」「동심」「동축」등) 은, 특별히 언급하지 않는 한, 그 위치 관계를 엄밀하게 나타낼 뿐만 아니라, 공차 혹은 동일한 정도의 기능이 얻어지는 범위에서 상대적으로 각도 또는 거리에 관하여 변위된 상태도 나타내는 것으로 한다. 동등한 상태인 것을 나타내는 표현 (예를 들어「동일」「동등하다」「균질」등) 은, 특별히 언급하지 않는 한, 정량적으로 엄밀하게 동등한 상태를 나타낼 뿐만 아니라, 공차 혹은 동일한 정도의 기능이 얻어지는 차가 존재하는 상태도 나타내는 것으로 한다. 형상을 나타내는 표현 (예를 들어,「사각 형상」또는「원통 형상」등) 은, 특별히 언급하지 않는 한, 기하학적으로 엄밀하게 그 형상을 나타낼 뿐만 아니라, 동일한 정도의 효과가 얻어지는 범위에서, 예를 들어 요철이나 모따기 등을 갖는 형상도 나타내는 것으로 한다. 하나의 구성 요소를 「갖추다」「마련하다」「구비하다」「포함하다」또는「갖는다」라는 표현은, 다른 구성 요소의 존재를 제외하는 배타적 표현은 아니다. 「A, B 및 C 중 적어도 어느 하나」라는 표현은, A 만, B 만, C 만, A, B 및 C 중 임의의 2 개, 그리고, A, B 및 C 모두를 포함한다.

＜1-1. 기판 처리 장치의 구성예＞

도 1 은, 기판 처리 장치 (20) 의 개략 구성의 일례를 나타내는 모식적인 평면도이다. 도 1 에 있어서 지면에 수직인 방향이, 기판 처리 장치 (20) 에 대한 연직 방향에 상당한다. 기판 처리 장치 (20) 는, 예를 들어, 기판 (W) 의 표면에 대해 처리액을 공급하여 매엽식 처리를 실시한다. 이하에서는 기판 (W) 으로서 반도체 기판 (웨이퍼) 이 사용된 경우를 예로 들어 설명된다.

이하에서는 기판 처리로서, 처리액을 사용하여 이물질이나 제거 대상물을 제거하는 세정 처리가 사용된 경우를 예로 들어 설명된다. 당해 세정 처리에 채용되는 처리액으로서, 암모니아와 과산화수소수의 혼합액 (이른바 RCA 세정에서 채용되는 Standard Cleaning 1 에 이용된다 ; 이하「처리액 (SC1)」이라고 칭해진다), 불화수소산 (HF) 을 순수로 희석시킨 희불산 (dilute hydrofluoric acid ; 이하「처리액 (DHF)」이라고 칭해진다), 이소프로필알코올 (isopropyl alcohol ; 이하「처리액 (IPA)」이라고 칭해진다) 이 예시된다.

당해 예시 외에, 세정 처리에 있어서 다른 처리액을 채용해도 된다. 당해 예시 외에, 세정 처리를 대신하여, 혹은 세정 처리와 함께, 예를 들어, 에천트를 사용한 에칭 처리, 물로 씻어내는 린스 처리, 예를 들어 레지스트를 도포하는 도포 처리가 채용되어도 된다.

기판 처리 장치 (20) 는 로드 포트 (LP1, LP2, LP3, LP4) 를 포함한다. 로드 포트의 개수는 4 에 한정되지 않는다. 로드 포트 (LP1, LP2, LP3, LP4) 의 각각은, 캐리어 (C) 를 유지하는 수용기 유지 기구로서 기능한다. 캐리어 (C) 는 복수장 (예를 들어 25 장) 의 기판 (W) 을 수용하는 FOUP (Front Opening Unified Pod) 로서 기능한다.

로드 포트 (LP1, LP2, LP3, LP4) 에는, 예를 들어, 캐리어 거치 장소 (40) 로부터 반송 장치 (30) 에 의해 캐리어 (C) 가 반송되어 재치된다. 기판 처리 장치 (20) 가 복수 형성될 때에는, 예를 들어, 반송 장치 (30) 는 캐리어 (C) 를 기판 처리 장치 (20) 끼리의 사이에서 반송한다.

기판 처리 장치 (20) 는, 6 대의 처리 유닛 (21) 을 포함한다. 처리 유닛 (21) 의 대수는 6 에 한정되지 않는다. 도 1 에 있어서의 예시에서는, 3 대의 처리 유닛 (21) 이 한 세트가 되어 연직 방향으로 적층되어 배치된다. 이하, 한 세트의 처리 유닛 (21) (여기서는 연직 방향으로 적층되어 배치되는 3 대의 처리 유닛 (21)) 은 1 개의 타워 (21t) 로서 설명되는 경우가 있다. 평면에서 봤을 때에는 2 개의 타워 (21t) 가 나타난다.

기판 처리 장치 (20) 는, 추가로, 예를 들어, 인덱서 로봇 (91) 과, 센터 로봇 (92) 과, 본체 제어 유닛 (22) 과, 저류조 (261, 262, 263, 264) 와, 액 관리 제어 유닛 (24) 과, 처리액 공급부 (28) 를 포함한다.

인덱서 로봇 (91) 은, 예를 들어, 로드 포트 (LP1, LP2, LP3, LP4) 와 센터 로봇 (92) 사이에서 기판 (W) 을 반송한다. 센터 로봇 (92) 은, 예를 들어, 인덱서 로봇 (91) 과 처리 유닛 (21) 사이에서 기판 (W) 을 반송하는 기능을 갖는다. 인덱서 로봇 (91) 과 센터 로봇 (92) 은, 캐리어 (C) 에 수용되어 있는 복수장의 기판 (W) 을 캐리어 (C) 로부터 각각의 처리 유닛 (21) 을 향하여 반출하는, 반송부 (93) 로서 기능한다.

본체 제어 유닛 (22) 은 예를 들어, 기판 처리 장치 (20) 에 구비된 각 부의 동작 및 밸브의 개폐 등을 제어한다. 본체 제어 유닛 (22) 은 예를 들어, 액 관리 제어 유닛 (24) 과의 사이에서 각종 신호의 송수신을 실시한다.

저류조 (261, 262, 263, 264) 는, 처리 유닛 (21) 에 대해 후술되는 바와 같이 하여 공급되는 처리액을 저류한다. 예를 들어 저류조 (261) 에는 처리액 (DHF) 이 저류되고, 저류조 (262) 에는 처리액 (SC1) 이 저류되고, 저류조 (263) 에는 처리액 (IPA) 이 저류되고, 저류조 (264) 에는 처리액 (DHF, SC1, IPA) 중 어느 것이 저류된다. 이하에서는 저류조 (264) 에는 처리액 (DHF) 이 저류되는 경우가 예시된다.

저류조 (261, 262, 263, 264) 의 각각에는, 예를 들어, 센서 (27) 가 형성된다. 센서 (27) 는 처리액의 상태, 예를 들어 농도, 수소 이온 지수 (pH : power of hydrogen) 및 온도를 나타내는 물리량을 측정한다. 저류조 (261, 262, 263, 264) 의 각각에는, 예를 들어, 각각이 저류하는 처리액을 교반하기 위한 기구가 형성되어도 된다.

액 관리 제어 유닛 (24) 은, 예를 들어, 저류조 (261, 262, 263, 264) 에 형성되는 각 부의 동작을 제어함으로써, 저류조 (261, 262, 263, 264) 가 저류하는 처리액의 상태를 관리한다. 구체적으로는, 액 관리 제어 유닛 (24) 은, 예를 들어, 저류조 (261, 262, 263, 264) 의 각각에 대응하는 센서 (27) 로부터, 처리액의 상태를 나타내는 물리량에 관련된 신호를 얻는다.

액 관리 제어 유닛 (24) 은, 예를 들어, 본체 제어 유닛 (22) 과의 사이에서 각종 신호의 송수신을 실시한다. 예를 들어, 액 관리 제어 유닛 (24) 은, 센서 (27) 로부터 얻은 신호 혹은 그 신호로부터 인식되는 물리량을 나타내는 수치를, 본체 제어 유닛 (22) 에 송신한다.

2 개의 처리액 공급부 (28) 는, 2 개의 타워 (21t) 에 각각 대응한다. 저류조 (261, 262, 263, 264) 내의 처리액은, 어느 처리액 공급부 (28) 에 의해 유량이 제어된다. 처리액 공급부 (28) 의 각각은, 자신에 대응하는 타워 (21t) 에 포함되는 모든 처리 유닛 (21) 에, 배관군 (35) 을 통하여 처리액을 공급한다. 처리액 공급부 (28) 는 액 관리 제어 유닛 (24) 에 의한 제어하, 처리액의 유량을 후술되는 바와 같이 제한한다.

로드 포트 (LP1, LP2, LP3, LP4) 는, 기판 처리 장치 (20) 와 기판 처리 장치 (20) 의 외부 사이에서, 기판군의 반입 및 반출을 실시하기 위한 부분 (이하「반출입부」라고도 칭해진다) 으로서의 기능을 갖는다. 여기서「기판군」이란 1 개의 로트를 구성하는 복수장의 기판을 가리킨다.

도 1 의 예에서는, 로드 포트 (LP1, LP2, LP3, LP4) 는 연직 방향에 직교하는 (바꾸어 말하면「수평한」) 제 1 방향 (DR1) 을 따라 배열된다. 로드 포트 (LP1, LP2, LP3, LP4) 와 처리 유닛 (21) 의 각각은, 제 1 방향 (DR1) 에 직교하여 수평한 (따라서 연직 방향에도 직교하는) 제 2 방향 (DR2) 에 있어서 간격을 두고 배치된다.

예를 들어 반송 장치 (30) 는, 로드 포트 (LP1, LP2, LP3, LP4) 에 복수의 기판군을 반송한다. 도 1 의 예에서는, 반송 장치 (30) 는, 예를 들어, 제 1 방향 (DR1) 및 제 2 방향 (DR2) 을 따라 이동 가능하다. 예를 들어, 1 개의 기판군을 이루는 복수장의 기판 (W) 을 각각 수용하는 캐리어 (C) 가, 캐리어 거치 장소 (40) 내로부터 반송되어 로드 포트 (LP1, LP2, LP3, LP4) 중 어느 것에 재치된다.

인덱서 로봇 (91) 은, 캐리어 (C) 로부터 센터 로봇 (92) 에 복수장의 기판 (W) 을 1 장씩 반송하는 기능을 갖는다. 인덱서 로봇 (91) 은, 센터 로봇 (92) 으로부터 캐리어 (C) 에 복수장의 기판 (W) 을 1 장씩 반송하는 기능을 갖는다.

센터 로봇 (92) 은, 인덱서 로봇 (91) 으로부터 각 처리 유닛 (21) 에 복수장의 기판 (W) 을 1 장씩 반입하는 기능을 갖는다. 센터 로봇 (92) 은, 각 처리 유닛 (21) 으로부터 인덱서 로봇 (91) 에 복수장의 기판 (W) 을 1 장씩 반송하는 기능을 갖는다. 또, 예를 들어, 센터 로봇 (92) 은, 필요에 따라 복수의 처리 유닛 (21) 사이에 있어서 기판 (W) 을 반송하는 기능을 갖는다.

예를 들어 인덱서 로봇 (91) 은, 4 개의 핸드 (도시 생략) 를 갖는다. 핸드의 각각은, 기판 (W) 을 수평한 자세로 지지하는 기능을 갖는다. 인덱서 로봇 (91) 은, 핸드를 수평 방향 및 연직 방향으로 이동시키는 기능을 갖는다. 인덱서 로봇 (91) 은, 연직 방향을 따른 축을 중심으로 하여 회전 (자전) 하고, 당해 회전에 의해 핸드의 방향을 변경하는 기능을 갖는다.

인덱서 로봇 (91) 은, 수수 위치를 지나는 경로 (201) 에 있어서 제 1 방향 (DR1) 을 따라 이동한다. 수수 위치는, 평면에서 봤을 때, 인덱서 로봇 (91) 과 센터 로봇 (92) 이 제 2 방향 (DR2) 에 있어서 대향하는 위치이다.

인덱서 로봇 (91) 은, 임의의 캐리어 (C) 및 센터 로봇 (92) 에 각각 핸드를 대향시키는 기능을 갖는다. 예를 들어, 인덱서 로봇 (91) 은, 핸드를 이동시킴으로써, 캐리어 (C) 에 기판 (W) 을 반입하는 반입 동작과, 캐리어 (C) 로부터 기판 (W) 을 반출하는 반출 동작을 실시한다. 예를 들어, 인덱서 로봇 (91) 은, 센터 로봇 (92) 과 협동하여, 인덱서 로봇 (91) 및 센터 로봇 (92) 의 일방으로부터 타방으로 기판 (W) 을 이동시키는 수수 동작을 수수 위치에서 실시한다.

센터 로봇 (92) 은, 인덱서 로봇 (91) 과 마찬가지로, 예를 들어 4 개의 핸드 (도시 생략) 를 갖는다. 핸드의 각각은, 기판 (W) 을 수평한 자세로 지지하는 기능을 갖는다. 센터 로봇 (92) 은, 예를 들어 핸드를 수평 방향 및 연직 방향으로 이동시킨다. 센터 로봇 (92) 은, 예를 들어 연직 방향을 따른 축을 중심으로 하여 회전 (자전) 하고, 당해 회전에 의해 핸드의 방향이 변경된다.

센터 로봇 (92) 은, 임의의 처리 유닛 (21) 및 인덱서 로봇 (91) 중 어느 것에 핸드를 대향시키는 기능을 갖는다. 예를 들어, 센터 로봇 (92) 은, 핸드를 이동시킴으로써, 각 처리 유닛 (21) 에 기판 (W) 을 반입하는 반입 동작과, 각 처리 유닛 (21) 으로부터 기판 (W) 을 반출하는 반출 동작을 실시한다. 예를 들어, 센터 로봇 (92) 은, 인덱서 로봇 (91) 과 협동하여, 인덱서 로봇 (91) 및 센터 로봇 (92) 의 일방으로부터 타방으로 기판 (W) 을 이동시키는 수수 동작을 실시한다.

＜1-2. 처리 유닛의 구성예＞

도 2 는, 하나의 처리 유닛 (21) 의 구성을 예시하는 개략도이다. 도 2 는 연직 방향에 수직인 방향에서 본 도면이다. 처리 유닛 (21) 은 기판 (W) 을 1 장씩 처리하는 매엽식의 유닛이다. 처리 유닛 (21) 은 본체 제어 유닛 (22) (도 1 참조) 의 제어하에서 동작한다. 본체 제어 유닛 (22) 은 처리 유닛 (21) 에 구비된 각 부의 동작이나 처리액 공급부 (28) 의 동작을 제어한다.

처리 유닛 (21) 의 각각은, 챔버 (4) 와, 스핀 척 (5) 과, 노즐 (341, 342, 343, 344) 과, 가드 기구 (7) 를 포함한다. 챔버 (4) 는, 스핀 척 (5) 과, 처리액 공급 기구 (6) 와, 노즐 (341, 342, 343, 344) 과, 가드 기구 (7) 를 격납한다.

스핀 척 (5) 은, 챔버 (4) 내에서 1 장의 기판 (W) 을 수평한 자세로 유지하는 기판 유지 기구로서 기능한다. 스핀 척 (5) 은 연직 방향에 평행한 기판 회전축 (A1) 둘레로 기판 (W) 을 회전시킨다. 예를 들어 기판 (W) 의 중심은, 기판 회전축 (A1) 상에 배치된다. 가드 기구 (7) 는 기판 회전축 (A1) 둘레로 스핀 척 (5) 을 둘러싼다.

노즐 (341, 342, 343) 은, 스핀 척 (5) 에 유지된 기판 (W) 의 연직 상방의 표면 (이하「상면」이라고도 칭해진다) (Wu) 에 처리액을 공급한다. 노즐 (344) 은, 스핀 척 (5) 에 유지된 기판 (W) 의 연직 하방의 표면 (이하「하면」이라고도 칭해진다) (Wb) 에 처리액을 공급한다.

스핀 척 (5) 은, 스핀 베이스 (11) 와, 스핀축 (14) 과, 스핀 모터 (15) 를 포함한다. 스핀 베이스 (11) 는 원판상으로서 수평한 자세로 유지된다. 스핀 베이스 (11) 의 외경은, 기판 (W) 의 직경보다 작다. 스핀 베이스 (11) 는 예를 들어 진공 척 (도시 생략) 을 사용하여 기판 (W) 을 흡착하여 유지하는 기능을 갖는다. 기판 (W) 의 하면 (Wb) 이 스핀 베이스 (11) 의 상면에 흡착된 상태로, 기판 (W) 이 수평으로 유지된다.

스핀 베이스 (11) 의 중심선은 기판 회전축 (A1) 상에 위치한다. 스핀 베이스 (11) 는 기판 회전축 (A1) 둘레로 기판 (W) 을 회전시킨다.

스핀축 (14) 은 스핀 베이스 (11) 의 중앙부로부터 연직 하방으로 연장된다. 노즐 (344) 은 예를 들어 스핀축 (14) 의 내측에 형성된다.

스핀 모터 (15) 는 스핀축 (14) 을 회전시키고, 나아가서는 스핀 베이스 (11) 를 기판 회전축 (A1) 둘레, 예를 들어 연직 하방을 따라 봤을 때 반시계 방향 (RDr) 으로 회전시킨다. 기판 (W) 이 스핀 베이스 (11) 에 흡착된 상태에서 스핀 모터 (15) 가 스핀축 (14) 을 회전시킴으로써, 기판 (W) 은 스핀 베이스 (11) 와 함께 기판 회전축 (A1) 둘레로 회전한다.

노즐 (341) 은 배관 (351) 에 접속된다. 노즐 (342) 은 배관 (352) 에 접속된다. 노즐 (343) 은 배관 (353) 에 접속된다. 노즐 (344) 은 배관 (354) 에 접속된다. 배관 (351, 352, 353, 354) 은 배관군 (35) (도 1 참조) 을 구성한다.

배관 (351) 에는 밸브 (361) 가 개재 삽입된다. 배관 (352) 에는 밸브 (362) 가 개재 삽입된다. 배관 (353) 에는 밸브 (363) 가 개재 삽입된다. 배관 (354) 에는 밸브 (364) 가 개재 삽입된다. 밸브 (361, 362, 363, 364) 는 처리액 공급부 (28) 에 수납된다. 하나의 처리액 공급부 (28) 는 하나의 타워 (21t) 를 구성하는 3 대의 처리 유닛 (21) 을 담당한다. 따라서 처리액 공급부 (28) 의 각각에는, 밸브 (361, 362, 363, 364) 가 3 개씩 수납된다.

배관 (351) 은 밸브 (361) 를 개재하여 저류조 (261) 에 접속된다. 배관 (352) 은 밸브 (362) 를 개재하여 저류조 (262) 에 접속된다. 배관 (353) 은 밸브 (363) 를 개재하여 저류조 (263) 에 접속된다. 배관 (354) 은 밸브 (364) 를 개재하여 저류조 (264) 에 접속된다.

밸브 (361) 가 열리면, 배관 (351) 으로부터 노즐 (341) 에 공급된 처리액 (DHF) 이, 노즐 (341) 로부터 하방으로 토출된다. 밸브 (361) 가 닫히면, 노즐 (341) 로부터의 처리액 (DHF) 의 토출이 정지된다.

밸브 (362) 가 열리면, 배관 (352) 으로부터 노즐 (342) 에 공급된 처리액 (SC1) 이, 노즐 (342) 로부터 하방으로 토출된다. 밸브 (362) 가 닫히면, 노즐 (342) 로부터의 처리액 (SC1) 의 토출이 정지된다.

밸브 (363) 가 열리면, 배관 (353) 으로부터 노즐 (343) 에 공급된 처리액 (IPA) 이, 노즐 (343) 로부터 하방으로 토출된다. 밸브 (363) 가 닫히면, 노즐 (343) 로부터의 처리액 (IPA) 의 토출이 정지된다.

밸브 (364) 가 열리면, 배관 (354) 으로부터 노즐 (344) 에 공급된 처리액 (DHF) 이, 노즐 (344) 로부터 상방으로 토출된다. 밸브 (364) 가 닫히면, 노즐 (344) 로부터의 처리액 (DHF) 의 토출이 정지된다.

처리 유닛 (21) 은 노즐 이동 장치 (371, 372, 373) 를 포함한다. 노즐 이동 장치 (371) 는 노즐 (341) 을 이동시키고, 노즐 이동 장치 (372) 는 노즐 (342) 을 이동시키고, 노즐 이동 장치 (373) 는 노즐 (343) 을 이동시킨다.

예를 들어 노즐 (341) 은, 처리액 (DHF) 의 착액 위치가 상면 (Wu) 에 있어서의 중앙부와 둘레 가장자리 사이를 이동하면서 처리액 (DHF) 을 토출하는 스캔 노즐로서 기능한다. 노즐 (341) 은, 상면 (Wu) 에 있어서의 착액 위치가 고정되어 처리액 (DHF) 을 토출해도 된다.

예를 들어 노즐 (342) 은, 처리액 (SC1) 의 착액 위치가 상면 (Wu) 에 있어서의 중앙부와 둘레 가장자리 사이를 이동하면서 처리액 (SC1) 을 토출하는 스캔 노즐로서 기능한다. 노즐 (342) 은, 상면 (Wu) 에 있어서의 착액 위치가 고정되어 처리액 (SC1) 을 토출해도 된다.

예를 들어 노즐 (343) 은, 처리액 (IPA) 의 착액 위치가 상면 (Wu) 에 있어서의 중앙부와 둘레 가장자리 사이를 이동하면서 처리액 (IPA) 을 토출하는 스캔 노즐로서 기능한다. 노즐 (343) 은, 상면 (Wu) 에 있어서의 착액 위치가 고정되어 처리액 (IPA) 을 토출해도 된다.

처리 유닛 (21) 은 하면 노즐 (44) 과, 퍼지 배관 (45) 과, 퍼지 밸브 (46) 를 포함한다. 하면 노즐 (44) 은 하면 (Wb) 의 둘레 가장자리 근방을 향하여 기체, 예를 들어 질소 가스를 토출한다. 퍼지 배관 (45) 은 하면 노즐 (44) 에 접속된다. 퍼지 밸브 (46) 는 퍼지 배관 (45) 에 개재 삽입된다. 질소 가스는, 예를 들어 기판 처리 시스템 (1) 이 설치되는 공장에 형성된 급기 설비 (도시 생략) 에 의해 퍼지 배관 (45) 에 공급된다.

하면 노즐 (44) 이 하면 (Wb) 에 질소 가스를 토출하는 것은, 상면 (Wu) 에 토출된 처리액 (DHF, SC1, IPA) 이 하면 (Wb) 으로 돌아 들어가는 것의 회피에 기여한다.

처리 유닛 (21) 은, 막후계를 포함해도 된다. 막후계는, 상면 (Wu) 에 있어서의 소정의 막 두께를 계측한다. 막후계에는 예를 들어 광 간섭식의 막후계가 채용된다. 막후계는 예를 들어 기판 (W) 의 상방에 있어서, 노즐 이동 장치 (371) 와 유사한 구성에 의해 이동된다.

처리 유닛 (21) 은 가드 승강 장치 (55) 및 가드 기구 (7) 를 포함한다. 가드 기구 (7) 는, 스핀 척 (5) 에 유지된 기판 (W) 보다 외방 (기판 회전축 (A1) 으로부터 멀어지는 방향) 에 위치하고, 처리액 (DHF, SC1, IPA) 이 기판 (W) 으로부터 비산되는 범위를 한정한다. 예를 들어 가드 기구 (7) 는, 가드 (71, 72, 73) 와, 벽 (74, 75, 76) 과, 바닥 (77) 을 포함한다.

벽 (76) 은 스핀 척 (5) 을 둘러싼다. 벽 (75) 은 스핀 척 (5) 및 벽 (76) 을 둘러싼다. 벽 (74) 은 벽 (75, 76) 및 스핀 척 (5) 을 둘러싼다. 바닥 (77) 은 벽 (74, 75, 76) 의 각각의 연직 하방측의 가장자리와, 스핀 척 (5) 의 외주를 연결하여 고정시킨다.

가드 (71) 는 벽 (74, 75) 사이에 놓이면서 연직 방향으로 가동이다. 가드 (72) 는 벽 (75, 76) 사이에 놓이면서 연직 방향으로 가동이다. 가드 (73) 는 벽 (76) 과 스핀 척 (5) 사이에 놓이면서 연직 방향으로 가동이다. 가드 승강 장치 (55) 는, 가드 (71, 72, 73) 를 연직 방향으로 이동시키는 기능을 갖는다.

예를 들어 가드 (71) 의 기판 회전축 (A1) 측의 가장자리는 연직 하방으로 연장되어, 가드 (72) 의 기판 회전축 (A1) 측의 가장자리보다 기판 회전축 (A1) 측에 있어서, 가드 (73) 의 기판 회전축 (A1) 측의 가장자리에 대해 연직 방향을 따라 대향한다.

컵 (70) 은 프리 처리에 있어서, 노즐 (341) 로부터 처리액 (DHF) 을, 노즐 (342) 로부터 처리액 (SC1) 을, 노즐 (343) 로부터 처리액 (IPA) 을 각각 받는다. 노즐 이동 장치 (371, 372, 373) 는, 각각 노즐 (341, 342, 343) 을 컵 (70) 의 연직 상방으로 이동시켜, 컵 (70) 에 대한 처리액 (DHF, SC1, IPA) 을 토출시키는 동작에 기여한다. 컵 (70) 에 대한 처리액 (DHF) 의 토출은, 이하에 있어서 처리액 (DHF) 의 배출이라고도 표현된다. 처리액 (SC1, IPA) 에 대해서도 동일하다.

컵 (70) 은 처리액 (DHF, SC1, IPA) 마다 형성되어도 된다. 예를 들어 노즐 (341, 342, 343) 은, 각각 상면 (Wu) 에 처리액 (DHF, SC1, IPA) 을 토출하지 않는 상황에 있어서, 평면에서 봤을 때에 스핀 척 (5) 으로부터 멀어져 서로 상이한 위치에 대기한다. 예를 들어 처리액 (DHF, SC1, IPA) 의 각각에 대응하는 컵 (70) 이, 노즐 (341, 342, 343) 의 각각의 당해 대기의 위치의 연직 하방에 배치된다.

＜1-3. 처리액 공급부의 구성예＞

도 3 은 처리액 공급부 (28) 의 구성을 모식적으로 예시하는 개략도이다. 처리액 공급부 (28) 는 배관 (331, 332, 333, 334) 과, 펌프 (81, 82, 83, 84) 와, 밸브 (361, 362, 363, 364) 를 구비한다. 도 3 에는 처리액 공급부 (28) 와 배관군 (35) 에 의해 접속되고, 타워 (21t) 에 포함되는 3 대의 처리 유닛 (21) 과, 저류조 (261, 262, 263, 264) 가 병기된다.

밸브 (361, 362, 363, 364) 는, 각각 처리 유닛 (21) 마다 형성된다. 배관군 (35) 은, 3 대의 처리 유닛 (21) 의 배관 (351, 352, 353, 354) 을 포함하고, 타워 (21t) 와 처리액 공급부 (28) 사이에 접속된다 (도 1 도 참조).

배관 (331) 은 저류조 (261) 에 접속되고, 처리액 (DHF) 은 배관 (331) 을 경유하여 저류조 (261) 를 유입출한다. 배관 (331) 에는 펌프 (81) 가 개재 삽입된다. 펌프 (81) 는 처리액 (DHF) 을 배관 (331) 에 있어서 화살표의 방향으로 흐르게 하고, 처리액 (DHF) 을 배관 (331) 과 저류조 (261) 사이에서 순환시킨다.

배관 (332) 은 저류조 (262) 에 접속되고, 처리액 (SC1) 은 배관 (332) 을 경유하여 저류조 (262) 를 유입출한다. 배관 (332) 에는 펌프 (82) 가 개재 삽입된다. 펌프 (82) 는 처리액 (SC1) 을 배관 (332) 에 있어서 화살표의 방향으로 흐르게 하고, 처리액 (SC1) 을 배관 (332) 과 저류조 (262) 사이에서 순환시킨다.

배관 (333) 은 저류조 (263) 에 접속되고, 처리액 (IPA) 은 배관 (333) 을 경유하여 저류조 (263) 를 유입출한다. 배관 (333) 에는 펌프 (83) 가 개재 삽입된다. 펌프 (83) 는 처리액 (IPA) 을 배관 (333) 에 있어서 화살표의 방향으로 흐르게 하고, 처리액 (IPA) 을 배관 (333) 과 저류조 (263) 사이에서 순환시킨다.

배관 (334) 은 저류조 (264) 에 접속되고, 처리액 (DHF) 은 배관 (334) 을 경유하여 저류조 (264) 를 유입출한다. 배관 (334) 에는 펌프 (84) 가 개재 삽입된다. 펌프 (84) 는 처리액 (SC1) 을 배관 (334) 에 있어서 화살표의 방향으로 흐르게 하고, 처리액 (DHF) 을 배관 (334) 과 저류조 (264) 사이에서 순환시킨다.

상기 서술된 처리액 (DHF) 의 배관 (331, 334) 을 통한 순환, 처리액 (SC1) 의 배관 (332) 을 통한 순환, 처리액 (IPA) 의 배관 (333) 을 통한 순환은 모두, 이하에 있어서「타워 순환」이라고 칭해지는 경우가 있다.

어느 처리 유닛 (21) 의 배관 (351) 도 배관 (331) 에 접속된다. 어느 처리 유닛 (21) 의 배관 (352) 도 배관 (332) 에 접속된다. 어느 처리 유닛 (21) 의 배관 (353) 도 배관 (333) 에 접속된다. 어느 처리 유닛 (21) 의 배관 (354) 도 배관 (334) 에 접속된다. 도 3 에 있어서 배관끼리의 접속은 검정 동그라미로 나타낸다. 검정 동그라미가 배치되지 않고 교차하여 도시되는 배관끼리는 접속되지 않는다.

열린 밸브 (361) 가 개재 삽입된 배관 (351) 을 통하여, 배관 (331) 내에 있어서의 타워 순환으로부터 분기된 처리액 (DHF) 이, 노즐 (341) 에 공급된다. 열린 밸브 (362) 가 개재 삽입된 배관 (352) 을 통하여, 배관 (332) 내에 있어서의 타워 순환으로부터 분기된 처리액 (SC1) 이, 노즐 (342) 에 공급된다. 열린 밸브 (363) 가 개재 삽입된 배관 (353) 을 통하여, 배관 (333) 내에 있어서의 타워 순환으로부터 분기된 처리액 (IPA) 이, 노즐 (343) 에 공급된다. 열린 밸브 (364) 가 개재 삽입된 배관 (354) 을 통하여, 배관 (334) 내에 있어서의 타워 순환으로부터 분기된 처리액 (DHF) 이, 노즐 (344) 에 공급된다.

타워 순환의 유무는, 밸브 (361, 362, 363, 364) 의 개폐에 의존하지 않는다. 처리 유닛 (21) 에 있어서 배관 (351, 352, 353, 354) 의 온도가 저하되어도, 타워 순환하고 있는 처리액 (DHF, SC1, IPA) 의 온도는 적절히 유지된다.

밸브 (361, 362, 363, 364) 가 닫히면, 각각 배관 (351, 352, 353, 354) 에 있어서의 처리액의 체류가 발생한다. 이러한 체류가 장시간에 걸치면, 처리액의 열화가 초래된다. 예를 들어 처리액의 온도 변화, 농도 변화, 성분 변화가 초래될 가능성이 있다.

프리 처리의 필요 여부는, 어느 노즐에 있어서 처리액이 체류하는 기간에 기초하여 판단된다. 예를 들어 노즐 (341, 344) 모두가 처리액 (DHF) 을 토출하는 기능을 담당하는 경우에도, 노즐 (341, 344) 의 각각에 있어서 처리액 (DHF) 이 토출되지 않는 기간에 기초하여, 프리 처리의 필요 여부가 판단된다. 이러한 관점에서, 설명의 번잡을 피하기 위해, 이하에서는 노즐 (344) 로부터의 처리액 (DHF) 의 토출에 대해 무시하여 설명된다.

＜1-4. 기판 처리 시스템의 구성예＞

도 4 는, 기판 처리 시스템 (1) 의 개략 구성의 일례를 나타내는 도면이다. 기판 처리 시스템 (1) 은 상기 서술된 기판 처리 장치 (20) 및 반송 장치 (30) 외에, 호스트 컴퓨터 (10) 도 구비한다. 호스트 컴퓨터 (10) 와, 기판 처리 장치 (20) 와, 반송 장치 (30) 는 예를 들어 통신 회선 (50) 을 통하여 통신 가능하게 접속된다. 통신 회선 (50) 에는, 예를 들어, 유선 회선 및 무선 회선의 일방 혹은 양방이 채용된다.

기판 처리 장치 (20) 는 복수 형성되어도 된다. 이 때 호스트 컴퓨터 (10) 는, 복수의 기판 처리 장치 (20) 를 통괄적으로 관리하는 기능을 담당한다.

＜1-5. 호스트 컴퓨터의 구성예＞

도 5 는, 호스트 컴퓨터 (10) 의 전기적인 구성의 일례를 나타내는 블록도이다. 호스트 컴퓨터 (10) 는, 예를 들어, 컴퓨터로 실현되고, 버스 라인 (Bu1) 을 통하여 접속된, 통신부 (101), 입력부 (102), 출력부 (103), 기억부 (104), 제어부 (105) 및 드라이브 (106) 를 구비한다.

통신부 (101) 는, 예를 들어, 통신 회선 (50) 을 통하여 각 기판 처리 장치 (20) 및 반송 장치 (30) 에 대해 신호를 송신 가능한 송신부로서의 기능을 갖는다. 통신부 (101) 는, 예를 들어, 통신 회선 (50) 을 통하여 각 기판 처리 장치 (20) 및 반송 장치 (30) 로부터의 신호를 수신 가능한 수신부로서의 기능을 갖는다.

입력부 (102) 에는, 예를 들어, 호스트 컴퓨터 (10) 를 사용하는 유저의 동작 등에 따른 신호가 입력될 수 있다. 입력부 (102) 에는, 예를 들어, 조작부, 마이크 및 각종 센서 등이 포함될 수 있다.

출력부 (103) 는, 예를 들어, 각종 정보를 출력하는 기능을 갖는다. 출력부 (103) 에는, 예를 들어, 표시부 및 스피커 등이 포함될 수 있다.

기억부 (104) 는, 예를 들어, 각종 정보를 기억하는 기능을 갖는다. 기억부 (104) 는, 예를 들어, 하드 디스크 및 플래시 메모리 등의 기억 매체로 구성된다. 기억부 (104) 에는, 예를 들어, 프로그램 (Pg1) 및 처리 계획에 대한 정보 (PP1) 를 포함하는 각종 정보가 기억된다. 정보 (PP1) 는, 예를 들어 기판군에 관련된 복수의 연속된 기판 처리를 실행하는 타이밍을 나타낸다. 기억부 (104) 에는, 후술하는 메모리 (105b) 가 포함되어도 된다.

제어부 (105) 는, 예를 들어, 프로세서로서 기능하는 연산 처리부 (105a) 및 정보를 일시적으로 기억하는 메모리 (105b) 등을 포함한다. 연산 처리부 (105a) 에는, 예를 들어, 중앙 연산부 (CPU) 가 채용된다. 메모리 (105b) 에는, 예를 들어, 랜덤 액세스 메모리 (RAM) 가 채용된다. 연산 처리부 (105a) 에 있어서, 예를 들어, 기억부 (104) 에 기억되어 있는 프로그램 (Pg1) 이 판독 입력되어 실행됨으로써, 호스트 컴퓨터 (10) 의 기능이 실현된다. 제어부 (105) 에 있어서의 각종 정보 처리에 의해 일시적으로 얻어지는 각종 정보는, 예를 들어 적절히 메모리 (105b) 에 기억된다.

드라이브 (106) 에는, 예를 들어, 가반성의 기억 매체 (RM1) 가 탈착된다. 드라이브 (106) 에서는, 예를 들어, 기억 매체 (RM1) 가 장착되어 있는 상태에서, 이 기억 매체 (RM1) 와 제어부 (105) 사이에 있어서의 데이터의 수수가 실시된다. 예를 들어, 프로그램 (Pg1) 이 기억된 기억 매체 (RM1) 가 드라이브 (106) 에 장착됨으로써, 기억 매체 (RM1) 로부터 기억부 (104) 내에 프로그램 (Pg1) 이 판독 입력되어 기억된다.

＜1-6. 본체 제어 유닛의 구성예＞

도 6 은, 본체 제어 유닛 (22) 의 전기적인 구성의 일례를 나타내는 블록도이다. 본체 제어 유닛 (22) 은, 예를 들어, 컴퓨터로 실현되고, 버스 라인 (Bu2) 을 통하여 접속된, 통신부 (221), 입력부 (222), 출력부 (223), 기억부 (224), 제어부 (225) 및 드라이브 (226) 를 구비한다.

통신부 (221) 는, 예를 들어, 통신 회선 (50) 을 통하여 호스트 컴퓨터 (10) 에 대해 신호를 송신 가능한 송신부로서의 기능을 갖는다. 통신부 (221) 는, 예를 들어, 통신 회선 (50) 을 통하여 호스트 컴퓨터 (10) 로부터의 신호를 수신 가능한 수신부로서의 기능을 갖는다. 통신부 (221) 는, 예를 들어 추가로, 케이블 등의 배선을 통하여, 액 관리 제어 유닛 (24) 과의 사이에서 신호의 송수신을 실시할 수 있다.

입력부 (222) 에는, 예를 들어, 기판 처리 장치 (20) 를 사용하는 유저의 동작 등에 따른 신호가 입력될 수 있다. 입력부 (222) 에는, 예를 들어, 상기 입력부 (102) 와 마찬가지로, 조작부, 마이크 및 각종 센서 등이 포함될 수 있다.

출력부 (223) 는, 예를 들어, 각종 정보를 출력하는 기능을 갖는다. 출력부 (223) 에는, 예를 들어, 상기 출력부 (103) 와 마찬가지로, 표시부 및 스피커 등이 포함될 수 있다.

기억부 (224) 는, 예를 들어, 각종 정보를 기억하는 기능을 갖는다. 이 기억부 (224) 는, 예를 들어, 하드 디스크 및 플래시 메모리 등의 기억 매체로 구성될 수 있다. 기억부 (224) 에는, 예를 들어, 프로그램 (Pg2) 및 각종 정보 (Dt2) 가 기억될 수 있다. 기억부 (224) 에는, 후술하는 메모리 (225b) 가 포함되어도 된다.

프로그램 (Pg2) 은, 예를 들어 플로 레시피를 포함한다. 플로 레시피는, 기판 처리의 내용을 정한 프로세스 레시피와, 프리 처리의 내용을 정한 프리 레시피를 포함한다. 플로 레시피는 한 묶음의 복수의 기판 (W), 예를 들어 동일한 캐리어 (C) 에 수용된 복수의 기판 (W) 에 대해 공통으로 설정된다.

제어부 (225) 는, 예를 들어, 프로세서로서 기능하는 연산 처리부 (225a) 및 정보를 일시적으로 기억하는 메모리 (225b) 등을 포함한다. 연산 처리부 (225a) 에는, 예를 들어, CPU 가 채용된다. 메모리 (225b) 에는, 예를 들어, RAM 이 채용된다. 연산 처리부 (225a) 에 있어서, 예를 들어, 기억부 (224) 에 기억되어 있는 프로그램 (Pg2) 이 판독 입력되어 실행됨으로써, 본체 제어 유닛 (22) 의 기능이 실현된다. 제어부 (225) 에 있어서의 각종 정보 처리에 의해 일시적으로 얻어지는 각종 정보는, 예를 들어 적절히 메모리 (225b) 에 기억된다.

드라이브 (226) 는, 예를 들어, 가반성의 기억 매체 (RM2) 가 탈착되는 부분이다. 드라이브 (226) 에서는, 예를 들어, 기억 매체 (RM2) 가 장착되어 있는 상태에서, 이 기억 매체 (RM2) 와 제어부 (225) 사이에 있어서의 데이터의 수수가 실시될 수 있다. 예를 들어, 프로그램 (Pg2) 이 기억된 기억 매체 (RM2) 가 드라이브 (226) 에 장착됨으로써, 기억 매체 (RM2) 로부터 기억부 (224) 내에 프로그램 (Pg2) 이 판독 입력되어 기억된다.

＜1-7. 액 관리 제어 유닛의 구성예＞

도 7 은, 액 관리 제어 유닛 (24) 의 전기적인 구성의 일례를 나타내는 블록도이다. 액 관리 제어 유닛 (24) 은, 예를 들어, 상기 서술한 본체 제어 유닛 (22) 과 마찬가지로, 컴퓨터 등에서 실현되고, 버스 라인 (Bu3) 을 통하여 접속된, 통신부 (241), 입력부 (242), 출력부 (243), 기억부 (244), 제어부 (245) 및 드라이브 (246) 를 구비한다.

통신부 (241) 는, 예를 들어, 케이블 등의 배선을 통하여, 본체 제어 유닛 (22) 과의 사이에서 신호의 송수신을 실시할 수 있다.

입력부 (242) 에는, 예를 들어, 기판 처리 장치 (20) 를 사용하는 유저의 동작 등에 따른 신호가 입력될 수 있다. 입력부 (242) 에는, 예를 들어, 상기 입력부 (102) 와 마찬가지로, 조작부, 마이크 및 각종 센서 등이 포함될 수 있다.

출력부 (243) 는, 예를 들어, 각종 정보를 출력하는 기능을 갖는다. 출력부 (243) 에는, 예를 들어, 상기 출력부 (103) 와 마찬가지로, 표시부 및 스피커 등이 포함될 수 있다.

기억부 (244) 는, 예를 들어, 각종 정보를 기억하는 기능을 갖는다. 이 기억부 (244) 는, 예를 들어, 상기 기억부 (224) 와 마찬가지로, 하드 디스크 및 플래시 메모리 등의 기억 매체로 구성될 수 있다. 기억부 (244) 에는, 예를 들어, 프로그램 (Pg3) 및 각종 정보 (Dt3) 가 기억될 수 있다. 기억부 (244) 에는, 후술하는 메모리 (245b) 가 포함되어도 된다.

프로그램 (Pg3) 은, 예를 들어 프로세스 레시피와, 프리 레시피를 포함한다. 예를 들어 프로그램 (Pg3) 은, 프로세스 레시피마다 토출이 필요해지는 처리액의 종류 및 그 토출하는 소정량이나, 프리 레시피마다 토출이 필요해지는 처리액의 종류 및 그 토출하는 소정량을 포함한다.

제어부 (245) 는, 예를 들어, 프로세서로서 기능하는 연산 처리부 (245a) 및 정보를 일시적으로 기억하는 메모리 (245b) 등을 포함한다. 연산 처리부 (245a) 에는, 예를 들어, CPU 가 적용된다. 메모리 (245b) 에는, 예를 들어, RAM 이 적용된다. 연산 처리부 (245a) 에 있어서, 예를 들어, 기억부 (244) 에 기억되어 있는 프로그램 (Pg3) 이 판독 입력되어 실행됨으로써, 액 관리 제어 유닛 (24) 의 기능이 실현된다. 제어부 (245) 에 있어서의 각종 정보 처리에 의해 일시적으로 얻어지는 각종 정보는, 예를 들어 적절히 메모리 (245b) 에 기억된다.

드라이브 (246) 는, 예를 들어, 가반성의 기억 매체 (RM3) 의 탈착이 가능한 부분이다. 드라이브 (246) 에서는, 예를 들어, 기억 매체 (RM3) 가 장착되어 있는 상태에서, 이 기억 매체 (RM3) 와 제어부 (245) 사이에 있어서의 데이터의 수수가 실시될 수 있다. 예를 들어, 프로그램 (Pg3) 이 기억된 기억 매체 (RM3) 가 드라이브 (246) 에 장착됨으로써, 기억 매체 (RM3) 로부터 기억부 (244) 내에 프로그램 (Pg3) 이 판독 입력되어 기억된다.

＜1-8. 처리 유닛을 사용한 처리＞

＜1-8-1. 전체적 처리＞

도 8 은, 처리 유닛 (21) 을 사용한 처리의 일례를 나타내는 도면이다. 도 8 은, 동일한 종류의 기판 처리의 복수와, 하나의 프리 처리에 대응한다. 도 8 은, 한 묶음의 복수의 기판 (W), 예를 들어 동일한 캐리어 (C) 에 수용된 복수의 기판 (W) 에 대해 실행되는 기판 처리 및 프리 처리를 예시한다. 도 8 에 예시된 처리는 스텝 S1 ∼ S6 을 포함한다.

당해 기판 처리 및 프리 처리는, 본체 제어 유닛 (22) 및 액 관리 제어 유닛 (24) 에 의해 각 부의 동작이 제어됨으로써 실현된다. 여기서는, 기판 처리 장치 (20) 중 하나인 처리 유닛 (21) 에 주목하여 설명된다.

스텝 S1 에 있어서 기판 (W) 이 처리 유닛 (21) 에 반입된다. 구체적으로는, 센터 로봇 (92) 에 의해, 기판 (W) 이 챔버 (4) 에 반입되고, 스핀 베이스 (11) 에 재치된다. 본체 제어 유닛 (22) 은, 진공 척에 의해, 기판 (W) 을 대략 수평 자세로 스핀 베이스 (11) 에 유지시킨다.

기판 (W) 이 스핀 베이스 (11) 에 있어서 유지된 후, 스텝 S2 에 있어서 상면 (Wu) 에 대한 약액 처리가 실행된다. 당해 약액 처리는, 예를 들어 처리액 (DHF, SC1) 을 순차적으로 상면 (Wu) 에 토출하는 세정 처리 (이하「제 1 세정 처리」라고 칭해진다) 이다. 혹은 당해 약액 처리는, 예를 들어 처리액 (SC1) 을 상면 (Wu) 에 토출하는 세정 처리 (이하「제 2 세정 처리」라고 칭해진다) 이다. 혹은 당해 약액 처리는, 예를 들어 처리액 (DHF, IPA) 을 순차적으로 상면 (Wu) 에 토출하는 세정 처리 (이하「제 3 세정 처리」라고 칭해진다) 이다.

제 1 세정 처리에 있어서, 처리액 (DHF) 이 토출되고 나서 처리액 (SC1) 을 토출할 때까지의 사이에 린스 처리가 실시되어도 된다. 제 1 세정 처리 및 제 2 세정 처리 중 어느 것 또는 양방에 있어서, 처리액 (SC1) 이 토출되고 나서 린스 처리가 실시되어도 된다. 제 3 세정 처리에 있어서, 처리액 (DHF) 이 토출되고 나서 처리액 (IPA) 을 토출할 때까지의 사이에 린스 처리가 실시되어도 된다. 제 3 세정 처리에 있어서, 처리액 (IPA) 이 토출되고 나서 린스 처리가 실시되어도 된다.

이들 린스 처리에는, 예를 들어 세정용의 순수 (de-ionized water : 이하「순수 (DIW)」라고 칭해진다) 의 상면 (Wu) 에 대한 토출, 또는 상면 (Wu) 및 하면 (Wb) 에 대한 토출이 이용된다. 순수 (DIW) 를 토출하는 데에 이용되는 노즐은, 예를 들어 노즐 (341, 342, 343, 344) 과 겸용되거나, 혹은 병설되거나, 혹은 독립적으로 형성된다. 본 실시형태에서는 설명을 간단하게 하기 위해 린스 처리는 생략하여 설명된다.

당해 약액 처리에 있어서 본체 제어 유닛 (22) 은, 스핀 모터 (15) 를 제어하여, 기판 회전축 (A1) 을 중심으로 하여 스핀 베이스 (11) 를 회전시킨다. 당해 회전에 의해 기판 (W) 이 회전한다. 스텝 S2 가 실행될 때, 스핀 베이스 (11) 의 회전 속도가 변동되어도 되고, 회전이 정지해도 된다.

스텝 S2 에 있어서 제 1 세정 처리가 실행되는 경우, 본체 제어 유닛 (22) 은, 노즐 이동 장치 (371, 372) 를 제어하여, 노즐 (341, 342) 에 소정의 이동을 실시하게 한다. 액 관리 제어 유닛 (24) 은, 밸브 (361, 362) 를 제어하여, 노즐 (341, 342) 로부터 각각 처리액 (DHF, SC1) 의 소정량을, 상면 (Wu) 을 향하여 이 순서로 토출시킨다.

제 1 세정 처리가 실행될 때, 본체 제어 유닛 (22) 은 노즐 이동 장치 (373) 를 제어하여, 노즐 (343) 을 대기 위치로 이동시킨다. 제 1 세정 처리가 실행될 때, 액 관리 제어 유닛 (24) 은, 밸브 (363) 를 닫는다.

스텝 S2 에 있어서 제 2 세정 처리가 실행되는 경우, 본체 제어 유닛 (22) 은, 노즐 이동 장치 (372) 를 제어하여, 노즐 (342) 에 소정의 이동을 실시하게 한다. 액 관리 제어 유닛 (24) 은, 밸브 (362) 를 제어하여, 노즐 (342) 로부터 처리액 (SC1) 의 소정량을, 상면 (Wu) 을 향하여 토출시킨다.

제 2 세정 처리가 실행될 때, 본체 제어 유닛 (22) 은 노즐 이동 장치 (371, 373) 를 제어하여, 노즐 (341, 343) 을 각각의 대기 위치로 이동시킨다. 제 2 세정 처리가 실행될 때, 액 관리 제어 유닛 (24) 은, 밸브 (361, 363) 를 닫는다.

스텝 S2 에 있어서 제 3 세정 처리가 실행되는 경우, 본체 제어 유닛 (22) 은, 노즐 이동 장치 (371, 373) 를 제어하여, 노즐 (341, 343) 에 소정의 이동을 실시하게 한다. 액 관리 제어 유닛 (24) 은, 밸브 (361, 363) 를 제어하여, 노즐 (341, 343) 로부터 각각 처리액 (DHF, IPA) 의 소정량을, 상면 (Wu) 을 향하여 이 순서로 토출시킨다.

제 3 세정 처리가 실행될 때, 본체 제어 유닛 (22) 은 노즐 이동 장치 (372) 를 제어하여, 노즐 (342) 을 대기 위치로 이동시킨다. 제 3 세정 처리가 실행될 때, 액 관리 제어 유닛 (24) 은, 밸브 (362) 를 닫는다.

스텝 S2 가 실행될 때, 본체 제어 유닛 (22) 이, 퍼지 밸브 (46) 를 제어하여, 하면 노즐 (44) 로부터 하면 (Wb) 에 질소 가스를 토출시켜도 된다. 당해 질소 가스에 의해, 상면 (Wu) 에 토출된 처리액 (DHF, SC1) 이 하면 (Wb) 으로 돌아 들어가는 것이 저감 혹은 억제된다.

예를 들어, 제 1 세정 처리 및 제 3 세정 처리에 있어서, 상면 (Wu) 에 처리액 (DHF) 이 토출됨과 함께, 하면 (Wb) 에 처리액 (DHF) 이 토출된다. 이 때, 액 관리 제어 유닛 (24) 은, 밸브 (361, 364) 를 제어하여, 노즐 (341, 344) 로부터 처리액 (DHF) 의 소정량을, 각각 상면 (Wu), 하면 (Wb) 을 향하여 토출시킨다.

스텝 S2 가 실행될 때, 본체 제어 유닛 (22) 은, 가드 승강 장치 (55) 를 제어하여, 가드 (71, 72, 73) 의, 기판 (W) 에 대한 상하 방향에 있어서의 상대적인 위치를 변화시킨다.

예를 들어 가드 (71, 72, 73) 의 모든 천판이 상면 (Wu) 보다 상방에 위치하고, 수평 방향에 있어서 가드 (71) 의 측면이 상면 (Wu) 과 대향할 때, 상면 (Wu) 에 토출되어 상면 (Wu) 으로부터 비산되는 처리액은, 벽 (76) 과 스핀 척 (5) 사이에 있어서 바닥 (77) 으로 유도된다.

예를 들어 가드 (71, 72) 의 모든 천판이 상면 (Wu) 보다 상방에 위치하고, 가드 (73) 의 천판이 하면 (Wb) 보다 하방에 위치하고, 수평 방향에 있어서 가드 (72) 의 측면이 상면 (Wu) 과 대향할 때, 상면 (Wu) 에 토출되어 상면 (Wu) 으로부터 비산되는 처리액은, 벽 (75) 과 벽 (76) 사이에 있어서 바닥 (77) 으로 유도된다.

예를 들어 가드 (71) 의 천판이 상면 (Wu) 보다 상방에 위치하고, 가드 (72, 73) 의 어느 천판도 하면 (Wb) 보다 하방에 위치하고, 수평 방향에 있어서 가드 (71) 의 측면이 상면 (Wu) 과 대향할 때, 상면 (Wu) 에 토출되어 상면 (Wu) 으로부터 비산되는 처리액은, 벽 (74) 과 벽 (75) 사이에 있어서 바닥 (77) 으로 유도된다.

노즐 (341, 342, 343) 로부터 각각 토출되는 처리액이 토출되는 타이밍과, 가드 (71, 72, 73) 의 기판 (W) 에 대한 상하 방향에 있어서의 상대적인 위치를 적절히 조합함으로써, 처리액이 그 종류마다 상이한 영역으로 안내된다. 이러한 안내는 종류마다의 처리액의 회수에 기여한다.

스텝 S2 는 기판 (W) 마다 처리된다. 스텝 S2 에 있어서 약액 처리가 실시된 기판 (W) 은, 스텝 S3 에 있어서 반출된다. 구체적으로는, 본체 제어 유닛 (22) 은 스핀 베이스 (11) 에 있어서의 진공 척을 해제한다. 센터 로봇 (92) 에 의해, 처리 완료된 기판 (W) 이 스핀 베이스 (11) 로부터 떼어내어지고, 챔버 (4) 로부터 반출된다.

스텝 S3 이 실행된 후, 스텝 S4 가 실행된다. 스텝 S4 에 있어서는, 처리 유닛 (21) 에 있어서의 처리의 대상이 되는 다음 기판 (W) 이 있는지의 여부가 판정된다. 예를 들어 본체 제어 유닛 (22) 이 플로 레시피를 참조하여, 하나의 캐리어 (C) 에 수용된 복수장의 기판에,「다음 기판」이 존재하는지의 여부를 판단한다.

스텝 S4 의 판단 결과가 긍정적이면 (「다음 기판 (W)」이 존재하고 있으면) 스텝 S1 로 처리가 되돌아온다. 스텝 S4 의 판단 결과가 부정적이면 (「다음 기판 (W)」이 존재하지 않으면), 처리가 스텝 S5 로 진행된다.

스텝 S5 에 있어서, 프리 처리가 필요한지의 여부가 판단된다. 후술되는 바와 같이, 플로 레시피에 있어서는 원칙적으로 프리 처리가 실행되지만, 예외로서 프리 처리가 생략된다. 프리 처리의 필요 여부를 판단하기 위한 플로 차트는 후술된다.

스텝 S5 에 있어서의 판단의 결과가 긍정적일 때 (요컨대 프리 처리가 필요로 판단될 때), 스텝 S6 에 있어서 프리 처리가 실행된다. 스텝 S5 에 있어서의 판단의 결과가 부정적일 때 (요컨대 프리 처리가 불필요로 판단될 때) 및 스텝 S6 이 실행된 후, 도 8 에 나타낸 처리가 종료된다.

＜1-8-2. 플로 레시피의 일례＞

도 9 는 플로 레시피를 타이밍 차트로서 개념적으로 예시한다. 당해 플로 레시피는 프로세스 레시피군 (J1, J2, J3) 과, 프리 레시피 (Pr1, Pr2, Pr3) 를 포함한다. 당해 플로 레시피에 기초하여, 동일한 캐리어 (C) 에 격납된 복수장, 여기서는 25 장의 기판 (W) 에 대한 처리가 실행된다.

프로세스 레시피군 (J1) 은 프로세스 레시피 (J1(1) ∼ J1(25)) 를 포함한다. 프로세스 레시피군 (J2) 은 프로세스 레시피 (J2(1) ∼ J2(25)) 를 포함한다. 프로세스 레시피군 (J3) 은 프로세스 레시피 (J3(1) ∼ J3(25)) 를 포함한다. 둥근 괄호로 둘러싸인 숫자는 1 내지 25 의 정수 중 어느 것으로서, 동일한 캐리어 (C) 에 격납된 25 장의 기판 (W) 의 각각에 대응한다. 이하에서는, 기판 (W(k)) 은 동일한 캐리어 (C) 에 격납된 k 번째의 기판 (W) 을 가리킨다 (k = 1 ∼ 25). k 번째의 기판은 프로세스 레시피 (J1(k), J2(k), J3(k)) 에 기초하는 기판 처리의 대상이 된다.

플로 레시피는 하기의 순서로의 처리를 지정한다 : 프리 레시피 (Pr1), 프로세스 레시피 (J1(1), …J1(25)), 프리 레시피 (Pr2), 프로세스 레시피 (J2(1), …J2(25)), 프리 레시피 (Pr3), 프로세스 레시피 (J3(1), …J3(25)).

도 10 은 프로세스 레시피 (J1(k)) 의 내용을 경시적으로 예시하는 타이밍 차트이다. 프로세스 레시피 (J1(k)) 는 기판 (W(k)) 에 대한 제 1 세정 처리의 내용을 설정한다. 프로세스 레시피 (J1(k)) 는, 반입 레시피 (J10(k)), 토출 레시피 (J11(k), J12(k)), 반출 레시피 (J14(k)) 를 포함한다. 반입 레시피 (J10(k)), 토출 레시피 (J11(k), J12(k)), 반출 레시피 (J14(k)) 가 이 순서로 채용되고, 각각에 의해 설정되는 처리가 실행된다.

반입 레시피 (J10(k)) 는, 기판 (W(k)) 을 반입하는 처리를 설정한다. 반입 레시피 (J10(k)) 에 따라 기판 (W(k)) 이 캐리어 (C) 로부터 취출되고, 스핀 척 (5) 에 재치된다. 기판 (W(k)) 이 스핀 척 (5) 에 재치된 후, 토출 레시피 (J11(k)) 에 의해 설정되는 처리가 실행된다.

토출 레시피 (J11(k)) 는, 기판 (W(k)) 의 상면 (Wu) 에 대해 처리액 (DHF) 을 토출하는 처리를 설정한다. 이하에서는 처리액 (DHF) 의 토출은 토출 (P(1)) 이라고도 칭해진다.

토출 레시피 (J11(k)) 에 의한 토출 (P(1)) 이 종료된 후, 토출 레시피 (J12(k)) 에 의해 설정되는 처리가 실행된다. 토출 레시피 (J12(k)) 는, 기판 (W(k)) 의 상면 (Wu) 에 대해 처리액 (SC1) 을 토출하는 처리를 설정한다. 이하에서는 처리액 (SC1) 의 토출은 토출 (P(2)) 이라고도 칭해진다.

토출 레시피 (J12(k)) 에 의한 토출 (P(2)) 이 종료된 후, 반출 레시피 (J14(k)) 에 의해 설정되는 처리가 실행된다. 반출 레시피 (J14(k)) 는, 기판 (W(k)) 을 반출하는 처리를 설정한다. 반출 레시피 (J14(k)) 에 따라 기판 (W(k)) 이 스핀 척 (5) 으로부터 취출되고, 캐리어 (C) 에 반입된다.

도 11 은 프로세스 레시피 (J2(k)) 의 내용을 경시적으로 예시하는 타이밍 차트이다. 프로세스 레시피 (J2(k)) 는 기판 (W(k)) 에 대한 제 2 세정 처리의 내용을 설정한다. 프로세스 레시피 (J2(k)) 는, 반입 레시피 (J20(k)), 토출 레시피 (J22(k)), 반출 레시피 (J24(k)) 를 포함한다. 반입 레시피 (J20(k)), 토출 레시피 (J22(k)), 반출 레시피 (J24(k)) 가 이 순서로 채용되고, 각각에 의해 설정되는 처리가 실행된다.

반입 레시피 (J20(k)) 는, 기판 (W(k)) 을 반입하는 처리를 설정한다. 반입 레시피 (J20(k)) 에 따라 기판 (W(k)) 이 캐리어 (C) 로부터 취출되고, 스핀 척 (5) 에 재치된다. 기판 (W(k)) 이 스핀 척 (5) 에 재치된 후, 토출 레시피 (J22(k)) 에 의해 설정되는 처리가 실행된다.

토출 레시피 (J22(k)) 는, 기판 (W(k)) 의 상면 (Wu) 에 대한 토출 (P(2)) 을 설정한다. 이하에서는 처리액 (DHF) 의 토출은 토출 (P(2)) 이라고도 칭해진다.

토출 레시피 (J22(k)) 에 의한 토출 (P(2)) 이 종료된 후, 반출 레시피 (J24(k)) 에 의해 설정되는 처리가 실행된다. 반출 레시피 (J24(k)) 는, 기판 (W(k)) 을 반출하는 처리를 설정한다. 반출 레시피 (J24(k)) 에 따라 기판 (W(k)) 이 스핀 척 (5) 으로부터 취출되고, 캐리어 (C) 에 반입된다.

도 12 는 프로세스 레시피 (J3(k)) 의 내용을 경시적으로 예시하는 타이밍 차트이다. 프로세스 레시피 (J3(k)) 는 기판 (W(k)) 에 대한 제 3 세정 처리의 내용을 설정한다. 프로세스 레시피 (J3(k)) 는, 반입 레시피 (J30(k)), 토출 레시피 (J31(k), J33(k)), 반출 레시피 (J34(k)) 를 포함한다. 반입 레시피 (J30(k)), 토출 레시피 (J31(k), J33(k)), 반출 레시피 (J34(k)) 가 이 순서로 채용되고, 각각에 의해 설정되는 처리가 실행된다.

반입 레시피 (J30(k)) 는, 기판 (W(k)) 을 반입하는 처리를 설정한다. 반입 레시피 (J30(k)) 에 따라 기판 (W(k)) 이 캐리어 (C) 로부터 취출되고, 스핀 척 (5) 에 재치된다. 기판 (W(k)) 이 스핀 척 (5) 에 재치된 후, 토출 레시피 (J31(k)) 에 의해 설정되는 처리가 실행된다.

토출 레시피 (J31(k)) 는, 기판 (W(k)) 의 상면 (Wu) 에 대한 토출 (1) 을 설정한다. 토출 레시피 (J31(k)) 에 의한 토출 (P(1)) 이 종료된 후, 토출 레시피 (J33(k)) 에 의해 설정되는 처리가 실행된다. 토출 레시피 (J33(k)) 는, 기판 (W(k)) 의 상면 (Wu) 에 대해 처리액 (IPA) 을 토출하는 처리를 설정한다. 이하에서는 처리액 (IPA) 의 토출은 토출 (P(3)) 이라고도 칭해진다.

토출 레시피 (J33(k)) 에 의한 토출 (P(3)) 이 종료된 후, 반출 레시피 (J34(k)) 에 의해 설정되는 처리가 실행된다. 반출 레시피 (J34(k)) 는, 기판 (W(k)) 을 반출하는 처리를 설정한다. 반출 레시피 (J34(k)) 에 따라 기판 (W(k)) 이 스핀 척 (5) 으로부터 취출되고, 캐리어 (C) 에 반입된다.

도 8 에 나타낸 스텝 S1 은, 반입 레시피 (J10(1) ∼ J10(25), J20(1) ∼ J20(25), J30(1) ∼ J30(25)) 에 상당한다. 도 8 에 나타낸 스텝 S2 는, 토출 레시피 (J11(1) ∼ J11(25), J12(1) ∼ J12(25), J22(1) ∼ J22(25), J31(1) ∼ J31(25), J33(1) ∼ J33(25)) 에 상당한다. 도 8 에 나타낸 스텝 S3 은, 반출 레시피 (J14(1) ∼ J14(25), J24(1) ∼ J24(25), J34(1) ∼ J34(25)) 에 상당한다.

예를 들어, 후술하는 바와 같이 프리 처리가 생략되는 경우를 고려하지 않으면, 도 8 의 플로 차트로부터 스텝 S5 를 제외하여 생각할 수 있다. 이 때, 예를 들어 스텝 S1 이 반입 레시피 (J10(k)) 에 따라 실행되고, 스텝 S2 가 토출 레시피 (J11(k), J12(k)) 에 따라 실행되고, 스텝 S3 이 반출 레시피 (J14(k)) 에 따라 실행된다. k ＜ 25 이면 스텝 S4 를 경유하여 다시 스텝 S1 이 실행된다. k = 25 이면 스텝 S4 를 경유하여 스텝 S6 이 프리 레시피 (Pr2) 에 따라 실행된다.

혹은 스텝 S1 이 반입 레시피 (J20(k)) 에 따라 실행되고, 스텝 S2 가 토출 레시피 (J22(k)) 에 따라 실행되고, 스텝 S3 이 반출 레시피 (J24(k)) 에 따라 실행된다. k ＜ 25 이면 스텝 S4 를 경유하여 다시 스텝 S1 이 실행된다. k = 25 이면 스텝 S4 를 경유하여 스텝 S6 이 프리 레시피 (Pr3) 에 따라 실행된다.

프리 레시피 (Pr1) 는, 프로세스 레시피군 (J1) 에 있어서 실시되는 토출 (P(1), P(2)) 에 대한 예비적인 동작을 설정한다. 프리 레시피 (Pr2) 는, 프로세스 레시피군 (J2) 에 있어서 실시되는 토출 (P(2)) 에 대한 예비적인 동작을 설정한다. 프리 레시피 (Pr3) 는, 프로세스 레시피군 (J3) 에 있어서 실시되는 토출 (P(1), P(3)) 에 대한 예비적인 동작을 설정한다. 이들 예비 동작은, 상기 서술한 프리 동작에 상당한다.

도 13 은 프리 레시피 (Pr1) 의 내용을 경시적으로 예시하는 타이밍 차트이다. 프리 레시피 (Pr1) 는 처리액 (DHF, SC1) 에 대한 프리 처리에 상당한다. 프리 레시피 (Pr1) 는, 토출 레시피 (Pr11, Pr12) 를 포함하고, 이 순서로 이들이 채용된다. 토출 레시피 (Pr11) 는 컵 (70) 에 대한 토출 (P(1)) 을 설정한다. 토출 레시피 (Pr12) 는 컵 (70) 에 대한 토출 (P(2)) 을 설정한다.

프리 레시피 (Pr2) 는 처리액 (SC1) 에 대한 프리 처리에 상당한다. 프리 레시피 (Pr2) 는 컵 (70) 에 대한 토출 (P(2)) 을 설정한다.

도 14 는 프리 레시피 (Pr3) 의 내용을 경시적으로 예시하는 타이밍 차트이다. 프리 레시피 (Pr3) 는 처리액 (DHF, IPA) 에 대한 프리 처리에 상당한다. 프리 레시피 (Pr3) 는, 토출 레시피 (Pr31, Pr33) 를 포함하고, 이 순서로 이들이 채용된다. 토출 레시피 (Pr31) 는 컵 (70) 에 대한 토출 (P(1)) 을 설정한다. 토출 레시피 (Pr33) 는 컵 (70) 에 대한 토출 (P(3)) 을 설정한다.

플로 레시피에 포함되는, 반입 레시피 (J10(k), J20(k), J30(k)), 토출 레시피 (J11(k), J12(k), J22(k), J31(k), J33(k), Pr11, Pr12, Pr31, Pr33), 반출 레시피 (J14(k), J24(k), J34(k)), 프리 레시피 (Pr2) 의 각각에 의해 설정되는 어느 처리에 대해서도, 그 실행에 필요한 시간은, 각각의 레시피에 있어서 미리 설정된다.

＜1-8-3. 프리 처리의 필요 여부 판단＞

본 실시형태에 있어서, 프리 처리의 대상이 되는 처리액이 토출되지 않는 시간이 소정의 임계값보다 짧을 때에는, 당해 프리 처리가 불필요한 것으로 판단된다. 이로써 기판 처리에 필요한 기간이 단축되고, 이러한 단축은 기판 처리 방법의 간략화에 기여한다.

이하, 프리 레시피 (Pr2) 에 의해 설정된 프리 처리의 필요 여부를 판단하는 공정이 먼저 설명되고, 그 후에 프리 레시피 (Pr3) 에 의해 설정된 프리 처리의 필요 여부를 판단하는 공정이 설명된다.

도 15 는, 플로 레시피의 일부인, 토출 레시피 (J11(24)) 에서 토출 레시피 (J22(1)) 까지를 타이밍 차트로서 나타낸다. 시각 (t11e(k)) 은, 토출 레시피 (J11(k)) 에 의해 설정된 기판 처리가 종료되는 시각, 보다 구체적으로는 기판 (W(k)) 의 상면 (Wu) 에 대한 토출 (P(1)) 이 종료되는 시각이다. 시각 (t12s(k)) 은, 토출 레시피 (J12(k)) 에 의해 설정된 기판 처리가 개시되는 시각, 보다 구체적으로는 기판 (W(k)) 의 상면 (Wu) 에 대한 토출 (P(2)) 이 개시되는 시각이다.

도 15 에서는 간단하게 하기 위해, 시각 (t11e(k), t12s(k)) 이 동일한 시각인 것처럼 나타내지만, 정확하게는 시각 (t11e(k)) 은 시각 (t12s(k)) 보다 선행한다.

시각 (t12e(k)) 은, 토출 레시피 (J12(k)) 에 의해 설정된 기판 처리가 종료되는 시각, 보다 구체적으로는 기판 (W(k)) 의 상면 (Wu) 에 대한 토출 (P(2)) 이 종료되는 시각이다. 시각 (t10(k)) 은, 반입 레시피 (J10(k)) 에 의해 설정된 처리가 개시되는 시각, 구체적으로는 기판 (W(k)) 이 반입되는 시각이다.

도 16 은 프리 처리의 필요 여부를 판단하는 루틴을 예시하는 플로 차트이다. 도면에 있어서, 및 이하에서는 당해 루틴은「프리 처리의 필요 여부 판단 루틴」으로 약기된다. 프리 처리의 필요 여부 판단 루틴은, 본체 제어 유닛 (22) 및 액 관리 제어 유닛 (24) 에 의해 각 부의 동작이 제어됨으로써 실현된다.

프리 처리의 필요 여부 판단 루틴에 의한 판단 결과가, 도 8 에 나타낸 스텝 S5 의 판단 결과에 이용된다. 프리 처리의 필요 여부 판단 루틴은 스텝 S5 로 대체하는 것도 아니고, 스텝 S5 의 상세를 나타내는 것도 아니다.

프리 처리의 필요 여부 판단 루틴에 있어서, 스텝 S51 은 토출 (P(j)) 이 개시되었는지의 여부를 판단하는 공정이다. 여기서 파라미터 j 는 1, 2 중 어느 것으로서, 프리 처리의 필요 여부 판단 루틴은 파라미터 j 마다 채용된다.

처리액 (DHF) 에 대한 프리 처리를 설정하는 토출 레시피 (Pr11, Pr31) 에 대해 제 1 프리 처리의 필요 여부 판단 루틴이 실행되고, 처리액 (SC1) 에 대한 프리 처리를 설정하는 토출 레시피 (Pr12) 에 대해 제 2 프리 처리의 필요 여부 판단 루틴이 실행된다.

스텝 S51 의 판단 결과가 부정적이면, 스텝 S55 가 실행된다. 스텝 S55 에 대해서는 후술된다.

스텝 S51 의 판단 결과가 긍정적이면 스텝 S52 가 실행된다. 스텝 S52 는 후술되는 카운트값 (M(j)) 의 카운트를 종료하고, 카운트값 (M(j)) 을 리셋하는 공정이다.

카운트값 (M(j)) 은 카운트값 (M(1), M(2)) 을 총괄적으로 나타낸다. 카운트값 (M(j)) 은, 제 j 프리 처리의 필요 여부 판단 루틴에 있어서의 카운트에 의해 증가하는 값이다. 카운트값 (M(j)) 은 토출 (P(j)) 이 종료되고 나서의 시간을 나타낸다.

도 15 에 의거하여 말하면, 시각 (t12s(24)) 은 토출 레시피 (J12(24)) 에 의해 설정되는 토출 (P(2)) 이 개시되는 시각이다. 시각 (t12s(24)) 에 있어서 스텝 S51 의 판단이 긍정적이 되고, 스텝 S52 에 있어서 카운트값 (M(2)) 이 리셋된다.

도 15 에 있어서, 파선 (C2) 상의 사각은, 제 2 프리 처리의 필요 여부 판단 루틴에 있어서 카운트값 (M(2)) 의 카운트가 종료되고, 또한 카운트값 (M(2)) 이 리셋되는 시점 (스텝 S52 가 실행되는 시점) 을 나타낸다.

스텝 S52 가 실행된 후, 스텝 S53 이 실행된다. 스텝 S53 은 토출 (P(j)) 이 종료되었는지의 여부를 판단하는 공정이다. 스텝 S53 의 판단 결과가 부정적이면 스텝 S53 이 반복 실행된다. 스텝 S53 의 판단 결과가 긍정적이면 스텝 S54 가 실행된다. 스텝 S54 는 카운트값 (M(j)) 의 카운트를 개시하는 공정이다.

도 15 에 의거하여 말하면, 시각 (t12e(24)) 은 토출 레시피 (J12(24)) 에 의해 설정되는 토출 (P(2)) 이 종료되는 시각이다. 시각 (t12e(24)) 에 있어서 스텝 S53 의 판단이 긍정적이 되고, 스텝 S54 에 있어서 카운트값 (M(2)) 의 카운트가 개시된다.

도 15 에 있어서, 파선 (C2) 상의 검정 동그라미는, 제 2 프리 처리의 필요 여부 판단 루틴에 있어서 카운트값 (M(2)) 의 카운트가 개시되는 시점 (스텝 S54 가 실행되는 시점) 을 나타낸다.

시각 (t11e(24)) 은 토출 레시피 (J11(24)) 에 의해 설정되는 토출 (P(1)) 이 종료되는 시각이다. 토출 (P(1)) 은 시각 (t11e(24)) 보다 전에 실행되고, 제 1 프리 처리의 필요 여부 판단 루틴에 있어서 스텝 S52 는 시각 (t11e(24)) 보다 전에 실행된다. 시각 (t11e(24)) 에 있어서 스텝 S53 의 판단이 긍정적이 되고, 스텝 S54 에 있어서 카운트값 (M(1)) 의 카운트가 개시된다.

파선 (C1) 상의 검정 동그라미는, 제 1 프리 처리의 필요 여부 판단 루틴에 있어서 카운트값 (M(1)) 의 카운트가 개시되는 시점 (스텝 S54 가 실행되는 시점) 을 나타낸다.

스텝 S54 에 의해 카운트가 개시된 후, 스텝 S55 가 실행된다. 스텝 S55 는 카운트값 (M(j)) 이 소정값 (M0(j)) 미만인지의 여부를 판단하는 공정이다. 소정값 (M0(j)) 은, 토출 (P(j)) 이 실시되지 않는 상태의 지속이 허가되는 기간에 상당한다. 토출 (P(j)) 이 실시되지 않는 상태가, 소정값 (M0(j)) 에 상당하는 시간보다 짧으면 토출 (P(j)) 에 대한 프리 처리는 불필요하다.

스텝 S55 에 있어서의 판단 결과가 부정적일 때에는 카운트값 (M(j)) 이 소정값 (M0(j)) 이상이고, 스텝 S50, S59 가 실행된다. 스텝 S50 은 카운트값 (M(j)) 의 카운트를 종료하고, 카운트값 (M(j)) 을 리셋하는 공정이다. 스텝 S59 에 있어서 프리 처리가 필요로 판단된다. 스텝 S50, S59 가 실행된 후, 프리 처리의 필요 여부 판단 루틴이 종료된다.

스텝 S55 에 있어서의 판단 결과가 긍정적일 때에는 카운트값 (M(j)) 이 소정값 (M0(j)) 미만이고, 스텝 S56 이 실행된다. 스텝 S56 에 있어서는 기판 (We) 이 챔버 (4) 에 반입되었는지의 여부가 판단된다. 기판 (We) 은 동일한 캐리어 (C) 에 격납된 기판 (W) 중, 동일한 프로세스 레시피군에 속하는 프로세스 레시피 중, 마지막 프로세스 레시피에 의해 설정되는 기판 처리를 수용하는 기판 (W) 이다. 여기서는 동일한 캐리어 (C) 에는 25 장의 기판 (W) 이 격납되므로, 기판 (We) 은 기판 (W(25)) 을 가리킨다.

시각 (t10(25)) 보다 전에 있어서는 스텝 S56 의 판단 결과는 부정적이 되고, 프리 처리의 필요 여부는 판단되지 않고 스텝 S51 이 다시 실행된다.

시각 (t10(25)) 이후에 있어서 스텝 S56 이 실행되면, 스텝 S56 에 있어서 판단 결과는 긍정적이 되고, 스텝 S57 이 실행된다.

스텝 S57 은 기판 (We) 에 대한 토출 (P(j)) 의 종료 후에 재차 토출 (P(j)) 이 실시될 때까지의 시간을 추정하고, 당해 시간과 소정값 (M0(j)) 에 상당하는 시간에 기초하여 프리 처리의 필요 여부를 판단한다. 구체적으로는 카운트값 (M(j)) 이 값 (M0(j) - R(j)) 미만인지의 여부가 판단된다.

제 2 프리 처리의 필요 여부 판단 루틴에 대해, 도 15 에 의거하여 스텝 S57 이 설명된다. 플로 레시피에 의하면, 시각 (t10(25)) 이후에는, 반입 레시피 (J10(25)), 토출 레시피 (J11(25), J12(25)), 반출 레시피 (J14(25)), 프리 레시피 (Pr2), 반입 레시피 (J20(1)) 의 각각에 의해 설정되는 처리가 실행되고 나서, 토출 레시피 (J22(1)) 에 기초하는 토출 (P(2)) 이 실행된다.

시각 (t12e(25)) 이후, 소정값 (M0(2)) 에 대응하는 시간이 경과할 때까지, 반출 레시피 (J14(25)) 및 반입 레시피 (J20(1)) 의 각각에 대응하는 처리가 실행될 것으로 예상될 때, 프리 레시피 (Pr2) 에 기초하는 프리 처리는 불필요한 것으로 상정된다.

카운트값 (M(2)) 은 시각 (t12e(24)) 에 있어서 리셋된다. 시각 (t10(25)) 에 있어서의 카운트값 (M(2)) 은, 반출 레시피 (J14(25)) 에 의해 설정되는 처리가 실행되는 시간에 상당한다. 당해 시간은 시각 (t12e(25)) 에 있어서 토출 (P(2)) 이 종료된 이후, 반출 레시피 (J14(25)) 에 의한 기판 (We) 의 반출이 종료될 때까지의 시간과 동등한 것으로 상정된다.

시각 (t10(25)) 에 있어서의 카운트값 (M(2)) 에 대해, 반입 레시피 (J20(1)) 에 의해 설정되는 처리에 요하는 시간에 상당하는 카운트값을 가산한 결과가, 소정값 (M0(2)) 미만이면, 프리 레시피 (Pr2) 에 기초하는 프리 처리는 불필요한 것으로 상정된다.

값 (R(2)) 에는, 반입 레시피 (J20(1)) 에 의해 설정되는 처리에 요하는 시간에 상당하는 카운트값이 채용된다. 기판 (We) 이 챔버 (4) 에 반입되어 스텝 S56 에 있어서의 판단 결과가 긍정적이 되었을 때, 카운트값 (M(2)) 이 값 (M0(2) - R(2)) 미만이면, 스텝 S57 에 있어서의 판단 결과는 긍정적이 된다. 이 때, 스텝 S58 에 있어서 프리 처리, 구체적으로는 프리 레시피 (Pr2) 에 의해 설정되는 프리 처리가 불필요한 것으로 판단된다.

카운트값 (M(2)) 이 값 (M0(2) - R(2)) 이상이면, 시각 (t12e(25)) 이후, 반출 레시피 (J14(25)) 및 반입 레시피 (J20(1)) 의 각각에 대응하는 처리가 실행되면, 소정값 (M0(2)) 에 대응하는 시간이 경과하는 것으로 상정된다. 이 때, 스텝 S57 에 있어서의 판단 결과는 부정적이 되고, 스텝 S59 에 있어서 프리 처리, 구체적으로는 프리 레시피 (Pr2) 에 의해 설정되는 프리 처리가 필요한 것으로 판단된다.

도 17 은 제 2 프리 처리의 필요 여부 판단 루틴에 있어서, 스텝 S59 가 실행될 때의 기판 처리를, 프로세스 레시피와 프리 레시피를 사용하여 나타내는 타이밍 차트이다. 도 8 의 스텝 S5 에 있어서 판단 결과는 긍정적이 되고, 스텝 S6 에 대응하여 프리 레시피 (Pr2) 에 의해 설정되는 프리 처리가 실행된다. 당해 프리 처리는 시각 (t2s) 에 개시되고, 시각 (t2e) 에 종료된다.

이 후, 프로세스 레시피군 (J2) 에 대응하여 도 8 의 플로 차트가 다시 실행되고, 스텝 S5 에 대응하여 프리 처리의 필요 여부 판단 루틴이 새로이 실행된다.

시각 (t22s(k)) 은, 토출 레시피 (J22(k)) 에 의해 설정된 기판 처리가 개시되는 시각, 보다 구체적으로는 기판 (W(k)) 의 상면 (Wu) 에 대한 토출 (P(2)) 이 개시되는 시각이다. 시각 (t22e(k)) 은, 토출 레시피 (J22(k)) 에 의해 설정된 기판 처리가 종료되는 시각, 보다 구체적으로는 기판 (W(k)) 의 상면 (Wu) 에 대한 토출 (P(2)) 이 종료되는 시각이다.

시각 (t20(25)) 은, 반입 레시피 (J20(25)) 에 의해 설정된 처리, 구체적으로는 기판 (W(25)) (이것은 기판 (We) 이기도 하다) 이 반입되는 시각이다.

도 18 은 제 2 프리 처리의 필요 여부 판단 루틴에 있어서, 스텝 S58 이 실행될 때의 기판 처리를, 프로세스 레시피와 프리 레시피를 사용하여 나타내는 타이밍 차트이다. 도 8 의 스텝 S5 에 있어서 판단 결과는 부정적이 되고, 스텝 S6 은 실행되지 않는다. 반출 레시피 (J14(25)) 에 기초하여 기판 (We) 이 반출된 후, 프로세스 레시피군 (J2) 에 대응하여 도 8 의 플로 차트가 다시 실행된다.

시각 (tr31s) 은 토출 레시피 (Pr31) 에 의해 설정된 토출 (P(1)) 이 개시되는 시각이다. 시각 (tr31e) 은 토출 레시피 (Pr31) 에 의해 설정된 토출 (P(1)) 이 종료되는 시각이다. 시각 (tr33s) 은 토출 레시피 (Pr33) 에 의해 설정된 토출 (P(3)) 이 개시되는 시각이다. 시각 (tr33e) 은 토출 레시피 (Pr33) 에 의해 설정된 토출 (P(3)) 이 종료되는 시각이다. 도 18 에서는 간단하게 하기 위해, 시각 (tr31e, tr33s) 이 동일한 시각인 것처럼 나타내지만, 정확하게는 시각 (tr31e) 은 시각 (tr33s) 보다 선행한다.

시각 (t31s(k)) 은 토출 레시피 (J31(k)) 에 의해 설정된 토출 (P(1)) 이 개시되는 시각이다. 시각 (t31e) 은 토출 레시피 (J31(k)) 에 의해 설정된 토출 (P(1)) 이 종료되는 시각이다. 시각 (t33s(k)) 은 토출 레시피 (J33(k)) 에 의해 설정된 토출 (P(1)) 이 개시되는 시각이다. 도 18 에서는 간단하게 하기 위해, 시각 ((t31e)(k), t33s(k)) 이 동일한 시각인 것처럼 나타내지만, 정확하게는 시각 (t31e) 은 시각 (t33s) 보다 선행한다.

도 15 를 참조하여, 제 1 프리 처리의 필요 여부 판단 루틴에 있어서는, 시각 (t11e(24)) 에 있어서 카운트값 (M(1)) 의 카운트가 개시되고 (도 16 의 스텝 S54 참조), 시각 (t10(25)) 에 이르러 스텝 S57 에 있어서의 판단이 실시된다.

도 9, 도 11, 도 12 및 도 17 을 참조하면, 프리 레시피 (Pr3) 에 의해 설정되는 프리 처리를 제외하면, 토출 레시피 (J11(25)) 에 기초하는 토출 (P(1)) 이 종료된 후, 토출 레시피 (J31(1)) 에 기초하는 토출 (P(1)) 이 개시될 때까지, 토출 (P(1)) 이 실행되지 않는 상태가 지속된다. 이 동안에는, 토출 레시피 (J12(25)), 반출 레시피 (J14(25)), 프리 레시피 (Pr2), 프로세스 레시피군 (J2), 반입 레시피 (J30(1)) 의 각각에 의해 설정되는 처리 (이하「제 1 중간 처리군」이라고 가칭) 가 실행된다.

제 1 중간 처리군이 실행되고 있는 동안, 토출 (P(1)) 은 개시되지 않으므로, 스텝 S52 는 실행되지 않고 스텝 S51, S55, S56 이 반복 실행되고, 카운트값 (M(1)) 은 계속 증대된다.

제 1 중간 처리군이 실행되고 있는 기간이, 토출 (P(1)) 이 실시되지 않는 상태의 지속이 허가되는 기간 (이것은 소정값 (M0(1)) 에 상당한다) 보다 긴지의 여부에 기초하여, 프리 레시피 (Pr3) 에 의해 설정되는 프리 처리의 필요 여부가 판단된다.

시각 (t11e(24)) 에 있어서 카운트값 (M(1)) 의 카운트가 개시된 후 (도 15 의 파선 (C1) 에 있어서의 검정 동그라미를 참조), 시각 (t10(25)) 에 있어서 스텝 S56 의 판단 결과가 긍정적이 되고, 스텝 S57 이 실행된다.

도 17 및 도 18 을 참조하여, 시각 (t10(25)) 에 있어서의 카운트값 (M(1)) 과, 프로세스 레시피 (J1(25)), 프리 레시피 (Pr2), 프로세스 레시피군 (J2), 반입 레시피 (J30(1)) 의 각각에 의해 설정되는 처리 (이하「제 2 중간 처리군」이라고 가칭) 가 실행되는 시간에 상당하는 카운트값의 합이, 소정값 (M0(1)) 보다 작으면, 처리액 (DHF) 에 대한 프리 처리는 불필요하다. 이 관점에서, 제 2 중간 처리군이 실행되는 시간의 합계에 대응하는 카운트값이 값 (R(1)) 으로 채용된다.

스텝 S57 의 판단 결과가 긍정적이면, 스텝 S58 로 처리가 진행되고, 프리 레시피 (Pr3) 중 토출 레시피 (Pr31) 에 의해 설정되는 프리 처리는 불필요한 것으로 판단된다. 스텝 S57 의 판단 결과가 부정적이면, 스텝 S59 로 처리가 진행되고, 프리 레시피 (Pr3) 에 의해 설정되는 프리 처리는 필요한 것으로 판단된다.

제 2 프리 처리의 필요 여부 판단 루틴으로 필요 여부가 판단되는 것은, 구체적으로는 프리 레시피 (Pr3) 에 의해 설정되는 프리 처리 전체는 아니다. 따라서 도 8 에 있어서의 스텝 S5 의 판단 결과는 긍정적이 되고, 스텝 S6 이 실행된다. 스텝 S6 에 있어서 실행되는 프리 처리는 토출 레시피 (Pr33) 에 의해 설정되는 토출 (P(3)) 이다. 이것은 프리 처리의 저감으로 볼 수 있다. 도 19 에 타이밍 차트로서, 토출 레시피 (Pr31) 가 생략되는 경우의 기판 처리를, 프로세스 레시피와 프리 레시피를 사용하여 나타낸다.

이 경우에 있어서도, 제 2 프리 처리의 필요 여부 판단 루틴으로 스텝 S57 의 판단 결과가 부정적이 되는 경우와 비교하여, 기판 처리에 필요한 기간이 단축되고, 이러한 단축은 기판 처리 방법의 간략화에 기여한다.

＜1-8-4. 프리 처리의 필요 여부 판단을 실시하는 타이밍＞

플로 레시피에 포함되는 어느 레시피에 대해서도, 각각에 의해 설정되는 처리의 실행에 필요한 시간이 미리 설정된다. 따라서, 당해 플로 레시피에 기초한 기판 처리의 최초에 있어서, 프리 처리의 필요 여부가 판단되어도 된다. 당해 판단의 결과에 기초하여, 프리 처리의 불실행 (예를 들어 프리 레시피 (Pr2) 에 의해 설정되는 프리 처리의 불실행), 혹은 프리 처리의 부분적인 불실행 (프리 처리의 저감 : 예를 들어 토출 레시피 (Pr31) 에 의해 설정되는 토출 (P(1)) 의 불실행) 이 실현되어도 된다.

그러나, 플로 레시피를 실행 중에 레시피가 변경되는 경우도 상정된다. 또 복수의 처리 유닛 (21) 끼리의 처리 상황에서 기인하여, 플로 레시피에 있어서 설정된 시간과는 상이하게 처리가 실행되는 경우도 상정된다. 이와 같이 상정되는 경우에는, 당해 플로 레시피에 기초한 기판 처리의 최초에 있어서 판단된 프리 처리의 필요 여부는, 적절하지 않게 될 가능성이 있다.

상기 서술한 예에서는 제 1 세정 처리에 있어서, 기판 (We) 이 챔버 (4) 에 반입되는 타이밍, 구체적으로는 시각 (t10(25)) 에 있어서의 카운트값을 사용하여, 프리 처리의 필요 여부가 판단되었다. 이와 같은 타이밍에 있어서의 프리 처리의 필요 여부의 판단은, 상기와 같이 상정되는 경우에도, 프리 처리의 필요 여부를 적절히 판단하는 것에 기여한다.

＜2. 일반적인 설명＞

상기의 실시형태를 일반적으로 설명하면 하기와 같이 기술할 수 있다. 본 개시에 있어서의 플로 레시피가 미리 설정된 기판 처리 방법에는, 플로 레시피가 미리 설정된다. 플로 레시피는 제 1 프로세스 레시피와, 제 2 프로세스 레시피와, 프리 레시피를 포함한다.

실시형태에 있어서는, 도 9 를 참조하여, 제 1 프로세스 레시피로서 프로세스 레시피 (J1(1) ∼ J1(25)) 가 예시된다.

제 2 프로세스 레시피로서 프로세스 레시피 (J2(1) ∼ J2(25)) 가, 프리 레시피로서 프리 레시피 (Pr2) 가 각각 예시된다. 혹은 제 2 프로세스 레시피로서 프로세스 레시피 (J3(1) ∼ J3(25)) 가, 프리 레시피로서 프리 레시피 (Pr3) 가 각각 예시된다.

제 1 프로세스 레시피는 기판에 대해 실행되는 제 1 처리의 내용을 설정한다. 실시형태에 있어서는 도 10 을 참조하여, 프로세스 레시피 (J1(k)) 는 기판 (W(k)) 에 대해 실행되는 토출 (P(1), P(2)) 을 설정한다. 보다 구체적으로는 프로세스 레시피 (J1(k)) 는 토출 레시피 (J11(k), J12(k)) 를 포함하고, 각각 기판 (W(k)) 에 대해 실행되는 토출 (P(1), P(2)) 을 설정한다. 제 1 처리는 기판 (W(k)) 에 대한 처리액 (DHF) 의 토출 (P(1)) 을 포함한다. 제 1 처리는 기판 (W(k)) 에 대한 처리액 (SC1) 의 토출 (P(2)) 을 포함한다.

제 2 프로세스 레시피는, 기판에 대해 제 1 처리 후에 실행되는 제 2 처리의 내용을 설정한다. 프리 레시피는 제 2 프로세스 레시피에 대한 예비 동작의 내용을 설정한다.

실시형태에 있어서는 도 11 을 참조하여, 프로세스 레시피 (J2(k)) 는 기판 (W(k)) 에 대해 실행되는 토출 (P(2)) 을 설정한다. 보다 구체적으로는 프로세스 레시피 (J2(k)) 는 토출 레시피 (J22(k)) 를 포함하고, 토출 레시피 (J22(k)) 는 기판 (W(k)) 에 대해 실행되는 토출 (P(2)) 을 설정한다. 제 2 처리는 기판 (W(k)) 에 대한 처리액 (SC1) 의 토출 (P(2)) 을 포함한다. 프리 레시피 (Pr2) 는, 프로세스 레시피 (J2(k)) 에 대한 예비 동작의 내용을 설정한다. 당해 예비 동작은 처리액 (SC1) 의 배출을 포함한다.

실시형태에 있어서는 도 12 를 참조하여, 프로세스 레시피 (J3(k)) 는 기판 (W(k)) 에 대해 실행되는 토출 (P(1), P(3)) 을 설정한다. 보다 구체적으로는 프로세스 레시피 (J3(k)) 는 토출 레시피 (J31(k), J33(k)) 를 포함하고, 각각 기판 (W(k)) 에 대해 실행되는 토출 (P(1), P(3)) 을 설정한다.

제 2 처리는 기판 (W) 에 대한 처리액 (DHF) 의 토출 (P(1)) 을 포함한다. 제 2 처리는 기판 (W) 에 대한 처리액 (IPA) 의 토출 (P(3)) 을 포함한다. 프리 레시피 (Pr3) 는, 프로세스 레시피군 (J3) 에 대한 예비 동작의 내용을 설정한다. 프리 레시피 (Pr3) 는 토출 레시피 (Pr31) 를 포함하고, 토출 레시피 (Pr31) 에 의해 설정되는 예비 동작은 처리액 (DHF) 의 배출을 포함한다. 프리 레시피 (Pr3) 는 토출 레시피 (Pr33) 를 포함하고, 토출 레시피 (Pr33) 에 의해 설정되는 예비 동작은 처리액 (IPA) 의 배출을 포함한다.

제 1 처리 및 제 2 처리 모두, 기판 (W) 에 대한 제 1 약액의 토출을 포함한다. 여기서 제 1 약액으로서 처리액 (SC1) 을 상정할 수 있고, 제 1 처리는 토출 레시피 (J12(1) ∼ J12(25)) 에 의해 설정되고, 예비 동작은 토출 레시피 (Pr12) 에 의해 설정되고, 제 2 처리는 토출 레시피 (J22(1) ∼ J22(25)) 에 의해 설정된다. 혹은 제 1 약액으로서 처리액 (DHF) 을 상정할 수 있고, 제 1 처리는 토출 레시피 (J11(1) ∼ J11(25)) 에 의해 설정되고, 예비 동작은 토출 레시피 (Pr31) 에 의해 설정되고, 제 2 처리는 토출 레시피 (J31(1) ∼ J31(25)) 에 의해 설정된다.

제 1 처리의 종료에서 제 2 처리의 개시까지의 기간이 제 1 임계값보다 짧으면, 예비 동작의 시간을 저감시켜 제 2 처리가 실행된다. 제 1 약액으로서 처리액 (SC1) 이 상정되었을 때, 토출 레시피 (J12(25)) 의 종료에 의해 제 1 처리가 종료되고, 토출 레시피 (J22(1)) 의 개시에 의해 제 2 처리가 개시된다. 토출 (P(2)) 이 실시되지 않는 상태의 지속이 허가되는 기간이 제 1 임계값으로서 상정된다. 시각 (t12e(25)) 에서 시각 (t22s(1)) 까지의 기간이 제 1 임계값보다 짧으면, 프리 레시피 (Pr2) 에 의해 설정되는 프리 동작은 생략된다. 소정값 (M0(2)) 은, 제 1 임계값에 상당하는 카운트값이다.

제 1 약액으로서 처리액 (SC1) 이 상정되었을 때, 예비 동작의 시간은 실질적으로 영까지 저감된다.

제 1 약액으로서 처리액 (DHF) 이 상정되었을 때, 토출 레시피 (J11(25)) 의 종료에 의해 제 1 처리가 종료되고, 토출 레시피 (J31(1)) 의 개시에 의해 제 2 처리가 개시된다. 토출 (P(1)) 이 실시되지 않는 상태의 지속이 허가되는 기간이 제 1 임계값으로서 상정된다. 시각 (t11e(25)) 에서 시각 (t31s(1)) 까지의 기간이 제 1 임계값보다 짧으면, 프리 레시피 (Pr3) 중, 토출 레시피 (Pr31) 에 의해 설정되는 프리 동작은 생략된다. 소정값 (M0(1)) 은, 제 1 임계값에 상당하는 카운트값이다.

제 1 약액으로서 처리액 (DHF) 이 상정되었을 때, 예비 동작의 시간은 토출 레시피 (Pr31) 에 의해 설정되는 프리 동작에 필요한 시간만큼 저감된다.

당해 기판 처리 방법은, 제 1 처리를 실행하는 공정 (예를 들어 제 1 처리는 프로세스 레시피군 (J1) 에 의해 설정된다) 과, 제 1 처리의 종료에서 제 2 처리의 개시까지의 기간이 제 1 임계값보다 짧은지의 여부의 판단을 실시하는 공정 (이러한 판단은 예를 들어 스텝 S55, S56, S57, S58, S59 와 스텝 S5 에 의해 실현된다) 을 구비한다. 당해 기판 처리 방법은 추가로, 당해 판단의 결과가 긍정적이면, 프리 동작의 시간을 저감시켜 제 2 처리를 실행하는 공정을 구비한다.

처리액 (SC1) 에 대해 생각하면, 제 2 처리는 토출 (P(2)) 을 포함한다. 이 때 프리 레시피 (Pr2) 에 의해 설정되는 프리 처리의 필요 여부가 판단되고, 상기 판단의 결과가 긍정적일 때에는 당해 프리 처리가 생략된다. 당해 생략은 프리 처리에 요하는 시간의 극단적인 저감이라고 할 수 있다.

처리액 (DHF) 에 대해 생각하면, 제 2 처리는 토출 (P(1)) 을 포함한다. 이 때 토출 레시피 (Pr31) 에 의해 설정되는 프리 처리의 필요 여부가 판단되고, 상기 판단의 결과가 긍정적일 때에는 당해 프리 처리가 생략된다. 당해 생략은 프리 레시피 (Pr3) 에 의해 설정되는 프리 처리에 요하는 시간의 저감이라고 할 수 있다.

단, 제 1 약액으로서 처리액 (SC1) 이 상정되었을 때, 실시형태에 있어서는 시각 (t10(25)) 에 있어서, 시각 (t12e(25)) 에서 시각 (t22s(1)) 까지의 기간이 추정되므로, 스텝 S57 을 사용하여 설명된 값 (R(2)) 이 이용된다. 처리액 (DHF) 이 상정되었을 때, 실시형태에 있어서는 시각 (t10(25)) 에 있어서, 시각 (t11e(25)) 에서 시각 (t31s(1)) 까지의 기간이 추정되므로, 스텝 S57 을 사용하여 설명된 값 (R(1)) 이 이용된다.

다르게 말하면, 플로 레시피는, N 장 (N 은 2 이상의 정수 : 실시형태에서는 정수 25) 의 기판 (W(1) ∼ W(N)) 의 각각에 대응하는 N 개의 제 1 처리를 포함한다. 기판 (W(1) ∼ W(N - 1)) 에 대한 제 1 처리가 종료되고, 기판 (W(N)) 에 대한 제 1 처리가 개시되는 시점에서, 당해 제 1 처리의 종료에서 제 2 처리의 개시까지의 기간이, 제 1 임계값보다 짧은지의 여부가 판단된다.

＜3. 변형＞

＜3-1. 제 1 변형＞

제 1 처리에 있어서의 제 1 약액의 토출이 종료되고 나서 제 2 처리에 있어서의 제 1 약액의 토출이 개시될 때까지의 기간이 제 1 임계값을 초과해도, 그 정도가 작다면 제 1 약액이 열화되는 정도도 낮은 것으로 생각된다. 이하, 제 1 임계값보다 긴 제 2 임계값을 도입한 설명이 실시된다.

실시형태에 의거하여 말하면, 시각 (t12e(25)) 에서 시각 (t22s(1)) 까지의 기간이, 토출 (P(2)) 이 실시되지 않는 상태의 지속이 허가되는 기간을 시간 δ2 (＞ 0) 만큼 초과하는 것으로 추정되는 경우, 시간 δ2 가 작으면, 처리액 (SC1) 의 열화는 작은 것으로 생각된다. 따라서 제 2 임계값을, 토출 (P(2)) 에 대한 제 1 임계값보다 크게 설정하여, 토출 레시피 (Pr12) 에 의해 설정되는 프리 동작의 시간을 저감시켜도 된다.

혹은 시각 (t11e(25)) 에서 시각 (t31s(1)) 까지의 기간이, 토출 (P(1)) 이 실시되지 않는 상태의 지속이 허가되는 기간을 시간 δ1 (＞ 0) 만큼 초과하는 것으로 추정되는 경우, 시간 δ1 이 작으면, 처리액 (DHF) 의 열화는 작은 것으로 생각된다. 따라서 제 2 임계값을, 토출 (P(1)) 에 대한 제 1 임계값보다 크게 설정하여, 토출 레시피 (Pr31) 에 의해 설정되는 프리 동작의 시간을 저감시켜도 된다.

이와 같은 프리 동작의 시간의 저감은, 기판 처리에 필요한 기간의 단축에 기여한다. 이와 같은 프리 동작의 시간의 저감은, 예를 들어 스텝 S6 이 실행될 때, 본체 제어 유닛 (22) 및 액 관리 제어 유닛 (24) 에 의해 각 부의 동작이 제어됨으로써 실현된다.

＜3-2. 제 2 변형＞

제 1 처리에 있어서의 제 1 약액의 토출이 종료되고 나서 제 2 처리에 있어서의 제 1 약액의 토출이 개시될 때까지의 기간이 제 1 임계값을 초과하고, 그 정도가 크다면 제 1 약액이 열화되는 정도도 큰 것으로 생각된다. 이하, 제 2 임계값보다 긴 제 3 임계값을 도입한 설명이 실시된다.

시각 (t12e(25)) 에서 시각 (t22s(1)) 까지의 기간이, 토출 (P(3)) 이 실시되지 않는 상태의 지속이 허가되는 기간을 크게 초과하는 것으로 추정되는 경우, 처리액 (SC1) 의 열화도 큰 것으로 생각된다. 따라서 제 3 임계값을, 토출 (P(2)) 에 대한 제 2 임계값보다 크게 설정하여, 토출 레시피 (Pr12) 에 의해 설정되는 프리 동작의 시간을 증대시켜도 된다.

혹은 시각 (t11e(25)) 에서 시각 (t31s(1)) 까지의 기간이, 토출 (P(1)) 이 실시되지 않는 상태의 지속이 허가되는 기간을 크게 초과하는 것으로 추정되는 경우, 처리액 (DHF) 의 열화도 큰 것으로 생각된다. 따라서 제 3 임계값을, 토출 (P(1)) 에 대한 제 2 임계값보다 크게 설정하여, 토출 레시피 (Pr31) 에 의해 설정되는 프리 동작의 시간을 증대시켜도 된다.

이와 같은 프리 동작의 시간의 증대는, 제 1 약액의 열화가 제 2 처리에 주는 영향을 조금 저감시키는 것에 기여한다. 이와 같은 프리 동작의 시간의 증대는, 예를 들어 스텝 S6 이 실행될 때에, 본체 제어 유닛 (22) 및 액 관리 제어 유닛 (24) 에 의해 각 부의 동작이 제어됨으로써 실현된다.

＜3-3. 제 3 변형＞

제 1 약액의 토출이 종료되고 나서 제 1 약액의 토출이 재개되지 않고, 제 1 임계값보다 긴 제 4 임계값보다 긴 시간이 경과했을 때, 제 1 약액의 배출이 실행되어도 된다.

예를 들어 토출 레시피 (J12(25)) 가 종료되고 나서, 제 4 임계값보다 긴 시간이 경과해도 토출 (P(2)) 이 재개되지 않으면, 처리액 (SC1) 의 배출이 실시된다.

예를 들어 토출 레시피 (J11(25)) 가 종료되고 나서, 제 4 임계값보다 긴 시간이 경과해도 토출 (P(1)) 이 재개되지 않으면, 처리액 (DHF) 의 배출이 실시된다.

예를 들어 토출 레시피 (J33(25)) 가 종료되고 나서, 제 4 임계값보다 긴 시간이 경과해도 토출 (P(3)) 이 재개되지 않으면, 처리액 (IPA) 의 배출이 실시된다.

제 3 변형에 관련된 처리액의 배출은, 약액의 열화가 이후의 처리에 주는 영향을 저감시키는 효과를 높인다.

이번에 개시된 실시형태 및 변형은 예시로서, 이 기판 처리 방법은 상기 서술한 내용에만 한정되는 것은 아니다. 예를 들어 실시형태 및 변형의 각각의 전부 또는 일부를 적절히 조합하는 것이 가능하다.

DHF, IPA, SC1 : 처리액
J1, J2, J3 : 프로세스 레시피군
J1(1) ∼ J1(25), J1(k), J2(1) ∼ J2(25), J2(k), J3(1) ∼ J3(25), J3(k) : 프로세스 레시피
J11(1) ∼ J11(25), J11(k), J12(1) ∼ J12(25), J12(k), J22(1) ∼ J22(25), J22(k), J31(1) ∼ J31(25), J31(k), J33(1) ∼ J33(25), J33(k), Pr11, Pr12, Pr31, Pr33 : 토출 레시피
M : 카운트값
M0 : 소정값
P(1), P(2), P(3) : 토출
S1, S2, S3, S4, S5, S6, S50, S51, S52, S53, S54, S55, S56, S57, S58, S59 : 스텝
W : 기판
t11e(24), t12s(24), t12e(24), t10(25), t11s(25), t11e(25), t12s(25), t12e(25), t2s, t2e, t22s(1), t22e(1), t22s(24), t22e(24), t20(25), t22s(25), t22e(25), tr31s, tr31e, tr33s, tr33e, t31s(1), t31e(1), t33s(1), t33e(1) : 시각

Claims (6)

1. 기판에 대해 실행되는 제 1 처리의 내용을 설정하는 제 1 프로세스 레시피와,
   상기 기판에 대해 상기 제 1 처리 후에 실행되는 제 2 처리의 내용을 설정하는 제 2 프로세스 레시피와,
   상기 제 2 프로세스 레시피에 대한 예비 동작의 내용을 설정하는 프리 레시피를 포함하는 플로 레시피가 미리 설정된 기판 처리 방법으로서,
   상기 제 1 처리는 상기 기판에 대한 제 1 약액의 토출을 포함하고,
   상기 제 2 처리는 상기 기판에 대한 상기 제 1 약액의 토출을 포함하고,
   상기 예비 동작은 상기 제 1 약액의 배출을 포함하고,
   상기 제 1 처리를 실행하는 공정과,
   상기 제 1 처리의 종료에서 상기 제 2 처리의 개시까지의 기간이 제 1 임계값보다 짧은지의 여부의 판단을 실시하는 공정과,
   상기 판단의 결과가 긍정적이면, 상기 예비 동작의 시간을 저감시켜, 상기 제 2 처리를 실행하는 공정을 구비하는, 기판 처리 방법.
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 제 1 처리에 있어서의 상기 제 1 약액의 상기 토출이 종료되고 나서, 상기 제 2 처리에 있어서의 상기 제 1 약액의 상기 토출이 개시될 때까지의 기간이, 상기 제 1 임계값보다 긴 제 2 임계값보다 짧고, 상기 제 1 임계값보다 길면, 상기 예비 동작의 시간이 저감되는, 기판 처리 방법.
3. 제 2 항에 있어서,
   상기 제 1 처리에 있어서의 상기 제 1 약액의 상기 토출이 종료되고 나서, 상기 제 2 처리에 있어서의 상기 제 1 약액의 상기 토출이 개시될 때까지의 기간이 상기 제 2 임계값보다 긴 제 3 임계값보다 길면, 상기 예비 동작의 시간이 증가되는, 기판 처리 방법.
4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 제 1 약액의 상기 토출이 종료되고 나서 상기 제 1 약액의 상기 토출이 재개되지 않고, 상기 제 1 임계값보다 긴 제 4 임계값보다 긴 시간이 경과하면, 상기 제 1 약액의 상기 배출이 실행되는, 기판 처리 방법.
5. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 플로 레시피는, N 장 (N 은 2 이상의 정수) 의 상기 기판의 각각에 대응하는 N 개의 상기 제 1 처리를 포함하고,
   제 1 내지 제 (N - 1) 상기 기판에 대한 상기 제 1 처리가 종료되고, 제 N 상기 기판에 대한 상기 제 1 처리가 개시되는 시점에서, 상기 제 N 상기 제 1 처리의 종료에서 상기 제 2 처리의 개시까지의 기간이 상기 제 1 임계값보다 짧은지의 여부가 판단되는, 기판 처리 방법.
6. 제 4 항에 있어서,
   상기 플로 레시피는, N 장 (N 은 2 이상의 정수) 의 상기 기판의 각각에 대응하는 N 개의 상기 제 1 처리를 포함하고,
   제 1 내지 제 (N - 1) 상기 기판에 대한 상기 제 1 처리가 종료되고, 제 N 상기 기판에 대한 상기 제 1 처리가 개시되는 시점에서, 상기 제 N 상기 제 1 처리의 종료에서 상기 제 2 처리의 개시까지의 기간이 상기 제 1 임계값보다 짧은지의 여부가 판단되는, 기판 처리 방법.

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