KR20220145583A - Rail cleaning device - Google Patents

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KR20220145583A
KR20220145583A KR1020210052335A KR20210052335A KR20220145583A KR 20220145583 A KR20220145583 A KR 20220145583A KR 1020210052335 A KR1020210052335 A KR 1020210052335A KR 20210052335 A KR20210052335 A KR 20210052335A KR 20220145583 A KR20220145583 A KR 20220145583A
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rail
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suction
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cable support
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KR1020210052335A
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Korean (ko)
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김수현
조태현
정지윤
전효주
박민수
장민구
신두현
정연부
이승준
하지현
백경담
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세메스 주식회사
삼성전자주식회사
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Abstract

Provided is a rail cleaning device that avoids interference with a structure by applying a suction structure that can move up and down. The rail cleaning device includes: a driving unit traveling along a rail extended in a first direction; a cable support installed on one side of the rail and fixing a cable for supplying power to the driving unit; and a cleaning unit installed on the driving unit and removing foreign substances generated from the cable support. The cleaning unit includes a suction part for sucking the foreign substances, and a height control part connected to the suction part and moving the position of the suction part in a second direction different from the first direction.

Description

레일 청소 장치{Rail cleaning device}Rail cleaning device

본 발명은 레일 청소 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a rail cleaning device.

일반적으로, 반도체 또는 디스플레이 장치는 실리콘 웨이퍼 또는 유리 기판과 같은 기판에 대하여 일련의 제조 공정들을 반복적으로 수행함으로써 제조될 수 있다. 예를 들면, 기판 상에 회로 패턴들을 형성하기 위하여 증착, 사진 식각, 산화, 이온 주입, 세정 등의 제조 공정들이 선택적 및/또는 반복적으로 수행될 수 있다. In general, a semiconductor or display device can be manufactured by repeatedly performing a series of manufacturing processes on a substrate such as a silicon wafer or a glass substrate. For example, manufacturing processes such as deposition, photolithography, oxidation, ion implantation, and cleaning may be selectively and/or repeatedly performed to form circuit patterns on a substrate.

이와 같은 제조 공정들은 오염 관리가 이루어지는 클린룸 내에서 수행될 수 있다. 이러한 제조 공정들 사이에서의 기판 이송은 복수개의 기판들이 수납된 캐리어 예를 들어, 풉(Front Opening Unified Pod, FOUP), 쉬핑 박스(Front Opening Shipping Box, FOSB) 등을 이용하여 공정을 처리하는 공정 설비로 기판을 제공하거나, 기판을 공정 설비로부터 회수한다. 이러한 캐리어는 일반적으로 물류 이송 장치(Overhead Hoist Transport, OHT)에 의해 이송될 수 있다. 다만, 물류 이송 장치가 레일 상에서 주행됨에 따라, 레일 상에 이물질이 발생될 수 있다. 이송 대상물의 원활한 이송을 위해 레일은 청소되어야 한다.Such manufacturing processes may be performed in a clean room where pollution control is performed. Substrate transfer between these manufacturing processes is a process of processing the process using a carrier in which a plurality of substrates are accommodated, for example, a Front Opening Unified Pod (FOUP), a Front Opening Shipping Box (FOSB), etc. Substrates are provided to the facility, or the substrates are retrieved from the process facility. Such a carrier may generally be transported by an overhead hoist transport (OHT). However, as the material transport device runs on the rail, foreign substances may be generated on the rail. The rail must be cleaned for smooth transfer of the object to be transferred.

일반적으로 레일 상의 이물질을 제거하기 위해서 별도의 레일 청소 장치가 이용될 수 있다. 레일 청소 장치는 물류 이송 장치가 주행하는 레일 상의 파티클(Particle) 등 이물질을 청소하는 유지보수용 보조 시스템이다. 레일 청소 장치는 반도체 클린룸 내에서 천장에 설치된 레일을 따라 이동하며, 레일 상의 이물질을 청소할 수 있다.In general, a separate rail cleaning device may be used to remove foreign substances on the rail. The rail cleaning device is an auxiliary system for maintenance that cleans foreign substances such as particles on the rail on which the logistics transport device travels. The rail cleaning device moves along the rail installed on the ceiling in the semiconductor clean room, and can clean foreign substances on the rail.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 상하 구동 가능한 흡입 구조를 적용하여 구조물과의 간섭을 회피하는 레일 청소 장치를 제공하는 것이다. The problem to be solved by the present invention is to provide a rail cleaning device that avoids interference with the structure by applying a suction structure that can be driven up and down.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems of the present invention are not limited to the problems mentioned above, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 과제를 달성하기 위한 본 발명의 레일 청소 장치의 일 면(aspect)은, 제1 방향으로 연장된 레일을 따라 주행하는 주행 유닛, 상기 레일의 일측에 설치되고, 상기 주행 유닛에 전원을 제공하기 위한 케이블을 고정하기 위한 케이블 서포트, 및 상기 주행 유닛에 설치되고, 상기 레일에서 발생되는 이물질을 제거하는 세정 유닛을 포함하고, 상기 세정 유닛은 상기 이물질을 흡입하는 흡입부와, 상기 흡입부와 연결되어 상기 흡입부의 위치를 상기 제1 방향과 다른 제2 방향으로 이동시키는 높이제어부를 포함할 수 있다.One aspect of the rail cleaning apparatus of the present invention for achieving the above object is a traveling unit traveling along a rail extending in a first direction, installed on one side of the rail, and providing power to the traveling unit a cable support for fixing a cable for It may include a height control unit for moving the position of the suction unit in a second direction different from the first direction.

상기 세정 유닛은, 상기 레일과 마주보고, 상기 레일에서 발생된 이물질을 흡입하는 추가 흡입부를 더 포함할 수 있다.The cleaning unit may further include an additional suction unit facing the rail and sucking foreign substances generated from the rail.

상기 흡입부는 이물질을 흡입하기 위한 적어도 하나의 흡입공이 설치되고, 상기 세정 유닛은 상기 흡입부 상에 상기 케이블 서포트를 향해 배치되며, 상기 적어도 하나의 흡입공의 주변을 적어도 일부를 둘러싸도록 설치된 브러쉬를 더 포함할 수 있다.The suction unit is provided with at least one suction hole for sucking foreign substances, the cleaning unit is disposed on the suction unit toward the cable support, and a brush installed to surround at least a part of the at least one suction hole. may include more.

비청소 모드시, 상기 흡입부의 흡입면과 상기 케이블 서포트의 상면은 제1 거리만큼 이격되고, 청소 모드시, 상기 흡입부의 흡입면과 상기 케이블 서포트의 상면은 상기 제1 거리보다 가까운 제2 거리만큼 이격될 수 있다.In the non-cleaning mode, the suction surface of the suction unit and the upper surface of the cable support are spaced apart by a first distance, and in the cleaning mode, the suction surface of the suction unit and the upper surface of the cable support are spaced apart by a second distance closer than the first distance can be spaced apart.

상기 세정 유닛은 상기 흡입부 상에 상기 케이블 서포트를 향해 배치된 브러쉬를 더 포함하고, 상기 청소 모드시, 상기 브러쉬는 상기 케이블 서포트와 접촉할 수 있다.The cleaning unit may further include a brush disposed toward the cable support on the suction unit, and in the cleaning mode, the brush may contact the cable support.

상기 높이제어부는 상기 흡입부와 연결된 피스톤을 상기 제2 방향으로 이동시키는 구동부와, 상기 흡입부의 상면에 설치되고, 상기 피스톤이 관통할 수 있도록 설치된 관통구를 포함하는 브라켓과, 상기 브라켓의 상면에 연결되고, 상기 가이드레일을 따라 이동하며 상기 흡입부의 이동경로를 가이드하는 가이드부를 포함할 수 있다.The height control unit includes: a drive unit for moving the piston connected to the suction unit in the second direction; It may include a guide part connected to, moving along the guide rail and guiding a movement path of the suction part.

상기 가이드레일은 상기 구동부의 일 측면에 설치될 수 있다.The guide rail may be installed on one side of the driving unit.

상기 가이드부는 상기 제2 방향으로 연장된 제1 면과, 상기 제1 면에서 절곡된 제2 면을 포함하고, 상기 제2 면은 상기 브라켓의 상면과 접촉할 수 있다.The guide part may include a first surface extending in the second direction and a second surface bent from the first surface, and the second surface may be in contact with an upper surface of the bracket.

반도체 소자를 제조하는 제조 라인이 설치된 실내 공간의 천장에 형성되고, 상기 천장에 설치되는 레일 지지부와, 상기 레일 지지부에 의해 지지되는 한 쌍의 레일을 구비하는 레일 어셈블리, 및 상기 레일을 따라 주행하는 레일 청소 장치를 포함하고, 상기 레일 청소 장치는, 제1 방향으로 연장된 레일을 따라 주행하는 주행 유닛과, 상기 주행 유닛에 설치되고, 상기 케이블 서포트에서 발생되는 이물질을 제거하는 세정 유닛을 포함하고, 상기 세정 유닛은, 상기 이물질을 흡입하는 흡입부와, 상기 흡입부와 연결되어 상기 흡입부의 위치를 상기 제1 방향과 다른 제2 방향으로 이동시키는 높이제어부를 포함할 수 있다.A rail assembly formed on a ceiling of an indoor space in which a manufacturing line for manufacturing a semiconductor device is installed, and having a rail support installed on the ceiling, and a pair of rails supported by the rail support, and traveling along the rail and a rail cleaning device, wherein the rail cleaning device includes a traveling unit traveling along a rail extending in a first direction, and a cleaning unit installed in the traveling unit and removing foreign substances generated from the cable support, , The cleaning unit may include a suction unit for sucking the foreign material, and a height control unit connected to the suction unit to move the position of the suction unit in a second direction different from the first direction.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.The details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

도 1 및 도 2는 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 레일 청소 장치를 설명하기 위한 예시적인 도면들이다.
도 3 내지 도 6은 도 2의 A를 확대하여 레일 청소 장치의 세정 유닛의 동작을 설명하기 위한 예시적인 도면들이다.
도 7은 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 레일 청소 장치를 설명하기 위한 도면이다.
도 8은 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 레일 청소 장치의 세정 유닛을 설명하기 위한 도면들이다.
도 9 및 도 10은 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 레일 청소 장치의 세정 유닛의 동작을 설명하기 위한 예시적인 도면들이다.1 and 2 are exemplary views for explaining a rail cleaning apparatus according to some embodiments of the present invention.
3 to 6 are exemplary views for explaining the operation of the cleaning unit of the rail cleaning apparatus by enlarging A of FIG. 2 .
7 is a view for explaining a rail cleaning apparatus according to some embodiments of the present invention.
8 is a view for explaining a cleaning unit of the rail cleaning apparatus according to some embodiments of the present invention.
9 and 10 are exemplary views for explaining the operation of the cleaning unit of the rail cleaning apparatus according to some embodiments of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 게시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 게시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Advantages and features of the present invention, and a method of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments published below, but may be implemented in various different forms, and only these embodiments allow the publication of the present invention to be complete, and common knowledge in the technical field to which the present invention pertains. It is provided to fully inform the possessor of the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout.

소자(elements) 또는 층이 다른 소자 또는 층의 "위(on)" 또는 "상(on)"으로 지칭되는 것은 다른 소자 또는 층의 바로 위뿐만 아니라 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 반면, 소자가 "직접 위(directly on)" 또는 "바로 위"로 지칭되는 것은 중간에 다른 소자 또는 층을 개재하지 않은 것을 나타낸다.Reference to an element or layer “on” or “on” another element or layer includes not only directly on the other element or layer, but also with intervening other layers or other elements. include all On the other hand, reference to an element "directly on" or "directly on" indicates that no intervening element or layer is interposed.

공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below)", "아래(beneath)", "하부(lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 소자를 뒤집을 경우, 다른 소자의 "아래(below)" 또는 "아래(beneath)"로 기술된 소자는 다른 소자의 "위(above)"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "아래"는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 소자는 다른 방향으로도 배향될 수 있고, 이에 따라 공간적으로 상대적인 용어들은 배향에 따라 해석될 수 있다.Spatially relative terms "below", "beneath", "lower", "above", "upper", etc. It can be used to easily describe a correlation between an element or components and other elements or components. The spatially relative terms should be understood as terms including different orientations of the device during use or operation in addition to the orientation shown in the drawings. For example, when an element shown in the figures is turned over, an element described as "beneath" or "beneath" another element may be placed "above" the other element. Accordingly, the exemplary term “below” may include both directions below and above. The device may also be oriented in other orientations, and thus spatially relative terms may be interpreted according to orientation.

비록 제1, 제2 등이 다양한 소자, 구성요소 및/또는 섹션들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 소자, 구성요소 및/또는 섹션들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 소자, 구성요소 또는 섹션들을 다른 소자, 구성요소 또는 섹션들과 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 소자, 제1 구성요소 또는 제1 섹션은 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 소자, 제2 구성요소 또는 제2 섹션일 수도 있음은 물론이다.Although first, second, etc. are used to describe various elements, components, and/or sections, it should be understood that these elements, components, and/or sections are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one element, component, or sections from another. Accordingly, it goes without saying that the first element, the first element, or the first section mentioned below may be the second element, the second element, or the second section within the spirit of the present invention.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terminology used herein is for the purpose of describing the embodiments and is not intended to limit the present invention. In this specification, the singular also includes the plural, unless specifically stated otherwise in the phrase. As used herein, “comprises” and/or “comprising” refers to the presence of one or more other components, steps, operations and/or elements mentioned. or addition is not excluded.

다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms (including technical and scientific terms) used herein may be used with the meaning commonly understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. In addition, terms defined in a commonly used dictionary are not to be interpreted ideally or excessively unless clearly defined in particular.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어 도면 부호에 상관없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. A description will be omitted.

도 1 및 도 2는 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 레일 청소 장치를 설명하기 위한 예시적인 도면들이다. 도 3 내지 도 6은 도 2의 A를 확대하여 레일 청소 장치의 세정 유닛의 동작을 설명하기 위한 예시적인 도면들이다. 1 and 2 are exemplary views for explaining a rail cleaning apparatus according to some embodiments of the present invention. 3 to 6 are exemplary views for explaining the operation of the cleaning unit of the rail cleaning apparatus by enlarging A of FIG. 2 .

도 1 및 도 2를 참조하면, 레일 청소 시스템은 반도체 소자를 제조하는 제조 라인이 설치된 실내 공간의 천장에 형성되는 것일 수 있다. 레일 청소 시스템은 레일 어셈블리 및 레일 청소 장치를 포함할 수 있다.1 and 2 , the rail cleaning system may be formed on the ceiling of an indoor space in which a manufacturing line for manufacturing a semiconductor device is installed. The rail cleaning system may include a rail assembly and a rail cleaning device.

레일 어셈블리는 천장에 설치되는 레일 지지부(1300; 도 1에서는 레일 청소 장치를 명확히 표현하기 위해 도시되지 않음)와 레일 지지부(1300)에 의해 지지되는 한 쌍의 레일(1100)을 구비할 수 있다.레일 청소 장치는 한 쌍의 레일(1100)을 따라 주행할 수 있다.The rail assembly may include a rail support 1300 installed on the ceiling (not shown in FIG. 1 to clearly express the rail cleaning device) and a pair of rails 1100 supported by the rail support 1300 . The rail cleaning device may travel along a pair of rails 1100 .

레일 청소 장치는 클린룸의 천장에 설치된 레일(1100)을 따라 이동 가능하게 구성되는 주행 유닛(100) 및 주행 유닛(100)에 무선 전력 전송 방식으로 전원을 공급하기 위한 전원 공급 케이블(210)을 포함할 수 있다.The rail cleaning device includes a power supply cable 210 for supplying power to the traveling unit 100 and the traveling unit 100 configured to be movable along the rail 1100 installed on the ceiling of the clean room in a wireless power transmission method. may include

상기 레일(1100)의 측면에는 전원 공급 케이블(210)을 지지하기 위한 케이블 서포트(200)가 레일(1100)을 따라 배치될 수 있다. 케이블 서포트(200)에는 전원 공급 케이블(210)이 장착되는 케이블 장착 홈(220)이 구비될 수 있다. 전원 공급 케이블(210)은 주행 유닛(100)에 전원을 제공할 수 있다.On the side of the rail 1100 , a cable support 200 for supporting the power supply cable 210 may be disposed along the rail 1100 . The cable support 200 may be provided with a cable mounting groove 220 in which the power supply cable 210 is mounted. The power supply cable 210 may provide power to the driving unit 100 .

몇몇 실시예들에 따른 레일 청소 장치는 주행 유닛(100) 및 세정 유닛(300)을 포함할 수 있다.A rail cleaning apparatus according to some embodiments may include a traveling unit 100 and a cleaning unit 300 .

주행 유닛(100)은 제1 방향(X)으로 연장된 레일(1100)을 따라 주행될 수 있다. 주행 유닛(100)은 레일(1100) 상에 제2 방향(Y)으로 서로 이격 배치되는 제1 구동 휠(110) 및 제2 구동 휠(120)과, 제1 구동 휠(110) 및 제2 구동 휠(120)이 장착되는 구동 제어부(140)를 포함한다. The traveling unit 100 may travel along the rail 1100 extending in the first direction (X). The driving unit 100 includes a first driving wheel 110 and a second driving wheel 120 spaced apart from each other in a second direction Y on a rail 1100 , and a first driving wheel 110 and a second driving wheel 110 . and a driving control unit 140 on which the driving wheel 120 is mounted.

제1 구동 휠(110)은 제1 주행 휠(111) 및 제1 가이드 휠(112)을 포함한다. 제2 구동 휠(120)은 제2 주행 휠(121) 및 제2 가이드 휠(122)을 포함한다. 또한, 주행 유닛(100)은 분기 지점에서 주행 유닛(100)을 지지하고 안내하기 위한 보조 휠(130)을 구비할 수 있다.The first driving wheel 110 includes a first driving wheel 111 and a first guide wheel 112 . The second driving wheel 120 includes a second driving wheel 121 and a second guide wheel 122 . In addition, the traveling unit 100 may include an auxiliary wheel 130 for supporting and guiding the traveling unit 100 at a branch point.

구동 제어부(140)는 레일(1100)을 따라 이동하는 구동 휠(110, 120)을 제어할 수 있다. 구동 제어부(140)는 그 양측면을 통해 구동 휠(110, 120)과 결합할 수 있다.The driving controller 140 may control the driving wheels 110 and 120 moving along the rail 1100 . The driving control unit 140 may be coupled to the driving wheels 110 and 120 through both sides thereof.

도시되지는 않았지만, 보조 휠(130)의 위치 변경에 의하여 주행 유닛(100)의 주행 방향이 분기되고 주행 유닛(100)은 곡선부로 진입할 수 있다. 주행 유닛(100)이 레일의 곡선부로 진입하게 되면 주행 휠(111, 121)이 아닌 가이드 휠(112, 122)에 의해 주행 유닛(100)이 주행될 수 있다.Although not shown, the driving direction of the driving unit 100 may be branched by the position change of the auxiliary wheel 130 and the driving unit 100 may enter a curved portion. When the driving unit 100 enters the curved portion of the rail, the driving unit 100 may be driven by the guide wheels 112 and 122 instead of the driving wheels 111 and 121 .

보조 휠(130)은 주행 유닛(100)의 상면에 구비되며, 보조 레일(1200)과 접촉하여 회전한다. 보조 휠(130)이 보조 레일의 곡선부와 접촉하면, 레일의 분기 영역에서 보조 휠(130)이 분기 주행하거나, 레일의 합류 영역에서 주행 유닛(100)이 합류 주행할 수 있다. 보조 휠(130)이 보조 레일과 접촉하여 회전하므로, 주행 유닛(100)의 분기 영역이나 레일의 합류 영역에서 주행 유닛(100)의 주행 방향을 가이드할 수 있다.The auxiliary wheel 130 is provided on the upper surface of the driving unit 100 and rotates in contact with the auxiliary rail 1200 . When the auxiliary wheel 130 comes into contact with the curved portion of the auxiliary rail, the auxiliary wheel 130 may travel in a branching region of the rail or the driving unit 100 may travel in a merging region of the rail. Since the auxiliary wheel 130 rotates in contact with the auxiliary rail, it is possible to guide the traveling direction of the traveling unit 100 in the branching area of the traveling unit 100 or the merging area of the rails.

세정 유닛(300)은 주행 유닛(100)에 설치될 수 있다. 세정 유닛(300)은 케이블 서포트(200)에서 발생되는 이물질을 제거할 수 있다. The cleaning unit 300 may be installed in the driving unit 100 . The cleaning unit 300 may remove foreign substances generated from the cable support 200 .

도 1 내지 도 4를 참고하면, 세정 유닛(300)은 흡입부(310), 흡입 노즐(도 8의 313) 및 높이제어부(320)를 포함할 수 있다.1 to 4 , the cleaning unit 300 may include a suction unit 310 , a suction nozzle 313 in FIG. 8 , and a height control unit 320 .

흡입부(310)는 레일(1100) 상에 배치될 수 있다. 흡입부(310)는 높이제어부(320)와 연결될 수 있다. 흡입부(310)는 이물질을 흡입할 수 있다. The suction unit 310 may be disposed on the rail 1100 . The suction unit 310 may be connected to the height control unit 320 . The suction unit 310 may suction foreign substances.

흡입부(310)는 케이블 서포트(200)와 마주볼 수 있다. 흡입부(310)는 케이블 서포트 상의 이물질을 흡입할 수 있다. 흡입부(310)는 케이블 서포트 상에 배치될 수 있다. 흡입부(310)는 레일 청소 장치(2000)가 구동됨에 따라, 케이블 서포트의 상면을 따라 이동될 수 있다.The suction unit 310 may face the cable support 200 . The suction unit 310 may suction foreign substances on the cable support. The suction unit 310 may be disposed on the cable support. The suction unit 310 may be moved along the upper surface of the cable support as the rail cleaning device 2000 is driven.

흡입 노즐(313)은 흡입부(310)에 흡입력을 제공할 수 있다. 흡입부(310)는 흡입 노즐(313)과 연결되는 연결부(312)를 포함할 수 있다. 흡입부(310)는 연결부(312)를 통해 흡입 노즐(313)로부터 흡입력을 제공받을 수 있다.The suction nozzle 313 may provide suction force to the suction unit 310 . The suction unit 310 may include a connection unit 312 connected to the suction nozzle 313 . The suction unit 310 may receive suction force from the suction nozzle 313 through the connection unit 312 .

높이제어부(320)는 레일(1100) 상에 배치될 수 있다. 높이제어부(320)는 흡입부(310)와 연결되어 흡입부의 위치를 제1 방향(X) 및 제2 방향(Y)과 다른 제3 방향(Z)으로 이동시킬 수 있다. The height control unit 320 may be disposed on the rail 1100 . The height control unit 320 may be connected to the suction unit 310 to move the position of the suction unit in a third direction (Z) different from the first direction (X) and the second direction (Y).

높이제어부(320)는 구동부(321), 브라켓(도 9 및 도 10의 243) 및 가이드부(325)를 포함할 수 있다.The height control unit 320 may include a driving unit 321 , a bracket (243 in FIGS. 9 and 10 ) and a guide unit 325 .

구동부(321)는 제2 방향(Y)으로 연장될 수 있다. 구동부(321)는 피스톤(322)을 제2 방향(Y)으로 이동시킬 수 있다. 피스톤(322)은 제2 방향(Y)으로 왕복운동할 수 있다. 피스톤(322)은 흡입부(310)와 연결될 수 있다.The driving unit 321 may extend in the second direction (Y). The driving unit 321 may move the piston 322 in the second direction Y. The piston 322 may reciprocate in the second direction (Y). The piston 322 may be connected to the suction unit 310 .

브라켓(323)은 흡입부(310)의 상면에 설치될 수 있다. 브라켓(323)은 상면, 하면 및 상면과 하면을 연결하는 일측면을 포함할 수 있다. 예를 들어, 브라켓(323)은 ㄷ자 형상을 가질 수 있다.The bracket 323 may be installed on the upper surface of the suction unit 310 . The bracket 323 may include an upper surface, a lower surface, and one side connecting the upper surface and the lower surface. For example, the bracket 323 may have a U-shape.

브라켓(323)은 피스톤(322)이 관통할 수 있도록 설치된 관통구(324)를 포함할 수 있다. 관통구(324)는 브라켓(323)의 상면 및 하면에 설치될 수 있다.The bracket 323 may include a through hole 324 installed to allow the piston 322 to pass therethrough. The through hole 324 may be installed on the upper and lower surfaces of the bracket 323 .

브라켓(323)의 상면은 가이드부(325)와 연결될 수 있다. 브라켓(323)의 하면은 흡입부(310)와 연결될 수 있다. The upper surface of the bracket 323 may be connected to the guide part 325 . A lower surface of the bracket 323 may be connected to the suction unit 310 .

가이드부(325)는 흡입부(310)의 이동 경로를 가이드할 수 있다. 이를 위해, 가이드부(325)는 가이드레일(326)을 포함할 수 있다. 가이드부(325)는 가이드레일(326)을 따라 제2 방향(Y)으로 이동할 수 있다. 가이드부(325)가 제2 방향(Y)으로 이동함에 따라, 흡입부(310)의 이동 경로를 가이드할 수 있다.The guide unit 325 may guide the movement path of the suction unit 310 . To this end, the guide part 325 may include a guide rail 326 . The guide part 325 may move in the second direction Y along the guide rail 326 . As the guide unit 325 moves in the second direction Y, a movement path of the suction unit 310 may be guided.

가이드부(325)는 제2 방향(Y)으로 연장된 제1 면(F1)과 제1 면(F1)에서 절곡된 제2 면(F2)을 포함할 수 있다. 제2 면(F2)은 브라켓(323)의 상면과 접촉할 수 있다. 제1 면(F1)은 가이드레일(326)과 직접적으로 연결될 수 있다. 이에 따라, 가이드부(325)는 제2 방향(Y)으로 이동할 수 있다.The guide part 325 may include a first surface F1 extending in the second direction Y and a second surface F2 bent from the first surface F1. The second surface F2 may be in contact with the upper surface of the bracket 323 . The first surface F1 may be directly connected to the guide rail 326 . Accordingly, the guide part 325 may move in the second direction (Y).

가이드레일(326)은 구동부(321)의 일 측면에 설치될 수 있다.The guide rail 326 may be installed on one side of the driving unit 321 .

높이제어부(320)는 흡입부(310)와 케이블 서포트(200)와의 이격 거리를 제어할 수 있다. 높이제어부(320)는 흡입부(310)의 높이를 제어하는 역할일 수 있다. 높이제어부(320)는 흡입부(310)의 높이를 제어하여, 청소 모드가 아닐 경우 주행 간에 케이블 서포트(200) 상에 위치한 장애물과의 간섭을 회피하도록 할 수 있다.The height control unit 320 may control the separation distance between the suction unit 310 and the cable support 200 . The height control unit 320 may serve to control the height of the suction unit 310 . The height control unit 320 may control the height of the suction unit 310 to avoid interference with an obstacle located on the cable support 200 between driving when not in the cleaning mode.

참고적으로, 도 3 내지 도 6은 레일 청소 장치(2000)의 세정 유닛(300)을 확대하여 흡입부(310)의 동작을 구체적으로 설명하기 위해 도시한 도면들이다.For reference, FIGS. 3 to 6 are views illustrating in detail the operation of the suction unit 310 by enlarging the cleaning unit 300 of the rail cleaning apparatus 2000 .

도 3 내지 도 4를 참고하면, 흡입부(310)의 위치는 높이제어부(320)에 의해 제3 방향(Z)으로 이동될 수 있다.3 to 4 , the position of the suction unit 310 may be moved in the third direction Z by the height control unit 320 .

도 3에 도시된 바와 같이, 비청소 모드시, 흡입부의 흡입면(310S)과 케이블 서포트(200)의 상면은 제1 거리(D1)만큼 이격될 수 있다. 흡입부(310)는 케이블 서포트(200)에 접촉하지 않을 수 있다. 즉, 제1 거리(D1)는 흡입부(310)가 케이블 서포트(200)의 이물질을 흡입할 정도로 근접하지 않은 거리일 수 있다. 3 , in the non-cleaning mode, the suction surface 310S of the suction unit and the upper surface of the cable support 200 may be spaced apart by a first distance D1. The suction part 310 may not contact the cable support 200 . That is, the first distance D1 may be a distance that is not close enough to the suction unit 310 to suck the foreign material of the cable support 200 .

도 4에 도시된 바와 같이, 청소 모드시, 흡입부의 흡입면(310S)과 케이블 서포트(200)의 상면은 제1 거리(D1)보다 가까운 제2 거리(D2)만큼 이격될 수 있다. 흡입부(310)는 케이블 서포트(200)에 접촉할 수 있다. 즉, 제2 거리(D2)는 흡입부(310)가 케이블 서포트(200)의 이물질을 흡입할 정도로 근접한 거리일 수 있다.As shown in FIG. 4 , in the cleaning mode, the suction surface 310S of the suction part and the upper surface of the cable support 200 may be spaced apart by a second distance D2 closer than the first distance D1. The suction unit 310 may contact the cable support 200 . That is, the second distance D2 may be a distance close enough to the suction unit 310 to suck the foreign material of the cable support 200 .

도 5 및 6을 참고하면, 세정 유닛(300)은 브러쉬(330)를 더 포함할 수 있다. 브러쉬(330)는 케이블 서포트(200) 상의 이물질을 1차적으로 제거할 수 있다. 또한, 브러쉬(330)는 흡입부(310)가 케이블 서포트(200) 상의 이물질을 원활하게 흡입할 수 있도록 가이드할 수 있다.5 and 6 , the cleaning unit 300 may further include a brush 330 . The brush 330 may primarily remove foreign substances on the cable support 200 . In addition, the brush 330 may guide the suction unit 310 to smoothly suction the foreign material on the cable support 200 .

구체적으로, 도시되지는 않았지만, 흡입부(310)는 이물질을 흡입하기 위한 적어도 하나의 흡입공이 설치될 수 있다. 흡입공은 흡입부의 흡입면(310S)에 설치될 수 있다. 흡입공은 케이블 서포트(200)를 향해 배치될 수 있다. 이 때, 브러쉬(330)는 흡입부(310) 상에 케이블 서포트(200)를 향해 배치될 수 있다. 브러쉬(330)는 적어도 하나의 흡입공의 주변을 적어도 일부 둘러싸도록 설치될 수 있다.Specifically, although not shown, the suction unit 310 may be provided with at least one suction hole for sucking foreign substances. The suction hole may be installed on the suction surface 310S of the suction unit. The suction hole may be disposed toward the cable support 200 . In this case, the brush 330 may be disposed on the suction unit 310 toward the cable support 200 . The brush 330 may be installed to at least partially surround the periphery of the at least one suction hole.

브러쉬(330)는 흡입부(310) 상에 배치될 수 있다. 브러쉬(330)는 케이블 서포트(200)를 향해 배치될 수 있다. The brush 330 may be disposed on the suction unit 310 . The brush 330 may be disposed toward the cable support 200 .

청소 모드시, 브러쉬(330)는 케이블 서포트(200)와 접촉할 수 있다. 비청소 모드시, 브러쉬(330)는 케이블 서포트(200)와 접촉하지 않을 수 있다. In the cleaning mode, the brush 330 may contact the cable support 200 . In the non-cleaning mode, the brush 330 may not contact the cable support 200 .

도 7은 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 레일 청소 장치를 설명하기 위한 도면이다. 도 8은 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 레일 청소 장치의 세정 유닛을 설명하기 위한 도면들이다. 도 9 및 도 10은 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 레일 청소 장치의 세정 유닛의 동작을 설명하기 위한 예시적인 도면들이다.7 is a view for explaining a rail cleaning apparatus according to some embodiments of the present invention. 8 is a view for explaining a cleaning unit of the rail cleaning apparatus according to some embodiments of the present invention. 9 and 10 are exemplary views for explaining the operation of the cleaning unit of the rail cleaning apparatus according to some embodiments of the present invention.

참고적으로, 도 7 내지 도 8은 본 발명의 레일 청소 장치(2000)의 구체적인 실시예를 도시한 도면이다. 도 1 및 도 2를 이용하여 설명한 것과 중복되는 설명은 생략하거나 간략히 한다.For reference, Figures 7 to 8 are views showing a specific embodiment of the rail cleaning apparatus 2000 of the present invention. Descriptions overlapping those described with reference to FIGS. 1 and 2 will be omitted or simplified.

레일 청소 장치(2000)는 주행 유닛(100), 세정 유닛(300), 몸체부(400) 및 압력 조절 장치(500)를 포함할 수 있다.The rail cleaning apparatus 2000 may include a traveling unit 100 , a cleaning unit 300 , a body 400 , and a pressure adjusting device 500 .

주행 유닛(100)의 구동 제어부(140)는 레일(1100)을 따라 이동하는 주행 유닛(100)을 제어할 수 있다. 구동 제어부(140)는 그 양측면을 통해 주행 유닛(100)과 결합할 수 있다. 구동 제어부(140)는 하측면을 통해 몸체부(400)와 결합할 수 있다. 구동 제어부(140)는 몸체부(400)와 결합하여 몸체부(400)를 지지할 수 있다. 몸체부(400)는 구동 제어부(140)의 하부에 장착될 수 있다. The driving control unit 140 of the driving unit 100 may control the driving unit 100 moving along the rail 1100 . The driving control unit 140 may be coupled to the driving unit 100 through both sides thereof. The driving control unit 140 may be coupled to the body 400 through the lower side. The driving control unit 140 may be coupled to the body 400 to support the body 400 . The body 400 may be mounted on a lower portion of the driving control unit 140 .

압력 조절 장치(500)는 세정 유닛(300)의 흡입부(310)가 케이블 서포트(200) 상의 이물질을 흡입할 수 있도록 압력을 조절하는 역할을 한다. 흡입부(310)와 압력 조절 장치(500)를 연결하기 위해 흡입 노즐(313)이 몸체부(400) 상에 배치될 수 있다.The pressure adjusting device 500 serves to adjust the pressure so that the suction unit 310 of the cleaning unit 300 can suck the foreign material on the cable support 200 . A suction nozzle 313 may be disposed on the body 400 to connect the suction unit 310 and the pressure control device 500 .

도 8을 참고하면, 몇몇 실시예에 따른 레일 청소 장치(2000)의 세정 유닛(300)은 추가 흡입부(311)를 더 포함할 수 있다.Referring to FIG. 8 , the cleaning unit 300 of the rail cleaning apparatus 2000 according to some embodiments may further include an additional suction unit 311 .

추가 흡입부(311)는 레일(1100)과 마주볼 수 있다. 추가 흡입부(311)는 레일 청소 장치(2000)가 이동됨에 따라, 레일(1100)의 상면을 따라 이동될 수 있다.The additional suction part 311 may face the rail 1100 . The additional suction unit 311 may be moved along the upper surface of the rail 1100 as the rail cleaning device 2000 moves.

추가 흡입부(311)는 레일(1100)에서 발생된 이물질을 흡입할 수 있다. 추가 흡입부(311)는 레일(1100) 상의 이물질을 흡입할 수 있다.The additional suction unit 311 may suck foreign substances generated from the rail 1100 . The additional suction unit 311 may suction foreign substances on the rail 1100 .

추가 흡입부(311)는 흡입 노즐(313)과 연결되는 연결부를 포함할 수 있다. 추가 흡입부(311)는 연결부 및 흡입 노즐(313)을 통해 압력 조절 장치(500)로부터 흡입력을 제공받을 수 있다.The additional suction part 311 may include a connection part connected to the suction nozzle 313 . The additional suction unit 311 may receive suction force from the pressure control device 500 through the connection unit and the suction nozzle 313 .

참고적으로, 도 9 및 도 10은 도 7의 레일 청소 장치(2000)의 세정 유닛(300)을 확대하여 흡입부(310)의 동작을 구체적으로 설명하기 위해 도시한 도면이다. 도 3 내지 도 6을 이용하여 설명한 것과 중복되는 설명은 생략하거나 간략히 한다.For reference, FIGS. 9 and 10 are diagrams illustrating in detail the operation of the suction unit 310 by enlarging the cleaning unit 300 of the rail cleaning apparatus 2000 of FIG. 7 . Descriptions overlapping those described with reference to FIGS. 3 to 6 will be omitted or simplified.

도 9 및 도 10을 참고하면, 흡입부(310)의 위치는 높이제어부(320)에 의해 제3 방향(Z)으로 이동될 수 있다.9 and 10 , the position of the suction unit 310 may be moved in the third direction Z by the height control unit 320 .

비청소 모드시, 흡입부(310)는 제3 방향(Z)에 반대되는 방향으로 이동될 수 있다. 이에 따라, 흡입부(310)는 케이블 서포트(200)의 이물질을 흡입할 정도로 케이블 서포트(200)에 근접할 수 있다. In the non-cleaning mode, the suction unit 310 may move in a direction opposite to the third direction Z. Accordingly, the suction unit 310 may be close to the cable support 200 enough to suck the foreign material of the cable support 200 .

청소 모드시, 흡입부(310)는 제3 방향(Z)으로 이동될 수 있다. 이에 따라, 흡입부(310)는 케이블 서포트(200)의 이물질을 흡입하지 못할 정도로 케이블 서포트(200)와 이격될 수 있다.In the cleaning mode, the suction unit 310 may move in the third direction (Z). Accordingly, the suction unit 310 may be spaced apart from the cable support 200 to such an extent that foreign substances of the cable support 200 cannot be sucked.

이상과 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although the embodiments of the present invention have been described with reference to the above and the accompanying drawings, those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can practice the present invention in other specific forms without changing its technical spirit or essential features. You will understand that there is Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and not restrictive.

100: 주행 유닛 200: 케이블 서포트
300: 세정 유닛 310: 흡입부
320: 높이제어부 321: 구동부
322: 피스톤 323: 브라켓
325: 가이드부 326: 가이드레일
330: 브러쉬 400: 몸체부
500: 압력 조절 장치 1100: 레일
2000: 레일 청소 장치100: travel unit 200: cable support
300: cleaning unit 310: suction unit
320: height control unit 321: driving unit
322: piston 323: bracket
325: guide part 326: guide rail
330: brush 400: body portion
500: pressure regulator 1100: rail
2000: rail cleaning device

Claims (9)

제1 방향으로 연장된 레일을 따라 주행하는 주행 유닛;
상기 레일의 일측에 설치되고, 상기 주행 유닛에 전원을 제공하기 위한 케이블을 고정하기 위한 케이블 서포트; 및
상기 주행 유닛에 설치되고, 상기 케이블 서포트에서 발생되는 이물질을 제거하는 세정 유닛을 포함하고,
상기 세정 유닛은,
상기 이물질을 흡입하는 흡입부와,
상기 흡입부와 연결되어 상기 흡입부의 위치를 상기 제1 방향과 다른 제2 방향으로 이동시키는 높이제어부를 포함하는, 레일 청소 장치.a traveling unit traveling along a rail extending in a first direction;
a cable support installed on one side of the rail and configured to fix a cable for providing power to the traveling unit; and
and a cleaning unit installed on the traveling unit to remove foreign substances generated from the cable support,
The cleaning unit is
a suction unit for sucking the foreign material;
A rail cleaning device connected to the suction unit and including a height control unit configured to move the position of the suction unit in a second direction different from the first direction. 제1 항에 있어서,
상기 세정 유닛은,
상기 레일과 마주보고, 상기 레일에서 발생된 이물질을 흡입하는 추가 흡입부를 더 포함하는, 레일 청소 장치.The method of claim 1,
The cleaning unit is
Facing the rail, the rail cleaning device further comprising an additional suction unit for sucking the foreign matter generated in the rail. 제1 항에 있어서,
상기 흡입부는 이물질을 흡입하기 위한 적어도 하나의 흡입공이 설치되고,
상기 세정 유닛은 상기 흡입부 상에 상기 케이블 서포트를 향해 배치되며, 상기 적어도 하나의 흡입공의 주변을 적어도 일부 둘러싸도록 설치된 브러쉬를 더 포함하는, 레일 청소 장치.The method of claim 1,
The suction unit is provided with at least one suction hole for sucking foreign substances,
The cleaning unit is disposed toward the cable support on the suction unit, the rail cleaning apparatus further comprising a brush installed to at least partially surround the periphery of the at least one suction hole. 제1 항에 있어서,
비청소 모드시, 상기 흡입부의 흡입면과 상기 케이블 서포트의 상면은 제1 거리만큼 이격되고,
청소 모드시, 상기 흡입부의 흡입면과 상기 케이블 서포트의 상면은 상기 제1 거리보다 가까운 제2 거리만큼 이격되는 레일 청소 장치.The method of claim 1,
In the non-cleaning mode, the suction surface of the suction part and the upper surface of the cable support are spaced apart by a first distance,
In the cleaning mode, the suction surface of the suction unit and the upper surface of the cable support is a rail cleaning device that is spaced apart by a second distance closer than the first distance. 제4 항에 있어서,
상기 세정 유닛은 상기 흡입부 상에 상기 케이블 서포트를 향해 배치된 브러쉬를 더 포함하고,
상기 청소 모드시, 상기 브러쉬는 상기 케이블 서포트와 접촉하는 레일 청소 장치.5. The method of claim 4,
The cleaning unit further comprises a brush disposed toward the cable support on the suction unit,
In the cleaning mode, the brush is in contact with the cable support rail cleaning device. 제1 항에 있어서,
상기 높이제어부는,
상기 흡입부와 연결된 피스톤을 상기 제2 방향으로 이동시키는 구동부와,
상기 흡입부의 상면에 설치되고, 상기 피스톤이 관통할 수 있도록 설치된 관통구를 포함하는 브라켓과,
상기 브라켓의 상면에 연결되고, 상기 가이드레일을 따라 이동하여 상기 흡입부의 이동 경로를 가이드하는 가이드부를 포함하는, 레일 청소 장치.The method of claim 1,
The height control unit,
a driving unit for moving the piston connected to the suction unit in the second direction;
a bracket installed on the upper surface of the suction unit and including a through hole installed so that the piston can pass therethrough;
A rail cleaning device connected to the upper surface of the bracket and comprising a guide part for guiding a movement path of the suction part by moving along the guide rail. 제6 항에 있어서,
상기 가이드레일은 상기 구동부의 일 측면에 설치되는, 레일 청소 장치.7. The method of claim 6,
The guide rail is installed on one side of the driving unit, a rail cleaning device. 제7 항에 있어서,
상기 가이드부는 상기 제2 방향으로 연장된 제1 면과, 상기 제1 면에서 절곡된 제2 면을 포함하고,
상기 제2 면은 상기 브라켓의 상면과 접촉하는, 레일 청소 장치.8. The method of claim 7,
The guide part includes a first surface extending in the second direction, and a second surface bent from the first surface,
The second surface is in contact with the upper surface of the bracket, rail cleaning device. 반도체 소자를 제조하는 제조 라인이 설치된 실내 공간의 천장에 형성되고, 상기 천장에 설치되는 레일 지지부와, 상기 레일 지지부에 의해 지지되는 한 쌍의 레일을 구비하는 레일 어셈블리; 및
상기 레일을 따라 주행하는 레일 청소 장치를 포함하고,
상기 레일 청소 장치는,
제1 방향으로 연장된 레일을 따라 주행하는 주행 유닛과,
상기 주행 유닛에 설치되고, 상기 케이블 서포트에서 발생되는 이물질을 제거하는 세정 유닛을 포함하고,
상기 세정 유닛은,
상기 이물질을 흡입하는 흡입부와,
상기 흡입부와 연결되어 상기 흡입부의 위치를 상기 제1 방향과 다른 제2 방향으로 이동시키는 높이제어부를 포함하는, 레일 청소 시스템.a rail assembly formed on a ceiling of an indoor space in which a manufacturing line for manufacturing a semiconductor device is installed, the rail assembly including a rail support installed on the ceiling, and a pair of rails supported by the rail support; and
Comprising a rail cleaning device running along the rail,
The rail cleaning device,
A traveling unit traveling along the rail extending in the first direction;
and a cleaning unit installed on the traveling unit to remove foreign substances generated from the cable support,
The cleaning unit is
a suction unit for sucking the foreign material;
And a height control unit connected to the suction unit to move the position of the suction unit in a second direction different from the first direction, the rail cleaning system.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102621132B1 (en) * 2023-04-13 2024-01-04 권용현 clean hoist transfer with debris removal

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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