KR100731997B1 - Magnetic levitaing transfer equipment and workpiece processing system using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판을 자기력으로 비접촉 지지하여 반송하는 자기부상식 반송장치 및 그것을 사용한 기판 처리 설비에 관한 것으로, 자기부상식 반송장치는 트랜스퍼 챔버에 설치되고, 반송경로를 따라 배치되는 가이드 레일; 상기 트랜스퍼 챔버에 설치되고, 상기 가이드 레일에 자기적으로 비접촉 지지되어 상기 가이드 레일을 따라 이동이 가능하도록 설치되는 이동체; 상기 트랜스퍼 챔버의 외부에 설치되어 직선력을 발생하는 직선구동장치; 및 상기 직선구동장치에 의해 발생된 진선력을 자력에 의해 상기 이동체에 전달하는 전달수단을 포함할 수 있다. 상술한 구성의 반송장치는 자기부상으로 이송체가 가이드 레일에 부상된 채로 기판을 이송하기 때문에 청정도를 요구하는 챔버(클린룸)에서의 기판 이송에 적합하다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic levitation conveying apparatus for carrying and transporting a substrate in a non-contact manner with a magnetic force, and a magnetic levitation conveying apparatus comprising: a guide rail provided in a transfer chamber and disposed along a conveying path; A movable body installed in the transfer chamber and installed to be movable along the guide rail by being magnetically non-contacted with the guide rail; A linear driving device installed outside the transfer chamber to generate a linear force; And it may include a transmission means for transmitting the advance force generated by the linear drive device to the movable body by a magnetic force. The conveying apparatus of the above-described configuration is suitable for substrate transfer in a chamber (clean room) that requires cleanliness because the substrate transfers the substrate while the carrier is floating on the guide rail due to the magnetic levitation.

기판, 카세트, 공정챔버, 자기부상 Substrate, Cassette, Process Chamber, Magnetic Levitation

Description

자기부상 반송장치 및 그것을 사용한 기판 처리 시스템{MAGNETIC LEVITAING TRANSFER EQUIPMENT AND WORKPIECE PROCESSING SYSTEM USING THE SAME}Magnetic levitation conveying apparatus and substrate processing system using the same {MAGNETIC LEVITAING TRANSFER EQUIPMENT AND WORKPIECE PROCESSING SYSTEM USING THE SAME}

도 1은 본 발명의 기판 처리 설비를 개략적으로 보여주는 사시도이다. 1 is a perspective view schematically showing a substrate processing apparatus of the present invention.

도 2는 본 발명의 기판 처리 설비를 개략적으로 보여주는 평면도이다.2 is a plan view schematically showing a substrate processing apparatus of the present invention.

도 3은 본 발명의 기판 처리 설비를 개략적으로 보여주는 정단면도이다.3 is a front sectional view schematically showing the substrate processing equipment of the present invention.

도 4 내지 도 6은 기판이 자기부상식 반송 장치에서 서셉터로 인계되는 과정을 단계적으로 보여주는 도면들이다.4 to 6 are diagrams showing the process of taking over the substrate to the susceptor in the magnetic levitation conveying device.

도 7은 변형된 자기부상식 반송 장치를 보여주는 도면이다.7 is a view showing a modified magnetic levitation conveying device.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

102 : 인덱스 116 : 이송부102 index 116 transfer unit

110 : 공정처리부 112 : 트랜스퍼 챔버110: process unit 112: transfer chamber

116 : 공정챔버 120 : 서셉터116 process chamber 120 susceptor

130 : 자기부상식 반송 장치 150 : 구동부재130: magnetic levitation conveying device 150: drive member

본 발명은 기판 처리 설비에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는 기판을 자기 력으로 비접촉 지지하여 반송하는 자기부상식 반송장치 및 그것을 사용한 기판 처리 설비에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate processing apparatus, and more particularly, to a magnetic levitation conveying apparatus for carrying a substrate by non-contact support with magnetic force and a substrate processing apparatus using the same.

일반적으로 기판 처리 설비에서 사용되는 기판 이송 장치는 베이스에 제 1 아암이 회동 가능하게 연결되고, 제 1 아암에 대해 제 2 아암이 회동 가능하게 연결되며, 상기 제 2 아암의 끝단에는 핸들러(기판이 놓여지는 블레이드)가 회동 가능하게 연결되어 상호 상대적인 회동 운동을 하는 다관절 형태의 개구리 뒷다리형(frog-leg type)으로 이루어진다. 이러한 기판 이송 장치의 복잡함은 장치의 비효율성, 고비용화, 빈번한 고장으로 인한 유지보수 등에서 많은 문제점을 갖고 있다. 특히, 이러한 기판 이송 장치는 기판을 이송하는 과정에서 소음, 분진(파티클)등의 발생율이 매우 높아서 청정도를 요구하는 클린룸에서의 기판 이송 방식에 적합하지 않고, 청정도 유지를 위한 비용이 증가하는 문제들이 발생된다.In general, a substrate transfer apparatus used in a substrate processing facility has a first arm pivotably connected to a base, a second arm pivotably connected to a first arm, and a handler (substrate) at the end of the second arm. The blade to be placed is made of a frog-leg type frog, which is rotatably connected to each other so as to rotate relative to each other. The complexity of this substrate transfer device has many problems in terms of device inefficiency, high cost, and maintenance due to frequent failures. In particular, such a substrate transfer device has a very high incidence of noise, dust (particles), etc. in the process of transferring the substrate, which is not suitable for the substrate transfer method in a clean room requiring cleanliness, and the cost for maintaining the cleanliness is increased. Problems arise.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 그 목적은 높은 청정도를 요구하는 클린룸에서의 기판 이송에 적합하고, 작업효율을 높일 수 있는 자기부상식 반송 장치 및 그것을 사용한 기판 처리 설비를 제공하는데 있다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object thereof is to provide a magnetic levitation conveying apparatus suitable for substrate transfer in a clean room requiring high cleanliness, and to increase work efficiency, and a substrate processing equipment using the same. have.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 특징에 의하면, 트랜스퍼 챔버 내에서의 기판 반송을 위한 자기부상식 반송장치는 상기 트랜스퍼 챔버에 설치되고, 반송경로를 따라 배치되는 가이드 레일; 상기 트랜스퍼 챔버에 설치되고, 상기 가이드 레일에 자기적으로 비접촉 지지되어 상기 가이드 레일을 따라 이동이 가능 하도록 설치되는 이동체; 상기 트랜스퍼 챔버의 외부에 설치되어 직선력을 발생하는 직선구동장치; 및 상기 직선구동장치에 의해 발생된 진선력을 자력에 의해 상기 이동체에 전달하는 전달수단을 포함할 수 있다.According to one aspect of the present invention for achieving the above object, a magnetic levitation conveying device for conveying a substrate in a transfer chamber is provided in the transfer chamber, the guide rail disposed along a conveying path; A movable body installed in the transfer chamber and installed to be movable along the guide rail by being magnetically non-contacted with the guide rail; A linear driving device installed outside the transfer chamber to generate a linear force; And it may include a transmission means for transmitting the advance force generated by the linear drive device to the movable body by a magnetic force.

본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 전달수단은 상기 트랜스퍼 챔버의 외부 벽면에 인접하게 배치되어 상기 직선구동장치의 직선력에 의해 반송경로 방향으로 이동하는 제1전달부재; 및 상기 트랜스퍼 챔버 내부에서 상기 제1전달부재와 마주하도록 상기 이동체에 설치되는 그리고 상기 이동체와 함께 직선 이동 가능하게 설치되는 제2전달부재를 포함할 수 있다.According to one embodiment of the invention, the transmission means is disposed adjacent to the outer wall surface of the transfer chamber is a first transfer member moving in the direction of the transport path by the linear force of the linear drive device; And a second transfer member installed in the movable body so as to face the first transfer member within the transfer chamber and installed to be linearly movable with the movable body.

본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 직선구동장치는 모터와; 상기 모터에 의해 회전되는 볼스크류; 상기 제1전달부재와 연결되는 그리고 상기 볼스크류에 체결되어 상기 볼스크류의 회전에 의해 직선 이동되는 볼너트를 포함할 수 있다.According to one embodiment of the invention, the linear drive device and the motor; A ball screw rotated by the motor; And a ball nut connected to the first transfer member and fastened to the ball screw and linearly moved by the rotation of the ball screw.

본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 직선구동장치는 상기 반송경로 방향으로 작동되는 로드를 갖는 유압실린더를 포함하되; 상기 로드에는 상기 제1전달부재가 연결될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the linear drive device includes a hydraulic cylinder having a rod operated in the conveying path direction; The rod may be connected to the first transfer member.

본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 이동체는 상기 가이드 레일에 자기적으로 비접촉 지지되는 몸체부; 및 상기 몸체부에 설치되고 기판이 놓여지는 지지부를 포함할 수 있다.According to one embodiment of the invention, the movable body is a body portion which is magnetically non-contact support to the guide rail; And a support part installed on the body part and on which the substrate is placed.

본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 가이드 레일은 제1부상용 자성체를 갖는 그리고 서로 이격된 상태로 나란히 설치되되; 서로 마주보면 일측면에는 상기 몸체부가 위치되는 이동홈을 갖으며; 상기 이동체의 몸체부는 2개의 상기 가이드레일 에 형성된 이동홈에 각각 끼워지는 그리고 제2부상용 자성체가 설치된 양단부를 갖는 판형상으로 이루어질 수 있다.According to one embodiment of the invention, the guide rails are installed side by side with a first floating magnetic material and spaced apart from each other; When facing each other has a moving groove in which the body portion is located; The body portion of the movable body may be formed in a plate shape having both ends that are fitted in the movable grooves formed in the two guide rails, respectively, and the second floating magnetic body is installed.

본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 지지부는 제1챔버로부터 기판을 넘겨받기 위해 상기 제1챔버의 반송로봇이 진입할 수 있는 제1진입통로와, 제2챔버의 기판로딩부로 기판을 넘겨주기 위해 상기 제2챔버의 기판 로딩부의 리프트 핀들이 진입할 수 있는 제2진입통로를 갖을 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the support portion passes the substrate to the first entry passage through which the transport robot of the first chamber can enter and the substrate loading portion of the second chamber to receive the substrate from the first chamber. To this end, it may have a second entry path through which lift pins of the substrate loading part of the second chamber may enter.

본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 지지부는 상기 몸체부보다 높은 위치에서 기판의 가장자리를 지지하는 기판홀더를 더 포함하되; 상기 기판홀더는 기판 이송을 위해 이동하는 앞뒤에 일정 폭으로 개구부가 형성될 수 있다.According to one embodiment of the invention, the support portion further comprises a substrate holder for supporting the edge of the substrate at a position higher than the body portion; The substrate holder may have openings formed at a predetermined width before and after moving to transfer the substrate.

상술한 목적을 달성하기 위한 반도체 기판 처리 시스템은 기판이 놓여지는 적어도 하나의 서셉터를 갖는 공정챔버; 상기 공정챔버와 연결되는 트랜스퍼 챔버; 상기 트랜스퍼 챔버 내에 설치되며, 자기부상 방식으로 상기 공정챔버의 서셉터로 기판을 반송하는 자기부상식 반송 장치; 및 상기 트랜스퍼 챔버 밖에서 상기 기판 반송 장치로 기판을 주고받는 반송 아암을 포함하되; 상기 자기부상식 반송 장치는 가이드 레일과, 상기 가이드 레일상에서 자기적으로 부상된 상태에서 상기 가이드 레일을 따라 이동되는 이동체와, 상기 이동체에 추진력을 부여하기 위한 구동부재를 더 포함할 수 있다.A semiconductor substrate processing system for achieving the above object includes a process chamber having at least one susceptor on which a substrate is placed; A transfer chamber connected to the process chamber; A magnetic levitation conveying apparatus installed in the transfer chamber and conveying a substrate to a susceptor of the process chamber in a magnetic levitation manner; And a transfer arm for exchanging a substrate with the substrate transfer apparatus outside the transfer chamber; The magnetic levitation conveying apparatus may further include a guide rail, a movable body moving along the guide rail in a magnetically floating state on the guide rail, and a driving member for applying a driving force to the movable body.

본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 구동부재는 상기 이동체에 설치되는 제1자석; 상기 제1자석과 인력이 작용하도록 상기 트랜스퍼 챔버 외부에 위치되는 제2자석; 및 상기 제2자석을 기판 반송 방향으로 이동시키기 위한 직선구동장치를 포 함할 수 있다.According to one embodiment of the invention, the drive member is a first magnet installed in the movable body; A second magnet positioned outside the transfer chamber so that the first magnet and the attraction force act; And a linear driving device for moving the second magnet in the substrate conveyance direction.

본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 직선구동장치는 모터와; 상기 모터에 의해 회전되는 볼스크류; 상기 제1전달부재와 연결되는 그리고 상기 볼스크류에 체결되어 상기 볼스크류의 회전에 의해 직선 이동되는 볼너트를 포함할 수 있다.According to one embodiment of the invention, the linear drive device and the motor; A ball screw rotated by the motor; And a ball nut connected to the first transfer member and fastened to the ball screw and linearly moved by the rotation of the ball screw.

본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 직선구동장치는 상기 반송경로 방향으로 작동되는 로드를 갖는 유압실린더를 포함하되; 상기 로드에는 상기 제1전달부재가 연결될 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the linear drive device includes a hydraulic cylinder having a rod operated in the conveying path direction; The rod may be connected to the first transfer member.

본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 이동체는 상기 가이드 레일에 자기적으로 비접촉 지지되는 몸체부; 및 상기 몸체부에 설치되고 기판이 높여지는 지지부를 포함할 수 있다. According to one embodiment of the invention, the movable body is a body portion which is magnetically non-contact support to the guide rail; And it may include a support that is installed on the body portion and the substrate is raised.

본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 가이드 레일은 상기 트랜스퍼 챔버의 양측 벽면에 서로 나란히 설치되는 그리고 서로 마주보면 일측면에는 상기 몸체부가 위치되는 이동홈을 갖으며; 상기 이동체의 몸체부는 2개의 상기 가이드레일에 형성된 이동홈에 각각 끼워지는 양단부를 갖는 판형상으로 이루어질 수 있다.According to one embodiment of the invention, the guide rail is installed in parallel with each other on both side walls of the transfer chamber and facing each other has a moving groove in which the body portion is located; The body portion of the movable body may be formed in a plate shape having both ends that are fitted to each of the moving grooves formed in the two guide rails.

본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 지지부는 상기 기판을 넘겨받기 위해 상기 반송아암이 진입할 수 있는 제1진입통로와, 상기 공정챔버의 서셉터로 기판을 넘겨주기 위해 상기 서셉터의 리프트 핀들이 진입할 수 있는 제2진입통로를 갖을 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the support part includes a first entry path through which the carrier arm can enter to take over the substrate, and lift pins of the susceptor to pass the substrate to the susceptor of the process chamber. It may have a second entry path into which it can enter.

예컨대, 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어져서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이다. For example, embodiments of the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited by the embodiments described below. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art. Accordingly, the shape of the elements in the drawings and the like are exaggerated to emphasize a clearer description.

(실시예)(Example)

본 발명의 실시예를 첨부된 도면 도 1 내지 도 7에 의거하여 상세히 설명한다. 또, 상기 도면들에서 동일한 기능을 수행하는 구성 요소에 대해서는 동일한 참조 번호를 병기한다. An embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 7. In addition, in the drawings, the same reference numerals are denoted together for components that perform the same function.

본 발명의 기본적인 의도는 높은 청정도를 요구하는 클린룸에서의 기판 이송에 적합한 반송장치를 구비하는데 있다. 이를 달성하기 위하여 본 발명자는 기판을 지지하는 이송체를 자기부상 방식으로 부상시킨 상태에서 챔버 밖에 설치되는 직선구동장치를 사용하여 이송체를 이동시키는데 있다. The basic intention of the present invention is to provide a conveying apparatus suitable for transporting a substrate in a clean room requiring high cleanliness. In order to achieve this, the present inventors use a linear driving device installed outside the chamber in a state where the carrier supporting the substrate is floated in a magnetic levitation manner to move the carrier.

도 1 내지 도 3은 본 발명의 기판 처리 설비를 개략적으로 보여주는 사시도, 평면도 그리고 정단면도이다. 1 to 3 are a perspective view, a plan view and a front sectional view schematically showing the substrate processing equipment of the present invention.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 기판 처리 설비(100)는 전방에 인덱스(102)를 갖는다. 인덱스(102)에는 기판(w)들이 적재된 2개의 풉(FOUP;104)(일명 캐리어)이 안착되는 그리고 풉의 덮개를 개폐하는 풉 오프너(FOUP opener)를 포함한다. 상기 풉(104)은 생산을 위한 일반적인 로트(lot)용 캐리어로써, 물류 자동화 시스템(예를 들어 OHT, AGV, RGV 등)에 의하여 인덱스(102)에 안착된다. 이 인덱스(102)는 기판 이송에 필요한 공간을 갖는 이송부(106)에 연결되도록 설치된다. 1 to 3, the substrate processing facility 100 has an index 102 in front. The index 102 includes a FOUP opener on which two FOUPs 104 (also known as carriers) on which the substrates w are loaded are seated and which open and close the lids of the pools. The pull 104 is a common lot carrier for production, and is seated on the index 102 by a logistics automation system (eg OHT, AGV, RGV, etc.). This index 102 is provided to be connected to a transfer section 106 having a space required for substrate transfer.

이송부(106)는 설비 전방 단부 모듈(equipment front end module, EFEM)이라고 불리는 인터페이스로, 이송부에는 인덱스(102)에 안착된 2개의 풉(104) 및 공정처리부(110) 사이에서 기판을 이송하기 위해 동작할 수 있는 기판이송로봇(108)이 설치된다. 이 기판이송로봇(108)은 인덱스(102)와 공정처리부(110) 사이에서 기판을 이송시킨다. 즉, 이 기판이송로봇(108)은 인덱스(102)에 놓여진 2개의 풉(104)으부터 기판을 1회 동작에 2장씩 반출하여 공정처리부(110)로 각각 반입시킨다. 이송부(106)에 설치되는 기판이송로봇(108)은 통상적으로 반도체 제조 공정에서 사용되는 다양한 로봇들이 사용될 수 있다. The transfer unit 106 is an interface called an equipment front end module (EFEM) in which the transfer unit transfers the substrate between the two pulls 104 and the processing unit 110 seated at the index 102. A substrate transfer robot 108 that can operate is installed. The substrate transfer robot 108 transfers the substrate between the index 102 and the process processor 110. In other words, the substrate transfer robot 108 carries out two substrates in one operation from the two pulls 104 placed at the index 102 and carries them into the processing unit 110, respectively. The substrate transfer robot 108 installed in the transfer unit 106 may be a variety of robots that are typically used in the semiconductor manufacturing process.

도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 공정처리부(110)는 이송부(106) 후방에 배치된다. 공정처리부(110)는 트랜스퍼 챔버(112)와 공정챔버(116)로 이루어지는데, 트랜스퍼 챔버(112)는 이송부(106)에 인접하게 배치되고, 공정챔버(116)는 트랜스퍼 챔버(112) 후미에 연결 배치된다. 트랜스퍼 챔버(112) 전면에는 기판이 인입/인출되는 기판 출입구(114)를 갖으며, 기판 출입구(114)는 통상의 게이트 밸브(114a)에 의해 개폐된다. 게이트 밸브(114a)는 이송부(106)로부터 트랜스퍼 챔버(112)를 밀폐시켜서 트랜스퍼 챔버(112)가 진공화 될 수 있게 한다. 그리고 트랜스퍼 챔버(112)와 공정챔버(116)간에는 게이트 밸브(118a)에 의해 개폐되는 기판 출입구(118)를 갖는다. 이 게이트 밸브(118a)는 트랜스퍼 챔버(112)로부터 공정챔버(116)를 밀폐시켜서 공정챔버(116)의 방해 없이 트랜스퍼 챔버(112)가 대기압으로 통풍될 수 있게 한다. 통상적으로 트랜스퍼 챔버(112)는 두개 이상의 상이한 환경, 예를 들어 실온의 대기압 환경과 승온의 진공 환경 사이에서 완충 공간 역할 을 하며, 공정챔버(116)에서 공정처리하기 위한 기판(또는 공정챔버에서 공정처리된 기판)이 일시적으로 대기하게 된다. 1 to 3, the process processor 110 is disposed behind the transfer unit 106. The process processor 110 includes a transfer chamber 112 and a process chamber 116. The transfer chamber 112 is disposed adjacent to the transfer unit 106, and the process chamber 116 is connected to the rear of the transfer chamber 112. Is placed. The front surface of the transfer chamber 112 has a substrate inlet / outlet 114 through which the substrate is drawn in / out, and the substrate inlet / outlet 114 is opened and closed by a normal gate valve 114a. The gate valve 114a seals the transfer chamber 112 from the transfer part 106 so that the transfer chamber 112 can be evacuated. A substrate entrance 118 is opened and closed between the transfer chamber 112 and the process chamber 116 by the gate valve 118a. The gate valve 118a seals the process chamber 116 from the transfer chamber 112 so that the transfer chamber 112 can be vented to atmospheric pressure without obstruction of the process chamber 116. The transfer chamber 112 typically serves as a buffer space between two or more different environments, for example an atmospheric pressure environment at room temperature and a vacuum environment at elevated temperatures, and may be used as a substrate (or in a process chamber) for processing in the process chamber 116. The processed substrate) is temporarily waiting.

공정챔버(116)에 배치된 2개의 서셉터(120)(일명 기판 척이라고도 불림)는 공정챔버(116) 내부에 소정거리 이격된 상태로 나란히 배치된다. 도시하지 않았지만, 서셉터(120)는 여러개의 기본 기능, 즉 기판을 자기부상식 반송 장치(130)로부터 인계받거나 인계하는 기능(통상적으로 서셉터에 설치되는 리프트 핀 어셈블리에 의해 이루어짐), 처리중에 기판을 유지하는 기능, 기판을 처리온도에 따라 기판에 균일한 열적 환경을 제공하는 기능 등을 갖는 것은 자명한 사실이다. Two susceptors 120 (also called substrate chucks) disposed in the process chamber 116 are arranged side by side at a predetermined distance from the inside of the process chamber 116. Although not shown, the susceptor 120 has several basic functions, that is, the function of taking over or taking over the substrate from the magnetically levitated conveying device 130 (typically by a lift pin assembly installed in the susceptor), during processing. It is obvious to have a function of holding the substrate, a function of providing the substrate with a uniform thermal environment depending on the processing temperature, and the like.

여기서 공정 챔버(116)는 다양한 기판 프로세싱 작동들을 수행하도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 공정 챔버는 포토 레지스트를 제거하기 위해서 플라즈마를 이용하여 포토레지스트를 제거하는 애싱(ashing) 챔버일 수 있고, 공정 챔버는 절연막을 증착시키도록 구성된 CVD 챔버일 수 있고, 공정 챔버는 인터커넥트 구조들을 형성하기 위해 절연막에 애퍼쳐(aperture)들이나 개구들을 에치하도록 구성된 에치 챔버일 수 있고, 공정 챔버는 장벽(barrier) 막을 증착시키도록 구성된 PVD 챔버일 수 있으며, 공정 챔버는 금속막을 증착시키도록 구성된 PVD 챔버일 수 있다. 집적 회로 또는 칩의 완전한 제조에 요구되는 모든 프로세스를 수행하기 위해 다수의 프로세싱 시스템들이 요구될 수 있다. The process chamber 116 here may be configured to perform various substrate processing operations. For example, the process chamber may be an ashing chamber that removes the photoresist using plasma to remove the photoresist, the process chamber may be a CVD chamber configured to deposit an insulating film, and the process chamber may be interconnected. An etch chamber configured to etch apertures or openings in the insulating film to form structures, the process chamber may be a PVD chamber configured to deposit a barrier film, and the process chamber may be deposited to deposit a metal film. It may be a configured PVD chamber. Multiple processing systems may be required to perform all the processes required for complete fabrication of integrated circuits or chips.

한편, 트랜스퍼 챔버(112)에는 이송부(106)의 기판이송로봇(108)으로부터 인계 받은 기판을 공정챔버(116)내의 서셉터(120)상으로 인계하기 위한 특별한 구조의 자기부상식 반송 장치(130) 2개가 나란히 설치된다. On the other hand, the transfer chamber 112 is a magnetic levitation conveying device 130 having a special structure for taking over the substrate received from the substrate transfer robot 108 of the transfer unit 106 on the susceptor 120 in the process chamber 116 ) Two are installed side by side.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 자기부상식 반송 장치(130)는 이송부(106)의 기판이송로봇(108)에 의해 반송되어진 기판을 인계받아 공정챔버(116)의 서셉터(일명 기판 척이라고도 불림)(120)로 기판을 인계하는( 또는 공정챔버의 서셉터로부터 기판을 인계받아 이송부의 기판이송로봇으로 인계하는) 유닛이다. 1 to 3, the magnetically levitated conveying device 130 takes over a substrate conveyed by the substrate transport robot 108 of the conveyance unit 106, also known as a susceptor (aka substrate chuck) of the process chamber 116. It is a unit to take over the substrate (120) (or take over the substrate from the susceptor of the process chamber and take over to the substrate transfer robot of the transfer unit).

자기부상식 반송 장치(130)는 소음, 진동, 분진을 발생시키는 일 없이 기판이 놓여지는 지지부(일명 블레이드 또는 핸드 라고도 함)를 가이드 레일 상에서 완전 비접촉으로 주행시킬 수 있는 것으로, 반송경로를 따라 배치되는 가이드 레일(132)과, 가이드 레일(132)에 자기적으로 비접촉 지지되어 가이드 레일을 따라 이동이 가능하도록 설치되는 이동체(140) 그리고 이동체에 추진력을 부여하는 구동부재(150)를 포함한다.The magnetic levitation conveying device 130 is capable of driving a support part (also called a blade or a hand) on which a substrate is placed on the guide rail in a completely non-contact manner without generating noise, vibration, and dust, and is disposed along the conveying path. And a guide rail 132 to be magnetically non-contacted to the guide rail 132 and installed to be movable along the guide rail, and a driving member 150 to impart a driving force to the movable body.

가이드 레일(132)은 제1부상용 자성체(136)를 갖으며 트랜스퍼 챔버(112)의 양측면(112a)과 중앙에 위치된다. 이 가이드 레일(132)은 몸체부(142)의 일부가 위치되는 이동홈(133)을 갖으며, 제1부상용 자성체(136)는 이동홈(133)을 사이에 두고 위,아래에 설치된다. The guide rail 132 has a first floating magnetic material 136 and is positioned at both sides 112a of the transfer chamber 112. The guide rail 132 has a moving groove 133 in which a part of the body portion 142 is located, and the first magnetic material for lifting 136 is installed above and below with the moving groove 133 therebetween. .

이동체(140)는 판형상의 몸체부(142)와 지지부(146)로 나누어지는데, 몸체부(142)는 가이드 레일(132)에 자기적으로 비접촉 지지되는 부분이고, 지지부(146)는 기판(W)의 가장자리를 지지하는 기판홀더(147)를 갖는다. The movable body 140 is divided into a plate-shaped body portion 142 and a support portion 146. The body portion 142 is a portion that is magnetically non-contactedly supported by the guide rail 132, and the support portion 146 is a substrate (W). It has a substrate holder 147 supporting the edge of.

몸체부(142)는 가이드레일(132)에 형성된 이동홈(133)에 각각 위치되는 양단부를 갖는다. 이 양단부에는 제1부상용 자성체(136)와 마주하는 상면과 저면에 각각 제2부상용 자성체(144)가 설치된다. 이렇게, 제1,2부상용 자성체(136,144)가 이송체(140)의 양단부 위,아래에 2개씩 설치되어 이송체(140)를 자기적으로 부상시킴으로써, 이동체(140)가 부상되는 높낮이를 일정하게 유지시킬 수 있을 뿐만 아니라 좌우 흔들림 현상을 예방할 수 있는 이점이 있다. The body portion 142 has both ends positioned in the moving grooves 133 formed on the guide rails 132, respectively. At both ends, the second floating magnetic material 144 is provided on the upper and lower surfaces facing the first floating magnetic material 136, respectively. Thus, the first and second magnetic injuries 136 and 144 are installed on each of the upper and lower ends of the conveying body 140, respectively, so as to magnetically float the conveying body 140, the height of the moving body 140 is raised constant Not only can it be maintained, but there is an advantage that can prevent the left and right shake phenomenon.

이동체(140)는 제2부상용 자성체(144)와 가이드 레일(132)에 설치된 제1부상용 자성체(136)간의 흡인작용으로 이동체(140)의 하중을 거의 상쇄시켜 자기부상된 상태가 이루어지게 되는 것이다. 본 발명에서는 가이드 레일(132)에 설치된 제1부상용 자성체(136)가 이동체(140)의 제2부상용 자성체(144)를 끌어당기는 힘으로 부상하는 흡인식으로 설명하였으나 이는 하나의 실시예에 불과하며, 이동체(140)의 부상방식은 영구자석 반발방식, 상전도 흡인제어방식, 유도 반발방식과 같은 다양한 부상방식이 사용될 수 있다. The moving body 140 is substantially attracted by the suction action between the second floating magnetic material 144 and the first floating magnetic material 136 installed on the guide rail 132 so that the magnetic injured state is achieved. Will be. In the present invention, the first floating magnetic body 136 installed on the guide rail 132 has been described as a suction type in which the floating force to pull the second floating magnetic material 144 of the moving body 140, which is one embodiment Only, the floating method of the moving body 140 may be used a variety of floating methods such as permanent magnet repulsion method, phase conduction suction control method, induced repulsion method.

지지부(146)의 기판홀더(147)는 몸체부보다 높은 곳에 위치되며 앞뒤에 일정 폭(L)으로 개구부가 형성된 것을 특징으로 한다. 여기서 폭(L)은 기판이송로봇(108)의 블레이드 보다 넓어야 하며 또한, 서셉터의 리프트 핀들 보다 넓게 형성되어야지만 기판 인수/인계가 원활하게 이루어진다. 기판홀더(147)의 개구부는 기판을 넘겨받기 위해 기판이송로봇(108)의 블레이드가 진입할 수 있는 제1진입통로(147a)와, 공정챔버의 서셉터(120)로 기판을 넘겨주기 위해 서셉터(120)의 리프트 핀(122)들이 진입할 수 있는 제2진입통로(147b)를 갖는다. 만약, 이러한 제1,2진입통로를 갖는 기판홀더가 없다면 기판이송로봇이 이송체의 기판홀더에 기판을 인계하는 과정에서 기판홀더와 기판이송로봇 간의 충돌이 발생하거나, 이송체의 기판홀더가 리프트 핀들 상으로 기판을 인계하고 되돌아 올 때 리프트 핀과 충돌이 발생 할 수 있다. 예컨대, 지지부의 기판홀더는 기판 인수/인계시 간섭이 발생되지 않도록 기판 인계 위치 및 기판이송로봇의 블레이드의 형상에 따라 적합한 모양으로 제작될 수 있다. The substrate holder 147 of the support part 146 is positioned higher than the body part, and an opening is formed at a predetermined width L in front and rear. In this case, the width L should be wider than the blade of the substrate transfer robot 108 and should be wider than the lift pins of the susceptor, but the substrate takeover / takeover is smooth. The opening of the substrate holder 147 is a first entry passage 147a through which the blade of the substrate transfer robot 108 can enter to pass the substrate, and to pass the substrate to the susceptor 120 of the process chamber. The lift pins 122 of the acceptor 120 have a second entry path 147b into which they can enter. If there is no substrate holder having the first and second entry paths, a collision occurs between the substrate holder and the substrate transfer robot while the substrate transfer robot takes over the substrate holder of the transfer body, or the substrate holder of the transfer body is lifted. A collision with the lift pins can occur when the substrate is taken over and returned to the pins. For example, the substrate holder of the support may be manufactured in a suitable shape according to the position of the substrate takeover and the shape of the blade of the substrate transfer robot so that interference does not occur during substrate takeover / takeover.

한편, 이송체(140)는 구동부재의 추진력에 의해 트랜스퍼 챔버(112)내에서 대기하는 대기위치(도 4에 표시됨)와 공정챔버(116)의 서셉터(120)들의 상부위치(도 5에 표시됨) 사이에서 직선 운동하게 되면서 기판을 이송시킨다. On the other hand, the conveying body 140 is a standby position (shown in FIG. 4) waiting in the transfer chamber 112 by the driving force of the drive member and the upper position of the susceptors 120 of the process chamber 116 (FIG. 5). The substrate is transferred while linearly moving.

한편, 구동부재(150)는 직선력을 발생하는 직선구동장치(156)를 갖는다. 직선구동장치(156)는 트랜스퍼 챔버(112)의 외부 측면(112a)에 설치되며, 직선구동장치(156)에 의해 발생되는 진선력은 전달수단에 의해 이동체(140)로 전달되게 된다. On the other hand, the drive member 150 has a linear drive device 156 for generating a linear force. The linear driving device 156 is installed on the outer side 112a of the transfer chamber 112, and the linear force generated by the linear driving device 156 is transmitted to the moving body 140 by the transmission means.

전달수단은 제1전달부재인 제1자석(152)과 제2전달부재인 제2자석(154)을 포함한다. 좀 더 구체적으로 설명하면, 제1자석(152)은 이동홈(133)과 동일선상으로 트랜스퍼 챔버(112)의 외측 벽면(112a)에 직선 이동이 가능하도록 위치된다. 그리고 제2자석(154)은 몸체부(142)의 양단부 중에서 트랜스퍼 챔버(112)의 외측 벽면(112a)에 가까운 일단부에 제1자석(152)과 인력이 작용하도록 대향되게 설치된다. 특히, 제1자석(152)과 제2자석(154) 사이를 가로막고 있는 트랜스퍼 챔버(112)의 벽면(112a)은 제1자석(152)과 제2자석(154)간의 자력이 작용하도록 가능한 얇게 그리고 자력에 영향을 끼치지 않는 재질로 형성하는 것이 바람직하다. The transmission means includes a first magnet 152 that is a first transfer member and a second magnet 154 that is a second transfer member. In more detail, the first magnet 152 is positioned to be linearly movable on the outer wall surface 112a of the transfer chamber 112 in the same line as the moving groove 133. In addition, the second magnet 154 is installed to face the first magnet 152 and the attraction force at one end of the body portion 142 near the outer wall surface 112a of the transfer chamber 112. In particular, the wall surface 112a of the transfer chamber 112 blocking the first magnet 152 and the second magnet 154 is as thin as possible so that the magnetic force between the first magnet 152 and the second magnet 154 acts. And it is preferable to form a material that does not affect the magnetic force.

직선구동장치(156)는 모터(157), 모터(157)에 의해 회전되는 볼스크류(158) 그리고 제1자석(152)과 연결되는 볼너트(159) 그리고 볼너트의 직선 이동을 안내하는 가이드봉(160)을 포함한다. 볼너트(159)는 볼스크류(158)에 체결되어 볼스크류 (158)의 회전에 의해 직선 이동된다. The linear driving device 156 is a guide for guiding linear movement of the ball nut 159 and the ball nut 159 connected to the first magnet 152 and the ball screw 158 rotated by the motor 157. Rod 160. The ball nut 159 is fastened to the ball screw 158 and is linearly moved by the rotation of the ball screw 158.

이처럼, 본 발명의 실시예에서는 구동부재(150)의 직선구동장치(156)가 트랜스퍼 챔버(112)의 바깥에 설치됨으로써, 직선구동장치(156)의 유지보수에 따른 작업성이 현저하게 향상되며, 특히 동력 전달 과정에서 발생되는 파티클 등으로 인한 트랜스퍼 챔버(112)의 오염을 사전에 방지할 수 있는 이점이 있는 것이다. As such, in the exemplary embodiment of the present invention, since the linear driving device 156 of the driving member 150 is installed outside the transfer chamber 112, workability due to maintenance of the linear driving device 156 is remarkably improved. In particular, there is an advantage that can prevent in advance the contamination of the transfer chamber 112 due to particles generated during the power transmission process.

이처럼, 본 발명의 기판 처리 설비(100)에 적용된 자기부상식 반송 장치(130)는 기존의 복잡한 이송장치의 관절 부품을 제거함으로써 복잡성과 유지보수 비용 그리고 트랜스퍼 챔버(112)의 오염을 방지할 수 있다. As such, the magnetic levitation conveying device 130 applied to the substrate processing facility 100 of the present invention can prevent the complexity, maintenance cost, and contamination of the transfer chamber 112 by removing the joint parts of the existing complicated conveying device. have.

자기부상식 반송 장치(130)와 서셉터(120)간의 기판 이송 과정은 도 4 내지 도 6에서 자세히 보여주고 있다.The substrate transfer process between the magnetic levitation conveying device 130 and the susceptor 120 is shown in detail in FIGS. 4 to 6.

도 4 내지 도 6에는 기판이 자기부상식 반송 장치(130)에서 서셉터(120)로 인계되는 과정이 단계적으로 도시되어 있다. 4 to 6 illustrate a step-by-step process in which the substrate is turned over to the susceptor 120 in the magnetic levitation conveying device 130.

도면들에서 보여주는 바와 같이, 기판(w)은 이송부(106)의 기판이송로봇(108)에 의해 트랜스퍼 챔버(112)로 들어와 이송체(140)의 기판홀더(147)에 놓여진다(도 4) 이때, 기판이송로봇(108)의 블레이드는 기판홀더(147)의 제1진입통로(147a)로 빠져나가게 된다. 기판(w)은 이송체(140)의 기판홀더(147)에 올려진 상태에서 공정챔버(116)의 서셉터(120) 상부로 직선 이동된다(도 5). 이송체(140)의 이동은 직선구동장치(156)의 작동에 의해 제1자석(152)이 이동되고, 제1자석의 자력에 의해 제2자석(154)이 이동됨으로써 이루어진다. 한편, 이송체(140)의 기판홀더(147)가 서셉터(120) 상부에 위치되면, 리프트 핀들(122)이 상승하여 기판홀더 (147)로부터 기판(w)을 들어올리게 된다. 그 상태에서 이송체(140)는 트랜스퍼 챔버(112)의 대기 위치로 이동된다(도 6). 이때, 리프트 핀들(122)은 기판홀더(147)의 제2진입통로(147b)로 지나가게 됨으로, 리프트 핀들(122)과의 충돌은 발생되지 않는다. 이렇게 이송체(140)가 트랜스퍼 챔버(112)로 원위치되면, 리프트 핀들(122)이 하강하여 기판(w)을 서셉터(120) 표면에 올려놓게 된다. As shown in the figures, the substrate w enters the transfer chamber 112 by the substrate transfer robot 108 of the transfer unit 106 and is placed in the substrate holder 147 of the transfer body 140 (FIG. 4). At this time, the blade of the substrate transfer robot 108 is exited to the first entry passage 147a of the substrate holder 147. The substrate w is linearly moved above the susceptor 120 of the process chamber 116 in a state where the substrate w is placed on the substrate holder 147 of the transfer body 140 (FIG. 5). Movement of the conveying body 140 is performed by the first magnet 152 is moved by the operation of the linear drive device 156, the second magnet 154 is moved by the magnetic force of the first magnet. Meanwhile, when the substrate holder 147 of the transfer body 140 is positioned above the susceptor 120, the lift pins 122 are raised to lift the substrate w from the substrate holder 147. In that state, the conveyance body 140 is moved to the standby position of the transfer chamber 112 (FIG. 6). At this time, the lift pins 122 pass through the second entry passage 147b of the substrate holder 147, so that collision with the lift pins 122 does not occur. When the transfer body 140 is returned to the transfer chamber 112 in this manner, the lift pins 122 are lowered to place the substrate w on the susceptor 120 surface.

이와 같이, 본 발명의 기판 처리 설비(100)는 트랜스퍼 챔버(112) 내에 설치된 자기부상식 반송 장치(130)를 통해 트랜스퍼 챔버(112)와 공정챔버(116) 간의 기판 이송에 따른 소음, 진동, 분진을 예방하여, 트랜스퍼 챔버의 오염 및 유지 보수 비용을 최소화할 수 있는 각별한 효과를 갖는다. As described above, the substrate processing facility 100 of the present invention is a noise, vibration, and the like due to the transfer of the substrate between the transfer chamber 112 and the process chamber 116 through the magnetic levitation conveying device 130 installed in the transfer chamber 112 By preventing dust, it has a special effect to minimize the contamination and maintenance costs of the transfer chamber.

(자기부상식 반송 장치의 변형예)(Variation of Magnetic Flotation Type Transfer Device)

도 7은 변형된 자기부상식 반송 장치를 보여주는 도면이다.7 is a view showing a modified magnetic levitation conveying device.

도 7에 도시된 자기부상식 반송 장치(130a)는 도 1에 자기부상식 반송 장치(130)와 거의 동일한 구성과 기능을 갖는 가이드 레일(132)과 이동체(140) 그리고 구동부재 등을 갖으며, 이들에 대한 설명은 앞에서 상세하게 설명하였기에 본 실시예에서는 생략하기로 한다. The magnetic levitation conveying apparatus 130a shown in FIG. 7 has a guide rail 132, a movable body 140, a driving member, etc., which have substantially the same configuration and function as the magnetic levitation conveying apparatus 130 in FIG. Since the description thereof has been described in detail above, this embodiment will be omitted.

다만, 본 변형예에서는 직선력을 발생하는 직선구동장치(150a)가 실린더 장치로 이루어지는데 그 특징이 있다. 즉, 직선구동장치(150a)는 반송경로 방향으로 작동되는 로드(151a)를 갖는 유압실린더(151)를 포함한다. 로드(151a)에는 제1자석(152)이 연결된다. However, in the present modification, the linear drive device 150a for generating a linear force has a feature of a cylinder device. That is, the linear driving device 150a includes a hydraulic cylinder 151 having a rod 151a operated in the conveying path direction. The first magnet 152 is connected to the rod 151a.

본 발명에서는 이동체의 직선 이동을 위한 구성으로 볼스크류 방식 또는 실 린더 방식이 개시되었으나, 이러한 방식 이외에 직선 구동력을 제공할 수 있는 다양한 방식이 적용될 수 있음은 자명한 사실이다.In the present invention, a ball screw method or a cylinder method has been disclosed as a configuration for linear movement of the moving body, but it is obvious that various methods may be applied in addition to the method.

이상에서, 본 발명에 따른 기판 처리 설비의 구성 및 작용을 상기한 설명 및 도면에 따라 도시하였지만 이는 예를 들어 설명한 것에 불과하며 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.In the above, the configuration and operation of the substrate processing equipment according to the present invention has been shown in accordance with the above description and drawings, but this is merely an example, and various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Of course.

상술한 바와 같이, 본 발명의 기판 처리 설비는 자기부상으로 이송체가 가이드 레일에 부상된 상태로 기판을 이송하기 때문에 청정도를 요구하는 챔버(클린룸)에서의 기판 이송에 적합하고, 작업효율을 높일 수 있는 이점이 있다. As described above, the substrate processing equipment of the present invention is suitable for substrate transfer in a chamber (clean room) that requires cleanliness, because the substrate is transferred in a state where the carrier is floated on the guide rail due to magnetic levitation, thereby improving work efficiency. There is an advantage to this.

Claims (16)

트랜스퍼 챔버 내에서의 기판 반송을 위한 자기부상식 반송장치에 있어서:In a magnetic levitation conveying apparatus for conveying substrates in a transfer chamber: 상기 트랜스퍼 챔버(112)에 설치되고, 반송경로를 따라 배치되는 가이드 레일(132);A guide rail 132 installed in the transfer chamber 112 and disposed along a transport path; 상기 트랜스퍼 챔버에 설치되고, 상기 가이드 레일에 자기적으로 비접촉 지지되어 상기 가이드 레일을 따라 이동이 가능하도록 설치되는 이동체(140); A movable body 140 installed in the transfer chamber and installed to be movable along the guide rail by being magnetically non-contacted with the guide rail; 상기 트랜스퍼 챔버의 외부에 설치되어 직선력을 발생하는 직선구동장치(156); 및A linear driving device 156 installed outside the transfer chamber to generate a linear force; And 상기 직선구동장치에 의해 발생된 진선력을 자력에 의해 상기 이동체에 전달하는 전달수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 자기부상식 반송장치. And a transmission means for transmitting the straight line force generated by the linear drive device to the movable body by magnetic force. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 전달수단은 The delivery means 상기 트랜스퍼 챔버의 외부 벽면에 인접하게 배치되어 상기 직선구동장치의 직선력에 의해 반송경로 방향으로 이동하는 제1전달부재(152); 및 A first transfer member 152 disposed adjacent to an outer wall of the transfer chamber and moving in a conveying path direction by a linear force of the linear drive device; And 상기 트랜스퍼 챔버 내부에서 상기 제1전달부재와 마주하도록 상기 이동체에 설치되는 그리고 상기 이동체와 함께 직선 이동 가능하게 설치되는 제2전달부재(154)를 포함하는 것을 특징으로 하는 자기부상식 반송장치. And a second transfer member (154) installed in the movable body so as to face the first transfer member within the transfer chamber and installed to be linearly movable together with the movable body. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 직선구동장치는 The linear drive device 모터(157)와;A motor 157; 상기 모터에 의해 회전되는 볼스크류(158);A ball screw 158 rotated by the motor; 상기 제1전달부재와 연결되는 그리고 상기 볼스크류에 체결되어 상기 볼스크류의 회전에 의해 직선 이동되는 볼너트(159)를 포함하는 것을 특징으로 하는 자기부상식 반송장치. And a ball nut (159) connected to the first transfer member and fastened to the ball screw and linearly moved by the rotation of the ball screw. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 직선구동장치는The linear drive device 상기 반송경로 방향으로 작동되는 로드를 갖는 유압실린더(151)를 포함하되;A hydraulic cylinder 151 having a rod operated in the conveying path direction; 상기 로드에는 상기 제1전달부재가 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 자기부상식 반송장치. Maglev conveying apparatus, characterized in that the first transfer member is connected to the rod. 제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 2 to 4, 상기 이동체는 The moving body is 상기 가이드 레일에 자기적으로 비접촉 지지되는 몸체부(142); 및A body portion 142 which is magnetically contactlessly supported by the guide rail; And 상기 몸체부에 설치되고 기판이 놓여지는 지지부(146)를 포함하는 것을 특징으로 하는 자기부상식 반송장치.Maglev conveying apparatus, characterized in that it comprises a support portion 146 is installed on the body portion and the substrate is placed. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 가이드 레일은 제1부상용 자성체(136)를 갖는 그리고 서로 이격된 상태로 나란히 설치되되;The guide rails are installed side by side with the first floating magnetic material 136 and spaced apart from each other; 서로 마주보면 일측면에는 상기 몸체부가 위치되는 이동홈(133)을 갖으며;When facing each other has a moving groove 133 in which the body portion is located; 상기 이동체의 몸체부는 Body portion of the movable body 2개의 상기 가이드레일에 형성된 이동홈에 각각 끼워지는 그리고 제2부상용 자성체가 설치된 양단부를 갖는 판형상으로 이루어져, 상기 이동체의 양단이 상기 가이드레일에 의해 안정적으로 자기부상된 상태에서 이동이 가능한 것을 특징으로 하는 자기부상식 반송장치.It is made of a plate shape having both ends fitted to the moving grooves formed in the two guide rails and the second magnetic material for the second buoy, it is possible that both ends of the movable body can be moved in a state stably magnetically wound by the guide rail Maglev conveying device characterized in that. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 지지부는 The support portion 제1챔버로부터 기판을 넘겨받기 위해 상기 제1챔버의 반송로봇이 진입할 수 있는 제1진입통로(147a)와, 제2챔버의 기판로딩부로 기판을 넘겨주기 위해 상기 제2챔버의 기판 로딩부의 리프트 핀들이 진입할 수 있는 제2진입통(147b)로를 갖는 것을 특징으로 하는 자기부상식 반송장치.A first entry passage 147a through which the transfer robot of the first chamber can enter to take over the substrate from the first chamber, and a substrate loading portion of the second chamber to pass the substrate to the substrate loading portion of the second chamber; Maglev conveying apparatus, characterized in that it has a second entry cylinder (147b) path that the lift pins can enter. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 지지부는 The support portion 상기 몸체부보다 높은 위치에서 기판의 가장자리를 지지하는 기판홀더(147)를 더 포함하되;Further comprising a substrate holder (147) for supporting the edge of the substrate at a position higher than the body portion; 상기 기판홀더는 기판 이송을 위해 이동하는 앞뒤에 일정 폭으로 개구부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 자기부상식 반송장치.The substrate holder is a magnetic levitation conveying device, characterized in that the opening is formed in a predetermined width before and after moving for transporting the substrate. 삭제delete 반도체 기판 처리 시스템에 있어서,In a semiconductor substrate processing system, 기판이 놓여지는 적어도 하나의 서셉터를 갖는 공정챔버(116); 상기 공정챔버와 연결되는 트랜스퍼 챔버(112); 상기 트랜스퍼 챔버 내에 설치되며, 자기부상 방식으로 상기 공정챔버의 서셉터로 기판을 반송하는 자기부상식 반송 장치(130); 및 상기 트랜스퍼 챔버 밖에서 상기 기판 반송 장치로 기판을 주고받는 반송 아암을 포함하되;A process chamber 116 having at least one susceptor on which the substrate is placed; A transfer chamber 112 connected to the process chamber; A magnetic levitation conveying apparatus (130) installed in the transfer chamber and conveying a substrate to a susceptor of the process chamber in a magnetic levitation manner; And a transfer arm for exchanging a substrate with the substrate transfer apparatus outside the transfer chamber; 상기 자기부상식 반송 장치는:The magnetic levitation conveying device is: 가이드 레일(132)과; 상기 가이드 레일상에서 자기적으로 부상된 상태에서 상기 가이드 레일을 따라 이동되는 이동체(140)와; 상기 이동체에 설치되는 제1자석, 상기 제1자석(152)과 인력이 작용하도록 상기 트랜스퍼 챔버 외부에 위치되는 제2자석(154), 및 상기 제2자석을 기판 반송 방향으로 이동시키기 위한 직선구동장치(156)를 포함하여 상기 이동체에 추진력을 부여하기 위한 구동부재(150)를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 기판 처리 시스템.A guide rail 132; A movable body 140 that is moved along the guide rail in a magnetically floating state on the guide rail; The first magnet installed in the movable body, the second magnet 154 located outside the transfer chamber so that the attraction force with the first magnet 152, and a linear drive for moving the second magnet in the substrate transfer direction And a drive member (150) for imparting a thrust force to said moving body, including an apparatus (156). 제10항에 있어서,The method of claim 10, 상기 직선구동장치는 The linear drive device 모터(157)와;A motor 157; 상기 모터에 의해 회전되는 볼스크류(158);A ball screw 158 rotated by the motor; 상기 제1전달부재와 연결되는 그리고 상기 볼스크류에 체결되어 상기 볼스크류의 회전에 의해 직선 이동되는 볼너트(159)를 포함하는 것을 특징으로 하는 자기부상식 반송장치. And a ball nut (159) connected to the first transfer member and fastened to the ball screw and linearly moved by the rotation of the ball screw. 제10항에 있어서,The method of claim 10, 상기 직선구동장치는The linear drive device 상기 반송경로 방향으로 작동되는 로드를 갖는 유압실린더(151)를 포함하되;A hydraulic cylinder 151 having a rod operated in the conveying path direction; 상기 로드에는 상기 제1전달부재(152)가 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 자기부상식 반송장치. The first floating member 152 is connected to the rod, the magnetic levitation conveying apparatus, characterized in that. 제11항 또는 제12항에 있어서, The method according to claim 11 or 12, wherein 상기 이동체는 The moving body is 상기 가이드 레일에 자기적으로 비접촉 지지되는 몸체부(142); 및A body portion 142 which is magnetically contactlessly supported by the guide rail; And 상기 몸체부에 설치되고 기판이 높여지는 지지부(146)를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 기판 처리 시스템.And a support portion 146 installed on the body portion and having a substrate raised thereon. 제13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 가이드 레일은 The guide rail 상기 트랜스퍼 챔버의 양측 벽면에 서로 나란히 설치되는 그리고 서로 마주보면 일측면에는 상기 몸체부가 위치되는 이동홈(133)을 갖으며;Installed on both side walls of the transfer chamber side by side and facing each other has a moving groove 133 in which the body portion is located; 상기 이동체의 몸체부는 Body portion of the movable body 2개의 상기 가이드레일에 형성된 이동홈에 각각 끼워지는 양단부를 갖는 판형상으로 이루어져, 상기 이동체의 양단이 상기 가이드레일에 의해 안정적으로 자기부상된 상태에서 이동이 가능한 것을 특징으로 하는 반도체 기판 처리 시스템.A semiconductor substrate processing system comprising a plate shape having both end portions respectively fitted into moving grooves formed in the two guide rails, wherein both ends of the movable body are movable in a state in which magnetic levitation is stably caused by the guide rails. 제13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 지지부는 The support portion 상기 기판을 넘겨받기 위해 상기 반송아암이 진입할 수 있는 제1진입통로(147a)와, 상기 공정챔버의 서셉터로 기판을 넘겨주기 위해 상기 서셉터의 리프트 핀들이 진입할 수 있는 제2진입통로(147b)를 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 기판 처리 시스템.A first entry path 147a through which the carrier arm can enter to take over the substrate, and a second entry path through which lift pins of the susceptor can enter to pass the substrate to the susceptor of the process chamber; (147b), characterized in that the semiconductor substrate processing system. 제13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 지지부는 The support portion 상기 몸체부보다 높은 위치에서 기판의 가장자리를 지지하는 기판홀더(147)를 더 포함하되;Further comprising a substrate holder (147) for supporting the edge of the substrate at a position higher than the body portion; 상기 기판홀더는 기판 이송을 위해 이동하는 앞뒤에 일정 폭으로 개구부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 기판 처리 시스템.The substrate holder is a semiconductor substrate processing system, characterized in that the opening is formed in a predetermined width before and after moving for transporting the substrate.
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