KR20220140714A - 지문 인식 방법, 장치 및 전자기기 - Google Patents

Abstract

지문 인식 방법에 있어서, 샘플링 파라미터에 따라 제1 지문 이미지를 수집하는 단계; 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 기준 이미지에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하고, 상기 기준 이미지는 기준 광 환경에서 획득한 지문 이미지인 단계; 상기 수집 환경에 대응되는 프로세싱 파라미터에 따라 상기 제1 지문 이미지를 프로세싱하는 단계; 프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 따라 지문 인식을 진행하는 단계를 포함한다. 본 출원은 미리 저장된 기준 이미지를 통해 한 장의 지문 이미지만 수집하면 지문의 수집 환경을 판단할 수 있어, 지문 이미지와 수집 환경을 판단하는 시간을 절약하고, 지문 인식 효율을 효과적으로 향상시킨다.

Description

지문 인식 방법, 장치 및 전자기기

본 출원은 광학 지문 기술 분야에 관한 것으로, 더 구체적으로 지문 인식 방법, 장치 및 전자기기에 관한 것이다.

스마트기기의 지속적인 발전에 따라 언더 디스플레이 지문 인식 기술은 광범위하게 응용되고 있다. 언더 디스플레이 지문 인식 기술은 지문의 융선과 골의 광선에 대한 반사 능력의 상이함을 통해 이미징을 진행함으로써 지문 인식을 진행한다. 일반적으로 지문 인식의 결과는 외부 환경의 영향을 받게 된다. 예를 들면 단말기기가 광 조사가 비교적 강한 환경에 있게 되면 신호로 하여금 지문 기기의 측정 범위를 벗어나게 할 수 있어 효과적인 지문 이미지 데이터를 얻을 수 없게 된다. 따라서 외부 환경이 변화하는 상황에서 어떻게 지문 인식의 정확도를 향상할 지는 시급히 해결해야 할 문제이다.

본 출원의 실시예는 지문 인식 방법, 장치 및 전자기기를 제공하였고, 별도의 하드웨어의 증가 없이, 동시에 지문 인식의 동적 조절을 실현하였고, 지문 이미징 품질을 향상시켰다.

제1 방면으로 샘플링 파라미터에 따라 제1 지문 이미지를 수집하는 단계; 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 기준 이미지에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하고, 상기 기준 이미지는 기준 광 환경에서 획득한 지문 이미지인 단계; 상기 수집 환경에 대응되는 프로세싱 파라미터에 따라 상기 제1 지문 이미지를 프로세싱하는 단계; 프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 따라 지문 인식을 진행하는 단계를 포함하는, 지문 인식 방법을 제공한다.

이해할 것은, 상기 기준 이미지는 지문 이미지일 수 있고, 기준 광 환경에서의 손가락 누름을 모의한 아날로그 이미지일 수도 있다.

본 출원의 실시예의 기술방안에서 미리 저장된 기준 광 환경에서의 기준 이미지를 통해, 강광 센싱 유닛을 별도로 증가하지 않는 상황에서, 수집된 지문 이미지에서 추출한 수집 환경의 광선 특징과 미리 저장된 기준 이미지의 광선 특징을 비교 프로세싱을 진행하여, 상기 지문 이미지의 수집 환경을 판단하고, 수집 환경에 대응된 프로세싱 파라미터에 따라 상기 지문 이미지를 프로세싱한다. 기준 이미지를 미리 저장하였기에, 지문 인식 장치는 단지 한 장의 이미지만 수집하면 지문의 수집 환경의 신속한 판단을 실현할 수 있고, 지문 이미지 수집과 지문의 수집 환경을 판단하는 시간을 절약하고, 지문 수집 장치의 작업 효율을 향상시킨다.

가능한 실시방식에서 상기 수집 환경은, 상기 기준 광 환경 또는 비-기준 광 환경을 포함한다.

본 출원의 실시예의 기술방안에서 기준 광 환경은 광 강도가 0-1000Lux인 정상 광 환경을 포함하고, 비-기준 광 환경은 광 강도가 1000Lux 이상인 강광 환경을 포함한다.

가능한 실시방식에서 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 기준 이미지에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하는 단계는, 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 픽셀값의 차이값에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하는 단계를 포함한다.

가능한 실시방식에서 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하는 단계는, 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 경계 픽셀값의 변화 추세에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하는 단계를 포함한다.

본 출원의 실시예의 기술방안에서 지문 인식 장치는, 백라이트가 있는 상황과 백라이트가 없는 상황에서 각각 한 장의 이미지를 수집하고 비교하여 환경광을 결정하는 것으로 환경광에 따라 지문의 수집 환경을 판단할 필요가 없고, 수집된 지문 이미지와 기준 이미지의 특징을 직접 비교하면 수집 환경을 바로 판단할 수 있어서, 지문 이미지 수집과 수집 환경을 판단하는 단계를 간소화하고 지문 인식 장치의 작업 효율을 향상시킨다.

가능한 실시방식에서 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 픽셀값의 차이값에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하는 단계는, 상기 제1 지문 이미지의 복수 영역에서 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 제1 미리 설정된 평균수보다 큰 영역의 수량이 미리 설정된 영역의 수량보다 큰 경우, 상기 지문 이미지가 위치한 지문 인식 환경을 상기 비-기준 광 환경으로 결정하는 단계를 포함한다.

가능한 실시방식에서 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 픽셀값의 차이값에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하는 단계는, 상기 제1 지문 이미지의 복수 영역에서 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 제1 미리 설정된 평균수보다 큰 영역의 수량이 미리 설정된 영역의 수량 이하인 경우, 상기 지문 이미지가 위치한 지문 인식 환경을 상기 기준 광 환경으로 결정하는 단계를 포함한다.

이해할 것은, 영역에서 상기 픽셀값 차이값의 평균수는 제1 지문 이미지의 영역 중 제1 지문 이미지의 픽셀값과 기준 이미지의 대응 영역의 픽셀값의 차이값의 평균수이다. 즉 제1 지문 이미지의 영역의 픽셀값의 차이값의 평균수이다.

본 출원의 실시예의 기술방안은 수집된 지문 이미지를 복수의 영역으로 나누어 프로세싱을 진행하고, 상응하게 기준 이미지도 복수의 영역으로 나누어 지문 이미지의 복수의 영역과 비교하고, 지문 이미지를 서로 다른 영역으로 세분화하고, 각 영역의 각 픽셀과 대응되는 기준 이미지의 픽셀의 픽셀값의 차이값의 평균치를 통계하고, 영역 평균치가 제1 미리 설정된 평균수보다 큰 영역의 수량이 미리 설정된 영역의 수량보다 큰지 여부를 판단하여, 지문 이미지의 전체 상황을 더욱 전면적이고 합리적으로 판단할 수 있다.

이해할 것은, 상기 제1 미리 설정된 평균수는 각 상기 영역의 픽셀값의 차이값의 평균수를 판단하는 역치이고, 상기 영역의 수량과 양의 상관 관계를 이룬다.

가능한 실시방식에서 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 기준 이미지에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하는 단계는, 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 픽셀값의 차이값, 및 상기 제1 지문 이미지의 픽셀값에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하는 단계를 포함한다.

본 출원의 실시예의 기술 방안에서, 수집된 지문 이미지의 자체 픽셀 데이터와 지문 이미지와 기준 이미지의 비교 데이터의 2가지 파라미터의 결합을 통해, 수집 환경을 더욱 정확하게 판단할 수 있고, 수집 환경에 대한 지문 인식 장치의 판단 능력을 추가로 향상시킨다.

가능한 실시방식에서 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 픽셀값의 차이값 및 상기 제1 지문 이미지의 픽셀값에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하는 단계는, 상기 제1 지문 이미지 중 상기 픽셀값이 포화된 픽셀 수와 상기 제1 지문 이미지의 픽셀 수의 비율이 미리 설정된 비율보다 크고, 또한 상기 제1 지문 이미지 중 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 제1 미리 설정된 평균수보다 큰 영역의 수량이 미리 설정된 영역의 수량보다 큰 경우, 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 상기 비-기준 광 환경으로 결정하는 단계를 포함한다.

가능한 실시방식에서 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 픽셀값의 차이값 및 상기 제1 지문 이미지의 픽셀값에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하는 상기 단계는, 상기 제1 지문 이미지 중 상기 픽셀값이 포화된 픽셀 수와 상기 제1 지문 이미지의 픽셀 수의 비율이 미리 설정된 비율 이하이고, 및/또는 상기 제1 지문 이미지 중 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 제1 미리 설정된 평균수보다 큰 영역의 수량이 미리 설정된 영역의 수량 이하인 경우, 상기 지문 이미지가 위치한 지문 인식 환경을 상기 기준 광 환경으로 결정하는 단계를 포함한다.

가능한 실시방식에서 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 픽셀값의 차이값 및 상기 제1 지문 이미지의 픽셀값에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하는 단계는, 상기 제1 지문 이미지 중 상기 픽셀값이 포화된 픽셀 수와 상기 제1 지문 이미지의 픽셀 수의 비율이 미리 설정된 비율보다 크고, 또한 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 제2 미리 설정된 평균수보다 큰 경우, 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 상기 비-기준 광 환경으로 결정하는 단계를 포함한다.

가능한 실시방식에서 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 픽셀값의 차이값 및 상기 제1 지문 이미지의 픽셀값에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하는 단계는, 상기 제1 지문 이미지 중 상기 픽셀값이 포화된 픽셀 수와 상기 제1 지문 이미지의 픽셀 수의 비율이 미리 설정된 비율 이하이고, 및/또는 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 제2 미리 설정된 평균수 이하인 경우, 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 상기 기준 광 환경으로 결정하는 단계를 포함한다.

이해할 것은, 상기 제2 미리 설정된 평균수는 상기 지문 이미지와 상기 기준 이미지의 전체 이미지의 픽셀값의 차이값의 평균수를 판단하는 역치이고, 픽셀 수에 따라 설정할 수 있다.

본 출원의 실시예의 기술방안에서 지문 이미지 자체 픽셀 데이터를 유입한 상황에서, 지문 이미지와 기준 이미지에 대해 영역 구분을 하지 않고, 수집된 지문 이미지 중 픽셀값이 포화된 픽셀의 수가 전체 이미지 픽셀에서 차지하는 비율, 및 지문 이미지와 기준 이미지 전체 이미지의 각 픽셀의 픽셀값의 차이값의 평균수를 통계하는 것을 통해, 미리 설정된 비율 및 제2 미리 설정된 평균수와 비교하여, 단일 판단 조건만으로 판단을 진행하여 오차를 초래하는 것을 방지하고, 판단 프로세스를 간소화하고, 추가적으로 수집 환경에 대한 지문 제조 장치의 판단 능력을 최적화할 수 있다.

가능한 실시방식에서 상기 방법은, 상기 비-기준 광 환경에 따라 상기 샘플링 파라미터를 조절하는 단계를 더 포함한다.

본 출원의 실시예의 기술방안에서 비-기준 광 환경에서 지문 인식을 완성한 후 샘플링 파라미터에 대해 최적화 조절을 진행하여, 후속 샘플링은 조절 후의 샘플링 파라미터를 사용하게 하여, 비-기준 광 환경에서 샘플링 파라미터가 적합하지 않아 초래되는 지문 도형이 선명하지 않은 등 문제를 추가로 방지한다. 수집 환경에 대한 판단을 통해, 지문 이미지의 수집 파라미터를 동적으로 조절할 수 있고, 후속으로 수집된 지문 이미지로부터 더 효과적인 지문 정보를 획득할 수 있고 지문 인식 장치의 인식 성능을 향상시킬 수 있다.

가능한 실시방식에서 상기 방법은 프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 대응되는 인식 결과에 따라, 상기 제1 미리 설정된 평균수와 상기 미리 설정된 영역의 수량을 조절하는 단계를 더 포함한다.

가능한 실시방식에서, 상기 방법은 프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 대응되는 인식 결과에 따라, 상기 제2 미리 설정된 평균수와 상기 미리 설정된 비율을 조절하는 단계를 더 포함한다.

가능한 실시방식에서 상기 방법은 프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 대응되는 인식 결과에 따라 상기 제1 미리 설정된 평균수, 상기 미리 설정된 영역의 수량 및 상기 미리 설정된 비율을 조절하는 단계를 더 포함한다.

본 출원의 실시예의 기술방안에서 기준 광 환경에서 지문 인식을 진행한 후 대응되는 지문 인식 결과를 얻고, 지문 이미지 패턴이 선명하지 않아 인식이 성공하지 못한 경우, 피드백 메커니즘을 구비하고, 인식 결과에 따라 수집 환경의 판단 파라미터, 즉 상기 제1 미리 설정된 평균수, 상기 제2 미리 설정된 평균수, 상기 미리 설정된 영역의 수량 및 상기 미리 설정된 비율을 동적 조절할 수 있다. 인식 결과의 피드백을 통해 수집 환경의 판단 파라미터를 적응적으로 조절하여, 수집 환경 판단에 대한 지문 인식 장치의 정확성을 향상시킬 수 있고, 더 많은 지문 정보를 획득하도록, 지문 인식 장치가 대응되는 프로세싱 파라미터로 지문 이미지를 프로세싱하게 한다.

가능한 실시방식에서 상기 샘플링 파라미터는 노출 시간, 이득 파라미터 및 노출 영역을 포함한다.

가능한 실시방식에서 상기 비-기준 광 환경에 따라 상기 샘플링 파라미터를 조절하는 단계는, 상기 비-기준 광 환경에 따라 노출 시간을 감소하고, 및/또는 이득 파라미터를 감소하는 단계를 포함한다.

가능한 실시방식에서 프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 대응되는 인식 결과에 따라, 상기 제1 미리 설정된 평균수와 상기 미리 설정된 영역의 수량을 조절하는 단계는, 상기 제1 지문 이미지 인식이 성공하지 못한 경우, 상기 제1 미리 설정된 평균수 및/또는 상기 미리 설정된 영역의 수량을 하향 조절하는 단계를 포함한다.

가능한 실시방식에서 프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 대응되는 인식 결과에 따라, 상기 제2 미리 설정된 평균수와 상기 미리 설정된 비율을 조절하는 단계는, 상기 제1 지문 이미지 인식이 성공하지 못한 경우, 상기 제2 미리 설정된 평균수 및/또는 상기 미리 설정된 비율을 하향 조절하는 단계를 포함한다.

제2 방면으로, 샘플링 파라미터에 따라 제1 지문 이미지를 수집하는 광학 지문 센서; 및 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 기준 이미지에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하고, 상기 기준 이미지는 기준 광 환경에서 획득한 지문 이미지이고, 상기 수집 환경에 대응되는 프로세싱 파라미터에 따라 상기 제1 지문 이미지를 프로세싱하고, 프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 따라 지문 인식을 진행하는 프로세싱 유닛 포함하는, 지문 인식 장치를 제공한다.

가능한 실시방식에서 상기 수집 환경은 상기 기준 광 환경 또는 비-기준 광 환경을 포함한다.

가능한 실시방식에서 상기 프로세싱 유닛은, 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 픽셀값의 차이값에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정한다.

가능한 실시방식에서 상기 프로세싱 유닛은, 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 경계 픽셀값의 변화 추세에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정한다.

가능한 실시방식에서 상기 프로세싱 유닛은, 상기 제1 지문 이미지의 복수 영역에서 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 제1 미리 설정된 평균수보다 큰 영역의 수량이 미리 설정된 영역의 수량보다 큰 경우, 상기 지문 이미지가 위치한 지문 인식 환경을 상기 비-기준 광 환경으로 결정한다.

가능한 실시방식에서 상기 프로세싱 유닛은, 상기 제1 지문 이미지의 복수 영역에서 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 제1 미리 설정된 평균수보다 큰 영역의 수량이 미리 설정된 영역의 수량 이하인 경우, 상기 지문 이미지가 위치한 지문 인식 환경을 상기 기준 광 환경으로 결정한다.

가능한 실시방식에서 상기 프로세싱 유닛은, 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 픽셀값의 차이값 및 상기 제1 지문 이미지의 픽셀값에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정한다.

가능한 실시방식에서 상기 프로세싱 유닛은, 상기 제1 지문 이미지 중 상기 픽셀값이 포화된 픽셀 수와 상기 제1 지문 이미지의 픽셀 수의 비율이 미리 설정된 비율보다 크고, 또한 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 제2 미리 설정된 평균수보다 큰 경우, 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 상기 비-기준 광 환경으로 결정한다.

가능한 실시방식에서 상기 프로세싱 유닛은, 상기 제1 지문 이미지 중 상기 픽셀값이 포화된 픽셀 수와 상기 제1 지문 이미지의 픽셀 수의 비율이 미리 설정된 비율 이하이고, 및/또는 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 제2 미리 설정된 평균수 이하인 경우, 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 상기 기준 광 환경으로 결정한다.

가능한 실시방식에서 상기 프로세싱 유닛은 또한 상기 비-기준 광 환경에 따라 상기 샘플링 파라미터를 조절한다.

가능한 실시방식에서 상기 프로세싱 유닛은, 또한 프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 대응되는 인식 결과에 따라, 상기 제1 미리 설정된 평균수와 상기 미리 설정된 영역의 수량을 조절한다.

가능한 실시방식에서 상기 프로세싱 유닛은, 또한 프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 대응되는 인식 결과에 따라, 상기 제2 미리 설정된 평균수와 상기 미리 설정된 비율을 조절한다.

가능한 실시방식에서 상기 샘플링 파라미터는, 노출 시간, 이득 파라미터 및 노출 영역을 포함한다.

가능한 실시방식에서 상기 프로세싱 유닛은, 또한 상기 비-기준 광 환경에 따라 노출 시간을 감소하고, 및/또는 이득 파라미터를 감소한다.

가능한 실시방식에서 상기 제1 지문 이미지 인식이 성공하지 못한 경우, 상기 제1 미리 설정된 평균수 및/또는 상기 미리 설정된 영역의 수량을 하향 조절한다.

가능한 실시방식에서 상기 프로세싱 유닛은 또한 상기 제1 지문 이미지 인식이 성공하지 못한 경우, 상기 제2 미리 설정된 평균수 및/또는 상기 미리 설정된 비율을 하향 조절한다.

제3방면으로, 표시 화면 및 제2 방면 중 어느 하나의 가능한 실시방식 중의 지문 인식 장치를 포함하는 전자기기를 제공한다.

도 1a와 도 1b는 본 출원의 실시예를 적용할 수 있는 전자기기의 개략도이다.
도 2는 본 출원의 실시예의 지문 인식 방법의 개략적인 흐름도이다.
도 3은 본 출원의 실시예의 지문 이미지의 복수 영역의 개략도이다.
도 4는 본 출원의 실시예의 다른 지문 인식 방법의 개략적인 흐름도도이다.
도 5는 본 출원의 실시예의 또 하나의 지문 인식 방법의 개략적인 흐름도이다.
도 6은 본 출원의 실시예의 지문 인식 장치의 개략도이다.
도 7은 본 출원의 실시예의 전자기기의 개략도이다.

이하에서는 도면을 결합하여, 본 출원의 실시예 중의 기술방안을 설명한다.

이해해야 할 것은, 본 출원의 실시예는 광학 지문 시스템에 응용될 수 있고, 광학 지문 인식 시스템 및 광학 지문 이미징에 기초한 제품을 포함하나, 이에 한정되지 않으며, 본 출원의 실시예는 단지 광학 지문 시스템을 예시로 설명했을 뿐, 본 출원의 실시예를 한정하기 위한 것은 아니며, 본 출원의 실시예는 기타 광학 이미징 기술을 이용한 시스템 등에도 동일하게 적용될 수 있다.

일반적인 응용으로써, 본 출원의 실시예에 의해 제공되는 광학 지문 시스템은 스마트폰, 태블릿 PC 및 표시 화면이 구비된 기타 이동 단말기 또는 기타 전자기기에 응용될 수 있고, 보다 구체적으로, 상기 전자기기에서, 지문 인식 모듈은 구체적으로, 표시 화면 하방의 일부 영역 또는 전체 영역에 설치되어, 언더 디스플레이(Under-display 또는 Under-screen) 광학 지문 시스템을 형성할 수 있다. 또는, 상기 광학 지문 모듈은 전자기기의 표시 화면 내부에 부분적으로 또는 완전히 통합되어, 인 디스플레이(In-display 또는 In-screen) 광학 지문 시스템을 형성할 수도 있다.

언더 광학 지문 검출 기술은 기기 표시 어셈블리의 상단면에서 리턴하는 광선으로 지문 센싱 및 기타 센싱 조작을 진행한다. 상기 리턴하는 광선은 상기 상단면과 접촉하는 물체, 예를 들면 손가락의 정보를 캐리하고 , 상기 손가락에서 리턴한 광을 수집 및 검출하는 것을 통해 표시 화면 하방에 위치한 특정 광학 센서 모듈의 광학 지문 검출을 실현한다. 광학 센서 모듈의 디자인은 리턴한 광을 수집 및 검출하는 광학 소자를 적절하게 배치하는 것을 통해 기대하는 광학 이미징을 실현할 수 있다.

도 1a는 본 출원의 실시예의 전자기기의 평면 개략도이다. 상기 전자기기는 모바일 단말기(Mobile Terminal), 모바일 전화(Mobile Telephone), 사용자 기기(User Equipment, UE), 휴대폰(handset) 및 휴대용 기기(portable equipment)등을 포함할 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 도 1a에서 도시된 바와 같이, 전자기기(10)는 표시 화면(120)과 지문 인식 장치(130)를 포함한다. 그중, 지문 인식 장치(130)는 표시 화면(120) 하방의 일부 영역에 설치된다. 지문 인식 장치(130)는 광학 지문 센서를 포함하고, 상기 광학 지문 센서는 복수의 광학 센싱센싱 유닛(131)(픽셀, 센싱 픽셀, 픽셀 유닛 등으로 칭하기도 함)이 구비된 센싱 어레이(133)를 포함한다. 상기 센싱 어레이(133)가 위치한 영역 또는 그 센싱 영역은 지문 인식 장치(130)의 지문 인식 영역(103)이다. 도 1a에 도시된 바와 같이, 상기 지문 인식 영역(103)은 표시 화면(120)의 표시 영역 내에 위치한다. 대안적인 실시방식에서, 지문 인식 장치(130)는 다른 위치, 예를 들어 표시 화면(120)의 측면 또는 전자기기(10)의 가장자리의 비투과 영역에 설치될 수도 있으며, 광 경로 설계를 통해 표시 화면(120)의 적어도 일부 표시 영역에서 수신한 광 신호를 지문 인식 장치(130)로 가이드함으로써, 지문 인식 영역(103)이 실제로 표시 화면(120)의 표시 영역에 위치하도록 한다.

이해해야 할 것은, 지문 인식 영역(103)의 면적은 지문 인식 장치(130)의 센싱 어레이(133)의 면적과 다를 수 있고, 예컨대 렌즈 이미징의 광 경로 설계, 반사식 폴딩 광 경로 설계, 또는 기타 광선 수렴 또는 반사 등의 광 경로 설계를 통해, 지문 인식 장치(130)의 지문 인식 영역(103)의 면적이 지문 인식 장치(130)의 센싱 어레이(133)의 면적보다 크게 할 수 있다. 기타 대안적인 구현 방식에서, 예를 들어 광선 시준 방식에 의해 광 경로를 유도할 경우, 지문 인식 장치(130)의 지문 인식 영역(103)은 상기 지문 인식 장치(130)의 센싱 어레이(133)의 면적과 거의 일치하게 설계할 수도 있다.

따라서 사용자가 상기 전자기기(10)에 대해 잠금 해제 또는 기타 지문 인증을 해야 할 경우, 손가락으로 표시 화면(120)에 위치한 지문 인식 영역(103)을 누르기만 하면 지문 입력을 실현할 수 있다. 지문 검출은 화면 내에서 실현될 수 있으므로, 상기 구조를 사용한 전자기기(10)는 그 정면에 지문 버튼(예를 들면 홈 버튼)을 설치하기 위한 공간을 전문적으로 남겨둘 필요가 없어, 전체 화면 방안을 사용할 수 있다. 즉, 상기 표시 화면(120)의 표시 영역은 거의 전자기기(10)의 정면 전체로 확장될 수 있다.

이해해야 할 것은, 구체적인 구현에서, 상기 전자기기(10)는 투명 보호 커버를 더 포함할 수 있고, 상기 커버는 유리 커버 또는 사파이어 커버일 수 있고, 상기 표시 화면(120)의 상방에 위치하여 전자기기(10)의 정면을 커버한다. 따라서, 본 출원의 실시예에서, 손가락으로 상기 표시 화면(120)을 누른다고 하는 것은 실질적으로 표시 화면(120)의 상방의 커버를 누르거나 상기 커버의 보호층 표면을 덮어 가리는 것이다.

선택 가능하게, 도 1b에 도시된 바와 같이, 상기 표시 화면(120)은 자체 발광 표시 유닛을 가진 표시 화면을 이용할 수 있으며, 예를 들어, 표시 화면(120)은 유기 발광 다이오드(Organic Light-Emitting Diode, OLED) 표시 화면 또는 마이크로 발광 다이오드(Micro-LED) 표시 화면일 수 있다. OLED 표시 화면을 사용하는 것을 예로 들면, 지문 인식 장치(130)는 상기 OLED 표시 화면(120)의 상기 지문 인식 영역(103)에 위치한 표시부(즉 OLED광원)를 이용하여, 광학 지문 검출의 여기광원으로 할 수 있다. 손가락(140)으로 지문 인식 영역(103)을 누르면, 상기 표시 화면(120)은 지문 인식 영역(103) 상방의 손가락(140)으로 광(111)을 방출하고, 광(111)은 손가락(140)의 표면에서 반사가 일어나 반사광을 형성하거나 또는 상기 손가락(140)의 내부를 통해 산란되어 산란광을 형성하게 된다. 관련된 특허 출원에서, 설명의 편의를 위해, 상술한 반사광 및 산란광을 통칭하여 반사광이라고 한다. 지문의 융선(ridge)(141)과 골(valley)(142)은 광에 대한 반사능력이 상이하므로, 지문의 융선으로부터의 반사광(151) 및 지문의 골로부터의 반사광(152)은 상이한 광 강도를 가지며, 반사광은 광학 어셈블리를 통과한 후, 지문 인식 장치(130) 중의 센싱 어레이(133)에 의해 수신되어 상응한 전기 신호, 즉 지문 검출 신호로 전환된다. 상기 지문 검출 신호에 기초하여 지문 이미지 데이터를 얻을 수 있고, 지문 일치 검증을 추가로 진행하여, 상기 전자기기(10)에서 광학 지문 검출 기능을 실현할 수 있다.

선택 가능하게, 지문 인식 장치(130)는 내부 광원 또는 외부 광원을 사용하여 지문 검출을 진행하기 위한 광 신호를 제공할 수도 있다. 이러한 경우, 지문 인식 장치(130)는 액정 표시 화면 또는 기타 수동형 발광 표시 화면과 같은 비-자체 발광 표시 화면에 적용될 수 있다. 백라이트 모듈 및 액정 패널을 구비한 액정 표시 화면에 적용되는 것을 예로 들면, 액정 표시 화면의 언더 디스플레이 지문 검출을 지원하기 위해, 전자기기(10)의 광학 지문 시스템은 광학 지문 검출에 사용되는 여기광원을 더 포함할 수 있고, 상기 여기광원은 구체적으로 적외선 광원 또는 특정 파장의 비가시적 광원일 수 있으며, 액정 표시 화면의 백라이트 모듈의 하방에 설치되거나 또는 전자기기(10)의 보호커버 하방의 가장자리 영역에 설치될 수 있고, 지문 인식 장치(130)는 광 경로 안내를 통해 지문 검출 광이 지문 인식 장치(130)에 도달할 수 있도록 액정 패널 또는 보호커버의 가장자리 영역의 하방에 설치되거나, 또는, 지문 인식 장치(130)는 백라이트 모듈의 하방에 설치될 수도 있으며, 백라이트 모듈은 확산 시트, 밝기 향상 시트, 반사 시트와 같은 필름층에 대해 구멍을 내거나 또는 기타 광학 설계를 수행하여, 지문 검출 광이 액정 패널 및 백라이트 모듈을 투과하여 지문 인식 장치(130)에 도달하도록 허용한다. 지문 인식 장치(130)가 내부 광원 또는 외부 광원을 사용하여 지문 검출을 위한 광 신호를 제공할 경우, 검출 원리는 상술한 내용과 일치한다.

상기 전자기기(10)는 또한 회로판을 포함할 수 있고, 회로판은 지문 인식 장치(130)의 하방에 설치된다. 지문 인식 장치(130)는 뒷면 접착제를 통해 회로판 상에 접착될 수 있고, 용접 패드 및 금속와이어를 통해 회로판과 전기적으로 연결된다. 지문 인식 장치(130)는 회로판을 통해 기타 주변 회로 또는 전자기기(10)의 다른 소자와의 전기적인 연결 및 신호 전송을 실현할 수 있다. 예를 들면, 지문 인식 장치(130)는 회로판을 통해 전자기기(10)의 프로세싱 유닛의 제어신호를 수신할 수 있고, 또한 회로판을 통해 지문 인식 장치(130)로부터의 지문 검출 신호를 전자기기(10)의 프로세싱 유닛 또는 제어 유닛 등으로 출력할 수 있다.

실제 광학 지문 검출 과정에서 인식 대상 지문이 소재하는 광 환경에는 강도를 조절할 수 없는 환경광이 있기에 지문을 경과하여 반사된 반사광에 영향을 주게 되고, 환경광이 비교적 강한 경우, 광학 지문 센서 중 픽셀 유닛의 범위를 쉽게 벗어나게 되어, 지문 패턴 정보를 잃게 되고 지문 인식 장치의 인식 성능에 영향을 준다. 상기 강광 상황에 대해, 지문 센서에 강광 센싱 유닛을를 별도로 설치할 수 있고, 강광 센싱 유닛이 수신한 광 신호로 현재 강광 상황에 있는지 여부를 판단하고, 이로써 지문 인식 장치가 지문 정보를 수집할 시의 작업 조건 또는 지문 정보를 수집한 후의 이미징 조건 등을 조절하나, 별도로 증설한 강광 센싱 유닛은 지문 인식 장치의 원가를 증가시킨다. 그 밖에, 지문 인식 장치는 표시 화면이 발광 및 발광하지 않는 상황에서 각각 한 장의 지문 이미지를 수집할 수 있고, 두 장의 이미지의 지문의 선명도에 따라 강한 광 상황에 있는지를 판단하나, 이런 방안은 두 장의 이미지를 수집해야만 환경광의 강약 상황을 판단할 수 있어, 지문 인식 장치의 응답 속도가 비교적 느리다.

이에 감안하여, 본 출원의 실시예는 지문 인식 방법을 제기하였는바, 미리 저장된 정상 환경광 현장에서의 기준 이미지를 통해, 한 장의 이미지만 수집하면, 미리 저장된 기준 이미지와 비교하여, 강광 현장의 판단을 진행할 수 있고, 지문 인식 결과 피드백 메커니즘을 통해 강광 현장의 판단 파라미터, 인식 대상 지문의 지문 이미지를 수집할 경우의 샘플링 파라미터를 끊임없이 동적으로 조절할 수 있고, 나아가 지문 검출 과정에서의 지문 수집에 대한 환경광의 영향을 감소시킨다.

도 2는 본 출원의 실시예의 지문 인식 방법의 개략적인 흐름도이다.

S201에서, 샘플링 파라미터에 따라 제1 지문 이미지를 수집한다.

구체적으로 지문 인식 장치는 초기 샘플링 파라미터에 따라, 디폴트 샘플링 파라미터를 사용하여 샘플링을 진행하여 지문 이미지를 획득하고, 샘플링 파라미터는 노출 시간, 노출 영역, 이득 파라미터 등을 포함한다.

S202에서, 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 기준 이미지에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하고, 상기 기준 이미지는 기준 광 환경에서 획득한 지문 이미지이다.

구체적으로, 지문 인식 장치는 출하 시 기준 이미지를 미리 저장하고, 수집된 제1 지문 이미지와 미리 저장된 기준 이미지를 비교 프로세싱하여 제1 지문 이미지의 수집 환경을 판단한다. 이해할 것은, 상기 기준 이미지는 지문 이미지일 수 있고, 기준 광 환경에서의 손가락 누름을 모의하는 아날로그 이미지일 수도 있다. 예를 들면, 기준 광 환경에서 살색의 누름 아날로그 이미지, 즉 실제 손가락과 근접한 살색 아날로그 손가락으로 기준 이미지를 획득한다.

선택 가능하게, 수집 환경은 기준 광 환경과 비-기준 광 환경을 포함한다.

예시적으로, 기준 광 환경은 광 강도가 0-1000Lux인 정상 광 환경을 포함하고, 비-기준 광 환경은 광 강도가 1000Lux 이상인 강광 환경을 포함한다.

S203에서, 상기 수집 환경에 대응되는 프로세싱 파라미터에 따라 상기 제1 지문 이미지를 프로세싱한다.

구체적으로 기준 광 환경과 비-기준 광 환경에서 지문 인식 장치는 서로 다른 지문 인식 프로세싱 파라미터를 사용하고, 지문 인식 장치는 수집 환경에 대해 판단을 진행한 후, 수집 환경에 대응되는 프로세싱 파라미터에 따라 지문 인식에 대해 프로세싱을 진행한다. 프로세싱 파라미터는 지문 인식 장치에서 미리 설정된 것일 수 있고, 수집 환경에 따라 동적 조절된 것일 수도 있고, 본 출원의 실시예는 이에 대해 한정하지 않는다.

예시적으로, 프로세싱 파라미터는 픽셀값 양자화 스케일, 광학 지문 센서의 센서 베이스(sensor base) 등을 포함한다. 예를 들면, 비-기준 광 환경에서, 더욱 선명한 지문 이미지를 얻기 위하여, 비-기준 광 환경에서의 픽셀값의 양자화 스케일로 지문 패턴을 추출한다.

픽셀값 양자화 스케일은 서로 다른 노출 시간, 서로 다른 이득 파라미터로 수집한 데이터를 동일한 노출 시간, 동일한 이득 파라미터에 대응되는 데이터로 조절하는 과정에서 사용한 파라미터를 가리킨다. 예를 들면, 디폴트 샘플링을 하는 경우의 노출 시간은 100μs이고, 비-기준 광 환경에서 샘플링 하는 경우의 노출 시간은 50 μs이고, 비-기준 광 환경에서의 샘플링 데이터는 픽셀값 양자화 스케일, 즉 2를 곱한 다음, 디폴트 조건에서 샘플링을 한 데이터와 비교를 진행한다. 광학 지문 센서가 서로 다른 샘플링 파라미터를 사용하여 데이터를 수집하는 경우, 센서 베이스(sensor base)가 다르므로, 서로 다른 수집 파라미터를 사용한 경우에 대응되는 센서 베이스를 감해야, 광학 지문 센서의 실제 센싱 값을 얻을 수 있다.

S204에서, 프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 따라 지문 인식을 진행한다.

본 실시예에서 기준 광 환경에서의 기준 이미지를 미리 저장하는 것을 통해, 별도의 강광 센싱 유닛을 추가하지 않는 상황에서, 수집된 지문 이미지에서 수집 환경의 광선 특징과 미리 저장된 기준 이미지의 광선 특징을 추출하고, 비교 프로세싱을 진행하여, 상기 지문 이미지의 수집 환경을 판단하고, 수집 환경에 대응되는 프로세싱 파라미터에 따라 상기 지문 이미지를 프로세싱한다. 기준 이미지를 미리 저장하였기에 지문 인식 장치는 단 한 장의 이미지만 수집하면, 지문의 수집 환경에 대한 신속한 판단을 실현할 수 있고, 지문 이미지 수집 및 지문 수집 환경을 판단하는 시간을 절약하고, 지문 수집 장치의 작업 효율을 향상시켰다. 수집 환경을 판단하는 것을 통해 지문 이미지의 프로세싱 파라미터를 동적 조절할 수 있고, 지문 인식 장치의 인식 성능을 향상시킨다.

선택 가능하게, S202에서, 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 픽셀값의 차이값에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정한다.

구체적으로 지문 인식 장치가 제1 지문 이미지를 수집한 후, 제1 지문 이미지의 각 픽셀의 픽셀값을 통계하고, 기준 이미지를 미리 저장하였기에, 지문 인식 장치는 기준 이미지의 픽셀값 정보를 추출하여 제1 지문 이미지와의 픽셀값의 차이값을 계산하면, 픽셀값의 차이값의 상황을 통해 제1 지문 이미지의 수집 환경을 바로 판단할 수 있다. 예를 들면, 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 미리 설정된 값보다 큰 경우, 수집 환경을 비-기준 환경으로 판단한다.

선택 가능하게, S202에서, 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 경계 픽셀값 변화 추세에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정한다.

구체적으로, 지문 인식 장치가 제1 지문 이미지를 수집한 후, 제1 지문 이미지의 경계 픽셀의 픽셀값 변화 추세를 통계하고, 기준 이미지에 상응한 경계 픽셀의 픽셀값 변화 추세를 추출하고, 경계 픽셀값의 변화 추세를 통해 제1 지문 이미지의 수집 환경을 판단한다. 예를 들면, 제1 지문 이미지의 경계 픽셀값 변화 추세가 기준 이미지의 경계 픽셀값 변화 추세보다 크면 수집 환경을 비-기준 환경으로 판단한다.

본 실시예에서, 지문 인식 장치는, 백라이트가 있는 상황과 백라이트가 없는 상황에서 각각 한 장의 이미지를 수집하고 비교하여 환경광을 결정함으로써 환경광에 따라 지문의 수집 환경을 판단할 필요가 없고, 수집된 지문 이미지와 기준 이미지의 특징을 직접 비교하는 것으로 수집 환경을 바로 판단할 수 있어, 지문 이미지 수집과 수집 환경을 판단하는 단계를 간소화하고 지문 인식 장치의 작업 효율을 향상시킨다.

선택 가능하게, S202에서, 상기 제1 지문 이미지 중 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 제1 미리 설정된 평균수보다 큰 영역의 수량이 미리 설정된 영역의 수량보다 큰 경우, 상기 지문 이미지가 위치한 지문 인식 환경을 상기 비-기준 광 환경으로 결정한다.

선택 가능하게, S202에서, 상기 제1 지문 이미지의 복수 영역에서 상기 픽셀값 차이값의 평균수가 제1 미리 설정된 평균수보다 큰 영역의 수량이 미리 설정된 영역의 수량 이하인 경우, 상기 지문 이미지가 위치한 지문 인식 환경을 상기 기준 광 환경으로 결정한다.

구체적으로, 제1 지문 이미지(300)를 복수의 영역으로 나누되, 도 3에 도시된 바와 같다. 제1 지문 이미지의 각 픽셀의 픽셀값과 기준 이미지의 대응되는 각 픽셀의 픽셀값의 차이를 얻은 후, 각 영역의 픽셀값의 차이값의 평균수를 통계하고, 각 영역의 차이값의 평균수와 제1 미리 설정된 평균수를 비교한 후, 차이값의 평균수가 제1 미리 설정된 평균수보다 큰 영역의 수량을 통계하고, 영역의 수량이 미리 설정된 수량보다 큰 경우에만 수집 환경을 비-기준 광 환경으로 판단하고, 기타 경우에는 모두 기준 광 환경이다.

이해할 것은, 상기 제1 미리 설정된 평균수는 각 상기 영역의 픽셀값의 차이값의 평균수를 판단하는 역치이고, 상기 영역의 수량과 양의 상관 관계를 이룬다.

이해할 것은, 상기 미리 설정된 수량은 상기 영역의 수량, 제1 미리 설정된 평균수에 따라 설정할 수 있다.

본 실시예에서, 수집된 지문 이미지를 복수 개의 영역으로 세분화하여 판단하여, 판단 결과가 제1 지문 이미지 전체 이미지의 전체적인 환경광 상황을 더욱 전면적이고, 평균적으로 반영하게 할 수 있다.

선택 가능하게, S202에서. 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 픽셀값의 차이값 및 상기 제1 지문 이미지의 픽셀값에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정한다.

구체적으로, 지문 인식 장치는 제1 지문 이미지를 수집한 후, 전체 제1 지문 이미지에서 픽셀값이 미리 설정된 일정한 값보다 크거나 또는 픽셀값이 포화된 픽셀의 수량을 통계하고, 제1 지문 이미지와 기준 이미지의 픽셀값 차이값을 결합하여, 만약 이와 같은 픽셀의 수량이 미리 설정된 픽셀 포인트의 수량보다 많으면, 또한 픽셀값 차이값이 미리 설정된 차이값보다 크다면 수집 환경을 비-기준 환경으로 판단한다.

선택 가능하게, 상기 제1 지문 이미지 중 상기 픽셀값이 포화된 픽셀 수와 상기 제1 지문 이미지의 픽셀 수의 비율이 미리 설정된 비율보다 크고, 또한 상기 제1 지문 이미지 중 상기 픽셀값 차이값의 평균수가 제1 미리 설정된 평균수보다 큰 영역의 수량이 미리 설정된 영역의 수량보다 큰 경우, 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 상기 비-기준 광 환경으로 결정한다.

선택 가능하게, 상기 제1 지문 이미지 중 상기 픽셀값이 포화된 픽셀 수와 상기 제1 지문 이미지의 픽셀 수의 비율이 미리 설정된 비율 이하이고, 및/또는 상기 제1 지문 이미지 중 상기 픽셀값 차이값의 평균수가 제1 미리 설정된 평균수보다 큰 영역의 수량이 미리 설정된 영역의 수량 이하인 경우, 상기 지문 이미지가 위치한 지문 인식 환경을 상기 기준 광 환경으로 결정한다.

본 실시예에서 수집된 지문 이미지의 자체 픽셀 데이터 및 지문 이미지와 기준 이미지의 비교 데이터 2가지 파라미터의 결합을 통해 수집 환경을 더욱 정확하게 판단할 수 있고, 수집 환경에 대한 지문 인식 장치의 판단 능력을 추가로 향상시킨다.

선택 가능하게, S202에서, 상기 제1 지문 이미지 중 상기 픽셀값이 포화된 픽셀 수와 상기 제1 지문 이미지의 픽셀 수의 비율이 미리 설정된 비율보다 크고, 또한 상기 픽셀값 차이값의 평균수가 제2 미리 설정된 평균수보다 큰 경우, 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 상기 비-기준 광 환경으로 결정한다.

선택 가능하게, S202에서 상기 제1 지문 이미지 중 상기 픽셀값이 포화된 픽셀 수와 상기 제1 지문 이미지의 픽셀 수의 비율이 미리 설정된 비율 이하이고, 및/또는 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 제2 미리 설정된 평균수 이하인 경우, 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 상기 기준 광 환경으로 결정한다.

구체적으로, 지문 인식 장치가 제1 지문 이미지를 수집한 후, 제1 지문 이미지 중 픽셀값이 이미 포화된 픽셀이 전체 이미지 픽셀에서 차지하는 비율을 통계하고, 제1 지문 이미지와 기준 이미지의 전체 이미지의 각 픽셀의 픽셀값 차이값의 평균수를 계산하고, 상기 비율이 미리 설정된 비율보다 크고 또한 상기 평균수가 제2 미리 설정된 평균수보다 큰 경우, 수집 환경을 비-기준 광 환경으로 판단하고, 기타 경우는 모두 기준 광 환경이다.

이해할 것은, 상기 제2 미리 설정된 평균수는 상기 지문 이미지와 상기 기준 이미지의 전체 이미지 픽셀값의 차이값의 평균수를 판단하는 역치이다.

이해할 것은, 지문 이미지 자체 픽셀 데이터를 유입한 상황에서, 지문 이미지를 구분하는 방법을 결합할 수 있다. 예를 들면, 지문 이미지의 복수의 영역에서 픽셀값이 포화된 픽셀의 수가 미리 설정된 수보다 큰 영역의 수량과 미리 설정된 수량의 비교를 이용하여 수집 환경에 대한 판단을 진행할 수 있다. 또한, 지문 이미지와 기준 이미지에 대해 영역 구분을 하지 않고, 수집된 지문 이미지 중 픽셀값이 포화된 픽셀의 수가 전체 이미지 픽셀에서 차지하는 비율, 및 지문 이미지와 기준 이미지의 전체 이미지의 각 픽셀의 픽셀값의 차이값의 평균수를 통계하는 것을 통해, 미리 설정된 비율 및 제2 미리 설정된 평균수와 비교하면 수집 환경을 판단할 수 있다.

본 실시예에서 2가지 각도에서의 판단 파라미터를 통해 수집 환경을 종합적으로 판단하여 단일 판단 조건으로 판단을 진행할 때 초래할 수 있는 오차를 방지할 수 있고, 판단 과정을 간소화하고 수집 환경에 대한 지문 인식 장치의 판단 능력을 추가로 최적화할 수 있다.

선택 가능하게, 도 4에 도시된 바와 같이, 본 출원의 실시예의 다른 한 지문 인식 방법의 개략적인 흐름도이고, 상기 지문 인식 방법은,

S205, 상기 비-기준 광 환경에 따라 상기 샘플링 파라미터를 조절하는 단계를 더 포함한다.

구체적으로, 지문 인식 장치가 비-기준 광 환경에 대응되는 프로세싱 파라미터에 따라 지문 이미지를 프로세싱하여 지문 인식을 진행한 후, 샘플링 파라미터를 조절한다.

예를 들면, 비-기준 광 환경으로 판단하고 지문 인식을 진행한 후, 지문 인식 장치 중의 광학 지문 센서의 노출 시간을 줄여, 후속 샘플링 노출 시간을 단축시키고, 비-기준 광 환경, 예를 들면 강광 환경에서 샘플링 과포화가 초래하는 지문 패턴이 선명하지 않은 상황을 줄이고, 비-기준 광 환경에서 지문 인식 장치의 후속 샘플링하는 지문 이미지의 유효 면적을 증가시킨다.

또 예를 들면, 비-기준 광 환경으로 판단하고 지문 인식을 진행한 후, 광학 지문 센서의 감도 증익을 줄이고, 감도는 광학 지문 센서가 단위 조사에서의 광속 센싱량이고, 비-기준 광 환경에서 감도 증익을 줄이고, 광학 지문 센서의 센싱량을 줄이고 후속 샘플링 이미지 과포화의 확률을 낮출 수 있고, 수집된 지문 이미지를 더욱 선명하게 하고 더 많은 효과적인 지문 정보를 구비할 수 있게 한다.

또 예를 들면, 비-기준 광 환경으로 판단하고 지문 인식을 진행한 후, 노출 영역으로써 비-기준 광 환경의 영역을 선택하고, 노출 영역의 노출 시간 및 이득 파라미터를 목적성 있게 조절하여 수집된 지문 이미지를 더욱 선명하게 하여 더 많은 디테일을 구비하게 한다.

선택 가능하게 도 5에 도시된 바와 같이, 본 출원의 실시예의 다른 지문 인식 방법의 개략적인 흐름도이고, 상기 방법은,

S206, 프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 대응되는 인식 결과에 따라 상기 수집 환경의 판단 근거를 조절하는 단계를 더 포함한다.

구체적으로, 프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 대응되는 인식 결과에 따라, 상기 제1 미리 설정된 평균수와 상기 미리 설정된 영역의 수량을 조절한다.

예를 들면, 지문 인식 장치가 기준 광 환경에 대응되는 프로세싱 파라미터에 따라 지문 이미지를 프로세싱하여 지문 인식을 진행한 후, 지문 인식 결과를 얻고, 지문 인식이 성공하지 못한 경우, 비록 정상 광 환경으로 판정된 것으로 설명되나, 지문의 패턴은 여전히 선명하지 않고, 수집 환경의 판단 파라미터를 조절할 필요가 있다. 예를 들면 상기 제1 미리 설정된 평균수 및/또는 상기 미리 설정된 영역의 수량을 하향 조절하여 수집 환경이 비-기준 광 환경으로 더 쉽게 판정되도록 하고, 비-기준 광 환경에 대응되는 프로세싱 파라미터를 사용하여 지문 이미지를 프로세싱하여, 프로세싱 파라미터가 적합하지 않아 초래되는 지문 이미지의 디테일이 손실되는 것을 방지한다. 또 예를 들면, 지문 인식이 성공하는 경우, 상기 제1 미리 설정된 평균수 및/또는 상기 미리 설정된 영역의 수량을 상향 조절하거나, 또는 상기 제1 미리 설정된 평균수 및/또는 상기 미리 설정된 영역의 수량이 변하지 않게 유지한다.

구체적으로 프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 대응되는 인식 결과에 따라, 상기 제2 미리 설정된 평균수와 상기 미리 설정된 비율을 조절한다.

예를 들면, 지문 인식 장치가 기준 광 환경에 대응되는 프로세싱 파라미터에 따라 지문 이미지를 프로세싱하고 지문 인식을 진행한 후 지문 인식 결과를 얻고, 지문 인식이 성공하지 못한 경우, 상기 제2 미리 설정된 평균수 및/또는 상기 미리 설정된 비율을 하향 조절하여, 수집 환경이 비-기준 광 환경으로 더 쉽게 판정되게 하고, 비-기준 광 환경에 대응되는 프로세싱 파라미터를 사용하여 지문 이미지를 프로세싱한다.

또 예를 들면, 지문 인식이 성공하는 경우, 상기 제2 미리 설정된 평균수 및/또는 상기 미리 설정된 비율을 상향 조절하거나, 또는 상기 제2 미리 설정된 평균수 및/또는 상기 미리 설정된 비율이 변하지 않게 유지한다.

본 실시예에서, 지문 인식 장치 내부에 자체 피드백 메커니즘을 구비하고, 지문 인식 결과에 따라, 수집 환경의 판단 파라미터를 동적 변경하여 지문 인식 장치가 수집 환경에 대한 판단을 끊임없이 적응적으로 조절할 수 있게 하고, 수집 환경 판단의 정확도를 향상시키는 동시에, 더욱 원활하고 정확하게 수집 환경을 판단하여, 지문 인식 장치가 더욱 합리적인 프로세싱 파라미터를 사용하여 지문 인식 이미지를 프로세싱함으로써, 지문 인식 장치의 작업 효율을 향상시킨다.

도 6에 도시된 바와 같이, 본 출원의 실시예에서 제공한 지문 인식 장치(600)의 개략도이고, 지문 인식 장치는, 샘플링 파라미터에 따라 제1 지문 이미지를 수집하는 광학 지문 센서(601); 및

상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 기준 이미지에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하고, 상기 기준 이미지는 기준 광 환경에서 획득한 지문 이미지이고, 상기 수집 환경에 대응되는 프로세싱 파라미터에 따라 상기 제1 지문 이미지를 프로세싱하고, 프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 따라 지문 인식을 진행하는 프로세싱 유닛(602)을 포함한다.

선택 가능하게, 수집 환경은 기준 광 환경과 비-기준 광 환경을 포함한다.

선택 가능하게, 프로세싱 파라미터는 픽셀값 양자화 스케일，광학 지문 센서의 센서 베이스를 포함한다. 예를 들면, 비-기준 광 환경에서 더욱 선명한 지문 이미지를 얻기 위하여, 프로세싱 유닛(602)은 비-기준 광 환경에서의 픽셀값의 양자화 스케일로 지문 패턴을 추출한다.

이해할 것은, 프로세싱 유닛(602)의 기능은 지문 인식 칩 내에 집성된 프로세서 또는 프로세싱 모듈에 의해 수행될 수 있고, 지문 인식 장치를 포함하는 단말 기기 내의 프로세서 또는 프로세싱 모듈에 의해 수행될 수도 있으며 본 출원의 실시예는 이에 대해 한정하지 않는다.

프로세서는 중앙 처리 유닛(Central Processing Unit，CPU)일 수 있고, 상기 프로세서는 기타 범용 프로세서, 디지털 신호 프로세서(DSP), 전용 집적 회로(ASIC), 필드 프로그래머블 게이트 어레이(FPGA) 또는 기타 프로그래머블 논리 소자(PLD), 이산 게이트 또는 트랜지스터 논리 소자, 이산 하드웨어 어셈블리 등도 가능하다. 범용 프로세서는 마이크로 프로세서일 수 있거나 또는 상기 프로세서는 임의의 일반적인 프로세서 등일 수도 있다.

본 출원의 실시예에서 지문 인식 장치는 단 한 장의 지문 이미지만 수집하면 되고, 프로세싱 유닛(602)은 미리 저장된 기준 이미지를 추출하여 수집된 지문 이미지와 비교하는 것을 통해 지문 이미지의 수집 환경을 판단할 수 있고, 지문 이미지 수집 및 지문 수집 환경을 판단하는 시간을 절약하고 지문 수집 장치의 작업 효율을 향상시킨다.

가능한 실시방식에서 상기 프로세싱 유닛(602)은, 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 픽셀값의 차이값에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정한다.

구체적으로, 프로세싱 유닛(602)은 지문 인식 장치 내에 미리 저장된 기준 이미지를 추출할 수 있고, 광학 지문 센서(601)가 제1 지문 이미지를 수집한 후 제1 지문 이미지의 픽셀값 특징을 추출하여, 기준 이미지의 상응한 픽셀값과 차이를 계산하여 픽셀값의 차이값을 얻고, 픽셀값의 차이값에 따라 수집 환경을 판단한다.

가능한 실시방식에서 상기 프로세싱 유닛(602)은, 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 경계 픽셀값의 변화 추세에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정한다.

가능한 실시방식에서 상기 프로세싱 유닛(602)은, 상기 제1 지문 이미지에서 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 제1 미리 설정된 평균수보다 큰 영역의 수량이 미리 설정된 영역의 수량보다 큰 경우, 상기 지문 이미지가 위치한 지문 인식 환경을 상기 비-기준 광 환경으로 결정한다.

가능한 실시방식에서 상기 프로세싱 유닛(602)은, 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 픽셀값의 차이값 및 상기 제1 지문 이미지의 픽셀값에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정한다.

가능한 실시방식에서, 상기 프로세싱 유닛(602)은는, 상기 제1 지문 이미지 중 상기 픽셀값이 포화된 픽셀 수와 상기 제1 지문 이미지의 픽셀 수의 비율이 미리 설정된 비율보다 크고, 또한 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 제2 미리 설정된 평균수보다 큰 경우, 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 상기 비-기준 광 환경으로 결정한다.

가능한 실시방식에서, 상기 프로세싱 유닛(602)은, 상기 제1 지문 이미지 중 상기 픽셀값이 포화된 픽셀 수와 상기 제1 지문 이미지의 픽셀 수의 비율이 미리 설정된 비율 이하이고, 및/또는 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 제2 미리 설정된 평균수 이하인 경우, 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 상기 기준 광 환경으로 결정한다.

가능한 실시방식에서 상기 프로세싱 유닛(602)은 또한 상기 비-기준 광 환경에 따라 상기 샘플링 파라미터를 조절한다.

프로세싱 유닛(602)은 비-기준 광 환경에서 지문 이미지를 인식한 후 샘플링 파라미터를 조절하고, 광학 지문 센서(601)가 후속 샘플링에서 조절된 파라미터를 사용하여 샘플링하도록 제어하여, 샘플링 과정을 최적화하고, 샘플링 파라미터가 적합하여 지문 이미지 패턴이 선명하지 않은 문제를 방지한다.

가능한 실시방식에서 상기 프로세싱 유닛(602)은 또한 상기 인식 결과에 따라 상기 수집 환경의 판단 파라미터를 조절한다.

프로세싱 유닛(602)은 비-기준 광 환경에서 지문 이미지를 인식한 후 수집 환경의 판단 파라미터를 조절하고, 기준 광 환경으로 판단하고 지문 인식을 진행한 후 인식 결과를 얻는다. 만약 인식이 성공하지 못하면, 판단 파라미터를 조절하여 수집 환경이 비-기준 광 환경으로 더 쉽게 판단되도록 하여 판단 파라미터가 적합하지 않음으로 인해 초래되는 판단 오차를 방지하고, 지문 인식 장치가 인식 결과를 통해 판단 파라미터를 끊임없이 적응적으로 조절할 수 있게 하여, 수집 환경을 판단하는 정확도를 향상시키고, 이로써 지문 인식 장치가 더욱 합리적인 대응되는 프로세싱 파라미터를 사용하여 지문 인식 이미지를 프로세싱하도록 보장하여, 지문 인식 장치의 작업 효율을 향상시킨다.

예를 들면, 프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 대응되는 인식 결과에 따라, 상기 제1 미리 설정된 평균수와 상기 미리 설정된 영역의 수량을 조절한다.

구체적으로, 수집 환경이 기준 광 환경으로 판단되고 지문 인식을 진행한 후, 만약 인식이 성공하지 못하면, 상기 제1 미리 설정된 평균수 및/또는 상기 미리 설정된 영역의 수량을 하향 조절하고, 만약 인식이 성공하면, 상기 제1 미리 설정된 평균수 및/또는 상기 미리 설정된 영역의 수량을 상향 조절하거나 또는 상기 제1 미리 설정된 평균수 및/또는 상기 미리 설정된 영역의 수량이 변하지 않게 유지한다.

또 예를 들면, 프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 대응되는 인식 결과에 따라, 상기 제2 미리 설정된 평균수와 상기 미리 설정된 비율을 조절한다.

구체적으로, 수집 환경이 기준 광 환경으로 판단되고 지문 인식을 진행한 후, 만약 성공하지 못하면, 상기 제2 미리 설정된 평균수 및/또는 상기 미리 설정된 비율을 하향 조절하고, 만약 인식이 성공하면, 상기 제2 미리 설정된 평균수 및/또는 상기 미리 설정된 비율을 상향 조절하거나, 또는 상기 제2 미리 설정된 평균수 및/또는 상기 미리 설정된 비율이 변하지 않게 유지한다.

도 7에 도시된 바와 같이, 본 출원의 실시예는 표시 화면(701) 및 상기 지문 인식 장치(600)를 포함하는 전자기기(700)를 더 제공한다.

이해할 것은, 표시 화면(701)은 비접이식 표시 화면일 수 있고, 접이식 표시 화면일 수도 있다. 즉 플렉서블 표시 화면이다.

예시적이지만 한정이 아니고, 본 출원의 실시예 중의 전자기기는 단말 기기, 휴대폰, 태블릿 컴퓨터, 노트북, 데스크톱, 게임 장치, 차량 탑재 전자기기 또는 웨어러블 스마트 장치 등 휴대식 또는 모바일 컴퓨팅 장치 및 전자 데이터 베이스, 자동차, 현금 자동 입출금기(Automated Teller Machine, ATM) 등 기타 전자기기일 수 있다. 상기 웨어러블 스마트 장치는 기능이 완비되고 크기가 크고 스마트폰에 의지하지 않고 완전 또는 일부 기능을 실현할 수 있는 장치, 예를 들면 스마트 워치 또는 스마트 글라스 및 모 하나의 유형의 응용 기능에 집중하는 예를 들면 휴대폰과 같은 기타 기기에 결합하여 사용하는 장치, 예를 들면 각 유형의 병증 모니터링을 진행하는 스마트 밴드, 스마트 장신구 등을 포함한다.

설명해야 하는 것은, 충돌하지 않는 전제 하에, 본 출원에서 설명한 각 실시예 및/또는 각 실시예 중의 구성요소들을 임의로 서로 조합할 수 있고, 조합 후에 얻은 기술방안도 본 출원의 보호 범위 내에 속한다.

이해해야 할 것은, 본 출원의 실시예 및 특허청구범위에서 사용된 용어는 특정 실시예를 설명하기 위한 것일 뿐이며, 본 출원의 실시예를 한정하기 위한 것은 아니다. 예를 들면, 본 출원의 실시예 및 특허청구범위에서 사용된 “하나의”, “상술한” 및 “상기”와 같은 단수 형태들은 문맥에서 다른 의미를 명백하게 나타내지 않는 한 복수 형태도 포함한다.

당업자는 본문에서 공개한 실시예에서 설명한 각 예시의 유닛은, 전자식 하드웨어, 컴퓨터 소프트웨어 또는 양자의 결합으로 구현할 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 하드웨어 및 소프트웨어의 호환 가능성을 명확하게 설명하기 위하여, 상술한 설명에서는 각 예의 구성 및 단계에 대해 기능에 따라 일반적으로 설명했다. 이러한 기능을 하드웨어 방식 아니면 소프트웨어 방식으로 실행할지는 기술방안의 특정 응용 및 설계 규제 조건에 의해 결정된다. 당업자라면 각각의 특정 응용에 따라 서로 다른 방법으로 상기 기능을 구현할 수 있으나, 이러한 구현들이 본 출원의 범위를 벗어난 것으로 간주해서는 안 된다.

본 출원에서 제공한 여러 실시예에서, 개시된 시스템, 장치는 다른 방식으로도 실현될 수 있음을 이해할 것이다. 예를 들어 상술한 장치의 실시예는 개략적인 것에 불과하며, 예를 들어 상기 유닛의 구분은 단지 논리적 기능을 구분한 것이며, 실제 구현 시 다르게 구분될 수 있고, 예를 들어, 복수의 유닛 또는 어셈블리는 다른 시스템에 결합되거나 또는 통합될 수 있거나, 또는 일부 특징이 생략될 수 있거나 또는 실행되지 않을 수도 있다. 또한, 도시되었거나 또는 논의된 상호 결합 간의 결합 또는 직접 결합 또는 통신 연결은 일부의 인터페이스를 통해 실현될 수 있으며, 장치 또는 유닛 간의 간접 결합 또는 통신 연결은, 전기적, 기계적 또는 다른 형태로 연결될 수 있다.

상기 분리 부재로 설명되는 유닛은, 물리적으로 분리되는 것일 수도 있고, 아닐 수도 있으며, 유닛으로 나타낸 부재들은 물리적 유닛일 수도 있고 아닐 수도 있으며, 즉 한 곳에 위치하거나 또는 복수의 네트워크 유닛 상에 분포될 수도 있다. 실제의 필요에 따라 이러한 유닛 중 일부 또는 전체를 선택하여 본 출원의 실시예 방안의 목적을 실현할 수 있다.

또한, 본 출원의 각 실시예들의 각 기능 유닛은 하나의 처리 유닛에 통합시킬 수 있으며, 또한 각 유닛은 물리적으로 단독으로 존재할 수도 있으며, 2개 이상의 유닛을 하나의 유닛에 통합시킬 수도 있다. 상술한 통합 유닛은 하드웨어 형식으로 실현될 수도 있고, 소프트웨어 기능 유닛 형식으로 실현될 수도 있다.

상기 통합된 유닛을 소프트웨어 기능 유닛의 형태로 구현하여 독립된 제품으로 판매 또는 사용할 경우, 하나의 컴퓨터 판독 가능 저장 매개체에 저장할 수 있다. 이러한 이해를 바탕으로, 본 출원의 기술방안은 본질적으로 또는 종래 기술에 대해 기여하는 부분 또는 상기 기술방안의 일부 또는 전부가 소프트웨어 제품의 형태로 구현될 수 있고, 상기 컴퓨터 소프트웨어 제품은 하나의 저장 매개체에 저장되며, 컴퓨터 장치(예를 들면 개인 컴퓨터, 서버, 또는 네트워크 장치 등)가 본 출원의 각 실시예의 상기 방법의 전체 또는 일부 단계를 수행하도록 복수의 명령을 포함한다. 상술한 저장 매개체는 USB메모리, 이동식 하드디스크, ROM(Read-Only-Memory), RAM(Random Access Memory), 자기 디스크 또는 광 디스크 등 각종 프로그램 코드를 저장할 수 있는 매개체를 포함한다.

상술한 내용은 본 출원의 구체적 실시방식에 불과하며, 본 출원의 보호범위는 이에 한정되지 않고, 당업자가 본 출원에 의해 공개된 기술 범위 내에서 다양한 등가 변경 또는 대체를 쉽게 생각해 낼 수 있고, 이러한 변경 또는 대체는 모두 본 출원의 보호범위에 포함되어야 한다. 따라서, 본 출원의 보호범위는 청구범위를 기준으로 해야 한다.

Claims (31)

1. 지문 인식 장치에 응용되는지문 인식 방법에 있어서,
   샘플링 파라미터에 따라 제1 지문 이미지를 수집하는 단계;
   상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 기준 이미지에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하고, 상기 기준 이미지는 기준 광 환경에서 획득한 지문 이미지인 단계;
   상기 수집 환경에 대응되는 프로세싱 파라미터에 따라 상기 제1 지문 이미지를 프로세싱하는 단계;
   프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 따라 지문 인식을 진행하는 단계를 포함하는, 지문 인식 방법.
2. 제1항에 있어서,
   상기 수집 환경은 상기 기준 광 환경 또는 비-기준 광 환경을 포함하는, 지문 인식 방법.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
   상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 기준 이미지에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하는 단계는,
   상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 픽셀값의 차이값에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하는 단계를 포함하는, 지문 인식 방법.
4. 제3항에 있어서,
   상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 픽셀값의 차이값에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하는 단계는,
   상기 제1 지문 이미지의 복수 영역에서 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 제1 미리 설정된 평균수보다 큰 영역의 수량이 미리 설정된 영역의 수량보다 큰 경우, 상기 지문 이미지가 위치한 지문 인식 환경을 상기 비-기준 광 환경으로 결정하는 단계를 포함하는, 지문 인식 방법.
5. 제3항에 있어서,
   상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 픽셀값의 차이값에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하는 단계는,
   상기 제1 지문 이미지의 복수 영역에서 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 제1 미리 설정된 평균수보다 큰 영역의 수량이 미리 설정된 영역의 수량 이하인 경우, 상기 지문 이미지가 위치한 지문 인식 환경을 상기 기준 광 환경으로 결정하는 단계를 포함하는, 지문 인식 방법.
6. 제1항 또는 제2항에 있어서,
   상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 기준 이미지에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하는 단계는,
   상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 픽셀값의 차이값 및 상기 제1 지문 이미지의 픽셀값에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하는 단계를 포함하는, 지문 인식 방법.
7. 제6항에 있어서,
   상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 픽셀값의 차이값 및 상기 제1 지문 이미지의 픽셀값에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하는 단계는,
   상기 제1 지문 이미지 중 상기 픽셀값이 포화된 픽셀 수와 상기 제1 지문 이미지의 픽셀 수의 비율이 미리 설정된 비율보다 크고, 또한 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 제2 미리 설정된 평균수보다 큰 경우, 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 상기 비-기준 광 환경으로 결정하는 단계를 포함하는, 지문 인식 방법.
8. 제6항에 있어서,
   상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 픽셀값의 차이값 및 상기 제1 지문 이미지의 픽셀값에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하는 단계는,
   상기 제1 지문 이미지 중 상기 픽셀값이 포화된 픽셀 수와 상기 제1 지문 이미지의 픽셀 수의 비율이 미리 설정된 비율 이하이고, 및/또는 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 제2 미리 설정된 평균수 이하인 경우, 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 상기 기준 광 환경으로 결정하는 단계를 포함하는, 지문 인식 방법.
9. 제4항 또는 제7항에 있어서,
   상기 비-기준 광 환경에 따라 상기 샘플링 파라미터를 조절하는 단계를 더 포함하는, 지문 인식 방법.
10. 제5항에 있어서,
    프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 대응되는 인식 결과에 따라, 상기 제1 미리 설정된 평균수와 상기 미리 설정된 영역의 수량을 조절하는 단계를 더 포함하는, 지문 인식 방법.
11. 제8항에 있어서,
    프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 대응되는 인식 결과에 따라, 상기 제2 미리 설정된 평균수와 상기 미리 설정된 비율을 조절하는 단계를 더 포함하는, 지문 인식 방법.
12. 제1항에 있어서,
    상기 샘플링 파라미터는 노출 시간, 이득 파라미터 및 노출 영역을 포함하는, 지문 인식 방법.
13. 제9항에 있어서,
    상기 비-기준 광 환경에 따라 상기 샘플링 파라미터를 조절하는 단계는,
    상기 비-기준 광 환경에 따라 노출 시간을 감소하고, 및/또는 이득 파라미터를 감소하는 단계를 포함하는, 지문 인식 방법.
14. 제10항에 있어서,
    프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 대응되는 인식 결과에 따라, 상기 제1 미리 설정된 평균수와 상기 미리 설정된 영역의 수량을 조절하는 단계는,
    상기 제1 지문 이미지 인식이 성공하지 못한 경우, 상기 제1 미리 설정된 평균수 및/또는 상기 미리 설정된 영역의 수량을 하향 조절하는 단계를 포함하는, 지문 인식 방법.
15. 제11항에 있어서,
    프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 대응되는 인식 결과에 따라, 상기 제2 미리 설정된 평균수와 상기 미리 설정된 비율을 조절하는 단계는,
    상기 제1 지문 이미지 인식이 성공하지 못한 경우, 상기 제2 미리 설정된 평균수 및/또는 상기 미리 설정된 비율을 하향 조절하는 단계를 포함하는, 지문 인식 방법.
16. 샘플링 파라미터에 따라 제1 지문 이미지를 수집하는 광학 지문 센서; 및
    상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 기준 이미지에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하고, 상기 기준 이미지는 기준 광 환경에서 획득한 지문 이미지이고, 상기 수집 환경에 대응되는 프로세싱 파라미터에 따라 상기 제1 지문 이미지를 프로세싱하고, 프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 따라 지문 인식을 진행하는 프로세싱 유닛을 포함하는, 지문 인식 장치.
17. 제16항에 있어서,
    상기 수집 환경은 상기 기준 광 환경 또는 비-기준 광 환경을 포함하는, 지문 인식 장치.
18. 제16항 또는 제17항에 있어서,
    상기 프로세싱 유닛은, 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 픽셀값의 차이값에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하는, 지문 인식 장치.
19. 제18항에 있어서,
    상기 프로세싱 유닛은, 상기 제1 지문 이미지의 복수 영역에서 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 제1 미리 설정된 평균수보다 큰 영역의 수량이 미리 설정된 영역의 수량보다 큰 경우, 상기 지문 이미지가 위치한 지문 인식 환경을 상기 비-기준 광 환경으로 결정하는, 지문 인식 장치.
20. 제18항에 있어서,
    상기 프로세싱 유닛은, 상기 제1 지문 이미지의 복수 영역에서 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 제1 미리 설정된 평균수보다 큰 영역의 수량이 미리 설정된 영역의 수량 이하인 경우, 상기 지문 이미지가 위치한 지문 인식 환경을 상기 기준 광 환경으로 결정하는, 지문 인식 장치.
21. 제16항 또는 제17항에 있어서,
    상기 프로세싱 유닛은, 상기 제1 지문 이미지와 미리 저장된 상기 기준 이미지의 픽셀값의 차이값 및 상기 제1 지문 이미지의 픽셀값에 따라 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 결정하는, 지문 인식 장치.
22. 제21항에 있어서,
    상기 프로세싱 유닛은, 상기 제1 지문 이미지 중 상기 픽셀값이 포화된 픽셀 수와 상기 제1 지문 이미지의 픽셀 수의 비율이 미리 설정된 비율보다 크고, 또한 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 제2 미리 설정된 평균수보다 큰 경우, 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 상기 비-기준 광 환경으로 결정하는, 지문 인식 장치.
23. 제21항에 있어서,
    상기 프로세싱 유닛은, 상기 제1 지문 이미지 중 상기 픽셀값이 포화된 픽셀 수와 상기 제1 지문 이미지의 픽셀 수의 비율이 미리 설정된 비율 이하이고, 및/또는 상기 픽셀값의 차이값의 평균수가 제2 미리 설정된 평균수 이하인 경우, 상기 제1 지문 이미지의 수집 환경을 상기 기준 광 환경으로 결정하는, 지문 인식 장치.
24. 제19항 또는 제22항에 있어서,
    상기 프로세싱 유닛은, 상기 비-기준 광 환경에 따라 상기 샘플링 파라미터를 조절하는, 지문 인식 장치.
25. 제20항에 있어서,
    상기 프로세싱 유닛은, 프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 대응되는 인식 결과에 따라, 상기 제1 미리 설정된 평균수와 상기 미리 설정된 영역의 수량을 조절하는, 지문 인식 장치.
26. 제23항에 있어서,
    상기 프로세싱 유닛은, 프로세싱된 상기 제1 지문 이미지에 대응되는 인식 결과에 따라, 상기 제2 미리 설정된 평균수와 상기 미리 설정된 비율을 조절하는, 지문 인식 장치.
27. 제16항에 있어서,
    상기 샘플링 파라미터는 노출 시간, 이득 파라미터 및 노출 영역을 포함하는, 지문 인식 장치.
28. 제24항에 있어서,
    상기 프로세싱 유닛은, 상기 비-기준 광 환경에 따라 노출 시간을 감소하고, 및/또는 이득 파라미터를 감소하는, 지문 인식 장치.
29. 제25항에 있어서,
    상기 프로세싱 유닛은, 상기 제1 지문 이미지 인식이 성공하지 못한 경우, 상기 제1 미리 설정된 평균수 및/또는 상기 미리 설정된 영역의 수량을 하향 조절하는, 지문 인식 장치.
30. 제26항에 있어서,
    상기 프로세싱 유닛은, 상기 제1 지문 이미지 인식이 성공하지 못한 경우, 상기 제2 미리 설정된 평균수 및/또는 상기 미리 설정된 비율을 하향 조절하는, 지문 인식 장치.
31. 표시 화면; 및
    제16항 내지 제30항 중 어느 한 항에 따른 지문 인식 장치를 포함하는, 전자기기.

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