KR20220139796A - 금속을 컬러링하기 위한 방법 및 컬러링된 금속 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 금속으로 제조된 처리될 부품 (20) 을 컬러링하기 위한 방법에 관한 것이고, 상기 방법은, 단일 또는 다중 하전된 이온들의 소스에 의해 생성된 단일 또는 다중 하전된 이온 빔을 상기 처리될 부품 (20) 을 향해 지향시킴으로써, 처리될 부품 (20) 의 표면 층에서 단일 또는 다중 하전된 이온들을 주입하는 것으로 이루어진 단계를 포함하고, 상기 처리될 부품 (20) 은 이온 주입의 영향 하에서 컬러를 변화시킨다.
본 발명은 또한 특히 상기 방법에 의해 얻어질 수 있는 컬러링된 금속에 관한 것이다.
본 발명은 또한 특히 상기 방법에 의해 얻어질 수 있는 컬러링된 금속에 관한 것이다.
Description
본 발명은 금속 부품, 특히 세라믹 재료 내에 내장된 금속 부품을 컬러링하기 위한 방법에 관한 것이다. 본 발명은 이러한 컬러링하기 위한 방법을 사용하여 얻어진 컬러링된 금속 부품에 관한 것이다.
많은 금속 컬러링 방법들이 종래 기술에 이미 알려져 있다. 예를 들어, 이러한 방법들 중 하나는 알루미늄을 컬러링하도록 허용한다. 실제로, 원재료 알루미늄은 산화에 의해 자연적이고 제어불가능하게 컬러링되어 논의되는 알루미늄 부품의 표면들에 얼룩들 또는 마크들의 외관을 발생시킨다고 알려져 있다. 이를 해결하기 위해서, 알루미늄 부품을 인위적으로 산화시켜 그 외관을 균일하고 심미적으로 만드는 것이 가능하다. 알루미늄의 제어된 산화의 이러한 기술은 양극산화처리 (anodisation) 로서 알려져 있다. 양극산화처리는 알루미늄 부품의 표면 상에 산화물 층을 생성하는 것을 목적으로 하는 알루미늄에 대한 전기화학적 표면 처리 방법이다. 이를 위해, 알루미늄 부품은 황산을 포함하는 전해액이 분산된 욕에 침지된다. 이러한 욕에서 직류 전류를 순환시킴으로써, 다공성 산화물 층이 알루미늄 부품의 표면 상에 형성되고, 상기 다공성 산화물 층의 두께는 전형적으로 대략 수십 마이크로미터이다. 이러한 매우 경질 산화물 층은 부식에 대해 알루미늄 부품의 표면을 보호하고, 그후, 그 다공성으로 인해, 재료에서 염료를 트랩핑함으로써 컬러링될 수 있다.
런던의 대영 박물관에 그것이 대표하는 스파르타의 신화적 법률가의 이름을 딴 Lycurgus 의 컵에 대해 감탄하지 않을 수 없다. 로마의 유리제조자에 의해 기원전 4세기에 제조된, 이러한 컵은 전방에서 비추면 초록색으로 보이고 후방에서 비추면 빨간색으로 보인다. 이러한 이색성은 플라즈모닉 타입의 표면 현상을 발생시키는 적은 비율들의 금 및 은 나노입자의 유리에서의 존재로 인한 것이다. 표면 플라즈모닉 현상은 금속 입자들의 크기보다 훨씬 큰 파장 λ 의 동일한 전자기장에 노출된 금속의 모든 자유 전자들이 집합적으로 그리고 동상으로 (in phase) 진동할 때 관찰된다. 따라서, 광조사에 노출된 금속 나노입자들은 여기된 플라즈모닉 진동들로 인해 광산란 특성들을 갖는다. 이들 특성은 입자의 형상, 그 크기, 그 성질 및 그것들이 분산된 매체에 따른다.
플라즈모닉 효과를 사용한 금속 상에서 컬러들의 생성은 Lycurgus 컵에 의해 증명되는 바와 같이 그 내구성 및 잉크들, 페인트들 또는 색소들을 회피할 가능성으로 인해 큰 관심을 받고 있다. 플라스몬들을 이용함으로써 금속들을 컬러링하기 위한 기술이 캐나다 연구진들에 의해 제안되었다. 이러한 기술은 금, 은, 구리 또는 알루미늄 부품들의 표면 상에 레이저 빔에 의해 제어되는 나노구조들을 생성하는 것으로 이루어진다. 이러한 결과를 달성하도록, 금속 부품들은 1.064 ㎛ 의 파장의 근적외선을 방출하는 레이저에 의해 발생되는 레이저 펄스들의 버스트들로 처리되었다. 레이저 펄스의 지속 시간은 10-12 s 이고, 펄스들의 각각의 버스트는 동등한 시간 간격들에 의해 다음 버스트로부터 분리된다. 레이저 빔이 금속 부품의 표면 상에 생성될 전체 이미지를 추종하게 하도록, 이러한 레이저 빔의 변위는 컴퓨터에 의해 제어되는 서보 제어형 미러들의 세트에 의해 보장된다. 따라서, 이러한 레이저 펄스들은 처리된 금속 부품의 표면 상에 나노입자들을 생성하고 매우 완전한 범위의 컬러들을 얻을 수 있게 허용한다.
본 발명은 금속들을 컬러링하기 위한 새로운 기술을 제공하는 것을 목적으로 한다.
이를 달성하도록, 본 발명은 금속으로 제조된 처리될 부품을 컬러링하기 위한 방법에 관한 것이고, 상기 방법은, 단일 또는 다중 하전된 이온들의 소스에 의해 생성된 단일 또는 다중 하전된 이온 빔을 이러한 처리될 부품을 향해 지향시킴으로써, 처리될 부품의 표면 층에서 단일 또는 다중 하전된 이온들을 주입 (implant) 하는 것으로 이루어진 단계를 포함하고, 상기 처리될 부품은 이러한 이온 주입의 영향 하에서 컬러를 변화시킨다.
본 발명의 특정한 실시예들에 따르면:
- 단일 또는 다중 하전된 이온 소스는 ECR 이온 소스이고;
- 처리될 부품은 이온 주입 처리에 영향을 받지않는 지지 부품 상에 고정되고;
- 지지 부품은 세라믹 부품이고;
- 지지 부품은 외부 부품이고;
- 외부 부품은 와치제조를 위해 또는 보석을 위해 의도되고;
- 외부 부품은 와치 미들, 와치 케이스 백, 와치 베젤, 와치 다이얼, 와치 팔찌 또는 보석 링크, 와치 무브먼트의 브릿지 또는 플레이트, 와치 바늘들 및 링에 의해 형성된 그룹으로부터 선택되고;
- 처리될 부품이 제조되는 금속은 금, 은, 백금, 팔라듐, 루테늄, 이리듐 및 이들 귀금속의 합금들에 의해 형성된 귀금속들의 그룹으로부터 선택되고;
- 처리될 부품은 구리, 알루미늄, 지르코늄, 티타늄 또는 이들 금속의 합금들을 사용하여 제조되고;
- 이온화될 재료는 탄소, 질소, 산소, 헬륨 및 아르곤에 의해 형성된 그룹으로부터 선택되고;
- 단일 또는 다중 하전된 이온들은 12.5 kV 내지 47.5 kV 의 전압들 하에서 가속되고, 이온 빔 파워는 4 mA 내지 15 mA 이고, 주입된 이온 도즈는 5.1015 ions.cm-2 내지 75.1016 ions.cm-2 이고;
- 처리될 부품은 단일 또는 다중 하전된 이온 빔이 인젝팅되는 진공 챔버에 위치되고;
- 이온 주입 처리 후, 처리될 부품은 어닐링 열처리를 거친다.
본 발명은 또한 본 발명에 따른 컬러링 방법을 사용하는 컬러링된 금속 부품에 관한 것이다.
이러한 특징들로 인해, 본 발명은 지지 부품 상에 임의의 적합한 수단에 의해 고정되거나 대규모의 착색된 금속 부품들의 제조방법을 제공한다. 이온 빔으로 금속 부품에 적절하게 충격시킴으로써, 제어되고 재현가능한 방식으로 이러한 금속 부품의 컬러를 변경하는 것이 가능하도록 실제로 실현되었다. 이러한 방법은 금속 부품들이 지지 부품 상에 고정되는 경우에 특히 흥미롭다. 실제로, 지지 부품이 이온 충격에 영향을 받지 않는다면, 임의의 특별한 주의들 없이 금속 부품들의 컬러를 변경하는 것이 가능하고; 특히, 길고 지루한 마스킹 작업들이 회피된다. 따라서, 본 발명에 따른 방법은 예를 들면 와치 베젤과 같은 세라믹 부품 상에 고정된 시간 인덱스들과 같은 금속성 개재물들을 컬러링하도록 허용함으로써 와치제조 및 보석 분야들에서 특히 그 모든 관심을 받는다. 또한, 본 발명에 따른 방법은 구현하는 데 쉽고 빠르며, 임의의 오염 또는 독성 물질을 포함하지 않는다.
본 발명의 다른 특징들 및 장점들은 본 발명에 따른 방법의 실시예를 따르는 상세한 설명으로부터 더 명확하게 될 것이며, 이러한 예는 단지 첨부된 도면과 관련하여 단지 예시적이고 비제한적인 방식으로 주어진다.
- 도 1 은 ECR 전자 사이클로트론 공명 타입의 이온 소스의 개략도이다.
- 도 2 는 본 발명에 따른 방법을 구현하기 위한 이온 주입 설비의 개략도이다.
- 도 3a 및 도 3b 는 그것이 일단 이온 주입 방법을 거친다면 처리될 부품의 컬러에서의 변화를 개략적으로 예시한다.
- 도 2 는 본 발명에 따른 방법을 구현하기 위한 이온 주입 설비의 개략도이다.
- 도 3a 및 도 3b 는 그것이 일단 이온 주입 방법을 거친다면 처리될 부품의 컬러에서의 변화를 개략적으로 예시한다.
본 발명은 고체 금속 부품에 충격을 가하거나, 또는 따라서 충격이 가해진 금속 부품의 컬러를 변경하도록 단일 또는 다중 하전된 이온 빔에 의해 지지 부품의 표면에 부착되는 것으로 이루어진 전체적인 발명의 사상으로부터 진행된다. 이러한 특징들로 인해, 본 발명은 독성이거나 오염성 제품들을 사용하지 않고 따라서 주입하는 데 간단하고 신속한, 금속 부품들을 컬러링하기 위한 방법을 제공한다. 또한, 금속 부품이 지지 부품에 부착되는 경우, 지지 부품이 제조되는 재료가 이온 충격에 영향을 받지 않는다면, 길고 지루한 마스킹 작업들을 수행할 필요 없이, 충격된 금속 부품의 컬러를 변경하는 것이 가능하다.
본 발명에 따른 방법의 구현을 위해, 전자 사이클로트론 공명 타입의 단일 또는 다중 하전된 이온들의 소스를 사용하는 것이 유리하다. 또한 ECR 로서 알려진 이러한 설비는 플라즈마를 생성하도록 전자들의 사이클로트론 공명을 사용한다. 저압의 기체의 볼륨은, 이온화될 기체의 볼륨의 내측에 위치되는 영역에 적용되는 자기장에 의하여 규정되는 전자 사이크로트론 공명에 상당하는 주파수로 인젝팅되는 마이크로파들에 의해 이온화된다. 마이크로파들은 이온화될 기체의 볼륨에 존재하는 자유 전자들 가열한다. 이러한 자유 전자들은, 열 교란의 영향 하에서, 원자들 또는 기체 분자들과 충돌하고 그들의 이온화를 발생시킬 것이다. 생성된 이온들은 사용된 기체의 타입에 상응한다. 이러한 기체는 순수 기체이거나 화합물일 수 있다. 그것은 또한 고체 또는 액체 재료로부터 얻어진 증기일 수 있다. ECR 이온 소스는 단일-하전된 이온들, 즉 +1 과 동등한 이온화도를 갖는 이온들, 또는 다중-하전된 이온들, 즉 +1 보다 큰 이온화도를 갖는 이온들을 생성할 수 있다. 이온 빔은 또한 단일 및 다중 하전된 이온들의 혼합물에 상응할 수 있다.
ECR 전자 사이클로트론 공명 타입의 이온 소스는 본 특허 출원에 첨부된 도 1 에 개략적으로 도시된다. 전체적으로 일반적인 도면부호 1 로서 지시되는 이러한 ECR 이온 소스는 이온화될 기체의 볼륨 (4) 및 마이크로파 (6) 가 도입되는 인젝션 스테이지 (2), 플라즈마 (10) 가 생성되는 자기 밀폐 스테이지 (8), 및 고전압이 그 사이에 인가되는 애노드 (14a) 및 캐소드 (14b) 에 의해 플라즈마 (10) 로부터 이온들을 추출 및 가속시키는 것을 허용하는 추출 스테이지 (12) 를 포함한다. ECR 이온 소스 (1) 의 출력에서 생성되는 이온 빔 (16) 은 처리될 부품 (20) 의 표면 (18) 을 타격하고 처리될 부품 (20) 의 표면 내로 침투한다.
처리될 부품 (20) 은 금속 부품이다. 처리될 부품이 제조되는 금속은 바람직하게는 그러나 비제한적 방식으로 금, 은, 백금, 팔라듐, 루테늄, 이리듐 및 이들 귀금속의 합금들에 의해 형성된 귀금속들의 그룹으로부터 선택된다. 본 발명의 또 다른 특정 실시예에 따르면, 처리될 부품은 구리, 알루미늄, 지르코늄, 티타늄 또는 이들 금속의 합금들을 사용하여 제조될 수 있다.
바람직하게 그러나 배타적이지는 않게, 이온화될 제료는 탄소, 질소, 산소, 헬륨 및 아르곤에 의해 형성된 그룹으로부터 선택되고, 단일 또는 다중 하전된 이온들은 12.5 kV 내지 47.5 kV 의 전압들 하에서 가속된다. 이온 빔 (16) 파워는 4 mA 내지 15 mA이고, 주입된 이온 도즈는 5.1015 ions.cm-2 내지 75.1016 ions.cm-2 이다. 이온 주입 방법은 원하는 컬러가 관찰될 때 중단된다.
본 발명에 따른 방법의 구현을 허용하는 이온 주입 설비가 도 2 에 개략적으로 도시된다. 전체적으로 일반적인 도면부호 22 로 지시된, 이러한 이온 주입 설비는 이온 주입 방법을 거치도록 의도된 처리될 부품 (20) 이 위치되는 시일링된 인클로저 (26) 에서 진공 챔버 (24) 를 포함한다.
처리될 부품 (20) 은 대규모일 수 있다. 또한, 그것은 특히 와치를 위한 베젤 (28) 과 같은 와치제조 또는 보석을 위한 외부 부품일 수 있다. 특정 예시적인 실시예에서, 이러한 베젤 (28) 은 세라믹 재료로 제조되고, 그 표면 상에 제조된 리세스들에서 금속 인서트들 (30) 을 수용한다. 컬러가 변경될 이들 금속 인서트들 (30) 은, 예를 들어 베젤 (28) 의 표면 상에서, 그들의 형상들 및/또는 그들의 치수들에 의해 변할 수 있는 일련의 넘버들 및 인덱스들을 형성한다 (도 3a 참조).
이온 소스, 여기서는 ECR (1) 이온 소스는 진공 챔버 (24) 의 시일링된 인클로저 (26) 에 시일링 방식으로 고정되고, 이러한 시일링된 인클로저 (26) 에 형성된 개구 (32) 를 향한다. 전술한 것과 동일한 타입의 이러한 ECR 이온 소스 (1) 는, 그것이 생성하는 단일 또는 다중 하전된 이온 빔 (16) 이 시일링된 인클로저 (26) 로 전파되고 처리될 부품 (20) 의 표면을 타격하도록 배향된다. 처리될 부품 (20) 을 타격하는 단일 또는 다중 하전된 이온들은 이러한 처리될 부품 (20) 의 표면 내로 더 깊거나 덜 깊게 침투하여 상기 부품의 컬러를 변경시킨다.
금속 인서트들 (30) 을 갖는 세라믹 베젤 (28) 에 적용된, 본 발명에 따른 방법의 구현의 몇 가지 수치적 예가 아래에 주어진다.
금속 인서트들 (30) 이 지르코늄과 알루미늄의 합금으로 제조되는 경우에, 35 kV 의 전압 하에서 가속된 7 mA 의 파워를 갖는 질소 이온들의 빔에 의한 이들 금속 인서트들 (30) 의 처리는 이온 주입 도즈가 50.1016 ions.cm-2 일 때 이들 금속 인서트들 (30) 에 청색을 제공하도록 허용되었다.
금속 인서트들 (30) 이 티타늄으로 제조되는 경우에, 37.5 kV 의 전압 하에서 가속된 6 mA 의 파워를 갖는 질소 이온 빔에 의한 이들 금속 인서트들 (30) 의 처리는 이온 주입 도즈가 25.1016 ions.cm-2 일 때 이들 금속 인서트들 (30) 에 금색을 제공하도록 허용하였다.
금속 인서트들 (30) 이 티타늄으로 제조되는 경우에, 20.0 kV 의 전압 하에서 가속된 6 mA 의 파워를 갖는 질소 이온의 빔에 의한 이들 금속 인서트들 (30) 의 처리는 이온 주입 도즈가 25.1016 ions.cm-2 일 때 이들 금속 인서트들 (30) 에 청색을 제공하도록 허용하였다.
금속 인서트들 (30) 이 티타늄으로 제조되는 경우에, 12.5 kV 의 전압 하에서 가속된 4 mA 의 파워를 갖는 산소 이온들의 빔에 의한 이들 금속 인서트들 (30) 의 처리는 이온 주입 도즈가 25.1016 ions.cm-2 일 때 이들 금속 인서트들 (30) 에 보라색을 제공하도록 허용되었다.
도 3a 및 도 3b 는 그것이 본 발명에 따른 이온 주입 방법을 거치는 경우 처리될 부품 (20) 의 컬러에서의 변화를 개략적으로 예시한다. 세라믹 베젤 (28) 과 같은 와치제조를 위한 외부 부품의 경우 (도 3a 참조), 금속 인서트들 (30) 의 컬러에서 변화가 이온 주입 처리 후 관찰된다 (도 3b 참조).
본 발명이 단지 설명한 실시예에 제한되는 것은 아니며, 다양한 수정 및 변형이 첨부된 청구항들에 의해 규정된 바와 같이 본 발명의 범위로부터 벗어나지 않고 당업자에게 고려될 수 있다는 것은 말할 필요도 없다. 특히, 단일 또는 다중 하전된 이온들은 이온화도가 +1 이상인 이온들을 의미한다는 점에 유의해야 한다. 또한, 이온 빔은 모두 동일한 이온화도를 갖는 이온들로 구성될 수 있거나, 상이한 이온화도를 갖는 이온들의 혼합으로부터 기인될 수 있다는 것에 주목해야 한다. 또한, 예를 들어, 세라믹 베젤의 금속 인서트들이 처리되는 경우에, 마스킹 작업이 필요수적이지 않으며; 베젤의 전체 표면은 이것이 세라믹 재료의 기계적 특성들 또는 외관을 변경시키지 않고 이온 빔에 노출될 수 있다. 금속 인서트들4의 컬러만 변경될 것이다. 금속 인서트들의 컬러를 더 심도있게 하거나 심지어 그것을 변화시키도록, 이온 주입 처리 후에, 처리될 부품, 예를 들어 그 금속 인서트들을 갖는 세라믹 베젤을 어닐링 열 처리를 거치게 하는 것이 가능하다. 이 경우에도, 어닐링 처리는 세라믹의 특성들에 영향을 미치지 않을 것이다.
1 ECR 이온 소스
2 인젝션 스테이지
4 이온화될 기체의 볼륨
6 마이크로파
8 자기 밀폐 스테이지
10 플라즈마
12 추출 단계
14a 애노드
14b 캐소트
16 이온 빔
18 표면
20 처리될 부품
22 이온 주입 설비
24 진공 챔버
26 시일링된 인클로저
28 베젤
30 금속성 개재물들
32 개구
2 인젝션 스테이지
4 이온화될 기체의 볼륨
6 마이크로파
8 자기 밀폐 스테이지
10 플라즈마
12 추출 단계
14a 애노드
14b 캐소트
16 이온 빔
18 표면
20 처리될 부품
22 이온 주입 설비
24 진공 챔버
26 시일링된 인클로저
28 베젤
30 금속성 개재물들
32 개구
Claims (21)
- 금속으로 제조된 처리될 부품 (20) 을 컬러링하기 위한 방법으로서,
상기 방법은, 단일 또는 다중 하전된 이온들의 소스에 의해 생성된 단일 또는 다중 하전된 이온 빔을 상기 처리될 부품 (20) 을 향해 지향시킴으로써, 상기 처리될 부품 (20) 의 표면 층에서 단일 또는 다중 하전된 이온들을 주입 (implant) 하는 것으로 이루어진 단계를 포함하고,
상기 처리될 부품 (20) 은 이온 주입의 영향 하에서 컬러를 변화시키는, 금속으로 제조된 처리될 부품을 컬러링하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
단일 또는 다중 하전된 이온 소스는 ECR 이온 소스 (1) 인 것을 특징으로 하는, 금속으로 제조된 처리될 부품을 컬러링하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 처리될 부품 (20) 은 이온 주입 처리에 영향을 받지않는 지지 부품 상에 고정되는 것을 특징으로 하는, 금속으로 제조된 처리될 부품을 컬러링하기 위한 방법. - 제 2 항에 있어서,
상기 처리될 부품 (20) 은 이온 주입 처리에 영향을 받지않는 지지 부품 상에 고정되는 것을 특징으로 하는, 금속으로 제조된 처리될 부품을 컬러링하기 위한 방법. - 제 3 항에 있어서,
상기 지지 부품은 세라믹 부품인 것을 특징으로 하는, 금속으로 제조된 처리될 부품을 컬러링하기 위한 방법. - 제 4 항에 있어서,
상기 지지 부품은 세라믹 부품인 것을 특징으로 하는, 금속으로 제조된 처리될 부품을 컬러링하기 위한 방법. - 제 5 항에 있어서,
상기 지지 부품은 외부 부품인 것을 특징으로 하는, 금속으로 제조된 처리될 부품을 컬러링하기 위한 방법. - 제 6 항에 있어서,
상기 지지 부품은 외부 부품인 것을 특징으로 하는, 금속으로 제조된 처리될 부품을 컬러링하기 위한 방법. - 제 7 항에 있어서,
상기 외부 부품은 와치제조 또는 보석을 위해 의도된 것을 특징으로 하는, 금속으로 제조된 처리될 부품을 컬러링하기 위한 방법. - 제 8 항에 있어서,
상기 외부 부품은 와치제조 또는 보석을 위해 의도된 것을 특징으로 하는, 금속으로 제조된 처리될 부품을 컬러링하기 위한 방법. - 제 9 항에 있어서,
상기 외부 부품은 와치 미들, 와치 케이스 백, 와치 베젤, 와치 다이얼, 와치 팔찌 또는 보석 링크, 와치 무브먼트의 브릿지 또는 플레이트, 와치 바늘들 및 링에 의해 형성된 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 금속으로 제조된 처리될 부품을 컬러링하기 위한 방법. - 제 10 항에 있어서,
상기 외부 부품은 와치 미들, 와치 케이스 백, 와치 베젤, 와치 다이얼, 와치 팔찌 또는 보석 링크, 와치 무브먼트의 브릿지 또는 플레이트, 와치 바늘들 및 링에 의해 형성된 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 금속으로 제조된 처리될 부품을 컬러링하기 위한 방법. - 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 처리될 부품 (20) 이 제조되는 금속은 금, 은, 백금, 팔라듐, 루테늄, 이리듐 및 이들 귀금속들의 합금들에 의해 형성된 귀금속들의 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 금속으로 제조된 처리될 부품을 컬러링하기 위한 방법. - 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 처리될 부품 (20) 은 구리, 알루미늄, 지르코늄, 티타늄 또는 이들 금속의 합금들을 사용하여 제조되는 것을 특징으로 하는, 금속으로 제조된 처리될 부품을 컬러링하기 위한 방법. - 제 13 항에 있어서,
이온화될 재료는 탄소, 질소, 산소, 헬륨 및 아르곤에 의해 형성된 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 금속으로 제조된 처리될 부품을 컬러링하기 위한 방법. - 제 14 항에 있어서,
이온화될 재료는 탄소, 질소, 산소, 헬륨 및 아르곤에 의해 형성된 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 금속으로 제조된 처리될 부품을 컬러링하기 위한 방법. - 제 15 항에 있어서,
단일 또는 다중 하전된 이온들은 12.5 kV 내지 47.5 kV 의 전압들 하에서 가속되고, 이온 빔 파워는 4 mA 내지 15 mA 이고, 주입된 이온 도즈는 5.1015 ions.cm-2 내지 75.1016 ions.cm-2 인 것을 특징으로 하는, 금속으로 제조된 처리될 부품을 컬러링하기 위한 방법. - 제 16 항에 있어서,
단일 또는 다중 하전된 이온들은 12.5 kV 내지 47.5 kV 의 전압들 하에서 가속되고, 이온 빔 파워는 4 mA 내지 15 mA 이고, 주입된 이온 도즈는 5.1015 ions.cm-2 내지 75.1016 ions.cm-2 인 것을 특징으로 하는, 금속으로 제조된 처리될 부품을 컬러링하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 처리될 부품 (20) 은 단일 또는 다중 하전된 이온 빔 (16) 이 인젝팅되는 진공 챔버 (24) 에 위치되는 것을 특징으로 하는, 금속으로 제조된 처리될 부품을 컬러링하기 위한 방법. - 제 19 항에 있어서,
상기 이온 주입 처리 후, 상기 처리될 부품 (20) 은 어닐링 열처리를 거치는 것을 특징으로 하는, 금속으로 제조된 처리될 부품을 컬러링하기 위한 방법. - 제 1 항 내지 제 12 항 및 제 19 항 내지 제 20 항 중 어느 한 항에 따른 컬러링하기 하기 위한 방법에 의해 컬러링되고 금속으로 제조된 처리될 부품.
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| EP2383244A1 (fr) | 2010-04-23 | 2011-11-02 | Omega SA | Elément céramique incrusté d'au moins un décor métallique |
| US8961711B2 (en) * | 2010-05-24 | 2015-02-24 | Air Products And Chemicals, Inc. | Method and apparatus for nitriding metal articles |
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| CN103302916B (zh) * | 2012-03-16 | 2016-08-17 | 深圳富泰宏精密工业有限公司 | 镀膜件及其制备方法 |
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