KR20220130604A - 광학 적층체, 그 제조 방법 및 화상 표시 장치 - Google Patents

광학 적층체, 그 제조 방법 및 화상 표시 장치 Download PDF

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Abstract

[과제] 고온 내구성이 우수한 광학 적층체, 이 광학 적층체를 갖춘 화상 표시 장치 및 광학 적층체의 제조 방법을 제공하는 것.
[해결수단] 제1 보호 필름과 편광 소자와 고위상차 필름을 이 순서로 갖는 광학 적층체로서, 제1 보호 필름의 온도 23℃에서의 광탄성 계수의 절대치는 8×10-12 Pa-1 이하이고, 편광 소자의 함수율은 온도 20℃ 상대습도 20%의 평형 함수율 이상이면서 또한 온도 20℃ 상대습도 48%의 평형 함수율 이하이고, 고위상차 필름의 파장 550 nm에 있어서의 면내 위상차치 Re[550]은 3000 nm 이상 30000 nm 이하이고, 고위상차 필름의 지상축과 상기 편광 소자의 흡수축이 이루는 각도는 40°이상 50°이하이다.

Description

광학 적층체, 그 제조 방법 및 화상 표시 장치{OPTICAL LAMINATE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND IMAGE DISPLAY DEVICE}
본 발명은 광학 적층체에 관한 것이며, 나아가서는 그 제조 방법 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.
차량 탑재용 화상 표시 장치에 있어서 액정 표시 장치의 백라이트로서 백색 발광 다이오드를 이용함과 더불어, 편광자의 시인자 측에 3000∼30000 nm의 리타데이션을 갖는 고분자 필름을, 편광자의 흡수축과 고분자 필름의 지상축이 이루는 각도가 대략 45°가 되도록 배치하여 이용하는 시인성 개선 방법이 기재되어 있다(특허문헌 1).
[특허문헌 1] 일본 특허공개 2011-81219호 공보
차량 탑재 용도로 사용되는 화상 표시 장치는, 고온 환경에 노출되는 경우가 많아, 화상 표시 장치에 이용되는 광학 적층체도 또한 고온 내구성이 요구되고 있다.
본 발명의 목적은, 고온 내구성이 우수한 광학 적층체, 이 광학 적층체를 갖춘 화상 표시 장치 및 광학 적층체의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명은 이하의 광학 적층체, 화상 표시 장치 및 광학 적층체의 제조 방법을 제공한다.
[1] 제1 보호 필름과 편광 소자와 고위상차 필름을 이 순서로 갖는 광학 적층체로서,
상기 제1 보호 필름의 온도 23℃에서의 광탄성 계수의 절대치는 8×10-12 Pa-1 이하이고,
상기 편광 소자의 함수율은 온도 20℃ 상대습도 20%의 평형 함수율 이상이면서 또한 온도 20℃ 상대습도 48%의 평형 함수율 이하이고,
상기 고위상차 필름의 파장 550 nm에 있어서의 면내 위상차치 Re[550]은 30 00 nm 이상 30000 nm 이하이고,
상기 고위상차 필름의 지상축과 상기 편광 소자의 흡수축이 이루는 각도는 40°이상 50°이하인 광학 적층체.
[2] 제1 보호 필름과 편광 소자와 고위상차 필름을 이 순서로 갖는 광학 적층체로서,
상기 광학 적층체의 함수율은 온도 20℃ 상대습도 20%의 평형 함수율 이상이면서 또한 온도 20℃ 상대습도 48%의 평형 함수율 이하이고,
상기 제1 보호 필름의 온도 23℃에서의 광탄성 계수의 절대치는 8×10-12 Pa-1 이하이고,
상기 고위상차 필름은 파장 550 nm에 있어서의 면내 위상차치 Re[550]은 30 00 nm 이상 30000 nm 이하이고,
상기 고위상차 필름의 지상축과 상기 편광 소자의 흡수축이 이루는 각도는 40°이상 50°이하인 광학 적층체.
[3] 상기 제1 보호 필름이 환상 폴리올레핀계 수지, (메트)아크릴계 수지, 폴리스티렌계 수지 및 말레이미드계 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 [1] 또는 [2]에 기재한 광학 적층체.
[4] 상기 제1 보호 필름은 파장 550 nm에 있어서의 면내 위상차치 Re[550]이 10 nm 이하인 [1]∼[3] 중 어느 하나에 기재한 광학 적층체.
[5] 상기 고위상차 필름의 두께가 200 ㎛ 이하인 [1]∼[4] 중 어느 하나에 기재한 광학 적층체.
[6] 상기 광학 적층체는 화상 표시 장치에 이용되고,
상기 화상 표시 장치에 있어서, 상기 광학 적층체의 양면에는 공기층 이외의 층이 접하여 형성되어 있는 [1]∼[5] 중 어느 하나에 기재한 광학 적층체.
[7] 화상 표시 셀과, 상기 화상 표시 셀의 시인 측의 표면에 적층된 제1 점착제층과, 상기 제1 점착제층의 시인 측의 표면에 적층된 [1]∼[6] 중 어느 하나에 기재한 광학 적층체를 갖는 화상 표시 장치.
[8] 상기 광학 적층체의 시인 측의 표면에 적층된 제2 점착제층과, 상기 제2 점착제층의 시인 측의 표면에 적층된 투명 부재를 더 갖는 [7]에 기재한 화상 표시 장치.
[9] 상기 투명 부재가 유리판 또는 투명 수지판인 [8]에 기재한 화상 표시 장치.
[10] 상기 투명 부재가 터치 패널인 [8]에 기재한 화상 표시 장치.
[11] [1]에 기재한 광학 적층체의 제조 방법으로서,
상기 편광 소자의 함수율이 온도 20℃ 상대습도 20%의 평형 함수율 이상이면서 또한 온도 20℃ 상대습도 48%의 평형 함수율 이하가 되도록 함수율을 조정하는 함수율 조정 공정을 갖는 광학 적층체의 제조 방법.
[12] [2]에 기재한 광학 적층체의 제조 방법으로서,
상기 광학 적층체의 함수율이 온도 20℃ 상대습도 20%의 평형 함수율 이상이면서 또한 온도 20℃ 상대습도 48%의 평형 함수율 이하가 되도록 함수율을 조정하는 함수율 조정 공정을 갖는 광학 적층체의 제조 방법.
본 발명에 의하면, 고온 내구성이 우수한 광학 적층체, 이 광학 적층체를 갖춘 화상 표시 장치 및 광학 적층체의 제조 방법을 제공할 수 있다.
도 1은 광학 적층체의 층 구성의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 2는 광학 적층체의 층 구성의 다른 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 3은 광학 적층체의 층 구성의 또 다른 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 4는 화상 표시 장치의 층 구성의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 실시형태를 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시형태에 한정되는 것이 아니다. 이하의 모든 도면에서는 각 구성 요소를 이해하기 쉽게 하기 위해서 축척을 적절하게 조정하여 도시하고 있고, 도면에 도시되는 각 구성 요소의 축척과 실제의 구성 요소의 축척이 반드시 일치하지는 않는다.
<광학 적층체>
[제1 양태]
제1 양태에 따른 광학 적층체에 관해서 도면을 참조하면서 이하에 설명한다. 도 1에 도시하는 광학 적층체(10)는 제1 보호 필름(11)과 편광 소자(12)와 고위상차 필름(13)을 이 순서로 가지고, 제1 보호 필름(11)의 온도 23℃에서의 광탄성 계수의 절대치는 8×10-12 Pa-1 이하이고, 편광 소자(12)의 함수율은 온도 20℃ 상대습도 20%의 평형 함수율 이상이면서 또한 온도 20℃ 상대습도 48%의 평형 함수율 이하이고, 고위상차 필름(13)의 파장 550 nm에 있어서의 면내 위상차치 Re[550]은 3000 nm 이상 30000 nm 이하이고, 고위상차 필름(13)의 지상축과 편광 소자(12)의 흡수축이 이루는 각도는 40°이상 50°이하이다.
광학 적층체(10)는 상술한 층 이외의 다른 층을 더 포함하고 있어도 좋다. 다른 층으로서는 예컨대 제2 보호 필름, 접합층 등을 들 수 있다.
[제1 보호 필름]
제1 보호 필름(11)은 편광 소자(12), 특히 편광 소자(12)의 표면을 보호하기 위한 층이다. 도 1에 도시하는 것과 같이, 제1 보호 필름(11)은 편광 소자(12)의 고위상차 필름(13) 측과는 반대측에 배치된다. 제1 보호 필름(11)은 접합층만을 통해 또는 직접적으로 편광자층(12)에 적층될 수 있다.
제1 보호 필름(11)은 온도 23℃에서의 광탄성 계수의 절대치가 8×10-12 Pa-1 이하이다. 이러한 광탄성 계수가 작은 제1 보호 필름(11)을 이용함으로써, 고온 환경 하에 놓였을 때의 고위상차 필름(13)의 수축 응력에 따라 발생하는 제1 보호 필름(11)의 왜곡에 의해 발현되는 위상차치가 작아진다. 그 결과, 고온 환경 하에 놓인 후에도 시인성을 양호하게 하기 쉬운 경향이 있다.
제1 보호 필름(11)으로서는, 특별히 제한되지 않지만, 광탄성 계수의 절대치가 8×10-12 Pa-1 이하인 투광성을 갖는(바람직하게는 광학적으로 투명한) 열가소성 수지, 예컨대 쇄상 폴리올레핀계 수지(폴리프로필렌계 수지 등), 환상 폴리올레핀계 수지(노르보르넨계 수지 등)와 같은 폴리올레핀계 수지; 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스와 같은 셀룰로오스계 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트와 같은 폴리에스테르계 수지; 폴리카보네이트계 수지; 메타크릴산메틸계 수지와 같은 (메트)아크릴계 수지; 폴리스티렌계 수지; 폴리염화비닐계 수지; 아크릴로니트릴·부타디엔·스티렌계 수지; 아크릴로니트릴·스티렌계 수지; 폴리아세트산비닐계 수지; 폴리염화비닐리덴계 수지; 폴리아미드계 수지; 폴리아세탈계 수지; 변성 폴리페닐렌에테르계 수지; 폴리술폰계 수지; 폴리에테르술폰계 수지; 폴리아릴레이트계 수지; 폴리아미드이미드계 수지; 폴리이미드계 수지; 말레이미드계 수지 등을 포함하는 필름일 수 있다.
특히 제1 보호 필름(11)은 광탄성 계수가 작은 것을 이용하는 것이 바람직하다. 즉, 환상 폴리올레핀계 수지, (메트)아크릴계 수지, 폴리스티렌계 수지 및 말레이미드계 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 필름을 이용하는 것이 바람직하다.
제1 보호 필름(11)의 온도 23℃에서의 광탄성 계수는, 바람직하게는 0.05×10-12 Pa-1 이상 8.0×10-12 Pa-1 이하, 보다 바람직하게는 0.1×10-12 Pa-1 이상 5.0×10-12 Pa-1 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.2×10-12 Pa-1 이상 3.0×10-12 Pa-1 이하이다. 또한, 광탄성 계수는 후술하는 실시예에 기재한 방법으로 측정된 값이다.
제1 보호 필름(11)의 면내 위상차치 Re[550]은, 상기한 광탄성 계수의 범위라면, 10 nm 이하 혹은 50∼300 nm로 조정된 것을 이용하는 것이 바람직하다. 특히 바람직하게는 10 nm 이하의 면내 위상차치를 갖는 필름으로 함으로써 보다 높은 효과를 얻을 수 있다. 이것은, 위상차를 가진 필름은, 고위상차 필름의 비스듬한 방향의 응력 완화에 의해, 위상차치가 변화되면서 또한 그 광학축도 변화함으로써, 흑 표시 시의 빛샘이 커지기 때문이라고 추정된다. 액정 표시 장치 등에 광학 보상 필름으로서 위상차 필름을 적용하는 경우에는, 쌍으로 사용하는 또 1장의 편광판에 상기 광학 보상 필름을 배치하는 것도 유용한 설계 수단이 된다.
본 명세서에 있어서 면내 위상차치 Re[λ]는 23℃, 파장 λ(nm)에 있어서의 필름의 면내의 위상차치를 말한다. 예컨대 면내 위상차치 Re[550]은 23℃, 파장 550(nm)에 있어서의 필름의 면내의 위상차치를 의미한다. Re[λ]는, 필름의 두께 를 d(nm)로 했을 때, Re[λ]=(nx-ny)×d에 의해서 구해진다. 또한, 두께 방향 위상차치 Rth[λ]는 23℃, 파장 λ(nm)에 있어서의 필름의 두께 방향의 위상차치를 말한다. Rth[λ]는, 필름의 두께를 d(nm)로 했을 때, Rth[λ]=((nx+ny)/2-nz)×d에 의해서 구해진다. 「nx」는 면내의 굴절률이 최대가 되는 방향(즉, 지상축 방향)의 굴절률이고, 「ny」는 면내에서 지상축과 직교하는 방향의 굴절률이고, 「nz」는 두께 방향의 굴절률이다.
환상 폴리올레핀계 수지는, 환상 올레핀을 중합 단위로 하여 중합되는 수지의 총칭이며, 예컨대 일본 특허공개 평1-240517호 공보, 일본 특허공개 평3-14882호 공보, 일본 특허공개 평3-122137호 공보 등에 기재되어 있는 수지를 들 수 있다. 환상 폴리올레핀계 수지의 구체예를 들면, 환상 올레핀의 개환 (공)중합체, 환상 올레핀의 부가 중합체, 환상 올레핀과 에틸렌, 프로필렌과 같은 쇄상 올레핀과의 공중합체(대표적으로는 랜덤 공중합체) 및 이들을 불포화 카르복실산이나 그 유도체로 변성한 그라프트 중합체, 그리고 이들의 수소화물이다. 그 중에서도 환상 올레핀으로서 노르보르넨이나 다환 노르보르넨계 모노머와 같은 노르보르넨계 모노머를 이용한 노르보르넨계 수지가 바람직하게 이용된다.
환상 올레핀계 수지로 제1 보호 필름(11)을 제조하는 방법은 특별히 제한되지 않고, 그 수지에 따른 방법을 적절하게 선택하면 된다. 예컨대 용매에 용해시킨 수지를 금속제 밴드 또는 드럼에 유연(流延)하고, 용매를 건조 제거하여 필름을 얻는 용매 캐스트법, 그리고 수지를 그 용융 온도 이상으로 가열·혼련하여 다이로부터 압출하고, 냉각 드럼에 의해서 냉각됨으로써 필름을 얻는 용융 압출법이 채용된다. 그 중에서도 생산성의 관점에서는 용융 압출법이 바람직하게 채용된다.
상기 환상 올레핀계 수지 필름의 파장 550 nm에 있어서의 면내 위상차치 Re[550]은 바람직하게는 10 nm 이하이고, 보다 바람직하게는 7 nm 이하이고, 더욱 바람직하게는 5 nm 이하이고, 특히 바람직하게는 3 nm 이하이며, 가장 바람직하게는 1 nm 이하이다. 파장 550 nm에 있어서의 환상 올레핀계 수지 필름의 두께 방향 위상차치 Rth[550]은, 바람직하게는 15 nm 이하이고, 보다 바람직하게는 10 nm 이하이고, 더욱 바람직하게는 5 nm 이하이고, 특히 바람직하게는 3 nm 이하이며, 가장 바람직하게는 1 nm 이하이다.
이어서, 상기 환상 올레핀계 수지 필름의 위상차치가 상기 조건을 만족하도록 제어하는 방법을 설명한다. 면내 위상차치를 10 nm 이하로 하기 위해서는, 면내 방향으로 잔류하는 연신 시의 왜곡을 최대한 작게 할 필요가 있으며, 또한, 두께 방향 위상차를 본 발명의 소정의 값 이하로 하기 위해서는, 두께 방향으로 잔류하는 왜곡을 최대한 작게 할 필요가 있다.
예컨대 상기 용매 캐스트법에서는, 그 유연 수지 용액을 건조했을 때에 생기는 면내 방향의 잔류 연신 왜곡 및 두께 방향의 잔류 수축 왜곡을 열처리에 의해서 완화시키는 방법 등이 채용된다. 또한, 상기 용융 압출법에서는, 수지 필름을 다이로부터 압출하여 냉각하기까지 동안에 연신되는 것을 막기 위해서, 다이에서부터 냉각 드럼까지의 거리를 최대한 줄이며 또한 압출량과 냉각 드럼의 회전 속도를 필름이 연신되지 않게 제어하는 방법 등이 채용된다. 또한, 상기 용융 압출법과 마찬가지로 얻어진 필름에 잔류하는 왜곡을 열처리에 의해서 완화시키는 방법도 채용된다.
또한, 본 발명의 광탄성 계수를 만족하는 범위에서, 액정 표시 장치의 광학 보상 필름으로서의 기능을 갖게 한 위상차 필름으로 하여도 좋다. 이러한 위상차 필름은, 상기 환상 올레핀계 수지 필름을 연신하여, 면내 위상차치를 부여함으로써 제작할 수 있다. 연신은, 공지된 세로 일축 연신이나 텐터 가로 일축 연신, 동시 이축 연신, 축차 이축 연신 등으로 행할 수 있으며, 원하는 위상차치가 얻어지도록 연신하면 된다.
예컨대 인-플레인 스위칭 모드의 액정 표시 장치에서는, 면내 위상차치를 50 nm 이상 300 nm 이하로 조정한 위상차 필름이 바람직하게 이용된다. 구체적으로는 일본 특허공개 2010-20287호 공보에 기재된 위상차 필름이나 일본 특허 3880996호 공보에 기재된 위상차 필름 등을 이용할 수 있다.
상기 환상 올레핀계 수지 필름의 두께는 바람직하게는 10 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 10 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하이고, 가장 바람직하게는 10 ㎛ 이상 65 ㎛ 이하이다. 두께가 10 ㎛ 미만이면 강도가 저하할 우려가 있다. 두께가 200 ㎛를 넘으면 투명성이 저하할 우려가 있다.
(메트)아크릴계 수지는 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물을 주된 구성 모노머로 하는 수지이다. (메트)아크릴계 수지의 구체예는, 예컨대 폴리메타크릴산메틸과 같은 폴리(메트)아크릴산에스테르; 메타크릴산메틸-(메트)아크릴산 공중합체; 메타크릴산메틸-(메트)아크릴산에스테르 공중합체; 메타크릴산메틸-아크릴산에스테르-(메트)아크릴산 공중합체; (메트)아크릴산메틸-스티렌 공중합체(MS 수지 등); 메타크릴산메틸과 지환족 탄화수소기를 갖는 화합물과의 공중합체(예컨대 메타크릴산메틸-메타크릴산시클로헥실 공중합체, 메타크릴산메틸-(메트)아크릴산노르보르닐 공중합체 등)를 포함한다. 바람직하게는 폴리(메트)아크릴산메틸과 같은 폴리(메트)아크릴산C1-6알킬에스테르를 주성분으로 하는 중합체가 이용되고, 보다 바람직하게는 메타크릴산메틸을 주성분(50∼100 질량%, 바람직하게는 70∼100 질량%)으로 하는 메타크릴산메틸계 수지가 이용된다.
상기 (메트)아크릴계 수지 필름의 파장 550 nm에 있어서의 면내 위상차치 Re[550]은 바람직하게는 10 nm 이하이고, 보다 바람직하게는 7 nm 이하이고, 더욱 바람직하게는 5 nm 이하이고, 특히 바람직하게는 3 nm 이하이며, 가장 바람직하게는 1 nm 이하이다. 파장 550 nm에 있어서의 (메트)아크릴계 수지 필름의 두께 방향 위상차치 Rth[550]은 바람직하게는 15 nm 이하이고, 보다 바람직하게는 10 nm 이하이고, 더욱 바람직하게는 5 nm 이하이고, 특히 바람직하게는 3 nm 이하이며, 가장 바람직하게는 1 nm 이하이다. 면내 위상차치 및 두께 방향 위상차치를 이러한 범위로 하기 위해서, 예컨대 후술하는 글루타르이미드 구조를 갖는 (메트)아크릴계 수지를 이용하여 얻을 수 있다.
상기 (메트)아크릴계 수지는 다른 구조 단위를 더 갖고 있어도 좋다. 다른 구조 단위로서는, 예컨대 락톤환, 폴리카보네이트, 폴리비닐알코올, 아세트산셀룰로오스, 폴리에스테르, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 폴리올레핀 등을 구성하는 구조 단위, 후술하는 일반식 (1)로 표시되는 구조 단위를 들 수 있다. 음의 복굴절을 발현하는 구조 단위로서는, 예컨대 스티렌계 모노머, 말레이미드계 모노머 등을 유래로 하는 구조 단위, 폴리메틸메타크릴레이트의 구조 단위, 후술하는 일반식 (3)으로 표시되는 구조 단위 등을 들 수 있다.
상기 (메트)아크릴계 수지로서, 락톤환 구조 또는 글루타르이미드 구조를 갖는 (메트)아크릴계 수지가 바람직하게 이용된다. 락톤환 구조 또는 글루타르이미드 구조를 갖는 (메트)아크릴계 수지는 내열성이 우수하다. 보다 바람직하게는 글루타르이미드 구조를 갖는 (메트)아크릴계 수지이다. 글루타르이미드 구조를 갖는 (메트)아크릴계 수지를 이용하면, 상기한 것과 같이, 저투습이며 또한 위상차 및 자외선 투과율이 작은 (메트)아크릴계 수지 필름을 얻을 수 있다. 글루타르이미드 구조를 갖는 (메트)아크릴계 수지(이하, 글루타르이미드 수지라고도 부른다)는, 예컨대 일본 특허공개 2006-309033호 공보, 일본 특허공개 2006-317560호 공보, 일본 특허공개 2006-328329호 공보, 일본 특허공개 2006-328334호 공보, 일본 특허공개 2006-337491호 공보, 일본 특허공개 2006-337492호 공보, 일본 특허공개 2006-337493호 공보, 일본 특허공개 2006-337569호 공보, 일본 특허공개 2007-009182호 공보, 일본 특허공개 2009-161744호 공보에 기재되어 있다. 이들 기재는 본 명세서에 참고로서 원용된다.
바람직하게는, 상기 글루타르이미드 수지는, 하기 일반식 (1)로 표시되는 구조 단위(이하, 글루타르이미드 단위라고도 부른다)와, 하기 일반식 (2)로 표시되는 구조 단위(이하, (메트)아크릴산에스테르 단위라고도 부른다)를 포함한다.
Figure pat00001
식 (1)에 있어서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1∼8의 알킬기이고, R3은 수소, 탄소수 1∼18의 알킬기, 탄소수 3∼12의 시클로알킬기, 또는 탄소수 5∼15의 방향환을 포함하는 치환기이다. 식 (2)에 있어서, R4 및 R5는 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1∼8의 알킬기이고, R6은 수소, 탄소수 1∼18의 알킬기, 탄소수 3∼12의 시클로알킬기, 또는 탄소수 5∼15의 방향환을 포함하는 치환기이다.
글루타르이미드 수지는 필요에 따라서 하기 일반식 (3)으로 표시되는 구조 단위(이하, 방향족 비닐 단위라고도 부른다)를 더 포함하고 있어도 좋다.
Figure pat00002
식 (3)에 있어서, R7은 수소 또는 탄소수 1∼8의 알킬기이고, R8은 탄소수 6∼10의 아릴기이다.
상기 일반식 (1)에 있어서, 바람직하게는 R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소 또는 메틸기이고, R3은 수소, 메틸기, 부틸기 또는 시클로헥실기이며, 더욱 바람직하게는 R1은 메틸기이고, R2는 수소이고, R3은 메틸기이다.
상기 글루타르이미드 수지는, 글루타르이미드 단위로서 단일 종류만을 포함하고 있어도 좋고, 상기 일반식 (1)에 있어서의 R1, R2 및 R3이 다른 복수 종류를 포함하고 있어도 좋다.
글루타르이미드 단위는 상기 일반식 (2)로 표시되는 (메트)아크릴산에스테르 단위를 이미드화함으로써 형성할 수 있다. 또한, 글루타르이미드 단위는, 무수말레산 등의 산무수물, 또는 이러한 산무수물과 탄소수 1∼20의 직쇄 또는 분기의 알코올과의 하프 에스테르; 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 무수말레산, 이타콘산, 무수이타콘산, 크로톤산, 푸마르산, 시트라콘산 등의 α,β-에틸렌성 불포화 카르복실산 등을 이미드화함에 의해서도 형성할 수 있다.
상기 일반식 (2)에 있어서, 바람직하게는 R4 및 R5는 각각 독립적으로 수소 또는 메틸기이며, R6은 수소 또는 메틸기이고, 더욱 바람직하게는 R4는 수소이고, R5는 메틸기이고, R6은 메틸기이다.
상기 글루타르이미드 수지는, (메트)아크릴산에스테르 단위로서 단일 종류만 을 포함하고 있어도 좋고, 상기 일반식 (2)에 있어서의 R4, R5 및 R6이 다른 복수 종류를 포함하고 있어도 좋다.
상기 글루타르이미드 수지는, 상기 일반식 (3)으로 표시되는 방향족 비닐 단위로서, 바람직하게는 스티렌, α-메틸스티렌 등을 포함하고, 더욱 바람직하게는 스티렌을 포함한다. 이와 같은 방향족 비닐 단위를 가짐으로써, 글루타르이미드 구조의 양의 복굴절성을 저감하여, 보다 저위상차의 (메트)아크릴계 수지 필름을 얻을 수 있다.
상기 글루타르이미드 수지는, 방향족 비닐 단위로서 단일 종류만을 포함하고 있어도 좋고, R7 및 R8이 다른 복수 종류를 포함하고 있어도 좋다.
상기 글루타르이미드 수지에 있어서의 상기 글루타르이미드 단위의 함유량은, 예컨대 R3의 구조 등에 의존하여 변화시키는 것이 바람직하다. 글루타르이미드 단위의 함유량은, 글루타르이미드 수지의 총 구조 단위를 기준으로 하여, 바람직하게는 1 질량%∼80 질량%이고, 보다 바람직하게는 1 질량%∼70 질량%이고, 더욱 바람직하게는 1 질량%∼60 질량%이고, 특히 바람직하게는 1 질량%∼50 질량%이다. 글루타르이미드 단위의 함유량이 이러한 범위라면, 내열성이 우수한 저위상차의 (메트)아크릴계 수지 필름을 얻을 수 있다.
상기 글루타르이미드 수지에 있어서의 상기 방향족 비닐 단위의 함유량은 목적이나 원하는 특성에 따라서 적절하게 설정될 수 있다. 용도에 따라서는 방향족 비닐 단위의 함유량은 0이라도 좋다. 방향족 비닐 단위가 포함되는 경우, 그 함유량은, 글루타르이미드 수지의 글루타르이미드 단위를 기준으로 하여, 바람직하게는 10 질량%∼80 질량%이고, 보다 바람직하게는 20 질량%∼80 질량%이고, 더욱 바람직하게는 20 질량%∼60 질량%이고, 특히 바람직하게는 20 질량%∼50 질량%이다. 방향족 비닐 단위의 함유량이 이러한 범위라면, 저위상차이면서 또한 내열성 및 기계적 강도가 우수한 (메트)아크릴계 수지 필름을 얻을 수 있다.
상기 글루타르이미드 수지에는, 필요에 따라서 글루타르이미드 단위, (메트)아크릴산에스테르 단위 및 방향족 비닐 단위 이외의 그 밖의 구조 단위가 더 공중합되어 있어도 좋다. 그 밖의 구조 단위로서는, 예컨대 아크릴로니트릴이나 메타크릴로니트릴 등의 니트릴계 단량체, 말레이미드, N-메틸말레이미드, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드 등의 말레이미드계 단량체로 구성되는 구조 단위를 들 수 있다. 이들의 그 밖의 구조 단위는, 상기 글루타르이미드 수지 중에, 직접 공중합하고 있어도 좋고, 그라프트 공중합하고 있어도 좋다.
상기 (메트)아크릴계 수지 필름은 목적에 따라서 임의의 적절한 첨가제를 함유할 수 있다. 첨가제로서는 예컨대 힌더드페놀계, 인계, 황계 등의 산화방지제; 내광안정제, 자외선흡수제, 내후안정제, 열안정제 등의 안정제; 유리 섬유, 탄소 섬유 등의 보강재; 근적외선흡수제; 트리스(디브로모프로필)포스페이트, 트리알릴포스페이트, 산화안티몬 등의 난연제; 음이온계, 양이온계, 논이온계의 계면활성제 등의 대전방지제; 무기 안료, 유기 안료, 염료 등의 착색제; 유기 필러나 무기 필러; 수지개질제; 가소제; 윤활제; 위상차저감제 등을 들 수 있다. 함유되는 첨가제의 종류, 조합, 함유량 등은 목적이나 원하는 특성에 따라서 적절하게 설정될 수 있다.
상기 (메트)아크릴계 수지 필름의 제조 방법으로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예컨대 (메트)아크릴계 수지와 자외선흡수제와 필요에 따라서 그 밖의 중합체나 첨가제 등을, 임의의 적절한 혼합 방법으로 충분히 혼합하여 미리 열가소성 수지 조성물로 하고 나서 이것을 필름 성형할 수 있다. 혹은 (메트)아크릴계 수지와 자외선흡수제와 필요에 따라서 그 밖의 중합체나 첨가제 등을, 각각 따로따로의 용액으로 하고 나서 혼합하여 균일한 혼합액으로 한 후, 필름 성형하여도 좋다.
상기 열가소성 수지 조성물을 제조하기 위해서는, 예컨대 옴니믹서 등, 임의의 적절한 혼합기로 상기한 필름 원료를 프리블렌드한 후, 얻어진 혼합물을 압출 혼련한다. 이 경우, 압출 혼련에 이용되는 혼합기는, 특별히 한정되는 것은 아니며, 예컨대 단축 압출기, 이축 압출기 등의 압출기나 가압 니더 등, 임의의 적절한 혼합기를 이용할 수 있다.
상기 필름 성형 방법으로서는, 예컨대 용액 캐스트법(용액 유연법), 용융 압출법, 카렌더법, 압축 성형법 등, 임의의 적절한 필름 성형법을 들 수 있다. 용융 압출법이 바람직하다. 용융 압출법은 용제를 사용하지 않기 때문에, 제조 비용이나 용제로 인한 지구 환경이나 작업 환경에 대한 부하를 저감할 수 있다.
상기 용융 압출법으로서는 예컨대 T 다이법, 인플레이션법 등을 들 수 있다. 성형 온도는 바람직하게는 150∼350℃, 보다 바람직하게는 200∼300℃이다.
상기 T 다이법으로 필름 성형하는 경우는, 공지된 단축 압출기나 이축 압출기의 선단부에 T 다이를 부착하고, 필름형으로 압출된 필름을 권취하여, 롤형의 필름을 얻을 수 있다. 이때, 권취 롤의 온도를 적절하게 조정하여, 압출 방향으로 연신을 가함으로써 일축 연신하는 것도 가능하다. 또한, 압출 방향과 수직인 방향으로 필름을 연신함으로써, 동시 이축 연신, 축차 이축 연신 등을 행할 수도 있다.
상기 (메트)아크릴계 수지 필름은, 상기 원하는 위상차를 얻을 수 있는 한, 미연신 필름 또는 연신 필름 중 어느 것이라도 좋다. 연신 필름인 경우는, 일축 연신 필름 또는 이축 연신 필름 중 어느 것이라도 좋다. 이축 연신 필름인 경우는, 동시 이축 연신 필름 또는 축차 이축 연신 필름 중 어느 것이라도 좋다.
상기 연신 온도는, 필름 원료인 열가소성 수지 조성물의 유리 전이 온도 근방인 것이 바람직하고, 구체적으로 바람직하게는 (유리 전이 온도-30℃)∼(유리 전이 온도+30℃), 보다 바람직하게는 (유리 전이 온도-20℃)∼(유리 전이 온도+20℃)의 범위 내이다. 연신 온도가 (유리 전이 온도-30℃) 미만이면, 얻어지는 필름의 헤이즈가 커지거나 혹은 필름이 터지거나 찢어지거나 하여 소정의 연신 배율을 얻지 못할 우려가 있다. 반대로 연신 온도가 (유리 전이 온도+30℃)를 넘으면, 얻어지는 필름의 두께 얼룩이 커지거나, 신장률, 인열 전파 강도 및 러빙 피로에 대한 내성 등의 역학적 성질을 충분히 개선할 수 없거나 하는 경향이 있다. 더욱이, 필름이 롤에 점착된다고 하는 트러블이 발생하기 쉽게 되는 경향이 있다.
상기 연신 배율은 바람직하게는 1.1∼3배, 보다 바람직하게는 1.3∼2.5배이다. 연신 배율이 이러한 범위이면, 필름의 신장률, 인열 전파 강도 및 러빙 피로에 대한 내성 등의 역학적 성질을 대폭 개선할 수 있다. 결과적으로, 두께 얼룩이 작고, 복굴절이 실질적으로 제로이며(따라서 위상차가 작으며), 또한 헤이즈가 작은 필름을 제조할 수 있다.
상기 (메트)아크릴계 수지 필름은, 그 광학적 등방성이나 기계적 특성을 안정화시키기 위해서, 연신 처리 후에 열처리(어닐링) 등을 행할 수 있다. 열처리 조건은 임의의 적절한 조건을 채용할 수 있다.
상기 (메트)아크릴계 수지 필름의 두께는 바람직하게는 10 ㎛∼200 ㎛이고, 보다 바람직하게는 15 ㎛∼100 ㎛이고, 가장 바람직하게는 15 ㎛∼65 ㎛이다. 두께가 10 ㎛ 미만이면 강도가 저하할 우려가 있다. 두께가 200 ㎛를 넘으면 투명성이 저하할 우려가 있다.
제1 보호 필름(11)은, 그 외면(편광 소자(12) 측과는 반대측의 면)에, 후술하는 하드코트층이나, 방현층, 반사방지층, 광확산층, 대전방지층, 방오층, 도전층과 같은 기능층을 갖는 것이라도 좋다. 제1 보호 필름(11)이 하드코트층이나 기능층을 갖는 경우, 제1 보호 필름(11)의 두께는 하드코트층이나 기능층의 두께를 포함한 것이다.
[하드코트층]
하드코트층은 경화성 수지의 경화물을 포함하는 층이다. 경화성 수지로서는 예컨대 열경화성 수지나 활성에너지선 경화성 수지 등을 들 수 있다. 경화성 수지의 경화물은 경화성 수지를 포함하는 경화 수지층 형성용 조성물로 형성할 수 있다. 경화 수지층 형성용 조성물은 예컨대 열 경화성 조성물, 양이온 경화성 조성물, 라디칼 경화성 조성물 등이라도 좋다. 경화 수지층 형성용 조성물은 예컨대 중합성 모노머, 중합개시제, 첨가제, 용제 등을 포함할 수 있다. 첨가제로서는 예컨대 가소제, 자외선흡수제, 적외선흡수제, 안료나 염료와 같은 착색제, 형광증백제, 분산제, 열안정제, 광안정제, 대전방지제, 산화방지제, 윤활제, 계면활성제 등을 들 수 있다.
제1 보호 필름(11)이 하드코트층을 갖는 경우, 편광 소자(12) 또는 제1 보호 필름(11)의 경도 및 내스크래치성을 향상시키기 쉽게 할 수 있다. 제1 보호 필름 (11)이 하드코트층을 갖춘 열가소성 수지 필름인 경우, 예컨대 제1 보호 필름(11)을 형성하는 열가소성 수지 필름 상에, 하드코트층 형성용 조성물을 도포하여 경화시켜, 하드코트 형성용 조성물의 경화물을 형성함으로써 하드코트층을 갖춘 열가소성 수지 필름을 제작하고, 이어서 접착제층을 통해 편광 소자(12)와 접합할 수 있다. 시판되는 경화 수지층을 갖춘 열가소성 수지 필름을 제1 보호 필름(11)으로서 이용할 수도 있다.
하드코트층은 활성에너지선 경화형 수지를 포함하는 하드코트층 형성용 조성물의 경화물로 형성할 수 있다. 활성에너지선 경화형 수지로서는 예컨대 아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 폴리에스테르계 수지, 우레탄계 수지, 아미드계 수지, 에폭시계 수지 등을 들 수 있다. 하드코트층은 강도를 향상시키기 위해서 첨가제를 포함하여도 좋다. 첨가제는 한정되지 않으며, 무기계 미립자, 유기계 미립자 또는 이들의 혼합물을 들 수 있다. 하드코트층은 바람직하게는 자외선흡수제를 포함한다.
하드코트층의 두께는 예컨대 10 ㎛ 이하라도 좋고, 바람직하게는 8 ㎛ 이하이다. 하드코트층의 두께는 통상 0.5 ㎛ 이상이다.
[편광 소자]
편광 소자(12)는, 폴리비닐알코올(이하, 「PVA」라고도 부른다)계 수지를 포함하는 층(본 명세서에서 「PVA계 수지층」이라고도 부른다)에 2색성 색소를 흡착 배향시켜 이루어지는 편광 소자를 이용할 수 있다. 이러한 편광 소자로서는, PVA계 수지 필름을 이용하여, 이 PVA계 수지 필름을 2색성 색소로 염색하고, 일축 연신함으로써 형성한 것이나, PVA계 수지를 포함하는 도포액을 기재 필름 상에 도포하여 얻어진 적층 필름을 이용하여, 이 적층 필름의 도포층인 PVA계 수지층을 2색성 색소로 염색하고, 적층 필름을 일축 연신함으로써 형성한 것을 들 수 있다.
편광 소자(12)는 폴리아세트산비닐계 수지를 비누화하여 얻어지는 PVA계 수지로 형성된다. 폴리아세트산비닐계 수지로서는, 아세트산비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산비닐 외에, 아세트산비닐과 이것에 공중합 가능한 다른 단량체와의 공중합체를 들 수 있다. 공중합 가능한 다른 단량체로서는, 예컨대 불포화 카르복실산류, 에틸렌 등의 올레핀류, 비닐에테르류, 불포화 술폰산류 등을 들 수 있다.
PVA계 수지의 비누화도는, 바람직하게는 약 85 몰% 이상, 보다 바람직하게는 약 90 몰% 이상, 더욱 바람직하게는 약 99 몰%∼100 몰%이다. PVA계 수지의 중합도로는 1000∼10000, 바람직하게는 1500∼5000이다. 이 PVA계 수지는 변성되어 있어도 좋으며, 예컨대 알데히드류로 변성된 폴리비닐포르말, 폴리비닐아세탈, 폴리비닐부티랄 등이라도 좋다.
편광 소자(12)의 두께는 5 ㎛ 이상 50 ㎛ 이하가 바람직하고, 5 ㎛ 이상 40 ㎛ 이하가 보다 바람직하고, 8 ㎛ 이상 30 ㎛ 이하가 더욱 바람직하다. 편광 소자(12)의 두께가 50 ㎛ 이하임으로써, 고온 환경 하에서 PVA계 수지의 폴리엔화가 광학 특성의 저하에 미치는 영향을 억제할 수 있고, 또한 편광 소자(12)의 두께가 5 ㎛ 이상임으로써 원하는 광학 특성을 달성하는 구성으로 하기가 용이하게 된다.
편광 소자(12)의 함수율은, 온도 20℃ 상대습도 20%의 평형 함수율 이상이면서 또한 온도 20℃ 상대습도 48%의 평형 함수율 이하이다. 바람직하게는 온도 20℃ 상대습도 30%의 평형 함수율 이상이면서 또한 온도 20℃ 상대습도 45%의 평형 함수율 이하이다. 보다 바람직하게는 온도 20℃ 상대습도 42%의 평형 함수율 이하이고, 더욱 바람직하게는 온도 20℃ 상대습도 40%의 평형 함수율 이하이고, 가장 바람직하게는 온도 20℃ 상대습도 38%의 평형 함수율 이하이다. 온도 20℃ 상대습도 20%의 평형 함수율을 밑돌면, 편광 소자(12)의 핸들링성이 저하하여 찢어지기 쉽게 된다. 온도 20℃ 상대습도 48%의 평형 함수율 이하임으로써, 고온 내구성이 우수한 광학 적층체를 제공할 수 있다. 편광 소자(12)의 상기 함수율은 편광판 내에서의 편광 소자의 함수율이다.
편광 소자(12)의 제조 방법은 특별히 한정되지 않지만, 미리 롤형으로 감긴 폴리비닐알코올계 수지 필름을 송출하고 연신, 염색, 가교 등을 행하여 제작하는 방법(이하 ,「제조 방법 1」이라고 한다.)이나 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 도포액을 기재 필름 상에 도포함으로써 도포층인 폴리비닐알코올계 수지층을 형성하여 얻어진 적층체를 연신하는 공정을 포함하는 방법(이하, 「제조 방법 2」라고 한다)이 전형적이다.
제조 방법 1은, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 일축 연신하는 공정, 폴리비닐 알코올계 수지 필름을 요오드 등의 2색성 색소로 염색함으로써 그 2색성 색소를 흡착시키는 공정, 2색성 색소가 흡착된 폴리비닐알코올계 수지 필름을 붕산 수용액으로 처리하는 공정 및 붕산 수용액에 의한 처리 후에 수세하는 공정을 거쳐 제조할 수 있다.
팽윤 공정은, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 팽윤욕 중에 침지하는 처리 공정이며, 폴리비닐알코올계 수지 필름 표면의 오염물이나 블로킹제 등을 제거할 수 있고, 또한 폴리비닐알코올계 수지 필름을 팽윤시킴으로써 염색 얼룩을 억제할 수 있다. 팽윤욕은 통상 물, 증류수, 순수 등의 물을 주성분으로 하는 매체가 이용된다. 팽윤욕은 통상의 방법에 따라서 계면활성제, 알코올 등이 적절히 첨가되어 있어도 좋다.
팽윤욕의 온도는 10∼60℃인 것이 바람직하고, 15∼45℃인 것이 보다 바람직하고, 18∼30℃인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 팽윤욕에의 침지 시간은 폴리비닐알코올계 수지 필름의 팽윤 정도가 팽윤욕 온도의 영향을 받기 때문에 일률적으로 결정할 수는 없지만, 5∼300초간인 것이 바람직하고, 10∼200초간인 것이 보다 바람직하고, 20∼100초간인 것이 더욱 바람직하다. 팽윤 공정은 한 번만 실시되어도 좋고, 필요에 따라서 여러 번 실시되어도 좋다.
염색 공정은 폴리비닐알코올계 수지 필름을 염색욕(요오드 용액)에 침지하는 처리 공정이며, 폴리비닐알코올계 수지 필름에 요오드 또는 2색성 염료 등의 2색성 물질을 흡착·배향시킬 수 있다. 요오드 용액은 통상 요오드 수용액인 것이 바람직하며, 요오드 및 용해조제로서 요오드화물을 함유한다. 또한, 요오드화물로서는, 요오드화칼륨, 요오드화리튬, 요오드화나트륨, 요오드화아연, 요오드화알루미늄, 요오드화납, 요오드화구리, 요오드화바륨, 요오드화칼슘, 요오드화주석, 요오드화 티탄 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 편광 소자 내의 칼륨 함유율을 제어한다는 관점에서 요오드화칼륨이 적합하다.
염색욕 중, 요오드의 농도는, 0.01∼1 질량%인 것이 바람직하고, 0.02∼0.5 질량%인 것이 보다 바람직하다. 염색욕 중, 요오드화물의 농도는, 0.01∼10 질량%인 것이 바람직하고, 0.05∼5 질량%인 것이 보다 바람직하고, 0.1∼3 질량%인 것이 더욱 바람직하다.
염색욕의 온도는 10∼50℃인 것이 바람직하고, 15∼45℃인 것이 보다 바람직하고, 18∼30℃인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 염색욕에의 침지 시간은, 폴리비닐알코올계 수지 필름의 염색 정도가 염색욕 온도의 영향을 받기 때문에 일률적으로 결정할 수 없지만, 10∼300초간인 것이 바람직하고, 20∼240초간인 것이 보다 바람직하다. 염색 공정은 한 번만 실시되어도 좋고, 필요에 따라서 여러 번 실시되어도 좋다.
가교 공정은, 염색 공정에서 염색된 폴리비닐알코올계 수지 필름을, 붕소 화합물을 포함하는 처리욕(가교욕) 중에 침지하는 처리 공정이며, 붕소 화합물에 의해 폴리비닐알코올계 수지 필름이 가교하여, 요오드 분자 또는 염료 분자가 그 가교 구조에 흡착할 수 있다. 붕소 화합물로서는 예컨대 붕산, 붕산염, 붕사 등을 들 수 있다. 가교욕은 수용액이 일반적이지만, 예컨대 물과의 혼화성이 있는 유기 용매 및 물의 혼합 용액이도 좋다. 또한, 가교욕은, 편광 소자 내의 칼륨 함유율을 제어한다는 관점에서, 요오드화칼륨을 포함하는 것이 바람직하다.
가교욕 중, 붕소 화합물의 농도는, 1∼15 질량%인 것이 바람직하고, 1.5∼10 질량%인 것이 보다 바람직하고, 2∼5 질량%인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 가교욕에 요오드화칼륨을 사용하는 경우, 가교욕 중, 요오드화칼륨의 농도는, 1∼15 질량%인 것이 바람직하고, 1.5∼10 질량%인 것이 보다 바람직하고, 2∼5 질량%인 것이 더욱 바람직하다.
가교욕의 온도는 20∼70℃인 것이 바람직하고, 30∼60℃인 것이 보다 바람직하다. 또한, 가교욕에의 침지 시간은, 폴리비닐알코올계 수지 필름의 가교 정도가 가교욕 온도의 영향을 받기 때문에 일률적으로 결정할 수는 없지만, 5∼300초간인 것이 바람직하고, 10∼200초간인 것이 보다 바람직하다. 가교 공정은 한 번만 실시되어도 좋고, 필요에 따라서 여러 번 실시되어도 좋다.
연신 공정은 폴리비닐알코올계 수지 필름을 적어도 한 방향으로 소정의 배율로 연신하는 처리 공정이다. 일반적으로는 폴리비닐알코올계 수지 필름을 반송 방향(길이 방향)으로 일축 연신한다. 연신 방법은 특별히 제한되지 않으며, 습윤 연신법과 건식 연신법 중 어느 것이나 채용할 수 있다. 연신 공정은 한 번만 실시되어도 좋고, 필요에 따라서 여러 번 실시되어도 좋다. 연신 공정은 편광 소자의 제조에 있어서 어느 단계에서 행하여도 좋다.
습윤 연신법에 있어서의 처리욕(연신욕)은, 통상 물 또는 물과의 혼화성이 있는 유기 용매 및 물의 혼합 용액 등의 용매를 이용할 수 있다. 연신욕은, 편광 소자 내의 칼륨 함유율을 제어한다는 관점에서, 요오드화칼륨을 포함하는 것이 바람직하다. 연신욕에 요오드화칼륨을 사용하는 경우, 상기 연신욕 중, 요오드화칼륨의 농도는, 1∼15 질량%인 것이 바람직하고, 2∼10 질량%인 것이 보다 바람직하고, 3∼6 질량%인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 처리욕(연신욕)은, 연신 중인 필름의 파단을 억제한다는 관점에서 붕소 화합물을 포함할 수 있으며, 이 경우, 상기 연신욕 중, 붕소 화합물의 농도는, 1∼15 질량%인 것이 바람직하고, 1.5∼10 질량%인 것이 보다 바람직하고, 2∼5 질량%인 것이 더욱 바람직하다.
연신욕의 온도는 25∼80℃인 것이 바람직하고, 40∼75℃인 것이 보다 바람직하고, 50∼70℃인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 연신욕에의 침지 시간은, 폴리비닐알코올계 수지 필름의 연신 정도가 연신욕 온도의 영향을 받기 때문에 일률적으로 결정할 수 없지만, 10∼800초간인 것이 바람직하고, 30∼500초간인 것이 보다 바람직하다. 또한, 습윤 연신법에 있어서의 연신 처리는, 팽윤 공정, 염색 공정, 가교 공정 및 세정 공정 중 어느 하나 이상의 처리 공정과 함께 실시하여도 좋다.
건식 연신법으로서는 예컨대 롤간 연신 방법, 가열 롤 연신 방법, 압축 연신 방법 등을 들 수 있다. 또한, 건식 연신법은 건조 공정과 함께 실시하여도 좋다.
폴리비닐알코올계 수지 필름에 실시되는 총 연신 배율(누적 연신 배율)은, 목적에 따라서 적절하게 설정할 수 있지만, 2∼7배인 것이 바람직하고, 3∼6.8배인 것이 보다 바람직하고, 3.5∼6.5배인 것이 더욱 바람직하다.
세정 공정은, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 세정욕 중에 침지하는 처리 공정이며, 폴리비닐알코올계 수지 필름의 표면 등에 잔존하는 이물을 제거할 수 있다. 세정욕은 통상 물, 증류수, 순수 등의 물을 주성분으로 하는 매체가 이용된다. 또한, 편광 소자 내의 칼륨 함유율을 제어한다는 관점에서, 세정욕에 요오드화칼륨을 사용하는 것이 바람직하며, 이 경우, 세정욕 중, 요오드화칼륨의 농도는, 1∼10 질량%인 것이 바람직하고, 1.5∼4 질량%인 것이 보다 바람직하고, 1.8∼3.8 질량%인 것이 더욱 바람직하다.
세정욕의 온도는 5∼50℃인 것이 바람직하고, 10∼40℃인 것이 보다 바람직하고, 15∼30℃인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 세정욕에의 침지 시간은, 폴리비닐알코올계 수지 필름의 세정 정도가 세정욕 온도의 영향을 받기 때문에 일률적으로 결정할 수 없지만, 1∼100초간인 것이 바람직하고, 2∼50초간인 것이 보다 바람직하고, 3∼20초간인 것이 더욱 바람직하다. 세정 공정은 한 번만 실시되어도 좋고, 필요에 따라서 여러 번 실시되어도 좋다.
건조 공정은 세정 공정에서 세정된 폴리비닐알코올계 수지 필름을 건조하여 편광 소자를 얻는 공정이다. 건조는 임의의 적절한 방법으로 이루어지며, 예컨대 자연 건조, 송풍 건조, 가열 건조를 들 수 있다.
제조 방법 2는, 상기 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 도포액을 기재 필름 상에 도포 하는 공정, 얻어진 적층 필름을 일축 연신하는 공정, 일축 연신된 적층 필름의 폴리비닐알코올계 수지층을 2색성 색소로 염색함으로써 그 2색성 색소를 흡착시켜 편광 소자로 하는 공정, 2색성 색소가 흡착된 필름을 붕산 수용액으로 처리하는 공정 및 붕산 수용액에 의한 처리 후에 수세하는 공정을 거쳐 제조할 수 있다. 편광 소자를 형성하기 위해서 이용하는 기재 필름은 편광 소자의 보호층으로서 이용하여도 좋다. 필요에 따라서 기재 필름을 편광 소자로부터 박리 제거하여도 좋다.
[고위상차 필름]
고위상차 필름(13)을 갖는다. 본 명세서에 있어서, 고위상차 필름은 파장 550 nm에 있어서의 면내 위상차치가 3000 nm 이상인 필름을 의미한다. 광학 적층체(10)가 고위상차 필름(13)을 가짐으로써, 광학 적층체를 배치한 액정 표시 장치를 편광 선글라스 너머로 시인했을 때에 관찰될 수 있는 색상 변화(무지개 얼룩)를 억제하기 쉽게 할 수 있다. 고위상차 필름(13)은 복굴절성을 갖는 투명한 열가소성 수지 필름을 포함한다. 고위상차 필름(13)의 파장 550 nm에 있어서의 면내 위상차치 Re[550]은 바람직하게는 3000 nm 이상이고, 더욱 바람직하게는 5000 nm 이상이고, 특히 바람직하게는 7000 nm 이상이다. 고위상차 필름(13)의 면내 위상차 Re[550]의 상한치는 예컨대 30000 nm이다.
고위상차 필름(13)은 예컨대 열가소성 수지 필름을 연신함으로써 얻을 수 있다. 구체적인 열가소성 수지로서는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀계 수지; 노르보르넨계 폴리머 등의 환상 폴리올레핀계 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; (메트)아크릴산, 폴리(메트)아크릴산메틸 등의 (메트)아크릴산계 수지; 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스 및 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 등의 셀룰로오스에스테르계 수지; 폴리비닐알코올 및 폴리아세트산비닐 등의 비닐알코올계 수지; 폴리카보네이트계 수지; 폴리스티렌계 수지; 폴리아릴레이트계 수지; 폴리술폰계 수지; 폴리에테르술폰계 수지; 폴리아미드계 수지; 폴리이미드계 수지; 폴리에테르케톤계 수지; 폴리페닐렌술피드계 수지; 폴리페닐렌옥사이드계 수지 및 이들의 혼합물, 공중합물 등을 들 수 있다. 입수 용이성이나 투명성의 관점에서, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 셀룰로오스에스테르, 환상 올레핀계 수지 또는 폴리카보네이트가 바람직하다.
이들 열가소성 수지에 대하여 일축 또는 이축의 열연신 처리를 행함으로써 원하는 위상차치를 갖는 필름으로 하면 된다. 연신 배율은 통상 1.1∼6배이고, 바람직하게는 1.1∼4배이다.
또한, 롤투롤로 제조할 수 있도록 비스듬한 방향으로 연신하는 방법도 바람직하게 이용된다. 비스듬한 방향으로 연신하는 방법으로서는, 연속적으로 배향축을 원하는 각도로 경사시킬 수 있는 것이라면 특별히 한정되지 않고, 공지된 연신 방법을 채용할 수 있다. 이와 같은 연신 방법은, 예컨대 일본 특허공개 소50-83482호 공보나 일본 특허공개 평2-113920호 공보에 기재된 방법을 들 수 있다. 연신함으로써 필름에 위상차성을 부여하는 경우, 연신 후의 두께는 연신 전의 두께나 연신 배율에 의해서 결정된다.
고위상차 필름(13)의 지상축과 편광 소자(12)의 흡수축이 이루는 각도는 40°이상 50°이하이고, 보다 바람직하게는 42°이상 48°이하이고, 특히 바람직하게는 약 45°이다. 이에 따라, 편광 선글라스 너머로 액정 표시 장치를 시인한 경우에 정면 휘도의 저하를 억제할 수 있다.
고위상차 필름(13)의 두께는 바람직하게는 200 ㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 150 ㎛ 이하이고, 특히 바람직하게는 100 ㎛ 이하이다. 고위상차 필름(13)의 두께를 200 ㎛ 이하로 함으로써, 광학 적층체(10)의 컬을 억제할 수 있고, 액정 표시 장치에의 접합 시에 기포가 들어가는 등의 문제점을 억제할 수 있다.
고위상차 필름(13)의 투습도는 예컨대 100 g/㎡·일 이하이고, 50 g/㎡·일 이하일 수 있다. 고위상차 필름(13)의 투습도는 예컨대 0 g/㎡·일 이상이고, 1 g/㎡·일 이상일 수 있다. 고위상차 필름(13)의 투습도가 낮은 경우라도, 광학 적층체(10)는 고온 환경 하에서 투과율이 저하하기 어렵고, 고온 내구성이 우수하다. 투습도는 JISK7129:2008 부속서 B에 준하며, 온도 40℃ 상대습도 90%의 분위기 내에서 측정할 수 있다.
광학 적층체(10)를 액정 표시 장치의 액정 셀의 시인자 측에 설치함으로써, 그 밖에 고위상차의 필름을 필요로 하지 않고서 편광 선글라스를 통해서 액정 표시 장치를 시인한 경우의 시인성 저하를 억제할 수 있다. 구체적으로는 정면 휘도의 저하 및 시야각에 따른 색상의 변화(컬러 시프트)를 억제할 수 있다. 고위상차 필름(13)에는 필요에 따라서 하드코트층이나 방현층을 적층하여도 상관없다.
[제2 보호 필름]
광학 적층체(10)는 편광 소자(12)의 고위상차 필름(13) 측에 제2 보호 필름을 갖고 있어도 좋다. 제2 보호 필름은 편광 소자(12)와 고위상차 필름(13)의 사이에 배치될 수 있다. 제2 보호 필름에는, 제1의 보호 필름(11)으로서 이용할 수 있는 필름으로서 기재한 상술한 수지 필름을 이용하여도 좋고, 그 밖의 수지 필름을 이용하여도 좋다. 광학 적층체(10)가 제2 보호 필름을 갖는 경우, 제2 보호 필름은 제1 보호 필름(11)과 동종이라도 좋고 이종이라도 좋다. 광학 적층체(10)는 제2 보호 필름을 갖지 않아도 좋다. 즉, 광학 적층체(10)는 편광 소자(12)의 한쪽의 면에만 보호 필름(제1 보호 필름(11))을 갖더라도 좋다.
제2 보호 필름으로서는, 예컨대 셀룰로오스아실레이트계 필름, 쇄상 올레핀계 수지 필름, 폴리카보네이트계 수지를 포함하는 필름, 노르보르넨 등 시클로올레핀계 수지를 포함하는 필름, (메트)아크릴계 중합체 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르 수지계 필름 등의 필름을 이용할 수 있다. 쇄상 폴리올레핀계 수지로서는, 폴리에틸렌 수지(에틸렌의 단독 중합체인 폴리에틸렌 수지나, 에틸렌을 주체로 하는 공중합체), 폴리프로필렌 수지(프로필렌의 단독 중합체인 폴리프로필렌 수지나, 프로필렌을 주체로 하는 공중합체)와 같은 쇄상 올레핀의 단독 중합체 외에, 2종 이상의 쇄상 올레핀을 포함하는 공중합체를 들 수 있다.
제2 보호 필름의 두께는 통상 1 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하이지만, 강도나 취급성등의 관점에서 5 ㎛ 이상 60 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 10 ㎛ 이상 55 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 15 ㎛ 이상 50 ㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하다.
제2 보호 필름은, 그 외면(편광 소자와는 반대측의 면)에, 하드코트층, 방현층, 광확산층, 반사방지층, 저굴절률층, 대전방지층, 방오층과 같은 표면처리층(코팅층)을 구비하는 것이라도 좋다. 여기서, 제2 보호 필름의 두께는 표면처리층의 두께를 포함한 것이다.
[접합층]
광학 적층체(10)에 있어서, 각 층을 접합하기 위해서 접합층이 이용된다. 접합층으로서는 접착제층 또는 점착제층을 들 수 있다.
(접착제층)
접착제층은 예컨대 편광 소자(12)에의 제1 보호 필름(11) 및 제2 보호 필름 의 접합에 이용할 수 있다. 접착제층을 구성하는 접착제는 임의의 적절한 접착제를 이용할 수 있다. 접착제는, 수계 접착제, 용제계 접착제, 활성에너지선 경화형 접착제 등을 이용할 수 있지만, 수계 접착제인 것이 바람직하다.
접착제 도포 시의 두께는 임의의 적절한 값으로 설정될 수 있다. 예컨대 경화 후 또는 가열(건조) 후에, 원하는 두께를 갖는 접착제층을 얻을 수 있도록 설정한다. 접착제층의 두께는 바람직하게는 0.01 ㎛ 이상 7 ㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 0.01 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.01 ㎛ 이상 2 ㎛ 이하이고, 가장 바람직하게는 0.01 ㎛ 이상 1 ㎛ 이하이다.
(수계 접착제)
수계 접착제로서는 임의의 적절한 수계 접착제가 채용될 수 있다. 그 중에서도 PVA계 수지를 포함하는 수계 접착제(PVA계 접착제)가 바람직하게 이용된다. 수계 접착제에 포함되는 PVA계 수지의 평균 중합도는, 접착성의 점에서, 바람직하게는 100∼5500, 더욱 바람직하게는 1000∼4500이다. 평균 비누화도는, 접착성의 점에서 바람직하게는 85 몰%∼100 몰%이고, 더욱 바람직하게는 90 몰%∼100 몰%이다.
상기 수계 접착제에 포함되는 PVA계 수지로서는, 아세토아세틸기를 함유하는 것이 바람직하며, 그 이유는, PVA계 수지층과 보호 필름의 밀착성이 우수하고, 내구성이 우수하기 때문이다. 아세토아세틸기 함유 PVA계 수지는, 예컨대 PVA계 수지와 디케텐을 임의의 방법으로 반응시킴으로써 얻을 수 있다. 아세토아세틸기 함유 PVA계 수지의 아세토아세틸기 변성도는 대표적으로는 0.1 몰% 이상이며, 바람직하게는 0.1 몰%∼20 몰%이다.
상기 수계 접착제의 수지 농도는 바람직하게는 0.1 질량% 이상 15 질량% 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.5 질량% 이상 10 질량% 이하이다.
수계 접착제에는 가교제를 함유시킬 수도 있다. 가교제로서는 공지된 가교제를 이용할 수 있다. 예컨대 수용성 에폭시 화합물, 디알데히드, 이소시아네이트 등을 들 수 있다.
PVA계 수지가 아세토아세틸기 함유 PVA계 수지인 경우는, 가교제로서 글리옥살, 글리옥실산염, 메틸올멜라민 중 어느 하나인 것이 바람직하고, 글리옥살, 글리옥실산염 중 어느 하나인 것이 바람직하고, 글리옥살인 것이 특히 바람직하다.
수계 접착제는 유기 용제를 함유할 수도 있다. 유기 용제는, 물과 혼화성을 갖는다는 점에서 알코올류가 바람직하고, 알코올류 중에서도 메탄올 또는 에탄올인 것이 보다 바람직하다. 요소계 화합물의 일부는 물에 대한 용해도가 낮은 반면, 알코올에 대한 용해도는 충분한 것이 있다. 그 경우는, 요소계 화합물을 알코올에 용해하여, 요소계 화합물의 알코올 용액을 조제한 후, 요소계 화합물의 알코올 용액을 PVA 수용액에 첨가하여, 접착제를 조제하는 것도 바람직한 양태의 하나이다.
수계 접착제의 메탄올 농도는, 바람직하게는 10 질량% 이상 70 질량% 이하, 보다 바람직하게는 15 질량% 이상 60 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 20 질량% 이상 60 질량% 이하이다. 메탄올의 농도가 10 질량% 이상임으로써, 고온 환경 하에서의 폴리엔화를 보다 억제하기 쉽게 된다. 또한, 메탄올의 함유율이 70 질량% 이하임으로써 색상의 악화를 억제할 수 있다.
(활성에너지선 경화형 접착제)
활성에너지선 경화형 접착제는, 자외선 등의 활성에너지선을 조사함으로써 경화하는 접착제이며, 예컨대 중합성 화합물 및 광중합성개시제를 포함하는 접착제, 광반응성 수지를 포함하는 접착제, 바인더 수지 및 광반응성 가교제를 포함하는 접착제 등을 들 수 있다. 상기 중합성 화합물로서는, 광경화성 에폭시계 모노머, 광경화성 아크릴계 모노머, 광경화성 우레탄계 모노머 등의 광중합성 모노머 및 이들 모노머에 유래하는 올리고머 등을 들 수 있다. 상기 광중합개시제로서는, 자외선 등의 활성 에너지선을 조사하여 중성 라디칼, 음이온 라디칼, 양이온 라디칼과 같은 활성종을 발생하는 물질을 포함하는 화합물을 들 수 있다.
(점착제층)
점착제층은 예컨대 편광 소자(12)에의 고위상차 필름(13)의 접합에 사용할 수 있다.
점착제층은, (메트)아크릴계 수지, 고무계 수지, 우레탄계 수지, 에스테르계 수지, 실리콘계 수지, 폴리비닐에테르계 수지와 같은 수지를 주성분으로 하는 점착제 조성물로 구성할 수 있다. 그 중에서도 투명성, 내후성, 내열성 등이 우수한 (메트)아크릴계 수지를 베이스 폴리머로 하는 점착제 조성물이 적합하다. 점착제 조성물은 활성에너지선 경화형, 열 경화형이라도 좋다. 점착제층의 두께는 통상 3 ㎛ 이상 30 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 3 ㎛ 이상 25 ㎛ 이하이다.
점착제 조성물에 이용되는 (메트)아크릴계 수지(베이스 폴리머)로서는, 예컨대 (메트)아크릴산부틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산이소옥틸, (메트)아크릴산2-에틸헥실과 같은 (메트)아크릴산에스테르의 1종 또는 2종 이상을 모노머로 하는 중합체 또는 공중합체가 바람직하게 이용된다. 베이스 폴리머에는 극성 모노머를 공중합시키는 것이 바람직하다. 극성 모노머로서는, 예컨대 (메트)아크릴산, (메트)아크릴산2-히드록시프로필, (메트)아크릴산히드록시에틸, (메트)아크릴아미드, N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트와 같은, 카르복실기, 수산기, 아미드기, 아미노기, 에폭시기 등을 갖는 모노머를 들 수 있다.
점착제 조성물은 상기 베이스 폴리머만을 포함하는 것이라도 좋지만, 통상은 가교제를 추가로 함유한다. 가교제로서는, 2가 이상의 금속 이온이며, 카르복실기와의 사이에서 카르복실산 금속염을 형성하는 것; 폴리아민 화합물이며, 카르복실기와의 사이에서 아미드 결합을 형성하는 것; 폴리에폭시 화합물이나 폴리올이며, 카르복실기와의 사이에서 에스테르 결합을 형성하는 것; 폴리이소시아네이트 화합물이며, 카르복실기와의 사이에서 아미드 결합을 형성하는 것이 예시된다. 그 중에서도 폴리이소시아네이트 화합물이 바람직하다.
점착제층의 두께는 1 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하가 바람직하고, 2 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하가 보다 바람직하고, 2 ㎛ 이상 80 ㎛ 이하가 더욱 바람직하고, 3 ㎛ 이상 50 ㎛ 이하가 특히 바람직하다.
[제2 양태]
제2 양태에 따른 광학 적층체에 관해서 도면을 참조하면서 이하에 설명한다. 도 2에 도시하는 광학 적층체(20)는, 제1 보호 필름(21)과 편광 소자(22)와 고위상차 필름(23)을 이 순서로 가지고, 광학 적층체(20)는, 함수율이 온도 20℃ 상대습도 20%의 평형 함수율 이상이면서 또한 온도 20℃ 상대습도 48%의 평형 함수율 이하이고, 제1 보호 필름(21)의 온도 23℃에서의 광탄성 계수의 절대치는 8×10-12 Pa-1 이하이고, 고위상차 필름(23)은, 파장 550 nm에 있어서의 면내 위상차치 Re[550]이 3000 nm 이상 30000 nm 이하이고, 고위상차 필름(23)의 지상축과 편광 소자(22)의 흡수축이 이루는 각도는 40°이상 50°이하이다.
광학 적층체(20)의 함수율은, 온도 20℃ 상대습도 20%의 평형 함수율 이상이면서 또한 온도 20℃ 상대습도 48%의 평형 함수율 이하이다. 바람직하게는 온도 20℃ 상대습도 30%의 평형 함수율 이상이면서 또한 온도 20℃ 상대습도 45%의 평형 함수율 이하이다. 보다 바람직하게는 온도 20℃ 상대습도 42%의 평형 함수율 이하이고, 더욱 바람직하게는 온도 20℃ 상대습도 40%의 평형 함수율 이하이고, 가장 바람직하게는 온도 20℃ 상대습도 38%의 평형 함수율 이하이다. 온도 20℃ 상대습도 20%의 평형 함수율을 밑돌면, 광학 적층체(20)의 핸들링성이 저하하여, 찢어지기 쉽게 된다. 광학 적층체(20)의 함수율이 온도 20℃ 상대습도 48%의 평형 함수율 이하임으로써, 고온 내구성이 우수한 광학 적층체를 제공할 수 있다.
광학 적층체(20)는 다른 층으로서 예컨대 제2 보호 필름, 접합층 등을 구비할 수 있다.
제1 보호 필름(21), 편광 소자(22), 고위상차 필름(23), 제2 보호 필름 및 접합층에 관한 예시 및 바람직한 범위는 각각 상술한 광학 적층체(10)에 있어서의 제1 보호 필름(11), 편광 소자(12), 고위상차 필름(13), 제2 보호 필름 및 접합층의 설명에 있어서 든 예시 및 바람직한 범위가 적용된다.
[고온 내구성]
광학 적층체는 고온 내구성이 우수하다. 본 명세서에 있어서 고온 내구성은 후술하는 실시예란에서 설명하는 방법에 따라서 평가할 수 있다. 광학 적층체는, 예컨대 온도 23℃, 상대습도 55%의 환경 하에서 24시간 방치한 후에 측정한 투과율에 대하여, 추가로 온도 95℃의 가열 환경 하에 평가용 샘플을 보관했을 때에 측정한 투과율의 저하량이 5%에 달하는 시간이 240시간 이상이라도 좋고, 바람직하게는 480시간 이상, 보다 바람직하게는 720시간 이상, 더욱 바람직하게는 960시간 이상이다.
[용도]
상기한 광학 적층체는 액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 이용할 수 있다. 광학 적층체는, 화상 표시 장치의 시인 측(앞면 측)에 배치될 수도 있고, 배면 측에 배치될 수도 있다. 광학 적층체는, 화상 표시 장치에 배치되는 경우, 시인 측에서부터 고위상차 필름, 편광 소자, 제1 보호 필름의 순서가 되도록 배치되는 것이 바람직하다. 광학 적층체는, 화상 표시 장치에 이용되는 경우, 화상 표시 장치에 있어서, 광학 적층체의 양면에는 공기층 이외의 층이 접하여 형성되어 있어도 좋다. 공기층 이외의 층으로서는 예컨대 점착제층, 투명 부재 등을 들 수 있다. 점착제층은 상술한 광학 적층체에서 말한 점착제층의 설명이 적용된다. 투명 부재에 관해서는 후술한다.
도 3은 고위상차 필름(33), 편광 소자(32) 및 보호 필름(31)을 이 순서로 구비하는 광학 적층체(30)에 투명 부재(34) 및 터치 패널(37)이 배치된 적층체의 구성을 도시하는 단면도이다. 도 3에 도시하는 것과 같이, 투명 부재(34) 및 터치 패널(37)은 접합층(35, 36)을 통해 적층될 수 있다. 도 3에 도시하는 적층체는 예컨대 투명 부재(34) 측이 시인 측이 되도록 화상 표시 장치 등에 배치될 수 있다.
[투명 부재]
화상 표시 장치의 시인 측에 배치되는 투명 부재로서는 앞면판(윈도우층)이나 터치 패널 등을 들 수 있다. 앞면판에는 적절한 기계 강도 및 두께를 갖는 앞면판이 이용된다. 이러한 앞면판으로서는, 예컨대 폴리이미드계 수지, 아크릴계 수지나 폴리카보네이트계 수지와 같은 투명 수지판 혹은 유리판 등을 들 수 있다. 앞면판의 시인 측에는 반사방지층 등의 기능층이 적층되어 있어도 상관없다. 또한, 앞면판이 투명 수지판인 경우는, 물리 강도를 올리기 위해서 하드코트층이나, 투습도를 내리기 위해서 저투습층이 적층되어 있어도 상관없다.
터치 패널로서는, 저항막 방식, 정전용량 방식, 광학 방식, 초음파 방식 등의 각종 터치 패널이나, 터치 센서 기능을 갖춘 유리판이나 투명 수지판 등이 이용된다. 투명 부재로서 정전용량 방식의 터치 패널이 이용되는 경우, 터치 패널보다도 더욱 시인 측에, 유리나 투명 수지판을 포함하는 앞면판이 설치되는 것이 바람직하다.
광학 적층체와 투명 부재의 접합에는 점착제 또는 활성에너지선 경화형 접착제가 바람직하게 이용된다. 점착제가 이용되는 경우, 점착제의 부설은 적절한 방식으로 행할 수 있다. 구체적인 부설 방법으로서는, 예컨대 상술한 화상 표시 셀과 광학 적층체의 접합에서 이용한 점착제층의 부설 방법을 들 수 있다.
활성에너지선 경화형 접착제를 이용하는 경우, 경화 전의 접착제 용액의 퍼짐을 방지할 목적으로, 화상 표시 패널 상의 주연부를 둘러싸도록 댐재가 마련되고, 댐재 상에 투명 부재를 배치하여, 접착제 용액을 주입하는 방법이 바람직하게 이용된다. 접착제 용액의 주입 후에는, 필요에 따라서 위치 정렬 및 탈포가 이루어진 후, 활성에너지선이 조사되어 경화가 이루어진진다.
<화상 표시 장치>
본 실시형태에 따른 화상 표시 장치는, 화상 표시 셀과, 화상 표시 셀의 시인 측의 표면에 적층된 제1 점착제층과, 제1 점착제층의 시인 측의 표면에 적층된 광학 적층체를 가질 수 있다. 화상 표시 장치는, 광학 적층체의 시인 측의 표면에 적층된 제2 점착제층과, 제2 점착제층의 시인 측의 표면에 적층된 투명 부재를 더 가질 수 있다.
도 4는 화상 표시 장치의 층 구성의 일례를 도시한다. 도 4에 도시하는 화상 표시 장치(100)는, 고위상차 필름(43), 편광 소자(42) 및 보호 필름(41)을 이 순서로 구비하는 광학 적층체(40)가 제1 점착제층(46)을 통해 화상 표시 셀(47) 상에 적층되고, 광학 적층체(40)의 시인 측의 표면에 제2 점착제층(45)을 통해 투명 부재(44)가 적층되어 있다.
<광학 적층체의 제조 방법>
[제1 양태에 따른 광학 적층체의 제조 방법]
제1 양태에 따른 광학 적층체의 제조 방법은, 편광 소자의 함수율이 온도 20℃ 상대습도 20%의 평형 함수율 이상이면서 또한 온도 20℃ 상대습도 48%의 평형 함수율 이하가 되도록 조정하는 함수율 조정 공정을 갖는다. 또한, 바람직하게는 편광 소자의 한쪽에 제1 보호 필름을 적층하는 제1 적층 공정을 더 갖는다. 함수율 조정 공정 및 제1 적층 공정의 순서는 한정되지 않고, 또한 함수율 조정 공정과 제1 적층 공정이 병행하여 실시되어도 좋다. 본 실시형태의 광학 적층체의 제조 방법은, 편광판의 한쪽에 고위상차 필름을 적층하는 제2 적층 공정을 더 가질 수 있다.
본 실시형태의 함수율 조정 공정에서는, 편광 소자의 함수율이 온도 20℃ 상대습도 20%의 평형 함수율 이상이면서 또한 온도 20℃ 상대습도 48%의 평형 함수율 이하가 되도록 편광 소자의 함수율을 조정한다. 이러한 함수율의 편광 소자를 준비하는 방법으로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예컨대 편광 소자를 상기 온도와 상기 상대습도의 범위로 조정된 환경에 10분∼3시간 보관하여 조정하는 방법이나, 30℃∼90℃에서 가열 처리하는 방법으로 조정할 수 있다.
또한, 다른 바람직한 방법으로서는, 제1 적층 공정에 의해 얻어진 편광판을, 상기 온도와 상기 상대습도의 범위로 조정된 환경에 10분∼120시간 보관하는 방법이나, 30℃∼90℃에서 가열 처리하는 방법으로 조정할 수 있다. 함수율 조정 공정은, 제1 적층 공정 전에 행하여도 좋고, 제1 적층 공정 후에 행하여도 좋다.
[제2 양태에 따른 광학 적층체의 제조 방법]
제2 양태에 따른 광학 적층체의 제조 방법은, 광학 적층체의 함수율이 온도 20℃ 상대습도 20%의 평형 함수율 이상이면서 또한 온도 20℃ 상대습도 48%의 평형 함수율 이하가 되도록 조정하는 함수율 조정 공정을 갖는다. 또한, 바람직하게는, 편광 소자의 한쪽에 제1 보호 필름을 적층하는 제1 적층 공정 및 편광판의 한쪽에 고위상차 필름을 적층하는 제2 적층 공정을 더 가질 수 있다.
본 실시형태의 함수율 조정 공정에서는, 광학 적층체의 함수율이 온도 20℃ 상대습도 20%의 평형 함수율 이상이면서 또한 온도 20℃ 상대습도 48%의 평형 함수율 이하가 되도록 광학 적층체의 함수율을 조정한다. 이러한 함수율의 광학 적층체를 준비하는 방법으로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예컨대 광학 적층체를 상기 온도와 상기 상대습도의 범위로 조정된 환경에 10분∼3시간 보관하여 조정하는 방법이나, 30℃∼90℃에서 가열 처리하는 방법으로 조정할 수 있다.
편광 소자 및 광학 적층체의 함수율이 온도 20℃ 상대습도 20%의 평형 함수율 이상 온도 20℃ 상대습도 48%의 평형 함수율 이하의 범위 내인지를 확인하는 방법으로서, 상기 온도와 상기 상대습도의 범위로 조정된 환경에서 편광 소자 또는 광학 적층체를 일정 시간 보관하여 질량의 변화가 없음을 확인하는 방법, 또는 상기 온도와 상기 상대습도의 범위로 조정된 환경의 편광 소자 또는 광학 적층체의 평형 함수율을 미리 계산하여, 편광 소자 또는 광학 적층체의 함수율과 미리 계산한 평형 함수율을 대비하는 방법을 들 수 있다. 일정 시간 편광 소자 또는 광학 적층체를 보관하여, 그 질량에 변화가 없는 경우는, 보관 환경에 있어서 함수율이 평형에 달했다고 간주할 수 있다.
실시예
이하, 실시예를 나타내어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 예에 의해서 한정되는 것은 아니다. 예에서 함유량 내지 사용량을 나타내는 부 및 %는 특별히 기재가 없는 한 질량 기준이다. 또한, 이하의 예에서의 각 물성은 다음 방법으로 측정했다.
(1) 필름 두께의 측정 방법
가부시키가이샤니콘 제조의 디지털 마이크로미터인 MH-15M을 이용하여 측정했다.
(2) 위상차치의 측정 방법
위상차 측정장치 KOBRA-WPR(오지게이소쿠기키가부시키가이샤 제조)을 이용하여 측정했다.
(3) 광탄성 계수의 측정 방법
위상차 측정장치 KOBRA-WPR(오지게이소쿠기키가부시키가이샤 제조)을 이용하여 샘플(사이즈 1.5 cm×6 cm)의 양단을 협지하여 응력(0.5 N∼8 N)을 걸면서, 샘플 중앙의 위상차치(23℃/파장 550 nm)를 측정하여, 응력과 위상차치의 함수의 기울기로부터 산출했다.
(4) 휘도의 측정 방법:
가부시키가이샤톱콘 제조의 분광 방사 휘도계 SR-UL1을 이용하여 측정했다. 여기서, 측정은 2°시야에서 행했다.
[편광 소자의 제작]
평균 중합도 약 2,400, 비누화도 99.9 몰% 이상인 폴리비닐알코올을 포함하는 두께 40 ㎛의 폴리비닐알코올 필름을 준비했다. 이 폴리비닐알코올 필름을, 건식으로 약 5배로 일축 연신하고, 또한 긴장 상태를 유지한 채로 60℃의 순수에 1분간 침지했다. 그 후, 요오드/요오드화칼륨/물의 질량비가 0.05/5/100인 28℃의 수용액에 60초간 폴리비닐알코올 필름을 침지했다. 그 후, 요오드화칼륨/붕산/물의 질량비가 8.5/8.5/100인 72℃의 수용액에 300초간 폴리비닐알코올 필름을 침지했다. 이어서 폴리비닐알코올 필름을 26℃의 순수로 20초간 세정한 후, 65℃에서 건조했다. 이와 같이 하여 폴리비닐알코올에 요오드가 흡착 배향한 두께 15 ㎛의 편광 소자를 얻었다.
[보호 필름의 준비]
보호 필름 A(제2 보호 필름):
(하드코트층 형성용 조성물 1의 조제)
이하에 나타내는 성분을 혼합하여 하드코트층 형성용 조성물 1을 조제했다.
PET30 97.0 질량부
이르가큐어 907 3.0 질량부
MEK 81.8 질량부
사용한 재료를 이하에 나타낸다.
·PET30: 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트와 펜타에리트리톨트리아크릴레이트의 혼합물[닛폰가야쿠(주) 제조]
·이르가큐어 907: 광중합개시제[BASF사 제조]
·MEK: 메틸에틸케톤
<하드코트 필름의 제작>
시판되는 셀룰로오스아실레이트 필름 TD40(후지필름(주) 제조, 폭 1,340 mm, 막 두께 40 ㎛)을 롤 형태에서 풀어내고, 상기 하드코트층 형성용 조성물 1을, 슬롯다이를 이용한 다이코트법으로 반송 속도 30 m/분의 조건으로 도포하여, 60℃에서 150초 건조시켰다.
그 후, 또 질소 퍼지 하에, 산소 농도 약 0.1%로 출력 160 W/cm의 공냉 메탈 할라이드 램프(아이그래픽(주) 제조)를 이용하여, 조도 400 mW/㎠, 조사량 120 mJ/㎠의 자외선을 조사하여 도포층(하드코트층)을 경화시켜, 하드코트 필름을 권취했다. 하드코트층의 막 두께는 7 ㎛가 되도록 도포층의 두께를 조정했다. 이렇게 하여 보호 필름 A를 얻었다.
위에서 제작한 보호 필름 A를, 55℃로 유지한 1.5 mol/L의 NaOH 수용액(비누화액)에 2분간 침지한 후, 필름을 수세했다. 그 후, 25℃의 0.05 mol/L의 황산 수용액에 30초 침지한 후, 또한 수세욕을 30초 유수 하에 통과하게 하여, 필름을 중성 상태로 했다. 그리고, 에어나이프에 의한 탈수를 3회 반복하여 물을 떨어뜨린 후에, 70℃의 건조 존에 15초간 체류시켜 건조하여 비누화 처리했다.
보호 필름 B(제1 보호 필름):
일본 특허공개 2010-284840호 공보의 제조예 1에 기재한 이미드화 MS 수지 펠릿(중량 평균 분자량: 105,000) 100 질량부를, 100.5 kPa, 100℃에서 12시간 건조시키고, 단축의 압출기로 다이스 온도 270℃에서 T 다이로부터 압출하여 필름형으로 성형했다(두께 160 ㎛). 또한 상기 필름을, 그 반송 방향으로 150℃의 분위기 하에 연신하고(두께 80 ㎛), 이어서 필름 반송 방향과 직교하는 방향으로 150℃의 분위기 하에 연신하여, 두께 40 ㎛의 보호 필름 B((메트)아크릴계 수지 필름)를 얻었다. 보호 필름 B의 파장 550 nm에 있어서의 면내의 위상차치 Re는 0.5 nm, 두께 방향의 위상차치 Rth는 0.82 nm였다. 얻어진 필름의 광탄성 계수는 2.0×10-12 Pa-1였다.
[접착제의 조제]
아세토아세틸기를 함유하는 변성 PVA계 수지(미쓰비시케미칼(주) 제조: 고세넥스 Z-410) 50 g을 950 g의 순수에 용해하고, 90℃에서 2시간 가열한 후에 상온으로 냉각하여, PVA 용액을 얻었다.
이어서, 각각의 화합물이 하기의 농도가 되도록 상기 PVA 용액, 말레산, 글리옥살, 순수를 배합하여 PVA계 접착제를 조제했다.
PVA 농도 3.0 질량%
말레산 0.01 질량%
글리옥살 0.15 질량%
[고위상차 필름의 준비]
도요보가부시키가이샤 제조의 코스모샤인 SRF(Super Retardation Film)(두께 80 ㎛)를 사용했다. 면내 위상차치 Re(550)은 8400 nm였다. 온도 40℃ 상대습도 90%에서의 투습도는 10 g/㎡·일이었다.
[점착제의 준비]
점착제 A: 두께 15 ㎛의 시트형 아크릴 점착제(린테크가부시키가이샤 제조의 「P-3132-15μ」)
점착제 B: 두께 25 ㎛의 시트형 아크릴 점착제(린테크가부시키가이샤 제조의 「P-3132」)
[실시예 1]
편광 소자의 한쪽의 면에 접착제로 보호 필름 A를 접합하고, 편광 소자의 또 한쪽의 면에 접착제로 보호 필름 B를 접합했다. 그 후, 80℃에서 5분간 건조시켜 편광판 1을 얻었다. 또한, 보호 필름 B를 접합할 때는, 보호 필름 B의 접합면에 코로나 처리를 실시했다.
(평형 함수율의 측정)
위에서 얻어진 편광판 1을 온도 20℃에서 상대습도 30%, 35%, 40%, 45% 또는 50%의 조건으로 72시간 보관하고, 보관 66시간, 69시간 및 72시간에 칼피셔법을 이용하여 함수율을 측정했다. 어느 습도 조건에서도 보관 66시간, 69시간, 72시간에 함수율의 값이 변하지 않았다. 따라서, 편광판 1의 함수율은 보관 환경의 평형 함수율과 같게 되었다고 간주할 수 있다. 편광판의 함수율이 어느 보관 온도에서 평형에 달했을 때는, 편광판 내의 편광 소자의 함수율도 마찬가지로 그 보관 온도에서 평형에 달했다고 간주할 수 있다. 또한, 편광판 내의 편광 소자의 함수율이 어느 보관 환경에서 평형에 달했을 때는, 편광판의 함수율도 마찬가지로 그 보관 환경에서 평형에 달했다고 간주할 수 있다.
위에서 얻어진 편광판 1의 건조 직후의 함수율을 칼피셔법으로 측정하여 상기한 평형 함수율과 비교했다. 편광판 1의 함수율은 온도 20℃ 상대습도 30%의 함수율과 동등했다. 편광판 1을 또한 온도 20℃ 상대습도 30%의 조건으로 72시간 보관했다.
(편광판 2∼5의 제작)
편광판 1에 대하여, 각각 함수율이 표 1에 기재한 평형 함수율과 동등하게 되도록 건조 온도 또는 시간을 변경하고, 그 후, 온도 20℃ 상대습도 35%, 40%, 45% 또는 50%의 조건으로 72시간 보관했다.
이어서, 얻어진 편광판 1∼5의 보호 필름 B면에 점착제 B를 접합했다. 또한, 이들 재료의 접합 시에는, 각 재료의 접합면에 코로나 처리를 실시했다.
고위상차 필름의 한쪽 면에 점착제 A를 접합했다. 또한, 이들 재료의 접합 시에는, 각 재료의 접합면에 코로나 처리를 실시했다.
이렇게 해서 제작한 편광판 1∼5의 보호 필름 A의 면과 고위상차 필름의 점착제의 면을, 편광판의 흡수축과 고위상차 필름의 지상축이 이루는 각도가 45°가 되도록 접합하여, 광학 적층체 1∼5를 제작했다. 또한, 이들 재료의 접합 시에는, 각 재료의 접합면에 코로나 처리를 실시했다.
(편광판 6의 제작)
앞서 얻어진 편광 소자의 한쪽의 면에, 보호 필름 B를 접착제로 접합하여, 편광 소자의 한쪽의 면에만 보호 필름을 갖는 편광판 6을 작성했다. 또한, 보호 필름 B의 접합 시에는, 보호 필름 B의 접합면에 코로나 처리를 실시했다.
(평형 함수율의 측정)
위에서 얻어진 편광판 6을 온도 20℃에서 상대습도 30%, 35%, 40%, 45% 또는 50%의 조건으로 72시간 보관하고, 보관 66시간, 69시간 및 72시간에 칼피셔법을 이용하여 함수율을 측정했다. 어느 습도 조건에서도 보관 66시간, 69시간, 72시간에 함수율의 값이 변하지 않았다. 따라서, 편광판 6의 함수율은 보관 환경의 평형 함수율과 같게 되었다고 간주할 수 있다. 편광판의 함수율이 어느 보관 온도에서 평형에 달했을 때는, 편광판 내의 편광 소자의 함수율도 마찬가지로 그 보관 온도에서 평형에 달했다고 간주할 수 있다. 또한, 편광판 내의 편광 소자의 함수율이 어느 보관 환경에서 평형에 달했을 때는, 편광판의 함수율도 마찬가지로 그 보관 환경에서 평형에 달했다고 간주할 수 있다.
위에서 얻어진 편광판 6의 건조 직후의 함수율을 칼피셔법으로 측정하여 상기한 평형 함수율과 비교했다. 편광판 6의 함수율은 온도 20℃ 상대습도 30%의 함수율과 동등했다. 편광판 6을, 또한 온도 20℃ 상대습도 30%의 조건으로 72시간 보관했다.
(편광판 7∼10의 제작)
편광판 6에 대하여, 각각 함수율이 표 1에 기재한 평형 함수율과 동등하게 되도록 건조 온도 또는 시간을 변경하고, 그 후, 온도 20℃ 상대습도 35%, 40%, 45% 또는 50%의 조건으로 72시간 보관했다.
이어서, 얻어진 편광판 6∼10의 보호 필름 B면에 점착제 B를 접합했다. 또한, 이들 재료의 접합 시에는, 각 재료의 접합면에 코로나 처리를 실시했다.
고위상차 필름의 한쪽 면에 점착제 A를 접합했다. 또한, 이들 재료의 접합 시에는, 각 재료의 접합면에 코로나 처리를 실시했다.
이렇게 해서 제작한 편광판 6∼10의 편광 소자면(보호 필름 B가 접합되어 있지 않은 면)과 고위상차 필름의 점착제면을, 편광판의 흡수축과 고위상차 필름의 지상축이 이루는 각도가 45°가 되도록 접합하여, 광학 적층체 6∼10을 제작했다. 또한, 이들 재료의 접합 시에는, 각 재료의 접합면에 코로나 처리를 실시했다.
얻어진 광학 적층체에 관해서, 이것을 구성하기 위해서 이용한 편광판의 함수율과 동등하게 되도록 편광판을 72시간 보관한 조건과 동일한 조건으로 72시간 보관하여 광학 적층체의 함수율을 조정했다. 광학 적층체에 관해서도 72시간 보관함으로써, 그 보관 환경에서 평형에 달했다고 간주할 수 있고, 광학 적층체 내의 편광판 및 편광 소자의 함수율도 마찬가지로 그 보관 환경에서 평형에 달했다고 간주할 수 있다. 또한, 광학 적층체 내의 편광판 또는 편광 소자의 함수율이 어느 보관 환경에서 평형에 달했을 때는, 광학 적층체의 함수율도 마찬가지로 그 보관 환경에서 평형에 달했다고 간주할 수 있다.
(흑 휘도 변화의 평가)
(평가용 샘플 1A의 제작)
흑 휘도란 흑 표시 시의 휘도를 의미한다. 두께 0.7 mm, 300 mm×300 mm 크기의 무알칼리 유리를 준비했다. 광학 적층체 1을, 200 mm×200 mm의 크기로 재단하여, 점착제 B를 매개로 무알칼리 유리의 한쪽의 면에 접합했다. 점착제 B 구비 편광판 1(고위상차 필름 접합 없음)을 200 mm×200 mm의 크기로 재단하고, 무알칼리 유리의 다른 쪽의 면에, 편광판의 흡수축이 상호 직교 니콜이 되도록 점착제 B를 매개로 접합하여 평가용 샘플 1을 제작했다.
(평가용 샘플 2A∼10A의 제작)
평가용 샘플 1의 제작에 있어서, 광학 적층체 1을 광학 적층체 2∼10으로 바꾼 것 이외에는 같은 식으로 하여 평가용 샘플 2A∼10A를 제작했다.
위에서 제작한 평가용 샘플 1A∼10A의 점착제 B 구비 편광판 1(고위상차 필름 접합 없음)을 접합한 측을 20000 cd/㎡ 휘도의 백색 백라이트 모듈의 조사면에 놓고, 광학 적층체(고위상차 필름) 측에서 휘도를 측정했다(흑 휘도 1). 평가용 샘플을 온도 95℃의 가열 환경 하에 240시간 보관한 후, 상온까지 냉각하여, 다시 휘도를 측정했다(흑 휘도 2). 흑 휘도 1에 대한 흑 휘도 2의 변화율(%)을 산출하여, 흑 휘도 변화로 했다. 그 결과, 모든 평가 샘플의 흑 휘도 변화량은 +1%였다.
(투과율 변화의 평가)
광학 적층체 1∼10을 각각 50 mm×100 mm의 크기로 재단했다. 박리 필름을 벗겨내어 노출한 점착제층 B를 무알칼리 유리〔상품명 “EAGLE XG”, 코닝사 제조〕에 접합함으로써 평가용 샘플 1B∼10B를 제작했다. 이 평가용 샘플에, 온도 50℃, 압력 5 kgf/㎠(490.3 kPa)로 1시간 오토크레이브 처리를 실시했다. 온도 23℃, 상대습도 55%의 환경 하에서 24시간 방치한 후, 투과율을 측정했다(초기치). 그 후, 온도 95℃의 가열 환경 하에 평가용 샘플을 보관하고, 120시간 경과 시 및 240∼960시간에 있어서는 240시간 간격으로 투과율을 측정했다. 초기치에 대하여 투과율 저하량이 5% 이상에 달한 시간을 기초로 이하의 기준으로 평가했다. 얻어진 결과를 표 1에 나타낸다. 평가용 샘플의 고위상차 필름 측에 점착제를 매개로 무알칼리 유리를 더 접합한 경우라도 같은 결과가 얻어졌다.
A: 960시간 경과 시의 투과율 저하가 5% 미만
B: 720시간 경과 시 또는 960시간 경과 시의 투과율 저하가 5% 이상
C: 480시간 경과 시의 투과율 저하가 5% 이상
D: 240시간 경과 시의 투과율 저하가 5% 이상
E: 120시간 경과 시의 투과율 저하가 5% 이상
Figure pat00003
10, 20, 30, 40: 광학 적층체, 11, 21, 31, 41: 보호 필름, 12, 22, 32, 42: 편광 소자, 13, 23, 33, 43: 고위상차 필름, 34, 44: 투명 부재, 35, 36: 접합층, 37: 터치 패널, 45: 제2 점착제층, 46: 제1 점착제층, 47: 화상 표시 셀, 100: 화상 표시 장치.

Claims (12)

  1. 제1 보호 필름과 편광 소자와 고위상차 필름을 이 순서로 갖는 광학 적층체로서,
    상기 제1 보호 필름의 온도 23℃에서의 광탄성 계수의 절대치는 8×10-12 Pa-1 이하이고,
    상기 편광 소자의 함수율은 온도 20℃ 상대습도 20%의 평형 함수율 이상이면서 또한 온도 20℃ 상대습도 48%의 평형 함수율 이하이고,
    상기 고위상차 필름의 파장 550 nm에 있어서의 면내 위상차치 Re[550]은 3000 nm 이상 30000 nm 이하이고,
    상기 고위상차 필름의 지상축과 상기 편광 소자의 흡수축이 이루는 각도는 40°이상 50°이하인 광학 적층체.
  2. 제1 보호 필름과 편광 소자와 고위상차 필름을 이 순서로 갖는 광학 적층체로서,
    상기 광학 적층체의 함수율은 온도 20℃ 상대습도 20%의 평형 함수율 이상이면서 또한 온도 20℃ 상대습도 48%의 평형 함수율 이하이고,
    상기 제1 보호 필름의 온도 23℃에서의 광탄성 계수의 절대치는 8×10-12 Pa-1 이하이고,
    상기 고위상차 필름은 파장 550 nm에 있어서의 면내 위상차치 Re[550]은 3000 nm 이상 30000 nm 이하이고,
    상기 고위상차 필름의 지상축과 상기 편광 소자의 흡수축이 이루는 각도는 40°이상 50°이하인 광학 적층체.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1 보호 필름이 환상 폴리올레핀계 수지, (메트)아크릴계 수지, 폴리스티렌계 수지 및 말레이미드계 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 광학 적층체.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 보호 필름은 파장 550 nm에 있어서의 면내 위상차치 Re[550]이 10 nm 이하인 광학 적층체.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고위상차 필름의 두께가 200 ㎛ 이하인 광학 적층체.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 적층체는 화상 표시 장치에 이용되고,
    상기 화상 표시 장치에 있어서, 상기 광학 적층체의 양면에는 공기층 이외의 층이 접하여 형성되어 있는 광학 적층체.
  7. 화상 표시 셀과, 상기 화상 표시 셀의 시인 측의 표면에 적층된 제1 점착제층과, 상기 제1 점착제층의 시인 측의 표면에 적층된 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재한 광학 적층체를 갖는 화상 표시 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 광학 적층체의 시인 측의 표면에 적층된 제2 점착제층과, 상기 제2 점착제층의 시인 측의 표면에 적층된 투명 부재를 더 갖는 화상 표시 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 투명 부재가 유리판 또는 투명 수지판인 화상 표시 장치.
  10. 제8항에 있어서, 상기 투명 부재가 터치 패널인 화상 표시 장치.
  11. 제1항에 기재한 광학 적층체의 제조 방법으로서,
    상기 편광 소자의 함수율이 온도 20℃ 상대습도 20%의 평형 함수율 이상이면서 또한 온도 20℃ 상대습도 48%의 평형 함수율 이하가 되도록 함수율을 조정하는 함수율 조정 공정을 갖는, 광학 적층체의 제조 방법.
  12. 제2항에 기재한 광학 적층체의 제조 방법으로서,
    상기 광학 적층체의 함수율이 온도 20℃ 상대습도 20%의 평형 함수율 이상이면서 또한 온도 20℃ 상대습도 48%의 평형 함수율 이하가 되도록 함수율을 조정하는 함수율 조정 공정을 갖는, 광학 적층체의 제조 방법.
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