KR20220130578A

KR20220130578A - 간섭 컬러 코팅을 포함하는 타임피스 또는 보석류의 피스용 외부 부품 및 상기 부품의 제조 방법

Info

Publication number: KR20220130578A
Application number: KR1020220017708A
Authority: KR
Inventors: 꼬리나 바르보; 프레데릭 장르노; 그레고리 키쓸링
Original assignee: 오메가쏘시에떼아노님
Priority date: 2021-03-18
Filing date: 2022-02-10
Publication date: 2022-09-27
Also published as: JP2022145509A; CN115104826A; JP7232362B2; EP4060386A1; KR102640464B1; US20220299689A1

Abstract

간섭 컬러 코팅을 포함하는 타임피스 또는 쥬얼리의 피스용 외부 부품 및 상기 부품의 제조 방법
본 발명은 외부 부품 (10) 에 관한 것으로, 그 외부 부품 (10) 은 다음의 연속적으로 중첩된 층들:
- 600 nm 내지 780 nm 의 파장들에 대해 적어도 90% 의 반사율을 갖도록 구성된, 불투명 또는 반불투명 반사 층 (121),
- 630 nm 의 파장에 대해 1.45 내지 2.8 의 굴절률을 갖는, 투명 층 (122) 또는 반투명 층,
- 흡수 층 (123)
으로 구성된 코팅 (12) 을 포함하는 기재 (11) 를 포함하고,
상기 층들은 코팅 (12) 에 미리 결정된 간섭 컬러를 부여한다.

Description

간섭 컬러 코팅을 포함하는 타임피스 또는 보석류의 피스용 외부 부품 및 상기 부품의 제조 방법{EXTERNAL PART FOR A TIMEPIECE OR A PIECE OF JEWELLERY COMPRISING AN INTERFERENTIAL COLOUR COATING AND MANUFACTURING METHOD OF SAID PART}

본 발명은 시계 제조 또는 보석류의 분야에 관한 것으로, 특히 간섭 컬러를 부여하는 코팅을 포함하는 타임피스 또는 보석류의 피스용 외부 부품 (external part), 및 상기 부품의 제조 방법에 관한 것이다.

본 문서에서, 용어 "외부 부품들" 은, 사용자에게 보이도록 의도되는, 예를 들어, 케이스, 다이얼, 다이얼 아플리케, 팔찌 등으로 구성된, 시계 제조 또는 보석류의 분야의 임의의 장식 물품을 의미한다.

바람직하게는, 본 발명은, 간섭 컬러가 레드의 색조 (shade of red) 인, 코팅을 포함하는 타임피스 또는 보석류의 피스용 외부 부품에 관한 것이다.

시계 제조 또는 보석류의 분야, 및 보다 일반적으로는 장식 물품들의 분야에서, 페인팅, 바니싱 또는 에나멜링에 의한 디포지션 방법들이 항상 적용되는 것은 아니다.

실제로, 한편으로는, 장식될 물품의 표면에 적용된 재료의 층이 너무 두꺼워서 임의의 표면 구조들, 예를 들면, 브러싱된, 태양광선, 샌드블라이스팅된, 레이저-가공된 표면 등을 드러내 보일 수 없고, 다른 한편으로는, 이 층의 및 그에 따른 그 컬러의 수명이 항상 만족스러운 것은 아니다.

따라서, 물리 기상 증착 방법들 (약어 "PVD" 로 알려짐), 화학 기상 증착 방법들 (약어 "CVD" 로 알려짐), 원자층 증착 방법들 (약어 "ALD" 로 알려짐) 과 같은 박막 기상 증착 기법들이 선호된다.

그러나, 이들 증착 기법들이 다수의 컬러들의 코팅들을 획득할 수 있게 한다는 사실에도 불구하고, 이들 방법들의 구현은 레드의 색조들과 같은, 산업적 규모의 소정의 특정 컬러들을 획득할 수 없게 한다.

본 발명은 상쇄 간섭 및 보강 간섭의 추가로부터 발생하는 미리 결정된 간섭 컬러를 갖는 외부 부품을 제조하기 위한 솔루션을 제공함으로써 전술한 결점들을 극복한다. 본 문서에서, 광간섭 현상에 의해 생성된 컬러는 "간섭 컬러" 라고 한다.

이를 위해, 본 발명은 외부 부품에 관한 것으로, 그 외부 부품은 다음의 연속적으로 중첩된 층들:

- 600 nm 내지 780 nm 의 파장들에 대해 적어도 90% 의 반사율을 갖도록 구성된, 불투명 또는 반불투명 반사 층,

- 630 nm 의 파장에 대해 1.45 내지 2.8 의 굴절률을 갖는, 투명 또는 반투명 층,

- 흡수 층

으로 구성된 코팅을 포함하는 기재 (substrate) 를 포함한다.

상기 층들은 코팅에 미리 결정된 간섭 컬러를 부여한다.

유리하게는, 미리 결정된 컬러는 금속 광택을 갖는 레드의 색조이다. 보다 구체적으로, 미리 결정된 컬러는 버건디 레드 또는 퍼플 레드의 색조이다. 이 미리 결정된 컬러는 코팅의 층들에 의해 정의된 광학 스택의 특정 배열에 의해 획득된다.

더욱이, 코팅은 표면 구조를 포함하거나 또는 복잡한 기하학적 형상을 포함하는 임의의 장식 물품을 커버하는데 적합하도록 하는, 통상적으로 3 μm 미만의 매우 낮은 두께를 갖는다.

본 발명의 다른 이점은 코팅의 두께의 실질적인 수정 없이 매우 다양한 레드의 색조들을 획득할 수 있게 한다는 사실에 있다. 예를 들어, 코팅의 두께는 상기 코팅이 가질 수도 있는 레드의 모든 색조들 사이에서 최대 3 nm 미만의 값만큼 변한다.

특정 실시형태들에서, 본 발명은 단독으로 또는 임의의 기술적으로 가능한 조합으로 취해진 다음의 특징들 중 하나 이상을 더 포함할 수도 있다.

특정 실시형태들에서, 반사 층은 구리 (Cu), 금 (Au), 로듐 (Rh), 백금 (Pt) 으로부터 선택된 금속 재료로 제조된다.

특정 실시형태들에서, 반사 층은 Cu 로 제조된다.

특정 실시형태들에서, 반사 층은 적어도 40 nm 의 두께를 갖는다.

특정 실시형태들에서, 반사 층은 100 nm 의 두께를 갖는다.

특정 실시형태들에서, 투명 층은 실리콘 이산화물 (SiO2), 티타늄 이산화물 (TiO2), 알루미나 (Al2O3), 하프늄 이산화물 (HfO2), 지르코늄 이산화물 (ZrO2), 탄탈륨 산화물 (Ta2O5), 주석 이산화물 (SnO2), 인듐 주석 산화물 (ITO), 아연 산화물 (ZnO), 마그네슘 산화물 (MgO), 실리콘 질화물 (Si3N4) 및 알루미늄 질화물 (AlN) 로부터 선택된 재료로 제조된다.

특정 실시형태들에서, 투명 층은 SiO2 로 제조된다.

특정 실시형태들에서, 투명 층은 10 nm 내지 50 nm 의 두께를 갖는다.

특정 실시형태들에서, 투명 층은 30 nm 의 두께를 갖는다.

특정 실시형태들에서, 흡수 층은 티타늄 (Ti), 니켈 (Ni) 또는 크롬 (Cr) 으로부터 선택된 재료로 제조된다.

특정 실시형태들에서, 흡수 층은 Cr 로 제조된다.

특정 실시형태들에서, 흡수 층은 5 nm 내지 8 nm 의 두께를 포함한다.

특정 실시형태들에서, 코팅은 350 nm 내지 600 nm 의 파장들에 대해 10% 미만, 그리고 620 nm 내지 780 nm 의 파장들에 대해 10% 이상의 반사율을 갖는다.

특정 실시형태들에서, 코팅은, D65 를 조명하는, CIELAB 색 공간 (chromatic space) 에서, 25 내지 35 의 파라미터 L*, 8 내지 15 의 파라미터 a*, 및 0 내지 7 의 파라미터 b* 를 특징으로 하는 레드 컬러를 갖는다.

특정 실시형태들에서, 코팅은 흡수 층 상에 중첩되고 630 nm 의 파장에 대해 1.48 내지 1.51 의 굴절률을 갖는 아크릴 및/또는 니트로셀룰로오스 보호 층을 포함한다.

다른 목적에 따르면, 본 발명은 타임피스 또는 보석류의 피스용 외부 부품의 제조 방법에 관한 것으로, 그 제조 방법은, 기재의 표면 상에 코팅을 생성하는 다음의 연속적인 단계들:

- 600 nm 내지 780 nm 의 파장들에 대해 적어도 90% 의 반사율을 갖도록 구성되는 불투명 반사 층을 기재 상에 디포짓하는 단계,

- 630 nm 에서 1.45 내지 2.8 의 굴절률을 갖는 투명 층을 디포짓하는 단계,

- 흡수 층을 디포짓하는 단계

를 포함하는 것을 특징으로 한다.

특정 실시형태들에서, 반사 층, 투명 층 및 흡수 층의 디포지션은 전자총 증발 (electron gun evaporation) 에 의한 물리 기상 증착의 방법에 의해 수행된다.

특정 실시형태들에서, 투명 층을 디포짓하는 단계는 0.01 nm/s 내지 0.1 nm/s 의 디포지션 레이트로 수행된다.

특정 실시형태들에서, 흡수 층을 디포짓하는 단계는 0.01 nm/s 내지 0.05 nm/s 의 디포지션 레이트로 수행된다.

특정 실시형태들에서, 방법은 630 nm 의 파장에 대해 1.48 내지 1.51 의 굴절률을 유리하게 포함하도록 구성된 보호 층을 디포짓하는 최종 단계를 포함한다.

본 발명의 다른 특징들 및 이점들은, 첨부된 도면들을 참조하여, 비제한적인 예로서 주어진 다음의 상세한 설명을 읽을 때 명백해질 것이며, 첨부된 도면들에서:
- 도 1 은 본 발명의 바람직한 예시적인 실시형태에 따른 외부 부품의 단면도를 개략적으로 도시한다;
- 도 2 는 본 발명에 따른 코팅에 대해 분광색도계 (spectrocolourimeter) 로 측정된 분광 반사율 곡선을 도시한다;
- 도 3 은 보호층을 더 포함하는 본 발명에 따른 코팅에 대해 분광색도계로 측정된 분광 반사율 곡선을 도시한다;
- 도 4 는 본 발명의 다른 양태에 따른 외부 부품의 제조 방법의 플로우차트를 도시한다.

본 발명은 외부 부품 (10) 에 관한 것으로, 그 외부 부품 (10) 은 사용자에게 보이도록 의도된 표면 상의, 외부 부품에, 미리 결정된 간섭 컬러를 부여할 수 있게 하는 여러 연속적으로 중첩된 층들로 구성된 코팅 (12) 을 포함하는 기재 (11) 를 포함한다.

바람직하게는, 미리 결정된 간섭 컬러는 레드의 색조이다.

기재 (11) 는 금속, 세라믹 또는 폴리머 재료로 제조될 수 있다. 더욱이, 그 기재는 갈바닉 하층 (galvanic under-layer) 으로 코팅될 수 있다.

기재 (11) 상에는, 600 nm 내지 780 nm 의 파장들을 반사하도록 구성된, 반사, 불투명 또는 반불투명 층 (121) 이 디포짓된다.

보다 구체적으로, 반사 층 (121) 은 바람직하게는 600 nm 내지 780 nm 의 파장들에 대해 0.9 보다 큰 반사 계수를 갖는다.

반사 층 (121) 은, 0 이 아닌 투과율을 가질 수도 있지만, 그 투과율이 가시 스펙트럼의 파장 범위에 걸쳐 15% 이하로 유지되어야 한다는 점에서 반불투명일 수도 있다.

이 반사 층 (121) 은 바람직하게는 금속 재료로 제조되고 적어도 40 nm 의 두께를 갖는다.

바람직하게는, 반사 층 (121) 은 Cu, Au, Rh 또는 Pt 로부터 선택되는 재료로 제조된다. 반사 층 (121) 의 재료는 600 nm 내지 780 nm 의 파장들을 반사하는 그 광학적 능력을 위해 선택되며, 이 인터벌은 광 스펙트럼에서 레드의 색조들을 나타낸다. 더욱이, 이 재료는 레드의 파장들의 그의 낮은 흡수를 위해 선택된다.

더 바람직하게는, 반사 층 (121) 은 특히 경제적인 이유를 위해 그리고 구현의 용이성을 위해 Cu 로 제조된다.

반사 층 (121) 은 PVD 방법에 의해, 아연도금 (galvanisation) 에 의해 또는 임의의 다른 적합한 박막 디포지션 방법에 의해 제조될 수 있다.

투명 층 (122) 은 반사 층 (121) 상에 중첩된다.

투명 층 (122) 은 또한, 소정 범위의 파장들, 예를 들어, 상기 투명 층 (122) 이 TiO2 로 제조될 경우 500nm 미만의 파장들에 걸친 광을 흡수하고, 다른 범위의 파장들에 걸친 광을 투과할 수 있다는 의미에서 반투명일 수 있다.

이 투명 층 (122) 의 재료는 투명도의 그 광학적 특성들을 위해 선택된다. 예로서, 투명 층 (122) 은 SiO2, TiO2, Al2O3, HfO2, ZrO2, Ta2O5, SnO2, ITO, ZnO, MgO, Si3N4, AlN 으로부터 선택된 재료로 제조된다. 바람직하게는, 투명 층 (122) 은, 특히 경제적인 이유, 구현의 용이성 및 반복성을 위해, SiO2 로 제조된다.

예를 들어, 투명 층 (122) 은 유리하게는 630 nm 의 파장에 대해 1.45 내지 2.8 의 굴절률을 갖고 상기 층의 굴절률에 따라 10 nm 내지 50 nm 의 두께를 갖는다.

투명 층 (122) 은 PVD, CVD, ALD 방법에 의해, 또는 임의의 다른 적절한 박막 디포지션 방법에 의해 반사 층 (121) 상에 디포짓될 수 있다.

최종적으로, 도 1 에 도시된 바와 같이, 흡수 층이 투명 층 (122) 상에 중첩된다.

이 흡수 층 (123) 은 그 광학적 흡수 특성들을 위해 선택된 금속 재료로 제조된다. 예를 들어, 흡수 층 (123) 은 Ti, Ni 또는 Cr 로 제조된다. 바람직하게, 흡수 층 (123) 은 크롬으로 제조된다.

흡수 층 (123) 은 4 nm 내지 10 nm, 바람직하게는 5 nm 내지 8 nm, 그리고 훨씬 더 바람직하게는 7.2 nm 내지 7.8 nm 의 두께를 갖는다.

여기에서, 본 발명은, 코팅 (12) 때문에, 레드의 색조의 간섭 컬러를 유리하게 획득할 수 있게 하며, 상기 코팅 (12) 은 수 천분의 일 밀리미터 정도, 더 정확하게는 3 μm 미만의 매우 낮은 두께를 갖는다는 것이 이해된다.

코팅 (12) 은 유리하게는, 전술한 특징들 때문에, 350 nm 내지 580 nm 의 파장들에 대해, 10% 미만, 8% 에서 3% 까지의, 그리고 580 nm 내지 750 nm 의 파장들에 대해 3% 에서 24% 까지의 반사율을 갖도록 구성된다. 이들 값들은, 코팅 (12) 에 대해 분광색도계로 수행된 측정들로부터 발생하는, 도 2 의 분광 반사율 곡선에 의해 그래픽적으로 표현된다.

이들 반사율들은 레드의 색조에 포함된 컬러의 사용자의 시각적 인식을 나타내는 반사 스펙트럼을 유리하게 정의할 수 있다.

본 발명의 바람직한 예시적인 실시형태에서, 코팅 (12) 은 다른 층들을 가능한 화학적 및/또는 기계적 공격으로부터 보호하기 위하여, 더 유리하게는, 흡수 층 (123) 상에 중첩되는, 아크릴 및/또는 니트로셀룰로오스 보호 층 (124) 을 포함할 수 있다.

예를 들어 630 nm 의 파장들에 대해 1.5 에 가까운, 예를 들어, 1.48 내지 1.51 의 굴절률을 갖는 3 μm 의 두께를 갖는 이러한 보호 층 (124) 의 추가는 또한, 350 nm 내지 550 nm 의 반사율을 유리하게 감소시키는 상쇄 간섭을 생성하도록 하여, 580 nm 내지 780 nm 의 파장들이 코팅 (12) 의 컬러를 정의할 수 있게 한다.

다시 말해서, 본 발명의 바람직한 예시적인 실시형태에서, 보호 층 (124) 은 유리하게는 코팅 (12) 의 최종 레드 컬러를 획득하는데 관여한다.

보호 층 (124) 과 함께, 코팅 (12) 은 350 nm 내지 550 nm 의 파장들의 범위에서 5% 이하, 550 nm 내지 750 nm 의 파장들에 대해 5 에서 21% 까지의 반사율을 갖는다. 이들 값들은 코팅 (12) 에 대해 분광색도계로 수행된 측정들로부터 발생하는, 도 3 의 분광 반사율 곡선에 의해 그래픽적으로 표현된다.

따라서, 본 발명의 바람직한 예시적인 실시형태에서, 코팅 (12) 은, D65 를 조명하는, CIELAB 색 공간에서, 25 내지 35 의 파라미터 L*, 8 내지 15 의 파라미터 a*, 및 0 내지 7 의 파라미터 b* 를 특징으로 하는 레드 컬러를 갖는다.

보호 층 (124) 은 필수는 아니며, 본 발명의 다른 실시형태들에서, 코팅 (12) 은 상기 보호 층 (124) 없이, CIELAB 색 공간에서, 예를 들어 전술한 파라미터들을 특징으로 하는 레드 컬러를 가질 수도 있음에 주목해야 한다.

본 발명은 또한, 예를 들어 상기 설명된 바와 같이, 타임피스 또는 보석류의 피스용 외부 부품 (10) 의 제조 방법에 관한 것이다. 이 방법의 연속적인 단계들은 도 4 의 플로우차트에 의해 표현되고 미리 결정된 간섭 컬러를 생성하기 위해 기재 (11) 의 표면 상에 코팅 (12) 을 생성하는 것으로 구성된다.

보다 구체적으로, 본 발명은 다음의 연속적인 단계들을 포함한다:

- 600 nm 내지 780 nm 의 파장들을 반사하도록 구성되는 불투명 반사 층 (121) 을 기재 (11) 상에 디포짓하는 단계 (101),

- 630 nm 의 파장에 대해 1.45 내지 2.8 의 굴절률을 갖는 투명 층 (122) 을 디포짓하는 단계 (102),

- 흡수 층 (123) 을 디포짓하는 단계 (103).

이하에 상세히 설명된 제조 방법의 예는 진공 증착 기법을 사용하여 반사 층 (121), 투명 층 (122) 및 흡수 층 (123) 을 디포짓한다.

특히, 바람직한 실시형태에서는, 전자총 증발에 의한 물리 기상 증착의 방법이 사용된다.

그러나, 층들의 디포지션은 반응 매질에서의 마그네트론 스퍼터링과 같은 다른 PVD 방법들에 의해, 또는 ALD 방법 및 플라즈마 강화 화학 기상 증착 (약어 PECVD 로 알려짐) 과 같은 CVD 방법에 의해 수행될 수 있음에 주목해야 한다.

반사 층 (121) 의 디포지션 (101) 은, 예를 들어, 상기 반사 층 (121) 이 100 nm 의 두께를 갖도록 수행된다. 바람직하게는, 반사 층 (121) 을 구성하기 위해 고려될 수 있는 다음의 재료들: Cu, Au, Rh, 또는 Pt 중, Cu 가 바람직하다.

그 다음, 투명 층 (122) 이 바람직하게는 30 nm 의 두께를 갖도록, 반사 층 (121) 상에 디포짓된다. 바람직하게는, 투명 층 (122) 을 구성하기 위해 고려될 수 있는 다음의 재료들: SiO2, TiO2, Al2O3, HfO2, ZrO2, Ta2O5, SnO2, ITO, ZnO, MgO, Si3N4, 또는 AlN 중, SiO2 가 바람직하다.

예로서, 투명 층 (122) 의 디포지션에 대한 양호한 반복성을 획득하기 위해, 디포지션 레이트는 0.01 nm/s 내지 0.1 nm/s 사이에서 선택되고, 바람직하게는 0.1 nm/s 이고, 산소 (O2) 의 플로우는 5 sccm 이다. 이들 파라미터들은 또한 투명 층 (122) 의 재료 밀도 및 두께의 매우 정밀한 제어를 허용한다.

그 다음, 흡수 층 (123) 이 바람직하게는 예를 들어 5 nm 내지 8 nm, 바람직하게는 7.2 nm 내지 7.8 nm 의 두께를 갖도록, 투명 층 (122) 상에 디포짓된다. 바람직하게는, 흡수 층 (123) 은 크롬으로 제조된다.

예로서, 흡수 층 (123) 의 디포지션에 대한 양호한 반복성을 획득하기 위해, 디포지션 레이트는 0.01 nm/s 내지 0.05 nm/s 사이에서 선택되고, 바람직하게는 0.02 nm/s 이고, 아르곤 (Ar) 의 플로우는 2 sccm 이어서 흡수 층 (123) 의 디포지션의 반복성에 대한 인클로저의 벽들의 오염 (fouling) 의 영향을 최소화한다.

본 발명의 구현의 바람직한 예에서, 제조 방법은 또한, 보호 층 (124) 을 디포짓하는 최종 단계 (104) 를 포함한다. 이 보호 층 (124) 은 유리하게는 630 nm 의 파장에 대해 대략 1.48 내지 1.51 의 굴절률을 포함하도록 구성된다.

Claims

외부 부품 (external part) (10) 으로서,
상기 외부 부품 (10) 은, 다음의 연속적으로 중첩된 층들:
- 600 nm 내지 780 nm 의 파장들에 대해 적어도 90% 의 반사율을 갖도록 구성된, 불투명 또는 반불투명 반사 층 (121),
- 630 nm 의 파장에 대해 1.45 내지 2.8 의 굴절률을 갖는, 투명 층 (122) 또는 반투명 층,
- 흡수 층 (123)
으로 구성된 코팅 (12) 을 포함하는 기재 (11) 를 포함하고,
상기 층들은 상기 코팅 (12) 에 미리 결정된 간섭 컬러를 부여하고, 상기 코팅 (12) 은, D65 를 조명하는, CIELAB 색 공간 (chromatic space) 에서, 25 내지 35 의 파라미터 L*, 8 내지 15 의 파라미터 a*, 및 0 내지 7 의 파라미터 b* 를 특징으로 하는 레드 컬러를 갖는, 외부 부품 (10).
제 1 항에 있어서,
상기 반사 층 (121) 은 Cu, Au, Rh, Pt 로부터 선택된 금속 재료로 제조되는, 외부 부품 (10).
제 1 항에 있어서,
상기 반사 층 (121) 은 Cu 로 제조되는, 외부 부품 (10).
제 1 항에 있어서,
상기 반사 층 (121) 은 적어도 40 nm 의 두께를 갖는, 외부 부품 (10).
제 4 항에 있어서,
상기 반사 층 (121) 은 100 nm 의 두께를 갖는, 외부 부품 (10).
제 1 항에 있어서,
상기 투명 층 (122) 은 SiO2, TiO2, Al2O3, HfO2, ZrO2, Ta2O5, SnO2, ITO, ZnO, MgO, Si3N4, AlN 으로부터 선택된 재료로 제조되는, 외부 부품 (10).
제 6 항에 있어서,
상기 투명 층 (122) 은 SiO2 로 제조되는, 외부 부품 (10).
제 1 항에 있어서,
상기 투명 층 (122) 은 10 nm 내지 50 nm 의 두께를 갖는, 외부 부품 (10).
제 8 항에 있어서,
상기 투명 층 (122) 은 30 nm 의 두께를 갖는, 외부 부품 (10).
제 1 항에 있어서,
상기 흡수 층 (123) 은 Ti, Ni 또는 Cr 로부터 선택된 재료로 제조되는, 외부 부품 (10).
제 10 항에 있어서,
상기 흡수 층 (123) 은 Cr 로 제조되는, 외부 부품 (10).
제 1 항에 있어서,
상기 흡수 층 (123) 은 5 nm 내지 8 nm 의 두께를 갖는, 외부 부품 (10).
제 1 항에 있어서,
상기 코팅 (12) 은 350 nm 내지 600 nm 의 파장들에 대해 10% 미만, 그리고 620 nm 내지 780 nm 의 파장들에 대해 10% 이상의 반사율을 갖는, 외부 부품 (10).
제 1 항에 있어서,
상기 코팅 (12) 은 상기 흡수 층 (123) 상에 중첩되고 630 nm 의 파장에 대해 1.48 내지 1.51 의 굴절률을 갖는 아크릴 및/또는 니트로셀룰로오스 보호 층 (124) 을 포함하는, 외부 부품 (10).
타임피스 또는 보석류의 피스용 외부 부품 (10) 의 제조 방법으로서,
기재 (11) 의 표면 상에 코팅 (12) 을 생성하는 다음의 연속적인 단계들:
- 600 nm 내지 780 nm 의 파장들에 대해 90% 초과의 반사율을 갖도록 구성되는 불투명 반사 층 (121) 을 기재 (11) 상에 디포짓하는 단계 (101),
- 630 nm 의 파장에 대해 1.45 내지 2.8 의 굴절률을 갖는 투명 층 (122) 을 디포짓하는 단계 (102),
- 흡수 층 (123) 을 디포짓하는 단계 (103)
를 포함하는 것을 특징으로 하는 타임피스 또는 보석류의 피스용 외부 부품 (10) 의 제조 방법.
제 15 항에 있어서,
상기 반사 층 (121), 상기 투명 층 (122) 및 상기 흡수 층 (123) 의 디포지션 (101, 102 및 103) 은 각각 전자총 증발 (electron gun evaporation) 에 의한 물리 기상 증착의 방법에 의해 수행되는, 타임피스 또는 보석류의 피스용 외부 부품 (10) 의 제조 방법.
제 15 항에 있어서,
상기 투명 층 (122) 을 디포짓하는 단계 (102) 는 0.01 nm/s 내지 0.1 nm/s 의 디포지션 레이트로 수행되는, 타임피스 또는 보석류의 피스용 외부 부품 (10) 의 제조 방법.
제 15 항에 있어서,
상기 흡수 층 (123) 을 디포짓하는 단계 (103) 는 0.01 nm/s 내지 0.05 nm/s 의 디포지션 레이트로 수행되는, 타임피스 또는 보석류의 피스용 외부 부품 (10) 의 제조 방법.
제 15 항에 있어서,
630 nm 와 동일한 파장에 대해 1.48 내지 1.51 의 굴절률을 유리하게 포함하도록 구성된 보호 층 (124) 을 디포짓하는 최종 단계 (104) 를 포함하는, 타임피스 또는 보석류의 피스용 외부 부품 (10) 의 제조 방법.