CH718459A2 - Pièce d'habillage d'horlogerie ou de bijouterie comprenant un revêtement de couleur interférentielle et procédé de fabrication de ladite pièce. - Google Patents

Abstract

L'invention concerne une pièce d'habillage (10) et son procédé de fabrication, la pièce d'habillage comprenant un substrat (11) comportant un revêtement (12) composé des couches suivantes successivement superposées : une couche réfléchissante (121) opaque ou semi-opaque, configurée pour avoir une réflectance d'au minimum 90% pour les longueurs d'ondes comprises entre 600 nm et 780 nm, une couche transparente (122) ou semi transparente, présentant un indice de réfraction compris entre 1.45 et 2.8 pour une longueur d'onde de 630 nm, une couche absorbante (123), lesdites couches conférant au revêtement (12) une couleur interférentielle prédéterminée.

Description

Domaine technique de l'invention

[0001] L'invention relève du domaine de l'horlogerie ou de la bijouterie, et concerne plus particulièrement une pièce d'habillage d'horlogerie ou de bijouterie comprenant un revêtement donnant une couleur interférentielle, et un procédé de fabrication de ladite pièce.

[0002] On désigne dans le présent texte par „pièces d'habillages“, tout article décoratif dans les domaines de l'horlogerie ou de la bijouterie, par exemple constitué par un boitier, un cadran, une applique de cadran, un bracelet, etc. destiné à être visible pour un utilisateur.

[0003] Préférentiellement, la présente invention concerne un pièce d'habillage d'horlogerie ou de bijouterie comprenant un revêtement dont la couleur interférentielle est une nuance de rouge.

Arrière-plan technologique

[0004] Dans le domaine de l'horlogerie ou de la bijouterie, et plus généralement dans celui des articles décoratifs, les procédés de dépôts par peinture, vernissage ou émaillage ne sont pas toujours adaptés.

[0005] En effet, d'une part, la couche de matière appliquée à la surface d'un article à décorer est trop épaisse pour laisser apparaître d'éventuelles structurations de surface, par exemple une surface brossée, soleillée, sablée, structurée laser, etc., et d'autre part, la durée de vie de cette couche et par conséquent de sa couleur n'est pas toujours satisfaisante.

[0006] Ainsi, les techniques de dépôt de couche mince sous vide, tels que les procédés de dépôt physique en phase vapeur (connu sous l'acronyme en langue anglaise „PVD“ pour „Physical Vapor Déposition“), les procédés de dépôt chimique en phase vapeur (connu sous l'acronyme en langue anglaise „CVD“ pour „Chemical Vapor Déposition“), les procédés de dépôt de couche atomique (connu sous l'acronyme en langue anglaise „ALD“ pour Atomic Layer Déposition), sont préférées.

[0007] Toutefois, malgré le fait que ces techniques de dépôt permettent d'obtenir des revêtements d'une multitude de couleurs, la mise en oeuvre de ces procédés ne permet pas d'obtenir de manière industrielle certaines couleurs spécifiques, telles que les nuances de rouge.

Résumé de l'invention

[0008] L'invention résout les inconvénients précités en proposant une solution permettant de réaliser une pièce d'habillage présentant une couleur interférentielle prédéterminée résultant d'une addition d'interférences destructives et d'interférences constructives. On appelle dans le présent texte „couleur interférentielle“ une couleur générée par un phénomène optique d'interférence.

[0009] A cet effet, la présente invention concerne une pièce d'habillage comprenant un substrat comportant un revêtement composé des couches suivantes successivement superposées : une couche réfléchissante opaque ou semi-opaque, configurée pour avoir une réflectance d'au minimum 90% pour les longueurs d'ondes comprises entre 600 nm et 780 nm, une couche transparente ou semi transparente, présentant un indice de réfraction compris entre 1.45 et 2.8 pour une longueur d'onde de 630 nm, une couche absorbante.

[0010] Lesdites couches confèrent au revêtement une couleur interférentielle prédéterminée.

[0011] Avantageusement, la couleur prédéterminée est une nuance de rouge présentant un éclat métallique. Plus spécifiquement, la couleur prédéterminée est une nuance de rouge bordeaux ou de rouge pourpre. Cette couleur prédéterminée est obtenue grâce à l'arrangement particulier de l'empilement optique défini par les couches du revêtement.

[0012] En outre, le revêtement présente une très faible épaisseur, typiquement inférieure à 3 µm, ce qui permet d'être adapté à recouvrir tout article décoratif comprenant une structuration de surface ou comprenant une forme géométrique complexe.

[0013] Un autre avantage de la présente invention réside dans le fait qu'elle permet d'obtenir une très grande variété de nuances de rouge sans modification substantielle de l'épaisseur du revêtement. A titre d'exemple l'épaisseur du revêtement varie au maximum d'une valeur inférieure à 3 nm entre l'ensemble des nuances de rouge que ledit revêtement peut présenter.

[0014] Dans des modes particuliers de réalisation, l'invention peut comporter en outre l'une ou plusieurs des caractéristiques suivantes, prises isolément ou selon toutes les combinaisons techniquement possibles.

[0015] Dans des modes particuliers de réalisation, la couche réfléchissante est réalisée en matériau métallique choisi parmi le cuivre (Cu), l'or (Au), le rhodium (Rh), le platine (Pt).

[0016] Dans des modes particuliers de réalisation, la couche réfléchissante est réalisée en Cu.

[0017] Dans des modes particuliers de réalisation, la couche réfléchissante présente une épaisseur d'au moins 40 nm.

[0018] Dans des modes particuliers de réalisation, la couche réfléchissante présente une épaisseur de 100 nm.

[0019] Dans des modes particuliers de réalisation, la couche transparente est réalisée dans un matériau choisi parmi le dioxyde de silicium (SiO2), le dioxyde de titane (TiO2), l'alumine (Al2O3), le dioxyde d'hafnium (HfO2), le dioxyde de zirconium (ZrO2), l'oxyde de tantale (Ta2O5), le dioxyde d'étain (SnO2), l'oxyde d'indium-étain (ITO), l'oxyde de zinc (ZnO), l'oxyde de magnésium (MgO), le nitrure de silicium (Si3N4) et le nitrure d'aluminium (AlN).

[0020] Dans des modes particuliers de réalisation, la couche transparente est réalisée en SiO2.

[0021] Dans des modes particuliers de réalisation, la couche transparente présente une épaisseur comprise entre 10 nm et 50 nm.

[0022] Dans des modes particuliers de réalisation, la couche transparente présente une épaisseur de 30 nm.

[0023] Dans des modes particuliers de réalisation, la couche absorbante est réalisée dans un matériau choisi parmi : le titane (Ti), le nickel (Ni) ou le chrome (Cr).

[0024] Dans des modes particuliers de réalisation, la couche absorbante est réalisée en Cr.

[0025] Dans des modes particuliers de réalisation, la couche absorbante comprend une épaisseur comprise entre 5 nm et 8 nm.

[0026] Dans des modes particuliers de réalisation, le revêtement présente un taux de réflexion inférieur à 10% pour des longueurs d'onde comprises entre 350 nm et 600 nm, et supérieur ou égal à 10% pour des longueurs d'onde comprises entre 620 nm et 780 nm.

[0027] Dans des modes particuliers de réalisation, le revêtement présente une couleur rouge caractérisée dans l'espace chromatique CIELAB, illuminant D65, par un paramètre L* compris entre 25 et 35, un paramètre a* compris entre 8 et 15, et un paramètre b* compris entre 0 et 7.

[0028] Dans des modes particuliers de réalisation, le revêtement comprend une couche de protection acrylique et/ou nitrocellulosique superposée à la couche absorbante et présentant un indice de réfraction entre 1.48 et 1.51 pour une longueur d'onde de 630 nm.

[0029] Selon un autre objet, la présente invention concerne un procédé de fabrication d'une pièce d'habillage d'horlogerie ou de bijouterie caractérisé en ce qu'il comprend les étapes successives suivantes de génération d'un revêtement sur une surface d'un substrat: dépôt d'une couche réfléchissante opaque sur un substrat, ladite couche étant configurée pour avoir une réflectance d'au minimum 90% pour les longueurs d'ondes comprises entre 600 nm et 780 nm, dépôt d'une couche transparente présentant un indice de réfraction compris entre 1.45 et 2.8 à 630 nm, dépôt d'une couche absorbante.

[0030] Dans des modes particuliers de mise en oeuvre, le dépôt des couches réfléchissante, transparente et absorbante est réalisé par procédé de dépôt physique en phase vapeur d'évaporation par canon à électrons.

[0031] Dans des modes particuliers de mise en oeuvre, l'étape de dépôt de la couche transparente est réalisée avec une vitesse de dépôt comprise entre 0.01 nm/s et 0.1 nm/s.

[0032] Dans des modes particuliers de mise en oeuvre, l'étape de dépôt de la couche absorbante est réalisée avec une vitesse de dépôt comprise entre 0.01 nm/s et 0.05 nm/s.

[0033] Dans des modes particuliers de mise en oeuvre, le procédé comprend une étape finale de dépôt d'une couche de protection configurée pour comporter avantageusement un indice de réfraction compris entre 1.48 et 1.51 pour une longueur d'onde de 630 nm.

Brève description des figures

[0034] D'autres caractéristiques et avantages de l'invention apparaîtront à la lecture de la description détaillée suivante donnée à titre d'exemple nullement limitatif, en référence aux dessins annexés dans lesquels : la figure 1 représente schématiquement une vue de section d'une pièce d'habillage selon un exemple préféré de réalisation de l'invention ; la figure 2 représente une courbe de réflectance spectrale mesurées avec un spectrocolorimètre sur un revêtement selon l'invention; la figure 3 représente une courbe de réflectance spectrale mesurées avec un spectrocolorimètre sur un revêtement selon l'invention comprenant en outre une couche de protection ; la figure 4 représente un logigramme d'un procédé de fabrication d'une pièce d'habillage selon un autre aspect de l'invention.

Description détaillée de l'invention

[0035] La présente invention concerne une pièce d'habillage 10 comprenant un substrat 11 comportant un revêtement 12 composé de plusieurs couches successivement superposées permettant de conférer à la pièce d'habillage, sur une surface destinée à être visible pour un utilisateur une couleur interférentielle prédéterminée.

[0036] Préférentiellement, la couleur interférentielle prédéterminée est une nuance de rouge.

[0037] Le substrat 11 peut être réalisé dans un matériau métallique, céramique ou polymère. Par ailleurs, il peut être revêtu d'une sous couche galvanique.

[0038] Sur le substrat 11 est déposée une couche réfléchissante 121, opaque ou semi-opaque, configurée pour réfléchir des longueurs d'ondes comprises entre 600 nm et 780 nm.

[0039] Plus précisément, la couche réfléchissante 121 présente préférentiellement un coefficient de réflexion supérieur à 0.9 pour les longueurs d'ondes comprises entre 600 nm et 780 nm.

[0040] La couche réfléchissante 121 peut être semi-opaque dans le sens où elle peut avoir une transmittance différente de zéro, toutefois, la transmittance doit rester inférieure ou égale à 15% sur la gamme des longueurs d'onde du spectre visible.

[0041] Cette couche réfléchissante 121 est préférentiellement réalisée en matériau métallique et présente une épaisseur d'au moins 40 nm.

[0042] Préférentiellement, la couche réfléchissante 121 est réalisée dans un matériau qui est choisi parmi : Cu, Au, Rh ou Pt. Le matériau de la couche réfléchissante 121 est choisi pour sa capacité optique à réfléchir les longueurs d'ondes comprises entre 600 nm et 780 nm, cet intervalle étant représentatif de nuances de rouge du spectre lumineux. En outre, ce matériau est choisi pour sa faible absorption des longueurs d'onde dans le rouge.

[0043] Plus préférentiellement encore, la couche réfléchissante 121 est réalisée en Cu, notamment pour des raisons économiques et de facilité de mise en oeuvre.

[0044] La couche réfléchissante 121 peut être réalisée par procédé PVD, par galvanisation ou par tout autre procédé approprié de dépôt de couche mince.

[0045] Une couche transparente 122 est superposée à la couche réfléchissante 121.

[0046] La couche transparente 122 peut également être semitransparente dans le sens où elle peut absorber la lumière sur une certaine plage de longueurs d'onde, par exemple les longueurs d'ondes inférieures à 500 nm dans le cas où ladite couche transparente 122 serait réalisée en TiO2, et être transparente pour la lumière sur une autre plage de longueurs d'onde.

[0047] Le matériau de cette couche transparente 122 est choisi pour ses propriété optiques de transparence. A titre d'exemple, la couche transparente 122 est réalisée dans un matériau choisi parmi : SiO2, TiO2, Al2O3, HfO2, ZrO2, Ta2O5, SnO2, ITO, ZnO, MgO, Si3N4, AlN. Préférentiellement, la couche transparente 122 est réalisée en SiO2, notamment pour des raisons économiques, de facilité de mise en oeuvre et de répétabilité.

[0048] Par exemple, la couche transparente 122 présente avantageusement un indice de réfraction compris entre 1.45 et 2.8 pour une longueur d'onde de 630 nm et présente une épaisseur comprise entre 10 nm et 50 nm, selon l'indice de réfraction de cette dernière.

[0049] La couche transparente 122 peut être déposée sur la couche réfléchissante 121 par procédé PVD, CVD, ALD, ou par tout autre procédé approprié de dépôt de couche mince.

[0050] Enfin, comme le montre la figure 1, une couche absorbante est superposée à la couche transparente 122.

[0051] Cette couche absorbante 123 est réalisée dans un matériau métallique, choisi pour ses propriété optiques d'absorption. A titre d'exemple, la couche absorbante 123 est réalisée en Ti, Ni ou Cr. Préférentiellement, la couche absorbante 123 est réalisée en chrome.

[0052] La couche absorbante 123 présente une épaisseur comprise entre 4 nm et 10 nm, préférentiellement entre 5 nm et 8 nm, et encore plus préférentiellement entre 7.2 nm et 7.8 nm.

[0053] On comprend ici que la présente invention permet, grâce au revêtement 12, d'obtenir avantageusement une couleur interférentielle en nuance de rouge, ledit revêtement 12 présentant une épaisseur très faible, de l'ordre de quelques millièmes de millimètres, plus précisément inférieur à 3 µm.

[0054] Le revêtement 12 est avantageusement configuré, grâce aux caractéristiques précitées, de sorte à présenter un taux de réflexion inférieur à 10%, évoluant de 8% à 3%, pour des longueurs d'ondes comprises entre 350 nm et 580 nm, et évoluant de 3% à 24% pour des longueurs d'ondes comprises entre 580 nm et 750 nm. Ces valeurs sont représentées graphiquement par la courbe de réflectance spectrale de la figure 2, issue de mesures réalisées avec un spectrocolorimètre sur le revêtement 12.

[0055] Ces taux de réflexion peuvent avantageusement définir un spectre de réflexion représentatif d'une perception visuelle d'un utilisateur d'une couleur comprise dans une nuance de rouge.

[0056] Dans un exemple préféré de réalisation de l'invention, le revêtement 12 peut en outre avantageusement comporter une couche de protection 124, acrylique et/ou nitrocellulosique, superposée à la couche absorbante 123, afin de protéger les autres couches d'éventuelles agressions chimiques et/ou mécaniques.

[0057] L'ajout d'une telle couche de protection 124, par exemple d'une épaisseur de 3 µm d'un indice de réfraction proche de 1.5, par exemple entre 1.48 et 1.51 pour les longueurs d'onde de 630 nm, permet également aussi de générer des interférences destructives qui diminuant avantageusement le taux de réflexion entre 350 nm et 550 nm laissant les longueurs d'ondes entre 580 nm et 780 nm définir la couleur du revêtement 12.

[0058] Autrement dit, dans l'exemple préféré de réalisation de l'invention, la couche de protection 124 participe avantageusement à l'obtention de la couleur rouge finale du revêtement 12.

[0059] Avec la couche de protection 124, le revêtement 12 présente un taux de réflexion inférieur ou égale à 5% dans la gamme de longueurs d'ondes comprise entre 350 nm et 550 nm, évoluant de 5 à 21% pour des longueurs d'ondes comprises entre 550 nm et 750 nm. Ces valeurs sont représentées graphiquement par la courbe de réflectance spectrale de la figure 3, issue de mesures réalisées avec un spectrocolorimètre sur le revêtement 12.

[0060] Ainsi, dans l'exemple préféré de réalisation de l'invention, le revêtement 12 présente une couleur rouge caractérisée dans l'espace chromatique CIELAB, illuminant D65, par un paramètre L* compris entre 25 et 35, un paramètre a* compris entre 8 et 15, et un paramètre b* compris entre 0 et 7.

[0061] Il y a lieu noter que la couche de protection 124 n'est pas essentielle, et que dans d'autres exemples de réalisation de l'invention, le revêtement 12 peut présenter une couleur rouge caractérisée dans l'espace chromatique CIELAB par exemple par les paramètres précités, sans ladite couche de protection 124.

[0062] La présente invention concerne en outre un procédé de fabrication d'une pièce d'habillage 10 d'horlogerie ou de bijouterie, par exemple telle que décrite ci-avant. Les étapes successives de ce procédé sont représentées par le logigramme de la figure 4 et consistent en la génération d'un revêtement 12 sur une surface d'un substrat 11 afin de générer une couleur interférentielle prédéterminée.

[0063] Plus spécifiquement, le procédé comprend les étapes successives suivantes : dépôt 101 d'une couche réfléchissante 121 opaque sur un substrat 11, ladite couche étant adaptée à réfléchir les longueurs d'ondes comprises entre 600 nm et 780 nm, dépôt 102 d'une couche transparente 122 présentant un indice de réfraction compris entre 1.45 et 2.8 pour une longueur d'onde de 630 nm, dépôt 103 d'une couche absorbante 123.

[0064] Un exemple de procédé de fabrication décrit en détail par la suite utilise une technique de dépôt sous vide pour déposer les couches réfléchissante 121, transparente 122 et absorbante 123.

[0065] Plus particulièrement, dans un mode de mise en oeuvre préféré, un procédé de dépôt physique en phase vapeur d'évaporation par canon à électrons est utilisé.

[0066] Toutefois, il y a lieu de noter que le dépôt des couches peut être réalisé par d'autres méthodes PVD, comme la pulvérisation magnétron en milieux réactif, ou par procédé CVD, comme le procédé ALD et le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (connu sous l'acronyme de langue anglaise PECVD pour „Plasma Enhanced Chemical Vapor Déposition“).

[0067] Le dépôt 101 de la couche réfléchissante 121 est réalisé, par exemple de sorte que ladite couche réfléchissante 121 présente une épaisseur de 100 nm. Préférentiellement, parmi les matériaux suivants envisageables pour constituer la couche réfléchissante 121 : Cu, Au, Rh ou Pt, le Cu est privilégié.

[0068] La couche transparente 122 est ensuite déposée sur la couche réfléchissante 121, préférentiellement de sorte à présenter une épaisseur de 30 nm. Préférentiellement, parmi les matériaux suivants envisageables pour constituer la couche transparente 122 : SiO2, TiO2, Al2O3, HfO2, ZrO2, Ta2O5, SnO2, ITO, ZnO, MgO, Si3N4, ou l'AlN, le SiO2 est privilégié.

[0069] A titre d'exemple, afin d'obtenir une bonne répétabilité pour le dépôt de la couche transparente 122, la vitesse de dépôt est choisie entre 0.01 nm/s et 0.1 nm/s, préférentiellement 0.1 nm/s, et le flux de dioxygène (02) est de 5 sccm. Ces paramètres permettent en outre d'obtenir un contrôle très précis de la densité de matière et de l'épaisseur de la couche transparente 122.

[0070] La couche absorbante 123 est ensuite déposée sur la couche transparente 122, préférentiellement de sorte à présenter une épaisseur comprise par exemple entre 5 nm et 8 nm, préférentiellement entre 7.2 nm et 7.8 nm. Préférentiellement, la couche absorbante 123 est réalisée en chrome.

[0071] A titre d'exemple, afin d'obtenir une bonne répétabilité pour le dépôt de la couche absorbante 123, la vitesse de dépôt est choisie entre 0.01 nm/s et 0.05 nm/s, préférentiellement 0.02 nm/s, et le flux d'argon (Ar) est de 2 sccm de sorte à minimiser l'influence de l'encrassement des parois de l'enceinte sur la répétabilité du dépôt de la couche absorbante 123.

[0072] Dans un exemple préféré de mise en oeuvre de l'invention, le procédé de fabrication comporte également une étape finale 104 de dépôt d'une couche de protection 124. Cette couche de protection 124 est configurée pour comporter avantageusement un indice de réfraction d'environ compris entre 1.48 et 1.51 pour un longueur d'onde de 630 nm.

Claims (20)

1. Pièce d'habillage (10) caractérisée en ce qu'elle comprend un substrat (11) comportant un revêtement (12) composé des couches suivantes successivement superposées : – une couche réfléchissante (121) opaque ou semi-opaque, configurée pour avoir une réflectance d'au minimum 90% pour les longueurs d'ondes comprises entre 600 nm et 780 nm, – une couche transparente (122) ou semi transparente, présentant un indice de réfraction compris entre 1.45 et 2.8 pour une longueur d'onde de 630 nm, – une couche absorbante (123), lesdites couches conférant au revêtement (12) une couleur interférentielle prédéterminée.

2. Pièce d'habillage (10) selon la revendication 1, dans laquelle la couche réfléchissante (121) est réalisée en matériau métallique choisi parmi: Cu, Au, Rh, Pt.

3. Pièce d'habillage (10) selon la revendication 1 ou 2, dans laquelle la couche réfléchissante (121) est réalisée en Cu.

4. Pièce d'habillage (10) selon l'une des revendications 1 à 3, dans laquelle la couche réfléchissante (121) présente une épaisseur d'au moins 40 nm.

5. Pièce d'habillage (10) selon la revendication 4, dans laquelle la couche réfléchissante (121) présente une épaisseur de 100 nm.

6. Pièce d'habillage (10) selon l'une des revendications 1 à 5, dans laquelle la couche transparente (122) est réalisée dans un matériau choisi parmi : SiO2, TiO2, Al2O3, Hf02, ZrO2, Ta2O5, SnO2, ITO, ZnO, MgO, Si3N4, AIN.

7. Pièce d'habillage (10) selon la revendication 6, dans laquelle la couche transparente (122) est réalisée en Si02.

8. Pièce d'habillage (10) selon l'une des revendications 1 à 7, dans laquelle la couche transparente (122) présente une épaisseur comprise entre 10 nm et 50 nm.

9. Pièce d'habillage (10) selon la revendication 8, dans laquelle la couche transparente (122) présente une épaisseur de 30 nm.

10. Pièce d'habillage (10) selon l'une des revendications 1 à 9, dans laquelle la couche absorbante (123) est réalisée dans un matériau choisi parmi : Ti, Ni ou Cr.

11. Pièce d'habillage (10) selon la revendication 10, dans laquelle la couche absorbante (123) est réalisée en Cr.

12. Pièce d'habillage (10) selon l'une des revendications 1 à 11, dans laquelle la couche absorbante (123) présente une épaisseur comprise entre 5 nm et 8 nm.

13. Pièce d'habillage (10) selon l'une des revendications 1 à 12, dans lequel le revêtement (12) présente un taux de réflexion inférieur à 10% pour des longueurs d'onde comprises entre 350 nm et 600 nm, et supérieur ou égal à 10% pour des longueurs d'onde comprises entre 620 nm et 780 nm.

14. Pièce d'habillage (10) selon l'une des revendications 1 à 13, dans laquelle le revêtement (12) présente une couleur rouge caractérisée dans l'espace chromatique CIELAB, illuminant D65, par un paramètre L* compris entre 25 et 35, un paramètre a* compris entre 8 et 15, et un paramètre b* compris entre 0 et 7.

15. Pièce d'habillage (10) selon l'une des revendications 1 à 14, dans laquelle le revêtement (12) comprend une couche de protection acrylique et/ou nitrocellulosique (124) superposée à la couche absorbante (123) et présentant un indice de réfraction entre 1.48 et 1.51 pour une longueur d'onde de 630 nm.

16. Procédé de fabrication d'une pièce d'habillage (10) d'horlogerie ou de bijouterie caractérisé en ce qu'il comprend les étapes successives suivantes de génération d'un revêtement (12) sur une surface d'un substrat (11): – dépôt 101 d'une couche réfléchissante (121) opaque sur un substrat (11), ladite couche étant configurée pour avoir une réflectance supérieure à 90% pour les longueurs d'ondes comprises entre 600 nm et 780nm, – dépôt 102 d'une couche transparente (122) présentant un indice de réfraction compris entre 1.45 et 2.8 pour une longueur d'onde de 630 nm, – dépôt 103 d'une couche absorbante (123).

17. Procédé de fabrication selon la revendication 16, dans lequel le dépôt 101, 102 et 103 respectivement des couches réfléchissante (121), transparente (122) et absorbante (123) est réalisé par procédé de dépôt physique en phase vapeur d'évaporation par canon à électrons.

18. Procédé de fabrication selon l'une des revendications 16 ou 17 dans lequel l'étape de dépôt 102 de la couche transparente (122) est réalisée avec une vitesse de dépôt comprise entre 0.01 nm/s et 0.1 nm/s.

19. Procédé de fabrication selon l'une des revendications 16 à 18 dans lequel l'étape de dépôt 103 de la couche absorbante (123) est réalisée avec une vitesse de dépôt comprise entre 0.01 nm/s et 0.05 nm/s.

20. Procédé de fabrication selon l'une des revendications 16 à 19, comprenant une étape finale 104 de dépôt d'une couche de protection (124) configurée pour comporter avantageusement un indice de réfraction compris entre 1.48 et 1.51 pour une longueur d'onde égale à 630 nm.