KR20220130431A - Floor Cleaning System - Google Patents

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KR20220130431A
KR20220130431A KR1020210035296A KR20210035296A KR20220130431A KR 20220130431 A KR20220130431 A KR 20220130431A KR 1020210035296 A KR1020210035296 A KR 1020210035296A KR 20210035296 A KR20210035296 A KR 20210035296A KR 20220130431 A KR20220130431 A KR 20220130431A
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이종석
김도한
이용규
지상우
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한양이엔지 주식회사
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Abstract

The present invention relates to a system for cleaning a floor surface having a predetermined area, partitioned, and inclined toward a point. The system comprises: a linear washing liquid spray pipe disposed near the highest place of a floor surface, and having a plurality of washing liquid injection holes formed therein at predetermined intervals to spray washing liquid; a linear first gas spray pipe disposed at a place where the floor surface is higher than the washing liquid spray pipe, and having gas spray holes formed therein at predetermined intervals to spray clean gas toward the floor surface; and at least one linear second gas spray pipe disposed between the washing liquid spray pipe and a point, and having gas spray holes formed therein at predetermined intervals to spray clean gas toward the floor surface at an angle toward the point. Therefore, the system can efficiently wash and dry the floor surface in every corner.

Description

바닥면 세척 시스템{Floor Cleaning System}Floor Cleaning System {Floor Cleaning System}

본 발명은 소정의 면적을 가지고 구획된 바닥면을 세척하는 기술에 관한 것이다.The present invention relates to a technique for washing a floor surface partitioned with a predetermined area.

다종 다량의 케미컬을 사용하는 반도체 공장이나 화학 공장에서는, 원하는 케미컬을 필요로 하는 공정 라인 등으로 공급하고, 폐액을 회수하는 등의 케미컬 공급 설비가 마련되어 있다. 이러한 케미컬 공급 설비에는 배관, 밸브, 피팅, 필터, 펌프 등의 일반적인 배관 설비 이외에도, 케미컬을 원하는 농도로 희석하거나 다른 케미컬과 혼합하는 혼합기, 탱크로리로 운반되어 온 케미컬을 공장 내의 저장 탱크로 이송하기 위한 호스 연결 시스템인 ACQC(Auto Clean Quick Coupler) 유닛, 드럼에 저장된 케미컬을 공장 내의 저장 탱크로 이송하기 위한 드럼 커플러, 공급되는 케미컬을 채취하여 검사하기 위한 샘플링 장비 등 다양한 설비가 포함된다.In a semiconductor factory or a chemical factory that uses a large amount of chemicals, chemical supply facilities such as supplying a desired chemical to a process line or the like and recovering a waste liquid are provided. In addition to general piping equipment such as piping, valves, fittings, filters, and pumps, these chemical supply facilities include a mixer for diluting chemicals to a desired concentration or mixing them with other chemicals, and for transferring chemicals that have been transported by tank lorry to a storage tank in the factory. Various facilities are included, such as an ACQC (Auto Clean Quick Coupler) unit, a hose connection system, a drum coupler for transferring the chemicals stored in the drum to the storage tank in the factory, and sampling equipment for collecting and inspecting the chemicals supplied.

한편, 케미컬에는 외부 유출시 인체나 환경에 유해한 것들이 있어 케미컬이 누출될 수 있는 케미컬 공급 설비는 일정한 단위(예컨대, 복수의 밸브나 펌프를 포함하는 밸브실, ACQC 유닛, 샘플링 장비 등)로 묶어 부스나 캐비닛 또는 하우징(이하, '부스'라 통칭한다)의 내부에 설치하는 것이 일반적이다. 이러한 단위 설비가 설치되는 부스는 밀폐되도록 구성되어, 설비에서 케미컬이 누출되더라도 부스 외부로 유출되지 않게 된다. 또한, 부스에는 배수구가 마련되고 부스의 바닥면은 경사지게 형성되어, 누출되어 낙하한 케미컬이 배수구로 배수될 수 있도록 할 수 있다.On the other hand, chemicals are harmful to the human body or the environment when they leak outside, so chemical supply facilities that can leak chemicals are bundled in a certain unit (eg, a valve chamber including a plurality of valves or pumps, ACQC unit, sampling equipment, etc.) It is generally installed inside a cabinet or housing (hereinafter referred to as 'booth'). The booth in which the unit equipment is installed is configured to be sealed, so that even if the chemical leaks from the equipment, it does not leak to the outside of the booth. In addition, a drain hole is provided in the booth and the bottom surface of the booth is formed to be inclined, so that chemicals that have leaked and fallen can be drained through the drain hole.

그런데, 이와 같이 부스의 바닥면에 낙하한 케미컬은 종류에 따라서는 바로 배수되지 않고 바닥면에 고착되어 원활한 배수를 곤란하게 하거나, 증발하여 케미컬 증기를 발생시키고, 부스의 바닥면이나 부스 내 부품을 오염 또는 부식시키는 등의 문제를 일으키기도 한다. 따라서, 부스 내부는 정기적 또는 비정기적으로 세척할 필요가 있는데, 이러한 세척 작업은 작업자가 수동으로 하거나, 자동화하더라도 부스 내부 상부에서 세척액을 분사하는 정도라서 구석구석 깨끗하게 세척되지 않는다는 문제가 있다.However, the chemicals that have fallen on the floor of the booth in this way are not drained immediately depending on the type, but are adhered to the floor, making it difficult to drain smoothly, or evaporate and generate chemical vapor, and damage the floor or parts in the booth. It can also cause problems such as contamination or corrosion. Therefore, it is necessary to clean the inside of the booth regularly or irregularly, and even if the cleaning operation is done manually or automated by the operator, there is a problem that the cleaning solution is sprayed from the upper part of the booth, so it is not thoroughly cleaned in every corner.

본 발명은 이러한 실정을 감안하여 이루어진 것으로서, 예컨대 부스와 같이 구획된 바닥면을 구석구석 깨끗하고 효율적으로 세척할 수 있는 바닥면 세척 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of this situation, and an object of the present invention is to provide a floor cleaning system that can clean and efficiently clean every corner of a partitioned floor such as a booth.

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시형태에 따른 바닥면 세척 시스템은, 소정의 면적을 가지고 구획되고 일 지점을 향해 경사진 바닥면을 세척하기 위한 시스템으로서, 상기 바닥면의 높이가 가장 높은 곳의 근방에 배치되고, 세척액을 분사하는 복수의 세척액 분사구가 소정 간격을 두고 형성된 선형의 세척액 분사관; 상기 세척액 분사관보다 상기 바닥면의 높이가 더 높은 곳에 배치되고, 상기 바닥면으로 청정 기체를 분사하는 기체 분사구가 소정 간격을 두고 형성된 선형의 제1 기체 분사관; 및 상기 세척액 분사관과 상기 일 지점 사이에 배치되고, 상기 일 지점을 향해 비스듬하게 상기 바닥면으로 청정 기체를 분사하는 기체 분사구가 소정 간격을 두고 형성된 적어도 하나의 선형의 제2 기체 분사관을 구비한다.A floor cleaning system according to an embodiment of the present invention for achieving the above object is a system for cleaning a floor that is partitioned with a predetermined area and inclined toward a point, and the height of the floor is the most a linear cleaning liquid injection pipe disposed in the vicinity of a high place and formed with a plurality of cleaning liquid injection ports for spraying the cleaning liquid at predetermined intervals; a linear first gas injection pipe disposed at a height of the bottom surface higher than that of the washing liquid injection pipe and formed with gas injection holes for injecting clean gas to the bottom surface at predetermined intervals; and at least one linear second gas injection pipe disposed between the cleaning liquid injection pipe and the one point, and formed with a gas injection port for spraying clean gas obliquely toward the one point to the bottom surface at a predetermined interval. do.

여기서, 상기 세척액 분사관은 직선 형상으로 이루어지고, 그 길이방향 중심축을 중심으로 회동함으로써 상기 바닥면에 대한 상기 세척액의 분사 각도를 변경가능하게 구성될 수 있다.Here, the cleaning liquid injection pipe may be configured in a linear shape, and the injection angle of the cleaning liquid with respect to the bottom surface may be changed by rotating about the longitudinal central axis thereof.

또한, 상기 일 지점은 상기 바닥면의 일 구석에 위치하고, 상기 세척액 분사관, 상기 제1 기체 분사관 및 상기 제2 기체 분사관은, 상기 일 지점을 동심으로 꺾이거나 만곡된 선형으로 이루어질 수 있다.In addition, the one point is located at a corner of the bottom surface, and the washing liquid injection pipe, the first gas injection pipe, and the second gas injection pipe may be formed in a linear shape concentrically bent or curved at the one point. .

또한, 상기 제1 기체 분사관 및 상기 적어도 하나의 제2 기체 분사관은, 상기 일 지점과의 거리가 먼 기체 분사관부터 가까운 기체 분사관의 순으로 순차적으로 상기 청정 기체를 분사하도록 구성될 수 있다.In addition, the first gas injection pipe and the at least one second gas injection pipe may be configured to sequentially inject the clean gas in the order from a gas injection pipe that is far from the one point to a gas injection pipe that is close to the one point. have.

또한, 상기 일 지점에는 상기 일 지점에 모인 세척액을 흡입하여 배출하는 세척액 흡입부가 마련될 수 있다.In addition, a washing solution suction unit for sucking and discharging the washing solution collected at the one point may be provided at the one point.

또한, 상기 일 지점에는 상기 일 지점에 모인 세척액이 배수되는 배수구가 형성될 수 있다.In addition, a drain hole through which the washing solution collected at the one point is drained may be formed at the one point.

이 경우, 상기 일 지점에는 필터 부재가 마련될 수 있다.In this case, a filter member may be provided at the one point.

상기 필터 부재는 상기 일 지점 및 그 근방을 덮는 소정 두께의 판 형상으로 이루어지고, 상기 필터 부재의 상기 바닥면과 접하는 면에는 격자상 또는 방사상의 세척액 유로가 형성되어 있을 수 있다.The filter member may have a plate shape with a predetermined thickness covering the one point and its vicinity, and a grid-like or radial cleaning liquid flow path may be formed on a surface of the filter member in contact with the bottom surface.

본 발명의 바닥면 세척 시스템에 따르면, 세척액 분사관과 기체 분사관의 배치와 동작에 의해 바닥면을 구석구석 깨끗하고 효율적으로 세척 및 건조할 수 있다.According to the floor cleaning system of the present invention, by the arrangement and operation of the cleaning liquid injection pipe and the gas injection tube, it is possible to clean and efficiently clean and dry the floor in every corner.

본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 후술되는 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니된다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 바닥면 세척 시스템을 도시한 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 바닥면 세척 시스템을 도 1과는 다른 방향에서 바라본 사시도이다.
도 3은 도 1에 도시된 바닥면 세척 시스템을 위에서 바라본 평면도이다.
도 4는 도 1에 도시된 바닥면 세척 시스템에서 세척액 분사를 위한 구성만을 도시한 사시도이다.
도 5는 도 1에 도시된 바닥면 세척 시스템에서 기체 분사를 위한 구성만을 도시한 사시도이다.
도 6은 도 1에 도시된 바닥면 세척 시스템에서 세척액 분사관과 기체 분사관의 다른 배치예를 도시한 평면도이다.
도 7은 도 2에 도시된 바닥면 세척 시스템에서 세척액 흡입부의 구성을 도시한 사시도이다.
도 8은 도 7에 도시된 세척액 흡입부의 일부 구성을 분해하여 도시한 분해 사시도이다.
도 9는 도 8에 도시된 필터 부재의 저면을 도시한 저면 사시도이다.
The following drawings attached to this specification illustrate preferred embodiments of the present invention, and serve to further understand the technical spirit of the present invention together with the detailed description of the present invention to be described later, so the present invention is described in such drawings should not be construed as being limited only to
1 is a perspective view illustrating a floor cleaning system according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a perspective view of the floor cleaning system shown in FIG. 1 as viewed from a different direction from FIG. 1 .
3 is a plan view of the floor cleaning system shown in FIG. 1 as viewed from above.
FIG. 4 is a perspective view showing only a configuration for spraying a cleaning solution in the floor cleaning system shown in FIG. 1 .
5 is a perspective view showing only the configuration for gas injection in the floor cleaning system shown in FIG. 1 .
FIG. 6 is a plan view illustrating another arrangement example of a cleaning liquid injection pipe and a gas injection pipe in the floor cleaning system shown in FIG. 1 .
FIG. 7 is a perspective view illustrating a configuration of a cleaning liquid suction unit in the floor cleaning system illustrated in FIG. 2 .
8 is an exploded perspective view illustrating a partial configuration of the washing liquid suction unit shown in FIG. 7 .
9 is a bottom perspective view illustrating a bottom surface of the filter member shown in FIG. 8 .

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따라 상세히 설명하기로 한다. 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과하고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, it will be described in detail according to a preferred embodiment of the present invention. The terms or words used in the present specification and claims should not be construed as being limited to their ordinary or dictionary meanings, and the inventor may properly define the concept of the term in order to best describe his invention. Based on the principle that there is, it should be interpreted as meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention. Accordingly, the embodiments described in the present specification and the configurations shown in the drawings are only the most preferred embodiment of the present invention and do not represent all of the technical spirit of the present invention. It should be understood that there may be equivalents and variations.

도면에서 각 구성요소 또는 그 구성요소를 이루는 특정 부분의 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장되거나 생략되거나 또는 개략적으로 도시되었다. 따라서, 각 구성요소의 크기는 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다. 관련된 공지기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우, 그러한 설명은 생략하도록 한다.In the drawings, the size of each component or a specific part constituting the component is exaggerated, omitted, or schematically illustrated for convenience and clarity of description. Accordingly, the size of each component does not fully reflect the actual size. If it is determined that a detailed description of a related known function or configuration may unnecessarily obscure the gist of the present invention, such description will be omitted.

본 명세서에서 사용되는 '결합', '장착', '고정' 또는 '연결'이라는 용어는, 하나의 부재와 다른 부재가 직접 결합, 장착, 고정 또는 연결되는 경우뿐만 아니라 하나의 부재가 중간 부재를 개재하여 다른 부재에 간접적으로 결합, 장착, 고정 또는 연결되는 경우도 포함한다.As used herein, the terms 'coupled', 'mounted', 'fixed' or 'connected' refer to the case where one member and another member are directly coupled, mounted, fixed or connected, as well as when one member engages an intermediate member. It also includes cases where it is indirectly coupled, mounted, fixed, or connected to another member through the intervening.

또한, 본 명세서에서는 상, 하, 좌, 우, 전, 후 등과 같이 방향을 나타내는 용어를 사용하나, 이러한 방향은 사물이 놓여진 방향과 관찰 방향에 따라 달라질 수 있다. Also, in this specification, terms indicating directions such as up, down, left, right, front, back, etc. are used, but these directions may vary depending on the direction in which the object is placed and the direction of observation.

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 바닥면 세척 시스템을 도시한 사시도이고, 도 2는 도 1과는 다른 방향에서 바라본 사시도이며, 도 3은 평면도이다.1 is a perspective view illustrating a floor cleaning system according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view viewed from a different direction from FIG. 1 , and FIG. 3 is a plan view.

본 실시형태에 따른 바닥면 세척 시스템(이하, 간단히 '시스템'이라고도 한다)은 부스(1) 형태로 이루어진 케미컬 공급 설비의 바닥면(2)을 세척 건조하기 위한 것으로서, 여기서 케미컬 공급 설비는 ACQC 유닛, 드럼 커플러, 샘플링 장비 등 장비의 사용에 따라 케미컬이 누출될 수 있는 임의의 장비가 될 수 있다. 케미컬 공급 설비를 구성하는 구성요소들은 본 발명과 직접 관련이 없으므로, 도면에서는 부스(1)를 제외하고 도시를 생략하였다. 또한, 부스(1)의 지붕도 도시를 생략하였고 부스(1)의 측벽 역시 본 시스템의 이해와 설명의 편의를 위해 절개하여 도시하였다. 한편, 부스(1)의 측벽에는 윈도우나 도어가 마련될 수 있다.The floor cleaning system (hereinafter, simply referred to as 'system') according to this embodiment is for washing and drying the floor surface 2 of the chemical supply equipment in the form of a booth 1, wherein the chemical supply equipment is an ACQC unit , drum couplers, sampling equipment, etc. can be any equipment that can leak chemicals depending on the use of the equipment. Since the components constituting the chemical supply equipment are not directly related to the present invention, the drawings except for the booth 1 are omitted. In addition, the roof of the booth 1 is also omitted, and the side wall of the booth 1 is also cut and shown for the convenience of understanding and explanation of the present system. On the other hand, a window or a door may be provided on the side wall of the booth 1 .

도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 실시형태에 따른 시스템이 세척하고자 하는 대상인 부스(1)의 바닥면(2)은 부스의 측벽에 의해 소정의 면적을 가지고 구획되고, 일 지점(예컨대, 도 3에서 좌상측 구석)을 향해 경사지게 형성된다. 즉, 바닥면(2)은 일 지점인 도 3에서 좌상측 구석 부분의 높이가 가장 낮고, 일 지점으로부터 도 3에서 우측으로 갈수록, 또한 도 3에서 하측으로 갈수록 바닥면의 높이가 점점 높아진다. 따라서, 바닥면(2)에 낙하되는 케미컬이나 세척액은 바닥면의 경사를 따라 흘러 일 지점으로 모이게 된다. 상기 일 지점에는 모인 케미컬이나 세척액이 배수되는 배수구(3; 도 8 참조)가 형성되어 있을 수 있으며, 배수구(3)에는 부스(1) 바깥으로 연장되는 배수관(4)이 연통되고, 배수관(4)에는 배수관을 개폐하는 배수 밸브(5)나 배수 펌프(도시 생략)가 개재될 수 있다. 배수 밸브(5)의 동작에 대해서는 후술한다.1 to 3 , the bottom surface 2 of the booth 1, which is an object to be cleaned by the system according to the present embodiment, is partitioned with a predetermined area by the side wall of the booth, and a point (eg, FIG. 3, it is formed inclined toward the upper left corner). That is, the bottom surface 2 has the lowest height of the upper left corner in FIG. 3 , which is a point, and the height of the bottom surface gradually increases from one point to the right in FIG. 3 , and toward the lower side in FIG. 3 . Therefore, the chemical or washing liquid falling on the floor surface 2 flows along the slope of the floor surface and is collected at one point. A drain 3 (refer to FIG. 8) through which the collected chemicals or cleaning solution is drained may be formed at the one point, and a drain pipe 4 extending outside the booth 1 communicates with the drain 3, and the drain pipe 4 ), a drain valve 5 or a drain pump (not shown) for opening and closing the drain pipe may be interposed. The operation of the drain valve 5 will be described later.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 실시형태에 따른 시스템은 세척액 분사관(10)과, 적어도 두 개의 기체 분사관(20,25)을 포함한다.1 to 3 , the system according to the present embodiment includes a cleaning liquid injection pipe 10 and at least two gas injection pipes 20 and 25 .

세척액 분사관(10)은 바닥면(2)을 세척하기 위해 부스(1) 내부로 세척액을 분사하는 것으로서, 도 3을 참조하면 바닥면(2)의 높이가 가장 높은 곳인 우측변의 근방에 바닥면(2)으로부터 약간 이격되고 우측변에 평행한 직선 상으로 배치될 수 있다. 또한, 도시하지는 않았지만, 세척액 분사관(10)의 하방에는 세척액 분사관(10)이 바닥면(2)으로부터 안정적으로 이격되어 지지되도록 적어도 하나의 지지부재가 마련될 수 있다.The washing liquid injection pipe 10 injects the washing liquid into the booth 1 to wash the floor 2, and referring to FIG. 3, the floor surface is located near the right side where the height of the floor surface 2 is the highest. It may be arranged on a straight line slightly spaced apart from (2) and parallel to the right side. In addition, although not shown, at least one support member may be provided below the cleaning liquid injection pipe 10 so that the cleaning liquid injection pipe 10 is stably supported and spaced apart from the bottom surface 2 .

보다 구체적으로, 본 시스템에서 세척액 분사를 위한 구성만을 도시한 사시도인 도 4를 참조하면, 세척액 분사관(10)은 세척액이 공급되는 세척액 공급관(11)에 T자형 연결구(10b)를 개재하여 연결되고, 세척액 분사관(10)의 하방에는 복수의 세척액 분사구(10a)가 소정 간격을 두고 형성된다. 따라서, 세척액 분사구(10a)로부터 분사되는 세척액은 바닥면(2)의 경사를 따라 흘러 일 지점(도 3에서 좌상측 구석)으로 모이게 된다. 여기서, 세척액으로서 본 실시예에서는 순수(DI Water)를 사용하지만, 바닥면(2)에 떨어진 케미컬을 중화 또는 희석시킬 수 있는 액상의 유체라면 어느 것이라도 사용할 수 있다.More specifically, referring to FIG. 4 , which is a perspective view showing only the configuration for spraying the cleaning liquid in the present system, the cleaning liquid injection pipe 10 is connected to the cleaning liquid supply pipe 11 to which the cleaning liquid is supplied through a T-shaped connector 10b. and a plurality of cleaning liquid injection holes 10a are formed at a predetermined interval below the cleaning liquid injection pipe 10 . Accordingly, the cleaning liquid sprayed from the cleaning liquid injection port 10a flows along the slope of the bottom surface 2 and is collected at a point (upper left corner in FIG. 3 ). Here, although pure water (DI Water) is used as the washing liquid in this embodiment, any liquid fluid capable of neutralizing or diluting the chemicals falling on the bottom surface 2 may be used.

또한, T자형 연결구(10b)의 세척액 분사관(10)과 반대쪽에는 연장축(12)이 연결되고, 이 연장축(12)은 모터나 로터리 실린더와 같은 회동수단(15)에 연결되어, 회동수단(15)에 의해 세척액 분사관(10)이 길이방향 중심축을 중심으로 소정 각도만큼 회동함으로써 바닥면(2)에 대한 세척액의 분사 각도를 변경가능하게 구성될 수 있다. 이 경우, 세척액 공급관(11)은 세척액 분사관(10)의 회동이 가능하도록 플렉시블한 배관으로 이루어질 수 있다. In addition, an extension shaft 12 is connected to the opposite side of the washing liquid injection pipe 10 of the T-shaped connector 10b, and the extension shaft 12 is connected to a rotation means 15 such as a motor or a rotary cylinder, and rotates. By means 15 , the cleaning liquid injection pipe 10 is rotated by a predetermined angle about the longitudinal central axis, so that the spraying angle of the cleaning liquid with respect to the floor surface 2 can be configured to be changeable. In this case, the cleaning solution supply pipe 11 may be formed of a flexible pipe to enable rotation of the washing solution injection pipe 10 .

회동수단(15)은 제어부(도시 생략)의 제어에 의해 자동으로 회동할 수 있으나, 단순한 레버로 이루어져 작업자가 수동으로 회동시킬 수도 있다. 또한, 회동수단(15)은 부스(1)의 외부에 배치되는 것으로 도시되었지만(도 3 참조), 회동수단(15)이 자동으로 회동하는 경우 회동수단(15)은 부스(1) 내부에 배치될 수도 있다.The rotating means 15 may be rotated automatically under the control of a control unit (not shown), but may be rotated manually by an operator because it is made of a simple lever. In addition, although the rotation means 15 is shown to be disposed outside the booth 1 (see FIG. 3 ), when the rotation means 15 automatically rotates, the rotation means 15 is disposed inside the booth 1 . it might be

한편, 세척액 공급관(11)은 유체 매니폴드(30)를 개재하여 부스(1) 외부의 배관(35; 도 3 참조)과 세척액 공급원(도시 생략)에 연결될 수 있다. 유체 매니폴드(30)는 부스(1)의 내부 일측에 마련되어 부스(1) 내외부의 유체 유출입을 중개하는 것으로서, 도 4를 참조하면, 세척액 공급관(11)이 연결되는 세척액 공급구(31), 후술하는 기체 공급관(21)이 연결되는 기체 공급구(32), 세척액 흡입관(41)이 연결되는 세척액 흡입구(33), 및 배기구(34)를 포함할 수 있다. 이들 세척액 공급구(31), 기체 공급구(32), 세척액 흡입구(33) 및 배기구(34)는 부스(1)의 측벽을 관통하여 부스(1) 외부의 각각 대응하는 배관(35)과 연통된다.Meanwhile, the washing solution supply pipe 11 may be connected to a pipe 35 (see FIG. 3 ) outside the booth 1 and a washing solution supply source (not shown) through the fluid manifold 30 . The fluid manifold 30 is provided on one side of the inside of the booth 1 to mediate the inflow and outflow of fluid inside and outside the booth 1, and referring to FIG. 4, the cleaning solution supply port 31 to which the cleaning solution supply pipe 11 is connected, It may include a gas supply port 32 to which the gas supply pipe 21 to be described later is connected, a washing solution suction port 33 to which the washing solution suction pipe 41 is connected, and an exhaust port 34 . These cleaning liquid supply ports 31 , gas supply ports 32 , cleaning liquid intake ports 33 , and exhaust ports 34 pass through the side wall of the booth 1 and communicate with the corresponding pipes 35 outside the booth 1 , respectively. do.

그러나, 유체 매니폴드(30)는 생략될 수 있으며, 세척액 공급관(11)은 부스(1)의 측벽을 직접 관통하여 세척액 공급원(도시 생략)에 연결될 수도 있다.However, the fluid manifold 30 may be omitted, and the cleaning solution supply pipe 11 may directly penetrate the sidewall of the booth 1 and be connected to a cleaning solution supply source (not shown).

적어도 두 개의 기체 분사관(20,25)은 세척액 분사관(10)에 의해 분사된 세척액이 바닥면(2)의 일 지점을 향해 원활하게 흐르도록 하고 바닥면(2)을 건조시키기 위해 바닥면(2)으로 청정 기체를 분사하는 것으로서, 본 실시예에서는 하나의 제1 기체 분사관(20)과 복수개의 제2 기체 분사관(25)을 포함한다.At least two gas injection tubes 20 and 25 are provided on the bottom surface to allow the cleaning liquid sprayed by the cleaning liquid injection tube 10 to flow smoothly toward a point on the floor surface 2 and to dry the floor surface 2 . In (2), the clean gas is sprayed, and in this embodiment, one first gas injection pipe 20 and a plurality of second gas injection pipes 25 are included.

제1 기체 분사관(20)은, 도 3을 참조하면 세척액 분사관(10)보다 바닥면(2)의 높이가 더 높은 곳인 우측변에 인접하여 세척액 분사관(10)보다 약간 더 높고 평행하게 직선 상으로 배치될 수 있다. 또한, 복수개의 제2 기체 분사관(25)은 세척액 분사관(10)과 일 지점 사이에 소정 간격을 두고 서로 평행하게 바닥면(2)으로부터 약간 이격되어 직선 상으로 배치될 수 있다. 또한, 도시하지는 않았지만, 제1 및 제2 기체 분사관(20,25)의 하방에는 제1 및 제2 기체 분사관(20,25)이 바닥면(2)으로부터 안정적으로 이격되어 지지되도록 각각 적어도 하나씩의 지지부재가 마련될 수 있다.Referring to FIG. 3 , the first gas injection pipe 20 is adjacent to the right side where the height of the bottom surface 2 is higher than that of the washing liquid injection pipe 10 and is slightly higher and parallel to the washing liquid injection pipe 10 . It may be arranged in a straight line. In addition, the plurality of second gas injection tubes 25 may be arranged in a straight line with a predetermined distance between the cleaning liquid injection tube 10 and one point and slightly spaced apart from the bottom surface 2 in parallel to each other. In addition, although not shown, at least below the first and second gas injection tubes 20 and 25 so that the first and second gas injection tubes 20 and 25 are stably supported and spaced apart from the bottom surface 2 , respectively. One support member may be provided.

보다 구체적으로, 본 시스템에서 기체 분사를 위한 구성만을 도시한 사시도인 도 5를 참조하면, 제1 기체 분사관(20)은 청정 기체가 공급되는 기체 공급관(21)에 T자형 연결구(20b)를 개재하여 연결되고, 제1 기체 분사관(20)의 하방에는 복수의 기체 분사구(20a)가 소정 간격을 두고 형성된다. 또한, 제2 기체 분사관(25)은 연결관(22) 및 T자형 연결구(20b,22b) 또는 L자형 연결구(22c)를 개재하여 기체 공급관(21)에 연결되고, 제2 기체 분사관(25)의 하방에는 일 지점을 향해 비스듬하게 기체를 분사하는 복수의 기체 분사구(25a)가 소정 간격을 두고 형성된다. More specifically, referring to FIG. 5, which is a perspective view showing only the configuration for gas injection in the present system, the first gas injection pipe 20 includes a T-shaped connector 20b to the gas supply pipe 21 to which the clean gas is supplied. It is connected therebetween, and a plurality of gas injection ports 20a are formed below the first gas injection pipe 20 at predetermined intervals. In addition, the second gas injection pipe 25 is connected to the gas supply pipe 21 via the connecting pipe 22 and the T-shaped connector 20b, 22b or the L-shaped connector 22c, and the second gas injection pipe ( A plurality of gas injection ports 25a for jetting gas obliquely toward a point are formed at a predetermined interval below the 25 .

한편, 도면에는 기체 공급관(21)에 의해 공급되는 청정 기체가 상기 일 지점에서 가장 먼 기체 분사관(제1 기체 분사관)부터 상기 일 지점에서 가장 가까운 기체 분사관(제2 기체 분사관)의 순으로 공급되도록 연결되어 있지만, 기체 공급관(21)과 기체 분사관들(20,25)의 연결 순서는 바뀌어도 된다.On the other hand, in the drawing, the clean gas supplied by the gas supply pipe 21 is from the gas injection pipe (first gas injection pipe) furthest from the one point to the gas injection pipe (second gas injection pipe) closest to the one point. Although they are connected to be supplied in order, the connection order of the gas supply pipe 21 and the gas injection pipes 20 and 25 may be changed.

이러한 기체 분사관(20,25)의 구성에 따르면, 제1 및 제2 기체 분사관(20,25)로부터 분사되는 청정 기체는 바닥면(2)에 분사된 세척액을 도 3에서 좌측변을 향해 쓸어내리고 바닥면(2)을 건조시키게 된다. 여기서, 청정 기체로는 이물질이 제거된 청정 공기일 수 있고, 질소와 같은 불활성 기체를 사용할 수 있다. 또한, 바닥면(2)의 원활한 건조를 위해 청정 기체는 가열되어 공급될 수 있다.According to the configuration of the gas injection tubes 20 and 25 , the clean gas injected from the first and second gas injection tubes 20 and 25 causes the washing liquid injected on the bottom surface 2 toward the left side in FIG. 3 . Sweep down and dry the bottom surface (2). Here, the clean gas may be clean air from which foreign substances are removed, and an inert gas such as nitrogen may be used. In addition, for smooth drying of the bottom surface 2 , the clean gas may be heated and supplied.

또한, 제1 및 제2 기체 분사관(20,25) 각각의 기체 유입단에는 청정 기체의 유입을 허용 또는 차단하는 밸브(23,26)가 마련될 수 있다. 이 밸브(23,26)는 제어부(도시 생략)의 제어에 의해 개폐될 수 있다. 구체적으로, 제어부는 상기 일 지점과의 거리가 먼 기체 분사관(제1 기체 분사관)부터 가까운 기체 분사관(제2 기체 분사관)의 순으로 밸브(23,26)를 개방하여, 상기 일 지점과의 거리가 먼 기체 분사관(제1 기체 분사관)부터 가까운 기체 분사관(제2 기체 분사관)의 순으로 청정 공기가 분사되도록 할 수 있다. 이러한 구성에 의하면, 바닥면(2)에 분사된 세척액이 도 3에서 좌측변을 향해 원활하게 흐르도록 할 수 있다.In addition, valves 23 and 26 for allowing or blocking the inflow of clean gas may be provided at gas inlet ends of the first and second gas injection pipes 20 and 25 , respectively. The valves 23 and 26 may be opened and closed under the control of a controller (not shown). Specifically, the control unit opens the valves 23 and 26 in the order of a gas injection pipe (first gas injection pipe) that is far from the one point to a gas injection pipe (second gas injection pipe) that is close to the one point, The clean air may be injected in the order from a gas injection pipe (first gas injection pipe) that is far from the point to a gas injection pipe (second gas injection tube) that is close to the point. According to this configuration, the washing liquid sprayed on the bottom surface 2 can be smoothly flowed toward the left side in FIG. 3 .

한편, 기체 공급관(21)은, 전술한 세척액 공급관(11)과 마찬가지로, 유체 매니폴드(30)를 개재하여 부스(1) 외부의 배관(35; 도 3 참조)과 기체 공급원(도시 생략)에 연결될 수 있다. 즉, 기체 공급관(21)은 유체 매니폴드(30)의 기체 공급구(32)에 연결되어 외부의 기체 공급원에 연결될 수 있다. 물론, 유체 매니폴드(30)는 생략될 수 있으며, 기체 공급관(21)은 부스(1)의 측벽을 직접 관통하여 기체 공급원(도시 생략)에 연결될 수도 있다.Meanwhile, the gas supply pipe 21 is connected to the pipe 35 (refer to FIG. 3 ) outside the booth 1 and the gas supply source (not shown) via the fluid manifold 30 , similarly to the cleaning solution supply pipe 11 described above. can be connected That is, the gas supply pipe 21 may be connected to the gas supply port 32 of the fluid manifold 30 to be connected to an external gas supply source. Of course, the fluid manifold 30 may be omitted, and the gas supply pipe 21 may directly penetrate the sidewall of the booth 1 and be connected to a gas supply source (not shown).

이상과 같이, 본 실시형태에 따른 시스템은 세척액 분사관(10)과 기체 분사관(20,25)의 특정한 배치와 동작에 의해 바닥면(2)을 구석구석 깨끗하고 효율적으로 세척 및 건조할 수 있다.As described above, the system according to the present embodiment can clean and efficiently clean and dry the floor surface 2 in every corner by the specific arrangement and operation of the washing liquid injection pipe 10 and the gas injection pipe 20 and 25 . have.

한편, 전술한 설명에서는 세척액 분사관(10)과 기체 분사관(20,25)이 각각 서로 평행하게 직선 상으로 배치되었지만, 세척액 분사관(10)과 기체 분사관(20,25)은 달리 배치될 수도 있다.Meanwhile, in the above description, the washing liquid injection pipe 10 and the gas injection tubes 20 and 25 are arranged in a straight line parallel to each other, respectively, but the cleaning liquid injection pipe 10 and the gas injection tubes 20 and 25 are arranged differently. it might be

즉, 본 시스템에서 세척액 분사관(10')과 기체 분사관(20',25')의 다른 배치예를 도시한 평면도인 도 6을 참조하면, 세척액 분사관(10')과 기체 분사관(20',25')은 바닥면(2)의 높이가 가장 낮은 상기 일 지점을 대략 동심으로 하여 꺾이거나 만곡된 선형으로 배치될 수 있다. 이러한 배치에 의하면 세척액이 더욱 원활하게 일 지점을 향해 흐르도록 하고, 바닥면(2)을 더욱 효율적으로 건조시킬 수 있다. 다시 말해, 세척액 분사관(10,10')과 기체 공급관(20,20',25,25')은 바닥면(2)의 크기와 형태에 따라서 그 형상과 배치가 얼마든지 변경될 수 있다. 또한, 제2 기체 공급관(25,25')의 개수도 바닥면(2)의 크기와 형태에 따라서 변경가능하다.That is, referring to FIG. 6, which is a plan view showing another arrangement example of the cleaning liquid injection tube 10' and the gas injection tube 20', 25' in the present system, the cleaning liquid injection pipe 10' and the gas injection tube ( 20', 25') may be arranged in a bent or curved line with the one point having the lowest height of the bottom surface 2 approximately concentric with each other. According to this arrangement, the washing liquid can flow more smoothly toward a point, and the bottom surface 2 can be dried more efficiently. In other words, the shape and arrangement of the cleaning liquid injection pipes 10 and 10 ′ and the gas supply pipes 20 , 20 ′, 25 and 25 ′ may be changed according to the size and shape of the bottom surface 2 . In addition, the number of the second gas supply pipes 25 and 25 ′ can also be changed according to the size and shape of the bottom surface 2 .

한편, 본 실시형태에 따른 시스템에는 세척액 흡입부가 마련될 수 있다. 세척액 흡입부는, 도 2의 일부 확대 사시도인 도 7을 참조하면, 일단이 상기 일 지점을 향해 개구된 세척액 흡입관(41)을 포함한다. 세척액 흡입관(41)의 타단은 유체 매니폴드(30)의 세척액 흡입구(33)에 연결되어 부스(1) 외부의 흡입 펌프(도시 생략)와 연통될 수 있다. 따라서, 흡입 펌프(도시 생략)를 동작시키면 세척액 흡입관(41)을 통해 상기 일 지점에 모인 케미컬이나 세척액을 더욱 신속하게 배출할 수 있다. 물론, 세척액 흡입관(41)은 유체 매니폴드(30)을 개재하지 않고 부스(1)의 측벽을 관통하여 흡입 펌프(도시 생략)에 직접 연결될 수 있다.Meanwhile, the system according to the present embodiment may be provided with a washing liquid suction unit. Referring to FIG. 7 , which is a partially enlarged perspective view of FIG. 2 , the washing solution suction unit includes a washing solution suction pipe 41 whose one end is opened toward the one point. The other end of the washing solution suction pipe 41 may be connected to the washing solution suction port 33 of the fluid manifold 30 to communicate with a suction pump (not shown) outside the booth 1 . Accordingly, when the suction pump (not shown) is operated, the chemical or cleaning solution collected at the one point can be more rapidly discharged through the cleaning solution suction pipe 41 . Of course, the washing liquid suction pipe 41 may be directly connected to a suction pump (not shown) through the side wall of the booth 1 without interposing the fluid manifold 30 .

또한, 상기 일 지점에는 크기가 큰 불순물을 거르는 필터 부재(40)가 마련될 수 있다. 이 경우, 세척액 흡입관(41)은 필터 부재(40)를 개재하여 상기 일 지점에 개구될 수 있다. In addition, a filter member 40 for filtering out impurities having a large size may be provided at the one point. In this case, the washing liquid suction pipe 41 may be opened at the one point with the filter member 40 interposed therebetween.

필터 부재(40)에는, 도 7의 일부 분해 사시도인 도 8과 필터 부재(40)의 저면 사시도인 도 9를 참조하면, 세척액 흡입관(41)의 일단이 상하로 관통하거나 연통되는 관통홀(40a)이 형성되어 있다. 또한, 바닥면(2)과 접하는 필터 부재(40)의 저면에는 격자상(도 9의 (a) 참조) 또는 방사상(도 9의 (b) 참조)의 세척액 유로(40b)가 형성되어 있다. 따라서, 필터 부재(40)가 바닥면(2)에 접하도록 장착되었을 때, 필터 부재(40)의 측면에 노출되는 세척액 유로(40b)의 단면적보다 큰 불순물은 필터 부재(40)의 측면에 걸려 세척액 흡입관(41)으로 들어가지 못하고 액상의 케미컬이나 세척액 또는 부스(1) 내부의 공기만이 세척액 흡입부에 의해 흡입 배출될 수 있다.In the filter member 40, referring to FIG. 8, which is a partially exploded perspective view of FIG. 7, and FIG. 9, which is a bottom perspective view of the filter member 40, a through hole 40a through which one end of the washing liquid suction pipe 41 passes vertically or communicates. ) is formed. In addition, on the bottom surface of the filter member 40 in contact with the bottom surface 2, a lattice-like (refer to FIG. 9(a)) or radial (refer to FIG. 9(b)) cleaning liquid flow path 40b is formed. Therefore, when the filter member 40 is mounted to be in contact with the bottom surface 2 , impurities larger than the cross-sectional area of the washing liquid flow path 40b exposed on the side surface of the filter member 40 are caught on the side surface of the filter member 40 . It cannot enter the cleaning liquid suction pipe 41 and only liquid chemicals, cleaning liquid, or air inside the booth 1 may be sucked and discharged by the cleaning liquid suction unit.

한편, 부스(1)의 바닥면(2)에는, 전술한 바와 같이, 배수구(3; 도 8 참조)가 형성되어 있을 수 있다. 따라서, 배수구(3)를 통해 상기 일 지점에 모인 케미컬이나 세척액이 배수될 수 있는데, 이때 세척액 흡입부가 동작하게 되면 배수구(3)와 배수관(4)을 통해 배수되던 케미컬이나 세척액이 역류할 수 있다. 따라서, 배수 밸브(5)는 역류를 방지하는 체크 밸브로 이루어지거나, 또는 세척액 흡입부가 동작할 때에는 제어부(도시 생략)의 제어에 의해 닫히는 밸브로 이루어지는 것이 바람직하다. 나아가, 본 시스템이 세척액 흡입부를 구비하는 경우에는 배수구(3), 배수관(4) 및 배수 밸브(5)를 생략할 수도 있다.On the other hand, on the bottom surface 2 of the booth 1, as described above, a drain 3 (refer to FIG. 8) may be formed. Therefore, the chemical or washing solution collected at the one point may be drained through the drain 3, and when the washing solution suction unit operates, the chemical or washing solution drained through the drain 3 and the drain pipe 4 may flow back. . Accordingly, it is preferable that the drain valve 5 be a check valve for preventing backflow, or a valve that is closed under the control of a control unit (not shown) when the washing liquid suction unit operates. Furthermore, when the present system is provided with a washing liquid suction unit, the drain port 3 , the drain pipe 4 , and the drain valve 5 may be omitted.

이상에서 미설명된 유체 매니폴드(30)의 배기구(34)는 부스(1) 내부의 공기나 케미컬 증기 등의 기체를 배기하기 위한 것으로서, 부스(1) 외부의 배기 팬(도시 생략)이나 배기 펌프(도시 생략)에 연통될 수 있다. 또는, 배기 팬(도시 생략)을 부스(1)의 천정에 설치하고, 이로부터 직접 부스(1) 외부로 배기할 수도 있다. 이 경우, 유체 매니폴드(30)의 배기구(34)는 생략하거나 막아두면 된다.The exhaust port 34 of the fluid manifold 30 not described above is for exhausting gases such as air or chemical vapor inside the booth 1, and an exhaust fan (not shown) or exhaust outside the booth 1 It may be in communication with a pump (not shown). Alternatively, an exhaust fan (not shown) may be installed on the ceiling of the booth 1 and exhaust directly from the exhaust fan (not shown) to the outside of the booth 1 . In this case, the exhaust port 34 of the fluid manifold 30 may be omitted or blocked.

또한, 도시하지는 않았지만, 본 실시형태에 따른 시스템은 부스(1) 내의 케미컬 누출을 감지하는 케미컬 센서를 더 포함할 수 있다. 이 경우, 본 시스템의 정기적인 가동에 의한 바닥면 세척 이외에도, 케미컬 센서(도시 생략)에 의해 케미컬 누출이 감지되면, 제어부(도시 생략)가 본 시스템을 가동하여 바닥면의 세척, 건조와, 케미컬과 세척액의 배수(또는 흡입 배출) 및/또는 배기 동작을 필요할 때에 신속하게 실시할 수 있다. In addition, although not shown, the system according to the present embodiment may further include a chemical sensor for detecting chemical leakage in the booth 1 . In this case, in addition to cleaning the floor by regular operation of the system, if a chemical leak is detected by a chemical sensor (not shown), the control unit (not shown) operates the system to wash, dry, and chemical Drainage (or suction discharge) and/or exhaust operations of the cleaning solution can be performed quickly when necessary.

한편, 이상의 설명에서는 본 실시형태에 따른 시스템이 부스(1)에 의해 구획되는 바닥면을 세척하는 시스템으로서 설명되었지만, 본 발명이 이에 한정되지는 않는다. 즉, 부스(1)와 같이 밀폐되지 않더라도 단턱 등에 의해 소정의 면적을 가지고 구획되고 일 지점을 향해 경사진 바닥면이라면, 반드시 케미컬 공급 설비가 아니더라도, 본 발명의 시스템을 적용할 수 있다.On the other hand, in the above description, the system according to the present embodiment has been described as a system for washing the floor partitioned by the booth 1, but the present invention is not limited thereto. That is, even if it is not sealed like the booth 1, if the floor is partitioned with a predetermined area by a step or the like and inclined toward a point, the system of the present invention can be applied even if it is not necessarily a chemical supply facility.

이상 본 발명의 바람직한 실시형태를 첨부된 도면들을 참조로 설명하였다. 그러나, 본 명세서에 기재된 실시형태와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시형태에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다. A preferred embodiment of the present invention has been described above with reference to the accompanying drawings. However, since the embodiments described in the present specification and the configurations shown in the drawings are only the most preferred embodiment of the present invention and do not represent all the technical spirit of the present invention, various It should be understood that there may be equivalents and variations.

1: 부스
2: 바닥면
3: 배수구
4: 배수관
5: 배수 밸브
10: 세척액 분사관
10a: 세척액 분사구
11: 세척액 공급관
12: 연장축
15: 회동수단
20: 제1 기체 분사관
20a, 25a: 기체 분사구
21: 기체 공급관
22: 연결관
23, 26: 밸브
25: 제2 기체 분사관
30: 유체 매니폴드
31: 세척액 공급구
32: 기체 공급구
33: 세척액 흡입구
34: 배기구
35: 배관
40: 필터 부재
40a: 관통홀
40b: 세척액 유로
41: 세척액 흡입관
1: Booth
2: bottom
3: Drain
4: drain pipe
5: drain valve
10: cleaning solution injection pipe
10a: cleaning liquid nozzle
11: Washing solution supply pipe
12: extension shaft
15: means of rotation
20: first gas injection tube
20a, 25a: gas nozzle
21: gas supply pipe
22: connector
23, 26: valve
25: second gas injection tube
30: fluid manifold
31: cleaning solution supply port
32: gas supply port
33: cleaning liquid inlet
34: exhaust port
35: plumbing
40: no filter
40a: through hole
40b: cleaning fluid flow path
41: washing liquid suction pipe

Claims (8)

소정의 면적을 가지고 구획되고 일 지점을 향해 경사진 바닥면을 세척하기 위한 시스템으로서,
상기 바닥면의 높이가 가장 높은 곳의 근방에 배치되고, 세척액을 분사하는 복수의 세척액 분사구가 소정 간격을 두고 형성된 선형의 세척액 분사관;
상기 세척액 분사관보다 상기 바닥면의 높이가 더 높은 곳에 배치되고, 상기 바닥면으로 청정 기체를 분사하는 기체 분사구가 소정 간격을 두고 형성된 선형의 제1 기체 분사관; 및
상기 세척액 분사관과 상기 일 지점 사이에 배치되고, 상기 일 지점을 향해 비스듬하게 상기 바닥면으로 청정 기체를 분사하는 기체 분사구가 소정 간격을 두고 형성된 적어도 하나의 선형의 제2 기체 분사관을 구비하는 바닥면 세척 시스템.
A system for washing a floor that is partitioned with a predetermined area and inclined toward a point,
a linear cleaning liquid injection pipe disposed in the vicinity of a place where the bottom surface has the highest height, and in which a plurality of cleaning liquid injection ports for spraying the cleaning liquid are formed at predetermined intervals;
a linear first gas injection pipe disposed at a height of the bottom surface higher than that of the washing liquid injection pipe and formed with gas injection holes for injecting clean gas to the bottom surface at predetermined intervals; and
At least one linear second gas injection pipe disposed between the washing liquid injection pipe and the one point, the gas injection port for injecting the clean gas obliquely toward the one point to the bottom surface, is formed with a predetermined interval therebetween; floor cleaning system.
제1항에 있어서,
상기 세척액 분사관은 직선 형상으로 이루어지고, 그 길이방향 중심축을 중심으로 회동함으로써 상기 바닥면에 대한 상기 세척액의 분사 각도를 변경가능하게 구성된 바닥면 세척 시스템.
According to claim 1,
The cleaning liquid injection pipe is formed in a straight shape, and by rotating about its longitudinal central axis, the cleaning liquid injection angle with respect to the floor surface can be changed.
제1항에 있어서,
상기 일 지점은 상기 바닥면의 일 구석에 위치하고,
상기 세척액 분사관, 상기 제1 기체 분사관 및 상기 제2 기체 분사관은, 상기 일 지점을 동심으로 꺾이거나 만곡된 선형으로 이루어지는 바닥면 세척 시스템.
According to claim 1,
The one point is located at a corner of the bottom surface,
The washing liquid injection pipe, the first gas injection pipe, and the second gas injection pipe, the bottom surface cleaning system made of a concentrically bent or curved line at the one point.
제1항에 있어서,
상기 제1 기체 분사관 및 상기 적어도 하나의 제2 기체 분사관은, 상기 일 지점과의 거리가 먼 기체 분사관부터 가까운 기체 분사관의 순으로 순차적으로 상기 청정 기체를 분사하도록 구성된 바닥면 세척 시스템.
According to claim 1,
The first gas injection pipe and the at least one second gas injection pipe are configured to sequentially spray the clean gas in the order from a gas injection pipe that is far from the one point to a gas injection pipe that is closer to the one point. .
제1항에 있어서,
상기 일 지점에는 상기 일 지점에 모인 세척액을 흡입하여 배출하는 세척액 흡입부가 마련된 바닥면 세척 시스템.
According to claim 1,
A floor washing system provided with a washing solution suction unit at the one point for sucking and discharging the washing solution collected at the one point.
제1항에 있어서,
상기 일 지점에는 상기 일 지점에 모인 세척액이 배수되는 배수구가 형성된 바닥면 세척 시스템.
According to claim 1,
A floor cleaning system having a drain hole formed at the one point through which the washing liquid collected at the one point is drained.
제5항 또는 제6항에 있어서,
상기 일 지점에는 필터 부재가 마련된 바닥면 세척 시스템.
7. The method according to claim 5 or 6,
A bottom cleaning system provided with a filter member at the one point.
제7항에 있어서,
상기 필터 부재는 상기 일 지점 및 그 근방을 덮는 소정 두께의 판 형상으로 이루어지고,
상기 필터 부재의 상기 바닥면과 접하는 면에는 격자상 또는 방사상의 세척액 유로가 형성되어 있는 바닥면 세척 시스템.
8. The method of claim 7,
The filter member is formed in a plate shape of a predetermined thickness covering the one point and its vicinity,
A bottom surface cleaning system in which a grid-like or radial cleaning liquid flow path is formed on a surface of the filter member in contact with the bottom surface.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS58183128A (en) * 1982-04-20 1983-10-26 有限会社サンストン Room cleaning system
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