KR20220124685A - shape transfer film - Google Patents

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KR20220124685A KR1020227019748A KR20227019748A KR20220124685A KR 20220124685 A KR20220124685 A KR 20220124685A KR 1020227019748 A KR1020227019748 A KR 1020227019748A KR 20227019748 A KR20227019748 A KR 20227019748A KR 20220124685 A KR20220124685 A KR 20220124685A
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시게카즈 우메무라
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타츠타 전선 주식회사
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Abstract

요철 형상을 가지는 형상 전사 필름으로서, 상기 요철 형상에 유래하는 형상을 전사 대상물에 전사함으로써 전사 대상물에 충분한 은폐성을 부여할 수 있고, 또한 전사 대상물로부터 의도적으로 박리할 때는 용이하게 박리할 수 있는 형상 전사 필름을 제공한다. 형상 전사 필름(1)은, 적어도 한쪽 면에, 계면의 전개 면적비 Sdr이 1500∼7000% 및/또는 코어부의 레벨 차 Sk가 2.0∼7.0㎛인 요철 형상을 가지고, 상기 요철 형상에 유래하는 형상을 전사 대상물에 전사하기 위한 것이다. 형상 전사 필름(1)은 예를 들면 기재층(2)과, 기재층(2)의 한쪽 면에 형성된 수지층(3)을 구비한다. 또한, 형상 전사 필름(1)은 예를 들면 필러(4)를 포함하고, 상기 요철 형상은 필러(4)가 필름 평탄면(3a)보다 외측으로 돌출함으로써 형성되어 있다.A shape transfer film having a concave-convex shape, wherein, by transferring the shape derived from the concave-convex shape to the transfer object, sufficient hiding properties can be imparted to the transfer object, and can be easily peeled off when intentionally peeled from the transfer object A transfer film is provided. The shape transfer film 1 has, on at least one surface, a concave-convex shape having an interface development area ratio Sdr of 1500 to 7000% and/or a level difference Sk of a core portion of 2.0 to 7.0 µm, and a shape derived from the concave-convex shape. It is to be transcribed on a transfer object. The shape transfer film 1 includes, for example, a base layer 2 and a resin layer 3 formed on one surface of the base layer 2 . Further, the shape transfer film 1 includes, for example, a filler 4, and the concave-convex shape is formed by the filler 4 protruding outward from the film flat surface 3a.

Description

형상 전사 필름shape transfer film

본 개시는, 형상 전사 필름에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 개시는, 형상 전사 필름이 가지는 요철 형상에 유래하는 형상을 전사 대상물에 전사하기 위한 형상 전사 필름에 관한 것이다.The present disclosure relates to a shape transfer film. More specifically, the present disclosure relates to a shape transfer film for transferring a shape derived from the concave-convex shape of the shape transfer film to a transfer object.

프린트 배선판은 휴대폰, 비디오카메라, 노트북 컴퓨터 등의 전자 기기(機器)에 있어서, 기구(機構) 중에 회로를 내장하기 위해 다용되고 있다. 또한, 프린터 헤드와 같은 가동부와 제어부의 접속에도 이용되고 있다. 이들 전자 기기에서는, 전자파 차폐 대책이 필수로 되어 있고, 장치 내에서 사용되는 프린트 배선판에 있어서도, 전자파 차폐 대책을 실시한 차폐 프린트 배선판이 이용되고 있다.BACKGROUND ART Printed wiring boards are widely used in electronic devices such as mobile phones, video cameras, and notebook computers to incorporate circuits in devices. Moreover, it is also used for connection of a movable part like a printer head, and a control part. In these electronic devices, electromagnetic wave shielding measures are essential, and also in the printed wiring board used within an apparatus, the shielded printed wiring board which implemented electromagnetic wave shielding measures is used.

차폐 프린트 배선판에는, 전자파 차폐 필름이 사용된다. 예를 들면, 프린트 배선판에 접착하여 사용되는 전자파 차폐 필름은, 도전성(導電性) 접착제층과, 상기 도전성 접착제층이나 필요에 따라 형성된 금속층 등의 차폐층을 보호하기 위한 보호층을 가진다.An electromagnetic wave shielding film is used for a shielding printed wiring board. For example, an electromagnetic wave shielding film used by being attached to a printed wiring board has a conductive adhesive layer and a protective layer for protecting the conductive adhesive layer and a shielding layer such as a metal layer formed as necessary.

최근, 차폐 프린트 배선판에 있어서, 프린트 배선판에 적층된 전자파 차폐 필름의 최표층이 되는 보호층은, 회로 패턴의 은폐성을 목적으로 하여, 표면의 광택성이 낮은 외관을 나타내는 것이 요구되는 경우가 있다. 표면의 광택성이 낮은 보호층으로서는, 표면에 요철 형상을 가지는 보호층을 들 수 있다. 이와 같은 보호층은, 예를 들면 표면에 요철 형상을 가지는 전사 필름(형상 전사 필름)의 요철면에, 보호층을 형성하는 조성물을 유연(流延) 도포하고 그 후 고화하여 보호층을 형성함으로써, 형상 전사 필름의 요철 형상에 유래하는 형상을 보호층 표면에 부여(전사)하여 광택 제거 가공함으로써 제작할 수 있다.In recent years, in shielded printed wiring boards, the protective layer serving as the outermost layer of the electromagnetic wave shielding film laminated on the printed wiring board is required to show an appearance with low surface gloss for the purpose of hiding circuit patterns. . As a protective layer with low surface glossiness, the protective layer which has an uneven|corrugated shape on the surface is mentioned. Such a protective layer is formed by, for example, casting a composition forming a protective layer on the uneven surface of a transfer film (shape transfer film) having an uneven shape on the surface, and then solidifying to form a protective layer. , it can be produced by imparting (transferring) a shape derived from the uneven shape of the shape transfer film to the surface of the protective layer and deglossing.

이와 같은 형상 전사 필름으로서는, 예를 들면 특허문헌 1에 개시된 것이 알려져 있다.As such a shape transfer film, the thing disclosed in patent document 1 is known, for example.

일본공개특허 제2017-71107호 공보Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2017-71107

그러나, 보호층에 은폐성을 부여하는 것을 목적으로 한, 요철 형상이 형성된 종래의 형상 전사 필름은, 보호층과 적층한 상태에 있어서 상기 요철 형상에 유래하는 앵커 효과가 작용하므로, 형상 전사 필름을 보호층으로부터 박리할 때 박리되기 어렵거나, 혹은, 형상 전사 필름을 박리할 수 있었던 경우라도 보호층이 동반하여 박리된다는 문제가 있었다. 한편, 상기 요철 형상을 얕게 하면, 앵커 효과를 약화시키고, 보호층에 맞붙인 상태로부터 형상 전사 필름을 용이하게 박리할 수 있지만, 보호층에 형성되는 요철 형상도 얕아지므로, 보호층에 충분한 은폐성을 부여할 수 없다.However, in a conventional shape transfer film with an uneven shape for the purpose of imparting hiding properties to the protective layer, the anchor effect derived from the uneven shape acts in the state in which the shape transfer film is laminated with the protective layer. When peeling from a protective layer, it was difficult to peel, or even when the shape transfer film could be peeled, there existed a problem that a protective layer was accompanied and peeled. On the other hand, if the concave-convex shape is made shallow, the anchor effect is weakened and the shape transfer film can be easily peeled off from the state in which it is adhered to the protective layer. cannot be given

본 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 본 발명의 목적은, 요철 형상을 가지는 형상 전사 필름으로서, 상기 요철 형상에 유래하는 형상을 전사 대상물에 전사함으로써 전사 대상물에 충분한 은폐성을 부여할 수 있고, 또한 전사 대상물로부터 의도적으로 박리할 때는 용이하게 박리할 수 있는 형상 전사 필름을 제공하는 것에 있다.The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is a shape transfer film having an uneven shape, and by transferring the shape derived from the uneven shape to a transfer object, sufficient hiding properties can be imparted to the transfer object, Further, it is to provide a shape transfer film that can be easily peeled off when intentionally peeled from a transfer object.

본 발명자는, 상기 목적을 달성하기 위해 예의 검토한 결과, 특정의 요철 형상을 표면에 가지는 형상 전사 필름에 의하면, 상기 요철 형상에 유래하는 형상을 전사 대상물에 전사함으로써 전사 대상물에 충분한 은폐성을 부여할 수 있고, 또한 전사 대상물로부터 의도적으로 박리할 때는 용이하게 박리할 수 있는 것을 찾아냈다. 본 발명은 이들 지견에 기초하여 완성시킨 것이다.As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that, according to a shape transfer film having a specific concave-convex shape on the surface, sufficient hiding property is imparted to the transfer object by transferring the shape derived from the concave-convex shape onto the transfer object. In addition, when peeling intentionally from a transfer object, it discovered that it could peel easily. The present invention has been completed based on these findings.

본 개시는, 적어도 한쪽 면에, 계면의 전개 면적비 Sdr이 1500∼7000%인 요철 형상을 가지고, 상기 요철 형상에 유래하는 형상을 전사 대상물에 전사하기 위한 형상 전사 필름을 제공한다.The present disclosure provides a shape transfer film for transferring, on at least one surface, a shape derived from the uneven shape to a transfer object, having an uneven shape with an interface development area ratio Sdr of 1500 to 7000%.

상기 요철 형상에서의 코어부의 레벨 차 Sk는 2.0∼7.0㎛인 것이 바람직하다.It is preferable that the level difference Sk of the core part in the said uneven|corrugated shape is 2.0-7.0 micrometers.

또한, 본 개시는, 적어도 한쪽 면에, 코어부의 레벨 차 Sk가 2.0∼7.0㎛인 요철 형상을 가지고, 상기 요철 형상에 유래하는 형상을 전사 대상물에 전사하기 위한 형상 전사 필름을 제공한다.Further, the present disclosure provides a shape transfer film for transferring, on at least one surface, a shape derived from the uneven shape to a transfer object, having an uneven shape in which the level difference Sk of the core part is 2.0 to 7.0 µm.

상기 요철 형상에서의 산술 평균 높이 Sa는 1.0∼2.0㎛인 것이 바람직하다.It is preferable that the arithmetic mean height Sa in the said uneven|corrugated shape is 1.0-2.0 micrometers.

상기 요철 형상에서의 제곱 평균 제곱근 높이 Sq는 1.0∼2.8㎛인 것이 바람직하다.It is preferable that the root mean square height Sq in the said uneven|corrugated shape is 1.0-2.8 micrometers.

상기 요철 형상에서의 제곱 평균 제곱근 경사 Sdq는 7∼15인 것이 바람직하다.It is preferable that root mean square inclination Sdq in the said uneven|corrugated shape is 7-15.

상기 요철 형상에서의, 계면의 전개 면적비 Sdr의 제곱 평균 제곱근 경사 Sdq에 대한 비[Sdr/Sdq]가 200∼500인 것이 바람직하다.In the concave-convex shape, it is preferable that the ratio [Sdr/Sdq] of the developed area ratio Sdr of the interface to the root mean square inclination Sdq is 200 to 500.

상기 형상 전사 필름은, 기재층(基材層)과, 상기 기재층의 한쪽 면에 형성된 수지층을 구비하고, 상기 수지층측 표면이 상기 요철 형상을 가지는 것이 바람직하다.It is preferable that the said shape transfer film is equipped with a base material layer and the resin layer formed in one surface of the said base material layer, and it is preferable that the said resin layer side surface has the said uneven|corrugated shape.

상기 형상 전사 필름은 필러를 포함하고, 상기 요철 형상은 상기 필러가 필름 평탄면보다 외측으로 돌출함으로써 형성되어 있는 것이 바람직하다.It is preferable that the said shape transfer film contains a filler, and the said uneven|corrugated shape is formed by the said filler protruding outward from the flat surface of a film.

또한, 본 개시는, 상기 형상 전사 필름과, 상기 형상 전사 필름과 직접 적층한 회로 패턴 은폐층을 구비하는 프린트 배선판용 첩부(貼付) 필름을 제공한다.Further, the present disclosure provides a affixed film for a printed wiring board including the shape transfer film and a circuit pattern hiding layer directly laminated with the shape transfer film.

상기 프린트 배선판용 첩부 필름은 접착제층, 상기 회로 패턴 은폐층, 및 상기 형상 전사 필름이 이 순서로 적층되어 있는 것이 바람직하다.As for the said affixing film for printed wiring boards, it is preferable that the said circuit pattern hiding layer, and the said shape transfer film are laminated|stacked in this order.

상기 회로 패턴 은폐층의 상기 형상 전사 필름측의 표면의 85° 광택도는 15 이하인 것이 바람직하다.It is preferable that the 85 degree glossiness of the surface of the said shape transfer film side of the said circuit pattern hiding layer is 15 or less.

본 개시의 형상 전사 필름에 의하면, 전술한 특정의 요철 형상을 표면에 가지는 것에 의해, 상기 요철 형상에 유래하는 형상을 전사 대상물에 부여함으로써 전사 대상물에 충분한 은폐성을 부여할 수 있고, 또한 전사 대상물로부터 의도적으로 박리할 때는 용이하게 박리할 수 있다. 또한, 수송 중 등, 형상 전사 필름을 전사 대상물로부터 의도적으로 박리할 때 이외의 상황에서는 박리되기 어렵다.According to the shape transfer film of the present disclosure, by having the above-described specific concave-convex shape on the surface, it is possible to impart a shape derived from the concave-convex shape to the transfer object, thereby providing sufficient hiding property to the transfer object, and furthermore, the transfer object It can be easily peeled off when intentionally peeled from it. In addition, it is difficult to peel in situations other than when intentionally peeling a shape transfer film from a transfer object, such as during transportation.

[도 1] 본 개시의 형상 전사 필름의 일 실시형태를 나타내는 단면(斷面) 모식도이다.
[도 2] 본 개시의 형상 전사 필름의 다른 실시형태를 나타내는 단면 모식도이다.
[도 3] 도 1에 나타내는 형상 전사 필름을 사용한 프린트 배선판용 첩부 필름의 일 실시형태를 나타내는 단면 모식도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a cross-sectional schematic diagram which shows one Embodiment of the shape transfer film of this indication.
[ Fig. 2] Fig. 2 is a schematic cross-sectional view showing another embodiment of the shape transfer film of the present disclosure.
It is a cross-sectional schematic diagram which shows one Embodiment of the affixed film for printed wiring boards using the shape transfer film shown in FIG.

[형상 전사 필름][Shape Transfer Film]

본 개시의 일 실시형태에 관한 형상 전사 필름은, 적어도 한쪽 면에 요철 형상을 가지고, 상기 요철 형상에 유래하는 형상을 전사 대상물에 부여(전사)하기 위해 사용된다. 상기 형상 전사 필름은, 특히 프린트 배선판에 첩부하기 위한 필름(프린트 배선판용 첩부 필름)에서의 최표층(예를 들면, 후술하는 회로 패턴 은폐층 등)에, 상기 요철 형상에 유래하는 형상을 부여(전사)하기 위한 것인 것이 바람직하다.A shape transfer film according to an embodiment of the present disclosure has an uneven shape on at least one surface, and is used to impart (transfer) a shape derived from the uneven shape to a transfer object. In particular, the shape transfer film provides a shape derived from the concave-convex shape to the outermost layer (for example, a circuit pattern hiding layer described later) in a film for affixing to a printed wiring board (a affixed film for a printed wiring board) ( It is preferable that it is for transcription).

상기 형상 전사 필름이 가지는 상기 요철 형상에 있어서, 계면의 전개 면적비 Sdr이 1500∼7000%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2000∼6500%, 더욱 바람직하게는 2500∼6000%이다. 상기 계면의 전개 면적비 Sdr은, ISO25178에 준거하는 것이며, 정의 영역의 전개 면적(표면적)이, 상기 정의 영역의 면적에 대하여 얼마나 증대되고 있는지를 나타내는 지표이다. 완전히 평탄한 면의 Sdr은 0%가 된다. 상기 계면의 전개 면적비 Sdr이 1500% 이상이면, 상기 요철 형상에 유래하는 형상이 부여된 전사 대상물에 충분한 은폐성을 부여할 수 있다. 상기 계면의 전개 면적비 Sdr이 7000% 이하이면, 전사 대상물로부터 형상 전사 필름을 의도적으로 박리하는 것이 용이하게 된다.In the said uneven shape which the said shape transfer film has, it is preferable that the developed area ratio Sdr of an interface is 1500 to 7000 %, More preferably, it is 2000 to 6500 %, More preferably, it is 2500 to 6000 %. The developed area ratio Sdr of the interface is compliant with ISO25178, and is an index indicating how much the developed area (surface area) of the positive region increases with respect to the area of the positive region. The Sdr of a perfectly flat surface is 0%. When the developed area ratio Sdr of the interface is 1500% or more, sufficient hiding properties can be imparted to the transfer object to which the shape derived from the concave-convex shape is imparted. If the developed area ratio Sdr of the interface is 7000% or less, it becomes easy to intentionally peel the shape transfer film from the transfer object.

상기 요철 형상에 있어서, 코어부의 레벨 차 Sk가 2.0∼7.0㎛인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2.3∼6.0㎛, 더욱 바람직하게는 2.5∼5.0㎛이다. 상기 코어부의 레벨 차 Sk는 ISO25178에 준거하는 것이며, 요철 형상에서의 코어부의 최대높이로부터 최소 높이를 뺀 값이다. 코어부는 등가(等價) 직선의 부하 면적율 0%와 100%의 높이에 끼인 영역이다. 상기 코어부의 레벨 차 Sk가 2.0㎛ 이상이면, 코어부의 고저차(高低差)가 크고, 상기 요철 형상에 유래하는 형상이 부여된 전사 대상물에 충분한 은폐성을 부여할 수 있다. 상기 코어부의 레벨 차 Sk가 7.0㎛ 이하이면, 전사 대상물로부터 형상 전사 필름을 의도적으로 박리하는 것이 용이하게 된다.The said uneven shape WHEREIN: It is preferable that the level difference Sk of a core part is 2.0-7.0 micrometers, More preferably, it is 2.3-6.0 micrometers, More preferably, it is 2.5-5.0 micrometers. The level difference Sk of the core part conforms to ISO25178, and is a value obtained by subtracting the minimum height from the maximum height of the core part in the concave-convex shape. The core portion is a region sandwiched between the height of 0% and 100% of the load area ratio of an equivalent straight line. When the level difference Sk of the said core part is 2.0 micrometers or more, the height difference of a core part is large, and sufficient hiding property can be provided to the transfer object to which the shape derived from the said uneven|corrugated shape was provided. When the level difference Sk of the core portion is 7.0 µm or less, it becomes easy to intentionally peel the shape transfer film from the transfer object.

상기 요철 형상에 있어서, 산술 평균 높이 Sa가 1.0∼2.0㎛인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.0∼1.8㎛, 더욱 바람직하게는 1.0∼1.6㎛이다. 상기 산술 평균 높이 Sa는 ISO25178에 준거하는 것이며, 표면의 평균면에 대하여, 각 점의 높이 차의 절대값의 평균을 나타낸다. 상기 산술 평균 높이 Sa가 1.0㎛ 이상이면, 상기 요철 형상에 유래하는 형상이 부여된 전사 대상물에, 한층 더 충분한 은폐성을 부여할 수 있다. 상기 산술 평균 높이 Sa가 2.0㎛ 이하이면, 전사 대상물로부터 형상 전사 필름을 의도적으로 박리하는 것이 한층 더 용이하게 된다.The said uneven shape WHEREIN: It is preferable that arithmetic mean height Sa is 1.0-2.0 micrometers, More preferably, it is 1.0-1.8 micrometers, More preferably, it is 1.0-1.6 micrometers. The said arithmetic mean height Sa is based on ISO25178, and shows the average of the absolute value of the height difference of each point with respect to the average surface of the surface. When the said arithmetic mean height Sa is 1.0 micrometer or more, further sufficient hiding property can be provided to the transfer object to which the shape derived from the said uneven|corrugated shape was provided. If the arithmetic mean height Sa is 2.0 µm or less, it becomes even easier to intentionally peel the shape transfer film from the transfer object.

상기 요철 형상에 있어서, 제곱 평균 제곱근 높이 Sq가 1.0∼2.8㎛인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.1∼2.5㎛, 더욱 바람직하게는 1.3∼2.0㎛이다. 상기 제곱 평균 제곱근 높이 Sq는 ISO25178에 준거하는 것이며, 평균면으로부터의 거리의 표준편차에 상당하는 파라미터이다. 상기 제곱 평균 제곱근 높이 Sq가 1.0㎛ 이상이면, 상기 요철 형상에 유래하는 형상이 부여된 전사 대상물에, 한층 더 충분한 은폐성을 부여할 수 있다. 상기 제곱 평균 제곱근 높이 Sq가 2.8㎛ 이하이면, 요철 형상에서의 높이의 불균일이 적고, 전사 대상물로부터 형상 전사 필름을 의도적으로 박리하는 것이 한층 더 용이하게 된다.The said uneven shape WHEREIN: It is preferable that root mean square height Sq is 1.0-2.8 micrometers, More preferably, it is 1.1-2.5 micrometers, More preferably, it is 1.3-2.0 micrometers. The said root mean square height Sq is based on ISO25178, and is a parameter corresponding to the standard deviation of the distance from an average plane. If the said root mean square height Sq is 1.0 micrometer or more, further sufficient hiding property can be provided to the transcription|transfer target to which the shape derived from the said uneven|corrugated shape was provided. If the said root mean square height Sq is 2.8 micrometers or less, there are few unevenness|variation in height in an uneven|corrugated shape, and it becomes further easier to intentionally peel a shape transfer film from a transfer object.

상기 요철 형상에 있어서, 제곱 평균 제곱근 경사 Sdq가 7∼15인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 8∼14, 더욱 바람직하게는 9∼13.5이다. 상기 제곱 평균 제곱근 경사 Sdq는 ISO25178에 준거하는 것이며, 정의 영역의 모든 점에서의 경사의 제곱 평균 제곱근에 의해 산출되는 파라미터이다. 완전히 평탄한 면의 Sdq는 0이 된다. 상기 제곱 평균 제곱근 경사 Sdq가 7 이상이면, 상기 요철 형상에 유래하는 형상이 부여된 전사 대상물에, 한층 더 충분한 은폐성을 부여할 수 있다. 상기 제곱 평균 제곱근 경사 Sdq가 15 이하이면, 요철 형상에서의 높이의 불균일이 적고, 전사 대상물로부터 형상 전사 필름을 의도적으로 박리하는 것이 한층 더 용이하게 된다.The said uneven shape WHEREIN: It is preferable that root mean square inclination Sdq is 7-15, More preferably, it is 8-14, More preferably, it is 9-13.5. The said root mean square inclination Sdq conforms to ISO25178, and is a parameter computed by the root mean square of inclinations at all points in a positive area|region. The Sdq of a perfectly flat surface is zero. If the said root mean square inclination Sdq is 7 or more, further sufficient hiding property can be provided to the transcription|transfer target to which the shape derived from the said uneven|corrugated shape was provided. When the root mean square inclination Sdq is 15 or less, there is little unevenness in height in the concavo-convex shape, and it becomes much easier to intentionally peel the shape transfer film from the transfer object.

상기 요철 형상에 있어서, 계면의 전개 면적비 Sdr[%]의 제곱 평균 제곱근 경사 Sdq에 대한 비[Sdr/Sdq]가 200∼500인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 250∼480, 더욱 바람직하게는 300∼450이다. 상기 비가 200 이상이면, 표면적이 커지고(즉 요철의 기복이 심하게 되고), 상기 요철 형상에 유래하는 형상이 부여된 전사 대상물에 의해 일층 충분한 은폐성을 부여할 수 있다고 추측된다. 상기 비가 500 이하이면, 요철의 경사가 억제되고 또한 표면적(즉 요철의 기복의 정도)도 일정한 범위 내에 억제되는 것에 의해, 전사 대상물로부터 형상 전사 필름을 의도적으로 박리하는 것이 한층 더 용이하게 된다.In the concave-convex shape, the ratio [Sdr/Sdq] of the developed area ratio Sdr [%] of the interface to the root mean square inclination Sdq is preferably 200 to 500, more preferably 250 to 480, still more preferably 300 -450. If the ratio is 200 or more, it is estimated that the surface area becomes large (that is, the unevenness becomes severe), and sufficient hiding properties can be imparted by the transfer object to which the shape derived from the uneven shape is imparted. When the ratio is 500 or less, the inclination of the unevenness is suppressed and the surface area (that is, the degree of undulation of the unevenness) is also suppressed within a certain range, thereby making it easier to intentionally peel the shape transfer film from the transfer object.

상기 요철 형상에서의 60° 광택도는, 4.0 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 4.5 이상, 더욱 바람직하게는 5.0 이상이다. 상기 60° 광택도가 4.0 이상이면, 상기 요철 형상이 의도적인 박리에 보다 적합한 형상으로 되는 것으로 추측되고, 전사 대상물로부터 형상 전사 필름을 의도적으로 박리하는 것이 한층 더 용이하게 된다. 상기 요철 형상에서의 60° 광택도는, 20 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 15 이하, 더욱 바람직하게는 10 이하이다. 상기 60° 광택도가 20 이하이면, 상기 요철 형상이 의도적인 박리에 보다 적합한 형상으로 되는 것으로 추측되고, 전사 대상물에 한층 더 충분한 은폐성을 부여할 수 있다. 상기 60° 광택도는 JIS Z8741에 준거한 방법에 의해 측정할 수 있다.It is preferable that the 60 degree glossiness in the said uneven|corrugated shape is 4.0 or more, More preferably, it is 4.5 or more, More preferably, it is 5.0 or more. When the 60° glossiness is 4.0 or more, it is presumed that the concave-convex shape becomes a shape more suitable for intentional peeling, and it becomes much easier to intentionally peel the shape transfer film from the transfer object. It is preferable that 60 degree glossiness in the said uneven|corrugated shape is 20 or less, More preferably, it is 15 or less, More preferably, it is 10 or less. When the 60° glossiness is 20 or less, it is estimated that the uneven shape becomes a shape more suitable for intentional peeling, and further sufficient hiding properties can be provided to the transfer object. The said 60 degree glossiness can be measured by the method based on JIS Z8741.

상기 요철 형상에서의 85° 광택도는, 2.5∼15.0인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 3.0∼13.0이다. 상기 85° 광택도가 2.5 이상이면, 전사 대상물로부터 형상 전사 필름을 의도적으로 박리하는 것이 한층 더 용이하게 된다. 상기 85° 광택도가 15.0 이하이면, 전사 대상물에 한층 더 충분한 은폐성을 부여할 수 있다. 상기 85° 광택도는 JIS Z8741에 준거한 방법에 의해 측정할 수 있다.It is preferable that 85 degree glossiness in the said uneven|corrugated shape is 2.5-15.0, More preferably, it is 3.0-13.0. If the 85° glossiness is 2.5 or more, it becomes even easier to intentionally peel the shape transfer film from the transfer object. When the 85° glossiness is 15.0 or less, it is possible to provide a further sufficient hiding property to the transfer object. The said 85 degree glossiness can be measured by the method based on JIS Z8741.

상기 형상 전사 필름의 일 실시형태로서, 예를 들면 기재층과, 해당 기재층 중 적어도 한쪽 면에 형성된 수지층을 구비하고, 상기 수지층측 표면이 상기 요철 형상을 가지는 형상 전사 필름을 들 수 있다. 또한, 상기 형상 전사 필름의 다른 실시형태로서, 기재층 표면이 상기 요철 형상을 가지는 형상 전사 필름을 들 수 있다. 상기 다른 실시형태에 관한 형상 전사 필름으로서는, 기재층에 요철 형상을 가지는 주형을 가압하는 방법에 의해 요철 형상을 부여한 형상 전사 필름을 들 수 있다.As an embodiment of the shape transfer film, for example, a shape transfer film comprising a base layer and a resin layer formed on at least one surface of the base layer, wherein the surface on the resin layer side has the concave-convex shape. . Moreover, as another embodiment of the said shape transfer film, the shape transfer film in which the surface of a base material layer has the said uneven|corrugated shape is mentioned. As a shape transfer film which concerns on the said other embodiment, the shape transfer film which provided the uneven|corrugated shape by the method of pressurizing the casting_mold|template which has an uneven|corrugated shape to the base material layer is mentioned.

상기 형상 전사 필름에 있어서, 상기 요철 형상은, 전술한 각종 특성을 가지도록 공지 내지 관용의 방법으로 형성할 수 있다. 상기 요철 형상을 형성하는 방법으로서는, 예를 들면 평탄면을 샌드 매트 처리하는 방법, 평탄면에 드라이 아이스 등을 분사하는 방법, 요철 형상을 가지는 주형을 가압하는 방법 등에 의해, 평탄면을 물리적으로 조면화하는 방법, 필러를 배합하여 형상 전사 필름 평탄면으로부터 외측으로 돌출시키는 방법 등을 들 수 있다. 이들 방법은 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.In the shape transfer film, the concave-convex shape can be formed by a known or customary method so as to have the various characteristics described above. As a method for forming the concave-convex shape, the flat surface is physically roughened by, for example, a method of sand matting the flat surface, a method of spraying dry ice or the like on the flat surface, a method of pressing a mold having an uneven shape, etc. The method of cotton-izing, the method of mix|blending a filler and making it protrude outward from the flat surface of a shape transfer film, etc. are mentioned. These methods may use only 1 type, and may use them in combination of 2 or more type.

필러를 배합하여 요철 형상이 형성된 상기 형상 전사 필름의 실시형태로서는, 예를 들면 도 1 및 도 2에 나타낸 형상 전사 필름을 들 수 있다. 도 1에 나타낸 형상 전사 필름(1)은 기재층(2)과, 기재층(2)의 한쪽 면에 형성된 수지층(3)을 구비하고, 수지층(3)측 표면이 상기 요철 형상을 가진다. 수지층(3)은 필러(4)를 함유하고, 필러(4)는 필름 평탄면인 수지층(3)의 평탄면(3a)으로부터 외측으로 돌출함으로써 상기 요철 형상이 형성되어 있다.As an embodiment of the shape transfer film in which a concave-convex shape is formed by blending a filler, for example, the shape transfer film shown in Figs. 1 and 2 is exemplified. The shape transfer film 1 shown in Fig. 1 includes a base layer 2 and a resin layer 3 formed on one side of the base layer 2, and the surface on the resin layer 3 side has the above-mentioned concave-convex shape. . The resin layer 3 contains the filler 4, and the filler 4 protrudes outward from the flat surface 3a of the resin layer 3 which is a film flat surface, thereby forming the above-mentioned uneven shape.

상기 기재층은 예를 들면 플라스틱 기재(특히 플라스틱 필름), 종이, 천, 부직포 등의 다공질 재료, 네트, 발포 시트, 금속박 등을 들 수 있다. 상기 기재층은 단층이라도 되고, 동종 또는 이종(異種)의 기재의 적층체라도 된다. 또한, 상기 기재층의 표면에는, 예를 들면 코로나 방전 처리, 플라즈마 처리 등의 물리적 처리, 언더코팅 처리 등의 화학적 처리 등의 공지 관용의 표면 처리가 적절히 실시되어 있어도 된다.The base layer may include, for example, a plastic base material (especially a plastic film), paper, cloth, a porous material such as a nonwoven fabric, a net, a foam sheet, a metal foil, and the like. A single layer may be sufficient as the said base material layer, and the laminated body of the same type or different types of base materials may be sufficient as it. In addition, the surface of the said base material layer may be suitably given well-known and usual surface treatment, such as a physical treatment, such as corona discharge treatment and plasma treatment, and chemical treatment, such as an undercoating treatment, for example.

상기 플라스틱 기재를 구성하는 수지로서는, 예를 들면 저밀도 폴리에틸렌, 직쇄형 저밀도 폴리에틸렌, 중밀도 폴리에틸렌, 고밀도 폴리에틸렌, 초저밀도 폴리에틸렌, 랜덤 공중합 폴리프로필렌, 블록 공중합 폴리프로필렌, 호모폴리프로필렌, 폴리부텐, 폴리메틸펜텐, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체(EVA), 아이오노머, 에틸렌-(메타)아크릴산 공중합체, 에틸렌-(메타)아크릴산 에스테르(랜덤, 교호) 공중합체, 에틸렌-부텐 공중합체, 에틸렌-헥센 공중합체 등의 폴리올레핀 수지; 폴리우레탄; 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트(PBT) 등의 폴리에스테르; 폴리카보네이트; 폴리이미드; 폴리에테르에테르케톤; 폴리에테르이미도; 아라미드, 전방향족(全芳香族) 폴리아미드 등의 폴리아미드; 폴리페닐술피드; 불소 수지; 폴리염화비닐; 폴리염화비닐리덴; 셀룰로오스 수지; 실리콘 수지 등을 들 수 있다. 상기 수지는 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 사용해도 된다.Examples of the resin constituting the plastic substrate include low-density polyethylene, linear low-density polyethylene, medium-density polyethylene, high-density polyethylene, ultra-low-density polyethylene, random copolymerized polypropylene, block copolymerized polypropylene, homopolypropylene, polybutene, and polymethyl. Pentene, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), ionomer, ethylene-(meth)acrylic acid copolymer, ethylene-(meth)acrylic acid ester (random, alternating) copolymer, ethylene-butene copolymer, ethylene-hexene copolymer polyolefin resins, such as; Polyurethane; polyesters such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate, and polybutylene terephthalate (PBT); polycarbonate; polyimide; polyether ether ketone; polyetherimido; polyamides such as aramid and wholly aromatic polyamide; polyphenyl sulfide; fluororesin; polyvinyl chloride; polyvinylidene chloride; cellulose resin; A silicone resin etc. are mentioned. As for the said resin, only 1 type may be used and 2 or more types may be used for it.

상기 수지층을 형성하는 수지로서는 특별히 한정되지 않고, 열가소성 수지나, 열경화형 수지, 활성 에너지선 경화형 수지 등의 경화형 수지 등을 들 수 있다. 그리고, 본 명세서에 있어서, 「경화형 수지」란, 경화하여 수지를 형성할 수 있는 수지(경화성 수지) 및 경화성 수지를 경화하여 형성된 수지의 양쪽을 포함하는 개념이다. 상기 수지로서는 그 중에서도, 경화 후에 있어서 후술하는 회로 패턴 은폐층으로의 박리성이 우수한 관점에서, 경화형 수지인 것이 바람직하고, 프린트 배선판용 첩부 필름을 프린트 배선판에 열압착할 때 경화도가 변동되기 어려운 관점에서, 활성 에너지선 경화형 수지인 것이 특히 바람직하다. 상기 수지는 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 사용해도 된다.It does not specifically limit as resin which forms the said resin layer, Curable resins, such as a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and active energy ray-curable resin, etc. are mentioned. In addition, in this specification, "curable resin" is a concept including both the resin which can harden|cure and form resin (curable resin), and the resin formed by hardening|curing curable resin. Among them, the resin is preferably a curable resin from the viewpoint of excellent releasability to the circuit pattern hiding layer described later after curing, and the curing degree hardly varies when the affixed film for a printed wiring board is thermocompression-bonded to a printed wiring board. In this case, it is particularly preferable that it is an active energy ray-curable resin. As for the said resin, only 1 type may be used and 2 or more types may be used for it.

상기 열가소성 수지로서는, 예를 들면 폴리스티렌계 수지, 아세트산비닐계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리올레핀계 수지(예를 들면, 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지 조성물 등), 폴리이미드계 수지, 아크릴계 수지 등을 들 수 있다.Examples of the thermoplastic resin include polystyrene-based resin, vinyl acetate-based resin, polyester-based resin, polyolefin-based resin (eg, polyethylene-based resin, polypropylene-based resin composition, etc.), polyimide-based resin, acrylic resin, and the like. can be heard

상기 열경화형 수지로서는, 예를 들면 페놀계 수지, 에폭시계 수지, 우레탄계 수지, 멜라민계 수지, 알키드계 수지, 실리콘 수지 등을 들 수 있다.As said thermosetting resin, a phenol type resin, an epoxy resin, a urethane type resin, a melamine type resin, an alkyd type resin, a silicone resin etc. are mentioned, for example.

상기 에폭시계 수지로서는, 예를 들면 비스페놀형 에폭시계 수지, 스피로환형 에폭시계 수지, 나프탈렌형 에폭시계 수지, 비페닐형 에폭시계 수지, 테르펜형 에폭시계 수지, 글리시딜에테르형 에폭시계 수지, 글리시딜아민형 에폭시계 수지, 노볼락형 에폭시계 수지 등을 들 수 있다.Examples of the epoxy resin include bisphenol epoxy resin, spirocyclic epoxy resin, naphthalene epoxy resin, biphenyl epoxy resin, terpene epoxy resin, glycidyl ether epoxy resin, glycidyl ether epoxy resin, and glycidyl ether epoxy resin. Cydylamine-type epoxy-type resin, a novolak-type epoxy-type resin, etc. are mentioned.

상기 비스페놀형 에폭시계 수지로서는, 예를 들면 비스페놀 A형 에폭시계 수지, 비스페놀 F형 에폭시계 수지, 비스페놀 S형 에폭시계 수지, 테트라브로모비스페놀 A형 에폭시계 수지 등을 들 수 있다. 상기 글리시딜에테르형 에폭시계 수지로서는, 예를 들면 트리스(글리시딜옥시페닐)메탄, 테트라키스(글리시딜옥시페닐)에탄 등을 들 수 있다. 상기 글리시딜아민형 에폭시계 수지로서는, 예를 들면 테트라글리시딜디아미노디페닐메탄 등을 들 수 있다. 상기 노볼락형 에폭시계 수지로서는, 예를 들면 크레졸 노볼락형 에폭시계 수지, 페놀 노볼락형 에폭시계 수지, α-나프톨 노볼락형 에폭시계 수지, 브롬화 페놀 노볼락형 에폭시계 수지 등을 들 수 있다.As said bisphenol type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, tetrabromobisphenol A type epoxy resin, etc. are mentioned, for example. Examples of the glycidyl ether type epoxy resin include tris(glycidyloxyphenyl)methane and tetrakis(glycidyloxyphenyl)ethane. As said glycidylamine type epoxy resin, tetraglycidyl diamino diphenylmethane etc. are mentioned, for example. Examples of the novolak type epoxy resin include cresol novolak type epoxy resins, phenol novolak type epoxy resins, α-naphthol novolak type epoxy resins, and brominated phenol novolak type epoxy resins. have.

상기 활성 에너지선 경화형 수지로서는, 예를 들면 분자 중에 적어도 2개의 라디칼 반응성기(예를 들면, (메타)아크릴로일기)를 가지는 중합성을 가지는 수지 등을 들 수 있다. 상기 활성 에너지선으로서는, 전자선, 자외선, α선, β선, γ선, X선 등을 들 수 있다.Examples of the active energy ray-curable resin include polymerizable resins having at least two radical reactive groups (eg, (meth)acryloyl groups) in the molecule. Examples of the active energy rays include electron beams, ultraviolet rays, α-rays, β-rays, γ-rays, and X-rays.

상기 필러로서는, 예를 들면 유기 입자 및 무기 입자를 들 수 있다. 상기 유기 입자로서는, 예를 들면 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴계 수지, 폴리아크릴로니트릴 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리아미드, 폴리이미드 등을 들 수 있다. 상기 무기 입자로서는, 예를 들면 탄산칼슘, 규산칼슘, 클레이, 카올린, 탈크, 실리카, 유리, 규조토, 운모분말, 알루미나, 산화마그네슘, 산화아연, 황산바륨, 황산알루미늄, 황산칼슘, 탄산마그네슘 등을 들 수 있다. 상기 입자는 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 사용해도 된다.Examples of the filler include organic particles and inorganic particles. As said organic particle|grains, acrylic resins, such as polymethyl methacrylate, polyacrylonitrile resin, a polyurethane resin, polyamide, a polyimide, etc. are mentioned, for example. Examples of the inorganic particles include calcium carbonate, calcium silicate, clay, kaolin, talc, silica, glass, diatomaceous earth, mica powder, alumina, magnesium oxide, zinc oxide, barium sulfate, aluminum sulfate, calcium sulfate, magnesium carbonate, etc. can be heard As for the said particle|grain, only 1 type may be used and 2 or more types may be used for it.

상기 필러의 메디안 직경(D50)은 특별히 한정되지 않지만, 0.5∼20㎛인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼10㎛이다. D50이 상기 범위 내이면, 상기 요철 형상을 용이하게 형성할 수 있다. 상기 D50은, 레이저 회절·산란법에 의해 구한 입도 분포에서의 적산값 50%에서의 입자 직경을 말하는 것으로 한다.Although the median diameter (D50) of the said filler is not specifically limited, It is preferable that it is 0.5-20 micrometers, More preferably, it is 1-10 micrometers. When D50 is within the above range, the concave-convex shape can be easily formed. Said D50 shall mean the particle diameter in 50% of the integrated value in the particle size distribution calculated|required by the laser diffraction/scattering method.

상기 수지층 중의 상기 필러의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 상기 수지층을 형성하는 수지 100 질량부에 대하여, 20∼70 질량부가 바람직하고, 보다 바람직하게는 30∼60 질량부다. 상기 함유량이 상기 범위 내이면, 상기 요철 형상을 용이하게 형성할 수 있다.Although content of the said filler in the said resin layer is not specifically limited, 20-70 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of resin which forms the said resin layer, More preferably, it is 30-60 mass parts. When the content is within the above range, the concave-convex shape can be easily formed.

상기 수지층의 두께(양면의 평탄면 사이의 두께)는 특별히 한정되지 않지만, 0.5∼9㎛인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼7㎛이다. 상기 두께가 상기 범위 내이면, 상기 필러의 D50과의 관계에 의해, 평탄면으로부터 돌출하는 필러의 형상을 적당한 범위 내로 할 수 있고, 상기 요철 형상을 용이하게 형성할 수 있다.Although the thickness (thickness between the flat surfaces of both surfaces) of the said resin layer is not specifically limited, It is preferable that it is 0.5-9 micrometers, More preferably, it is 1-7 micrometers. When the thickness is within the above range, the shape of the pillar protruding from the flat surface can be within an appropriate range according to the relationship with D50 of the pillar, and the concave-convex shape can be easily formed.

도 1에 나타낸 형상 전사 필름(1)은 공지 내지 관용의 방법에 의해, 기재층(2) 상에 상기 요철 형상을 가지도록 수지층(3)을 형성함으로써 제작할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면 기재층의 한쪽 면에, 상기 수지층을 형성하는 수지 혹은 화합물 및 필러를 포함하고, 필요에 따라 용매를 포함하는 조성물을 유연 도포하고, 탈(脫)용매나 경화 처리를 행하여 고화함으로써 제조할 수 있다.The shape transfer film 1 shown in FIG. 1 can be produced by forming the resin layer 3 on the base material layer 2 so as to have the concave-convex shape by a known or conventional method. Specifically, for example, on one surface of the base layer, a composition comprising a resin or a compound and a filler for forming the resin layer, and if necessary, a composition containing a solvent is cast and coated, followed by solvent removal or curing treatment. It can be manufactured by performing and solidifying.

도 2에 나타낸 형상 전사 필름(1)은, 기재층(2) 표면이 상기 요철 형상을 가진다. 기재층(2)은 필러(4)를 함유하고, 필러(4)는 필름 평탄면인 기재층(2)의 평탄면(2a)으로부터 외측으로 돌출함으로써 상기 요철 형상이 형성되어 있다.As for the shape transfer film 1 shown in FIG. 2, the surface of the base material layer 2 has the said uneven|corrugated shape. The base material layer 2 contains the filler 4, and the said uneven|corrugated shape is formed by the filler 4 protruding outward from the flat surface 2a of the base material layer 2 which is a film flat surface.

상기 기재층의 요철 형상을 가지는 표면에는, 이형 처리층이 형성되어 있어도 된다. 상기 이형 처리층으로서는, 실리콘계, 장쇄 알킬계, 불소계, 황화몰리브덴 등의 박리 처리제에 의해 표면 처리되어 형성된 층을 들 수 있다. 그리고, 이형 처리층을 가지는 경우, 이형 처리층의 두께나 형상은, 기재층 표면의 요철 형상이 소실되지 않도록, 즉 형상 전사 필름이 상기 요철 형상을 가지는 것으로 되도록 적절히 설정된다.A release treatment layer may be formed on the surface of the base material layer having an uneven shape. As said release-treated layer, the layer formed by surface-treating with peeling agents, such as a silicone type, a long-chain alkyl type, a fluorine type, and molybdenum sulfide, is mentioned. And when it has a mold release process layer, the thickness and shape of a mold release process layer are suitably set so that the uneven|corrugated shape of the surface of a base material layer may not lose|disappear, ie, so that a shape transfer film may have the said uneven|corrugated shape.

상기 이형 처리층을 가지는 경우의 기재층으로서는, 전술한 수지층을 가지는 기재층으로서 예시 및 설명된 것을 들 수 있다. 상기 이형 처리층을 가지지 않는 경우의 기재층으로서는, 불소 폴리머로 이루어지는 저접착성 기재나 무극성 폴리머로 이루어지는 저접착성 기재 등을 들 수 있다. 상기 불소 폴리머로 이루어지는 저접착성 기재에서의 불소계 폴리머로서는, 예를 들면 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리클로로트리플루오로에틸렌, 폴리불화비닐, 폴리불화비닐리덴, 테트라플루오로에틸렌-헥사플루오로프로필렌 공중합체, 클로로플루오로에틸렌-불화비닐리덴 공중합체 등을 들 수 있다. 또한, 상기 무극성 폴리머로서는, 예를 들면 올레핀계 수지 (예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등) 등을 들 수 있다. 상기 기재층의 표면에는, 예를 들면 코로나 방전 처리, 플라즈마 처리 등의 물리적 처리, 언더코팅 처리 등의 화학적 처리 등의 공지 관용의 표면 처리가 적절히 실시되어 있어도 된다.As a base material layer in the case of having the said release process layer, what was illustrated and demonstrated as a base material layer which has the above-mentioned resin layer is mentioned. As a base material layer in the case of not having the said release process layer, the low-adhesive base material which consists of a fluoropolymer, the low-adhesive base material which consists of a nonpolar polymer, etc. are mentioned. Examples of the fluorine-based polymer in the low-adhesion substrate made of the fluoropolymer include polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer. Copolymer, a chlorofluoroethylene-vinylidene fluoride copolymer, etc. are mentioned. Moreover, as said nonpolar polymer, an olefin resin (for example, polyethylene, polypropylene, etc.) etc. are mentioned, for example. The surface of the said base material layer may be suitably given well-known and usual surface treatment, such as physical treatment, such as corona discharge treatment and plasma treatment, and chemical treatment, such as an undercoating treatment, for example.

상기 필러로서는, 전술한 수지층에 포함되는 것으로서 예시 및 설명된 것을 들 수 있다.As said filler, what was illustrated and demonstrated as what is contained in the above-mentioned resin layer is mentioned.

상기 필러의 메디안 직경(D50)은 특별히 한정되지 않지만, 0.5∼20㎛인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼10㎛이다. D50이 상기 범위 내이면, 상기 요철 형상을 용이하게 형성할 수 있다. 상기 D50은, 레이저 회절·산란법에 의해 구한 입도 분포에서의 적산값 50%에서의 입자 직경을 말하는 것으로 한다.Although the median diameter (D50) of the said filler is not specifically limited, It is preferable that it is 0.5-20 micrometers, More preferably, it is 1-10 micrometers. When D50 is within the above range, the concave-convex shape can be easily formed. Said D50 shall mean the particle diameter in 50% of the integrated value in the particle size distribution calculated|required by the laser diffraction/scattering method.

상기 기재층 중의 상기 필러의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 상기 기재층의 총량 100 체적%에 대하여, 10∼70 체적%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 20∼60 체적%, 더욱 바람직하게는 30∼50 체적%이다. 상기 함유 비율이 상기 범위 내이면, 상기 요철 형상을 용이하게 형성할 수 있다.Although the content rate of the said filler in the said base material layer is not specifically limited, With respect to 100 volume% of the total amount of the said base material layer, 10-70 volume% is preferable, More preferably, 20-60 volume%, More preferably, it is 30 -50% by volume. When the content is within the above range, the concave-convex shape can be easily formed.

도 2에 나타낸 형상 전사 필름(1)은, 공지 내지 관용의 방법에 의해, 적어도 한쪽의 표면이 상기 요철 형상을 가지도록 기재층(2)을 성형함으로써 제작할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면 기재층을 형성하는 수지 조성물 중에 상기 필러를 반죽해 넣고, 성형함으로써 제조할 수 있다. 그 후, 필요에 따라 이형 처리제를 도포 및 고화하여 이형 처리층을 형성해도 된다.The shape transfer film 1 shown in FIG. 2 can be produced by molding the base material layer 2 by a known or conventional method so that at least one surface has the above-mentioned concavo-convex shape. Specifically, for example, it can manufacture by kneading the said filler in the resin composition which forms a base material layer, and shaping|molding. Then, you may apply|coat and solidify a mold release agent as needed, and may form a mold release process layer.

상기 요철 형상을 가지는 층(수지층이나 기재층)은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위 내에 있어서, 전술한 각 성분 이외의 기타의 성분을 포함해도 된다. 상기 기타의 성분으로서는, 예를 들면 착색제, 대전 방지제, 안정제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 형광증백제 등을 들 수 있다. 상기 기타의 성분은 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 사용해도 된다.The layer (resin layer or base material layer) having the said uneven|corrugated shape may contain other components other than each component mentioned above within the range which does not impair the effect of this invention. As said other component, a colorant, an antistatic agent, a stabilizer, antioxidant, a ultraviolet absorber, an optical brightening agent etc. are mentioned, for example. As for the said other component, only 1 type may be used and 2 or more types may be used for it.

상기 형상 전사 필름의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 10∼200㎛이며, 바람직하게는 15∼150㎛이다. 상기 두께가 10㎛ 이상이면, 전사 대상물의 보호 성능이 보다 우수하다. 상기 두께가 200㎛ 이하이면, 사용 시에 보다 박리하기 쉽다.Although the thickness of the said shape transfer film is not specifically limited, For example, it is 10-200 micrometers, Preferably it is 15-150 micrometers. When the thickness is 10 µm or more, the protection performance of the transfer object is more excellent. If the said thickness is 200 micrometers or less, it will peel more easily at the time of use.

상기 형상 전사 필름에 의하면, 전술한 특정한 요철 형상을 표면에 가지는 것에 의해, 상기 요철 형상에 유래하는 형상을 전사 대상물에 부여함으로써 전사 대상물에 충분한 은폐성을 부여할 수 있고, 또한 전사 대상물로부터 의도적으로 박리할 때는 용이하게 박리할 수 있다. 또한, 수송 중 등, 형상 전사 필름을 회로 패턴 은폐층으로 의도적으로 박리할 때 이외의 상황에서는 박리하기 어렵다.According to the shape transfer film, by having the above-described specific concave-convex shape on the surface, it is possible to impart a shape derived from the concave-convex shape to the transfer object to impart sufficient hiding properties to the transfer object, and to intentionally remove it from the transfer object. When peeling, it can peel easily. In addition, it is difficult to peel off the shape transfer film during transportation or the like except when intentionally peeling the shape transfer film with the circuit pattern hiding layer.

[프린트 배선판용 첩부 필름][Attached film for printed wiring board]

본 개시의 일 실시형태에 관한 프린트 배선판용 첩부 필름은, 상기 형상 전사 필름과, 상기 형상 전사 필름과 직접 적층한 회로 패턴 은폐층을 구비한다. 상기 형상 전사 필름의 상기 요철 형상을 가지는 면에 직접 적층된 회로 패턴 은폐층 표면에는, 상기 요철 형상에 유래하는 형상이 부여(전사)되고 있다. 이로써, 상기 형상 전사 필름을 의도적으로 박리할 때는 상기 회로 패턴 은폐층으로부터 용이하게 박리할 수 있고, 박리한 후의 상기 회로 패턴 은폐층은 충분한 은폐성을 가진다.The affixed film for printed wiring boards according to an embodiment of the present disclosure includes the shape transfer film and a circuit pattern hiding layer directly laminated with the shape transfer film. The shape derived from the said uneven|corrugated shape is provided (transferred) to the surface of the circuit pattern hiding layer laminated|stacked directly on the surface which has the said uneven|corrugated shape of the said shape transfer film (transfer). Thereby, when the shape transfer film is intentionally peeled, it can peel easily from the said circuit pattern hiding layer, and the said circuit pattern hiding layer after peeling has sufficient hiding property.

상기 프린트 배선판용 첩부 필름은 접착제층, 상기 회로 패턴 은폐층, 및 상기 형상 전사 필름이 이 순서로 적층되어 있는 것이 바람직하다. 상기 프린트 배선판용 첩부 필름은 상기 접착제층, 상기 회로 패턴 은폐층, 및 상기 형상 전사 필름 이외의 층을 구비하고 있어도 된다.As for the said affixing film for printed wiring boards, it is preferable that the said circuit pattern hiding layer, and the said shape transfer film are laminated|stacked in this order. The said affixing film for printed wiring boards may be equipped with layers other than the said adhesive bond layer, the said circuit pattern hiding layer, and the said shape transfer film.

상기 프린트 배선판용 첩부 필름의 일 실시형태에 대하여, 이하에 설명한다. 도 3은, 상기 프린트 배선판용 첩부 필름의 일 실시형태를 나타내는 단면 모식도이다.One Embodiment of the said affixing film for printed wiring boards is demonstrated below. It is a cross-sectional schematic diagram which shows one Embodiment of the said affixed film for printed wiring boards.

도 3에 나타낸 프린트 배선판용 첩부 필름(5)은 접착제층(7)과, 회로 패턴 은폐층(6)과, 도 1에 나타낸 형상 전사 필름(1)을 구비한다. 보다 구체적으로는, 프린트 배선판용 첩부 필름(5)은 접착제층(7)의 한쪽 면에, 접착제층(7)을 보호하기 위한 보호층인 회로 패턴 은폐층(6)이 직접 적층되어 있다. 그리고, 프린트 배선판용 첩부 필름(5)은, 접착제층(7)으로서 도전성 접착제층을 사용하는 경우, 도전성 접착제층이 전자파 차폐층으로서 기능하고, 전자파 차폐 성능을 발휘한다. 이 경우, 프린트 배선판용 첩부 필름(5)은 전자파 차폐 필름으로서 사용할 수 있다. 또한, 접착제층(7)이 차폐 성능을 가지고 있지 않거나 혹은 보다 높은 차폐 성능이 요구되는 경우에는, 회로 패턴 은폐층과 접착제층 사이에 금속층 등의 다른 전자파 차폐층을 별도 구비하고 있어도 된다. 이 경우, 회로 패턴 은폐층은 접착제층에 간접적으로 적층되어 있다.The affixing film 5 for printed wiring boards shown in FIG. 3 is equipped with the adhesive bond layer 7, the circuit pattern hiding layer 6, and the shape transfer film 1 shown in FIG. More specifically, as for the affixing film 5 for printed wiring boards, the circuit pattern hiding layer 6 which is a protective layer for protecting the adhesive bond layer 7 is laminated|stacked directly on one side of the adhesive bond layer 7 . And in the case where the affixed film 5 for printed wiring boards uses a conductive adhesive layer as the adhesive bond layer 7, a conductive adhesive layer functions as an electromagnetic wave shielding layer, and exhibits electromagnetic wave shielding performance. In this case, the affixed film 5 for printed wiring boards can be used as an electromagnetic wave shielding film. In addition, when the adhesive bond layer 7 does not have shielding performance, or when higher shielding performance is requested|required, you may provide separately other electromagnetic wave shielding layers, such as a metal layer, between a circuit pattern hiding layer and an adhesive bond layer. In this case, the circuit pattern hiding layer is indirectly laminated on the adhesive layer.

회로 패턴 은폐층(6)의 접착제층(7)과는 반대측의 면에는, 회로 패턴 은폐층(6)과 수지층(3)이 접촉하도록 형상 전사 필름(1)이 적층되어 있다. 회로 패턴 은폐층(6) 표면은, 형상 전사 필름(1)의 상기 요철 형상을 가지는 면에 직접 적층되어 있으므로, 상기 요철 형상에 유래하는 형상이 부여(전사)되고 있다.On the surface of the circuit pattern hiding layer 6 opposite to the adhesive layer 7 , the shape transfer film 1 is laminated so that the circuit pattern hiding layer 6 and the resin layer 3 come into contact with each other. Since the surface of the circuit pattern hiding layer 6 is directly laminated on the surface having the concave-convex shape of the shape transfer film 1, a shape derived from the concavo-convex shape is imparted (transferred).

(회로 패턴 은폐층)(Circuit Pattern Concealment Layer)

상기 회로 패턴 은폐층은, 프린트 배선판용 첩부 필름을 프린트 배선판에 맞붙인 상태에 있어서, 프린트 배선판에서의 회로 패턴을 시인(視認)하기 어렵게 하여 은폐하기 위한 층이며, 디자인성을 담당하는 경우도 있다. 상기 프린트 배선판용 첩부 필름의 접착제층을 프린트 배선판에 첩부했을 때에, 상기 접착제층의, 상기 프린트 배선판과는 반대측에 위치하는 것으로 되는 측에 위치한다. 상기 프린트 배선판용 첩부 필름에 있어서, 상기 회로 패턴 은폐층은 단층, 복층(복수의 회로 패턴 은폐층의 적층체) 중 어느 것이라도 된다. 그리고, 회로 패턴 은폐층과 접착제층 사이에 다른 전자파 차폐층을 별도 구비하고 있는 경우에는, 회로 패턴 은폐층은 해당 다른 전자파 차폐층과 접착제층을 보호할 수 있다.The said circuit pattern hiding layer is a layer for making it difficult to visually recognize and concealing the circuit pattern in a printed wiring board in the state which pasted the affixing film for printed wiring boards to a printed wiring board, and may be responsible for design. . When the adhesive bond layer of the said affixing film for printed wiring boards is affixed on a printed wiring board, it is located in the side which will be located on the opposite side to the said printed wiring board of the said adhesive bond layer. The said affixing film for printed wiring boards WHEREIN: Any of a single|mono layer and multiple layers (laminated body of several circuit pattern hiding layers) may be sufficient as the said circuit pattern hiding layer. And, when another electromagnetic wave shielding layer is separately provided between the circuit pattern hiding layer and the adhesive layer, the circuit pattern hiding layer can protect the other electromagnetic wave shielding layer and the adhesive layer.

상기 회로 패턴 은폐층은, 바인더 성분으로서 금속이나 수지를 포함해도 된다. 상기 수지로서는, 전술한 수지층에 포함되는 수지로서 예시 및 설명된 것을 들 수 있다. 상기 금속으로서는, 니켈, 구리, 은, 주석, 금, 팔라듐, 알루미늄, 크롬, 티탄, 아연, 및 이들의 하나 이상을 포함하는 합금을 들 수 있다. 상기 바인더 성분은 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 사용해도 된다.The said circuit pattern hiding layer may also contain a metal and resin as a binder component. Examples of the resin include those exemplified and described as the resin contained in the above-mentioned resin layer. Examples of the metal include nickel, copper, silver, tin, gold, palladium, aluminum, chromium, titanium, zinc, and an alloy containing at least one of these. As for the said binder component, only 1 type may be used and 2 or more types may be used for it.

상기 바인더 성분으로서는, 그 중에서도 수지가 바람직하다. 상기 수지로서는, 경화 전후에서 상기 형상 전사 필름에 대한 밀착성을 변동시킴으로써 박리 용이함을 조정할 수 있는 관점에서, 경화형 수지인 것이 바람직하고, 프린트 배선판용 첩부 필름을 프린트 배선판에 열압착할 때 동시에 경화시켜 상기 형상 전사 필름에 대한 밀착성을 용이하게 저하시킬 수 있는 관점에서, 열경화형 수지인 것이 특히 바람직하다.As said binder component, resin is especially preferable. The resin is preferably a curable resin from the viewpoint of adjusting the ease of peeling by varying the adhesiveness to the shape transfer film before and after curing, and is cured at the same time when the affixed film for a printed wiring board is thermocompression bonded to the printed wiring board. It is especially preferable that it is a thermosetting resin from a viewpoint which can reduce the adhesiveness to a shape transfer film easily.

상기 회로 패턴 은폐층에서의 상기 바인더 성분의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 상기 회로 패턴 은폐층의 총량 100 질량%에 대하여, 10∼70 질량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 20∼60 질량%, 더욱 바람직하게는 30∼50 질량%이다.Although the content rate of the said binder component in the said circuit pattern hiding layer is not specifically limited, 10-70 mass % is preferable with respect to 100 mass % of the total amount of the said circuit pattern hiding layer, More preferably, 20-60 mass % , More preferably, it is 30-50 mass %.

상기 회로 패턴 은폐층은, 은폐성이 우수한 것으로 할 수 있는 관점에서, 흑색계 착색제를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 흑색계 착색제로서, 흑색 안료나, 복수의 안료를 감색(減色) 혼합하여 흑색화한 혼합 안료 등을 사용할 수 있다. 상기 흑색 안료는 예를 들면 카본 블랙, 케첸 블랙, 페릴렌 블랙, 티탄 블랙, 철흑, 아닐린 블랙 등을 들 수 있다. 흑색 안료의 입자 직경은, 회로 패턴 은폐층으로의 분산성의 관점에서, 평균 1차 입자 직경이 20㎚ 이상인 것이 바람직하고, 100㎚ 이하인 것이 보다 바람직하다. 흑색 안료의 평균 1차 입자 직경은, 투과형 전자현미경(TEM)에 의해 5만배∼100만배 정도로 확대한 화상으로부터 관찰할 수 있는 20개정도의 1차 입자의 평균값으로부터 구할 수 있다. 상기 혼합 안료로서는, 예를 들면 적색, 녹색, 청색, 황색, 보라색, 시안, 마젠타 등의 안료를 혼합하여 사용할 수 있다. 상기 회로 패턴 은폐층에서의 흑색계 착색제의 함유량은, 상기 회로 패턴 은폐층의 총량 100 질량%에 대하여, 예를 들면 0.5∼50 질량%, 바람직하게는 1∼40 질량%이다.It is preferable that the said circuit pattern hiding layer contains a black type coloring agent from a viewpoint that it can be made into the thing excellent in hiding property. As the black colorant, a black pigment, a mixed pigment obtained by subtractive mixing of a plurality of pigments, and the like can be used. Examples of the black pigment include carbon black, Ketjen black, perylene black, titanium black, iron black, and aniline black. From a viewpoint of the dispersibility to a circuit pattern hiding layer, it is preferable that the average primary particle diameter is 20 nm or more, and, as for the particle diameter of a black pigment, it is more preferable that it is 100 nm or less. The average primary particle diameter of a black pigment can be calculated|required from the average value of about 20 primary particles which can be observed from the image magnified by about 50,000 times - 1 million times with a transmission electron microscope (TEM). As said mixed pigment, pigments, such as red, green, blue, yellow, purple, cyan, and magenta, can be mixed and used, for example. Content of the black type coloring agent in the said circuit pattern hiding layer is 0.5-50 mass % with respect to 100 mass % of the total amount of the said circuit pattern hiding layer, Preferably it is 1-40 mass %.

상기 회로 패턴 은폐층은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위 내에 있어서, 전술한 각 성분 이외의 기타의 성분을 함유하고 있어도 된다. 상기 기타의 성분으로서는, 예를 들면 소포제, 점도 조정제, 산화 방지제, 희석제, 침강 방지제, 충전제, 착색제, 레벨링제, 커플링제, 자외선 흡수제, 점착(粘着) 부여 수지, 경화 촉진제, 가소제, 난연제, 블록킹 방지제, 경화제 등을 들 수 있다. 상기 기타의 성분은 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 사용해도 된다.The said circuit pattern hiding layer may contain components other than each component mentioned above within the range which does not impair the effect of this invention. Examples of the other components include an antifoaming agent, a viscosity modifier, an antioxidant, a diluent, an anti-settling agent, a filler, a colorant, a leveling agent, a coupling agent, an ultraviolet absorber, a tackifier resin, a curing accelerator, a plasticizer, a flame retardant, a blocking agent An inhibitor, a hardening|curing agent, etc. are mentioned. As for the said other component, only 1 type may be used and 2 or more types may be used for it.

상기 회로 패턴 은폐층의 상기 형상 전사 필름이 맞붙은 표면에서의 60° 광택도는, 0.3∼5.0인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.4∼3.0, 더욱 바람직하게는 0.5∼2.0이다. 상기 60° 광택도가 0.3 이상이면, 형상 전사 필름을 의도적으로 박리하는 것이 한층 더 용이하게 된다. 상기 60° 광택도가 5.0 이하이면, 은폐성이 보다 높아진다. 상기 60° 광택도는, JIS Z8741에 준거한 방법에 의해 측정할 수 있다. 그리고, 상기 60° 광택도는, 상기 프린트 배선판용 첩부 필름으로부터 상기 형상 전사 필름을 박리한 상태로 측정된다.It is preferable that the 60 degree glossiness of the surface to which the said shape transfer film of the said circuit pattern hiding layer was pasted together is 0.3-5.0, More preferably, it is 0.4-3.0, More preferably, it is 0.5-2.0. When the 60° glossiness is 0.3 or more, it becomes much easier to intentionally peel the shape transfer film. Concealment property becomes it higher that the said 60 degree glossiness is 5.0 or less. The said 60 degree glossiness can be measured by the method based on JISZ8741. And the said 60 degree glossiness is measured in the state which peeled the said shape transfer film from the said affixed film for printed wiring boards.

상기 회로 패턴 은폐층의 상기 형상 전사 필름이 맞붙은 표면에서의 85° 광택도는, 15 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 15 미만이다. 상기 85° 광택도가 15 이하이면, 은폐성이 보다 높아진다. 상기 85° 광택도는 JIS Z8741에 준거한 방법에 의해 측정할 수 있다. 그리고, 상기 85° 광택도는, 상기 프린트 배선판용 첩부 필름으로부터 상기 형상 전사 필름을 박리한 상태로 측정된다.It is preferable that the 85 degree glossiness of the surface to which the said shape transfer film of the said circuit pattern concealment layer was stuck is 15 or less, More preferably, it is less than 15. Concealment property becomes higher that the said 85 degree glossiness is 15 or less. The said 85 degree glossiness can be measured by the method based on JIS Z8741. And the said 85 degree glossiness is measured in the state which peeled the said shape transfer film from the said affixed film for printed wiring boards.

상기 회로 패턴 은폐층은, 전광선 투과율이 20% 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10% 이하, 더욱 바람직하게는 5% 이하이다. 상기 전광선 투과율이 20% 이하이면, 프린트 배선판용 첩부 필름을 프린트 배선판에 맞붙였을 때에, 회로 패턴을 한층 더 시인하기 어렵다.It is preferable that the said circuit pattern hiding layer has a total light transmittance of 20 % or less, More preferably, it is 10 % or less, More preferably, it is 5 % or less. When the affixed film for printed wiring boards is stuck as the said total light transmittance is 20 % or less on a printed wiring board, a circuit pattern is more difficult to visually recognize.

상기 회로 패턴 은폐층의 두께는 특별히 한정되지 않고, 필요에 따라 적절히 설정할 수 있다. 상기 회로 패턴 은폐층의 두께는 은폐성의 실현, 형성의 용이함, 및 플렉시블성의 확보 등의 관점에서, 1㎛ 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 4㎛ 이상이다. 또한, 상기 회로 패턴 은폐층의 두께는, 20㎛ 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 10㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 5㎛ 이하이다.The thickness of the said circuit pattern hiding layer is not specifically limited, It can set suitably as needed. The thickness of the circuit pattern hiding layer is preferably 1 µm or more, more preferably 4 µm or more, from the viewpoints of realization of concealability, easiness of formation, and securing of flexibility. Moreover, as for the thickness of the said circuit pattern hiding layer, 20 micrometers or less are preferable, More preferably, it is 10 micrometers or less, More preferably, it is 5 micrometers or less.

(접착제층)(Adhesive layer)

상기 접착제층은, 상기 프린트 배선판용 첩부 필름을 프린트 배선판에 접착하기 위한 접착성을 가진다. 접착제층은 단층, 복층 중 어느 것이라도 된다.The said adhesive bond layer has adhesiveness for adhere|attaching the said affixing film for printed wiring boards to a printed wiring board. The adhesive layer may be either a single layer or a multilayer.

상기 접착제층은, 접착제층 중에 있어서 수지 영역을 구성하는 바인더 성분을 함유하는 것이 바람직하다. 상기 바인더 성분으로서는, 전술한 수지층에 포함되는 수지로서 예시 및 설명된 것을 들 수 있다. 상기 바인더 성분은 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 사용해도 된다.It is preferable that the said adhesive bond layer contains the binder component which comprises the resin region in an adhesive bond layer. Examples of the binder component include those exemplified and described as the resin contained in the above-mentioned resin layer. As for the said binder component, only 1 type may be used and 2 or more types may be used for it.

상기 바인더 성분이 열경화형 수지를 포함하는 경우, 상기 바인더 성분을 구성하는 성분으로서, 열경화 반응을 촉진하기 위한 경화제를 포함해도 된다. 상기 경화제는, 상기 열경화형 수지의 종류에 따라 적절히 선택할 수 있다. 상기 경화제는 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 사용해도 된다.When the binder component contains a thermosetting resin, a curing agent for accelerating the thermosetting reaction may be included as a component constituting the binder component. The said hardening|curing agent can be suitably selected according to the kind of the said thermosetting resin. Only 1 type may be used for the said hardening|curing agent, and 2 or more types may be used for it.

상기 접착제층은 도전성 접착제층이라도 된다. 도전성 접착제층인 경우, 상기 접착제층은 전자파 차폐성을 발휘하는 것이 가능해진다. 상기 접착제층이 도전성 접착제층인 경우, 도전성 입자를 더 함유하는 것이 바람직하다.A conductive adhesive layer may be sufficient as the said adhesive bond layer. In the case of a conductive adhesive layer, it becomes possible for the said adhesive bond layer to exhibit electromagnetic wave shielding property. When the said adhesive bond layer is a conductive adhesive layer, it is preferable to contain electroconductive particle further.

상기 도전성 입자로서는, 예를 들면 금속 입자, 금속 피복 수지 입자, 금속 섬유, 카본 필러 등을 들 수 있다. 상기 도전성 입자는 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 사용해도 된다.As said electroconductive particle, a metal particle, a metal-coated resin particle, a metal fiber, a carbon filler etc. are mentioned, for example. The said electroconductive particle may use only 1 type and may use 2 or more types.

상기 금속 입자, 상기 금속 피복 수지 입자의 피복부를 구성하는 금속, 및 상기 금속 섬유를 구성하는 금속으로서는, 예를 들면 금, 은, 구리, 니켈, 아연 등을 들 수 있다. 상기 금속은 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 사용해도 된다.As a metal which comprises the said metal particle, the metal which comprises the coating part of the said metal-coated resin particle, and the said metal fiber, gold, silver, copper, nickel, zinc, etc. are mentioned, for example. As for the said metal, only 1 type may be used and 2 or more types may be used for it.

상기 금속 입자로서는 구체적으로는, 예를 들면 구리 입자, 은 입자, 니켈 입자, 은 피복 구리 입자, 금 피복 구리 입자, 은 피복 니켈 입자, 금 피복 니켈 입자, 은 피복 합금 입자 등을 들 수 있다. 상기 은 피복 합금 입자로서는, 예를 들면 구리를 포함하는 합금 입자(예를 들면, 구리와 니켈과 아연의 합금으로 이루어지는 구리 합금 입자)가 은에 의해 피복된 은 피복 구리 합금 입자 등을 들 수 있다. 상기 금속 입자는 전해법, 아토마이즈법, 환원법 등에 의해 제작할 수 있다.Specific examples of the metal particles include copper particles, silver particles, nickel particles, silver-coated copper particles, gold-coated copper particles, silver-coated nickel particles, gold-coated nickel particles, and silver-coated alloy particles. Examples of the silver-coated alloy particles include silver-coated copper alloy particles in which alloy particles containing copper (eg, copper alloy particles made of an alloy of copper, nickel, and zinc) are coated with silver. . The metal particles can be produced by an electrolysis method, an atomization method, a reduction method, or the like.

상기 금속 입자로서는, 그 중에서도 은 입자, 은 피복 구리 입자, 은 피복 구리 합금 입자가 바람직하다. 도전성이 우수하고, 금속 입자의 산화 및 응집을 억제하고, 또한 금속 입자의 비용을 내릴 수 있는 관점에서, 특히, 은 피복 구리 입자, 은 피복 구리 합금 입자가 바람직하다.As said metal particle, silver particle, silver-coated copper particle, and silver-coated copper alloy particle|grains are especially preferable. Silver-coated copper particles and silver-coated copper alloy particles are particularly preferable from the viewpoint of being excellent in conductivity, suppressing oxidation and aggregation of metal particles, and lowering the cost of metal particles.

상기 도전성 입자의 형상으로서는, 구상(球狀), 플레이크상(인편상), 수지상, 섬유상, 부정형(다면체) 등을 들 수 있다.As a shape of the said electroconductive particle, spherical shape, flake shape (scale shape), dendritic shape, fibrous shape, an irregular shape (polyhedron), etc. are mentioned.

상기 도전성 입자의 메디안 직경(D50)은 1∼50㎛인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 3∼40㎛이다. 상기 메디안 직경이 1㎛ 이상이면, 도전성 입자의 분산성이 양호하고 응집을 억제할 수 있고, 또한 산화되기 어렵다. 상기 평균 입자 직경이 50㎛ 이하이면, 도전성이 양호하게 된다. 상기 D50은, 레이저 회절·산란법에 의해 구한 입도 분포에서의 적산값 50%에서의 입자 직경을 말하는 것으로 한다.It is preferable that the median diameter (D50) of the said electroconductive particle is 1-50 micrometers, More preferably, it is 3-40 micrometers. If the said median diameter is 1 micrometer or more, the dispersibility of electroconductive particle is favorable, aggregation can be suppressed and it is hard to be oxidized. If the said average particle diameter is 50 micrometers or less, electroconductivity will become favorable. Said D50 shall mean the particle diameter in 50% of the integrated value in the particle size distribution calculated|required by the laser diffraction/scattering method.

상기 도전성 접착제층은, 필요에 따라 등방 도전성 또는 이방(異方) 도전성을 가지는 층으로 할 수 있다.The said conductive adhesive layer can be made into the layer which has isotropic electroconductivity or anisotropic electroconductivity as needed.

상기 접착제층이 도전성 접착제층인 경우, 상기 접착제층에서의 바인더 성분의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 접착제층의 총량 100 질량%에 대하여, 5∼60 질량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 10∼50 질량%, 더욱 바람직하게는 20∼40 질량%이다. 상기 함유 비율이 5 질량% 이상이면, 전자파 차폐 성능이 양호하게 된다. 상기 함유 비율이 60 질량% 이하이면, 프린트 배선판에 대한 밀착성이 보다 우수하다.When the adhesive layer is a conductive adhesive layer, the content of the binder component in the adhesive layer is not particularly limited, but is preferably 5 to 60% by mass, more preferably 10 to 100% by mass of the total amount of the adhesive layer. -50 mass %, more preferably 20-40 mass %. Electromagnetic wave shielding performance becomes favorable as the said content rate is 5 mass % or more. The adhesiveness to a printed wiring board is more excellent that the said content rate is 60 mass % or less.

상기 접착제층이 도전성 접착제층인 경우, 상기 접착제층에서의 도전성 입자의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 접착제층의 총량 100 질량%에 대하여, 2∼95 질량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 5∼80 질량%, 더욱 바람직하게는 10∼70 질량%이다. 상기 함유 비율이 2 질량% 이상이면, 도전성이 보다 양호하게 된다. 상기 함유 비율이 95 질량% 이하이면, 바인더 성분을 충분히 함유시킬 수 있고, 프린트 배선판에 대한 밀착성이 보다 양호하게 된다.When the said adhesive bond layer is a conductive adhesive layer, Although the content rate of the electroconductive particle in the said adhesive bond layer is not specifically limited, 2-95 mass % is preferable with respect to 100 mass % of the total amount of an adhesive bond layer, More preferably, 5 -80 mass %, More preferably, it is 10-70 mass %. When the said content rate is 2 mass % or more, electroconductivity will become more favorable. A binder component can be fully contained as the said content rate is 95 mass % or less, and the adhesiveness with respect to a printed wiring board becomes more favorable.

상기 접착제층은 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위 내에 있어서, 상기의 각 성분 이외의 기타의 성분을 함유하고 있어도 된다. 상기 기타의 성분으로서는, 공지 내지 관용의 접착제층에 포함되는 성분을 들 수 있다. 상기 기타의 성분으로서는, 예를 들면 소포제, 점도 조정제, 산화 방지제, 희석제, 침강 방지제, 충전제, 착색제, 레벨링제, 커플링제, 자외선 흡수제, 점착 부여 수지, 경화 촉진제, 가소제, 난연제, 블록킹 방지제 등을 들 수 있다. 상기 기타의 성분은 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 사용해도 된다.The said adhesive bond layer may contain other components other than each said component within the range which does not impair the effect of this invention. As said other component, the component contained in a well-known thru|or a common adhesive bond layer is mentioned. Examples of the other components include antifoaming agents, viscosity modifiers, antioxidants, diluents, anti-settling agents, fillers, colorants, leveling agents, coupling agents, ultraviolet absorbers, tackifying resins, curing accelerators, plasticizers, flame retardants, antiblocking agents, etc. can be heard As for the said other component, only 1 type may be used and 2 or more types may be used for it.

상기 접착제층의 두께는 3∼20㎛인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5∼15㎛이다. 상기 두께가 3㎛ 이상이면, 프린트 배선판과 밀착성이 보다 양호하게 된다.It is preferable that the thickness of the said adhesive bond layer is 3-20 micrometers, More preferably, it is 5-15 micrometers. If the said thickness is 3 micrometers or more, a printed wiring board and adhesiveness will become more favorable.

상기 프린트 배선판용 첩부 필름은, 상기 형상 전사 필름, 상기 회로 패턴 은폐층, 및 상기 접착제층 이외의 기타의 층을 가지고 있어도 된다. 상기 기타의 층으로서는, 상기 회로 패턴 은폐층과 상기 접착제층 사이에 형성되는, 금속층 등, 상기 도전성 접착제층 이외의 기타의 전자파 차폐층을 들 수 있다. 또한, 상기 기타의 전자파 차폐층을 가지는 경우, 상기 기타의 층으로서는, 상기 회로 패턴 은폐층과 상기 기타의 전자파 차폐층 사이에 형성되는 앵커 코트층을 들 수 있다.The said affixing film for printed wiring boards may have other layers other than the said shape transfer film, the said circuit pattern hiding layer, and the said adhesive bond layer. As said other layer, other electromagnetic wave shielding layers other than the said conductive adhesive layer, such as a metal layer formed between the said circuit pattern hiding layer and the said adhesive bond layer, are mentioned. Moreover, when it has the said other electromagnetic wave shielding layer, as said other layer, the anchor coat layer formed between the said circuit pattern hiding layer and the said other electromagnetic wave shielding layer is mentioned.

상기 금속층을 구성하는 금속으로서는, 예를 들면 금, 은, 구리, 알루미늄, 니켈, 주석, 팔라듐, 크롬, 티탄, 아연, 또는 이들 합금 등을 들 수 있다. 상기 금속층으로서는, 금속판 또는 금속박인 것이 바람직하다. 즉, 상기 금속층으로서는, 동판(동박), 은판(은박)이 바람직하다.Examples of the metal constituting the metal layer include gold, silver, copper, aluminum, nickel, tin, palladium, chromium, titanium, zinc, or an alloy thereof. As said metal layer, it is preferable that it is a metal plate or metal foil. That is, as said metal layer, a copper plate (copper foil) and a silver plate (silver foil) are preferable.

상기 앵커 코트층을 형성하는 재료로서는, 우레탄계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지를 쉘로 하고 아크릴계 수지를 코어로 하는 코어·쉘형 복합 수지, 에폭시계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리아미드계 수지, 멜라민계 수지, 페놀계 수지, 요소 포름알데히드계 수지, 폴리이소시아네이트에 페놀 등의 블록화제를 반응시켜 얻어진 블록 이소시아네이트, 폴리비닐알코올, 폴리비닐피롤리돈 등을 들 수 있다. 상기 재료는 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 사용해도 된다.Examples of the material for forming the anchor coat layer include a urethane-based resin, an acrylic resin, a core-shell type composite resin having an urethane-based resin as a shell and an acrylic-based resin as a core, an epoxy-based resin, a polyimide-based resin, a polyamide-based resin, and a melamine-based resin. , phenol-based resins, urea-formaldehyde-based resins, blocked isocyanates obtained by reacting polyisocyanate with a blocking agent such as phenol, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, and the like. As for the said material, only 1 type may be used and 2 or more types may be used for it.

상기 프린트 배선판용 첩부 필름에서의, 회로 패턴 은폐층에 대한 형상 전사 필름의 박리력(剝離力)(제1 박리력)은, 0.1N 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.2N 이상, 더욱 바람직하게는 0.3N 이상이다. 제1 박리력이 0.1N 이상이면, 수송 중 등에 있어서 박리되기 어려워, 의도하지 않는 박리를 억제할 수 있다. 그리고, 제1 박리력은 실시예에 기재된 방법으로 측정할 수 있다.It is preferable that the peeling force (1st peeling force) of the shape transfer film with respect to the circuit pattern hiding layer in the said affixed film for printed wiring boards is 0.1N or more, More preferably, it is 0.2N or more, More preferably, In most cases, it is 0.3N or more. When the 1st peeling force is 0.1 N or more, it is hard to peel during transportation etc., and unintentional peeling can be suppressed. In addition, the 1st peeling force can be measured by the method described in an Example.

상기 프린트 배선판용 첩부 필름의 접착제층면을 프린트 배선판에 맞붙이고, 가열 가압에 의한 접착을 행한 후의 상태에서의, 회로 패턴 은폐층에 대한 형상 전사 필름의 박리력(제2 박리력)은, 3.0N 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2.0N 이하, 더욱 바람직하게는 1.5 이하이다. 제2 박리력이 3.0N 이하이면, 사용 시에 의도적으로 형상 전사 필름을 박리할 때에 있어서, 형상 전사 필름을 용이하게 박리할 수 있다. 그리고, 제2 박리력은 실시예에 기재된 방법으로 측정할 수 있다.The peeling force (2nd peeling force) of the shape transfer film with respect to the circuit pattern hiding layer in the state after bonding the adhesive bond layer surface of the said affixing film for printed wiring boards to a printed wiring board, and performing adhesion|attachment by heat and pressure is 3.0N It is preferable that it is less than, More preferably, it is 2.0 N or less, More preferably, it is 1.5 or less. When the second peeling force is 3.0 N or less, the shape transfer film can be easily peeled when the shape transfer film is intentionally peeled during use. In addition, the second peeling force can be measured by the method described in Examples.

제1 박리력에 대한 제2 박리력의 비[제2 박리력/제1 박리력]은, 0.5∼1.5가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.6∼1.3, 더욱 바람직하게는 0.7∼1.2이다. 상기 비가 상기 범위 내이면, 의도하지 않는 박리를 보다 억제할 수 있고, 또한 사용 시에 있어서 의도적으로 박리할 때는 보다 용이하게 박리할 수 있다.As for ratio [2nd peeling force / 1st peeling force] of the 2nd peeling force with respect to 1st peeling force, 0.5-1.5 are preferable, More preferably, it is 0.6-1.3, More preferably, it is 0.7-1.2. Unintended peeling can be suppressed more as the said ratio is in the said range, and when peeling intentionally at the time of use, it can peel more easily.

상기 프린트 배선판용 첩부 필름은, 플렉시블 프린트 배선판(FPC) 용도인 것이 특히 바람직하다. 상기 프린트 배선판용 첩부 필름은, 플렉시블 프린트 배선판용의 첩부 필름으로서 바람직하게 사용할 수 있다.It is especially preferable that the said affixing film for printed wiring boards is a flexible printed wiring board (FPC) use. The said affixed film for printed wiring boards can be used suitably as a affixed film for flexible printed wiring boards.

(프린트 배선판용 첩부 필름의 제조 방법)(Manufacturing method of the affixed film for printed wiring boards)

상기 프린트 배선판용 첩부 필름의 제조 방법에 대하여 설명한다. 도 3에 나타낸 프린트 배선판용 첩부 필름(5)의 제작에 있어서는, 먼저, 접착제층(7)과 회로 패턴 은폐층(6)을 개별로 제작한다. 그 후, 개별로 제작된 접착제층(7)과 회로 패턴 은폐층(6)을 맞붙인다(라미네이트법).The manufacturing method of the said affixed film for printed wiring boards is demonstrated. In preparation of the affixing film 5 for printed wiring boards shown in FIG. 3, first, the adhesive bond layer 7 and the circuit pattern hiding layer 6 are produced separately. Then, the adhesive layer 7 and the circuit pattern hiding layer 6 which were produced separately are laminated|attached (lamination method).

접착제층(7)은 예를 들면 접착제층(7) 형성용 접착제 조성물을, 세퍼레이트 필름 등의 임시기재 또는 기재 상에 도포(도공)하고, 필요에 따라, 탈용매 및/또는 일부 경화시켜 형성할 수 있다.The adhesive layer 7 may be formed by, for example, applying (coating) an adhesive composition for forming the adhesive layer 7 on a temporary substrate or substrate such as a separate film, and removing the solvent and/or partially curing it if necessary. can

상기 접착제 조성물은, 예를 들면 전술한 접착제층에 포함되는 각 성분에 더하여, 용제(용매)를 포함한다. 용제로서는, 예를 들면 톨루엔, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 디메틸포름아미드 등을 들 수 있다. 접착제 조성물의 고형분 농도는, 형성하는 접착제층의 두께 등에 따라 적절히 설정된다.The said adhesive composition contains a solvent (solvent) in addition to each component contained in the adhesive bond layer mentioned above, for example. As a solvent, toluene, acetone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, a propanol, dimethylformamide etc. are mentioned, for example. The solid content concentration of the adhesive composition is appropriately set according to the thickness of the adhesive layer to be formed.

상기 접착제 조성물의 도포에는, 공지의 코팅법이 이용되어도 된다. 예를 들면, 그라비아 롤 코터, 리버스 롤 코터, 키스 롤 코터, 립 코터, 딥 롤 코터, 바 코터, 나이프 코터, 스프레이 코터, 콤마 코터, 다이렉트 코터, 슬롯 다이 코터 등의 코터가 사용되어도 된다.A well-known coating method may be used for application|coating of the said adhesive composition. For example, a coater such as a gravure roll coater, a reverse roll coater, a kiss roll coater, a lip coater, a dip roll coater, a bar coater, a knife coater, a spray coater, a comma coater, a direct coater, and a slot die coater may be used.

한편, 회로 패턴 은폐층(6)은, 바인더 성분으로서 수지를 사용한 것인 경우, 예를 들면, 회로 패턴 은폐층(6) 형성용 수지 조성물을, 상기 형상 전사 필름의 상기 요철 형상이 형성된 면에 도포(도공)하고, 필요에 따라, 탈용매 및/또는 일부 경화시켜 고화하여 형성할 수 있다. 이로써, 회로 패턴 은폐층(6) 표면에 형상 전사 필름(1)의 요철 형상면에 유래하는 형상을 부여할 수 있다.On the other hand, when a resin is used as a binder component for the circuit pattern hiding layer 6, for example, a resin composition for forming the circuit pattern hiding layer 6 is applied to the surface on which the concave-convex shape of the shape transfer film is formed. It can be formed by applying (coating) and, if necessary, desolving and/or partially curing it to solidify. Thereby, the shape derived from the uneven|corrugated shape surface of the shape transfer film 1 can be provided to the circuit pattern hiding layer 6 surface.

상기 수지 조성물은, 예를 들면 전술한 회로 패턴 은폐층에 포함되는 각 성분에 더하여, 용제(용매)를 포함한다. 용제로서는, 전술한 접착제 조성물이 포함할 수 있는 용제로서 예시된 것을 들 수 있다. 상기 수지 조성물의 고형분 농도는, 형성하는 회로 패턴 은폐층의 두께 등에 따라 적절히 설정된다.The said resin composition contains a solvent (solvent) in addition to each component contained in the circuit pattern hiding layer mentioned above, for example. As a solvent, what was illustrated as a solvent which the adhesive composition mentioned above can contain is mentioned. Solid content concentration of the said resin composition is suitably set according to the thickness etc. of the circuit pattern hiding layer to form.

상기 수지 조성물의 도포에는, 공지의 코팅법이 이용되어도 된다. 예를 들면, 전술한 접착제 조성물의 도포에 사용되는 코터로서 예시된 것을 들 수 있다.A well-known coating method may be used for application|coating of the said resin composition. For example, what was illustrated as a coater used for application|coating of the adhesive composition mentioned above is mentioned.

이어서, 각각 제작된 접착제층(7)의 노출면과 회로 패턴 은폐층(6)의 노출면을 맞붙여, 프린트 배선판용 첩부 필름(5)이 제작된다.Next, the exposed surface of the respectively produced adhesive bond layer 7 and the exposed surface of the circuit pattern hiding layer 6 are pasted together, and the affixing film 5 for printed wiring boards is produced.

상기 프린트 배선판용 첩부 필름은, 상기 라미네이트법 이외의 다른 태양으로서, 각 층을 순차 적층하는 방법으로 제조해도 된다(다이렉트 코트법). 예를 들면, 도 3에 나타낸 프린트 배선판용 첩부 필름(5)은, 접착제층(7)의 표면에, 회로 패턴 은폐층(6) 형성용 수지 조성물을 도포(도공)하고, 필요에 따라 탈용매 및/또는 일부 경화에 의해 고화시켜 회로 패턴 은폐층(6)을 형성함으로써 제조할 수 있다. 그리고, 이 경우, 완전히 고화하기 전에 형상 전사 필름(1)의 요철 형상면을 상기 수지 조성물의 층에 적층하고, 그 후 완전히 고화시킴으로써, 형성되는 회로 패턴 은폐층(6) 표면에 상기 요철 형상에 유래하는 형상을 부여할 수 있다. 혹은, 먼저 형상 전사 필름(1)의 요철 형상면에 회로 패턴 은폐층(6)을 형성하고, 회로 패턴 은폐층(6)의 표면에 접착제층(7) 형성용 접착제 조성물을 도포(도공)하고, 필요에 따라 탈용매 및/또는 일부 경화시켜 접착제층(7)을 형성함으로써 제조할 수 있다.As an aspect other than the said lamination method, you may manufacture the said affixing film for printed wiring boards by the method of laminating|stacking each layer one by one (direct coating method). For example, as for the affixed film 5 for printed wiring boards shown in FIG. 3, on the surface of the adhesive bond layer 7, the resin composition for circuit pattern hiding layer 6 formation is apply|coated (coated), and solvent is removed as needed. and/or solidified by partial curing to form the circuit pattern hiding layer 6 . And in this case, by laminating the concave-convex shape surface of the shape transfer film 1 to the layer of the resin composition before completely solidifying, and then completely solidifying it, the surface of the circuit pattern hiding layer 6 formed in the concave-convex shape derived shape can be given. Alternatively, first, the circuit pattern hiding layer 6 is formed on the concave-convex shape surface of the shape transfer film 1, and the adhesive composition for forming the adhesive layer 7 is applied to the surface of the circuit pattern hiding layer 6 (coating). , may be prepared by removing the solvent and/or partially curing the adhesive layer 7 if necessary.

<실시예><Example>

이하에, 실시예에 기초하여 본 발명을 보다 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에만 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on Examples, but the present invention is not limited only to these Examples.

<실시예 1><Example 1>

(형상 전사 필름의 제작)(Production of shape transfer film)

실리카 입자(D50: 6.5㎛) 30 질량부, 멜라민계 수지 100 질량부, 및 톨루엔으로 이루어지는 수지 조성물을 조제하고, 두께 25㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에 와이어 바를 사용하여 상기 수지 조성물을 도포하고, 가열에 의해 탈용매를 행하여, 기재층 표면에 두께 5㎛의 수지층을 가지는 형상 전사 필름을 제작했다.A resin composition consisting of 30 parts by mass of silica particles (D50: 6.5 μm), 100 parts by mass of a melamine-based resin, and toluene is prepared, and the resin composition is applied on the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 25 μm using a wire bar, and The solvent was removed by heating, and a shape transfer film having a resin layer having a thickness of 5 µm on the surface of the substrate layer was produced.

(첩부 필름의 제작)(production of pasting film)

고형분량이 20 질량%로 되도록, 톨루엔에 비스페놀 A형 에폭시계 수지(상품명 「jER1256」, 미쓰비시 케미컬 가부시키가이샤 제조)를 100 질량부, 경화제(상품명 「ST14」, 미쓰비시 케미컬 가부시키가이샤 제조)를 0.1 질량부, 흑색계 착색제로서 카본 입자(상품명 「도카 블랙 #8300/F」, 도카이 카본 가부시키가이샤 제조)를 15 질량부 배합하고, 수지 조성물을 조제했다. 상기 수지 조성물을, 상기 형상 전사 필름의 수지층 표면에 와이어 바를 사용하여 도포하고, 가열에 의한 고화를 행하고, 형상 전사 필름의 표면에 두께 5㎛의 회로 패턴 은폐층을 형성했다.100 parts by mass of bisphenol A epoxy resin (trade name "jER1256", manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) and a curing agent (trade name "ST14", manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 0.1 to toluene so that the solid content is 20 mass% 15 mass parts of carbon particles (trade name "Toka Black #8300/F", manufactured by Tokai Carbon Corporation) were mix|blended as mass parts and a black type coloring agent, and the resin composition was prepared. The resin composition was applied to the surface of the resin layer of the shape transfer film using a wire bar, and solidified by heating to form a circuit pattern hiding layer having a thickness of 5 µm on the surface of the shape transfer film.

다음으로, 고형분량이 20 질량%로 되도록, 톨루엔에 비스페놀 A형 에폭시계 수지(상품명 「jER1256」, 미쓰비시 케미컬 가부시키가이샤 제조)를 100 질량부, 경화제(상품명 「ST14」, 미쓰비시 케미컬 가부시키가이샤 제조)를 0.1 질량부 배합하고, 교반 혼합하여 접착제층 조성물을 조제했다. 상기 접착제층 조성물을, 표면이 이형 처리된 PET 필름(이하, 지지 필름)에 와이어 바를 사용하여 도포하고, 가열에 의한 고화를 행하고, 지지 필름 표면에 두께 5㎛의 접착제층을 형성했다.Next, 100 parts by mass of a bisphenol A epoxy resin (trade name "jER1256", manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), a curing agent (trade name "ST14", manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) in toluene so that the solid content is 20 mass% ) was mix|blended by 0.1 mass part, it stirred and mixed, and the adhesive bond layer composition was prepared. The adhesive layer composition was applied to a PET film (hereinafter, referred to as a support film) having a surface subjected to a release treatment using a wire bar, and solidified by heating to form an adhesive layer having a thickness of 5 μm on the surface of the support film.

다음으로, 형상 전사 필름의 표면에 형성된 회로 패턴 은폐층과, 지지 필름의 표면에 형성된 접착제층을 맞붙이고, 100℃로 가열한 한 쌍의 금속 롤을 사용하여, 5MPa의 압력으로 가열 가압하여 첩부 필름을 얻었다. 얻어진 첩부 필름의 전광선 투과율은 5% 이하였다.Next, the circuit pattern hiding layer formed on the surface of the shape transfer film and the adhesive layer formed on the surface of the support film are pasted together, using a pair of metal rolls heated to 100° C. got a film. The total light transmittance of the obtained affixed film was 5 % or less.

(평가용 기판의 제작)(Preparation of substrate for evaluation)

상기에서 얻어진 첩부 필름을 프린트 배선판 상에 적층하고, 그 후 프레스기를 사용하여 온도: 170℃, 압력: 2MPa의 조건 하에서 60초 진공화한 후, 180초간 더 가열 가압하여 접착하고, 평가용 기판을 제작했다. 그리고, 상기 프린트 배선판으로서, 폴리이미드 필름으로 이루어지는 베이스층 상에 회로 패턴이 형성된 것을 사용했다. 상기 회로 패턴은, 선폭 0.1㎜, 높이 12㎛의 동박에 의해 형성했다. 상기 베이스층 상에는 회로 패턴을 덮도록 두께 25㎛의 접착제층과, 두께 12.5㎛의 폴리이미드 필름으로 이루어지는 커버 레이(절연 필름)을 설치했다.The affixed film obtained above was laminated on a printed wiring board, and then vacuumed for 60 seconds under the conditions of temperature: 170 ° C. and pressure: 2 MPa using a press machine, then heated and pressed for 180 seconds to adhere, and the substrate for evaluation made And as the said printed wiring board, the thing in which the circuit pattern was formed on the base layer which consists of a polyimide film was used. The circuit pattern was formed of a copper foil having a line width of 0.1 mm and a height of 12 µm. On the said base layer, the 25-micrometer-thick adhesive bond layer and the cover-lay (insulating film) which consist of a 12.5 micrometer-thick polyimide film were provided so that the circuit pattern might be covered.

<실시예 2><Example 2>

기재층 표면에 두께 7㎛의 수지층을 형성한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 형상 전사 필름, 첩부 필름, 및 평가용 기판을 제작했다.Except having formed the 7-micrometer-thick resin layer in the base material layer surface, it carried out similarly to Example 1, and produced the shape transfer film, the affixing film, and the board|substrate for evaluation.

<실시예 3><Example 3>

실리카 입자로서 D50이 4.5㎛인 것을 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 형상 전사 필름, 첩부 필름, 및 평가용 기판을 제작했다.A shape transfer film, a affixed film, and a substrate for evaluation were produced in the same manner as in Example 1 except that the silica particle having a D50 of 4.5 µm was used.

<실시예 4><Example 4>

실리카 입자로서 D50이 3.8㎛인 것을 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 형상 전사 필름, 첩부 필름, 및 평가용 기판을 제작했다.A shape transfer film, an affixed film, and a substrate for evaluation were produced in the same manner as in Example 1 except that the silica particle having a D50 of 3.8 µm was used.

<비교예 1><Comparative Example 1>

실리카 입자로서 D50이 9㎛인 것을 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 형상 전사 필름, 첩부 필름, 및 평가용 기판을 제작했다.A shape transfer film, a affixed film, and a substrate for evaluation were produced in the same manner as in Example 1 except that the silica particle having a D50 of 9 µm was used.

<비교예 2><Comparative Example 2>

실리카 입자로서 D50이 10㎛인 것을 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 형상 전사 필름, 첩부 필름, 및 평가용 기판을 제작했다.A shape transfer film, a affixed film, and a substrate for evaluation were produced in the same manner as in Example 1 except that the silica particle having a D50 of 10 µm was used.

<비교예 3><Comparative Example 3>

실리카 입자로서 D50이 3.5㎛인 것을 사용하고, 기재층 표면에 두께 3㎛의 수지층을 형성한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 형상 전사 필름, 첩부 필름, 및 평가용 기판을 제작했다.A shape transfer film, an adhesive film, and a substrate for evaluation were prepared in the same manner as in Example 1 except that a silica particle having a D50 of 3.5 µm was used and a resin layer having a thickness of 3 µm was formed on the surface of the substrate layer. .

<비교예 4><Comparative Example 4>

기재층 표면에 두께 4㎛의 수지층을 형성한 것 이외는 비교예 3과 동일하게 하여, 형상 전사 필름, 첩부 필름, 및 평가용 기판을 제작했다.A shape transfer film, a affixed film, and a substrate for evaluation were produced in the same manner as in Comparative Example 3 except that a resin layer having a thickness of 4 µm was formed on the surface of the substrate layer.

<비교예 5><Comparative Example 5>

표 1에 나타낸 성능의 요철 형상을 가지는 필름을 형상 전사 필름으로서 사용했다. 그리고, 상기 형상 전사 필름을 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 첩부 필름 및 평가용 기판을 제작했다.A film having an uneven shape of the performance shown in Table 1 was used as the shape transfer film. And except having used the said shape transfer film, it carried out similarly to Example 1, and produced the affixed film and the board|substrate for evaluation.

<비교예 6><Comparative Example 6>

폴리에틸렌테레프탈레이트 수지에 필러를 반죽해 넣어 성형함으로써 얻어진, 표 1에 나타낸 성능의 요철 형상을 가지는 필름을 형상 전사 필름으로서 사용했다. 그리고, 상기 형상 전사 필름을 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 첩부 필름 및 평가용 기판을 제작했다.A film having an uneven shape having the performance shown in Table 1, obtained by kneading a filler into a polyethylene terephthalate resin and molding it was used as the shape transfer film. And except having used the said shape transfer film, it carried out similarly to Example 1, and produced the affixed film and the board|substrate for evaluation.

<비교예 7><Comparative Example 7>

폴리에틸렌테레프탈레이트 수지에 필러를 반죽해 넣어 성형함으로써 얻어진, 표 1에 나타낸 성능의 요철 형상을 가지는 필름을 형상 전사 필름으로서 사용했다. 그리고, 상기 형상 전사 필름을 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 첩부 필름 및 평가용 기판을 제작했다.A film having an uneven shape having the performance shown in Table 1, obtained by kneading a filler into a polyethylene terephthalate resin and molding it was used as the shape transfer film. And except having used the said shape transfer film, it carried out similarly to Example 1, and produced the affixed film and the board|substrate for evaluation.

<비교예 8><Comparative Example 8>

폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 표면을 샌드 매트 처리함으로써 얻어진, 표 1에 나타낸 성능의 요철 형상을 가지는 필름을 형상 전사 필름으로서 사용했다. 그리고, 상기 형상 전사 필름을 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 첩부 필름 및 평가용 기판을 제작했다.A film having an uneven shape having the performance shown in Table 1 obtained by sand matting the surface of the polyethylene terephthalate film was used as the shape transfer film. And except having used the said shape transfer film, it carried out similarly to Example 1, and produced the affixed film and the board|substrate for evaluation.

(평가)(evaluation)

실시예 및 비교예에서 얻어진 각 형상 전사 필름, 첩부 필름, 및 평가용 기판에 대하여 이하와 같이 평가했다. 평가 결과는 표에 기재했다.Each shape transfer film obtained in the Example and the comparative example, the affixed film, and the board|substrate for evaluation were evaluated as follows. The evaluation result was described in the table.

(1) 표면 형상(1) Surface shape

공초점 현미경(상품명 「OPTELICS HYBRID」, Lasertec사 제조, 대물 렌즈 100배)를 사용하고, ISO25178에 준거하여, 형상 전사 필름의 수지층 표면이 임의의 5개소에 형성된 요철 형상에 대하여, 계면의 전개 면적비 Sdr, 코어부의 레벨 차 Sk, 산술 평균 높이 Sa, 제곱 평균 제곱근 높이 Sq, 및 제곱 평균 제곱근 경사 Sdq의 산술 평균을 측정했다. 그리고, S필터의 컷오프 파장은 0.0025㎜, L필터의 컷오프 파장은 0.8㎜로 했다.Using a confocal microscope (trade name "OPTELICS HYBRID", manufactured by Lasertec, Inc., objective lens 100x), based on ISO25178, the surface of the resin layer of the shape transfer film is formed in 5 arbitrary places for the uneven shape of the surface, the development of the interface The area ratio Sdr, the level difference Sk of the core part, the arithmetic mean height Sa, the root mean square height Sq, and the arithmetic mean of the root mean square inclination Sdq were measured. In addition, the cutoff wavelength of the S filter was set to 0.0025 mm, and the cutoff wavelength of the L filter was set to 0.8 mm.

(2) 광택도(2) Glossiness

가드너·마이크로-글로스(휴대폰형 광택계, BYK사 제조)를 사용하여, 형상 전사 필름의 수지층 표면에 형성된 요철 형상 있어서의 60° 광택도 및 85° 광택도, 및 평가용 기판에서의 회로 패턴 은폐층 표면의 상기 요철 형상이 전사된 영역에서의 60° 광택도 및 85° 광택도를 측정했다. 그리고, 회로 패턴 은폐층 표면의 광택도의 측정은, 상기 평가용 기판으로부터 형상 전사 필름을 박리한 후의 표면에 대하여 행했다.Using Gardner Micro-Gloss (mobile phone type gloss meter, manufactured by BYK), 60° glossiness and 85° glossiness in the concave-convex shape formed on the surface of the resin layer of the shape transfer film, and circuit pattern on the evaluation substrate The 60° glossiness and 85° glossiness in the region to which the concave-convex shape of the surface of the hiding layer was transferred were measured. And the measurement of the glossiness of the circuit pattern hiding layer surface was performed with respect to the surface after peeling a shape transfer film from the said board|substrate for evaluation.

(3) 가열 가압 전의 박리력(제1 박리력)(3) Peeling force before heating and pressurization (first peeling force)

상기 실시예 및 비교예에서 제작한 첩부 필름(가열 가압을 행하기 전의 상태)로부터 형상 전사 필름을 박리할 때의 박리력을, 제1 박리력으로서 측정했다. 구체적으로는, 첩부 필름을 두께 100㎛의 폴리이미드 필름에 고정하고, 강도 테스터(상품명 「PFT50S」, 가부시키가이샤 팔맥크 제조)를 사용하여, 샘플 폭 10㎜, 박리 각도 170°, 박리 속도 1000㎜/min의 조건 하에서, 첩부 필름으로부터 형상 전사 필름을 박리했을 때의 박리력(제1 박리력)을 평가했다.The peeling force at the time of peeling a shape transfer film from the affixing film (state before heat-pressing) produced in the said Example and the comparative example was measured as 1st peeling force. Specifically, the affixed film is fixed to a polyimide film having a thickness of 100 µm, and using a strength tester (trade name "PFT50S", manufactured by Falmac Co., Ltd.), a sample width of 10 mm, a peeling angle of 170°, a peeling rate of 1000 The peeling force (1st peeling force) at the time of peeling a shape transfer film from an affixed film under conditions of mm/min was evaluated.

(4) 가열 가압 후의 박리력(제2 박리력)(4) Peeling force after heating and pressing (second peeling force)

상기 평가용 기판의 제작 시에 있어서, 가열 가압을 행한 후의 상태로부터 형상 전사 필름을 박리할 때의 박리력을, 제2 박리력으로서 측정했다. 구체적으로는, 강도 테스터(상품명 「PFT50S」, 가부시키가이샤 팔맥크 제조)를 사용하여, 샘플 폭 10㎜, 박리 각도 170°, 박리 속도 1000㎜/min의 조건 하에서, 평가용 기판으로부터 형상 전사 필름을 박리했을 때의 박리력(제2 박리력)을 평가했다.In preparation of the said board|substrate for evaluation, the peeling force at the time of peeling a shape transfer film from the state after heat-pressing was measured as 2nd peeling force. Specifically, using a strength tester (trade name "PFT50S", manufactured by Falmac Co., Ltd.), the shape transfer film from the substrate for evaluation under the conditions of a sample width of 10 mm, a peeling angle of 170°, and a peeling rate of 1000 mm/min. The peeling force (2nd peeling force) at the time of peeling was evaluated.

(5) 은폐성(5) Concealment

평가용 기판을, 평평한 테이블면 상에 놓고, 형상 전사 필름을 박리한 후, 차폐 배선판의 표면의 조도가 500럭스의 환경 하에서, 평가용 기판으로부터의 높이가 30cm이며, 45°의 각도에 있어서, 회로 패턴 은폐층측으로부터 회로 패턴을 시인할 수 있는지 아닌지 평가했다. 회로 패턴을 시인할 수 없는 경우를 은폐성이 양호(○)로 하고, 회로 패턴을 시인할 수 있는 경우를 은폐성이 불량(×)으로서 평가했다.The evaluation substrate is placed on a flat table surface, the shape transfer film is peeled off, the surface roughness of the shielding wiring board is 500 lux, the height from the evaluation substrate is 30 cm, and at an angle of 45°, It was evaluated whether the circuit pattern could be visually recognized from the circuit pattern hiding layer side. The case where a circuit pattern could not be visually recognized was made into good|favorableness ((circle)), and the concealability evaluated the case where a circuit pattern could be visually recognized as poor (x).

[표 1][Table 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

실시예의 형상 전사 필름은, 형상 전사 필름을 사용하여 형성된 회로 패턴 은폐층은 은폐성이 우수하고, 가열 가압 후의 박리력(제2 박리력)은 2.0N 이하로 낮고, 회로 패턴 은폐층으로부터의 박리성도 우수했다. 또한, 가열 가압 전의 박리력(제1 박리력)은 0.1N 이상이고, 형상 전사 필름은 의도하지 않는 상황에 있어서는 박리되기 어려운 것이 나타내어져 있다. 한편, 형상 전사 필름 표면의 계면의 전개 면적비 Sdr 혹은 코어부의 레벨 차 Sk가 큰 경우(비교예 1 및 2), 제2 박리력은 2.0N을 초과하고 있고, 회로 패턴 은폐층으로의 박리성이 뒤떨어져 있었다. 또한, 형상 전사 필름 표면의 계면의 전개 면적비 Sdr 혹은 코어부의 레벨 차 Sk가 작은 경우(비교예 3∼8), 회로 패턴 은폐층의 은폐성이 뒤떨어져 있었다. 또한, 비교예 8에 있어서는, 제2 박리력은 2.0N을 초과하고 있고, 회로 패턴 은폐층으로부터의 박리성도 뒤떨어져 있었다.In the shape transfer film of the embodiment, the circuit pattern hiding layer formed using the shape transfer film has excellent hiding properties, the peeling force (second peeling force) after heating and pressing is as low as 2.0 N or less, and peeling from the circuit pattern hiding layer The castle was excellent. Moreover, it is shown that the peeling force (1st peeling force) before heat-pressing is 0.1 N or more, and it is hard to peel in the situation where a shape transfer film is not intended. On the other hand, when the developed area ratio Sdr of the interface of the shape transfer film surface or the level difference Sk of the core part is large (Comparative Examples 1 and 2), the second peeling force exceeds 2.0 N, and the peelability to the circuit pattern hiding layer is was behind Moreover, when the developed area ratio Sdr of the interface of the shape transfer film surface or the level difference Sk of the core portion was small (Comparative Examples 3 to 8), the hiding property of the circuit pattern hiding layer was inferior. Moreover, in the comparative example 8, the 2nd peeling force exceeded 2.0N, and it was also inferior to the peelability from a circuit pattern hiding layer.

1 : 형상 전사 필름
2 : 기재층
3 : 수지층
4 : 필러
5 : 프린트 배선판용 첩부 필름
6 : 회로 패턴 은폐층
7 : 접착제층
2a, 3a : 형상 전사 필름 평탄면
1: shape transfer film
2: base layer
3: resin layer
4: filler
5: Sticking film for printed wiring boards
6: circuit pattern hiding layer
7: adhesive layer
2a, 3a: shape transfer film flat surface

Claims (12)

적어도 한쪽 면에, 계면의 전개 면적비 Sdr이 1500∼7000%인 요철 형상을 가지고, 상기 요철 형상에 유래하는 형상을 전사 대상물에 전사하기 위한, 형상 전사 필름.A shape transfer film comprising, on at least one surface, an uneven shape having an interface development area ratio Sdr of 1500 to 7000%, and transferring a shape derived from the uneven shape onto a transfer object. 제1항에 있어서,
상기 요철 형상에서의 코어부의 레벨 차 Sk가 2.0∼7.0㎛인, 형상 전사 필름.
According to claim 1,
The shape transfer film, wherein the level difference Sk of the core portion in the concave-convex shape is 2.0 to 7.0 µm.
(제1항 또는 제2항에 있어서,)
적어도 한쪽 면에, 코어부의 레벨 차 Sk가 2.0∼7.0㎛인 요철 형상을 가지고, 상기 요철 형상에 유래하는 형상을 전사 대상물에 전사하기 위한, 형상 전사 필름.
(according to claim 1 or 2,)
A shape transfer film comprising, on at least one surface, an uneven shape having a level difference Sk of a core portion of 2.0 to 7.0 µm, and for transferring a shape derived from the uneven shape to a transfer object.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 요철 형상에서의 산술 평균 높이 Sa가 1.0∼2.0㎛인, 형상 전사 필름.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The shape transfer film, wherein the arithmetic mean height Sa in the concave-convex shape is 1.0 to 2.0 µm.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 요철 형상에서의 제곱 평균 제곱근 높이 Sq가 1.0∼2.8㎛인, 형상 전사 필름.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The shape transfer film, wherein the root mean square height Sq in the concave-convex shape is 1.0 to 2.8 µm.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 요철 형상에서의 제곱 평균 제곱근 경사 Sdq가 7∼15인, 형상 전사 필름.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
The shape transfer film whose root mean square inclination Sdq in the said uneven|corrugated shape is 7-15.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 요철 형상에서의, 계면의 전개 면적비 Sdr의 제곱 평균 제곱근 경사 Sdq에 대한 비[Sdr/Sdq]가 200∼500인, 형상 전사 필름.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
The shape transfer film, wherein the ratio [Sdr/Sdq] of the developed area ratio Sdr of the interface to the root mean square inclination Sdq in the concave-convex shape is 200 to 500.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
기재층과, 상기 기재층의 한쪽 면에 형성된 수지층을 구비하고,
상기 수지층측 표면이 상기 요철 형상을 가지는, 형상 전사 필름.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
A base layer and a resin layer formed on one side of the base layer,
The shape transfer film in which the said resin layer side surface has the said uneven|corrugated shape.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 형상 전사 필름은 필러를 포함하고, 상기 요철 형상은 상기 필러가 필름 평탄면보다 외측으로 돌출함으로써 형성되어 있는, 형상 전사 필름.
9. The method according to any one of claims 1 to 8,
The shape transfer film includes a filler, and the concave-convex shape is formed by the filler protruding outward from a flat surface of the film.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 형상 전사 필름, 및 상기 형상 전사 필름과 직접 적층한 회로 패턴 은폐층을 구비하는, 프린트 배선판용 첩부(貼付) 필름.A affixing film for printed wiring boards comprising the shape transfer film according to any one of claims 1 to 9, and a circuit pattern hiding layer directly laminated with the shape transfer film. 제10항에 있어서,
접착제층, 상기 회로 패턴 은폐층, 및 상기 형상 전사 필름이 이 순서로 적층되어 있는, 프린트 배선판용 첩부 필름.
11. The method of claim 10,
The adhesive film for printed wiring boards in which the adhesive bond layer, the said circuit pattern hiding layer, and the said shape transfer film are laminated|stacked in this order.
제11항에 있어서,
상기 회로 패턴 은폐층의 상기 형상 전사 필름측의 표면의 85° 광택도가 15 이하인, 프린트 배선판용 첩부 필름.
12. The method of claim 11,
The affixed film for printed wiring boards whose 85 degree glossiness of the surface of the said shape transfer film side of the said circuit pattern hiding layer is 15 or less.
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