KR20220116288A - 광학 적층체 및 화상 표시 장치 - Google Patents
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Abstract
[과제] 고온 고습하에서 편광자의 단부에 있어서 탈색이 억제된 신규의 광학 적층체를 제공한다.
[해결 수단] 편광자와, 광선택 흡수성 점착제층과, 상기 편광자와 상기 광선택 흡수성 점착제층 사이에 이들에 접하여 적층된 중간층을 갖는 광학 적층체로서, 상기 중간층은, 액정 경화층, 배향층, 및 접합층으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 또는 복수의 층만을 갖고, 상기 편광자는, 요오드가 흡착 배향되고, 붕소의 함유량이 5.0 질량% 이하이며, 상기 광선택 흡수성 점착제층을 형성하는 점착제 조성물은, 광선택 흡수성 중합체를 포함하는 광학 적층체.
[해결 수단] 편광자와, 광선택 흡수성 점착제층과, 상기 편광자와 상기 광선택 흡수성 점착제층 사이에 이들에 접하여 적층된 중간층을 갖는 광학 적층체로서, 상기 중간층은, 액정 경화층, 배향층, 및 접합층으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 또는 복수의 층만을 갖고, 상기 편광자는, 요오드가 흡착 배향되고, 붕소의 함유량이 5.0 질량% 이하이며, 상기 광선택 흡수성 점착제층을 형성하는 점착제 조성물은, 광선택 흡수성 중합체를 포함하는 광학 적층체.
Description
본 발명은 광학 적층체 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.
편광자의 한면(片面) 또는 양면에 보호 필름을 적층 접합하여 이루어지는 편광판은, 모바일·텔레비전을 비롯한 액정 표시 장치나 유기 일렉트로루미네선스(유기 EL) 표시 장치 등의 화상 표시 장치, 특히 최근에는 휴대 전화나 스마트폰, 태블릿형 단말과 같은 각종 모바일 기기에 널리 이용되고 있는 광학 부재이다.
편광판은, 점착제층을 통해 화상 표시 소자(액정 셀이나 유기 EL 표시 소자 등)에 접합하여 이용되는 경우가 많다(예컨대, 일본 특허 공개 제2010-229321호 공보(특허문헌 1)). 이 때문에, 편광판은, 그 한쪽 면에 미리 점착제층이 형성된 점착제층 부착 편광판의 형태로 시장 유통되는 경우가 있다.
또한, 모바일 기기는 고온 고습의 가혹한 환경하에서 사용되는 경우도 많아, 편광자로서는 높은 내구성이 요구되고 있다. 일본 특허 공개 제2013-105036호 공보(특허문헌 2)에는, 편광자 중의 붕산 함유량을 높게 하여, 붕산 가교를 많이 생성시킴으로써, I3 착체가 고배향으로 높은 안정성으로 존재하게 되어, 블루 리크(blue leak)의 발생이 억제되고 저온 고습 내구성이 우수한 편광자가 얻어지는 것이 기재되어 있다.
편광판에 있어서, 고온 고습의 환경하에서는 편광자의 단부에 있어서 탈색이 발생하기 쉽다고 하는 문제가 있었다. 이러한 문제는, 편광자의 한면에만 보호 필름이 적층 접합되어 이루어지는 구성에 있어서 현저하였다. 편광자 중의 붕소 함유량을 높게 함으로써 편광자의 탈색을 억제하는 방법이 알려져 있으나, 이러한 방법에 의하면, 가열에 의해 수축하기 쉽다고 하는 문제가 있었다.
본 발명은 고온 고습하에서 편광자의 단부에 있어서 탈색이 억제된 신규의 광학 적층체를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 이하에 예시하는 광학 적층체 및 그것을 이용한 화상 표시 장치를 제공한다.
[1] 편광자와, 광선택 흡수성 점착제층과, 상기 편광자와 상기 광선택 흡수성 점착제층 사이에 이들에 접하여 적층된 중간층을 갖는 광학 적층체로서,
상기 중간층은, 액정 경화층, 배향층, 및 접합층으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 또는 복수의 층만을 갖고,
상기 편광자는, 요오드가 흡착 배향되고, 붕소의 함유량이 5.0 질량% 이하이며,
상기 광선택 흡수성 점착제층을 형성하는 점착제 조성물은, 광선택 흡수성 중합체를 포함하는, 광학 적층체.
[2] 상기 편광자의 상기 중간층측과는 반대측에 적층된 보호 필름을 더 갖는, [1]에 기재된 광학 적층체.
[3] 상기 광선택 흡수성 중합체는, 하기 화학식 (1):
>N-C=C-C=C<
(1)
[단, 화학식 (1)을 구성하는 1개의 N 원자 및 4개의 C 원자 모두가 방향족 복소환의 일부 또는 전부를 구성하는 일은 없다.]
로 나타나는 구조를 갖는 구조 단위를 함유하고, 유리 전이 온도가 40℃ 이하인 수지인, [1] 또는 [2]에 기재된 광학 적층체.
[4] 상기 광선택 흡수성 중합체는, 전체 구조 단위 100 질량부에 대해 상기 화학식 (1)로 나타나는 구조를 갖는 구조 단위의 함유량은 0.01 질량부 이상 50 질량부 이하인, [3]에 기재된 광학 적층체.
[5] 상기 광선택 흡수성 중합체는, 중량 평균 분자량이 30만 이상인, [1]∼[4] 중 어느 1항에 기재된 광학 적층체.
[6] 상기 점착제 조성물은, 광선택 흡수제를 포함하지 않거나, 또는 전체 수지 성분 100 질량부에 대해 광선택 흡수제의 함유량이 0.5 질량부 이하인, [1]∼[5] 중 어느 1항에 기재된 광학 적층체.
[7] 상기 중간층은, 상기 액정 경화층인 λ/4 위상차층을 갖는, [1]∼[6] 중 어느 1항에 기재된 광학 적층체.
[8] 반사 방지용 편광판인, [1]∼[7] 중 어느 1항에 기재된 광학 적층체.
[9] 화상 표시 패널과, 상기 화상 표시 패널의 전면(前面)에 배치된 [8]에 기재된 광학 적층체를 포함하는, 화상 표시 장치.
[10] 유기 EL 표시 장치인, [9]에 기재된 화상 표시 장치.
본 발명에 의하면, 고온 고습의 환경하에서는 편광자의 단부에 있어서 탈색이 억제된 광학 적층체 및 이것을 포함하는 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 광학 적층체의 일례를 도시한 개략 단면도이다.
도 2는 본 발명의 광학 적층체의 일례를 도시한 개략 단면도이다.
도 3은 본 발명의 광학 적층체의 일례를 도시한 개략 단면도이다.
도 4는 광학 현미경에서의 관찰 화상의 일례를 도시한 도면이다.
도 5는 관찰 화상을 흑백 256계조로 변환한 데이터의 일례를 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 광학 적층체의 일례를 도시한 개략 단면도이다.
도 3은 본 발명의 광학 적층체의 일례를 도시한 개략 단면도이다.
도 4는 광학 현미경에서의 관찰 화상의 일례를 도시한 도면이다.
도 5는 관찰 화상을 흑백 256계조로 변환한 데이터의 일례를 도시한 도면이다.
이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 실시형태를 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시형태에 한정되는 것이 아니다. 이하의 모든 도면에 있어서는, 각 구성 요소를 이해하기 쉽게 하기 위해서 축척을 적절히 조정하여 도시하고 있고, 도면에 도시된 각 구성 요소의 축척과 실제 구성 요소의 축척은 반드시 일치하지 않는다.
<광학 적층체>
본 발명의 광학 적층체는, 편광자와, 광선택 흡수성 점착제층과, 편광자와 광선택 흡수성 점착제층 사이에 이들에 접하여 적층된 중간층을 갖는다. 본 발명의 광학 적층체의 층 구성의 일례를 도 1, 도 2, 도 3에 도시한다.
도 1은 본 발명의 광학 적층체의 일례의 개략 단면도이다. 도 1에 도시된 광학 적층체(100)는, 보호 필름(11)과, 편광자(10)와, 중간층(300)과, 광선택 흡수성 점착제층(이하, 「제1 점착제층」이라고도 함)(20)을 이 순서로 갖는다. 중간층(300)은, 액정 경화층, 배향층, 및 접합층으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 또는 복수의 층만을 갖는다.
도 2는 본 발명의 광학 적층체의 일례의 개략 단면도이다. 도 2에 도시된 광학 적층체(101)는, 보호 필름(11)과, 편광자(10)와, 중간층(300)과, 광선택 흡수성 점착제층(20)을 이 순서로 갖는다. 중간층(300)은, 편광자(10)측으로부터 순서대로, 제2 점착제층(32)과, 제1 액정 경화층(30)과, 접착제층(33)과, 제2 액정 경화층(31)을 갖는다.
도 3은 본 발명의 광학 적층체의 일례의 개략 단면도이다. 도 3에 도시된 광학 적층체(102)는, 보호 필름(11)과, 편광자(10)와, 중간층(300)과, 광선택 흡수성 점착제층(20)을 이 순서로 갖는다. 중간층(300)은, 제2 점착제층(32)을 포함한다.
광학 적층체(100, 101, 102)의 두께는, 광학 적층체에 요구되는 기능 및 광학 적층체의 용도 등에 따라 상이하기 때문에 특별히 한정되지 않으나, 예컨대 5 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하이고, 10 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하여도 좋으며, 120 ㎛ 이하여도 좋다.
광선택 흡수성 점착제층은, 광선택 흡수성 중합체를 포함한다. 본 발명의 광학 적층체는, 적어도 광선택 흡수성 점착제층이 광선택 흡수 성능을 가짐으로써, 광학 적층체 전체로서도 광선택 흡수 성능을 갖는다. 광선택 흡수 성능이란, 특정한 파장의 광을 흡수하기 쉬운 성질을 말하며, 자외선 파장 영역으로부터 가시광 영역에 적어도 하나의 흡수 극대를 갖는다. 예컨대, 광선택 흡수성 점착제층이 자외선 흡수능을 갖고 있는 경우, 화상 표시 소자 상에 배치된 광학 적층체는, 화상 표시 소자를 자외선으로부터 보호하는 기능을 갖는다.
본 발명의 광학 적층체는, 광선택 흡수성 점착제층 이외에도, 광선택 흡수 성능을 갖는 층을 포함하는 구성이어도 좋다. 다른 층으로서는, 예컨대, 보호 필름(11), 중간층(300)을 들 수 있다. 본 발명에 있어서는, 광선택 흡수성 점착제층이 광선택 흡수 성능을 갖고, 광학 적층체 전체의 광선택 흡수 성능의 발현에 기여하는 구성임으로써, 다른 층에 있어서의 광선택 흡수 성능의 설계의 자유도를 향상시킬 수 있다. 예컨대, 보호 필름(11)은, 광선택 흡수 성능을 향상시키기 위해서는 그 두께를 두껍게 하는 설계가 필요해지는 경우가 있으나, 광선택 흡수 성능의 설계의 자유도가 높음으로써, 보호 필름(11)의 박막화가 용이해진다. 예컨대, 중간층(300)은, 고온 고습하에서의 편광자의 단부에 있어서의 탈색을 억제하는 관점에서, 광선택 흡수제를 실질적으로 포함하지 않는 구성이 바람직하고, 포함하는 경우라도, 그 함유량은 0.5 g/㎡ 이하인 것이 바람직하다. 중간층(300)이 제2 점착제층을 갖는 경우, 제2 점착제층에 대해서도 마찬가지로, 광선택 흡수제를 실질적으로 포함하지 않는 구성이 바람직하고, 포함하는 경우라도, 그 함유량은 0.5 g/㎡ 이하인 것이 바람직하다.
광선택 흡수성 점착제층은, 광선택 흡수성 중합체가 광선택 흡수 성능을 갖고, 광선택 흡수성 점착제층의 광선택 흡수 성능의 발현에 기여하는 구성임으로써, 광선택 흡수성 점착제층에 대해 광선택 흡수제를 포함하지 않는 구성, 또는 광선택 흡수제의 함유량을 저감시키는 구성으로 할 수 있고, 고온 고습하에서의 편광자의 단부에 있어서의 탈색을 억제할 수 있다.
본 발명자들은, 점착제층에 포함되는 광선택 흡수제의 함유량과, 고온 고습하에서의 편광자의 단부에 있어서의 탈색의 정도 사이에 상관이 있다는 지견을 얻었다. 이러한 지견에 기초하면, 비교적 저분자량의 광선택 흡수제를 이용한 경우에는, 고온 고습하에서는, 점착제층 중의 광선택 흡수제가 편광자측으로 이행하기 쉽고, 이러한 이행이 탈색을 발생시키는 요인의 하나라고 생각된다. 본 발명자들은, 더욱 예의 검토를 거듭하여, 점착제층에의 광선택 흡수 성능의 부여를, 광선택 흡수제의 첨가에 의한 방법이 아니라, 광선택 흡수성 중합체를 함유시키는 방법에 의함으로써, 고온 고습하에서의 편광자의 단부에 있어서의 탈색을 억제할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명에 이른 것이다. 광선택 흡수성 중합체는 분자량이 비교적 크기 때문에, 편광자로의 이행이 억제되어, 편광자 단부에 있어서의 탈색이 억제되는 것으로 생각된다.
[편광자]
편광자는, 그 흡수축에 평행한 진동면을 갖는 직선 편광을 흡수하고, 흡수축에 직교하는(투과축과 평행한) 진동면을 갖는 직선 편광을 투과하는 성질을 갖는다. 본 발명의 광학 적층체에 있어서의 편광자(10)는, 요오드가 흡착 배향되고, 붕소의 함유량이 5.0 질량% 이하이다.
붕소의 함유량이 5.0 질량% 이하이고, 바람직하게는 4.5 질량% 이하인 구성에 의해, 가열에 의해 발생하는 수축을 억제할 수 있다. 붕소의 함유량은 0.5 질량% 이상인 것이 바람직하고, 1 질량% 이상인 것이 보다 바람직하다. 편광자(10)에 있어서, 붕소의 함유량이 적어질수록, 고온 고습하에서의 편광자의 단부에 있어서의 탈색이 발생하기 쉬워진다. 편광자(10) 중의 붕소는, 편광자(10)의 가교도를 향상시켜, 편광자(10) 중에 요오드를 안정적으로 유지하는 데 기여하고 있기 때문에, 붕소의 함유량이 적어지면 요오드를 안정적으로 유지할 수 없게 되어, 탈색을 발생시키게 된다고 생각된다. 본 발명에 있어서는, 편광자(10)에 대해, 붕소의 함유량이 5.0 질량% 이하여도, 고온 고습하에서의 탈색을 억제할 수 있다.
편광자(10)는, 흡수 이방성을 갖는 이색성 색소를 흡착시킨 연신 필름 또는 연신층, 중합성 액정 화합물의 경화물 및 이색성 색소를 포함하는 액정 경화층 등을 들 수 있다. 이색성 색소는, 분자의 장축 방향에 있어서의 흡광도와 단축 방향에 있어서의 흡광도가 상이한 성질을 갖는 색소를 말하며, 색소로서는 요오드가 적합하게 이용된다.
흡수 이방성을 갖는 색소를 흡착시킨 연신 필름인 편광자는, 통상, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 일축 연신하는 공정, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 요오드 등의 이색성 색소로 염색함으로써, 그 이색성 색소를 흡착시키는 공정, 이색성 색소가 흡착된 폴리비닐알코올계 수지 필름을 붕산 수용액으로 처리하는 공정, 및 붕산 수용액에 의한 처리 후에 수세(水洗)하는 공정을 거쳐 제조할 수 있다.
편광자의 두께는, 통상 30 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 15 ㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 13 ㎛ 이하이고, 더욱 바람직하게는 10 ㎛ 이하이며, 특히 바람직하게는 8 ㎛ 이하이다. 편광자의 두께는, 통상 2 ㎛ 이상이고, 3 ㎛ 이상인 것이 바람직하며, 예컨대 5 ㎛ 이상이어도 좋다.
폴리비닐알코올계 수지는, 폴리아세트산비닐계 수지를 비누화함으로써 얻어진다. 폴리아세트산비닐계 수지로서는, 아세트산비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산비닐 외에, 아세트산비닐과 그것에 공중합 가능한 다른 단량체의 공중합체가 이용된다. 아세트산비닐에 공중합 가능한 다른 단량체로서는, 예컨대 불포화 카르복실산계 화합물, 올레핀계 화합물, 비닐에테르계 화합물, 불포화 술폰계 화합물, 암모늄기를 갖는 (메트)아크릴아미드계 화합물을 들 수 있다.
폴리비닐알코올계 수지의 비누화도는, 통상 85 몰% 이상 100 몰% 이하 정도이고, 바람직하게는 98 몰% 이상이다. 폴리비닐알코올계 수지는 변성되어 있어도 좋고, 알데히드류로 변성된 폴리비닐포르말, 폴리비닐아세탈 등도 사용할 수 있다. 폴리비닐알코올계 수지의 중합도는, 통상 1000 이상 10000 이하이고, 바람직하게는 1500 이상 5000 이하이다.
흡수 이방성을 갖는 색소를 흡착시킨 연신층인 편광자는, 통상, 상기 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 도포액을 기재(基材) 필름 상에 도포하는 공정, 얻어진 적층 필름을 일축 연신하는 공정, 일축 연신된 적층 필름의 폴리비닐알코올계 수지층을 요오드 등의 이색성 색소로 염색함으로써, 이색성 색소를 흡착시켜 편광자로 하는 공정, 이색성 색소가 흡착된 필름을 붕산 수용액으로 처리하는 공정, 및 붕산 수용액에 의한 처리 후에 수세하는 공정을 거쳐 제조할 수 있다. 편광자를 형성하기 위해서 이용하는 기재 필름은, 보호 필름(11)으로서 이용해도 좋다. 필요에 따라, 기재 필름을 편광자로부터 박리 제거해도 좋다. 기재 필름의 재료 및 두께는, 후술하는 보호 필름(11)의 재료 및 두께와 동일해도 좋다.
[보호 필름]
보호 필름(11)은, 광학적으로 투명한 열가소성 수지, 예컨대 환상(環狀) 폴리올레핀계 수지; 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스 등의 수지를 포함하는 아세트산셀룰로오스계 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 수지를 포함하는 폴리에스테르계 수지; 폴리카보네이트계 수지; (메트)아크릴계 수지; 폴리프로필렌계 수지, 이들 중 1종 또는 2종 이상의 혼합물을 포함하는 코팅층 또는 필름으로 할 수 있다. 보호 필름(11)은, 후술하는 광선택 흡수제를 포함하고 있어도 좋다. 또한, 보호 필름(11)에 포함되는 광선택 흡수제는, 보호 필름(11) 내에 유지되기 때문에 편광자로의 이행은 발생하기 어렵다.
보호 필름(11) 상에 하드 코트층이 형성되어 있어도 좋다. 하드 코트층은, 보호 필름(11)의 한쪽 면에 형성되어 있어도 좋고, 양면에 형성되어 있어도 좋다. 하드 코트층을 형성함으로써, 경도 및 내스크래치성을 향상시킨 보호 필름(11)으로 할 수 있다. 하드 코트층은, 예컨대 아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 폴리에스테르계 수지, 우레탄계 수지, 아미드계 수지, 에폭시계 수지 등의 경화층이어도 좋다. 하드 코트층은, 강도를 향상시키기 위해서, 첨가제를 포함하고 있어도 좋다. 첨가제는 한정되는 일은 없고, 무기계 미립자, 유기계 미립자, 또는 이들의 혼합물을 들 수 있다. 하드 코트층은, 예컨대 자외선 경화형 수지의 경화층이다. 자외선 경화형 수지로서는, 예컨대 아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 폴리에스테르계 수지, 우레탄계 수지, 아미드계 수지, 에폭시계 수지 등을 들 수 있다.
보호 필름(11)의 두께는, 통상 1 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하이고, 강도 및 취급성 등의 관점에서는, 5 ㎛ 이상 80 ㎛ 이하인 것이 바람직하며, 8 ㎛ 이상 60 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 12 ㎛ 이상 45 ㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하다.
보호 필름(11)인 수지 필름은, 예컨대 접착제층을 통해 편광자(10)에 접합된다. 접착제층을 형성하는 접착제로서는, 수계 접착제, 활성 에너지선 경화성 접착제, 또는 열경화성 접착제를 들 수 있고, 수계 접착제, 활성 에너지선 경화성 접착제를 이용하는 것이 바람직하다. 접착제층을 통해 접합되는 대향하는 2개의 표면은, 미리 코로나 처리, 플라즈마 처리, 화염 처리 등을 행해도 좋고, 프라이머층 등을 갖고 있어도 좋다.
[광선택 흡수성 점착제층]
광선택 흡수성 점착제층(20)은, 광선택 흡수성 중합체를 포함하는 점착제 조성물을, 유기 용제에 용해 또는 분산한 희석액을 기재 상에 도포하고, 건조시킴으로써 형성할 수 있다. 기재로서는, 플라스틱 필름이 적합하고, 구체적으로는, 이형 처리가 실시된 박리 필름을 들 수 있다. 박리 필름으로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트 등의 수지를 포함하는 필름의 한쪽 면에, 실리콘 처리 등의 이형 처리가 실시된 것을 들 수 있다.
광선택 흡수성 점착제층의 두께는, 예컨대 0.1 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하이다. 화상 표시 패널과 적층하는 경우에는, 광선택 흡수성 점착제층의 두께는 통상, 8 ㎛ 이상 60 ㎛ 이하이고, 박형화의 점에서는, 30 ㎛ 이하, 나아가서는 25 ㎛ 이하, 특히는 20 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 다른 광학 필름, 예컨대 λ/4 위상차층과 적층하는 경우에는, 광선택 흡수성 점착제층의 두께는, 통상 2 ㎛ 이상 30 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 25 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 20 ㎛ 이하, 특히 바람직하게는 18 ㎛ 이하이며, 바람직하게는 3 ㎛ 이상이고, 예컨대 10 ㎛ 이상이어도 좋으나, 한층 더한 박형화의 점에서는 10 ㎛ 이하, 특히 7 ㎛ 이하가 바람직하다.
광선택 흡수성 점착제층(20)은, 파장 410 ㎚에 있어서의 흡광도가 0.1 이상 1.6 이하인 것이 바람직하다. 광선택 흡수성 점착제층(20)이 이러한 흡광도를 가짐으로써, 광학 적층체 전체로서 원하는 광선택 흡수 성능을 발현하면서, 광학 적층체 전체를 박형으로 구성하기 쉬워지기 때문이다.
광선택 흡수성 점착제층은, 파장 390 ㎚에 있어서의 흡광도가 통상 5.0 이하이고, 4.5 이하여도 좋다.
광선택 흡수성 점착제층은, 파장 400 ㎚에 있어서의 흡광도가 통상 5.0 이하이고, 4.5 이하여도 좋다.
광선택 흡수성 점착제층은, 파장 420 ㎚에 있어서의 흡광도가 통상 1.00 이하, 바람직하게는 0.60 이하, 더욱 바람직하게는 0.40 이하이고, 0.00 이상이다.
광선택 흡수성 점착제층은, 파장 430 ㎚에 있어서의 흡광도가 통상 0.20 미만, 바람직하게는 0.18 이하, 더욱 바람직하게는 0.10 이하, 특히 바람직하게는 0.05 이하이고, 0.00 이상이다.
광선택 흡수성 점착제층은, 파장 440 ㎚에 있어서의 흡광도가 통상 0.10 미만, 바람직하게는 0.05 이하이고, 0.00 이상이다. 각각의 파장에 있어서의 흡광도가 상기 범위에 있음으로써, 자외선 영역의 광을 충분히 흡수하면서, 가시광 영역의 광은 그대로 투과할 수 있다.
광선택 흡수성 점착제층은, 하기 식 (3)을 만족시키는 점착제층인 것이 바람직하고, 또한 식 (4)를 만족시키는 점착제층인 것이 보다 바람직하다.
A(405)≥0.5
(3)
[식 (3) 중, A(405)는 파장 405 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타낸다.]
A(405)/A(440)≥5
(4)
[식 (4) 중, A(405)는 파장 405 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타내고, A(440)은 파장 440 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타낸다.]
A(405)의 값이 클수록 파장 405 ㎚에 있어서의 흡수가 높은 것을 나타낸다. A(405)의 값이 0.5 미만이면 파장 405 ㎚에 있어서의 흡수가 낮고, 400 ㎚ 부근의 광에 의해 열화하기 쉬운 부재(예컨대 유기 EL 소자 등의 표시 장치나 액정계 위상차 필름 등)의 열화가 발생하기 쉽다. A(405)의 값은, 바람직하게는 0.6 이상이고, 보다 바람직하게는 0.8 이상이며, 특히 바람직하게는 1.0 이상이다. 상한은 특별히 없으나, 통상은 10 이하이다.
A(405)/A(440)의 값은, 파장 440 ㎚에 있어서의 흡수의 크기에 대한 파장 405 ㎚의 흡수의 크기를 나타내고, 이 값이 클수록 405 ㎚ 부근의 파장 영역에 특이적인 흡수가 있는 것을 나타낸다. A(405)/A(440)의 값은 10 이상인 것이 바람직하고, 30 이상인 것이 보다 바람직하며, 75 이상인 것이 더욱 바람직하고, 100 이상인 것이 특히 바람직하다.
[점착제 조성물]
(광선택 흡수성 중합체)
점착제 조성물은, 광선택 흡수성 중합체를 포함한다. 광선택 흡수성 중합체는, 광선택 흡수 성능을 갖는 중합체이다. 광선택 흡수성 중합체는, 바람직하게는 파장 360 ㎚∼420 ㎚ 영역의 파장의 광을 흡수할 수 있다. 광선택 흡수성 중합체는, 광선택 흡수 성능을 갖는 부위를 갖는 광선택 흡수성 구조 단위를 포함한다. 광선택 흡수성 구조 단위는, 측쇄에 광선택 흡수 성능을 갖는 부위를 갖는 것이 바람직하다. 광선택 흡수 성능을 갖는 부위로서는, 벤조페논기, 벤조트리아졸기, 하기 화학식 (1)로 나타나는 구조 등이 예시된다.
광선택 흡수성 중합체는, 바람직하게는 하기 화학식 (1):
>N-C=C-C=C<
(1)
[단, 화학식 (1)을 구성하는 1개의 N 원자 및 4개의 C 원자 모두가 방향족 복소환의 일부 또는 전부를 구성하는 일은 없다.]
로 나타나는 구조(이하, 「메로시아닌 구조」라고 한다.)를 갖는 구조 단위를 광선택 흡수성 구조 단위로서 함유하고, 유리 전이 온도가 40℃ 이하인 수지(A)이다.
수지(A)는 메로시아닌 구조를 주쇄에 갖고 있어도 좋고, 측쇄에 갖고 있어도 좋다. 수지(A)는, 측쇄에 메로시아닌 구조를 갖는 구조 단위를 포함하는 것이 보다 바람직하다.
수지(A)의 유리 전이 온도(Tg)는, 40℃ 이하이지만, 20℃ 이하인 것이 바람직하고, 10℃ 이하인 것이 보다 바람직하며, 0℃ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 수지(A)의 유리 전이 온도는 통상 -80℃ 이상이고, -60℃ 이상인 것이 바람직하며, -50℃ 이상인 것이 보다 바람직하고, -45℃ 이상인 것이 더욱 바람직하며, -30℃ 이상인 것이 특히 바람직하다. 수지(A)의 유리 전이 온도가 40℃ 이하이면, 수지(A)를 포함하는 점착제 조성물로 형성되는 광선택 흡수성 점착제층의 피착체에 대한 밀착성의 향상에 유리하다. 또한, 수지(A)의 유리 전이 온도가 -80℃ 이상이면, 수지(A)를 포함하는 점착제 조성물로 형성되는 광선택 흡수성 점착제층의 내구성(고온 시험 시의 외관 문제점: 응집 파괴 등)의 향상에 유리하다. 또한, 유리 전이 온도는 시차 주사 열량계(DSC)에 의해 측정할 수 있다.
측쇄에 메로시아닌 구조를 갖는 구조 단위로서는, 특별히 한정은 되지 않으나, 중합성 기와 메로시아닌 구조를 갖는 화합물에 유래하는 구조 단위인 것이 바람직하다.
중합성 기와 메로시아닌 구조를 갖는 화합물은, 하기 식 (1-a)를 만족시키는 것이 바람직하고, 또한 식 (2-a)를 만족시키는 것이 보다 바람직하다.
ε(405)≥5
(1-a)
[식 (1-a) 중, ε(405)는 파장 405 ㎚에 있어서의 중합성 기와 메로시아닌 구조를 갖는 화합물의 그램 흡광 계수를 나타낸다. 그램 흡광 계수의 단위는 L/(g·㎝)이다.]
ε(405)/ε(440)≥20
(2-a)
[식 (2-a) 중, ε(405)는 파장 405 ㎚에 있어서의 중합성 기와 메로시아닌 구조를 갖는 화합물의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(440)은 파장 440 ㎚에 있어서의 중합성 기와 메로시아닌 구조를 갖는 화합물의 그램 흡광 계수를 나타낸다.]
중합성 기와 메로시아닌 구조를 갖는 화합물은, ε(405)의 값이 5 L/(g·㎝) 이상인 것이 바람직하고, 10 L/(g·㎝) 이상인 것이 보다 바람직하며, 20 L/(g·㎝) 이상인 것이 더욱 바람직하고, 30 L/(g·㎝) 이상인 것이 더욱더 바람직하며, 통상 500 L/(g·㎝) 이하이다. ε(405)의 값이 큰 화합물일수록 파장 405 ㎚의 광을 흡수하기 쉽고, 자외선이나 단파장의 가시광에 의한 열화 억제 기능을 발현하기 쉽다.
중합성 기와 메로시아닌 구조를 갖는 화합물은, ε(405)/ε(440)의 값이 20 이상인 것이 바람직하고, 40 이상인 것이 보다 바람직하며, 70 이상이 더욱더 바람직하고, 80 이상이 특히 보다 바람직하다. ε(405)/ε(440)의 값이 큰 화합물을 포함하는 수지는, 표시 장치의 색채 표현을 저해하지 않고, 405 ㎚ 부근의 광을 흡수하여 위상차 필름이나 유기 EL 소자 등의 표시 장치의 광 열화를 억제할 수 있다.
측쇄에 메로시아닌 구조를 갖는 구조 단위로서는, 예컨대 식 (I)로 표시되는 화합물에 유래하는 구조 단위 등을 들 수 있다.
[식 (I) 중, R1, R2, R3, R4 및 R5는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 1∼25의 지방족 탄화수소기, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 6∼15의 방향족 탄화수소기, 복소환기 또는 에틸렌성 불포화기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기 또는 방향족 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -NR1A-, -SO2-, -CO-, -O- 또는 S-로 치환되어 있어도 좋다.
R6 및 R7은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼25의 알킬기, 전자 흡인성 기 또는 에틸렌성 불포화기를 나타낸다.
R1A는, 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.
R1 및 R2는 서로 연결되어 고리 구조를 형성해도 좋고, R2 및 R3은 서로 연결되어 고리 구조를 형성해도 좋으며, R2 및 R4는 서로 연결되어 고리 구조를 형성해도 좋고, R3 및 R6은 서로 연결되어 고리 구조를 형성해도 좋으며, R5 및 R7은 서로 연결되어 고리 구조를 형성해도 좋고, R6 및 R7은 서로 연결되어 고리 구조를 형성해도 좋다.
단, R1∼R7의 어느 것 중 하나는 에틸렌성 불포화기이다]
R1∼R5로 표시되는 탄소수 1∼25의 지방족 탄화수소기로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, n-헥실기, 이소헥실기, n-옥틸기, 이소옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, n-데실기, 이소데실기, n-도데실기, 이소도데실기, 운데실기, 라우릴기, 미리스틸기, 세틸기, 스테아릴기 등의 탄소수 1∼25의 직쇄 또는 분기쇄의 알킬기; 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등의 탄소수 3∼25의 시클로알킬기; 시클로헥실메틸기 등의 탄소수 4∼25의 시클로알킬알킬기 등을 들 수 있고, 탄소수 4∼25의 알킬기인 것이 바람직하다.
R1∼R5로 표시되는 탄소수 1∼25의 지방족 탄화수소기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는, 히드록시기, 시아노기, 할로겐 원자, 머캅토기, 아미노기, 니트로기 등을 들 수 있다.
할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 들 수 있다.
R1∼R5로 표시되는 탄소수 6∼15의 방향족 탄화수소기로서는, 페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기, 비페닐기 등의 탄소수 6∼15의 아릴기; 벤질기, 페닐에틸기, 나프틸메틸기, 페닐 등의 탄소수 7∼15의 아랄킬기 등을 들 수 있다.
R1∼R5로 표시되는 탄소수 6∼15의 방향족 탄화수소기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는, 히드록시기, 시아노기, 할로겐 원자, 머캅토기, 아미노기, 니트로기, 알콕시기, 알킬티오기, 알콕시카르보닐기, 아실기, 아실옥시기, -C(NR2A)R2B, -CONR3AR3B, -SO2R4A(R2A, R2B, R3A 및 R3B는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, R4A는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.) 등을 들 수 있다.
할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다.
알콕시기로서는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 옥틸옥시기, 2-에틸헥실옥시기, 노닐옥시기, 데실옥시기, 운데실옥시기, 도데실옥시기 등의 탄소수 1∼12의 알콕시기를 들 수 있다.
알킬티오기로서는, 메틸티오기, 에틸티오기, 프로필티오기, 부틸티오기 등의 탄소수 1∼12의 알킬티오기를 들 수 있다.
아실기로서는, 아세틸기, 프로피오닐기 및 부티릴기 등의 탄소수 2∼13의 아실기를 들 수 있다.
아실옥시기로서는, 메틸카르보닐옥시기, 에틸카르보닐옥시기, n-프로필카르보닐옥시기, 이소프로필카르보닐옥시기, n-부틸카르보닐옥시기, sec-부틸카르보닐옥시기, tert-부틸카르보닐옥시기, 펜틸카르보닐옥시기, 헥실카르보닐옥시기, 옥틸카르보닐옥시기 및 2-에틸헥실카르보닐옥시기 등의 탄소수 2∼13의 아실옥시기를 들 수 있다.
알콕시카르보닐기로서는, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 프로폭시카르보닐기, 부톡시카르보닐기, 펜틸옥시카르보닐기, 헥실옥시카르보닐기, 옥틸옥시카르보닐기, 2-에틸헥실옥시카르보닐기, 노닐옥시카르보닐기, 데실옥시카르보닐기, 운데실옥시카르보닐기, 도데실옥시카르보닐기 등의 탄소수 2∼13의 알콕시카르보닐기를 들 수 있다.
-CONR3AR3B로서는, 아미노카르보닐기, 메틸아미노카르보닐기, 디메틸아미노카르보닐기, 에틸아미노카르보닐기, 메틸메틸아미노카르보닐기 등을 들 수 있다.
-C(NR2A)R2B로서는, 메틸이미노기, 디메틸이미노기, 메틸에틸이미노기 등을 들 수 있다.
-SO2R4A로서는, 메틸술포닐기, 에틸술포닐기 등을 들 수 있다.
R1A 및 R1B로 표시되는 탄소수 1∼6의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기 등을 들 수 있다.
R1∼R5로 표시되는 복소환기로서는, 피롤리딘환기, 피롤린환기, 이미다졸리딘환기, 이미다졸린환기, 옥사졸린환기, 티아졸린환기, 피페리딘환기, 모르폴린환기, 피페라진환기, 인돌환기, 이소인돌환기, 퀴놀린환기, 티오펜환기, 피롤환기, 티아졸린환기 및 푸란환기 등의 탄소수 4∼20의 지방족 복소환기 또는 탄소수 3∼20의 방향족 복소환기 등을 들 수 있다.
R6 및 R7로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, n-헥실기, 이소헥실기, n-옥틸기, 이소옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, n-데실기, 이소데실기, n-도데실기, 이소도데실기, 운데실기, 라우릴기, 미리스틸기, 세틸기, 스테아릴기 등의 탄소수 1∼25의 직쇄 또는 분기쇄의 알킬기 등을 들 수 있다.
R6 및 R7로 표시되는 전자 흡인성 기로서는, 예컨대, 시아노기, 니트로기, 할로겐 원자, 할로겐 원자로 치환된 알킬기, 식 (I-1)로 표시되는 기를 들 수 있다.
[식 중, R111은, 수소 원자 또는 탄소수 1∼25의 탄화수소기를 나타내고, 상기 알킬기에 포함되는 메틸렌기 중 적어도 하나는 산소 원자로 치환되어 있어도 좋다.
X1은, -CO-*1, -COO-*1, -CS-*1, -CSS-*1, -CSNR112-*1, -CONR113-*1, -CNR114-*1 또는 SO2-*1을 나타낸다.
R112, R113 및 R114는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 페닐기를 나타낸다.
*1은 R111과의 결합수(結合手)를 나타낸다.
*는 탄소 원자와의 결합수를 나타낸다.]
할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다.
할로겐 원자로 치환된 알킬기로서는, 예컨대, 트리플루오로메틸기, 퍼플루오로에틸기, 퍼플루오로프로필기, 퍼플루오로이소프로필기, 퍼플루오로부틸기, 퍼플루오로 sec-부틸기, 퍼플루오로 tert-부틸기, 퍼플루오로펜틸기 및 퍼플루오로헥실기 등의 퍼플루오로알킬기 등을 들 수 있다. 할로겐 원자로 치환된 알킬기의 탄소수로서는, 통상 1∼25이다.
R111로 표시되는 탄소수 1∼25의 탄화수소기로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, n-헥실기, 이소헥실기, n-옥틸기, 이소옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, n-데실기, 이소데실기, n-도데실기, 이소도데실기, 운데실기, 라우릴기, 미리스틸기, 세틸기, 스테아릴기 등의 탄소수 1∼25의 직쇄 또는 분기쇄의 알킬기: 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등의 탄소수 3∼25의 시클로알킬기; 시클로프로필메틸기, 시클로헥실메틸기 등의 탄소수 4∼25의 시클로알킬알킬기; 페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기, 비페닐기 등의 탄소수 6∼25의 아릴기; 벤질기, 페닐에틸기, 나프틸메틸기, 페닐 등의 탄소수 7∼25의 아랄킬기를 들 수 있다.
R112, R113 및 R114로 표시되는 탄소수 1∼6의 알킬기로서는, R1A로 표시되는 탄소수 1∼6의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.
R111은, 탄소수 4∼25의 알킬기인 것이 바람직하고, 탄소수 4∼12의 알킬기인 것이 보다 바람직하다.
X1은, -CO-*1 및 COO-*1인 것이 바람직하다.
R6 및 R7로 표시되는 전자 흡인성 기는, 각각 독립적으로, 시아노기 및 식 (I-1)로 표시되는 기인 것이 바람직하다.
R1 및 R2가 서로 결합하여 형성되는 고리 구조로서는, R1 및 R2가 결합하고 있는 질소 원자를 포함하는 질소 함유 고리 구조로서, 예컨대, 4원환∼10원환의 질소 함유 복소환을 들 수 있다. R1 및 R2가 서로 연결되어 형성되는 고리 구조는, 단환이어도 좋고, 다환이어도 좋다. 구체적으로는, 피롤리딘환, 피롤린환, 이미다졸리딘환, 이미다졸린환, 옥사졸린환, 티아졸린환, 피페리딘환, 모르폴린환, 피페라진환, 인돌환, 이소인돌환 등을 들 수 있다. R1 및 R2가 서로 결합하여 형성되는 고리는 치환기를 갖고 있어도 좋고, 상기 치환기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 이소부틸기 등의 탄소수 1∼12의 알킬기; 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기 등의 탄소수 1∼12의 알콕시기 등을 들 수 있다.
R2 및 R3이 서로 결합하여 형성되는 고리 구조로서는, R2가 결합하고 있는 질소 원자를 포함하는 질소 함유 고리 구조로서, 예컨대, 4원환∼10원환의 질소 함유 복소환을 들 수 있다. R2 및 R3이 서로 연결되어 형성되는 고리 구조는, 단환이어도 좋고, 다환이어도 좋다. 구체적으로는, 피롤리딘환, 피롤린환, 이미다졸리딘환, 이미다졸린환, 옥사졸린환, 티아졸린환, 피페리딘환, 모르폴린환, 피페라진환, 인돌환, 이소인돌환 및 하기 식 (I-3)으로 표시되는 고리 구조를 들 수 있다.
[식 (I-3) 중, X는, 질소 원자, 산소 원자, 황 원자를 나타낸다.
고리 W1은, 질소 원자와 X를 구성 요소로 하는 고리를 나타낸다.]
고리 W1은, 질소 원자와 X를 구성 요소로 하는 5원환 또는 6원환인 것이 바람직하다.
식 (I-3)으로 표시되는 고리 구조로서는, 구체적으로는 이하의 고리를 들 수 있다.
R2 및 R3이 서로 결합하여 형성되는 고리 구조는, 치환기를 갖고 있어도 좋고, 상기 치환기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 이소부틸기 등의 탄소수 1∼12의 알킬기; 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기 등의 탄소수 1∼12의 알콕시기 등을 들 수 있다.
R2 및 R3이 서로 결합하여 형성되는 고리 구조는, 하기 식 (I-4)로 표시되는 고리 구조인 것이 바람직하다.
[식 (I-4) 중, R11은 상기와 동일한 의미를 나타낸다. m2는, 1∼7의 정수를 나타낸다.
R11a, R11b, R11c 및 R11d는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼12의 알킬기를 나타낸다.
*는, 탄소 원자와의 결합수를 나타낸다.]
m2는, 2 또는 3인 것이 바람직하고, 2인 것이 보다 바람직하다.
R2 및 R4가 서로 결합하여 형성되는 고리 구조로서는, 4원환∼10원환의 질소 함유 고리 구조를 들 수 있고, 5원환∼9원환의 질소 함유 고리 구조가 바람직하다. R2 및 R4가 서로 결합하여 형성되는 고리 구조는, 단환이어도 좋고, 다환이어도 좋다. 이들 고리는 치환기를 갖고 있어도 좋다. 이러한 고리 구조로서는, 피롤환, 인돌환, 피리미딘환, 하기에 기재된 고리를 들 수 있다.
R2 및 R4가 서로 결합하여 형성되는 고리 구조는 치환기를 갖고 있어도 좋고, 상기 치환기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 이소부틸기 등의 탄소수 1∼12의 알킬기; 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기 등의 탄소수 1∼12의 알콕시기; 아미노기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기 등의 -NR22AR22B로 표시되는 기(R22A 및 R22B는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타냄); 메틸티오기, 에틸티오기, 프로필티오기, 부틸티오기, 펜틸티오기 등의 탄소수 1∼12의 알킬티오기; 피롤리디닐기, 피페리디닐기, 모르폴리닐기 등의 탄소수 4∼9의 복소환기 등을 들 수 있다.
R3 및 R6이 서로 연결되어 형성되는 고리 구조로서는, R3-C=C-C=C-R6이 고리의 골격을 형성하는 고리 구조이다. 예컨대, 페닐기 등을 들 수 있다.
R5 및 R7이 서로 연결되어 형성되는 고리 구조로서는, 이하에 기재된 고리 구조를 들 수 있다. R5 및 R7이 서로 결합하여 형성되는 고리 구조는 치환기를 갖고 있어도 좋고, 상기 치환기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 이소부틸기 등의 탄소수 1∼12의 알킬기; 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기 등의 탄소수 1∼12의 알콕시기 등을 들 수 있다.
R6 및 R7은 서로 연결되어 형성되는 고리 구조로서는, 하기에 기재된 고리 구조 등을 들 수 있다. R6 및 R7이 서로 결합하여 형성되는 고리 구조는 치환기(하기 식 중의 R1∼R16)를 갖고 있어도 좋고, 상기 치환기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 이소부틸기 등의 탄소수 1∼12의 알킬기; 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기 등의 탄소수 1∼12의 알콕시기; 후술하는 에틸렌성 불포화기 등을 들 수 있다.
[식 중, *는, 탄소 원자와의 결합수를 나타낸다.]
R1∼R7로 표시되는 에틸렌성 불포화기로서는, 비닐기, α-메틸비닐기, 아크릴로일기, 메타아크릴로일기, 알릴기, 스티릴기 및 식 (I-2)로 표시되는 기를 들 수 있다.
[식 (I-2) 중, X2는, 비닐기, 아크릴로일기 또는 메타아크릴로일기를 나타낸다.
R115는, 탄소수 1∼18의 2가의 지방족 탄화수소기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-, -CO-, -CS- 또는 NR116-으로 치환되어 있어도 좋다.
R116은, 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.
*는 탄소 원자 또는 질소 원자와의 결합수를 나타낸다.]
R115로 표시되는 탄소수 1∼18의 2가의 지방족 탄화수소기로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 프로판-1,2-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 부탄-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,2-디일기, 펜탄-1,4-디일기 및 2-메틸부탄-1,4-디일기 등의 탄소수 1∼18의 알칸디일기; 시클로프로판디일기, 시클로부탄디일기, 시클로펜탄디일기, 시클로헥산디일기 등의 탄소수 3∼18의 시클로알칸디일기를 들 수 있고, 탄소수 1∼12의 2가의 지방족 탄화수소기인 것이 바람직하다.
R116으로 표시되는 탄소수 1∼6의 알킬기로서는, R1A로 표시되는 탄소수 1∼6의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.
R1∼R7로 표시되는 에틸렌성 불포화기는, 각각 독립적으로, 비닐기, 아크릴로일기, 메타아크릴로일기, 및 식 (I-2)로 표시되는 기인 것이 바람직하다.
R6 및 R7 중 어느 한쪽이 전자 흡인성 기인 것이 바람직하다.
R6 및 R7 중 어느 한쪽이 에틸렌성 불포화기인 것이 바람직하다.
식 (I)로 표시되는 화합물에 유래하는 구조 단위는, 식 (II)로 표시되는 화합물에 유래하는 구조 단위인 것이 바람직하다.
[식 (II) 중, R11, R12, R13, R14 및 R15는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 1∼25의 지방족 탄화수소기, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 6∼15의 방향족 탄화수소기 또는 복소환기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기 또는 방향족 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -NR11A-, -SO2-, -CO-, -O- 또는 S-로 치환되어 있어도 좋다.
R16 및 R17은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼25의 알킬기, 전자 흡인성 기 또는 에틸렌성 불포화기를 나타낸다.
R11A는, 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.
R12 및 R13은 서로 연결되어 고리 구조를 형성해도 좋고, R12 및 R14는 서로 연결되어 고리 구조를 형성해도 좋다.
단, R16 또는 R17의 어느 것 중 하나는 에틸렌성 불포화기이다.]
R11∼R15로 표시되는 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 1∼25의 지방족 탄화수소기로서는, R1로 표시되는 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 1∼25의 지방족 탄화수소기와 동일한 것을 들 수 있다.
R11∼R15로 표시되는 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 6∼15의 방향족 탄화수소기로서는, R1로 표시되는 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 6∼15의 방향족 탄화수소기와 동일한 것을 들 수 있다.
R11∼R15로 표시되는 복소환으로서는, R1로 표시되는 복소환과 동일한 것을 들 수 있다.
R16 및 R17로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기로서는, R6으로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.
R16 및 R17로 표시되는 전자 흡인성 기로서는, R6으로 표시되는 전자 흡인성 기와 동일한 것을 들 수 있다.
R11A 및 R11B로 표시되는 탄소수 1∼6의 알킬기로서는, R1A로 표시되는 탄소수 1∼6의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.
R12 및 R13이 서로 연결되어 형성할 수 있는 고리 구조로서는, R2 및 R3이 서로 연결되어 형성할 수 있는 고리 구조와 동일한 것을 들 수 있다. R12 및 R13이 서로 연결되어 형성할 수 있는 고리 구조는, 단환 구조인 것이 바람직하다.
R12 및 R14가 서로 연결되어 형성할 수 있는 고리 구조로서는, R2 및 R4가 서로 연결되어 형성할 수 있는 고리 구조와 동일한 것을 들 수 있다. R12 및 R14가 서로 연결되어 형성할 수 있는 고리 구조는, 단환 구조인 것이 바람직하다. R12 및 R14가 서로 연결되어 형성할 수 있는 고리 구조는, 방향족환인 것이 바람직하고, 피리미딘환 구조인 것이 더욱 바람직하다.
R11, R13 및 R15는, 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 1∼25의 지방족 탄화수소기인 것이 바람직하고, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 1∼25의 알킬기인 것이 보다 바람직하며, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 1∼12의 알킬기인 것이 더욱 바람직하다.
특히 R11로서는, 탄소수 1∼10의 지방족 탄화수소기인 것이 바람직하고, 탄소수 1∼10의 알킬기인 것이 보다 바람직하며, 메틸기인 것이 더욱 바람직하다.
R12 및 R14는, 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 1∼25의 지방족 탄화수소기이거나, R12 및 R14가 서로 연결되어 고리 구조를 형성하는 것이 바람직하다.
R12 및 R13은 서로 연결되어 고리 구조를 형성하는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 전술한 식 (I-4)로 표시되는 고리 구조이다. 식 (I-4)로 표시되는 고리 구조 중에서도 바람직하게는, 식 (I-4-1)로 표시되는 고리 구조 또는 식 (I-4-2)로 표시되는 고리 구조이고, 특히 바람직하게는 식 (I-4-1)로 표시되는 고리 구조이다.
R16 및 R17 중 어느 한쪽은 에틸렌성 불포화기이고, 다른 한쪽은 전자 흡인성 기인 것이 바람직하다.
R16 및 R17로 표시되는 전자 흡인성 기는, 각각 독립적으로, 시아노기, 니트로기, 플루오로기, 트리플루오로메틸기, 및 식 (I-1)로 표시되는 기인 것이 바람직하다. 특히 바람직하게는 시아노기이다.
R16 및 R17로 표시되는 에틸렌성 불포화기는, 각각 독립적으로, 비닐기, 아크릴로일기, 메타아크릴로일기, 및 식 (I-2)로 표시되는 기인 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 *-CO-O-(CH2)n-X2(X2는 비닐기, 아크릴로일기 또는 메타아크릴로일기를 나타내고, n=1∼10의 정수(바람직하게는 n=2∼6의 정수)를 나타낸다.)이다.
R12 및 R13은 서로 연결되어 고리 구조를 형성하고 있는 식 (II)로 표시되는 화합물로서는, 식 (II-A-1)로 표시되는 화합물 또는 식 (II-A-2)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다. R12 및 R14는 서로 연결되어 고리 구조를 형성하고 있는 식 (II)로 표시되는 화합물로서는, 식 (II-B-1)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
[식 (II-A-1), 식 (II-A-2) 및 식 (II-B-1) 중, R11, R14, R15, R16 및 R17은, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
R11e, R11f, R11g, R11h, R11k, R11m, R11n은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼12의 알킬기를 나타낸다.
R11q 및 R11p는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼12의 알킬기, -NR22AR22B로 표시되는 기(R22A 및 R22B는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타냄) 또는 복소환을 나타낸다.]
예컨대, 전자 흡인성 기가 시아노기인 식 (II)로 표시되는 화합물은, 하기 식 (I')로 표시되는 화합물과 식 (L)로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써 얻을 수 있다.
[식 중, R222는 2가의 연결기를 나타내고, X2는 중합성 기를 나타낸다.]
식 (I')로 표시되는 화합물과 식 (L)로 표시되는 화합물의 반응은, 일반적인 크뇌베나겔 축합에 이용되는 임의의 조건에 의해 진행시킬 수 있다. 예컨대, 염기나 카르복실산 무수물의 존재하에서 행하는 것이 바람직하다. 염기로서는, 예컨대, 트리에틸아민, N,N-디이소프로필에틸아민, 피리딘, 피페리딘, 피롤리딘, 프롤린, N,N-디메틸아미노피리딘, 이미다졸, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산칼륨, 탄산나트륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 칼륨터셔리부톡시드, 나트륨터셔리부톡시드, 수소나트륨 등을 들 수 있다. 카르복실산 무수물로서는, 무수 아세트산, 무수 숙신산, 무수 프탈산, 무수 말레산, 무수 벤조산 등을 들 수 있다. 염기의 사용량은, 식 (I')로 표시되는 화합물 1 몰에 대해, 0.1∼10 몰인 것이 바람직하다. 무수 아세트산의 사용량은, 식 (I')로 표시되는 화합물 1 몰에 대해, 0.2∼5 몰인 것이 바람직하다.
식 (I')로 표시되는 화합물과 식 (L)로 표시되는 화합물의 반응은, 유기 용매 중에서 행하는 것이 바람직하다. 유기 용매로서는, 톨루엔, 아세토니트릴, 디클로로메탄, 트리클로로메탄 등을 들 수 있다.
식 (I')로 표시되는 화합물과 식 (L)로 표시되는 화합물의 반응은, 식 (I')로 표시되는 화합물과 식 (L)로 표시되는 화합물을 혼합함으로써 실시된다.
식 (I')로 표시되는 화합물과 식 (L)로 표시되는 화합물의 반응 온도는 -40∼130℃인 것이 바람직하고, 반응 시간은 통상 1∼24시간인 것이 바람직하다.
식 (I')로 표시되는 화합물은, 예컨대, 일본 특허 공개 제2014-194508호 공보에 기재된 방법에 준하여 합성할 수 있다.
식 (L)로 표시되는 화합물은, 예컨대, 시아노아세트산과 히드록시알킬아크릴레이트를 반응시킴으로써 얻을 수 있다.
시아노아세트산의 사용량은, 히드록시알킬아크릴레이트 1 몰에 대해 0.5∼3 몰인 것이 바람직하다.
시아노아세트산과 히드록시알킬아크릴레이트의 반응은, 일반적인 에스테르화 반응에 이용되는 임의의 에스테르화 촉매를 이용할 수 있으나, 염기 및 카르보디이미드 축합제의 존재하에서 행하는 것이 바람직하다. 염기로서는, 예컨대, 트리에틸아민, 디이소프로필에틸아민, 피리딘, 피페리딘, 피롤리딘, 프롤린, N,N-디메틸아미노피리딘, 이미다졸, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산칼륨, 탄산나트륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 칼륨터셔리부톡시드, 나트륨터셔리부톡시드, 수소나트륨 등을 들 수 있다. 카르보디이미드 축합제로서는, N,N-디시클로헥실카르보디이미드, N,N-디이소프로필카르보디이미드, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드염산염 등을 들 수 있다. 염기의 사용량은, 시아노아세트산 1 몰에 대해, 0.5∼5 몰인 것이 바람직하다.
시아노아세트산과 히드록시알킬아크릴레이트의 반응은, 유기 용매 중에서 행하는 것이 바람직하다. 유기 용매로서는, 아세토니트릴, 이소프로판올, 톨루엔, 트리클로로메탄, 디클로로메탄 등을 들 수 있다.
시아노아세트산과 히드록시알킬아크릴레이트의 반응은, 시아노아세트산과 히드록시알킬아크릴레이트를 혼합함으로써 실시된다.
시아노아세트산과 히드록시알킬아크릴레이트의 반응 온도는 -40∼130℃인 것이 바람직하고, 반응 시간은 통상 1∼24시간인 것이 바람직하다.
중합성 기와 메로시아닌 구조를 갖는 화합물로서는, 이하에 기재된 화합물을 들 수 있다.
수지(A)는, 측쇄에 메로시아닌 구조를 갖는 구조 단위의 호모폴리머여도 좋고, 측쇄에 메로시아닌 구조를 갖는 구조 단위 및 그 외의 구조 단위를 포함하는 코폴리머여도 좋다. 수지(A)는 코폴리머인 것이 바람직하다.
수지(A)가 측쇄에 메로시아닌 구조를 갖는 구조 단위 이외에 포함하고 있어도 좋은 구조 단위로서는, 예컨대, 하기 군 A에 기재된 구조 단위를 들 수 있다.
군 A: (메트)아크릴산에스테르에 유래하는 구조 단위, 스티렌계 단량체에 유래하는 구조 단위, 비닐계 단량체에 유래하는 구조 단위, 식 (a)로 표시되는 구조 단위, 식 (b)로 표시되는 구조 단위 및 식 (c)로 표시되는 구조 단위
[식 중, Ra1은 2가의 탄화수소기를 나타낸다.
Rb1 및 Rb2는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄화수소기를 나타낸다.
Rc1 및 Rc2는, 각각 독립적으로, 2가의 탄화수소기를 나타낸다.]
(메트)아크릴산에스테르로서는, (메트)아크릴산메틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산 n-프로필, (메트)아크릴산 n-부틸, (메트)아크릴산 n-펜틸, (메트)아크릴산 n-헥실, (메트)아크릴산 n-헵틸, (메트)아크릴산 n-옥틸, (메트)아크릴산 n-노닐, (메트)아크릴산 n-데실, (메트)아크릴산 n-도데실, (메트)아크릴산라우릴, (메트)아크릴산스테아릴 등의 (메트)아크릴산의 직쇄상 알킬에스테르; (메트)아크릴산 i-프로필, (메트)아크릴산 i-부틸, (메트)아크릴산 t-부틸, (메트)아크릴산 i-펜틸, (메트)아크릴산 i-헥실, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, (메트)아크릴산 i-옥틸, (메트)아크릴산 i-노닐, (메트)아크릴산 i-스테아릴, (메트)아크릴산 i-아밀 등의 (메트)아크릴산의 분지상 알킬에스테르; (메트)아크릴산시클로헥실, (메트)아크릴산이소보로닐, (메트)아크릴산아다만틸, (메트)아크릴산디시클로펜타닐, (메트)아크릴산시클로도데실, (메트)아크릴산메틸시클로헥실, (메트)아크릴산트리메틸시클로헥실, (메트)아크릴산 tert-부틸시클로헥실, α-에톡시아크릴산시클로헥실 등의 (메트)아크릴산의 지환 골격 함유 알킬에스테르; (메트)아크릴산페닐 등의 (메트)아크릴산의 방향환 골격 함유 에스테르; 등을 들 수 있다.
(메트)아크릴산에스테르에 유래하는 구조 단위로서는, (메트)아크릴산알킬에스테르에 있어서의 알킬기에 치환기가 도입된 치환기 함유 (메트)아크릴산알킬에스테르를 들 수도 있다. 치환기 함유 (메트)아크릴산알킬에스테르의 치환기는, 알킬기의 수소 원자를 치환하는 기이며, 그 구체예는 페닐기, 알콕시기, 페녹시기를 포함한다. 치환기 함유 (메트)아크릴산알킬에스테르로서, 구체적으로는, (메트)아크릴산 2-메톡시에틸, (메트)아크릴산에톡시메틸, (메트)아크릴산페녹시에틸, (메트)아크릴산 2-(2-페녹시에톡시)에틸, (메트)아크릴산페녹시디에틸렌글리콜, (메트)아크릴산페녹시폴리(에틸렌글리콜) 등을 들 수 있다.
이들 (메트)아크릴산에스테르는, 각각 단독으로 이용할 수 있는 것 외에, 상이한 복수의 것을 이용해도 좋다.
본 발명의 수지(A)는, (메트)아크릴산알킬에스테르 중에서도 호모폴리머의 유리 전이 온도 Tg가 0℃ 미만인 (메트)아크릴산알킬에스테르 (a1) 유래의 구성 단위, 및 호모폴리머의 Tg가 0℃ 이상인 (메트)아크릴산알킬에스테르 (a2) 유래의 구성 단위를 함유하는 것이 바람직하다. 이것은, 점착제층의 고온 내구성을 높이는 데 있어서 유리하다. (메트)아크릴산알킬에스테르의 호모폴리머의 Tg는, 예컨대 POLYMER HANDBOOK(Wiley-Interscience) 등의 문헌값을 채용할 수 있다.
(메트)아크릴산알킬에스테르 (a1)의 구체예는, 아크릴산에틸, 아크릴산 n- 및 i-프로필, 아크릴산 n- 및 i-부틸, 아크릴산 n-펜틸, 아크릴산 n- 및 i-헥실, 아크릴산 n-헵틸, 아크릴산 n- 및 i-옥틸, 아크릴산 2-에틸헥실, 아크릴산 n- 및 i-노닐, 아크릴산 n- 및 i-데실, 아크릴산 n-도데실 등의 알킬기의 탄소수가 2∼12 정도의 (메트)아크릴산알킬에스테르를 포함한다.
(메트)아크릴산알킬에스테르 (a1)은, 1종만을 이용해도 좋고 2종 이상을 병용해도 좋다. 그 중에서도, 광학 필름에 적층했을 때의 추종성이나 리워크성의 관점에서, 아크릴산 n-부틸, 아크릴산 n-옥틸, 아크릴산 2-에틸헥실 등이 바람직하다.
(메트)아크릴산알킬에스테르 (a2)는, (메트)아크릴산알킬에스테르 (a1) 이외의 (메트)아크릴산알킬에스테르이다. (메트)아크릴산알킬에스테르 (a2)의 구체예는, 아크릴산메틸, 아크릴산시클로헥실, 아크릴산이소보로닐, 아크릴산스테아릴, 아크릴산 t-부틸 등을 포함한다.
(메트)아크릴산알킬에스테르 (a2)는, 1종만을 이용해도 좋고 2종 이상을 병용해도 좋다. 그 중에서도, 고온 내구성의 관점에서, (메트)아크릴산알킬에스테르 (a2)는, 아크릴산메틸, 아크릴산시클로헥실, 아크릴산이소보로닐 등을 포함하는 것이 바람직하고, 아크릴산메틸을 포함하는 것이 보다 바람직하다.
또한, (메트)아크릴산에스테르에 유래하는 구조 단위로서는, 극성 작용기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르에 유래하는 구조 단위도 들 수 있다.
극성 작용기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르 단량체로서는, (메트)아크릴산 1-히드록시메틸, (메트)아크릴산 1-히드록시에틸, (메트)아크릴산 1-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 1-히드록시부틸, (메트)아크릴산 1-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 2-히드록시에틸, (메트)아크릴산 2-히드록시프로필, (메트)아크릴산 2-히드록시부틸, (메트)아크릴산 2-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 2-히드록시헥실, (메트)아크릴산 3-히드록시프로필, (메트)아크릴산 3-히드록시부틸, (메트)아크릴산 3-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 3-히드록시헥실, (메트)아크릴산 3-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 4-히드록시부틸, (메트)아크릴산 4-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 4-히드록시헥실, (메트)아크릴산 4-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 4-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 2-클로로-2-히드록시프로필, (메트)아크릴산 3-클로로-2-히드록시프로필, (메트)아크릴산 2-히드록시-3-페녹시프로필, (메트)아크릴산 5-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 5-히드록시헥실, (메트)아크릴산 5-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 5-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 5-히드록시노닐, (메트)아크릴산 6-히드록시헥실, (메트)아크릴산 6-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 6-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 6-히드록시노닐, (메트)아크릴산 6-히드록시데실, (메트)아크릴산 7-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 7-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 7-히드록시노닐, (메트)아크릴산 7-히드록시데실, (메트)아크릴산 7-히드록시운데실, (메트)아크릴산 8-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 8-히드록시노닐, (메트)아크릴산 8-히드록시데실, (메트)아크릴산 8-히드록시운데실, (메트)아크릴산 8-히드록시도데실, (메트)아크릴산 9-히드록시노닐, (메트)아크릴산 9-히드록시데실, (메트)아크릴산 9-히드록시운데실, (메트)아크릴산 9-히드록시도데실, (메트)아크릴산 9-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 10-히드록시데실, (메트)아크릴산 10-히드록시운데실, (메트)아크릴산 10-히드록시도데실, 아크릴산 10-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 10-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 11-히드록시운데실, (메트)아크릴산 11-히드록시도데실, (메트)아크릴산 11-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 11-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 11-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 12-히드록시도데실, (메트)아크릴산 12-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 12-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 13-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 13-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 13-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 14-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 14-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 15-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 15-히드록시헵타데실 등의 히드록시기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르 등을 들 수 있다.
스티렌계 단량체로서는, 스티렌; 메틸스티렌, 디메틸스티렌, 트리메틸스티렌, 에틸스티렌, 디에틸스티렌, 트리에틸스티렌, 프로필스티렌, 부틸스티렌, 헥실스티렌, 헵틸스티렌, 옥틸스티렌 등의 알킬스티렌; 플루오로스티렌, 클로로스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 요오도스티렌 등의 할로겐화스티렌; 니트로스티렌; 아세틸스티렌; 메톡시스티렌; 및 디비닐벤젠을 들 수 있다.
비닐계 단량체로서는, 아세트산비닐, 프로피온산비닐, 부티르산비닐, 2-에틸헥산산비닐, 라우르산비닐 등의 지방산비닐에스테르; 염화비닐, 브롬화비닐 등의 할로겐화비닐; 염화비닐리덴 등의 할로겐화비닐리덴; 비닐피리딘, 비닐피롤리돈, 비닐카르바졸 등의 질소 함유 복소 방향족 비닐; 부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 공액 디엔; 및 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 불포화 니트릴을 들 수 있다.
식 (a)로 표시되는 구조 단위를 유도하는 화합물은, 예컨대, 디이소시아네이트 화합물과 폴리올의 반응에 의해 합성할 수 있다.
식 (b)로 표시되는 구조 단위를 유도하는 화합물은, 예컨대, 할로겐화실란이나 히드록시기를 갖는 실란을 반응시킴으로써 합성할 수 있다.
식 (c)로 표시되는 구조 단위를 유도하는 화합물은, 예컨대, 폴리카르복실산과 폴리올의 반응 등에 의해 합성할 수 있다.
군 A에 기재된 구조 단위에서 선택되는 구조 단위는, (메트)아크릴산에스테르에 유래하는 구조 단위인 것이 바람직하다. (메트)아크릴산에스테르에 유래하는 구조 단위는, (메트)아크릴산알킬에스테르 및 히드록시기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르인 것이 바람직하다.
본 발명의 수지(A)는, 다른 구조 단위(구조 단위(aa)라고 하는 경우가 있음)를 더 포함하고 있어도 좋다. 구체적으로는, (메트)아크릴아미드계 단량체에 유래하는 구조 단위, 카르복실기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위, 복소환기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위, 치환 혹은 무치환 아미노기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위 등을 들 수 있다.
(메트)아크릴아미드계 단량체로서는, N-메틸올(메트)아크릴아미드, N-(2-히드록시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(3-히드록시프로필)(메트)아크릴아미드, N-(4-히드록시부틸)(메트)아크릴아미드, N-(5-히드록시펜틸)(메트)아크릴아미드, N-(6-히드록시헥실)(메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸(메트)아크릴아미드, N-이소프로필(메트)아크릴아미드, N-(3-디메틸아미노프로필)(메트)아크릴아미드, N-(1,1-디메틸-3-옥소부틸)(메트)아크릴아미드, N-[2-(2-옥소-1-이미다졸리디닐)에틸](메트)아크릴아미드, 2-아크릴로일아미노-2-메틸-1-프로판술폰산, N-(메톡시메틸)아크릴아미드, N-(에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1-메틸에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1-메틸프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-메틸프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(부톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1,1-디메틸에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-메톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-에톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-프로폭시에틸)(메트)아크릴아미드, N-[2-(1-메틸에톡시)에틸](메트)아크릴아미드, N-[2-(1-메틸프로폭시)에틸](메트)아크릴아미드, N-[2-(2-메틸프로폭시)에틸](메트)아크릴아미드, N-(2-부톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-[2-(1,1-디메틸에톡시)에틸](메트)아크릴아미드 등을 들 수 있다. 그 중에서도, N-(메톡시메틸)아크릴아미드, N-(에톡시메틸)아크릴아미드, N-(프로폭시메틸)아크릴아미드, N-(부톡시메틸)아크릴아미드 및 N-(2-메틸프로폭시메틸)아크릴아미드가 바람직하다.
카르복실기를 갖는 단량체로서는, (메트)아크릴산, 카르복시알킬(메트)아크릴레이트(예컨대, 카르복시에틸(메트)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메트)아크릴레이트), 말레산, 무수 말레산, 푸마르산, 크로톤산 등을 들 수 있고, 바람직하게는 아크릴산이다.
복소환기를 갖는 단량체로서는, 아크릴로일모르폴린, 비닐카프로락탐, N-비닐-2-피롤리돈, 비닐피리딘, 테트라히드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 테트라히드로푸르푸릴아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 2,5-디히드로푸란 등을 들 수 있다.
치환 혹은 무치환 아미노기를 갖는 단량체로서는, 아미노에틸(메트)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 디메틸아미노프로필(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
메로시아닌 구조를 갖는 구조 단위 및 군 A에서 선택되는 구조 단위 이외의 구조 단위(aa)로서는, 카르복실기를 갖는 단량체인 것이 바람직하다.
측쇄에 메로시아닌 구조를 갖는 구조 단위의 함유량은, 수지(A)에 포함되는 전체 구조 단위 100 질량부에 대해, 0.01∼50 질량부인 것이 바람직하고, 0.1∼20 질량부인 것이 보다 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.5∼10 질량부이다.
군 A에 기재된 구조 단위에서 선택되는 적어도 하나의 구조 단위의 함유량은, 수지(A)의 전체 구조 단위 100 질량부에 대해, 50 질량부 이상인 것이 바람직하고, 60∼99.99 질량부인 것이 보다 바람직하다.
수지(A)가 구조 단위(aa)를 함유하는 경우, 수지(A)의 전체 구조 단위 100 질량부에 대해, 바람직하게는 20 질량부 이하, 보다 바람직하게는, 0.5 질량부 이상 15 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 0.5 질량부 이상 10 질량부 이하, 특히 바람직하게는 1 질량부 이상 7 질량부 이하이다.
수지(A)가 히드록시기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르에 유래하는 구조 단위를 함유하는 경우, 상기 구조 단위의 함유량은, 수지(A)의 전체 구조 단위 100 질량부에 대해, 바람직하게는 20 질량부 이하, 보다 바람직하게는, 0.5 질량부 이상 15 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 0.5 질량부 이상 10 질량부 이하, 특히 바람직하게는 1 질량부 이상 7 질량부 이하이다.
점착제층의 외면에 적층할 수 있는 세퍼레이트 필름의 박리력 항진을 방지하는 관점에서, 아미노기를 갖는 단량체를 실질적으로 포함하지 않는 것이 바람직하다. 여기서 실질적으로 포함하지 않는다란, 수지(A)를 구성하는 전체 구성 단위 100 질량부 중, 0.1 질량부 이하인 것을 말한다.
수지(A)와 후술하는 가교제(B)의 반응성의 점에서, 수지(A)는 히드록시기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르에 유래하는 구조 단위 또는 카르복실기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위를 포함하는 것이 바람직하고, 히드록시기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르에 유래하는 구조 단위 및 카르복실기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위 모두를 포함하는 것이 보다 바람직하다. 히드록시기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르로서는, 아크릴산 2-히드록시에틸, 아크릴산 3-히드록시프로필, 아크릴산 4-히드록시부틸, 아크릴산 5-히드록시펜틸, 아크릴산 6-히드록시헥실이 바람직하다. 특히, 아크릴산 2-히드록시에틸, 아크릴산 4-히드록시부틸 및 아크릴산 5-히드록시펜틸을 사용함으로써 양호한 내구성을 얻을 수 있다. 카르복실기를 갖는 단량체로서는, 아크릴산을 이용하는 것이 바람직하다.
수지(A)의 중량 평균 분자량(Mw)은, 바람직하게는, 30만∼250만이고, 보다 바람직하게는 50만∼250만이다. 중량 평균 분자량이 30만 이상이면, 고온 환경에 있어서의 점착제층의 내구성이 향상되어, 피착체와 광선택 흡수성 점착제층 사이의 들뜸 박리나, 광선택 흡수성 점착제층의 응집 파괴 등의 문제를 억제하기 쉽다. 중량 평균 분자량이 250만 이하이면, 점착제 조성물을 예컨대 시트형으로 가공(기재에 도공함) 시의 도공성의 관점에서 유리하다. 광선택 흡수성 점착제층의 내구성 및 점착제 조성물의 도공성의 양립의 관점에서, 중량 평균 분자량은 바람직하게는 60만∼180만이고, 보다 바람직하게는 70만∼170만이며, 특히 바람직하게는 100만∼160만이다. 또한, 중량 평균 분자량(Mw)과 수 평균 분자량(Mn)의 비로 표시되는 분자량 분포(Mw/Mn)는, 통상 2∼10, 바람직하게는 3∼8이다. 중량 평균 분자량은, 겔 투과 크로마토그래피에 의해 분석할 수 있고, 표준 폴리스티렌 환산의 값이다.
수지(A)는, 아세트산에틸에 용해시켜, 농도 20 질량%의 용액으로 했을 때, 25℃에 있어서의 점도가, 20 ㎩·s 이하인 것이 바람직하고, 0.1∼15 ㎩·s인 것이 보다 바람직하다. 상기 범위의 점도이면, 점착제 조성물을 기재에 도공할 때의 도공성의 관점에서 유리하다. 또한, 점도는, 브룩필드 점도계에 의해 측정할 수 있다.
본 발명의 수지(A)는, 예컨대, 용액 중합법, 괴상(塊狀) 중합법, 현탁 중합법, 유화 중합법 등의 공지된 방법에 의해 제조할 수 있고, 특히 용액 중합법이 바람직하다. 용액 중합법으로서는, 예컨대, 단량체 및 유기 용매를 혼합하고, 질소 분위기하, 열중합 개시제를 첨가하여, 40∼90℃, 바람직하게는 50∼80℃ 정도의 온도 조건하, 3∼15시간 정도 교반하는 방법을 들 수 있다. 반응 제어를 위해서, 중합 중, 연속적 또는 간헐적으로 단량체나 열중합 개시제를 첨가해도 좋다. 상기 단량체나 열개시제는 유기 용매에 첨가한 상태여도 좋다.
중합 개시제로서는, 열중합 개시제나 광중합 개시제 등이 이용된다. 광중합 개시제로서는, 4-(2-히드록시에톡시)페닐(2-히드록시-2-프로필)케톤 등을 들 수 있다. 열중합 개시제로서는, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸-4-메톡시발레로니트릴), 디메틸-2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트), 2,2'-아조비스(2-히드록시메틸프로피오니트릴) 등의 아조계 화합물; 라우릴퍼옥사이드, t-부틸하이드로퍼옥사이드, 과산화벤조일, t-부틸퍼옥시벤조에이트, 쿠멘하이드로퍼옥사이드, 디이소프로필퍼옥시디카보네이트, 디프로필퍼옥시디카보네이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, (3,5,5-트리메틸헥사노일)퍼옥사이드 등의 유기 과산화물; 과황산칼륨, 과황산암모늄, 과산화수소 등의 무기 과산화물 등을 들 수 있다. 또한, 과산화물과 환원제를 병용한 레독스계 개시제 등도 사용할 수 있다.
중합 개시제의 비율은, 수지(A)를 구성하는 단량체의 총량 100 질량부에 대해, 0.001∼5 질량부 정도이다. 수지(A)의 중합은, 활성 에너지선(예컨대 자외선 등)에 의한 중합법을 사용해도 좋다.
유기 용매로서는, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류; 프로필알코올, 이소프로필알코올 등의 지방족 알코올류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류 등을 들 수 있다.
수지(A)는, 하기 식 (1)을 만족시키는 수지인 것이 바람직하고, 또한 하기 식 (2)를 만족시키는 수지인 것이 보다 바람직하다.
ε(405)≥0.02
(1)
[식 (1) 중, ε(405)는 파장 405 ㎚에 있어서의 수지의 그램 흡광 계수를 나타낸다. 그램 흡광 계수의 단위는 L/(g·㎝)이다.]
ε(405)/ε(440)≥5
(2)
[식 (2) 중, ε(405)는 파장 405 ㎚에 있어서의 수지의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(440)은 파장 440 ㎚에 있어서의 수지의 그램 흡광 계수를 나타낸다.]
또한, 수지(A)의 그램 흡광도 계수는, 실시예에 기재된 방법으로 측정할 수 있다.
수지(A)는, ε(405)의 값이 클수록 파장 405 ㎚의 광을 흡수하기 쉽고, ε(405)의 값은 0.02 L/(g·㎝) 이상인 것이 바람직하며, 0.1 L/(g·㎝) 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.2 L/(g·㎝) 이상인 것이 더욱더 바람직하며, 통상 10 L/(g·㎝) 이하이다.
수지(A)를 포함하는 점착제 조성물을 유기 일렉트로루미네선스 디스플레이(유기 EL 표시 장치)나 액정 표시 장치 등의 표시 장치(FPD: 플랫 패널 디스플레이)에 적용한 경우에, 수지(A)의 ε(405)가 0.02 L/(g·㎝) 이상이면, 400 ㎚ 부근의 가시광의 흡수 성능이 양호하기 때문에, 유기 EL 표시 장치나 액정 표시 장치 등의 표시 장치에 이용되는 위상차 필름이나 유기 EL 발광 소자의 가시광에 의한 열화를 억제할 수 있다.
수지(A)는, ε(405)/ε(440)의 값이 클수록 400 ㎚ 부근의 파장의 광을 선택적으로 흡수할 수 있다. ε(405)/ε(440)의 값은 5 이상이 바람직하고, 50 이상이 보다 바람직하며, 75 이상이 더욱 바람직하고, 100 이상이 특히 바람직하다.
수지(A)의 ε(405)/ε(440)이 5 이상이면, 수지(A)를 함유하는 점착제 조성물을 유기 EL 표시 장치나 액정 표시 장치 등의 표시 장치(FPD: 플랫 패널 디스플레이)에 적용한 경우에, 표시 장치의 색채 표현을 저해하지 않고, 405 ㎚ 부근의 광을 흡수하여 위상차 필름이나 유기 EL 소자 등의 광 열화를 억제할 수 있다.
(점착제 조성물에 포함되는 그 외의 성분)
점착제 조성물은, 또한, 가교제(B), 실란 화합물(D), 대전 방지제, 광선택 흡수제, 수지(A) 이외의 다른 수지 등을 포함하고 있어도 좋다.
수지(A)의 함유량은, 점착제 조성물의 고형분 100 질량% 중, 통상 60 질량%∼99.99 질량%이고, 바람직하게는 70 질량%∼99.9 질량%이며, 보다 바람직하게는 80 질량%∼99.7 질량%이다.
점착제 조성물은, 가교제(B)를 포함할 수 있다.
가교제(B)로서는, 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 아지리딘계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제 등을 들 수 있고, 특히 점착제 조성물의 포트라이프 및 점착제층의 내구성, 가교 속도 등의 관점에서, 이소시아네이트계 가교제인 것이 바람직하다.
이소시아네이트계 화합물로서는, 분자 내에 적어도 2개의 이소시아나토기(-NCO)를 갖는 화합물이 바람직하고, 예컨대, 지방족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 헥사메틸렌디이소시아네이트 등), 지환족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 이소포론디이소시아네이트, 수소 첨가 디페닐메탄디이소시아네이트, 수소 첨가 크실릴렌디이소시아네이트), 방향족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 나프탈렌디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트 등) 등을 들 수 있다. 또한 가교제(B)는, 상기 이소시아네이트 화합물의 다가 알코올 화합물에 의한 부가체(어덕트체)[예컨대, 글리세롤, 트리메틸올프로판 등에 의한 부가체], 이소시아누레이트화물, 뷰렛형 화합물, 폴리에테르폴리올, 폴리에스테르폴리올, 아크릴폴리올, 폴리부타디엔폴리올, 폴리이소프렌폴리올 등과 부가 반응시킨 우레탄 프리폴리머형의 이소시아네이트 화합물 등의 유도체여도 좋다. 가교제(B)는 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중, 대표적으로는 방향족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트), 지방족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 헥사메틸렌디이소시아네이트) 또는 이들의 다가 알코올 화합물(예컨대, 글리세롤, 트리메틸올프로판)에 의한 부가체, 또는 이소시아누레이트체를 들 수 있다. 가교제(B)가, 방향족 이소시아네이트계 화합물 및/또는 이들의 다가 알코올 화합물, 또는 이소시아누레이트체에 의한 부가체이면, 최적의 가교 밀도(또는 가교 구조)의 형성에 유리하기 때문인지, 점착제층의 내구성을 향상시킬 수 있다. 특히, 톨릴렌디이소시아네이트계 화합물 및/또는 이들의 다가 알코올 화합물에 의한 부가체이면, 예컨대 점착제층을 편광판에 적용한 경우 등이어도 내구성을 향상시킬 수 있다.
가교제(B)의 함유량은, 수지(A) 100 중량부에 대해, 통상 0.01∼15 중량부이고, 바람직하게는 0.05∼10 중량부이며, 보다 바람직하게는 0.1∼5 중량부이다.
점착제 조성물은, 실란 화합물(D)을 더 함유하고 있어도 좋다.
실란 화합물(D)로서는, 예컨대, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 3-글리시독시프로필에톡시디메틸실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.
실란 화합물(D)은, 실리콘 올리고머여도 좋다. 실리콘 올리고머의 구체예를, 모노머끼리의 조합의 형태로 표기하면 다음과 같다.
3-머캅토프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-머캅토프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-머캅토프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-머캅토프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 머캅토프로필기 함유 올리고머; 머캅토메틸트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 머캅토메틸트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 머캅토메틸트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 머캅토메틸트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 머캅토메틸기 함유 올리고머; 3-글리시독시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머 등의 3-글리시독시프로필기 함유의 코폴리머; 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 메타크릴로일옥시프로필기 함유 올리고머; 3-아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 아크릴로일옥시프로필기 함유 올리고머; 비닐트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 비닐트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 비닐메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 비닐메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 비닐기 함유 올리고머; 3-아미노프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머 등의 아미노기 함유의 코폴리머 등.
실란 화합물(D)은, 하기 식 (d1)로 표시되는 실란 화합물이어도 좋다.
(식 중, A는, 탄소수 1∼20의 알칸디일기 또는 탄소수 3∼20의 2가의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 상기 알칸디일기 및 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 좋으며, R41은, 탄소수 1∼5의 알킬기를 나타내고, R42, R43, R44, R45 및 R46은, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼5의 알킬기 또는 탄소수 1∼5의 알콕시기를 나타낸다.)
A로 표시되는 탄소수 1∼20의 알칸디일기로서는, 메틸렌기, 1,2-에탄디일기, 1,3-프로판디일기, 1,4-부탄디일기, 1,5-펜탄디일기, 1,6-헥산디일기, 1,7-헵탄디일기, 1,8-옥탄디일기, 1,9-노난디일기, 1,10-데칸디일기, 1,12-도데칸디일기, 1,14-테트라데칸디일기, 1,16-헥사데칸디일기, 1,18-옥타데칸디일기 및 1,20-이코산디일기를 들 수 있다. 탄소수 3∼20의 2가의 지환식 탄화수소기로서는, 1,3-시클로펜탄디일기 및 1,4-시클로헥산디일기를 들 수 있다. 상기 알칸디일기 및 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 -CH2-가 -O- 또는 -CO-로 치환된 기로서는, -CH2CH2-O-CH2CH2-, -CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH2CH2-, -CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH2CH2-, -CH2CH2-CO-O-CH2CH2-, -CH2CH2-O-CH2CH2-CO-O-CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-O-CH2CH2- 및 CH2CH2CH2CH2-O-CH2CH2CH2CH2-를 들 수 있다.
R41∼R45로 표시되는 탄소수 1∼5의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기 및 펜틸기를 들 수 있고, R42∼R45로 표시되는 탄소수 1∼5의 알콕시기로서는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기, 이소부톡시기, tert-부톡시기 및 펜틸옥시기를 들 수 있다.
식 (d1)로 표시되는 실란 화합물로서는, 예컨대, (트리메톡시실릴)메탄, 1,2-비스(트리메톡시실릴)에탄, 1,2-비스(트리에톡시실릴)에탄, 1,3-비스(트리메톡시실릴)프로판, 1,3-비스(트리에톡시실릴)프로판, 1,4-비스(트리메톡시실릴)부탄, 1,4-비스(트리에톡시실릴)부탄, 1,5-비스(트리메톡시실릴)펜탄, 1,5-비스(트리에톡시실릴)펜탄, 1,6-비스(트리메톡시실릴)헥산, 1,6-비스(트리에톡시실릴)헥산, 1,6-비스(트리프로폭시실릴)헥산, 1,8-비스(트리메톡시실릴)옥탄, 1,8-비스(트리에톡시실릴)옥탄, 1,8-비스(트리프로폭시실릴)옥탄 등의 비스(트리 C1-5 알콕시실릴) C1-10 알칸; 비스(디메톡시메틸실릴)메탄, 1,2-비스(디메톡시메틸실릴)에탄, 1,2-비스(디메톡시에틸실릴)에탄, 1,4-비스(디메톡시메틸실릴)부탄, 1,4-비스(디메톡시에틸실릴)부탄, 1,6-비스(디메톡시메틸실릴)헥산, 1,6-비스(디메톡시에틸실릴)헥산, 1,8-비스(디메톡시메틸실릴)옥탄, 1,8-비스(디메톡시에틸실릴)옥탄 등의 비스(디 C1-5 알콕시 C1-5 알킬실릴) C1-10 알칸; 1,6-비스(메톡시디메틸실릴)헥산, 1,8-비스(메톡시디메틸실릴)옥탄 등의 비스(모노 C1-5 알콕시-디 C1-5 알킬실릴) C1-10 알칸 등을 들 수 있다. 이들 중, 1,2-비스(트리메톡시실릴)에탄, 1,3-비스(트리메톡시실릴)프로판, 1,4-비스(트리메톡시실릴)부탄, 1,5-비스(트리메톡시실릴)펜탄, 1,6-비스(트리메톡시실릴)헥산, 1,8-비스(트리메톡시실릴)옥탄 등의 비스(트리 C1-3 알콕시실릴) C1-10 알칸이 바람직하고, 특히, 1,6-비스(트리메톡시실릴)헥산, 1,8-비스(트리메톡시실릴)옥탄이 바람직하다.
실란 화합물(D)의 함유량은, 수지(A) 100 질량부에 대해, 통상 0.01∼10 질량부이고, 바람직하게는 0.03∼5 질량부이며, 보다 바람직하게는 0.05∼2 질량부이고, 더욱 바람직하게는 0.1∼1 질량부이다.
점착제 조성물은, 대전 방지제를 더 함유하고 있어도 좋다.
대전 방지제로서는, 계면 활성제, 실록산 화합물, 도전성 고분자, 이온성 화합물 등을 들 수 있고, 이온성 화합물인 것이 바람직하다. 이온성 화합물로서는, 관용의 것을 들 수 있다. 이온성 화합물을 구성하는 양이온 성분으로서는, 유기 양이온, 무기 양이온 등을 들 수 있다. 유기 양이온으로서는, 예컨대 피리디늄 양이온, 피롤리디늄 양이온, 피페리디늄 양이온, 이미다졸륨 양이온, 암모늄 양이온, 술포늄 양이온, 포스포늄 양이온 등을 들 수 있다. 무기 양이온으로서는, 예컨대 리튬 양이온, 칼륨 양이온, 나트륨 양이온, 세슘 양이온 등의 알칼리 금속 양이온, 마그네슘 양이온, 칼슘 양이온 등의 알칼리토류 금속 양이온 등을 들 수 있다. 특히 (메트)아크릴계 수지와의 상용성의 관점에서 피리디늄 양이온, 이미다졸륨 양이온, 피롤리디늄 양이온, 리튬 양이온, 칼륨 양이온이 바람직하다. 이온성 화합물을 구성하는 음이온 성분으로서는, 무기 음이온 및 유기 음이온의 어느 것이어도 좋으나, 대전 방지 성능의 점에서, 불소 원자를 포함하는 음이온 성분이 바람직하다. 불소 원자를 포함하는 음이온 성분으로서는, 예컨대 헥사플루오로포스페이트 음이온(PF6-), 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 음이온[(CF3SO2)2N-], 비스(플루오로술포닐)이미드 음이온[(FSO2)2N-], 테트라(펜타플루오로페닐)보레이트 음이온[(C6F5)4B-] 등을 들 수 있다. 이들 이온성 화합물은 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 특히, 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 음이온[(CF3SO2)2N-], 비스(플루오로술포닐)이미드 음이온[(FSO2)2N-], 테트라(펜타플루오로페닐)보레이트 음이온[(C6F5)4B-]이 바람직하다.
점착제 조성물로 형성되는 광선택 흡수성 점착제층의 대전 방지 성능의 경시 안정성의 점에서, 실온에서 고체인 이온성 화합물이 바람직하다.
대전 방지제의 함유량은, 수지(A) 100 질량부에 대해, 예컨대, 0.01∼20 질량부, 바람직하게는 0.1∼10 질량부, 더욱 바람직하게는 1∼7 질량부이다.
점착제 조성물은, 광선택 흡수성 중합체인 수지(A)를 포함하고, 이것에 더하여 광선택 흡수제를 포함하지 않아도 좋으며, 또는 포함하고 있어도 좋다. 점착제 조성물은, 광선택 흡수제를 포함하지 않는 것이 바람직하다. 광선택 흡수제는, 특정한 파장의 광을 선택적으로 흡수하는 것이며, 파장 360 ㎚∼420 ㎚에 적어도 하나의 흡수 극대를 갖는 화합물을 포함하는 것이 바람직하고, 380 ㎚∼410 ㎚에 흡수 극대를 갖는 화합물을 포함하는 것이 보다 바람직하다. 광선택 흡수제를 포함하는 경우, 광선택 흡수제의 함유량은, 전체 수지 성분 100 질량부에 대해 0.5 질량부 이하인 것이 바람직하다. 광선택 흡수제의 함유량과 고온 고습하에서의 편광자의 단부에 있어서의 탈색의 정도 사이에 상관이 있기 때문에, 탈색을 억제하는 관점에서 광선택 흡수제의 함유량은 0.5 질량부 이하인 것이 바람직하다.
광선택 흡수제로서는 특별히 한정되지 않으나, 예컨대 옥시벤조페논계 광선택 흡수제, 벤조트리아졸계 광선택 흡수제, 살리실산에스테르계 광선택 흡수제, 벤조페논계 광선택 흡수제, 시아노아크릴레이트계 광선택 흡수제, 트리아진계 광선택 흡수제 등의 유기계 광선택 흡수제를 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 예컨대 5-클로로-2-(3,5-디-sec-부틸-2-히드록실페닐)-2H-벤조트리아졸, (2-2H-벤조트리아졸-2-일)-6-(직쇄 및 측쇄 도데실)-4-메틸페놀, 2-히드록시-4-벤질옥시벤조페논, 2,4-벤질옥시벤조페논 등을 들 수 있다. 이들 유기계 광선택 흡수제는 1종류 또는 2종류 이상을 병용해도 좋다.
광선택 흡수제는, 시판품을 이용해도 좋고, 예컨대, 트리아진계 광선택 흡수제로서, 케미프로 가세이 가부시키가이샤 제조의 「Kemisorb 102」, 가부시키가이샤 ADEKA 제조의 「아데카 스타브 LA46」, 「아데카 스타브 LAF70」, BASF 재팬사 제조의 「티누빈 109」, 「티누빈 171」, 「티누빈 234」, 「티누빈 326」, 「티누빈 327」, 「티누빈 328」, 「티누빈 928」, 「티누빈 400」, 「티누빈 460」, 「티누빈 405」, 「티누빈 477」 등을 들 수 있다. 벤조트리아졸계 광선택 흡수제로서는, 가부시키가이샤 ADEKA 제조의 「아데카 스타브 LA31」 및 「아데카 스타브 LA36」, 스미카 켐텍스 가부시키가이샤 제조의 「스미소브 200」, 「스미소브 250」, 「스미소브 300」, 「스미소브 340」 및 「스미소브 350」, 케미프로 가세이 가부시키가이샤 제조의 「Kemisorb 74」, 「Kemisorb 79」 및 「Kemisorb 279」, BASF사 제조의 「TINUVIN 99-2」, 「TINUVIN 900」 및 「TINUVIN 928」 등을 들 수 있다.
광선택 흡수제는 무기계 광선택 흡수제여도 좋다. 무기계 광선택 흡수제로서는, 산화티탄, 산화아연, 산화인듐, 산화주석, 탤크, 카올린, 탄산칼슘, 산화티탄계 복합 산화물, 산화아연계 복합 산화물, ITO(주석 도프 산화인듐), ATO(안티몬 도프 산화주석) 등을 들 수 있다. 산화티탄계 복합 산화물로서는, 예컨대 실리카, 알루미나를 도프한 산화티탄 등을 들 수 있다. 이들 무기계 광선택 흡수제는 1종류 또는 2종류 이상 병용하여 이용할 수 있다. 유기계 광선택 흡수제와 무기계 광선택 흡수제를 병용해도 상관없다.
점착제 조성물은, 용제, 가교 촉매, 택키파이어(tackifier), 가소제, 연화제, 안료, 방청제, 무기 필러, 광산란성 미립자 등의 첨가제를 1종 또는 2종 이상 함유할 수 있다.
[중간층]
본 발명의 광학 적층체는 중간층(300)을 포함한다. 중간층(300)은, 액정 경화층, 배향층, 및 접합층으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 또는 복수의 층만을 갖는다. 중간층(300)의 두께는 한정되지 않으나, 예컨대, 1 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하이고, 5 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.
중간층(300)은, 편광자(10)에 있어서 탈색이 발생하는 것을 억제하는 관점에서, 광선택 흡수제를 포함하지 않는 것이 바람직하고, 광선택 흡수제를 포함하는 경우에는 광선택 흡수제의 단위 면적당 함유량이 0.5 g/㎡ 이하인 것이 바람직하다.
[액정 경화층]
본 발명의 광학 적층체는, 중간층으로서 액정 경화층을 포함하고 있어도 좋다. 액정 경화층은 1층 또는 2층 이상이어도 좋다. 도 2에 도시된 광학 적층체(101)는, 제1 액정 경화층(30)과 제2 액정 경화층(31)을 포함한다.
액정 경화층은, 중합성 액정 화합물의 경화물의 층이며, 예컨대, 위상차층이다.
중합성 액정 화합물의 경화물인 위상차층으로서는, 제1 형태∼제5 형태를 들 수 있다.
제1 형태: 봉상(棒狀) 액정 화합물이 지지 기재에 대해 수평 방향으로 배향된 위상차층
제2 형태: 봉상 액정 화합물이 지지 기재에 대해 수직 방향으로 배향된 위상차층
제3 형태: 봉상 액정 화합물이 면내에서 나선형으로 배향의 방향이 변화하고 있는 위상차층
제4 형태: 원반상(圓盤狀) 액정 화합물이 경사 배향되어 있는 위상차층
제5 형태: 원반상 액정 화합물이 지지 기재에 대해 수직 방향으로 배향된 이축성의 위상차층
예컨대, 유기 일렉트로루미네선스 디스플레이에 이용되는 광학 필름으로서는, 제1 형태, 제2 형태, 제5 형태가 적합하게 이용된다. 또는 이들 형태의 위상차층을 적층시켜 이용해도 좋다.
위상차층은 역파장 분산성을 갖는 것이 바람직하다. 역파장 분산성이란, 단파장에서의 액정 배향 면내 위상차값 쪽이 장파장에서의 액정 배향 면내 위상차값보다 작아지는 광학 특성이고, 바람직하게는, 위상차층이 하기 식 (7) 및 식 (8)을 만족시키는 것이다. 또한, Re(λ)는 파장 λ ㎚의 광에 대한 면내 위상차값을 나타낸다.
Re(450)/Re(550)≤1
(7)
1≤Re(630)/Re(550)
(8)
본 발명의 광학 적층체에 있어서, 위상차층이 제1 형태이고 또한 역파장 분산성을 갖는 경우, 표시 장치에서의 흑표시 시의 착색이 저감되기 때문에 바람직하고, 상기 식 (7)에 있어서 0.82≤Re(450)/Re(550)≤0.93이면 보다 바람직하다. 또한 120≤Re(550)≤150이 바람직하다.
위상차층의 형성에 이용되는 중합성 액정 화합물로서는, 액정 편람(액정 편람 편집 위원회편, 마루젠(주) 2000년 10월 30일 발행)의 「3.8.6 네트워크(완전 가교형)」, 「6.5.1 액정 재료 b. 중합성 네마틱 액정 재료」에 기재된 화합물 중에서 중합성 기를 갖는 화합물, 및 일본 특허 공개 제2010-31223호 공보, 일본 특허 공개 제2010-270108호 공보, 일본 특허 공개 제2011-6360호 공보, 일본 특허 공개 제2011-207765호 공보, 일본 특허 공개 제2011-162678호 공보, 일본 특허 공개 제2016-81035호 공보, 국제 공개 제2017/043438호 및 일본 특허 공표 제2011-207765호 공보에 기재된 중합성 액정 화합물 등을 들 수 있다.
중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체로부터 위상차층을 제조하는 방법은, 예컨대, 일본 특허 공개 제2010-31223호 공보에 기재된 방법 등을 들 수 있다.
중합성 액정 화합물을 경화하여 이루어지는 액정 경화층인 위상차층의 두께는, 예컨대 0.1 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 0.5 ㎛ 이상 8 ㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 1 ㎛ 이상 6 ㎛ 이하이다.
위상차층은, 투과광에 1/4 파장분의 위상차를 부여하는 λ/4 위상차층, 투과광에 1/2 파장분의 위상차를 부여하는 λ/2 위상차층, 포지티브 A 플레이트, 및 포지티브 C 플레이트일 수 있다. 도 2에 도시된 광학 적층체(101)와 같이, 제1 액정 경화층(30)과 제2 액정 경화층(31)을 포함하는 경우, 제1 액정 경화층(30)과 제2 액정 경화층(31)의 조합으로서, λ/2 위상차층과 λ/4 위상차층의 조합, λ/4 위상차층과 포지티브 C층의 조합 등을 들 수 있다.
본 발명의 광학 적층체는, λ/4 위상차층을 갖는 원편광판으로서 구성해도 좋다. 원편광판은, 반사 방지용 편광판으로서 이용할 수 있다.
[배향층]
배향층은, 배향층 상에 형성되는 액정 경화층에 포함되는 액정 화합물을 원하는 방향으로 액정 배향시키는 배향 규제력을 갖는다. 배향층으로서는, 배향성 폴리머로 형성된 배향성 폴리머층, 광배향 폴리머로 형성된 광배향 폴리머층, 층 표면에 요철 패턴이나 복수의 그루브(홈)를 갖는 그루브 배향층을 들 수 있다. 배향층의 두께는, 통상 0.01∼10 ㎛이고, 0.01∼5 ㎛인 것이 바람직하다.
배향성 폴리머층은, 배향성 폴리머를 용제에 용해한 조성물을 기재층에 도포하여 용제를 제거하고, 필요에 따라 러빙 처리를 하여 형성할 수 있다. 이 경우, 배향 규제력은, 배향성 폴리머로 형성된 배향성 폴리머층에서는, 배향성 폴리머의 표면 상태나 러빙 조건에 의해 임의로 조정하는 것이 가능하다.
광배향 폴리머층은, 광반응성 기를 갖는 폴리머 또는 모노머와 용제를 포함하는 조성물을 기재층에 도포하고, 편광을 조사함으로써 형성할 수 있다. 이 경우, 배향 규제력은, 광배향 폴리머층에서는, 광배향 폴리머에 대한 편광 조사 조건 등에 의해 임의로 조정하는 것이 가능하다.
그루브 배향층은, 예컨대 감광성 폴리이미드막 표면에 패턴 형상의 슬릿을 갖는 노광용 마스크를 통해 노광, 현상 등을 행하여 요철 패턴을 형성하는 방법, 표면에 홈을 갖는 판형의 원반(原盤)에, 활성 에너지선 경화성 수지의 미경화의 층을 형성하고, 이 층을 기재층에 전사하여 경화하는 방법, 기재층에 활성 에너지선 경화성 수지의 미경화의 층을 형성하고, 이 층에, 요철을 갖는 롤형의 원반을 압박하는 등에 의해 요철을 형성하여 경화시키는 방법 등에 의해 형성할 수 있다.
기재층은, 수지 재료로 형성된 필름인 것이 바람직하다. 수지 재료로서는, 예컨대, 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 연신성 등이 우수한 수지 재료가 이용된다. 구체적으로는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀계 수지; 노르보르넨계 폴리머 등의 환상 폴리올레핀계 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; (메트)아크릴산, 폴리(메트)아크릴산메틸 등의 (메트)아크릴산계 수지; 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스 및 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 등의 셀룰로오스에스테르계 수지; 폴리비닐알코올 및 폴리아세트산비닐 등의 비닐알코올계 수지; 폴리카보네이트계 수지; 폴리스티렌계 수지; 폴리아릴레이트계 수지; 폴리술폰계 수지; 폴리에테르술폰계 수지; 폴리아미드계 수지; 폴리이미드계 수지; 폴리에테르케톤계 수지; 폴리페닐렌술피드계 수지; 폴리페닐렌옥시드계 수지, 및 이들의 혼합물, 공중합물 등을 들 수 있다. 이들 수지 중, 환상 폴리올레핀계 수지, 폴리에스테르계 수지, 셀룰로오스에스테르계 수지 및 (메트)아크릴산계 수지 중 어느 하나 또는 이들의 혼합물을 이용하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 「(메트)아크릴산」이란, 「아크릴산 및 메타크릴산의 적어도 1종」을 의미한다.
기재층은, 상기한 수지 1종류 또는 2종 이상을 혼합한 단층이어도 좋고, 2층 이상의 다층 구조를 갖고 있어도 좋다. 다층 구조를 갖는 경우, 각 층을 이루는 수지는 동일해도 좋고 상이해도 좋다.
수지 필름을 이루는 수지 재료에는, 임의의 첨가제가 첨가되어 있어도 좋다. 첨가제로서는, 예컨대, 광선택 흡수제, 산화 방지제, 활제(滑劑), 가소제, 이형제, 착색 방지제, 난연제, 핵제, 대전 방지제, 안료, 및 착색제 등을 들 수 있다.
기재층의 두께는, 특별히 한정되지 않으나, 일반적으로는 강도나 취급성 등의 작업성의 점에서 5∼200 ㎛인 것이 바람직하고, 10∼200 ㎛인 것이 보다 바람직하며, 10∼150 ㎛인 것이 더욱 바람직하다.
기재층과 배향층의 밀착성을 향상시키기 위해서, 적어도 기재층의 배향층이 형성되는 측의 표면에 코로나 처리, 플라즈마 처리, 화염 처리 등을 행해도 좋고, 프라이머층 등을 형성해도 좋다. 기재층/배향층/액정 경화층을 포함하는 층 구성으로부터, 기재층을 박리하여, 배향층/액정 경화층을 본 발명의 중간층의 구성 요소로 해도 좋고, 기재층/배향층을 박리하여, 액정 경화층을 본 발명의 중간층의 구성 요소로 해도 좋다.
[접합층]
중간층(300)은, 2개의 층을 접합하기 위한 접합층을 포함할 수 있다. 접합층으로서는, 접착제층, 점착제층(이하, 「제2 점착제층」이라고도 함) 등을 들 수 있다. 도 2에 도시된 광학 적층체(101)는, 제1 액정 경화층(30)과 제2 액정 경화층(31) 사이에 개재되어 이들을 접합하는 접착제층(33)과, 제1 액정 경화층(30)의 접착제층(33)과는 반대측의 표면에 적층된 제2 점착제층(32)을 포함한다.
접착제층에는, 수계 접착제, 활성 에너지선 경화성 접착제, 또는 열경화성 접착제 등이 이용된다. 접착제층의 두께는, 예컨대 10 ㎚ 이상 20 ㎛ 이하, 바람직하게는 100 ㎚ 이상 10 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 500 ㎚ 이상 5 ㎛ 이하이다.
제2 점착제층은, 상기한 광선택 흡수성 점착제층을 형성하는 점착제 조성물과 동일한 점착제 조성물로 구성되어도 좋고, (메트)아크릴계, 고무계, 우레탄계, 에스테르계, 실리콘계, 폴리비닐에테르계와 같은 수지를 주성분으로 하는 점착제 조성물(이하, 「제2 점착제 조성물」이라고도 함)로 구성되어도 좋다. 제2 점착제 조성물로서는, 투명성, 내후성, 내열성 등이 우수한 (메트)아크릴계 수지를 베이스 폴리머로 하는 점착제 조성물이 적합하다. 제2 점착제 조성물은, 활성 에너지선 경화형, 열경화형이어도 좋다. 제2 점착제층의 두께는, 통상 0.1 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하이고, 예컨대 8 ㎛ 이상 60 ㎛ 이하이며, 박형화의 관점에서는 30 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 20 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다.
제2 점착제층은, 편광자(10)에 있어서 탈색이 발생하는 것을 억제하는 관점에서, 광선택 흡수제를 포함하지 않는 것이 바람직하고, 광선택 흡수제를 포함하는 경우에는 광선택 흡수제의 단위 면적당 전체 수지 성분 100 질량부에 대해 0.5 질량부 이하인 것이 바람직하다.
<광학 적층체의 제조 방법>
광학 적층체(100, 101, 102)는, 접합층을 통해 구성층끼리를 접합하는 공정을 포함하는 방법에 의해 제조할 수 있다. 또한, 구성층이 아닌 층을 박리하는 공정을 포함하고 있어도 좋다. 접합층을 통해 층끼리를 접합하는 경우에는, 밀착성을 높이기 위해서, 접합면의 한쪽 또는 양쪽에 대해, 예컨대 코로나 처리 등의 표면 활성화 처리를 실시하는 것이 바람직하다.
<광학 적층체>
본 발명의 광학 적층체는, 평면형이고, 그 면적은 예컨대 30 ㎜×30 ㎜∼180 ㎜×90 ㎜이다.
본 발명의 광학 적층체는 장방형, 정방형 등의 직사각형이어도 좋고, 직사각형을 구성하는 변의 일부가 절결된 절결부를 갖는 형상이나, 반원 형상, 면내에 관통 구멍을 갖는 형상 등의, 이른바 이형(異形) 형상이어도 좋다.
광학 적층체를 구성하는 편광자의 흡수축은, 광학 적층체의 외형이 직선의 변을 갖는 경우에는, 그 변에 평행해도 좋고, 직교하고 있어도 좋으며, 경사, 예컨대 45°의 각도로 교차하고 있어도 좋다.
광학 적층체가 위상차층을 갖고, 이 위상차층이 면내에 지상축(遲相軸)을 갖는 경우, 이 지상축과, 광학 적층체를 구성하는 편광자의 흡수축은 45°로 교차하고 있어도 좋고, 15°로 교차하고 있어도 좋으며, 75°로 교차하고 있어도 좋다.
<화상 표시 장치>
광학 적층체(100, 101, 102)는, 화상 표시 패널의 전면(시인측)에 배치되어, 화상 표시 장치의 구성 요소로서 이용할 수 있다. 원편광판인 광학 적층체는, 화상 표시 장치에 있어서 반사 방지 기능을 부여하는 반사 방지용 편광판으로서 이용할 수도 있다. 화상 표시 장치는 특별히 한정되지 않고, 예컨대 유기 일렉트로루미네선스(유기 EL) 표시 장치, 무기 일렉트로루미네선스(무기 EL) 표시 장치, 액정 표시 장치, 전계 발광 표시 장치 등의 화상 표시 장치를 들 수 있다.
실시예
이하, 실시예를 들어 본 발명을 보다 상세히 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것이 아니다. 실시예 및 비교예 중의 「%」 및 「부」는, 특별히 기재하지 않는 한, 「질량%」 및 「질량부」이다.
[한면 보호 편광판의 제작]
(편광자의 제작)
두께 20 ㎛, 중합도 2400, 비누화도 99% 이상의 폴리비닐알코올 필름을, 열롤 상에서 연신 배율 4.1배로 일축 연신하고, 긴장 상태를 유지한 채로, 물 100 중량부당 요오드 0.05 중량부 및 요오드화칼륨 5 중량부를 함유하는 염색욕(染色浴)에 28℃에서 60초간 침지하였다.
계속해서, 물 100 중량부당 붕산 5.5 중량부 및 요오드화칼륨 15 중량부를 함유하는 붕산 수용액 1에, 64℃에서 110초간 침지하였다. 계속해서, 물 100 중량부당 붕산 5.5 중량부 및 요오드화칼륨 15 중량부를 함유하는 붕산 수용액 2에, 67℃에서 30초간 침지하였다. 그 후, 10℃의 순수(純水)를 이용하여 수세하고, 건조시켜, 편광자를 얻었다. 얻어진 편광자의 두께는 8 ㎛이고, 붕소 함유량은 4.3 중량%였다.
(수계 접착제의 조제)
물 100 중량부에 대해, 카르복실기 변성 폴리비닐알코올(가부시키가이샤 쿠라레, 상품명 「KL-318」)을 3 질량부 용해하고, 그 수용액에 수용성 에폭시 수지인 폴리아미드에폭시계 첨가제(다오카 가가쿠 고교 가부시키가이샤, 상품명 「스미레즈레진(등록 상표) 650(30), 고형분 농도 30 중량%의 수용액)를 1.5 질량부 첨가하여, 수계 접착제를 조제하였다.
(보호 필름 A 및 박리 필름 B)
보호 필름 A로서, 두께 25 ㎛의 노르보르넨계 수지를 포함하는 연신 필름에, 두께 3 ㎛의 하드 코트층을 형성한 필름(닛폰 세이시 가부시키가이샤 제조, 상품명 「COP25ST-HC」)을 이용하였다.
박리 필름 B로서, 트리아세틸셀룰로오스 필름(후지 필름 가부시키가이샤 제조, 「TD80UL」)을 이용하였다. 박리 필름의 두께는 80 ㎛이고, 투습도는 502 g/㎡·24 hr이었다.
(한면 보호 편광판의 제작)
제작한 편광자를 연속적으로 반송하고 보호 필름 A의 롤로부터 보호 필름 A를 연속적으로 권출하며, 또한, 박리 필름 B의 롤로부터 박리 필름 B를 연속으로 권출하였다. 편광자와 코로나 처리한 보호 필름 A 사이에 수계 접착제를 주입하고, 편광자와 박리 필름 B 사이에 순수를 주입하며, 접합 롤에 통과시켜, 보호 필름 A/수계 접착제/편광자/순수/박리 필름 B를 포함하는 적층 필름을 얻었다. 적층 필름을 반송하여, 건조로에서 80℃, 300초의 가열 처리를 행함으로써, 수계 접착제를 건조시키고, 편광자와 박리 필름 B 사이에 개재하는 순수를 휘발 제거하여, 박리 필름 부착 한면 보호 편광판을 얻었다. 박리 필름 부착 한면 보호 편광판으로부터 박리 필름 B를 박리하여, 한면 보호 편광판을 얻었다.
[위상차 적층체의 제작]
(「배향층/제1 액정 경화층」의 준비)
기재 필름 상에 형성된, 배향층과 네마틱 액정 화합물이 경화된 층인 λ/4 위상차층(제1 액정 경화층)을 준비하였다. 또한, 「배향층/제1 액정 경화층」의 합계 두께는 2 ㎛였다.
(「배향층/제2 액정 경화층」의 제작)
배향층 형성용의 조성물로서, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트(신나카무라 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조, A-600) 10.0 질량부와, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(신나카무라 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조, A-TMPT) 10.0 질량부와, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트(신나카무라 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조, A-HD-N) 10.0 질량부와, 광중합 개시제로서 이르가큐어 907(BASF사 제조, Irg-907) 1.50 질량부를, 용매 메틸에틸케톤 70.0 질량부 중에서 용해시켜, 배향층 형성용 도공액을 조제하였다.
기재 필름으로서 두께 20 ㎛의 장척(長尺)형의 환상 올레핀계 수지(COP) 필름(닛폰 제온 가부시키가이샤 제조)을 준비하고, 기재 필름의 한면에, 배향층 형성용 도공액을 바 코터로 도포하였다.
도공 후의 도포층에 온도 80℃에서 60초간의 열처리를 실시한 후, 자외선(UVB)을 220 mJ/㎠ 조사하여, 배향층 형성용의 조성물을 중합하고, 경화시켜, 기재 필름 상에 두께 2.3 ㎛의 배향층을 형성하였다.
위상차층 형성용의 조성물로서, 광중합성 네마틱 액정 화합물(머크사 제조, RMM28B) 20.0 질량부와, 광중합 개시제로서 이르가큐어 907(BASF사 제조, Irg-907) 1.0 질량부를, 용매 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 80.0 질량부 중에 용해시켜, 위상차층 형성용 도공액을 조제하였다.
앞서 얻어진 배향층 상에 위상차층 형성용 도공액을 도포하고, 도포층에 온도 80℃에서 60초간의 열처리를 실시하였다. 그 후, 자외선(UVB)을 220 mJ/㎠ 조사하여, 위상차층 형성용의 조성물을 중합하고, 경화시켜, 배향층 상에 두께 0.7 ㎛의 위상차층(제2 액정 경화층)을 형성하였다. 이와 같이 하여 기재 필름 상에 합계 두께 3 ㎛의 「배향층/제2 액정 경화층」을 얻었다.
(위상차 적층체의 제작)
기재 필름 상에 적층된 「배향층/제1 액정 경화층」과, 기재 필름 상에 적층된 「배향층/제2 액정 경화층」을, 자외선 경화형 접착제(두께 1 ㎛)에 의해, 각각의 액정 경화층면(기재 필름과는 반대측의 면)이 접합면이 되도록 접합시켰다. 계속해서, 자외선을 조사하여 자외선 경화형 접착제를 경화시켜, 제1 액정 경화층과 제2 액정 경화층의 2층의 액정 경화층을 포함하는 위상차 적층체를 제작하였다.
[광선택 흡수성 점착제층의 제작]
<점착제층 (1)>
(광선택 흡수성 모노머의 합성)
딤로스 냉각관 및 온도계를 설치한 300 mL-4구 플라스크 내를 질소 분위기로 하고, 2-히드록시에틸아크릴레이트 10부, 시아노아세트산 8.1부, N,N-디메틸-4-아미노피리딘 1.1부, 디부틸히드록시톨루엔 0.95부, 톨루엔 50부를 투입하며, 마그네틱 스터러로 교반하였다. 빙욕(氷浴)에서 냉각하여 내부 온도 10℃가 된 것을 확인한 후, N,N-디이소프로필카르보디이미드 12부를 1시간 걸쳐 적하하고, 적하 종료 후에 내부 온도 0∼10℃에서 추가로 2시간 보온하였다. 그 후, 불용 성분을 감압 여과로 제거하여, UVA-M-02로 표시되는 화합물을 포함하는 여과액 70부를 얻었다.
딤로스 냉각관 및 온도계를 설치한 300 mL-4구 플라스크 내를 질소 분위기로 하고, 일본 특허 공개 제2014-194508호 공보를 참고로 합성한 UVA-M-01로 표시되는 화합물 20부, 무수 아세트산 7.1부, UVA-M-02를 포함하는 여과액 70부 및 아세토니트릴 40부를 투입하며, 마그네틱 스터러로 교반하였다. 내부 온도 25℃에서, 얻어진 혼합물에 N,N-디이소프로필에틸아민 9부를 1시간 걸쳐 적하하였다. 얻어진 혼합물을 내부 온도 25℃에서 2시간 보온하였다. 얻어진 혼합물에 얼음물 200 g을 첨가하여 교반하고, 석출된 조생성물(粗生成物)을 감압 여과로 취출하였다. 얻어진 조생성물을 이소프로판올로 재결정하여 UVA-01로 표시되는 화합물 10부를 얻었다. 얻어진 UVA-01로 표시되는 화합물을, LC-MS와 1H-NMR로부터 동정(同定)하였다.
(광선택 흡수성 중합체(A-1)의 조제)
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반기를 구비한 반응 용기에, 아크릴산부틸(표 1에 있어서 「BA」라고 함) 96 질량부, 아크릴산 2-히드록시에틸(표 1에 있어서 「HEA」라고 함) 3 질량부, 및 UVA-01로 표시되는 광선택 흡수성 모노머 1 질량부(고형분 합계 100 질량부)와, 용매로서의 아세트산에틸 135 질량부를 혼합하고, 질소 가스로 장치 내의 공기를 치환하여 산소 불함유로 하면서 내부 온도를 60℃로 올렸다. 얻어진 혼합물에, 아조비스이소부티로니트릴(중합 개시제) 0.4부를 아세트산에틸 10부에 녹인 용액을 전량 첨가하였다. 얻어진 혼합물을 60℃에서 1시간 유지하고, 계속해서 내부 온도를 50∼70℃로 유지하면서 아세트산에틸을 첨가 속도 17.3부/hr로 반응 용기 내에 연속적으로 첨가하며, 아크릴 수지의 농도가 35%가 된 시점에서 아세트산에틸의 첨가를 멈추고, 또한 아세트산에틸의 첨가 개시로부터 12시간 경과할 때까지 내부 온도를 50∼70℃로 보온하였다. 얻어진 광선택 흡수성 중합체(A-1)의 혼합물에 아세트산에틸을 첨가하여 수지 성분의 농도가 20%가 되도록 조절하여, 광선택 흡수성 중합체(A-1)의 아세트산에틸 용액을 조제하였다. 광선택 흡수성 중합체(A-1)는, GPC에 의한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 Mw가 50만, Mw/Mn이 7.5였다. DSC에 의한 유리 전이 온도는 -48.4℃였다.
(점착제 조성물 및 점착제층의 제작)
(a) 점착제 조성물의 조제
광선택 흡수성 중합체(A-1)의 아세트산에틸 용액(수지 농도: 20%)에, 상기 용액의 고형분 100부에 대해, 가교제(코로네이트 L, 고형분 75%: 도소 제조) 0.5부 및 실란 화합물(신에츠 가가쿠 고교 제조: KBM-403) 0.5부를 혼합하고, 또한 고형분 농도가 14%가 되도록 2-부타논을 첨가하여 점착제 조성물(1)을 얻었다. 또한, 상기 가교제(코로네이트 L)의 배합량은, 유효 성분으로서의 질량부수이다.
(b) 점착제층의 제작
이형 처리가 실시된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(린텍사 제조 SP-PLR382050, 이하, 「세퍼레이터」라고 약기함)의 이형 처리면에, 상기 (a)에서 조제한 점착제 조성물을, 건조 후의 점착제층의 두께가 17 ㎛가 되도록 어플리케이터를 이용하여 도포하고, 100℃에서 1분간 건조시켜 점착제층을 제작하였다. 얻어진 점착제층을 점착제층 (1)로 하였다.
<점착제층 (2)>
(아크릴 수지(A-2)의 조제)
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반기를 구비한 반응 용기에, 아크릴산부틸 61.9부 및 아크릴산 2-히드록시에틸 1.9부와, 용매로서의 아세트산에틸 135부의 혼합 용액을 투입하고, 질소 가스로 장치 내의 공기를 치환하여 산소 불함유로 하면서 내부 온도를 60℃로 올렸다. 그 후, 아조비스이소부티로니트릴(중합 개시제) 0.4부를 아세트산에틸 10부에 녹인 용액을 전량 첨가하였다. 얻어진 혼합물을 60℃에서 1시간 유지하고, 계속해서 내부 온도를 50∼70℃로 유지하면서 아세트산에틸을 첨가 속도 17.3부/hr로 반응 용기 내에 연속적으로 첨가하며, 아크릴 수지의 농도가 35%가 된 시점에서 아세트산에틸의 첨가를 멈추고, 또한 아세트산에틸의 첨가 개시로부터 12시간 경과할 때까지 이 온도로 보온하였다. 마지막으로 아세트산에틸을 첨가하여 아크릴 수지의 농도가 20%가 되도록 조절하여, 아크릴 수지의 아세트산에틸 용액을 조제하였다. 얻어진 아크릴 수지는, GPC에 의한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 Mw가 60만, Mw/Mn이 7.0이었다. 이것을 아크릴 수지(A-2)로 한다. DSC에 의한 유리 전이 온도는 -52.9℃였다.
(점착제 조성물 및 점착제층의 제작)
(a) 점착제 조성물의 조제
아크릴 수지(A-2)의 아세트산에틸 용액(수지 농도: 20%)에, 상기 용액의 고형분 100부에 대해, 가교제(코로네이트 L, 고형분 75%: 도소 제조) 0.5부, 실란 화합물(신에츠 가가쿠 고교 제조: KBM-403) 0.5부 및 일본 특허 공개 제2019-007001호 공보의 단락 [0142]에 기재된 합성예 2에 광선택 흡수 화합물(2)로서 기재되어 있는 하기 식 (aa2)로 표시되는 화합물(광선택 흡수제) 2.5부를 혼합하고, 또한 고형분 농도가 14%가 되도록 2-부타논을 첨가하여, 점착제 조성물(2)을 얻었다. 또한, 상기 가교제(코로네이트 L)의 배합량은, 유효 성분으로서의 질량부수이다.
(b) 점착제층의 제작
점착제층 (1)과 동일한 방법에 의해, 점착제 조성물로부터 점착제층 (2)를 제작하였다.
[제2 점착제층의 제작]
상기 아크릴 수지(A-2)의 아세트산에틸 용액(수지 농도: 20%)에, 가교제(코로네이트 L, 고형분 75%: 도소 제조) 0.5부 및 실란 화합물(신에츠 가가쿠 고교 제조: KBM-403) 0.5부를 혼합하고, 또한 고형분 농도가 14%가 되도록 2-부타논을 첨가하여 점착제 조성물을 얻었다. 또한, 상기 가교제(코로네이트 L)의 배합량은, 유효 성분으로서의 질량부수이다.
광선택 흡수성 점착제층의 제작에 이용한 세퍼레이터의 이형 처리면에, 점착제 조성물을, 건조 후의 점착제층의 두께가 5 ㎛가 되도록 어플리케이터를 이용하여 도포하고, 100℃에서 1분간 건조시켜 제2 점착제층을 제작하였다.
[광학 적층체의 제작]
(실시예 1, 비교예 1)
제작한 한면 보호 편광판의 편광자측에 제2 점착제층을 접합하고, 세퍼레이터를 박리하였다. 제2 점착제층의 세퍼레이터를 박리한 면에, 제작한 위상차 적층체를 제1 액정 경화층측의 기재 필름을 박리하여 노출한 면을 접합하였다. 그 후, 제2 액정 경화층측의 기재 필름을 박리하고, 제2 액정 경화층측의 배향층의 면에, 표 1에 기재된 점착제층을 광선택 흡수성 점착제층으로서 접합하여, 「보호 필름 A/수계 접착제/편광자/제2 점착제층/배향층/제1 액정 경화층/제2 액정 경화층/배향층/광선택 흡수성 점착제층/세퍼레이터」의 층 구성의 광학 적층체를 얻었다. 이러한 광학 적층체에 있어서, 중간층은, 「제2 점착제층/배향층/제1 액정 경화층/자외선 경화형 접착제층/제2 액정 경화층/배향층」의 층 구성을 갖고, 합계 두께는 11 ㎛였다. 실시예 1 및 비교예 1의 광학 적층체는, 도 2에 도시된 바와 같은 구성을 하고 있었다.
상기에 있어서, 점착제층의 두께가 5 ㎛가 되도록 어플리케이터를 이용하여 도포하고, 100℃에서 1분간 건조시켜 제2 점착제층을 제작하였다. 「배향층/제1 액정 경화층」의 합계 두께는 2 ㎛였다. 「배향층/제2 액정 경화층」의 합계 두께는 3 ㎛였다.
자외선 경화형 접착제는 두께가 1 ㎛였다.
(실시예 2, 비교예 2)
제작한 한면 보호 편광판의 편광자측에 제2 점착제층을 접합하고, 세퍼레이터를 박리하였다. 제2 점착제층의 세퍼레이터를 박리한 면에, 표 1에 기재된 점착제층을 광선택 흡수성 점착제층으로서 접합하여, 「보호 필름 A/수계 접착제/편광자/제2 점착제층/광선택 흡수성 점착제층/세퍼레이터」의 층 구성의 광학 적층체를 얻었다. 이러한 광학 적층체에 있어서, 중간층은, 「제2 점착제층」을 포함하고, 그 두께는 5 ㎛였다. 실시예 2 및 비교예 2의 광학 적층체는, 도 3에 도시된 바와 같은 구성을 하고 있었다.
상기에 있어서, 점착제층의 두께가 5 ㎛가 되도록 어플리케이터를 이용하여 도포하고, 100℃에서 1분간 건조시켜 제2 점착제층을 제작하였다.
[점착제층의 흡광도 측정]
점착제층 (1), (2)를 각각 유리에 접합하고, 세퍼레이터를 박리한 후, 점착제층에 시클로올레핀 폴리머(COP) 필름(닛폰 제온 가부시키가이샤 제조 ZF-14)을 접합하여, 점착제층 평가용 적층체를 제작하였다. 점착제층 평가용 적층체를 분광 광도계 UV-2450(가부시키가이샤 시마즈 세이사쿠쇼 제조)에 세팅하고, 더블빔법에 의해 1 ㎚ 스텝 300∼800 ㎚의 파장 범위에서 흡광도를 측정하였다. 제작한 점착제층의 파장 410 ㎚에 있어서의 흡광도를 표 1에 나타낸다. 또한, 파장 410 ㎚에 있어서의, 유리의 흡광도 및 COP 필름의 흡광도는 모두 0이다.
[중량 평균 분자량(Mw)의 측정]
광선택 흡수성 중합체(A-1) 및 아크릴 수지(A-2)의 중량 평균 분자량(Mw)은, 폴리스티렌 환산의 수 평균 분자량(Mn)으로서, 이동상(移動相)에 테트라히드로푸란을 이용하여, 하기의 사이즈 배제 크로마토그래피(SEC)에 의해 구하였다. 측정하는 (메트)아크릴계 폴리머를 약 0.05 질량%의 농도로 테트라히드로푸란에 용해시켜, SEC에 10 μL 주입하였다. 이동상은, 1.0 mL/분의 유량으로 흘렸다. 칼럼으로서, PLgel MIXED-B(폴리머 래버러토리즈 제조)를 이용하였다. 검출기에는 UV-VIS 검출기(상품명: Agilent GPC)를 이용하였다.
[붕소 함유량의 측정]
편광자 0.2 g을 1.9 wt% 만니톨 수용액 200 g에 용해하였다. 얻어진 수용액을 1 ㏖/L NaOH 수용액으로 적정하고, 중화에 필요한 NaOH액의 양과 검량선의 비교에 의해, 편광자의 붕소 함유량을 산출하였다.
[내습열 시험 및 탈색의 관찰]
실시예 1, 2 및 비교예 1, 2에서 얻어진 광학 적층체의 세퍼레이터를 박리하여, 무알칼리 유리판에 접합한 후, 온도 65℃, 습도 90% RH의 환경하에 500시간 방치하였다. 그 후, 시험한 광학 적층체와는 반대의 무알칼리 유리면에 크로스니콜의 관계가 되는 편광판을 접합하고, 광학 현미경으로 관찰하여, 관찰 화상을 보존하였다. 광학 현미경은, 가부시키가이샤 기엔스 제조의 「VHX-500」을 이용하였다. 도 4는 광학 현미경에서의 관찰 화상의 일례를 도시한다. 도 4에 있어서, 광학 적층체의 단부(50)로부터 내측 방향으로 화살표로 나타내는 직선(단부(50)로부터 수직 방향으로 연장되는 직선)을 따라 관찰하면, 탈색 영역(51)과 탈색이 발생하고 있지 않은 영역(비탈색 영역)(52)이 있는 것을 알 수 있다.
[화상 처리에 의한 탈색량의 측정]
현미경에서의 관찰 화상을, 화상 해석 소프트 「ImageJ(프리소프트)」를 사용하여, 흑백 256계조(0∼255)로 변환하였다. 흑백 256계조(0∼255)로 변환하는 방법은, RGB값의 평균을 취하는 방법을 사용하였다. 도 5는 변환 후의 데이터의 일례를 도시한다. 광학 적층체의 단부(50)에 대해 수직 방향(도 4 중 화살표)의 계조 프로파일에 있어서의 탈색 영역(51)과 비탈색 영역(52)의 중간점(탈색 그라데이션의 중간)을 광학 적층체의 탈색 단부로 하고(도 5), 광학 적층체의 단부(50)로부터 탈색 단부의 거리(㎛)를 탈색 거리로서 측정하였다. 광학 적층체의 탈색 거리를 표 1에 나타낸다. 탈색 거리가 작을수록, 탈색 범위가 좁고, 내습열성이 우수하다.
동일한 층 구성의 광학 적층체끼리(실시예 1과 비교예 1, 실시예 2와 비교예 2)의 탈색 거리를 비교하여, 그 차 및 탈색 거리의 개선율((차의 절대값/비교예 1, 2의 탈색 거리)×100)을 표 1에 나타낸다.
10: 편광자
11: 보호 필름
20: 광선택 흡수성 점착제층 30: 제1 액정 경화층
31: 제2 액정 경화층 32: 제2 점착제층
33: 접착제층 50: 광학 적층체의 단부
51: 탈색 영역 52: 비탈색 영역
100, 101, 102: 광학 적층체 300: 중간층
20: 광선택 흡수성 점착제층 30: 제1 액정 경화층
31: 제2 액정 경화층 32: 제2 점착제층
33: 접착제층 50: 광학 적층체의 단부
51: 탈색 영역 52: 비탈색 영역
100, 101, 102: 광학 적층체 300: 중간층
Claims (10)
- 편광자와, 광선택 흡수성 점착제층과, 상기 편광자와 상기 광선택 흡수성 점착제층 사이에 이들에 접하여 적층된 중간층을 갖는 광학 적층체로서,
상기 중간층은, 액정 경화층, 배향층, 및 접합층으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 또는 복수의 층만을 갖고,
상기 편광자는, 요오드가 흡착 배향되고, 붕소의 함유량이 5.0 질량% 이하이며,
상기 광선택 흡수성 점착제층을 형성하는 점착제 조성물은, 광선택 흡수성 중합체를 포함하는 광학 적층체. - 제1항에 있어서, 상기 편광자의 상기 중간층측과는 반대측에 적층된 보호 필름을 더 갖는 광학 적층체.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 광선택 흡수성 중합체는, 하기 화학식 (1):
>N-C=C-C=C< (1)
[단, 화학식 (1)을 구성하는 1개의 N 원자 및 4개의 C 원자 모두가 방향족 복소환의 일부 또는 전부를 구성하는 일은 없다.]
로 나타나는 구조를 갖는 구조 단위를 함유하고, 유리 전이 온도가 40℃ 이하인 수지인 광학 적층체. - 제3항에 있어서, 상기 광선택 흡수성 중합체는, 전체 구조 단위 100 질량부에 대해 상기 화학식 (1)로 나타나는 구조를 갖는 구조 단위의 함유량은 0.01 질량부 이상 50 질량부 이하인 광학 적층체.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광선택 흡수성 중합체는, 중량 평균 분자량이 30만 이상인 광학 적층체.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 점착제 조성물은, 광선택 흡수제를 포함하지 않거나, 또는 전체 수지 성분 100 질량부에 대해 광선택 흡수제의 함유량이 0.5 질량부 이하인 광학 적층체.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중간층은, 상기 액정 경화층인 λ/4 위상차층을 갖는 광학 적층체.
- 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 반사 방지용 편광판인 광학 적층체.
- 화상 표시 패널과, 상기 화상 표시 패널의 전면(前面)에 배치된 제8항에 기재된 광학 적층체를 포함하는 화상 표시 장치.
- 제9항에 있어서, 유기 EL 표시 장치인 화상 표시 장치.
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