KR20220100509A - 반송 장치 및 캐리어 - Google Patents
반송 장치 및 캐리어 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20220100509A KR20220100509A KR1020210186067A KR20210186067A KR20220100509A KR 20220100509 A KR20220100509 A KR 20220100509A KR 1020210186067 A KR1020210186067 A KR 1020210186067A KR 20210186067 A KR20210186067 A KR 20210186067A KR 20220100509 A KR20220100509 A KR 20220100509A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- carrier
- substrate
- magnetic
- conveying
- magnet
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- H01L51/56—
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
- B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
- B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
- B65G49/061—Lifting, gripping, or carrying means, for one or more sheets forming independent means of transport, e.g. suction cups, transport frames
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G54/00—Non-mechanical conveyors not otherwise provided for
- B65G54/02—Non-mechanical conveyors not otherwise provided for electrostatic, electric, or magnetic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G2201/00—Indexing codes relating to handling devices, e.g. conveyors, characterised by the type of product or load being conveyed or handled
- B65G2201/02—Articles
- B65G2201/0214—Articles of special size, shape or weigh
- B65G2201/022—Flat
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G2203/00—Indexing code relating to control or detection of the articles or the load carriers during conveying
- B65G2203/02—Control or detection
- B65G2203/0266—Control or detection relating to the load carrier(s)
- B65G2203/0283—Position of the load carrier
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G2203/00—Indexing code relating to control or detection of the articles or the load carriers during conveying
- B65G2203/04—Detection means
- B65G2203/042—Sensors
- B65G2203/043—Magnetic
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Non-Mechanical Conveyors (AREA)
Abstract
[과제] 자기 반송에 있어서의 자기가 자기식의 위치 검지에 주는 영향을 저감시킨다.
[해결 수단] 기판이 탑재되는 캐리어와, 상기 캐리어를 자력에 의해 반송하는 반송 수단과, 상기 캐리어의 반송 방향의 위치를 검지하는 자기식의 검지 수단을 구비한 반송 장치로서, 상기 캐리어는, 상기 기판을 지지하는 기판 지지부와, 상기 기판 지지부의 단부에 접속부를 통해 접속되며, 상기 반송 수단의 자기가 작용하는 영구자석을 지지하는 자석 지지부를 구비하고, 상기 검지 수단은, 상기 접속부보다도 상기 기판 지지부 측에 배치되고, 상기 접속부가 자성 재료로 형성되어 있다.
[해결 수단] 기판이 탑재되는 캐리어와, 상기 캐리어를 자력에 의해 반송하는 반송 수단과, 상기 캐리어의 반송 방향의 위치를 검지하는 자기식의 검지 수단을 구비한 반송 장치로서, 상기 캐리어는, 상기 기판을 지지하는 기판 지지부와, 상기 기판 지지부의 단부에 접속부를 통해 접속되며, 상기 반송 수단의 자기가 작용하는 영구자석을 지지하는 자석 지지부를 구비하고, 상기 검지 수단은, 상기 접속부보다도 상기 기판 지지부 측에 배치되고, 상기 접속부가 자성 재료로 형성되어 있다.
Description
본 발명은 기판의 반송 기술에 관한 것이다.
유기 EL 표시 장치(유기 EL 디스플레이)는, 스마트폰, 텔레비전, 자동차용 디스플레이뿐만 아니라, VR-HMD(Virtual Reality-Head Mount Display) 등에 그 응용 분야가 확장되고 있고, 특히, VR-HMD에 사용되는 디스플레이는 화소 패턴을 고정밀도로 형성하는 것이 요구된다. 유기 EL 표시 장치의 제조에 있어서는, 유기 EL 표시 장치를 구성하는 유기 발광 소자(유기 EL 소자: OLED)를 형성할 때, 성막 장치의 증착원으로부터 방출된 성막 재료를, 화소 패턴이 형성된 마스크를 통해 기판에 성막함으로써, 유기물층이나 금속층을 형성한다.
이러한 성막 장치에 있어서는, 성막 중에 기판 위에 오염이 부착되는 것을 방지할 필요가 있지만, 기판의 반송 기구가 오염의 발생 원인이 될 수 있다. 비교적 오염의 발생이 적은 반송 기구로서 자석을 이용하여 반송 캐리어를 반송하는 자기 반송이 있다. 특히, 자기 부상 반송은, 기판과 마스크를 보유지지하여 반송하는 캐리어와 반송 기구의 구성 부품과의 접촉을 적게 하여 반송되는 비접촉 반송이어서, 오염의 발생을 억제할 수 있다.
이 자기 부상 반송에 있어서 반송 캐리어를 제어하기 위해서는, 캐리어의 위치를 계측하여 제어 정보로서 취득할 필요가 있지만, 그 수법의 하나로서 자기식의 위치 검지 기술이 알려져 있다. 이는 자기 검출 헤드(자기 센서)와 자기 패턴을 기록한 자기 스케일을 사용하여 비접촉이며 고정밀도로 위치를 검출할 수 있는 수법이다(특허문헌 1 등).
캐리어의 반송에 자기 반송을 채용하고, 또한, 캐리어의 위치 검지에 자기식의 위치 검지 기술을 채용한 경우, 자기 반송에 있어서의 자기가 자기 센서에 의한 위치 검지에 영향을 주는 경우가 있다.
본 발명은, 자기 반송에 있어서의 자기가 자기식의 위치 검지에 주는 영향을 저감시키는 기술을 제공하는 것에 있다.
본 발명에 의하면,
기판이 탑재되는 캐리어와,
상기 캐리어를 자력에 의해 반송하는 반송 수단과,
상기 캐리어의 반송 방향의 위치를 검지하는 자기식의 검지 수단을 구비한 반송 장치로서,
상기 캐리어는,
상기 기판을 지지하는 기판 지지부와,
상기 기판 지지부의 단부에 접속부를 통해 접속되며, 상기 반송 수단의 자기가 작용하는 영구자석을 지지하는 자석 지지부를 구비하고,
상기 검지 수단은, 상기 접속부보다도 상기 기판 지지부 측에 배치되고,
상기 접속부가 자성 재료로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 반송 장치가 제공된다.
본 발명에 의하면, 자기 반송에 있어서의 자기가 자기식의 위치 검지에 주는 영향을 저감시키는 기술을 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시형태에 따른 반송 장치를 적용한 성막 장치를 모식적으로 나타내는 개략도이다.
도 2는 도 1의 A-A선을 따른 캐리어 및 반송 장치의 단면도이다.
도 3은 캐리어의 평면도이다.
도 4의 (A)는 비교예에 있어서의 자속선을 나타내는 도면이고, (B)는 실시형태에 있어서의 자속선을 나타내는 도면이다.
도 5의 (A)는 반송 장치에 있어서의 자속선을 나타내는 도면이고, (B)는 다른 실시형태의 구성예를 나타내는 도면이다.
도 6은 다른 실시형태의 구성예를 나타내는 도면이다.
도 7의 (A) 및 (B)는 다른 실시형태의 구성예를 나타내는 도면이다.
도 2는 도 1의 A-A선을 따른 캐리어 및 반송 장치의 단면도이다.
도 3은 캐리어의 평면도이다.
도 4의 (A)는 비교예에 있어서의 자속선을 나타내는 도면이고, (B)는 실시형태에 있어서의 자속선을 나타내는 도면이다.
도 5의 (A)는 반송 장치에 있어서의 자속선을 나타내는 도면이고, (B)는 다른 실시형태의 구성예를 나타내는 도면이다.
도 6은 다른 실시형태의 구성예를 나타내는 도면이다.
도 7의 (A) 및 (B)는 다른 실시형태의 구성예를 나타내는 도면이다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 실시형태를 상세하게 설명한다. 한편, 이하의 실시형태는 청구범위에 따른 발명을 한정하는 것이 아니다. 실시형태에는 복수의 특징이 기재되어 있지만, 이들 복수의 특징 모두가 반드시 발명에 필수적인 것은 아니고, 또한, 복수의 특징은 임의로 조합되어도 된다. 나아가, 첨부 도면에 있어서는, 동일 또는 마찬가지의 구성에 동일한 참조번호를 붙여, 중복된 설명은 생략한다.
<제1 실시형태>
<성막 장치의 개요>
도 1은 본 발명의 실시형태에 따른 반송 장치(2)를 적용한 성막 장치(100)를 모식적으로 나타내는 개략도이다. 성막 장치(100)는, 기판(110)에 증착 물질을 성막하는 장치이며, 마스크(111)를 사용하여 소정의 패턴의 증착 물질의 박막을 형성한다. 성막 장치(100)에서 성막이 행해지는 기판(110)의 재질은, 글래스, 수지, 금속 등의 재료를 적절히 선택 가능하고, 글래스 상에 폴리이미드 등의 수지층이 형성된 것이 바람직하게 사용된다. 증착 물질로서는, 유기 재료, 무기 재료(금속, 금속 산화물 등) 등의 물질이다. 성막 장치(100)는, 예를 들면 표시 장치(플랫 패널 디스플레이 등)나 박막 태양전지, 유기 광전 변환 소자(유기 박막 촬상 소자) 등의 전자 디바이스나, 광학 부재 등을 제조하는 제조 장치에 적용 가능하고, 특히, 유기 EL 패널을 제조하는 제조 장치에 적용 가능하다. 이하의 설명에서는 성막 장치(100)가 진공 증착에 의해 기판(110)에 성막을 행하는 예를 상정하지만, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 스퍼터나 CVD 등의 각종 성막 방법을 적용 가능하다. 한편, 각 도면에 있어서 화살표 Z는 상하 방향(중력 방향)을 나타내고, 화살표 X 및 화살표 Y는 서로 직교하는 수평 방향을 나타낸다.
성막 장치(100)는, 기판(110)을 반송하면서 증착 물질을 증착하는 인라인식의 성막 장치이며, X 방향으로 배열된 기판 반입실(101), 마스크 반입실(102), 얼라인먼트실(103), 성막실(104), 마스크 반출실(105) 및 기판 반출실(106)을 구비한다. 기판(110) 및 마스크(111)는 캐리어(1)를 통해 반송 장치(2)에 의해 X 방향으로 반송된다. 도시한 예에서는 기판(110)은 사각형이다.
캐리어(1)와 미성막의 기판(110)은 기판 반입실(101)에 투입되고, 기판 반입실(101)에서 기판(110)이 캐리어(1)에 탑재된다. 기판(110)을 탑재한 캐리어(1)가 마스크 반입실(102)로 반송되고, 여기서 마스크(111)도 캐리어(1)에 탑재된다. 기판(110) 및 마스크(111)를 탑재한 캐리어(1)는 얼라인먼트실(103)로 반송되고, 여기서 기판(110)과 마스크(111)의 위치맞춤이 행해진다. 마스크(111)는 기판(110) 아래에 겹치도록 보유지지된다. 그 후, 기판(110) 및 마스크(111)를 탑재한 캐리어(1)는 성막실(104)로 반송된다. 성막실(104)에서는, 증착원 위를 통과할 때, 마스크(111)를 통해 증착 물질이 증착된다. 성막실(104)은 복수의 증착실을 포함하고, 각 증착실에서 증착 재료를 기판(110)에 증착 가능하다.
성막 완료된 기판(110) 및 마스크(111)를 탑재한 캐리어(1)는, 마스크 반출실(105)로 반송되고, 캐리어(1)로부터 마스크(111)가 분리되어 반출된다. 그 후, 성막 완료된 기판(110)을 탑재한 캐리어(1)는, 기판 반출실(106)로 반송되고, 캐리어(1)로부터 기판(110)이 분리되어 반출된다. 또한, 캐리어(1)도 반출된다.
반송 장치(2) 및 캐리어(1)의 구성에 대해, 도 1에 더하여, 도 2 및 도 3을 참조하여 설명한다. 도 2는 도 1의 A-A선을 따른 반송 장치(2)의 단면도이며, 도 3은 캐리어(1)의 평면도이다.
반송 장치(2)는, 기판(110)의 폭 방향으로 이격된 한 쌍의 반송 유닛(CU)을 구비한다. 각 반송 유닛(CU)은 X 방향으로 연장 설치되어 캐리어(1)의 X 방향의 반송 경로를 형성하고 있다. 반송 유닛(CU)은, 캐리어(1)를 자력에 의해 부상 반송하는 유닛이다. 반송 유닛(CU)은, X 방향으로 배열된 복수의 전자석(코일)(21) 및 영구자석(23)을 구비하고, 이들은 프레임(20)에, Z 방향으로 이격되어 배치되어 있다. 전자석(21)의 Y 방향의 양측에는 자기 실드(22)가 설치되어 있다. 자기 실드(22)는, 예를 들면 자성 재료로 이루어지는 판형상의 부재이다.
반송 장치(2)는, 또한, 캐리어(1)의 이동 범위를 규제하는 규제 유닛(24)을 구비한다. 규제 유닛(24)은 프레임(20)에 지지되어 X 방향으로 연장 설치되어 있다. 규제 유닛(24)은, 캐리어(1)의 Y 방향의 이동 범위를 규제하는 롤러(R1)와, 캐리어(1)의 Z 방향의 이동 범위를 규제하는 롤러(R2 및 R3)를 구비한다. 롤러(R1)는, Z 방향의 회전축 주위로 자유 회전 가능하게 설치된 자유 회전체이며, 캐리어(1)의 Y 방향의 최단부에 위치하는 당접부(13)의 Y 방향의 단부면에 대향하고 있다. 캐리어(1)가 반송 경로로부터 Y 방향으로 일탈하려고 하면, 당접부(13)에 롤러(R1)가 당접하여 일탈을 방지한다. 롤러(R2 및 R3)는, Y 방향의 회전축 주위로 자유 회전 가능하게 설치된 자유 회전체이며, Z 방향으로 이격되어 배치되어 있다. 롤러(R2)는 당접부(13)의 상면에, 롤러(R3)는 당접부(13)의 하면에, 각각 대향하고 있고, 캐리어(1)가 상한 위치 또는 하한 위치에 도달하면, 당접부(13)에 롤러(R2 또는 R3)가 당접하여 그 이상의 캐리어(1)의 Z 방향의 이동을 규제한다. 롤러(R1∼R3)는 캐리어(1)가 부상하지 않을 때(비부상 위치)에 있어서 캐리어(1)를 지지하는 부재로서도 이용할 수 있다.
캐리어(1)는, 평면에서 보았을 때 사각 형상을 가지고 있고, 기판(110)을 지지하는 기판 지지부(10)와, 한 쌍의 자석 지지부(11)와, 마스크 지지부(14)를 구비한다. 기판 지지부(10)는 Y 방향의 중앙부에 위치하고 있다. 한 쌍의 자석 지지부(11)는, 접속부(12)를 통해 기판 지지부(10)의 Y 방향의 각 단부에 접속되어 있고, 기판 지지부(10)의 Y 방향에 대향하는 2변을 따라 배치되어 있다. 기판 지지부(10) 및 자석 지지부(11)는 모두 사각형이며 판형상의 부재이다.
기판 지지부(10)는 그 하면에 기판(110)을 지지한다. 기판 지지부(10)는, 기판(110)을 보유지지하는 보유지지부를 가지며, 보유지지부는, 예를 들면 점착 재료를 사용한 점착부, 또는 에어의 흡인 등에 의한 흡착부이다. 보유지지부는 기계적으로 기판을 협지하는 클램프 기구부이어도 된다. 기판(110)은 X-Y 평면 상에서 수평 자세로 지지된다.
마스크 지지부(14)는, 기판 지지부(10)에 지지된 기판(110)과 겹치도록 기판(110)의 하방에 마스크(111)를 지지한다. 마스크 지지부(14)는, 마스크(111)를 보유지지하는 보유지지부를 가지며, 보유지지부는, 예를 들면 점착 재료를 사용한 점착부, 또는 에어의 흡인 등에 의한 흡착부이다. 보유지지부는 기계적으로 기판을 협지하는 클램프 기구부이어도 된다. 마스크(111)는 X-Y 평면 상에서 수평 자세로 지지된다.
각 자석 지지부(11)는, Y 방향에서 접속부(12)측의 단부와 반대측의 단부를 갖는다. 규제 유닛(24)과 당접하는 당접부(13)는, 이 반대측의 단부에 접속된 판형상의 부재이며 X 방향으로 연장 설치되어 있다.
각 자석 지지부(11)에는, 복수의 영구자석(M1 및 M2)이 지지되어 있다. 복수의 영구자석(M1 및 M2)은 X 방향으로 배열되고, 도시하지 않은 요크가 설치되어 있다. 영구자석(M1)은, 반송 유닛(CU)의 영구자석(23)과 Z 방향으로 대향하도록 자석 지지부(11)의 하면에 고정되어 있다. 영구자석(23)과 영구자석(M1)의 반발력에 의해 캐리어(1)에 부상력이 생긴다. 영구자석(M2)은, 반송 유닛(CU)의 전자석(21)과 Z 방향으로 대향하도록 자석 지지부(11)의 상면에 고정되어 있다. 자력을 발생시키는 전자석(21)을 순차 전환함으로써, 전자석(21)과 영구자석(M2)의 흡인력에 의해 캐리어(1)에 X 방향의 이동력을 생기게 할 수 있다.
한편, 본 실시형태에서는, 전자석(21) 및 영구자석(23)이, 성막 장치(100)의 각 실(101∼106)의 내부(챔버 내부)에 배치된 구성을 상정하고 있지만, 챔버 외부에 배치된 구성이어도 된다. 또한, 캐리어(1)의 부상 반송을 위해, 영구자석(23)과 영구자석(M1)의 반발력에 의해 캐리어(1)에 부상력이 생기게 하는 구성으로 하였지만, 이들 영구자석이 없이, 영구자석(M2)과 전자석(21)만의 구성에 있어서도, 캐리어(1)의 부상 반송은 가능하다.
각 접속부(12)는 자성 재료로 형성되어 있다. 자성 재료는, 예를 들면, 철 등의 연자성 재료이다. 캐리어(1)의 다른 구성(기판 지지부(10), 자석 지지부(11) 및 당접부(13))은, 예를 들면 알루미늄 또는 알루미늄 합금 등의 비자성 재료로 형성된다. 접속부(12)를 자성 재료로 형성함으로써, 영구자석(M1 및 M2)이 일으키는 자기의 작용 범위를 제한한다. 상세한 것은 후술한다.
다음으로, 반송 장치(2)는 캐리어(1)의 반송 방향(X 방향)의 위치를 검지하는 자기식의 검지 유닛(3)을 구비한다. 검지 유닛(3)은 자기 스케일(31)과 자기 센서(32)를 구비한다. 본 실시형태의 경우, 자기 스케일(31)은 이동측인 캐리어(1)에 설치되고, 자기 센서(32)는 고정측인 프레임(20)에 설치되어 있다.
자기 스케일(31)은 X 방향으로 연장 설치된 띠형상의 부재이며, X 방향으로 자기 패턴이 기록되어 있다. 본 실시형태의 경우, 자기 스케일(31)은 기판 지지부(10)의 Y 방향의 일단부에 설치되어 있다. 자기 센서(32)는, 자기 스케일(31)의 자기 패턴을 판독하는 센서(자기 검출 헤드)이며, 자기 스케일(31)에 대향하는 위치에 배치되어 있다. 자기 센서(32)의 검지 결과에 따라 캐리어(1)의 X 방향의 위치를 특정할 수 있고, 특정한 위치에 기초한 피드백 제어에 의해 전자석(21)을 구동하여, 캐리어(1)의 반송 제어를 행할 수 있다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 자기 센서(32)는 성막 장치(100)에 있어서 반송 경로의 복수 개소에 배치되어 있다. 한편, 본 실시형태에서는 자기 스케일(31)과 자기 센서(32)를, 기판 지지부(10)의 Y 방향의 일단부측에만 배치하였지만, 양단부에 배치하는 구성도 채용 가능하다.
검지 유닛(3)은, Y 방향에 있어서, 접속부(12)보다도 기판 지지부(10) 측에 배치되어 있다. 접속부(12)를 상기한 바와 같이 자성 재료로 형성한 것에 의해, 자석 지지부(11)에 지지된 영구자석(M1 및 M2)의 자기가 검지 유닛(3)의 위치 검지에 주는 영향을 저감시킬 수 있다. 도 4의 (A) 및 도 4의 (B)는 그 설명도이다.
도 4의 (A)는 비교예로서, 접속부(12)에 상당하는 구성이 없이, 기판 지지부(10)와 자석 지지부(11)가 접속되어 있는 구성예를 나타낸다. 도시한 예는, 영구자석(M1 및 M2)이 일으키는 자속의 자속선(F1)을 모식적으로 나타내고 있다. 영구자석(M1 및 M2)으로부터는 쌍방의 자석이 서로 영향을 주어, 캐리어(1)의 이동이나 부상에 기여하지 않는 누설 자속이 발생한다. 도 4의 (A)는 이 누설 자속만의 자속선을 나타내고 있다. 이 자속이 자기 스케일(31)이나 자기 센서(32)에 이르는 것에 의해, 그 위치 검출 정밀도를 저하시키는 경우가 있다.
도 4의 (B)는 본 실시형태에 있어서의 자속선(F1, F2)을 나타내고 있다. 접속부(12)를 자성 재료로 형성함으로써, 자속선(F2)으로 나타내는 바와 같이, 영구자석(M1 및 M2)이 일으키는 자속을 접속부(12)에 끌어당기는 작용이 생긴다. 그 결과, 누설 자속이 자기 스케일(31)이나 자기 센서(32)에 이르는 것을 방지할 수 있다. 본 실시형태의 접속부(12)는, 자석 지지부(11)보다도 Z 방향에서 상측으로 연장하는 부분(12a)을 가지고 있다. 부분(12a)은, 영구자석(M2)의 Z 방향과 동일한 높이이거나, 그보다도 높은 위치로 연장하도록 구성된다. 또한, 접속부(12)는, 자석 지지부(11)보다도 Z 방향에서 하측으로 연장하는 부분(12b)을 가지고 있다. 부분(12b)은, 영구자석(M1)의 Z 방향과 동일한 높이이거나, 그보다도 낮은 위치로 연장하도록 구성된다. 이에 의해, 영구자석(M1 및 M2)이 일으키는 자속을 접속부(12)에 끌어당기는 작용이 보다 효과적으로 생기게 할 수 있다. 이상에 의해, 영구자석(M1 및 M2)의 자기가 검지 유닛(3)의 위치 검지에 주는 영향을 저감시킬 수 있다.
도 5의 (A)는 전자석(21)이 일으키는 자속을 자기 실드(22)로 차단하는 작용을 나타내고 있다. 캐리어(1)의 이동에 기여하지 않는, 전자석(21)으로부터 생기는 누설 자속(F3)은, 자기 실드(22)에 의해 차단되어, 전자석(21)이 일으키는 자기가 검지 유닛(3)의 위치 검지에 주는 영향도 저감시킬 수 있다.
<제2 실시형태>
제1 실시형태에서는, 영구자석(M1 및 M2)의 자기가 검지 유닛(3)의 위치 검지에 주는 영향을, 자성 재료인 접속부(12)만으로 저감시켰지만, 자기 실드와의 병용도 가능하다. 도 5의 (B)는 그 일례를 나타낸다. 도시한 예에서는, 접속부(12)에 대응하는 접속부(12')가, 부분(12a)을 갖지 않는 구성이다. 그 대신에 접속부(12')에는 자기 실드 부재(15)가 설치되어 있다. 자기 실드 부재(15)는 L자 형상이며, X 방향으로 연장 설치된 부재로서, 자성 재료로 형성된다. 자기 실드(15)는, 부분(12a)과 마찬가지로 기능하여, 주로 영구자석(M2)이 일으키는 자속을 끌어 당겨 검지 유닛(3)에 미치는 영향을 저감시킨다.
<제3 실시형태>
제1 실시형태에서는, 캐리어(1)를 X 방향으로 부상 반송하는 구성예를 설명하였지만, 서로 교차하는 2방향으로 부상 반송하는 구성도 채용 가능하다. 도 6은 본 실시형태의 캐리어(1)의 평면도, 도 7의 (A)는 본 실시형태의 반송 장치(2)의 평면도이다. 본 실시형태에서는 캐리어(1)를 X 방향과 Y 방향으로 반송 가능한 예를 설명한다.
캐리어(1)는, 평면에서 보았을 때 십자 형상을 가지고 있고, 제1 실시형태와 마찬가지로 기판 지지부(10)의 Y 방향의 대향하는 2변을 따라 자석 지지부(11)가 배치되어 있는 것에 더하여, X 방향의 대향하는 2변을 따라 자석 지지부(11')가 배치되어 있다. 자석 지지부(11')의 구성은 자석 지지부(11)와 동일하고, 또한, 자석 지지부(11')는 접속부(12)를 통해 기판 지지부(10)에 접속되고, 그 단부에는 당접부(13)가 설치되어 있다.
반송 장치(2)는, 제1 실시형태와 마찬가지의 반송 유닛(CU)을 가짐과 함께, 반송 유닛(CU)과 마찬가지의 구성의 반송 유닛(CU')을 가지고 있다. 반송 유닛(CU)은 Y 방향으로 연장 설치되어 있다.
검지 유닛(3)의 자기 센서(32)는, 반송 유닛(CU)의 반송 경로 상 및 반송 유닛(CU')의 반송 경로 상에 각각 복수 설치되어 있다. 또한, 검지 유닛(3)은, X 방향으로 연장 설치된 자기 스케일(31)과, Y 방향으로 연장 설치된 자기 스케일(31)을 가지고 있고, 이들은 기판 지지부(10)의 단부에 배치되어 있다.
이러한 구성으로 이루어지는 반송 장치(2)에 있어서는, 반송 유닛(CU)과 자석 지지부(11)의 영구자석(M1 및 M2)에 의해 캐리어(1)를 X 방향으로 반송하고, 또한, 반송 유닛(CU)의 종점으로부터, 반송 유닛(CU')과 자석 지지부(11')의 영구자석(M1 및 M2)에 의해 캐리어(1)를 Y 방향으로 반송할 수 있다. 이 구성에 있어서도, 자성 재료로 이루어지는 접속부(12)에 의해, 자석 지지부(11 및 11')의 각 영구자석(M1 및 M2)의 자기가 검지 유닛(3)에 영향을 주는 것을 방지할 수 있다. 한편, 본 실시형태에서는, 캐리어(1)의 반송 방향을 바꿀 때에, 그의 배향을 바꾸지 않고 반송하는 형태를 채용하였지만, 캐리어(1)의 자세를 90도 회전시키는 구성도 채용 가능하다.
<제4 실시형태>
제1 실시형태에서는, 자기 스케일(31)을 이동측인 캐리어(1)에 설치하고, 자기 센서(32)를 고정측인 프레임(20)에 설치하였지만, 반대의 배치도 채용 가능하다. 도 7의 (B)는 그 일례를 나타낸다. 도시한 예에서는, 자기 센서(32)가 캐리어(1)에 탑재되고, 자기 스케일(31)이 프레임(20)에 지지되어 있다. 자기 센서(32)는 하나의 캐리어(1)에 대해 적어도 하나 설치할 수 있다. 자기 스케일(31)은 캐리어(1)의 반송 경로를 따라 연장 설치되지만, 정밀한 위치 정밀도가 불필요한 구간에 있어서는 설치되어 있지 않아도 된다.
발명은 상기 실시형태에 제한되는 것이 아니고, 발명의 정신 및 범위로부터 이탈하지 않고, 다양한 변경 및 변형이 가능하다. 따라서, 발명의 범위를 공개하기 위해 청구항을 첨부한다.
100: 성막 장치
110: 기판
111: 마스크
1: 캐리어
2: 반송 장치
3: 위치 검지 유닛
10: 기판 지지부
11: 자석 지지부
12: 접속부
110: 기판
111: 마스크
1: 캐리어
2: 반송 장치
3: 위치 검지 유닛
10: 기판 지지부
11: 자석 지지부
12: 접속부
Claims (10)
- 기판이 탑재되는 캐리어와,
상기 캐리어를 자력에 의해 반송하는 반송 수단과,
상기 캐리어의 반송 방향의 위치를 검지하는 자기식의 검지 수단을 구비한 반송 장치로서,
상기 캐리어는,
상기 기판을 지지하는 기판 지지부와,
상기 기판 지지부의 단부에 접속부를 통해 접속되며, 상기 반송 수단의 자기가 작용하는 영구자석을 지지하는 자석 지지부를 구비하고,
상기 검지 수단은, 상기 접속부보다도 상기 기판 지지부 측에 배치되고,
상기 접속부가 자성 재료로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 반송 장치. - 제1항에 있어서,
상기 검지 수단은,
상기 캐리어에 지지된 자기 스케일과,
상기 캐리어의 반송 경로 상에 배치되며 상기 자기 스케일을 판독하는 자기 센서를 구비하는 것을 특징으로 하는 반송 장치. - 제1항에 있어서,
상기 접속부에는, 상기 영구자석과 상기 검지 수단의 사이에 배치된 자기 실드 부재가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 반송 장치. - 제1항에 있어서,
상기 반송 수단은, 제1 방향과, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 상기 캐리어를 반송 가능하고,
상기 자석 지지부는,
상기 제1 방향을 따라 배치된 제1 자석 지지부와,
상기 제2 방향을 따라 배치된 제2 자석 지지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 반송 장치. - 제1항에 있어서,
상기 자석 지지부에는,
상기 반송 수단으로부터의 제1 자기에 의해, 상기 캐리어에 부상력을 생기게 하는 제1 영구자석과,
상기 반송 수단으로부터의 제2 자기에 의해, 상기 캐리어에 상기 반송 방향의 이동력을 생기게 하는 제2 영구자석이 지지되는 것을 특징으로 하는 반송 장치. - 제1항에 있어서,
상기 캐리어는, 상기 기판과 겹치도록 마스크를 지지하는 마스크 지지부를 구비하는 것을 특징으로 하는 반송 장치. - 제1항에 있어서,
상기 기판 지지부는 사각형의 판형상이며,
상기 자석 지지부는,
상기 기판 지지부의 대향하는 2변을 따라 배치된 한 쌍의 제1 자석 지지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 반송 장치. - 제4항에 있어서,
상기 제1 방향과 상기 제2 방향은 직교하고,
상기 기판 지지부는 사각형의 판형상이며,
상기 자석 지지부는,
상기 기판 지지부의 대향하는 2변을 따라 배치된 한 쌍의 제1 자석 지지부와,
상기 기판 지지부의, 상기 2변과 다른 대향하는 2변을 따라 배치된 한 쌍의 제2 자석 지지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 반송 장치. - 제1항에 있어서,
상기 반송 방향과 교차하는 방향에서의 상기 캐리어의 이동 범위를 규제하는 자유 회전체를 구비하고,
상기 자석 지지부는,
상기 접속부와 접속되는 제1 단부와,
상기 제1 단부와 반대측의 제2 단부를 구비하고,
상기 제2 단부에는, 상기 자유 회전체와 당접 가능한 당접부가 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 반송 장치. - 기판이 탑재되어, 반송 수단에 의해 자력에 의해 반송되고, 반송 방향의 위치가 자기식의 검지 수단으로 검지되는 캐리어로서,
상기 기판을 지지하는 기판 지지부와,
상기 기판 지지부의 단부에 접속부를 통해 접속되며, 상기 반송 수단의 자기가 작용하는 영구자석을 지지하는 자석 지지부를 구비하고,
상기 검지 수단은, 상기 접속부보다도 상기 기판 지지부 측에 배치되고,
상기 접속부가 자성 재료로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 캐리어.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021002375A JP2022107427A (ja) | 2021-01-08 | 2021-01-08 | 搬送装置及びキャリア |
JPJP-P-2021-002375 | 2021-01-08 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20220100509A true KR20220100509A (ko) | 2022-07-15 |
Family
ID=82325024
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020210186067A KR20220100509A (ko) | 2021-01-08 | 2021-12-23 | 반송 장치 및 캐리어 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2022107427A (ko) |
KR (1) | KR20220100509A (ko) |
CN (1) | CN114752912A (ko) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004056892A (ja) | 2002-07-18 | 2004-02-19 | Yaskawa Electric Corp | リニアモータ装置 |
-
2021
- 2021-01-08 JP JP2021002375A patent/JP2022107427A/ja active Pending
- 2021-12-23 KR KR1020210186067A patent/KR20220100509A/ko unknown
- 2021-12-27 CN CN202111609937.5A patent/CN114752912A/zh active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004056892A (ja) | 2002-07-18 | 2004-02-19 | Yaskawa Electric Corp | リニアモータ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN114752912A (zh) | 2022-07-15 |
JP2022107427A (ja) | 2022-07-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6585191B2 (ja) | キャリア又は基板を搬送するための装置及び方法 | |
US11377310B2 (en) | Magnetic levitation system, base of a magnetic levitation system, vacuum system, and method of contactlessly holding and moving a carrier in a vacuum chamber | |
JP6602465B2 (ja) | 基板キャリア及びマスクキャリアの位置決め装置、基板キャリア及びマスクキャリアの搬送システム、並びにそのための方法 | |
TWI680196B (zh) | 用於真空腔內處理基板之設備與系統及用於使基板載體相對遮罩載體對準之方法 | |
KR102253563B1 (ko) | 비접촉식 정렬을 위한 방법 및 장치 | |
KR102304434B1 (ko) | 진공 챔버 내에서의 캐리어 정렬을 위한 장치 및 진공 시스템, 및 캐리어를 정렬하는 방법 | |
WO2019052657A1 (en) | METHOD FOR DETERMINING THE ALIGNMENT OF A SUPPORT LEVITATION SYSTEM | |
CN113519046A (zh) | 掩模框架集成、用于掩模框架的载体和用于处理掩模的方法 | |
KR102069679B1 (ko) | 진공 챔버에서 기판을 프로세싱하기 위한 장치 및 시스템, 및 진공 챔버에서 캐리어를 운송하는 방법 | |
KR20220100509A (ko) | 반송 장치 및 캐리어 | |
CN112867878B (zh) | 用于承载平面物体的载体、用于输送载体的输送系统、用于非接触式地输送载体的方法和用于生产涂布基板的方法 | |
WO2020126040A1 (en) | Magnetic levitation system, carrier for a magnetic levitation system, vacuum system, and method of transporting a carrier | |
KR102167534B1 (ko) | 진공 챔버에서의 캐리어 정렬을 위한 장치 및 진공 시스템, 및 캐리어의 정렬 방법 | |
JP2020087977A (ja) | 磁気浮上搬送装置 | |
JP2021534591A (ja) | 第1のキャリア及び第2のキャリアを搬送するための装置、基板を垂直に処理するための処理システム、及びそれらの方法 | |
WO2020083462A1 (en) | Material deposition apparatus, vacuum deposition system and method of processing a large area substrate | |
WO2023238478A1 (ja) | 成膜装置、成膜方法、アライメント装置及びアライメント方法 | |
JP2022126544A (ja) | 搬送キャリア、搬送システム、搬送キャリアの製造方法、磁力測定装置、加工システム及び物品の製造方法 | |
WO2021197586A1 (en) | Carrier transportation apparatus, carrier transport system, processing system and method of transporting a carrier | |
JP2023178622A (ja) | 成膜装置、成膜方法、アライメント装置及びアライメント方法 | |
JP2023178641A (ja) | 成膜装置、成膜方法、アライメント装置及びアライメント方法 | |
KR20230036047A (ko) | 성막 장치, 기판 반송 장치, 기판 반송 방법 및 전자 디바이스의 제조 방법 | |
CN113678238A (zh) | 磁悬浮系统和测量至少一个电磁致动器与铁磁元件之间的距离的方法 |