KR20220075636A - 기판 처리 장치 - Google Patents

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KR20220075636A KR1020200163931A KR20200163931A KR20220075636A KR 20220075636 A KR20220075636 A KR 20220075636A KR 1020200163931 A KR1020200163931 A KR 1020200163931A KR 20200163931 A KR20200163931 A KR 20200163931A KR 20220075636 A KR20220075636 A KR 20220075636A
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전수빈
손덕현
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세메스 주식회사
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Abstract

자이로 센서를 이용해 트랜스퍼 모듈의 수평을 유지하여 이송 로봇의 웨이퍼 반송 정밀도를 향상시키는 기판 처리 장치가 제공된다. 상기 기판 처리 장치는 길이 방향으로 배치된 제1 트랜스퍼 챔버와 제2 트랜스퍼 챔버; 상기 제1 트랜스퍼 챔버와 상기 제2 트랜스퍼 챔버의 내부에, 상기 제1 트랜스퍼 챔버와 상기 제2 트랜스퍼 챔버 내에서 기판을 이동시키기 위한 이송 로봇; 상기 이송 로봇에 설치된 자이로 센서; 상기 자이로 센서로부터 센싱값을 전달받아, 상기 제1 트랜스퍼 챔버 및 상기 제2 트랜스퍼 챔버의 기울기를 측정하여 보정값을 생성하는 제어부; 및 상기 제1 트랜스퍼 챔버 및 상기 제2 트랜스퍼 챔버 중 적어도 하나의 아래에 설치되어, 상기 제어부의 보정값에 따라 상기 제1 트랜스퍼 챔버 및 상기 제2 트랜스퍼 챔버 중 적어도 하나의 기울기를 조절하는 적어도 하나의 레벨러를 더 포함하고, 상기 제1 트랜스퍼 챔버 및 상기 제2 트랜스퍼 챔버의 양측면에 복수의 프로세스 챔버가 배치된다.

Description

기판 처리 장치{Apparatus for processing substrate}
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다.
통상적으로 반도체 소자는 웨이퍼 상에 여러 가지 물질을 박막 형태로 증착하고 패터닝하여 제조한다. 이를 위해 웨이퍼는 증착 공정, 식각 공정, 세정 공정 및 건조 공정 등과 같은 여러 단계의 공정을 거칠 수 있다. 상기와 같은 공정이 이루어질 때, 웨이퍼는 최적의 환경에서 공정이 수행되도록 프로세스 챔버로 이송되는데, 이 때, 프로세스 챔버로 웨이퍼를 이송하는 장치가 웨이퍼 이송 장치이다.
종래의 웨이퍼 이송 장치는 트랜스퍼 모듈을 둘러싸도록 다수의 프로세스 챔버가 결합되고, 다수의 프로세스 챔버에서 동시에 웨이퍼 처리 공정이 이루어질 수 있다. 이 때, 종래의 트랜스퍼 모듈에 포함된 진공 로봇은 제자리에서 로드락 챔버와 다수의 프로세스 챔버 중 하나로 웨이퍼를 전달하는 방식으로 각 프로세스 챔버에 웨이퍼를 이송한다.
반도체 공정에서, 웨이퍼는 최적의 환경에서 공정이 수행되도록 프로세스 챔버로 이송된다. 프로세스 챔버는 트랜스퍼 모듈의 측면에 배치되는데, 다수의 프로세스 챔버를 결합하기 위해 트랜스퍼 모듈의 길이가 길어질 수 있다. 이에 따라, 트랜스퍼 모듈의 틀어짐이 발생하기 쉽다. 특히 다수의 트랜스퍼 모듈이 연결되는 경우, 트랜스퍼 모듈 간의 연결부는 변형에 취약할 수 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 자이로 센서를 이용해 트랜스퍼 모듈의 수평을 유지하여 이송 로봇의 웨이퍼 반송 정밀도를 향상시키는 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 과제를 달성하기 위한 본 발명의 기판 처리 장치의 일 면(aspect)은, 길이 방향으로 배치된 제1 트랜스퍼 챔버와 제2 트랜스퍼 챔버; 상기 제1 트랜스퍼 챔버와 상기 제2 트랜스퍼 챔버의 내부에, 상기 제1 트랜스퍼 챔버와 상기 제2 트랜스퍼 챔버 내에서 기판을 이동시키기 위한 이송 로봇; 상기 이송 로봇에 설치된 자이로 센서; 상기 자이로 센서로부터 센싱값을 전달받아, 상기 제1 트랜스퍼 챔버 및 상기 제2 트랜스퍼 챔버의 기울기를 측정하여 보정값을 생성하는 제어부; 및 상기 제1 트랜스퍼 챔버 및 상기 제2 트랜스퍼 챔버 중 적어도 하나의 아래에 설치되어, 상기 제어부의 보정값에 따라 상기 제1 트랜스퍼 챔버 및 상기 제2 트랜스퍼 챔버 중 적어도 하나의 기울기를 조절하는 적어도 하나의 레벨러를 더 포함하고, 상기 제1 트랜스퍼 챔버 및 상기 제2 트랜스퍼 챔버의 양측면에 복수의 프로세스 챔버가 배치된다.
상기 이송 로봇은, 상기 이송 로봇을 이동시키기 위한 이동부, 상기 이동부와 연결되어 제1 방향으로 연장되는 연결부, 상기 연결부와 연결되고, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향 및 제3 방향으로 연장되는 지지판, 상기 기판을 이동시키기 위한 이송 유닛을 포함할 수 있다.
상기 자이로 센서는 상기 지지판의 하면 상에 배치될 수 있다.
상기 이송 로봇은, 상기 이동부를 통해 상기 제2 방향으로 구동할 수 있다.
상기 기판 처리 장치는 제2 방향으로 연장되는 리니어 트랙을 더 포함하고, 상기 이송 로봇은 상기 리니어 트랙 위에 배치되어 상기 제2 방향으로 구동할 수 있다.
상기 제1 트랜스퍼 챔버와 상기 제2 트랜스퍼 챔버는 그 사이에 배치되는 연결벽을 공유하고, 상기 연결벽 내에 연결 통로를 포함할 수 있다.
상기 기판 처리 장치는 제2 방향으로 연장되는 리니어 트랙을 더 포함하고, 상기 이송 로봇은 상기 리니어 트랙 위에 배치되어 상기 제2 방향으로 구동하고, 상기 리니어 트랙은 상기 연결통로를 관통하여, 상기 제1 트랜스퍼 챔버와 상기 제2 트랜스퍼 챔버의 내부에 배치될 수 있다.
상기 레벨러는 상기 제1 트랜스퍼 챔버 아래에 설치되는 복수의 제1 레벨러와, 상기 제2 트랜스퍼 챔버 아래에 설치되는 복수의 제2 레벨러를 포함할 수 있다.
복수의 상기 제1 레벨러는 각각 상기 제1 트랜스퍼 챔버의 중심으로부터 이격되어 배치되고, 복수의 상기 제2 레벨러는 각각 상기 제2 트랜스퍼 챔버의 중심으로부터 이격되어 배치될 수 있다.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
도 1은 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 평면도이다.
도 2는 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 기판 처리 장치의 트랜스퍼 모듈을 설명하기 위한 측면도이다.
도 3은 도 2의 이송 로봇 및 자이로 센서를 설명하기 위한 확대도이다.
도 4은 본 발명에 따른 기판 처리 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 게시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 게시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
소자(elements) 또는 층이 다른 소자 또는 층의 "위(on)" 또는 "상(on)"으로 지칭되는 것은 다른 소자 또는 층의 바로 위뿐만 아니라 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 반면, 소자가 "직접 위(directly on)" 또는 "바로 위"로 지칭되는 것은 중간에 다른 소자 또는 층을 개재하지 않은 것을 나타낸다.
공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below)", "아래(beneath)", "하부(lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 소자를 뒤집을 경우, 다른 소자의 "아래(below)" 또는 "아래(beneath)"로 기술된 소자는 다른 소자의 "위(above)"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "아래"는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 소자는 다른 방향으로도 배향될 수 있고, 이에 따라 공간적으로 상대적인 용어들은 배향에 따라 해석될 수 있다.
비록 제1, 제2 등이 다양한 소자, 구성요소 및/또는 섹션들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 소자, 구성요소 및/또는 섹션들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 소자, 구성요소 또는 섹션들을 다른 소자, 구성요소 또는 섹션들과 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 소자, 제1 구성요소 또는 제1 섹션은 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 소자, 제2 구성요소 또는 제2 섹션일 수도 있음은 물론이다.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.
다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어 도면 부호에 상관없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
도 1은 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 평면도이다.
도 1을 참고하면, 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 기판 처리 장치(100)는 로드 포트(load port)(110; 110a, 110b, 110c), 프론트 앤드 시스템(front and system)(120), 로드락 챔버(150a, 150b), 트랜스퍼 모듈(160), 프로세스 챔버(180; 180a ~ 180j)를 포함한다.
로드 포트(110)는 복수의 로드 포트(110a, 110b, 110c)를 포함할 수 있다. 로드 포트(110)는 기판(W)을 로딩(loading) 및 언로딩(unloading)하기 위한 부분이다. 로드 포트(110)에는 기판(W)이 단매 또는 캐리어에 적재된 상태로 로딩될 수 있다.
로드 포트(110)에 놓인 기판(W)은 공정 처리를 위한 프로세스 챔버(180) 내부로 반입되기 위한 기판(W)일 수도 있고, 프로세스 챔버(180)의 내부로부터 공정이 완료된 후 반출되어 다른 곳으로 이송되기 위한 기판(W)일 수 있다. 도 1에서는 3개의 로드 포트(110)가 도시되어 있으나, 로드 포트(110)의 개수는 예시적으로 도시되었을 뿐, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않는다.
프론트 앤드 시스템(120)은 대기 상태에서 오염이 되지 않은 공간 내에서 기판(W)을 이송하기 위한 제1 이송 로봇(140)과 얼라이너(130; 130a, 130b)를 포함한다. 구체적으로, 제1 이송 로봇(140)은 로드 포트(110)에 있는 기판(W)을 얼라이너(130)로 이송하거나 얼라이너(130) 내에서 일정하게 정렬된 기판(W)을 적어도 하나의 로드락 챔버(150)로 이송한다.
얼라이너(130)는 제1 이송 로봇(140)에 의해 이송된 기판(W)의 방향 및 중심을 일정하게 정렬시킨다. 얼라이너(130)의 개수는 예시일 뿐, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않는다.
예를 들어, 얼라이너(130)는 두 개 형성될 수 있다. 얼라이너(130)가 두 개 형성됨에 따라서 제1 이송 로봇(140)은 도면과 같이 기판(W)을 이송시키는 암이 두 개 형성될 수도 있다.
로드락 챔버(150; 150a, 150b)는 제1 이송 로봇(140)에 의해 기판(W)이 이송되어 들어오면 일시적으로 보관을 한다. 또한, 로드락 챔버(150)는 내부를 진공 상태로 만들어서 트랜스퍼 모듈(160)과 프론트 앤드 시스템(120)을 서로 분리하는 역할을 한다.
트랜스퍼 모듈(160)은 제2 이송 로봇(170)을 포함한다. 트랜스퍼 모듈(160)의 내부는 진공 상태로 이루어질 수 있다. 트랜스퍼 모듈(160)은 진공 상태에서 로드락 챔버(150)으로부터 각 프로세스 챔버(180)로 기판(W)을 이송하거나, 프로세스 챔버(180) 간에 기판(W)을 이송하거나, 프로세스 챔버(180)로부터 로드락 챔버(150)로 공정이 완료된 기판(W)을 이송시키는 역할을 한다.
적어도 하나의 프로세스 챔버(180)는 제2 이송 로봇(170)에 의해 이송되어 온 기판(W)에 대해서 소정의 공정을 진행한다. 도 1에서는 10개의 프로세스 챔버(180)가 도시되어 있으나, 이는 예시일 뿐, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되는 것은 아니다.
도 2는 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 기판 처리 장치의 트랜스퍼 모듈을 설명하기 위한 측면도이다. 도 3은 도 2의 이송 로봇 및 자이로 센서를 설명하기 위한 확대도이다.
도 2를 참조하면, 트랜스퍼 모듈(160)은 트랜스퍼 챔버(161), 리니어 트랙(164), 제어부(166) 및 레벨러(167)를 더 포함할 수 있다.
트랜스퍼 챔버(161)의 내부는 진공 상태로 만들어질 수 있다.
트랜스퍼 챔버(161)는 제1 트랜스퍼 챔버(161a) 및 제2 트랜스퍼 챔버(161b)를 포함할 수 있다. 제1 트랜스퍼 챔버(161a)와 제2 트랜스퍼 챔버(161b)는 연결되어 배치될 수 있다. 제1 트랜스퍼 챔버(161a)와 제2 트랜스퍼 챔버(161b)는 길이 방향으로 배치될 수 있다.
제1 트랜스퍼 챔버(161a) 및 제2 트랜스퍼 챔버(161b)의 양측면 상에 복수의 프로세스 챔버(180; 180a ~ 180j)가 배치될 수 있다. 도 1에서는 제1 트랜스퍼 챔버(161a)의 양측면 각각에 프로세스 챔버(180)가 3개씩 배치되고, 제2 트랜스퍼 챔버(161b)의 양측면 각각에 프로세스 챔버(180)가 2개씩 배치되는 것으로 도시되어 있으나, 배치되는 프로세스 챔버(180)의 개수는 예시일 뿐, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되는 것은 아니다.
제1 트랜스퍼 챔버(161a)와 제2 트랜스퍼 챔버(161b)는 그 사이에 배치되는 연결벽(162)을 공유할 수 있다.
연결벽(162) 내부에 연결 통로(163)는 배치될 수 있다. 연결 통로(163)는 연결벽(162)을 관통할 수 있다. 연결 통로(163)는 개폐가 가능할 수 있지만, 이는 예시일 뿐, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않는다. 예를 들어, 연결 통로(163)는 항상 열려있을 수 있다.
리니어 트랙(164)은 트랜스퍼 챔버(161) 내부에 배치될 수 있다. 리니어 트랙(164)은 제2 이송 로봇(170)의 이동 방향을 선형(linear)으로 유도할 수 있다. 리니어 트랙(164)은 제1 트랜스퍼 챔버(161a)와 제2 트랜스퍼 챔버(161b)의 바닥면에 배치될 수 있다. 리니어 트랙(164)은 제1 방향(X)으로 연장될 수 있다. 리니어 트랙(164)은 연결 통로(163)를 관통하여 설치될 수 있다.
트랜스퍼 챔버(161)의 내부에 기판을 이동시키기 위한 제2 이송 로봇(170)은 배치될 수 있다. 제2 이송 로봇(170)은 트랜스퍼 챔버(161)의 내부에서 제1 방향(X)으로 구동될 수 있다.
제1 트랜스퍼 챔버(161a) 및 제2 트랜스퍼 챔버(161b) 내부에 제2 이송 로봇(170)은 배치될 수 있다. 제2 이송 로봇(170)은 제1 트랜스퍼 챔버(161a) 및 제2 트랜스퍼 챔버(161b) 내에서 기판(W)을 이동시킬 수 있다.
제2 이송 로봇(170)은 리니어 트랙(164) 상에 배치될 수 있다. 제2 이송 로봇(170)은 리니어 트랙(164) 상에서 제1 방향(X)으로 구동될 수 있다. 제2 이송 로봇(170)은 제1 트랜스퍼 챔버(161a)와 제2 트랜스퍼 챔버(161b) 사이에서 이동할 수 있다.
제어부(166)는 제2 이송 로봇(170)에 설치된 후술되는 자이로 센서(175)로부터 센싱값을 전달받을 수 있다. 제어부(166)는 전달받은 센싱값을 이용하여 제1 트랜스퍼 챔버(161a)와 제2 트랜스퍼 챔버(161b)의 기울기를 각각 측정할 수 있다. 이에 따라 제어부(166)는 제1 트랜스퍼 챔버(161a)와 제2 트랜스퍼 챔버(161b)에 대한 기울기 보정값을 각각 생성할 수 있다. 제어부(166)는 상기 기울기 보정값을 레벨러로 전달할 수 있다.
레벨러(167)는 제어부(166)로부터 제1 트랜스퍼 챔버(161a)와 제2 트랜스퍼 챔버(161b)에 대한 기울기 보정값을 전달받을 수 있다. 레벨러(167)는 제어부(166)의 보정값에 따라 제1 트랜스퍼 챔버(161a) 및 제2 트랜스퍼 챔버(161b) 중 적어도 하나의 기울기를 조절할 수 있다.
레벨러(167)는 레벨러(167)가 설치된 트랜스퍼 챔버(161)의 바닥면 높이를 조정함으로써, 트랜스퍼 챔버(161)의 기울기를 조절할 수 있다. 단, 레벨러(167)의 높이 조절 방식은 예시일 뿐, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않는다.
레벨러(167)는 제1 트랜스퍼 챔버(161a) 및 제2 트랜스퍼 챔버(161b) 중 적어도 하나의 아래에 설치될 수 있다. 레벨러(167)는 제1 방향(X)과 교차하는 제2 방향(Y)을 따라 연장될 수 있다.
레벨러(167)는 제1 트랜스퍼 챔버(161a) 아래에 설치되는 제1 레벨러(167a)와, 상기 제2 트랜스퍼 챔버(161b) 아래에 설치되는 제2 레벨러(167b)를 포함할 수 있다. 레벨러(167)는 복수의 제1 레벨러(167a)와 복수의 제2 레벨러(167b)를 포함할 수 있다.
복수의 제1 레벨러(167a)는 각각 제1 트랜스퍼 챔버(161a)의 중심으로부터 이격되어 배치될 수 있고, 복수의 제2 레벨러(167b)는 각각 제2 트랜스퍼 챔버(161b)의 중심으로부터 이격되어 배치될 수 있다. 복수의 제1 레벨러(167a) 및 복수의 제2 레벨러(167b)의 배치는 각각 직사각형을 이룰 수 있다.
단, 레벨러(167)의 개수, 모양, 배치 등은 예시일 뿐 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않는다.
도 3을 참조하면, 제2 이송 로봇(170)은 이동부(171), 연결부(172), 지지판(173), 이송 유닛(174) 및 자이로 센서(175)를 포함할 수 있다.
이동부(171)는 제2 이송 로봇(170)을 이동시킬 수 있다. 이동부(171)는 트랜스퍼 챔버(161) 내에서 제1 방향(X)을 따라 구동될 수 있다. 구체적으로, 이동부(171)는 리니어 트랙(164) 상에서 리니어 트랙(164)을 따라 제1 방향(X)으로 구동될 수 있다.
이동부(171)는 바퀴를 이용하여 제2 이송 로봇(170)을 이동시킬 수 있지만, 이동부(171)의 이동 방식은 예시일 뿐, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않는다.
연결부(172)는 이동부(171)와 연결될 수 있다. 연결부(172)는 이동부(171)와 후술되는 지지판(173) 사이에 배치되어, 이동부(171)와 지지판(173)을 연결할 수 있다. 연결부(172)는 제2 방향(Y)을 따라 연장될 수 있다.
지지판(173)은 후술되는 이송 유닛(174)을 지탱하기 위한 구성일 수 있다. 지지판(173)은 이동부(171) 및 연결부(172) 상에 배치될 수 있다. 지지판(173)은 연결부(172)와 연결될 수 있다. 지지판(173)은 제1 방향(X)과, 제1 방향(X) 및 제2 방향(Y)과 교차하는 제3 방향(Z)으로 연장될 수 있다. 지지판(173)은 판(plate) 형상일 수 있다.
지지판(173)의 모양은 예시일 뿐, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않는다.
이송 유닛(174)은 지지판(173) 상에 배치될 수 있다. 이송 유닛(174)은 기판(W)을 프로세스 챔버(180)로 이송할 수 있다. 기판(W)을 이송하기 위한 이송 유닛(174)의 기판(W) 고정 방식은 본 발명의 기술적 사상을 한정하지 않는다.
자이로 센서(175)는 트랜스퍼 챔버(161)의 기울기에 대한 센싱값을 측정할 수 있다. 상기 센싱값은 자이로 센서(175)로부터 제어부(166)로 전달될 수 있다. 센싱값의 전달 방식은 광섬유를 이용한 방식일 수 있으나, 이는 예시일 뿐, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않는다.
자이로 센서(175)는 제2 이송 로봇(170)에 설치될 수 있다. 자이로 센서(175)는 제2 이송 로봇(170)의 지지판(173)의 하면 상에 배치될 수 있다. 도 2 및 도 3에서도 자이로 센서(175)는 지지판(173)의 하면 상에 배치된 것으로 도시되었으나, 이는 예시일 뿐, 트랜스퍼 챔버(161)의 기울기가 측정될 수 있는 배치라면, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않는다.
예를 들어, 자이로 센서(175)는 제2 이송 로봇(170)의 연결부(172) 상에 배치될 수 있다.
도 4은 본 발명에 따른 기판 처리 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 4를 참조하면, 먼저, 트랜스퍼 챔버(161)의 틀어짐이 발생한다(S10). 트랜스퍼 챔버(161)의 틀어짐이 발생하는 원인은 다양할 수 있다.
일 예로, 트랜스퍼 챔버(161)의 측면에 다수의 프로세스 챔버(180)를 배치하기 위해, 트랜스퍼 챔버(161)의 길이가 길어질 수 있다. 이에 따라, 트랜스퍼 챔버(161)의 휘어짐이 발생할 수 있다.
다른 예로, 복수의 트랜스퍼 챔버(161)가 연결되어 배치될 수 있다. 복수의 트랜스퍼 챔버(161) 사이의 연결부는 변형에 취약할 수 있기 때문에, 트랜스퍼 챔버(161)의 틀어짐이 발생할 수 있다.
다음, 자이로 센서(175)는 트랜스퍼 챔버(161)의 틀어짐을 감지한다(S20). 자이로 센서(175)는 제2 이송 로봇(170)에 배치되어 제2 이송 로봇(170)의 기울어짐 정도를 측정할 수 있다. 제2 이송 로봇(170)의 기울어짐을 판단함으로써, 트랜스퍼 챔버(161)의 틀어짐을 감지할 수 있다.
다음, 트랜스퍼 챔버(161)의 틀어짐에 대한 센싱값은 제어부(166)로 전달될 수 있다(S30). 제어부(166)는 전달받은 센싱값을 기초로 보정값을 생성한다(S40). 보정값은 트랜스퍼 챔버(161)의 틀어짐을 보상하기 위한 수치일 수 있다.
제어부(166)는 레벨러(167)로 상기 보정값을 기초로 하는 보정신호를 전달할 수 있다(S50). 보정신호는 각각의 레벨러(167)를 독립적으로 구동시키는 신호일 수 있다. 예를 들어, 제1 트랜스퍼 챔버(161a)의 기울기를 보정하기 위하여, 제1 레벨러(167a)를 구동시키고, 제2 레벨러(167b)를 구동시키지 않는 보정신호일 수 있다.
또한, 복수의 제1 레벨러(167a) 또는 복수의 제2 레벨러(167b)를 독립적으로 구동시키는 보정신호일수도 있다.
레벨러(167)는 보정신호를 수신하여 트랜스퍼 챔버(161)의 기울기를 조절할 수 있다(S60). 레벨러(167)는 레벨러(167)가 설치된 트랜스퍼 챔버(161)의 바닥면 높이를 조정함으로써, 트랜스퍼 챔버(161)의 기울기를 조절할 수 있다. 단, 레벨러(167)의 높이 조절 방식은 예시일 뿐, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않는다.
이상과 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
100: 기판 처리 장치 160: 트랜스퍼 모듈
161: 트랜스퍼 챔버 164: 리니어 트랙
166: 제어부 167: 레벨러
170: 제2 이송 로봇 175: 자이로 센서

Claims (9)

  1. 길이 방향으로 배치된 제1 트랜스퍼 챔버와 제2 트랜스퍼 챔버;
    상기 제1 트랜스퍼 챔버와 상기 제2 트랜스퍼 챔버의 내부에, 상기 제1 트랜스퍼 챔버와 상기 제2 트랜스퍼 챔버 내에서 기판을 이동시키기 위한 이송 로봇;
    상기 이송 로봇에 설치된 자이로 센서;
    상기 자이로 센서로부터 센싱값을 전달받아, 상기 제1 트랜스퍼 챔버 및 상기 제2 트랜스퍼 챔버의 기울기를 측정하여 보정값을 생성하는 제어부; 및
    상기 제1 트랜스퍼 챔버 및 상기 제2 트랜스퍼 챔버 중 적어도 하나의 아래에 설치되어, 상기 제어부의 보정값에 따라 상기 제1 트랜스퍼 챔버 및 상기 제2 트랜스퍼 챔버 중 적어도 하나의 기울기를 조절하는 적어도 하나의 레벨러를 더 포함하고,
    상기 제1 트랜스퍼 챔버 및 상기 제2 트랜스퍼 챔버의 양측면에 복수의 프로세스 챔버가 배치되는 기판 처리 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 이송 로봇은,
    상기 이송 로봇을 이동시키기 위한 이동부;
    상기 이동부와 연결되어 제1 방향으로 연장되는 연결부;
    상기 연결부와 연결되고, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향 및 제3 방향으로 연장되는 지지판; 및
    상기 기판을 이동시키기 위한 이송 유닛을 포함하는 기판 처리 장치.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 자이로 센서는 상기 지지판의 하면 상에 배치되는 기판 처리 장치.
  4. 제 2항에 있어서,
    상기 이송 로봇은, 상기 이동부를 통해 상기 제2 방향으로 구동하는 기판 처리 장치.
  5. 제 1항에 있어서,
    제2 방향으로 연장되는 리니어 트랙을 더 포함하고,
    상기 이송 로봇은 상기 리니어 트랙 상에 배치되어 상기 제2 방향으로 구동하는, 기판 처리 장치.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 제1 트랜스퍼 챔버와 상기 제2 트랜스퍼 챔버는 그 사이에 배치되는 연결벽을 공유하고,
    상기 연결벽 내에 연결 통로를 포함하는, 기판 처리 장치.
  7. 제 6항에 있어서,
    제2 방향으로 연장되는 리니어 트랙을 더 포함하고,
    상기 이송 로봇은 상기 리니어 트랙 위에 배치되어 상기 제2 방향으로 구동하고,
    상기 리니어 트랙은 상기 연결 통로를 관통하여, 상기 제1 트랜스퍼 챔버와 상기 제2 트랜스퍼 챔버의 내부에 배치되는 기판 처리 장치.
  8. 제 1항에 있어서,
    상기 레벨러는 상기 제1 트랜스퍼 챔버 아래에 설치되는 복수의 제1 레벨러와, 상기 제2 트랜스퍼 챔버 아래에 설치되는 복수의 제2 레벨러를 포함하는, 기판 처리 장치.
  9. 제 8항에 있어서,
    복수의 상기 제1 레벨러는 각각 상기 제1 트랜스퍼 챔버의 중심으로부터 이격되어 배치되고,
    복수의 상기 제2 레벨러는 각각 상기 제2 트랜스퍼 챔버의 중심으로부터 이격되어 배치되는 기판 처리 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2024006121A (ja) * 2022-06-30 2024-01-17 蘇州芯慧聯半導体科技有限公司 真空ウエーハ搬送システム
JP2024006122A (ja) * 2022-06-30 2024-01-17 蘇州芯慧聯半導体科技有限公司 基板自動搬送装置

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