KR20220066592A - 윈도우 및 반사 부재를 포함하는 기판 가열 장치 및 이를 갖는 기판 처리 장치 - Google Patents
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Abstract
기판 가열 장치는 척 스테이지 상에 배치되며 광을 발산하는 가열 램프들, 상기 가열 램프들과 상기 기판 사이에 배치되며 상부에 상기 기판이 놓여지는 윈도우, 상기 윈도우는 윈도우 베이스 및 상기 윈도우 베이스의 중앙부의 상면 또는 하면 중 적어도 하나에 배치되는 중앙 광조절부를 포함하며, 및 상기 가열 램프들과 상기 척 스테이지 사이에 배치되며 상기 광을 상기 기판으로 반사하는 반사 부재를 포함한다. 상기 반사 부재는 반사 베이스, 중앙 반사 조절부, 및 에지 반사 조절부를 포함한다. 상기 중앙 반사 조절부 및 상기 에지 반사 조절부는 각각 상기 가열 램프들 중 인접하는 것과 수직 방향으로 어긋나게 배치된다.
Description
본 개시의 기술적 사상은 윈도우 및 반사부재를 포함하는 기판 가열 장치 및 이를 갖는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
매엽식 기판 처리 장치에서는 기판을 가열하여 기판의 식각률을 향상시키기 위한 기판 가열 장치가 활용된다. 기판 가열 장치는 기판에 빛을 조사하여 기판을 가열시킬 수 있다.
본 개시의 기술적 사상의 실시예들에 따른 과제는 광조절부를 갖는 윈도우 및 반사 조절부를 갖는 반사 부재를 포함하는 기판 가열 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는데 있다.
본 개시의 실시예들에 따른 기판 가열 장치는 척 스테이지 상에 배치되며 기판을 가열하도록 광을 발산하는 가열 램프들, 상기 가열 램프들은 상기 척 스테이지의 중심축을 기준으로 동심으로 배치되고 링 형상을 가지며, 상기 가열 램프들과 상기 기판 사이에 배치되며 상부에 상기 기판이 놓여지는 윈도우, 상기 윈도우는 윈도우 베이스 및 상기 윈도우 베이스의 중앙부의 상면 또는 하면 중 적어도 하나에 배치되는 중앙 광조절부를 포함하며; 및 상기 가열 램프들과 상기 척 스테이지 사이에 배치되며 상기 광을 상기 기판으로 반사하는 반사 부재를 포함할 수 있다. 상기 반사 부재는 반사 베이스, 상기 반사 베이스 상에 배치되며 상기 광을 상기 기판의 중앙부로 반사하는 중앙 반사 조절부, 및 상기 반사 베이스의 가장자리에 배치되며 상기 광을 상기 기판의 가장자리로 반사하는 에지 반사 조절부를 포함할 수 있다. 상기 중앙 반사 조절부 및 상기 에지 반사 조절부는 각각 상기 가열 램프들 중 인접하는 것과 수직 방향으로 어긋나게 배치될 수 있다.
본 개시의 실시예들에 따른 기판 가열 장치는 척 스테이지 상에 배치되며 기판을 가열하도록 광을 발산하는 가열 램프들, 상기 가열 램프들은 상기 척 스테이지의 중심축을 기준으로 동심으로 배치되고 링 형상을 가지며, 상기 가열 램프들과 상기 기판 사이에 배치되며 상부에 상기 기판이 놓여지는 윈도우, 상기 윈도우는 윈도우 베이스 및 상기 윈도우 베이스의 상면 또는 하면 중 적어도 하나에 배치되는 함몰부를 포함하며; 및 상기 가열 램프들과 상기 척 스테이지 사이에 배치되며 상기 광을 상기 기판으로 반사하는 반사 부재를 포함할 수 있다. 상기 반사 부재는 반사 베이스, 상기 반사 베이스 상에 배치되며 상기 광을 상기 기판의 중앙부로 반사하는 중앙 반사 조절부, 및 상기 반사 베이스의 가장자리에 배치되며 상기 광을 상기 기판의 가장자리로 반사하는 에지 반사 조절부를 포함할 수 있다.
본 개시의 실시예들에 따른 기판 처리 방법은 기판을 기판 처리 장치 내의 기판 가열 장치상에 제공하고, 상기 기판 가열 장치는 광을 발산하는 가열 램프들, 상기 가열 램프들과 상기 기판 사이의 윈도우, 및 상기 가열 램프들 하부의 반사 부재를 포함하며; 상기 기판 처리 장치 내의 액 공급 유닛에 의해 상기 기판상에 처리액을 공급하고; 상기 가열 램프들을 가동하여 기판을 가열하는 것을 포함할 수 있다. 상기 윈도우는 윈도우 베이스 및 상기 윈도우 베이스의 중앙부의 상면 또는 하면 중 적어도 하나에 배치되는 중앙 광조절부를 포함할 수 있다. 상기 반사 부재는 반사 베이스 및, 상기 반사 베이스 상에 배치되며 상기 광을 상기 기판의 중앙부로 반사하는 중앙 반사 조절부, 및 상기 반사 베이스의 가장자리에 배치되며 상기 광을 상기 기판의 가장자리로 반사하는 에지 반사 조절부를 포함할 수 있다.
본 개시의 실시예들에 따르면 윈도우의 광조절부들 및 반사 부재의 반사 조절부는 기판을 균일하게 가열할 수 있다.
도 1은 본 개시의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 도시한다.
도 2는 도 1의 기판 지지 유닛 및 기판 가열 장치를 도시한다.
도 3은 도 2의 기판 가열 장치의 부분 확대도이다.
도 4는 일 실시예에 따른 윈도우의 평면도이다.
도 5a 및 도 5b는 일 실시예에 따른 윈도우의 평면도들이다.
도 6a 및 도 6g는 일 실시예에 따른 윈도우의 단면도들이다.
도 7은 일 실시예에 따른 기판 지지 유닛 및 기판 가열 장치를 도시한다.
도 8 및 도 9는 일 실시예에 따른 기판 가열 장치의 부분 확대도이다.
도 2는 도 1의 기판 지지 유닛 및 기판 가열 장치를 도시한다.
도 3은 도 2의 기판 가열 장치의 부분 확대도이다.
도 4는 일 실시예에 따른 윈도우의 평면도이다.
도 5a 및 도 5b는 일 실시예에 따른 윈도우의 평면도들이다.
도 6a 및 도 6g는 일 실시예에 따른 윈도우의 단면도들이다.
도 7은 일 실시예에 따른 기판 지지 유닛 및 기판 가열 장치를 도시한다.
도 8 및 도 9는 일 실시예에 따른 기판 가열 장치의 부분 확대도이다.
도 1은 본 개시의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 도시한다. 도 2는 도 1의 기판 지지 유닛 및 기판 가열 장치를 도시한다.
도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(10)는 처리 영역(20), 유지 보수 영역(30), 격벽(40), 배기구(50), 및 기류 공급 유닛(60)을 포함할 수 있다. 처리 영역(20)에서는 기판(W)을 식각하는 등의 처리가 진행될 수 있다. 유지 보수 영역(30)에서는 처리 영역(20)에서 발생한 가스등이 배기구(50)를 통해 배출될 수 있다. 격벽(40)은 처리 영역(20)과 유지 보수 영역(30)을 분리시킬 수 있다. 기류 공급 유닛(60)은 외기를 필터링하여 처리 영역(20) 내에 공급할 수 있다.
기판 처리 장치(10)는 처리 영역(20)에 내에 처리 용기(100), 기판 지지 유닛(200), 액 공급 유닛(300) 및 승강 유닛(400)을 포함할 수 있다. 처리 용기(100)는 상부가 개방될 수 있으며 내부 회수통(110) 및 외부 회수통(120)을 포함할 수 있다. 내부 회수통(110)은 기판 지지 유닛(200)을 둘러쌀 수 있으며, 외부 회수통(120)은 내부 회수통(110)을 둘러쌀 수 있다. 내부 회수통(110)의 내측 공간(112) 및 내부 회수통(110)과 외부 회수통(120) 사이의 공간(122)은 각각 내부 회수통(110) 및 외부 회수통(120)으로 약액이 유입되는 유입구로서 기능할 수 있다. 각각 내부 회수통(110) 및 외부 회수통(120)의 아래에는 회수 라인들(114, 124)이 연결될 수 있다. 회수 라인들(114, 124)에 유입된 약액은 재사용될 수 있다.
기판 지지 유닛(200)은 처리 용기(100) 내부에 배치될 수 있으며, 기판(W)을 지지할 수 있다. 기판 지지 유닛(200)은 지지부(210), 구동부(212) 및 기판 가열 장치를 포함할 수 있다. 도 2를 더 참조하면, 기판 가열 장치는 척 스테이지(220), 가열 램프들(L), 윈도우(230) 및 반사 부재(240)를 포함할 수 있다.
지지부(210)는 구동부(212)에 연결되며 내부에 회전축(214)을 포함할 수 있다. 지지부(210)는 수직 방향으로 연장될 수 있으며, 처리 영역(20) 내에서 척 스테이지(220) 하부에 배치될 수 있다. 구동부(212)는 유지 보수 영역(30)에 배치되어 지지축(330)을 통해 지지부(210)를 수평 방향으로 회전시킬 수 있다.
상술한 바와 같이, 척 스테이지(220), 가열 램프들(L), 윈도우(230) 및 반사 부재(240)는 기판 가열 장치를 구성할 수 있다. 척 스테이지(220)는 지지부(210) 상에 배치될 수 있으며, 지지부(210)와 결합되어 회전축(214)에 의해 수평 방향으로 회전할 수 있다. 척 스테이지(220)는 회전축(214)을 둘러싸는 원판 형상일 수 있다.
가열 램프들(L)은 척 스테이지(220) 상에 배치될 수 있으며, 예를 들어 윈도우(230)와 반사 부재(240) 사이에 배치될 수 있다. 가열 램프들(L)은 둘레방향으로 연장할 수 있으며, 예를 들어, 링 또는 도넛 형상을 가질 수 있다. 가열 램프들(L)은 동심으로 배치될 수 있다. 예를 들어, 가열 램프들(L)은 기판(W) 또는 척 스테이지(220)의 중심축을 기준으로 둘레 방향으로 연장할 수 있다. 일 실시예에서, 가열 램프들(L)은 광을 발산하여 기판(W)을 가열시킬 수 있으며, 기판(W) 식각 공정에서 식각율을 높일 수 있다.
윈도우(230)는 척 스테이지(220) 상에 배치될 수 있으며, 가열 램프(L)에 의해 조사된 광이 기판(W)에 도달할 수 있도록, 상기 광을 투과시킬 수 있다. 일 실시예에서, 윈도우(230)는 쿼츠를 포함할 수 있다. 반사 부재(240)는 척 스테이지(220)와 가열 램프(L) 사이에 배치될 수 있다. 반사 부재(240)는 가열 램프(L)의 광을 반사하여 기판(W)에 전달할 수 있다. 반사 부재(240)는 가열 램프(L)의 광을 반사함으로써, 기판 가열 장치의 효율을 높이고 기판(W)을 더욱 균등하게 가열시킬 수 있으며, 척 스테이지(220)가 광에 의해 가열되는 것을 방지할 수 있다. 반사 부재(240)는 회전축(214)에 의해 지지될 수 있다.
기판 지지 유닛(200)은 기판(W)을 지지하는 지지핀(P1) 및 척핀(P2)을 더 포함할 수 있다. 지지핀(P1)은 윈도우(230) 상에 배치될 수 있으며, 윈도우(230)로부터 수직으로 돌출하여 기판(W)의 하면을 지지할 수 있다. 척핀(P2)은 윈도우(230)를 관통하여 윈도우(230)의 상측으로 돌출할 수 있다. 척핀(P2)은 기판(W)의 가장자리에 배치되어 기판(W)의 하면 및 측면을 지지할 수 있다.
액 공급 유닛(300)은 처리 영역(20) 내에 배치될 수 있으며, 노즐(310), 지지대(320), 지지축(330), 구동 부재(340) 및 액 공급 부재(350)를 포함할 수 있다. 노즐(310)은 기판(W) 상에 처리액을 제공할 수 있다. 지지대(320)는 지지축(330)으로부터 수평 방향으로 연장되어 노즐(310)을 지지할 수 있다. 지지축(330)은 구동 부재(340)에 의해 회전 및 승강 운동할 수 있다. 액 공급 부재(350)는 노즐(310)에 연결될 수 있으며, 노즐(310)에 처리액을 공급할 수 있다.
승강 유닛(400)은 브라켓(410), 이동축(420) 및 구동기(430)를 포함할 수 있다. 브라켓(410)은 처리 용기(100)의 외벽에 고정될 수 있으며, 이동축(420)에 연결될 수 있다. 이동축(420)은 구동기(430)에 의해 수직 방향으로 움직일 수 있다. 승강 유닛(400)은 처리 용기(100)를 수직 방향으로 이동시켜, 노즐(310)과 기판(W) 사이의 거리를 조절할 수 있다.
도 3은 도 2의 기판 가열 장치의 부분 확대도이다.
도 3을 참조하면, 윈도우(230)는 윈도우 베이스(232), 중앙 광조절부(234) 및 에지 광조절부(236)를 포함할 수 있으며, 반사 부재(240)는 반사 베이스(242), 중앙 반사 조절부(244), 에지 반사 조절부(246) 및 반사 조절부(248)를 포함할 수 있다.
윈도우 베이스(232)는 수평부(232a) 및 지지부(232b)를 포함할 수 있다. 수평부(232a)는 수평 방향으로 연장할 수 있으며, 예를 들어, 원판 형상을 가질 수 있다. 지지부(232b)는 수평부(232a)의 가장자리에 연결되며 수직 방향으로 연장되어 척 스테이지(220)와 접할 수 있다. 지지부(232b)는 수평부(232a)와 일체로 형성될 수 있다. 윈도우(230)는 지지부(232b)에 의해 척 스테이지(220)에 지지될 수 있다.
중앙 광조절부(234)는 윈도우 베이스(232)의 중앙부에 배치될 수 있다. 중앙 광조절부(234)는 윈도우 베이스(232)의 표면으로부터 돌출되고 볼록한 형상을 가질 수 있다. 중앙 광조절부(234)는 볼록한 형상을 가지므로 중앙 광조절부(234)와 대향하는 기판(W)의 부분에 광을 집중시킬 수 있다.
에지 광조절부(236)는 윈도우 베이스(232)의 가장자리에 배치될 수 있다. 에지 광조절부(236)는 윈도우 베이스(232)의 표면으로부터 돌출되고 볼록한 형상을 가질 수 있다. 에지 광조절부(236)는 에지 광조절부(236)와 대향하는 기판(W)의 부분에 광을 집중시킬 수 있다. 도 3에는 중앙 광조절부(234) 및 에지 광조절부(236)가 윈도우 베이스(232)의 상면에 배치된 것이 도시되어 있으나, 이에 제한되지 않는다. 일 실시예에서, 중앙 광조절부(234) 또는 에지 광조절부(236)는 윈도우 베이스(232)의 하면에 배치될 수도 있다. 일 실시예에서, 에지 광조절부(236)는 복수 개가 배치될 수 있다. 혹은, 중앙 광조절부(234) 또는 에지 광조절부(236)는 생략될 수 있다. 중앙 광조절부(234) 및 에지 광조절부(236)는 윈도우 베이스(232)와 일체로 형성될 수 있다. 일 실시예에서, 중앙 광조절부(234) 및 에지 광조절부(236)의 높이는 3mm 내지 5mm일 수 있다.
반사 부재(240)의 반사 베이스(242)는 수평 방향으로 연장할 수 있으며, 예를 들어, 링 또는 도넛 형상을 가질 수 있다. 중앙 반사 조절부(244), 에지 반사 조절부(246) 및 반사 조절부(248)는 반사 베이스(242)의 상면으로부터 돌출될 수 있다. 중앙 반사 조절부(244)는 반사 베이스(242)의 중앙부에 배치될 수 있으며, 에지 반사 조절부(246)는 반사 베이스(242)의 가장자리에 배치될 수 있다. 반사 조절부(248)는 중앙 반사 조절부(244)와 에지 반사 조절부(246) 사이에 배치될 수 있다. 일 실시예에서, 중앙 반사 조절부(244), 에지 반사 조절부(246) 및 반사 조절부(248)는 복수 개가 배치될 수 있다. 중앙 반사 조절부(244), 에지 반사 조절부(246) 및 반사 조절부(248)는 각각 인접하는 가열 램프(L)와 수직 방향으로 어긋나게 배치될 수 있으며, 가열 램프(L)의 광을 비스듬히 반사할 수 있다.
일 실시예에서, 중앙 반사 조절부(244), 에지 반사 조절부(246) 및 반사 조절부(248)는 각각 대응하는 가열 램프(L)와 대향하는 반사면을 가질 수 있다. 상기 반사면은 가열 램프(L)의 광을 반사하여 기판(W)에 전달할 수 있다. 예를 들어, 중앙 반사 조절부(244)는 기판(W)의 중앙부와 대향하는 반사면을 가질 수 있으며, 대응하는 가열 램프(L)의 광을 기판(W)의 중앙부로 반사할 수 있다. 에지 반사 조절부(246)는 기판(W)의 가장자리와 대향하는 반사면을 가질 수 있으며, 대응하는 가열 램프(L)의 광을 기판(W)의 가장자리로 반사할 수 있다. 반사 조절부(248)는 기판(W)의 중앙부와 가장자리 사이의 영역과 대향하는 반사면을 가질 수 있다. 일 실시예에서, 중앙 반사 조절부(244), 에지 반사 조절부(246) 및 반사 조절부(248)는 삼각형의 단면을 가질 수 있다. 그러나, 이에 제한되지 않는다. 중앙 반사 조절부(244), 에지 반사 조절부(246) 및 반사 조절부(248)는 반사 베이스(242)와 일체로 형성될 수 있다.
반사 부재(240)의 상면은 광을 반사하기 위해 금과 같은 물질을 포함할 수 있으며, 식각액에 의한 변색을 방지하기 위한 보호층을 포함할 수 있다. 반사 부재(240)의 하면은 반사 부재(240)의 열을 방출하기 위한 방사판을 포함할 수 있다. 상기 반사판은, 예를 들어, 알루미늄을 포함할 수 있다.
기판 지지 유닛(200)은 분사 포트(216)를 더 포함할 수 있다. 분사 포트(216)는 척 스테이지(220)와 반사 부재(240)의 하면 사이에 냉각재를 공급할 수 있다. 상기 냉각재는 냉각수 또는 냉각 기체일 수 있다.
일 실시예에서, 기판(W)의 중앙부에 대향하는 영역에는 가열 램프들(L)이 배치되지 않을 수 있다. 또한, 가열 램프들(L)은 기판(W)의 가장자리의 내측에 대향하는 영역에 위치할 수 있으며, 기판(W)의 가장자리에 대향하는 영역에 가열 램프들(L)이 배치되지 않을 수 있다. 따라서, 기판(W)의 중앙부 및 가장자리에는 광이 상대적으로 적게 조사될 수 있다. 그러나, 본 개시의 기판 처리 장치(10)에 따르면, 윈도우(230)는 중앙 광조절부(234) 및 에지 광조절부(236)를 포함하고 반사 부재(240)는 중앙 반사 조절부(244), 에지 반사 조절부(246) 및 반사 조절부(248)를 포함할 수 있다. 따라서, 윈도우(230)와 반사 부재(240)는 가열 램프(L)의 광이 기판(W)의 중앙부 및 가장자리에도 잘 전달되게 하여 기판(W)을 균일하게 가열할 수 있으며, 식각 균일도를 향상시킬 수 있다.
도 4는 일 실시예에 따른 윈도우의 평면도이다.
도 4를 참조하면, 평면도에서, 윈도우 베이스(232)는 원형을 가질 수 있다. 중앙 광조절부(234)는 윈도우 베이스(232)의 중앙부에 배치될 수 있으며 원형을 가질 수 있다. 일 실시예에서, 에지 광조절부(236)는 윈도우 베이스(232)의 가장자리에 배치될 수 있으며, 둘레 방향으로 연장할 수 있다. 예를 들어, 에지 광조절부(236)는 링 또는 도넛 형상을 가질 수 있다.
도 1 내지 도 4를 참조하면, 기판 처리 장치(10)는 기판 가열 장치를 사용하여 기판 처리를 수행할 수 있다. 예를 들어, 기판 처리 방법은 기판 처리 장치(10) 내에 기판(W)을 제공하는 것, 기판(W) 상에 처리액을 공급하는 것, 및 기판(W)을 가열하는 것을 포함할 수 있다.
기판 처리 장치(10) 내에 기판(W)을 제공하는 것은 기판 지지 유닛(200) 상에 기판(W)을 제공하는 것을 포함할 수 있다. 예를 들어, 기판(W)은 척 스테이지(220) 및 윈도우(230)를 포함하는 기판 가열 장치상에 위치할 수 있다. 본 개시의 기판 처리 장치(10)는 매엽식 처리 장치일 수 있으며, 기판 처리 장치(10) 내에 기판(W)은 하나씩 제공될 수 있고, 기판 처리 공정은 하나의 기판(W)에 대해 수행될 수 있다.
기판(W) 상에 처리액을 공급하는 것은 액 공급 유닛(300)에 의해 수행될 수 있다. 액 공급 유닛(300)은 액 공급 부재(350)로부터 처리액을 제공받아 노즐(310)을 통해 기판(W) 상에 처리액을 공급할 수 있다.
기판(W)을 가열하는 것은 기판 가열 장치의 가열 램프들(L)을 가동하여 가열 램프들(L)에 의해 발산되는 광으로 기판에 전달하는 것을 포함할 수 있다. 윈도우(230)는 광을 투과시킬 수 있으며, 반사 부재(240)는 광을 기판으로 반사시킬 수 있다. 중앙 광조절부(234) 및 중앙 반사 조절부(244)는 기판의 중앙부로 광을 집중시킬 수 있으며, 에지 광조절부(236) 및 에지 반사 조절부(246)는 기판의 가장자리로 광을 집중시킬 수 있다. 상술한 바와 같이, 기판 가열 장치는 기판(W)을 가열함으로써 기판의 처리 속도를 향상시킬 수 있다. 기판 처리 공정에서, 기판(W)은 기판 지지 유닛(200)에 의해 수평으로 회전할 수 있다. 예를 들어, 척 스테이지(220)가 수평으로 회전할 수 있으며, 척 스테이지(220)에 의해 지지되는 기판(W)도 수평으로 회전할 수 있다.
기판 처리 방법은 처리액을 배출하는 것 및 공정 가스를 배출하는 것을 더 포함할 수 있다. 처리액은 회수 라인들(114, 124)을 통해 배출될 수 있다. 예를 들어, 액 공급 유닛(300)에서 공급된 처리액이 내측 공간(112) 및 공간(122)에 비산되는 경우 회수 라인들(114, 124)을 통해 배출 및/또는 회수될 수 있다. 회수되는 처리액은 재사용될 수 있다. 배기구(50)는 기판 처리 공정에서 발생하는 공정 가스를 기판 처리 장치(10) 외부로 배출할 수 있다.
도 5a 및 도 5b는 일 실시예에 따른 윈도우의 평면도들이다.
도 5a를 참조하면, 윈도우(230)는 윈도우 베이스(232)의 가장자리에 동심으로 배치되는 에지 광조절부들(236)을 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 평면도에서 각 에지 광조절부(236)는 원형을 가질 수 있으며, 둘레 방향을 따라 일정한 간격으로 배치될 수 있다.
도 5b를 참조하면, 윈도우(230)는 윈도우 베이스(232)의 가장자리에 동심으로 배치되는 에지 광조절부들(236)을 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 평면도에서 각 에지 광조절부(236)는 둘레 방향으로 연장할 수 있다. 예를 들어, 각 에지 광조절부(236)는 분할된 링 또는 도넛 형상, 또는 소정의 두께를 갖는 원호 형상을 가질 수 있다.
도 6a 및 도 6g는 일 실시예에 따른 윈도우의 단면도들이다.
도 6a를 참조하면, 윈도우(230)는 윈도우 베이스(232)의 상면에 중앙 광조절부(234) 및 에지 광조절부(236)를 포함할 수 있다. 에지 광조절부(236)의 내측 부분이 외측 부분보다 더 완만하게 형성될 수 있다. 예를 들어, 에지 광조절부(236)는 라운드진 단면을 가질 수 있으며, 윈도우 베이스(232)의 중앙부와 가까운 에지 광조절부(236)의 부분의 곡률은 윈도우 베이스(232)의 가장자리와 가까운 에지 광조절부(236)의 부분의 곡률보다 작을 수 있다.
도 6b를 참조하면, 윈도우(230)는 윈도우 베이스(232)의 상면에 함몰부(238)를 포함할 수 있다. 함몰부(238)는 중앙 광조절부(234)와 에지 광조절부(236) 사이에 배치될 수 있다. 함몰부(238)는 기판(W)을 균일하게 가열할 수 있다. 예를 들어, 함몰부(238)는 오목한 단면을 가질 수 있으며, 기판(W)의 중앙부와 가장자리 사이의 영역에 조사되는 가열 램프(L)의 광을 기판(W)의 중앙부 및 가장자리로 분산시킬 수 있다. 도 4, 도 5a 및 도 5b에서 설명된 바와 같이, 함몰부(238)는 둘레 방향으로 연장될 수 있다. 혹은 함몰부들(238)은 둘레 방향을 따라 소정의 간격으로 배치될 수 있다. 도 6b에는 윈도우(230)가 중앙 광조절부(234), 에지 광조절부(236) 및 함몰부(238)를 모두 포함하는 것이 도시되어 있으나, 이에 제한되지 않는다. 윈도우(230)는 중앙 광조절부(234), 에지 광조절부(236) 및 함몰부(238)의 임의의 조합을 포함할 수 있다.
도 6c를 참조하면, 윈도우(230)는 윈도우 베이스(232)의 하면에 중앙 광조절부(235) 및 에지 광조절부(237)를 포함할 수 있다. 중앙 광조절부(235) 및 에지 광조절부(237)는 윈도우 베이스(232)의 히면으로부터 돌출되고 볼록한 형상을 가질 수 있다. 중앙 광조절부(235)는 중앙 광조절부(235)와 대향하는 기판(W)의 부분에 광을 집중시킬 수 있으며, 에지 광조절부(237)는 에지 광조절부(237)와 대향하는 기판(W)의 부분에 광을 집중시킬 수 있다.
도 6d를 참조하면, 윈도우(230)는 윈도우 베이스(232)의 하면에 중앙 광조절부(235), 에지 광조절부(237) 및 함몰부(239)를 포함할 수 있다. 함몰부(239)는 중앙 광조절부(235)와 에지 광조절부(237) 사이에 배치될 수 있다.
도 6e를 참조하면, 윈도우(230)는 윈도우 베이스(232)의 상면에 배치되는 중앙 광조절부(234), 에지 광조절부(236) 및 함몰부(238), 및 윈도우 베이스(232)의 하면에 배치되는 중앙 광조절부(235), 에지 광조절부(237) 및 함몰부(239)를 포함할 수 있다. 중앙 광조절부(235), 에지 광조절부(237) 및 함몰부(239)는 각각 대응하는 중앙 광조절부(234), 에지 광조절부(236) 및 함몰부(238)와 수직 방향으로 오버랩될 수 있다. 그러나 이에 제한되지 않는다. 일 실시예에서, 각각 중앙 광조절부(235), 에지 광조절부(237) 및 함몰부(239)의 크기는 대응하는 중앙 광조절부(234), 에지 광조절부(236) 및 함몰부(238)의 크기와 다를 수 있다.
도 6e에는, 윈도우(230)가 중앙 광조절부(234), 에지 광조절부(236), 함몰부(238), 중앙 광조절부(235), 에지 광조절부(237) 및 함몰부(239)를 모두 포함하는 것이 도시되어 있으나, 이에 제한되지 않는다. 윈도우(230)는 중앙 광조절부(234), 에지 광조절부(236), 함몰부(238), 중앙 광조절부(235), 에지 광조절부(237) 및 함몰부(239)의 임의의 조합을 포함할 수 있다.
예를 들어, 도 6f를 참조하면, 윈도우(230)는 윈도우 베이스(232)의 상면에 배치되는 중앙 광조절부(234) 및 에지 광조절부(236), 및 윈도우 베이스(232)의 하면에 배치되는 함몰부(239)를 포함할 수 있다.
도 6g를 참조하면, 윈도우(230)는 윈도우 베이스(232)의 상면에 배치되는 함몰부(238), 및 윈도우 베이스(232)의 하면에 배치되는 중앙 광조절부(235) 및 에지 광조절부(237)를 포함할 수 있다.
도 7은 일 실시예에 따른 기판 지지 유닛 및 기판 가열 장치를 도시한다.
도 7을 참조하면, 지지부(232b)는 윈도우(230)의 중앙 상부에 배치되는 노즐(218)을 더 포함할 수 있다. 노즐(218)과 연결되는 윈도우(230)의 상부로 더 연장될 수 있다. 노즐(218)은 윈도우(230)의 상면보다 더 돌출될 수 있다. 상기 노즐(218)은 기판(W)의 뒷면에 약액 또는 가스를 분사할 수 있다.
평면도에서, 윈도우(230)는 중앙이 링 또는 도넛 형상을 가질 수 있다. 윈도우(230)는 중앙 광조절부(234)를 포함할 수 있다. 상기 중앙 광조절부(234)는 기판(W)의 중앙부와 대향하지 않을 수 있다. 예를 들어, 상기 중앙 광조절부(234)는 기판(W)의 중앙부에 인접한 부분과 대향하도록 배치될 수 있으며 윈도우 베이스(232)의 중앙부를 둘러쌀 수 있다. 중앙 광조절부(234)는 둘레 방향으로 연장될 수 있다. 혹은 중앙 광조절부들(234)은 둘레 방향을 따라 소정의 간격으로 배치될 수 있다.
도 8 및 도 9는 일 실시예에 따른 기판 가열 장치의 부분 확대도이다.
도 8을 참조하면, 반사 부재(240)는 반사 베이스(242)의 상면에 배치되는 중앙 반사 조절부(244), 에지 반사 조절부(246) 및 반사 조절부들(248)을 포함할 수 있다. 중앙 반사 조절부(244), 에지 반사 조절부(246) 및 반사 조절부들(248)은 대응하는 가열 램프(L)와 대향하는 반사면을 가질 수 있다. 일 실시예에서, 상기 반사면은 라운드질 수 있다.
일 실시예에서, 윈도우(230)는 수평부(232a)와 지지부(232b) 사이의 내측 코너(232c)는 라운드질 수 있다. 예를 들어, 상기 내측 코너(232c)는 곡률 반경이 0.5mm보다 작은 곡면을 포함할 수 있다. 윈도우(230)의 내측 코너(232c)를 둥글게 함으로써 에지 반사 조절부(246)에 의해 반사된 가열 램프(L)의 광의 난반사를 방지 및 감소시킬 수 있다.
도 9를 참조하면, 윈도우(230)는 수평 방향으로 연장되는 수평부(232a) 및 수평부(2323a)와 연결되며 척 스테이지(220)에 지지되는 지지부(232b)를 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 지지부(232b)는 비스듬하게 연장될 수 있다. 예를 들어, 수평부(232a)와 지지부(232b)는 90도보다 낮은 각도로 만날 수 있다. 기판(W)의 가장자리를 지지하는 척핀(P2)은 수직으로 연장되어 척 스테이지(220)에 지지될 수 있다. 도 9에 도시된 바와 같이, 지지부(232b)를 비스듬하게 형성함으로써, 에지 반사 조절부(246)에 의해 반사된 가열 램프(L)의 광의 난반사를 방지 및 감소시킬 수 있다.
이상, 첨부된 도면을 참조하여 본 개시에 따른 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 이상에서 기술한 실시예는 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해하여야 한다.
10 : 기판 처리 장치
20 : 처리 영역
30 : 유지 보수 영역 40 : 격벽
50 : 배기구 60 : 기류 공급 유닛
100 : 처리 용기 200 : 기판 지지 유닛
210 : 지지부 212 : 구동부
220 : 척 스테이지 230 : 윈도우
232 : 윈도우 베이스 232a : 수평부
232b : 지지부 234 : 중앙 광조절부
236 : 에지 광조절부 240 : 반사 부재
242 : 반사 베이스 244 : 중앙 반사 조절부
246 : 에지 반사 조절부 248 : 반사 조절부
L : 가열 램프 P1 : 지지핀
P2 : 척핀 W : 기판
30 : 유지 보수 영역 40 : 격벽
50 : 배기구 60 : 기류 공급 유닛
100 : 처리 용기 200 : 기판 지지 유닛
210 : 지지부 212 : 구동부
220 : 척 스테이지 230 : 윈도우
232 : 윈도우 베이스 232a : 수평부
232b : 지지부 234 : 중앙 광조절부
236 : 에지 광조절부 240 : 반사 부재
242 : 반사 베이스 244 : 중앙 반사 조절부
246 : 에지 반사 조절부 248 : 반사 조절부
L : 가열 램프 P1 : 지지핀
P2 : 척핀 W : 기판
Claims (10)
- 척 스테이지 상에 배치되며 기판을 가열하도록 광을 발산하는 가열 램프들, 상기 가열 램프들은 상기 척 스테이지의 중심축을 기준으로 동심으로 배치되고 링 형상을 가지며,
상기 가열 램프들과 상기 기판 사이에 배치되며 상부에 상기 기판이 놓여지는 윈도우, 상기 윈도우는 윈도우 베이스 및 상기 윈도우 베이스의 중앙부의 상면 또는 하면 중 적어도 하나에 배치되는 중앙 광조절부를 포함하며; 및
상기 가열 램프들과 상기 척 스테이지 사이에 배치되며 상기 광을 상기 기판으로 반사하는 반사 부재를 포함하며,
상기 반사 부재는 반사 베이스, 상기 반사 베이스 상에 배치되며 상기 광을 상기 기판의 중앙부로 반사하는 중앙 반사 조절부, 및 상기 반사 베이스의 가장자리에 배치되며 상기 광을 상기 기판의 가장자리로 반사하는 에지 반사 조절부를 포함하며,
상기 중앙 반사 조절부 및 상기 에지 반사 조절부는 각각 상기 가열 램프들 중 인접하는 것과 수직 방향으로 어긋나게 배치되는 기판 가열 장치. - 제1항에 있어서,
상기 윈도우는 상기 윈도우 베이스의 가장자리 상면 또는 하면 중 적어도 하나에 배치되는 에지 광조절부를 더 포함하는 기판 가열 장치. - 제2항에 있어서,
상기 에지 광조절부는 상기 윈도우 베이스의 중앙부와 가까운 부분의 곡률이 상기 윈도우 베이스의 가장자리와 가까운 부분의 곡률보다 작은 기판 가열 장치. - 제1항에 있어서,
평면도에서, 상기 중앙 광조절부는 원 형상을 갖는 기판 가열 장치. - 제1항에 있어서,
상기 윈도우 베이스는 수평 방향으로 연장되는 수평부 및 상기 수평부로부터 수직 방향으로 연장되어 상기 척 스테이지에 의해 지지되는 지지부를 포함하며, 상기 수평부와 상기 지지부 사이의 내측 코너는 0.5mm보다 작은 곡률 반경을 갖는 곡면을 포함하는 기판 가열 장치. - 제1항에 있어서,
상기 윈도우 베이스는 수평 방향으로 연장되는 수평부 및 상기 수평부로부터 비스듬히 연장되어 상기 척 스테이지에 의해 지지되는 지지부를 갖는 기판 가열 장치. - 척 스테이지 상에 배치되며 기판을 가열하도록 광을 발산하는 가열 램프들, 상기 가열 램프들은 상기 척 스테이지의 중심축을 기준으로 동심으로 배치되고 링 형상을 가지며,
상기 가열 램프들과 상기 기판 사이에 배치되며 상부에 상기 기판이 놓여지는 윈도우, 상기 윈도우는 윈도우 베이스 및 상기 윈도우 베이스의 상면 또는 하면 중 적어도 하나에 배치되는 함몰부를 포함하며; 및
상기 가열 램프들과 상기 척 스테이지 사이에 배치되며 상기 광을 상기 기판으로 반사하는 반사 부재를 포함하며,
상기 반사 부재는 반사 베이스, 상기 반사 베이스 상에 배치되며 상기 광을 상기 기판의 중앙부로 반사하는 중앙 반사 조절부, 및 상기 반사 베이스의 가장자리에 배치되며 상기 광을 상기 기판의 가장자리로 반사하는 에지 반사 조절부를 포함하는 기판 가열 장치. - 제7항에 있어서,
상기 함몰부는 상기 윈도우 베이스의 중앙부와 가장자리 사이에 배치되는 기판 가열 장치. - 제8항에 있어서,
상기 윈도우는 상기 윈도우 베이스의 중앙부의 상면 또는 하면 중 적어도 하나에 배치되는 중앙 광조절부 및 상기 윈도우 베이스의 가장자리 상면 또는 하면 중 적어도 하나에 배치되는 에지 광조절부를 더 포함하는 기판 가열 장치. - 기판을 기판 처리 장치내의 기판 가열 장치 상에 제공하고, 상기 기판 가열 장치는 광을 발산하는 가열 램프들, 상기 가열 램프들과 상기 기판 사이의 윈도우, 및 상기 가열 램프들 하부의 반사 부재를 포함하며;
상기 기판 처리 장치 내의 액 공급 유닛에 의해 상기 기판 상에 처리액을 공급하고;
상기 가열 램프들을 가동하여 기판을 가열하는 것을 포함하며,
상기 윈도우는 윈도우 베이스 및 상기 윈도우 베이스의 중앙부의 상면 또는 하면 중 적어도 하나에 배치되는 중앙 광조절부를 포함하며,
상기 반사 부재는 반사 베이스 및, 상기 반사 베이스 상에 배치되며 상기 광을 상기 기판의 중앙부로 반사하는 중앙 반사 조절부, 및 상기 반사 베이스의 가장자리에 배치되며 상기 광을 상기 기판의 가장자리로 반사하는 에지 반사 조절부를 포함하는 기판 처리 방법.
Priority Applications (2)
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