KR20220066347A - Method for transferring an embossing structure to the surface of a coating, and a composite usable as an embossing mold - Google Patents

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KR20220066347A
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스벤 올레 크라벤보르크
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외르크 뒤네발트
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바스프 코팅스 게엠베하
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Abstract

본 발명은 단계 (1), (2-i) 및 (3-i) 또는 (2-ii) 및 (3-ii) 및 또한 적어도 단계 (4) 및 임의적으로 단계 (5-i) 또는 (5-ii)에 따라, 기판 (S1) 및 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)을 포함하는 복합체 (S1C1)을 사용하여 코팅 조성물 (C2a)의 표면의 적어도 일부분에 엠보싱 구조를 전사하는 방법으로서, 여기서 코팅 조성물 (C1a)는 정의된 구성의 방사선-경화성 코팅 조성물이고, 복합체 (S1C1)이 바람직하게는 엠보싱 도구 (E2)의 엠보싱 몰드 (e2)로서 사용되는 것인 방법에 관한 것이다.The present invention relates to steps (1), (2-i) and (3-i) or (2-ii) and (3-ii) and also at least step (4) and optionally step (5-i) or (5) according to -ii) an embossing structure is applied to at least a part of the surface of the coating composition (C2a) using a composite (S1C1) comprising a substrate (S1) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1) A method for transferring, wherein the coating composition (C1a) is a radiation-curable coating composition of a defined composition, and the composite (S1C1) is preferably used as an embossing mold (e2) of an embossing tool (E2) will be.

Figure P1020227013184
Figure P1020227013184

Description

코팅의 표면에 엠보싱 구조를 전사하는 방법, 및 엠보싱 몰드로서 이용가능한 복합체Method for transferring an embossing structure to the surface of a coating, and a composite usable as an embossing mold

본 발명은 단계 (1), (2-i) 및 (3-i) 또는 (2-ii) 및 (3-ii) 및 또한 적어도 단계 (4) 및 임의적으로 단계 (5-i) 또는 (5-ii)에 따라, 기판 (S1) 및 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)을 포함하는 복합체 (S1C1)을 사용하여 코팅 조성물 (C2a)의 표면의 적어도 일부분에 엠보싱 구조를 전사하는 방법으로서, 여기서 코팅 조성물 (C1a)는 정의된 구성의 방사선-경화성 코팅 조성물이고, 복합체 (S1C1)이 바람직하게는 엠보싱 도구 (E2)의 엠보싱 몰드 (e2)로서 사용되는 것인 방법에 관한 것이다.The present invention relates to steps (1), (2-i) and (3-i) or (2-ii) and (3-ii) and also at least step (4) and optionally step (5-i) or (5) according to -ii) an embossing structure is applied to at least a part of the surface of the coating composition (C2a) using a composite (S1C1) comprising a substrate (S1) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1) A method for transferring, wherein the coating composition (C1a) is a radiation-curable coating composition of a defined composition, and the composite (S1C1) is preferably used as an embossing mold (e2) of an embossing tool (E2) will be.

산업의 많은 적용분야에서 요즘에는 구조적 특색부가 마이크로미터 범위 또는 심지어 나노미터 범위의 것인 구조를 그의 표면 상에 갖는 가공물을 제공하는 것이 통상적이다. 이러한 구조는 또한 마이크로구조 (마이크로미터 범위의 특색부를 갖는 구조) 또는 나노구조 (나노미터 범위의 특색부를 갖는 구조)라고도 지칭된다. 이러한 구조를 사용하여, 예를 들어, 물질 표면의 시각적, 생체공학적 및/또는 촉각적 품질에 영향을 미친다. 이러한 종류의 구조는 또한 엠보싱부, 엠보싱 구조 또는 구조화된 표면으로도 지칭된다.It is customary these days in many applications in industry to provide a workpiece having a structure on its surface in which structural features are in the micrometer range or even in the nanometer range. Such structures are also referred to as microstructures (structures with features in the micrometer range) or nanostructures (structures with features in the nanometer range). Such structures are used to influence, for example, the visual, bionic and/or tactile qualities of the material surface. Structures of this kind are also referred to as embossments, embossed structures or structured surfaces.

이러한 구조화된 표면을 생성하기 위한 한 가지 통상적인 방법은 이들 구조를 코팅 물질로 전사하는 것이다. 구조의 코팅 물질로의 전사는 빈번하게 엠보싱가공 작업으로 달성되며, 여기서 형성하려는 마이크로구조 및/또는 나노구조를 반전 형태로 함유하는 몰드가 코팅 물질과 접촉하게 되고 코팅 물질로 압인된다. 코팅 물질은 영구적으로 형성된 구조를 수득하기 위해 전형적으로 그 위치 그대로 경화된다.One common method for creating such structured surfaces is to transfer these structures into a coating material. The transfer of the structure to the coating material is frequently accomplished by an embossing operation, in which a mold containing, in inverted form, the microstructures and/or nanostructures to be formed is brought into contact with the coating material and stamped into the coating material. The coating material is typically cured in situ to obtain a permanently formed structure.

WO 90/15673 A1에는 방사선-경화성 코팅 물질을 필름에 또는 반전의 목적하는 엠보싱 구조를 갖는 엠보싱가공된 몰드에 적용하고, 이어서 엠보싱 도구를 호일 상에 또는 코팅 물질이 제공된 호일 상에 프린팅하는 방법이 기재되어 있다. 방사선-경화성 코팅 물질이 호일과 엠보싱 도구 사이에 여전히 위치해 있는 동안, 경화가 수행되며, 이어서 도구의 제거 후에 목적하는 원본의 특색부 구조를 포함하는 방사선-경화된 코팅 물질이 제공된 필름이 수득된다. 유럽 특허 EP 1 135 267 B1에도 이러한 종류의 방법이 기재되어 있으며, 여기서는 경화성 코팅 물질을 장식을 위한 기판 표면에 적용하고, 반전의 패턴을 갖는 상응하는 엠보싱가공된 몰드를 비경화된 코팅 층으로 프레싱한다. 그 후에, 코팅 층을 경화시키고, 엠보싱 몰드를 후속적으로 제거한다. EP 3 178 653 A1에는 경화성 시스템의 복제 주조에 사용하기 위한 텍스쳐화된 표면을 갖는 가요성 직물을 포함하는 물품이 개시되어 있다. 직물은 일관능성 및 다관능성 아크릴레이트를 사용하여 제조될 수 있는 중합체 층을 가질 수 있다.WO 90/15673 A1 discloses a method in which a radiation-curable coating material is applied to a film or to an embossed mold having the desired embossing structure in reverse, followed by printing the embossing tool on the foil or on the foil provided with the coating material is described. While the radiation-curable coating material is still positioned between the foil and the embossing tool, curing is performed, followed by removal of the tool to obtain a film provided with the radiation-cured coating material comprising the desired original feature structure. European patent EP 1 135 267 B1 also describes a method of this kind, in which a curable coating material is applied to the surface of a substrate for decoration and a corresponding embossed mold with an inverted pattern is pressed into an uncured coating layer. do. After that, the coating layer is cured and the embossing mold is subsequently removed. EP 3 178 653 A1 discloses an article comprising a flexible fabric having a textured surface for use in replica casting of a curable system. Fabrics can have polymeric layers that can be made using monofunctional and polyfunctional acrylates.

미국 특허 번호 9,778,564 B2에는 (메트)아크릴아미드 구조 단위를 필수적으로 포함하는 성분, 및 또한 2 내지 6개의 중합성 기를 갖는 추가의 성분으로서, 알킬렌 옥시드 단위를 또한 갖는 성분을 포함하는 각인 물질이 개시되어 있다. 이러한 물질의 기판에의 적용 후에, 그로부터 수득된 필름에 UV 방사선에 의한 그의 경화 동안 니켈 엠보싱 도구를 사용하여 패턴이 제공될 수 있다.U.S. Pat. No. 9,778,564 B2 discloses an imprinting material comprising a component essentially comprising (meth)acrylamide structural units, and also a further component having 2 to 6 polymerizable groups, a component also having alkylene oxide units. has been disclosed. After application of this material to the substrate, the film obtained therefrom can be provided with a pattern using a nickel embossing tool during its curing by UV radiation.

US 2007/0204953 A1에는 접착제 수지를 패턴화하는 방법이 개시되어 있으며, 이는 목적하는 패턴화를 포함하는 경화된 접착제 수지가 제공된 기판을 제공하기 위해, 순차적으로 기판에 접착제 수지의 경화성 층을 적용하고, 상기 층에 구조화된 패턴을 적용하고, 후속적으로 층을 경화시키는 것을 제공한다.US 2007/0204953 A1 discloses a method for patterning an adhesive resin, comprising sequentially applying a curable layer of an adhesive resin to a substrate to provide a substrate provided with a cured adhesive resin comprising a desired patterning; , applying a structured pattern to the layer and subsequently curing the layer.

WO 2015/154866 A1은 구조화된 표면을 갖는 기판을 제조하는 방법에 관한 것이다. 이러한 경우에, 먼저, 제1 UV-경화 코팅을 기판에 적용하고 경화시킨다. 이어서, 이러한 경화된 코팅 위에 엠보싱 바니시로서 제2 UV-경화 코팅을 적용하고, 이것을 엠보싱가공하여 마이크로구조를 생성하고, 후속적으로 경화시킨다.WO 2015/154866 A1 relates to a method for producing a substrate with a structured surface. In this case, first, a first UV-curable coating is applied to the substrate and cured. A second UV-cured coating is then applied over this cured coating as an embossing varnish, which is embossed to create microstructures and subsequently cured.

DE 10 2007 062 123 A1에는 엠보싱 바니시 예컨대, 예를 들어, UV-가교성 엠보싱 바니시를 캐리어 필름에 적용하고, 엠보싱 바니시를 마이크로미터 범위에서 구조화하고, 필름에 적용된 엠보싱 바니시를 경화시켜 엠보싱가공된 필름을 제공하고, 그의 마이크로구조를 후속적으로 엠보싱가공된 표면 상의 금속의 침착에 의해, 다시 말해서, 필름의 금속화에 의해 모델링하는 방법이 기재되어 있다. 그러나, 후속 금속화에 의한 이러한 모델링의 단점은 원치 않는 모델링 품질 저하가 초래되는 것이다.DE 10 2007 062 123 A1 describes an embossed film by applying an embossing varnish such as, for example, a UV-crosslinkable embossing varnish to a carrier film, structuring the embossing varnish in the micrometer range and curing the embossing varnish applied to the film. A method is described for providing a . However, a disadvantage of such modeling with subsequent metallization is that it results in an undesirable degradation of the modeling quality.

EP 2 146 805 B1에는 텍스쳐화된 표면을 갖는 물질을 제조하는 방법이 기재되어 있다. 방법은 기판에 경화성 코팅을 제공하고, 상기 코팅을 엠보싱가공을 위한 텍스쳐화 매체와 접촉시키고, 이어서 이러한 방식으로 엠보싱가공된 코팅을 경화시키고, 그를 텍스쳐화 매체로부터 제거하는 것을 수반한다. 텍스쳐화 매체는 20% 내지 50%의 아크릴계 올리고머, 15% 내지 35%의 일관능성 단량체, 및 20% 내지 50%의 다관능성 단량체를 함유하는 표면 층을 포함한다. WO 2016/090395 A1 및 문헌 [ACS Nano Journal, 2016, 10, pages 4926 to 4941]에도 유사한 방법이 기재되어 있으며, 각각의 경우에 텍스쳐화 매체의 표면 층을 제조하기 위해, 텍스쳐화 매체의 비교적 경질인 몰드를 생성할 수 있도록 다량의 3-배수 에톡실화된 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트 (TMP(EO)3TA)가 사용되어야 한다는 것이 명시적으로 교시된다. 더욱이, WO 2016/090395 A1에 따르면, 표면 층을 제조하기 위해 사용되는 코팅 조성물이 또한 예를 들어 트리메틸올프로판 트리스(3-메르캅토프로피오네이트)와 같은, 적어도 2개의 티올 기를 갖는 구조 단위를 필수적으로 포함해야 한다. 그러나, 상응하는 코팅 물질 조성물에 이러한 티올류를 사용하는 것은, 이러한 조성물이 보관 시 항상 충분한 안정성을 갖는 것은 아니며 그로부터 제조된 코팅이 적절한 풍화 안정성이 결여되기 때문에, 종종 불리하다. 추가의 인자는 티올류의 사용에 기인하는 냄새 문제이며, 이 또한 당연히 바람직하지 않다.EP 2 146 805 B1 describes a method for producing a material with a textured surface. The method involves providing a curable coating to a substrate, contacting the coating with a texturing medium for embossing, and then curing the embossed coating in this way and removing it from the texturing medium. The texturing medium comprises a surface layer containing 20% to 50% acrylic oligomer, 15% to 35% monofunctional monomer, and 20% to 50% polyfunctional monomer. A similar method is also described in WO 2016/090395 A1 and in ACS Nano Journal, 2016, 10, pages 4926 to 4941, in each case for preparing the surface layer of the texturing medium, a relatively hard It is explicitly taught that a large amount of 3-fold ethoxylated trimethylolpropane triacrylate (TMP(EO) 3 TA) must be used to be able to create a phosphorous mold. Moreover, according to WO 2016/090395 A1, the coating composition used for preparing the surface layer also contains structural units having at least two thiol groups, such as for example trimethylolpropane tris(3-mercaptopropionate). must be included However, the use of such thiols in the corresponding coating material compositions is often disadvantageous, since such compositions do not always have sufficient stability upon storage and coatings prepared therefrom lack adequate weathering stability. A further factor is the odor problem due to the use of thiols, which is also of course undesirable.

KR 2009/0068490 A는 i) 실리콘 (메타) 아크릴레이트 및 플루오린 (메타) 아크릴레이트로부터 선택된 아크릴레이트, ii) 특정한 다관능성 우레탄 (메타) 아크릴레이트, iii) UV 경화성 단량체, 및 iv) 광개시제로 구성된 중합체 몰드를 사용하여 수십 나노미터의 미세 패턴의 엠보싱 구조를 전사하는 방법 뿐만 아니라 유기 용매에 의한 팽윤 없이 중합체 몰드의 기판으로부터의 분리를 개선시키기 위한 그의 제조 방법에 관한 것이며, 여기서 중합체 몰드는 PDMS (폴리디메틸실록산)로부터 제조된 몰드와 비교하여 탁월한 가요성, 기계적 강도 및 내구성을 갖는다.KR 2009/0068490 A contains i) acrylates selected from silicone (meth) acrylates and fluorine (meth) acrylates, ii) certain polyfunctional urethane (meth) acrylates, iii) UV curable monomers, and iv) photoinitiators. It relates to a method for transferring embossed structures of tens of nanometers in micro-patterns using a constructed polymer mold, as well as a method for producing the same for improving the separation of a polymer mold from a substrate without swelling by an organic solvent, wherein the polymer mold is PDMS It has excellent flexibility, mechanical strength and durability compared to a mold made from (polydimethylsiloxane).

마지막으로, 출원 WO2019185832A1 및 WO2019185833 A1에는 특정한 단계에 따라 기판 (S1) 및 엠보싱가공되고 경화된 코팅 (B1)로 구성된 복합체 (F1B1)을 사용하여 코팅 조성물 (B2a)의 표면에 엠보싱 구조를 전사하는 방법으로서, 여기서 복합체 (F1B1)의 (B1)을 제조하기 위해 사용되는 코팅 조성물 (B1a)가 정의된 구성의 방사선-경화성 코팅 조성물인 방법, 및 또한 코팅 조성물 (B2a)의 표면의 적어도 일부분에 엠보싱 구조를 전사하기 위한 엠보싱 도구 (P2)의 엠보싱 다이 (p2)로서의 복합체 (F1B1)의 용도가 기재되어 있다.Finally, applications WO2019185832A1 and WO2019185833 A1 describe a method for transferring an embossed structure to the surface of a coating composition (B2a) using a composite (F1B1) consisting of a substrate (S1) and an embossed and cured coating (B1) according to specific steps wherein the coating composition (B1a) used for preparing (B1) of the composite (F1B1) is a radiation-curable coating composition of a defined composition, and also an embossing structure on at least a part of the surface of the coating composition (B2a) The use of a composite (F1B1) as an embossing die (p2) of an embossing tool (P2) for transferring is described.

그러나, 선행 기술로부터 공지된 엠보싱가공 방법, 예컨대 특히 EP 2 146 805 B1, WO 2016/090395 A1, 및 문헌 [ACS Nano Journal, 2016, 10, pages 4926 to 4941]에 기재된 방법이, 특히 마이크로미터 범위 및/또는 나노미터 범위의 엠보싱부, 즉, 마이크로구조 및/또는 나노구조를 항상 적절하게 전사할 수 있는 것은 아니며, 특히 이러한 전사의 경우에 몰딩의 정확도가 필연적으로 허용가능하지 않은 정도로 저하된다. 동시에, 엠보싱부가 항상 적절하게 복제되지는 않으며, 또는 출원 WO2019185832A1 및 WO2019185833 A1에서와 같이, 엠보싱 몰드로서 사용되는 복합체를 특정한 시간 동안 에이징되도록 하고 엠보싱 몰드와 엠보싱가공되고 경화된 코팅을 경화 직후에 분리할 때만 높은 수준의 복제 및 엠보싱가공되고 경화된 코팅의 비파괴적 분리가 획득될 수 있다.However, the embossing methods known from the prior art, such as those described in particular EP 2 146 805 B1, WO 2016/090395 A1, and in ACS Nano Journal, 2016, 10, pages 4926 to 4941, are especially in the micrometer range. and/or embossments in the nanometer range, ie microstructures and/or nanostructures, cannot always be transferred properly, in particular in the case of such transfers, the accuracy of the molding inevitably deteriorates to an unacceptable degree. At the same time, the embossing is not always properly replicated, or, as in the applications WO2019185832A1 and WO2019185833 A1, the composite used as the embossing mold is allowed to age for a certain time and the embossing mold and the embossed and cured coating are separated immediately after curing. Only when can a high level of replication and non-destructive separation of embossed and cured coatings be obtained.

따라서, 상기 명시된 단점을 갖지 않는 엠보싱가공 방법에 대한 필요성이 존재한다.Accordingly, there is a need for an embossing method that does not have the disadvantages noted above.

따라서, 본 발명의 목적은 코팅 조성물 및 이러한 코팅 조성물을 포함하는 기판에 엠보싱 구조를 전사하는 방법, 보다 구체적으로는 상응하는 마이크로구조 및/또는 나노구조의 전사를 가능하게 하고, 엠보싱 구조의 전사에 있어서 기판의 보다 넓은 면적에 걸쳐서도 충분한 몰딩 정확도 및 높은 수준의 복제 성공률을 허용하여, 이로써 엠보싱가공에 임의의 변조도 손실이 동반되지 않으며, 또한 특히 엠보싱 구조를 전사하기 위한 대체로 재사용가능한 엠보싱 몰드의 생성을 가능하게 하고/거나 이러한 종류의 엠보싱 몰드를 사용하여 수행될 수 있는 이러한 종류의 방법을 제공하는 것이다. 동시에, 방법이 특히 사용된 코팅 및 코팅 조성물의 일부분에 대한 원치 않거나 또는 불충분한 특성, 예컨대 불충분한 접착력, 특히 감소된 몰드 충전 및 변조도 손실을 초래하는, 조화되지 않은 표면 에너지로 인한 엠보싱가공하려는 코팅 조성물의 디-웨팅에 의한 몰드로부터의 엠보싱가공하려는 코팅 조성물의 반발성의 측면에서의 불충분한 접착력에 의해 야기되는 임의의 단점을 특색으로 하지 않으면서, 전사될 엠보싱 구조를 매우 높은 수준까지 복제하는 것이 가능해야 하며, 여기서 엠보싱 몰드를 제조한 후 및 엠보싱 몰드가 엠보싱가공하려는 코팅 조성물과 접촉하게 된 후의 경과 시간에 상관없이 엠보싱 몰드와 엠보싱가공되고 경화된 코팅의 특별히 우수한 분리가 제공되어야 한다. 게다가, 엠보싱 몰드의 전체 폭에 걸쳐 몰딩 정확도가 개선되어야 한다.It is therefore an object of the present invention to enable coating compositions and methods for transferring embossed structures to a substrate comprising such a coating composition, more particularly to enable the transfer of the corresponding microstructures and/or nanostructures, and to facilitate the transfer of embossed structures. allowing sufficient molding accuracy and a high level of replication success rate even over a larger area of the substrate, so that the embossing is not accompanied by any loss of modulation degree, and also, in particular, of a generally reusable embossing mold for transferring embossing structures. It is to provide a method of this kind that enables the production and/or can be carried out using an embossing mold of this kind. At the same time, the method is particularly prone to embossing due to mismatched surface energies, resulting in loss of unwanted or insufficient properties, such as insufficient adhesion, in particular reduced mold filling and modulation degree, for the coatings and parts of the coating composition used. Replicating the embossing structure to be transferred to a very high level without featuring any disadvantages caused by insufficient adhesion in terms of the repellency of the coating composition to be embossed from the mold by de-wetting of the coating composition. It should be possible, wherein a particularly good separation of the embossing mold and the embossed cured coating should be provided regardless of the time elapsed after the production of the embossing mold and after the embossing mold has come into contact with the coating composition to be embossed. Furthermore, the molding accuracy should be improved over the entire width of the embossing mold.

상기 과제가 청구범위에서 청구된 대상 및 또한 이러한 대상에 대한 하기 기재된 바와 같은 바람직한 실시양태에 의해 해결된다.The above object is solved by the subject matter claimed in the claims and also by preferred embodiments as described below for this subject matter.

따라서, 본 발명의 제1 대상은 복합체 (S1C1)을 사용하여 코팅 조성물 (C2a)의 표면의 적어도 일부분에 엠보싱 구조를 전사하는 방법으로서, 적어도 단계 (1), (2-i) 및 (3-i) 또는 (2-ii) 및 (3-ii) 및 또한 적어도 단계 (4) 및 임의적으로 단계 (5-i) 또는 (5-ii), 구체적으로는 하기 단계를 포함하며:Accordingly, a first object of the present invention is a method for transferring an embossing structure to at least a portion of a surface of a coating composition (C2a) using a composite (S1C1), comprising at least steps (1), (2-i) and (3- i) or (2-ii) and (3-ii) and also at least step (4) and optionally step (5-i) or (5-ii), in particular the following steps:

(1) 기판 (S1) 및 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)로 구성된 복합체 (S1C1)을 제공하는 단계;(1) providing a composite (S1C1) consisting of a substrate (S1) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1);

and

(2-i) 기판 (S2)의 표면의 적어도 일부분에 적어도 하나의 코팅 조성물 (C2a)를 적용하여 복합체 (S2C2a)를 제공하는 단계;(2-i) applying at least one coating composition (C2a) to at least a portion of the surface of the substrate (S2) to provide a composite (S2C2a);

(3-i) 복합체 (S2C2a)의 코팅 조성물 (C2a)의 적어도 일부분에 복합체 (S1C1)을 적용하여 복합체 (S1C1C2aS2)를 제공하는 단계;(3-i) applying the composite (S1C1) to at least a portion of the coating composition (C2a) of the composite (S2C2a) to provide a composite (S1C1C2aS2);

또는or

(2-ii) 복합체 (S1C1)의 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 표면의 적어도 일부분에 적어도 하나의 코팅 조성물 (C2a)를 적용하고, 복합체 (S1C1)을 사용하여 코팅 조성물 (C2a)를 적어도 부분적으로 엠보싱가공하여 복합체 (S1C1C2a)를 제공하는 단계;(2-ii) at least one coating composition (C2a) is applied to at least a portion of the at least partially embossed and at least partially cured surface of the composite (S1C1), and the coating composition (C2a) using the composite (S1C1) at least partially embossing to provide a composite (S1C1C2a);

(3-ii) 임의적으로, 복합체 (S1C1C2a)의, 코팅 조성물 (C2a)에 의해 형성된 표면의 적어도 일부분에 기판 (S2)를 적용하여 복합체 (S1C1C2aS2)를 제공하는 단계;(3-ii) optionally applying the substrate (S2) to at least a portion of the surface formed by the coating composition (C2a) of the composite (S1C1C2a) to provide a composite (S1C1C2aS2);

and

(4) 기판 (S2)에 임의적으로 적용되는, 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 조성물 (C2a)를, 적어도 부분적인 경화의 지속기간 내내 복합체 (S1C1)과 접촉해 있는 상태로 적어도 부분적으로 경화시켜 복합체 (S1C1C2) 또는 (S1C1C2S2)를 제공하는 단계;(4) at least partially curing the at least partially embossed coating composition (C2a), optionally applied to the substrate (S2), in contact with the composite (S1C1) throughout the duration of the at least partial cure to make the composite providing (S1C1C2) or (S1C1C2S2);

and

(5-i) 임의적으로, 복합체 (S1C1C2S2) 내 복합체 (C2S2)를 복합체 (S1C1)로부터 제거하여 단계 (1)에서 제공된 복합체 (S1C1)을 복원하는 단계;(5-i) optionally, removing the complex (C2S2) in the complex (S1C1C2S2) from the complex (S1C1) to restore the complex (S1C1) provided in step (1);

또는or

(5-ii) 임의적으로, 복합체 (S1C1C2) 내 코팅 (C2)를 복합체 (S1C1)로부터 제거하여 단계 (1)에서 제공된 복합체 (S1C1)을 복원하는 단계;(5-ii) optionally, removing the coating (C2) in the complex (S1C1C2) from the complex (S1C1) to restore the complex (S1C1) provided in step (1);

여기서 단계 (1)에서 사용되고 단계 (5-i) 또는 단계 (5-ii)에서 복원되는 복합체 (S1C1)의 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)을 제조하기 위해 사용되는 코팅 조성물 (C1a)는 하기를 포함하는 방사선-경화성 코팅 조성물이며:wherein the coating is used to prepare the at least partially embossed and at least partially cured coating (C1) of the composite (S1C1) used in step (1) and restored in step (5-i) or step (5-ii) Composition (C1a) is a radiation-curable coating composition comprising:

(a) 1 내지 45 중량%의 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머,(a) from 1 to 45% by weight of at least one crosslinkable polymer and/or oligomer,

(b) 40 내지 95 중량%의 적어도 하나의 반응성 희석제,(b) 40 to 95% by weight of at least one reactive diluent;

(c) 0.01 내지 15 중량%의 적어도 하나의 광개시제, 및(c) 0.01 to 15% by weight of at least one photoinitiator, and

(d) 0 내지 5 중량%의 적어도 하나의 첨가제;(d) 0 to 5% by weight of at least one additive;

여기서 (i) 성분 (a), (b), (c) 및 (d)의 명시된 총량은 각각 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하는 것이고, (ii) 코팅 조성물 (C1a)에 존재하는 모든 성분의 총량은 그 합계가 100 중량%가 되고;wherein (i) the specified total amounts of components (a), (b), (c) and (d) are each based on the total weight of the coating composition (C1a), and (ii) The total amount of all components adds up to 100% by weight;

여기서 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머 (a)는, 코팅 조성물 (C1a)에 포함된 모든 가교성 중합체 및/또는 올리고머의 총 중량을 기준으로 하여, 적어도 25 중량%, 바람직하게는 적어도 50 중량%, 보다 바람직하게는 적어도 90 중량%, 매우 바람직하게는 100 중량%의 총량으로 적어도 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머를 포함하는 것인wherein the at least one crosslinkable polymer and/or oligomer (a) comprises at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, based on the total weight of all crosslinkable polymers and/or oligomers comprised in the coating composition (C1a) at least one silicone (meth)acrylate oligomer in a total amount of % by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight

방법이다.way.

놀랍게도, 본 발명의 방법은, 특히 10 nm 내지 1000 μm의 범위의 구조 폭 및 1 nm 내지 1000 μm의 범위의 구조 깊이의 엠보싱가공된 마이크로구조 및/또는 나노구조를 엠보싱가공하려는 코팅 조성물에 전사하는 것을 가능하게 하며, 이때 복합체 (S1C1)의 제조 및 그에 대한 코팅 조성물 (C2a)의 적용 이후 경과 시간, 및 엠보싱 몰드로서 유리하게 사용되는 이러한 복합체 (S1C1)에 적용된 코팅 조성물 (C2a)의 엠보싱가공과 경화 사이의 경과 시간에 상관없이, 보다 적은 몰드 충전을 겪는 우수한 복제 품질의 손실 없이, 매우 높은 수준의 성공적인 복제가 가능하고, 엠보싱 도구 (E2)의 엠보싱 몰드 (e2)로서 바람직하게 사용되는 복합체 (S1C1)은 엠보싱 몰드의 폭에 걸쳐 개선된 층 두께 균일성을 가져, 적용되는 경우에, 복합체 (S1C1)에 대한 보다 균일한 압력의 적용을 가능하게 한다는 것이 밝혀졌다.Surprisingly, the method of the invention is particularly suitable for transferring embossed microstructures and/or nanostructures with a structure width in the range from 10 nm to 1000 μm and a structure depth in the range 1 nm to 1000 μm to the coating composition to be embossed. The time elapsed since the preparation of the composite (S1C1) and the application of the coating composition (C2a) thereto, and the embossing of the coating composition (C2a) applied to this composite (S1C1) advantageously used as an embossing mold and Irrespective of the elapsed time between curing, a very high level of successful replication is possible without loss of good replication quality undergoing less mold filling, and a composite which is preferably used as an embossing mold (e2) of an embossing tool (E2). It has been found that S1C1) has improved layer thickness uniformity across the width of the embossing mold, allowing, if applied, a more uniform application of pressure to the composite S1C1.

이와 관련하여 특히 놀랍게도, 본 발명의 방법이, 바람직하게는 이동하는 기판 (S1) 상의 방사선-경화성 코팅 조성물 (C1a)의 코팅에 의해 수득가능하며, 엠보싱 도구 (E2)의 엠보싱 몰드 (e2)로서 유리하게 사용되는 복합체 (S1C1)을 사용하여 몰드의 전체 폭에 걸쳐 매우 높은 몰딩 정확도 및 높은 수준의 복제 성공률로 엠보싱 구조의 전사를 가능하게 한다는 것이 밝혀졌다.Particularly surprisingly in this regard, the process of the invention is obtainable by coating of a radiation-curable coating composition (C1a), preferably on a moving substrate (S1), as an embossing mold (e2) of an embossing tool (E2) It has been found that using the advantageously used composite (S1C1) enables the transfer of the embossed structure with a very high molding accuracy and a high level of replication success over the entire width of the mold.

추가로 놀랍게도, 기판 (S1) 상의 코팅 (C1)이 매우 우수한 접착력, 및 복합체 (S1C1)의 에이징 및 코팅 조성물 (C2)의 엠보싱가공 및 경화 이후 경과 시간에 상관없이 매우 우수한 분리 거동을 특징으로 하며, 이러한 이유로 상응하는 복합체 (S1C1)이 또한 엠보싱 몰드 (e2)로서 매우 효과적으로 이용될 수 있기 때문에, 본 발명의 방법이 매우 유리하게 적용될 수 있다는 것이 밝혀졌다.Further surprisingly, the coating (C1) on the substrate (S1) is characterized by very good adhesion and a very good separation behavior regardless of the elapsed time after aging of the composite (S1C1) and embossing and curing of the coating composition (C2), , it has been found that the method of the invention can be applied very advantageously, since for this reason the corresponding composite (S1C1) can also be used very effectively as an embossing mold (e2).

추가로 놀랍게도, 본 발명의 방법에서 엠보싱 도구 (E2)의 엠보싱 몰드 (e2)로서 이용가능한 복합체 (S1C1)이, 특히 연속 엠보싱 몰드의 형태로, 엠보싱 구조 예컨대 마이크로구조 및/또는 나노구조를 전사하기 위해 재사용될 수 있다는 것이 밝혀졌으며, 이는 경제적 이유로 유리하다. 더욱이, 놀랍게도, 바람직하게는 연속 엠보싱 몰드 (e2)의 형태로 존재하는, 이러한 복합체 (S1C1)은 재사용가능하며, 따라서 다중 활용이 가능할 뿐만 아니라, 거대한 산업적 규모로 저렴하고 신속하게 제조될 수 있다.It is further surprising that the composite (S1C1) usable as an embossing mold (e2) of an embossing tool (E2) in the method of the invention is particularly suitable for transferring embossing structures such as microstructures and/or nanostructures, in particular in the form of continuous embossing molds. It has been found that it can be reused for the purpose of Moreover, surprisingly, such a composite (S1C1), preferably present in the form of a continuous embossing mold (e2), is reusable and therefore not only capable of multiple uses, but also can be inexpensively and quickly produced on a large industrial scale.

따라서, 본 발명의 추가의 대상은 또한 기판 (S1) 및 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)로 구성되고, 기판 (S1)의 표면의 적어도 일부분에 적용되고 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 조성물 (C1a)를 방사선 경화에 의해 적어도 부분적으로 경화시킴으로써 제조가능한 복합체 (S1C1)로서,Accordingly, a further subject of the invention also consists of a substrate (S1) and a coating (C1) that is at least partially embossed and at least partially cured, applied to at least part of the surface of the substrate (S1) and is at least partially embossed A composite (S1C1) preparable by at least partially curing the engineered coating composition (C1a) by means of radiation curing, comprising:

여기서 코팅 조성물 (C1a)는 하기를 포함하는 방사선-경화성 코팅 조성물이며:wherein the coating composition (C1a) is a radiation-curable coating composition comprising:

(a) 1 내지 45 중량%의 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머,(a) from 1 to 45% by weight of at least one crosslinkable polymer and/or oligomer,

(b) 40 내지 95 중량%의 적어도 하나의 반응성 희석제,(b) 40 to 95% by weight of at least one reactive diluent;

(c) 0.01 내지 15 중량%의 적어도 하나의 광개시제, 및(c) 0.01 to 15% by weight of at least one photoinitiator, and

(d) 0 내지 5 중량%의 적어도 하나의 첨가제;(d) 0 to 5% by weight of at least one additive;

여기서 (i) 성분 (a), (b), (c) 및 (d)의 명시된 총량은 각각 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하는 것이고, (ii) 코팅 조성물 (C1a)에 존재하는 모든 성분의 총량은 그 합계가 100 중량%가 되고;wherein (i) the specified total amounts of components (a), (b), (c) and (d) are each based on the total weight of the coating composition (C1a), and (ii) The total amount of all components adds up to 100% by weight;

여기서 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머 (a)는, 코팅 조성물 (C1a)에 포함된 모든 가교성 중합체 및/또는 올리고머의 총 중량을 기준으로 하여, 적어도 25 중량%, 바람직하게는 적어도 50 중량%, 보다 바람직하게는 적어도 90 중량%, 매우 바람직하게는 100 중량%의 총량으로 적어도 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머를 포함하는 것인wherein the at least one crosslinkable polymer and/or oligomer (a) comprises at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, based on the total weight of all crosslinkable polymers and/or oligomers comprised in the coating composition (C1a) at least one silicone (meth)acrylate oligomer in a total amount of % by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight

복합체 (S1C1)이다.complex (S1C1).

바람직하게는 이러한 복합체 (S1C1)은 하기에 보다 상세히 기재된 방법 단계 (6) 내지 (9)의 실행에 의해 수득가능하다.Preferably this complex (S1C1) is obtainable by carrying out the process steps (6) to (9) described in more detail below.

놀랍게도, 본 발명의 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 복합체 (S1C1)이 엠보싱가공 방법 예컨대 본 발명의 방법에서 재사용가능한 엠보싱 몰드 (e2)로서, 바람직하게는 재사용가능한 연속 엠보싱 몰드 (e2)로서 이용될 수 있을 뿐만 아니라, 이러한 복합체 (S1C1)을 제조하기 위해 사용된 방사선-경화성 코팅 조성물 (C1a)에 존재하는 성분으로 인해, 특히 본 발명의 방법을 수행할 때 그의 임의적인 단계 (5-i) 또는 (5-ii)에서, 엠보싱 몰드로서 이용가능한 복합체 (S1C1)을 제조한 후 및 코팅 조성물 (C2a)를 적용한 후의 경과 시간 또는 이러한 생성물 코팅 (C2)의 엠보싱가공 및 경화 이후 경과 시간에 상관없이 매우 우수한 분리 품질로, 엠보싱 도구 (E2)의 엠보싱 몰드 (e2)로서 사용될 수 있는 복합체 (S1C1)과 엠보싱가공된 코팅 (C2) 및/또는 상응하는 복합체 예컨대 코팅 (C2)와 같은 이러한 엠보싱가공된 코팅을 포함하는 복합체 (S2C2) 사이의 매우 효과적인 분리를 달성하는 것이 가능하다는 것이 밝혀졌다. 특히 추가로, 특별히 복합체 (S1C1)을 제조하기 위한 방법 단계 (6) 내지 (9)를 이행할 경우에, 균일한 층 두께로 몰드의 전체 폭에 걸쳐서의 완전한 몰드 충전에 의해 엠보싱 몰드의 특색부의 높은 복제 성공률 및 복제 품질로 코팅 (C1)의 엠보싱 구조가 수득될 수 있다는 것이 밝혀졌다.Surprisingly, the at least partially embossed composite (S1C1) of the present invention can be used as a reusable embossing mold (e2) in an embossing method such as a method of the present invention, preferably as a reusable continuous embossing mold (e2) Furthermore, due to the components present in the radiation-curable coating composition (C1a) used to prepare this composite (S1C1), in particular when carrying out the process of the present invention, its optional steps (5-i) or (5 In -ii), very good separation regardless of the elapsed time after preparation of the composite (S1C1) usable as embossing mold and after application of the coating composition (C2a) or the elapsed time after embossing and curing of this product coating (C2) By quality, it includes such embossed coatings as composites (S1C1) and embossed coatings (C2) and/or corresponding composites such as coatings (C2) which can be used as embossing molds (e2) of the embossing tool (E2). It has been found that it is possible to achieve very effective separation between complexes (S2C2) that are In particular, in the case of carrying out the method steps (6) to (9) for producing the composite (S1C1) in particular, the feature of the embossing mold is formed by complete filling of the mold over the entire width of the mold with a uniform layer thickness. It has been found that the embossed structure of the coating (C1) can be obtained with a high replication success rate and replication quality.

더욱이, 본 발명의 추가의 대상은 기판 (S2)에 임의적으로 적용되는, 코팅 조성물 (C2a)의 표면의 적어도 일부분에 엠보싱 구조, 바람직하게는 마이크로구조화 및/또는 나노구조화된 표면을 갖는 엠보싱 구조를 전사하기 위한 엠보싱 도구 (E2)의 엠보싱 몰드 (e2)로서의 본 발명의 복합체 (S1C1)의 용도이다.Moreover, a further subject of the invention is an embossing structure, preferably having a microstructured and/or nanostructured surface, in at least part of the surface of the coating composition (C2a), optionally applied to the substrate (S2). Use of the composite (S1C1) of the present invention as an embossing mold (e2) of an embossing tool (E2) for transferring.

본 발명과 관련하여 공식 표준이 언급되는 경우에, 이는 출원일에 통용되는 표준의 버전, 또는 출원일에 통용되는 버전이 존재하지 않는다면 가장 최신의 통용되는 버전을 나타낸다.When reference is made to an official standard in the context of the present invention, it indicates the version of the standard prevailing at the filing date, or the most recent prevailing version if no version prevailing at the filing date.

본 발명과 관련하여, 예를 들어 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머를 포함하는 코팅 조성물 (C1a)와 관련하여, 용어 "적어도"는 특정된 수 (1) 및 그 초과를 포함하는 것으로 이해되어야 하며, 예를 들어 코팅 조성물 (C1a)는 1, 2, 3 또는 4종의 상이하거나 동일한 가교성 중합체 및/또는 올리고머를 포함할 것이다. 용어 "적어도"의 해석과 관련된 수학적 기호는 "≥"와 유사하다. 주어진 수치 범위와 조합된 용어 "적어도"의 해석에도 유사하게 적용되며, 예컨대 "적어도 25 중량%"는 본 발명과 관련하여 25 중량% 내지 100 중량%를 의미하는 것으로 해석되어야 한다. 용어 "미만", 예컨대 75 중량% 미만은 언급된 수 ("75")를 포함하지 않지만, 0 중량% 내지 75 중량%의 범위로 해석되어야 한다. 용어 "미만"의 해석과 관련된 수학적 기호는 "<"와 유사하다.In the context of the present invention, for example with reference to a coating composition (C1a) comprising at least one crosslinkable polymer and/or oligomer, the term "at least" is understood to include the specified number (1) and more. should be, for example the coating composition (C1a) will comprise 1, 2, 3 or 4 different or identical crosslinkable polymers and/or oligomers. The mathematical sign relevant to the interpretation of the term "at least" is analogous to "≥". The same applies to the interpretation of the term “at least” in combination with a given numerical range, for example “at least 25% by weight” should be construed in the context of the present invention to mean between 25% and 100% by weight. The term “less than”, such as less than 75% by weight, does not include the recited number (“75”), but should be construed as a range from 0% to 75% by weight. The mathematical sign relevant to the interpretation of the term "less than" is analogous to "<".

본 발명의 명세서에서, 편의상, "중합체" 및 "수지"는 수지, 올리고머 및 중합체를 포괄하도록 상호교환가능하게 사용된다.In the present specification, for convenience, "polymer" and "resin" are used interchangeably to encompass resins, oligomers and polymers.

용어 "폴리(메트)아크릴레이트"는 폴리아크릴레이트 및 폴리메타크릴레이트 둘 다를 의미한다. 따라서, 폴리(메트)아크릴레이트는 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트로 구성될 수 있으며, 추가의 에틸렌계 불포화 단량체 예컨대, 예를 들어, 스티렌 또는 아크릴산을 함유할 수 있다. 용어 "(메트)아크릴로일"은 본 발명의 관점에서 메타크릴로일 화합물, 아크릴로일 화합물 및 그의 혼합물을 포괄한다.The term “poly(meth)acrylate” refers to both polyacrylates and polymethacrylates. Thus, poly(meth)acrylates may consist of acrylates and/or methacrylates and may contain further ethylenically unsaturated monomers such as, for example, styrene or acrylic acid. The term “(meth)acryloyl” in the context of the present invention encompasses methacryloyl compounds, acryloyl compounds and mixtures thereof.

본 발명과 관련하여, C1-C4-알킬은 메틸, 에틸, 이소프로필, n-프로필, n-부틸, 이소부틸, sec-부틸 및 tert-부틸, 바람직하게는 메틸, 에틸 및 n-부틸, 보다 바람직하게는 메틸 및 에틸, 가장 바람직하게는 메틸을 의미한다.In the context of the present invention, C 1 -C 4 -alkyl is methyl, ethyl, isopropyl, n-propyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl and tert-butyl, preferably methyl, ethyl and n-butyl , more preferably methyl and ethyl, most preferably methyl.

본 발명의 관점에서, 본 발명에 따라 사용되는 코팅 조성물, 예컨대, 예를 들어, 코팅 조성물 (C1a), 및 본 발명의 방법 및 그의 방법 단계와 관련하여, 용어 "포함하는"은 바람직하게는 "이루어진"의 정의를 갖는다. 예를 들어 본 발명에 따라 이용되는 코팅 조성물 (C1a)와 관련하여 - 성분 (a) 및 (b) 및 또한 (c) 및 임의적으로 (d) 이외에도 - 하기에서 확인되고 본 발명에 따라 이용되는 코팅 조성물 (C1a)에 임의적으로 존재하는 하나 이상의 다른 성분이 또한 이 조성물에 포함되는 것이 가능하다. 모든 성분이 하기에서 확인되는 그의 바람직한 실시양태에서 각각 존재할 수 있다. 본 발명의 방법과 관련하여, 이는 단계 (1), (2-i) 및 (3-i) 또는 (2-ii) 및 (3-ii) 및 또한 적어도 단계 (4) 및 임의적으로 단계 (5-i) 또는 (5-ii) 이외에도, 추가의 임의적인 방법 단계, 예컨대, 예를 들어, 단계 (6) 내지 (9)를 가질 수 있다.In the context of the present invention, in relation to the coating compositions used according to the invention, such as, for example, the coating composition (C1a), and the process of the invention and the process steps thereof, the term "comprising" is preferably " has the definition of "consumed". For example, in connection with the coating composition (C1a) used according to the invention - in addition to components (a) and (b) and also (c) and optionally (d) - the coatings identified below and used according to the invention It is possible that one or more other components optionally present in the composition (C1a) are also included in the composition. All components may each be present in its preferred embodiments identified below. In the context of the process of the present invention, it comprises steps (1), (2-i) and (3-i) or (2-ii) and (3-ii) and also at least step (4) and optionally step (5) In addition to -i) or (5-ii), it may have further optional process steps, such as, for example, steps (6) to (9).

적어도 단계 (1), (2-i) 및 (3-i) 또는 (2-ii) 및 (3-ii) 및 또한 적어도 단계 (4) 및 임의적으로 단계 (5-i) 또는 (5-ii)를 포함하는, 엠보싱 구조를 전사하기 위한 본 발명의 방법at least step (1), (2-i) and (3-i) or (2-ii) and (3-ii) and also at least step (4) and optionally step (5-i) or (5-ii) ), the method of the present invention for transferring an embossed structure comprising

본 발명의 제1 대상은 복합체 (S1C1)을 사용하여 코팅 조성물 (C2a)의 표면의 적어도 일부분에 엠보싱 구조를 전사하기 위한 본 발명의 방법으로서, 하기 기재된 바와 같은, 적어도 단계 (1), (2-i) 및 (3-i) 또는 (2-ii) 및 (3-ii) 및 또한 적어도 단계 (4) 및 임의적으로 단계 (5-i) 또는 (5-ii)를 포함하는 방법이다.A first subject of the invention is a method of the invention for transferring an embossed structure to at least a part of the surface of a coating composition (C2a) using a composite (S1C1), as described below, comprising at least steps (1), (2) -i) and (3-i) or (2-ii) and (3-ii) and also at least step (4) and optionally step (5-i) or (5-ii).

본 발명의 방법은 바람직하게는 연속 방법이다.The process of the invention is preferably a continuous process.

엠보싱 구조는 방법 단계 (2-i) 및 (3-i)에 따른, 기판 (S2)의 표면에 적어도 부분적으로 적용된 코팅 조성물 (C2a)의 적어도 부분적인 엠보싱가공에 의해 전사되거나 또는 유지된다. 대안적 가능성은 방법 단계 (2-ii) 및 (3-ii)에 의한 전사이다. 용어 "엠보싱가공"은, 임의적으로 복합체 (S2C2a)의 부분으로서의 코팅 조성물 (C2a)에 그의 표면의 적어도 일부분에서 엠보싱 구조를 적어도 부분적으로 제공하는 것을 지칭한다. 이러한 경우에, 코팅 조성물 (C2a)의 적어도 소정의 면적에 엠보싱 구조가 제공된다. 바람직하게는, 임의적으로 복합체 (S2C2a)의 부분으로서의 코팅 조성물 (C2a)의 전체 표면에 엠보싱 구조가 제공된다. 하기 기재된 단계 (6) 내지 (9)에 따라 제조될 수 있는, 엠보싱 도구 (E2)의 엠보싱 몰드 (e2)로서 바람직하게 이용가능하며 기판 (S1) 및 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)로 구성된, 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 복합체 (S1C1)과 관련된 용어 "엠보싱가공"에 대해서도 유사한 설명이 적용된다.The embossed structure is transferred or maintained by at least partial embossing of the coating composition (C2a) at least partially applied to the surface of the substrate (S2) according to method steps (2-i) and (3-i). An alternative possibility is transcription by method steps (2-ii) and (3-ii). The term "embossing" refers to at least partially providing the coating composition (C2a), optionally as part of the composite (S2C2a), in at least part of its surface an embossing structure. In this case, at least a predetermined area of the coating composition (C2a) is provided with an embossing structure. Preferably, the entire surface of the coating composition (C2a), optionally as part of the composite (S2C2a), is provided with an embossing structure. Preferably usable as an embossing mold (e2) of an embossing tool (E2), which can be produced according to steps (6) to (9) described below, and a substrate (S1) and at least partially embossed and at least partially cured A similar description applies to the term "embossing" in relation to the at least partially embossed composite (S1C1), consisting of the coating (C1).

단계 (1):Step (1):

본 발명의 방법의 단계 (1)에서, 기판 (S1) 및 적어도 부분적으로 경화되고 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 (C1)로 구성된 복합체 (S1C1)이 제공된다.In step (1) of the method of the invention, a composite (S1C1) is provided, which consists of a substrate (S1) and an at least partially cured and at least partially embossed coating (C1).

이어지는 단계들에서 기재되는 복합체 (S1C1), 엠보싱 몰드 (e1) 및 또한 복합체 (S2C2a) 및 복합체 (S2C2)의 엠보싱 구조는 바람직하게는 그리고 각각의 경우에 서로 독립적으로 반복되는 및/또는 규칙적으로 배열된 패턴에 기반하거나 또는 완전히 무작위적이다. 각각의 경우에 구조는 연속적인 엠보싱 구조 예컨대 연속적인 요홈 구조 또는 그밖에 복수의 바람직하게 반복되는 개별 엠보싱 구조일 수 있다. 이러한 경우에 각각의 개별 엠보싱 구조는 궁극적으로 바람직하게는 엠보싱 구조의 엠보싱가공된 높이를 한정하는, 어느 정도 명확하게 드러나는 융기부 (엠보싱가공된 상승부)를 갖는 요홈 구조에 기반할 수 있다. 바람직하게 반복되는 개별 엠보싱 구조의 융기부의 각각의 기하구조에 따라, 평면도는 각각이 상이한, 예컨대, 예를 들어, 바람직하게는 사형, 톱니형, 육각형, 다이아몬드형, 장사방형, 평행사변형, 벌집형, 원형, 점형, 성상형, 로프형, 망상형, 다각형, 바람직하게는 삼각형, 사각형, 보다 바람직하게는 직사각형 및 정사각형, 오각형, 육각형, 칠각형 및 팔각형, 와이어형, 타원형, 난형 및 격자형 패턴인, 복수의 바람직하게 반복되는 개별 엠보싱 구조를 제시할 수 있으며, 여기서 적어도 2가지의 패턴이 서로 중첩되는 것이 또한 가능하다. 개별 엠보싱 구조의 융기부는 또한 굴곡, 즉, 볼록 및/또는 오목 구조를 가질 수 있다.The embossing structures of the composite (S1C1), the embossing mold (e1) and also the composite (S2C2a) and the composite (S2C2) described in the subsequent steps are preferably and in each case independently of one another repeated and/or regularly arranged based on a given pattern or completely random. The structure in each case may be a continuous embossing structure such as a continuous grooved structure or else a plurality of preferably repeating individual embossing structures. In this case each individual embossing structure may ultimately be based on a concave structure having a more or less clearly visible ridge (embossed riser) which preferably defines the embossed height of the embossed structure. Depending on the respective geometry of the ridges of the preferably repeated individual embossing structures, the planarities each differ, for example, preferably sand-shaped, serrated, hexagonal, diamond-shaped, rhombic, parallelogram, honeycomb-shaped. , circular, dotted, star-shaped, rope-shaped, reticulated, polygonal, preferably triangular, square, more preferably rectangular and square, pentagonal, hexagonal, heptagonal and octagonal, wire-shaped, oval, oval and lattice-shaped patterns , it is possible to present a plurality of preferably repeating individual embossing structures, wherein it is also possible for at least two patterns to overlap each other. The ridges of the individual embossing structures may also have a curved, ie convex and/or concave structure.

바람직하게는, 엠보싱가공된 코팅 (C1)은 마이크로규모 및/또는 나노규모의 표면 요소를 포함하는 적어도 하나의 마이크로구조화 및/또는 나노구조화된 표면을 포함한다. 각각의 엠보싱가공된 마이크로규모 및/또는 나노규모의 표면 요소는 그의 폭 예컨대 융기부의 폭, 다시 말해서 그의 구조 폭, 및 엠보싱부의 높이, 다시 말해서 그의 구조 높이 (또는 구조 깊이)에 의해 기술될 수 있다. 구조 폭 예컨대 융기부의 폭은 최대 1 센티미터의 길이를 가질 수 있지만, 바람직하게는 10 nm 내지 1 mm의 범위에 있다. 구조 높이는 바람직하게는 0.1 nm 내지 1 mm의 범위에 있다. 그러나, 바람직하게는, 각각의 엠보싱 구조는 마이크로구조 및/또는 나노구조를 나타낸다.Preferably, the embossed coating (C1) comprises at least one microstructured and/or nanostructured surface comprising microscale and/or nanoscale surface elements. Each embossed microscale and/or nanoscale surface element can be described by its width such as the width of the ridge, i.e. its structure width, and the height of the embossing, i.e. its structure height (or structure depth). . The structure width, such as the width of the ridge, may have a length of up to 1 centimeter, but is preferably in the range of 10 nm to 1 mm. The structure height is preferably in the range of 0.1 nm to 1 mm. Preferably, however, each embossed structure exhibits a microstructure and/or a nanostructure.

특정한 마이크로규모 또는 나노규모의 표면 요소의 크기는, 각각, 표면에 평행한 임의의 방향으로의 최대 연장선, 즉, 예를 들어, 원통형 표면 요소의 직경 또는 파라미드형 표면 요소의 기부 표면의 대각선으로서 정의된다. 표면 내 (또는 표면에 평행한) 하나 이상의 방향으로 마크로규모의 연장선을 갖고 표면 내 하나 이상의 다른 방향으로 마이크로규모 또는 나노규모의 연장선을 갖는 표면 요소의 경우에는, 표면 요소의 크기라는 용어가 이러한 표면 요소의 마이크로규모 및/또는 나노규모의 연장선을 지칭한다. 특정한 마이크로규모 또는 나노규모의 표면 요소의 길이는, 각각, 구조화된 표면의 길이 방향으로의 연장선으로서 정의된다. 마찬가지로, 특정한 마이크로규모 또는 나노규모의 표면 요소의 폭은, 각각, 구조화된 표면의 폭 방향으로의 연장선으로서 정의된다.The size of a particular microscale or nanoscale surface element is, respectively, as the greatest extension in any direction parallel to the surface, i.e., the diameter of a cylindrical surface element or the diagonal of the base surface of a pyramidal surface element. is defined In the case of surface elements having macroscale extensions in one or more directions in (or parallel to) the surface and microscale or nanoscale extensions in one or more other directions within the surface, the term size of the surface element refers to the size of such surface. Refers to microscale and/or nanoscale extensions of an element. The length of a particular microscale or nanoscale surface element is defined as an extension in the longitudinal direction of the structured surface, respectively. Likewise, the width of a particular microscale or nanoscale surface element is defined as an extension in the width direction of the structured surface, respectively.

돌출 (또는 상승) 표면 요소의 높이는 각각의 돌출 표면 요소가 배열된 인접한 바닥 표면으로부터, 이러한 바닥 표면에 수직 방향으로 측정된 각각의 연장선에 의해 정의된다. 마찬가지로, 인접한 상부의 노출된 표면으로부터 하향 연장되는 표면 요소의 깊이는 함입부가 연장되는 인접한 상부의 표면으로부터, 이러한 상부의 표면에 수직 방향으로 측정된 각각의 하향 연장선에 의해 정의된다.The height of the protruding (or raised) surface element is defined by a respective extension line measured from the adjacent floor surface on which the respective raised surface element is arranged, in a direction perpendicular to this floor surface. Likewise, the depth of the surface element extending downward from the exposed surface of the adjacent top is defined by the respective downward extension measured from the surface of the adjacent top from which the indentation extends in a direction perpendicular to the surface of this top.

2개의 인접한 표면 요소들 사이의 거리는 구조화된 표면 내 방향으로의 이러한 표면 요소들 사이의 각각의 2개의 최대점 또는 2개의 상대 최대점 사이의 거리로서 정의된다. 표면에 평행한 하나 이상의 주어진 방향으로의 표면 요소들의 규칙적인 순열을 갖는 구조화된 표면은 이러한 방향으로의 하나 이상의 피치 길이에 의해 특징화될 수 있다. 표면에 평행한 특정 방향으로의 피치 길이라는 용어는 2개의 인접한, 규칙적으로 반복되는 표면 요소들의 상응하는 포인트 사이의 거리를 나타낸다. 이는 표면 요소들이 둘 다 제1의 세로 방향으로 서로에 본질적으로 평행하게 마크로규모로 연장되고, 각각 상기 세로 방향에 대해 법선 방향으로 마이크로규모 및 임의적으로 나노규모의 횡단면을 갖는 것인, 채널형 및 레일형 표면 요소들의 교호하는 순열을 포함하는 구조화된 표면에 대해 예시될 수 있다. 세로 방향에 대해 법선 방향으로의 이러한 구조화된 표면의 피치 길이는 이러한 법선 방향으로의 채널형 표면 요소의 폭과 레일형 표면 요소의 폭의 합계이다.The distance between two adjacent surface elements is defined as the distance between each two maxima or two relative maxima between these surface elements in a direction into the structured surface. A structured surface having a regular permutation of surface elements in one or more given directions parallel to the surface may be characterized by one or more pitch lengths in that direction. The term pitch length in a particular direction parallel to a surface denotes the distance between corresponding points of two adjacent, regularly repeating surface elements. wherein the surface elements both extend macroscale essentially parallel to one another in a first longitudinal direction and each have a microscale and optionally nanoscale cross-section in a direction normal to said longitudinal direction. may be illustrated for a structured surface comprising alternating permutations of rail-like surface elements. The pitch length of this structured surface in the direction normal to the longitudinal direction is the sum of the width of the channel-shaped surface element and the width of the rail-shaped surface element in this normal direction.

바람직하게는, 엠보싱가공에 의해 전사될 각각의 마이크로구조화 및/또는 나노구조화된 표면은, 유리하게는 10 nm 내지 1000 μm의 범위, 바람직하게는 10 nm 내지 500 μm, 보다 바람직하게는 25 nm 내지 400 μm의 범위, 매우 바람직하게는 50 nm 내지 250 μm의 범위, 보다 특히 100 nm 내지 100 μm의 범위에 있는 구조 폭, 및 유리하게는 10 nm 내지 1000 μm의 범위, 바람직하게는 10 nm 내지 500 μm의 범위, 보다 바람직하게는 25 nm 내지 400 μm의 범위, 매우 바람직하게는 50 nm 내지 300 μm의 범위, 보다 특히 100 nm 내지 200 μm의 범위에 있는 구조 높이를 갖는 마이크로규모 및/또는 나노규모의 표면 요소를 포함한다. 이들 치수는 복합체 (S1C1) 및 복합체 (C2S2) 및 코팅 (C2) 모두의 엠보싱 구조, 뿐만 아니라 당연히 임의적인 단계 (7)에서의 엠보싱 몰드 (e1)에도 적용된다.Preferably, each microstructured and/or nanostructured surface to be transferred by embossing advantageously ranges from 10 nm to 1000 μm, preferably from 10 nm to 500 μm, more preferably from 25 nm to a structure width in the range of 400 μm, very preferably in the range of 50 nm to 250 μm, more particularly in the range of 100 nm to 100 μm, and advantageously in the range of 10 nm to 1000 μm, preferably in the range of 10 nm to 500 Microscale and/or nanoscale with a structure height in the range of μm, more preferably in the range from 25 nm to 400 μm, very preferably in the range from 50 nm to 300 μm, more particularly in the range from 100 nm to 200 μm contains the surface elements of These dimensions apply to the embossing structure of both the composite (S1C1) and the composite (C2S2) and the coating (C2), as well as of course the embossing mold (e1) in the optional step (7).

마이크로구조화 및/또는 나노구조화된 표면 요소를 포함하는 각각의 표면의 구조 폭 및 구조 높이는 바람직하게는 표면의 횡단면을 생성하고, 상기 횡단면의 구조 높이 및 구조 폭을 광학 및/또는 스캐닝 전자 현미경검사에 의해 결정하는 것에 의해 결정된다.The structure width and structure height of each surface comprising microstructured and/or nanostructured surface elements preferably produces a cross-section of the surface, and the structure height and structure width of said cross-section are subjected to optical and/or scanning electron microscopy. determined by deciding

본 발명의 방법의 단계 (1)에서 제공되는 복합체 (S1C1)은 다양한 공정, 예를 들어 리소그래피 방법, 예컨대 나노임프린트 리소그래피, 레이저 리소그래피 및 포토 리소그래피에 의해 제조될 수 있다. 하기에 보다 상세히 특정된 바와 같은 단계 (6) 내지 (9)에 의해 복합체 (S1C1)을 제조하는 것이 바람직하다.The composite (S1C1) provided in step (1) of the method of the present invention can be prepared by various processes, for example, lithographic methods such as nanoimprint lithography, laser lithography and photolithography. It is preferred to prepare the complex (S1C1) by steps (6) to (9) as specified in more detail below.

단계 (3-i) 및 단계 (2-ii)에서 엠보싱 몰드 (e2)로서 바람직하게 사용되며, 기판 (S1) 및 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)로 구성된 복합체 (S1C1)은 또한 본 발명에서 "마스터 기판" 또는 "마스터 필름"으로 지칭된다. 기판 (S1)이 필름인 경우에, 상응하는 마스터 필름은 "마스터 호일"로 지칭된다. 기판 (S1)이 호일 웹인 경우에, 상응하는 마스터 필름은 "마스터 호일 웹"으로 지칭된다. 하기에서, 마스터 필름의 코팅 (C1)은 또한 "적어도 부분적으로 경화된 마스터 코팅" 또는 "마스터 코팅 필름"으로 지칭되고, 경화된 마스터 코팅을 제조하기 위해 사용되는 코팅 조성물 (C1a)는 "마스터 코팅"으로 지칭된다. 바람직하게는 복합체 (S1C1)에서 (S1)과 (C1) 사이에 추가의 (코팅) 층이 존재하지 않는다. 그러나, 복합체 (S1C1)의 (S1)과 (C1) 사이에 적어도 하나의 접착 촉진제 층이 존재할 수도 있으며, 이러한 경우에 상기 층은 바람직하게는 UV 방사선에 투과성이다.Composite (S1C1), preferably used as embossing mold (e2) in steps (3-i) and (2-ii), consisting of a substrate (S1) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1) ) is also referred to herein as "master substrate" or "master film". In case the substrate S1 is a film, the corresponding master film is referred to as "master foil". In case the substrate S1 is a web of foil, the corresponding master film is referred to as a "master foil web". In the following, the coating (C1) of the master film is also referred to as “at least partially cured master coating” or “master coating film”, and the coating composition (C1a) used to prepare the cured master coating is referred to as “master coating” " is referred to as Preferably there is no additional (coating) layer between (S1) and (C1) in the composite (S1C1). However, it is also possible for at least one adhesion promoter layer to be present between (S1) and (C1) of the composite (S1C1), in which case said layer is preferably transparent to UV radiation.

단계 (2-i) 및 (3-i)Steps (2-i) and (3-i)

단계 (1) 후에, 제1 대안으로, 코팅 조성물 (C2a)를 기판 (S2)에 적어도 부분적으로 적용하여 복합체 (S2C2a)를 제공하고, 이어서 복합체 (S1C1)을 사용하여 복합체 (S2C2a)의 코팅 조성물 (C2a)를 적어도 부분적으로 엠보싱가공하여 복합체 (S1C1C2S2)를 제공한다. 단계 (2-i) 및 (3-i)에 의한 본 발명의 방법의 이러한 제1 대안이 여기서 기재된다.After step (1), in a first alternative, the coating composition (C2a) is at least partially applied to the substrate (S2) to provide a composite (S2C2a), followed by using the composite (S1C1) to the coating composition of the composite (S2C2a) (C2a) is at least partially embossed to give the composite (S1C1C2S2). This first alternative to the process of the invention by steps (2-i) and (3-i) is described herein.

단계 (2-i)Step (2-i)

본 발명의 방법의 단계 (2-i)은 기판 (S2)의 표면의 적어도 일부분에 방사선-경화성 코팅 조성물 (C2a)를 적용하여 복합체 (S2C2a)를 제공하는 것을 제공한다.Step (2-i) of the method of the present invention provides for applying a radiation-curable coating composition (C2a) to at least a portion of the surface of the substrate (S2) to provide a composite (S2C2a).

기판 (S2)는 그에 적용될 코팅 조성물 (C2a) 또는 코팅 (C2)를 위한 캐리어 물질을 나타낸다. 기판 (S2) 또는, 코팅된 기판이 사용된다면, 기판 (S2)의 표면 상에 위치하며 코팅 조성물 (C2a)와 접촉해 있는 층은 바람직하게는 적어도 하나의 열가소성 중합체, 보다 특히 폴리메틸 (메트)아크릴레이트, 폴리부틸 (메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET), 폴리부틸렌 테레프탈레이트 (PBT), 폴리비닐리덴 플루오라이드, 폴리비닐 클로라이드, 폴리에스테르, 예컨대 폴리카르보네이트 및 폴리비닐 아세테이트, 바람직하게는 PBT 및 PET와 같은 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리올레핀 예컨대 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 및 또한 폴리부타디엔, 폴리아크릴로니트릴, 폴리아세탈, 폴리아크릴로니트릴-에틸렌-프로필렌-디엔-스티렌 공중합체 (A-EPDM), 폴리이미드 (PI), 폴리에테르이미드 (PEI), 셀룰로스 트리아세테이트 (TAC), 페놀계 수지, 우레아 수지, 멜라민 수지, 알키드 수지, 에폭시 수지, 폴리우레탄, 예컨대 열가소성 폴리우레탄 (TPU), 폴리에테르 케톤, 폴리페닐렌 술피드, 폴리에테르, 폴리비닐 알콜, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 것으로 이루어진다. 특히 바람직한 기판 또는 그의 표면 상의 층은, 대안적으로 이소택틱, 신디오택틱 또는 어택틱일 수 있고 대안적으로 비배향된 것 또는 단축 또는 이축 연신을 통해 배향된 것일 수 있는 폴리올레핀 예컨대, 예를 들어, PP (폴리프로필렌), SAN (스티렌-아크릴로니트릴 공중합체), PC (폴리카르보네이트), PMMA (폴리메틸 메타크릴레이트), PBT (폴리(부틸렌 테레프탈레이트)), PA (폴리아미드), ASA (아크릴로니트릴-스티렌-아크릴산 에스테르 공중합체) 및 ABS (아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체), 및 또한 그의 물리적 혼합물 (블렌드)이다. PP, SAN, ABS, ASA, 및 또한 ABS 또는 ASA와 PA 또는 PBT 또는 PC의 블렌드가 특히 바람직하다. PET, PBT, PP, PE, 및 폴리메틸 메타크릴레이트 (PMMA) 또는 충격-개질된 PMMA가 특별히 바람직하다. 기판 (S2)를 위한 물질로서 사용하기에 폴리에스테르, 가장 바람직하게는 PET가 특별히 바람직하다. 대안적으로, 기판 (S2) 그 자체는 - 임의적으로 상기 언급된 중합체 중 적어도 하나의 층이 기판에 적용되는 경우에도 - 유리, 세라믹, 금속, 종이 및/또는 직물과 같은 다양한 물질로 만들어질 수 있다. 이러한 경우에, 기판 (S2)는 바람직하게는 플레이트이고, 예를 들어, 롤-투-플레이트 (R2P) 엠보싱 장치에 사용될 수 있다. Substrate (S2) represents the carrier material for the coating composition (C2a) or coating (C2) to be applied thereto. The substrate (S2) or, if a coated substrate is used, the layer located on the surface of the substrate (S2) and in contact with the coating composition (C2a) is preferably at least one thermoplastic polymer, more particularly polymethyl (meth) acrylates, polybutyl (meth)acrylates, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polyvinylidene fluoride, polyvinyl chloride, polyesters such as polycarbonate and polyvinyl acetate; Preferably polyesters such as PBT and PET, polyamides, polyolefins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, and also polybutadiene, polyacrylonitrile, polyacetal, polyacrylonitrile-ethylene-propylene-diene-styrene copolymer (A-EPDM), polyimide (PI), polyetherimide (PEI), cellulose triacetate (TAC), phenolic resin, urea resin, melamine resin, alkyd resin, epoxy resin, polyurethane, such as a thermoplastic polyurethane ( TPU), polyether ketones, polyphenylene sulfides, polyethers, polyvinyl alcohols, and mixtures thereof. Particularly preferred substrates or layers on their surfaces are polyolefins such as, for example, which may alternatively be isotactic, syndiotactic or atactic and may alternatively be unoriented or oriented via uniaxial or biaxial stretching, PP (polypropylene), SAN (styrene-acrylonitrile copolymer), PC (polycarbonate), PMMA (polymethyl methacrylate), PBT (poly (butylene terephthalate)), PA (polyamide) , ASA (acrylonitrile-styrene-acrylic acid ester copolymer) and ABS (acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer), and also physical mixtures (blends) thereof. Particular preference is given to PP, SAN, ABS, ASA, and also blends of ABS or ASA with PA or PBT or PC. Particular preference is given to PET, PBT, PP, PE, and polymethyl methacrylate (PMMA) or impact-modified PMMA. Particular preference is given to polyester, most preferably PET, for use as material for the substrate S2. Alternatively, the substrate S2 itself can be made of various materials, such as glass, ceramic, metal, paper and/or textile, optionally even when a layer of at least one of the aforementioned polymers is applied to the substrate. have. In this case, the substrate S2 is preferably a plate and can be used, for example, in a roll-to-plate (R2P) embossing apparatus.

코팅 조성물 (C2a)는 유리하게는 기판 (S2) 또는 복합체 (S1C1)을 관통해, 바람직하게는 기판 (S2)를 관통해 조사된다. 따라서, 방사선에 대한 기판 (S2)의 투과도가 바람직하게는 코팅 조성물 (C2a)에 사용된 적어도 하나의 광개시제의 최대 흡수 또는 적어도 흡수 범위와 대응된다. 바람직하게는 UV 방사선에 투과성인 추가의 층, 예를 들어 접착 촉진 층이 복합체 (S2C2a)에서 (S2)와 (C2a) 사이에 존재할 수 있다. 그러나, 복합체 (S2C2a)에서 (S2)와 (C2a) 사이에 추가의 층이 존재하지 않는 경우에 유리하다. 대안적으로, 방사선이 복합체 (S1C1)을 관통해 코팅 조성물 (C2a)에 제공된다면, 기판 (S2)는 또한 적용된 방사선, 예컨대 UV 방사선에 비-투과성일 수 있다. 추가적으로, 기판 (S2)는 또한 (i) 이형 라이너를 임의적으로 포함하는 단면 또는 양면 접착 테이프 또는 (ii) 자가-접착성 층으로 한쪽 면이 피복된 중합체성 기판 또는 자가-접착성 중합체성 기판으로부터 선택될 수 있다.The coating composition (C2a) is advantageously irradiated through the substrate (S2) or the composite (S1C1), preferably through the substrate (S2). Accordingly, the transmittance of the substrate (S2) to radiation preferably corresponds to the maximum absorption or at least the absorption range of the at least one photoinitiator used in the coating composition (C2a). A further layer which is preferably transparent to UV radiation, for example an adhesion promoting layer, may be present in the composite (S2C2a) between (S2) and (C2a). However, it is advantageous if there is no additional layer between (S2) and (C2a) in the composite (S2C2a). Alternatively, if radiation is provided to the coating composition (C2a) through the composite (S1C1), the substrate (S2) may also be non-transmissive to the applied radiation, such as UV radiation. Additionally, the substrate (S2) may also be formed from (i) a single or double-sided adhesive tape optionally comprising a release liner or (ii) a polymeric substrate or self-adhesive polymeric substrate coated on one side with a self-adhesive layer. can be selected.

기판 (S2)의 두께는 바람직하게는 2 μm 내지 5 mm이다. 25 내지 1000 μm, 보다 특히 50 내지 300 μm의 층 두께가 특히 바람직하다.The thickness of the substrate S2 is preferably 2 μm to 5 mm. A layer thickness of 25 to 1000 μm, more particularly 50 to 300 μm, is particularly preferred.

기판 (S2)는 바람직하게는 필름, 보다 바람직하게는 필름 웹, 매우 바람직하게는 연속 필름 웹이다. 이러한 경우에, 기판 (S2)는 바람직하게는 롤-투-롤 (R2R) 엠보싱 장치 또는 플레이트-투-롤 (P2R) 엠보싱 장치에 사용될 수 있다.The substrate S2 is preferably a film, more preferably a film web, very preferably a continuous film web. In this case, the substrate S2 can preferably be used in a roll-to-roll (R2R) embossing device or a plate-to-roll (P2R) embossing device.

본 발명의 관점에서, 용어 "연속 필름" 또는 "연속 필름 웹"은 바람직하게는 100 m 내지 10 km의 길이를 갖는 필름을 지칭한다.In the context of the present invention, the term “continuous film” or “continuous film web” refers to a film having a length of preferably from 100 m to 10 km.

단계 (2-i)이 수행되는 경우에 (그리고 바람직하게는 또한 방법의 단계 (3-i), (4) 및 (5-i)이 수행되는 경우, 및 또한 본 발명의 방법의 단계 (2-ii), (3-ii), (4) 및 (5-i) 또는 (5-ii)가 수행되는 경우에), 기판 (S2)는 바람직하게는 이동 중에 있으며, 따라서 이동하는 기판이다. 단계 (2-i) 및 (3-ii)의 실행 동안, 기판 (S2)는 바람직하게는 이송 장치 예컨대 컨베이어 벨트에 의해 이동된다. 따라서, 단계 (2-i) 및 또한 단계 (3-ii)를 실행하는데 사용되는 상응하는 장치는 바람직하게는 이러한 이송 장치를 포함한다. 단계 (2-i)을 실행하는데 사용되는 상응하는 장치는 기판 (S2)의 표면의 적어도 일부분에, 바람직하게는 방사선-경화성인 코팅 조성물 (C2a)를 적용하기 위한 수단을 추가로 포함한다. 단계 (3-ii) 및 임의적인 단계 (6) 내지 (9)를 실행하는데 사용되는 상응하는 장치에 대해서도 유사한 설명이 적용된다.when step (2-i) is carried out (and preferably also when steps (3-i), (4) and (5-i) of the process are carried out, and also when step (2) of the process of the invention is carried out If -ii), (3-ii), (4) and (5-i) or (5-ii) are carried out), the substrate S2 is preferably in motion and thus is a moving substrate. During the execution of steps (2-i) and (3-ii), the substrate S2 is preferably moved by a conveying device such as a conveyor belt. Accordingly, the corresponding device used for carrying out step (2-i) and also step (3-ii) preferably comprises such a conveying device. The corresponding apparatus used to carry out step (2-i) further comprises means for applying the coating composition (C2a), preferably radiation-curable, to at least a part of the surface of the substrate (S2). A similar description applies to the corresponding apparatus used to carry out step (3-ii) and optional steps (6) to (9).

본 발명의 방법의 단계 (2-i) 및 (2-ii)에서 제공되는 코팅 조성물 (C2a)는 하기에 기재된 바와 같은 임의의 종류의 코팅 조성물일 수 있다. 유리하게는, 단계 (2-i) 및 (2-ii)에서 적용되는 코팅 조성물 (C2a)는 적어도 0.5 μm, 바람직하게는 적어도 1 μm 내지 1,000 μm, 보다 바람직하게는 적어도 5 μm 내지 1,000 μm의 건조 필름 두께로 적용된다.The coating composition (C2a) provided in steps (2-i) and (2-ii) of the method of the present invention may be any kind of coating composition as described below. Advantageously, the coating composition (C2a) applied in steps (2-i) and (2-ii) has a thickness of at least 0.5 μm, preferably at least 1 μm to 1,000 μm, more preferably at least 5 μm to 1,000 μm. The dry film thickness is applied.

유리하게는, 단계 (2-i) 및 (2-ii)에서 적용되는 코팅 조성물 (C2a)는 DIN EN ISO 2808:2007-05의 절차 12A에 따라 결정된, 적어도 0.5 μm, 바람직하게는 5 내지 1,000 μm, 보다 바람직하게는 6 내지 900 μm, 보다 더 바람직하게는 7 내지 700 μm, 특히 8 내지 500 μm, 특히 바람직하게는 9 내지 400 μm, 특별히 10 내지 300 μm의 건조 필름 두께로 적용된다. 본 발명의 관점에서, 건조 필름 두께는 바람직하게는 코팅 (C2) 또는 유사하게 코팅 (C1)의 표면의 마이크로-규모 및/또는 나노-규모의 표면 요소를 바람직하게 포함하는 엠보싱 구조의 돌출부 위의 건조 필름의 필름 두께를 나타낸다.Advantageously, the coating composition (C2a) applied in steps (2-i) and (2-ii) is at least 0.5 μm, preferably 5 to 1,000, determined according to procedure 12A of DIN EN ISO 2808:2007-05 a dry film thickness of μm, more preferably 6 to 900 μm, even more preferably 7 to 700 μm, in particular 8 to 500 μm, particularly preferably 9 to 400 μm, in particular 10 to 300 μm. In the sense of the present invention, the dry film thickness is preferably above the projections of the embossing structure, preferably comprising micro-scale and/or nano-scale surface elements of the surface of the coating (C2) or similarly of the coating (C1). The film thickness of the dry film is indicated.

단계 (3-i)Step (3-i)

본 발명의 방법의 단계 (3-i)은 기판 (S2)의 표면에 적어도 부분적으로 적용된 코팅 조성물 (C2a)를 복합체 (S1C1)에 의해 적어도 부분적으로 엠보싱가공하여, 적어도 부분적인 엠보싱가공의 생성물로서 복합체 (S1C1C2aS2)를 제공하는 것을 제공하며, 여기서 복합체 (S1C1)은 바람직하게는 엠보싱 도구 (E2)의 엠보싱 몰드 (e2)로서 사용되고, 복합체 (S1C1)은 기판 (S1) 및 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)로 구성된다. 엠보싱 몰드 (e2)로서 바람직하게 사용되는 복합체 (S1C1)은, 복합체 (S1C1)이 엠보싱가공하려는 코팅 조성물 (C2a)와 접촉하게 되기 전에, 코팅 조성물 (C2a)로 예비-습윤화될 수 있다.Step (3-i) of the method of the present invention comprises at least partially embossing the coating composition (C2a) at least partially applied to the surface of the substrate (S2) by means of a composite (S1C1), as a product of at least partial embossing It is provided to provide a composite (S1C1C2aS2), wherein the composite (S1C1) is preferably used as an embossing mold (e2) of an embossing tool (E2), the composite (S1C1) being at least partially embossed with a substrate (S1) and at least partially of the cured coating (C1). The composite (S1C1) preferably used as the embossing mold (e2) can be pre-wetted with the coating composition (C2a) before the composite (S1C1) comes into contact with the coating composition (C2a) to be embossed.

적어도 부분적인 엠보싱가공이 기판 (S2)에 적용된 코팅 조성물 (C2a)의 표면에 엠보싱 구조를 적어도 부분적으로 전사한다. 용어 "엠보싱가공"은 단계 (3-i) 및 (4) 후에, 복합체 (S2C2)의 부분으로서의 코팅 조성물 (C2a)의 표면의 적어도 일부분이 엠보싱 구조를 나타내는 공정을 지칭한다. 이러한 경우에, 복합체 (S2C2)의 코팅 조성물 (C2a)의 적어도 소정의 면적에 엠보싱 구조가 제공된다. 바람직하게는, 복합체 (S2C2)의 코팅 조성물 (C2a)의 전체 표면에 엠보싱 구조가 제공된다. 본 발명의 방법의 단계 (2-ii) 및 (4) 및 복합체 (S1C1)을 제공하는 임의적인 단계 (7) 및 (8)과 관련된 용어 "엠보싱가공"에 대해서도 유사한 설명이 적용된다. 이에 의해 코팅 조성물 (C2a) (또는 복합체 (S1C1)을 제공하는 것과 관련하여, 코팅 조성물 (C1a))로 엠보싱가공된 특색부 또는 구조는 엠보싱 몰드의 구조화된 표면의 거울상이다. 본 발명의 방법에서, 복합체 (S1C1)의 엠보싱 구조는 코팅 조성물 (C2a)에, 또는 적어도 부분적인 경화 후에, 코팅 (C2)에 전사되며, 여기서 복합체 (S1C1)은 바람직하게는 엠보싱 도구 (E2)의 엠보싱 몰드 (e2)로서 사용된다. 따라서, 코팅 조성물 (C2a)로 엠보싱가공된 구조는 기판 (S1) 및 적어도 부분적으로 경화되고 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 조성물 (C1)을 포함하는 복합체 (S1C1)의 적어도 하나의 표면의 엠보싱 구조의 거울상이다. 따라서, 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 조성물 (C2a) 및 적어도 부분적으로 경화되고 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 조성물 (C2)의 엠보싱가공된 표면의 상은 엠보싱 몰드 (e1)의 상에 상응할 수 있으며, 여기서 엠보싱 몰드 (e1)은 하기에 기재된 바와 같이, 복합체 (S1C1)의 코팅 조성물 (C1a)를 엠보싱가공을 하는데 사용되었다.At least partial embossing at least partially transfers the embossing structure to the surface of the coating composition (C2a) applied to the substrate (S2). The term "embossing" refers to a process in which, after steps (3-i) and (4), at least a part of the surface of the coating composition (C2a) as part of the composite (S2C2) exhibits an embossing structure. In this case, at least a predetermined area of the coating composition (C2a) of the composite (S2C2) is provided with an embossing structure. Preferably, the entire surface of the coating composition (C2a) of the composite (S2C2) is provided with an embossing structure. A similar description applies to the term “embossing” in relation to steps (2-ii) and (4) of the process of the invention and the optional steps (7) and (8) giving the complex (S1C1). The features or structures embossed with the coating composition (C2a) (or the coating composition (C1a) in the context of providing the composite (S1C1)) thereby are mirror images of the structured surface of the embossing mold. In the method of the invention, the embossed structure of the composite (S1C1) is transferred to the coating composition (C2a) or, after at least partial curing, to the coating (C2), wherein the composite (S1C1) is preferably an embossing tool (E2) used as an embossing mold (e2). Thus, the structure embossed with the coating composition (C2a) comprises the embossed structure of the substrate (S1) and at least one surface of the composite (S1C1) comprising the at least partially cured and at least partially embossed coating composition (C1). mirror image. Thus, the phase of the embossed surface of the at least partially embossed coating composition (C2a) and the at least partially cured and partially embossed coating composition (C2) may correspond to the phase of the embossing mold (e1), wherein An embossing mold (e1) was used for embossing the coating composition (C1a) of the composite (S1C1), as described below.

단계 (3-i)은 바람직하게는 엠보싱 구조로서의 마이크로구조 및/또는 나노구조를 코팅 조성물 (C2a) 상으로 전사한다.Step (3-i) preferably transfers the microstructures and/or nanostructures as embossed structures onto the coating composition (C2a).

단계 (3-i) (그리고 유사하게 방법의 단계 (2-ii) 및 (3-ii))을 실행하는데 바람직하게 사용되는 상응하는 장치는 기판 (S2)의 표면에 적어도 부분적으로 적용된 코팅 조성물 (C2a)를 적어도 하나의 엠보싱 몰드 (e2)를 포함하는 적어도 하나의 엠보싱 도구 (E2)에 의해 적어도 부분적으로 엠보싱가공하기 위한 수단을 포함한다. 바람직하게 사용되는 장치는 방사선-경화성 코팅 조성물 (C2a)를 (S2)에 적용한 후에, 엠보싱 도구 (E2)의 엠보싱 몰드 (e2), 즉, 복합체 (S1C1)을, 바람직하게는 연속 필름 웹의 형태로 사용되는 기판 (S2) 위로 프레싱하기 위한 수단을 추가로 포함하며, 상기 수단은 기판 (S2)의 운반 방향으로 봤을 때, 바람직하게는 방사선-경화성 코팅 조성물 (C2a)를 적용하기 위한 수단의 하류에 배치된다.A corresponding device preferably used for carrying out step (3-i) (and analogously steps (2-ii) and (3-ii) of the method) comprises a coating composition applied at least partially to the surface of the substrate (S2) ( means for at least partially embossing C2a) by means of at least one embossing tool (E2) comprising at least one embossing mold (e2). A device preferably used is, after application of the radiation-curable coating composition (C2a) to (S2), the embossing mold (e2) of the embossing tool (E2), ie the composite (S1C1), preferably in the form of a continuous film web. further comprising means for pressing onto the substrate (S2) used as is placed on

필요에 따라, 단계 (3-i)은 승온에서, 예를 들어 30℃ 내지 100℃ 또는 80℃에서 수행될 수 있다. 이러한 경우에, 복합체 (S2C2a)는 실제 엠보싱가공 절차, 즉, 엠보싱 도구 (E1)과 접촉해 있는 동안의 경화가 실시되기 전에, 먼저 가열 롤 메카니즘을 통해 이동하고, 임의적으로 적외선 광으로의 조사가 이어진다. 엠보싱가공 및 경화 후에, 엠보싱가공된 복합체 (S2C2)는 임의적으로 냉각을 위해 냉각 롤 메카니즘을 통해 이동한다. 대안적으로, 경화는 또한 냉각 하에 실시될 수 있으며: 이러한 경우에, 엠보싱가공을 위한 복합체 (S2C2a)는 상기 기재된 실제 엠보싱가공 절차가 실시되기 전에, 먼저 냉각 롤 메카니즘을 통해 이동한다. 별도의 가열 또는 경화 롤 메카니즘을 사용하는 대신에, 엠보싱 도구 (E2)를 가열하거나 또는 냉각시키는 것이 또한 가능하다.If necessary, step (3-i) may be performed at an elevated temperature, for example at 30°C to 100°C or 80°C. In this case, the composite (S2C2a) first moves through the heating roll mechanism before the actual embossing procedure, i.e. curing while in contact with the embossing tool (E1) is carried out, optionally by irradiation with infrared light. goes on After embossing and curing, the embossed composite (S2C2) optionally moves through a chill roll mechanism for cooling. Alternatively, curing can also be effected under cooling: in this case, the composite for embossing (S2C2a) first moves through a chill roll mechanism before the actual embossing procedure described above is carried out. Instead of using a separate heating or curing roll mechanism, it is also possible to heat or cool the embossing tool E2.

따라서, 기판 (S2)에 적용된 코팅 조성물 (C2a)를 엠보싱가공하기 위해 바람직하게 이용되는 상응하는 장치는 바람직하게는 하기 수단을 포함한다:Accordingly, the corresponding apparatus preferably used for embossing the coating composition (C2a) applied to the substrate (S2) preferably comprises the following means:

(a) 기판 (S2)를 이송하기 위한 이송 수단, 바람직하게는 컨베이어 벨트,(a) conveying means for conveying the substrate S2, preferably a conveyor belt;

(b) 이동하는 기판 (S2)의 표면의 적어도 일부분에, 바람직하게는 방사선-경화성인 코팅 조성물 (C2a)를 적용하기 위한 수단,(b) means for applying a coating composition (C2a), preferably radiation-curable, to at least a part of the surface of the moving substrate (S2);

(c) 기판 (S2)의 운반 방향으로 봤을 때, 바람직하게는 방사선-경화성 코팅 조성물 (C2a)를 적용하기 위한 수단의 하류에 배치되는, 적어도 하나의 엠보싱 몰드 (e2)를 포함하는 엠보싱 도구 (E2)로서, 엠보싱 도구 (E2)의 엠보싱 몰드 (e2)를 기판 (S2) 위로 프레싱하기 위한 수단을 임의적으로 포함하는 엠보싱 도구 (E2),(c) an embossing tool comprising at least one embossing mold (e2), preferably arranged downstream of the means for applying the radiation-curable coating composition (C2a), when viewed in the transport direction of the substrate (S2) ( E2), an embossing tool (E2) optionally comprising means for pressing the embossing mold (e2) of the embossing tool (E2) onto the substrate (S2);

(d) 임의적으로 가열을 위한 수단, 바람직하게는 IR 방사선을 위한 수단과 임의적으로 조합되는 가열 롤 메카니즘,(d) a heating roll mechanism optionally in combination with means for heating, preferably means for IR radiation,

(e) 임의적으로 냉각을 위한 수단, 바람직하게는 냉각 롤 메카니즘, 및(e) optionally means for cooling, preferably a cooling roll mechanism, and

(f) 방사선, 바람직하게는 UV 방사선을 위한 수단.(f) means for radiation, preferably UV radiation.

엠보싱 도구 (E2)는 바람직하게는 엠보싱 캘린더일 수 있으며, 이는 바람직하게는 그리드 적용 메카니즘, 보다 바람직하게는 그리드 롤 메카니즘을 포함한다. 이러한 캘린더는, 바람직하게는 높이 방향으로 특정 간격을 두고 하나가 또 다른 것 위에 배열된 역방향-회전하는 롤을 보유하며, 엠보싱 구조가 제공될 복합체 (S2C2a)가 롤에 공급되고, 가변적으로 조정가능한 닙 폭으로 형성된 롤 닙을 통해 인도된다. 여기서 그리드 롤 메카니즘은 바람직하게는 제1 롤 예컨대 금속성 롤, 예를 들어 스틸 롤, 소량의 인을 임의적으로 함유하는 금속 층 예컨대 구리 또는 니켈 층으로 피복된 스틸 롤, 또는 소량의 인을 임의적으로 함유하는 니켈 슬리브로 피복된 롤, 또는 그밖에 석영-기반 롤을 포함한다. 그러나, 대안적으로, 연성 물질 예컨대, 예를 들어, 고무 또는 폴리디메틸실록산 (PDMS)이 또한 제1 롤로서 사용될 수 있거나 또는 롤이 적어도 하나의 연성 물질 예컨대 고무 또는 PDMS로 피복될 수 있다. 더욱이, 적어도 하나의 플라스틱으로 코팅된 롤이 이용될 수 있다. 게다가, 그리드 롤 메카니즘은 제2 롤을 포함하며, 여기서 제2 롤은 바람직하게는 스틸로 만들어진 프레싱 롤, 또는 적어도 하나의 플라스틱 또는 연성 물질 예컨대 고무 또는 PDMS로 코팅된 롤이다. 제2 롤은 압인 또는 프레싱 롤의 역할을 한다. 엠보싱가공될 복합체 (S2C2a)는, 예를 들어 코팅 조성물 (C2a)로 적어도 부분적으로 코팅된 필름 웹의 형태로, 제1 롤과 역방향의 제2 롤 또는 프레싱 롤에 의해 이동된다. 서로 특정 거리를 두고 배치된 역방향-회전하는 롤에 의해 형성된 롤 닙의 포인트에서, 단계 (3-i)에 따른 엠보싱가공이 실시된다. 여기서, 엠보싱 몰드 (e2)로서의 복합체 (S1C1)을 운반하는 제1 롤이 상기 엠보싱 롤과 대향하고 있는 제2 롤에 의해 인도되는 복합체 (S2C2a)를 엠보싱가공하는 역할을 하며, 이때 제2 롤이 엠보싱 구조가 제공될 복합체 (S2C2a)를 제1 엠보싱 롤에 대고 프레싱한다. 방법의 단계 (3-i) 또는 (2-ii)에서 이러한 단계에 의해, 복합체 (S1C1)의 코팅 (C1)의 표면의 엠보싱 구조의 거울상이 복합체 (S2C2a)의 코팅 조성물 (C2a)의 표면에 전사된다.The embossing tool E2 may preferably be an embossing calender, which preferably comprises a grid application mechanism, more preferably a grid roll mechanism. Such calenders preferably have counter-rotating rolls arranged one above the other at certain intervals in the height direction, the rolls being fed with a composite (S2C2a) on which the embossing structure is to be provided, variably adjustable It is guided through a roll nip formed by the nip width. The grid roll mechanism here is preferably a first roll such as a metallic roll, for example a steel roll, a steel roll coated with a metal layer optionally containing a small amount of phosphorus such as a layer of copper or nickel, or optionally containing a small amount of phosphorus rolls coated with nickel sleeves, or else quartz-based rolls. Alternatively, however, a soft material such as for example rubber or polydimethylsiloxane (PDMS) may also be used as first roll or the roll may be coated with at least one soft material such as rubber or PDMS. Furthermore, rolls coated with at least one plastic may be used. Furthermore, the grid roll mechanism comprises a second roll, which is preferably a pressing roll made of steel, or a roll coated with at least one plastic or soft material such as rubber or PDMS. The second roll serves as a stamping or pressing roll. The composite to be embossed (S2C2a), for example in the form of a film web that is at least partially coated with the coating composition (C2a), is moved by means of a second roll or a pressing roll opposite to the first roll. At the point of the roll nip formed by counter-rotating rolls arranged at a certain distance from each other, the embossing according to step (3-i) is effected. Here, the first roll carrying the composite (S1C1) as the embossing mold (e2) serves to emboss the composite (S2C2a) guided by the second roll opposite to the embossing roll, wherein the second roll is The composite (S2C2a) to be provided with the embossing structure is pressed against the first embossing roll. By this step in step (3-i) or (2-ii) of the method, the mirror image of the embossed structure of the surface of the coating (C1) of the composite (S1C1) is on the surface of the coating composition (C2a) of the composite (S2C2a) are transcribed

단계 (3-i)의 실행 동안, 엠보싱 몰드 (e2)를 포함하는 엠보싱 도구 (E2)는 바람직하게는 적용된 코팅 조성물 (C2a) 위로 적어도 부분적으로 프레싱된다.During the execution of step (3-i), the embossing tool (E2) comprising the embossing mold (e2) is preferably at least partially pressed onto the applied coating composition (C2a).

복합체 (S1C1)은 엠보싱 도구 (E2)의 재사용가능한 연속 엠보싱 몰드 (e2)로서 이용될 수 있으며, 바람직하게는 본 발명의 방법에서 방법이 단계 (5-i) 또는 (5-ii)를 필수적으로 포함하는 경우에, 복합체 (S1C1)과, 구조화된 표면을 포함하는, 기판 (S2)에 임의적으로 적용되는, 적어도 부분적으로 경화되고 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 (C2) 사이의 매우 효과적인 분리를 가능하게 한다. 단계 (3-i)은 바람직하게는 단계 (1)에서 제공되는 복합체 (S1C1)과 관련하여 상기 기재된 치수의 마이크로구조 및/또는 나노구조를 전사한다.The composite (S1C1) can be used as a reusable continuous embossing mold (e2) of the embossing tool (E2), preferably in the method of the present invention the method consists essentially of steps (5-i) or (5-ii) A very effective separation between the composite (S1C1) and the at least partially cured and at least partially embossed coating (C2), optionally applied to the substrate (S2), comprising a structured surface, when comprising is possible make it Step (3-i) preferably transfers the microstructures and/or nanostructures of the dimensions described above with respect to the complex (S1C1) provided in step (1).

엠보싱 몰드 (e2), 다시 말해서 유리하게는 복합체 (S1C1)은 바람직하게는 기판 (S1)로서 필름 웹을 포함하며, 이는 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)을 포함한다. 특히 바람직하게는 기판 (S1)은 연속 필름 웹이며, 이는 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)을 포함하여, 이로써 엠보싱 몰드 (e2)로서 사용되는 복합체 (S1C1)을 연속 엠보싱 몰드로 만들고, 이는 특별히 기판 (S2)가 또한 연속 필름 웹인 경우에 그러하다.The embossing mold (e2), ie advantageously composite (S1C1), preferably comprises a film web as substrate (S1), which comprises at least partially embossed and at least partially cured coating (C1). Particularly preferably the substrate (S1) is a continuous film web, which comprises at least partially embossed and at least partially cured coating (C1), thereby continuously embossing the composite (S1C1) used as embossing mold (e2) made into a mold, especially if the substrate S2 is also a continuous film web.

단계 (2-ii) 및 (3-ii)Steps (2-ii) and (3-ii)

단계 (1) 후에, 단계 (2-i) 및 (3-i)에 대한 대안으로, 코팅 조성물 (C2a)를 또한 먼저 복합체 (S1C1)에 적어도 부분적으로 적용하고, 이에 의해 적어도 부분적으로 엠보싱가공한 다음에, 임의적으로 기판 (S2)를 코팅 조성물 (C2a)에 의해 형성된 표면에 적어도 부분적으로 적용한다. 단계 (2-i) 및 (3-i)을 포함하는 본 발명의 방법의 제1 대안과 비교하여, 단계 (2-ii) 및 (3-ii)에 의한 본 발명의 방법의 이러한 제2 대안이 여기서 기재된다.After step (1), as an alternative to steps (2-i) and (3-i), the coating composition (C2a) is also first at least partially applied to the composite (S1C1), thereby at least partially embossed. Next, optionally the substrate (S2) is applied at least partially to the surface formed by the coating composition (C2a). This second alternative of the process of the invention by steps (2-ii) and (3-ii) compared to the first alternative of the process of the invention comprising steps (2-i) and (3-i) This is described here.

단계 (2-ii)Step (2-ii)

본 발명의 방법의 단계 (2-ii)는 복합체 (S1C1)의 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 표면의 적어도 일부분에 적어도 하나의 코팅 조성물 (C2a)를 적용하고, 복합체 (S1C1)을 사용하여 코팅 조성물 (C2a)를 적어도 부분적으로 엠보싱가공하여 복합체 (S1C1C2a)를 제공하는 것을 제공한다.Step (2-ii) of the method of the present invention comprises applying at least one coating composition (C2a) to at least a portion of the at least partially embossed and at least partially cured surface of the composite (S1C1), and applying the composite (S1C1) at least partially embossing the coating composition (C2a) using

엠보싱 도구 (E2)의 엠보싱 몰드 (e2)로서 바람직하게 사용되는 복합체 (S1C1)은 코팅 조성물 (C2a)의 적용 전에 임의적으로 예비습윤화될 수 있다.The composite (S1C1) preferably used as the embossing mold (e2) of the embossing tool (E2) can optionally be pre-wetted prior to application of the coating composition (C2a).

본 발명의 방법의 단계 (2-i) 및 (2-ii)에서 제공되는 코팅 조성물 (C2a)는 하기에 기재된 바와 같은 임의의 종류의 코팅 조성물, 바람직하게는 방사선-경화성 코팅 조성물일 수 있다. 유리하게는, 단계 (2-i) 및 (2-ii)에서 적용되는 코팅 조성물 (C2a)는 적어도 0.5 μm, 바람직하게는 적어도 1 μm, 보다 바람직하게는 적어도 5 μm 내지 1,000 μm의 건조 층 두께로 적용된다.The coating composition (C2a) provided in steps (2-i) and (2-ii) of the method of the present invention may be any kind of coating composition as described below, preferably a radiation-curable coating composition. Advantageously, the coating composition (C2a) applied in steps (2-i) and (2-ii) has a dry layer thickness of at least 0.5 μm, preferably at least 1 μm, more preferably at least 5 μm to 1,000 μm. is applied as

단계 (2-ii)에 의해, 복합체 (S1C1)의 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 표면의 적어도 일부분에 바람직하게는 방사선-경화성인 코팅 조성물 (C2a)를 적용함으로써, 복합체 (S1C1)의 기판 (S1) 상의 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)의 목적하는 상 (거울상)이 복합체 (S1C1)로부터 코팅 조성물 (C2a)에, 그리고 단계 (4)의 실행 후에 코팅 (C2)에 전사될 것이다. 따라서, 복합체 (S1C1)은 (C2a) 또는 (C2)를 위한 캐리어 물질로서, 뿐만 아니라 또한 엠보싱 몰드로서, 바람직하게는 엠보싱 도구 (E2)의 엠보싱 몰드 (e2)로서 기능한다.Substrate (S1) of the composite (S1C1) by applying, by step (2-ii), a coating composition (C2a), preferably radiation-curable, to at least a part of the at least partially embossed surface of the composite (S1C1) The desired phase (mirror image) of the at least partially embossed and at least partially cured coating (C1) of the phase is transferred from the composite (S1C1) to the coating composition (C2a) and after the execution of step (4) to the coating (C2) will be The composite (S1C1) thus functions not only as carrier material for (C2a) or (C2), but also as an embossing mold, preferably as an embossing mold (e2) of the embossing tool (E2).

단계 (2-ii)에서의 적어도 부분적인 엠보싱가공은 바람직하게는 엠보싱 도구 (E2)의 엠보싱 몰드 (e2)로서 유리하게 사용되는 복합체 (S1C1) 위로 적용된 코팅 조성물 (C2a)를 프레싱함으로써 실시된다. 상기 압력의 적용은 코팅 조성물 (C2a)의 적용 후에, 예를 들어, 롤 또는 적어도 하나의 롤을 포함하는 그리드 롤 메카니즘과 같은 수단에 의해 달성될 수 있다. 전형적으로 적용되는 압력은 1 내지 10 bar, 바람직하게는 2 내지 8 bar, 보다 바람직하게는 3 내지 7 bar의 범위이다. 여기서 그리드 롤 메카니즘은 바람직하게는 금속성 롤, 예를 들어 스틸 롤, 소량의 인을 임의적으로 함유하는 금속 층, 예컨대 구리 층, 니켈 층으로 피복된 스틸 롤, 또는 소량의 인을 임의적으로 함유하는 니켈 슬리브로 피복된 롤, 또는 그밖에 석영-기반 롤, 또는 적어도 하나의 플라스틱, 고무 또는 실리콘, 예컨대 PDMS로 코팅된 롤을 포함한다. 임의적으로, 적어도 단계 (2-ii) 내지 단계 (4)에서의 엠보싱가공 및 경화 동안, 뿐만 아니라 또한 단계 (5) 동안 유리하게는 코팅 조성물 (C2a)를 산소 및 기계적 영향으로부터 보호하기 위해, 적용된 코팅 조성물 (C2a)를 호일로 임시적으로 라이닝할 수 있다. 유리하게는 5 μm 내지 250 μm의 두께를 갖는, 임시적으로 적용된 호일의 제거 후에 복합체 (S1C1C2)가 제공된다. 임시적으로 적용되는 호일을 위한 적합한 물질은 상기 기재된 바와 같은 기판 (S2)를 제조하는데 또한 사용될 수 있는 동일한 물질로부터 선택된다. 이로써 명시적으로 상응하는 단락을 참조한다. 대안적으로, 상기 호일은 이형 라이너로 전형적으로 관찰되는 물질 또는 셀룰로스 트리아세테이트 (TAC)로부터 선택될 수 있다. 유리하게는, 임시적으로 적용되는 호일은 PET 또는 TAC로 구성된다.The at least partial embossing in step (2-ii) is preferably effected by pressing the applied coating composition (C2a) onto the composite (S1C1) which is advantageously used as an embossing mold (e2) of an embossing tool (E2). The application of the pressure can be effected after application of the coating composition (C2a) by means such as, for example, a roll or grid roll mechanism comprising at least one roll. Typically the applied pressure ranges from 1 to 10 bar, preferably from 2 to 8 bar, more preferably from 3 to 7 bar. The grid roll mechanism here is preferably a metallic roll, for example a steel roll, a metal layer optionally containing a small amount of phosphorus, such as a copper layer, a steel roll coated with a nickel layer, or a nickel optionally containing a small amount of phosphorus. rolls coated with sleeves, or else quartz-based rolls, or rolls coated with at least one plastic, rubber or silicone, such as PDMS. Optionally, at least during the embossing and curing in steps (2-ii) to (4), as well as during step (5) advantageously to protect the coating composition (C2a) from oxygen and mechanical influences, The coating composition (C2a) can be temporarily lined with foil. The composite (S1C1C2) is advantageously provided after removal of the temporarily applied foil, having a thickness of 5 μm to 250 μm. Suitable materials for the temporarily applied foil are selected from the same materials which can also be used to prepare the substrate S2 as described above. Reference is hereby expressly made to the corresponding paragraph. Alternatively, the foil may be selected from cellulose triacetate (TAC) or a material typically found as a release liner. Advantageously, the temporarily applied foil consists of PET or TAC.

단계 (3-ii)Step (3-ii)

본 발명의 방법의 단계 (3-ii)는 복합체 (S1C1C2a)의, 코팅 조성물 (C2a)에 의해 형성된 표면의 적어도 일부분에 기판 (S2)를 임의적으로 적용하여 복합체 (S1C1C2aS2)를 제공하는 것을 제공한다.Step (3-ii) of the method of the present invention provides for optionally applying a substrate (S2) to at least a portion of the surface formed by the coating composition (C2a) of the composite (S1C1C2a) to provide a composite (S1C1C2aS2) .

바람직하게는, 단계 (2-ii)에서 엠보싱 몰드 (e2)로서 유리하게 사용되는 복합체 (S1C1)은, 그의 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 표면의 적어도 일부분에 코팅 조성물 (C2a)를 적용하여 복합체 (S1C1C2a)를 제공한 후에, 단계 (3-ii)의 실행 동안 엠보싱 도구 (E2)의 부분으로서의 제1 롤에 걸쳐 인도되고, 단계 (3-ii)에서 사용되는 기판 (S2)가 제1 롤과 대향하고 있으며, 그와 역방향-회전하거나 또는 동방향-회전하는, 바람직하게는 역방향-회전하는 제2 롤을 통해 인도된다.Preferably, the composite (S1C1) advantageously used as the embossing mold (e2) in step (2-ii) is obtained by applying the coating composition (C2a) to at least a part of its at least partially embossed surface to obtain the composite (S1C1C2a) ), being guided over the first roll as part of the embossing tool E2 during the execution of step (3-ii), the substrate S2 used in step (3-ii) facing the first roll and is guided through a second roll counter-rotating or co-rotating, preferably counter-rotating therewith.

단계 (3-ii)에 따른 적어도 부분적인 엠보싱가공은 바람직하게는 역방향으로 또는 동방향으로 (동일한 방향으로) 회전하는 2개의 서로 대향하고 있는 롤에 의해 형성된 롤 닙의 수준에서 실시되며, 이때 복합체 (S1C1C2a)의 코팅 조성물 (C2a)가 기판 (S2)와 마주보고 있다. 이러한 경우에, 적어도 부분적인 엠보싱가공은 바람직하게는 기판 (S2)를 복합체 (S1C1C2a) 위로, 예를 들어 제2 롤 또는 프레싱 롤에 의해 가압하거나 또는 프레싱함으로써 달성된다.The at least partial embossing according to step (3-ii) is preferably carried out at the level of the roll nip formed by two mutually opposed rolls rotating in the opposite or co-direction (in the same direction), wherein the composite The coating composition (C2a) of (S1C1C2a) faces the substrate (S2). In this case, the at least partial embossing is preferably achieved by pressing or pressing the substrate S2 onto the composite S1C1C2a, for example by means of a second roll or pressing roll.

방법의 단계 (2-i) 및 (3-i)을 실행하는데 바람직하게 사용되는 상기 기재된 상응하는 장치가 마찬가지로, 기본적으로 유사한 방식으로, 방법의 단계 (2-ii) 및 (3-ii)를 실행하기 위해서도 이용될 수 있다.Corresponding apparatus described above, preferably used for carrying out steps (2-i) and (3-i) of the method, likewise perform steps (2-ii) and (3-ii) of the method in a basically similar manner It can also be used for execution.

단계 (4)Step (4)

본 발명의 방법의 제1 대안에서의 단계 (2-i) 및 (3-i) 후에, 또는 본 발명의 방법의 제2 대안에서의 단계 (2-ii) 및 (3-ii) 후에, 본 발명의 방법의 단계 (4)는 단계 (3-i) 또는 (3-ii) 후에 수득된, 기판 (S2)에 임의적으로 적용되는, 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 조성물 (C2a)를, 적어도 부분적인 경화의 지속기간 내내 엠보싱 몰드 (e2)로서 바람직하게 사용되는 복합체 (S1C1)과 접촉해 있는 상태로 적어도 부분적으로 경화시켜 복합체 (S1C1C2) 또는 (S1C1C2S2)를 제공하는 것을 제공한다.After steps (2-i) and (3-i) in the first alternative of the method of the invention, or after steps (2-ii) and (3-ii) in the second alternative of the method of the invention, Step (4) of the process of the invention comprises, at least partially, the at least partially embossed coating composition (C2a), optionally applied to the substrate (S2), obtained after step (3-i) or (3-ii) at least partially curing in contact with the composite (S1C1) preferably used as an embossing mold (e2) throughout the duration of the continuous curing to provide a composite (S1C1C2) or (S1C1C2S2).

단계 (4)에서, 적용된 코팅 조성물 (C2a)는 적어도 부분적으로 경화되어 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 부분적으로 경화된 코팅 물질을 제공하며, 이는 기판 (S2)를 임의적으로 포함한다. 코팅 조성물 (C2a)와 관련하여 용어 "적어도 부분적으로 경화되는"은 상기 코팅 조성물 (C2a)가, 코팅 조성물의 적어도 일부분이 필름으로 변형되어, 형성된 코팅 (C2)의 추가의 가공 또는 취급, 예컨대 예를 들어 이중 결합 전환비를 증가시키기 위한 후속-노출 단계 또는 복합체 (S2C2)의 부분으로서의 또는 자가지지형 필름 (C2)로서의 코팅 (C2)의 제거를 가능하게 하는 상태로 전환되는 것을 의미하는 것으로 이해된다.In step (4), the applied coating composition (C2a) is at least partially cured to provide an at least partially embossed and partially cured coating material, which optionally comprises a substrate (S2). The term “at least partially cured” in relation to the coating composition (C2a) means that said coating composition (C2a) has been transformed into a film by at least a part of the coating composition, resulting in further processing or handling of the formed coating (C2), such as for example a post-exposure step to increase the double bond conversion ratio or transition to a state that enables the removal of the coating (C2) as part of the complex (S2C2) or as a self-supporting film (C2) .

바람직하게는 단계 (4)에서의 적어도 부분적인 경화의 지속기간 내내, 적용된 코팅 조성물 (C2a)를 엠보싱 몰드 (e2)로서 유리하게 사용되는 적어도 하나의 복합체 (S1C1) 위로 가압하거나 또는 프레싱하기 위해 단계 (2-i) 및 (3-i) 또는 단계 (2-ii) 및 (3-ii)에서 사용된 수단이 코팅 조성물 (C2a) 및/또는 그로부터 형성된 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C2)와 접촉해 있다.Preferably throughout the duration of the at least partial curing in step (4), for pressing or for pressing the applied coating composition (C2a) onto the at least one composite (S1C1) which is advantageously used as an embossing mold (e2) (2-i) and (3-i) or the means used in steps (2-ii) and (3-ii) contact the coating composition (C2a) and/or the at least partially cured coating (C2) formed therefrom is doing

단계 (3-i) 또는 단계 (2-ii) 및 (3-ii) 및 단계 (4)는 바람직하게는 동시에 수행된다. 이러한 경우에, 단계 (4)에 따른 적어도 부분적인 경화는 바람직하게는 단계 (3-i)의 실행 동안 그 위치 그대로 실시된다.Step (3-i) or steps (2-ii) and (3-ii) and step (4) are preferably carried out simultaneously. In this case, the at least partial curing according to step (4) is preferably carried out in situ during the execution of step (3-i).

따라서, 단계 (4)를 실행하는데 바람직하게 사용되는 상응하는 장치는 바람직하게는 경화성 방사선을 코팅 조성물 (C2a)에 조사하기 위한 적어도 하나의 방사선원을 포함한다. 코팅 조성물 (C2a)가 바람직하게는 UV-경화성 코팅 조성물이기 때문에, 사용되는 경화성 방사선은 바람직하게는 UV 방사선이다. 코팅 조성물 (C2a)가 방사선-경화성이 아니라면, 이는 바람직하게는 화학적 경화성이다. 이러한 경우에, 단계 (4)의 경화는 열적으로, 예를 들어 적합한 열 복사원을 사용하여 실시된다. 물론, 조합된 경화, 즉, 열적 경화 및 UV 방사선에 의한 경화가 또한 가능하다.Accordingly, the corresponding apparatus preferably used for carrying out step (4) preferably comprises at least one radiation source for irradiating the coating composition (C2a) with curable radiation. Since the coating composition (C2a) is preferably a UV-curable coating composition, the curable radiation used is preferably UV radiation. If the coating composition (C2a) is not radiation-curable, it is preferably chemically curable. In this case, the curing in step (4) is effected thermally, for example using a suitable thermal radiation source. Of course, combined curing, ie thermal curing and curing with UV radiation, is also possible.

방사성 경화를 위한 적합한 방사선원의 예는 저압, 중압 및 고압 수은 방사체 및 또한 형광관, 펄스 방사체, 금속 할로겐화물 방사체 (할로겐 램프), 레이저, LED 및 더욱이 광개시제 없이 방사성 경화를 가능하게 하는 전자 플래시 설비 또는 엑시머 방사체를 포함한다. 방사성 경화는 고에너지 방사선, 즉, UV 방사선 또는 일광에의 노출을 통해, 또는 고에너지 전자와의 충돌에 의해 실시된다. UV 경화의 경우에 가교를 위해 전형적으로 충분한 방사선량은 80 내지 3000 mJ/cm2의 범위이다. 경화를 위해 2종 이상의 - 예를 들어 2 내지 4종의 방사선원을 사용하는 것도 물론 가능하다. 이들 방사선원은 또한 각각 상이한 파장 범위에서 방사할 수 있다.Examples of suitable radiation sources for radioactive curing are low, medium and high pressure mercury emitters and also fluorescent tubes, pulsed emitters, metal halide emitters (halogen lamps), lasers, LEDs and moreover electronic flash installations which enable radiative curing without photoinitiators or Includes an excimer emitter. Radiative curing is effected through exposure to high-energy radiation, ie UV radiation or sunlight, or by collision with high-energy electrons. A radiation dose that is typically sufficient for crosslinking in the case of UV curing is in the range of 80 to 3000 mJ/cm 2 . It is of course also possible to use two or more - for example 2 to 4 radiation sources for curing. Each of these radiation sources may also radiate in a different wavelength range.

단계 (4)에서의 적어도 부분적인 경화는 유리하게는 기판 (S2) 및/또는 복합체 (S1C1)을 관통하는 조사에 의해 실시된다. 바람직하게는 복합체 (S1C1)을 관통하는 조사가 실시된다. 단계 (3-ii)에서 기판이 존재하지 않고, 복합체 (S1C1)이 엠보싱 도구 (E2)의 적어도 하나의 엠보싱 몰드 (e2)로서 유리하게 사용된다면, 조사는 바람직하게는 기판으로서 사용된 복합체 (S1C1)을 관통해 수행된다. 이들 경우 둘 다에서, (i) 이형 라이너를 임의적으로 포함하는 단면 또는 양면 접착 테이프 또는 (ii) 자가-접착성 층을 한쪽 면에 임의적으로 포함하는 기판 (S2) 또는 자가-접착성 중합체성 기판, 및/또는 기판 (S2)와 코팅 조성물 (C2a) 사이의 추가의 층, 또는 복합체 (S1C1)의 기판 (S1)의 투과도가, 바람직하게는 코팅 조성물 (C2a)에 존재하는 사용된 적어도 하나의 광개시제의 최대 흡수 또는 적어도 흡수 범위와 대응되는 것이 유리하다. 따라서, 예를 들어, 기판 (S2)로서의 물질 PET, 즉, 예를 들어 PET 필름은 400 nm 미만의 파장을 갖는 방사선에 투과성이다. 이러한 방사선 하에 라디칼을 발생시키는 광개시제는, 예를 들어, 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀 옥시드, 에틸 (2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스피네이트 및 페닐비스(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀 옥시드를 포함한다. 따라서, 이러한 경우에, 바람직하게는 코팅 조성물 (C2a)에 적어도 하나의 이러한 광개시제가 존재한다.The at least partial curing in step (4) is advantageously effected by irradiation penetrating the substrate S2 and/or the composite S1C1. Preferably, irradiation is carried out through the composite (S1C1). If in step (3-ii) no substrate is present and the composite (S1C1) is advantageously used as at least one embossing mold (e2) of the embossing tool (E2), irradiation is preferably performed as a composite (S1C1) used as a substrate ) through the In both of these cases, (i) a single or double-sided adhesive tape optionally comprising a release liner or (ii) a substrate (S2) or a self-adhesive polymeric substrate optionally comprising a self-adhesive layer on one side , and/or a further layer between the substrate (S2) and the coating composition (C2a), or the transmittance of the substrate (S1) of the composite (S1C1), preferably at least one used in the coating composition (C2a) It is advantageous to correspond to the maximum absorption or at least the absorption range of the photoinitiator. Thus, for example, the material PET as substrate S2, ie, for example a PET film, is transparent to radiation with a wavelength of less than 400 nm. Photoinitiators that generate radicals under such radiation are, for example, diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide, ethyl (2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphinate and phenylbis( 2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide. Thus, in this case, preferably at least one such photoinitiator is present in the coating composition (C2a).

임의적인 단계 (5-i) 또는 (5-ii)optional step (5-i) or (5-ii)

단계 (4) 후에, 기판 (S2)의 존재에 따라 임의적인 단계 (5-i) 또는 (5-ii)가 수행된다. 단계 (2-i) 및 (3-i)에 의해 정의되는 본 발명의 방법의 제1 대안에서는, 이로부터 기판 (S2)가 필수적으로 존재한다. 따라서, 임의적인 단계 (5-i)만이 적용가능할 수 있다. 단계 (2-ii) 및 (3-ii)에 의해 정의되는 본 발명의 방법의 제2 대안에서는, 단계 (3-ii)에서 임의적인 기판 (S2)가 코팅 조성물 (C2a)에 의해 형성된 표면의 적어도 일부분에 적용되었다면 임의적인 단계 (5-i)이 적용가능하지만, 단계 (3-ii)에서 임의적인 기판 (S2)가 적용되지 않았다면 단계 (5-ii)만이 여기서 적용가능할 수 있다.After step (4), an optional step (5-i) or (5-ii) is performed depending on the presence of the substrate S2. In a first alternative to the method of the invention defined by steps (2-i) and (3-i), the substrate S2 therefrom is essentially present. Accordingly, only the optional step (5-i) may be applicable. In a second alternative of the method of the invention defined by steps (2-ii) and (3-ii), in step (3-ii) the optional substrate (S2) is applied to the surface formed by the coating composition (C2a). The optional step (5-i) may be applicable if it has been applied to at least a portion, but only the step (5-ii) may be applicable here if the optional substrate (S2) has not been applied in the step (3-ii).

본 발명의 방법에서 단계 (5-i) 및 (5-ii)는 엠보싱 몰드 (e2)로서 바람직하게 사용되는 복합체 (S1C1)로부터, 기판 (S2)에 임의적으로 적용되는 엠보싱가공된 코팅 (C2)를 임의적으로 제거하여 기판 (S2) 및 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C2)로 구성된 복합체 (S2C2)를 제공하거나, 또는 임의적인 기판 (S2)가 존재하지 않는 경우에는 자가지지형 코팅 (C2)를 제공하는 것을 제공하며, 이때 방법의 단계 (1)에서 제공된 복합체 (S1C1)이 복원된다. 바람직하게는, 단계 (5-i) 또는 (5-ii)가 실행된다.Steps (5-i) and (5-ii) in the process of the invention are embossed coatings (C2) optionally applied to the substrate (S2), from the composite (S1C1) preferably used as the embossing mold (e2) is optionally removed to provide a composite (S2C2) consisting of a substrate (S2) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C2), or self-supporting if the optional substrate (S2) is not present providing a mold coating (C2), wherein the composite (S1C1) provided in step (1) of the method is restored. Preferably, step (5-i) or (5-ii) is carried out.

엠보싱 몰드 (e2)로서 바람직하게 사용되는 복합체 (S1C1)로부터의 상기 제거는, 예를 들어, 기판 (S2)에 임의적으로 적용되는 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C2)를 복합체 (S1C1)로부터 또는 그 반대로 박리함으로써 수행될 수 있다. 박리는 수동으로 또는 통상적으로 공지된 기계적 분할 수단을 사용하여 수행될 수 있다.Said removal from the composite (S1C1) preferably used as an embossing mold (e2) results, for example, in the composite at least partially embossed and at least partially cured coating (C2), optionally applied to the substrate (S2). peeling from (S1C1) or vice versa. Peeling can be performed manually or using commonly known mechanical splitting means.

대안적으로, 복합체 (S1C1)로부터의 제거는 하기 단계를 포함할 수 있다:Alternatively, removal from the complex (S1C1) may comprise the following steps:

5-i-a) 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 (C2)와 접촉하고 있지 않는 기판 (S2)의 표면 상에 적어도 하나의 접착제 층 (AL)을 적용하여 복합체 (S1C1C2S2AL)을 제공하는 단계;5-i-a) applying at least one adhesive layer (AL) on the surface of the substrate (S2) which is not in contact with the at least partially embossed coating (C2) to provide a composite (S1C1C2S2AL);

5-i-b) 임의적으로, 복합체 (S1C1C2S2AL)을 물체 (O1)에 적어도 부분적으로 부착하는 단계;5-i-b) optionally, at least partially attaching the complex (S1C1C2S2AL) to the object (O1);

5-i-c) 복합체 (S1C1)을, 물체 (O1)에 임의적으로 적어도 부분적으로 부착되는 복합체 (C2S2AL)로부터 또는 그 반대로 제거하는, 바람직하게는 박리하는 단계;5-i-c) removing, preferably exfoliating, the complex (S1C1) from the complex (C2S2AL) optionally at least partially attached to the object (O1) or vice versa;

또는or

5-ii-a) 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 (C2)의 구조화되지 않은 표면의 적어도 일부분 상에 적어도 하나의 접착제 층 (AL)을 적용하여 복합체 (S1C1C2AL)을 제공하는 단계;5-ii-a) applying at least one adhesive layer (AL) on at least a portion of the unstructured surface of the at least partially embossed coating (C2) to provide a composite (S1C1C2AL);

5-ii-b) 임의적으로, 복합체 (S1C1C2AL)을 물체 (O1)에 적어도 부분적으로 부착하는 단계;5-ii-b) optionally, at least partially attaching the complex (S1C1C2AL) to the object (O1);

5-ii-c) 복합체 (S1C1)을, 물체 (O1)에 임의적으로 적어도 부분적으로 부착되는 복합체 (C2S2AL)로부터 또는 그 반대로 제거하는, 바람직하게는 박리하는 단계.5-ii-c) removing, preferably exfoliating, the complex (S1C1) from the complex (C2S2AL) optionally at least partially attached to the object (O1) or vice versa.

접착제 층 (AL)은, 예를 들어, 라미네이팅 접착제, 예컨대 폴리아크릴레이트 또는 폴리아크릴레이트-기반 접착제일 수 있다. 그러나, 접착제 층 (AL)은 바람직하게는 자가-접착성 층 또는 다층 구성이다. 이러한 자가-접착성 층은 접착제를 라미네이팅하거나 또는 분무하는 것과 같은 통상의 방법에 의해 적용될 수 있다. 상기 다층 구성은, 예를 들어, 내부-라이너라고도 하는 중간 중합체 층 (PL)을 포함하며, 이는 양쪽 표면이 접착제 (AH)로 코팅되어 있다. 상기 접착제 (AH)는 각각 폴리아크릴레이트 또는 폴리아크릴레이트-기반 접착제일 수 있다. 원칙적으로, 임의의 유형의 중합체가 중간 중합체 층 (PL)을 제조하는데 사용될 수 있다. 이러한 중합체의 예는 기판 (S2)로서 이미 기재된 중합체이다. 명시적으로 해당 단락을 참조한다. 바람직한 중간 중합체 층 (PL)은 폴리(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르 예컨대 PET 및/또는 PBT, 폴리비닐리덴 플루오라이드, 폴리비닐클로라이드, 폴리아미드 및/또는 폴리올레핀이다. 특히, 폴리에스테르 예컨대 PET가 사용될 수 있다. 중합체 층 (PL)의 층 두께는 5 내지 55 μm, 바람직하게는 6 내지 50 μm, 보다 바람직하게는 7 내지 40 μm, 특히 8 내지 30 μm의 범위일 수 있다. 각각의 접착제 (AH)는 보다 나은 취급을 위해 처음에는 이형 라이너, 예컨대 실리콘 종이에 의해 피복되어 있을 수 있다. 그러나, 단계 5-i) 또는 단계 (5-ii)에서 접착제 층 (AL)로서 사용하기 전에, 2개의 이형 라이너 중 하나가 제거된다. 다른 하나의 이형 라이너는 바람직하게는 본 발명의 방법의 후속 단계에서, 보다 바람직하게는 적어도 하나의 물체 (O1)에 복합체 (S1C1C2) 또는 (S1C1C2S2)를 적어도 부분적으로 부착하기 전에 제거된다. 그러므로, 접착제 층 (AL)을 포함하는 코팅 (C2) 또는 복합체 (C2S2)로부터 복합체 (S1C1)을 분리하기 전에, 이들 복합체는 물체 (O1)에 부착되고, 그 후에야 복합체 (S1C1)이 물체 (O1)에 접착제 층 (AL)을 통해 적어도 부분적으로 부착된 코팅 (C2) 또는 복합체 (C2S2)로부터, 바람직하게는 박리에 의해, 제거된다. 적합한 물체 (O1)은 금속, 플라스틱, 강화재, 유리, 고무, 직물, 가죽, 종이, 목재 및 그의 혼합물을 포함한 다양한 물질로 만들어질 수 있다. 바람직하게는, 적어도 하나의 물체 (O1)은 액체 및 가스와 접촉해 있는 표면, 예컨대 항공기, 선박 및 자동차, 로터 블레이드, 시추 플랫폼, 파이프라인, 조명 시스템, 디스플레이, 광기전력 모듈, 구조적 요소 및 장식적 요소로 이루어진 군으로부터 선택된다.The adhesive layer (AL) can be, for example, a laminating adhesive, such as a polyacrylate or polyacrylate-based adhesive. However, the adhesive layer (AL) is preferably a self-adhesive layer or a multilayer construction. This self-adhesive layer can be applied by conventional methods such as laminating or spraying an adhesive. Said multilayer construction comprises, for example, an intermediate polymeric layer (PL), also called an inner-liner, which is coated on both surfaces with an adhesive (AH). Said adhesive (AH) may be a polyacrylate or polyacrylate-based adhesive, respectively. In principle, any type of polymer can be used to prepare the intermediate polymer layer (PL). Examples of such polymers are the polymers already described as substrate (S2). Explicitly refer to that paragraph. Preferred intermediate polymer layers (PL) are poly(meth)acrylates, polyesters such as PET and/or PBT, polyvinylidene fluoride, polyvinylchloride, polyamide and/or polyolefin. In particular, polyesters such as PET can be used. The layer thickness of the polymer layer (PL) may range from 5 to 55 μm, preferably from 6 to 50 μm, more preferably from 7 to 40 μm, in particular from 8 to 30 μm. Each adhesive (AH) may initially be covered with a release liner, such as silicone paper, for better handling. However, prior to use as the adhesive layer (AL) in step 5-i) or step (5-ii), one of the two release liners is removed. The other release liner is preferably removed in a subsequent step of the method of the invention, more preferably prior to at least partially attaching the composite (S1C1C2) or (S1C1C2S2) to the at least one object (O1). Therefore, before separating the composite (S1C1) from the coating (C2) or composite (C2S2) comprising the adhesive layer (AL), these composites are attached to the object (O1), and only after that the composite (S1C1) is attached to the object (O1) ) from the coating (C2) or composite (C2S2) at least partially attached via the adhesive layer (AL), preferably by peeling. Suitable objects (O1) can be made of a variety of materials including metals, plastics, reinforcements, glass, rubber, textiles, leather, paper, wood and mixtures thereof. Preferably, the at least one object O1 is a surface in contact with liquids and gases, such as aircraft, ships and automobiles, rotor blades, drilling platforms, pipelines, lighting systems, displays, photovoltaic modules, structural elements and decorations. selected from the group consisting of enemy elements.

단계 5-i-a) 및 (5-i-b), 또는 5-ii-a) 및 5-ii-b)는 수동으로, 또는 접착제 층 (AL)을 위한 적어도 하나의 이송 수단, 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 (C2)의 구조화되지 않은 표면의 적어도 일부분 상에 또는 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 (C2)와 접촉하고 있지 않는 기판 (S2)의 표면 상에 접착제 층 (AL)을 고정시키기 위해 압력을 적용하기 위한 적어도 하나의 가압 수단, 및 코팅 (C2) 또는 복합체 (S2C2) 각각을 엠보싱 도구 (E2)의 엠보싱 몰드 (e2)로서 유리하게 이용되는 복합체 (S1C1)로부터 또는 그 반대로 제거하기 위한, 바람직하게는 박리하기 위한 적어도 하나의 분할 수단을 포함하는 기계에 의해 수행될 수 있다.Steps 5-i-a) and (5-i-b), or 5-ii-a) and 5-ii-b) are performed manually, or at least one conveying means for the adhesive layer (AL), at least partially embossed applying pressure to fix the adhesive layer (AL) on at least part of the unstructured surface of the coating (C2) or on the surface of the substrate (S2) that is at least partially in contact with the embossed coating (C2) at least one pressing means for, and preferably for removing the coating (C2) or the composite (S2C2) respectively from the composite (S1C1) which is advantageously used as an embossing mold (e2) of the embossing tool (E2) or vice versa may be performed by a machine comprising at least one dividing means for exfoliating.

적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C2) 또는 복합체 (S2C2) 각각을 복합체 (S1C1)로부터 제거하는 것은 바람직하게는 구조화되고 엠보싱가공된 표면의 파괴 없이 그리고 복합체 (S1C1)의 코팅 (C1)의 표면 상에 상당한 잔류물을 남기지 않으면서, 바람직하게는 잔류물을 전혀 남기지 않으면서 용이하게 수행된다.Removal of the at least partially embossed and at least partially cured coating (C2) or composite (S2C2) respectively from the composite (S1C1) is preferably without destruction of the structured and embossed surface and the coating of the composite (S1C1) ( It is carried out easily without leaving significant residues on the surface of C1), preferably leaving no residues at all.

도 1은 본 발명의 방법의 단계 (1), (2-i) 및 (3-i) 및 또한 (4) 및 임의적으로 (5-i)을 실행하는데 사용될 수 있는 장치의 측면도를 개략적으로 제시하며, 이는 본 발명의 방법의 예시적인 설명을 위해 사용된다. 이 장치는 또한 본 발명의 방법의 단계 (1), (2-ii) 및 (3-ii) 및 또한 (4) 및 임의적으로 (5-i) 또는 (5-ii)를 실행하기 위해서도, 기본적으로 유사한 방식으로, 마찬가지로 이용될 수 있다. 이 장치에 의해, 마스터 필름으로서 존재하는 엠보싱 몰드 (S1C1, e2)로부터 (C2a)로 코팅된 기판 (S2)로 구조 예컨대 바람직하게는 마이크로구조 및/또는 나노구조를 전사하는 것이 가능하다. 따라서, 이 장치는 또한 일반적으로 전사 장치로도 지칭되며, 도 1에서 참조 부호 (10)가 주어진다. 1 schematically shows a side view of an apparatus which can be used to carry out steps (1), (2-i) and (3-i) and also (4) and optionally (5-i) of the method of the present invention; and is used for exemplary description of the method of the present invention. This apparatus is also basically for carrying out steps (1), (2-ii) and (3-ii) and also (4) and optionally (5-i) or (5-ii) of the method of the present invention, can be used in a similar way, likewise. With this device it is possible to transfer structures such as preferably microstructures and/or nanostructures from the embossing molds (S1C1, e2) present as master films to the substrate (S2) coated with (C2a). Accordingly, this device is also generally referred to as a transfer device, and is given the reference numeral 10 in FIG. 1 .

전사 장치 (10)의 핵심부는 용융 실리카로 만들어진 롤 재킷을 갖는 프레스 롤 (2)이 배열되어 있는 엠보싱가공 영역 (1)이다. 프레스 롤 (2)은 회전을 위해 구동된다. UV 광을 발생시키며, 특히 프레스 롤 (2)의 종방향으로 일렬로 배치된 UV-LED를 포함할 수 있는 조명 유닛 (3) 형태의 방사선원이 프레스 롤 (2)의 옆에 배열된다. 도 1에 제시된 바와 같이, 조명 유닛 (3)은 또한 프레스 롤 (2)의 내부에 배치될 수도 있다. 엠보싱가공 영역 (1)에, 프레스 롤 (2)에 대고 프레싱하는 방식으로 프레싱 롤 (4)이 배열된다. 전사 장치 (10)의 몰드 프레임 (5)에 2개의 필름 웹 롤러 (6) 및 (7)가 배열되며, 이는 회전을 위해 모터-구동될 수 있다. 물론, 필름 웹 롤러 (6) 및 (7)는 또한 몰드 프레임 (5) 이외의 다른 곳에, 예를 들어, 캐비닛 요소에 또는 그렇지 않으면 실제 전사 장치 (10)의 외부에 장착되고 배열될 수도 있다. 여기서는 몰드 프레임에 배치된 것으로 제시된, 필름 웹 롤러 (6) 및 (7) 위로 연속 엠보싱 몰드를 나타내는 마스터 필름 웹 (8)이 롤링된다. 마스터 필름 웹 (8)에는, 표면 요철로서, 전사될 마이크로구조 및/또는 나노구조의 반전 형상을 특색으로 하는 마스터 코팅 층 (C1)이 전사 표면 상에 제공된다. 마스터 코팅 층 (C1)은 적어도 부분적으로 경화되어 있으므로, 층 내에서의 요철형 구조가 안정적이다. 마스터 필름 웹 (8)은 본 발명의 방법의 단계 (6) 내지 (9)의 실행에 의해 수득될 수 있으며, 이에 따라 복합체 (S1C1)을 구성한다. 마스터 필름 웹 (8)은 제1 필름 웹 롤러 (6)로부터 이탈하면서 이동하여, 다양한 편향 롤러 시스템을 통해 엠보싱가공 영역 (1)으로 공급되고, 도 1에 나타나 있는 바와 같이, 위에서부터 수직으로 프레스 롤 (2)과 프레싱 롤 (4) 사이의 영역으로 이동한다. 상기 영역에서 이는 프레스 롤 (2)의 주변 섹션에 걸쳐 팽팽하게 접촉해 있는 상태로 인도되고, 이어서 다시 프레스 롤 (2)에서 빠져나와, 한번 더 웹 장력부여장치가 수반된 편향 롤러 시스템을 통해 제2 필름 웹 롤러 (7)로 공급되고, 그 위로 감긴다. 마이크로구조 및/또는 나노구조와 같은 구조가 제공될, 기판 (S2)를 형성하는 필름 웹 (9)이 필름 웹 롤러 (11)에서부터 출발하여, 여기서 다시 웹 타이트너가 수반된 다양한 편향 롤러 시스템을 통해 엠보싱가공 영역 (1)으로 공급되며, 여기서 이것이 프레싱 롤 (4)의 주변 섹션에 걸쳐 팽팽하게 이동하여, 여기에서부터 프레싱 롤 (4)과 프레스 롤 (2)의 접촉 영역으로 또는 이들 요소들 사이에 형성된 롤 닙 영역으로 들어간다. 도 1의 도시에서, 필름 웹 (9)은 이 영역으로부터 수직 하향으로 빠져나오고, 필름 웹 롤러 (12)로 인도되며 - 다시 편향 롤러 시스템 및 웹 타이트너를 통해 인도됨 - 그 위로 완전히 처리된 생성물로서 감긴다. 엠보싱가공 영역 (1) 또는 프레스 롤 (2)과 프레싱 롤 (4) 사이의 롤 닙에 이르는 그의 경로 상에서, 필름 웹 (9)에 프레스 영역 (1)에서 프레스 롤 (2)과 마주보는 그의 표면 상에, 이러한 경우에 프레스 영역 (1)의 외부에 배치된 코팅 적용 유닛 (27)에 의해 코팅 층이 제공된다. 따라서, 코팅 적용 유닛 (27)은 본 발명의 방법의 단계 (2-i)에 따라 (S2)로서 사용되는 필름 웹 (9)에 코팅 조성물 (C2a)를 적용한다. 이어서 본 발명의 방법의 단계 (3-i)을 실행하기 위해, 프레스 영역 (1)에서, 필름 웹 (9)이 아직 비경화된 상태의 코팅 층이 제공된 그의 표면에 의해, 마스터 필름 웹 (8)의 마스터 코팅 층이 제공된 표면과 합쳐진다. 이러한 경우에, 필름 웹 (9)은 프레싱 롤러 (4)를 통해 이동하고, 마스터 필름 웹 (8)은 프레스 롤 (2)을 통해 이동한다. 웹 둘 다는, 즉, 필름 웹 (9) 및 마스터 필름 웹 (8)은 각각의 코팅 층 (마스터 필름 웹 (8)의 경우에는, 코팅 (C1)에 상응하는 적어도 부분적으로 경화된 마스터 코팅 층; 필름 웹 (9)의 경우에는, 코팅 조성물 (C2a)에 상응하는 비경화된 코팅 층)이 제공된 표면이 서로 마주보고 있다. 프레싱 롤 (4)이 프레스 롤 (2)에 대고 프레싱하는 영역에서, 마스터 코팅 층 (C1)에 형성된 전사될 구조, 예컨대 마이크로구조 및/또는 나노구조의 반전 상이 코팅 조성물 (C2a)에 상응하는 비경화된 코팅 층으로 압인되고, 그 결과 구조가 전사된다. 동시에, 조명 유닛 (2)이 UV 조사를 수행하고, 이에 따라 필름 웹 (9)의 코팅 층의 코팅 조성물 (C2a)에 상응하는 비경화된 코팅 층의 적어도 부분적인 경화를, 상기 코팅 층이 마스터 코팅 층 (8)과 여전히 접촉해 있는 동안에 실행한다. 따라서, 구조의 전사 동안 직접적으로 그 위치 그대로 코팅 층의 적어도 부분적인 경화가 수행된다. 여기서 필름 웹 (9) 또는 그에 적용된 비경화된 코팅 층의 조사는 외부로부터 프레스 실린더 (2)로의 조사의 경우에 필름 물질 (9)을 관통해 달성된다. 대안적으로, 조사는 프레스 실린더 (2)의 외부 표면의 용융 실리카 물질을 관통해, 그리고 또한 마스터 필름 웹 (8) 및 그에 적용된 마스터 코팅 층의 물질을 관통해 실시된다. 따라서, 마스터 필름 웹 (8) 및 마스터 코팅 층은 사용된 방사선, 이 경우에는 UV 광에 투과성이도록 설계된다. 프레스 롤 (2)의 외부 표면은 여기서 용융 실리카로 이루어지는 것으로 기재되어 있다. 그러나, 프레스 롤 (2)의 내부로부터 방사되는 경화성 방사선 (UV 광 이외의 것일 수 있음)에 투과성인 한은 임의의 다른 물질이 또한 여기서 원칙적으로 적합하다. 대안적으로, 코팅 조성물 (C2a)가 비-방사선-경화 코팅 조성물이라면, UV 조사를 제공하는 조명 유닛 (3) 대신에, 예를 들어, 열 방사체를 사용하는 것이 또한 가능하다. UV 조사에 의한 적어도 부분적인 경화 후에, 예를 들어 IR 방사선에 의한 후속-노출의 가능성이 있다. 이러한 경화 작업이 끝나면 본 발명의 방법의 임의적인 단계 (5-i)에 따라, 필름 웹 (9)과 마스터 필름 웹 (8)이 서로로부터 분리되며, 이때 새로 구조화된 층 복합체 (S2C2)와 마스터 필름 (S1C1)이 분리된다. 이와 같이 목적하는 구조화가 제공된 코팅된 필름 웹 (9) (즉, 복합체 (S2C2))이 완성된 생성물로서 필름 웹 롤러 (12)로 공급되고, 그 롤러 위로 감긴다. 조명 유닛 (3)에 의해 외부로부터 프레스 롤 (2)로 조사가 이루어지는 경우에, 마스터 필름 웹 (8) (즉, 복합체 (S1C1))과 필름 웹 (9) (즉, 복합체 (S2C2))이 바뀐 배열이 선택된다면, 목적하는 구조가 제공된 코팅된 필름 웹 (9) (즉, 복합체 (S2C2))은 또한 불투명할 수 있다. 그렇다면, 본 발명의 방법의 단계 (2-i)에 따른 코팅 적용 유닛 (27)의 코팅이 마스터 필름 웹 (8)에 대한 작업의 제한 없이 실시될 수 있다.The core of the transfer device 10 is an embossing area 1 in which a press roll 2 having a roll jacket made of fused silica is arranged. The press roll 2 is driven for rotation. A radiation source, which generates UV light, is arranged next to the press roll 2 , in particular in the form of an illumination unit 3 , which may comprise UV-LEDs arranged in a row in the longitudinal direction of the press roll 2 . As shown in FIG. 1 , the lighting unit 3 may also be arranged inside the press roll 2 . In the embossing area (1), a pressing roll (4) is arranged in such a way that it is pressed against a press roll (2). Two film web rollers 6 and 7 are arranged on the mold frame 5 of the transfer device 10, which can be motor-driven for rotation. Of course, the film web rollers 6 and 7 may also be mounted and arranged elsewhere other than the mold frame 5 , for example on a cabinet element or otherwise outside of the actual transfer device 10 . A master film web 8 , representing a continuous embossing mold, is rolled over film web rollers 6 and 7 , presented here as disposed on a mold frame. The master film web 8 is provided, as a surface asperity, on the transfer surface with a master coating layer (C1) featuring an inverted shape of microstructures and/or nanostructures to be transferred. Since the master coating layer (C1) is at least partially cured, the concave-convex structure in the layer is stable. The master film web 8 can be obtained by carrying out steps (6) to (9) of the method of the present invention, thereby constituting the composite (S1C1). The master film web 8 moves away from the first film web roller 6 and is fed to the embossing area 1 through a system of various deflection rollers and presses vertically from above, as shown in FIG . 1 . It moves to the area between the roll (2) and the pressing roll (4). In this region it is guided in taut contact over the peripheral section of the press roll 2 and then again exits the press roll 2 and once again through a deflection roller system accompanied by a web tensioner. 2 It is fed to the film web roller (7) and wound over it. A film web 9 forming a substrate S2, on which structures such as microstructures and/or nanostructures will be provided, starts from a film web roller 11, here again through various deflection roller systems accompanied by a web tightener. It is fed into the embossing area ( 1 ), where it moves taut over the peripheral section of the pressing roll ( 4 ), from here to the contact area of the pressing roll ( 4 ) and the press roll ( 2 ) or between these elements. into the formed roll nip area. 1 , the film web 9 exits vertically downward from this area and is led to the film web roller 12 - again through the deflection roller system and web tightener - over it as a fully processed product. winding up On its path to the roll nip between the embossing zone ( 1 ) or the press roll ( 2 ) and the pressing roll ( 4 ), the film web ( 9 ) has its surface facing the press roll ( 2 ) in the press zone ( 1 ). On top of this, a coating layer is provided in this case by means of a coating application unit 27 arranged outside of the press area 1 . Accordingly, the coating application unit 27 applies the coating composition (C2a) to the film web 9 used as (S2) according to step (2-i) of the method of the present invention. Then, in order to carry out step (3-i) of the method of the present invention, in the press area 1 , the film web 9 is provided with a coating layer in an uncured state by its surface, the master film web 8 ) of the master coating layer is merged with the provided surface. In this case, the film web 9 travels through the pressing roller 4 , and the master film web 8 travels through the press roll 2 . Both webs, ie film web 9 and master film web 8, have respective coating layers (in the case of master film web 8, an at least partially cured master coating layer corresponding to coating (C1); In the case of the film web 9, the surfaces provided with the uncured coating layer corresponding to the coating composition (C2a)) face each other. In the region where the pressing roll 4 presses against the press roll 2, the structure to be transferred formed on the master coating layer (C1), such as a microstructure and/or nanostructure inversion phase, a specific diameter corresponding to the coating composition (C2a) It is stamped with a layered coating, resulting in transfer of the structure. At the same time, the lighting unit 2 performs UV irradiation, and thus at least partial curing of the uncured coating layer corresponding to the coating composition (C2a) of the coating layer of the film web 9, the coating layer being the master It is carried out while still in contact with the coating layer (8). Accordingly, at least partial curing of the coating layer is carried out directly and in situ during the transfer of the structure. Irradiation of the film web 9 or of an uncured coating layer applied thereto is achieved here through the film material 9 in the case of irradiation from the outside into the press cylinder 2 . Alternatively, the irradiation is carried out through the fused silica material of the outer surface of the press cylinder 2 and also through the material of the master film web 8 and the master coating layer applied thereto. Accordingly, the master film web 8 and the master coating layer are designed to be transparent to the radiation used, in this case UV light. The outer surface of the press roll 2 is described herein as consisting of fused silica. However, any other material is also suitable here in principle as long as it is transparent to the curable radiation (which may be other than UV light) emitted from the inside of the press roll 2 . Alternatively, if the coating composition (C2a) is a non-radiation-curing coating composition, it is also possible to use, for example, a thermal emitter instead of the illumination unit 3 providing UV radiation. After at least partial curing by UV irradiation, there is the possibility of a post-exposure, for example with IR radiation. At the end of this curing operation, according to optional step (5-i) of the method of the present invention, the film web 9 and the master film web 8 are separated from each other, wherein the newly structured layer composite (S2C2) and the master The film S1C1 is separated. The coated film web 9 (ie, composite S2C2) thus provided with the desired structuring is fed as a finished product to a film web roller 12 and wound onto it. When irradiation is made from the outside to the press roll 2 by the lighting unit 3, the master film web 8 (ie, composite (S1C1)) and the film web 9 (ie, composite (S2C2)) are If an alternate arrangement is chosen, the coated film web 9 (ie, composite S2C2) provided with the desired structure may also be opaque. Then, the coating of the coating application unit 27 according to step (2-i) of the method of the present invention can be carried out without limitation of the operation on the master film web 8 .

복합체 (S1C1)의 제조:Preparation of complex (S1C1):

본 발명의 방법의 단계 (1)에서 제공되는 복합체 (S1C1)은 다양한 공정, 예를 들어 리소그래피 방법, 예컨대 나노임프린트 리소그래피, 레이저 리소그래피 및 포토 리소그래피에 의해 제조될 수 있다. 하기에 보다 상세히 특정된 바와 같은 단계 (6) 내지 (9)에 의해 복합체 (S1C1)을 제조하는 것이 바람직하다. 따라서, 엠보싱 도구 (E2)의 엠보싱 몰드 (e2)로서 사용될 수 있는 복합체 (S1C1)을 제조하기 위해 본 발명의 방법의 단계 (6) 내지 (9)가 수행된다. 도 2는 본 발명의 방법의 단계 (6) 내지 (9)의 예시적인 설명을 제공하며, 이는 또한 이 도면에 대한 하기 기재내용으로부터 명백하다.The composite (S1C1) provided in step (1) of the method of the present invention can be prepared by various processes, for example, lithographic methods such as nanoimprint lithography, laser lithography and photolithography. It is preferred to prepare the complex (S1C1) by steps (6) to (9) as specified in more detail below. Accordingly, steps (6) to (9) of the method of the present invention are carried out to produce a composite (S1C1) which can be used as an embossing mold (e2) of the embossing tool (E2). Figure 2 provides an exemplary description of steps (6) to (9) of the process of the invention, which is also evident from the following description of this figure.

복합체 (S1C1)을 제조하기 위한 본 발명의 방법의 임의적인 단계 (6) 내지 (9)Optional steps (6) to (9) of the process of the present invention for preparing the complex (S1C1)

본 발명의 바람직한 실시양태에 따르면, 기판 (S1) 및 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)로 구성된, 방법의 단계 (1)에서 제공되는 복합체 (S1C1)은 엠보싱 도구 (E1)의 엠보싱 몰드 (e1)의 반복되는 및/또는 규칙적으로 배열된 패턴을 코팅 조성물 (C1a)에 전사하고, 상기 코팅 조성물을 적어도 부분적으로 경화시키고, 구조화되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 조성물 (즉, 복합체 (S1C1))을 엠보싱 도구로부터 제거함으로써 제조된다. 따라서, 단계 (1)에서 제공되는 바람직한 복합체 (S1C1)은 하기 단계에 의해 수득된다:According to a preferred embodiment of the invention, the composite (S1C1) provided in step (1) of the method, consisting of a substrate (S1) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1), comprises an embossing tool (E1) ) transferring the repeating and/or regularly arranged pattern of the embossing mold (e1) to the coating composition (C1a), at least partially curing the coating composition, and at least partially curing the structured and at least partially cured coating composition (i.e. The composite (S1C1)) is prepared by removing it from the embossing tool. Accordingly, the preferred complex (S1C1) provided in step (1) is obtained by the following steps:

(6) 기판 (S1)의 표면의 적어도 일부분에 방사선-경화성 코팅 조성물 (C1a)를 적용하여 복합체 (S1C1a)를 제공하는 단계;(6) applying the radiation-curable coating composition (C1a) to at least a portion of the surface of the substrate (S1) to provide a composite (S1C1a);

(7) 기판 (S1)의 표면에 적어도 부분적으로 적용된 코팅 조성물 (C1a)를 적어도 하나의 엠보싱 몰드 (e1)을 포함하는 적어도 하나의 엠보싱 도구 (E1)에 의해 적어도 부분적으로 엠보싱가공하는 단계;(7) at least partially embossing the coating composition (C1a) at least partially applied to the surface of the substrate (S1) by means of at least one embossing tool (E1) comprising at least one embossing mold (e1);

(8) 기판 (S1)에 적어도 부분적으로 적용된, 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 조성물 (C1a)를, 적어도 부분적인 경화의 지속기간 내내 엠보싱 도구 (E1)의 적어도 하나의 엠보싱 몰드 (e1)과 접촉해 있는 상태로 적어도 부분적으로 경화시키는 단계;(8) contacting the at least partially embossed coating composition (C1a), at least partially applied to the substrate (S1), with at least one embossing mold (e1) of the embossing tool (E1) throughout the duration of at least partial curing at least partially curing it in an intact state;

(9) 복합체 (S1C1)을 엠보싱 도구 (E1)의 엠보싱 몰드 (e1)로부터 또는 그 반대로 제거하여 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 복합체 (S1C1)을 제공하는 단계.(9) removing the composite (S1C1) from the embossing mold (e1) of the embossing tool (E1) or vice versa to provide an at least partially embossed and at least partially cured composite (S1C1).

단계 (6)Step (6)

본 발명의 방법의 단계 (6)은 기판 (S1)의 표면의 적어도 일부분에 방사선-경화성 코팅 조성물 (C1a)를 적용하는 것을 제공한다. 기판 (S1)은 코팅 조성물 (C1a) 또는 코팅 (C1) 각각을 위한 캐리어 물질을 구성한다. 기판 (S1) 또는 그의 표면 층을 위한 적합한 물질은 상기 기재된 바와 같은, 기판 (S2)를 제조하는데 또한 사용될 수 있는 동일한 물질을 포함한다. 이로써 명시적으로 상응하는 단락을 참조한다. 바람직하게는 UV 방사선에 투과성인 추가의 층, 예를 들어 접착 촉진 층이 복합체 (S1C1)에서 (S1)과 (C1) 사이에 존재할 수 있다. 그러나, 복합체 (S1C1)에서 (S1)과 (C1) 사이에 추가의 층이 존재하지 않는 경우에 유리하다. 기판 (S1)은 유리하게는 필름 웹, 바람직하게는 이동하는 필름 웹 또는 연속 필름 웹, 보다 바람직하게는 이동하는 연속 필름 웹이다. 이러한 경우에, 기판 (S1)은 바람직하게는 롤-투-롤 (R2R) 엠보싱 장치에 사용될 수 있다. 기판 (S1)을 위한 바람직한 물질은 폴리에스테르, 보다 특히 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET)이다. 기판 (S1)의 두께는 바람직하게는 2 μm 내지 5 mm이다. 25 내지 1000 μm, 보다 특히 50 내지 300 μm의 층 두께가 특히 바람직하다.Step (6) of the method of the invention provides for applying the radiation-curable coating composition (C1a) to at least a part of the surface of the substrate (S1). The substrate (S1) constitutes the carrier material for the coating composition (C1a) or the coating (C1) respectively. Suitable materials for the substrate (S1) or its surface layer include the same materials, as described above, which can also be used to prepare the substrate (S2). Reference is hereby expressly made to the corresponding paragraph. A further layer, preferably transparent to UV radiation, for example an adhesion promoting layer, may be present in the composite (S1C1) between (S1) and (C1). However, it is advantageous if there is no additional layer between (S1) and (C1) in the composite (S1C1). The substrate S1 is advantageously a film web, preferably a moving film web or a continuous film web, more preferably a moving continuous film web. In this case, the substrate S1 can preferably be used in a roll-to-roll (R2R) embossing apparatus. A preferred material for the substrate (S1) is polyester, more particularly polyethylene terephthalate (PET). The thickness of the substrate S1 is preferably 2 μm to 5 mm. A layer thickness of 25 to 1000 μm, more particularly 50 to 300 μm, is particularly preferred.

본 발명의 방법의 임의적인 단계 (6)에서 제공되는 코팅 조성물 (C1a)는 하기에 상세히 기재된 바와 같은 방사선-경화성 코팅 조성물이다. 유리하게는, 단계 (6)에서 적용되는 코팅 조성물 (C1a)는 적어도 0.5 μm, 바람직하게는 적어도 1 μm, 보다 바람직하게는 적어도 5 μm 내지 1,000 μm의 건조 층 두께로 적용된다.The coating composition (C1a) provided in optional step (6) of the process of the invention is a radiation-curable coating composition as described in detail below. Advantageously, the coating composition (C1a) applied in step (6) is applied with a dry layer thickness of at least 0.5 μm, preferably at least 1 μm, more preferably at least 5 μm to 1,000 μm.

단계 (6)의 실행 동안 (바람직하게는 또한 방법의 단계 (7), (8) 및 (9)의 실행 동안), 기판 (S1)은 바람직하게는 이동 중에 있으며, 따라서 이동하는 기판이다. 단계 (6)의 실행 동안, 기판 (S1)은 바람직하게는 이송 수단 예컨대 컨베이어 벨트에 의해 이동된다. 따라서, 단계 (6)을 실행하는데 사용되는 상응하는 장치는 바람직하게는 이러한 종류의 이송 수단을 포함한다. 단계 (6)을 실행하는데 사용되는 상응하는 장치는 기판 (S1)의 표면의 적어도 일부분에, 바람직하게는 방사선-경화성인 코팅 조성물 (C1a)를 적용하기 위한 수단을 추가로 포함한다.During the execution of step (6) (preferably also during the execution of steps (7), (8) and (9) of the method), the substrate S1 is preferably in motion and thus is a moving substrate. During the execution of step (6), the substrate S1 is preferably moved by means of conveying means such as a conveyor belt. Accordingly, the corresponding apparatus used to carry out step (6) preferably comprises conveying means of this kind. The corresponding apparatus used to carry out step (6) further comprises means for applying the coating composition (C1a), preferably radiation-curable, to at least a part of the surface of the substrate (S1).

단계 (7)Step (7)

본 발명의 방법의 단계 (7)은 기판 (S1)의 표면에 적어도 부분적으로 적용된 코팅 조성물 (C1a)를, 코팅 조성물 (C1a)로 임의적으로 예비-습윤화되는 적어도 하나의 엠보싱 몰드 (e1)을 갖는 적어도 하나의 엠보싱 도구 (E1)에 의해 적어도 부분적으로 엠보싱가공하는 것을 제공한다. 상기 엠보싱 몰드 (e1)은 중합체성 엠보싱 몰드 (e1) 또는 금속성 엠보싱 몰드 (e1), 바람직하게는 금속성 엠보싱 몰드 (e1)일 수 있다. 임의적으로, 제1 복합체 (S1C1)이 제조된 후에, 이러한 제1 또는 선행 복합체 (S1C1)이 엠보싱 몰드 (e1)로서 이용될 수 있다. 적어도 부분적인 엠보싱가공은 기판 (S1)에 적용된 코팅 조성물 (C1a)의 표면에 엠보싱 구조를 적어도 부분적으로 전사한다. 용어 "엠보싱가공"은 상기에서 정의되었으며, 명시적으로 상응하는 단락을 참조한다.Step (7) of the method of the invention comprises at least one embossing mold (e1), optionally pre-wetted with the coating composition (C1a), the coating composition (C1a) at least partially applied to the surface of the substrate (S1) embossing at least partially by means of at least one embossing tool (E1) having Said embossing mold (e1) may be a polymeric embossing mold (e1) or a metallic embossing mold (e1), preferably a metallic embossing mold (e1). Optionally, after the first composite (S1C1) is prepared, this first or preceding composite (S1C1) can be used as the embossing mold (e1). The at least partial embossing at least partially transfers the embossing structure to the surface of the coating composition (C1a) applied to the substrate (S1). The term "embossing" has been defined above, and reference is made explicitly to the corresponding paragraph.

단계 (7)은 바람직하게는 엠보싱 구조로서의 상기 기재된 바와 같은 구조 폭 및 구조 높이와 같은 치수의 마이크로구조 및/또는 나노구조를 코팅 조성물 (C1a)로 전사한다. 명시적으로 상기 기재된 해당 단락을 참조한다.Step (7) preferably transfers the microstructures and/or nanostructures of dimensions equal to the structure width and structure height as described above as embossed structures to the coating composition (C1a). Reference is made explicitly to the appropriate paragraph above.

따라서, 단계 (7)을 실행하는데 사용되는 상응하는 장치는 기판 (S1)의 표면에 적어도 부분적으로 적용된 코팅 조성물 (C1a)를 적어도 하나의 엠보싱 도구 (E1)에 의해 적어도 부분적으로 엠보싱가공하기 위한 수단을 포함한다. 바람직하게 사용되는 장치는 방사선-경화성 코팅 조성물 (C1a)를 (S1)에 적용한 후에, 엠보싱 도구 (E1)의 부분으로서의 엠보싱 몰드 (e1)을, 바람직하게는 연속 필름 웹의 형태로 사용되는 기판 (S1) 위로 프레싱하기 위한 수단을 추가로 포함하며, 상기 수단은 기판 (S1)의 운반 방향으로 봤을 때, 바람직하게는 방사선-경화성 코팅 조성물 (C1a)를 적용하기 위한 수단의 하류에 배치된다.Accordingly, the corresponding apparatus used to carry out step (7) is means for at least partially embossing by means of at least one embossing tool (E1) the coating composition (C1a) at least partially applied to the surface of the substrate (S1). includes A device preferably used is, after application of the radiation-curable coating composition (C1a) to (S1), an embossing mold (e1) as part of an embossing tool (E1), preferably a substrate used in the form of a continuous film web ( S1) further comprising means for pressing onto, said means being preferably arranged downstream of the means for applying the radiation-curable coating composition (C1a), viewed in the transport direction of the substrate (S1).

본 발명의 방법의 단계 (7)에 따른 적어도 부분적인 엠보싱가공은 엠보싱 도구 (E1)에 의해 수행된다. 엠보싱 도구 (E1)은 바람직하게는 엠보싱 캘린더일 수 있으며, 이는 바람직하게는 그리드 적용 메카니즘, 보다 바람직하게는 그리드 롤 메카니즘을 포함한다. 이러한 캘린더는, 바람직하게는 높이 방향으로 특정 간격을 두고 하나가 또 다른 것 위에 배열된 역방향-회전하는 롤을 보유하며, 엠보싱 구조가 제공될 복합체 (S1C1a)가 롤에 공급되고, 가변적으로 조정가능한 닙 폭으로 형성된 롤 닙을 통해 인도된다. 여기서 그리드 롤 메카니즘은 바람직하게는 제1 롤 예컨대 금속성 롤, 예를 들어 스틸 롤, 소량의 인을 임의적으로 함유하는 금속 층 예컨대 구리 층 또는 니켈 층으로 피복된 스틸 롤, 또는 소량의 인을 임의적으로 함유하는 니켈 슬리브로 피복된 롤, 및 제2 롤을 포함한다. 엠보싱 도구 (E1)의 부분으로서의 제1 롤 (엠보싱 롤)은 복합체 (S1C1a)의 표면으로 엠보싱가공될 엠보싱 구조의 거울상을 갖는 엠보싱 몰드 (e1)을 함유한다. 따라서, 엠보싱 몰드 (e1)의 구조의 상은 단계 (3-i) 또는 (2-ii)에서 엠보싱 몰드 (e2)로서 바람직하게 이용되는 복합체 (S1C1)에 의해 코팅 조성물 (C2a)로 엠보싱가공되는 상에 상응한다. 제2 롤은 압인 또는 프레싱 롤의 역할을 한다. 서로 특정 거리를 두고 배치된 역방향-회전하는 롤에 의해 형성된 롤 닙의 포인트에서, 엠보싱가공이 실시된다. 사용되는 엠보싱 도구 (E1)은 또한 복합체 (S1C1a)의 표면으로 엠보싱가공될 엠보싱 구조의 거울상을 보유하며 적어도 부분적인 엠보싱가공을 위해 복합체 (S1C1a) 위로 프레싱될 수 있는 통상적인 프레스 실린더, 바람직하게는 금속성 롤, 예를 들어 스틸 롤, 소량의 인을 임의적으로 함유하는 금속 층 예컨대 구리 층 또는 니켈 층으로 피복된 스틸 롤로 만들어진 것일 수 있다. 거울상은 단계 (1)과 관련하여 상기 기재된 바와 같이, 마이크로규모 및/또는 나노규모의 표면 요소로 구성된 마이크로구조화 및/또는 나노구조화된 표면으로 구성된다. 이로써 명시적으로 상응하는 단락을 참조한다. 엠보싱가공될 구조의 거울상은 통상의 기술자에게 공지된 통상의 방법에 따라 엠보싱 도구 (E1) 상에 생성되고; 구조 및 물질에 따라, 특정한 방법이 특별히 유리할 수 있다. 엠보싱가공될 복합체 (S1C1a)는, 예를 들어 코팅 조성물 (C1a)로 적어도 부분적으로 코팅된 필름 웹의 형태로, 제1 롤과 역방향의 제2 롤 또는 프레싱 롤에 의해 이동된다. 서로 특정 거리를 두고 배치된 역방향-회전하는 롤에 의해 형성된 롤 닙의 포인트에서, 단계 (7)에 따른 엠보싱가공이 실시된다. 여기서, 엠보싱 몰드 (e1)을 운반하는 제1 롤이 상기 엠보싱 롤과 대향하고 있는 제2 롤에 의해 인도되는 복합체 (S1C1a)를 엠보싱가공하는 역할을 하며, 이때 제2 롤이 엠보싱 구조가 제공될 복합체 (S1C1a)를 제1 엠보싱 롤에 대고 프레싱한다. 엠보싱 도구 (E1)은 바람직하게는 금속성 엠보싱 도구, 보다 바람직하게는 스틸로 만들어진 것, 또는 소량의 인을 임의적으로 함유하는 금속 층 예컨대 구리 층 또는 니켈 층으로 피복된 스틸 롤, 또는 소량의 인을 임의적으로 함유하는 니켈 슬리브로 피복된 롤이다. 따라서, 엠보싱 몰드 (e1)은 바람직하게는 금속성이고, 보다 바람직하게는 스틸, 구리 또는 니켈로 만들어지고, 보다 특히 소량의 인을 함유하는 니켈로 만들어진다. 그러나, 대안적으로, 엠보싱 몰드 (e1)은 실리콘 (즉, 폴리디메틸실록산 (PDMS))과 같은 물질로 구성될 수도 있거나, 또는 이전에 제조된 복합체 (S1C1)이 엠보싱 몰드 (e1)로서 이용되어 제1 복합체 (S1C1)로의 1차 엠보싱가공에서 원래 만들어진 패턴을 증대시킬 수 있다. 더욱이, 적어도 하나의 플라스틱으로 코팅된 롤도 이용될 수 있다. 게다가, 엠보싱 도구 (E1)은 엠보싱 몰드 (e1)로서 구조화된 코팅 예컨대 UV 코팅을 가질 수 있다.The at least partial embossing according to step (7) of the method of the invention is carried out by means of an embossing tool (E1). The embossing tool E1 may preferably be an embossing calender, which preferably comprises a grid application mechanism, more preferably a grid roll mechanism. Such calenders preferably have counter-rotating rolls arranged one above the other at specific intervals in the height direction, the rolls being fed with a composite (S1C1a) on which the embossing structure is to be provided, variably adjustable It is guided through a roll nip formed by the nip width. The grid roll mechanism here preferably comprises a first roll such as a metallic roll, for example a steel roll, a steel roll coated with a metal layer optionally containing a small amount of phosphorus such as a copper layer or a nickel layer, or optionally a small amount of phosphorus a roll coated with a nickel sleeve containing it, and a second roll. The first roll (embossing roll) as part of the embossing tool E1 contains an embossing mold e1 having a mirror image of the embossing structure to be embossed into the surface of the composite S1C1a. Thus, the phase of the structure of the embossing mold (e1) is the phase embossed into the coating composition (C2a) by means of the composite (S1C1) preferably used as the embossing mold (e2) in step (3-i) or (2-ii) corresponds to The second roll serves as a stamping or pressing roll. At the point of the roll nip formed by counter-rotating rolls placed at a certain distance from each other, embossing is effected. The embossing tool E1 used also has a mirror image of the embossing structure to be embossed into the surface of the composite S1C1a and is preferably a conventional press cylinder which can be pressed onto the composite S1C1a for at least partial embossing. It may be a metallic roll, for example a steel roll, made of a steel roll coated with a metal layer optionally containing a small amount of phosphorus such as a copper layer or a nickel layer. The mirror image consists of microstructured and/or nanostructured surfaces composed of microscale and/or nanoscale surface elements, as described above with respect to step (1). Reference is hereby expressly made to the corresponding paragraph. A mirror image of the structure to be embossed is produced on the embossing tool E1 according to a conventional method known to the person skilled in the art; Depending on the structure and material, certain methods may be particularly advantageous. The composite to be embossed (S1C1a), for example in the form of a film web at least partially coated with the coating composition (C1a), is moved by means of a second roll or a pressing roll counter-current to the first roll. At the point of the roll nip formed by counter-rotating rolls arranged at a certain distance from one another, the embossing according to step (7) is effected. Here, the first roll carrying the embossing mold e1 serves to emboss the composite S1C1a guided by the second roll opposite to the embossing roll, wherein the second roll is provided with an embossing structure The composite (S1C1a) is pressed against the first embossing roll. The embossing tool E1 is preferably a metallic embossing tool, more preferably made of steel, or a steel roll coated with a metal layer optionally containing a small amount of phosphorus, such as a copper layer or a nickel layer, or a small amount of phosphorus. A roll coated with an optionally containing nickel sleeve. Accordingly, the embossing mold (e1) is preferably metallic, more preferably made of steel, copper or nickel, and more particularly of nickel containing a small amount of phosphorus. However, alternatively, the embossing mold (e1) may be composed of a material such as silicone (i.e. polydimethylsiloxane (PDMS)), or a previously prepared composite (S1C1) is used as the embossing mold (e1) It is possible to augment the pattern originally made in the first embossing into the first composite (S1C1). Furthermore, rolls coated with at least one plastic may also be used. Furthermore, the embossing tool E1 can have a structured coating such as a UV coating as the embossing mold e1 .

필요에 따라, 단계 (7)은 승온에서, 예를 들어 30℃ 내지 100℃ 또는 80℃에서 수행될 수 있다. 이러한 경우에, 복합체 (S1C1a)는 실제 엠보싱가공 절차, 즉, 엠보싱 도구 (E1)과 접촉해 있는 동안의 경화가 실시되기 전에, 먼저 가열 롤 메카니즘을 통해 이동하고, 임의적으로 적외선 광으로의 조사가 이어진다. 엠보싱가공 및 경화 후에, 엠보싱가공된 복합체 (S1C1)은 임의적으로 냉각을 위해 냉각 롤 메카니즘을 통해 이동한다. 대안적으로, 경화는 또한 냉각 하에 실시될 수 있으며: 이러한 경우에, 엠보싱가공을 위한 복합체 (S1C1a)는 상기 기재된 실제 엠보싱가공 절차가 실시되기 전에, 먼저 냉각 롤 메카니즘을 통해 이동한다. 별도의 가열 또는 경화 롤 메카니즘을 사용하는 대신에, 엠보싱 도구 (E1)을 가열하거나 또는 냉각시키는 것이 또한 가능하다.If necessary, step (7) may be carried out at an elevated temperature, for example at 30°C to 100°C or 80°C. In this case, the composite (S1C1a) first moves through the heating roll mechanism before the actual embossing procedure, i.e. curing while in contact with the embossing tool (E1) takes place, and optionally irradiation with infrared light goes on After embossing and curing, the embossed composite (S1C1) optionally moves through a chill roll mechanism for cooling. Alternatively, curing can also be effected under cooling: in this case, the composite for embossing (S1C1a) first moves through a chill roll mechanism before the actual embossing procedure described above is carried out. Instead of using a separate heating or curing roll mechanism, it is also possible to heat or cool the embossing tool E1 .

단계 8Step 8

본 발명의 방법의 단계 (8)은 기판 (S1)에 적어도 부분적으로 적용된, 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 조성물 (C1a)를, 적어도 부분적인 경화의 지속기간 내내 엠보싱 도구 (E1)의 적어도 하나의 엠보싱 몰드 (e1)과 접촉해 있는 상태로 적어도 부분적으로 경화시키는 것을 제공한다.Step (8) of the method of the invention comprises at least partially embossed coating composition (C1a), applied at least partially to the substrate (S1), over the duration of at least partial curing of at least one of the embossing tools (E1) At least partially curing in contact with the embossing mold (e1) is provided.

단계 (7) 및 (8)은 바람직하게는 동시에 수행된다. 이러한 경우에, 단계 (8)에 따른 경화는 바람직하게는 단계 (7)의 실행 동안 그 위치 그대로 실시된다.Steps (7) and (8) are preferably performed simultaneously. In this case, curing according to step (8) is preferably carried out in situ during the execution of step (7).

따라서, 단계 (8)을 실행하는데 사용되는 상응하는 장치는 바람직하게는 경화성 방사선, 바람직하게는 UV 방사선을 방사선-경화성 코팅 조성물 (C1a)에 조사하기 위한 적어도 하나의 방사선원을 포함한다.Accordingly, the corresponding device used to carry out step (8) preferably comprises at least one radiation source for irradiating the radiation-curable coating composition (C1a) with curable radiation, preferably UV radiation.

방사성 경화를 위한 적합한 방사선원의 예는 코팅 조성물 (C2a)의 경화와 관련하여 상기에 기재되었다. 이로써 명시적으로 상응하는 단락을 참조한다.Examples of suitable radiation sources for radiation curing have been described above in connection with the curing of the coating composition (C2a). Reference is hereby expressly made to the corresponding paragraph.

단계 (8)에서의 경화는 바람직하게는 기판 (S1)을 관통하는 조사에 의해 실시된다. 이러한 경우에, 사용된 방사선에 대한 기판 (S1)의 투과도가 코팅 조성물 (C1a)에 포함된 적어도 하나의 광개시제의 것과 대응되는 경우에 유리하다. 따라서, 예를 들어, 기판 (S1)로서의 물질 PET, 즉, 예를 들어 PET 필름은 400 nm 미만의 파장을 갖는 방사선에 투과성이다. 이러한 방사선 하에 라디칼을 발생시키는 광개시제는, 예를 들어, 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀 옥시드, 에틸 (2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스피네이트 및 페닐비스(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀 옥시드를 포함한다.The curing in step (8) is preferably effected by irradiation penetrating the substrate (S1). In this case, it is advantageous if the transmittance of the substrate (S1) to the radiation used corresponds to that of the at least one photoinitiator contained in the coating composition (C1a). Thus, for example, the material PET as substrate S1, ie, for example a PET film, is transparent to radiation with a wavelength of less than 400 nm. Photoinitiators that generate radicals under such radiation are, for example, diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide, ethyl (2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphinate and phenylbis( 2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide.

단계 (9)Step (9)

본 발명의 방법의 단계 (9)는 복합체 (S1C1)을 엠보싱 도구 (E1)로부터 제거하여, 이로써 목적하는 생성물, 즉, 엠보싱 몰드 (e2)로서 사용가능하며, 기판 (S1) 및 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)로 구성된 복합체 (S1C1)을 제조하는 것을 제공한다.Step (9) of the method of the present invention removes the composite (S1C1) from the embossing tool (E1), thereby making it usable as the desired product, ie an embossing mold (e2), the substrate (S1) and at least partially embossing It provides for preparing a composite (S1C1) consisting of a processed and at least partially cured coating (C1).

임의적으로, 복합체 (S1C1) 또는 마스터 필름은, 엠보싱 몰드 (e1)로부터의 분리 후에, 특히 복합체 (S1C1)의 코팅 (C1)의 표면에서의 이중 결합 전환을 증가시키거나 또는 최대화하여 코팅 조성물 (C2a)와의 공유 가교를 감소시키거나 또는 최소화하기 위해 적합한 방사선원, 예컨대 UVA 램프로 후속-노출될 수 있다. 상기 기재된 임의의 방사선원이 적합하며, 명시적으로 이들 선행 단락을 참조한다.Optionally, the composite (S1C1) or master film increases or maximizes the double bond conversion at the surface of the coating (C1) of the composite (S1C1), in particular after separation from the embossing mold (e1), so that the coating composition (C2a) ) with a suitable radiation source, such as a UVA lamp, to reduce or minimize covalent crosslinking. Any radiation source described above is suitable, reference is made explicitly to these preceding paragraphs.

바람직하게는, 복합체 (S1C1)의 적어도 부분적으로 경화되고 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 (C1)의 표면은 마이크로구조화 및/또는 나노구조화된 표면이다.Preferably, the surface of the at least partially cured and at least partially embossed coating (C1) of the composite (S1C1) is a microstructured and/or nanostructured surface.

도 2는 엠보싱 몰드 (e2)로서 유리하게 사용되는 복합체 (S1C1)을 제조하기 위한, 즉, 마스터 필름을 제조하기 위한 본 발명의 방법의 단계 (6) 내지 (9)를 실행하는데 사용될 수 있는 장치의 측면도를 개략적으로 제시하며, 이는 본 발명의 방법의 단계 (6) 내지 (9)에 대한 예시적인 설명을 위해 사용된다. 이 장치에 의해, 구조 예컨대 마이크로구조 및/또는 나노구조를 (C1a)로 코팅된 기판 (S1)에 엠보싱 도구 (E1)에 의해 전사하고, 적어도 부분적인 경화 후에, 마스터 필름으로서 사용될 수 있는 복합체 (S1C1) - 도 2에서 마스터 필름 웹 (8)으로 지칭됨 -을 제조하는 것이 가능하며, 이러한 복합체는 도 1과 관련하여 설명된 방법에서 상기 기재된 바와 같이 엠보싱 몰드 (e2)로서 사용될 수 있다. 2 shows an apparatus which can be used to carry out steps (6) to (9) of the method of the invention for producing a composite (S1C1) advantageously used as an embossing mold (e2), ie for producing a master film; schematically presents a side view, which is used for illustrative description of steps (6) to (9) of the method of the present invention. With this device, structures such as microstructures and/or nanostructures are transferred by means of an embossing tool (E1) to a substrate (S1) coated with (C1a) and, after at least partial curing, a composite ( It is possible to produce S1C1) - referred to in FIG. 2 as the master film web 8 , which composite can be used as an embossing mold e2 as described above in the method described in connection with FIG. 1 .

도 2에 제시된 마스터 전사 장치 (30)는 전사 원리에 따라 작동하며, 여기서 목적하는 반전 구조가 구조화된 프레스 실린더 또는 프레스 롤 (여기서는 마스터 프레스 실린더 (17)임)로부터 복합체 (S1C1a)에 상응하는 마스터 필름 웹 (8b)에 적용된 아직 비경화된 상태의 코팅 층으로 직접적으로 엠보싱가공되고, 상기 코팅 층이 이어서 그에 적용된 구조와 함께 적어도 부분적으로 경화되어 복합체 (S1C1)에 상응하는 - 마스터 필름 웹 (8)을 제공하는데, 이때 경화는 조명 유닛 (3)에 의해 그 위치 그대로 실시된다. 이러한 방법에서, 캐리어 물질만을 함유하는, 다시 말해서 마스터 코팅 (C1a)가 적용되지 않은 순수 필름을 함유하는, 기판 (S1)로서 사용되는 필름 웹 (8a)이 필름 웹 롤러 (18)로부터 인발되고, 다양한 편향 롤러 시스템 및 웹 장력부여 시스템을 통해 인도되고, 장치의 엠보싱가공 영역 (1)으로 도입된다. 여기서, 필름 웹 (8a)이, 아직 비경화된 상태의 마스터 코팅 층 (코팅 조성물 (C1a)에 상응함)이 제공되는 코팅 적용 수단 (27)으로부터 프레싱 롤 (4)과 마스터 프레스 실린더 (17) 사이의 프레스 영역으로 이동한다. 이러한 코팅 적용은 본 발명의 방법의 단계 (6)에 상응한다. 아직 비경화된 상태의 마스터 코팅 층 (C1a)를 갖는 마스터 필름 웹 (8b)이 마스터 프레스 실린더 (17)의 외부 표면의 섹션을 따라 이동하는 엠보싱가공 영역 (1)에서, 마스터 프레스 실린더 (17)의 외부 표면으로 엠보싱가공된 마이크로구조화 및/또는 나노구조화된 표면의 마이크로규모 및/또는 나노규모의 표면 요소가 마스터 필름 웹 (8b)의 마스터 코팅 층으로 반전 상으로서 도입되고 전사된다. 이는 본 발명의 방법의 단계 (7)에 상응한다. 이어서, 비경화된 코팅 조성물 (C1a)를 포함하는 마스터 필름 웹 (8b)이 본 발명의 방법의 단계 (8)에 따라 적어도 부분적으로 경화된다. 여기서 경화는 조명 유닛 (3)으로의 조사를 통해 UV 방사선에 의해, 예를 들어 UV-LED로 구성된 유닛에 의해 그 위치 그대로 실시된다. 생성된 마스터 필름 (8), 다시 말해서 복합체 (S1C1)은 후속적으로 본 발명의 방법의 단계 (9)에 따라 마스터 프레스 실린더 (17)의 외부 표면으로부터 제거되고, 이와 같이 완성된 마스터 필름 웹 (8)이 필름 웹 롤러 (19) 위로 감긴다. 그러면 필름 웹 롤러 (19)는, 마스터 코팅 층이 적용되고 마이크로구조 및/또는 나노구조의 반전 상이 엠보싱가공된 완성된 마스터 필름 웹 (8)을 함유한다. 이러한 필름 웹 롤러 (19)는 제거될 수 있으며, 이어서 도 1에 따른 전사 장치 (10)에서 또는 동일한 원리로 작동하는 또 다른 전사 장치에서 제1 필름 웹 롤러 (6)로서 사용될 수 있다.The master transfer device 30 shown in FIG. 2 operates according to the transfer principle, wherein the desired inversion structure is a master corresponding to the composite S1C1a from a structured press cylinder or press roll (here the master press cylinder 17 ). directly embossed with a coating layer in an as yet uncured state applied to the film web 8b, said coating layer being then at least partially cured together with the structure applied thereto to correspond to the composite S1C1 - a master film web 8 ), wherein the curing is carried out in situ by the lighting unit 3 . In this method, a film web 8a serving as substrate S1, containing only a carrier material, ie containing a pure film to which no master coating C1a has been applied, is drawn from a film web roller 18, It is guided through various deflection roller systems and web tensioning systems and introduced into the embossing area ( 1 ) of the machine. Here, the film web 8a is transferred from a coating application means 27 provided with a master coating layer (corresponding to the coating composition C1a), still in uncured state, to a pressing roll 4 and a master press cylinder 17 . Move to the press area in between. This coating application corresponds to step (6) of the process of the invention. In the embossing area (1), the master film web (8b) having the master coating layer (C1a) still in uncured state moves along a section of the outer surface of the master press cylinder (17), the master press cylinder (17) Microscale and/or nanoscale surface elements of the microstructured and/or nanostructured surface embossed into the outer surface of the master film web 8b are introduced and transferred as an inversion phase into the master coating layer of the web 8b. This corresponds to step (7) of the process of the invention. The master film web 8b comprising the uncured coating composition (C1a) is then at least partially cured according to step (8) of the process of the invention. The curing here is effected in situ by means of UV radiation via irradiation with the illumination unit 3 , for example by means of a UV-LED unit. The resulting master film (8), ie the composite (S1C1), is subsequently removed from the outer surface of the master press cylinder (17) according to step (9) of the method of the present invention, and thus the finished master film web ( 8) is wound over the film web roller (19). The film web roller 19 then contains a finished master film web 8 to which a master coating layer has been applied and embossed with a reversed phase of microstructure and/or nanostructure. This film web roller 19 can be removed and then used as the first film web roller 6 in the transfer apparatus 10 according to FIG. 1 or in another transfer apparatus operating on the same principle.

본 발명에 따라 이용되는 코팅 조성물 (C1a) 및 (C2a)Coating compositions (C1a) and (C2a) used according to the invention

코팅 조성물 (C1a)Coating composition (C1a)

코팅 조성물 (C1a)는 방사선-경화성 코팅 조성물이다. 용어 "방사선-경화성" 및 "방사선-경화"는 여기서 상호교환가능하다. 용어 "방사선-경화"는 바람직하게는 전자기 및/또는 입자 방사선, 예를 들어 λ=400-1200 nm, 바람직하게는 700-900 nm의 파장 범위의 가시 광 내지 (N)IR 광, 및/또는 λ=100-400 nm, 바람직하게는 λ=200-400 nm, 보다 바람직하게는 λ=250-400 nm의 파장 범위의 UV 광, 및/또는 150 내지 300 keV의 범위의 전자 방사선에 의한, 보다 바람직하게는 적어도 80 mJ/cm2, 바람직하게는 80 내지 3000 mJ/cm2의 방사선량으로의 중합성 화합물의 라디칼 중합을 지칭한다. 방사선 경화는 특히 바람직하게는 UV 방사선을 사용하여 수행된다. 코팅 조성물 (C1a)는 적합한 방사선원을 사용하여 경화될 수 있다. 따라서, (C1a)는 바람직하게는 UV 방사선-경화 코팅 조성물이다.The coating composition (C1a) is a radiation-curable coating composition. The terms “radiation-curable” and “radiation-curing” are interchangeable herein. The term “radiation-curing” preferably refers to electromagnetic and/or particulate radiation, for example visible to (N)IR light in the wavelength range of λ=400-1200 nm, preferably 700-900 nm, and/or by UV light in the wavelength range of λ=100-400 nm, preferably λ=200-400 nm, more preferably λ=250-400 nm, and/or electron radiation in the range of 150 to 300 keV, more preferably at least 80 mJ/cm 2 , preferably with a radiation dose of 80 to 3000 mJ/cm 2 radical polymerization of polymerizable compounds. Radiation curing is particularly preferably carried out using UV radiation. The coating composition (C1a) can be cured using a suitable radiation source. Accordingly, (C1a) is preferably a UV radiation-curing coating composition.

코팅 조성물 (C1a)는 바람직하게는 하기를 포함하며: The coating composition (C1a) preferably comprises:

(a) 5 내지 45 중량%의 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머,(a) from 5 to 45% by weight of at least one crosslinkable polymer and/or oligomer,

(b) 40 내지 95 중량%의 적어도 하나의 반응성 희석제,(b) 40 to 95% by weight of at least one reactive diluent;

(c) 0.01 내지 15 중량%의 적어도 하나의 광개시제, 및(c) 0.01 to 15% by weight of at least one photoinitiator, and

(d) 0 내지 5 중량%의 적어도 하나의 첨가제;(d) 0 to 5% by weight of at least one additive;

여기서 (i) 성분 (a), (b), (c) 및 (d)의 명시된 총량은 각각 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하는 것이고, (ii) 코팅 조성물 (C1a)에 존재하는 모든 성분의 총량은 그 합계가 100 중량%가 되고;wherein (i) the specified total amounts of components (a), (b), (c) and (d) are each based on the total weight of the coating composition (C1a), and (ii) The total amount of all components adds up to 100% by weight;

여기서 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머 (a)는, 코팅 조성물 (C1a)에 포함된 모든 가교성 중합체 및/또는 올리고머의 총 중량을 기준으로 하여, 적어도 25 중량%, 바람직하게는 적어도 50 중량%, 보다 바람직하게는 적어도 90 중량%, 매우 바람직하게는 100 중량%의 총량으로 적어도 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머를 포함한다.wherein the at least one crosslinkable polymer and/or oligomer (a) comprises at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, based on the total weight of all crosslinkable polymers and/or oligomers comprised in the coating composition (C1a) at least one silicone (meth)acrylate oligomer in a total amount of % by weight, more preferably at least 90% by weight and very preferably 100% by weight.

코팅 조성물 (C1a)는, 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여, 5 내지 45 중량%, 바람직하게는 8 내지 40 중량%, 보다 바람직하게는 9 내지 35 중량%의 총량으로 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머를 포함하며, 여기서 코팅 조성물 (C1a)에 포함된 모든 가교성 중합체 및/또는 올리고머의 총 중량을 기준으로 하여, 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머의 적어도 25 중량%, 바람직하게는 적어도 50 중량%, 보다 바람직하게는 적어도 90 중량%, 매우 바람직하게는 100 중량%는 적어도 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머이다.The coating composition (C1a) is present in a total amount of 5 to 45% by weight, preferably 8 to 40% by weight, more preferably 9 to 35% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a), of at least one at least 25 weights of at least one crosslinkable polymer and/or oligomer, based on the total weight of all crosslinkable polymers and/or oligomers comprised in the coating composition (C1a); %, preferably at least 50% by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight is at least one silicone (meth)acrylate oligomer.

용어 "올리고머"는 소수의, 전형적으로는 2 내지 10개 미만의 단량체 단위로 이루어진 상대적으로 저분자량의 화합물을 지칭한다. 단량체 단위는 구조적으로 동일할 수 있거나, 또는 유사할 수 있거나, 또는 이들은 서로 상이할 수 있다. 올리고머성 화합물은 전형적으로 23℃의 실온 및 주위 압력에서 액체이며, 여기서 DIN EN ISO 2555 (브룩필드(Brookfield) 방법)에 따라 측정된 23℃에서의 동적 점도가 바람직하게는 500 Pa*s 미만, 보다 바람직하게는 200 Pa*s 미만이다. 용어 "가교성"은 가교 반응을 위해 자유 라디칼을 형성할 수 있는 펜던트 불포화 기를 평균적으로 적어도 1개, 바람직하게는 적어도 2개 갖는 중합체 또는 올리고머를 지칭한다. 가교성 올리고머 및/또는 중합체 화합물은 바람직하게는 하나 이상의 반응성 희석제에 가용성이다.The term “oligomer” refers to a compound of relatively low molecular weight consisting of a small number, typically from 2 to less than 10, monomer units. The monomer units may be structurally identical, or they may be similar, or they may be different from each other. The oligomeric compound is typically a liquid at room temperature and ambient pressure of 23° C., wherein the kinematic viscosity at 23° C. measured according to DIN EN ISO 2555 (Brookfield method) is preferably less than 500 Pa*s; More preferably, it is less than 200 Pa*s. The term “crosslinkable” refers to a polymer or oligomer having, on average, at least one, preferably at least two, pendant unsaturated groups capable of forming free radicals for crosslinking reactions. The crosslinkable oligomeric and/or polymeric compound is preferably soluble in one or more reactive diluents.

본 발명에서 유용한 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머 또는 중합체는 전형적으로 (메트)아크릴산과 히드록시관능성 실리콘 (예를 들어 α,ω-폴리디메틸실리콘 디올) 사이의 축합 반응에 의해 제조될 수 있다. 실리콘 아크릴레이트는 그의 실리콘 백본으로 인해, 구조화된 표면의 탄성 및 신율을 개선시키지만, 그의 인장 강도 및 강건성을 손상시키는 경향이 있다. 보다 고관능성의 실리콘 (메트)아크릴레이트가 그의 낮은 표면 에너지 특성으로 인해 종종 사용된다. 유용한 실리콘 (메트)아크릴레이트의 예는 사토머 캄파니(Sartomer Co.)로부터 사토머 (예를 들어, 사토머 CN 9800)라는 상표명 하에, UCB 라드큐어 인크.(UCB Radcure Inc.)로부터 에베크릴(EBECRYL) (예를 들어 에베크릴 350, 에베크릴 1360)이라는 상표명 하에, 그리고 메타크릴레이트로서 신에츠 실리콘스 유럽 베.파우.(Shin-Etsu Silicones Europe B.V.)로부터 X-22 (예를 들어, X-22-164, X-22-164A)라는 제품명 하에 상업적으로 입수가능한 것들을 포함한다.The silicone (meth)acrylate oligomers or polymers useful in the present invention can typically be prepared by a condensation reaction between (meth)acrylic acid and a hydroxyfunctional silicone (eg α,ω-polydimethylsilicone diol). Silicone acrylates, due to their silicone backbone, improve the elasticity and elongation of structured surfaces, but tend to compromise their tensile strength and robustness. The more functional silicone (meth)acrylates are often used because of their low surface energy properties. Examples of useful silicone (meth)acrylates are evercryl from UCB Radcure Inc. under the trade name Sartomer (eg Sartomer CN 9800) from Sartomer Co. (EBECRYL) (eg Evercryl 350, Evercryl 1360) and as methacrylate X-22 (eg X-22 from Shin-Etsu Silicones Europe B.V.) -22-164, X-22-164A).

특히 바람직하게는 코팅 조성물 (C1a)는, 코팅 조성물 (C1a)에 포함된 모든 가교성 중합체 및/또는 올리고머의 총 중량을 기준으로 하여, 적어도 25 중량%, 바람직하게는 적어도 50 중량%, 보다 바람직하게는 적어도 90 중량%, 매우 바람직하게는 100 중량%의 총량으로 적어도 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머, 바람직하게는 정확히 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머, 보다 바람직하게는 평균적으로 2 내지 3개의 불포화 기를 포함하는 정확히 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머를 포함한다.With particular preference the coating composition (C1a), based on the total weight of all crosslinkable polymers and/or oligomers comprised in the coating composition (C1a), is at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, more preferably preferably at least one silicone (meth)acrylate oligomer, preferably exactly one silicone (meth)acrylate oligomer in a total amount of at least 90% by weight, very preferably 100% by weight, more preferably from 2 to exactly one silicone (meth)acrylate oligomer comprising three unsaturated groups.

실리콘 (메트)아크릴레이트 이외에, 코팅 조성물 (C1a)에 임의적으로 존재하는 다른 가교성 중합체 및/또는 올리고머는 바람직하게는 (메트)아크릴화된 올리고머 또는 중합체 화합물, 우레탄 (메트)아크릴레이트, 비닐 (메트)아크릴레이트, 에폭시 (메트)아크릴레이트, 폴리에스테르 (메트)아크릴레이트, 폴리(메트)아크릴레이트, 폴리에테르 (메트)아크릴레이트, 올레핀(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴화된 오일, 및 그의 혼합물, 바람직하게는 우레탄 (메트)아크릴레이트 올리고머로부터 선택된다. 코팅 조성물 (C1a)는, 코팅 조성물 (C1a)에 포함된 모든 가교성 중합체 및/또는 올리고머의 총 중량을 기준으로 하여, 0 내지 75 중량%, 바람직하게는 0 내지 50 중량%, 보다 바람직하게는 0 내지 10 중량%, 매우 바람직하게는 0 중량%의 총량으로 상기 다른 가교성 중합체 및/또는 올리고머를 포함한다. 다시 말해서, 코팅 조성물 (C1a)는 매우 바람직하게는 적어도 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 이외의 다른 가교성 중합체 및/또는 올리고머를 포함하지 않는다.Besides silicone (meth)acrylates, other crosslinkable polymers and/or oligomers optionally present in the coating composition (C1a) are preferably (meth)acrylated oligomers or polymeric compounds, urethane (meth)acrylates, vinyl (meth)acrylates ) acrylates, epoxy (meth) acrylates, polyester (meth) acrylates, poly (meth) acrylates, polyether (meth) acrylates, olefin (meth) acrylates, (meth) acrylated oils, and their mixtures, preferably urethane (meth)acrylate oligomers. The coating composition (C1a) comprises from 0 to 75% by weight, preferably from 0 to 50% by weight, more preferably from 0 to 75% by weight, based on the total weight of all crosslinkable polymers and/or oligomers comprised in the coating composition (C1a). said other crosslinkable polymers and/or oligomers in a total amount of 0 to 10% by weight, very preferably 0% by weight. In other words, the coating composition (C1a) very preferably comprises no other crosslinkable polymers and/or oligomers other than at least one silicone (meth)acrylate.

우레탄 (메트)아크릴레이트는, 예를 들어, 폴리이소시아네이트와 히드록시알킬 (메트)아크릴레이트 및 임의적으로 쇄 연장제 예컨대 디올, 폴리올, 디아민, 폴리아민 또는 디티올 또는 폴리티올의 반응에 의해 수득가능하다. 유화제의 첨가 없이 물에 분산가능한 우레탄 (메트)아크릴레이트는 합성 성분 예컨대, 예를 들어 히드록시카르복실산을 통해 우레탄으로 도입되는 이온성 및/또는 비이온성 친수성 기를 추가적으로 함유한다. 이러한 우레탄 (메트)아크릴레이트는 합성 성분으로서 본질적으로 하기를 함유한다:Urethane (meth)acrylates are obtainable, for example, by reaction of polyisocyanates with hydroxyalkyl (meth)acrylates and optionally chain extenders such as diols, polyols, diamines, polyamines or dithiols or polythiols . Urethane (meth)acrylates dispersible in water without the addition of emulsifiers additionally contain ionic and/or nonionic hydrophilic groups which are introduced into the urethane via synthetic components such as, for example, hydroxycarboxylic acids. These urethane (meth)acrylates contain essentially as synthetic components:

(a) 적어도 하나의 유기 지방족, 방향족 또는 시클로지방족 디- 또는 폴리이소시아네이트,(a) at least one organic aliphatic, aromatic or cycloaliphatic di- or polyisocyanate;

(b) 적어도 1개의 이소시아네이트-반응성 기, 바람직하게는 히드록실-보유 단량체, 및 적어도 1개의 라디칼 중합성 불포화 기를 갖는 적어도 하나의 화합물, 및(b) at least one compound having at least one isocyanate-reactive group, preferably a hydroxyl-bearing monomer, and at least one radically polymerizable unsaturated group, and

(c) 임의적으로, 적어도 2개의 이소시아네이트-반응성 기를 갖는 적어도 하나의 화합물, 예를 들어 다가 알콜.(c) optionally at least one compound having at least two isocyanate-reactive groups, for example polyhydric alcohols.

우레탄 (메트)아크릴레이트는 바람직하게는 200 내지 20000, 보다 특히 500 내지 10000, 매우 바람직하게는 600 내지 3000 g/mol의 수-평균 몰 중량 Mn을 갖는다 (용리액으로서 테트라히드로푸란을 사용하고 표준물로서 폴리스티렌을 사용하여 겔 투과 크로마토그래피에 의해 결정됨). 우레탄 (메트)아크릴레이트는 우레탄 (메트)아크릴레이트 1000 g당, 바람직하게는 1 내지 5, 보다 바람직하게는 2 내지 4 mol의 (메트)아크릴 기를 함유한다.The urethane (meth)acrylates preferably have a number-average molar weight M n of 200 to 20000, more particularly 500 to 10000, very preferably 600 to 3000 g/mol (using tetrahydrofuran as eluent and standard determined by gel permeation chromatography using polystyrene as water). The urethane (meth)acrylate contains preferably 1 to 5, more preferably 2 to 4 mol of (meth)acrylic groups per 1000 g of urethane (meth)acrylate.

에폭시드 (메트)아크릴레이트는 에폭시드와 (메트)아크릴산의 반응에 의해 수득가능하다. 고려되는 에폭시드의 예는 에폭시화된 올레핀, 방향족 글리시딜 에테르 또는 지방족 글리시딜 에테르, 바람직하게는 방향족 또는 지방족 글리시딜 에테르의 것들을 포함한다. 가능한 에폭시화된 올레핀의 예는 에틸렌 옥시드, 프로필렌 옥시드, 이소부틸렌 옥시드, 1-부텐 옥시드, 2-부텐 옥시드, 비닐옥시란, 스티렌 옥시드 또는 에피클로로히드린을 포함하며; 에틸렌 옥시드, 프로필렌 옥시드, 이소부틸렌 옥시드, 비닐옥시란, 스티렌 옥시드 또는 에피클로로히드린이 바람직하고, 에틸렌 옥시드, 프로필렌 옥시드 또는 에피클로로히드린이 특히 바람직하고, 에틸렌 옥시드 및 에피클로로히드린이 특별히 바람직하다. 방향족 글리시딜 에테르는, 예를 들어, 비스페놀 A 디글리시딜 에테르, 비스페놀 F 디글리시딜 에테르, 비스페놀 B 디글리시딜 에테르, 비스페놀 S 디글리시딜 에테르, 히드로퀴논 디글리시딜 에테르, 페놀/디시클로펜타디엔의 알킬화 생성물, 예를 들어, 2,5-비스[(2,3-에폭시프로폭시)페닐]옥타히드로-4,7-메타노-5H-인덴, 트리스[4-(2,3-에폭시프로폭시)페닐]메탄 이성질체, 페놀-기재 에폭시 노볼락 및 크레졸-기재 에폭시 노볼락이다. 지방족 글리시딜 에테르는, 예를 들어, 1,4-부탄디올 디글리시딜 에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜 에테르, 트리메틸올프로판 트리글리시딜 에테르, 펜타에리트리톨 테트라글리시딜 에테르, 1,1,2,2-테트라키스[4-(2,3-에폭시프로폭시)페닐]에탄, 폴리프로필렌 글리콜의 디글리시딜 에테르 (α,ω-비스(2,3-에폭시프로폭시)폴리(옥시프로필렌) (및 수소화된 비스페놀의 A의 디글리시딜 에테르 (2,2-비스[4-(2,3-에폭시프로폭시)시클로헥실]프로판))이다. 에폭시드 (메트)아크릴레이트는 바람직하게는 200 내지 20000, 보다 바람직하게는 200 내지 10000 g/mol, 매우 바람직하게는 250 내지 3000 g/mol의 수-평균 몰 중량 Mn을 갖고; 에폭시드 (메트)아크릴레이트 1000 g당 (메트)아크릴 기의 양은 바람직하게는 1 내지 5, 보다 바람직하게는 2 내지 4이다 (표준물로서 폴리스티렌을 사용하고 용리액으로서 테트라히드로푸란을 사용하여 겔 투과 크로마토그래피에 의해 결정됨).Epoxide (meth)acrylates are obtainable by reaction of an epoxide with (meth)acrylic acid. Examples of contemplated epoxides include those of epoxidized olefins, aromatic glycidyl ethers or aliphatic glycidyl ethers, preferably aromatic or aliphatic glycidyl ethers. Examples of possible epoxidized olefins include ethylene oxide, propylene oxide, isobutylene oxide, 1-butene oxide, 2-butene oxide, vinyloxirane, styrene oxide or epichlorohydrin; Preference is given to ethylene oxide, propylene oxide, isobutylene oxide, vinyloxirane, styrene oxide or epichlorohydrin, particular preference to ethylene oxide, propylene oxide or epichlorohydrin, ethylene oxide and epichlorohydrin are particularly preferred. Aromatic glycidyl ethers include, for example, bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol B diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, hydroquinone diglycidyl ether, alkylation products of phenol/dicyclopentadiene such as 2,5-bis[(2,3-epoxypropoxy)phenyl]octahydro-4,7-methano-5H-indene, tris[4-( 2,3-epoxypropoxy)phenyl]methane isomers, phenol-based epoxy novolacs and cresol-based epoxy novolacs. Aliphatic glycidyl ethers are, for example, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether , 1,1,2,2-tetrakis[4-(2,3-epoxypropoxy)phenyl]ethane, diglycidyl ether of polypropylene glycol (α,ω-bis(2,3-epoxypropoxy) ) poly(oxypropylene) (and diglycidyl ether of A of hydrogenated bisphenol (2,2-bis[4-(2,3-epoxypropoxy)cyclohexyl]propane)) Epoxide (meth) The acrylate preferably has a number-average molar weight M n of from 200 to 20000, more preferably from 200 to 10000 g/mol, very preferably from 250 to 3000 g/mol; epoxide (meth)acrylate 1000 The amount of (meth)acrylic groups per gram is preferably 1 to 5, more preferably 2 to 4 (determined by gel permeation chromatography using polystyrene as standard and tetrahydrofuran as eluent).

(메트)아크릴화된 폴리(메트)아크릴레이트는 폴리(메트)아크릴레이트 폴리올을 (메트)아크릴산으로 에스테르화함으로써 수득가능한, α,β-에틸렌계 불포화 카르복실산, 바람직하게는 (메트)아크릴산, 보다 바람직하게는 아크릴산의 폴리아크릴레이트 폴리올과의 상응하는 에스테르이다.The (meth)acrylated poly(meth)acrylate is an α,β-ethylenically unsaturated carboxylic acid, preferably (meth)acrylic acid, obtainable by esterifying a poly(meth)acrylate polyol with (meth)acrylic acid; more preferably the corresponding esters of acrylic acid with polyacrylate polyols.

다양한 관능가를 갖는 카르보네이트 (메트)아크릴레이트가 이용가능하다. 카르보네이트 (메트)아크릴레이트의 수-평균 분자량 Mn은 바람직하게는 3000 g/mol 미만, 보다 바람직하게는 1500 g/mol 미만, 매우 바람직하게는 800 g/mol 미만이다 (표준물로서 폴리스티렌을 사용하고 용리액으로서 테트라히드로푸란을 사용하여 겔 투과 크로마토그래피에 의해 결정됨). 카르보네이트 (메트)아크릴레이트는, 예를 들어 EP 0 092 269 A1에 기재된 바와 같이, 탄산 에스테르의 다가, 바람직하게는 2가 알콜 (디올, 예를 들어 헥산디올)과의 에스테르교환에 이어, 후속적으로 유리 OH 기의 (메트)아크릴산과의 에스테르화, 또는 달리 (메트)아크릴산 에스테르와의 에스테르교환에 의해 간단한 방식으로 수득가능하다. 이들은 또한 포스겐, 우레아 유도체와 다가 알콜, 예를 들어 2가 알콜의 반응에 의해 수득가능하다. 폴리카르보네이트 폴리올의 메트(아크릴레이트), 예컨대 명시된 디올 또는 폴리올 중 하나 및 탄산 에스테르 및 또한 히드록실-함유 (메트)아크릴레이트의 반응 생성물이 또한 고려가능하다. 적합한 탄산 에스테르의 예는 에틸렌, 1,2- 또는 1,3-프로필렌 카르보네이트, 디메틸, 디에틸 또는 디부틸 카르보네이트이다. 적합한 히드록실-함유 (메트)아크릴레이트의 예는 2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트, 2- 또는 3-히드록시프로필 (메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 모노(메트)아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 모노(메트)아크릴레이트, 글리세릴 모노- 및 디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 모노- 및 디(메트)아크릴레이트 및 또한 펜타에리트리톨 모노-, 디- 및 트리(메트)아크릴레이트이다. 바람직하게는 카르보네이트 (메트)아크릴레이트는 지방족 카르보네이트 (메트)아크릴레이트이다.Carbonate (meth)acrylates with various functionalities are available. The number-average molecular weight M n of the carbonate (meth)acrylate is preferably less than 3000 g/mol, more preferably less than 1500 g/mol, very preferably less than 800 g/mol (polystyrene as standard was determined by gel permeation chromatography using tetrahydrofuran as eluent). Carbonate (meth)acrylates are prepared by transesterification of a carbonic acid ester with a polyhydric, preferably dihydric alcohol (diol, for example hexanediol), as described for example in EP 0 092 269 A1, It is obtainable in a simple manner by subsequent esterification of the free OH groups with (meth)acrylic acid, or alternatively by transesterification with (meth)acrylic acid esters. They are also obtainable by reaction of phosgene, urea derivatives with polyhydric alcohols, for example dihydric alcohols. Also conceivable are reaction products of meth(acrylates) of polycarbonate polyols, such as one of the specified diols or polyols and carbonic esters and also hydroxyl-containing (meth)acrylates. Examples of suitable carbonic acid esters are ethylene, 1,2- or 1,3-propylene carbonate, dimethyl, diethyl or dibutyl carbonate. Examples of suitable hydroxyl-containing (meth)acrylates include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2- or 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 1,4-butanediol mono(meth)acrylate, Neopentyl glycol mono(meth)acrylate, glyceryl mono- and di(meth)acrylate, trimethylolpropane mono- and di(meth)acrylate and also pentaerythritol mono-, di- and tri(meth)acrylic it is rate Preferably the carbonate (meth)acrylate is an aliphatic carbonate (meth)acrylate.

특히 바람직하게는 코팅 조성물 (C1a)는, 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여, 5 내지 45 중량%, 바람직하게는 8 내지 40 중량%, 보다 바람직하게는 9 내지 35 중량%의 총량으로 하기로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머를 포함한다: i) 적어도 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머, 바람직하게는 정확히 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머, 매우 바람직하게는 평균적으로 2 내지 3개의 불포화 기를 포함하는 정확히 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머, 및 ii) (메트)아크릴화된 올리고머 또는 중합체 화합물, 우레탄 (메트)아크릴레이트, 비닐 (메트)아크릴레이트, 에폭시 (메트)아크릴레이트, 폴리에스테르 (메트)아크릴레이트, 폴리(메트)아크릴레이트, 폴리에테르 (메트)아크릴레이트, 올레핀 (메트)아크릴레이트, (메트)아크릴화된 오일, 및 그의 혼합물, 바람직하게는 우레탄 (메트)아크릴레이트 올리고머로부터 선택된 다른 가교성 중합체 및/또는 올리고머.Particularly preferably the coating composition (C1a) is present in a total amount of from 5 to 45% by weight, preferably from 8 to 40% by weight, more preferably from 9 to 35% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a). at least one crosslinkable polymer and/or oligomer selected from the group consisting of: i) at least one silicone (meth)acrylate oligomer, preferably exactly one silicone (meth)acrylate oligomer, very preferably exactly one silicone (meth)acrylate oligomer comprising on average two to three unsaturated groups, and ii) a (meth)acrylated oligomer or polymer compound, urethane (meth)acrylate, vinyl (meth)acrylate, Epoxy (meth)acrylates, polyester (meth)acrylates, poly(meth)acrylates, polyether (meth)acrylates, olefin (meth)acrylates, (meth)acrylated oils, and mixtures thereof, preferably is another crosslinkable polymer and/or oligomer selected from urethane (meth)acrylate oligomers.

그러므로, 특히 바람직하게는 코팅 조성물 (C1a)는, 코팅 조성물 (C1a)에 포함된 모든 가교성 중합체 및/또는 올리고머의 총 중량을 기준으로 하여, 적어도 25 중량%, 바람직하게는 적어도 50 중량%, 보다 바람직하게는 적어도 90 중량%의 총량의 적어도 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머, 특별히 평균적으로 2 내지 3개의 불포화 기를 포함하는 정확히 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머, 및 코팅 조성물 (C1a)에 포함된 모든 가교성 중합체 및/또는 올리고머의 총 중량을 기준으로 하여, 75 중량% 미만, 바람직하게는 50 중량% 미만, 보다 바람직하게는 10 중량% 미만의 (메트)아크릴화된 올리고머 또는 중합체 화합물, 우레탄 (메트)아크릴레이트, 비닐 (메트)아크릴레이트, 에폭시 (메트)아크릴레이트, 폴리에스테르 (메트)아크릴레이트, 폴리(메트)아크릴레이트, 폴리에테르 (메트)아크릴레이트, 올레핀 (메트) 아크릴레이트, (메트)아크릴화된 오일, 및 그의 혼합물, 바람직하게는 우레탄 (메트)아크릴레이트 올리고머로부터 선택된 다른 가교성 중합체 및/또는 올리고머를 포함한다.Therefore, particularly preferably, the coating composition (C1a) comprises at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, based on the total weight of all crosslinkable polymers and/or oligomers comprised in the coating composition (C1a), more preferably at least 90% by weight of at least one silicone (meth)acrylate oligomer in total, in particular exactly one silicone (meth)acrylate oligomer comprising on average 2 to 3 unsaturated groups, and the coating composition (C1a) Less than 75% by weight, preferably less than 50% by weight, more preferably less than 10% by weight of (meth)acrylated oligomers or polymer compounds, based on the total weight of all crosslinkable polymers and/or oligomers comprised in , urethane (meth) acrylate, vinyl (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, poly (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, olefin (meth) acrylic other crosslinkable polymers and/or oligomers selected from esters, (meth)acrylated oils, and mixtures thereof, preferably urethane (meth)acrylate oligomers.

코팅 조성물 (C1a)는, 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여, 40 내지 85 중량% 또는 95 중량%, 바람직하게는 50 내지 95 중량% 또는 85 중량% 또는 83 중량%, 보다 바람직하게는 55 내지 83 중량%의 총량으로 적어도 하나의 반응성 희석제를 포함한다. 적합한 반응성 희석제는 중합체 및/또는 올리고머성 화합물과 중합가능하여, 경화된 마스터 코팅 (C1)의 공중합된 엘라스토머성 네트워크를 포함하는 마스터 기판을 형성한다. 용어 "반응성 희석제"는 중합체성 물질을 형성하는 중합 반응에 참여할 수 있는 저분자량 단량체를 지칭한다. GPC에 의해 결정된 이러한 단량체 화합물의 중량 평균 분자량 Mw는 바람직하게는 1000 g/mol 미만, 보다 바람직하게는 750 g/mol 미만이다.The coating composition (C1a) comprises, based on the total weight of the coating composition (C1a), 40 to 85% by weight or 95% by weight, preferably 50 to 95% by weight or 85% by weight or 83% by weight, more preferably comprises at least one reactive diluent in a total amount of 55 to 83% by weight. Suitable reactive diluents are polymerizable with the polymer and/or oligomeric compound to form a master substrate comprising a copolymerized elastomeric network of cured master coating (C1). The term “reactive diluent” refers to a low molecular weight monomer capable of participating in a polymerization reaction to form a polymeric material. The weight average molecular weight M w of this monomeric compound as determined by GPC is preferably less than 1000 g/mol, more preferably less than 750 g/mol.

바람직하게는, 반응성 희석제는 자유-라디칼 중합성 단량체이며, 예를 들어, 에틸렌계-불포화 단량체 예컨대 (메트)아크릴레이트, 스티렌, 비닐 아세테이트 및 그의 혼합물을 포함한다. 바람직한 단량체는 (메트)아크릴로일-관능성 단량체 예컨대, 예를 들어, 알킬 (메트)아크릴레이트, 아릴옥시알킬 (메트)아크릴레이트, 히드록시알킬 (메트)아크릴레이트, N-비닐 화합물 및 그의 조합을 포함한다. 적합한 단량체는 관련 기술분야의 통상의 기술자에게 공지되어 있으며, 예를 들어, WO 2012/006207 A1에 열거되어 있다.Preferably, the reactive diluent is a free-radically polymerizable monomer and includes, for example, ethylenically-unsaturated monomers such as (meth)acrylate, styrene, vinyl acetate and mixtures thereof. Preferred monomers are (meth)acryloyl-functional monomers such as, for example, alkyl (meth)acrylates, aryloxyalkyl (meth)acrylates, hydroxyalkyl (meth)acrylates, N-vinyl compounds and their include combinations. Suitable monomers are known to the person skilled in the art and are listed, for example, in WO 2012/006207 A1.

특히 바람직한 코팅 조성물 (C1a)는 가교 밀도를 증가시키기 위해 반응성 희석제로서 적어도 하나의 다관능성 에틸렌계 불포화 단량체, 즉, 하나의 분자에 적어도 2개의 중합성 이중 결합을 갖는 화합물을 포함한다. 이러한 다관능성 단량체의 대표적인 예는, 예를 들어, WO 2012/006207 A1에 열거되어 있다. 특별히 바람직한 반응성 희석제는 헥산 디올 디아크릴레이트 및/또는 화학식 (I)의 서로 상이할 수 있거나 또는 적어도 부분적으로 동일할 수 있는 구조 단위를 적어도 2개, 바람직하게는 적어도 3개, 보다 구체적으로는 정확히 3개 포함하는 화합물로부터 선택된다:A particularly preferred coating composition (C1a) comprises at least one polyfunctional ethylenically unsaturated monomer , ie a compound having at least two polymerizable double bonds in one molecule, as reactive diluent for increasing the crosslinking density. Representative examples of such polyfunctional monomers are listed, for example, in WO 2012/006207 A1. Particularly preferred reactive diluents are hexane diol diacrylate and/or at least two, preferably at least three, more particularly precisely, structural units of formula (I) which may be different from one another or may be at least partially identical to each other. are selected from compounds comprising:

Figure pct00001
Figure pct00001

여기서here

라디칼 R1은 서로 독립적으로 C2-C8 알킬렌 기, 매우 바람직하게는 C2 알킬렌 기이고,The radicals R 1 are, independently of one another, a C 2 -C 8 alkylene group, very preferably a C 2 alkylene group,

라디칼 R2는 서로 독립적으로 H 또는 메틸이고,The radicals R 2 are, independently of one another, H or methyl,

파라미터 m은 서로 독립적으로 1 내지 15, 매우 바람직하게는 1 내지 4 또는 2 내지 4의 범위의 정수이며, 단, 화학식 (I)의 구조 단위 중 적어도 하나에서 파라미터 m은 적어도 2, 바람직하게는 정확히 2이다. 특히 바람직하게는, 상기 화합물은 화학식 (I)의 동일한 구조 단위를 3개 포함하며, 여기서 파라미터 m은 2이다.parameter m independently of one another is an integer in the range from 1 to 15, very preferably from 1 to 4 or from 2 to 4, provided that in at least one of the structural units of formula (I) the parameter m is at least 2, preferably exactly 2 is With particular preference, the compound comprises three identical structural units of formula (I), wherein the parameter m is 2.

화학식 (I)의 모든 구조 단위는 상기 반응성 희석제의 백본에 기호

Figure pct00002
를 통해 부착된다. 이러한 결합은 바람직하게는 성분의 백본의 탄소 원자에 대한 라디칼 -[O-R1]m-의 산소 원자의 연결을 통해 이루어진다. 이로써, 화학식 (I)의 적어도 2개의 구조 단위가 단일 성분, 즉, 반응성 희석제 b) 내에 존재한다. 적합한 백본은, 예를 들어, 네오펜틸 글리콜, 글리세린, 트리메틸올프로판, 트리메틸올에탄 또는 펜타에리트리톨로부터 선택된다.All structural units of formula (I) have a symbol in the backbone of said reactive diluent.
Figure pct00002
is attached through This bonding is preferably effected via the connection of the oxygen atom of the radical -[OR 1 ] m - to the carbon atom of the backbone of the component. Thereby, at least two structural units of formula (I) are present in a single component, ie reactive diluent b). Suitable backbones are, for example, selected from neopentyl glycol, glycerin, trimethylolpropane, trimethylolethane or pentaerythritol.

상기 화합물은 바람직하게는 4 내지 18개의 범위, 보다 바람직하게는 5 내지 15개의 범위, 매우 바람직하게는 6 내지 12개의 범위의 총수로 화학식 "-O-R1-"의 에테르 기를 포함한다. 상기 화합물은 바람직하게는 300 내지 2000 g/mol, 보다 바람직하게는 400 내지 1000 g/mol의 범위의 수 평균 분자량 (Mn)을 갖는다.The compound preferably comprises ether groups of the formula "-OR 1 -" in a total number in the range of 4 to 18, more preferably in the range of 5 to 15, very preferably in the range of 6 to 12. The compound preferably has a number average molecular weight (M n ) in the range from 300 to 2000 g/mol, more preferably from 400 to 1000 g/mol.

상기 화합물은 바람직하게는 화학식 (I)의 구조 단위를 정확히 3개 갖는다. 이러한 경우에, 상기 화합물은 정확히 3개의 관능성 (메트)아크릴 기를 갖는다. 대안적으로, 화학식 (I)의 구조 단위가 각각 상기 화합물의 부분으로서 3회를 초과하여 존재할 수도 있다. 이러한 경우에, 예를 들어, 상기 화합물은 3개 초과의 관능성 (메트)아크릴 기, 예를 들어 4, 5 또는 6개의 (메트)아크릴 기를 가질 수 있다.The compound preferably has exactly three structural units of the formula (I). In this case, the compound has exactly three functional (meth)acrylic groups. Alternatively, each structural unit of formula (I) may be present more than three times as part of said compound. In this case, for example, the compound may have more than 3 functional (meth)acryl groups, for example 4, 5 or 6 (meth)acryl groups.

상기 언급된 라디칼 R1은 각각 서로 독립적으로 C2-C8 알킬렌 기, 바람직하게는 C2-C6 알킬렌 기, 보다 바람직하게는 C2-C4 알킬렌 기, 매우 바람직하게는 각각 서로 독립적으로 에틸렌 기 및/또는 프로필렌 기, 특별히 바람직하게는 에틸렌이다. 특히, 모든 라디칼 R1은 에틸렌이다. 구조 -CH2-CH2-CH2- 또는 구조 -CH(CH3)-CH2- 또는 구조 -CH2-CH(CH3)-을 갖는 라디칼 R1이 각각의 경우에 프로필렌 기로서 적합하다. 그러나, 각각의 경우에 프로필렌 구조 -CH2-CH2-CH2-가 특히 바람직하다.The aforementioned radicals R 1 are each independently of one another a C 2 -C 8 alkylene group, preferably a C 2 -C 6 alkylene group, more preferably a C 2 -C 4 alkylene group, very preferably each independently of one another an ethylene group and/or a propylene group, particularly preferably ethylene. In particular, all radicals R 1 are ethylene. The radicals R 1 having the structure -CH 2 -CH 2 -CH 2 - or the structure -CH(CH 3 )-CH 2 - or the structure -CH 2 -CH(CH 3 )- are suitable in each case as propylene group . However, particular preference is given in each case to the propylene structure —CH 2 —CH 2 —CH 2 —.

파라미터 m은 각각의 경우에 서로 독립적으로 1 내지 15의 범위의 정수이다. 상기 화합물이 화학식 (I)의 구조 단위를 적어도 2개, 바람직하게는 적어도 3개 가지며, 파라미터 m이 화학식 (I)의 구조 단위 중 적어도 하나에서 적어도 2이기 때문에, 상기 화합물은 화학식 "-O-R1-"의 에테르 기를 총 적어도 3개, 바람직하게는 적어도 4개 포함한다.The parameter m is at each occurrence, independently of one another, an integer in the range from 1 to 15. Since the compound has at least 2, preferably at least 3 structural units of formula (I) and the parameter m is at least 2 in at least one of the structural units of formula (I), the compound has the formula "-OR 1 -" comprises a total of at least 3, preferably at least 4 ether groups.

바람직하게는, 상기 화합물은 화학식 "-O-R1-"의 에테르 기를 총 적어도 5개, 보다 바람직하게는 적어도 6개 갖는다. 상기 화합물 내 화학식 "-O-R1-"의 에테르 기의 수는 바람직하게는 4 내지 18개의 범위, 보다 바람직하게는 5 내지 15개의 범위, 매우 바람직하게는 6 내지 12개의 범위에 있다.Preferably, the compound has a total of at least 5, more preferably at least 6 ether groups of the formula "-OR 1 -". The number of ether groups of the formula "-OR 1 -" in the compound is preferably in the range from 4 to 18, more preferably in the range from 5 to 15 and very preferably in the range from 6 to 12.

상기 화합물의 화학식 (I)의 구조 단위에 존재하는 에테르 세그먼트 -[O-R1]m의 총 분율은, 각각의 경우에 상기 화합물의 총 중량을 기준으로 하여, 적어도 35 중량%, 보다 바람직하게는 적어도 38 중량%, 매우 바람직하게는 적어도 40 중량%, 보다 더 바람직하게는 적어도 42 중량%, 보다 특히 적어도 45 중량%이다.The total fraction of ether segments -[OR 1 ] m present in the structural units of the formula (I) of said compound is in each case at least 35% by weight, more preferably at least at least, based on the total weight of said compound 38% by weight, very preferably at least 40% by weight, even more preferably at least 42% by weight, even more particularly at least 45% by weight.

상기 화합물은 GPC에 의해 결정된, 바람직하게는 300 내지 2000 g/mol, 보다 바람직하게는 350 내지 1500 g/mol, 보다 특히 400 내지 1000 g/mol의 범위의 수-평균 분자량 (Mn)을 갖는다.The compound has a number-average molecular weight (M n ) determined by GPC, preferably in the range from 300 to 2000 g/mol, more preferably from 350 to 1500 g/mol, more particularly from 400 to 1000 g/mol .

특히 바람직한 다관능성 에틸렌계 불포화 단량체는 화학식 (IIa) 및/또는 (IIb)의 적어도 하나의 화합물이다:Particularly preferred polyfunctional ethylenically unsaturated monomers are at least one compound of formula (IIa) and/or (IIb):

Figure pct00003
Figure pct00003

여기서, 각각의 경우에 서로 독립적으로,where, independently of each other in each case,

R1 및 R2 및 또한 m은 상기에 명시된 바람직한 실시양태를 포함하여, 구조 단위 (I)과 관련하여 상기에 주어진 정의를 갖고,R 1 and R 2 and also m have the definitions given above with respect to structural unit (I), including the preferred embodiments specified above,

R3은 H, C1-C8 알킬, OH 또는 O-C1-8 알킬이고, 보다 바람직하게는 C1-C4 알킬, OH 또는 O-C1-4 알킬이고, 매우 바람직하게는 C1-C4 알킬 또는 OH이거나, 또는R 3 is H, C 1 -C 8 alkyl, OH or OC 1-8 alkyl, more preferably C 1 -C 4 alkyl, OH or OC 1-4 alkyl, very preferably C 1 -C 4 is alkyl or OH, or

R3은 라디칼 -[O-R1]m-O-C(=O)-C(R2)=CH2이며, 여기서 R1, R2 및 m은 상기에 명시된 그의 바람직한 실시양태를 포함하여, 구조 단위 (I)과 관련하여 상기에 명시된 정의를 갖는다.R 3 is a radical -[OR 1 ] m -OC(=O)-C(R 2 )=CH 2 , wherein R 1 , R 2 and m are structural units, including the preferred embodiments thereof specified above, ( It has the definitions specified above in relation to I).

반응성 희석제로서의 다관능성 에틸렌계 불포화 단량체로,As a polyfunctional ethylenically unsaturated monomer as a reactive diluent,

라디칼 R1이 각각 서로 독립적으로 C2-C8 알킬렌 기이고,the radicals R 1 are each independently of the other a C 2 -C 8 alkylene group,

라디칼 R2가 각각 서로 독립적으로 H 또는 메틸이고,the radicals R 2 are each independently of one another H or methyl,

파라미터 m이 각각의 경우에 서로 독립적으로 1 내지 15의 범위, 바람직하게는 1 내지 10의 범위, 보다 바람직하게는 1 내지 8 또는 2 내지 8의 범위, 매우 바람직하게는 1 내지 6 또는 2 내지 6의 범위, 보다 특히 1 내지 4 또는 2 내지 4의 범위의 정수 파라미터이며, 단, 화학식 (I)의 구조 단위 중 적어도 하나에서, 바람직하게는 모두에서 파라미터 m이 적어도 2이고,The parameter m is in each case independently of one another in the range 1 to 15, preferably in the range 1 to 10, more preferably in the range 1 to 8 or 2 to 8, very preferably in the range 1 to 6 or 2 to 6 is an integer parameter in the range, more particularly in the range from 1 to 4 or 2 to 4, provided that in at least one, preferably in all of the structural units of formula (I), the parameter m is at least 2,

R3이 C1-C8 알킬, OH 또는 O-C1-8 알킬, 보다 바람직하게는 C1-C4 알킬, OH 또는 O-C1-4 알킬, 매우 바람직하게는 C1-C4 알킬 또는 OH인R 3 is C 1 -C 8 alkyl, OH or OC 1-8 alkyl, more preferably C 1 -C 4 alkyl, OH or OC 1-4 alkyl, very preferably C 1 -C 4 alkyl or OH

화학식 (IIa)의 적어도 하나의 화합물을 사용하는 것이 특히 바람직하다.Particular preference is given to using at least one compound of formula (IIa).

화학식 (I)의 적어도 2개의 구조 단위를 포함하는 특별히 바람직한 화합물은 총 4-배수 내지 20-배수 또는 4-배수 내지 12-배수의 알콕실화가 일어난 네오펜틸 글리콜, 트리메틸올프로판, 트리메틸올에탄 또는 펜타에리트리톨, 예컨대 에톡실화된, 프로폭실화된 또는 에톡실화 및 프로폭실화된, 보다 특히 독점적으로 에톡실화된 네오펜틸 글리콜, 트리메틸올프로판, 트리메틸올에탄 또는 펜타에리트리톨의 (메트)아크릴레이트이다. 알콕실화된 트리메틸올프로판으로부터 유래된 상응하는 (메트)아크릴레이트가 가장 바람직하다. 이들 종류의 제품이 상업적으로 입수가능하며, 예를 들어 사토머® SR 499 및 사토머® SR 502 및 또한 사토머® SR 415 및 사토머® SR 9035 및 또한 사토머® SR 501이라는 명칭 하에 판매되고 있다.Particularly preferred compounds comprising at least two structural units of formula (I) are neopentyl glycol, trimethylolpropane, trimethylolethane or a total of 4-fold to 20-fold or 4-fold to 12-fold alkoxylation. (meth)acrylates of pentaerythritol, such as ethoxylated, propoxylated or ethoxylated and propoxylated, more particularly exclusively ethoxylated neopentyl glycol, trimethylolpropane, trimethylolethane or pentaerythritol to be. Most preferred are the corresponding (meth)acrylates derived from alkoxylated trimethylolpropane. Products of this kind are commercially available, for example Sartomer® SR 499 and Sartomer® SR 502 and also Sartomer® SR 415 and Sartomer® SR 9035 and also Sartomer® SR 501 sold under the names have.

코팅 조성물 (C1a)는, 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여, 40 내지 95 중량%, 바람직하게는 50 내지 85 중량%, 보다 바람직하게는 55 내지 83 중량%의 총량으로 적어도 하나의 반응성 희석제, 바람직하게는 헥산 디올 디아크릴레이트 및/또는 6-배수 에톡실화된 트리메틸올프로판으로부터 유래된 (메트)아크릴레이트를 포함한다.The coating composition (C1a) comprises at least one in a total amount of 40 to 95% by weight, preferably 50 to 85% by weight, more preferably 55 to 83% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a). reactive diluents, preferably hexane diol diacrylate and/or (meth)acrylate derived from 6-fold ethoxylated trimethylolpropane.

코팅 조성물 (C1a)는 가시 광 내지 (N)IR 광 및/또는 UV 광에 의한 경화를 위해, 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여, 0.01 내지 15 중량%, 바람직하게는 0.5 내지 10 중량%, 보다 바람직하게는 1 내지 8 중량%의 총량으로 적어도 하나의 광개시제를 포함한다. 이러한 광개시제는 조사된 파장의 광에 의해, 궁극적으로 라디칼 중합을 개시할 수 있는 라디칼로 분해될 수 있다. 이에 반해, 전자 방사선에 의한 경화의 경우에는, 이러한 광개시제의 존재가 필요하지 않다. 바람직하게는 코팅 조성물 (C1a)는 조사된 파장의 광에 의해, 궁극적으로 라디칼 중합을 개시할 수 있는 라디칼로 분해될 수 있는 적어도 하나의 광개시제를 포함한다.The coating composition (C1a) is, for curing by visible light to (N)IR light and/or UV light, from 0.01 to 15% by weight, preferably from 0.5 to 10% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a). at least one photoinitiator in a total amount of % by weight, more preferably 1 to 8% by weight. These photoinitiators can be decomposed into radicals that can ultimately initiate radical polymerization by the light of the irradiated wavelength. In contrast, in the case of curing by means of electron radiation, the presence of such a photoinitiator is not required. Preferably the coating composition (C1a) comprises at least one photoinitiator which can be decomposed by light of the irradiated wavelength into radicals which can ultimately initiate radical polymerization.

광개시제 예컨대 UV 광개시제는 통상의 기술자에게 공지되어 있다. 고려되는 것들의 예는 포스핀 옥시드류 예컨대 (알킬)-벤조일페닐포스핀 옥시드류, 벤조페논류, α-히드록시알킬 아릴 케톤류, 티오크산톤류, 안트라퀴논류, 아세토페논류, 벤조인류 및 벤조인 에테르류, 케탈류, 이미다졸류 또는 페닐글리옥실산류 및 그의 혼합물을 포함한다.Photoinitiators such as UV photoinitiators are known to the person skilled in the art. Examples of those contemplated are phosphine oxides such as (alkyl)-benzoylphenylphosphine oxides, benzophenones, α-hydroxyalkyl aryl ketones, thioxanthones, anthraquinones, acetophenones, benzoins and benzoin ethers, ketals, imidazoles or phenylglyoxylic acids, and mixtures thereof.

포스핀 옥시드류는, 예를 들어, 모노아실- 또는 비스아실포스핀 옥시드류, 예를 들어 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀 옥시드, 에틸 (2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스피네이트, 페닐 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥시드 또는 비스(2,6-디메톡시벤조일)(2,4,4-트리메틸펜틸)포스핀 옥시드이다. 벤조페논류는, 예를 들어, 벤조페논, 4-아미노벤조페논, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4-페닐벤조페논, 4-클로로벤조페논, 미힐러 케톤(Michler's ketone), o-메톡시벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논, 4-메틸벤조페논, 2,4-디메틸벤조페논, 4-이소프로필벤조페논, 2-클로로벤조페논, 2,2'-디클로로벤조페논, 4-메톡시벤조페논, 4-프로폭시벤조페논 또는 4-부톡시벤조페논이고; α-히드록시알킬 아릴 케톤류는, 예를 들어, 1-벤조일시클로헥산-1-올 (1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤), 2-히드록시-2,2-디메틸아세토페논 (2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온), 1-히드록시아세토페논, 1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온 또는 2-히드록시-2-메틸-1-(4-이소프로펜-2-일페닐)프로판-1-온을 공중합된 형태로 함유하는 중합체이다. 크산톤류 및 티오크산톤류는, 예를 들어, 10-티오크산테논, 티오크산텐-9-온, 크산텐-9-온, 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤 또는 클로로크산테논이고; 안트라퀴논류는, 예를 들어, β-메틸안트라퀴논, tert-부틸안트라퀴논, 안트라퀴논카르복실산 에스테르, 벤즈[de]안트라센-7-온, 벤즈[a]안트라센-7,12-디온, 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-tert-부틸안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논 또는 2-아밀안트라퀴논이다. 아세토페논류는, 예를 들어, 아세토페논, 아세토나프토퀴논, 발레로페논, 헥사노페논, α-페닐부티로페논, p-모르폴리노프로피오페논, 디벤조수베론, 4-모르폴리노벤조페논, p-디아세틸벤젠, 4'-메톡시아세토페논, α-테트랄론, 9-아세틸페난트렌, 2-아세틸페난트렌, 3-아세틸페난트렌, 3-아세틸인돌, 9-플루오레논, 1-인다논, 1,3,4-트리아세틸벤젠, 1-아세토나프톤, 2-아세토나프톤, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 1,1-디클로로아세토페논, 1-히드록시아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-2-온 또는 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온이다. 벤조인류 및 벤조인 에테르류는, 예를 들어, 4-모르폴리노데옥시벤조인, 벤조인, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤조인 테트라히드로피라닐 에테르, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 부틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르 또는 7H-벤조인 메틸 에테르이다. 케탈류는, 예를 들어, 아세토페논 디메틸 케탈, 2,2-디에톡시아세토페논 또는 벤질 케탈류, 예컨대 벤질 디메틸 케탈이다. 전형적인 혼합물은, 예를 들어, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-2-온 및 1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤, 비스(2,6-디메톡시벤조일)(2,4,4-트리메틸펜틸)포스핀 옥시드 및 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤조페논 및 1-히드록시시클로헥실페닐 케톤, 비스(2,6-디메톡시벤조일)(2,4,4-트리메틸펜틸)포스핀 옥시드 및 1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤, 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀 옥시드 및 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 2,4,6-트리메틸벤조페논 및 4-메틸벤조페논 또는 2,4,6-트리메틸벤조페논 및 4-메틸벤조페논 및 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀 옥시드를 포함한다.Phosphine oxides are, for example, monoacyl- or bisacylphosphine oxides, for example diphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide, ethyl (2,4,6-trimethyl benzoyl)phenylphosphinate, phenyl bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phosphine oxide or bis(2,6-dimethoxybenzoyl)(2,4,4-trimethylpentyl)phosphine oxide . Benzophenones are, for example, benzophenone, 4-aminobenzophenone, 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone, 4-phenylbenzophenone, 4-chlorobenzophenone, Michler's ketone. , o-Methoxybenzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2,4-dimethylbenzophenone, 4-isopropylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 2,2'- dichlorobenzophenone, 4-methoxybenzophenone, 4-propoxybenzophenone or 4-butoxybenzophenone; α-hydroxyalkyl aryl ketones include, for example, 1-benzoylcyclohexan-1-ol (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone), 2-hydroxy-2,2-dimethylacetophenone (2-hydroxy -2-methyl-1-phenylpropan-1-one), 1-hydroxyacetophenone, 1-[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propane A polymer containing -1-one or 2-hydroxy-2-methyl-1-(4-isopropen-2-ylphenyl)propan-1-one in copolymerized form. Xanthone and thioxanthone are, for example, 10-thioxanthenone, thioxanthen-9-one, xanthene-9-one, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone or chloroxanthenone; Anthraquinones include, for example, β-methylanthraquinone, tert-butylanthraquinone, anthraquinonecarboxylic acid ester, benz[de]anthracen-7-one, benz[a]anthracene-7,12-dione, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone or 2-amylanthraquinone. Acetophenones are, for example, acetophenone, acetonaphthoquinone, valerophenone, hexanophenone, α-phenylbutyrophenone, p-morpholinopropiophenone, dibenzosuberone, 4-morphol Nobenzophenone, p-diacetylbenzene, 4'-methoxyacetophenone, α-tetralone, 9-acetylphenanthrene, 2-acetylphenanthrene, 3-acetylphenanthrene, 3-acetylindole, 9-fluoro Lenone, 1-indanone, 1,3,4-triacetylbenzene, 1-acetonaphthone, 2-acetonaphthone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2 -Phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, 1-hydroxyacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholino Propan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-2-one or 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one to be. Benzoins and benzoin ethers are, for example, 4-morpholinodeoxybenzoin, benzoin, benzoin isobutyl ether, benzoin tetrahydropyranyl ether, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin phosphorus butyl ether, benzoin isopropyl ether or 7H-benzoin methyl ether. Ketals are, for example, acetophenone dimethyl ketal, 2,2-diethoxyacetophenone or benzyl ketals such as benzyl dimethyl ketal. Typical mixtures are, for example, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-2-one and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)(2,4, 4-trimethylpentyl)phosphine oxide and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzophenone and 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, bis(2,6-dimethoxybenzoyl) (2,4,4-trimethylpentyl)phosphine oxide and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide and 2-hydroxy-2-methyl- 1-phenylpropan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzophenone and 4-methylbenzophenone or 2,4,6-trimethylbenzophenone and 4-methylbenzophenone and diphenyl (2,4,6- trimethylbenzoyl)phosphine oxide.

특히 바람직한 광개시제는 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀 옥시드, 에틸 (2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스피네이트, 페닐비스(2,4,6-트리메틸벤조일) 포스핀 옥시드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)(2,4,4-트리메틸펜틸)포스핀 옥시드, 1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤, 벤조페논, 1-벤조일시클로헥산-1-올, 2-히드록시-2,2-디메틸아세토페논 및 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논 및 그의 혼합물이다. 상업적으로 입수가능한 광개시제는, 예를 들어, IGM 레진스 베.파우.(IGM Resins B.V.)로부터의 제품인 이르가큐어(Irgacure)® 184, 이르가큐어® 500, 이르가큐어® TPO, 이르가큐어® TPO-L 및 루시린(Lucirin)® TPO 및 또한 다로큐어(Darocure)® 1173이다.Particularly preferred photoinitiators are diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide, ethyl (2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphinate, phenylbis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine Pin oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)(2,4,4-trimethylpentyl)phosphine oxide, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzophenone, 1-benzoylcyclohexan-1-ol , 2-hydroxy-2,2-dimethylacetophenone and 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and mixtures thereof. Commercially available photoinitiators are, for example, Irgacure® 184, Irgacure® 500, Irgacure® TPO, Irgacure from IGM Resins B.V. ® TPO-L and Lucirin® TPO and also Darocure® 1173.

코팅 조성물 (C1a)는 임의적으로 적어도 하나의 첨가제를 추가로 포함할 수 있다. 첨가제의 개념은, 예를 들어 문헌 [Roempp Lexikon "Lacke und Druckfarben", Thieme Verlag, 1998, page 13]으로부터 통상의 기술자에게 공지되어 있다. 사용되는 바람직한 첨가제는 적어도 하나의 레올로지 첨가제이다. 상기 용어 또한, 예를 들어 문헌 [Roempp Lexikon "Lacke und Druckfarben", Thieme Verlag, 1998, page 497]으로부터 통상의 기술자에게 공지되어 있다. 용어 "레올로지 첨가제", "레올로지적 첨가제" 및 "레올로지 보조제"는 여기서 상호교환가능하다. 임의적인 첨가제는 바람직하게는 유동 제어제, 표면-활성제 예컨대 계면활성제, 습윤제 및 분산제, 및 또한 증점제, 요변성제, 가소제, 윤활 및 블로킹방지 첨가제, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다. 이들 용어도 마찬가지로, 예를 들어 문헌 [Roempp Lexikon, "Lacke und Druckfarben", Thieme Verlag, 1998]으로부터 통상의 기술자에게 공지되어 있다. 유동 제어제는 점도 및/또는 표면 장력을 낮춤으로써 코팅 물질이 균등하게 유동하여 필름을 형성하도록 돕는 성분이다. 습윤제 및 분산제는 표면 장력, 또는 일반적으로 계면 장력을 낮추는 성분이다. 윤활 및 블로킹방지 첨가제는 서로 달라붙는 것 (블로킹)을 감소시키는 성분이다.The coating composition (C1a) may optionally further comprise at least one additive . The concept of additives is known to the person skilled in the art, for example, from Roempp Lexikon "Lacke und Druckfarben", Thieme Verlag, 1998, page 13. A preferred additive used is at least one rheological additive. The term is also known to the person skilled in the art, for example, from Roempp Lexikon "Lacke und Druckfarben", Thieme Verlag, 1998, page 497. The terms “rheological additive”, “rheological additive” and “rheological adjuvant” are interchangeable herein. Optional additives are preferably selected from the group consisting of flow control agents, surface-active agents such as surfactants, wetting and dispersing agents, and also thickening agents, thixotropic agents, plasticizers, lubricating and antiblocking additives, and mixtures thereof. These terms are likewise known to the person skilled in the art, for example, from Roempp Lexikon, "Lacke und Druckfarben", Thieme Verlag, 1998. A flow control agent is a component that helps the coating material flow evenly to form a film by lowering the viscosity and/or surface tension. Wetting and dispersing agents are components that lower the surface tension, or in general, the interfacial tension. Lubricating and anti-blocking additives are ingredients that reduce sticking to each other (blocking).

상업적으로 입수가능한 첨가제의 예는 에프카(Efka)® SL 3259, 빅(Byk)® 377, 테고(Tego)® Rad 2500, 테고® Rad 2800, 빅® 394, 빅-실클린(Byk-SILCLEAN) 3710, 실릭산(Silixan)® A250, 노벡(Novec) FC 4430 및 노벡 FC 4432라는 제품이다. 적어도 하나의 첨가제의 적합한 총량은, 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여, 예를 들어, 0.01 내지 5 중량%, 0.2 또는 0.5 내지 3 중량%이다.Examples of commercially available additives include Efka® SL 3259, Byk® 377, Tego® Rad 2500, Tego® Rad 2800, Big® 394, Byk-SILCLEAN 3710, Silixan® A250, Novec FC 4430 and Novec FC 4432. A suitable total amount of the at least one additive is, for example, 0.01 to 5% by weight, 0.2 or 0.5 to 3% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a).

본 발명과 관련하여, 표면 작용제와 같은 첨가제가 실리콘 (메트)아크릴레이트를 포함할 수 있다. 실리콘 (메트)아크릴레이트를 포함하는 이러한 첨가제는, 최소한 첨가제가 코팅 조성물에 적은 총량으로 포함될 뿐만 아니라, 또한 실리콘 (메트)아크릴레이트 첨가제의 상이한 화학적 관능성 또는 반응성이 코팅 조성물에 대해 전혀 상이한 기술적 효과를 갖기 때문에, 가교성 중합체 및/또는 올리고머로서 사용되는 가교성 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머와 비교되어서는 안된다. 실리콘 (메트)아크릴레이트를 포함하는 첨가제는 예를 들어 코팅 조성물의 표면 에너지에만 영향을 미치며, 가교성 중합체 및/또는 올리고머 또는 반응성 희석제에 의해 형성되는 (공-)중합된 네트워크의 백본에는 미미하게 기여할 뿐이다. 실리콘 (메트)아크릴레이트를 포함하는 첨가제와 달리, 가교성 중합체 및/또는 올리고머로서 이용되는 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머는 가교 반응을 위해 자유 라디칼을 형성할 수 있는 펜던트 불포화 기를 포함하며, 반응성 희석제와 함께 경화된 마스터 코팅 (C1)의 공중합된 엘라스토머성 네트워크를 형성한다.In the context of the present invention, additives such as surface agents may include silicone (meth)acrylates. These additives, including silicone (meth)acrylates, at least have a technical effect that not only the additives are included in a small total amount in the coating composition, but also the different chemical functionalities or reactivity of the silicone (meth)acrylate additives are completely different on the coating composition. should not be compared with crosslinkable silicone (meth)acrylate oligomers used as crosslinkable polymers and/or oligomers. Additives comprising silicone (meth)acrylates, for example, only affect the surface energy of the coating composition, and only marginally on the backbone of the (co-)polymerized network formed by the crosslinkable polymer and/or oligomer or reactive diluent. only contribute Unlike additives comprising silicone (meth)acrylates, silicone (meth)acrylate oligomers used as crosslinkable polymers and/or oligomers contain pendant unsaturated groups capable of forming free radicals for crosslinking reactions, reactive diluents together to form a copolymerized elastomeric network of the cured master coating (C1).

특히 바람직하게는, 코팅 조성물 (C1a)에 포함되는 성분 (a), (b), (c) 및 (d)는 각각 서로 상이하며, 따라서 동일하지 않다.Particularly preferably, the components (a), (b), (c) and (d) comprised in the coating composition (C1a) are each different from each other and therefore not identical.

따라서, 특히 바람직한 마스터 코팅 (C1a)는 - 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여 - 하기 성분을 포함한다:A particularly preferred master coating (C1a) therefore comprises - based on the total weight of the coating composition (C1a) - the following components:

- 9 내지 35 중량%의, 평균적으로 2개의 불포화 기를 포함하는 정확히 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머,- from 9 to 35% by weight of exactly one silicone (meth)acrylate oligomer comprising on average two unsaturated groups,

- 55 내지 83 중량%의, 헥산 디올 디아크릴레이트 및/또는 6-배수 에톡실화된 트리메틸올프로판으로부터 유래된 (메트)아크릴레이트 (즉, 화학식 (I)의 3개의 구조 단위를 포함하는 화합물),- 55 to 83% by weight of a (meth)acrylate derived from hexane diol diacrylate and/or 6-fold ethoxylated trimethylolpropane (ie a compound comprising three structural units of formula (I)) ,

- 1 내지 10 중량%의, 에틸 (2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스피네이트 및/또는 1-벤조일시클로헥산-1-올, 및- from 1 to 10% by weight of ethyl (2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphinate and/or 1-benzoylcyclohexan-1-ol, and

- 0 또는 0.5 내지 3 중량%의, 윤활 및 블로킹방지 첨가제.- 0 or 0.5 to 3% by weight of lubricating and antiblocking additives.

(C1a)로부터 수득되는 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)의 이중 결합 전환은 바람직하게는 적어도 70%, 보다 바람직하게는 적어도 75%, 보다 더 바람직하게는 적어도 80%, 매우 바람직하게는 적어도 85%, 보다 특히 적어도 90%이다.The double bond conversion of the at least partially cured coating (C1) obtained from (C1a) is preferably at least 70%, more preferably at least 75%, even more preferably at least 80%, very preferably at least 85% %, more particularly at least 90%.

코팅 조성물 (C1a)는 성분 (a) 내지 (d)와는 상이한 적어도 하나의 추가의 성분 (e), 예컨대, 예를 들어, 충전제, 안료, 열적으로 활성화가능한 개시제 예컨대, 예를 들어, 칼륨 퍼옥소디술페이트, 디벤조일 퍼옥시드, 시클로헥사논 퍼옥시드, 디-tert-부틸 퍼옥시드, 아조비스이소부티로니트릴, 시클로헥실술포닐 아세틸 퍼옥시드, 디이소프로필 퍼카르보네이트, tert-부틸 퍼옥토에이트 또는 벤조피나콜, 쿠멘 히드로퍼옥시드, 디쿠밀 퍼옥시드, tert-부틸 퍼벤조에이트, 실릴화된 피나콜, 알콕시아민, 및 유기 용매, 및 또한 안정화제를 포함할 수 있다. 그러나, 바람직하게는, 코팅 조성물 (C1a)에 유기 용매가 포함되지 않는다. 코팅 조성물 (C1a)는, 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여, 0 내지 10 중량%, 바람직하게는 0 내지 5 중량%, 보다 바람직하게는 0 내지 1 중량%의 총량으로 적어도 하나의 성분 (e)를 포함할 수 있다.The coating composition (C1a) comprises at least one further component (e) different from components (a) to (d), such as, for example, fillers, pigments, thermally activatable initiators such as, for example, potassium peroxo Disulfate, dibenzoyl peroxide, cyclohexanone peroxide, di-tert-butyl peroxide, azobisisobutyronitrile, cyclohexylsulfonyl acetyl peroxide, diisopropyl percarbonate, tert-butyl perocto acid or benzopinacol, cumene hydroperoxide, dicumyl peroxide, tert-butyl perbenzoate, silylated pinacol, alkoxyamine, and organic solvents, and also stabilizers. However, preferably, the coating composition (C1a) is free of organic solvents. The coating composition (C1a) comprises at least one in a total amount of 0 to 10% by weight, preferably 0 to 5% by weight, more preferably 0 to 1% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a). component (e).

코팅 조성물 (C1a)는 용매-기반 또는 고체 코팅 조성물일 수 있다. 급속 경화를 가능하게 하고 경화 시 다량으로 증발하는 용매가 발생하는 것을 방지하기 위해, 코팅 조성물 (C1a)는 바람직하게는 고체 코팅 조성물이다. 따라서, 코팅 조성물 (C1a)는, 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여, 유리하게는 10 중량% 미만, 바람직하게는 5 중량% 미만, 보다 바람직하게는 1 중량% 미만, 매우 바람직하게는 0 중량%의 총량으로 용매를 포함하거나 또는 용매를 전혀 포함하지 않는다. 따라서, 코팅 조성물 (C1a)는 유리하게는, DIN EN ISO 3251:2008-06에 따라 125℃ 및 60 min으로 결정 시, 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여 75 내지 100 중량%의 고형분 함량을 갖는다. 더욱이, 이는, 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여, 유리하게는 90 내지 100 중량%, 바람직하게는 95 내지 100 중량%, 보다 바람직하게는 99 내지 100 중량%의 화합물 (a), (b), (c) 및 임의적으로 (d)의 총량을 포함한다. 가장 바람직하게는, 코팅 조성물 (C1a)는 화합물 (a), (b), (c) 및 임의적으로 (d)로 이루어진다.The coating composition (C1a) may be a solvent-based or solid coating composition. The coating composition (C1a) is preferably a solid coating composition in order to enable rapid curing and to prevent the generation of a solvent which evaporates in a large amount upon curing. Accordingly, the coating composition (C1a) is advantageously less than 10% by weight, preferably less than 5% by weight, more preferably less than 1% by weight, very preferably less than 1% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a). contains solvent in a total amount of 0% by weight or no solvent at all. Accordingly, the coating composition (C1a) advantageously has a solids content of from 75 to 100% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a), as determined at 125°C and 60 min according to DIN EN ISO 3251:2008-06 have content. Furthermore, it comprises advantageously from 90 to 100% by weight, preferably from 95 to 100% by weight, more preferably from 99 to 100% by weight of the compound (a), based on the total weight of the coating composition (C1a), (b), (c) and optionally (d). Most preferably, the coating composition (C1a) consists of compounds (a), (b), (c) and optionally (d).

코팅 조성물 (C1a)는 바람직하게는 티올류를 함유하지 않으며, 특히 트리메틸올프로판 트리스(3-메르캅토프로피오네이트)를 함유하지 않는다.The coating composition (C1a) is preferably free of thiols and in particular free of trimethylolpropane tris(3-mercaptopropionate).

코팅 조성물 (C2a)Coating composition (C2a)

임의의 종류의 코팅 조성물이 본 발명의 방법의 단계 (2-i) 또는 (2-ii)에서 코팅 조성물 (C2a)로서 이용될 수 있다. 코팅 조성물 (C2a)는 물리적 건조, 열적 경화성, 화학적 경화성 및/또는 방사선-경화성 코팅 조성물 (C2a)일 수 있다. 코팅 조성물 (C2a)는 바람직하게는 화학적 경화성, 열적 경화성 및/또는 방사선-경화성 코팅 조성물이고, 보다 바람직하게는 방사선-경화성 코팅 조성물이다. 따라서, 단계 (4)에 따른 적어도 부분적인 경화는 바람직하게는 방사선 경화에 의해 실시된다. 코팅 조성물 (C2a)는 코팅 조성물 (C1a)와 동일할 수 있다. 그러나, 바람직하게는, (C2a)는 (C1a)와 상이하다. (C2a)는 바람직하게는 (C1a)의 제조에 또한 사용되는 성분 (a) 내지 (e)와 유사하지만 동일하지는 않은 것으로 구성되며, 하지만 (C1a)와 관련된 양의 조건이 (C2a)에는 적용되지 않아도 된다.Any kind of coating composition can be used as coating composition (C2a) in step (2-i) or (2-ii) of the process of the present invention. The coating composition (C2a) may be a physically dry, thermally curable, chemically curable and/or radiation-curable coating composition (C2a). The coating composition (C2a) is preferably a chemically curable, thermally curable and/or radiation-curable coating composition, more preferably a radiation-curable coating composition. Accordingly, the at least partial curing according to step (4) is preferably effected by radiation curing. The coating composition (C2a) may be the same as the coating composition (C1a). However, preferably, (C2a) is different from (C1a). (C2a) preferably consists of similar, but not identical to, components (a) to (e) also used in the preparation of (C1a), but the conditions of the quantity associated with (C1a) do not apply to (C2a) you don't have to

여기서 물리적 건조는 바람직하게는 용매(들)의 단순 증발에 의해 코팅 (C2)를 형성하는 것을 지칭한다. 여기서 열적 경화는 바람직하게는 실온보다 높은 온도 (> 23℃)에 기인하는 경화 메카니즘을 수반한다. 이는, 예를 들어, 승온에서 분해되어 라디칼 또는 이온 중합을 개시하는 개시제로부터의 라디칼 또는 이온, 바람직하게는 라디칼의 형성일 수 있다. 이러한 열적으로 활성화가능한 개시제의 예는 80℃에서 100시간 미만의 반감기를 갖는 것들이다. 화학적 경화는 바람직하게는 적어도 2종의 상이한 서로 상보적인 반응성 관능기의, 예를 들어, 중축합 방식으로의 반응 예컨대 -OH 기와 -COOH 기의 반응, 또는 중부가 방식으로의 반응 (NCO 기와 -OH 또는 아미노 기의 반응)을 지칭한다.Physical drying here refers to forming the coating (C2), preferably by simple evaporation of the solvent(s). Thermal curing here is preferably accompanied by a curing mechanism resulting from temperatures above room temperature (>23° C.). This may be, for example, the formation of radicals or ions, preferably radicals, from an initiator which decomposes at elevated temperature to initiate radical or ionic polymerization. Examples of such thermally activatable initiators are those having a half-life of less than 100 hours at 80°C. Chemical curing is preferably a reaction of at least two different mutually complementary reactive functional groups, for example in a polycondensation manner such as reaction of an -OH group with a -COOH group, or a reaction in a polyaddition manner (NCO group and -OH or reaction of an amino group).

코팅 조성물 (C2a)가 물리적 건조, 열적 경화성 및/또는 화학적 경화성 코팅 조성물이라면, 이는 통상의 기술자에게 공지된 적어도 하나의 통상의 중합체를 결합제로서 사용하여 제조된다. 열적 또는 화학적 경화성 코팅 조성물의 경우이면, 이러한 결합제는 바람직하게는 가교성 관능기를 갖는다. 통상의 기술자에게 공지된 임의의 통상적인 가교성 관능기가 이와 관련하여 적합하다. 보다 구체적으로, 가교성 관능기는 히드록실 기, 아미노 기, 카르복실산 기, 티올 기, 이소시아네이트, 폴리이소시아네이트 및 에폭시드로 이루어진 군으로부터 선택된다. 바람직하게는 중합체는, 바람직하게는 -20℃ 내지 250℃, 또는 18℃ 내지 200℃의 온도 범위에서 발열성으로 또는 흡열성으로 경화가능하거나 또는 가교가능하다. 폴리우레탄, 폴리에테르, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리우레아, 폴리비닐 클로라이드, 폴리스티렌, 폴리카르보네이트, 폴리(메트)아크릴레이트, 에폭시 수지, 페놀-포름알데히드 수지, 멜라민-포름알데히드 수지로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 중합체가 중합체로서 특별히 적합하다. 이들 중합체는 특히 OH-관능성일 수 있다. 이러한 경우에, 이들은 일반 용어 "폴리올"에 의해 포괄될 수 있다. 이러한 폴리올은 예를 들어 폴리(메트)아크릴레이트 폴리올, 폴리에스테르 폴리올, 폴리에테르 폴리올, 폴리우레탄 폴리올, 폴리우레아 폴리올, 폴리에스테르-폴리아크릴레이트 폴리올, 폴리에스테르-폴리우레탄 폴리올, 폴리우레탄-폴리아크릴레이트 폴리올, 폴리우레탄-개질된 알키드 수지, 지방산-개질된 폴리에스테르-폴리우레탄 폴리올, 및 또한 명시된 폴리올의 혼합물일 수 있다. 폴리(메트)아크릴레이트 폴리올, 폴리에스테르 폴리올 및 폴리에테르 폴리올이 바람직하다.If the coating composition (C2a) is a physically dry, thermally curable and/or chemically curable coating composition, it is prepared using at least one customary polymer known to the person skilled in the art as binder. In the case of thermally or chemically curable coating compositions, such binders preferably have crosslinkable functionalities. Any customary crosslinkable functionalities known to the person skilled in the art are suitable in this regard. More specifically, the crosslinkable functional group is selected from the group consisting of a hydroxyl group, an amino group, a carboxylic acid group, a thiol group, an isocyanate, a polyisocyanate and an epoxide. Preferably the polymer is curable or crosslinkable exothermically or endothermally, preferably in a temperature range from -20°C to 250°C, or from 18°C to 200°C. Polyurethane, polyether, polyester, polyamide, polyurea, polyvinyl chloride, polystyrene, polycarbonate, poly(meth)acrylate, epoxy resin, phenol-formaldehyde resin, melamine-formaldehyde resin At least one polymer selected from is particularly suitable as polymer. These polymers may in particular be OH-functional. In this case, they may be encompassed by the generic term “polyol”. Such polyols are, for example, poly(meth)acrylate polyols, polyester polyols, polyether polyols, polyurethane polyols, polyurea polyols, polyester-polyacrylate polyols, polyester-polyurethane polyols, polyurethane-polyacrylics late polyols, polyurethane-modified alkyd resins, fatty acid-modified polyester-polyurethane polyols, and also mixtures of the specified polyols. Poly(meth)acrylate polyols, polyester polyols and polyether polyols are preferred.

여기서 이소시아네이트 및/또는 올리고머화된 이소시아네이트 기의 참여 하에 경화되는 적어도 하나의 중합체, 매우 바람직하게는 적어도 하나의 상응하는 폴리우레탄 및/또는 적어도 하나의 상응하는 폴리우레아 (예를 들어, 소위 "폴리아스파르트산 결합제")를 사용하는 것이 가능하다. 폴리아스파르트산 결합제는 아미노-관능성 화합물, 특히 2급 아민과 이소시아네이트의 반응으로부터 전환되는 성분이다. 적어도 하나의 폴리우레탄이 사용된다면, 특별히 적합한 것들은 히드록실-함유 성분 예컨대 폴리올과 적어도 하나의 폴리이소시아네이트 (방향족 및 지방족 이소시아네이트, 디-, 트리- 및/또는 폴리이소시아네이트) 사이의 중부가 반응에 의해 제조가능한 폴리우레탄-기재 수지이다. 여기서 통상적으로 폴리올의 OH 기와 폴리이소시아네이트의 NCO 기의 화학량론적 전환이 요구된다. 그러나, 사용되는 화학량론적 비가 또한 달라질 수 있는데, 이는 폴리이소시아네이트가 "과다 가교" 또는 "과소 가교"가 일어날 수 있는 양으로 폴리올 성분에 첨가될 수 있기 때문이다. 에폭시 수지, 즉, 에폭시드-기재 수지가 사용된다면, 적합한 것들은 바람직하게는 말단 에폭시드 기를 갖는 글리시딜 에테르 및 관능기로서의 분자 내 히드록실 기로부터 제조된 에폭시드-기재 수지이다. 이들은 바람직하게는 비스페놀 A와 에피클로로히드린 및/또는 비스페놀 F와 에피클로로히드린의 반응 생성물, 및 그의 혼합물이며, 이들은 또한 반응성 희석제의 존재 하에 사용된다. 이러한 에폭시드-기재 수지의 경화 또는 가교는 통상적으로 에폭시드 고리의 에폭시드 기의 중합에 의해, 경질화제로서의 화학량론적 양의 다른 반응성 화합물과 에폭시드 기의 부가 반응 형태의 중부가 반응에 의해 (따라서 이러한 경우에는, 에폭시드 기당 활성 수소 1 당량의 존재가 요구됨 (즉, 경화를 위해 에폭시드 당량당 1 H-활성 당량이 필요함)), 또는 에폭시드 기 및 히드록실 기를 통한 중축합에 의해 달성된다. 적합한 경질화제의 예는 폴리아민, 특히 (헤테로)지방족, (헤테로)방향족 및 (헤테로)시클로지방족 폴리아민, 폴리아미도아민, 폴리아미노아미드, 및 또한 폴리카르복실산 및 그의 무수물이다.at least one polymer, very preferably at least one corresponding polyurethane and/or at least one corresponding polyurea (for example the so-called "polyaspart acid binders"). Polyaspartic acid binders are components that are converted from the reaction of amino-functional compounds, particularly secondary amines, with isocyanates. If at least one polyurethane is used, particularly suitable ones are prepared by polyaddition reaction between a hydroxyl-containing component such as a polyol and at least one polyisocyanate (aromatic and aliphatic isocyanate, di-, tri- and/or polyisocyanate) possible polyurethane-based resins. Here a stoichiometric conversion of the OH groups of the polyol and the NCO groups of the polyisocyanate is usually required. However, the stoichiometric ratio used may also vary, since the polyisocyanate may be added to the polyol component in an amount such that "over crosslinking" or "under crosslinking" can occur. If epoxy resins, ie epoxide-based resins, are used, suitable ones are epoxide-based resins prepared from glycidyl ethers preferably having terminal epoxide groups and hydroxyl groups in the molecule as functional groups. These are preferably reaction products of bisphenol A with epichlorohydrin and/or bisphenol F with epichlorohydrin, and mixtures thereof, which are also used in the presence of reactive diluents. Curing or crosslinking of such epoxide-based resins is usually by polymerization of the epoxide groups of the epoxide ring, by polyaddition in the form of an addition reaction of an epoxide group with a stoichiometric amount of another reactive compound as a hardener ( Thus in this case, the presence of 1 equivalent of active hydrogen per epoxide group is required (i.e. 1 H-active equivalent per epoxide equivalent is required for curing), or achieved by polycondensation via epoxide groups and hydroxyl groups. do. Examples of suitable hardeners are polyamines, in particular (hetero)aliphatic, (hetero)aromatic and (hetero)cycloaliphatic polyamines, polyamidoamines, polyaminoamides, and also polycarboxylic acids and their anhydrides.

"방사선 경화"의 개념은 코팅 조성물 (C1a)와 관련하여 이미 상기에 기재되었으며, 명시적으로 그 단락을 참조한다.The concept of "radiation curing" has already been described above in relation to the coating composition (C1a), reference is made explicitly to that paragraph.

코팅 조성물 (C2a)는 방사선원을 사용하여, 바람직하게는 UV 방사선을 사용하여 경화될 수 있다. 따라서, 바람직하게는, (C2a)는 UV 방사선-경화 코팅 조성물이다.The coating composition (C2a) can be cured using a radiation source, preferably UV radiation. Accordingly, preferably (C2a) is a UV radiation-curing coating composition.

따라서, 바람직한 생성물 코팅 조성물 (C2a)는 하기를 포함한다:Accordingly, a preferred product coating composition (C2a) comprises:

a) 평균적으로 적어도 2개의 불포화 기를 갖는 적어도 하나의 화합물,a) at least one compound having on average at least two unsaturated groups,

b) 임의적으로 적어도 하나의 광개시제, 및b) optionally at least one photoinitiator, and

c) 임의적으로 적어도 하나의 첨가제.c) optionally at least one additive.

코팅 조성물 (C2a)는 바람직하게는 평균적으로 적어도 2개의 불포화 탄소 이중 결합, 보다 바람직하게는 (메트)아크릴 기를 갖는다. 이러한 목적을 위해, 코팅 조성물 (C2)는 (C1a)와 관련하여 상기에서 확인된 임의의 가교성 중합체 및/또는 올리고머 또는 반응성 희석제, 예컨대, 특히, 폴리에스테르, 폴리에테르, 카르보네이트, 에폭시드, 폴리(메트)아크릴레이트, 우레탄 (메트)아크릴레이트, 및/또는 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머 및/또는 적어도 하나의 불포화 폴리에스테르 수지 및/또는 일관능성, 이관능성 및/또는 삼관능성 (메트)아크릴산 에스테르를 포함할 수 있다.The coating composition (C2a) preferably has on average at least two unsaturated carbon double bonds, more preferably (meth)acrylic groups. For this purpose, the coating composition (C2) comprises any of the crosslinkable polymers and/or oligomers or reactive diluents identified above in relation to (C1a), such as, in particular, polyesters, polyethers, carbonates, epoxides , poly(meth)acrylate, urethane (meth)acrylate, and/or silicone (meth)acrylate oligomer and/or at least one unsaturated polyester resin and/or monofunctional, difunctional and/or trifunctional (meth) ) may contain acrylic acid esters.

가시 광 내지 (N)IR 광 및/또는 UV 광에 의한 경화 시, 코팅 조성물 (C2a)는 바람직하게는 조사된 파장의 광에 의해 라디칼로 분해될 수 있는 적어도 하나의 광개시제를 포함하며, 이어서 이들 라디칼이 라디칼 중합을 개시할 수 있다. 이에 반해, 전자 방사선에 의한 경화의 경우에는, 이러한 광개시제의 존재가 필요하지 않다. 광개시제로서, 코팅 조성물 (C1a)의 광개시제와 관련하여 상기에 명시된 것과 동일한 성분을 동일한 양으로 사용하는 것이 가능하다.Upon curing by means of visible light to (N)IR light and/or UV light, the coating composition (C2a) preferably comprises at least one photoinitiator capable of being decomposed into radicals by light of the irradiated wavelength, which in turn A radical may initiate radical polymerization. In contrast, in the case of curing by means of electron radiation, the presence of such a photoinitiator is not required. As photoinitiator, it is possible to use the same components as those specified above with respect to the photoinitiator of the coating composition (C1a) in the same amount.

코팅 조성물 (C2a)는 적어도 하나의 추가의 첨가제를 포함할 수 있다. 이러한 경우에, 코팅 조성물 (C1a)의 첨가제 또는 추가의 성분 (e)로서 상기에서 확인된 것과 동일한 성분을 동일한 양으로 사용하는 것이 가능하다.The coating composition (C2a) may comprise at least one further additive. In this case, it is possible to use the same components as identified above as additives or further component (e) of the coating composition (C1a) in the same amount.

코팅 조성물 (C2a)로서 사용되는 코팅 조성물은 보다 바람직하게는 (메트)아크릴 기를 갖는 것이다. 바람직하게는, 이러한 코팅 조성물 (C2a)는 적어도 하나의 우레탄 (메트)아크릴레이트를 포함한다. 더욱이, 바람직하게는, 이는 적어도 하나의 광개시제를 포함한다.The coating composition used as the coating composition (C2a) is more preferably one having a (meth)acrylic group. Preferably, this coating composition (C2a) comprises at least one urethane (meth)acrylate. Furthermore, preferably, it comprises at least one photoinitiator.

코팅 조성물 (C2a)는 용매-기반 또는 고체 코팅 조성물일 수 있다. 급속 경화를 가능하게 하고 경화 시 다량으로 증발하는 용매가 발생하는 것을 방지하기 위해, 코팅 조성물 (C2a)는 바람직하게는 고체 코팅 조성물 또는 소량의 용매를 함유하는 코팅 조성물이다. 따라서, 이는 유리하게는, DIN EN ISO 3251:2008-06에 따라 125℃ 및 60 min으로 결정 시, 코팅 조성물 (C2a)의 총 중량을 기준으로 하여 75 내지 100 중량%의 고형분 함량을 갖는다. 더욱이, 이는, 코팅 조성물 (C2a)의 총 중량을 기준으로 하여, 유리하게는 90 내지 100 중량%, 바람직하게는 95 내지 100 중량%, 보다 바람직하게는 99 내지 100 중량%의 화합물 (a) 및 임의적인 화합물 (b) 및 (c)의 총량을 포함한다.The coating composition (C2a) may be a solvent-based or solid coating composition. In order to enable rapid curing and to prevent the generation of a solvent evaporating in a large amount upon curing, the coating composition (C2a) is preferably a solid coating composition or a coating composition containing a small amount of solvent. It therefore advantageously has a solids content of from 75 to 100% by weight, based on the total weight of the coating composition (C2a), as determined at 125°C and 60 min according to DIN EN ISO 3251:2008-06. Furthermore, it is advantageously from 90 to 100% by weight, preferably from 95 to 100% by weight, more preferably from 99 to 100% by weight of the compound (a) and the total amount of optional compounds (b) and (c).

본 발명의 복합체 (S1C1)Complex of the present invention (S1C1)

본 발명의 추가의 대상은 기판 (S1) 및 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)로 구성된 복합체 (S1C1)로서, 여기서 코팅 (C1)은 기판 (S1)의 표면의 적어도 일부분에 적용되고 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 조성물 (C1a)를 방사선 경화에 의해 적어도 부분적으로 경화시킴으로써 수득가능하고, 여기서 코팅 조성물 (C1a)는 하기를 포함하는 방사선-경화성 코팅 조성물이며:A further subject of the invention is a composite (S1C1) consisting of a substrate (S1) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1), wherein the coating (C1) comprises at least a part of the surface of the substrate (S1) obtainable by at least partially curing by means of radiation curing a coating composition (C1a) applied to and at least partially embossed, wherein the coating composition (C1a) is a radiation-curable coating composition comprising:

(a) 5 내지 45 중량%의 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머,(a) from 5 to 45% by weight of at least one crosslinkable polymer and/or oligomer,

(b) 40 내지 95 중량% 또는 85 중량%, 바람직하게는 50 내지 95 중량% 또는 85 중량% 또는 83 중량%의 적어도 하나의 반응성 희석제,(b) 40 to 95% by weight or 85% by weight, preferably 50 to 95% by weight or 85% by weight or 83% by weight of at least one reactive diluent;

(c) 0.01 내지 15 중량%의 적어도 하나의 광개시제, 및(c) 0.01 to 15% by weight of at least one photoinitiator, and

(d) 0 내지 5 중량%의 적어도 하나의 첨가제;(d) 0 to 5% by weight of at least one additive;

여기서 (i) 성분 (a), (b), (c) 및 (d)의 명시된 총량은 각각 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하는 것이고, (ii) 코팅 조성물 (C1a)에 존재하는 모든 성분의 총량은 그 합계가 100 중량%가 되고;wherein (i) the specified total amounts of components (a), (b), (c) and (d) are each based on the total weight of the coating composition (C1a), and (ii) The total amount of all components adds up to 100% by weight;

여기서 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머 (a)는, 코팅 조성물 (C1a)에 포함된 모든 가교성 중합체 및/또는 올리고머의 총 중량을 기준으로 하여, 적어도 25 중량%, 바람직하게는 적어도 50 중량%, 보다 바람직하게는 적어도 90 중량%, 매우 바람직하게는 100 중량%의 총량으로 적어도 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머를 포함하는 것인wherein the at least one crosslinkable polymer and/or oligomer (a) comprises at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, based on the total weight of all crosslinkable polymers and/or oligomers comprised in the coating composition (C1a) at least one silicone (meth)acrylate oligomer in a total amount of % by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight

복합체 (S1C1)이다.complex (S1C1).

바람직하게는, 모든 성분 (a), (b), (c) 및 (d)는 각각 서로 상이하다.Preferably, all components (a), (b), (c) and (d) are each different from one another.

본 발명의 방법과 관련하여, 특히 그에 사용되는 코팅 조성물 (C1a) 및 기판 (S1) 및 또한 코팅 (C1)과 관련하여 상기에 기재된 모든 바람직한 실시양태는 또한 본 발명의 복합체 (S1C1)에 대한 바람직한 실시양태이다.All preferred embodiments described above with respect to the process of the invention, in particular with respect to the coating composition (C1a) and the substrate (S1) and also the coating (C1) used therein, are also preferred for the composite (S1C1) of the invention embodiment.

본 발명의 복합체 (S1C1)은 바람직하게는 본 발명의 방법의 상기 기재된 방법 단계 (6) 내지 (9)의 실행에 의해 수득가능하다. 기판 (S1)은 유리하게는 필름 웹, 바람직하게는 이동하는 필름 웹, 보다 바람직하게는 이동하는 연속 필름 웹이다.The complex (S1C1) of the invention is preferably obtainable by carrying out the above-described process steps (6) to (9) of the process of the invention. The substrate S1 is advantageously a film web, preferably a moving film web, more preferably a moving continuous film web.

본 발명에 따른 용도Use according to the invention

본 발명의 추가의 대상은 코팅 조성물 (C2a)의 표면의 적어도 일부분에 또는 기판 (S2)에 적어도 부분적으로 적용된 코팅 조성물 (C2a)의 표면의 적어도 일부분에 엠보싱 구조를 전사하기 위한 엠보싱 도구 (E2)의 엠보싱 몰드 (e2)로서의 본 발명의 복합체 (S1C1)의 용도이다.A further subject of the invention is an embossing tool (E2) for transferring an embossing structure to at least a part of the surface of the coating composition (C2a) or to at least part of the surface of the coating composition (C2a) applied at least partially to the substrate (S2) use of the composite (S1C1) of the present invention as an embossing mold (e2) of

본 발명의 방법 및 본 발명의 복합체 (S1C1)과 관련하여 상기에 기재된 모든 바람직한 실시양태는 또한 본 발명의 복합체 (S1C1)의 상기 언급된 용도에 대한 바람직한 실시양태이다.All preferred embodiments described above in relation to the process of the invention and the complex of the invention (S1C1) are also preferred embodiments for the above-mentioned uses of the complex of the invention (S1C1).

여기서 코팅 조성물 (C2a)는 바람직하게는 방사선-경화성 코팅 조성물이다.The coating composition (C2a) here is preferably a radiation-curable coating composition.

본 발명은 특히 하기 실시양태에 의해 기재된다:The invention is described in particular by the following embodiments:

실시양태 1: 복합체 (S1C1)을 사용하여 코팅 조성물 (C2a)의 표면의 적어도 일부분에 엠보싱 구조를 전사하는 방법으로서, 적어도 단계 (1), (2-i) 및 (3-i) 또는 (2-ii) 및 (3-ii) 및 또한 적어도 단계 (4) 및 임의적으로 단계 (5-i) 또는 (5-ii), 구체적으로는 하기 단계를 포함하며:Embodiment 1: A method for transferring an embossed structure to at least a portion of a surface of a coating composition (C2a) using a composite (S1C1), comprising at least steps (1), (2-i) and (3-i) or (2) -ii) and (3-ii) and also at least step (4) and optionally step (5-i) or (5-ii), in particular the following steps:

(1) 기판 (S1) 및 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)로 구성된 복합체 (S1C1)을 제공하는 단계;(1) providing a composite (S1C1) consisting of a substrate (S1) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1);

and

(2-i) 기판 (S2)의 표면의 적어도 일부분에 적어도 하나의 코팅 조성물 (C2a)를 적용하여 복합체 (S2C2a)를 제공하는 단계;(2-i) applying at least one coating composition (C2a) to at least a portion of the surface of the substrate (S2) to provide a composite (S2C2a);

(3-i) 복합체 (S1C1)을 사용하여 복합체 (S2C2a)의 코팅 조성물 (C2a)를 적어도 부분적으로 엠보싱가공하여 복합체 (S1C1C2aS2)를 제공하는 단계;(3-i) at least partially embossing the coating composition (C2a) of the composite (S2C2a) using the composite (S1C1) to provide the composite (S1C1C2aS2);

또는or

(2-ii) 복합체 (S1C1)의 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 표면의 적어도 일부분에 적어도 하나의 코팅 조성물 (C2a)를 적용하고, 복합체 (S1C1)을 사용하여 코팅 조성물 (C2a)를 적어도 부분적으로 엠보싱가공하여 복합체 (S1C1C2a)를 제공하는 단계;(2-ii) at least one coating composition (C2a) is applied to at least a portion of the at least partially embossed and at least partially cured surface of the composite (S1C1), and the coating composition (C2a) using the composite (S1C1) at least partially embossing to provide a composite (S1C1C2a);

(3-ii) 임의적으로, 복합체 (S1C1C2a)의, 코팅 조성물 (C2a)에 의해 형성된 표면의 적어도 일부분에 기판 (S2)를 적용하여 복합체 (S1C1C2aS2)를 제공하는 단계;(3-ii) optionally applying the substrate (S2) to at least a portion of the surface formed by the coating composition (C2a) of the composite (S1C1C2a) to provide a composite (S1C1C2aS2);

and

(4) 기판 (S2)에 임의적으로 적용되는, 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 조성물 (C2a)를, 적어도 부분적인 경화의 지속기간 내내 복합체 (S1C1)과 접촉해 있는 상태로 적어도 부분적으로 경화시켜 복합체 (S1C1C2) 또는 (S1C1C2S2)를 제공하는 단계;(4) at least partially curing the at least partially embossed coating composition (C2a), optionally applied to the substrate (S2), in contact with the composite (S1C1) throughout the duration of the at least partial cure to make the composite providing (S1C1C2) or (S1C1C2S2);

and

(5-i) 임의적으로, 복합체 (S1C1C2S2) 내 복합체 (C2S2)를 복합체 (S1C1)로부터 제거하여 단계 (1)에서 제공된 복합체 (S1C1)을 복원하는 단계;(5-i) optionally, removing the complex (C2S2) in the complex (S1C1C2S2) from the complex (S1C1) to restore the complex (S1C1) provided in step (1);

또는or

(5-ii) 임의적으로, 복합체 (S1C1C2) 내 코팅 (C2)를 복합체 (S1C1)로부터 제거하여 단계 (1)에서 제공된 복합체 (S1C1)을 복원하는 단계;(5-ii) optionally, removing the coating (C2) in the complex (S1C1C2) from the complex (S1C1) to restore the complex (S1C1) provided in step (1);

여기서 단계 (1)에서 사용되고 단계 (5-i) 또는 단계 (5-ii)에서 복원되는 복합체 (S1C1)의 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)을 제조하기 위해 사용되는 코팅 조성물 (C1a)는 하기를 포함하는 방사선-경화성 코팅 조성물이며:wherein the coating used to prepare the at least partially embossed and at least partially cured coating (C1) of the composite (S1C1) used in step (1) and restored in step (5-i) or step (5-ii) Composition (C1a) is a radiation-curable coating composition comprising:

(a) 5 내지 45 중량%의 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머,(a) from 5 to 45% by weight of at least one crosslinkable polymer and/or oligomer,

(b) 40 내지 95 중량%의 적어도 하나의 반응성 희석제,(b) 40 to 95% by weight of at least one reactive diluent;

(c) 0.01 내지 15 중량%의 적어도 하나의 광개시제, 및(c) 0.01 to 15% by weight of at least one photoinitiator, and

(d) 0 내지 5 중량%의 적어도 하나의 첨가제;(d) 0 to 5% by weight of at least one additive;

여기서 (i) 성분 (a), (b), (c) 및 (d)의 명시된 총량은 각각 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하는 것이고, (ii) 코팅 조성물 (C1a)에 존재하는 모든 성분의 총량은 그 합계가 100 중량%가 되고;wherein (i) the specified total amounts of components (a), (b), (c) and (d) are each based on the total weight of the coating composition (C1a), and (ii) The total amount of all components adds up to 100% by weight;

여기서 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머 (a)는, 코팅 조성물 (C1a)에 포함된 모든 가교성 중합체 및/또는 올리고머의 총 중량을 기준으로 하여, 적어도 25 중량%, 바람직하게는 적어도 50 중량%, 보다 바람직하게는 적어도 90 중량%, 매우 바람직하게는 100 중량%의 총량으로 적어도 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머를 포함하는 것인wherein the at least one crosslinkable polymer and/or oligomer (a) comprises at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, based on the total weight of all crosslinkable polymers and/or oligomers comprised in the coating composition (C1a) at least one silicone (meth)acrylate oligomer in a total amount of % by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight

방법.Way.

실시양태 2: 복합체 (S1C1)을 사용하여 코팅 조성물 (C2a)의 표면의 적어도 일부분에 엠보싱 구조를 전사하는 방법으로서, 적어도 단계 (1), (2-i) 및 (3-i) 및 또한 적어도 단계 (4) 및 임의적으로 단계 (5-i), 구체적으로는 하기 단계를 포함하며:Embodiment 2: A method for transferring an embossed structure to at least a portion of a surface of a coating composition (C2a) using a composite (S1C1), comprising at least steps (1), (2-i) and (3-i) and also at least Step (4) and optionally step (5-i), specifically comprising the following steps:

(1) 기판 (S1) 및 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)로 구성된 복합체 (S1C1)을 제공하는 단계;(1) providing a composite (S1C1) consisting of a substrate (S1) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1);

(2-i) 기판 (S2)의 표면의 적어도 일부분에 적어도 하나의 코팅 조성물 (C2a)를 적용하여 복합체 (S2C2a)를 제공하는 단계;(2-i) applying at least one coating composition (C2a) to at least a portion of the surface of the substrate (S2) to provide a composite (S2C2a);

(3-i) 복합체 (S1C1)을 사용하여 복합체 (S2C2a)의 코팅 조성물 (C2a)를 적어도 부분적으로 엠보싱가공하여 복합체 (S1C1C2aS2)를 제공하는 단계;(3-i) at least partially embossing the coating composition (C2a) of the composite (S2C2a) using the composite (S1C1) to provide the composite (S1C1C2aS2);

(4) 기판 (S2)에 임의적으로 적용되는, 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 조성물 (C2a)를, 적어도 부분적인 경화의 지속기간 내내 복합체 (S1C1)과 접촉해 있는 상태로 적어도 부분적으로 경화시켜 복합체 (S1C1C2S2)를 제공하는 단계;(4) at least partially curing the at least partially embossed coating composition (C2a), optionally applied to the substrate (S2), in contact with the composite (S1C1) throughout the duration of the at least partial cure to make the composite providing (S1C1C2S2);

(5-i) 임의적으로, 복합체 (S1C1C2S2) 내 복합체 (C2S2)를 복합체 (S1C1)로부터 제거하여 단계 (1)에서 제공된 복합체 (S1C1)을 복원하는 단계;(5-i) optionally, removing the complex (C2S2) in the complex (S1C1C2S2) from the complex (S1C1) to restore the complex (S1C1) provided in step (1);

여기서 단계 (1)에서 사용되고 단계 (5-i)에서 복원되는 복합체 (S1C1)의 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)을 제조하기 위해 사용되는 코팅 조성물 (C1a)는 하기를 포함하는 방사선-경화성 코팅 조성물이며:wherein the coating composition (C1a) used to prepare the at least partially embossed and at least partially cured coating (C1) of the composite (S1C1) used in step (1) and restored in step (5-i) comprises A radiation-curable coating composition comprising:

(a) 5 내지 45 중량%의 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머,(a) from 5 to 45% by weight of at least one crosslinkable polymer and/or oligomer,

(b) 40 내지 95 중량%의 적어도 하나의 반응성 희석제,(b) 40 to 95% by weight of at least one reactive diluent;

(c) 0.01 내지 15 중량%의 적어도 하나의 광개시제, 및(c) 0.01 to 15% by weight of at least one photoinitiator, and

(d) 0 내지 5 중량%의 적어도 하나의 첨가제;(d) 0 to 5% by weight of at least one additive;

여기서 (i) 성분 (a), (b), (c) 및 (d)의 명시된 총량은 각각 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하는 것이고, (ii) 코팅 조성물 (C1a)에 존재하는 모든 성분의 총량은 그 합계가 100 중량%가 되고;wherein (i) the specified total amounts of components (a), (b), (c) and (d) are each based on the total weight of the coating composition (C1a), and (ii) The total amount of all components adds up to 100% by weight;

여기서 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머 (a)는, 코팅 조성물 (C1a)에 포함된 모든 가교성 중합체 및/또는 올리고머의 총 중량을 기준으로 하여, 적어도 25 중량%, 바람직하게는 적어도 50 중량%, 보다 바람직하게는 적어도 90 중량%, 매우 바람직하게는 100 중량%의 총량으로 적어도 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머를 포함하는 것인wherein the at least one crosslinkable polymer and/or oligomer (a) comprises at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, based on the total weight of all crosslinkable polymers and/or oligomers comprised in the coating composition (C1a) at least one silicone (meth)acrylate oligomer in a total amount of % by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight

방법.Way.

실시양태 3: 복합체 (S1C1)을 사용하여 코팅 조성물 (C2a)의 표면의 적어도 일부분에 엠보싱 구조를 전사하는 방법으로서, 적어도 단계 (1), (2-ii) 및 또한 적어도 단계 (4) 및 임의적으로 단계 (5-ii), 구체적으로는 하기 단계를 포함하며:Embodiment 3: A method of transferring an embossed structure to at least a portion of a surface of a coating composition (C2a) using a composite (S1C1), comprising at least steps (1), (2-ii) and also at least step (4) and optionally as step (5-ii), specifically comprising the following steps:

(1) 기판 (S1) 및 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)로 구성된 복합체 (S1C1)을 제공하는 단계;(1) providing a composite (S1C1) consisting of a substrate (S1) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1);

(2-ii) 복합체 (S1C1)의 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 표면의 적어도 일부분에 적어도 하나의 코팅 조성물 (C2a)를 적용하고, 복합체 (S1C1)을 사용하여 코팅 조성물 (C2a)를 적어도 부분적으로 엠보싱가공하여 복합체 (S1C1C2a)를 제공하는 단계;(2-ii) at least one coating composition (C2a) is applied to at least a portion of the at least partially embossed and at least partially cured surface of the composite (S1C1), and the coating composition (C2a) using the composite (S1C1) at least partially embossing to provide a composite (S1C1C2a);

(4) 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 조성물 (C2a)를, 적어도 부분적인 경화의 지속기간 내내 복합체 (S1C1)과 접촉해 있는 상태로 적어도 부분적으로 경화시켜 복합체 (S1C1C2)를 제공하는 단계;(4) at least partially curing the at least partially embossed coating composition (C2a) in contact with the composite (S1C1) throughout the duration of at least partial curing to provide a composite (S1C1C2);

and

(5-ii) 임의적으로, 복합체 (S1C1C2) 내 코팅 (C2)를 복합체 (S1C1)로부터 제거하여 단계 (1)에서 제공된 복합체 (S1C1)을 복원하는 단계;(5-ii) optionally, removing the coating (C2) in the complex (S1C1C2) from the complex (S1C1) to restore the complex (S1C1) provided in step (1);

여기서 단계 (1)에서 사용되고 단계 (5-ii)에서 복원되는 복합체 (S1C1)의 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)을 제조하기 위해 사용되는 코팅 조성물 (C1a)는 하기를 포함하는 방사선-경화성 코팅 조성물이며:wherein the coating composition (C1a) used to prepare the at least partially embossed and at least partially cured coating (C1) of the composite (S1C1) used in step (1) and restored in step (5-ii) comprises A radiation-curable coating composition comprising:

(a) 5 내지 45 중량%의 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머,(a) from 5 to 45% by weight of at least one crosslinkable polymer and/or oligomer,

(b) 40 내지 95 중량%의 적어도 하나의 반응성 희석제,(b) 40 to 95% by weight of at least one reactive diluent;

(c) 0.01 내지 15 중량%의 적어도 하나의 광개시제, 및(c) 0.01 to 15% by weight of at least one photoinitiator, and

(d) 0 내지 5 중량%의 적어도 하나의 첨가제;(d) 0 to 5% by weight of at least one additive;

여기서 (i) 성분 (a), (b), (c) 및 (d)의 명시된 총량은 각각 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하는 것이고, (ii) 코팅 조성물 (C1a)에 존재하는 모든 성분의 총량은 그 합계가 100 중량%가 되고;wherein (i) the specified total amounts of components (a), (b), (c) and (d) are each based on the total weight of the coating composition (C1a), and (ii) The total amount of all components adds up to 100% by weight;

여기서 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머 (a)는, 코팅 조성물 (C1a)에 포함된 모든 가교성 중합체 및/또는 올리고머의 총 중량을 기준으로 하여, 적어도 25 중량%, 바람직하게는 적어도 50 중량%, 보다 바람직하게는 적어도 90 중량%, 매우 바람직하게는 100 중량%의 총량으로 적어도 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머를 포함하는 것인wherein the at least one crosslinkable polymer and/or oligomer (a) comprises at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, based on the total weight of all crosslinkable polymers and/or oligomers comprised in the coating composition (C1a) at least one silicone (meth)acrylate oligomer in a total amount of % by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight

방법.Way.

실시양태 4: 복합체 (S1C1)을 사용하여 코팅 조성물 (C2a)의 표면의 적어도 일부분에 엠보싱 구조를 전사하는 방법으로서, 적어도 단계 (1), (2-ii) 및 (3-ii) 및 또한 적어도 단계 (4) 및 임의적으로 단계 (5-ii), 구체적으로는 하기 단계를 포함하며:Embodiment 4: A method for transferring an embossed structure to at least a portion of a surface of a coating composition (C2a) using a composite (S1C1), comprising at least steps (1), (2-ii) and (3-ii) and also at least Step (4) and optionally step (5-ii), specifically comprising:

(1) 기판 (S1) 및 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)로 구성된 복합체 (S1C1)을 제공하는 단계;(1) providing a composite (S1C1) consisting of a substrate (S1) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1);

(2-ii) 복합체 (S1C1)의 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 표면의 적어도 일부분에 적어도 하나의 코팅 조성물 (C2a)를 적용하고, 복합체 (S1C1)을 사용하여 코팅 조성물 (C2a)를 적어도 부분적으로 엠보싱가공하여 복합체 (S1C1C2a)를 제공하는 단계;(2-ii) at least one coating composition (C2a) is applied to at least a portion of the at least partially embossed and at least partially cured surface of the composite (S1C1), and the coating composition (C2a) using the composite (S1C1) at least partially embossing to provide a composite (S1C1C2a);

(3-ii) 복합체 (S1C1C2a)의, 코팅 조성물 (C2a)에 의해 형성된 표면의 적어도 일부분에 기판 (S2)를 적용하여 복합체 (S1C1C2aS2)를 제공하는 단계;(3-ii) applying the substrate (S2) to at least a portion of the surface formed by the coating composition (C2a) of the composite (S1C1C2a) to provide a composite (S1C1C2aS2);

(4) 기판 (S2)에 적용된, 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 조성물 (C2a)를, 적어도 부분적인 경화의 지속기간 내내 복합체 (S1C1)과 접촉해 있는 상태로 적어도 부분적으로 경화시켜 복합체 (S1C1C2S2)를 제공하는 단계;(4) at least partially curing the at least partially embossed coating composition (C2a), applied to the substrate (S2), in contact with the composite (S1C1) throughout the duration of the at least partial cure to obtain a composite (S1C1C2S2) providing;

(5-i) 임의적으로, 복합체 (S1C1C2S2) 내 복합체 (C2S2)를 복합체 (S1C1)로부터 제거하여 단계 (1)에서 제공된 복합체 (S1C1)을 복원하는 단계;(5-i) optionally, removing the complex (C2S2) in the complex (S1C1C2S2) from the complex (S1C1) to restore the complex (S1C1) provided in step (1);

여기서 단계 (1)에서 사용되고 단계 (5-i)에서 복원되는 복합체 (S1C1)의 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)을 제조하기 위해 사용되는 코팅 조성물 (C1a)는 하기를 포함하는 방사선-경화성 코팅 조성물이며:wherein the coating composition (C1a) used to prepare the at least partially embossed and at least partially cured coating (C1) of the composite (S1C1) used in step (1) and restored in step (5-i) comprises A radiation-curable coating composition comprising:

(a) 5 내지 45 중량%의 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머,(a) from 5 to 45% by weight of at least one crosslinkable polymer and/or oligomer,

(b) 40 내지 95 중량%의 적어도 하나의 반응성 희석제,(b) 40 to 95% by weight of at least one reactive diluent;

(c) 0.01 내지 15 중량%의 적어도 하나의 광개시제, 및(c) 0.01 to 15% by weight of at least one photoinitiator, and

(d) 0 내지 5 중량%의 적어도 하나의 첨가제;(d) 0 to 5% by weight of at least one additive;

여기서 (i) 성분 (a), (b), (c) 및 (d)의 명시된 총량은 각각 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하는 것이고, (ii) 코팅 조성물 (C1a)에 존재하는 모든 성분의 총량은 그 합계가 100 중량%가 되고;wherein (i) the specified total amounts of components (a), (b), (c) and (d) are each based on the total weight of the coating composition (C1a), and (ii) The total amount of all components adds up to 100% by weight;

여기서 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머 (a)는, 코팅 조성물 (C1a)에 포함된 모든 가교성 중합체 및/또는 올리고머의 총 중량을 기준으로 하여, 적어도 25 중량%, 바람직하게는 적어도 50 중량%, 보다 바람직하게는 적어도 90 중량%, 매우 바람직하게는 100 중량%의 총량으로 적어도 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머를 포함하는 것인wherein the at least one crosslinkable polymer and/or oligomer (a) comprises at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, based on the total weight of all crosslinkable polymers and/or oligomers comprised in the coating composition (C1a) at least one silicone (meth)acrylate oligomer in a total amount of % by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight

방법.Way.

실시양태 5: 실시양태 1 내지 4 중 어느 하나에 있어서, 단계 (2-i) 및 단계 (2-ii)에서 적어도 하나의 코팅 조성물 (C2a)가 적어도 0.5 μm, 바람직하게는 적어도 1 μm, 보다 바람직하게는 적어도 5 μm의 건조 층 두께로 적용되는 것인 방법.Embodiment 5: The composition according to any one of embodiments 1 to 4, wherein the at least one coating composition (C2a) in steps (2-i) and (2-ii) is at least 0.5 μm, preferably at least 1 μm, more than preferably applied with a dry layer thickness of at least 5 μm.

실시양태 6: 실시양태 1 내지 5 중 어느 하나에 있어서, 전사될 엠보싱 구조가, 바람직하게는 10 nm 내지 500 μm의 범위, 보다 바람직하게는 25 nm 내지 400 μm의 범위, 매우 바람직하게는 50 nm 내지 250 μm의 범위, 보다 특히 100 nm 내지 100 μm의 범위의 구조 폭, 및 바람직하게는 10 nm 내지 500 μm의 범위, 보다 바람직하게는 25 nm 내지 400 μm의 범위, 매우 바람직하게는 50 nm 내지 300 μm의 범위, 보다 특히 100 nm 내지 200 μm의 범위의 구조 높이를 갖는 마이크로구조 및/또는 나노구조인 방법.Embodiment 6: The embossing structure according to any one of embodiments 1 to 5, wherein the embossed structure to be transferred is preferably in the range from 10 nm to 500 μm, more preferably in the range from 25 nm to 400 μm, very preferably 50 nm structure width in the range from to 250 μm, more particularly in the range from 100 nm to 100 μm, and preferably in the range from 10 nm to 500 μm, more preferably in the range from 25 nm to 400 μm, very preferably from 50 nm to Methods which are microstructures and/or nanostructures having a structure height in the range of 300 μm, more particularly in the range of 100 nm to 200 μm.

실시양태 7: 실시양태 1 내지 6 중 어느 하나에 있어서, 적어도 하나의 접착제가 코팅 조성물 (C2a)와 접촉하고 있지 않는 기판 (S2)의 표면에 적용되는 것인 방법.Embodiment 7: The method according to any one of embodiments 1 to 6, wherein at least one adhesive is applied to the surface of the substrate (S2) which is not in contact with the coating composition (C2a).

실시양태 8: 실시양태 1 내지 7 중 어느 하나에 있어서, 단계 (5-i)에서 복합체 (C2S2)가 복합체 (S1C1C2S2)로부터의 박리에 의해 수득되면서, 단계 (1)에서 제공된 복합체 (S1C1)이 추가적으로 복원되거나, 또는 그 반대인 방법.Embodiment 8: The complex (S1C1) provided in step (1) according to any one of embodiments 1 to 7, wherein in step (5-i) the complex (C2S2) is obtained by exfoliation from the complex (S1C1C2S2) additionally restored, or vice versa.

실시양태 9: 실시양태 1 내지 7 중 어느 하나에 있어서, 단계 (5-ii)에서 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C2)가 복합체 (S1C1C2)로부터의 박리에 의해 자립형 필름으로서 수득되면서, 단계 (1)에서 제공된 복합체 (S1C1)이 추가적으로 복원되거나, 또는 그 반대인 방법.Embodiment 9: The at least partially embossed and at least partially cured coating (C2) in step (5-ii) as a free-standing film by peeling from the composite (S1C1C2) As obtained, the complex (S1C1) provided in step (1) is further restored, or vice versa.

실시양태 10: 실시양태 1 내지 7 중 어느 하나에 있어서, 복합체 (S1C1)로부터의 제거가 하기 단계를 포함하는 것인 방법:Embodiment 10: The method according to any one of embodiments 1 to 7, wherein the removal from the complex (S1C1) comprises the steps of:

5-i-a) 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 (C2)와 접촉하고 있지 않는 기판 (S2)의 표면 상에 적어도 하나의 접착제 층 (AL)을 적용하여 복합체 (S1C1C2S2AL)을 제공하는 단계;5-i-a) applying at least one adhesive layer (AL) on the surface of the substrate (S2) which is not in contact with the at least partially embossed coating (C2) to provide a composite (S1C1C2S2AL);

5-i-b) 임의적으로, 복합체 (S1C1C2S2AL)을 물체 (O1)에 적어도 부분적으로 부착하는 단계;5-i-b) optionally, at least partially attaching the complex (S1C1C2S2AL) to the object (O1);

5-i-c) 복합체 (S1C1)을, 물체 (O1)에 임의적으로 적어도 부분적으로 부착되는 복합체 (C2S2AL)로부터 또는 그 반대로 제거하는, 바람직하게는 박리하는 단계.5-i-c) removing, preferably exfoliating, the complex (S1C1) from the complex (C2S2AL) optionally at least partially attached to the object (O1) or vice versa.

실시양태 11: 실시양태 1 내지 7 중 어느 하나에 있어서, 복합체 (S1C1)로부터의 제거가 하기 단계를 포함하는 것인 방법:Embodiment 11: The method according to any one of embodiments 1 to 7, wherein removing from the complex (S1C1) comprises the steps of:

5-ii-a) 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 (C2)의 구조화되지 않은 표면의 적어도 일부분 상에 적어도 하나의 접착제 층 (AL)을 적용하여 복합체 (S1C1C2AL)을 제공하는 단계;5-ii-a) applying at least one adhesive layer (AL) on at least a portion of the unstructured surface of the at least partially embossed coating (C2) to provide a composite (S1C1C2AL);

5-ii-b) 임의적으로, 복합체 (S1C1C2AL)을 물체 (O1)에 적어도 부분적으로 부착하는 단계;5-ii-b) optionally, at least partially attaching the complex (S1C1C2AL) to the object (O1);

5-ii-c) 복합체 (S1C1)을, 물체 (O1)에 임의적으로 적어도 부분적으로 부착되는 복합체 (C2S2AL)로부터 또는 그 반대로 제거하는, 바람직하게는 박리하는 단계.5-ii-c) removing, preferably exfoliating, the complex (S1C1) from the complex (C2S2AL) optionally at least partially attached to the object (O1) or vice versa.

실시양태 12: 실시양태 1 내지 11 중 어느 하나에 있어서, 단계 (1)에서 제공된 복합체 (S1C1)이 단계 (2-i)에서, 및 단계 (2-ii) 및 (3-ii)에서 코팅 (C1)의 엠보싱 구조를 코팅 조성물 (C2a)에 엠보싱 구조로서 전사하기 위한 엠보싱 도구 (E2)의 엠보싱 몰드 (e2)로서 사용되며,Embodiment 12: The complex (S1C1) according to any one of embodiments 1 to 11, wherein the complex (S1C1) provided in step (1) is coated in step (2-i) and in steps (2-ii) and (3-ii) ( used as an embossing mold (e2) of an embossing tool (E2) for transferring the embossing structure of C1) to the coating composition (C2a) as an embossing structure,

여기서 엠보싱 몰드 (e2)로서 사용된 복합체 (S1C1)의 코팅 (C1)의 구조화된 표면의 거울상이, 기판 (S2)에 임의적으로 적용되는, 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C2)의 표면으로 엠보싱가공되는 것인An at least partially embossed and at least partially cured coating (C2), wherein the mirror image of the structured surface of the coating (C1) of the composite (S1C1) used here as the embossing mold (e2) is optionally applied to the substrate (S2) ) that is embossed with the surface of

방법.Way.

실시양태 13: 실시양태 1 내지 12 중 어느 하나에 있어서, 기판 (S1)이 필름 웹, 바람직하게는 이동하는 필름 웹 또는 연속 필름 웹, 보다 바람직하게는 이동하는 연속 필름 웹인 방법.Embodiment 13: The method according to any one of embodiments 1 to 12, wherein the substrate (S1) is a film web, preferably a moving film web or a continuous film web, more preferably a moving continuous film web.

실시양태 14: 실시양태 1 내지 13 중 어느 하나에 있어서, 기판 (S2)가 필름 웹, 바람직하게는 이동하는 필름 웹, 보다 바람직하게는 이동하는 연속 필름 웹인 방법.Embodiment 14: The method according to any one of embodiments 1 to 13, wherein the substrate (S2) is a film web, preferably a moving film web, more preferably a moving continuous film web.

실시양태 15: 실시양태 1 내지 14 중 어느 하나에 있어서, 단계 (2-i), 및 단계 (2-ii) 및 (3-ii)에서 사용된 복합체 (S1C1)이 재사용가능하며, 방법의 단계 (5-i) 또는 (5-ii)가 수행되는 경우에, 적어도 하나의 엠보싱 구조를 전사하기 위해 반복적으로 사용될 수 있는 것인 방법.Embodiment 15: The method according to any one of embodiments 1 to 14, wherein the complex (S1C1) used in step (2-i), and in steps (2-ii) and (3-ii) is reusable, the step of the method wherein (5-i) or (5-ii) is performed, it can be used repeatedly to transfer at least one embossing structure.

실시양태 16: 실시양태 1 내지 15 중 어느 하나에 있어서, 단계 (3-i)의 실행 동안, 단계 (3-i)에서 복합체 (S1C1)이 엠보싱 도구 (E2)로서 기능하는 제1 롤을 통해 인도되고, 복합체 (S2C2a)가 제1 롤과 대향하여 배치되며 그와 역방향-회전하거나 또는 동방향-회전하는 제2 롤을 통해 인도되고,Embodiment 16: The method according to any one of embodiments 1 to 15, wherein during the execution of step (3-i), in step (3-i) the composite (S1C1) is passed through a first roll serving as an embossing tool (E2). being guided, the composite (S2C2a) being guided through a second roll disposed opposite the first roll and counter-rotating or co-rotating therewith,

단계 (3-ii)의 실행 동안, 단계 (3-ii)에서 복합체 (S1C1C2a)가 엠보싱 도구 (E2)로서 기능하는 제1 롤을 통해 인도되고, 단계 (3-ii)에서 사용되는 기판 (S2)가 제1 롤과 대향하여 배치되며 그와 역방향-회전하거나 또는 동방향-회전하는 제2 롤을 통해 인도되는 것인During the execution of step (3-ii), the composite (S1C1C2a) in step (3-ii) is guided through a first roll serving as an embossing tool (E2), and the substrate (S2) used in step (3-ii) ) is directed through a second roll disposed opposite the first roll and counter-rotating or co-rotating therewith.

방법.Way.

실시양태 17: 실시양태 16에 있어서, 단계 (3-i)의 적어도 부분적인 엠보싱가공이 역방향-회전하거나 또는 동방향-회전하는 2개의 서로 대향하고 있는 롤에 의해 형성된 롤 닙의 수준에서 실시되며, 여기서 복합체 (S1C1)의 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 (C1)이 복합체 (S2C2a)의 코팅 조성물 (C2a)와 마주보고 있고,Embodiment 17: The method of embodiment 16, wherein the at least partial embossing of step (3-i) is carried out at the level of a roll nip formed by two counter-rotating or co-rotating mutually opposing rolls , wherein the at least partially embossed coating (C1) of the composite (S1C1) faces the coating composition (C2a) of the composite (S2C2a),

단계 (3-ii)의 적어도 부분적인 엠보싱가공이 역방향-회전하거나 또는 동방향-회전하는 2개의 서로 대향하고 있는 롤에 의해 형성된 롤 닙의 수준에서 실시되며, 여기서 복합체 (S1C1C2a)의 코팅 조성물 (C2a)가 기판 (S2)와 마주보고 있는 것인The at least partial embossing of step (3-ii) is carried out at the level of a roll nip formed by two counter-rotating or co-rotating mutually opposing rolls, wherein the coating composition of the composite (S1C1C2a) ( that C2a) faces the substrate S2

방법.Way.

실시양태 18: 실시양태 1 내지 17 중 어느 하나에 있어서, 단계 (1)에서 제공되는 복합체 (S1C1)이 적어도 하기 단계에 의해 수득가능한 것인 방법:Embodiment 18: The method according to any one of embodiments 1 to 17, wherein the complex (S1C1) provided in step (1) is obtainable by at least the following steps:

(6) 기판 (S1)의 표면의 적어도 일부분에 방사선-경화성 코팅 조성물 (C1a)를 적용하여 복합체 (S1C1a)를 제공하는 단계;(6) applying the radiation-curable coating composition (C1a) to at least a portion of the surface of the substrate (S1) to provide a composite (S1C1a);

(7) 기판 (S1)의 표면에 적어도 부분적으로 적용된 코팅 조성물 (C1a)를 적어도 하나의 엠보싱 몰드 (e1)을 포함하는 적어도 하나의 엠보싱 도구 (E1)에 의해 적어도 부분적으로 엠보싱가공하는 단계;(7) at least partially embossing the coating composition (C1a) at least partially applied to the surface of the substrate (S1) by means of at least one embossing tool (E1) comprising at least one embossing mold (e1);

(8) 기판 (S1)에 적어도 부분적으로 적용된, 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 조성물 (C1a)를, 적어도 부분적인 경화의 지속기간 내내 엠보싱 도구 (E1)의 적어도 하나의 엠보싱 몰드 (e1)과 접촉해 있는 상태로 적어도 부분적으로 경화시키는 단계;(8) contacting the at least partially embossed coating composition (C1a), at least partially applied to the substrate (S1), with at least one embossing mold (e1) of the embossing tool (E1) throughout the duration of at least partial curing at least partially curing it in an intact state;

(9) 복합체 (S1C1)을 엠보싱 도구 (E1)의 엠보싱 몰드 (e1)로부터 또는 그 반대로 제거하여 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 복합체 (S1C1)을 제공하는 단계.(9) removing the composite (S1C1) from the embossing mold (e1) of the embossing tool (E1) or vice versa to provide an at least partially embossed and at least partially cured composite (S1C1).

실시양태 19: 실시양태 18에 있어서, 단계 (6)에서 적어도 하나의 코팅 조성물 (C1a)가 적어도 0.5 μm, 바람직하게는 적어도 1 μm, 보다 바람직하게는 적어도 5 μm의 건조 층 두께로 적용되는 것인 방법.Embodiment 19: The method according to embodiment 18, wherein in step (6) the at least one coating composition (C1a) is applied with a dry layer thickness of at least 0.5 μm, preferably at least 1 μm, more preferably at least 5 μm. how to be.

실시양태 20: 실시양태 1 내지 19 중 어느 하나에 있어서, 코팅 조성물 (C1a)가, 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여, 5 내지 45 중량%, 바람직하게는 8 내지 40 중량%, 보다 바람직하게는 9 내지 35 중량%의 총량으로 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머를 포함하는 것인 방법.Embodiment 20: The composition according to any one of embodiments 1 to 19, wherein the coating composition (C1a) comprises from 5 to 45% by weight, preferably from 8 to 40% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a), more preferably at least one crosslinkable polymer and/or oligomer in a total amount of 9 to 35% by weight.

실시양태 21: 실시양태 1 내지 20 중 어느 하나에 있어서, 코팅 조성물 (C1a)가, 코팅 조성물 (C1a)에 포함된 모든 가교성 중합체 및/또는 올리고머의 총 중량을 기준으로 하여, 적어도 25 중량%, 바람직하게는 적어도 50 중량%, 보다 바람직하게는 적어도 90 중량%, 매우 바람직하게는 100 중량%의 총량으로 적어도 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머, 바람직하게는 정확히 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머, 보다 바람직하게는 평균적으로 2 내지 3개의 불포화 기를 포함하는 정확히 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머를 포함하는 것인 방법.Embodiment 21: the coating composition (C1a) according to any one of embodiments 1 to 20, based on the total weight of all crosslinkable polymers and/or oligomers comprised in the coating composition (C1a), at least 25% by weight , preferably at least 50% by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight of at least one silicone (meth)acrylate oligomer, preferably exactly one silicone (meth)acrylic a rate oligomer, more preferably exactly one silicone (meth)acrylate oligomer comprising on average 2 to 3 unsaturated groups.

실시양태 22: 실시양태 1 내지 21 중 어느 하나에 있어서, 코팅 조성물 (C1a)가, 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여, 5 내지 45 중량%, 바람직하게는 8 내지 40 중량%, 보다 바람직하게는 9 내지 35 중량%의 총량으로 하기로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머를 포함하는 것인 방법: i) 적어도 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머, 바람직하게는 정확히 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머, 매우 바람직하게는 평균적으로 2 내지 3개의 불포화 기를 포함하는 정확히 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머, 및 ii) (메트)아크릴화된 올리고머 또는 중합체 화합물, 우레탄 (메트)아크릴레이트, 비닐 (메트)아크릴레이트, 에폭시 (메트)아크릴레이트, 폴리에스테르 (메트)아크릴레이트, 폴리(메트)아크릴레이트, 폴리에테르 (메트)아크릴레이트, 올레핀 (메트) 아크릴레이트, (메트)아크릴화된 오일, 및 그의 혼합물, 바람직하게는 우레탄 (메트)아크릴레이트 올리고머로부터 선택된 다른 가교성 중합체 및/또는 올리고머.Embodiment 22: The composition according to any one of embodiments 1 to 21, wherein the coating composition (C1a) comprises from 5 to 45% by weight, preferably from 8 to 40% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a), more preferably comprising at least one crosslinkable polymer and/or oligomer selected from the group consisting of: i) at least one silicone (meth)acrylate oligomer, preferably in a total amount of 9 to 35% by weight is exactly one silicone (meth)acrylate oligomer, very preferably exactly one silicone (meth)acrylate oligomer comprising on average 2 to 3 unsaturated groups, and ii) a (meth)acrylated oligomer or polymer compound, Urethane (meth)acrylate, vinyl (meth)acrylate, epoxy (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, poly(meth)acrylate, polyether (meth)acrylate, olefin (meth)acrylate , (meth)acrylated oils, and mixtures thereof, preferably other crosslinkable polymers and/or oligomers selected from urethane (meth)acrylate oligomers.

실시양태 23: 실시양태 1 내지 22 중 어느 하나에 있어서, 코팅 조성물 (C1a)가 반응성 희석제로서 자유-라디칼 중합성 단량체, 바람직하게는 에틸렌계-불포화 단량체, 보다 바람직하게는 다관능성 에틸렌계 불포화 단량체를 포함하는 것인 방법.Embodiment 23: The coating composition (C1a) according to any one of embodiments 1 to 22, wherein the coating composition (C1a) is a reactive diluent free-radically polymerizable monomer, preferably an ethylenically-unsaturated monomer, more preferably a polyfunctional ethylenically unsaturated monomer A method comprising

실시양태 24: 실시양태 1 내지 23 중 어느 하나에 있어서, 코팅 조성물 (C1a)가 헥산 디올 디아크릴레이트 및 화학식 (I)의 서로 상이할 수 있거나 또는 적어도 부분적으로 동일할 수 있는 구조 단위를 적어도 2개, 바람직하게는 적어도 3개, 보다 바람직하게는 3개 포함하는 화합물로부터 선택된 적어도 하나의 반응성 희석제를 포함하는 것인 방법:Embodiment 24: The coating composition (C1a) according to any one of embodiments 1 to 23, wherein the coating composition (C1a) comprises hexane diol diacrylate and at least two structural units of formula (I) which may be different from each other or may be at least partially identical to each other. A method comprising at least one reactive diluent selected from compounds comprising a dog, preferably at least three, more preferably three:

Figure pct00004
Figure pct00004

여기서here

라디칼 R1은 서로 독립적으로 C2-C8 알킬렌 기, 매우 바람직하게는 C2 알킬렌 기이고,The radicals R 1 are, independently of one another, a C 2 -C 8 alkylene group, very preferably a C 2 alkylene group,

라디칼 R2는 서로 독립적으로 H 또는 메틸이고,The radicals R 2 are, independently of one another, H or methyl,

파라미터 m은 서로 독립적으로 1 내지 15, 매우 바람직하게는 1 내지 4 또는 2 내지 4의 범위의 정수이며, 단, 화학식 (I)의 구조 단위 중 적어도 하나에서 파라미터 m은 적어도 2, 바람직하게는 정확히 2이다.parameter m independently of one another is an integer in the range from 1 to 15, very preferably from 1 to 4 or from 2 to 4, provided that in at least one of the structural units of formula (I) the parameter m is at least 2, preferably exactly 2 is

실시양태 25: 실시양태 24에 있어서, 상기 화합물이 화학식 (I)의 동일한 구조 단위를 3개 포함하고, 파라미터 m이 적어도 2, 바람직하게는 정확히 2인 방법.Embodiment 25: The method according to embodiment 24, wherein said compound comprises three identical structural units of formula (I) and the parameter m is at least 2, preferably exactly 2.

실시양태 26: 실시양태 24 또는 25 중 어느 하나에 있어서, 적어도 하나의 반응성 희석제의 화합물이 화학식 (I)의 적어도 2개의 구조 단위를 포함하며, 이는 총 4-배수 내지 20-배수 또는 4-배수 내지 12-배수의 알콕실화가 일어난 네오펜틸 글리콜, 트리메틸올프로판, 트리메틸올에탄 또는 펜타에리트리톨, 바람직하게는 에톡실화된, 프로폭실화된 또는 에톡실화 및 프로폭실화된, 매우 바람직하게는 에톡실화된 네오펜틸 글리콜, 트리메틸올프로판, 트리메틸올에탄 또는 펜타에리트리톨의 (메트)아크릴레이트, 가장 바람직하게는 알콕실화된 트리메틸올프로판으로부터 유래된 (메트)아크릴레이트로부터 선택되는 것인 방법.Embodiment 26: The compound of any one of embodiments 24 or 25, wherein the compound of at least one reactive diluent comprises at least two structural units of formula (I), which total from 4-fold to 20-fold or 4-fold neopentyl glycol, trimethylolpropane, trimethylolethane or pentaerythritol, preferably ethoxylated, propoxylated or ethoxylated and propoxylated, very preferably ethoxylated with a to 12-fold alkoxylation (meth)acrylates of sylated neopentyl glycol, trimethylolpropane, trimethylolethane or pentaerythritol, most preferably (meth)acrylates derived from alkoxylated trimethylolpropane.

실시양태 27: 실시양태 1 내지 6 중 어느 하나에 있어서, 코팅 조성물 (C1a)가, 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여, 40 내지 95 중량%, 바람직하게는 50 내지 85 중량%, 보다 바람직하게는 55 내지 83 중량%의 총량으로 적어도 하나의 반응성 희석제, 바람직하게는 헥산 디올 디아크릴레이트 및/또는 6-배수 에톡실화된 트리메틸올프로판으로부터 유래된 (메트)아크릴레이트를 포함하는 것인 방법.Embodiment 27: The composition according to any one of embodiments 1 to 6, wherein the coating composition (C1a) comprises 40 to 95% by weight, preferably 50 to 85% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a), more preferably comprising (meth)acrylate derived from at least one reactive diluent, preferably hexane diol diacrylate and/or 6-fold ethoxylated trimethylolpropane in a total amount of 55 to 83% by weight how to be.

실시양태 28: 실시양태 1 내지 27 중 어느 하나에 있어서, 코팅 조성물 (C1a)가, 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여, 0.01 내지 15 중량%, 바람직하게는 0.5 내지 10 중량%, 보다 바람직하게는 1 내지 8 중량%의 총량으로 적어도 하나의 광개시제를 포함하는 것인 방법.Embodiment 28: The composition according to any one of embodiments 1 to 27, wherein the coating composition (C1a) comprises from 0.01 to 15% by weight, preferably from 0.5 to 10% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a), more preferably comprising at least one photoinitiator in a total amount of 1 to 8% by weight.

실시양태 29: 실시양태 1 내지 28 중 어느 하나에 있어서, 코팅 조성물 (C1a)에 포함되는 광개시제가 (알킬)-벤조일페닐포스핀 옥시드류를 포함한 포스핀 옥시드류, 벤조페논류, α-히드록시알킬 아릴 케톤류, 티오크산톤류, 안트라퀴논류, 아세토페논류, 벤조인류 및 벤조인 에테르류, 케탈류, 이미다졸류 또는 페닐글리옥실산류 및 그의 혼합물, 바람직하게는 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀 옥시드, 에틸 (2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스피네이트, 페닐비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥시드, 벤조페논, 1-벤조일시클로헥산-1-올, 2-히드록시-2,2-디메틸아세토페논 및 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논 및 그의 혼합물로부터 선택되는 것인 방법.Embodiment 29: The photoinitiator according to any one of embodiments 1 to 28, wherein the photoinitiator included in the coating composition (C1a) is phosphine oxides, including (alkyl)-benzoylphenylphosphine oxides, benzophenones, α-hydroxy Alkyl aryl ketones, thioxanthones, anthraquinones, acetophenones, benzoins and benzoin ethers, ketals, imidazoles or phenylglyoxylic acids and mixtures thereof, preferably diphenyl (2,4, 6-Trimethylbenzoyl)phosphine oxide, ethyl (2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphinate, phenylbis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phosphine oxide, benzophenone, 1-benzoyl cyclohexan-1-ol, 2-hydroxy-2,2-dimethylacetophenone and 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and mixtures thereof.

실시양태 30: 실시양태 1 내지 29 중 어느 하나에 있어서, 코팅 조성물 (C1a)가, 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여, 0.01 내지 5 중량%, 바람직하게는 0.2 또는 0.5 내지 5 중량%, 보다 바람직하게는 0.5 내지 3 중량%의 총량으로 적어도 하나의 첨가제를 포함하는 것인 방법.Embodiment 30: The coating composition (C1a) according to any one of embodiments 1 to 29, based on the total weight of the coating composition (C1a), 0.01 to 5% by weight, preferably 0.2 or 0.5 to 5% by weight %, more preferably 0.5 to 3% by weight of the at least one additive.

실시양태 31: 실시양태 1 내지 30 중 어느 하나에 있어서, 코팅 조성물 (C1a)가, 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여, 10 중량% 미만, 바람직하게는 5 중량% 미만, 보다 바람직하게는 1 중량% 미만의 총량으로 유기 용매를 포함하고, 매우 바람직하게는 유기 용매를 전혀 포함하지 않는 것인 방법.Embodiment 31: The composition according to any one of embodiments 1 to 30, wherein the coating composition (C1a) is less than 10% by weight, preferably less than 5% by weight, more preferably less than 5% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a). preferably comprising an organic solvent in a total amount of less than 1% by weight, and very preferably no organic solvent at all.

실시양태 32: 실시양태 1 내지 30 중 어느 하나에 있어서, 코팅 조성물 (C1a)가, 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여, 90 내지 100 중량%, 바람직하게는 95 내지 100 중량%, 보다 바람직하게는 99 내지 100 중량%의 총량으로 성분 (a), (b), (c) 및 임의적으로 (d)를 포함하는 것인 방법.Embodiment 32: The composition according to any one of embodiments 1 to 30, wherein the coating composition (C1a) comprises from 90 to 100% by weight, preferably from 95 to 100% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a), more preferably comprising components (a), (b), (c) and optionally (d) in a total amount of 99 to 100% by weight.

실시양태 33: 기판 (S1) 및 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)로 구성된 복합체 (S1C1)로서, 여기서 코팅 (C1)은 기판 (S1)의 표면의 적어도 일부분에 적용되고 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 조성물 (C1a)를 방사선 경화에 의해 적어도 부분적으로 경화시킴으로써 수득가능하고, 여기서 코팅 조성물 (C1a)는 하기를 포함하는 방사선-경화성 코팅 조성물이며:Embodiment 33: A composite (S1C1) consisting of a substrate (S1) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1), wherein the coating (C1) is applied to at least a portion of the surface of the substrate (S1) and obtainable by at least partially curing the at least partially embossed coating composition (C1a) by means of radiation curing, wherein the coating composition (C1a) is a radiation-curable coating composition comprising:

(a) 5 내지 45 중량%의 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머,(a) from 5 to 45% by weight of at least one crosslinkable polymer and/or oligomer,

(b) 40 내지 95 중량%의 적어도 하나의 반응성 희석제,(b) 40 to 95% by weight of at least one reactive diluent;

(c) 0.01 내지 15 중량%의 적어도 하나의 광개시제, 및(c) 0.01 to 15% by weight of at least one photoinitiator, and

(d) 0 내지 5 중량%의 적어도 하나의 첨가제;(d) 0 to 5% by weight of at least one additive;

여기서 (i) 성분 (a), (b), (c) 및 (d)의 명시된 총량은 각각 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하는 것이고, (ii) 코팅 조성물 (C1a)에 존재하는 모든 성분의 총량은 그 합계가 100 중량%가 되고;wherein (i) the specified total amounts of components (a), (b), (c) and (d) are each based on the total weight of the coating composition (C1a) and (ii) the amount of components present in the coating composition (C1a) The total amount of all components adds up to 100% by weight;

여기서 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머 (a)는, 코팅 조성물 (C1a)에 포함된 모든 가교성 중합체 및/또는 올리고머의 총 중량을 기준으로 하여, 적어도 25 중량%, 바람직하게는 적어도 50 중량%, 보다 바람직하게는 적어도 90 중량%, 매우 바람직하게는 100 중량%의 총량으로 적어도 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머를 포함하는 것인wherein the at least one crosslinkable polymer and/or oligomer (a) comprises at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, based on the total weight of all crosslinkable polymers and/or oligomers comprised in the coating composition (C1a) at least one silicone (meth)acrylate oligomer in a total amount of % by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight

복합체 (S1C1).complex (S1C1).

실시양태 34: 실시양태 33에 있어서, 복합체 (S1C1)이 실시양태 18 또는 19에 기재된 방법 단계 (6) 내지 (9)의 실행에 의해 수득가능한 것인 복합체 (S1C1).Embodiment 34: The complex (S1C1) according to embodiment 33, wherein the complex (S1C1) is obtainable by carrying out the method steps (6) to (9) described in embodiment 18 or 19.

실시양태 35: 실시양태 33 또는 34에 있어서, 기판 (S1)이 필름 웹, 바람직하게는 이동하는 필름 웹, 보다 바람직하게는 이동하는 연속 필름 웹인 복합체 (S1C1).Embodiment 35 Composite (S1C1) according to embodiment 33 or 34, wherein the substrate (S1) is a film web, preferably a moving film web, more preferably a moving continuous film web.

실시양태 36: 코팅 조성물 (C2a)의 표면의 적어도 일부분에 또는 기판 (S2)에 적어도 부분적으로 적용된 코팅 조성물 (C2a)의 표면의 적어도 일부분에 엠보싱 구조를 전사하기 위한 엠보싱 도구 (E2)의 엠보싱 몰드 (e2)로서의 실시양태 33 내지 35 중 어느 하나에 따른 복합체 (S1C1)의 용도.Embodiment 36: Embossing mold of an embossing tool (E2) for transferring an embossing structure to at least a portion of the surface of the coating composition (C2a) or to at least a portion of the surface of the coating composition (C2a) applied at least partially to the substrate (S2) Use of the complex (S1C1) according to any one of embodiments 33 to 35 as (e2).

실시양태 37: 실시양태 1 내지 5 중 어느 하나에 있어서, 방사선-경화성 코팅 조성물 (C1a)가, 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여, 50 내지 95 중량%, 또는 50 내지 85 중량%, 또는 50 내지 83 중량%의 적어도 하나의 반응성 희석제를 포함하는 것인 방법.Embodiment 37: The composition according to any one of embodiments 1 to 5, wherein the radiation-curable coating composition (C1a) comprises from 50 to 95% by weight, or from 50 to 85% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a). , or 50 to 83% by weight of at least one reactive diluent.

실시양태 38: 실시양태 33 내지 36 중 어느 하나에 있어서, 방사선-경화성 코팅 조성물 (C1a)가, 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여, 50 내지 95 중량%, 또는 50 내지 85 중량%, 또는 50 내지 83 중량%의 적어도 하나의 반응성 희석제를 포함하는 것인 복합체.Embodiment 38: The composition of any one of embodiments 33 to 36, wherein the radiation-curable coating composition (C1a) comprises from 50 to 95% by weight, or from 50 to 85% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a). , or 50 to 83% by weight of at least one reactive diluent.

결정 방법How to decide

1 . 몰드 충전의 결정 1 . Determination of mold filling

몰드 충전은 상업용 스캐닝 전자 현미경 (SEM)에 의해 결정된다. SEM에 의해, 예를 들어, 엠보싱가공 후에, 예를 들어 10 nm 내지 1000 μm의 구조 폭 및 1 nm 내지 1000 μm의 범위의 구조 깊이의 특색부를 갖는 상이한 마스터 필름 (S1C1)의 한정된 격자 구조의 표면 토포그래피를 상응하게 비교하는 것이 가능하다. 삼각형 형상의 구조의 끝 부분과 같은 뾰족한 특색부가 완전히 복제된다면, 몰드 충전이 완전한 것으로 간주된다. 상이한 마스터 필름 (S1C1)의 표면 토포그래피의 비교 뿐만 아니라, 몰드 충전이 또한 비교될 수 있다.Mold filling is determined by commercial scanning electron microscopy (SEM). Surfaces of defined lattice structures of different master films (S1C1), for example after embossing, by SEM, with features of, for example, a structure width in the range of 10 nm to 1000 μm and a structure depth in the range of 1 nm to 1000 μm It is possible to compare the topography correspondingly. Mold filling is considered complete if a pointed feature, such as the tip of a triangular-shaped structure, is fully replicated. A comparison of the surface topography of the different master films (S1C1) as well as the mold filling can also be compared.

2.2. 유동 시간의 결정Determination of flow time

유동 시간은 DIN EN ISO 2431 (날짜: 2012년 3월)에 따라 결정된다. 방법은 실온 (20℃)에서 4 mm 유량측정 컵 (No. 4), 5 mm 유량측정 컵 (No. 5) 또는 6 mm 유량측정 컵 (No. 6)에 의해 유동 시간을 결정하는 것을 수반한다.The flow time is determined according to DIN EN ISO 2431 (date: March 2012). The method involves determining the flow time by means of a 4 mm flowmeter cup (No. 4), 5 mm flowmeter cup (No. 5) or 6 mm flowmeter cup (No. 6) at room temperature (20° C.) .

4 mm 유량측정 컵으로 측정된 40 또는 50 내지 100 s, 5 mm 유량측정 컵으로 측정된 30 내지 100 s, 및 6 mm 유량측정 컵으로 측정된 30 내지 200 s, 바람직하게는 30 내지 150 s, 보다 바람직하게는 30 내지 115 s의 범위의 유동 시간이 허용가능한 것으로 간주된다. 따라서, 6 mm 유량측정 컵으로 > 200 s의 유동 시간을 갖는 코팅 조성물은 유리하지 않은 것으로 간주되는데, 이는 코팅 조성물이 기판 또는 복합체의 전체 폭에 걸쳐 균일한 층 두께로 충분히 신속하게 확산되지 않아 몰드 충전 및 복제의 품질이 저하될 것이고, 유동 시간이 증가할수록 적용된 코팅 조성물에 공기가 혼입될 위험도 증가하기 때문이다. 한편, 4 mm 유량측정 컵으로 < 40 또는 50 s의 유동 시간은, 코팅 조성물이 예를 들어 롤-투-롤 (R2R) 엠보싱 장치에서 적용되는 경우에 기판에서 그냥 흘러내리고, 이로 인해 충분한 몰드 충전 및 전사 품질로 마이크로구조 및 나노구조를 엠보싱가공하기에 충분한 층 두께를 가능하게 하는 층 내에서의 충분한 응집성을 제공하지 못하기 때문에 불리한 것으로 간주된다.40 or 50 to 100 s measured with a 4 mm flowmeter cup, 30 to 100 s measured with a 5 mm flowmeter cup, and 30 to 200 s, preferably 30 to 150 s, measured with a 6 mm flowmeter cup, More preferably a flow time in the range of 30 to 115 s is considered acceptable. Therefore, a coating composition with a flow time of > 200 s into a 6 mm rheometer cup is considered unfavorable, as the coating composition does not spread quickly enough to a uniform layer thickness over the entire width of the substrate or composite, resulting in a molded mold. This is because the quality of filling and duplication will deteriorate, and the risk of air entrainment in the applied coating composition increases as the flow time increases. On the other hand, a flow time of < 40 or 50 s with a 4 mm rheometer cup simply flows off the substrate when the coating composition is applied, for example, in a roll-to-roll (R2R) embossing device, which results in sufficient mold filling and because it does not provide sufficient cohesiveness within the layer to allow sufficient layer thickness to emboss microstructures and nanostructures with transfer quality.

33 .. 접착력의 결정Determination of Adhesion

3.13.1 크로스 해치 테스트 cross hatch test

접착력은 DIN EN ISO 2409 (날짜: 2013년 6월)에 따라 크로스 해치 테스트에 의해 결정된다. 이 테스트로, 중복 결정에 의해, 검사 중인 코팅 층의 기판에 대한 접착력을 시험한다. 2 mm의 절단 간격을 갖는 빅 가드너(Byk Gardner)로부터의 크로스 해치 테스터를 수동으로 사용한다. 그 다음에, 테사(Tesa) 테이프 No. 4651을 손상을 가한 면적 위로 프레싱하고 박리하여 층분리된 영역을 제거한다. 0 (최소한의 층분리) 내지 5 (매우 큰 층분리)의 범위의 특징화 값에 기반하여 평가가 이루어진다. 3.5 이하의 평균 값이 충분한 것으로 분류된다.The adhesion is determined by a cross hatch test according to DIN EN ISO 2409 (date: June 2013). With this test, the adhesion of the coating layer under inspection to the substrate is tested by redundancy determination. A cross hatch tester from Byk Gardner with a cut gap of 2 mm is used manually. Then, Tesa tape No. 4651 is pressed over the damaged area and peeled off to remove the delaminated areas. Evaluations are made based on characterization values ranging from 0 (minimal delamination) to 5 (very large delamination). An average value of 3.5 or less is classified as sufficient.

3.23.2 X자형 절단(St. Andrew's cross) X-shaped cut (St. Andrew's cross)

접착력은 전용 크로스-컷 테스트에 의해 결정된다. 이 테스트에서는, 수동으로 스칼펠에 의해 코팅 층을 X자형 (길이: 10 cm, 각도: 45°)으로 절단한다. 그 다음에, 테사 테이프 No. 4651을 손상을 가한 면적 위로 프레싱하고 박리하여 층분리된 영역을 제거한다. 코팅 층이 절단 및/또는 테이프의 박리 후에 가시적인 층분리를 제시하지 않는다면, 코팅 층의 접착력은 "합격"으로 등급이 매겨진다. 코팅 층이 절단 및/또는 테이프의 박리 후에 가시적인 층분리를 제시한다면, 코팅 층의 접착력은 "불합격"으로 등급이 매겨진다.Adhesion is determined by a dedicated cross-cut test. In this test, the coating layer is cut in an X shape (length: 10 cm, angle: 45°) by manual scalpel. Then, tesa tape No. 4651 is pressed over the damaged area and peeled off to remove the delaminated areas. If the coating layer does not show visible delamination after cutting and/or peeling of the tape, the adhesion of the coating layer is rated "Pass". If the coating layer shows visible delamination after cutting and/or peeling of the tape, the adhesion of the coating layer is rated "fail".

44 .. 복제 성공률의 결정Determination of replication success rate

복제 성공률은 시각적으로, 성공적으로 복제된 면적의 퍼센트 분율을 확인하는 것으로 결정된다. 여기서 0% 내지 100%의 성공적으로 복제된 면적의 범위가 존재한다. 100% 미만의 면적이 복제된다면, 이는 상응하는 분율의 면적이 엠보싱 몰드로부터 제거될 수 없었다는 것을 의미하는데, 다시 말해서 S1C1 형태의 코팅 C1이 엠보싱 도구 (E1)의 엠보싱 몰드 (e1)에 부분적으로 점착되어 잔류하거나, 또는 코팅 C2가 분리 후에 복합체 (S1C1)에 부분적으로 점착되어 잔류한다는 것을 의미한다.The replication success rate is determined by visually identifying the percentage fraction of the area successfully replicated. Here there is a range of areas successfully replicated from 0% to 100%. If less than 100% of the area is replicated, this means that a corresponding fraction of the area could not be removed from the embossing mold, that is to say that the coating C1 in the form S1C1 partially adheres to the embossing mold (e1) of the embossing tool (E1). It means that it remains, or that the coating C2 remains partially adhered to the composite (S1C1) after separation.

55 .. 층 두께 분포의 결정Determination of layer thickness distribution

층 두께 분포는 각인된 구조를 포함한 복합체 S1C1의 층 두께를 측정하는 것에 의해 결정된다. 다시 말해서, 적층체 S1C1에 대해 결정되는 전체 두께는 기판 S1, 코팅 C1의 잔류 층, 및 코팅 C1의 내부에 또는 외부에 형성된 구조의 개별 높이의 합계이다. 두께는 DIN EN ISO 2808 (날짜: 2007년 5월)의 절차 12A에 따라, F1.6 프로브 (측정 불확도: ± (1% + 1 μm))와 조합된 일렉트로피지크(ElektroPhysik)의 미니테스트(MiniTest)® 2100 마이크로프로세서 코팅 두께 측정기에 의해 결정되었다. 강자성 기판이 존재하지 않는 경우에는, 복합체 S1C1을 평평한 강자성 플레이트에 올려 놓고 측정을 수행하였다. S1C1의 15 cm x 15 cm의 패치 상의 3x3 매트릭스로 배열된 9개의 미리 정한 포인트에서 층 두께를 결정한다. 모든 측정 포인트는 서로 5 cm 이격되어 있으며, 제1 측정 포인트 또는 시작 측정 포인트는 S1C1의 15 cm x 15 cm의 패치의 상단으로부터 2.5 cm 그리고 좌측으로부터 2.5 cm에 있다. 따라서, 제2 측정 포인트는 S1C1의 15 cm x 15 cm의 패치의 상단으로부터 2.5 cm 그리고 좌측으로부터 7.5 cm에 위치해 있다.The layer thickness distribution is determined by measuring the layer thickness of the composite S1C1 with the imprinted structure. In other words, the total thickness determined for the laminate S1C1 is the sum of the individual heights of the substrate S1, the remaining layers of the coating C1, and the structures formed inside or outside the coating C1. The thickness is according to procedure 12A of DIN EN ISO 2808 (date: May 2007), minitest by ElectroPhysik in combination with a F1.6 probe (measurement uncertainty: ± (1% + 1 μm)) ( MiniTest)® 2100 microprocessor coating thickness gauge. In the absence of a ferromagnetic substrate, the composite S1C1 was placed on a flat ferromagnetic plate and measurements were performed. Determine the layer thickness at nine predefined points arranged in a 3x3 matrix on a 15 cm x 15 cm patch of S1C1. All measurement points are spaced 5 cm apart from each other, and the first measurement point or starting measurement point is 2.5 cm from the top and 2.5 cm from the left side of the 15 cm x 15 cm patch of S1C1. Accordingly, the second measurement point is located 2.5 cm from the top and 7.5 cm from the left side of the 15 cm x 15 cm patch of S1C1.

66 .. 가요성의 결정Determination of flexibility

각각의 복합체 (S1C1)의 가요성은 복합체를 180° 접는 것에 의해 결정되었다. 접는 동안 및/또는 접은 후에 코팅 (C1) 내에서 가시적인 균열 및/또는 손상이 관찰되지 않았다면, 등급은 "합격"이다. 접는 동안 및/또는 접은 후에 코팅 (C1) 내에서 가시적인 균열 및/또는 손상이 관찰되었다면, 등급은 "불합격"이다.The flexibility of each composite (S1C1) was determined by folding the composite by 180°. If no visible cracks and/or damage were observed in the coating (C1) during and/or after folding, the rating is “Pass”. If visible cracks and/or damage are observed in the coating (C1) during and/or after folding, the rating is “fail”.

본 발명의 실시예 및 비교 실시예Examples of the present invention and comparative examples

하기의 본 발명의 실시예 및 비교 실시예는 본 발명을 예시하기 위해 제공되지만, 어떠한 제한을 부여하는 것으로 해석되어서는 안된다.The following inventive and comparative examples are provided to illustrate the invention, but should not be construed as imposing any limitation.

달리 지시되지 않는 한, 부 단위로 나타낸 양은 중량부이고, 퍼센트 단위로 나타낸 양은 각각의 경우에 중량 백분율이다.Unless otherwise indicated, amounts expressed in parts are parts by weight, and amounts expressed in percent are in each case a percentage by weight.

1.One. 사용된 성분 및 물질 Ingredients and Substances Used

호스타판(Hostaphan)® GN CT01B - 코팅의 접착력의 개선을 위해 양면이 화학적으로 처리되었으며, 175 μm의 층 두께를 갖는, 상업적으로 입수가능한 PET 필름.Hostaphan® GN CT01B - a commercially available PET film with a layer thickness of 175 μm, chemically treated on both sides to improve the adhesion of the coating.

잉크 및 코팅, 특히 UV 경화 잉크에 대한 향상된 접착력을 위해 양면이 우레탄 코팅되었으며, 125 μm의 층 두께를 갖는, 한국 소재의 SKC에 의해 제공되는 상업적으로 입수가능한 PET 필름.A commercially available PET film provided by SKC, Korea, having a layer thickness of 125 μm, urethane coated on both sides for improved adhesion to inks and coatings, especially UV curing inks.

라로머(Laromer)® UA 9033 (L UA 9033) - 바스프 에스이(BASF SE)로부터의 지방족 우레탄 아크릴레이트Laromer® UA 9033 (L UA 9033) - aliphatic urethane acrylates from BASF SE

라로머® UA 9089 (L UA 9089) - 바스프 에스이로부터의 지방족 우레탄 아크릴레이트Laromer® UA 9089 (L UA 9089) - aliphatic urethane acrylates from BASF SE

헥산디올 디아크릴레이트 (HDDA)Hexanediol Diacrylate (HDDA)

히드록시프로필아크릴레이트 (HPA)Hydroxypropyl acrylate (HPA)

사토머® CN9800 (CN9800) - 사토머로부터의 지방족 실리콘 아크릴레이트Sartomer® CN9800 (CN9800) - aliphatic silicone acrylate from Sartomer

사토머® 499 (SR 499) - 사토머로부터의 6-배수 에톡실화된 TMPTA (트리메틸올프로판 트리아크릴레이트)Sartomer® 499 (SR 499) - 6-fold ethoxylated TMPTA from Sartomer (trimethylolpropane triacrylate)

사토머® SR 344 (아르케마 인크.(Arkema Inc.))-폴리에틸렌 글리콜 (400) 디아크릴레이트Sartomer® SR 344 (Arkema Inc.)-polyethylene glycol (400) diacrylate

이르가큐어® 184 (I-184) - 바스프 에스이로부터 상업적으로 입수가능한 광개시제Irgacure® 184 (I-184) - photoinitiator commercially available from BASF SE

이르가큐어® TPO-L (I-TPO-L) - 바스프 에스이로부터 상업적으로 입수가능한 광개시제Irgacure® TPO-L (I-TPO-L) - photoinitiator commercially available from BASF SE

테고® Rad 2500 (TR 2500) - 에보닉(Evonik)으로부터의 윤활 및 블로킹방지 첨가제 (실리콘 아크릴레이트)TEGO® Rad 2500 (TR 2500) - Lubricating and anti-blocking additive from Evonik (silicone acrylate)

2.2. 실시예 Example

2.12.1 본 발명에 따른 코팅 조성물 (C1a) (C1a-1) 및 상응하는 비교 코팅 조성물 (C1a-2)의 제조 Preparation of coating compositions according to the invention (C1a) (C1a-1) and the corresponding comparative coating compositions (C1a-2)

복합체 (S1C1)의 제조를 위한 코팅 조성물 (C1a)로서 적합한 코팅 조성물을 하기 표 1에 따라 제조하였다. 실온 (20℃)에서 확인된 유동 시간은 C1a-5 및 C1a-9의 제조의 경우에 26 내지 172 s의 범위에 있다.A coating composition suitable as a coating composition (C1a) for the preparation of the composite (S1C1) was prepared according to Table 1 below. The flow times found at room temperature (20° C.) range from 26 to 172 s for the preparations of C1a-5 and C1a-9.

표 1: 코팅 조성물 (C1a)Table 1: Coating composition (C1a)

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Figure pct00005

*본 발명의 실시예* embodiment of the present invention

코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여 40 내지 80 중량%의 반응성 희석제의 총량을 갖는 본 발명의 실시예 C1a-2 내지 C1a-8의, 상기 항목 2. (유동 시간의 결정)에 기재된 바와 같은 방법에 의해 결정된 유동 시간은 4 mm 유량측정 컵으로 측정된 50 s 내지 6 mm 유량측정 컵으로 측정된 200 s의 허용가능한 범위에 포함된다. 비교 실시예 C1a-1 (반응성 희석제의 총량 35 중량%), C1a-10 (반응성 희석제의 총량 25 중량%) 및 C1a-11 (반응성 희석제의 총량 25 중량%, KR 2009/0068490 A의 실시예 1에 따른 조성물)의 유동 시간은 불리하게 높기 때문에, 허용가능하지 않다.as described in item 2. (determination of flow time) of inventive examples C1a-2 to C1a-8 having a total amount of reactive diluent of 40 to 80% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a) The flow time determined by the method as described falls within the acceptable range of 50 s measured with a 4 mm flowmeter cup to 200 s measured with a 6 mm flowmeter cup. Comparative Examples C1a-1 (total amount of reactive diluent 35% by weight), C1a-10 (total amount of reactive diluent 25% by weight) and C1a-11 (total amount of reactive diluent 25% by weight, Example 1 of KR 2009/0068490 A) The flow times of the compositions according to

2.22.2 본 발명에 따른 코팅 조성물 (C1a-5) 및 비교 코팅 조성물 (C1a-9)를 사용하는 복합체 (S1C1)의 제조 Preparation of composites (S1C1) using the coating composition according to the invention (C1a-5) and the comparative coating composition (C1a-9)

하기 표 2에 따라 다수의 상이한 복합체 (S1C1)을 엠보싱가공하려는 구조의 목적하는 상을 보유하는 니켈로 만들어진 엠보싱 몰드 (e1)을 갖는 롤-투-플레이트 (R2P) 엠보싱 장치를 사용하여 제조한다. 여기서, 엠보싱 몰드 (e1)의 구조의 상은 후속 단계에서 코팅 조성물 (C2a)로 엠보싱가공될 구조의 상에 상응한다.According to Table 2 below, a number of different composites (S1C1) are prepared using a roll-to-plate (R2P) embossing machine with an embossing mold (e1) made of nickel which holds the desired phase of the structure to be embossed. Here, the phase of the structure of the embossing mold (e1) corresponds to the phase of the structure to be embossed with the coating composition (C2a) in a subsequent step.

이들 실시예에서, 상이한 원본 구조를 갖는, 구체적으로는 하기를 갖는 니켈로 만들어진 엠보싱 몰드 (e1)이 사용되었다:In these examples, an embossing mold (e1) made of nickel having a different original structure, specifically having:

Figure pct00006
61 μm의 높이 및 130 μm의 주기적 반복을 갖는 마이크로구조 M1 (3차원적 삼각형 구조), 또는
Figure pct00006
microstructure M1 (three-dimensional triangular structure) with a height of 61 μm and periodic repetition of 130 μm, or

Figure pct00007
42 μm의 높이를 가지며 구조간 55 μm 이격되어 있는 마이크로구조 M2 (2차원적 삼각형 구조).
Figure pct00007
Microstructure M2 (two-dimensional triangular structure) with a height of 42 μm and separated by 55 μm between structures.

이러한 목적을 위해, 상기 기재된 코팅 조성물 C1a-5 및 C1a-9를 각각 엠보싱 도구 (E1)의 엠보싱 몰드 (e1)에 적용하고, 기판 (S1)로서의 PET 필름을 여기에 적용한다. 이어서, 필름 및 각각의 코팅 조성물로 생성된 적층체를 프레싱 롤 아래를 통해 이동시키고, 엠보싱 장치가 각각의 적층체의 코팅 조성물과 여전히 접촉해 있는 동안에, 코팅 조성물을 UV-LED 램프에 의해 적어도 부분적으로 경화시킨다. 그 다음에, 엠보싱 몰드 (e1)에 대비되는 반전 구조를 갖는, 적어도 부분적으로 경화된 코팅을 필름과 함께 엠보싱 장치로부터 분리하여 복합체 (S1C1)로서의 구조화된 필름 (마스터 필름)을 제공한다. 그 다음에, 마스터 필름을 UVA 램프에 후속-노출시킨다. 표에서 기호 "-"는 특별한 후속-경화가 수행되지 않았다는 것을 나타낸다.For this purpose, the coating compositions C1a-5 and C1a-9 described above are respectively applied to the embossing mold (e1) of the embossing tool (E1), and a PET film as substrate (S1) is applied thereto. The film and the resulting laminate with each coating composition are then moved through under a pressing roll, and while the embossing device is still in contact with the coating composition of each laminate, the coating composition is at least partially applied by means of a UV-LED lamp. hardened with Then, the at least partially cured coating, having an inverted structure as opposed to the embossing mold (e1), is separated from the embossing apparatus together with the film to provide a structured film (master film) as a composite (S1C1). The master film is then post-exposed to a UVA lamp. The symbol "-" in the table indicates that no special post-cure was performed.

표 2: 제조 파라미터Table 2: Manufacturing parameters

Figure pct00008
Figure pct00008

마이크로구조 M1을 갖는 마스터 필름 A 및 B는 몰드 충전 품질, 접착력, 및 복제 성공률을 결정하기 위해 사용되고 - 섹션 2.3.1 참조 - 또한 하기 항목 2.4 내지 2.5.2에 기재된 바와 같은 전사 필름의 제조 및 그에 대한 검사를 위해 사용된다. 마이크로구조 M2를 갖는 마스터 필름 C, D, E 및 F는 하기 섹션 2.3.2에 기재된 바와 같은 층 두께 균일성의 결정을 위해 사용된다. 이들 마스터 필름을 제조하기 위해, 코팅 조성물 (C1a-5) 및 (C1a-9)가 사용되고, 상응하게 코팅 (C1)이 코팅 조성물 (C1a-5) 또는 (C1a-9)로부터 각각 유래된 코팅 (C1-5) 또는 (C1-9)이며, 엠보싱 구조로서 마이크로구조 M1 또는 M2를 갖는 복합체 (S1C1)이 수득된다.Master films A and B with microstructure M1 were used to determine mold fill quality, adhesion, and replication success rate - see section 2.3.1 - also for the preparation of transfer films as described in items 2.4 to 2.5.2 below and thereto used for inspection. Master films C, D, E and F with microstructure M2 were used for the determination of layer thickness uniformity as described in Section 2.3.2 below. To prepare these master films, coating compositions (C1a-5) and (C1a-9) are used, correspondingly coatings (C1) derived from coating compositions (C1a-5) or (C1a-9) respectively ( C1-5) or (C1-9), and a composite (S1C1) having a microstructure M1 or M2 as the embossed structure is obtained.

또 다른 일련의 실험에서, 복합체 (S1C1)을 표 2에 제시된 바와 같은 "마스터 필름 C"의 제조 파라미터에 따라 제조하는데, 여기서 코팅 조성물 (C1a-5)를 각각 표 1에 제시된 바와 같은 코팅 조성물 (C1a-1) 내지 (C1a-8), (C1a-10) 또는 (C1a-11) 중 하나로 대체하여 마스터 필름 G 내지 P를 제공하였다.In another series of experiments, a composite (S1C1) was prepared according to the manufacturing parameters of "Master Film C" as shown in Table 2, wherein the coating composition (C1a-5) was each prepared according to the coating composition as shown in Table 1 ( Substituted with one of C1a-1) to (C1a-8), (C1a-10) or (C1a-11) to provide master films G to P.

코팅 조성물 (C1a-1) 내지 (C1a-8), (C1a-10) 또는 (C1a-11)로부터 제조된 마스터 필름 G 내지 P는 모두 203 내지 225 μm의 범위의 허용가능한 층 두께를 제시하였다. 제조 7일 후에 상기 항목 6.에 기재된 방법에 따라 결정된, 마스터 필름 G 내지 O의 가요성은 "합격"이었다. 비교 코팅 조성물 (C1a-11)로부터 제조된 마스터 필름 P의 가요성만이 "불합격"이었다. 게다가, 올림푸스(Olympus) SZX12 입체 현미경으로 마스터 필름 G 내지 P를 관찰한 결과, 비교 코팅 조성물 (C1a-11)로부터 제조된 마스터 필름 P의 경우에 허용되지 않는 양의 공기 혼입이 밝혀졌다.Master films G to P prepared from the coating compositions (C1a-1) to (C1a-8), (C1a-10) or (C1a-11) all presented acceptable layer thicknesses in the range of 203 to 225 μm. The flexibility of the master films G to O, as determined according to the method described in item 6. above, after 7 days of manufacture was "Pass". Only the flexibility of the master film P made from the comparative coating composition (C1a-11) was "failed". Moreover, observation of master films G to P with an Olympus SZX12 stereo microscope revealed unacceptable amounts of air entrainment in the case of master films P prepared from comparative coating compositions (C1a-11).

2.32.3 마스터 필름 (S1C1)에 대한 검사 Inspection for Master Film (S1C1)

2.3.12.3.1 접착력 및 몰드 충전의 결정. Determination of adhesion and mold filling.

하기 표 3에 마스터 필름 A 및 B에 대해 수행된 검사가 요약되어 있다. 각각의 검사는 상기 기재된 방법에 따라 수행되었다.Table 3 below summarizes the tests performed on master films A and B. Each test was performed according to the method described above.

표 3:Table 3:

Figure pct00009
Figure pct00009

표 3의 데이터는 본 발명의 마스터 필름 A의 우수한 접착력 (크로스 해치 테스트 및 X자형 절단 테스트)을, 비교 마스터 필름 B로 달성되는 불충분한 접착력 (크로스 해치 테스트에서는 5의 등급을 갖는 것으로 평가되었고, X자형 절단 테스트에서는 부정적임)과 비교하여 제시한다. 기판 (S1)에 대한 마스터 코팅 (C1)의 접착력, 이들 실시예에서는 PET 필름에 대한 코팅 조성물 (C1-5) 및 (C1-9)의 접착력이 불충분하다면, 코팅 조성물 (C1a) 및 또한 후속적으로 마스터 필름을 엠보싱 몰드 (e2)로서 사용할 때의 코팅 조성물 (C2a)의 엠보싱가공 동안 양쪽 모두에서 문제가 발생할 수 있다.The data in Table 3 show that the excellent adhesion of the master film A of the present invention (cross hatch test and X-cut test), the insufficient adhesion achieved with the comparative master film B (cross hatch test, it was evaluated as having a rating of 5, Negative in the X-cut test) compared to present. If the adhesion of the master coating (C1) to the substrate (S1), in these examples, of the coating compositions (C1-5) and (C1-9) to the PET film, is insufficient, the coating composition (C1a) and also the subsequent In both cases, problems may arise during the embossing of the coating composition (C2a) when the master film is used as the embossing mold (e2).

마스터 필름 A의 복제 성공률은 마스터 필름 B의 복제 성공률만큼 우수하게 유지되었다 (표 3, 복제 성공률). 따라서, 본 발명에 따라 이용가능한 코팅 조성물의 경우에도, 엠보싱 몰드 (e1) 상에 잔류물이 남지 않았다.The replication success rate of master film A remained as good as that of master film B (Table 3, replication success rate). Thus, even with the coating composition usable according to the invention, no residue was left on the embossing mold (e1).

마스터 필름 A 및 B의 몰드 충전을 상기 기재된 바와 같이, 기판 (S1)에 적용된 코팅 조성물 (C1a)로 엠보싱 도구 (E1)의 엠보싱 몰드 (e1)에 의해 엠보싱가공된 삼각형 특색부를 시각적으로 검사하고 그의 SEM 영상을 비교함으로써 결정하였다 (도 3). 마스터 필름 A 및 B의 SEM 영상의 비교는, 뾰족한 세부양식 예컨대 모서리 및 삼각형 특색부를 포함한 구조의 엠보싱 몰드로부터 코팅 조성물 (C1a)로의 완전하면서도 비슷한 전사를 제시한다. 이와 같이, 본 발명에 따라 (C1a)의 코팅 조성물에 다량의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머를 도입하는 것이, 코팅 조성물 (C1a-5) 및 (C1a-9)의 상이한 표면 장력으로 인해 예상될 수 있었던 몰드 충전 품질의 저하를 전혀 초래하지 않았다. 따라서, 코팅 조성물 C1a-1 및 C1a-2 양쪽 모두에서 몰드의 반전 특색부의 완전하면서도 비슷한 충전이 관찰되었다.The mold filling of the master films A and B, as described above, was visually inspected for triangular features embossed by the embossing mold (e1) of the embossing tool (E1) with the coating composition (C1a) applied to the substrate (S1) and its It was determined by comparing the SEM images (FIG. 3). Comparison of SEM images of master films A and B reveals a complete and comparable transfer from the embossing mold to the coating composition (C1a) of structures including pointed details such as corners and triangular features. As such, the introduction of a large amount of silicone (meth)acrylate oligomer into the coating composition of (C1a) according to the present invention can be expected due to the different surface tensions of the coating compositions (C1a-5) and (C1a-9). It did not cause any deterioration in mold filling quality. Thus, complete and comparable filling of the inverted features of the mold was observed in both coating compositions C1a-1 and C1a-2.

요약하면, 마스터 필름 A만이 검사된 모든 특성 (접착력, 몰드 충전, 및 복제 성공률)과 관련하여 우수한 결과를 제공한다고 할 수 있다.In summary, it can be said that only Master Film A gave excellent results with respect to all properties tested (adhesion, mold filling, and replication success rate).

2.3.22.3.2 층 두께 균일성의 결정 Determination of layer thickness uniformity

하기 표 4에 마스터 필름 C, D, E 및 F에 대해 수행된 검사가 요약되어 있다. 각각의 검사는 상기 기재된 방법에 따라 수행되었다. 이러한 일련의 실험에서 코팅 조성물을 적용하기 위한 코팅기의 적용 압력 (3.3 bar) 및 슬롯 크기 (3.28 mm)는 동일하였다.Table 4 below summarizes the tests performed on master films C, D, E and F. Each test was performed according to the method described above. In this series of experiments, the application pressure (3.3 bar) and slot size (3.28 mm) of the coater for applying the coating composition were the same.

표 4:Table 4:

Figure pct00010
Figure pct00010

표 4의 데이터는 두 공정 속도에서 본 발명에 따라 이용된 마스터 필름 C 및 E에 대해 결정된 층 두께에서의 최대 차이 (최소 층 두께 (S1C1)에서 최대 층 두께 (S1C1)로의 변화량)가 비교 마스터 필름 D 및 F와 비교하여 크게 감소한 것을 제시하며, 이는 또한 훨씬 작은 표준 편차에 의해서도 반영된다. 게다가, 적용된 코팅 조성물의 층 두께가 훨씬 더 균일할 뿐만 아니라, 또한 평균 층 두께 자체도 증가될 수 있었다.The data in Table 4 show that the maximum difference (the amount of change from the minimum layer thickness (S1C1) to the maximum layer thickness (S1C1)) in the layer thicknesses determined for the master films C and E used according to the invention at two process rates is a comparative master film We present a significant decrease compared to D and F, which is also reflected by the much smaller standard deviation. Moreover, not only the layer thickness of the applied coating composition is much more uniform, but also the average layer thickness itself could be increased.

마스터 코팅 (C1a)의 층 두께가 기판 (S1)의 폭에 걸쳐 너무 불균일하다면, 코팅 조성물 (C1a) 및 또한 후속적으로 코팅 조성물 (C2a)의 엠보싱가공 동안 양쪽 모두에서 문제가 발생할 수 있다. 엠보싱 도구 (E1)의 엠보싱 몰드 (e1)로부터 구조의 상이 복제되는 품질은, 특히 보다 큰 치수에서, 코팅 조성물 (C1a)의 층 두께가 균일할수록 일반적으로 개선되는데, 이는 엠보싱 도구 (E1)의 엠보싱 몰드 (e1)의 원본 특색부를 코팅 조성물 (C1a)로 압인하기 위해 적용되는 압력이 균등하게 분배되어, 엠보싱 도구의 전체 폭에 걸쳐 대등한 압인을 가능하게 하기 때문이다. 따라서, 코팅 조성물 (C1a)의 균일한 층 두께가 필름의 전체 또는 거의 전체 폭에 걸쳐 균일한 잔류 층을 갖는 코팅 (C1)에서의 엠보싱 몰드 (e1)의 특색부의 보다 우수한 복제 품질을 초래할 것이다. 그 결과, 엠보싱 몰드 자체로서, 예컨대 엠보싱 몰드 (e2)로서 복합체 (S1C1)을 이용하는 경우에, 코팅 (C1)의 균일한 층 두께가, 이 경우에도 복합체 (S1C1)에 적용되는 압력이 전체 복합체 (S1C1)에 걸쳐 보다 대등하게 분배되어, 코팅 조성물 (C2a)에서의 엠보싱 구조의 보다 우수한 복제 품질 및 재현성이 보다 큰 전사를 가능하게 하기 때문에, 엠보싱 구조의 코팅 조성물 (C2a)로의 개선된 전사를 가능하게 할 것이다.If the layer thickness of the master coating (C1a) is too non-uniform over the width of the substrate (S1), problems may arise both during embossing of the coating composition (C1a) and also subsequently of the coating composition (C2a). The quality with which the phase of the structure is reproduced from the embossing mold (e1) of the embossing tool (E1) is generally improved, especially in larger dimensions, with a more uniform layer thickness of the coating composition (C1a), which is This is because the pressure applied to imprint the original features of the mold (e1) with the coating composition (C1a) is evenly distributed, enabling equal imprinting over the entire width of the embossing tool. Thus, a uniform layer thickness of the coating composition (C1a) will result in a better quality of reproduction of the features of the embossing mold (e1) in the coating (C1) with a uniform residual layer over the entire or almost the entire width of the film. As a result, in the case of using the composite (S1C1) as the embossing mold itself, for example as the embossing mold (e2), a uniform layer thickness of the coating (C1) is achieved so that the pressure applied to the composite (S1C1) is also in this case the overall composite ( improved transfer of the embossed structure into the coating composition (C2a), as it is more evenly distributed over S1C1), the better replication quality and reproducibility of the embossed structure in the coating composition (C2a) allows for greater transfer will make

요약하면, 마스터 필름 C 및 E의 층 두께의 균일성이 마스터 필름 D 및 F와 비교하여 크게 개선되었다고 할 수 있다.In summary, it can be said that the uniformity of the layer thickness of the master films C and E is greatly improved compared with the master films D and F.

2.42.4 전사 필름 (S1C1C2)의 제조: Preparation of transfer film (S1C1C2):

각각 구조 M1을 갖는, 수득된 마스터 필름 (S1C1)을 이어서 각각 롤-투-플레이트 (R2P) 엠보싱 장치에 사용하고, 코팅 조성물 (C2a)를 각각의 마스터 필름의 구조화된 표면에 40 μm의 건조 층 두께로 적용한다. 코팅 조성물 (C2a)를 산소 및 기계적 영향으로부터 보호하기 위해, 마스터 필름 및 코팅 조성물 (C2a)로 생성된 적층체를 TAC 필름으로 임시적으로 라이닝한다. 마스터 필름 (S1C1), 그에 적용된 코팅 조성물 (C2a), 및 코팅 조성물 (C2a)에 적용된 TAC 필름을 포함하는, 최종적으로 수득된 적층체를 이어서, UV-LED 램프에 의한 코팅 조성물 (C2a)의 적어도 부분적인 경화와 동시 공정으로, 프레싱 롤 아래를 통해 이동시킨다 (적용 압력 6 bar). 이러한 경우에 사용되는 램프는 이지텍(Easytec)으로부터의 365 nm, 6 W UV-LED 램프 (100% 램프 출력, 2 m/min, 2 통과)이다. 이러한 방식으로, 보호용 TAC 필름의 제거 후에, 복합체 (S1C1C2-1)을 마스터 필름 A로부터 수득하고 복합체 (S1C1C2-2)를 마스터 필름 B로부터 수득한다.The obtained master films (S1C1), each having the structure M1, were then respectively used in a roll-to-plate (R2P) embossing apparatus, and the coating composition (C2a) was applied to the structured surface of each master film with a dry layer of 40 μm applied in thickness. In order to protect the coating composition (C2a) from oxygen and mechanical influences, the master film and the laminate resulting from the coating composition (C2a) are temporarily lined with a TAC film. The finally obtained laminate comprising the master film (S1C1), the coating composition (C2a) applied thereto, and the TAC film applied to the coating composition (C2a) is then subjected to at least a coating composition (C2a) by means of a UV-LED lamp. In a simultaneous process with partial curing, it is moved through under a pressing roll (applied pressure 6 bar). The lamp used in this case is a 365 nm, 6 W UV-LED lamp from Easytec (100% lamp output, 2 m/min, 2 passes). In this way, after removal of the protective TAC film, a composite (S1C1C2-1) is obtained from the master film A and a composite (S1C1C2-2) is obtained from the master film B.

이용되는 코팅 조성물 (C2a)는 적어도 하나의 우레탄 아크릴레이트, 적어도 하나의 광개시제 및 또한 상업용 첨가제를 포함하는 상업용 방사선-경화 코팅 조성물이다.The coating composition (C2a) used is a commercial radiation-curing coating composition comprising at least one urethane acrylate, at least one photoinitiator and also commercial additives.

2.52.5 복합체 (S1C1C2)에 대한 검사 Test for complex (S1C1C2)

2.5.1 i) 복합체 (S1C1)의 제조와 코팅 조성물 (C2a)의 적용 사이의 시간의 함수 및 ii) 복합체 (S1C1)에 대한 코팅 조성물 (C2a)의 적용과 분리 사이의 시간의 함수로서의 분리 거동.2.5.1 i) the separation behavior as a function of time between the preparation of the composite (S1C1) and the application of the coating composition (C2a) and ii) the separation behavior as a function of time between the application and separation of the coating composition (C2a) to the composite (S1C1) .

하기 표 5에 엠보싱가공을 위해 사용된 특정한 마스터 필름 (S1C1)에 따라, 마스터 필름 (S1C1)의 에이징의 함수로서 구조화된 마스터 필름 (S1C1)과 생성된 코팅 (C2) 사이의 분리 거동에 대한 복제 품질에 의해 표시되는 검사 결과가 요약되어 있다. 코팅 (C2)는 복합체 (S1C1)로부터 박리에 의해 제거된다. 표에서 기호 "-"는 특별한 검사가 수행되지 않았다는 것을 나타낸다.Replica of the separation behavior between the structured master film (S1C1) and the resulting coating (C2) as a function of aging of the master film (S1C1), according to the specific master film (S1C1) used for embossing in Table 5 below. Inspection results indicated by quality are summarized. The coating (C2) is removed by peeling from the composite (S1C1). The symbol "-" in the table indicates that no special inspection was performed.

표 5: 마스터 필름 (S1C1)로부터의 코팅 조성물 (C2)의 분리 거동Table 5: Separation behavior of the coating composition (C2) from the master film (S1C1)

Figure pct00011
Figure pct00011

마스터 필름 B를 사용한 경우에, 코팅 조성물 (C1a-9)로부터 마스터 필름 (S1C1)을 제조한 지 5일 후에 코팅 조성물 (C2a)를 적용하고 경화 직후에 분리한다면, 마스터 필름 (S1C1)과 코팅 (C2)의 분리 시 복제 성공률이 <100%보다 훨씬 낮은, 심지어 0%이다. 따라서, 코팅 (C2)의 대부분이 코팅 (C2) 또는 마스터 필름 B의 파괴 없이 관련된 마스터 필름 B의 코팅 (C1)로부터 분리 또는 제거될 수 없었다. 상기 표 2에 기재된 바와 같이 비교 코팅 조성물 (C1a-11)로부터 제조된 마스터 필름 "P"는 경화 후에 여전히 점착성을 보여, 이들 마스터 필름의 보관 시 서로 달라붙게 되었고, 경화 직후 및 경화로부터 1일 후에 코팅 (C2)로부터의 0%의 불량한 분리 거동을 초래하였다. 이에 반해, 검사되는 마스터 필름 A를 사용한 경우에는, 마스터 필름의 제조와 코팅 조성물 (C2a)의 적용 사이의 경과 시간 또는 마스터 필름 (S1C1)에 적용된 코팅 조성물 (C2a)의 엠보싱가공 및 경화 후의 경과 시간에 상관없이 분리 시 100% 또는 거의 100% (97%)의 복제 성공률이 달성된다. 다시 말해서, 마스터 필름 A의 사용은 마스터 필름 자체의 에이징에 상관없이 (분리 거동에 대한 지표로서) 매우 높은 복제 성공률을 제공하여, 심지어 마스터 필름 (S1C1) 및 코팅 (C2)로 구성된 적층체 (S1C1C2)의 보관 또는 수송을 가능하게 한다. 따라서, 마스터 필름 A는, 마스터 필름 B와 비교하여, 마스터 필름에 코팅 조성물 (C2a)를 바로 적용하거나, 수일 후에 적용하거나, 또는 심지어 코팅 조성물 (C2a)를 적용하고, 코팅 (C2)를 마스터 필름 (S1C1)로부터 분리하기까지 그것을 마스터 필름 (S1C1)과 함께 보관하는 것을 가능하게 하여, 복합체 (S1C1)의 각인된 구조를 보호할 수 있도록 하고, 잔류물이 없는 복합체 (S1C1)로부터의 깔끔한 이형에 의해 엠보싱 몰드로서의 복합체 (S1C1)의 재사용성을 개선시킬 수 있도록 하며, 엠보싱가공된 코팅 (C2)를 자가지지형 필름으로서 수득할 수 있도록 한다. 경화 직후 및 경화로부터 1일 후에 코팅 (C2)의 100%의 분리 거동을 제시하는, 코팅 조성물 (C1a-1) 내지 (C1a-8) 및 (C1a-10)으로부터 제조되어 9일이 지난 마스터 필름 G 내지 O에 대해서도 유사하게 설명된다.In the case of using the master film B, if the coating composition (C2a) is applied and separated immediately after curing 5 days after the preparation of the master film (S1C1) from the coating composition (C1a-9), the master film (S1C1) and the coating ( The replication success rate upon isolation of C2) is much lower than <100%, even 0%. Accordingly, most of the coating (C2) could not be separated or removed from the coating (C1) of the associated master film B without destruction of the coating (C2) or the master film B. As shown in Table 2 above, the master film "P" prepared from the comparative coating composition (C1a-11) still showed tack after curing, so that these master films stuck to each other during storage, immediately after curing and after 1 day from curing. This resulted in a poor separation behavior of 0% from the coating (C2). In contrast, in the case of using the master film A to be inspected, the elapsed time between preparation of the master film and application of the coating composition (C2a) or the elapsed time after embossing and curing of the coating composition (C2a) applied to the master film (S1C1) Regardless, a replication success rate of 100% or nearly 100% (97%) is achieved upon isolation. In other words, the use of master film A provides a very high replication success rate (as an indicator for the separation behavior) irrespective of the aging of the master film itself, even in a laminate composed of the master film (S1C1) and the coating (C2) (S1C1C2). ) can be stored or transported. Thus, the master film A, compared to the master film B, directly applies the coating composition (C2a) to the master film, after a few days, or even applies the coating composition (C2a), and applies the coating (C2) to the master film It made it possible to store it together with the master film (S1C1) until separation from (S1C1), thus protecting the imprinted structure of the composite (S1C1), and upon clean release from the residue-free composite (S1C1). This makes it possible to improve the reusability of the composite (S1C1) as an embossing mold and to obtain the embossed coating (C2) as a self-supporting film. 9 days old master film prepared from the coating compositions (C1a-1) to (C1a-8) and (C1a-10), showing a separation behavior of 100% of the coating (C2) immediately after curing and after 1 day from curing Similar descriptions are made for G to O.

2.5.2 몰드 충전2.5.2 Mold filling

엠보싱 몰드로서 이용가능한 마스터 필름 A 및 B로의 코팅 조성물 (C2a)의 몰드 충전의 품질을 상기 기재된 바와 같이, 엠보싱가공에 의해 코팅 조성물 (C2a)로 전사된 삼각형 특색부를 시각적으로 검사하고 그의 SEM 영상을 비교함으로써 결정하였으며, 여기서 각각의 마스터 호일 A 또는 B를 제조한 지 11일 후에 동일한 코팅 조성물 (C2a)를 적용하였고, 경화 직후에 분리를 수행하였다 (도 4). 마스터 필름 A 및 B로부터의 분리 후에 엠보싱가공되고 경화된 코팅 (C2)의 SEM 영상의 비교는, 이 경우에도 뾰족한 세부양식 예컨대 모서리 및 삼각형 특색부를 포함한 구조의 마스터 필름 A 및 B로부터 코팅 조성물 (C2a)로의 완전하면서도 비슷한 전사를 제시한다. 도 4에서, 본 발명에 따른 마스터 필름 A로부터의 분리 후에 유래된 코팅 (C2)는 코팅 C2-1로 표시된다. 상응하게, 마스터 필름 B로부터의 분리 후에 유래된 코팅 (C2)는 코팅 C2-2로 표시된다. 이와 같이, 본 발명에 따라 (C1a)의 코팅 조성물에 다량의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머를 도입하는 것이, 코팅 조성물 (C2a)의 표면 장력과 비교하여 상이한 코팅 조성물 (C1-5) 및 (C1-9)의 표면 에너지로 인해 예상될 수 있었던 몰드 충전 품질의 저하 또는 몰드 충전의 감소를 전혀 초래하지 않았다. 따라서, 코팅 조성물 (C1a-5) 및 (C1a-9)를 포함하는 마스터 필름 A 및 B의 원본 특색부의 완전하면서도 비슷한 전사가 관찰되었다.The quality of the mold filling of the coating composition (C2a) into the master films A and B usable as embossing molds was visually inspected and the SEM image of the triangular features transferred to the coating composition (C2a) by embossing as described above, as described above. It was determined by comparison, where the same coating composition (C2a) was applied 11 days after preparation of each master foil A or B, and separation was carried out immediately after curing ( FIG. 4 ). Comparison of the SEM images of the embossed and cured coating (C2) after separation from master films A and B shows that again in this case the coating composition (C2a) from master films A and B of structures including sharp details such as corners and triangular features ) to present a complete and similar transcription. In Fig. 4, the coating (C2) derived after separation from the master film A according to the invention is denoted as coating C2-1. Correspondingly, the coating (C2) derived after separation from the master film B is designated as coating C2-2. As such, the introduction of a large amount of silicone (meth)acrylate oligomer into the coating composition of (C1a) according to the present invention is different compared to the surface tension of the coating composition (C2a) in the coating compositions (C1-5) and (C1) -9) did not result in any reduction in mold filling or deterioration in mold filling quality that could be expected due to the surface energy of -9). Thus, a complete and comparable transfer of the original features of the master films A and B comprising the coating compositions (C1a-5) and (C1a-9) was observed.

Claims (18)

복합체 (S1C1)을 사용하여 코팅 조성물 (C2a)의 표면의 적어도 일부분에 엠보싱 구조를 전사하는 방법으로서, 적어도 단계 (1), (2-i) 및 (3-i) 또는 (2-ii) 및 (3-ii) 및 또한 적어도 단계 (4) 및 임의적으로 단계 (5-i) 또는 (5-ii), 구체적으로는 하기 단계를 포함하며:
(1) 기판 (S1) 및 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)로 구성된 복합체 (S1C1)을 제공하는 단계;

(2-i) 기판 (S2)의 표면의 적어도 일부분에 적어도 하나의 코팅 조성물 (C2a)를 적용하여 복합체 (S2C2a)를 제공하는 단계;
(3-i) 복합체 (S1C1)을 사용하여 복합체 (S2C2a)의 코팅 조성물 (C2a)를 적어도 부분적으로 엠보싱가공하여 복합체 (S1C1C2aS2)를 제공하는 단계;
또는
(2-ii) 복합체 (S1C1)의 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 표면의 적어도 일부분에 적어도 하나의 코팅 조성물 (C2a)를 적용하고, 복합체 (S1C1)을 사용하여 코팅 조성물 (C2a)를 적어도 부분적으로 엠보싱가공하여 복합체 (S1C1C2a)를 제공하는 단계;
(3-ii) 임의적으로, 복합체 (S1C1C2a)의, 코팅 조성물 (C2a)에 의해 형성된 표면의 적어도 일부분에 기판 (S2)를 적용하여 복합체 (S1C1C2aS2)를 제공하는 단계;

(4) 기판 (S2)에 임의적으로 적용되는, 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 조성물 (C2a)를, 적어도 부분적인 경화의 지속기간 내내 복합체 (S1C1)과 접촉해 있는 상태로 적어도 부분적으로 경화시켜 복합체 (S1C1C2) 또는 (S1C1C2S2)를 제공하는 단계;

(5-i) 임의적으로, 복합체 (S1C1C2S2) 내 복합체 (C2S2)를 복합체 (S1C1)로부터 제거하여 단계 (1)에서 제공된 복합체 (S1C1)을 복원하는 단계;
또는
(5-ii) 임의적으로, 복합체 (S1C1C2) 내 코팅 (C2)를 복합체 (S1C1)로부터 제거하여 단계 (1)에서 제공된 복합체 (S1C1)을 복원하는 단계;
여기서 단계 (1)에서 사용되고 단계 (5-i) 또는 단계 (5-ii)에서 복원되는 복합체 (S1C1)의 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)을 제조하기 위해 사용되는 코팅 조성물 (C1a)는 하기를 포함하는 방사선-경화성 코팅 조성물이며:
(a) 5 내지 45 중량%의 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머,
(b) 40 내지 95 중량%의 적어도 하나의 반응성 희석제,
(c) 0.01 내지 15 중량%의 적어도 하나의 광개시제, 및
(d) 0 내지 5 중량%의 적어도 하나의 첨가제;
여기서 (i) 성분 (a), (b), (c) 및 (d)의 명시된 총량은 각각 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하는 것이고, (ii) 코팅 조성물 (C1a)에 존재하는 모든 성분의 총량은 그 합계가 100 중량%가 되고;
여기서 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머 (a)는, 코팅 조성물 (C1a)에 포함된 모든 가교성 중합체 및/또는 올리고머의 총 중량을 기준으로 하여, 적어도 25 중량%, 바람직하게는 적어도 50 중량%, 보다 바람직하게는 적어도 90 중량%, 매우 바람직하게는 100 중량%의 총량으로 적어도 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머를 포함하는 것인
방법.
A method for transferring an embossed structure to at least a portion of a surface of a coating composition (C2a) using a composite (S1C1), comprising at least steps (1), (2-i) and (3-i) or (2-ii) and (3-ii) and also at least step (4) and optionally step (5-i) or (5-ii), in particular the following steps:
(1) providing a composite (S1C1) consisting of a substrate (S1) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1);
and
(2-i) applying at least one coating composition (C2a) to at least a portion of the surface of the substrate (S2) to provide a composite (S2C2a);
(3-i) at least partially embossing the coating composition (C2a) of the composite (S2C2a) using the composite (S1C1) to provide the composite (S1C1C2aS2);
or
(2-ii) at least one coating composition (C2a) is applied to at least a portion of the at least partially embossed and at least partially cured surface of the composite (S1C1), and the coating composition (C2a) using the composite (S1C1) at least partially embossing to provide a composite (S1C1C2a);
(3-ii) optionally applying the substrate (S2) to at least a portion of the surface formed by the coating composition (C2a) of the composite (S1C1C2a) to provide a composite (S1C1C2aS2);
and
(4) at least partially curing the at least partially embossed coating composition (C2a), optionally applied to the substrate (S2), in contact with the composite (S1C1) throughout the duration of the at least partial cure to make the composite providing (S1C1C2) or (S1C1C2S2);
and
(5-i) optionally, removing the complex (C2S2) in the complex (S1C1C2S2) from the complex (S1C1) to restore the complex (S1C1) provided in step (1);
or
(5-ii) optionally, removing the coating (C2) in the complex (S1C1C2) from the complex (S1C1) to restore the complex (S1C1) provided in step (1);
wherein the coating is used to prepare the at least partially embossed and at least partially cured coating (C1) of the composite (S1C1) used in step (1) and restored in step (5-i) or step (5-ii) Composition (C1a) is a radiation-curable coating composition comprising:
(a) from 5 to 45% by weight of at least one crosslinkable polymer and/or oligomer,
(b) 40 to 95% by weight of at least one reactive diluent;
(c) 0.01 to 15% by weight of at least one photoinitiator, and
(d) 0 to 5% by weight of at least one additive;
wherein (i) the specified total amounts of components (a), (b), (c) and (d) are each based on the total weight of the coating composition (C1a), and (ii) The total amount of all components adds up to 100% by weight;
wherein the at least one crosslinkable polymer and/or oligomer (a) comprises at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, based on the total weight of all crosslinkable polymers and/or oligomers comprised in the coating composition (C1a) at least one silicone (meth)acrylate oligomer in a total amount of % by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight
Way.
제1항에 있어서, 방사선-경화성 코팅 조성물 (C1a)가, 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여, 50 내지 95 중량%, 또는 50 내지 85 중량%, 또는 50 내지 83 중량%의 적어도 하나의 반응성 희석제를 포함하는 것인 방법.2 . The radiation-curable coating composition (C1a) according to claim 1 , wherein at least 50 to 95% by weight, alternatively 50 to 85% by weight, alternatively 50 to 83% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a). and one reactive diluent. 제1항 또는 제2항에 있어서, 전사될 엠보싱 구조가, 바람직하게는 10 nm 내지 500 μm의 범위, 보다 바람직하게는 25 nm 내지 400 μm의 범위, 매우 바람직하게는 50 nm 내지 250 μm의 범위, 보다 특히 100 nm 내지 100 μm의 범위의 구조 폭, 및 바람직하게는 10 nm 내지 500 μm의 범위, 보다 바람직하게는 25 nm 내지 400 μm의 범위, 매우 바람직하게는 50 nm 내지 300 μm의 범위, 보다 특히 100 nm 내지 200 μm의 범위의 구조 높이를 갖는 마이크로구조 및/또는 나노구조인 방법.3. The embossing structure to be transferred according to claim 1 or 2, preferably in the range from 10 nm to 500 μm, more preferably in the range from 25 nm to 400 μm, very preferably in the range from 50 nm to 250 μm. , more particularly a structure width in the range from 100 nm to 100 μm, and preferably in the range from 10 nm to 500 μm, more preferably in the range from 25 nm to 400 μm, very preferably in the range from 50 nm to 300 μm, more particularly microstructures and/or nanostructures having a structure height in the range from 100 nm to 200 μm. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 하나의 접착제가 코팅 조성물 (C2a)로 코팅되지 않은 기판 (S2)의 다른 표면에 적용되는 것인 방법.The method according to claim 1 , wherein at least one adhesive is applied to the other surface of the substrate (S2) which is not coated with the coating composition (C2a). 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 복합체 (S1C1)로부터의 제거가 하기 단계를 포함하는 것인 방법:
5-i-a) 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 (C2)와 접촉하고 있지 않는 기판 (S2)의 표면 상에 적어도 하나의 접착제 층 (AL)을 적용하여 복합체 (S1C1C2S2AL)을 제공하는 단계;
5-i-b) 임의적으로, 복합체 (S1C1C2S2AL)을 물체 (O1)에 적어도 부분적으로 부착하는 단계;
5-i-c) 복합체 (S1C1)을, 물체 (O1)에 임의적으로 적어도 부분적으로 부착되는 복합체 (C2S2AL)로부터 또는 그 반대로 제거하는, 바람직하게는 박리하는 단계;
또는
5-ii-a) 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 (C2)의 구조화되지 않은 표면의 적어도 일부분 상에 적어도 하나의 접착제 층 (AL)을 적용하여 복합체 (S1C1C2AL)을 제공하는 단계;
5-ii-b) 임의적으로, 복합체 (S1C1C2AL)을 물체 (O1)에 적어도 부분적으로 부착하는 단계;
5-ii-c) 복합체 (S1C1)을, 물체 (O1)에 임의적으로 적어도 부분적으로 부착되는 복합체 (C2S2AL)로부터 또는 그 반대로 제거하는, 바람직하게는 박리하는 단계.
5. The method according to any one of claims 1 to 4, wherein the removal from the complex (S1C1) comprises the steps of:
5-ia) applying at least one adhesive layer (AL) on the surface of the substrate (S2) which is not in contact with the at least partially embossed coating (C2) to provide a composite (S1C1C2S2AL);
5-ib) optionally, at least partially attaching the complex (S1C1C2S2AL) to the object (O1);
5-ic) removing, preferably exfoliating, the composite (S1C1) from the composite (C2S2AL) optionally at least partially attached to the object (O1) or vice versa;
or
5-ii-a) applying at least one adhesive layer (AL) on at least a portion of the unstructured surface of the at least partially embossed coating (C2) to provide a composite (S1C1C2AL);
5-ii-b) optionally, at least partially attaching the complex (S1C1C2AL) to the object (O1);
5-ii-c) removing, preferably exfoliating, the complex (S1C1) from the complex (C2S2AL) optionally at least partially attached to the object (O1) or vice versa.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (1)에서 제공된 복합체 (S1C1)이 단계 (3-i)에서, 및 단계 (2-ii) 및 (3-ii)에서 코팅 (C1)의 엠보싱 구조를 코팅 조성물 (C2a)에 엠보싱 구조로서 전사하기 위한 엠보싱 도구 (E2)의 엠보싱 몰드 (e2)로서 사용되며,
여기서 엠보싱 몰드 (e2)로서 사용된 복합체 (S1C1)의 코팅 (C1)의 구조화된 표면의 거울상이, 기판 (S2)에 임의적으로 적용되는, 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C2)의 표면으로 엠보싱가공되는 것인
방법.
6. The coating (C1) according to any one of the preceding claims, wherein the complex (S1C1) provided in step (1) is coated (C1) in step (3-i) and in steps (2-ii) and (3-ii). ) as an embossing mold (e2) of an embossing tool (E2) for transferring the embossed structure of the coating composition (C2a) as an embossing structure,
An at least partially embossed and at least partially cured coating (C2), wherein the mirror image of the structured surface of the coating (C1) of the composite (S1C1) used here as the embossing mold (e2) is optionally applied to the substrate (S2) ) that is embossed with the surface of
Way.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 기판 (S1)이 필름 웹, 바람직하게는 이동하는 필름 웹 또는 연속 필름 웹, 보다 바람직하게는 이동하는 연속 필름 웹이고/거나, 기판 (S2)가 필름 웹, 바람직하게는 이동하는 필름 웹, 보다 바람직하게는 이동하는 연속 필름 웹인 방법.7. The substrate (S2) according to any one of the preceding claims, wherein the substrate (S1) is a film web, preferably a moving film web or a continuous film web, more preferably a moving continuous film web, and/or the substrate (S2). ) is a film web, preferably a moving film web, more preferably a moving continuous film web. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (3-i), 및 단계 (2-ii) 및 (3-ii)에서 사용된 복합체 (S1C1)이 재사용가능하며, 방법의 단계 (5-i) 또는 (5-ii)가 수행되는 경우에, 적어도 하나의 엠보싱 구조를 전사하기 위해 반복적으로 사용될 수 있는 것인 방법.8. The method according to any one of claims 1 to 7, wherein the complex (S1C1) used in step (3-i), and steps (2-ii) and (3-ii) is reusable, Where 5-i) or (5-ii) is performed, the method may be used repeatedly to transfer at least one embossing structure. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (1)에서 제공되는 복합체 (S1C1)이 적어도 하기 단계에 의해 수득가능한 것인 방법:
(6) 기판 (S1)의 표면의 적어도 일부분에 방사선-경화성 코팅 조성물 (C1a)를 적용하여 복합체 (S1C1a)를 제공하는 단계;
(7) 기판 (S1)의 표면에 적어도 부분적으로 적용된 코팅 조성물 (C1a)를 적어도 하나의 엠보싱 몰드 (e1)을 포함하는 적어도 하나의 엠보싱 도구 (E1)에 의해 적어도 부분적으로 엠보싱가공하는 단계;
(8) 기판 (S1)에 적어도 부분적으로 적용된, 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 조성물 (C1a)를, 적어도 부분적인 경화의 지속기간 내내 엠보싱 도구 (E1)의 적어도 하나의 엠보싱 몰드 (e1)과 접촉해 있는 상태로 적어도 부분적으로 경화시키는 단계;
(9) 복합체 (S1C1)을 엠보싱 도구 (E1)의 엠보싱 몰드 (e1)로부터 또는 그 반대로 제거하여 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 복합체 (S1C1)을 제공하는 단계.
9. The process according to any one of claims 1 to 8, wherein the complex (S1C1) provided in step (1) is obtainable by at least the following steps:
(6) applying the radiation-curable coating composition (C1a) to at least a portion of the surface of the substrate (S1) to provide a composite (S1C1a);
(7) at least partially embossing the coating composition (C1a) at least partially applied to the surface of the substrate (S1) by means of at least one embossing tool (E1) comprising at least one embossing mold (e1);
(8) contacting the at least partially embossed coating composition (C1a), at least partially applied to the substrate (S1), with at least one embossing mold (e1) of the embossing tool (E1) throughout the duration of at least partial curing at least partially curing it in an intact state;
(9) removing the composite (S1C1) from the embossing mold (e1) of the embossing tool (E1) or vice versa to provide an at least partially embossed and at least partially cured composite (S1C1).
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅 조성물 (C1a)가, 코팅 조성물 (C1a)에 포함된 모든 가교성 중합체 및/또는 올리고머의 총 중량을 기준으로 하여, 적어도 25 중량%, 바람직하게는 적어도 50 중량%, 보다 바람직하게는 적어도 90 중량%, 매우 바람직하게는 100 중량%의 총량으로 적어도 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머, 바람직하게는 정확히 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머, 보다 바람직하게는 평균적으로 2 내지 3개의 불포화 기를 포함하는 정확히 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머를 포함하는 것인 방법.10. The composition according to any one of the preceding claims, wherein the coating composition (C1a) comprises at least 25% by weight, based on the total weight of all crosslinkable polymers and/or oligomers comprised in the coating composition (C1a), Preferably at least one silicone (meth)acrylate oligomer, preferably exactly one silicone (meth)acrylate in a total amount of at least 50% by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight oligomers, more preferably exactly one silicone (meth)acrylate oligomer comprising on average 2 to 3 unsaturated groups. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅 조성물 (C1a)가 반응성 희석제로서 자유-라디칼 중합성 단량체, 바람직하게는 에틸렌계-불포화 단량체, 보다 바람직하게는 다관능성 에틸렌계 불포화 단량체를 포함하는 것인 방법.11. The coating composition (C1a) according to any one of the preceding claims, wherein the coating composition (C1a) comprises as reactive diluent a free-radically polymerizable monomer, preferably an ethylenically-unsaturated monomer, more preferably a polyfunctional ethylenically unsaturated monomer. How to include. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅 조성물 (C1a)가 헥산 디올 디아크릴레이트 및 화학식 (I)의 서로 상이할 수 있거나 또는 적어도 부분적으로 동일할 수 있는 구조 단위를 적어도 2개, 바람직하게는 적어도 3개, 보다 바람직하게는 3개 포함하는 화합물로부터 선택된 적어도 하나의 반응성 희석제를 포함하는 것인 방법:
Figure pct00012

여기서
라디칼 R1은 서로 독립적으로 C2-C8 알킬렌 기, 매우 바람직하게는 C2 알킬렌 기이고,
라디칼 R2는 서로 독립적으로 H 또는 메틸이고,
파라미터 m은 서로 독립적으로 1 내지 15, 매우 바람직하게는 1 내지 4 또는 2 내지 4의 범위의 정수이며, 단, 화학식 (I)의 구조 단위 중 적어도 하나에서 파라미터 m은 적어도 2, 바람직하게는 정확히 2이다.
12. The coating composition (C1a) according to any one of the preceding claims, wherein the coating composition (C1a) comprises hexane diol diacrylate and at least two structural units of formula (I) which may be different from each other or may be at least partially identical to each other. , preferably at least three, more preferably at least three reactive diluents selected from compounds comprising:
Figure pct00012

here
The radicals R 1 are, independently of one another, a C 2 -C 8 alkylene group, very preferably a C 2 alkylene group,
The radicals R 2 are, independently of one another, H or methyl,
parameter m independently of one another is an integer in the range from 1 to 15, very preferably from 1 to 4 or from 2 to 4, provided that in at least one of the structural units of formula (I) the parameter m is at least 2, preferably exactly 2 is
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅 조성물 (C1a)가, 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여, 40 내지 95 중량%, 바람직하게는 50 내지 85 중량%, 보다 바람직하게는 55 내지 83 중량%의 총량으로 적어도 하나의 반응성 희석제, 바람직하게는 헥산 디올 디아크릴레이트 및/또는 6-배수 에톡실화된 트리메틸올프로판으로부터 유래된 (메트)아크릴레이트를 포함하는 것인 방법.12. The composition according to any one of the preceding claims, wherein the coating composition (C1a) comprises 40 to 95% by weight, preferably 50 to 85% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a), more preferably comprising at least one reactive diluent in a total amount of 55 to 83% by weight, preferably hexane diol diacrylate and/or (meth)acrylate derived from 6-fold ethoxylated trimethylolpropane Way. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅 조성물 (C1a)에 포함되는 광개시제가 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀 옥시드, 에틸 (2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스피네이트, 페닐비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥시드, 벤조페논, 1-벤조일시클로헥산-1-올, 2-히드록시-2,2-디메틸아세토페논 및 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논 및 그의 혼합물로부터 선택되는 것인 방법.14. The photoinitiator according to any one of claims 1 to 13, wherein the photoinitiator comprised in the coating composition (C1a) is diphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide, ethyl (2,4,6-trimethyl) Benzoyl)phenylphosphinate, phenylbis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phosphine oxide, benzophenone, 1-benzoylcyclohexan-1-ol, 2-hydroxy-2,2-dimethylacetophenone and 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and mixtures thereof. 기판 (S1) 및 적어도 부분적으로 엠보싱가공되고 적어도 부분적으로 경화된 코팅 (C1)로 구성된 복합체 (S1C1)로서, 여기서 코팅 (C1)은 기판 (S1)의 표면의 적어도 일부분에 적용되고 적어도 부분적으로 엠보싱가공된 코팅 조성물 (C1a)를 방사선 경화에 의해 적어도 부분적으로 경화시킴으로써 수득가능하고, 여기서 코팅 조성물 (C1a)는 하기를 포함하는 방사선-경화성 코팅 조성물이며:
(a) 5 내지 45 중량%의 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머,
(b) 40 내지 95 중량%의 적어도 하나의 반응성 희석제,
(c) 0.01 내지 15 중량%의 적어도 하나의 광개시제, 및
(d) 0 내지 5 중량%의 적어도 하나의 첨가제;
여기서 (i) 성분 (a), (b), (c) 및 (d)의 명시된 총량은 각각 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하는 것이고, (ii) 코팅 조성물 (C1a)에 존재하는 모든 성분의 총량은 그 합계가 100 중량%가 되고;
여기서 적어도 하나의 가교성 중합체 및/또는 올리고머 (a)는, 코팅 조성물 (C1a)에 포함된 모든 가교성 중합체 및/또는 올리고머의 총 중량을 기준으로 하여, 적어도 25 중량%, 바람직하게는 적어도 50 중량%, 보다 바람직하게는 적어도 90 중량%, 매우 바람직하게는 100 중량%의 총량으로 적어도 하나의 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머를 포함하는 것인
복합체 (S1C1).
A composite (S1C1) consisting of a substrate (S1) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1), wherein the coating (C1) is applied to at least a part of the surface of the substrate (S1) and is at least partially embossed It is obtainable by at least partially curing the engineered coating composition (C1a) by means of radiation curing, wherein the coating composition (C1a) is a radiation-curable coating composition comprising:
(a) from 5 to 45% by weight of at least one crosslinkable polymer and/or oligomer,
(b) 40 to 95% by weight of at least one reactive diluent;
(c) 0.01 to 15% by weight of at least one photoinitiator, and
(d) 0 to 5% by weight of at least one additive;
wherein (i) the specified total amounts of components (a), (b), (c) and (d) are each based on the total weight of the coating composition (C1a), and (ii) The total amount of all components adds up to 100% by weight;
wherein the at least one crosslinkable polymer and/or oligomer (a) comprises at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, based on the total weight of all crosslinkable polymers and/or oligomers comprised in the coating composition (C1a) at least one silicone (meth)acrylate oligomer in a total amount of % by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight
complex (S1C1).
제15항에 있어서, 방사선-경화성 코팅 조성물 (C1a)가, 코팅 조성물 (C1a)의 총 중량을 기준으로 하여, 50 내지 95 중량%, 또는 50 내지 85 중량%, 또는 50 내지 83 중량%의 적어도 하나의 반응성 희석제를 포함하는 것인 복합체 (S1C1).16. The method according to claim 15, wherein the radiation-curable coating composition (C1a) comprises at least 50 to 95% by weight, or 50 to 85% by weight, or 50 to 83% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a). A complex comprising one reactive diluent (S1C1). 제15항 또는 제16항에 있어서, 복합체 (S1C1)이 제9항에 기재된 방법 단계 (6) 내지 (9)의 실행에 의해 수득가능한 것인 복합체 (S1C1).The complex (S1C1) according to claim 15 or 16, wherein the complex (S1C1) is obtainable by carrying out the method steps (6) to (9) according to claim 9. 코팅 조성물 (C2a)의 표면의 적어도 일부분에 또는 기판 (S2)에 적어도 부분적으로 적용된 코팅 조성물 (C2a)의 표면의 적어도 일부분에 엠보싱 구조를 전사하기 위한 엠보싱 도구 (E2)의 엠보싱 몰드 (e2)로서의 제15항 내지 제17항 중 어느 한 항에 따른 복합체 (S1C1)의 용도.As an embossing mold (e2) of an embossing tool (E2) for transferring the embossing structure to at least a portion of the surface of the coating composition (C2a) or to at least a portion of the surface of the coating composition (C2a) applied at least partially to the substrate (S2) Use of the complex (S1C1) according to any one of claims 15 to 17.
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