KR20220060767A - Reaction force suppression system - Google Patents

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KR20220060767A
KR20220060767A KR1020200146730A KR20200146730A KR20220060767A KR 20220060767 A KR20220060767 A KR 20220060767A KR 1020200146730 A KR1020200146730 A KR 1020200146730A KR 20200146730 A KR20200146730 A KR 20200146730A KR 20220060767 A KR20220060767 A KR 20220060767A
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Abstract

A repulsive force reduction table system according to an embodiment of the present invention is a table system for linearly moving the table, comprising: a frame fixed to the bottom surface; a base located in an inner space formed by the frame and connected to the bottom surface of a vibration isolation stand attached to a lower part; a linear movement bar formed on both sides of an upper part of the base and linearly moving to one side; a magnet track formed in the longitudinal direction of the linear movement bar; and a slide that linearly moves to one side along the magnet track. An objective of the present invention is to provide the table system capable of attenuating a repulsive force that may occur while the table is moving.

Description

반발력 저감 테이블 시스템{Reaction force suppression system}Reaction force suppression system {Reaction force suppression system}

본 발명은 반발력 저감 테이블 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 이동자의 움직임에 의한 진동, 외부진동에 영향을 최소화 할 수 있는 반발력 저감 테이블 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a repulsive force reduction table system, and more particularly, to a repulsive force reduction table system capable of minimizing the influence of vibration caused by movement of a mover and external vibration.

일반적으로 이동 가능하게 구성되는 테이블 장치는 XY평면상을 자유롭게 이동할 수 있도록 구성되어 있다. 테이블 상에 놓이게 되는 반도체 웨이퍼, 레이저 공정의 대상물 등을 가공하는 공정은 테이블 제어를 통해서 미세한 오차도 허용되지 않는 정밀한 움직임이 필요하다.In general, the table device configured to be movable is configured to be able to move freely on the XY plane. The process of processing a semiconductor wafer placed on a table, an object of a laser process, etc. requires precise movements that do not allow even minute errors through table control.

한국 공개특허 제2008-0083297호, 한국 공개특허 제2000-0006149호, 일본 공개특허 제2005-297189호 등 다수의 이동 가능한 테이블은 하부에 적어도 1개 이상의 움직이는 테이블을 배치하고 있고, 이로 인하여 테이블의 구조가 대형화 되고 있다. 또한, 테이블의 움직임으로 인하여 발생하는 진동을 저감하기 위한 별도의 설계가 이루어지지 않아 진동에 의한 가공오차가 발생할 문제가 상존해 있다.A number of movable tables, such as Korean Patent Publication No. 2008-0083297, Korean Patent Publication No. 2000-0006149, and Japanese Patent Publication No. 2005-297189, have at least one movable table disposed at the lower part, and thereby The structure is getting bigger. In addition, since a separate design for reducing the vibration generated by the movement of the table is not made, there is a problem that a machining error due to the vibration may occur.

한국 등록특허 제10-1395033호는 대형화 추세의 디스플레이 패널에 대응할 수 있도록 분리형 또는 조립형으로 구성된 조립식 구조의 XY스테이지에 대한 것이나, 실제 스테이지 상에서 발생할 수 있는 진동을 저감하는 해결책에 대한 제시가 없으며, 일본 공개특허 특개평 5-126973은 스테이지에 대한 발명이나, 대형 스테이지를 구성하는데 무리가 있으며 상부에 놓이게 될 테이블의 이송에 따른 진동을 저감하기 위한 해결책의 제시가 없다.Korean Patent Registration No. 10-1395033 relates to an XY stage of a prefabricated structure composed of a separate or assembled type to respond to a display panel of a larger size, but does not propose a solution to reduce vibration that may occur on an actual stage, Japanese Patent Laid-Open Patent Application Laid-Open No. 5-126973 discloses an invention for a stage, but it is difficult to construct a large stage, and there is no solution for reducing vibration caused by the transfer of a table to be placed on the upper part.

한국 공개특허 제2008-0083297호Korean Patent Publication No. 2008-0083297 한국 공개특허 제2000-0006149호Korean Patent Publication No. 2000-0006149 일본 공개특허 제2005-297189호Japanese Patent Laid-Open No. 2005-297189 한국 등록특허 제10-1395033호Korean Patent Registration No. 10-1395033 일본 공개특허 특개평 5-126973Japanese Laid-Open Patent Application Laid-Open No. 5-126973

본 발명의 목적은 테이블이 이동하면서 발생할 수 있는 반발력을 감쇄할 수 있는 테이블 시스템을 제공하는데 있다.It is an object of the present invention to provide a table system capable of reducing the repulsive force that may occur while the table moves.

본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 상술된 것에 제한되지 않는다.The technical problem to be solved by the present invention is not limited to the above.

본 발명의 실시예에 따른 반발력 저감 테이블 시스템은 테이블을 선형 이동시키는 테이블 시스템으로서, 바닥면에 고정되는 프레임, 상기 프레임에 의해 형성된 내측 공간에 위치하고, 하부에 부착되는 제진대로 바닥면과 연결되는 베이스, 상기 베이스의 상부 양측면에 형성되어 일측으로 선형 이동하는 선형이동바, 상기 선형이동바의 길이방향으로 형성되는 마그넷 트랙 및 상기 마그넷 트랙을 따라 일측으로 선형 이동하는 슬라이드를 포함한다. The table system for reducing repulsion according to an embodiment of the present invention is a table system that linearly moves a table, a frame fixed to the floor, located in the inner space formed by the frame, and a base connected to the floor with a vibration damper attached to the lower part , A linear moving bar formed on both upper sides of the base to move linearly to one side, a magnet track formed in the longitudinal direction of the linear moving bar, and a slide linearly moving to one side along the magnet track.

또한, 상기 마그넷 트랙은 상기 선형이동바의 상부면에 길이방향으로 형성될 수 있다.In addition, the magnet track may be formed in the longitudinal direction on the upper surface of the linear moving bar.

또한, 상기 프레임은 모서리에 위치하여 바닥면과 연결되는 포스트, 상기 포스트 사이에 돌출 형성되어 상기 베이스를 고정시키는 지지부를 포함할 수 있다.In addition, the frame may include a post positioned at a corner and connected to the bottom surface, and a support part protruding between the posts to fix the base.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 반발력 저감 테이블 시스템은 상기 포스트의 상부에 형성되는 고정자, 상기 지지부의 상부에 형성되는 브라켓을 더 포함하며, 상기 고정자는 상기 선형이동바의 일단과 쇽업서버(shock absorber)에 의해 연결되며, 상기 브라켓은 상기 선형이동바의 외측면에 부착되는 마그넷 유닛에 체결될 수 있다.In addition, the repulsive force reduction table system according to an embodiment of the present invention further includes a stator formed on the upper portion of the post, and a bracket formed on the upper portion of the support portion, wherein the stator includes one end of the linear moving bar and a shock-up server (shock-up server) absorber), and the bracket may be fastened to a magnet unit attached to the outer surface of the linear moving bar.

또한, 상기 쇽업서버(shock absorber)와 나란히 형성되어 상기 고정자와 상기 선형이동바의 일단을 연결하는 코일스프링을 더 포함할 수 있다.In addition, it is formed in parallel with the shock absorber (shock absorber) may further include a coil spring for connecting one end of the stator and the linear moving bar.

또한, 상기 선형이동바의 일단과 상기 고정자 사이에 형성되는 고정편을 더 포함하되, 상기 고정편의 일면은 상기 쇽업서버로 상기 고정자와 연결되고, 상기 고정편의 타면은 유니버셜 조인트로 상기 선형이동바의 일단과 연결될 수 있다.In addition, further comprising a fixed piece formed between one end of the linear moving bar and the stator, one surface of the fixed piece is connected to the stator by the shock absorber, and the other surface of the fixed piece is a universal joint of the linear moving bar. It can be connected to once.

또한, 상기 쇽업서버(shock absorber)는 상기 선형이동바의 속도에 선형 비례하는 댐핑력을 가질 수 있다.In addition, the shock absorber may have a damping force that is linearly proportional to the speed of the linear moving bar.

본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템에 의하면 테이블의 움직임에 따라서 발생할 수 있는 반발력을 효과적으로 감쇄시킬 수 있다.According to the table system according to the embodiment of the present invention, it is possible to effectively reduce the repulsive force that may occur according to the movement of the table.

또한, 지면에서 발생하는 진동을 독립적으로 제진할 수 있어 부재의 가공작업에 영향을 받지 않는 테이블 시스템 제공이 가능하다.In addition, it is possible to provide a table system that is not affected by the machining operation of the member because vibrations generated on the ground can be independently suppressed.

또한, 진동제진을 통해서 테이블의 이동을 정밀하게 제어할 수 있다.In addition, it is possible to precisely control the movement of the table through vibration suppression.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템의 상부사시도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템의 하부사시도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템의 모서리 영역의 확대도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템의 충격흡수 실험데이터이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템의 동역학 모델링 구조도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템에서 슬라이드가 이동한 경우 반발력 저감율을 나타낸 실험결과이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템에서 모션 1의 경우 반발력 저감율의 실험결과를 나타내는 그래프이다.
도 8은 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템에서 모션 2의 경우 반발력 저감율의 실험결과를 나타내는 그래프이다.
도 9는 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템에서 모션 3의 경우 반발력 저감율의 실험결과를 나타내는 그래프이다.
1 is a top perspective view of a table system according to an embodiment of the present invention.
2 is a bottom perspective view of a table system according to an embodiment of the present invention.
3 is an enlarged view of a corner area of a table system according to an embodiment of the present invention.
4 is a shock absorption test data of a table system according to an embodiment of the present invention.
5 is a dynamic modeling structural diagram of a table system according to an embodiment of the present invention.
6 is an experimental result showing the reaction force reduction rate when the slide is moved in the table system according to the embodiment of the present invention.
7 is a graph showing the experimental results of the reaction force reduction rate in the case of motion 1 in the table system according to the embodiment of the present invention.
8 is a graph showing the experimental results of the reaction force reduction rate in the case of motion 2 in the table system according to the embodiment of the present invention.
9 is a graph showing the experimental results of the reaction force reduction rate in the case of motion 3 in the table system according to the embodiment of the present invention.

본 명세서에 개시되어 있는 본 발명의 개념에 따른 실시 예들에 대해서 특정한 구조적 또는 기능적 설명들은 단지 본 발명의 개념에 따른 실시 예들을 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로서, 본 발명의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 형태들로 실시될 수 있으며 본 명세서에 설명된 실시 예들에 한정되지 않는다.Specific structural or functional descriptions of the embodiments according to the concept of the present invention disclosed in this specification are only exemplified for the purpose of explaining the embodiments according to the concept of the present invention, and the embodiments according to the concept of the present invention are It may be implemented in various forms and is not limited to the embodiments described herein.

본 발명의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 변경들을 가할 수 있고 여러 가지 형태들을 가질 수 있으므로 실시 예들을 도면에 예시하고 본 명세서에서 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명의 개념에 따른 실시 예들을 특정한 개시 형태들에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물, 또는 대체물을 포함한다.Since the embodiments according to the concept of the present invention may have various changes and may have various forms, the embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail herein. However, this is not intended to limit the embodiments according to the concept of the present invention to specific disclosed forms, and includes all changes, equivalents, or substitutes included in the spirit and scope of the present invention.

제1 또는 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만, 예컨대 본 발명의 개념에 따른 권리 범위로부터 벗어나지 않은 채, 제1 구성 요소는 제2 구성 요소로 명명될 수 있고 유사하게 제2 구성 요소는 제1 구성 요소로도 명명될 수 있다.Terms such as first or second may be used to describe various elements, but the elements should not be limited by the terms. The above terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another, for example without departing from the scope of the inventive concept, a first component may be termed a second component and similarly a second component A component may also be referred to as a first component.

어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성 요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성 요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는 중간에 다른 구성 요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성 요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.When a component is referred to as being “connected” or “connected” to another component, it is understood that it may be directly connected or connected to the other component, but other components may exist in between. it should be On the other hand, when it is said that a certain element is "directly connected" or "directly connected" to another element, it should be understood that the other element does not exist in the middle. Other expressions describing the relationship between components, such as "between" and "immediately between" or "neighboring to" and "directly adjacent to", etc., should be interpreted similarly.

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로서, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 본 명세서에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used herein are used only to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise. In this specification, terms such as "comprise" or "have" are intended to designate that a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described herein exists, but one or more other features It should be understood that it does not preclude the possibility of the presence or addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석되어야 하며, 본 명세서에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in a commonly used dictionary should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related art, and should not be interpreted in an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in the present specification. does not

이하, 본 명세서에 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시 예들을 상세히 설명한다. 그러나 특허출원의 범위가 이러한 실시 예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 각 도면에 제시된 동일한 참조 부호는 동일한 부재를 나타낸다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the scope of the patent application is not limited or limited by these examples. Like reference numerals in each figure indicate like elements.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템의 상부사시도이다.1 is a top perspective view of a table system according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템의 하부사시도이다.2 is a bottom perspective view of a table system according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템의 모서리 영역의 확대도이다.3 is an enlarged view of a corner area of a table system according to an embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템은 테이블을 선형이동 시키는 테이블 시스템으로서, 바닥면에 고정되는 프레임(100), 상기 프레임(100)에 의해 형성된 내측 공간에 위치하고, 하부에 부착되는 제진대(600)로 바닥면과 연결되는 베이스(200), 상기 베이스(200)의 상부 양측면에 형성되어 일측으로 선형 이동하는 선형이동바(300), 상기 선형이동바(300) 상부면에 길이방향으로 형성되는 마그넷 트랙(400) 및 상기 마그넷 트랙(400)을 따라 일측으로 선형 이동하는 슬라이드(500)를 포함한다.1 to 3 , the table system according to an embodiment of the present invention is a table system for linearly moving a table, and a frame 100 fixed to the floor surface, in the inner space formed by the frame 100 . A base 200 connected to the floor with a vibration isolation table 600 attached to the lower portion, a linear moving bar 300 formed on both upper sides of the base 200 and moving linearly to one side, the linear moving bar ( 300) a magnet track 400 formed on the upper surface in the longitudinal direction, and a slide 500 that linearly moves to one side along the magnet track 400 .

프레임(100)은 강도가 높은 재질로 이루어진 구조물로서, 테이블 시스템의 모서리 영역을 지지하는 철재재질의 빔으로 될 수 있다. 프레임(100)은 중심을 기점으로 내부에 공간이 형성될 수 있으며, 프레임(100)은 바닥면에 견고히 고정된다. 프레임(100)은 사각형 형상을 이루는 외형을 형성할 수 있다.The frame 100 is a structure made of a high-strength material, and may be a steel beam that supports the edge region of the table system. The frame 100 may have a space formed therein with the center as a starting point, and the frame 100 is firmly fixed to the floor surface. The frame 100 may have a rectangular shape.

도 1, 도 2에 도시된 바와 같이 프레임(100)은 바닥면이 부착부(170)에 의해서 바닥면에 고정되어 있으며, 사각형 형상의 모서리에 위치하는 포스트(110)를 포함하며, 포스트(110)들 사이에 돌출 형성되는 지지부(120)를 포함한다.1 and 2, the frame 100 has a bottom surface fixed to the bottom surface by an attachment part 170, and includes a post 110 positioned at a corner of a rectangular shape, and the post 110 ) includes a support portion 120 that is formed to protrude between.

포스트(110)는 프레임(100)을 바닥면에 고정시키는 프레임(100)의 일부 영역으로서, 사각형 형상의 네곳의 모서리에 대칭되도록 위치한다. 포스트(110)의 하부면은 도 2에 도시된 바와 같이 부착부(170)에 의해서 바닥면에 고정되나 반드시 이러한 구조로 제한되는 것은 아니다.The post 110 is a partial region of the frame 100 for fixing the frame 100 to the bottom surface, and is positioned so as to be symmetrical to four corners of the rectangular shape. The lower surface of the post 110 is fixed to the bottom surface by the attachment part 170 as shown in FIG. 2 , but is not necessarily limited to this structure.

네 곳의 모서리에 위치하는 네 개의 포스트(110) 중 제1방향으로 인접한 위치에 지지부(120)가 형성되고, 지지부(120)는 바닥의 반대방향으로 돌출되어 형성된다. 지지부(120)는 내측방향으로 하기 설명하게 될 베이스(200)가 위치하고, 4개의 포스트(110)와 4개의 지지부(120)가 베이스(200)를 감싸듯이 설치된다.The support part 120 is formed at a position adjacent to the first direction among the four posts 110 positioned at the corners of the four places, and the support part 120 is formed to protrude in the opposite direction to the floor. The support 120 has a base 200 that will be described later in the inward direction, and four posts 110 and four support parts 120 are installed to surround the base 200 .

베이스(200)는 일반적으로 스테이지를 구성하는 무거운 중량을 갖는 석정반이며, 앞서 설명한 프레임(100)의 내측 공간에 위치한다. 베이스(200)는 하부에 제진대(600)가 위치하고 있으며, 제진대(600)는 바닥으로부터의 진동이 베이스(200)로 전달되지 않도록 한다.The base 200 is generally a stone plate having a heavy weight constituting the stage, and is located in the inner space of the frame 100 described above. A vibration isolation table 600 is positioned at a lower portion of the base 200 , and the vibration isolation table 600 prevents vibration from the floor from being transmitted to the base 200 .

제진대(600)는 베이스(200)의 하부에 복수개가 위치할 수 있으며, 바람직하게는 대칭된 위치에 설치되어, 하부의 진동을 골고루 분산할 수 있도록 한다. 즉, 베이스(200)는 제진대(600)에 의해서 부상되어 있는 상태이다.A plurality of vibration isolation tables 600 may be located at the lower portion of the base 200, and are preferably installed at symmetrical positions to evenly distribute vibrations of the lower portion. That is, the base 200 is in a state of being floated by the vibration damping table 600 .

베이스(200)가 제진대(600)에 의해서 부상되어 있기 때문에, 실질적으로 X, Y, Z방향 뿐만 아니라 회전하는 방향까지 고려하여 6자유도를 갖고 움직일 수 있는 상태에 놓이게 됨으로서, 기구 자체적으로 발생할 수 있는 움직임을 그대로 흡수하여 반영할 수 있다. 예를 들어 베이스(200)를 자유도 없이 움직이지 않는 상태로 프레임에 고정시키게 되는 경우에는 테이블이 놓이게 되는 슬라이드(500)의 움직임에도 불구하고 그에 따른 반발력이 기구 내에 흡수되어 기구를 구성하는 베이스(200) 등에 피로파괴가 발생할 수 있다.Since the base 200 is levitated by the vibration isolation table 600, it is placed in a state where it can move with 6 degrees of freedom considering not only the X, Y, and Z directions but also the rotational direction, so that the mechanism itself can be generated. It can absorb and reflect the movement as it is. For example, when the base 200 is fixed to the frame in a state where it does not move without freedom, the repulsive force is absorbed in the mechanism despite the movement of the slide 500 on which the table is placed, and the base ( 200), fatigue failure may occur.

베이스(200)의 형상은 다양하게 구현될 수 있고, 특별한 제한은 없으나, 프레임(100)의 내측에 위치하되, 전체적인 형상이 사각형상일 수 있으며, 베이스(200)의 상부에는 슬라이드(500)가 활주할 수 있도록 평평한 면 상에 트랙이 형성될 수 있다.The shape of the base 200 can be implemented in various ways, and there is no particular limitation, but it is located inside the frame 100 , and the overall shape may be a square shape, and the slide 500 slides on the upper part of the base 200 . Tracks may be formed on a flat surface to allow

베이스(200)의 상부 양측면에는 선형이동바(300)가 제1방향 또는 제1방향의 반대방향으로 이동할 수 있도록 형성된다. 선형이동바(300)는 베이스(200)와 같은 재질일 수 있으나, 반드시 이에 제한되는 것은 아니다. 선형이동바(300)는 슬라이드(500)가 이동하는 방향인 제1방향 또는 제1방향의 반대방향으로 이동시에 발생하는 반발력을 저감시키기 위해 베이스(200) 상부에서 슬라이드(500)가 이동하기 위해 힘을 받는 방향의 반대방향으로 이동하다가 복원력에 의해서 중심으로 복귀하는 운동을 한다.On both upper side surfaces of the base 200 , the linear moving bar 300 is formed to be movable in the first direction or in a direction opposite to the first direction. The linear moving bar 300 may be made of the same material as the base 200 , but is not necessarily limited thereto. The linear moving bar 300 is the first direction in which the slide 500 moves or in order to reduce the repulsive force generated when the slide 500 moves in the opposite direction to the first direction in order to move the slide 500 above the base 200 It moves in the opposite direction to the direction of the force and returns to the center by the restoring force.

마그넷 트랙(400)은 “ㄷ”자 형태의 자력이 형성되어 있는 선형 트랙이다. “ㄷ”자 형태의 트랙 사이에는 슬라이드(500)의 양측단에 형성되어 있는 코어(510)가 끼워져서 슬라이드(500)가 제1방향 또는 그 반대방향으로 이동할 수 있는 추력을 발생시킨다. 마그넷 트랙(400)과 코어(510)는 일반적인 선형모터와 같은 원리로 구동되어 슬라이드(500)를 선형이동 시킨다. The magnet track 400 is a linear track in which a “c”-shaped magnetic force is formed. The cores 510 formed at both ends of the slide 500 are sandwiched between the “c”-shaped tracks to generate a thrust that allows the slide 500 to move in the first direction or in the opposite direction. The magnet track 400 and the core 510 are driven on the same principle as a general linear motor to linearly move the slide 500 .

마그넷 트랙(400)은 선형이동바(300)의 상부면에 길이방향으로 형성될 수 있다. 그러나 마그넷 트랙(400)은 선형이동바(300)의 단면을 따라서 매립되어 형성될 수도 있으나, 설계의 편의상 선형이동바(300)의 상부면에 형성되는 것이 바람직하다.The magnet track 400 may be formed on the upper surface of the linear moving bar 300 in the longitudinal direction. However, the magnet track 400 may be formed by being buried along the cross section of the linear moving bar 300 , but it is preferable to be formed on the upper surface of the linear moving bar 300 for convenience of design.

고정자(130)는 포스트(110)의 상부에 형성된다. 고정자(130)는 “ㄴ”자 형상으로 아래면이 포스트(110)에 견고하게 고정되어 있고, 상부로 솟아 있는 면은 후술하게 될 쇽업서버(shock absorber, 310)와 코일스프링(320)의 일단이 고정된다.The stator 130 is formed on the top of the post 110 . The stator 130 has an “L” shape, and the lower surface is firmly fixed to the post 110 , and the upper surface of the stator 130 is a shock absorber 310 and one end of the coil spring 320 , which will be described later. this is fixed

도 3에 도시된 바와 같이 고정자(130)는 포스트(110)의 상부, 즉 프레임(100)에 결합된다. As shown in FIG. 3 , the stator 130 is coupled to the upper portion of the post 110 , that is, the frame 100 .

또한, 브라켓(140)은 상술한 지지부(120)의 상부에 형성된다. 지지부(120)의 상부에 결합되는 브라켓(140)은 선형이동바(300)의 측면에 부착되는 마그넷 유닛(340)에 삽입된다.In addition, the bracket 140 is formed on the upper portion of the support 120 described above. The bracket 140 coupled to the upper portion of the support 120 is inserted into the magnet unit 340 attached to the side of the linear moving bar 300 .

마그넷 유닛(340)은 자력을 발생시키는 소정길이의 트랙으로서, 마그넷 유닛(340)에 체결되는 브라켓(140) 영역에 코일이 형성되어 선형이동바(300)를 제어할 수 있는 구동력을 발생시키거나, 황동과 같은 종류의 금속을 사용하여 선형이동바(300)의 이동시에 발생하는 충격을 완화하는 댐퍼로서 기능할 수 있다.The magnet unit 340 is a track of a predetermined length that generates a magnetic force, and a coil is formed in the bracket 140 region coupled to the magnet unit 340 to generate a driving force to control the linear moving bar 300 or , can function as a damper for alleviating the impact generated during movement of the linear moving bar 300 by using the same type of metal as brass.

일단이 고정자(130)에 연결되는 쇽업서버(310)와 코일스프링(320)의 타단은 선형이동바(300)의 일단에 연결될 수도 있으나, 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템은 도 3에 도시된 바와 같이 고정자(130)와 선형이동자(300)의 일단 사이에 고정편(350)이 형성된다. The other end of the shock-up server 310 and the coil spring 320, one end of which is connected to the stator 130, may be connected to one end of the linear moving bar 300, but a table system according to an embodiment of the present invention is shown in FIG. As described above, a fixing piece 350 is formed between one end of the stator 130 and the linear mover 300 .

고정편(350)은 포스트(110)와 결합된 고정자(130)의 면에 형성되는 선형이동트랙을 따라서 제1방향으로 이동할 수 있도록 구현되며, 고정편(350)의 일면은 쇽업서버(310)와 코일스프링(320)이 연결된다면, 고정편(350)의 타면은 선형이동바(300)의 일단과 유니버셜 조인트(360)로 연결된다.The fixed piece 350 is implemented to move in the first direction along a linear movement track formed on the surface of the stator 130 coupled to the post 110 , and one surface of the fixed piece 350 is a shock-up server 310 . When the coil spring 320 and the coil spring 320 are connected, the other surface of the fixing piece 350 is connected to one end of the linear moving bar 300 and the universal joint 360 .

쇽업서버(310)는 도 3에 도시된 바와 같이 코일스프링(320)과 나란히 평행하게 형성되며, 코일스프링(320)은 쇽업서버(310)를 중심으로 서로 대칭되도록 둘 이상 설치될 수 있다. 쇽업서버(310)는 속도대비 댐핑력이 지수함수적으로 증가하는 특성을 갖는 일반적인 쇽업서버를 사용하는 것 보다 선형함수 증가특성(속도 증가분 대비 일정한 댐핑력의 증가)을 갖는 쇽업서버(310)를 사용하는 것이 바람직하다. The shock-up server 310 is formed in parallel with the coil spring 320 as shown in FIG. 3 , and two or more coil springs 320 may be installed so as to be symmetrical with each other around the shock-up server 310 . The shock-up server 310 is a shock-up server 310 having a linear function increase characteristic (a constant increase in damping force compared to the speed increase) rather than using a general shock-up server having a characteristic in which the damping force increases exponentially compared to the speed. It is preferable to use

보다 상세하게는 쇽업서버(310)가 가지는 힘에 따라서 하기하게 될 코일스프링(320)은 복원력을 가지게 되는데, 코일스프링(320)을 선정하는데 있어서, 쇽업서버(310)의 힘이 속도에 비례하면 쇽업서버에 작용하는 힘 F(쇽업서버)=cv, (c는 비례상수, v는 속도)이 되고, 코일스프링(320)에서 작용해야 하는 반발력 F(코일스프링) = kx(k는 용수철 상수, x는 거리)이 되어, 쇽업서버(310)와 매칭디는 코일스프링(320)을 선정하는데 있어서 2차 미분방정식을 풀어서 스프링의 선정이 가능한데, 지수함수적인 증가특성을 갖는 쇽업서버를 사용하는 경우, 차수를 예상하기 힘든 방정식을 풀어야 하고, 실질적으로 쇽업서버와 매칭되는 코일스프링을 선정하는 것이 불가능하게 된다.In more detail, according to the force of the shock-up server 310, the coil spring 320 to be performed below has a restoring force. In selecting the coil spring 320, the force of the shock-up server 310 is proportional to the speed. Force F (shock absorber) acting on the shock absorber = cv, (c is a proportional constant, v is the speed) x is the distance), and in selecting the shock-up server 310 and the matching coil spring 320, the spring can be selected by solving the second differential equation, when using a shock-up server having an exponential increase characteristic , it is necessary to solve an equation that is difficult to predict, and it is practically impossible to select a coil spring that matches the shock absorber server.

코일스프링(320)은 쇽업서버(310)에 의해서 반발력 저감이 이루어지고 나서 다시 선형이동바(300)를 원위치로 복원시키기 위해서 복원력을 제공한다. 코일스프링(320)은 선형이동바(300)의 단면에 복원력을 고르게 제공할 수 있도록 적어도 둘 이상의 코일스프링(320)이 쇽업서버(310)를 중심으로 대칭 배치되는 것이 바람직하다. 또한, 코일스프링(320)의 길이가 길어질 경우 복원력을 제공하는데 있어서 자체진동현상이 발생할 수 있는데, 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템에서 사용되는 코일스프링(320)은 코일스프링(320)의 늘어난 길이에 관계없이 진동이 발생하지 않는 구조의 코일스프링(320)을 사용하는 것이 바람직하다.The coil spring 320 provides a restoring force to restore the linear moving bar 300 to its original position again after the repulsive force is reduced by the shock-up server 310 . The coil spring 320 is preferably at least two or more coil springs 320 are symmetrically disposed about the shock-up server 310 so as to evenly provide a restoring force to the cross section of the linear moving bar 300 . In addition, when the length of the coil spring 320 is increased, a self-vibration phenomenon may occur in providing the restoring force. It is preferable to use the coil spring 320 having a structure in which vibration does not occur regardless of the length.

또한, 고정편(350)의 타면과 선형이동바(300)의 일단을 연결하는 유니버셜 조인트(360)는 선형이동바(300)가 제1방향으로 이동함으로서 발생할 수 있는 다른 방향(예를 들어, 제2방향)으로의 진동이나 불필요한 움직임을 저감시키는 기능을 수행한다.In addition, the universal joint 360 connecting the other surface of the fixed piece 350 and one end of the linear moving bar 300 is in another direction (for example, It performs a function of reducing vibration or unnecessary movement in the second direction).

이상 본 발명의 실시예에 따른 반발력 저감 테이블 시스템의 구성요소에 대해서 살펴보았다.Above, the components of the repulsive force reduction table system according to the embodiment of the present invention have been looked at.

이와 같은 반발력 저감 테이블 시스템은 실제 테이블이 놓이게 되는 슬라이드(500)의 제1방향으로 이동과 슬라이드(500) 상에서 테이블의 제2방향으로의 이동을 통해서 테이블 위에 놓이게 되는 가공부재를 움직이면서 정밀하게 가공할 수 있다.This repulsive force reduction table system is precisely machined while moving the machining member placed on the table through movement in the first direction of the slide 500 on which the actual table is placed and movement in the second direction of the table on the slide 500. can

본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템에서 반발력을 저감시키는 메커니즘은 실제 슬라이드(500)가 제1방향으로 이동을 시작할 때 작용하는 추진력에 반대되는 힘이 선형이동바(300)에 작용하게 되고, 선형이동바(300)는 베이스(200)의 상부를 미끄러지듯이 제1방향의 반대방향으로 이동하면서 반발력을 저감시킨다. 선형이동바(300)의 이러한 움직임은 고정자(130)에 연결되어 있는 쇽업서버(310)와 선형이동바(300)의 외측면에 부착되어 있는 마그넷유닛(340)에 의한 댐핑력에 의해 서서히 저감되고, 속도에 비례하여 서서히 저감된다. 또한, 동시에 코일스프링(320)의 길이가 줄어들면서 탄성복원력이 댐핑력을 초과하게 되면 탄성복원력에 의해서 선형이동바(300)는 원위치로 복귀하게 된다. 반발력 저감과정에서 발생하는 진동은 직접적으로 베이스(200)에 축적되는 것이 아니라 프레임(100)을 통해서 외부로 빠져가가게 된다.In the mechanism for reducing the repulsive force in the table system according to the embodiment of the present invention, a force opposite to the driving force applied when the actual slide 500 starts to move in the first direction acts on the linear moving bar 300, and the linear The moving bar 300 reduces the repulsive force while sliding the upper portion of the base 200 in the opposite direction to the first direction. This movement of the linear moving bar 300 is gradually reduced by the shock-up server 310 connected to the stator 130 and the damping force by the magnet unit 340 attached to the outer surface of the linear moving bar 300 . and gradually decreases in proportion to the speed. In addition, when the length of the coil spring 320 is reduced at the same time and the elastic restoring force exceeds the damping force, the linear moving bar 300 is returned to its original position by the elastic restoring force. Vibration generated in the process of reducing the repulsive force is not directly accumulated in the base 200 but goes out through the frame 100 .

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템의 충격흡수 실험데이터이다. 4 is a shock absorption test data of a table system according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템의 프레임(100) 영역에 소정의 충격을 가하였을 때, 베이스(200)에 전달되어 검출된 진동을 통해서 실제 진동의 흡수율에 대한 실험결과이다.When a predetermined impact is applied to the region of the frame 100 of the table system according to an embodiment of the present invention, it is an experimental result for the absorption rate of actual vibration through the vibration transmitted to the base 200 and detected.

본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템에서 프레임(100)과 베이스(200)는 직접적으로 연결되어 있는 상태가 아니므로, 바닥을 통해서 프레임(100)에서 발생한 충격이 베이스(200)로 전달된 것으로 도출되었고, 약 97%의 충격감쇄율을 갖는 것으로 도출되었다.In the table system according to the embodiment of the present invention, since the frame 100 and the base 200 are not directly connected, it is derived that the impact generated in the frame 100 through the floor is transmitted to the base 200 . and it was derived to have an impact attenuation rate of about 97%.

도 5는 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템의 동역학 모델링 구조도이다.5 is a dynamic modeling structural diagram of a table system according to an embodiment of the present invention.

도 5에 도시된 바와 같이 본 발명의 실시예와 같은 테이블 시스템 구조는 다음 수학식 1과 같은 물리적 동역학원리에 의해서 도출된 것이다.As shown in FIG. 5, the table system structure as in the embodiment of the present invention is derived by the physical dynamics principle as shown in Equation 1 below.

[수학식 1][Equation 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

여기서, mbase는 베이스의 질량,

Figure pat00002
는 베이스의 가속도, kIS는 베이스의 강성계수, xbase는 베이스의 이동거리, cIS는 베이스의 댐핑계수,
Figure pat00003
는 베이스의 속도, fFc2는 선형이동바(300)와 마그넷트랙(400)을 포함하는 더미(dummy)와 베이스간의 마찰력, fFc1은 슬라이드(500)와 베이스(200)간의 마찰력이다. where m base is the mass of the base,
Figure pat00002
is the acceleration of the base, kIS is the stiffness coefficient of the base, x base is the movement distance of the base, c IS is the damping coefficient of the base,
Figure pat00003
is the speed of the base, f Fc2 is the frictional force between the dummy and the base including the linear moving bar 300 and the magnet track 400, f Fc1 is the frictional force between the slide 500 and the base (200).

mMT는 선형이동바(300)과 마그넷트랙(400)을 합친 더미(dummy)의 질량,

Figure pat00004
는 더미의 가속도, kMT는 더미의 강성계수, xMT는 더미의 이동거리, cMT는 더미의 댐핑계수
Figure pat00005
는 더미의 속도, fT는 반발력이며, 반발력은 슬라이드의 질량 mM과 슬라이드의 가속도
Figure pat00006
의 곱으로 표현될 수 있다.m MT is the mass of the dummy combined with the linear moving bar 300 and the magnet track 400,
Figure pat00004
is the acceleration of the dummy, k MT is the stiffness coefficient of the dummy, x MT is the distance traveled by the dummy, c MT is the damping factor of the dummy
Figure pat00005
is the speed of the dummy, f T is the repulsive force, and the repulsive force is the mass m M of the slide and the acceleration of the slide
Figure pat00006
It can be expressed as a product of

도 6은 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템에서 슬라이드가 이동한 경우 반발력 저감율을 나타낸 실험결과이다.6 is an experimental result showing the reaction force reduction rate when the slide is moved in the table system according to the embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템에서 모션 1의 경우 반발력 저감율의 실험결과를 나타내는 그래프이다.7 is a graph showing the experimental results of the reaction force reduction rate in the case of motion 1 in the table system according to the embodiment of the present invention.

도 8은 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템에서 모션 2의 경우 반발력 저감율의 실험결과를 나타내는 그래프이다.8 is a graph showing the experimental results of the reaction force reduction rate in the case of motion 2 in the table system according to the embodiment of the present invention.

도 9는 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템에서 모션 3의 경우 반발력 저감율의 실험결과를 나타내는 그래프이다.9 is a graph showing the experimental results of the reaction force reduction rate in the case of motion 3 in the table system according to the embodiment of the present invention.

반발력 저감율을 실험하기 위해 슬라이드(슬라이드 상이 높이는 테이블 등의 질량 포함, 500)의 질량은 600Kg이고, 1개의 슬라이드(500)를 이용하였고, 선형이동바의 질량과 마그넷트랙(400)의 질량을 포함하는 더미의 질량은 축당 1500Kg이며, 스트로크는 ±40mm이며, 유효 스트로크는 ±32mm이고, 쇽업서버(310)의 댐핑계수는 20,560Ns/m이며, 코일스프링(320)의 용수철 계수는 5000N/m이다.In order to test the repulsive force reduction rate, the mass of the slide (including the mass of the table that the slide is raised, 500) was 600Kg, and one slide 500 was used, including the mass of the linear movement bar and the mass of the magnet track 400 The mass of the pile is 1500Kg per shaft, the stroke is ±40mm, the effective stroke is ±32mm, the damping coefficient of the shock absorber 310 is 20,560Ns/m, and the spring coefficient of the coil spring 320 is 5000N/m .

이 경우, 도 6에 도시된 실험결과 중 모션 1은 1개의 슬라이드(500)를 이동거리 0.8225m이동시키고 그때 최대속도 0.25m/s, 평균가속도 0.2m/s2,로 이동시켰을 경우의 프레임(100)을 통한 바닥전달율, 즉 반발력 감쇄율은 87.5%, 선형이동바(300)에 의한 반발력 흡수율은 17.99%, 리니어모터 마찰에 의한 베이스(200) 전달율은 7.36%, 선형이동바(300)의 최대이동량은 ±6.51mm인 것으로 조사되어 슬라이드(500)의 움직임에 의한 반발력 감쇄율이 우수한 것으로 조사되었다. In this case, motion 1 among the experimental results shown in FIG. 6 is a frame ( 100) through the floor transmission rate, that is, the repulsive force attenuation rate is 87.5%, the repulsive force absorption rate by the linear moving bar 300 is 17.99%, the base 200 transmission rate by the linear motor friction is 7.36%, the maximum of the linear moving bar 300 The amount of movement was investigated to be ±6.51 mm, and it was investigated that the repulsive force attenuation rate due to the movement of the slide 500 was excellent.

또한, 도 7에 도시된 바와 같이 슬라이드에 이동거리, 속도, 가속도에 대한 지령을 보냈을 때, 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템에서의 거동과 비교예(쇽업서버와 코일스프링이 없는 구조)를 비교했을 경우이다. In addition, as shown in Fig. 7, when commands for movement distance, speed, and acceleration are sent to the slide, the behavior and comparative example in the table system according to the embodiment of the present invention (the structure without the shock-up server and the coil spring) in case of comparing

도 7의 하단에 도시되어 있는 베이스와 더미의 속도, 가속도의 변화가 비교예에 비해서 확연하게 줄어든 것을 확인할 수 있다.It can be seen that the changes in the speed and acceleration of the base and the dummy shown at the bottom of FIG. 7 are significantly reduced compared to the comparative example.

또한, 모션 2는 1개의 슬라이드(500)를 이동거리, 평균가속도를 모션 1과 같이 세팅하고, 최대속도를 0.4m/s로 변화를 주었을 경우이고, 도 5와 같이 반발력 감쇄율은 89.1%, 선형이동바(300)에 의한 흡수율은 18.4%, 리니어 모터 마찰에 의한 베이스(200) 전달율은 7.36%, 선형이동바(300)의 최대이동량은 ±9.87mm인 것으로 조사되었다. In addition, motion 2 is a case where the moving distance and average acceleration of one slide 500 are set as in motion 1, and the maximum speed is changed to 0.4 m/s, and as shown in FIG. 5, the repulsive force attenuation rate is 89.1%, linear It was investigated that the absorption rate by the moving bar 300 was 18.4%, the transmission rate of the base 200 by the friction of the linear motor was 7.36%, and the maximum movement amount of the linear moving bar 300 was ±9.87mm.

또한, 도 8에 도시된 바와 같이 슬라이드에 이동거리, 속도, 가속도에 대한 지령을 보냈을 때, 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템에서의 거동과 비교예(쇽업서버와 코일스프링이 없는 구조)를 비교했을 경우도 마찬가지로 하단에 도시되어 있는 베이스와 더미의 속도, 가속도의 변화가 비교예에 비해서 확연하게 줄어든 것을 확인할 수 있다.In addition, as shown in FIG. 8, when commands for movement distance, speed, and acceleration are sent to the slide, the behavior and comparative example in the table system according to the embodiment of the present invention (the structure without the shock-up server and the coil spring) Similarly, it can be seen that the changes in the speed and acceleration of the base and the dummy shown at the bottom are significantly reduced compared to the comparative example.

다음으로 모션 3은 1개의 슬라이드(500)를 이동시켜 전체 이동거리가 1.6m이고 최대속도는 1m/s, 평균가속도는 2m/s2,인 경우이고, 도 6과 같이 반발력 감쇄율은 93.9%, 선형이동바(300)에 의한 흡수율은 7.9%, 리니어모터 마찰에 의한 베이스(200) 전달율은 1.472%, 선형이동바(300)의 최대이동량은 30.81mm인 것으로 조사되어, 반발력이 커지더라도 반발력 감쇄율도 증가하고, 베이스(200)에 전달율도 감소하는 것으로 조사되었다.Next, motion 3 moves one slide 500 so that the total moving distance is 1.6 m, the maximum speed is 1 m/s, and the average acceleration is 2 m/s 2 , when the reaction force attenuation rate is 93.9%, as shown in FIG. The absorption rate by the linear moving bar 300 is 7.9%, the transmission rate of the base 200 by the linear motor friction is 1.472%, and the maximum movement amount of the linear moving bar 300 is 30.81mm. It was also investigated that the transmission rate to the base 200 also decreased.

또한, 도 9에 도시된 바와 같이 슬라이드에 이동거리, 속도, 가속도에 대한 지령을 보냈을 때, 본 발명의 실시예에 따른 테이블 시스템에서의 거동과 비교예(쇽업서버와 코일스프링이 없는 구조)를 비교했을 경우도 마찬가지로 베이스와 더미의 속도, 가속도의 변화가 비교예에 비해서 줄어든 것을 확인할 수 있다.In addition, as shown in FIG. 9, when commands for movement distance, speed, and acceleration are sent to the slide, the behavior and comparative example in the table system according to the embodiment of the present invention (the structure without the shock-up server and the coil spring) In the case of comparing the same, it can be seen that the changes in the speed and acceleration of the base and the dummy are reduced compared to the comparative example.

본 발명은 도면에 도시된 실시 예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시 예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 시스템, 구조, 장치, 회로 등의 구성 요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성 요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 등록청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiment shown in the drawings, which is merely exemplary, those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. For example, the described techniques are performed in a different order than the described method, and/or the described components of the system, structure, apparatus, circuit, etc. are combined or combined in a different form than the described method, or other components Or substituted or substituted by equivalents may achieve an appropriate result. Accordingly, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the technical spirit of the appended claims.

100 프레임 110 포스트
120 지지부 130 고정자
140 브라켓 170 부착부
200 베이스 300 선형이동바
310 쇽업서버 320 코일스프링
340 마그넷 유닛 350 고정편
400 마그넷 트랙 500 슬라이드
510 코어 600 제진대
100 frames 110 posts
120 Support 130 Stator
140 Bracket 170 Attachment
200 Base 300 Linear Moving Bar
310 Shock Absorber 320 Coil Spring
340 magnet unit 350 fixed piece
400 magnet track 500 slides
510 core 600 vibration isolation table

Claims (7)

테이블을 선형 이동시키는 테이블 시스템으로서,
바닥면에 고정되는 프레임;
상기 프레임에 의해 형성된 내측 공간에 위치하고, 하부에 부착되는 제진대로 바닥면과 연결되는 베이스;
상기 베이스의 상부 양측면에 형성되어 일측으로 선형 이동하는 선형이동바;
상기 선형이동바의 길이방향으로 형성되는 마그넷 트랙; 및
상기 마그넷 트랙을 따라 일측으로 선형 이동하는 슬라이드를 포함하는 것을 특징으로 하는 테이블 시스템.
A table system for linearly moving a table, comprising:
frame fixed to the floor;
a base located in the inner space formed by the frame and connected to the floor surface with a vibration damper attached to the lower part;
a linear moving bar formed on both upper side surfaces of the base and moving linearly to one side;
a magnet track formed in the longitudinal direction of the linear moving bar; and
Table system comprising a slide that linearly moves to one side along the magnet track.
제1항에 있어서,
상기 마그넷 트랙은 상기 선형이동바의 상부면에 길이방향으로 형성되는 것을 특징으로 하는 테이블 시스템.
According to claim 1,
The table system, characterized in that the magnet track is formed in the longitudinal direction on the upper surface of the linear moving bar.
제1항에 있어서,
상기 프레임은
모서리에 위치하여 바닥면과 연결되는 포스트;
상기 포스트 사이에 돌출 형성되어 상기 베이스를 고정시키는 지지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 테이블 시스템.
According to claim 1,
the frame is
Posts located at the corners and connected to the floor;
and a support part protruding between the posts to fix the base.
제3항에 있어서,
상기 포스트의 상부에 형성되는 고정자;
상기 지지부의 상부에 형성되는 브라켓을 더 포함하며,
상기 고정자는 상기 선형이동바의 일단과 쇽업서버(shock absorber)에 의해 연결되며,
상기 브라켓은 상기 선형이동바의 외측면에 부착되는 마그넷 유닛에 체결되는 것을 특징으로 하는 테이블 시스템.
4. The method of claim 3,
a stator formed on an upper portion of the post;
Further comprising a bracket formed on the upper portion of the support,
The stator is connected to one end of the linear moving bar by a shock absorber,
The bracket is a table system, characterized in that fastened to a magnet unit attached to the outer surface of the linear movement bar.
제4항에 있어서,
상기 쇽업서버(shock absorber)와 나란히 형성되어 상기 고정자와 상기 선형이동바의 일단을 연결하는 코일스프링을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 테이블 시스템.
5. The method of claim 4,
The table system according to claim 1, further comprising a coil spring formed side by side with the shock absorber to connect one end of the stator and the linear moving bar.
제4항에 있어서,
상기 선형이동바의 일단과 상기 고정자 사이에 형성되는 고정편을 더 포함하되, 상기 고정편의 일면은 상기 쇽업서버로 상기 고정자와 연결되고, 상기 고정편의 타면은 유니버셜 조인트로 상기 선형이동바의 일단과 연결되는 것을 특징으로 하는 테이블 시스템.
5. The method of claim 4,
Further comprising a fixed piece formed between one end of the linear moving bar and the stator, one side of the fixed piece is connected to the stator by the shock absorber, and the other surface of the fixed piece is a universal joint with one end of the linear moving bar and Table system characterized in that it is connected.
제4항에 있어서,
상기 쇽업서버(shock absorber)는 상기 선형이동바의 속도에 선형 비례하는 댐핑력을 갖는 것을 특징으로 하는 테이블 시스템.
5. The method of claim 4,
The shock absorber is a table system, characterized in that it has a damping force that is linearly proportional to the speed of the linear moving bar.
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Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05126973A (en) 1991-11-05 1993-05-25 Hitachi Electron Eng Co Ltd Pneumatic mount system
KR20000006149A (en) 1998-06-16 2000-01-25 후지야마 겐지 Motor drive device and xy table for a semiconductor manufacturing apparatus
JP2005297189A (en) 2005-05-30 2005-10-27 Nsk Ltd Xy table device
KR20060047978A (en) * 2004-05-20 2006-05-18 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 Stage apparatus
JP2006269509A (en) * 2005-03-22 2006-10-05 Nsk Ltd Positioning device
KR20080083297A (en) 2005-12-06 2008-09-17 티에치케이 가부시끼가이샤 Xy table actuator
KR20120016835A (en) * 2010-08-17 2012-02-27 (주)가온솔루션 Non-rail and non-contact moving system using magnet
KR101395033B1 (en) 2012-02-28 2014-05-16 주식회사 로보스타 Granite plate of assembling structure and xy stage using the same

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05126973A (en) 1991-11-05 1993-05-25 Hitachi Electron Eng Co Ltd Pneumatic mount system
KR20000006149A (en) 1998-06-16 2000-01-25 후지야마 겐지 Motor drive device and xy table for a semiconductor manufacturing apparatus
KR20060047978A (en) * 2004-05-20 2006-05-18 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 Stage apparatus
JP2006269509A (en) * 2005-03-22 2006-10-05 Nsk Ltd Positioning device
JP2005297189A (en) 2005-05-30 2005-10-27 Nsk Ltd Xy table device
KR20080083297A (en) 2005-12-06 2008-09-17 티에치케이 가부시끼가이샤 Xy table actuator
KR20120016835A (en) * 2010-08-17 2012-02-27 (주)가온솔루션 Non-rail and non-contact moving system using magnet
KR101395033B1 (en) 2012-02-28 2014-05-16 주식회사 로보스타 Granite plate of assembling structure and xy stage using the same

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