KR20220053854A - 이에프이엠 - Google Patents

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KR20220053854A
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우범제
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Abstract

본 발명은 웨이퍼 수납용기와 공정장비 사이에서 웨이퍼의 반송을 행하는 이에프이엠(EFEM)에 관한 것으로서, 특히, 웨이퍼의 반송이 이루어지는 반송실 내부의 유해 가스가 이에프이엠 외부로 누출되는 것을 방지하는 이에프이엠에 관한 것이다.

Description

이에프이엠{EFEM, Equipment Front End Module}
본 발명은 웨이퍼 수납용기와 공정장비 사이에서 웨이퍼의 반송을 행하는 이에프이엠(EFEM)에 관한 것이다.
반도체의 제조 공정에 있어서 수율이나 품질의 향상을 위해 청정한 클린룸 내에서의 웨이퍼의 처리가 이루어지고 있다. 그러나 소자의 고집적화나 회로의 미세화, 웨이퍼의 대형화가 진행됨에 따라 클린룸 내의 전체를 청정한 상태로 유지하는 것은 기술적 비용적으로 곤란하게 되었다.
따라서, 최근에는 웨이퍼 주위의 공간에 대해서만 청정도를 관리를 하게 되었으며, 이를 위해 풉(FOUP, Front-Opening Unified Pod)이라 불리는 밀폐식의 저장 포드의 내부에 웨이퍼를 저장하고, 웨이퍼의 가공을 행하는 공정장비와 풉 사이에서 웨이퍼의 전달을 행하기 위해, 이에프이엠(EFEM, Equipment Front End Module)이라 불리는 모듈을 이용하게 되었다.
이에프이엠은 웨이퍼 반송 장치가 구비된 반송실을 구성하여 반송실의 일측면에 풉이 결합되는 로드포트(Load Port)가 접속하고, 반송실의 타측면에 공정장비가 접속된다. 따라서, 웨이퍼 반송장치가 풉 내부에 저장된 웨이퍼를 공정장비로 반송하거나 공정장비에서 가공 처리를 마친 웨이퍼를 웨이퍼 저장장치 내부로 반송한다.
위와 같은 이에프이엠에 관한 특허로는 한국등록특허 제10-1002949호(이하, '특허문헌 1'이라 한다)와, 한국공개특허 제10-2015-0009421호(이하, '특허문헌 2'라 한다)에 기재된 것이 공개되어 있다.
특허문헌 1 및 특허문헌 2의 이에프이엠은 반송실의 로봇암에 의해 로드포트에 결합된 풉에 수납된 웨이퍼가 반송될 때, 반송실 내부로 가스가 공급됨으로써, 반송실 내부의 청정도를 관리하게 된다.
이처럼, 반송실 내부에 가스를 공급하면, 반송실 내부의 압력이 반송실 외부 압력보다 높아지게 되어, 반송실 내부의 가스가 반송실 외부로 새어 나올 수 있는 문제점이 발생하게 된다.
다시 말해, 반송실 내부가 밀폐된 공간을 갖게 되더라도, 이에프이엠의 크기가 대형으로 제작됨에 따라, 반송실에 리크가 발생할 수 있게 된다.
따라서, 반송실 내부의 퓸을 비롯한 유해가스가 반송실 외부로 누출되어 새어나가게 됨으로써, 이에프이엠 외부에 오염이 발생할 수 있으며, 이로 인해, 작업자들이 유해 가스에 노출될 수 있는 문제점이 있다.
한국등록특허 제10-1002949호 한국공개특허 제10-2015-0009421호
본 발명은 전술한 문제를 해결하기 위해 안출된 것으로, 웨이퍼의 반송이 이루어지는 반송실 내부의 유해 가스가 이에프이엠 외부로 누출되는 것을 방지하는 이에프이엠을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일 특징에 따른 이에프이엠은, 이에프이엠에 있어서, 웨이퍼 저장장치와 공정장치 사이에서의 웨이퍼의 반송이 이루어지는 반송실;을 포함하고, 상기 반송실과 상기 이에프이엠 주변 간은 서로 간에 직접적인 가스 흐름이 없는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 반송실 내부의 가스가 상기 이에프이엠 외부로 누출되는 것이 차단되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 이에프이엠의 외부 가스가 상기 반송실 내부로 유입되는 것이 차단되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 반송실과 상기 이에프이엠 외부 사이에 구비되고, 상기 반송실 내부의 가스가 상기 이에프이엠 외부로 누출되는 것을 차단함과 동시에 상기 이에프이엠의 외부 가스가 상기 반송실 내부로 유입되는 것을 차단하는 적어도 하나의 챔버;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 반송실과 상기 이에프이엠 외부 사이에 구비되고, 그 내부 압력은 상기 반송실 내부의 압력과 상기 이에프이엠 주변의 압력 중에서 낮은 압력보다 낮게 유지되는 적어도 하나의 챔버;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 반송실과 상기 이에프이엠 외부 사이에 구비되고, 그 내부 압력이 상기 반송실 내부의 압력과 상기 이에프이엠 외부의 압력 중에서 낮은 압력보다 낮게 유지되는 적어도 하나의 제1챔버; 및 상기 반송실과 상기 이에프이엠 외부 사이에 구비되고, 그 내부 압력이 상기 제1챔버의 내부 압력보다 높게 유지되는 적어도 하나의 제2챔버;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 반송실과 상기 이에프이엠 외부 사이에 구비되고, 그 내부 압력이 상기 반송실 내부의 압력과 상기 이에프이엠 외부의 압력 중에서 낮은 압력보다 낮게 유지되는 적어도 하나의 제1챔버; 및 상기 제1챔버와 상기 이에프이엠 외부 사이에서 구비되는 제2챔버;를 더 포함하고, 상기 제2챔버의 내부 압력은 상기 이에프이엠의 외부 압력보다 낮게 유지되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 반송실과 상기 이에프이엠 외부 사이에 구비되고, 그 내부 압력이 상기 반송실 내부의 압력과 상기 이에프이엠 외부의 압력 중에서 낮은 압력보다 낮게 유지되는 적어도 하나의 제1챔버; 및 상기 제1챔버와 상기 이에프이엠 외부 사이에서 복수 개 구비되는 제2챔버;를 더 포함하고, 상기 제2챔버 중에서 가장 외측에 위치하는 제2챔버의 내부 압력은 상기 이에프이엠의 외부 압력보다 낮게 유지되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 반송실과 상기 이에프이엠 외부 사이에 구비되고, 그 내부 압력이 상기 반송실 내부의 압력과 상기 이에프이엠 외부의 압력 중에서 낮은 압력보다 낮게 유지되는 적어도 하나의 제1챔버; 및 상기 제1챔버와 상기 반송실 사이에서 구비되는 제2챔버;를 더 포함하고, 상기 제2챔버의 내부 압력은 상기 반송실의 내부 압력보다 낮게 유지되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 반송실과 상기 이에프이엠 외부 사이에 구비되고, 그 내부 압력이 상기 반송실 내부의 압력과 상기 이에프이엠 외부의 압력 중에서 낮은 압력보다 낮게 유지되는 적어도 하나의 제1챔버; 및 상기 제1챔버와 상기 반송실 사이에서 복수 개 구비되는 제2챔버;를 더 포함하고, 상기 제2챔버 중에서 가장 내측에 위치하는 제2챔버의 내부 압력은 상기 반송실의 내부 압력보다 낮게 유지되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따른 이에프이엠은, 웨이퍼 저장장치와 공정장비 사이에서의 웨이퍼의 반송이 이루어지는 반송실; 상기 반송실의 외측에서 상기 반송실을 둘러싸는 제1챔버; 상기 반송실에 가스를 공급하는 반송실 공급부; 상기 반송실 내부의 가스를 배기하는 반송실 배기부; 상기 제1챔버 내부의 가스를 배기하는 제1챔버 배기부; 및 상기 제1챔버 내부의 압력이 상기 반송실 내부의 압력보다 낮게 유지되도록 상기 반송실 공급부, 상기 반송실 배기부 및 상기 제1챔버 배기부 중 적어도 어느 하나의 작동을 제어하는 제어부;를 포함한다.
또한, 상기 제1챔버의 외측에서 상기 제1챔버를 둘러싸는 제2챔버; 및 상기 제2챔버에 가스를 공급하는 제2챔버 공급부;를 더 포함하고, 상기 반송실 공급부는 상기 제2챔버와 연통되고, 상기 제어부는, 상기 제1챔버 내부의 압력이 상기 제2챔버 내부의 압력보다 낮게 유지되도록 상기 제1챔버 배기부 및 상기 제2챔버 공급부 중 적어도 어느 하나의 작동을 제어하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제어부는, 상기 제2챔버 내부의 압력이 상기 반송실 내부의 압력보다 높게 유지되도록 상기 제2챔버 공급부, 상기 반송실 공급부 및 상기 반송실 배기부 중 적어도 어느 하나의 작동을 제어하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 웨이퍼 저장장치의 풉과 상기 반송실을 접속시키는 제1개구부; 상기 제1개구부의 내측을 개폐시키도록 상기 반송실에 구비되는 제1도어; 및 상기 제1챔버에 개폐 가능하게 구비되며, 상기 웨이퍼 저장장치를 적재하는 로드포트의 로드포트 도어에 의해 상기 제1개구부의 외측이 폐쇄되고, 상기 제1도어에 의해 상기 제1개구부의 내측이 폐쇄될 때, 개방에 의해 상기 로드포트 도어와 상기 제1도어 사이의 공간을 상기 제1챔버와 연통시키는 제1연통부;를 더 포함한다.
또한, 상기 제1챔버의 외측에서 상기 제1챔버를 둘러싸는 제2챔버; 상기 제1개구부에서 상기 제1챔버와 상기 제2챔버 사이의 공간을 폐쇄하도록 상기 제1챔버와 상기 제2챔버 사이에 개폐 가능하게 구비되는 제2도어; 및 상기 제2챔버에 개폐 가능하게 구비되며, 상기 로드포트 도어, 상기 제1도어 및 상기 제2도어가 폐쇄될 때, 개방에 의해 상기 제1개구부에서 상기 로드포트 도어 및 상기 제2도어 사이의 공간을 상기 제2챔버와 연통시키는 제2연통부;를 더 포함한다.
또한, 상기 공정장비의 로드락 챔버와 상기 반송실을 접속시키는 제2개구부; 상기 제2개구부의 내측을 개폐시키도록 상기 반송실에 구비되는 제3도어; 및 상기 제1챔버에 개폐 가능하게 구비되며, 상기 로드락 챔버의 로드락 챔버 도어에 의해 상기 제2개구부의 외측이 폐쇄되고, 상기 제3도어에 의해 상기 제2개구부의 내측이 폐쇄될 때, 개방에 의해 상기 로드락 챔버 도어와 상기 제2도어 사이의 공간을 상기 제1챔버와 연통시키는 제3연통부;를 더 포함한다.
또한, 상기 제1챔버의 외측에서 상기 제1챔버를 둘러싸는 제2챔버; 상기 제2개구부에서 상기 제1챔버와 상기 제2챔버 사이의 공간을 폐쇄하도록 상기 제1챔버와 상기 제2챔버 사이에 개폐 가능하게 구비되는 제4도어; 및 상기 제2챔버에 개폐 가능하게 구비되며, 상기 로드포트 도어, 상기 제3도어 및 상기 제4도어가 폐쇄될 때, 개방에 의해 상기 제2개구부에서 상기 로드락 챔버 도어 및 상기 제4도어 사이의 공간을 상기 제2챔버와 연통시키는 제4연통부;를 더 포함한다.
또한, 상기 웨이퍼 저장장치의 풉과 상기 반송실을 접속시키는 제1개구부; 및 상기 풉과 상기 제1개구부의 틈새에서 누출되는 가스가 상기 제1챔버로 유동되도록 상기 제1개구부의 주변에 구비되는 제1틈새 배기부;를 더 포함한다.
또한, 상기 공정장비의 로드락 챔버와 상기 반송실을 접속시키는 제2개구부; 및 상기 로드락 챔버와 상기 제2개구부의 틈새에서 누출되는 가스가 상기 제1챔버로 유동되도록 상기 제2개구부의 주변에 구비되는 제2틈새 배기부;를 더 포함한다.
이상에서 살펴본 바와 같은 본 발명의 이에프이엠에 따르면 다음과 같은 효과가 있다.
반송실 외측을 내부 압력이 저압으로 유지되는 제1챔버로 둘러쌈으로써, 반송실 내부의 유해가스가 이에프이엠 외부로 누출되는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.
제1챔버 외측을 내부 압력이 고압으로 유지되는 제2챔버로 둘러쌈으로써, 외부 공기가 반송실 내부로 유입되는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.
반송실 외측을 내부 압력이 고압으로 유지되는 제1챔버로 둘러쌈으로써, 반송실 내부의 유해가스가 이에프이엠 외부로 누출되는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.
제1챔버 외측을 내부 압력이 저압으로 유지되는 제2챔버로 둘러쌈으로써, 외부 공기가 반송실 내부로 유입되는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.
제1, 2도어 및 제1, 2연통부를 통해, 웨이퍼 저장장치가 이에프이엠으로부터 접속이 해제될 때, 제1개구부가 존재하는 영역에서도, 반송실 내부의 유해가스가 이에프이엠 외부로 누출되는 것을 방지함과 동시에, 외부 공기가 반송실 내부로 유입되는 것을 차단할 수 있다,
제3, 4도어 및 제3, 4연통부를 통해, 공정장비가 이에프이엠으로부터 접속이 해제될 때, 제2개구부가 존재하는 영역에서도, 반송실 내부의 유해가스가 이에프이엠 외부로 누출되는 것을 방지함과 동시에, 외부 공기가 반송실 내부로 유입되는 것을 차단할 수 있다,
제1틈새 배기부 및 제2틈새 배기부가 구비됨에 따라, 풉과 제1개구부의 틈새에서 누출되는 가스와, 로드락 챔버와 제2개구부의 틈새에서 누출되는 가스의 누출을 효과적으로 방지하는 기능 뿐만 아니라, 제1챔버 내부 압력을 쉽게 제어할 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠의 전방에 웨이퍼 저장장치가 접속되고, 후방에 공정장비가 접속된 것을 도시한 평면 개략도.
도 2는 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠의 측면 단면도.
도 3은 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠의 반송실, 제1챔버 및 제2챔버의 가스의 유동을 도시한 측면 단면도.
도 4는 반송실 공급부와 반송실 배기부가 변형된 형태의 본 발명의 제1실시 예의 이에프이엠의 반송실, 제1챔버 및 제2챔버의 가스의 유동을 도시한 측면 단면도.
도 5(a) 내지 도 5(c)는 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠에 접속된 웨이퍼 저장장치의 접속이 해제될 때의, 로드포트 도어, 제1, 2도어 및 제1, 2연통부의 작동을 도시한 도.
도 6은 본 발명의 제2실시 예에 따른 이에프이엠의 측면 단면도.
도 7은 본 발명의 제2실시 예에 따른 이에프이엠의 반송실, 제1챔버 및 제2챔버의 가스의 유동을 도시한 측면 단면도.
이하의 내용은 단지 발명의 원리를 예시한다. 그러므로 당업자는 비록 본 명세서에 명확히 설명되거나 도시되지 않았지만 발명의 원리를 구현하고 발명의 개념과 범위에 포함된 다양한 장치를 발명할 수 있는 것이다. 또한, 본 명세서에 열거된 모든 조건부 용어 및 실시 예들은 원칙적으로, 발명의 개념이 이해되도록 하기 위한 목적으로만 명백히 의도되고, 이와 같이 특별히 열거된 실시 예들 및 상태들에 제한적이지 않는 것으로 이해되어야 한다.
상술한 목적, 특징 및 장점은 첨부된 도면과 관련한 다음의 상세한 설명을 통하여 보다 분명해 질 것이며, 그에 따라 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 것이다.
본 명세서에서 기술하는 실시 예들은 본 발명의 이상적인 예시 도인 단면도 및/또는 사시도들을 참고하여 설명될 것이다. 따라서, 본 발명의 실시 예들은 도시된 특정 형태로 제한되는 것이 아니라 제조 공정에 따라 생성되는 형태의 변화도 포함하는 것이다.
본 발명의 이에프이엠은, 웨이퍼 저장장치와 공정장치 사이에서의 웨이퍼의 반송이 이루어지는 반송실을 포함하고, 상기 반송실과 상기 이에프이엠 주변 간은 서로 간에 직접적인 가스 흐름이 없는 것을 특징으로 한다.
이러한 이에프이엠은, 반송실 내부의 가스가 이에프이엠 외부로 누출되는 것이 차단된다.
또한, 이에프이엠은, 이에프이엠의 외부 가스가 반송실 내부로 유입되는 것이 차단된다.
위와 같은 이에프이엠을 구현하기 위해, 이에프이엠은, 반송실과 이에프이엠 외부 사이에 구비되고, 반송실 내부의 가스가 이에프이엠 외부로 누출되는 것을 차단함과 동시에 이에프이엠의 외부 가스가 반송실 내부로 유입되는 것을 차단하는 적어도 하나의 챔버를 포함하게 구성될 수 있다.
이 경우, 반송실과 이에프이엠 외부 사이에 구비되고, 그 내부 압력은 반송실 내부의 압력과 이에프이엠 주변의 압력 중에서 낮은 압력보다 낮게 유지되는 적어도 하나의 챔버를 포함하여 구성될 수 있다.
본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠(10)
이하, 도 1 내지 도 5를 참고하여, 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠(10)에 대해 설명한다.
도 1은 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠의 전방에 웨이퍼 저장장치가 접속되고, 후방에 공정장비가 접속된 것을 도시한 평면 개략도이고, 도 2는 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠의 측면 단면도이고, 도 3은 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠의 반송실, 제1챔버 및 제2챔버의 가스의 유동을 도시한 측면 단면도이고, 도 4는 반송실 공급부와 반송실 배기부가 변형된 형태의 본 발명의 제1실시 예의 이에프이엠의 반송실, 제1챔버 및 제2챔버의 가스의 유동을 도시한 측면 단면도이고, 도 5(a) 내지 도 5(c)는 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠에 접속된 웨이퍼 저장장치의 접속이 해제될 때의, 로드포트 도어, 제1, 2도어 및 제1, 2연통부의 작동을 도시한 도이다.
본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠(10)은, 웨이퍼 저장장치(20)와 공정장비(30) 사이에서의 웨이퍼의 반송이 이루어지는 반송실(100);과, 웨이퍼 저장장치(20)의 풉(21)과 반송실(100)을 접속시키는 제1개구부(150);와, 공정장비(30)의 로드락 챔버(31)와 반송실(100)을 접속시키는 제2개구부(160);와, 반송실(100)의 외측에서 반송실(100)을 둘러싸는 제1챔버(200);와, 반송실(100)에 가스를 공급하는 반송실 공급부(110);와, 반송실(100) 내부의 가스를 배기하는 반송실 배기부(120);와, 제1챔버(200) 내부의 가스를 배기하는 제1챔버 배기부(220);와, 제1챔버(200)의 외측에서 제1챔버(200)를 둘러싸는 제2챔버(300);와, 제2챔버(300)에 가스를 공급하는 제2챔버 공급부(310);와, 제2챔버(300) 내부의 가스를 배기하는 제2챔버 배기부(미도시);와, 제1챔버(200) 내부의 압력이 반송실(100) 내부의 압력 및 제2챔버(300) 내부의 압력보다 낮게 유지되도록 하는 제어부(400);를 포함하여 구성될 수 있다.
본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠(10)은, 제1챔버(200) 내부의 압력이 반송실(100) 내부의 압력과 이에프이엠(10) 주변의 압력보다 낮게 유지되어 반송실(100) 내부의 가스가 이에프이엠(10) 주변의 외부로 누출되는 것을 차단한다.
제1챔버(200)는 반송실(100) 형성면의 적어도 일부를 감싸도록 반송실(100)의 외측에 구비된다.
반송실(100) 내부의 가스가 이에프이엠(10) 주변의 외부로 누출되는 것을 차단함과 동시에 이에프이엠(10) 주변의 외부 가스가 반송실(100) 내부로 유입되는 것을 차단하도록 반송실(100)과 이에프이엠(10) 주변은 서로 가스 교환되지 않도록 반송실(100)은 이에프이엠(10) 주변과는 가스적으로 밀폐된 공간이 된다.
반송실(100) 내부의 압력 유지를 위한 반송실(100) 내부로의 가스 공급은 이에프이엠(10) 주변의 외부 가스와는 별개로 반송실(100) 내부로 유입된다.
반송실(100) 내부의 압력 유지를 위한 반송실(100) 외부로의 가스 배기는 이에프이엠(10) 주변의 외부 가스와는 별개로 반송실(100) 외부로 배기된다.
반송실(100) 내부에서의 가스 흐름은 반송실(100)의 하부에서 반송실(100)의 상부로 향하는 업-스트림 방식일 수 있다. 이 경우, 반송실(100) 내부로의 가스 공급은 반송실(100) 하부에 형성된 복수개의 공급홀(110a)에 의해 이루어질 수 있다. 또한, 반송실(100) 외부로의 가스 배기는 반송실 상부에 형성된 복수개의 배기홀(120a)에 의해 이루어질 수 있다.
이하, 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠(10)에 대해 보다 상세하게 설명한다.
먼저, 이에프이엠(10)에 접속되는 웨이퍼 저장장치(20) 및 공정장비(30)에 대해 설명한다.
이에프이엠(10)의 내부의 가스는 후술할 불활성 가스를 포함한 이에프이엠(10) 내부의 모든 가스를 의미한다. 불활성 가스는 질소, 아르곤 등의 가스를 의미한다.
이에프이엠(10)의 전방면 측에는 복수개의 웨이퍼 저장장치(20)가 접속된 채 배열된다.
웨이퍼 저장장치(20)는 웨이퍼를 수납하는 풉(21)과, 그 상부에 풉(21)을 결합시켜 적재하는 로드포트(22)를 포함하여 구성된다.
풉(21)은 일측면이 개방되어 있으며, 상기 개방된 일측면을 통해 풉(21)의 내부에 복수개의 웨이퍼가 상, 하로 수납된다. 따라서, 웨이퍼 제조 공정에서 각 공정별로 웨이퍼의 이동시, 풉(21)을 통해 웨이퍼를 쉽게 옮길 수 있다.
로드포트(22)의 상부에는 풉(21)이 결합되어 적재된다. 따라서, 로드포트(22)가 이에프이엠(10)의 전방에 설치될 때, 풉(21)의 개방된 일측면은 반송실(100)의 전면에 형성된 제1개구부(150)와 연통되며, 이를 통해, 웨이퍼 저장장치(20)의 풉(21)과 반송실(100)은 연통 및 접속된다.
풉(21)과 로드포트(22)가 결합시 로드포트(22)의 가스 송출부를 통해 풉(21) 내부에 가스가 공급됨으로써, 풉(21) 내부에 수납된 웨이퍼의 청정도를 별도로 관리할 수 있다.
로드포트 도어(22a)는, 제1개구부(150)의 외측을 폐쇄하도록 로드포트(22)에 구비된다.
로드포트 도어(22a)는 풉(21)이 반송실(100)에 접속될 때, 개방되어 풉(21)의 개방된 일측면과 제1개구부(150)가 용이하게 연통될 수 있도록 한다.
로드포트 도어(22a)는 풉(21)과 반송실(100)의 접속이 해제될 때, 제1개구부(150)의 외측을 폐쇄하도록 폐쇄되어, 외부 공기가 반송실(100) 내부로 들어가거나, 반송실(100)의 가스가 이에프이엠(10) 외부로 누출되는 것을 방지한다.
이에프이엠(10)의 후방면 측에는 공정장비(30)가 접속되며, 이 경우, 공정장비(30)의 로드락 챔버(31)가 반송실(100)의 후면에 형성된 제2개구부(160)와 연통됨으로써, 공정장비(30)가 이에프이엠(10)의 후방면 측에 연통 및 접속된다.
공정장비(30)는 복수개가 이에프이엠(10)의 후방면 측에 접속될 수 있으며, 공정장비(30)는 다양한 구성을 갖을 수 있다.
일례로써, 공정장비(30)는 로드락 챔버(31)와 인접하여 공정장비 반송실(32)이 설치되고, 공정장비 반송실(32)과 인접하여 웨이퍼의 처리를 행하는 복수개의 공정유닛(33)이 설치되는 구성을 갖는다.
로드락 챔버(31)와 반송실(100)의 후면벽 사이에는 로드락 챔버 도어(31a)가 설치될 수 있으며, 로드락 챔버 도어(31a)를 개폐함으로써, 반송실(100)과 로드락 챔버(31)가 연통되거나 차단될 수 있다.
로드락 챔버 도어(31a)는 로드락 챔버(31)가 반송실(100)에 접속될 때, 개방되어 로드락 챔버(31)의 개방된 일측면과 제2개구부(160)가 용이하게 연통될 수 있도록 한다.
로드락 챔버 도어(31a)는 로드락 챔버(31)와 반송실(100)의 접속이 해제될 때, 제2개구부(160)의 외측을 폐쇄하도록 폐쇄되어, 외부 공기가 반송실(100) 내부로 들어가거나, 반송실(100)의 가스가 이에프이엠(10) 외부로 누출되는 것을 방지한다.
공정장비 반송실(32)과 복수개의 공정유닛(33) 사이에는 각각 공정장비 반송실 도어(32a)가 설치될 수 있으며, 공정장비 반송실 도어(32a)를 개폐함으로써, 공정장비 반송실(32)과 복수개의 공정유닛(33) 사이를 연통하거나 차단할 수 있다.
공정장비 반송실(32)에는 공정장비 반송장치(34)를 사용하여, 로드락 챔버(31)와 복수개의 공정유닛(33) 사이에서 웨이퍼의 반송을 수행할 수 있다.
이하, 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠(10)의 반송실(100)에 대해 설명한다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 반송실(100)은 이에프이엠(10)의 전방에 접속된 웨이퍼 저장장치(20)와 이에프이엠(10)의 후방에 접속된 공정장비(30) 사이에서의 웨이퍼 반송이 이루어지는 공간을 제공하는 기능을 한다.
이러한 웨이퍼의 반송은 반송실(100) 내부에 설치되는 반송장치(140)에 의해 수행된다.
반송실(100)의 외측에는 제1챔버(200)가 구비되고, 제1챔버(200)의 외측에는 제2챔버(300)가 구비된다.
따라서, 반송실(100)은 제1챔버(200)에 둘러싸여 있고, 제1챔버(200)는 제2챔버(300)에 둘러싸여 있는 형상을 갖는다.
다시 말해, 제1챔버(200)는 반송실(100)을 감싸고, 제2챔버(300)는 제1챔버(200)를 감싸고 있는 형상을 갖는다.
반송실(100)의 전방면에는 웨이퍼 저장장치(20)의 풉(21)이 접속되는 제1개구부(150)가 구비된다.
제1개구부(150)는 웨이퍼 저장장치(20)의 풉(21)과 반송실(100)을 접속시키는 기능을 한다.
제1개구부(150)는 복수개가 구비될 수 있으며, 제1개구부(150)의 갯수는 웨이퍼 저장장치(20)의 갯수와 동일하다.
반송실(100)의 후방면에는 공정장비(30)의 로드락 챔버(31)가 접속되는 제2개구부(160)가 구비된다.
제2개구부(160)는 공정장비(30)의 로드락 챔버(31)와 반송실(100)을 접속시키는 기능을 한다.
제2개구부(160)는 복수개가 구비될 수 있으며, 제2개구부(160)의 갯수는 공정장비(30)의 갯수와 동일하다.
제1, 2개구부(150, 160)가 반송실(100)의 전방면과 후방면에 구비됨에 따라, 반송실(100)은 제1, 2개구부(150, 160)를 제외한 영역이 제1챔버(200) 및 제2챔버(300)에 의해 둘러 쌓여 있다. 다시 말해, 제1, 2챔버(200, 300)는 반송실(100)의 외측 중 제1, 2개구부(150, 160)가 제외한 영역을 둘러싸고 있다.
이는, 제1개구부(150)를 통해 웨이퍼 저장장치(20)의 풉(21)이 반송실(100)에 연통되어야 하고, 제2개구부(160)를 통해 공정장비(30)의 로드락 챔버(31)가 반송실(100)에 연통되어야 하기 때문이다.
반송실(100)에는 반송실(100) 내부에 가스를 공급하는 반송실 공급부(110)와, 반송실(100) 내부의 가스를 배기하는 반송실 배기부(120)가 구비된다.
반송실 공급부(110)는 제2챔버(300)와 연통된다.
반송실 공급부(110)는 제2챔버 공급부(310)를 통해 외부 공급부에서 공급된 가스를 제2챔버(300)를 거쳐 반송실(100) 내부로 공급하는 기능을 한다.
반송실 공급부(110)에 의해 공급되는 가스는 질소 등 불활성 기체로 이루어질 수 있다.
반송실 배기부(120)는 반송실(100) 내부의 가스 및 이물질을 배기하는 기능을 한다. 반송실(100) 내부의 가스는 반송실 공급부(110)에 의해 공급된 가스와, 웨이퍼에서 발생되는 퓸을 포함한다.
따라서, 반송실 배기부(120)는 반송실 공급부(110)에 의해 공급된 가스와, 웨이퍼에서 발생되는 퓸을 배기하는 기능을 한다.
도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 반송실 공급부(110)는 반송실(100)의 하부에 구비되어 반송실(100)의 하부에서 상부 방향으로 가스를 공급하고, 반송실 배기부(120)는 반송실(100)의 상부에 구비되어 반송실(100)의 하부에서 상부 방향으로 가스를 배기할 수 있다.
반송실(100)의 내부에는 반송실(100)의 내부의 압력을 센싱하는 반송실 센서(130)가 구비된다.
본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠은 도 4에 도시된 바와 같이, 반송실 공급부와 반송실 배기부가 변형된 형태의 이에프이엠(10a)으로 구현될 수도 있다.
이러한 변형된 형태의 이에프이엠(10a)은, 반송실 공급부는 반송실(100)의 하부의 내측면에 형성되는 복수개의 공급홀(110a)로 이루어질 수 있으며, 반송실 배기부는 반송실(100)의 상부의 내측면에 형성되는 복수개의 배기홀(110a)로 이루어질 수 있다.
공급홀(110a)은 반송실(100)의 하부의 내측면에 복수개가 구비되어 면에서 가스가 공급되는 형태로 가스를 반송실(100) 내부에 공급하게 된다.
배기홀(120a)은 반송실(100)의 상부의 내측면에 복수개가 구비되어 면에서 가스가 배기되는 형태로 가스를 반송실(100) 내부에서 반송실(100)의 외부로 배기하게 된다.
위와 같이, 복수개의 공급홀(110a) 및 복수개의 배기홀(120a)이 구비됨에 따라, 반송실(100)의 내부에는 가스의 상승기류가 형성된다. 따라서, 반송실(100) 내부에서의 가스 흐름은 업-스트림 방식이다.
이처럼 가스가 웨이퍼의 퓸과 함께 복수개의 배기홀(120a)로 배기됨으로써, 반송실(100)의 청정도가 관리될 수 있다.
전술한 바와 달리, 이에프이엠 반송실 공급부는 FFU(Fan Filter Unit)을 포함하여, 반송실 상부에 구비되고, 반송실 배기부는 상부에서 공급되는 가스를 배기하도록 반송실 하부에 구비됨으로써, 하강기류를 통해 가스가 공급 및 배기될 수 있다. 다시 말해, 이에프이엠 반송실 공급부를 통해, 반송실 내부에서의 가스 흐름은 다운-스트림 방식으로 이루어질 수도 있다.
이하, 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠(10)의 제1챔버(200) 및 제2챔버(300)에 대해 설명한다.
제1챔버(200)는 반송실(100)의 외측에서 반송실(100)을 둘러싸도록 배치된다.
제어부(400)에 의해 제1챔버(200) 내부의 압력은 반송실(100) 내부의 압력 및 제2챔버(300) 내부의 압력보다 낮게 유지된다.
위와 같이, 제1챔버(200) 압력이 반송실(100) 내부의 압력 및 제2챔버(300) 내부의 압력보다 낮게 유지됨에 따라, 제1챔버(200)의 내부에는 리크에 의해 반송실(100)에서 누출된 가스 및 제2챔버(300)에 의해 누출된 가스가 유동하게 된다.
제1챔버 배기부(220)는 제1챔버(200) 내부의 가스를 배기하는 기능을 한다. 따라서, 제1챔버(200) 내부의 가스는 제1챔버 배기부(220)에 의해 이에프이엠(10)의 외부로 배기된다.
제2챔버(300)는 외측에서 제1챔버(200)를 둘러싸도록 배치된다.
제2챔버 공급부(310)는 외부 공급부에서 공급되는 가스를 제2챔버(300)로 공급시키는 기능을 한다.
제2챔버(300)에는 제2챔버 배기부가 구비될 수도 있다. 제2챔버 배기부는 제2챔버(300) 내부의 가스를 배기하는 기능을 한다. 따라서, 제어부(400)는 제2챔버 공급부(310)와 제2챔버 배기부를 제어함으로써, 제2챔버(300) 내부의 압력을 제어할 수 있다.
제2챔버 공급부(310)와 제2챔버 배기부는 일체로 이루어질 수도 있다. 다시 말해, 하나의 배관을 통해 가스의 공급 및 배기가 선택적으로 이루어지도록 제2챔버 공급부(310)와 제2챔버 배기부가 구비될 수도 있는 것이다.
제어부(400)에 의해 제2챔버(300) 내부의 압력은 반송실(100) 내부의 압력 및 제1챔버(200) 내부의 압력보다 높게 유지된다. 이는, 제2챔버(300)에는 제2챔버 공급부(310)에 의해 고압의 가스가 계속적으로 공급됨으로써, 고압의 가스가 제2챔버(300) 내부에서 유동되기 때문이다.
반송실(100), 제1챔버(200) 및 제2챔버(300)는 각각 별개의 공간으로 이루어져 있다.
따라서, 이에프이엠(10)은 반송실(100)의 외측을 제1챔버(200)가 둘러싸고 있고, 제1챔버(200)의 외측을 제2챔버(300)가 둘러싸고 있는 3중 벽 구조를 갖게 된다.
반송실(100)의 내부에는 상승기류에 의한 가스 및 웨이퍼의 퓸이 유동된다.
제1챔버(200)의 내부에는 반송실(100)에서 누출된 가스 및 퓸과 제2챔버(300)에서 누출된 가스가 유동된다.
제2챔버(300)의 내부에는 제2챔버 공급부(310)에 의해 공급된 고압의 가스가 유동된다.
제1챔버(200)의 내부에는 제1챔버(200) 내부의 압력을 센싱하는 제1챔버 센서(230)가 구비된다.
제2챔버(300)의 내부에는 제2챔버(300) 내부의 압력을 센싱하는 제2챔버 센서(330)가 구비된다.
이하, 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠(10)의 제어부(400)에 대해 설명한다.
제어부(400)는 이에프이엠(10)의 반송실(100), 제1챔버(200) 및 제2챔버(300) 각각의 내부의 압력을 제어하는 기능을 한다.
제어부(400)에 의해 제어되는 반송실(100), 제1챔버(200) 및 제2챔버(300) 각각의 내부의 압력은 '제2챔버(300) 내부의 압력 > 반송실(100) 내부의 압력 > 제1챔버(200) 내부의 압력' 관계를 만족하는 것이 바람직하다.
제어부(400)는 반송실 센서(130), 제1챔버 센서(230), 제2챔버 센서(330), 반송실 공급부(110), 제2챔버 공급부(310), 반송실 배기부(120), 제1챔버 배기부(220), 제2챔버 배기부와 연결된다.
제어부(400)는, 제1챔버(200) 내부의 압력이 반송실(100) 내부의 압력보다 낮게 유지되도록 반송실 공급부(110), 반송실 배기부(120) 및 제1챔버 배기부(220) 중 적어도 어느 하나의 작동을 제어한다.
제어부(400)는, 제1챔버(200) 내부의 압력이 제2챔버(300) 내부의 압력보다 낮게 유지되도록 제1챔버 배기부(220), 제2챔버 공급부(310) 및 제2챔버 배기부 중 적어도 어느 하나의 작동을 제어한다.
제어부(400)에는 제1설정압력범위, 제2설정압력범위 및 제3설정압력범위가 기설정되어 있다.
제1설정압력범위는 반송실 센서(130)에 의해 측정되는 반송실(100) 내부의 압력의 기준이 되는 압력범위 값이고, 제2설정압력범위는 제1챔버(200) 제1챔버 센서(230)에 의해 측정되는 제1챔버(200) 내부의 압력의 기준이 되는 압력범위 값이고, 제3설정압력범위는 제2챔버 센서(330)에 의해 측정되는 제2챔버(300) 내부의 압력의 기준이 되는 압력범위 값이다.
따라서, 제1설정압력범위, 제2설정압력범위 및 제3설정압력범위는 '제3설정압력범위 > 제1설정압력범위 > 제2설정압력범위' 관계를 만족한다.
또한, 제1챔버(200) 및 제2챔버(300) 각각의 내부의 압력 및 이에프이엠(10)의 외부 압력은 '제2챔버(300) 내부의 압력 > 이에프이엠(10)의 외부 압력 > 반송실(100) 내부의 압력 > 제1챔버(200) 내부의 압력' 관계를 만족하는 것이 바람직하다.
따라서, 제1설정압력범위, 제2설정압력범위, 제3설정압력범위 및 이에프이엠(10)의 외부 압력은 '제3설정압력범위 > 이에프이엠(10)의 외부 압력 > 제1설정압력범위 > 제2설정압력범위' 관계를 만족한다.
위와 같이, 반송실(100) 내부의 압력이 이에프이엠(10)의 외부 압력보다 낮음에 따라, 반송실(100) 내부의 압력이 이에프이엠(10) 주변의 압력보다 낮게 유지되어 반송실(100) 내부의 가스가 이에프이엠(10) 주변의 외부로 누출되는 것을 차단할 수 있다.
제어부(400)는, 반송실 센서(130)에서 측정된 반송실(100) 내부의 압력이 제1설정압력범위 내에 있도록 반송실 공급부(110) 및 반송실 배기부(120) 중 적어도 어느 하나를 제어한다.
제어부(400)는, 제1챔버 센서(230)에서 측정된 제1챔버(200) 내부의 압력이 제2설정압력범위 내에 있도록 제1챔버 배기부(220)를 제어한다.
제어부(400)는, 제2챔버 센서(330)에서 측정된 제2챔버(300) 내부의 압력이 제3설정압력범위 내에 있도록 제2챔버 공급부(310) 및 제2챔버 배기부 중 적어도 어느 하나를 제어한다.
이하, 도 2 및 도 3을 참고하여, 제어부(400)에 의한 반송실(100) 내부의 압력, 제1챔버(200) 내부의 압력 및 제2챔버(300) 내부의 압력을 제어하는 방법에 대해 설명한다.
제어부(400)는 외부 공급부와 연통된 제2챔버 공급부(310)를 제어하여, 외부 공급부에서 공급되는 가스를 제2챔버(300) 내부로 공급하게 된다.
이 경우, 외부 공급부 및 제2챔버 공급부(310)에 의해 공급되는 가스는 고압으로 공급된다.
제2챔버(300) 내부로 공급된 가스는 제2챔버(300) 내부를 유동하게 되며, 이로 인해, 제2챔버(300) 내부는 고압의 가스로 채워져 있다.
따라서, 기본적으로 제2챔버(300) 내부의 압력은 제1챔버(200) 내부의 압력 및 반송실(100) 내부의 압력보다 높다.
또한, 제어부(400)는 제2챔버 센서(330)에서 측정된 제2챔버(300) 내부의 압력이 제3설정압력범위 내에 있도록 제2챔버 공급부(310) 및 제2챔버 배기부 중 적어도 어느 하나를 제어함으로써, 제2챔버(300) 내부의 압력이 제1챔버(200) 내부의 압력 및 반송실(100) 내부의 압력보다 높게 유지될 수 있다.
제어부(400)는 제2챔버(300)와 연통된 반송실 공급부(110)를 제어하여, 제2챔버(300)의 가스를 반송실(100) 내부로 공급시키게 된다.
제어부(400)는 반송실 배기부(120)를 제어하여, 반송실(100) 내부의 가스를 배기시킨다. 따라서, 반송실(100) 내부로 공급된 가스는 상승기류를 형성하여, 웨이퍼에서 발생된 퓸과 함께 반송실 배기부(120)를 통해 이에프이엠(10) 외부로 배기된다.
위와 같이, 고압의 가스가 반송실(100) 내부로 공급 및 배기됨으로써, 반송실(100) 내부의 청정도가 관리된다.
제1챔버(200)는 제어부(400)가 제1챔버 배기부(220)를 제어함으로써, 제1챔버 센서(230)에서 측정된 제1챔버(200) 내부의 압력이 제2설정압력범위 내에 있도록 한다. 따라서, 제1챔버(200) 내부의 압력은 항상 저압을 유지하게 된다.
제어부(400)는 반송실 공급부(110) 및 반송실 배기부(120)를 제어함으로써, 반송실 센서(130)에서 측정된 반송실(100) 내부의 압력이 제1설정압력범위 내에 있도록 한다. 따라서, 반송실(100) 내부의 압력은 항상 제1챔버(200) 내부의 압력보다 높게 유지된다.
위와 같은 제어부(400)의 제어에 의해, 반송실(100) 내부의 압력은 이에프이엠(10)의 외부의 압력보다 낮게 유지될 수 있다.
또한, 제어부(400)는 제2챔버 공급부(310) 및 제2챔버 배기부를 제어함으로써, 제2챔버 센서(330)에서 측정된 제2챔버(300) 내부의 압력이 제3설정압력범위 내에 있도록 한다. 따라서, 제2챔버(300) 내부의 압력은 항상 제1챔버(200) 내부의 압력보다 높게 유지된다.
위와 같이, 제1챔버(200) 내부의 압력이, 반송실(100) 내부의 압력 및 제2챔버(300) 내부의 압력 보다 저압으로 유지됨에 따라, 도 3의 '(L1)' 에 도시된 바와 같이, 반송실(100) 내부의 가스 및 퓸이 반송실(100)의 외측면의 미세한 틈새를 통해 의도치 않게 누출되어 제1챔버(200)로 유동될 수 있다.
또한, 도 3의 '(L2)'에 도시된 바와 같이, 제2챔버(300) 내부의 가스 및 퓸이 제2챔버(300)의 내측면의 미세한 틈새를 통해 의도치 않게 누출되어 제1챔버(200)로 유동될 수 있다.
미세한 틈새란, 반송실(100)을 형성시, 조립오차, 파트의 제작 공차 등으로 인해 발생한 틈새 또는, 이에프이엠(10)을 운영시 발생한 파트별 조립 부위의 틈새 등을 말하는 것으로서, 의도치 않게 생겨난 틈새를 통칭한다.
이러한 미세한 틈새가 야기되는 이유로는, 제조 비용의 상승에 있다. 즉, 반송실(100)을 제조할 때에 정밀하고 재현 가능한 제조 프로세스가 유리하나, 이러한 제조 프로세스는 제조 비용의 상승을 초래하게 된다. 따라서 보다 덜 정밀한 제조 프로세스를 이용할 경우에는 제조 비용을 절감할 수 있지만, 한편으로 의도치 않는 미세한 틈새를 야기할 수 있는 것이다.
본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠(10)은, 반송실(100)과 제2챔버(300) 사이의 제1챔버(200)를 항상 저압으로 유지함으로써, 반송실(100) 및 제2챔버(300)의 누출 가스를 유도하여 제1챔버(200)로 유동시키고, 제1챔버(200) 내부의 가스를 모두 제1챔버 배기부(220)로 배기시킨다. 따라서, 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠(10)은 반송실(100) 내부의 퓸 등 유해 가스가 이에프이엠(10)의 외부로 누출되는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.
상세하게 설명하면, 종래의 이에프이엠의 경우, 이에프이엠의 반송실이 대형으로 제작됨에 따라, 반송실 내부의 가스가 대형 이에프이엠의 반송실의 미세 틈새 사이로 누출됨으로써, 유해 가스가 이에프이엠 외부로 새어나가는 문제점이 발생하였다. 따라서, 유해 가스로 인해 작업자의 건강을 해치는 등 많은 문제점이 있었다. 위와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 본 발명의 경우, 반송실(100)에서 누출되는 가스를 압력 차를 이용해 상시 배기 공간인 제1챔버(200)로 유도시켜 외부로 배기시켜, 이에프이엠(10) 외부로 반송실(100) 내부의 유해가스가 누출되는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.
본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠(10)은 반송실(100) 내부에서 제1챔버(200) 즉, 저압 챔버로 누출되는 가스는 반송실(100)의 제작시에는 의도하지 않았던 반송실(100) 형성면의 미세한 틈새를 포함하게 된다.
반송실(100)을 제조할 때에 정밀한제조 프로세스에 의해 가스 누출의 원인이 되는 미세한 틈새 자체가 존재하지 않도록 제조될 수는 있으나, 이러한 제조 프로세스는 급격한 제조 비용의 상승을 초래하게 된다. 따라서, 본 발명에서는 정밀하지 않은 제조 프로세스에 의해 의도치 않는 미세한 틈새가 야기되더라도, 챔버들간의 압력차로, 가스의 누출을 방지할 수 있도록 함으로써, 제조 비용의 절감 및 이에프이엠(10)의 안전성을 모두 확보할 수 있다.
또한, 상시 고압 가스가 유동하는 제2챔버(300)를 제1챔버(200)를 둘러싸게 배치함으로써, 반송실(100)의 유해 가스가 외부로 누출되는 것을 방지할 뿐만 아니라, 대기압 즉, 이에프이엠(10)의 외부 공기가 반송실(100) 내부로 들어오는 것 또한, 효과적으로 방지할 수 있다.
특히, 제2챔버(300)는 외부 공급부에서 가스가 공급될 때, 고압 상태로 가스가 공급되는 것을 이용하여, 상시 고압의 가스가 유동하는 공간을 형성시킨 것으로서, 압력차로 인해, 반송실(100) 내의 유해 가스가 제2챔버(300) 내부로 유입되지 않는다.
또한, 제2챔버(300)에서 누출되는 가스는 저압인 제1챔버(200) 내부로 누출되므로, 제2챔버(300)에서 이에프이엠(10) 외부로 누출되는 가스의 양이 적을 뿐만 아니라, 제2챔버(300) 내부의 가스가 이에프이엠(10) 외부로 누출되더라도, 제2챔버(300) 내부에는 청정한 가스만이 유동하므로, 이에프이엠(10) 외부가 오염되지 않는다.
위와 같이, 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠(10)은 제1챔버(200) 및 제2챔버(300)에 의해 반송실(100) 내부의 가스가 이에프이엠(10) 외부로 누출되지 않음과 동시에, 이에프이엠(10) 외부의 가스가 반송실(100) 내부로 유입되지 않는다. 따라서, 반송실(100) 내부의 공간은 이에프이엠(10)의 외부 공간과 가스의 유출입이 차단되는 일종의 독립된 공간을 형성하게 된다.
전술한 반송실 공급부(110), 반송실 배기부(120), 제1챔버 배기부(220), 제2챔버 공급부(310), 제2챔버 배기부 각각에는 유량 제어부가 구비될 수 있다.
유량 제어부는 제어부(400)에 연결된다.
제어부(400)는 반송실(100) 내부의 압력, 제1챔버(200) 내부의 압력 및 제2챔버(300) 내부의 압력에 따라 유량 제어부를 작동시킴으로써, 반송실 공급부(110), 반송실 배기부(120), 제1챔버 배기부(220), 제2챔버 공급부(310), 제2챔버 배기부에서 공급 또는 배기되는 가스의 유량을 쉽게 제어할 수 있다.
이하, 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠(10)의 제1도어(151), 제1연통부(165), 제2도어(152) 및 제2연통부(166))에 대해 설명한다.
도 1, 도 2 및 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠(10)은, 제1개구부(150)의 내측을 개폐시키도록 반송실(100)에 구비되는 제1도어(151);와, 제1챔버(200)에 개폐 가능하게 구비되며, 웨이퍼 저장장치(20)를 적재하는 로드포트(22)의 로드포트 도어(22a)에 의해 제1개구부(150)의 외측이 폐쇄되고, 제1도어(151)에 의해 제1개구부(150)의 내측이 폐쇄될 때, 개방에 의해 로드포트 도어(22a)와 제1도어(151) 사이의 공간(S1)을 상기 제1챔버(200)와 연통시키는 제1연통부(165);와, 제1개구부(150)에서 제1챔버(200)와 제2챔버(300) 사이의 공간을 폐쇄하도록 제1챔버(200)와 제2챔버(300) 사이에 개폐 가능하게 구비되는 제2도어(152);와, 제2챔버(300)에 개폐 가능하게 구비되며, 로드포트 도어(22a), 제1도어(151) 및 제2도어(152)가 폐쇄될 때, 제1개구부(150)에서 로드포트 도어(22a) 및 제2도어(152) 사이의 공간(S2)을 제2챔버(300)와 연통시키는 제2연통부(166);를 더 포함하여 구성될 수 있다.
도 5(a) 내지 도 5(c)에 도시된 바와 같이, 제1도어(151)는 제1개구부(150)의 내측을 개폐시키도록 반송실(100)에 구비된다.
제2도어(152)는 제1개구부(150)에서 제1챔버(200)와 제2챔버(300) 사이의 공간을 폐쇄하도록 제1개구부(150)에서 제1챔버(200)와 제2챔버(300) 사이에 개폐 가능하게 구비된다.
제1도어(151) 및 제2도어(152)는 제어부(400)에 연결되며, 웨이퍼 저장장치(20)와 이에프이엠(10)의 접속이 해제될 때, 로드포트 도어(22a)와 함께, 제1개구부(150)를 폐쇄하는 기능을 한다.
제1연통부(165)는, 제1챔버(200)에 개폐 가능하게 구비되며, 웨이퍼 저장장치(20)를 적재하는 로드포트(22)의 로드포트 도어(22a)에 의해 제1개구부(150)의 외측이 폐쇄되고, 제1도어(151)에 의해 제1개구부(150)의 내측이 폐쇄될 때, 개방에 의해 로드포트 도어(22a)와 제1도어(151) 사이의 공간을 제1챔버(200)와 연통시키는 기능을 한다.
제2연통부(166)는, 제2챔버(300)에 개폐 가능하게 구비되며, 로드포트 도어(22a), 제1도어(151) 및 제2도어(152)가 폐쇄될 때, 개방에 의해 제1개구부(150)에서 로드포트 도어(22a) 및 제2도어(152) 사이의 공간(S2)을 제2챔버(300)와 연통시키는 기능을 한다.
제1연통부(165)는, 로드포트 도어(22a), 제1도어(151) 및 제2도어(152)가 모두 폐쇄될 때, 개방에 의해 제1도어(151)와 제2도어(152) 사이의 공간(S1)을 제1챔버(200)와 연통시키게 된다.
로드포트 도어(22a), 제1도어(151), 제2도어(152), 제1연통부(165) 및 제2연통부(166)는 제어부(400)에 연결된다.
제1연통부(165)에는 제1개폐수단(165a)이 구비되고, 제2연통부(166)에는 제2개폐수단(166a)이 구비된다.
이하, 도 5(a) 내지 도 5(c)를 참조하여, 제1도어(151), 제2도어(152), 제1연통부(165) 및 제2연통부(166)의 동작에 대해 상세하게 설명한다.
웨이퍼 저장장치(20)와 이에프이엠(10)이 접속되어 풉(21)과 반송실(100)이 제1개구부(150)에 의해 연통된 도 5(a)의 상태에서, 도 5(b)에 도시된 바와 같이, 웨이퍼 저장장치(20)와 이에프이엠(10)의 접속을 해제하기 위해 로드포트(22)의 상부에 적재된 풉(21)이 후방으로 이동된다.
이 경우, 제어부(400)의 제어에 의해 로드포트 도어(22a)는 제1개구부(150)의 외측을 폐쇄하고, 제1도어(151)는 제1개구부(150)의 내측을 폐쇄하고, 제2도어(152)는 제1개구부(150)에서 제1챔버(200)와 제2챔버(300) 사이의 공간을 폐쇄한다.
따라서, 제1개구부(150)는, 도 5(b)에 도시된 바와 같이, 제1도어(151)와 제2도어(152) 사이의 공간(S1)과 제2도어(152)와 로드포트 도어(22a) 사이의 공간(S2)으로 나눠지게 된다.
이 후, 제어부(400)는 도 5(c)에 도시된 바와 같이, 제1연통부(165)를 제어하여 의 제1개폐수단(165a)을 개방시킴으로써, 제1도어(151)와 제2도어(152) 사이의 공간(S1)과 제1챔버(200)를 연통시키고, 제2연통부(166)를 제어하여 의 제2개폐수단(166a)을 개방시킴으로써, 제2도어(152)와 로드포트 도어(22a) 사이의 공간(S2)과 제2챔버(300)를 연통시킨다.
위와 같이, 로드포트 도어(22a), 제1도어(151), 제2도어(152), 제1연통부(165), 제2연통부(166)가 구비됨에 따라, 웨이퍼 저장장치(20)가 이에프이엠(10)으로부터 접속이 해제될 때, 제1개구부(150)가 존재하는 영역에서도, 제1도어(151)와 제2도어(152) 사이의 공간(S1)이 제1챔버(200)와 연통되어 반송실(100) 및 제2챔버(300)에서 누출되는 가스를 제2챔버 배기부를 통해 효과적으로 배기할 수 있다. 또한, 제1개구부(150)가 존재하는 영역에서도, 제2도어(152)와 로드포트 도어(22a) 사이의 공간(S2)이 제2챔버(300)와 연통되어 외부 공기가 제1챔버(200)로 유입되는 것을 방지할 수 있다.
따라서, 본 발명은, 웨이퍼 저장장치(20)의 접속이 해제되어도 제1개구부(150) 영역에서 반송실(100) 내부의 유해 가스가 이에프이엠(10) 외부로 누출되는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.
이하, 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠(10)의 제3도어(미도시), 제3연통부(미도시), 제4도어(미도시) 및 제4연통부(미도시)에 대해 설명한다.
도 1, 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠(10)은, 제2개구부(160)의 내측을 개폐시키도록 반송실(100)에 구비되는 제3도어;와, 제1챔버(200)에 개폐 가능하게 구비되며, 공정장비(30)의 로드락 챔버(31)의 로드락 챔버 도어(31a)에 의해 제2개구부(160)의 외측이 폐쇄되고, 제3도어에 의해 제2개구부(160)의 내측이 폐쇄될 때, 개방에 의해 로드락 챔버 도어(31a)와 제3도어 사이의 공간을 제1챔버(200)와 연통시키는 제3연통부;와, 제2개구부(160)에서 제1챔버(200)와 제2챔버(300) 사이의 공간을 폐쇄하도록 제1챔버(200)와 제2챔버(300) 사이에 개폐 가능하게 구비되는 제4도어;와, 제2챔버(300)에 개폐 가능하게 구비되며, 로드락 챔버 도어(31a), 제3도어 및 제4도어가 폐쇄될 때, 제2개구부(160)에서 로드락 챔버 도어(31a) 및 제4도어 사이의 공간을 제2챔버(300)와 연통시키는 제4연통부;를 더 포함하여 구성될 수 있다.
제3도어는 제2개구부(160)의 내측을 개폐시키도록 반송실(100)에 구비된다.
제4도어는 제2개구부(160)에서 제1챔버(200)와 제2챔버(300) 사이의 공간을 폐쇄하도록 제2개구부(160)에서 제1챔버(200)와 제2챔버(300) 사이에 개폐 가능하게 구비된다.
제3도어 및 제4도어는 제어부(400)에 연결되며, 공정장비(30)와 이에프이엠(10)의 접속이 해제될 때, 로드락 챔버 도어(31a)와 함께, 제2개구부(160)를 폐쇄하는 기능을 한다.
제3연통부는, 제1챔버(200)에 개폐 가능하게 구비되며, 공정장비(30)의 로드락 챔버(31)의 로드락 챔버 도어(31a)에 의해 제2개구부(160)의 외측이 폐쇄되고, 제3도어에 의해 제2개구부(160)의 내측이 폐쇄될 때, 개방에 의해 로드락 챔버 도어(31a)와 제3도어 사이의 공간을 제1챔버(200)와 연통시키는 기능을 한다.
제4연통부는, 제2챔버(300)에 개폐 가능하게 구비되며, 로드락 챔버 도어(31a), 제3도어 및 제4도어가 폐쇄될 때, 개방에 의해 제2개구부(160)에서 로드락 챔버 도어(31a) 및 제4도어 사이의 공간을 제2챔버(300)와 연통시키는 기능을 한다.
제3연통부는, 로드락 챔버 도어(31a), 제3도어 및 제2도어가 모두 폐쇄될 때, 개방에 의해 제3도어와 제4도어 사이의 공간을 제1챔버와 연통시키게 된다.
로드락 챔버 도어(31a), 제3도어, 제4도어, 제3연통부 및 제4연통부는 제어부(400)에 연결된다.
제3연통부에는 제3개폐수단이 구비되고, 제4연통부에는 제4개폐수단이 구비된다.
이하, 제3도어, 제4도어, 제3연통부 및 제4연통부의 동작에 대해 상세하게 설명한다.
공정장비(30)와 이에프이엠(10)이 접속되어 로드락 챔버(31)와 반송실(100)이 제2개구부(160)에 의해 연통된 상태에서, 웨이퍼 저장장치(20)와 이에프이엠(10)의 접속을 해제하기 위해 로드락 챔버 도어(31a)가 제2개구부(160)의 외측을 폐쇄하게 된다.
이 경우, 제3도어는 제2개구부(160)의 내측을 폐쇄하고, 제4도어는 제2개구부(160)에서 제1챔버(200)와 제2챔버(300) 사이의 공간을 폐쇄한다.
따라서, 제2개구부(160)는, 제3도어와 제4도어 사이의 공간과 제4도어와 로드락 챔버 도어(31a) 사이의 공간으로 나눠지게 된다.
이 후, 제어부(400)는 제3연통부를 제어하여 제3개폐수단을 개방시킴으로써, 제3도어와 제4도어 사이의 공간과 제1챔버(200)를 연통시키고, 제4연통부를 제어하여 제4개폐수단을 개방시킴으로써, 제4도어와 로드락 챔버 도어(31a) 사이의 공간과 제2챔버(300)를 연통시킨다.
위와 같이, 로드락 챔버 도어(31a), 제3도어, 제4도어, 제3연통부, 제4연통부가 구비됨에 따라, 공정장비(30)가 이에프이엠(10)으로부터 접속이 해제될 때, 제2개구부(160)가 존재하는 영역에서도, 제3도어와 제4도어 사이의 공간이 제1챔버(200)와 연통되어 반송실(100) 및 제2챔버(300)에서 누출되는 가스를 제2챔버 배기부를 통해 효과적으로 배기할 수 있다. 또한, 제2개구부(160)가 존재하는 영역에서도, 제4도어와 로드락 챔버 도어(31a) 사이의 공간이 제2챔버(300)와 연통되어 외부 공기가 제1챔버(200)로 유입되는 것을 방지할 수 있다.
따라서, 본 발명은, 공정장비(30)의 접속이 해제되어도 제2개구부(160) 영역에서 반송실(100) 내부의 유해 가스가 이에프이엠(10) 외부로 누출되는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.
이하, 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠(10)의 제1틈새 배기부(341) 및 제2틈새 배기부(342)에 대해 설명한다.
전술한 바와 같이, 제2챔버(300)를 통해, 누출되는 가스를 배기하더라도, 웨이퍼 저장장치(20)와 이에프이엠(10)이 접속되는 제1개구부(150)와 웨이퍼 저장장치(20)의 풉(21)의 틈새 및 공정장비(30)와 이에프이엠(10)이 접속되는 로드락 챔버(31)와 제2개구부(160)의 틈새에 반송실(100) 내부의 가스 및 퓸이 누출될 수 있다.
따라서, 이를 방지하기 위해, 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠(10)은, 풉(21)과 제1개구부(150)의 틈새에서 누출되는 가스가 제1챔버(200)로 유동되도록 제1개구부(150)의 주변에 구비되는 제1틈새 배기부(341);와, 로드락 챔버(31)와 상기 제2개구부(160)의 틈새에서 누출되는 가스가 제1챔버(200)로 유동되도록 제2개구부(160)의 주변에 구비되는 제2틈새 배기부(342);를 더 포함하여 구성될 수 있다.
이하, 제1틈새 배기부(341)와, 제2틈새 배기부(342)에 대해 상세하게 설명한다.
제1틈새 배기부(341)는 웨이퍼 저장장치(20)의 풉(21)과 제1개구부(150)의 접속시, 풉(21)과 제1개구부(150)의 틈새에서 누출되는 가스를 효과적으로 방지하기 위해, 제1개구부(150)의 주변에 구비된다.
제1틈새 배기부(341)는 제1개구부(150)의 주변에 배치되는 복수개의 배기구멍 또는 복수개의 슬릿으로 구성될 수 있다.
제1틈새 배기부(341)는 제1챔버(200)와 연통된다. 따라서, 제1챔버 배기부(220)에 의해 제1챔버(200) 내부에 흡입력이 발생되면, 제1틈새 배기부(341)를 통해, 외부 공기 및 풉(21)과 제1개구부(150)의 틈새에서 의도치 않게 누출되는 가스가 제1챔버(200) 내부로 유입된 후, 제1챔버 배기부(220)를 통해 외부로 배기된다.
제2틈새 배기부(342)는 공정장비(30)의 로드락 챔버(31)과 제2개구부(160)의 접속시, 로드락 챔버(31)와 제2개구부(160)의 틈새에서 누출되는 가스를 효과적으로 방지하기 위해, 제2개구부(160)의 주변에 구비된다.
제2틈새 배기부(342)는 제2개구부(160)의 주변에 배치되는 복수개의 배기구멍 또는 복수개의 슬릿으로 구성될 수 있다.
제2틈새 배기부(342)는 제1챔버(200)와 연통된다. 따라서, 제1챔버 배기부(220)에 의해 제1챔버(200) 내부에 흡입력이 발생되면, 제2틈새 배기부(342)를 통해, 외부 공기 및 풉(21)과 제2개구부(160)의 틈새에서 의도치 않게 누출되는 가스가 제1챔버(200) 내부로 유입된 후, 제1챔버 배기부(220)를 통해 외부로 배기된다.
위와 같이, 제1틈새 배기부(341) 및 제2틈새 배기부(342)가 구비됨에 따라, 풉(21)과 제1개구부(150)의 틈새에서 누출되는 가스와, 로드락 챔버(31)과 제2개구부(160)의 틈새에서 누출되는 가스의 누출을 효과적으로 방지하는 기능 뿐만 아니라, 제1챔버(200) 내부 압력을 쉽게 제어할 수 있다는 장점이 있다.
상세하게 설명하면, 제1챔버(200)에 제1챔버 배기부(220)만이 구비될 경우, 제1챔버 배기부(220)로 배기를 계속적으로 수행하게 되면, 제1챔버(200) 내부의 진공도가 높아지게 된다. 이는, 반송실(100) 및 제2챔버(300)에서 가스가 누출되더라도, 미세한 틈새를 통해 누출되기 때문이다.
위와 같이, 제1챔버(200) 내부의 진공도가 높아지게 되면, 제1챔버 배기부(220)의 배기를 통해, 제1챔버(200) 내부의 압력을 제어하기가 쉽지 않다. 따라서, 제1챔버(200) 내부의 압력을 제2설정압력범위 내로 유지시키는 것이 어렵게 된다. 따라서, 제1챔버(200)에 외부 공기 등과 연통되는 별도의 구멍이 필요한데, 전술한 제1틈새 배기부(341) 및 제2틈새 배기부(342)가 이에프이엠(10) 외부와 연통됨으로써, 이러한 기능을 같이 수행할 수 있다.
전술한 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠(10)은, 반송실(100)과 이에프이엠(10) 외부 사이에 구비되고, 그 내부 압력이 반송실(100) 내부의 압력과 이에프이엠(10) 외부의 압력 중에서 낮은 압력보다 낮게 유지되는 적어도 하나의 제1챔버(200);와, 반송실(100)과 이에프이엠(10) 외부 사이에 구비되고, 그 내부 압력이 상기 제1챔버(200)의 내부 압력보다 높게 유지되는 적어도 하나의 제2챔버(300)를 포함하여 구성될 수 있다.
또한, 이에프이엠(10)은, 반송실(100)과 이에프이엠(10) 외부 사이에 구비되고, 그 내부 압력이 반송실(100) 내부의 압력과 이에프이엠(10) 외부의 압력 중에서 낮은 압력보다 낮게 유지되는 적어도 하나의 제1챔버(200);와, 제1챔버(200)와 이에프이엠(10) 외부 사이에서 구비되는 제2챔버(300);를 포함하여 구성될 수 있다. 이 경우, 제2챔버(300)의 내부 압력은 이에프이엠(10)의 외부 압력보다 낮게 유지될 수 있다.
또한, 이에프이엠(10)은, 반송실(100)과 이에프이엠 외부 사이에 구비되고, 그 내부 압력이 반송실(100) 내부의 압력과 이에프이엠(10) 외부의 압력 중에서 낮은 압력보다 낮게 유지되는 적어도 하나의 제1챔버(200);와, 제1챔버(200)와 이에프이엠(10) 외부 사이에서 복수 개 구비되는 제2챔버(300);를 포함하고, 제2챔버(300) 중에서 가장 외측에 위치하는 제2챔버(300)의 내부 압력은 상기 이에프이엠의 외부 압력보다 낮게 유지될 수 있다.
또한, 이에프이엠(10)은, 반송실(100)과 이에프이엠(10) 외부 사이에 구비되고, 그 내부 압력이 반송실(100) 내부의 압력과 이에프이엠(10) 외부의 압력 중에서 낮은 압력보다 낮게 유지되는 적어도 하나의 제1챔버(200);와, 제1챔버(200)와 반송실(100) 사이에서 구비되는 제2챔버(300);를 포함하고, 제2챔버(300)의 내부 압력은 반송실(100)의 내부 압력보다 낮게 유지될 수 있다.
또한, 이에프이엠(10)은, 반송실(100)과 이에프이엠(10) 외부 사이에 구비되고, 그 내부 압력이 반송실(100) 내부의 압력과 이에프이엠(10) 외부의 압력 중에서 낮은 압력보다 낮게 유지되는 적어도 하나의 제1챔버(200);와, 제1챔버(200)와반송실(100) 사이에서 복수 개 구비되는 제2챔버(300);를 포함하고, 상기 제2챔버(300) 중에서 가장 내측에 위치하는 제2챔버(300)의 내부 압력은 반송실(100)의 내부 압력보다 낮게 유지될 수 있다.
본 발명의 제2실시 예에 따른 이에프이엠(10')
이하, 도 1 내지 도 5를 참고하여, 본 발명의 제2실시 예에 따른 이에프이엠(10')에 대해 설명한다.
도 6은 본 발명의 제2실시 예에 따른 이에프이엠의 측면 단면도이고, 도 7은 본 발명의 제2실시 예에 따른 이에프이엠의 반송실, 제1챔버 및 제2챔버의 가스의 유동을 도시한 측면 단면도이다.
도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2실시 예에 따른 이에프이엠(10')은, 웨이퍼 저장장치(20)와 공정장비(30) 사이에서의 웨이퍼의 반송이 이루어지는 반송실(100');과, 웨이퍼 저장장치(20)의 풉(21)과 반송실(100')을 접속시키는 제1개구부(150);와, 공정장비(30)의 로드락 챔버(31)와 반송실(100')을 접속시키는 제2개구부(160);와, 반송실(100')의 외측에서 반송실(100')을 둘러싸는 제1챔버(200');와, 반송실(100')에 가스를 공급하는 반송실 공급부(110');와, 반송실(100') 내부의 가스를 배기하는 반송실 배기부(120);와, 제1챔버(200')에 가스를 공급하는 제1챔버 공급부(210');와, 제1챔버(200') 내부의 가스를 배기하는 제1챔버 배기부(미도시);와, 제1챔버(200')의 외측에서 제1챔버(200')를 둘러싸는 제2챔버(300');와, 제2챔버(300') 내부의 가스를 배기하는 제2챔버 배기부(320');와, 제1챔버(200') 내부의 압력이 반송실(100') 내부의 압력 및 제2챔버(300') 내부의 압력보다 높게 유지되도록 하는 제어부(400);를 포함하여 구성될 수 있다.
본 발명의 제2실시 예에 따른 이에프이엠(10')은, 제1챔버(200') 내부의 압력이 반송실(100') 내부의 압력과 이에프이엠(10') 주변의 압력보다 높게 유지되어 반송실(100') 내부의 가스가 이에프이엠(10') 주변의 외부로 누출되는 것을 차단한다.
제1챔버(200')는 반송실(100') 형성면의 적어도 일부를 감싸도록 반송실(100')의 외측에 구비된다.
반송실(100') 내부의 가스가 이에프이엠(10') 주변의 외부로 누출되는 것을 차단함과 동시에 이에프이엠(10') 주변의 외부 가스가 반송실(100') 내부로 유입되는 것을 차단하도록 반송실(100')과 이에프이엠(10') 주변은 서로 가스 교환되지 않도록 반송실(100')은 이에프이엠(10') 주변과는 가스적으로 밀폐된 공간이 된다.
반송실(100') 내부의 압력 유지를 위한 반송실(100') 내부로의 가스 공급은 이에프이엠(10') 주변의 외부 가스와는 별개로 반송실(100') 내부로 유입된다.
반송실(100') 내부의 압력 유지를 위한 반송실(100') 외부로의 가스 배기는 이에프이엠(10') 주변의 외부 가스와는 별개로 반송실(100') 외부로 배기된다.
반송실(100') 내부에서의 가스 흐름은 반송실(100')의 하부에서 반송실(100')의 상부로 향하는 업-스트림 방식일 수 있다. 이 경우, 반송실(100') 내부로의 가스 공급은 반송실(100') 하부에 형성된 복수개의 공급홀(110a)에 의해 이루어질 수 있다. 또한, 반송실(100') 외부로의 가스 배기는 반송실 상부에 형성된 복수개의 배기홀(120a)에 의해 이루어질 수 있다.
본 발명의 제2실시 예에 따른 이에프이엠(10')은, 제1챔버(200') 내부의 압력이 제2챔버(300') 내부의 압력 및 반송실(100') 내부의 압력보다 높게 유지된다는 점에서 전술한 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠(10')과 차이가 있다. 따라서, 이러한 차이점에 대해 중점적으로 설명하며, 나머지 동일한 구성에 대해서는 전술한 본 발명의 제1실시 예에 따른 이에프이엠(10')에 대한 설명이 적용될 수 있다.
이하, 본 발명의 제2실시 예에 따른 이에프이엠(10')의 반송실(100')에 대해 설명한다.
도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 반송실(100')에는 반송실(100') 내부에 가스를 공급하는 반송실 공급부(110')와, 반송실(100') 내부의 가스를 배기하는 반송실 배기부(120)가 구비된다.
반송실 공급부(110')는 제1챔버(200')와 연통된다.
반송실 공급부(110')는 제1챔버 공급부(210')를 통해 외부 공급부에서 공급된 가스를 제1챔버(200')를 거쳐 반송실(100') 내부로 공급하는 기능을 한다.
반송실 공급부(110')에 의해 공급되는 가스는 질소 등 불활성 기체로 이루어질 수 있다.
반송실 배기부(120)는 반송실(100') 내부의 가스 및 이물질을 배기하는 기능을 한다. 반송실(100') 내부의 가스는 반송실 공급부(110')에 의해 공급된 가스와, 웨이퍼에서 발생되는 퓸을 포함한다.
따라서, 반송실 배기부(120)는 반송실 공급부(110')에 의해 공급된 가스와, 웨이퍼에서 발생되는 퓸을 배기하는 기능을 한다.
반송실 공급부(110')는 반송실(100')의 하부에 구비되어 반송실(100')의 하부에서 상부 방향으로 가스를 공급하고, 반송실 배기부(120)는 반송실(100')의 상부에 구비되어 반송실(100')의 하부에서 상부 방향으로 가스를 배기할 수 있다.
반송실(100')의 내부에는 반송실(100')의 내부의 압력을 센싱하는 반송실 센서(130)가 구비된다.
이하, 본 발명의 제2실시 예에 따른 이에프이엠(10')의 제1챔버(200') 및 제2챔버(300')에 대해 설명한다.
제1챔버(200')는 반송실(100')의 외측에서 반송실(100')을 둘러싸도록 배치된다.
제1챔버 공급부(210')는 외부 공급부에서 공급되는 가스를 제1챔버(200')로 공급시키는 기능을 한다.
제1챔버(200')에는 제1챔버 배기부가 구비될 수도 있다. 제1챔버 배기부는 제1챔버(200') 내부의 가스를 배기하는 기능을 한다. 따라서, 제어부(400)는 제1챔버 공급부(210')와 제1챔버 배기부를 제어함으로써, 제1챔버(200') 내부의 압력을 제어할 수 있다.
제1챔버 공급부(210')와 제1챔버 배기부는 일체로 이루어질 수도 있다. 다시 말해, 하나의 배관을 통해 가스의 공급 및 배기가 선택적으로 이루어지도록 제1챔버 공급부(210')와 제1챔버 배기부가 구비될 수도 있는 것이다.
제어부(400)에 의해 제1챔버(200') 내부의 압력은 반송실(100') 내부의 압력 및 제2챔버(300') 내부의 압력보다 높게 유지된다. 이는, 제1챔버(200')에는 제1챔버 공급부(210')에 의해 고압의 가스가 계속적으로 공급됨으로써, 고압의 가스가 제1챔버(200') 내부에서 유동되기 때문이다.
제어부(400)에 의해 제1챔버(200') 내부의 압력은 반송실(100') 내부의 압력 및 제2챔버(300') 내부의 압력보다 높게 유지된다.
위와 같이, 제1챔버(200') 압력이 반송실(100') 내부의 압력 및 제2챔버(300') 내부의 압력보다 높게 유지됨에 따라, 제1챔버(200')의 내부에는 리크에 의해 반송실(100')에서 누출된 가스가 유입될 수 없다.
제2챔버(300')는 외측에서 제1챔버(200')를 둘러싸도록 배치된다.
제어부(400)에 의해 제2챔버(300') 내부의 압력은 반송실(100') 내부의 압력 및 제1챔버(200') 내부의 압력보다 낮게 유지된다.
위와 같이, 제2챔버(200') 압력이 반송실(100') 내부의 압력 및 제1챔버(200') 내부의 압력보다 낮게 유지됨에 따라, 제2챔버(300')의 내부에는 리크에 의해 제1챔버(200')에서 누출된 가스 및 이에프이엠(10') 외부에서 리크에 의해 유압된 가스가 유동하게 된다.
제2챔버 배기부(320')는 제2챔버(300') 내부의 가스를 배기하는 기능을 한다. 따라서, 제2챔버(300') 내부의 가스는 제2챔버 배기부(320')에 의해 이에프이엠(10')의 외부로 배기된다.
반송실(100'), 제1챔버(200') 및 제2챔버(300')는 각각 별개의 공간으로 이루어져 있다.
따라서, 이에프이엠(10')은 반송실(100')의 외측을 제1챔버(200')가 둘러싸고 있고, 제1챔버(200')의 외측을 제2챔버(300')가 둘러싸고 있는 3중 벽 구조를 갖게 된다.
반송실(100')의 내부에는 상승기류에 의한 가스 및 웨이퍼의 퓸이 유동된다.
제1챔버(200')의 내부에는 제1챔버 공급부(210')에 의해 공급된 고압의 가스가 유동된다.
제2챔버(300')의 내부에는 제1챔버(200')에서 누출된 가스 및 이에프이엠(10')의 외부에서 유입된 가스가 유동된다.
제1챔버(200')의 내부에는 제1챔버(200') 내부의 압력을 센싱하는 제1챔버 센서(230)가 구비된다.
제2챔버(300')의 내부에는 제2챔버(300') 내부의 압력을 센싱하는 제2챔버 센서(330)가 구비된다.
이하, 본 발명의 제2실시 예에 따른 이에프이엠(10')의 제어부(400)에 대해 설명한다.
제어부(400)는 이에프이엠(10')의 반송실(100'), 제1챔버(200') 및 제2챔버(300') 각각의 내부의 압력을 제어하는 기능을 한다.
제어부(400)에 의해 제어되는 반송실(100'), 제1챔버(200') 및 제2챔버(300') 각각의 내부의 압력은 '제1챔버(200') 내부의 압력 > 반송실(100') 내부의 압력 > 제2챔버(300') 내부의 압력' 관계를 만족하는 것이 바람직하다.
제어부(400)는 반송실 센서(130), 제1챔버 센서(230), 제2챔버 센서(330), 반송실 공급부(110'), 제1챔버 공급부(210'), 반송실 배기부(120), 제1챔버 배기부(220), 제2챔버 배기부(320')와 연결된다.
제어부(400)는, 제1챔버(200') 내부의 압력이 반송실(100') 내부의 압력보다 높게 유지되도록 반송실 공급부(110'), 반송실 배기부(120) 및 제1챔버 공급부(210') 중 적어도 어느 하나의 작동을 제어한다.
제어부(400)는, 제1챔버(200') 내부의 압력이 제2챔버(300') 내부의 압력보다 높게 유지되도록 제1챔버 공급부(210'), 제1챔버 배기부, 제2챔버 배기부(320') 중 적어도 어느 하나의 작동을 제어한다.
제어부(400)에는 제1설정압력범위, 제2설정압력범위 및 제3설정압력범위가 기설정되어 있다.
제1설정압력범위는 반송실 센서(130)에 의해 측정되는 반송실(100') 내부의 압력의 기준이 되는 압력범위 값이고, 제2설정압력범위는 제1챔버(200') 제1챔버 센서(230)에 의해 측정되는 제1챔버(200') 내부의 압력의 기준이 되는 압력범위 값이고, 제3설정압력범위는 제2챔버 센서(330)에 의해 측정되는 제2챔버(300') 내부의 압력의 기준이 되는 압력범위 값이다.
따라서, 제1설정압력범위, 제2설정압력범위 및 제3설정압력범위는 '제2설정압력범위 > 제1설정압력범위 > 제3설정압력범위' 관계를 만족한다.
또한, 제1챔버(200') 및 제2챔버(300') 각각의 내부의 압력 및 이에프이엠(10')의 외부 압력은 '제1챔버(200') 내부의 압력 > 이에프이엠(10')의 외부 압력 > 반송실(100') 내부의 압력 > 제2챔버(300') 내부의 압력' 관계를 만족하는 것이 바람직하다.
따라서, 제1설정압력범위, 제2설정압력범위, 제3설정압력범위 및 이에프이엠(10')의 외부 압력은 '제2설정압력범위 > 이에프이엠(10')의 외부 압력 > 제1설정압력범위 > 제3설정압력범위' 관계를 만족한다.
위와 같이, 반송실(100') 내부의 압력이 이에프이엠(10')의 외부 압력보다 낮음에 따라, 반송실(100') 내부의 압력이 이에프이엠(10') 주변의 압력보다 낮게 유지되어 반송실(100') 내부의 가스가 이에프이엠(10') 주변의 외부로 누출되는 것을 차단할 수 있다.
제어부(400)는, 반송실 센서(130)에서 측정된 반송실(100') 내부의 압력이 제1설정압력범위 내에 있도록 반송실 공급부(110') 및 반송실 배기부(120) 중 적어도 어느 하나를 제어한다.
제어부(400)는, 제1챔버 센서(230)에서 측정된 제1챔버(200') 내부의 압력이 제2설정압력범위 내에 있도록 제1챔버 공급부(210') 및 제1챔버 배기부 중 적어도 어느 하나를 제어한다.
제어부(400)는, 제2챔버 센서(330)에서 측정된 제2챔버(300') 내부의 압력이 제3설정압력범위 내에 있도록 제2챔버 배기부(320')를 제어한다.
이하, 도 6 및 도 7을 참고하여, 제어부(400)에 의한 반송실(100') 내부의 압력, 제1챔버(200') 내부의 압력 및 제2챔버(300') 내부의 압력을 제어하는 방법에 대해 설명한다.
제어부(400)는 외부 공급부와 연통된 제1챔버 공급부(210')를 제어하여, 외부 공급부에서 공급되는 가스를 제1챔버(200') 내부로 공급하게 된다.
이 경우, 외부 공급부 및 제1챔버 공급부(210')에 의해 공급되는 가스는 고압으로 공급된다.
제1챔버(200') 내부로 공급된 가스는 제1챔버(200') 내부를 유동하게 되며, 이로 인해, 제1챔버(200') 내부는 고압의 가스로 채워져 있다.
따라서, 기본적으로 제1챔버(200') 내부의 압력은 제2챔버(300') 내부의 압력 및 반송실(100') 내부의 압력보다 높다.
또한, 제어부(400)는 제1챔버 센서(230)에서 측정된 제1챔버(200') 내부의 압력이 제2설정압력범위 내에 있도록 제1챔버 공급부(210') 및 제1챔버 배기부 중 적어도 어느 하나를 제어함으로써, 제1챔버(200') 내부의 압력이 제2챔버(300') 내부의 압력 및 반송실(100') 내부의 압력보다 높게 유지될 수 있다.
제어부(400)는 제1챔버(200')와 연통된 반송실 공급부(110')를 제어하여, 제1챔버(200')의 가스를 반송실(100') 내부로 공급시키게 된다.
제어부(400)는 반송실 배기부(120)를 제어하여, 반송실(100') 내부의 가스를 배기시킨다. 따라서, 반송실(100') 내부로 공급된 가스는 상승기류를 형성하여, 웨이퍼에서 발생된 퓸과 함께 반송실 배기부(120)를 통해 이에프이엠(10') 외부로 배기된다.
위와 같이, 고압의 가스가 반송실(100') 내부로 공급 및 배기됨으로써, 반송실(100') 내부의 청정도가 관리된다.
제2챔버(300')는 제어부(400)가 제2챔버 배기부(320')를 제어함으로써, 제2챔버 센서(330)에서 측정된 제2챔버(300') 내부의 압력이 제3설정압력범위 내에 있도록 한다. 따라서, 제2챔버(200') 내부의 압력은 항상 저압을 유지하게 된다.
제어부(400)는 반송실 공급부(110') 및 반송실 배기부(120)를 제어함으로써, 반송실 센서(130)에서 측정된 반송실(100') 내부의 압력이 제1설정압력범위 내에 있도록 한다. 따라서, 반송실(100') 내부의 압력은 항상 제2챔버(300') 내부의 압력보다 높게 유지된다.
위와 같은 제어부(400)의 제어에 의해, 반송실(100') 내부의 압력은 이에프이엠(10')의 외부의 압력보다 낮게 유지될 수 있다.
또한, 제어부(400)는 제1챔버 공급부(210') 및 제1챔버 배기부를 제어함으로써, 제1챔버 센서(230)에서 측정된 제1챔버(200') 내부의 압력이 제2설정압력범위 내에 있도록 한다. 따라서, 제1챔버(200') 내부의 압력은 항상 제2챔버(300') 내부의 압력보다 높게 유지된다.
위와 같이, 제1챔버(200') 내부의 압력이, 반송실(100') 내부의 압력 및 제2챔버(300') 내부의 압력 보다 고압으로 유지됨에 따라, 도 7의 '(L1')' 에 도시된 바와 같이, 제1챔버(200') 내부의 가스가 반송실(100')의 외측면의 미세한 틈새를 통해 의도치 않게 누출되어 반송실(100')로 유동될 수 있다.
또한, 도 7의 '(L2')'에 도시된 바와 같이, 제1챔버(200') 내부의 가스가 제1챔버(200')의 외측면의 미세한 틈새를 통해 의도치 않게 누출되어 제2챔버(300')로 유동될 수 있다.
또한, 이에프이엠(10') 외부의 가스가 제2챔버(300')의 외측면의 미세한 틈새를 통해 의도치 않게 유입되어 제2챔버(300')로 유동될 수 있다.
본 발명의 제2실시 예에 따른 이에프이엠(10')은, 반송실(100')과 제2챔버(300') 사이의 제1챔버(200')를 항상 고압으로 유지함으로써, 반송실(100') 내부의 가스 및 퓸이 외부로 누출되는 것을 방지하고, 최외곽 챔버인 제2챔버(300')를 항상 저압으로 유지함으로써, 이에프이엠(10') 외부의 가스 및 제1챔버(200')에서 누출된 가스를 유도하여 제2챔버(200')로 유동시키고, 제2챔버(300') 내부의 가스를 모두 제2챔버 배기부(320')로 배기시킨다. 따라서, 본 발명의 제2실시 예에 따른 이에프이엠(10')은 반송실(100') 내부의 퓸 등 유해 가스가 이에프이엠(10')의 외부로 누출되는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.
상세하게 설명하면, 종래의 이에프이엠의 경우, 이에프이엠의 반송실이 대형으로 제작됨에 따라, 반송실 내부의 가스가 대형 이에프이엠의 반송실의 미세 틈새 사이로 누출됨으로써, 유해 가스가 이에프이엠 외부로 새어나가는 문제점이 발생하였다. 따라서, 유해 가스로 인해 작업자의 건강을 해치는 등 많은 문제점이 있었다. 위와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 제2실시 예의 경우, 상시 고압 공간인 제1챔버(200')를 통해 반송실(100')에서의 가스 누출을 방지하고, 상시 배기 공간인 제2챔버(300')를 통해 이에프이엠(10') 외부의 가스가 반송실(100') 내부로 유입되는 것을 차단하게 된다. 따라서, 본 발명의 제2실시 예에 따른 이에프이엠(10') 외부로 반송실(100') 내부의 유해가스가 누출되는 것을 효과적으로 방지함과 동시에, 이에프이엠(10') 외부 가스가 반송실(100') 내부로 유입되는 것을 차단할 수 있다.
위와 같이, 본 발명의 제2실시 예에 따른 이에프이엠(10')은 제1챔버(200') 및 제2챔버(300')에 의해 반송실(100') 내부의 가스가 이에프이엠(10') 외부로 누출되지 않음과 동시에, 이에프이엠(10') 외부의 가스가 반송실(100') 내부로 유입되지 않는다. 따라서, 반송실(100') 내부의 공간은 이에프이엠(10')의 외부 공간과 가스의 유출입이 차단되는 일종의 독립된 공간을 형성하게 된다.
전술한 반송실 공급부(110'), 반송실 배기부(120), 제1챔버 공급부(210'), 제1챔버 배기부, 제2챔버 배기부(320') 각각에는 유량 제어부가 구비될 수 있다.
유량 제어부는 제어부(400)에 연결된다.
제어부(400)는 반송실(100') 내부의 압력, 제1챔버(200') 내부의 압력 및 제2챔버(300') 내부의 압력에 따라 유량 제어부를 작동시킴으로써, 반송실 공급부(110'), 반송실 배기부(120), 제1챔버 공급부(210'), 제2챔버 배기부, 제2챔버 배기부(320')에서 공급 또는 배기되는 가스의 유량을 쉽게 제어할 수 있다.
본 발명은 도면에 도시된 실시 예들을 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시 예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 등록청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.
10, 10', 10a: 이에프이엠
20: 웨이퍼 저장장치 21: 풉
22: 로드포트 22a: 로드포트 도어
30: 공정장비 31: 로드락 챔버
31a: 로드락 챔버 도어 32: 공정장비 반송실
32a: 공정장비 반송실 도어 33: 공정유닛
34: 공정장비 반송장치
100, 100': 반송실
110, 110': 반송실 공급부
110a: 공급홀 120: 반송실 배기부
120a: 배기홀 130: 반송실 센서
140: 반송장치 150: 제1개구부
151: 제1도어 152: 제2도어
165: 제1연통부 165a: 제1개폐수단
166: 제2연통부 166a: 제2개폐수단
160: 제2개구부
200: 제1챔버 210': 제1챔버 공급부
220: 제1챔버 배기부 230: 제1챔버 센서
300, 300': 제2챔버 310: 제2챔버 공급부
320': 제2챔버 배기부 330: 제2챔버 센서
341: 제1틈새 배기부 342: 제2틈새 배기부
400: 제어부

Claims (19)

  1. 이에프이엠에 있어서,
    웨이퍼 저장장치와 공정장치 사이에서의 웨이퍼의 반송이 이루어지는 반송실;을 포함하고,
    상기 반송실과 상기 이에프이엠 주변 간은 서로 간에 직접적인 가스 흐름이 없는 것을 특징으로 하는 이에프이엠.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 반송실 내부의 가스가 상기 이에프이엠 외부로 누출되는 것이 차단되는 것을 특징으로 하는 이에프이엠.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 이에프이엠의 외부 가스가 상기 반송실 내부로 유입되는 것이 차단되는 것을 특징으로 하는 이에프이엠.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 반송실과 상기 이에프이엠 외부 사이에 구비되고, 상기 반송실 내부의 가스가 상기 이에프이엠 외부로 누출되는 것을 차단함과 동시에 상기 이에프이엠의 외부 가스가 상기 반송실 내부로 유입되는 것을 차단하는 적어도 하나의 챔버;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이에프이엠.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 반송실과 상기 이에프이엠 외부 사이에 구비되고, 그 내부 압력은 상기 반송실 내부의 압력과 상기 이에프이엠 주변의 압력 중에서 낮은 압력보다 낮게 유지되는 적어도 하나의 챔버;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이에프이엠.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 반송실과 상기 이에프이엠 외부 사이에 구비되고, 그 내부 압력이 상기 반송실 내부의 압력과 상기 이에프이엠 외부의 압력 중에서 낮은 압력보다 낮게 유지되는 적어도 하나의 제1챔버; 및
    상기 반송실과 상기 이에프이엠 외부 사이에 구비되고, 그 내부 압력이 상기 제1챔버의 내부 압력보다 높게 유지되는 적어도 하나의 제2챔버;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이에프이엠.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 반송실과 상기 이에프이엠 외부 사이에 구비되고, 그 내부 압력이 상기 반송실 내부의 압력과 상기 이에프이엠 외부의 압력 중에서 낮은 압력보다 낮게 유지되는 적어도 하나의 제1챔버; 및
    상기 제1챔버와 상기 이에프이엠 외부 사이에서 구비되는 제2챔버;를 더 포함하고,
    상기 제2챔버의 내부 압력은 상기 이에프이엠의 외부 압력보다 낮게 유지되는 것을 특징으로 하는 이에프이엠.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 반송실과 상기 이에프이엠 외부 사이에 구비되고, 그 내부 압력이 상기 반송실 내부의 압력과 상기 이에프이엠 외부의 압력 중에서 낮은 압력보다 낮게 유지되는 적어도 하나의 제1챔버; 및
    상기 제1챔버와 상기 이에프이엠 외부 사이에서 복수 개 구비되는 제2챔버;를 더 포함하고,
    상기 제2챔버 중에서 가장 외측에 위치하는 제2챔버의 내부 압력은 상기 이에프이엠의 외부 압력보다 낮게 유지되는 것을 특징으로 하는 이에프이엠.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 반송실과 상기 이에프이엠 외부 사이에 구비되고, 그 내부 압력이 상기 반송실 내부의 압력과 상기 이에프이엠 외부의 압력 중에서 낮은 압력보다 낮게 유지되는 적어도 하나의 제1챔버; 및
    상기 제1챔버와 상기 반송실 사이에서 구비되는 제2챔버;를 더 포함하고,
    상기 제2챔버의 내부 압력은 상기 반송실의 내부 압력보다 낮게 유지되는 것을 특징으로 하는 이에프이엠.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 반송실과 상기 이에프이엠 외부 사이에 구비되고, 그 내부 압력이 상기 반송실 내부의 압력과 상기 이에프이엠 외부의 압력 중에서 낮은 압력보다 낮게 유지되는 적어도 하나의 제1챔버; 및
    상기 제1챔버와 상기 반송실 사이에서 복수 개 구비되는 제2챔버;를 더 포함하고,
    상기 제2챔버 중에서 가장 내측에 위치하는 제2챔버의 내부 압력은 상기 반송실의 내부 압력보다 낮게 유지되는 것을 특징으로 하는 이에프이엠.
  11. 웨이퍼 저장장치와 공정장비 사이에서의 웨이퍼의 반송이 이루어지는 반송실;
    상기 반송실의 외측에서 상기 반송실을 둘러싸는 제1챔버;
    상기 반송실에 가스를 공급하는 반송실 공급부;
    상기 반송실 내부의 가스를 배기하는 반송실 배기부;
    상기 제1챔버 내부의 가스를 배기하는 제1챔버 배기부; 및
    상기 제1챔버 내부의 압력이 상기 반송실 내부의 압력보다 낮게 유지되도록 상기 반송실 공급부, 상기 반송실 배기부 및 상기 제1챔버 배기부 중 적어도 어느 하나의 작동을 제어하는 제어부;를 포함하는 이에프이엠.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 제1챔버의 외측에서 상기 제1챔버를 둘러싸는 제2챔버; 및
    상기 제2챔버에 가스를 공급하는 제2챔버 공급부;를 더 포함하고,
    상기 반송실 공급부는 상기 제2챔버와 연통되고,
    상기 제어부는, 상기 제1챔버 내부의 압력이 상기 제2챔버 내부의 압력보다 낮게 유지되도록 상기 제1챔버 배기부 및 상기 제2챔버 공급부 중 적어도 어느 하나의 작동을 제어하는 것을 특징으로 하는 이에프이엠.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 제2챔버 내부의 압력이 상기 반송실 내부의 압력보다 높게 유지되도록 상기 제2챔버 공급부, 상기 반송실 공급부 및 상기 반송실 배기부 중 적어도 어느 하나의 작동을 제어하는 것을 특징으로 하는 이에프이엠.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 웨이퍼 저장장치의 풉과 상기 반송실을 접속시키는 제1개구부;
    상기 제1개구부의 내측을 개폐시키도록 상기 반송실에 구비되는 제1도어; 및
    상기 제1챔버에 개폐 가능하게 구비되며, 상기 웨이퍼 저장장치를 적재하는 로드포트의 로드포트 도어에 의해 상기 제1개구부의 외측이 폐쇄되고, 상기 제1도어에 의해 상기 제1개구부의 내측이 폐쇄될 때, 개방에 의해 상기 로드포트 도어와 상기 제1도어 사이의 공간을 상기 제1챔버와 연통시키는 제1연통부;를 더 포함하는 이에프이엠.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 제1챔버의 외측에서 상기 제1챔버를 둘러싸며, 상기 제1챔버는 제2챔버;
    상기 제1개구부에서 상기 제1챔버와 상기 제2챔버 사이의 공간을 폐쇄하도록 상기 제1챔버와 상기 제2챔버 사이에 개폐 가능하게 구비되는 제2도어; 및
    상기 제2챔버에 개폐 가능하게 구비되며, 상기 로드포트 도어, 상기 제1도어 및 상기 제2도어가 폐쇄될 때, 개방에 의해 상기 제1개구부에서 상기 로드포트 도어 및 상기 제2도어 사이의 공간을 상기 제2챔버와 연통시키는 제2연통부;를 더 포함하는 이에프이엠.
  16. 제13항에 있어서,
    상기 공정장비의 로드락 챔버와 상기 반송실을 접속시키는 제2개구부;
    상기 제2개구부의 내측을 개폐시키도록 상기 반송실에 구비되는 제3도어; 및
    상기 제1챔버에 개폐 가능하게 구비되며, 상기 로드락 챔버의 로드락 챔버 도어에 의해 상기 제2개구부의 외측이 폐쇄되고, 상기 제3도어에 의해 상기 제2개구부의 내측이 폐쇄될 때, 개방에 의해 상기 로드락 챔버 도어와 상기 제2도어 사이의 공간을 상기 제1챔버와 연통시키는 제3연통부;를 더 포함하는 이에프이엠.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 제1챔버의 외측에서 상기 제1챔버를 둘러싸며, 상기 제1챔버는 제2챔버;
    상기 제2개구부에서 상기 제1챔버와 상기 제2챔버 사이의 공간을 폐쇄하도록 상기 제1챔버와 상기 제2챔버 사이에 개폐 가능하게 구비되는 제4도어; 및
    상기 제2챔버에 개폐 가능하게 구비되며, 상기 로드포트 도어, 상기 제3도어 및 상기 제4도어가 폐쇄될 때, 개방에 의해 상기 제2개구부에서 상기 로드락 챔버 도어 및 상기 제4도어 사이의 공간을 상기 제2챔버와 연통시키는 제4연통부;를 더 포함하는 이에프이엠.
  18. 제11항에 있어서,
    상기 웨이퍼 저장장치의 풉과 상기 반송실을 접속시키는 제1개구부; 및
    상기 풉과 상기 제1개구부의 틈새에서 누출되는 가스가 상기 제1챔버로 유동되도록 상기 제1개구부의 주변에 구비되는 제1틈새 배기부;를 더 포함하는 이에프이엠.
  19. 제11항에 있어서,
    상기 공정장비의 로드락 챔버와 상기 반송실을 접속시키는 제2개구부; 및
    상기 로드락 챔버와 상기 제2개구부의 틈새에서 누출되는 가스가 상기 제1챔버로 유동되도록 상기 제2개구부의 주변에 구비되는 제2틈새 배기부;를 더 포함하는 이에프이엠.
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